KR20200070499A - Exhaust assembly and Apparatus for treating substrate with the assembly - Google Patents

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Abstract

The present invention provides an apparatus through which a fluid flows. According to the present invention, a substrate treating apparatus comprises a chamber and an exhaust assembly for exhausting the interior of the chamber. The exhaust assembly includes: a piping with an internal passage; an opening and closing member installed in the piping and opening and closing the internal passage; and a driving member which drives the opening and closing member to open and close the internal passage. The opening and closing member includes a first plate capable of blocking the internal passage and a second plate coupled to the first plate. The second plate has a smaller area than the first plate, and the first plate and the second plate are made of different materials.

Description

배기 어셈블리 및 이를 가지는 기판 처리 장치{Exhaust assembly and Apparatus for treating substrate with the assembly}Exhaust assembly and Apparatus for treating substrate with the assembly

본 발명은 유체가 흐르는 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a device through which a fluid flows.

반도체 소자를 제조하기 위해서는 세정, 증착, 사진, 식각, 그리고 이온주입 등과 같은 다양한 공정이 수행된다. 이러한 공정들 중 내부에 처리 공간을 가지는 챔버에서 진행된다.In order to manufacture a semiconductor device, various processes such as cleaning, deposition, photography, etching, and ion implantation are performed. Among these processes, it is performed in a chamber having a processing space therein.

일반적으로, 챔버의 처리 공간은 일정한 공정 분위기를 유지해야 한다. 이로 인해 공정 분위기는 기설정된 압력이 유지되도록 배기 어셈블리에 의해 배기된다. 배기 어셈블리는 공정 분위기를 일정 압력으로 유지시킬 뿐만 아니라, 기판 처리 시 발생된 공정 부산물을 배기한다. 예컨대, 강산 또는 강염기의 케미칼로 기판을 처리하는 과정에는 퓸(Fume)과 같은 공정 부산물이 발생되며, 이는 배기 어셈블리에 의해 배기된다.Generally, the processing space of the chamber must maintain a constant process atmosphere. Due to this, the process atmosphere is exhausted by the exhaust assembly so that a predetermined pressure is maintained. The exhaust assembly not only maintains the process atmosphere at a constant pressure, but also exhausts process by-products generated during substrate processing. For example, a process by-product such as fume is generated in the process of treating a substrate with a chemical of strong acid or strong base, which is exhausted by an exhaust assembly.

배기 어셈블리는 배관 및 이를 개폐하는 개폐 부재를 포함하며, 개폐 부재의 구동을 통해 배관을 개폐한다. 도 1은 일반적인 개폐 부재를 보여주는 분해 사시도이다. 도 1을 참조하면, 개폐 부재는 바디와 개폐링을 가진다. 바디는 원판 형상을 가지고, 개폐링은 환형의 링 형상을 가진다. 개폐링은 바디의 단부를 감싸도록 바디에 결합된다. 개폐링은 배관과 동일하거나 그보다 조금 큰 면적을 가지는 링으로 제공된다.The exhaust assembly includes a pipe and an opening and closing member for opening and closing the pipe, and opens and closes the pipe through driving of the opening and closing member. 1 is an exploded perspective view showing a general opening and closing member. 1, the opening and closing member has a body and an opening ring. The body has a disc shape, and the opening and closing ring has an annular ring shape. The opening/closing ring is coupled to the body to surround the end of the body. The opening and closing ring is provided as a ring having the same or slightly larger area than the pipe.

퓸(Fume)이 배기되는 과정에서 개폐링은 데미지를 입고, 배관과 마찰된다. 그 결과 개폐링에는 계속적인 데미지가 누적되어 경화 및 손상이 발생된다. 이로 인해 개폐링은 그 형체가 변형되거나, 바디와 분리되는 등의 불량이 발생되며, 배기량 조절의 어려움을 가진다.In the process of fume exhaust, the opening/closing ring takes damage and rubs against the pipe. As a result, continuous damage accumulates on the opening/closing ring, resulting in hardening and damage. Due to this, the opening/closing ring is deformed in its shape, or a defect such as separation from the body occurs, and it is difficult to control the displacement.

본 발명은 장시간 사용 시 우수한 내구성을 가지는 개폐 부재 및 이의 제작 방법을 제공하는 것을 일 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide an opening and closing member having excellent durability and a method for manufacturing the same when used for a long time.

본 발명의 실시예는 유체가 흐르는 장치를 제공한다. An embodiment of the present invention provides a device through which a fluid flows.

기판을 처리하는 장치는 챔버 및 상기 챔버의 내부를 배기하는 배기 어셈블리를 포함하되, 상기 배기 어셈블리는 내부 통로를 가지는 배관, 상기 배관에 설치되며, 상기 내부 통로를 개폐하는 개폐 부재, 그리고 상기 내부 통로가 개폐되도록 상기 개폐 부재를 구동시키는 구동 부재를 포함하되, 상기 개폐 부재는 상기 내부 통로를 차단 가능한 제1판과 상기 제1판에 결합되는 제2판을 포함하되, 상기 제2판은 상기 제1판에 비해 작은 면적을 가지고, 상기 제1판과 상기 제2판은 서로 다른 재질로 제공된다. An apparatus for processing a substrate includes a chamber and an exhaust assembly for exhausting the interior of the chamber, wherein the exhaust assembly is installed in a pipe having an internal passage, an opening and closing member for opening and closing the internal passage, and the internal passage It includes a drive member for driving the opening and closing member to open and close, the opening and closing member includes a first plate capable of blocking the inner passage and a second plate coupled to the first plate, wherein the second plate is the first It has a smaller area than the first plate, and the first plate and the second plate are made of different materials.

상기 제1판은 상기 제2판에 비해 내화학성이 높은 재질을 가지고, 상기 제2판은 상기 제1판에 비해 높은 강도의 재질을 가질 수 있다. 상기 제2판은 상기 제1판에 비해 큰 두께를 가질 수 있다. 상기 제1판과 상기 제2판은 동심을 가지도록 배치될 수 있다. 상기 제2판은 상기 제1판의 양측에 각각 결합될 수 있다. The first plate may have a material having higher chemical resistance than the second plate, and the second plate may have a material having a higher strength than the first plate. The second plate may have a larger thickness than the first plate. The first plate and the second plate may be arranged to have concentricity. The second plate may be coupled to both sides of the first plate.

상기 구동 부재는, 상기 개폐 부재에 고정 결합되고, 그 길이 방향이 상기 배관의 길이 방향에 수직하게 제공되는 회전축 및 상기 개폐 부재가 밀폐 위치와 개방 위치 간에 위치 변경되도록 상기 회전축을 회전시키는 구동기를 포함하되, 상기 밀폐 위치는 상기 제1판의 중심축과 상기 배관의 길이 방향이 평행한 위치이고, 상기 개방 위치는 상기 밀폐 위치를 벗어난 위치로 제공되며, 상기 밀폐 위치에서 상기 제1판과 상기 배관 간에는 틈이 제공될 수 있다. 상기 틈은 5mm 이하로 제공될 수 있다. The driving member is fixedly coupled to the opening and closing member, and includes a rotation shaft whose longitudinal direction is provided perpendicular to the longitudinal direction of the pipe, and a driver that rotates the rotation shaft so that the opening and closing member is repositioned between a closed position and an open position. However, the closed position is a position in which the central axis of the first plate and the longitudinal direction of the pipe are parallel, and the open position is provided as a position outside the closed position, and the first plate and the pipe are in the closed position. A gap may be provided in the liver. The gap may be provided to 5 mm or less.

