KR20200068500A - Anisotropic conductive film, display device comprising the same and/or semiconductor device comprising the same - Google Patents

Anisotropic conductive film, display device comprising the same and/or semiconductor device comprising the same Download PDF

Info

Publication number
KR20200068500A
KR20200068500A KR1020180155553A KR20180155553A KR20200068500A KR 20200068500 A KR20200068500 A KR 20200068500A KR 1020180155553 A KR1020180155553 A KR 1020180155553A KR 20180155553 A KR20180155553 A KR 20180155553A KR 20200068500 A KR20200068500 A KR 20200068500A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
conductive film
anisotropic conductive
meth
acrylate
weight
Prior art date
Application number
KR1020180155553A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
조익환
김남주
이연호
박진성
Original Assignee
국도화학 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 국도화학 주식회사 filed Critical 국도화학 주식회사
Priority to KR1020180155553A priority Critical patent/KR20200068500A/en
Publication of KR20200068500A publication Critical patent/KR20200068500A/en

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B5/00Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form
    • H01B5/16Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form comprising conductive material in insulating or poorly conductive material, e.g. conductive rubber
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18Manufacture of films or sheets
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K9/00Use of pretreated ingredients
    • C08K9/08Ingredients agglomerated by treatment with a binding agent
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L25/00Compositions of, homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L25/02Homopolymers or copolymers of hydrocarbons
    • C08L25/04Homopolymers or copolymers of styrene
    • C08L25/08Copolymers of styrene
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L35/00Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical, and containing at least one other carboxyl radical in the molecule, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L35/06Copolymers with vinyl aromatic monomers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J11/00Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
    • C09J11/02Non-macromolecular additives
    • C09J11/04Non-macromolecular additives inorganic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J11/00Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
    • C09J11/02Non-macromolecular additives
    • C09J11/06Non-macromolecular additives organic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J133/00Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C09J133/06Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C09J133/08Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J163/00Adhesives based on epoxy resins; Adhesives based on derivatives of epoxy resins
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J175/00Adhesives based on polyureas or polyurethanes; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J175/04Polyurethanes
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/321Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by conductive adhesives
    • H05K3/323Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by conductive adhesives by applying an anisotropic conductive adhesive layer over an array of pads

Abstract

The present invention provides an anisotropic conductive film, a display device including the same and/or a semiconductor device including the same. The anisotropic conductive film comprises: an insulating adhesive; and a conductive particle included in the insulating adhesive and having a relative dielectric constant of 2.51 to 3.0. Therefore, the anisotropic conductive film is provided with improved reliability in connection resistance and adhesion.

Description

이방 도전성 필름 및/또는 이를 포함하는 디스플레이 장치 및/또는 이를 포함하는 반도체 장치{ANISOTROPIC CONDUCTIVE FILM, DISPLAY DEVICE COMPRISING THE SAME AND/OR SEMICONDUCTOR DEVICE COMPRISING THE SAME}Anisotropic conductive film and/or display device comprising the same and/or semiconductor device including the same {ANISOTROPIC CONDUCTIVE FILM, DISPLAY DEVICE COMPRISING THE SAME AND/OR SEMICONDUCTOR DEVICE COMPRISING THE SAME}

본 발명은 이방 도전성 필름 및/또는 이를 포함하는 디스플레이 장치 및/또는 이를 포함하는 반도체 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an anisotropic conductive film and/or a display device comprising the same and/or a semiconductor device comprising the same.

이방 도전성 필름은 접속시키고자 하는 회로 단자 사이에 위치된 후 일정 조건의 가열 및 가압을 처리하면, 회로 단자들 사이에는 도전성 입자에 의해 전기적으로 접속되고 인접하는 전극 사이에는 절연성 접착제가 충진되어 도전성 입자가 서로 독립적으로 존재함으로써 절연성을 부여하게 된다. When the anisotropic conductive film is placed between circuit terminals to be connected and then subjected to heating and pressurization under a certain condition, the conductive particles are electrically connected between the circuit terminals by conductive particles and filled with an insulating adhesive between adjacent electrodes. By being present independently of each other, insulation is imparted.

최근, 광학표시장치의 고 화질화 경향에 따라, IC 칩의 회로 전극인 범프 간에 피치가 좁아지거나 범프의 면적이 좁아지고 있다. 이에 따라, 이방 도전성 필름에 의한 접속시 도전성 입자가 회로 전극 사이로 유출되기 쉬워 쇼트가 발생하기 쉬워지고 있다. 또한, 접속시 회로 전극 사이에 도전성 입자로 인하여 정전기 유도, 유도 전류로 인하여 표시 장치의 오작동이 발생할 수 있다는 문제점이 있다. 더욱이, 피치가 좁아지고 면적이 좁아짐에 따라 이방성 도전 필름에 도전성 입자를 과량 포함시킬 경우 쇼트 발생, 오작동 발생의 가능성은 더 높아지게 된다.In recent years, according to the trend of high image quality of the optical display device, the pitch between the bumps, which are circuit electrodes of the IC chip, is narrowed or the area of the bumps is narrowed. Accordingly, when connecting by an anisotropic conductive film, the conductive particles are likely to flow out between the circuit electrodes, and short-circuiting is likely to occur. In addition, there is a problem that a malfunction of the display device may occur due to electrostatic induction and induced current due to conductive particles between circuit electrodes during connection. Moreover, as the pitch becomes narrower and the area becomes narrower, when the conductive particles are excessively included in the anisotropic conductive film, the possibility of short-circuiting and malfunctioning becomes higher.

본 발명의 배경기술은 일본등록특허 제3419436호 등에 개시되어 있다.Background art of the present invention is disclosed in Japanese Patent Registration No. 3419436 and the like.

본 발명의 목적은 접속 피치가 협소하거나 면적이 협소한 접속 부재에 사용되더라도 쇼트 발생이 없으며 표시 장치의 오작동 문제가 발생하지 않게 할 수 있는 이방 도전성 필름을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide an anisotropic conductive film capable of preventing short circuit occurrence and malfunction of the display device even when used in a connection member having a narrow connection pitch or a small area.

본 발명의 다른 목적은 과량의 도전성 입자를 포함하더라도 쇼트 발생, 오작동 발생 문제가 없을 수 있는 이방 도전성 필름을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an anisotropic conductive film that may have no short-circuiting or malfunction-producing problems even if it contains an excessive amount of conductive particles.

본 발명의 또 다른 목적은 접속 저항 및 접착력에서 신뢰성이 우수한 이방 도전성 필름을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an anisotropic conductive film excellent in reliability in connection resistance and adhesion.

1. 본 발명의 이방 도전성 필름은 절연성 접착제 및 상기 절연성 접착제에 포함되고 비 유전율이 2.51 내지 3.0인 도전성 입자를 포함한다.1. The anisotropic conductive film of the present invention includes an insulating adhesive and conductive particles contained in the insulating adhesive and having a specific permittivity of 2.51 to 3.0.

2. 1에서, 상기 도전성 입자는 도전성 미립자 및 도전성 미립자의 표면에 형성된 절연성 수지층을 포함하고, 상기 절연성 수지층은 방향족기 함유 단량체, 산 무수물계 단량체 및 3관능 내지 6관능의 (메트)아크릴레이트를 포함하는 단량체 혼합물로부터 중합된 절연성 수지를 포함할 수 있다.2. In 1, the conductive particles include conductive fine particles and an insulating resin layer formed on the surface of the conductive fine particles, and the insulating resin layer includes an aromatic group-containing monomer, an acid anhydride-based monomer, and trifunctional to hexafunctional (meth)acrylic. And an insulating resin polymerized from a monomer mixture containing a rate.

3. 2에서, 상기 절연성 수지층은 단일층일 수 있다.3. In 2, the insulating resin layer may be a single layer.

4. 2에서, 상기 절연성 수지층은 비 유전율이 0.5 내지 4일 수 있다.4. In 2, the insulating resin layer may have a specific dielectric constant of 0.5 to 4.

5. 2에서, 상기 3관능 내지 6관능의 (메트)아크릴레이트는 이소시아누레이트기를 가질 수 있다.5. In 2, the trifunctional to hexafunctional (meth)acrylate may have an isocyanurate group.

6. 2에서, 상기 단량체 혼합물은 상기 방향족기 함유 단량체, 상기 산 무수물계 단량체 및 상기 6관능의 (메트)아크릴레이트를 포함할 수 있다.6. In 2, the monomer mixture may include the aromatic group-containing monomer, the acid anhydride-based monomer, and the six-functional (meth)acrylate.

7. 2에서, 상기 절연성 수지의 단량체 혼합물 중 상기 방향족기 함유 단량체는 40중량% 내지 75중량%, 상기 산 무수물계 단량체 5중량% 내지 40중량%, 상기 3관능 내지 6관능의 (메트)아크릴레이트는 5중량% 내지 20중량%로 포함될 수 있다.7. In 2, the aromatic group-containing monomer in the monomer mixture of the insulating resin is 40% by weight to 75% by weight, the acid anhydride-based monomer is 5% by weight to 40% by weight, and the trifunctional to hexafunctional (meth)acrylic The rate may be included in 5% to 20% by weight.

8. 2에서, 상기 방향족기 함유 단량체는 스티렌이고, 상기 산 무수물계 단량체는 말레산 무수물일 수 있다.8. In 2, the aromatic group-containing monomer is styrene, and the acid anhydride-based monomer may be maleic anhydride.

9. 2에서, 상기 단량체 혼합물은 디비닐벤젠계 단량체를 더 포함할 수 있다.9. In 2, the monomer mixture may further include a divinylbenzene-based monomer.

10. 2에서, 상기 단량체 혼합물은 (메트)아크릴산을 더 포함할 수 있다.In 10. 2, the monomer mixture may further include (meth)acrylic acid.

11. 2에서, 상기 도전성 미립자는 표면에 돌기가 형성되어 있을 수 있다.11. In 2, the conductive fine particles may have protrusions formed on the surface.

12. 11에서, 상기 도전성 미립자는 비 유전율이 10,000 이상일 수 있다.In 12. 11, the conductive fine particles may have a specific permittivity of 10,000 or more.

13. 1-12에서, 상기 도전성 입자는 이방 도전성 필름 중 10중량% 내지 40중량%로 포함될 수 있다.13. In 1-12, the conductive particles may be included in 10% to 40% by weight of the anisotropic conductive film.

14. 1-13에서, 상기 도전성 입자는 평균 입경(D50)이 2㎛ 내지 10㎛일 수 있다.14. In 1-13, the conductive particles may have an average particle diameter (D50) of 2 μm to 10 μm.

15. 1-14에서, 상기 절연성 접착제는 에폭시계, 우레탄계 또는 (메트)아크릴레이트계일 수 있다.15. In 1-14, the insulating adhesive may be an epoxy-based, urethane-based or (meth)acrylate-based.

16. 1-15에서, 상기 절연성 접착제는 바인더 수지, 경화성 화합물 및 개시제를 포함하는 조성물로 형성될 수 있다.16. In 1-15, the insulating adhesive may be formed of a composition comprising a binder resin, a curable compound, and an initiator.

17. 16에서, 상기 조성물은 무기 필러, 실란 커플링제, 첨가제 중 1종 이상을 더 포함할 수 있다.In 17. 16, the composition may further include at least one of an inorganic filler, a silane coupling agent, and an additive.

본 발명의 디스플레이 장치 및/또는 반도체 장치는 본 발명의 이방 도전성 필름을 포함한다.The display device and/or semiconductor device of the present invention includes the anisotropic conductive film of the present invention.

