JP2022013224A - Laser oscillator - Google Patents

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Abstract

To provide a laser oscillator capable of suppressing increase in size and cost of a device and of suppressing deviation of an optical axis of an optical resonator.SOLUTION: A chamber houses a laser medium gas. A discharge electrode generates electric discharge in the chamber. An optical resonator that has an optical axis passing through a region where the electric discharge is generated by the discharge electrode is held by a resonator base arranged in the chamber. A temperature difference reduction structure reduces a temperature difference between a first surface facing the discharge electrode and a second surface facing an opposite side to the discharge electrode, in a surface of the resonator base.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、レーザ発振器に関する。 The present invention relates to a laser oscillator.

レーザ発振器に用いられる光共振器は一対の共振器ミラーを有し、共振器ミラーの間に光を閉じ込めて誘導放出を生じさせる。一対の共振器ミラーの光軸がずれるとレーザ光の出力が低下してしまう。レーザ光の出力低下を回避するために、一対の共振器ミラーの光軸のずれを抑制することが重要である。光軸ずれを抑制するために、一対の共振器ミラーを共振器ベースに固定する構造が採用される場合がある。 The optical cavity used in a laser oscillator has a pair of resonator mirrors that confine light between the resonator mirrors to produce stimulated emission. If the optical axis of the pair of resonator mirrors shifts, the output of the laser beam will decrease. In order to avoid a decrease in the output of the laser beam, it is important to suppress the deviation of the optical axis of the pair of resonator mirrors. In order to suppress the optical axis shift, a structure in which a pair of resonator mirrors are fixed to the resonator base may be adopted.

下記の特許文献1に、レーザ媒質と光共振器とを収容した容器を外側の他の容器の中に配置し、外側の容器と内側の容器との間を真空にしたレーザ発振器が開示されている。この構成により、外部からの熱の影響が軽減される。 Patent Document 1 below discloses a laser oscillator in which a container containing a laser medium and an optical resonator is arranged in another outer container, and a vacuum is created between the outer container and the inner container. There is. With this configuration, the influence of heat from the outside is reduced.

特開昭58-176985号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 58-176985

一対の共振器ミラーを1つの共振器ベースに支持した構成において光軸ずれを抑制するためには、共振器ベースを変形しにくい剛性の高い部材を用いることが好ましい。ところが、剛性を高めるために、共振器ベースとして分厚くて大きな部材を用いると、装置が大型化し、コスト上昇につながる。 In a configuration in which a pair of resonator mirrors are supported by one resonator base, it is preferable to use a member having high rigidity in which the resonator base is not easily deformed in order to suppress the optical axis deviation. However, if a thick and large member is used as the resonator base in order to increase the rigidity, the size of the device becomes large and the cost increases.

本発明の目的は、装置の大型化及びコスト上昇を抑制し、かつ光共振器の光軸ずれを抑制することが可能なレーザ発振器を提供することである。 An object of the present invention is to provide a laser oscillator capable of suppressing an increase in size and cost of an apparatus and suppressing an optical axis deviation of an optical resonator.

本発明の一観点によると、
レーザ媒質ガスを収容するチェンバ内に放電を生じさせる放電電極と、
前記チェンバ内に配置され、前記放電電極で放電が生じる領域を通過する光軸を持つ光共振器を保持する共振器ベースと、
前記共振器ベースの表面のうち、前記放電電極の方を向く第1表面と、前記放電電極とは反対側を向く第2表面との温度差を低減させる温度差低減構造と
を有するレーザ発振器が提供される。
According to one aspect of the invention
A discharge electrode that generates a discharge in the chamber that houses the laser medium gas,
A resonator base that is located in the chamber and holds an optical resonator having an optical axis that passes through a region where discharge occurs at the discharge electrode.
A laser oscillator having a temperature difference reducing structure for reducing a temperature difference between a first surface facing the discharge electrode and a second surface facing the opposite side of the discharge electrode among the surfaces of the resonator base. Provided.

温度差低減構造により、共振器ベースの第1表面と第2表面との温度が低減される。これにより、共振器ベースとして分厚くて剛性の高い部材を用いることなく、温度差に起因する反り変形を抑制することができる。共振器ベースの変型が生じにくくなるため、光共振器の光軸ずれも生じにくくなる。共振器ベースとして分厚くて剛性の高い部材を用いる必要がないため、装置の大型化及びコスト上昇を抑制することができる。 The temperature difference reduction structure reduces the temperature between the first surface and the second surface of the resonator base. This makes it possible to suppress warpage deformation due to a temperature difference without using a thick and highly rigid member as the resonator base. Since the deformation of the resonator base is less likely to occur, the optical axis deviation of the optical resonator is also less likely to occur. Since it is not necessary to use a thick and highly rigid member as the resonator base, it is possible to suppress an increase in size and cost of the device.