상기 제1판은 불소를 포함하는 수지 재질로 제공되고, 상기 제2판은 폴리프로필렌(PP) 또는 폴리염화비닐(PVC)를 포함하는 수지로 제공될 수 있다. The first plate may be made of a resin material containing fluorine, and the second plate may be made of a resin comprising polypropylene (PP) or polyvinyl chloride (PVC).

또한 배기 어셈블리는 내부 통로를 가지는 배관, 상기 배관에 설치되며, 상기 내부 통로를 개폐하는 개폐 부재, 그리고 상기 내부 통로가 개폐되도록 상기 개폐 부재를 구동시키는 구동 부재를 포함하되, 상기 개폐 부재는 상기 내부 통로를 차단 가능한 제1판 및 상기 제1판에 결합되는 제2판을 포함하되, 상기 제2판은 상기 제1판에 비해 작은 면적을 가지고, 상기 제1판과 상기 제2판은 서로 다른 재질로 제공된다. In addition, the exhaust assembly includes a pipe having an internal passage, an opening and closing member for opening and closing the internal passage, and a driving member for driving the opening and closing member to open and close the internal passage, wherein the opening and closing member is the interior A first plate capable of blocking a passage and a second plate coupled to the first plate, wherein the second plate has a smaller area than the first plate, and the first plate and the second plate are different from each other. Made of material.

상기 제1판은 상기 제2판에 비해 내화학성이 높은 재질을 가지고, 상기 제2판은 상기 제1판에 비해 높은 강도의 재질을 가질 수 있다. 상기 제2판은 상기 제1판에 비해 큰 두께를 가지고, 상기 제1판과 상기 제2판은 동심을 가지도록 배치될 수 있다. The first plate may have a material having higher chemical resistance than the second plate, and the second plate may have a material having a higher strength than the first plate. The second plate has a larger thickness than the first plate, and the first plate and the second plate may be disposed to have concentricity.

상기 제1판은 불소를 포함하는 수지 재질로 제공되고, 상기 제2판은 폴리프로필렌(PP) 또는 폴리염화비닐(PVC)를 포함하는 수지로 제공될 수 있다. The first plate may be made of a resin material containing fluorine, and the second plate may be made of a resin comprising polypropylene (PP) or polyvinyl chloride (PVC).

본 발명의 실시예에 의하면, 개폐 부재는 강도가 높은 제2판이 제1판을 지지한다. 이로 인해 제1판은 연성을 가지는 동시에 내구성을 향상시킬 수 있다.According to the embodiment of the present invention, the second plate having high strength of the opening/closing member supports the first plate. For this reason, the first plate can have ductility and improve durability.

도 1은 일반적인 개폐 부재를 보여주는 분해 사시도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 설비를 보여주는 평면도이다.
도 3은 도 2의 기판 처리 장치를 보여주는 단면도이다.
도 4는 도 3에 연결된 배기 어셈블리를 보여주는 도면이다.
도 5는 도 4의 개폐 부재를 보여주는 분해 사시도이다.
도 6은 도 4의 개폐 부재를 보여주는 정면도이다.
도 7은 도 4의 개폐 부재를 A-A' 방향으로 바라본 단면도이다.
도 8은 도 5의 개폐 부재의 다른 실시예를 보여주는 분해 사시도이다.
도 9는 도 5의 개폐 부재의 또 다른 실시예를 보여주는 분해 사시도이다.1 is an exploded perspective view showing a general opening and closing member.
2 is a plan view showing a substrate processing facility according to an embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view showing the substrate processing apparatus of FIG. 2.
FIG. 4 is a view showing the exhaust assembly connected to FIG. 3.
5 is an exploded perspective view showing the opening and closing member of FIG. 4.
6 is a front view showing the opening and closing member of FIG. 4.
7 is a cross-sectional view of the opening and closing member of FIG. 4 viewed in the direction AA'.
8 is an exploded perspective view showing another embodiment of the opening and closing member of FIG. 5.
9 is an exploded perspective view showing another embodiment of the opening and closing member of FIG. 5.

본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 서술하는 실시예로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어서는 안된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 구성 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장된 것이다.The embodiments of the present invention can be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be interpreted as being limited by the examples described below. This embodiment is provided to more fully describe the present invention to those skilled in the art. Therefore, the shapes of components in the drawings are exaggerated to emphasize a clearer description.

본 발명은 도 2 내지 도 9를 참조하여 본 발명의 일 예를 상세히 설명한다.The present invention will be described in detail an example of the present invention with reference to FIGS. 2 to 9.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 설비를 보여주는 평면도이다.2 is a plan view showing a substrate processing facility according to an embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 기판 처리 설비(1)는 인덱스 모듈(10)과 공정 처리 모듈(20)을 가지고, 인덱스 모듈(10)은 로드 포트(120) 및 이송 프레임(140)을 가진다. 로드 포트(120), 이송 프레임(140), 그리고 공정 처리 모듈(20)은 순차적으로 일렬로 배열된다. 이하, 로드 포트(120), 이송 프레임(140), 그리고 공정 처리 모듈(20)이 배열된 방향을 제1방향(12)이라 하고, 상부에서 바라볼 때, 제1방향(12)과 수직한 방향을 제2방향(14)이라 하며, 제1방향(12)과 제2방향(14)을 포함한 평면에 수직인 방향을 제3방향(16)이라 칭한다. Referring to FIG. 2, the substrate processing facility 1 has an index module 10 and a process processing module 20, and the index module 10 has a load port 120 and a transfer frame 140. The load port 120, the transfer frame 140, and the process processing module 20 are sequentially arranged in a line. Hereinafter, the direction in which the load port 120, the transfer frame 140, and the process processing module 20 are arranged is referred to as a first direction 12, and when viewed from the top, perpendicular to the first direction 12 The direction is called the second direction 14 and the direction perpendicular to the plane including the first direction 12 and the second direction 14 is called the third direction 16.

