KR20200061527A - 진공 증착장치 - Google Patents

진공 증착장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20200061527A
KR20200061527A KR1020180146937A KR20180146937A KR20200061527A KR 20200061527 A KR20200061527 A KR 20200061527A KR 1020180146937 A KR1020180146937 A KR 1020180146937A KR 20180146937 A KR20180146937 A KR 20180146937A KR 20200061527 A KR20200061527 A KR 20200061527A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
chamber
vacuum
glove
vacuum chamber
auxiliary
Prior art date
Application number
KR1020180146937A
Other languages
English (en)
Inventor
석창길
공대영
박지영
허태국
Original Assignee
(주)울텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)울텍 filed Critical (주)울텍
Priority to KR1020180146937A priority Critical patent/KR20200061527A/ko
Publication of KR20200061527A publication Critical patent/KR20200061527A/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/228—Gas flow assisted PVD deposition
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/52—Means for observation of the coating process

Abstract

본 발명은 진공 증착장치에 관한 것으로서, 특히 진공챔버를 외부 대기상태로 개방하지 않고 챔버가 불활성 가스로 되어 있는 대기압 상태에서 다음 연속공정에 필요한 작업을 진공챔버 내에서 진행될 수 있도록 구성한 것이다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 진공 증착장치는 진공챔버와, 진공챔버의 내부로 인입할 수 있는 글러브가 구비된 글러브 챔버와, 진공챔버의 정비 또는 증착에 필요한 물품을 수납하며 진공챔버의 내부와 연통된 보조챔버와, 글러브 챔버와 보조챔버가 진공챔버의 내부와 연통되도록 개방하거나 또는 차단하여 글러브 챔버와 보조챔버를 폐쇄하는 개폐밸브와, 보조챔버의 내부 공기를 외부로 배출하는 펌프와, 보조챔버의 내부로 불활성가스를 주입하는 가스공급라인을 포함하는 것을 기술적 특징으로 한다.

Description

진공 증착장치{Vacuum Deposition Device}
본 발명은 진공 증착장치에 관한 것으로서, 특히 진공챔버를 외부 대기상태로 개방하지 않고 챔버가 불활성 가스로 되어 있는 대기압 상태에서 다음 연속공정에 필요한 작업을 진공챔버 내에서 진행될 수 있도록 구성한 것이다.
평판 디스플레이 소자의 기판 표면에 박막을 형성하는 방법으로는 인쇄법 또는 회전 도포법 등이 있으나, 최근에는 하부 층의 굴곡 여부와 무관하게 균일한 두께를 형성할 수 있는 증착법이 주로 사용되고 있다.
이러한 증착법은 진공 증착법과 분위기 증착법으로 대별되는데, 일반적으로는 진공 증착을 열 증착이라고 호칭하며, 분위기 증착방법은 주로 이온 스퍼터링(ion sputtering)이나 플라즈마(plasma) 스퍼터링으로 호칭되고 있다.
한편, 디스플레이에 사용되는 소자들 중 EL(Electroluminescence) 소자는 시야각이 넓고 콘트라스트가 우수할 뿐만 아니라 응답속도가 빠르다는 장점을 갖고 있어 차세대 표시소자로써 주목을 받고 있다. 상기 EL 소자는 발광층(emissive layer)을 형성하는 물질에 따라 무기 EL 소자와 유기 EL 소자로 구분된다. 여기에서 유기 EL 소자는 무기 EL 소자에 비하여 휘도, 구동전압 및 응답속도 특성이 우수하고 다색화가 가능하다는 장점을 가지고 있다. 이러한 유기 EL 소자에서는, 일반적으로 기판 상부에 소정 패턴의 양극층이 형성되어 있고, 이 양극층의 상부에는 홀수송층, 발광층, 전자수송층 등이 적층되어 이루어진 유기층이 형성되어 있으며, 이러한 유기층의 상면에는 상기 양극층과 직교하는 방향으로 소정 패턴의 음극층이 형성되어 있다. 여기에서 홀수송층, 발광층 및 전자수송층은 유기 화합물로 이루어진 유기 박막들이며, 음극층은 금속으로 이루어진 금속 박막이다.