図1は、実施例によるレーザ発振器を搭載したレーザ装置、及びレーザ発振器から出力されたレーザビームで加工を行う加工装置の概略図である。FIG. 1 is a schematic view of a laser device equipped with a laser oscillator according to an embodiment and a processing device that performs processing with a laser beam output from the laser oscillator. 図2は、実施例によるレーザ発振器の光軸を含む断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view including an optical axis of the laser oscillator according to the embodiment. 図3は、実施例によるレーザ発振器の光軸に垂直な断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view perpendicular to the optical axis of the laser oscillator according to the embodiment. 図4Aは、実施例によるレーザ発振器に用いられている共振器ベースの平面図であり、図4B及び図4Cは、それぞれ図4Aの一点鎖線4B-4B及び一点鎖線4C-4Cにおける断面図である。4A is a plan view of the resonator base used in the laser oscillator according to the embodiment, and FIGS. 4B and 4C are cross-sectional views taken along the alternate long and short dash line 4B-4B and 4C-4C, respectively. .. 図5は、他の実施例によるレーザ発振器の光軸を含む断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view including an optical axis of a laser oscillator according to another embodiment. 図6は、さらに他の実施例によるレーザ発振器の光軸に垂直な断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view perpendicular to the optical axis of the laser oscillator according to still another embodiment.

図1は、実施例によるレーザ発振器12を搭載したレーザ装置10、及びレーザ装置10から出力されたレーザビームで加工を行う加工装置80の概略図である。共通ベース100に、レーザ装置10及び加工装置80が固定されている。共通ベース100は、例えば床である。 FIG. 1 is a schematic view of a laser device 10 equipped with a laser oscillator 12 according to an embodiment, and a processing device 80 that performs processing with a laser beam output from the laser device 10. The laser device 10 and the processing device 80 are fixed to the common base 100. The common base 100 is, for example, a floor.

レーザ装置10は、共通ベース100に固定された架台11と、架台11に支持されたレーザ発振器12とを含む。加工装置80は、ビーム整形光学系81及びステージ82を含む。ステージ82の上に加工対象物90が保持される。ビーム整形光学系81及びステージ82は、共通ベース100に固定されている。レーザ発振器12から出力されたレーザビームが、ビーム整形光学系81によってビームプロファイルを整形され、加工対象物90に入射する。 The laser device 10 includes a gantry 11 fixed to the common base 100 and a laser oscillator 12 supported by the gantry 11. The processing apparatus 80 includes a beam shaping optical system 81 and a stage 82. The object to be machined 90 is held on the stage 82. The beam shaping optical system 81 and the stage 82 are fixed to the common base 100. The laser beam output from the laser oscillator 12 has its beam profile shaped by the beam shaping optical system 81, and is incident on the object to be machined 90.

図2は、レーザ発振器12の光軸を含む断面図である。レーザ発振器12は、レーザ媒質ガス及び光共振器20等を収容するチェンバ15を含む。チェンバ15にレーザ媒質ガスが収容される。チェンバ15の内部空間が、相対的に上側に位置する光学室16と、相対的に下側に位置するブロワ室17と区分されている。光学室16とブロワ室17とは、上下仕切り板18で仕切られている。なお、上下仕切り板18には、レーザ媒質ガスを光学室16とブロワ室17との間で流通させる開口が設けられている。ブロワ室17の側壁から光学室16の底板19が、光共振器20の光軸20Aの方向に張り出しており、光学室16の光軸方向の長さが、ブロワ室17の光軸方向の長さより長くなっている。 FIG. 2 is a cross-sectional view including the optical axis of the laser oscillator 12. The laser oscillator 12 includes a chamber 15 that houses a laser medium gas, an optical resonator 20, and the like. The laser medium gas is housed in the chamber 15. The internal space of the chamber 15 is divided into an optical chamber 16 located relatively above and a blower chamber 17 located relatively below. The optical chamber 16 and the blower chamber 17 are partitioned by an upper and lower partition plate 18. The upper and lower partition plates 18 are provided with an opening for allowing the laser medium gas to flow between the optical chamber 16 and the blower chamber 17. The bottom plate 19 of the optical chamber 16 projects from the side wall of the blower chamber 17 in the direction of the optical axis 20A of the optical resonator 20, and the length of the optical chamber 16 in the optical axis direction is the length of the blower chamber 17 in the optical axis direction. It's longer than that.

チェンバ15の底板19が、4個の支持箇所35で架台11(図1)に支持されている。4個の支持箇所35は、平面視において長方形の4個の頂点に相当する位置に配置されている。 The bottom plate 19 of the chamber 15 is supported by the gantry 11 (FIG. 1) at four support points 35. The four support points 35 are arranged at positions corresponding to the four vertices of the rectangle in a plan view.

光学室16内に、放電電極21及び光共振器20が配置されている。光共振器20は、一対の共振器ミラー25を含む。放電電極21は一対の導電部材21Aを含み、一対の導電部材21Aは、それぞれ電極ボックス22に固定されている。一対の電極ボックス22は電極支持部材23を介して底板19に支持されている。放電電極21を構成する一対の導電部材21Aは、上下方向に間隔を隔てて配置され、両者の間に放電領域24が画定される。放電電極21は放電領域24に放電を生じさせることにより、レーザ媒質ガスを励起させる。光共振器20の光軸20Aは放電領域24を通る。後に図3を参照して説明するように、放電領域24を図2の紙面に垂直な方向にレーザ媒質ガスが流れる。 A discharge electrode 21 and an optical resonator 20 are arranged in the optical chamber 16. The optical resonator 20 includes a pair of resonator mirrors 25. The discharge electrode 21 includes a pair of conductive members 21A, and each of the pair of conductive members 21A is fixed to the electrode box 22. The pair of electrode boxes 22 are supported by the bottom plate 19 via the electrode support member 23. The pair of conductive members 21A constituting the discharge electrode 21 are arranged at intervals in the vertical direction, and a discharge region 24 is defined between the two. The discharge electrode 21 excites the laser medium gas by causing a discharge in the discharge region 24. The optical axis 20A of the optical resonator 20 passes through the discharge region 24. As will be described later with reference to FIG. 3, the laser medium gas flows through the discharge region 24 in the direction perpendicular to the paper surface of FIG.

