KR102221032B1 - Optical multilayer body, flexible display device and method for producing optical multilayer body - Google Patents

Optical multilayer body, flexible display device and method for producing optical multilayer body Download PDF

Info

Publication number
KR102221032B1
KR102221032B1 KR1020200067495A KR20200067495A KR102221032B1 KR 102221032 B1 KR102221032 B1 KR 102221032B1 KR 1020200067495 A KR1020200067495 A KR 1020200067495A KR 20200067495 A KR20200067495 A KR 20200067495A KR 102221032 B1 KR102221032 B1 KR 102221032B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
film
optical
resin
line profile
optical laminate
Prior art date
Application number
KR1020200067495A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20200067806A (en
Inventor
마사시 후지나가
가즈키 다이마츠
Original Assignee
스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=67539874&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=KR102221032(B1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 filed Critical 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
Publication of KR20200067806A publication Critical patent/KR20200067806A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102221032B1 publication Critical patent/KR102221032B1/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/023Optical properties
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • B32B27/281Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polyimides
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • G02B1/113Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G02B1/115Multilayers
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14Protective coatings, e.g. hard coatings
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/16Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements having an anti-static effect, e.g. electrically conducting coatings
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • G02B5/3025Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • G02B5/3041Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks
    • G02B5/305Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks including organic materials, e.g. polymeric layers
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133711Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by organic films, e.g. polymeric films
    • G02F1/133723Polyimide, polyamide-imide
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/536Hardness
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00Electrical equipment
    • B32B2457/20Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B32B2457/208Touch screens

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

[과제] 광학적 균질성이 우수한 광학 적층체, 당해 광학 적층체를 구비하는 플렉시블 표시 장치, 및 당해 광학 적층체의 제조 방법을 제공한다.
[해결 수단] 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지를 포함하는 광학 필름과, 당해 광학 필름의 적어도 편면에 적층된 기능층을 가지는 광학 적층체로서,
상기 광학 필름 또는 광학 적층체를 이용하여 투영에 의해 얻은 투영 화상을 푸리에 변환하여 얻은 필름 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h 및 방향 v에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h 및 라인 프로파일 v라고 하고, 상기 투영법에 있어서 상기 필름 또는 광학 적층체를 이용하지 않고 얻은 배경 화상을 푸리에 변환하여 얻은 배경 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h' 및 방향 v'에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h' 및 라인 프로파일 v'라고 하며, 라인 프로파일 h로부터 라인 프로파일 h'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (h-h')의 최대 강도를 Ymh라고 하고, 최대 강도 Ymh를 나타내는 주파수를 Xmh라고 하며, 라인 프로파일 v로부터 라인 프로파일 v'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (v-v')의 최대 강도를 Ymv라고 하고, 최대 강도 Ymv를 나타내는 주파수를 Xmv라고 하면, Ymh 및 Ymv는 모두 40 이하이며, Ymh, Ymv, Xmh 및 Xmv는, 다음의 관계:

Figure 112020057518495-pat00026

를 충족시키는, 광학 적층체.[Problem] An optical laminate excellent in optical homogeneity, a flexible display device including the optical laminate, and a method for producing the optical laminate are provided.
[Solution means] An optical laminate comprising an optical film comprising a polyimide resin and/or a polyamide resin, and a functional layer laminated on at least one side of the optical film,
The line profiles in directions h and v that are orthogonal to each other in the film inverse space obtained by Fourier transform of the projection image obtained by projection using the optical film or optical laminate are referred to as line profile h and line profile v, respectively. In the projection method, a background image obtained without using the film or an optical layered body is Fourier transformed, and the line profiles in the directions h'and v'perpendicular to each other in the background inverse space obtained are each line profile h 'And line profile v', and the maximum intensity of the line profile (h-h') obtained by subtracting the line profile h'from the line profile h is called Y mh , and the frequency representing the maximum intensity Y mh is called X mh, If the maximum intensity of the line profile (v-v') obtained by subtracting the line profile v'from the line profile v is called Y mv , and the frequency representing the maximum intensity Y mv is called X mv , then both Y mh and Y mv are 40 or less. Where Y mh , Y mv , X mh and X mv are in the following relationship:
Figure 112020057518495-pat00026

To meet the optical laminate.

Description

광학 적층체, 플렉시블 표시 장치 및 광학 적층체의 제조 방법{OPTICAL MULTILAYER BODY, FLEXIBLE DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING OPTICAL MULTILAYER BODY}An optical laminated body, a flexible display device, and a manufacturing method of an optical laminated body TECHNICAL FIELD [OPTICAL MULTILAYER BODY, FLEXIBLE DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING OPTICAL MULTILAYER BODY}

본 발명은, 광학 적층체, 당해 광학 적층체를 구비하는 플렉시블 표시 장치, 및 당해 광학 적층체의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an optical laminate, a flexible display device including the optical laminate, and a method of manufacturing the optical laminate.

액정 표시 장치나 유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치에 있어서 사용되는 광학 필름은, 당해 광학 필름을 통하여 사용자가 직접 육안으로 표시된 화상을 시인하기 때문에, 매우 높은 광학적 균질성이 요구된다.An optical film used in an image display device such as a liquid crystal display device or an organic EL display device is required to have very high optical homogeneity because a user directly visually recognizes an image displayed with the naked eye through the optical film.

이와 같은 광학 필름의 제조 방법으로서, 휘발성 용매와 광학 필름을 구성하는 수지를 함유하는 용액을 기재 상에 도공하고, 건조 후, 박리하는 방법이 사용되고 있다(예를 들면, 특허 문헌 1). 이와 같은 도공 및 건조를 수반하는 제조 방법에서는, 도공 조건이나 건조 조건에 따라 두께 불균일 및 배향 불균일이 발생하는 경우가 있다. 필름이, 육안으로는 확인할 수 없을 것 같은 레벨의 불균일을 가지는 경우라도, 최종적으로 화상 표시 장치에 있어서의 광학 필름으로서 조립하였을 때에, 이러한 불균일에 기인하여 광학적 균질성이 손상되어, 화상의 일그러짐 등이 시인되는 경우도 있다. 이 때문에, 화상 표시 장치에 있어서 광학 필름으로서 사용되는 필름에는, 육안으로는 확인이 곤란한 레벨이 매우 높은 정밀도의 광학적 균질성이 요구된다. 이 때문에, 필름의 광학적 균질성의 추가적인 향상에 대한 요구가 또한 존재한다.As a manufacturing method of such an optical film, a method of applying a solution containing a volatile solvent and a resin constituting the optical film on a substrate, drying, and then peeling is used (for example, Patent Document 1). In the manufacturing method accompanying such coating and drying, thickness unevenness and orientation unevenness may occur depending on coating conditions and drying conditions. Even if the film has a level of non-uniformity that is unlikely to be visible with the naked eye, when finally assembled as an optical film in an image display device, optical homogeneity is impaired due to such non-uniformity, resulting in image distortion, etc. Sometimes it is admitted. For this reason, a film used as an optical film in an image display device is required to have extremely high precision optical homogeneity at a level that is difficult to check with the naked eye. Because of this, there is also a need for further improvement of the optical homogeneity of the film.

필름의 불균일을 억제한 광학 필름으로서, 예를 들면 특허 문헌 1에는, 폴리이미드계 광학 필름의 투영 화상으로부터 잘라낸 직사각형 에어리어에 있어서, 그레이 스케일의 표준 편차 σ 및 당해 직사각형 에어리어의 이진화 화상에 있어서의 검은 부분의 면적이 소정의 범위 내로 조정된 폴리이미드계 광학 필름이 기재되어 있다. 특허 문헌 2에는, 필름 면 내의 투과광의 휘도의 불균일이, 표준 편차로 평균 휘도의 15% 이내인 광학용 투명 필름이 기재되어 있다. 특허 문헌 3에는, 광원부로부터의 광을 격자판에 조사하고, 당해 격자판을 투과한 광을 격자상(像)으로서 투영하고, 당해 격자상을 촬영하여 격자상의 일그러짐으로부터 피측정물의 3차원계 형상을 수치화하는 프린지 투영법에 의한 형상 측정 방법이 기재되어 있다.As an optical film in which non-uniformity of the film is suppressed, for example, in Patent Document 1, in a rectangular area cut out from a projection image of a polyimide optical film, the standard deviation σ of gray scale and the blackness in the binarized image of the rectangular area A polyimide-based optical film in which the area of the portion is adjusted within a predetermined range is described. Patent Document 2 describes a transparent film for optics in which the non-uniformity in the luminance of transmitted light in the film plane is within 15% of the average luminance in terms of standard deviation. In Patent Document 3, light from a light source is irradiated onto a grating plate, the light transmitted through the grating plate is projected as a grating, and the grating image is photographed to quantify the three-dimensional shape of the object to be measured from the distortion of the grating. A method of measuring a shape by a fringe projection method is described.

국제공개 제2016/152459호International Publication No. 2016/152459 일본공개특허 특개평9-48866호 공보Japanese Unexamined Patent Application Publication No. Hei 9-48866 일본공개특허 특개2011-226871호 공보Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2011-226871

그러나, 상기 특허 문헌에 기재되는 방법은, 모두, 화상 표시 장치에 있어서 사용되는 바와 같은 광학 필름에 요구되는 매우 높은 정밀도로, 필름의 광학적 균질성을 평가하기에 충분한 방법이라고는 할 수 없다. 특허 문헌 1에 기재된 방법은, 1cm×5cm의 해석 에어리어에서의 평가이기 때문에, 세로 방향에 발생하는 불균일에 기인하는 광학적 균질성의 저하를 충분히 평가할 수 있는 방법은 아니다. 특허 문헌 2에 기재된 방법은, 투과광의 휘도의 차가 작은 농담(濃淡)이 옅은 불균일에 기인하는 광학적 균질성의 저하를 정밀도 좋게 평가할 수 있는 방법은 아니다.However, none of the methods described in the above patent documents are sufficient methods for evaluating the optical homogeneity of the film with very high precision required for an optical film as used in an image display device. Since the method described in Patent Document 1 is an evaluation in an analysis area of 1 cm x 5 cm, it is not a method capable of sufficiently evaluating the decrease in optical homogeneity caused by non-uniformity occurring in the longitudinal direction. The method described in Patent Literature 2 is not a method capable of accurately evaluating the decrease in optical homogeneity caused by non-uniformity in which the difference in luminance of transmitted light is small.

특허 문헌 3에 기재된 방법은, 형상을 검출하는 방법이기 때문에, 굴절률의 불균일에 기인하는 광학적 균질성의 저하를 평가할 수는 없다. 따라서, 이들 방법으로 평가하여 얻은 필름은 모두, 충분한 광학적 균질성을 가진다고는 할 수 없다.Since the method described in Patent Literature 3 is a method of detecting a shape, it is not possible to evaluate the decrease in optical homogeneity due to non-uniformity in the refractive index. Therefore, it cannot be said that all films obtained by evaluating by these methods have sufficient optical homogeneity.

본 발명은, 상기 종래 기술이 가지는 과제를 감안하여 이루어진 것으로서, 화상 표시 장치 등에 있어서의 광학 필름으로서 적합하게 사용되는, 광학적 균질성이 우수한 광학 적층체, 당해 광학 적층체를 구비하는 플렉시블 표시 장치, 및 당해 광학 적층체의 제조 방법을 제공하는 것을 과제로 한다.The present invention has been made in view of the problems of the prior art, and is suitably used as an optical film in an image display device and the like, an optical laminate excellent in optical homogeneity, a flexible display device including the optical laminate, and It is a subject to provide the manufacturing method of the said optical laminated body.

본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해, 광학 필름 또는 광학 적층체의 광학적 균질성을 높은 정밀도로 평가할 수 있는 평가 방법, 및 광학 필름 또는 광학 적층체의 광학적 균질성 및 광학 특성을 높이는 방법에 대하여 예의 검토를 행했다. 그 결과, 다음의 요건을 충족시키는 광학 적층체가 우수한 광학적 균질성을 가지는 것을 발견하여, 본 발명을 완성시키기에 이르렀다. 즉, 본 발명에는, 이하의 양태가 포함된다.In order to solve the above problems, the inventors of the present invention earnestly examine an evaluation method capable of evaluating the optical homogeneity of an optical film or optical laminate with high precision, and a method of increasing the optical homogeneity and optical properties of the optical film or optical laminate. Did. As a result, it was found that an optical laminated body that satisfies the following requirements has excellent optical homogeneity, and the present invention was completed. That is, the following aspects are included in this invention.

〔1〕 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지를 포함하는 광학 필름과, 당해 광학 필름의 적어도 편면에 적층된 기능층을 가지는 광학 적층체로서,[1] An optical laminate having an optical film containing a polyimide resin and/or a polyamide resin, and a functional layer laminated on at least one surface of the optical film,

상기 광학 필름을 이용하여 투영법에 의해 얻은 투영 화상을 푸리에 변환하여 얻은 필름 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h 및 방향 v에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h 및 라인 프로파일 v라고 하고, 상기 투영법에 있어서 상기 필름을 이용하지 않고 얻은 배경 화상을 푸리에 변환하여 얻은 배경 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h' 및 방향 v'에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h' 및 라인 프로파일 v'라고 하며, 라인 프로파일 h로부터 라인 프로파일 h'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (h-h')의 최대 강도를 Ymh라고 하고, 최대 강도 Ymh를 나타내는 주파수를 Xmh라고 하며, 라인 프로파일 v로부터 라인 프로파일 v'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (v-v')의 최대 강도를 Ymv라고 하고, 최대 강도 Ymv를 나타내는 주파수를 Xmv라고 하면, Ymh 및 Ymv는 모두 40 이하이며, Ymh, Ymv, Xmh 및 Xmv는, 다음의 관계:The line profiles in directions h and v perpendicular to each other in the film inverse space obtained by Fourier transform of the projection image obtained by the projection method using the optical film are referred to as line profile h and line profile v, respectively, and the projection method In the background inverse space obtained by Fourier transform of the background image obtained without using the film, the line profiles in the directions h'and v'perpendicular to each other are referred to as line profile h'and line profile v', respectively. , a line is called the maximum strength of the profile h line profile h 'line profile (h-h obtained by subtracting') from the said Y mh, the frequency showing the maximum intensity Y mh X mh, line profile v line profile v from ' If the maximum intensity of the line profile (v-v') obtained by subtracting is Y mv , and the frequency representing the maximum intensity Y mv is X mv , both Y mh and Y mv are 40 or less, and Y mh , Y mv , X mh and X mv have the following relationship:

Figure 112020057518495-pat00001
Figure 112020057518495-pat00001

를 충족시키는, 광학 적층체.To meet the optical laminate.

〔2〕 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지를 포함하는 광학 필름과, 당해 광학 필름의 적어도 편면에 적층된 기능층을 가지는 광학 적층체로서,[2] An optical laminate comprising an optical film containing a polyimide resin and/or a polyamide resin, and a functional layer laminated on at least one side of the optical film,

상기 광학 적층체를 이용하여 투영법에 의해 얻은 투영 화상을 푸리에 변환하여 얻은 필름 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h 및 방향 v에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h 및 라인 프로파일 v라고 하고, 상기 투영법에 있어서 상기 광학 적층체를 이용하지 않고 얻은 배경 화상을 푸리에 변환하여 얻은 배경 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h' 및 방향 v'에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h' 및 라인 프로파일 v'라고 하며, 라인 프로파일 h로부터 라인 프로파일 h'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (h-h')의 최대 강도를 Ymh라고 하고, 최대 강도 Ymh를 나타내는 주파수를 Xmh라고 하며, 라인 프로파일 v로부터 라인 프로파일 v'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (v-v')의 최대 강도를 Ymv라고 하고, 최대 강도 Ymv를 나타내는 주파수를 Xmv라고 하면, Ymh 및 Ymv는 모두 40 이하이며, Ymh, Ymv, Xmh 및 Xmv는, 다음의 관계:The line profiles in directions h and v that are orthogonal to each other in the film inverse space obtained by Fourier transform of the projection image obtained by the projection method using the optical laminate are referred to as line profile h and line profile v, respectively, In the projection method, the line profiles in the directions h'and v'that are orthogonal to each other in the background inverse space obtained by Fourier transform of the background image obtained without the use of the optical layered body are defined as the line profile h'and the line profile v. The maximum strength of the line profile (h-h') obtained by subtracting the line profile h'from the line profile h is called Y mh , and the frequency representing the maximum strength Y mh is called X mh , and the line profile v If the maximum intensity of the line profile (v-v') obtained by subtracting the profile v'is called Y mv, and the frequency representing the maximum intensity Y mv is called X mv , both Y mh and Y mv are 40 or less, and Y mh , Y mv , X mh and X mv have the following relationship:

Figure 112020057518495-pat00002
Figure 112020057518495-pat00002

를 충족시키는, 광학 적층체.To meet the optical laminate.

〔3〕 기능층의 적어도 하나는, 하드 코팅 기능, 대전 방지 기능, 방현(防眩) 기능, 저반사 기능, 반사 방지 기능 및 방오 기능으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 기능을 구비하는 층인, 상기 〔1〕 또는 〔2〕에 기재된 광학 적층체.(3) At least one of the functional layers is a layer having at least one function selected from the group consisting of a hard coating function, an antistatic function, an antiglare function, a low reflection function, an antireflection function, and an antifouling function, The optical laminate according to [1] or [2] above.

〔4〕 광학 적층체의 적어도 일방의 면의 연필 경도는 H 이상인, 상기 〔1〕~〔3〕 중 어느 것에 기재된 광학 적층체.[4] The optical laminate according to any one of [1] to [3], wherein the pencil hardness of at least one surface of the optical laminate is H or more.

〔5〕 광학 적층체의 적어도 일방의 면의 표면 저항률은 1.0×1013Ω/sq 이하인, 상기 〔1〕~〔4〕 중 어느 것에 기재된 광학 적층체.[5] The optical laminate according to any one of [1] to [4], wherein the surface resistivity of at least one surface of the optical laminate is 1.0×10 13 Ω/sq or less.

〔6〕 광학 적층체의 황색도는 3.0 이하인, 상기 〔1〕~〔5〕 중 어느 것에 기재된 광학 적층체.[6] The optical laminate according to any of [1] to [5], wherein the optical laminate has a yellowness of 3.0 or less.

〔7〕 폭 방향의 길이가 20cm 이상, 길이 방향의 길이가 1m 이상인, 상기 〔1〕~〔6〕 중 어느 것에 기재된 광학 적층체.[7] The optical laminate according to any one of [1] to [6], wherein the length in the width direction is 20 cm or more and the length in the length direction is 1 m or more.

〔8〕 플렉시블 표시 장치의 전면판용의 필름인, 상기 〔1〕~〔7〕 중 어느 것에 기재된 광학 적층체.[8] The optical laminate according to any one of [1] to [7], which is a film for a front plate of a flexible display device.

〔9〕 상기 〔1〕~〔8〕 중 어느 것에 기재된 광학 적층체를 구비하는 플렉시블 표시 장치.[9] A flexible display device comprising the optical laminate according to any one of [1] to [8].

〔10〕 터치 센서를 추가로 구비하는, 상기 〔9〕에 기재된 플렉시블 표시 장치.[10] The flexible display device according to [9], further comprising a touch sensor.

〔11〕 편광판을 추가로 구비하는, 상기 〔9〕 또는 〔10〕에 기재된 플렉시블 표시 장치.[11] The flexible display device according to [9] or [10], further comprising a polarizing plate.

〔12〕 상기 〔1〕~〔8〕 중 어느 것에 기재된 광학 적층체의 제조 방법으로서,[12] As a method for producing an optical laminate according to any one of [1] to [8],

(a) 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지, 및 용매를 적어도 함유하는 바니시를 지지체 상에 도포하고, 건조시켜, 도막을 형성시키는 공정,(a) a process of applying a varnish containing at least a polyimide resin and/or a polyamide resin, and a solvent on a support and drying to form a coating film,

(b) 지지체로부터 도막을 박리하는 공정,(b) the step of peeling the coating film from the support,

(c) 박리한 도막을 가열하여, 필름을 얻는 공정, 및,(c) heating the peeled coating film to obtain a film, and

(d) 필름의 적어도 편면에 기능층을 적층하여, 광학 적층체를 얻는 공정을 적어도 포함하는, 제조 방법.(d) A manufacturing method including at least a step of laminating a functional layer on at least one side of the film to obtain an optical laminate.

본 발명에 의하면, 광학적 균질성이 우수한 광학 적층체, 당해 광학 적층체를 구비하는 플렉시블 표시 장치, 및 당해 광학 적층체의 제조 방법을 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the optical laminated body excellent in optical homogeneity, the flexible display device provided with the said optical laminated body, and the manufacturing method of the said optical laminated body can be provided.

도 1은 투영 화상을 얻는 공정에 있어서의 배치예를 나타내는 개략도이다.
도 2는 실시예 및 비교예에서의 투영 화상을 얻는 공정에 있어서의 배치를 설명하기 위한 개략도이다.
도 3은 라인 프로파일에 있어서의 Ymax, Xmax 및 Xcen을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 실시예 1의 투영 화상으로부터 얻은 규격화 전의 라인 프로파일을 나타내는 도면이다.
도 5는 실시예 1의 투영 화상으로부터 얻은 규격화 후의 라인 프로파일을 나타내는 도면이다.
도 6은 실시예 1의 배경 화상으로부터 얻은 규격화 후의 라인 프로파일을 나타내는 도면이다.
도 7은 실시예 1의 투영 화상으로부터 얻은 규격화 후의 라인 프로파일로부터, 실시예 1의 배경 화상으로부터 얻은 규격화 후의 라인 프로파일을 빼서 얻은 라인 프로파일을 나타내는 도면이다.
도 8은 실시예 1의 투영 화상으로부터 얻은 규격화 후의 라인 프로파일로부터, 실시예 1의 배경 화상에서 얻은 규격화 후의 라인 프로파일을 빼서 얻은 라인 프로파일을 스무딩화하여 얻은 라인 프로파일을 나타내는 도면이다.
1 is a schematic diagram showing an example of an arrangement in a step of obtaining a projection image.
Fig. 2 is a schematic diagram for explaining an arrangement in a step of obtaining a projection image in Examples and Comparative Examples.
3 is a diagram for explaining Y max , X max, and X cen in a line profile.
4 is a diagram showing a line profile before normalization obtained from the projection image of Example 1. FIG.
5 is a diagram showing a normalized line profile obtained from the projection image of Example 1. FIG.
6 is a diagram showing a normalized line profile obtained from a background image of Example 1. FIG.
7 is a diagram showing a line profile obtained by subtracting the normalized line profile obtained from the background image of Example 1 from the normalized line profile obtained from the projection image of Example 1. FIG.
8 is a diagram showing a line profile obtained by smoothing the line profile obtained by subtracting the normalized line profile obtained from the background image of Example 1 from the normalized line profile obtained from the projection image of Example 1. FIG.

이하, 본 발명의 실시 형태에 대하여 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명의 범위는 여기서 설명하는 실시 형태에 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서 다양한 변경을 할 수 있다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail. In addition, the scope of the present invention is not limited to the embodiments described herein, and various changes can be made without departing from the spirit of the present invention.

본 발명의 광학 적층체는, 본 발명의 일 양태에 있어서, 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지를 포함하는 광학 필름과, 당해 광학 필름의 적어도 편면에 적층된 기능층을 가지는 광학 적층체로서,In one aspect of the present invention, the optical laminate of the present invention includes an optical film containing a polyimide resin and/or a polyamide resin, and a functional layer laminated on at least one side of the optical film. as,

상기 광학 필름을 이용하여 투영법에 의해 얻은 투영 화상을 푸리에 변환하여 얻은 필름 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h 및 방향 v에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h 및 v라고 하고, 상기 투영법에 있어서 상기 광학 필름을 이용하지 않고 얻은 배경 화상을 푸리에 변환하여 얻은 배경 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h' 및 방향 v'에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h' 및 v'라고 하며, 라인 프로파일 h로부터 라인 프로파일 h'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (h-h')의 최대 강도를 Ymh라고 하고, 최대 강도 Ymh를 나타내는 주파수를 Xmh라고 하며, 라인 프로파일 v로부터 라인 프로파일 v'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (v-v')의 최대 강도를 Ymv라고 하고, 최대 강도 Ymv를 나타내는 주파수를 Xmv라고 하면, Ymh 및 Ymv는 모두 40 이하이며, Ymh, Ymv, Xmh 및 Xmv는, 다음의 관계:Line profiles in directions h and v perpendicular to each other in the film inverse space obtained by Fourier transform of the projection image obtained by the projection method using the optical film are referred to as line profiles h and v, respectively, in the projection method Line profiles in directions h'and v'that are orthogonal to each other in a background inverse space obtained by Fourier transform of a background image obtained without using the optical film are referred to as line profiles h'and v', respectively, and line profiles line profile h from h to maximum intensity of the "by subtracting the obtained line profile (h-h ') is called Y mh, and the frequency showing the maximum intensity Y mh called X mh, obtained by subtracting the line profile v' from the line profile v Assuming that the maximum intensity of the line profile (v-v') is Y mv and the frequency representing the maximum intensity Y mv is X mv , both Y mh and Y mv are 40 or less, and Y mh , Y mv , X mh and X mv is the relationship:

Figure 112020057518495-pat00003
Figure 112020057518495-pat00003

를 충족시키는, 광학 적층체이다.It is an optical laminated body that satisfies.

본 발명의 광학 적층체는, 본 발명의 다른 일 양태에 있어서, 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지를 포함하는 광학 필름과, 당해 광학 필름의 적어도 편면에 적층된 기능층을 가지는 광학 적층체로서,In another aspect of the present invention, the optical laminate of the present invention has an optical film containing a polyimide resin and/or a polyamide resin, and a functional layer laminated on at least one side of the optical film. As a sieve,

상기 광학 적층체를 이용하여 투영법에 의해 얻은 투영 화상을 푸리에 변환하여 얻은 필름 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h 및 방향 v에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h 및 v라고 하고, 상기 투영법에 있어서 상기 광학 적층체를 이용하지 않고 얻은 배경 화상을 푸리에 변환하여 얻은 배경 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h' 및 방향 v'에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h' 및 v'라고 하며, 라인 프로파일 h로부터 라인 프로파일 h'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (h-h')의 최대 강도를 Ymh라고 하고, 최대 강도 Ymh를 나타내는 주파수를 Xmh라고 하며, 라인 프로파일 v로부터 라인 프로파일 v'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (v-v')의 최대 강도를 Ymv라고 하고, 최대 강도 Ymv를 나타내는 주파수를 Xmv라고 하면, Ymh 및 Ymv는 모두 40 이하이며, Ymh, Ymv, Xmh 및 Xmv는, 다음의 관계:The line profiles in directions h and v perpendicular to each other in the film inverse space obtained by Fourier transform of the projection image obtained by the projection method using the optical laminate are referred to as line profiles h and v, respectively, and in the projection method In the background inverse space obtained by Fourier transform of the background image obtained without using the optical laminate, the line profiles in directions h'and v'perpendicular to each other are referred to as line profiles h'and v', respectively, a line for the maximum strength of the profile line profile h 'line profile (h-h obtained by subtracting') from h and that Y mh, the frequency showing the maximum intensity Y mh called X mh, line profile v 'from the line profile v If the called a maximum intensity of the line profile (v-v ') obtained by subtracting Y mv, and the frequency showing the maximum intensity Y mv as X mv, Y mh and Y mv are all less than 40, Y mh, Y mv, X mh and X mv have the following relationship:

Figure 112020057518495-pat00004
Figure 112020057518495-pat00004

를 충족시키는, 광학 적층체이다. 여기서, 방향 h 및 방향 h'는 서로 대응하는 방향이며, 방향 v 및 방향 v'는 서로 대응하는 방향이다. 이들 방향이 대응한다는 것은, 방위각이 동일한 것을 의미한다.It is an optical laminated body that satisfies. Here, directions h and h'are directions corresponding to each other, and directions v and v'are directions corresponding to each other. Corresponding to these directions means that the azimuth angles are the same.

본 발명의 광학 적층체는, 본 발명의 광학 적층체에 포함되는 광학 필름, 또는, 본 발명의 광학 적층체를 측정 필름으로서 이용하고, 상기 Ymh 등을 평가한 결과, 상기의 특징을 충족시키는 광학 적층체이다. 이와 같은 특징을 충족시키는 본 발명의 광학 적층체는, 높은 광학적 균질성을 가진다. 본 발명의 광학 적층체는, 우수한 광학적 균질성을 가지고, 특히 화상 표시 장치에 있어서의 광학 적층체로서 바람직하게 사용된다. 여기서, 필름의 광학적 균질성은, 필름의 면 형상 불균일, 두께 불균일, 배향 불균일 등과 밀접하게 관계되고, 이들 불균일이 발생하면 광학적 균질성이 저하된다. 이 때문에, 우수한 광학적 균질성을 가지는 본 발명의 광학 적층체는, 면 형상 불균일, 두께 불균일, 배향 불균일 등의 불균일이 저감된 필름이라고 할 수 있다.The optical laminate of the present invention satisfies the above characteristics as a result of using the optical film contained in the optical laminate of the present invention or the optical laminate of the present invention as a measurement film and evaluating the Y mh etc. It is an optical laminate. The optical laminate of the present invention satisfying such characteristics has high optical homogeneity. The optical layered product of the present invention has excellent optical homogeneity and is particularly preferably used as an optical layered product in an image display device. Here, the optical homogeneity of the film is closely related to the non-uniformity of the plane shape, the thickness of the film, the non-uniformity of orientation, and the like, and when these non-uniformities occur, the optical homogeneity decreases. For this reason, the optical laminated body of the present invention having excellent optical homogeneity can be said to be a film in which unevenness such as surface shape unevenness, thickness unevenness, and orientation unevenness is reduced.

본 발명의 광학 적층체에 포함되는 광학 필름, 또는, 본 발명의 광학 적층체를 측정 필름으로서 이용하여, 투영법에 의해 얻은 투영 화상을 푸리에 변환하여 얻은 필름 역공간상, 및, 상기 투영법에 있어서 상기 측정 필름을 이용하지 않고 얻은 배경 화상을 푸리에 변환하여 얻은 배경 역공간상이란, 각각, 투영 화상 및 배경 화상으로부터 푸리에 변환에 의해 얻은 것인 한 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면,The optical film contained in the optical laminate of the present invention, or a film inverse spatial image obtained by Fourier transform of a projection image obtained by a projection method using the optical laminate of the present invention as a measurement film, and in the projection method, the The background inverse space image obtained by Fourier transform of a background image obtained without using a measurement film is not particularly limited as long as it is obtained by Fourier transform from a projection image and a background image, respectively, but, for example,

(1) 광원으로부터의 광을 측정 필름(광학 필름 또는 광학 적층체)에 조사하고, 측정 필름을 투과한 광을 투영면에 투영하는 투영법에 의해 투영 화상을 얻는 공정,(1) a step of obtaining a projection image by a projection method in which light from a light source is irradiated onto a measurement film (optical film or optical laminate), and light transmitted through the measurement film is projected onto a projection surface,

(2) 공정 (1)의 투영법에 있어서 측정 필름을 이용하지 않고, 광원으로부터의 광을 투영면에 투영하여, 배경 화상을 얻는 공정,(2) The step of obtaining a background image by projecting light from a light source onto a projection surface without using a measurement film in the projection method of step (1),

및,And,

(3) 공정 (1)에서 얻은 투영 화상 및 공정 (2)에서 얻은 배경 화상을 각각 그레이 스케일화에 의해 수치화하고, 수치화된 화상 데이터를 푸리에 변환하여 역공간상(필름 역공간상 및 배경 역공간상)을 얻는 공정에 의해 얻을 수 있다. 상기 역공간상을 이용하여 측정 필름의 면 품질을 평가함으로써, 불균일의 농담과 주기를 해석할 수 있다.(3) The projection image obtained in step (1) and the background image obtained in step (2) are digitized by gray scale, respectively, and the digitized image data is Fourier transformed to form an inverse space image (film inverse space image and background inverse space). It can be obtained by the process of obtaining phase). By evaluating the surface quality of the measurement film using the reverse spatial image, it is possible to analyze the shade and period of non-uniformity.

측정 필름의 투영법에 의한 투영 화상으로부터 푸리에 변환에 의해 역공간상을 얻는 방법은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 평가 공정에 대하여 후술하는 방법을 이용해도 된다.A method of obtaining an inverse spatial image by Fourier transform from a projection image by a projection method of a measurement film is not particularly limited, but for example, a method described later for the evaluation process may be used.

이어서, (4) 투영 화상의 역공간상에 있어서 직교하는 2방향의 각 라인 프로파일로부터, 배경 화상의 역공간상에 있어서 직교하는 상기 2방향의 각 라인 프로파일을 각각 빼서, 블랭크 보정된 라인 프로파일을 얻는 공정, 및, (5) 공정 (4)에서 얻은 블랭크 보정된 라인 프로파일의 최대 강도 Ymax(각각, Ymh 및 Ymv), 및 각 라인 프로파일에 있어서 최대 강도 Ymax(Ymh 및 Ymv)를 나타내는 주파수 Xmax(Xmh 및 Xmv)를 측정한다. 예를 들면, 역공간상의 중심을 지나는 수평 방향(h1 방향) 및 수직 방향(v1 방향)의 각각의 방향에 대하여 라인 프로파일을 작성하는 경우에 대하여 이하에 설명한다. 라인 프로파일은, 예를 들면 도 3에 나타나는 바와 같은, X축에 주파수, Y축에 강도를 나타내는 그래프로서 나타난다. 그리고, 수평 방향(h1 방향)의 라인 프로파일에 있어서의 최대 강도 Ymax를 Ymh1이라고 하고, 최대 강도 Ymh1을 나타내는 주파수로부터 블랭크 보정된 라인 프로파일에 있어서의 전체 주파수의 중앙값 Xcen을 뺀 값 Xmax를 Xmh1이라고 한다. 또한, 수직 방향(v1 방향)의 라인 프로파일에 있어서의 최대 강도 Ymax를 Ymv1이라고 하고, 최대 강도 Ymv1을 나타내는 주파수로부터 블랭크 보정된 라인 프로파일에 있어서의 전체 주파수의 중앙값 Xcen을 뺀 값 Xmax를 Xmv1이라고 한다. 또한, 상기 예에 있어서는, 공간상의 중심을 지나는 수평 방향(h1 방향) 및 수직 방향(v1 방향)을 직교하는 2방향으로서 선택하였지만, 당해 2방향(h 방향 및 v 방향)은 서로 직교하고 있으면 특별히 한정되지 않고, 중심을 지나지 않는 2방향이어도 되고, 수평 방향 및 수직 방향이 아니어도 된다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「블랭크 보정된 라인 프로파일」이란, 투영 화상의 역공간상에 있어서 직교하는 2방향의 각 라인 프로파일로부터, 배경 화상의 역공간상에 있어서 직교하는 상기 2방향의 각 라인 프로파일을 각각 빼서 얻은 라인 프로파일을 의미한다. 상기의 조작에 의해, 투영 화상의 역공간상에 있어서의 라인 프로파일의 베이스 라인을 보정할 수 있다.Next, (4) each line profile in the two directions orthogonal in the inverse space of the background image is subtracted from each line profile in the two directions orthogonal in the inverse space of the projection image, and the blank-corrected line profile is obtained. obtaining process, and, (5) the maximum intensity of the blank, the corrected line profile obtained in step (4), Y max (respectively, Y mh and Y mv), and the maximum intensity in each of the line profiles Y max (Y mh and Y mv ) And measure the frequency X max (X mh and X mv ). For example, a case where a line profile is created in each of the horizontal direction (h1 direction) and vertical direction (v1 direction) passing through the center of the reverse space will be described below. The line profile is shown, for example, as a graph showing the frequency on the X-axis and the intensity on the Y-axis as shown in FIG. 3. And, the maximum intensity Y max in the line profile in the horizontal direction (h1 direction) is called Y mh1 , and the median value X cen of all frequencies in the blank corrected line profile is subtracted from the frequency representing the maximum intensity Y mh1. Let max be X mh1 . In addition, the maximum intensity Y max in the line profile in the vertical direction (v1 direction) is called Y mv1 , and the median value X cen of all frequencies in the blank corrected line profile is subtracted from the frequency representing the maximum intensity Y mv1, X Let max be X mv1 . In the above example, the horizontal direction (h1 direction) and the vertical direction (v1 direction) passing through the center of space are selected as two orthogonal directions, but if the two directions (h direction and v direction) are orthogonal to each other, It is not limited and may be two directions not passing through the center, and may not be a horizontal direction and a vertical direction. In addition, in this specification, the "blank-corrected line profile" means each line in the two directions orthogonal in the reverse space of the background image from the line profile in two directions orthogonal in the reverse space of the projection image. It means the line profile obtained by subtracting each profile. By the above operation, the baseline of the line profile in the reverse space of the projected image can be corrected.

본 발명의 광학 적층체에 포함되는 광학 필름을 측정 필름으로서 이용하여 얻어지는 상기 Ymh 및 Ymv는, 모두 40 이하이다. Ymh 또는 Ymv가 40을 초과하는 경우, 광학 필름의 광학적 균질성이 충분하다고는 할 수 없으며, 광학 적층체의 광학적 균질성이 충분하지 않은 경우가 있다. 특히, 이와 같은 광학 필름을 포함하는 광학 적층체의 광학적 균질성이 화상 표시 장치에 있어서 사용하기에 충분하다고는 할 수 없고, 화상의 일그러짐 등을 충분히 저감할 수 없다. 광학 적층체의 광학적 균질성을 높이기 쉽고, 화상 표시 장치에 있어서 화상 시인성을 향상시키기 쉬운 관점에서, Ymh 및 Ymv는, 바람직하게는 35 이하, 보다 바람직하게는 32 이하, 더 바람직하게는 30 이하, 더 바람직하게는 28 이하, 특히 바람직하게는 26 이하이다. Ymh 및 Ymv는 작으면 작을수록 좋고, 그 하한은 특별히 한정되지 않으며 0 이상이면 되고, 통상은 1 이상이다. 본 발명의 광학 적층체를 측정 필름으로서 이용하여 얻어지는 상기 Ymh 및 Ymv에 대해서도, 상기 바람직한 기재가 마찬가지로 적합하다. The Y mh and Y mv obtained by using the optical film contained in the optical laminate of the present invention as a measurement film are both 40 or less. When Y mh or Y mv exceeds 40, it cannot be said that the optical homogeneity of the optical film is sufficient, and the optical homogeneity of the optical laminate is sometimes insufficient. In particular, it cannot be said that the optical homogeneity of the optical layered product including such an optical film is sufficient for use in an image display device, and distortion of an image cannot be sufficiently reduced. From the viewpoint of easy to increase the optical homogeneity of the optical laminate and to improve image visibility in an image display device, Y mh and Y mv are preferably 35 or less, more preferably 32 or less, and still more preferably 30 or less. , More preferably 28 or less, particularly preferably 26 or less. The smaller Y mh and Y mv are, the better, and the lower limit is not particularly limited and may be 0 or more, and usually 1 or more. About the said Y mh and Y mv obtained using the optical laminated body of this invention as a measurement film, the said preferable base material is similarly suitable.

본 발명의 광학 적층체에 포함되는 광학 필름을 측정 필름으로서 이용하여, 상기와 같이 하여 얻은 Ymh, Ymv, Xmh 및 Xmv는, 다음의 관계:Using the optical film contained in the optical laminate of the present invention as a measurement film, Y mh , Y mv , X mh and X mv obtained as described above have the following relationship:

Figure 112020057518495-pat00005
Figure 112020057518495-pat00005

를 충족시킨다. (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값이 30을 초과하면, 광학적 균질성이 충분하지 않기 때문에 화면의 일그러짐 등이 발생하기 쉽다. (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값의 상한은, 광학적 균질성을 보다 높이기 쉬운 관점에서, 바람직하게는 25 이하, 보다 바람직하게는 22 이하, 더 바람직하게는 20 이하, 더 바람직하게는 19.5 이하, 더 바람직하게는 19 이하, 더 바람직하게는 18 이하, 더 바람직하게는 17 이하, 더 바람직하게는 16 이하, 더 바람직하게는 14 이하, 더 바람직하게는 13 이하, 특히 바람직하게는 9 이하이다. (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값은 작으면 작을수록 좋고, 그 하한은 특별히 한정되지 않고 0 이상이면 되고, 통상은 0.5 이상이다. 본 발명의 광학 적층체를 측정 필름으로서 이용하여 얻어지는 상기 Ymh, Ymv, Xmh 및 Xmv에 대해서도, 상기 바람직한 기재가 마찬가지로 적합하다.Meets. If the value of (Y mh +Y mv )/(X mh +X mv ) 1/2 exceeds 30, the optical homogeneity is not sufficient, so distortion of the screen is likely to occur. The upper limit of the value of (Y mh +Y mv )/(X mh +X mv ) 1/2 is preferably 25 or less, more preferably 22 or less, and more preferably, from the viewpoint of increasing optical homogeneity more easily. 20 or less, more preferably 19.5 or less, more preferably 19 or less, more preferably 18 or less, still more preferably 17 or less, more preferably 16 or less, more preferably 14 or less, more preferably 13 Hereinafter, it is particularly preferably 9 or less. The smaller the value of (Y mh +Y mv )/(X mh +X mv ) 1/2 is better, and the lower limit thereof is not particularly limited and may be 0 or more, and usually 0.5 or more. About the said Y mh , Y mv , X mh and X mv obtained using the optical laminated body of this invention as a measurement film, the said preferable base material is similarly suitable.

측정 필름으로서, 본 발명의 광학 적층체에 포함되는 광학 필름 또는 본 발명의 광학 적층체를 이용하여, 상기와 같이 하여 얻은 블랭크 보정된 라인 프로파일에 있어서의 전체 주파수의 중앙값을 Xcen이라고 한다. 예를 들면 도 3에 나타나는 라인 프로파일에 있어서는, 전체 주파수가 90cm-1이고, 그 중앙값인 45cm-1이 Xcen이 된다. 여기서, Xcen과 상기와 같이 하여 얻은 Xmh 및 Xmv가, 다음의 관계:As the measurement film, the median of the total frequency in the blank-corrected line profile obtained as described above using the optical film contained in the optical laminate of the present invention or the optical laminate of the present invention is referred to as X cen. For example, in the line profile shown in Fig. 3, the total frequency is 90 cm -1 , and the median value of 45 cm -1 is X cen . Here, X cen and X mh and X mv obtained as described above have the following relationship:

Figure 112020057518495-pat00006
Figure 112020057518495-pat00006

를 충족시키는 것이 바람직하다. 또한, 상기의 식 중, Xm은 Xmh 또는 Xmv를 나타내고, Xmh 및 Xmv의 모두가 상기 식을 충족시키는 것이 바람직하다. |Xm-Xcen|의 하한은, 보다 바람직하게는 0.5cm-1 이상, 더 바람직하게는 1.0cm-1 이상이다. 또한, |Xm-Xcen|의 상한은, 보다 바람직하게는 8.0cm-1 이하, 더 바람직하게는 6.0cm-1 이하이다. 불균일로서 시인되지 않는 광학적 균질성을 구비하는 것과, 생산성을 고려하면, 광학 필름 또는 광학 적층체에 있어서의 Xmh 및 Xmv가 상기 관계를 충족시키는 것이 바람직하다.It is desirable to meet. In addition, in the above formulas, it is preferable that X m represents X mh or X mv , and both of X mh and X mv satisfy the above formula. The lower limit of |X m -X cen | is more preferably 0.5 cm -1 or more, and still more preferably 1.0 cm -1 or more. In addition, the upper limit of |X m -X cen | is more preferably 8.0 cm -1 or less, and still more preferably 6.0 cm -1 or less. It is preferable that X mh and X mv in an optical film or an optical laminate satisfy the above relationship in view of providing optical homogeneity that is not visually recognized as non-uniformity and considering productivity.

본 발명의 광학 적층체의 적어도 일방의 면의 연필 경도는, 바람직하게는 H 이상, 보다 바람직하게는 2H 이상, 더 바람직하게는 3H 이상, 특히 바람직하게는 4H 이상이다. 광학 적층체의 적어도 일방의 면의 연필 경도가 상기의 경도 이상인 경우, 광학 적층체의 표면에 있어서의 긁힘 등을 방지하기 쉽다. 상기의 연필 경도는, 본 발명의 광학 적층체의 기능층(바람직하게는 하드 코팅층)을 가지는 면의 연필 경도인 것이 바람직하다. 또한, 연필 경도는, JIS K 5600-5-4:1999에 준거하여 측정할 수 있고, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.The pencil hardness of at least one surface of the optical laminate of the present invention is preferably H or more, more preferably 2H or more, still more preferably 3H or more, and particularly preferably 4H or more. When the pencil hardness of at least one surface of the optical laminate is equal to or higher than the above hardness, it is easy to prevent scratches and the like on the surface of the optical laminate. It is preferable that the said pencil hardness is the pencil hardness of the side which has a functional layer (preferably a hard coat layer) of the optical laminated body of this invention. In addition, pencil hardness can be measured according to JIS K 5600-5-4:1999, for example, it can be measured by the method described in Examples.

본 발명의 광학 적층체의 적어도 일방의 면의 표면 저항률은, 바람직하게는 1.0×1013Ω/sq 이하, 보다 바람직하게는 5.0×1012Ω/sq 이하, 더 바람직하게는 1.0×1012Ω/sq 이하이다. 표면 저항률이 상기의 상한 이하인 경우, 충분한 대전 방지 기능을 얻기 쉽다. 본 발명의 광학 적층체의 적어도 일방의 면의 표면 저항률은, 본 발명의 광학 적층체를 터치 패널과 조합하여 사용할 때에, 터치 패널의 조작성을 담보하기 쉬운 관점에서는, 바람직하게는 1.0×107Ω/sq 이상, 보다 바람직하게는 5.0×107Ω/sq 이상, 더 바람직하게는 1.0×108Ω/sq 이상이다. 상기의 표면 저항률은, 본 발명의 광학 적층체의 기능층(바람직하게는 대전 방지 기능층)을 가지는 면의 표면 저항률인 것이 바람직하다. 또한, 표면 저항률은, JIS K 6911에 준거하여 측정할 수 있고, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.The surface resistivity of at least one surface of the optical laminate of the present invention is preferably 1.0×10 13 Ω/sq or less, more preferably 5.0×10 12 Ω/sq or less, and more preferably 1.0×10 12 Ω /sq or less. When the surface resistivity is less than or equal to the above upper limit, it is easy to obtain a sufficient antistatic function. The surface resistivity of at least one surface of the optical laminate of the present invention is preferably 1.0×10 7 Ω from the viewpoint of easy to ensure operability of the touch panel when the optical laminate of the present invention is used in combination with a touch panel. /sq or more, more preferably 5.0×10 7 Ω/sq or more, and still more preferably 1.0×10 8 Ω/sq or more. It is preferable that the said surface resistivity is the surface resistivity of the surface which has a functional layer (preferably an antistatic functional layer) of the optical laminated body of this invention. In addition, the surface resistivity can be measured according to JIS K 6911, for example, it can be measured by the method described in Examples.

본 발명의 광학 적층체에 있어서, 기능층을 가지는 면으로부터 광을 입사한 경우의 광학 적층체의 반사율은, 바람직하게는 3.0% 이하, 보다 바람직하게는 2.0% 이하, 더 바람직하게는 1.0% 이하이다. 또한, 본 명세서에 있어서의 반사율은, 시감도 보정 반사율을 의미하고, 구체적으로는, 입사각 12도로 광을 입사하였을 때의 반사각 12도에 있어서의 파장 350~900㎚의 범위의 분광 반사율(즉 입사각 12도에 있어서의 정(正)반사율)을 JIS Z 8701의 2도 시야(C 광원)에 의해 시감도 보정한 반사율을 말한다. 반사율은, 분광 광도계 등을 이용하여 측정할 수 있다. 반사율의 측정에 있어서, 광을 입사시키는 기능층면과는 반대측의 면으로부터의 반사가 측정값에 영향을 미칠 가능성을 배제할 목적, 및, 광학 적층체의 휨을 방지하는 목적을 위해, 광학 적층체의, 광을 입사시키는 기능층면과는 반대측의 면을, 광학적으로 투명한 점착제를 이용하여 흑색판(흑색 아크릴판 등)에 첩합(貼合)한 시료를, 측정용 시료로서 이용한다.In the optical laminate of the present invention, the reflectance of the optical laminate when light is incident from the surface having the functional layer is preferably 3.0% or less, more preferably 2.0% or less, and still more preferably 1.0% or less. to be. In addition, the reflectance in this specification means a luminous sensitivity correction reflectance, and specifically, a spectral reflectance in the range of 350 to 900 nm wavelength at a reflection angle of 12 degrees when light is incident at an incident angle of 12 degrees (i.e. It refers to the reflectance obtained by correcting the luminous intensity of the positive reflectance in the figure) using a 2-degree field of view (C light source) of JIS Z 8701. Reflectance can be measured using a spectrophotometer or the like. In measuring the reflectance, for the purpose of excluding the possibility that reflection from a surface opposite to the surface of the functional layer through which light is incident may affect the measured value, and for the purpose of preventing warpage of the optical laminate, the , A sample bonded to a black plate (such as a black acrylic plate) using an optically transparent adhesive on the side opposite to the surface of the functional layer to which light is incident is used as a sample for measurement.

본 발명의 광학 적층체의 황색도(YI값)는, 바람직하게는 3.0 이하, 보다 바람직하게는 2.7 이하, 더 바람직하게는 2.5 이하, 특히 바람직하게는 2.0 이하이다. 광학 적층체의 황색도가 상기의 상한 이하이면 투명성을 향상시키기 쉽고, 예를 들면 표시 장치의 전면판에 사용한 경우에 시인성을 높이기 쉽다. 황색도는, 통상 -5 이상, 바람직하게는 -2 이상, 보다 바람직하게는 0 이상, 더 바람직하게는 0.3 이상, 더 바람직하게는 0.5 이상, 특히 바람직하게는 0.7 이상이다. 황색도(YI)는, JIS K 7373:2006에 준거하여, 자외가시근적외 분광광도계를 이용하여 300~800㎚의 광에 대한 투과율 측정을 행하고, 3자극값(X, Y, Z)을 구하여, YI=100×(1.2769X-1.0592Z)/Y의 식에 의거하여 산출할 수 있다.The yellowness (YI value) of the optical layered product of the present invention is preferably 3.0 or less, more preferably 2.7 or less, still more preferably 2.5 or less, and particularly preferably 2.0 or less. When the yellowness of the optical laminate is equal to or less than the above upper limit, transparency is easily improved, and visibility is easily improved when used for, for example, a front plate of a display device. The yellowness is usually -5 or more, preferably -2 or more, more preferably 0 or more, still more preferably 0.3 or more, still more preferably 0.5 or more, and particularly preferably 0.7 or more. Yellowness (YI) is based on JIS K 7373:2006, using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer to measure the transmittance of light of 300 to 800 nm, and obtain the three stimulus values (X, Y, Z). , YI = 100 × (1.2769X-1.0592Z) / Y can be calculated based on the equation.

