KR20200063031A - Optical multilayer body, flexible display device and method for producing optical multilayer body - Google Patents

Optical multilayer body, flexible display device and method for producing optical multilayer body Download PDF

Info

Publication number
KR20200063031A
KR20200063031A KR1020190091943A KR20190091943A KR20200063031A KR 20200063031 A KR20200063031 A KR 20200063031A KR 1020190091943 A KR1020190091943 A KR 1020190091943A KR 20190091943 A KR20190091943 A KR 20190091943A KR 20200063031 A KR20200063031 A KR 20200063031A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
film
optical
resin
optical laminate
line profile
Prior art date
Application number
KR1020190091943A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102121518B1 (en
Inventor
마사시 후지나가
가즈키 다이마츠
Original Assignee
스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=67539874&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=KR20200063031(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 filed Critical 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
Publication of KR20200063031A publication Critical patent/KR20200063031A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102121518B1 publication Critical patent/KR102121518B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/023Optical properties
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • B32B27/281Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polyimides
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • G02B1/113Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G02B1/115Multilayers
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14Protective coatings, e.g. hard coatings
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/16Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements having an anti-static effect, e.g. electrically conducting coatings
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • G02B5/3025Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • G02B5/3041Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks
    • G02B5/305Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks including organic materials, e.g. polymeric layers
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133711Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by organic films, e.g. polymeric films
    • G02F1/133723Polyimide, polyamide-imide
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/536Hardness
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00Electrical equipment
    • B32B2457/20Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B32B2457/208Touch screens

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

Provided are an optical laminate, a flexible display device having the same, and a method for manufacturing the optical laminate. The optical laminate, which has an optical film including a polyimide-based resin and/or a polyamide-based resin, and a functional layer laminated on at least one side of the optical film, satisfies equation: (Y_(mh) + Y_(mv)) / (X_(mh) + X_(mv))^(1/2) < 30. Therefore, the optical homogeneity is excellent.

Description

광학 적층체, 플렉시블 표시 장치 및 광학 적층체의 제조 방법{OPTICAL MULTILAYER BODY, FLEXIBLE DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING OPTICAL MULTILAYER BODY}Manufacturing method of optical laminate, flexible display device, and optical laminate {OPTICAL MULTILAYER BODY, FLEXIBLE DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING OPTICAL MULTILAYER BODY}

본 발명은, 광학 적층체, 당해 광학 적층체를 구비하는 플렉시블 표시 장치, 및 당해 광학 적층체의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an optical laminate, a flexible display device comprising the optical laminate, and a method for manufacturing the optical laminate.

액정 표시 장치나 유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치에 있어서 사용되는 광학 필름은, 당해 광학 필름을 통하여 사용자가 직접 육안으로 표시된 화상을 시인하기 때문에, 매우 높은 광학적 균질성이 요구된다.The optical film used in an image display device such as a liquid crystal display device or an organic EL display device requires very high optical homogeneity because the user directly visually recognizes the image displayed through the optical film.

이와 같은 광학 필름의 제조 방법으로서, 휘발성 용매와 광학 필름을 구성하는 수지를 함유하는 용액을 기재 상에 도공하고, 건조 후, 박리하는 방법이 사용되고 있다(예를 들면, 특허 문헌 1). 이와 같은 도공 및 건조를 수반하는 제조 방법에서는, 도공 조건이나 건조 조건에 따라 두께 불균일 및 배향 불균일이 발생하는 경우가 있다. 필름이, 육안으로는 확인할 수 없을 것 같은 레벨의 불균일을 가지는 경우라도, 최종적으로 화상 표시 장치에 있어서의 광학 필름으로서 조립하였을 때에, 이러한 불균일에 기인하여 광학적 균질성이 손상되어, 화상의 일그러짐 등이 시인되는 경우도 있다. 이 때문에, 화상 표시 장치에 있어서 광학 필름으로서 사용되는 필름에는, 육안으로는 확인이 곤란한 레벨이 매우 높은 정밀도의 광학적 균질성이 요구된다. 이 때문에, 필름의 광학적 균질성의 추가적인 향상에 대한 요구가 또한 존재한다.As a method for manufacturing such an optical film, a method is applied in which a solution containing a volatile solvent and a resin constituting the optical film is coated on a substrate, and then dried and peeled off (for example, Patent Document 1). In such a manufacturing method involving coating and drying, thickness unevenness and orientation unevenness may occur depending on coating conditions or drying conditions. Even if the film has a level of non-uniformity that cannot be visually confirmed, optical homogeneity is impaired due to such non-uniformity when finally assembled as an optical film in an image display device, resulting in image distortion, etc. It may be admitted. For this reason, the film used as an optical film in an image display device requires optical homogeneity with a very high level of accuracy that is difficult to visually confirm. Because of this, there is also a need for further improvement of the optical homogeneity of the film.

필름의 불균일을 억제한 광학 필름으로서, 예를 들면 특허 문헌 1에는, 폴리이미드계 광학 필름의 투영 화상으로부터 잘라낸 직사각형 에어리어에 있어서, 그레이 스케일의 표준 편차 σ 및 당해 직사각형 에어리어의 이진화 화상에 있어서의 검은 부분의 면적이 소정의 범위 내로 조정된 폴리이미드계 광학 필름이 기재되어 있다. 특허 문헌 2에는, 필름 면 내의 투과광의 휘도의 불균일이, 표준 편차로 평균 휘도의 15% 이내인 광학용 투명 필름이 기재되어 있다. 특허 문헌 3에는, 광원부로부터의 광을 격자판에 조사하고, 당해 격자판을 투과한 광을 격자상(像)으로서 투영하고, 당해 격자상을 촬영하여 격자상의 일그러짐으로부터 피측정물의 3차원계 형상을 수치화하는 프린지 투영법에 의한 형상 측정 방법이 기재되어 있다.As an optical film in which film irregularity is suppressed, for example, in Patent Document 1, in a rectangular area cut out from a projected image of a polyimide-based optical film, a standard deviation σ of gray scale and black in a binarized image of the rectangular area A polyimide-based optical film in which the area of a portion is adjusted within a predetermined range is described. Patent Document 2 discloses an optically transparent film having a non-uniformity in luminance of transmitted light in the film plane within 15% of the average luminance in a standard deviation. In Patent Document 3, the light from the light source unit is irradiated onto the grating plate, the light transmitted through the grating plate is projected as a grating image, and the grating image is photographed to quantify the three-dimensional system shape of the object to be measured from the grating distortion. A method of measuring the shape by the fringe projection method described above is described.

국제공개 제2016/152459호International Publication No. 2016/152459 일본공개특허 특개평9-48866호 공보Japanese Patent Application Publication No. 9-48866 일본공개특허 특개2011-226871호 공보Japanese Patent Application Publication No. 2011-226871

그러나, 상기 특허 문헌에 기재되는 방법은, 모두, 화상 표시 장치에 있어서 사용되는 바와 같은 광학 필름에 요구되는 매우 높은 정밀도로, 필름의 광학적 균질성을 평가하기에 충분한 방법이라고는 할 수 없다. 특허 문헌 1에 기재된 방법은, 1cm×5cm의 해석 에어리어에서의 평가이기 때문에, 세로 방향에 발생하는 불균일에 기인하는 광학적 균질성의 저하를 충분히 평가할 수 있는 방법은 아니다. 특허 문헌 2에 기재된 방법은, 투과광의 휘도의 차가 작은 농담(濃淡)이 옅은 불균일에 기인하는 광학적 균질성의 저하를 정밀도 좋게 평가할 수 있는 방법은 아니다.However, all of the methods described in the above-mentioned patent documents cannot be said to be methods sufficient for evaluating the optical homogeneity of films with very high precision required for optical films as used in image display devices. Since the method described in Patent Document 1 is an evaluation in an analysis area of 1 cm x 5 cm, it is not a method capable of sufficiently evaluating a decrease in optical homogeneity due to unevenness occurring in the longitudinal direction. The method described in Patent Document 2 is not a method capable of accurately evaluating a decrease in optical homogeneity caused by a slight non-uniformity of a small difference in luminance of transmitted light.

특허 문헌 3에 기재된 방법은, 형상을 검출하는 방법이기 때문에, 굴절률의 불균일에 기인하는 광학적 균질성의 저하를 평가할 수는 없다. 따라서, 이들 방법으로 평가하여 얻은 필름은 모두, 충분한 광학적 균질성을 가진다고는 할 수 없다.Since the method described in Patent Document 3 is a method for detecting a shape, it is not possible to evaluate a decrease in optical homogeneity due to non-uniformity in refractive index. Therefore, not all films obtained by evaluating by these methods have sufficient optical homogeneity.

본 발명은, 상기 종래 기술이 가지는 과제를 감안하여 이루어진 것으로서, 화상 표시 장치 등에 있어서의 광학 필름으로서 적합하게 사용되는, 광학적 균질성이 우수한 광학 적층체, 당해 광학 적층체를 구비하는 플렉시블 표시 장치, 및 당해 광학 적층체의 제조 방법을 제공하는 것을 과제로 한다.This invention is made|formed in view of the subject which the said prior art has, The optical laminated body excellent in optical homogeneity used suitably as an optical film in an image display apparatus etc., The flexible display device provided with the said optical laminated body, and An object of the present invention is to provide a method for manufacturing the optical laminate.

본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해, 광학 필름 또는 광학 적층체의 광학적 균질성을 높은 정밀도로 평가할 수 있는 평가 방법, 및 광학 필름 또는 광학 적층체의 광학적 균질성 및 광학 특성을 높이는 방법에 대하여 예의 검토를 행했다. 그 결과, 다음의 요건을 충족시키는 광학 적층체가 우수한 광학적 균질성을 가지는 것을 발견하여, 본 발명을 완성시키기에 이르렀다. 즉, 본 발명에는, 이하의 양태가 포함된다.In order to solve the above problems, the present inventors studied earnestly for an evaluation method capable of evaluating the optical homogeneity of the optical film or optical laminate with high precision, and a method of increasing the optical homogeneity and optical properties of the optical film or optical laminate. Was done. As a result, it was found that the optical laminate satisfying the following requirements has excellent optical homogeneity, leading to the completion of the present invention. That is, the following aspects are included in this invention.

〔1〕 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지를 포함하는 광학 필름과, 당해 광학 필름의 적어도 편면에 적층된 기능층을 가지는 광학 적층체로서,[1] An optical laminate comprising an optical film comprising a polyimide resin and/or a polyamide resin, and a functional layer laminated on at least one side of the optical film,

상기 광학 필름을 이용하여 투영법에 의해 얻은 투영 화상을 푸리에 변환하여 얻은 필름 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h 및 방향 v에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h 및 라인 프로파일 v라고 하고, 상기 투영법에 있어서 상기 필름을 이용하지 않고 얻은 배경 화상을 푸리에 변환하여 얻은 배경 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h' 및 방향 v'에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h' 및 라인 프로파일 v'라고 하며, 라인 프로파일 h로부터 라인 프로파일 h'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (h-h')의 최대 강도를 Ymh라고 하고, 최대 강도 Ymh를 나타내는 주파수를 Xmh라고 하며, 라인 프로파일 v로부터 라인 프로파일 v'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (v-v')의 최대 강도를 Ymv라고 하고, 최대 강도 Ymv를 나타내는 주파수를 Xmv라고 하면, Ymh 및 Ymv는 모두 40 이하이며, Ymh, Ymv, Xmh 및 Xmv는, 다음의 관계:The line profiles in directions h and v that are orthogonal to each other on the film inverse space obtained by Fourier transforming the projected image obtained by the projection method using the optical film are referred to as line profiles h and line profiles v, respectively. In the above, the line profiles in the directions h'and v'which are orthogonal to each other on the background inverse space obtained by Fourier transforming the background image obtained without using the film are called line profiles h'and line profiles v', respectively. , The maximum intensity of the line profile (h-h') obtained by subtracting the line profile h'from the line profile h is called Y mh , and the frequency representing the maximum intensity Y mh is called X mh , and the line profile v'from the line profile v If the maximum intensity of the line profile (v-v') obtained by subtracting is Y mv , and the frequency representing the maximum intensity Y mv is X mv , Y mh and Y mv are both 40 or less, Y mh , Y mv , X mh and X mv are the following relationships:

Figure pat00001
Figure pat00001

를 충족시키는, 광학 적층체.To satisfy the optical laminate.

〔2〕 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지를 포함하는 광학 필름과, 당해 광학 필름의 적어도 편면에 적층된 기능층을 가지는 광학 적층체로서,[2] An optical laminate comprising an optical film comprising a polyimide resin and/or a polyamide resin, and a functional layer laminated on at least one side of the optical film,

상기 광학 적층체를 이용하여 투영법에 의해 얻은 투영 화상을 푸리에 변환하여 얻은 필름 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h 및 방향 v에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h 및 라인 프로파일 v라고 하고, 상기 투영법에 있어서 상기 광학 적층체를 이용하지 않고 얻은 배경 화상을 푸리에 변환하여 얻은 배경 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h' 및 방향 v'에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h' 및 라인 프로파일 v'라고 하며, 라인 프로파일 h로부터 라인 프로파일 h'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (h-h')의 최대 강도를 Ymh라고 하고, 최대 강도 Ymh를 나타내는 주파수를 Xmh라고 하며, 라인 프로파일 v로부터 라인 프로파일 v'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (v-v')의 최대 강도를 Ymv라고 하고, 최대 강도 Ymv를 나타내는 주파수를 Xmv라고 하면, Ymh 및 Ymv는 모두 40 이하이며, Ymh, Ymv, Xmh 및 Xmv는, 다음의 관계:The line profiles in the directions h and v that are orthogonal to each other on the film inverse space obtained by Fourier transforming the projected image obtained by the projection method using the optical laminate are referred to as line profiles h and line profiles v, respectively. In the projection method, the line profiles in the directions h'and v are orthogonal to each other in the background inverse space obtained by Fourier transforming the background image obtained without using the optical laminate, respectively, the line profile h'and the line profile v The maximum intensity of the line profile (h-h') obtained by subtracting the line profile h from line profile h is called Y mh , and the frequency representing the maximum intensity Y mh is called X mh , and the line from line profile v If the maximum intensity of the line profile (v-v') obtained by subtracting the profile v'is Y mv , and the frequency representing the maximum intensity Y mv is X mv , Y mh and Y mv are both 40 or less, and Y mh , Y mv , X mh and X mv are the following relationships:

Figure pat00002
Figure pat00002

를 충족시키는, 광학 적층체.To satisfy the optical laminate.

〔3〕 기능층의 적어도 하나는, 하드 코팅 기능, 대전 방지 기능, 방현(防眩) 기능, 저반사 기능, 반사 방지 기능 및 방오 기능으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 기능을 구비하는 층인, 상기 〔1〕 또는 〔2〕에 기재된 광학 적층체.[3] At least one of the functional layers is a layer having at least one function selected from the group consisting of a hard coating function, an antistatic function, an anti-glare function, a low reflection function, an antireflection function and an antifouling function, The optical laminate according to [1] or [2] above.

〔4〕 광학 적층체의 적어도 일방의 면의 연필 경도는 H 이상인, 상기 〔1〕~〔3〕 중 어느 것에 기재된 광학 적층체.[4] The optical laminate according to any one of [1] to [3], wherein the pencil hardness of at least one surface of the optical laminate is H or more.

〔5〕 광학 적층체의 적어도 일방의 면의 표면 저항률은 1.0×1013Ω/sq 이하인, 상기 〔1〕~〔4〕 중 어느 것에 기재된 광학 적층체.[5] The optical laminate according to any one of [1] to [4], wherein the surface resistivity of at least one surface of the optical laminate is 1.0×10 13 Ω/sq or less.

〔6〕 광학 적층체의 황색도는 3.0 이하인, 상기 〔1〕~〔5〕 중 어느 것에 기재된 광학 적층체.[6] The optical laminate according to any one of [1] to [5], wherein the yellowness of the optical laminate is 3.0 or less.

〔7〕 폭 방향의 길이가 20cm 이상, 길이 방향의 길이가 1m 이상인, 상기 〔1〕~〔6〕 중 어느 것에 기재된 광학 적층체.[7] The optical laminate according to any one of [1] to [6], in which the length in the width direction is 20 cm or more and the length in the length direction is 1 m or more.

〔8〕 플렉시블 표시 장치의 전면판용의 필름인, 상기 〔1〕~〔7〕 중 어느 것에 기재된 광학 적층체.[8] The optical laminate according to any one of [1] to [7], which is a film for a front plate of a flexible display device.

〔9〕 상기 〔1〕~〔8〕 중 어느 것에 기재된 광학 적층체를 구비하는 플렉시블 표시 장치.[9] A flexible display device comprising the optical laminate according to any one of [1] to [8].

〔10〕 터치 센서를 추가로 구비하는, 상기 〔9〕에 기재된 플렉시블 표시 장치.[10] The flexible display device according to [9], further comprising a touch sensor.

〔11〕 편광판을 추가로 구비하는, 상기 〔9〕 또는 〔10〕에 기재된 플렉시블 표시 장치.[11] The flexible display device according to [9] or [10], further comprising a polarizing plate.

〔12〕 상기 〔1〕~〔8〕 중 어느 것에 기재된 광학 적층체의 제조 방법으로서,[12] As a method for producing the optical laminate according to any one of [1] to [8],

(a) 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지, 및 용매를 적어도 함유하는 바니시를 지지체 상에 도포하고, 건조시켜, 도막을 형성시키는 공정,(a) a step of applying a varnish containing at least a polyimide-based resin and/or a polyamide-based resin and a solvent on a support and drying it to form a coating film,

(b) 지지체로부터 도막을 박리하는 공정,(b) peeling the coating film from the support,

(c) 박리한 도막을 가열하여, 필름을 얻는 공정, 및,(c) heating the peeled coating film to obtain a film, and

(d) 필름의 적어도 편면에 기능층을 적층하여, 광학 적층체를 얻는 공정을 적어도 포함하는, 제조 방법.(d) A manufacturing method comprising at least a step of laminating a functional layer on at least one side of a film to obtain an optical laminate.

본 발명에 의하면, 광학적 균질성이 우수한 광학 적층체, 당해 광학 적층체를 구비하는 플렉시블 표시 장치, 및 당해 광학 적층체의 제조 방법을 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the optical laminated body excellent in optical homogeneity, the flexible display device provided with the said optical laminated body, and the manufacturing method of the said optical laminated body can be provided.

도 1은 투영 화상을 얻는 공정에 있어서의 배치예를 나타내는 개략도이다.
도 2는 실시예 및 비교예에서의 투영 화상을 얻는 공정에 있어서의 배치를 설명하기 위한 개략도이다.
도 3은 라인 프로파일에 있어서의 Ymax, Xmax 및 Xcen을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 실시예 1의 투영 화상으로부터 얻은 규격화 전의 라인 프로파일을 나타내는 도면이다.
도 5는 실시예 1의 투영 화상으로부터 얻은 규격화 후의 라인 프로파일을 나타내는 도면이다.
도 6은 실시예 1의 배경 화상으로부터 얻은 규격화 후의 라인 프로파일을 나타내는 도면이다.
도 7은 실시예 1의 투영 화상으로부터 얻은 규격화 후의 라인 프로파일로부터, 실시예 1의 배경 화상으로부터 얻은 규격화 후의 라인 프로파일을 빼서 얻은 라인 프로파일을 나타내는 도면이다.
도 8은 실시예 1의 투영 화상으로부터 얻은 규격화 후의 라인 프로파일로부터, 실시예 1의 배경 화상에서 얻은 규격화 후의 라인 프로파일을 빼서 얻은 라인 프로파일을 스무딩화하여 얻은 라인 프로파일을 나타내는 도면이다.
1 is a schematic view showing an arrangement example in a process of obtaining a projected image.
2 is a schematic view for explaining the arrangement in the process of obtaining a projected image in Examples and Comparative Examples.
3 is a diagram for explaining Y max , X max and X cen in the line profile.
4 is a view showing a line profile before normalization obtained from the projected image of Example 1.
5 is a diagram showing line profiles after normalization obtained from the projected image of Example 1. FIG.
6 is a view showing line profiles after normalization obtained from the background image of Example 1. FIG.
7 is a view showing a line profile obtained by subtracting the line profile after normalization obtained from the background image of Example 1 from the line profile after normalization obtained from the projection image of Example 1;
8 is a view showing the line profile obtained by smoothing the line profile obtained by subtracting the line profile after normalization obtained from the background image of Example 1 from the line profile after normalization obtained from the projected image of Example 1;

이하, 본 발명의 실시 형태에 대하여 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명의 범위는 여기서 설명하는 실시 형태에 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서 다양한 변경을 할 수 있다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. In addition, the scope of the present invention is not limited to the embodiment described herein, and various changes can be made without departing from the spirit of the present invention.

본 발명의 광학 적층체는, 본 발명의 일 양태에 있어서, 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지를 포함하는 광학 필름과, 당해 광학 필름의 적어도 편면에 적층된 기능층을 가지는 광학 적층체로서,The optical laminated body of this invention WHEREIN: In one aspect of this invention, the optical laminated body which has an optical film containing polyimide type resin and/or polyamide type resin, and the functional layer laminated|stacked on at least one side of the said optical film. as,

상기 광학 필름을 이용하여 투영법에 의해 얻은 투영 화상을 푸리에 변환하여 얻은 필름 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h 및 방향 v에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h 및 v라고 하고, 상기 투영법에 있어서 상기 광학 필름을 이용하지 않고 얻은 배경 화상을 푸리에 변환하여 얻은 배경 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h' 및 방향 v'에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h' 및 v'라고 하며, 라인 프로파일 h로부터 라인 프로파일 h'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (h-h')의 최대 강도를 Ymh라고 하고, 최대 강도 Ymh를 나타내는 주파수를 Xmh라고 하며, 라인 프로파일 v로부터 라인 프로파일 v'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (v-v')의 최대 강도를 Ymv라고 하고, 최대 강도 Ymv를 나타내는 주파수를 Xmv라고 하면, Ymh 및 Ymv는 모두 40 이하이며, Ymh, Ymv, Xmh 및 Xmv는, 다음의 관계:The line profiles in directions h and v that are orthogonal to each other on the film inverse space obtained by Fourier transforming the projected image obtained by the projection method using the optical film are referred to as line profiles h and v, respectively. The line profiles in the directions h'and v'which are orthogonal to each other in the background inverse space obtained by Fourier transforming the background image obtained without using the optical film are referred to as line profiles h'and v', respectively. The maximum intensity of the line profile (h-h') obtained by subtracting the line profile h'from h is called Y mh , and the frequency representing the maximum intensity Y mh is called X mh , and obtained by subtracting the line profile v'from the line profile v. Assuming that the maximum intensity of the line profile (v-v') is Y mv , and the frequency representing the maximum intensity Y mv is X mv , Y mh and Y mv are both 40 or less, and Y mh , Y mv , X mh and X mv is the following relationship:

Figure pat00003
Figure pat00003

를 충족시키는, 광학 적층체이다.It is, it is an optical laminate.

본 발명의 광학 적층체는, 본 발명의 다른 일 양태에 있어서, 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지를 포함하는 광학 필름과, 당해 광학 필름의 적어도 편면에 적층된 기능층을 가지는 광학 적층체로서,The optical laminated body of this invention WHEREIN: In another aspect of this invention, the optical lamination which has the optical film containing polyimide type resin and/or polyamide type resin, and the functional layer laminated|stacked on at least one side of the said optical film. Sieve,

상기 광학 적층체를 이용하여 투영법에 의해 얻은 투영 화상을 푸리에 변환하여 얻은 필름 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h 및 방향 v에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h 및 v라고 하고, 상기 투영법에 있어서 상기 광학 적층체를 이용하지 않고 얻은 배경 화상을 푸리에 변환하여 얻은 배경 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h' 및 방향 v'에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h' 및 v'라고 하며, 라인 프로파일 h로부터 라인 프로파일 h'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (h-h')의 최대 강도를 Ymh라고 하고, 최대 강도 Ymh를 나타내는 주파수를 Xmh라고 하며, 라인 프로파일 v로부터 라인 프로파일 v'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (v-v')의 최대 강도를 Ymv라고 하고, 최대 강도 Ymv를 나타내는 주파수를 Xmv라고 하면, Ymh 및 Ymv는 모두 40 이하이며, Ymh, Ymv, Xmh 및 Xmv는, 다음의 관계:The line profiles in the directions h and v that are orthogonal to each other on the film inverse space obtained by Fourier transforming the projected image obtained by the projection method using the optical laminate are referred to as the line profiles h and v, respectively. The line profiles in the directions h'and v'which are orthogonal to each other on the background inverse space obtained by Fourier transforming the background image obtained without using the optical laminate are referred to as line profiles h'and v', respectively. a line for the maximum strength of the profile line profile h 'line profile (h-h obtained by subtracting') from h and that Y mh, the frequency showing the maximum intensity Y mh called X mh, line profile v 'from the line profile v If the called a maximum intensity of the line profile (v-v ') obtained by subtracting Y mv, and the frequency showing the maximum intensity Y mv as X mv, Y mh and Y mv are all less than 40, Y mh, Y mv, X mh and X mv are the following relationships:

Figure pat00004
Figure pat00004

를 충족시키는, 광학 적층체이다. 여기서, 방향 h 및 방향 h'는 서로 대응하는 방향이며, 방향 v 및 방향 v'는 서로 대응하는 방향이다. 이들 방향이 대응한다는 것은, 방위각이 동일한 것을 의미한다.It is, it is an optical laminate. Here, the direction h and the direction h'are directions corresponding to each other, and the direction v and the direction v'are directions corresponding to each other. That these directions correspond means that the azimuth angles are the same.

본 발명의 광학 적층체는, 본 발명의 광학 적층체에 포함되는 광학 필름, 또는, 본 발명의 광학 적층체를 측정 필름으로서 이용하고, 상기 Ymh 등을 평가한 결과, 상기의 특징을 충족시키는 광학 적층체이다. 이와 같은 특징을 충족시키는 본 발명의 광학 적층체는, 높은 광학적 균질성을 가진다. 본 발명의 광학 적층체는, 우수한 광학적 균질성을 가지고, 특히 화상 표시 장치에 있어서의 광학 적층체로서 바람직하게 사용된다. 여기서, 필름의 광학적 균질성은, 필름의 면 형상 불균일, 두께 불균일, 배향 불균일 등과 밀접하게 관계되고, 이들 불균일이 발생하면 광학적 균질성이 저하된다. 이 때문에, 우수한 광학적 균질성을 가지는 본 발명의 광학 적층체는, 면 형상 불균일, 두께 불균일, 배향 불균일 등의 불균일이 저감된 필름이라고 할 수 있다.The optical laminate of the present invention uses the optical film included in the optical laminate of the present invention, or the optical laminate of the present invention as a measurement film, and the Y mh and the like are evaluated to satisfy the above characteristics. It is an optical laminate. The optical layered body of the present invention satisfying such characteristics has high optical homogeneity. The optical laminate of the present invention has excellent optical homogeneity, and is preferably used as an optical laminate in an image display device. Here, the optical homogeneity of the film is closely related to the surface shape non-uniformity, thickness non-uniformity, and orientation non-uniformity of the film, and when these non-uniformities occur, the optical homogeneity decreases. For this reason, it can be said that the optical laminated body of this invention which has excellent optical homogeneity is a film in which the nonuniformity, such as surface nonuniformity, thickness nonuniformity, and orientation nonuniformity is reduced.

본 발명의 광학 적층체에 포함되는 광학 필름, 또는, 본 발명의 광학 적층체를 측정 필름으로서 이용하여, 투영법에 의해 얻은 투영 화상을 푸리에 변환하여 얻은 필름 역공간상, 및, 상기 투영법에 있어서 상기 측정 필름을 이용하지 않고 얻은 배경 화상을 푸리에 변환하여 얻은 배경 역공간상이란, 각각, 투영 화상 및 배경 화상으로부터 푸리에 변환에 의해 얻은 것인 한 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면,In the film inverse spatial image obtained by Fourier transforming a projected image obtained by a projection method using the optical film included in the optical laminate of the present invention or the optical laminate of the present invention as a measurement film, and in the projection method described above, The background inverse spatial image obtained by Fourier transforming a background image obtained without using a measurement film is not particularly limited as long as it is obtained by Fourier transform from a projected image and a background image, for example.

(1) 광원으로부터의 광을 측정 필름(광학 필름 또는 광학 적층체)에 조사하고, 측정 필름을 투과한 광을 투영면에 투영하는 투영법에 의해 투영 화상을 얻는 공정,(1) A step of obtaining a projected image by a projection method in which light from a light source is irradiated onto a measurement film (optical film or optical laminate) and the light transmitted through the measurement film is projected onto a projection surface,

(2) 공정 (1)의 투영법에 있어서 측정 필름을 이용하지 않고, 광원으로부터의 광을 투영면에 투영하여, 배경 화상을 얻는 공정,(2) A step of obtaining a background image by projecting light from a light source onto a projection surface without using a measurement film in the projection method of step (1),

및,And,

(3) 공정 (1)에서 얻은 투영 화상 및 공정 (2)에서 얻은 배경 화상을 각각 그레이 스케일화에 의해 수치화하고, 수치화된 화상 데이터를 푸리에 변환하여 역공간상(필름 역공간상 및 배경 역공간상)을 얻는 공정에 의해 얻을 수 있다. 상기 역공간상을 이용하여 측정 필름의 면 품질을 평가함으로써, 불균일의 농담과 주기를 해석할 수 있다.(3) The projected image obtained in step (1) and the background image obtained in step (2) are numerically quantified by gray-scale, respectively, and Fourier transform the digitized image data to inverse space (film inverse space and background inverse space) Phase). By evaluating the surface quality of the measurement film using the inverse spatial image, it is possible to analyze the unevenness and the period of irregularity.

측정 필름의 투영법에 의한 투영 화상으로부터 푸리에 변환에 의해 역공간상을 얻는 방법은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 평가 공정에 대하여 후술하는 방법을 이용해도 된다.The method for obtaining an inverse spatial image by Fourier transform from the projected image by the projection method of the measurement film is not particularly limited, but, for example, a method described later for the evaluation process may be used.

이어서, (4) 투영 화상의 역공간상에 있어서 직교하는 2방향의 각 라인 프로파일로부터, 배경 화상의 역공간상에 있어서 직교하는 상기 2방향의 각 라인 프로파일을 각각 빼서, 블랭크 보정된 라인 프로파일을 얻는 공정, 및, (5) 공정 (4)에서 얻은 블랭크 보정된 라인 프로파일의 최대 강도 Ymax(각각, Ymh 및 Ymv), 및 각 라인 프로파일에 있어서 최대 강도 Ymax(Ymh 및 Ymv)를 나타내는 주파수 Xmax(Xmh 및 Xmv)를 측정한다. 예를 들면, 역공간상의 중심을 지나는 수평 방향(h1 방향) 및 수직 방향(v1 방향)의 각각의 방향에 대하여 라인 프로파일을 작성하는 경우에 대하여 이하에 설명한다. 라인 프로파일은, 예를 들면 도 3에 나타나는 바와 같은, X축에 주파수, Y축에 강도를 나타내는 그래프로서 나타난다. 그리고, 수평 방향(h1 방향)의 라인 프로파일에 있어서의 최대 강도 Ymax를 Ymh1이라고 하고, 최대 강도 Ymh1을 나타내는 주파수로부터 블랭크 보정된 라인 프로파일에 있어서의 전체 주파수의 중앙값 Xcen을 뺀 값 Xmax를 Xmh1이라고 한다. 또한, 수직 방향(v1 방향)의 라인 프로파일에 있어서의 최대 강도 Ymax를 Ymv1이라고 하고, 최대 강도 Ymv1을 나타내는 주파수로부터 블랭크 보정된 라인 프로파일에 있어서의 전체 주파수의 중앙값 Xcen을 뺀 값 Xmax를 Xmv1이라고 한다. 또한, 상기 예에 있어서는, 공간상의 중심을 지나는 수평 방향(h1 방향) 및 수직 방향(v1 방향)을 직교하는 2방향으로서 선택하였지만, 당해 2방향(h 방향 및 v 방향)은 서로 직교하고 있으면 특별히 한정되지 않고, 중심을 지나지 않는 2방향이어도 되고, 수평 방향 및 수직 방향이 아니어도 된다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「블랭크 보정된 라인 프로파일」이란, 투영 화상의 역공간상에 있어서 직교하는 2방향의 각 라인 프로파일로부터, 배경 화상의 역공간상에 있어서 직교하는 상기 2방향의 각 라인 프로파일을 각각 빼서 얻은 라인 프로파일을 의미한다. 상기의 조작에 의해, 투영 화상의 역공간상에 있어서의 라인 프로파일의 베이스 라인을 보정할 수 있다.Subsequently, (4) each line profile in the two directions orthogonal in the inverse space of the background image is subtracted from each line profile in two directions orthogonal in the inverse space of the projected image, and the blank corrected line profile is obtained. obtaining process, and, (5) the maximum intensity of the blank, the corrected line profile obtained in step (4), Y max (respectively, Y mh and Y mv), and the maximum intensity in each of the line profiles Y max (Y mh and Y mv The frequency X max (X mh and X mv ) representing) is measured. For example, a case in which a line profile is created for each of the horizontal direction (h1 direction) and the vertical direction (v1 direction) passing through the center on the inverse space will be described below. The line profile is shown as a graph showing frequency on the X axis and intensity on the Y axis, as shown in FIG. 3, for example. Then, the maximum intensity Y max in the line profile in the horizontal direction (h1 direction) is referred to as Y mh1 , and the value X minus the median value X cen of the total frequency in the blank-corrected line profile from the frequency representing the maximum intensity Y mh1 Let max be X mh1 . In addition, the maximum intensity Y max in the line profile in the vertical direction (v1 direction) is referred to as Y mv1 , and the value X obtained by subtracting the median value X cen of the entire frequency in the blank-corrected line profile from the frequency representing the maximum intensity Y mv1 Let max be X mv1 . In the above example, the horizontal direction (h1 direction) and the vertical direction (v1 direction) passing through the center of the space were selected as two directions orthogonal, but the two directions (h direction and v direction) are particularly orthogonal to each other. It is not limited, and may be two directions not passing through the center, and may not be horizontal and vertical directions. In addition, in this specification, the "blank corrected line profile" means each line in the two directions orthogonal in the inverse space of the background image from each line profile in the two directions orthogonal in the inverse space of the projected image. It means the line profile obtained by subtracting each profile. By the above operation, the baseline of the line profile in the inverse space of the projected image can be corrected.

본 발명의 광학 적층체에 포함되는 광학 필름을 측정 필름으로서 이용하여 얻어지는 상기 Ymh 및 Ymv는, 모두 40 이하이다. Ymh 또는 Ymv가 40을 초과하는 경우, 광학 필름의 광학적 균질성이 충분하다고는 할 수 없으며, 광학 적층체의 광학적 균질성이 충분하지 않은 경우가 있다. 특히, 이와 같은 광학 필름을 포함하는 광학 적층체의 광학적 균질성이 화상 표시 장치에 있어서 사용하기에 충분하다고는 할 수 없고, 화상의 일그러짐 등을 충분히 저감할 수 없다. 광학 적층체의 광학적 균질성을 높이기 쉽고, 화상 표시 장치에 있어서 화상 시인성을 향상시키기 쉬운 관점에서, Ymh 및 Ymv는, 바람직하게는 35 이하, 보다 바람직하게는 32 이하, 더 바람직하게는 30 이하, 더 바람직하게는 28 이하, 특히 바람직하게는 26 이하이다. Ymh 및 Ymv는 작으면 작을수록 좋고, 그 하한은 특별히 한정되지 않으며 0 이상이면 되고, 통상은 1 이상이다. 본 발명의 광학 적층체를 측정 필름으로서 이용하여 얻어지는 상기 Ymh 및 Ymv에 대해서도, 상기 바람직한 기재가 마찬가지로 적합하다.The Y mh and Y mv obtained by using the optical film included in the optical laminate of the present invention as a measurement film are all 40 or less. When Y mh or Y mv exceeds 40, it cannot be said that the optical homogeneity of the optical film is sufficient, and the optical homogeneity of the optical laminate may not be sufficient. In particular, it cannot be said that the optical homogeneity of the optical laminate containing such an optical film is sufficient for use in an image display device, and it is not possible to sufficiently reduce image distortion and the like. Y mh and Y mv are preferably 35 or less, more preferably 32 or less, and even more preferably 30 or less from the viewpoint of easy to increase the optical homogeneity of the optical laminate and to improve image visibility in an image display device. , More preferably 28 or less, particularly preferably 26 or less. The smaller Y mh and Y mv , the better. The lower limit is not particularly limited, and may be 0 or more, and is usually 1 or more. About the said Y mh and Y mv obtained using the optical laminated body of this invention as a measurement film, the said preferable base material is likewise suitable.

본 발명의 광학 적층체에 포함되는 광학 필름을 측정 필름으로서 이용하여, 상기와 같이 하여 얻은 Ymh, Ymv, Xmh 및 Xmv는, 다음의 관계:Using the optical film included in the optical laminate of the present invention as a measurement film, Y mh , Y mv , X mh and X mv obtained as described above have the following relationship:

Figure pat00005
Figure pat00005

를 충족시킨다. (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값이 30을 초과하면, 광학적 균질성이 충분하지 않기 때문에 화면의 일그러짐 등이 발생하기 쉽다. (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값의 상한은, 광학적 균질성을 보다 높이기 쉬운 관점에서, 바람직하게는 25 이하, 보다 바람직하게는 22 이하, 더 바람직하게는 20 이하, 더 바람직하게는 19.5 이하, 더 바람직하게는 19 이하, 더 바람직하게는 18 이하, 더 바람직하게는 17 이하, 더 바람직하게는 16 이하, 더 바람직하게는 14 이하, 더 바람직하게는 13 이하, 특히 바람직하게는 9 이하이다. (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값은 작으면 작을수록 좋고, 그 하한은 특별히 한정되지 않고 0 이상이면 되고, 통상은 0.5 이상이다. 본 발명의 광학 적층체를 측정 필름으로서 이용하여 얻어지는 상기 Ymh, Ymv, Xmh 및 Xmv에 대해서도, 상기 바람직한 기재가 마찬가지로 적합하다.Meets. When the value of (Y mh +Y mv )/(X mh +X mv ) 1/2 exceeds 30, the optical homogeneity is not sufficient, so that screen distortion is likely to occur. The upper limit of the value of (Y mh +Y mv )/(X mh +X mv ) 1/2 is preferably 25 or less, more preferably 22 or less, and more preferably from the viewpoint of easily increasing the optical homogeneity. 20 or less, more preferably 19.5 or less, more preferably 19 or less, more preferably 18 or less, more preferably 17 or less, more preferably 16 or less, more preferably 14 or less, more preferably 13 Below, it is 9 or less especially preferably. The smaller the value of (Y mh +Y mv )/(X mh +X mv ) 1/2 , the better. The lower limit is not particularly limited and may be 0 or more, and is usually 0.5 or more. The above-described preferred substrate is likewise suitable for the above-mentioned Y mh , Y mv , X mh and X mv obtained by using the optical laminate of the present invention as a measurement film.

측정 필름으로서, 본 발명의 광학 적층체에 포함되는 광학 필름 또는 본 발명의 광학 적층체를 이용하여, 상기와 같이 하여 얻은 블랭크 보정된 라인 프로파일에 있어서의 전체 주파수의 중앙값을 Xcen이라고 한다. 예를 들면 도 3에 나타나는 라인 프로파일에 있어서는, 전체 주파수가 90cm-1이고, 그 중앙값인 45cm-1이 Xcen이 된다. 여기서, Xcen과 상기와 같이 하여 얻은 Xmh 및 Xmv가, 다음의 관계:The median value of the total frequency in the blank-corrected line profile obtained as described above using the optical film included in the optical laminate of the present invention or the optical laminate of the present invention as the measurement film is X cen . For example, in the line profile shown in Fig. 3, the total frequency is 90 cm -1 , and the median value of 45 cm -1 is X cen . Here, X cen and X mh and X mv obtained as described above have the following relationship:

Figure pat00006
Figure pat00006

를 충족시키는 것이 바람직하다. 또한, 상기의 식 중, Xm은 Xmh 또는 Xmv를 나타내고, Xmh 및 Xmv의 모두가 상기 식을 충족시키는 것이 바람직하다. |Xm-Xcen|의 하한은, 보다 바람직하게는 0.5cm-1 이상, 더 바람직하게는 1.0cm-1 이상이다. 또한, |Xm-Xcen|의 상한은, 보다 바람직하게는 8.0cm-1 이하, 더 바람직하게는 6.0cm-1 이하이다. 불균일로서 시인되지 않는 광학적 균질성을 구비하는 것과, 생산성을 고려하면, 광학 필름 또는 광학 적층체에 있어서의 Xmh 및 Xmv가 상기 관계를 충족시키는 것이 바람직하다.It is desirable to meet. Further, in the above formula, X m represents X mh or X mv , and it is preferable that all of X mh and X mv satisfy the formula. The lower limit of |X m -X cen | is more preferably 0.5 cm -1 or more, and still more preferably 1.0 cm -1 or more. Moreover, the upper limit of |X m -X cen | is more preferably 8.0 cm -1 or less, and more preferably 6.0 cm -1 or less. It is preferable that X mh and X mv in the optical film or optical laminate satisfy the above relationship, having optical homogeneity not recognized as non-uniformity, and considering productivity.

본 발명의 광학 적층체의 적어도 일방의 면의 연필 경도는, 바람직하게는 H 이상, 보다 바람직하게는 2H 이상, 더 바람직하게는 3H 이상, 특히 바람직하게는 4H 이상이다. 광학 적층체의 적어도 일방의 면의 연필 경도가 상기의 경도 이상인 경우, 광학 적층체의 표면에 있어서의 긁힘 등을 방지하기 쉽다. 상기의 연필 경도는, 본 발명의 광학 적층체의 기능층(바람직하게는 하드 코팅층)을 가지는 면의 연필 경도인 것이 바람직하다. 또한, 연필 경도는, JIS K 5600-5-4:1999에 준거하여 측정할 수 있고, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.The pencil hardness of at least one side of the optical laminate of the present invention is preferably H or more, more preferably 2H or more, further preferably 3H or more, particularly preferably 4H or more. When the pencil hardness of at least one surface of the optical laminate is greater than or equal to the above hardness, it is easy to prevent scratches or the like on the surface of the optical laminate. It is preferable that the said pencil hardness is the pencil hardness of the surface which has the functional layer (preferably hard coating layer) of the optical laminated body of this invention. Note that the pencil hardness can be measured according to JIS K 5600-5-4:1999, for example, by the method described in Examples.

본 발명의 광학 적층체의 적어도 일방의 면의 표면 저항률은, 바람직하게는 1.0×1013Ω/sq 이하, 보다 바람직하게는 5.0×1012Ω/sq 이하, 더 바람직하게는 1.0×1012Ω/sq 이하이다. 표면 저항률이 상기의 상한 이하인 경우, 충분한 대전 방지 기능을 얻기 쉽다. 본 발명의 광학 적층체의 적어도 일방의 면의 표면 저항률은, 본 발명의 광학 적층체를 터치 패널과 조합하여 사용할 때에, 터치 패널의 조작성을 담보하기 쉬운 관점에서는, 바람직하게는 1.0×107Ω/sq 이상, 보다 바람직하게는 5.0×107Ω/sq 이상, 더 바람직하게는 1.0×108Ω/sq 이상이다. 상기의 표면 저항률은, 본 발명의 광학 적층체의 기능층(바람직하게는 대전 방지 기능층)을 가지는 면의 표면 저항률인 것이 바람직하다. 또한, 표면 저항률은, JIS K 6911에 준거하여 측정할 수 있고, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.The surface resistivity of at least one surface of the optical laminate of the present invention is preferably 1.0×10 13 Ω/sq or less, more preferably 5.0×10 12 Ω/sq or less, more preferably 1.0×10 12 Ω less than /sq. When the surface resistivity is less than or equal to the above upper limit, it is easy to obtain a sufficient antistatic function. The surface resistivity of at least one surface of the optical laminate of the present invention is preferably 1.0×10 7 Ω from the viewpoint of easy to secure the operability of the touch panel when the optical laminate of the present invention is used in combination with a touch panel. /sq or more, more preferably 5.0×10 7 Ω/sq or more, and still more preferably 1.0×10 8 Ω/sq or more. It is preferable that the said surface resistivity is the surface resistivity of the surface which has the functional layer (preferably an antistatic functional layer) of the optical laminated body of this invention. In addition, the surface resistivity can be measured according to JIS K 6911, for example, by the method described in Examples.

본 발명의 광학 적층체에 있어서, 기능층을 가지는 면으로부터 광을 입사한 경우의 광학 적층체의 반사율은, 바람직하게는 3.0% 이하, 보다 바람직하게는 2.0% 이하, 더 바람직하게는 1.0% 이하이다. 또한, 본 명세서에 있어서의 반사율은, 시감도 보정 반사율을 의미하고, 구체적으로는, 입사각 12도로 광을 입사하였을 때의 반사각 12도에 있어서의 파장 350~900㎚의 범위의 분광 반사율(즉 입사각 12도에 있어서의 정(正)반사율)을 JIS Z 8701의 2도 시야(C 광원)에 의해 시감도 보정한 반사율을 말한다. 반사율은, 분광 광도계 등을 이용하여 측정할 수 있다. 반사율의 측정에 있어서, 광을 입사시키는 기능층면과는 반대측의 면으로부터의 반사가 측정값에 영향을 미칠 가능성을 배제할 목적, 및, 광학 적층체의 휨을 방지하는 목적을 위해, 광학 적층체의, 광을 입사시키는 기능층면과는 반대측의 면을, 광학적으로 투명한 점착제를 이용하여 흑색판(흑색 아크릴판 등)에 첩합(貼合)한 시료를, 측정용 시료로서 이용한다.In the optical laminate of the present invention, the reflectance of the optical laminate when light is incident from the surface having the functional layer is preferably 3.0% or less, more preferably 2.0% or less, and even more preferably 1.0% or less to be. In addition, the reflectance in this specification means the visibility corrected reflectance, and specifically, the spectral reflectance in the range of the wavelength 350-900 nm at the 12-degree reflection angle when incident light is incident at 12 degrees (that is, the incident angle 12 Refers to the reflectance obtained by correcting the visibility with a 2-degree field of view (C light source) of JIS Z 8701 for positive reflectance in the figure. The reflectance can be measured using a spectrophotometer or the like. In the measurement of the reflectance, for the purpose of excluding the possibility that reflection from a surface opposite to the functional layer surface to which light enters affects the measured value, and for the purpose of preventing warping of the optical laminate, , A sample in which the surface opposite to the functional layer surface to which light is incident is bonded to a black plate (such as a black acrylic plate) using an optically transparent adhesive is used as a sample for measurement.

본 발명의 광학 적층체의 황색도(YI값)는, 바람직하게는 3.0 이하, 보다 바람직하게는 2.7 이하, 더 바람직하게는 2.5 이하, 특히 바람직하게는 2.0 이하이다. 광학 적층체의 황색도가 상기의 상한 이하이면 투명성을 향상시키기 쉽고, 예를 들면 표시 장치의 전면판에 사용한 경우에 시인성을 높이기 쉽다. 황색도는, 통상 -5 이상, 바람직하게는 -2 이상, 보다 바람직하게는 0 이상, 더 바람직하게는 0.3 이상, 더 바람직하게는 0.5 이상, 특히 바람직하게는 0.7 이상이다. 황색도(YI)는, JIS K 7373:2006에 준거하여, 자외가시근적외 분광광도계를 이용하여 300~800㎚의 광에 대한 투과율 측정을 행하고, 3자극값(X, Y, Z)을 구하여, YI=100×(1.2769X-1.0592Z)/Y의 식에 의거하여 산출할 수 있다.The yellowness (YI value) of the optical laminate of the present invention is preferably 3.0 or less, more preferably 2.7 or less, more preferably 2.5 or less, and particularly preferably 2.0 or less. When the yellowness of the optical layered product is less than or equal to the above upper limit, it is easy to improve transparency, and for example, it is easy to increase visibility when used for the front plate of a display device. The yellowness is usually -5 or more, preferably -2 or more, more preferably 0 or more, more preferably 0.3 or more, still more preferably 0.5 or more, particularly preferably 0.7 or more. The yellowness (YI) was measured in accordance with JIS K 7373:2006 using a UV-visible infrared spectrophotometer and the transmittance of 300-800 nm was measured, and the tristimulus values (X, Y, Z) were obtained. , YI=100×(1.2769X-1.0592Z)/Y.

본 발명의 광학 적층체의 전광선 투과율은, 바람직하게는 80% 이상, 보다 바람직하게는 85% 이상, 더 바람직하게는 90% 이상이다. 전광선 투과율이 상기의 하한 이상이면, 광학 적층체를 화상 표시 장치에 조립하였을 때에 시인성을 높이기 쉽다. 본 발명의 광학 적층체는, 광학적 균질성이 높고, 높은 투과율을 나타내므로, 예를 들면, 투과율이 낮은 필름을 이용한 경우에 비해, 일정한 밝기를 얻기 위해 필요한 표시 소자 등의 발광 강도를 억제하는 것이 가능해진다. 이 때문에, 소비 전력을 삭감할 수 있다. 예를 들면, 본 발명의 광학 적층체를 표시 장치에 조립하는 경우, 백라이트의 광량을 줄여도 밝은 표시를 얻을 수 있는 경향이 있어, 에너지의 절약에 공헌할 수 있다. 전광선 투과율의 상한은, 통상 100% 이하이다. 또한, 전광선 투과율은, 예를 들면 JIS K 7361-1:1997에 준거하여 헤이즈 컴퓨터를 이용하여 측정할 수 있다. 전광선 투과율은, 후술하는 광학 적층체의 두께의 범위에 있어서의 전광선 투과율이어도 된다.The total light transmittance of the optical laminate of the present invention is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and even more preferably 90% or more. When the total light transmittance is equal to or greater than the above lower limit, visibility is easily enhanced when the optical laminate is assembled to an image display device. Since the optical layered product of the present invention has high optical homogeneity and exhibits high transmittance, it is possible to suppress luminescence intensity of display elements and the like required to obtain a constant brightness, for example, when using a film with low transmittance. Becomes For this reason, power consumption can be reduced. For example, when the optical laminate of the present invention is assembled to a display device, a bright display tends to be obtained even if the amount of light of the backlight is reduced, which can contribute to energy saving. The upper limit of the total light transmittance is usually 100% or less. In addition, the total light transmittance can be measured using a haze computer according to JIS K 7361-1:1997, for example. The total light transmittance may be the total light transmittance in the range of the thickness of the optical laminate to be described later.