一対の共振器ミラー25を含む光共振器20は、光学室16内に配置された1つの共振器ベース26に固定されている。共振器ベース26は、光軸20Aの方向に長い板状の単一の部材であり、4個の光共振器支持部材27を介して底板19に支持されている。共振器ベース26の上面に、熱遮蔽部材30が、光軸20Aの方向に伸縮可能に保持されている。熱遮蔽部材30は、共振器ベース26から脱落しないようにボルト31によって共振器ベース26に保持されている。本明細書において、共振器ベース26の上下の表面のうち、放電電極21側を向く表面(図2において上面)を第1表面26Aといい、反対側を向く表面(図2において下面)を第2表面26Bということとする。 The optical cavity 20 including the pair of resonator mirrors 25 is fixed to one resonator base 26 arranged in the optical chamber 16. The resonator base 26 is a single plate-shaped member long in the direction of the optical axis 20A, and is supported by the bottom plate 19 via four optical resonator support members 27. A heat shielding member 30 is held on the upper surface of the resonator base 26 so as to be expandable and contractible in the direction of the optical axis 20A. The heat shield member 30 is held by the resonator base 26 by bolts 31 so as not to fall off from the resonator base 26. In the present specification, among the upper and lower surfaces of the resonator base 26, the surface facing the discharge electrode 21 side (upper surface in FIG. 2) is referred to as the first surface 26A, and the surface facing the opposite side (lower surface in FIG. 2) is referred to as the first surface. 2 Surface 26B.

光共振器20の光軸20Aを一方向(図1において左方向)に延伸させた延長線と光学室16の壁面との交差箇所に、レーザビームを透過させる光透過窓28が取り付けられている。光共振器内で励振されたレーザビームが光透過窓28を透過して外部に放射される。 A light transmission window 28 for transmitting a laser beam is attached to an intersection of an extension line extending the optical axis 20A of the optical resonator 20 in one direction (left direction in FIG. 1) and the wall surface of the optical chamber 16. .. The laser beam excited in the optical resonator passes through the light transmission window 28 and is radiated to the outside.

ブロワ室17にブロワ29が配置されている。ブロワ29は、光学室16とブロワ室17との間でレーザ媒質ガスを循環させる。 A blower 29 is arranged in the blower chamber 17. The blower 29 circulates the laser medium gas between the optical chamber 16 and the blower chamber 17.

図3は、実施例によるレーザ発振器12の光軸20A(図2)に垂直な断面図である。図2を参照して説明したように、チェンバ15の内部空間が上下仕切り板18により、上方の光学室16と下方のブロワ室17とに区分されている。光学室16内に、放電電極21、共振器ベース26、熱遮蔽部材30が配置されている。放電電極21を構成する一対の導電部材21Aが、それぞれ電極ボックス22に固定されている。電極ボックス22は、電極支持部材23によってチェンバ15の底板19(図2)に支持されている。一対の導電部材21Aの間に放電領域24が画定される。共振器ベース26は、光共振器支持部材27によってチェンバ15の底板19(図2)に支持されている。電極支持部材23及び光共振器支持部材27は、図3に示した断面からずれた位置に配置されているため、図3において電極支持部材23及び光共振器支持部材27を破線で表している。 FIG. 3 is a cross-sectional view perpendicular to the optical axis 20A (FIG. 2) of the laser oscillator 12 according to the embodiment. As described with reference to FIG. 2, the internal space of the chamber 15 is divided into an upper optical chamber 16 and a lower blower chamber 17 by the upper and lower partition plates 18. A discharge electrode 21, a resonator base 26, and a heat shielding member 30 are arranged in the optical chamber 16. A pair of conductive members 21A constituting the discharge electrode 21 are fixed to the electrode box 22, respectively. The electrode box 22 is supported by the electrode support member 23 on the bottom plate 19 (FIG. 2) of the chamber 15. A discharge region 24 is defined between the pair of conductive members 21A. The resonator base 26 is supported by the optical resonator support member 27 on the bottom plate 19 (FIG. 2) of the chamber 15. Since the electrode support member 23 and the optical resonator support member 27 are arranged at positions deviated from the cross section shown in FIG. 3, the electrode support member 23 and the optical resonator support member 27 are represented by broken lines in FIG. ..

光学室16内に仕切り板40が配置されている。仕切り板40は、上下仕切り板18に設けられた開口18Aから放電領域24までの第1ガス流路41、放電領域24から上下仕切り板18に設けられた他の開口18Bまでの第2ガス流路42を画定する。レーザ媒質ガスは、放電領域24を、光軸20A(図2)に対して直交する方向に流れる。放電方向は、レーザ媒質ガスが流れる方向、及び光軸20Aの両方に対して直交する。ブロワ室17、第1ガス流路41、放電領域24、及び第2ガス流路42によって、レーザ媒質ガスが循環する循環路が形成される。ブロワ29は、この循環路をレーザ媒質ガスが循環するように、矢印で示したレーザ媒質ガスの流れを発生させる。 A partition plate 40 is arranged in the optical chamber 16. The partition plate 40 is a first gas flow path 41 from the opening 18A provided in the upper and lower partition plates 18 to the discharge region 24, and a second gas flow from the discharge region 24 to another opening 18B provided in the upper and lower partition plates 18. The road 42 is defined. The laser medium gas flows in the discharge region 24 in a direction orthogonal to the optical axis 20A (FIG. 2). The discharge direction is orthogonal to both the direction in which the laser medium gas flows and the optical axis 20A. The blower chamber 17, the first gas flow path 41, the discharge region 24, and the second gas flow path 42 form a circulation path through which the laser medium gas circulates. The blower 29 generates a flow of the laser medium gas indicated by an arrow so that the laser medium gas circulates in this circulation path.