본 발명의 광학 적층체의 전광선 투과율은, 바람직하게는 80% 이상, 보다 바람직하게는 85% 이상, 더 바람직하게는 90% 이상이다. 전광선 투과율이 상기의 하한 이상이면, 광학 적층체를 화상 표시 장치에 조립하였을 때에 시인성을 높이기 쉽다. 본 발명의 광학 적층체는, 광학적 균질성이 높고, 높은 투과율을 나타내므로, 예를 들면, 투과율이 낮은 필름을 이용한 경우에 비해, 일정한 밝기를 얻기 위해 필요한 표시 소자 등의 발광 강도를 억제하는 것이 가능해진다. 이 때문에, 소비 전력을 삭감할 수 있다. 예를 들면, 본 발명의 광학 적층체를 표시 장치에 조립하는 경우, 백라이트의 광량을 줄여도 밝은 표시를 얻을 수 있는 경향이 있어, 에너지의 절약에 공헌할 수 있다. 전광선 투과율의 상한은, 통상 100% 이하이다. 또한, 전광선 투과율은, 예를 들면 JIS K 7361-1:1997에 준거하여 헤이즈 컴퓨터를 이용하여 측정할 수 있다. 전광선 투과율은, 후술하는 광학 적층체의 두께의 범위에 있어서의 전광선 투과율이어도 된다.The total light transmittance of the optical layered product of the present invention is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and still more preferably 90% or more. When the total light transmittance is more than the above lower limit, it is easy to increase the visibility when the optical laminate is assembled into an image display device. Since the optical laminate of the present invention exhibits high optical homogeneity and high transmittance, it is possible to suppress the luminous intensity of a display element, etc., required to obtain a constant brightness, compared to the case of using a film having a low transmittance, for example. It becomes. For this reason, power consumption can be reduced. For example, in the case of assembling the optical laminate of the present invention in a display device, there is a tendency that a bright display can be obtained even when the amount of light of the backlight is reduced, which can contribute to energy saving. The upper limit of the total light transmittance is usually 100% or less. In addition, the total light transmittance can be measured using a haze computer according to JIS K7361-1:1997, for example. The total light transmittance may be a total light transmittance in the range of the thickness of the optical laminate to be described later.

본 발명의 광학 적층체의 헤이즈는, 바람직하게는 3.0% 이하, 보다 바람직하게는 2.0% 이하, 더 바람직하게는 1.0% 이하, 보다 더 바람직하게는 0.5% 이하, 특히 바람직하게는 0.3% 이하이다. 광학 적층체의 헤이즈가 상기의 상한 이하이면 투명성이 양호해져, 예를 들면 화상 표시 장치의 전면판에 사용한 경우에, 화상의 시인성을 높이기 쉽다. 또한 헤이즈의 하한은 통상 0.01% 이상이다. 또한, 헤이즈는, JIS K 7136:2000에 준거하여 헤이즈 컴퓨터를 이용하여 측정할 수 있다.The haze of the optical layered product of the present invention is preferably 3.0% or less, more preferably 2.0% or less, still more preferably 1.0% or less, even more preferably 0.5% or less, particularly preferably 0.3% or less. . When the haze of the optical laminate is equal to or less than the above upper limit, transparency becomes good, and when used for, for example, a front plate of an image display device, the visibility of an image is easily improved. In addition, the lower limit of haze is usually 0.01% or more. In addition, haze can be measured using a haze computer according to JIS K 7136:2000.

본 발명의 광학 적층체의 두께는, 용도에 따라 적절히 조정하면 되지만, 바람직하게는 25㎛ 이상, 보다 바람직하게는 27㎛ 이상, 더 바람직하게는 30㎛ 이상이며, 바람직하게는 100㎛ 이하, 보다 바람직하게는 90㎛ 이하, 더 바람직하게는 85㎛ 이하이다. 광학 적층체의 두께는, 막후계 등으로 측정할 수 있고, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.The thickness of the optical laminate of the present invention may be appropriately adjusted according to the application, but is preferably 25 µm or more, more preferably 27 µm or more, still more preferably 30 µm or more, preferably 100 µm or less, more It is preferably 90 µm or less, more preferably 85 µm or less. The thickness of the optical laminate can be measured by a film thickness meter or the like, for example, by the method described in Examples.

본 발명의 광학 적층체는, 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지를 포함하는 광학 필름과, 당해 광학 필름의 적어도 편면에 적층된 기능층을 가진다. Ymh 등에 관한 상기 특징을 가지는 균질성이 높은 광학 필름을 제조하기 쉬운 관점, 및/또는, 상기 특징을 가지는 균질성이 높은 광학 적층체를 제조하기 쉬운 관점에서는, 본 발명의 광학 적층체에 있어서의 광학 필름은, 바람직하게는 캐스트 필름이다. 본 명세서에 있어서, 캐스트 필름이란, 예를 들면, 상기 수지를 포함하는 용액, 분산액, 또는 용융물을, 적당한 지지체 상에 유연, 도포 등 하여, 가열, 냉각, 건조 등에 의해 도막화시켜, 필요에 따라 당해 도막을 당해 지지체로부터 박리 하여 얻어지는 필름을 나타낸다. 이와 같이 하여 얻은 필름은, 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지를 적어도 함유하고, 경우에 따라 미량의 용매를 함유한다.The optical layered product of the present invention has an optical film containing a polyimide resin and/or a polyamide resin, and a functional layer laminated on at least one surface of the optical film. From the viewpoint of easy production of an optical film with high homogeneity having the above characteristics related to Y mh, etc., and/or from the viewpoint of easy production of an optical laminate having high homogeneity having the above characteristics, the optical layer in the optical laminate of the present invention The film is preferably a cast film. In the present specification, a cast film means, for example, casting a solution, dispersion, or melt containing the resin on a suitable support to form a coating film by heating, cooling, drying, etc. The film obtained by peeling the said coating film from the said support body is shown. The film thus obtained contains at least a polyimide-based resin and/or a polyamide-based resin, and optionally a trace amount of a solvent.

본 발명의 광학 적층체에 있어서의 광학 필름은, 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지를 포함한다. 본 발명의 광학 적층체에 있어서, 광학 필름은, 1종류의 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지를 함유해도 되고, 2종 이상의 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지를 함유해도 된다.The optical film in the optical layered product of the present invention contains a polyimide resin and/or a polyamide resin. In the optical laminate of the present invention, the optical film may contain one type of polyimide type resin or polyamide type resin, or may contain two or more types of polyimide type resin and/or polyamide type resin.

<폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지><Polyimide resin and polyamide resin>

본 발명의 광학 적층체에 있어서, 광학 필름은, 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지를 포함한다. 폴리이미드계 수지란, 이미드기를 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 수지(이하, 폴리이미드 수지라고 하는 경우가 있음), 및 이미드기 및 아미드기의 양방을 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 수지(이하, 폴리아미드이미드 수지라고 하는 경우가 있음)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지를 나타낸다. 또한, 폴리아미드계 수지란, 아미드기를 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 수지를 나타낸다.In the optical laminate of the present invention, the optical film contains a polyimide resin and/or a polyamide resin. A polyimide resin is a resin containing a repeating structural unit containing an imide group (hereinafter, sometimes referred to as a polyimide resin), and a resin containing a repeating structural unit containing both an imide group and an amide group ( Hereinafter, at least one resin selected from the group consisting of polyamide-imide resins in some cases) is shown. In addition, the polyamide-based resin refers to a resin containing a repeating structural unit containing an amide group.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드계 수지는, 식 (1)로 나타나는 구성 단위를 가지는 폴리이미드 수지이거나, 또는, 식 (1)로 나타나는 구성 단위 및 식 (2)로 나타나는 구성 단위를 가지는 폴리아미드이미드 수지인 것이 바람직하다. 또한, 폴리아미드계 수지는, 식 (2)로 나타나는 구성 단위를 가지는 폴리아미드 수지인 것이 바람직하다. 이하에 있어서 식 (1) 및 식 (2)에 대하여 설명하지만, 식 (1)에 대한 설명은, 폴리이미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지의 양방에 관한 것이며, 식 (2)에 관한 설명은, 폴리아미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지의 양방에 관한 것이다.In a preferred embodiment of the present invention, the polyimide resin is a polyimide resin having a structural unit represented by formula (1), or a structural unit represented by formula (1) and a structural unit represented by formula (2). It is preferably a polyamideimide resin having. Moreover, it is preferable that the polyamide resin is a polyamide resin which has a structural unit represented by Formula (2). Hereinafter, formulas (1) and (2) will be described, but the description of formula (1) relates to both polyimide resin and polyamideimide resin, and the description of formula (2) is poly It relates to both an amide resin and a polyamide-imide resin.

Figure 112020057518495-pat00007
Figure 112020057518495-pat00007

식 (1)로 나타나는 구성 단위는, 테트라카르본산 화합물과 디아민 화합물이 반응하여 형성되는 구성 단위이며, 식 (2)로 나타나는 구성 단위는, 디카르본산 화합물과 디아민 화합물이 반응하여 형성되는 구성 단위이다.The structural unit represented by formula (1) is a structural unit formed by reacting a tetracarboxylic acid compound and a diamine compound, and the structural unit represented by formula (2) is a structural unit formed by reacting a dicarboxylic acid compound and a diamine compound to be.

식 (2)에 있어서, Z는, 2가의 유기기이며, 바람직하게는 탄소수 1~8의 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄소수 1~8의 탄화수소기로 치환되어 있어도 되고, 탄소수 4~40의 2가의 유기기이며, 보다 바람직하게는 탄소수 1~8의 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄소수 1~8의 탄화수소기로 치환되어 있어도 되고, 환상(環狀) 구조를 가지는 탄소수 4~40의 2가의 유기기이다. 환상 구조로서는, 지환, 방향환, 헤테로환 구조를 들 수 있다. Z의 유기기로서, 후술하는 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 및 식 (29)로 나타나는 기의 결합손 중, 인접하지 않는 2개가 수소 원자로 치환된 기 및 탄소수 6 이하의 2가의 쇄식 탄화수소기가 예시되고, Z의 헤테로환 구조로서는 티오펜환 골격을 가지는 기가 예시된다. 광학 필름의 황색도를 억제(YI값을 저감)하기 쉬운 관점에서, 식 (20)~식 (27)로 나타나는 기, 및, 티오펜환 골격을 가지는 기가 바람직하다.In formula (2), Z is a divalent organic group, preferably a C 1 to C 8 hydrocarbon group or a fluorine-substituted C 1 to C 8 hydrocarbon group may be substituted, and a C 4 to C 40 divalent oil It is a device, and more preferably, it may be substituted with a C1-C8 hydrocarbon group or a fluorine-substituted C1-C8 hydrocarbon group, and it is a C4-C40 divalent organic group having a cyclic structure. As a cyclic structure, an alicyclic, an aromatic ring, and a heterocyclic structure are mentioned. As the organic group of Z, formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula ( Among the bond hands of the groups represented by 28) and formula (29), a group in which two non-adjacent groups are substituted with hydrogen atoms and a divalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms are exemplified, and the heterocyclic structure of Z has a thiophene ring skeleton. Gi is illustrated. From the viewpoint of easily suppressing the yellowness of the optical film (reducing the YI value), groups represented by formulas (20) to (27) and groups having a thiophene ring skeleton are preferred.

본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리아미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지는, 복수 종의 Z를 포함할 수 있고, 복수 종의 Z는, 서로 동일해도 상이해도 된다. 특히, 광학 필름의 표면 경도를 높이기 쉬운 관점 및 광학 특성을 향상시키기 쉬운 관점에서, Z의 적어도 일부가, 식 (3)In one embodiment of the present invention, the polyamide resin and the polyamideimide resin may contain a plurality of types of Z, and the plurality of types of Z may be the same or different from each other. In particular, from the viewpoint of easy to increase the surface hardness of the optical film and from the viewpoint of easy to improve the optical properties, at least a part of Z is represented by formula (3)

Figure 112020057518495-pat00008
Figure 112020057518495-pat00008

[식 (3) 중, R1~R8은, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, R1~R8에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며,[In formula (3), R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and R 1 to R The hydrogen atoms contained in 8 may be each independently substituted with a halogen atom,

A는, 서로 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -N(R9)-를 나타내고, R9는 수소 원자, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~12의 1가의 탄화수소기를 나타내고,A is, independently of each other, a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -S-, -CO- or -N(R 9 )-, R 9 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom,

m은 0~4의 정수이며,m is an integer from 0 to 4,

*은 결합손을 나타냄]* Indicates a bond hand]

으로 나타나는 것이 바람직하다.It is preferable to appear as.

식 (3)에 있어서, A는, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -N(R9)-을 나타내고, 광학 필름의 내굴곡성의 관점에서, 바람직하게는 -O- 또는 -S-를 나타내며, 보다 바람직하게는 -O-를 나타낸다.In formula (3), A is a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C( CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -S-, -CO- or -N(R 9 )-, and from the viewpoint of the bending resistance of the optical film, preferably -O- or -S- , More preferably -O-.

R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8은, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1~6의 알킬기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 2-메틸-부틸기, 3-메틸부틸기, 2-에틸-프로필기, n-헥실기 등을 들 수 있다. 탄소수 1~6의 알콕시기로서는, 예를 들면 메톡시기, 에톡시기, 프로필옥시기, 이소프로필옥시기, 부톡시기, 이소부톡시기, tert-부톡시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기, 시클로헥실옥시기 등을 들 수 있다. 탄소수 6~12의 아릴기로서는, 예를 들면 페닐기, 톨릴기, 크실릴기, 나프틸기, 비페닐기 등을 들 수 있다. 광학 필름의 표면 경도 및 유연성의 관점에서, R1~R8은, 서로 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~3의 알킬기를 나타내며, 더 바람직하게는 수소 원자를 나타낸다. 여기서, R1~R8에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다.R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or 6 It represents the aryl group of -12. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, 2-methyl-butyl group , 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, and n-hexyl group. Examples of the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms include methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, isopropyloxy group, butoxy group, isobutoxy group, tert-butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, and cyclohexyloxy group. Time, etc. As a C6-C12 aryl group, a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a naphthyl group, a biphenyl group, etc. are mentioned, for example. From the viewpoint of the surface hardness and flexibility of the optical film, R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms And more preferably a hydrogen atom. Here, the hydrogen atoms contained in R 1 to R 8 may be each independently substituted with a halogen atom.

R9는 수소 원자, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~12의 1가의 탄화수소기를 나타낸다. 탄소수 1~12의 1가의 탄화수소기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 2-메틸-부틸기, 3-메틸부틸기, 2-에틸-프로필기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, tert-옥틸기, n-노닐기, n-데실기 등을 들 수 있고, 이들은 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. 상기 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등을 들 수 있다. 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지는, 복수 종의 A를 포함할 수 있고, 복수 종의 A는, 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다.R 9 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, 2-methyl -Butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, and the like. And these may be substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. The polyimide resin or polyamide resin may contain a plurality of types of A, and the plurality of types of A may be the same or different from each other.

식 (3)에 있어서, m은, 0~4의 범위의 정수이며, m이 이 범위 내이면, 광학 필름의 내굴곡성이나 탄성률이 양호해지기 쉽다. 또한, 식 (3)에 있어서, m은, 바람직하게는 0~3의 범위의 정수, 보다 바람직하게는 0~2, 더 바람직하게는 0 또는 1, 특히 바람직하게는 0이다. m이 이 범위 내이면, 광학 필름의 내굴곡성이나 탄성률을 향상시키기 쉽다. 또한, Z는, 식 (3)으로 나타나는 구성 단위를 1종 또는 2종류 이상 포함하고 있어도 되고, 광학 필름의 탄성률 및 내굴곡성의 향상, 황색도(YI값) 저감의 관점에서, 특히 m의 값이 상이한 2종류 이상의 구성 단위, 바람직하게는 m의 값이 상이한 2종류의 구성 단위를 포함하고 있어도 된다. 그 경우, 광학 필름의 높은 탄성률, 내굴곡성 및 낮은 황색도(YI값)를 발현하기 쉬운 관점에서, 수지가 Z에 있어서, m이 0인 식 (3)으로 나타나는 구성 단위를 함유하는 것이 바람직하고, 당해 구성 단위에 더해 m이 1인 식 (3)으로 나타나는 구성 단위를 더 함유하는 것이 보다 바람직하다.In Formula (3), m is an integer in the range of 0 to 4, and when m is within this range, the bending resistance and elastic modulus of the optical film tend to be favorable. In addition, in the formula (3), m is preferably an integer in the range of 0 to 3, more preferably 0 to 2, still more preferably 0 or 1, and particularly preferably 0. When m is within this range, it is easy to improve the bending resistance and elastic modulus of the optical film. In addition, Z may contain 1 type or 2 or more types of structural units represented by Formula (3), and especially the value of m from a viewpoint of improvement of the elastic modulus and bending resistance of an optical film, and reduction of yellowness (YI value) These different two or more kinds of structural units, preferably two kinds of structural units having different values of m may be included. In that case, it is preferable that the resin contains a structural unit represented by formula (3) in which m is 0 in Z from the viewpoint of easy expression of high elastic modulus, bending resistance, and low yellowness (YI value) of the optical film. , In addition to the structural unit, it is more preferable to further contain a structural unit represented by formula (3) in which m is 1.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 수지는, 식 (3)으로 나타나는 구성 단위로서, m=0이고, 또한 R5~R8이 수소 원자인 구성 단위를 가진다. 보다 바람직한 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 수지는, 식 (3)으로 나타나는 구성 단위로서, m=0이고, 또한 R5~R8이 수소 원자인 구성 단위와, 식 (3'):In a preferred embodiment of the present invention, the resin has a structural unit in which m = 0 and R 5 to R 8 are hydrogen atoms as a structural unit represented by formula (3). In a more preferred embodiment of the present invention, the resin is a structural unit represented by formula (3), m=0, and a structural unit in which R 5 to R 8 is a hydrogen atom, and formula (3'):

Figure 112020057518495-pat00009
Figure 112020057518495-pat00009

으로 나타나는 구성 단위를 가진다. 이 경우, 광학 필름의 표면 경도 및 내굴곡성을 향상시키기 쉬워, 황색도를 저감하기 쉽다.It has a constituent unit represented by In this case, it is easy to improve the surface hardness and the bending resistance of the optical film, and it is easy to reduce the yellowness.

광학 적층체가, 폴리아미드이미드 수지를 포함하는 광학 필름을 가지는, 본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 폴리아미드이미드 수지의 식 (1)로 나타나는 구성 단위 및 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 합계를 100몰%로 하였을 때에, 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 비율은, 바람직하게는 20몰% 이상, 보다 바람직하게는 30몰% 이상, 더 바람직하게는 40몰% 이상, 특히 바람직하게는 50몰% 이상, 가장 바람직하게는 60몰% 이상이며, 바람직하게는 90몰% 이하, 보다 바람직하게는 85몰% 이하, 더 바람직하게는 80몰% 이하이다. 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 비율이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름의 표면 경도를 높이기 쉽고, 또한 내굴곡성이나 탄성률을 높이기 쉽다. 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 비율이 상기의 상한 이하이면, 식 (3) 유래의 아미드 결합간 수소 결합에 의한 수지 함유 바니시의 점도 상승을 억제하여, 필름의 가공성을 향상시키기 쉽다.In a preferred embodiment of the present invention in which the optical laminate has an optical film containing a polyamideimide resin, the sum of the structural units represented by formula (1) and the structural units represented by formula (2) of the polyamideimide resin When is set to 100 mol%, the proportion of the constituent units represented by the formula (3) is preferably 20 mol% or more, more preferably 30 mol% or more, more preferably 40 mol% or more, particularly preferably It is 50 mol% or more, most preferably 60 mol% or more, preferably 90 mol% or less, more preferably 85 mol% or less, still more preferably 80 mol% or less. When the ratio of the structural units represented by the formula (3) is equal to or greater than the above lower limit, it is easy to increase the surface hardness of the optical film, and it is easy to increase the bending resistance and the elastic modulus. When the ratio of the structural units represented by the formula (3) is less than or equal to the above upper limit, an increase in the viscosity of the resin-containing varnish due to hydrogen bonding between amide bonds derived from the formula (3) is suppressed, and the workability of the film is easily improved.

또한, 폴리아미드이미드 수지가 m=1~4인 식 (3)의 구성 단위를 가지는 경우, 폴리아미드이미드 수지의 식 (1)로 나타나는 구성 단위 및 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 합계를 100몰%로 하였을 때에, m이 1~4인 식 (3)의 구성 단위의 비율은, 바람직하게는 3몰% 이상, 보다 바람직하게는 5몰% 이상, 더 바람직하게는 7몰% 이상, 특히 바람직하게는 9몰% 이상이며, 바람직하게는 90몰% 이하, 보다 바람직하게는 70몰% 이하, 더 바람직하게는 50몰% 이하, 특히 바람직하게는 30몰% 이하이다. m이 1~4인 식 (3)의 구성 단위의 비율이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름의 표면 경도 및 내굴곡성을 높이기 쉽다. m이 1~4인 식 (3)의 구성 단위의 비율이 상기의 상한 이하이면, 식 (3) 유래의 아미드 결합간 수소 결합에 의한 수지 함유 바니시의 점도 상승을 억제하여, 필름의 가공성을 향상시키기 쉽다. 또한, 식 (1), 식 (2) 또는 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 함유량은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In addition, when the polyamideimide resin has a structural unit of formula (3) in which m = 1 to 4, the total of the structural unit represented by formula (1) and the structural unit represented by formula (2) of the polyamideimide resin is 100 When set to mol%, the proportion of the constituent units of formula (3) in which m is 1 to 4 is preferably 3 mol% or more, more preferably 5 mol% or more, more preferably 7 mol% or more, particularly It is preferably 9 mol% or more, preferably 90 mol% or less, more preferably 70 mol% or less, still more preferably 50 mol% or less, particularly preferably 30 mol% or less. When the ratio of the structural unit of formula (3) in which m is 1 to 4 is not less than the above lower limit, it is easy to increase the surface hardness and the bending resistance of the optical film. When the ratio of the constituent units of formula (3) in which m is 1 to 4 is less than or equal to the above upper limit, the increase in viscosity of the resin-containing varnish due to hydrogen bonding between the amide bonds derived from formula (3) is suppressed, and the processability of the film is improved. Easy to do In addition, the content of the structural unit represented by Formula (1), Formula (2), or Formula (3) can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can be calculated from the introduction ratio of the raw material.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 상기 폴리아미드 수지 또는 폴리아미드이미드 수지 중의 Z의, 바람직하게는 30몰% 이상, 보다 바람직하게는 40몰% 이상, 더 바람직하게는 45몰% 이상, 더 바람직하게는 50몰% 이상, 특히 바람직하게는 70몰% 이상이, m이 0~4인 식 (3)으로 나타나는 구성 단위이다. Z의 상기의 하한 이상이, m이 0~4인 식 (3)으로 나타나는 구성 단위이면, 광학 필름의 표면 경도를 높이기 쉬움과 함께, 내굴곡성 및 탄성률도 높이기 쉽다. 또한, 폴리아미드 수지 또는 폴리아미드이미드 수지 중의 Z의 100몰% 이하가, m이 0~4인 식 (3)으로 나타나는 구성 단위이면 된다. 또한, 수지 중의, m이 0~4인 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 비율은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the Z in the polyamide resin or polyamideimide resin is preferably 30 mol% or more, more preferably 40 mol% or more, still more preferably 45 mol% or more, further Preferably 50 mol% or more, particularly preferably 70 mol% or more is a structural unit represented by formula (3) wherein m is 0 to 4. If more than the said lower limit of Z is a structural unit represented by Formula (3) in which m is 0-4, it is easy to increase the surface hardness of an optical film, and it is easy to increase bending resistance and elastic modulus. Further, 100 mol% or less of Z in the polyamide resin or polyamide-imide resin may be a structural unit represented by formula (3) in which m is 0 to 4. In addition, the ratio of the structural unit represented by formula (3) in which m is 0 to 4 in the resin can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can be calculated from the introduction ratio of the raw material.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 상기 폴리아미드 수지 또는 폴리아미드이미드 수지 중의 Z의, 바람직하게는 5몰% 이상, 보다 바람직하게는 8몰% 이상, 더 바람직하게는 10몰% 이상, 특히 바람직하게는 12몰% 이상이, m이 1~4인 식 (3)으로 나타난다. 폴리아미드이미드 수지의 Z의 상기의 하한 이상이, m이 1~4인 식 (3)으로 나타나면, 광학 필름의 표면 경도를 높이기 쉽고, 또한 내굴곡성 및 탄성률을 높이기 쉽다. 또한, Z의, 바람직하게는 90몰% 이하, 보다 바람직하게는 70몰% 이하, 더 바람직하게는 50몰% 이하, 특히 바람직하게는 30몰% 이하가, m이 1~4인 식 (3)으로 나타나는 것이 바람직하다. Z의 상기의 상한 이하가, m이 1~4인 식 (3)으로 나타나면, m이 1~4인 식 (3) 유래의 아미드 결합간 수소 결합에 의한 수지 함유 바니시의 점도 상승을 억제하여, 필름의 가공성을 향상시키기 쉽다. 또한 수지 중의 m이 1~4인 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 비율은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the Z in the polyamide resin or polyamideimide resin is preferably 5 mol% or more, more preferably 8 mol% or more, still more preferably 10 mol% or more, particularly Preferably, 12 mol% or more is represented by formula (3) wherein m is 1 to 4. When the above lower limit of Z of the polyamideimide resin is expressed by the formula (3) in which m is 1 to 4, it is easy to increase the surface hardness of the optical film, and also it is easy to increase the bending resistance and elastic modulus. Further, of Z, preferably 90 mol% or less, more preferably 70 mol% or less, still more preferably 50 mol% or less, particularly preferably 30 mol% or less, m is 1 to 4 formula (3 It is preferable to appear as ). When the above upper limit of Z is represented by formula (3) in which m is 1 to 4, the viscosity increase of the resin-containing varnish due to hydrogen bonds between amide bonds derived from formula (3) in which m is 1 to 4 is suppressed, It is easy to improve the processability of the film. In addition, the ratio of the structural unit represented by Formula (3) in which m is 1 to 4 in the resin can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can be calculated from the introduction ratio of the raw material.

식 (1) 및 식 (2)에 있어서, X는, 서로 독립적으로, 2가의 유기기를 나타내고, 바람직하게는 탄소수 4~40의 2가의 유기기, 보다 바람직하게는 환상 구조를 가지는 탄소수 4~40의 2가의 유기기를 나타낸다. 환상 구조로서는, 지환, 방향환, 헤테로환 구조를 들 수 있다. 상기 유기기는, 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기로 치환되어 있어도 되고, 그 경우, 탄화수소기 및 불소 치환된 탄화수소기의 탄소수는 바람직하게는 1~8이다. 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드 수지 또는 폴리아미드이미드 수지는, 복수 종의 X를 포함할 수 있고, 복수 종의 X는, 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다. X로서는, 식 (10), 식 (11), 식 (12), 식 (13), 식 (14), 식 (15), 식 (16), 식 (17) 및 식 (18)로 나타나는 기; 그들 식 (10)~식 (18)로 나타나는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기로 치환된 기; 및 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다.In formulas (1) and (2), X represents, independently of each other, a divalent organic group, preferably a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, more preferably 4 to 40 carbon atoms having a cyclic structure Represents a divalent organic group of. As a cyclic structure, an alicyclic, an aromatic ring, and a heterocyclic structure are mentioned. In the organic group, the hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, and in that case, the hydrocarbon group and the fluorine-substituted hydrocarbon group preferably have 1 to 8 carbon atoms. In one embodiment of the present invention, the polyimide resin or polyamideimide resin may contain a plurality of types of X, and the plurality of types of X may be the same or different from each other. As X, a group represented by formula (10), formula (11), formula (12), formula (13), formula (14), formula (15), formula (16), formula (17) and formula (18) ; A group in which a hydrogen atom in the groups represented by formulas (10) to (18) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoromethyl group; And a chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms.

Figure 112020057518495-pat00010
Figure 112020057518495-pat00010

식 (10)~식 (18) 중, *은 결합손을 나타내고,In formulas (10) to (18), * represents a bond hand,

V1, V2 및 V3은, 서로 독립적으로, 단결합, -O-, -S-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -CO- 또는 -N(Q)-를 나타낸다. 여기서, Q는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~12의 1가의 탄화수소기를 나타낸다. 탄소수 1~12의 1가의 탄화수소기로서는, R9에 대하여 상기에 서술한 기를 들 수 있다.V 1 , V 2 and V 3 are each independently a single bond, -O-, -S-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -CO-, or -N(Q)-. Here, Q represents a C1-C12 monovalent hydrocarbon group which may be substituted with a halogen atom. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include the groups described above for R 9.

하나의 예는, V1 및 V3이 단결합, -O- 또는 -S-이고, 또한, V2가 -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2- 또는 -SO2-이다. V1과 V2와의 각 환에 대한 결합 위치, 및, V2와 V3과의 각 환에 대한 결합 위치는, 서로 독립적으로, 바람직하게는 각 환에 대하여 메타 위치 또는 파라 위치이며, 보다 바람직하게는 파라 위치이다.In one example, V 1 and V 3 are a single bond, -O- or -S-, and V 2 is -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2- Or -SO 2 -. The bonding positions for each ring with V 1 and V 2 , and the bonding positions for each ring with V 2 and V 3 are independently of each other, preferably meta-position or para-position with respect to each ring, and more preferably Hagi is the para position.

식 (10)~식 (18)로 나타나는 기 중에서도, 광학 필름의 표면 경도 및 내굴곡성을 높이기 쉬운 관점에서, 식 (13), 식 (14), 식 (15), 식 (16) 및 식 (17)로 나타나는 기가 바람직하고, 식 (14), 식 (15) 및 식 (16)으로 나타나는 기가 보다 바람직하다. 또한, V1, V2 및 V3은, 광학 필름의 표면 경도 및 유연성을 높이기 쉬운 관점에서, 서로 독립적으로, 단결합, -O- 또는 -S-인 것이 바람직하고, 단결합 또는 -O-인 것이 보다 바람직하다.Among the groups represented by formulas (10) to (18), formulas (13), formulas (14), formulas (15), formulas (16) and formulas ( The group represented by 17) is preferred, and the group represented by formula (14), formula (15) and formula (16) is more preferred. In addition, V 1 , V 2 and V 3 are preferably a single bond, -O- or -S- independently of each other from the viewpoint of easy to increase the surface hardness and flexibility of the optical film, and a single bond or -O- It is more preferable that it is.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 식 (1) 및 식 (2) 중의 복수의 X의 적어도 일부는, 식 (4):In a preferred embodiment of the present invention, at least a part of a plurality of X in formulas (1) and (2) is formula (4):

Figure 112020057518495-pat00011
Figure 112020057518495-pat00011

[식 (4) 중, R10~R17은, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, R10~R17에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며, *은 결합손을 나타냄][In formula (4), R 10 to R 17 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and R 10 to R 17 The hydrogen atoms contained in may be independently of each other and may be substituted with a halogen atom, and * indicates a bonding hand]

로 나타나는 구성 단위이다. 식 (1) 및 식 (2) 중의 복수의 X의 적어도 일부가 식 (4)로 나타나는 기이면, 광학 필름의 표면 경도 및 투명성을 높이기 쉽다.It is a structural unit represented by. When at least a part of a plurality of X in formulas (1) and (2) is a group represented by formula (4), it is easy to increase the surface hardness and transparency of the optical film.

식 (4)에 있어서, R10, R11, R12, R13, R14, R15, R16 및 R17은, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기 또는 탄소수 6~12의 아릴기로서는, 식 (3)에 있어서의 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기 또는 탄소수 6~12의 아릴기로서 예시의 것을 들 수 있다. R10~R17은, 서로 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~3의 알킬기를 나타내며, 여기서, R10~R17에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. 할로겐 원자로서는, 예를 들면 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다. R10~R17은, 서로 독립적으로, 광학 필름의 표면 경도, 투명성 및 내굴곡성의 관점에서, 더 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이며, 특히 바람직하게는 R10, R12, R13, R14, R15 및 R16이 수소 원자, R11 및 R17이 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이며, 특히 바람직하게는 R11 및 R17이 메틸기 또는 트리플루오로메틸기이다.In formula (4), R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 and R 17 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 to 6 carbon atoms. Represents an alkoxy group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. As a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, or a C6-C12 aryl group, the C1-C6 alkyl group in formula (3), a C1-C6 alkoxy group, or C6-C12 Examples of the aryl group of are exemplified. R 10 to R 17 independently of each other, preferably represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, wherein R 10 to R 17 The contained hydrogen atoms may be substituted with halogen atoms independently of each other. As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned, for example. R 10 to R 17 are, independently of each other, more preferably a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoromethyl group, particularly preferably from the viewpoint of surface hardness, transparency and bending resistance of the optical film. R 10 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are a hydrogen atom, R 11 and R 17 are a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, particularly preferably R 11 and R 17 are methyl or trifluoromethyl groups.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 식 (4)로 나타나는 구성 단위는 식 (4'):In a preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by formula (4) is formula (4'):

Figure 112020057518495-pat00012
Figure 112020057518495-pat00012

로 나타나는 구성 단위이며, 즉, 복수의 X의 적어도 일부는, 식 (4')로 나타나는 구성 단위이다. 이 경우, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 용매에 대한 용해성을 높이고, 당해 수지를 함유하는 바니시의 보관 안정성을 향상시키기 쉬움과 함께, 당해 바니시의 점도를 저감하기 쉬워, 광학 필름의 가공성을 향상시키기 쉽다. 또한, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해, 광학 필름의 광학 특성을 향상시키기 쉽다.It is a structural unit represented by, that is, at least a part of a plurality of X is a structural unit represented by Formula (4'). In this case, the solubility of the polyimide resin or the polyamide resin in the solvent is increased by the skeleton containing the fluorine element, and the viscosity of the varnish is reduced while it is easy to improve the storage stability of the varnish containing the resin. It is easy to do, and it is easy to improve the workability of an optical film. Moreover, it is easy to improve the optical properties of an optical film by the skeleton containing a fluorine element.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 상기 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지 중의 X의, 바람직하게는 30몰% 이상, 보다 바람직하게는 50몰% 이상, 더 바람직하게는 70몰% 이상이 식 (4), 특히 식 (4')로 나타난다. 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지에 있어서의 상기 범위 내의 X가 식 (4), 특히 식 (4')로 나타나면, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 수지의 용매에 대한 용해성이 향상되기 쉬워, 당해 수지를 함유하는 바니시의 보관 안정성을 향상시키기 쉬움과 함께, 당해 바니시의 점도를 저감하기 쉬워, 광학 필름의 가공성을 향상시키기 쉽다. 또한, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해, 광학 필름의 광학 특성도 향상시키기 쉽다. 또한, 바람직하게는, 상기 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지 중의 X의 100몰% 이하가 식 (4), 특히 식 (4')로 나타난다. 상기 폴리아미드이미드 수지 중의 X는 식 (4), 특히 식 (4')여도 된다. 상기 수지 중의 X의 식 (4)로 나타나는 구성 단위의 비율은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, X in the polyimide resin or polyamide resin is preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, and still more preferably 70 mol% or more. It is represented by formula (4), especially formula (4'). When X in the above range in the polyimide resin or polyamide resin is represented by formula (4), particularly formula (4'), the solubility of the resin in the solvent is easily improved by the skeleton containing a fluorine element, While it is easy to improve the storage stability of the varnish containing the resin, the viscosity of the varnish is easily reduced, and the processability of the optical film is easily improved. Moreover, the optical properties of the optical film are also easily improved by the skeleton containing the fluorine element. Further, preferably, 100 mol% or less of X in the polyimide resin or polyamide resin is represented by formula (4), particularly formula (4'). X in the polyamideimide resin may be a formula (4), particularly a formula (4'). The ratio of the structural unit represented by Formula (4) of X in the resin can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can be calculated from the introduction ratio of the raw material.

식 (1)에 있어서, Y는 4가의 유기기를 나타내고, 바람직하게는 탄소수 4~40의 4가의 유기기를 나타내며, 보다 바람직하게는 환상 구조를 가지는 탄소수 4~40의 4가의 유기기를 나타낸다. 환상 구조로서는, 지환, 방향환, 헤테로환 구조를 들 수 있다. 상기 유기기는, 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이며, 그 경우, 탄화수소기 및 불소 치환된 탄화수소기의 탄소수는 바람직하게는 1~8이다. 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드계 수지는, 복수 종의 Y를 포함할 수 있고, 복수 종의 Y는, 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다. Y로서는, 이하의 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 및 식 (29)로 나타나는 기; 그들 식 (20)~식 (29)로 나타나는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기로 치환된 기; 및 4가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다.In the formula (1), Y represents a tetravalent organic group, preferably a tetravalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, and more preferably a tetravalent organic group having a cyclic structure and having 4 to 40 carbon atoms. As a cyclic structure, an alicyclic, an aromatic ring, and a heterocyclic structure are mentioned. The organic group is an organic group in which a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, and in that case, the hydrocarbon group and the fluorine-substituted hydrocarbon group preferably have 1 to 8 carbon atoms. In one embodiment of the present invention, the polyimide resin may contain a plurality of types of Y, and the plurality of types of Y may be the same or different from each other. As Y, the following formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) and A group represented by formula (29); A group in which a hydrogen atom in the groups represented by the formulas (20) to (29) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoromethyl group; And a tetravalent C6 or less chain hydrocarbon group.

Figure 112020057518495-pat00013
Figure 112020057518495-pat00013

식 (20)~식 (29) 중,In equations (20) to (29),

*은 결합손을 나타내고,* Represents a bond hand,

W1은, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -Ar-, -SO2-, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH2-Ar-, -Ar-C(CH3)2-Ar- 또는 -Ar-SO2-Ar-을 나타낸다. Ar은, 수소 원자가 불소 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 6~20의 아릴렌기를 나타내고, 구체예로서는 페닐렌기를 들 수 있다.W 1 is a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -Ar-, -SO 2 -, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH 2 -Ar-, -Ar-C(CH 3 ) 2 -Ar- Or -Ar-SO 2 -Ar-. Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms in which a hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom, and a phenylene group is exemplified as a specific example.

식 (20)~식 (29)로 나타나는 기 중에서도, 광학 필름의 표면 경도 및 내굴곡성의 관점에서, 식 (26), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타나는 기가 바람직하고, 식 (26)으로 나타나는 기가 보다 바람직하다. 또한, W1은, 광학 필름의 표면 경도 및 내굴곡성을 높이기 쉽고, 황색도를 저감하기 쉬운 관점에서, 서로 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2- 또는 -C(CF3)2-인 것이 바람직하며, 단결합, -O-, -CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2- 또는 -C(CF3)2-인 것이 보다 바람직하고, 단결합, -C(CH3)2- 또는 -C(CF3)2-인 것이 더 바람직하다.Among the groups represented by formulas (20) to (29), groups represented by formula (26), formula (28) or formula (29) are preferred from the viewpoint of surface hardness and bending resistance of the optical film, and formula (26) The group represented by is more preferable. In addition, W 1 is, independently of each other, single bonds, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -from the viewpoint of easy to increase the surface hardness and bending resistance of the optical film and easy to reduce the yellowness. , -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -or -C(CF 3 ) 2 -is preferably a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH(CH 3 )- , -C(CH 3 ) 2 -or -C(CF 3 ) 2 -is more preferable, and it is more preferable that it is a single bond, -C(CH 3 ) 2 -or -C(CF 3 ) 2 -.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 식 (1) 중의 복수의 Y의 적어도 일부는, 식 (5):In a preferred embodiment of the present invention, at least a part of a plurality of Y in formula (1) is formula (5):

Figure 112020057518495-pat00014
Figure 112020057518495-pat00014

[식 (5) 중, R18~R25는, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, R18~R25에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며,[In formula (5), R 18 to R 25 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and R 18 to R 25 The hydrogen atoms contained in may be independently of each other and may be substituted with a halogen atom,

*은 결합손을 나타냄]* Indicates a bond hand]

로 나타나는 구성 단위이다. 식 (1) 중의 복수의 Y의 적어도 일부가 식 (5)로 나타나는 기이면, 폴리이미드계 수지의 용매에 대한 용해성을 높여, 폴리이미드계 수지를 함유하는 바니시의 점도를 저감하기 쉬워, 광학 필름의 가공성을 향상시키기 쉽다. 또한, 광학 필름의 광학 특성을 향상시키기 쉽다.It is a structural unit represented by. If at least a part of a plurality of Y in formula (1) is a group represented by formula (5), the solubility of the polyimide resin in the solvent is increased, and the viscosity of the varnish containing the polyimide resin is easily reduced, and the optical film It is easy to improve the workability of In addition, it is easy to improve the optical properties of the optical film.

식 (5)에 있어서, R18, R19, R20, R21, R22, R23, R24 및 R25는, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기 및 탄소수 6~12의 아릴기로서는, 식 (3)에 있어서의 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기 또는 탄소수 6~12의 아릴기로서 상기에 예시의 것을 들 수 있다. R18~R25는, 서로 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~3의 알킬기를 나타내며, 여기서, R18~R25에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. 당해 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자를 들 수 있다. R18~R25는, 서로 독립적으로, 광학 필름의 표면 경도, 내굴곡성 및 투명성을 향상시키기 쉬운 관점에서, 더 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이며, 보다 더 바람직하게는 R18, R19, R20, R23, R24 및 R25가 수소 원자, R21 및 R22가 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이며, 특히 바람직하게는 R21 및 R22가 메틸기 또는 트리플루오로메틸기이다.In formula (5), R 18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 , R 23 , R 24 and R 25 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 to 6 carbon atoms. Represents an alkoxy group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. As a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, and a C6-C12 aryl group, the C1-C6 alkyl group in Formula (3), a C1-C6 alkoxy group, or C6-C12 Examples of the above are mentioned as the aryl group of. R 18 to R 25 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, wherein R 18 to R 25 The contained hydrogen atoms may be substituted with halogen atoms independently of each other. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. R 18 to R 25 are each independently a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group from the viewpoint of easy improvement of the surface hardness, bending resistance and transparency of the optical film, Even more preferably R 18 , R 19 , R 20 , R 23 , R 24 and R 25 are a hydrogen atom, R 21 and R 22 are a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, Particularly preferably, R 21 and R 22 are a methyl group or a trifluoromethyl group.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서는, 식 (5)로 나타나는 구성 단위는, 식 (5'):In a preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by formula (5) is formula (5'):

Figure 112020057518495-pat00015
Figure 112020057518495-pat00015

로 나타나는 기이며, 즉, 복수의 Y의 적어도 일부는, 식 (5')로 나타나는 구성 단위이다. 이 경우, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 폴리이미드계 수지의 용매에 대한 용해성을 높여, 당해 수지를 함유하는 바니시의 보관 안정성을 향상시키기 쉬움과 함께, 당해 바니시의 점도를 저감하기 쉬워, 광학 필름의 가공성을 향상시키기 쉽다. 또한, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해, 광학 필름의 광학 특성을 향상시키기 쉽다.It is a group represented by, that is, at least a part of a plurality of Y is a structural unit represented by Formula (5'). In this case, the solubility of the polyimide resin in the solvent is increased by the skeleton containing the fluorine element, and the storage stability of the varnish containing the resin is easily improved, and the viscosity of the varnish is easily reduced. It is easy to improve the workability of Moreover, it is easy to improve the optical properties of an optical film by the skeleton containing a fluorine element.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드계 수지 중의 Y의, 바람직하게는 50몰% 이상, 보다 바람직하게는 60몰% 이상, 더 바람직하게는 70몰% 이상이, 식 (5), 특히 식 (5')로 나타난다. 폴리이미드계 수지에 있어서의 상기 범위 내의 Y가 식 (5), 특히 식 (5')로 나타나면, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 폴리이미드계 수지의 용매에 대한 용해성을 높이고, 당해 수지를 함유하는 바니시의 점도를 저감하기 쉬워, 광학 필름의 가공성을 향상시키기 쉽다. 또한, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해, 광학 필름의 광학 특성을 향상시키기 쉽다. 또한, 바람직하게는, 상기 폴리이미드계 수지 중의 Y의 100몰% 이하가 식 (5), 특히 식 (5')로 나타난다. 폴리이미드계 수지 중의 Y는 식 (5), 특히 식 (5')여도 된다. 폴리이미드계 수지 중의 Y의 식 (5)로 나타나는 구성 단위의 비율은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, of Y in the polyimide resin, preferably 50 mol% or more, more preferably 60 mol% or more, and still more preferably 70 mol% or more, formula (5), In particular, it is represented by the formula (5'). When Y within the above range in the polyimide resin is represented by formula (5), particularly formula (5'), the solubility of the polyimide resin in the solvent is increased by the skeleton containing the fluorine element, and the resin is contained. It is easy to reduce the viscosity of the varnish to be performed, and it is easy to improve the workability of the optical film. Moreover, it is easy to improve the optical properties of an optical film by the skeleton containing a fluorine element. Further, preferably, 100 mol% or less of Y in the polyimide resin is represented by formula (5), particularly formula (5'). Y in the polyimide resin may be a formula (5), particularly a formula (5'). The ratio of the structural unit represented by the formula (5) of Y in the polyimide resin can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can be calculated from the introduction ratio of the raw material.

폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지는, 식 (1) 및 식 (2)로 나타나는 구성 단위 외에, 식 (30)으로 나타나는 구성 단위 및/또는 식 (31)로 나타나는 구성 단위를 포함할 수 있다.The polyimide resin or polyamide resin may include a structural unit represented by formula (30) and/or a structural unit represented by formula (31) in addition to the structural units represented by formulas (1) and (2). .

Figure 112020057518495-pat00016
Figure 112020057518495-pat00016

식 (30)에 있어서, Y1은 4가의 유기기이며, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. Y1로서는, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 및 식 (29)로 나타나는 기, 그들 식 (20)~식 (29)로 나타나는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기로 치환된 기, 및 4가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다. 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지는, 복수 종의 Y1을 포함할 수 있고, 복수 종의 Y1은, 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다.In formula (30), Y 1 is a tetravalent organic group, and preferably, a hydrogen atom in the organic group is an organic group in which a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group may be substituted. As Y 1 , formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) and formula A group represented by (29), a group in which a hydrogen atom in the groups represented by formulas (20) to (29) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, and a tetravalent chain hydrocarbon having 6 or less carbon atoms Gi is illustrated. In one embodiment of the present invention, a polyimide resin or a polyamide-based resin may include a plurality of types of Y 1, Y 1 of a plurality of species, and may be same or different from each other.

식 (31)에 있어서, Y2는 3가의 유기기이며, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. Y2로서는, 상기의 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 및 식 (29)로 나타나는 기의 결합손 중 어느 하나가 수소 원자로 치환된 기, 및 3가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다. 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지는, 복수 종의 Y2를 포함할 수 있고, 복수 종의 Y2는, 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다.In formula (31), Y 2 is a trivalent organic group, and preferably, a hydrogen atom in the organic group is an organic group in which a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group may be substituted. As Y 2 , the above formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) And a group in which any one of the bond hands of the group represented by formula (29) is substituted with a hydrogen atom, and a trivalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms are exemplified. In one embodiment of the present invention, a polyimide resin or a polyamide-based resin may include a plurality of types of Y 2, Y 2 is a plurality of types, and may be same or different from each other.

식 (30) 및 식 (31)에 있어서, X1 및 X2는, 서로 독립적으로, 2가의 유기기이며, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. X1 및 X2로서는, 상기의 식 (10), 식 (11), 식 (12), 식 (13), 식 (14), 식 (15), 식 (16), 식 (17) 및 식 (18)로 나타나는 기; 그들 식 (10)~식 (18)로 나타나는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기로 치환된 기; 및 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다.In formulas (30) and (31), X 1 and X 2 are each independently a divalent organic group, and preferably, a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. It is a device. As X 1 and X 2 , the above formula (10), formula (11), formula (12), formula (13), formula (14), formula (15), formula (16), formula (17) and formula The group represented by (18); A group in which a hydrogen atom in the groups represented by formulas (10) to (18) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoromethyl group; And a chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms.

본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지는, 식 (1) 및/또는 식 (2)로 나타나는 구성 단위, 및 경우에 따라 식 (30) 및/또는 식 (31)로 나타나는 구성 단위로 이루어진다. 또한, 광학 필름의 광학 특성, 표면 경도 및 내굴곡성의 관점에서, 상기 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지에 있어서, 식 (1) 및 식 (2)로 나타나는 구성 단위는, 식 (1) 및 식 (2), 및 경우에 따라 식 (30) 및 식 (31)로 나타나는 전체 구성 단위에 의거하여, 바람직하게는 80몰% 이상, 보다 바람직하게는 90몰% 이상, 더 바람직하게는 95몰% 이상이다. 또한, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지에 있어서, 식 (1) 및 식 (2)로 나타나는 구성 단위는, 식 (1) 및 식 (2), 및 경우에 따라 식 (30) 및/또는 식 (31)로 나타나는 전체 구성 단위에 의거하여, 통상 100% 이하이다. 또한, 상기 비율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In one embodiment of the present invention, the polyimide resin or polyamide resin is a structural unit represented by formula (1) and/or formula (2), and in some cases, formula (30) and/or formula (31). It consists of structural units represented by ). In addition, from the viewpoint of optical properties, surface hardness and bending resistance of the optical film, in the polyimide resin or polyamide resin, the structural units represented by formulas (1) and (2) are formulas (1) and Based on formula (2), and optionally all structural units represented by formulas (30) and (31), preferably 80 mol% or more, more preferably 90 mol% or more, still more preferably 95 mol% % Or more. In addition, in the polyimide resin or polyamide resin, the structural units represented by formulas (1) and (2) are formulas (1) and (2), and in some cases, formulas (30) and/or It is usually 100% or less based on all the structural units represented by Formula (31). In addition, the ratio can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can be calculated from the introduction ratio of raw materials.

