KR20200062259A - 경화막 형성 조성물, 배향재 및 위상차재 - Google Patents

경화막 형성 조성물, 배향재 및 위상차재 Download PDF

Info

Publication number
KR20200062259A
KR20200062259A KR1020207011883A KR20207011883A KR20200062259A KR 20200062259 A KR20200062259 A KR 20200062259A KR 1020207011883 A KR1020207011883 A KR 1020207011883A KR 20207011883 A KR20207011883 A KR 20207011883A KR 20200062259 A KR20200062259 A KR 20200062259A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
component
cured film
forming composition
film forming
Prior art date
Application number
KR1020207011883A
Other languages
English (en)
Inventor
준 이토
나오야 니시무라
Original Assignee
닛산 가가쿠 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 filed Critical 닛산 가가쿠 가부시키가이샤
Publication of KR20200062259A publication Critical patent/KR20200062259A/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/24—Homopolymers or copolymers of amides or imides
    • C08L33/26—Homopolymers or copolymers of acrylamide or methacrylamide
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/04—Oxygen-containing compounds
    • C08K5/09—Carboxylic acids; Metal salts thereof; Anhydrides thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L67/00—Compositions of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L67/02—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F120/00—Homopolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F120/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F120/52—Amides or imides
    • C08F120/54—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
    • C08F120/58—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide containing oxygen in addition to the carbonamido oxygen, e.g. N-methylolacrylamide, N-acryloyl morpholine
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/52—Amides or imides
    • C08F220/54—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
    • C08F220/56—Acrylamide; Methacrylamide
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
    • C08G59/42—Polycarboxylic acids; Anhydrides, halides or low molecular weight esters thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G63/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
    • C08G63/02—Polyesters derived from hydroxycarboxylic acids or from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds
    • C08G63/06—Polyesters derived from hydroxycarboxylic acids or from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds derived from hydroxycarboxylic acids
    • C08G63/08—Lactones or lactides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G63/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
    • C08G63/66—Polyesters containing oxygen in the form of ether groups
    • C08G63/668—Polyesters containing oxygen in the form of ether groups derived from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds
    • C08G63/672—Dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L1/00—Compositions of cellulose, modified cellulose or cellulose derivatives
    • C08L1/02—Cellulose; Modified cellulose
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
    • C08L101/12—Compositions of unspecified macromolecular compounds characterised by physical features, e.g. anisotropy, viscosity or electrical conductivity
    • C08L101/14—Compositions of unspecified macromolecular compounds characterised by physical features, e.g. anisotropy, viscosity or electrical conductivity the macromolecular compounds being water soluble or water swellable, e.g. aqueous gels
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C08L33/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur, or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L67/00—Compositions of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L67/00—Compositions of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L67/04—Polyesters derived from hydroxycarboxylic acids, e.g. lactones
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L69/00—Compositions of polycarbonates; Compositions of derivatives of polycarbonates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L71/00—Compositions of polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/52—Liquid crystal materials characterised by components which are not liquid crystals, e.g. additives with special physical aspect: solvents, solid particles
    • C09K19/54—Additives having no specific mesophase characterised by their chemical composition
    • C09K19/56—Aligning agents
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3016—Polarising elements involving passive liquid crystal elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133711—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by organic films, e.g. polymeric films
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/86—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/10—Organic polymers or oligomers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2367/00—Characterised by the use of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Derivatives of such polymers
    • C08J2367/02—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2433/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2433/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
    • C08J2433/14—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur, or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2203/00—Applications
    • C08L2203/16—Applications used for films
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/13363—Birefringent elements, e.g. for optical compensation
    • G02F1/133631—Birefringent elements, e.g. for optical compensation with a spatial distribution of the retardation value
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/8791—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

[과제] 우수한 광반응효율과 내용제성을 구비하며, 중합성 액정을 경화시킨 후에 해당 중합성 액정층으로부터 박리가능해지는 경화막을 형성하는 경화막 형성 조성물, 배향재, 위상차재를 제공한다.
[해결수단] (A)성분인 하기 식(1)로 표시되는 계피산 유도체,
Figure pct00021

(식(1) 중, A1과 A2는 수소원자 등을 나타내고, R1은 수소원자 등이고, R2는 방향족기 등이고, R3은 단결합, 산소원자 등이고, R4~R7은 각각 독립적으로 수소원자 등이고, n은 0~3의 정수이다.), (B)성분인 하이드록시기, 카르복실기 및 아미노기로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 치환기를 갖는 친수성 폴리머, 그리고 (C)성분인 가교제를 함유하고, 필요에 따라 (D)성분으로서 가교촉매를 추가로 함유하는 경화막 형성 조성물, 이것을 이용하여 얻어지는 배향재, 위상차재.