ブロワ室17内の循環路に、熱交換器43が収容されている。放電領域24で加熱されたレーザ媒質ガスが熱交換器43を通過することによって冷却され、冷却されたレーザ媒質ガスが放電領域24に再供給される。 The heat exchanger 43 is housed in the circulation path in the blower chamber 17. The laser medium gas heated in the discharge region 24 is cooled by passing through the heat exchanger 43, and the cooled laser medium gas is resupplied to the discharge region 24.

次に、図4A~図4Cを参照して、共振器ベース26及び熱遮蔽部材30の支持構造について説明する。 Next, the support structure of the resonator base 26 and the heat shielding member 30 will be described with reference to FIGS. 4A to 4C.

図4Aは、共振器ベース26及び熱遮蔽部材30の平面図であり、図4B及び図4Cは、それぞれ図4Aの一点鎖線4B-4B及び一点鎖線4C-4Cにおける断面図である。共振器ベース26の上に、熱遮蔽部材30が載せられて、光軸20Aの方向に伸縮可能に支持されている。共振器ベース26は、光軸20Aの方向に長い平板である。共振器ベース26の両端近傍の第1表面26Aの上に共振器ミラー25が固定されている。 4A is a plan view of the resonator base 26 and the heat shield member 30, and FIGS. 4B and 4C are cross-sectional views taken along the alternate long and short dash line 4B-4B and the alternate long and short dash line 4C-4C of FIG. 4A, respectively. A heat shielding member 30 is placed on the resonator base 26 and is supported so as to be expandable and contractible in the direction of the optical axis 20A. The resonator base 26 is a flat plate long in the direction of the optical axis 20A. The resonator mirror 25 is fixed on the first surface 26A near both ends of the resonator base 26.

平面視において共振器ベース26に包含される位置に、4本の光共振器支持部材27A、27B、27C、27Dが配置されている。光共振器支持部材27A、27Bの各々は段付きピンであり、平面視において光軸20Aから見て同じ側に配置されている。平面視において光共振器支持部材27A、27Bの中心を通過する直線は、光軸20Aと平行である。他の2つの光共振器支持部材27C、27Dは、段差が設けられていないピンであり、それぞれ平面視において光軸20Aに関して光共振器支持部材27A、27Bの線対称の位置に配置されている。すなわち、4個の光共振器支持部材27A~27Dは、長方形の4つの頂点に対応する位置に配置されている。4個の光共振器支持部材27A~27Dの下端は、底板19に埋め込まれて底板19に固定されている。 Four optical resonator support members 27A, 27B, 27C, and 27D are arranged at positions included in the resonator base 26 in a plan view. Each of the optical resonator support members 27A and 27B is a stepped pin, and is arranged on the same side of the optical axis 20A in a plan view. The straight line passing through the center of the optical resonator support members 27A and 27B in a plan view is parallel to the optical axis 20A. The other two optical resonator support members 27C and 27D are pins having no step, and are arranged at positions of line symmetry of the optical resonator support members 27A and 27B with respect to the optical axis 20A in a plan view, respectively. .. That is, the four optical resonator support members 27A to 27D are arranged at positions corresponding to the four vertices of the rectangle. The lower ends of the four optical resonator support members 27A to 27D are embedded in the bottom plate 19 and fixed to the bottom plate 19.

共振器ベース26に、円形孔51及び長孔52が設けられている。円形孔51及び長孔52は、それぞれ、平面視において光共振器支持部材27A、27Bに対応する位置に配置されている。長孔52は、平面視において光軸20Aに平行な方向に長い形状を持つ。光共振器支持部材27A、27Bのそれぞれの段差より上方の部分が、円形孔51及び長孔52に挿入されている。共振器ベース26は、光共振器支持部材27A、27Bの段差部分、及び光共振器支持部材27C、27Dの上端面によって、荷重が加わる方向に支持されている。 The resonator base 26 is provided with a circular hole 51 and an elongated hole 52. The circular hole 51 and the elongated hole 52 are arranged at positions corresponding to the optical resonator support members 27A and 27B in a plan view, respectively. The elongated hole 52 has a long shape in a direction parallel to the optical axis 20A in a plan view. A portion of the optical resonator support members 27A and 27B above the step is inserted into the circular hole 51 and the elongated hole 52. The resonator base 26 is supported in a direction in which a load is applied by the stepped portions of the optical resonator support members 27A and 27B and the upper end surfaces of the optical resonator support members 27C and 27D.