본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 광학 필름 중에 있어서의 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지의 함유량은, 광학 필름 100질량부에 대하여, 바람직하게는 10질량부 이상, 보다 바람직하게는 30질량부 이상, 더 바람직하게는 50질량부 이상이며, 바람직하게는 99.5질량부 이하, 보다 바람직하게는 95질량부 이하이다. 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지의 함유량이 상기 범위 내이면, 광학 필름의 광학 특성 및 탄성률을 향상시키기 쉽다.In one embodiment of the present invention, the content of the polyimide resin and/or polyamide resin in the optical film is preferably 10 parts by mass or more, and more preferably 30 parts by mass, based on 100 parts by mass of the optical film. It is mass part or more, more preferably 50 mass parts or more, preferably 99.5 mass parts or less, more preferably 95 mass parts or less. When the content of the polyimide resin and/or the polyamide resin is within the above range, it is easy to improve the optical properties and elastic modulus of the optical film.

폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 중량 평균 분자량(Mw)은, 광학 필름의 표면 경도 및 내굴곡성을 높이기 쉬운 관점에서, 표준 폴리스티렌 환산에 의해, 바람직하게는 230,000 이상, 보다 바람직하게는 250,000 이상, 더 바람직하게는 270,000 이상, 특히 바람직하게는 300,000 이상이다. 또한, 폴리아미드계 수지 또는 폴리이미드계 수의 용매에 대한 용해성을 향상시키기 쉬움과 함께, 광학 필름의 연신성 및 가공성을 향상시키기 쉬운 관점에서, 당해 수지의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 1,000,000 이하, 보다 바람직하게는 800,000 이하, 더 바람직하게는 700,000 이하, 특히 바람직하게는 500,000 이하이다. 중량 평균 분자량은, 예를 들면 GPC 측정을 행하여, 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구할 수 있고, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 산출해도 된다.The weight average molecular weight (Mw) of the polyimide resin or the polyamide resin is preferably 230,000 or more, more preferably 250,000 or more, in terms of standard polystyrene, from the viewpoint of easy to increase the surface hardness and bending resistance of the optical film. , More preferably 270,000 or more, particularly preferably 300,000 or more. In addition, from the viewpoint of easiness of improving the solubility of the polyamide resin or polyimide water in the solvent, and the ease of improving the stretchability and processability of the optical film, the weight average molecular weight of the resin is preferably 1,000,000 or less. , More preferably 800,000 or less, still more preferably 700,000 or less, and particularly preferably 500,000 or less. The weight average molecular weight can be obtained by performing GPC measurement, for example, in terms of standard polystyrene, and may be calculated, for example, by the method described in Examples.

폴리아미드이미드 수지에 있어서, 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 함유량은, 식 (1)로 나타나는 구성 단위 1몰에 대하여, 바람직하게는 0.1몰 이상, 보다 바람직하게는 0.5몰 이상, 더 바람직하게는 1.0몰 이상, 특히 바람직하게는 1.5몰 이상이며, 바람직하게는 6.0몰 이하, 보다 바람직하게는 5.0몰 이하, 더 바람직하게는 4.5몰 이하이다. 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 함유량이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름의 표면 경도를 높이기 쉽다. 또한, 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 함유량이 상기의 상한 이하이면, 식 (2) 중의 아미드 결합간의 수소 결합에 의한 증점을 억제하여, 광학 필름의 가공성을 향상시키기 쉽다.In the polyamideimide resin, the content of the structural unit represented by the formula (2) is preferably 0.1 mole or more, more preferably 0.5 mole or more, and more preferably with respect to 1 mole of the structural unit represented by formula (1). Is 1.0 mol or more, particularly preferably 1.5 mol or more, preferably 6.0 mol or less, more preferably 5.0 mol or less, and still more preferably 4.5 mol or less. When the content of the structural unit represented by Formula (2) is more than the above lower limit, it is easy to increase the surface hardness of the optical film. In addition, when the content of the structural unit represented by the formula (2) is equal to or less than the above upper limit, thickening due to hydrogen bonds between the amide bonds in the formula (2) is suppressed, and workability of the optical film is easily improved.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 본 발명의 광학 적층체에 있어서의 광학 필름에 포함되는 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지는, 예를 들면 상기의 함불소 치환기 등에 의해 도입할 수 있는, 불소 원자 등의 할로겐 원자를 포함해도 된다. 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지가 할로겐 원자를 포함하는 경우, 광학 필름의 탄성률을 향상시키고, 또한 황색도(YI값)를 저감시키기 쉽다. 광학 필름의 탄성률이 높으면, 당해 광학 필름을 예를 들면 플렉시블 표시 장치에 있어서 사용할 때에, 당해 필름에 있어서의 긁힘 및 주름 등의 발생을 억제하기 쉽다. 또한, 광학 필름의 황색도가 낮으면, 당해 광학 필름의 투명성 및 시인성을 향상시키기 쉬워진다. 할로겐 원자는, 바람직하게는 불소 원자이다. 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지에 불소 원자를 함유시키기 위해 바람직한 함불소 치환기로서는, 예를 들면 플루오로기 및 트리플루오로메틸기를 들 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the polyimide resin or polyamide resin contained in the optical film in the optical laminate of the present invention can be introduced by, for example, the fluorinated substituent described above. A halogen atom such as a fluorine atom may be included. When the polyimide resin or the polyamide resin contains a halogen atom, it is easy to improve the elastic modulus of the optical film and also reduce the yellowness (YI value). When the elastic modulus of the optical film is high, when the optical film is used in, for example, a flexible display device, it is easy to suppress the occurrence of scratches and wrinkles in the film. Moreover, when the yellowness of an optical film is low, it becomes easy to improve the transparency and visibility of the said optical film. The halogen atom is preferably a fluorine atom. Preferred fluorine-containing substituents in order to contain a fluorine atom in the polyimide resin or polyamide resin include, for example, a fluoro group and a trifluoromethyl group.

폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지에 있어서의 할로겐 원자의 함유량은, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 질량을 기준으로 하여, 바람직하게는 1~40질량%, 보다 바람직하게는 5~40질량%, 더 바람직하게는 5~30질량%이다. 할로겐 원자의 함유량이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름의 탄성률을 보다 향상시켜, 흡수율을 낮추고, 황색도를 보다 저감하여, 투명성 및 시인성을 보다 향상시키기 쉽다. 할로겐 원자의 함유량이 상기의 상한 이하이면, 수지의 합성이 하기 쉬워진다.The content of the halogen atom in the polyimide resin or polyamide resin is based on the mass of the polyimide resin or polyamide resin, preferably 1 to 40 mass%, more preferably 5 to 40 It is mass%, more preferably 5-30 mass%. When the content of the halogen atom is more than the above lower limit, the elastic modulus of the optical film is further improved, the absorption rate is lowered, the yellowness is further reduced, and transparency and visibility are more easily improved. When the content of the halogen atom is less than or equal to the above upper limit, synthesis of the resin becomes easy.

폴리이미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지의 이미드화율은, 바람직하게는 90% 이상, 보다 바람직하게는 93% 이상, 더 바람직하게는 96% 이상이다. 광학 필름 및/또는 광학 적층체의 광학적 균질성을 높이기 쉬운 관점에서, 이미드화율이 상기의 하한 이상인 것이 바람직하다. 또한, 이미드화율의 상한은 100% 이하이다. 이미드화율은, 폴리이미드 수지 또는 폴리아미드이미드 수지 중의 테트라카르본산 화합물에 유래하는 구성 단위의 몰량의 2배의 값에 대한, 폴리이미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지 중의 이미드 결합의 몰량의 비율을 나타낸다. 또한, 폴리이미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지가 트리카르본산 화합물을 포함하는 경우에는, 폴리이미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지 중의 테트라카르본산 화합물에 유래하는 구성 단위의 몰량의 2배의 값과, 트리카르본산 화합물에 유래하는 구성 단위의 몰량과의 합계에 대한, 폴리이미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지 중의 이미드 결합의 몰량의 비율을 나타낸다. 또한, 이미드화율은, IR법, NMR법 등에 의해 구할 수 있고, 예를 들면, NMR법에 있어서는, 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.The imidation ratio of the polyimide resin and the polyamideimide resin is preferably 90% or more, more preferably 93% or more, and still more preferably 96% or more. From the viewpoint of easy to increase the optical homogeneity of the optical film and/or optical laminate, it is preferable that the imidation ratio is more than the above lower limit. In addition, the upper limit of the imidation ratio is 100% or less. The imidation ratio is the ratio of the molar amount of imide bonds in the polyimide resin and the polyamideimide resin to a value of twice the molar amount of the structural unit derived from the tetracarboxylic acid compound in the polyimide resin or the polyamideimide resin. Show. In addition, when the polyimide resin and the polyamideimide resin contain a tricarboxylic acid compound, a value of twice the molar amount of the structural unit derived from the tetracarboxylic acid compound in the polyimide resin and the polyamideimide resin, and tricar The ratio of the molar amount of imide bonds in the polyimide resin and the polyamide-imide resin to the sum of the molar amounts of the structural units derived from the present acid compound is shown. In addition, the imidation ratio can be calculated|required by an IR method, an NMR method, etc., and, for example, in an NMR method, it can measure by the method described in Examples.

폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지는, 시판품을 사용해도 된다. 폴리이미드 수지의 시판품으로서는, 예를 들면 미쯔비시가스화학(주)제 네오푸림(등록상표), 카와무라산업(주)제 KPI-MX300F 등을 들 수 있다.For the polyimide resin and the polyamide resin, a commercial item may be used. As a commercial product of a polyimide resin, Neopurim (registered trademark) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. and KPI-MX300F manufactured by Kawamura Industrial Co., Ltd. are mentioned, for example.

본 발명의 광학 적층체의 각종 특성에 관한 것으로서, 광학 적층체의 황색도, 표면 경도, 광학 특성, 내굴곡성, 유연성, 탄성률, 투명성, 시인성 및 흡수율 등의 특성은, 광학 필름의 황색도, 표면 경도, 광학 특성, 내굴곡성, 유연성, 탄성률, 투명성, 시인성 및 흡수율 등이 향상되는 경우에, 마찬가지로 향상시키는 것이 가능한 경향이 있다. 광학 적층체의, 기능층을 가지는 면의 표면 경도 및 연필 경도 등의 특성은, 기능층의 종류 등에 의한 영향을 받기 쉽다.Regarding various properties of the optical laminate of the present invention, properties such as yellowness, surface hardness, optical properties, bending resistance, flexibility, elastic modulus, transparency, visibility, and water absorption of the optical laminate are determined by the yellowness of the optical film and the surface. When hardness, optical properties, bending resistance, flexibility, elastic modulus, transparency, visibility, water absorption, etc. are improved, it tends to be possible to improve similarly. Characteristics such as surface hardness and pencil hardness of the surface having a functional layer of the optical laminate are likely to be influenced by the kind of the functional layer.

<수지의 제조 방법><The manufacturing method of resin>

폴리이미드 수지는, 예를 들면, 테트라카르본산 화합물 및 디아민 화합물을 주된 원료로 하여 제조할 수 있고, 폴리아미드이미드 수지는, 예를 들면, 테트라카르본산 화합물, 디카르본산 화합물 및 디아민 화합물을 주된 원료로 하여 제조할 수 있으며, 폴리아미드 수지는, 예를 들면, 디카르본산 화합물 및 디아민 화합물을 주된 원료로 하여 제조할 수 있다. 여기서, 디카르본산 화합물은 적어도 식 (3")으로 나타나는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.The polyimide resin can be produced using, for example, a tetracarboxylic acid compound and a diamine compound as main raw materials, and the polyamideimide resin includes, for example, a tetracarboxylic acid compound, a dicarboxylic acid compound, and a diamine compound. It can be manufactured using a raw material, and a polyamide resin can be manufactured using, for example, a dicarboxylic acid compound and a diamine compound as main raw materials. Here, it is preferable that the dicarboxylic acid compound contains a compound represented by at least formula (3").

Figure 112020057518495-pat00017
Figure 112020057518495-pat00017

[식 (3") 중, R1~R8은, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, R1~R8에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며,[In formula (3"), R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and R 1 to The hydrogen atoms contained in R 8 may be each independently substituted with a halogen atom,

A는, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -N(R9)-을 나타내고,A is a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -,- SO 2 -, -S-, -CO- or -N(R 9 )-,

R9는 수소 원자, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~12의 1가의 탄화수소기를 나타내며,R 9 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom,

m은 0~4의 정수이고,m is an integer from 0 to 4,

R31 및 R32는, 서로 독립적으로, 히드록실기, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기 또는 염소 원자를 나타낸다.]R 31 and R 32 are, independently of each other, a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, a sec-butoxy group, a tert-butoxy group or a chlorine atom. Show.]

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 디카르본산 화합물은, m이 0인, 식 (3")으로 나타나는 화합물이다. 디카르본산 화합물로서, m이 0인 식 (3")으로 나타나는 화합물에 더해, A가 산소 원자인 식 (3")으로 나타나는 화합물을 사용하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 다른 바람직한 일 실시 형태에 있어서는, 디카르본산 화합물은, R31, R32가 염소 원자인, 식 (3")으로 나타나는 화합물이다. 또한, 디아민 화합물 대신에, 디이소시아네이트 화합물을 이용해도 된다.In a preferred embodiment of the present invention, the dicarboxylic acid compound is a compound represented by formula (3") in which m is 0. As a dicarboxylic acid compound, in the compound represented by formula (3") in which m is 0 In addition, it is more preferable to use a compound represented by formula (3") in which A is an oxygen atom. Further, in another preferred embodiment, the dicarboxylic acid compound is a formula wherein R 31 and R 32 are chlorine atoms. It is a compound represented by (3"). Moreover, you may use a diisocyanate compound instead of a diamine compound.

수지의 제조에 사용되는 디아민 화합물로서는, 예를 들면, 지방족 디아민, 방향족 디아민 및 이들의 혼합물을 들 수 있다. 또한, 본 실시 형태에 있어서 「방향족 디아민」이란, 아미노기가 방향환에 직접 결합하고 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 지방족기 또는 그 밖의 치환기를 포함하고 있어도 된다. 이 방향환은 단환이어도 축합환이어도 되고, 벤젠환, 나프탈렌환, 안트라센환 및 플루오렌환 등이 예시되지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 이들 중에서도, 바람직하게는 벤젠환이다. 또한 「지방족 디아민」이란, 아미노기가 지방족기에 직접 결합하고 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 방향환이나 그 밖의 치환기를 포함하고 있어도 된다.Examples of the diamine compound used in the production of resin include aliphatic diamine, aromatic diamine, and mixtures thereof. In addition, in this embodiment, "aromatic diamine" refers to a diamine in which an amino group is directly bonded to an aromatic ring, and an aliphatic group or other substituent may be included in a part of the structure. This aromatic ring may be a monocyclic ring or a condensed ring, and although a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a fluorene ring, etc. are illustrated, it is not limited to these. Among these, preferably, it is a benzene ring. In addition, "aliphatic diamine" refers to a diamine in which an amino group is directly bonded to an aliphatic group, and an aromatic ring or other substituent may be included in a part of the structure.

지방족 디아민으로서는, 예를 들면, 헥사메틸렌디아민 등의 비환식 지방족 디아민, 및 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산, 1,4-비스(아미노메틸)시클로헥산, 노르보르난디아민 및 4,4'-디아미노디시클로헥실메탄 등의 환식 지방족 디아민 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.Examples of aliphatic diamines include acyclic aliphatic diamines such as hexamethylenediamine, and 1,3-bis(aminomethyl)cyclohexane, 1,4-bis(aminomethyl)cyclohexane, norbornanediamine and 4, Cyclic aliphatic diamines, such as 4'-diaminodicyclohexylmethane, etc. are mentioned. These can be used alone or in combination of two or more.

방향족 디아민으로서는, 예를 들면 p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, 2,4-톨루엔디아민, m-크실릴렌디아민, p-크실릴렌디아민, 1,5-디아미노나프탈렌, 2,6-디아미노나프탈렌 등의, 방향환을 1개 가지는 방향족 디아민, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스 [4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB라고 기재하는 경우가 있음), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-메틸페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-클로로페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-플루오로페닐)플루오렌 등의, 방향환을 2개 이상 가지는 방향족 디아민을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As an aromatic diamine, for example, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene, 2, Aromatic diamines having one aromatic ring, such as 6-diaminonaphthalene, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-dia Minodiphenylsulfone, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene, bis (4-(4-aminophenoxy)phenyl) sulfone, bis ( 4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]propane , 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl (sometimes referred to as TFMB), 4,4'-bis(4- Aminophenoxy)biphenyl, 9,9-bis(4-aminophenyl)fluorene, 9,9-bis(4-amino-3-methylphenyl)fluorene, 9,9-bis(4-amino-3- And aromatic diamines having two or more aromatic rings, such as chlorophenyl)fluorene and 9,9-bis(4-amino-3-fluorophenyl)fluorene. These can be used alone or in combination of two or more.

방향족 디아민은, 바람직하게는 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐이고, 보다 바람직하게는 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐이다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The aromatic diamine is preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether. , 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, bis (4-(4-aminophenoxy)phenyl] Sulfone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy) )Phenyl]propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (TFMB), 4,4'-bis (4-aminophenoxy) Si) biphenyl, more preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diamino Diphenylsulfone, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl] Propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (TFMB), 4,4'-bis (4-aminophenoxy) ratio It is phenyl. These can be used alone or in combination of two or more.

상기 디아민 화합물 중에서도, 광학 필름의 고표면 경도, 고투명성, 고유연성, 고굴곡내성 및 저착색성의 관점에서는, 비페닐 구조를 가지는 방향족 디아민으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 바람직하다. 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐 및 4,4'-디아미노디페닐에테르로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 보다 바람직하고, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB)을 이용하는 것이 보다 더 바람직하다.Among the diamine compounds, it is preferable to use at least one selected from the group consisting of aromatic diamines having a biphenyl structure from the viewpoints of high surface hardness, high transparency, high flexibility, high bending resistance and low colorability of the optical film. Consisting of 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine, 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl and 4,4'-diaminodiphenyl ether It is more preferable to use one or more selected from the group, and even more preferably 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl (TFMB).

수지의 제조에 이용되는 테트라카르본산 화합물로서는, 방향족 테트라카르본산 2무수물 등의 방향족 테트라카르본산 화합물; 및 지방족 테트라카르본산 2무수물 등의 지방족 테트라카르본산 화합물 등을 들 수 있다. 테트라카르본산 화합물은, 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 된다. 테트라카르본산 화합물은, 2무수물 외, 산클로라이드 화합물 등의 테트라카르본산 화합물 유연체(類緣體)여도 된다.Examples of the tetracarboxylic acid compound used in the production of the resin include aromatic tetracarboxylic acid compounds such as aromatic tetracarboxylic acid dianhydride; And aliphatic tetracarboxylic acid compounds such as aliphatic tetracarboxylic dianhydride and the like. Tetracarboxylic acid compounds may be used alone or in combination of two or more. The tetracarboxylic acid compound may be a tetracarboxylic acid compound analog such as an acid chloride compound other than dianhydride.

방향족 테트라카르본산 2무수물의 구체예로서는, 비축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물, 단환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물 및 축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물을 들 수 있다. 비축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물로서는, 예를 들면 4,4'-옥시디프탈산 2무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르본산 2무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 2무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 2무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물(6FDA라고 기재하는 경우가 있음), 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 2무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 2무수물, 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 2무수물, 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 2무수물을 들 수 있다. 또한, 단환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물로서는, 예를 들면 1,2,4,5-벤젠테트라카르본산 2무수물을 들 수 있고, 축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물로서는, 예를 들면 2,3,6,7-나프탈렌테트라카르본산 2무수물을 들 수 있다.Specific examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride include non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, and condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride. As non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, for example, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-benzophenonetetracarboxylic acid dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 3 ,3',4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl) Propane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane dianhydride, 4,4'- (hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid dianhydride (6 FDA may be stated) , 1,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl) )Ethane dianhydride, 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane dianhydride And 4,4'-(p-phenylenedioxy)diphthalic acid dianhydride, and 4,4'-(m-phenylenedioxy)diphthalic acid dianhydride. In addition, examples of monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic dianhydride, and condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride include, for example 2,3,6,7-naphthalene tetracarboxylic dianhydride is mentioned.

이들 중에서도, 바람직하게는 4,4'-옥시디프탈산 2무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르본산 2무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 2무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 2무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물(6FDA), 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 2무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 2무수물, 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 2무수물 및 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 2무수물을 들 수 있고, 보다 바람직하게는 4,4'-옥시디프탈산 2무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물(6FDA), 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 2무수물 및 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 2무수물을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Among these, preferably 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, 2,2',3,3'-benzophenone tetracarboxylic acid Dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-di Phenylsulfonetetracarboxylic acid dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis( 3,4-dicarboxyphenoxyphenyl)propane dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic acid dianhydride (6FDA), 1,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane Dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-di Carboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, 4,4'-(p-phenylenedioxy)diphthalic acid 2 Anhydride and 4,4'-(m-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride, more preferably 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyl Tetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride (6FDA), bis(3,4) -Dicarboxyphenyl)methane dianhydride and 4,4'-(p-phenylenedioxy)diphthalic acid dianhydride. These can be used alone or in combination of two or more.

지방족 테트라카르본산 2무수물로서는, 환식 또는 비환식의 지방족 테트라카르본산 2무수물을 들 수 있다. 환식 지방족 테트라카르본산 2무수물이란, 지환식 탄화수소 구조를 가지는 테트라카르본산 2무수물이며, 그 구체예로서는, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르본산 2무수물, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르본산 2무수물, 1,2,3,4-시클로펜탄테트라카르본산 2무수물 등의 시클로알칸테트라카르본산 2무수물, 비시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르본산 2무수물, 디시클로헥실-3,3',4,4'-테트라카르본산 2무수물 및 이들의 위치 이성체를 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 비환식 지방족 테트라카르본산 2무수물의 구체예로서는, 1,2,3,4-부탄테트라카르본산 2무수물, 및 1,2,3,4-펜탄테트라카르본산 2무수물 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 또한, 환식 지방족 테트라카르본산 2무수물 및 비환식 지방족 테트라카르본산 2무수물을 조합하여 이용해도 된다.As the aliphatic tetracarboxylic dianhydride, a cyclic or acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride can be mentioned. Cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride is tetracarboxylic dianhydride having an alicyclic hydrocarbon structure, and specific examples thereof include 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4- Cycloalkanetetracarboxylic dianhydrides such as cyclobutanetetracarboxylic dianhydride and 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo[2.2.2]oct-7-ene-2,3, 5,6-tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyl-3,3',4,4'-tetracarboxylic dianhydride, and positional isomers thereof. These can be used alone or in combination of two or more. Specific examples of the acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, and 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic dianhydride, and the like. It can be used as or in combination of two or more. Further, a cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride and an acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride may be used in combination.

상기 테트라카르본산 2무수물 중에서도, 광학 필름의 고표면 경도, 고투명성, 고유연성, 고굴곡내성, 및 저착색성의 관점에서, 4,4'-옥시디프탈산 2무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물, 및 이들의 혼합물이 바람직하고, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2무수물 및 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물, 및 이들의 혼합물이 보다 바람직하며, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물(6FDA)이 더 바람직하다.Among the tetracarboxylic dianhydride, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4, from the viewpoint of high surface hardness, high transparency, high flexibility, high flexural resistance, and low colorability of the optical film. 4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ',4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic acid 2 Anhydrides, and mixtures thereof are preferred, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride, and mixtures thereof This is more preferable, and 4,4′-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride (6FDA) is more preferable.

수지의 제조에 이용되는 디카르본산 화합물로서는, 바람직하게는 테레프탈산, 4,4'-옥시비스벤조산 또는 그들의 산클로라이드 화합물이 이용된다. 테레프탈산이나 4,4'-옥시비스벤조산 또는 그들의 산클로라이드 화합물에 더해, 다른 디카르본산 화합물이 이용되어도 된다. 다른 디카르본산 화합물로서는, 방향족 디카르본산, 지방족 디카르본산 및 그들의 유연의 산클로라이드 화합물, 산무수물 등을 들 수 있고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 된다. 구체예로서는, 이소프탈산; 나프탈렌디카르본산; 4,4'-비페닐디카르본산; 3,3'-비페닐디카르본산; 탄소수 8 이하인 쇄식 탄화수소의 디카르본산 화합물 및 2개의 벤조산이 단결합, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 혹은 페닐렌기로 연결된 화합물 및, 그들의 산클로라이드 화합물을 들 수 있다. 구체예로서는, 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드), 테레프탈로일클로라이드가 바람직하고, 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드)와 테레프탈로일클로라이드를 조합하여 이용하는 것이 더 바람직하다.As the dicarboxylic acid compound used in the production of the resin, terephthalic acid, 4,4'-oxybisbenzoic acid, or an acid chloride compound thereof is preferably used. In addition to terephthalic acid, 4,4'-oxybisbenzoic acid, or their acid chloride compounds, other dicarboxylic acid compounds may be used. Examples of other dicarboxylic acid compounds include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids, and their related acid chloride compounds, acid anhydrides, and the like, and may be used in combination of two or more. As a specific example, isophthalic acid; Naphthalenedicarboxylic acid; 4,4'-biphenyldicarboxylic acid; 3,3'-biphenyldicarboxylic acid; A dicarboxylic acid compound of a chain hydrocarbon having 8 or less carbon atoms and two benzoic acids are linked with a single bond, -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -or a phenylene group Compounds and acid chloride compounds thereof. As a specific example, 4,4'-oxybis (benzoyl chloride) and terephthaloyl chloride are preferable, and it is more preferable to use a combination of 4,4'-oxybis (benzoyl chloride) and terephthaloyl chloride.

또한, 상기 폴리이미드계 수지는, 광학 적층체의 각종 물성을 손상시키지 않는 범위에서, 상기 테트라카르본산 화합물에 더해, 테트라카르본산 및 트리카르본산 및 그들의 무수물 및 유도체를 추가로 반응시킨 것이어도 된다.In addition, the polyimide-based resin may be obtained by further reacting tetracarboxylic acid and tricarboxylic acid, and anhydrides and derivatives thereof, in addition to the tetracarboxylic acid compound, within a range that does not impair the various physical properties of the optical laminate. .

테트라카르본산으로서는, 상기 테트라카르본산 화합물의 무수물의 물 부가체를 들 수 있다.Examples of the tetracarboxylic acid include a water adduct of an anhydride of the tetracarboxylic acid compound.

트리카르본산 화합물로서는, 방향족 트리카르본산, 지방족 트리카르본산 및 그들의 유연의 산클로라이드 화합물, 산무수물 등을 들 수 있고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 된다. 구체예로서는, 1,2,4-벤젠트리카르본산의 무수물; 2,3,6-나프탈렌트리카르본산-2,3-무수물; 프탈산 무수물과 벤조산이 단결합, -O-, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 혹은 페닐렌기로 연결된 화합물을 들 수 있다.Examples of the tricarboxylic acid compound include aromatic tricarboxylic acids, aliphatic tricarboxylic acids, and their related acid chloride compounds, acid anhydrides, and the like, and may be used in combination of two or more. As a specific example, an anhydride of 1,2,4-benzenetricarboxylic acid; 2,3,6-naphthalenetricarboxylic acid-2,3-anhydride; Phthalic anhydride and benzoic acid are a single bond, -O-, -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -or a phenylene group.

수지의 제조에 있어서, 디아민 화합물, 테트라카르본산 화합물 및/또는 디카르본산 화합물의 사용량은, 원하는 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지의 각 구성 단위의 비율에 따라 적절히 선택할 수 있다.In the production of the resin, the amount of the diamine compound, the tetracarboxylic acid compound and/or the dicarboxylic acid compound to be used can be appropriately selected according to the ratio of the respective structural units of the desired polyimide resin and polyamide resin.

수지의 제조에 있어서, 디아민 화합물, 테트라카르본산 화합물 및 디카르본산 화합물의 반응 온도는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 5~350℃, 바람직하게는 20~200℃, 보다 바람직하게는 25~100℃이다. 반응 시간도 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 30분~10시간 정도이다. 필요에 따라, 불활성 분위기 또는 감압의 조건하에서 반응을 행해도 된다. 바람직한 양태에서는, 반응은, 상압 및/또는 불활성 가스 분위기하, 교반하면서 행한다. 또한, 반응은, 반응에 불활성인 용매 중에서 행하는 것이 바람직하다. 용매로서는, 반응에 영향을 주지 않는 한 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 물, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜, 에틸렌글리콜메틸에테르, 에틸렌글리콜부틸에테르, 1-메톡시-2-프로판올, 2-부톡시에탄올, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알코올계 용매; 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤, γ-발레로락톤, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 젖산 에틸 등의 에스테르계 용매; 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜탄온, 시클로헥산온, 2-헵탄온, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤계 용매; 펜탄, 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소 용매; 에틸시클로헥산 등의 지환식 탄화수소 용매; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소 용매; 아세토니트릴 등의 니트릴계 용매; 테트라히드로푸란 및 디메톡시에탄 등의 에테르계 용매; 클로로포름 및 클로로벤젠 등의 염소 함유 용매; N,N-디메틸아세트아미드(DMAc), N,N-디메틸포름아미드(DMF) 등의 아미드계 용매; 디메틸술폰, 디메틸술폭시드, 술포란 등의 함유황계 용매; 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등의 카보네이트계 용매; 및 그들의 조합(혼합 용매) 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 용해성의 관점에서, 아미드계 용매를 적합하게 사용할 수 있다.In the production of the resin, the reaction temperature of the diamine compound, the tetracarboxylic acid compound, and the dicarboxylic acid compound is not particularly limited, but, for example, 5 to 350°C, preferably 20 to 200°C, more preferably 25 to It is 100℃. The reaction time is also not particularly limited, but is, for example, about 30 minutes to 10 hours. If necessary, the reaction may be carried out in an inert atmosphere or under reduced pressure conditions. In a preferred embodiment, the reaction is carried out while stirring under normal pressure and/or an inert gas atmosphere. Moreover, it is preferable to perform reaction in a solvent inert to reaction. The solvent is not particularly limited as long as it does not affect the reaction, and examples include water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether, 1-methoxy- Alcohol solvents such as 2-propanol, 2-butoxyethanol, and propylene glycol monomethyl ether; Ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, propylene glycol methyl ether acetate, and ethyl lactate; Ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone, and methyl isobutyl ketone; Aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and heptane; Alicyclic hydrocarbon solvents such as ethylcyclohexane; Aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; Nitrile solvents such as acetonitrile; Ether solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane; Chlorine-containing solvents such as chloroform and chlorobenzene; Amide solvents such as N,N-dimethylacetamide (DMAc) and N,N-dimethylformamide (DMF); Sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide, and sulfolane; Carbonate-based solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; And combinations thereof (mixed solvents), and the like. Among these, from the viewpoint of solubility, an amide solvent can be suitably used.

폴리이미드계 수지의 제조에 있어서의 이미드화 공정에서는, 이미드화 촉매의 존재하에서, 이미드화할 수 있다. 이미드화 촉매로서는, 예를 들면 트리프로필아민, 디부틸프로필아민, 에틸디부틸아민 등의 지방족 아민; N-에틸피페리딘, N-프로필피페리딘, N-부틸피롤리딘, N-부틸피페리딘, 및 N-프로필헥사히드로아제핀 등의 지환식 아민(단환식); 아자비시클로[2.2.1]헵탄, 아자비시클로[3.2.1]옥탄, 아자비시클로[2.2.2]옥탄, 및 아자비시클로[3.2.2]노난 등의 지환식 아민(다환식); 및 피리딘, 2-메틸피리딘(2-피콜린), 3-메틸피리딘(3-피콜린), 4-메틸피리딘(4-피콜린), 2-에틸피리딘, 3-에틸피리딘, 4-에틸피리딘, 2,4-디메틸피리딘, 2,4,6-트리메틸피리딘, 3,4-시클로펜테노피리딘, 5,6,7,8-테트라히드로이소퀴놀린, 및 이소퀴놀린 등의 방향족 아민을 들 수 있다. 또한, 이미드화 반응을 촉진하기 쉬운 관점에서, 이미드화 촉매와 함께, 산무수물을 이용하는 것이 바람직하다. 산무수물은, 이미드화 반응에 이용되는 관용의 산무수물 등을 들 수 있고, 그 구체예로서는, 무수 아세트산, 무수 프로피온산, 무수 부티르산 등의 지방족 산무수물, 프탈산 등의 방향족 산무수물 등을 들 수 있다.In the imidization step in the production of a polyimide resin, imidization can be performed in the presence of an imidization catalyst. Examples of the imidation catalyst include aliphatic amines such as tripropylamine, dibutylpropylamine, and ethyldibutylamine; Alicyclic amines (monocyclic) such as N-ethylpiperidine, N-propylpiperidine, N-butylpyrrolidine, N-butylpiperidine, and N-propylhexahydroazepine; Alicyclic amines (polycyclic) such as azabicyclo[2.2.1]heptane, azabicyclo[3.2.1]octane, azabicyclo[2.2.2]octane, and azabicyclo[3.2.2]nonane; And pyridine, 2-methylpyridine (2-picoline), 3-methylpyridine (3-picoline), 4-methylpyridine (4-picoline), 2-ethylpyridine, 3-ethylpyridine, 4-ethylpyridine. , 2,4-dimethylpyridine, 2,4,6-trimethylpyridine, 3,4-cyclopentenopyridine, 5,6,7,8-tetrahydroisoquinoline, and aromatic amines such as isoquinoline. . Further, from the viewpoint of facilitating the imidation reaction, it is preferable to use an acid anhydride together with the imidation catalyst. Examples of the acid anhydride include conventional acid anhydrides used in the imidation reaction, and specific examples thereof include aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride and butyric anhydride, and aromatic acid anhydrides such as phthalic acid.

폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지는, 관용의 방법, 예를 들면, 여과, 농축, 추출, 정석(晶析), 재결정, 칼럼 크로마토그래피 등의 분리 수단이나, 이들을 조합한 분리 수단에 의해 단리(單離)(분리 정제)해도 되고, 바람직한 양태에서는, 투명 폴리아미드이미드 수지를 포함하는 반응액에, 다량의 메탄올 등의 알코올을 더해, 수지를 석출시키고, 농축, 여과, 건조 등을 행함으로써, 단리할 수 있다.Polyimide resins and polyamide resins are isolated by conventional methods such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, and separation means such as column chromatography, or a combination of these. (單離) (separation and purification) may be used, and in a preferred embodiment, a large amount of alcohol such as methanol is added to a reaction solution containing a transparent polyamideimide resin to precipitate the resin, and concentrating, filtering, drying, etc. , Can be isolated.

<필러><filler>

본 발명의 광학 적층체에 있어서, 광학 필름은, 적어도 1종의 필러를 포함해도 된다. 필러로서는, 예를 들면 유기 입자, 무기 입자 등을 들 수 있고, 바람직하게는 무기 입자를 들 수 있다. 무기 입자로서는, 실리카, 지르코니아, 알루미나, 티타니아, 산화 아연, 산화 게르마늄, 산화 인듐, 산화 주석, 인듐 주석 산화물(ITO), 산화 안티몬, 산화 세륨 등의 금속 산화물 입자, 불화 마그네슘, 불화 나트륨 등의 금속 불화물 입자 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 얻어지는 광학 필름의 탄성률 및/또는 인열(引裂) 강도를 높여, 내충격성을 향상시키기 쉬운 관점에서, 바람직하게는 실리카 입자, 지르코니아 입자, 알루미나 입자를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 실리카 입자를 들 수 있다. 이들 필러는 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.In the optical laminated body of the present invention, the optical film may contain at least one type of filler. Examples of the filler include organic particles and inorganic particles, and preferably inorganic particles. Examples of inorganic particles include metal oxide particles such as silica, zirconia, alumina, titania, zinc oxide, germanium oxide, indium oxide, tin oxide, indium tin oxide (ITO), antimony oxide, and cerium oxide, and metals such as magnesium fluoride and sodium fluoride. Fluoride particles, and the like. Among these, silica particles, zirconia particles, and alumina particles are preferable from the viewpoint of increasing the elastic modulus and/or tear strength of the obtained optical film and improving the impact resistance. There is, more preferably, silica particles are used. These fillers can be used alone or in combination of two or more.

본 발명의 광학 적층체에 있어서, 광학 필름은, 예를 들면 평균 1차 입자경이 5~35㎚의 적어도 1종의 필러를 포함해도 된다. 이러한 광학 필름은, 높은 광학 특성을 가지는 것에 더해, 높은 인장 탄성률도 가진다. 광학 필름의 인장 탄성률은, 바람직하게는 4,000MPa 이상, 보다 바람직하게는 5,000MPa 이상, 더 바람직하게는 5,500MPa 이상, 특히 바람직하게는 6,000MPa 이상이다. 인장 탄성률이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름에 패임 등의 결함이 발생하기 어려워짐과 함께, 광학 필름의 강도를 높이기 쉬워, 내구성을 향상시키기 쉽다. 인장 탄성률은, 바람직하게는 10,000MPa 이하, 보다 바람직하게는 9,000MPa 이하이다. 인장 탄성률이 상기의 상한 이하이면, 광학 필름의 내굴곡성을 향상시키기 쉽다. 또한, 광학 필름의 인장 탄성률은, JIS K 7127에 준거하여, 실온에서, 인장 시험기를 이용하여 측정할 수 있다. 광학 필름의 균질성, 투명성, 탄성률 및 강도를 높이기 쉬운 관점에서는, 필러의 평균 1차 입자경은, 바람직하게는 10㎚ 이상, 보다 바람직하게는 15㎚ 이상, 더 바람직하게는 20㎚ 이상이다. 또한, 광학 필름의 투명성을 높이기 쉬운 관점에서, 필러의 평균 1차 입자경은, 바람직하게는 30㎚ 이하이다.In the optical layered product of the present invention, the optical film may contain, for example, at least one filler having an average primary particle diameter of 5 to 35 nm. In addition to having high optical properties, such an optical film also has a high tensile modulus. The tensile modulus of the optical film is preferably 4,000 MPa or more, more preferably 5,000 MPa or more, still more preferably 5,500 MPa or more, and particularly preferably 6,000 MPa or more. When the tensile modulus is more than the above lower limit, defects such as dents are less likely to occur in the optical film, and the strength of the optical film is easily increased, and durability is easily improved. The tensile modulus is preferably 10,000 MPa or less, more preferably 9,000 MPa or less. When the tensile modulus is less than or equal to the above upper limit, it is easy to improve the bending resistance of the optical film. In addition, the tensile modulus of the optical film can be measured using a tensile tester at room temperature in accordance with JIS K 7127. From the viewpoint of easy to increase the homogeneity, transparency, elastic modulus, and strength of the optical film, the average primary particle diameter of the filler is preferably 10 nm or more, more preferably 15 nm or more, and still more preferably 20 nm or more. In addition, from the viewpoint of easily enhancing the transparency of the optical film, the average primary particle diameter of the filler is preferably 30 nm or less.

필러의 평균 1차 입자경은, BET법에 의해 측정할 수 있다. 구체적으로는, BET법(질소 흡착 BET법)에 의해 측정한 비표면적(BET 비표면적)을, 평균 1차 입자경으로 환산하여 산출할 수 있다. 여기서, 평균 1차 입자경을 d(㎚)라고 하고, 필러의 밀도를 ρ(g/cm3)라고 하며, BET 비표면적을 S(m2/g)라고 하면, 이들 사이에는, d=6000/(S×ρ)의 관계가 성립된다. 예를 들면 필러가 실리카인 경우, d=2070/S의 식으로부터, BET 비표면적으로부터 평균 1차 입자경을 산출할 수 있다. 또한, 투과형 전자 현미경(TEM)이나 주사형 전자 현미경(SEM)의 화상 해석에 의해, 1차 입자경(평균 1차 입자경)을 측정해도 된다. 광학 필름에 포함되는 필러의 평균 1차 입자경은, 원료로서 이용하는 필러의 평균 1차 입자경이어도 되고, 광학 필름으로부터 측정한 평균 1차 입자경이어도 된다. 광학 필름으로부터 필러의 평균 1차 입자경을 측정하는 경우, 필름을 측정 시료로 하여 투과형 전자 현미경이나 주사형 전자 현미경의 화상 해석에 의해, 광학 필름 중의 필러의 평균 1차 입자경을 측정해도 되고, 필름을 필요에 따라 분쇄하고, 파쇄한 필름을, 필름 중의 수지를 용해 가능한 용매(예를 들면 γ-부티로락톤)에 용해시킨 상태에서, 분산된 입자를 투과형 전자 현미경(TEM) 또는 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰하여 측정해도 되고, 필름으로부터 필러를 취출하고, 건조시켜, 상기와 마찬가지로 하여 BET 비표면적으로부터 평균 1차 입자경을 산출해도 된다. 평균 1차 입자를 예를 들면 전자 현미경의 화상 해석에 의해 측정하는 경우, 일정 면적 내에 존재하는 100개의 입자의 각각에 대하여 1차 입자경을 측정한 결과의 평균값을, 평균 1차 입자경으로 해도 된다.The average primary particle diameter of the filler can be measured by the BET method. Specifically, the specific surface area (BET specific surface area) measured by the BET method (nitrogen adsorption BET method) can be calculated by converting the average primary particle diameter. Here, if the average primary particle diameter is d (nm), the density of the filler is ρ (g/cm 3 ), and the BET specific surface area is S (m 2 /g), then d=6000/ The relationship of (S×ρ) is established. For example, when the filler is silica, the average primary particle diameter can be calculated from the BET specific surface area from the formula of d=2070/S. Further, the primary particle diameter (average primary particle diameter) may be measured by image analysis of a transmission electron microscope (TEM) or a scanning electron microscope (SEM). The average primary particle diameter of the filler contained in the optical film may be the average primary particle diameter of the filler used as a raw material, or may be the average primary particle diameter measured from the optical film. In the case of measuring the average primary particle diameter of the filler from the optical film, the average primary particle diameter of the filler in the optical film may be measured by image analysis of a transmission electron microscope or a scanning electron microscope using the film as a measurement sample. If necessary, the pulverized and crushed film is dissolved in a solvent capable of dissolving the resin in the film (for example, γ-butyrolactone), and the dispersed particles are transferred to a transmission electron microscope (TEM) or a scanning electron microscope ( SEM) may be observed and measured, or the filler may be taken out from the film, dried, and the average primary particle diameter may be calculated from the BET specific surface area in the same manner as above. When the average primary particle is measured by, for example, image analysis of an electron microscope, the average value of the result of measuring the primary particle diameter for each of 100 particles existing in a predetermined area may be used as the average primary particle diameter.

필러의 함유량은, 광학 필름의 질량에 대하여, 바람직하게는 0.5질량% 이상, 보다 바람직하게는 1질량% 이상, 더 바람직하게는 5질량% 이상, 더 바람직하게는 10질량% 이상, 더 바람직하게는 15질량% 이상, 더 바람직하게는 20질량% 이상, 더 바람직하게는 25질량% 이상, 특히 바람직하게는 30질량% 이상이다. 필러의 함유량이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름의 내충격성 및 내구성을 향상시키기 쉽다. 필러의 함유량은, 광학 필름의 질량에 대하여, 바람직하게는 60질량% 이하, 보다 바람직하게는 50질량% 이하, 더 바람직하게는 45질량% 이하이다. 필러의 함유량이 상기의 상한 이하이면, 광학 필름의 헤이즈나 황색도를 저감하기 쉬워, 투명성 및 광학 특성을 향상시키기 쉬움과 함께, 내굴곡성을 향상시키기 쉽다.The content of the filler is preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1% by mass or more, still more preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, further preferably, based on the mass of the optical film. Is 15 mass% or more, more preferably 20 mass% or more, more preferably 25 mass% or more, particularly preferably 30 mass% or more. When the content of the filler is more than the above lower limit, it is easy to improve the impact resistance and durability of the optical film. The content of the filler is preferably 60% by mass or less, more preferably 50% by mass or less, and still more preferably 45% by mass or less based on the mass of the optical film. When the content of the filler is less than or equal to the above upper limit, the haze and yellowness of the optical film are easily reduced, transparency and optical properties are easily improved, and bending resistance is easily improved.

<자외선 흡수제><Ultraviolet absorber>

본 발명의 광학 적층체는, 적어도 1종의 자외선 흡수제를 포함해도 된다. 자외선 흡수제는, 수지 재료의 분야에서 자외선 흡수제로서 통상 이용되고 있는 것에서부터, 적절히 선택할 수 있다. 자외선 흡수제는, 400㎚ 이하의 파장의 광을 흡수하는 화합물을 포함하고 있어도 된다. 자외선 흡수제로서는, 예를 들면, 벤조페논계 화합물, 살리실레이트계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물, 및 트리아진계 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물을 들 수 있다. 자외선 흡수제는 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 광학 필름이 자외선 흡수제를 함유함으로써, 수지의 열화가 억제되기 때문에, 본 발명의 광학 필름을 화상 표시 장치 등에 적용한 경우에 시인성을 높일 수 있다. 본 명세서에 있어서, 「계(系) 화합물」이란, 당해 「계 화합물」이 부가되는 화합물의 유도체를 가리킨다. 예를 들면, 「벤조페논계 화합물」이란, 모체 골격으로서의 벤조페논과, 벤조페논에 결합하고 있는 치환기를 가지는 화합물을 가리킨다.The optical laminate of the present invention may contain at least one type of ultraviolet absorber. The ultraviolet absorber can be appropriately selected from those commonly used as ultraviolet absorbers in the field of resin materials. The ultraviolet absorber may contain a compound that absorbs light with a wavelength of 400 nm or less. Examples of the ultraviolet absorber include at least one compound selected from the group consisting of benzophenone compounds, salicylate compounds, benzotriazole compounds, and triazine compounds. The ultraviolet absorber may be used alone or in combination of two or more. When the optical film contains an ultraviolet absorber, deterioration of the resin is suppressed, and thus visibility can be improved when the optical film of the present invention is applied to an image display device or the like. In this specification, the "system compound" refers to a derivative of the compound to which the "system compound" is added. For example, the "benzophenone-based compound" refers to a compound having benzophenone as a parent skeleton and a substituent bonded to the benzophenone.

본 발명의 광학 적층체에 있어서, 광학 필름이 자외선 흡수제를 함유하는 경우, 자외선 흡수제의 함유량은, 광학 필름에 포함되는 수지의 질량에 대하여, 바람직하게는 0.01~10질량부, 보다 바람직하게는 1~8질량부, 더 바람직하게는 2~7질량부이다. 자외선 흡수제의 함유량이 상기의 하한 이상이면, 자외선 흡수성을 향상시키기 쉽다. 자외선 흡수제의 함유량이 상기의 상한 이하이면, 기재 제조 시의 열에 의한 자외선 흡수제의 분해를 억제할 수 있어, 광학 특성을 향상시키기 쉽고, 예를 들면 헤이즈를 저감시키기 쉽다.In the optical laminate of the present invention, when the optical film contains an ultraviolet absorber, the content of the ultraviolet absorber is preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 1, based on the mass of the resin contained in the optical film. It is -8 mass parts, More preferably, it is 2-7 mass parts. When the content of the ultraviolet absorber is more than the above lower limit, it is easy to improve ultraviolet absorbance. When the content of the ultraviolet absorber is less than or equal to the above upper limit, decomposition of the ultraviolet absorber due to heat during the production of the substrate can be suppressed, it is easy to improve optical properties, and for example, it is easy to reduce haze.

<다른 첨가제><Other additives>

본 발명의 광학 적층체는, 필러, 자외선 흡수제 외의 다른 첨가제를 더 함유하고 있어도 된다. 다른 첨가제로서는, 예를 들면, 산화 방지제, 이형제, 안정제, 블루잉제 등의 착색제, 난연제, pH 조정제, 실리카 분산제, 활제, 증점제, 및 레벨링제 등을 들 수 있다. 다른 첨가제를 함유하는 경우, 그 함유량은, 광학 필름의 질량에 대하여, 바람직하게는 0.005~20질량부, 보다 바람직하게는 0.01~15질량부, 더 바람직하게는 0.1~10질량부여도 된다.The optical layered product of the present invention may further contain other additives other than a filler and an ultraviolet absorber. As other additives, for example, antioxidants, release agents, stabilizers, coloring agents such as bluing agents, flame retardants, pH adjusters, silica dispersants, lubricants, thickeners, and leveling agents. When other additives are contained, the content may be preferably 0.005 to 20 parts by mass, more preferably 0.01 to 15 parts by mass, and still more preferably 0.1 to 10 parts by mass, based on the mass of the optical film.

<기능층><Functional layer>

본 발명의 광학 적층체는, 광학 필름과 당해 광학 필름의 적어도 편면에 적층된 기능층을 가진다. 당해 기능층이 가지는 기능은 특별히 한정되지 않고, 하드 코팅 기능, 대전 방지 기능, 방현 기능, 저반사 기능, 반사 방지 기능, 방오 기능, 가스 배리어 기능, 프라이머 기능, 전자파 차폐 기능, 밑칠 기능, 자외선 흡수 기능, 점착 기능, 색상 조정 기능 등, 광학 필름에 채용되는 일반적인 기능이어도 된다. 기능층은 1종류의 기능을 가지는 층이어도 되고, 2종 이상의 기능을 겸비한 층이어도 된다. 플렉시블 표시 장치의 전면판으로서 사용하기 쉬운 관점에서, 당해 기능층의 적어도 하나는, 하드 코팅 기능, 대전 방지 기능, 방현 기능, 저반사 기능, 반사 방지 기능 및 방오 기능으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 기능을 가지는 층인 것이 바람직하다. 기능층은, 1층으로 복수의 기능을 가지고 있어도 되고, 각 기능을 가지는 층을 2층 이상 적층해도 된다. 2층 이상 적층하는 경우, 적층하는 순서는 그 기능에 따라 적절히 설정된다. 이들 층은, 광학 필름의 편면 또는 양면에 적층된다. 양면에 적층되는 경우, 각각 면에 적층되는 층의 두께, 기능, 적층의 순서는 동일해도 되고 상이해도 된다.The optical laminated body of the present invention has an optical film and a functional layer laminated on at least one side of the optical film. The function of the functional layer is not particularly limited, and a hard coating function, an antistatic function, an anti-glare function, a low reflection function, an antireflection function, an antifouling function, a gas barrier function, a primer function, an electromagnetic wave shielding function, an undercoat function, and an ultraviolet absorption function. It may be a general function employed in an optical film such as a function, an adhesion function, and a color adjustment function. The functional layer may be a layer having one type of function or a layer having two or more types of functions. From the viewpoint of easy use as a front plate of a flexible display device, at least one of the functional layers is at least one selected from the group consisting of a hard coating function, an antistatic function, an antiglare function, a low reflection function, an antireflection function, and an antifouling function. It is preferable that it is a layer having a function of. The functional layer may have a plurality of functions as one layer, or two or more layers having each function may be laminated. When two or more layers are laminated, the order of lamination is appropriately set according to the function. These layers are laminated on one side or both sides of the optical film. In the case of lamination on both sides, the thickness, function, and order of lamination of the layers laminated on each side may be the same or different.