상기와 같이 구성된 유기 EL 소자를 제조하는 과정에서 홀수송층, 발광층, 전자수송층 등의 유기 박막과 음극층의 금속 박막은, 내부 압력이 10^-6 내지 10^-7 torr로 조절되는 진공챔버와, 이 진공챔버의 내부에 배치된 기판과 대향되게 설치되고 소량의 유기물 또는 금속을 가열하여 승화 및/또는 증발시키는 증착원을 구비하는 진공 열 증착장치에 의해 형성된다.
도 1에는 이러한 종래 진공 열 증착장치의 일례를 나타내 단면도가 도시되어 있다.
도면을 참조하면, 종래 진공 열 증착장치는, 예를 들면 질소(N2) 또는 헬륨(He), 아르곤(Ar) 등과 같은 불활성 가스가 내부에 충진된 글러브 박스(glove box;10)와, 이 글러브 박스(10)의 내부에 배치된 진공챔버(20a,20b)와, 이 진공챔버(20a,20b)의 내부를 진공 배기하는 진공펌프(30)를 포함하며, 또한 상기 각 진공챔버(20a,20b)의 내부에는 기판을 지지하는 기판홀더(25a,25b)와, 이 기판홀더(25a,25b)와 대향하도록 배치되고 히팅유닛(24a,24b)으로 증착재료를 가열하여 승화 및/또는 증발시키는 증착원(23a,23b)을 구비하고 있다.
그러나 이러한 종래 진공 열 증착장치는 다음과 같은 문제점이 있다.
진공챔버 내부에 사용되는 소스나 재료등을 옮겨 놓을 수는 있으나
진공챔버 내부의 부품 및 기판을 교체하거나 청소 또는 수리하고자 할 때에 먼저 글러브 박스 전체를 해체하여야 한다는 문제점이 있다.
이러한 문제점을 해결하기 위해, 대한민국 공개특허공보 제10-2004-0073037호(공개일 ; 2004.08.19)에 기술된 내용에 따르면, 도 2에 도시된 바와 같이, 가스가 충진된 글러브 박스(31)와, 상기 글러브 박스(31)의 내부에 배치되는 제1챔버(32a, 32b)와, 상기 제1챔버(32a, 32b)와 내부가 연통되고 상기 글러브 박스(31)의 외부에 배치되는 제2챔버(33a, 33b)를 구비하는 적어도 하나의 진공챔버(35a, 35b)와, 상기 진공챔버(35a, 35b) 내를 진공 배기하는 진공배기수단(39) 및 상기 진공챔버(35a, 35b) 내에 설치되며 기판 상에 증착될 증착재료를 가열하여 승화 및 증발시키는 증착원(37a, 37b)을 구비한다.
이와 같이 구성된 진공 열 증착장치는 증착 재료 및 히팅 유닛 부품 교체 등의 작업 시에 글러브 박스를 개방할 필요 없이 제2챔버의 개폐도어만을 열어 그 내부를 개방하고 개방된 제2챔버를 통해 용이하게 작업을 수행할 수 있도록 구성한 것이다. 구체적으로 진공 증착 공정 후 소스와 히팅유닛(boat, crucible)등의 원활하고 신속한 교체 작업을 위해 진공챔버를 상부(기판 장착부)와 하단부(소스와 히팅유닛이 장착되는 부분)로 구분한 후 하단부를 글러브 박스의 외부에 위치하고 있다.
대한민국 공개특허공보 제10-2004-0073037호에 기술된 진공 열 증착장치는 진공챔버의 하단부가 글러브 박스의 외부에 위치함에 따라 글러브 박스를 열지 않고, 글러브를 사용하지 않고서도 소스와 히팅 유닛 등의 교체 작업을 진행할 수 있도록 구성한 것이다. 즉 글러브 박스 외부에 연결된 진공챔버의 하단부(소스와 히팅유닛이 장착되는 부분)에서 작업을 진행할 때 하단부의 압력을 상압으로 형성한 후 하단부의 도어를 개방하여 소스와 히팅유닛 교체 작업을 진행한다.
이 경우 진공챔버의 하단부에 형성된 도어를 개방하게 되면, 외부 대기가 진공챔버의 하단부를 통하여 유입되어 진공챔버 내의 기판 표면에 증착된 소스 박막과 소스, 히팅유닛, 진공챔버의 벽면에 이미 증착된 소스 물질 등과 접촉하여 소스 물질의 물성 및 특성을 변화시키는 문제가 발생할 수 있다.