共振器ベース26のうち円形孔51の周囲の部分は、光共振器支持部材27Aに対して水平面内の位置が拘束されている。長孔52に挿入された光共振器支持部材27Bは、共振器ベース26に対して光軸20Aに平行な一次元方向に移動可能である。光共振器支持部材27C、27Dは、共振器ベース26に対して水平面内の二方向に移動可能である。すなわち、共振器ベース26は、チェンバ15に対して1か所において水平方向の位置が拘束され、他の3か所においては水平方向の位置が拘束されていない。 The portion of the resonator base 26 around the circular hole 51 is constrained in position in the horizontal plane with respect to the optical resonator support member 27A. The optical resonator support member 27B inserted into the elongated hole 52 is movable in a one-dimensional direction parallel to the optical axis 20A with respect to the resonator base 26. The optical resonator support members 27C and 27D can move in two directions in a horizontal plane with respect to the resonator base 26. That is, the resonator base 26 is constrained in the horizontal position at one place with respect to the chamber 15, and is not constrained in the horizontal position at the other three places.

熱遮蔽部材30は、共振器ベース26から脱落しないように、熱遮蔽部材30を貫通する4本のボルト31で共振器ベース26に支持されている。4本のボルト31のうち2本のボルト31が通過する熱遮蔽部材30の孔は長孔32とされており、熱遮蔽部材30は共振器ベース26に対して光軸20Aの方向に伸縮可能である。 The heat shield member 30 is supported by the resonator base 26 by four bolts 31 penetrating the heat shield member 30 so as not to fall off from the resonator base 26. The hole of the heat shield member 30 through which two bolts 31 of the four bolts 31 pass is an elongated hole 32, and the heat shield member 30 can expand and contract in the direction of the optical axis 20A with respect to the resonator base 26. Is.

次に、上記実施例の優れた効果について説明する。
熱遮蔽部材30が配置されていない構成では、放電電極21及び電極ボックス22で発生した熱が共振器ベース26まで伝わり、共振器ベース26の第1表面26Aの温度が第2表面26Bの温度より高くなる。共振器ベース26の厚さ方向に温度差が発生すると、共振器ベース26の第1表面26Aと第2表面26Bとで熱膨張量が異なり、共振器ベース26に反り変形が発生してしまう。共振器ベース26に反り変形が発生すると、一対の共振器ミラー25の平行度が低下する。すなわち、一対の共振器ミラー25の光軸がずれる。一対の共振器ミラー25の光軸がずれると、レーザ出力が低下してしまう。共振器ベース26の反り変形を低減させるためには、共振器ベース26を分厚くして剛性を高めなければならない。または、共振器ベース26に、高価な低熱膨張部材を用いなければならない。
Next, the excellent effect of the above embodiment will be described.
In the configuration in which the heat shielding member 30 is not arranged, the heat generated in the discharge electrode 21 and the electrode box 22 is transmitted to the resonator base 26, and the temperature of the first surface 26A of the resonator base 26 is higher than the temperature of the second surface 26B. It gets higher. When a temperature difference occurs in the thickness direction of the resonator base 26, the amount of thermal expansion differs between the first surface 26A and the second surface 26B of the resonator base 26, and the resonator base 26 is warped and deformed. When the resonator base 26 is warped and deformed, the parallelism of the pair of resonator mirrors 25 is lowered. That is, the optical axes of the pair of resonator mirrors 25 are displaced. If the optical axes of the pair of resonator mirrors 25 are displaced, the laser output will decrease. In order to reduce the warp deformation of the resonator base 26, the resonator base 26 must be thickened to increase its rigidity. Alternatively, an expensive low thermal expansion member must be used for the resonator base 26.

これに対して上記実施例では、熱遮蔽部材30が、放電電極21及び電極ボックス22から共振器ベース26の第1表面26Aへの、レーザ媒質ガスを介した熱の伝達を抑制する。熱遮蔽部材30には、例えばPTFE等の熱伝導率の小さな材料が用いられる。熱遮蔽部材30の上面が加熱されて温度が上昇しても、下面の温度上昇は抑制される。その結果、熱遮蔽部材30の下面に対向する共振器ベース26の第1表面26Aの温度上昇も抑制される。このため、共振器ベース26の第1表面26Aと第2表面26Bとの間で温度差が生じにくくなり、温度差に起因する反り変形も生じにくくなる。したがって、共振器ベース26を薄くすることが可能になり、装置の大型化を抑制することができる。さらに、共振器ベース26に高特性の低熱膨張部材を用いる必要がなくなるため、装置のコストダウンを図ることが可能になる。共振器ベース26の第1表面26Aと第2表面26Bとの間で温度差が生じにくくなるという十分な効果を得るために、熱遮蔽部材30として、共振器ベース26の熱伝導率より小さな熱伝導率を持つ材料を用いることが好ましい。 On the other hand, in the above embodiment, the heat shielding member 30 suppresses the transfer of heat from the discharge electrode 21 and the electrode box 22 to the first surface 26A of the resonator base 26 via the laser medium gas. For the heat shielding member 30, a material having a small thermal conductivity such as PTFE is used. Even if the upper surface of the heat shield member 30 is heated and the temperature rises, the temperature rise of the lower surface is suppressed. As a result, the temperature rise of the first surface 26A of the resonator base 26 facing the lower surface of the heat shielding member 30 is also suppressed. Therefore, a temperature difference is less likely to occur between the first surface 26A and the second surface 26B of the resonator base 26, and warpage deformation due to the temperature difference is also less likely to occur. Therefore, the resonator base 26 can be made thinner, and the size of the apparatus can be suppressed. Further, since it is not necessary to use a low thermal expansion member having high characteristics for the resonator base 26, it is possible to reduce the cost of the device. In order to obtain a sufficient effect that a temperature difference is less likely to occur between the first surface 26A and the second surface 26B of the resonator base 26, the heat shield member 30 has a heat smaller than the thermal conductivity of the resonator base 26. It is preferable to use a material having conductivity.