기능층의 두께는, 목적으로 하는 기능에 따라 적절히 설정해도 되지만, 광학 적층체의 경량화 및 광학적 균질성을 높이기 쉬운 관점에서는, 바람직하게는 20㎛ 이하, 보다 바람직하게는 15㎛ 이하, 더 바람직하게는 10㎛ 이하이다.The thickness of the functional layer may be appropriately set depending on the intended function, but from the viewpoint of lightening the weight of the optical laminate and enhancing optical homogeneity, it is preferably 20 μm or less, more preferably 15 μm or less, and more preferably It is 10 μm or less.

(하드 코팅 기능)(Hard coating function)

하드 코팅 기능은, 광학 필름의 표면에 내상성(耐傷性), 내약품성 등을 부여하여 광학 필름을 보호하는 기능이다. 본 발명의 광학 적층체에 있어서, 기능층은 하드 코팅 기능을 가지는 층(하드 코팅층)이어도 된다. 하드 코팅층으로서는, 공지의 것을 적절히 채용해도 되고, 예를 들면 아크릴계, 에폭시계, 우레탄계, 벤질클로라이드계, 비닐계 등의 공지의 하드 코팅층을 들 수 있다. 이들 중에서도 광학 적층체의 광각 방향의 시인성의 저하를 억제하고, 또한 내굴곡성을 향상시키는 관점에서, 아크릴계, 우레탄계, 및 그들 조합의 하드 코팅층이 바람직하다. 예를 들면, 하드 코팅층은, 활성 에너지선 경화성 화합물을 함유하는 조성물의 경화물이어도 된다. 활성 에너지선 경화성 화합물은, 전자선, 자외선 등의 활성 에너지선을 조사함으로써 경화되는 성질을 가지는 화합물이다. 이와 같은 활성 에너지선 경화성 화합물로서는, 예를 들면, 전자선을 조사함으로써 경화되는 전자선 경화성 화합물이나, 자외선을 조사함으로써 경화되는 자외선 경화성 화합물 등을 들 수 있다. 이들 화합물은, 통상의 하드 코팅층의 형성에 이용되는 하드 코팅제의 주성분과 마찬가지의 화합물이며, 예를 들면 (메타)아크릴계 수지를 들 수 있다. 특히, (메타)아크릴계 수지 중, 다관능 (메타)아크릴레이트계 화합물을 주성분으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 본 명세서에 있어서, (메타)아크릴이란, 아크릴 및/또는 메타크릴을 의미하고, (메타)아크릴레이트란, 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트를 의미한다.The hard coating function is a function of protecting the optical film by imparting scratch resistance and chemical resistance to the surface of the optical film. In the optical laminate of the present invention, the functional layer may be a layer having a hard coating function (hard coating layer). As the hard coating layer, a known hard coating layer may be appropriately employed, and for example, a known hard coating layer such as acrylic, epoxy, urethane, benzyl chloride, and vinyl may be mentioned. Among these, from the viewpoint of suppressing the decrease in visibility in the wide-angle direction of the optical layered product and improving the bending resistance, an acrylic-based, urethane-based, and a hard coating layer of a combination thereof is preferable. For example, the hard coating layer may be a cured product of a composition containing an active energy ray-curable compound. The active energy ray-curable compound is a compound having a property that is cured by irradiating an active energy ray such as an electron beam or an ultraviolet ray. As such an active energy ray-curable compound, an electron beam-curable compound cured by irradiating an electron beam, an ultraviolet-curable compound cured by irradiation with ultraviolet rays, etc. are mentioned, for example. These compounds are compounds similar to the main components of the hard coating agent used for formation of a normal hard coating layer, and examples thereof include (meth)acrylic resins. In particular, among (meth)acrylic resins, it is preferable to use a polyfunctional (meth)acrylate-based compound as a main component. In addition, in this specification, (meth)acrylic means acrylic and/or methacrylic, and (meth)acrylate means an acrylate and/or methacrylate.

다관능(메타)아크릴레이트계 화합물이란, 분자 중에 적어도 2개의 아크릴로일옥시기 및/또는 메타크릴로일옥시기를 가지는 화합물이며, 구체적으로는, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올에탄트리(메타)아크릴레이트, 테트라메틸올메탄트리(메타)아크릴레이트, 테트라메틸올메탄테트라(메타)아크릴레이트, 펜타글리세롤트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 글리세린트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 트리스((메타)아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트, 포스파젠 화합물의 포스파젠환에 (메타)아크릴로일옥시기가 도입된 포스파젠계 아크릴레이트 화합물 또는 포스파젠계 메타크릴레이트 화합물, 분자 중에 적어도 2개의 이소시아네이트기를 가지는 폴리이소시아네이트와 적어도 1개의 (메타)아크릴로일옥시기 및 수산기를 가지는 폴리올 화합물과의 반응에 의해 얻어지는 우레탄(메타)아크릴레이트 화합물, 분자 중에 적어도 2개의 카르본산 할로겐화물과 적어도 1개의 (메타)아크릴로일옥시기 및 수산기를 가지는 폴리올 화합물과의 반응에 의해 얻어지는 폴리에스테르(메타)아크릴레이트 화합물, 및 상기 각 화합물의 2량체, 3량체 등과 같은 올리고머 등을 들 수 있다.The polyfunctional (meth)acrylate-based compound is a compound having at least two acryloyloxy groups and/or methacryloyloxy groups in a molecule, and specifically, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (Meth)acrylate, 1,6-hexanedioldi(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, trimethylolethane tri(meth)acrylate, tetra Methylolmethane tri(meth)acrylate, tetramethylolmethane tetra(meth)acrylate, pentaglycerol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, glycerin tri (Meth)acrylate, dipentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, tris((meth)acrylate )Acryloyloxyethyl)isocyanurate, a phosphazene-based acrylate compound or a phosphazene-based methacrylate compound in which a (meth)acryloyloxy group is introduced into the phosphazene ring of the phosphazene compound, at least two A urethane (meth)acrylate compound obtained by reaction of a polyisocyanate having an isocyanate group with a polyol compound having at least one (meth)acryloyloxy group and a hydroxyl group, at least two carboxylic acid halides and at least one ( A polyester (meth)acrylate compound obtained by reaction with a polyol compound having a meth)acryloyloxy group and a hydroxyl group, and oligomers such as dimers and trimers of each of the above compounds may be mentioned.

이들 화합물은, 각각 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 이용해도 된다. 또한, 상기의 다관능(메타)아크릴레이트계 화합물 외에, 적어도 1종의 단관능 (메타)아크릴레이트를 사용해도 된다. 단관능 (메타)아크릴레이트로서는, 예를 들면 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 화합물은 단독 또는 2종류 이상을 혼합하여 이용된다. 단관능 (메타)아크릴레이트계 화합물의 함유량은, 기능층 형성용 조성물(하드 코팅층용 도료)에 포함되는 화합물의 고형분에 대하여, 바람직하게는 10질량% 이하의 양이다. 또한, 본 명세서에 있어서, 고형분이란, 경화성 조성물에 포함되는 용매를 제외한, 모든 성분을 의미한다.These compounds may be used alone or in combination of two or more. Further, in addition to the polyfunctional (meth)acrylate compound described above, at least one monofunctional (meth)acrylate may be used. As monofunctional (meth)acrylate, for example, hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, hydroxybutyl (meth)acrylic Rate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, and the like. These compounds are used alone or in combination of two or more. The content of the monofunctional (meth)acrylate compound is preferably 10% by mass or less with respect to the solid content of the compound contained in the composition for forming a functional layer (coating material for a hard coat layer). In addition, in this specification, the solid content means all components except a solvent contained in a curable composition.

기능층에는, 예를 들면 경도를 조정할 목적으로, 중합성 올리고머를 첨가해도 된다. 이와 같은 올리고머로서는, 말단 (메타)아크릴레이트폴리메틸메타크릴레이트, 말단 스티릴폴리(메타)아크릴레이트, 말단 (메타)아크릴레이트폴리스티렌, 말단 (메타)아크릴레이트폴리에틸렌글리콜, 말단 (메타)아크릴레이트아크릴로니트릴-스티렌 공중합체, 말단 (메타)아크릴레이트스티렌-메틸(메타)아크릴레이트 공중합체 등의 매크로 모노머를 들 수 있다. 중합성 올리고머를 첨가하는 경우, 그 함유량은, 기능층 형성용 조성물의 고형분에 대하여, 바람직하게는 5~50질량%이다.To the functional layer, for example, for the purpose of adjusting the hardness, a polymerizable oligomer may be added. Examples of such oligomers include terminal (meth)acrylate polymethyl methacrylate, terminal styryl poly (meth)acrylate, terminal (meth)acrylate polystyrene, terminal (meth)acrylate polyethylene glycol, terminal (meth)acrylate Macromonomers, such as an acrylonitrile-styrene copolymer and a terminal (meth)acrylate styrene-methyl (meth)acrylate copolymer, are mentioned. When adding a polymerizable oligomer, the content is preferably 5 to 50% by mass based on the solid content of the composition for forming a functional layer.

활성 에너지선 경화성 화합물은, 용제와 혼합된 용액의 상태로 이용해도 된다. 활성 에너지선 경화성 화합물이나 그 용액은, 하드 코팅제로서 시판되고 있는 것이어도 된다. 시판의 하드 코팅제로서는, 구체적으로는, 「NK 하드 M101」(신나카무라화학(주)제, 우레탄아크릴레이트 화합물), 「NK 에스테르 A-TMM-3L」(신나카무라화학(주)제, 테트라메틸올메탄트리아크릴레이트), 「NK 에스테르 A-9530」(신나카무라화학(주)제, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트), 「KAYARAD(등록상표) DPCA 시리즈」(니폰카야쿠(주)제, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 화합물의 유도체), 「아로닉스(등록상표) M-8560」(토아고세이(주)제, 폴리에스테르아크릴레이트 화합물), 「뉴프론티어(등록상표) TEICA」(다이이치공업제약(주)제, 트리스(아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트), 「PPZ」(교에이사화학(주)제, 포스파젠계 메타크릴레이트 화합물) 등이 예시된다.The active energy ray-curable compound may be used in the form of a solution mixed with a solvent. The active energy ray-curable compound and its solution may be commercially available as a hard coating agent. As a commercially available hard coating agent, specifically, "NK hard M101" (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., urethane acrylate compound), "NK ester A-TMM-3L" (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Corporation, tetramethyl Olmethane triacrylate), ``NK ester A-9530'' (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., dipentaerythritol hexaacrylate), ``KAYARAD (registered trademark) DPCA series'' (manufactured by Nippon Kayaku Corporation, D Derivatives of pentaerythritol hexaacrylate compound), ``Aronix (registered trademark) M-8560'' (manufactured by Toagosei Co., Ltd., polyester acrylate compound), ``New Frontier (registered trademark) TEICA'' (Daiichi Industries Pharmaceutical Co., Ltd.) Co., Ltd. product, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate), "PPZ" (Kyoei Chemical Co., Ltd. product, a phosphazene methacrylate compound) etc. are illustrated.

하드 코팅층의 두께는, 적절히 설정할 수 있지만, 광학 적층체의 내굴곡성, 표면 경도 및 광학적 균질성의 관점에서, 바람직하게는 20㎛ 이하, 보다 바람직하게는 15㎛ 이하, 더 바람직하게는 10㎛ 이하이다.The thickness of the hard coating layer can be appropriately set, but from the viewpoint of bending resistance, surface hardness and optical homogeneity of the optical laminate, it is preferably 20 µm or less, more preferably 15 µm or less, further preferably 10 µm or less. .

하드 코팅층을 광학 필름의 적어도 편면에 적층시키는 방법으로서는, 예를 들면 활성 에너지선 경화성 화합물(활성 에너지선 경화성 수지)을 함유하는 하드 코팅층 형성용 조성물을 기판(광학 필름)의 표면에 도포하여, 활성 에너지선을 조사하면 된다. 이와 같은 조성물은, 활성 에너지선 경화성 화합물을 필요에 따라 첨가제 등과 혼합함으로써 얻을 수 있다. 당해 하드 코팅층 형성용 조성물의 경화물이 하드 코팅층을 구성한다.As a method of laminating the hard coating layer on at least one side of the optical film, for example, a composition for forming a hard coating layer containing an active energy ray-curable compound (active energy ray-curable resin) is applied to the surface of a substrate (optical film) to activate Just irradiate energy rays. Such a composition can be obtained by mixing an active energy ray-curable compound as necessary with an additive or the like. The cured product of the composition for forming a hard coating layer constitutes a hard coating layer.

하드 코팅층 형성용 조성물은, 용제를 포함하는 것이 바람직하고, 당해 하드 코팅층 형성용 조성물에 있어서, 활성 에너지선 경화성 화합물이 용제로 희석되어 있는 것이 바람직하다. 이 경우, 당해 조성물은, 활성 에너지선 경화성 화합물과 표면 평활성 등을 부여하기 위한 각종 첨가제(예를 들면 실리콘 오일 등)를 혼합 후에, 얻어진 혼합물을 용제로 희석하여 제조해도 되고, 활성 에너지선 경화성 화합물을 용제로 희석 후, 첨가제를 혼합하여 제조해도 되며, 활성 에너지선 경화성 화합물과 미리 용제로 희석된 첨가제를 혼합하여 제조해도 되고, 미리 용제로 희석된 활성 에너지선 경화성 화합물과 미리 용제로 희석된 첨가제를 혼합하여 제조해도 된다. 혼합 후의 조성물은 더 교반되어도 된다.The composition for forming a hard coat layer preferably contains a solvent, and in the composition for forming a hard coat layer, the active energy ray-curable compound is preferably diluted with a solvent. In this case, the composition may be prepared by mixing an active energy ray-curable compound with various additives (for example, silicone oil, etc.) for imparting surface smoothness, and then diluting the obtained mixture with a solvent, or an active energy ray-curable compound May be prepared by diluting with a solvent and then mixing an additive, or may be prepared by mixing an active energy ray-curable compound and an additive previously diluted with a solvent, or an active energy ray-curable compound previously diluted with a solvent and an additive previously diluted with a solvent You may mix and manufacture. The composition after mixing may be further stirred.

도포를 용이하게 하는 관점에서도, 하드 코팅층 형성용 조성물이, 적당한 용제를 함유하는 것이 바람직하다. 용제로서는, 헥산, 옥탄 등의 지방족 탄화수소, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소, 에탄올, 1-프로판올, 이소프로판올, 1-부탄올 등의 알코올류, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸 등의 에스테르류, 셀로솔브류 등으로부터 적절히 선택하여 이용할 수 있다. 이들 유기 용제는, 필요에 따라 몇 종류를 혼합하여 이용해도 된다. 하드 코팅층 형성용 조성물을 도공 후에 가열하여, 유기 용제를 증발시키기 쉬운 관점에서, 용제의 비점은 바람직하게는 70℃~200℃의 범위이다. 용제의 종류나 사용량은, 이용하는 활성 에너지선 경화성 화합물의 종류나 양, 기재(광학 필름)의 재질, 형상, 도포 방법, 목적으로 하는 하드 코팅층의 두께 등에 따라 적절히 선택된다.Also from the viewpoint of facilitating application, it is preferable that the composition for forming a hard coating layer contains a suitable solvent. Examples of the solvent include aliphatic hydrocarbons such as hexane and octane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, alcohols such as ethanol, 1-propanol, isopropanol, and 1-butanol, ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, It can be suitably selected and used from esters such as butyl acetate and cellosolves. You may mix and use several types of these organic solvents as needed. From the viewpoint of easy evaporation of the organic solvent by heating the composition for forming a hard coat layer after coating, the boiling point of the solvent is preferably in the range of 70°C to 200°C. The type or amount of the solvent is appropriately selected depending on the type or amount of the active energy ray-curable compound to be used, the material and shape of the substrate (optical film), the application method, the thickness of the target hard coat layer, and the like.

하드 코팅층 형성용 조성물을 도공 후의, 가열하여 건조하는 온도(T1)는, 당해 조성물에 포함되는 용제의 비점(T2)에 대하여, 바람직하게는 ±30℃, 보다 바람직하게는 ±20℃이다. T1이 상기 범위에 있으면, 용제가 얻어지는 하드 코팅층에 남기 어렵고, 또한, 밀착성이 저하되기 어려운 경향이 있다.The temperature (T1) at which the composition for forming a hard coat layer is applied and then dried by heating is preferably ±30°C, more preferably ±20°C with respect to the boiling point (T2) of the solvent contained in the composition. When T1 is in the above range, there is a tendency that it is difficult to remain in the hard coating layer from which the solvent is obtained, and adhesion is difficult to decrease.

하드 코팅 형성용 조성물의 고형분은, 바람직하게는 5~60질량%, 보다 바람직하게는 10~55질량%, 더 바람직하게는 20~50질량%, 보다 더 바람직하게는 25~50질량%이다. 당해 고형분이 상기 범위에 있으면, 도공하는 막 두께가 지나치게 두꺼워지지 않아 수학식 1의 값이 지나치게 커지지 않기 때문에 시인성이 양호해지고, 또한 얻어지는 하드 코팅층의 표면의 평활성이 양호해지는 경향이 있다.The solid content of the composition for forming a hard coating is preferably 5 to 60% by mass, more preferably 10 to 55% by mass, still more preferably 20 to 50% by mass, and even more preferably 25 to 50% by mass. When the solid content is in the above range, the film thickness to be coated is not too thick and the value of the equation (1) is not too large, so that the visibility is improved, and the surface smoothness of the resulting hard coating layer tends to be improved.

하드 코팅층 형성용 조성물은 중합 개시제를 함유하고 있어도 된다. 활성 에너지선으로서 자외선이나 가시광선을 이용하는 경우에는, 통상, 중합 개시제로서 광중합 개시제가 이용된다.The composition for hard coating layer formation may contain a polymerization initiator. When ultraviolet rays or visible rays are used as active energy rays, a photopolymerization initiator is usually used as a polymerization initiator.

광중합 개시제로서는, 예를 들면 아세토페논, 아세토페논벤질케탈, 안트라퀴논, 1-(4-이소프로필페닐-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 카르바졸, 크산톤, 4-클로로벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 1,1-디메톡시디옥시벤조인, 3,3'-디메틸-4-메톡시벤조페논, 티옥산톤, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 1-(4-도데실페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 2-메틸-1-〔4-(메틸티오)페닐〕-2-모르폴리노프로판-1-온, 트리페닐아민, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 플루오레논, 플루오렌, 벤즈알데히드, 벤조인에틸에테르, 벤조이소프로필에테르, 벤조페논, 미힐러케톤, 3-메틸아세토페논, 3,3',4,4'-테트라 tert-부틸퍼옥시카르보닐벤조페논(BTTB), 2-(디메틸아미노)-1-〔4-(모르폴리닐)페닐〕-2-페닐메틸)-1-부탄온, 4-벤조일-4'-메틸디페닐설파이드, 벤질 등을 들 수 있다. 또한, 광중합 개시제는 색소 증감제와 조합하여 이용되어도 된다. 당해 색소 증감제로서는, 예를 들면 크산텐, 티오크산텐, 쿠마린, 케토쿠마린 등을 들 수 있다. 광중합 개시제와 색소 증감제와의 조합으로서는, 예를 들면 BTTB와 크산텐과의 조합, BTTB와 티오크산텐과의 조합, BTTB와 쿠마린과의 조합, BTTB와 케토쿠마린과의 조합 등을 들 수 있다.As a photoinitiator, for example, acetophenone, acetophenone benzyl ketal, anthraquinone, 1-(4-isopropylphenyl-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, carbazole, xanthone, 4-chloro Benzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, 1,1-dimethoxydioxybenzoin, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, thioxanthone, 2,2-dimethoxy-2 -Phenylacetophenone, 1-(4-dodecylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholino Propan-1-one, triphenylamine, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one , Fluorenone, fluorene, benzaldehyde, benzoin ethyl ether, benzoisopropyl ether, benzophenone, Michler's ketone, 3-methylacetophenone, 3,3',4,4'-tetra tert-butylperoxycarbonyl Benzophenone (BTTB), 2-(dimethylamino)-1-[4-(morpholinyl)phenyl]-2-phenylmethyl)-1-butanone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfide, benzyl And the like. Moreover, a photoinitiator may be used in combination with a dye sensitizer. Examples of the dye sensitizer include xanthene, thioxanthene, coumarin, ketocoumarin, and the like. Examples of the combination of the photopolymerization initiator and the dye sensitizer include a combination of BTTB and xanthene, a combination of BTTB and thioxanthene, a combination of BTTB and coumarin, and a combination of BTTB and ketocoumarin. have.

광중합 개시제를 이용하는 경우, 그 사용량은, 활성 에너지선 경화성 화합물 100질량부에 대하여, 바람직하게는 0.1질량부 이상이다. 당해 사용량이 상기 범위에 있으면 충분한 경화 속도를 얻기 쉬운 경향이 있다. 또한, 광중합 개시제의 사용량은, 활성 에너지선 경화성 화합물 100질량부당, 바람직하게는 10질량부 이하이다.When a photoinitiator is used, the amount used is preferably 0.1 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the active energy ray-curable compound. If the amount is in the above range, there is a tendency that a sufficient curing rate is easily obtained. In addition, the amount of the photopolymerization initiator used is per 100 parts by mass of the active energy ray-curable compound, preferably 10 parts by mass or less.

하드 코팅층 형성용 조성물은, 활성 에너지선 경화성 화합물 외에, 대전방지제를 함유하고 있어도 된다. 당해 조성물이 대전방지제를 함유함으로써, 하드 코팅층에 대전 방지 기능을 부여할 수 있다. 대전방지제로서는, 예를 들면 계면활성제, 도전성 고분자, 도전성 입자, 알칼리 금속염 및/또는 유기 카티온-아니온염 등을 들 수 있다. 이들 대전방지제는, 각각 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 사용된다.The composition for forming a hard coat layer may contain an antistatic agent in addition to the active energy ray-curable compound. When the composition contains an antistatic agent, it is possible to impart an antistatic function to the hard coating layer. Examples of the antistatic agent include surfactants, conductive polymers, conductive particles, alkali metal salts and/or organic cation-anion salts. These antistatic agents are used either individually or in combination of two or more.

계면활성제로서는, 탄화수소계 계면활성제, 불소계 계면활성제, 실리콘계 계면활성제 등을 들 수 있다.Examples of the surfactant include hydrocarbon-based surfactants, fluorine-based surfactants, and silicone-based surfactants.

도전성 고분자로서는, 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리아세틸렌, 폴리티오펜 등을 들 수 있다.Examples of the conductive polymer include polyaniline, polypyrrole, polyacetylene, and polythiophene.

도전성 입자로서는, 예를 들면 인듐-주석-복합 산화물(ITO), 안티몬이 도프된 산화 주석 등의 입자를 들 수 있다.Examples of the conductive particles include particles such as indium-tin-composite oxide (ITO) and antimony-doped tin oxide.

알칼리 금속염으로서는, 알칼리 금속의 유기염 및 무기염을 들 수 있다. 알칼리 금속염의 카티온부를 구성하는 알칼리 금속 이온으로서는, 리튬, 나트륨, 칼륨의 각 이온을 들 수 있다. 이들 알칼리 금속 이온 중에서도 리튬 이온이 바람직하다.Examples of the alkali metal salt include organic salts and inorganic salts of alkali metals. Examples of the alkali metal ions constituting the cation portion of the alkali metal salt include lithium, sodium, and potassium ions. Among these alkali metal ions, lithium ions are preferred.

알칼리 금속염의 아니온부는 유기물로 구성되어 있어도 되고, 무기물로 구성되어 있어도 된다. 유기염을 구성하는 아니온부로서는, 예를 들면, CH3COO-, CF3COO-, CH3SO3 -, CF3SO3 -, (CF3SO2)3C-, C4F9SO3 -, C3F7COO-, (CF3SO2)(CF3CO)N-, (FSO2)2N-, -O3S(CF2)3SO3 -, CO3 2-, 식 (A1)~식 (A4),The anionic portion of the alkali metal salt may be composed of an organic substance or an inorganic substance. As no moiety constituting the organic salts, for example, CH 3 COO -, CF 3 COO -, CH 3 SO 3 -, CF 3 SO 3 -, (CF 3 SO 2) 3 C -, C 4 F 9 SO 3 -, C 3 F 7 COO -, (CF 3 SO 2) (CF 3 CO) N -, (FSO 2) 2 N -, - O 3 S (CF 2) 3 SO 3 -, CO 3 2-, Equation (A1) to Equation (A4),

(A1): (CnF2n+1SO2)2N- (n은 1~10의 정수를 나타냄), (A1): 2 N (C n F 2n + 1 SO 2) - (n is an integer of 1-10),

(A2): CF2(CmF2mSO2)2N- (m은 1~10의 정수를 나타냄), (A2): CF 2 (C m F 2m SO 2) 2 N - (m is an integer of 1-10),

(A3): -O3S(CF2)lSO3 - (l은 1~10의 정수를 나타냄), (A3): - O 3 S (CF 2) l SO 3 - (l is an integer of 1-10),

(A4): (CpF2p + 1SO2)N-(CqF2q+1SO2),(단, p 및 q는, 서로 독립적으로, 1~10의 정수를 나타냄), (A4): (C p F 2p + 1 SO 2) N - (C q F 2q + 1 SO 2), ( single, p and q are, independently of each other, an integer of 1-10),

로 나타나는 아니온부 등이 이용된다. 특히, 불소 원자를 포함하는 아니온부는, 이온 해리성이 좋은 이온 화합물이 얻어지는 점에서 바람직하게 이용된다. 무기염을 구성하는 아니온부로서는, Cl-, Br-, I-, AlCl4 -, Al2Cl7 -, BF4 -, PF6 -, ClO4 -, NO3 -, AsF6 -, SbF6 -, NbF6 -, TaF6 -, (CN)2N- 등이 이용된다. 아니온부로서는, (FSO2)2N-, (CF3O2)2N-, (C2F5SO2)2N-이 바람직하고, (FSO2)2N-, (CF3SO2)2N-이 보다 바람직하다.The anion part indicated by is used. In particular, the anionic moiety containing a fluorine atom is preferably used from the viewpoint of obtaining an ionic compound having good ion dissociation properties. As no moiety constituting the inorganic salts, Cl -, Br -, I -, AlCl 4 -, Al 2 Cl 7 -, BF 4 -, PF 6 -, ClO 4 -, NO 3 -, AsF 6 -, SbF 6 -, NbF 6 -, TaF 6 -, (CN) 2 N - or the like is used. No Examples moiety, (FSO 2) 2 N - , (CF 3 O 2) 2 N -, (C 2 F 5 SO 2) 2 N - is preferable, and (FSO 2) 2 N -, (CF 3 SO 2 ) 2 N - is more preferable.

유기 카티온-아니온염은, 카티온부와 아니온부로 구성되어 있으며, 상기 카티온부가 유기물인, 유기염이다. 아니온부는 유기물이어도 되고, 무기물이어도 된다. 「유기 카티온-아니온염」은, 이온성 액체, 이온성 고체라고 칭해지는 물질이어도 된다.The organic cation-anion salt is composed of a cation moiety and an anion moiety, and is an organic salt in which the cation moiety is an organic substance. The anionic moiety may be an organic material or an inorganic material. The "organic cation-anion salt" may be a substance referred to as an ionic liquid or an ionic solid.

카티온 성분으로서, 구체적으로는, 피리디늄 카티온, 피페리디늄 카티온, 피롤리디늄 카티온, 피롤린 골격을 가지는 카티온, 피롤 골격을 가지는 카티온, 이미다졸륨 카티온, 테트라히드로피리미디늄 카티온, 디히드로피리미디늄 카티온, 피라졸륨 카티온, 피라졸리늄 카티온, 테트라알킬암모늄 카티온, 트리알킬술포늄 카티온, 테트라알킬포스포늄 카티온 등을 들 수 있다. 아니온 성분으로서는, 상기 알칼리 금속염의 아니온부와 동일한 것을 들 수 있다. 그 중에서도, 불소 원자를 포함하는 아니온 성분은, 이온 해리성이 좋은 이온 화합물이 얻어지는 점에서 바람직하게 이용된다.As a cation component, specifically, pyridinium cation, piperidinium cation, pyrrolidinium cation, cation having a pyrroline skeleton, cation having a pyrrole skeleton, imidazolium cation, tetrahydropyrrole Midinium cation, dihydropyrimidinium cation, pyrazolium cation, pyrazolinium cation, tetraalkylammonium cation, trialkylsulfonium cation, tetraalkylphosphonium cation, and the like. Examples of the anionic component include those similar to the anion moiety of the alkali metal salt. Among them, an anionic component containing a fluorine atom is preferably used from the viewpoint of obtaining an ionic compound having good ion dissociation properties.

하드 코팅층 형성용 조성물은, 예를 들면 브롬 원자, 불소 원자, 유황 원자, 벤젠환 등을 포함하는 유기 화합물, 예를 들면 산화 주석, 산화 안티몬, 산화 티탄, 산화 지르코늄, 산화 아연, 산화 규소 등의 무기 산화물 미립자 등을 함유해도 된다. 이 경우, 얻어지는 하드 코팅층의 굴절률을 조정할 수 있어, 하드 코팅층에 저반사 기능, 반사 방지 기능 등의 광학적 기능을 부여할 수 있다.The composition for forming a hard coat layer is an organic compound containing, for example, a bromine atom, a fluorine atom, a sulfur atom, a benzene ring, etc., such as tin oxide, antimony oxide, titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, silicon oxide, etc. You may contain inorganic oxide fine particles or the like. In this case, the refractive index of the obtained hard coating layer can be adjusted, and optical functions such as a low reflection function and an antireflection function can be provided to the hard coating layer.

활성 에너지선 경화성 화합물을 함유하는 하드 코팅층 형성용 조성물을 광학 필름의 위에 도포한 후, 건조시킴으로써, 활성 에너지선 경화성 화합물을 함유하는 층을 형성할 수 있다. 도포는, 예를 들면 마이크로 그라비아 코팅법, 롤 코팅법, 디핑 코팅법, 스핀 코팅법, 다이 코팅법, 캐스트 전사법, 플로우 코팅법, 스프레이 코팅법과 같은 통상의 방법에 의해 행할 수 있다. 광학 적층체의 광학적 균질성을 높이기 쉬운 관점에서는, 마이크로 그라비아 코팅법 또는 다이 코팅법에 의해 하드 코팅층 형성용 조성물을 적층시키는 것이 바람직하다.A layer containing an active energy ray-curable compound can be formed by applying the composition for forming a hard coat layer containing an active energy ray-curable compound on the optical film and then drying it. Coating can be performed by a conventional method such as a microgravure coating method, a roll coating method, a dipping coating method, a spin coating method, a die coating method, a cast transfer method, a flow coating method, and a spray coating method. From the viewpoint of easy to increase the optical homogeneity of the optical laminate, it is preferable to laminate the composition for forming a hard coat layer by a microgravure coating method or a die coating method.

그 후, 활성 에너지선을 조사함으로써, 광학 필름의 표면에 도공된 활성 에너지선 경화성 화합물이 경화되어, 목적으로 하는 하드 코팅층이 얻어진다. 활성 에너지선으로서는, 예를 들면 전자선, 자외선, 가시광선 등을 들 수 있고, 사용하는 활성 에너지선 경화성 화합물의 종류에 따라 적절히 선택된다. 활성 에너지선은, 통상의 하드 코팅층의 형성에 있어서와 마찬가지로 조사하면 된다. 조사하는 활성 에너지선의 강도, 조사 시간 등은, 이용하는 경화성 화합물의 종류, 경화성 화합물을 함유하는 층의 두께 등에 따라 적절히 선택된다. 활성 에너지선은, 불활성 가스 분위기 중에서 조사해도 된다. 질소 분위기 중에서 활성 에너지선을 조사하기 위해서는, 예를 들면 불활성 가스로 시일한 용기의 안에서 활성 에너지선 조사를 행하면 되고, 불활성 가스로서는, 질소 가스, 아르곤 가스 등을 사용할 수 있다.Thereafter, by irradiating an active energy ray, the active energy ray-curable compound coated on the surface of the optical film is cured to obtain a target hard coating layer. Examples of the active energy ray include electron beams, ultraviolet rays, visible rays, and the like, and are appropriately selected according to the kind of the active energy ray-curable compound to be used. The active energy ray may be irradiated in the same manner as in the formation of an ordinary hard coat layer. The intensity, irradiation time, and the like of the active energy ray to be irradiated are appropriately selected depending on the type of the curable compound to be used, the thickness of the layer containing the curable compound, and the like. The active energy ray may be irradiated in an inert gas atmosphere. In order to irradiate an active energy ray in a nitrogen atmosphere, for example, an active energy ray irradiation may be performed in a container sealed with an inert gas, and nitrogen gas, argon gas, or the like can be used as the inert gas.

하드 코팅층의 표면에, 후술하는 반사 방지층이나 저반사층을 추가로 적층시키는 것도 유용하다. 이 경우의 반사 방지층이나 저반사층은, 하드 코팅층의 표면에 단층으로, 또는, 복층으로, 적층시킬 수 있다.It is also useful to further laminate an antireflection layer or a low reflection layer described later on the surface of the hard coating layer. In this case, the antireflection layer or the low reflection layer can be laminated on the surface of the hard coating layer as a single layer or as a multilayer.

(대전 방지 기능)(Antistatic function)

대전 방지 기능은, 광학 필름의 표면의 대전을 방지하는 기능이다. 본 발명의 광학 적층체에 있어서, 기능층은 대전 방지 기능을 가지는 층(대전 방지층)이어도 된다. 대전 방지층을 형성하는 방법으로서는, 상기 하드 코팅층 형성용 조성물에 대전 방지제를 첨가하여 하드 코팅층에 대전 방지 기능을 부여하는 방법 이외에, 대전 방지제를 용제 등으로 희석하여 얻은 대전 방지층 형성용 조성물을, 광학 필름 또는 광학 필름 상에 적층된 기능층 상에 도공하고, 필요에 따라 건조하여, 단독의 막으로서 형성시키는 방법을 들 수 있다. 대전 방지제는, 기능층을 구성하는 수지(예를 들면 상기 서술한 활성 에너지선 경화성 화합물의 경화물)의 일부에, 대전 방지 기능을 가지는 구성 단위로서 포함되어 있어도 되고, 기능층을 형성하는 수지 중에, 첨가제로서 첨가되어 있어도 된다. 대전 방지제를 첨가제로서 첨가하는 경우에는, 그 첨가량은, 기능층 형성용 조성물의 고형분에 대하여, 바람직하게는 0.01~20질량%, 보다 바람직하게는 0.05~10질량%, 더 바람직하게는 0.1~10질량%이다.The antistatic function is a function of preventing the surface of the optical film from being charged. In the optical laminate of the present invention, the functional layer may be a layer having an antistatic function (antistatic layer). As a method of forming the antistatic layer, in addition to the method of imparting an antistatic function to the hard coat layer by adding an antistatic agent to the composition for forming the hard coat layer, a composition for forming an antistatic layer obtained by diluting an antistatic agent with a solvent, etc. Alternatively, a method of coating on the functional layer laminated on the optical film, drying as necessary, and forming as a single film may be mentioned. The antistatic agent may be included as a structural unit having an antistatic function in a part of the resin constituting the functional layer (for example, a cured product of the active energy ray-curable compound described above), and in the resin forming the functional layer And may be added as an additive. When an antistatic agent is added as an additive, the amount added is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.05 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass, based on the solid content of the composition for forming a functional layer. It is mass%.

(방현 기능)(Anti-glare function)

방현 기능은, 광을 산란하여 반사시킴으로써, 외광의 비침을 방지하는 기능이다. 본 발명의 광학 적층체에 있어서, 기능층은 방현 기능을 가지는 층(방현층)이어도 된다. 방현층으로서는, 공지의 것을 적절히 채용할 수 있다. 예를 들면, 투광성 수지 중에 1종류 이상의 투광성 미립자를 포함하는 수지 조성물을 이용하여, 표면에 미세한 요철 형상을 가지는 층을 형성시킴으로써, 방현 기능을 부여해도 된다. 보다 구체적으로는, 이와 같은 방현층은, 예를 들면, 필러로서의 투광성 미립자를 분산시킨 투광성 수지 용액을 광학 필름의 위에 도포하고, 투광성 미립자가 방현층의 표면에 있어서의 볼록 형상 부분이 되도록 도포의 두께를 조정함으로써 형성할 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「투광성」이란, 물질 내부에서의 산란의 유무를 불문하고, 광이 대략 투과할 수 있는 것을 의미한다.The anti-glare function is a function of preventing reflection of external light by scattering and reflecting light. In the optical laminate of the present invention, the functional layer may be a layer having an anti-glare function (anti-glare layer). As the antiglare layer, a known one can be appropriately adopted. For example, an anti-glare function may be imparted by forming a layer having a fine uneven shape on the surface using a resin composition containing one or more types of light-transmitting fine particles in the light-transmitting resin. More specifically, such an anti-glare layer is applied such that, for example, a translucent resin solution in which translucent fine particles as a filler are dispersed is applied onto the optical film, and the translucent fine particles become a convex portion on the surface of the anti-glare layer. It can be formed by adjusting the thickness. In addition, in this specification, "translucent" means that light can substantially transmit regardless of the presence or absence of scattering inside a substance.

투광성 미립자Translucent fine particles

투광성 미립자로서는, 예를 들면, (메타)아크릴계 수지, 멜라민 수지, 폴리에틸렌 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리카보네이트 수지, 염화 비닐 수지, 유기 실리콘 수지, 아크릴-스티렌 공중합체 등의 유기 미립자, 및, 탄산 칼슘, 실리카, 산화 알루미늄, 탄산 바륨, 황산 바륨, 산화 티탄, 유리 등의 무기 미립자를 들 수 있다. 투광성 미립자로서 1종 또는 2종 이상의 미립자를 사용할 수 있다. 원하는 방현성을 얻기 위해, 투광성 미립자의 종류, 입자경, 굴절률, 함유량 등이 적절하게 조정된다.Examples of the light-transmitting fine particles include organic fine particles such as (meth)acrylic resin, melamine resin, polyethylene resin, polystyrene resin, polycarbonate resin, vinyl chloride resin, organic silicone resin, acrylic-styrene copolymer, and calcium carbonate, Inorganic fine particles, such as silica, aluminum oxide, barium carbonate, barium sulfate, titanium oxide, and glass, are mentioned. As the translucent fine particles, one or two or more types of fine particles can be used. In order to obtain a desired anti-glare property, the kind, particle diameter, refractive index, content, etc. of the translucent fine particles are appropriately adjusted.

투광성 미립자의 입경은, 바람직하게는 0.5~5㎛, 보다 바람직하게는 1~4㎛이다. 투광성 미립자의 입경이 상기의 범위 내이면, 필요한 광 확산 효과를 얻기 쉽고, 또한, 방현층의 표면에 요철이 형성되기 쉽기 때문에, 충분한 방현 효과를 얻기 쉽다. 또한, 방현층의 표면 형상이 거칠지 않아, 헤이즈값이 대폭으로 상승하지 않는 경향이 있다.The particle diameter of the translucent fine particles is preferably 0.5 to 5 µm, more preferably 1 to 4 µm. When the particle diameter of the translucent fine particles is within the above range, a necessary light diffusion effect is easily obtained, and since irregularities are easily formed on the surface of the antiglare layer, a sufficient antiglare effect is easily obtained. In addition, there is a tendency that the surface shape of the anti-glare layer is not rough and the haze value does not increase significantly.

투광성 미립자와 투광성 수지와의 굴절률의 차는, 바람직하게는 0.02~0.2, 보다 바람직하게는 0.04~0.1이다. 굴절률차가 상기의 범위 내이면, 충분한 광확산 효과를 얻기 쉽고, 또한, 광학 적층체 전체가 백화되기 어렵다.The difference in the refractive index between the translucent fine particles and the translucent resin is preferably 0.02 to 0.2, more preferably 0.04 to 0.1. When the refractive index difference is within the above range, it is easy to obtain a sufficient light diffusion effect, and it is difficult to whiten the entire optical laminate.

투광성 미립자의 첨가량은, 투광성 수지 100질량부에 대하여, 바람직하게는 3~30질량부, 보다 바람직하게는 5~20질량부이다. 첨가량이 상기의 범위 내이면, 충분한 광확산 효과를 얻기 쉽고, 또한, 광학 적층체 전체가 백화되기 어렵다.The amount of the translucent fine particles added is preferably 3 to 30 parts by mass, more preferably 5 to 20 parts by mass, based on 100 parts by mass of the translucent resin. When the addition amount is within the above range, it is easy to obtain a sufficient light diffusion effect, and it is difficult to whiten the entire optical laminate.

투광성 미립자의 입경, 첨가량, 및/또는, 투광성 미립자와 투광성 수지와의 굴절률차를 상기와 같은 범위로 조정하는 경우, 방현층의 헤이즈가 높은 영역에서도, 투과 선명도를 저하시키지 않고, 표면의 글레어를 방지하기 쉽고, 나아가서는 헤이즈가 낮은 영역에서도, 고투과 선명도를 유지한 상태에서 글레어를 방지하기 쉽다.When adjusting the particle diameter, the amount of the translucent fine particles, and/or the difference in refractive index between the translucent fine particles and the translucent resin in the above range, even in the region where the haze of the anti-glare layer is high, the transmittance clarity is not reduced, and glare on the surface is reduced It is easy to prevent, and furthermore, even in a low haze area, it is easy to prevent glare while maintaining high transmission and sharpness.

투광성 수지Translucent resin

방현층을 구성하는 투광성 수지로서는, 투광성을 가지는 것이면 특별히 제한은 없고, 예를 들면, 상기 서술한 바와 같은 활성 에너지선 경화성 화합물의 경화물 외, 열경화성 수지의 경화물; 열가소성 수지; 금속 알콕시드계 폴리머 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 활성 에너지선 경화성 화합물의 경화물이 바람직하다. 활성 에너지선 경화성 화합물로서 자외선 경화성 수지 등을 이용하는 경우에는, 상기와 마찬가지로, 도공액에는 광중합 개시제(라디칼 중합 개시제)를 함유시켜도 되고, 활성 에너지선을 조사함으로써 도공층을 경화시킨다.The light-transmitting resin constituting the anti-glare layer is not particularly limited as long as it has light-transmitting properties, and examples thereof include a cured product of a thermosetting resin other than the cured product of the active energy ray-curable compound as described above; Thermoplastic resin; And metal alkoxide-based polymers. Among them, a cured product of an active energy ray-curable compound is preferable. When an ultraviolet curable resin or the like is used as the active energy ray-curable compound, similarly to the above, a photopolymerization initiator (radical polymerization initiator) may be contained in the coating liquid, and the coating layer is cured by irradiating with an active energy ray.

열경화성 수지로서는, 아크릴폴리올과 이소시아네이트 프레폴리머로 이루어지는 열경화성 우레탄 수지, 페놀 수지, 요소 멜라민 수지, 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 실리콘 수지 등을 들 수 있다.As a thermosetting resin, a thermosetting urethane resin, a phenol resin, a urea melamine resin, an epoxy resin, an unsaturated polyester resin, a silicone resin, etc. which consist of an acrylic polyol and an isocyanate prepolymer are mentioned.

열가소성 수지로서는, 아세틸셀룰로오스, 니트로셀룰로오스, 아세틸부틸셀룰로오스, 에틸셀룰로오스, 메틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스 유도체; 아세트산 비닐 및 그 공중합체, 염화 비닐 및 그 공중합체, 염화 비닐리덴 및 그 공중합체 등의 비닐계 수지; 폴리비닐포르말, 폴리비닐부티랄 등의 아세탈계 수지; 아크릴 수지 및 그 공중합체, 메타크릴 수지 및 그 공중합체 등의 (메타)아크릴계 수지; 폴리스티렌계 수지; 폴리아미드계 수지; 폴리에스테르계 수지; 폴리카보네이트계 수지 등을 들 수 있다.Examples of the thermoplastic resin include cellulose derivatives such as acetyl cellulose, nitro cellulose, acetyl butyl cellulose, ethyl cellulose, and methyl cellulose; Vinyl resins such as vinyl acetate and copolymers thereof, vinyl chloride and copolymers thereof, and vinylidene chloride and copolymers thereof; Acetal resins such as polyvinyl formal and polyvinyl butyral; (Meth)acrylic resins such as acrylic resins and copolymers thereof, methacrylic resins and copolymers thereof; Polystyrene resin; Polyamide resin; Polyester resin; And polycarbonate resins.

금속 알콕시드계 폴리머로서는, 규소 알콕시드계의 재료를 원료로 하는 산화 규소계 매트릭스 등을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 금속 알콕시드계 폴리머는, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란 등의 알콕시실란의 가수분해물을 탈수 축합 하여 얻어지는 무기계 또는 유기 무기 복합계 매트릭스일 수 있다.As the metal alkoxide-based polymer, a silicon oxide-based matrix using a silicon alkoxide-based material as a raw material can be used. Specifically, the metal alkoxide polymer may be an inorganic or organic-inorganic composite matrix obtained by dehydrating and condensing a hydrolyzate of an alkoxysilane such as tetramethoxysilane or tetraethoxysilane.

투광성 수지로서 열경화성 수지의 경화물, 금속 알콕시드계 폴리머를 이용하는 경우에는, 도공액을 도공한 후, 가열을 필요로 하는 경우가 있다.In the case of using a cured product of a thermosetting resin or a metal alkoxide polymer as the translucent resin, heating may be required after coating a coating solution.

또한, 일반적으로 자외선 경화성 수지의 굴절률은 약 1.5로, 유리와 동일한 정도이지만, 상기 투광성 미립자의 굴절률과의 비교에 있어서, 이용하는 자외선 경화성 수지의 굴절률이 낮은 경우가 있다. 이 경우, 투광성 수지에, 굴절률이 높은 미립자인 TiO2(굴절률; 2.3~2.7), Y2O3(굴절률; 1.87), La2O3(굴절률; 1.95), ZrO2(굴절률; 2.05), Al2O3(굴절률; 1.63) 등을, 방현층에 있어서의 광의 확산성을 보지(保持)할 수 있을 정도로 더해, 투과성 수지의 굴절률을 높여, 바람직한 범위로 조정할 수 있다.Further, in general, the refractive index of the ultraviolet curable resin is about 1.5, which is about the same as that of glass, but in comparison with the refractive index of the translucent fine particles, the refractive index of the ultraviolet curable resin to be used may be low. In this case, in the translucent resin, TiO 2 (refractive index; 2.3-2.7), Y 2 O 3 (refractive index; 1.87), La 2 O 3 (refractive index; 1.95), ZrO 2 (refractive index; 2.05), which are fine particles having a high refractive index, Al 2 O 3 (refractive index; 1.63) or the like is added to the extent that the diffusivity of light in the anti-glare layer can be maintained, and the refractive index of the transmissive resin can be increased and adjusted to a preferable range.

방현층 형성용 조성물은, 투광성 수지와 용매를 함유하는 조성물(예를 들면 상기의 하드 코팅층 형성용 조성물)에, 투광성 미립자를 분산시켜 제조할 수 있다. 투광성 미립자를 분산시키는 타이밍이나 분산 방법은 특별히 한정되지 않는다.The composition for forming an antiglare layer can be produced by dispersing light-transmitting fine particles in a composition containing a light-transmitting resin and a solvent (for example, the composition for forming a hard coat layer). The timing and dispersion method for dispersing the translucent fine particles are not particularly limited.

이 방현층 형성용 조성물(도공액)을, 광학 필름의 표면 또는 광학 필름에 적층된 기능층의 표면에 도포하고, 건조시킴으로써, 방현층을 형성할 수 있다. 도포는 통상의 방법, 예를 들면, 마이크로 그라비아 코팅법, 롤 코팅법, 디핑 코팅법, 스핀 코팅법, 다이 코팅법, 캐스트 전사법, 플로우 코팅법, 스프레이 코팅법 등의 방법에 의해 행할 수 있다. 그 후, 자외선을 조사함으로써 자외선 경화성 수지를 경화시켜도 된다. 조사하는 자외선의 강도, 조사 시간 등은, 아용하는 경화성 화합물의 종류, 경화성 화합물을 함유하는 층의 두께 등에 따라 적절히 선택된다. 자외선은, 불활성 가스 분위기 중에서 조사해도 된다. 불활성 가스 분위기 중에서 자외선을 조사하기 위해서는, 예를 들면 불활성 가스로 시일한 용기의 안에서 활성 에너지선 조사를 행하면 되고, 불활성 가스로서는, 질소 가스, 아르곤 가스 등을 사용할 수 있다.The anti-glare layer can be formed by applying and drying the composition (coating liquid) for forming an anti-glare layer on the surface of the optical film or the surface of the functional layer laminated on the optical film. Coating can be performed by a conventional method, for example, a microgravure coating method, a roll coating method, a dipping coating method, a spin coating method, a die coating method, a cast transfer method, a flow coating method, and a spray coating method. . After that, the ultraviolet curable resin may be cured by irradiating ultraviolet rays. The intensity of the ultraviolet rays to be irradiated, the irradiation time, and the like are appropriately selected depending on the kind of curable compound to be used, the thickness of the layer containing the curable compound, and the like. Ultraviolet rays may be irradiated in an inert gas atmosphere. In order to irradiate ultraviolet rays in an inert gas atmosphere, for example, active energy ray irradiation may be performed in a container sealed with an inert gas, and nitrogen gas, argon gas, or the like can be used as the inert gas.