한편, 진공 증착 시스템과 글러브 박스의 결합관계를 살펴보면, 크게 4가지로 구분할 수 있다.
첫 번째로 도 3에 도시된 바와 같이, 글러브 박스(40)의 내부에 진공챔버(41)가 위치하는 경우로서, 도 1에서 설명하고 있는 구조이다. 이 경우 글러브 박스(40) 내에 진공챔버(41)가 위치함에 따라 기판의 크기가 크게할 수 없다는 단점이 있고, 단일 물질 공정에 적합하며 연속 공정은 불가능하다는 단점이 있다.
두 번째로 도 4에 도시된 바와 같이, 진공챔버(41)의 도어(미도시)가 글러브 박스(40)에 연결되어 개폐되는 경우로서, 이 경우 또한 앞서 설명한 도 3의 진공챔버의 경우와 비슷하다.
첫 번째와 두 번째의 구조 경우, 글러브 박스(40)의 내부에 위치한 진공챔버(41)의 도어를 개폐하기 전에, 글러브 박스(40) 내부의 산소(O2) 수증기(H2O)의 농도를 필요 조건으로 맞춰 주어야 하므로, 공정 시간이 길어지며 글러브 박스(40) 내부의 환경 요인에 항상 민감하게 대응하여야 함에 따라 글러브 박스(40)의 사양과 설비비용이 크게 요구되는 등의 단점이 있다.
세 번째로 도 5에 도시된 바와 같이, 진공챔버(41)가 글러브 박스(40)의 외부에 위치하며 글러브 박스(40)의 내부에 직하역(loading/unloading)부(43)가 설치되며, 진공챔버(41)에는 개폐밸브(45)가 설치되어 직하역부(43)에 의해 기판을 진공챔버(41)에 공급 가능하게 구성된다.
이 경우, 진공챔버(41)의 도어는 글러브 박스(40)에 연결되지 않고, 직하역부(43)만 글러브 박스(40) 내에 연결되기 때문에, 유기 물질이 증착된 기판을 로딩/언로딩 시에 기판 표면이 대기에 노출되지 않지만, 진공챔버(41) 내부의 소스와 보트(boat)를 교체하기 위해서는 진공챔버(41)의 도어를 개방해야 한다.
이때 진공챔버 내부가 대기 중에 노출되어 진공챔버 내부에 잔존하는 소스 물질이 대기 중의 산소(O2)와 수증기(H2O)와 반응하여 진공챔버의 내부에서 물질 특성의 변화를 유발하게 되는 단점이 있다.
네 번째로 도 6에 도시된 바와 같이, 진공챔버(41)와 직하역부(43)가 글러브 박스(40) 내부에 설치된다.
이 경우에, 생산 및 준생산 공정을 위한 연속 공정이 가능하도록 기판 직하역부(43)가 결합된 시스템에서 진공챔버(41)의 도어와 직하역부(43)가 글러브 박스(40)의 내부와 연결된다.
진공챔버(41)의 도어와 직하역부(43)가 글러브 박스(40)의 내부에 위치함에 따라 글러브 박스(40)의 크기가 커져야 하며, 글러브 박스(40)의 크기가 커짐에 따라 글러브 박스(40)의 산소(O2), 수증기(H2O)의 농도를 감소시키기 위한 정화작업 시간이 매우 길어지는 단점이 있다.
대한민국 공개특허공보 제10-2004-0073037호(공개일 2004.08.19) 대한민국 공개특허공보 제10-2012-0063834호(공개일 2012.06.18)
본 발명은 앞에서 설명한 바와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 발명된 것으로서, 양산 공정을 위해 진공챔버의 도어를 개방하지 않고 연속 공정이 가능하도록 구성한 진공 증착장치를 제공하는 데 그 목적이 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 진공 증착장치는 진공챔버와, 진공챔버의 내부로 인입할 수 있는 글러브가 구비된 글러브 챔버와, 진공챔버의 정비 또는 증착에 필요한 물품을 수납하며 진공챔버의 내부와 연통된 보조챔버와, 글러브 챔버와 보조챔버가 진공챔버의 내부와 연통되도록 개방하거나 또는 차단하여 글러브 챔버와 보조챔버를 폐쇄하는 개폐밸브와, 보조챔버의 내부 공기를 외부로 배출하는 펌프와, 보조챔버의 내부로 불활성가스를 주입하는 가스공급라인을 포함하는 것을 기술적 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 진공챔버의 내부를 개방하는 도어를 더 포함한다.