로드 포트(120)에는 기판(W)이 수납된 캐리어(18)가 안착된다. 로드 포트(120)는 복수 개가 제공되며 이들은 제2방향(14)을 따라 일렬로 배치된다. 도 1에서는 4 개의 로드 포트(120)가 제공된 것으로 도시하였다. 그러나 로드 포트(120)의 개수는 공정 처리 모듈(20)의 공정효율 및 풋 프린트 등의 조건에 따라 증가하거나 감소할 수도 있다. 캐리어(18)에는 기판의 가장자리를 지지하도록 제공된 슬롯(도시되지 않음)이 형성된다. 슬롯은 제3방향(16)을 복수 개가 제공되고, 기판은 제3방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 캐리어 내에 위치된다. 캐리어(18)로는 전면 개방 일체형 포드(Front Opening Unified Pod;FOUP)가 사용될 수 있다. The carrier 18 in which the substrate W is accommodated is mounted on the load port 120. A plurality of load ports 120 are provided and they are arranged in a line along the second direction 14. In FIG. 1, four load ports 120 are provided. However, the number of load ports 120 may increase or decrease depending on conditions such as process efficiency and footprint of the process processing module 20. The carrier 18 is formed with a slot (not shown) provided to support the edge of the substrate. A plurality of slots are provided in the third direction 16, and the substrate is positioned in the carrier to be stacked in a spaced apart state from each other along the third direction 16. As the carrier 18, a Front Opening Unified Pod (FOUP) may be used.

공정 처리 모듈(20)은 버퍼 유닛(220), 이송 챔버(240), 공정 챔버(260), 그리고 배기 어셈블리(500)를 가진다. 이송 챔버(240)는 그 길이 방향이 제1방향(12)과 평행하게 배치된다. 제2방향(14)를 따라 이송 챔버(240)의 양측에는 공정 챔버들(260)이 배치된다. 공정 챔버들(260)은 이송 챔버(240)를 기준으로 서로 대칭이 되도록 제공될 수 있다. 공정 챔버들(260) 중 일부는 이송 챔버(240)의 길이 방향을 따라 배치된다. 또한, 공정 챔버들(260) 중 일부는 서로 적층되게 배치된다. 즉, 이송 챔버(240)의 양측에는 공정 챔버들(260)이 A X B(A와 B는 각각 1 이상의 자연수)의 배열로 배치될 수 있다. 여기서 A는 제1방향(12)을 따라 일렬로 제공된 공정 챔버(260)의 수이고, B는 제3방향(16)을 따라 일렬로 제공된 공정 챔버(260)의 수이다. 이송 챔버(240)의 양측 각각에 공정 챔버(260)가 4개 또는 6개 제공되는 경우, 공정 챔버들(260)은 2 X 2 또는 3 X 2의 배열로 배치될 수 있다. 공정 챔버(260)의 개수는 증가하거나 감소할 수도 있다. The process processing module 20 has a buffer unit 220, a transfer chamber 240, a process chamber 260, and an exhaust assembly 500. The transfer chamber 240 is disposed in the longitudinal direction parallel to the first direction (12). Process chambers 260 are disposed on both sides of the transfer chamber 240 along the second direction 14. The process chambers 260 may be provided to be symmetric with each other with respect to the transfer chamber 240. Some of the process chambers 260 are disposed along the longitudinal direction of the transfer chamber 240. In addition, some of the process chambers 260 are arranged to be stacked with each other. That is, the process chambers 260 may be disposed on both sides of the transfer chamber 240 in an array of A X B (A and B are each a natural number of 1 or more). Where A is the number of process chambers 260 provided in a line along the first direction 12 and B is the number of process chambers 260 provided in a line along the third direction 16. When four or six process chambers 260 are provided on each side of the transfer chamber 240, the process chambers 260 may be arranged in an array of 2 X 2 or 3 X 2. The number of process chambers 260 may be increased or decreased.

상술한 바와 달리, 공정 챔버(260)는 이송 챔버(240)의 일측에만 제공될 수 있다. 또한 공정 챔버(260)는 이송 챔버(240)의 일측 및 타측에 단층으로 제공될 수 있다. 또한, 공정 챔버(260)는 상술한 바와 달리 다양한 배치로 제공될 수 있다. 또한 공정 챔버들(260) 중 이송 챔버(240)의 일측에는 기판을 액 처리 공정을 수행하고, 타측에는 액 처리 공정이 수행된 기판을 건조 처리하는 공정을 수행할 수 있다. 건조 처리 공정은 초임계 처리 공정일 수 있다.Unlike the above, the process chamber 260 may be provided only on one side of the transfer chamber 240. In addition, the process chamber 260 may be provided as a single layer on one side and the other side of the transfer chamber 240. In addition, the process chamber 260 may be provided in various arrangements as described above. In addition, one of the process chambers 260 may perform a liquid treatment process for the substrate on one side of the transfer chamber 240 and a process of drying the substrate on which the liquid treatment process is performed on the other side. The drying treatment process may be a supercritical treatment process.

버퍼 유닛(220)은 이송 프레임(140)과 이송 챔버(240) 사이에 배치된다. 버퍼 유닛(220)은 이송 챔버(240)와 이송 프레임(140) 간에 기판(W)이 반송되기 전에 기판(W)이 머무르는 공간을 제공한다. 버퍼 유닛(220)은 그 내부에 기판(W)이 놓이는 슬롯(미도시)이 제공되며, 슬롯들(미도시)은 서로 간에 제3방향(16)을 따라 이격되도록 복수 개 제공된다. 버퍼 유닛(220)에서 이송 프레임(140)과 마주보는 면과 이송 챔버(240)와 마주보는 면 각각이 개방된다.The buffer unit 220 is disposed between the transfer frame 140 and the transfer chamber 240. The buffer unit 220 provides a space where the substrate W stays before the substrate W is transferred between the transfer chamber 240 and the transfer frame 140. The buffer unit 220 is provided with a slot (not shown) in which the substrate W is placed, and a plurality of slots (not shown) are spaced apart from each other along the third direction 16. In the buffer unit 220, a surface facing the transfer frame 140 and a surface facing the transfer chamber 240 are opened.