방현층을 형성하는 별도의 방법으로서, 엠보싱 처리를 이용할 수 있다. 이 방법에서는, 광학 필름 또는 광학 필름에 적층된 기능층 상에, 방현층 형성용 조성물을 도공한 후, 도공층에 소정의 표면 요철 형상을 가지는 금형(엠보싱 롤)을 누르면서 도공층을 필요에 따라 경화시켜, 도공층의 표면에 요철을 부여할 수 있다. 엠보싱 롤로부터 방현층을 박리한 후, 그 방현층의 경화 반응을 더 촉진시키는 것을 목적으로 하여, 방현층측으로부터 한번 더 자외선을 조사하는 제 2 경화 공정을 실시하는 것도 유효하다.As another method of forming the anti-glare layer, an embossing treatment can be used. In this method, after coating the composition for forming an antiglare layer on the optical film or the functional layer laminated on the optical film, the coating layer is formed as necessary while pressing a mold (embossing roll) having a predetermined surface uneven shape on the coating layer. By hardening, it is possible to impart unevenness to the surface of the coating layer. After peeling the anti-glare layer from the embossing roll, for the purpose of further accelerating the curing reaction of the anti-glare layer, it is also effective to perform a second curing step in which ultraviolet rays are once again irradiated from the anti-glare layer side.

방현층의 헤이즈는, 바람직하게는 0.1~50%이다. 방현층의 헤이즈는, JIS K 7361에 준거한 방법에 의해 측정된다. 방현층의 두께는, 예를 들면 방현층의 헤이즈가 상기의 범위 내가 되도록 적절히 조정해도 되지만, 바람직하게는 2~20㎛이다. 방현층의 두께가 상기의 범위 내이면, 충분한 방현 효과가 얻기 쉽고, 방현층의 균열을 방지하기 쉬우며, 또한, 방현층의 경화 수축에 의해 방현층이 컬(curl)하는 것에 의한 생산성의 저하를 방지하기 쉽다. 또한, 방현층의 두께는, 일반적으로는, 분산시키는 투광성 미립자의 중량 평균 입자경에 대하여, 바람직하게는 85% 이상, 보다 바람직하게는 100% 이상이다. 방현층의 두께가 상기의 범위 내이면, 헤이즈가 지나치게 커지지 않아 시인성이 저하되기 어려운 경향이 있다.The haze of the anti-glare layer is preferably 0.1 to 50%. The haze of the anti-glare layer is measured by a method conforming to JIS K 7361. The thickness of the anti-glare layer may be appropriately adjusted so that, for example, the haze of the anti-glare layer falls within the above range, but is preferably 2 to 20 µm. If the thickness of the anti-glare layer is within the above range, a sufficient anti-glare effect is easily obtained, it is easy to prevent cracking of the anti-glare layer, and the productivity is lowered by the anti-glare layer curling due to curing shrinkage of the anti-glare layer. Easy to prevent. In addition, the thickness of the anti-glare layer is generally 85% or more, more preferably 100% or more with respect to the weight average particle diameter of the translucent fine particles to be dispersed. When the thickness of the anti-glare layer is within the above range, there is a tendency that the haze is not too large and the visibility is difficult to decrease.

방현층은, 대전 방지제를 함유하고 있어도 된다. 대전 방지제를 함유함으로써, 대전 방지 기능을 가지는 방현층을 얻을 수 있다. 대전 방지제로서는, 상기 서술의 하드 코팅층에 첨가하는 대전 방지제와 마찬가지의 것을 들 수 있다.The anti-glare layer may contain an antistatic agent. By containing an antistatic agent, an antiglare layer having an antistatic function can be obtained. As an antistatic agent, the thing similar to the antistatic agent added to the hard coat layer mentioned above is mentioned.

방현층은, 그 최표면, 즉 요철면측에 저반사층을 가지고 있어도 된다. 저반사층이 없는 상태에서도, 충분한 방현 기능을 발휘하지만, 최표면에 저반사층을 마련함으로써, 방현성을 더 향상시킬 수 있다. 저반사층으로서는, 후술한 것을 적용할 수 있다.The antiglare layer may have a low reflection layer on the outermost surface, that is, on the side of the uneven surface. Even in the absence of a low-reflective layer, a sufficient anti-glare function is exhibited, but by providing a low-reflective layer on the outermost surface, the anti-glare property can be further improved. As the low reflection layer, what was described later can be applied.

(반사 방지 기능 및 저반사 기능)(Anti-reflection function and low-reflection function)

반사 방지 기능 및 저반사 기능은, 외광의 반사를 방지 또는 저감하는 기능이다. 본 발명의 광학 적층체에 있어서, 기능층은 외광의 반사를 방지하는 기능을 가지는 층(반사 방지층)이어도 되고, 외광의 반사를 저감하는 기능을 가지는 층(저반사층)이어도 된다. 반사 방지층 및 저반사층은, 단층이어도 다층이어도 된다.The antireflection function and the low reflection function are functions of preventing or reducing reflection of external light. In the optical laminate of the present invention, the functional layer may be a layer having a function of preventing reflection of external light (antireflection layer), or a layer having a function of reducing reflection of external light (low reflection layer). The antireflection layer and the low reflection layer may be a single layer or a multilayer.

반사 방지층Antireflection layer

반사 방지층은, 저굴절률층을 구비하고 있어도 된다. 또한, 반사 방지층은, 저굴절률층과, 당해 저굴절률층과 광학 필름과의 사이에 적층된 고굴절률층 및/또는 중굴절률층을 더 구비하는 다층 구조를 가지는 층이어도 된다. 반사 방지층과 광학 필름과의 사이에, 상기 서술의 하드 코팅층을 마련해도 된다.The antireflection layer may have a low refractive index layer. Further, the antireflection layer may be a layer having a multilayer structure further comprising a low refractive index layer and a high refractive index layer and/or a medium refractive index layer laminated between the low refractive index layer and the optical film. You may provide the hard coating layer described above between the antireflection layer and the optical film.

반사 방지층의 두께는, 바람직하게는 0.01~1㎛, 보다 바람직하게는 0.02~0.5㎛이다. 반사 방지층으로서는, 당해 반사 방지층을 적층시키는 광학 필름 또는 기능층의 굴절률보다 작은 굴절률(예를 들면 1.3~1.45의 굴절률)을 가지는 저굴절률층; 무기 화합물로 이루어지는 박막의 저굴절률층과 무기 화합물로 이루어지는 박막의 고굴절률층을 번갈아 복수 적층한 층 등을 들 수 있다. 여기서, 고굴절률층의 굴절률은, 저굴절률층의 굴절률보다 크면 되지만, 1.60 이상인 것이 바람직하다.The thickness of the antireflection layer is preferably 0.01 to 1 µm, more preferably 0.02 to 0.5 µm. Examples of the antireflection layer include a low refractive index layer having a refractive index smaller than that of the optical film or functional layer on which the antireflection layer is laminated (for example, a refractive index of 1.3 to 1.45); A layer in which a plurality of low refractive index layers of a thin film made of inorganic compounds and high refractive index layers of a thin film made of inorganic compounds are alternately stacked may be mentioned. Here, the refractive index of the high refractive index layer may be greater than the refractive index of the low refractive index layer, but is preferably 1.60 or more.

상기의 저굴절률층을 형성하는 재료는, 굴절률이 낮은 재료이면 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 활성 에너지선 경화성 수지(예를 들면 자외선 경화형 아크릴 수지) 등의 수지 재료, 수지 중에 콜로이달실리카 등의 무기 미립자를 분산시킨 하이브리드 재료, 테트라에톡시실란 등의 금속 알콕시드를 이용한 졸-겔 재료 등을 들 수 있다. 이들 저굴절률층을 형성하는 재료는, 중합이 끝난 폴리머여도 되고, 전구체가 되는 모노머나 올리고머여도 된다. 또한, 반사 방지층을 구성하는 재료는, 반사 방지층에 방오 기능을 부여할 수 있기 때문에, 불소를 함유하는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.The material for forming the low refractive index layer is not particularly limited as long as it is a material having a low refractive index. For example, a resin material such as an active energy ray-curable resin (for example, an ultraviolet-curable acrylic resin), a hybrid material in which inorganic fine particles such as colloidal silica are dispersed in the resin, and a sol using a metal alkoxide such as tetraethoxysilane -Gel materials, etc. are mentioned. The material for forming these low refractive index layers may be polymers that have been polymerized, or may be monomers or oligomers that become precursors. In addition, since the material constituting the antireflection layer can impart an antifouling function to the antireflection layer, it is preferable to contain a compound containing fluorine.

고굴절률층은, 상기 서술의 활성 에너지선 경화성 수지의 경화물이나 금속 알콕시드계 폴리머 등의 투광성 수지와 무기 미립자 및/또는 유기 미립자를 함유하는 도공액을 도공한 후, 도공층을 필요에 따라 경화시키는 방법에 의해 형성할 수 있다. 무기 미립자로서는, 예를 들면, 산화 아연, 산화 티탄, 산화 세륨, 산화 알루미늄, 산화 실란, 산화 탄탈, 산화 이트륨, 산화 이테르븀, 산화 지르코늄, 산화 안티몬, 산화 인듐 주석(ITO) 등을 들 수 있다. 이들 무기 미립자를 포함하는 고굴절률층은, 대전 방지 기능도 겸비할 수 있다.The high refractive index layer is coated with a coating solution containing a light-transmitting resin such as a cured product of the above-described active energy ray-curable resin or a metal alkoxide-based polymer, and inorganic fine particles and/or organic fine particles, and then cured the coating layer as necessary. It can be formed by a method to make. Examples of the inorganic fine particles include zinc oxide, titanium oxide, cerium oxide, aluminum oxide, silane oxide, tantalum oxide, yttrium oxide, ytterbium oxide, zirconium oxide, antimony oxide, and indium tin oxide (ITO). The high refractive index layer containing these inorganic fine particles can also have an antistatic function.

굴절률이 상이한 무기 화합물(금속 산화물 등)의 투명 박막을 적층시킨 다층막을 제조하는 방법으로서, 화학 증착(CVD)법, 물리 증착(PVD)법, 금속 알콕시드 등의 금속 화합물의 졸/겔 방법으로 콜로이드상 금속 산화물 입자 피막을 형성 후에 후처리(자외선 조사: 일본공개특허 특개평9-157855호 공보, 플라즈마 처리: 일본공개특허 특개2002-327310호 공보)하여 박막을 형성하는 방법 등을 들 수 있다.As a method of manufacturing a multilayer film in which a transparent thin film of inorganic compounds (metal oxides, etc.) having different refractive indices is stacked, it is a chemical vapor deposition (CVD) method, a physical vapor deposition (PVD) method, a sol/gel method of metal compounds such as metal alkoxides After forming the colloidal metal oxide particle film, a method of forming a thin film by post-treatment (ultraviolet irradiation: Japanese Unexamined Patent Application Publication No. Hei 9-157855, plasma treatment: Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2002-327310), etc. are mentioned. .

한편, 생산성을 향상시키기 쉬운 관점에서, 무기 입자를 매트릭스 중에 분산시킨 박막을 적층 도설(塗設)하여 반사 방지층을 적층시키는 것도 바람직하다. 또한, 무기 입자를 매트릭스 중에 분산시킨 반사 방지층 형성용 조성물을 도공함으로써, 반사 방지층을 적층시킬 때에, 도공 표면에 미세한 요철 형상을 형성함으로써, 반사 방지층에 방현 기능을 더 부여하는 것도 가능하다.On the other hand, it is also preferable to laminate an antireflection layer by laminating a thin film in which inorganic particles are dispersed in a matrix from the viewpoint of easy productivity improvement. Further, it is also possible to further impart an anti-glare function to the anti-reflection layer by forming a fine uneven shape on the coated surface when the anti-reflection layer is laminated by coating the composition for forming an anti-reflection layer in which inorganic particles are dispersed in a matrix.

저반사층Low reflective layer

저반사층은, 기재가 되는 광학 필름보다 굴절률이 낮은 저굴절률 재료로 형성된 층이다. 저굴절률층은, 상기 서술의 활성 에너지선 경화성 수지의 경화물이나 금속 알콕시드계 폴리머 등의 투광성 수지 및 무기 미립자를 함유하는 도공액을 도공한 후, 도공층을 필요에 따라 경화시키는 방법에 의해 형성할 수 있다. 그와 같은 저굴절률 재료로서, 구체적으로는, 불화 리튬(LiF), 불화 마그네슘(MgF2), 불화 알루미늄(AlF3), 빙정석(3NaF·AlF3 또는 Na3AlF6) 등의 무기 재료 미립자를, 아크릴계 수지나 에폭시계 수지 등에 함유시킨 무기계 저반사 재료; 불소계 또는 실리콘계의 유기 화합물, 열가소성 수지, 열경화성 수지, 자외선 경화성 수지 등의 유기계 저반사 재료를 들 수 있다.The low-reflective layer is a layer formed of a low-refractive-index material having a lower refractive index than an optical film serving as a base material. The low refractive index layer is formed by a method of curing the coating layer as necessary after coating a coating solution containing a light-transmitting resin such as a cured product of the active energy ray-curable resin or a metal alkoxide-based polymer and inorganic fine particles described above. can do. As such a low refractive index material, specifically, inorganic material fine particles such as lithium fluoride (LiF), magnesium fluoride (MgF 2 ), aluminum fluoride (AlF 3 ), and cryolite (3NaF·AlF 3 or Na 3 AlF 6) , An inorganic low-reflective material contained in an acrylic resin, an epoxy resin, or the like; Organic low-reflection materials, such as a fluorine-based or silicone-based organic compound, a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and an ultraviolet curable resin, are mentioned.

(방오 기능)(Antifouling function)

방오 기능은, 오염을 방지하는 기능이며, 층에 발수성, 발유성, 내한성(耐汗性), 방오성, 내지문성 등을 부여함으로써 얻어지는 기능이다. 본 발명의 광학 적층체에 있어서, 기능층은 방오 기능을 가지는 층(방오층)이어도 된다. 방오층을 형성하기 위한 재료는, 유기 화합물이어도 되고, 무기 화합물이어도 된다. 높은 발수성과 발유성을 초래하는 재료로서, 불소 함유 유기 화합물, 유기 규소 화합물 등을 들 수 있다. 불소 함유 유기 화합물로서는, 플루오로카본, 퍼플루오로실란, 이들 고분자 화합물 등을 들 수 있다. 오염 부착의 방지 효과를 높이기 쉬운 관점에서는, 방오층 표면의 순수에 대한 접촉 각도가 90도 이상, 나아가서는 100도 이상이 되는 것 같은 재료가 바람직하다. 방오층의 형성 방법은, 형성하는 재료에 따라, 증착이나 스퍼터링을 대표예로 하는 물리적 기상 성장법, 화학적 기상 성장법, 습식 코팅법 등을 이용할 수 있다. 방오층의 평균 두께는, 통상 1~50㎚ 정도, 바람직하게는 3~35㎚이다.The antifouling function is a function of preventing contamination, and is a function obtained by imparting water repellency, oil repellency, cold resistance, stain resistance, anti-fingerprint, and the like to the layer. In the optical laminate of the present invention, the functional layer may be a layer having an antifouling function (antifouling layer). The material for forming the antifouling layer may be an organic compound or an inorganic compound. As a material that brings about high water repellency and oil repellency, a fluorine-containing organic compound, an organosilicon compound, etc. are mentioned. Examples of the fluorine-containing organic compound include fluorocarbons, perfluorosilanes, and these high molecular compounds. From the viewpoint of easily enhancing the effect of preventing contamination adhesion, a material such that the contact angle of the surface of the antifouling layer with pure water is 90 degrees or more, and furthermore 100 degrees or more is preferable. As a method of forming the antifouling layer, depending on the material to be formed, a physical vapor deposition method, a chemical vapor deposition method, a wet coating method, or the like can be used, using vapor deposition or sputtering as representative examples. The average thickness of the antifouling layer is usually about 1 to 50 nm, preferably 3 to 35 nm.

(자외선 흡수 기능)(Ultraviolet absorption function)

본 발명의 광학 적층체에 있어서, 기능층은, 자외선 흡수의 기능을 가지는 자외선 흡수층이어도 된다. 자외선 흡수층은, 예를 들면, 자외선 경화형의 투광성 수지, 전자선 경화형의 투광성 수지, 및 열경화형의 투광성 수지로부터 선택되는 주재(主材)와, 이 주재에 분산된 자외선 흡수제로 구성된다.In the optical laminate of the present invention, the functional layer may be an ultraviolet absorbing layer having a function of absorbing ultraviolet rays. The ultraviolet absorbing layer is composed of a main material selected from, for example, an ultraviolet-curable light-transmitting resin, an electron beam-curable light-transmitting resin, and a thermosetting type light-transmitting resin, and an ultraviolet absorber dispersed in the main material.

(점착 기능)(Adhesive function)

본 발명의 광학 적층체에 있어서, 기능층은, 광학 필름을 다른 부재에 접착시키는 점착성의 기능을 가지는 점착층이어도 된다. 점착층의 형성 재료로서는, 통상 알려진 것을 이용할 수 있다. 예를 들면, 열경화성 수지 조성물 또는 광경화성 수지 조성물을 이용할 수 있다. 이 경우, 사후적으로 에너지를 공급함으로써 열경화성 수지 조성물 또는 광경화성 수지 조성물을 고분자화하여 경화시킬 수 있다.In the optical layered product of the present invention, the functional layer may be an adhesive layer having an adhesive function to adhere an optical film to another member. As the material for forming the adhesive layer, a commonly known material can be used. For example, a thermosetting resin composition or a photocurable resin composition can be used. In this case, the thermosetting resin composition or the photocurable resin composition can be polymerized and cured by supplying energy afterwards.

점착층은, 감압형 접착제(Pressure Sensitive Adhesive, PSA)라고 불리는, 가압에 의해 대상물에 부착되는 층이어도 된다. 감압형 접착제는, 「상온에서 점착성을 가지고, 가벼운 압력으로 피착재에 접착되는 물질」(JIS K 6800)인 점착제여도 되고, 「특정 성분을 보호 피막(마이크로캡슐)에 내용(內容)하여, 적당한 수단(압력, 열 등)에 의해 피막을 파괴할 때 까지는 안정성을 보지할 수 있는 접착제」(JIS K 6800)인 캡슐형 접착제여도 된다.The adhesive layer may be a layer that is attached to an object by pressure, called a pressure sensitive adhesive (PSA). The pressure-sensitive adhesive may be a pressure-sensitive adhesive that is "a substance that has adhesiveness at room temperature and adheres to an adherend with light pressure" (JIS K 6800), or "a specific component is contained in a protective film (microcapsule), An adhesive that can maintain stability until the film is destroyed by means (pressure, heat, etc.)" (JIS K 6800) may be a capsule adhesive.

(색상 조정 기능)(Color adjustment function)

본 발명의 광학 적층체에 있어서, 기능층은, 광학 적층체를 목적의 색상으로 조정할 수 있는 기능을 가지는 색상 조정층이어도 된다. 색상 조정층은, 예를 들면, 수지 및 착색제를 함유하는 층이다. 착색제로서는, 예를 들면, 산화 티탄, 산화 아연, 벵갈라, 티타늄옥사이드계 소성 안료, 군청, 알루민산 코발트, 및 카본 블랙 등의 무기 안료; 아조계 화합물, 퀴나크리돈계 화합물, 안트라퀴논계 화합물, 페릴렌계 화합물, 이소인돌리논계 화합물, 프탈로시아닌계 화합물, 퀴노프탈론계 화합물, 스렌계 화합물, 및 디케토피롤로피롤계 화합물 등의 유기 안료; 황산 바륨, 및 탄산칼슘 등의 체질 안료; 및 염기성 염료, 산성 염료, 및 매염 염료 등의 염료를 들 수 있다.In the optical laminate of the present invention, the functional layer may be a hue adjustment layer having a function of adjusting the optical laminate to a target hue. The hue adjustment layer is, for example, a layer containing a resin and a colorant. Examples of the colorant include inorganic pigments such as titanium oxide, zinc oxide, bengala, titanium oxide-based calcined pigments, ultramarine, cobalt aluminate, and carbon black; Organic pigments such as azo compounds, quinacridone compounds, anthraquinone compounds, perylene compounds, isoindolinone compounds, phthalocyanine compounds, quinophthalone compounds, srene compounds, and diketopyrrolopyrrole compounds; Extender pigments such as barium sulfate and calcium carbonate; And dyes such as basic dyes, acid dyes, and mordant dyes.

<광학 적층체의 제조 방법><Method of manufacturing an optical laminate>

상기 특징을 가지는 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 다음의 공정:The method of manufacturing the optical laminate of the present invention having the above characteristics is not particularly limited, but, for example, the following steps:

(a) 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지, 및 용매를 적어도 함유하는 바니시를 지지체 상에 도포하고, 건조시켜, 도막을 형성시키는 공정,(a) a process of applying a varnish containing at least a polyimide resin and/or a polyamide resin, and a solvent on a support and drying to form a coating film,

(b) 지지체로부터 도막을 박리하는 공정,(b) the step of peeling the coating film from the support,

(c) 박리한 도막을 가열하여, 필름을 얻는 공정, 및(c) heating the peeled coating film to obtain a film, and

(d) 필름의 적어도 편면에 기능층을 적층하여, 광학 적층체를 얻는 공정(d) a step of laminating a functional layer on at least one side of the film to obtain an optical laminate

을 적어도 포함하는 제조 방법에 의해 제조할 수 있다. 본 발명은, 상기의 공정을 적어도 포함하는, 광학 적층체의 제조 방법도 제공한다.It can be manufactured by a manufacturing method containing at least. The present invention also provides a method for manufacturing an optical layered product including at least the above steps.

본 발명의 광학 적층체의 제조 방법은, 공정 (c)의 이후, 또는 공정 (d)의 이후,The manufacturing method of the optical layered product of the present invention is after the step (c) or after the step (d),

(e) 얻어진 필름 또는 광학 적층체를 이용하여 투영법에 의해 얻어진 투영 화상을 푸리에 변환하여 얻은 필름 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h 및 방향 v에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h 및 라인 프로파일 v라고 하고, 상기 투영법에 있어서 상기 필름 또는 상기 광학 적층체를 이용하지 않고 얻은 배경 화상을 푸리에 변환하여 얻은 배경 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h' 및 방향 v'에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h' 및 라인 프로파일 v'라고 하며, 라인 프로파일 h로부터 라인 프로파일 h'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (h-h')의 최대 강도를 Ymh라고 하고, 최대 강도 Ymh를 나타내는 주파수를 Xmh라고 하며, 라인 프로파일 v로부터 라인 프로파일 v'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (v-v')의 최대 강도를 Ymv라고 하고, 최대 강도 Ymv를 나타내는 주파수를 Xmv라고 하였을 때의, Ymh 및 Ymv의 값, 및, Ymh, Ymv, Xmh 및 Xmv로부터 산출되는 (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값에 의거하여, 필름을 평가하는 공정(e) Using the obtained film or optical laminate, the line profiles in the directions h and v perpendicular to each other in the film inverse space obtained by Fourier transforming the projection image obtained by the projection method are respectively a line profile h and a line profile. denoted by v, and a line profile in a direction h'and a direction v'that are orthogonal to each other in a background inverse space obtained by Fourier transform of a background image obtained without using the film or the optical laminate in the projection method, respectively The maximum intensity of the line profile (h-h') obtained by subtracting the line profile h'from the line profile h'and the line profile v'is called Y mh, and the frequency representing the maximum intensity Y mh is X mh Y mh and Y when the maximum intensity of the line profile (v-v') obtained by subtracting the line profile v'from the line profile v is Y mv , and the frequency representing the maximum intensity Y mv is X mv. value of mv, and, Y mh, mv Y, X and X mh (Y + Y mv mh) which is calculated from the mv / (X + X mv mh) on the basis of the value of 1/2, the step of evaluating the film

을 더 포함해도 된다.You may further include.

상기의 공정 (a)에서 사용하는 바니시는, 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지 및 용매를 적어도 함유한다. 여기서, 바니시의 점도(cps)와 바니시의 고형분 농도(질량%)는, 다음의 관계:The varnish used in the above step (a) contains at least a polyimide resin and/or a polyamide resin and a solvent. Here, the viscosity (cps) of the varnish and the solid content concentration (% by mass) of the varnish are the following relationship:

Figure 112020057518495-pat00018
Figure 112020057518495-pat00018

를 충족시키는 것이 바람직하다.It is desirable to meet.

우선, 바니시를 지지체 상에 도포하고, 건조시켜, 도막을 형성시키는 공정 (a)에 대하여 설명한다. 바니시에 함유되는 수지로서는, 광학 필름에 포함되는 수지로서 상기에 기재한 수지를 들 수 있다. 또한, 바니시에는, 상기에 서술한 자외선 흡수제, 필러, 그 밖의 첨가제가 함유되어 있어도 된다.First, a process (a) of applying a varnish on a support and drying it to form a coating film will be described. As the resin contained in the varnish, the resin described above as the resin contained in the optical film can be mentioned. Further, the varnish may contain the above-described ultraviolet absorber, filler, and other additives.

바니시에 함유되는 용매는, 상기 수지를 용해 가능하면 특별히 한정되지 않는다. 이러한 용매로서는, 예를 들면 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc), N,N-디메틸포름아미드 등의 아미드계 용매; γ-부티로락톤(GBL), γ-발레로락톤 등의 락톤계 용매; 디메틸술폰, 디메틸술폭시드, 술포란 등의 함유황계 용매; 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등의 카보네이트계 용매; 및 그들의 조합(혼합 용매)을 들 수 있다. 이들 중에서도, 광학 적층체의 광학적 균질성을 높이기 쉬운 관점에서, 아미드계 용매 또는 락톤계 용매가 바람직하다. 이들 용매는 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 또한, 바니시에는 물, 알코올계 용매, 케톤계 용매, 비환상 에스테르계 용매, 에테르계 용매 등이 포함되어도 된다. 바니시의 고형분 농도는, 바람직하게는 1~25질량%, 보다 바람직하게는 5~20질량%이다.The solvent contained in the varnish is not particularly limited as long as the resin can be dissolved. Examples of such a solvent include amide solvents such as N,N-dimethylacetamide (DMAc) and N,N-dimethylformamide; lactone solvents such as γ-butyrolactone (GBL) and γ-valerolactone; Sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide, and sulfolane; Carbonate-based solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; And combinations thereof (mixed solvent). Among these, an amide-based solvent or a lactone-based solvent is preferable from the viewpoint of easily enhancing the optical homogeneity of the optical layered product. These solvents may be used alone or in combination of two or more. In addition, the varnish may contain water, an alcohol solvent, a ketone solvent, an acyclic ester solvent, an ether solvent, and the like. The solid content concentration of the varnish is preferably 1 to 25% by mass, more preferably 5 to 20% by mass.

바니시는, 상기 수지, 용매 및 필요에 따라 이용되는 자외선 흡수제, 필러 및 그 밖의 첨가제를 혼합하여, 교반함으로써 조제할 수 있다. 예를 들면, 상기의 디카르본산 화합물, 테트라카르본산 화합물, 및/또는 디아민 화합물, 및 상기의 그 밖의 원료를 반응시켜 얻은, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 반응액을, 용매 및 경우에 따라 다른 첨가제와 함께 혼합하여, 교반함으로써, 바니시를 조제해도 된다. 반응액으로부터 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지를 단리하여, 용매 등과 혼합함으로써, 바니시를 조제해도 되고, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 용액이나 고체를 구입하여, 필요에 따라 용매 등과 혼합 함으로써, 바니시를 조제해도 된다. 또한, 필러로서 실리카를 이용하는 경우, 실리카를 포함하는 실리카졸의 분산액을, 상기 수지가 용해 가능한 용매, 예를 들면 하기의 바니시의 조제에 이용되는 용매로 치환한 실리카졸을 이용하여 바니시를 조제해도 된다.The varnish can be prepared by mixing and stirring the resin, a solvent, and an ultraviolet absorber, filler, and other additives used as necessary. For example, the reaction solution of a polyimide resin or a polyamide resin obtained by reacting the above dicarboxylic acid compound, tetracarboxylic acid compound, and/or diamine compound, and other raw materials described above is used as a solvent and a case You may prepare a varnish by mixing and stirring together with other additives depending on. A varnish may be prepared by isolating a polyimide resin or polyamide resin from the reaction solution and mixing with a solvent, etc., or purchasing a solution or solid of a polyimide resin or polyamide resin, and mixing with a solvent, if necessary. By doing so, you may prepare a varnish. In the case of using silica as a filler, a dispersion of silica sol containing silica may be prepared by using a silica sol substituted with a solvent in which the resin is soluble, for example, a solvent used for preparing the following varnish. do.

상기와 같이 하여 조제한 바니시의 점도(cps)와, 바니시의 고형분 농도(질량%)는 특별히 한정되지 않지만, 우수한 광학적 균질성을 가지는 광학 적층체를 얻기 쉬운 관점에서는, 이들이 다음의 관계:The viscosity (cps) of the varnish prepared as described above and the solid content concentration (mass%) of the varnish are not particularly limited, but from the viewpoint of easy obtaining an optical laminate having excellent optical homogeneity, they have the following relationship:

Figure 112020057518495-pat00019
Figure 112020057518495-pat00019

를 충족시키는 것이 바람직하다. 여기서, 바니시의 점도(cps)는, JIS K 8803:2011에 따라, E형 점도계를 이용하여, 25℃에서 측정된다. 또한, 바니시의 고형분 농도는, 바니시에 함유되는 수지, 필러 및 첨가제 등의 농도(질량%)를 나타내고, 바니시의 전체 질량에 의거한 바니시에 함유되는 고형분의 질량으로부터 산출된다. 상기 식으로 나타나는 바니시의 점도와 바니시의 고형분 농도와의 곱은, 광학 적층체의 광학적 균질성을 높이기 쉬운 관점에서, 바람직하게는 3,000 이상, 보다 바람직하게는 3,500 이상이다. 상기 식으로 나타나는 바니시의 점도와 바니시의 고형분 농도와의 곱의 상한은 특별히 한정되지 않지만, 바니시의 핸들링의 관점에서는, 바람직하게는 10,000 이하, 보다 바람직하게는 7,000 이하이다.It is desirable to meet. Here, the viscosity (cps) of the varnish is measured at 25°C using an E-type viscometer according to JIS K 8803:2011. In addition, the solid content concentration of the varnish represents the concentration (mass%) of resins, fillers, additives, etc. contained in the varnish, and is calculated from the mass of the solid content contained in the varnish based on the total mass of the varnish. The product of the viscosity of the varnish represented by the above formula and the solid content concentration of the varnish is preferably 3,000 or more, more preferably 3,500 or more, from the viewpoint of easy to increase the optical homogeneity of the optical laminate. The upper limit of the product of the viscosity of the varnish represented by the above formula and the solid content concentration of the varnish is not particularly limited, but from the viewpoint of handling of the varnish, it is preferably 10,000 or less, more preferably 7,000 or less.

바니시의 점도는, 바람직하게는 5,000~60,000cps, 보다 바람직하게는 10,000~50,000cps, 더 바람직하게는 15,000~45,000cps이다. 바니시의 점도가 상기의 하한 이상이면, 본 발명의 효과를 얻기 쉽고, 상기의 상한 이하이면, 바니시의 핸들링을 향상시키기 쉽다.The viscosity of the varnish is preferably 5,000 to 60,000 cps, more preferably 10,000 to 50,000 cps, and still more preferably 15,000 to 45,000 cps. When the viscosity of the varnish is more than the above lower limit, the effect of the present invention is easily obtained, and when it is less than the above upper limit, it is easy to improve the handling of the varnish.

바니시의 고형분 농도는, 바람직하게는 5~25질량%, 보다 바람직하게는 10~23질량%, 더 바람직하게는 14~20질량%이다. 바니시의 고형분 농도가 상기의 하한 이상인 것이, 두꺼운 막을 얻는 관점에서 바람직하고, 상기의 상한 이하인 것이, 바니시의 핸들링하기 쉬운 관점에서 바람직하다.The solid content concentration of the varnish is preferably 5 to 25% by mass, more preferably 10 to 23% by mass, and still more preferably 14 to 20% by mass. It is preferable from the viewpoint of obtaining a thick film that the solid content concentration of the varnish is more than the above lower limit, and from the viewpoint of easy handling of the varnish, it is preferable that it is less than the above upper limit.

지지체로서는, 예를 들면 수지 기재, 스테인리스강 벨트, 유리 기재 등을 들 수 있다. 지지체로서, 수지 필름 기재를 사용하는 것이 바람직하다. 수지 필름 기재로서는, 예를 들면 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름, 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 필름, 시클로올레핀계(COP) 필름, 아크릴계 필름, 폴리이미드 필름, 폴리아미드이미드 필름 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 평활성, 내열성이 우수한 관점에서, PET 필름, COP 필름 등이 바람직하고, 또한 광학 필름과의 밀착성 및 비용의 관점에서, PET 필름이 보다 바람직하다.Examples of the support include a resin substrate, a stainless steel belt, and a glass substrate. It is preferable to use a resin film base material as a support. Examples of the resin film substrate include a polyethylene terephthalate (PET) film, a polyethylene naphthalate (PEN) film, a cycloolefin (COP) film, an acrylic film, a polyimide film, and a polyamideimide film. Among them, from the viewpoint of excellent smoothness and heat resistance, a PET film, a COP film, and the like are preferable, and a PET film is more preferable from the viewpoint of adhesion and cost with an optical film.

지지체의 두께는, 특별히 제한되지 않지만, 바람직하게는 50~250㎛, 보다 바람직하게는 100~200㎛, 더 바람직하게는 125~200㎛이다. 지지체의 두께가 상기의 상한 이하인 경우, 필름의 제조 비용을 억제하기 쉽기 때문에 바람직하다. 또한, 지지체의 두께가 상기의 하한 이상인 것이, 용매의 적어도 일부를 제거하는 공정에서 발생할 수 있는 필름의 컬을 억제하기 쉽기 때문에 바람직하다. 여기서, 지지체의 두께는, 접촉식의 막후계 등에 의해 측정된다. 광학 적층체의 면 품질을 향상시키기 쉽고, 본 발명의 광학 적층체를 제조하기 쉬운 관점에서, 지지체의 두께 분포는, 바람직하게는 ±3㎛ 이하, 보다 바람직하게는 ± 2.5㎛ 이하, 더 바람직하게는 ±2㎛ 이하이다. 지지체의 두께 분포는, 상기 두께의 측정 방법에 따라, 필름의 적어도 20개소에 있어서 두께를 측정하고, 20개소의 평균 두께를 산출하여, 각 개소에 있어서의 두께와 평균 두께와의 차로부터 산출한다.The thickness of the support is not particularly limited, but is preferably 50 to 250 µm, more preferably 100 to 200 µm, and still more preferably 125 to 200 µm. When the thickness of the support is less than or equal to the above upper limit, it is preferable because it is easy to suppress the production cost of the film. Further, it is preferable that the thickness of the support is more than the above lower limit because it is easy to suppress the curl of the film that may occur in the step of removing at least a part of the solvent. Here, the thickness of the support is measured by a contact-type film thickness meter or the like. From the viewpoint of easy to improve the surface quality of the optical laminate and easy to manufacture the optical laminate of the present invention, the thickness distribution of the support is preferably ± 3 μm or less, more preferably ± 2.5 μm or less, and more preferably Is less than ±2㎛. The thickness distribution of the support body is calculated from the difference between the thickness at each location and the average thickness by measuring the thickness at at least 20 locations of the film, calculating the average thickness at 20 locations, according to the method for measuring the thickness. .

바니시를 지지체 상에 도포할 때, 공지의 도포 방법에 의해 지지체에 대한 도포를 행해도 된다. 공지의 도포 방법으로서는, 예를 들면 와이어 바 코팅법, 리버스 코팅, 그라비아 코팅 등의 롤 코팅법, 다이 코팅법, 콤마 코팅법, 립 코팅법, 스핀 코팅법, 스크린 코팅법, 파운틴 코팅법, 디핑법, 스프레이법, 유연(流涎) 성형법 등을 들 수 있다.When applying the varnish on the support, you may apply the varnish to the support by a known application method. Known coating methods include, for example, wire bar coating, reverse coating, roll coating such as gravure coating, die coating, comma coating, lip coating, spin coating, screen coating, fountain coating, di The ping method, the spray method, the casting method, etc. are mentioned.

이어서, 지지체 상에 도포한 바니시의 도막을 건조시킴으로써, 도막을 형성시킬 수 있다. 건조는, 바니시의 도막으로부터 적어도 일부의 용매를 제거함으로써 행해지고, 건조 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면 지지체 상에 도포한 바니시의 도막을 가열함으로써 건조를 행해도 된다. 이하에 있어서, 공정 (a)에 있어서의 건조를 「제 1 건조」라고도 칭하고, 건조 후에 지지체 상에 형성된 도막을, 「건조 도막」이라고도 칭한다. 건조 도막은, 바니시에 포함되어 있던 용매가 모두 건조된 도막이어도 되고, 일부의 용매가 건조된 반건조 상태의 도막이어도 된다. 제 1 건조는, 필요에 따라, 불활성 분위기 또는 감압의 조건하에서 실시해도 된다. 제 1 건조는 비교적 저온에서 시간을 들여 행하는 것이 바람직하다. 비교적 저온에서 시간을 들여 제 1 건조를 행하면, 상기의 식에 있어서의 Ymh 및 Ymv의 값을 저하시키기 쉬워, (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값을 저하시키기 쉽고, 광학 적층체의 광학적 균질성을 높이기 쉽다.Subsequently, the coating film can be formed by drying the coating film of the varnish applied on the support. Drying is performed by removing at least a part of the solvent from the coating film of the varnish, and the drying method is not particularly limited. For example, drying may be performed by heating the coating film of the varnish applied on the support. In the following, drying in step (a) is also referred to as "first drying", and the coating film formed on the support after drying is also referred to as "dry coating film". The dry coating film may be a coating film in which all of the solvents contained in the varnish are dried, or a semi-dried coating film in which a part of the solvent is dried. If necessary, the first drying may be performed under an inert atmosphere or under reduced pressure conditions. It is preferable to perform the first drying at a relatively low temperature over time. If the first drying is performed at a relatively low temperature over time, it is easy to lower the values of Y mh and Y mv in the above equation, and the value of (Y mh +Y mv )/(X mh +X mv ) 1/2 It is easy to decrease the value, and it is easy to increase the optical homogeneity of the optical laminate.

특히 본 발명의 광학 적층체를 공업적으로 제조하는 경우, 래버러토리 레벨에서의 제조 환경과 비교하여 실제의 제조 환경은 광학적 균질성을 높이는데 불리한 경우가 많고, 그 결과, 광학 적층체의 광학적 균질성을 높이는 것이 곤란한 경우가 있다. 제 1 건조를 비교적 저온에서 시간을 들여 행하는 것이 바람직한 것은 상기에 서술한 바와 같지만, 실험실 레벨에서는, 제 1 건조를 행할 때에, 건조를 밀폐한 건조기 내에서 행할 수 있기 때문에, 외적 요인에 의한 광학 적층체의 표면의 거칠기는 비교적 발생하기 어렵다. 이에 비하여, 광학 적층체를 공업적으로 제조하는 경우에는, 예를 들면 제 1 건조에 있어서 넓은 면적을 가열할 필요가 있기 때문에, 가열 시에 송풍 장치를 사용하는 경우도 있다. 그 결과, 광학 필름의 표면 상태가 거칠어지기 쉬워져, 필름의 광학적 균질성을 높이는 것이 곤란하다.In particular, when the optical laminate of the present invention is industrially manufactured, the actual manufacturing environment is often disadvantageous in improving optical homogeneity compared to the manufacturing environment at the laboratory level. As a result, the optical homogeneity of the optical laminate It may be difficult to increase the value. It is as described above that it is preferable to perform the first drying at a relatively low temperature over time, but at the laboratory level, when the first drying is performed, the drying can be performed in a sealed dryer, so optical lamination due to external factors The roughness of the surface of the sieve is relatively difficult to occur. On the other hand, in the case of industrially manufacturing an optical laminate, for example, since it is necessary to heat a large area in the first drying, a blowing device may be used during heating. As a result, the surface state of the optical film tends to become rough, and it is difficult to improve the optical homogeneity of the film.

가열에 의해 건조를 행하는 경우, 특히 광학 적층체를 공업적으로 제조할 때의 상기와 같은 외적 요인도 고려하면, 제 1 건조 시의 가열 온도는, 바람직하게는 60~150℃, 보다 바람직하게는 60~130℃, 더 바람직하게는 70~120℃이다. 제 1 건조의 시간은 바람직하게는 5~60분, 보다 바람직하게는 10~40분이다. 제 1 건조는, 1단계 또는 다단계의 조건하에서 실시해도 되지만, 특히 광학 적층체를 공업적으로 제조할 때의 상기와 같은 외적 요인도 고려하면, 3단계 이상의 가열 온도 조건하에서 실시하는 것이 바람직하다. 다단계의 조건하에서 건조를 행하는 경우, 바람직하게는, 각각의 단계에 있어서, 동일 또는 상이한 온도 조건 및/또는 건조 시간으로 건조를 실시할 수 있고, 예를 들면 3~10단계, 바람직하게는 3~8단계의 조건하에서 건조를 행해도 된다. 제 1 건조를 다단계의 조건으로 실시하면, 광학 적층체의 광학적 균질성을 높이기 쉽다. 3단계 이상의 다단계의 조건하에서 제 1 건조를 행하는 본 발명의 바람직한 일 실시 형태에서는, 제 1 건조의 온도 프로파일이 승온 및 강온을 포함하는 것이 바람직하다. 즉, 공정 (a)에 있어서의 건조 조건이, 온도 프로파일이 승온 및 강온을 포함하는 3단계 이상의 가열 온도 조건인 것이 보다 바람직하다. 이와 같은 온도 프로파일로서, 4단계의 경우를 예로 들면, 제 1 건조의 온도는, 차례로 70~90℃(제 1 온도), 90~120℃(제 2 온도), 80~120℃(제 3 온도) 및 80~100℃(제 4 온도)이다. 이 예에서는, 제 1 건조의 온도는, 제 1 온도로부터 제 2 온도로 승온하고, 이어서 제 2 온도로부터 제 3 온도로 강온하며, 또한 제 3 온도로부터 제 4 온도로 강온한다. 여기서 제 1 건조의 시간은 각 단계에 있어서, 예를 들면, 5~15분이다. 건조 도막의 용매 잔존량이, 건조 도막의 질량에 대하여, 바람직하게는 5~15질량%, 보다 바람직하게는 6~12질량%가 되도록, 제 1 건조를 실시하는 것이 바람직하다. 용매 잔존량이 상기의 범위이면, 광학 필름 또는 광학 적층체의 상기의 식에 있어서의 Ymh 및 Ymv의 값을 저하시키기 쉬워, (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값을 저하시키기 쉽다. 또한, 계속해서 공정 (b)에 있어서, 지지체로부터 도막을 박리할 때의 박리성을 높이기 쉽다. 그 결과, 광학 적층체의 광학적 균질성을 높이기 쉽다. 용매의 잔존량은, 각 공정의 건조 온도를 높게 하는 것 및 건조 시간을 길게 하는 것에 의해, 저하된다. 이 때문에, 원하는 범위의 용매 잔존량이 되도록, 건조 온도나 건조 시간을 조정하여, 광학 적층체의 광학적 균질성을 높일 수 있다.In the case of drying by heating, especially considering the external factors as described above when manufacturing an optical laminate industrially, the heating temperature at the time of the first drying is preferably 60 to 150°C, more preferably It is 60-130 degreeC, More preferably, it is 70-120 degreeC. The first drying time is preferably 5 to 60 minutes, more preferably 10 to 40 minutes. The first drying may be carried out under conditions of one step or multiple steps, but it is preferable to carry out under three or more heating temperature conditions, especially considering the external factors as described above when industrially manufacturing an optical laminate. When drying is performed under the conditions of multiple stages, preferably, in each stage, drying can be performed under the same or different temperature conditions and/or drying time, for example, 3 to 10 steps, preferably 3 to Drying may be performed under the conditions of eight steps. When the first drying is performed under conditions of multiple stages, it is easy to increase the optical homogeneity of the optical laminate. In a preferred embodiment of the present invention in which the first drying is performed under three or more multi-stage conditions, it is preferable that the temperature profile of the first drying includes an increase in temperature and a decrease in temperature. That is, it is more preferable that the drying conditions in the step (a) are three or more heating temperature conditions in which the temperature profile includes temperature rise and fall. As such a temperature profile, for example in the case of four stages, the temperature of the first drying is, in turn, 70 to 90°C (first temperature), 90 to 120°C (second temperature), and 80 to 120°C (third temperature) ) And 80-100° C. (fourth temperature). In this example, the temperature of the first drying is raised from the first temperature to the second temperature, then the temperature is lowered from the second temperature to the third temperature, and the temperature is lowered from the third temperature to the fourth temperature. Here, the time of the first drying is, for example, 5 to 15 minutes in each step. It is preferable to perform the first drying so that the residual amount of the solvent in the dry coating film is preferably 5 to 15 mass%, more preferably 6 to 12 mass% with respect to the mass of the dry coating film. When the residual amount of the solvent is within the above range, it is easy to decrease the values of Y mh and Y mv in the above formulas of the optical film or optical laminate, and (Y mh +Y mv )/(X mh +X mv ) 1/ It is easy to decrease the value of 2. Moreover, it is easy to improve the peelability when peeling the coating film from a support body in successive step (b). As a result, it is easy to increase the optical homogeneity of the optical laminate. The residual amount of the solvent decreases by increasing the drying temperature of each step and lengthening the drying time. For this reason, it is possible to improve the optical homogeneity of the optical laminate by adjusting the drying temperature and the drying time so that the remaining amount of the solvent within a desired range.

이어서, 공정 (b)에 있어서, 지지체로부터 건조시킨 도막을 박리한다. 박리 방법은 특별히 한정되지 않고, 지지체를 고정시킨 상태에서 도막을 이동시켜 박리를 행해도 되고, 도막을 고정시킨 상태에서 지지체를 이동시켜 박리를 행해도 되며, 도막 및 지지체의 양방을 이동시킴으로써 박리를 행해도 된다.Next, in the step (b), the dried coating film is peeled from the support. The peeling method is not particularly limited, and peeling may be performed by moving the coating film while the support is fixed, or peeling may be performed by moving the support while the coating film is fixed, and peeling is performed by moving both the coating film and the support. You may do it.

이어서, 공정 (c)에 있어서, 공정 (b)에서 박리한 도막을 가열함으로써, 광학 필름을 얻을 수 있다. 공정 (c)에 있어서의 가열 공정을, 이하에 있어서, 「제 2 건조」 또는 「포스트 베이크」라고도 칭하고, 공정 (b)에서 박리한 도막을, 이하에 있어서, 「박리 도막」이라고도 칭한다. 공정 (c)에 있어서, 박리 도막을 면내 방향으로 신장시킨 상태에서, 포스트 베이크를 실시하는 것이 바람직하다. 제 2 건조 시의 가열 온도는, 바람직하게는 150~300℃, 보다 바람직하게는 180~250℃, 더 바람직하게는 180~230℃이다. 제 2 건조에 있어서의 가열 시간은, 바람직하게는 10~60분, 보다 바람직하게는 30~50분이다. 건조 도막을 면내 방향으로 균일하게 신장시킨 상태에서 포스트 베이크 처리를 실시하면, 광학 필름 또는 광학 적층체의 상기의 식에 있어서의 Ymh 및 Ymv의 값을 저하시키기 쉬워, (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값을 저하시키기 쉽다.Next, in the step (c), an optical film can be obtained by heating the coating film peeled off in the step (b). The heating step in the step (c) is also referred to as "second drying" or "post bake" below, and the coating film peeled off in the step (b) is also referred to as a "peel coating film" below. In step (c), it is preferable to perform post-baking in a state where the peeling coating film is stretched in the in-plane direction. The heating temperature at the time of the second drying is preferably 150 to 300°C, more preferably 180 to 250°C, and still more preferably 180 to 230°C. The heating time in 2nd drying becomes like this. Preferably it is 10 to 60 minutes, More preferably, it is 30 to 50 minutes. If post-baking treatment is performed in a state where the dry coating film is uniformly stretched in the in-plane direction, the values of Y mh and Y mv in the above formulas of the optical film or optical laminate are likely to be reduced, (Y mh + Y mv )/(X mh +X mv ) It is easy to decrease the value of 1/2.

공정 (3)에 있어서 도막을 가열할 때, 도막에 장력을 가해, 도막을 면내 방향으로 신장시킨 상태에서 가열을 행하는 것이 바람직하다. 장력을 가하면서 가열함으로써, 건조에 의한 도막의 수축에 의해 발생하는 필름의 광학적 균질성의 저하를 억제하기 쉽고, 그 결과, 광학 필름 또는 광학 적층체의 상기의 식에 있어서의 Ymh 및 Ymv의 값을 저하시키기 쉬워, (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값을 저하시키기 쉽고, 광학적 균질성을 높이기 쉽다.When heating the coating film in step (3), it is preferable to heat the coating film in a state in which tension is applied to the coating film and the coating film is stretched in the in-plane direction. By heating while applying tension, it is easy to suppress the decrease in optical homogeneity of the film caused by shrinkage of the coating film due to drying, and as a result, Y mh and Y mv in the above equations of the optical film or optical laminate It is easy to decrease the value, it is easy to decrease the value of (Y mh +Y mv )/(X mh +X mv ) 1/2 , and it is easy to increase optical homogeneity.