또한, 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 도어에는 글러브 챔버, 보조챔버, 개폐밸브가 장착된다.
또한, 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 개폐밸브는 복수 개로서, 글러브 챔버와 보조 챔버를 각각 개폐한다.
또한, 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 도어에 설치된 감시창을 더 포함한다.
또한, 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 보조챔버의 내부에는 정화기가 구비된다.
또한, 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 진공챔버의 측부에는 진공챔버의 내부와 연통된 직하역부가 장착되며 직하역부는 글러브 박스의 내부에 위치한다.
또한, 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 진공챔버에는 개폐밸브가 장착되어 직하역부를 개폐한다.
앞서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 진공 증착장치는 진공챔버에 기판, 소스, 보트 등 공정에 필요한 재료 또는 부품 교체 작업에 필요한 부품 등을 진공챔버의 도어를 개방하지 않고 보조챔버를 통해 진공챔버 내부로 진입시킬 수 있다. 따라서 진공챔버의 내부 분위기의 큰 변화 없이 진공챔버 내부로 진입한 재료 및 부품을 로딩/언로딩 하거나 교체하는 작업을 통하여 연속적으로 공정작업을 할 수 있다는 장점이 있다.
또한, 본 발명에 따른 진공 증착장치는 진공챔버에 직하역부를 장착하고, 직하역부를 글러브 박스로 감싼 시스템으로서, 글러브 박스를 통해 직하역부로 공급된 기판은 진공챔버의 내부로 인입 인출하여 연속 작업이 가능하도록 구성할 수 있다. 이 경우 진공챔버의 보조챔버를 통해 부품을 공급하여 진공챔버의 연속 공정이 가능하도록 구성할 수 있다.
도 1에는 종래 진공 열 증착장치의 일례를 나타내 단면도이고
도 2는 종래 기술에 따른 진공 열 증착장치의 단면도이며,
도 3 내지 도 6은 종래 진공 증착 시스템과 글러브 박스의 결합관계를 나타낸 개념도이다.
도 7은 본 발명에 따른 진공 증착장치의 진공챔버를 나타낸 정면도이고,
도 8은 도 7에 도시된 진공챔버의 측단면도이며,
도 9은 도 7에 도시된 진공 증착장치를 나타낸 정면도이다.
도 10은 본 발명에 따른 진공챔버의 변형 예를 나타낸 정면도이고,
도 11은 본 발명에 따른 진공챔버의 변형 예를 나타낸 측면도이다.
아래에서는 본 발명에 따른 진공 증착장치의 양호한 실시예를 첨부한 도면을 참조로 하여 상세히 설명한다.
도면에서, 도 7은 본 발명에 따른 진공 증착장치의 진공챔버를 나타낸 정면도이고, 도 8은 도 7에 도시된 진공챔버의 측단면도이며, 도 9은 도 7에 도시된 진공 증착장치를 나타낸 정면도이다. 그리고 도 10은 본 발명에 따른 진공챔버의 변형 예를 나타낸 정면도이고, 도 11은 본 발명에 따른 진공챔버의 변형 예를 나타낸 측면도이다.
도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 진공 증착장치의 진공챔버(110)는 그 정면에 설치되어 진공챔버(110)의 내부를 개폐하는 도어(120)와, 진공챔버(110)의 내부에 기판을 지지하는 기판홀더(130)와, 상기 기판홀더(130)와 대향하도록 배치되고 증착재료를 히팅유닛으로 가열하여 승화 및/또는 증발시키는 증착원(140)을 포함한다.