본 발명의 광학 적층체의 헤이즈는, 바람직하게는 3.0% 이하, 보다 바람직하게는 2.0% 이하, 더 바람직하게는 1.0% 이하, 보다 더 바람직하게는 0.5% 이하, 특히 바람직하게는 0.3% 이하이다. 광학 적층체의 헤이즈가 상기의 상한 이하이면 투명성이 양호해져, 예를 들면 화상 표시 장치의 전면판에 사용한 경우에, 화상의 시인성을 높이기 쉽다. 또한 헤이즈의 하한은 통상 0.01% 이상이다. 또한, 헤이즈는, JIS K 7136:2000에 준거하여 헤이즈 컴퓨터를 이용하여 측정할 수 있다.The haze of the optical laminate of the present invention is preferably 3.0% or less, more preferably 2.0% or less, more preferably 1.0% or less, even more preferably 0.5% or less, particularly preferably 0.3% or less. . When the haze of the optical layered product is less than or equal to the above upper limit, the transparency becomes good, and when used in the front plate of an image display device, for example, it is easy to increase the visibility of the image. In addition, the lower limit of haze is usually 0.01% or more. In addition, haze can be measured using a haze computer according to JIS K 7136:2000.

본 발명의 광학 적층체의 두께는, 용도에 따라 적절히 조정하면 되지만, 바람직하게는 25㎛ 이상, 보다 바람직하게는 27㎛ 이상, 더 바람직하게는 30㎛ 이상이며, 바람직하게는 100㎛ 이하, 보다 바람직하게는 90㎛ 이하, 더 바람직하게는 85㎛ 이하이다. 광학 적층체의 두께는, 막후계 등으로 측정할 수 있고, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.The thickness of the optical laminate of the present invention may be appropriately adjusted depending on the application, but is preferably 25 µm or more, more preferably 27 µm or more, still more preferably 30 µm or more, and preferably 100 µm or less, more It is preferably 90 µm or less, and more preferably 85 µm or less. The thickness of the optical laminate can be measured by a film thickness meter or the like, for example, by the method described in Examples.

본 발명의 광학 적층체는, 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지를 포함하는 광학 필름과, 당해 광학 필름의 적어도 편면에 적층된 기능층을 가진다. Ymh 등에 관한 상기 특징을 가지는 균질성이 높은 광학 필름을 제조하기 쉬운 관점, 및/또는, 상기 특징을 가지는 균질성이 높은 광학 적층체를 제조하기 쉬운 관점에서는, 본 발명의 광학 적층체에 있어서의 광학 필름은, 바람직하게는 캐스트 필름이다. 본 명세서에 있어서, 캐스트 필름이란, 예를 들면, 상기 수지를 포함하는 용액, 분산액, 또는 용융물을, 적당한 지지체 상에 유연, 도포 등 하여, 가열, 냉각, 건조 등에 의해 도막화시켜, 필요에 따라 당해 도막을 당해 지지체로부터 박리 하여 얻어지는 필름을 나타낸다. 이와 같이 하여 얻은 필름은, 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지를 적어도 함유하고, 경우에 따라 미량의 용매를 함유한다.The optical laminate of the present invention has an optical film comprising a polyimide-based resin and/or a polyamide-based resin, and a functional layer laminated on at least one side of the optical film. From the viewpoint of easy to produce an optical film having high homogeneity having the above characteristics with respect to Y mh or the like, and/or from the viewpoint of easy to produce an optical laminate with high properties having the above characteristics, optical in the optical laminate of the present invention The film is preferably a cast film. In the present specification, with the cast film, for example, a solution, dispersion, or melt containing the resin is cast, coated, or the like on a suitable support to form a film by heating, cooling, drying, or the like. The film obtained by peeling the said coating film from the said support body is shown. The film thus obtained contains at least a polyimide-based resin and/or a polyamide-based resin, and optionally contains a trace amount of a solvent.

본 발명의 광학 적층체에 있어서의 광학 필름은, 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지를 포함한다. 본 발명의 광학 적층체에 있어서, 광학 필름은, 1종류의 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지를 함유해도 되고, 2종 이상의 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지를 함유해도 된다.The optical film in the optical laminate of the present invention contains a polyimide-based resin and/or a polyamide-based resin. In the optical laminate of the present invention, the optical film may contain one type of polyimide-based resin or polyamide-based resin, or may contain two or more types of polyimide-based resin and/or polyamide-based resin.

<폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지><Polyimide resin and polyamide resin>

본 발명의 광학 적층체에 있어서, 광학 필름은, 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지를 포함한다. 폴리이미드계 수지란, 이미드기를 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 수지(이하, 폴리이미드 수지라고 하는 경우가 있음), 및 이미드기 및 아미드기의 양방을 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 수지(이하, 폴리아미드이미드 수지라고 하는 경우가 있음)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지를 나타낸다. 또한, 폴리아미드계 수지란, 아미드기를 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 수지를 나타낸다.In the optical layered product of the present invention, the optical film contains a polyimide-based resin and/or a polyamide-based resin. The polyimide-based resin is a resin containing a repeating structural unit containing an imide group (hereinafter sometimes referred to as a polyimide resin), and a resin containing a repeating structural unit containing both imide groups and amide groups ( Hereinafter, at least one resin selected from the group consisting of polyamideimide resins may be used. In addition, the polyamide-based resin refers to a resin containing a repeating structural unit containing an amide group.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드계 수지는, 식 (1)로 나타나는 구성 단위를 가지는 폴리이미드 수지이거나, 또는, 식 (1)로 나타나는 구성 단위 및 식 (2)로 나타나는 구성 단위를 가지는 폴리아미드이미드 수지인 것이 바람직하다. 또한, 폴리아미드계 수지는, 식 (2)로 나타나는 구성 단위를 가지는 폴리아미드 수지인 것이 바람직하다. 이하에 있어서 식 (1) 및 식 (2)에 대하여 설명하지만, 식 (1)에 대한 설명은, 폴리이미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지의 양방에 관한 것이며, 식 (2)에 관한 설명은, 폴리아미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지의 양방에 관한 것이다.In one preferred embodiment of the present invention, the polyimide-based resin is a polyimide resin having a structural unit represented by formula (1), or a structural unit represented by formula (1) and a structural unit represented by formula (2) It is preferable that it is a polyamideimide resin having a. Moreover, it is preferable that a polyamide resin is a polyamide resin which has a structural unit represented by Formula (2). Hereinafter, Formula (1) and Formula (2) are described, but the description of Formula (1) relates to both the polyimide resin and the polyamideimide resin, and the description of Formula (2) is poly It relates to both an amide resin and a polyamideimide resin.

Figure pat00007
Figure pat00007

식 (1)로 나타나는 구성 단위는, 테트라카르본산 화합물과 디아민 화합물이 반응하여 형성되는 구성 단위이며, 식 (2)로 나타나는 구성 단위는, 디카르본산 화합물과 디아민 화합물이 반응하여 형성되는 구성 단위이다.The structural unit represented by Formula (1) is a structural unit formed by the reaction of a tetracarboxylic acid compound and a diamine compound, and the structural unit represented by Formula (2) is a structural unit formed by a reaction between a dicarboxylic acid compound and a diamine compound. to be.

식 (2)에 있어서, Z는, 2가의 유기기이며, 바람직하게는 탄소수 1~8의 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄소수 1~8의 탄화수소기로 치환되어 있어도 되고, 탄소수 4~40의 2가의 유기기이며, 보다 바람직하게는 탄소수 1~8의 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄소수 1~8의 탄화수소기로 치환되어 있어도 되고, 환상(環狀) 구조를 가지는 탄소수 4~40의 2가의 유기기이다. 환상 구조로서는, 지환, 방향환, 헤테로환 구조를 들 수 있다. Z의 유기기로서, 후술하는 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 및 식 (29)로 나타나는 기의 결합손 중, 인접하지 않는 2개가 수소 원자로 치환된 기 및 탄소수 6 이하의 2가의 쇄식 탄화수소기가 예시되고, Z의 헤테로환 구조로서는 티오펜환 골격을 가지는 기가 예시된다. 광학 필름의 황색도를 억제(YI값을 저감)하기 쉬운 관점에서, 식 (20)~식 (27)로 나타나는 기, 및, 티오펜환 골격을 가지는 기가 바람직하다.In formula (2), Z is a divalent organic group, and preferably may be substituted with a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms substituted with fluorine, and a divalent oil having 4 to 40 carbon atoms. It is a device, and more preferably, it may be substituted with a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms substituted with fluorine, and is a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms having a cyclic structure. Examples of the cyclic structure include alicyclic, aromatic, and heterocyclic structures. As an organic group of Z, the following formulas (20), (21), (22), (23), (24), (25), (26), (27), and ( 28) and a group represented by formula (29), a group in which two nonadjacent groups are substituted with hydrogen atoms and a divalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms are exemplified, and the heterocyclic structure of Z has a thiophene ring skeleton. Gi is illustrated. From the viewpoint of easily suppressing the yellowness of the optical film (reducing the YI value), groups represented by formulas (20) to (27) and groups having a thiophene ring skeleton are preferred.

본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리아미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지는, 복수 종의 Z를 포함할 수 있고, 복수 종의 Z는, 서로 동일해도 상이해도 된다. 특히, 광학 필름의 표면 경도를 높이기 쉬운 관점 및 광학 특성을 향상시키기 쉬운 관점에서, Z의 적어도 일부가, 식 (3)In one embodiment of the present invention, the polyamide resin and the polyamideimide resin may contain multiple types of Z, and the multiple types of Z may be the same or different from each other. Particularly, from the viewpoint of easy to increase the surface hardness of the optical film and the viewpoint of easy to improve the optical properties, at least a part of Z is expressed by the formula (3)

Figure pat00008
Figure pat00008

[식 (3) 중, R1~R8은, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, R1~R8에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며,[In the formula (3), R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and R 1 to R The hydrogen atoms contained in 8 may be each independently substituted with a halogen atom,

A는, 서로 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -N(R9)-를 나타내고, R9는 수소 원자, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~12의 1가의 탄화수소기를 나타내고,A is, independently of each other, a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -S-, -CO- or -N(R 9 )-, R 9 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom,

m은 0~4의 정수이며,m is an integer from 0 to 4,

*은 결합손을 나타냄]* Represents a bonding hand]

으로 나타나는 것이 바람직하다.It is preferred to appear.

식 (3)에 있어서, A는, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -N(R9)-을 나타내고, 광학 필름의 내굴곡성의 관점에서, 바람직하게는 -O- 또는 -S-를 나타내며, 보다 바람직하게는 -O-를 나타낸다.In formula (3), A is a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C( CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -S-, -CO- or -N(R 9 )-, and from the viewpoint of bending resistance of the optical film, preferably -O- or -S- , More preferably -O-.

R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8은, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1~6의 알킬기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 2-메틸-부틸기, 3-메틸부틸기, 2-에틸-프로필기, n-헥실기 등을 들 수 있다. 탄소수 1~6의 알콕시기로서는, 예를 들면 메톡시기, 에톡시기, 프로필옥시기, 이소프로필옥시기, 부톡시기, 이소부톡시기, tert-부톡시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기, 시클로헥실옥시기 등을 들 수 있다. 탄소수 6~12의 아릴기로서는, 예를 들면 페닐기, 톨릴기, 크실릴기, 나프틸기, 비페닐기 등을 들 수 있다. 광학 필름의 표면 경도 및 유연성의 관점에서, R1~R8은, 서로 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~3의 알킬기를 나타내며, 더 바람직하게는 수소 원자를 나타낸다. 여기서, R1~R8에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다.R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are, independently of each other, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or 6 carbon atoms. -12 represents an aryl group. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group and 2-methyl-butyl group. , 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl group and the like. Examples of the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms include, for example, methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, isopropyloxy group, butoxy group, isobutoxy group, tert-butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, cyclohexyloxy And timing. Examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a naphthyl group, and a biphenyl group. From the viewpoint of the surface hardness and flexibility of the optical film, R 1 to R 8 independently of each other preferably represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. And more preferably a hydrogen atom. Here, the hydrogen atoms contained in R 1 to R 8 may be independently substituted with halogen atoms.

R9는 수소 원자, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~12의 1가의 탄화수소기를 나타낸다. 탄소수 1~12의 1가의 탄화수소기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 2-메틸-부틸기, 3-메틸부틸기, 2-에틸-프로필기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, tert-옥틸기, n-노닐기, n-데실기 등을 들 수 있고, 이들은 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. 상기 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등을 들 수 있다. 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지는, 복수 종의 A를 포함할 수 있고, 복수 종의 A는, 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다.R 9 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, 2-methyl -Butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group and the like. And these may be substituted with halogen atoms. Examples of the halogen atom include fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, and iodine atom. The polyimide-based resin or polyamide-based resin may contain a plurality of types of A, and the plurality of types of A may be the same as or different from each other.

식 (3)에 있어서, m은, 0~4의 범위의 정수이며, m이 이 범위 내이면, 광학 필름의 내굴곡성이나 탄성률이 양호해지기 쉽다. 또한, 식 (3)에 있어서, m은, 바람직하게는 0~3의 범위의 정수, 보다 바람직하게는 0~2, 더 바람직하게는 0 또는 1, 특히 바람직하게는 0이다. m이 이 범위 내이면, 광학 필름의 내굴곡성이나 탄성률을 향상시키기 쉽다. 또한, Z는, 식 (3)으로 나타나는 구성 단위를 1종 또는 2종류 이상 포함하고 있어도 되고, 광학 필름의 탄성률 및 내굴곡성의 향상, 황색도(YI값) 저감의 관점에서, 특히 m의 값이 상이한 2종류 이상의 구성 단위, 바람직하게는 m의 값이 상이한 2종류의 구성 단위를 포함하고 있어도 된다. 그 경우, 광학 필름의 높은 탄성률, 내굴곡성 및 낮은 황색도(YI값)를 발현하기 쉬운 관점에서, 수지가 Z에 있어서, m이 0인 식 (3)으로 나타나는 구성 단위를 함유하는 것이 바람직하고, 당해 구성 단위에 더해 m이 1인 식 (3)으로 나타나는 구성 단위를 더 함유하는 것이 보다 바람직하다.In Formula (3), m is an integer in the range of 0 to 4, and when m is within this range, the flexural resistance and elastic modulus of the optical film tend to be good. In addition, in Formula (3), m is preferably an integer in the range of 0 to 3, more preferably 0 to 2, more preferably 0 or 1, particularly preferably 0. When m is in this range, it is easy to improve the bending resistance and elastic modulus of the optical film. In addition, Z may contain one or two or more types of structural units represented by formula (3), and in particular from the viewpoint of improving the elastic modulus and bending resistance of the optical film and reducing the yellowness (YI value), the value of m in particular. Two or more types of structural units different from each other, preferably two types of structural units having different values of m may be included. In that case, it is preferable that the resin contains a structural unit represented by formula (3) in which m is 0 in Z from the viewpoint of easily exhibiting high elastic modulus, bending resistance and low yellowness (YI value) of the optical film. , It is more preferable to further contain the structural unit represented by Formula (3) in which m is 1 in addition to the structural unit.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 수지는, 식 (3)으로 나타나는 구성 단위로서, m=0이고, 또한 R5~R8이 수소 원자인 구성 단위를 가진다. 보다 바람직한 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 수지는, 식 (3)으로 나타나는 구성 단위로서, m=0이고, 또한 R5~R8이 수소 원자인 구성 단위와, 식 (3'):In one preferred embodiment of the present invention, the resin has a structural unit represented by formula (3), m=0, and R 5 to R 8 are hydrogen atoms. In one more preferred embodiment of the present invention, the resin is a structural unit represented by formula (3), m=0, and further, R 5 to R 8 are hydrogen atoms and a structural unit (3'):

Figure pat00009
Figure pat00009

으로 나타나는 구성 단위를 가진다. 이 경우, 광학 필름의 표면 경도 및 내굴곡성을 향상시키기 쉬워, 황색도를 저감하기 쉽다.It has a structural unit represented by. In this case, it is easy to improve the surface hardness and bending resistance of the optical film, and it is easy to reduce the yellowness.

광학 적층체가, 폴리아미드이미드 수지를 포함하는 광학 필름을 가지는, 본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 폴리아미드이미드 수지의 식 (1)로 나타나는 구성 단위 및 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 합계를 100몰%로 하였을 때에, 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 비율은, 바람직하게는 20몰% 이상, 보다 바람직하게는 30몰% 이상, 더 바람직하게는 40몰% 이상, 특히 바람직하게는 50몰% 이상, 가장 바람직하게는 60몰% 이상이며, 바람직하게는 90몰% 이하, 보다 바람직하게는 85몰% 이하, 더 바람직하게는 80몰% 이하이다. 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 비율이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름의 표면 경도를 높이기 쉽고, 또한 내굴곡성이나 탄성률을 높이기 쉽다. 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 비율이 상기의 상한 이하이면, 식 (3) 유래의 아미드 결합간 수소 결합에 의한 수지 함유 바니시의 점도 상승을 억제하여, 필름의 가공성을 향상시키기 쉽다.In one preferred embodiment of the present invention, in which the optical laminate has an optical film containing a polyamideimide resin, the sum of the structural units represented by formula (1) and the structural units represented by formula (2) of the polyamideimide resin When is 100 mol%, the proportion of the structural unit represented by formula (3) is preferably 20 mol% or more, more preferably 30 mol% or more, still more preferably 40 mol% or more, particularly preferably 50 mol% or more, most preferably 60 mol% or more, preferably 90 mol% or less, more preferably 85 mol% or less, and even more preferably 80 mol% or less. When the proportion of the structural unit represented by formula (3) is equal to or greater than the above lower limit, it is easy to increase the surface hardness of the optical film and also to increase the bending resistance and elastic modulus. When the proportion of the structural unit represented by formula (3) is equal to or less than the above upper limit, the increase in viscosity of the resin-containing varnish due to hydrogen bonding between the amide bonds derived from formula (3) is suppressed, and it is easy to improve the processability of the film.

또한, 폴리아미드이미드 수지가 m=1~4인 식 (3)의 구성 단위를 가지는 경우, 폴리아미드이미드 수지의 식 (1)로 나타나는 구성 단위 및 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 합계를 100몰%로 하였을 때에, m이 1~4인 식 (3)의 구성 단위의 비율은, 바람직하게는 3몰% 이상, 보다 바람직하게는 5몰% 이상, 더 바람직하게는 7몰% 이상, 특히 바람직하게는 9몰% 이상이며, 바람직하게는 90몰% 이하, 보다 바람직하게는 70몰% 이하, 더 바람직하게는 50몰% 이하, 특히 바람직하게는 30몰% 이하이다. m이 1~4인 식 (3)의 구성 단위의 비율이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름의 표면 경도 및 내굴곡성을 높이기 쉽다. m이 1~4인 식 (3)의 구성 단위의 비율이 상기의 상한 이하이면, 식 (3) 유래의 아미드 결합간 수소 결합에 의한 수지 함유 바니시의 점도 상승을 억제하여, 필름의 가공성을 향상시키기 쉽다. 또한, 식 (1), 식 (2) 또는 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 함유량은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In addition, when the polyamideimide resin has a structural unit of formula (3) with m=1 to 4, the sum of the structural units represented by formula (1) and the structural unit represented by formula (2) of the polyamideimide resin is 100. The ratio of the structural units of the formula (3) in which m is 1 to 4, in terms of mol%, is preferably 3 mol% or more, more preferably 5 mol% or more, still more preferably 7 mol% or more, particularly Preferably it is 9 mol% or more, Preferably it is 90 mol% or less, More preferably, it is 70 mol% or less, More preferably, it is 50 mol% or less, Especially preferably, it is 30 mol% or less. When the ratio of the structural unit of the formula (3) in which m is 1 to 4 is more than the above lower limit, it is easy to increase the surface hardness and flex resistance of the optical film. When the proportion of the structural unit of formula (3) in which m is 1 to 4 is equal to or less than the above upper limit, the increase in viscosity of the resin-containing varnish due to hydrogen bonding between amide bonds derived from formula (3) is suppressed to improve the processability of the film. Easy to do Moreover, content of the structural unit represented by Formula (1), Formula (2), or Formula (3) can be measured using 1 H-NMR, for example, or can be calculated from the introduction ratio of a raw material.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 상기 폴리아미드 수지 또는 폴리아미드이미드 수지 중의 Z의, 바람직하게는 30몰% 이상, 보다 바람직하게는 40몰% 이상, 더 바람직하게는 45몰% 이상, 더 바람직하게는 50몰% 이상, 특히 바람직하게는 70몰% 이상이, m이 0~4인 식 (3)으로 나타나는 구성 단위이다. Z의 상기의 하한 이상이, m이 0~4인 식 (3)으로 나타나는 구성 단위이면, 광학 필름의 표면 경도를 높이기 쉬움과 함께, 내굴곡성 및 탄성률도 높이기 쉽다. 또한, 폴리아미드 수지 또는 폴리아미드이미드 수지 중의 Z의 100몰% 이하가, m이 0~4인 식 (3)으로 나타나는 구성 단위이면 된다. 또한, 수지 중의, m이 0~4인 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 비율은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In one preferred embodiment of the present invention, Z in the polyamide resin or the polyamideimide resin is preferably 30 mol% or more, more preferably 40 mol% or more, further preferably 45 mol% or more, and more Preferably, 50 mol% or more, particularly preferably 70 mol% or more, is a structural unit represented by formula (3) in which m is 0 to 4. When the above-mentioned lower limit of Z is a structural unit represented by formula (3) in which m is 0 to 4, it is easy to increase the surface hardness of the optical film, and also to easily increase the bending resistance and elastic modulus. Moreover, 100 mol% or less of Z in polyamide resin or polyamideimide resin should just be a structural unit represented by Formula (3) whose m is 0-4. Moreover, the ratio of the structural unit represented by Formula (3) in which m is 0-4 in resin can be measured using 1 H-NMR, for example, or can be calculated from the introduction ratio of a raw material.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 상기 폴리아미드 수지 또는 폴리아미드이미드 수지 중의 Z의, 바람직하게는 5몰% 이상, 보다 바람직하게는 8몰% 이상, 더 바람직하게는 10몰% 이상, 특히 바람직하게는 12몰% 이상이, m이 1~4인 식 (3)으로 나타난다. 폴리아미드이미드 수지의 Z의 상기의 하한 이상이, m이 1~4인 식 (3)으로 나타나면, 광학 필름의 표면 경도를 높이기 쉽고, 또한 내굴곡성 및 탄성률을 높이기 쉽다. 또한, Z의, 바람직하게는 90몰% 이하, 보다 바람직하게는 70몰% 이하, 더 바람직하게는 50몰% 이하, 특히 바람직하게는 30몰% 이하가, m이 1~4인 식 (3)으로 나타나는 것이 바람직하다. Z의 상기의 상한 이하가, m이 1~4인 식 (3)으로 나타나면, m이 1~4인 식 (3) 유래의 아미드 결합간 수소 결합에 의한 수지 함유 바니시의 점도 상승을 억제하여, 필름의 가공성을 향상시키기 쉽다. 또한 수지 중의 m이 1~4인 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 비율은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, Z in the polyamide resin or the polyamideimide resin is preferably 5 mol% or more, more preferably 8 mol% or more, further preferably 10 mol% or more, particularly Preferably, 12 mol% or more is represented by Formula (3) in which m is 1-4. When the above-mentioned lower limit of Z of the polyamideimide resin is expressed by the formula (3) in which m is 1 to 4, it is easy to increase the surface hardness of the optical film, and also to increase the bending resistance and elastic modulus. In addition, Z is preferably 90 mol% or less, more preferably 70 mol% or less, more preferably 50 mol% or less, particularly preferably 30 mol% or less, and m is 1 to 4 (3 ). When the above upper limit of Z is represented by formula (3) in which m is 1 to 4, the increase in viscosity of the resin-containing varnish by hydrogen bonding between amide bonds derived from formula (3) in which m is 1 to 4 is suppressed, It is easy to improve the processability of the film. Moreover, the ratio of the structural unit represented by Formula (3) in which m is 1-4 in resin can be measured using 1 H-NMR, for example, or can be calculated from the introduction ratio of a raw material.

식 (1) 및 식 (2)에 있어서, X는, 서로 독립적으로, 2가의 유기기를 나타내고, 바람직하게는 탄소수 4~40의 2가의 유기기, 보다 바람직하게는 환상 구조를 가지는 탄소수 4~40의 2가의 유기기를 나타낸다. 환상 구조로서는, 지환, 방향환, 헤테로환 구조를 들 수 있다. 상기 유기기는, 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기로 치환되어 있어도 되고, 그 경우, 탄화수소기 및 불소 치환된 탄화수소기의 탄소수는 바람직하게는 1~8이다. 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드 수지 또는 폴리아미드이미드 수지는, 복수 종의 X를 포함할 수 있고, 복수 종의 X는, 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다. X로서는, 식 (10), 식 (11), 식 (12), 식 (13), 식 (14), 식 (15), 식 (16), 식 (17) 및 식 (18)로 나타나는 기; 그들 식 (10)~식 (18)로 나타나는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기로 치환된 기; 및 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다.In Formulas (1) and (2), X, independently of each other, represents a divalent organic group, preferably a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, more preferably 4 to 40 carbon atoms having a cyclic structure. Represents a divalent organic group. Examples of the cyclic structure include alicyclic, aromatic, and heterocyclic structures. The organic group may have a hydrogen atom in the organic group substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, and in this case, the carbon number of the hydrocarbon group and the fluorine-substituted hydrocarbon group is preferably 1 to 8. In one embodiment of the present invention, the polyimide resin or the polyamideimide resin may contain plural kinds of X, and the plural kinds of X may be the same as or different from each other. As X, groups represented by formulas (10), (11), (12), (13), (14), (15), (16), (17) and (18) ; A group in which hydrogen atoms in the groups represented by the formulas (10) to (18) are substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; And chain hydrocarbon groups having 6 or less carbon atoms.

Figure pat00010
Figure pat00010

식 (10)~식 (18) 중, *은 결합손을 나타내고,In formulas (10) to (18), * represents a bonding hand,

V1, V2 및 V3은, 서로 독립적으로, 단결합, -O-, -S-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -CO- 또는 -N(Q)-를 나타낸다. 여기서, Q는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~12의 1가의 탄화수소기를 나타낸다. 탄소수 1~12의 1가의 탄화수소기로서는, R9에 대하여 상기에 서술한 기를 들 수 있다.V 1 , V 2 and V 3 are, independently of each other, a single bond, -O-, -S-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -CO- or -N(Q)-. Here, Q represents a C1-C12 monovalent hydrocarbon group which may be substituted with a halogen atom. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include the groups described above for R 9 .

하나의 예는, V1 및 V3이 단결합, -O- 또는 -S-이고, 또한, V2가 -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2- 또는 -SO2-이다. V1과 V2와의 각 환에 대한 결합 위치, 및, V2와 V3과의 각 환에 대한 결합 위치는, 서로 독립적으로, 바람직하게는 각 환에 대하여 메타 위치 또는 파라 위치이며, 보다 바람직하게는 파라 위치이다.In one example, V 1 and V 3 are a single bond, -O- or -S-, and V 2 is -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2- Or -SO 2 -. The bonding position for each ring of V 1 and V 2 and the bonding position for each ring of V 2 and V 3 are, independently of each other, preferably a meta position or a para position for each ring, more preferably It is para position.

식 (10)~식 (18)로 나타나는 기 중에서도, 광학 필름의 표면 경도 및 내굴곡성을 높이기 쉬운 관점에서, 식 (13), 식 (14), 식 (15), 식 (16) 및 식 (17)로 나타나는 기가 바람직하고, 식 (14), 식 (15) 및 식 (16)으로 나타나는 기가 보다 바람직하다. 또한, V1, V2 및 V3은, 광학 필름의 표면 경도 및 유연성을 높이기 쉬운 관점에서, 서로 독립적으로, 단결합, -O- 또는 -S-인 것이 바람직하고, 단결합 또는 -O-인 것이 보다 바람직하다.Among the groups represented by the formulas (10) to (18), from the viewpoint of easily increasing the surface hardness and bending resistance of the optical film, the formulas (13), (14), (15), (16), and ( The group represented by 17) is preferable, and the group represented by formula (14), formula (15) and formula (16) is more preferable. Further, V 1 , V 2 and V 3 are preferably a single bond, -O- or -S-, independently of each other, from the viewpoint of easy to increase the surface hardness and flexibility of the optical film, single bond or -O- It is more preferable.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 식 (1) 및 식 (2) 중의 복수의 X의 적어도 일부는, 식 (4):In one preferred embodiment of the present invention, at least a portion of the plurality of Xs in formulas (1) and (2) are represented by formula (4):

Figure pat00011
Figure pat00011

[식 (4) 중, R10~R17은, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, R10~R17에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며, *은 결합손을 나타냄][In the formula (4), R 10 to R 17 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and R 10 to R 17 Hydrogen atoms contained in, independently of each other, may be substituted with a halogen atom, * represents a bond;

로 나타나는 구성 단위이다. 식 (1) 및 식 (2) 중의 복수의 X의 적어도 일부가 식 (4)로 나타나는 기이면, 광학 필름의 표면 경도 및 투명성을 높이기 쉽다.It is a structural unit represented by. When at least a part of the plurality of Xs in the formulas (1) and (2) is a group represented by the formula (4), it is easy to increase the surface hardness and transparency of the optical film.

식 (4)에 있어서, R10, R11, R12, R13, R14, R15, R16 및 R17은, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기 또는 탄소수 6~12의 아릴기로서는, 식 (3)에 있어서의 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기 또는 탄소수 6~12의 아릴기로서 예시의 것을 들 수 있다. R10~R17은, 서로 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~3의 알킬기를 나타내며, 여기서, R10~R17에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. 할로겐 원자로서는, 예를 들면 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다. R10~R17은, 서로 독립적으로, 광학 필름의 표면 경도, 투명성 및 내굴곡성의 관점에서, 더 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이며, 특히 바람직하게는 R10, R12, R13, R14, R15 및 R16이 수소 원자, R11 및 R17이 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이며, 특히 바람직하게는 R11 및 R17이 메틸기 또는 트리플루오로메틸기이다.In Formula (4), R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 and R 17 are, independently of each other, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, 1 to 6 carbon atoms Represents an alkoxy group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms, the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms in the formula (3), the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or the carbon number 6 to 12 Examples of the aryl group include. R 10 to R 17 are, independently of each other, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, wherein R 10 to R 17 The hydrogen atoms contained may be independently substituted with halogen atoms. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. R 10 to R 17 are, independently of each other, more preferably a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoromethyl group, from the viewpoint of the surface hardness, transparency, and bending resistance of the optical film, particularly preferably Is R 10 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are hydrogen atoms, R 11 and R 17 are hydrogen atoms, methyl group, fluoro group, chloro group or trifluoromethyl group, particularly preferably R 11 and R 17 are a methyl group or a trifluoromethyl group.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 식 (4)로 나타나는 구성 단위는 식 (4'):In one preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by formula (4) is formula (4'):

Figure pat00012
Figure pat00012

로 나타나는 구성 단위이며, 즉, 복수의 X의 적어도 일부는, 식 (4')로 나타나는 구성 단위이다. 이 경우, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 용매에 대한 용해성을 높이고, 당해 수지를 함유하는 바니시의 보관 안정성을 향상시키기 쉬움과 함께, 당해 바니시의 점도를 저감하기 쉬워, 광학 필름의 가공성을 향상시키기 쉽다. 또한, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해, 광학 필름의 광학 특성을 향상시키기 쉽다.It is a structural unit represented by, ie, at least a part of a plurality of X is a structural unit represented by formula (4'). In this case, the solubility of the polyimide-based resin or the polyamide-based resin is increased by the skeleton containing the fluorine element, and it is easy to improve the storage stability of the varnish containing the resin, and the viscosity of the varnish is reduced. It is easy to do, and it is easy to improve the workability of the optical film. Moreover, it is easy to improve the optical properties of an optical film by the skeleton containing elemental fluorine.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 상기 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지 중의 X의, 바람직하게는 30몰% 이상, 보다 바람직하게는 50몰% 이상, 더 바람직하게는 70몰% 이상이 식 (4), 특히 식 (4')로 나타난다. 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지에 있어서의 상기 범위 내의 X가 식 (4), 특히 식 (4')로 나타나면, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 수지의 용매에 대한 용해성이 향상되기 쉬워, 당해 수지를 함유하는 바니시의 보관 안정성을 향상시키기 쉬움과 함께, 당해 바니시의 점도를 저감하기 쉬워, 광학 필름의 가공성을 향상시키기 쉽다. 또한, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해, 광학 필름의 광학 특성도 향상시키기 쉽다. 또한, 바람직하게는, 상기 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지 중의 X의 100몰% 이하가 식 (4), 특히 식 (4')로 나타난다. 상기 폴리아미드이미드 수지 중의 X는 식 (4), 특히 식 (4')여도 된다. 상기 수지 중의 X의 식 (4)로 나타나는 구성 단위의 비율은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, X in the polyimide-based resin or polyamide-based resin is preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, and even more preferably 70 mol% or more. It is represented by equation (4), especially equation (4'). When X in the above range in the polyimide-based resin or the polyamide-based resin is represented by formula (4), particularly formula (4'), the solubility of the resin in the solvent is easily improved by the skeleton containing the fluorine element, It is easy to improve the storage stability of the varnish containing the resin, and it is easy to reduce the viscosity of the varnish, and it is easy to improve the processability of the optical film. In addition, the optical properties of the optical film are also easily improved by the skeleton containing the fluorine element. Moreover, preferably, 100 mol% or less of X in the said polyimide-type resin or polyamide-type resin is represented by Formula (4), especially Formula (4'). X in the said polyamideimide resin may be Formula (4), especially Formula (4'). The ratio of the structural unit represented by the formula (4) of X in the resin can be measured, for example, using 1 H-NMR, or can be calculated from the introduction ratio of the raw material.

식 (1)에 있어서, Y는 4가의 유기기를 나타내고, 바람직하게는 탄소수 4~40의 4가의 유기기를 나타내며, 보다 바람직하게는 환상 구조를 가지는 탄소수 4~40의 4가의 유기기를 나타낸다. 환상 구조로서는, 지환, 방향환, 헤테로환 구조를 들 수 있다. 상기 유기기는, 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이며, 그 경우, 탄화수소기 및 불소 치환된 탄화수소기의 탄소수는 바람직하게는 1~8이다. 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드계 수지는, 복수 종의 Y를 포함할 수 있고, 복수 종의 Y는, 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다. Y로서는, 이하의 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 및 식 (29)로 나타나는 기; 그들 식 (20)~식 (29)로 나타나는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기로 치환된 기; 및 4가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다.In Formula (1), Y represents a tetravalent organic group, preferably a tetravalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, more preferably a tetravalent organic group having 4 to 40 carbon atoms having a cyclic structure. Examples of the cyclic structure include alicyclic, aromatic, and heterocyclic structures. The organic group is an organic group in which the hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, and in this case, the carbon number of the hydrocarbon group and the fluorine-substituted hydrocarbon group is preferably 1 to 8. In one embodiment of the present invention, the polyimide-based resin may contain a plurality of types of Y, and the plurality of types of Y may be the same as or different from each other. As Y, the following formulas (20), (21), (22), (23), (24), (25), (26), (27), (28) and Group represented by formula (29); A group in which hydrogen atoms in the groups represented by the formulas (20) to (29) are substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; And a tetravalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms.

Figure pat00013
Figure pat00013

식 (20)~식 (29) 중,In equation (20) to equation (29),

*은 결합손을 나타내고,* Represents a bonding hand,

W1은, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -Ar-, -SO2-, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH2-Ar-, -Ar-C(CH3)2-Ar- 또는 -Ar-SO2-Ar-을 나타낸다. Ar은, 수소 원자가 불소 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 6~20의 아릴렌기를 나타내고, 구체예로서는 페닐렌기를 들 수 있다.W 1 is a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -Ar-, -SO 2 -, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH 2 -Ar-, -Ar-C(CH 3 ) 2 -Ar- Or -Ar-SO 2 -Ar-. Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms in which the hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom, and a phenylene group is mentioned as a specific example.

식 (20)~식 (29)로 나타나는 기 중에서도, 광학 필름의 표면 경도 및 내굴곡성의 관점에서, 식 (26), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타나는 기가 바람직하고, 식 (26)으로 나타나는 기가 보다 바람직하다. 또한, W1은, 광학 필름의 표면 경도 및 내굴곡성을 높이기 쉽고, 황색도를 저감하기 쉬운 관점에서, 서로 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2- 또는 -C(CF3)2-인 것이 바람직하며, 단결합, -O-, -CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2- 또는 -C(CF3)2-인 것이 보다 바람직하고, 단결합, -C(CH3)2- 또는 -C(CF3)2-인 것이 더 바람직하다.Among the groups represented by formulas (20) to (29), from the viewpoint of surface hardness and flexural resistance of the optical film, groups represented by formulas (26), (28), or (29) are preferred, and formula (26) The group represented by is more preferable. In addition, W 1 is a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -independently of each other, from the viewpoint of easy to increase the surface hardness and bending resistance of the optical film and to reduce the yellowness. , -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -or -C(CF 3 ) 2 -is preferred, single bond, -O-, -CH 2 -, -CH(CH 3 )- , -C(CH 3 ) 2 -or -C(CF 3 ) 2 -is more preferable, and single bond, -C(CH 3 ) 2 -or -C(CF 3 ) 2 -is more preferable.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 식 (1) 중의 복수의 Y의 적어도 일부는, 식 (5):In one preferred embodiment of the present invention, at least a portion of the plurality of Y in formula (1) is represented by formula (5):

Figure pat00014
Figure pat00014

[식 (5) 중, R18~R25는, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, R18~R25에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며,[In the formula (5), R 18 to R 25 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and R 18 to R 25 The hydrogen atoms contained in may be independently substituted with halogen atoms,

*은 결합손을 나타냄]* Represents a bonding hand]

로 나타나는 구성 단위이다. 식 (1) 중의 복수의 Y의 적어도 일부가 식 (5)로 나타나는 기이면, 폴리이미드계 수지의 용매에 대한 용해성을 높여, 폴리이미드계 수지를 함유하는 바니시의 점도를 저감하기 쉬워, 광학 필름의 가공성을 향상시키기 쉽다. 또한, 광학 필름의 광학 특성을 향상시키기 쉽다.It is a structural unit represented by. If at least a part of the plurality of Ys in the formula (1) is a group represented by the formula (5), the solubility of the polyimide-based resin in the solvent is increased, and the viscosity of the varnish containing the polyimide-based resin is easy to reduce, and the optical film It is easy to improve the workability. In addition, it is easy to improve the optical properties of the optical film.

식 (5)에 있어서, R18, R19, R20, R21, R22, R23, R24 및 R25는, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기 및 탄소수 6~12의 아릴기로서는, 식 (3)에 있어서의 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기 또는 탄소수 6~12의 아릴기로서 상기에 예시의 것을 들 수 있다. R18~R25는, 서로 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~3의 알킬기를 나타내며, 여기서, R18~R25에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. 당해 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자를 들 수 있다. R18~R25는, 서로 독립적으로, 광학 필름의 표면 경도, 내굴곡성 및 투명성을 향상시키기 쉬운 관점에서, 더 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이며, 보다 더 바람직하게는 R18, R19, R20, R23, R24 및 R25가 수소 원자, R21 및 R22가 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이며, 특히 바람직하게는 R21 및 R22가 메틸기 또는 트리플루오로메틸기이다.In formula (5), R 18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 , R 23 , R 24 and R 25 are, independently of each other, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, 1 to 6 carbon atoms Represents an alkoxy group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms and the aryl group having 6 to 12 carbon atoms, the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms in the formula (3), the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or the carbon number having 6 to 12 carbon atoms. The thing mentioned above is mentioned as an aryl group of. R 18 to R 25 are, independently of each other, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, wherein R 18 to R 25 The hydrogen atoms contained may be independently substituted with halogen atoms. Examples of the halogen atom include fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom. R 18 to R 25 are, independently of each other, more preferably a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoromethyl group, from the viewpoint of improving the surface hardness, bending resistance, and transparency of the optical film, Even more preferably, R 18 , R 19 , R 20 , R 23 , R 24 and R 25 are hydrogen atoms, R 21 and R 22 are hydrogen atoms, methyl groups, fluoro groups, chloro groups or trifluoromethyl groups, Especially preferably, R 21 and R 22 are a methyl group or a trifluoromethyl group.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서는, 식 (5)로 나타나는 구성 단위는, 식 (5'):In one preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by formula (5) is represented by formula (5'):

Figure pat00015
Figure pat00015

로 나타나는 기이며, 즉, 복수의 Y의 적어도 일부는, 식 (5')로 나타나는 구성 단위이다. 이 경우, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 폴리이미드계 수지의 용매에 대한 용해성을 높여, 당해 수지를 함유하는 바니시의 보관 안정성을 향상시키기 쉬움과 함께, 당해 바니시의 점도를 저감하기 쉬워, 광학 필름의 가공성을 향상시키기 쉽다. 또한, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해, 광학 필름의 광학 특성을 향상시키기 쉽다.It is a group represented by, that is, at least a part of a plurality of Y is a structural unit represented by formula (5'). In this case, the solubility of the polyimide resin in the solvent is increased by the skeleton containing the fluorine element, and it is easy to improve the storage stability of the varnish containing the resin, and it is easy to reduce the viscosity of the varnish. It is easy to improve the workability. Moreover, it is easy to improve the optical properties of an optical film by the skeleton containing elemental fluorine.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드계 수지 중의 Y의, 바람직하게는 50몰% 이상, 보다 바람직하게는 60몰% 이상, 더 바람직하게는 70몰% 이상이, 식 (5), 특히 식 (5')로 나타난다. 폴리이미드계 수지에 있어서의 상기 범위 내의 Y가 식 (5), 특히 식 (5')로 나타나면, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 폴리이미드계 수지의 용매에 대한 용해성을 높이고, 당해 수지를 함유하는 바니시의 점도를 저감하기 쉬워, 광학 필름의 가공성을 향상시키기 쉽다. 또한, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해, 광학 필름의 광학 특성을 향상시키기 쉽다. 또한, 바람직하게는, 상기 폴리이미드계 수지 중의 Y의 100몰% 이하가 식 (5), 특히 식 (5')로 나타난다. 폴리이미드계 수지 중의 Y는 식 (5), 특히 식 (5')여도 된다. 폴리이미드계 수지 중의 Y의 식 (5)로 나타나는 구성 단위의 비율은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, Y in the polyimide-based resin, preferably 50 mol% or more, more preferably 60 mol% or more, and even more preferably 70 mol% or more, formula (5), In particular, it is represented by the formula (5'). When Y in the above range in the polyimide-based resin is represented by formula (5), particularly formula (5'), the solubility of the polyimide-based resin in the solvent is increased by the skeleton containing the fluorine element, and the resin is contained. It is easy to reduce the viscosity of the varnish to be made, and it is easy to improve the processability of the optical film. Moreover, it is easy to improve the optical properties of an optical film by the skeleton containing elemental fluorine. Moreover, preferably, 100 mol% or less of Y in the said polyimide resin is represented by Formula (5), especially Formula (5'). Y in the polyimide-based resin may be formula (5), particularly formula (5'). The ratio of the structural unit represented by the formula (5) of Y in the polyimide-based resin can be measured, for example, using 1 H-NMR, or can be calculated from the introduction ratio of the raw material.

폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지는, 식 (1) 및 식 (2)로 나타나는 구성 단위 외에, 식 (30)으로 나타나는 구성 단위 및/또는 식 (31)로 나타나는 구성 단위를 포함할 수 있다.The polyimide-based resin or polyamide-based resin may contain, in addition to the structural units represented by formulas (1) and (2), structural units represented by formula (30) and/or structural units represented by formula (31). .

Figure pat00016
Figure pat00016

식 (30)에 있어서, Y1은 4가의 유기기이며, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. Y1로서는, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 및 식 (29)로 나타나는 기, 그들 식 (20)~식 (29)로 나타나는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기로 치환된 기, 및 4가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다. 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지는, 복수 종의 Y1을 포함할 수 있고, 복수 종의 Y1은, 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다.In formula (30), Y 1 is a tetravalent organic group, and preferably an hydrogen group in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. As Y 1 , formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) and formula A group represented by (29), a group in which hydrogen atoms in the groups represented by formulas (20) to (29) are substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoromethyl group, and a tetravalent chain hydrocarbon having 6 or less carbon atoms Gi is illustrated. In one embodiment of the present invention, a polyimide resin or a polyamide-based resin may include a plurality of types of Y 1, Y 1 of a plurality of species, and may be same or different from each other.

식 (31)에 있어서, Y2는 3가의 유기기이며, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. Y2로서는, 상기의 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 및 식 (29)로 나타나는 기의 결합손 중 어느 하나가 수소 원자로 치환된 기, 및 3가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다. 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지는, 복수 종의 Y2를 포함할 수 있고, 복수 종의 Y2는, 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다.In Formula (31), Y 2 is a trivalent organic group, and preferably an hydrogen group in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. As Y 2 , the above formulas (20), (21), (22), (23), (24), (25), (26), (27), and (28) And a group in which any one of the bonds of the group represented by formula (29) is substituted with a hydrogen atom, and a trivalent carbon group having 6 or less chain hydrocarbon groups. In one embodiment of the present invention, a polyimide resin or a polyamide-based resin may include a plurality of types of Y 2, Y 2 is a plurality of types, and may be same or different from each other.

식 (30) 및 식 (31)에 있어서, X1 및 X2는, 서로 독립적으로, 2가의 유기기이며, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. X1 및 X2로서는, 상기의 식 (10), 식 (11), 식 (12), 식 (13), 식 (14), 식 (15), 식 (16), 식 (17) 및 식 (18)로 나타나는 기; 그들 식 (10)~식 (18)로 나타나는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기로 치환된 기; 및 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다.In Formulas (30) and (31), X 1 and X 2 are, independently of each other, a divalent organic group, preferably an oil in which the hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. It is a device. As X 1 and X 2 , the above formula (10), formula (11), formula (12), formula (13), formula (14), formula (15), formula (16), formula (17) and formula Group represented by (18); A group in which hydrogen atoms in the groups represented by the formulas (10) to (18) are substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; And chain hydrocarbon groups having 6 or less carbon atoms.

본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지는, 식 (1) 및/또는 식 (2)로 나타나는 구성 단위, 및 경우에 따라 식 (30) 및/또는 식 (31)로 나타나는 구성 단위로 이루어진다. 또한, 광학 필름의 광학 특성, 표면 경도 및 내굴곡성의 관점에서, 상기 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지에 있어서, 식 (1) 및 식 (2)로 나타나는 구성 단위는, 식 (1) 및 식 (2), 및 경우에 따라 식 (30) 및 식 (31)로 나타나는 전체 구성 단위에 의거하여, 바람직하게는 80몰% 이상, 보다 바람직하게는 90몰% 이상, 더 바람직하게는 95몰% 이상이다. 또한, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지에 있어서, 식 (1) 및 식 (2)로 나타나는 구성 단위는, 식 (1) 및 식 (2), 및 경우에 따라 식 (30) 및/또는 식 (31)로 나타나는 전체 구성 단위에 의거하여, 통상 100% 이하이다. 또한, 상기 비율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In one embodiment of the present invention, the polyimide-based resin or polyamide-based resin is a structural unit represented by formulas (1) and/or formula (2), and optionally formulas (30) and/or formulas (31) ). In addition, from the viewpoint of the optical properties, surface hardness and bending resistance of the optical film, in the polyimide-based resin or polyamide-based resin, the structural units represented by formulas (1) and (2) are represented by formula (1) and Based on Formula (2), and optionally the total structural units represented by Formulas (30) and (31), preferably 80 mol% or more, more preferably 90 mol% or more, and even more preferably 95 mol % Or more. In addition, in the polyimide-based resin or polyamide-based resin, the structural units represented by formulas (1) and (2) are represented by formulas (1) and (2), and, optionally, formulas (30) and/or Based on the total structural unit represented by formula (31), it is usually 100% or less. In addition, the said ratio can be measured using 1 H-NMR, for example, or can be calculated from the introduction ratio of a raw material.

본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 광학 필름 중에 있어서의 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지의 함유량은, 광학 필름 100질량부에 대하여, 바람직하게는 10질량부 이상, 보다 바람직하게는 30질량부 이상, 더 바람직하게는 50질량부 이상이며, 바람직하게는 99.5질량부 이하, 보다 바람직하게는 95질량부 이하이다. 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지의 함유량이 상기 범위 내이면, 광학 필름의 광학 특성 및 탄성률을 향상시키기 쉽다.In one embodiment of the present invention, the content of the polyimide-based resin and/or the polyamide-based resin in the optical film is preferably 10 parts by mass or more, more preferably 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the optical film It is at least 50 parts by mass, more preferably at least 50 parts by mass, preferably at least 99.5 parts by mass, and more preferably at most 95 parts by mass. When the content of the polyimide resin and/or the polyamide resin is within the above range, it is easy to improve the optical properties and elastic modulus of the optical film.

폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 중량 평균 분자량(Mw)은, 광학 필름의 표면 경도 및 내굴곡성을 높이기 쉬운 관점에서, 표준 폴리스티렌 환산에 의해, 바람직하게는 230,000 이상, 보다 바람직하게는 250,000 이상, 더 바람직하게는 270,000 이상, 특히 바람직하게는 300,000 이상이다. 또한, 폴리아미드계 수지 또는 폴리이미드계 수의 용매에 대한 용해성을 향상시키기 쉬움과 함께, 광학 필름의 연신성 및 가공성을 향상시키기 쉬운 관점에서, 당해 수지의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 1,000,000 이하, 보다 바람직하게는 800,000 이하, 더 바람직하게는 700,000 이하, 특히 바람직하게는 500,000 이하이다. 중량 평균 분자량은, 예를 들면 GPC 측정을 행하여, 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구할 수 있고, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 산출해도 된다.The weight average molecular weight (Mw) of the polyimide-based resin or polyamide-based resin is preferably 230,000 or more, more preferably 250,000 or more, in terms of standard polystyrene, from the viewpoint of easily increasing the surface hardness and flex resistance of the optical film. , More preferably 270,000 or more, particularly preferably 300,000 or more. In addition, from the viewpoint of easy to improve the solubility of the polyamide-based resin or polyimide-based solvent in a solvent, and easy to improve the stretchability and processability of the optical film, the weight average molecular weight of the resin is preferably 1,000,000 or less , More preferably 800,000 or less, more preferably 700,000 or less, particularly preferably 500,000 or less. The weight average molecular weight can be determined by, for example, GPC measurement, by standard polystyrene conversion, and may be calculated, for example, by the method described in Examples.

폴리아미드이미드 수지에 있어서, 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 함유량은, 식 (1)로 나타나는 구성 단위 1몰에 대하여, 바람직하게는 0.1몰 이상, 보다 바람직하게는 0.5몰 이상, 더 바람직하게는 1.0몰 이상, 특히 바람직하게는 1.5몰 이상이며, 바람직하게는 6.0몰 이하, 보다 바람직하게는 5.0몰 이하, 더 바람직하게는 4.5몰 이하이다. 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 함유량이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름의 표면 경도를 높이기 쉽다. 또한, 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 함유량이 상기의 상한 이하이면, 식 (2) 중의 아미드 결합간의 수소 결합에 의한 증점을 억제하여, 광학 필름의 가공성을 향상시키기 쉽다.In the polyamideimide resin, the content of the structural unit represented by the formula (2) is preferably 0.1 mol or more, more preferably 0.5 mol or more, and more preferably 1 mol of the structural unit represented by the formula (1). Is 1.0 mol or more, particularly preferably 1.5 mol or more, preferably 6.0 mol or less, more preferably 5.0 mol or less, and even more preferably 4.5 mol or less. When content of the structural unit represented by Formula (2) is more than the said lower limit, it is easy to raise the surface hardness of an optical film. Moreover, when content of the structural unit represented by Formula (2) is below the said upper limit, it is easy to suppress the thickening by hydrogen bonding between amide bonds in Formula (2), and to improve the workability of an optical film.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 본 발명의 광학 적층체에 있어서의 광학 필름에 포함되는 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지는, 예를 들면 상기의 함불소 치환기 등에 의해 도입할 수 있는, 불소 원자 등의 할로겐 원자를 포함해도 된다. 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지가 할로겐 원자를 포함하는 경우, 광학 필름의 탄성률을 향상시키고, 또한 황색도(YI값)를 저감시키기 쉽다. 광학 필름의 탄성률이 높으면, 당해 광학 필름을 예를 들면 플렉시블 표시 장치에 있어서 사용할 때에, 당해 필름에 있어서의 긁힘 및 주름 등의 발생을 억제하기 쉽다. 또한, 광학 필름의 황색도가 낮으면, 당해 광학 필름의 투명성 및 시인성을 향상시키기 쉬워진다. 할로겐 원자는, 바람직하게는 불소 원자이다. 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지에 불소 원자를 함유시키기 위해 바람직한 함불소 치환기로서는, 예를 들면 플루오로기 및 트리플루오로메틸기를 들 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the polyimide-based resin or polyamide-based resin contained in the optical film in the optical laminate of the present invention can be introduced by, for example, the above-described fluorine-containing substituents, You may contain halogen atoms, such as a fluorine atom. When the polyimide-based resin or the polyamide-based resin contains a halogen atom, it is easy to improve the elastic modulus of the optical film and reduce the yellowness (YI value). When the elastic modulus of the optical film is high, when the optical film is used in, for example, a flexible display device, it is easy to suppress the occurrence of scratches and wrinkles in the film. Moreover, when the yellowness of the optical film is low, it becomes easy to improve the transparency and visibility of the optical film. The halogen atom is preferably a fluorine atom. Preferred fluorine-containing substituents for containing a fluorine atom in the polyimide-based resin or polyamide-based resin include, for example, a fluoro group and a trifluoromethyl group.

폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지에 있어서의 할로겐 원자의 함유량은, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 질량을 기준으로 하여, 바람직하게는 1~40질량%, 보다 바람직하게는 5~40질량%, 더 바람직하게는 5~30질량%이다. 할로겐 원자의 함유량이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름의 탄성률을 보다 향상시켜, 흡수율을 낮추고, 황색도를 보다 저감하여, 투명성 및 시인성을 보다 향상시키기 쉽다. 할로겐 원자의 함유량이 상기의 상한 이하이면, 수지의 합성이 하기 쉬워진다.The content of the halogen atom in the polyimide-based resin or polyamide-based resin is preferably 1 to 40% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, based on the mass of the polyimide-based resin or polyamide-based resin. It is mass %, More preferably, it is 5-30 mass %. When the content of the halogen atom is greater than or equal to the above lower limit, the elastic modulus of the optical film is further improved, the absorption rate is lowered, the yellowness is further reduced, and transparency and visibility are more easily improved. When the content of the halogen atom is equal to or less than the above upper limit, the resin is easily synthesized.

폴리이미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지의 이미드화율은, 바람직하게는 90% 이상, 보다 바람직하게는 93% 이상, 더 바람직하게는 96% 이상이다. 광학 필름 및/또는 광학 적층체의 광학적 균질성을 높이기 쉬운 관점에서, 이미드화율이 상기의 하한 이상인 것이 바람직하다. 또한, 이미드화율의 상한은 100% 이하이다. 이미드화율은, 폴리이미드 수지 또는 폴리아미드이미드 수지 중의 테트라카르본산 화합물에 유래하는 구성 단위의 몰량의 2배의 값에 대한, 폴리이미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지 중의 이미드 결합의 몰량의 비율을 나타낸다. 또한, 폴리이미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지가 트리카르본산 화합물을 포함하는 경우에는, 폴리이미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지 중의 테트라카르본산 화합물에 유래하는 구성 단위의 몰량의 2배의 값과, 트리카르본산 화합물에 유래하는 구성 단위의 몰량과의 합계에 대한, 폴리이미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지 중의 이미드 결합의 몰량의 비율을 나타낸다. 또한, 이미드화율은, IR법, NMR법 등에 의해 구할 수 있고, 예를 들면, NMR법에 있어서는, 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.The imidation ratio of the polyimide resin and the polyamideimide resin is preferably 90% or more, more preferably 93% or more, and even more preferably 96% or more. From the viewpoint of easy to increase the optical homogeneity of the optical film and/or the optical laminate, it is preferable that the imidation ratio is more than the above lower limit. In addition, the upper limit of the imidation rate is 100% or less. The imidation ratio is the ratio of the molar amount of imide bonds in the polyimide resin and the polyamideimide resin to the value twice the molar amount of the structural unit derived from the tetracarboxylic acid compound in the polyimide resin or polyamideimide resin. Shows. Moreover, when a polyimide resin and a polyamideimide resin contain a tricarboxylic acid compound, the value of 2 times the molar amount of the structural unit derived from the tetracarboxylic acid compound in a polyimide resin and a polyamideimide resin, and tricar The ratio of the molar amount of imide bonds in the polyimide resin and the polyamideimide resin to the total with the molar amount of the structural unit derived from the present acid compound is shown. Moreover, the imidation rate can be calculated|required by IR method, NMR method, etc., For example, in the NMR method, it can measure by the method described in an Example.

폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지는, 시판품을 사용해도 된다. 폴리이미드 수지의 시판품으로서는, 예를 들면 미쯔비시가스화학(주)제 네오푸림(등록상표), 카와무라산업(주)제 KPI-MX300F 등을 들 수 있다.As the polyimide-based resin and the polyamide-based resin, commercial products may be used. As a commercial item of a polyimide resin, Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. Neopurim (trademark), Kawamura Industries Co., Ltd. KPI-MX300F etc. are mentioned, for example.

본 발명의 광학 적층체의 각종 특성에 관한 것으로서, 광학 적층체의 황색도, 표면 경도, 광학 특성, 내굴곡성, 유연성, 탄성률, 투명성, 시인성 및 흡수율 등의 특성은, 광학 필름의 황색도, 표면 경도, 광학 특성, 내굴곡성, 유연성, 탄성률, 투명성, 시인성 및 흡수율 등이 향상되는 경우에, 마찬가지로 향상시키는 것이 가능한 경향이 있다. 광학 적층체의, 기능층을 가지는 면의 표면 경도 및 연필 경도 등의 특성은, 기능층의 종류 등에 의한 영향을 받기 쉽다.As to various properties of the optical laminate of the present invention, the properties such as yellowness, surface hardness, optical properties, flex resistance, flexibility, elasticity, transparency, visibility and absorption of the optical laminate are the yellowness and surface of the optical film. When hardness, optical properties, flex resistance, flexibility, modulus of elasticity, transparency, visibility, and water absorption are improved, it tends to be possible to improve similarly. The properties of the optical laminate, such as surface hardness and pencil hardness, of the surface having the functional layer are susceptible to influence by the type of functional layer and the like.

<수지의 제조 방법><Method of manufacturing resin>

폴리이미드 수지는, 예를 들면, 테트라카르본산 화합물 및 디아민 화합물을 주된 원료로 하여 제조할 수 있고, 폴리아미드이미드 수지는, 예를 들면, 테트라카르본산 화합물, 디카르본산 화합물 및 디아민 화합물을 주된 원료로 하여 제조할 수 있으며, 폴리아미드 수지는, 예를 들면, 디카르본산 화합물 및 디아민 화합물을 주된 원료로 하여 제조할 수 있다. 여기서, 디카르본산 화합물은 적어도 식 (3")으로 나타나는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.The polyimide resin can be produced using, for example, a tetracarboxylic acid compound and a diamine compound as main raw materials, and the polyamideimide resin is mainly composed of, for example, a tetracarboxylic acid compound, a dicarboxylic acid compound, and a diamine compound. It can be produced as a raw material, and a polyamide resin can be produced using, for example, a dicarboxylic acid compound and a diamine compound as main raw materials. Here, it is preferable that the dicarboxylic acid compound contains at least a compound represented by formula (3").

Figure pat00017
Figure pat00017

[식 (3") 중, R1~R8은, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, R1~R8에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며,In the formula (3"), R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and R 1 to The hydrogen atoms contained in R 8 may be independently substituted with halogen atoms,

A는, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -N(R9)-을 나타내고,A is a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -,- SO 2 -, -S-, -CO- or -N(R 9 )-,

R9는 수소 원자, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~12의 1가의 탄화수소기를 나타내며,R 9 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom,

m은 0~4의 정수이고,m is an integer from 0 to 4,

R31 및 R32는, 서로 독립적으로, 히드록실기, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기 또는 염소 원자를 나타낸다.]R 31 and R 32 each independently represent a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, a sec-butoxy group, a tert-butoxy group or a chlorine atom. Shows.]

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 디카르본산 화합물은, m이 0인, 식 (3")으로 나타나는 화합물이다. 디카르본산 화합물로서, m이 0인 식 (3")으로 나타나는 화합물에 더해, A가 산소 원자인 식 (3")으로 나타나는 화합물을 사용하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 다른 바람직한 일 실시 형태에 있어서는, 디카르본산 화합물은, R31, R32가 염소 원자인, 식 (3")으로 나타나는 화합물이다. 또한, 디아민 화합물 대신에, 디이소시아네이트 화합물을 이용해도 된다.In one preferred embodiment of the present invention, the dicarboxylic acid compound is a compound represented by formula (3") in which m is 0. As a dicarboxylic acid compound, in a compound represented by formula (3") in which m is 0, In addition, it is more preferable to use a compound represented by formula (3") in which A is an oxygen atom. Further, in another preferred embodiment, the dicarboxylic acid compound is a formula in which R 31 and R 32 are chlorine atoms. (3"). Moreover, you may use the diisocyanate compound instead of the diamine compound.

수지의 제조에 사용되는 디아민 화합물로서는, 예를 들면, 지방족 디아민, 방향족 디아민 및 이들의 혼합물을 들 수 있다. 또한, 본 실시 형태에 있어서 「방향족 디아민」이란, 아미노기가 방향환에 직접 결합하고 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 지방족기 또는 그 밖의 치환기를 포함하고 있어도 된다. 이 방향환은 단환이어도 축합환이어도 되고, 벤젠환, 나프탈렌환, 안트라센환 및 플루오렌환 등이 예시되지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 이들 중에서도, 바람직하게는 벤젠환이다. 또한 「지방족 디아민」이란, 아미노기가 지방족기에 직접 결합하고 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 방향환이나 그 밖의 치환기를 포함하고 있어도 된다.As a diamine compound used for manufacture of resin, aliphatic diamine, aromatic diamine, and mixtures thereof are mentioned, for example. In addition, in this embodiment, "aromatic diamine" refers to the diamine in which the amino group is directly bonded to the aromatic ring, and may contain an aliphatic group or other substituents in a part of the structure. The aromatic ring may be a monocyclic ring or a condensed ring, and examples thereof include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, and a fluorene ring, but are not limited thereto. Among these, it is preferably a benzene ring. In addition, "aliphatic diamine" refers to a diamine in which the amino group is directly bonded to an aliphatic group, and an aromatic ring or other substituent may be included in a part of the structure.

지방족 디아민으로서는, 예를 들면, 헥사메틸렌디아민 등의 비환식 지방족 디아민, 및 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산, 1,4-비스(아미노메틸)시클로헥산, 노르보르난디아민 및 4,4'-디아미노디시클로헥실메탄 등의 환식 지방족 디아민 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.Examples of the aliphatic diamine include acyclic aliphatic diamines such as hexamethylenediamine, and 1,3-bis(aminomethyl)cyclohexane, 1,4-bis(aminomethyl)cyclohexane, norbornadiamine and 4, And cyclic aliphatic diamines such as 4'-diaminodicyclohexylmethane. These may be used alone or in combination of two or more.

방향족 디아민으로서는, 예를 들면 p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, 2,4-톨루엔디아민, m-크실릴렌디아민, p-크실릴렌디아민, 1,5-디아미노나프탈렌, 2,6-디아미노나프탈렌 등의, 방향환을 1개 가지는 방향족 디아민, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스 [4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB라고 기재하는 경우가 있음), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-메틸페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-클로로페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-플루오로페닐)플루오렌 등의, 방향환을 2개 이상 가지는 방향족 디아민을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Examples of aromatic diamines include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene, 2, Aromatic diamine having one aromatic ring, such as 6-diaminonaphthalene, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-dia Minodiphenylsulfone, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[ 4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2-bis [4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]propane , 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl (sometimes referred to as TFMB), 4,4'-bis(4- Aminophenoxy)biphenyl, 9,9-bis(4-aminophenyl)fluorene, 9,9-bis(4-amino-3-methylphenyl)fluorene, 9,9-bis(4-amino-3- And aromatic diamines having two or more aromatic rings, such as chlorophenyl)fluorene and 9,9-bis(4-amino-3-fluorophenyl)fluorene. These may be used alone or in combination of two or more.

방향족 디아민은, 바람직하게는 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐이고, 보다 바람직하게는 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐이다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The aromatic diamine is preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether. , 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl] Sulfone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy) )Phenyl]propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl (TFMB), 4,4'-bis(4-aminophenoxy C) biphenyl, more preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diamino Diphenylsulfone, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl] Propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl (TFMB), 4,4'-bis(4-aminophenoxy) ratio Phenyl. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 디아민 화합물 중에서도, 광학 필름의 고표면 경도, 고투명성, 고유연성, 고굴곡내성 및 저착색성의 관점에서는, 비페닐 구조를 가지는 방향족 디아민으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 바람직하다. 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐 및 4,4'-디아미노디페닐에테르로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 보다 바람직하고, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB)을 이용하는 것이 보다 더 바람직하다.Among the diamine compounds, it is preferable to use at least one selected from the group consisting of aromatic diamines having a biphenyl structure from the viewpoint of high surface hardness, high transparency, high flexibility, high flexural resistance, and low colorability of the optical film. Consisting of 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine, 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl and 4,4'-diaminodiphenyl ether It is more preferable to use at least one selected from the group, and more preferably to use 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl (TFMB).

수지의 제조에 이용되는 테트라카르본산 화합물로서는, 방향족 테트라카르본산 2무수물 등의 방향족 테트라카르본산 화합물; 및 지방족 테트라카르본산 2무수물 등의 지방족 테트라카르본산 화합물 등을 들 수 있다. 테트라카르본산 화합물은, 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 된다. 테트라카르본산 화합물은, 2무수물 외, 산클로라이드 화합물 등의 테트라카르본산 화합물 유연체(類緣體)여도 된다.Examples of the tetracarboxylic acid compound used in the production of the resin include aromatic tetracarboxylic acid compounds such as aromatic tetracarboxylic acid anhydride; And aliphatic tetracarboxylic acid compounds such as aliphatic tetracarboxylic acid anhydride. The tetracarboxylic acid compounds may be used alone or in combination of two or more. The tetracarboxylic acid compound may be a tetracarboxylic acid compound analog, such as an acid chloride compound, other than an anhydride.

방향족 테트라카르본산 2무수물의 구체예로서는, 비축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물, 단환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물 및 축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물을 들 수 있다. 비축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물로서는, 예를 들면 4,4'-옥시디프탈산 2무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르본산 2무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 2무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 2무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물(6FDA라고 기재하는 경우가 있음), 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 2무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 2무수물, 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 2무수물, 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 2무수물을 들 수 있다. 또한, 단환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물로서는, 예를 들면 1,2,4,5-벤젠테트라카르본산 2무수물을 들 수 있고, 축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물로서는, 예를 들면 2,3,6,7-나프탈렌테트라카르본산 2무수물을 들 수 있다.Specific examples of the aromatic tetracarboxylic acid anhydride include non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic acid anhydride, monocyclic aromatic tetracarboxylic acid anhydride, and condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic acid anhydride. As the non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic acid anhydride, for example, 4,4'-oxydiphthalic acid 2 anhydride, 3,3',4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid 2 anhydride, 2,2', 3,3'-benzophenone tetracarboxylic acid anhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic acid anhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic acid anhydride, 3 ,3',4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic acid anhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane 2 anhydride, 2,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl) Propane 2 anhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane 2 anhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid 2 anhydride (sometimes referred to as 6FDA) , 1,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane anhydride, 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane anhydride, 1,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl) )Ethane anhydride, 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane anhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane 2 anhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane 2 anhydride , 4,4'-(p-phenylenedioxy)diphthalic anhydride and 4,4'-(m-phenylenedioxy)diphthalic anhydride. Moreover, as a monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic dihydride is mentioned, for example, As a condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, for example And 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic acid anhydride.

이들 중에서도, 바람직하게는 4,4'-옥시디프탈산 2무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르본산 2무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 2무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 2무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물(6FDA), 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 2무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 2무수물, 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 2무수물 및 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 2무수물을 들 수 있고, 보다 바람직하게는 4,4'-옥시디프탈산 2무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물(6FDA), 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 2무수물 및 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 2무수물을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Among these, preferably 4,4'-oxydiphthalic acid 2 anhydride, 3,3',4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid 2 anhydride, 2,2',3,3'-benzophenone tetracarboxylic acid 2 anhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic acid 2 anhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic acid 2 anhydride, 3,3',4,4'-di Phenylsulfontetracarboxylic acid anhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane 2 anhydride, 2,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)propane 2 anhydride, 2,2-bis( 3,4-dicarboxyphenoxyphenyl)propane 2 anhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic acid 2 anhydride (6FDA), 1,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane 2 anhydride, 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane 2 anhydride, 1,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane 2 anhydride, 1,1-bis(3,4-di Carboxyphenyl)ethane anhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane 2 anhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane 2 anhydride, 4,4'-(p-phenylenedioxy)diphthalic acid 2 And anhydride and 4,4'-(m-phenylenedioxy)diphthalic anhydride, more preferably 4,4'-oxydiphthalic anhydride, 3,3',4,4'-biphenyl Tetracarboxylic acid anhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic acid anhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic acid anhydride (6FDA), bis(3,4 -Dicarboxyphenyl)methane 2 anhydride and 4,4'-(p-phenylenedioxy)diphthalic acid 2 anhydride. These may be used alone or in combination of two or more.

지방족 테트라카르본산 2무수물로서는, 환식 또는 비환식의 지방족 테트라카르본산 2무수물을 들 수 있다. 환식 지방족 테트라카르본산 2무수물이란, 지환식 탄화수소 구조를 가지는 테트라카르본산 2무수물이며, 그 구체예로서는, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르본산 2무수물, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르본산 2무수물, 1,2,3,4-시클로펜탄테트라카르본산 2무수물 등의 시클로알칸테트라카르본산 2무수물, 비시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르본산 2무수물, 디시클로헥실-3,3',4,4'-테트라카르본산 2무수물 및 이들의 위치 이성체를 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 비환식 지방족 테트라카르본산 2무수물의 구체예로서는, 1,2,3,4-부탄테트라카르본산 2무수물, 및 1,2,3,4-펜탄테트라카르본산 2무수물 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 또한, 환식 지방족 테트라카르본산 2무수물 및 비환식 지방족 테트라카르본산 2무수물을 조합하여 이용해도 된다.Examples of the aliphatic tetracarboxylic acid anhydride include cyclic or acyclic aliphatic tetracarboxylic acid anhydride. The cyclic aliphatic tetracarboxylic acid anhydride is a tetracarboxylic acid anhydride having an alicyclic hydrocarbon structure, and specific examples thereof include 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic acid anhydride, 1,2,3,4- Cycloalkanetetracarboxylic dianhydride, such as cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo[2.2.2]oct-7-ene-2,3, And 5,6-tetracarboxylic acid anhydride, dicyclohexyl-3,3',4,4'-tetracarboxylic acid anhydride and their positional isomers. These may be used alone or in combination of two or more. Specific examples of the acyclic aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid anhydride, 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic acid anhydride, and the like. Or can be used in combination of two or more. Moreover, you may use combining cyclic aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride and acyclic aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride.

상기 테트라카르본산 2무수물 중에서도, 광학 필름의 고표면 경도, 고투명성, 고유연성, 고굴곡내성, 및 저착색성의 관점에서, 4,4'-옥시디프탈산 2무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물, 및 이들의 혼합물이 바람직하고, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2무수물 및 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물, 및 이들의 혼합물이 보다 바람직하며, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물(6FDA)이 더 바람직하다.Among the above tetracarboxylic acid anhydrides, 4,4'-oxydiphthalic acid 2 anhydride, 3,3',4, from the viewpoint of high surface hardness, high transparency, high flexibility, high bending resistance, and low colorability of the optical film. 4'-benzophenone tetracarboxylic acid anhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic acid anhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic acid anhydride, 3,3 ',4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic acid anhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane 2 anhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic acid 2 Anhydrides, and mixtures thereof are preferred, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic acid anhydride and 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic acid 2 anhydride, and mixtures thereof 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic acid dianhydride (6FDA) is more preferable.

수지의 제조에 이용되는 디카르본산 화합물로서는, 바람직하게는 테레프탈산, 4,4'-옥시비스벤조산 또는 그들의 산클로라이드 화합물이 이용된다. 테레프탈산이나 4,4'-옥시비스벤조산 또는 그들의 산클로라이드 화합물에 더해, 다른 디카르본산 화합물이 이용되어도 된다. 다른 디카르본산 화합물로서는, 방향족 디카르본산, 지방족 디카르본산 및 그들의 유연의 산클로라이드 화합물, 산무수물 등을 들 수 있고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 된다. 구체예로서는, 이소프탈산; 나프탈렌디카르본산; 4,4'-비페닐디카르본산; 3,3'-비페닐디카르본산; 탄소수 8 이하인 쇄식 탄화수소의 디카르본산 화합물 및 2개의 벤조산이 단결합, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 혹은 페닐렌기로 연결된 화합물 및, 그들의 산클로라이드 화합물을 들 수 있다. 구체예로서는, 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드), 테레프탈로일클로라이드가 바람직하고, 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드)와 테레프탈로일클로라이드를 조합하여 이용하는 것이 더 바람직하다.As the dicarboxylic acid compound used in the production of the resin, terephthalic acid, 4,4'-oxybisbenzoic acid or an acid chloride compound thereof is preferably used. In addition to terephthalic acid, 4,4'-oxybisbenzoic acid or their acid chloride compounds, other dicarboxylic acid compounds may be used. As another dicarboxylic acid compound, aromatic dicarboxylic acid, aliphatic dicarboxylic acid, these flexible acid chloride compounds, acid anhydrides, etc. are mentioned, You may use it in combination of 2 or more type. As a specific example, Isophthalic acid; Naphthalenedicarboxylic acid; 4,4'-biphenyldicarboxylic acid; 3,3'-biphenyldicarboxylic acid; A dicarboxylic acid compound of a chain hydrocarbon having 8 or less carbon atoms and two benzoic acids are single-bonded, -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -or a phenylene group Compounds and their acid chloride compounds. As a specific example, 4,4'-oxybis (benzoyl chloride) and terephthaloyl chloride are preferable, and 4,4'-oxybis (benzoyl chloride) and terephthaloyl chloride are more preferably used in combination.

또한, 상기 폴리이미드계 수지는, 광학 적층체의 각종 물성을 손상시키지 않는 범위에서, 상기 테트라카르본산 화합물에 더해, 테트라카르본산 및 트리카르본산 및 그들의 무수물 및 유도체를 추가로 반응시킨 것이어도 된다.In addition, the polyimide-based resin may be obtained by further reacting tetracarboxylic acid and tricarboxylic acid and their anhydrides and derivatives in addition to the above tetracarboxylic acid compound in a range that does not impair various physical properties of the optical laminate. .

테트라카르본산으로서는, 상기 테트라카르본산 화합물의 무수물의 물 부가체를 들 수 있다.As a tetracarboxylic acid, the water adduct of the anhydride of the said tetracarboxylic acid compound is mentioned.

트리카르본산 화합물로서는, 방향족 트리카르본산, 지방족 트리카르본산 및 그들의 유연의 산클로라이드 화합물, 산무수물 등을 들 수 있고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 된다. 구체예로서는, 1,2,4-벤젠트리카르본산의 무수물; 2,3,6-나프탈렌트리카르본산-2,3-무수물; 프탈산 무수물과 벤조산이 단결합, -O-, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 혹은 페닐렌기로 연결된 화합물을 들 수 있다.Examples of the tricarboxylic acid compound include aromatic tricarboxylic acid, aliphatic tricarboxylic acid, and their flexible acid chloride compounds and acid anhydrides, and may be used in combination of two or more. Specific examples include anhydrides of 1,2,4-benzenetricarboxylic acid; 2,3,6-naphthalene tricarboxylic acid-2,3-anhydride; And a compound in which phthalic anhydride and benzoic acid are single-linked, -O-, -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -or a phenylene group.

수지의 제조에 있어서, 디아민 화합물, 테트라카르본산 화합물 및/또는 디카르본산 화합물의 사용량은, 원하는 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지의 각 구성 단위의 비율에 따라 적절히 선택할 수 있다.In the production of the resin, the amount of the diamine compound, the tetracarboxylic acid compound and/or the dicarboxylic acid compound used can be appropriately selected depending on the ratio of each structural unit of the desired polyimide-based resin and polyamide-based resin.

수지의 제조에 있어서, 디아민 화합물, 테트라카르본산 화합물 및 디카르본산 화합물의 반응 온도는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 5~350℃, 바람직하게는 20~200℃, 보다 바람직하게는 25~100℃이다. 반응 시간도 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 30분~10시간 정도이다. 필요에 따라, 불활성 분위기 또는 감압의 조건하에서 반응을 행해도 된다. 바람직한 양태에서는, 반응은, 상압 및/또는 불활성 가스 분위기하, 교반하면서 행한다. 또한, 반응은, 반응에 불활성인 용매 중에서 행하는 것이 바람직하다. 용매로서는, 반응에 영향을 주지 않는 한 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 물, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜, 에틸렌글리콜메틸에테르, 에틸렌글리콜부틸에테르, 1-메톡시-2-프로판올, 2-부톡시에탄올, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알코올계 용매; 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤, γ-발레로락톤, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 젖산 에틸 등의 에스테르계 용매; 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜탄온, 시클로헥산온, 2-헵탄온, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤계 용매; 펜탄, 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소 용매; 에틸시클로헥산 등의 지환식 탄화수소 용매; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소 용매; 아세토니트릴 등의 니트릴계 용매; 테트라히드로푸란 및 디메톡시에탄 등의 에테르계 용매; 클로로포름 및 클로로벤젠 등의 염소 함유 용매; N,N-디메틸아세트아미드(DMAc), N,N-디메틸포름아미드(DMF) 등의 아미드계 용매; 디메틸술폰, 디메틸술폭시드, 술포란 등의 함유황계 용매; 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등의 카보네이트계 용매; 및 그들의 조합(혼합 용매) 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 용해성의 관점에서, 아미드계 용매를 적합하게 사용할 수 있다.In the production of the resin, the reaction temperature of the diamine compound, the tetracarboxylic acid compound and the dicarboxylic acid compound is not particularly limited, for example, 5 to 350°C, preferably 20 to 200°C, more preferably 25 to 100°C. The reaction time is not particularly limited, but is, for example, about 30 minutes to 10 hours. If necessary, the reaction may be performed under an inert atmosphere or a reduced pressure condition. In a preferred aspect, the reaction is performed under normal pressure and/or inert gas atmosphere while stirring. Moreover, it is preferable to perform reaction in a solvent inert to reaction. The solvent is not particularly limited as long as it does not affect the reaction, but, for example, water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether, 1-methoxy- Alcohol solvents such as 2-propanol, 2-butoxyethanol and propylene glycol monomethyl ether; Ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, propylene glycol methyl ether acetate, and ethyl lactate; Ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone, and methyl isobutyl ketone; Aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane and heptane; Alicyclic hydrocarbon solvents such as ethylcyclohexane; Aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; Nitrile solvents such as acetonitrile; Ether-based solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane; Chlorine-containing solvents such as chloroform and chlorobenzene; Amide solvents such as N,N-dimethylacetamide (DMAc) and N,N-dimethylformamide (DMF); Sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide and sulfolane; Carbonate-based solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; And combinations thereof (mixed solvents). Among these, an amide solvent can be suitably used from the viewpoint of solubility.

폴리이미드계 수지의 제조에 있어서의 이미드화 공정에서는, 이미드화 촉매의 존재하에서, 이미드화할 수 있다. 이미드화 촉매로서는, 예를 들면 트리프로필아민, 디부틸프로필아민, 에틸디부틸아민 등의 지방족 아민; N-에틸피페리딘, N-프로필피페리딘, N-부틸피롤리딘, N-부틸피페리딘, 및 N-프로필헥사히드로아제핀 등의 지환식 아민(단환식); 아자비시클로[2.2.1]헵탄, 아자비시클로[3.2.1]옥탄, 아자비시클로[2.2.2]옥탄, 및 아자비시클로[3.2.2]노난 등의 지환식 아민(다환식); 및 피리딘, 2-메틸피리딘(2-피콜린), 3-메틸피리딘(3-피콜린), 4-메틸피리딘(4-피콜린), 2-에틸피리딘, 3-에틸피리딘, 4-에틸피리딘, 2,4-디메틸피리딘, 2,4,6-트리메틸피리딘, 3,4-시클로펜테노피리딘, 5,6,7,8-테트라히드로이소퀴놀린, 및 이소퀴놀린 등의 방향족 아민을 들 수 있다. 또한, 이미드화 반응을 촉진하기 쉬운 관점에서, 이미드화 촉매와 함께, 산무수물을 이용하는 것이 바람직하다. 산무수물은, 이미드화 반응에 이용되는 관용의 산무수물 등을 들 수 있고, 그 구체예로서는, 무수 아세트산, 무수 프로피온산, 무수 부티르산 등의 지방족 산무수물, 프탈산 등의 방향족 산무수물 등을 들 수 있다.In the imidation step in the production of a polyimide-based resin, imidization can be performed in the presence of an imidization catalyst. Examples of the imidization catalyst include aliphatic amines such as tripropylamine, dibutylpropylamine and ethyldibutylamine; Alicyclic amines (monocyclic) such as N-ethylpiperidine, N-propylpiperidine, N-butylpyrrolidine, N-butylpiperidine, and N-propylhexahydroazepine; Alicyclic amines (polycyclic) such as azabicyclo[2.2.1]heptane, azabicyclo[3.2.1]octane, azabicyclo[2.2.2]octane, and azabicyclo[3.2.2]nonane; And pyridine, 2-methylpyridine (2-picoline), 3-methylpyridine (3-picoline), 4-methylpyridine (4-picoline), 2-ethylpyridine, 3-ethylpyridine, 4-ethylpyridine And aromatic amines such as 2,4-dimethylpyridine, 2,4,6-trimethylpyridine, 3,4-cyclopentenopyridine, 5,6,7,8-tetrahydroisoquinoline, and isoquinoline. . Moreover, it is preferable to use an acid anhydride with an imidation catalyst from a viewpoint which is easy to accelerate an imidation reaction. Examples of the acid anhydride include conventional acid anhydrides used for imidization reaction, and specific examples thereof include aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, and butyric anhydride, and aromatic acid anhydrides such as phthalic acid.

폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지는, 관용의 방법, 예를 들면, 여과, 농축, 추출, 정석(晶析), 재결정, 칼럼 크로마토그래피 등의 분리 수단이나, 이들을 조합한 분리 수단에 의해 단리(單離)(분리 정제)해도 되고, 바람직한 양태에서는, 투명 폴리아미드이미드 수지를 포함하는 반응액에, 다량의 메탄올 등의 알코올을 더해, 수지를 석출시키고, 농축, 여과, 건조 등을 행함으로써, 단리할 수 있다.The polyimide-based resin and the polyamide-based resin are isolated by conventional methods such as separation means such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, and column chromatography, or separation means combining them. (I) (separate purification) may be carried out, and in a preferred embodiment, a large amount of alcohol such as methanol is added to the reaction solution containing the transparent polyamideimide resin to precipitate the resin, followed by concentration, filtration and drying. Can be isolated.

<필러><Filler>

본 발명의 광학 적층체에 있어서, 광학 필름은, 적어도 1종의 필러를 포함해도 된다. 필러로서는, 예를 들면 유기 입자, 무기 입자 등을 들 수 있고, 바람직하게는 무기 입자를 들 수 있다. 무기 입자로서는, 실리카, 지르코니아, 알루미나, 티타니아, 산화 아연, 산화 게르마늄, 산화 인듐, 산화 주석, 인듐 주석 산화물(ITO), 산화 안티몬, 산화 세륨 등의 금속 산화물 입자, 불화 마그네슘, 불화 나트륨 등의 금속 불화물 입자 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 얻어지는 광학 필름의 탄성률 및/또는 인열(引裂) 강도를 높여, 내충격성을 향상시키기 쉬운 관점에서, 바람직하게는 실리카 입자, 지르코니아 입자, 알루미나 입자를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 실리카 입자를 들 수 있다. 이들 필러는 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.In the optical laminate of the present invention, the optical film may include at least one filler. Examples of the filler include organic particles, inorganic particles, and the like, and preferably inorganic particles. Examples of the inorganic particles include metal oxide particles such as silica, zirconia, alumina, titania, zinc oxide, germanium oxide, indium oxide, tin oxide, indium tin oxide (ITO), antimony oxide, and cerium oxide, and metals such as magnesium fluoride and sodium fluoride. Fluoride particles, etc. may be mentioned, and among these, silica particles, zirconia particles, and alumina particles are preferable from the viewpoint of increasing the elastic modulus and/or tear strength of the obtained optical film and improving impact resistance. And more preferably silica particles. These fillers may be used alone or in combination of two or more.

본 발명의 광학 적층체에 있어서, 광학 필름은, 예를 들면 평균 1차 입자경이 5~35㎚의 적어도 1종의 필러를 포함해도 된다. 이러한 광학 필름은, 높은 광학 특성을 가지는 것에 더해, 높은 인장 탄성률도 가진다. 광학 필름의 인장 탄성률은, 바람직하게는 4,000MPa 이상, 보다 바람직하게는 5,000MPa 이상, 더 바람직하게는 5,500MPa 이상, 특히 바람직하게는 6,000MPa 이상이다. 인장 탄성률이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름에 패임 등의 결함이 발생하기 어려워짐과 함께, 광학 필름의 강도를 높이기 쉬워, 내구성을 향상시키기 쉽다. 인장 탄성률은, 바람직하게는 10,000MPa 이하, 보다 바람직하게는 9,000MPa 이하이다. 인장 탄성률이 상기의 상한 이하이면, 광학 필름의 내굴곡성을 향상시키기 쉽다. 또한, 광학 필름의 인장 탄성률은, JIS K 7127에 준거하여, 실온에서, 인장 시험기를 이용하여 측정할 수 있다. 광학 필름의 균질성, 투명성, 탄성률 및 강도를 높이기 쉬운 관점에서는, 필러의 평균 1차 입자경은, 바람직하게는 10㎚ 이상, 보다 바람직하게는 15㎚ 이상, 더 바람직하게는 20㎚ 이상이다. 또한, 광학 필름의 투명성을 높이기 쉬운 관점에서, 필러의 평균 1차 입자경은, 바람직하게는 30㎚ 이하이다.In the optical laminate of the present invention, the optical film may include at least one filler having an average primary particle diameter of 5 to 35 nm, for example. In addition to having high optical properties, such an optical film also has a high tensile modulus. The tensile elastic modulus of the optical film is preferably 4,000 MPa or more, more preferably 5,000 MPa or more, still more preferably 5,500 MPa or more, particularly preferably 6,000 MPa or more. When the tensile modulus of elasticity is more than the above lower limit, defects such as pitting are less likely to occur in the optical film, and the strength of the optical film is easily increased, and durability is easily improved. The tensile modulus of elasticity is preferably 10,000 MPa or less, more preferably 9,000 MPa or less. If the tensile modulus is less than or equal to the above upper limit, it is easy to improve the bending resistance of the optical film. In addition, the tensile modulus of the optical film can be measured according to JIS K 7127 at room temperature using a tensile tester. From the viewpoint of easily increasing the homogeneity, transparency, modulus, and strength of the optical film, the average primary particle size of the filler is preferably 10 nm or more, more preferably 15 nm or more, and even more preferably 20 nm or more. In addition, from the viewpoint of easily increasing the transparency of the optical film, the average primary particle size of the filler is preferably 30 nm or less.

필러의 평균 1차 입자경은, BET법에 의해 측정할 수 있다. 구체적으로는, BET법(질소 흡착 BET법)에 의해 측정한 비표면적(BET 비표면적)을, 평균 1차 입자경으로 환산하여 산출할 수 있다. 여기서, 평균 1차 입자경을 d(㎚)라고 하고, 필러의 밀도를 ρ(g/cm3)라고 하며, BET 비표면적을 S(m2/g)라고 하면, 이들 사이에는, d=6000/(S×ρ)의 관계가 성립된다. 예를 들면 필러가 실리카인 경우, d=2070/S의 식으로부터, BET 비표면적으로부터 평균 1차 입자경을 산출할 수 있다. 또한, 투과형 전자 현미경(TEM)이나 주사형 전자 현미경(SEM)의 화상 해석에 의해, 1차 입자경(평균 1차 입자경)을 측정해도 된다. 광학 필름에 포함되는 필러의 평균 1차 입자경은, 원료로서 이용하는 필러의 평균 1차 입자경이어도 되고, 광학 필름으로부터 측정한 평균 1차 입자경이어도 된다. 광학 필름으로부터 필러의 평균 1차 입자경을 측정하는 경우, 필름을 측정 시료로 하여 투과형 전자 현미경이나 주사형 전자 현미경의 화상 해석에 의해, 광학 필름 중의 필러의 평균 1차 입자경을 측정해도 되고, 필름을 필요에 따라 분쇄하고, 파쇄한 필름을, 필름 중의 수지를 용해 가능한 용매(예를 들면 γ-부티로락톤)에 용해시킨 상태에서, 분산된 입자를 투과형 전자 현미경(TEM) 또는 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰하여 측정해도 되고, 필름으로부터 필러를 취출하고, 건조시켜, 상기와 마찬가지로 하여 BET 비표면적으로부터 평균 1차 입자경을 산출해도 된다. 평균 1차 입자를 예를 들면 전자 현미경의 화상 해석에 의해 측정하는 경우, 일정 면적 내에 존재하는 100개의 입자의 각각에 대하여 1차 입자경을 측정한 결과의 평균값을, 평균 1차 입자경으로 해도 된다.The average primary particle size of the filler can be measured by the BET method. Specifically, the specific surface area (BET specific surface area) measured by the BET method (nitrogen adsorption BET method) can be calculated in terms of an average primary particle diameter. Here, if the average primary particle size is d (nm), the density of the filler is ρ (g/cm 3 ), and the BET specific surface area is S (m 2 /g), between them, d=6000/ The relationship of (S×ρ) is established. For example, when the filler is silica, the average primary particle diameter can be calculated from the BET specific surface area from the formula d=2070/S. Further, the primary particle diameter (average primary particle diameter) may be measured by image analysis of a transmission electron microscope (TEM) or a scanning electron microscope (SEM). The average primary particle diameter of the filler contained in the optical film may be the average primary particle diameter of the filler used as a raw material, or may be the average primary particle diameter measured from the optical film. When the average primary particle diameter of the filler is measured from the optical film, the average primary particle diameter of the filler in the optical film may be measured by image analysis of a transmission electron microscope or a scanning electron microscope using the film as a measurement sample. If necessary, the pulverized and crushed film is dissolved in a soluble solvent (for example, γ-butyrolactone) in the resin in the film, and the dispersed particles are transmitted through a transmission electron microscope (TEM) or scanning electron microscope ( Observation by SEM) may be performed, the filler may be taken out from the film, dried, and the average primary particle diameter may be calculated from the BET specific surface area in the same manner as above. When the average primary particle is measured by, for example, image analysis of an electron microscope, the average value of the result of measuring the primary particle diameter for each of the 100 particles present in a certain area may be the average primary particle diameter.

필러의 함유량은, 광학 필름의 질량에 대하여, 바람직하게는 0.5질량% 이상, 보다 바람직하게는 1질량% 이상, 더 바람직하게는 5질량% 이상, 더 바람직하게는 10질량% 이상, 더 바람직하게는 15질량% 이상, 더 바람직하게는 20질량% 이상, 더 바람직하게는 25질량% 이상, 특히 바람직하게는 30질량% 이상이다. 필러의 함유량이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름의 내충격성 및 내구성을 향상시키기 쉽다. 필러의 함유량은, 광학 필름의 질량에 대하여, 바람직하게는 60질량% 이하, 보다 바람직하게는 50질량% 이하, 더 바람직하게는 45질량% 이하이다. 필러의 함유량이 상기의 상한 이하이면, 광학 필름의 헤이즈나 황색도를 저감하기 쉬워, 투명성 및 광학 특성을 향상시키기 쉬움과 함께, 내굴곡성을 향상시키기 쉽다.The content of the filler is preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, further preferably 10% by mass or more, and more preferably with respect to the mass of the optical film. Is 15% by mass or more, more preferably 20% by mass or more, more preferably 25% by mass or more, particularly preferably 30% by mass or more. When the content of the filler is more than the above lower limit, it is easy to improve the impact resistance and durability of the optical film. The content of the filler is preferably 60% by mass or less, more preferably 50% by mass or less, and even more preferably 45% by mass or less, based on the mass of the optical film. When the content of the filler is less than or equal to the above upper limit, the haze and yellowness of the optical film are easily reduced, and the transparency and optical properties are easily improved, and the bending resistance is easily improved.

<자외선 흡수제><Ultraviolet absorbent>

본 발명의 광학 적층체는, 적어도 1종의 자외선 흡수제를 포함해도 된다. 자외선 흡수제는, 수지 재료의 분야에서 자외선 흡수제로서 통상 이용되고 있는 것에서부터, 적절히 선택할 수 있다. 자외선 흡수제는, 400㎚ 이하의 파장의 광을 흡수하는 화합물을 포함하고 있어도 된다. 자외선 흡수제로서는, 예를 들면, 벤조페논계 화합물, 살리실레이트계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물, 및 트리아진계 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물을 들 수 있다. 자외선 흡수제는 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 광학 필름이 자외선 흡수제를 함유함으로써, 수지의 열화가 억제되기 때문에, 본 발명의 광학 필름을 화상 표시 장치 등에 적용한 경우에 시인성을 높일 수 있다. 본 명세서에 있어서, 「계(系) 화합물」이란, 당해 「계 화합물」이 부가되는 화합물의 유도체를 가리킨다. 예를 들면, 「벤조페논계 화합물」이란, 모체 골격으로서의 벤조페논과, 벤조페논에 결합하고 있는 치환기를 가지는 화합물을 가리킨다.The optical laminate of the present invention may contain at least one ultraviolet absorber. The ultraviolet absorber can be appropriately selected from those commonly used as ultraviolet absorbers in the field of resin materials. The ultraviolet absorber may contain a compound that absorbs light having a wavelength of 400 nm or less. Examples of the ultraviolet absorber include at least one compound selected from the group consisting of benzophenone-based compounds, salicylate-based compounds, benzotriazole-based compounds, and triazine-based compounds. The ultraviolet absorbers may be used alone or in combination of two or more. Since the deterioration of the resin is suppressed by the optical film containing an ultraviolet absorber, visibility can be improved when the optical film of the present invention is applied to an image display device or the like. In the present specification, the "system compound" refers to a derivative of a compound to which the "system compound" is added. For example, the term "benzophenone-based compound" refers to a compound having a benzophenone as a parent skeleton and a substituent bound to benzophenone.

본 발명의 광학 적층체에 있어서, 광학 필름이 자외선 흡수제를 함유하는 경우, 자외선 흡수제의 함유량은, 광학 필름에 포함되는 수지의 질량에 대하여, 바람직하게는 0.01~10질량부, 보다 바람직하게는 1~8질량부, 더 바람직하게는 2~7질량부이다. 자외선 흡수제의 함유량이 상기의 하한 이상이면, 자외선 흡수성을 향상시키기 쉽다. 자외선 흡수제의 함유량이 상기의 상한 이하이면, 기재 제조 시의 열에 의한 자외선 흡수제의 분해를 억제할 수 있어, 광학 특성을 향상시키기 쉽고, 예를 들면 헤이즈를 저감시키기 쉽다.In the optical laminate of the present invention, when the optical film contains an ultraviolet absorber, the content of the ultraviolet absorber is preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 1 to the mass of the resin contained in the optical film. It is -8 mass parts, More preferably, it is 2-7 mass parts. When the content of the ultraviolet absorber is more than the above lower limit, it is easy to improve the ultraviolet absorbency. When the content of the ultraviolet absorber is equal to or less than the above upper limit, decomposition of the ultraviolet absorber due to heat at the time of manufacturing the substrate can be suppressed, and thus it is easy to improve the optical properties and to reduce haze, for example.

<다른 첨가제><Other additives>

본 발명의 광학 적층체는, 필러, 자외선 흡수제 외의 다른 첨가제를 더 함유하고 있어도 된다. 다른 첨가제로서는, 예를 들면, 산화 방지제, 이형제, 안정제, 블루잉제 등의 착색제, 난연제, pH 조정제, 실리카 분산제, 활제, 증점제, 및 레벨링제 등을 들 수 있다. 다른 첨가제를 함유하는 경우, 그 함유량은, 광학 필름의 질량에 대하여, 바람직하게는 0.005~20질량부, 보다 바람직하게는 0.01~15질량부, 더 바람직하게는 0.1~10질량부여도 된다.The optical laminate of the present invention may further contain additives other than fillers and ultraviolet absorbers. Examples of the other additives include colorants such as antioxidants, mold release agents, stabilizers, and blueing agents, flame retardants, pH adjusters, silica dispersants, lubricants, thickeners, and leveling agents. When other additives are contained, the content may be preferably 0.005 to 20 parts by mass, more preferably 0.01 to 15 parts by mass, and even more preferably 0.1 to 10 parts by mass relative to the mass of the optical film.

<기능층><Functional layer>

본 발명의 광학 적층체는, 광학 필름과 당해 광학 필름의 적어도 편면에 적층된 기능층을 가진다. 당해 기능층이 가지는 기능은 특별히 한정되지 않고, 하드 코팅 기능, 대전 방지 기능, 방현 기능, 저반사 기능, 반사 방지 기능, 방오 기능, 가스 배리어 기능, 프라이머 기능, 전자파 차폐 기능, 밑칠 기능, 자외선 흡수 기능, 점착 기능, 색상 조정 기능 등, 광학 필름에 채용되는 일반적인 기능이어도 된다. 기능층은 1종류의 기능을 가지는 층이어도 되고, 2종 이상의 기능을 겸비한 층이어도 된다. 플렉시블 표시 장치의 전면판으로서 사용하기 쉬운 관점에서, 당해 기능층의 적어도 하나는, 하드 코팅 기능, 대전 방지 기능, 방현 기능, 저반사 기능, 반사 방지 기능 및 방오 기능으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 기능을 가지는 층인 것이 바람직하다. 기능층은, 1층으로 복수의 기능을 가지고 있어도 되고, 각 기능을 가지는 층을 2층 이상 적층해도 된다. 2층 이상 적층하는 경우, 적층하는 순서는 그 기능에 따라 적절히 설정된다. 이들 층은, 광학 필름의 편면 또는 양면에 적층된다. 양면에 적층되는 경우, 각각 면에 적층되는 층의 두께, 기능, 적층의 순서는 동일해도 되고 상이해도 된다.The optical laminate of the present invention has an optical film and a functional layer laminated on at least one side of the optical film. The function of the functional layer is not particularly limited, and hard coating function, antistatic function, anti-glare function, low reflection function, antireflection function, antifouling function, gas barrier function, primer function, electromagnetic wave shielding function, undercoat function, ultraviolet absorption A general function employed in the optical film, such as a function, an adhesion function, and a color adjustment function, may be used. The functional layer may be a layer having one type of function, or a layer having two or more types of functions. From the viewpoint of being easy to use as a front panel of a flexible display device, at least one of the functional layers is at least one selected from the group consisting of a hard coating function, an antistatic function, an anti-glare function, a low reflection function, an antireflection function and an antifouling function. It is preferably a layer having the function of. The functional layer may have a plurality of functions as a single layer, or two or more layers having a layer having each function may be stacked. When laminating two or more layers, the order of lamination is appropriately set depending on the function. These layers are laminated on one side or both sides of the optical film. When laminated on both sides, the thickness, function, and order of lamination of the layers laminated on each side may be the same or different.