이송 프레임(140)은 로드 포트(120)에 안착된 캐리어(18)와 버퍼 유닛(220) 간에 기판(W)을 반송한다. 이송 프레임(140)에는 인덱스레일(142)과 인덱스로봇(144)이 제공된다. 인덱스레일(142)은 그 길이 방향이 제2방향(14)과 나란하게 제공된다. 인덱스로봇(144)은 인덱스레일(142) 상에 설치되며, 인덱스레일(142)을 따라 제2방향(14)으로 직선 이동된다. 인덱스로봇(144)은 베이스(144a), 몸체(144b), 그리고 인덱스암(144c)을 가진다. 베이스(144a)는 인덱스레일(142)을 따라 이동 가능하도록 설치된다. 몸체(144b)는 베이스(144a)에 결합된다. 몸체(144b)는 베이스(144a) 상에서 제3방향(16)을 따라 이동 가능하도록 제공된다. 또한, 몸체(144b)는 베이스(144a) 상에서 회전 가능하도록 제공된다. 인덱스암(144c)은 몸체(144b)에 결합되고, 몸체(144b)에 대해 전진 및 후진 이동 가능하도록 제공된다. 인덱스암(144c)은 복수 개 제공되어 각각 개별 구동되도록 제공된다. 인덱스암(144c)들은 제3방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 배치된다. 인덱스암(144c)들 중 일부는 공정 처리 모듈(20)에서 캐리어(18)로 기판(W)을 반송할 때 사용되고, 다른 일부는 캐리어(18)에서 공정 처리 모듈(20)로 기판(W)을 반송할 때 사용될 수 있다. 이는 인덱스로봇(144)이 기판(W)을 반입 및 반출하는 과정에서 공정 처리 전의 기판(W)으로부터 발생된 파티클이 공정 처리 후의 기판(W)에 부착되는 것을 방지할 수 있다. The transfer frame 140 transports the substrate W between the carrier 18 seated on the load port 120 and the buffer unit 220. The transfer frame 140 is provided with an index rail 142 and an index robot 144. The index rail 142 is provided with its longitudinal direction parallel to the second direction 14. The index robot 144 is installed on the index rail 142, and is linearly moved in the second direction 14 along the index rail 142. The index robot 144 has a base 144a, a body 144b, and an index arm 144c. The base 144a is installed to be movable along the index rail 142. The body 144b is coupled to the base 144a. The body 144b is provided to be movable along the third direction 16 on the base 144a. Further, the body 144b is provided to be rotatable on the base 144a. The index arm 144c is coupled to the body 144b, and is provided to be movable forward and backward relative to the body 144b. A plurality of index arms 144c are provided to be individually driven. The index arms 144c are arranged to be stacked in a state spaced apart from each other along the third direction 16. Some of the index arms 144c are used to transport the substrate W from the process processing module 20 to the carrier 18, and some of the index arms are transferred from the carrier 18 to the process processing module 20. It can be used when conveying. This can prevent particles generated from the substrate W prior to the process processing from being attached to the substrate W after the process processing in the process of the index robot 144 carrying in and out the substrate W.

이송 챔버(240)는 버퍼 유닛(220) 및 공정 챔버들(260) 간에 기판(W)을 반송한다. 이송 챔버(240)에는 가이드 레일(242)과 메인 로봇(244)이 제공된다. 가이드 레일(242)은 그 길이 방향이 제1방향(12)과 나란하도록 배치된다. 메인 로봇(244)은 가이드 레일(242) 상에 설치되고, 가이드 레일(242) 상에서 제1방향(12)을 따라 직선 이동된다. The transfer chamber 240 transfers the substrate W between the buffer unit 220 and the process chambers 260. A guide rail 242 and a main robot 244 are provided in the transfer chamber 240. The guide rail 242 is disposed such that its longitudinal direction is parallel to the first direction 12. The main robot 244 is installed on the guide rail 242, and is linearly moved along the first direction 12 on the guide rail 242.

아래에서는 공정 챔버(260)에 제공된 기판 처리 장치(300)에 대해 설명한다. 본 실시예에는 기판 처리 장치(300)이 기판에 대해 액 처리 공정을 수행하는 것을 일 예로 설명한다. 액 처리 공정은 기판을 세정 처리하거나, 기판 상에 형성된 막을 제거하는 공정을 포함할 수 있다. Hereinafter, the substrate processing apparatus 300 provided in the process chamber 260 will be described. In this embodiment, it will be described as an example that the substrate processing apparatus 300 performs a liquid processing process on the substrate. The liquid treatment process may include a process of cleaning a substrate or removing a film formed on the substrate.

도 3은 도 2의 기판 처리 장치를 보여주는 단면도이다. 도 3을 참조하면, 기판 처리 장치(300)는 챔버(310), 처리 용기(320), 스핀 헤드(340), 승강 유닛(360), 그리고 액 공급 유닛(400)을 포함한다. 챔버(310)는 내부에 기판(W)을 처리하는 공정이 수행되는 처리 공간(312)을 제공한다. 챔버(310)의 바닥면에는 배기관(314)이 설치된다. 배기관(314)은 처리 공간(312)을 배기하는 관으로 제공된다. 배기관(314)에는 감압 부재(540)가 설치될 수 있다. 3 is a cross-sectional view showing the substrate processing apparatus of FIG. 2. Referring to FIG. 3, the substrate processing apparatus 300 includes a chamber 310, a processing container 320, a spin head 340, an elevation unit 360, and a liquid supply unit 400. The chamber 310 provides a processing space 312 in which a process for processing the substrate W is performed. An exhaust pipe 314 is installed on the bottom surface of the chamber 310. The exhaust pipe 314 is provided as a pipe that exhausts the processing space 312. The pressure reducing member 540 may be installed in the exhaust pipe 314.

처리 용기(320)는 처리 공간(312)에 위치되며, 상부가 개방된 컵 형상으로 제공된다. 상부에서 바라볼 때 처리 용기(320) 배기관(314)과 중첩되도록 위치된다. 처리 용기(320)는 내부 회수통(322) 및 외부 회수통(326)을 가진다. 각각의 회수통(322,326)은 공정에 사용된 처리액 중 서로 상이한 처리액을 회수한다. 내부 회수통(322)은 스핀 헤드(340)를 감싸는 환형의 링 형상으로 제공되고, 외부 회수통(326)은 내부 회수통(322)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 내부 회수통(322)의 내측공간(322a) 및 외부 회수통(326)과 내부 회수통(322)의 사이 공간(326a)은 각각 내부 회수통(322) 및 외부 회수통(326)으로 처리액이 유입되는 유입구로서 기능한다. 각각의 회수통(322,326)에는 그 저면 아래 방향으로 수직하게 연장되는 회수라인(322b,326b)이 연결된다. 각각의 회수라인(322b,326b)은 각각의 회수통(322,326)을 통해 유입된 처리액을 배출하는 배출관으로 기능한다. 배출된 처리액은 외부의 처리액 재생 시스템(미도시)을 통해 재사용될 수 있다.The processing container 320 is located in the processing space 312 and is provided in an open cup shape. When viewed from the top, the processing vessel 320 is positioned to overlap the exhaust pipe 314. The processing container 320 has an inner collection container 322 and an outer collection container 326. Each of the collection bins 322 and 326 recovers different treatment liquids from the treatment liquids used in the process. The inner collection container 322 is provided in an annular ring shape surrounding the spin head 340, and the outer collection container 326 is provided in an annular ring shape surrounding the inner collection container 322. The inner space 322a of the inner recovery container 322 and the space 326a between the outer recovery container 326 and the inner recovery container 322 are treated as an inner recovery container 322 and an outer recovery container 326, respectively. It functions as an inlet. The collection lines 322b and 326b vertically extending in the downward direction of the bottom surface are connected to the respective collection cylinders 322 and 326. Each of the recovery lines 322b and 326b functions as a discharge pipe for discharging the treatment liquid introduced through each of the recovery cylinders 322 and 326. The discharged treatment liquid may be reused through an external treatment liquid regeneration system (not shown).