본 발명의 디스플레이 장치 및/또는 반도체 장치는 본 발명의 이방 도전성 필름에 의해 접속된다.The display device and/or semiconductor device of the present invention are connected by the anisotropic conductive film of the present invention.

본 발명은 접속 피치가 협소하거나 면적이 협소한 접속 부재에 사용되더라도 쇼트 발생이 없으며 표시 장치의 오작동 문제가 발생하지 않게 할 수 있는 이방 도전성 필름을 제공하였다.The present invention provides an anisotropic conductive film capable of preventing short circuit occurrence and malfunction of a display device even when used in a connection member having a narrow connection pitch or a small area.

본 발명은 과량의 도전성 입자를 포함하더라도 쇼트 발생, 오작동 발생 문제가 없을 수 있는 이방 도전성 필름을 제공하였다.The present invention provides an anisotropic conductive film that may have no short-circuiting or malfunction-producing problems even if it contains an excessive amount of conductive particles.

본 발명은 접속 저항 및 접착력에서 신뢰성이 우수한 이방 도전성 필름을 제공하였다. The present invention provides an anisotropic conductive film having excellent reliability in connection resistance and adhesion.

하기 실시예에 의해 본 발명을 보다 상세하게 설명한다. 그러나 본 출원에 개시된 기술은 여기서 설명되는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 단지, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록, 그리고 당업자에게 본 출원의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다.The present invention will be described in more detail by the following examples. However, the technology disclosed in the present application is not limited to the embodiments described herein and may be embodied in other forms. However, the embodiments introduced herein are provided to ensure that the disclosed contents are thorough and complete, and that the spirit of the present application is sufficiently conveyed to those skilled in the art.

본 명세서에서 "평균 입경"은 D50을 의미한다. 상기 "평균 입경 D50"은 당업자에게 알려진 통상의 입경을 의미하고, 도전성 입자, 도전성 미립자, 코어 각각을 중량 기준으로 분포시켰을 때 50중량%에 해당되는 도전성 입자, 도전성 미립자, 코어의 입경을 의미한다."Average particle diameter" as used herein means D50. The "average particle diameter D50" means a common particle diameter known to those skilled in the art, and means a particle diameter of conductive particles, conductive fine particles, and core corresponding to 50% by weight when each of the conductive particles, conductive fine particles, and cores is distributed by weight. .

본 명세서에서 "(메트)아크릴레이트"는 아크릴레이트 및/또는 메타아크릴레이트를 의미한다.As used herein, “(meth)acrylate” means acrylate and/or methacrylate.

본 명세서에서 수치 범위 기재시 "X 내지 Y"는 X 이상 Y 이하(X≤ 및 ≤Y)를 의미한다.When describing a numerical range in this specification, "X to Y" means X or more and Y or less (X≤ and ≤Y).

본 명세서에서 "도전성 미립자"는 표면에 절연성 수지층이 피복되지 않은 미립자를 의미하고, "도전성 입자"는 상기 도전성 미립자의 표면에 절연성 수지층이 피복된 입자를 의미한다.In the present specification, "conductive fine particles" means fine particles not having an insulating resin layer coated on the surface, and "conductive particles" means particles having an insulating resin layer coated on the surface of the conductive fine particles.

본 명세서에서 "비 유전율"은 25℃에서 통상의 방법으로 측정된 값이다. 도전성 미립자, 도전성 입자는 하기 상술되는 도전성 미립자, 도전성 입자 각각의 직경 범위에서는 하기 상술되는 각각의 비 유전율 범위를 가질 수 있다. 절연성 수지층 관련하여, 하기 상술되는 절연성 수지층의 두께 범위에서의 비 유전율과 두께 3㎛의 절연성 수지층의 비 유전율은 도전성 입자의 비 유전율에 영향을 줄 정도로 비유전율의 오차가 크지 않았다.“Relative permittivity” in this specification is a value measured by a conventional method at 25°C. The conductive fine particles and the conductive particles may have respective specific permittivity ranges as described below in the diameter ranges of the conductive fine particles and the conductive particles described below. With respect to the insulating resin layer, the relative dielectric constant in the thickness range of the insulating resin layer described below and the specific dielectric constant of the insulating resin layer having a thickness of 3 µm were not so large that the error of the relative dielectric constant was large enough to affect the specific dielectric constant of the conductive particles.

본 발명의 발명자는 이방 도전성 필름에 있어서 비 유전율(specific inductive capacity)이 2.51 내지 3.0인 도전성 입자를 포함함으로써 접속 저항 및 접착력에서도 신뢰성이 우수하고, 접속 피치 및/또는 면적이 협소한 접속 부재에 사용되더라도 분산된 도전성 입자의 응집이 없어 쇼트 발생이 없으며 표시장치의 오 작동 문제가 발생하지 않았음을 확인하고 본 발명을 완성하였다.The inventor of the present invention includes conductive particles having a specific inductive capacity of 2.51 to 3.0 in an anisotropic conductive film, and thus is excellent in reliability in connection resistance and adhesion, and used in connection members having a narrow connection pitch and/or area Even if there was no aggregation of the dispersed conductive particles, there was no short circuit and the malfunction of the display device did not occur, and the present invention was completed.

이하, 본 발명 일 실시예의 이방 도전성 필름을 설명한다.Hereinafter, an anisotropic conductive film of one embodiment of the present invention will be described.

이방 도전성 필름은 절연성 접착제 및 절연성 접착제에 포함되고 비 유전율이 2.51 내지 3.0인 도전성 입자를 포함한다. 상기 "절연성 접착제에 포함"은 도전성 입자가 절연성 접착제 내에 완전히 함침되는 경우뿐만 아니라 절연성 접착제의 표면에 도전성 입자의 적어도 일 표면이 노출되는 경우도 포함함을 의미한다.The anisotropic conductive film includes conductive particles contained in the insulating adhesive and the insulating adhesive and has a specific permittivity of 2.51 to 3.0. The term “included in the insulating adhesive” means not only when the conductive particles are completely impregnated in the insulating adhesive, but also when the at least one surface of the conductive particles is exposed on the surface of the insulating adhesive.

도전성 입자의 비 유전율이 2.51 미만인 경우 절연성 접착제 또는 이방 도전성 필름의 팽창과 흐름성 개선이 어려워 절연성 확보가 어려울 수 있다. 도전성 입자의 비 유전율이 3.0 초과인 경우, 접속 피치 및/또는 면적이 협소한 접속 부재에 사용시 분산된 도전성 입자가 응집되기 쉬워 쇼트와 오작동이 발생할 수 있으며, 접속 저항과 접착력의 고 신뢰성을 얻을 수 없고, 통전이 발생하거나 유도 전류에 의한 오류가 발생할 수 있다. 바람직하게는, 도전성 입자의 비 유전율은 2.6 내지 2.8이 될 수 있다.When the specific dielectric constant of the conductive particles is less than 2.51, it may be difficult to secure insulating properties due to difficulty in expanding and improving flowability of an insulating adhesive or anisotropic conductive film. When the specific permittivity of the conductive particles is greater than 3.0, when the connection pitch and/or the connection member having a small area is used, the dispersed conductive particles are easily aggregated, and short and malfunction may occur, and high reliability of connection resistance and adhesion can be obtained. There may be no energization or an error caused by the induced current. Preferably, the specific dielectric constant of the conductive particles may be 2.6 to 2.8.

도전성 입자는 도전성 미립자 및 도전성 미립자의 표면의 적어도 일 부분에 피복된 절연성 수지층을 포함하고, 절연성 수지층은 방향족기 함유 단량체, 산 무수물계 단량체 및 3관능 내지 6관능의 (메트)아크릴레이트를 포함하는 단량체 혼합물로부터 중합된 절연성 수지를 포함할 수 있다. 상술한 절연성 수지로 절연성 수지층을 형성함으로써 본 발명의 도전성 입자의 비 유전율 2.51 내지 3.0에 도달할 수 있다.The conductive particles include conductive fine particles and an insulating resin layer coated on at least a portion of the surface of the conductive fine particles, and the insulating resin layer contains an aromatic group-containing monomer, an acid anhydride-based monomer, and trifunctional to hexafunctional (meth)acrylate. An insulating resin polymerized from a containing monomer mixture may be included. By forming the insulating resin layer with the above-mentioned insulating resin, the dielectric constant of the conductive particles of the present invention can reach 2.51 to 3.0.

방향족기 함유 단량체는 스티렌계 단량체를 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 스티렌계 단량체는 스티렌, 메틸 스티렌, 에틸 스티렌 등의 알킬 치환된 스티렌, 클로로스티렌 등의 할로겐화 스티렌, 클로로메틸 스티렌 등의 할로겐알킬화 스티렌을 포함할 수 있다. 방향족기 함유 단량체는 상기 단량체 혼합물 중 40중량% 내지 75중량%, 바람직하게는 50중량% 내지 75중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 본 발명의 비 유전율을 확보할 수 있고, 절연성과 내열성의 효과가 있을 수 있다.The aromatic group-containing monomer may include a styrene-based monomer, but is not limited thereto. The styrene-based monomers may include alkyl-substituted styrenes such as styrene, methyl styrene, and ethyl styrene, halogenated styrenes such as chlorostyrene, and halogenated styrenes such as chloromethyl styrene. The aromatic group-containing monomer may be included in 40% to 75% by weight of the monomer mixture, preferably 50% to 75% by weight. In the above range, the specific permittivity of the present invention can be secured, and an effect of insulation and heat resistance may be obtained.

산 무수물계 단량체는 말레산 무수물, 푸마르산 무수물 등을 포함할 수 있지만 이에 제한되지 않는다. 산 무수물계 단량체는 상기 단량체 혼합물 중 5중량% 내지 40중량%, 바람직하게는 5중량% 내지 20중량%, 더 바람직하게는 8중량% 내지 15중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 본 발명의 비 유전율을 확보할 수 있고, 우수한 분산성과 신뢰성 증대 효과가 있을 수 있다. The acid anhydride-based monomer may include, but is not limited to, maleic anhydride, fumaric anhydride, and the like. The acid anhydride-based monomer may be included in the monomer mixture of 5% to 40% by weight, preferably 5% to 20% by weight, and more preferably 8% to 15% by weight. In the above range, the specific permittivity of the present invention can be secured, and excellent dispersibility and reliability can be increased.

3관능 내지 6관능의 (메트)아크릴레이트는 방향족기 함유 단량체, 산 무수물계 단량체와 함께 중합되어 절연성 수지층의 가교도를 높임으로써 도전성 입자의 비 유전율을 낮춰줄 수 있다. The trifunctional to hexafunctional (meth)acrylate is polymerized with an aromatic group-containing monomer and an acid anhydride-based monomer to increase the crosslinking degree of the insulating resin layer, thereby lowering the specific dielectric constant of the conductive particles.

3관능 내지 6관능의 (메트)아크릴레이트는 트리메틸롤프로판 트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리쓰리톨 트리(메트)아크릴레이트, 프로피온산 변성 디펜타에리쓰리톨 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 트리(메트)아크릴레이트, 프로필렌옥시드 변성트리메틸롤프로판 트리(메트)아크릴레이트, 3 관능 우레탄 (메트)아크릴레이트 또는 트리스(메트)아크릴록시에틸이소시아누레이트 등의 3관능 (메트)아크릴레이트; 디글리세린 테트라(메트)아크릴레이트 또는 펜타에리쓰리톨테트라(메트)아크릴레이트 등의 4관능 (메트)아크릴레이트; 디펜타에리쓰리톨 펜타(메트)아크릴레이트 등의 5관능 (메트)아크릴레이트; 및 디펜타에리쓰리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리쓰리톨 헥사(메트)아크릴레이트 등의 6관능 (메트)아크릴레이트 등을 포함할 수 있다. Trifunctional to hexafunctional (meth)acrylates include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, dipentaerythritol tri(meth)acrylate, propionic acid-modified dipentaerythritol tri(meth)acrylate, and pentae Trifunctional (meth) such as thritol tri(meth)acrylate, propylene oxide-modified trimethylolpropane tri(meth)acrylate, trifunctional urethane (meth)acrylate or tris(meth)acryloxyethylisocyanurate Acrylate; Tetrafunctional (meth)acrylates such as diglycerin tetra(meth)acrylate or pentaerythritol tetra(meth)acrylate; 5-functional (meth)acrylates such as dipentaerythritol penta(meth)acrylate; And six-functional (meth)acrylates such as dipentaerythritol hexa(meth)acrylate and caprolactone-modified dipentaerythritol hexa(meth)acrylate.

바람직하게는, 3관능 내지 6관능 (메트)아크릴레이트 중에서 이소시아누레이트기를 갖는 (메트)아크릴레이트(예: 트리스(메트)아크릴록시에틸이소시아누레이트), 6관능의 (메트)아크릴레이트(예: 디펜타에리쓰리톨 헥사(메트)아크릴레이트) 중 1종 이상을 포함할 수 있다. 이들은 절연성 수지층에 소수성을 제공하거나 가교도를 높여 비 유전율을 낮출 수 있다. 일 구체예에서, 절연성 수지층의 가교도는 85% 이상, 예를 들면 90% 내지 100%가 될 수 있다. 상기 범위에서, 도전성 입자의 비 유전율에 도달할 수 있다.Preferably, a (meth)acrylate having an isocyanurate group among trifunctional to hexafunctional (meth)acrylates (e.g. tris(meth)acryloxyethylisocyanurate), hexafunctional (meth)acrylate (Example: dipentaerythritol hexa(meth)acrylate). These can lower the specific permittivity by providing hydrophobicity to the insulating resin layer or increasing the degree of crosslinking. In one embodiment, the degree of crosslinking of the insulating resin layer may be 85% or more, for example, 90% to 100%. Within this range, the specific permittivity of the conductive particles can be reached.

3관능 내지 6관능의 (메트)아크릴레상이트는 상기 단량체 혼합물 중 5중량% 내지 20중량%, 바람직하게는 5중량% 내지 15중량%, 더 바람직하게는 7중량% 내지 15중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 본 발명의 비 유전율을 확보할 수 있고, 신뢰성 및 내후성 증대 효과가 있을 수 있다.The trifunctional to hexafunctional (meth)acrylate may be included in 5% to 20% by weight, preferably 5% to 15% by weight, more preferably 7% to 15% by weight of the monomer mixture. have. In the above range, the specific permittivity of the present invention can be secured, and an effect of increasing reliability and weatherability may be obtained.

단량체 혼합물은 디비닐벤젠을 포함하는 디비닐벤젠계 단량체를 포함하는 가교 중합성 단량체를 더 포함할 수도 있다. 디비닐벤젠계 단량체는 디비닐벤젠계 단량체 이외의 다른 단량체의 함량을 상대적으로 줄이더라도 비 유전율을 확보하도록 할 수 있다. 가교 중합성 단량체는 상기 단량체 혼합물 중 5중량% 내지 30중량%, 바람직하게는 10중량% 내지 25중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 비 유전율 저감 및 신뢰성 증대 효과가 있을 수 있다.The monomer mixture may further include a crosslinkable polymerizable monomer including a divinylbenzene-based monomer containing divinylbenzene. The divinylbenzene-based monomer can ensure a specific dielectric constant even when the content of other monomers other than the divinylbenzene-based monomer is relatively reduced. The crosslinkable polymerizable monomer may be included in 5% to 30% by weight of the monomer mixture, preferably 10% to 25% by weight. In the above range, there may be effects of reducing the specific dielectric constant and increasing the reliability.

단량체 혼합물은 (메트)아크릴산을 더 포함할 수도 있다. (메트)아크릴산은 절연성 접착제에 포함되는 바인더 수지, 라디칼 중합성 물질과의 결합을 통해 도전성 입자와 절연성 접착제 간의 결합력을 높일 수 있다. 또한, (메트)아크릴산은 다른 극성기를 갖는 단량체 대비 절연성 수지의 비 유전율을 낮출 수 있다. (메트)아크릴산은 상기 단량체 혼합물 중 0.1중량% 내지 20중량%, 바람직하게는 7중량% 내지 15중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 도전성 입자의 접착력 및 바인더와 결합력 증대 효과가 있을 수 있다.The monomer mixture may further include (meth)acrylic acid. The (meth)acrylic acid can increase the bonding force between the conductive particles and the insulating adhesive through bonding with a binder resin and a radically polymerizable material included in the insulating adhesive. In addition, (meth)acrylic acid may lower the relative dielectric constant of the insulating resin compared to monomers having different polar groups. The (meth) acrylic acid may be included in 0.1 to 20% by weight, preferably 7 to 15% by weight of the monomer mixture. In the above range, there may be an effect of increasing the adhesion of the conductive particles and the binding force with the binder.

절연성 수지는 상기 단량체 혼합물을 통상의 방법으로 중합함으로써 형성될 수 있다. 상기 중합은 유화 중합, 현탁 중합, 분산 중합, 시드 중합, 졸겔 시드 중합 등을 채용할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.The insulating resin can be formed by polymerizing the monomer mixture in a conventional manner. The polymerization may include, but is not limited to, emulsion polymerization, suspension polymerization, dispersion polymerization, seed polymerization, sol-gel seed polymerization, and the like.

절연성 수지층은 비 유전율이 0.5 내지 4, 예를 들면 1 내지 3.8이 될 수 있다. 상기 범위에서, 도전성 미립자에 피복시 본 발명의 도전성 입자의 비 유전율에 용이하게 도달할 수 있다.The insulating resin layer may have a specific dielectric constant of 0.5 to 4, for example, 1 to 3.8. In the above range, when the conductive fine particles are coated, the specific permittivity of the conductive particles of the present invention can be easily reached.

절연성 수지층은 단일층으로서 두께는 0.1㎛ 내지 0.6㎛, 바람직하게는 0.1㎛ 내지 0.4㎛, 더 바람직하게는 0.2㎛ 내지 0.38㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 내열성과 신뢰성이 높은 접속이 가능하고 통전 특성이 우수할 수 있다. 상기 "단일층"은 동일한 절연성 수지로 형성된 1개의 층을 의미한다. The insulating resin layer is a single layer and may have a thickness of 0.1 μm to 0.6 μm, preferably 0.1 μm to 0.4 μm, more preferably 0.2 μm to 0.38 μm. In the above range, a connection with high heat resistance and reliability can be made, and the conduction characteristics can be excellent. The "single layer" means one layer formed of the same insulating resin.

절연성 수지층은 하기 상술되는 도전성 미립자에 절연성 수지 함유 조성물을 투입하고 교반함으로써 절연성 수지가 도전성 미립자 표면에 그라프트됨으로써 형성될 수 있다. The insulating resin layer may be formed by grafting the insulating resin-containing composition on the conductive fine particles described below and stirring the insulating resin on the surface of the conductive fine particles.

도전성 미립자 즉 표면에 절연성 수지층이 형성되지 않은 도전성 미립자의 비 유전율은 10,000 이상, 예를 들면 100,000 이상, 예를 들면 100,000 내지 500,000이 될 수 있다. 상기 범위에서, 본 발명의 도전성 입자의 비 유전율에 용이하게 도달할 수 있다. The specific dielectric constant of the conductive fine particles, that is, the conductive fine particles having no insulating resin layer formed on the surface, may be 10,000 or more, for example 100,000 or more, for example 100,000 to 500,000. In the above range, the specific permittivity of the conductive particles of the present invention can be easily reached.

도전성 미립자는 도전성 금속만으로 이루어진 입자일 수도 있지만, 도전성 미립자의 성능, 제조 비용, 접속 효율, 도전성 입자의 비 유전율 확보 용이성 등을 고려하여, 하기 상술되는 도전성 미립자를 채용할 수 있다.The conductive fine particles may be particles made of only conductive metal, but the conductive fine particles described below may be employed in consideration of performance of the conductive fine particles, manufacturing cost, connection efficiency, and ease of securing specific dielectric constant of the conductive particles.

도전성 미립자는 코어; 및 상기 코어의 표면에 형성된 도전층을 포함하고, 상기 도전층의 표면에는 돌기가 형성되어 있을 수 있다. The conductive fine particles include a core; And a conductive layer formed on the surface of the core, and protrusions may be formed on the surface of the conductive layer.

코어는 고분자 수지를 포함할 수 있다. 고분자 수지로 이루어진 코어는 평균 입경(D50)이 0.5㎛ 내지 10㎛, 예를 들면 2㎛ 내지 6㎛가 될 수 있다. The core may include a polymer resin. The core made of a polymer resin may have an average particle diameter (D50) of 0.5 μm to 10 μm, for example, 2 μm to 6 μm.

일 구체예에서, 고분자 수지는 가교 중합성 단량체, 단관능성 단량체로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 중합체일 수 있다. 가교 중합성 단량체는 디비닐벤젠을 포함하는 비닐벤젠계 단량체, 1,4-디비닐옥시부탄, 디비닐술폰, 디알릴프탈레이트, 디알릴아크릴아미드, 트리알릴(이소)시아누레이트, 트리알릴트리멜리테이트를 포함하는 알릴 화합물, (폴리)에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, (폴리)프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메트)아크릴레이트 및 글리세롤 트리(메트)아크릴레이트를 포함하는 아크릴레이트계 단량체로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다. 단관능성 단량체는 스티렌, 메틸스티렌, m-클로로메틸스티렌, 에틸 스티렌을 포함하는 스티렌계 단량체, 메틸 (메트)아크릴레이트, 에틸 (메트)아크릴레이트, 프로필 (메트)아크릴레이트, n-부틸 (메트)아크릴레이트, 이소부틸 (메트)아크릴레이트, t-부틸 (메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실 (메트)아크릴레이트, n-옥틸 (메트)아크릴레이트, 라우릴 (메트)아크릴레이트, 스테아릴 (메트)아크릴레이트를 포함하는 (메트)아크릴레이트계 단량체, 염화 비닐, 비닐 아세테이트, 비닐 에테르, 비닐 프로피오네이트 및 비닐 부티레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다. In one embodiment, the polymer resin may be one or more polymers selected from the group consisting of crosslinkable polymerizable monomers and monofunctional monomers. Crosslinkable polymerizable monomers include vinylbenzene monomers including divinylbenzene, 1,4-divinyloxybutane, divinylsulfone, diallylphthalate, diallyl acrylamide, triallyl (iso)cyanurate, triallyl tree Allyl compound containing melitate, (poly)ethylene glycol di(meth)acrylate, (poly)propylene glycol di(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylic Rate, pentaerythritol di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate and glycerol tri(meth)acrylic It may include one or more selected from the group consisting of acrylate-based monomers containing a rate. Monofunctional monomers are styrene-based monomers including styrene, methylstyrene, m-chloromethylstyrene, and ethyl styrene, methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, n-butyl (meth )Acrylate, isobutyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, n-octyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, stearyl It may include one or more selected from the group consisting of (meth)acrylate-based monomers including (meth)acrylate, vinyl chloride, vinyl acetate, vinyl ether, vinyl propionate, and vinyl butyrate.

다른 구체예에서, 고분자 수지는 페놀 수지, 요소 수지, 멜라민 수지, 불소 수지, 폴리에스테르 수지, 에폭시 수지, 실리콘 수지, 폴리이미드 수지, 폴리우레탄 수지, 프로필렌 수지, 폴리올레핀 수지 등과 같은 열경화성 고분자 수지 뿐만 아니라, 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌 수지, 폴리부틸렌 수지, 폴리메타크릴산 수지, 메틸렌 수지, 폴리스티렌 수지, 아크릴로니트릴-스티렌 수지, 아크릴로니트릴-스티렌-부타디엔 수지, 비닐 수지, 디비닐벤젠 수지, 폴리아미드 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리아세탈 수지, 폴리에테르 설폰 수지, 폴리페닐옥사이드 수지, 폴리페닐렌설파이드 수지, 폴리설폰 수지, 폴리우레탄 수지 등의 열가소성 고분자 수지를 포함할 수도 있다.In another embodiment, the polymer resin is a thermosetting polymer resin such as phenol resin, urea resin, melamine resin, fluorine resin, polyester resin, epoxy resin, silicone resin, polyimide resin, polyurethane resin, propylene resin, polyolefin resin, and the like. , Polyethylene resin, polypropylene resin, polybutylene resin, polymethacrylic acid resin, methylene resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene resin, acrylonitrile-styrene-butadiene resin, vinyl resin, divinylbenzene resin, poly It may also include thermoplastic polymer resins such as amide resins, polyester resins, polycarbonate resins, polyacetal resins, polyether sulfone resins, polyphenyl oxide resins, polyphenylene sulfide resins, polysulfone resins, and polyurethane resins.

도전층은 코어의 표면에 형성되어 도전성을 제공한다. 도전층을 구성하는 금속은 특별히 제한되지 않지만 금, 은, 구리, 백금, 철, 납, 알루미늄, 크롬, 팔라듐, 니켈, 로듐, 루테늄, 안티몬, 비스머스, 게르마늄, 주석, 코발트, 인듐 및 니켈-인, 니켈-붕소, 니켈-은 등의 금속이나 금속화합물, 및, 이것들의 합금 등을 들 수 있다. The conductive layer is formed on the surface of the core to provide conductivity. The metal constituting the conductive layer is not particularly limited, but gold, silver, copper, platinum, iron, lead, aluminum, chromium, palladium, nickel, rhodium, ruthenium, antimony, bismuth, germanium, tin, cobalt, indium and nickel- And metals and metal compounds such as phosphorus, nickel-boron, and nickel-silver, and alloys thereof.

도전층의 두께는 코어 평균 입경(D50)의 3% 내지 15%로서 100nm 내지 400nm, 바람직하게는 150nm 내지 350nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 접속 저항이 낮아지고 안정한 접속을 유지할 수 있다.The thickness of the conductive layer is 3% to 15% of the core average particle diameter (D50), and may be 100 nm to 400 nm, preferably 150 nm to 350 nm. In the above range, the connection resistance becomes low and stable connection can be maintained.

도전성 미립자는 평균 입경(D50)이 도전성 입자의 평균 입경(D50)보다는 작고 2㎛ 내지 10㎛, 바람직하게는 2.5㎛ 내지 4㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 도통 신뢰성이 우수하고 절연 신뢰성이 우수할 수 있다.The conductive fine particles have an average particle diameter (D50) smaller than the average particle diameter (D50) of the conductive particles, and may be 2 μm to 10 μm, preferably 2.5 μm to 4 μm. In the above range, conduction reliability may be excellent and insulation reliability may be excellent.

도전층 표면에는 돌기가 형성됨으로써 접속 부재에 접속시 접속을 용이하게 할 수 있다. 돌기는 도전층이 형성된 미립자를 금속염 용액 및 환원제를 포함하는 무전해 도금 용액에 첨가하고 무전해 도금을 행하는 방법에 의해 제조될 수 있다. Protrusions are formed on the surface of the conductive layer to facilitate connection when connecting to the connecting member. Protrusions can be produced by a method in which fine particles having a conductive layer are added to an electroless plating solution containing a metal salt solution and a reducing agent and electroless plating is performed.

표면에 돌기가 형성된 도전성 미립자와 절연성 수지층 간의 비 유전율 차이는 10,000 이상, 예를 들면 100,000 이상, 100,000 내지 500,000이 될 수 있다. 상기 범위에서, 절연성을 나타내는 효과가 있을 수 있다.The difference in specific permittivity between the conductive fine particles having protrusions formed on the surface and the insulating resin layer may be 10,000 or more, for example 100,000 or more, and 100,000 to 500,000. In the above range, there may be an effect showing insulation.

도전성 입자는 이방 도전성 필름 중 10중량% 내지 40중량%, 바람직하게는 15중량% 내지 35중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 접속시 쇼트를 방지하고 오작동을 방지할 수 있으며 도통 신뢰성이 우수하고 절연성 신뢰성이 우수한 효과가 있을 수 있다.The conductive particles may be included in 10% to 40% by weight of the anisotropic conductive film, preferably 15% to 35% by weight. In the above range, when connecting, it is possible to prevent a short circuit and prevent a malfunction, and may have an effect of excellent conduction reliability and excellent insulation reliability.

도전성 입자는 평균 입경(D50)이 2㎛ 내지 10㎛, 바람직하게는 2.5㎛ 내지 4㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 도통 신뢰성이 우수하고 절연 신뢰성이 우수할 수 있다.The conductive particles may have an average particle diameter (D50) of 2 μm to 10 μm, preferably 2.5 μm to 4 μm. In the above range, conduction reliability may be excellent and insulation reliability may be excellent.

이방 도전성 필름은 상술한 도전성 입자, 경화성 화합물, 개시제를 포함하는 이방 도전성 필름 조성물로 형성될 수 있다. 이방 도전성 필름 조성물은 바인더 수지를 더 포함할 수 있다. 이방 도전성 필름 조성물은 무기 필러, 실란 커플링제를 더 포함할 수 있다.The anisotropic conductive film may be formed of an anisotropic conductive film composition containing the above-described conductive particles, a curable compound, and an initiator. The anisotropic conductive film composition may further include a binder resin. The anisotropic conductive film composition may further include an inorganic filler and a silane coupling agent.

이방 도전성 필름 조성물 중 경화성 화합물, 개시제 등은 절연성 접착제를 형성한다. 경화성 화합물, 개시제, 바인더 수지, 무기 필러, 실란 커플링제의 종류, 함량은 절연성 접착제의 비 유전율을 조절하도록 선택될 수 있다. Among the anisotropic conductive film compositions, curable compounds, initiators, and the like form an insulating adhesive. The type and content of the curable compound, initiator, binder resin, inorganic filler, and silane coupling agent can be selected to control the specific dielectric constant of the insulating adhesive.

절연성 접착제의 비 유전율은 0.5 내지 4, 바람직하게는 1 내지 3.8이 될 수 있다. 상기 범위에서, 우수한 절연 효과가 있을 수 있다.The dielectric constant of the insulating adhesive may be 0.5 to 4, preferably 1 to 3.8. In the above range, there may be an excellent insulating effect.

절연성 접착제는 에폭시계, 우레탄계 또는 (메트)아크릴레이트계가 될 수 있다.The insulating adhesive may be an epoxy-based, urethane-based or (meth)acrylate-based adhesive.

경화성 화합물은 라디칼 경화성 화합물, 양이온 경화성 화합물 중 1종 이상을 포함할 수 있다. 예를 들면, 라디칼 경화성 화합물은 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 이소데실(메트)아크릴레이트, n-라우릴(메트)아크릴레이트, C12-C15 알킬(메트)아크릴레이트, n-스테아릴(메트)아크릴레이트, n-부톡시에틸(메트)아크릴레이트, 부톡시디에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜(메트)아 크릴레이트, 사이클로헥실(메트)아크릴레이트, 테트라하이드로퍼퓨릴(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 이소보닐(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시부틸(메트)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메트)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 디에틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈레이트, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸-2-하이드록시프로필프탈레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸엑시드포스페이트, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메트)아크릴레이트, 1,10-데칸디올디(메트)아크릴레이트, 글리세린디(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시-3-아크릴로일옥시프로필(메트)아크릴레이트, 디메틸올트리사이클로데칸디(메트)아크릴레이트, 트리플루오로에틸(메트)아크릴레이트, 퍼플루오로옥틸에틸(메트)아크릴레이트, 이소아밀 아크릴레이트, 라우로일 아크릴레이트, 비스페놀 A 에틸렌옥사이드의 디(메트)아크릴레이트, 비스페놀 A 디글리시딜 디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메트)아크릴레이트, 우레탄 (메트)아크릴레이트, 에폭시 (메트)아크릴레이트, 이소시아누레이트기를 갖는 (메트)아크릴레이트(예: 트리스(메트)아크릴록시에틸이소시아누레이트) 등을 들 수 있으며, 이들은 단독으로 사용되거나 2 종 이상 혼합하여 사용될 수 있다. 양이온 경화성 화합물은 방향족 에폭시계, 지환족 에폭시계, 수첨 에폭시계, 지방족 에폭시계 화합물 중 1종 이상을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.The curable compound may include at least one of a radical curable compound and a cationic curable compound. For example, radical curable compounds include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, 2- Ethylhexyl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate, n-lauryl (meth)acrylate, C 12 -C 15 alkyl (meth)acrylate, n-stearyl (meth)acrylate, n- Butoxyethyl (meth)acrylate, butoxydiethylene glycol (meth)acrylate, methoxytriethylene glycol (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, benzyl (Meth)acrylate, 2-phenoxyethyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxy With hydroxybutyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, dimethylaminoethyl (meth)acrylate, diethylaminoethyl (meth)acrylate, (meth)acrylic acid, 2-(meth)acrylic Monooxyethylsuccinic acid, 2-(meth)acryloyloxyethylhexahydrophthalate, 2-(meth)acryloyloxyethyl-2-hydroxypropylphthalate, glycidyl (meth)acrylate, 2-(meth) )Acryloyloxyethyl acid phosphate, ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, Neopentyl glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, 1,9-nonanediol di(meth)acrylate, 1,10-decanediol di(meth)acrylate, glycerin Di(meth)acrylate, 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl (meth)acrylate, dimethylol tricyclodecane di(meth)acrylate, trifluoroethyl (meth)acrylate, perfluoro Octylethyl (meth)acrylate, isoamyl acrylate, lauroyl acrylate, di(meth)acrylate of bisphenol A ethylene oxide, bisphenol A diglycidyl di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth )Acrylate, pentaerythritol tree (meth)acrylic Rate, urethane (meth)acrylate, epoxy (meth)acrylate, (meth)acrylate having an isocyanurate group (e.g., tris(meth)acryloxyethylisocyanurate), etc. It can be used as a mixture of two or more. The cationic curable compound may include, but is not limited to, one or more of aromatic epoxy-based, alicyclic epoxy-based, hydrogenated epoxy-based, and aliphatic epoxy-based compounds.

경화성 화합물은 고형분 기준 이방 도전성 필름 조성물 중 15중량% 내지 70중량%, 바람직하게는 15중량% 내지 60중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 경화에 필요한 충분한 반응이 일어나게 하고, 본딩 후 접착력과 신뢰성 등에서 우수할 수 있다.The curable compound may be included in an anisotropic conductive film composition based on solid content of 15% to 70% by weight, preferably 15% to 60% by weight. In the above range, sufficient reaction required for curing occurs, and may be excellent in adhesive strength and reliability after bonding.

개시제는 과산화물계, 산무수물계, 아민계, 이미다졸계, 이소시아네이트계, 아미드계, 히드라지드계, 페놀계, 설포늄계 등을 사용할 수 있다. The initiator may be a peroxide-based, acid anhydride-based, amine-based, imidazole-based, isocyanate-based, amide-based, hydrazide-based, phenolic, sulfonium-based or the like.

개시제는 고형분 기준 이방 도전성 필름 조성물 중 1중량% 내지 10중량%, 바람직하게는 3중량% 내지 7중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 경화에 필요한 충분한 반응이 일어나게 하고, 본딩 후 접착력과 신뢰성 등에서 우수할 수 있다.The initiator may be included in an anisotropic conductive film composition based on solid content of 1% to 10% by weight, preferably 3% to 7% by weight. In the above range, sufficient reaction required for curing occurs, and may be excellent in adhesive strength and reliability after bonding.

바인더 수지는 페녹시 수지, 에폭시 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아미드 수지, 폴리메타크릴레이트 수지, 폴리아크릴레이트 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리에스테르우레탄 수지, 폴리비닐부티랄 수지, 스타이렌-부티렌-스타이렌 수지, 스타이렌-부티렌-스타이렌 수지의 에폭시 변성체, 스타이렌-에틸렌-부틸렌-스타이렌 수지, 스타이렌-에틸렌-부틸렌-스타이렌 수지의 에폭시 변성체, 아크릴로니트릴 부타디엔 고무, 아크릴로니트릴 부타디엔 고무의 수소화체, 우레탄 (메트)아크릴레이트 중 1종 이상을 포함할 수 있다. The binder resin is phenoxy resin, epoxy resin, polycarbonate resin, polyimide resin, polyamide resin, polymethacrylate resin, polyacrylate resin, polyurethane resin, polyester resin, polyester urethane resin, polyvinyl butyral Resin, styrene-butylene-styrene resin, epoxy-modified styrene-butylene-styrene resin, styrene-ethylene-butylene-styrene resin, styrene-ethylene-butylene-styrene resin Epoxy modified material, acrylonitrile butadiene rubber, a hydrogenated product of acrylonitrile butadiene rubber, and one or more of urethane (meth)acrylate.

바인더 수지는 고형분 기준으로 이방 도전성 필름 조성물 중 10중량% 내지 60중량%, 바람직하게는 20중량% 내지 60중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 필름 형성 및 접착력 상승의 효과를 얻을 수 있다.The binder resin may be included in 10% to 60% by weight, preferably 20% to 60% by weight of the anisotropic conductive film composition based on solid content. In the above range, it is possible to obtain the effect of film formation and adhesion increase.

무기 필러는 실리카, 알루미나, 티타니아, 지르코니아, 마그네시아, 세리아, 산화아연, 산화철, 질화규소, 질화티탄, 질화붕소, 탄산칼슘, 황산알루미늄, 수산화알루미늄, 티탄산칼슘, 탈크, 규산칼슘, 규산마그네슘 중 1종 이상을 사용할 수 있다. The inorganic filler is one of silica, alumina, titania, zirconia, magnesia, ceria, zinc oxide, iron oxide, silicon nitride, titanium nitride, boron nitride, calcium carbonate, aluminum sulfate, aluminum hydroxide, calcium titanate, talc, calcium silicate, and magnesium silicate. The above can be used.

무기 필러는 고형분 기준으로 이방 도전성 필름 조성물 중 0.5중량% 내지 20중량%, 바람직하게는 1중량% 내지 20중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 내구 신뢰성, 접착력, 및 인장 특성의 증대 효과를 얻을 수 있다.The inorganic filler may be included in an anisotropic conductive film composition in an amount of 0.5% to 20% by weight, preferably 1% to 20% by weight, based on solid content. Within this range, it is possible to obtain an effect of increasing durability reliability, adhesion, and tensile properties.

실란커플링제는 이방 도전성 필름의 접착력을 높일 수 있다. 실란커플링제는 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, (메트)아크릴옥시프로필트리메톡시실란 등의 중합성 불포화기 함유 규소 화합물; 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 등의 에폭시기 함유 규소 화합물; -아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란 등의 아미노기 함유 규소 화합물; 3-클로로프로필트리메톡시실란 중 1종 이상을 포함할 수 있다. The silane coupling agent can increase the adhesion of the anisotropic conductive film. Silane coupling agents include polymerizable unsaturated group-containing silicon compounds such as vinyl trimethoxysilane, vinyl triethoxysilane, and (meth)acryloxypropyl trimethoxysilane; Epoxy group-containing silicon compounds such as 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, and 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane; Amino group-containing silicon compounds such as -aminopropyltrimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, and N-(2-aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane; 3-chloropropyl trimethoxysilane.

실란커플링제는 고형분 기준으로 이방 도전성 필름 조성물 중 0.1중량% 내지 2중량%, 바람직하게는 0.5중량% 내지 1.5중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 우수한 내구 신뢰성 효과를 얻을 수 있다.The silane coupling agent may be included in an amount of 0.1% to 2% by weight, preferably 0.5% to 1.5% by weight of the anisotropic conductive film composition based on solid content. Within this range, excellent durability reliability effects can be obtained.

이방 도전성 필름용 조성물은 증점제, 계면 활성제, 접착력 증진제 등의 통상의 첨가제를 포함할 수 있다. The composition for an anisotropic conductive film may include conventional additives such as thickeners, surfactants, and adhesion promoters.

첨가제는 고형분 기준으로 이방 도전성 필름 조성물 중 0.1중량% 내지 2중량%, 바람직하게는 0.5중량% 내지 1.5중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 이방 도전성 필름의 효과에 영향을 주지 않으면서 첨가제 효과를 얻을 수 있다.The additive may be included in an anisotropic conductive film composition in an amount of 0.1% to 2% by weight, preferably 0.5% to 1.5% by weight, based on solid content. In the above range, an additive effect can be obtained without affecting the effect of the anisotropic conductive film.

이방 도전성 필름용 조성물은 코팅성을 좋게 하기 위해 에틸아세테이트, 메틸에틸케톤 등의 통상의 용매를 더 포함할 수도 있다.The composition for an anisotropic conductive film may further include a common solvent such as ethyl acetate and methyl ethyl ketone in order to improve coating properties.

이방 도전성 필름은 두께가 10㎛ 내지 40㎛, 바람직하게는 10㎛ 내지 25㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 접속에 사용될 수 있고, 반도체 장치 또는 디스플레이 장치에 사용될 수 있다.The anisotropic conductive film may have a thickness of 10 μm to 40 μm, preferably 10 μm to 25 μm. In the above range, it can be used for connection, and can be used for semiconductor devices or display devices.

이방 도전성 필름은 제1 피접속 부재와 제2 피접속 부재 사이에 위치시키고, 50℃ 내지 80℃, 1초 내지 3초간 및 0.5 내지 2MPa 압력 조건 하의 가압착; 및 130℃ 내지 180℃, 3초 내지 8초간 및 50 내지 80MPa 압력 조건 하의 본압착하였을 때, 접속 저항은 1Ω 이하, 바람직하게는 0Ω 이상 0.5Ω 미만이 될 수 있다. 상기 범위에서, 접속 신뢰성을 개선할 수 있다.The anisotropic conductive film is placed between the first to-be-connected member and the second to-be-connected member, and is pressed at 50°C to 80°C for 1 second to 3 seconds and under 0.5 to 2 MPa pressure conditions; And 130° C. to 180° C., for 3 seconds to 8 seconds and under 50 to 80 MPa pressure conditions, the connection resistance may be 1 Ω or less, preferably 0 Ω or more and less than 0.5 Ω. Within this range, connection reliability can be improved.

이방 도전성 필름은 제1 피접속 부재와 제2 피접속 부재 사이에 위치시키고, 50℃ 내지 80℃, 1초 내지 3초간 및 0.5 내지 2MPa 압력 조건 하의 가압착; 및 130℃ 내지 180℃, 3초 내지 8초간 및 50 내지 80MPa 압력 조건 하의 본압착한 후, 85℃ 및 상대 습도 85%에서 500시간 동안 방치한 후에 측정한 신뢰성 후의 접속 저항은 3Ω 이하, 바람직하게는 0Ω 이상 1Ω 미만일 수 있다. 상기 범위 내에서 고온 고습 조건 하에서도 낮은 접속 저항을 유지할 수 있어 접속 신뢰성을 개선시킬 수 있다. The anisotropic conductive film is placed between the first to-be-connected member and the second to-be-connected member, and is pressed at 50°C to 80°C for 1 second to 3 seconds and under 0.5 to 2 MPa pressure conditions; And 130° C. to 180° C., after 3 seconds to 8 seconds, and after 50 to 80 MPa pressure conditions, the connection resistance after reliability measured after standing at 85° C. and 85% relative humidity for 500 hours is 3 Ω or less, preferably May be 0 Ω or more and less than 1 Ω. It is possible to maintain low connection resistance even under high temperature and high humidity conditions within the above range, thereby improving connection reliability.

상기 신뢰성 후의 접속 저항이란, 전술한 가압착 및 본압착 후, 85℃ 및 상대 습도 85%에서 500시간 동안 방치한 후의 접속 저항을 말한다. 상기 신뢰성 후의 접속 저항의 측정 방법은 특별히 제한되지 아니하며 당해 기술 분야에서 통상적으로 사용하는 방법에 따라 측정될 수 있다. 신뢰성 후의 접속 저항을 측정하는 방법의 비제한적인 예는 다음과 같다: 복수개의 필름 시편을 가압착 및 본압착시킨 후, 온도 85℃ 및 상대 습도 85%에서 500시간 동안 방치한 후, 시험 전류 1mA를 인가하여 각각의 접속 저항을 측정(Keithley社 2000 Multimeter 이용, 4-probe 방식)한 후에 그 평균값을 계산하는 방식으로 측정한다.The connection resistance after the reliability refers to the connection resistance after being left for 500 hours at 85°C and 85% relative humidity after the above-mentioned pressure bonding and main bonding. The method for measuring the connection resistance after the reliability is not particularly limited and may be measured according to a method commonly used in the art. A non-limiting example of a method for measuring the connection resistance after reliability is as follows: after pressing and main-pressing a plurality of film specimens, after leaving for 500 hours at 85°C and 85% relative humidity, the test current is 1 mA. Apply and measure each connection resistance (using Keithley's 2000 Multimeter, 4-probe method), and measure the average value.

상기 가압착 및 본압착 조건은 하기와 같다:The press-bonding and main-pressing conditions are as follows:

1) 가압착 조건: 60℃, 1초, 1.0MPa1) Pressure bonding condition: 60℃, 1 second, 1.0MPa

2) 본압착 조건: 150℃, 5초, 60MPa2) Main compression conditions: 150℃, 5 seconds, 60MPa

상기 범위에서 단자 상에 도전 입자가 충분히 위치하여 통전성이 개선되고 스페이스 부로의 도전 입자 유출을 감소시켜 단자 간 쇼트를 감소시킬 수 있다. In the above range, the conductive particles are sufficiently positioned on the terminals to improve the electrical conductivity and to reduce the outflow of the conductive particles to the space portion, thereby reducing shorts between terminals.

이방 도전성 필름은 접착력이 1.0MPa 이상, 바람직하게는 1.0MPa 내지 3.0MPa가 될 수 있다. 상기 범위에서 접속시 신뢰성을 좋게 할 수 있다. 상기 접착력은 하기 상술되는 실험예에서 상술한 방법과 실질적으로 동일한 방법으로 측정될 수 있다.The anisotropic conductive film may have an adhesive strength of 1.0 MPa or more, preferably 1.0 MPa to 3.0 MPa. Reliability can be improved when connecting in the above range. The adhesive force can be measured in substantially the same way as the above-described method in the experimental examples described below.

이방 도전성 필름은 도전성 입자를 포함하는 도전층만으로 이루어질 수도 있으나, 접속시 도전층이 찢어지거나 흐름성이 좋지 않게 되는 문제점을 해소하기 위하여, 절연층을 더 포함할 수도 있다.The anisotropic conductive film may be made of only a conductive layer containing conductive particles, but may further include an insulating layer in order to solve the problem that the conductive layer is torn or has poor flow when connecting.

본 발명의 이방 도전성 필름은 제1 피접속 부재가 형성된 제1 기판과 제2 피접속 부재가 형성된 제2 기판 사이에 이방 도전성 필름을 배치시키고, 가열 압착될 수 있다. 제1 기판은 LCD, PD 패널 등의 유리 기판이고, 전자 부품과 접속하기 위한 단자로서 제1 피접속 부재가 형성되어 있을 수 있다. 제2 피접속 부재는 예를 들어 COG(chip on glass), COP(chip on plastic), FPC(flexible printed circuits), COF(chip on film), TCP(tape carrier package) 등이 될 수 있다. 예를 들면, 피접속부재는 폴리이미드 필름 등이 될 수 있다.The anisotropic conductive film of the present invention may be disposed by heat-pressing an anisotropic conductive film between the first substrate on which the first member is connected and the second substrate on which the second member is connected. The first substrate is a glass substrate such as an LCD or PD panel, and a first to-be-connected member may be formed as a terminal for connecting with an electronic component. 2nd connection The member may be, for example, chip on glass (COG), chip on plastic (COP), flexible printed circuits (FPC), chip on film (COF), or a tape carrier package (TCP). For example, the member to be connected may be a polyimide film or the like.

본 발명의 이방 도전성 필름을 형성하는 방법은 특별히 제한되지 아니하며 당해 기술 분야에서 통상적으로 사용하는 방법을 사용할 수 있다. 이방 도전 필름을 형성하는 방법은 특별한 장치나 설비가 필요하지 아니하며, 바인더 수지를 유기 용제에 용해시켜 액상화한 후 나머지 성분을 첨가하여 일정 시간 교반하여 도전층용 조성물을 제공하고, 도전층용 조성물을 이형 필름 위에 소정의 두께로 도포한 다음, 80℃ 내지 130℃에서 5분 내지 10분 동안 경화시켜 도전층을 얻을 수 있다. 얻은 도전층 일면에 절연층용 조성물을 소정의 두께로 도포한 다음 건조하여 유기 용제를 휘발시킴으로써 이방 도전성 필름을 얻을 수 있다. The method for forming the anisotropic conductive film of the present invention is not particularly limited, and a method commonly used in the art may be used. The method of forming the anisotropic conductive film does not require a special device or equipment, the binder resin is dissolved in an organic solvent, liquefied, and the remaining components are added and stirred for a period of time to provide a composition for the conductive layer, and the composition for the conductive layer is a release film After applying a predetermined thickness on top, it can be cured at 80°C to 130°C for 5 to 10 minutes to obtain a conductive layer. An anisotropic conductive film can be obtained by applying the composition for an insulating layer to one surface of the obtained conductive layer to a predetermined thickness and then drying to volatilize the organic solvent.

본 발명의 디스플레이 장치는 드라이버 회로; 패널; 및 본 발명의 일 예에 따른 이방 도전성 필름을 포함하고, 구체적으로 상기 패널은 액정표시(LCD) 패널인 액정디스플레이(LCD) 장치일 수 있다. 또한, 상기 패널은 유기발광다이오드(OLED) 패널인 유기발광다이오드 디스플레이(OLED) 장치일 수 있다.The display device of the present invention includes a driver circuit; panel; And an anisotropic conductive film according to an example of the present invention. Specifically, the panel may be a liquid crystal display (LCD) device that is a liquid crystal display (LCD) panel. Further, the panel may be an organic light emitting diode display (OLED) device, which is an organic light emitting diode (OLED) panel.

본 발명의 디스플레이 장치를 제조하는 방법은 특별히 한정되지 아니하며, 당해 기술 분야에서 알려진 방법으로 수행될 수 있다.The method for manufacturing the display device of the present invention is not particularly limited, and may be performed by a method known in the art.

본 발명의 또 다른 일 양태에 따르면, 전술한 본 발명의 이방 도전 필름 중 어느 하나로 접속된 반도체 장치를 제공한다. 상기 반도체 장치는, 배선 기판; 반도체 칩을 포함할 수 있으며, 상기 배선 기판, 반도체 칩은 특별히 한정되지 아니하며, 당해 기술 분야에서 알려진 것을 사용할 수 있다. 상기 배선 기판에는 ITO 또는 금속 배선에 의해 회로 또는 전극들이 형성될 수 있으며, 상기 회로 또는 전극들과 대응되는 위치에 본 발명의 실시예들에 따른 이방 도전성 필름을 이용하여 IC 칩 등이 탑재될 수 있다.According to another aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device connected to any one of the anisotropic conductive films of the present invention described above. The semiconductor device includes: a wiring board; It may include a semiconductor chip, the wiring substrate, the semiconductor chip is not particularly limited, may be used in the art. Circuits or electrodes may be formed on the wiring board by ITO or metal wiring, and IC chips or the like may be mounted at positions corresponding to the circuits or electrodes using anisotropic conductive films according to embodiments of the present invention. have.

이하, 본 발명의 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 하기 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되지는 않는다.Hereinafter, the configuration and operation of the present invention through embodiments of the present invention will be described in more detail. However, the following examples are intended to help understanding of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to the following examples.

실시예Example 1 One

도전성 입자의 제조Preparation of conductive particles

스티렌 75중량부, 말레산 무수물 10중량부, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(DPHA) 15중량부를 포함하는 단량체 혼합물 100중량부에, 암모늄 퍼설페이트 0.5중량부, 소듐라우릴설페이트 1중량부, 탈이온수 3,000중량부를 넣고 80℃에서 24시간 동안 중합하여 절연성 수지를 제조하였다. 상기 제조한 절연성 수지를 도전성 미립자(절연성 수지층이 형성되지 않음. N2EHHB4-003, 세끼스이사, 평균 입경(D50): 2.98㎛, 스티렌계 수지 입자 코어에 니켈과 은이 무전해 도금된 미립자)를 넣고 교반기(hybridizer)로 교반하여 도전성 미립자의 표면에 절연성 수지층이 피복된 도전성 입자(평균 입경(D50): 3.58㎛)를 제조하였다.75 parts by weight of styrene, 10 parts by weight of maleic anhydride, 100 parts by weight of a monomer mixture containing 15 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), 0.5 parts by weight of ammonium persulfate, 1 part by weight of sodium lauryl sulfate, dehydration An insulating resin was prepared by adding 3,000 parts by weight of ionized water and polymerizing at 80° C. for 24 hours. Conductive fine particles (no insulating resin layer is formed. N2EHHB4-003, Sekisui Corporation, average particle diameter (D50): 2.98 µm, nickel and silver electroless plated fine particles on the styrene resin core) Put and stirred with a stirrer (hybridizer) to prepare a conductive particle (average particle diameter (D50): 3.58㎛) coated with an insulating resin layer on the surface of the conductive fine particles.

이방 도전성 필름의 제조Preparation of anisotropic conductive film

고형분 기준으로, 페녹시 수지(Y50, 토토 화성㈜) 35중량부, 방향족 에폭시 수지(YL980, 재팬 에폭시 레진, 에폭시 당량 185g/eq) 20중량부, 지환족 에폭시 수지 Cel2021P(daicel) 15중량부, 지환족 에폭시 수지 ST-3000(국도화학) 5중량부, 양이온 개시제로서 SI-B3A(산신케미컬社, 일본) 5중량부, 첨가제로서 로진에스테르(5020F, 이스트만) 1중량부, 실란커플링제(KBM403, 신에쯔) 1중량부, 실리카 18중량부를 기준으로 에틸아세테이트 30중량부, 메틸에틸케톤 20중량부를 추가하고 상기 제조한 도전성 입자를 25중량부 포함하는 이방 도전성 필름용 조성물을 제조하였다.Based on solid content, 35 parts by weight of phenoxy resin (Y50, Toto Chemical Co., Ltd.), 20 parts by weight of aromatic epoxy resin (YL980, Japan epoxy resin, epoxy equivalent 185g/eq), 15 parts by weight of alicyclic epoxy resin Cel2021P (daicel), 5 parts by weight of alicyclic epoxy resin ST-3000 (Kukdo Chemical), 5 parts by weight of SI-B3A (Sanshin Chemical Co., Japan) as a cationic initiator, 1 part by weight of rosin ester (5020F, Eastman) as an additive, silane coupling agent (KBM403 , Shin-Etsu) 1 part by weight, 30 parts by weight of ethyl acetate and 20 parts by weight of methyl ethyl ketone based on 18 parts by weight of silica, and a composition for an anisotropic conductive film containing 25 parts by weight of the prepared conductive particles was prepared.

상기 제조한 이방 도전성 필름용 조성물을 이형 필름(폴리에틸렌테레프탈레이트 필름) 상에 두께 25㎛로 도포하고 70℃에서 건조기에서 5분 동안 용제를 휘발시켜 두께 25㎛의 이방 도전성 필름을 제조하였다.The prepared anisotropic conductive film composition was coated on a release film (polyethylene terephthalate film) with a thickness of 25 μm, and the solvent was volatilized for 5 minutes in a dryer at 70° C. to prepare an anisotropic conductive film having a thickness of 25 μm.

실시예Example 2 2

실시예 1에서, 도전성 미립자의 표면에 절연성 수지층의 단량체 혼합물 100중량부로서, 스티렌 70중량부, 말레산 무수물 20중량부, 이소시아누레이트기를 갖는 3관능 (메트)아크릴레이트(M315, Toagosei) 10중량부를 포함하는 단량체 혼합물 100중량부를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 이방 도전성 필름을 제조하였다.In Example 1, 100 parts by weight of the monomer mixture of the insulating resin layer on the surface of the conductive fine particles, 70 parts by weight of styrene, 20 parts by weight of maleic anhydride, trifunctional (meth)acrylate having an isocyanurate group (M315, Toagosei ) An anisotropic conductive film was prepared in the same manner as in Example 1, except that 100 parts by weight of the monomer mixture containing 10 parts by weight was used.

실시예Example 3 3

실시예 1과 동일한 방법으로 도전성 미립자의 표면에 절연성 수지층이 피복된 도전성 입자를 제조하였다.In the same manner as in Example 1, conductive particles were coated with an insulating resin layer on the surface of the conductive fine particles.

고형분 기준으로, 비반응성 우레탄 아크릴레이트(에테르계, NPC-9200, Nanux) 38중량부, M313 10중량부, 히드록시부틸아크릴레이트 5중량부, 실란커플링제(KBM403, 신에쯔) 1중량부, 폴리카보네이트계 수지 KU-1000(Negami) 19중량부, 티타니아 4중량부, 반응성 우레탄 아크릴레이트(NPA-7000, Nanux) 9중량부, 개시제 luperox26(arkema) 5중량부, 실리카 9중량부에 상기 제조한 도전성 입자 30중량부, 에틸아세테이트 30중량부, 메틸에틸케톤 20중량부를 포함하는 이방 도전성 필름용 조성물을 제조하였다.Based on solid content, 38 parts by weight of non-reactive urethane acrylate (ether-based, NPC-9200, Nanux), 10 parts by weight of M313, 5 parts by weight of hydroxybutyl acrylate, 1 part by weight of silane coupling agent (KBM403, Shin-Etsu) , Polycarbonate resin KU-1000 (Negami) 19 parts by weight, titania 4 parts by weight, reactive urethane acrylate (NPA-7000, Nanux) 9 parts by weight, initiator luperox26 (arkema) 5 parts by weight, silica 9 parts by weight A composition for an anisotropic conductive film was prepared comprising 30 parts by weight of the prepared conductive particles, 30 parts by weight of ethyl acetate, and 20 parts by weight of methyl ethyl ketone.

제조한 이방 도전성 필름용 조성물을 실시예 1과 동일한 방법으로 이방 도전성 필름을 제조하였다.An anisotropic conductive film was prepared in the same manner as in Example 1 for the prepared anisotropic conductive film composition.

실시예Example 4 4

실시예 1에서, 도전성 미립자의 표면에 절연성 수지층 단량체 혼합물 100중량부로서, 스티렌 60중량부, 말레산 무수물 10중량부, 이소시아누레이트기를 갖는 3관능 (메트)아크릴레이트(M315, Toagosei) 15중량부, 아크릴산 15중량부를 포함하는 단량체 혼합물 100중량부를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 이방 도전성 필름을 제조하였다.In Example 1, 100 parts by weight of the insulating resin layer monomer mixture on the surface of the conductive fine particles, 60 parts by weight of styrene, 10 parts by weight of maleic anhydride, trifunctional (meth)acrylate having an isocyanurate group (M315, Toagosei) An anisotropic conductive film was prepared in the same manner as in Example 1, except that 100 parts by weight of the monomer mixture containing 15 parts by weight of acrylic acid and 15 parts by weight of acrylic acid was used.

실시예Example 5 5

실시예 1에서, 도전성 미립자의 표면에 절연성 수지층 단량체 혼합물 100중량부로서, 스티렌 60중량부, 말레산 무수물 5중량부, 이소시아누레이트기를 갖는 3관능 (메트)아크릴레이트 M315, Toagosei) 5중량부, 아크릴산 15중량부, 디비닐벤젠 15중량부를 포함하는 단량체 혼합물 100중량부를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 이방 도전성 필름을 제조하였다.In Example 1, 100 parts by weight of the insulating resin layer monomer mixture on the surface of the conductive fine particles, 60 parts by weight of styrene, 5 parts by weight of maleic anhydride, and trifunctional (meth)acrylate M315, Toagosei having isocyanurate groups 5 An anisotropic conductive film was prepared in the same manner as in Example 1, except that 100 parts by weight of the monomer mixture containing 15 parts by weight of acrylic acid, 15 parts by weight of acrylic acid, and 15 parts by weight of divinylbenzene was used.

비교예Comparative example 1 One

도전성 미립자(N2EHHB4-003, 세키수이 화학공업사)에 아크릴산과 스티렌 공중합체(PP-2000S, 대일본 잉크화학공업 주식회사, 스티렌 80중량부와 아크릴산 20중량부의 공중합체)로 0.2㎛ 두께로 피복하여 도전성 입자를 제조하였다. Conductive by coating conductive fine particles (N2EHHB4-003, Sekisui Chemical Co., Ltd.) with an acrylic acid and styrene copolymer (PP-2000S, Japan Ink Chemical Industry Co., Ltd., 80 parts by weight of styrene and 20 parts by weight of acrylic acid) with a thickness of 0.2 μm. The particles were prepared.

제조한 도전성 입자를 사용하여 실시예 1과 동일한 방법으로 이방 도전성 필름을 제조하였다.An anisotropic conductive film was prepared in the same manner as in Example 1 using the produced conductive particles.

비교예Comparative example 2 2

실시예 1에서 도전성 미립자(절연성 수지층이 형성되지 않음)의 표면에 절연성 수지층을 피복하지 않은 도전성 미립자를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 이방 도전성 필름을 제조하였다.An anisotropic conductive film was prepared in the same manner as in Example 1, except that conductive fine particles without coating the insulating resin layer on the surface of the conductive fine particles (the insulating resin layer was not formed) were used in Example 1.

비교예Comparative example 3 3

실시예 1에서 절연성 수지 형성시 단량체 혼합물 100중량부로서 스티렌 70중량부, 말레산 무수물 30중량부를 포함하는 단량체 혼합물 100중량부를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 이방 도전성 필름을 제조하였다.An anisotropic conductive film was prepared in the same manner as in Example 1, except that 100 parts by weight of the monomer mixture containing 70 parts by weight of styrene and 30 parts by weight of maleic anhydride as 100 parts by weight of the monomer mixture when forming the insulating resin in Example 1 was used. .

비교예Comparative example 4 4

실시예 1에서 절연성 수지 형성시 단량체 혼합물 100중량부로서 스티렌 65중량부, 말레산 무수물 20중량부, 2관능 (메트)아크릴레이트로서 제품명(HDDA:skcytec) 15중량부를 포함하는 단량체 혼합물 100중량부를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 이방 도전성 필름을 제조하였다.When forming the insulating resin in Example 1, 100 parts by weight of the monomer mixture containing 65 parts by weight of styrene, 20 parts by weight of maleic anhydride, and 15 parts by weight of product name (HDDA:skcytec) as bifunctional (meth)acrylate An anisotropic conductive film was prepared in the same manner as in Example 1, except that it was used.

하기 표 1에서 절연성 수지층의 절연성 수지를 형성하는 단량체 혼합물을 나타내었다.Table 1 below shows the monomer mixture forming the insulating resin of the insulating resin layer.

실시예Example 비교예Comparative example 1One 22 33 44 55 1One 22 33 44 스티렌Styrene 7575 7070 7575 6060 6060 8080 00 7070 6565 말레산 무수물Maleic anhydride 1010 2020 1010 1010 55 00 00 3030 2020 DPHADPHA 1515 00 1515 00 00 00 00 00 00 M315M315 00 1010 00 1515 55 00 00 00 00 아크릴산Acrylic acid 00 00 00 1515 1515 2020 00 00 00 디비닐벤젠Divinylbenzene 00 00 00 00 1515 00 00 00 00 2관능 아크릴레이트Bifunctional acrylate 00 00 00 00 00 00 00 00 1515

실시예와 비교예에서 제조한 이방 도전성 필름에 대하여 하기 물성을 평가하고 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.The following physical properties were evaluated for the anisotropic conductive films prepared in Examples and Comparative Examples, and the results are shown in Table 2 below.

(1)도전성 미립자, 이방성 도전 필름, 절연성 수지층, 절연 처리된 도전성 미립자(도전성 입자)의 비 유전율: 도전성 입자, 이방성 도전 필름, 절연성 수지층, 도전성 미립자 각각에 대해 비 유전율 측정 장치(E-4980A)를 사용해서 실시예 및 비교예의 측정해야 할 대상의 측정 두께를 상기 비 유전율 측정 장치에 입력하여 25℃에서 측정하였다. 다만, 절연성 수지층은 두께가 얇기 때문에 실시예 및 비교예에서와 동일한 방법으로 제조하되 3㎛로 두께를 만들어서 측정하였다.(1) Specific permittivity of conductive fine particles, anisotropic conductive films, insulating resin layers, and insulated conductive fine particles (conductive particles): a specific dielectric constant measuring device (E- for conductive particles, anisotropic conductive films, insulating resin layers, and conductive fine particles) 4980A) was used to measure the thickness of the object to be measured in Examples and Comparative Examples into the specific dielectric constant measuring apparatus and measure at 25°C. However, since the insulating resin layer was thin, it was prepared in the same manner as in Examples and Comparative Examples, but was measured by making a thickness of 3 µm.

(2)초기 접속 저항(단위:Ω): 상기 실시예 및 비교예들에서 제조된 이방 도전성 필름의 초기 접속 저항을 측정하기 위하여 하기의 방법을 수행하였다.(2) Initial connection resistance (unit: Ω): The following method was performed to measure the initial connection resistance of the anisotropic conductive film prepared in Examples and Comparative Examples.

하기 조건에서 상기 실시예 및 비교예들에서 제조한 이방 도전 필름을 패널에 가압착하고 이방 도전성 필름에 드라이버 IC를 본압착한 후, 접속 저항 측정기(Keithley社 2000 Multimeter)를 이용하여 4-probe 방식으로 시험 전류 1mA를 인가하여 초기 접속 저항을 측정하여 그 평균값을 계산하였다. Under the following conditions, the anisotropic conductive film prepared in the above Examples and Comparative Examples was press-bonded to a panel and the driver IC was main-compressed onto the anisotropic conductive film, and then a 4-probe method was used using a connection resistance meter (Keithley 2000 Multimeter). The initial connection resistance was measured by applying a test current of 1 mA, and the average value was calculated.

1) 가압착 조건: 60℃, 1초, 1.0MPa1) Pressure bonding condition: 60℃, 1 second, 1.0MPa

2) 본압착 조건: 150℃, 5초, 60MPa2) Main compression conditions: 150℃, 5 seconds, 60MPa

(3)신뢰성 후의 접속 저항(단위:Ω): 상기 실시예 및 비교예들에서 제조된 이방 도전성 필름의 신뢰성 후의 접속 저항을 측정하기 위하여 하기의 방법을 수행하였다.(3) Reliability After connection resistance (unit: Ω): To measure the connection resistance after the reliability of the anisotropic conductive film prepared in Examples and Comparative Examples, the following method was performed.

초기 접속 저항 측정과 동일한 방법으로, 가압착 및 본압착한 후, 온도 85℃ 및 상대 습도 85%에서 500시간 동안 방치하여 고온ㆍ고습 신뢰성 평가를 진행한 후, 이들 각각의 신뢰성 후의 접속 저항을 접속 저항과 동일한 방법으로 측정하였다.In the same manner as in the initial connection resistance measurement, after press bonding and main bonding, after leaving for 500 hours at a temperature of 85°C and a relative humidity of 85% for high-temperature and high-humidity reliability evaluation, the connection resistance after each of the reliability is connected. The resistance was measured in the same manner.

(4)접착력(단위:MPa): 실시예와 비교예의 이방 도전성 필름을 가로 x 세로 (20mm x 10mm)으로 절단하여 시편을 제조하고 상기 시편을 UTM(Universal Testing Machine, H5KT, Hounsfield)를 이용해서 박리 속도 10mm/min, 박리 각도 180°, 박리 온도 25℃에서 밀어서 접착력을 측정하였다.(4) Adhesion (unit: MPa): The anisotropic conductive films of Examples and Comparative Examples were cut horizontally and vertically (20mm x 10mm) to prepare specimens, and the specimens were prepared using UTM (Universal Testing Machine, H5KT, Hounsfield). The adhesion was measured by pushing at a peeling rate of 10 mm/min, a peeling angle of 180°, and a peeling temperature of 25°C.

(5)쇼트 확률(단위:%): 쇼트 평가용 절연 TEG(칩 사이즈: 25mm x 2.5mm, 범프 개수: 8376개, 범프 사이즈 35㎛ x 55㎛, 범프간 피치: 10㎛)에 이방 도전성 필름을 210℃, 60MPa 압력, 5초 동안 압착하였다. 범프 간의 절연 저항을 측정하고, 쇼트 발생하는 확률을 평가하였다. (5) Short probability (unit:%): Anisotropic conductive film for insulating TEG for short evaluation (chip size: 25mm x 2.5mm, number of bumps: 8376, bump size 35㎛ x 55㎛, pitch between bumps: 10㎛) Was pressed at 210° C., 60 MPa pressure, for 5 seconds. The insulation resistance between bumps was measured, and the probability of occurrence of a short was evaluated.

실시예Example 비교예Comparative example 1One 22 33 44 55 1One 22 33 44 비 유전율Specific permittivity 도전성 미립자Conductive fine particles 395741395741 이방 도전성 필름Anisotropic conductive film 3.6773.677 3.53.5 3.9773.977 3.7873.787 3.5513.551 4.4894.489 9.6859.685 4.6174.617 5.3985.398 절연성 수지층Insulation resin layer 2.082.08 2.12.1 2.082.08 1.991.99 1.991.99 4.14.1 -- 4.24.2 4.64.6 도전성 입자Conductive particles 2.82.8 2.62.6 2.82.8 2.82.8 2.62.6 3.23.2 -- 3.23.2 3.43.4 접속 저항Connection resistance 초기Early 0.250.25 0.250.25 0.280.28 0.250.25 0.250.25 0.40.4 1.51.5 0.50.5 0.50.5 신뢰성후After reliability 0.680.68 0.620.62 0.750.75 0.650.65 0.590.59 6.56.5 99 8.18.1 4.54.5 접착력Adhesion 2.02.0 1.91.9 1.21.2 2.02.0 1.91.9 1.81.8 1.81.8 1.91.9 1.81.8 쇼트 확률(%)Short probability (%) 2.52.5 2.52.5 2.52.5 2.52.5 2.42.4 3.53.5 1010 33 3.83.8

상기 표 2에서 나타난 바와 같이, 본 발명의 이방 도전성 필름은 쇼트 발생 확률이 낮아지고 접속 저항이 낮으며 접속 저항의 신뢰성과 접착력이 우수하였다. As shown in Table 2, the anisotropic conductive film of the present invention has a low probability of short circuit, low connection resistance, and excellent reliability and adhesion of connection resistance.

반면에, 절연성 수지층이 형성되지 않거나 본 발명의 비 유전율 범위를 벗어나는 도전성 입자를 포함하는 비교예 1, 비교예 3 및 비교예 4는 접착력도 낮았으며 쇼트 발생 확률이 현저하게 높았다.On the other hand, Comparative Example 1, Comparative Example 3 and Comparative Example 4, which did not form an insulating resin layer or included conductive particles outside the specific permittivity range of the present invention, had low adhesion and a high probability of occurrence of short.

본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.Simple modifications or changes of the present invention can be easily carried out by those skilled in the art, and all such modifications or changes can be considered to be included in the scope of the present invention.

Claims (18)

절연성 접착제 및 상기 절연성 접착제에 포함되고 비 유전율(specific inductive capacity)이 2.51 내지 3.0인 도전성 입자를 포함하는 것인, 이방 도전성 필름.
An anisotropic conductive film comprising an insulating adhesive and conductive particles contained in the insulating adhesive and having a specific inductive capacity of 2.51 to 3.0.
제1항에 있어서, 상기 도전성 입자는 도전성 미립자 및 도전성 미립자의 표면에 형성된 절연성 수지층을 포함하고,
상기 절연성 수지층은 방향족기 함유 단량체, 산 무수물계 단량체 및 3관능 내지 6관능의 (메트)아크릴레이트를 포함하는 단량체 혼합물로부터 중합된 절연성 수지를 포함하는 것인, 이방 도전성 필름.
According to claim 1, The conductive particles include conductive fine particles and an insulating resin layer formed on the surface of the conductive fine particles,
The insulating resin layer is an anisotropic conductive film comprising an insulating resin polymerized from a monomer mixture containing an aromatic group-containing monomer, an acid anhydride-based monomer, and a trifunctional to six-functional (meth)acrylate.
제2항에 있어서, 상기 절연성 수지층은 단일층인 것인, 이방 도전성 필름.
The anisotropic conductive film according to claim 2, wherein the insulating resin layer is a single layer.
제2항에 있어서, 상기 절연성 수지층은 비 유전율이 0.5 내지 4인 것인, 이방 도전성 필름.
The anisotropic conductive film according to claim 2, wherein the insulating resin layer has a specific dielectric constant of 0.5 to 4.
제2항에 있어서, 상기 3관능 내지 6관능의 (메트)아크릴레이트는 이소시아누레이트기를 갖는 것인, 이방 도전성 필름.
The anisotropic conductive film according to claim 2, wherein the trifunctional to hexafunctional (meth)acrylate has an isocyanurate group.
제2항에 있어서, 상기 단량체 혼합물은 상기 방향족기 함유 단량체, 상기 산 무수물계 단량체 및 상기 6관능의 (메트)아크릴레이트를 포함하는 것인, 이방 도전성 필름.
The anisotropic conductive film according to claim 2, wherein the monomer mixture contains the aromatic group-containing monomer, the acid anhydride-based monomer, and the six-functional (meth)acrylate.
제2항에 있어서, 상기 절연성 수지의 단량체 혼합물 중
상기 방향족기 함유 단량체는 40중량% 내지 75중량%
상기 산 무수물계 단량체 5중량% 내지 40중량%
상기 3관능 내지 6관능의 (메트)아크릴레이트는 상기 단량체 혼합물 중 5중량% 내지 20중량%로 포함되는 것인, 이방 도전성 필름.
The method of claim 2, wherein the monomer mixture of the insulating resin
The aromatic group-containing monomer is 40% by weight to 75% by weight
5 to 40% by weight of the acid anhydride-based monomer
The trifunctional to hexafunctional (meth)acrylate is contained in 5% to 20% by weight of the monomer mixture, an anisotropic conductive film.
제2항에 있어서, 상기 방향족기 함유 단량체는 스티렌이고, 상기 산 무수물계 단량체는 말레산 무수물인 것인, 이방 도전성 필름.
The anisotropic conductive film according to claim 2, wherein the aromatic group-containing monomer is styrene, and the acid anhydride-based monomer is maleic anhydride.
제2항에 있어서, 상기 단량체 혼합물은 디비닐벤젠계 단량체를 더 포함하는 것인, 이방 도전성 필름.
The anisotropic conductive film according to claim 2, wherein the monomer mixture further comprises a divinylbenzene-based monomer.
제2항에 있어서, 상기 단량체 혼합물은 (메트)아크릴산을 더 포함하는 것인, 이방 도전성 필름.
The anisotropic conductive film according to claim 2, wherein the monomer mixture further comprises (meth)acrylic acid.
제2항에 있어서, 상기 도전성 미립자는 표면에 돌기가 형성되어 있는 것인, 이방 도전성 필름.
The anisotropic conductive film according to claim 2, wherein the conductive fine particles have protrusions formed on the surface.
제11항에 있어서, 상기 도전성 미립자는 비 유전율이 10,000 이상인 것인, 이방 도전성 필름.
The anisotropic conductive film according to claim 11, wherein the conductive fine particles have a specific permittivity of 10,000 or more.
제1항에 있어서, 상기 도전성 입자는 이방 도전성 필름 중 10중량% 내지 40중량%로 포함되는 것인, 이방 도전성 필름.
The anisotropic conductive film according to claim 1, wherein the conductive particles are contained in an amount of 10% to 40% by weight in the anisotropic conductive film.
제1항에 있어서, 상기 도전성 입자는 평균 입경(D50)이 2㎛ 내지 10㎛인 것인, 이방 도전성 필름.
The anisotropic conductive film according to claim 1, wherein the conductive particles have an average particle diameter (D50) of 2 μm to 10 μm.
제1항에 있어서, 상기 절연성 접착제는 에폭시계, 우레탄계 또는 (메트)아크릴레이트계인 것인, 이방 도전성 필름.
The anisotropic conductive film according to claim 1, wherein the insulating adhesive is an epoxy-based, urethane-based or (meth)acrylate-based adhesive.
제1항에 있어서, 상기 절연성 접착제는 바인더 수지, 경화성 화합물 및 개시제를 포함하는 조성물로 형성된 것인, 이방 도전성 필름.
The anisotropic conductive film according to claim 1, wherein the insulating adhesive is formed of a composition comprising a binder resin, a curable compound, and an initiator.
제16항에 있어서, 상기 조성물은 무기 필러, 실란 커플링제, 첨가제 중 1종 이상을 더 포함하는 것인, 이방 도전성 필름.
The anisotropic conductive film of claim 16, wherein the composition further comprises at least one of an inorganic filler, a silane coupling agent, and an additive.
제1항 내지 제17항 중 어느 한 항의 이방 도전성 필름을 포함하는 디스플레이 장치.
A display device comprising the anisotropic conductive film of claim 1.
KR1020180155553A 2018-12-05 2018-12-05 Anisotropic conductive film, display device comprising the same and/or semiconductor device comprising the same KR20200068500A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180155553A KR20200068500A (en) 2018-12-05 2018-12-05 Anisotropic conductive film, display device comprising the same and/or semiconductor device comprising the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180155553A KR20200068500A (en) 2018-12-05 2018-12-05 Anisotropic conductive film, display device comprising the same and/or semiconductor device comprising the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20200068500A true KR20200068500A (en) 2020-06-15

Family

ID=71081783

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180155553A KR20200068500A (en) 2018-12-05 2018-12-05 Anisotropic conductive film, display device comprising the same and/or semiconductor device comprising the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20200068500A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023042992A1 (en) * 2021-09-16 2023-03-23 삼성에스디아이 주식회사 Composition for encapsulating organic light-emitting element, and organic light-emitting element display device comprising organic layer produced therefrom

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023042992A1 (en) * 2021-09-16 2023-03-23 삼성에스디아이 주식회사 Composition for encapsulating organic light-emitting element, and organic light-emitting element display device comprising organic layer produced therefrom

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20080157030A1 (en) Low-temperature setting adhesive and anisotropically electroconductive adhesive film using the same
KR101453179B1 (en) Anisotropic conductive film, method for producing connected body, and connected body
CN105917529B (en) Connection body, method for manufacturing connection body, connection method, and anisotropic conductive adhesive
JP2008034232A (en) Anisotropic conductive film
KR102115282B1 (en) Method for manufacturing connection structure
JP2007217503A (en) Anisotropically electroconductive adhesive film
JP7014236B2 (en) Adhesive compositions and connectors
WO2013129437A1 (en) Method for manufacturing connection element, and anisotropic electroconductive adhesive
US11355469B2 (en) Connection structure and method for producing same
JP5844588B2 (en) Circuit connection material, connection method using the same, and connection structure
TW202229487A (en) Adhesive film for circuit connection, method for manufacturing same, connection structure body, and method for manufacturing same
JP7020029B2 (en) Conductive adhesive film
JP6326867B2 (en) Connection structure manufacturing method and connection structure
TWI540195B (en) A circuit connecting material and a connecting method using the same, and a connecting structure
KR20200068500A (en) Anisotropic conductive film, display device comprising the same and/or semiconductor device comprising the same
US11319465B2 (en) Method for manufacturing fine-pitch anisotropic conductive adhesive and fine-pitch anisotropic conductive adhesive manufactured by same method
JP2011105861A (en) Circuit-connecting material and connected structure
JP2002358825A (en) Anisotropic conductive adhesion film
WO2018199329A1 (en) Adhesive composition and method for producing connected object
TWI596184B (en) Circuit connecting material, and manufacturing method of a package using the same
CN116529838A (en) Adhesive film for circuit connection, connection structure, and method for manufacturing same
WO2016052130A1 (en) Anisotropic conductive film and bonding method
JP2009161684A (en) Adhesive composition for use in circuit connection, and connection structure of circuit member and connecting method of circuit member by using the adhesive composition
JP5046581B2 (en) Adhesive for circuit connection
KR100575262B1 (en) Insulated Conductive Particles and an Anisotropic Conductive Film containing the Particles

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
N231 Notification of change of applicant
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application