Description

경화막 형성 조성물, 배향재 및 위상차재
본 발명은 액정분자를 배향시키는 광배향용 액정배향제, 배향재 및 위상차재에 관한 것이다. 특히 본 발명은, 원편광 안경방식의 3D디스플레이에 이용되는 패터닝된 위상차재나, 유기 EL디스플레이의 반사방지막으로서 사용되는 원편광판에 이용되는 위상차재를 제작하는데 유용한 광배향용 액정배향제, 배향재 및 위상차재에 관한 것이다.
원편광 안경방식의 3D디스플레이의 경우, 액정패널 등의 화상을 형성하는 표시소자의 위에 위상차재가 배치되는 것이 통상이다. 이 위상차재는, 위상차특성이 상이한 2종류의 위상차영역이 각각 복수, 규칙적으로 배치되어 있으며, 패터닝된 위상차재를 구성하고 있다. 한편, 이하, 본 명세서에 있어서는, 이와 같은 위상차특성이 상이한 복수의 위상차영역을 배치하도록 패턴화된 위상차재를 패턴화 위상차재라 칭한다.
패턴화 위상차재는, 예를 들어, 특허문헌 1에 개시되는 바와 같이, 중합성 액정으로 이루어지는 위상차재료를 광학패터닝함으로써 제작할 수 있다. 중합성 액정으로 이루어지는 위상차재료의 광학패터닝은, 액정패널의 배향재형성에서 알려진 광배향기술을 이용한다. 즉, 기판 상에 광배향성의 재료로 이루어지는 도막을 마련하고, 이것에 편광방향이 상이한 2종류의 편광을 조사한다. 그리고, 액정의 배향제어방향이 상이한 2종류의 액정배향영역이 형성된 배향재로서 광배향막을 얻는다. 이 광배향막의 위에 중합성 액정을 포함하는 용액상의 위상차재료를 도포하고, 중합성 액정의 배향을 실현한다. 그 후, 배향된 중합성 액정을 경화하여 패턴화 위상차재를 형성한다.
유기 EL디스플레이의 반사방지막은, 직선편광판, 1/4파장위상차판에 의해 구성되며, 화상표시패널의 패널면을 향하는 외래광을 직선편광판에 의해 직선편광으로 변환하고, 계속되는 1/4파장위상차판에 의해 원편광으로 변환한다. 여기서 이 원편광에 의한 외래광은, 화상표시패널의 표면 등에서 반사되지만, 이 반사시에 편광면의 회전방향이 역전한다. 그 결과, 이 반사광은, 도래시와는 반대로, 1/4파장위상차판보다, 직선편광판에 의해 차광되는 방향의 직선편광으로 변환된 후, 이어지는 직선편광판에 의해 차광되고, 그 결과, 외부에의 출사가 현저하게 억제된다.
이 1/4파장위상차판에 관해, 특허문헌 2에는, 1/2파장판, 1/4파장판을 조합하여 1/4파장위상차판을 구성함으로써, 이 광학필름을 역분산특성에 의해 구성하는 방법이 제안되어 있다. 이 방법의 경우, 컬러화상의 표시에 제공하는 넓은 파장대역에 있어서, 양(正)의 분산특성에 따른 액정재료를 사용하여 역분산특성에 의해 광학필름을 구성할 수 있다.
또한 최근, 이 위상차층에 적용가능한 액정재료로서, 역분산특성을 구비하는 것이 제안되어 있다(특허문헌 3, 4). 이러한 역분산특성의 액정재료에 따르면, 1/2파장판, 1/4파장판을 조합하여 2층의 위상차층에 의해 1/4파장위상차판을 구성하는 대신에, 위상차층을 단층에 의해 구성하여 역분산특성을 확보할 수 있고, 이에 따라 넓은 파장대역에 있어서 원하는 위상차를 확보하는 것이 가능한 광학필름을 간이한 구성에 의해 실현할 수 있다.
액정을 배향시키기 위해서는 배향층이 이용된다. 배향층의 형성방법으로는, 예를 들어 래핑법이나 광배향법이 알려져 있으며, 광배향법은 래핑법의 문제점인 정전기나 먼지의 발생이 없고, 정량적인 배향처리의 제어가 가능한 점에서 유용하다.
광배향법을 이용한 배향재형성에서는, 이용가능한 광배향성의 재료로서, 측쇄에 신나모일기 및 칼콘기 등의 광이량화부위를 갖는 아크릴 수지나 폴리이미드 수지 등이 알려져 있다. 이들 수지는, 편광UV조사함으로써, 액정의 배향을 제어하는 성능(이하, 액정배향성이라고도 한다.)을 나타내는 것이 보고되어 있다(특허문헌 5~특허문헌 7을 참조.).
한편, 요즘 디바이스의 경량, 박형화의 요구에 따라, 위상차재도 보다 얇은 것이 요구되게 되었고, 배향막의 위에서 중합성 액정을 배향시키는 역할을 갖는 배향막 자체를, 중합성 액정이 경화된 후에 박리시킴으로써, 보다 막두께가 얇은 위상차재를 제작하는 수법이 이용되고 있다. 그러므로, 배향층에는, 중합성 액정이 경화된 후에, 용이하게 박리가능한 것이 요구되고 있다.
또한, 배향층에는, 액정배향능이나 박리성 이외에, 내용제성이 요구된다. 예를 들어, 배향층이, 위상차재의 제조과정에서 열이나 용제에 노출되는 경우가 있다. 배향층이 용제에 노출되면, 액정배향능이 현저하게 저하될 우려가 있다.
이에, 예를 들어 특허문헌 8에는, 안정된 액정배향능을 얻기 위해, 광에 의해 가교반응이 가능한 구조와 열에 의해 가교하는 구조를 갖는 중합체성분을 함유하는 액정배향제, 및, 광에 의해 가교반응이 가능한 구조를 갖는 중합체성분과 열에 의해 가교하는 구조를 갖는 화합물을 함유하는 액정배향제가 제안되어 있다.
일본특허공개 2005-49865호 공보 일본특허공개 H10-68816호 공보 미국특허 제8119026호 명세서 일본특허공개 2009-179563호 공보 일본특허 제3611342호 공보 일본특허공개 2009-058584호 공보 일본특허공표 2001-517719호 공보 일본특허 제4207430호 공보
본 발명은, 이상의 지견이나 검토 결과에 기초하여 이루어진 것이다. 즉, 본 발명의 목적은, 우수한 광반응효율을 가짐과 함께 내용제성을 구비하며, 고감도로 중합성 액정을 배향시킬 수 있음과 함께, 중합성 액정을 경화시킨 후에 해당 중합성 액정층으로부터 박리가능해지는 배향재를 제공하기 위한 경화막 형성 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적 및 이점은, 이하의 기재로부터 분명해질 것이다.
본 발명의 제1의 태양은,
(A)성분인, 하기 식(1)로 표시되는 계피산 유도체,
[화학식 1]
Figure pct00001
(식(1) 중, A1과 A2는 각각 독립적으로, 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, R1은 수소원자, 할로겐원자, C1~C6알킬, C1~C6할로알킬, C1~C6알콕시, C1~C6할로알콕시, C3~C8시클로알킬, C3~C8할로시클로알킬, C2~C6알케닐, C2~C6할로알케닐, C3~C8시클로알케닐, C3~C8할로시클로알케닐, C2~C6알키닐, C2~C6할로알키닐, (C1~C6알킬)카르보닐, (C1~C6할로알킬)카르보닐, (C1~C6알콕시)카르보닐, (C1~C6할로알콕시)카르보닐, (C1~C6알킬아미노)카르보닐, (C1~C6할로알킬)아미노카르보닐, 디(C1~C6알킬)아미노카르보닐, 시아노 및 니트로로부터 선택되는 치환기를 나타내고, R2는 2가의 방향족기, 2가의 지환족기, 2가의 복소환식기 또는 2가의 축합환식기이고, R3은 단결합, 산소원자, -COO- 또는 -OCO-이고, R4~R7은 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐원자, C1~C6알킬기, C1~C6할로알킬기, C1~C6알콕시기, C1~C6할로알콕시기, 시아노기, 및 니트로기로부터 선택되는 치환기이고, n은 0~3의 정수이다.),
(B)성분인, 하이드록시기, 카르복실기 및 아미노기로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 치환기를 갖는 친수성 폴리머, 그리고
(C)성분인 가교제를 함유하는 것을 특징으로 하는 경화막 형성 조성물에 관한 것이다.
본 발명의 제1의 태양에 있어서, (B)성분이, 폴리에테르폴리올, 폴리에스테르폴리올, 폴리카보네이트폴리올 및 폴리카프로락톤폴리올로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종의 폴리머인 것이 바람직하다
본 발명의 제1의 태양에 있어서, (B)성분이 셀룰로오스 또는 그의 유도체인 것이 바람직하다.
본 발명의 제1의 태양에 있어서, (B)성분이, 폴리에틸렌글리콜에스테르기 및 C2~C5하이드록시알킬에스테르기 중 적어도 일방과, 카르복실기 및 페놀성 하이드록시기 중 적어도 일방을 갖는 아크릴 중합체인 것이 바람직하다.
본 발명의 제1의 태양에 있어서, (B)성분이, 폴리에틸렌글리콜에스테르기를 갖는 모노머 및 C2~C5하이드록시알킬에스테르기를 갖는 모노머 중 적어도 일방과, 카르복실기를 갖는 모노머 및 페놀성 하이드록시기를 갖는 모노머 중 적어도 일방을 포함하는 모노머의 중합반응에 의해 얻어지는 아크릴 공중합체인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 제1의 태양에 있어서, (B)성분이, 하이드록시알킬기를 측쇄에 갖는 아크릴 중합체인 것이 바람직하다.
본 발명의 제1의 태양에 있어서, (C)성분이 N-하이드록시메틸 화합물 또는 N-알콕시메틸(메트)아크릴아미드 화합물을 포함하는 모노머를 중합한 폴리머인 것이 바람직하다.
본 발명의 제1의 태양에 있어서, (D)성분으로서 가교촉매를 추가로 함유하는 것이 바람직하다.
본 발명의 제1의 태양에 있어서, (A)성분과 (B)성분의 비율이 질량비로 5:95 내지 60:40인 것이 바람직하다.
본 발명의 제1의 태양에 있어서, (A)성분 및 (B)성분의 합계량 100질량부에 기초하여, 10질량부 내지 500질량부의 (C)성분을 함유하는 것이 바람직하다.
본 발명의 제1의 태양에 있어서, (A)성분의 화합물 및 (B)성분의 폴리머의 합계량 100질량부에 대해 0.01질량부 내지 10질량부의 (D)성분을 함유하는 것이 바람직하다.
본 발명의 제2의 태양은, 본 발명의 제1의 태양의 경화막 형성 조성물을 이용하여 얻어지는 것을 특징으로 하는 배향재에 관한 것이다.
본 발명의 제3의 태양은, 본 발명의 제1의 태양의 경화막 형성 조성물로부터 얻어지는 경화막을 사용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 위상차재에 관한 것이다.
본 발명에 따르면, 우수한 광반응효율을 가짐과 함께 내용제성을 구비하며, 고감도로 중합성 액정을 배향시킬 수 있음과 함께, 중합성 액정을 경화시킨 후에 해당 중합성 액정층으로부터 박리가능해지는 배향재를 제공하기 위한 경화막 형성 조성물을 제공하는 것이다.
<경화막 형성 조성물>
본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물은, (A)성분인 저분자의 광배향성분과, (B)성분인 친수성 폴리머와, (C)성분인 가교제를 함유한다. 본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물은, (A)성분, (B)성분, (C)성분에 더하여, 추가로, (D)성분으로서 가교촉매도 함유할 수 있다. 그리고, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한, 기타 첨가제를 함유할 수 있다.
이하, 각 성분의 상세를 설명한다.
<(A)성분>
본 발명의 경화막 형성 조성물에 함유되는 (A)성분은, 상기 식(1)로 표시되는 계피산 유도체이다.
상기 식(1)에 있어서의 할로겐원자로는, 불소원자, 염소원자, 브롬원자 및 요오드원자를 들 수 있다. 한편, 본 명세서 중 「할로」의 표기도 이들 할로겐원자를 나타낸다.
상기 식(1)에 있어서의 Ca~Cb알킬의 표기는, 탄소원자수가 a~b개로 이루어지는 직쇄상 또는 분지쇄상의 탄화수소기를 나타내고, 예를 들어 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, i-부틸기, s-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, 1-메틸부틸기, 2-메틸부틸기, 3-메틸부틸기, 1-에틸프로필기, 1,1-디메틸프로필기, 1,2-디메틸프로필기, 2,2-디메틸프로필기, n-헥실기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기, 1,1-디메틸부틸기, 1,3-디메틸부틸기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기 등을 구체예로서 들 수 있고, 각각의 지정한 탄소원자수의 범위에서 선택된다.