스핀 헤드(340)는 기판(W)을 지지 및 회전시키는 기판 지지 유닛(340)으로 제공된다. 스핀 헤드(340)는 처리 용기(320)의 내에 배치된다. 스핀 헤드(340)은 공정 진행 중 기판(W)을 지지하고 기판(W)을 회전시킨다. 스핀 헤드(340)는 몸체(342), 지지핀(344), 척핀(346), 그리고 지지축(348)을 가진다. 몸체(342)는 상부에서 바라볼 때 대체로 원형으로 제공되는 상부면을 가진다. 몸체(342)의 저면에는 모터(349)에 의해 회전 가능한 지지축(348)이 고정 결합된다. 지지핀(344)은 복수 개 제공된다. 지지핀(344)은 몸체(342)의 상부면의 가장자리부에 소정 간격으로 이격되게 배치되고 몸체(342)에서 상부로 돌출된다. 지지핀들(334)은 서로 간에 조합에 의해 전체적으로 환형의 링 형상을 가지도록 배치된다. 지지핀(344)은 몸체(342)의 상부면으로부터 기판(W)이 일정거리 이격되도록 기판의 후면 가장자리를 지지한다. 척핀(346)은 복수 개 제공된다. 척핀(346)은 몸체(342)의 중심에서 지지핀(344)보다 멀리 떨어지게 배치된다. 척핀(346)은 몸체(342)에서 상부로 돌출되도록 제공된다. 척핀(346)은 스핀 헤드(340)가 회전될 때 기판(W)이 정 위치에서 측 방향으로 이탈되지 않도록 기판(W)의 측부를 지지한다. 척핀(346)은 몸체(342)의 반경 방향을 따라 대기 위치와 지지 위치 간에 직선 이동 가능하도록 제공된다. 대기위치는 지지 위치에 비해 몸체(342)의 중심으로부터 멀리 떨어진 위치이다. 기판(W)이 스핀 헤드(340)에 로딩 또는 언 로딩시에는 척핀(346)은 대기위치에 위치되고, 기판(W)에 대해 공정 수행시에는 척핀(346)은 지지 위치에 위치된다. 지지 위치에서 척핀(346)은 기판(W)의 측부와 접촉된다.The spin head 340 is provided as a substrate support unit 340 that supports and rotates the substrate W. Spin head 340 is disposed within processing vessel 320. The spin head 340 supports the substrate W during the process and rotates the substrate W. The spin head 340 has a body 342, a support pin 344, a chuck pin 346, and a support shaft 348. The body 342 has an upper surface provided in a substantially circular shape when viewed from the top. A support shaft 348 rotatable by a motor 349 is fixedly coupled to the bottom surface of the body 342. A plurality of support pins 344 are provided. The support pins 344 are arranged to be spaced apart at predetermined intervals at the edge of the upper surface of the body 342 and protrude upward from the body 342. The support pins 334 are arranged to have an annular ring shape as a whole by combination with each other. The support pin 344 supports the rear edge of the substrate such that the substrate W is spaced a predetermined distance from the upper surface of the body 342. A plurality of chuck pins 346 are provided. The chuck pin 346 is disposed farther than the support pin 344 from the center of the body 342. The chuck pin 346 is provided to protrude upward from the body 342. The chuck pin 346 supports the side of the substrate W so that the substrate W does not deviate laterally from the fixed position when the spin head 340 is rotated. The chuck pin 346 is provided to be able to move linearly between the standby position and the support position along the radial direction of the body 342. The standby position is a position away from the center of the body 342 compared to the support position. When the substrate W is loaded or unloaded on the spin head 340, the chuck pin 346 is positioned at the standby position, and when the process is performed on the substrate W, the chuck pin 346 is positioned at the support position. In the support position, the chuck pin 346 contacts the side of the substrate W.

승강 유닛(360)은 처리 용기(320)와 스핀 헤드(340) 간에 상대 높이를 조절한다. 승강 유닛(360)은 처리 용기(320)를 상하 방향으로 직선 이동시킨다. 처리 용기(320)가 상하로 이동됨에 따라 스핀 헤드(340)에 대한 처리 용기(320)의 상대 높이가 변경된다. 승강 유닛(360)은 브라켓(362), 이동축(364), 그리고 구동기(366)를 가진다. 브라켓(362)은 처리 용기(320)의 외벽에 고정설치되고, 브라켓(362)에는 구동기(366)에 의해 상하 방향으로 이동되는 이동축(364)이 고정결합된다. 기판(W)이 스핀 헤드(340)에 놓이거나, 스핀 헤드(340)로부터 들어올려 질 때 스핀 헤드(340)가 처리 용기(320)의 상부로 돌출되도록 처리 용기(320)는 하강된다. 또한, 공정이 진행될 시에는 기판(W)에 공급된 처리액의 종류에 따라 처리액이 기설정된 회수통(360)으로 유입될 수 있도록 처리 용기(320)의 높이가 조절한다. The lifting unit 360 adjusts the relative height between the processing vessel 320 and the spin head 340. The lifting unit 360 linearly moves the processing container 320 in the vertical direction. As the processing container 320 is moved up and down, the relative height of the processing container 320 with respect to the spin head 340 is changed. The lifting unit 360 has a bracket 362, a moving shaft 364, and a driver 366. The bracket 362 is fixedly installed on the outer wall of the processing container 320, and the moving shaft 364 moved in the vertical direction by the driver 366 is fixedly coupled to the bracket 362. The processing vessel 320 is lowered such that the spin head 340 protrudes to the top of the processing vessel 320 when the substrate W is placed on the spin head 340 or is lifted from the spin head 340. In addition, when the process is in progress, the height of the processing container 320 is adjusted so that the processing liquid can be introduced into the predetermined collection container 360 according to the type of the processing liquid supplied to the substrate W.

상술한 바와 달리 승강 유닛(360)은 처리 용기(320) 대신 스핀 헤드(340)를 상하 방향으로 이동시킬 수 있다.Unlike the above, the lifting unit 360 may move the spin head 340 in the vertical direction instead of the processing container 320.

액 공급 유닛(400)은 기판(W) 상에 다양한 종류의 처리액들을 공급한다. 액 공급 유닛은 기판(W)을 세정하거나, 기판(W)의 막을 제거하는 처리액을 공급한다. 노즐(410)은 공정 위치와 대기 위치로 이동된다. 여기서 공정 위치는 노즐(410)이 처리 용기(320) 내에 위치된 기판(W) 상에 처리액을 토출 가능한 위치이고, 대기 위치는 노즐(410)이 공정 위치를 벗어나 대기되는 위치로 정의한다. 일 예에 의하면, 공정 위치는 노즐(410)이 기판(W)의 중심으로 액을 공급할 수 있는 위치일 수 있다. 예컨대, 상부에서 바라볼 때 노즐(410)은 직선 이동 또는 축 회전 이동되어 공정 위치와 대기 위치 간에 이동될 수 있다. 처리액은 케미칼, 린스액, 또는 유기 용제일 수 있다. 케미칼은 강산 또는 강염기의 액일 수 있다.The liquid supply unit 400 supplies various kinds of processing liquids on the substrate W. The liquid supply unit supplies a processing liquid for cleaning the substrate W or removing the film of the substrate W. The nozzle 410 is moved to the process position and the standby position. Here, the process position is a position where the nozzle 410 is capable of discharging the processing liquid onto the substrate W located in the processing container 320, and the standby position is defined as a position where the nozzle 410 is waiting outside the process position. According to an example, the process position may be a position where the nozzle 410 can supply the liquid to the center of the substrate W. For example, when viewed from the top, the nozzle 410 may be moved linearly or axially to move between a process position and a standby position. The treatment liquid may be a chemical, a rinse liquid, or an organic solvent. The chemical may be a liquid of a strong acid or a strong base.