さらに、熱遮蔽部材30は共振器ベース26に対して光軸20A(図2)の方向に伸縮可能であるため、熱遮蔽部材30自体が熱膨張しても、共振器ベース26に変形は生じない。 Further, since the heat shield member 30 can expand and contract in the direction of the optical axis 20A (FIG. 2) with respect to the resonator base 26, even if the heat shield member 30 itself thermally expands, the resonator base 26 is deformed. do not have.

次に、上記実施例の変型例について説明する。
上記実施例では、熱遮蔽部材30(図2、図3)に、PTFE等の熱伝導率の小さな材料を用いたが、その他の断熱材料を用いてもよい。また、放電電極21及び電極ボックス22から共振器ベース26への放射熱を遮蔽する遮熱部材を用いてもよい。上記実施例では、熱遮蔽部材30が共振器ベース26の第1表面26Aに載せられているが、放電電極21と共振器ベース26との間の空間に、熱遮蔽部材30を支持する構成としてもよい。
Next, a modified example of the above embodiment will be described.
In the above embodiment, a material having a small thermal conductivity such as PTFE is used for the heat shielding member 30 (FIGS. 2 and 3), but other heat insulating materials may be used. Further, a heat shield member that shields the radiant heat from the discharge electrode 21 and the electrode box 22 to the resonator base 26 may be used. In the above embodiment, the heat shield member 30 is mounted on the first surface 26A of the resonator base 26, but the heat shield member 30 is supported in the space between the discharge electrode 21 and the resonator base 26. May be good.

上記実施例では、一対の共振器ミラー25で光共振器20を構成しているが、1枚以上のミラーを追加して折返し光共振器を構成してもよい。この場合には、光共振器を構成する一対の共振器ミラー25と、光共振器に含まれる他のミラーとを、共振器ベース26に支持する構成とするとよい。この構成においても、熱遮蔽部材30を配置することにより、一対の共振器ミラー25及び他のミラーを含めた光学部品の光軸のずれを抑制することができる。 In the above embodiment, the optical resonator 20 is composed of a pair of resonator mirrors 25, but one or more mirrors may be added to form a folded optical resonator. In this case, the pair of resonator mirrors 25 constituting the optical resonator and other mirrors included in the optical resonator may be supported on the resonator base 26. Also in this configuration, by arranging the heat shielding member 30, it is possible to suppress the deviation of the optical axis of the optical component including the pair of resonator mirrors 25 and other mirrors.

次に、図5を参照して他の実施例によるレーザ発振器について説明する。以下、図1~図4Cに示した実施例によるレーザ発振器と共通の構成については説明を省略する。 Next, a laser oscillator according to another embodiment will be described with reference to FIG. Hereinafter, the description of the common configuration with the laser oscillator according to the embodiment shown in FIGS. 1 to 4C will be omitted.

図5は、本実施例によるレーザ発振器の光軸20Aを含む断面図である。本実施例においては、熱遮蔽部材30(図2、図3)に代えて、共振器ベース26の内部に冷却流路60が設けられている。チェンバ15の壁面に隔壁継手62、63が取り付けられている。冷却水供給回収装置61から隔壁継手62、63を介してチェンバ15内に、それぞれ管路64、65が導入されている。管路64、65は、それぞれ継手66、67を介して共振器ベース26内の冷却流路60に接続されている。冷却水供給回収装置61は、一方の管路64を通して冷却流路60に冷却水を供給し、他方の管路65を通して冷却流路60から冷却水を回収する。 FIG. 5 is a cross-sectional view including an optical axis 20A of the laser oscillator according to the present embodiment. In this embodiment, the cooling flow path 60 is provided inside the resonator base 26 instead of the heat shielding member 30 (FIGS. 2 and 3). The partition wall joints 62 and 63 are attached to the wall surface of the chamber 15. Pipe lines 64 and 65 are introduced into the chamber 15 from the cooling water supply / recovery device 61 via the partition wall joints 62 and 63, respectively. The pipelines 64 and 65 are connected to the cooling flow path 60 in the resonator base 26 via the joints 66 and 67, respectively. The cooling water supply / recovery device 61 supplies cooling water to the cooling flow path 60 through one of the pipelines 64, and recovers the cooling water from the cooling flow path 60 through the other pipeline 65.

冷却流路60は、第2表面26Bより第1表面26Aに近い位置に設けられている。すなわち、厚さ方向に関して中央よりも放電電極21側に配置されている。 The cooling flow path 60 is provided at a position closer to the first surface 26A than the second surface 26B. That is, it is arranged closer to the discharge electrode 21 than the center in the thickness direction.

次に、図5に示した実施例の優れた効果について説明する。
本実施例においては、共振器ベース26が、冷却流路60を流れる冷却水によって冷却される。冷却流路60が、第1表面26A側に配置されているため、第1表面26Aが第2表面26Bよりも優先的に冷却される。相対的に高温になりやすい第1表面26Aが優先的に冷却されるため、共振器ベース26の上下面の温度差を軽減させることができる。このため、図1~図4Cに示した実施例と同様に、共振器ベース26に、温度差に起因する反り変形が生じにくくなるという優れた効果が得られる。
Next, the excellent effects of the examples shown in FIG. 5 will be described.
In this embodiment, the resonator base 26 is cooled by the cooling water flowing through the cooling flow path 60. Since the cooling flow path 60 is arranged on the first surface 26A side, the first surface 26A is preferentially cooled over the second surface 26B. Since the first surface 26A, which tends to be relatively hot, is preferentially cooled, the temperature difference between the upper and lower surfaces of the resonator base 26 can be reduced. Therefore, as in the examples shown in FIGS. 1 to 4C, the resonator base 26 has an excellent effect that warpage deformation due to a temperature difference is less likely to occur.