한편, 진공챔버(110)의 도어(120)에는 감시창(121)이 상부 중앙에 형성되고, 감시창(121)의 아래에는 도어(120)의 안쪽으로 글러브를 인입할 수 있는 글러브 챔버(123)가 위치하며, 글러브 챔버(123)의 아래에는 보조챔버(125)가 위치한다. 글러브 챔버(123)와 보조챔버(125)는 진공챔버(110)의 외부 즉 도어(120)의 외측면에 장착되어 도어(120)를 통해 진공챔버(110) 내부와 연통되게 설치되며, 도어(120)에는 제1개폐밸브(127A)와 제2개폐밸브(127B)가 장착된다. 제1개폐밸브(127A)는 글러브 챔버(123)를 개방 또는 폐쇄하고, 제2개폐밸브(127B)는 보조챔버(125)를 개방 또는 폐쇄한다.
따라서 제1개폐밸브(127A)와 제2개폐밸브(127B)가 각각 개폐됨에 따라 글러브 챔버(123)와 보조챔버(125)가 개별적으로 개방되어 진공챔버(110)와 연통되거나 연통 차단되어 폐쇄된다.
이와 같이 제1개폐밸브(127A)와 제2개폐밸브(127B)의 작동에 따라 글러브 챔버(123)와 보조챔버(125)가 모두 개방하거나 또는 글러브 챔버(123)와 보조챔버(125)를 모두 폐쇄하거나 또는 글러브 챔버(123)와 보조챔버(125) 중 어느 한 쪽만 개방 또는 폐쇄될 수 있다.
보다 구체적으로 글러브 챔버(123)의 안쪽에는 글러브가 장착되어 진공챔버(110)의 내부에서 작업을 진행할 수 있게 구성된다.
그리고 보조챔버(125)에는 진공펌프(127)가 연결되어 진공챔버(110)의 내부의 진공상태를 제어하며, 보조챔버(125)에는 불활성가스인 Ar 또는 N2 공급라인(128)이 연결되어 진공챔버(110)의 내부로 불활성가스를 주입 가능하게 구성된다.
이와 같이 구성된 진공챔버(110)에 있어서, 도 9에 도시된 바와 같이 연속 공정을 위해 별도의 글러브 박스(150)가 장착될 수 있으며, 글러브 박스(150)의 내부에 장착된 직하역부(151)가 진공챔버(110)의 측부에 연결되며, 진공챔버(110)에는 제3개폐밸브(153)가 장착되어 직하역부(151)에서 기판을 진공챔버(110)로 인입 또는 인출 가능하게 구성되며, 글러브 박스(150)에는 글러브가 장착되어 글러브 박스(150)의 내부 작업이 진행될 수 있게 구성된다.
아래에서는 이와 같이 구성된 진공 증착장치에 있어서, 기판과 소스 및 보트 장착 및 교체 작업에 대해 설명한다.
제1개폐밸브(127A)가 글러브 챔버(123)를 그리고 제2개폐밸브(127B)가 보조챔버(125)를 폐쇄하고 있는 상태에서 보조챔버(125)를 상압 상태로 유지한다.
이 상태에서는 제2개폐밸브(127B)의 반대쪽에 위치한 보조챔버(125)의 도어를 개방하고, 보조챔버(125) 내부에 기판과 소스 및 보트 등을 투입한 후 보조챔버(125)의 도어를 닫는다.
그리고 진공펌프(127)를 작동하여 보조챔버(125)의 내부 공기를 외부로 배출하고, 불활성가스인 아르곤(Ar) 또는 질소(N2)를 주입하여 보조챔버(125)의 내부를 불활성 가스로 교체한다.
이후 보조챔버(125)의 내부에 설치된 정화기를 이용하여 보조챔버(125)의 내부에 잔존하는 산소(O2) 및 수증기(H20)를 1PPM이하의 조건으로 보조챔버(125)의 내부 분위기를 조성한다. 여기에서 정화기는 작업 조건에 따라 추가하거나 제외될 수 있는 구성으로서, 도면에는 도시하지 않고 있다.
불활성가스를 이용하여 진공챔버(110)의 내부 압력과 보조챔버(125) 내부의 압력이 일치하게 되면, 제2개폐밸브(127B)를 개방할 수 있는 조건이 된다.
한편, 작업자는 제1개폐밸브(127A)를 개방하고 글러브 챔버(123)에 장착된 글러브를 통해 손을 진공챔버(110)의 내부로 진입시켜 작업을 수행한다.
작업 중에 보조챔버(125)에 보관된 물품이 필요할 경우 제2개폐밸브(127B)를 개방하여 보조챔(125)버 안에 보관된 물품을 작업자가 꺼내 작업을 진행할 수 있게 된다.
작업이 완료된 후에는 글러브 박스(150)에서 손을 빼내고 제1개폐밸브(127A)를 폐쇄함과 더불어 제2개폐밸브를 폐쇄하여 글러브 챔버(123)와 보조챔버(125)를 폐쇄한다.
위에서 설명한 진공챔버(110)에는 연속 공정을 위해 글러브 박스(150)를 추가하여 설치할 수 있다. 도 9에 도시된 바와 같이 진공챔버(110)의 측부에 글러브 박스(150)가 장착된 경우, 글러브 박스(150)의 내부에 장착된 직하역부(151)를 통해 기판을 연속적으로 공급하여 작업을 진행하며, 진공챔버(110)의 부품 교체 등의 작업이 필요할 경우에는 앞서 설명한 바와 같이 보조챔버(125)를 통해 소스 및 보트를 위치하고 교체 작업을 진행할 수 있다.
한편, 앞서 설명한 본 발명에 따른 진공 증착장치에서는 진공챔버(110)의 도어(120)에 글러브 챔버(123)와 보조챔버(125)가 장착된 것으로 설명하고 있으나, 도 10에 도시된 바와 같이 보조챔버(125)와 제2개폐밸브(127B)가 진공챔버(110)의 측부에 장착되더라도 본 발명의 목적 및 효과를 발현할 수 있으며, 더 나아가 글러브 챔버(123)에 장착된 글러브를 이용하여 보조챔버(125)에 보관된 물품을 꺼낼 수만 있다면 글러브 챔버(123)와 제1개폐밸브(127A)가 진공챔버(110)의 측부에 장착되더라도 본 발명의 목적 및 효과를 발현할 수 있다.
또한, 앞서 설명한 본 발명에 따른 진공 증착장치에서는 글러브 챔버(123)가 제1개폐밸브(127A)에 의해 개폐되고, 보조챔버(125)는 제2개폐밸브(127B)에 의해 개폐되는 것으로 설명하고 있으나, 작업 조건에 따라서는 도 11에 도시된 바와 같이 글러브 챔버(123)와 보조챔버(125)가 하나의 개폐밸브(127)에 의해 개폐되도록 구성할 수 있다. 이 경우 개폐밸브(127)가 하향으로 이동하면서 글러브 챔버(123)가 먼저 개방되고 이후 보조챔버(125)가 개방되며, 반대로 개폐밸브(127)가 완전히 개방된 상태에서 상향으로 이동하면 보조챔버(125)가 먼저 폐쇄되고 그 이후에 글러브 챔버(123)가 폐쇄된다.
이와 같이 개폐밸브(127)의 작동에 따라 글러브 챔버(123)와 보조챔버(125)를 모두 개방하거나 또는 글러브 챔버(123)와 보조챔버(125)를 모두 폐쇄하거나 또는 글러브 챔버(123)만 개방하고 보조챔버(125)는 폐쇄된 상태로 유지할 수 있다.
110 : 진공챔버
120 : 도어
121 : 감시창
123 : 글러브 챔버
125 : 보조챔버
127, 127A, 127B, 153 : 개폐밸브
129 : 진공펌프
130 : 기판홀더
140 : 증착원
150 : 글러브 박스
151 : 직하역부

Claims (8)

  1. 진공챔버와,
    진공챔버의 내부로 인입할 수 있는 글러브가 구비된 글러브 챔버와,
    진공챔버의 정비 또는 증착에 필요한 물품을 수납하며 진공챔버의 내부와 연통된 보조챔버와,
    글러브 챔버와 보조챔버가 진공챔버의 내부와 연통되도록 개방하거나 또는 차단하여 글러브 챔버와 보조챔버를 폐쇄하는 개폐밸브와,
    보조챔버의 내부 공기를 외부로 배출하는 펌프와,
    보조챔버의 내부로 불활성가스를 주입하는 가스공급라인을 포함하는 것을 특징으로 하는 진공 증착장치.
  2. 제1항에 있어서,
    진공챔버의 내부를 개방하는 도어를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 진공 증착장치.
  3. 제2항에 있어서,
    도어에는 글러브 챔버, 보조챔버, 개폐밸브가 장착된 것을 특징으로 하는 진공 증착장치.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    개폐밸브는 복수 개로서, 글러브 챔버와 보조 챔버를 각각 개폐하는 것을 특징으로 하는 진공 증착장치.
  5. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    도어에 설치된 감시창을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 진공 증착장치.
  6. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    보조챔버의 내부에는 정화기가 구비된 것을 특징으로 하는 진공 증착장치.
  7. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    진공챔버의 측부에는 진공챔버의 내부와 연통된 직하역부가 장착되며 직하역부는 글러브 박스의 내부에 위치하는 것을 특징으로 하는 진공 증착장치.
  8. 제7항에 있어서,
    진공챔버에는 개폐밸브가 장착되어 직하역부를 개폐하는 것을 특징으로 하는 진공 증착장치.
KR1020180146937A 2018-11-26 2018-11-26 진공 증착장치 KR20200061527A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180146937A KR20200061527A (ko) 2018-11-26 2018-11-26 진공 증착장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180146937A KR20200061527A (ko) 2018-11-26 2018-11-26 진공 증착장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20200061527A true KR20200061527A (ko) 2020-06-03

Family

ID=71087481

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180146937A KR20200061527A (ko) 2018-11-26 2018-11-26 진공 증착장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20200061527A (ko)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040073037A (ko) 2003-02-12 2004-08-19 주식회사 우영 진공 열 증착장치
KR20120063834A (ko) 2010-12-08 2012-06-18 엘아이지에이디피 주식회사 화학기상 증착장치 및 이를 이용한 화학기상 증착방법

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040073037A (ko) 2003-02-12 2004-08-19 주식회사 우영 진공 열 증착장치
KR20120063834A (ko) 2010-12-08 2012-06-18 엘아이지에이디피 주식회사 화학기상 증착장치 및 이를 이용한 화학기상 증착방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102151616B1 (ko) 인-라인 증착 시스템 및 유기 재료를 위한 증발 소스를 작동시키기 위한 방법
KR100484702B1 (ko) 유기전기발광소자의제조방법
US20110268870A1 (en) Film forming apparatus and film forming method
US20090014412A1 (en) Film forming apparatus and method for manufacturing light emitting element
US20040040504A1 (en) Manufacturing apparatus
US20170250379A1 (en) Evaporation source having multiple source ejection directions
JP6454906B2 (ja) 真空蒸着装置及びそれを用いたデバイス製造方法
US20100316788A1 (en) Deposition rate monitor device, evaporator, coating installation, method for applying vapor to a substrate and method of operating a deposition rate monitor device
JP2017509797A (ja) 真空処理システム、及び処理システムを取り付けるための方法
JP2005048260A (ja) 反応性スパッタリング方法
WO2010113659A1 (ja) 成膜装置、成膜方法及び有機ｅｌ素子
KR101046239B1 (ko) 성막 장치, 성막 시스템 및 성막 방법
KR20100076044A (ko) 성막 장치의 제어 방법, 성막 방법, 성막 장치, 유기 ｅｌ 전자 디바이스 및 그 제어 프로그램을 격납한 기억 매체
WO2005107392A2 (en) System for vaporizing materials onto substrate surface
KR20200061527A (ko) 진공 증착장치
JP5463602B2 (ja) マスク載置及び基板搬送チャンバと、マスク載置及び基板搬送チャンバの運用方法
KR100707960B1 (ko) 투명 전극용 아이티오 복합층 형성을 위한 인라인 스퍼터링장치
WO2009096250A1 (ja) 有機発光ダイオード、有機発光ダイオードの製造方法、有機発光ダイオードを製造する製造装置およびプラズマ処理装置
JP2013519788A (ja) 気相蒸着供給源のための一定体積閉止バルブ
KR101168150B1 (ko) 박막 증착장치
CN110656310A (zh) 成膜装置、有机设备的制造装置以及有机设备的制造方法
JP2004204289A (ja) 成膜装置とその方法および表示パネルの製造装置とその方法
US20090202708A1 (en) Apparatus for Manufacturing Light Emitting Elements and Method of Manufacturing Light Emitting Elements
JP2002334783A (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置
KR101784869B1 (ko) 박막 증착장치

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application