기능층의 두께는, 목적으로 하는 기능에 따라 적절히 설정해도 되지만, 광학 적층체의 경량화 및 광학적 균질성을 높이기 쉬운 관점에서는, 바람직하게는 20㎛ 이하, 보다 바람직하게는 15㎛ 이하, 더 바람직하게는 10㎛ 이하이다.The thickness of the functional layer may be appropriately set depending on the intended function, but from the viewpoint of easy weight reduction and high optical homogeneity of the optical laminate, preferably 20 μm or less, more preferably 15 μm or less, and more preferably It is 10 micrometers or less.

(하드 코팅 기능)(Hard coating function)

하드 코팅 기능은, 광학 필름의 표면에 내상성(耐傷性), 내약품성 등을 부여하여 광학 필름을 보호하는 기능이다. 본 발명의 광학 적층체에 있어서, 기능층은 하드 코팅 기능을 가지는 층(하드 코팅층)이어도 된다. 하드 코팅층으로서는, 공지의 것을 적절히 채용해도 되고, 예를 들면 아크릴계, 에폭시계, 우레탄계, 벤질클로라이드계, 비닐계 등의 공지의 하드 코팅층을 들 수 있다. 이들 중에서도 광학 적층체의 광각 방향의 시인성의 저하를 억제하고, 또한 내굴곡성을 향상시키는 관점에서, 아크릴계, 우레탄계, 및 그들 조합의 하드 코팅층이 바람직하다. 예를 들면, 하드 코팅층은, 활성 에너지선 경화성 화합물을 함유하는 조성물의 경화물이어도 된다. 활성 에너지선 경화성 화합물은, 전자선, 자외선 등의 활성 에너지선을 조사함으로써 경화되는 성질을 가지는 화합물이다. 이와 같은 활성 에너지선 경화성 화합물로서는, 예를 들면, 전자선을 조사함으로써 경화되는 전자선 경화성 화합물이나, 자외선을 조사함으로써 경화되는 자외선 경화성 화합물 등을 들 수 있다. 이들 화합물은, 통상의 하드 코팅층의 형성에 이용되는 하드 코팅제의 주성분과 마찬가지의 화합물이며, 예를 들면 (메타)아크릴계 수지를 들 수 있다. 특히, (메타)아크릴계 수지 중, 다관능 (메타)아크릴레이트계 화합물을 주성분으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 본 명세서에 있어서, (메타)아크릴이란, 아크릴 및/또는 메타크릴을 의미하고, (메타)아크릴레이트란, 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트를 의미한다.The hard coating function is a function of protecting the optical film by imparting scratch resistance and chemical resistance to the surface of the optical film. In the optical laminate of the present invention, the functional layer may be a layer having a hard coating function (hard coating layer). As the hard coating layer, a known one may be suitably employed, and examples thereof include a known hard coating layer such as acrylic, epoxy, urethane, benzyl chloride, and vinyl. Among these, a hard coating layer of an acrylic type, a urethane type, or a combination thereof is preferred from the viewpoint of suppressing the decrease in visibility in the wide-angle direction of the optical laminate and improving the bending resistance. For example, the hard coating layer may be a cured product of a composition containing an active energy ray-curable compound. The active energy ray-curable compound is a compound having a property of being cured by irradiating active energy rays such as electron beams and ultraviolet rays. Examples of the active energy ray-curable compound include an electron beam-curable compound that is cured by irradiating an electron beam, an ultraviolet-curable compound that is cured by irradiating ultraviolet rays, and the like. These compounds are the same compounds as the main component of the hard coating agent used for the formation of a normal hard coating layer, and examples thereof include (meth)acrylic resins. In particular, among the (meth)acrylic resins, it is preferable to have a polyfunctional (meth)acrylate-based compound as a main component. In addition, in this specification, (meth)acrylic means acrylic and/or methacryl, and (meth)acrylate means acrylate and/or methacrylate.

다관능(메타)아크릴레이트계 화합물이란, 분자 중에 적어도 2개의 아크릴로일옥시기 및/또는 메타크릴로일옥시기를 가지는 화합물이며, 구체적으로는, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올에탄트리(메타)아크릴레이트, 테트라메틸올메탄트리(메타)아크릴레이트, 테트라메틸올메탄테트라(메타)아크릴레이트, 펜타글리세롤트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 글리세린트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 트리스((메타)아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트, 포스파젠 화합물의 포스파젠환에 (메타)아크릴로일옥시기가 도입된 포스파젠계 아크릴레이트 화합물 또는 포스파젠계 메타크릴레이트 화합물, 분자 중에 적어도 2개의 이소시아네이트기를 가지는 폴리이소시아네이트와 적어도 1개의 (메타)아크릴로일옥시기 및 수산기를 가지는 폴리올 화합물과의 반응에 의해 얻어지는 우레탄(메타)아크릴레이트 화합물, 분자 중에 적어도 2개의 카르본산 할로겐화물과 적어도 1개의 (메타)아크릴로일옥시기 및 수산기를 가지는 폴리올 화합물과의 반응에 의해 얻어지는 폴리에스테르(메타)아크릴레이트 화합물, 및 상기 각 화합물의 2량체, 3량체 등과 같은 올리고머 등을 들 수 있다.A polyfunctional (meth)acrylate-based compound is a compound having at least two acryloyloxy groups and/or methacryloyloxy groups in a molecule, specifically, ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di (Meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, trimethylolethane tri(meth)acrylate, tetra Methylolmethanetri(meth)acrylate, tetramethylolmethanetetra(meth)acrylate, pentaglycerol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, glycerin tree (Meth)acrylate, dipentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritolpenta(meth)acrylate, dipentaerythritolhexa(meth)acrylate, tris((meth) Acryloyloxyethyl)isocyanurate, a phosphazene acrylate compound or a phosphazene methacrylate compound in which a (meth)acryloyloxy group is introduced into the phosphazene ring of the phosphazene compound, at least two of the molecules Urethane (meth)acrylate compound obtained by reaction of a polyisocyanate having an isocyanate group with a polyol compound having at least one (meth)acryloyloxy group and a hydroxyl group, at least two carboxylic acid halides and at least one ( And polyester (meth)acrylate compounds obtained by reaction with a polyol compound having a meta)acryloyloxy group and a hydroxyl group, and oligomers such as dimers and trimers of the above-mentioned compounds.

이들 화합물은, 각각 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 이용해도 된다. 또한, 상기의 다관능(메타)아크릴레이트계 화합물 외에, 적어도 1종의 단관능 (메타)아크릴레이트를 사용해도 된다. 단관능 (메타)아크릴레이트로서는, 예를 들면 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 화합물은 단독 또는 2종류 이상을 혼합하여 이용된다. 단관능 (메타)아크릴레이트계 화합물의 함유량은, 기능층 형성용 조성물(하드 코팅층용 도료)에 포함되는 화합물의 고형분에 대하여, 바람직하게는 10질량% 이하의 양이다. 또한, 본 명세서에 있어서, 고형분이란, 경화성 조성물에 포함되는 용매를 제외한, 모든 성분을 의미한다.You may use these compounds individually or in mixture of 2 or more types. In addition, at least one monofunctional (meth)acrylate may be used in addition to the polyfunctional (meth)acrylate-based compound. As monofunctional (meth)acrylate, for example, hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, hydroxybutyl (meth)acrylic Rate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, and the like. These compounds are used alone or in combination of two or more. The content of the monofunctional (meth)acrylate-based compound is preferably 10% by mass or less with respect to the solid content of the compound contained in the composition for forming a functional layer (paint for a hard coating layer). In addition, in this specification, solid content means all the components except the solvent contained in a curable composition.

기능층에는, 예를 들면 경도를 조정할 목적으로, 중합성 올리고머를 첨가해도 된다. 이와 같은 올리고머로서는, 말단 (메타)아크릴레이트폴리메틸메타크릴레이트, 말단 스티릴폴리(메타)아크릴레이트, 말단 (메타)아크릴레이트폴리스티렌, 말단 (메타)아크릴레이트폴리에틸렌글리콜, 말단 (메타)아크릴레이트아크릴로니트릴-스티렌 공중합체, 말단 (메타)아크릴레이트스티렌-메틸(메타)아크릴레이트 공중합체 등의 매크로 모노머를 들 수 있다. 중합성 올리고머를 첨가하는 경우, 그 함유량은, 기능층 형성용 조성물의 고형분에 대하여, 바람직하게는 5~50질량%이다.A polymerizable oligomer may be added to the functional layer, for example, for the purpose of adjusting the hardness. Examples of such oligomers include terminal (meth)acrylate polymethyl methacrylate, terminal styryl poly(meth)acrylate, terminal (meth)acrylate polystyrene, terminal (meth)acrylate polyethylene glycol, and terminal (meth)acrylate And macromonomers such as acrylonitrile-styrene copolymer and terminal (meth)acrylate styrene-methyl (meth)acrylate copolymer. When adding a polymerizable oligomer, the content is preferably 5 to 50% by mass relative to the solid content of the composition for forming a functional layer.

활성 에너지선 경화성 화합물은, 용제와 혼합된 용액의 상태로 이용해도 된다. 활성 에너지선 경화성 화합물이나 그 용액은, 하드 코팅제로서 시판되고 있는 것이어도 된다. 시판의 하드 코팅제로서는, 구체적으로는, 「NK 하드 M101」(신나카무라화학(주)제, 우레탄아크릴레이트 화합물), 「NK 에스테르 A-TMM-3L」(신나카무라화학(주)제, 테트라메틸올메탄트리아크릴레이트), 「NK 에스테르 A-9530」(신나카무라화학(주)제, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트), 「KAYARAD(등록상표) DPCA 시리즈」(니폰카야쿠(주)제, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 화합물의 유도체), 「아로닉스(등록상표) M-8560」(토아고세이(주)제, 폴리에스테르아크릴레이트 화합물), 「뉴프론티어(등록상표) TEICA」(다이이치공업제약(주)제, 트리스(아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트), 「PPZ」(교에이사화학(주)제, 포스파젠계 메타크릴레이트 화합물) 등이 예시된다.The active energy ray-curable compound may be used in the form of a solution mixed with a solvent. The active energy ray-curable compound and its solution may be commercially available as a hard coating agent. As a commercially available hard coating agent, specifically, "NK hard M101" (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., urethane acrylate compound), "NK ester A-TMM-3L" (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., tetramethyl All methane triacrylate), ``NK ester A-9530'' (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., dipentaerythritol hexaacrylate), ``KAYARAD (registered trademark) DPCA series'' (Nippon Kayaku Co., Ltd., D Derivatives of pentaerythritol hexaacrylate compound), ``Aronix (registered trademark) M-8560'' (Toagosei Co., Ltd., polyester acrylate compound), ``New Frontier (registered trademark) TEICA'' (Daiichi Pharmaceutical Co., Ltd.) Tris(acryloyloxyethyl)isocyanurate), "PPZ" (made by Kyoeisa Chemical Co., Ltd., a phosphazene methacrylate compound), etc. are illustrated.

하드 코팅층의 두께는, 적절히 설정할 수 있지만, 광학 적층체의 내굴곡성, 표면 경도 및 광학적 균질성의 관점에서, 바람직하게는 20㎛ 이하, 보다 바람직하게는 15㎛ 이하, 더 바람직하게는 10㎛ 이하이다.The thickness of the hard coat layer can be appropriately set, but is preferably 20 µm or less, more preferably 15 µm or less, and even more preferably 10 µm or less from the viewpoint of bending resistance, surface hardness and optical homogeneity of the optical laminate. .

하드 코팅층을 광학 필름의 적어도 편면에 적층시키는 방법으로서는, 예를 들면 활성 에너지선 경화성 화합물(활성 에너지선 경화성 수지)을 함유하는 하드 코팅층 형성용 조성물을 기판(광학 필름)의 표면에 도포하여, 활성 에너지선을 조사하면 된다. 이와 같은 조성물은, 활성 에너지선 경화성 화합물을 필요에 따라 첨가제 등과 혼합함으로써 얻을 수 있다. 당해 하드 코팅층 형성용 조성물의 경화물이 하드 코팅층을 구성한다.As a method of laminating a hard coating layer on at least one side of an optical film, for example, a composition for forming a hard coating layer containing an active energy ray-curable compound (active energy ray-curable resin) is applied to the surface of a substrate (optical film), thereby Just irradiate the energy rays. Such a composition can be obtained by mixing the active energy ray-curable compound with an additive or the like as necessary. The cured product of the composition for forming the hard coat layer constitutes the hard coat layer.

하드 코팅층 형성용 조성물은, 용제를 포함하는 것이 바람직하고, 당해 하드 코팅층 형성용 조성물에 있어서, 활성 에너지선 경화성 화합물이 용제로 희석되어 있는 것이 바람직하다. 이 경우, 당해 조성물은, 활성 에너지선 경화성 화합물과 표면 평활성 등을 부여하기 위한 각종 첨가제(예를 들면 실리콘 오일 등)를 혼합 후에, 얻어진 혼합물을 용제로 희석하여 제조해도 되고, 활성 에너지선 경화성 화합물을 용제로 희석 후, 첨가제를 혼합하여 제조해도 되며, 활성 에너지선 경화성 화합물과 미리 용제로 희석된 첨가제를 혼합하여 제조해도 되고, 미리 용제로 희석된 활성 에너지선 경화성 화합물과 미리 용제로 희석된 첨가제를 혼합하여 제조해도 된다. 혼합 후의 조성물은 더 교반되어도 된다.It is preferable that the composition for forming a hard coat layer contains a solvent, and in the composition for forming the hard coat layer, it is preferable that the active energy ray-curable compound is diluted with a solvent. In this case, the composition may be prepared by mixing the active energy ray-curable compound with various additives (for example, silicone oil, etc.) for imparting surface smoothness, etc., and then diluting the obtained mixture with a solvent. After diluting with a solvent, the additives may be prepared by mixing, and the active energy ray-curable compound may be prepared by mixing an additive diluted with a solvent in advance, or the active energy ray-curable compound previously diluted with a solvent and the additive diluted with a solvent in advance. You may mix and manufacture. The composition after mixing may be further stirred.

도포를 용이하게 하는 관점에서도, 하드 코팅층 형성용 조성물이, 적당한 용제를 함유하는 것이 바람직하다. 용제로서는, 헥산, 옥탄 등의 지방족 탄화수소, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소, 에탄올, 1-프로판올, 이소프로판올, 1-부탄올 등의 알코올류, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸 등의 에스테르류, 셀로솔브류 등으로부터 적절히 선택하여 이용할 수 있다. 이들 유기 용제는, 필요에 따라 몇 종류를 혼합하여 이용해도 된다. 하드 코팅층 형성용 조성물을 도공 후에 가열하여, 유기 용제를 증발시키기 쉬운 관점에서, 용제의 비점은 바람직하게는 70℃~200℃의 범위이다. 용제의 종류나 사용량은, 이용하는 활성 에너지선 경화성 화합물의 종류나 양, 기재(광학 필름)의 재질, 형상, 도포 방법, 목적으로 하는 하드 코팅층의 두께 등에 따라 적절히 선택된다.From the viewpoint of facilitating application, it is preferable that the composition for forming a hard coat layer contains a suitable solvent. Examples of the solvent include aliphatic hydrocarbons such as hexane and octane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, alcohols such as ethanol, 1-propanol, isopropanol and 1-butanol, ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, It can be appropriately selected from esters such as butyl acetate and cellosolves. You may mix and use these organic solvents as needed. From the viewpoint of easily heating the composition for forming the hard coat layer after coating and evaporating the organic solvent, the boiling point of the solvent is preferably in the range of 70°C to 200°C. The type and amount of the solvent is appropriately selected according to the type and amount of the active energy ray-curable compound used, the material, shape, coating method of the base material (optical film), thickness of the target hard coating layer, and the like.

하드 코팅층 형성용 조성물을 도공 후의, 가열하여 건조하는 온도(T1)는, 당해 조성물에 포함되는 용제의 비점(T2)에 대하여, 바람직하게는 ±30℃, 보다 바람직하게는 ±20℃이다. T1이 상기 범위에 있으면, 용제가 얻어지는 하드 코팅층에 남기 어렵고, 또한, 밀착성이 저하되기 어려운 경향이 있다.The temperature (T1) of heating and drying the composition for forming the hard coat layer is preferably ±30°C, more preferably ±20°C, with respect to the boiling point (T2) of the solvent contained in the composition. When T1 is in the above range, it is difficult to remain in the hard coating layer from which a solvent is obtained, and there is a tendency that adhesiveness is hardly lowered.

하드 코팅 형성용 조성물의 고형분은, 바람직하게는 5~60질량%, 보다 바람직하게는 10~55질량%, 더 바람직하게는 20~50질량%, 보다 더 바람직하게는 25~50질량%이다. 당해 고형분이 상기 범위에 있으면, 도공하는 막 두께가 지나치게 두꺼워지지 않아 수학식 1의 값이 지나치게 커지지 않기 때문에 시인성이 양호해지고, 또한 얻어지는 하드 코팅층의 표면의 평활성이 양호해지는 경향이 있다.The solid content of the composition for forming a hard coat is preferably 5 to 60% by mass, more preferably 10 to 55% by mass, more preferably 20 to 50% by mass, even more preferably 25 to 50% by mass. When the said solid content is in the said range, since the film thickness to coat is not too thick, and the value of Formula 1 does not become too large, visibility becomes favorable, and the smoothness of the surface of the obtained hard coating layer tends to become favorable.

하드 코팅층 형성용 조성물은 중합 개시제를 함유하고 있어도 된다. 활성 에너지선으로서 자외선이나 가시광선을 이용하는 경우에는, 통상, 중합 개시제로서 광중합 개시제가 이용된다.The composition for forming a hard coat layer may contain a polymerization initiator. When an ultraviolet ray or visible light is used as the active energy ray, a photopolymerization initiator is usually used as the polymerization initiator.

광중합 개시제로서는, 예를 들면 아세토페논, 아세토페논벤질케탈, 안트라퀴논, 1-(4-이소프로필페닐-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 카르바졸, 크산톤, 4-클로로벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 1,1-디메톡시디옥시벤조인, 3,3'-디메틸-4-메톡시벤조페논, 티옥산톤, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 1-(4-도데실페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 2-메틸-1-〔4-(메틸티오)페닐〕-2-모르폴리노프로판-1-온, 트리페닐아민, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 플루오레논, 플루오렌, 벤즈알데히드, 벤조인에틸에테르, 벤조이소프로필에테르, 벤조페논, 미힐러케톤, 3-메틸아세토페논, 3,3',4,4'-테트라 tert-부틸퍼옥시카르보닐벤조페논(BTTB), 2-(디메틸아미노)-1-〔4-(모르폴리닐)페닐〕-2-페닐메틸)-1-부탄온, 4-벤조일-4'-메틸디페닐설파이드, 벤질 등을 들 수 있다. 또한, 광중합 개시제는 색소 증감제와 조합하여 이용되어도 된다. 당해 색소 증감제로서는, 예를 들면 크산텐, 티오크산텐, 쿠마린, 케토쿠마린 등을 들 수 있다. 광중합 개시제와 색소 증감제와의 조합으로서는, 예를 들면 BTTB와 크산텐과의 조합, BTTB와 티오크산텐과의 조합, BTTB와 쿠마린과의 조합, BTTB와 케토쿠마린과의 조합 등을 들 수 있다.Examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, acetophenone benzyl ketal, anthraquinone, 1-(4-isopropylphenyl-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, carbazole, xanthone, 4-chloro Benzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, 1,1-dimethoxydioxybenzoin, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, thioxanthone, 2,2-dimethoxy-2 -Phenylacetophenone, 1-(4-dodecylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholino Propan-1-one, triphenylamine, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one , Fluorenone, fluorene, benzaldehyde, benzoinethyl ether, benzoisopropyl ether, benzophenone, myhila ketone, 3-methylacetophenone, 3,3',4,4'-tetra tert-butylperoxycarbonyl Benzophenone (BTTB), 2-(dimethylamino)-1-[4-(morpholinyl)phenyl]-2-phenylmethyl)-1-butanone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfide, benzyl And the like. Moreover, a photoinitiator may be used in combination with a dye sensitizer. Examples of the dye sensitizer include xanthene, thioxanthene, coumarin, and ketocoumarin. Examples of the combination of the photopolymerization initiator and the dye sensitizer include a combination of BTTB and xanthene, a combination of BTTB and thioxanthene, a combination of BTTB and coumarin, a combination of BTTB and ketocoumarin, and the like. have.

광중합 개시제를 이용하는 경우, 그 사용량은, 활성 에너지선 경화성 화합물 100질량부에 대하여, 바람직하게는 0.1질량부 이상이다. 당해 사용량이 상기 범위에 있으면 충분한 경화 속도를 얻기 쉬운 경향이 있다. 또한, 광중합 개시제의 사용량은, 활성 에너지선 경화성 화합물 100질량부당, 바람직하게는 10질량부 이하이다.When a photopolymerization initiator is used, the amount used is preferably 0.1 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the active energy ray-curable compound. When the amount used is in the above range, it tends to be easy to obtain a sufficient curing rate. Moreover, the usage-amount of a photoinitiator is per 100 mass parts of active energy ray-curable compounds, Preferably it is 10 mass parts or less.

하드 코팅층 형성용 조성물은, 활성 에너지선 경화성 화합물 외에, 대전방지제를 함유하고 있어도 된다. 당해 조성물이 대전방지제를 함유함으로써, 하드 코팅층에 대전 방지 기능을 부여할 수 있다. 대전방지제로서는, 예를 들면 계면활성제, 도전성 고분자, 도전성 입자, 알칼리 금속염 및/또는 유기 카티온-아니온염 등을 들 수 있다. 이들 대전방지제는, 각각 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 사용된다.The composition for forming a hard coat layer may contain an antistatic agent in addition to the active energy ray-curable compound. When the composition contains an antistatic agent, it is possible to impart an antistatic function to the hard coat layer. Examples of the antistatic agent include surfactants, conductive polymers, conductive particles, alkali metal salts, and/or organic cation-anion salts. These antistatic agents are used alone or in combination of two or more.

계면활성제로서는, 탄화수소계 계면활성제, 불소계 계면활성제, 실리콘계 계면활성제 등을 들 수 있다.Examples of the surfactant include hydrocarbon-based surfactants, fluorine-based surfactants, and silicone-based surfactants.

도전성 고분자로서는, 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리아세틸렌, 폴리티오펜 등을 들 수 있다.Examples of the conductive polymer include polyaniline, polypyrrole, polyacetylene, and polythiophene.

도전성 입자로서는, 예를 들면 인듐-주석-복합 산화물(ITO), 안티몬이 도프된 산화 주석 등의 입자를 들 수 있다.Examples of the conductive particles include particles such as indium-tin-composite oxide (ITO) and antimony-doped tin oxide.

알칼리 금속염으로서는, 알칼리 금속의 유기염 및 무기염을 들 수 있다. 알칼리 금속염의 카티온부를 구성하는 알칼리 금속 이온으로서는, 리튬, 나트륨, 칼륨의 각 이온을 들 수 있다. 이들 알칼리 금속 이온 중에서도 리튬 이온이 바람직하다.Examples of the alkali metal salts include organic and inorganic salts of alkali metals. Examples of alkali metal ions constituting the cation portion of the alkali metal salt include lithium, sodium, and potassium ions. Among these alkali metal ions, lithium ions are preferred.

알칼리 금속염의 아니온부는 유기물로 구성되어 있어도 되고, 무기물로 구성되어 있어도 된다. 유기염을 구성하는 아니온부로서는, 예를 들면, CH3COO-, CF3COO-, CH3SO3 -, CF3SO3 -, (CF3SO2)3C-, C4F9SO3 -, C3F7COO-, (CF3SO2)(CF3CO)N-, (FSO2)2N-, -O3S(CF2)3SO3 -, CO3 2-, 식 (A1)~식 (A4),The anion portion of the alkali metal salt may be composed of an organic substance or an inorganic substance. As no moiety constituting the organic salts, for example, CH 3 COO -, CF 3 COO -, CH 3 SO 3 -, CF 3 SO 3 -, (CF 3 SO 2) 3 C -, C 4 F 9 SO 3 -, C 3 F 7 COO -, (CF 3 SO 2) (CF 3 CO) N -, (FSO 2) 2 N -, - O 3 S (CF 2) 3 SO 3 -, CO 3 2-, Expression (A1) to Expression (A4),

(A1): (CnF2n+1SO2)2N- (n은 1~10의 정수를 나타냄), (A1): 2 N (C n F 2n + 1 SO 2) - (n is an integer of 1-10),

(A2): CF2(CmF2mSO2)2N- (m은 1~10의 정수를 나타냄), (A2): CF 2 (C m F 2m SO 2) 2 N - (m is an integer of 1-10),

(A3): -O3S(CF2)lSO3 - (l은 1~10의 정수를 나타냄), (A3): - O 3 S (CF 2) l SO 3 - (l is an integer of 1-10),

(A4): (CpF2p+1SO2)N-(CqF2q+1SO2),(단, p 및 q는, 서로 독립적으로, 1~10의 정수를 나타냄), (A4): (C p F 2p + 1 SO 2) N - (C q F 2q + 1 SO 2), ( single, p and q are, independently of each other, an integer of 1-10),

로 나타나는 아니온부 등이 이용된다. 특히, 불소 원자를 포함하는 아니온부는, 이온 해리성이 좋은 이온 화합물이 얻어지는 점에서 바람직하게 이용된다. 무기염을 구성하는 아니온부로서는, Cl-, Br-, I-, AlCl4 -, Al2Cl7 -, BF4 -, PF6 -, ClO4 -, NO3 -, AsF6 -, SbF6 -, NbF6 -, TaF6 -, (CN)2N- 등이 이용된다. 아니온부로서는, (FSO2)2N-, (CF3O2)2N-, (C2F5SO2)2N-이 바람직하고, (FSO2)2N-, (CF3SO2)2N-이 보다 바람직하다.The anion portion represented by is used. In particular, the anion portion containing a fluorine atom is preferably used in that an ion compound having good ion dissociation properties is obtained. As no moiety constituting the inorganic salts, Cl -, Br -, I -, AlCl 4 -, Al 2 Cl 7 -, BF 4 -, PF 6 -, ClO 4 -, NO 3 -, AsF 6 -, SbF 6 -, NbF 6 -, TaF 6 -, (CN) 2 N - or the like is used. No Examples moiety, (FSO 2) 2 N - , (CF 3 O 2) 2 N -, (C 2 F 5 SO 2) 2 N - is preferable, and (FSO 2) 2 N -, (CF 3 SO 2 ) 2 N - is more preferred.

유기 카티온-아니온염은, 카티온부와 아니온부로 구성되어 있으며, 상기 카티온부가 유기물인, 유기염이다. 아니온부는 유기물이어도 되고, 무기물이어도 된다. 「유기 카티온-아니온염」은, 이온성 액체, 이온성 고체라고 칭해지는 물질이어도 된다.The organic cation-anion salt is composed of a cation portion and an anion portion, and the cation portion is an organic salt that is an organic substance. The anion portion may be an organic substance or an inorganic substance. "Organic cation-anion salt" may be a substance called an ionic liquid or an ionic solid.

카티온 성분으로서, 구체적으로는, 피리디늄 카티온, 피페리디늄 카티온, 피롤리디늄 카티온, 피롤린 골격을 가지는 카티온, 피롤 골격을 가지는 카티온, 이미다졸륨 카티온, 테트라히드로피리미디늄 카티온, 디히드로피리미디늄 카티온, 피라졸륨 카티온, 피라졸리늄 카티온, 테트라알킬암모늄 카티온, 트리알킬술포늄 카티온, 테트라알킬포스포늄 카티온 등을 들 수 있다. 아니온 성분으로서는, 상기 알칼리 금속염의 아니온부와 동일한 것을 들 수 있다. 그 중에서도, 불소 원자를 포함하는 아니온 성분은, 이온 해리성이 좋은 이온 화합물이 얻어지는 점에서 바람직하게 이용된다.As a cation component, specifically, a pyridinium cation, a piperidinium cation, a pyrrolidinium cation, a cation having a pyrroline skeleton, a cation having a pyrrole skeleton, an imidazolium cation, tetrahydropyri Midium cation, dihydropyrimidinium cation, pyrazolium cation, pyrazolium cation, tetraalkylammonium cation, trialkylsulfonium cation, tetraalkylphosphonium cation, and the like. As an anion component, the thing similar to the anion part of the said alkali metal salt is mentioned. Especially, an anion component containing a fluorine atom is preferably used in that an ion compound having good ion dissociation properties is obtained.

하드 코팅층 형성용 조성물은, 예를 들면 브롬 원자, 불소 원자, 유황 원자, 벤젠환 등을 포함하는 유기 화합물, 예를 들면 산화 주석, 산화 안티몬, 산화 티탄, 산화 지르코늄, 산화 아연, 산화 규소 등의 무기 산화물 미립자 등을 함유해도 된다. 이 경우, 얻어지는 하드 코팅층의 굴절률을 조정할 수 있어, 하드 코팅층에 저반사 기능, 반사 방지 기능 등의 광학적 기능을 부여할 수 있다.The composition for forming the hard coat layer is, for example, an organic compound containing a bromine atom, a fluorine atom, a sulfur atom, a benzene ring, etc., for example, tin oxide, antimony oxide, titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, silicon oxide, etc. You may contain inorganic oxide fine particles, etc. In this case, the refractive index of the obtained hard coating layer can be adjusted, and optical functions such as a low reflection function and an antireflection function can be imparted to the hard coating layer.

활성 에너지선 경화성 화합물을 함유하는 하드 코팅층 형성용 조성물을 광학 필름의 위에 도포한 후, 건조시킴으로써, 활성 에너지선 경화성 화합물을 함유하는 층을 형성할 수 있다. 도포는, 예를 들면 마이크로 그라비아 코팅법, 롤 코팅법, 디핑 코팅법, 스핀 코팅법, 다이 코팅법, 캐스트 전사법, 플로우 코팅법, 스프레이 코팅법과 같은 통상의 방법에 의해 행할 수 있다. 광학 적층체의 광학적 균질성을 높이기 쉬운 관점에서는, 마이크로 그라비아 코팅법 또는 다이 코팅법에 의해 하드 코팅층 형성용 조성물을 적층시키는 것이 바람직하다.A layer containing the active energy ray-curable compound can be formed by applying a composition for forming a hard coating layer containing the active energy ray-curable compound onto the optical film, followed by drying. The coating can be performed by a conventional method such as, for example, micro gravure coating, roll coating, dipping coating, spin coating, die coating, cast transfer, flow coating or spray coating. From the viewpoint of easily increasing the optical homogeneity of the optical laminate, it is preferable to laminate the composition for forming the hard coating layer by micro gravure coating or die coating.

그 후, 활성 에너지선을 조사함으로써, 광학 필름의 표면에 도공된 활성 에너지선 경화성 화합물이 경화되어, 목적으로 하는 하드 코팅층이 얻어진다. 활성 에너지선으로서는, 예를 들면 전자선, 자외선, 가시광선 등을 들 수 있고, 사용하는 활성 에너지선 경화성 화합물의 종류에 따라 적절히 선택된다. 활성 에너지선은, 통상의 하드 코팅층의 형성에 있어서와 마찬가지로 조사하면 된다. 조사하는 활성 에너지선의 강도, 조사 시간 등은, 이용하는 경화성 화합물의 종류, 경화성 화합물을 함유하는 층의 두께 등에 따라 적절히 선택된다. 활성 에너지선은, 불활성 가스 분위기 중에서 조사해도 된다. 질소 분위기 중에서 활성 에너지선을 조사하기 위해서는, 예를 들면 불활성 가스로 시일한 용기의 안에서 활성 에너지선 조사를 행하면 되고, 불활성 가스로서는, 질소 가스, 아르곤 가스 등을 사용할 수 있다.Thereafter, by irradiating the active energy ray, the active energy ray-curable compound coated on the surface of the optical film is cured to obtain a target hard coating layer. Examples of the active energy ray include electron beams, ultraviolet rays, and visible rays, and are appropriately selected according to the type of active energy ray-curable compound used. The active energy ray may be irradiated in the same way as in the formation of a normal hard coat layer. The intensity, irradiation time, etc. of the active energy ray to be irradiated are appropriately selected depending on the type of the curable compound used, the thickness of the layer containing the curable compound, and the like. The active energy ray may be irradiated in an inert gas atmosphere. In order to irradiate active energy rays in a nitrogen atmosphere, active energy ray irradiation may be performed, for example, in a container sealed with an inert gas, and nitrogen gas, argon gas, or the like can be used as the inert gas.

하드 코팅층의 표면에, 후술하는 반사 방지층이나 저반사층을 추가로 적층시키는 것도 유용하다. 이 경우의 반사 방지층이나 저반사층은, 하드 코팅층의 표면에 단층으로, 또는, 복층으로, 적층시킬 수 있다.It is also useful to additionally laminate an antireflection layer or a low reflection layer, which will be described later, on the surface of the hard coat layer. In this case, the antireflection layer or the low reflection layer can be laminated on the surface of the hard coating layer as a single layer or as a multilayer.

(대전 방지 기능)(Antistatic function)

대전 방지 기능은, 광학 필름의 표면의 대전을 방지하는 기능이다. 본 발명의 광학 적층체에 있어서, 기능층은 대전 방지 기능을 가지는 층(대전 방지층)이어도 된다. 대전 방지층을 형성하는 방법으로서는, 상기 하드 코팅층 형성용 조성물에 대전 방지제를 첨가하여 하드 코팅층에 대전 방지 기능을 부여하는 방법 이외에, 대전 방지제를 용제 등으로 희석하여 얻은 대전 방지층 형성용 조성물을, 광학 필름 또는 광학 필름 상에 적층된 기능층 상에 도공하고, 필요에 따라 건조하여, 단독의 막으로서 형성시키는 방법을 들 수 있다. 대전 방지제는, 기능층을 구성하는 수지(예를 들면 상기 서술한 활성 에너지선 경화성 화합물의 경화물)의 일부에, 대전 방지 기능을 가지는 구성 단위로서 포함되어 있어도 되고, 기능층을 형성하는 수지 중에, 첨가제로서 첨가되어 있어도 된다. 대전 방지제를 첨가제로서 첨가하는 경우에는, 그 첨가량은, 기능층 형성용 조성물의 고형분에 대하여, 바람직하게는 0.01~20질량%, 보다 바람직하게는 0.05~10질량%, 더 바람직하게는 0.1~10질량%이다.The antistatic function is a function for preventing the charging of the surface of the optical film. In the optical laminate of the present invention, the functional layer may be a layer having an antistatic function (antistatic layer). As a method of forming an antistatic layer, in addition to a method of adding an antistatic agent to the hard coating layer forming composition to impart an antistatic function to the hard coating layer, the composition for forming an antistatic layer obtained by diluting an antistatic agent with a solvent, etc. Alternatively, a method of coating a functional layer laminated on an optical film, drying it as necessary, and forming it as a single film may be mentioned. The antistatic agent may be included as a structural unit having an antistatic function in a part of the resin constituting the functional layer (for example, a cured product of the active energy ray-curable compound described above), and in the resin forming the functional layer , It may be added as an additive. When an antistatic agent is added as an additive, the amount of the addition is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.05 to 10% by mass, and even more preferably 0.1 to 10% based on the solid content of the composition for forming a functional layer. It is mass%.

(방현 기능)(Anti-glare function)

방현 기능은, 광을 산란하여 반사시킴으로써, 외광의 비침을 방지하는 기능이다. 본 발명의 광학 적층체에 있어서, 기능층은 방현 기능을 가지는 층(방현층)이어도 된다. 방현층으로서는, 공지의 것을 적절히 채용할 수 있다. 예를 들면, 투광성 수지 중에 1종류 이상의 투광성 미립자를 포함하는 수지 조성물을 이용하여, 표면에 미세한 요철 형상을 가지는 층을 형성시킴으로써, 방현 기능을 부여해도 된다. 보다 구체적으로는, 이와 같은 방현층은, 예를 들면, 필러로서의 투광성 미립자를 분산시킨 투광성 수지 용액을 광학 필름의 위에 도포하고, 투광성 미립자가 방현층의 표면에 있어서의 볼록 형상 부분이 되도록 도포의 두께를 조정함으로써 형성할 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「투광성」이란, 물질 내부에서의 산란의 유무를 불문하고, 광이 대략 투과할 수 있는 것을 의미한다.The anti-glare function is a function of preventing the reflection of external light by scattering and reflecting light. In the optical laminate of the present invention, the functional layer may be a layer having an anti-glare function (anti-glare layer). As the anti-glare layer, a known one can be appropriately employed. For example, an anti-glare function may be imparted by forming a layer having a fine concavo-convex shape on the surface by using a resin composition containing one or more kinds of translucent fine particles in a translucent resin. More specifically, such an anti-glare layer is coated with, for example, a light-transmissive resin solution in which light-transmitting fine particles as a filler are dispersed on an optical film, and the light-transmitting fine particles are convex on the surface of the anti-glare layer. It can be formed by adjusting the thickness. In addition, in this specification, "transmittance" means that light can transmit substantially regardless of the presence or absence of scattering inside the substance.

투광성 미립자Light-transmitting fine particles

투광성 미립자로서는, 예를 들면, (메타)아크릴계 수지, 멜라민 수지, 폴리에틸렌 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리카보네이트 수지, 염화 비닐 수지, 유기 실리콘 수지, 아크릴-스티렌 공중합체 등의 유기 미립자, 및, 탄산 칼슘, 실리카, 산화 알루미늄, 탄산 바륨, 황산 바륨, 산화 티탄, 유리 등의 무기 미립자를 들 수 있다. 투광성 미립자로서 1종 또는 2종 이상의 미립자를 사용할 수 있다. 원하는 방현성을 얻기 위해, 투광성 미립자의 종류, 입자경, 굴절률, 함유량 등이 적절하게 조정된다.Examples of the light-transmitting fine particles include (meth)acrylic resins, melamine resins, polyethylene resins, polystyrene resins, polycarbonate resins, vinyl chloride resins, organic silicone resins, organic fine particles such as acrylic-styrene copolymers, and calcium carbonate, And inorganic fine particles such as silica, aluminum oxide, barium carbonate, barium sulfate, titanium oxide, and glass. As the translucent fine particles, one type or two or more types of fine particles may be used. In order to obtain a desired anti-glare property, the type of light-transmitting fine particles, particle diameter, refractive index, content, etc. are appropriately adjusted.

투광성 미립자의 입경은, 바람직하게는 0.5~5㎛, 보다 바람직하게는 1~4㎛이다. 투광성 미립자의 입경이 상기의 범위 내이면, 필요한 광 확산 효과를 얻기 쉽고, 또한, 방현층의 표면에 요철이 형성되기 쉽기 때문에, 충분한 방현 효과를 얻기 쉽다. 또한, 방현층의 표면 형상이 거칠지 않아, 헤이즈값이 대폭으로 상승하지 않는 경향이 있다.The particle diameter of the translucent fine particles is preferably 0.5 to 5 μm, more preferably 1 to 4 μm. When the particle diameter of the light-transmitting fine particles is within the above range, it is easy to obtain a necessary light diffusion effect, and also, since it is easy to form irregularities on the surface of the anti-glare layer, it is easy to obtain a sufficient anti-glare effect. Moreover, the surface shape of the anti-glare layer is not rough, and the haze value tends not to increase significantly.

투광성 미립자와 투광성 수지와의 굴절률의 차는, 바람직하게는 0.02~0.2, 보다 바람직하게는 0.04~0.1이다. 굴절률차가 상기의 범위 내이면, 충분한 광확산 효과를 얻기 쉽고, 또한, 광학 적층체 전체가 백화되기 어렵다.The difference in refractive index between the translucent fine particles and the translucent resin is preferably 0.02 to 0.2, and more preferably 0.04 to 0.1. When the refractive index difference is within the above range, a sufficient light diffusion effect is easily obtained, and the entire optical laminate is difficult to whiten.

투광성 미립자의 첨가량은, 투광성 수지 100질량부에 대하여, 바람직하게는 3~30질량부, 보다 바람직하게는 5~20질량부이다. 첨가량이 상기의 범위 내이면, 충분한 광확산 효과를 얻기 쉽고, 또한, 광학 적층체 전체가 백화되기 어렵다.The added amount of the light-transmitting fine particles is preferably 3 to 30 parts by mass, more preferably 5 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the translucent resin. When the amount added is within the above range, a sufficient light diffusion effect is easily obtained, and the entire optical laminate is difficult to whiten.

투광성 미립자의 입경, 첨가량, 및/또는, 투광성 미립자와 투광성 수지와의 굴절률차를 상기와 같은 범위로 조정하는 경우, 방현층의 헤이즈가 높은 영역에서도, 투과 선명도를 저하시키지 않고, 표면의 글레어를 방지하기 쉽고, 나아가서는 헤이즈가 낮은 영역에서도, 고투과 선명도를 유지한 상태에서 글레어를 방지하기 쉽다.When the particle size, addition amount, and/or the refractive index difference between the light-transmitting fine particles and the light-transmitting resin is adjusted within the above range, even when the haze of the anti-glare layer is high, the transparency of the surface is not reduced and the glare on the surface is reduced. It is easy to prevent, and furthermore, it is easy to prevent glare while maintaining high transmittance and clarity even in areas with low haze.

투광성 수지Translucent resin

방현층을 구성하는 투광성 수지로서는, 투광성을 가지는 것이면 특별히 제한은 없고, 예를 들면, 상기 서술한 바와 같은 활성 에너지선 경화성 화합물의 경화물 외, 열경화성 수지의 경화물; 열가소성 수지; 금속 알콕시드계 폴리머 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 활성 에너지선 경화성 화합물의 경화물이 바람직하다. 활성 에너지선 경화성 화합물로서 자외선 경화성 수지 등을 이용하는 경우에는, 상기와 마찬가지로, 도공액에는 광중합 개시제(라디칼 중합 개시제)를 함유시켜도 되고, 활성 에너지선을 조사함으로써 도공층을 경화시킨다.The light-transmitting resin constituting the anti-glare layer is not particularly limited as long as it has light-transmitting properties. For example, a cured product of a thermosetting resin other than a cured product of the active energy ray-curable compound as described above; Thermoplastic resins; And metal alkoxide-based polymers. Among them, a cured product of an active energy ray-curable compound is preferred. When an ultraviolet curable resin or the like is used as the active energy ray-curable compound, as in the above, a photopolymerization initiator (radical polymerization initiator) may be contained in the coating solution, and the coating layer is cured by irradiating the active energy ray.

열경화성 수지로서는, 아크릴폴리올과 이소시아네이트 프레폴리머로 이루어지는 열경화성 우레탄 수지, 페놀 수지, 요소 멜라민 수지, 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 실리콘 수지 등을 들 수 있다.Examples of the thermosetting resin include thermosetting urethane resins composed of acrylic polyols and isocyanate prepolymers, phenol resins, urea melamine resins, epoxy resins, unsaturated polyester resins, and silicone resins.

열가소성 수지로서는, 아세틸셀룰로오스, 니트로셀룰로오스, 아세틸부틸셀룰로오스, 에틸셀룰로오스, 메틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스 유도체; 아세트산 비닐 및 그 공중합체, 염화 비닐 및 그 공중합체, 염화 비닐리덴 및 그 공중합체 등의 비닐계 수지; 폴리비닐포르말, 폴리비닐부티랄 등의 아세탈계 수지; 아크릴 수지 및 그 공중합체, 메타크릴 수지 및 그 공중합체 등의 (메타)아크릴계 수지; 폴리스티렌계 수지; 폴리아미드계 수지; 폴리에스테르계 수지; 폴리카보네이트계 수지 등을 들 수 있다.Examples of the thermoplastic resin include cellulose derivatives such as acetyl cellulose, nitrocellulose, acetylbutyl cellulose, ethyl cellulose, and methyl cellulose; Vinyl resins such as vinyl acetate and its copolymers, vinyl chloride and its copolymers, vinylidene chloride and its copolymers; Acetal resins such as polyvinyl formal and polyvinyl butyral; (Meth)acrylic resins such as acrylic resins and copolymers thereof, methacrylic resins and copolymers thereof; Polystyrene-based resins; Polyamide resins; Polyester resins; And polycarbonate resins.

금속 알콕시드계 폴리머로서는, 규소 알콕시드계의 재료를 원료로 하는 산화 규소계 매트릭스 등을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 금속 알콕시드계 폴리머는, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란 등의 알콕시실란의 가수분해물을 탈수 축합 하여 얻어지는 무기계 또는 유기 무기 복합계 매트릭스일 수 있다.As the metal alkoxide-based polymer, a silicon oxide-based matrix or the like using a silicon alkoxide-based material as a raw material can be used. Specifically, the metal alkoxide-based polymer may be an inorganic or organic-inorganic composite matrix obtained by dehydrating and condensing a hydrolyzate of an alkoxysilane such as tetramethoxysilane and tetraethoxysilane.

투광성 수지로서 열경화성 수지의 경화물, 금속 알콕시드계 폴리머를 이용하는 경우에는, 도공액을 도공한 후, 가열을 필요로 하는 경우가 있다.When a cured product of a thermosetting resin or a metal alkoxide-based polymer is used as the translucent resin, heating may be required after coating the coating solution.

또한, 일반적으로 자외선 경화성 수지의 굴절률은 약 1.5로, 유리와 동일한 정도이지만, 상기 투광성 미립자의 굴절률과의 비교에 있어서, 이용하는 자외선 경화성 수지의 굴절률이 낮은 경우가 있다. 이 경우, 투광성 수지에, 굴절률이 높은 미립자인 TiO2(굴절률; 2.3~2.7), Y2O3(굴절률; 1.87), La2O3(굴절률; 1.95), ZrO2(굴절률; 2.05), Al2O3(굴절률; 1.63) 등을, 방현층에 있어서의 광의 확산성을 보지(保持)할 수 있을 정도로 더해, 투과성 수지의 굴절률을 높여, 바람직한 범위로 조정할 수 있다.In addition, generally, the refractive index of the ultraviolet curable resin is about 1.5, which is about the same as that of glass, but in comparison with the refractive index of the translucent fine particles, the refractive index of the ultraviolet curable resin used may be low. In this case, in the translucent resin, TiO 2 (refractive index; 2.3 to 2.7), Y 2 O 3 (refractive index; 1.87), La 2 O 3 (refractive index; 1.95), ZrO 2 (refractive index; 2.05), which are fine particles having high refractive index, Al 2 O 3 (refractive index; 1.63) or the like can be added to such an extent that the diffusibility of light in the anti-glare layer can be maintained, and the refractive index of the transmissive resin can be increased and adjusted to a preferred range.

방현층 형성용 조성물은, 투광성 수지와 용매를 함유하는 조성물(예를 들면 상기의 하드 코팅층 형성용 조성물)에, 투광성 미립자를 분산시켜 제조할 수 있다. 투광성 미립자를 분산시키는 타이밍이나 분산 방법은 특별히 한정되지 않는다.The composition for forming an anti-glare layer can be prepared by dispersing light-transmitting fine particles in a composition containing a light-transmitting resin and a solvent (for example, the composition for forming the hard coating layer). The timing and dispersing method for dispersing the translucent fine particles are not particularly limited.

이 방현층 형성용 조성물(도공액)을, 광학 필름의 표면 또는 광학 필름에 적층된 기능층의 표면에 도포하고, 건조시킴으로써, 방현층을 형성할 수 있다. 도포는 통상의 방법, 예를 들면, 마이크로 그라비아 코팅법, 롤 코팅법, 디핑 코팅법, 스핀 코팅법, 다이 코팅법, 캐스트 전사법, 플로우 코팅법, 스프레이 코팅법 등의 방법에 의해 행할 수 있다. 그 후, 자외선을 조사함으로써 자외선 경화성 수지를 경화시켜도 된다. 조사하는 자외선의 강도, 조사 시간 등은, 아용하는 경화성 화합물의 종류, 경화성 화합물을 함유하는 층의 두께 등에 따라 적절히 선택된다. 자외선은, 불활성 가스 분위기 중에서 조사해도 된다. 불활성 가스 분위기 중에서 자외선을 조사하기 위해서는, 예를 들면 불활성 가스로 시일한 용기의 안에서 활성 에너지선 조사를 행하면 되고, 불활성 가스로서는, 질소 가스, 아르곤 가스 등을 사용할 수 있다.The anti-glare layer can be formed by applying this composition for anti-glare layer formation (coating solution) to the surface of the optical film or the surface of the functional layer laminated on the optical film and drying it. The coating can be carried out by a conventional method, for example, microgravure coating method, roll coating method, dipping coating method, spin coating method, die coating method, cast transfer method, flow coating method, spray coating method or the like. . Thereafter, the ultraviolet curable resin may be cured by irradiating ultraviolet light. The intensity of the ultraviolet rays to be irradiated, the irradiation time, and the like are appropriately selected depending on the type of curable compound to be used, the thickness of the layer containing the curable compound, and the like. Ultraviolet light may be irradiated in an inert gas atmosphere. In order to irradiate ultraviolet rays in an inert gas atmosphere, for example, active energy ray irradiation may be performed in a container sealed with an inert gas, and nitrogen gas, argon gas, or the like can be used as the inert gas.