상기 식(1)에 있어서의 Ca~Cb할로알킬의 표기는, 탄소원자에 결합한 수소원자가, 할로겐원자에 의해 임의로 치환된, 탄소원자수가 a~b개로 이루어지는 직쇄상 또는 분지쇄상의 탄화수소기를 나타내고, 이때, 2개 이상의 할로겐원자에 의해 치환되어 있는 경우, 이들 할로겐원자는 서로 동일할 수도, 또는 서로 상이할 수도 있다. 예를 들어 플루오로메틸기, 클로로메틸기, 브로모메틸기, 요오드메틸기, 디플루오로메틸기, 클로로플루오로메틸기, 디클로로메틸기, 브로모플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기, 클로로디플루오로메틸기, 디클로로플루오로메틸기, 트리클로로메틸기, 브로모디플루오로메틸기, 브로모클로로플루오로메틸기, 디브로모플루오로메틸기, 2-플루오로에틸기, 2-클로로에틸기, 2-브로모에틸기, 2,2-디플루오로에틸기, 2-클로로-2-플루오로에틸기, 2,2-디클로로에틸기, 2-브로모-2-플루오로에틸기, 2,2,2-트리플루오로에틸기, 2-클로로-2,2-디플루오로에틸기, 2,2-디클로로-2-플루오로에틸기, 2,2,2-트리클로로에틸기, 2-브로모-2,2-디플루오로에틸기, 2-브로모-2-클로로-2-플루오로에틸기, 2-브로모-2,2-디클로로에틸기, 1,1,2,2-테트라플루오로에틸기, 펜타플루오로에틸기, 1-클로로-1,2,2,2-테트라플루오로에틸기, 2-클로로-1,1,2,2-테트라플루오로에틸기, 1,2-디클로로-1,2,2-트리플루오로에틸기, 2-브로모-1,1,2,2-테트라플루오로에틸기, 2-플루오로프로필기, 2-클로로프로필기, 2-브로모프로필기, 2-클로로-2-플루오로프로필기, 2,3-디클로로프로필기, 2-브로모-3-플루오로프로필기, 3-브로모-2-클로로프로필기, 2,3-디브로모프로필기, 3,3,3-트리플루오로프로필기, 3-브로모-3,3-디플루오로프로필기, 2,2,3,3-테트라플루오로프로필기, 2-클로로-3,3,3-트리플루오로프로필기, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필기, 1,1,2,3,3,3-헥사플루오로프로필기, 헵타플루오로프로필기, 2,3-디클로로-1,1,2,3,3-펜타플루오로프로필기, 2-플루오로-1-메틸에틸기, 2-클로로-1-메틸에틸기, 2-브로모-1-메틸에틸기, 2,2,2-트리플루오로-1-(트리플루오로메틸)에틸기, 1,2,2,2-테트라플루오로-1-(트리플루오로메틸)에틸기, 2,2,3,3,4,4-헥사플루오로부틸기, 2,2,3,4,4,4-헥사플루오로부틸기, 2,2,3,3,4,4,4-헵타플루오로부틸기, 1,1,2,2,3,3,4,4-옥타플루오로부틸기, 노나플루오로부틸기, 4-클로로-1,1,2,2,3,3,4,4-옥타플루오로부틸기, 2-플루오로-2-메틸프로필기, 2-클로로-1,1-디메틸에틸기, 2-브로모-1,1-디메틸에틸기, 5-클로로-2,2,3,4,4,5,5-헵타플루오로펜틸기, 트리데카플루오로헥실기 등을 구체예로서 들 수 있고, 각각의 지정한 탄소원자수의 범위에서 선택된다.
상기 식(1)에 있어서의 Ca~Cb시클로알킬의 표기는, 탄소원자수가 a~b개로 이루어지는 환상의 탄화수소기를 나타내고, 3원환부터 6원환까지의 단환 또는 복합환구조를 형성할 수 있다. 또한, 각각의 환은 지정한 탄소원자수의 범위에서 알킬기에 의해 임의로 치환되어 있을 수도 있다. 예를 들어 시클로프로필기, 1-메틸시클로프로필기, 2-메틸시클로프로필기, 2,2-디메틸시클로프로필기, 2,2,3,3-테트라메틸시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 2-메틸시클로펜틸기, 3-메틸시클로펜틸기, 시클로헥실기, 2-메틸시클로헥실기, 3-메틸시클로헥실기, 4-메틸시클로헥실기, 비시클로[2.2.1]헵탄-2-일기 등을 구체예로서 들 수 있고, 각각의 지정한 탄소원자수의 범위에서 선택된다.
상기 식(1)에 있어서의 Ca~Cb할로시클로알킬의 표기는, 탄소원자에 결합한 수소원자가, 할로겐원자에 의해 임의로 치환된, 탄소원자수가 a~b개로 이루어지는 환상의 탄화수소기를 나타내고, 3원환부터 6원환까지의 단환 또는 복합환구조를 형성할 수 있다. 또한, 각각의 환은 지정한 탄소원자수의 범위에서 알킬기에 의해 임의로 치환되어 있을 수도 있고, 할로겐원자에 의한 치환은 환구조부분일 수도, 측쇄부분일 수도, 혹은 이들 양방일 수도 있고, 나아가, 2개 이상의 할로겐원자에 의해 치환되어 있는 경우, 이들 할로겐원자는 서로 동일할 수도, 또는 서로 상이할 수도 있다. 예를 들어 2,2-디플루오로시클로프로필기, 2,2-디클로로시클로프로필기, 2,2-디브로모시클로프로필기, 2,2-디플루오로-1-메틸시클로프로필기, 2,2-디클로로-1-메틸시클로프로필기, 2,2-디브로모-1-메틸시클로프로필기, 2,2,3,3-테트라플루오로시클로부틸기, 2-(트리플루오로메틸)시클로헥실기, 3-(트리플루오로메틸)시클로헥실기, 4-(트리플루오로메틸)시클로헥실기 등을 구체예로서 들 수 있고, 각각의 지정한 탄소원자수의 범위에서 선택된다.
상기 식(1)에 있어서의 Ca~Cb알케닐의 표기는, 탄소원자수가 a~b개로 이루어지는 직쇄상 또는 분지쇄상이며, 또한 분자 내에 1개 또는 2개 이상의 이중결합을 갖는 불포화탄화수소기를 나타내고, 예를 들어 비닐기, 1-프로페닐기, 2-프로페닐기, 1-메틸에테닐기, 2-부테닐기, 1-메틸-2-프로페닐기, 2-메틸-2-프로페닐기, 2-펜테닐기, 2-메틸-2-부테닐기, 3-메틸-2-부테닐기, 2-에틸-2-프로페닐기, 1,1-디메틸-2-프로페닐기, 2-헥세닐기, 2-메틸-2-펜테닐기, 2,4-디메틸-2,6-헵타디에닐기, 3,7-디메틸-2,6-옥타디에닐기 등을 구체예로서 들 수 있고, 각각의 지정한 탄소원자수의 범위에서 선택된다.
상기 식(1)에 있어서의 Ca~Cb할로알케닐의 표기는, 탄소원자에 결합한 수소원자가, 할로겐원자에 의해 임의로 치환된, 탄소원자수가 a~b개로 이루어지는 직쇄상 또는 분지쇄상이며, 또한 분자 내에 1개 또는 2개 이상의 이중결합을 갖는 불포화탄화수소기를 나타낸다. 이때, 2개 이상의 할로겐원자에 의해 치환되어 있는 경우, 이들 할로겐원자는 서로 동일할 수도, 또는 서로 상이할 수도 있다. 예를 들어 2,2-디클로로비닐기, 2-플루오로-2-프로페닐기, 2-클로로-2-프로페닐기, 3-클로로-2-프로페닐기, 2-브로모-2-프로페닐기, 3-브로모-2-프로페닐기, 3,3-디플루오로-2-프로페닐기, 2,3-디클로로-2-프로페닐기, 3,3-디클로로-2-프로페닐기, 2,3-디브로모-2-프로페닐기, 2,3,3-트리플루오로-2-프로페닐기, 2,3,3-트리클로로-2-프로페닐기, 1-(트리플루오로메틸)에테닐기, 3-클로로-2-부테닐기, 3-브로모-2-부테닐기, 4,4-디플루오로-3-부테닐기, 3,4,4-트리플루오로-3-부테닐기, 3-클로로-4,4,4-트리플루오로-2-부테닐기, 3-브로모-2-메틸-2-프로페닐기 등을 구체예로서 들 수 있고, 각각의 지정한 탄소원자수의 범위에서 선택된다.
상기 식(1)에 있어서의 Ca~Cb시클로알케닐의 표기는, 탄소원자수가 a~b개로 이루어지는 환상의, 또한 1개 또는 2개 이상의 이중결합을 갖는 불포화탄화수소기를 나타내고, 3원환부터 6원환까지의 단환 또는 복합환구조를 형성할 수 있다. 또한, 각각의 환은 지정한 탄소원자수의 범위에서 알킬기에 의해 임의로 치환되어 있을 수도 있고, 나아가, 이중결합은 endo- 또는 exo-의 어느 형식일 수도 있다. 예를 들어 2-시클로펜텐-1-일기, 3-시클로펜텐-1-일기, 2-시클로헥센-1-일기, 3-시클로헥센-1-일기, 비시클로[2.2.1]-5-헵텐-2-일기 등을 구체예로서 들 수 있고, 각각의 지정한 탄소원자수의 범위에서 선택된다.
상기 식(1)에 있어서의 Ca~Cb할로시클로알케닐의 표기는, 탄소원자에 결합한 수소원자가, 할로겐원자에 의해 임의로 치환된, 탄소원자수가 a~b개로 이루어지는 환상의, 또한 1개 또는 2개 이상의 이중결합을 갖는 불포화탄화수소기를 나타내고, 3원환부터 6원환까지의 단환 또는 복합환구조를 형성할 수 있다. 또한, 각각의 환은 지정한 탄소원자수의 범위에서 알킬기에 의해 임의로 치환되어 있을 수도 있고, 나아가, 이중결합은 endo- 또는 exo-의 어느 형식일 수도 있다. 또한, 할로겐원자에 의한 치환은 환구조부분일 수도, 측쇄부분일 수도, 혹은 이들 양방일 수도 있고, 2개 이상의 할로겐원자에 의해 치환되어 있는 경우, 이들 할로겐원자는 서로 동일할 수도, 또는 서로 상이할 수도 있다. 예를 들어 2-클로로비시클로[2,2.1]-5-헵텐-2-일기 등을 구체예로서 들 수 있고, 각각의 지정한 탄소원자수의 범위에서 선택된다.
상기 식(1)에 있어서의 Ca~Cb알키닐의 표기는, 탄소원자수가 a~b개로 이루어지는 직쇄상 또는 분지쇄상이며, 또한 분자 내에 1개 또는 2개 이상의 삼중결합을 갖는 불포화탄화수소기를 나타내고, 예를 들어 에티닐기, 1-프로피닐기, 2-프로피닐기, 2-부티닐기, 1-메틸-2-프로피닐기, 2-펜티닐기, 1-메틸-2-부티닐기, 1,1-디메틸-2-프로피닐기, 2-헥시닐기 등을 구체예로서 들 수 있고, 각각의 지정한 탄소원자수의 범위에서 선택된다.
상기 식(1)에 있어서의 Ca~Cb할로알키닐의 표기는, 탄소원자에 결합한 수소원자가, 할로겐원자에 의해 임의로 치환된, 탄소원자수가 a~b개로 이루어지는 직쇄상 또는 분지쇄상이며, 또한 분자 내에 1개 또는 2개 이상의 삼중결합을 갖는 불포화탄화수소기를 나타낸다. 이때, 2개 이상의 할로겐원자에 의해 치환되어 있는 경우, 이들 할로겐원자는 서로 동일할 수도, 또는 서로 상이할 수도 있다. 예를 들어 2-클로로에티닐기, 2-브로모에티닐기, 2-요오드에티닐기, 3-클로로-2-프로피닐기, 3-브로모-2-프로피닐기, 3-요오드-2-프로피닐기 등을 구체예로서 들 수 있고, 각각의 지정한 탄소원자수의 범위에서 선택된다.
상기 식(1)에 있어서의 Ca~Cb알콕시의 표기는, 탄소원자수가 a~b개로 이루어지는 상기의 의미인 알킬-O-기를 나타내고, 예를 들어 메톡시기, 에톡시기, n-프로필옥시기, i-프로필옥시기, n-부틸옥시기, i-부틸옥시기, s-부틸옥시기, t-부틸옥시기, n-펜틸옥시기, n-헥실옥시기 등을 구체예로서 들 수 있고, 각각의 지정한 탄소원자수의 범위에서 선택된다.
상기 식(1)에 있어서의 Ca~Cb할로알콕시의 표기는, 탄소원자수가 a~b개로 이루어지는 상기의 의미인 할로알킬-O-기를 나타내고, 예를 들어 디플루오로메톡시기, 트리플루오로메톡시기, 클로로디플루오로메톡시기, 브로모디플루오로메톡시기, 2-플루오로에톡시기, 2-클로로에톡시기, 2,2,2-트리플루오로에톡시기, 1,1,2,2,-테트라플루오로에톡시기, 2-클로로-1,1,2-트리플루오로에톡시기, 2-브로모-1,1,2-트리플루오로에톡시기, 펜타플루오로에톡시기, 2,2-디클로로-1,1,2-트리플루오로에톡시기, 2,2,2-트리클로로-1,1-디플루오로에톡시기, 2-브로모-1,1,2,2-테트라플루오로에톡시기, 2,2,3,3-테트라플루오로프로필옥시기, 1,1,2,3,3,3-헥사플루오로프로필옥시기, 2,2,2-트리플루오로-1-(트리플루오로메틸)에톡시기, 헵타플루오로프로필옥시기, 2-브로모-1,1,2,3,3,3-헥사플루오로프로필옥시기 등을 구체예로서 들 수 있고, 각각의 지정한 탄소원자수의 범위에서 선택된다.
상기 식(1)에 있어서의 (Ca~Cb알킬)카르보닐의 표기는, 탄소원자수가 a~b개로 이루어지는 상기의 의미인 알킬-C(O)-기를 나타내고, 예를 들어 아세틸기, 프로피오닐기, 부티릴기, 이소부티릴기, 발레릴기, 이소발레릴기, 2-메틸부타노일기, 피발로일기, 헥사노일기, 헵타노일기 등을 구체예로서 들 수 있고, 각각의 지정한 탄소원자수의 범위에서 선택된다.
상기 식(1)에 있어서의 (Ca~Cb할로알킬)카르보닐의 표기는, 탄소원자수가 a~b개로 이루어지는 상기의 의미인 할로알킬-C(O)-기를 나타내고, 예를 들어 플루오로아세틸기, 클로로아세틸기, 디플루오로아세틸기, 디클로로아세틸기, 트리플루오로아세틸기, 클로로디플루오로아세틸기, 브로모디플루오로아세틸기, 트리클로로아세틸기, 펜타플루오로프로피오닐기, 헵타플루오로부타노일기, 3-클로로-2,2-디메틸프로파노일기 등을 구체예로서 들 수 있고, 각각의 지정한 탄소원자수의 범위에서 선택된다.
상기 식(1)에 있어서의 (Ca~Cb알콕시)카르보닐의 표기는, 탄소원자수가 a~b개로 이루어지는 상기의 의미인 알킬-O-C(O)-기를 나타내고, 예를 들어 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, n-프로필옥시카르보닐기, i-프로필옥시카르보닐기, n-부톡시카르보닐기, i-부톡시카르보닐기, t-부톡시카르보닐기 등을 구체예로서 들 수 있고, 각각의 지정한 탄소원자수의 범위에서 선택된다.
상기 식(1)에 있어서의 (Ca~Cb할로알콕시)카르보닐의 표기는, 탄소원자수가 a~b개로 이루어지는 상기의 의미인 할로알킬-O-C(O)-기를 나타내고, 예를 들어 2-클로로에톡시카르보닐기, 2,2-디플루오로에톡시카르보닐기, 2,2,2-트리플루오로에톡시카르보닐기, 2,2,2-트리클로로에톡시카르보닐기 등을 구체예로서 들 수 있고, 각각의 지정한 탄소원자수의 범위에서 선택된다.
상기 식(1)에 있어서의 (Ca~Cb알킬아미노)카르보닐의 표기는, 수소원자의 일방이 탄소원자수가 a~b개로 이루어지는 상기의 의미인 알킬기에 의해 치환된 카바모일기를 나타내고, 예를 들어 메틸카바모일기, 에틸카바모일기, n-프로필카바모일기, i-프로필카바모일기, n-부틸카바모일기, i-부틸카바모일기, s-부틸카바모일기, t-부틸카바모일기 등을 구체예로서 들 수 있고, 각각의 지정한 탄소원자수의 범위에서 선택된다.
상기 식(1)에 있어서의 (Ca~Cb할로알킬)아미노카르보닐의 표기는, 수소원자의 일방이 탄소원자수 a~b개로 이루어지는 상기의 의미인 할로알킬기에 의해 치환된 카바모일기를 나타내고, 예를 들어 2-플루오로에틸카바모일기, 2-클로로에틸카바모일기, 2,2-디플루오로에틸카바모일기, 2,2,2-트리플루오로에틸카바모일기 등을 구체예로서 들 수 있고, 각각의 지정한 탄소원자수의 범위에서 선택된다.