배기 어셈블리(500)는 이송 챔버(240) 및 공정 챔버(260)의 내부를 배기한다. 예컨대, 배기 어셈블리(500)는 이송 챔버(240) 및 공정 챔버(260)의 바닥면을 통해 각각의 내부를 배기할 수 있다. 공정 챔버(310)는 바닥면에 제공된 배기관(314)을 통해 그 내부가 배기될 수 있다. 도 4는 도 3에 연결된 배기 어셈블리를 개략적으로 보여주는 도면이다. 배기 어셈블리(500)는 배관(520), 감압 부재(540), 개폐 부재(600), 그리고 구동 부재(680)를 포함한다. 배관(520)은 유체가 흐르는 내부 통로를 가진다. 본 실시예에는 배관(520)을 통해 각 챔버(240,260)의 기류와 같은 분위기를 배기하는 것으로 설명한다. 배관(520)에는 감압 부재(540)가 설치되며, 그 내부 통로는 감압 부재(540)에 의해 배기력이 발생된다. 감압 부재(540)는 배관(520)에서 배기 방향에 대해 개폐 부재(600)보다 하류에 위치된다. 배관(520)의 내부 통로는 개폐 부재(600)에 의해 개폐된다. 개폐 부재(600)는 배관(520)의 절단면에 대응되는 판 형상으로 제공된다. 예컨대, 배관(520)은 원통 형상을 가지며, 개폐 부재(600)는 원판 형상으로 제공될 수 있다. 개폐 부재(600)는 배관(520)의 내경과 동일하거나 이보다 조금 작은 크기일 수 있다. The exhaust assembly 500 exhausts the interior of the transfer chamber 240 and the process chamber 260. For example, the exhaust assembly 500 may exhaust each interior through the bottom surfaces of the transfer chamber 240 and the process chamber 260. The process chamber 310 may be exhausted through the exhaust pipe 314 provided on the bottom surface. 4 is a view schematically showing the exhaust assembly connected to FIG. 3. The exhaust assembly 500 includes a pipe 520, a pressure reducing member 540, an opening/closing member 600, and a driving member 680. The pipe 520 has an internal passage through which fluid flows. In this embodiment, it will be described as exhausting the atmosphere such as the airflow of each chamber 240 and 260 through the pipe 520. The pressure reducing member 540 is installed in the pipe 520, and an exhaust force is generated in the internal passage by the pressure reducing member 540. The pressure reducing member 540 is positioned downstream of the opening/closing member 600 with respect to the exhaust direction in the pipe 520. The internal passage of the pipe 520 is opened and closed by the opening/closing member 600. The opening/closing member 600 is provided in a plate shape corresponding to the cut surface of the pipe 520. For example, the pipe 520 has a cylindrical shape, and the opening/closing member 600 may be provided in a disc shape. The opening/closing member 600 may have a size equal to or smaller than the inner diameter of the pipe 520.

구동 부재(680)는 배관(520) 내에 위치된 개폐 부재(600)를 개방 위치와 밀폐 위치로 이동시킨다. 구동 부재(680)는 개폐 부재(600)를 회전시켜 개방 위치와 밀폐 위치 간에 이동시킨다. 여기서 밀폐 위치는 내부 통로에 흐르는 기류가 개폐 부재(600)에 의해 90% 이상이 차단되는 정도의 위치이다. 예컨대, 밀폐 위치에는 개폐 부재(600)의 중심축과 배관(520)의 길이 방향이 평행하게 제공될 수 있다. 이와 달리 개방 위치에는 개폐 부재(600)의 중심축과 배관(520)의 길이 방향이 상이하게 제공될 수 있다. 구동 부재(680)는 회전축 및 구동기를 포함한다. 회전축은 배관(520) 및 개폐 부재(600) 각각에 결합되어 배관(520)의 길이 방향과 수직한 방향을 축으로 회전 가능하다. 회전축은 개폐 부재(600)를 그립(Grip) 가능한 그립퍼로 기능하며, 개폐 부재(600)를 사이에 두고 양단에서 각각 그립할 수 있다. 그립퍼는 축을 중심으로 회전될 수 있다. 구동기는 회전축에 구동력을 전달하는 모터일 수 있다. The driving member 680 moves the opening/closing member 600 located in the pipe 520 to an open position and a closed position. The driving member 680 rotates the opening/closing member 600 to move between the open position and the closed position. Here, the closed position is a position at which 90% or more of the airflow flowing through the inner passage is blocked by the opening/closing member 600. For example, a central axis of the opening/closing member 600 and a longitudinal direction of the pipe 520 may be provided in a closed position in parallel. Unlike this, the central axis of the opening/closing member 600 and the longitudinal direction of the pipe 520 may be provided differently in the open position. The drive member 680 includes a rotating shaft and a driver. The rotating shaft is coupled to each of the pipe 520 and the opening/closing member 600 to rotate in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the pipe 520. The rotating shaft functions as a gripper capable of gripping the opening/closing member 600, and can grip each at both ends with the opening/closing member 600 interposed therebetween. The gripper can be rotated about an axis. The driver may be a motor that transmits a driving force to the rotating shaft.

다음은 상술한 개폐 부재(600)에 대해 보다 자세히 설명한다. 도 5는 도 4의 개폐 부재(600)를 보여주는 분해 사시도이고, 도 6은 도 4의 개폐 부재를 보여주는 정면도이며, 도 7은 도 4의 개폐 부재를 A-A' 방향으로 바라본 단면도이다. 도 5 내지 도 7을 참조하면, 개폐 부재(600)는 제1판(620) 및 제2판(640)을 포함한다. 제1판(620) 및 제2판(640) 각각은 서로 형상 및 성질이 다른 판으로 제공된다. 일 예에 의하면, 제1판(620)은 제2판(640)보다 큰 면적을 가지고, 얇은 두께를 가질 수 있다. 제1판(620)은 제2판(640)에 비해 내화학성이 높은 재질로 제공되고, 제2판(640)은 제1판(620)에 비해 강도가 높은 재질로 제공될 수 있다. 제1판(620)은 불소를 포함하는 수지 재질로 제공되고, 제2판(640)은 폴리프로필렌(PP) 또는 폴리염화비닐(PVC)를 포함하는 수지로 제공될 수 있다.The following will be described in more detail with respect to the opening and closing member 600 described above. FIG. 5 is an exploded perspective view showing the opening/closing member 600 of FIG. 4, FIG. 6 is a front view showing the opening/closing member of FIG. 4, and FIG. 7 is a cross-sectional view of the opening/closing member of FIG. 4 in the A-A' direction. 5 to 7, the opening/closing member 600 includes a first plate 620 and a second plate 640. Each of the first plate 620 and the second plate 640 is provided as plates having different shapes and properties. According to an example, the first plate 620 may have a larger area than the second plate 640 and may have a thin thickness. The first plate 620 may be made of a material having higher chemical resistance than the second plate 640, and the second plate 640 may be made of a material having higher strength than the first plate 620. The first plate 620 may be made of a resin material containing fluorine, and the second plate 640 may be made of a resin containing polypropylene (PP) or polyvinyl chloride (PVC).