방현층을 형성하는 별도의 방법으로서, 엠보싱 처리를 이용할 수 있다. 이 방법에서는, 광학 필름 또는 광학 필름에 적층된 기능층 상에, 방현층 형성용 조성물을 도공한 후, 도공층에 소정의 표면 요철 형상을 가지는 금형(엠보싱 롤)을 누르면서 도공층을 필요에 따라 경화시켜, 도공층의 표면에 요철을 부여할 수 있다. 엠보싱 롤로부터 방현층을 박리한 후, 그 방현층의 경화 반응을 더 촉진시키는 것을 목적으로 하여, 방현층측으로부터 한번 더 자외선을 조사하는 제 2 경화 공정을 실시하는 것도 유효하다.As another method of forming the antiglare layer, an embossing treatment can be used. In this method, after coating the composition for forming the anti-glare layer on the optical film or the functional layer laminated on the optical film, while pressing the mold (embossing roll) having a predetermined surface concavo-convex shape on the coating layer, the coating layer is applied as necessary. It can be hardened to impart unevenness to the surface of the coating layer. After peeling off the anti-glare layer from the embossing roll, it is also effective to perform a second curing step of irradiating ultraviolet rays once more from the anti-glare layer side for the purpose of further promoting the curing reaction of the anti-glare layer.

방현층의 헤이즈는, 바람직하게는 0.1~50%이다. 방현층의 헤이즈는, JIS K 7361에 준거한 방법에 의해 측정된다. 방현층의 두께는, 예를 들면 방현층의 헤이즈가 상기의 범위 내가 되도록 적절히 조정해도 되지만, 바람직하게는 2~20㎛이다. 방현층의 두께가 상기의 범위 내이면, 충분한 방현 효과가 얻기 쉽고, 방현층의 균열을 방지하기 쉬우며, 또한, 방현층의 경화 수축에 의해 방현층이 컬(curl)하는 것에 의한 생산성의 저하를 방지하기 쉽다. 또한, 방현층의 두께는, 일반적으로는, 분산시키는 투광성 미립자의 중량 평균 입자경에 대하여, 바람직하게는 85% 이상, 보다 바람직하게는 100% 이상이다. 방현층의 두께가 상기의 범위 내이면, 헤이즈가 지나치게 커지지 않아 시인성이 저하되기 어려운 경향이 있다.The haze of the anti-glare layer is preferably 0.1 to 50%. The haze of the anti-glare layer is measured by a method in accordance with JIS K 7361. The thickness of the anti-glare layer may be appropriately adjusted, for example, so that the haze of the anti-glare layer is within the above range, but is preferably 2 to 20 μm. When the thickness of the anti-glare layer is within the above range, a sufficient anti-glare effect is easily obtained, it is easy to prevent cracking of the anti-glare layer, and the productivity decreases due to curling of the anti-glare layer due to curing shrinkage of the anti-glare layer. It is easy to prevent. In addition, the thickness of the antiglare layer is generally 85% or more, more preferably 100% or more, with respect to the weight average particle diameter of the light-transmitting fine particles to be dispersed. When the thickness of the anti-glare layer is within the above range, the haze does not become too large, and visibility tends to be difficult to decrease.

방현층은, 대전 방지제를 함유하고 있어도 된다. 대전 방지제를 함유함으로써, 대전 방지 기능을 가지는 방현층을 얻을 수 있다. 대전 방지제로서는, 상기 서술의 하드 코팅층에 첨가하는 대전 방지제와 마찬가지의 것을 들 수 있다.The anti-glare layer may contain an antistatic agent. By containing an antistatic agent, an anti-glare layer having an antistatic function can be obtained. As an antistatic agent, the thing similar to the antistatic agent added to the above-mentioned hard coating layer is mentioned.

방현층은, 그 최표면, 즉 요철면측에 저반사층을 가지고 있어도 된다. 저반사층이 없는 상태에서도, 충분한 방현 기능을 발휘하지만, 최표면에 저반사층을 마련함으로써, 방현성을 더 향상시킬 수 있다. 저반사층으로서는, 후술한 것을 적용할 수 있다.The anti-glare layer may have a low-reflection layer on its outermost surface, that is, the uneven surface side. Although a sufficient anti-glare function is exhibited even in the absence of a low-reflection layer, the anti-glare property can be further improved by providing a low-reflection layer on the outermost surface. As the low-reflection layer, those described later can be applied.

(반사 방지 기능 및 저반사 기능)(Anti-reflection function and low-reflection function)

반사 방지 기능 및 저반사 기능은, 외광의 반사를 방지 또는 저감하는 기능이다. 본 발명의 광학 적층체에 있어서, 기능층은 외광의 반사를 방지하는 기능을 가지는 층(반사 방지층)이어도 되고, 외광의 반사를 저감하는 기능을 가지는 층(저반사층)이어도 된다. 반사 방지층 및 저반사층은, 단층이어도 다층이어도 된다.The antireflection function and the low reflection function are functions to prevent or reduce reflection of external light. In the optical laminate of the present invention, the functional layer may be a layer having a function of preventing reflection of external light (antireflection layer) or a layer having a function of reducing reflection of external light (low reflection layer). The antireflection layer and the low reflection layer may be a single layer or a multilayer.

반사 방지층Anti-reflection layer

반사 방지층은, 저굴절률층을 구비하고 있어도 된다. 또한, 반사 방지층은, 저굴절률층과, 당해 저굴절률층과 광학 필름과의 사이에 적층된 고굴절률층 및/또는 중굴절률층을 더 구비하는 다층 구조를 가지는 층이어도 된다. 반사 방지층과 광학 필름과의 사이에, 상기 서술의 하드 코팅층을 마련해도 된다.The antireflection layer may include a low refractive index layer. Further, the antireflection layer may be a layer having a multilayer structure further comprising a low refractive index layer and a high refractive index layer and/or a medium refractive index layer laminated between the low refractive index layer and the optical film. Between the antireflection layer and the optical film, a hard coating layer as described above may be provided.

반사 방지층의 두께는, 바람직하게는 0.01~1㎛, 보다 바람직하게는 0.02~0.5㎛이다. 반사 방지층으로서는, 당해 반사 방지층을 적층시키는 광학 필름 또는 기능층의 굴절률보다 작은 굴절률(예를 들면 1.3~1.45의 굴절률)을 가지는 저굴절률층; 무기 화합물로 이루어지는 박막의 저굴절률층과 무기 화합물로 이루어지는 박막의 고굴절률층을 번갈아 복수 적층한 층 등을 들 수 있다. 여기서, 고굴절률층의 굴절률은, 저굴절률층의 굴절률보다 크면 되지만, 1.60 이상인 것이 바람직하다.The thickness of the antireflection layer is preferably 0.01 to 1 μm, and more preferably 0.02 to 0.5 μm. As the antireflection layer, a low refractive index layer having a refractive index (for example, a refractive index of 1.3 to 1.45) smaller than that of the optical film or functional layer on which the antireflection layer is laminated; The layer etc. which laminated|stacking the low refractive index layer of the thin film which consists of an inorganic compound and the high refractive index layer of the thin film which consists of an inorganic compound alternately are mentioned. Here, the refractive index of the high-refractive-index layer may be greater than that of the low-refractive-index layer, but it is preferably 1.60 or more.

상기의 저굴절률층을 형성하는 재료는, 굴절률이 낮은 재료이면 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 활성 에너지선 경화성 수지(예를 들면 자외선 경화형 아크릴 수지) 등의 수지 재료, 수지 중에 콜로이달실리카 등의 무기 미립자를 분산시킨 하이브리드 재료, 테트라에톡시실란 등의 금속 알콕시드를 이용한 졸-겔 재료 등을 들 수 있다. 이들 저굴절률층을 형성하는 재료는, 중합이 끝난 폴리머여도 되고, 전구체가 되는 모노머나 올리고머여도 된다. 또한, 반사 방지층을 구성하는 재료는, 반사 방지층에 방오 기능을 부여할 수 있기 때문에, 불소를 함유하는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.The material forming the low-refractive-index layer is not particularly limited as long as it is a material having a low refractive index. For example, resin materials such as active energy ray-curable resins (for example, ultraviolet curable acrylic resins), hybrid materials in which inorganic fine particles such as colloidal silica are dispersed in resins, and sols using metal alkoxides such as tetraethoxysilane -Gel materials and the like. The material forming these low-refractive-index layers may be a polymer that has been polymerized or a monomer or oligomer that becomes a precursor. Moreover, since the material constituting the antireflection layer can impart an antifouling function to the antireflection layer, it is preferable to contain a compound containing fluorine.

고굴절률층은, 상기 서술의 활성 에너지선 경화성 수지의 경화물이나 금속 알콕시드계 폴리머 등의 투광성 수지와 무기 미립자 및/또는 유기 미립자를 함유하는 도공액을 도공한 후, 도공층을 필요에 따라 경화시키는 방법에 의해 형성할 수 있다. 무기 미립자로서는, 예를 들면, 산화 아연, 산화 티탄, 산화 세륨, 산화 알루미늄, 산화 실란, 산화 탄탈, 산화 이트륨, 산화 이테르븀, 산화 지르코늄, 산화 안티몬, 산화 인듐 주석(ITO) 등을 들 수 있다. 이들 무기 미립자를 포함하는 고굴절률층은, 대전 방지 기능도 겸비할 수 있다.The high-refractive-index layer is coated with a cured product of the above-mentioned active energy ray-curable resin or a translucent resin such as a metal alkoxide-based polymer, and a coating solution containing inorganic fine particles and/or organic fine particles, followed by curing the coating layer as necessary. It can be formed by a method. Examples of the inorganic fine particles include zinc oxide, titanium oxide, cerium oxide, aluminum oxide, silane oxide, tantalum oxide, yttrium oxide, ytterbium oxide, zirconium oxide, antimony oxide, and indium tin oxide (ITO). The high refractive index layer containing these inorganic fine particles can also have an antistatic function.

굴절률이 상이한 무기 화합물(금속 산화물 등)의 투명 박막을 적층시킨 다층막을 제조하는 방법으로서, 화학 증착(CVD)법, 물리 증착(PVD)법, 금속 알콕시드 등의 금속 화합물의 졸/겔 방법으로 콜로이드상 금속 산화물 입자 피막을 형성 후에 후처리(자외선 조사: 일본공개특허 특개평9-157855호 공보, 플라즈마 처리: 일본공개특허 특개2002-327310호 공보)하여 박막을 형성하는 방법 등을 들 수 있다.As a method of manufacturing a multilayer film in which transparent thin films of inorganic compounds (metal oxides, etc.) having different refractive indexes are laminated, as a sol/gel method of metal compounds such as chemical vapor deposition (CVD), physical vapor deposition (PVD), and metal alkoxide After forming the colloidal metal oxide particle coating, post-treatment (ultraviolet irradiation: Japanese Laid-Open Patent Publication No. Hei 9-157855, plasma treatment: Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2002-327310) and a method of forming a thin film may be mentioned. .

한편, 생산성을 향상시키기 쉬운 관점에서, 무기 입자를 매트릭스 중에 분산시킨 박막을 적층 도설(塗設)하여 반사 방지층을 적층시키는 것도 바람직하다. 또한, 무기 입자를 매트릭스 중에 분산시킨 반사 방지층 형성용 조성물을 도공함으로써, 반사 방지층을 적층시킬 때에, 도공 표면에 미세한 요철 형상을 형성함으로써, 반사 방지층에 방현 기능을 더 부여하는 것도 가능하다.On the other hand, from the viewpoint of easy to improve the productivity, it is also preferable to laminate the thin film obtained by dispersing the inorganic particles in the matrix to laminate the antireflection layer. In addition, by coating a composition for forming an antireflection layer in which inorganic particles are dispersed in a matrix, when the antireflection layer is laminated, it is also possible to impart an antiglare function to the antireflection layer by forming a fine concavo-convex shape on the coated surface.

저반사층Low reflective layer

저반사층은, 기재가 되는 광학 필름보다 굴절률이 낮은 저굴절률 재료로 형성된 층이다. 저굴절률층은, 상기 서술의 활성 에너지선 경화성 수지의 경화물이나 금속 알콕시드계 폴리머 등의 투광성 수지 및 무기 미립자를 함유하는 도공액을 도공한 후, 도공층을 필요에 따라 경화시키는 방법에 의해 형성할 수 있다. 그와 같은 저굴절률 재료로서, 구체적으로는, 불화 리튬(LiF), 불화 마그네슘(MgF2), 불화 알루미늄(AlF3), 빙정석(3NaF·AlF3 또는 Na3AlF6) 등의 무기 재료 미립자를, 아크릴계 수지나 에폭시계 수지 등에 함유시킨 무기계 저반사 재료; 불소계 또는 실리콘계의 유기 화합물, 열가소성 수지, 열경화성 수지, 자외선 경화성 수지 등의 유기계 저반사 재료를 들 수 있다.The low-reflection layer is a layer formed of a low-refractive-index material having a lower refractive index than the optical film serving as the substrate. The low-refractive-index layer is formed by coating a coating solution containing a light-transmitting resin such as a cured product of the active energy ray-curable resin or a metal alkoxide polymer and inorganic fine particles, and then curing the coating layer as necessary. can do. As such a low refractive index material, specifically, inorganic material fine particles such as lithium fluoride (LiF), magnesium fluoride (MgF 2 ), aluminum fluoride (AlF 3 ), and cryolite (3NaF·AlF 3 or Na 3 AlF 6 ) , An inorganic low-reflection material contained in an acrylic resin or an epoxy resin; And organic low-reflection materials such as fluorine-based or silicone-based organic compounds, thermoplastic resins, thermosetting resins, and ultraviolet curable resins.

(방오 기능)(Antifouling function)

방오 기능은, 오염을 방지하는 기능이며, 층에 발수성, 발유성, 내한성(耐汗性), 방오성, 내지문성 등을 부여함으로써 얻어지는 기능이다. 본 발명의 광학 적층체에 있어서, 기능층은 방오 기능을 가지는 층(방오층)이어도 된다. 방오층을 형성하기 위한 재료는, 유기 화합물이어도 되고, 무기 화합물이어도 된다. 높은 발수성과 발유성을 초래하는 재료로서, 불소 함유 유기 화합물, 유기 규소 화합물 등을 들 수 있다. 불소 함유 유기 화합물로서는, 플루오로카본, 퍼플루오로실란, 이들 고분자 화합물 등을 들 수 있다. 오염 부착의 방지 효과를 높이기 쉬운 관점에서는, 방오층 표면의 순수에 대한 접촉 각도가 90도 이상, 나아가서는 100도 이상이 되는 것 같은 재료가 바람직하다. 방오층의 형성 방법은, 형성하는 재료에 따라, 증착이나 스퍼터링을 대표예로 하는 물리적 기상 성장법, 화학적 기상 성장법, 습식 코팅법 등을 이용할 수 있다. 방오층의 평균 두께는, 통상 1~50㎚ 정도, 바람직하게는 3~35㎚이다.The antifouling function is a function for preventing contamination, and is a function obtained by imparting water repellency, oil repellency, cold resistance, antifouling properties, and anti-fingerprint properties to the layer. In the optical laminate of the present invention, the functional layer may be a layer having an antifouling function (antifouling layer). The material for forming the antifouling layer may be an organic compound or an inorganic compound. Fluorine-containing organic compounds, organosilicon compounds, and the like are mentioned as materials that cause high water repellency and oil repellency. Examples of the fluorine-containing organic compound include fluorocarbon, perfluorosilane, and these polymer compounds. From the viewpoint of easily increasing the anti-fouling effect, a material such that the contact angle of the surface of the antifouling layer with respect to pure water is 90 degrees or more, and more preferably 100 degrees or more, is preferable. As a method of forming the antifouling layer, depending on the material to be formed, physical vapor deposition, chemical vapor deposition, wet coating, or the like, which are representative examples of vapor deposition or sputtering, can be used. The average thickness of the antifouling layer is usually about 1 to 50 nm, preferably 3 to 35 nm.

(자외선 흡수 기능)(Ultraviolet absorption function)

본 발명의 광학 적층체에 있어서, 기능층은, 자외선 흡수의 기능을 가지는 자외선 흡수층이어도 된다. 자외선 흡수층은, 예를 들면, 자외선 경화형의 투광성 수지, 전자선 경화형의 투광성 수지, 및 열경화형의 투광성 수지로부터 선택되는 주재(主材)와, 이 주재에 분산된 자외선 흡수제로 구성된다.In the optical laminate of the present invention, the functional layer may be an ultraviolet absorbing layer having a function of absorbing ultraviolet rays. The ultraviolet absorbing layer is composed of, for example, a main material selected from an ultraviolet curable translucent resin, an electron beam curable translucent resin, and a thermosetting translucent resin, and an ultraviolet absorber dispersed in the main material.

(점착 기능)(Adhesive function)

본 발명의 광학 적층체에 있어서, 기능층은, 광학 필름을 다른 부재에 접착시키는 점착성의 기능을 가지는 점착층이어도 된다. 점착층의 형성 재료로서는, 통상 알려진 것을 이용할 수 있다. 예를 들면, 열경화성 수지 조성물 또는 광경화성 수지 조성물을 이용할 수 있다. 이 경우, 사후적으로 에너지를 공급함으로써 열경화성 수지 조성물 또는 광경화성 수지 조성물을 고분자화하여 경화시킬 수 있다.In the optical layered product of the present invention, the functional layer may be an adhesive layer having the adhesive function of adhering the optical film to other members. As a material for forming the adhesive layer, a commonly known one can be used. For example, a thermosetting resin composition or a photocurable resin composition can be used. In this case, the thermosetting resin composition or the photocurable resin composition can be polymerized and cured by supplying energy afterwards.

점착층은, 감압형 접착제(Pressure Sensitive Adhesive, PSA)라고 불리는, 가압에 의해 대상물에 부착되는 층이어도 된다. 감압형 접착제는, 「상온에서 점착성을 가지고, 가벼운 압력으로 피착재에 접착되는 물질」(JIS K 6800)인 점착제여도 되고, 「특정 성분을 보호 피막(마이크로캡슐)에 내용(內容)하여, 적당한 수단(압력, 열 등)에 의해 피막을 파괴할 때 까지는 안정성을 보지할 수 있는 접착제」(JIS K 6800)인 캡슐형 접착제여도 된다.The adhesive layer may be a layer attached to an object by pressing, called a pressure sensitive adhesive (PSA). The pressure-sensitive adhesive may be an adhesive that is ``substance having tackiness at room temperature and adhered to an adherend at light pressure'' (JIS K 6800), and ``contains a specific component in a protective film (microcapsule), suitable for It may be a capsule adhesive, which is an adhesive capable of maintaining stability until the film is destroyed by means (pressure, heat, etc.) (JIS K 6800).

(색상 조정 기능)(Color adjustment function)

본 발명의 광학 적층체에 있어서, 기능층은, 광학 적층체를 목적의 색상으로 조정할 수 있는 기능을 가지는 색상 조정층이어도 된다. 색상 조정층은, 예를 들면, 수지 및 착색제를 함유하는 층이다. 착색제로서는, 예를 들면, 산화 티탄, 산화 아연, 벵갈라, 티타늄옥사이드계 소성 안료, 군청, 알루민산 코발트, 및 카본 블랙 등의 무기 안료; 아조계 화합물, 퀴나크리돈계 화합물, 안트라퀴논계 화합물, 페릴렌계 화합물, 이소인돌리논계 화합물, 프탈로시아닌계 화합물, 퀴노프탈론계 화합물, 스렌계 화합물, 및 디케토피롤로피롤계 화합물 등의 유기 안료; 황산 바륨, 및 탄산칼슘 등의 체질 안료; 및 염기성 염료, 산성 염료, 및 매염 염료 등의 염료를 들 수 있다.In the optical layered product of the present invention, the functional layer may be a color adjustment layer having a function of adjusting the optical layered product to a desired color. The color adjustment layer is, for example, a layer containing a resin and a colorant. Examples of the colorant include inorganic pigments such as titanium oxide, zinc oxide, bengala, titanium oxide-based plastic pigments, ultramarine, cobalt aluminate, and carbon black; Organic pigments such as azo-based compounds, quinacridone-based compounds, anthraquinone-based compounds, perylene-based compounds, isoindolinone-based compounds, phthalocyanine-based compounds, quinophthalone-based compounds, styrene-based compounds, and diketopyrrolopyrrole-based compounds; Extender pigments such as barium sulfate and calcium carbonate; And dyes such as basic dyes, acid dyes, and mordant dyes.

<광학 적층체의 제조 방법><Method of manufacturing an optical laminate>

상기 특징을 가지는 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 다음의 공정:The method for producing the optical laminate of the present invention having the above characteristics is not particularly limited, for example, the following steps:

(a) 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지, 및 용매를 적어도 함유하는 바니시를 지지체 상에 도포하고, 건조시켜, 도막을 형성시키는 공정,(a) a step of applying a varnish containing at least a polyimide-based resin and/or a polyamide-based resin and a solvent on a support and drying it to form a coating film,

(b) 지지체로부터 도막을 박리하는 공정,(b) peeling the coating film from the support,

(c) 박리한 도막을 가열하여, 필름을 얻는 공정, 및(c) heating the peeled coating film to obtain a film, and

(d) 필름의 적어도 편면에 기능층을 적층하여, 광학 적층체를 얻는 공정(d) a step of laminating a functional layer on at least one side of the film to obtain an optical laminate

을 적어도 포함하는 제조 방법에 의해 제조할 수 있다. 본 발명은, 상기의 공정을 적어도 포함하는, 광학 적층체의 제조 방법도 제공한다.It can be manufactured by a production method comprising at least. The present invention also provides a method of manufacturing an optical laminate, which includes at least the above steps.

본 발명의 광학 적층체의 제조 방법은, 공정 (c)의 이후, 또는 공정 (d)의 이후,The manufacturing method of the optical laminated body of this invention is after process (c) or after process (d),

(e) 얻어진 필름 또는 광학 적층체를 이용하여 투영법에 의해 얻어진 투영 화상을 푸리에 변환하여 얻은 필름 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h 및 방향 v에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h 및 라인 프로파일 v라고 하고, 상기 투영법에 있어서 상기 필름 또는 상기 광학 적층체를 이용하지 않고 얻은 배경 화상을 푸리에 변환하여 얻은 배경 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h' 및 방향 v'에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h' 및 라인 프로파일 v'라고 하며, 라인 프로파일 h로부터 라인 프로파일 h'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (h-h')의 최대 강도를 Ymh라고 하고, 최대 강도 Ymh를 나타내는 주파수를 Xmh라고 하며, 라인 프로파일 v로부터 라인 프로파일 v'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (v-v')의 최대 강도를 Ymv라고 하고, 최대 강도 Ymv를 나타내는 주파수를 Xmv라고 하였을 때의, Ymh 및 Ymv의 값, 및, Ymh, Ymv, Xmh 및 Xmv로부터 산출되는 (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값에 의거하여, 필름을 평가하는 공정(e) The line profiles in directions h and v, which are orthogonal to each other, on the film inverse space obtained by Fourier transforming the projected image obtained by the projection method using the obtained film or optical laminate, respectively, are the line profile h and the line profile, respectively. v, and the line profiles in the directions h'and v'which are orthogonal to each other in the background inverse space obtained by Fourier transforming the background image obtained without using the film or the optical laminate in the above projection method, respectively. The line profile h'and the line profile v'are called, and the maximum intensity of the line profile (h-h') obtained by subtracting the line profile h'from the line profile h is called Y mh , and the frequency representing the maximum intensity Y mh is X mh. Y mh and Y when the maximum intensity of the line profile (v-v') obtained by subtracting the line profile v'from the line profile v is Y mv , and the frequency representing the maximum intensity Y mv is X mv . The process of evaluating a film based on the value of mv and the value of (Y mh +Y mv )/(X mh +X mv ) 1/2 calculated from Y mh , Y mv , X mh and X mv

을 더 포함해도 된다.You may further include.

상기의 공정 (a)에서 사용하는 바니시는, 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지 및 용매를 적어도 함유한다. 여기서, 바니시의 점도(cps)와 바니시의 고형분 농도(질량%)는, 다음의 관계:The varnish used in the above step (a) contains at least a polyimide resin and/or a polyamide resin and a solvent. Here, the viscosity (cps) of the varnish and the solid content concentration (mass %) of the varnish are as follows:

Figure pat00018
Figure pat00018

를 충족시키는 것이 바람직하다.It is desirable to meet.

우선, 바니시를 지지체 상에 도포하고, 건조시켜, 도막을 형성시키는 공정 (a)에 대하여 설명한다. 바니시에 함유되는 수지로서는, 광학 필름에 포함되는 수지로서 상기에 기재한 수지를 들 수 있다. 또한, 바니시에는, 상기에 서술한 자외선 흡수제, 필러, 그 밖의 첨가제가 함유되어 있어도 된다.First, the step (a) of applying the varnish on a support and drying it to form a coating film will be described. Examples of the resin contained in the varnish include the resins described above as resins included in the optical film. Further, the varnish may contain the ultraviolet absorber, filler, and other additives described above.

바니시에 함유되는 용매는, 상기 수지를 용해 가능하면 특별히 한정되지 않는다. 이러한 용매로서는, 예를 들면 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc), N,N-디메틸포름아미드 등의 아미드계 용매; γ-부티로락톤(GBL), γ-발레로락톤 등의 락톤계 용매; 디메틸술폰, 디메틸술폭시드, 술포란 등의 함유황계 용매; 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등의 카보네이트계 용매; 및 그들의 조합(혼합 용매)을 들 수 있다. 이들 중에서도, 광학 적층체의 광학적 균질성을 높이기 쉬운 관점에서, 아미드계 용매 또는 락톤계 용매가 바람직하다. 이들 용매는 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 또한, 바니시에는 물, 알코올계 용매, 케톤계 용매, 비환상 에스테르계 용매, 에테르계 용매 등이 포함되어도 된다. 바니시의 고형분 농도는, 바람직하게는 1~25질량%, 보다 바람직하게는 5~20질량%이다.The solvent contained in the varnish is not particularly limited as long as the resin can be dissolved. Examples of such a solvent include amide solvents such as N,N-dimethylacetamide (DMAc) and N,N-dimethylformamide; lactone-based solvents such as γ-butyrolactone (GBL) and γ-valerolactone; Sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide and sulfolane; Carbonate-based solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; And combinations thereof (mixed solvents). Among these, an amide-based solvent or a lactone-based solvent is preferred from the viewpoint of easily increasing the optical homogeneity of the optical laminate. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Further, the varnish may include water, an alcohol solvent, a ketone solvent, an acyclic ester solvent, an ether solvent, and the like. The solid content concentration of the varnish is preferably 1 to 25% by mass, more preferably 5 to 20% by mass.

바니시는, 상기 수지, 용매 및 필요에 따라 이용되는 자외선 흡수제, 필러 및 그 밖의 첨가제를 혼합하여, 교반함으로써 조제할 수 있다. 예를 들면, 상기의 디카르본산 화합물, 테트라카르본산 화합물, 및/또는 디아민 화합물, 및 상기의 그 밖의 원료를 반응시켜 얻은, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 반응액을, 용매 및 경우에 따라 다른 첨가제와 함께 혼합하여, 교반함으로써, 바니시를 조제해도 된다. 반응액으로부터 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지를 단리하여, 용매 등과 혼합함으로써, 바니시를 조제해도 되고, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 용액이나 고체를 구입하여, 필요에 따라 용매 등과 혼합 함으로써, 바니시를 조제해도 된다. 또한, 필러로서 실리카를 이용하는 경우, 실리카를 포함하는 실리카졸의 분산액을, 상기 수지가 용해 가능한 용매, 예를 들면 하기의 바니시의 조제에 이용되는 용매로 치환한 실리카졸을 이용하여 바니시를 조제해도 된다.The varnish can be prepared by mixing and stirring the resin, a solvent, and an ultraviolet absorber, a filler, and other additives used as necessary. For example, a reaction solution of a polyimide-based resin or a polyamide-based resin obtained by reacting the above-described dicarboxylic acid compound, tetracarboxylic acid compound, and/or diamine compound, and other raw materials described above is a solvent and a case If necessary, the varnish may be prepared by mixing with other additives and stirring. The varnish may be prepared by isolating a polyimide-based resin or a polyamide-based resin from a reaction solution and mixing with a solvent or the like, or by purchasing a solution or solid of a polyimide-based resin or a polyamide-based resin, and mixing with a solvent and the like as necessary. By doing so, the varnish may be prepared. In addition, when using silica as a filler, the varnish may be prepared by using a silica sol obtained by dispersing a dispersion of silica sol containing silica with a solvent in which the resin is soluble, for example, a solvent used in the preparation of the following varnish. do.

상기와 같이 하여 조제한 바니시의 점도(cps)와, 바니시의 고형분 농도(질량%)는 특별히 한정되지 않지만, 우수한 광학적 균질성을 가지는 광학 적층체를 얻기 쉬운 관점에서는, 이들이 다음의 관계:The viscosity (cps) of the varnish prepared as described above and the solid content concentration (mass%) of the varnish are not particularly limited, but from the viewpoint of easy to obtain an optical laminate having excellent optical homogeneity, these are the following relationships:

Figure pat00019
Figure pat00019

를 충족시키는 것이 바람직하다. 여기서, 바니시의 점도(cps)는, JIS K 8803:2011에 따라, E형 점도계를 이용하여, 25℃에서 측정된다. 또한, 바니시의 고형분 농도는, 바니시에 함유되는 수지, 필러 및 첨가제 등의 농도(질량%)를 나타내고, 바니시의 전체 질량에 의거한 바니시에 함유되는 고형분의 질량으로부터 산출된다. 상기 식으로 나타나는 바니시의 점도와 바니시의 고형분 농도와의 곱은, 광학 적층체의 광학적 균질성을 높이기 쉬운 관점에서, 바람직하게는 3,000 이상, 보다 바람직하게는 3,500 이상이다. 상기 식으로 나타나는 바니시의 점도와 바니시의 고형분 농도와의 곱의 상한은 특별히 한정되지 않지만, 바니시의 핸들링의 관점에서는, 바람직하게는 10,000 이하, 보다 바람직하게는 7,000 이하이다.It is desirable to meet. Here, the viscosity (cps) of the varnish is measured at 25°C using an E-type viscometer according to JIS K 8803:2011. In addition, the solid content concentration of the varnish indicates the concentration (mass %) of the resin, filler, and additives contained in the varnish, and is calculated from the mass of the solid content contained in the varnish based on the total mass of the varnish. The product of the viscosity of the varnish represented by the formula and the solid content concentration of the varnish is preferably 3,000 or more, more preferably 3,500 or more from the viewpoint of easy to increase the optical homogeneity of the optical laminate. Although the upper limit of the product of the viscosity of the varnish represented by the formula and the solid content concentration of the varnish is not particularly limited, from the viewpoint of handling the varnish, it is preferably 10,000 or less, more preferably 7,000 or less.

바니시의 점도는, 바람직하게는 5,000~60,000cps, 보다 바람직하게는 10,000~50,000cps, 더 바람직하게는 15,000~45,000cps이다. 바니시의 점도가 상기의 하한 이상이면, 본 발명의 효과를 얻기 쉽고, 상기의 상한 이하이면, 바니시의 핸들링을 향상시키기 쉽다.The viscosity of the varnish is preferably 5,000 to 60,000 cps, more preferably 10,000 to 50,000 cps, and more preferably 15,000 to 45,000 cps. When the viscosity of the varnish is more than the above lower limit, it is easy to obtain the effect of the present invention, and when it is less than the above upper limit, it is easy to improve the handling of the varnish.

바니시의 고형분 농도는, 바람직하게는 5~25질량%, 보다 바람직하게는 10~23질량%, 더 바람직하게는 14~20질량%이다. 바니시의 고형분 농도가 상기의 하한 이상인 것이, 두꺼운 막을 얻는 관점에서 바람직하고, 상기의 상한 이하인 것이, 바니시의 핸들링하기 쉬운 관점에서 바람직하다.The solid content concentration of the varnish is preferably 5 to 25% by mass, more preferably 10 to 23% by mass, and even more preferably 14 to 20% by mass. It is preferable from the viewpoint of obtaining a thick film that the solid content concentration of the varnish is equal to or greater than the above lower limit, and it is preferable from the viewpoint of easy handling of the varnish that it is below the upper limit.

지지체로서는, 예를 들면 수지 기재, 스테인리스강 벨트, 유리 기재 등을 들 수 있다. 지지체로서, 수지 필름 기재를 사용하는 것이 바람직하다. 수지 필름 기재로서는, 예를 들면 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름, 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 필름, 시클로올레핀계(COP) 필름, 아크릴계 필름, 폴리이미드 필름, 폴리아미드이미드 필름 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 평활성, 내열성이 우수한 관점에서, PET 필름, COP 필름 등이 바람직하고, 또한 광학 필름과의 밀착성 및 비용의 관점에서, PET 필름이 보다 바람직하다.As a support body, a resin base material, a stainless steel belt, a glass base material etc. are mentioned, for example. It is preferable to use a resin film substrate as a support. Examples of the resin film substrate include polyethylene terephthalate (PET) films, polyethylene naphthalate (PEN) films, cycloolefin-based (COP) films, acrylic films, polyimide films, and polyamideimide films. Especially, PET film, COP film, etc. are preferable from a viewpoint of excellent smoothness and heat resistance, and a PET film is more preferable from a viewpoint of adhesiveness with an optical film and cost.

지지체의 두께는, 특별히 제한되지 않지만, 바람직하게는 50~250㎛, 보다 바람직하게는 100~200㎛, 더 바람직하게는 125~200㎛이다. 지지체의 두께가 상기의 상한 이하인 경우, 필름의 제조 비용을 억제하기 쉽기 때문에 바람직하다. 또한, 지지체의 두께가 상기의 하한 이상인 것이, 용매의 적어도 일부를 제거하는 공정에서 발생할 수 있는 필름의 컬을 억제하기 쉽기 때문에 바람직하다. 여기서, 지지체의 두께는, 접촉식의 막후계 등에 의해 측정된다. 광학 적층체의 면 품질을 향상시키기 쉽고, 본 발명의 광학 적층체를 제조하기 쉬운 관점에서, 지지체의 두께 분포는, 바람직하게는 ±3㎛ 이하, 보다 바람직하게는 ± 2.5㎛ 이하, 더 바람직하게는 ±2㎛ 이하이다. 지지체의 두께 분포는, 상기 두께의 측정 방법에 따라, 필름의 적어도 20개소에 있어서 두께를 측정하고, 20개소의 평균 두께를 산출하여, 각 개소에 있어서의 두께와 평균 두께와의 차로부터 산출한다.The thickness of the support is not particularly limited, but is preferably 50 to 250 μm, more preferably 100 to 200 μm, and even more preferably 125 to 200 μm. When the thickness of the support is less than or equal to the above upper limit, it is preferable because it is easy to suppress the production cost of the film. In addition, it is preferable that the thickness of the support is equal to or more than the lower limit because it is easy to suppress curl of the film that may occur in the process of removing at least a part of the solvent. Here, the thickness of the support is measured by a contact-type film thickness meter or the like. From the viewpoint of easy to improve the surface quality of the optical laminate, and easy to manufacture the optical laminate of the present invention, the thickness distribution of the support is preferably ±3 μm or less, more preferably ± 2.5 μm or less, and more preferably Is ±2 μm or less. The thickness distribution of the support is measured by measuring the thickness in at least 20 places of the film according to the above-mentioned measuring method of the thickness, calculating the average thickness of the 20 places, and calculating from the difference between the thickness in each location and the average thickness. .

바니시를 지지체 상에 도포할 때, 공지의 도포 방법에 의해 지지체에 대한 도포를 행해도 된다. 공지의 도포 방법으로서는, 예를 들면 와이어 바 코팅법, 리버스 코팅, 그라비아 코팅 등의 롤 코팅법, 다이 코팅법, 콤마 코팅법, 립 코팅법, 스핀 코팅법, 스크린 코팅법, 파운틴 코팅법, 디핑법, 스프레이법, 유연(流涎) 성형법 등을 들 수 있다.When applying the varnish on the support, you may apply to the support by a known coating method. As a known coating method, for example, a roll coating method such as wire bar coating method, reverse coating, gravure coating, die coating method, comma coating method, lip coating method, spin coating method, screen coating method, fountain coating method, di And a ping method, a spraying method, and a flexible molding method.

이어서, 지지체 상에 도포한 바니시의 도막을 건조시킴으로써, 도막을 형성시킬 수 있다. 건조는, 바니시의 도막으로부터 적어도 일부의 용매를 제거함으로써 행해지고, 건조 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면 지지체 상에 도포한 바니시의 도막을 가열함으로써 건조를 행해도 된다. 이하에 있어서, 공정 (a)에 있어서의 건조를 「제 1 건조」라고도 칭하고, 건조 후에 지지체 상에 형성된 도막을, 「건조 도막」이라고도 칭한다. 건조 도막은, 바니시에 포함되어 있던 용매가 모두 건조된 도막이어도 되고, 일부의 용매가 건조된 반건조 상태의 도막이어도 된다. 제 1 건조는, 필요에 따라, 불활성 분위기 또는 감압의 조건하에서 실시해도 된다. 제 1 건조는 비교적 저온에서 시간을 들여 행하는 것이 바람직하다. 비교적 저온에서 시간을 들여 제 1 건조를 행하면, 상기의 식에 있어서의 Ymh 및 Ymv의 값을 저하시키기 쉬워, (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값을 저하시키기 쉽고, 광학 적층체의 광학적 균질성을 높이기 쉽다.Next, the coating film can be formed by drying the coating film of the varnish applied on the support. Drying is performed by removing at least a part of the solvent from the varnish coating film, and the drying method is not particularly limited. For example, drying may be performed by heating the coating film of the varnish applied on the support. In the following, drying in step (a) is also referred to as "first drying", and the coating film formed on the support after drying is also referred to as "dry coating". The dry coating film may be a coating film in which all of the solvent contained in the varnish is dried, or a coating film in a semi-dry state in which some solvents are dried. If necessary, the first drying may be performed under an inert atmosphere or under reduced pressure. It is preferable that the first drying is performed at a relatively low temperature over time. If the first drying is performed at a relatively low temperature for a long time, the values of Y mh and Y mv in the above formula are easily reduced, and the values of (Y mh +Y mv )/(X mh +X mv ) 1/2 It is easy to lower, and it is easy to increase the optical homogeneity of the optical laminate.

특히 본 발명의 광학 적층체를 공업적으로 제조하는 경우, 래버러토리 레벨에서의 제조 환경과 비교하여 실제의 제조 환경은 광학적 균질성을 높이는데 불리한 경우가 많고, 그 결과, 광학 적층체의 광학적 균질성을 높이는 것이 곤란한 경우가 있다. 제 1 건조를 비교적 저온에서 시간을 들여 행하는 것이 바람직한 것은 상기에 서술한 바와 같지만, 실험실 레벨에서는, 제 1 건조를 행할 때에, 건조를 밀폐한 건조기 내에서 행할 수 있기 때문에, 외적 요인에 의한 광학 적층체의 표면의 거칠기는 비교적 발생하기 어렵다. 이에 비하여, 광학 적층체를 공업적으로 제조하는 경우에는, 예를 들면 제 1 건조에 있어서 넓은 면적을 가열할 필요가 있기 때문에, 가열 시에 송풍 장치를 사용하는 경우도 있다. 그 결과, 광학 필름의 표면 상태가 거칠어지기 쉬워져, 필름의 광학적 균질성을 높이는 것이 곤란하다.In particular, when the optical layered product of the present invention is industrially produced, compared to the production environment at the laboratory level, the actual production environment is often disadvantageous to increase the optical homogeneity, and as a result, the optical homogeneity of the optical layered product. It may be difficult to increase. It is as described above that it is preferable to perform the first drying at a relatively low temperature over time, but at the laboratory level, when the first drying is performed, drying can be performed in a sealed dryer, so that optical lamination due to external factors The roughness of the surface of the sieve is relatively difficult to occur. On the other hand, in the case of industrially manufacturing an optical laminate, for example, because it is necessary to heat a large area in the first drying, a blower may be used during heating. As a result, the surface state of the optical film tends to be rough, making it difficult to increase the optical homogeneity of the film.

가열에 의해 건조를 행하는 경우, 특히 광학 적층체를 공업적으로 제조할 때의 상기와 같은 외적 요인도 고려하면, 제 1 건조 시의 가열 온도는, 바람직하게는 60~150℃, 보다 바람직하게는 60~130℃, 더 바람직하게는 70~120℃이다. 제 1 건조의 시간은 바람직하게는 5~60분, 보다 바람직하게는 10~40분이다. 제 1 건조는, 1단계 또는 다단계의 조건하에서 실시해도 되지만, 특히 광학 적층체를 공업적으로 제조할 때의 상기와 같은 외적 요인도 고려하면, 3단계 이상의 가열 온도 조건하에서 실시하는 것이 바람직하다. 다단계의 조건하에서 건조를 행하는 경우, 바람직하게는, 각각의 단계에 있어서, 동일 또는 상이한 온도 조건 및/또는 건조 시간으로 건조를 실시할 수 있고, 예를 들면 3~10단계, 바람직하게는 3~8단계의 조건하에서 건조를 행해도 된다. 제 1 건조를 다단계의 조건으로 실시하면, 광학 적층체의 광학적 균질성을 높이기 쉽다. 3단계 이상의 다단계의 조건하에서 제 1 건조를 행하는 본 발명의 바람직한 일 실시 형태에서는, 제 1 건조의 온도 프로파일이 승온 및 강온을 포함하는 것이 바람직하다. 즉, 공정 (a)에 있어서의 건조 조건이, 온도 프로파일이 승온 및 강온을 포함하는 3단계 이상의 가열 온도 조건인 것이 보다 바람직하다. 이와 같은 온도 프로파일로서, 4단계의 경우를 예로 들면, 제 1 건조의 온도는, 차례로 70~90℃(제 1 온도), 90~120℃(제 2 온도), 80~120℃(제 3 온도) 및 80~100℃(제 4 온도)이다. 이 예에서는, 제 1 건조의 온도는, 제 1 온도로부터 제 2 온도로 승온하고, 이어서 제 2 온도로부터 제 3 온도로 강온하며, 또한 제 3 온도로부터 제 4 온도로 강온한다. 여기서 제 1 건조의 시간은 각 단계에 있어서, 예를 들면, 5~15분이다. 건조 도막의 용매 잔존량이, 건조 도막의 질량에 대하여, 바람직하게는 5~15질량%, 보다 바람직하게는 6~12질량%가 되도록, 제 1 건조를 실시하는 것이 바람직하다. 용매 잔존량이 상기의 범위이면, 광학 필름 또는 광학 적층체의 상기의 식에 있어서의 Ymh 및 Ymv의 값을 저하시키기 쉬워, (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값을 저하시키기 쉽다. 또한, 계속해서 공정 (b)에 있어서, 지지체로부터 도막을 박리할 때의 박리성을 높이기 쉽다. 그 결과, 광학 적층체의 광학적 균질성을 높이기 쉽다. 용매의 잔존량은, 각 공정의 건조 온도를 높게 하는 것 및 건조 시간을 길게 하는 것에 의해, 저하된다. 이 때문에, 원하는 범위의 용매 잔존량이 되도록, 건조 온도나 건조 시간을 조정하여, 광학 적층체의 광학적 균질성을 높일 수 있다.In the case of drying by heating, in consideration of the above external factors, particularly when industrially manufacturing the optical laminate, the heating temperature during the first drying is preferably 60 to 150°C, more preferably 60 to 130°C, more preferably 70 to 120°C. The time for the first drying is preferably 5 to 60 minutes, more preferably 10 to 40 minutes. The first drying may be performed under the conditions of one step or multiple steps, but it is preferable to perform under three or more stages of heating temperature conditions, especially considering the external factors described above when industrially manufacturing the optical laminate. When drying under conditions of multiple stages, preferably, in each stage, drying may be performed at the same or different temperature conditions and/or drying times, for example, 3 to 10 stages, preferably 3 to Drying may be performed under the conditions of step 8. When the first drying is performed under conditions of multiple stages, it is easy to increase the optical homogeneity of the optical laminate. In a preferred embodiment of the present invention in which the first drying is performed under conditions of three or more stages, it is preferable that the temperature profile of the first drying includes an elevated temperature and a reduced temperature. That is, it is more preferable that the drying conditions in the step (a) are heating temperature conditions of three or more stages in which the temperature profile includes elevated temperature and reduced temperature. As such a temperature profile, for example in the case of four steps, the temperature of the first drying is, in turn, 70 to 90°C (first temperature), 90 to 120°C (second temperature), and 80 to 120°C (third temperature) ) And 80 to 100°C (fourth temperature). In this example, the temperature of the first drying is raised from the first temperature to the second temperature, and then the temperature is decreased from the second temperature to the third temperature, and further from the third temperature to the fourth temperature. Here, the time for the first drying is 5 to 15 minutes in each step, for example. It is preferable to perform 1st drying so that the solvent residual amount of a dry coating film becomes 5-15 mass% with respect to the mass of a dry coating film, More preferably, it is 6-12 mass %. When the residual amount of the solvent is within the above range, it is easy to lower the values of Y mh and Y mv in the above formula of the optical film or optical laminate, (Y mh +Y mv )/(X mh +X mv ) 1/ It is easy to lower the value of 2 . Moreover, it is easy to improve peelability at the time of peeling a coating film from a support body in a process (b) continuously. As a result, it is easy to increase the optical homogeneity of the optical laminate. The residual amount of the solvent is lowered by increasing the drying temperature of each step and increasing the drying time. For this reason, it is possible to adjust the drying temperature and the drying time so that the residual amount of the solvent in the desired range can improve the optical homogeneity of the optical laminate.

이어서, 공정 (b)에 있어서, 지지체로부터 건조시킨 도막을 박리한다. 박리 방법은 특별히 한정되지 않고, 지지체를 고정시킨 상태에서 도막을 이동시켜 박리를 행해도 되고, 도막을 고정시킨 상태에서 지지체를 이동시켜 박리를 행해도 되며, 도막 및 지지체의 양방을 이동시킴으로써 박리를 행해도 된다.Next, in the step (b), the dried coating film is peeled from the support. The peeling method is not particularly limited, and may be performed by moving the coating film while the support is fixed, and may be removed by moving the support while the coating film is fixed, and peeling may be performed by moving both the coating film and the support. You may do it.

이어서, 공정 (c)에 있어서, 공정 (b)에서 박리한 도막을 가열함으로써, 광학 필름을 얻을 수 있다. 공정 (c)에 있어서의 가열 공정을, 이하에 있어서, 「제 2 건조」 또는 「포스트 베이크」라고도 칭하고, 공정 (b)에서 박리한 도막을, 이하에 있어서, 「박리 도막」이라고도 칭한다. 공정 (c)에 있어서, 박리 도막을 면내 방향으로 신장시킨 상태에서, 포스트 베이크를 실시하는 것이 바람직하다. 제 2 건조 시의 가열 온도는, 바람직하게는 150~300℃, 보다 바람직하게는 180~250℃, 더 바람직하게는 180~230℃이다. 제 2 건조에 있어서의 가열 시간은, 바람직하게는 10~60분, 보다 바람직하게는 30~50분이다. 건조 도막을 면내 방향으로 균일하게 신장시킨 상태에서 포스트 베이크 처리를 실시하면, 광학 필름 또는 광학 적층체의 상기의 식에 있어서의 Ymh 및 Ymv의 값을 저하시키기 쉬워, (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값을 저하시키기 쉽다.Next, in step (c), an optical film can be obtained by heating the coating film peeled in step (b). The heating step in step (c) is also referred to as "second drying" or "post bake" in the following, and the coating film peeled in step (b) is also referred to as "peel coating film" below. In step (c), it is preferable to perform post-baking in a state in which the release coating film is stretched in the in-plane direction. The heating temperature during the second drying is preferably 150 to 300°C, more preferably 180 to 250°C, and even more preferably 180 to 230°C. The heating time in the second drying is preferably 10 to 60 minutes, more preferably 30 to 50 minutes. When the post-baking treatment is performed while the dry coating film is uniformly stretched in the in-plane direction, it is easy to lower the values of Y mh and Y mv in the above formula of the optical film or optical laminate, (Y mh +Y mv )/(X mh +X mv ) It is easy to decrease the value of 1/2 .

공정 (3)에 있어서 도막을 가열할 때, 도막에 장력을 가해, 도막을 면내 방향으로 신장시킨 상태에서 가열을 행하는 것이 바람직하다. 장력을 가하면서 가열함으로써, 건조에 의한 도막의 수축에 의해 발생하는 필름의 광학적 균질성의 저하를 억제하기 쉽고, 그 결과, 광학 필름 또는 광학 적층체의 상기의 식에 있어서의 Ymh 및 Ymv의 값을 저하시키기 쉬워, (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값을 저하시키기 쉽고, 광학적 균질성을 높이기 쉽다.When heating the coating film in the step (3), it is preferable to perform heating in a state in which tension is applied to the coating film and the coating film is stretched in the in-plane direction. By heating while applying tension, it is easy to suppress a decrease in the optical homogeneity of the film caused by shrinkage of the coating film due to drying, and as a result, Y mh and Y mv in the above formula of the optical film or optical laminate It is easy to decrease the value, and it is easy to decrease the value of (Y mh +Y mv )/(X mh +X mv ) 1/2 , and it is easy to increase the optical homogeneity.

본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 롤·투·롤 방식으로 광학 필름을 제조하는 경우, 박리 도막을 반송 방향으로 신장시킨 상태로 건조시켜도 된다. 또한, 매엽식으로 광학 필름을 제조하는 경우, 면내 방향으로 균일하게 신장시킨 상태에서 건조시켜도 된다. 롤·투·롤 방식에 있어서의 반송 속도는, 광학 적층체의 광학적 균질성을 높이기 쉬운 관점에서, 바람직하게는 0.1~10m/분, 보다 바람직하게는 0.5~8m/분, 더 바람직하게는 0.5~5m/분이다.In one embodiment of the present invention, when an optical film is produced by a roll-to-roll method, the peeling coating film may be dried while being stretched in the conveying direction. Moreover, when manufacturing an optical film in single sheet type, you may dry in the state extended uniformly in the in-plane direction. The conveyance speed in the roll-to-roll method is preferably from 0.1 to 10 m/min, more preferably from 0.5 to 8 m/min, and even more preferably from 0.5 to 10, from the viewpoint of easily increasing the optical homogeneity of the optical laminate. It is 5 m/min.