次に、本実施例の変型例について説明する。
本実施例では、冷却流路60を共振器ベース26の内部に設けているが、第1表面26Aの上に設けてもよい。本実施例では、冷却流路60に冷却水を流しているが、その他の冷却用流体を流してもよい。例えば、冷却流路60に流す流体としてガスを用いてもよい。
Next, a modified example of this embodiment will be described.
In this embodiment, the cooling flow path 60 is provided inside the resonator base 26, but it may be provided on the first surface 26A. In this embodiment, the cooling water is flowed through the cooling flow path 60, but other cooling fluids may be flowed. For example, gas may be used as the fluid flowing through the cooling flow path 60.

次に、図6を参照してさらに他の実施例について説明する。以下、図1~図4Cに示した実施例によるレーザ発振器と共通の構成については説明を省略する。 Next, still another embodiment will be described with reference to FIG. Hereinafter, the description of the common configuration with the laser oscillator according to the embodiment shown in FIGS. 1 to 4C will be omitted.

図6は、本実施例によるレーザ発振器の光軸20Aに垂直な断面図である。本実施例では、熱遮蔽部材30(図2、図3)に代えて、ガス循環機構70が配置されている。ガス循環機構70は、共振器ベース26の第1表面26Aに接する空間と、第2表面26Bに接する空間との間でレーザ媒質ガスを循環させる。ガス循環機構70は、例えば送風ファンを含む。 FIG. 6 is a cross-sectional view perpendicular to the optical axis 20A of the laser oscillator according to the present embodiment. In this embodiment, the gas circulation mechanism 70 is arranged in place of the heat shielding member 30 (FIGS. 2 and 3). The gas circulation mechanism 70 circulates the laser medium gas between the space in contact with the first surface 26A of the resonator base 26 and the space in contact with the second surface 26B. The gas circulation mechanism 70 includes, for example, a blower fan.

ガス循環機構70は、第1表面26Aに接する空間のレーザ媒質ガスを、光軸20A(図2)に対して交差する方向に流す。第1表面26Aに沿って流れたレーザ媒質ガスは、仕切り板40の手前で折り返され、第2表面26Bに接する空間に流入する。第2表面26Bに沿って流れたレーザ媒質ガスは、反対側の仕切り板40の手前で折り返され、第1表面26Aに接する空間に戻る。 The gas circulation mechanism 70 causes the laser medium gas in the space in contact with the first surface 26A to flow in a direction intersecting the optical axis 20A (FIG. 2). The laser medium gas flowing along the first surface 26A is folded back in front of the partition plate 40 and flows into the space in contact with the second surface 26B. The laser medium gas flowing along the second surface 26B is folded back in front of the partition plate 40 on the opposite side and returns to the space in contact with the first surface 26A.

次に、図6に示した実施例の優れた効果について説明する。本実施例では、第1表面26Aに接する空間と、第2表面26Bに接する空間との間で循環するレーザ媒質ガスを介して、第1表面26Aと第2表面26Bとの間で熱の伝達が行われる。その結果、第1表面26Aと第2表面26Bとの間の温度差が低減される。このため、図1~図4Cに示した実施例と同様に、共振器ベース26に、温度差に起因する反り変形が生じにくくなるという優れた効果が得られる。 Next, the excellent effects of the examples shown in FIG. 6 will be described. In this embodiment, heat is transferred between the first surface 26A and the second surface 26B via the laser medium gas circulating between the space in contact with the first surface 26A and the space in contact with the second surface 26B. Is done. As a result, the temperature difference between the first surface 26A and the second surface 26B is reduced. Therefore, as in the examples shown in FIGS. 1 to 4C, the resonator base 26 has an excellent effect that warpage deformation due to a temperature difference is less likely to occur.

上述の3つの実施例のいずれにおいても、レーザ発振器は、共振器ベース26の第1表面26Aと第2表面26Bとの温度差を低減させる温度差低減構造を有している。図1~図4Cに示した実施例では、温度差低減構造が熱遮蔽部材30(図2、図3)を含む。図5に示した実施例では、温度差低減構造が冷却流路60(図5)等を含む。図6に示した実施例では、温度差低減構造がガス循環機構70(図6)を含む。温度差低減構造が、熱遮蔽部材30(図2、図3)、冷却流路60(図5)、及びガス循環機構70(図6)の複数を含むようにしてもよい。さらに、温度差低減構造としてその他の構造を採用してもよい。 In any of the above three embodiments, the laser oscillator has a temperature difference reducing structure that reduces the temperature difference between the first surface 26A and the second surface 26B of the resonator base 26. In the embodiment shown in FIGS. 1 to 4C, the temperature difference reducing structure includes the heat shielding member 30 (FIGS. 2 and 3). In the embodiment shown in FIG. 5, the temperature difference reduction structure includes a cooling flow path 60 (FIG. 5) and the like. In the embodiment shown in FIG. 6, the temperature difference reduction structure includes the gas circulation mechanism 70 (FIG. 6). The temperature difference reducing structure may include a plurality of heat shielding members 30 (FIGS. 2 and 3), a cooling flow path 60 (FIG. 5), and a gas circulation mechanism 70 (FIG. 6). Further, another structure may be adopted as the temperature difference reducing structure.