제2판(640)은 제1판(620)의 양면 각각에 결합된다. 제2판(640)은 제1판(620)에 접촉되게 결합된다. 제2판(640)은 제1판(620)과 동심원을 가지도록 결합된다. 예컨대 제1판(620)과 제2판(640)은 볼트(660)에 의해 체결될 수 있다. 따라서 개폐 부재(600)를 정면에서 바라보면, 중앙 영역은 제2판(640)을 포함하고, 가장자리 영역은 제1판(620)을 포함한다. 즉, 개폐 부재(600)는 중앙 영역이 높은 강도를 가지고, 가장자리 영역이 높은 내화학성을 가질 수 있다. 제2판(640)은 제1판(620)에 비해 큰 두께를 가진다. 즉 제1판(620)의 제1두께(D1)은 제2판(640)의 제2판(D2)보다 작게 제공된다. 이러한 두께 및 재질로 인해, 제2판(640)은 제1판(620)보다 큰 강도를 가질 수 있으며, 제2판(640)은 제1판(620)과 체결되어 제1판(620)의 강도를 보강할 수 있다. The second plate 640 is coupled to each of both sides of the first plate 620. The second plate 640 is coupled to contact the first plate 620. The second plate 640 is coupled to have a concentric circle with the first plate 620. For example, the first plate 620 and the second plate 640 may be fastened by bolts 660. Therefore, when the opening/closing member 600 is viewed from the front, the central region includes the second plate 640 and the edge region includes the first plate 620. That is, the opening/closing member 600 may have high strength in the center region and high chemical resistance in the edge region. The second plate 640 has a larger thickness than the first plate 620. That is, the first thickness D1 of the first plate 620 is provided smaller than the second plate D2 of the second plate 640. Due to these thicknesses and materials, the second plate 640 may have a greater strength than the first plate 620, and the second plate 640 is fastened to the first plate 620 and the first plate 620 It can reinforce the strength of.

제1판(620)은 밀폐 위치에서 배관(520)의 내측면과 틈(S)을 가지는 면적으로 제공된다. 예컨대, 틈(S)은 원주 방향을 따라 동일한 길이일 수 있다. 틈(S)은 0.5mm 이하일 수 있다. 이로 인해 이송 챔버(240) 및 공정 챔버(260)에서 발생된 다량의 부산물은 상기 틈(S)을 통해 배기되며, 개폐 부재(600)의 중앙 영역보다 가장자리 영역에 더 빈번하게 접촉된다. 이때 개폐 부재(600)의 가장자리 영역은 제1판(620)을 포함하며, 내화학성이 높은 재질로 제공되어 높은 내구성을 가진다. 또한 제1판(620) 및 제2판(640)은 각각 판 형상을 가지며, 제2판(640)은 일면 전체가 제1판(620)에 접촉되게 결합된다. 이로 인해 제1판(620)과 제2판(640) 중 어느 하나 또는 일부가 손상될지라도, 이들의 강제 분리되는 것을 방지할 수 있다. The first plate 620 is provided as an area having a gap S and an inner surface of the pipe 520 in a closed position. For example, the gap S may be the same length along the circumferential direction. The gap S may be 0.5 mm or less. Due to this, a large amount of by-products generated in the transfer chamber 240 and the process chamber 260 are exhausted through the gap S, and contact the edge region more frequently than the central region of the opening/closing member 600. At this time, the edge region of the opening/closing member 600 includes the first plate 620, and is made of a material having high chemical resistance to have high durability. In addition, each of the first plate 620 and the second plate 640 has a plate shape, and the entire second surface of the second plate 640 is coupled to the first plate 620. Due to this, even if any one or part of the first plate 620 and the second plate 640 is damaged, it is possible to prevent the forced separation of them.

또한 제1판(620)은 배관(520)에 대한 틈(S)을 가진다. 이로 인해 밀폐 위치에서도 기류의 흐름을 개폐 부재(600)의 가장자리 영역으로 안내하며, 중앙 영역인 제2판(640)의 손상을 최소화하는 동시에, 90% 이상의 밀폐력을 가진다. Also, the first plate 620 has a gap S with respect to the pipe 520. Due to this, the flow of airflow is guided to the edge region of the opening/closing member 600 even in the closed position, while minimizing damage to the second plate 640, which is the central region, and having a sealing force of 90% or more.

또한 제1판(620)은 제2판(640)에 비해 연성을 가지는 재질이며, 충격으로 인해 제1판(620)의 일부의 위치가 변경되어 배관(520)에 접촉될지라도, 제1판(620)의 손상을 최소화할 수 있다. In addition, the first plate 620 is a material having ductility compared to the second plate 640, and although the position of a portion of the first plate 620 is changed due to the impact, the first plate 620 is in contact with the piping 520. The damage of 620 can be minimized.

상술한 실시예에는 개폐 부재(600)가 1 개의 제1판(620) 및 이의 양측에 제공되도록 2 개의 제2판(640)을 가지는 것으로 설명하였다. 그러나 제2판(640)은 제1판(620)의 일측에만 제공되도록 1 개로 제공될 수 있다. In the above-described embodiment, it has been described that the opening/closing member 600 has one first plate 620 and two second plates 640 to be provided on both sides thereof. However, the second plate 640 may be provided as one so that it is provided only on one side of the first plate 620.

또한 도 8과 같이, 제2판(640)은 환형의 링 형상으로 제공되어 제1판(620)의 강도를 보강하는 동시에 경량화 및 제작 비용을 줄일 수 있다. In addition, as shown in FIG. 8, the second plate 640 is provided in an annular ring shape to reinforce the strength of the first plate 620 while reducing weight and manufacturing cost.

또한 도 9와 같이. 제1판(620)은 2 개의 반원 형상으로 제공되며, 이들은 제2판(640)에 의해 결합 및 조합되어 원형으로 제공될 수 있다. Also as shown in FIG. 9. The first plate 620 is provided in two semicircle shapes, and they may be provided in a circular shape by being combined and combined by the second plate 640.

500: 배기 어셈블리 520: 배관
540: 감압 부재 600: 개폐 부재
620: 제1판 640: 제2판
680: 구동 부재500: exhaust assembly 520: piping
540: pressure reducing member 600: opening and closing member
620: first edition 640: second edition
680: drive member

Claims (12)

기판을 처리하는 장치에 있어서,
챔버와;
상기 챔버의 내부를 배기하는 배기 어셈블리를 포함하되,
상기 배기 어셈블리는,
내부 통로를 가지는 배관과;
상기 배관에 설치되며, 상기 내부 통로를 개폐하는 개폐 부재와; 그리고
상기 내부 통로가 개폐되도록 상기 개폐 부재를 구동시키는 구동 부재를 포함하되,
상기 개폐 부재는,
상기 내부 통로를 차단 가능한 제1판과;
상기 제1판에 결합되는 제2판을 포함하되,
상기 제2판은 상기 제1판에 비해 작은 면적을 가지고,
상기 제1판과 상기 제2판은 서로 다른 재질로 제공되는 기판 처리 장치.In the apparatus for processing a substrate,
A chamber;
An exhaust assembly for exhausting the interior of the chamber,
The exhaust assembly,
A pipe having an internal passage;
An opening and closing member installed in the piping and opening and closing the internal passage; And
It includes a drive member for driving the opening and closing member to open and close the inner passage,
The opening and closing member,
A first plate capable of blocking the inner passage;
It includes a second plate coupled to the first plate,
The second plate has a smaller area than the first plate,
The first plate and the second plate is a substrate processing apparatus provided with different materials. 제1항에 있어서,
상기 제1판은 상기 제2판에 비해 내화학성이 높은 재질을 가지고,
상기 제2판은 상기 제1판에 비해 높은 강도의 재질을 가지는 기판 처리 장치.According to claim 1,
The first plate has a material having a higher chemical resistance than the second plate,
The second plate is a substrate processing apparatus having a higher strength material than the first plate. 제2항에 있어서,
상기 제2판은 상기 제1판에 비해 큰 두께를 가지는 기판 처리 장치.According to claim 2,
The second plate is a substrate processing apparatus having a larger thickness than the first plate. 제3항에 있어서,
상기 제1판과 상기 제2판은 동심을 가지도록 배치되는 기판 처리 장치.According to claim 3,
The first plate and the second plate is a substrate processing apparatus disposed to have concentricity. 제3항에 있어서,
상기 제2판은 상기 제1판의 양측에 각각 결합되는 기판 처리 장치.According to claim 3,
The second plate is a substrate processing apparatus coupled to both sides of the first plate. 제4항에 있어서,
상기 구동 부재는,
상기 개폐 부재에 고정 결합되고, 그 길이 방향이 상기 배관의 길이 방향에 수직하게 제공되는 회전축과;
상기 개폐 부재가 밀폐 위치와 개방 위치 간에 위치 변경되도록 상기 회전축을 회전시키는 구동기를 포함하되,
상기 밀폐 위치는 상기 제1판의 중심축과 상기 배관의 길이 방향이 평행한 위치이고, 상기 개방 위치는 상기 밀폐 위치를 벗어난 위치로 제공되며,
상기 밀폐 위치에서 상기 제1판과 상기 배관 간에는 틈이 제공되는 기판 처리 장치.The method of claim 4,
The drive member,
A rotating shaft fixedly coupled to the opening/closing member, the longitudinal direction being provided perpendicular to the longitudinal direction of the pipe;
Including the actuator for rotating the rotating shaft so that the opening and closing member is changed position between the closed position and the open position,
The closed position is a position in which the central axis of the first plate and the longitudinal direction of the pipe are parallel, and the open position is provided as a position outside the closed position,
A substrate processing apparatus in which a gap is provided between the first plate and the pipe in the sealed position. 제6항에 있어서,
상기 틈은 5mm 이하로 제공되는 기판 처리 장치.The method of claim 6,
The gap is provided with a substrate processing device of 5mm or less. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1판은 불소를 포함하는 수지 재질로 제공되고,
상기 제2판은 폴리프로필렌(PP) 또는 폴리염화비닐(PVC)를 포함하는 수지로 제공되는 기판 처리 장치.The method according to any one of claims 1 to 7,
The first plate is made of a resin material containing fluorine,
The second plate is a substrate processing apparatus provided with a resin containing polypropylene (PP) or polyvinyl chloride (PVC). 배기 어셈블리에 있어서,
내부 통로를 가지는 배관과;
상기 배관에 설치되며, 상기 내부 통로를 개폐하는 개폐 부재와; 그리고
상기 내부 통로가 개폐되도록 상기 개폐 부재를 구동시키는 구동 부재를 포함하되,
상기 개폐 부재는,
상기 내부 통로를 차단 가능한 제1판과;
상기 제1판에 결합되는 제2판을 포함하되,
상기 제2판은 상기 제1판에 비해 작은 면적을 가지고,
상기 제1판과 상기 제2판은 서로 다른 재질로 제공되는 배기 어셈블리.In the exhaust assembly,
A pipe having an internal passage;
An opening and closing member installed in the piping and opening and closing the internal passage; And
It includes a drive member for driving the opening and closing member to open and close the inner passage,
The opening and closing member,
A first plate capable of blocking the inner passage;
It includes a second plate coupled to the first plate,
The second plate has a smaller area than the first plate,
The first plate and the second plate are exhaust assemblies provided with different materials. 제9항에 있어서,
상기 제1판은 상기 제2판에 비해 내화학성이 높은 재질을 가지고,
상기 제2판은 상기 제1판에 비해 높은 강도의 재질을 가지는 배기 어셈블리.The method of claim 9,
The first plate has a material having a higher chemical resistance than the second plate,
The second plate is an exhaust assembly having a higher strength material than the first plate. 제10항에 있어서,
상기 제2판은 상기 제1판에 비해 큰 두께를 가지고,
상기 제1판과 상기 제2판은 동심을 가지도록 배치되는 배기 어셈블리.The method of claim 10,
The second plate has a larger thickness than the first plate,
The first plate and the second plate exhaust assembly is disposed to have a concentric. 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1판은 불소를 포함하는 수지 재질로 제공되고,
상기 제2판은 폴리프로필렌(PP) 또는 폴리염화비닐(PVC)를 포함하는 수지로 제공되는 배기 어셈블리.



The method according to any one of claims 9 to 11,
The first plate is made of a resin material containing fluorine,
The second plate is an exhaust assembly provided with a resin comprising polypropylene (PP) or polyvinyl chloride (PVC).



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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0544858A (en) * 1991-08-08 1993-02-23 Fuji Electric Co Ltd Seat ring of butterfly type cutoff valve
JPH08170735A (en) * 1994-12-16 1996-07-02 Nippondenso Co Ltd Butterfly valve
KR101456078B1 (en) * 2012-12-07 2014-10-31 주식회사 케이씨텍 Damper for opening and closing drain pipe

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0544858A (en) * 1991-08-08 1993-02-23 Fuji Electric Co Ltd Seat ring of butterfly type cutoff valve
JPH08170735A (en) * 1994-12-16 1996-07-02 Nippondenso Co Ltd Butterfly valve
KR101456078B1 (en) * 2012-12-07 2014-10-31 주식회사 케이씨텍 Damper for opening and closing drain pipe

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