본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 롤·투·롤 방식으로 광학 필름을 제조하는 경우, 박리 도막을 반송 방향으로 신장시킨 상태로 건조시켜도 된다. 또한, 매엽식으로 광학 필름을 제조하는 경우, 면내 방향으로 균일하게 신장시킨 상태에서 건조시켜도 된다. 롤·투·롤 방식에 있어서의 반송 속도는, 광학 적층체의 광학적 균질성을 높이기 쉬운 관점에서, 바람직하게는 0.1~10m/분, 보다 바람직하게는 0.5~8m/분, 더 바람직하게는 0.5~5m/분이다.In one embodiment of the present invention, when producing an optical film by a roll-to-roll method, you may dry the peeling coating film in a state stretched in the conveyance direction. Further, in the case of manufacturing an optical film in a single wafer type, it may be dried in a state uniformly elongated in the in-plane direction. The conveyance speed in the roll-to-roll system is preferably 0.1 to 10 m/min, more preferably 0.5 to 8 m/min, and still more preferably 0.5 to 10 m/min, from the viewpoint of easy to increase the optical homogeneity of the optical laminate. It is 5m/min.

예를 들면 롤·투·롤 방식에 의해 광학 필름을 제조하는 경우, 소정의 폭을 가지는 장척(長尺) 띠 형상의 도막을 반송하면서 가열함으로써, 광학 필름을 얻을 수 있다. 여기서, 도막에 장력을 가하면서 가열을 행하는 경우, 그 방법은 어떠한 한정도 되지 않지만, 예를 들면 반송되는 장척 띠 형상의 필름의 양단부를 각각 파지하고, 파지된 필름을 반송하면서, 파지된 필름의 폭을 소정의 거리로 하여, 예를 들면 건조기 내를 반송하면서, 열처리를 행한다. 이 때에, 열처리 전의 필름의 폭(단, 파지부를 폭에 포함시키지 않음)에 대한 열처리 후의 필름의 폭(단, 파지부를 폭에 포함시키지 않음)의 비를 1.1 이하로 하고, 그리고, 건조기로부터 나온 수지 필름의 파지를 해제함으로써, 공정 (3)을 행하는 것이 바람직하다.For example, in the case of manufacturing an optical film by a roll-to-roll method, an optical film can be obtained by heating while conveying a long strip-shaped coating film having a predetermined width. Here, in the case of heating while applying tension to the coating film, the method is not limited in any way, for example, while holding both ends of the long strip-shaped film to be conveyed, and conveying the gripped film, the gripped film is With the width being a predetermined distance, for example, heat treatment is performed while conveying the inside of the dryer. At this time, the ratio of the width of the film after heat treatment (however, the gripping part is not included in the width) to the width of the film before heat treatment (however, the gripping part is not included in the width) is 1.1 or less, and the dryer It is preferable to perform the process (3) by releasing the gripping of the resin film that has come out from.

열처리 전의 필름의 폭(단, 파지부를 폭에 포함시키지 않음)에 대한 열처리 후의 필름의 폭(단, 파지부를 폭에 포함시키지 않음)의 비(이하, 연신 배율이라고 하는 경우가 있음)는, 바람직하게는 0.70~1.10이며, 보다 바람직하게는 0.80~1.05이고, 더 바람직하게는, 0.85~1.03이다.The ratio of the width of the film after heat treatment (however, the gripping part is not included in the width) to the width of the film before heat treatment (however, the gripping part is not included in the width) (hereinafter sometimes referred to as a draw ratio) is , Preferably it is 0.70-1.10, More preferably, it is 0.80-1.05, More preferably, it is 0.85-1.03.

필름의 파지는, 예를 들면, 복수의 클립을 이용함으로써 행해진다.The holding of the film is performed, for example, by using a plurality of clips.

당해 복수의 클립은, 반송 장치의 크기에 따라, 소정의 길이의 엔드리스 체인에 고정될 수 있고, 당해 체인이 필름과 동일한 속도로 움직이며, 당해 체인의 적절한 위치에, 클립이 설치되어 있고, 건조기에 들어가기 전에 투명 수지 필름을 파지하며, 건조기를 나온 시점에서 파지가 해제된다.The plurality of clips may be fixed to an endless chain of a predetermined length according to the size of the conveying device, the chain moves at the same speed as the film, the clip is installed at an appropriate position of the chain, and the dryer The transparent resin film is gripped before entering, and the gripping is released at the point when the dryer is exited.

필름의 일방 단(端)에 설치되는 복수의 클립은, 그 인접하는 클립 사이의 공간이 예를 들면, 1~50㎜, 바람직하게는 3~25㎜, 보다 바람직하게는 5~10㎜가 되도록, 설치된다.A plurality of clips installed at one end of the film is such that the space between the adjacent clips is, for example, 1 to 50 mm, preferably 3 to 25 mm, more preferably 5 to 10 mm. , Is installed.

또한, 필름 반송축과 직교하는 직선을, 필름의 일방 단의 임의의 클립의 파지부 중앙에 맞췄을 때, 당해 직선과 필름의 타단과의 교점과, 당해 교점에 가장 가까운 클립의 파지부 중앙과의 거리가, 바람직하게는 3㎜ 이하, 보다 바람직하게는 2㎜ 이하, 더 바람직하게는 1㎜ 이하가 되도록 할 수 있다. 당해 거리가 상기의 범위에 있음으로써, 필름의 특히 좌우에서의 균질성을 높이기 쉽다.In addition, when a straight line perpendicular to the film conveyance axis is aligned with the center of the gripping part of an arbitrary clip at one end of the film, the intersection of the straight line and the other end of the film, and the center of the gripping part of the clip closest to the intersection The distance can be made to be preferably 3 mm or less, more preferably 2 mm or less, and still more preferably 1 mm or less. When the distance is in the above range, it is easy to increase the homogeneity of the film in particular in the left and right.

열처리 전의 필름의 폭에 대한 열처리 후의 필름의 폭의 비가 상기 범위에 있으면, 필름 외관이 양호해지는 경향이 있다.When the ratio of the width of the film after heat treatment to the width of the film before heat treatment is in the above range, the film appearance tends to be good.

열처리 후의 필름 중의 용매량은, 필름의 질량을 기준으로 하여, 바람직하게는 0.001~3질량%, 보다 바람직하게는 0.001~2질량%, 더 바람직하게는 0.001~1.5질량%, 특히 바람직하게는 0.001~1.3질량%이다. 열처리 후의 필름 중의 용매량이 상기 범위에 있으면, 광학 필름의 외관이 양호해지는 경향이 있다.The amount of solvent in the film after heat treatment is based on the mass of the film, preferably 0.001 to 3% by mass, more preferably 0.001 to 2% by mass, still more preferably 0.001 to 1.5% by mass, particularly preferably 0.001 It is -1.3 mass%. When the amount of the solvent in the film after heat treatment is in the above range, the appearance of the optical film tends to be good.

열처리가 끝나고, 건조기로부터 필름이 나오면 필름의 파지가 해제되고, 바람직하게는 즉시, 필름 단부를 슬릿한다. 슬릿을 행함으로써, 필름 단부에 있어서의, 파지부와 파지되어 있지 않던 부분과의 사이에서 발생하기 쉬운 균열을 필름으로부터 제거함으로써, 그 후 필름이 반송되어 그 온도가 저하되는 것에 의한 필름의 균열의 확대를 미리 방지할 수 있다.When the heat treatment is finished and the film comes out of the dryer, the gripping of the film is released, preferably immediately, the end of the film is slit. By performing a slit, cracks that are likely to occur between the gripped portion and the portion that were not gripped at the end of the film are removed from the film, and the film is then conveyed to reduce the temperature of the film. You can prevent magnification in advance.

필름이 건조기를 나오면, 필름이 급냉되어 수축하여, 균열이 발생하는 경우가 있다. 이 때문에, 건조기 출구로부터 필름의 파지가 해방되는 위치까지 일정 비율의 필름을 이완하는 공정이 있는 것이 바람직하다. 그 비율은, 건조기로부터 나온 필름의 폭(단, 파지된 폭을 제외함)(W)과 건조기 출구로부터 필름을 해방할 때까지 파지부가 이완되는 거리(F)가, 바람직하게는 1.7≤F/W×100≤6.9, 보다 바람직하게는 1.8≤F/W×100≤6.8, 더 바람직하게는 1.9≤F/W×100≤6.7, 보다 더 바람직하게는 2.0≤F/W×100≤6.7이다.When the film comes out of the dryer, the film rapidly cools and shrinks, causing cracks in some cases. For this reason, it is preferable that there is a step of relaxing the film in a certain ratio from the outlet of the dryer to the position where the gripping of the film is released. The ratio is the width of the film from the dryer (excluding the gripped width) (W) and the distance (F) at which the gripping part is relaxed until the film is released from the dryer outlet, preferably 1.7≦F/ W×100≦6.9, more preferably 1.8≦F/W×100≦6.8, more preferably 1.9≦F/W×100≦6.7, and even more preferably 2.0≦F/W×100≦6.7.

필름의 반송 방향에 대하여 일방 단측의 이완되는 거리를 Fa, 타방 단측의 이완되는 거리를 Fb라고 하고, 그들을 합쳐 이완되는 거리 F라고 한다.With respect to the conveying direction of the film, the relaxation distance on one end side is called Fa, the relaxation distance on the other end side is called Fb, and the combined distance F is called relaxation.

건조기 출구로부터 필름의 파지가 해방될 때까지의 거리는, 바람직하게는 200~2,000㎜, 보다 바람직하게는 300~1,500㎜, 더 바람직하게는 300~1,300㎜, 보다 더 바람직하게는 300~1,000㎜이다. 당해 거리가 상기 범위에 있으면, 필름에 균열이 발생하기 어렵고, 또한 늘어짐 등 외관 불량이 발생하기 어려운 경향이 있다.The distance from the outlet of the dryer until the gripping of the film is released is preferably 200 to 2,000 mm, more preferably 300 to 1,500 mm, more preferably 300 to 1,300 mm, and even more preferably 300 to 1,000 mm. . If the distance is within the above range, there is a tendency that cracks are less likely to occur in the film, and appearance defects such as sagging are less likely to occur.

또한, 본 발명의 제조 방법에 있어서는, 상기 특징을 가지는 광학 적층체를 제조하기 쉬운 관점에서, 공정 (b)에 있어서 지지체로부터 도막을 박리한 후, 공정 (c)에 있어서 박리한 도막을 가열함으로써, 필름을 제조하고 있다. 그러나, 본 발명의 광학 적층체는, 광학 필름 또는 광학 적층체가, 상기 Ymh 등에 관한 특징을 가지는 한, 어느 제조 방법에 의해 제조된 필름이어도 된다. 예를 들면, 지지체로부터 도막을 박리하기 전에 도막을 포스트 베이크하고, 포스트 베이크 후의 필름을 지지체로부터 박리하여 제조한 것이어도 된다.In addition, in the manufacturing method of the present invention, from the viewpoint of easy production of an optical laminate having the above characteristics, after peeling the coating film from the support in the step (b), heating the coating film peeled in the step (c) , Manufacturing a film. However, the optical layered product of the present invention may be a film manufactured by any manufacturing method as long as the optical film or optical layered product has the characteristics related to the Y mh or the like. For example, before peeling the coating film from the support body, the coating film may be post-baked, and the film after the post-baking may be peeled from the support body to be produced.

이어서, 공정 (d)에 있어서, 필름의 적어도 편면에 기능층을 적층하고, 본 발명의 광학 적층체를 얻는다. 필름의 적어도 편면에 기능층을 적층시키는 방법으로서는, 필름의 적어도 편면에, 기능층 형성용 조성물을 도공하고, 필요에 따라 건조 및/또는 경화 등 시켜 적층시키는 방법, 필름의 적어도 편면에, 필름 형상의 기능층을 첩합하여 적층시키는 방법을 들 수 있다. 광학 적층체의 광학적 균질성을 높이기 쉬운 관점에서는, 기능층 형성용 조성물을 도공하여, 기능층을 적층시키는 것이 바람직하다.Next, in step (d), a functional layer is laminated on at least one side of the film to obtain the optical laminate of the present invention. As a method of laminating a functional layer on at least one side of the film, a method of coating a composition for forming a functional layer on at least one side of the film, drying and/or curing, etc. as necessary, and laminating it, and a film shape on at least one side of the film The method of bonding and laminating the functional layers of is mentioned. From the viewpoint of easy to increase the optical homogeneity of the optical laminate, it is preferable to coat the functional layer-forming composition to laminate the functional layer.

본 발명의 제조 방법은, 상기 공정 (c)의 이후 또는 (d)의 이후에, 후술하는 필름 또는 광학 적층체를 평가하는 공정 (e)를 더 포함하고 있어도 된다. 공정 (e)는, 얻어진 필름 또는 광학 적층체를 이용하여 투영법에 의해 얻은 투영 화상을 푸리에 변환하여 얻은 필름 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h 및 방향 v에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h 및 라인 프로파일 v라고 하고, 상기 투영법에 있어서 상기 필름 또는 상기 광학 적층체를 이용하지 않고 얻은 배경 화상을 푸리에 변환하여 얻은 배경 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h' 및 방향 v'에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h' 및 라인 프로파일 v'라고 하며, 라인 프로파일 h로부터 라인 프로파일 h'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (h-h')의 최대 강도를 Ymh라고 하고, 최대 강도 Ymh를 나타내는 주파수를 Xmh라고 하며, 라인 프로파일 v로부터 라인 프로파일 v'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (v-v')의 최대 강도를 Ymv라고 하고, 최대 강도 Ymv를 나타내는 주파수를 Xmv라고 하였을 때의, Ymh 및 Ymv의 값, 및, Ymh, Ymv, Xmh 및 Xmv로부터 산출되는 (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값에 의거하여, 필름 또는 광학 적층체를 평가하는 공정이다.The manufacturing method of the present invention may further include a step (e) of evaluating a film or an optical laminate to be described later after the step (c) or after the step (d). In step (e), the line profile in the direction h and the direction v perpendicular to each other in the film inverse space obtained by Fourier transforming the projection image obtained by the projection method using the obtained film or optical laminate, respectively, the line profile h And a line profile v, and lines in directions h'and v'perpendicular to each other on a background inverse space obtained by Fourier transform of a background image obtained without using the film or the optical laminate in the projection method. The profiles are called line profile h'and line profile v', respectively, and the maximum intensity of the line profile (h-h') obtained by subtracting the line profile h'from the line profile h is called Y mh , and the frequency representing the maximum intensity Y mh Is X mh , and the maximum intensity of the line profile (v-v') obtained by subtracting the line profile v'from the line profile v is called Y mv , and the frequency representing the maximum intensity Y mv is called X mv. Film or optical based on the values of mh and Y mv , and the value of (Y mh +Y mv )/(X mh +X mv ) 1/2 calculated from Y mh , Y mv , X mh and X mv It is a process of evaluating a laminate.

공정 (e)에 있어서, Ymh 및 Ymv의 값, 및 (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값에 의거하여, 필름 또는 광학 적층체의 광학적 균질성을 평가할 수 있다. 예를 들면, 요구하는 광학적 균질성에 따라 소정의 값을 설정하고, 당해 값과, 필름 또는 광학 적층체에 대하여 얻은 결과를 비교함으로써, 필름의 양부(良否)를 판단하고, 필름을 분별함으로써, Ymh 및 Ymv의 값, 및 (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값이, 소정의 값 이하인, 우수한 광학적 균질성을 가지는 광학 필름 또는 광학 적층체를 제조할 수 있다. 또한, 상기 값을 평가하면서, 건조 조건 등을 조정하여, 상기 특징을 가지는 본원 발명의 광학 적층체를 제조할 수도 있다.In step (e), based on the values of Y mh and Y mv , and the values of (Y mh +Y mv )/(X mh +X mv ) 1/2 , the optical homogeneity of the film or optical laminate is to be evaluated. I can. For example, by setting a predetermined value according to the required optical homogeneity, comparing the value with the result obtained for the film or optical laminate, judging the quality of the film, and classifying the film, Y The values of mh and Y mv , and the values of (Y mh +Y mv )/(X mh +X mv ) 1/2 are less than or equal to a predetermined value, and an optical film or optical laminate having excellent optical homogeneity can be prepared. have. Further, while evaluating the above values, drying conditions and the like can be adjusted to produce the optical laminate of the present invention having the above characteristics.

필름을 평가하는 공정 (e)에 있어서, 상기 본 발명의 평가 방법에 의해 측정된 최대 강도 Ymh 및 Ymv에 의거하여, 광학적 균질성을 평가하고, 광학 필름 또는 광학 적층체의 품질의 양부를 판단하는 것이, 광학적 균질성이 우수한 광학 적층체를 효율적으로 제조할 수 있는 관점에서 바람직하다. 광학 필름 또는 광학 적층체의 품질의 양부의 판단 기준은, 최종적으로 얻어지는 광학 적층체의 용도나, 광학 적층체에 요구되는 광학적 균질성에 따라 적절히 설정하면 되고, 특별히 한정되지 않는다. 광학 필름 등으로서 적합하게 사용되는, 우수한 균질성을 가지는 광학 적층체를 얻는 것을 목적으로, 광학 필름 또는 광학 적층체의 품질의 양부 판단을 행하는 경우에는, 본 발명의 광학 적층체에 포함되는 광학 필름에 대하여, 또는 본 발명의 광학 적층체에 대하여, 상기에 기재한 특성을 가지는지 여부를 기준으로 하여, 양부의 판단을 행하는 것이 바람직하다.In the process (e) of evaluating the film , based on the maximum intensity Y mh and Y mv measured by the evaluation method of the present invention, the optical homogeneity is evaluated, and the quality of the optical film or the optical laminate is judged. It is preferable from the viewpoint of being able to efficiently manufacture an optical laminated body excellent in optical homogeneity. The criterion for determining the quality of the optical film or the optical laminate may be appropriately set according to the use of the finally obtained optical laminate or optical homogeneity required for the optical laminate, and is not particularly limited. For the purpose of obtaining an optical laminate having excellent homogeneity that is suitably used as an optical film, etc., in the case of determining the quality of the optical film or the optical laminate, the optical film included in the optical laminate of the present invention On the other hand, it is preferable to judge whether or not the optical laminate of the present invention has the characteristics described above based on whether or not it has the characteristics described above.

상기 평가 공정에 의하면, 종래의 평가 방법에 비해 보다 높은 정밀도로 광학적 균질성을 평가하는 것이 가능해진다. 구체적으로는, 당해 평가 공정에 의하면, 종래의 평가 방법에서는 충분한 정밀도로 평가할 수 없던 TD 방향 및 MD 방향의 양 방향의 불균일이나 폭의 넓이가 상이한 불균일 등에 기인하여 발생하는, 광학적 성질의 불균일을 평가할 수 있고, 불균일의 종류에 관계없이 정밀도 좋게 광학적 균질성을 평가하는 것이 가능하다. 또한, 당해 평가 공정에 의해, 필름 또는 광학 적층체의 균질성을 정량하는 것도 가능하다. 또한, 본 명세서에 있어서 평가 공정에서 측정 대상으로 하는 광학 필름 또는 광학 적층체를, 「측정 필름」이라고도 칭한다. 공정 (e)에 있어서의 평가 공정은, 구체적으로는, 다음의 공정 (1)~(5):According to the said evaluation process, it becomes possible to evaluate optical homogeneity with higher precision compared with the conventional evaluation method. Specifically, according to the evaluation process, it is possible to evaluate non-uniformity in optical properties, which occurs due to non-uniformity in both directions in the TD direction and in the MD direction, which cannot be evaluated with sufficient precision in the conventional evaluation method, or a non-uniformity in which the width is different And it is possible to evaluate the optical homogeneity with high precision regardless of the type of non-uniformity. Moreover, it is also possible to quantify the homogeneity of a film or an optical laminated body by the said evaluation process. In addition, in this specification, the optical film or optical laminated body used as a measurement object in an evaluation process is also called "a measurement film." The evaluation step in step (e) is, specifically, the following steps (1) to (5):

(1) 광원으로부터의 광을 측정 필름에 조사하고, 측정 필름을 투과한 광을 투영면에 투영하는 투영법에 의해 투영 화상을 얻는 공정,(1) a step of obtaining a projection image by a projection method of irradiating light from a light source to a measurement film and projecting light transmitted through the measurement film onto a projection surface,

(2) 공정 (1)의 투영법에 있어서 측정 필름을 이용하지 않고, 광원으로부터의 광을 투영면에 투영하여, 배경 화상을 얻는 공정,(2) The step of obtaining a background image by projecting light from a light source onto a projection surface without using a measurement film in the projection method of step (1),

(3) 공정 (1)에서 얻은 투영 화상 및 공정 (2)에서 얻은 배경 화상을 각각 그레이 스케일화에 의해 수치화하고, 수치화된 화상 데이터를 푸리에 변환하여 역공간상(필름 역공간상 및 배경 역공간상)을 얻는 공정,(3) The projection image obtained in step (1) and the background image obtained in step (2) are digitized by gray scale, respectively, and the digitized image data is Fourier transformed to form an inverse space image (film inverse space image and background inverse space). The process of obtaining a prize),

(4) 투영 화상의 역공간상에 있어서 직교하는 2방향의 각 라인 프로파일로부터, 배경 화상의 역공간상에 있어서 직교하는 상기 2방향의 각 라인 프로파일을 각각 빼서, 블랭크 보정된 라인 프로파일을 얻는 공정,(4) A step of obtaining a blank-corrected line profile by subtracting each line profile of the two directions orthogonal in the reverse space of the background image from each line profile of two directions orthogonal in the reverse space of the projection image. ,

및,And,

(5) 공정 (4)에서 얻은 블랭크 보정된 라인 프로파일의 최대 강도(Ymh 및 Ymv)를 측정하는 공정(5) The process of measuring the maximum intensity (Y mh and Y mv ) of the blank corrected line profile obtained in step (4)

을 적어도 포함한다.It includes at least.

공정 (1)에 있어서, 광원으로부터의 광을 측정 필름에 조사하고, 측정 필름을 투과한 광을 투영면에 투영하여 투영 화상을 얻는다. 공정 (1)에 있어서, 예를 들면 도 1에 나타나는 바와 같이, 측정 필름, 투영면 등을 배치해도 된다. 구체적으로는, 광원(1), 측정 필름(2) 및 투영면(3)을 배치하고, 투영면(3)에 투영된 투영 화상(4)을 카메라(6)로 촬영하여, 투영 화상을 얻는다. 광원(1)으로부터 출력된 광(5)은, 측정 필름(2)을 투과하고, 투과한 광이 투영면(3)에 투영 화상(4)으로서 투영된다. 광(5)이 측정 필름(2)을 투과할 때, 측정 필름(2)이 균질하면, 광(5)은 균질하게 측정 필름(2)을 투과하여 투영면(3)에 도달하지만, 측정 필름(2)이 균질하지 않고, 면 형상 불균일, 두께 불균일, 배향 불균일 등이 있는 경우에는, 광(5)이 측정 필름(2)을 투과할 때에 반사 및/또는 굴절 등을 발생시켜, 광원으로부터 출력된 상태과 비교하여 일그러진 상태의 광이 투영면(3)에 도달한다. 이와 같이 하여 얻어지는 투영 화상(4)을 후술하는 방법으로 평가함으로써, 측정 필름의 광학적 균질성을 높은 정밀도로 평가 또는 정량화할 수 있다. 선명한 투영 화상을 얻기 쉬운 관점에서, 암실 내에서, 광원으로부터의 광만을 측정 필름에 투과시켜 촬영을 행하는 것이 바람직하다. 광원의 종류는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, LED 광원이나 할로겐 램프 등을 사용해도 된다. 점 광원에 가까운 광원이 바람직하고, 발광부는 1cm 직경 이하인 것이 바람직하다. 필터나 렌즈 등을 통과하면 투영상이 불선명해지기 쉬운 경향이 있으므로, 필터나 렌즈를 통과시키지 않는 광이 바람직하다. 투영면으로서는, 측정 필름의 투영 화상이 시인되는 한 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 아크릴판, 염화 비닐판, 폴리에틸렌판, 영화용의 스크린 등을 사용해도 좋다. 투영면에 투영된 화상의 촬영 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 도 1에 나타나는 바와 같이, 투영면(3)과 측정 필름(2)과 광원(1)을 일직선 상에 배치하고, 투영면(3)에 투영된 투영 화상(4)을 비스듬하게 촬영하는 위치에 카메라(6)를 고정하여 촬영해도 된다. 촬영 모드는 적절히 설정해도 되고, 예를 들면 실시예에 기재되는 바와 같은 설정을 사용해도 된다. 이와 같이 하여 투영 화상이 얻어진다.In step (1), light from a light source is irradiated onto a measurement film, and light that has passed through the measurement film is projected onto a projection surface to obtain a projection image. In the step (1), for example, as shown in FIG. 1, a measurement film, a projection surface, and the like may be disposed. Specifically, the light source 1, the measurement film 2, and the projection surface 3 are arranged, the projection image 4 projected on the projection surface 3 is photographed with the camera 6, and a projection image is obtained. The light 5 output from the light source 1 passes through the measurement film 2, and the transmitted light is projected onto the projection surface 3 as a projection image 4. When the light 5 passes through the measurement film 2, if the measurement film 2 is homogeneous, the light 5 uniformly passes through the measurement film 2 to reach the projection surface 3, but the measurement film ( 2) In the case of non-uniformity, non-uniform surface shape, non-uniform thickness, non-uniform orientation, etc., reflection and/or refraction are generated when light 5 passes through the measurement film 2, and output from the light source. Compared with the state, the light in a distorted state reaches the projection surface 3. By evaluating the projection image 4 thus obtained by the method described later, the optical homogeneity of the measurement film can be evaluated or quantified with high precision. From the viewpoint of easy obtaining a clear projection image, it is preferable to perform photographing by transmitting only the light from the light source through the measurement film in a dark room. The kind of the light source is not particularly limited, and for example, an LED light source or a halogen lamp may be used. A light source close to the point light source is preferred, and the light emitting portion is preferably 1 cm in diameter or less. Since the projection image tends to become unclear when passing through a filter or a lens, light that does not pass through the filter or lens is preferable. The projection surface is not particularly limited as long as the projection image of the measurement film is visually recognized, but for example, an acrylic plate, a vinyl chloride plate, a polyethylene plate, a screen for a movie, or the like may be used. The photographing method of the image projected on the projection surface is not particularly limited, for example, as shown in FIG. 1, the projection surface 3, the measurement film 2, and the light source 1 are arranged in a straight line, and the projection surface 3 The camera 6 may be fixed and photographed at a position where the projection image 4 projected to is taken at an angle. The photographing mode may be appropriately set, and for example, settings as described in the examples may be used. In this way, a projection image is obtained.

공정 (2)에 있어서, 공정 (1)의 투영법에 있어서 측정 필름을 이용하지 않고, 광원으로부터의 광을 투영면에 투영하여 투영 화상을 얻는다. 구체적으로는, 예를 들면 도 1에 있어서, 측정 필름(2)만을 제거한 상태로 촬영을 행하여, 배경 화상을 얻는다.In step (2), in the projection method of step (1), without using a measurement film, light from a light source is projected onto a projection surface to obtain a projection image. Specifically, in Fig. 1, for example, photographing is performed with only the measurement film 2 removed to obtain a background image.

공정 (3)에 있어서, 공정 (1)에서 얻은 투영 화상 및 공정 (2)에서 얻은 배경 화상을 각각 그레이 스케일화에 의해 수치화하고, 수치화된 화상 데이터를 푸리에 변환하여 역공간상을 얻는다. 그레이 스케일화는, 화상 해석 소프트(예를 들면 미국 국립 위생 연구소제 「Image-J」)를 이용하여, 예를 들면 8-bit의 그레이 스케일화함으로써 행할 수 있다. 그레이 스케일화에 의해, 투영 화상 및 배경 화상을 수치화할 수 있다. 이어서, 수치화된 화상 데이터를 푸리에 변환하여 역공간상(필름 역공간상 및 배경 역공간상)을 얻는다. 수치화된 화상 데이터를 푸리에 변환함으로써, 화상의 농담의 주기와 진폭을 얻을 수 있다. 푸리에 변환의 방법으로서는, 예를 들면 화상 해석 소프트(Image-J)의 푸리에 변환 기능을 이용하는 등을 들 수 있다.In the step (3), the projection image obtained in the step (1) and the background image obtained in the step (2) are digitized by gray scale, respectively, and the digitized image data is Fourier transformed to obtain an inverse spatial image. Gray scale can be performed by using an image analysis software (for example, "Image-J" manufactured by the US National Institute of Health Research), for example, by making an 8-bit gray scale. By gray-scaling, the projection image and the background image can be converted into numerical values. Subsequently, the digitized image data is Fourier transformed to obtain an inverse space image (a film inverse space image and a background inverse space image). By Fourier transforming the digitized image data, the period and amplitude of the shade of the image can be obtained. As a method of Fourier transform, for example, using the Fourier transform function of image analysis software (Image-J), etc. are mentioned.

공정 (4)에 있어서, 투영 화상의 역공간상에 있어서 직교하는 2방향의 각 라인 프로파일로부터, 배경 화상의 역공간상에 있어서 직교하는 상기 2방향의 각 라인 프로파일을 각각 빼서, 블랭크 보정된 라인 프로파일을 얻는다.In step (4), each line profile in the two directions orthogonal in the reverse space of the background image is subtracted from each line profile in two directions orthogonal in the reverse space of the projected image, and blank-corrected lines Get the profile.

공정 (5)에 있어서, 공정 (4)에서 얻은 블랭크 보정된 라인 프로파일의 최대 강도 Ymax(각각, Ymh 및 Ymv)를 측정한다. Ymh 및 Ymv의 측정 방법은, 상기에 있어서 측정 필름에 대하여 기재한 바와 같으며, 예를 들면, 역공간상의 중심을 지나는 수평 방향(h1 방향) 및 수직 방향(v1 방향)의 각각의 방향에 대하여 라인 프로파일을 작성하는 경우, 예를 들면 도 3에 나타나는 바와 같은, X축에 주파수, Y축에 강도를 나타내는 그래프로서 나타난다. 그리고, 수평 방향(h1 방향)의 라인 프로파일에 있어서의 최대 강도 Ymax를 Ymh1이라고 하고, 최대 강도 Ymh1을 나타내는 주파수로부터 블랭크 보정된 라인 프로파일에 있어서의 전체 주파수의 중앙값 Xcen을 뺀 값인 Xmax를 Xmh1이라고 한다. 또한, 수직 방향(v1 방향)의 라인 프로파일에 있어서의 최대 강도 Ymax를 Ymv1이라고 하고, 최대 강도 Ymv1을 나타내는 주파수로부터 블랭크 보정된 라인 프로파일에 있어서의 전체 주파수의 중앙값 Xcen을 뺀 값인 Xmax를 Xmv1이라고 한다. 또한, 당해 2방향은 서로 직교하고 있으면 특별히 한정되지 않고, 중심을 지나지 않는 2방향이어도 되며, 수평 방향 및 수직 방향이 아니어도 된다. In step (5), the maximum intensity Y max (Y mh and Y mv , respectively) of the blank-corrected line profile obtained in step (4) is measured. The measurement methods of Y mh and Y mv are as described above for the measurement film, for example, in the horizontal direction (h1 direction) and the vertical direction (v1 direction) passing through the center of the reverse space. In the case of creating a line profile, for example, as shown in Fig. 3, it is shown as a graph showing the frequency on the X-axis and the intensity on the Y-axis. And, the maximum intensity Y max in the line profile in the horizontal direction (h1 direction) is called Y mh1 , and X is a value obtained by subtracting the median value X cen of all frequencies in the blank corrected line profile from the frequency representing the maximum intensity Y mh1. Let max be X mh1 . In addition, the maximum intensity Y max in the line profile in the vertical direction (v1 direction) is referred to as Y mv1 , and X is a value obtained by subtracting the median value X cen of all frequencies in the blank corrected line profile from the frequency representing the maximum intensity Y mv1. Let max be X mv1 . Further, the two directions are not particularly limited as long as they are orthogonal to each other, and may be two directions not passing through the center, and may not be horizontal and vertical.

상기 Ymh 및 Ymv를 측정함으로써, 측정 필름의 2차원 방향에서 균질성을 평가할 수 있다. 측정 필름의 광학적 균질성을 저하시키는 한가지 원인이 되는 면 형상 불균일에는, 예를 들면 줄무늬 형상의 불균일 등과 같이, 일차원의 평가에서는 충분히 검출할 수 없는 종류의 불균일이 있다. 본 발명의 평가 방법에 의하면, 이차원 방향에서 광학적 균질성을 평가할 수 있기 때문에, 측정 필름의 불균일의 종류에 관계없이 높은 정밀도로 평가를 행할 수 있다. 또한, 상기 Ymh 및 Ymv를 측정하여 값을 얻음으로써, 측정 필름의 균질성을 정량하는 것도 가능하다.By measuring the said Y mh and Y mv , homogeneity can be evaluated in the two-dimensional direction of a measurement film. The surface shape unevenness that causes one cause of lowering the optical homogeneity of the measurement film includes a kind of non-uniformity that cannot be sufficiently detected in one-dimensional evaluation, such as, for example, a stripe shape non-uniformity. According to the evaluation method of the present invention, since optical homogeneity can be evaluated in a two-dimensional direction, evaluation can be performed with high precision regardless of the kind of non-uniformity of the measurement film. Further, it is also possible to quantify the homogeneity of the measurement film by measuring the Y mh and Y mv to obtain a value.

또한, 상기 최대 강도 Ymh 및 Ymv에 더해, 이들 최대 강도를 나타내는 주파수로부터 블랭크 보정된 라인 프로파일에 있어서의 전체 주파수의 중앙값 Xcen을 뺀 값인 Xmh 및 Xmv를 이용하여 평가를 행함으로써, 측정 필름의 광학적 균질성에 영향을 주는 한가지 원인이 되는 면 형상 불균일이 발생하는 주기를 검출할 수도 있다.In addition to the maximum intensities Y mh and Y mv , evaluation is performed using X mh and X mv, which are values obtained by subtracting the median value X cen of all frequencies in the blank corrected line profile from the frequencies representing these maximum intensities, It is also possible to detect the period in which plane shape non-uniformity occurs, which is one cause that affects the optical homogeneity of the measurement film.

본 발명의 광학 적층체는, 권심(卷芯)에 권취된 필름 롤이어도 된다. 권심을 구성하는 재료는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌 수지, 폴리염화비닐 수지, 폴리에스테르 수지, 에폭시 수지, 페놀 수지, 멜라민 수지, 규소 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리카보네이트 수지, ABS 수지 등의 합성 수지; 알루미늄 등의 금속; 섬유 강화 플라스틱(FRP: 유리 섬유 등의 섬유를 플라스틱에 함유시켜 강도를 향상시킨 복합 재료) 등이어도 된다. 권심의 형상도 특별히 한정되지 않지만, 원통 형상 또는 원기둥 형상의 형상인 것이 바람직하다. 권심이 원통 형상 또는 원기둥 형상인 경우, 그 외직경은, 강도 및 조작성의 관점에서는, 바람직하게는 1~12인치, 보다 바람직하게는 3~10인치, 더 바람직하게는 3~6인치이다. 또한, 권심의 세로의 길이는, 조작성의 관점에서는, 권취하는 투명 수지 필름의 폭 방향의 길이의 바람직하게는 1.0~2.0배, 보다 바람직하게는 1.0~1.8배, 더 바람직하게는 1.0~1.5배이다.The optical laminated body of the present invention may be a film roll wound around a core. The material constituting the core is not particularly limited, but for example, polyethylene resin, polypropylene resin, polyvinyl chloride resin, polyester resin, epoxy resin, phenol resin, melamine resin, silicon resin, polyurethane resin, polycarbonate resin Synthetic resins such as ABS resin; Metals such as aluminum; Fiber-reinforced plastic (FRP: a composite material in which fiber such as glass fiber is contained in plastic to improve strength) may be used. The shape of the core is also not particularly limited, but it is preferably a cylindrical shape or a cylindrical shape. When the core is cylindrical or cylindrical, the outer diameter is preferably 1 to 12 inches, more preferably 3 to 10 inches, and still more preferably 3 to 6 inches from the viewpoint of strength and operability. In addition, the longitudinal length of the winding core is preferably 1.0 to 2.0 times, more preferably 1.0 to 1.8 times, further preferably 1.0 to 1.5 times the length in the width direction of the transparent resin film to be wound from the viewpoint of operability. to be.

본 발명의 광학 적층체가 필름 롤의 형태인 경우, 광학 적층체의 제조 공정에 있어서, 광학 필름 및 기능층, 및 임의로 보호 필름을 가지는 광학 적층체가, 권심에 롤 형상으로 권회된 형태를 가지고 있어도 된다. 광학 필름이 지지체로부터 박리되지 않고, 지지체가 모두 권회되어 있어도 된다. 본 발명의 광학 적층체는, 필름 롤의 형태의 광학 적층체여도 되고, 필름 롤 형태의 광학 적층체를 재단하여 얻은 필름이어도 된다.When the optical laminate of the present invention is in the form of a film roll, in the manufacturing process of the optical laminate, the optical laminate having an optical film and a functional layer, and optionally a protective film may have a form wound around a core in a roll shape. . The optical film may not be peeled off from the support, and all of the support may be wound. The optical laminate of the present invention may be an optical laminate in the form of a film roll, or a film obtained by cutting the optical laminate in the form of a film roll.

본 발명의 광학 적층체는, 광학적 균질성을 높이기 쉬운 관점에서, 폭 방향의 길이가 바람직하게는 20cm 이상, 보다 바람직하게는 30cm 이상, 더 바람직하게는 40cm 이상, 보다 더 바람직하게는 50cm 이상, 특히 바람직하게는 60cm 이상이다. 폭 방향의 길이의 상한은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 200cm 이하 정도여도 된다. 또한, 본 발명의 광학 적층체는, 광학적 균질성을 높이기 쉬운 관점에서, 길이 방향의 길이가 바람직하게는 1m 이상, 보다 바람직하게는 10m 이상, 더 바람직하게는 100m 이상, 보다 더 바람직하게는 200m 이상, 보다 더 바람직하게는 300m 이상, 특히 바람직하게는 400m 이상이다. 길이 방향의 길이의 상한은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 5000m 이하 정도여도 된다. 상기의 크기를 가지는 광학 필름에, 적어도 1개의 기능층을 적층시킴으로써, 상기의 크기를 가지는 광학 적층체를 제조할 수 있다. 상기 크기를 가지는 광학 적층체는, 광학적 균질성을 높이기 쉬운 관점에서, 롤·투·롤 방식에 의해 제조된 것이 바람직하고, 즉, 필름 롤의 형태인 것이 바람직하다. 얻어진 필름 롤로부터, 필요한 플렉시블 디바이스의 사이즈에 따라, 광학 적층체를 잘라내어 이용할 수 있다.The optical layered product of the present invention has a length in the width direction of preferably 20 cm or more, more preferably 30 cm or more, more preferably 40 cm or more, even more preferably 50 cm or more, especially from the viewpoint of increasing optical homogeneity. It is preferably 60 cm or more. The upper limit of the length in the width direction is not particularly limited, but may be, for example, about 200 cm or less. In addition, the optical laminate of the present invention has a length in the longitudinal direction of preferably 1 m or more, more preferably 10 m or more, still more preferably 100 m or more, even more preferably 200 m or more, from the viewpoint of easy optical homogeneity. , Even more preferably 300m or more, particularly preferably 400m or more. The upper limit of the length in the longitudinal direction is not particularly limited, and may be, for example, about 5000 m or less. By laminating at least one functional layer on the optical film having the above size, an optical laminate having the above size can be manufactured. The optical laminate having the above size is preferably manufactured by a roll-to-roll method, that is, it is preferably in the form of a film roll from the viewpoint of easy optical homogeneity. From the obtained film roll, it can cut out and use an optical laminated body according to the size of a required flexible device.

광학 적층체 또는 광학 필름의 크기가 예를 들면 상기와 같이 큰 경우에는, 소정의 크기(예를 들면 200㎜×300㎜)를 가지는 필름을 잘라내어 측정 필름으로 하고, 당해 측정 필름에 대하여 구한 Ymh 등의 값을 평가해도 된다. 복수매에 대하여 측정을 행하고, 얻어진 값의 평균값을 이용하여 평가해도 된다. 당해 평균값의 바람직한 범위는, Ymh 등에 관한 상기의 범위와 마찬가지이다.When the size of the optical laminate or the optical film is large, for example, as described above, a film having a predetermined size (for example, 200 mm×300 mm) is cut out to form a measurement film, and the Y mh calculated for the measurement film You may evaluate values such as. You may measure a plurality of sheets and evaluate using the average value of the obtained values. The preferable range of the average value is the same as the above range for Y mh and the like.

<보호 필름><protective film>

본 발명의 광학 적층체에는, 보호 필름이 적층되어 있어도 된다. 보호 필름은, 광학 적층체의 편면 또는 양면에 적층되어 있어도 된다. 광학 적층체가 일방의 면에 기능층을 가지고, 타방의 면에는 기능층을 가지지 않는 경우, 보호 필름은, 광학 적층체의 기능층측의 표면에 적층되어 있어도 되고, 광학 필름측의 표면에 적층되어 있어도 되며, 양면에 적층되어 있어도 된다. 광학 적층체가 양면에 기능층을 가지는 경우, 보호 필름은, 편방의 기능층측의 표면에 적층되어 있어도 되고, 양방의 기능층측의 표면에 적층되어 있어도 된다. 보호 필름은, 광학 필름 또는 기능층의 표면을 일시적으로 보호하기 위한 필름이며, 광학 필름 또는 기능층의 표면을 보호할 수 있는 박리 가능한 필름인 한 특별히 한정되지 않는다. 보호 필름으로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지 필름; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 필름 등의 폴리올레핀계 수지 필름, 아크릴계 수지 필름 등을 들 수 있고, 폴리올레핀계 수지 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지 필름 및 아크릴계 수지 필름으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것이 바람직하다. 본 발명의 광학 적층체에, 보호 필름이 2개 적층되는 경우, 각 보호 필름은 동일 또는 상이해도 된다.A protective film may be laminated on the optical laminate of the present invention. The protective film may be laminated on one side or both sides of the optical laminate. When the optical laminate has a functional layer on one side and no functional layer on the other side, the protective film may be laminated on the surface of the functional layer side of the optical laminate, or may be laminated on the surface of the optical film side. It may be laminated on both sides. When the optical laminate has a functional layer on both sides, the protective film may be laminated on the surface on the side of the functional layer on one side or may be laminated on the surface on the side of the functional layer on both sides. The protective film is a film for temporarily protecting the surface of the optical film or functional layer, and is not particularly limited as long as it is a peelable film capable of protecting the surface of the optical film or functional layer. Examples of the protective film include polyester resin films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; Polyolefin resin films such as polyethylene and polypropylene films, acrylic resin films, and the like, and are preferably selected from the group consisting of polyolefin resin films, polyethylene terephthalate resin films, and acrylic resin films. When two protective films are laminated on the optical laminate of the present invention, each protective film may be the same or different.

보호 필름의 두께는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상, 10~120㎛, 바람직하게는 15~110㎛, 보다 바람직하게는 20~100㎛이다. 본 발명의 광학 적층체에, 보호 필름이 2개 적층되는 경우, 각 보호 필름의 두께는 동일해도 되고, 상이해도 된다.The thickness of the protective film is not particularly limited, but is usually 10 to 120 µm, preferably 15 to 110 µm, and more preferably 20 to 100 µm. When two protective films are laminated on the optical laminate of the present invention, the thickness of each protective film may be the same or different.

<플렉시블 표시 장치><Flexible display device>

본 발명은, 본 발명의 광학 적층체를 구비하는, 플렉시블 표시 장치도 제공한다. 본 발명의 광학 적층체는, 바람직하게는 플렉시블 표시 장치에 있어서 전면판으로서 이용되고, 당해 전면판은 윈도우 필름이라고 칭해지는 경우가 있다. 당해 플렉시블 표시 장치는, 플렉시블 표시 장치용 적층체와, 유기 EL 표시 패널로 이루어지고, 유기 EL 표시 패널에 대하여 시인측에 플렉시블 표시 장치용 적층체가 배치되어, 절곡 가능하게 구성되어 있다. 플렉시블 표시 장치용 적층체는, 추가로 편광판(바람직하게는 원 편광판), 터치 센서 등을 함유하고 있어도 되고, 그들의 적층 순서는 임의이지만, 시인측으로부터 윈도우 필름, 편광판, 터치 센서의 순서, 또는, 윈도우 필름, 터치 센서, 편광판의 순서로 적층되어 있는 것이 바람직하다. 터치 센서보다 시인측에 편광판이 존재하면, 터치 센서의 패턴이 시인되기 어려워져 표시 화상의 시인성이 좋아지므로 바람직하다. 각각의 부재는 접착제, 점착제 등을 이용하여 적층할 수 있다. 또한, 플렉시블 표시 장치는, 상기 윈도우 필름, 편광판, 터치 센서 중 어느 층의 적어도 일방의 면에 형성된 차광 패턴을 구비할 수 있다.The present invention also provides a flexible display device including the optical laminate of the present invention. The optical laminate of the present invention is preferably used as a front plate in a flexible display device, and the front plate is sometimes referred to as a window film. The flexible display device includes a laminate for a flexible display device and an organic EL display panel, and a laminate for a flexible display device is disposed on the viewing side of the organic EL display panel to be bent. The laminate for a flexible display device may further contain a polarizing plate (preferably a circular polarizing plate), a touch sensor, and the like, and the order of lamination thereof is arbitrary, but the order of the window film, the polarizing plate, and the touch sensor from the viewing side, or, It is preferable that they are laminated in the order of a window film, a touch sensor, and a polarizing plate. If the polarizing plate is present on the viewing side rather than the touch sensor, the pattern of the touch sensor is difficult to be recognized, and the visibility of the displayed image is improved, which is preferable. Each member may be laminated using an adhesive or an adhesive. In addition, the flexible display device may include a light blocking pattern formed on at least one surface of any layer of the window film, the polarizing plate, and the touch sensor.

<원 편광판><Circular polarizer>

본 발명의 플렉시블 표시 장치는, 상기와 같이, 편광판, 그 중에서도 원 편광판을 구비하는 것이 바람직하다. 원 편광판은, 직선 편광판에 λ/4 위상차 판을 적층함으로써, 우 또는 좌 원 편광 성분만을 투과시키는 기능을 가지는 기능층이다. 예를 들면 외광을 우 원 편광으로 변환하여 유기 EL 패널에 의해 반사되어 좌 원 편광이 된 외광을 차단하고, 유기 EL의 발광 성분만을 투과시킴으로써 반사광의 영향을 억제하여 화상을 보기 쉽게 하기 위해 이용된다. 원 편광 기능을 달성하기 위해서는, 직선 편광판의 흡수축과 λ/4 위상차 판의 지상축(遲相軸)은 이론상 45도일 필요가 있지만, 실용적으로는 45±10도이다. 직선 편광판과 λ/4 위상차 판은 반드시 인접하게 적층될 필요는 없고, 흡수축과 지상축의 관계가 전술의 범위를 만족하고 있으면 된다. 전체 파장에 있어서 완전한 원 편광을 달성하는 것이 바람직하지만 실용상은 반드시 그럴 필요는 없으므로 본 발명에 있어서의 원 편광판은 타원 편광판도 포함한다. 직선 편광판의 시인측에 추가로 λ/4 위상차 필름을 적층하여, 출사광을 원 편광으로 함으로써, 편광 선글래스를 쓴 상태에서의 시인성을 향상시키는 것도 바람직하다.As described above, the flexible display device of the present invention preferably includes a polarizing plate and a circular polarizing plate. The circular polarizing plate is a functional layer having a function of transmitting only a right or left circular polarization component by laminating a λ/4 retardation plate on a linear polarizing plate. For example, it is used to convert the external light into right circular polarized light and block the external light that is reflected by the organic EL panel and become left circular polarized light, and to suppress the influence of the reflected light by transmitting only the light emitting component of the organic EL to make the image easier to see. . In order to achieve the circular polarization function, the absorption axis of the linear polarizing plate and the slow axis of the λ/4 retardation plate need to be 45 degrees in theory, but are practically 45±10 degrees. The linear polarizing plate and the λ/4 retardation plate do not necessarily need to be laminated adjacently, and the relationship between the absorption axis and the slow axis may satisfy the above range. Although it is desirable to achieve complete circular polarization in all wavelengths, in practical use, it is not necessary to do so, so the circular polarizing plate in the present invention also includes an elliptically polarizing plate. It is also preferable to laminate a λ/4 retardation film on the viewing side of the linear polarizing plate to make the outgoing light circularly polarized, thereby improving visibility in a state of wearing polarized sunglasses.

직선 편광판은, 투과축 방향에 진동하고 있는 광은 통과시키지만, 그것과는 수직인 진동 성분의 편광을 차단하는 기능을 가지는 기능층이다. 상기 직선 편광판은, 직선 편광자 단독 또는 직선 편광자 및 그 적어도 일방의 면에 부착된 보호 필름을 구비한 구성이어도 된다. 상기 직선 편광판의 두께는, 200㎛ 이하여도 되고, 바람직하게는 0.5~100㎛이다. 직선 편광판의 두께가 상기 범위에 있으면 직선 편광판의 유연성이 저하되기 어려운 경향이 있다.The linear polarizing plate is a functional layer having a function of allowing light vibrating in the direction of a transmission axis to pass, but blocking polarization of a vibration component perpendicular thereto. The linear polarizing plate may be configured with a linear polarizer alone or a linear polarizer and a protective film attached to at least one surface thereof. The thickness of the linear polarizing plate may be 200 μm or less, and preferably 0.5 to 100 μm. When the thickness of the linear polarizing plate is within the above range, there is a tendency that the flexibility of the linear polarizing plate is difficult to decrease.