상기 식(1)에 있어서의 디(Ca~Cb알킬)아미노카르보닐의 표기는, 수소원자가 양방 모두, 각각 동일할 수도 또는 서로 상이할 수도 있는 탄소원자수가 a~b개로 이루어지는 상기의 의미인 알킬기에 의해 치환된 카바모일기를 나타내고, 예를 들어 N,N-디메틸카바모일기, N-에틸-N-메틸카바모일기, N,N-디에틸카바모일기, N,N-디-n-프로필카바모일기, N,N-디-n-부틸카바모일기 등을 구체예로서 들 수 있고, 각각의 지정한 탄소원자수의 범위에서 선택된다.
식(1)로 표시되는 계피산 유도체의 치환기R1, R2, R3, R4 및 R5로는, 이 중에서도, 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐원자, C1~C6알킬, C1~C6할로알킬, C1~C6알콕시, C1~C6할로알콕시, 시아노 및 니트로로부터 선택되는 치환기인 것이 바람직하다.
또한, R3으로는 상기 정의 중에서 수소원자 이외의 치환기인 것이, 배향감도의 점으로부터 바람직하고, 할로겐원자, C1~C6알킬, C1~C6할로알킬, C1~C6알콕시, C1~C6할로알콕시, 시아노 및 니트로로부터 선택되는 치환기가 더욱 바람직하다.
R2의 2가의 방향족기로는, 예를 들어 1,4-페닐렌기, 2-플루오로-1,4-페닐렌기, 3-플루오로-1,4-페닐렌기, 2,3,5,6-테트라플루오로-1,4-페닐렌기 등을; R2의 2가의 복소환식기로는, 예를 들어 1,4-피리딜렌기, 2,5-피리딜렌기, 1,4-푸라닐렌기 등을; R2의 2가의 축합환식기로는, 예를 들어 2,6-나프틸렌기 등을, 각각 들 수 있다. R2로는 1,4-페닐렌기가 바람직하다.
상기 식(1)로 표시되는 화합물의 바람직한 예로는, 예를 들어 하기 식(1-1)~(1-5)
[화학식 2]
Figure pct00002
(상기 식 중, R1은, 각각, 상기 식(1)에 있어서의 것과 동의이다.)
각각으로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.
상기 식(1)로 표시되는 화합물은, 유기화학은 정법을 적당히 조합하여 합성할 수 있다.
또한, 본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물에 있어서의 (A)성분의 화합물로는, 식(1)로 표시되는 복수종의 화합물의 혼합물일 수도 있다.
<(B)성분>
본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물에 함유되는 (B)성분은, 친수성의 폴리머이다.
그리고, (B)성분인 폴리머는, 하이드록시기, 카르복실기 및 아미노기로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 치환기를 갖는 폴리머(이하, 특정 중합체라고도 한다.)로 할 수 있다.
본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물에 있어서, (B)성분인 특정 중합체로는, (A)성분보다 친수성이도록, 높은 친수성을 구비한 고친수성 폴리머의 선택이 바람직하다. 그리고, 특정 중합체는, 하이드록시기나 카르복실기나 아미노기 등의 친수성기를 갖는 폴리머인 것이 바람직하고, 구체적으로는, 하이드록시기, 카르복실기 및 아미노기로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 치환기를 갖는 폴리머인 것이 바람직하다.
(B)성분인 폴리머로는, 예를 들어, 아크릴 중합체, 폴리아믹산, 폴리이미드, 폴리비닐알코올, 폴리에스테르, 폴리에스테르폴리카르본산, 폴리에테르폴리올, 폴리에스테르폴리올, 폴리카보네이트폴리올, 폴리카프로락톤폴리올, 폴리알킬렌이민, 폴리알릴아민, 셀룰로오스류(셀룰로오스 또는 그의 유도체), 페놀노볼락 수지, 멜라민포름알데히드 수지 등의 직쇄구조 또는 분지구조를 갖는 폴리머, 시클로덱스트린류 등의 환상 폴리머 등을 들 수 있다.
이 중, 아크릴 중합체로는 아크릴산에스테르, 메타크릴산에스테르, 스티렌 등의 불포화이중결합을 갖는 모노머를 중합하여 얻어지는 중합체가 적용될 수 있다.
(B)성분인 특정 중합체로는, 바람직하게는, 하이드록시알킬시클로덱스트린류, 셀룰로오스류, 폴리에틸렌글리콜에스테르기 및 C2~C5하이드록시알킬에스테르기 중 적어도 일방과, 카르복실기 및 페놀성 하이드록시기 중 적어도 일방을 갖는 아크릴 중합체, 아미노알킬기를 측쇄에 갖는 아크릴 중합체, 폴리하이드록시에틸메타크릴레이트 등의 하이드록시알킬기를 측쇄에 갖는 아크릴 중합체, 폴리에테르폴리올, 폴리에스테르폴리올, 폴리카보네이트폴리올 및 폴리카프로락톤폴리올이다.
(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인, 폴리에틸렌글리콜에스테르기 및 탄소원자수 2 내지 5의 하이드록시알킬에스테르기 중 적어도 일방과, 카르복실기 및 페놀성 하이드록시기 중 적어도 일방을 갖는 아크릴 중합체는, 이러한 구조를 갖는 아크릴 중합체이면 되며, 아크릴 중합체를 구성하는 고분자의 주쇄의 골격 및 측쇄의 종류 등에 대하여 특별히 한정되지 않는다.
폴리에틸렌글리콜에스테르기 및 탄소원자수 2 내지 5의 하이드록시알킬에스테르기 중 적어도 일방을 갖는 구조단위로서, 바람직한 구조단위는 하기 식[B1]로 표시된다.
카르복실기 및 페놀성 하이드록시기 중 적어도 일방을 갖는 구조단위로서, 바람직한 구조단위는 하기 식[B2]로 표시된다.
[화학식 3]
Figure pct00003
상기 식[B1] 및 식[B2] 중, X3 및 X4는 각각 독립적으로 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, Y1은 H-(OCH2CH2)n-기(여기서, n의 값은 2 내지 50이고, 바람직하게는 2 내지 10이다.) 또는 탄소원자수 2 내지 5의 하이드록시알킬기를 나타내고, Y2는 카르복실기 또는 페놀성 하이드록시기를 나타낸다.
(B)성분의 예인 아크릴 중합체는, 중량평균분자량이 3,000 내지 200,000인 것이 바람직하고, 4,000 내지 150,000인 것이 보다 바람직하고, 5,000 내지 100,000인 것이 더욱 바람직하다. 중량평균분자량이 200,000을 초과하여 과대한 것이면, 용제에 대한 용해성이 저하되어 핸들링성이 저하되는 경우가 있고, 중량평균분자량이 3,000 미만으로 과소한 것이면, 열경화시에 경화부족이 되어 용제내성 및 내열성이 저하되는 경우가 있다. 한편, 중량평균분자량은, 겔퍼미에이션크로마토그래피(GPC)에 의해, 표준자료로서 폴리스티렌을 이용하여 얻어지는 값이다. 이하, 본 명세서에 있어서도 마찬가지이다.
(B)성분의 예인 아크릴 중합체의 합성방법으로는, 폴리에틸렌글리콜에스테르기 및 탄소원자수 2 내지 5의 하이드록시알킬에스테르기 중 적어도 일방을 갖는 모노머(이하, b1모노머라고도 한다.)와, 카르복실기 및 페놀성 하이드록시기 중 적어도 일방을 갖는 모노머(이하, b2모노머라고도 한다.)를 공중합하는 방법이 간편하다.
상기 서술한 폴리에틸렌글리콜에스테르기를 갖는 모노머로는, H-(OCH2CH2)n-OH의 모노아크릴레이트 또는 모노메타크릴레이트를 들 수 있다. n의 값은 2 내지 50이고, 바람직하게는 2 내지 10이다.
상기 서술한 탄소원자수 2 내지 5의 하이드록시알킬에스테르기를 갖는 모노머로는, 예를 들어, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트, 2-하이드록시에틸아크릴레이트, 2-하이드록시프로필메타크릴레이트, 2-하이드록시프로필아크릴레이트, 4-하이드록시부틸아크릴레이트, 4-하이드록시부틸메타크릴레이트를 들 수 있다.
상기 서술한 카르복실기를 갖는 모노머로는, 예를 들어, 아크릴산, 메타크릴산, 비닐안식향산을 들 수 있다.
상기 서술한 페놀성 하이드록시기를 갖는 모노머로는, 예를 들어, p-하이드록시스티렌, m-하이드록시스티렌, o-하이드록시스티렌을 들 수 있다.
또한, 본 실시의 형태에 있어서는, (B)성분의 예인 아크릴 중합체를 합성하는데 있어서, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한, b1모노머 및 b2모노머 이외의 모노머, 구체적으로는, 하이드록시기 및 카르복실기의 어느 것도 갖지 않는 모노머를 병용할 수 있다.
그러한 모노머로는, 예를 들어, 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 프로필아크릴레이트, 이소프로필아크릴레이트, 부틸메타크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, t-부틸아크릴레이트 등의 아크릴산에스테르 화합물, 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 프로필메타크릴레이트, 이소프로필메타크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, t-부틸메타크릴레이트 등의 메타크릴산에스테르 화합물, 말레이미드, N-메틸말레이미드, N-페닐말레이미드, 및 N-시클로헥실말레이미드 등의 말레이미드 화합물, 아크릴아미드 화합물, 아크릴로니트릴, 말레산무수물, 스티렌 화합물 및 비닐 화합물 등을 들 수 있다
(B)성분의 예인 아크릴 중합체를 얻기 위해 이용하는 b1모노머 및 b2모노머의 사용량은, (B)성분인 아크릴 중합체를 얻기 위해 이용하는 전체모노머의 합계량에 기초하여, b1모노머가 2몰% 내지 95몰%, b2모노머가 5몰% 내지 98몰%인 것이 바람직하다.
b2모노머로서 카르복실기만을 갖는 모노머를 이용하는 경우, (B)성분인 아크릴 중합체를 얻기 위해 이용하는 전체모노머의 합계량에 기초하여, b1모노머가 60몰% 내지 95몰%, b2모노머가 5몰% 내지 40몰%인 것이 바람직하다.
한편, b2모노머로서 페놀성 하이드록시기만을 갖는 모노머를 이용하는 경우, b1모노머가 2몰% 내지 80몰%, b2모노머가 20몰% 내지 98몰%인 것이 바람직하다. b2모노머가 과소한 경우는 액정배향성이 불충분해지기 쉽고, 과대한 경우는 (A)성분과의 상용성이 저하되기 쉽다.
(B)성분의 예인 아크릴 중합체를 얻는 방법은 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, b1모노머와 b2모노머와 필요에 따라 b1모노머 및 b2모노머 이외의 모노머와 중합개시제 등을 공존시킨 용제 중에 있어서, 50℃ 내지 110℃의 온도하에서 중합반응에 의해 얻어진다. 이때, 이용되는 용제는, b1모노머와 b2모노머, 필요에 따라 이용되는 b1모노머 및 b2모노머 이외의 모노머 및 중합개시제 등을 용해하는 것이면 특별히 한정되지 않는다. 구체예로는, 후술하는 <용제>의 항에 기재한다.
(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인 아미노알킬기를 측쇄에 갖는 아크릴 중합체는, 예를 들어, 아미노에틸아크릴레이트, 아미노에틸메타크릴레이트, 아미노프로필아크릴레이트 및 아미노프로필메타크릴레이트 등의 아미노알킬에스테르모노머를 중합한 것, 또는, 해당 아미노알킬에스테르모노머와, 상기 b1모노머, 상기 b2모노머, 및, 이들 모노머 이외의 모노머, 예를 들어 하이드록시기 및 카르복시기의 어느 것도 갖지 않는 모노머로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 모노머를 공중합한 것을 들 수 있다.
(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인 하이드록시알킬기를 측쇄에 갖는 아크릴 중합체로는, 예를 들어, 하이드록시에틸아크릴레이트, 하이드록시에틸메타크릴레이트, 하이드록시프로필아크릴레이트, 하이드록시프로필메타크릴레이트, 하이드록시부틸아크릴레이트, 하이드록시부틸메타크릴레이트, 하이드록시펜틸아크릴레이트 및 하이드록시펜틸메타크릴레이트 등의 하이드록시알킬에스테르모노머를 중합한 것, 또는, 해당 하이드록시알킬에스테르모노머와, 상기 b1모노머, 상기 b2모노머, 및, 이들 모노머 이외의 모노머, 예를 들어 하이드록시기 및 카르복시기의 어느 것도 갖지 않는 모노머로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 모노머를 공중합한 것을 들 수 있다.
상기 방법에 의해 얻어지는 (B)성분의 예인 아크릴 중합체는, 통상, 용제에 용해된 용액의 상태이다.
또한, 상기 방법으로 얻어진 (B)성분의 예인 아크릴 중합체의 용액을, 교반 하의 디에틸에테르나 물 등에 투입하여 재침전시키고, 생성된 침전물을 여과·세정한 후에, 상압 또는 감압하에서, 상온건조 또는 가열건조하여, (B)성분의 예인 아크릴 중합체의 분체로 할 수 있다. 상기 조작에 의해, (B)성분의 예인 아크릴 중합체와 공존하는 중합개시제 및 미반응의 모노머를 제거할 수 있고, 그 결과, 정제한 (B)성분의 예인 아크릴 중합체의 분체가 얻어진다. 한번의 조작으로 충분히 정제할 수 없는 경우는, 얻어진 분체를 용제에 재용해시켜, 상기의 조작을 반복 행하면 된다.
(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인 폴리에테르폴리올로는 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜 및 프로필렌글리콜을 들 수 있고, 또한, 비스페놀A, 트리에틸렌글리콜, 솔비톨 등의 다가알코올에 프로필렌옥사이드나 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜 등을 부가 또는 축합한 것을 들 수 있다. 폴리에테르폴리올의 구체예로는 ADEKA제 아데카폴리에테르 P시리즈, G시리즈, EDP시리즈, BPX시리즈, FC시리즈, CM시리즈, 니찌유제 유니옥스(등록상표) HC-40, HC-60, ST-30E, ST-40E, G-450, G-750, 유니올(등록상표) TG-330, TG-1000, TG-3000, TG-4000, HS-1600D, DA-400, DA-700, DB-400, 노니온(등록상표) LT-221, ST-221, OT-221 등을 들 수 있다.
(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인 폴리에스테르폴리올로는, 아디프산, 세바스산, 이소프탈산 등의 다가카르본산에 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜 등의 디올을 반응시킨 것을 들 수 있다. 폴리에스테르폴리올의 구체예로는 DIC제 폴리라이트(등록상표) OD-X-286, OD-X-102, OD-X-355, OD-X-2330, OD-X-240, OD-X-668, OD-X-2108, OD-X-2376, OD-X-2044, OD-X-688, OD-X-2068, OD-X-2547, OD-X-2420, OD-X-2523, OD-X-2555, OD-X-2560, 쿠라레제 폴리올 P-510, P-1010, P-2010, P-3010, P-4010, P-5010, P-6010, F-510, F-1010, F-2010, F-3010, P-1011, P-2011, P-2013, P-2030, N-2010, PNNA-2016 등을 들 수 있다.
(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인 폴리카프로락톤폴리올로는, 트리메틸올프로판이나 에틸렌글리콜 등의 다가알코올을 개시제로 하여 ε-카프로락탐을 개환중합시킨 것을 들 수 있다. 폴리카프로락톤폴리올의 구체예로는 DIC제 폴리라이트(등록상표) OD-X-2155, OD-X-640, OD-X-2568, 다이셀화학제 프락셀(등록상표) 205, L205AL, 205U, 208, 210, 212, L212AL, 220, 230, 240, 303, 305, 308, 312, 320, 410 등을 들 수 있다
(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인 폴리카보네이트폴리올로는, 트리메틸올프로판이나 에틸렌글리콜 등의 다가알코올에 탄산디에틸, 탄산디페닐, 에틸렌카보네이트 등을 반응시킨 것을 들 수 있다. 폴리카보네이트폴리올의 구체예로는 다이셀화학제 프락셀(등록상표) CD205, CD205PL, CD210, CD220, C-590, C-1050, C-2050, C-2090, C-3090 등을 들 수 있다.
(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인 셀룰로오스로는, 하이드록시에틸셀룰로오스, 하이드록시프로필셀룰로오스 등의 하이드록시알킬셀룰로오스류, 하이드록시에틸메틸셀룰로오스, 하이드록시프로필메틸셀룰로오스, 하이드록시에틸에틸셀룰로오스 등의 하이드록시알킬알킬셀룰로오스류 및 셀룰로오스 등을 들 수 있고, 예를 들어, 하이드록시에틸셀룰로오스, 하이드록시프로필셀룰로오스 등의 하이드록시알킬셀룰로오스류가 바람직하다.
(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인 시클로덱스트린으로는, α-시클로덱스트린, β-시클로덱스트린 및 γ-시클로덱스트린 등의 시클로덱스트린, 메틸-α-시클로덱스트린, 메틸-β-시클로덱스트린 그리고 메틸-γ-시클로덱스트린 등의 메틸화시클로덱스트린, 하이드록시메틸-α-시클로덱스트린, 하이드록시메틸-β-시클로덱스트린, 하이드록시메틸-γ-시클로덱스트린, 2-하이드록시에틸-α-시클로덱스트린, 2-하이드록시에틸-β-시클로덱스트린, 2-하이드록시에틸-γ-시클로덱스트린, 2-하이드록시프로필-α-시클로덱스트린, 2-하이드록시프로필-β-시클로덱스트린, 2-하이드록시프로필-γ-시클로덱스트린, 3-하이드록시프로필-α-시클로덱스트린, 3-하이드록시프로필-β-시클로덱스트린, 3-하이드록시프로필-γ-시클로덱스트린, 2,3-디하이드록시프로필-α-시클로덱스트린, 2,3-디하이드록시프로필-β-시클로덱스트린, 2,3-디하이드록시프로필-γ-시클로덱스트린 등의 하이드록시알킬시클로덱스트린 등을 들 수 있다.
(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인 멜라민포름알데히드 수지로는 멜라민과 포름알데히드를 중축합하여 얻어지는 수지이며 하기 식으로 표시된다.
[화학식 4]
Figure pct00004
상기 식 중, R은 수소원자 또는 탄소원자수 1 내지 4의 알킬기를 나타낸다.
(B)성분의 멜라민포름알데히드 수지는, 보존안정성의 관점으로부터 멜라민과 포름알데히드의 중축합시에 생성된 메틸올기가 알킬화되어 있는 것이 바람직하다.
(B)성분의 멜라민포름알데히드 수지를 얻는 방법은 특별히는 한정되지 않으나, 일반적으로 멜라민과 포름알데히드를 혼합하고, 탄산나트륨이나 암모니아 등을 이용하여 약알칼리성으로 한 후 60-100℃에서 가열함으로써 합성된다. 나아가 알코올과 반응시킴으로써 메틸올기를 알콕시화할 수 있다.
(B)성분의 멜라민포름알데히드 수지는, 중량평균분자량이 250 내지 5,000인 것이 바람직하고, 300 내지 4,000인 것이 보다 바람직하고, 350 내지 3,500인 것이 더욱 바람직하다. 중량평균분자량이 5,000을 초과하여 과대한 것이면, 용제에 대한 용해성이 저하되어 핸들링성이 저하되는 경우가 있고, 중량평균분자량이 250 미만으로 과소한 것이면, 열경화시에 경화부족이 되어 용제내성 및 내열성이 저하되는 경우가 있다.
본 발명에 있어서는, (B)성분의 멜라민포름알데히드 수지는 액체형태로, 혹은 정제한 액체를 후술하는 용제에 재용해한 용액형태로 이용할 수도 있다.
또한, 본 발명에 있어서는, (B)성분의 멜라민포름알데히드 수지는, 복수종의 (B)성분의 멜라민포름알데히드 수지의 혼합물일 수도 있다.
(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인 페놀노볼락 수지로는, 예를 들어, 페놀-포름알데히드 중축합물 등을 들 수 있다.
본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물에 있어서, (B)성분의 폴리머는, 분체형태로, 또는 정제한 분말을 후술하는 용제에 재용해한 용액형태로 이용할 수도 있다
또한, 본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물에 있어서, (B)성분의 폴리머는, (B)성분의 폴리머의 복수종의 혼합물일 수도 있다.
<(C)성분>
본 발명의 조성물은, (C)성분으로서, 가교제를 함유한다.
보다 상세하게는, (C)성분의 가교제는, 상기 서술한 (A)성분 또는 (B)성분, 혹은 이들 쌍방과 반응하며, 또한 (A)성분의 승화온도보다 저온에서 반응하는 화합물이다.
(C)성분은, (A)성분의 승화온도보다 저온에서, (A)성분의 카르복실기, (B)성분의 폴리머 중의 하이드록시기, 카르복실기, 아미드기, 아미노기 및 알콕시실릴기로부터 선택되는 기와 결합한다
그 결과, 후술하는 바와 같이, (A)성분 및 (B)성분과, (C)성분인 가교제가 열반응할 때에, (A)성분이 승화되는 것을 억제할 수 있다. 그리고, 본 발명의 조성물은, 경화막으로서, 광반응효율이 높은 배향재를 형성할 수 있다.
(C)성분인 가교제로는, 에폭시 화합물, 메틸올 화합물 및 이소시아네이트 화합물 등의 화합물을 들 수 있는데, 바람직하게는 메틸올 화합물이다.
상기 서술한 메틸올 화합물의 구체예로는, 예를 들어, 알콕시메틸화글리콜우릴, 알콕시메틸화벤조구아나민 및 알콕시메틸화멜라민 등의 화합물을 들 수 있다.
알콕시메틸화글리콜우릴의 구체예로는, 예를 들어, 1,3,4,6-테트라키스(메톡시메틸)글리콜우릴, 1,3,4,6-테트라키스(부톡시메틸)글리콜우릴, 1,3,4,6-테트라키스(하이드록시메틸)글리콜우릴, 1,3-비스(하이드록시메틸)요소, 1,1,3,3-테트라키스(부톡시메틸)요소, 1,1,3,3-테트라키스(메톡시메틸)요소, 1,3-비스(하이드록시메틸)-4,5-디하이드록시-2-이미다졸리논, 및 1,3-비스(메톡시메틸)-4,5-디메톡시-2-이미다졸리논 등을 들 수 있다.
이들 시판품으로서, 미쓰이사이텍(주)제 글리콜우릴 화합물(상품명: 사이멜(등록상표) 1170, 파우더링크(등록상표) 1174) 등의 화합물, 메틸화요소 수지(상품명: UFR(등록상표) 65), 부틸화요소 수지(상품명: UFR(등록상표) 300, U-VAN(등록상표) 10S60, U-VAN(등록상표) 10R, U-VAN(등록상표) 11HV), DIC(주)제 요소/포름알데히드계 수지(고축합형, 상품명: 베카민(등록상표) J-300S, 동(同) P-955, 동 N) 등을 들 수 있다.
알콕시메틸화벤조구아나민의 구체예로는, 예를 들어, 테트라메톡시메틸벤조구아나민 등을 들 수 있다.
이들 시판품으로서, 미쓰이사이텍(주)제(상품명: 사이멜(등록상표) 1123), (주)산와케미칼제(상품명: 니카락(등록상표) BX-4000, 동 BX-37, 동 BL-60, 동 BX-55H) 등을 들 수 있다.
알콕시메틸화멜라민의 구체예로는, 예를 들어, 헥사메톡시메틸멜라민 등을 들 수 있다.
이들 시판품으로서, 미쓰이사이텍(주)제 메톡시메틸타입 멜라민 화합물(상품명: 사이멜(등록상표) 300, 동 301, 동 303, 동 350), 부톡시메틸타입 멜라민 화합물(상품명: 마이코트(등록상표) 506, 동 508), (주)산와케미칼제 메톡시메틸타입 멜라민 화합물(상품명: 니카락(등록상표) MW-30, 동 MW-22, 동 MW-11, 동 MS-001, 동 MX-002, 동 MX-730, 동 MX-750, 동 MX-035), 부톡시메틸타입 멜라민 화합물(상품명: 니카락(등록상표) MX-45, 동 MX-410, 동 MX-302) 등을 들 수 있다.
또한, 이러한 아미노기의 수소원자가 메틸올기 또는 알콕시메틸기로 치환된 멜라민 화합물, 요소 화합물, 글리콜우릴 화합물 및 벤조구아나민 화합물을 축합시켜 얻어지는 화합물일 수도 있다. 예를 들어, 미국특허 제6323310호에 기재되어 있는 멜라민 화합물 및 벤조구아나민 화합물로부터 제조되는 고분자량의 화합물을 들 수 있다.
상기 멜라민 화합물의 시판품으로는, 상품명: 사이멜(등록상표) 303(미쓰이사이텍(주)제) 등을 들 수 있고, 상기 벤조구아나민 화합물의 시판품으로는, 상품명: 사이멜(등록상표) 1123(미쓰이사이텍(주)제) 등을 들 수 있다.
나아가, (C)성분으로는, 상기 화합물에 더하여, N-하이드록시메틸아크릴아미드, N-메톡시메틸메타아크릴아미드, N-에톡시메틸아크릴아미드, N-부톡시메틸메타아크릴아미드 등의 하이드록시메틸기 또는 알콕시메틸기로 치환된 아크릴아미드 화합물 또는 메타아크릴아미드 화합물을 사용하여 제조되는 폴리머도 이용할 수 있다.
그러한 폴리머로는, 예를 들어, 폴리(N-부톡시메틸아크릴아미드), N-부톡시메틸아크릴아미드와 스티렌의 공중합체, N-하이드록시메틸메타아크릴아미드와 메틸메타크릴레이트의 공중합체, N-에톡시메틸메타아크릴아미드와 벤질메타크릴레이트의 공중합체, 및, N-부톡시메틸아크릴아미드와 벤질메타크릴레이트와 2-하이드록시프로필메타크릴레이트의 공중합체 등을 들 수 있다. 이러한 폴리머의 중량평균분자량은, 1,000 내지 500,000이고, 바람직하게는, 2,000 내지 200,000이고, 보다 바람직하게는 3,000 내지 150,000이고, 더욱 바람직하게는 3,000 내지 50,000이다.
이들 가교제는, 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
본 발명의 조성물에 있어서의 (C)성분의 가교제의 함유량은, (A)성분의 저분자배향성분과 (B)성분의 폴리머의 합계량 100질량부에 기초하여 10질량부 내지 500질량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 15질량부 내지 400질량부이다. 가교제의 함유량이 과소한 경우에는, 경화막 형성 조성물로부터 얻어지는 경화막의 용제내성 및 내열성이 저하되고, 광배향시의 배향감도가 저하된다. 한편, 함유량이 과대한 경우에는 광배향성 및 보존안정성이 저하되는 경우가 있다.
본 발명의 조성물은, 상기 서술한 바와 같이, (C)성분으로서, 가교제를 함유한다. 그러므로, 본 발명의 조성물로부터 얻어진 경화막의 내부에서는, (A)성분의 저분자배향성분 중의 광배향성기에 의한 광반응의 전에, (C)가교제를 이용한 열반응에 의한 가교반응을 행할 수 있다. 그 결과, 배향재로서 이용된 경우에, 그 위에 도포되는 중합성 액정이나 그 용제에 대한 내성을 향상시킬 수 있다.
<(D)성분>
본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물은, (A)성분, (B)성분, (C)성분에 더하여, 추가로, (D)성분으로서 가교촉매를 함유할 수 있다.
(D)성분인 가교촉매로는, 예를 들어, 산 또는 열산발생제로 할 수 있다. 이 (D)성분은, 본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물의 열경화반응을 촉진시키는데 있어서 유효하다.
(D)성분으로는, 설폰산기함유 화합물, 염산 또는 그의 염, 및 프리베이크 또는 포스트베이크시에 열분해하여 산을 발생하는 화합물, 즉 온도 80℃ 내지 250℃에서 열분해하여 산을 발생하는 화합물이면 특별히 한정되는 것은 아니다. 그러한 화합물로는, 예를 들어, 염산, 메탄설폰산, 에탄설폰산, 프로판설폰산, 부탄설폰산, 펜탄설폰산, 옥탄설폰산, 벤젠설폰산, p-톨루엔설폰산, 캠퍼설폰산, 트리플루오로메탄설폰산, p-페놀설폰산, 2-나프탈렌설폰산, 메시틸렌설폰산, p-자일렌-2-설폰산, m-자일렌-2-설폰산, 4-에틸벤젠설폰산, 1H,1H,2H,2H-퍼플루오로옥탄설폰산, 퍼플루오로(2-에톡시에탄)설폰산, 펜타플루오로에탄설폰산, 노나플루오로부탄-1-설폰산, 도데실벤젠설폰산 등의 설폰산 또는 그의 수화물이나 염 등을 들 수 있다. 열에 의해 산을 발생하는 화합물로는, 예를 들어, 비스(토실옥시)에탄, 비스(토실옥시)프로판, 비스(토실옥시)부탄, p-니트로벤질토실레이트, o-니트로벤질토실레이트, 1,2,3-페닐렌트리스(메틸설포네이트), p-톨루엔설폰산피리디늄염, p-톨루엔설폰산모르포늄염, p-톨루엔설폰산에틸에스테르, p-톨루엔설폰산프로필에스테르, p-톨루엔설폰산부틸에스테르, p-톨루엔설폰산이소부틸에스테르, p-톨루엔설폰산메틸에스테르, p-톨루엔설폰산페네틸에스테르, 시아노메틸p-톨루엔설포네이트, 2,2,2-트리플루오로에틸p-톨루엔설포네이트, 2-하이드록시부틸p-톨루엔설포네이트, N-에틸-p-톨루엔설폰아미드, 및 하기 식으로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.
[화학식 5]
Figure pct00005
[화학식 6]
Figure pct00006
[화학식 7]
Figure pct00007
[화학식 8]
Figure pct00008
[화학식 9]
Figure pct00009
[화학식 10]
Figure pct00010
본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물에 있어서의 (D)성분의 함유량은, (A)성분의 화합물과 (B)성분의 폴리머의 합계량 100질량부에 대해, 바람직하게는 0.01질량부 내지 10질량부, 보다 바람직하게는 0.1질량부 내지 6질량부, 더욱 바람직하게는 0.5질량부 내지 5질량부이다. (D)성분의 함유량을 0.01질량부 이상으로 함으로써, 충분한 열경화성 및 용제내성을 부여할 수 있고, 나아가 광조사에 대한 높은 감도도 부여할 수 있다. 그러나, 10질량부보다 많은 경우, 조성물의 보존안정성이 저하되는 경우가 있다.
<용제>
본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물은, 주로 용제에 용해된 용액상태로 이용된다. 이때 사용하는 용제는, (A)성분, (B)성분 및 (C)성분, 필요에 따라 (D)성분, 및/또는, 후술하는 기타 첨가제를 용해할 수 있으면 되며, 그 종류 및 구조 등은 특별히 한정되는 것은 아니다.
용제의 구체예로는, 예를 들어, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트, 톨루엔, 자일렌, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로펜탄온, 시클로헥산온, 2-부탄온, 3-메틸-2-펜탄온, 2-펜탄온, 2-헵탄온, γ-부티로락톤, 2-하이드록시프로피온산에틸, 2-하이드록시-2-메틸프로피온산에틸, 에톡시아세트산에틸, 하이드록시아세트산에틸, 2-하이드록시-3-메틸부탄산메틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산이소부틸, 유산에틸, 유산부틸, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 및 N-메틸피롤리돈 등을 들 수 있다.
이들 용제는, 1종 단독으로 또는 2종 이상의 조합으로 사용할 수 있다.
<기타 첨가제>
나아가, 본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한, 필요에 따라, 증감제, 실란커플링제, 계면활성제, 레올로지조정제, 안료, 염료, 보존안정제, 소포제, 산화방지제 등을 함유할 수 있다.
예를 들어, 증감제는, 본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물을 이용하여 열경화막을 형성한 후, 광반응을 촉진하는데 있어서 유효하다.
기타 첨가제의 일 예인 증감제로는, 벤조페논, 안트라센, 안트라퀴논, 티옥산톤 등 및 그의 유도체, 그리고 니트로페닐 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중, 벤조페논 유도체 및 니트로페닐 화합물이 바람직하다. 바람직한 화합물의 구체예로서 N,N-디에틸아미노벤조페논, 2-니트로플루오렌, 2-니트로플루오레논, 5-니트로아세나프텐, 4-니트로비페닐, 4-니트로계피산, 4-니트로스틸벤, 4-니트로벤조페논, 5-니트로인돌 등을 들 수 있다. 특히, 벤조페논의 유도체인 N,N-디에틸아미노벤조페논이 바람직하다.
이들 증감제는 상기의 것으로 한정되는 것은 아니다. 또한, 증감제는 단독으로 또는 2종 이상의 화합물을 조합하여 병용하는 것이 가능하다.
본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물에 있어서의 증감제의 사용비율은, (A)성분의 저분자배향성분과 (B)성분의 아크릴 중합체의 합계질량 100질량부에 대해 0.1질량부 내지 20질량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.2질량부 내지 10질량부이다. 이 비율이 과소한 경우에는, 증감제로서의 효과를 충분히 얻지 못하는 경우가 있고, 과대한 경우에는 투과율의 저하 및 도막이 거칠어지는 경우가 있다.
<경화막 형성 조성물의 조제>
본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물은, (A)성분인 저분자의 광배향성분과, (B)성분인, (A)성분의 광배향성성분보다 친수성인 폴리머와, (C)성분인 가교제를 함유한다. 그리고, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한, 기타 첨가제를 함유할 수 있다.
(A)성분과 (B)성분의 배합비는, 질량비로 5:95 내지 60:40이 바람직하다. (B)성분의 함유량이 과대한 경우는 액정배향성이 저하되기 쉽고, 과소한 경우는 용제내성이 저하됨에 따라 배향성이 저하되기 쉽다.
본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물의 바람직한 예는, 이하와 같다.
[1]: (A)성분과 (B)성분의 배합비가 질량비로 5:95 내지 60:40이고, (A)성분과 (B)성분의 합계량 100질량부에 기초하여, 10질량부 내지 150질량부의 (C)성분을 함유하는 경화막 형성 조성물.
[2]: (A)성분과 (B)성분의 합계량 100질량부에 기초하여, 10질량부 내지 500질량부의 (C)성분, 용제를 함유하는 경화막 형성 조성물.
[3]: (A)성분과 (B)성분의 합계량 100질량부에 기초하여, 10질량부 내지 150질량부의 (C)성분, 0.01질량부 내지 10질량부의 (D)성분, 용제를 함유하는 경화막 형성 조성물.
본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물을 용액으로 하여 이용하는 경우의 배합비율, 조제방법 등을 이하에 상술한다.
본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물에 있어서의 고형분의 비율은, 각 성분이 균일하게 용제에 용해되어 있는 한, 특별히 한정되는 것은 아니나, 1질량% 내지 80질량%이고, 바람직하게는 3질량% 내지 60질량%이고, 보다 바람직하게는 5질량% 내지 40질량%이다. 여기서, 고형분이란, 경화막 형성 조성물의 전체성분으로부터 용제를 제외한 것을 말한다.
본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물의 조제방법은, 특별히 한정되지 않는다. 조제법으로는, 예를 들어, 용제에 용해한 (B)성분의 용액에 (A)성분, (C)성분 및 필요에 따라 (D)성분을 소정의 비율로 혼합하고, 균일한 용액으로 하는 방법, 혹은, 이 조제법의 적당한 단계에 있어서, 필요에 따라 기타 첨가제를 추가로 첨가하여 혼합하는 방법을 들 수 있다.
본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물의 조제에 있어서는, 용제 중의 중합반응에 의해 얻어지는 특정 공중합체의 용액을 그대로 사용할 수 있다. 이 경우, 예를 들어, 폴리에틸렌글리콜에스테르기를 갖는 모노머 및 C2~C5하이드록시알킬에스테르기를 갖는 모노머 중 적어도 일방과, 카르복실기를 갖는 모노머 및 페놀성 하이드록시기를 갖는 모노머 중 적어도 일방을 공중합시켜 얻어지는 (B)성분의 용액에 상기와 마찬가지로 (A)성분, (C)성분 및 필요에 따라 (D)성분을 넣어 균일한 용액으로 한다. 이때에, 농도조정을 목적으로 더욱 용제를 추가투입할 수도 있다. 이때, (B)성분의 생성과정에서 이용되는 용제와, 경화막 형성 조성물의 농도조정에 이용되는 용제는 동일할 수도 있고, 또한 상이할 수도 있다.
또한, 조제된 경화막 형성 조성물의 용액은, 구멍직경이 0.2μm 정도인 필터 등을 이용하여 여과한 후, 사용하는 것이 바람직하다.
<경화막, 배향재 및 위상차재>
본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물의 용액을 기판(예를 들어, 실리콘/이산화실리콘피복기판, 실리콘나이트라이드기판, 금속, 예를 들어, 알루미늄, 몰리브덴, 크롬 등이 피복된 기판, 유리기판, 석영기판, ITO기판 등)이나 필름(예를 들어, 트리아세틸셀룰로오스(TAC)필름, 시클로올레핀폴리머필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트필름, 아크릴필름 등의 수지필름) 등의 위에, 바코트, 회전도포, 흘림도포, 롤도포, 슬릿도포, 슬릿에 이은 회전도포, 잉크젯도포, 인쇄 등에 의해 도포하여 도막을 형성하고, 그 후, 핫플레이트 또는 오븐 등에서 가열건조함으로써, 경화막을 형성할 수 있다.
가열건조의 조건으로는, 경화막으로부터 형성되는 배향재의 성분이, 그 위에 도포되는 중합성 액정용액에 용출되지 않을 정도로, 가교제에 의한 가교반응이 진행되면 되고, 예를 들어, 온도 60℃ 내지 200℃, 시간 0.4분간 내지 60분간의 범위 중에서 적당히 선택된 가열온도 및 가열시간이 채용된다. 가열온도 및 가열시간은, 바람직하게는 70℃ 내지 160℃, 0.5분간 내지 10분간이다.
본 실시의 형태의 경화성 조성물을 이용하여 형성되는 경화막의 막두께는, 예를 들어, 0.05μm 내지 5μm이고, 사용하는 기판의 단차나 광학적, 전기적 성질을 고려하여 적당히 선택할 수 있다.
이렇게 하여 형성된 경화막은, 편광UV조사를 행함으로써 배향재, 즉, 액정 등의 액정성을 갖는 화합물을 배향시키는 부재로서 기능시킬 수 있다.
편광UV의 조사방법으로는, 통상 150nm 내지 450nm의 파장의 자외광 내지 가시광이 이용되며, 실온 또는 가열한 상태에서 수직 또는 경사방향으로부터 직선편광을 조사함으로써 행해진다.
본 실시형태의 경화막 조성물로부터 형성된 배향재는 내용제성 및 내열성을 갖고 있으므로, 이 배향재 상에, 중합성 액정용액으로 이루어지는 위상차재료를 도포한 후, 액정의 상전이온도까지 가열함으로써 위상차재료를 액정상태로 하고, 배향재 상에서 배향시킨다. 그리고, 배향상태가 된 위상차재료를 그대로 경화시켜, 적층체를 형성한 뒤, 피전사체 상에 점착층 또는 접착층을 개재하여 적층체의 위상차재료 유래의 면을 부착한 후, 위상차재료 유래의 경화막으로부터 배향재를 박리하여 제거함으로써, 광학이방성을 갖는 층으로서 위상차재를 전사할 수 있다.
피전사체로는, 예를 들어 편광판, 위상차판 등의 광학부재나, 피전사기재를 이용할 수 있다. 위상차판으로는, 예를 들어 액정층인 위상차층을 갖는 것이나, 연신필름을 이용할 수 있다.
점착층 및 접착층의 재료로는, 위상차층 및 피전사체의 양방에 밀착성을 갖는 점착제나 접착제를 이용할 수 있다. 점착제 및 접착제로는, 전사법에 의한 위상차판의 제조방법에 사용되는 일반적인 것을 적용할 수 있다.
위상차재료로는, 예를 들어, 중합성기를 갖는 액정모노머 및 그것을 함유하는 조성물 등이 이용된다. 그리고, 배향재를 형성하는 기판이 필름인 경우에는, 위상차재를 형성한 후의 상기 박리가 용이해지기 때문에, 바람직하다. 이러한 위상차재를 형성하는 위상차재료는, 액정상태가 되어, 배향재 상에서, 수평배향, 콜레스테릭배향, 수직배향, 하이브리드배향 등의 배향상태를 취하는 것이 있으며, 각각 필요시되는 위상차에 따라 나누어 사용할 수 있다.
또한, 3D디스플레이에 이용되는 패턴화 위상차재를 제조하는 경우에는, 본 실시형태의 경화막 조성물로부터 상기한 방법으로 형성된 경화막에, 라인앤스페이스패턴의 마스크를 개재하여 소정의 기준으로부터, 예를 들어, +45도의 방향으로 편광UV노광하고, 이어서, 마스크를 벗기고 나서 -45도의 방향으로 편광UV를 노광하여, 액정의 배향제어방향이 상이한 2종류의 액정배향영역이 형성된 배향재를 얻는다. 그 후, 중합성 액정용액으로 이루어지는 위상차재료를 도포한 후, 액정의 상전이온도까지 가열함으로써 위상차재료를 액정상태로 하고, 배향재 상에서 배향시킨다. 그리고, 배향상태가 된 위상차재료를 그대로 경화시킨 후, 상기한 바와 같이 위상차재를 전사하고, 배향재를 박리하여 제거함으로써, 위상차특성이 상이한 2종류의 위상차영역이 각각 복수, 규칙적으로 배치된, 패턴화 위상차재를 얻을 수 있다.
그러므로, 본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물은, 각종 위상차재(위상차필름)의 제조에 호적하게 이용할 수 있다.
실시예
이하, 본 발명의 실시예를 들어, 본 발명을 구체적으로 설명하나, 본 발명은 이것들로 한정하여 해석되는 것은 아니다.
[실시예에서 이용하는 약기호]
이하의 실시예에서 이용하는 약기호의 의미는, 다음과 같다.
<원료>
BMAA: N-부톡시메틸아크릴아미드
AIBN: α,α’-아조비스이소부티로니트릴
<(A)성분>
MCA: 4-메톡시계피산
[화학식 11]
Figure pct00011
PCA: 4-프로폭시계피산
[화학식 12]
Figure pct00012
CHCA: 4-시클로헥실계피산
[화학식 13]
Figure pct00013
<(B)성분>
PEPO: 폴리에스테르폴리올중합체(하기 구조단위를 갖는 아디프산/디에틸렌글리콜공중합체. 분자량 4,800.)
[화학식 14]
Figure pct00014
(상기 식 중, R은, 알킬렌을 나타낸다.)
PUA: 폴리우레탄그래프트아크릴폴리머[아크리트(등록상표) 8UA-301(다이세이파인케미칼(주)제)]
PCP: 폴리카보네이트폴리올[C-590(쿠라레(주)제)]
HPC: 하이드록시프로필셀룰로오스[HPC-SSL(일본소다(주)제)]
PCL: 폴리카프로락톤테트라올[프락셀410(다이셀(주)제)]
<(C)성분>
HMM: 하기의 구조식으로 표시되는 멜라민 가교제[사이멜(CYMEL)(등록상표) 303(미쓰이사이텍(주)제)]
[화학식 15]
Figure pct00015
<(D)성분>
PTSA: p-톨루엔설폰산·일수화물
PPTS: p-톨루엔설폰산피리디늄
<용제>
실시예 및 참고예의 각 수지 조성물은 용제를 함유하고, 그 용제로서, 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PM), 아세트산부틸(BA), 아세트산에틸(EA), 아세트산이소부틸(IBA), 메틸에틸케톤(MEK), 메틸이소부틸케톤(MIBK)을 이용하였다.
<중합체의 분자량의 측정>
중합예에 있어서의 아크릴 공중합체의 분자량은, (주)Shodex사제 상온겔침투크로마토그래피(GPC)장치(GPC-101), Shodex사제 컬럼(KD-803, KD-805)을 이용하고 이하와 같이 하여 측정하였다.
한편, 하기의 수평균분자량(이하, Mn으로 칭한다.) 및 중량평균분자량(이하, Mw로 칭한다.)은, 폴리스티렌환산값으로 나타내었다.
컬럼온도: 40℃
용리액: 테트라하이드로푸란
유속: 1.0mL/분
검량선 작성용 표준샘플: 쇼와덴코사제 표준폴리스티렌(분자량 약 197,000, 55,100, 12,800, 3,950, 1,260, 580).
<C성분의 합성>
<중합예 1>
BMAA 100.0g, 중합촉매로서 AIBN 1.0g을 PM 193.5g에 용해하고, 80℃에서 20시간 반응시킴으로써 아크릴 중합체용액을 얻었다. 얻어진 아크릴 중합체의 Mn은 10,000, Mw는 23,000이었다. 아크릴 중합체용액을 헥산 2000.0g에 서서히 적하하여 고체를 석출시키고, 여과 및 감압건조함으로써, 중합체(PC-1)를 얻었다.
<중합예 2>
BMAA 100.0g, 중합촉매로서 AIBN 4.2g을 PM 193.5g에 용해하고, 90℃에서 20시간 반응시킴으로써 아크릴 중합체용액을 얻었다. 얻어진 아크릴 중합체의 Mn은 2,700, Mw는 3,900이었다. 아크릴 중합체용액을 헥산 2000.0g에 서서히 적하하여 고체를 석출시키고, 여과 및 감압건조함으로써, 중합체(PC-2)를 얻었다.
<중합예 3>
MMA 100.0g, HEMA 11.1g, 중합촉매로서 AIBN 5.6g을 PM 450.0g에 용해하고, 80℃에서 20시간 반응시킴으로써 아크릴 공중합체용액을 얻었다. 얻어진 아크릴 공중합체의 Mn은 4,200, Mw는 7,600이었다. 얻어진 아크릴 중합체용액을 헥산 5000.0g에 서서히 적하하여 고체를 석출시키고, 여과 및 감압건조함으로써, 중합체(PB-1)를 얻었다.
<액정배향제의 조제>
<실시예 1>
(A)성분으로서 MCA 1.8g, (B)성분으로서 PEPO 7.3g, (C)성분으로서 합성예 1에서 얻은 중합체(PC-1)를 5.9g, (D)성분으로서 PTSA 0.9g을 혼합하고, 이것에 용매로서의 PM 44g, BA 175g, 및 EA 66g을 첨가하여 용액을 얻었다. 이어서, 이 얻어진 용액을 구멍직경 1μm의 필터로 여과함으로써, 액정배향제(A-1)를 조제하였다.
<실시예 2~25>
하기 표 1에 나타내는 종류 및 배합량의 각 성분을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 동일하게 조작하여, 각 액정배향제(A-2)~(A-25)를 조제하였다.
[표 1]
Figure pct00016
<액정배향막의 형성 및 위상차필름의 제작>
<실시예 26>
실시예 1에서 조제한 액정배향제(A-1)를, 기판으로서의 TAC필름 상에 바코터를 이용하여 Wet막두께 4μm로 도포하였다. 열순환식 오븐 내 140℃에서 1분간의 가열건조를 행해, 필름 상에 경화막을 형성하였다. 이어서, 이 경화막 표면에 313nm의 직선편광을 10mJ/cm2의 노광량으로 수직으로 조사하여, 액정배향막을 형성하였다. 메르크주식회사제의 수평배향용 중합성 액정용액(RMS03-013C)을, 바코터를 이용하여 상기 액정배향막 상에 Wet막두께 6μm로 도포하였다. 이어서, 핫플레이트 상 65℃에서 1분간의 가열건조를 행한 후, 365nm의 비편광을 300mJ/cm2의 노광량으로 수직으로 조사함으로써 중합성 액정을 경화시켜, 위상차필름을 제작하였다.
<실시예 27~52>
액정배향제로서 (A-2)~(A-25)를 이용하고, 실시예 51 및 52는 기판으로서 오존처리를 실시한 COP필름을 이용한 것 이외는, 실시예 26과 동일하게 조작하여, 실시예 27~52의 각 위상차필름을 제작하였다.
상기에서 제작한 각 위상차필름에 대하여, 하기 방법에 의해 평가를 행하였다. 그 평가결과를 표 2에 나타낸다.
<배향성의 평가>
제작한 기판 상의 위상차필름을 한쌍의 편광판으로 끼워 넣고, 육안으로 크로스니콜하에서의 위상차특성의 발현상황을 관찰하였다. 위상차가 결함없이 발현되어 있는 것을 ○, 위상차가 발현되어 있지 않은 것을 ×로 하여 「액정배향성」의 란에 기재하였다.
<전사성의 평가>
제작한 기판 상의 위상차필름의 위상차재료 유래의 면을, 석영 상에 투명광학점착필름(닛토덴코사제 LUCIACS)을 개재하여 첩합하였다. 그 후, 기판으로서의 TAC 혹은 COP필름을 박리함으로써, 석영 상에 중합성 액정으로 이루어지는 위상차층을 전사하였다. 위상차층을 전사한 석영을 한쌍의 편광판으로 끼워 넣고, 육안으로 크로스니콜하에서의 위상차특성의 발현상황을 관찰하였다. 위상차가 결함없이 발현되어 있는 것을 ○, 결함이 발현되어 있는 것을 ×로 하여 「전사성」의 란에 기재하였다. 또한, ATR법에 의해 전사시의 박리계면을 관측하여 「박리계면」의 란에 기재하였다.
[표 2]
Figure pct00017
표 2의 결과로부터 분명한 바와 같이, 실시예의 위상차필름은, 액정배향성 및 전사성이 양호했다.
<액정배향제의 조제2>
<실시예 53~56, 참고예 1~2>
하기 표 3에 나타내는 종류 및 배합량의 각 성분을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 동일하게 조작하여, 각 액정배향제(A-26)~(A-31)를 조제하였다.
[표 3]
Figure pct00018
<중합성 액정용액의 조제>
<조제예 1>
중합성 액정 LC242(BASF사제) 29.0g, 중합개시제로서 일가큐어907(BASF사제) 0.9g, 레벨링제로서 BYK-361N(BYK사제) 0.2g, 용매로서의 MIBK를 첨가하여 고형분농도가 30질량%인 중합성 액정용액(LC-1)을 얻었다.
<조제예 2>
중합성 액정 LC242(BASF사제) 29.0g, 중합개시제로서 일가큐어907(BASF사제) 0.9g, 레벨링제로서 BYK-361N(BYK사제) 0.2g, 용매로서의 CP를 첨가하여 고형분농도가 30질량%인 중합성 액정용액(LC-2)을 얻었다.
<액정배향막의 형성 및 위상차필름의 제작>
<실시예 57>
실시예 53에서 조제한 액정배향제(A-26)를, 기판으로서의 TAC필름 상에 바코터를 이용하여 Wet막두께 4μm로 도포하였다. 열순환식 오븐 내 110℃에서 1분간의 가열건조를 행해, 필름 상에 경화막을 형성하였다. 이어서, 이 경화막 표면에 313nm의 직선편광을 10mJ/cm2의 노광량으로 수직으로 조사하여, 액정배향막을 형성하였다. 조제예 1에서 조제한 중합성 액정용액(LC-1)을, 바코터를 이용하여 상기 액정배향막 상에 Wet막두께 6μm로 도포하였다. 이어서, 핫플레이트 상 90℃에서 1분간의 가열건조를 행한 후, 365nm의 비편광을 500mJ/cm2의 노광량으로 수직으로 조사함으로써 중합성 액정을 경화시켜, 위상차필름을 제작하였다.
<실시예 58~60, 참고예 3~4>
액정배향제로서 (A-27)~(A-31)을 이용한 것 이외는, 실시예 57과 동일하게 조작하여, 실시예 58~60, 참고예 3~4의 각 위상차필름을 제작하였다.
<실시예 61>
실시예 53에서 조제한 액정배향제(A-26)를, 기판으로서의 TAC필름 상에 바코터를 이용하여 Wet막두께 4μm로 도포하였다. 열순환식 오븐 내 110℃에서 1분간의 가열건조를 행해, 필름 상에 경화막을 형성하였다. 이어서, 이 경화막 표면에 313nm의 직선편광을 10mJ/cm2의 노광량으로 수직으로 조사하여, 액정배향막을 형성하였다. 조제예 1에서 조제한 중합성 액정용액(LC-2)을, 바코터를 이용하여 상기 액정배향막 상에 Wet막두께 12μm로 도포하였다. 이어서, 핫플레이트 상 90℃에서 1분간의 가열건조를 행한 후, 365nm의 비편광을 500mJ/cm2의 노광량으로 수직으로 조사함으로써 중합성 액정을 경화시켜, 위상차필름을 제작하였다.
<실시예 62~64, 참고예 5~6>
액정배향제로서 (A-27)~(A-31)을 이용한 것 이외는, 실시예 61과 동일하게 조작하여, 실시예 62~64, 참고예 5~6의 각 위상차필름을 제작하였다.
<배향성의 평가>
제작한 기판 상의 위상차필름을 한쌍의 편광판으로 끼워 넣고, 육안으로 크로스니콜하에서의 위상차특성의 발현상황을 관찰하였다. 위상차가 결함없이 발현되어 있는 것을 ○, 결함이 발생하고 있던 것을 ×로 하여 표 4의 「액정배향성」의 란에 기재하였다.
[표 4]
Figure pct00019
표 4에 나타내는 바와 같이, 실시예에서는 중합성 액정용액(LC-1) 및 (LC-2)의 어느 쪽을 이용해도, 얻어진 위상차재는 양호한 배향성을 나타내었다. 이에 반해, 참고예에서는 (LC-1)을 이용하여 얻어진 위상차재는 양호한 배향성을 나타내었지만, (LC-2)를 이용하여 얻어진 위상차재는 양호한 배향성이 얻어지지 않았다.
산업상 이용가능성
본 발명에 따른 경화막 형성 조성물은, 액정표시소자의 액정배향막이나, 액정표시소자에 내부나 외부에 마련되는 광학이방성 필름을 형성하기 위한 배향재로서 매우 유용하며, 특히, 3D디스플레이나 유기 EL소자에 이용되는 패턴화 위상차재의 형성재료로서 호적하다.

Claims (12)

  1. (A)성분인, 하기 식(1)로 표시되는 계피산 유도체,
    [화학식 1]
    Figure pct00020

    (식(1) 중, A1과 A2는 각각 독립적으로, 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, R1은 수소원자, 할로겐원자, C1~C6알킬, C1~C6할로알킬, C1~C6알콕시, C1~C6할로알콕시, C3~C8시클로알킬, C3~C8할로시클로알킬, C2~C6알케닐, C2~C6할로알케닐, C3~C8시클로알케닐, C3~C8할로시클로알케닐, C2~C6알키닐, C2~C6할로알키닐, (C1~C6알킬)카르보닐, (C1~C6할로알킬)카르보닐, (C1~C6알콕시)카르보닐, (C1~C6할로알콕시)카르보닐, (C1~C6알킬아미노)카르보닐, (C1~C6할로알킬)아미노카르보닐, 디(C1~C6알킬)아미노카르보닐, 시아노 및 니트로로부터 선택되는 치환기를 나타내고, R2는 2가의 방향족기, 2가의 지환족기, 2가의 복소환식기 또는 2가의 축합환식기이고, R3은 단결합, 산소원자, -COO- 또는 -OCO-이고, R4~R7은 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐원자, C1~C6알킬기, C1~C6할로알킬기, C1~C6알콕시기, C1~C6할로알콕시기, 시아노기, 및 니트로기로부터 선택되는 치환기이고, n은 0~3의 정수이다.),
    (B)성분인, 하이드록시기, 카르복실기 및 아미노기로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 치환기를 갖는 친수성 폴리머, 그리고
    (C)성분인 가교제를 함유하는 것을 특징으로 하는 경화막 형성 조성물.
  2. 제1항에 있어서,
    (B)성분이, 폴리에테르폴리올, 폴리에스테르폴리올, 폴리카보네이트폴리올 및 폴리카프로락톤폴리올로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종의 폴리머인 것을 특징으로 하는 경화막 형성 조성물.
  3. 제1항에 있어서,
    (B)성분이 셀룰로오스 또는 그의 유도체인 것을 특징으로 하는 경화막 형성 조성물.
  4. 제1항에 있어서,
    (B)성분이, 폴리에틸렌글리콜에스테르기 및 C2~C5하이드록시알킬에스테르기 중 적어도 일방과, 카르복실기 및 페놀성 하이드록시기 중 적어도 일방을 갖는 아크릴 중합체인 것을 특징으로 하는 경화막 형성 조성물.
  5. 제1항에 있어서,
    (B)성분이, 하이드록시알킬기를 측쇄에 갖는 아크릴 중합체인 것을 특징으로 하는 경화막 형성 조성물.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    (C)성분이 N-하이드록시메틸 화합물 또는 N-알콕시메틸(메트)아크릴아미드 화합물을 포함하는 모노머를 중합한 폴리머인 것을 특징으로 하는 경화막 형성 조성물.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    (D)성분으로서 가교촉매를 추가로 함유하는 것을 특징으로 하는 경화막 형성 조성물.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    (A)성분과 (B)성분의 비율이 질량비로 5:95 내지 60:40인 것을 특징으로 하는 경화막 형성 조성물.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
    (A)성분 및 (B)성분의 합계량 100질량부에 기초하여, 10질량부 내지 500질량부의 (C)성분을 함유하는 것을 특징으로 하는 경화막 형성 조성물.
  10. 제7항에 있어서,
    (A)성분의 화합물 및 (B)성분의 폴리머의 합계량 100질량부에 대해 0.01질량부 내지 10질량부의 (D)성분을 함유하는 경화막 형성 조성물.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 기재된 경화막 형성 조성물을 이용하여 얻어지는 것을 특징으로 하는 배향재.
  12. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 기재된 경화막 형성 조성물로부터 얻어지는 경화막을 사용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 위상차재.
KR1020207011883A 2017-10-16 2018-10-16 경화막 형성 조성물, 배향재 및 위상차재 KR20200062259A (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2017-200249 2017-10-16
JP2017200249 2017-10-16
PCT/JP2018/038483 WO2019078201A1 (ja) 2017-10-16 2018-10-16 硬化膜形成組成物、配向材および位相差材

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20200062259A true KR20200062259A (ko) 2020-06-03

Family

ID=66174187

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020207011883A KR20200062259A (ko) 2017-10-16 2018-10-16 경화막 형성 조성물, 배향재 및 위상차재

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20200325327A1 (ko)
JP (2) JP7436954B2 (ko)
KR (1) KR20200062259A (ko)
CN (1) CN111212879A (ko)
TW (1) TW201930432A (ko)
WO (1) WO2019078201A1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021106858A1 (ja) * 2019-11-25 2021-06-03 日産化学株式会社 硬化膜形成組成物、配向材および位相差材

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS611342B2 (ko) 1979-06-13 1986-01-16 Toppan Printing Co Ltd
JPH1068816A (ja) 1996-08-29 1998-03-10 Sharp Corp 位相差板及び円偏光板
JP2001517719A (ja) 1997-09-25 2001-10-09 ロリク アーゲー 光架橋可能なポリイミド
JP2005049865A (ja) 2003-07-17 2005-02-24 Arisawa Mfg Co Ltd 光学位相差素子の製造方法
JP4207430B2 (ja) 2002-01-31 2009-01-14 Ｊｓｒ株式会社 液晶配向剤、液晶配向膜の形成方法および液晶表示素子
JP2009058584A (ja) 2007-08-30 2009-03-19 Jsr Corp 液晶配向剤および液晶配向膜の形成方法
JP2009179563A (ja) 2008-01-29 2009-08-13 Fujifilm Corp 化合物、液晶組成物及び異方性材料
US8119026B2 (en) 2007-03-30 2012-02-21 Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung Birefringent layer with negative optical dispersion

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2660601B2 (ja) * 1990-06-27 1997-10-08 日本石油株式会社 液晶表示素子用補償板の製造法
JP2952449B2 (ja) * 1992-06-03 1999-09-27 日石三菱株式会社 液晶表示素子用補償板の製造法
KR19980078124A (ko) * 1997-04-25 1998-11-16 손욱 광중합형 액정 배향재 및 이를 이용한 액정 배향막의 제조방법
US6174649B1 (en) * 1997-04-25 2001-01-16 Samsung Display Devices Co., Ltd. Cinnamate-containing photopolymer for orientation film of liquid crystal display (LCD) and method for using the photopolymer to form an orientation film
US6905640B2 (en) * 2000-04-24 2005-06-14 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Method of aligning liquid crystal compounds
US7496214B2 (en) * 2002-09-25 2009-02-24 The Hong Kong Polytechnic University Method of palm print identification
EP1593991A4 (en) * 2003-02-12 2008-11-05 Nippon Kayaku Kk SUBSTRATE FOR VERTICAL ALIGNMENT AND METHOD FOR PRODUCING A VERTICALLY ALIGNED LIQUID CRYSTAL FILM
ATE334179T1 (de) * 2003-10-17 2006-08-15 Merck Patent Gmbh Polymerisierbare zimtsäurederivate mit einer seitlichen substitution
JP2009300760A (ja) * 2008-06-13 2009-12-24 Nippon Oil Corp 楕円偏光板およびそれを用いた垂直配向型液晶表示装置
JP5790156B2 (ja) * 2010-07-15 2015-10-07 Jsr株式会社 位相差フィルム用液晶配向剤、位相差フィルム用液晶配向膜、位相差フィルム及びその製造方法
JP5825137B2 (ja) * 2011-04-21 2015-12-02 Jsr株式会社 位相差フィルム用液晶配向剤、位相差フィルム用液晶配向膜、位相差フィルム及びその製造方法
US9244199B2 (en) * 2011-10-11 2016-01-26 Nissan Chemical Industries, Ltd. Cured film formation composition, orientation material, and retardation material
JP6146100B2 (ja) * 2012-06-21 2017-06-14 Jsr株式会社 液晶配向剤、液晶配向膜、位相差フィルム、液晶表示素子及び位相差フィルムの製造方法
JP6274441B2 (ja) * 2012-07-12 2018-02-07 日産化学工業株式会社 硬化膜形成組成物、配向材および位相差材
CN104487467B (zh) * 2012-07-20 2016-11-23 东曹株式会社 富马酸二异丙酯-肉桂酸衍生物类共聚物及使用其的相位差膜
WO2014042216A1 (ja) * 2012-09-12 2014-03-20 日産化学工業株式会社 配向材の製造方法、配向材、位相差材の製造方法および位相差材
KR20150079744A (ko) * 2012-10-24 2015-07-08 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 경화막 형성 조성물, 배향재 및 위상차재
EP2927250B1 (en) * 2012-11-28 2017-08-16 Tosoh Corporation (fumaric acid diester)-(cinnamic acid ester) copolymer, method for producing same, and film produced using same
US10081693B2 (en) * 2014-02-28 2018-09-25 Nissan Chemical Industries, Ltd. Retardation material-forming resin composition, orientation material, and retardation material
US10126478B2 (en) * 2014-10-15 2018-11-13 Tosoh Corporation Resin composition and optical compensation film using same
JP6683958B2 (ja) * 2015-03-11 2020-04-22 日産化学株式会社 硬化膜形成組成物、配向材及び位相差材
EP3269781B1 (en) * 2015-03-13 2021-04-21 Nissan Chemical Corporation Cured-film-forming composition, alignment material, and phase difference material
CN108139532B (zh) * 2015-10-23 2020-06-16 富士胶片株式会社 光取向膜用组合物、光取向膜、光学层叠体及图像显示装置
US10465115B2 (en) * 2015-12-17 2019-11-05 Merck Patent Gmbh Cinnamic acid derivatives
KR101933765B1 (ko) * 2016-08-23 2018-12-28 동우 화인켐 주식회사 편광판 및 이를 포함하는 화상표시장치

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS611342B2 (ko) 1979-06-13 1986-01-16 Toppan Printing Co Ltd
JPH1068816A (ja) 1996-08-29 1998-03-10 Sharp Corp 位相差板及び円偏光板
JP2001517719A (ja) 1997-09-25 2001-10-09 ロリク アーゲー 光架橋可能なポリイミド
JP4207430B2 (ja) 2002-01-31 2009-01-14 Ｊｓｒ株式会社 液晶配向剤、液晶配向膜の形成方法および液晶表示素子
JP2005049865A (ja) 2003-07-17 2005-02-24 Arisawa Mfg Co Ltd 光学位相差素子の製造方法
US8119026B2 (en) 2007-03-30 2012-02-21 Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung Birefringent layer with negative optical dispersion
JP2009058584A (ja) 2007-08-30 2009-03-19 Jsr Corp 液晶配向剤および液晶配向膜の形成方法
JP2009179563A (ja) 2008-01-29 2009-08-13 Fujifilm Corp 化合物、液晶組成物及び異方性材料

Also Published As

Publication number Publication date
JP2023156287A (ja) 2023-10-24
WO2019078201A1 (ja) 2019-04-25
JPWO2019078201A1 (ja) 2020-12-03
JP7436954B2 (ja) 2024-02-22
TW201930432A (zh) 2019-08-01
US20200325327A1 (en) 2020-10-15
CN111212879A (zh) 2020-05-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6823295B2 (ja) Ｎ−アルコキシメチル基を有する繰り返し単位及び重合性のｃ＝ｃ二重結合を含む側鎖を有する繰り返し単位を含むポリマー
CN109153857B (zh) 偏光层形成组合物
WO2015129890A1 (ja) 硬化膜形成組成物、配向材および位相差材
JP6703295B2 (ja) 水溶媒系液晶配向剤、液晶配向膜及び位相差材
CN109154685B (zh) 配向层形成组合物
JP7152704B2 (ja) 硬化膜形成組成物、配向材および位相差材
JP2023156287A (ja) 硬化膜形成組成物、配向材および位相差材
JP6687911B2 (ja) 硬化膜形成組成物、配向材および位相差材
US10428274B2 (en) Liquid crystal alignment agent for photo-alignment, aligning member, and retardation member
JP7177396B2 (ja) 硬化膜形成組成物、配向材および位相差材
WO2021106858A1 (ja) 硬化膜形成組成物、配向材および位相差材

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right