예를 들면 롤·투·롤 방식에 의해 광학 필름을 제조하는 경우, 소정의 폭을 가지는 장척(長尺) 띠 형상의 도막을 반송하면서 가열함으로써, 광학 필름을 얻을 수 있다. 여기서, 도막에 장력을 가하면서 가열을 행하는 경우, 그 방법은 어떠한 한정도 되지 않지만, 예를 들면 반송되는 장척 띠 형상의 필름의 양단부를 각각 파지하고, 파지된 필름을 반송하면서, 파지된 필름의 폭을 소정의 거리로 하여, 예를 들면 건조기 내를 반송하면서, 열처리를 행한다. 이 때에, 열처리 전의 필름의 폭(단, 파지부를 폭에 포함시키지 않음)에 대한 열처리 후의 필름의 폭(단, 파지부를 폭에 포함시키지 않음)의 비를 1.1 이하로 하고, 그리고, 건조기로부터 나온 수지 필름의 파지를 해제함으로써, 공정 (3)을 행하는 것이 바람직하다.For example, in the case of manufacturing an optical film by a roll-to-roll method, an optical film can be obtained by heating while conveying a long band-shaped coating film having a predetermined width. Here, in the case where heating is performed while applying tension to the coating film, the method is not limited, but, for example, each of the ends of the long strip-shaped film to be conveyed is gripped, respectively, while the gripped film is conveyed. Heat treatment is performed while setting the width to a predetermined distance, for example, while conveying the inside of the dryer. At this time, the ratio of the width of the film after the heat treatment (however, the gripping portion is not included in the width) to the width of the film before heat treatment (however, the gripping portions are not included in the width) is set to 1.1 or less, and the dryer It is preferable to perform the process (3) by releasing the gripping of the resin film from.

열처리 전의 필름의 폭(단, 파지부를 폭에 포함시키지 않음)에 대한 열처리 후의 필름의 폭(단, 파지부를 폭에 포함시키지 않음)의 비(이하, 연신 배율이라고 하는 경우가 있음)는, 바람직하게는 0.70~1.10이며, 보다 바람직하게는 0.80~1.05이고, 더 바람직하게는, 0.85~1.03이다.The ratio of the width of the film after the heat treatment (however, the gripping part is not included in the width) to the width of the film before the heat treatment (however, the gripping part is not included in the width) (hereinafter sometimes referred to as stretching ratio) , Preferably it is 0.70-1.10, More preferably, it is 0.80-1.05, More preferably, it is 0.85-1.03.

필름의 파지는, 예를 들면, 복수의 클립을 이용함으로써 행해진다.Gripping of the film is performed, for example, by using a plurality of clips.

당해 복수의 클립은, 반송 장치의 크기에 따라, 소정의 길이의 엔드리스 체인에 고정될 수 있고, 당해 체인이 필름과 동일한 속도로 움직이며, 당해 체인의 적절한 위치에, 클립이 설치되어 있고, 건조기에 들어가기 전에 투명 수지 필름을 파지하며, 건조기를 나온 시점에서 파지가 해제된다.The plurality of clips can be fixed to an endless chain of a predetermined length, depending on the size of the conveying device, the chain moves at the same speed as the film, and the clip is installed at an appropriate position of the chain, and the dryer The transparent resin film is gripped before entering, and the gripping is released when the dryer exits.

필름의 일방 단(端)에 설치되는 복수의 클립은, 그 인접하는 클립 사이의 공간이 예를 들면, 1~50㎜, 바람직하게는 3~25㎜, 보다 바람직하게는 5~10㎜가 되도록, 설치된다.In a plurality of clips provided at one end of the film, the space between the adjacent clips is, for example, 1 to 50 mm, preferably 3 to 25 mm, more preferably 5 to 10 mm. , Is installed.

또한, 필름 반송축과 직교하는 직선을, 필름의 일방 단의 임의의 클립의 파지부 중앙에 맞췄을 때, 당해 직선과 필름의 타단과의 교점과, 당해 교점에 가장 가까운 클립의 파지부 중앙과의 거리가, 바람직하게는 3㎜ 이하, 보다 바람직하게는 2㎜ 이하, 더 바람직하게는 1㎜ 이하가 되도록 할 수 있다. 당해 거리가 상기의 범위에 있음으로써, 필름의 특히 좌우에서의 균질성을 높이기 쉽다.In addition, when the straight line orthogonal to the film transport axis is aligned with the center of the grip portion of any clip at one end of the film, the intersection of the straight line with the other end of the film and the grip center of the clip closest to the intersection point The distance of can be preferably 3 mm or less, more preferably 2 mm or less, and more preferably 1 mm or less. When the said distance is in the said range, it is easy to improve the homogeneity of the film especially in left and right.

열처리 전의 필름의 폭에 대한 열처리 후의 필름의 폭의 비가 상기 범위에 있으면, 필름 외관이 양호해지는 경향이 있다.When the ratio of the width of the film after heat treatment to the width of the film before heat treatment is in the above range, the film appearance tends to be good.

열처리 후의 필름 중의 용매량은, 필름의 질량을 기준으로 하여, 바람직하게는 0.001~3질량%, 보다 바람직하게는 0.001~2질량%, 더 바람직하게는 0.001~1.5질량%, 특히 바람직하게는 0.001~1.3질량%이다. 열처리 후의 필름 중의 용매량이 상기 범위에 있으면, 광학 필름의 외관이 양호해지는 경향이 있다.The amount of the solvent in the film after heat treatment, based on the mass of the film, is preferably 0.001 to 3% by mass, more preferably 0.001 to 2% by mass, still more preferably 0.001 to 1.5% by mass, particularly preferably 0.001 It is -1.3 mass %. When the amount of the solvent in the film after heat treatment is in the above range, the appearance of the optical film tends to be good.

열처리가 끝나고, 건조기로부터 필름이 나오면 필름의 파지가 해제되고, 바람직하게는 즉시, 필름 단부를 슬릿한다. 슬릿을 행함으로써, 필름 단부에 있어서의, 파지부와 파지되어 있지 않던 부분과의 사이에서 발생하기 쉬운 균열을 필름으로부터 제거함으로써, 그 후 필름이 반송되어 그 온도가 저하되는 것에 의한 필름의 균열의 확대를 미리 방지할 수 있다.When the heat treatment is over and the film comes out from the dryer, the film is released from gripping, and preferably immediately, the film end is slit. By performing a slit, cracks that are likely to occur between the gripping portion and the non-gripping portion at the end of the film are removed from the film, so that the film is conveyed thereafter and the temperature of the film is lowered. Magnification can be prevented in advance.

필름이 건조기를 나오면, 필름이 급냉되어 수축하여, 균열이 발생하는 경우가 있다. 이 때문에, 건조기 출구로부터 필름의 파지가 해방되는 위치까지 일정 비율의 필름을 이완하는 공정이 있는 것이 바람직하다. 그 비율은, 건조기로부터 나온 필름의 폭(단, 파지된 폭을 제외함)(W)과 건조기 출구로부터 필름을 해방할 때까지 파지부가 이완되는 거리(F)가, 바람직하게는 1.7≤F/W×100≤6.9, 보다 바람직하게는 1.8≤F/W×100≤6.8, 더 바람직하게는 1.9≤F/W×100≤6.7, 보다 더 바람직하게는 2.0≤F/W×100≤6.7이다.When the film exits the dryer, the film is rapidly cooled and shrinks, and cracks may occur. For this reason, it is preferable that there is a step of relaxing the film at a certain ratio from the dryer outlet to the position where the gripping of the film is released. The ratio is the width of the film coming out of the dryer (however, excluding the gripped width) (W) and the distance (F) at which the gripping part relaxes until the film is released from the dryer outlet, preferably 1.7≤F/ W×100≤6.9, more preferably 1.8≤F/W×100≤6.8, more preferably 1.9≤F/W×100≤6.7, even more preferably 2.0≤F/W×100≤6.7.

필름의 반송 방향에 대하여 일방 단측의 이완되는 거리를 Fa, 타방 단측의 이완되는 거리를 Fb라고 하고, 그들을 합쳐 이완되는 거리 F라고 한다.The distance at which one side relaxes with respect to the conveyance direction of the film is referred to as Fa, and the distance at which the other end relaxes is called Fb, and the sum of them is referred to as the relaxation distance F.

건조기 출구로부터 필름의 파지가 해방될 때까지의 거리는, 바람직하게는 200~2,000㎜, 보다 바람직하게는 300~1,500㎜, 더 바람직하게는 300~1,300㎜, 보다 더 바람직하게는 300~1,000㎜이다. 당해 거리가 상기 범위에 있으면, 필름에 균열이 발생하기 어렵고, 또한 늘어짐 등 외관 불량이 발생하기 어려운 경향이 있다.The distance from the dryer outlet to the release of the film is preferably 200 to 2,000 mm, more preferably 300 to 1,500 mm, more preferably 300 to 1,300 mm, even more preferably 300 to 1,000 mm. . When the distance is within the above range, cracks are unlikely to occur in the film, and there is a tendency that appearance defects such as sagging are less likely to occur.

또한, 본 발명의 제조 방법에 있어서는, 상기 특징을 가지는 광학 적층체를 제조하기 쉬운 관점에서, 공정 (b)에 있어서 지지체로부터 도막을 박리한 후, 공정 (c)에 있어서 박리한 도막을 가열함으로써, 필름을 제조하고 있다. 그러나, 본 발명의 광학 적층체는, 광학 필름 또는 광학 적층체가, 상기 Ymh 등에 관한 특징을 가지는 한, 어느 제조 방법에 의해 제조된 필름이어도 된다. 예를 들면, 지지체로부터 도막을 박리하기 전에 도막을 포스트 베이크하고, 포스트 베이크 후의 필름을 지지체로부터 박리하여 제조한 것이어도 된다.Moreover, in the manufacturing method of this invention, from the viewpoint of being easy to manufacture the optical laminated body which has the said characteristic, after peeling a coating film from a support body in process (b), heating the peeled coating film in process (c) , To manufacture the film. However, the optical layered product of the present invention may be a film produced by any production method as long as the optical film or optical layered product has the characteristics relating to Y mh and the like. For example, the film may be produced by post-baking the coating film before peeling the coating film from the support, and peeling the film after post-baking from the support.

이어서, 공정 (d)에 있어서, 필름의 적어도 편면에 기능층을 적층하고, 본 발명의 광학 적층체를 얻는다. 필름의 적어도 편면에 기능층을 적층시키는 방법으로서는, 필름의 적어도 편면에, 기능층 형성용 조성물을 도공하고, 필요에 따라 건조 및/또는 경화 등 시켜 적층시키는 방법, 필름의 적어도 편면에, 필름 형상의 기능층을 첩합하여 적층시키는 방법을 들 수 있다. 광학 적층체의 광학적 균질성을 높이기 쉬운 관점에서는, 기능층 형성용 조성물을 도공하여, 기능층을 적층시키는 것이 바람직하다.Subsequently, in step (d), a functional layer is laminated on at least one side of the film to obtain the optical laminate of the present invention. As a method of laminating a functional layer on at least one side of the film, a method of laminating a composition for forming a functional layer on at least one side of the film, drying and/or curing as necessary, and laminating the film on at least one side of the film And a method of laminating and laminating functional layers. From the viewpoint of easily increasing the optical homogeneity of the optical laminate, it is preferable to coat the composition for forming a functional layer and to laminate the functional layers.

본 발명의 제조 방법은, 상기 공정 (c)의 이후 또는 (d)의 이후에, 후술하는 필름 또는 광학 적층체를 평가하는 공정 (e)를 더 포함하고 있어도 된다. 공정 (e)는, 얻어진 필름 또는 광학 적층체를 이용하여 투영법에 의해 얻은 투영 화상을 푸리에 변환하여 얻은 필름 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h 및 방향 v에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h 및 라인 프로파일 v라고 하고, 상기 투영법에 있어서 상기 필름 또는 상기 광학 적층체를 이용하지 않고 얻은 배경 화상을 푸리에 변환하여 얻은 배경 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h' 및 방향 v'에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h' 및 라인 프로파일 v'라고 하며, 라인 프로파일 h로부터 라인 프로파일 h'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (h-h')의 최대 강도를 Ymh라고 하고, 최대 강도 Ymh를 나타내는 주파수를 Xmh라고 하며, 라인 프로파일 v로부터 라인 프로파일 v'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (v-v')의 최대 강도를 Ymv라고 하고, 최대 강도 Ymv를 나타내는 주파수를 Xmv라고 하였을 때의, Ymh 및 Ymv의 값, 및, Ymh, Ymv, Xmh 및 Xmv로부터 산출되는 (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값에 의거하여, 필름 또는 광학 적층체를 평가하는 공정이다.The manufacturing method of this invention may further include the process (e) of evaluating the film or optical laminated body mentioned later after the said process (c) or after (d). In the step (e), the line profiles in the direction h and the direction v orthogonal to each other in the film inverse space on the film inverse space obtained by Fourier transforming the projected image obtained by the projection method using the obtained film or optical laminate, respectively, are the line profile h. And a line profile v, and a line in a direction h'and a direction v'orthogonal to each other on a background inverse space obtained by Fourier transforming a background image obtained without using the film or the optical laminate in the projection method. The profile is called a line profile h'and a line profile v', respectively, and the maximum intensity of the line profile (h-h') obtained by subtracting the line profile h'from the line profile h is called Y mh , and the frequency representing the maximum intensity Y mh Is X mh , the maximum intensity of the line profile (v-v') obtained by subtracting the line profile v'from the line profile v is Y mv , and the frequency representing the maximum intensity Y mv is X mv , Y Based on the values of mh and Y mv and (Y mh +Y mv )/(X mh +X mv ) 1/2 calculated from Y mh , Y mv , X mh and X mv , film or optical It is a process of evaluating a laminate.

공정 (e)에 있어서, Ymh 및 Ymv의 값, 및 (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값에 의거하여, 필름 또는 광학 적층체의 광학적 균질성을 평가할 수 있다. 예를 들면, 요구하는 광학적 균질성에 따라 소정의 값을 설정하고, 당해 값과, 필름 또는 광학 적층체에 대하여 얻은 결과를 비교함으로써, 필름의 양부(良否)를 판단하고, 필름을 분별함으로써, Ymh 및 Ymv의 값, 및 (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값이, 소정의 값 이하인, 우수한 광학적 균질성을 가지는 광학 필름 또는 광학 적층체를 제조할 수 있다. 또한, 상기 값을 평가하면서, 건조 조건 등을 조정하여, 상기 특징을 가지는 본원 발명의 광학 적층체를 제조할 수도 있다.In step (e), based on the values of Y mh and Y mv , and the values of (Y mh +Y mv )/(X mh +X mv ) 1/2 , the optical homogeneity of the film or optical laminate is evaluated. Can be. For example, by setting a predetermined value according to the required optical homogeneity, and comparing the result obtained with respect to the film or the optical laminate, determining whether the film is good or not and separating the film, Y An optical film or an optical laminate having excellent optical homogeneity, in which the values of mh and Y mv and (Y mh +Y mv )/(X mh +X mv ) 1/2 are equal to or less than a predetermined value, can be prepared. have. Further, while evaluating the above values, the drying conditions and the like can be adjusted to produce the optical laminate of the present invention having the above characteristics.

필름을 평가하는 공정 (e)에 있어서, 상기 본 발명의 평가 방법에 의해 측정된 최대 강도 Ymh 및 Ymv에 의거하여, 광학적 균질성을 평가하고, 광학 필름 또는 광학 적층체의 품질의 양부를 판단하는 것이, 광학적 균질성이 우수한 광학 적층체를 효율적으로 제조할 수 있는 관점에서 바람직하다. 광학 필름 또는 광학 적층체의 품질의 양부의 판단 기준은, 최종적으로 얻어지는 광학 적층체의 용도나, 광학 적층체에 요구되는 광학적 균질성에 따라 적절히 설정하면 되고, 특별히 한정되지 않는다. 광학 필름 등으로서 적합하게 사용되는, 우수한 균질성을 가지는 광학 적층체를 얻는 것을 목적으로, 광학 필름 또는 광학 적층체의 품질의 양부 판단을 행하는 경우에는, 본 발명의 광학 적층체에 포함되는 광학 필름에 대하여, 또는 본 발명의 광학 적층체에 대하여, 상기에 기재한 특성을 가지는지 여부를 기준으로 하여, 양부의 판단을 행하는 것이 바람직하다.In the step (e) of evaluating the film, based on the maximum strengths Y mh and Y mv measured by the evaluation method of the present invention, the optical homogeneity is evaluated, and the quality of the optical film or optical laminate is judged. It is preferable from the viewpoint of efficiently producing an optical laminate having excellent optical homogeneity. The criterion for determining the quality of the optical film or the optical laminate may be appropriately set depending on the purpose of the optical laminate to be finally obtained or the optical homogeneity required for the optical laminate, and is not particularly limited. For the purpose of obtaining an optical laminate having excellent homogeneity, which is suitably used as an optical film or the like, when judging the quality of the optical film or the optical laminate, to the optical film included in the optical laminate of the present invention On the other hand, it is preferable to judge whether or not the optical laminate of the present invention has the characteristics described above based on whether or not it has the characteristics described above.

상기 평가 공정에 의하면, 종래의 평가 방법에 비해 보다 높은 정밀도로 광학적 균질성을 평가하는 것이 가능해진다. 구체적으로는, 당해 평가 공정에 의하면, 종래의 평가 방법에서는 충분한 정밀도로 평가할 수 없던 TD 방향 및 MD 방향의 양 방향의 불균일이나 폭의 넓이가 상이한 불균일 등에 기인하여 발생하는, 광학적 성질의 불균일을 평가할 수 있고, 불균일의 종류에 관계없이 정밀도 좋게 광학적 균질성을 평가하는 것이 가능하다. 또한, 당해 평가 공정에 의해, 필름 또는 광학 적층체의 균질성을 정량하는 것도 가능하다. 또한, 본 명세서에 있어서 평가 공정에서 측정 대상으로 하는 광학 필름 또는 광학 적층체를, 「측정 필름」이라고도 칭한다. 공정 (e)에 있어서의 평가 공정은, 구체적으로는, 다음의 공정 (1)~(5):According to the said evaluation process, it becomes possible to evaluate optical homogeneity with higher precision than a conventional evaluation method. Specifically, according to the evaluation step, the optical property non-uniformity caused by the non-uniformity in both the TD direction and the MD direction or the non-uniformity of the width width that cannot be evaluated with sufficient accuracy in the conventional evaluation method can be evaluated. It is possible to evaluate the optical homogeneity with high precision regardless of the kind of non-uniformity. Moreover, it is also possible to quantify the homogeneity of a film or an optical laminated body by the said evaluation process. In addition, in this specification, the optical film or optical laminated body which is a measurement object in an evaluation process is also called "measurement film." The evaluation step in step (e) is specifically, the following steps (1) to (5):

(1) 광원으로부터의 광을 측정 필름에 조사하고, 측정 필름을 투과한 광을 투영면에 투영하는 투영법에 의해 투영 화상을 얻는 공정,(1) A step of obtaining a projected image by a projection method in which light from a light source is irradiated onto a measurement film and the light transmitted through the measurement film is projected onto a projection surface,

(2) 공정 (1)의 투영법에 있어서 측정 필름을 이용하지 않고, 광원으로부터의 광을 투영면에 투영하여, 배경 화상을 얻는 공정,(2) A step of obtaining a background image by projecting light from a light source onto a projection surface without using a measurement film in the projection method of step (1),

(3) 공정 (1)에서 얻은 투영 화상 및 공정 (2)에서 얻은 배경 화상을 각각 그레이 스케일화에 의해 수치화하고, 수치화된 화상 데이터를 푸리에 변환하여 역공간상(필름 역공간상 및 배경 역공간상)을 얻는 공정,(3) The projected image obtained in step (1) and the background image obtained in step (2) are numerically quantified by gray-scale, respectively, and Fourier transform the digitized image data to inverse space (film inverse space and background inverse space) Phase),

(4) 투영 화상의 역공간상에 있어서 직교하는 2방향의 각 라인 프로파일로부터, 배경 화상의 역공간상에 있어서 직교하는 상기 2방향의 각 라인 프로파일을 각각 빼서, 블랭크 보정된 라인 프로파일을 얻는 공정,(4) A step of obtaining a blank corrected line profile by subtracting each line profile in the two directions orthogonal in the inverse space of the background image from each line profile in two directions orthogonal in the inverse space on the projected image. ,

및,And,

(5) 공정 (4)에서 얻은 블랭크 보정된 라인 프로파일의 최대 강도(Ymh 및 Ymv)를 측정하는 공정(5) Process for measuring the maximum strength (Y mh and Y mv ) of the blank corrected line profile obtained in step (4)

을 적어도 포함한다.It includes at least.

공정 (1)에 있어서, 광원으로부터의 광을 측정 필름에 조사하고, 측정 필름을 투과한 광을 투영면에 투영하여 투영 화상을 얻는다. 공정 (1)에 있어서, 예를 들면 도 1에 나타나는 바와 같이, 측정 필름, 투영면 등을 배치해도 된다. 구체적으로는, 광원(1), 측정 필름(2) 및 투영면(3)을 배치하고, 투영면(3)에 투영된 투영 화상(4)을 카메라(6)로 촬영하여, 투영 화상을 얻는다. 광원(1)으로부터 출력된 광(5)은, 측정 필름(2)을 투과하고, 투과한 광이 투영면(3)에 투영 화상(4)으로서 투영된다. 광(5)이 측정 필름(2)을 투과할 때, 측정 필름(2)이 균질하면, 광(5)은 균질하게 측정 필름(2)을 투과하여 투영면(3)에 도달하지만, 측정 필름(2)이 균질하지 않고, 면 형상 불균일, 두께 불균일, 배향 불균일 등이 있는 경우에는, 광(5)이 측정 필름(2)을 투과할 때에 반사 및/또는 굴절 등을 발생시켜, 광원으로부터 출력된 상태과 비교하여 일그러진 상태의 광이 투영면(3)에 도달한다. 이와 같이 하여 얻어지는 투영 화상(4)을 후술하는 방법으로 평가함으로써, 측정 필름의 광학적 균질성을 높은 정밀도로 평가 또는 정량화할 수 있다. 선명한 투영 화상을 얻기 쉬운 관점에서, 암실 내에서, 광원으로부터의 광만을 측정 필름에 투과시켜 촬영을 행하는 것이 바람직하다. 광원의 종류는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, LED 광원이나 할로겐 램프 등을 사용해도 된다. 점 광원에 가까운 광원이 바람직하고, 발광부는 1cm 직경 이하인 것이 바람직하다. 필터나 렌즈 등을 통과하면 투영상이 불선명해지기 쉬운 경향이 있으므로, 필터나 렌즈를 통과시키지 않는 광이 바람직하다. 투영면으로서는, 측정 필름의 투영 화상이 시인되는 한 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 아크릴판, 염화 비닐판, 폴리에틸렌판, 영화용의 스크린 등을 사용해도 좋다. 투영면에 투영된 화상의 촬영 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 도 1에 나타나는 바와 같이, 투영면(3)과 측정 필름(2)과 광원(1)을 일직선 상에 배치하고, 투영면(3)에 투영된 투영 화상(4)을 비스듬하게 촬영하는 위치에 카메라(6)를 고정하여 촬영해도 된다. 촬영 모드는 적절히 설정해도 되고, 예를 들면 실시예에 기재되는 바와 같은 설정을 사용해도 된다. 이와 같이 하여 투영 화상이 얻어진다.In step (1), light from the light source is irradiated onto the measurement film, and light transmitted through the measurement film is projected onto a projection surface to obtain a projected image. In the step (1), for example, as shown in FIG. 1, a measurement film, a projection surface, or the like may be arranged. Specifically, the light source 1, the measurement film 2, and the projection surface 3 are arranged, and the projected image 4 projected on the projection surface 3 is photographed with the camera 6 to obtain a projected image. The light 5 output from the light source 1 passes through the measurement film 2, and the transmitted light is projected onto the projection surface 3 as a projected image 4. When the light 5 passes through the measurement film 2, if the measurement film 2 is homogeneous, the light 5 passes through the measurement film 2 homogeneously to reach the projection surface 3, but the measurement film ( 2) When this is not homogeneous, and there is surface irregularity, thickness irregularity, orientation irregularity, etc., reflection and/or refraction is generated when the light 5 passes through the measurement film 2, and is output from the light source. Compared to the state, the distorted light reaches the projection surface 3. By evaluating the thus obtained projection image 4 by the method described later, the optical homogeneity of the measurement film can be evaluated or quantified with high precision. From the viewpoint of easy to obtain a clear projected image, it is preferable to shoot in the dark room by transmitting only light from the light source through the measurement film. The type of the light source is not particularly limited, and for example, an LED light source or a halogen lamp may be used. A light source close to the point light source is preferable, and the light emitting portion is preferably 1 cm or less in diameter. Since the projected image tends to become unclear when passing through a filter or a lens, light that does not pass through the filter or lens is preferable. The projection surface is not particularly limited as long as the projected image of the measurement film is viewed, but for example, an acrylic plate, a vinyl chloride plate, a polyethylene plate, a movie screen, or the like may be used. The photographing method of the image projected on the projection surface is not particularly limited, but for example, as shown in FIG. 1, the projection surface 3, the measurement film 2, and the light source 1 are arranged in a straight line, and the projection surface 3 The camera 6 may be fixed at a position where the projected image 4 projected on the camera is photographed obliquely. The photographing mode may be appropriately set, or, for example, a setting as described in the examples may be used. In this way, a projected image is obtained.

공정 (2)에 있어서, 공정 (1)의 투영법에 있어서 측정 필름을 이용하지 않고, 광원으로부터의 광을 투영면에 투영하여 투영 화상을 얻는다. 구체적으로는, 예를 들면 도 1에 있어서, 측정 필름(2)만을 제거한 상태로 촬영을 행하여, 배경 화상을 얻는다.In step (2), in the projection method of step (1), a measurement image is obtained by projecting light from a light source onto a projection surface without using a measurement film. Specifically, for example, in Fig. 1, photographing is performed with only the measurement film 2 removed, and a background image is obtained.

공정 (3)에 있어서, 공정 (1)에서 얻은 투영 화상 및 공정 (2)에서 얻은 배경 화상을 각각 그레이 스케일화에 의해 수치화하고, 수치화된 화상 데이터를 푸리에 변환하여 역공간상을 얻는다. 그레이 스케일화는, 화상 해석 소프트(예를 들면 미국 국립 위생 연구소제 「Image-J」)를 이용하여, 예를 들면 8-bit의 그레이 스케일화함으로써 행할 수 있다. 그레이 스케일화에 의해, 투영 화상 및 배경 화상을 수치화할 수 있다. 이어서, 수치화된 화상 데이터를 푸리에 변환하여 역공간상(필름 역공간상 및 배경 역공간상)을 얻는다. 수치화된 화상 데이터를 푸리에 변환함으로써, 화상의 농담의 주기와 진폭을 얻을 수 있다. 푸리에 변환의 방법으로서는, 예를 들면 화상 해석 소프트(Image-J)의 푸리에 변환 기능을 이용하는 등을 들 수 있다.In the step (3), the projected image obtained in the step (1) and the background image obtained in the step (2) are respectively digitized by gray scale, and the inverse spatial image is obtained by Fourier transforming the digitized image data. The gray scale can be performed by, for example, 8-bit gray scale using image analysis software (for example, "Image-J" manufactured by the National Institute of Sanitation, USA). The projection image and the background image can be digitized by gray scale. Subsequently, the inverse spatial image (film inverse spatial image and background inverse spatial image) is obtained by Fourier transform of the digitized image data. By performing Fourier transform of the digitized image data, it is possible to obtain the period and amplitude of the lightness of the image. As a method of Fourier transform, the Fourier transform function of image analysis software (Image-J) is used, for example.

공정 (4)에 있어서, 투영 화상의 역공간상에 있어서 직교하는 2방향의 각 라인 프로파일로부터, 배경 화상의 역공간상에 있어서 직교하는 상기 2방향의 각 라인 프로파일을 각각 빼서, 블랭크 보정된 라인 프로파일을 얻는다.In the step (4), blank corrected lines are subtracted from each line profile in the two directions orthogonal in the inverse space of the projected image from each line profile in the two directions orthogonal in the inverse space on the background image, respectively Get a profile.

공정 (5)에 있어서, 공정 (4)에서 얻은 블랭크 보정된 라인 프로파일의 최대 강도 Ymax(각각, Ymh 및 Ymv)를 측정한다. Ymh 및 Ymv의 측정 방법은, 상기에 있어서 측정 필름에 대하여 기재한 바와 같으며, 예를 들면, 역공간상의 중심을 지나는 수평 방향(h1 방향) 및 수직 방향(v1 방향)의 각각의 방향에 대하여 라인 프로파일을 작성하는 경우, 예를 들면 도 3에 나타나는 바와 같은, X축에 주파수, Y축에 강도를 나타내는 그래프로서 나타난다. 그리고, 수평 방향(h1 방향)의 라인 프로파일에 있어서의 최대 강도 Ymax를 Ymh1이라고 하고, 최대 강도 Ymh1을 나타내는 주파수로부터 블랭크 보정된 라인 프로파일에 있어서의 전체 주파수의 중앙값 Xcen을 뺀 값인 Xmax를 Xmh1이라고 한다. 또한, 수직 방향(v1 방향)의 라인 프로파일에 있어서의 최대 강도 Ymax를 Ymv1이라고 하고, 최대 강도 Ymv1을 나타내는 주파수로부터 블랭크 보정된 라인 프로파일에 있어서의 전체 주파수의 중앙값 Xcen을 뺀 값인 Xmax를 Xmv1이라고 한다. 또한, 당해 2방향은 서로 직교하고 있으면 특별히 한정되지 않고, 중심을 지나지 않는 2방향이어도 되며, 수평 방향 및 수직 방향이 아니어도 된다.In step (5), the maximum intensity Y max (Y mh and Y mv , respectively) of the blank corrected line profile obtained in step (4) is measured. The measurement methods of Y mh and Y mv are as described above for the measurement film, and, for example, each direction in the horizontal direction (h1 direction) and the vertical direction (v1 direction) passing through the center of the inverse space. In the case of creating a line profile, for example, it is shown as a graph showing frequency on the X axis and intensity on the Y axis, as shown in FIG. 3. Then, the maximum intensity Y max in the horizontal (h1 direction) line profile is referred to as Y mh1 , and X is a value obtained by subtracting the median value X cen of the entire frequency in the blank-corrected line profile from the frequency representing the maximum intensity Y mh1 . Let max be X mh1 . In addition, the maximum intensity Y max in the line profile in the vertical direction (v1 direction) is referred to as Y mv1 , and X is a value obtained by subtracting the median value X cen of the entire frequency in the blank-corrected line profile from the frequency representing the maximum intensity Y mv1 Let max be X mv1 . The two directions are not particularly limited as long as they are orthogonal to each other, and may be two directions that do not pass through the center, and may not be horizontal and vertical directions.

상기 Ymh 및 Ymv를 측정함으로써, 측정 필름의 2차원 방향에서 균질성을 평가할 수 있다. 측정 필름의 광학적 균질성을 저하시키는 한가지 원인이 되는 면 형상 불균일에는, 예를 들면 줄무늬 형상의 불균일 등과 같이, 일차원의 평가에서는 충분히 검출할 수 없는 종류의 불균일이 있다. 본 발명의 평가 방법에 의하면, 이차원 방향에서 광학적 균질성을 평가할 수 있기 때문에, 측정 필름의 불균일의 종류에 관계없이 높은 정밀도로 평가를 행할 수 있다. 또한, 상기 Ymh 및 Ymv를 측정하여 값을 얻음으로써, 측정 필름의 균질성을 정량하는 것도 가능하다.By measuring the Y mh and Y mv , homogeneity can be evaluated in the two-dimensional direction of the measurement film. The surface non-uniformity, which is one cause of deteriorating the optical homogeneity of the measurement film, is a kind of non-uniformity that cannot be sufficiently detected in one-dimensional evaluation, such as, for example, striped non-uniformity. According to the evaluation method of the present invention, since optical homogeneity can be evaluated in the two-dimensional direction, evaluation can be performed with high precision regardless of the kind of non-uniformity of the measurement film. In addition, it is also possible to quantify the homogeneity of the measurement film by measuring Y mh and Y mv to obtain a value.

또한, 상기 최대 강도 Ymh 및 Ymv에 더해, 이들 최대 강도를 나타내는 주파수로부터 블랭크 보정된 라인 프로파일에 있어서의 전체 주파수의 중앙값 Xcen을 뺀 값인 Xmh 및 Xmv를 이용하여 평가를 행함으로써, 측정 필름의 광학적 균질성에 영향을 주는 한가지 원인이 되는 면 형상 불균일이 발생하는 주기를 검출할 수도 있다.In addition to the maximum intensity Y mh and Y mv , evaluation is performed using X mh and X mv , which is the value obtained by subtracting the median value X cen of the entire frequency in the blank-corrected line profile from the frequencies representing these maximum intensity, It is also possible to detect a cycle in which surface-like non-uniformity, which is one cause that affects the optical homogeneity of the measurement film, occurs.

본 발명의 광학 적층체는, 권심(卷芯)에 권취된 필름 롤이어도 된다. 권심을 구성하는 재료는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌 수지, 폴리염화비닐 수지, 폴리에스테르 수지, 에폭시 수지, 페놀 수지, 멜라민 수지, 규소 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리카보네이트 수지, ABS 수지 등의 합성 수지; 알루미늄 등의 금속; 섬유 강화 플라스틱(FRP: 유리 섬유 등의 섬유를 플라스틱에 함유시켜 강도를 향상시킨 복합 재료) 등이어도 된다. 권심의 형상도 특별히 한정되지 않지만, 원통 형상 또는 원기둥 형상의 형상인 것이 바람직하다. 권심이 원통 형상 또는 원기둥 형상인 경우, 그 외직경은, 강도 및 조작성의 관점에서는, 바람직하게는 1~12인치, 보다 바람직하게는 3~10인치, 더 바람직하게는 3~6인치이다. 또한, 권심의 세로의 길이는, 조작성의 관점에서는, 권취하는 투명 수지 필름의 폭 방향의 길이의 바람직하게는 1.0~2.0배, 보다 바람직하게는 1.0~1.8배, 더 바람직하게는 1.0~1.5배이다.The optical laminate of the present invention may be a film roll wound around a winding core. The material constituting the core is not particularly limited, for example, polyethylene resin, polypropylene resin, polyvinyl chloride resin, polyester resin, epoxy resin, phenol resin, melamine resin, silicon resin, polyurethane resin, polycarbonate resin , ABS resin and other synthetic resins; Metals such as aluminum; Fiber-reinforced plastics (FRP: a composite material in which fibers such as glass fibers are contained in plastics to improve strength); The shape of the winding core is also not particularly limited, but is preferably a cylindrical shape or a cylindrical shape. When the winding core has a cylindrical shape or a cylindrical shape, the outer diameter is preferably 1 to 12 inches, more preferably 3 to 10 inches, and more preferably 3 to 6 inches, from the viewpoint of strength and operability. In addition, from the viewpoint of operability, the longitudinal length of the winding core is preferably 1.0 to 2.0 times, more preferably 1.0 to 1.8 times, and more preferably 1.0 to 1.5 times the length in the width direction of the wound transparent resin film. to be.

본 발명의 광학 적층체가 필름 롤의 형태인 경우, 광학 적층체의 제조 공정에 있어서, 광학 필름 및 기능층, 및 임의로 보호 필름을 가지는 광학 적층체가, 권심에 롤 형상으로 권회된 형태를 가지고 있어도 된다. 광학 필름이 지지체로부터 박리되지 않고, 지지체가 모두 권회되어 있어도 된다. 본 발명의 광학 적층체는, 필름 롤의 형태의 광학 적층체여도 되고, 필름 롤 형태의 광학 적층체를 재단하여 얻은 필름이어도 된다.When the optical laminated body of this invention is in the form of a film roll, in the manufacturing process of an optical laminated body, the optical laminated body which has an optical film and a functional layer, and optionally a protective film may have the form wound in roll shape to the winding core. . The optical film is not peeled off from the support, and all of the support may be wound. The optical laminate of the present invention may be an optical laminate in the form of a film roll, or a film obtained by cutting an optical laminate in the form of a film roll.

본 발명의 광학 적층체는, 광학적 균질성을 높이기 쉬운 관점에서, 폭 방향의 길이가 바람직하게는 20cm 이상, 보다 바람직하게는 30cm 이상, 더 바람직하게는 40cm 이상, 보다 더 바람직하게는 50cm 이상, 특히 바람직하게는 60cm 이상이다. 폭 방향의 길이의 상한은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 200cm 이하 정도여도 된다. 또한, 본 발명의 광학 적층체는, 광학적 균질성을 높이기 쉬운 관점에서, 길이 방향의 길이가 바람직하게는 1m 이상, 보다 바람직하게는 10m 이상, 더 바람직하게는 100m 이상, 보다 더 바람직하게는 200m 이상, 보다 더 바람직하게는 300m 이상, 특히 바람직하게는 400m 이상이다. 길이 방향의 길이의 상한은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 5000m 이하 정도여도 된다. 상기의 크기를 가지는 광학 필름에, 적어도 1개의 기능층을 적층시킴으로써, 상기의 크기를 가지는 광학 적층체를 제조할 수 있다. 상기 크기를 가지는 광학 적층체는, 광학적 균질성을 높이기 쉬운 관점에서, 롤·투·롤 방식에 의해 제조된 것이 바람직하고, 즉, 필름 롤의 형태인 것이 바람직하다. 얻어진 필름 롤로부터, 필요한 플렉시블 디바이스의 사이즈에 따라, 광학 적층체를 잘라내어 이용할 수 있다.From the viewpoint of easy to increase the optical homogeneity of the optical laminate of the present invention, the length in the width direction is preferably 20 cm or more, more preferably 30 cm or more, more preferably 40 cm or more, even more preferably 50 cm or more, especially It is preferably 60 cm or more. The upper limit of the length in the width direction is not particularly limited, but may be, for example, about 200 cm or less. In addition, the optical laminate of the present invention, from the viewpoint of easy to increase the optical homogeneity, the length in the longitudinal direction is preferably 1 m or more, more preferably 10 m or more, more preferably 100 m or more, even more preferably 200 m or more , More preferably 300 m or more, and particularly preferably 400 m or more. The upper limit of the length in the longitudinal direction is not particularly limited, and may be, for example, about 5000 m or less. By laminating at least one functional layer on the optical film having the size described above, an optical laminate having the above size can be produced. From the viewpoint of easily increasing the optical homogeneity, the optical laminate having the above size is preferably produced by a roll-to-roll method, that is, preferably in the form of a film roll. From the obtained film roll, an optical laminated body can be cut out and used according to the size of the required flexible device.

광학 적층체 또는 광학 필름의 크기가 예를 들면 상기와 같이 큰 경우에는, 소정의 크기(예를 들면 200㎜×300㎜)를 가지는 필름을 잘라내어 측정 필름으로 하고, 당해 측정 필름에 대하여 구한 Ymh 등의 값을 평가해도 된다. 복수매에 대하여 측정을 행하고, 얻어진 값의 평균값을 이용하여 평가해도 된다. 당해 평균값의 바람직한 범위는, Ymh 등에 관한 상기의 범위와 마찬가지이다.When the size of the optical laminate or the optical film is large as described above, for example, a film having a predetermined size (for example, 200 mm×300 mm) is cut out to be a measurement film, and Y mh obtained for the measurement film You may evaluate values, such as. You may measure with respect to multiple sheets, and you may evaluate using the average value of the obtained values. The preferred range of the average value is the same as the above range for Y mh or the like.

<보호 필름><protective film>

본 발명의 광학 적층체에는, 보호 필름이 적층되어 있어도 된다. 보호 필름은, 광학 적층체의 편면 또는 양면에 적층되어 있어도 된다. 광학 적층체가 일방의 면에 기능층을 가지고, 타방의 면에는 기능층을 가지지 않는 경우, 보호 필름은, 광학 적층체의 기능층측의 표면에 적층되어 있어도 되고, 광학 필름측의 표면에 적층되어 있어도 되며, 양면에 적층되어 있어도 된다. 광학 적층체가 양면에 기능층을 가지는 경우, 보호 필름은, 편방의 기능층측의 표면에 적층되어 있어도 되고, 양방의 기능층측의 표면에 적층되어 있어도 된다. 보호 필름은, 광학 필름 또는 기능층의 표면을 일시적으로 보호하기 위한 필름이며, 광학 필름 또는 기능층의 표면을 보호할 수 있는 박리 가능한 필름인 한 특별히 한정되지 않는다. 보호 필름으로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지 필름; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 필름 등의 폴리올레핀계 수지 필름, 아크릴계 수지 필름 등을 들 수 있고, 폴리올레핀계 수지 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지 필름 및 아크릴계 수지 필름으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것이 바람직하다. 본 발명의 광학 적층체에, 보호 필름이 2개 적층되는 경우, 각 보호 필름은 동일 또는 상이해도 된다.A protective film may be laminated on the optical laminate of the present invention. The protective film may be laminated on one side or both sides of the optical laminate. When the optical laminate has a functional layer on one side and no functional layer on the other side, the protective film may be laminated on the functional layer side surface of the optical laminate or may be laminated on the optical film side surface. It may be laminated on both sides. When the optical laminate has functional layers on both sides, the protective film may be laminated on one side of the functional layer side or may be laminated on both sides of the functional layer side. The protective film is a film for temporarily protecting the surface of the optical film or functional layer, and is not particularly limited as long as it is a peelable film capable of protecting the surface of the optical film or functional layer. Examples of the protective film include polyester-based resin films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; And polyolefin-based resin films such as polyethylene and polypropylene films, and acrylic-based resin films, and are preferably selected from the group consisting of polyolefin-based resin films, polyethylene terephthalate-based resin films, and acrylic-based resin films. When two protective films are laminated on the optical layered body of this invention, each protective film may be the same or different.

보호 필름의 두께는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상, 10~120㎛, 바람직하게는 15~110㎛, 보다 바람직하게는 20~100㎛이다. 본 발명의 광학 적층체에, 보호 필름이 2개 적층되는 경우, 각 보호 필름의 두께는 동일해도 되고, 상이해도 된다.The thickness of the protective film is not particularly limited, but is usually 10 to 120 μm, preferably 15 to 110 μm, and more preferably 20 to 100 μm. When two protective films are laminated on the optical laminate of the present invention, the thickness of each protective film may be the same or different.

<플렉시블 표시 장치><Flexible display device>

본 발명은, 본 발명의 광학 적층체를 구비하는, 플렉시블 표시 장치도 제공한다. 본 발명의 광학 적층체는, 바람직하게는 플렉시블 표시 장치에 있어서 전면판으로서 이용되고, 당해 전면판은 윈도우 필름이라고 칭해지는 경우가 있다. 당해 플렉시블 표시 장치는, 플렉시블 표시 장치용 적층체와, 유기 EL 표시 패널로 이루어지고, 유기 EL 표시 패널에 대하여 시인측에 플렉시블 표시 장치용 적층체가 배치되어, 절곡 가능하게 구성되어 있다. 플렉시블 표시 장치용 적층체는, 추가로 편광판(바람직하게는 원 편광판), 터치 센서 등을 함유하고 있어도 되고, 그들의 적층 순서는 임의이지만, 시인측으로부터 윈도우 필름, 편광판, 터치 센서의 순서, 또는, 윈도우 필름, 터치 센서, 편광판의 순서로 적층되어 있는 것이 바람직하다. 터치 센서보다 시인측에 편광판이 존재하면, 터치 센서의 패턴이 시인되기 어려워져 표시 화상의 시인성이 좋아지므로 바람직하다. 각각의 부재는 접착제, 점착제 등을 이용하여 적층할 수 있다. 또한, 플렉시블 표시 장치는, 상기 윈도우 필름, 편광판, 터치 센서 중 어느 층의 적어도 일방의 면에 형성된 차광 패턴을 구비할 수 있다.The present invention also provides a flexible display device comprising the optical laminate of the present invention. The optical laminate of the present invention is preferably used as a front plate in a flexible display device, and the front plate may be referred to as a window film. The flexible display device is composed of a laminate for a flexible display device and an organic EL display panel, and a laminate for a flexible display device is disposed on the viewer side with respect to the organic EL display panel to be bendable. The laminate for a flexible display device may further contain a polarizing plate (preferably a circular polarizing plate), a touch sensor, or the like, and their lamination order is arbitrary, but the window film, the polarizing plate, the order of the touch sensor from the viewer side, or It is preferable that they are laminated in the order of window film, touch sensor, and polarizing plate. When the polarizing plate is present on the viewing side than the touch sensor, it is preferable because the pattern of the touch sensor is difficult to visualize and the visibility of the display image is improved. Each member can be laminated using an adhesive, an adhesive, or the like. In addition, the flexible display device may include a light blocking pattern formed on at least one surface of any one of the window film, the polarizing plate, and the touch sensor.

<원 편광판><Circular polarizer>

본 발명의 플렉시블 표시 장치는, 상기와 같이, 편광판, 그 중에서도 원 편광판을 구비하는 것이 바람직하다. 원 편광판은, 직선 편광판에 λ/4 위상차 판을 적층함으로써, 우 또는 좌 원 편광 성분만을 투과시키는 기능을 가지는 기능층이다. 예를 들면 외광을 우 원 편광으로 변환하여 유기 EL 패널에 의해 반사되어 좌 원 편광이 된 외광을 차단하고, 유기 EL의 발광 성분만을 투과시킴으로써 반사광의 영향을 억제하여 화상을 보기 쉽게 하기 위해 이용된다. 원 편광 기능을 달성하기 위해서는, 직선 편광판의 흡수축과 λ/4 위상차 판의 지상축(遲相軸)은 이론상 45도일 필요가 있지만, 실용적으로는 45±10도이다. 직선 편광판과 λ/4 위상차 판은 반드시 인접하게 적층될 필요는 없고, 흡수축과 지상축의 관계가 전술의 범위를 만족하고 있으면 된다. 전체 파장에 있어서 완전한 원 편광을 달성하는 것이 바람직하지만 실용상은 반드시 그럴 필요는 없으므로 본 발명에 있어서의 원 편광판은 타원 편광판도 포함한다. 직선 편광판의 시인측에 추가로 λ/4 위상차 필름을 적층하여, 출사광을 원 편광으로 함으로써, 편광 선글래스를 쓴 상태에서의 시인성을 향상시키는 것도 바람직하다.As described above, the flexible display device of the present invention is preferably provided with a polarizing plate, particularly a circular polarizing plate. The circular polarizing plate is a functional layer having a function of transmitting only the right or left circularly polarizing component by laminating the λ/4 phase difference plate on the linearly polarizing plate. For example, it is used to convert external light into right circularly polarized light, block external light that is reflected by the organic EL panel and become left circularly polarized, and suppress the influence of reflected light by transmitting only the light-emitting component of the organic EL to make the image easier to see. . In order to achieve the circular polarization function, the absorption axis of the linearly polarizing plate and the slow axis of the λ/4 phase difference plate need to be theoretically 45 degrees, but is practically 45±10 degrees. The linearly polarizing plate and the λ/4 phase difference plate are not necessarily stacked adjacently, and the relationship between the absorption axis and the slow axis may only satisfy the above-mentioned range. It is preferable to achieve full circular polarization at all wavelengths, but in practical use, it is not necessary, so the circular polarizing plate in the present invention also includes an elliptical polarizing plate. It is also desirable to further improve the visibility in a state in which polarized sunglass is used by further stacking a lambda /4 phase difference film on the viewing side of the linear polarizing plate and making the emitted light circularly polarized.

직선 편광판은, 투과축 방향에 진동하고 있는 광은 통과시키지만, 그것과는 수직인 진동 성분의 편광을 차단하는 기능을 가지는 기능층이다. 상기 직선 편광판은, 직선 편광자 단독 또는 직선 편광자 및 그 적어도 일방의 면에 부착된 보호 필름을 구비한 구성이어도 된다. 상기 직선 편광판의 두께는, 200㎛ 이하여도 되고, 바람직하게는 0.5~100㎛이다. 직선 편광판의 두께가 상기 범위에 있으면 직선 편광판의 유연성이 저하되기 어려운 경향이 있다.The linearly polarizing plate is a functional layer having a function of transmitting light oscillating in the direction of the transmission axis, but blocking polarization of a vibration component perpendicular to it. The linear polarizer may be configured with a linear polarizer alone or a linear polarizer and a protective film attached to at least one surface thereof. The thickness of the linear polarizing plate may be 200 μm or less, and is preferably 0.5 to 100 μm. When the thickness of the linearly polarizing plate is within the above range, the flexibility of the linearly polarizing plate tends to be difficult to deteriorate.

상기 직선 편광자는, 폴리비닐알코올(이하, PVA라고 간략하게 하는 경우가 있음)계 필름을 염색, 연신함으로써 제조되는 필름형 편광자여도 된다. 연신에 의해 배향된 PVA계 필름에, 요오드 등의 이색성 색소가 흡착, 또는 PVA에 흡착된 상태로 연신됨으로써 이색성 색소가 배향되어, 편광 성능을 발휘한다. 상기 필름형 편광자의 제조에 있어서는, 그외에 팽윤, 붕산에 의한 가교, 수용액에 의한 세정, 건조 등의 공정을 가지고 있어도 된다. 연신이나 염색 공정은 PVA계 필름 단독으로 행해도 되고, 폴리에틸렌테레프탈레이트와 같은 다른 필름과 적층된 상태로 행할 수도 있다. 이용되는 PVA계 필름의 두께는 바람직하게는 10~100㎛이며, 상기 연신 배율은 바람직하게는 2~10배이다.The linear polarizer may be a film-type polarizer produced by dyeing and stretching a polyvinyl alcohol (hereinafter sometimes abbreviated as PVA)-based film. A dichroic dye such as iodine is adsorbed to a PVA-based film oriented by stretching, or stretched in a state adsorbed to PVA, whereby the dichroic dye is oriented to exhibit polarization performance. In the production of the above-mentioned film-type polarizer, other processes such as swelling, crosslinking with boric acid, washing with an aqueous solution, and drying may be performed. The stretching or dyeing process may be performed alone with a PVA-based film, or may be performed in a state of being laminated with another film such as polyethylene terephthalate. The thickness of the PVA-based film used is preferably 10 to 100 µm, and the stretching ratio is preferably 2 to 10 times.

또한 상기 편광자의 다른 일례로서는, 액정 편광 조성물을 도포하여 형성하는 액정 도포형 편광자를 들 수 있다. 상기 액정 편광 조성물은, 액정성 화합물 및 이색성(二色性) 색소 화합물을 포함할 수 있다. 상기 액정성 화합물은, 액정 상태를 나타내는 성질을 가지고 있으면 되고, 특히 스멕틱상(Smectic Phase) 등의 고차(高次)의 배향 상태를 가지고 있으면 높은 편광 성능을 발휘할 수 있기 때문에 바람직하다. 또한, 액정성 화합물은, 중합성 관능기를 가지는 것이 바람직하다.Moreover, as another example of the said polarizer, the liquid crystal coating type polarizer formed by apply|coating a liquid crystal polarizing composition is mentioned. The liquid crystal polarizing composition may include a liquid crystal compound and a dichroic dye compound. It is preferable that the liquid crystal compound has a property of exhibiting a liquid crystal state, and particularly, it has a high degree of orientation such as a smectic phase, so that high polarization performance can be exhibited. Moreover, it is preferable that a liquid crystal compound has a polymerizable functional group.

상기 이색성 색소 화합물은, 상기 액정 화합물과 함께 배향되어 이색성을 나타내는 색소로서, 중합성 관능기를 가지고 있어도 되고, 또한, 이색성 색소 자신이 액정성을 가지고 있어도 된다.The dichroic dye compound is a dye that is oriented with the liquid crystal compound and exhibits dichroism, and may have a polymerizable functional group or the dichroic dye itself may have liquid crystallinity.

액정 편광 조성물에 포함되는 화합물 중 어느 것은 중합성 관능기를 가진다. 상기 액정 편광 조성물은 추가로 개시제, 용제, 분산제, 레벨링제, 안정제, 계면활성제, 가교제, 실란 커플링제 등을 포함할 수 있다.Any of the compounds included in the liquid crystal polarizing composition has a polymerizable functional group. The liquid crystal polarizing composition may further include an initiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, a crosslinking agent, and a silane coupling agent.

상기 액정 편광층은, 배향막 상에 액정 편광 조성물을 도포하여 액정 편광층을 형성함으로써 제조된다. 액정 편광층은, 필름형 편광자에 비해 두께를 얇게 형성할 수 있고, 그 두께는 바람직하게는 0.5~10㎛, 보다 바람직하게는 1~5㎛이다.The said liquid crystal polarizing layer is manufactured by apply|coating a liquid crystal polarizing composition on an alignment film, and forming a liquid crystal polarizing layer. The liquid crystal polarizing layer can have a thickness thinner than that of the film polarizer, and the thickness is preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 1 to 5 μm.

상기 배향막은, 예를 들면 기재 상에 배향막 형성 조성물을 도포하고, 러빙 (rubbing), 편광 조사 등에 의해 배향성을 부여함으로써 제조된다. 상기 배향막 형성 조성물은, 배향제를 포함하고, 추가로 용제, 가교제, 개시제, 분산제, 레벨링제, 실란 커플링제 등을 포함하고 있어도 된다. 상기 배향제로서는, 예를 들면, 폴리비닐알코올류, 폴리아크릴레이트류, 폴리아믹산류, 폴리이미드류를 들 수 있다. 편광 조사에 의해 배향성을 부여하는 배향제를 이용하는 경우, 신나메이트기를 포함하는 배향제를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 배향제로서 사용되는 고분자의 중량 평균 분자량은, 예를 들면, 10,000~1,000,000 정도이다. 상기 배향막의 두께는, 바람직하게는 5~10,000㎚이며, 배향 규제력이 충분히 발현되는 점에서, 보다 바람직하게는 10~500㎚이다.The alignment film is produced, for example, by applying an alignment film forming composition on a substrate, and imparting alignment properties by rubbing, polarization irradiation, or the like. The alignment film forming composition may include an alignment agent, and may further include a solvent, a crosslinking agent, an initiator, a dispersing agent, a leveling agent, a silane coupling agent, and the like. Examples of the alignment agent include polyvinyl alcohols, polyacrylates, polyamic acids, and polyimides. When using the alignment agent which gives orientation by polarization irradiation, it is preferable to use the alignment agent containing a cinnamate group. The weight average molecular weight of the polymer used as the alignment agent is, for example, about 10,000 to 1,000,000. The thickness of the alignment film is preferably 5 to 10,000 nm, and more preferably 10 to 500 nm from the viewpoint of sufficiently expressing the orientation regulating force.

상기 액정 편광층은 기재로부터 박리하여 전사시켜 적층할 수도 있고, 상기 기재를 그대로 적층할 수도 있다. 상기 기재가, 보호 필름이나 위상차 판, 윈도우 필름의 투명 기재로서의 역할을 담당하는 것도 바람직하다.The liquid crystal polarizing layer may be peeled off from the substrate and transferred to be laminated, or the substrate may be laminated as it is. It is also preferable that the substrate serves as a transparent substrate for the protective film, retardation plate, and window film.

상기 보호 필름으로서는, 투명한 고분자 필름이면 되고 상기 윈도우 필름의 투명 기재에 사용되는 재료나 첨가제와 동일한 것을 사용할 수 있다. 또한, 에폭시 수지 등의 카티온 경화 조성물이나 아크릴레이트 등의 라디칼 경화 조성물을 도포하여 경화시켜 얻어지는 코팅형의 보호 필름이어도 된다. 당해 보호 필름은, 필요에 따라 가소제, 자외선 흡수제, 적외선 흡수제, 안료나 염료와 같은 착색제, 형광 증백제, 분산제, 열 안정제, 광 안정제, 대전 방지제, 산화 방지제, 활제, 용제 등을 포함하고 있어도 된다. 당해 보호 필름의 두께는, 바람직하게는 200㎛ 이하, 보다 바람직하게는 1~100㎛이다. 보호 필름의 두께가 상기 범위에 있으면, 당해 필름의 유연성이 저하되기 어려운 경향이 있다.As the protective film, a transparent polymer film may be used, and the same material or additive used for the transparent substrate of the window film can be used. Further, a coating type protective film obtained by coating and curing a cationic curing composition such as an epoxy resin or a radical curing composition such as acrylate may be used. The protective film may contain a plasticizer, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, a colorant such as a pigment or dye, a fluorescent brightener, a dispersant, a heat stabilizer, a light stabilizer, an antistatic agent, an antioxidant, a lubricant, a solvent, and the like, if necessary. . The thickness of the protective film is preferably 200 μm or less, and more preferably 1 to 100 μm. When the thickness of the protective film is in the above range, the flexibility of the film tends to be difficult to decrease.

상기 λ/4 위상차 판은, 입사광의 진행 방향과 직교하는 방향(필름의 면내 방향)으로 λ/4의 위상차를 부여하는 필름이다. 상기 λ/4 위상차 판은, 셀룰로오스계 필름, 올레핀계 필름, 폴리카보네이트계 필름 등의 고분자 필름을 연신함으로써 제조되는 연신형 위상차 판이어도 된다. 상기 λ/4 위상차 판은, 필요에 따라 위상차 조정제, 가소제, 자외선 흡수제, 적외선 흡수제, 안료나 염료와 같은 착색제, 형광 증백제, 분산제, 열 안정제, 광 안정제, 대전 방지제, 산화 방지제, 활제, 용제 등을 포함하고 있어도 된다.The lambda /4 phase difference plate is a film that gives a lambda /4 phase difference in a direction orthogonal to the traveling direction of the incident light (in-plane direction of the film). The λ/4 phase difference plate may be a stretched phase difference plate produced by stretching a polymer film such as a cellulose-based film, an olefin-based film, or a polycarbonate-based film. The λ/4 retardation plate is, if necessary, retardation adjuster, plasticizer, ultraviolet absorber, infrared absorber, colorant such as pigment or dye, fluorescent brightener, dispersant, heat stabilizer, light stabilizer, antistatic agent, antioxidant, lubricant, solvent Etc. may be included.

상기 연신형 위상차 판의 두께는, 바람직하게는 200㎛ 이하, 보다 바람직하게는 1~100㎛이다. 연신형 위상차 판의 두께가 상기 범위에 있으면, 당해 연신형 위상차 판의 유연성이 저하되기 어려운 경향이 있다.The thickness of the stretched retardation plate is preferably 200 μm or less, and more preferably 1 to 100 μm. When the thickness of the stretched retardation plate is within the above range, the flexibility of the stretched retardation plate tends to be difficult to decrease.

또한 상기 λ/4 위상차 판의 다른 일례로서는, 액정 조성물을 도포하여 형성하는 액정 도포형 위상차 판을 들 수 있다.Moreover, as another example of the said λ/4 phase difference plate, the liquid crystal coating type phase difference plate formed by apply|coating a liquid crystal composition is mentioned.

상기 액정 조성물은, 네마틱, 콜레스테릭, 스멕틱 등의 액정 상태를 나타내는 액정성 화합물을 포함한다. 상기 액정성 화합물은, 중합성 관능기를 가진다.The liquid crystal composition contains a liquid crystal compound that exhibits liquid crystal states such as nematic, cholesteric, and smectic. The liquid crystal compound has a polymerizable functional group.

상기 액정 조성물은, 추가로 개시제, 용제, 분산제, 레벨링제, 안정제, 계면활성제, 가교제, 실란 커플링제 등을 포함할 수 있다.The liquid crystal composition may further include an initiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, a crosslinking agent, and a silane coupling agent.

상기 액정 도포형 위상차 판은, 상기 액정 편광층과 마찬가지로, 액정 조성물을 하지(下地) 상에 도포, 경화하여 액정 위상차층을 형성함으로써 제조할 수 있다. 액정 도포형 위상차 판은, 연신형 위상차 판에 비해 두께를 얇게 형성할 수 있다. 상기 액정 편광층의 두께는, 바람직하게는 0.5~10㎛, 보다 바람직하게는 1~5㎛이다.The liquid crystal coating-type retardation plate can be produced by coating and curing a liquid crystal composition on a base, as in the liquid crystal polarizing layer, to form a liquid crystal retardation layer. The liquid crystal coating type retardation plate can be formed to have a thinner thickness than the stretched retardation plate. The thickness of the liquid crystal polarizing layer is preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 1 to 5 μm.

상기 액정 도포형 위상차 판은 기재로부터 박리하여 전사시켜 적층할 수도 있고, 상기 기재를 그대로 적층할 수도 있다. 상기 기재가, 보호 필름이나 위상차 판, 윈도우 필름의 투명 기재로서의 역할을 담당하는 것도 바람직하다.The liquid crystal coating type retardation plate may be peeled off from the substrate and transferred to be laminated, or the substrate may be laminated as it is. It is also preferable that the substrate serves as a transparent substrate for the protective film, retardation plate, and window film.

일반적으로는, 단파장일수록 복굴절이 크고 장파장이 될수록 작은 복굴절을 나타내는 재료가 많다. 이 경우에는 전체 가시광 영역에서 λ/4의 위상차를 달성할 수는 없으므로, 시감도의 높은 560㎚ 부근에 대하여 λ/4가 되도록, 면내 위상차는, 바람직하게는 100~180㎚, 보다 바람직하게는 130~150㎚가 되도록 설계된다. 통상과는 반대의 복굴절율 파장 분산 특성을 가지는 재료를 이용한 역분산 λ/4 위상차 판은, 시인성이 양호해지는 점에서 바람직하다. 이와 같은 재료로서는, 예를 들면 연신형 위상차 판은 일본공개특허 특개2007-232873호 공보 등에, 액정 도포형 위상차 판은 일본공개특허 특개2010-30979호 공보 등에 기재되어 있는 것을 이용할 수 있다.In general, the shorter the wavelength, the greater the birefringence, and the longer the longer the wavelength, the smaller the material exhibiting the birefringence. In this case, since a phase difference of λ/4 cannot be achieved in the entire visible light region, the in-plane phase difference is preferably 100 to 180 nm, more preferably 130 so as to be λ/4 in the vicinity of 560 nm with high visibility. It is designed to be ˜150 nm. An inverse dispersion λ/4 retardation plate using a material having a birefringence wavelength dispersion characteristic as opposed to normal is preferable in view of good visibility. As such a material, for example, a stretched retardation plate described in JP 2007-232873 A and the like, and a liquid crystal coated retardation plate described in JP 2010-30979 A can be used.

또한, 다른 방법으로서는 λ/2 위상차 판과 조합함으로써 광대역 λ/4 위상차 판을 얻는 기술도 알려져 있다(예를 들면, 일본공개특허 특개평10-90521호 공보 등). λ/2 위상차 판도 λ/4 위상차 판과 마찬가지의 재료 방법으로 제조된다. 연신형 위상차 판과 액정 도포형 위상차 판의 조합은 임의이지만, 어느 것도 액정 도포형 위상차 판을 이용함으로써 두께를 얇게 할 수 있다.As another method, a technique of obtaining a broadband λ/4 phase difference plate by combining with a λ/2 phase difference plate is also known (for example, Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 10-90521, etc.). The λ/2 phase difference plate is also produced by the same material method as the λ/4 phase difference plate. The combination of the stretched retardation plate and the liquid crystal coating retardation plate is arbitrary, but any of them can be made thinner by using the liquid crystal coating retardation plate.

상기 원 편광판에는 경사 방향의 시인성을 높이기 위해, 정(正)의 C 플레이트를 적층하는 방법이 알려져 있다(예를 들면, 일본공개특허 특개2014-224837호 공보 등). 정의 C 플레이트는, 액정 도포형 위상차 판이어도 연신형 위상차 판이어도 된다. 당해 위상차 판의 두께 방향의 위상차는, 바람직하게는 -200~-20㎚, 보다 바람직하게는 -140~-40㎚이다.In order to increase visibility in the oblique direction, a method of laminating a positive C plate is known to the original polarizing plate (for example, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2014-224837, etc.). The positive C plate may be a liquid crystal coating type retardation plate or a stretched retardation plate. The phase difference in the thickness direction of the phase difference plate is preferably -200 to -20 nm, more preferably -140 to -40 nm.

<터치 센서><Touch sensor>

본 발명의 플렉시블 표시 장치는, 상기와 같이, 터치 센서를 구비하는 것이 바람직하다. 터치 센서는 입력 수단으로서 이용된다. 터치 센서로서는, 저항막 방식, 표면 탄성파 방식, 적외선 방식, 전자 유도 방식, 정전 용량 방식 등 다양한 양식을 들 수 있고, 바람직하게는 정전 용량 방식을 들 수 있다.It is preferable that the flexible display device of the present invention has a touch sensor as described above. The touch sensor is used as an input means. As a touch sensor, various forms, such as a resistive film system, a surface acoustic wave system, an infrared system, an electromagnetic induction system, and a capacitive system, are mentioned, Preferably, a capacitive system is mentioned.

정전 용량 방식 터치 센서는 활성 영역 및 상기 활성 영역의 외곽부에 위치하는 비활성 영역으로 구분된다. 활성 영역은 표시 패널에서 화면이 표시되는 영역(표시부)에 대응하는 영역으로서, 사용자의 터치가 감지되는 영역이고, 비활성 영역은 표시 장치에서 화면이 표시되지 않는 영역(비표시부)에 대응하는 영역이다. 터치 센서는 플렉시블한 특성을 가지는 기판과, 상기 기판의 활성 영역에 형성된 감지 패턴과, 상기 기판의 비활성 영역에 형성되어, 상기 감지 패턴과 패드부를 개재하여 외부의 구동 회로와 접속하기 위한 각 센싱 라인을 포함할 수 있다. 플렉시블한 특성을 가지는 기판으로서는, 상기 윈도우 필름의 투명 기판과 마찬가지의 재료를 사용할 수 있다.The capacitive touch sensor is divided into an active area and an inactive area located on an outer portion of the active area. The active area is an area corresponding to an area (display area) where a screen is displayed on the display panel, and an area where a user's touch is sensed, and an inactive area is an area corresponding to an area (non-display area) where a screen is not displayed on the display device. . The touch sensor has a flexible substrate, a sensing pattern formed in an active region of the substrate, and a sensing pattern formed in an inactive region of the substrate, and each sensing line for connecting to an external driving circuit through the sensing pattern and a pad portion. It may include. As the substrate having flexible properties, a material similar to that of the transparent substrate of the window film can be used.

상기 감지 패턴은, 제 1 방향에 형성된 제 1 패턴 및 제 2 방향에 형성된 제 2 패턴을 구비할 수 있다. 제 1 패턴과 제 2 패턴은 서로 상이한 방향에 배치된다. 제 1 패턴 및 제 2 패턴은, 동일층에 형성되고, 터치되는 지점을 감지하기 위해서는, 각각의 패턴이 전기적으로 접속되어야 한다. 제 1 패턴은 복수의 단위 패턴이 이음매를 개재하여 접속된 형태이지만, 제 2 패턴은 복수의 단위 패턴이 아일랜드 형태로 서로 분리된 구조로 되어 있으므로, 제 2 패턴을 전기적으로 접속하기 위해서는 별도의 브리지 전극이 필요하다. 제 2 패턴의 접속을 위한 전극에는, 주지의 투명 전극을 적용할 수 있다. 당해 투명 전극의 소재로서는, 예를 들면, 인듐 주석 산화물(ITO), 인듐 아연 산화물(IZO), 아연 산화물(ZnO), 인듐 아연 주석 산화물(IZTO), 인듐 갈륨 아연 산화물(IGZO), 카드뮴 주석 산화물(CTO), PEDOT(poly(3,4-ethylenedioxythiophene)), 탄소 나노 튜브(CNT), 그래핀, 금속 와이어 등을 들 수 있고, 바람직하게는 ITO를 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 금속 와이어에 사용되는 금속은 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 은, 금, 알루미늄, 구리, 철, 니켈, 티탄, 셀레늄, 크롬 등을 들 수 있고, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The sensing pattern may include a first pattern formed in the first direction and a second pattern formed in the second direction. The first pattern and the second pattern are arranged in different directions. The first pattern and the second pattern are formed on the same layer, and in order to sense a touched point, each pattern must be electrically connected. The first pattern is a form in which a plurality of unit patterns are connected via a seam, but the second pattern has a structure in which a plurality of unit patterns are separated from each other in an island form, so a separate bridge is used to electrically connect the second pattern. Electrodes are required. A well-known transparent electrode can be applied to the electrode for connection of the 2nd pattern. As a material of the transparent electrode, for example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc tin oxide (IZTO), indium gallium zinc oxide (IGZO), cadmium tin oxide (CTO), PEDOT (poly(3,4-ethylenedioxythiophene)), carbon nanotubes (CNT), graphene, metal wires, and the like, and preferably ITO. These may be used alone or in combination of two or more. The metal used for the metal wire is not particularly limited, and examples thereof include silver, gold, aluminum, copper, iron, nickel, titanium, selenium, and chromium. These may be used alone or in combination of two or more. .

브리지 전극은 감지 패턴 상부에 절연층을 개재하여 상기 절연층 상부에 형성될 수 있고, 기판 상에 브리지 전극이 형성되어 있으며, 그 위에 절연층 및 감지 패턴을 형성할 수 있다. 상기 브리지 전극은 감지 패턴과 동일한 소재로 형성할 수도 있고, 몰리브덴, 은, 알루미늄, 구리, 팔라듐, 금, 백금, 아연, 주석, 티탄 또는 이들 중 2종 이상의 합금으로 형성할 수도 있다.The bridge electrode may be formed over the insulating layer with an insulating layer over the sensing pattern, a bridge electrode may be formed on the substrate, and an insulating layer and a sensing pattern may be formed thereon. The bridge electrode may be formed of the same material as the sensing pattern, or may be formed of molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium, or an alloy of two or more of them.

제 1 패턴과 제 2 패턴은 전기적으로 절연되어야 하므로, 감지 패턴과 브리지 전극의 사이에는 절연층이 형성된다. 당해 절연층은, 제 1 패턴의 이음매와 브리지 전극과의 사이에만 형성하거나, 감지 패턴 전체를 덮는 층으로서 형성할 수도 있다. 감지 패턴 전체를 덮는 층의 경우, 브리지 전극은 절연층에 형성된 컨택트 홀을 개재하여 제 2 패턴을 접속할 수 있다.Since the first pattern and the second pattern must be electrically insulated, an insulating layer is formed between the sensing pattern and the bridge electrode. The insulating layer may be formed only between the seam of the first pattern and the bridge electrode, or may be formed as a layer covering the entire sensing pattern. In the case of a layer covering the entire sensing pattern, the bridge electrode may connect the second pattern through a contact hole formed in the insulating layer.

상기 터치 센서는, 감지 패턴이 형성된 패턴 영역과, 감지 패턴이 형성되어 있지 않은 비패턴 영역과의 사이의 투과율의 차, 구체적으로는, 이들 영역에 있어서의 굴절률의 차에 의해 유발되는 광 투과율의 차를 적절하게 보상하기 위한 수단으로서 기판과 전극의 사이에 광학 조절층을 추가로 포함할 수 있다. 당해 광학 조절층은, 무기 절연 물질 또는 유기 절연 물질을 포함할 수 있다. 광학 조절층은 광경화성 유기 바인더 및 용제를 포함하는 광경화 조성물을 기판 상에 코팅하여 형성할 수 있다. 상기 광경화 조성물은 무기 입자를 추가로 포함할 수 있다. 상기 무기 입자에 의해 광학 조절층의 굴절률을 높게 할 수 있다.The touch sensor has a difference in transmittance between a pattern area where a sensing pattern is formed and a non-pattern area where no sensing pattern is formed, specifically, a light transmittance caused by a difference in refractive index in these areas. As a means for properly compensating for the difference, an optical control layer may be further included between the substrate and the electrode. The optical control layer may include an inorganic insulating material or an organic insulating material. The optical control layer may be formed by coating a photocurable composition comprising a photocurable organic binder and a solvent on a substrate. The photocurable composition may further include inorganic particles. The refractive index of the optical control layer can be increased by the inorganic particles.

상기 광경화성 유기 바인더는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 예를 들면, 아크릴레이트계 단량체, 스티렌계 단량체, 카르본산계 단량체 등의 각 단량체의 공중합체를 포함할 수 있다. 상기 광경화성 유기 바인더는, 예를 들면, 에폭시기 함유 반복 단위, 아크릴레이트 반복 단위, 카르본산 반복 단위 등의 서로 상이한 각 반복 단위를 포함하는 공중합체여도 된다.The photocurable organic binder may include a copolymer of each monomer, such as an acrylate-based monomer, a styrene-based monomer, and a carboxylic acid-based monomer, within a range that does not impair the effects of the present invention. The photocurable organic binder may be, for example, a copolymer containing each repeating unit different from each other such as an epoxy group-containing repeating unit, an acrylate repeating unit, and a carboxylic acid repeating unit.

상기 무기 입자로서는, 예를 들면, 지르코니아 입자, 티타니아 입자, 알루미나 입자 등을 들 수 있다.As said inorganic particle, zirconia particle, titania particle, alumina particle, etc. are mentioned, for example.

상기 광경화 조성물은, 광중합 개시제, 중합성 모노머, 경화 보조제 등의 각 첨가제를 추가로 포함할 수도 있다.The photocurable composition may further include additives such as a photopolymerization initiator, a polymerizable monomer, and a curing aid.

<접착층><Adhesive layer>

상기 플렉시블 화상 표시 장치용 적층체를 형성하는 각 층(윈도우 필름, 원 편광판, 터치 센서) 및 각 층을 구성하는 필름 부재(직선 편광판, λ/4 위상차 판 등)은 접착제에 의해 접합할 수 있다. 당해 접착제로서는, 수계 접착제, 유기 용제계, 무용제계 접착제, 고체 접착제, 수계 용제 휘산형 접착제, 습기 경화형 접착제, 가열 경화형 접착제, 혐기 경화형, 활성 에너지선 경화형 접착제, 경화제 혼합형 접착제, 열 용융형 접착제, 감압형 접착제(점착제), 재습형 접착제 등, 통상 사용되고 있는 접착제 등을 사용할 수 있고, 바람직하게는 수계 용제 휘산형 접착제, 활성 에너지선 경화형 접착제, 점착제를 사용할 수 있다. 접착제층의 두께는, 요구되는 접착력 등에 따라 적절히 조절할 수 있고, 바람직하게는 0.01~500㎛, 보다 바람직하게는 0.1~300㎛이다. 상기 플렉시블 화상 표시 장치용 적층체에는, 복수의 접착층이 존재하지만, 각각의 두께나 종류는, 동일해도 상이해도 된다.Each layer (window film, circular polarizing plate, touch sensor) forming the laminate for the flexible image display device and the film member (linear polarizing plate, λ/4 retardation plate, etc.) constituting each layer can be bonded by an adhesive. . Examples of the adhesive include water-based adhesives, organic solvent-based, solvent-free adhesives, solid adhesives, water-based solvent volatilization-type adhesives, moisture-curable adhesives, heat-curable adhesives, anaerobic curing type, active energy ray-curable adhesives, curing agent mixed adhesives, and hot melt adhesives, Pressure-sensitive adhesives (adhesives), re-wet adhesives, and other commonly used adhesives can be used. Preferably, a water-based solvent volatilization-type adhesive, an active energy ray-curable adhesive, or an adhesive can be used. The thickness of the adhesive layer can be appropriately adjusted according to the required adhesive force, and is preferably 0.01 to 500 µm, more preferably 0.1 to 300 µm. Although the plurality of adhesive layers exist in the laminate for the flexible image display device, the thickness and type of each may be the same or different.

상기 수계 용제 휘산형 접착제로서는, 폴리비닐알코올계 폴리머, 전분 등의 수용성 폴리머, 에틸렌-아세트산 비닐계 에멀젼, 스티렌-부타디엔계 에멀젼 등 수(水)분산 상태의 폴리머를 주제(主劑) 폴리머로서 사용할 수 있다. 상기 주제 폴리머와 물에 더해, 가교제, 실란계 화합물, 이온성 화합물, 가교 촉매, 산화 방지제, 염료, 안료, 무기 필러, 유기 용제 등을 배합해도 된다. 상기 수계 용제 휘산형 접착제에 의해 접착하는 경우, 상기 수계 용제 휘산형 접착제를 피접착층 사이에 주입하여 피착층을 첩합한 후, 건조시킴으로써 접착성을 부여할 수 있다. 상기 수계 용제 휘산형 접착제를 이용하는 경우, 그 접착층의 두께는, 바람직하게는 0.01~10㎛, 보다 바람직하게는 0.1~1㎛이다. 상기 수계 용제 휘산형 접착제를 복수층에 이용하는 경우, 각각의 층의 두께나 종류는 동일해도 상이해도 된다.As the water-based solvent-based adhesive, water-dispersible polymers such as polyvinyl alcohol-based polymers, water-soluble polymers such as starch, ethylene-vinyl acetate-based emulsions, and styrene-butadiene-based emulsions can be used as the main polymer. Can be. In addition to the above main polymer and water, a crosslinking agent, a silane compound, an ionic compound, a crosslinking catalyst, an antioxidant, a dye, a pigment, an inorganic filler, an organic solvent, etc. may be blended. In the case of bonding with the water-based solvent volatilization-type adhesive, the water-based solvent volatilization-type adhesive is injected between the layers to be adhered to bond the layers to be adhered, followed by drying to impart adhesiveness. When using the water-based solvent-based adhesive, the thickness of the adhesive layer is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.1 to 1 μm. When using the said water-soluble solvent volatilization type adhesive in multiple layers, the thickness and kind of each layer may be the same or different.

상기 활성 에너지선 경화형 접착제는, 활성 에너지선을 조사하여 접착제층을 형성하는 반응성 재료를 포함하는 활성 에너지선 경화 조성물의 경화에 의해 형성할 수 있다. 상기 활성 에너지선 경화 조성물은, 하드 코팅 조성물에 포함되는 것과 마찬가지의 라디칼 중합성 화합물 및 카티온 중합성 화합물의 적어도 1종의 중합물을 함유할 수 있다. 상기 라디칼 중합성 화합물은, 하드 코팅 조성물에 있어서의 라디칼 중합성 화합물과 동일한 화합물을 이용할 수 있다.The active energy ray-curable adhesive may be formed by curing an active energy ray-curing composition comprising a reactive material that irradiates active energy rays to form an adhesive layer. The active energy ray-curable composition may contain at least one polymerizable product of a radically polymerizable compound and a cationic polymerizable compound similar to those contained in the hard coating composition. As the radically polymerizable compound, the same compound as the radically polymerizable compound in the hard coating composition can be used.

상기 카티온 중합성 화합물은, 하드 코팅 조성물에 있어서의 카티온 중합성 화합물과 동일한 화합물을 이용할 수 있다.As the cationic polymerizable compound, the same compound as the cationic polymerizable compound in the hard coating composition can be used.

활성 에너지선 경화 조성물에 이용되는 카티온 중합성 화합물로서는, 에폭시 화합물이 특히 바람직하다. 접착제 조성물로서의 점도를 낮추기 위해 단관능의 화합물을 반응성 희석제로서 포함하는 것도 바람직하다.As the cationically polymerizable compound used in the active energy ray curing composition, an epoxy compound is particularly preferred. It is also preferable to include a monofunctional compound as a reactive diluent in order to lower the viscosity as an adhesive composition.

활성 에너지선 조성물은, 점도를 저하시키기 위해, 단관능의 화합물을 포함할 수 있다. 당해 단관능의 화합물로서는, 1분자 중에 1개의 (메타)아크릴로일기를 가지는 아크릴레이트계 단량체나, 1분자 중에 1개의 에폭시기 또는 옥세타닐기를 가지는 화합물, 예를 들면, 글리시딜(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.The active energy ray composition may contain a monofunctional compound in order to lower the viscosity. As the monofunctional compound, an acrylate-based monomer having one (meth)acryloyl group in one molecule, or a compound having one epoxy group or oxetanyl group in one molecule, for example, glycidyl (meth) And acrylates.

활성 에너지선 조성물은, 추가로 중합 개시제를 포함할 수 있다. 당해 중합 개시제로서는, 라디칼 중합 개시제, 카티온 중합 개시제, 라디칼 및 카티온 중합 개시제 등을 들 수 있고, 이들은 적절히 선택하여 이용된다. 이들 중합 개시제는, 활성 에너지선 조사 및 가열의 적어도 1종에 의해 분해되어, 라디칼 혹은 카티온을 발생시켜 라디칼 중합과 카티온 중합을 진행시키는 것이다. 하드 코팅 조성물의 기재 중에서 활성 에너지선 조사에 의해 라디칼 중합 또는 카티온 중합의 적어도 어느 것을 개시할 수 있는 개시제를 사용할 수 있다.The active energy ray composition may further include a polymerization initiator. Examples of the polymerization initiator include a radical polymerization initiator, a cationic polymerization initiator, a radical and a cationic polymerization initiator, and these are suitably selected and used. These polymerization initiators are decomposed by at least one of active energy ray irradiation and heating to generate radicals or cations to advance radical polymerization and cation polymerization. Among the substrates of the hard coating composition, an initiator capable of initiating at least either radical polymerization or cationic polymerization by active energy ray irradiation can be used.

상기 활성 에너지선 경화 조성물은 추가로, 이온 포착제, 산화 방지제, 연쇄 이동제, 밀착 부여제, 열가소성 수지, 충전제, 유동 점도 조정제, 가소제, 소포제, 첨가제, 용제를 포함할 수 있다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제에 의해 2개의 피접착층을 접착하는 경우, 상기 활성 에너지선 경화 조성물을 피접착층 중 어느 일방 또는 양방에 도포 후, 첩합하고, 어느 피착층 또는 양방의 피접착층에 활성 에너지선을 조사하여 경화시킴으로써, 접착할 수 있다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제를 이용하는 경우, 그 접착층의 두께는, 바람직하게는 0.01~20㎛, 보다 바람직하게는 0.1~10㎛이다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제를 복수의 접착층 형성에 이용하는 경우, 각각의 층의 두께나 종류는 동일해도 상이해도 된다.The active energy ray curing composition may further include an ion trapping agent, an antioxidant, a chain transfer agent, an adhesion imparting agent, a thermoplastic resin, a filler, a flow viscosity modifier, a plasticizer, an antifoaming agent, an additive, and a solvent. In the case of bonding the two to-be-adhesive layers by the active energy ray-curable adhesive, the active energy ray-curable composition is applied to one or both of the to-be-adhesive layers, and then bonded to the active energy ray to either or both of the to-be-adhesive layers. It can be adhered by irradiating and curing. When the active energy ray-curable adhesive is used, the thickness of the adhesive layer is preferably 0.01 to 20 μm, more preferably 0.1 to 10 μm. When the active energy ray-curable adhesive is used to form a plurality of adhesive layers, the thickness or type of each layer may be the same or different.

상기 점착제로서는, 주제 폴리머에 따라, 아크릴계 점착제, 우레탄계 점착제, 고무계 점착제, 실리콘계 점착제 등으로 분류된 어느 것을 사용할 수도 있다. 점착제에는 주제 폴리머에 더해, 가교제, 실란계 화합물, 이온성 화합물, 가교 촉매, 산화 방지제, 점착 부여제, 가소제, 염료, 안료, 무기 필러 등을 배합해도 된다. 상기 점착제를 구성하는 각 성분을 용제에 용해·분산시켜 점착제 조성물을 얻어, 당해 점착제 조성물을 기재 상에 도포한 후에 건조시킴으로써, 점착제층이 형성된다. 점착층은 직접 형성되어도 되고, 별도 기재에 형성한 것을 전사할 수도 있다. 접착 전의 점착면을 커버하기 위해서는 이형 필름을 사용하는 것도 바람직하다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제를 이용하는 경우, 그 접착층의 두께는, 바람직하게는 0.1~500㎛, 보다 바람직하게는 1~300㎛이다. 상기 점착제를 복수층 이용하는 경우에는, 각각의 층의 두께나 종류는 동일해도 상이해도 된다.As the above-mentioned pressure-sensitive adhesive, any one classified as an acrylic pressure-sensitive adhesive, a urethane-based pressure-sensitive adhesive, a rubber-based pressure-sensitive adhesive, or a silicone-based pressure-sensitive adhesive may be used depending on the main polymer. In addition to the main polymer, a crosslinking agent, a silane compound, an ionic compound, a crosslinking catalyst, an antioxidant, a tackifier, a plasticizer, a dye, a pigment, an inorganic filler, etc. may be added to the adhesive. The adhesive layer is formed by dissolving and dispersing each component constituting the pressure-sensitive adhesive in a solvent to obtain a pressure-sensitive adhesive composition, and then applying the pressure-sensitive adhesive composition to a substrate and drying it. The adhesive layer may be formed directly, or may be transferred to one formed on a separate substrate. It is also preferable to use a release film to cover the adhesive surface before adhesion. When the active energy ray-curable adhesive is used, the thickness of the adhesive layer is preferably 0.1 to 500 μm, more preferably 1 to 300 μm. When using multiple layers of the said adhesive, the thickness and kind of each layer may be the same or different.

<차광 패턴><Shading pattern>

상기 차광 패턴은, 상기 플렉시블 화상 표시 장치의 베젤 또는 하우징의 적어도 일부로서 적용할 수 있다. 차광 패턴에 의해 상기 플렉시블 화상 표시 장치의 주연부에 배치되는 배선이 숨겨져 시인되기 어렵게 함으로써, 화상의 시인성이 향상된다. 상기 차광 패턴은 단층 또는 복층의 형태여도 된다. 차광 패턴의 컬러는 특별히 제한되지는 않고, 흑색, 백색, 금속색 등의 다양한 컬러여도 된다. 차광 패턴은 컬러를 구현하기 위한 안료와, 아크릴계 수지, 에스테르계 수지, 에폭시계 수지, 폴리우레탄, 실리콘 등의 고분자로 형성할 수 있다. 이들의 단독 또는 2종류 이상의 혼합물로 사용할 수도 있다. 상기 차광 패턴은, 인쇄, 리소그래피, 잉크젯 등 각종의 방법으로 형성할 수 있다. 차광 패턴의 두께는, 바람직하게는 1~100㎛, 보다 바람직하게는 2~50㎛이다. 또한, 차광 패턴의 두께 방향으로 경사 등의 형상을 부여하는 것도 바람직하다.The light-shielding pattern can be applied as at least a part of the bezel or housing of the flexible image display device. The visibility of the image is improved by making the wiring disposed in the periphery of the flexible image display device hidden and difficult to see by the light-shielding pattern. The light shielding pattern may be in the form of a single layer or multiple layers. The color of the light-shielding pattern is not particularly limited, and various colors such as black, white, and metal may be used. The light-shielding pattern may be formed of a pigment for realizing color, and a polymer such as acrylic resin, ester resin, epoxy resin, polyurethane, and silicone. It may be used alone or as a mixture of two or more. The light-shielding pattern can be formed by various methods such as printing, lithography, and inkjet. The thickness of the light shielding pattern is preferably 1 to 100 μm, more preferably 2 to 50 μm. In addition, it is also preferable to give a shape such as a slope in the thickness direction of the light-shielding pattern.

[실시예][Example]

이하, 실시예에 의해 본 발명을 더 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 예 중의 「%」 및 「부(部)」는, 특별히 기재가 없는 한, 질량% 및 질량부를 의미한다. 우선 먼저 물성값의 측정 방법을 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by examples, but the present invention is not limited to the following examples. In the examples, "%" and "parts" mean mass% and parts by mass unless otherwise specified. First, a method of measuring a property value will be described.

<중량 평균 분자량><weight average molecular weight>

겔 침투 크로마토그래피(GPC) 측정Gel permeation chromatography (GPC) measurements

(1) 전처리 방법(1) Pretreatment method

시료를 γ-부티로락톤(GBL)에 용해시켜 20질량% 용액으로 한 후, DMF 용리액으로 100배로 희석하여, 0.45㎛ 멤브레인 필터 여과한 것을 측정 용액으로 했다.The sample was dissolved in γ-butyrolactone (GBL) to make a 20% by mass solution, diluted 100-fold with DMF eluent, and filtered with a 0.45 μm membrane filter as a measurement solution.

(2) 측정 조건(2) Measurement conditions

칼럼: TSKgel SuperAWM-H×2+SuperAW2500×1(6.0㎜ I.D.×150㎜×3개)Column: TSKgel SuperAWM-H×2+SuperAW2500×1 (6.0 mm I.D.×150 mm×3)

용리액: DMF(10㎜ol의 브롬화 리튬 첨가)Eluent: DMF (addition of 10 mmol of lithium bromide)

유량: 0.6mL/분Flow rate: 0.6 mL/min

검출기: RI 검출기Detector: RI detector

칼럼 온도: 40℃Column temperature: 40°C

주입량: 20μLInjection volume: 20 μL

분자량 표준: 표준 폴리스티렌Molecular weight standard: standard polystyrene

<이미드화율><Imidization rate>

이미드화율은, 1H-NMR 측정에 의해 아래와 같이 하여 구했다.The imidation ratio was determined as follows by 1 H-NMR measurement.

(1) 전처리 방법(1) Pretreatment method

시료를 중수소화 디메틸술폭시드(DMSO-d6)에 용해시켜 2질량% 용액으로 한 것을 측정 용액으로 했다.The sample was dissolved in deuterated dimethyl sulfoxide (DMSO-d 6 ) to prepare a 2% by mass solution as a measurement solution.

(2) 측정 조건(2) Measurement conditions

측정 장치: JEOL제 400MHz NMR 장치 JNM-ECZ400S/L1Measuring device: 400 MHz NMR device JNM-ECZ400S/L1 made by JEOL

표준 물질: DMSO-d6(2.5ppm)Standard Substance: DMSO-d 6 (2.5ppm)

시료 온도: 실온Sample temperature: room temperature

적산 횟수: 256회Accumulation count: 256 times

완화 시간: 5초Relax time: 5 seconds

(3) 이미드화율 해석 방법(3) Analysis method of imidation rate

(3-1) 폴리이미드 수지 A의 이미드화율(3-1) The imidation ratio of polyimide resin A

폴리이미드 수지 A를 포함하는 측정 용액에 대하여 얻어진 1H-NMR 스펙트럼에 있어서 관측된 벤젠프로톤 중, 이미드화 전후에서 변화되지 않는 구조에 유래하는 벤젠프로톤 A의 적분값을 IntA라고 했다.Of the benzene protons observed in the 1 H-NMR spectrum obtained for the measurement solution containing the polyimide resin A, the integral value of benzene proton A derived from a structure that does not change before and after imidization was referred to as Int A.

또한, 폴리이미드 수지 중에 잔존하는 아믹산 구조에 유래하는 아미드프로톤의 적분값을 IntB라고 했다. 이들 적분값으로부터 이하의 식에 의거하여 폴리이미드 수지 A의 이미드화율을 구했다. 하기 식에 있어서, α는 폴리아미드산(이미드화율 0%)인 경우에 있어서의 아미드 프로톤 1개에 대한 벤젠프로톤 A의 개수 비율이다.In addition, the integral value of the amide proton derived from the amic acid structure remaining in the polyimide resin was referred to as Int B. The imidation ratio of polyimide resin A was calculated|required from these integral values based on the following formula. In the following formula, α is the number ratio of benzene proton A to 1 amide proton in the case of polyamic acid (0% imidation).

이미드화율(%)=100×(1-α×IntB/IntA)Imidation rate (%)=100×(1-α×Int B /Int A )

(3-2) 폴리아미드이미드 수지 A의 이미드화율(3-2) The imidation ratio of polyamideimide resin A

폴리아미드이미드 수지 A를 포함하는 측정 용액에 대하여 얻어진 1H-NMR 스펙트럼에 있어서 관측된 벤젠프로톤 중, 이미드화 전후에서 변화되지 않는 구조에 유래하고, 폴리아미드이미드 수지 중에 잔존하는 아믹산 구조에 유래하는 구조에 영향을 받지 않는 벤젠프로톤 C의 적분값을 IntC라고 했다.Among the benzene protons observed in the 1 H-NMR spectrum obtained for the measurement solution containing polyamideimide resin A, it originates from a structure that does not change before and after imidation, and from an amic acid structure that remains in the polyamideimide resin. The integral value of benzene proton C, which is not affected by the structure, is called Int C.

또한, 관측된 벤젠프로톤 중 이미드화 전후에서 변화되지 않는 구조에 유래하고, 폴리아미드이미드 수지 A 중에 잔존하는 아믹산 구조에 유래하는 구조에 영향을 받는 벤젠프로톤 D의 적분값을 IntD라고 했다. 이들 적분값으로부터 이하의 식에 의거하여 β값을 구했다.In addition, the integral value of benzene proton D in the observed benzene proton, which is derived from a structure that does not change before and after imidation, and is influenced by a structure derived from an amic acid structure remaining in the polyamideimide resin A, is referred to as Int D. From these integral values, β values were determined based on the following equation.

β=IntD/IntC β=Int D /Int C

이어서, β를 이미드화율로 환산하는 상관식을 얻기 위해, 이미드화율이 상이한 복수의 폴리아미드이미드 수지에 대하여, 상기와 마찬가지로 하여 β값을 구함과 함께, HSQC 스펙트럼을 이용하여 이미드화율을 구하고, 이들 결과로부터 이하의 상관식을 얻었다.Subsequently, in order to obtain a correlation equation in which β is converted into an imidation rate, for a plurality of polyamideimide resins having different imidation rates, β values are obtained in the same manner as described above, and the imidation rate is determined using the HSQC spectrum. The following correlation equation was obtained from these results.

이미드화율(%)=k×β+100Imidation rate (%)=k×β+100

상기 상관식 중, k는 상수이다.In the above correlation, k is a constant.

이어서, 폴리아미드이미드 수지 A에 대하여 얻은 β를, 상기 상관식에 대입하여 폴리아미드이미드 수지 A의 이미드화율(%)을 얻었다.Subsequently, β obtained with respect to the polyamideimide resin A was substituted into the correlation equation to obtain an imidation ratio (%) of the polyamideimide resin A.

<평균 1차 입자경><Average primary particle diameter>

실리카졸을 300℃에서 건조시킨 분말의 비표면적을 유아사아이오닉스(주)제, 비표면적 측정 장치 모노소브 MS-16을 이용하여 측정하고, 측정된 비표면적 S(m2/g)를 이용하여, D(㎚)=2720/S의 식으로 평균 1차 입자경을 산출했다.The specific surface area of the powder obtained by drying the silica sol at 300°C was measured using a monosurface MS-16 manufactured by Yuasa Ionics, and the measured specific surface area S (m 2 /g) was used. , D(nm) = 2720/S, the average primary particle size was calculated.

<바니시의 점도><Viscosity of the varnish>

JIS K 8803:2011에 준거하여, 브룩필드사제 E형 점도계 DV-II+Pro를 이용하여 측정했다. 측정 온도는 25℃로 했다.In accordance with JIS K 8803:2011, it was measured using Brookfield's E-type viscometer DV-II+Pro. The measurement temperature was 25°C.

<필름의 두께><The thickness of the film>

(주)미츠토요제 ID-C112XBS를 이용하여, 10점 이상의 필름의 두께를 측정하여, 그 평균값을 산출했다.Using Mitsutoyo Corporation ID-C112XBS, the film thickness of 10 or more points was measured, and the average value was computed.

<기능층의 두께><Thickness of functional layer>

Filmetrics사제 F20 탁상 막 두께 시스템을 이용하여, 기능층의 두께를 측정했다.The thickness of the functional layer was measured using an F20 tabletop film thickness system manufactured by Filmetrics.

<필름의 전광선 투과율, Haze><The total light transmittance of the film, Haze>

상기 광학 특성값을, 코니카미놀타(주)제 분광 측색계 CM-3700A를 이용하여 측정했다.The said optical characteristic value was measured using the spectrophotometer CM-3700A manufactured by Konica Minolta Corporation.

<필름의 황색도><The yellowness of the film>

광학 필름의 황색도(Yellow Index: YI값)를, 코니카미놀타(주)제 분광 측색계 CM-3700A를 이용하여 측정했다. 구체적으로는, 샘플이 없는 상태에서 백그라운드 측정을 행한 후, 광학 필름을 샘플 홀더에 세팅하여, 300~800㎚의 광에 대한 투과율 측정을 행하고, 3자극값(X, Y, Z)을 구하여, 하기 식에 의거하여 YI값을 산출했다.The yellowness (Yellow Index: YI value) of the optical film was measured using a spectrophotometer CM-3700A manufactured by Konica Minolta Corporation. Specifically, after background measurement in the absence of a sample, the optical film is set in a sample holder, transmittance measurement for light of 300 to 800 nm is obtained, and tristimulus values (X, Y, Z) are obtained, The YI value was calculated based on the following formula.

YI=100×(1.2769X-1.0592Z)/YYI=100×(1.2769X-1.0592Z)/Y

JIS K 5600-5-4:1999에 준거하여, 광학 적층체의 기능층 표면의 연필 경도를 측정했다. 측정 시의 하중은 750g, 측정 스피드는 4.5㎜/초로 했다.In accordance with JIS K 5600-5-4:1999, pencil hardness of the functional layer surface of the optical laminate was measured. The load at the time of measurement was 750 g, and the measurement speed was 4.5 mm/sec.

<표면 저항률의 측정><Measurement of surface resistivity>

저항률계((주)미쯔비시화학애널리테크제, 하이레스터 UP MCP-HT450형)를 사용하여, JIS K 6911에 준거하여 광학 적층체의 표면 저항률(Ω/sq)을 측정했다. 샘플을 50㎜×50㎜의 크기로 절단하고, 얻어진 샘플을 23℃, 50% RH의 하에 24시간 방치했다. 그 후, 광학 적층체의 기능층측의 표면 저항률을 측정했다. 또한, 당해 장치의 측정 상한은 1.0E+14Ω/sq이며, 그 이상의 표면 저항률을 가지는 경우에는, 장치 상에 OVER라고 표기된다.The surface resistivity (Ω/sq) of the optical laminate was measured in accordance with JIS K 6911 using a resistivity meter (Mitsubishi Chemical Analtech Co., Ltd., high lester UP MCP-HT450 type). The sample was cut to a size of 50 mm×50 mm, and the obtained sample was left at 23° C. and 50% RH for 24 hours. Thereafter, the surface resistivity of the functional layer side of the optical laminate was measured. In addition, the upper limit of measurement of the device is 1.0E+14 Ω/sq, and when it has a surface resistivity higher than that, it is indicated as OVER on the device.

<광학 필름 또는 광학 적층체의 광학적 균질성의 평가 방법><Method for evaluating optical homogeneity of optical film or optical laminate>

1. 투영 화상 및 배경 화상의 촬영1. Shooting projected images and background images

암실 중에, 도 2에 나타내는 바와 같이, 광원(1), 측정 필름(2), 투영면(3) 및 카메라(6)를 배치하여, 투영 화상(4)의 촬영을 행했다. 광원(1)과 측정 필름(2)과의 거리는 250cm이며, 측정 필름(2)과 투영면(3)과의 거리는 30cm이고, 측정 필름(2)과 투영면(3)은 평행하게 배치되며, 카메라(6)는 광원(1)으로부터 스크린으로의 법선의 바로 아래에 설치되어 있고, 카메라(6)와 투영면(3)(스크린)과의 거리는 30cm이며, 카메라 각도(7)(카메라를 스크린에 대하여 수직이 되도록 향한 상태로부터, 상측으로 경사시키는 각도)는 25도였다. 또한, 배경 화상의 촬영은, 도 2에 있어서 측정 필름(2)을 제거한 것 이외는 투영 화상의 촬영과 마찬가지로 행했다. 측정 조건 및 촬영 조건의 상세를 이하에 나타낸다.2, the light source 1, the measurement film 2, the projection surface 3, and the camera 6 were arrange|positioned in the dark room, and the projection image 4 was imaged. The distance between the light source 1 and the measurement film 2 is 250 cm, the distance between the measurement film 2 and the projection surface 3 is 30 cm, the measurement film 2 and the projection surface 3 are arranged in parallel, and the camera ( 6) is installed just below the normal from the light source 1 to the screen, the distance between the camera 6 and the projection surface 3 (screen) is 30 cm, and the camera angle 7 (the camera is perpendicular to the screen. The angle to incline upward from the state facing toward it was 25 degrees. Note that the background image was photographed in the same manner as the projection image photographed except that the measurement film 2 was removed in FIG. 2. Details of the measurement conditions and shooting conditions are shown below.

광원: LED 광원(하야시 시계공업(주)제 「LA-HDF15T」)Light source: LED light source ("LA-HDF15T" manufactured by Hayashi Watch Industry Co., Ltd.)

측정 필름: 이하의 실시예 및 비교예에서 제조한 광학 필름 또는 광학 적층체를 200㎜×300㎜로 잘라내어, 측정 시료로 했다.Measurement film: The optical film or optical laminate manufactured in the following examples and comparative examples was cut out to 200 mm×300 mm, and used as a measurement sample.

투영면: 백색의 시판의 영화 관상용의 스크린((주)시어터 하우스제, 「BTP600FHD-SH1000」)Projection surface: White commercial movie ornamental screen (Theater House Co., Ltd., ``BTP600FHD-SH1000'')

카메라: (주)니콘제 「COOLPIX(등록상표) P600」Camera: Nikon Corporation ``COOLPIX (registered trademark) P600''

카메라의 상세 설정: 촬영 모드 메뉴얼 촬영Detailed camera settings: Manual shooting mode

화상 사이즈 2M Image size 2M

포커스 메뉴얼포커스(거리 0.3m) Focus Manual Focus (Distance 0.3m)

셔터 스피드 1/2초 Shutter speed 1/2 second

조리개값(F값) 4.2 Aperture value (F value) 4.2

플래시 OFF Flash OFF

2. 푸리에 변환2. Fourier Transform

본 실시예에서는 카메라를 상기 카메라 각도의 위치에 설치하고 있기 때문에, 투영 화상에 경사가 발생하고 있다. 이 때문에, 우선 투영 화상의 경사를 보정하기 위해, 경사 보정 조건을 결정했다. 또한, 투영상의 일그러짐이 없는 경우에는 보정은 불필요하다.In this embodiment, since the camera is installed at the position of the camera angle, inclination is generated in the projected image. For this reason, in order to first correct the inclination of the projected image, the inclination correction condition was determined. In addition, correction is unnecessary when there is no distortion of the projected image.

(경사 보정 조건의 결정)(Determination of slope correction conditions)

투명한 필름에 10cm×10cm의 정방형을 그려, 상기 1의 조건으로 기준 투영 화상을 촬영했다. 얻어진 기준 투영 화상을 Adobe Systems사제의 Photoshop(등록상표) CS4에 의해 판독하고, 렌즈 보정의 일그러짐 보정 기능을 이용하여, 카메라와 스크린이 90도에 상당하도록 보정하여, TIFF 형식으로 보존했다. 이 때의 조건을 경사 보정 조건으로 했다. 경사 보정 후의 기준 투영 화상으로부터, 세로, 가로 각각의 픽셀당의 길이를 계산했다(세로: 816pixel=10cm, 가로: 906pixel=10cm).A 10 cm×10 cm square was drawn on a transparent film, and a reference projection image was taken under the condition 1 above. The obtained reference projection image was read by Adobe Systems' Photoshop (registered trademark) CS4, and the camera and screen were corrected to correspond to 90 degrees using a lens correction distortion correction function, and stored in a TIFF format. The conditions at this time were used as the slope correction conditions. The length of each vertical and horizontal pixel was calculated from the reference projected image after tilt correction (vertical: 816 pixel = 10 cm, horizontal: 906 pixel = 10 cm).

(푸리에 변환)(Fourier transform)

측정 필름에 대하여 상기와 같이 하여 얻은 투영 화상에 대하여, 상기와 같이 하여 결정한 경사 보정 조건으로 보정을 행하고, 보정 후의 화상을 TIFF 형식으로 보존했다. 얻어진 경사 보정 후의 투영 화상을, 화상 해석 소프트 「Image-J, ver. 1.48」을 이용하여 8-bit의 그레이 스케일로 변환함으로써 수치화했다. 또한, 경사 보정 후의 기준 투영 화상으로부터 얻은, 세로, 가로 각각의 픽셀당의 길이를, Set Scale로서 사용했다. 그레이 스케일 화상 중 10.2cm×11.2cm(세로×가로)의 사이즈의 직사각형의 범위를 선택하고, 당해 선택된 범위의 화상을, Imag 교반 e-J를 이용하여 푸리에 변환하여, 역공간상을 얻었다. 푸리에 변환 후의 역공간상에 대하여, Set Scale에 옳은 값(수평 방향: 1pixel=11.3cm-1, 수직 방향: 1pixel=12.55cm-1)을 입력했다.The projected image obtained as described above for the measurement film was corrected under the inclination correction conditions determined as described above, and the corrected image was stored in the TIFF format. The obtained projection image after tilt correction is image analysis software "Image-J, ver. 1.48” and converted to an 8-bit gray scale. In addition, the length of each vertical and horizontal pixel obtained from the reference projected image after tilt correction was used as a set scale. A rectangular range having a size of 10.2 cm×11.2 cm (vertical×horizontal) among gray scale images was selected, and an image of the selected range was Fourier transformed using Imag stirring eJ to obtain an inverse spatial image. For the inverse spatial image after Fourier transform, the correct value ( 1 :=11.3cm -1 in the horizontal direction, 1 -1 in the vertical direction = 12.55cm -1 ) was entered in the Set Scale.

3. 블랭크 보정한 라인 프로파일의 최대 강도(Ymh1 및 Ymv1)의 측정3. Measurement of maximum intensity (Y mh1 and Y mv1 ) of blank corrected line profile

상기와 같이 하여 얻은 역공간상에 있어서, 역공간상의 중심을 지나는 수평 방향(h1 방향) 및 수직 방향(v1 방향)의 각각의 방향에 대하여 라인 프로파일을 작성했다. 라인 폭은 10픽셀로 했다. 얻은 라인 프로파일을 text 형식으로 보존했다. 이어서, 당해 text 형식의 데이터를 Microsoft사의 Excel(ver.14.0)로 판독하고, 다음과 같이 하여 라인 프로파일을 규격화하여, 수평 방향(h1 방향) 및 수직 방향(v1 방향)의 각각의 방향에 대하여, Y"의 라인 프로파일을 얻어, 각 라인 프로파일에 있어서 최대 강도 Ymax를 Ymh1 및 Ymv1이라고 하고, 최대 강도 Ymh1 및 Ymv1을 나타내는 주파수로부터 블랭크 보정된 라인 프로파일에 있어서의 전체 주파수의 중앙값 Xcen을 뺀 값인 Xmax를 각각 Xmh1 및 Xmv1이라고 했다. 규격화 방법을 실시예 1에서 얻은 수평 방향(h1 방향)의 라인 프로파일을 예로서 이용하여 설명한다.In the inverse space obtained as described above, a line profile was created for each direction in the horizontal direction (h1 direction) and the vertical direction (v1 direction) passing through the center of the inverse space. The line width was 10 pixels. The obtained line profile was preserved in text format. Subsequently, the data in the text format is read by Microsoft Corporation Excel (ver.14.0), and the line profile is normalized as follows, for each direction in the horizontal direction (h1 direction) and the vertical direction (v1 direction), The line profile of Y" is obtained, and the maximum intensity Y max in each line profile is referred to as Y mh1 and Y mv1 , and the median value X of the total frequency in the blank-corrected line profile from the frequencies representing maximum intensity Y mh1 and Y mv1 X max , which is the value obtained by subtracting cen , is referred to as X mh1 and X mv1 , respectively.The standardization method will be described using the line profile in the horizontal direction (h1 direction) obtained in Example 1 as an example.

(규격화 방법)(Standardization method)

Y의 값이 최대가 되는 주파수를 X의 중심(Xcen)으로 하고, 그 때의 Y의 값을 Ycen으로 한다. 이어서, Xcen을 중심으로 하고, 양단 50픽셀분씩의 합계 100픽셀의 영역에 대하여, Y의 평균값을 구하여, 당해 평균값을 베이스 라인(Ybase)이라고 한다. 그리고, Ycen=100, Ybase=0이 되도록, 다음의 식에 따른 데이터 Y를 보정하여 Y'를 얻는다.The frequency at which the value of Y becomes the maximum is taken as the center of X (X cen ), and the value of Y at that time is defined as Y cen . Next, the center of X cen and the average value of Y is obtained for a region of 100 pixels in total for each of 50 pixels at both ends, and the average value is referred to as a base line (Y base ). Then, Y'is obtained by correcting the data Y according to the following equation so that Y cen =100 and Y base =0.

Figure pat00020
Figure pat00020

도 4에 나타나는 실시예 1에서 얻은 라인 프로파일(데이터 Y)에 대하여, 상기 보정을 행함으로써, 도 5에 나타나는 바와 같은 라인 프로파일 A(데이터 Y')가 얻어진다.By performing the above correction on the line profile (data Y) obtained in Example 1 shown in Fig. 4, a line profile A (data Y') as shown in Fig. 5 is obtained.

이어서, 1에서 얻은 배경 화상에 대해서도 마찬가지의 조작을 행하여, 배경 화상의 라인 프로파일을 얻었다. 구체적으로는, 도 6에 나타나는 바와 같은 라인 프로파일 B가 얻어졌다.Subsequently, the same operation was performed for the background image obtained in 1 to obtain a line profile of the background image. Specifically, a line profile B as shown in Fig. 6 was obtained.

이어서, 상기의 프로파일 A로부터, 백그라운드의 프로파일 B를 Excel에 의해 빼서, 블랭크 보정을 행했다. 실시예 1에서는, 도 5에 나타나는 라인 프로파일 A의 데이터 Y'로부터, 도 6에 나타나 있는 바와 같은 라인 프로파일 B의 데이터를 빼서, 도 7에 나타나는 바와 같은 블랭크 보정된 라인 프로파일 A-B를 얻었다.Subsequently, from the profile A described above, the background profile B was subtracted by Excel to perform blank correction. In Example 1, the data of the line profile B as shown in Fig. 6 was subtracted from the data Y'of the line profile A shown in Fig. 5 to obtain a blank corrected line profile A-B as shown in Fig. 7.

이와 같이 하여 얻은 라인 프로파일을 스무딩하여, Y"의 프로파일을 얻고, 이것을 라인 프로파일의 최대 강도(Ymh1 및 Ymv1)의 측정에 사용했다. 그래프의 스무딩은, 다음의 식에 따라, 21개의 데이터의 평균값인 yi를 산출하여 행했다.The line profile thus obtained was smoothed to obtain a profile of Y", which was used to measure the maximum intensity of the line profile (Y mh1 and Y mv1 ). The smoothing of the graph was 21 data according to the following equation. The average value of y i was calculated and performed.

Figure pat00021
Figure pat00021

(시인성의 관능 평가)(Sensory evaluation of visibility)

50~100룩스에 조광한 실내 환경에서, 앙각 80도의 각도로, 제작한 필름을 육안으로 검사하여, 비치는 배경의 일그러짐에 의해 시인성을 평가했다. 그 결과를 표 2에 나타낸다. 또한, 시인성의 평가 기준은 이하와 같다.In an indoor environment dimmed at 50 to 100 lux, the produced film was visually inspected at an angle of 80 degrees of elevation, and visibility was evaluated by distortion of the reflected background. Table 2 shows the results. In addition, the evaluation criteria of visibility are as follows.

◎: 배경에 일그러짐은 전혀 확인되지 않는다.◎: No distortion is observed in the background.

○: 배경에 일그러짐은 대략 확인되지 않는다.○: Distortion in the background is not roughly confirmed.

△: 배경에 매우 근사한 일그러짐이 확인되지만, 문제가 없는 레벨.(Triangle|delta): Although the distortion which is very close to the background is confirmed, the level without a problem.

×: 배경에 명확한 일그러짐이 확인된다.×: Clear distortion is observed in the background.

<잔존 용매량><Amount of residual solvent>

TG-DTA(SII(주)제 EXSTAR6000 TG/DTA6300)를 이용하여, 실시예 1 및 2 및 비교예 1 및 2에서 얻어진 투명 수지 필름을 30℃에서부터 120℃까지 승온하고, 120℃에서 5분간 보지하고, 그 후 5℃/분의 승온 속도로 400℃까지 승온했다. 120℃에 있어서의 필름의 질량에 대한 120℃에서부터 250℃에서의 필름의 질량 감소의 비를, 용매의 함유량(잔존 용매량이라고 칭함)으로 하여 산출했다.Using TG-DTA (EXSTAR6000 TG/DTA6300 manufactured by SII Co., Ltd.), the transparent resin films obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 were heated from 30°C to 120°C and held at 120°C for 5 minutes. Then, it heated up to 400 degreeC at the heating rate of 5 degreeC/min. The ratio of the mass reduction of the film from 120°C to 250°C with respect to the mass of the film at 120°C was calculated as the content of the solvent (referred to as the residual solvent amount).

이하의 제조예 및 실시예에 있어서 사용하는 약칭은, 다음과 같다.Abbreviations used in the following Production Examples and Examples are as follows.

TFMB: 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐TFMB: 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl

6FDA: 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물6FDA: 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic anhydride

TPC: 테레프탈로일클로라이드TPC: terephthaloyl chloride

OBBC: 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드)OBBC: 4,4'-oxybis (benzoyl chloride)

DMAc: N,N-디메틸아세트아미드DMAc: N,N-dimethylacetamide

GBL: γ-부티로락톤GBL: γ-butyrolactone

PET: 폴리에틸렌테레프탈레이트PET: polyethylene terephthalate

<제조예><Production Example>

제조예 1: 폴리아미드이미드 수지 1의 제조Production Example 1: Preparation of polyamideimide resin 1

질소 가스 분위기하, 세퍼러블 플라스크에 교반 날개를 구비한 반응 용기와, 오일 배스를 준비했다. 오일 배스에 설치한 반응 용기에, TFMB 45부와, DMAc 768.55부를 투입했다. 반응 용기 내의 내용물을 실온에서 교반하면서 TFMB를 DMAc에 용해시켰다. 이어서, 반응 용기 내에 6FDA 19.01부를 추가로 투입하여, 반응 용기 내의 내용물을 실온에서 3시간 교반했다. 그 후, OBBC 4.21부, 이어서 TPC 17.30부를 반응 용기에 투입하고, 반응 용기 내의 내용물을 실온에서 1시간 교반했다. 이어서, 반응 용기 내에 4-메틸피리딘 4.63부와 무수 아세트산 13.04부를 추가로 투입하여, 반응 용기 내의 내용물을 실온에서 30분간 교반했다. 교반한 후, 오일 배스를 이용하여 용기 내부 온도를 70℃로 승온하고, 70℃로 유지하여 추가로 3시간 교반하여, 반응액을 얻었다.Under a nitrogen gas atmosphere, a reaction vessel equipped with a stirring blade in a separable flask and an oil bath were prepared. To the reaction vessel installed in the oil bath, 45 parts of TFMB and 768.55 parts of DMAc were charged. TFMB was dissolved in DMAc while the contents in the reaction vessel were stirred at room temperature. Subsequently, 19.01 parts of 6FDA was further added into the reaction vessel, and the contents in the reaction vessel were stirred at room temperature for 3 hours. Thereafter, 4.21 parts of OBBC and then 17.30 parts of TPC were added to the reaction vessel, and the contents in the reaction vessel were stirred at room temperature for 1 hour. Subsequently, 4.63 parts of 4-methylpyridine and 13.04 parts of acetic anhydride were further added into the reaction vessel, and the contents in the reaction vessel were stirred at room temperature for 30 minutes. After stirring, the temperature inside the vessel was raised to 70°C using an oil bath, maintained at 70°C and stirred for an additional 3 hours to obtain a reaction solution.

얻어진 반응액을 실온까지 냉각하여, 대량의 메탄올 중에 실 형상(絲狀)으로 투입하여, 침전물을 석출시켰다. 석출한 침전물을 취출하여, 메탄올에서 6시간 침지 후, 메탄올로 세정했다. 이어서, 100℃에서 침전물의 감압 건조를 행하여, 폴리아미드이미드 수지 1을 얻었다. 얻어진 폴리아미드이미드 수지 1의 중량 평균 분자량은 400,000, 이미드화율은 99.0%였다.The obtained reaction solution was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol in a thread shape to precipitate a precipitate. The precipitated precipitate was taken out, immersed in methanol for 6 hours, and then washed with methanol. Subsequently, the precipitate was dried under reduced pressure at 100°C to obtain polyamideimide resin 1. The weight average molecular weight of the obtained polyamide-imide resin 1 was 400,000, and the imidation rate was 99.0%.

제조예 2: 폴리이미드 수지 1의 제조Production Example 2: Preparation of polyimide resin 1

세퍼러블 플라스크에 실리카겔 관, 교반 장치 및 온도계를 장착한 반응기와, 오일 배스를 준비했다. 이 플라스크 내에, 6FDA 75.52부와, TFMB 54.44부를 투입했다. 이것을 400rpm으로 교반하면서 DMAc 519.84부를 더해, 플라스크의 내용물이 균일한 용액이 될 때까지 교반을 계속했다. 계속해서, 오일 배스를 이용하여 용기 내부 온도가 20~30℃의 범위가 되도록 조정하면서 추가로 20시간 교반을 계속하여, 반응시켜 폴리아믹산을 생성시켰다. 30분 후, 교반 속도를 100rpm으로 변경했다. 20시간 교반 후, 반응계 온도를 실온으로 되돌리고, DMAc 649.8부를 더해 폴리머 농도가 10질량%가 되도록 조정했다. 추가로, 피리딘 32.27부, 무수 아세트산 41.65부를 더해, 실온에서 10시간 교반하여 이미드화를 행했다. 반응 용기로부터 폴리이미드 바니시를 취출했다. 얻어진 폴리이미드 바니시를 메탄올 중에 적하하여 재침전을 행하고, 얻어진 분체를 가열 건조하여 용매를 제거해, 고형분으로서 폴리이미드 수지 1을 얻었다. 얻어진 폴리이미드 수지 1에 대하여, GPC 측정을 행한 바, 중량 평균 분자량은 320,000이었다. 또한, 폴리이미드의 이미드화율은 98.6%였다.A reactor equipped with a silica gel tube, a stirring device, and a thermometer, and an oil bath were prepared in the separable flask. 75.52 parts of 6FDA and 54.44 parts of TFMB were put into this flask. While stirring this at 400 rpm, 519.84 parts of DMAc was added, and stirring was continued until the contents of the flask became a uniform solution. Subsequently, using an oil bath, stirring was continued for an additional 20 hours while adjusting the temperature inside the vessel to be in the range of 20 to 30°C, and reacted to produce polyamic acid. After 30 minutes, the stirring speed was changed to 100 rpm. After stirring for 20 hours, the reaction system temperature was returned to room temperature, and 649.8 parts of DMAc was added to adjust the polymer concentration to 10% by mass. Further, 32.27 parts of pyridine and 41.65 parts of acetic anhydride were added, followed by stirring at room temperature for 10 hours to imidize. The polyimide varnish was taken out from the reaction vessel. The obtained polyimide varnish was added dropwise to methanol to reprecipitate, and the obtained powder was heated and dried to remove the solvent to obtain polyimide resin 1 as a solid content. When GPC measurement was performed on the obtained polyimide resin 1, the weight average molecular weight was 320,000. In addition, the imidation ratio of the polyimide was 98.6%.

제조예 3: 실리카졸 1의 조제Preparation Example 3: Preparation of silica sol 1

졸-겔법에 의해 제작된 평균 1차 입자경(BET법으로 측정된 평균 1차 입자경) 12㎚의 아몰퍼스 실리카졸을 원료로 하고, 용매 치환에 의해, GBL 치환 실리카졸을 조제했다. 얻어진 졸을 체눈 10㎛의 멤브레인 필터로 여과하여, GBL 치환 실리카졸 1을 얻었다. 얻어진 GBL 치환 실리카졸 1 중, 실리카 입자의 함유량은 30~32질량%였다.Amorphous silica sol having an average primary particle diameter (average primary particle diameter measured by the BET method) of 12 nm prepared by the sol-gel method was used as a raw material, and GBL-substituted silica sol was prepared by solvent substitution. The obtained sol was filtered through a membrane filter of 10 µm in length to obtain GBL-substituted silica sol 1. In the obtained GBL-substituted silica sol 1, the content of silica particles was 30 to 32% by mass.

제조예 4: 바니시 (1)의 조제Production Example 4: Preparation of varnish (1)

제조예 1에서 얻은 폴리아미드이미드 수지 1, 및, 제조예 3에서 얻은 실리카졸 1을, GBL 용매 중에서의 폴리아미드이미드 수지:실리카 입자의 조성비가 70:30이 되도록 혼합했다. 얻어진 혼합액에, 폴리아미드이미드 수지와 실리카 입자의 합계 질량에 대하여 2.0phr의 UV-A 자외선 흡수제 「Sumisorb(등록상표) 250」(분자량 389, 스미카켐텍스(주)제) 및 폴리아미드이미드 수지와 실리카 입자의 합계 질량에 대하여 35ppm의 블루잉제 「Sumiplast(등록상표) Violet B」(스미카켐텍스(주)제)를 첨가하고, 균일해질 때까지 교반하여, 바니시 (1)을 얻었다. 바니시 (1)의 고형분은 9.7%이며, 25℃에 있어서의 점도는 39,600cps였다.The polyamideimide resin 1 obtained in Production Example 1 and the silica sol 1 obtained in Production Example 3 were mixed so that the composition ratio of the polyamideimide resin:silica particles in the GBL solvent was 70:30. To the obtained mixed solution, with respect to the total mass of polyamideimide resin and silica particles, 2.0 phr of UV-A ultraviolet absorber "Sumisorb (registered trademark) 250" (molecular weight 389, manufactured by Sumika Chemtex Co., Ltd.) and polyamideimide resin 35 ppm of the blueing agent "Sumiplast (registered trademark) Violet B" (manufactured by Sumika Chemtex Co., Ltd.) with respect to the total mass of the silica particles was added and stirred until uniform to obtain a varnish (1). The solid content of the varnish (1) was 9.7%, and the viscosity at 25°C was 39,600 cps.

제조예 5: 바니시 (2)의 조제Production Example 5: Preparation of varnish (2)

제조예 2에서 얻은 폴리이미드 수지 1, 및, 당해 폴리이미드 수지에 대하여 2.0phr의 자외선 흡수제 「Sumisorb 250」(분자량 389, 스미카켐텍스(주)제)을, GBL:DMAc=1:9의 혼합 용제 중에 16.5질량%의 농도로 용해시켜 바니시 (2)를 얻었다. 바니시 (2)의 고형분은 16.5%이며, 25℃에 있어서의 점도는 36,800cps였다.The polyimide resin 1 obtained in Production Example 2 and 2.0 phr of the ultraviolet absorber "Sumisorb 250" (molecular weight 389, manufactured by Sumika Chemtex Co., Ltd.) with respect to the polyimide resin were mixed with GBL:DMAc=1:9. The varnish (2) was obtained by dissolving in a solvent at a concentration of 16.5% by mass. The solid content of the varnish (2) was 16.5%, and the viscosity at 25°C was 36,800 cps.

제조예 6: 광경화성 수지 조성물 1Preparation Example 6: Photocurable resin composition 1

트리메틸올프로판트리아크릴레이트(신나카무라화학(주)제, A-TMPT) 28.4질량부, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트(신나카무라화학(주)제, A-TMMT) 28.4질량부, 광중합 개시제로서, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤(BASF(주)제, Irgacure(등록상표) 184) 1.8질량부, 리튬비스(플루오로술포닐)이미드(도쿄화성공업(주)제, LiFSI) 2.4질량부, 레벨링제(빅케미재팬(주)제, BYK(등록상표)-307) 0.1질량부, 및 프로필렌글리콜 1-모노메틸에테르(도쿄화성공업(주)제) 39질량부를 교반 혼합하여, 광경화성 수지 조성물 1을 얻었다.Trimethylolpropane triacrylate (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., A-TMPT) 28.4 parts by weight, pentaerythritol tetraacrylate (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., A-TMMT) 28.4 parts by weight, as a photopolymerization initiator, 1 -Hydroxycyclohexyl phenyl ketone (BASF Corporation, Irgacure (registered trademark) 184) 1.8 parts by weight, lithium bis (fluorosulfonyl) imide (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., LiFSI) 2.4 parts by weight, 0.1 parts by mass of a leveling agent (manufactured by BIC Chemical Japan Co., Ltd., BYK (registered trademark)-307), and 39 parts by mass of propylene glycol 1-monomethyl ether (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were stirred and mixed, and photocurable resin Composition 1 was obtained.

제조예 7: 광경화성 수지 조성물 2Production Example 7: Photocurable resin composition 2

리튬 비스(플루오로술포닐)이미드를 혼합하지 않은 것 이외는, 제조예 6과 마찬가지의 화합물을 교반 혼합하여, 광경화성 수지 조성물 2를 얻었다.A compound similar to Production Example 6 was stirred and mixed except that lithium bis(fluorosulfonyl)imide was not mixed to obtain a photocurable resin composition 2.

실시예 1Example 1

바니시 (1)을, PET 필름(도요보(주) 「코스모샤인(등록상표) A4100」, 두께 188㎛, 두께 분포 ±2㎛) 상에 도포하고, 유연 성형하여, 바니시의 도막을 성형했다. 이 때, 선속은 0.8m/분이었다. 바니시의 도막을, 80℃에서 10분 가열한 후, 100℃에서 10분 가열하며, 이어서 90℃에서 10분 가열하고, 마지막으로 80℃에서 10분 가열한다고 하는 건조 조건으로 건조시켜, 건조 도막을 형성시켰다. 그 후, PET 필름으로부터 도막을 박리하여, 두께 58㎛, 폭 700㎜, 길이 500m의, 필름 롤의 형태의 원료 필름 1을 얻었다. 원료 필름 1 중의 잔존 용매량은 9.7질량%였다. 이어서, 원료 필름 1을 필름 횡연신 장치(텐터)에 의해 200℃에서 25분, 연신 배율 0.98배의 조건으로 가열함으로써, 두께 50㎛의 폴리아미드이미드 필름 1을 얻었다. 폴리아미드이미드 필름 1 중의 잔존 용매량은 0.7질량%였다.The varnish (1) was applied onto a PET film (Toyobo Co., Ltd. "Cosmoshine (registered trademark) A4100", thickness 188 µm, thickness distribution ±2 µm), flexible molded to form a varnish coating film. At this time, the ship speed was 0.8 m/min. The coating film of the varnish was heated at 80° C. for 10 minutes, then heated at 100° C. for 10 minutes, then heated at 90° C. for 10 minutes, and finally dried under a drying condition of heating at 80° C. for 10 minutes to obtain a dry coating film. Formed. Then, the coating film was peeled off from the PET film to obtain a raw film 1 in the form of a film roll having a thickness of 58 µm, a width of 700 mm, and a length of 500 m. The amount of residual solvent in the raw material film 1 was 9.7 mass%. Subsequently, the polyamideimide film 1 with a thickness of 50 µm was obtained by heating the raw material film 1 at 200° C. for 25 minutes and a draw ratio of 0.98 times with a film transverse stretching device (tenter). The amount of the residual solvent in the polyamideimide film 1 was 0.7% by mass.

얻어진 폴리아미드이미드 필름 1의 편면에, 롤·투·롤 방식으로, 광경화성 수지 조성물 1을 건조 후의 두께가 10㎛가 되도록 바 코터로 도공했다. 그 후, 80℃의 오븐에서 3분간 건조를 행하고, 고압 수은등 500mJ/cm2의 에너지로 자외선을 조사하여 경화시킴으로써, 길이 400m의 필름 롤의 형태의 광학 적층체 1을 얻었다. 광학 적층체 1에 있어서의 기능층의 두께는 10㎛이었다.On one side of the obtained polyamideimide film 1, the photocurable resin composition 1 was coated with a bar coater so that the thickness after drying became 10 µm in a roll-to-roll manner. Thereafter, drying was performed in an oven at 80° C. for 3 minutes, followed by curing by irradiating with ultraviolet light at an energy of 500 mJ/cm 2 of a high pressure mercury lamp to obtain an optical laminate 1 in the form of a 400 m long film roll. The thickness of the functional layer in the optical laminate 1 was 10 µm.

실시예 2Example 2

광경화성 수지 조성물 1 대신에, 광경화성 수지 조성물 2를 이용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 길이 400m의 필름 롤의 형태의 광학 적층체 2를 얻었다. 광학 적층체 2에 있어서의 기능층의 두께는 11㎛였다.The optical layered product 2 in the form of a film roll of 400 m in length was obtained in the same manner as in Example 1, except that the photocurable resin composition 2 was used instead of the photocurable resin composition 1. The thickness of the functional layer in the optical laminate 2 was 11 µm.

실시예 3Example 3

바니시 (1) 대신에 바니시 (2)를 이용하여, 건조 조건을 75℃에서 7.5분 가열한 후, 120℃에서 7.5분 가열하며, 이어서 70℃에서 7.5분 가열하고, 마지막으로 80℃에서 7.5분 가열하는 조건으로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 두께 89㎛, 폭 700㎜, 길이 600m의 필름 롤 형태의 원료 필름 2를 얻었다. 원료 필름 2 중의 잔존 용매량은 9.6질량%였다. 이어서, 원료 필름 1 대신에 원료 필름 2를 이용한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 두께 77㎛의 폴리이미드 필름 1을 얻었다. 폴리이미드 필름 1 중의 잔존 용매량은 1.1질량%였다.Using varnish (2) instead of varnish (1), the drying conditions were heated at 75°C for 7.5 minutes, followed by heating at 120°C for 7.5 minutes, followed by heating at 70°C for 7.5 minutes, and finally at 80°C for 7.5 minutes. A raw material film 2 in the form of a film roll having a thickness of 89 µm, a width of 700 mm, and a length of 600 m was obtained in the same manner as in Example 1 except that the conditions were changed to heating conditions. The amount of residual solvent in the raw material film 2 was 9.6% by mass. Subsequently, a polyimide film 1 having a thickness of 77 µm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the raw film 2 was used instead of the raw film 1. The amount of residual solvent in the polyimide film 1 was 1.1% by mass.

폴리아미드이미드 필름 1 대신에 폴리이미드 필름 1을 이용한 것 이외는, 실시예 2와 마찬가지로 하여, 길이 500m의 필름 롤 형태의 광학 적층체 3을 얻었다. 광학 적층체 3에 있어서의 기능층의 두께는 9㎛이었다.An optical layered product 3 in the form of a film roll having a length of 500 m was obtained in the same manner as in Example 2 except that polyimide film 1 was used instead of polyamideimide film 1. The thickness of the functional layer in the optical laminate 3 was 9 µm.

비교예 1Comparative Example 1

바니시 (1)을 이용하여, 건조 조건을 70℃에서 10분 가열한 후, 80℃에서 10분 가열하며, 이어서 100℃에서 10분 가열하고, 마지막으로 100℃에서 10분 가열하는 조건으로 변경한 것 이외, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로, 두께 58㎛, 폭 700㎜, 길이 400m의 필름 롤 형태의 원료 필름 3을 얻었다. 원료 필름 3 중의 잔존 용매량은 10.1질량%였다. 이어서, 원료 필름 1 대신에 원료 필름 3을 이용한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 두께 50㎛의 폴리아미드이미드 필름 2를 얻었다. 폴리아미드이미드 필름 2 중의 잔존 용매량은 0.8질량%였다.Using varnish (1), the drying conditions were heated to 10 minutes at 70° C., followed by heating at 80° C. for 10 minutes, followed by heating at 100° C. for 10 minutes, and finally changed to conditions for heating at 100° C. for 10 minutes. A raw material film 3 in the form of a film roll having a thickness of 58 µm, a width of 700 mm, and a length of 400 m was obtained in the same manner as in Example 1 except for the above. The amount of residual solvent in the raw film 3 was 10.1% by mass. Subsequently, a polyamideimide film 2 having a thickness of 50 µm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the raw film 3 was used instead of the raw film 1. The amount of the residual solvent in the polyamideimide film 2 was 0.8% by mass.

폴리아미드이미드 필름 1 대신에 폴리아미드이미드 필름 2를 이용한 것 이외는, 실시예 2와 마찬가지로 하여, 길이 290m의 필름 롤 형태의 광학 적층체 4를 얻었다. 광학 적층체 4에 있어서의 기능층의 두께는 10㎛였다.An optical laminate 4 in the form of a film roll with a length of 290 m was obtained in the same manner as in Example 2, except that polyamideimide film 2 was used instead of polyamideimide film 1. The thickness of the functional layer in the optical laminate 4 was 10 µm.

비교예 2Comparative Example 2

바니시 (2)를 이용하여, 건조 조건을 100℃에서 7.5분 가열한 후, 120℃에서 7.5분 가열하며, 이어서 60℃에서 7.5분 가열하고, 마지막으로 60℃에서 7.5분 가열하는 조건으로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로, 두께 89㎛, 폭 700㎜, 길이 300m의 필름 롤 형태의 원료 필름 4를 얻었다. 원료 필름 4 중의 잔존 용매량은 9.9질량%였다. 이어서, 원료 필름 1 대신에 원료 필름 4를 이용한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 두께 77㎛의 폴리이미드 필름 2를 얻었다. 폴리이미드 필름 2 중의 잔존 용매량은 1.0질량%였다.Using the varnish (2), the drying conditions were changed to conditions of heating at 100°C for 7.5 minutes, heating at 120°C for 7.5 minutes, then heating at 60°C for 7.5 minutes, and finally heating at 60°C for 7.5 minutes. A raw material film 4 in the form of a film roll having a thickness of 89 µm, a width of 700 mm, and a length of 300 m was obtained in the same manner as in Example 1 except for the above. The amount of residual solvent in the raw film 4 was 9.9 mass%. Subsequently, a polyimide film 2 having a thickness of 77 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the raw film 4 was used instead of the raw film 1. The amount of residual solvent in the polyimide film 2 was 1.0 mass%.

폴리아미드이미드 필름 1 대신에 폴리이미드 필름 2를 이용한 것 이외는, 실시예 2와 마찬가지로 하여, 길이 190m의 필름 롤 형태의 광학 적층체 5를 얻었다. 광학 적층체 5에 있어서의 기능층의 두께는 11㎛였다.An optical laminate 5 in the form of a film roll having a length of 190 m was obtained in the same manner as in Example 2, except that polyimide film 2 was used instead of polyamideimide film 1. The thickness of the functional layer in the optical laminate 5 was 11 µm.

실시예 및 비교예에서 얻은 광학 적층체에 대하여, 상기 측정 방법에 따라 각종 물성값을 측정한 결과를, 표 1 및 표 2에 나타낸다. 또한, 실시예 및 비교예의 필름의 Haze는 모두 0.2였다. 또한, 표 2 중의 광학적 균질성을 평가하기 위한 각 값에 대하여, 측정 시료가 필름으로 기재되어 있는 값은, 기능층을 적층시키기 전의 폴리아미드이미드 필름 또는 폴리이미드 필름에 대하여 측정한 값이며, 측정 시료가 적층체라고 기재되어 있는 값은, 기능층을 적층 후의 광학 적층체에 대하여 측정한 값이다. 시인성의 평가는, 광학 적층체에 대하여 평가한 결과이다.Table 1 and Table 2 show the results of measuring various physical property values according to the above measuring method for the optical laminates obtained in Examples and Comparative Examples. In addition, Haze of the films of Examples and Comparative Examples was 0.2. In addition, for each value for evaluating the optical homogeneity in Table 2, the value in which a measurement sample is described as a film is a value measured for a polyamideimide film or a polyimide film before laminating a functional layer, and a measurement sample The value described as a laminate is a value measured for the optical laminate after laminating the functional layer. The evaluation of visibility was a result of evaluating the optical laminate.

Figure pat00022
Figure pat00022

Figure pat00023
Figure pat00023

실시예 1~3의 광학 적층체, 또는, 광학 적층체에 포함되는 광학 필름은, Ymh 및 Ymv가 40 이하이며, A/B이 30 미만이고, 시인성의 평가는 모두 ◎ 또는 ○로 양호했다. 이에 비하여, 비교예 1 및 2의 광학 적층체에 포함되는 광학 필름은, Ymh가 40을 초과하고, A/B가 30 이상이며, 시인성의 평가 결과는 각각 △ 및 ×였다. 또한, 비교예 1 및 2의 광학 적층체에 대하여, 광학 적층체를 측정 필름으로서 이용한 경우의 Ymh 등의 결과는 기재하고 있지 않지만, 광학 필름을 측정 필름으로서 얻어진 결과와 마찬가지로, Ymh 등 및 A/B가 본원 발명의 광학 적층체에 대하여 특정하는 범위 내가 되지 않는다고 생각된다. 또한, 실시예 1의 광학 적층체에 있어서의 기능층에는, 하드 코팅 기능 외에 대전 방지 기능도 부여하는 것이 가능했다. 마찬가지로, 실시예 1~3의 기능층은, 하드 코팅 기능 외에, 대전 방지 기능, 방현 기능, 저반사 기능, 반사 방지 기능 및 방오 기능 등의 새로운 기능을 부여해도 되는 층이었다.In the optical laminates of Examples 1 to 3, or the optical films included in the optical laminates, Y mh and Y mv are 40 or less, A/B is less than 30, and evaluation of visibility is all good ◎ or ○ did. On the other hand, in the optical films included in the optical laminates of Comparative Examples 1 and 2, Y mh exceeded 40, A/B was 30 or more, and evaluation results of visibility were Δ and ×, respectively. In addition, for the optical laminates of Comparative Examples 1 and 2, the results such as Y mh when the optical laminate was used as a measurement film are not described, but as in the results obtained using the optical film as a measurement film, Y mh and the like, and It is considered that A/B is not within a range specified for the optical laminate of the present invention. In addition, it was possible to impart an antistatic function to the functional layer in the optical laminate of Example 1 in addition to the hard coating function. Similarly, the functional layers of Examples 1 to 3 were layers in addition to the hard coating function, to which new functions such as antistatic function, anti-glare function, low-reflection function, anti-reflection function and anti-fouling function were provided.

1 광원
2 측정 필름
3 투영면
4 투영 화상
5 광
6 카메라
7 카메라 각도
1 light source
2 measuring film
3 Projection plane
4 Projected image
5 light
6 Camera
7 Camera angle

Claims (12)

폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지를 포함하는 광학 필름과, 당해 광학 필름의 적어도 편면에 적층된 기능층을 가지는 광학 적층체로서,
상기 광학 필름을 이용하여 투영법에 의해 얻어진 투영 화상을 푸리에 변환하여 얻은 필름 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h 및 방향 v에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h 및 라인 프로파일 v라고 하고, 상기 투영법에 있어서 상기 광학 필름을 이용하지 않고 얻은 배경 화상을 푸리에 변환하여 얻은 배경 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h' 및 방향 v'에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h' 및 라인 프로파일 v'라고 하며, 라인 프로파일 h로부터 라인 프로파일 h'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (h-h')의 최대 강도를 Ymh라고 하고, 최대 강도 Ymh를 나타내는 주파수를 Xmh라고 하며, 라인 프로파일 v로부터 라인 프로파일 v'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (v-v')의 최대 강도를 Ymv라고 하고, 최대 강도 Ymv를 나타내는 주파수를 Xmv라고 하면, Ymh 및 Ymv는 모두 40 이하이며, Ymh, Ymv, Xmh 및 Xmv는, 다음의 관계:
Figure pat00024

를 충족시키는, 광학 적층체.
As an optical laminate having an optical film comprising a polyimide-based resin and/or a polyamide-based resin, and a functional layer laminated on at least one side of the optical film,
The line profiles in the directions h and v that are orthogonal to each other on the film inverse space obtained by Fourier transforming the projected image obtained by the projection method using the optical film are referred to as the line profile h and the line profile v, respectively. In the above, the line profiles in directions h'and v which are orthogonal to each other on the background inverse space obtained by Fourier transforming the background image obtained without using the optical film are referred to as line profiles h'and line profiles v', respectively. The maximum intensity of the line profile (h-h') obtained by subtracting the line profile h'from the line profile h is called Y mh , and the frequency representing the maximum intensity Y mh is called X mh , and the line profile v from the line profile v. Speaking of 'the line profile (v-v obtained by subtracting ") to a maximum intensity, and that Y mv, the frequency showing the maximum intensity Y mv X mv of, Y mh and Y mv are all less than 40, Y mh, Y mv , X mh and X mv are the following relationships:
Figure pat00024

To satisfy the optical laminate.
폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지를 포함하는 광학 필름과, 당해 광학 필름의 적어도 편면에 적층된 기능층을 가지는 광학 적층체로서,
상기 광학 적층체를 이용하여 투영법에 의해 얻은 투영 화상을 푸리에 변환하여 얻은 필름 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h 및 방향 v에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h 및 라인 프로파일 v라고 하고, 상기 투영법에 있어서 상기 광학 적층체를 이용하지 않고 얻은 배경 화상을 푸리에 변환하여 얻은 배경 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h' 및 방향 v'에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h' 및 라인 프로파일 v'라고 하며, 라인 프로파일 h로부터 라인 프로파일 h'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (h-h')의 최대 강도를 Ymh라고 하고, 최대 강도 Ymh를 나타내는 주파수를 Xmh라고 하며, 라인 프로파일 v로부터 라인 프로파일 v'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (v-v')의 최대 강도를 Ymv라고 하고, 최대 강도 Ymv를 나타내는 주파수를 Xmv라고 하면, Ymh 및 Ymv는 모두 40 이하이며, Ymh, Ymv, Xmh 및 Xmv는, 다음의 관계:
Figure pat00025

를 충족시키는, 광학 적층체.
As an optical laminate having an optical film comprising a polyimide-based resin and/or a polyamide-based resin, and a functional layer laminated on at least one side of the optical film,
The line profiles in the directions h and v that are orthogonal to each other on the film inverse space obtained by Fourier transforming the projected image obtained by the projection method using the optical laminate are referred to as line profiles h and line profiles v, respectively. In the projection method, the line profiles in the directions h'and v are orthogonal to each other in the background inverse space obtained by Fourier transforming the background image obtained without using the optical laminate, respectively, the line profile h'and the line profile v The maximum intensity of the line profile (h-h') obtained by subtracting the line profile h from line profile h is called Y mh , and the frequency representing the maximum intensity Y mh is called X mh , and the line from line profile v If the maximum intensity of the line profile (v-v') obtained by subtracting the profile v'is Y mv , and the frequency representing the maximum intensity Y mv is X mv , Y mh and Y mv are both 40 or less, and Y mh , Y mv , X mh and X mv are the following relationships:
Figure pat00025

To satisfy the optical laminate.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
기능층의 적어도 하나는, 하드 코팅 기능, 대전 방지 기능, 방현 기능, 저반사 기능, 반사 방지 기능 및 방오 기능으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 기능을 구비하는 층인, 광학 적층체.
The method of claim 1 or 2,
At least one of the functional layers is a layer having at least one function selected from the group consisting of a hard coating function, an antistatic function, an anti-glare function, a low reflection function, an antireflection function and an antifouling function.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
광학 적층체의 적어도 일방의 면의 연필 경도는 H 이상인, 광학 적층체.
The method of claim 1 or 2,
The optical laminated body whose pencil hardness of at least one side of the optical laminated body is H or more.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
광학 적층체의 적어도 일방의 면의 표면 저항률은 1.0×1013Ω/sq 이하인, 광학 적층체.
The method of claim 1 or 2,
The optical layered product whose surface resistivity of at least one surface of the optical layered product is 1.0×10 13 Ω/sq or less.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
광학 적층체의 황색도는 3.0 이하인, 광학 적층체.
The method of claim 1 or 2,
The optical layered product has a yellowness of 3.0 or less.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
폭 방향의 길이가 20cm 이상, 길이 방향의 길이가 1m 이상인, 광학 적층체.
The method of claim 1 or 2,
An optical laminate having a length in the width direction of 20 cm or more and a length in the length direction of 1 m or more.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
플렉시블 표시 장치의 전면판용의 필름인, 광학 적층체.
The method of claim 1 or 2,
An optical laminate, which is a film for a front panel of a flexible display device.
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 광학 적층체를 구비하는 플렉시블 표시 장치.A flexible display device comprising the optical laminate according to claim 1 or 2. 제 9 항에 있어서,
터치 센서를 추가로 구비하는, 플렉시블 표시 장치.
The method of claim 9,
A flexible display device further comprising a touch sensor.
제 9 항에 있어서,
편광판을 추가로 구비하는, 플렉시블 표시 장치.
The method of claim 9,
A flexible display device further comprising a polarizing plate.
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 광학 적층체의 제조 방법으로서,
(a) 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지, 및 용매를 적어도 함유하는 바니시를 지지체 상에 도포하고, 건조시켜, 도막을 형성시키는 공정,
(b) 지지체로부터 도막을 박리하는 공정,
(c) 박리한 도막을 가열하여, 필름을 얻는 공정, 및,
(d) 필름의 적어도 편면에 기능층을 적층하여, 광학 적층체를 얻는 공정
을 적어도 포함하는, 제조 방법.
A method for manufacturing the optical laminate according to claim 1 or 2,
(a) a step of applying a varnish containing at least a polyimide-based resin and/or a polyamide-based resin and a solvent on a support and drying it to form a coating film,
(b) peeling the coating film from the support,
(c) heating the peeled coating film to obtain a film, and
(d) a step of laminating a functional layer on at least one side of the film to obtain an optical laminate
The manufacturing method containing at least.
KR1020190091943A 2018-11-27 2019-07-29 Optical multilayer body, flexible display device and method for producing optical multilayer body KR102121518B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2018-221657 2018-11-27
JP2018221657A JP6556317B1 (en) 2018-11-27 2018-11-27 OPTICAL LAMINATE, FLEXIBLE DISPLAY DEVICE, AND OPTICAL LAMINATE MANUFACTURING METHOD

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200067495A Division KR102221032B1 (en) 2018-11-27 2020-06-04 Optical multilayer body, flexible display device and method for producing optical multilayer body

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200063031A true KR20200063031A (en) 2020-06-04
KR102121518B1 KR102121518B1 (en) 2020-06-10

Family

ID=67539874

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190091943A KR102121518B1 (en) 2018-11-27 2019-07-29 Optical multilayer body, flexible display device and method for producing optical multilayer body
KR1020200067495A KR102221032B1 (en) 2018-11-27 2020-06-04 Optical multilayer body, flexible display device and method for producing optical multilayer body

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200067495A KR102221032B1 (en) 2018-11-27 2020-06-04 Optical multilayer body, flexible display device and method for producing optical multilayer body

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6556317B1 (en)
KR (2) KR102121518B1 (en)
CN (1) CN111239858A (en)
TW (1) TW202030079A (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102260732B1 (en) * 2019-08-14 2021-06-07 에스케이씨 주식회사 Polyimide-based composite film and display device comprising same
JP2021070764A (en) * 2019-10-31 2021-05-06 住友化学株式会社 Optical film and flexible display device
KR20230027063A (en) * 2020-06-23 2023-02-27 린텍 가부시키가이샤 Optical film, manufacturing method of optical film, transparent conductive film, and gas barrier film

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0948866A (en) 1995-08-08 1997-02-18 Sekisui Chem Co Ltd Transparent film for optical purpose
JP2011226871A (en) 2010-04-18 2011-11-10 Utsunomiya Univ Shape measurement method, shape measurement device, distortion measurement method, and distortion measurement device
JP2012233021A (en) * 2011-04-28 2012-11-29 Mitsui Chemicals Inc Method for manufacturing polyimide film
WO2016152459A1 (en) 2015-03-24 2016-09-29 コニカミノルタ株式会社 Polyimide-based optical film, process for producing same, and organic electroluminescent display
JP2017203984A (en) * 2016-05-10 2017-11-16 住友化学株式会社 Optical film, and flexible device obtained by using the same
JP2018065993A (en) * 2016-10-17 2018-04-26 大日本印刷株式会社 Method for producing polyimide film, method for producing polyimide precursor, method for manufacturing laminate, and method for manufacturing surface material for display

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI454753B (en) * 2010-04-19 2014-10-01 Tomoegawa Co Ltd Optical laminate, polarizing plate, display device, and method for making an optical laminate

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0948866A (en) 1995-08-08 1997-02-18 Sekisui Chem Co Ltd Transparent film for optical purpose
JP2011226871A (en) 2010-04-18 2011-11-10 Utsunomiya Univ Shape measurement method, shape measurement device, distortion measurement method, and distortion measurement device
JP2012233021A (en) * 2011-04-28 2012-11-29 Mitsui Chemicals Inc Method for manufacturing polyimide film
WO2016152459A1 (en) 2015-03-24 2016-09-29 コニカミノルタ株式会社 Polyimide-based optical film, process for producing same, and organic electroluminescent display
JP2017203984A (en) * 2016-05-10 2017-11-16 住友化学株式会社 Optical film, and flexible device obtained by using the same
JP2018065993A (en) * 2016-10-17 2018-04-26 大日本印刷株式会社 Method for producing polyimide film, method for producing polyimide precursor, method for manufacturing laminate, and method for manufacturing surface material for display

Also Published As

Publication number Publication date
KR102221032B1 (en) 2021-02-26
KR20200067806A (en) 2020-06-12
CN111239858A (en) 2020-06-05
JP2020082552A (en) 2020-06-04
JP6556317B1 (en) 2019-08-07
KR102121518B1 (en) 2020-06-10
TW202030079A (en) 2020-08-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN110673234B (en) Optical film, flexible display device, and method for manufacturing optical film
KR102221032B1 (en) Optical multilayer body, flexible display device and method for producing optical multilayer body
KR102093299B1 (en) Optical film
JP6722325B2 (en) Optical film
CN110673233B (en) Optical film, flexible display device, and method for manufacturing optical film
JP6683882B1 (en) Optical laminate, flexible display device, and method for producing optical laminate
KR102108371B1 (en) Optical film
KR102093294B1 (en) Optical film
US11550179B2 (en) Optical film
JP2020116952A (en) Optical laminate, flexible display device and method for manufacturing optical laminate
JP6640407B1 (en) Optical laminate, flexible display device, and method of manufacturing optical laminate
CN114667466A (en) Optical laminate and flexible display device
JP2020055995A (en) Optical film, flexible display device and method for manufacturing optical film
KR20210097048A (en) Film roll
JP2020055994A (en) Optical film, flexible display device and method for manufacturing optical film
KR20210097047A (en) Film roll
CN116731515A (en) Film, laminate, and flexible display device each comprising polyimide resin

Legal Events

Date Code Title Description
A107 Divisional application of patent
GRNT Written decision to grant