상기 직선 편광자는, 폴리비닐알코올(이하, PVA라고 간략하게 하는 경우가 있음)계 필름을 염색, 연신함으로써 제조되는 필름형 편광자여도 된다. 연신에 의해 배향된 PVA계 필름에, 요오드 등의 이색성 색소가 흡착, 또는 PVA에 흡착된 상태로 연신됨으로써 이색성 색소가 배향되어, 편광 성능을 발휘한다. 상기 필름형 편광자의 제조에 있어서는, 그외에 팽윤, 붕산에 의한 가교, 수용액에 의한 세정, 건조 등의 공정을 가지고 있어도 된다. 연신이나 염색 공정은 PVA계 필름 단독으로 행해도 되고, 폴리에틸렌테레프탈레이트와 같은 다른 필름과 적층된 상태로 행할 수도 있다. 이용되는 PVA계 필름의 두께는 바람직하게는 10~100㎛이며, 상기 연신 배율은 바람직하게는 2~10배이다.The linear polarizer may be a film-type polarizer manufactured by dyeing and stretching a polyvinyl alcohol (hereinafter, sometimes referred to as PVA)-based film. A dichroic dye such as iodine is adsorbed to the PVA-based film oriented by stretching or stretched in a state adsorbed by PVA, whereby the dichroic dye is oriented to exhibit polarization performance. In the production of the film-type polarizer, other steps such as swelling, crosslinking with boric acid, washing with an aqueous solution, and drying may be provided. The stretching and dyeing process may be performed by the PVA-based film alone, or may be performed in a state of being laminated with another film such as polyethylene terephthalate. The thickness of the PVA-based film to be used is preferably 10 to 100 μm, and the draw ratio is preferably 2 to 10 times.

또한 상기 편광자의 다른 일례로서는, 액정 편광 조성물을 도포하여 형성하는 액정 도포형 편광자를 들 수 있다. 상기 액정 편광 조성물은, 액정성 화합물 및 이색성(二色性) 색소 화합물을 포함할 수 있다. 상기 액정성 화합물은, 액정 상태를 나타내는 성질을 가지고 있으면 되고, 특히 스멕틱상(Smectic Phase) 등의 고차(高次)의 배향 상태를 가지고 있으면 높은 편광 성능을 발휘할 수 있기 때문에 바람직하다. 또한, 액정성 화합물은, 중합성 관능기를 가지는 것이 바람직하다.Moreover, as another example of the said polarizer, a liquid crystal coating type polarizer formed by coating a liquid crystal polarizing composition is mentioned. The said liquid crystal polarizing composition may contain a liquid crystal compound and a dichroic dye compound. The liquid crystal compound should have a property that exhibits a liquid crystal state, and particularly, if it has a high-order alignment state such as a Smectic phase, it is preferable because it can exhibit high polarization performance. In addition, it is preferable that the liquid crystal compound has a polymerizable functional group.

상기 이색성 색소 화합물은, 상기 액정 화합물과 함께 배향되어 이색성을 나타내는 색소로서, 중합성 관능기를 가지고 있어도 되고, 또한, 이색성 색소 자신이 액정성을 가지고 있어도 된다.The dichroic dye compound is a dye that is oriented together with the liquid crystal compound to exhibit dichroism, and may have a polymerizable functional group, and the dichroic dye itself may have liquid crystallinity.

액정 편광 조성물에 포함되는 화합물 중 어느 것은 중합성 관능기를 가진다. 상기 액정 편광 조성물은 추가로 개시제, 용제, 분산제, 레벨링제, 안정제, 계면활성제, 가교제, 실란 커플링제 등을 포함할 수 있다.Any of the compounds contained in the liquid crystal polarizing composition has a polymerizable functional group. The liquid crystal polarizing composition may further include an initiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, a crosslinking agent, a silane coupling agent, and the like.

상기 액정 편광층은, 배향막 상에 액정 편광 조성물을 도포하여 액정 편광층을 형성함으로써 제조된다. 액정 편광층은, 필름형 편광자에 비해 두께를 얇게 형성할 수 있고, 그 두께는 바람직하게는 0.5~10㎛, 보다 바람직하게는 1~5㎛이다.The liquid crystal polarizing layer is produced by forming a liquid crystal polarizing layer by applying a liquid crystal polarizing composition on an alignment film. The liquid crystal polarizing layer can be formed to have a thinner thickness compared to the film-type polarizer, and the thickness is preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 1 to 5 μm.

상기 배향막은, 예를 들면 기재 상에 배향막 형성 조성물을 도포하고, 러빙 (rubbing), 편광 조사 등에 의해 배향성을 부여함으로써 제조된다. 상기 배향막 형성 조성물은, 배향제를 포함하고, 추가로 용제, 가교제, 개시제, 분산제, 레벨링제, 실란 커플링제 등을 포함하고 있어도 된다. 상기 배향제로서는, 예를 들면, 폴리비닐알코올류, 폴리아크릴레이트류, 폴리아믹산류, 폴리이미드류를 들 수 있다. 편광 조사에 의해 배향성을 부여하는 배향제를 이용하는 경우, 신나메이트기를 포함하는 배향제를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 배향제로서 사용되는 고분자의 중량 평균 분자량은, 예를 들면, 10,000~1,000,000 정도이다. 상기 배향막의 두께는, 바람직하게는 5~10,000㎚이며, 배향 규제력이 충분히 발현되는 점에서, 보다 바람직하게는 10~500㎚이다.The alignment layer is manufactured by applying an alignment layer forming composition on a substrate and imparting alignment by rubbing or polarization irradiation. The said alignment film-forming composition contains an alignment agent, and may further contain a solvent, a crosslinking agent, an initiator, a dispersing agent, a leveling agent, a silane coupling agent, etc. Examples of the alignment agent include polyvinyl alcohols, polyacrylates, polyamic acids, and polyimides. When using an aligning agent which imparts orientation by polarization irradiation, it is preferable to use an aligning agent containing a cinnamate group. The weight average molecular weight of the polymer used as the aligning agent is, for example, about 10,000 to 1,000,000. The thickness of the alignment film is preferably 5 to 10,000 nm, and more preferably 10 to 500 nm from the viewpoint of sufficiently expressing the orientation regulating force.

상기 액정 편광층은 기재로부터 박리하여 전사시켜 적층할 수도 있고, 상기 기재를 그대로 적층할 수도 있다. 상기 기재가, 보호 필름이나 위상차 판, 윈도우 필름의 투명 기재로서의 역할을 담당하는 것도 바람직하다.The liquid crystal polarizing layer may be peeled off from the substrate and transferred to be laminated, or the substrate may be laminated as it is. It is also preferable that the said base material plays a role as a transparent base material of a protective film, a retardation plate, and a window film.

상기 보호 필름으로서는, 투명한 고분자 필름이면 되고 상기 윈도우 필름의 투명 기재에 사용되는 재료나 첨가제와 동일한 것을 사용할 수 있다. 또한, 에폭시 수지 등의 카티온 경화 조성물이나 아크릴레이트 등의 라디칼 경화 조성물을 도포하여 경화시켜 얻어지는 코팅형의 보호 필름이어도 된다. 당해 보호 필름은, 필요에 따라 가소제, 자외선 흡수제, 적외선 흡수제, 안료나 염료와 같은 착색제, 형광 증백제, 분산제, 열 안정제, 광 안정제, 대전 방지제, 산화 방지제, 활제, 용제 등을 포함하고 있어도 된다. 당해 보호 필름의 두께는, 바람직하게는 200㎛ 이하, 보다 바람직하게는 1~100㎛이다. 보호 필름의 두께가 상기 범위에 있으면, 당해 필름의 유연성이 저하되기 어려운 경향이 있다.As the protective film, a transparent polymer film may be used, and the same materials and additives as those used for the transparent substrate of the window film can be used. Moreover, it may be a coating-type protective film obtained by coating and curing a cation curing composition such as an epoxy resin or a radical curing composition such as an acrylate. The protective film may contain a plasticizer, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, a colorant such as a pigment or dye, a fluorescent whitening agent, a dispersant, a heat stabilizer, a light stabilizer, an antistatic agent, an antioxidant, a lubricant, a solvent, etc., if necessary. . The thickness of the protective film is preferably 200 µm or less, more preferably 1 to 100 µm. When the thickness of the protective film is in the above range, there is a tendency that the flexibility of the film is difficult to decrease.

상기 λ/4 위상차 판은, 입사광의 진행 방향과 직교하는 방향(필름의 면내 방향)으로 λ/4의 위상차를 부여하는 필름이다. 상기 λ/4 위상차 판은, 셀룰로오스계 필름, 올레핀계 필름, 폴리카보네이트계 필름 등의 고분자 필름을 연신함으로써 제조되는 연신형 위상차 판이어도 된다. 상기 λ/4 위상차 판은, 필요에 따라 위상차 조정제, 가소제, 자외선 흡수제, 적외선 흡수제, 안료나 염료와 같은 착색제, 형광 증백제, 분산제, 열 안정제, 광 안정제, 대전 방지제, 산화 방지제, 활제, 용제 등을 포함하고 있어도 된다.The λ/4 retardation plate is a film that imparts a phase difference of λ/4 in a direction perpendicular to the advancing direction of incident light (in-plane direction of the film). The λ/4 retardation plate may be a stretched retardation plate manufactured by stretching a polymer film such as a cellulose film, an olefin film, or a polycarbonate film. The λ/4 retardation plate is, if necessary, a retardation adjuster, a plasticizer, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, a colorant such as a pigment or dye, a fluorescent whitening agent, a dispersant, a heat stabilizer, a light stabilizer, an antistatic agent, an antioxidant, a lubricant, a solvent. It may contain, etc.

상기 연신형 위상차 판의 두께는, 바람직하게는 200㎛ 이하, 보다 바람직하게는 1~100㎛이다. 연신형 위상차 판의 두께가 상기 범위에 있으면, 당해 연신형 위상차 판의 유연성이 저하되기 어려운 경향이 있다.The thickness of the stretched retardation plate is preferably 200 µm or less, more preferably 1 to 100 µm. When the thickness of the stretched retardation plate is within the above range, there is a tendency that the flexibility of the stretched retardation plate is hardly lowered.

또한 상기 λ/4 위상차 판의 다른 일례로서는, 액정 조성물을 도포하여 형성하는 액정 도포형 위상차 판을 들 수 있다.Further, as another example of the λ/4 retardation plate, a liquid crystal coating type retardation plate formed by applying a liquid crystal composition may be mentioned.

상기 액정 조성물은, 네마틱, 콜레스테릭, 스멕틱 등의 액정 상태를 나타내는 액정성 화합물을 포함한다. 상기 액정성 화합물은, 중합성 관능기를 가진다.The liquid crystal composition contains a liquid crystal compound that exhibits a liquid crystal state such as nematic, cholesteric, and smectic. The liquid crystalline compound has a polymerizable functional group.

상기 액정 조성물은, 추가로 개시제, 용제, 분산제, 레벨링제, 안정제, 계면활성제, 가교제, 실란 커플링제 등을 포함할 수 있다.The liquid crystal composition may further include an initiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, a crosslinking agent, a silane coupling agent, and the like.

상기 액정 도포형 위상차 판은, 상기 액정 편광층과 마찬가지로, 액정 조성물을 하지(下地) 상에 도포, 경화하여 액정 위상차층을 형성함으로써 제조할 수 있다. 액정 도포형 위상차 판은, 연신형 위상차 판에 비해 두께를 얇게 형성할 수 있다. 상기 액정 편광층의 두께는, 바람직하게는 0.5~10㎛, 보다 바람직하게는 1~5㎛이다.The liquid crystal coating type retardation plate can be manufactured by forming a liquid crystal retardation layer by coating and curing a liquid crystal composition on a base, similarly to the liquid crystal polarizing layer. The liquid crystal coating type retardation plate can be formed to be thinner than the stretched retardation plate. The thickness of the liquid crystal polarizing layer is preferably 0.5 to 10 µm, more preferably 1 to 5 µm.

상기 액정 도포형 위상차 판은 기재로부터 박리하여 전사시켜 적층할 수도 있고, 상기 기재를 그대로 적층할 수도 있다. 상기 기재가, 보호 필름이나 위상차 판, 윈도우 필름의 투명 기재로서의 역할을 담당하는 것도 바람직하다.The liquid crystal coating type retardation plate may be peeled from the substrate and transferred to be laminated, or the substrate may be laminated as it is. It is also preferable that the said base material plays a role as a transparent base material of a protective film, a retardation plate, and a window film.

일반적으로는, 단파장일수록 복굴절이 크고 장파장이 될수록 작은 복굴절을 나타내는 재료가 많다. 이 경우에는 전체 가시광 영역에서 λ/4의 위상차를 달성할 수는 없으므로, 시감도의 높은 560㎚ 부근에 대하여 λ/4가 되도록, 면내 위상차는, 바람직하게는 100~180㎚, 보다 바람직하게는 130~150㎚가 되도록 설계된다. 통상과는 반대의 복굴절율 파장 분산 특성을 가지는 재료를 이용한 역분산 λ/4 위상차 판은, 시인성이 양호해지는 점에서 바람직하다. 이와 같은 재료로서는, 예를 들면 연신형 위상차 판은 일본공개특허 특개2007-232873호 공보 등에, 액정 도포형 위상차 판은 일본공개특허 특개2010-30979호 공보 등에 기재되어 있는 것을 이용할 수 있다.In general, the shorter the wavelength, the greater the birefringence, and the longer the wavelength, the smaller the number of materials. In this case, since a phase difference of λ/4 cannot be achieved in the entire visible light region, the in-plane phase difference is preferably 100 to 180 nm, more preferably 130 so that λ/4 is achieved in the vicinity of 560 nm with high visibility. It is designed to be ~150nm. An inverse dispersion λ/4 retardation plate using a material having a birefringence wavelength dispersion characteristic opposite to that of usual is preferable from the viewpoint of improving visibility. As such a material, for example, those described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-232873 and the like for the stretchable retardation plate, and those described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2010-30979 for the liquid crystal coating type retardation plate can be used.

또한, 다른 방법으로서는 λ/2 위상차 판과 조합함으로써 광대역 λ/4 위상차 판을 얻는 기술도 알려져 있다(예를 들면, 일본공개특허 특개평10-90521호 공보 등). λ/2 위상차 판도 λ/4 위상차 판과 마찬가지의 재료 방법으로 제조된다. 연신형 위상차 판과 액정 도포형 위상차 판의 조합은 임의이지만, 어느 것도 액정 도포형 위상차 판을 이용함으로써 두께를 얇게 할 수 있다.In addition, as another method, a technique of obtaining a broadband λ/4 phase difference plate by combining with a λ/2 phase difference plate is also known (for example, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. Hei 10-90521). The λ/2 phase difference plate is also manufactured by the same material method as the λ/4 phase difference plate. The combination of the stretched retardation plate and the liquid crystal coated retardation plate is arbitrary, but any of them can be made thin by using a liquid crystal coated retardation plate.

상기 원 편광판에는 경사 방향의 시인성을 높이기 위해, 정(正)의 C 플레이트를 적층하는 방법이 알려져 있다(예를 들면, 일본공개특허 특개2014-224837호 공보 등). 정의 C 플레이트는, 액정 도포형 위상차 판이어도 연신형 위상차 판이어도 된다. 당해 위상차 판의 두께 방향의 위상차는, 바람직하게는 -200~-20㎚, 보다 바람직하게는 -140~-40㎚이다.A method of laminating a positive C plate to the circular polarizing plate in order to increase visibility in an oblique direction is known (for example, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2014-224837). The positive C plate may be a liquid crystal coating type retardation plate or a stretch type retardation plate. The retardation in the thickness direction of the retardation plate is preferably -200 to -20 nm, more preferably -140 to -40 nm.

<터치 센서><Touch sensor>

본 발명의 플렉시블 표시 장치는, 상기와 같이, 터치 센서를 구비하는 것이 바람직하다. 터치 센서는 입력 수단으로서 이용된다. 터치 센서로서는, 저항막 방식, 표면 탄성파 방식, 적외선 방식, 전자 유도 방식, 정전 용량 방식 등 다양한 양식을 들 수 있고, 바람직하게는 정전 용량 방식을 들 수 있다.As described above, it is preferable that the flexible display device of the present invention includes a touch sensor. The touch sensor is used as an input means. Examples of the touch sensor include various forms such as a resistive film method, a surface acoustic wave method, an infrared method, an electromagnetic induction method, and a capacitive method, and preferably a capacitive method is mentioned.

정전 용량 방식 터치 센서는 활성 영역 및 상기 활성 영역의 외곽부에 위치하는 비활성 영역으로 구분된다. 활성 영역은 표시 패널에서 화면이 표시되는 영역(표시부)에 대응하는 영역으로서, 사용자의 터치가 감지되는 영역이고, 비활성 영역은 표시 장치에서 화면이 표시되지 않는 영역(비표시부)에 대응하는 영역이다. 터치 센서는 플렉시블한 특성을 가지는 기판과, 상기 기판의 활성 영역에 형성된 감지 패턴과, 상기 기판의 비활성 영역에 형성되어, 상기 감지 패턴과 패드부를 개재하여 외부의 구동 회로와 접속하기 위한 각 센싱 라인을 포함할 수 있다. 플렉시블한 특성을 가지는 기판으로서는, 상기 윈도우 필름의 투명 기판과 마찬가지의 재료를 사용할 수 있다.The capacitive touch sensor is divided into an active area and an inactive area located at an outer portion of the active area. The active area is an area corresponding to an area (display unit) in which the screen is displayed on the display panel, and is an area where a user's touch is sensed, and the inactive area is an area corresponding to an area in which the screen is not displayed (non-display area) on the display device . The touch sensor includes a substrate having a flexible characteristic, a sensing pattern formed in the active region of the substrate, and each sensing line formed in the non-active region of the substrate and connected to an external driving circuit through the sensing pattern and the pad part. It may include. As the substrate having flexible properties, the same material as the transparent substrate of the window film can be used.

상기 감지 패턴은, 제 1 방향에 형성된 제 1 패턴 및 제 2 방향에 형성된 제 2 패턴을 구비할 수 있다. 제 1 패턴과 제 2 패턴은 서로 상이한 방향에 배치된다. 제 1 패턴 및 제 2 패턴은, 동일층에 형성되고, 터치되는 지점을 감지하기 위해서는, 각각의 패턴이 전기적으로 접속되어야 한다. 제 1 패턴은 복수의 단위 패턴이 이음매를 개재하여 접속된 형태이지만, 제 2 패턴은 복수의 단위 패턴이 아일랜드 형태로 서로 분리된 구조로 되어 있으므로, 제 2 패턴을 전기적으로 접속하기 위해서는 별도의 브리지 전극이 필요하다. 제 2 패턴의 접속을 위한 전극에는, 주지의 투명 전극을 적용할 수 있다. 당해 투명 전극의 소재로서는, 예를 들면, 인듐 주석 산화물(ITO), 인듐 아연 산화물(IZO), 아연 산화물(ZnO), 인듐 아연 주석 산화물(IZTO), 인듐 갈륨 아연 산화물(IGZO), 카드뮴 주석 산화물(CTO), PEDOT(poly(3,4-ethylenedioxythiophene)), 탄소 나노 튜브(CNT), 그래핀, 금속 와이어 등을 들 수 있고, 바람직하게는 ITO를 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 금속 와이어에 사용되는 금속은 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 은, 금, 알루미늄, 구리, 철, 니켈, 티탄, 셀레늄, 크롬 등을 들 수 있고, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The sensing pattern may include a first pattern formed in a first direction and a second pattern formed in a second direction. The first pattern and the second pattern are arranged in different directions. The first pattern and the second pattern are formed on the same layer, and each pattern must be electrically connected in order to sense a touched point. In the first pattern, a plurality of unit patterns are connected through a seam, but the second pattern has a structure in which a plurality of unit patterns are separated from each other in the form of an island, so a separate bridge is used to electrically connect the second pattern. You need an electrode. A known transparent electrode can be applied to the electrode for connection of the second pattern. Examples of the material for the transparent electrode include indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc tin oxide (IZTO), indium gallium zinc oxide (IGZO), and cadmium tin oxide. (CTO), PEDOT (poly(3,4-ethylenedioxythiophene)), carbon nanotubes (CNT), graphene, metal wire, and the like, and preferably ITO is used. These can be used alone or in combination of two or more. The metal used for the metal wire is not particularly limited, and examples thereof include silver, gold, aluminum, copper, iron, nickel, titanium, selenium, and chromium, and these may be used alone or in combination of two or more. .

브리지 전극은 감지 패턴 상부에 절연층을 개재하여 상기 절연층 상부에 형성될 수 있고, 기판 상에 브리지 전극이 형성되어 있으며, 그 위에 절연층 및 감지 패턴을 형성할 수 있다. 상기 브리지 전극은 감지 패턴과 동일한 소재로 형성할 수도 있고, 몰리브덴, 은, 알루미늄, 구리, 팔라듐, 금, 백금, 아연, 주석, 티탄 또는 이들 중 2종 이상의 합금으로 형성할 수도 있다.The bridge electrode may be formed on the insulating layer by interposing an insulating layer on the sensing pattern, a bridge electrode may be formed on a substrate, and an insulating layer and a sensing pattern may be formed thereon. The bridge electrode may be formed of the same material as the sensing pattern, or may be formed of molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium, or an alloy of two or more of them.

제 1 패턴과 제 2 패턴은 전기적으로 절연되어야 하므로, 감지 패턴과 브리지 전극의 사이에는 절연층이 형성된다. 당해 절연층은, 제 1 패턴의 이음매와 브리지 전극과의 사이에만 형성하거나, 감지 패턴 전체를 덮는 층으로서 형성할 수도 있다. 감지 패턴 전체를 덮는 층의 경우, 브리지 전극은 절연층에 형성된 컨택트 홀을 개재하여 제 2 패턴을 접속할 수 있다.Since the first pattern and the second pattern must be electrically insulated, an insulating layer is formed between the sensing pattern and the bridge electrode. The insulating layer may be formed only between the joint of the first pattern and the bridge electrode, or may be formed as a layer covering the entire sensing pattern. In the case of a layer covering the entire sensing pattern, the bridge electrode may connect the second pattern through a contact hole formed in the insulating layer.

상기 터치 센서는, 감지 패턴이 형성된 패턴 영역과, 감지 패턴이 형성되어 있지 않은 비패턴 영역과의 사이의 투과율의 차, 구체적으로는, 이들 영역에 있어서의 굴절률의 차에 의해 유발되는 광 투과율의 차를 적절하게 보상하기 위한 수단으로서 기판과 전극의 사이에 광학 조절층을 추가로 포함할 수 있다. 당해 광학 조절층은, 무기 절연 물질 또는 유기 절연 물질을 포함할 수 있다. 광학 조절층은 광경화성 유기 바인더 및 용제를 포함하는 광경화 조성물을 기판 상에 코팅하여 형성할 수 있다. 상기 광경화 조성물은 무기 입자를 추가로 포함할 수 있다. 상기 무기 입자에 의해 광학 조절층의 굴절률을 높게 할 수 있다.The touch sensor includes a difference in transmittance between a pattern region in which a sensing pattern is formed and a non-pattern region in which a sensing pattern is not formed, specifically, a light transmittance caused by a difference in refractive indices in these regions. As a means for appropriately compensating for the difference, an optical control layer may be further included between the substrate and the electrode. The optical control layer may include an inorganic insulating material or an organic insulating material. The optical control layer may be formed by coating a photocurable composition including a photocurable organic binder and a solvent on a substrate. The photocurable composition may further include inorganic particles. The refractive index of the optical control layer can be increased by the inorganic particles.

상기 광경화성 유기 바인더는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 예를 들면, 아크릴레이트계 단량체, 스티렌계 단량체, 카르본산계 단량체 등의 각 단량체의 공중합체를 포함할 수 있다. 상기 광경화성 유기 바인더는, 예를 들면, 에폭시기 함유 반복 단위, 아크릴레이트 반복 단위, 카르본산 반복 단위 등의 서로 상이한 각 반복 단위를 포함하는 공중합체여도 된다.The photocurable organic binder may include a copolymer of each monomer such as, for example, an acrylate-based monomer, a styrene-based monomer, and a carboxylic acid-based monomer within a range that does not impair the effects of the present invention. The photocurable organic binder may be, for example, a copolymer containing different repeating units such as an epoxy group-containing repeating unit, an acrylate repeating unit, and a carboxylic acid repeating unit.

상기 무기 입자로서는, 예를 들면, 지르코니아 입자, 티타니아 입자, 알루미나 입자 등을 들 수 있다.Examples of the inorganic particles include zirconia particles, titania particles, and alumina particles.

상기 광경화 조성물은, 광중합 개시제, 중합성 모노머, 경화 보조제 등의 각 첨가제를 추가로 포함할 수도 있다.The photocurable composition may further contain additives such as a photopolymerization initiator, a polymerizable monomer, and a curing aid.

<접착층><Adhesive layer>

상기 플렉시블 화상 표시 장치용 적층체를 형성하는 각 층(윈도우 필름, 원 편광판, 터치 센서) 및 각 층을 구성하는 필름 부재(직선 편광판, λ/4 위상차 판 등)은 접착제에 의해 접합할 수 있다. 당해 접착제로서는, 수계 접착제, 유기 용제계, 무용제계 접착제, 고체 접착제, 수계 용제 휘산형 접착제, 습기 경화형 접착제, 가열 경화형 접착제, 혐기 경화형, 활성 에너지선 경화형 접착제, 경화제 혼합형 접착제, 열 용융형 접착제, 감압형 접착제(점착제), 재습형 접착제 등, 통상 사용되고 있는 접착제 등을 사용할 수 있고, 바람직하게는 수계 용제 휘산형 접착제, 활성 에너지선 경화형 접착제, 점착제를 사용할 수 있다. 접착제층의 두께는, 요구되는 접착력 등에 따라 적절히 조절할 수 있고, 바람직하게는 0.01~500㎛, 보다 바람직하게는 0.1~300㎛이다. 상기 플렉시블 화상 표시 장치용 적층체에는, 복수의 접착층이 존재하지만, 각각의 두께나 종류는, 동일해도 상이해도 된다.Each layer (window film, circular polarizing plate, touch sensor) forming the laminate for the flexible image display device and the film member (straight polarizing plate, λ/4 retardation plate, etc.) forming each layer can be bonded with an adhesive. . Examples of the adhesive include water-based adhesives, organic solvents, solvent-free adhesives, solid adhesives, water-based solvent vaporization adhesives, moisture curing adhesives, heat curing adhesives, anaerobic curing, active energy ray curing adhesives, curing agent mixture adhesives, heat melting adhesives, Pressure-sensitive adhesives (adhesives), rewet-type adhesives, and the like, commonly used adhesives, etc. can be used, and water-based solvent volatilization-type adhesives, active energy ray-curable adhesives, and pressure-sensitive adhesives can be used. The thickness of the adhesive layer can be appropriately adjusted according to the required adhesive force, etc., preferably 0.01 to 500 µm, more preferably 0.1 to 300 µm. Although a plurality of adhesive layers are present in the laminate for a flexible image display device, each thickness and type may be the same or different.

상기 수계 용제 휘산형 접착제로서는, 폴리비닐알코올계 폴리머, 전분 등의 수용성 폴리머, 에틸렌-아세트산 비닐계 에멀젼, 스티렌-부타디엔계 에멀젼 등 수(水)분산 상태의 폴리머를 주제(主劑) 폴리머로서 사용할 수 있다. 상기 주제 폴리머와 물에 더해, 가교제, 실란계 화합물, 이온성 화합물, 가교 촉매, 산화 방지제, 염료, 안료, 무기 필러, 유기 용제 등을 배합해도 된다. 상기 수계 용제 휘산형 접착제에 의해 접착하는 경우, 상기 수계 용제 휘산형 접착제를 피접착층 사이에 주입하여 피착층을 첩합한 후, 건조시킴으로써 접착성을 부여할 수 있다. 상기 수계 용제 휘산형 접착제를 이용하는 경우, 그 접착층의 두께는, 바람직하게는 0.01~10㎛, 보다 바람직하게는 0.1~1㎛이다. 상기 수계 용제 휘산형 접착제를 복수층에 이용하는 경우, 각각의 층의 두께나 종류는 동일해도 상이해도 된다.As the aqueous solvent volatilization adhesive, a water-dispersed polymer such as polyvinyl alcohol-based polymer, water-soluble polymer such as starch, ethylene-vinyl acetate-based emulsion, and styrene-butadiene-based emulsion can be used as the main polymer. I can. In addition to the main polymer and water, a crosslinking agent, a silane compound, an ionic compound, a crosslinking catalyst, an antioxidant, a dye, a pigment, an inorganic filler, an organic solvent, and the like may be blended. In the case of bonding with the water-based solvent vaporizing adhesive, the water-based solvent vaporizing adhesive is injected between the adhered layers to bond the adhered layers and then dried to impart adhesiveness. In the case of using the aqueous solvent volatilization type adhesive, the thickness of the adhesive layer is preferably 0.01 to 10 µm, more preferably 0.1 to 1 µm. When using the above water-based solvent volatilization adhesive for a plurality of layers, the thickness and type of each layer may be the same or different.

상기 활성 에너지선 경화형 접착제는, 활성 에너지선을 조사하여 접착제층을 형성하는 반응성 재료를 포함하는 활성 에너지선 경화 조성물의 경화에 의해 형성할 수 있다. 상기 활성 에너지선 경화 조성물은, 하드 코팅 조성물에 포함되는 것과 마찬가지의 라디칼 중합성 화합물 및 카티온 중합성 화합물의 적어도 1종의 중합물을 함유할 수 있다. 상기 라디칼 중합성 화합물은, 하드 코팅 조성물에 있어서의 라디칼 중합성 화합물과 동일한 화합물을 이용할 수 있다.The active energy ray-curable adhesive may be formed by curing an active energy ray-curable composition containing a reactive material that forms an adhesive layer by irradiating with an active energy ray. The active energy ray-curable composition may contain at least one polymer of a radical polymerizable compound and a cation polymerizable compound similar to those contained in the hard coating composition. As the radical polymerizable compound, the same compound as the radical polymerizable compound in the hard coating composition can be used.

상기 카티온 중합성 화합물은, 하드 코팅 조성물에 있어서의 카티온 중합성 화합물과 동일한 화합물을 이용할 수 있다.As the cation polymerizable compound, the same compound as the cation polymerizable compound in the hard coating composition can be used.

활성 에너지선 경화 조성물에 이용되는 카티온 중합성 화합물로서는, 에폭시 화합물이 특히 바람직하다. 접착제 조성물로서의 점도를 낮추기 위해 단관능의 화합물을 반응성 희석제로서 포함하는 것도 바람직하다.As the cationic polymerizable compound used in the active energy ray curing composition, an epoxy compound is particularly preferable. It is also preferable to include a monofunctional compound as a reactive diluent in order to lower the viscosity as an adhesive composition.

활성 에너지선 조성물은, 점도를 저하시키기 위해, 단관능의 화합물을 포함할 수 있다. 당해 단관능의 화합물로서는, 1분자 중에 1개의 (메타)아크릴로일기를 가지는 아크릴레이트계 단량체나, 1분자 중에 1개의 에폭시기 또는 옥세타닐기를 가지는 화합물, 예를 들면, 글리시딜(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.The active energy ray composition may contain a monofunctional compound in order to lower the viscosity. As the monofunctional compound, an acrylate monomer having one (meth)acryloyl group per molecule, or a compound having one epoxy group or oxetanyl group per molecule, such as glycidyl (meth) Acrylate, etc. are mentioned.

활성 에너지선 조성물은, 추가로 중합 개시제를 포함할 수 있다. 당해 중합 개시제로서는, 라디칼 중합 개시제, 카티온 중합 개시제, 라디칼 및 카티온 중합 개시제 등을 들 수 있고, 이들은 적절히 선택하여 이용된다. 이들 중합 개시제는, 활성 에너지선 조사 및 가열의 적어도 1종에 의해 분해되어, 라디칼 혹은 카티온을 발생시켜 라디칼 중합과 카티온 중합을 진행시키는 것이다. 하드 코팅 조성물의 기재 중에서 활성 에너지선 조사에 의해 라디칼 중합 또는 카티온 중합의 적어도 어느 것을 개시할 수 있는 개시제를 사용할 수 있다.The active energy ray composition may further contain a polymerization initiator. Examples of the polymerization initiator include a radical polymerization initiator, a cation polymerization initiator, a radical and a cation polymerization initiator, and the like, and these are appropriately selected and used. These polymerization initiators are decomposed by at least one of active energy ray irradiation and heating to generate radicals or cation to advance radical polymerization and cation polymerization. Among the substrates of the hard coating composition, an initiator capable of initiating at least either radical polymerization or cationic polymerization by irradiation with active energy rays can be used.

상기 활성 에너지선 경화 조성물은 추가로, 이온 포착제, 산화 방지제, 연쇄 이동제, 밀착 부여제, 열가소성 수지, 충전제, 유동 점도 조정제, 가소제, 소포제, 첨가제, 용제를 포함할 수 있다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제에 의해 2개의 피접착층을 접착하는 경우, 상기 활성 에너지선 경화 조성물을 피접착층 중 어느 일방 또는 양방에 도포 후, 첩합하고, 어느 피착층 또는 양방의 피접착층에 활성 에너지선을 조사하여 경화시킴으로써, 접착할 수 있다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제를 이용하는 경우, 그 접착층의 두께는, 바람직하게는 0.01~20㎛, 보다 바람직하게는 0.1~10㎛이다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제를 복수의 접착층 형성에 이용하는 경우, 각각의 층의 두께나 종류는 동일해도 상이해도 된다.The active energy ray curing composition may further contain an ion scavenger, an antioxidant, a chain transfer agent, an adhesion imparting agent, a thermoplastic resin, a filler, a flow viscosity modifier, a plasticizer, a defoaming agent, an additive, and a solvent. In the case of bonding two layers to be bonded by the active energy ray-curable adhesive, the active energy ray-curable composition is applied to one or both of the bonded layers, and then bonded together, and active energy rays are applied to either or both of the bonded layers. It can be bonded by irradiating and curing. In the case of using the active energy ray-curable adhesive, the thickness of the adhesive layer is preferably 0.01 to 20 µm, more preferably 0.1 to 10 µm. When the active energy ray-curable adhesive is used for forming a plurality of adhesive layers, the thickness and type of each layer may be the same or different.

상기 점착제로서는, 주제 폴리머에 따라, 아크릴계 점착제, 우레탄계 점착제, 고무계 점착제, 실리콘계 점착제 등으로 분류된 어느 것을 사용할 수도 있다. 점착제에는 주제 폴리머에 더해, 가교제, 실란계 화합물, 이온성 화합물, 가교 촉매, 산화 방지제, 점착 부여제, 가소제, 염료, 안료, 무기 필러 등을 배합해도 된다. 상기 점착제를 구성하는 각 성분을 용제에 용해·분산시켜 점착제 조성물을 얻어, 당해 점착제 조성물을 기재 상에 도포한 후에 건조시킴으로써, 점착제층이 형성된다. 점착층은 직접 형성되어도 되고, 별도 기재에 형성한 것을 전사할 수도 있다. 접착 전의 점착면을 커버하기 위해서는 이형 필름을 사용하는 것도 바람직하다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제를 이용하는 경우, 그 접착층의 두께는, 바람직하게는 0.1~500㎛, 보다 바람직하게는 1~300㎛이다. 상기 점착제를 복수층 이용하는 경우에는, 각각의 층의 두께나 종류는 동일해도 상이해도 된다.As the pressure-sensitive adhesive, depending on the main polymer, any classified into acrylic pressure-sensitive adhesives, urethane-based pressure-sensitive adhesives, rubber-based pressure-sensitive adhesives, and silicone-based pressure-sensitive adhesives may be used. In addition to the main polymer, the pressure-sensitive adhesive may contain a crosslinking agent, a silane compound, an ionic compound, a crosslinking catalyst, an antioxidant, a tackifier, a plasticizer, a dye, a pigment, an inorganic filler, and the like. Each component constituting the pressure-sensitive adhesive is dissolved and dispersed in a solvent to obtain a pressure-sensitive adhesive composition, and the pressure-sensitive adhesive layer is formed by drying after coating the pressure-sensitive adhesive composition on a substrate. The adhesive layer may be formed directly or may be transferred to a separate substrate. It is also preferable to use a release film in order to cover the adhesive surface before adhesion. When using the active energy ray-curable adhesive, the thickness of the adhesive layer is preferably 0.1 to 500 µm, more preferably 1 to 300 µm. In the case of using a plurality of layers of the pressure-sensitive adhesive, the thickness and type of each layer may be the same or different.

<차광 패턴><Light-shielding pattern>

상기 차광 패턴은, 상기 플렉시블 화상 표시 장치의 베젤 또는 하우징의 적어도 일부로서 적용할 수 있다. 차광 패턴에 의해 상기 플렉시블 화상 표시 장치의 주연부에 배치되는 배선이 숨겨져 시인되기 어렵게 함으로써, 화상의 시인성이 향상된다. 상기 차광 패턴은 단층 또는 복층의 형태여도 된다. 차광 패턴의 컬러는 특별히 제한되지는 않고, 흑색, 백색, 금속색 등의 다양한 컬러여도 된다. 차광 패턴은 컬러를 구현하기 위한 안료와, 아크릴계 수지, 에스테르계 수지, 에폭시계 수지, 폴리우레탄, 실리콘 등의 고분자로 형성할 수 있다. 이들의 단독 또는 2종류 이상의 혼합물로 사용할 수도 있다. 상기 차광 패턴은, 인쇄, 리소그래피, 잉크젯 등 각종의 방법으로 형성할 수 있다. 차광 패턴의 두께는, 바람직하게는 1~100㎛, 보다 바람직하게는 2~50㎛이다. 또한, 차광 패턴의 두께 방향으로 경사 등의 형상을 부여하는 것도 바람직하다.The light blocking pattern may be applied as at least a part of a bezel or a housing of the flexible image display device. Since the wiring arranged at the periphery of the flexible image display device is concealed by the light shielding pattern, the visibility of the image is improved. The shading pattern may be in the form of a single layer or a multilayer. The color of the shading pattern is not particularly limited, and various colors such as black, white, and metallic colors may be used. The shading pattern may be formed of a pigment for implementing color and a polymer such as an acrylic resin, an ester resin, an epoxy resin, polyurethane, or silicone. These may be used alone or as a mixture of two or more. The shading pattern may be formed by various methods such as printing, lithography, and inkjet. The thickness of the shading pattern is preferably 1 to 100 µm, more preferably 2 to 50 µm. In addition, it is also preferable to give a shape such as an inclination in the thickness direction of the light shielding pattern.

[실시예][Example]

이하, 실시예에 의해 본 발명을 더 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 예 중의 「%」 및 「부(部)」는, 특별히 기재가 없는 한, 질량% 및 질량부를 의미한다. 우선 먼저 물성값의 측정 방법을 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by examples, but the present invention is not limited to the following examples. "%" and "part" in the examples mean mass% and mass parts unless otherwise specified. First, a method of measuring the property value will be described.

<중량 평균 분자량><weight average molecular weight>

겔 침투 크로마토그래피(GPC) 측정Gel permeation chromatography (GPC) measurement

(1) 전처리 방법(1) Pre-treatment method

시료를 γ-부티로락톤(GBL)에 용해시켜 20질량% 용액으로 한 후, DMF 용리액으로 100배로 희석하여, 0.45㎛ 멤브레인 필터 여과한 것을 측정 용액으로 했다.A sample was dissolved in γ-butyrolactone (GBL) to obtain a 20% by mass solution, diluted 100 times with a DMF eluent, and filtered through a 0.45 µm membrane filter to obtain a measurement solution.

(2) 측정 조건(2) Measurement conditions

칼럼: TSKgel SuperAWM-H×2+SuperAW2500×1(6.0㎜ I.D.×150㎜×3개)Column: TSKgel SuperAWM-H x 2 + SuperAW 2500 x 1 (6.0 mm I.D. x 150 mm x 3)

용리액: DMF(10㎜ol의 브롬화 리튬 첨가)Eluent: DMF (10 mmol of lithium bromide added)

유량: 0.6mL/분Flow: 0.6 mL/min

검출기: RI 검출기Detector: RI detector

칼럼 온도: 40℃Column temperature: 40°C

주입량: 20μLInjection volume: 20 μL

분자량 표준: 표준 폴리스티렌Molecular weight standard: standard polystyrene

<이미드화율><Imidation rate>

이미드화율은, 1H-NMR 측정에 의해 아래와 같이 하여 구했다.The imidation ratio was calculated|required as follows by 1 H-NMR measurement.

(1) 전처리 방법(1) Pre-treatment method

시료를 중수소화 디메틸술폭시드(DMSO-d6)에 용해시켜 2질량% 용액으로 한 것을 측정 용액으로 했다.The sample was dissolved in deuterated dimethyl sulfoxide (DMSO-d 6 ) to obtain a 2% by mass solution as a measurement solution.

(2) 측정 조건(2) Measurement conditions

측정 장치: JEOL제 400MHz NMR 장치 JNM-ECZ400S/L1Measurement device: JEOL 400MHz NMR device JNM-ECZ400S/L1

표준 물질: DMSO-d6(2.5ppm)Standard: DMSO-d 6 (2.5ppm)

시료 온도: 실온Sample temperature: room temperature

적산 횟수: 256회Integration count: 256 times

완화 시간: 5초Relaxation time: 5 seconds

(3) 이미드화율 해석 방법(3) Imidation ratio analysis method

(3-1) 폴리이미드 수지 A의 이미드화율(3-1) Imidation rate of polyimide resin A

폴리이미드 수지 A를 포함하는 측정 용액에 대하여 얻어진 1H-NMR 스펙트럼에 있어서 관측된 벤젠프로톤 중, 이미드화 전후에서 변화되지 않는 구조에 유래하는 벤젠프로톤 A의 적분값을 IntA라고 했다. Among the benzene protons observed in the 1 H-NMR spectrum obtained with respect to the measurement solution containing the polyimide resin A, the integral value of the benzene protone A derived from the structure that does not change before and after imidation was referred to as Int A.

또한, 폴리이미드 수지 중에 잔존하는 아믹산 구조에 유래하는 아미드프로톤의 적분값을 IntB라고 했다. 이들 적분값으로부터 이하의 식에 의거하여 폴리이미드 수지 A의 이미드화율을 구했다. 하기 식에 있어서, α는 폴리아미드산(이미드화율 0%)인 경우에 있어서의 아미드 프로톤 1개에 대한 벤젠프로톤 A의 개수 비율이다.In addition, the integral value of the amide proton derived from the amic acid structure remaining in the polyimide resin was referred to as Int B. From these integral values, the imidation ratio of the polyimide resin A was determined based on the following formula. In the following formula, α is the ratio of the number of benzene protons A to one amide proton in the case of a polyamic acid (imidation ratio of 0%).

이미드화율(%)=100×(1-α×IntB/IntA)Imidation rate (%) = 100 × (1-α × Int B /Int A )

(3-2) 폴리아미드이미드 수지 A의 이미드화율(3-2) Imidation ratio of polyamideimide resin A

폴리아미드이미드 수지 A를 포함하는 측정 용액에 대하여 얻어진 1H-NMR 스펙트럼에 있어서 관측된 벤젠프로톤 중, 이미드화 전후에서 변화되지 않는 구조에 유래하고, 폴리아미드이미드 수지 중에 잔존하는 아믹산 구조에 유래하는 구조에 영향을 받지 않는 벤젠프로톤 C의 적분값을 IntC라고 했다.Polyamide-imide resin A of the observed benzene according to 1 H-NMR spectrum obtained with respect to the measurement solution, proton containing and derived from a structure that does not already have changed in the encoding after, derived from the amic acid structure remaining in the polyamide-imide resin The integral value of benzene proton C, which is not affected by the structure, was called Int C.

또한, 관측된 벤젠프로톤 중 이미드화 전후에서 변화되지 않는 구조에 유래하고, 폴리아미드이미드 수지 A 중에 잔존하는 아믹산 구조에 유래하는 구조에 영향을 받는 벤젠프로톤 D의 적분값을 IntD라고 했다. 이들 적분값으로부터 이하의 식에 의거하여 β값을 구했다.In addition, the integral value of benzene proton D, which is influenced by the structure derived from the structure derived from the amic acid structure remaining in the polyamideimide resin A and derived from the structure that does not change before and after imidation among the observed benzene protons, was referred to as Int D. From these integral values, the β value was calculated based on the following equation.

β=IntD/IntC β=Int D /Int C

이어서, β를 이미드화율로 환산하는 상관식을 얻기 위해, 이미드화율이 상이한 복수의 폴리아미드이미드 수지에 대하여, 상기와 마찬가지로 하여 β값을 구함과 함께, HSQC 스펙트럼을 이용하여 이미드화율을 구하고, 이들 결과로부터 이하의 상관식을 얻었다.Next, in order to obtain a correlation equation for converting β into an imidation rate, for a plurality of polyamide-imide resins having different imidation rates, the β value was calculated in the same manner as above, and the imidation rate was calculated using the HSQC spectrum. It calculated|required and obtained the following correlation formula from these results.

이미드화율(%)=k×β+100Imidation rate (%)=k×β+100

상기 상관식 중, k는 상수이다.In the above correlation equation, k is a constant.

이어서, 폴리아미드이미드 수지 A에 대하여 얻은 β를, 상기 상관식에 대입하여 폴리아미드이미드 수지 A의 이미드화율(%)을 얻었다.Next, β obtained for the polyamideimide resin A was substituted into the above correlation to obtain an imidation ratio (%) of the polyamideimide resin A.

<평균 1차 입자경><Average primary particle diameter>

실리카졸을 300℃에서 건조시킨 분말의 비표면적을 유아사아이오닉스(주)제, 비표면적 측정 장치 모노소브 MS-16을 이용하여 측정하고, 측정된 비표면적 S(m2/g)를 이용하여, D(㎚)=2720/S의 식으로 평균 1차 입자경을 산출했다.The specific surface area of the powder obtained by drying the silica sol at 300°C was measured using Yuasa Ionics Co., Ltd., a specific surface area measuring device Monosorb MS-16, and the measured specific surface area S (m 2 /g) was used. , D (nm) = 2720/S to calculate the average primary particle diameter.

<바니시의 점도><Viscosity of varnish>

JIS K 8803:2011에 준거하여, 브룩필드사제 E형 점도계 DV-II+Pro를 이용하여 측정했다. 측정 온도는 25℃로 했다.In conformity with JIS K 8803:2011, it measured using the Brookfield E-type viscometer DV-II+Pro. The measurement temperature was 25°C.

<필름의 두께><film thickness>

(주)미츠토요제 ID-C112XBS를 이용하여, 10점 이상의 필름의 두께를 측정하여, 그 평균값을 산출했다.Using Mitsutoyo Co., Ltd. ID-C112XBS, the thickness of the film of 10 points or more was measured, and the average value was calculated.

<기능층의 두께><Thickness of functional layer>

Filmetrics사제 F20 탁상 막 두께 시스템을 이용하여, 기능층의 두께를 측정했다.The thickness of the functional layer was measured using an F20 tabletop film thickness system manufactured by Filmetrics.

<필름의 전광선 투과율, Haze><Total light transmittance of film, Haze>

상기 광학 특성값을, 코니카미놀타(주)제 분광 측색계 CM-3700A를 이용하여 측정했다.The optical characteristic values were measured using a spectrophotometer CM-3700A manufactured by Konica Minolta.

<필름의 황색도><Film yellowness>

광학 필름의 황색도(Yellow Index: YI값)를, 코니카미놀타(주)제 분광 측색계 CM-3700A를 이용하여 측정했다. 구체적으로는, 샘플이 없는 상태에서 백그라운드 측정을 행한 후, 광학 필름을 샘플 홀더에 세팅하여, 300~800㎚의 광에 대한 투과율 측정을 행하고, 3자극값(X, Y, Z)을 구하여, 하기 식에 의거하여 YI값을 산출했다.The yellowness (Yellow Index: YI value) of the optical film was measured using the Konica Minolta Co., Ltd. spectrophotometer CM-3700A. Specifically, after performing background measurement without a sample, the optical film is set in a sample holder, transmittance to light of 300 to 800 nm is measured, and tristimulus values (X, Y, Z) are obtained, YI value was calculated based on the following formula.

YI=100×(1.2769X-1.0592Z)/YYI=100×(1.2769X-1.0592Z)/Y

JIS K 5600-5-4:1999에 준거하여, 광학 적층체의 기능층 표면의 연필 경도를 측정했다. 측정 시의 하중은 750g, 측정 스피드는 4.5㎜/초로 했다.In accordance with JIS K 5600-5-4:1999, the pencil hardness of the surface of the functional layer of the optical laminate was measured. The load at the time of measurement was 750 g, and the measurement speed was 4.5 mm/sec.

<표면 저항률의 측정><Measurement of surface resistivity>

저항률계((주)미쯔비시화학애널리테크제, 하이레스터 UP MCP-HT450형)를 사용하여, JIS K 6911에 준거하여 광학 적층체의 표면 저항률(Ω/sq)을 측정했다. 샘플을 50㎜×50㎜의 크기로 절단하고, 얻어진 샘플을 23℃, 50% RH의 하에 24시간 방치했다. 그 후, 광학 적층체의 기능층측의 표면 저항률을 측정했다. 또한, 당해 장치의 측정 상한은 1.0E+14Ω/sq이며, 그 이상의 표면 저항률을 가지는 경우에는, 장치 상에 OVER라고 표기된다.The surface resistivity (Ω/sq) of the optical laminate was measured in accordance with JIS K 6911 using a resistivity meter (manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd., Hirester UP MCP-HT450 type). The sample was cut into a size of 50 mm x 50 mm, and the obtained sample was allowed to stand at 23° C. and 50% RH for 24 hours. Then, the surface resistivity of the functional layer side of the optical laminate was measured. In addition, the upper limit of the measurement of the device is 1.0E+14?/sq, and when it has a surface resistivity of more than that, it is expressed as OVER on the device.

<광학 필름 또는 광학 적층체의 광학적 균질성의 평가 방법><Method of evaluating optical homogeneity of optical film or optical laminate>

1. 투영 화상 및 배경 화상의 촬영1. Shooting of projected and background images

암실 중에, 도 2에 나타내는 바와 같이, 광원(1), 측정 필름(2), 투영면(3) 및 카메라(6)를 배치하여, 투영 화상(4)의 촬영을 행했다. 광원(1)과 측정 필름(2)과의 거리는 250cm이며, 측정 필름(2)과 투영면(3)과의 거리는 30cm이고, 측정 필름(2)과 투영면(3)은 평행하게 배치되며, 카메라(6)는 광원(1)으로부터 스크린으로의 법선의 바로 아래에 설치되어 있고, 카메라(6)와 투영면(3)(스크린)과의 거리는 30cm이며, 카메라 각도(7)(카메라를 스크린에 대하여 수직이 되도록 향한 상태로부터, 상측으로 경사시키는 각도)는 25도였다. 또한, 배경 화상의 촬영은, 도 2에 있어서 측정 필름(2)을 제거한 것 이외는 투영 화상의 촬영과 마찬가지로 행했다. 측정 조건 및 촬영 조건의 상세를 이하에 나타낸다.In a dark room, as shown in FIG. 2, the light source 1, the measurement film 2, the projection surface 3, and the camera 6 were arrange|positioned, and the projection image 4 was photographed. The distance between the light source 1 and the measurement film 2 is 250 cm, the distance between the measurement film 2 and the projection surface 3 is 30 cm, the measurement film 2 and the projection surface 3 are arranged in parallel, and the camera ( 6) is installed just below the normal to the screen from the light source (1), the distance between the camera 6 and the projection surface (3) (screen) is 30 cm, and the camera angle (7) (the camera is perpendicular to the screen) The angle to be inclined upward from the state facing so that it might be) was 25 degrees. In addition, shooting of the background image was performed similarly to the shooting of the projection image except having removed the measurement film 2 in FIG. The details of the measurement conditions and photography conditions are shown below.