上述の各実施例は例示であり、異なる実施例で示した構成の部分的な置換または組み合わせが可能であることは言うまでもない。複数の実施例の同様の構成による同様の作用効果については実施例ごとには逐次言及しない。さらに、本発明は上述の実施例に制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。 It goes without saying that each of the above embodiments is exemplary and the configurations shown in different examples can be partially replaced or combined. Similar actions and effects due to the same configuration of a plurality of examples will not be mentioned sequentially for each example. Furthermore, the present invention is not limited to the above-mentioned examples. For example, it will be obvious to those skilled in the art that various changes, improvements, combinations, etc. are possible.

10 レーザ装置
11 架台
12 レーザ発振器
15 チェンバ
16 光学室
17 ブロワ室
18 上下仕切り板
18A、18B 開口
19 底板
20 光共振器
20A 光軸
21 放電電極
21A 放電電極を構成する一対の導電部材
22 電極ボックス
23 電極支持部材
24 放電領域
25 光共振器ミラー
26 共振器ベース
26A 第1表面
26B 第2表面
27、27A、27B、27C、27D 光共振器支持部材
28 光透過窓
29 ブロワ
30 熱遮蔽部材
31 ボルト
32 長孔
35 チェンバの支持箇所
40 仕切り板
41 第1ガス流路
42 第2ガス流路
43 熱交換器
51 円形孔
52 長孔
60 冷却流路
61 冷却水供給回収装置
62、63 隔壁継手
64、65 管路
66、67 継手
70 ガス循環機構
80 加工装置
81 ビーム整形光学系
82 ステージ
90 加工対象物
100 共通ベース

10 Laser device 11 Stand 12 Laser oscillator 15 Chamber 16 Optical chamber 17 Blower chamber 18 Upper and lower partition plates 18A, 18B Opening 19 Bottom plate 20 Optical cavity 20A Optical axis 21 Discharge electrode 21A Pair of conductive members 22 that make up the discharge electrode 22 Electrode box 23 Electrode support member 24 Discharge region 25 Optical cavity mirror 26 Resonator base 26A First surface 26B Second surface 27, 27A, 27B, 27C, 27D Optical cavity support member 28 Light transmission window 29 Blower 30 Heat shield member 31 Bolt 32 Long hole 35 Chamber support 40 Partition plate 41 1st gas flow path 42 2nd gas flow path 43 Heat exchanger 51 Circular hole 52 Long hole 60 Cooling flow path 61 Cooling water supply / recovery device 62, 63 Partition joint 64, 65 Pipeline 66, 67 Joint 70 Gas circulation mechanism 80 Processing device 81 Beam shaping optical system 82 Stage 90 Processing object 100 Common base

Claims (5)

レーザ媒質ガスを収容するチェンバ内に放電を生じさせる放電電極と、
前記チェンバ内に配置され、前記放電電極で放電が生じる領域を通る光軸を持つ光共振器を保持する共振器ベースと、
前記共振器ベースの表面のうち、前記放電電極の方を向く第1表面と、前記放電電極とは反対側を向く第2表面との温度差を低減させる温度差低減構造と
を有するレーザ発振器。
A discharge electrode that generates a discharge in the chamber that houses the laser medium gas,
A resonator base that is located in the chamber and holds an optical resonator having an optical axis that passes through a region where discharge occurs at the discharge electrode.
A laser oscillator having a temperature difference reducing structure for reducing a temperature difference between a first surface of the surface of the resonator base facing the discharge electrode and a second surface facing the opposite side of the discharge electrode.
前記温度差低減構造は、前記共振器ベースと前記放電電極との間に配置され、断熱または遮熱を行う熱遮蔽部材を含む請求項1に記載のレーザ発振器。 The laser oscillator according to claim 1, wherein the temperature difference reducing structure is arranged between the resonator base and the discharge electrode, and includes a heat shielding member that insulates or shields heat. 前記熱遮蔽部材は前記共振器ベースに、前記光共振器の光軸方向に伸縮可能に支持されている請求項2に記載のレーザ発振器。 The laser oscillator according to claim 2, wherein the heat shielding member is supported on the resonator base so as to be expandable and contractible in the optical axis direction of the optical resonator. 前記温度差低減構造は、前記第1表面の上、または前記共振器ベースの内部であって、前記第2表面より前記第1表面に近い位置に設けられた冷却流路を含む請求項1乃至3のいずれか1項に記載のレーザ発振器。 Claim 1 to the above-mentioned temperature difference reducing structure includes a cooling flow path provided on the first surface or inside the resonator base at a position closer to the first surface than the second surface. The laser oscillator according to any one of 3. 前記温度差低減構造は、前記第1表面に接する空間と、前記第2表面に接する空間との間でレーザ媒質ガスを循環させるガス循環機構を含む請求項1乃至4のいずれか1項に記載のレーザ発振器。
The one according to any one of claims 1 to 4, wherein the temperature difference reducing structure includes a gas circulation mechanism for circulating a laser medium gas between a space in contact with the first surface and a space in contact with the second surface. Laser oscillator.
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