광원: LED 광원(하야시 시계공업(주)제 「LA-HDF15T」)Light source: LED light source (Hayashi Watch Industry Co., Ltd. ``LA-HDF15T'')

측정 필름: 이하의 실시예 및 비교예에서 제조한 광학 필름 또는 광학 적층체를 200㎜×300㎜로 잘라내어, 측정 시료로 했다.Measurement film: The optical film or optical layered product produced in the following Examples and Comparative Examples was cut out into 200 mm x 300 mm to obtain a measurement sample.

투영면: 백색의 시판의 영화 관상용의 스크린((주)시어터 하우스제, 「BTP600FHD-SH1000」)Projection surface: White commercially available screen for viewing movies (manufactured by Theater House Co., Ltd., 「BTP600FHD-SH1000」)

카메라: (주)니콘제 「COOLPIX(등록상표) P600」Camera: Nikon Co., Ltd. ``COOLPIX (registered trademark) P600''

카메라의 상세 설정: 촬영 모드 메뉴얼 촬영Camera detailed settings: Manual shooting for shooting mode

화상 사이즈 2MImage size 2M

포커스 메뉴얼포커스(거리 0.3m)Focus Manual focus (distance 0.3m)

셔터 스피드 1/2초1/2 second shutter speed

조리개값(F값) 4.2Aperture value (F value) 4.2

플래시 OFFFlash OFF

2. 푸리에 변환2. Fourier Transform

본 실시예에서는 카메라를 상기 카메라 각도의 위치에 설치하고 있기 때문에, 투영 화상에 경사가 발생하고 있다. 이 때문에, 우선 투영 화상의 경사를 보정하기 위해, 경사 보정 조건을 결정했다. 또한, 투영상의 일그러짐이 없는 경우에는 보정은 불필요하다.In this embodiment, since the camera is installed at the position of the camera angle, an inclination occurs in the projected image. For this reason, in order to correct the inclination of the projected image first, the inclination correction condition was determined. Further, when there is no distortion of the projection image, correction is unnecessary.

(경사 보정 조건의 결정)(Decision of slope correction conditions)

투명한 필름에 10cm×10cm의 정방형을 그려, 상기 1의 조건으로 기준 투영 화상을 촬영했다. 얻어진 기준 투영 화상을 Adobe Systems사제의 Photoshop(등록상표) CS4에 의해 판독하고, 렌즈 보정의 일그러짐 보정 기능을 이용하여, 카메라와 스크린이 90도에 상당하도록 보정하여, TIFF 형식으로 보존했다. 이 때의 조건을 경사 보정 조건으로 했다. 경사 보정 후의 기준 투영 화상으로부터, 세로, 가로 각각의 픽셀당의 길이를 계산했다(세로: 816pixel=10cm, 가로: 906pixel=10cm).A 10 cm x 10 cm square was drawn on a transparent film, and a reference projection image was taken under the conditions of 1 above. The obtained reference projection image was read by Photoshop (registered trademark) CS4 manufactured by Adobe Systems, and corrected so that the camera and the screen corresponded to 90 degrees using the distortion correction function of lens correction, and saved in TIFF format. The condition at this time was made into the inclination correction condition. From the reference projection image after tilt correction, the length per pixel for each vertical and horizontal was calculated (length: 816 pixels = 10 cm, width: 906 pixels = 10 cm).

(푸리에 변환)(Fourier Transform)

측정 필름에 대하여 상기와 같이 하여 얻은 투영 화상에 대하여, 상기와 같이 하여 결정한 경사 보정 조건으로 보정을 행하고, 보정 후의 화상을 TIFF 형식으로 보존했다. 얻어진 경사 보정 후의 투영 화상을, 화상 해석 소프트 「Image-J, ver. 1.48」을 이용하여 8-bit의 그레이 스케일로 변환함으로써 수치화했다. 또한, 경사 보정 후의 기준 투영 화상으로부터 얻은, 세로, 가로 각각의 픽셀당의 길이를, Set Scale로서 사용했다. 그레이 스케일 화상 중 10.2cm×11.2cm(세로×가로)의 사이즈의 직사각형의 범위를 선택하고, 당해 선택된 범위의 화상을, Imag 교반 e-J를 이용하여 푸리에 변환하여, 역공간상을 얻었다. 푸리에 변환 후의 역공간상에 대하여, Set Scale에 옳은 값(수평 방향: 1pixel=11.3cm-1, 수직 방향: 1pixel=12.55cm-1)을 입력했다.With respect to the measurement film, the projection image obtained as described above was corrected under the tilt correction conditions determined as described above, and the corrected image was saved in a TIFF format. The obtained projected image after tilt correction is converted into image analysis software "Image-J, ver. 1.48" was used to convert it into an 8-bit gray scale to convert it into a numerical value. In addition, the length per pixel of each vertical and horizontal, obtained from the reference projection image after tilt correction, was used as the Set Scale. Among the gray scale images, a rectangular range having a size of 10.2 cm x 11.2 cm (vertical x horizontal) was selected, and the image of the selected range was Fourier transformed using Imag stirring eJ to obtain an inverse spatial image. For the inverse space image after Fourier transform, the correct value (horizontal direction: 1pixel=11.3cm -1 , vertical direction: 1pixel=12.55cm -1 ) was entered in Set Scale.

3. 블랭크 보정한 라인 프로파일의 최대 강도(Ymh1 및 Ymv1)의 측정3. Measurement of the maximum intensity (Y mh1 and Y mv1 ) of the blank corrected line profile

상기와 같이 하여 얻은 역공간상에 있어서, 역공간상의 중심을 지나는 수평 방향(h1 방향) 및 수직 방향(v1 방향)의 각각의 방향에 대하여 라인 프로파일을 작성했다. 라인 폭은 10픽셀로 했다. 얻은 라인 프로파일을 text 형식으로 보존했다. 이어서, 당해 text 형식의 데이터를 Microsoft사의 Excel(ver.14.0)로 판독하고, 다음과 같이 하여 라인 프로파일을 규격화하여, 수평 방향(h1 방향) 및 수직 방향(v1 방향)의 각각의 방향에 대하여, Y"의 라인 프로파일을 얻어, 각 라인 프로파일에 있어서 최대 강도 Ymax를 Ymh1 및 Ymv1이라고 하고, 최대 강도 Ymh1 및 Ymv1을 나타내는 주파수로부터 블랭크 보정된 라인 프로파일에 있어서의 전체 주파수의 중앙값 Xcen을 뺀 값인 Xmax를 각각 Xmh1 및 Xmv1이라고 했다. 규격화 방법을 실시예 1에서 얻은 수평 방향(h1 방향)의 라인 프로파일을 예로서 이용하여 설명한다.In the reverse space image obtained as described above, a line profile was created for each direction in the horizontal direction (h1 direction) and the vertical direction (v1 direction) passing through the center of the reverse space image. The line width was 10 pixels. The obtained line profile was saved in text format. Next, the data in the text format is read in Microsoft Excel (ver.14.0), and the line profile is normalized as follows, for each direction in the horizontal direction (h1 direction) and the vertical direction (v1 direction), A line profile of Y" is obtained, and the maximum intensity Y max in each line profile is referred to as Y mh1 and Y mv1 , and the median value of the total frequency in the blank corrected line profile X from the frequency representing the maximum intensity Y mh1 and Y mv1 X max , which is a value obtained by subtracting cen , is respectively referred to as X mh1 and X mv 1. The normalization method will be described using a line profile in the horizontal direction (h1 direction) obtained in Example 1 as an example.

(규격화 방법)(Standardization method)

Y의 값이 최대가 되는 주파수를 X의 중심(Xcen)으로 하고, 그 때의 Y의 값을 Ycen으로 한다. 이어서, Xcen을 중심으로 하고, 양단 50픽셀분씩의 합계 100픽셀의 영역에 대하여, Y의 평균값을 구하여, 당해 평균값을 베이스 라인(Ybase)이라고 한다. 그리고, Ycen=100, Ybase=0이 되도록, 다음의 식에 따른 데이터 Y를 보정하여 Y'를 얻는다.The frequency at which the value of Y is maximum is the center of X (X cen ), and the value of Y at that time is set to Y cen . Next, with respect to X cen as the center, the average value of Y is calculated for a total area of 100 pixels each for 50 pixels at both ends, and the average value is referred to as a base line (Y base ). Then, Y'is obtained by correcting the data Y according to the following equation so that Y cen =100 and Y base =0.

Figure 112020057518495-pat00020
Figure 112020057518495-pat00020

도 4에 나타나는 실시예 1에서 얻은 라인 프로파일(데이터 Y)에 대하여, 상기 보정을 행함으로써, 도 5에 나타나는 바와 같은 라인 프로파일 A(데이터 Y')가 얻어진다.By performing the correction on the line profile (data Y) obtained in Example 1 shown in Fig. 4, a line profile A (data Y') as shown in Fig. 5 is obtained.

이어서, 1에서 얻은 배경 화상에 대해서도 마찬가지의 조작을 행하여, 배경 화상의 라인 프로파일을 얻었다. 구체적으로는, 도 6에 나타나는 바와 같은 라인 프로파일 B가 얻어졌다.Subsequently, the same operation was performed for the background image obtained in 1 to obtain a line profile of the background image. Specifically, a line profile B as shown in Fig. 6 was obtained.

이어서, 상기의 프로파일 A로부터, 백그라운드의 프로파일 B를 Excel에 의해 빼서, 블랭크 보정을 행했다. 실시예 1에서는, 도 5에 나타나는 라인 프로파일 A의 데이터 Y'로부터, 도 6에 나타나 있는 바와 같은 라인 프로파일 B의 데이터를 빼서, 도 7에 나타나는 바와 같은 블랭크 보정된 라인 프로파일 A-B를 얻었다.Subsequently, from the above profile A, the background profile B was subtracted by Excel to perform blank correction. In Example 1, the data of the line profile B as shown in FIG. 6 was subtracted from the data Y'of the line profile A shown in FIG. 5, and blank-corrected line profiles A-B as shown in FIG. 7 were obtained.

이와 같이 하여 얻은 라인 프로파일을 스무딩하여, Y"의 프로파일을 얻고, 이것을 라인 프로파일의 최대 강도(Ymh1 및 Ymv1)의 측정에 사용했다. 그래프의 스무딩은, 다음의 식에 따라, 21개의 데이터의 평균값인 yi를 산출하여 행했다.The line profile thus obtained was smoothed to obtain a profile of Y", and this was used to measure the maximum intensity (Y mh1 and Y mv1 ) of the line profile. Smoothing of the graph was performed on 21 data according to the following equation. It performed by calculating y i which is the average value of.

Figure 112020057518495-pat00021
Figure 112020057518495-pat00021

(시인성의 관능 평가)(Sensory evaluation of visibility)

50~100룩스에 조광한 실내 환경에서, 앙각 80도의 각도로, 제작한 필름을 육안으로 검사하여, 비치는 배경의 일그러짐에 의해 시인성을 평가했다. 그 결과를 표 2에 나타낸다. 또한, 시인성의 평가 기준은 이하와 같다.In an indoor environment dimmed to 50 to 100 lux, the produced film was visually inspected at an angle of 80 degrees of elevation, and visibility was evaluated by distortion of the reflected background. The results are shown in Table 2. In addition, the evaluation criteria of visibility are as follows.

◎: 배경에 일그러짐은 전혀 확인되지 않는다.◎: No distortion is observed in the background.

○: 배경에 일그러짐은 대략 확인되지 않는다.(Circle): The distortion is not approximately confirmed in the background.

△: 배경에 매우 근사한 일그러짐이 확인되지만, 문제가 없는 레벨.△: A very close distortion is confirmed in the background, but there is no problem.

×: 배경에 명확한 일그러짐이 확인된다.×: Clear distortion is confirmed in the background.

<잔존 용매량><Amount of residual solvent>

TG-DTA(SII(주)제 EXSTAR6000 TG/DTA6300)를 이용하여, 실시예 1 및 2 및 비교예 1 및 2에서 얻어진 투명 수지 필름을 30℃에서부터 120℃까지 승온하고, 120℃에서 5분간 보지하고, 그 후 5℃/분의 승온 속도로 400℃까지 승온했다. 120℃에 있어서의 필름의 질량에 대한 120℃에서부터 250℃에서의 필름의 질량 감소의 비를, 용매의 함유량(잔존 용매량이라고 칭함)으로 하여 산출했다.Using TG-DTA (EXSTAR6000 TG/DTA6300 manufactured by SII Corporation), the transparent resin films obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 were heated from 30°C to 120°C, and held at 120°C for 5 minutes Then, the temperature was raised to 400°C at a temperature increase rate of 5°C/min. The ratio of the reduction in the mass of the film at 120°C to 250°C with respect to the mass of the film at 120°C was calculated as the content of the solvent (referred to as the amount of residual solvent).

이하의 제조예 및 실시예에 있어서 사용하는 약칭은, 다음과 같다.The abbreviations used in the following Production Examples and Examples are as follows.

TFMB: 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐TFMB: 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl

6FDA: 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물6FDA: 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic acid dianhydride

TPC: 테레프탈로일클로라이드TPC: terephthaloyl chloride

OBBC: 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드)OBBC: 4,4'-oxybis (benzoyl chloride)

DMAc: N,N-디메틸아세트아미드DMAc: N,N-dimethylacetamide

GBL: γ-부티로락톤GBL: γ-butyrolactone

PET: 폴리에틸렌테레프탈레이트PET: polyethylene terephthalate

<제조예><Production Example>

제조예 1: 폴리아미드이미드 수지 1의 제조Preparation Example 1: Preparation of polyamideimide resin 1

질소 가스 분위기하, 세퍼러블 플라스크에 교반 날개를 구비한 반응 용기와, 오일 배스를 준비했다. 오일 배스에 설치한 반응 용기에, TFMB 45부와, DMAc 768.55부를 투입했다. 반응 용기 내의 내용물을 실온에서 교반하면서 TFMB를 DMAc에 용해시켰다. 이어서, 반응 용기 내에 6FDA 19.01부를 추가로 투입하여, 반응 용기 내의 내용물을 실온에서 3시간 교반했다. 그 후, OBBC 4.21부, 이어서 TPC 17.30부를 반응 용기에 투입하고, 반응 용기 내의 내용물을 실온에서 1시간 교반했다. 이어서, 반응 용기 내에 4-메틸피리딘 4.63부와 무수 아세트산 13.04부를 추가로 투입하여, 반응 용기 내의 내용물을 실온에서 30분간 교반했다. 교반한 후, 오일 배스를 이용하여 용기 내부 온도를 70℃로 승온하고, 70℃로 유지하여 추가로 3시간 교반하여, 반응액을 얻었다.In a nitrogen gas atmosphere, a reaction vessel equipped with a stirring blade and an oil bath were prepared in a separable flask. 45 parts of TFMB and 768.55 parts of DMAc were put into the reaction vessel installed in the oil bath. The contents in the reaction vessel were stirred at room temperature while TFMB was dissolved in DMAc. Next, 19.01 parts of 6FDA was further put into the reaction vessel, and the contents in the reaction vessel were stirred at room temperature for 3 hours. Thereafter, 4.21 parts of OBBC and then 17.30 parts of TPC were put into a reaction vessel, and the contents in the reaction vessel were stirred at room temperature for 1 hour. Subsequently, 4.63 parts of 4-methylpyridine and 13.04 parts of acetic anhydride were further added into the reaction vessel, and the contents in the reaction vessel were stirred at room temperature for 30 minutes. After stirring, the temperature inside the container was raised to 70°C using an oil bath, maintained at 70°C, and stirred for an additional 3 hours to obtain a reaction solution.

얻어진 반응액을 실온까지 냉각하여, 대량의 메탄올 중에 실 형상(絲狀)으로 투입하여, 침전물을 석출시켰다. 석출한 침전물을 취출하여, 메탄올에서 6시간 침지 후, 메탄올로 세정했다. 이어서, 100℃에서 침전물의 감압 건조를 행하여, 폴리아미드이미드 수지 1을 얻었다. 얻어진 폴리아미드이미드 수지 1의 중량 평균 분자량은 400,000, 이미드화율은 99.0%였다.The obtained reaction solution was cooled to room temperature, and put into a large amount of methanol in a yarn shape to precipitate a precipitate. The precipitated precipitate was taken out, immersed in methanol for 6 hours, and then washed with methanol. Then, the precipitate was dried under reduced pressure at 100°C to obtain a polyamideimide resin 1. The weight average molecular weight of the obtained polyamide-imide resin 1 was 400,000, and the imidation ratio was 99.0%.

제조예 2: 폴리이미드 수지 1의 제조Preparation Example 2: Preparation of polyimide resin 1

세퍼러블 플라스크에 실리카겔 관, 교반 장치 및 온도계를 장착한 반응기와, 오일 배스를 준비했다. 이 플라스크 내에, 6FDA 75.52부와, TFMB 54.44부를 투입했다. 이것을 400rpm으로 교반하면서 DMAc 519.84부를 더해, 플라스크의 내용물이 균일한 용액이 될 때까지 교반을 계속했다. 계속해서, 오일 배스를 이용하여 용기 내부 온도가 20~30℃의 범위가 되도록 조정하면서 추가로 20시간 교반을 계속하여, 반응시켜 폴리아믹산을 생성시켰다. 30분 후, 교반 속도를 100rpm으로 변경했다. 20시간 교반 후, 반응계 온도를 실온으로 되돌리고, DMAc 649.8부를 더해 폴리머 농도가 10질량%가 되도록 조정했다. 추가로, 피리딘 32.27부, 무수 아세트산 41.65부를 더해, 실온에서 10시간 교반하여 이미드화를 행했다. 반응 용기로부터 폴리이미드 바니시를 취출했다. 얻어진 폴리이미드 바니시를 메탄올 중에 적하하여 재침전을 행하고, 얻어진 분체를 가열 건조하여 용매를 제거해, 고형분으로서 폴리이미드 수지 1을 얻었다. 얻어진 폴리이미드 수지 1에 대하여, GPC 측정을 행한 바, 중량 평균 분자량은 320,000이었다. 또한, 폴리이미드의 이미드화율은 98.6%였다.A reactor equipped with a silica gel tube, a stirring device and a thermometer, and an oil bath were prepared in a separable flask. Into this flask, 75.52 parts of 6FDA and 54.44 parts of TFMB were put. While stirring this at 400 rpm, 519.84 parts of DMAc was added, and stirring was continued until the contents of the flask became a homogeneous solution. Subsequently, stirring was continued for an additional 20 hours while adjusting so that the temperature inside the container was in the range of 20 to 30°C using an oil bath, followed by reaction to produce polyamic acid. After 30 minutes, the stirring speed was changed to 100 rpm. After stirring for 20 hours, the reaction system temperature was returned to room temperature, and 649.8 parts of DMAc was added to adjust the polymer concentration to 10% by mass. Further, 32.27 parts of pyridine and 41.65 parts of acetic anhydride were added, followed by stirring at room temperature for 10 hours to perform imidization. The polyimide varnish was taken out from the reaction vessel. The obtained polyimide varnish was dripped in methanol to perform reprecipitation, the obtained powder was heated and dried to remove the solvent, and a polyimide resin 1 was obtained as a solid content. About the obtained polyimide resin 1, when GPC measurement was performed, the weight average molecular weight was 320,000. In addition, the imidation ratio of the polyimide was 98.6%.

제조예 3: 실리카졸 1의 조제Preparation Example 3: Preparation of silica sol 1

졸-겔법에 의해 제작된 평균 1차 입자경(BET법으로 측정된 평균 1차 입자경) 12㎚의 아몰퍼스 실리카졸을 원료로 하고, 용매 치환에 의해, GBL 치환 실리카졸을 조제했다. 얻어진 졸을 체눈 10㎛의 멤브레인 필터로 여과하여, GBL 치환 실리카졸 1을 얻었다. 얻어진 GBL 치환 실리카졸 1 중, 실리카 입자의 함유량은 30~32질량%였다.Amorphous silica sol having an average primary particle diameter (average primary particle diameter measured by the BET method) of 12 nm produced by the sol-gel method was used as a raw material, and a GBL-substituted silica sol was prepared by solvent substitution. The obtained sol was filtered through a 10 µm membrane filter to obtain GBL-substituted silica sol 1. In the obtained GBL-substituted silica sol 1, the content of the silica particles was 30 to 32% by mass.

제조예 4: 바니시 (1)의 조제Production Example 4: Preparation of varnish (1)

제조예 1에서 얻은 폴리아미드이미드 수지 1, 및, 제조예 3에서 얻은 실리카졸 1을, GBL 용매 중에서의 폴리아미드이미드 수지:실리카 입자의 조성비가 70:30이 되도록 혼합했다. 얻어진 혼합액에, 폴리아미드이미드 수지와 실리카 입자의 합계 질량에 대하여 2.0phr의 UV-A 자외선 흡수제 「Sumisorb(등록상표) 250」(분자량 389, 스미카켐텍스(주)제) 및 폴리아미드이미드 수지와 실리카 입자의 합계 질량에 대하여 35ppm의 블루잉제 「Sumiplast(등록상표) Violet B」(스미카켐텍스(주)제)를 첨가하고, 균일해질 때까지 교반하여, 바니시 (1)을 얻었다. 바니시 (1)의 고형분은 9.7%이며, 25℃에 있어서의 점도는 39,600cps였다.The polyamideimide resin 1 obtained in Production Example 1 and the silica sol 1 obtained in Production Example 3 were mixed so that the composition ratio of the polyamideimide resin:silica particles in a GBL solvent was 70:30. To the obtained mixture, 2.0 phr of UV-A ultraviolet absorber "Sumisorb (registered trademark) 250" (molecular weight 389, manufactured by Sumika Chemtex Co., Ltd.) and polyamideimide resin with respect to the total mass of the polyamideimide resin and silica particles A bluing agent "Sumiplast (registered trademark) Violet B" (manufactured by Sumika Chemtex Co., Ltd.) of 35 ppm relative to the total mass of the silica particles was added, followed by stirring until uniform, to obtain a varnish (1). The solid content of the varnish (1) was 9.7%, and the viscosity at 25°C was 39,600 cps.

제조예 5: 바니시 (2)의 조제Production Example 5: Preparation of varnish (2)

제조예 2에서 얻은 폴리이미드 수지 1, 및, 당해 폴리이미드 수지에 대하여 2.0phr의 자외선 흡수제 「Sumisorb 250」(분자량 389, 스미카켐텍스(주)제)을, GBL:DMAc=1:9의 혼합 용제 중에 16.5질량%의 농도로 용해시켜 바니시 (2)를 얻었다. 바니시 (2)의 고형분은 16.5%이며, 25℃에 있어서의 점도는 36,800cps였다.Polyimide resin 1 obtained in Production Example 2, and a 2.0 phr ultraviolet absorber "Sumisorb 250" (molecular weight 389, manufactured by Sumika Chemtex Co., Ltd.) with respect to the polyimide resin were mixed with GBL:DMAc=1:9 It was dissolved in a solvent at a concentration of 16.5% by mass to obtain a varnish (2). The solid content of the varnish (2) was 16.5%, and the viscosity at 25°C was 36,800 cps.

제조예 6: 광경화성 수지 조성물 1Preparation Example 6: Photocurable Resin Composition 1

트리메틸올프로판트리아크릴레이트(신나카무라화학(주)제, A-TMPT) 28.4질량부, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트(신나카무라화학(주)제, A-TMMT) 28.4질량부, 광중합 개시제로서, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤(BASF(주)제, Irgacure(등록상표) 184) 1.8질량부, 리튬비스(플루오로술포닐)이미드(도쿄화성공업(주)제, LiFSI) 2.4질량부, 레벨링제(빅케미재팬(주)제, BYK(등록상표)-307) 0.1질량부, 및 프로필렌글리콜 1-모노메틸에테르(도쿄화성공업(주)제) 39질량부를 교반 혼합하여, 광경화성 수지 조성물 1을 얻었다.Trimethylolpropane triacrylate (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. product, A-TMPT) 28.4 parts by mass, pentaerythritol tetraacrylate (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. product, A-TMMT) 28.4 parts by mass, as a photopolymerization initiator, 1 -Hydroxycyclohexylphenyl ketone (BASF Co., Ltd., Irgacure (registered trademark) 184) 1.8 parts by mass, lithium bis (fluorosulfonyl) imide (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. product, LiFSI) 2.4 parts by mass, 0.1 parts by mass of a leveling agent (manufactured by BIC Chemie Japan Co., Ltd., BYK (registered trademark)-307), and 39 parts by mass of propylene glycol 1-monomethyl ether (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) are stirred and mixed, and a photocurable resin Composition 1 was obtained.

제조예 7: 광경화성 수지 조성물 2Preparation Example 7: Photocurable Resin Composition 2

리튬 비스(플루오로술포닐)이미드를 혼합하지 않은 것 이외는, 제조예 6과 마찬가지의 화합물을 교반 혼합하여, 광경화성 수지 조성물 2를 얻었다.Except for not mixing lithium bis(fluorosulfonyl)imide, the same compound as in Production Example 6 was stirred and mixed to obtain a photocurable resin composition 2.

실시예 1Example 1

바니시 (1)을, PET 필름(도요보(주) 「코스모샤인(등록상표) A4100」, 두께 188㎛, 두께 분포 ±2㎛) 상에 도포하고, 유연 성형하여, 바니시의 도막을 성형했다. 이 때, 선속은 0.8m/분이었다. 바니시의 도막을, 80℃에서 10분 가열한 후, 100℃에서 10분 가열하며, 이어서 90℃에서 10분 가열하고, 마지막으로 80℃에서 10분 가열한다고 하는 건조 조건으로 건조시켜, 건조 도막을 형성시켰다. 그 후, PET 필름으로부터 도막을 박리하여, 두께 58㎛, 폭 700㎜, 길이 500m의, 필름 롤의 형태의 원료 필름 1을 얻었다. 원료 필름 1 중의 잔존 용매량은 9.7질량%였다. 이어서, 원료 필름 1을 필름 횡연신 장치(텐터)에 의해 200℃에서 25분, 연신 배율 0.98배의 조건으로 가열함으로써, 두께 50㎛의 폴리아미드이미드 필름 1을 얻었다. 폴리아미드이미드 필름 1 중의 잔존 용매량은 0.7질량%였다.The varnish (1) was applied onto a PET film (Toyobo Co., Ltd. "Cosmoshine (registered trademark) A4100", thickness 188 µm, thickness distribution ±2 µm), cast-molded, and a coating film of the varnish was formed. At this time, the ship speed was 0.8 m/min. The coating film of the varnish was heated at 80°C for 10 minutes, then heated at 100°C for 10 minutes, then heated at 90°C for 10 minutes, and finally dried under the drying conditions of heating at 80°C for 10 minutes, and the dried coating film was Formed. Thereafter, the coating film was peeled from the PET film to obtain a raw material film 1 in the form of a film roll having a thickness of 58 µm, a width of 700 mm, and a length of 500 m. The amount of residual solvent in the raw material film 1 was 9.7% by mass. Subsequently, the raw material film 1 was heated at 200° C. for 25 minutes with a film transverse stretching device (tenter) under the conditions of a draw ratio of 0.98 times to obtain a polyamideimide film 1 having a thickness of 50 μm. The amount of residual solvent in the polyamideimide film 1 was 0.7% by mass.

얻어진 폴리아미드이미드 필름 1의 편면에, 롤·투·롤 방식으로, 광경화성 수지 조성물 1을 건조 후의 두께가 10㎛가 되도록 바 코터로 도공했다. 그 후, 80℃의 오븐에서 3분간 건조를 행하고, 고압 수은등 500mJ/cm2의 에너지로 자외선을 조사하여 경화시킴으로써, 길이 400m의 필름 롤의 형태의 광학 적층체 1을 얻었다. 광학 적층체 1에 있어서의 기능층의 두께는 10㎛이었다.The photocurable resin composition 1 was coated on one side of the obtained polyamideimide film 1 by a roll-to-roll system with a bar coater so that the thickness after drying became 10 µm. Thereafter, drying was performed in an oven at 80° C. for 3 minutes, and irradiated with ultraviolet rays with an energy of 500 mJ/cm 2 of a high-pressure mercury lamp and cured to obtain an optical laminate 1 in the form of a film roll having a length of 400 m. The thickness of the functional layer in the optical laminate 1 was 10 µm.

실시예 2Example 2

광경화성 수지 조성물 1 대신에, 광경화성 수지 조성물 2를 이용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 길이 400m의 필름 롤의 형태의 광학 적층체 2를 얻었다. 광학 적층체 2에 있어서의 기능층의 두께는 11㎛였다.In place of the photocurable resin composition 1, except for using the photocurable resin composition 2, in the same manner as in Example 1, an optical laminate 2 in the form of a film roll having a length of 400 m was obtained. The thickness of the functional layer in the optical laminate 2 was 11 µm.

실시예 3Example 3

바니시 (1) 대신에 바니시 (2)를 이용하여, 건조 조건을 75℃에서 7.5분 가열한 후, 120℃에서 7.5분 가열하며, 이어서 70℃에서 7.5분 가열하고, 마지막으로 80℃에서 7.5분 가열하는 조건으로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 두께 89㎛, 폭 700㎜, 길이 600m의 필름 롤 형태의 원료 필름 2를 얻었다. 원료 필름 2 중의 잔존 용매량은 9.6질량%였다. 이어서, 원료 필름 1 대신에 원료 필름 2를 이용한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 두께 77㎛의 폴리이미드 필름 1을 얻었다. 폴리이미드 필름 1 중의 잔존 용매량은 1.1질량%였다.Using varnish (2) instead of varnish (1), drying conditions were heated at 75°C for 7.5 minutes, then heated at 120°C for 7.5 minutes, followed by heating at 70°C for 7.5 minutes, and finally at 80°C for 7.5 minutes. Except having changed to heating conditions, it carried out similarly to Example 1, and obtained the raw material film 2 in the form of a film roll of 89 micrometers in thickness, 700 mm in width, and 600 m in length. The amount of residual solvent in the raw material film 2 was 9.6% by mass. Next, it carried out similarly to Example 1 except having used the raw material film 2 instead of the raw material film 1, and obtained the polyimide film 1 of 77 micrometers in thickness. The amount of residual solvent in the polyimide film 1 was 1.1% by mass.

폴리아미드이미드 필름 1 대신에 폴리이미드 필름 1을 이용한 것 이외는, 실시예 2와 마찬가지로 하여, 길이 500m의 필름 롤 형태의 광학 적층체 3을 얻었다. 광학 적층체 3에 있어서의 기능층의 두께는 9㎛이었다.In the same manner as in Example 2 except that the polyimide film 1 was used instead of the polyamideimide film 1, an optical laminate 3 in the form of a film roll having a length of 500 m was obtained. The thickness of the functional layer in the optical laminate 3 was 9 µm.

비교예 1Comparative Example 1

바니시 (1)을 이용하여, 건조 조건을 70℃에서 10분 가열한 후, 80℃에서 10분 가열하며, 이어서 100℃에서 10분 가열하고, 마지막으로 100℃에서 10분 가열하는 조건으로 변경한 것 이외, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로, 두께 58㎛, 폭 700㎜, 길이 400m의 필름 롤 형태의 원료 필름 3을 얻었다. 원료 필름 3 중의 잔존 용매량은 10.1질량%였다. 이어서, 원료 필름 1 대신에 원료 필름 3을 이용한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 두께 50㎛의 폴리아미드이미드 필름 2를 얻었다. 폴리아미드이미드 필름 2 중의 잔존 용매량은 0.8질량%였다.Using varnish (1), the drying conditions were changed to heating at 70°C for 10 minutes, then heating at 80°C for 10 minutes, then heating at 100°C for 10 minutes, and finally heating at 100°C for 10 minutes. Other than that, in the same manner as in Example 1, a raw material film 3 in the form of a film roll having a thickness of 58 µm, a width of 700 mm and a length of 400 m was obtained. The amount of residual solvent in the raw material film 3 was 10.1% by mass. Next, it carried out similarly to Example 1 except having used the raw material film 3 instead of the raw material film 1, and obtained the polyamide-imide film 2 of 50 micrometers in thickness. The amount of residual solvent in the polyamideimide film 2 was 0.8% by mass.

폴리아미드이미드 필름 1 대신에 폴리아미드이미드 필름 2를 이용한 것 이외는, 실시예 2와 마찬가지로 하여, 길이 290m의 필름 롤 형태의 광학 적층체 4를 얻었다. 광학 적층체 4에 있어서의 기능층의 두께는 10㎛였다.In the same manner as in Example 2, except that the polyamideimide film 2 was used instead of the polyamideimide film 1, an optical laminate 4 in the form of a film roll having a length of 290 m was obtained. The thickness of the functional layer in the optical laminate 4 was 10 µm.

비교예 2Comparative Example 2

바니시 (2)를 이용하여, 건조 조건을 100℃에서 7.5분 가열한 후, 120℃에서 7.5분 가열하며, 이어서 60℃에서 7.5분 가열하고, 마지막으로 60℃에서 7.5분 가열하는 조건으로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로, 두께 89㎛, 폭 700㎜, 길이 300m의 필름 롤 형태의 원료 필름 4를 얻었다. 원료 필름 4 중의 잔존 용매량은 9.9질량%였다. 이어서, 원료 필름 1 대신에 원료 필름 4를 이용한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 두께 77㎛의 폴리이미드 필름 2를 얻었다. 폴리이미드 필름 2 중의 잔존 용매량은 1.0질량%였다.Using varnish (2), the drying conditions were changed to heating at 100°C for 7.5 minutes, heating at 120°C for 7.5 minutes, followed by heating at 60°C for 7.5 minutes, and finally heating at 60°C for 7.5 minutes. Except that, in the same manner as in Example 1, a raw material film 4 in the form of a film roll having a thickness of 89 µm, a width of 700 mm and a length of 300 m was obtained. The amount of residual solvent in the raw material film 4 was 9.9% by mass. Next, it carried out similarly to Example 1 except having used the raw material film 4 instead of the raw material film 1, and obtained the polyimide film 2 of 77 micrometers in thickness. The amount of residual solvent in the polyimide film 2 was 1.0% by mass.

폴리아미드이미드 필름 1 대신에 폴리이미드 필름 2를 이용한 것 이외는, 실시예 2와 마찬가지로 하여, 길이 190m의 필름 롤 형태의 광학 적층체 5를 얻었다. 광학 적층체 5에 있어서의 기능층의 두께는 11㎛였다.In the same manner as in Example 2 except that the polyimide film 2 was used instead of the polyamideimide film 1, an optical laminate 5 in the form of a film roll having a length of 190 m was obtained. The thickness of the functional layer in the optical laminate 5 was 11 µm.

실시예 및 비교예에서 얻은 광학 적층체에 대하여, 상기 측정 방법에 따라 각종 물성값을 측정한 결과를, 표 1 및 표 2에 나타낸다. 또한, 실시예 및 비교예의 필름의 Haze는 모두 0.2였다. 또한, 표 2 중의 광학적 균질성을 평가하기 위한 각 값에 대하여, 측정 시료가 필름으로 기재되어 있는 값은, 기능층을 적층시키기 전의 폴리아미드이미드 필름 또는 폴리이미드 필름에 대하여 측정한 값이며, 측정 시료가 적층체라고 기재되어 있는 값은, 기능층을 적층 후의 광학 적층체에 대하여 측정한 값이다. 시인성의 평가는, 광학 적층체에 대하여 평가한 결과이다.For the optical laminates obtained in Examples and Comparative Examples, the results of measuring various physical property values according to the above measurement method are shown in Tables 1 and 2. In addition, the Haze of the films of Examples and Comparative Examples were all 0.2. In addition, for each value for evaluating optical homogeneity in Table 2, the value in which the measurement sample is described as a film is a value measured for the polyamideimide film or polyimide film before laminating the functional layer, and the measurement sample The value described as a temporary laminate is a value measured with respect to the optical laminate after lamination of the functional layer. The evaluation of visibility is a result of evaluating the optical laminate.

Figure 112020057518495-pat00022
Figure 112020057518495-pat00022

Figure 112020057518495-pat00023
Figure 112020057518495-pat00023

실시예 1~3의 광학 적층체, 또는, 광학 적층체에 포함되는 광학 필름은, Ymh 및 Ymv가 40 이하이며, A/B이 30 미만이고, 시인성의 평가는 모두 ◎ 또는 ○로 양호했다. 이에 비하여, 비교예 1 및 2의 광학 적층체에 포함되는 광학 필름은, Ymh가 40을 초과하고, A/B가 30 이상이며, 시인성의 평가 결과는 각각 △ 및 ×였다. 또한, 비교예 1 및 2의 광학 적층체에 대하여, 광학 적층체를 측정 필름으로서 이용한 경우의 Ymh 등의 결과는 기재하고 있지 않지만, 광학 필름을 측정 필름으로서 얻어진 결과와 마찬가지로, Ymh 등 및 A/B가 본원 발명의 광학 적층체에 대하여 특정하는 범위 내가 되지 않는다고 생각된다. 또한, 실시예 1의 광학 적층체에 있어서의 기능층에는, 하드 코팅 기능 외에 대전 방지 기능도 부여하는 것이 가능했다. 마찬가지로, 실시예 1~3의 기능층은, 하드 코팅 기능 외에, 대전 방지 기능, 방현 기능, 저반사 기능, 반사 방지 기능 및 방오 기능 등의 새로운 기능을 부여해도 되는 층이었다.The optical laminates of Examples 1 to 3 or the optical films contained in the optical laminates have Y mh and Y mv of 40 or less, A/B of less than 30, and all evaluation of visibility is good as ◎ or ○ did. In contrast, in the optical films included in the optical laminates of Comparative Examples 1 and 2, Y mh exceeded 40, A/B was 30 or higher, and the evaluation results of visibility were Δ and ×, respectively. In addition, with respect to the optical laminates of Comparative Examples 1 and 2, results such as Y mh when using the optical laminate as a measurement film are not described, but in the same manner as the results obtained using the optical film as a measurement film, Y mh and the like, and It is thought that A/B does not fall within the range specified for the optical laminate of the present invention. In addition, it was possible to impart an antistatic function in addition to the hard coating function to the functional layer in the optical laminate of Example 1. Similarly, the functional layers of Examples 1 to 3 were layers that may impart new functions such as an antistatic function, an antiglare function, a low reflection function, an antireflection function and an antifouling function in addition to the hard coating function.

1 광원
2 측정 필름
3 투영면
4 투영 화상
5 광
6 카메라
7 카메라 각도
1 light source
2 measuring film
3 projection plane
4 Projection image
5 light
6 camera
7 camera angle

Claims (12)

불소 원자를 포함하는 폴리이미드계 수지를 포함하는 광학 필름과, 당해 광학 필름의 적어도 편면에 적층된, 하드 코팅 기능을 구비하는 기능층을 가지는 광학 적층체로서,
상기 광학 필름을 이용하여 투영법에 의해 얻은 투영 화상을 푸리에 변환하여 얻은 필름 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h 및 방향 v에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h 및 라인 프로파일 v라고 하고, 상기 투영법에 있어서 상기 광학 적층체를 이용하지 않고 얻은 배경 화상을 푸리에 변환하여 얻은 배경 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h' 및 방향 v'에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h' 및 라인 프로파일 v'라고 하며, 라인 프로파일 h로부터 라인 프로파일 h'를 빼서 얻은 라인 프로파일(h-h')의 최대 강도를 Ymh라고 하고, 최대 강도 Ymh를 나타내는 주파수를 Xmh라고 하며, 라인 프로파일 v로부터 라인 프로파일 v'를 빼서 얻은 라인 프로파일(v-v')의 최대 강도를 Ymv라고 하고, 최대 강도 Ymv를 나타내는 주파수를 Xmv라고 하면, Ymh 및 Ymv는 모두 40 이하이며, Ymh, Ymv, Xmh 및 Xmv는, 다음의 관계:
Figure 112020122879555-pat00035

를 충족시키고,
상기 기능층은 다관능 (메타)아크릴레이트계 화합물의 경화물을 포함하는 층이며, 상기 광학 적층체의 상기 기능층을 가지는 면의 연필 경도는 2H 이상이며,
상기 폴리이미드계 수지는, 하기 식 (1)로 나타나는 구성 단위를 가지는 폴리이미드 수지이거나, 또는, 하기 식 (1)로 나타나는 구성 단위 및 하기 식 (2)로 나타나는 구성 단위를 가지는 폴리아미드이미드 수지인, 광학 적층체.
Figure 112020122879555-pat00036

[식 (1)에 있어서, Y는 4가의 유기기를 나타내고, 식 (2)에 있어서, Z는 2가의 유기기이며, 식 (1) 및 식 (2)에 있어서, X는, 서로 독립적으로, 2가의 유기기를 나타냄]
An optical laminate comprising an optical film containing a polyimide resin containing a fluorine atom, and a functional layer having a hard coating function laminated on at least one side of the optical film,
The line profiles in directions h and v perpendicular to each other in the film inverse space obtained by Fourier transform of the projection image obtained by the projection method using the optical film are referred to as line profile h and line profile v, respectively, and the projection method In the background inverse space obtained by Fourier transform of a background image obtained without using the optical laminate, the line profiles in directions h'and v'that are orthogonal to each other are defined as a line profile h'and a line profile v', respectively. The maximum strength of the line profile (h-h') obtained by subtracting the line profile h'from the line profile h is called Y mh , and the frequency representing the maximum strength Y mh is called X mh , and the line profile from line profile v Assuming that the maximum intensity of the line profile (v-v') obtained by subtracting v'is called Y mv and the frequency representing the maximum intensity Y mv is called X mv , both Y mh and Y mv are 40 or less, and Y mh , Y mv , X mh and X mv are related to:
Figure 112020122879555-pat00035

To meet,
The functional layer is a layer containing a cured product of a polyfunctional (meth)acrylate-based compound, and the pencil hardness of the surface having the functional layer of the optical laminate is 2H or more,
The polyimide resin is a polyimide resin having a structural unit represented by the following formula (1), or a polyamideimide resin having a structural unit represented by the following formula (1) and a structural unit represented by the following formula (2) Phosphorus, optical laminate.
Figure 112020122879555-pat00036

[In formula (1), Y represents a tetravalent organic group, in formula (2), Z is a divalent organic group, and in formulas (1) and (2), X is independently of each other, Represents a divalent organic group]
제 1 항에 있어서,
기능층의 두께는 20㎛ 이하인, 광학 적층체.
The method of claim 1,
The optical laminated body, wherein the thickness of the functional layer is 20 µm or less.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
광학 적층체의 황색도는 3.0 이하인, 광학 적층체.
The method according to claim 1 or 2,
The optical laminate having a yellowness of 3.0 or less.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
광학 적층체의 폭 방향의 길이가 20cm 이상, 길이 방향의 길이가 1m 이상인, 광학 적층체.
The method according to claim 1 or 2,
An optical laminate having a length of 20 cm or more in the width direction of the optical laminate and 1 m or more of a length in the length direction of the optical laminate.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
광학 적층체는, 플렉시블 표시 장치의 전면판용의 필름인, 광학 적층체.
The method according to claim 1 or 2,
The optical laminated body is an optical laminated body which is a film for a front plate of a flexible display device.
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 광학 적층체를 구비하는 플렉시블 표시 장치.A flexible display device comprising the optical laminate according to claim 1 or 2. 제 6 항에 있어서,
터치 센서를 추가로 구비하는, 플렉시블 표시 장치.
The method of claim 6,
A flexible display device further comprising a touch sensor.
제 6 항에 있어서,
편광판을 추가로 구비하는, 플렉시블 표시 장치.
The method of claim 6,
A flexible display device further comprising a polarizing plate.
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 광학 적층체의 제조 방법으로서,
(a) 불소 원자를 포함하는 폴리이미드계 수지 및 용매를 적어도 함유하는 바니시를 지지체 상에 도포하고, 건조시켜 도막을 형성시키는 공정,
(b) 지지체로부터 도막을 박리하는 공정,
(c) 박리한 도막을 가열하여, 필름을 얻는 공정, 및,
(d) 필름의 적어도 편면에 기능층을 적층하여, 광학 적층체를 얻는 공정
을 적어도 포함하는, 광학 적층체의 제조 방법.
As the manufacturing method of the optical laminated body according to claim 1 or 2,
(a) a process of applying a varnish containing at least a polyimide resin containing a fluorine atom and a solvent on a support and drying to form a coating film,
(b) the step of peeling the coating film from the support,
(c) heating the peeled coating film to obtain a film, and
(d) a step of laminating a functional layer on at least one side of the film to obtain an optical laminate
The manufacturing method of an optical laminated body containing at least.
삭제delete 삭제delete 삭제delete
KR1020200067495A 2018-11-27 2020-06-04 Optical multilayer body, flexible display device and method for producing optical multilayer body KR102221032B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2018-221657 2018-11-27
JP2018221657A JP6556317B1 (en) 2018-11-27 2018-11-27 OPTICAL LAMINATE, FLEXIBLE DISPLAY DEVICE, AND OPTICAL LAMINATE MANUFACTURING METHOD

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190091943A Division KR102121518B1 (en) 2018-11-27 2019-07-29 Optical multilayer body, flexible display device and method for producing optical multilayer body

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200067806A KR20200067806A (en) 2020-06-12
KR102221032B1 true KR102221032B1 (en) 2021-02-26

Family

ID=67539874

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190091943A KR102121518B1 (en) 2018-11-27 2019-07-29 Optical multilayer body, flexible display device and method for producing optical multilayer body
KR1020200067495A KR102221032B1 (en) 2018-11-27 2020-06-04 Optical multilayer body, flexible display device and method for producing optical multilayer body

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190091943A KR102121518B1 (en) 2018-11-27 2019-07-29 Optical multilayer body, flexible display device and method for producing optical multilayer body

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6556317B1 (en)
KR (2) KR102121518B1 (en)
CN (1) CN111239858A (en)
TW (1) TW202030079A (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102260732B1 (en) 2019-08-14 2021-06-07 에스케이씨 주식회사 Polyimide-based composite film and display device comprising same
JP2021070764A (en) * 2019-10-31 2021-05-06 住友化学株式会社 Optical film and flexible display device
WO2021261195A1 (en) * 2020-06-23 2021-12-30 リンテック株式会社 Optical film, optical film manufacturing method, transparent conductive film, and gas barrier film

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012233021A (en) 2011-04-28 2012-11-29 Mitsui Chemicals Inc Method for manufacturing polyimide film
JP2017203984A (en) 2016-05-10 2017-11-16 住友化学株式会社 Optical film, and flexible device obtained by using the same
JP2018065993A (en) 2016-10-17 2018-04-26 大日本印刷株式会社 Method for producing polyimide film, method for producing polyimide precursor, method for manufacturing laminate, and method for manufacturing surface material for display

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3474033B2 (en) 1995-08-08 2003-12-08 積水化学工業株式会社 Optical transparent film
JP5743419B2 (en) 2010-04-18 2015-07-01 国立大学法人宇都宮大学 Shape measuring method and apparatus and strain measuring method and apparatus
TWI454753B (en) * 2010-04-19 2014-10-01 Tomoegawa Co Ltd Optical laminate, polarizing plate, display device, and method for making an optical laminate
JP6635110B2 (en) 2015-03-24 2020-01-22 コニカミノルタ株式会社 Polyimide-based optical film, method for producing the same, and organic electroluminescent display

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012233021A (en) 2011-04-28 2012-11-29 Mitsui Chemicals Inc Method for manufacturing polyimide film
JP2017203984A (en) 2016-05-10 2017-11-16 住友化学株式会社 Optical film, and flexible device obtained by using the same
JP2018065993A (en) 2016-10-17 2018-04-26 大日本印刷株式会社 Method for producing polyimide film, method for producing polyimide precursor, method for manufacturing laminate, and method for manufacturing surface material for display

Also Published As

Publication number Publication date
TW202030079A (en) 2020-08-16
KR20200067806A (en) 2020-06-12
JP6556317B1 (en) 2019-08-07
KR20200063031A (en) 2020-06-04
JP2020082552A (en) 2020-06-04
CN111239858A (en) 2020-06-05
KR102121518B1 (en) 2020-06-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN110673234B (en) Optical film, flexible display device, and method for manufacturing optical film
KR102221032B1 (en) Optical multilayer body, flexible display device and method for producing optical multilayer body
CN109765642B (en) Optical laminate
KR102093299B1 (en) Optical film
JP6722325B2 (en) Optical film
CN110673233B (en) Optical film, flexible display device, and method for manufacturing optical film
JP6683882B1 (en) Optical laminate, flexible display device, and method for producing optical laminate
CN110967780B (en) Optical film
US11550179B2 (en) Optical film
CN110969941B (en) Optical film
JP2020116952A (en) Optical laminate, flexible display device and method for manufacturing optical laminate
JP6640407B1 (en) Optical laminate, flexible display device, and method of manufacturing optical laminate
CN114667466A (en) Optical laminate and flexible display device
WO2021085404A1 (en) Optical laminate and flexible display device
JP2020055995A (en) Optical film, flexible display device and method for manufacturing optical film
KR20210097048A (en) Film roll
KR20210097047A (en) Film roll
JP2020055994A (en) Optical film, flexible display device and method for manufacturing optical film
CN116731515A (en) Film, laminate, and flexible display device each comprising polyimide resin

Legal Events

Date Code Title Description
A107 Divisional application of patent
A201 Request for examination
A302 Request for accelerated examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant