KR20200038186A - Optical film, flexible display device and method for producing optical film - Google Patents

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KR20200038186A
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가즈키 다이마츠
마사요시 가라사와
히토시 후쿠이
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스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
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Abstract

Provided are an optical film having excellent homogeneity, a flexible image display device providing the optical film, and a manufacturing method of the optical film. The manufacturing method of the optical film comprises the processes of: (a) applying at least one of a polyimide resin and a polyamide resin having a weight average molecular weight of 230,000 or more, a filler having an average primary diameter of 5 to 35 nm, and a varnish containing at least a solvent on a support, drying the same, and forming a coating film; (b) peeling the coating film from the support; and (c) heating the peeled coating film to obtain a film.

Description

광학 필름, 플렉시블 표시 장치 및 광학 필름의 제조 방법{OPTICAL FILM, FLEXIBLE DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING OPTICAL FILM}Manufacturing method of optical film, flexible display device and optical film {OPTICAL FILM, FLEXIBLE DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING OPTICAL FILM}

본 발명은 광학 필름, 당해 광학 필름을 구비하는 플렉시블 표시 장치, 및 당해 광학 필름의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an optical film, a flexible display device provided with the optical film, and a method for manufacturing the optical film.

액정 표시 장치나 유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치에 있어서 사용되는 광학 필름은, 당해 광학 필름을 통하여 사용자가 직접 육안으로 표시된 화상을 시인하기 때문에, 매우 높은 광학적 균질성이 요구된다.The optical film used in an image display device such as a liquid crystal display device or an organic EL display device requires very high optical homogeneity because the user directly visually recognizes an image displayed through the optical film.

이와 같은 광학 필름의 제조 방법으로서, 휘발성 용매와 광학 필름을 구성하는 수지를 함유하는 용액을 기재 상에 도공하고, 건조 후, 박리하는 방법이 사용되고 있다(예를 들면, 특허문헌 1). 이와 같은 도공 및 건조를 동반하는 제조 방법에서는, 도공 조건이나 건조 조건에 따라서 두께 불균일 및 배향 불균일이 생기는 경우가 있다. 필름이, 육안으로는 확인할 수 없을 것 같은 레벨의 불균일을 갖는 경우이더라도, 최종적으로 화상 표시 장치에 있어서의 광학 필름으로서 조립하였을 때에, 이러한 불균일에 기인하여 광학적 균질성이 손상되어, 화상의 왜곡 등이 시인되는 경우도 있다. 그 때문에, 화상 표시 장치에 있어서 광학 필름으로서 사용되는 필름에는, 육안으로는 확인이 곤란한 레벨의 매우 높은 정밀도의 균질성이 요구된다. 그 때문에, 필름의 광학적 균질성의 추가적인 향상에 대한 요구가 여전히 존재한다.As a method for producing such an optical film, a method of coating a solution containing a volatile solvent and a resin constituting the optical film on a substrate, and then drying and peeling it is used (for example, Patent Document 1). In such a manufacturing method accompanying coating and drying, thickness unevenness and orientation unevenness may occur depending on coating conditions or drying conditions. Even if the film has a level of non-uniformity that cannot be visually confirmed, optical homogeneity is impaired due to the non-uniformity when finally assembled as an optical film in an image display device, resulting in distortion of the image, etc. It may be admitted. Therefore, the film used as an optical film in an image display device requires homogeneity with a very high precision at a level that is difficult to visually confirm. For that reason, there is still a need for further improvement of the optical homogeneity of the film.

필름의 불균일을 억제한 광학 필름으로서, 예를 들면, 특허문헌 1에는, 폴리이미드계 광학 필름의 투영 화상으로부터 잘라낸 직사각형 영역에 있어서, 그레이 스케일의 표준편차 σ 및 당해 직사각형 영역의 이진화 화상에 있어서의 검정 부분의 면적이 소정의 범위 내로 조정된 폴리이미드계 광학 필름이 기재되어 있다. 특허문헌 2에는, 필름면 내의 투과광의 휘도의 불균일이, 표준편차로 평균 휘도의 15% 이내인 광학용 투명 필름이 기재되어 있다. 특허문헌 3에는, 광원부로부터의 광을 격자판에 조사하고, 당해 격자판을 투과한 광을 격자상(像)으로서 투영하고, 당해 격자상을 촬영하여 격자상의 왜곡으로부터 피측정물의 3차원계 형상을 수치화하는 프린지 투영법에 의한 형상 측정 방법이 기재되어 있다.As an optical film in which film irregularity is suppressed, for example, in Patent Document 1, in a rectangular region cut out from a projected image of a polyimide-based optical film, a standard deviation σ of gray scale and a binary image of the rectangular region A polyimide-based optical film in which the area of the assay portion is adjusted within a predetermined range is described. Patent Document 2 discloses a transparent film for optics, in which the variation in luminance of transmitted light in the film plane is within 15% of the average luminance in a standard deviation. In Patent Document 3, the light from the light source unit is irradiated onto the grating plate, the light transmitted through the grating plate is projected as a grating image, and the grating image is photographed to quantify the three-dimensional shape of the object to be measured from the distortion of the grating image. A method of measuring the shape by a fringe projection method is described.

국제공개 제2016/152459호International Publication No. 2016/152459 일본 공개특허 특개평9-48866호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-48866 일본 공개특허 특개2011-226871호 공보Japanese Patent Application Publication No. 2011-226871

그러나, 상기 특허문헌에 기재되는 방법은, 모두, 화상 표시 장치에 있어서 사용되는 바와 같은 광학 필름에 요구되는 매우 높은 정밀도로, 필름의 광학적 균질성을 평가하기에 충분한 방법이라고는 할 수 없다. 특허문헌 1에 기재된 방법은, 1 ㎝×5 ㎝의 해석 영역에서의 평가이기 때문에, 종 방향으로 생기는 불균일에 기인하는 광학적 균질성의 저하를 충분히 평가할 수 있는 방법은 아니다. 특허문헌 2에 기재된 방법은, 투과광의 휘도의 차가 작은 농담(濃淡)이 옅은 불균일에 기인하는 광학적 균질성의 저하를 정밀도 좋게 평가할 수 있는 방법은 아니다.However, all of the methods described in the above-mentioned patent documents cannot be said to be methods sufficient for evaluating the optical homogeneity of a film with very high precision required for an optical film as used in an image display device. Since the method described in Patent Document 1 is an evaluation in an analysis area of 1 cm x 5 cm, it is not a method capable of sufficiently evaluating a decrease in optical homogeneity due to non-uniformity occurring in the longitudinal direction. The method described in Patent Literature 2 is not a method capable of accurately evaluating a decrease in optical homogeneity caused by a slight non-uniformity of a small difference in luminance of transmitted light.

특허문헌 3에 기재된 방법은, 형상을 검출하는 방법이기 때문에, 굴절률의 불균일에 기인하는 광학적 균질성의 저하를 평가할 수는 없다. 따라서, 이들 방법으로 평가하여 얻은 필름은 모두, 충분한 광학적 균질성을 갖는다고는 할 수 없다.Since the method described in Patent Literature 3 is a method for detecting a shape, it is not possible to evaluate a decrease in optical homogeneity due to non-uniformity in refractive index. Therefore, it cannot be said that all the films obtained by evaluating by these methods have sufficient optical homogeneity.

또한, 광학 필름에는, 필름이 광학적으로 균질한 것에 추가하여, 물리적 성질에 있어서도 균질한 것이 요구된다. 그러나, 예를 들면, 롤 투 롤법 등에 의해, 필름을 반송하면서 연속적으로 광학 필름을 제조하는 경우, MD 방향 및 TD 방향에서 균질한 광학적 성질 및 물리적 성질을 달성하기가 어려운 경우가 있다.In addition, the optical film is required to be homogeneous in physical properties in addition to the optically homogeneous film. However, in the case of continuously manufacturing an optical film while conveying a film, for example, by a roll-to-roll method or the like, it may be difficult to achieve homogeneous optical properties and physical properties in the MD direction and the TD direction.

본 발명은, 상기 종래 기술이 갖는 과제를 감안하여 이루어진 것이고, 화상 표시 장치에 있어서의 광학 필름으로서 적절하게 사용되는, 높은 균질성을 갖는 광학 필름, 당해 광학 필름을 구비하는 플렉시블 표시 장치, 및 당해 필름의 제조 방법을 제공하는 것을 과제로 한다.This invention is made | formed in view of the subject which the said prior art has, and is used suitably as an optical film in an image display apparatus, The optical film which has high homogeneity, the flexible display device provided with the optical film, and the said film An object of the present invention is to provide a manufacturing method of the.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위하여, 광학 필름의 균질성을 높은 정밀도로 평가할 수 있는 평가 방법, 및 광학 필름의 균질성을 높이는 방법에 대하여 예의 검토를 행하였다. 그 결과, 필름의 투영법에 의한 투영 화상으로부터 푸리에 변환에 의해 얻은 역공간상(像)에 착안하여, 특정 요건을 만족시키는 광학 필름이 우수한 균질성을 갖는다는 것을 발견하여, 본 발명을 완성시키기에 이르렀다.In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors conducted a thorough examination of an evaluation method capable of evaluating the homogeneity of the optical film with high precision and a method of increasing the homogeneity of the optical film. As a result, by focusing on the inverse spatial image obtained by Fourier transform from the projected image by the film projection method, it was found that the optical film satisfying specific requirements has excellent homogeneity, and the present invention has been completed. .

즉, 본 발명은 이하의 적절한 태양을 포함한다.That is, the present invention includes the following suitable aspects.

〔1〕 중량평균 분자량이 23만 이상인 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지, 및 평균 일차입자경이 5∼35 ㎚인 필러를 포함하는 광학 필름으로서, 당해 광학 필름을 이용하여 투영법에 의해 얻은 투영 화상을 푸리에 변환하여 얻은 필름 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h 및 방향 v에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h 및 라인 프로파일 v라고 하고, 상기 투영법에 있어서 상기 광학 필름을 이용하지 않고 얻은 배경 화상을 푸리에 변환하여 얻은 배경 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h' 및 방향 v'에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h' 및 라인 프로파일 v'라고 하고, 라인 프로파일 h로부터 라인 프로파일 h'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (h-h')의 최대 강도를 Ymh라고 하고, 최대 강도 Ymh를 나타내는 주파수를 Xmh라고 하고, 라인 프로파일 v로부터 라인 프로파일 v'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (v-v')의 최대 강도를 Ymv라고 하고, 최대 강도 Ymv를 나타내는 주파수를 Xmv라고 하면, Ymh 및 Ymv는 모두 30 이하이고, Ymh, Ymv, Xmh 및 Xmv는 다음의 관계:[1] An optical film comprising a polyimide-based resin and / or polyamide-based resin having a weight average molecular weight of 230,000 or more, and a filler having an average primary particle size of 5 to 35 nm, obtained by projection using the optical film The line profiles in directions h and v that are orthogonal to each other on the film inverse space obtained by Fourier transform of the projected image are referred to as line profiles h and line profiles v, respectively, and are obtained without using the optical film in the projection method. In the background inverse space obtained by Fourier transform of a background image, line profiles in directions h 'and v that are orthogonal to each other are referred to as line profiles h' and line profiles v ', respectively, and line profiles h' from line profiles h. The maximum intensity of the line profile (h-h ') obtained by subtracting is called Y mh , and the frequency representing the maximum intensity Y mh is Let X mh be the maximum intensity of the line profile (v-v ') obtained by subtracting the line profile v' from line profile v, Y mv , and the frequency representing the maximum intensity Y mv is X mv , Y mh and Y mv is all 30 or less, and Y mh , Y mv , X mh and X mv are the following relationships:

Figure pat00001
Figure pat00001

를 만족시키는, 광학 필름.Satisfying, optical film.

〔2〕 필름의 MD 방향의 인열(引裂) 강도를 EMD(N/㎜)라고 하고, TD 방향의 인열 강도를 ETD(N/㎜)라고 하면, ETD에 대한 EMD의 비율(EMD/ETD)은 0.93 이상인, 상기 〔1〕에 기재된 광학 필름.[2] If the tear strength in the MD direction of the film is E MD (N / mm) and the tear strength in the TD direction is E TD (N / mm), the ratio of E MD to E TD (E MD / E TD ) is 0.93 or more, the optical film according to the above [1].

〔3〕 필름의 황색도는 3 이하인, 상기 〔1〕또는 〔2〕에 기재된 광학 필름.[3] The optical film according to [1] or [2], wherein the yellowness of the film is 3 or less.

〔4〕 필러는 실리카 입자인, 상기 〔1〕∼〔3〕 중 어느 것에 기재된 광학 필름.[4] The optical film according to any one of [1] to [3], wherein the filler is silica particles.

〔5〕 필러의 함유량은, 광학 필름의 질량에 대하여 5∼60 질량%인, 상기 〔1〕∼〔4〕 중 어느 것에 기재된 광학 필름.[5] The optical film according to any one of [1] to [4], wherein the content of the filler is 5 to 60% by mass relative to the mass of the optical film.

〔6〕 플렉시블 표시 장치의 전면판용의 필름인, 상기 〔1〕∼〔5〕 중 어느 것에 기재된 광학 필름.[6] The optical film according to any one of [1] to [5], which is a film for a front plate of a flexible display device.

〔7〕 상기 〔1〕∼〔6〕 중 어느 것에 기재된 광학 필름을 구비하는 플렉시블 표시 장치.[7] A flexible display device comprising the optical film according to any one of [1] to [6].

〔8〕 터치 센서를 추가로 구비하는, 상기 〔7〕에 기재된 플렉시블 표시 장치.[8] The flexible display device according to [7], further comprising a touch sensor.

〔9〕 편광판을 추가로 구비하는, 상기 〔7〕또는 〔8〕에 기재된 플렉시블 표시 장치.[9] The flexible display device according to [7] or [8], further comprising a polarizing plate.

〔10〕 (a) 중량평균 분자량이 23만 이상인 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지, 평균 일차입자경이 5∼35 ㎚의 필러, 및 용매를 적어도 함유하는 바니시를 지지체 상에 도포하고, 건조시켜, 도막을 형성시키는 공정,[10] (a) A varnish containing at least a polyimide resin and / or polyamide resin having a weight average molecular weight of 230,000 or more, a filler having an average primary particle diameter of 5 to 35 nm, and a solvent is coated on a support, Drying to form a coating film,

(b) 지지체로부터 도막을 박리하는 공정, 및(b) a step of peeling off the coating film from the support, and

(c) 박리한 도막을 가열하여, 필름을 얻는 공정(c) Step of heating peeled coating film to obtain film

을 적어도 포함하는, 상기 〔1〕∼〔6〕 중 어느 하나에 기재된 광학 필름의 제조 방법.The manufacturing method of the optical film in any one of said [1]-[6] which contains at least.

본 발명에 의하면, 우수한 균질성을 갖는 광학 필름, 당해 광학 필름을 구비하는 플렉시블 화상 표시 장치, 및 당해 광학 필름의 제조 방법을 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the optical film which has excellent homogeneity, the flexible image display apparatus provided with the said optical film, and the manufacturing method of the said optical film can be provided.

도 1은 투영 화상을 얻는 공정에 있어서의 배치예를 나타내는 개략도이다.
도 2는 실시예 및 비교예에서의 투영 화상을 얻는 공정에 있어서의 배치를 설명하기 위한 개략도이다.
도 3은 라인 프로파일에 있어서의 Ymax, Xmax 및 Xcen을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 실시예 1의 투영 화상으로부터 얻은 규격화 전의 라인 프로파일을 나타내는 도면이다.
도 5는 실시예 1의 투영 화상으로부터 얻은 규격화 후의 라인 프로파일을 나타내는 도면이다.
도 6은 실시예 1의 배경 화상으로부터 얻은 규격화 후의 라인 프로파일을 나타내는 도면이다.
도 7은 실시예 1의 투영 화상으로부터 얻은 규격화 후의 라인 프로파일로부터, 실시예 1의 배경 화상으로부터 얻은 규격화 후의 라인 프로파일을 빼서 얻은 라인 프로파일을 나타내는 도면이다.
도 8은 실시예 1의 투영 화상으로부터 얻은 규격화 후의 라인 프로파일로부터, 실시예 1의 배경 화상으로부터 얻은 규격화 후의 라인 프로파일을 빼서 얻은 라인 프로파일을 스무딩화하여 얻은 라인 프로파일을 나타내는 도면이다.
1 is a schematic view showing an arrangement example in a process of obtaining a projected image.
2 is a schematic view for explaining the arrangement in the process of obtaining a projected image in Examples and Comparative Examples.
3 is a diagram for explaining Y max , X max and X cen in the line profile.
4 is a diagram showing a line profile before normalization obtained from the projected image of Example 1. FIG.
5 is a diagram showing line profiles after normalization obtained from the projected image of Example 1. FIG.
6 is a diagram showing line profiles after normalization obtained from the background image of Example 1. FIG.
7 is a view showing a line profile obtained by subtracting the line profile after normalization obtained from the background image of Example 1 from the line profile after normalization obtained from the projection image of Example 1;
8 is a view showing a line profile obtained by smoothing the line profile obtained by subtracting the line profile after normalization obtained from the background image of Example 1 from the line profile after normalization obtained from the projection image of Example 1;

이하에, 본 발명의 실시 형태에 대하여 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명의 범위는 여기에서 설명하는 실시 형태에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서 여러 가지 변경을 할 수 있다.Hereinafter, embodiment of this invention is described in detail. In addition, the scope of the present invention is not limited to the embodiments described herein, and various changes can be made without departing from the spirit of the present invention.

본 발명의 광학 필름은, 중량평균 분자량이 23만 이상인 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지, 및 평균 일차입자경이 5∼35 ㎚인 필러를 포함하는 광학 필름이며, 당해 광학 필름을 이용하여 투영법에 의해 얻은 투영 화상을 푸리에 변환하여 얻은 필름 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h 및 방향 v에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h 및 v라고 하고, 상기 투영법에 있어서 상기 광학 필름을 이용하지 않고 얻은 배경 화상을 푸리에 변환하여 얻은 배경 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h' 및 방향 v'에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h' 및 v'라고 하고, 라인 프로파일 h로부터 라인 프로파일 h'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (h-h')의 최대 강도를 Ymh라고 하고, 최대 강도 Ymh를 나타내는 주파수를 Xmh라고 하고, 라인 프로파일 v로부터 라인 프로파일 v'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (v-v')의 최대 강도를 Ymv라고 하고, 최대 강도 Ymv를 나타내는 주파수를 Xmv라고 하면, Ymh 및 Ymv는 모두 30 이하이고, Ymh, Ymv, Xmh 및 Xmv는 다음의 관계:The optical film of the present invention is an optical film comprising a polyimide resin and / or polyamide resin having a weight average molecular weight of 230,000 or more, and a filler having an average primary particle diameter of 5 to 35 nm. The line profiles in directions h and v that are orthogonal to each other in the film inverse space obtained by Fourier transforming the projected image obtained by the projection method are referred to as line profiles h and v, respectively, and the optical film is not used in the projection method. The line profiles in the directions h 'and v' which are orthogonal to each other on the background inverse space obtained by Fourier transform of the background image obtained without are referred to as line profiles h 'and v', respectively, and the line profiles h 'from the line profiles h. The maximum intensity of the line profile (h-h ') obtained by subtracting is called Y mh , and the frequency representing the maximum intensity Y mh is called X mh . When the maximum intensity of the line profile (v-v ') obtained by subtracting the line profile v' from the line profile v is Y mv , and the frequency representing the maximum intensity Y mv is X mv , Y mh and Y mv are both 30 And Y mh , Y mv , X mh and X mv are the following relationships:

Figure pat00002
Figure pat00002

를 만족시키는 광학 필름이다. 여기에서, 방향 h 및 방향 h'는 서로 대응하는 방향이고, 방향 v 및 방향 v'는 서로 대응하는 방향이다. 이들 방향이 대응한다는 것은, 방위각이 동일하다는 것을 의미한다. 상기 특징을 만족시키는 본 발명의 광학 필름은, 우수한 균질성을 갖고, 특히 화상 표시 장치에 있어서의 광학 필름으로서 바람직하게 사용된다. 여기에서, 광학 필름의 광학적 균질성은, 필름의 면상(面狀) 불균일, 두께 불균일, 배향 불균일 등과 밀접하게 관계되고, 이들 불균일이 생기면 광학적 균질성이 저하된다. 그 때문에, 우수한 광학적 균질성을 갖는 본 발명의 광학 필름은, 면상 불균일, 두께 불균일, 배향 불균일 등의 불균일이 저감된 필름이라고 할 수 있다. 또, 광학 필름의 물리적 성질의 균질성도, 필름의 두께 불균일 및 배향 불균일과 밀접하게 관계되고, 이들 불균일이 생기면 물리적 성질의 균질성이 저하된다. 광학 필름의 물리적 성질로서는 탄성률, 표면 경도, 인열 강도 등이다. 상기 특징을 갖는 본 발명의 광학 필름은, 이들 물리적 성질의 동일 필름 내에서의 불균일이 저감된 필름이라고 할 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서, 광학적 균질성과 물리적 성질의 균질성을 합쳐 간단히 「균질성」이라고도 한다. 또, 본 발명의 광학 필름을 간단히 「필름」이라고도 한다.It is an optical film satisfying. Here, the direction h and the direction h 'are directions corresponding to each other, and the direction v and the direction v' are directions corresponding to each other. That these directions correspond means that the azimuth angles are the same. The optical film of the present invention that satisfies the above characteristics has excellent homogeneity and is preferably used as an optical film in an image display device. Here, the optical homogeneity of the optical film is closely related to the planar non-uniformity, thickness non-uniformity, and orientation non-uniformity of the film, and when these non-uniformities occur, the optical homogeneity decreases. Therefore, the optical film of the present invention having excellent optical homogeneity can be said to be a film having reduced non-uniformity such as plane non-uniformity, thickness non-uniformity, and orientation non-uniformity. Moreover, the homogeneity of the physical properties of the optical film is also closely related to the film thickness unevenness and orientation unevenness, and when these unevenness occurs, the homogeneity of the physical properties is deteriorated. The physical properties of the optical film include modulus of elasticity, surface hardness, and tear strength. It can be said that the optical film of the present invention having the above characteristics has a reduced non-uniformity in the same film of these physical properties. In addition, in this specification, the homogeneity of optical homogeneity and physical property is collectively called "homogeneity". In addition, the optical film of the present invention is also simply referred to as a "film".

본 발명의 광학 필름을 이용하여 투영법에 의해 얻은 투영 화상을 푸리에 변환하여 얻은 필름 역공간상, 및, 상기 투영법에 있어서 상기 필름을 이용하지 않고 얻은 배경 화상을 푸리에 변환하여 얻은 배경 역공간상은, 각각, 투영 화상 및 배경 화상으로부터 푸리에 변환에 의해 얻은 것인 한 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면,The film inverse space image obtained by Fourier transforming the projected image obtained by the projection method using the optical film of the present invention, and the background inverse space image obtained by Fourier transforming the background image obtained without using the film in the projection method, respectively, , As long as it is obtained by Fourier transform from the projected image and the background image, but is not particularly limited, for example,

(1) 광원으로부터의 광을 필름에 조사하고, 필름을 투과한 광을 투영면에 투영하는 투영법에 의해 투영 화상을 얻는 공정,(1) A step of obtaining a projected image by a projection method in which light from a light source is irradiated onto a film and the light transmitted through the film is projected onto a projection surface,

(2) 공정 (1)의 투영법에 있어서 필름을 이용하지 않고, 광원으로부터의 광을 투영면에 투영하여, 배경 화상을 얻는 공정,(2) A process of obtaining a background image by projecting light from a light source onto a projection surface without using a film in the projection method of step (1),

및,And,

(3) 공정 (1)에서 얻은 투영 화상 및 공정 (2)에서 얻은 배경 화상을 각각 그레이 스케일화에 의해 수치화하고, 수치화된 화상 데이터를 푸리에 변환하여 역공간상(필름 역공간상 및 배경 역공간상)을 얻는 공정,에 의해 얻을 수 있다. 상기 역공간상을 이용하여 광학 필름의 면 품질을 평가함으로써, 불균일의 농담과 주기를 해석할 수 있다.(3) The projection image obtained in step (1) and the background image obtained in step (2) are numerically quantified by gray-scale, respectively, and Fourier transform the digitized image data to inverse space (film inverse space and background inverse space) Phase). By evaluating the surface quality of the optical film using the inverse spatial image, it is possible to analyze the unevenness and the period of irregularity.

필름의 투영법에 의한 투영 화상으로부터 푸리에 변환에 의해 역공간상을 얻는 방법은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 평가 공정에 대하여 후술하는 방법을 이용해도 된다.The method for obtaining the inverse spatial image by Fourier transform from the projected image by the projection method of the film is not particularly limited, but, for example, a method described later for the evaluation process may be used.

다음으로, (4) 투영 화상의 역공간상에 있어서 직교하는 2방향의 각 라인 프로파일로부터, 배경 화상의 역공간상에 있어서 직교하는 상기 2방향의 각 라인 프로파일을 각각 빼서, 블랭크 보정된 라인 프로파일을 얻는 공정, 및, (5) 공정 (4)에서 얻은 블랭크 보정된 라인 프로파일의 최대 강도 Ymax(각각 Ymh 및 Ymv), 및 각 라인 프로파일에 있어서 최대 강도 Ymax(Ymh 및 Ymv)를 나타내는 주파수 Xmax(Xmh 및 Xmv)를 측정한다. 예를 들면, 역공간상의 중심을 지나는 수평 방향(h1 방향) 및 수직 방향(v1 방향)의 각각의 방향에 대하여 라인 프로파일을 작성하는 경우에 대하여 이하에 설명한다. 라인 프로파일은, 예를 들면, 도 3에 나타난 바와 같은, X축에 주파수, Y축에 강도를 나타내는 그래프로서 나타내어진다. 그리고, 수평 방향(h1 방향)의 라인 프로파일에 있어서의 최대 강도 Ymax를 Ymh1이라고 하고, 최대 강도 Ymh1을 나타내는 주파수로부터 블랭크 보정된 라인 프로파일에 있어서의 전체 주파수의 중앙값 Xcen을 뺀 값 Xmax를 Xmh1이라고 한다. 또, 수직 방향(v1 방향)의 라인 프로파일에 있어서의 최대 강도 Ymax를 Ymv1이라고 하고, 최대 강도 Ymv1을 나타내는 주파수로부터 블랭크 보정된 라인 프로파일에 있어서의 전체 주파수의 중앙값 Xcen을 뺀 값 Xmax를 Xmv1이라고 한다. 또한, 상기 예에 있어서는, 공간상의 중심을 지나는 수평 방향(h1 방향) 및 수직 방향(v1 방향)을 직교하는 2방향으로서 선택하였지만, 당해 2방향(h 방향 및 v 방향)은 서로 직교하고 있으면 특별히 한정되지 않고, 중심을 지나지 않는 2방향이어도 되고, 수평 방향 및 수직 방향이 아니어도 된다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「블랭크 보정된 라인 프로파일」이란, 투영 화상의 역공간상에 있어서 직교하는 2방향의 각 라인 프로파일로부터, 배경 화상의 역공간상에 있어서 직교하는 상기 2방향의 각 라인 프로파일을 각각 빼서 얻은 라인 프로파일을 의미한다. 상기의 조작에 의해, 투영 화상의 역공간상에 있어서의 라인 프로파일의 베이스 라인을 보정할 수 있다.Next, (4) each line profile in the two directions orthogonal in the inverse space of the projected image is subtracted from each line profile in the two directions orthogonal in the inverse space on the background image, and the blank corrected line profile is respectively subtracted. the obtaining step, and, (5) a step (4) the maximum intensity of the blank, the corrected line profile obtained from the Y max (respectively Y mh and Y mv), and the maximum intensity in each of the line profiles Y max (Y mh and Y mv The frequency X max (X mh and X mv ) representing) is measured. For example, a case where line profiles are created for each of the horizontal direction (h1 direction) and the vertical direction (v1 direction) passing through the center in the inverse space will be described below. The line profile is represented as a graph showing frequency on the X-axis and intensity on the Y-axis, for example, as shown in FIG. 3. Then, the maximum intensity Y max in the line profile in the horizontal direction (h1 direction) is referred to as Y mh1 , and the value X minus the median value X cen of the total frequency in the blank-corrected line profile from the frequency representing the maximum intensity Y mh1 Let max be X mh1 . Moreover, the maximum intensity Y max in the line profile in the vertical direction (v1 direction) is referred to as Y mv1 , and the value X obtained by subtracting the median value X cen of the entire frequency in the blank-corrected line profile from the frequency representing the maximum intensity Y mv1 Let max be X mv1 . In the above example, the horizontal direction (h1 direction) and the vertical direction (v1 direction) passing through the center of space were selected as two orthogonal directions, but the two directions (h direction and v direction) are particularly orthogonal to each other. It is not limited, and may be two directions not passing through the center, and may not be horizontal and vertical directions. In addition, in this specification, the "blank corrected line profile" means each line in the two directions orthogonal in the inverse space of the background image from each line profile in the two directions orthogonal in the inverse space of the projected image. It means the line profile obtained by subtracting each profile. By the above operation, the baseline of the line profile in the inverse space of the projected image can be corrected.

본 발명의 광학 필름에 있어서, 상기 Ymh 및 Ymv는 모두 30 이하이다. Ymh 또는 Ymv가 30을 초과하는 경우, 광학 필름의 균질성이 충분하다고는 할 수 없다. 특히, 필름의 광학적 균질성이 화상 표시 장치에 있어서의 광학 필름으로서 사용하기에 충분하다고는 할 수 없고, 화상의 왜곡 등을 충분히 저감할 수 없다. 광학 필름의 광학적 균질성을 높이기 쉽고, 화상 표시 장치에 있어서 화상의 시인성을 향상하기 쉽다는 관점에서, Ymh 및 Ymv는 바람직하게는 28 이하, 보다 바람직하게는 26 이하이다. Ymh 및 Ymv는 작으면 작을수록 좋고, 그 하한값은 특별히 한정되지 않고 0 이상이면 되고, 통상은 1 이상이다.In the optical film of the present invention, the Y mh and Y mv are both 30 or less. When Y mh or Y mv exceeds 30, it cannot be said that the homogeneity of the optical film is sufficient. In particular, it cannot be said that the optical homogeneity of the film is sufficient to be used as an optical film in an image display device, and it is not possible to sufficiently reduce image distortion and the like. Y mh and Y mv are preferably 28 or less, more preferably 26 or less, from the viewpoint of easily increasing the optical homogeneity of the optical film and improving the visibility of the image in the image display device. The smaller Y mh and Y mv , the better. The lower limit is not particularly limited, and may be 0 or more, and is usually 1 or more.

본 발명의 광학 필름에 있어서, 상기와 같이 하여 얻은 Ymh, Ymv, Xmh 및 Xmv는 다음의 관계:In the optical film of the present invention, Y mh , Y mv , X mh and X mv obtained as described above have the following relationship:

Figure pat00003
Figure pat00003

를 만족시킨다. (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값이 30을 초과하면, 광학적 균질성이 충분하지 않기 때문에 화면의 왜곡 등이 생긴다. 또, 물리적 균질성이 충분하지 않기 때문에, 예를 들면, 광학 필름을 플렉시블 표시 장치에 있어서 사용하는 경우, 충분한 내굴곡성 또는 강도가 얻어지지 않는 경우가 있다. (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값의 상한은, 필름의 균질성을 보다 높인다는 관점에서, 바람직하게는 25 이하, 보다 바람직하게는 22 이하, 더 바람직하게는 20 이하, 더 바람직하게는 19.5 이하, 더 바람직하게는 19 이하, 더 바람직하게는 18 이하, 더 바람직하게는 17 이하, 더 바람직하게는 16 이하, 더 바람직하게는 13 이하, 특히 바람직하게는 9 이하이다. (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값은 작으면 작을수록 좋고, 그 하한값은 특별히 한정되지 않고 0 이상이면 되고, 통상은 0.5 이상이다.Satisfy. If the value of (Y mh + Y mv ) / (X mh + X mv ) 1/2 exceeds 30, the optical homogeneity is not sufficient, and distortion of the screen occurs. Moreover, since the physical homogeneity is not sufficient, for example, when an optical film is used in a flexible display device, sufficient bending resistance or strength may not be obtained in some cases. The upper limit of the value of (Y mh + Y mv ) / (X mh + X mv ) 1/2 is preferably 25 or less, more preferably 22 or less, and more preferably 20 from the viewpoint of further increasing the homogeneity of the film. Or less, more preferably 19.5 or less, more preferably 19 or less, more preferably 18 or less, more preferably 17 or less, more preferably 16 or less, more preferably 13 or less, particularly preferably 9 or less to be. The smaller the value of (Y mh + Y mv ) / (X mh + X mv ) 1/2 , the better. The lower limit is not particularly limited and may be 0 or more, and is usually 0.5 or more.

본 발명의 광학 필름에 있어서, 상기와 같이 하여 얻은 블랭크 보정된 라인 프로파일에 있어서의 전체 주파수의 중앙값을 Xcen이라고 한다. 예를 들면, 도 3에 나타난 라인 프로파일에 있어서는, 전체 주파수가 90 ㎝-1이고, 그 중앙값인 45 ㎝-1이 Xcen이 된다. 여기에서, Xcen과 상기와 같이 하여 얻은 Xmh 및 Xmv가, 다음의 관계:In the optical film of the present invention, the median value of the total frequency in the blank-corrected line profile obtained as described above is referred to as X cen . For example, in the line profile shown in Fig. 3, the total frequency is 90 cm -1 , and the median value of 45 cm -1 is X cen . Here, X cen and X mh and X mv obtained as described above have the following relationship:

Figure pat00004
Figure pat00004

를 만족시키는 것이 바람직하다. 또한, 상기의 식 중, Xm은 Xmh 또는 Xmv를 나타내고, Xmh 및 Xmv 모두가 상기 식을 만족시키는 것이 바람직하다. |Xm-Xcen|의 하한은, 보다 바람직하게는 0.5 ㎝-1 이상, 더 바람직하게는 1.0 ㎝-1 이상이다. 또, |Xm-Xcen|의 상한은, 보다 바람직하게는 8.0 ㎝-1 이하, 더 바람직하게는 6.0 ㎝-1 이하이다. 불균일로서 시인되지 않는 광학적 균질성을 구비하는 것과 생산성을 고려하면, Xmh 및 Xmv가 상기 관계를 만족시키는 필름인 것이 바람직하다.It is preferable to satisfy. In the above formula, X m represents X mh or X mv , and X mh It is preferable that both X and mv satisfy the above expression. The lower limit of | X m -X cen | is more preferably 0.5 cm -1 or more, and still more preferably 1.0 cm -1 or more. Moreover, the upper limit of | X m -X cen | is more preferably 8.0 cm -1 or less, and more preferably 6.0 cm -1 or less. In consideration of productivity and having optical homogeneity not recognized as non-uniformity, it is preferable that X mh and X mv are films satisfying the above relationship.

Ymh 등에 관한 상기 특징을 갖는 본 발명의 광학 필름은, 높은 균질성을 갖고, 물리적 성질에 있어서도 높은 균질성을 갖고 있다. 그 때문에, 본 발명의 광학 필름에 있어서, 필름의 MD 방향의 인열 강도를 EMD(N/㎜)라고 하고, TD 방향의 인열 강도를 ETD(N/㎜)라고 하면, ETD에 대한 EMD의 비율(EMD/ETD)은, 바람직하게는 0.93 이상, 보다 바람직하게는 0.95 이상이다. EMD/ETD의 값이 1에 가까워짐에 따라서, 필름의 MD 방향의 인열 강도와 TD 방향의 인열 강도의 값에 차가 없다는 것을 나타내고, 본 발명의 필름이 물리적 성질에 있어서도 높은 균질성을 갖고 있다는 것을 나타낸다. 또한, MD 방향이란, 본 발명의 광학 필름을 제조할 때의 수지 기재의 흐름 방향이고, TD 방향은, 수지 기재의 흐름 방향에 대한 직각 방향이다. 인열 강도는, JIS K 7128-1에 준거하고, 트라우저 시험법에 따라 측정된다. 측정 조건의 상세는 실시예에 기재한 바와 같다.The optical film of the present invention having the above characteristics regarding Y mh or the like has high homogeneity and high homogeneity in physical properties. Therefore, in the optical film of the present invention, if the tear strength in the MD direction of the film is E MD (N / mm) and the tear strength in the TD direction is E TD (N / mm), then E to E TD the ratio of MD (E MD / E TD) is preferably, and more preferably at least 0.95 or 0.93. As the value of E MD / E TD approaches 1, it shows that there is no difference between the tear strength in the MD direction and the tear strength in the TD direction of the film, and that the film of the present invention has high homogeneity even in physical properties. Shows. In addition, MD direction is the flow direction of the resin base material at the time of manufacturing the optical film of this invention, and TD direction is a direction perpendicular to the flow direction of a resin base material. The tear strength is measured in accordance with JIS K 7128-1 and the Trouser Test Method. The details of the measurement conditions are as described in Examples.

본 발명의 광학 필름에 있어서, MD 방향 및 TD 방향이 없는 경우, 또는, MD 방향 및 TD 방향이 정해지지 않은 경우, 서로 직교하는 2방향을 A 방향 및 B 방향이라고 하고, 당해 광학 필름의 A 방향의 인열 강도를 EA(N/㎜)라고 하고, B 방향의 인열 강도를 EB(N/㎜)라고 한다. 그 경우, EB에 대한 EA의 비율(EA/EB)이, 바람직하게는 0.93 이상, 보다 바람직하게는 0.95 이상이다. 또한, 직교하는 2방향 중, 인열 강도가 보다 낮은 방향을 A 방향이라고 하고, 인열 강도가 보다 높은 방향을 B 방향이라고 한다. 광학 필름의 면 내의 복수의 방향에 대하여 A 방향 및 당해 A 방향에 직교하는 B 방향을 정하고, 복수의 방향(바람직하게는 10 이상의 방향)에 대하여 얻은 EB에 대한 EA의 비율(EA/EB) 모두가, 상기의 하한 이상인 것이 바람직하다.In the optical film of the present invention, when there is no MD direction and TD direction, or when the MD direction and TD direction are not determined, two directions orthogonal to each other are referred to as A direction and B direction, and the A direction of the optical film is The tear strength is called E A (N / mm), and the tear strength in the B direction is called E B (N / mm). In that case, the ratio (E A / E B) of A to E E B, preferably at least, more preferably at least 0.95 or 0.93. The direction in which the tear strength is lower in the orthogonal two directions is referred to as the A direction, and the direction in which the tear strength is higher is referred to as the B direction. Establish the A direction and the B direction orthogonal to the art A direction with respect to a plurality of directions in the plane of the optical film, the percentage of E A to E B obtained for the plurality of direction (preferably 10 or more) (E A / It is preferable that all of E B ) are above the said lower limit.

본 발명의 광학 필름의 인열 강도는, 광학 필름의 강도를 높이고, 내구성을 향상시키기 쉽다는 관점에서, 바람직하게는 0.5 N/㎜ 이상, 보다 바람직하게는 0.7 N/㎜ 이상, 더 바람직하게는 0.9 N/㎜ 이상이다. 또, 본 발명의 광학 필름의 인열 강도의 상한은 특별히 한정되지 않지만, 굴곡성의 관점에서, 바람직하게는 10 N/㎜ 이하, 보다 바람직하게는 8 N/㎜ 이하, 더 바람직하게는 5 N/㎜ 이하이다. 또, 상기와 마찬가지의 관점에서, 바람직하게는 15 N/㎟ 이상, 보다 바람직하게는 17 N/㎟ 이상, 더 바람직하게는 20 N/㎟ 이상이고, 바람직하게는 100 N/㎟ 이하, 보다 바람직하게는 70 N/㎟ 이하, 더 바람직하게는 50 N/㎟ 이하이다. 광학 필름이 TD 방향 및 MD 방향에 있어서, 상기 인열 강도를 갖는 것이 바람직하다. 인열 강도의 측정은, JIS K 7128-1에 준거하고, 트라우저 시험법에 따라 측정된다. 측정 조건의 상세는, 실시예에 기재한 바와 같다.The tear strength of the optical film of the present invention is preferably 0.5 N / mm or more, more preferably 0.7 N / mm or more, and even more preferably 0.9 from the viewpoint of increasing the strength of the optical film and improving durability. It is N / mm or more. Moreover, although the upper limit of the tear strength of the optical film of this invention is not specifically limited, From a viewpoint of flexibility, Preferably it is 10 N / mm or less, More preferably, it is 8 N / mm or less, More preferably, it is 5 N / mm Is below. Moreover, from the viewpoint similar to the above, it is preferably 15 N / mm 2 or more, more preferably 17 N / mm 2 or more, still more preferably 20 N / mm 2 or more, preferably 100 N / mm 2 or less, more preferably It is preferably 70 N / mm 2 or less, and more preferably 50 N / mm 2 or less. It is preferable that the optical film has the tear strength in the TD direction and the MD direction. The tear strength is measured in accordance with JIS K 7128-1, according to the Trouser Test Method. The details of the measurement conditions are as described in Examples.

본 발명의 광학 필름은, 평균 일차입자경이 5∼35 ㎚인 필러를 포함한다. 이러한 광학 필름은, 높은 균질성, 투명성을 갖는 것에 추가하여, 높은 인장탄성률도 갖는다. 광학 필름의 인장탄성률은 바람직하게는 4,000 ㎫ 이상, 보다 바람직하게는 5,000 ㎫ 이상, 더 바람직하게는 5,500 ㎫ 이상, 특히 바람직하게는 6,000 ㎫ 이상이다. 인장탄성률이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름에 패임 등의 결함이 생기기 어려워짐과 함께, 광학 필름의 강도를 높이기 쉽고, 내구성을 향상시키기 쉽다. 인장탄성률은 바람직하게는 10,000 ㎫ 이하, 보다 바람직하게는 9,000 ㎫ 이하이다. 인장탄성률이 상기의 상한 이하이면, 광학 필름의 내굴곡성을 향상시키기 쉽다. 또한, 광학 필름의 인장탄성률은, JIS K 7127에 준거하여, 실온에서, 인장시험기를 이용하여 측정할 수 있고, 예를 들면, 실시예의 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.The optical film of the present invention contains a filler having an average primary particle diameter of 5 to 35 nm. Such an optical film has a high tensile modulus of elasticity in addition to having high homogeneity and transparency. The tensile modulus of the optical film is preferably 4,000 MPa or more, more preferably 5,000 MPa or more, still more preferably 5,500 MPa or more, and particularly preferably 6,000 MPa or more. When the tensile modulus is more than the above lower limit, defects such as pitting are less likely to occur in the optical film, and the strength of the optical film is easily increased and durability is easily improved. The tensile modulus is preferably 10,000 MPa or less, more preferably 9,000 MPa or less. When the tensile modulus is less than or equal to the above upper limit, it is easy to improve the bending resistance of the optical film. In addition, the tensile modulus of the optical film can be measured in accordance with JIS K 7127 at room temperature using a tensile tester, and can be measured, for example, by the method described in Examples.

본 발명의 광학 필름의 황색도(YI값)는, 바람직하게는 3 이하, 보다 바람직하게는 3.0 이하, 더 바람직하게는 2.5 이하, 특히 바람직하게는 2 이하이다. 광학 필름의 황색도가 상기의 상한 이하이면 투명성을 향상시키기 쉽고, 예를 들면, 표시 장치의 전면판에 사용한 경우에 시인성을 높이기 쉽다. 황색도는 통상 -5 이상, 바람직하게는 -2 이상, 보다 바람직하게는 0 이상, 더 바람직하게는 0.3 이상, 더 바람직하게는 0.5 이상, 특히 바람직하게는 0.7 이상이다. 황색도(YI)는, JIS K 7373:2006에 준거하여, 자외가시근적외 분광광도계를 이용하여 300∼800 ㎚의 광에 대한 투과율 측정을 행하여, 3자극값(X, Y, Z)을 구하고, YI=100×(1.2769X-1.0592Z)/Y의 식에 기초하여 산출할 수 있다.The yellowness (YI value) of the optical film of the present invention is preferably 3 or less, more preferably 3.0 or less, further preferably 2.5 or less, particularly preferably 2 or less. When the yellowness of the optical film is less than or equal to the above upper limit, it is easy to improve transparency, and for example, it is easy to increase visibility when used in the front panel of a display device. The yellowness is usually -5 or more, preferably -2 or more, more preferably 0 or more, more preferably 0.3 or more, more preferably 0.5 or more, particularly preferably 0.7 or more. The yellowness (YI) was measured in accordance with JIS K 7373: 2006 using a ultraviolet visible near-infrared spectrophotometer and the transmittance of 300-800 nm was determined to obtain the tristimulus values (X, Y, Z). , YI = 100 × (1.2769X-1.0592Z) / Y.

본 발명의 광학 필름의 전체광선투과율은 바람직하게는 80 % 이상, 보다 바람직하게는 85 % 이상, 더 바람직하게는 90 % 이상, 특히 바람직하게는 92 % 이상이다. 전체광선투과율이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름을 화상 표시 장치에 조립하였을 때에 시인성을 높이기 쉽다. 본 발명의 광학 필름은, 광학적 균질성이 높고, 높은 투과율을 나타내므로, 예를 들면, 투과율의 낮은 필름을 이용한 경우와 비교하여, 일정 밝기를 얻기 위하여 필요한 표시 소자 등의 발광 강도를 억제하는 것이 가능하게 된다. 이 때문에, 소비 전력을 삭감할 수 있다. 예를 들면, 본 발명의 광학 필름을 표시 장치에 조립하는 경우, 백라이트의 광량을 줄이더라도 밝은 표시가 얻어지는 경향이 있어, 에너지 절약에 공헌할 수 있다. 전체광선투과율의 상한은, 통상 100% 이하이다. 또한, 전체광선투과율은, 예를 들면, JIS K7361-1:1997에 준거하여 헤이즈 컴퓨터를 이용하여 측정할 수 있다. 전체광선투과율은, 후술하는 광학 필름의 막 두께의 범위에 있어서의 전체광선투과율이어도 된다.The total light transmittance of the optical film of the present invention is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, further preferably 90% or more, particularly preferably 92% or more. When the total light transmittance is equal to or greater than the above lower limit, visibility is easily enhanced when the optical film is assembled to the image display device. Since the optical film of the present invention has high optical homogeneity and exhibits high transmittance, it is possible to suppress luminescence intensity of a display element or the like necessary to obtain a certain brightness, as compared with, for example, a film having a low transmittance. Is done. For this reason, power consumption can be reduced. For example, when the optical film of the present invention is assembled into a display device, a bright display tends to be obtained even if the amount of light of the backlight is reduced, which can contribute to energy saving. The upper limit of the total light transmittance is usually 100% or less. In addition, the total light transmittance can be measured by using a haze computer according to JIS K7361-1: 1997, for example. The total light transmittance may be the total light transmittance in the range of the film thickness of the optical film described later.

본 발명의 광학 필름의 헤이즈는 바람직하게는 3.0% 이하, 보다 바람직하게는 2.0% 이하, 더 바람직하게는 1.0% 이하, 더 바람직하게는 0.5% 이하, 특히 바람직하게는 0.3% 이하이다. 광학 필름의 헤이즈가 상기의 상한 이하이면 투명성이 양호하게 되어, 예를 들면, 화상 표시 장치의 전면판에 사용한 경우에, 화상의 시인성을 높이기 쉽다. 또, 헤이즈의 하한은 통상 0.01 % 이상이다. 또한, 헤이즈는 JIS K7136:2000에 준거하여 헤이즈 컴퓨터를 이용하여 측정할 수 있다.The haze of the optical film of the present invention is preferably 3.0% or less, more preferably 2.0% or less, more preferably 1.0% or less, still more preferably 0.5% or less, particularly preferably 0.3% or less. When the haze of the optical film is equal to or less than the above upper limit, the transparency becomes good, and for example, when used in the front plate of an image display device, it is easy to increase the visibility of the image. Moreover, the lower limit of haze is usually 0.01% or more. In addition, haze can be measured using a haze computer according to JIS K7136: 2000.

본 발명의 광학 필름의 막 두께는, 용도에 따라서 적절히 조정해도 되지만, 바람직하게는 25 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 27 ㎛ 이상, 더 바람직하게는 30 ㎛ 이상이고, 바람직하게는 100 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 90 ㎛ 이하, 더 바람직하게는 85 ㎛ 이하이다. 광학 필름의 막 두께는, 막후계 등으로 측정할 수 있고, 예를 들면, 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.The film thickness of the optical film of the present invention may be appropriately adjusted depending on the application, but is preferably 25 µm or more, more preferably 27 µm or more, still more preferably 30 µm or more, and preferably 100 µm or less, more It is preferably 90 µm or less, and more preferably 85 µm or less. The film thickness of the optical film can be measured by a film thickness meter or the like, for example, by the method described in Examples.

본 발명의 광학 필름은, 중량평균 분자량이 23만 이상인 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지, 및 평균 일차입자경이 5∼35 ㎚인 필러를 포함하는 광학 필름이다. Ymh 등에 관한 상기 특징을 갖는 균질성이 높은 광학 필름을 제조하기 쉽다는 관점에서는, 본 발명의 광학 필름은, 바람직하게는 캐스트 필름이다. 본 명세서에 있어서, 캐스트 필름이란, 예를 들면, 상기 수지 및 필러를 포함하는 용액, 분산액, 또는 용융물을, 적당한 지지체 상에 유연(流延), 도포 등 하고, 가열, 냉각, 건조 등에 의해 도막화시켜, 필요에 따라서 당해 도막을 당해 지지체로부터 박리하여 얻어지는 필름을 나타낸다. 이와 같이 하여 얻은 필름은, 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지 및 평균 일차입자경이 5∼35 ㎚인 필러를 적어도 함유하고, 경우에 따라 추가로 미량의 용매를 함유한다.The optical film of the present invention is an optical film comprising a polyimide-based resin and / or polyamide-based resin having a weight average molecular weight of 230,000 or more, and a filler having an average primary particle diameter of 5 to 35 nm. From the viewpoint of easy to produce an optical film having a high homogeneity having the above-mentioned characteristics regarding Y mh or the like, the optical film of the present invention is preferably a cast film. In the present specification, the cast film is, for example, a solution, dispersion, or melt containing the resin and filler on a suitable support, cast, coated, etc., and coated by heating, cooling, drying, etc. It shows the film obtained by peeling the said coating film from the said support body as needed by making it into flower. The film thus obtained contains at least a polyimide-based resin and / or a polyamide-based resin and a filler having an average primary particle diameter of 5 to 35 nm, and optionally a trace amount of a solvent.

본 발명의 광학 필름은, 중량평균 분자량이 23만 이상인 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지, 및 평균 일차입자경이 5∼35 ㎚인 필러를 포함한다. 본 발명의 광학 필름은 1종류의 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지를 함유해도 되고, 2종 이상의 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지를 함유해도 된다. 또, 본 발명의 광학 필름은 평균 일차입자경이 5∼35 ㎚인 1종류의 필러를 함유해도 되고, 평균 일차입자경이 5∼35 ㎚인 2종 이상의 필러를 함유해도 된다.The optical film of the present invention includes a polyimide resin and / or polyamide resin having a weight average molecular weight of 230,000 or more, and a filler having an average primary particle diameter of 5 to 35 nm. The optical film of the present invention may contain one type of polyimide-based resin or polyamide-based resin, or may contain two or more types of polyimide-based resin and / or polyamide-based resin. Further, the optical film of the present invention may contain one type of filler having an average primary particle diameter of 5 to 35 nm, or may contain two or more fillers having an average primary particle diameter of 5 to 35 nm.

< 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지 ><Polyimide resin and polyamide resin>

본 발명의 광학 필름은, 중량평균 분자량이 23만 이상인 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지를 포함한다. 폴리이미드계 수지란, 이미드기를 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 수지(이하, 폴리이미드 수지라고 하는 경우가 있음), 및 이미드기 및 아미드기의 양방(兩方)을 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 수지(이하, 폴리아미드이미드 수지라고 하는 경우가 있음)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지를 나타낸다. 또, 폴리아미드계 수지란, 아미드기를 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 수지를 나타낸다.The optical film of the present invention contains a polyimide resin and / or a polyamide resin having a weight average molecular weight of 230,000 or more. The polyimide-based resin is a resin containing a repeating structural unit containing an imide group (hereinafter sometimes referred to as a polyimide resin), and a repeating structural unit containing both imide groups and amide groups. It represents at least 1 sort (s) of resin chosen from the group which consists of resin to contain (it may be hereafter called a polyamideimide resin). Moreover, a polyamide-type resin shows the resin containing the repeating structural unit containing an amide group.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드계 수지는, 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위를 갖는 폴리이미드 수지이거나, 또는, 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위를 갖는 폴리아미드이미드 수지인 것이 바람직하다. 또, 폴리아미드계 수지는, 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위를 갖는 폴리아미드 수지인 것이 바람직하다. 이하에 있어서 식 (1) 및 식 (2)에 대하여 설명하겠지만, 식 (1)에 대한 설명은, 폴리이미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지의 양방에 관한 것이고, 식 (2)에 대한 설명은, 폴리아미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지의 양방에 관한 것이다.In one preferred embodiment of the present invention, the polyimide-based resin is a polyimide resin having a structural unit represented by formula (1), or represented by a structural unit represented by formula (1) and formula (2) It is preferable that the paper is a polyamideimide resin having a structural unit. Moreover, it is preferable that polyamide resin is a polyamide resin which has a structural unit represented by Formula (2). Although Formula (1) and Formula (2) will be described below, the description of Formula (1) relates to both polyimide resin and polyamideimide resin, and the description of Formula (2) is poly It relates to both amide resins and polyamideimide resins.

Figure pat00005
Figure pat00005

식 (1)로 나타내어지는 구성 단위는, 테트라카르본산 화합물과 디아민 화합물이 반응하여 형성되는 구성 단위이고, 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위는, 디카르본산 화합물과 디아민 화합물이 반응하여 형성되는 구성 단위이다.The structural unit represented by Formula (1) is a structural unit formed by the reaction of a tetracarboxylic acid compound and a diamine compound, and the structural unit represented by Formula (2) is formed by a reaction between a dicarboxylic acid compound and a diamine compound. It is a structural unit.

식 (2)에 있어서, Z는, 서로 독립적으로, 2가의 유기기이고, 바람직하게는 탄소수 1∼8의 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄소수 1∼8의 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되는, 탄소수 4∼40의 유기기이고, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼8의 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄소수 1∼8의 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되는, 환상 구조를 갖는 탄소수 4∼40의 2가의 유기기를 나타낸다. 환상 구조로서는 지환, 방향환, 헤테로환 구조를 들 수 있다. Z의 유기기로서, 후술하는 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 및 식 (29)로 나타내어지는 기의 결합손 중, 인접하지 않는 2개가 수소 원자로 치환된 기 및 탄소수 6 이하의 2가의 쇄식 탄화수소기가 예시되고, Z의 헤테로환 구조로서는 티오펜환 골격을 갖는 기가 예시된다. 얻어지는 광학 필름의 황색도를 억제(YI값을 저감)하기 쉽다는 관점에서, 식 (20)∼식 (27)로 나타내어지는 기, 및, 티오펜환 골격을 갖는 기가 바람직하다.In formula (2), Z is a divalent organic group, independently of each other, and preferably may be substituted with a C1-C8 hydrocarbon group or a fluorine-substituted C1-C8 hydrocarbon group. It is an organic group of 40, and more preferably represents a C4-C40 divalent organic group having a cyclic structure which may be substituted by a C1-C8 hydrocarbon group or a fluorine-substituted C1-C8 hydrocarbon group. Examples of the cyclic structure include alicyclic, aromatic, and heterocyclic structures. As an organic group of Z, the following formulas (20), (21), (22), (23), (24), (25), (26), (27), and ( 28) and a group represented by formula (29), a group in which two nonadjacent groups are substituted with hydrogen atoms and a divalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms are exemplified, and the heterocyclic structure of Z is a thiophene ring skeleton. Groups to have are illustrated. From the viewpoint of easily suppressing (reducing the YI value) the yellowness of the obtained optical film, groups represented by formulas (20) to (27) and groups having a thiophene ring skeleton are preferred.

본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리아미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지는, 복수 종의 Z를 포함할 수 있고, 복수 종의 Z는 서로 동일해도 되고 달라도 된다. 특히, 광학 필름의 높은 표면 경도 및 우수한 광학 특성을 발현하기 쉽다는 관점에서, Z의 적어도 일부가, 식 (3)In one embodiment of the present invention, the polyamide resin and the polyamideimide resin may contain plural kinds of Z, and the plural kinds of Z may be the same or different from each other. In particular, from the viewpoint of expressing the high surface hardness and excellent optical properties of the optical film, at least a part of Z is expressed by the formula (3)

Figure pat00006
Figure pat00006

[식 (3) 중, R1∼R8은, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타내고, R1∼R8에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고,[In the formula (3), R 1 to R 8 represent, independently of each other, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and R 1 to R The hydrogen atoms contained in 8 may be each independently substituted with a halogen atom,

A는, 서로 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -N(R9)-를 나타내고, R9는 수소 원자, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1∼12의 1가의 탄화수소기를 나타내고,A, independently of each other, single bond, -O-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- , -S-, -CO- or -N (R 9 )-, R 9 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbons which may be substituted with a halogen atom,

m은 0∼4의 정수이고,m is an integer from 0 to 4,

*은 결합손을 나타낸다]* Represents a bonding hand]

으로 나타내어지는 것이 바람직하다.It is preferably represented by.

식 (3)에 있어서, A는, 서로 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -N(R9)-를 나타내고, 광학 필름의 내굴곡성의 관점에서, 바람직하게는 -O- 또는 -S-를 나타내고, 보다 바람직하게는 -O-를 나타낸다.In formula (3), A is, independently of each other, a single bond, -O-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- , -S-, -CO- or -N (R 9 )-, from the viewpoint of bending resistance of the optical film, preferably -O- or- It represents S-, and more preferably -O-.

R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8은, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1∼6의 알킬기로서는 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 2-메틸-부틸기, 3-메틸부틸기, 2-에틸-프로필기, n-헥실기 등을 들 수 있다. 탄소수 1∼6의 알콕시기로서는 예를 들면, 메톡시기, 에톡시기, 프로필옥시기, 이소프로필옥시기, 부톡시기, 이소부톡시기, tert-부톡시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기, 시클로헥실옥시기 등을 들 수 있다. 탄소수 6∼12의 아릴기로서는 예를 들면, 페닐기, 톨릴기, 크실릴기, 나프틸기, 비페닐기 등을 들 수 있다. 광학 필름의 표면 경도 및 유연성의 관점에서, R1∼R8은, 서로 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼3의 알킬기를 나타내고, 더 바람직하게는 수소 원자를 나타낸다. 여기에서, R1∼R8에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다.R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are, independently of each other, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or 6 carbon atoms. It represents the aryl group of -12. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group and 2-methyl-butyl group. , 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl group and the like. Examples of the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms include, for example, methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, isopropyloxy group, butoxy group, isobutoxy group, tert-butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, cyclohexyloxy And timing. Examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a naphthyl group, and a biphenyl group. From the viewpoint of the surface hardness and flexibility of the optical film, R 1 to R 8 independently of each other preferably represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms And more preferably a hydrogen atom. Here, the hydrogen atoms contained in R 1 to R 8 may be independently substituted with halogen atoms.

R9는 수소 원자, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1∼12의 1가의 탄화수소기를 나타낸다. 탄소수 1∼12의 1가의 탄화수소기로서는 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 2-메틸-부틸기, 3-메틸부틸기, 2-에틸-프로필기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, tert-옥틸기, n-노닐기, n-데실기 등을 들 수 있고, 이들은 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. 상기 할로겐 원자로서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등을 들 수 있다.R 9 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, 2-methyl -Butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group and the like. And these may be substituted with halogen atoms. Examples of the halogen atom include fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, and iodine atom.

식 (3)에 있어서, m은 0∼4의 범위의 정수이고, m이 이 범위 내이면, 광학 필름의 내굴곡성이나 탄성률이 양호해지기 쉽다. 또, 식 (3)에 있어서, m은 바람직하게는 0∼3의 범위의 정수, 보다 바람직하게는 0∼2, 더 바람직하게는 0 또는 1, 특히 바람직하게는 0이다. m이 이 범위 내이면, 광학 필름의 내굴곡성이나 탄성률을 향상시키기 쉽다. 또, Z는, 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위를 1종 또는 2종류 이상 포함하고 있어도 되고, 광학 필름의 탄성률 및 내굴곡성의 향상, 황색도(YI값) 저감의 관점에서, 특히 m의 값이 다른 2종류 이상의 구성 단위, 바람직하게는 m의 값이 다른 2종류의 구성 단위를 포함하고 있어도 된다. 그 경우, 광학 필름의 높은 탄성률이나 내굴곡성 및 낮은 황색도(YI값)를 발현하기 쉽다는 관점에서, 수지가 Z에 있어서, m이 0인 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위를 함유하는 것이 바람직하고, 당해 구성 단위에 추가하여 m이 1인 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위를 추가로 함유하는 것이 보다 바람직하다.In Formula (3), m is an integer in the range of 0 to 4, and when m is within this range, the flexural resistance and elastic modulus of the optical film tend to be good. Moreover, in Formula (3), m is preferably an integer ranging from 0 to 3, more preferably 0 to 2, more preferably 0 or 1, particularly preferably 0. When m is in this range, it is easy to improve the bending resistance and elastic modulus of the optical film. Moreover, Z may contain 1 type (s) or 2 or more types of structural units represented by Formula (3), and from the viewpoint of improving the elastic modulus and flexural resistance of the optical film and reducing the yellowness (YI value), in particular m Two or more types of structural units having different values, preferably two types of structural units having different values of m may be included. In that case, from the viewpoint of expressing the high elastic modulus, bending resistance, and low yellowness (YI value) of the optical film, the resin contains a structural unit represented by formula (3) in which m is 0 in Z. It is preferable, and it is more preferable to further contain the structural unit represented by Formula (3) whose m is 1 in addition to the said structural unit.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 수지는, 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위로서, m=0이고, 또한 R5∼R8이 수소 원자인 구성 단위를 갖는다. 보다 바람직한 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 수지는, 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위로서, m=0이고, 또한 R5∼R8이 수소 원자인 구성 단위와, 식 (3'):In one preferred embodiment of the present invention, the resin has a structural unit represented by formula (3), m = 0, and R 5 to R 8 are hydrogen atoms. In one more preferred embodiment of the present invention, the resin is a structural unit represented by the formula (3), m = 0, and further, R 5 to R 8 are hydrogen atoms, and the structural unit (3 '):

Figure pat00007
Figure pat00007

로 나타내어지는 구성 단위를 갖는다. 이 경우, 광학 필름의 표면 경도 및 내굴곡성을 향상시키기 쉽고, 황색도를 저감하기 쉽다.It has a structural unit represented by. In this case, it is easy to improve the surface hardness and bending resistance of the optical film, and it is easy to reduce the yellowness.

광학 필름이 폴리아미드이미드 수지를 포함하는 본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위의 비율은, 폴리아미드이미드 수지의 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 합계에 대하여, 바람직하게는 20 몰% 이상, 보다 바람직하게는 30 몰% 이상, 더 바람직하게는 40 몰% 이상, 특히 바람직하게는 50 몰% 이상, 가장 바람직하게는 60 몰% 이상이고, 바람직하게는 90 몰% 이하, 보다 바람직하게는 85 몰% 이하, 더 바람직하게는 80 몰% 이하이다. 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위의 비율이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름의 표면 경도를 높이기 쉽고, 또한 내굴곡성이나 탄성률을 높이기 쉽다. 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위의 비율이 상기의 상한 이하이면, 식 (3) 유래의 아미드 결합간 수소 결합에 의한 수지 함유 바니시의 점도 상승을 억제하고, 필름의 가공성을 향상하기 쉽다.In one preferred embodiment of the present invention in which the optical film contains a polyamideimide resin, the proportion of the structural unit represented by formula (3) is the structural unit and formula (1) represented by formula (1) of the polyamideimide resin. With respect to the total of the structural units represented by 2), preferably 20 mol% or more, more preferably 30 mol% or more, more preferably 40 mol% or more, particularly preferably 50 mol% or more, and most preferably Is 60 mol% or more, preferably 90 mol% or less, more preferably 85 mol% or less, and even more preferably 80 mol% or less. When the proportion of the structural unit represented by the formula (3) is equal to or greater than the above lower limit, it is easy to increase the surface hardness of the optical film, and also to increase the bending resistance and elastic modulus. When the proportion of the structural unit represented by the formula (3) is equal to or less than the above upper limit, it is easy to suppress the increase in viscosity of the resin-containing varnish due to hydrogen bonding between the amide bonds derived from the formula (3) and to improve the processability of the film.

또, 폴리아미드이미드 수지가 m=1∼4인 식 (3)의 구성 단위를 갖는 경우, m이 1∼4인 식 (3)의 구성 단위의 비율은, 폴리아미드이미드 수지의 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 합계에 대하여, 바람직하게는 3 몰% 이상, 보다 바람직하게는 5 몰% 이상, 더 바람직하게는 7 몰% 이상, 특히 바람직하게는 9 몰% 이상이고, 바람직하게는 90 몰% 이하, 보다 바람직하게는 70 몰% 이하, 더 바람직하게는 50 몰% 이하, 특히 바람직하게는 30 몰% 이하이다. m이 1∼4인 식 (3)의 구성 단위의 비율이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름의 표면 경도 및 내굴곡성을 높이기 쉽다. m이 1∼4인 식 (3)의 구성 단위의 비율이 상기의 상한 이하이면, 식 (3) 유래의 아미드 결합간 수소 결합에 의한 수지 함유 바니시의 점도 상승을 억제하고, 필름의 가공성을 향상하기 쉽다. 또한, 식 (1), 식 (2) 또는 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위의 함유량은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.Moreover, when the polyamideimide resin has a structural unit of formula (3) in which m = 1-4, the ratio of the structural unit of formula (3) in which m is 1-4 is the formula (1) of a polyamideimide resin. With respect to the sum of the structural units represented by and the structural units represented by formula (2), preferably 3 mol% or more, more preferably 5 mol% or more, still more preferably 7 mol% or more, particularly preferably 9 mol% or more, preferably 90 mol% or less, more preferably 70 mol% or less, more preferably 50 mol% or less, particularly preferably 30 mol% or less. When the ratio of the structural unit of the formula (3) in which m is 1 to 4 is more than the above lower limit, it is easy to increase the surface hardness and flex resistance of the optical film. When the proportion of the structural unit of formula (3) in which m is 1 to 4 is equal to or less than the above upper limit, the increase in viscosity of the resin-containing varnish due to hydrogen bonding between the amide bonds derived from formula (3) is suppressed, and the processability of the film is improved. easy to do. In addition, content of the structural unit represented by Formula (1), Formula (2) or Formula (3) can be measured using 1 H-NMR, for example, or can be calculated from the introduction ratio of a raw material. .

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 상기 폴리아미드 수지 또는 폴리아미드이미드 수지 중의 Z의, 바람직하게는 30 몰% 이상, 보다 바람직하게는 40 몰% 이상, 더 바람직하게는 45 몰% 이상, 특히 바람직하게는 50 몰% 이상이, m이 0∼4인 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위이다. Z의 상기의 하한 이상이, m이 0∼4인 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위이면, 광학 필름의 표면 경도를 높이기 쉬움과 함께, 내굴곡성 및 탄성률도 높이기 쉽다. 또, 폴리아미드 수지 또는 폴리아미드이미드 수지 중의 Z의 100 몰% 이하가, m이 0∼4인 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위이면 된다. 또한, 수지 중의, m이 0∼4인 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위의 비율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, Z in the polyamide resin or the polyamideimide resin is preferably 30 mol% or more, more preferably 40 mol% or more, further preferably 45 mol% or more, particularly Preferably, 50 mol% or more is a structural unit represented by formula (3) in which m is 0 to 4. When the above-mentioned lower limit of Z is a structural unit represented by formula (3) in which m is 0 to 4, it is easy to increase the surface hardness of the optical film, and also to easily increase the bending resistance and elastic modulus. Moreover, 100 mol% or less of Z in polyamide resin or polyamideimide resin should just be a structural unit represented by Formula (3) whose m is 0-4. Moreover, the ratio of the structural unit represented by Formula (3) in which m is 0-4 in resin can be measured using 1 H-NMR, for example, or can be calculated from the introduction ratio of a raw material.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 상기 폴리아미드 수지 또는 폴리아미드이미드 수지 중의 Z의, 바람직하게는 5 몰% 이상, 보다 바람직하게는 8 몰% 이상, 더 바람직하게는 10 몰% 이상, 특히 바람직하게는 12 몰% 이상이, m이 1∼4인 식 (3)으로 나타내어진다. 폴리아미드이미드 수지의 Z의 상기의 하한 이상이, m이 1∼4인 식 (3)으로 나타내어지면, 광학 필름의 표면 경도를 높이기 쉽고, 또한 내굴곡성 및 탄성률을 높이기 쉽다. 또, Z의, 바람직하게는 90 몰% 이하, 보다 바람직하게는 70 몰% 이하, 더 바람직하게는 50 몰% 이하, 특히 바람직하게는 30 몰% 이하가, m이 1∼4인 식 (3)으로 나타내어지는 것이 바람직하다. Z의 상기의 상한 이하가, m이 1∼4인 식 (3)으로 나타내어지면, m이 1∼4인 식 (3) 유래의 아미드 결합간 수소 결합에 의한 수지 함유 바니시의 점도 상승을 억제하고, 필름의 가공성을 향상하기 쉽다. 또한, 수지 중의 m이 1∼4인 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위의 비율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In one preferred embodiment of the present invention, Z in the polyamide resin or the polyamideimide resin is preferably 5 mol% or more, more preferably 8 mol% or more, still more preferably 10 mol% or more, particularly Preferably, 12 mol% or more is represented by Formula (3) in which m is 1-4. When the above-mentioned lower limit of Z of the polyamide-imide resin is represented by the formula (3) in which m is 1 to 4, the surface hardness of the optical film is easy to increase, and the resistance to bending and elasticity is also easy to increase. In addition, Z is preferably 90 mol% or less, more preferably 70 mol% or less, more preferably 50 mol% or less, particularly preferably 30 mol% or less, where m is 1 to 4 (3 ). When the above upper limit of Z is represented by formula (3) in which m is 1 to 4, the increase in viscosity of the resin-containing varnish due to hydrogen bonding between amide bonds derived from formula (3) in which m is 1 to 4 is suppressed. , It is easy to improve the processability of the film. Moreover, the ratio of the structural unit represented by Formula (3) in which m is 1-4 in resin can be measured using 1 H-NMR, for example, or can be calculated from the introduction ratio of a raw material.

식 (1) 및 식 (2)에 있어서, X는, 서로 독립적으로, 2가의 유기기를 나타내고, 바람직하게는 탄소수 4∼40의 2가의 유기기, 보다 바람직하게는 환상 구조를 갖는 탄소수 4∼40의 2가의 유기기를 나타낸다. 환상 구조로서는 지환, 방향환, 헤테로환 구조를 들 수 있다. 상기 유기기는, 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되고, 그 경우, 탄화수소기 및 불소 치환된 탄화수소기의 탄소수는 바람직하게는 1∼8이다. 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드 수지 또는 폴리아미드이미드 수지는, 복수 종의 X를 포함할 수 있고, 복수 종의 X는 서로 동일해도 되고 달라도 된다. X로서는 식 (10), 식 (11), 식 (12), 식 (13), 식 (14), 식 (15), 식 (16), 식 (17) 및 식 (18)로 나타내어지는 기; 그들 식 (10)∼식 (18)로 나타내어지는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기에 의해 치환된 기; 및 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다.In Formulas (1) and (2), X independently of each other represents a divalent organic group, preferably a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, more preferably 4 to 40 carbon atoms having a cyclic structure. Represents a divalent organic group. Examples of the cyclic structure include alicyclic, aromatic, and heterocyclic structures. The organic group may have a hydrogen atom in the organic group substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, and in this case, the hydrocarbon group and the fluorine-substituted hydrocarbon group preferably have 1 to 8 carbon atoms. In one embodiment of the present invention, the polyimide resin or the polyamideimide resin may contain multiple types of X, and the multiple types of X may be the same or different from each other. As X, groups represented by formulas (10), (11), (12), (13), (14), (15), (16), (17) and (18) ; A group in which hydrogen atoms in the groups represented by the formulas (10) to (18) are substituted by a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; And chain hydrocarbon groups having 6 or less carbon atoms.

Figure pat00008
Figure pat00008

식 (10)∼식 (18) 중, *은 결합손을 나타내고,In formulas (10) to (18), * represents a bond,

V1, V2 및 V3은, 서로 독립적으로, 단결합, -O-, -S-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -CO- 또는 -N(Q)-를 나타낸다. 여기에서, Q는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1∼12의 1가의 탄화수소기를 나타낸다. 탄소수 1∼12의 1가의 탄화수소기로서는, R9에 대하여 상기에 서술한 기를 들 수 있다.V 1 , V 2 and V 3 are, independently of each other, a single bond, -O-, -S-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- , -CO- or -N (Q)-. Here, Q represents a C1-C12 monovalent hydrocarbon group which may be substituted with a halogen atom. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include the groups described above for R 9 .

하나의 예는, V1 및 V3이 단결합, -O- 또는 -S-이고, 또한, V2가 -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2- 또는 -SO2-이다. V1과 V2의 각 환에 대한 결합 위치, 및, V2와 V3의 각 환에 대한 결합 위치는, 서로 독립적으로, 바람직하게는 각 환에 대하여 메타 위치 또는 파라 위치이고, 보다 바람직하게는 파라 위치이다.In one example, V 1 and V 3 are a single bond, -O- or -S-, and V 2 is -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- Or -SO 2- . The bonding position of each ring of V 1 and V 2 and the bonding position of each ring of V 2 and V 3 are, independently of each other, preferably a meta position or a para position with respect to each ring, more preferably Is the para position.

식 (10)∼식 (18)로 나타내어지는 기 중에서도, 광학 필름의 표면 경도 및 내굴곡성을 높이기 쉽다는 관점에서, 식 (13), 식 (14), 식 (15), 식 (16) 및 식 (17)로 나타내어지는 기가 바람직하고, 식 (14), 식 (15) 및 식 (16)으로 나타내어지는 기가 보다 바람직하다. 또, V1, V2 및 V3은, 광학 필름의 표면 경도 및 유연성을 높이기 쉽다는 관점에서, 서로 독립적으로, 단결합, -O- 또는 -S-인 것이 바람직하고, 단결합 또는 -O-인 것이 보다 바람직하다.Among the groups represented by the formulas (10) to (18), from the viewpoint of easy to increase the surface hardness and bending resistance of the optical film, formulas (13), (14), (15), (16) and The group represented by formula (17) is preferable, and the group represented by formula (14), formula (15) and formula (16) is more preferable. In addition, V 1 , V 2 and V 3 are preferably a single bond, -O- or -S- independently of each other, from the viewpoint of easy to increase the surface hardness and flexibility of the optical film, single bond or -O It is more preferable to be-.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 식 (1) 및 식 (2) 중의 복수의 X의 적어도 일부는, 식 (4):In a preferred embodiment of the present invention, at least a portion of the plurality of Xs in formulas (1) and (2) are represented by formula (4):

Figure pat00009
Figure pat00009

[식 (4) 중, R10∼R17은, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타내고, R10∼R17에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, *은 결합손을 나타낸다][In the formula (4), R 10 to R 17 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and R 10 to R 17 The hydrogen atom contained in may be independently substituted with a halogen atom, and * represents a bond;

로 나타내어지는 구성 단위이다. 식 (1) 및 식 (2) 중의 복수의 X의 적어도 일부가 식 (4)로 나타내어지는 기이면, 광학 필름의 표면 경도 및 투명성을 높이기 쉽다.It is a structural unit represented by. If at least a part of the plurality of Xs in the formulas (1) and (2) is a group represented by the formula (4), it is easy to increase the surface hardness and transparency of the optical film.

식 (4)에 있어서, R10, R11, R12, R13, R14, R15, R16, R17은, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기로서는, 식 (3)에 있어서의 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기로서 예시한 것을 들 수 있다. R10∼R17은, 서로 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼3의 알킬기를 나타내고, 여기에서, R10∼R17에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. 할로겐 원자로서는 예를 들면, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다. R10∼R17은, 서로 독립적으로, 광학 필름의 표면 경도, 투명성 및 내굴곡성의 관점에서, 더 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이고, 특히 바람직하게는 R10, R12, R13, R14, R15, 및 R16이 수소 원자, R11 및 R17이 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이고, 특히 바람직하게는 R11 및 R17이 메틸기 또는 트리플루오로메틸기이다.In formula (4), R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 are, independently of each other, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, 1 to 6 carbon atoms Represents an alkoxy group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. As the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms, the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms in the formula (3), the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or the carbon number 6 to 12 What was illustrated as an aryl group of these is mentioned. R 10 to R 17 are, independently of each other, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, wherein R 10 to R 17 The hydrogen atoms contained in may be substituted with halogen atoms independently of each other. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. R 10 to R 17 are, independently of each other, more preferably a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoromethyl group, from the viewpoint of the surface hardness, transparency, and bending resistance of the optical film, particularly preferably Is R 10 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , and R 16 are hydrogen atoms, R 11 and R 17 are hydrogen atoms, methyl group, fluoro group, chloro group or trifluoromethyl group, particularly preferably R 11 and R 17 are methyl groups or trifluoromethyl groups.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 식 (4)로 나타내어지는 구성 단위는 식 (4'):In one preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by formula (4) is represented by formula (4 '):

Figure pat00010
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로 나타내어지는 구성 단위이고, 즉, 복수의 X의 적어도 일부는, 식 (4')로 나타내어지는 구성 단위이다. 이 경우, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 용매에의 용해성을 높이고, 당해 수지를 함유하는 바니시의 보관 안정성을 향상하기 쉬움과 함께, 당해 바니시의 점도를 저감하기 쉽고, 광학 필름의 가공성을 향상하기 쉽다. 또, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해, 광학 필름의 광학 특성을 향상하기 쉽다.It is a structural unit represented by, ie, at least a part of the some X is a structural unit represented by Formula (4 '). In this case, the solubility of the polyimide-based resin or the polyamide-based resin in the solvent is increased by the skeleton containing the fluorine element, the storage stability of the varnish containing the resin is easy to improve, and the viscosity of the varnish is reduced. It is easy to do, and it is easy to improve the processability of an optical film. Moreover, it is easy to improve the optical properties of an optical film by the skeleton containing a fluorine element.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 상기 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지 중의 X의, 바람직하게는 30 몰% 이상, 보다 바람직하게는 50 몰% 이상, 더 바람직하게는 70 몰% 이상이 식 (4), 특히 식 (4')로 나타내어진다. 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지에 있어서의 상기 범위 내의 X가 식 (4), 특히 식 (4')로 나타내어지면, 얻어지는 광학 필름은, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 수지의 용매에의 용해성을 높이고, 당해 수지를 함유하는 바니시의 보관 안정성을 향상하기 쉬움과 함께, 당해 바니시의 점도를 저감하기 쉽고, 광학 필름의 가공성을 향상하기 쉽다. 또, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해, 광학 필름의 광학 특성도 향상하기 쉽다. 또한, 바람직하게는, 상기 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지 중의 X의 100 몰% 이하가 식 (4), 특히 식 (4')로 나타내어진다. 상기 폴리아미드이미드 수지 중의 X는 식 (4), 특히 식 (4')여도 된다. 상기 수지 중의 X의 식 (4)로 나타내어지는 구성 단위의 비율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, X in the polyimide-based resin or polyamide-based resin is preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, and even more preferably 70 mol% or more. It is represented by Formula (4), especially Formula (4 '). When X in the said range in a polyimide-type resin or a polyamide-type resin is represented by Formula (4), especially Formula (4 '), the obtained optical film is transferred to the solvent of a resin by the skeleton containing a fluorine element. It is easy to improve solubility and to improve the storage stability of the varnish containing the resin, and it is easy to reduce the viscosity of the varnish, and it is easy to improve the processability of the optical film. Moreover, the optical properties of the optical film are also easily improved by the skeleton containing the fluorine element. Moreover, preferably, 100 mol% or less of X in the said polyimide-type resin or polyamide-type resin is represented by Formula (4), especially Formula (4 '). X in the said polyamideimide resin may be Formula (4), especially Formula (4 '). The ratio of the structural unit represented by the formula (4) of X in the resin can be measured, for example, using 1 H-NMR, or can be calculated from the introduction ratio of the raw material.

식 (1)에 있어서, Y는 4가의 유기기를 나타내고, 바람직하게는 탄소수 4∼40의 4가의 유기기를 나타내고, 보다 바람직하게는 환상 구조를 갖는 탄소수 4∼40의 4가의 유기기를 나타낸다. 환상 구조로서는 지환, 방향환, 헤테로환 구조를 들 수 있다. 상기 유기기는, 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되는 유기기이고, 그 경우, 탄화수소기 및 불소 치환된 탄화수소기의 탄소수는 바람직하게는 1∼8이다. 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드계 수지는, 복수 종의 Y를 포함할 수 있고, 복수 종의 Y는 서로 동일해도 되고 달라도 된다. Y로서는 이하의 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 및 식 (29)로 나타내어지는 기; 그들 식 (20)∼식 (29)로 나타내어지는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기에 의해 치환된 기; 및 4가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다.In Formula (1), Y represents a tetravalent organic group, preferably a tetravalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, more preferably a tetravalent organic group having 4 to 40 carbon atoms having a cyclic structure. Examples of the cyclic structure include alicyclic, aromatic, and heterocyclic structures. The organic group is an organic group in which the hydrogen atom in the organic group may be substituted by a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, and in this case, the carbon number of the hydrocarbon group and the fluorine-substituted hydrocarbon group is preferably 1 to 8. In one embodiment of the present invention, the polyimide-based resin may contain a plurality of types of Y, and the plurality of types of Y may be the same or different from each other. As Y, the following formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) and formula Group represented by (29); A group in which hydrogen atoms in the groups represented by the formulas (20) to (29) are substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; And a tetravalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms.

Figure pat00011
Figure pat00011

식 (20)∼식 (29) 중,In the formulas (20) to (29),

*은 결합손을 나타내고,* Represents a bonding hand,

W1은 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -Ar-, -SO2-, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH2-Ar-, -Ar-C(CH3)2-Ar- 또는 -Ar-SO2-Ar-를 나타낸다. Ar은, 수소 원자가 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 6∼20의 아릴렌기를 나타내고, 구체예로서는 페닐렌기를 들 수 있다.W 1 is a single bond, -O-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2 -,- Ar-, -SO 2- , -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH 2 -Ar-, -Ar-C (CH 3 ) 2 -Ar- or -Ar-SO 2 -Ar-. Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms in which the hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom, and specific examples thereof include a phenylene group.

식 (20)∼식 (29)로 나타내어지는 기 중에서도, 광학 필름의 표면 경도 및 내굴곡성의 관점에서, 식 (26), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타내어지는 기가 바람직하고, 식 (26)으로 나타내어지는 기가 보다 바람직하다. 또, W1은, 광학 필름의 표면 경도 및 내굴곡성을 높이기 쉽고, 황색도를 저감하기 쉽다는 관점에서, 서로 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2- 또는 -C(CF3)2-인 것이 바람직하고, 단결합, -O-, -CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2- 또는 -C(CF3)2-인 것이 보다 바람직하고, 단결합, -C(CH3)2- 또는 -C(CF3)2-인 것이 더 바람직하다.Among the groups represented by formulas (20) to (29), from the viewpoint of surface hardness and flexural resistance of the optical film, groups represented by formulas (26), (28), or (29) are preferred, and formula ( The group represented by 26) is more preferable. In addition, W 1 is independent of each other, from the viewpoint of easy to increase the surface hardness and bending resistance of the optical film and to reduce the yellowness, single bond, -O-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2 It is preferable that-, -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2 -or -C (CF 3 ) 2- , single bond, -O-, -CH 2- , -CH (CH 3 ) -, -C (CH 3) 2 - or -C (CF 3) 2 - is more preferable, and a single bond, -C (CH 3) 2 - or -C (CF 3) 2 - which is more preferably .

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 식 (1) 중의 복수의 Y의 적어도 일부는, 식 (5):In a preferred embodiment of the present invention, at least a portion of the plurality of Y in the formula (1), formula (5):

Figure pat00012
Figure pat00012

[식 (5) 중, R18∼R25는, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타내고, R18∼R25에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고,[In the formula (5), R 18 to R 25 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and R 18 to R 25 The hydrogen atoms contained in may be independently substituted with halogen atoms,

*은 결합손을 나타낸다]* Represents a bonding hand]

로 나타내어지는 구성 단위이다. 식 (1) 중의 복수의 Y의 적어도 일부가 식 (5)로 나타내어지는 기이면, 폴리이미드계 수지의 용매에의 용해성을 높이고, 폴리이미드계 수지를 함유하는 바니시의 점도를 저감하기 쉽고, 광학 필름의 가공성을 향상하기 쉽다. 또, 광학 필름의 광학 특성을 향상하기 쉽다.It is a structural unit represented by. If at least a part of the plurality of Ys in the formula (1) is a group represented by the formula (5), the solubility of the polyimide-based resin in a solvent is increased, and the viscosity of the varnish containing the polyimide-based resin is easy to reduce, and is optical It is easy to improve the processability of the film. Moreover, it is easy to improve the optical properties of the optical film.

식 (5)에 있어서, R18, R19, R20, R21, R22, R23, R24, R25는, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기로서는, 식 (3)에 있어서의 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기로서 상기에 예시한 것을 들 수 있다. R18∼R25는, 서로 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼3의 알킬기를 나타내고, 여기에서, R18∼R25에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. 할로겐 원자로서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다. R18∼R25는, 서로 독립적으로, 광학 필름의 표면 경도, 내굴곡성 및 투명성을 향상하기 쉽다는 관점에서, 더 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이고, 보다 더 바람직하게는 R18, R19, R20, R23, R24, 및 R25가 수소 원자, R21 및 R22가 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이고, 특히 바람직하게는 R21 및 R22가 메틸기 또는 트리플루오로메틸기이다.In Formula (5), R 18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , R 25 are, independently of each other, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, 1 to 6 carbon atoms Represents an alkoxy group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. As the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms, the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms in the formula (3), the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or the carbon number 6 to 12 What was illustrated above is mentioned as an aryl group of. R 18 to R 25 independently of each other preferably represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, wherein R 18 to R 25 The hydrogen atoms contained in may be substituted with halogen atoms independently of each other. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. R 18 to R 25 are, independently of each other, more preferably a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoromethyl group from the viewpoint of easy to improve the surface hardness, bending resistance, and transparency of the optical film. , More preferably R 18 , R 19 , R 20 , R 23 , R 24 , and R 25 are hydrogen atoms, R 21 and R 22 are hydrogen atoms, methyl groups, fluoro groups, chloro groups or trifluoromethyl groups And particularly preferably, R 21 and R 22 are a methyl group or a trifluoromethyl group.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서는, 식 (5)로 나타내어지는 구성 단위는, 식 (5'):In one preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by formula (5) is represented by formula (5 '):

Figure pat00013
Figure pat00013

로 나타내어지는 기이고, 즉, 복수의 Y의 적어도 일부는, 식 (5')로 나타내어지는 구성 단위이다. 이 경우, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 폴리이미드계 수지의 용매에의 용해성을 높이고, 당해 수지를 함유하는 바니시의 보관 안정성을 향상하기 쉬움과 함께, 당해 바니시의 점도를 저감하기 쉽고, 광학 필름의 가공성을 향상하기 쉽다. 또, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해, 광학 필름의 광학 특성을 향상하기 쉽다.It is a group represented by, ie, at least a part of the plurality of Y is a structural unit represented by formula (5 '). In this case, the solubility of the polyimide-based resin in the solvent is improved by the skeleton containing the fluorine element, the storage stability of the varnish containing the resin is easy to improve, and the viscosity of the varnish is easily reduced, and the optical film It is easy to improve the processability. Moreover, it is easy to improve the optical properties of an optical film by the skeleton containing a fluorine element.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드계 수지 중의 Y의, 바람직하게는 50 몰% 이상, 보다 바람직하게는 60 몰% 이상, 더 바람직하게는 70 몰% 이상이, 식 (5), 특히 식 (5')로 나타내어진다. 폴리이미드계 수지에 있어서의 상기 범위 내의 Y가 식 (5), 특히 식 (5')로 나타내어지면, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 폴리이미드계 수지의 용매에의 용해성을 높이고, 당해 수지를 함유하는 바니시의 점도를 저감하기 쉽고, 광학 필름의 가공성을 향상하기 쉽다. 또, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해, 광학 필름의 광학 특성을 향상하기 쉽다. 또한, 바람직하게는, 상기 폴리이미드계 수지 중의 Y의 100 몰% 이하가 식 (5), 특히 식 (5')로 나타내어진다. 폴리이미드계 수지 중의 Y는 식 (5), 특히 식 (5')여도 된다. 폴리이미드계 수지 중의 Y의 식 (5)로 나타내어지는 구성 단위의 비율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, Y in the polyimide-based resin, preferably 50 mol% or more, more preferably 60 mol% or more, and even more preferably 70 mol% or more, formula (5), In particular, it is represented by formula (5 '). When Y in the above range in the polyimide-based resin is represented by formula (5), particularly formula (5 '), the solubility of the polyimide-based resin in the solvent is enhanced by the skeleton containing the fluorine element, and the resin is It is easy to reduce the viscosity of the varnish to be contained, and it is easy to improve the processability of the optical film. Moreover, it is easy to improve the optical properties of an optical film by the skeleton containing a fluorine element. Moreover, preferably, 100 mol% or less of Y in the said polyimide resin is represented by Formula (5), especially Formula (5 '). Y in the polyimide-based resin may be formula (5), particularly formula (5 '). The ratio of the structural unit represented by the formula (5) of Y in the polyimide-based resin can be measured, for example, using 1 H-NMR, or can be calculated from the introduction ratio of the raw material.

폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지는, 식 (1) 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위 외에, 식 (30)으로 나타내어지는 구성 단위 및/또는 식 (31)로 나타내어지는 구성 단위를 포함할 수 있다.The polyimide-based resin or polyamide-based resin includes, in addition to the structural units represented by formulas (1) and (2), structural units represented by formula (30) and / or structural units represented by formula (31) can do.

Figure pat00014
Figure pat00014

식 (30)에 있어서, Y1은 4가의 유기기이고, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되는 유기기이다. Y1로서는 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 및 식 (29)로 나타내어지는 기, 그들 식 (20)∼식 (29)로 나타내어지는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기에 의해 치환된 기, 및 4가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다. 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지는, 복수 종의 Y1을 포함할 수 있고, 복수 종의 Y1은 서로 동일해도 되고 달라도 된다.In formula (30), Y 1 is a tetravalent organic group, and preferably an hydrogen group in the organic group may be substituted by a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. As Y 1, formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) and formula ( Group represented by 29), a group in which hydrogen atoms in the groups represented by formulas (20) to (29) are substituted by a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, and a tetravalent carbon number of 6 or less Chain hydrocarbon groups are exemplified. In one embodiment of the present invention, a polyimide resin or a polyamide-based resin may include a plurality of types of Y 1, Y 1 of a plurality of kinds it is mutually be the same or different.

식 (31)에 있어서, Y2는 3가의 유기기이고, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되는 유기기이다. Y2로서는 상기의 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 및 식 (29)로 나타내어지는 기의 결합손 중 어느 하나가 수소 원자로 치환된 기, 및 3가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다. 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지는, 복수 종의 Y2를 포함할 수 있고, 복수 종의 Y2는 서로 동일해도 되고 달라도 된다.In the formula (31), Y 2 is a trivalent organic group, and preferably a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. As Y 2, the above formulas (20), (21), (22), (23), (24), (25), (26), (27), (28) and A group in which any one of the bonding hands of the group represented by formula (29) is substituted with a hydrogen atom, and a trivalent carbon group having 6 or less chain hydrocarbon groups are exemplified. In one embodiment of the present invention, a polyimide resin or a polyamide-based resin may include a plurality of types of Y 2, Y 2 is a plurality of types may be the same or different from each other.

식 (30) 및 식 (31)에 있어서, X1 및 X2는, 서로 독립적으로, 2가의 유기기이고, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되는 유기기이다. X1 및 X2로서는 상기의 식 (10), 식 (11), 식 (12), 식 (13), 식 (14), 식 (15), 식 (16), 식 (17), 및 식 (18)로 나타내어지는 기; 그들 식 (10)∼식 (18)로 나타내어지는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기에 의해 치환된 기; 및 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다.In Formulas (30) and (31), X 1 and X 2 are, independently of each other, a divalent organic group, and preferably the hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. It is an organic group. As X 1 and X 2, the above formula (10), formula (11), formula (12), formula (13), formula (14), formula (15), formula (16), formula (17), and formula Group represented by (18); A group in which hydrogen atoms in the groups represented by the formulas (10) to (18) are substituted by a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; And chain hydrocarbon groups having 6 or less carbon atoms.

본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지는, 식 (1) 및/또는 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위, 및 경우에 따라 식 (30) 및/또는 식 (31)로 나타내어지는 구성 단위로 이루어진다. 또, 광학 필름의 광학 특성, 표면 경도 및 내굴곡성의 관점에서, 상기 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지에 있어서, 식 (1) 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위는, 식 (1) 및 식 (2), 및 경우에 따라 식 (30) 및 식 (31)로 나타내어지는 전체 구성 단위에 기초하여, 바람직하게는 80 몰% 이상, 보다 바람직하게는 90 몰% 이상, 더 바람직하게는 95 몰% 이상이다. 또한, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지에 있어서, 식 (1) 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위는, 식 (1) 및 식 (2), 및 경우에 따라 식 (30) 및/또는 식 (31)로 나타내어지는 전체 구성 단위에 기초하여, 통상 100몰% 이하이다. 또한, 상기 비율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In one embodiment of the present invention, the polyimide-based resin or polyamide-based resin is a structural unit represented by formulas (1) and / or formula (2), and, optionally, formulas (30) and / or formulas ( 31). Moreover, from the viewpoint of the optical properties, surface hardness and bending resistance of the optical film, in the polyimide-based resin or polyamide-based resin, the structural units represented by formulas (1) and (2) are represented by formula (1) And based on the total structural units represented by formula (2), and optionally formula (30) and formula (31), preferably 80 mol% or more, more preferably 90 mol% or more, and more preferably It is 95 mol% or more. In addition, in the polyimide-based resin or polyamide-based resin, the structural units represented by the formulas (1) and (2) are represented by the formulas (1) and (2), and, optionally, the formulas (30) and / or Or based on the whole structural unit represented by Formula (31), it is 100 mol% or less normally. In addition, the said ratio can be measured using 1 H-NMR, for example, or can be calculated from the introduction ratio of a raw material.

폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 중량평균 분자량(Mw)은, 표준 폴리스티렌 환산으로, 23만 이상이다. 중량평균 분자량이 23만보다 낮은 경우, 광학 필름의 충분한 내굴곡성을 얻을 수 없다. 광학 필름의 표면 경도 및 내굴곡성을 높이기 쉽다는 관점에서, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 중량평균 분자량은, 바람직하게는 230,000 이상, 보다 바람직하게는 250,000 이상, 더 바람직하게는 270,000 이상, 특히 바람직하게는 300,000 이상이다. 또, 폴리아미드계 수지 또는 폴리이미드계 수지의 용매에 대한 용해성을 향상하기 쉬움과 함께, 광학 필름의 연신성 및 가공성을 향상하기 쉽다는 관점에서, 당해 수지의 중량평균 분자량은, 바람직하게는 1,000,000 이하, 보다 바람직하게는 800,000 이하, 더 바람직하게는 700,000 이하, 특히 바람직하게는 500,000 이하이다. 중량평균 분자량은, 예를 들면, GPC 측정을 행하여, 표준 폴리스티렌 환산에 의해서 구할 수 있고, 예를 들면, 실시예에 기재된 방법에 의해 산출해도 된다.The weight average molecular weight (Mw) of the polyimide-based resin or polyamide-based resin is 230,000 or more in terms of standard polystyrene. When the weight average molecular weight is lower than 230,000, sufficient bending resistance of the optical film cannot be obtained. From the viewpoint of easy to increase the surface hardness and bending resistance of the optical film, the weight average molecular weight of the polyimide-based resin or polyamide-based resin is preferably 230,000 or more, more preferably 250,000 or more, further preferably 270,000 or more, Especially preferably, it is 300,000 or more. In addition, from the viewpoint of easy to improve the solubility of the polyamide-based resin or polyimide-based resin in a solvent, and to improve the stretchability and processability of the optical film, the weight average molecular weight of the resin is preferably 1,000,000 Below, more preferably 800,000 or less, more preferably 700,000 or less, particularly preferably 500,000 or less. The weight average molecular weight can be obtained by, for example, GPC measurement and by standard polystyrene conversion, for example, by the method described in Examples.

폴리아미드이미드 수지에 있어서, 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 함유량은, 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위 1 몰에 대하여, 바람직하게는 0.1 몰 이상, 보다 바람직하게는 0.5 몰 이상, 더 바람직하게는 1.0 몰 이상, 특히 바람직하게는 1.5 몰 이상이고, 바람직하게는 6.0 몰 이하, 보다 바람직하게는 5.0 몰 이하, 더 바람직하게는 4.5 몰 이하이다. 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 함유량이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름의 표면 경도를 높이기 쉽다. 또, 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 함유량이 상기의 상한 이하이면, 식 (2) 중의 아미드 결합간의 수소 결합에 의한 증점(增粘)을 억제하고, 광학 필름의 가공성을 향상시키기 쉽다.In the polyamideimide resin, the content of the structural unit represented by the formula (2) is preferably 0.1 mol or more, more preferably 0.5 mol or more, and more preferably 1 mol of the structural unit represented by the formula (1). Preferably it is 1.0 mol or more, Especially preferably, it is 1.5 mol or more, Preferably it is 6.0 mol or less, More preferably, it is 5.0 mol or less, More preferably, it is 4.5 mol or less. When content of the structural unit represented by Formula (2) is more than the said lower limit, it is easy to raise the surface hardness of an optical film. Moreover, when content of the structural unit represented by Formula (2) is below the said upper limit, it is easy to suppress the thickening by hydrogen bonding between amide bonds in Formula (2), and to improve the workability of an optical film.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 본 발명의 광학 필름에 포함되는 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지는, 예를 들면, 상기의 함불소 치환기 등에 의해서 도입할 수 있는, 불소 원자 등의 할로겐 원자를 포함해도 된다. 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지가 할로겐 원자를 포함하는 경우, 광학 필름의 탄성률을 향상시키고, 또한 황색도(YI값)를 저감시키기 쉽다. 광학 필름의 탄성률이 높으면, 당해 필름에 있어서의 흠집 및 주름 등의 발생을 억제하기 쉽고, 또한, 광학 필름의 황색도가 낮으면, 당해 필름의 투명성 및 시인성을 향상시키기 쉬워진다. 할로겐 원자는, 바람직하게는 불소 원자이다. 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지에 불소 원자를 함유시키기 위하여 바람직한 함불소 치환기로서는, 예를 들면, 플루오로기 및 트리플루오로메틸기를 들 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the polyimide-based resin or polyamide-based resin contained in the optical film of the present invention can be introduced by, for example, a fluorine-containing substituent or the like, a halogen such as a fluorine atom. It may contain an atom. When the polyimide-based resin or the polyamide-based resin contains a halogen atom, it is easy to improve the elastic modulus of the optical film and reduce the yellowness (YI value). When the elastic modulus of the optical film is high, it is easy to suppress the occurrence of scratches and wrinkles in the film, and when the yellowness of the optical film is low, it becomes easy to improve the transparency and visibility of the film. The halogen atom is preferably a fluorine atom. As a preferable fluorine-containing substituent in order to contain a fluorine atom in a polyimide resin or a polyamide resin, a fluoro group and a trifluoromethyl group are mentioned, for example.

폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지에 있어서의 할로겐 원자의 함유량은, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 질량을 기준으로 하여, 바람직하게는 1∼40 질량%, 보다 바람직하게는 5∼40 질량%, 더 바람직하게는 5∼30 질량%이다. 할로겐 원자의 함유량이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름의 탄성률을 보다 향상시키고, 흡수율을 낮추고, 황색도를 보다 저감하고, 투명성 및 시인성을 보다 향상시키기 쉽다. 할로겐 원자의 함유량이 상기의 상한 이하이면, 합성하기 쉬워진다.The content of the halogen atom in the polyimide resin or polyamide resin is preferably 1 to 40 mass%, more preferably 5 to 40 mass%, based on the mass of the polyimide resin or polyamide resin. It is mass%, More preferably, it is 5-30 mass%. When the content of the halogen atom is greater than or equal to the above lower limit, the elastic modulus of the optical film is further improved, the absorption rate is lowered, the yellowness is further reduced, and transparency and visibility are more easily improved. When the content of the halogen atom is less than or equal to the above upper limit, it becomes easy to synthesize.

폴리이미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지의 이미드화율은, 바람직하게는 90 % 이상, 보다 바람직하게는 93 % 이상, 더 바람직하게는 96 % 이상이다. 광학 필름의 광학적 균질성을 높이기 쉽다는 관점에서, 이미드화율이 상기의 하한 이상인 것이 바람직하다. 또, 이미드화율의 상한은 100% 이하이다. 이미드화율은, 폴리이미드 수지 또는 폴리아미드이미드 수지 중의 테트라카르본산 화합물에 유래하는 구성 단위의 몰량의 2배의 값에 대한, 폴리이미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지 중의 이미드 결합의 몰량의 비율을 나타낸다. 또한, 폴리이미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지가 트리카르본산 화합물을 포함하는 경우에는, 폴리이미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지 중의 테트라카르본산 화합물에 유래하는 구성 단위의 몰량의 2배의 값과, 트리카르본산 화합물에 유래하는 구성 단위의 몰량의 합계에 대한, 폴리이미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지 중의 이미드 결합의 몰량의 비율을 나타낸다. 또, 이미드화율은 IR법, NMR법 등에 의해 구할 수 있고, 예를 들면, NMR법에 있어서는, 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.The imidation ratio of the polyimide resin and the polyamideimide resin is preferably 90% or more, more preferably 93% or more, and even more preferably 96% or more. From the viewpoint of easy to increase the optical homogeneity of the optical film, it is preferable that the imidation ratio is more than the above lower limit. Moreover, the upper limit of the imidation rate is 100% or less. The imidation ratio is the ratio of the molar amount of imide bonds in the polyimide resin and the polyamideimide resin to the value twice the molar amount of the structural unit derived from the tetracarboxylic acid compound in the polyimide resin or polyamideimide resin. Shows. Moreover, when a polyimide resin and a polyamideimide resin contain a tricarboxylic acid compound, the value of 2 times the molar amount of the structural unit derived from the tetracarboxylic acid compound in a polyimide resin and a polyamideimide resin, and tricar The ratio of the molar amount of imide bonds in the polyimide resin and the polyamideimide resin to the sum of the molar amounts of the structural units derived from the present acid compound is shown. Moreover, the imidation rate can be calculated | required by IR method, NMR method, etc., For example, in NMR method, it can measure by the method described in an Example.

폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지는, 시판품을 사용해도 된다. 폴리이미드 수지의 시판품으로서는, 예를 들면, 미츠비시가스화학(주) 제 네오푸림(등록상표), 가와무라산업(주) 제 KPI-MX300F 등을 들 수 있다.As the polyimide-based resin and the polyamide-based resin, commercial products may be used. As a commercial item of a polyimide resin, Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. Neopurim (trademark), Kawamura Industries Co., Ltd. KPI-MX300F etc. are mentioned, for example.

< 수지의 제조 방법 ><Resin production method>

폴리이미드 수지는, 예를 들면, 테트라카르본산 화합물 및 디아민 화합물을 주된 원료로 하여 제조할 수 있고, 폴리아미드이미드 수지는, 예를 들면, 테트라카르본산 화합물, 디카르본산 화합물 및 디아민 화합물을 주된 원료로 하여 제조할 수 있고, 폴리아미드 수지는, 예를 들면, 디카르본산 화합물 및 디아민 화합물을 주된 원료로 하여 제조할 수 있다. 여기에서, 디카르본산 화합물은 적어도 식 (3")로 나타내어지는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.The polyimide resin can be produced using, for example, a tetracarboxylic acid compound and a diamine compound as main raw materials, and the polyamideimide resin is mainly composed of, for example, a tetracarboxylic acid compound, a dicarboxylic acid compound, and a diamine compound. It can be produced as a raw material, and the polyamide resin can be produced using, for example, a dicarboxylic acid compound and a diamine compound as main raw materials. Here, it is preferable that the dicarboxylic acid compound contains at least a compound represented by formula (3 ").

Figure pat00015
Figure pat00015

[식 (3") 중, R1∼R8은, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타내고, R1∼R8에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고,In the formula (3 "), R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and R 1 to The hydrogen atoms contained in R 8 may be each independently substituted with a halogen atom,

A는 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -N(R9)-를 나타내고,A is a single bond, -O-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2 represents- , -S-, -CO- or -N (R 9 )-,

R9는 수소 원자, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1∼12의 1가의 탄화수소기를 나타내고,R 9 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom,

m은 0∼4의 정수이고,m is an integer from 0 to 4,

R31 및 R32는, 서로 독립적으로, 히드록실기, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기 또는 염소 원자를 나타낸다.]R 31 and R 32 are, independently of each other, a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, a sec-butoxy group, a tert-butoxy group or a chlorine atom. Shows.]

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 디카르본산 화합물은, m이 0인, 식 (3")로 나타내어지는 화합물이다. 디카르본산 화합물로서, m이 0인 식 (3")로 나타내어지는 화합물에 추가하여, A가 산소 원자인 식 (3")로 나타내어지는 화합물을 사용하는 것이 보다 바람직하다. 또, 다른 바람직한 일 실시 형태에 있어서는, 디카르본산 화합물은, R31, R32가 염소 원자인, 식 (3")로 나타내어지는 화합물이다. 또, 디아민 화합물 대신에, 디이소시아네이트 화합물을 이용해도 된다.In one preferred embodiment of the present invention, the dicarboxylic acid compound is a compound represented by formula (3 ") in which m is 0. As a dicarboxylic acid compound, m is represented by formula (3") in which 0 is In addition to the compound, it is more preferable to use a compound represented by formula (3 ") in which A is an oxygen atom. In another preferred embodiment, in the dicarboxylic acid compound, R 31 and R 32 are chlorine It is an atom, and it is a compound represented by Formula (3 "). Moreover, you may use the diisocyanate compound instead of the diamine compound.

수지의 제조에 사용되는 디아민 화합물로서는, 예를 들면, 지방족 디아민, 방향족 디아민 및 이들의 혼합물을 들 수 있다. 또한, 본 실시형태에 있어서 「방향족 디아민」이란, 아미노기가 방향환에 직접 결합해 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 지방족 기 또는 기타의 치환기를 포함하고 있어도 된다. 이 방향환은 단환이어도 되고 축합환이어도 되며, 벤젠환, 나프탈렌환, 안트라센환 및 플루오렌환 등이 예시되지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 이들 중에서도, 바람직하게는 벤젠환이다. 또, 「지방족 디아민」이란, 아미노기가 지방족 기에 직접 결합해 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 방향환이나 기타의 치환기를 포함하고 있어도 된다.As a diamine compound used for manufacture of resin, aliphatic diamine, aromatic diamine, and mixtures thereof are mentioned, for example. In addition, in this embodiment, "aromatic diamine" refers to the diamine in which the amino group is directly bonded to the aromatic ring, and may contain an aliphatic group or other substituents in a part of the structure. The aromatic ring may be a monocyclic ring or a condensed ring, and examples thereof include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, and a fluorene ring, but are not limited thereto. Among these, it is preferably a benzene ring. Moreover, "aliphatic diamine" refers to a diamine in which the amino group is directly bonded to an aliphatic group, and an aromatic ring or other substituent may be included in a part of the structure.

지방족 디아민으로서는 예를 들면, 헥사메틸렌디아민 등의 비환식 지방족 디아민, 및 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산, 1,4-비스(아미노메틸)시클로헥산, 노르보르난디아민 및 4,4'-디아미노디시클로헥실메탄 등의 환식 지방족 디아민 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.Examples of the aliphatic diamine include acyclic aliphatic diamines such as hexamethylenediamine, and 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, norbornanediamine, and 4,4. And cyclic aliphatic diamines such as' -diaminodicyclohexylmethane. These may be used alone or in combination of two or more.

방향족 디아민으로서는 예를 들면, p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, 2,4-톨루엔디아민, m-크실릴렌디아민, p-크실릴렌디아민, 1,5-디아미노나프탈렌, 2,6-디아미노나프탈렌 등의, 방향환을 1개 갖는 방향족 디아민, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB라고 기재하는 경우가 있음), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-메틸페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-클로로페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-플루오로페닐)플루오렌 등의, 방향환을 2개 이상 갖는 방향족 디아민을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Examples of aromatic diamines include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene, 2, Aromatic diamine having one aromatic ring such as 6-diaminonaphthalene, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-dia Minodiphenylsulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [ 4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane , 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (sometimes referred to as TFMB), 4,4'-bis (4- Ah Nophenoxy) biphenyl, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3- And aromatic diamines having two or more aromatic rings, such as chlorophenyl) fluorene and 9,9-bis (4-amino-3-fluorophenyl) fluorene. These may be used alone or in combination of two or more.

방향족 디아민은 바람직하게는 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐이고, 보다 바람직하게는 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐이다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The aromatic diamine is preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone , Bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) Phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (TFMB), 4,4'-bis (4-aminophenoxy ) Biphenyl, more preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodi Phenylsulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane , 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis Fluoromethyl) it is 4,4'-diaminodiphenyl (TFMB), 4,4'- bis (4-aminophenoxy) biphenyl. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 디아민 화합물 중에서도, 광학 필름의 고표면경도, 고투명성, 고유연성, 고굴곡내성 및 저착색성의 관점에서는, 비페닐 구조를 갖는 방향족 디아민으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 바람직하다. 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐 및 4,4'-디아미노디페닐에테르로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 보다 바람직하고, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB)을 이용하는 것이 보다 더 바람직하다.Among the above diamine compounds, it is preferable to use at least one selected from the group consisting of aromatic diamines having a biphenyl structure from the viewpoints of high surface hardness, high transparency, high flexibility, high bending resistance, and low colorability of the optical film. Consisting of 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl and 4,4'-diaminodiphenyl ether It is more preferable to use one or more selected from the group, and more preferably to use 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (TFMB).

수지의 제조에 이용되는 테트라카르본산 화합물로서는, 방향족 테트라카르본산 2 무수물 등의 방향족 테트라카르본산 화합물; 및 지방족 테트라카르본산 2 무수물 등의 지방족 테트라카르본산 화합물 등을 들 수 있다. 테트라카르본산 화합물은 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 된다. 테트라카르본산 화합물은, 2 무수물 외에, 산 클로라이드 화합물 등의 테트라카르본산 화합물 유연체(類緣體)여도 된다.Examples of the tetracarboxylic acid compound used in the production of the resin include aromatic tetracarboxylic acid compounds such as aromatic tetracarboxylic acid anhydride; And aliphatic tetracarboxylic acid compounds such as aliphatic tetracarboxylic acid anhydride. The tetracarboxylic acid compounds may be used alone or in combination of two or more. In addition to the anhydride, the tetracarboxylic acid compound may be a tetracarboxylic acid compound analog such as an acid chloride compound.

방향족 테트라카르본산 2 무수물의 구체예로서는, 비축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2 무수물, 단환식의 방향족 테트라카르본산 2 무수물 및 축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2 무수물을 들 수 있다. 비축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2 무수물로서는 예를 들면, 4,4'-옥시디프탈산 2 무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2 무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2 무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2 무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 2 무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 2 무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2 무수물(6FDA라고 기재하는 경우가 있음), 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 2 무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 2 무수물, 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 2 무수물, 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 2 무수물을 들 수 있다. 또, 단환식의 방향족 테트라카르본산 2 무수물로서는, 예를 들면, 1,2,4,5-벤젠테트라카르본산 2 무수물을 들 수 있고, 축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2 무수물로서는, 예를 들면, 2,3,6,7-나프탈렌테트라카르본산 2 무수물을 들 수 있다.Specific examples of the aromatic tetracarboxylic acid anhydride include non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic acid anhydride, monocyclic aromatic tetracarboxylic acid anhydride, and condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic acid anhydride. Examples of the non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic acid anhydride include 4,4'-oxydiphthalic acid 2 anhydride, 3,3 ', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid anhydride, 2,2', 3,3'-benzophenonetetracarboxylic acid anhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid 2 anhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic acid 2 anhydride, 3 , 3 ', 4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic acid anhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane 2 anhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) Propane 2 anhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane 2 anhydride, 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid 2 anhydride (sometimes referred to as 6FDA) , 1,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane 2 anhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane 2 anhydride, 1,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ) Ethane 2 anhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane 2 anhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane 2 anhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane 2 anhydride, 4,4 '-(p-phenylenedioxy) diphthalic acid 2 anhydride, and 4,4'-(m-phenylenedioxy) diphthalic acid 2 anhydride. . Moreover, as a monocyclic aromatic tetracarboxylic acid 2 anhydride, 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic acid 2 anhydride is mentioned, for example, As a condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic acid 2 anhydride, for example For example, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic acid 2 anhydride is mentioned.

이들 중에서도 바람직하게는 4,4'-옥시디프탈산 2 무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2 무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2 무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2 무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 2 무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 2 무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2 무수물(6FDA), 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 2 무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 2 무수물, 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 2 무수물 및 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 2 무수물을 들 수 있고, 보다 바람직하게는 4,4'-옥시디프탈산 2 무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2 무수물(6FDA), 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 2 무수물 및 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 2 무수물을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Among these, 4,4'-oxydiphthalic acid 2 anhydride, 3,3 ', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid 2 anhydride, 2,2', 3,3'-benzophenone tetracarboxylic acid 2 are preferred. Anhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid 2 Anhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic acid 2 anhydride, 3,3 ', 4,4'-diphenyl Sulfontetracarboxylic acid anhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane 2 anhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane 2 anhydride, 2,2-bis (3 , 4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane 2 anhydride, 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid 2 anhydride (6FDA), 1,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane 2 Anhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane 2 anhydride, 1,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane 2 anhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyl) Phenyl) ethane 2 anhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane 2 anhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane 2 anhydride, 4,4 '-(p-phenylenedioxy) diphthalic acid 2 Anhydride and 4,4 '-(m-phenylenedioxy) diphthalic acid 2 anhydride are mentioned, More preferably, 4,4'-oxydiphthalic acid 2 anhydride, 3,3', 4,4'-biphenyl Tetracarboxylic acid anhydride, 2,2 ', 3,3'-biphenyltetracarboxylic acid anhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid 2 anhydride (6FDA), bis (3,4 -Dicarboxyphenyl) methane 2 anhydride and 4,4 '-(p-phenylenedioxy) diphthalic acid 2 anhydride. These may be used alone or in combination of two or more.

지방족 테트라카르본산 2 무수물로서는, 환식 또는 비환식의 지방족 테트라카르본산 2 무수물을 들 수 있다. 환식 지방족 테트라카르본산 2 무수물이란, 지환식 탄화수소 구조를 갖는 테트라카르본산 2 무수물이고, 그 구체예로서는 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르본산 2 무수물, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르본산 2 무수물, 1,2,3,4-시클로펜탄테트라카르본산 2 무수물 등의 시클로알칸테트라카르본산 2 무수물, 비시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르본산 2 무수물, 디시클로헥실-3,3',4,4'-테트라카르본산 2 무수물 및 이들의 위치 이성체를 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 비환식 지방족 테트라카르본산 2 무수물의 구체예로서는 1,2,3,4-부탄테트라카르본산 2 무수물, 및 1,2,3,4-펜탄테트라카르본산 2 무수물 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 또, 환식 지방족 테트라카르본산 2 무수물 및 비환식 지방족 테트라카르본산 2 무수물을 조합하여 이용해도 된다.Examples of the aliphatic tetracarboxylic acid anhydride include cyclic or acyclic aliphatic tetracarboxylic acid anhydride. The cyclic aliphatic tetracarboxylic acid anhydride is tetracarboxylic acid anhydride having an alicyclic hydrocarbon structure, and specific examples thereof include 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic acid anhydride and 1,2,3,4-cyclo Cycloalkanetetracarboxylic acid anhydride, such as butanetetracarboxylic acid anhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic acid anhydride, bicyclo [2.2.2] oct-7-ene-2,3,5 , 6-tetracarboxylic acid anhydride, dicyclohexyl-3,3 ', 4,4'-tetracarboxylic acid anhydride, and positional isomers thereof. These may be used alone or in combination of two or more. Specific examples of the acyclic aliphatic tetracarboxylic acid anhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid anhydride, 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic acid anhydride, and the like. Or two or more types can be used in combination. Moreover, you may use combining cyclic aliphatic tetracarboxylic acid anhydride and acyclic aliphatic tetracarboxylic acid anhydride.

상기 테트라카르본산 2 무수물 중에서도, 광학 필름의 고표면경도, 고투명성, 고유연성, 고굴곡내성, 및 저착색성의 관점에서, 4,4'-옥시디프탈산 2 무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2 무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2 무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2 무수물, 및 이들의 혼합물이 바람직하고, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2 무수물 및 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2 무수물, 및 이들의 혼합물이 보다 바람직하고, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2 무수물(6FDA)이 더 바람직하다.Among the above tetracarboxylic acid anhydrides, 4,4'-oxydiphthalic acid 2 anhydride, 3,3 ', 4, from the viewpoint of high surface hardness, high transparency, high flexibility, high flexural resistance, and low colorability of the optical film. 4'-benzophenonetetracarboxylic acid anhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid 2 anhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic acid anhydride, 3,3 ', 4,4'-Diphenylsulfonetetracarboxylic acid 2 anhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane 2 anhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid 2 Anhydrides, and mixtures thereof are preferred, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid 2 anhydride and 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid 2 anhydride, and mixtures thereof More preferably, 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid 2 anhydride (6FDA) is more preferable.

수지의 제조에 이용되는 디카르본산 화합물로서는, 바람직하게는 테레프탈산, 4,4'-옥시비스안식향산 또는 그들의 산 클로라이드 화합물이 이용된다. 테레프탈산이나 4,4'-옥시비스안식향산 또는 그들의 산 클로라이드 화합물에 추가하여, 기타의 디카르본산 화합물이 이용되어도 된다. 기타의 디카르본산 화합물로서는 방향족 디카르본산, 지방족 디카르본산 및 그들의 유연의 산 클로라이드 화합물, 산 무수물 등을 들 수 있고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 된다. 구체예로서는 이소프탈산; 나프탈렌디카르본산; 4,4'-비페닐디카르본산; 3,3'-비페닐디카르본산; 탄소수 8 이하인 쇄식 탄화수소의 디카르본산 화합물 및 2개의 안식향산이 단결합, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 페닐렌기에 의해 연결된 화합물 및, 그들의 산 클로라이드 화합물을 들 수 있다. 구체예로서는 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드), 테레프탈로일클로라이드가 바람직하고, 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드)와 테레프탈로일클로라이드를 조합하여 이용하는 것이 더 바람직하다.As the dicarboxylic acid compound used in the production of the resin, terephthalic acid, 4,4'-oxybisbenzoic acid or an acid chloride compound thereof is preferably used. Other dicarboxylic acid compounds may be used in addition to terephthalic acid, 4,4'-oxybisbenzoic acid or their acid chloride compounds. Examples of other dicarboxylic acid compounds include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids, their flexible acid chloride compounds, and acid anhydrides, and may be used in combination of two or more kinds. Specific examples include isophthalic acid; Naphthalenedicarboxylic acid; 4,4'-biphenyldicarboxylic acid; 3,3'-biphenyldicarboxylic acid; The dicarboxylic acid compound of the chain hydrocarbon having 8 or less carbon atoms and two benzoic acid are single-bonded, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2 -or phenylene group Linked compounds and their acid chloride compounds. As a specific example, 4,4'-oxybis (benzoyl chloride) and terephthaloyl chloride are preferable, and 4,4'-oxybis (benzoyl chloride) and terephthaloyl chloride are more preferably used in combination.

또한, 상기 폴리이미드계 수지는, 광학 필름의 각종 물성을 손상하지 않는 범위에서, 상기 테트라카르본산 화합물에 추가하여, 테트라카르본산 및 트리카르본산 및 그들의 무수물 및 유도체를 추가로 반응시킨 것이어도 된다.Further, the polyimide-based resin may be obtained by further reacting tetracarboxylic acid and tricarboxylic acid and their anhydrides and derivatives in addition to the above tetracarboxylic acid compound in a range that does not impair various physical properties of the optical film. .

테트라카르본산으로서는, 상기 테트라카르본산 화합물의 무수물의 물 부가체를 들 수 있다.As a tetracarboxylic acid, the water adduct of the anhydride of the said tetracarboxylic acid compound is mentioned.

트리카르본산 화합물로서는 방향족 트리카르본산, 지방족 트리카르본산 및 그들의 유연의 산 클로라이드 화합물, 산 무수물 등을 들 수 있고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 된다. 구체예로서는 1,2,4-벤젠트리카르본산의 무수물; 2,3,6-나프탈렌트리카르본산-2,3-무수물; 프탈산 무수물과 안식향산이 단결합, -O-, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 페닐렌기에 의해 연결된 화합물을 들 수 있다.Examples of the tricarboxylic acid compound include aromatic tricarboxylic acid, aliphatic tricarboxylic acid, and their flexible acid chloride compounds and acid anhydrides, and may be used in combination of two or more. Specific examples include anhydride of 1,2,4-benzenetricarboxylic acid; 2,3,6-naphthalene tricarboxylic acid-2,3-anhydride; And a compound in which phthalic anhydride and benzoic acid are connected by a single bond, -O-, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2 -or a phenylene group. .

수지의 제조에 있어서, 디아민 화합물, 테트라카르본산 화합물 및/또는 디카르본산 화합물의 사용량은, 원하는 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지의 각 구성 단위의 비율에 따라서 적절히 선택할 수 있다.In the production of the resin, the amount of the diamine compound, the tetracarboxylic acid compound and / or the dicarboxylic acid compound used can be appropriately selected depending on the ratio of each structural unit of the desired polyimide-based resin and polyamide-based resin.

수지의 제조에 있어서, 디아민 화합물, 테트라카르본산 화합물 및 디카르본산 화합물의 반응 온도는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 20∼200℃, 바람직하게는 25∼100℃이다. 반응 시간도 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 30분∼10시간 정도이다. 필요에 따라서, 불활성 분위기 또는 감압의 조건 하에 있어서 반응을 행해도 된다. 바람직한 태양에서는, 반응은 상압(常壓) 및/또는 불활성 가스 분위기 하, 교반하면서 행한다. 또, 반응은, 반응에 불활성인 용매 중에서 행하는 것이 바람직하다. 용매로서는, 반응에 영향을 주지 않는 한 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 물, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알콜, 프로필렌글리콜, 에틸렌글리콜메틸에테르, 에틸렌글리콜부틸에테르, 1-메톡시-2-프로판올, 2-부톡시에탄올, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알코올계 용매; 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤, γ-발레로락톤, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 젖산 에틸 등의 에스테르계 용매; 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜탄온, 시클로헥산온, 2-헵탄온, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤계 용매; 펜탄, 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소 용매; 에틸시클로헥산 등의 지환식 탄화수소 용매; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소 용매; 아세토니트릴 등의 니트릴계 용매; 테트라히드로푸란 및 디메톡시에탄 등의 에테르계 용매; 클로로포름 및 클로로벤젠 등의 염소 함유 용매; N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸포름아미드 등의 아미드계 용매; 디메틸술폰, 디메틸술폭시드, 술포란 등의 함유황계 용매; 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등의 카보네이트계 용매; 및 그들의 조합(혼합 용매) 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 용해성의 관점에서 아미드계 용매를 적절하게 사용할 수 있다.In the production of the resin, the reaction temperature of the diamine compound, the tetracarboxylic acid compound and the dicarboxylic acid compound is not particularly limited, but is, for example, 20 to 200 ° C, preferably 25 to 100 ° C. Although the reaction time is not particularly limited, it is, for example, about 30 minutes to 10 hours. If necessary, the reaction may be performed under an inert atmosphere or a reduced pressure condition. In a preferred aspect, the reaction is carried out under stirring under normal pressure and / or inert gas atmosphere. Moreover, it is preferable to perform reaction in a solvent inert to reaction. The solvent is not particularly limited as long as it does not affect the reaction, but, for example, water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether, 1-methoxy- Alcohol-based solvents such as 2-propanol, 2-butoxyethanol, and propylene glycol monomethyl ether; Ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, propylene glycol methyl ether acetate and ethyl lactate; Ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone, and methyl isobutyl ketone; Aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane and heptane; Alicyclic hydrocarbon solvents such as ethylcyclohexane; Aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; Nitrile solvents such as acetonitrile; Ether-based solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane; Chlorine-containing solvents such as chloroform and chlorobenzene; Amide solvents such as N, N-dimethylacetamide and N, N-dimethylformamide; Sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide and sulfolane; Carbonate-based solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; And combinations thereof (mixed solvents). Among these, an amide solvent can be suitably used from the viewpoint of solubility.

폴리이미드계 수지의 제조에 있어서의 이미드화 공정에서는, 이미드화 촉매의 존재 하에서, 이미드화할 수 있다. 이미드화 촉매로서는 예를 들면, 트리프로필아민, 디부틸프로필아민, 에틸디부틸아민 등의 지방족 아민; N-에틸피페리딘, N-프로필피페리딘, N-부틸피롤리딘, N-부틸피페리딘, 및 N-프로필헥사히드로아제핀 등의 지환식 아민(단환식); 아자비시클로[2.2.1]헵탄, 아자비시클로[3.2.1]옥탄, 아자비시클로[2.2.2]옥탄, 및 아자비시클로[3.2.2]노난 등의 지환식 아민(다환식); 및 피리딘, 2-메틸피리딘(2-피콜린), 3-메틸피리딘(3-피콜린), 4-메틸피리딘(4-피콜린), 2-에틸피리딘, 3-에틸피리딘, 4-에틸피리딘, 2,4-디메틸피리딘, 2,4,6-트리메틸피리딘, 3,4-시클로펜테노피리딘, 5,6,7,8-테트라히드로이소퀴놀린, 및 이소퀴놀린 등의 방향족 아민을 들 수 있다. 또, 이미드화 반응을 촉진하기 쉽다는 관점에서, 이미드화 촉매와 함께, 산 무수물을 이용하는 것이 바람직하다. 산 무수물은, 이미드화 반응에 이용되는 관용의 산 무수물 등을 들 수 있고, 그 구체예로서는 무수 아세트산, 무수 프로피온산, 무수 부티르산 등의 지방족 산 무수물, 프탈산 등의 방향족 산 무수물 등을 들 수 있다.In the imidation step in the production of a polyimide-based resin, imidization can be performed in the presence of an imidization catalyst. Examples of the imidization catalyst include aliphatic amines such as tripropylamine, dibutylpropylamine and ethyldibutylamine; Alicyclic amines (monocyclic) such as N-ethylpiperidine, N-propylpiperidine, N-butylpyrrolidine, N-butylpiperidine, and N-propylhexahydroazepine; Alicyclic amines (polycyclic) such as azabicyclo [2.2.1] heptane, azabicyclo [3.2.1] octane, azabicyclo [2.2.2] octane, and azabicyclo [3.2.2] nonane; And pyridine, 2-methylpyridine (2-picoline), 3-methylpyridine (3-picoline), 4-methylpyridine (4-picoline), 2-ethylpyridine, 3-ethylpyridine, 4-ethylpyridine And aromatic amines such as 2,4-dimethylpyridine, 2,4,6-trimethylpyridine, 3,4-cyclopentenopyridine, 5,6,7,8-tetrahydroisoquinoline, and isoquinoline. . Moreover, it is preferable to use an acid anhydride with an imidation catalyst from a viewpoint that it is easy to accelerate an imidation reaction. Examples of the acid anhydride include conventional acid anhydrides used in the imidization reaction, and specific examples thereof include aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, and butyric anhydride, and aromatic acid anhydrides such as phthalic acid.

폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지는, 관용의 방법, 예를 들면, 여과, 농축, 추출, 정석(晶析), 재결정, 컬럼 크로마토그래피 등의 분리 수단이나, 이들을 조합한 분리 수단에 의해 단리(單離)(분리 정제)해도 되고, 바람직한 태양에서는, 투명 폴리아미드이미드 수지를 포함하는 반응액에, 다량의 메탄올 등의 알코올을 추가하고, 수지를 석출시키고, 농축, 여과, 건조 등을 행함으로써 단리할 수 있다.The polyimide-based resin and polyamide-based resin are isolated by conventional methods, for example, separation means such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography, or a separation means combining them. (I) (separated and purified) may be used, and in a preferred embodiment, a large amount of alcohol such as methanol is added to the reaction solution containing the transparent polyamideimide resin, and the resin is precipitated, followed by concentration, filtration, drying, and the like. By doing so, it can be isolated.

< 필러 ><Filler>

본 발명의 광학 필름은, 평균 일차입자경이 5∼35 ㎚인 필러를 포함한다. 평균 일차입자경이 5∼35 ㎚인 필러를 함유하는 본 발명의 광학 필름은, 투명성 및 광학적 균질성과, 높은 탄성률 및 강도를 겸비한 광학 필름이고, 플렉시블 표시 장치 등에 있어서 사용하기에 특히 적합하다. 필러의 평균 일차입자경이 5 ㎚보다 작은 경우, 필러의 입자가 응집되기 쉽기 때문에, 필러가 균일하게 분산된 광학 필름을 얻기가 어렵다. 그 결과, 광학 필름의 광학적 균질성 및 물리적 성질의 균질성이 손상되거나, 광학 필름의 투명성, 탄성률 및 강도가 저하되거나 하기 쉽다. 필러의 평균 일차입자경이 35 ㎚보다 큰 경우, 필러 자체가 갖는 광학 특성이 광학 필름의 광학 특성에 영향을 주어, 광학 필름의 투명성을 충분히 높일 수 없다. 광학 필름의 균질성, 투명성, 탄성률 및 강도를 높이기 쉽다는 관점에서는, 필러의 평균 일차입자경은, 바람직하게는 10 ㎚ 이상, 보다 바람직하게는 15 ㎚ 이상, 더 바람직하게는 20 ㎚ 이상이다. 또, 광학 필름의 투명성을 높이기 쉽다는 관점에서, 필러의 평균 일차입자경은, 바람직하게는 30 ㎚ 이하이다.The optical film of the present invention contains a filler having an average primary particle diameter of 5 to 35 nm. The optical film of the present invention containing a filler having an average primary particle diameter of 5 to 35 nm is an optical film having both transparency and optical homogeneity, high elastic modulus and strength, and is particularly suitable for use in flexible display devices and the like. When the average primary particle diameter of the filler is smaller than 5 nm, it is difficult to obtain an optical film in which the filler is uniformly dispersed because the particles of the filler are likely to aggregate. As a result, the optical homogeneity of the optical film and the homogeneity of the physical properties are impaired, and the transparency, elastic modulus, and strength of the optical film tend to decrease. When the average primary particle diameter of the filler is larger than 35 nm, the optical properties of the filler itself affect the optical properties of the optical film, and the transparency of the optical film cannot be sufficiently increased. From the viewpoint of easy to increase the homogeneity, transparency, modulus, and strength of the optical film, the average primary particle diameter of the filler is preferably 10 nm or more, more preferably 15 nm or more, and even more preferably 20 nm or more. In addition, from the viewpoint of easily increasing the transparency of the optical film, the average primary particle size of the filler is preferably 30 nm or less.

필러의 평균 일차입자경은 BET법에 의해 측정할 수 있다. 구체적으로는, BET법(질소 흡착 BET법)에 의해 측정한 비표면적(BET 비표면적)을, 평균 일차입자경으로 환산하여 산출할 수 있다. 여기에서, 평균 일차입자경을 d(㎚)라고 하고, 필러의 밀도를 ρ(g/㎤)라고 하고, BET 비표면적을 S(㎡/g)라고 하면, 이들 사이에는 d=6000/(S×ρ)의 관계가 성립된다. 예를 들면, 필러가 실리카인 경우, d=2070/S의 식으로부터, BET 비표면적으로부터 평균 일차입자경을 산출할 수 있다. 또한, 투과형 전자현미경(TEM)이나 주사형 전자현미경(SEM)의 화상 해석에 의해, 일차입자경(평균 일차입자경)을 측정해도 된다. 광학 필름에 포함되는 필러의 평균 일차입자경은, 원료로서 이용하는 필러의 평균 일차입자경이어도 되고, 광학 필름으로부터 측정한 평균 일차입자경이어도 된다. 광학 필름으로부터 필러의 평균 일차입자경을 측정하는 경우, 필름을 측정 시료로 하여 투과형 전자현미경이나 주사형 전자현미경의 화상 해석에 의해, 광학 필름 중의 필러의 평균 일차입자경을 측정해도 되고, 필름을 필요에 따라서 분쇄하고, 파쇄한 필름을, 필름 중의 수지를 용해가능한 용매(예를 들면, γ-부티로락톤)에 용해시킨 상태에서, 분산된 입자를 투과형 전자현미경(TEM) 또는 주사형 전자현미경(SEM)으로 관찰하여 측정해도 되고, 필름으로부터 필러를 취출하고, 건조시켜, 상기와 마찬가지로 하여 BET 비표면적으로부터 평균 일차입자경을 산출해도 된다. 평균 일차입자경을, 예를 들면, 전자현미경의 화상 해석에 의해 측정하는 경우, 일정 면적 내에 존재하는 100개의 입자의 각각에 대하여 일차입자경을 측정한 결과의 평균값을, 평균 일차입자경으로 해도 된다.The average primary particle size of the filler can be measured by the BET method. Specifically, the specific surface area (BET specific surface area) measured by the BET method (nitrogen adsorption BET method) can be calculated in terms of an average primary particle diameter. Here, if the average primary particle size is d (nm), the density of the filler is ρ (g / cm 3), and the BET specific surface area is S (m 2 / g), then d = 6000 / (S × ρ) is established. For example, when the filler is silica, the average primary particle size can be calculated from the BET specific surface area from the equation d = 2070 / S. Further, the primary particle diameter (average primary particle diameter) may be measured by image analysis of a transmission electron microscope (TEM) or a scanning electron microscope (SEM). The average primary particle diameter of the filler contained in the optical film may be the average primary particle diameter of the filler used as a raw material, or may be the average primary particle diameter measured from the optical film. When measuring the average primary particle diameter of the filler from the optical film, the average primary particle diameter of the filler in the optical film may be measured by image analysis of a transmission electron microscope or a scanning electron microscope using the film as a measurement sample, and a film is required. Therefore, the pulverized and crushed film is dissolved in a soluble solvent (e.g., γ-butyrolactone) in the film, and the dispersed particles are subjected to a transmission electron microscope (TEM) or a scanning electron microscope (SEM). ), The filler may be taken out from the film, dried, and the average primary particle diameter may be calculated from the BET specific surface area in the same manner as above. When the average primary particle diameter is measured by, for example, image analysis of an electron microscope, the average value of the result of measuring the primary particle diameter for each of the 100 particles present in a certain area may be the average primary particle diameter.

필러로서는 예를 들면, 유기 입자, 무기 입자 등을 들 수 있고, 바람직하게는 무기 입자를 들 수 있다. 무기 입자로서는 실리카, 지르코니아, 알루미나, 티타니아, 산화아연, 산화게르마늄, 산화인듐, 산화주석, 인듐주석 산화물(ITO), 산화안티몬, 산화세륨 등의 금속 산화물 입자, 불화마그네슘, 불화나트륨 등의 금속 불화물 입자 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 얻어지는 광학 필름의 탄성률 및/또는 인열 강도를 높이고, 내충격성을 향상하기 쉽다는 관점에서, 바람직하게는 실리카 입자, 지르코니아 입자, 알루미나 입자를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 실리카 입자를 들 수 있다. 이들 필러는 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Examples of the filler include organic particles, inorganic particles, and the like, and preferably inorganic particles. Examples of the inorganic particles include metal oxide particles such as silica, zirconia, alumina, titania, zinc oxide, germanium oxide, indium oxide, tin oxide, indium tin oxide (ITO), antimony oxide, and cerium oxide, and metal fluorides such as magnesium fluoride and sodium fluoride. Particles, etc. are mentioned, and among these, silica particles, zirconia particles, and alumina particles are preferable, from the viewpoint of improving the elastic modulus and / or tear strength of the obtained optical film and improving the impact resistance, and more Preferably, silica particles are used. These fillers may be used alone or in combination of two or more.

평균 일차입자경이 5∼35 ㎚인 필러의 함유량은, 광학 필름의 질량에 대하여, 바람직하게는 5 질량% 이상, 보다 바람직하게는 10 질량% 이상, 더 바람직하게는 15 질량% 이상, 더 바람직하게는 20 질량% 이상, 더 바람직하게는 25 질량% 이상, 특히 바람직하게는 30 질량% 이상이다. 필러의 함유량이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름의 내충격성 및 내구성을 향상시키기 쉽다. 평균 일차입자경이 5∼35 ㎚인 필러의 함유량은, 광학 필름의 질량에 대하여, 바람직하게는 60 질량% 이하, 보다 바람직하게는 50 질량% 이하, 더 바람직하게는 45 질량% 이하이다. 필러의 함유량이 상기의 상한 이하이면, 광학 필름의 헤이즈나 황색도를 저감하기 쉽고, 투명성 및 광학 특성을 향상시키기 쉬움과 함께, 내굴곡성을 향상시키기 쉽다.The content of the filler having an average primary particle size of 5 to 35 nm is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, more preferably 15% by mass or more, more preferably with respect to the mass of the optical film. Is 20% by mass or more, more preferably 25% by mass or more, particularly preferably 30% by mass or more. When the content of the filler is more than the above lower limit, it is easy to improve the impact resistance and durability of the optical film. The content of the filler having an average primary particle diameter of 5 to 35 nm is preferably 60% by mass or less, more preferably 50% by mass or less, and even more preferably 45% by mass or less with respect to the mass of the optical film. When the content of the filler is less than or equal to the above upper limit, haze and yellowness of the optical film are easy to reduce, and transparency and optical properties are easy to improve, and bending resistance is easily improved.

< 자외선흡수제 ><UV absorber>

본 발명의 광학 필름은, 적어도 1종의 자외선흡수제를 포함해도 된다. 자외선흡수제는, 수지 재료의 분야에서 자외선흡수제로서 통상 이용되고 있는 것으로부터, 적절히 선택할 수 있다. 자외선흡수제는, 400 ㎚ 이하의 파장의 광을 흡수하는 화합물을 포함하고 있어도 된다. 자외선흡수제로서는 예를 들면, 벤조페논계 화합물, 살리실레이트계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물, 및 트리아진계 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물을 들 수 있다. 자외선흡수제는 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 광학 필름이 자외선흡수제를 함유함으로써, 수지의 열화가 억제되기 때문에, 본 발명의 광학 필름을 화상 표시 장치 등에 적용한 경우에 시인성을 높일 수 있다. 본 명세서에 있어서, 「계(系) 화합물」이란, 당해 「계 화합물」이 붙여지는 화합물의 유도체를 가리킨다. 예를 들면, 「벤조페논계 화합물」이란, 모체 골격으로서의 벤조페논과, 벤조페논에 결합해 있는 치환기를 갖는 화합물을 가리킨다.The optical film of the present invention may contain at least one ultraviolet absorber. The ultraviolet absorber can be appropriately selected from those commonly used as ultraviolet absorbers in the field of resin materials. The ultraviolet absorber may contain a compound that absorbs light having a wavelength of 400 nm or less. Examples of the ultraviolet absorber include at least one compound selected from the group consisting of benzophenone-based compounds, salicylate-based compounds, benzotriazole-based compounds, and triazine-based compounds. The ultraviolet absorber may be used alone or in combination of two or more. Since the deterioration of the resin is suppressed by the optical film containing an ultraviolet absorber, visibility can be improved when the optical film of the present invention is applied to an image display device or the like. In the present specification, the "system compound" refers to a derivative of a compound to which the "system compound" is attached. For example, "benzophenone type compound" refers to a compound having a benzophenone as a parent skeleton and a substituent bound to benzophenone.

본 발명의 광학 필름이 자외선흡수제를 함유하는 경우, 자외선흡수제의 함유량은, 광학 필름에 포함되는 수지의 질량에 대하여, 바람직하게는 0.01∼10 질량부, 보다 바람직하게는 1∼8 질량부, 더 바람직하게는 2∼7 질량부이다. 자외선흡수제의 함유량이 상기의 하한값 이상이면, 자외선흡수성을 향상시키기 쉽다. 자외선흡수제의 함유량이 상기의 상한값 이하이면, 기재 제조시의 열에 의한 자외선흡수제의 분해를 억제할 수 있고, 광학 특성을 향상시키기 쉽고, 예를 들면, 헤이즈를 저감시키기 쉽다.When the optical film of the present invention contains an ultraviolet absorber, the content of the ultraviolet absorber is preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 1 to 8 parts by mass, more preferably with respect to the mass of the resin contained in the optical film. It is preferably 2 to 7 parts by mass. When the content of the ultraviolet absorber is more than the above lower limit, it is easy to improve the ultraviolet absorbency. When the content of the ultraviolet absorber is equal to or less than the above upper limit, decomposition of the ultraviolet absorber due to heat at the time of manufacturing the substrate can be suppressed, and it is easy to improve optical properties, for example, to reduce haze.

< 기타의 첨가제 ><Other additives>

본 발명의 광학 필름은, 필러, 자외선흡수제 이외의 기타의 첨가제를 추가로 함유하고 있어도 된다. 기타의 첨가제로서는 예를 들면, 산화방지제, 이형제, 안정제, 블루잉제 등의 착색제, 난연제, pH 조정제, 실리카 분산제, 활제, 증점제, 및 레벨링제 등을 들 수 있다. 기타의 첨가제를 함유하는 경우, 그 함유량은, 광학 필름의 질량에 대하여, 바람직하게는 0.005∼20 질량부, 보다 바람직하게는 0.01∼15 질량부, 더 바람직하게는 0.1∼10 질량부여도 된다.The optical film of the present invention may further contain additives other than fillers and ultraviolet absorbers. Examples of other additives include colorants such as antioxidants, mold release agents, stabilizers, and bluening agents, flame retardants, pH adjusters, silica dispersants, lubricants, thickeners, and leveling agents. When other additives are contained, the content thereof may be preferably 0.005 to 20 parts by mass, more preferably 0.01 to 15 parts by mass, and even more preferably 0.1 to 10 parts by mass relative to the mass of the optical film.

< 광학 필름의 제조 방법 ><Manufacturing method of optical film>

상기 특징을 갖는 본 발명의 광학 필름의 제조 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 다음의 공정:The method for producing the optical film of the present invention having the above characteristics is not particularly limited, for example, the following steps:

(a) 중량평균 분자량이 23만 이상인 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지, 평균 일차입자경이 5∼35 ㎚인 필러, 및 용매를 적어도 함유하는 바니시를 지지체 상에 도포하고, 건조시켜, 도막을 형성시키는 공정,(a) a polyimide-based resin and / or polyamide-based resin having a weight average molecular weight of 230,000 or more, a filler having an average primary particle diameter of 5 to 35 nm, and a varnish containing at least a solvent are coated on a support and dried, The process of forming a coating film,

(b) 지지체로부터 도막을 박리하는 공정, 및(b) a step of peeling off the coating film from the support, and

(c) 박리한 도막을 가열하고, 필름을 얻는 공정(c) Step of heating peeled coating film to obtain film

을 적어도 포함하는 제조 방법에 의해 제조할 수 있다. 본 발명은, 상기의 공정을 적어도 포함하는, 광학 필름의 제조 방법도 제공한다.It can be manufactured by a production method comprising at least. The present invention also provides a method for manufacturing an optical film, which includes at least the above steps.

본 발명의 광학 필름의 제조 방법은, 공정 (c) 후,The manufacturing method of the optical film of this invention is after process (c),

(d) 얻어진 필름을 이용하여 투영법에 의해 얻은 투영 화상을 푸리에 변환하여 얻은 필름 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h 및 방향 v에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h 및 라인 프로파일 v라고 하고, 상기 투영법에 있어서 상기 필름을 이용하지 않고 얻은 배경 화상을 푸리에 변환하여 얻은 배경 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h' 및 방향 v'에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h' 및 라인 프로파일 v'라고 하고, 라인 프로파일 h로부터 라인 프로파일 h'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (h-h')의 최대 강도를 Ymh라고 하고, 최대 강도 Ymh를 나타내는 주파수를 Xmh라고 하고, 라인 프로파일 v로부터 라인 프로파일 v'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (v-v')의 최대 강도를 Ymv라고 하고, 최대 강도 Ymv를 나타내는 주파수를 Xmv라고 하였을 때의, Ymh 및 Ymv의 값, 및, Ymh, Ymv, Xmh 및 Xmv로부터 산출되는 (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값에 기초하여, 필름을 평가하는 공정(d) The line profiles in directions h and v that are orthogonal to each other on the film inverse space obtained by Fourier transforming the projected image obtained by the projection method using the obtained film are referred to as line profiles h and line profiles v, respectively, In the projection method, the line profiles in the directions h 'and v' which are orthogonal to each other in the background inverse space obtained by Fourier transforming the background image obtained without using the film are line profiles h 'and line profiles v', respectively. And the maximum intensity of the line profile (h-h ') obtained by subtracting the line profile h' from the line profile h is called Y mh , and the frequency representing the maximum intensity Y mh is called X mh , and the line profile from the line profile v. The maximum intensity of the line profile (v-v ') obtained by subtracting v' is Y mv , and the frequency representing the maximum intensity Y mv is X mv Is based on the values of Y mh and Y mv and (Y mh + Y mv ) / (X mh + X mv ) 1/2 calculated from Y mh , Y mv , X mh and X mv , Process to evaluate the film

을 추가로 포함해도 된다.You may further include.

상기의 공정 (a)에서 사용하는 바니시는, 중량평균 분자량이 23만 이상인 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지, 평균 일차입자경이 5∼35 ㎚인 필러, 및 용매를 적어도 함유한다. 여기에서, 바니시의 점도(cps)와 바니시의 고형분 농도(질량%)는, 다음의 관계:The varnish used in the above step (a) contains at least a polyimide-based resin and / or polyamide-based resin having a weight average molecular weight of 230,000 or more, a filler having an average primary particle diameter of 5 to 35 nm, and at least a solvent. Here, the viscosity (cps) of the varnish and the solid content concentration (mass%) of the varnish are as follows:

Figure pat00016
Figure pat00016

를 만족시키는 것이 바람직하다.It is preferable to satisfy.

먼저, 바니시를 지지체 상에 도포하고, 건조시켜, 도막을 형성시키는 공정 (a)에 대하여 설명한다. 바니시에 함유되는 수지 및 필러로서는, 본 발명의 광학 필름에 포함되는 수지 및 필러로서 상기에 기재한 수지 및 필러를 들 수 있다. 또, 바니시에는, 상기에 서술한 자외선흡수제, 기타의 첨가제가 함유되어 있어도 된다.First, the step (a) of applying the varnish on a support and drying it to form a coating film will be described. Examples of the resin and filler contained in the varnish include the resins and fillers described above as resins and fillers included in the optical film of the present invention. In addition, the varnish may contain the ultraviolet absorber and other additives described above.

바니시에 함유되는 용매는, 상기 수지를 용해 가능하면 특별히 한정되지 않는다. 이러한 용매로서는 예를 들면, N,N-디메틸아세트아미드(DMAc), N,N-디메틸포름아미드 등의 아미드계 용매; γ-부티로락톤(GBL), γ-발레로락톤 등의 락톤계 용매; 디메틸술폰, 디메틸술폭시드, 술포란 등의 함유황계 용매; 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등의 카보네이트계 용매; 및 그들의 조합(혼합 용매)을 들 수 있다. 이들 중에서도, 광학 필름의 균질성, 특히 광학적 균질성을 높이기 쉽다는 관점에서, 아미드계 용매 또는 락톤계 용매가 바람직하다. 이들 용매는 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 또, 바니시에는 물, 알코올계 용매, 케톤계 용매, 비환상 에스테르계 용매, 에테르계 용매 등이 포함되어도 된다. 바니시의 고형분 농도는, 바람직하게는 1∼25 질량%, 보다 바람직하게는 5∼20 질량%이다.The solvent contained in the varnish is not particularly limited as long as the resin can be dissolved. Examples of such a solvent include amide solvents such as N, N-dimethylacetamide (DMAc) and N, N-dimethylformamide; lactone-based solvents such as γ-butyrolactone (GBL) and γ-valerolactone; Sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide and sulfolane; Carbonate-based solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; And combinations thereof (mixed solvents). Among these, an amide-based solvent or a lactone-based solvent is preferable from the viewpoint of easy to increase the homogeneity of the optical film, especially the optical homogeneity. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Moreover, the varnish may contain water, an alcohol solvent, a ketone solvent, an acyclic ester solvent, an ether solvent, and the like. The solid content concentration of the varnish is preferably 1 to 25% by mass, more preferably 5 to 20% by mass.

바니시는 상기 수지, 필러, 용매 및 필요에 따라서 이용되는 자외선흡수제 및 기타의 첨가제를 혼합하고, 교반함으로써 조제할 수 있다. 예를 들면, 상기의 디카르본산 화합물, 테트라카르본산 화합물, 및/또는 디아민 화합물, 및 상기의 기타의 원료를 반응시켜 얻은, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 반응액을, 용매 및 경우에 따라 기타의 첨가제와 함께 혼합하고, 교반함으로써, 바니시를 조제해도 된다. 반응액으로부터 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지를 단리하여, 용매 등과 혼합함으로써, 바니시를 조제해도 되고, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 용액이나 고체를 구입하고, 필요에 따라서 용매 등과 혼합함으로써, 바니시를 조제해도 된다. 또, 필러로서 실리카를 이용하는 경우, 실리카를 포함하는 실리카졸의 분산액을, 상기 수지가 용해 가능한 용매, 예를 들면, 하기의 바니시의 조제에 이용되는 용매에 의해 치환한 실리카졸을 이용하여 바니시를 조제해도 된다.The varnish can be prepared by mixing and stirring the above resin, filler, solvent and UV absorber and other additives used as needed. For example, a reaction solution of a polyimide-based resin or a polyamide-based resin obtained by reacting the above-described dicarboxylic acid compound, tetracarboxylic acid compound, and / or diamine compound, and other raw materials described above is a solvent and a case Varnish may be prepared by mixing and stirring with other additives according to the conditions. The varnish may be prepared by isolating a polyimide-based resin or a polyamide-based resin from the reaction solution and mixing with a solvent, etc., a solution or solid of a polyimide-based resin or a polyamide-based resin is purchased, and mixed with a solvent and the like as necessary. By doing so, the varnish may be prepared. Moreover, when using silica as a filler, the varnish is used using a silica sol in which the dispersion of the silica sol containing silica is replaced by a solvent in which the resin is soluble, for example, a solvent used in the preparation of the following varnish. You may prepare.

상기와 같이 하여 조제한 바니시의 점도(cps)와, 바니시의 고형분 농도(질량%)는 특별히 한정되지 않지만, 우수한 균질성을 갖는 본 발명의 필름을 얻기 쉽다는 관점에서는, 이들이 다음의 관계:The viscosity (cps) of the varnish prepared as described above and the solid content concentration (mass%) of the varnish are not particularly limited, but from the viewpoint of easy to obtain the film of the present invention having excellent homogeneity, they have the following relationship:

Figure pat00017
Figure pat00017

를 만족시키는 것이 바람직하다. 여기에서, 바니시의 점도(cps)는, JIS K8803: 2011에 따라, E형 점도계를 이용하여, 25℃에서 측정된다. 또, 바니시의 고형분 농도는, 바니시에 함유되는 수지, 필러 및 첨가제 등의 농도(질량%)를 나타내고, 바니시의 전체 질량에 기초하는 바니시에 함유되는 고형분의 질량으로부터 산출된다. 상기 식으로 나타내어지는 바니시의 점도와 바니시의 고형분 농도의 곱은, 필름의 광학적 균질성을 높이기 쉽다는 관점에서, 바람직하게는 3,000 이상, 보다 바람직하게는 3,500 이상이다. 상기 식으로 나타내어지는 바니시의 점도와 바니시의 고형분 농도의 곱의 상한은 특별히 한정되지 않지만, 바니시의 핸들링의 관점에서는, 바람직하게는 10,000 이하, 보다 바람직하게는 7,000 이하이다.It is preferable to satisfy. Here, the viscosity (cps) of the varnish is measured at 25 ° C using an E-type viscometer according to JIS K8803: 2011. Moreover, the solid content concentration of the varnish indicates the concentration (mass%) of the resin, filler, and additives contained in the varnish, and is calculated from the mass of the solid content contained in the varnish based on the total mass of the varnish. The product of the viscosity of the varnish represented by the above formula and the solid content concentration of the varnish is preferably 3,000 or more, more preferably 3,500 or more, from the viewpoint of easy to increase the optical homogeneity of the film. Although the upper limit of the product of the viscosity of the varnish represented by the above formula and the solid content concentration of the varnish is not particularly limited, from the viewpoint of handling of the varnish, it is preferably 10,000 or less, more preferably 7,000 or less.

바니시의 점도는 바람직하게는 5,000∼60,000 cps, 보다 바람직하게는 10,000∼50,000 cps, 더 바람직하게는 15,000∼45,000 cps이다. 바니시의 점도가 상기의 하한 이상이면, 본 발명의 효과가 얻어지기 쉽고, 상기의 상한 이하인 것이, 바니시의 핸들링의 용이성의 관점에서 바람직하다.The viscosity of the varnish is preferably 5,000 to 60,000 cps, more preferably 10,000 to 50,000 cps, more preferably 15,000 to 45,000 cps. When the viscosity of the varnish is more than the above lower limit, the effect of the present invention is easily obtained, and it is preferable from the viewpoint of ease of handling of the varnish that it is less than or equal to the above upper limit.

바니시의 고형분 농도는, 바람직하게는 5∼25 질량%, 보다 바람직하게는 7∼23 질량%, 더 바람직하게는 9∼20 질량%이다. 바니시의 고형분 농도가 상기의 하한 이상인 것이, 두꺼운 막 두께를 얻는다는 관점에서 바람직하고, 상기의 상한 이하인 것이, 바니시의 핸들링의 용이성의 관점에서 바람직하다.The solid content concentration of the varnish is preferably 5 to 25% by mass, more preferably 7 to 23% by mass, and even more preferably 9 to 20% by mass. It is preferable from the viewpoint of obtaining a thick film thickness that the solid content concentration of the varnish is above the lower limit, and it is preferable from the viewpoint of ease of handling of the varnish that it is below the upper limit.

지지체로서는 예를 들면, 수지 기재, 스테인리스강(鋼) 벨트, 유리 기재 등을 들 수 있다. 지지체로서, 수지 필름 기재를 사용하는 것이 바람직하다. 수지 필름 기재로서는 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름, 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 필름, 시클로올레핀계(COP) 필름, 아크릴계 필름, 폴리이미드 필름, 폴리아미드이미드 필름 등을 들 수 있다. 그 중에서도 평활성, 내열성이 우수하다는 관점에서, PET 필름, COP 필름 등이 바람직하고, 또한 광학 필름의 밀착성 및 비용의 관점에서, PET 필름이 보다 바람직하다.As a support body, a resin base material, a stainless steel belt, a glass base material etc. are mentioned, for example. As a support, it is preferable to use a resin film substrate. Examples of the resin film substrate include polyethylene terephthalate (PET) films, polyethylene naphthalate (PEN) films, cycloolefin-based (COP) films, acrylic films, polyimide films, and polyamideimide films. Among them, from the viewpoint of excellent smoothness and heat resistance, a PET film, a COP film, and the like are preferable, and from the viewpoint of adhesiveness and cost of the optical film, a PET film is more preferable.

지지체의 막 두께는, 특별히 제한되지 않지만, 바람직하게는 50∼250 ㎛, 보다 바람직하게는 100∼200 ㎛, 더 바람직하게는 150∼200 ㎛이다. 지지체의 막 두께가 상기의 상한 이하인 경우, 필름의 제조 비용을 억제하기 쉽기 때문에 바람직하다. 또, 지지체의 막 두께가 상기의 하한 이상인 것이, 용매의 적어도 일부를 제거하는 공정에서 생길 수 있는 필름의 컬을 억제하기 쉽기 때문에 바람직하다. 여기에서, 지지체의 막 두께는 접촉식의 막후계 등에 의해 측정된다. 필름의 면 품질을 향상하고, 본 발명의 광학 필름을 제조하기 쉽다는 관점에서, 지지체의 막 두께 분포는, 바람직하게는 ±3 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 ±2.5 ㎛ 이하, 더 바람직하게는 ±2 ㎛ 이하이다. 지지체의 막 두께 분포는, 상기 막 두께의 측정 방법에 따라, 필름의 적어도 20개소에 있어서 막 두께를 측정하고, 20개소의 평균 막 두께를 산출하고, 각 개소에 있어서의 막 두께와 평균 막 두께와의 차로부터 산출한다.The thickness of the support is not particularly limited, but is preferably 50 to 250 μm, more preferably 100 to 200 μm, and even more preferably 150 to 200 μm. When the film thickness of the support is less than or equal to the above upper limit, it is preferable because it is easy to suppress the production cost of the film. Moreover, it is preferable that the film thickness of the support is greater than or equal to the above lower limit because it is easy to suppress curl of the film that may occur in the step of removing at least a part of the solvent. Here, the film thickness of the support is measured by a contact-type film thickness meter or the like. From the viewpoint of improving the surface quality of the film and making it easy to produce the optical film of the present invention, the film thickness distribution of the support is preferably ± 3 μm or less, more preferably ± 2.5 μm or less, and more preferably ± 2 µm or less. The film thickness distribution of the support is measured by measuring the film thickness in at least 20 places of the film, calculating the average film thickness in 20 places, and calculating the film thickness and average film thickness in each place according to the measuring method of the film thickness. Calculate from the difference between

바니시를 지지체 상에 도포할 때, 공지의 도포 방법에 의해 지지체에의 도포를 행해도 된다. 공지의 도포 방법으로서는 예를 들면, 와이어 바 코팅법, 리버스 코팅, 그라비아 코팅 등의 롤 코팅법, 다이 코팅법, 콤마 코팅법, 립 코팅법, 스핀 코팅법, 스크린 코팅법, 파운틴 코팅법, 디핑법, 스프레이법, 유연(流涎) 성형법 등을 들 수 있다.When applying the varnish on the support, you may apply to the support by a known coating method. As a known coating method, for example, a roll coating method such as a wire bar coating method, reverse coating, gravure coating, die coating method, comma coating method, lip coating method, spin coating method, screen coating method, fountain coating method, di And a ping method, a spraying method, and a flexible molding method.

다음으로, 지지체 상에 도포한 바니시의 도막을 건조시킴으로써, 도막을 형성시킬 수 있다. 건조는, 바니시의 도막으로부터 적어도 일부의 용매를 제거함으로써 행해지고, 건조 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 지지체 상에 도포한 바니시의 도막을 가열함으로써 건조를 행해도 된다. 이하에 있어서, 공정 (a)에 있어서의 건조를 「제 1 건조」라고도 하고, 건조 후에 지지체 상에 형성된 도막을, 「건조 도막」이라고도 한다. 건조 도막은, 바니시에 포함되어 있던 용매가 모두 건조된 도막이어도 되고, 일부의 용매가 건조된 반건조 상태의 도막이어도 된다. 제 1 건조는, 필요에 따라서, 불활성 분위기 또는 감압의 조건 하에 있어서 실시해도 된다. 제 1 건조는 비교적 저온에서 시간을 들여 행하는 것이 바람직하다. 비교적 저온에서 시간을 들여 제 1 건조를 행하면, 상기의 식에 있어서의 Ymh 및 Ymv의 값을 저하시키기 쉽고, (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값을 저하시키기 쉽고, 광학 필름의 광학적 균질성을 높이기 쉽다. 가열에 의해 건조를 행하는 경우, 제 1 건조시의 가열 온도는 바람직하게는 50∼150℃, 보다 바람직하게는 60∼130℃, 더 바람직하게는 70∼120℃이다. 제 1 건조의 시간은 바람직하게는 5∼60분, 보다 바람직하게는 10∼40분이다. 제 1 건조는 1 단계 또는 다단계의 조건 하에서 실시해도 된다. 다단계의 조건 하에서 건조를 행하는 경우, 바람직하게는, 각각의 단계에 있어서, 동일 또는 다른 온도 조건 및/또는 건조 시간으로 건조를 실시할 수 있고, 예를 들면, 2∼10단계, 바람직하게는 3∼8단계의 조건 하에서 건조를 행해도 된다. 제 1 건조를 다단계의 조건으로 실시하면, 광학 필름의 광학적 균질성을 높이기 쉽다. 3단계 이상의 다단계의 조건 하에서 제 1 건조를 행하는 본 발명의 바람직한 일 실시 형태에서는, 제 1 건조의 온도 프로파일이 승온 및 강온(降溫)을 포함하는 것이 바람직하다. 이와 같은 온도 프로파일로서, 4단계의 경우를 예로 들면, 제 1 건조의 온도는, 순서대로 70∼90℃(제 1 온도), 90∼120℃(제 2 온도), 80∼120℃(제 3 온도) 및 80∼100℃(제 4 온도)이다. 이 예에서는, 제 1 건조의 온도는, 제 1 온도로부터 제 2 온도로 승온하고, 이어서 제 2 온도로부터 제 3 온도로 강온하고, 추가로 제 3 온도로부터 제 4 온도로 강온한다. 여기서, 제 1 건조의 시간은 각 단계에 있어서, 예를 들면, 5∼15분이다. 건조 도막의 용매 잔존량이, 건조 도막의 질량에 대하여, 바람직하게는 5∼15 질량%, 보다 바람직하게는 6∼12 질량%로 되도록, 제 1 건조를 실시하는 것이 바람직하다. 용매 잔존량이 상기의 범위이면, 광학 필름의 상기의 식에 있어서의 Ymh 및 Ymv의 값을 저하시키기 쉽고, (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값을 저하시키기 쉽다. 또, 이어지는 공정 (b)에 있어서, 지지체로부터 도막을 박리할 때의 박리성을 높이기 쉽다. 그 결과, 광학 필름의 균질성을 높이기 쉽다. 용매의 잔존량은, 각 공정의 건조 온도를 높게 하는 것 및 건조 시간을 길게 함으로써, 저하된다. 그 때문에, 원하는 범위의 용매 잔존량으로 되도록, 건조 온도나 건조 시간을 조정하여, 광학 필름의 균질성을 높일 수 있다.Next, the coating film can be formed by drying the coating film of the varnish applied on the support. Drying is performed by removing at least a part of the solvent from the varnish coating film, and the drying method is not particularly limited. For example, drying may be performed by heating the coating film of the varnish applied on the support. In the following, drying in step (a) is also referred to as "first drying", and the coating film formed on the support after drying is also referred to as "dry coating". The dry coating film may be a coating film in which all the solvents contained in the varnish are dried, or a coating film in a semi-dry state in which some solvents are dried. If necessary, the first drying may be performed under an inert atmosphere or under reduced pressure. It is preferable to perform the first drying at a relatively low temperature over time. When the first drying is performed at a relatively low temperature, the values of Y mh and Y mv in the above formula are easily reduced, and the values of (Y mh + Y mv ) / (X mh + X mv ) 1/2 are reduced. It is easy to do, and it is easy to increase the optical homogeneity of the optical film. When drying by heating, the heating temperature during the first drying is preferably 50 to 150 ° C, more preferably 60 to 130 ° C, and still more preferably 70 to 120 ° C. The time for the first drying is preferably 5 to 60 minutes, more preferably 10 to 40 minutes. The first drying may be performed under conditions of one step or multiple steps. When drying is performed under conditions of multiple stages, preferably, in each stage, drying may be performed under the same or different temperature conditions and / or drying time, for example, steps 2 to 10, preferably 3 Drying may be performed under the conditions of -8 steps. When the first drying is performed under conditions of multiple stages, it is easy to increase the optical homogeneity of the optical film. In a preferred embodiment of the present invention in which the first drying is performed under the conditions of three or more steps, it is preferable that the temperature profile of the first drying includes an elevated temperature and a reduced temperature. As such a temperature profile, for example in the case of four steps, the temperature of the first drying is, in order, 70 to 90 ° C (first temperature), 90 to 120 ° C (second temperature), and 80 to 120 ° C (third) Temperature) and 80 to 100 ° C (fourth temperature). In this example, the temperature of the first drying is raised from the first temperature to the second temperature, and then the temperature is decreased from the second temperature to the third temperature, and further from the third temperature to the fourth temperature. Here, the time for the first drying is 5 to 15 minutes in each step, for example. It is preferable to perform 1st drying so that the residual amount of the solvent of a dry coating film becomes 5-15 mass% with respect to the mass of a dry coating film, More preferably, it is 6-12 mass%. When the residual amount of the solvent is within the above range, it is easy to decrease the values of Y mh and Y mv in the above formula of the optical film, and to decrease the value of (Y mh + Y mv ) / (X mh + X mv ) 1/2 easy. Moreover, in the following process (b), it is easy to improve peelability at the time of peeling a coating film from a support body. As a result, it is easy to increase the homogeneity of the optical film. The residual amount of the solvent is lowered by increasing the drying temperature of each step and increasing the drying time. Therefore, it is possible to adjust the drying temperature and the drying time so as to have the residual amount of the solvent in a desired range, thereby improving the homogeneity of the optical film.

다음으로, 공정 (b)에 있어서, 지지체로부터 건조시킨 도막을 박리한다. 박리 방법은 특별히 한정되지 않고, 지지체를 고정시킨 상태에서 도막을 이동시켜 박리를 행해도 되고, 도막을 고정시킨 상태에서 지지체를 이동시켜 박리를 행해도 되고, 도막 및 지지체의 양방을 이동시킴으로써 박리를 행해도 된다.Next, in step (b), the dried coating film is peeled from the support. The peeling method is not particularly limited, and the film may be removed by moving the coating film while the support is fixed, or may be removed by moving the support while the coating film is fixed, and peeling is performed by moving both the coating film and the support. You may do it.

다음으로, 공정 (c)에 있어서, 공정 (b)에서 박리한 도막을 가열함으로써, 본 발명의 필름을 얻을 수 있다. 공정 (c)에 있어서의 가열 공정을, 이하에 있어서, 「제 2 건조」 또는 「포스트베이크」라고도 하고, 공정 (b)에서 박리한 도막을, 이하에 있어서, 「박리 도막」이라고도 한다. 공정 (c)에 있어서, 박리 도막을 면 내 방향으로 신장시킨 상태에서, 포스트베이크를 실시하는 것이 바람직하다. 제 2 건조시의 가열 온도는 바람직하게는 150∼300℃, 보다 바람직하게는 180∼250℃, 더 바람직하게는 180∼230℃이다. 제 2 건조에 있어서의 가열 시간은 바람직하게는 10∼60분, 보다 바람직하게는 30∼50분이다. 건조 도막을 면 내 방향으로 균일하게 신장시킨 상태에서 포스트베이크 처리를 실시하면, 광학 필름의 상기의 식에 있어서의 Ymh 및 Ymv의 값을 저하시키기 쉽고, (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값을 저하시키기 쉽다.Next, in the step (c), the film of the present invention can be obtained by heating the coating film peeled in the step (b). The heating step in step (c) is hereinafter also referred to as "second drying" or "post bake", and the coating film peeled in step (b) is also referred to as "peel coating film" below. In step (c), it is preferable to perform post-baking in a state in which the release coating film is stretched in the in-plane direction. The heating temperature during the second drying is preferably 150 to 300 ° C, more preferably 180 to 250 ° C, and even more preferably 180 to 230 ° C. The heating time in the second drying is preferably 10 to 60 minutes, more preferably 30 to 50 minutes. When the post-baking treatment is performed while the dry coating film is uniformly stretched in the in-plane direction, it is easy to lower the values of Y mh and Y mv in the above formula of the optical film, and (Y mh + Y mv ) / (X mh + X mv ) It is easy to decrease the value of 1/2 .

공정 (3)에 있어서 도막을 가열할 때, 도막에 장력을 걸어, 도막을 면 내 방향으로 신장시킨 상태에서 가열을 행하는 것이 바람직하다. 장력을 걸면서 가열함으로써, 건조에 의한 도막의 수축에 의해 얻어지는 광학 필름의 광학적 균질성의 저하를 억제하기 쉽고, 그 결과, 광학 필름의 상기의 식에 있어서의 Ymh 및 Ymv의 값을 저하시키기 쉽고, (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값을 저하시키기 쉽고, 광학 필름의 균질성, 특히 광학적 균질성을 높이기 쉽다.In the step (3), when heating the coating film, it is preferable to apply a tension to the coating film and perform heating in a state where the coating film is stretched in the in-plane direction. By heating while applying tension, it is easy to suppress a decrease in the optical homogeneity of the optical film obtained by shrinkage of the coating film due to drying, and as a result, decrease the values of Y mh and Y mv in the above formula of the optical film. It is easy, it is easy to lower the value of (Y mh + Y mv ) / (X mh + X mv ) 1/2 , and it is easy to increase the homogeneity of the optical film, especially the optical homogeneity.

본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 롤 투 롤 방식으로 광학 필름을 제조하는 경우, 박리 도막을 반송 방향으로 신장시킨 상태에서 건조시켜도 된다. 또, 매엽(枚葉)식으로 광학 필름을 제조하는 경우, 면 내 방향으로 균일하게 신장시킨 상태에서 건조시켜도 된다. 롤 투 롤 방식에 있어서의 반송 속도는, 얻어지는 광학 필름의 균질성, 특히 광학적 균질성을 높이기 쉽다는 관점에서, 바람직하게는 0.1∼5 m/분, 보다 바람직하게는 0.5∼3 m/분, 더 바람직하게는 0.7∼1.5 m/분이다.In one embodiment of the present invention, in the case of manufacturing the optical film in a roll-to-roll manner, the peeling coating film may be dried while being stretched in the conveying direction. Moreover, when manufacturing an optical film in a single leaf type, you may dry it in the state extended uniformly in the in-plane direction. The conveyance speed in the roll-to-roll system is preferably from 0.1 to 5 m / min, more preferably from 0.5 to 3 m / min, and even more preferably from the viewpoint of easy to increase the homogeneity of the obtained optical film, particularly optical homogeneity. It is 0.7-1.5 m / min.

예를 들면, 롤 투 롤 방식에 의해 광학 필름을 제조하는 경우, 소정의 폭을 갖는 긴 띠 형상의 도막을 반송하면서 가열함으로써, 본 발명의 광학 필름을 얻을 수 있다. 여기에서, 도막에 장력을 걸면서 가열을 행하는 경우, 그 방법은 하등 한정되지 않지만, 예를 들면, 반송되는 긴 띠 형상의 필름의 양단부(兩端部)를 각각 파지(把持)하고, 파지된 필름을 반송하면서, 파지된 필름의 폭을 소정의 거리로 하여, 예를 들면, 건조기 내를 반송하면서, 열처리를 행한다. 이 때에, 열처리 전의 필름의 폭(단, 파지부를 폭에 포함시키지 않음)에 대한 열처리 후의 필름의 폭(단, 파지부를 폭에 포함시키지 않음)의 비를 1.1 이하로 하고, 그리고, 건조기로부터 나온 수지 필름의 파지를 해제함으로써, 공정 (3)을 행하는 것이 바람직하다.For example, in the case of manufacturing the optical film by the roll-to-roll method, the optical film of the present invention can be obtained by heating while conveying a long strip-shaped coating film having a predetermined width. Here, in the case of heating while applying tension to the coating film, the method is not limited at all, but, for example, the ends of the long belt-shaped film to be conveyed are each gripped and held. While conveying the film, the width of the gripped film is a predetermined distance, and for example, heat treatment is performed while conveying the inside of the dryer. At this time, the ratio of the width of the film after heat treatment (however, the gripping portion is not included in the width) to the width of the film before heat treatment (however, the gripping portion is not included in the width) is set to 1.1 or less, and the dryer It is preferable to perform the process (3) by releasing the gripping of the resin film from.

열처리 전의 필름의 폭(단, 파지부를 폭에 포함시키지 않음)에 대한 열처리 후의 필름의 폭(단, 파지부를 폭에 포함시키지 않음)의 비(이하, 연신 배율이라고 하는 경우가 있음)는, 바람직하게는 0.70∼1.10이고, 보다 바람직하게는 0.8∼1.05이고, 더 바람직하게는 0.80∼1.00이다.The ratio of the width of the film after the heat treatment (however, the gripping part is not included in the width) to the width of the film before the heat treatment (however, the gripping part is not included in the width) (hereinafter sometimes referred to as stretching ratio) , It is preferably 0.70 to 1.10, more preferably 0.8 to 1.05, and still more preferably 0.80 to 1.00.

필름의 파지는, 예를 들면, 복수의 클립을 이용함으로써 행해진다.Gripping of the film is performed, for example, by using a plurality of clips.

당해 복수의 클립은, 반송 장치의 크기에 따라서, 소정 길이의 엔드리스 체인에 고정될 수 있고, 당해 체인이 필름과 동일한 속도로 움직이고, 당해 체인의 적절한 위치에, 클립이 설치되어 있고, 건조기에 들어가기 전에 투명 수지 필름을 파지하고, 건조기를 나온 시점에서 파지가 해제된다.The plurality of clips can be fixed to an endless chain of a predetermined length, depending on the size of the conveying device, the chain moves at the same speed as the film, and the clip is installed in the appropriate position of the chain, and enters the dryer The transparent resin film was gripped before, and the gripping was released at the time of exiting the dryer.

필름의 일방(一方) 단(端)에 설치되는 복수의 클립은, 그 인접하는 클립 사이의 공간이 예를 들면, 1∼50 ㎜, 바람직하게는 3∼25 ㎜, 보다 바람직하게는 5∼10 ㎜로 되도록 설치된다.In a plurality of clips provided on one end of the film, the space between the adjacent clips is, for example, 1 to 50 mm, preferably 3 to 25 mm, more preferably 5 to 10 mm. It is installed to be mm.

또, 필름 반송축에 직교하는 직선을, 필름의 일방 단의 임의의 클립의 파지부 중앙에 맞추었을 때, 당해 직선과 필름의 타단(他端)의 교점과, 당해 교점에 가장 가까운 클립의 파지부 중앙의 거리가, 바람직하게는 3 ㎜ 이하, 보다 바람직하게는 2 ㎜ 이하, 더 바람직하게는 1 ㎜ 이하로 되도록 할 수 있다. 당해 거리가 상기의 범위에 있음으로써, 광학 필름의 특히 좌우에서의 균질성을 높이기 쉽다.In addition, when the straight line orthogonal to the film conveying axis is aligned with the center of the grip portion of any clip at one end of the film, the intersection of the straight line with the other end of the film and the clip of the clip closest to the intersection point The distance in the center of the branch can be preferably 3 mm or less, more preferably 2 mm or less, and even more preferably 1 mm or less. When the distance is within the above range, it is easy to increase the homogeneity of the optical film, especially in the left and right.

열처리 전의 필름의 폭에 대한 열처리 후의 필름의 폭의 비가 상기의 범위에 있으면, 필름 외관이 양호하게 되는 경향이 있다.When the ratio of the width of the film after heat treatment to the width of the film before heat treatment is in the above range, the film appearance tends to be good.

열처리 후의 필름 중의 용매량은, 필름의 질량을 기준으로 하여, 바람직하게는 0.001∼3 질량%, 보다 바람직하게는 0.001∼2 질량%, 더 바람직하게는 0.001∼1.5 질량%, 특히 바람직하게는 0.001∼1.3 질량%이다. 열처리 후의 필름 중의 용매량이 상기의 범위에 있으면, 광학 필름의 외관이 양호하게 되는 경향이 있다.The amount of the solvent in the film after the heat treatment is preferably 0.001 to 3 mass%, more preferably 0.001 to 2 mass%, still more preferably 0.001 to 1.5 mass%, particularly preferably 0.001 based on the mass of the film. It is -1.3 mass%. When the amount of the solvent in the film after heat treatment is in the above range, the appearance of the optical film tends to be good.

열 처리가 끝나고, 건조기로부터 필름이 나오면 필름의 파지가 해제되고, 바람직하게는 즉시, 필름 단부(端部)가 슬릿 된다. 슬릿을 행함으로써, 필름 단부에 있어서의, 파지부와 파지되어 있지 않던 부분의 사이에서 생기기 쉬운 깨짐을 필름으로부터 제거함으로써, 그 후 필름이 반송되어 그 온도가 저하되는 것에 의한 필름의 깨짐의 확대를 미리 방지할 수 있다.When the heat treatment is over and the film comes out from the dryer, the gripping of the film is released, and the film end is preferably slit immediately. By performing a slit, the breakage which is likely to occur between the gripping portion and the non-gripping portion at the end of the film is removed from the film, thereby expanding the cracking of the film due to the conveyance of the film and a decrease in its temperature. It can be prevented in advance.

필름이 건조기를 나가면, 필름이 급랭되어 수축되어, 깨짐이 생기는 경우가 있다. 그 때문에, 건조기 출구로부터 필름의 파지가 해방되는 위치까지 일정 비율의 필름을 이완하는 공정이 있는 것이 바람직하다. 그 비율은, 건조기로부터 나온 필름의 폭(단, 파지된 폭을 제외함)(W)과 건조기 출구로부터 필름을 해방할 때까지 파지부가 이완되는 거리(F)가, 바람직하게는 1.7≤F/W×100≤6.9, 보다 바람직하게는 1.8≤F/W×100≤6.8, 더 바람직하게는 1.9≤F/W×100≤6.7, 보다 더 바람직하게는 2.0≤F/W×100≤6.7이다.When the film leaves the dryer, the film may be quenched and shrunk, resulting in cracking. Therefore, it is preferable that there is a step of relaxing the film at a constant ratio from the dryer outlet to the position where the gripping of the film is released. The ratio is the width of the film coming out of the dryer (however, excluding the gripped width) (W) and the distance (F) at which the gripping part relaxes until the film is released from the dryer outlet, preferably 1.7≤F / W × 100 ≦ 6.9, more preferably 1.8 ≦ F / W × 100 ≦ 6.8, more preferably 1.9 ≦ F / W × 100 ≦ 6.7, even more preferably 2.0 ≦ F / W × 100 ≦ 6.7.

필름의 반송 방향에 대하여 일방 단측의 이완되는 거리를 Fa, 타방 단측의 이완되는 거리를 Fb라고 하고, 그들을 합쳐 이완되는 거리 F라고 한다.The distance at which one side is relaxed with respect to the conveyance direction of the film is referred to as Fa, and the distance at which the other end is relaxed is called Fb, and the sum of them is referred to as the distance F to be relaxed.

건조기 출구로부터 필름의 파지가 해방될 때까지의 거리는, 바람직하게는 200∼1,000 ㎜, 보다 바람직하게는 300∼900 ㎜, 더 바람직하게는 300∼800 ㎜이다. 당해 거리가 상기의 범위에 있으면, 필름에 깨짐이 생기기 어렵고, 또한 늘어짐 등 외관 불량이 생기기 어려운 경향이 있다.The distance from the dryer outlet until the gripping of the film is released is preferably 200 to 1,000 mm, more preferably 300 to 900 mm, and even more preferably 300 to 800 mm. When the distance is within the above range, the film is unlikely to be cracked, and there is a tendency that appearance defects such as sagging are less likely to occur.

또한, 본 발명의 제조 방법에 있어서는, 상기 특징을 갖는 광학 필름을 제조하기 쉽다는 관점에서, 공정 (b)에 있어서 지지체로부터 도막을 박리한 후, 공정 (c)에 있어서 박리한 도막을 가열함으로써, 필름을 제조하고 있다. 그러나, 본 발명의 광학 필름은, 상기 Ymh 등에 관한 특징을 갖는 한, 어느 제조 방법에 의해 제조된 필름이어도 된다. 예를 들면, 지지체로부터 도막을 박리하기 전에 도막을 포스트베이크하고, 포스트베이크 후의 필름을 지지체로부터 박리하여 제조한 것이어도 된다.Moreover, in the manufacturing method of this invention, from the viewpoint of being easy to manufacture the optical film which has the said characteristic, after peeling a coating film from a support body in process (b), heating the peeled coating film in process (c) , To manufacture the film. However, the optical film of the present invention may be a film produced by any production method as long as it has the characteristics relating to Y mh and the like. For example, the film may be produced by post-baking the coating film before peeling the coating film from the support, and peeling the post-baking film from the support.

본 발명의 제조 방법은, 상기 공정 (a)∼(c) 후에, 후술하는 필름을 평가하는 공정 (d)를 추가로 포함하고 있어도 된다. 공정 (d)는, 얻어진 필름을 이용하여 투영법에 의해 얻은 투영 화상을 푸리에 변환하여 얻은 필름 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h 및 방향 v에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h 및 라인 프로파일 v라고 하고, 상기 투영법에 있어서 상기 필름을 이용하지 않고 얻은 배경 화상을 푸리에 변환하여 얻은 배경 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h' 및 방향 v'에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h' 및 라인 프로파일 v'라고 하고, 라인 프로파일 h로부터 라인 프로파일 h'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (h-h')의 최대 강도를 Ymh라고 하고, 최대 강도 Ymh를 나타내는 주파수를 Xmh라고 하고, 라인 프로파일 v로부터 라인 프로파일 v'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (v-v')의 최대 강도를 Ymv라고 하고, 최대 강도 Ymv를 나타내는 주파수를 Xmv라고 하였을 때의, Ymh 및 Ymv의 값, 및, Ymh, Ymv, Xmh 및 Xmv로부터 산출되는 (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2 값에 기초하여, 필름을 평가하는 공정이다.The manufacturing method of this invention may further include the process (d) of evaluating the film mentioned later after said process (a)-(c). In the step (d), the line profiles in the direction h and the direction v orthogonal to each other in the film inverse space obtained by Fourier transforming the projected image obtained by the projection method using the obtained film are the line profile h and the line profile v, respectively. And the line profiles in the direction h 'and the direction v' orthogonal to each other in the background inverse space obtained by Fourier transforming the background image obtained without using the film in the projection method, respectively, as the line profile h 'and the line profile v 'that is, from the line profile, h-line profile h' the frequency showing the maximum intensity for Y mh is called, and the maximum intensity Y mh of the line profile (h-h ') obtained by subtracting and said X mh, line profile v The maximum intensity of the line profile (v-v ') obtained by subtracting the line profile v' from is Y mv , and the frequency representing the maximum intensity Y mv (Y mh + Y mv ) / (X mh + X mv ) 1/2 value calculated from the values of Y mh and Y mv when the number is X mv and Y mh , Y mv , X mh and X mv Based on, it is a process of evaluating a film.

공정 (d)에 있어서, Ymh 및 Ymv의 값, 및 (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값에 기초하여, 필름의 균질성, 특히 광학적 균질성을 평가할 수 있다. 예를 들면, 요구하는 균질성에 따라서 소정의 값을 설정하고, 당해 값과, 필름에 대하여 얻은 결과를 비교함으로써, 필름의 양부(良否)를 판단하고, 필름을 분별함으로써, Ymh 및 Ymv의 값, 및 (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값이, 소정의 값 이하인, 우수한 균질성을 갖는 광학 필름을 제조할 수 있다. 또, 상기 값을 평가하면서, 건조 조건 등을 조정하여, 상기 특징을 갖는 본 발명의 필름을 제조할 수도 있다.In step (d), the homogeneity of the film, particularly optical homogeneity, can be evaluated based on the values of Y mh and Y mv and (Y mh + Y mv ) / (X mh + X mv ) 1/2 . For example, by setting a predetermined value according to the required homogeneity, and comparing the result obtained with the film, the goodness of the film is judged, and the film is sorted to determine the Y mh and Y mv values . An optical film having excellent homogeneity in which the value and the value of (Y mh + Y mv ) / (X mh + X mv ) 1/2 is equal to or less than a predetermined value can be produced. Moreover, while evaluating the said value, the drying conditions etc. can be adjusted, and the film of this invention which has the said characteristic can also be manufactured.

필름을 평가하는 공정 (d)에 있어서, 상기 본 발명의 평가 방법에 의해 측정된 최대 강도 Ymh 및 Ymv에 기초하여, 필름의 균질성을 평가하고, 필름의 품질의 양부를 판단하는 것이, 균질성이 우수한 필름을 효율적으로 제조할 수 있다는 관점에서 바람직하다. 필름의 품질의 양부의 판단 기준은, 제조한 필름의 용도나, 필름에 요구되는 광학적 균질성에 따라서 적절히 설정해도 되고, 특별히 한정되지 않는다. 광학 필름 등에 있어서 적절하게 사용되는, 우수한 균질성을 갖는 필름을 얻는 것을 목적으로 필름의 품질의 양부 판단을 행하는 경우에는, 본 발명의 필름에 대하여 상기에 기재한 특성을 갖는지 여부를 기준으로 하여, 필름의 양부의 판단을 행하는 것이 바람직하다.In the step (d) of evaluating the film, evaluating the homogeneity of the film based on the maximum strengths Y mh and Y mv measured by the evaluation method of the present invention, and judging whether the quality of the film is good or not It is preferable from the viewpoint of efficiently producing this excellent film. The criteria for determining the quality of a film may be appropriately set depending on the use of the produced film or the optical homogeneity required for the film, and is not particularly limited. When the quality of the film is judged for the purpose of obtaining a film having excellent homogeneity, which is suitably used in an optical film or the like, the film of the present invention is based on whether or not it has the properties described above. It is desirable to make a judgment of the good or bad.

상기 평가 공정에 의하면, 종래의 평가 방법과 비교하여 보다 높은 정밀도로 필름의 균질성, 특히 광학적 균질성을 평가하는 것이 가능하게 된다. 구체적으로는, 당해 평가 공정에 의하면, 종래의 평가 방법으로는 충분한 정밀도로 평가할 수 없던 TD 방향 및 MD 방향의 양 방향의 불균일이나 폭의 너비가 다른 불균일 등에 기인하여 생기는, 광학적 성질 및/또는 물리적 성질의 불균일을 평가할 수 있고, 불균일의 종류에 관계없이 정밀도 좋게 필름의 균질성을 평가하는 것이 가능하다. 또, 당해 평가 공정에 의해, 필름의 균질성을 정량하는 것도 가능하다. 공정 (d)에 있어서의 평가 공정은, 구체적으로는 다음의 공정 (1)∼(5):According to the said evaluation process, it becomes possible to evaluate the homogeneity of a film, especially optical homogeneity, with higher precision compared with a conventional evaluation method. Specifically, according to the evaluation step, optical properties and / or physical properties caused by unevenness in both directions in the TD direction and MD direction or unevenness in the width of the width, etc., which could not be evaluated with sufficient precision by the conventional evaluation method, etc. It is possible to evaluate the non-uniformity of properties, and it is possible to accurately evaluate the homogeneity of the film regardless of the kind of non-uniformity. Moreover, it is also possible to quantify the homogeneity of a film by the said evaluation process. The evaluation step in step (d), specifically, the following steps (1) to (5):

(1) 광원으로부터의 광을 필름에 조사하고, 필름을 투과한 광을 투영면에 투영하는 투영법에 의해 투영 화상을 얻는 공정,(1) A step of obtaining a projected image by a projection method in which light from a light source is irradiated onto a film and the light transmitted through the film is projected onto a projection surface,

(2) 공정 (1)의 투영법에 있어서 필름을 이용하지 않고, 광원으로부터의 광을 투영면에 투영하여, 배경 화상을 얻는 공정,(2) A process of obtaining a background image by projecting light from a light source onto a projection surface without using a film in the projection method of step (1),

(3) 공정 (1)에서 얻은 투영 화상 및 공정 (2)에서 얻은 배경 화상을 각각 그레이 스케일화에 의해 수치화하고, 수치화된 화상 데이터를 푸리에 변환하여 역공간상(필름 역공간상 및 배경 역공간상)을 얻는 공정,(3) The projection image obtained in step (1) and the background image obtained in step (2) are numerically quantified by gray-scale, respectively, and Fourier transform the digitized image data to inverse space (film inverse space and background inverse space) Phase),

(4) 투영 화상의 역공간상에 있어서 직교하는 2방향의 각 라인 프로파일로부터, 배경 화상의 역공간상에 있어서 직교하는 상기 2방향의 각 라인 프로파일을 각각 빼서, 블랭크 보정된 라인 프로파일을 얻는 공정,(4) A step of obtaining a blank corrected line profile by subtracting each line profile in the two directions orthogonal in the inverse space of the background image from each line profile in two directions orthogonal in the inverse space on the projected image. ,

및,And,

(5) 공정 (4)에서 얻은 블랭크 보정된 라인 프로파일의 최대 강도(Ymh 및 Ymv)를 측정하는 공정(5) Process for measuring the maximum intensity (Y mh and Y mv ) of the blank corrected line profile obtained in step (4)

을 적어도 포함한다.It includes at least.

공정 (1)에 있어서, 광원으로부터의 광을 필름에 조사하고, 필름을 투과한 광을 투영면에 투영하여 투영 화상을 얻는다. 공정 (1)에 있어서, 예를 들면, 도 1에 나타난 바와 같이, 필름, 투영면 등을 배치해도 된다. 구체적으로는 광원(1), 필름(2) 및 투영면(3)을 배치하고, 투영면(3)에 투영된 투영 화상(4)을 카메라(6)로 촬영하여, 투영 화상을 얻는다. 광원(1)으로부터 출력된 광(5)은, 필름(2)을 투과하고, 투과한 광이 투영면(3)에 투영 화상(4)으로서 투영된다. 광(5)이 필름(2)을 투과할 때, 필름(2)이 균질하면, 광(5)은 균질하게 필름(2)을 투과하여 투영면(3)에 도달하지만, 필름(2)이 균질하지 않고, 면상 불균일, 두께 불균일, 배향 불균일 등이 있는 경우에는, 광(5)이 필름(2)을 투과할 때에 반사 및/또는 굴절 등이 생기고, 광원으로부터 출력된 상태와 비교하여 왜곡된 상태의 광이 투영면(3)에 도달한다. 이와 같이 하여 얻어지는 투영 화상(4)을 후술하는 방법으로 평가함으로써, 필름의 광학적 균질성을 높은 정밀도로 평가 또는 정량화할 수 있다. 선명한 투영 화상을 얻기 쉽다는 관점에서, 암실 내에서, 광원으로부터의 광만을 필름에 투과시켜 촬영을 행하는 것이 바람직하다. 광원의 종류는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, LED 광원이나 할로겐 램프 등을 사용해도 된다. 점 광원에 가까운 광원이 바람직하고, 발광부는 1 ㎝ 직경 이하인 것이 바람직하다. 필터나 렌즈 등을 통과하면 투영상이 불선명해지기 쉬운 경향이 있으므로, 필터나 렌즈를 통과시키지 않는 광이 바람직하다. 투영면으로서는, 필름의 투영 화상이 시인되는 한 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 아크릴판, 염화비닐판, 폴리에틸렌판, 영화용의 스크린 등을 사용해도 된다. 투영면에 투영된 화상의 촬영 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 도 1에 나타난 바와 같이, 투영면(3)과 필름(2)과 광원(1)을 일직선 상에 배치하고, 투영면(3)에 투영된 투영 화상(4)을 비스듬하게 촬영하는 위치에 카메라(6)를 고정하여 촬영해도 된다. 촬영 모드는 적절히 설정해도 되고, 예를 들면, 실시예에 기재된 바와 같은 설정을 사용해도 된다. 이와 같이 하여 투영 화상이 얻어진다.In step (1), light from a light source is irradiated onto the film, and light transmitted through the film is projected onto a projection surface to obtain a projected image. In step (1), for example, as shown in FIG. 1, a film, a projection surface, or the like may be arranged. Specifically, the light source 1, the film 2, and the projection surface 3 are arranged, and the projection image 4 projected on the projection surface 3 is photographed with the camera 6 to obtain a projection image. The light 5 output from the light source 1 passes through the film 2 and the transmitted light is projected onto the projection surface 3 as a projected image 4. When the light 5 passes through the film 2, if the film 2 is homogeneous, the light 5 passes through the film 2 homogeneously to reach the projection surface 3, but the film 2 is homogeneous When the light 5 is transmitted through the film 2, reflection and / or refraction occurs, and there is a distorted state compared with the state output from the light source. The light of reaches the projection surface 3. By evaluating the thus-obtained projected image 4 by the method described later, the optical homogeneity of the film can be evaluated or quantified with high precision. From the viewpoint of easy to obtain a clear projected image, it is preferable to take a picture in a dark room by transmitting only light from a light source through the film. The type of the light source is not particularly limited, and for example, an LED light source or a halogen lamp may be used. A light source close to the point light source is preferable, and the light emitting portion is preferably 1 cm or less in diameter. Since the projected image tends to become opaque when passing through a filter or a lens, light that does not pass through the filter or lens is preferable. The projection surface is not particularly limited as long as the projected image of the film is viewed, but for example, an acrylic plate, a vinyl chloride plate, a polyethylene plate, a movie screen, or the like may be used. The photographing method of the image projected on the projection surface is not particularly limited, for example, as shown in Fig. 1, the projection surface 3, the film 2, and the light source 1 are arranged in a straight line, and the projection surface 3 The camera 6 may be fixed at a position where the projected image 4 projected on the camera is photographed obliquely. The photographing mode may be appropriately set, or, for example, a setting as described in the examples may be used. In this way, a projected image is obtained.

공정 (2)에 있어서, 공정 (1)의 투영법에 있어서 필름을 이용하지 않고, 광원으로부터의 광을 투영면에 투영하여 투영 화상을 얻는다. 구체적으로는, 예를 들면, 도 1에 있어서, 필름(2)만을 제거한 상태에서 촬영을 행하여, 배경 화상을 얻는다.In step (2), in the projection method of step (1), a film is not used, and light from a light source is projected onto a projection surface to obtain a projected image. Specifically, for example, in FIG. 1, photographing is performed with only the film 2 removed, and a background image is obtained.

공정 (3)에 있어서, 공정 (1)에서 얻은 투영 화상 및 공정 (2)에서 얻은 배경 화상을 각각 그레이 스케일화에 의해 수치화하고, 수치화된 화상 데이터를 푸리에 변환하여 역공간상을 얻는다. 그레이 스케일화는, 화상 해석 소프트웨어(예를 들면, 미국국립위생연구소 제 「Image-J」)를 이용하여, 예를 들면, 8-bit의 그레이 스케일화함으로써 행할 수 있다. 그레이 스케일화에 의해, 투영 화상 및 배경 화상을 수치화할 수 있다. 다음으로, 수치화된 화상 데이터를 푸리에 변환하여 역공간상(필름 역공간상 및 배경 역공간상)을 얻는다. 수치화된 화상 데이터를 푸리에 변환함으로써, 화상의 농담의 주기와 진폭을 얻을 수 있다. 푸리에 변환의 방법으로서는, 예를 들면, 화상 해석 소프트웨어(Image-J)의 푸리에 변환 기능을 이용하는 등을 들 수 있다.In the step (3), the projected image obtained in the step (1) and the background image obtained in the step (2) are respectively digitized by gray scale, and Fourier transform of the digitized image data is obtained to obtain an inverse spatial image. Gray scale can be performed, for example, by 8-bit gray scale using image analysis software (for example, "National Hygiene Research Institute" "Image-J"). The projection image and the background image can be digitized by gray scale. Next, the inverse spatial image (film inverse spatial image and background inverse spatial image) is obtained by Fourier transform of the digitized image data. By performing Fourier transform of the digitized image data, it is possible to obtain the period and amplitude of the lightness of the image. As a method of Fourier transform, the Fourier transform function of image analysis software (Image-J) is used, for example.

공정 (4)에 있어서, 투영 화상의 역공간상에 있어서 직교하는 2방향의 각 라인 프로파일로부터, 배경 화상의 역공간상에 있어서 직교하는 상기 2방향의 각 라인 프로파일을 각각 빼서, 블랭크 보정된 라인 프로파일을 얻는다.In the step (4), blank corrected lines are subtracted from each line profile in the two directions orthogonal in the inverse space of the projected image, and each line profile in the two directions orthogonal in the inverse space on the background image is subtracted, respectively. Get a profile.

공정 (5)에 있어서, 공정 (4)에서 얻은 블랭크 보정된 라인 프로파일의 최대 강도 Ymax(각각 Ymh 및 Ymv)를 측정한다. Ymh 및 Ymv의 측정 방법은, 상기에 있어서 본 발명의 필름에 대하여 기재한 바와 같고, 예를 들면, 역공간상의 중심을 지나는 수평 방향(h1 방향) 및 수직 방향(v1 방향)의 각각의 방향에 대하여 라인 프로파일을 작성하는 경우, 예를 들면, 도 3에 나타난 바와 같은, X축에 주파수, Y축에 강도를 나타내는 그래프로서 나타내어진다. 그리고, 수평 방향(h1 방향)의 라인 프로파일에 있어서의 최대 강도 Ymax를 Ymh1이라고 하고, 최대 강도 Ymh1을 나타내는 주파수로부터 블랭크 보정된 라인 프로파일에 있어서의 전체 주파수의 중앙값 Xcen을 뺀 값인 Xmax를 Xmh1이라고 한다. 또, 수직 방향(v1 방향)의 라인 프로파일에 있어서의 최대 강도 Ymax를 Ymv1이라고 하고, 최대 강도 Ymv1을 나타내는 주파수로부터 블랭크 보정된 라인 프로파일에 있어서의 전체 주파수의 중앙값 Xcen을 뺀 값인 Xmax를 Xmv1이라고 한다. 또한, 당해 2방향은 서로 직교하고 있으면 특별히 한정되지 않고, 중심을 지나지 않는 2방향이어도 되고, 수평 방향 및 수직 방향이 아니어도 된다.In step (5), the maximum intensity Y max (Y mh and Y mv respectively) of the blank corrected line profile obtained in step (4) is measured. The measurement methods of Y mh and Y mv are as described above for the film of the present invention, and, for example, each of the horizontal direction (h1 direction) and the vertical direction (v1 direction) passing through the center of the inverse space. When a line profile is created with respect to the direction, it is represented as a graph showing frequency on the X axis and intensity on the Y axis, for example, as shown in FIG. 3. Then, the maximum intensity Y max in the horizontal (h1 direction) line profile is referred to as Y mh1 , and X is a value obtained by subtracting the median value X cen of the entire frequency in the blank-corrected line profile from the frequency representing the maximum intensity Y mh1 . Let max be X mh1 . Moreover, the maximum intensity Y max in the line profile in the vertical direction (v1 direction) is Y mv1 , and X is a value obtained by subtracting the median value X cen of the total frequency in the blank-corrected line profile from the frequency representing the maximum intensity Y mv1 . Let max be X mv1 . Further, the two directions are not particularly limited as long as they are orthogonal to each other, and may be two directions that do not pass through the center, and may not be horizontal and vertical directions.

상기 Ymh 및 Ymv를 측정함으로써, 필름의 2차원 방향에서 균질성을 평가할 수 있다. 필름의 광학적 균질성을 저하시키는 한가지 원인이 되는 면상 불균일에는, 예를 들면, 줄무늬 형상의 불균일 등과 같이, 일차원의 평가에서는 충분히 검출할 수 없는 종류의 불균일이 있다. 본 발명의 평가 방법에 의하면, 이차원 방향에서 광학적 균질성을 평가할 수 있기 때문에, 필름의 불균일의 종류에 관계없이 높은 정밀도로 평가를 행할 수 있다. 또, 상기 Ymh 및 Ymv를 측정하여 값을 얻음으로써, 필름의 균질성을 정량하는 것도 가능하다.By measuring the Y mh and Y mv , it is possible to evaluate the homogeneity in the two-dimensional direction of the film. One of the causes of deterioration in the optical homogeneity of the film is a non-uniformity of the kind that cannot be sufficiently detected by one-dimensional evaluation, such as, for example, unevenness of stripes. According to the evaluation method of the present invention, since the optical homogeneity can be evaluated in the two-dimensional direction, evaluation can be performed with high precision regardless of the kind of non-uniformity of the film. In addition, it is also possible to quantify the homogeneity of the film by measuring Y mh and Y mv to obtain a value.

또한, 상기 최대 강도 Ymh 및 Ymv에 추가하여, 이들 최대 강도를 나타내는 주파수로부터 블랭크 보정된 라인 프로파일에 있어서의 전체 주파수의 중앙값 Xcen을 뺀 값인 Xmh 및 Xmv를 이용하여 평가를 행함으로써, 필름의 광학적 균질성에 영향을 주는 한가지 원인이 되는 면상 불균일이 생기는 주기를 검출할 수도 있다.Further, in addition to the maximum intensity Y mh and Y mv , evaluation is performed using X mh and X mv , which is the value obtained by subtracting the median value X cen of the total frequency from the blank-corrected line profile from the frequencies representing these maximum intensity. , It is also possible to detect a cycle in which surface unevenness, which is one cause affecting the optical homogeneity of the film, is generated.

또한, 본 발명의 광학 필름이 다층 구조를 갖는 경우, 본 발명의 제조 방법은, 상기 공정 (c) 및 (d)의 사이에, 공정 (c)에서 얻은 필름에 적어도 1종의 기능층 등을 적층시키는 공정을 포함하고 있어도 되고, 상기 공정 (d) 후에, 필름에 적어도 1종의 기능층 등을 적층시키는 공정을 포함하고 있어도 된다.In addition, when the optical film of the present invention has a multi-layer structure, the production method of the present invention includes at least one functional layer or the like in the film obtained in step (c) between steps (c) and (d). The step of laminating may be included, and after the step (d), a step of laminating at least one functional layer or the like to the film may be included.

< 층 구성 ><Layer composition>

본 발명의 광학 필름 및 본 발명의 제조 방법에 의해 제조된 광학 필름은, 중량평균 분자량이 23만 이상인 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지, 및 평균 일차입자경이 5∼35 ㎚인 필러를 포함하는 한, 단층이어도 되고 다층의 적층체여도 된다. 또한, 본 발명의 광학 필름이 다층의 적층체인 경우, 당해 적층체는, 상기 수지 및 필러의 양방을 포함하는 적어도 하나의 층을 갖는다. 본 발명의 광학 필름은, 상기 수지 및 필러의 양방을 포함하는 층인 단층 상태에서, Ymh 및 Ymv의 값, 및 (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값이 상기 소정의 범위 내여도 되고, 상기 수지 및 필러의 양방을 포함하는 층을 적어도 1층 갖고, 당해 층에, 적어도 1층의 기능층 등을 적층시킨 다층 구성을 갖는 적층체의 상태에서, Ymh 및 Ymv의 값, 및 (Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2의 값이 상기 소정의 범위 내여도 된다. 또한, 이하에 있어서 본 발명의 광학 필름에, 적어도 1층의 기능층 등의 기타의 층을 적층시킨 다층 구조를 갖는 본 발명의 광학 필름을, 「광학 적층체」라고도 한다.The optical film of the present invention and the optical film produced by the production method of the present invention include polyimide resins and / or polyamide resins having a weight average molecular weight of 230,000 or more, and fillers having an average primary particle diameter of 5 to 35 nm. As long as it contains, it may be a single layer or a multilayer stack. Moreover, when the optical film of this invention is a multilayer laminated body, the said laminated body has at least one layer containing both the said resin and a filler. In the optical film of the present invention, the values of Y mh and Y mv , and (Y mh + Y mv ) / (X mh + X mv ) 1/2 in the monolayer state, which is a layer containing both the resin and the filler, are the above It may be within a predetermined range, in the state of a laminate having a multi-layered structure in which at least one layer including both the resin and the filler is laminated, and at least one functional layer or the like is laminated on the layer, Y mh and The value of Y mv and the value of (Y mh + Y mv ) / (X mh + X mv ) 1/2 may be within the above-described predetermined range. In the following, the optical film of the present invention having a multi-layer structure in which other layers such as at least one functional layer are laminated on the optical film of the present invention is also referred to as an "optical laminate".

< 광학 적층체 ><Optical laminate>

본 발명의 광학 필름은, 상기 수지 및 필러의 양방을 포함하는 층을 적어도 1층 갖고, 당해 층의 적어도 일방의 면에 1 이상의 기능층을 적층시킨 다층 구조를 갖는 광학 적층체여도 된다. 기능층으로서는 예를 들면, 자외선흡수층, 하드 코팅층, 점착층, 색상조정층, 굴절률조정층, 프라이머층, 가스 배리어층 등을 들 수 있다. 기능층은 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 또한, 각종 물성을 측정할 때에는, 광학 적층체보다, 본 발명의 광학 필름 단독으로(단층 상태에서) 측정하는 것이 바람직하다.The optical film of the present invention may be an optical laminate having a multilayer structure having at least one layer including both the resin and the filler, and at least one functional layer laminated on at least one surface of the layer. Examples of the functional layer include an ultraviolet absorbing layer, a hard coating layer, an adhesive layer, a color adjusting layer, a refractive index adjusting layer, a primer layer, and a gas barrier layer. The functional layer can be used alone or in combination of two or more. Moreover, when measuring various physical properties, it is preferable to measure with the optical film of this invention alone (in a single layer state) rather than an optical laminated body.

자외선흡수층은, 자외선 흡수의 기능을 갖는 층이고, 예를 들면, 자외선경화형의 투명 수지, 전자선경화형의 투명수지, 및 열경화형의 투명 수지로부터 선택되는 주재(主材)와, 이 주재에 분산된 자외선흡수제로 구성된다.The ultraviolet absorbing layer is a layer having a function of absorbing ultraviolet rays. For example, a main material selected from an ultraviolet curing type transparent resin, an electron beam curing type transparent resin, and a thermosetting type transparent resin, and dispersed in the main material It is composed of UV absorbers.

점착층은, 점착성의 기능을 갖는 층이고, 광학 필름을 기타의 부재에 접착시키는 기능을 갖는다. 점착층의 형성 재료로서는, 통상 알려진 것을 이용할 수 있다. 예를 들면, 열경화성 수지 조성물 또는 광경화성 수지 조성물을 이용할 수 있다. 이 경우, 사후적으로 에너지를 공급함으로써 열경화성 수지 조성물 또는 광경화성 수지 조성물을 고분자화하여 경화시킬 수 있다.The adhesive layer is a layer having an adhesive function and has a function of adhering an optical film to other members. As a material for forming the adhesive layer, a commonly known one can be used. For example, a thermosetting resin composition or a photocurable resin composition can be used. In this case, the thermosetting resin composition or the photocurable resin composition can be polymerized and cured by supplying energy afterwards.

점착층은, 감압형 접착제(Pressure Sensitive Adhesive, PSA)라고 불리는, 가압에 의해 대상물에 첩착되는 층이어도 된다. 감압형 접착제는, 「상온에서 점착성을 갖고, 가벼운 압력으로 피착재에 접착하는 물질」(JIS K6800)인 점착제여도 되고, 「특정 성분을 보호 피막(마이크로 캡슐)에 내용(內容)하고, 적당한 수단(압력, 열 등)에 의해서 피막을 파괴할 때까지는 안정성을 보지(保持)할 수 있는 접착제」(JIS K6800)인 캡슐형 접착제여도 된다.The adhesive layer may be a layer adhered to an object by pressing, called a pressure sensitive adhesive (PSA). The pressure-sensitive adhesive may be a pressure sensitive adhesive that is `` substance having tackiness at room temperature and adheres to an adherend at light pressure '' (JIS K6800), and `` appropriate means for containing a specific component in a protective film (microcapsule) '' It may be a capsule adhesive, which is an adhesive capable of maintaining stability until the film is destroyed by (pressure, heat, etc.) (JIS K6800).

색상조정층은, 색상 조정의 기능을 갖는 층이고, 광학 적층체를 목적으로 하는 색상으로 조정할 수 있는 층이다. 색상조정층은, 예를 들면, 수지 및 착색제를 함유하는 층이다. 이 착색제로서는 예를 들면, 산화티탄, 산화아연, 벵갈라, 티타늄옥사이드계 소성 안료, 군청, 알루민산 코발트, 및 카본 블랙 등의 무기 안료; 아조계 화합물, 퀴나크리돈계 화합물, 안트라퀴논계 화합물, 페릴렌계 화합물, 이소인돌리논계 화합물, 프탈로시아닌계 화합물, 퀴노프탈론계 화합물, 스렌계 화합물, 및 디케토피롤로피롤계 화합물 등의 유기 안료; 황산바륨, 및 탄산칼슘 등의 체질 안료; 및 염기성 염료, 산성 염료, 및 매염 염료 등의 염료를 들 수 있다.The color adjustment layer is a layer having a function of color adjustment, and is a layer that can be adjusted to the color targeting the optical laminate. The color adjustment layer is, for example, a layer containing a resin and a colorant. Examples of the colorant include inorganic pigments such as titanium oxide, zinc oxide, bengala, titanium oxide-based fired pigments, ultramarine, cobalt aluminate, and carbon black; Organic pigments such as azo-based compounds, quinacridone-based compounds, anthraquinone-based compounds, perylene-based compounds, isoindolinone-based compounds, phthalocyanine-based compounds, quinophthalone-based compounds, styrene-based compounds, and diketopyrrolopyrrole-based compounds; Extender pigments such as barium sulfate and calcium carbonate; And dyes such as basic dyes, acid dyes, and mordant dyes.

굴절률조정층은, 굴절률 조정의 기능을 갖는 층이고, 예를 들면, 상기 수지 및 필러의 양방을 포함하는 층과는 다른 굴절률을 갖고, 광학 적층체에 소정의 굴절률을 부여할 수 있는 층이다. 굴절률조정층은, 예를 들면, 적절히 선택된 수지, 및 경우에 따라 추가로 안료를 함유하는 수지층이어도 되고, 금속의 박막이어도 된다. 굴절률을 조정하는 안료로서는, 예를 들면, 산화규소, 산화알루미늄, 산화안티몬, 산화주석, 산화티탄, 산화지르코늄 및 산화탄탈을 들 수 있다. 당해 안료의 평균 일차입자경은 0.1 ㎛ 이하여도 된다. 안료의 평균 일차입자경을 0.1 ㎛ 이하로 함으로써, 굴절률조정층을 투과하는 광의 난반사를 방지하고, 투명도의 저하를 방지할 수 있다. 굴절률조정층에 이용되는 금속으로서는, 예를 들면, 산화티탄, 산화탄탈, 산화지르코늄, 산화아연, 산화주석, 산화규소, 산화인듐, 산질화티탄, 질화티탄, 산질화규소, 질화규소 등의 금속 산화물 또는 금속 질화물을 들 수 있다.The refractive index adjusting layer is a layer having a function of adjusting the refractive index, and is, for example, a layer having a different refractive index from a layer containing both the resin and the filler, and capable of imparting a predetermined refractive index to the optical laminate. The refractive index adjusting layer may be, for example, an appropriately selected resin, and optionally a resin layer containing a pigment, or a thin metal film. Examples of the pigment for adjusting the refractive index include silicon oxide, aluminum oxide, antimony oxide, tin oxide, titanium oxide, zirconium oxide and tantalum oxide. The average primary particle size of the pigment may be 0.1 µm or less. By setting the average primary particle size of the pigment to 0.1 µm or less, diffuse reflection of light passing through the refractive index adjusting layer can be prevented and a decrease in transparency can be prevented. Examples of the metal used in the refractive index adjusting layer include metal oxides such as titanium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, silicon oxide, indium oxide, titanium oxynitride, titanium nitride, silicon oxynitride, and silicon nitride, or And metal nitrides.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 광학 필름은, 상기 수지 및 필러를 포함하는 층의 적어도 일방의 면(편면(片面) 또는 양면)에 하드 코팅층을 갖는다. 양면에 하드 코팅층을 갖는 경우, 2개의 하드 코팅층은, 포함되는 성분이 서로 동일해도 되고 달라도 된다.In one preferred embodiment of the present invention, the optical film has a hard coating layer on at least one side (one side or both sides) of the layer containing the resin and the filler. When a hard coating layer is provided on both surfaces, the components contained in the two hard coating layers may be the same or different from each other.

하드 코팅층으로서는 예를 들면, 아크릴계, 에폭시계, 우레탄계, 벤질클로라이드계, 비닐계 등의 공지의 하드 코팅층을 들 수 있다. 이들 중에서도 광학 필름의 광각 방향의 시인성의 저하를 억제하고, 또한 내굴곡성을 향상시킨다는 관점에서, 아크릴계, 우레탄계, 및 그들의 조합의 하드 코팅층을 바람직하게 이용할 수 있다. 하드 코팅층은, 경화성 화합물을 포함하는 경화성 조성물의 경화물인 것이 바람직하고, 활성 에너지선의 조사에 의해, 당해 경화성 화합물을 중합하여 형성된다. 경화성 화합물로서는, 예를 들면, 다관능 (메타)아크릴레이트계 화합물을 들 수 있다. 다관능 (메타)아크릴레이트계 화합물이란, 분자 중에 적어도 2개의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물이다.Examples of the hard coating layer include known hard coating layers such as acrylic, epoxy, urethane, benzyl chloride, and vinyl. Among these, a hard coating layer of an acrylic type, a urethane type, or a combination thereof can be preferably used from the viewpoint of suppressing a decrease in visibility in the wide-angle direction of the optical film and improving the bending resistance. The hard coat layer is preferably a cured product of a curable composition containing a curable compound, and is formed by polymerizing the curable compound by irradiation with active energy rays. As a curable compound, a polyfunctional (meth) acrylate type compound is mentioned, for example. A polyfunctional (meth) acrylate-based compound is a compound having at least two (meth) acryloyl groups in a molecule.

다관능 (메타)아크릴레이트계 화합물로서는 예를 들면, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올에탄트리(메타)아크릴레이트, 테트라메틸올메탄트리(메타)아크릴레이트, 테트라메틸올메탄테트라(메타)아크릴레이트, 펜타글리세롤트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 글리세린트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 트리스((메타)아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트,; 포스파젠 화합물의 포스파젠환에 (메타)아크릴로일기가 도입된 포스파젠계 (메타)아크릴레이트 화합물; 분자 중에 적어도 2개의 이소시아네이토기를 갖는 폴리이소시아네이트와 적어도 1개의 (메타)아크릴로일기 및 수산기를 갖는 폴리올 화합물의 반응에 의해 얻어지는 우레탄(메타)아크릴레이트 화합물; 분자 중에 적어도 2개의 카르본산 할로겐화물과 적어도 1개의 (메타)아크릴로일기 및 수산기를 갖는 폴리올 화합물의 반응에 의해 얻어지는 폴리에스테르(메타)아크릴레이트 화합물; 및, 상기 각 화합물의 2량체, 3량체 등과 같은 올리고머 등이다. 이들 화합물은 각각 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 이용된다.Examples of the polyfunctional (meth) acrylate-based compound include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanedioldi (meth) acrylate, and neopentyl glycoldi (Meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethanetri (meth) acrylate, tetramethylolmethanetetra (meth) acrylate, pentaglycerol Tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) Acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tris ((meth) acryloyloxyethyl) Isocyanurate; A phosphazene-based (meth) acrylate compound in which a (meth) acryloyl group is introduced into the phosphazene ring of the phosphazene compound; Urethane (meth) acrylate compounds obtained by reaction of a polyisocyanate having at least two isocyanato groups in a molecule and a polyol compound having at least one (meth) acryloyl group and a hydroxyl group; A polyester (meth) acrylate compound obtained by reaction of at least two carboxylic acid halides in a molecule and a polyol compound having at least one (meth) acryloyl group and a hydroxyl group; And oligomers such as dimers and trimers of each compound. These compounds are used individually or in mixture of 2 or more types.

경화성 화합물에는, 상기의 다관능 (메타)아크릴레이트계 화합물 외에, 단관능 (메타)아크릴레이트계 화합물을 포함해도 된다. 단관능 (메타)아크릴레이트계 화합물로서는 예를 들면, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 화합물은 단독 또는 2종류 이상을 혼합하여 이용된다. 단관능 (메타)아크릴레이트계 화합물의 함유량은, 경화성 조성물에 포함되는 화합물의 고형분을 100 질량%라고 하였을 때, 바람직하게는 10 질량% 이하이다. 또한, 본 명세서에 있어서, 고형분이란, 경화성 조성물에 포함되는 용매를 제외한, 모든 성분을 의미한다.The curable compound may include a monofunctional (meth) acrylate-based compound in addition to the polyfunctional (meth) acrylate-based compound described above. Examples of the monofunctional (meth) acrylate-based compound include hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and hydroxybutyl (meth) ) Acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, and the like. These compounds are used alone or in combination of two or more. The content of the monofunctional (meth) acrylate-based compound is preferably 10% by mass or less when the solid content of the compound contained in the curable composition is 100% by mass. In addition, in this specification, solid content means all the components except the solvent contained in a curable composition.

또, 경화성 화합물은 중합성 올리고머를 함유하고 있어도 된다. 중합성 올리고머를 함유시킴으로써, 하드 코팅층의 경도를 조정할 수 있다. 중합성 올리고머로서는 말단 (메타)아크릴레이트폴리메틸메타크릴레이트, 말단 스티릴폴리(메타)아크릴레이트, 말단 (메타)아크릴레이트폴리스티렌, 말단 (메타)아크릴레이트폴리에틸렌글리콜, 말단 (메타)아크릴레이트아크릴로니트릴-스티렌 공중합체, 말단 (메타)아크릴레이트스티렌-메틸(메타)아크릴레이트 공중합체 등의 마크로모노머를 들 수 있다. 중합성 올리고머의 함유량은, 경화성 조성물에 포함되는 화합물의 고형분을 100 질량%라고 하였을 때, 바람직하게는 5∼50 질량%이다.Moreover, the curable compound may contain a polymerizable oligomer. The hardness of the hard coat layer can be adjusted by containing a polymerizable oligomer. As the polymerizable oligomer, terminal (meth) acrylate polymethyl methacrylate, terminal styryl poly (meth) acrylate, terminal (meth) acrylate polystyrene, terminal (meth) acrylate polyethylene glycol, terminal (meth) acrylate acrylic And macromonomers such as a nitrile-styrene copolymer and a terminal (meth) acrylate styrene-methyl (meth) acrylate copolymer. The content of the polymerizable oligomer is preferably 5 to 50 mass% when the solid content of the compound contained in the curable composition is 100 mass%.

하드 코팅층을 형성하는 경화성 조성물은, 다관능 (메타)아크릴레이트계 화합물 및 중합성 올리고머 외에, 첨가제를 포함하고 있어도 된다. 첨가제로서는 예를 들면, 중합개시제, 실리카, 레벨링제, 용매 등을 들 수 있다. 용매로서는 예를 들면, 메틸에틸케톤, 폴리프로필렌글리콜모노메틸에테르 등을 들 수 있다.The curable composition forming the hard coating layer may contain an additive in addition to the polyfunctional (meth) acrylate-based compound and the polymerizable oligomer. As an additive, a polymerization initiator, a silica, a leveling agent, a solvent, etc. are mentioned, for example. As a solvent, methyl ethyl ketone, polypropylene glycol monomethyl ether, etc. are mentioned, for example.

하드 코팅층의 막 두께는, 광학 필름의 경도, 내굴곡성 및 시인성을 향상시킨다는 관점에서, 바람직하게는 3∼30 ㎛, 보다 바람직하게는 5∼25 ㎛, 더 바람직하게는 5∼20 ㎛이다.The film thickness of the hard coat layer is preferably 3 to 30 µm, more preferably 5 to 25 µm, and still more preferably 5 to 20 µm, from the viewpoint of improving the hardness, bending resistance and visibility of the optical film.

< 보호 필름 ><Protective film>

본 발명의 광학 필름에는 보호 필름이 적층되어 있어도 된다. 보호 필름은, 광학 필름의 편면 또는 양면에 적층되어 있어도 된다. 본 발명의 광학 필름이, 상기 수지 및 필러의 양방을 포함하는 층의 편면에 기능층을 갖는 경우에는, 보호 필름은, 상기 수지 및 필러의 양방을 포함하는 층측의 표면 또는 기능층측의 표면에 적층되어 있어도 되고, 이들 양방의 표면에 적층되어 있어도 된다. 광학 필름이, 상기 수지 및 필러의 양방을 포함하는 층의 양면에 기능층을 갖는 경우에는, 보호 필름은, 편방(片方)의 기능층측의 표면에 적층되어 있어도 되고, 양방의 기능층측의 표면에 적층되어 있어도 된다. 보호 필름은, 광학 필름 또는 기능층의 표면을 일시적으로 보호하기 위한 필름이고, 광학 필름 또는 기능층의 표면을 보호할 수 있는 박리 가능한 필름인 한 특별히 한정되지 않는다. 보호 필름으로서는 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지 필름; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 필름 등의 폴리올레핀계 수지 필름, 아크릴계 수지 필름 등을 들 수 있고, 폴리올레핀계 수지 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지 필름 및 아크릴계 수지 필름으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것이 바람직하다. 본 발명의 광학 필름에, 보호 필름이 2개 적층 되는 경우, 각 보호 필름은 동일 또는 달라도 된다.A protective film may be laminated on the optical film of the present invention. The protective film may be laminated on one side or both sides of the optical film. When the optical film of the present invention has a functional layer on one side of a layer containing both the resin and the filler, the protective film is laminated on the surface of the layer side or the functional layer side containing both the resin and the filler. It may be, or may be laminated on both surfaces. When the optical film has a functional layer on both sides of the layer containing both the resin and the filler, the protective film may be laminated on the surface of the functional layer side of one side, or on the surface of both functional layer sides. It may be laminated. The protective film is a film for temporarily protecting the surface of the optical film or functional layer, and is not particularly limited as long as it is a peelable film capable of protecting the surface of the optical film or functional layer. Examples of the protective film include polyester-based resin films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; And polyolefin-based resin films such as polyethylene and polypropylene films, and acrylic-based resin films, and are preferably selected from the group consisting of polyolefin-based resin films, polyethylene terephthalate-based resin films, and acrylic-based resin films. When two protective films are laminated on the optical film of the present invention, each protective film may be the same or different.

보호 필름의 두께는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상 10∼120 ㎛, 바람직하게는 15∼110 ㎛, 보다 바람직하게는 20∼100 ㎛이다. 본 발명의 광학 필름에, 보호 필름이 2개 적층되는 경우, 각 보호 필름의 두께는 동일해도 되고 달라도 된다.The thickness of the protective film is not particularly limited, but is usually 10 to 120 μm, preferably 15 to 110 μm, and more preferably 20 to 100 μm. When two protective films are laminated on the optical film of the present invention, the thickness of each protective film may be the same or different.

< 플렉시블 표시 장치 ><Flexible display device>

본 발명은, 상기 광학 필름을 구비하는, 플렉시블 표시 장치도 제공한다. 본 발명의 광학 필름은, 바람직하게는 플렉시블 표시 장치에 있어서 전면판으로서 이용되고, 당해 전면판은 윈도우 필름이라고 불리는 경우가 있다. 당해 플렉시블 표시 장치는, 플렉시블 표시 장치용 적층체와, 유기 EL 표시 패널로 이루어지고, 유기 EL 표시 패널에 대하여 시인측에 플렉시블 표시 장치용 적층체가 배치되고, 절곡(折曲) 가능하게 구성되어 있다. 플렉시블 표시 장치용 적층체로서는, 추가로 편광판, 바람직하게는 원 편광판, 터치 센서를 함유하고 있어도 되고, 그들의 적층 순서는 임의이지만, 시인측으로부터 윈도우 필름, 편광판, 터치 센서 또는 윈도우 필름, 터치 센서, 편광판의 순서로 적층되어 있는 것이 바람직하다. 터치 센서보다 시인측에 편광판이 존재하면, 터치 센서의 패턴이 시인되기 어려워져 표시 화상의 시인성이 좋아지므로 바람직하다. 각각의 부재는 접착제, 점착제 등을 이용하여 적층할 수 있다. 또, 상기 윈도우 필름, 편광판, 터치 센서 중 어느 층의 적어도 일면(一面)에 형성된 차광 패턴을 구비할 수 있다.The present invention also provides a flexible display device comprising the optical film. The optical film of the present invention is preferably used as a front plate in a flexible display device, and the front plate may be called a window film. The flexible display device is composed of a laminate for a flexible display device and an organic EL display panel, and a laminate for a flexible display device is disposed on the viewer side with respect to the organic EL display panel, and is configured to be bendable. . As a laminated body for a flexible display device, a polarizing plate, preferably a circular polarizing plate, and a touch sensor may be further included, and the lamination order is arbitrary, but a window film, a polarizing plate, a touch sensor or a window film, a touch sensor from the viewer side, It is preferable that they are laminated in the order of the polarizing plates. When the polarizing plate is present on the viewing side than the touch sensor, it is preferable because the pattern of the touch sensor is difficult to visualize and the visibility of the display image is improved. Each member can be laminated using an adhesive, an adhesive, or the like. In addition, a light blocking pattern formed on at least one surface of any one of the window film, the polarizing plate, and the touch sensor may be provided.

< 원 편광판 ><Circular polarizer>

본 발명의 플렉시블 표시 장치는, 상기와 같이, 편광판, 그 중에서도 원 편광판을 구비하는 것이 바람직하다. 원 편광판은, 직선 편광판에 λ/4 위상차판을 적층함으로써, 우 또는 좌 원 편광 성분만을 투과시키는 기능을 갖는 기능층이다. 예를 들면, 외광을 우 원 편광으로 변환하여 유기 EL 패널에 의해 반사되어 좌 원 편광으로 된 외광을 차단하고, 유기 EL의 발광 성분만을 투과시킴으로써 반사광의 영향을 억제하여 화상을 보기 쉽게 하기 위하여 이용된다. 원 편광 기능을 달성하기 위해서는, 직선 편광판의 흡수축과 λ/4 위상차판의 지상(遲相)축은 이론상 45° 일 필요가 있지만, 실용적으로는 45±10°이다. 직선 편광판과 λ/4 위상차판은 반드시 인접하여 적층될 필요는 없고, 흡수축과 지상축의 관계가 전술의 범위를 만족하고 있으면 된다. 전체 파장에 있어서 완전한 원 편광을 달성하는 것이 바람직하지만 실용상은 반드시 그럴 필요는 없으므로 본 발명에 있어서의 원 편광판은 타원 편광판도 포함한다. 직선 편광판의 시인측에 추가로 λ/4 위상차 필름을 적층하여, 출사광을 원 편광으로 함으로써 편광 선글라스를 쓴 상태에서의 시인성을 향상시키는 것도 바람직하다.As described above, the flexible display device of the present invention is preferably provided with a polarizing plate, particularly a circular polarizing plate. The circular polarizing plate is a functional layer having a function of transmitting only the right or left circularly polarizing component by laminating a λ / 4 phase difference plate on the linearly polarizing plate. For example, by converting external light into right circularly polarized light, it is reflected by the organic EL panel, blocks external light that is left circularly polarized, and transmits only the light emitting component of the organic EL to suppress the influence of reflected light and make it easier to see images. do. In order to achieve the circular polarization function, the absorption axis of the linear polarizing plate and the ground axis of the λ / 4 retardation plate need to be theoretically 45 °, but practically 45 ± 10 °. The linear polarizing plate and the λ / 4 retardation plate do not necessarily need to be stacked adjacent to each other, and the relationship between the absorption axis and the slow axis should just satisfy the above range. It is desirable to achieve full circular polarization at all wavelengths, but in practical use, the circular polarizing plate in the present invention also includes an elliptical polarizing plate. It is also preferable to further improve the visibility in the state of wearing polarized sunglasses by laminating a lambda / 4 phase difference film on the viewing side of the linear polarizing plate and making the emitted light circularly polarized.

직선 편광판은, 투과축 방향으로 진동하고 있는 광은 통과시키지만, 그것과는 수직인 진동 성분의 편광을 차단하는 기능을 갖는 기능층이다. 상기 직선 편광판은, 직선 편광자 단독 또는 직선 편광자 및 그 적어도 일면에 첩부(貼付)된 보호 필름을 구비한 구성이어도 된다. 상기 직선 편광판의 두께는 200 ㎛ 이하여도 되고, 바람직하게는, 0.5∼100 ㎛이다. 직선 편광판의 두께가 상기의 범위에 있으면 직선 편광판의 유연성이 저하되기 어려운 경향이 있다.The linearly polarizing plate is a functional layer having a function of passing through light oscillating in the direction of the transmission axis, but blocking polarization of a vibration component perpendicular to it. The linear polarizer may be configured with a linear polarizer alone or a linear polarizer and a protective film affixed to at least one surface thereof. The linear polarizing plate may have a thickness of 200 µm or less, and preferably 0.5 to 100 µm. When the thickness of the linear polarizing plate is within the above range, the flexibility of the linear polarizing plate tends to be difficult to deteriorate.

상기 직선 편광자는, 폴리비닐알콜(이하, PVA라고 간단히 기재하는 경우가 있음)계 필름을 염색, 연신함으로써 제조되는 필름형 편광자여도 된다. 연신에 의해서 배향한 PVA계 필름에, 요오드 등의 2색성 색소가 흡착, 또는 PVA에 흡착한 상태에서 연신됨으로써 2색성 색소가 배향하여, 편광 성능을 발휘한다. 상기 필름형 편광자의 제조에 있어서는, 그 외에 팽윤, 붕산에 의한 가교, 수용액에 의한 세정, 건조 등의 공정을 갖고 있어도 된다. 연신이나 염색 공정은 PVA계 필름 단독으로 행해도 되고, 폴리에틸렌테레프탈레이트와 같은 기타의 필름과 적층된 상태에서 행할 수도 있다. 이용되는 PVA계 필름의 막 두께는 바람직하게는 10∼100 ㎛이고, 상기 연신 배율은 바람직하게는 2∼10배이다.The linear polarizer may be a film-type polarizer produced by dyeing and stretching a polyvinyl alcohol (hereinafter sometimes simply referred to as PVA) -based film. A dichroic dye such as iodine is adsorbed to a PVA-based film oriented by stretching, or stretched in a state adsorbed to PVA to orient the dichroic dye to exhibit polarization performance. In the production of the above-mentioned film type polarizer, other steps may be included such as swelling, crosslinking with boric acid, washing with an aqueous solution, and drying. The stretching or dyeing process may be performed alone with a PVA-based film, or may be performed in a state in which it is laminated with other films such as polyethylene terephthalate. The film thickness of the PVA-based film used is preferably 10 to 100 µm, and the draw ratio is preferably 2 to 10 times.

또한, 상기 편광자의 다른 일례로서는, 액정 편광 조성물을 도포하여 형성하는 액정 도포형 편광자를 들 수 있다. 상기 액정 편광 조성물은, 액정성 화합물 및 2색성 색소 화합물을 포함할 수 있다. 상기 액정성 화합물은, 액정 상태를 나타내는 성질을 갖고 있으면 되고, 특히 스멕틱상 등의 고차의 배향 상태를 갖고 있으면 높은 편광 성능을 발휘할 수 있기 때문에 바람직하다. 또, 액정성 화합물은, 중합성 관능기를 갖는 것이 바람직하다.Moreover, as another example of the said polarizer, the liquid crystal coating type polarizer formed by apply | coating a liquid crystal polarizing composition is mentioned. The liquid crystal polarizing composition may include a liquid crystal compound and a dichroic dye compound. It is preferable that the liquid crystal compound has properties that exhibit a liquid crystal state, and particularly, a high degree of alignment such as a smectic phase can exhibit high polarization performance. Moreover, it is preferable that a liquid crystalline compound has a polymerizable functional group.

상기 2색성 색소 화합물은, 상기 액정 화합물과 함께 배향하여 2색성을 나타내는 색소로서, 중합성 관능기를 갖고 있어도 되고, 또한, 2색성 색소 자신이 액정성을 갖고 있어도 된다.The dichroic dye compound may be aligned with the liquid crystal compound to exhibit dichroism, and may have a polymerizable functional group, or the dichroic dye itself may have liquid crystallinity.

액정 편광 조성물에 포함되는 화합물 중 어느 것은 중합성 관능기를 갖는다. 상기 액정 편광 조성물은 추가로 개시제, 용제, 분산제, 레벨링제, 안정제, 계면활성제, 가교제, 실란 커플링제 등을 포함할 수 있다.Any of the compounds included in the liquid crystal polarizing composition has a polymerizable functional group. The liquid crystal polarizing composition may further include an initiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, a crosslinking agent, and a silane coupling agent.

액정 편광층은, 배향막 상에 액정 편광 조성물을 도포하여 액정 편광층을 형성함으로써 제조된다. 액정 편광층은, 필름형 편광자에 비하여 두께를 얇게 형성할 수 있고, 그 두께는 바람직하게는 0.5∼10 ㎛, 보다 바람직하게는 1∼5 ㎛이다.The liquid crystal polarizing layer is produced by applying a liquid crystal polarizing composition on an alignment film to form a liquid crystal polarizing layer. The liquid crystal polarizing layer can be formed to have a thinner thickness than the film-type polarizer, and the thickness is preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 1 to 5 μm.

상기 배향막은, 예를 들면, 기재 상에 배향막 형성 조성물을 도포하고, 러빙, 편광 조사 등에 의해 배향성을 부여함으로써 제조된다. 상기 배향막 형성 조성물은 배향제를 포함하고, 추가로 용제, 가교제, 개시제, 분산제, 레벨링제, 실란 커플링제 등을 포함하고 있어도 된다. 상기 배향제로서는 예를 들면, 폴리비닐알콜류, 폴리아크릴레이트류, 폴리아믹산류, 폴리이미드류를 들 수 있다. 편광 조사에 의해 배향성을 부여하는 배향제를 이용하는 경우, 신나메이트기를 포함하는 배향제를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 배향제로서 사용되는 고분자의 중량평균 분자량은 예를 들면, 10,000∼1,000,000 정도이다. 상기 배향막의 막 두께는 바람직하게는 5∼10,000 ㎚이고, 배향규제력이 충분히 발현된다는 점에서, 보다 바람직하게는 10∼500 ㎚이다.The alignment film is produced, for example, by applying an alignment film forming composition on a substrate and imparting alignment properties by rubbing, polarization irradiation, or the like. The alignment film forming composition may include an alignment agent, and may further include a solvent, a crosslinking agent, an initiator, a dispersing agent, a leveling agent, a silane coupling agent, and the like. Examples of the alignment agent include polyvinyl alcohols, polyacrylates, polyamic acids, and polyimides. When using the alignment agent which provides orientation by polarization irradiation, it is preferable to use the alignment agent containing a cinnamate group. The weight average molecular weight of the polymer used as the alignment agent is, for example, about 10,000 to 1,000,000. The film thickness of the alignment film is preferably 5 to 10,000 nm, and more preferably 10 to 500 nm in that the orientation regulating force is sufficiently expressed.

상기 액정 편광층은 기재로부터 박리하여 전사하여 적층할 수도 있고, 상기 기재를 그대로 적층할 수도 있다. 상기 기재가, 보호 필름이나 위상차판, 윈도우 필름의 투명 기재로서의 역할을 하는 것도 바람직하다.The liquid crystal polarizing layer may be peeled off from the substrate and transferred and laminated, or the substrate may be laminated as it is. It is also preferable that the substrate serves as a transparent substrate for the protective film, retardation plate, and window film.

상기 보호 필름으로서는, 투명한 고분자 필름이면 되고 상기 윈도우 필름의 투명 기재에 사용되는 재료나 첨가제와 동일한 것을 사용할 수 있다. 또, 에폭시 수지 등의 카티온 경화 조성물이나 아크릴레이트 등의 라디칼 경화 조성물을 도포하여 경화하여 얻어지는 코팅형의 보호 필름이어도 된다. 당해 보호 필름은, 필요에 따라 가소제, 자외선흡수제, 적외선흡수제, 안료나 염료와 같은 착색제, 형광증백제, 분산제, 열안정제, 광안정제, 대전방지제, 산화방지제, 활제, 용제 등을 포함하고 있어도 된다. 당해 보호 필름의 두께는 바람직하게는 200 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 1∼100 ㎛이다. 보호 필름의 두께가 상기의 범위에 있으면, 당해 필름의 유연성이 저하되기 어려운 경향이 있다.As the protective film, a transparent polymer film may be used, and the same material or additive used for the transparent substrate of the window film can be used. Moreover, the coating type protective film obtained by apply | coating and curing a cationic curing composition, such as an epoxy resin, or a radical curing composition, such as an acrylate, may be sufficient. The protective film may contain a plasticizer, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, a colorant such as a pigment or dye, a fluorescent brightener, a dispersant, a heat stabilizer, a light stabilizer, an antistatic agent, an antioxidant, a lubricant, a solvent, and the like, if necessary. . The thickness of the protective film is preferably 200 µm or less, and more preferably 1 to 100 µm. When the thickness of the protective film is within the above range, the flexibility of the film tends to be difficult to deteriorate.

상기 λ/4 위상차판은, 입사광의 진행 방향에 직교하는 방향(필름의 면 내 방향)으로 λ/4의 위상차를 부여하는 필름이다. 상기 λ/4 위상차판은, 셀룰로오스계 필름, 올레핀계 필름, 폴리카보네이트계 필름 등의 고분자 필름을 연신함으로써 제조되는 연신형 위상차판이어도 된다. 상기 λ/4 위상차판은, 필요에 따라 위상차 조정제, 가소제, 자외선흡수제, 적외선흡수제, 안료나 염료와 같은 착색제, 형광증백제, 분산제, 열안정제, 광안정제, 대전방지제, 산화방지제, 활제, 용제 등을 포함하고 있어도 된다.The lambda / 4 phase difference plate is a film that gives a lambda / 4 phase difference in a direction orthogonal to the traveling direction of incident light (in-plane direction of the film). The λ / 4 retardation plate may be a stretched retardation plate produced by stretching a polymer film such as a cellulose-based film, an olefin-based film, or a polycarbonate-based film. The λ / 4 retardation plate, if necessary, retardation adjuster, plasticizer, ultraviolet absorber, infrared absorber, colorant such as pigment or dye, fluorescent whitening agent, dispersant, heat stabilizer, light stabilizer, antistatic agent, antioxidant, lubricant, solvent Etc. may be included.

상기 연신형 위상차판의 두께는 바람직하게는 200 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 1∼100 ㎛이다. 연신형 위상차판의 두께가 상기의 범위에 있으면, 당해 연신형 위상차판의 유연성이 저하되기 어려운 경향이 있다.The thickness of the stretched retardation plate is preferably 200 μm or less, and more preferably 1 to 100 μm. When the thickness of the stretched retardation plate is within the above range, the flexibility of the stretched retardation plate tends to be less likely to decrease.

또한 상기 λ/4 위상차판의 다른 일례로서는, 액정 조성물을 도포하여 형성하는 액정 도포형 위상차판을 들 수 있다.Moreover, as another example of the lambda / 4 phase difference plate, a liquid crystal coating type retardation plate formed by applying a liquid crystal composition is mentioned.

상기 액정 조성물은 네마틱, 콜레스테릭, 스멕틱 등의 액정 상태를 나타내는 액정성 화합물을 포함한다. 상기 액정성 화합물은 중합성 관능기를 갖는다.The liquid crystal composition includes a liquid crystal compound exhibiting liquid crystal states such as nematic, cholesteric, and smectic. The liquid crystal compound has a polymerizable functional group.

상기 액정 조성물은, 추가로 개시제, 용제, 분산제, 레벨링제, 안정제, 계면활성제, 가교제, 실란 커플링제 등을 포함할 수 있다.The liquid crystal composition may further include an initiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, a crosslinking agent, and a silane coupling agent.

상기 액정 도포형 위상차판은, 상기 액정 편광층과 마찬가지로, 액정 조성물을 하지(下地) 상에 도포, 경화하여 액정 위상차층을 형성함으로써 제조할 수 있다. 액정 도포형 위상차판은, 연신형 위상차판에 비하여 두께를 얇게 형성할 수 있다. 상기 액정 편광층의 두께는 바람직하게는 0.5∼10 ㎛, 보다 바람직하게는 1∼5 ㎛이다.The liquid crystal coating-type retardation plate can be produced by coating and curing a liquid crystal composition on a base, as in the liquid crystal polarizing layer, to form a liquid crystal retardation layer. The liquid crystal-coated retardation plate can be formed to have a thinner thickness than the stretched retardation plate. The thickness of the liquid crystal polarizing layer is preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 1 to 5 μm.

상기 액정 도포형 위상차판은 기재로부터 박리하여 전사하여 적층할 수도 있고, 상기 기재를 그대로 적층할 수도 있다. 상기 기재가, 보호 필름이나 위상차판, 윈도우 필름의 투명 기재로서의 역할을 하는 것도 바람직하다.The liquid crystal coating type retardation plate may be peeled off from the substrate and transferred to be laminated, or the substrate may be laminated as it is. It is also preferable that the substrate serves as a transparent substrate for the protective film, retardation plate, and window film.

일반적으로는, 단파장일수록 복굴절이 크고 장파장이 될수록 작은 복굴절을 나타내는 재료가 많다. 이 경우에는 전체 가시광 영역에서 λ/4의 위상차를 달성할 수는 없으므로, 시감도(視感度)가 높은 560 ㎚ 부근에 대하여 λ/4로 되도록, 면 내 위상차는 바람직하게는 100∼180 ㎚, 보다 바람직하게는 130∼150 ㎚로 되도록 설계된다. 통상과는 반대의 복굴절률 파장 분산 특성을 갖는 재료를 이용한 역분산 λ/4 위상차판은, 시인성이 양호하게 되는 점에서 바람직하다. 이와 같은 재료로서는, 예를 들면, 연신형 위상차판은 일본 공개특허 특개2007-232873호 공보 등에, 액정 도포형 위상차판은 일본 공개특허 특개2010-30979호 공보 등에 기재되어 있는 것을 이용할 수 있다.In general, the shorter the wavelength, the greater the birefringence and the longer the wavelength, the more materials exhibiting the smaller birefringence. In this case, since a phase difference of λ / 4 cannot be achieved in the entire visible light region, the in-plane phase difference is preferably 100 to 180 nm, so that it is λ / 4 with respect to the vicinity of 560 nm with high visibility. It is preferably designed to be 130 to 150 nm. The reverse dispersion λ / 4 retardation plate using a material having a birefringence wavelength dispersion characteristic as opposed to normal is preferable in view of good visibility. As such a material, for example, a stretched retardation plate described in JP 2007-232873 A and the like and a liquid crystal coated retardation plate described in JP 2010-30979 A can be used.

또, 기타의 방법으로서는 λ/2 위상차판과 조합함으로써 광대역 λ/4 위상차판을 얻는 기술도 알려져 있다(예를 들면, 일본 공개특허 특개평10-90521호 공보 등). λ/2 위상차판도 λ/4 위상차판과 마찬가지의 재료 및 방법으로 제조된다. 연신형 위상차판과 액정 도포형 위상차판의 조합은 임의이지만, 어느 것이나 액정 도포형 위상차판을 이용함으로써 막 두께를 얇게 할 수 있다.As another method, a technique of obtaining a broadband λ / 4 phase difference plate by combining with a λ / 2 phase difference plate is also known (for example, Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 10-90521, etc.). The λ / 2 retardation plate is also made of the same material and method as the λ / 4 retardation plate. The combination of the stretched retardation plate and the liquid crystal coating retardation plate is arbitrary, but any of them can reduce the film thickness by using the liquid crystal coating retardation plate.

상기 원 편광판에는 비스듬한 방향의 시인성을 높이기 위하여, 정(正)의 C 플레이트를 적층하는 방법이 알려져 있다(예를 들면, 일본 공개특허 특개2014-224837호 공보 등). 정의 C 플레이트는, 액정 도포형 위상차판이어도 되고 연신형 위상차판이어도 된다. 당해 위상차판의 두께 방향의 위상차는 바람직하게는 -200∼-20 ㎚, 보다 바람직하게는 -140∼-40 ㎚이다.In order to increase visibility in an oblique direction, a method of laminating a positive C plate is known to the original polarizing plate (for example, Japanese Patent Application Laid-open No. 2014-224837, etc.). The definition C plate may be a liquid crystal coating type retardation plate or a stretched retardation plate. The phase difference in the thickness direction of the phase difference plate is preferably -200 to -20 nm, more preferably -140 to -40 nm.

< 터치 센서 ><Touch sensor>

본 발명의 플렉시블 표시 장치는, 상기와 같이, 터치 센서를 구비하는 것이 바람직하다. 터치 센서는 입력 수단으로서 이용된다. 터치 센서로서는 저항막 방식, 표면 탄성파 방식, 적외선 방식, 전자 유도 방식, 정전 용량 방식 등 여러 가지 양식을 들 수 있고, 바람직하게는 정전 용량 방식을 들 수 있다.It is preferable that the flexible display device of the present invention has a touch sensor as described above. The touch sensor is used as an input means. As a touch sensor, various forms, such as a resistive film method, a surface acoustic wave method, an infrared method, an electromagnetic induction method, and a capacitive method, are mentioned, Preferably, a capacitive method is mentioned.

정전 용량 방식 터치 센서는 활성 영역 및 상기 활성 영역의 외곽부에 위치하는 비활성 영역으로 구분된다. 활성 영역은 표시 패널에서 화면이 표시되는 영역(표시부)에 대응하는 영역으로서, 사용자의 터치가 감지되는 영역이고, 비활성 영역은 표시 장치에서 화면이 표시되지 않는 영역(비표시부)에 대응하는 영역이다. 터치 센서는 플렉시블한 특성을 갖는 기판과, 상기 기판의 활성 영역에 형성된 감지 패턴과, 상기 기판의 비활성 영역에 형성되고, 상기 감지 패턴과 패드부를 통하여 외부의 구동 회로와 접속하기 위한 각 센싱 라인을 포함할 수 있다. 플렉시블한 특성을 갖는 기판으로서는, 상기 윈도우 필름의 투명 기판과 마찬가지의 재료를 사용할 수 있다.The capacitive touch sensor is divided into an active area and an inactive area located on an outer portion of the active area. The active area is an area corresponding to an area (display area) where a screen is displayed on the display panel, and an area where a user's touch is detected, and an inactive area is an area corresponding to an area (non-display area) where a screen is not displayed on the display device. . The touch sensor includes a substrate having flexible characteristics, a sensing pattern formed in an active region of the substrate, and a sensing pattern formed in an inactive region of the substrate and connected to an external driving circuit through the sensing pattern and the pad portion. It can contain. As the substrate having flexible properties, the same material as the transparent substrate of the window film can be used.

상기 감지 패턴은, 제 1 방향에 형성된 제 1 패턴 및 제 2 방향에 형성된 제 2 패턴을 구비할 수 있다. 제 1 패턴과 제 2 패턴은 서로 다른 방향으로 배치된다. 제 1 패턴 및 제 2 패턴은, 동일층에 형성되고, 터치되는 지점을 감지하기 위해서는, 각각의 패턴이 전기적으로 접속되어야만 한다. 제 1 패턴은 복수의 단위 패턴이 이음매를 개재하여 서로 접속된 형태이지만, 제 2 패턴은 복수의 단위 패턴이 아일랜드 형태로 서로 분리된 구조로 되어 있으므로, 제 2 패턴을 전기적으로 접속하기 위해서는 별도의 브리지 전극이 필요하다. 제 2 패턴의 접속을 위한 전극에는, 주지의 투명 전극을 적용할 수 있다. 당해 투명 전극의 소재로서는, 예를 들면, 인듐주석 산화물(ITO), 인듐아연 산화물(IZO), 아연 산화물(ZnO), 인듐아연주석 산화물(IZTO), 인듐갈륨아연 산화물(IGZO), 카드뮴주석 산화물(CTO), PEDOT(poly(3,4-ethylenedioxythiophene)), 탄소 나노 튜브(CNT), 그래핀, 금속 와이어 등을 들 수 있고, 바람직하게는 ITO를 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 금속 와이어에 사용되는 금속은 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 은, 금, 알루미늄, 구리, 철, 니켈, 티탄, 셀레늄, 크롬 등을 들 수 있고, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The sensing pattern may include a first pattern formed in the first direction and a second pattern formed in the second direction. The first pattern and the second pattern are arranged in different directions. The first pattern and the second pattern are formed on the same layer, and in order to sense a touched point, each pattern must be electrically connected. The first pattern is a form in which a plurality of unit patterns are connected to each other via a seam, but the second pattern is a structure in which a plurality of unit patterns are separated from each other in an island form, and thus, to electrically connect the second pattern, separate Bridge electrodes are required. A well-known transparent electrode can be applied to the electrode for connection of the 2nd pattern. As a material of the transparent electrode, for example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc tin oxide (IZTO), indium gallium zinc oxide (IGZO), cadmium tin oxide (CTO), PEDOT (poly (3,4-ethylenedioxythiophene)), carbon nanotubes (CNT), graphene, metal wires, and the like, and preferably ITO. These may be used alone or in combination of two or more. The metal used for the metal wire is not particularly limited, and examples thereof include silver, gold, aluminum, copper, iron, nickel, titanium, selenium, and chromium. These may be used alone or in combination of two or more. .

브리지 전극은 감지 패턴 상부에 절연층을 개재하여 상기 절연층 상부에 형성될 수 있고, 기판 상에 브리지 전극이 형성되어 있고, 그 위에 절연층 및 감지 패턴을 형성할 수 있다. 상기 브리지 전극은 감지 패턴과 동일한 소재로 형성할 수도 있고, 몰리브덴, 은, 알루미늄, 구리, 팔라듐, 금, 백금, 아연, 주석, 티탄 또는 이들 중 2종 이상의 합금으로 형성할 수도 있다.The bridge electrode may be formed on the insulating layer with an insulating layer over the sensing pattern, a bridge electrode may be formed on the substrate, and an insulating layer and a sensing pattern may be formed thereon. The bridge electrode may be formed of the same material as the sensing pattern, or may be formed of molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium, or an alloy of two or more of them.

제 1 패턴과 제 2 패턴은 전기적으로 절연되어야만 하므로, 감지 패턴과 브리지 전극의 사이에는 절연층이 형성된다. 당해 절연층은, 제 1 패턴의 이음매와 브리지 전극의 사이에만 형성할 수도 있고, 감지 패턴 전체를 덮는 층으로서 형성할 수도 있다. 감지 패턴 전체를 덮는 층의 경우, 브리지 전극은 절연층에 형성된 콘택트 홀을 통하여 제 2 패턴을 접속할 수 있다.Since the first pattern and the second pattern must be electrically insulated, an insulating layer is formed between the sensing pattern and the bridge electrode. The insulating layer may be formed only between the seam of the first pattern and the bridge electrode, or may be formed as a layer covering the entire sensing pattern. In the case of the layer covering the entire sensing pattern, the bridge electrode may connect the second pattern through the contact hole formed in the insulating layer.

상기 터치 센서는, 감지 패턴이 형성된 패턴 영역과, 감지 패턴이 형성되어 있지 않은 비패턴 영역의 사이의 투과율의 차, 구체적으로는, 이들 영역에 있어서의 굴절률의 차에 의해서 유발되는 광투과율의 차를 적절하게 보상하기 위한 수단으로서 기판과 전극의 사이에 광학조절층을 추가로 포함할 수 있다. 당해 광학조절층은, 무기 절연 물질 또는 유기 절연 물질을 포함할 수 있다. 광학조절층은 광경화성 유기 바인더 및 용제를 포함하는 광경화 조성물을 기판 상에 코팅하여 형성할 수 있다. 상기 광경화 조성물은 무기 입자를 추가로 포함할 수 있다. 상기 무기 입자에 의해서 광학조절층의 굴절률을 높게 할 수 있다.The touch sensor has a difference in transmittance between a pattern area where a sensing pattern is formed and a non-pattern area where no sensing pattern is formed, specifically, a difference in light transmittance caused by a difference in refractive index in these areas. As a means for properly compensating, an optical control layer may be further included between the substrate and the electrode. The optical control layer may include an inorganic insulating material or an organic insulating material. The optical control layer may be formed by coating a photocurable composition comprising a photocurable organic binder and a solvent on a substrate. The photocurable composition may further include inorganic particles. The refractive index of the optical control layer can be increased by the inorganic particles.

상기 광경화성 유기 바인더는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 예를 들면, 아크릴레이트계 단량체, 스티렌계 단량체, 카르본산계 단량체 등의 각 단량체의 공중합체를 포함할 수 있다. 상기 광경화성 유기 바인더는, 예를 들면, 에폭시기 함유 반복단위, 아크릴레이트 반복 단위, 카르본산 반복 단위 등의 서로 다른 각 반복 단위를 포함하는 공중합체여도 된다.The photocurable organic binder may include a copolymer of each monomer, such as an acrylate-based monomer, a styrene-based monomer, and a carboxylic acid-based monomer, within a range that does not impair the effects of the present invention. The photocurable organic binder may be, for example, a copolymer containing different repeating units such as an epoxy group-containing repeating unit, an acrylate repeating unit, and a carboxylic acid repeating unit.

상기 무기 입자로서는 예를 들면, 지르코니아 입자, 티타니아 입자, 알루미나 입자 등을 들 수 있다.Examples of the inorganic particles include zirconia particles, titania particles, and alumina particles.

상기 광경화 조성물은 광중합개시제, 중합성 모노머, 경화보조제 등의 각 첨가제를 추가로 포함할 수도 있다.The photocurable composition may further include each additive such as a photopolymerization initiator, a polymerizable monomer, and a curing aid.

< 접착층 ><Adhesive layer>

상기 플렉시블 화상 표시 장치용 적층체를 형성하는 각 층(윈도우 필름, 원 편광판, 터치 센서) 및 각 층을 구성하는 필름 부재(직선 편광판, λ/4 위상차판 등)는 접착제에 의해서 접합할 수 있다. 당해 접착제로서는 수계 접착제, 유기용제계, 무용제계 접착제, 고체접착제, 용제 휘산형 접착제, 습기경화형 접착제, 가열경화형 접착제, 혐기경화형, 활성 에너지선 경화형 접착제, 경화제 혼합형 접착제, 열용융형 접착제, 감압형 접착제(점착제), 재습(再濕)형 접착제 등, 통상 사용되고 있는 접착제 등을 사용할 수 있고, 바람직하게는 수계 용제 휘산형 접착제, 활성 에너지선 경화형 접착제, 점착제를 사용할 수 있다. 접착제층의 두께는, 요구되는 접착력 등에 따라서 적절히 조절할 수 있고, 바람직하게는 0.01∼500 ㎛, 보다 바람직하게는 0.1∼300 ㎛이다. 상기 플렉시블 화상 표시 장치용 적층체에는, 복수의 접착층이 존재하지만, 각각의 두께나 종류는 동일해도 되고 달라도 된다.Each layer (window film, circular polarizing plate, touch sensor) forming the laminate for the flexible image display device and the film member (linear polarizing plate, λ / 4 retardation plate, etc.) constituting each layer can be bonded by an adhesive. . Examples of the adhesive include water-based adhesives, organic solvent-based, solvent-free adhesives, solid adhesives, solvent volatilization-type adhesives, moisture-curable adhesives, heat-curable adhesives, anaerobic curing, active energy ray-curable adhesives, curing agent mixed adhesives, heat-melting adhesives, and pressure-sensitive adhesives Adhesives (adhesives), rewet type adhesives, and other commonly used adhesives can be used, and preferably an aqueous solvent volatilization type adhesive, active energy ray-curable adhesive, or adhesive can be used. The thickness of the adhesive layer can be appropriately adjusted depending on the required adhesive strength, etc., preferably 0.01 to 500 µm, more preferably 0.1 to 300 µm. Although a plurality of adhesive layers exist in the laminate for the flexible image display device, the thickness and type of each may be the same or different.

상기 수계 용제 휘산형 접착제로서는, 폴리비닐알콜계 폴리머, 전분 등의 수용성 폴리머, 에틸렌-아세트산 비닐계 에멀전, 스티렌-부타디엔계 에멀전 등 물 분산 상태의 폴리머를 주제 폴리머로서 사용할 수 있다. 상기 주제 폴리머와 물에 추가하여, 가교제, 실란계 화합물, 이온성 화합물, 가교 촉매, 산화방지제, 염료, 안료, 무기 필러, 유기용제 등을 배합해도 된다. 상기 수계 용제 휘산형 접착제에 의해서 접착하는 경우, 상기 수계 용제 휘산형 접착제를 피접착층 사이에 주입하여 피착층을 첩합한 후, 건조시킴으로써 접착성을 부여할 수 있다. 상기 수계 용제 휘산형 접착제를 이용하는 경우, 그 접착층의 두께는, 바람직하게는 0.01∼10 ㎛, 보다 바람직하게는 0.1∼1 ㎛이다. 상기 수계 용제 휘산형 접착제를 복수 층에 이용하는 경우, 각각의 층의 두께나 종류는 동일해도 되고 달라도 된다.As the aqueous solvent-based adhesive, a water-dispersible polymer such as a polyvinyl alcohol-based polymer, a water-soluble polymer such as starch, an ethylene-vinyl acetate-based emulsion, or a styrene-butadiene-based emulsion can be used as the main polymer. In addition to the main polymer and water, a crosslinking agent, a silane compound, an ionic compound, a crosslinking catalyst, an antioxidant, a dye, a pigment, an inorganic filler, an organic solvent, etc. may be blended. In the case of bonding with the water-based solvent volatilization-type adhesive, the water-based solvent volatilization-type adhesive is injected between the adhered layers to bond the adhered layers, followed by drying to impart adhesion. When using the above-mentioned water-based solvent-based adhesive, the thickness of the adhesive layer is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.1 to 1 μm. When the above-mentioned water-based solvent volatilization type adhesive is used for a plurality of layers, the thickness or type of each layer may be the same or different.

상기 활성 에너지선 경화형 접착제는, 활성 에너지선을 조사하여 접착제층을 형성하는 반응성 재료를 포함하는 활성 에너지선 경화 조성물의 경화에 의해 형성할 수 있다. 상기 활성 에너지선 경화 조성물은, 하드 코팅 조성물에 포함되는 것과 마찬가지의 라디칼 중합성 화합물 및 카티온 중합성 화합물의 적어도 1종의 중합물을 함유할 수 있다. 상기 라디칼 중합성 화합물은, 하드 코팅 조성물에 있어서의 라디칼 중합성 화합물과 동일한 화합물을 이용할 수 있다.The active energy ray-curable adhesive may be formed by curing an active energy ray-curing composition containing a reactive material that irradiates active energy rays to form an adhesive layer. The active energy ray-curable composition may contain at least one polymerizable product of a radically polymerizable compound and a cationic polymerizable compound similar to those contained in the hard coating composition. As the radically polymerizable compound, the same compound as the radically polymerizable compound in the hard coating composition can be used.

상기 카티온 중합성 화합물은, 하드 코팅 조성물에 있어서의 카티온 중합성 화합물과 동일한 화합물을 이용할 수 있다.As the cationic polymerizable compound, the same compound as the cationic polymerizable compound in the hard coating composition can be used.

활성 에너지선 경화 조성물에 이용되는 카티온 중합성 화합물로서는, 에폭시 화합물이 특히 바람직하다. 접착제 조성물로서의 점도를 낮추기 위하여 단관능의 화합물을 반응성 희석제로서 포함하는 것도 바람직하다.As the cationically polymerizable compound used in the active energy ray curing composition, an epoxy compound is particularly preferred. It is also preferable to include a monofunctional compound as a reactive diluent in order to lower the viscosity as an adhesive composition.

활성 에너지선 경화 조성물은, 점도를 저하시키기 위하여, 단관능의 화합물을 포함할 수 있다. 당해 단관능의 화합물로서는, 1분자 중에 1개의 (메타)아크릴로일기를 갖는 아크릴레이트계 단량체나, 1분자 중에 1개의 에폭시기 또는 옥세타닐기를 갖는 화합물, 예를 들면, 글리시딜(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.The active energy ray curing composition may contain a monofunctional compound in order to lower the viscosity. As the monofunctional compound, an acrylate-based monomer having one (meth) acryloyl group in one molecule or a compound having one epoxy group or oxetanyl group in one molecule, for example, glycidyl (meth) And acrylates.

활성 에너지선 경화 조성물은, 추가로 중합개시제를 포함할 수 있다. 당해 중합개시제로서는 라디칼 중합개시제, 카티온 중합개시제, 라디칼 및 카티온 중합개시제 등을 들 수 있고, 이들은 적절히 선택하여 이용된다. 이들 중합개시제는, 활성 에너지선 조사 및 가열 중 적어도 1종에 의해 분해되어, 라디칼 또는 카티온을 발생하여 라디칼 중합과 카티온 중합을 진행시키는 것이다. 하드 코팅 조성물의 기재 중에서 활성 에너지선 조사에 의해 라디칼 중합 또는 카티온 중합 중 적어도 어느 것을 개시할 수 있는 개시제를 사용할 수 있다.The active energy ray curing composition may further include a polymerization initiator. Examples of the polymerization initiator include a radical polymerization initiator, a cationic polymerization initiator, a radical and a cationic polymerization initiator, and these are suitably selected and used. These polymerization initiators are decomposed by at least one of active energy ray irradiation and heating to generate radicals or cations to advance radical polymerization and cation polymerization. Among the substrates of the hard coating composition, an initiator capable of initiating at least either radical polymerization or cationic polymerization by active energy ray irradiation may be used.

상기 활성 에너지선 경화 조성물은 추가로, 이온포착제, 산화방지제, 연쇄이동제, 밀착부여제, 열가소성 수지, 충전제, 유동 점도 조정제, 가소제, 소포제, 첨가제, 용제를 포함할 수 있다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제에 의해서 2개의 피접착층을 접착하는 경우, 상기 활성 에너지선 경화 조성물을 피접착층 중 어느 일방 또는 양방에 도포 후, 첩합하고, 어느 하나의 피착층 또는 양방의 피접착층에 활성 에너지선을 조사하여 경화시킴으로써, 접착할 수 있다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제를 이용하는 경우, 그 접착층의 두께는 바람직하게는 0.01∼20 ㎛, 보다 바람직하게는 0.1∼10 ㎛이다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제를 복수의 접착층 형성에 이용하는 경우, 각각의 층의 두께나 종류는 동일해도 되고 달라도 된다.The active energy ray curing composition may further include an ion trapping agent, an antioxidant, a chain transfer agent, an adhesion agent, a thermoplastic resin, a filler, a flow viscosity modifier, a plasticizer, an antifoaming agent, an additive, and a solvent. When the two adhesive layers are adhered by the active energy ray-curable adhesive, the active energy ray-curable composition is applied to one or both of the adhesive layers, and then bonded, and active to either of the adhesive layers or both adhesive layers It can bond by irradiating an energy ray and hardening. When the active energy ray-curable adhesive is used, the thickness of the adhesive layer is preferably 0.01 to 20 μm, more preferably 0.1 to 10 μm. When the active energy ray-curable adhesive is used for forming a plurality of adhesive layers, the thickness or type of each layer may be the same or different.

상기 점착제로서는, 주제 폴리머에 따라서, 아크릴계 점착제, 우레탄계 점착제, 고무계 점착제, 실리콘계 점착제 등으로 분류되어 어느 것을 사용할 수도 있다. 점착제에는 주제 폴리머에 추가하여, 가교제, 실란계 화합물, 이온성 화합물, 가교 촉매, 산화방지제, 점착부여제, 가소제, 염료, 안료, 무기 필러 등을 배합해도 된다. 상기 점착제를 구성하는 각 성분을 용제에 용해·분산시켜 점착제 조성물을 얻어, 당해 점착제 조성물을 기재 상에 도포한 후에 건조시킴으로써, 점착층이 형성된다. 점착층은 직접 형성되어도 되고, 별도 기재에 형성한 것을 전사할 수도 있다. 접착 전의 점착면을 커버하기 위해서는 이형 필름을 사용하는 것도 바람직하다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제를 이용하는 경우, 그 접착층의 두께는 바람직하게는 0.1∼500 ㎛, 보다 바람직하게는 1∼300 ㎛이다. 상기 점착제를 복수 층 이용하는 경우에는, 각각의 층의 두께 및 종류는 동일해도 되고 달라도 된다.As the above-mentioned pressure-sensitive adhesive, depending on the main polymer, any of those classified into acrylic pressure-sensitive adhesive, urethane-based pressure-sensitive adhesive, rubber-based pressure-sensitive adhesive, and silicone-based pressure-sensitive adhesive may be used. In addition to the main polymer, a crosslinking agent, a silane-based compound, an ionic compound, a crosslinking catalyst, an antioxidant, a tackifier, a plasticizer, a dye, a pigment, an inorganic filler, etc. may be added to the pressure-sensitive adhesive. The adhesive layer is formed by dissolving and dispersing each component constituting the pressure-sensitive adhesive in a solvent to obtain a pressure-sensitive adhesive composition, and then drying the coating after applying the pressure-sensitive adhesive composition on a substrate. The adhesive layer may be formed directly, or may be transferred to one formed on a separate substrate. It is also preferable to use a release film to cover the adhesive surface before adhesion. When using the active energy ray-curable adhesive, the thickness of the adhesive layer is preferably 0.1 to 500 µm, more preferably 1 to 300 µm. When using multiple layers of the said adhesive, the thickness and kind of each layer may be same or different.

< 차광 패턴 ><Shading pattern>

상기 차광 패턴은, 상기 플렉시블 화상 표시 장치의 베젤 또는 하우징의 적어도 일부로서 적용할 수 있다. 차광 패턴에 의해서 상기 플렉시블 화상 표시 장치의 변연(邊緣)부에 배치되는 배선이 감춰져 시인되기 어렵게 함으로써, 화상의 시인성이 향상된다. 상기 차광 패턴은 단층 또는 복층의 형태여도 된다. 차광 패턴의 컬러는 특별히 제한되는 경우는 없고, 흑색, 백색, 금속색 등의 다양한 컬러여도 된다. 차광 패턴은 컬러를 구현하기 위한 안료와, 아크릴계 수지, 에스테르계 수지, 에폭시계 수지, 폴리우레탄, 실리콘 등의 고분자에 의해 형성할 수 있다. 이들의 단독 또는 2종류 이상의 혼합물로 사용할 수도 있다. 상기 차광 패턴은 인쇄, 리소그래피, 잉크젯 등 각종의 방법으로 형성할 수 있다. 차광 패턴의 두께는 바람직하게는 1∼100 ㎛, 보다 바람직하게는 2∼50 ㎛이다. 또, 차광 패턴의 두께 방향으로 경사 등의 형상을 부여하는 것도 바람직하다.The light-shielding pattern can be applied as at least a part of the bezel or housing of the flexible image display device. The visibility of the image is improved by shielding the wiring arranged in the edge portion of the flexible image display device by the light-shielding pattern, making it difficult to visually recognize it. The light shielding pattern may be in the form of a single layer or multiple layers. The color of the light-shielding pattern is not particularly limited, and various colors such as black, white, and metal may be used. The light-shielding pattern may be formed of a pigment for realizing color, and a polymer such as acrylic resin, ester resin, epoxy resin, polyurethane, and silicone. It may be used alone or as a mixture of two or more. The light-shielding pattern can be formed by various methods such as printing, lithography, and inkjet. The thickness of the light shielding pattern is preferably 1 to 100 μm, more preferably 2 to 50 μm. Moreover, it is also preferable to give a shape, such as a slope, in the thickness direction of a light-shielding pattern.

[실시예][Example]

이하에, 실시예에 의해 본 발명을 더 상세하게 설명한다. 예 중의 「%」 및 「부(部)」는, 특별히 기재하지 않는 한, 질량% 및 질량부를 의미한다. 먼저 처음에 물성값의 측정 방법을 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail by examples. In the examples, "%" and "part" mean mass% and parts by mass unless otherwise specified. First, a method of measuring a property value will be described.

< 중량평균 분자량 ><Weight average molecular weight>

겔 침투 크로마토그래피(GPC) 측정Gel permeation chromatography (GPC) measurements

(1) 전처리 방법(1) Pretreatment method

시료를 γ-부티로락톤(GBL)에 용해시켜 20 질량% 용액으로 한 후, DMF 용리액으로 100배로 희석하고, 0.45 ㎛ 멤브레인 필터 여과한 것을 측정 용액으로 하였다.The sample was dissolved in γ-butyrolactone (GBL) to make a 20% by mass solution, diluted 100-fold with DMF eluent, and filtered with a 0.45 μm membrane filter as a measurement solution.

(2) 측정 조건(2) Measurement conditions

컬럼: TSKgel SuperAWM-H×2+SuperAW2500×1(6.0 ㎜ I.D.×150 ㎜×3개)Column: TSKgel SuperAWM-H × 2 + SuperAW2500 × 1 (6.0 mm I.D. × 150 mm × 3)

용리액: DMF(10 mM의 브롬화리튬 첨가)Eluent: DMF (10 mM lithium bromide added)

유량: 0.6 mL/min.Flow rate: 0.6 mL / min.

검출기: RI 검출기Detector: RI detector

컬럼 온도: 40℃Column temperature: 40 ℃

주입량: 20 μLInjection volume: 20 μL

분자량 표준: 표준 폴리스티렌Molecular weight standard: standard polystyrene

< 이미드화율 ><Imidation rate>

이미드화율은 1H-NMR 측정에 의해 이하와 같이 하여 구하였다.The imidation ratio was determined as follows by 1 H-NMR measurement.

(1) 전처리 방법(1) Pretreatment method

시료를 중수소화 디메틸술폭시드(DMSO-d6)에 용해시켜 2 질량% 용액으로 한 것을 측정 용액으로 하였다.The sample was dissolved in deuterated dimethyl sulfoxide (DMSO-d 6 ) to prepare a 2% by mass solution as a measurement solution.

(2) 측정 조건(2) Measurement conditions

측정 장치: JEOL 제 400 ㎒ NMR 장치 JNM-ECZ400S/L1Measuring device: JEOL 400 MHz NMR device JNM-ECZ400S / L1

표준 물질: DMSO-d6(2.5 ppm)Standard: DMSO-d 6 (2.5 ppm)

시료 온도: 실온Sample temperature: room temperature

적산 횟수: 256회Integration times: 256 times

완화 시간: 5초Relax time: 5 seconds

(3) 이미드화율 해석 방법(3) Analysis method of imidation rate

얻어진 1H-NMR 스펙트럼에 있어서, 벤젠프로톤이 7.0∼9.0 ppm으로 관측되고, 이 중 이미드화 전후에 변화하지 않는 구조에 유래하는 벤젠프로톤 A의 적분비를 IntA라고 하였다. 또, 폴리이미드 중에 잔존하는 아믹산 구조의 아미드프로톤이 10.5∼11.5 ppm으로 관측되고, 이 적분비를 IntB라고 하였다. 이들의 적분비로부터 이하의 식에 의해 이미드화율을 구하였다.In the obtained 1 H-NMR spectrum, the benzene proton was observed at 7.0 to 9.0 ppm, and among them, the integral ratio of benzene proton A derived from a structure that does not change before and after imidization is called Int A. Further, the amide proton having an amic acid structure remaining in the polyimide was observed at 10.5 to 11.5 ppm, and this integral ratio was referred to as Int B. The imidation ratio was calculated | required by the following formula from these integral ratios.

Figure pat00018
Figure pat00018

상기 식에 있어서, α는 폴리아미드산(이미드화율 0%)의 경우에 있어서의 아미드프로톤 1개에 대한 벤젠프로톤 A의 개수 비율이다.In the above formula, α is the number ratio of benzene proton A to 1 amide proton in the case of polyamic acid (0% imidation).

< 평균 일차입자경 ><Average primary particle diameter>

실리카졸을 300℃에서 건조시킨 분말의 비표면적을 유아사아이오닉스(주)사 제, 비표면적 측정 장치 모노소브 MS-16을 이용하여 측정하고, 측정된 비표면적 S(㎡/g)를 이용하여 D(㎚)=2720/S의 식으로 평균 일차입자경을 산출하였다.The specific surface area of the powder dried by drying the silica sol at 300 ° C was measured using a monosurface MS-16 manufactured by Yuasa Ionics, and the measured specific surface area S (m2 / g) was used. The average primary particle size was calculated by the formula D (nm) = 2720 / S.

< 바니시의 점도 ><Viscosity of varnish>

JIS K8803: 2011에 준거하여, 브룩필드사 제 E형 점도계 DV-II+Pro를 이용하여 측정하였다. 측정 온도는 25℃로 하였다.It measured according to JIS K8803: 2011 using Brookfield's E-type viscosity meter DV-II + Pro. The measurement temperature was 25 ° C.

< 지지체의 막 두께 및 막 두께 분포 ><Film thickness and film thickness distribution of the support>

(주)미츠토요 제 ID-C112XBS를 이용하여, 지지체의 폭 방향으로 20점 이상의 막 두께를 측정하고, 그 평균값과 각 데이터의 차를 산출하여, 막 두께 분포를 얻었다.Using ID-C112XBS manufactured by Mitsutoyo Co., Ltd., the film thickness of 20 points or more was measured in the width direction of the support, and the difference between the average value and each data was calculated to obtain a film thickness distribution.

< 필름의 막 두께 ><Film thickness>

(주)미츠토요 제 ID-C112XBS를 이용하여, 10점 이상의 필름 막 두께를 측정하여, 그 평균값을 산출하였다.The film thickness of 10 or more points was measured using ID-C112XBS manufactured by Mitsutoyo Co., Ltd., and the average value was calculated.

< 필름의 전체광선투과율 ><Total light transmittance of film>

필름의 전체광선투과율은, JIS K7105: 1981에 준거하여, 스가시험기(주) 제의 전자동 직독 헤이즈 컴퓨터 HGM-2DP에 의해 측정하였다.The total light transmittance of the film was measured in accordance with JIS K7105: 1981, by a fully automatic direct read haze computer HGM-2DP manufactured by Suga Tester Co., Ltd.

< 필름의 황색도 ><Yellowness of the film>

광학 필름의 황색도(Yellow Index: YI값)를, 일본분광(주) 제의 자외가시근적외 분광광도계 「V-670」을 이용하여 측정하였다. 샘플이 없는 상태에서 백그라운드 측정을 행한 후, 광학 필름을 샘플 홀더에 세팅하여, 300∼800 ㎚의 광에 대한 투과율 측정을 행하여, 3자극값(X, Y, Z)을 구하고, 하기 식에 기초하여 YI값을 산출하였다.The yellowness (Yellow Index: YI value) of the optical film was measured using an ultraviolet visible near-infrared spectrophotometer "V-670" manufactured by Nippon Spectroscopic Co., Ltd. After background measurement in the absence of a sample, the optical film is set in a sample holder, the transmittance of 300-800 nm is measured, the tristimulus values (X, Y, Z) are determined, and the following formula is used. The YI value was calculated.

YI=100×(1.2769X-1.0592Z)/YYI = 100 × (1.2769X-1.0592Z) / Y

< 필름의 내굴곡성 ><Flexibility of film>

JIS P8115에 준거하여, MIT 내절 피로 시험기 D형((주)도요세이키제작소)을 이용하여, 파단될 때까지의 횟수를 측정하였다. 곡률 반경 R은 1로 측정을 행하였다.In accordance with JIS P8115, the number of times until fracture was measured using a D-type MIT internal fatigue tester (Toyo Seiki Co., Ltd.). The radius of curvature R was measured to 1.

< 필름의 인열 강도 ><Tear strength of film>

필름의 인열 강도는, JIS K 7128-1에 준거하여, 이하의 조건으로 트라우저 시험법에 따라 측정하였다. 인열 방향을 MD 방향으로 하여 얻은 강도를 시료의 길이로 나누어 얻어지는 단위길이당의 강도를 인열 강도 EMD(N/㎜)라고 하였다. 인열 방향을 TD 방향으로 하여, 마찬가지로 하여 얻은 강도를 ETD(N/㎜)라고 하였다. 또, 인열 방향을 MD 방향으로 하여 얻은 강도를 시료의 단면적으로 나누어 얻어지는 단위단면적당의 강도를 인열 강도 FMD(N/㎟)라고 하였다. 인열 방향을 TD 방향으로 하여, 마찬가지로 하여 얻은 강도를 FTD(N/㎟)라고 하였다.The tear strength of the film was measured according to the Trouser Test Method under the following conditions according to JIS K 7128-1. The strength obtained by dividing the strength obtained by setting the tear direction to the MD direction by the length of the sample was referred to as tear strength E MD (N / mm). The tearing direction was set to the TD direction, and the strength obtained in the same manner was referred to as E TD (N / mm). In addition, the strength obtained by dividing the strength obtained by setting the tear direction to the MD direction by the cross-sectional area of the sample was referred to as tear strength F MD (N / mm 2). The tearing direction was set to the TD direction, and the strength obtained in the same manner was referred to as F TD (N / mm 2).

(측정 조건)(Measuring conditions)

시료 치수: L 150 ㎜×W 50 ㎜, 중앙부 슬릿 75 ㎜Sample dimensions: L 150 mm × W 50 mm, center slit 75 mm

시험 조건: 시험 속도; 200 ㎜/분Test conditions: test speed; 200 mm / min

측정수; n=5           Number of measurements; n = 5

시험 환경: 25℃±2℃, 50% RH±10% RHTest environment: 25 ℃ ± 2 ℃, 50% RH ± 10% RH

측정 장치: 만능재료시험기 5982(인스트론사 제)Measuring device: Universal testing machine 5982 (manufactured by Instron)

< 필름의 인장탄성률 ><Tensile modulus of film>

필름을 100 ㎜×10 ㎜의 덤벨 형상으로 잘라내고, JIS K7127에 준거하여, 전기기계식 만능시험기(인스트론사 제)를 이용하여, 시험 속도 5 m/분 및 로드 셀 5 kN으로 인장 시험을 행하여, 광학 필름의 인장탄성률을 측정하였다.The film was cut into a dumbbell shape of 100 mm × 10 mm, and subjected to tensile testing at a test speed of 5 m / min and a load cell of 5 kN using an electromechanical universal testing machine (manufactured by Instron) in accordance with JIS K7127. , The tensile modulus of the optical film was measured.

< 필름의 광학적 균질성의 평가 방법 ><Evaluation method of optical homogeneity of film>

1. 투영 화상 및 배경 화상의 촬영1. Shooting projected images and background images

암실 중에, 도 2에 나타낸 바와 같이, 광원(1), 필름(2), 투영면(3) 및 카메라(6)를 배치하고, 투영 화상(4)의 촬영을 행하였다. 광원(1)과 필름(2)의 거리는 250 ㎝이고, 필름(2)과 투영면(3)의 거리는 30 ㎝이고, 필름(2)과 투영면(3)은 평행하게 배치되고, 카메라(6)는 광원(1)으로부터 스크린으로의 법선의 바로 아래에 설치되어 있고, 카메라(6)와 투영면(3)(스크린)의 거리는 30 ㎝이고, 카메라 각도(7)(카메라를 스크린에 대하여 수직으로 되도록 향하게 한 상태로부터, 상측으로 경사지게 하는 각도)는 25°였다. 또, 배경 화상의 촬영은, 도 2에 있어서 필름(2)을 제거한 것 이외에는 투영 화상의 촬영과 마찬가지로 하여 행하였다. 측정 조건 및 촬영 조건의 상세를 이하에 나타낸다.In the dark room, as shown in Fig. 2, a light source 1, a film 2, a projection surface 3, and a camera 6 are arranged, and the projection image 4 is photographed. The distance between the light source 1 and the film 2 is 250 cm, the distance between the film 2 and the projection surface 3 is 30 cm, the film 2 and the projection surface 3 are arranged in parallel, and the camera 6 is It is installed just below the normal from the light source 1 to the screen, the distance between the camera 6 and the projection surface 3 (screen) is 30 cm, and the camera angle 7 (directs the camera to be perpendicular to the screen). From one state, the angle to incline upward) was 25 °. The background image was photographed in the same manner as the projection image photographed except that the film 2 was removed in FIG. 2. Details of the measurement conditions and shooting conditions are shown below.

광원: LED 광원(모리시계공업(주) 제 「LA-HDF15T」)Light source: LED light source ("LA-HDF15T" manufactured by Mori Watch Industry Co., Ltd.)

필름: 이하의 실시예 및 비교예에서 제조한 필름을 200 ㎜×300 ㎜로 잘라낸 필름을 측정 시료로 하였다.Film: The film produced in the following Examples and Comparative Examples was cut into 200 mm × 300 mm, and used as a measurement sample.

투영면: 백색의 시판의 영화감상용의 스크린((주)시어터하우스 제, 「BTP600FHD-SH1000」)Projection surface: White commercial screen for watching movies (Theater House Co., Ltd., 「BTP600FHD-SH1000」)

카메라: (주)니콘 제 「COOLPIX(등록상표) P600」Camera: Nikon Co., Ltd. `` COOLPIX (registered trademark) P600 ''

카메라의 상세 설정: 촬영 모드 매뉴얼 촬영Detailed camera settings: Manual shooting mode

화상 사이즈 2M                    Image size 2M

포커스 매뉴얼 포커스(거리 0.3 m)                    Focus Manual focus (distance 0.3 m)

셔터 스피드 1/2초                    Shutter speed 1/2 second

조리개 값(F값) 4.2                    Aperture value (F value) 4.2

플래시 OFF                    Flash OFF

2. 푸리에 변환2. Fourier Transform

본 실시예에서는 카메라를 상기 카메라 각도의 위치에 설치하고 있기 때문에, 투영 화상에 경사가 생겨 있다. 그 때문에, 먼저 투영 화상의 경사를 보정하기 위하여, 경사 보정 조건을 결정하였다. 또한, 투영상의 일그러짐이 없는 경우에는 보정은 불필요하다.In this embodiment, since the camera is installed at the position of the camera angle, an inclination occurs in the projected image. Therefore, in order to correct the inclination of the projected image, the inclination correction conditions were first determined. In addition, correction is unnecessary when there is no distortion of the projected image.

(경사 보정 조건의 결정)(Determination of slope correction conditions)

투명한 필름에 10 ㎝×10 ㎝의 정사각형을 그리고, 상기 1의 조건으로 기준투영 화상을 촬영하였다. 얻어진 기준 투영 화상을 Adobe Systems사 제의 Photoshop(등록상표) CS4로 판독하고, 렌즈 보정의 일그러짐 보정 기능을 이용하여, 카메라와 스크린이 90°에 상당하도록 보정하여, TIFF 형식으로 보존하였다. 이 때의 조건을 경사 보정 조건이라고 하였다. 경사 보정 후의 기준 투영 화상으로부터, 세로, 가로 각각의 픽셀당의 길이를 계산하였다(세로: 816 pixel=10 ㎝, 가로: 906 pixel=10 ㎝).A 10 cm × 10 cm square was drawn on a transparent film, and a reference projection image was taken under the condition 1 above. The obtained reference projection image was read with Adobe Systems' Photoshop (registered trademark) CS4, and the camera and screen were corrected to correspond to 90 ° using a distortion correction function of lens correction, and stored in a TIFF format. The conditions at this time were referred to as slope correction conditions. From the reference projected image after the tilt correction, the lengths for each of the vertical and horizontal pixels were calculated (vertical: 816 pixel = 10 cm, horizontal: 906 pixel = 10 cm).

(푸리에 변환)(Fourier transform)

실시예 및 비교예의 필름에 대하여 상기와 같이 하여 얻은 투영 화상에 대하여, 상기와 같이 하여 결정한 경사 보정 조건으로 보정을 행하여, 보정 후의 화상을 TIFF 형식으로 보존하였다. 얻어진 경사 보정 후의 투영 화상을, 화상 해석 소프트웨어 「Image-J, ver. 1.48」을 이용하여 8-bit의 그레이 스케일로 변환함으로써 수치화하였다. 또한, 경사 보정 후의 기준 투영 화상으로부터 얻은, 세로, 가로 각각의 픽셀당의 길이를, Set Scale로서 사용하였다. 그레이 스케일 화상 중 10.2 ㎝×11.2 ㎝(세로×가로) 사이즈의 직사각형의 범위를 선택하고, 당해 선택된 범위의 화상을, Image-J를 이용하여 푸리에 변환하여, 역공간상을 얻었다. 푸리에 변환 후의 역공간상에 대하여, Set Scale에 바른 값(수평 방향: 1 pixel=11.3 ㎝-1, 수직 방향: 1 pixel=12.55 ㎝-1)을 입력하였다.The projected images obtained as described above for the films of Examples and Comparative Examples were corrected under the inclination correction conditions determined as described above, and the corrected images were stored in TIFF format. The obtained projection image after tilt correction is image analysis software "Image-J, ver. 1.48 ”and converted to an 8-bit gray scale. In addition, the length of each vertical and horizontal pixel obtained from the reference projected image after tilt correction was used as a set scale. Among the gray scale images, a 10.2 cm × 11.2 cm (vertical × horizontal) rectangular range was selected, and an image of the selected range was Fourier transformed using Image-J to obtain an inverse spatial image. For the inverse spatial image after the Fourier transform, the correct value (horizontal direction: 1 pixel = 11.3 cm -1 , vertical direction: 1 pixel = 12.55 cm -1 ) was input to Set Scale.

3. 블랭크 보정한 라인 프로파일의 최대 강도(Ymh1 및 Ymv1)의 측정3. Measurement of maximum intensity (Y mh1 and Y mv1 ) of blank corrected line profile

상기와 같이 하여 얻은 역공간상에 있어서, 역공간상의 중심을 지나는 수평 방향(h1 방향) 및 수직 방향(v1 방향)의 각각의 방향에 대하여 라인 프로파일을 작성하였다. 라인 폭은 10 픽셀로 하였다. 얻어진 라인 프로파일을 text 형식으로 보존하였다. 다음으로, 당해 text 형식의 데이터를 Microsoft사의 Excel(ver. 14.0)로 읽어들이고, 다음과 같이 하여 라인 프로파일을 규격화하여, 수평 방향(h1 방향) 및 수직 방향(v1 방향)의 각각의 방향에 대하여, Y"의 라인 프로파일을 얻어, 각 라인 프로파일에 있어서 최대 강도 Ymax를 Ymh1 및 Ymv1이라고 하고, 최대 강도 Ymh1 및 Ymv1을 나타내는 주파수로부터 블랭크 보정된 라인 프로파일에 있어서의 전체 주파수의 중앙값 Xcen을 뺀 값인 Xmax를 각각 Xmh1 및 Xmv1이라고 하였다. 규격화 방법을 실시예 1에서 얻은 수평 방향(h1 방향)의 라인 프로파일을 예로서 이용하여 설명한다.In the inverse space obtained as described above, a line profile was created for each of the horizontal direction (h1 direction) and the vertical direction (v1 direction) passing through the center of the inverse space. The line width was 10 pixels. The obtained line profile was preserved in text format. Next, the data in the text format is read into Excel (ver. 14.0) of Microsoft, and the line profile is standardized as follows, for each direction in the horizontal direction (h1 direction) and the vertical direction (v1 direction). , Y ", and the maximum intensity Y max for each line profile is referred to as Y mh1 and Y mv1 , and the median value of the total frequency in the blank-corrected line profile from the frequencies representing maximum intensity Y mh1 and Y mv1 X max , which is the value obtained by subtracting X cen , is referred to as X mh1 and X mv 1. The standardization method will be described using the line profile in the horizontal direction (h1 direction) obtained in Example 1 as an example.

(규격화 방법)(Standardization method)

Y의 값이 최대로 되는 주파수를 X의 중심(Xcen)이라고 하고, 그 때의 Y의 값을 Ycen이라고 한다. 다음으로, Xcen을 중심으로 하고, 양단(兩端) 50 픽셀분씩의 합계 100 픽셀의 영역에 대하여, Y의 평균값을 구하고, 당해 평균값을 베이스 라인(Ybase)이라고 한다. 그리고, Ycen=100, Ybase=0으로 되도록, 다음의 식에 따라 데이터 Y를 보정하여 Y'를 얻는다.The frequency at which the value of Y becomes the maximum is called the center of X (X cen ), and the value of Y at that time is called Y cen . Next, centered on X cen , the average value of Y is obtained for a region of 100 pixels in total for each 50 pixels at both ends, and the average value is referred to as a baseline (Y base ). Then, the data Y is corrected according to the following equation so that Y cen = 100 and Y base = 0 to obtain Y '.

Figure pat00019
Figure pat00019

도 4에 나타난 실시예 1에서 얻은 라인 프로파일(데이터 Y)에 대하여, 상기 보정을 행함으로써, 도 5에 나타난 바와 같은 라인 프로파일 A(데이터 Y')가 얻어진다.By performing the above correction on the line profile (data Y) obtained in Example 1 shown in Fig. 4, a line profile A (data Y ') as shown in Fig. 5 is obtained.

다음으로, 1에서 얻은 배경 화상에 대해서도 마찬가지의 조작을 행하여, 배경 화상의 라인 프로파일을 얻었다. 구체적으로는, 도 6에 나타난 바와 같은 라인 프로파일 B가 얻어졌다.Next, the same operation was performed for the background image obtained in 1 to obtain a line profile of the background image. Specifically, a line profile B as shown in Fig. 6 was obtained.

이어서, 상기의 프로파일 A로부터, 백그라운드의 프로파일 B를 Excel에 의해 빼서, 블랭크 보정을 행하였다. 실시예 1에서는, 도 5에 나타난 라인 프로파일 A의 데이터 Y'로부터, 도 6에 나타난 바와 같은 라인 프로파일 B의 데이터를 빼서, 도 7에 나타난 바와 같은 블랭크 보정된 라인 프로파일 A-B를 얻었다.Subsequently, from the profile A described above, the background profile B was subtracted by Excel to perform blank correction. In Example 1, data of line profile B as shown in FIG. 6 was subtracted from data Y 'of line profile A shown in FIG. 5 to obtain a blank corrected line profile A-B as shown in FIG. 7.

이와 같이 하여 얻은 라인 프로파일을 스무딩하여, Y"의 프로파일을 얻고, 이를 라인 프로파일의 최대 강도(Ymh1 및 Ymv1)의 측정에 사용하였다. 그래프의 스무딩은, 다음의 식에 따라, 21개의 데이터의 평균값인 yi를 산출하여 행하였다.The line profile obtained in this way was smoothed to obtain a profile of Y "and was used to measure the maximum intensity of the line profile (Y mh1 and Y mv1 ). The smoothing of the graph was 21 data according to the following equation. The average value of y i was calculated and performed.

Figure pat00020
Figure pat00020

(시인성의 관능 평가)(Sensory evaluation of visibility)

50∼100 룩스로 조광(調光)한 실내 환경에서, 앙각(仰角) 80°의 각도로부터, 제작한 필름을 육안 검사하고, 비치는 배경의 왜곡으로부터 시인성을 평가하였다. 그 결과를 표 2에 나타낸다. 또한, 시인성의 평가 기준은 이하와 같다.In an indoor environment dimmed with 50 to 100 lux, the produced film was visually inspected from an angle of 80 ° at an elevation angle, and visibility was evaluated from distortion of the reflected background. Table 2 shows the results. In addition, the evaluation criteria of visibility are as follows.

◎: 배경에 왜곡은 확인되지 않는다.◎: Distortion is not observed in the background.

○: 배경에 매우 근소한 왜곡이 확인되지만, 문제가 없는 레벨.○: Very slight distortion is observed in the background, but there is no problem.

×: 배경에 명확한 왜곡이 확인된다.×: Clear distortion is observed in the background.

< 잔존 용매량 ><Amount of residual solvent>

TG-DTA(SII(주) 제 EXSTAR6000 TG/DTA6300)를 이용하여, 실시예 1∼3 및 비교예 1에서 얻어진 투명 수지 필름을 30℃로부터 120℃까지 승온하고, 120℃에서 5분간 보지하고, 그 후 5℃/분의 승온 속도로 400℃까지 승온하였다. 120℃에 있어서의 필름의 질량에 대한 120℃로부터 250℃에서의 필름의 질량 감소의 비를, 용매의 함유량(잔존 용매량이라고 부름)으로서 산출하였다.Using TG-DTA (EXSTAR6000 TG / DTA6300 manufactured by SII Co., Ltd.), the transparent resin films obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 were heated from 30 ° C to 120 ° C and held at 120 ° C for 5 minutes, Thereafter, the temperature was raised to 400 ° C at a rate of 5 ° C / min. The ratio of the mass reduction of the film at 120 ° C to 120 ° C with respect to the mass of the film at 120 ° C was calculated as the content of the solvent (referred to as the residual solvent amount).

이하의 제조예 및 실시예에 있어서 사용하는 약칭은, 다음과 같다. Abbreviations used in the following Production Examples and Examples are as follows.

TFMB: 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐TFMB: 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl

6FDA: 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2 무수물6FDA: 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid 2 anhydride

TPC: 테레프탈로일클로라이드TPC: terephthaloyl chloride

OBBC: 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드)OBBC: 4,4'-oxybis (benzoyl chloride)

DMAc: N,N-디메틸아세트아미드DMAc: N, N-dimethylacetamide

GBL: γ-부티로락톤GBL: γ-butyrolactone

PET: 폴리에틸렌테레프탈레이트PET: polyethylene terephthalate

< 제조예 ><Manufacturing Example>

제조예 1: 폴리아미드이미드 수지 1의 제조Production Example 1: Preparation of polyamideimide resin 1

질소 가스 분위기 하, 세퍼러블 플라스크에 교반 날개를 구비한 반응 용기와 오일 배스를 준비하였다. 오일 배스에 설치한 반응 용기에, TFMB 45부와, DMAc 768.55부를 투입하였다. 반응 용기 내의 내용물을 실온에서 교반하면서 TFMB를 DMAc에 용해시켰다. 다음으로, 반응 용기 내에 6FDA 19.01부를 추가로 투입하고, 반응 용기 내의 내용물을 실온에서 3시간 교반하였다. 그 후, OBBC 4.21부, 이어서 TPC 17.30부를 반응 용기에 투입하고, 반응 용기 내의 내용물을 실온에서 1시간 교반하였다. 이어서, 반응 용기 내에 4-메틸피리딘 4.63부와 무수 아세트산 13.04부를 추가로 투입하고, 반응 용기 내의 내용물을 실온에서 30분간 교반하였다. 교반한 후, 오일 배스를 이용하여 용기 내 온도를 70℃로 승온하고, 70℃로 유지하여 추가로 3시간 교반하여, 반응액을 얻었다.Under a nitrogen gas atmosphere, a reaction vessel equipped with a stirring vane and an oil bath were prepared in a separable flask. To the reaction vessel installed in the oil bath, 45 parts of TFMB and 768.55 parts of DMAc were charged. TFMB was dissolved in DMAc while the contents in the reaction vessel were stirred at room temperature. Next, 19.01 parts of 6FDA was further added into the reaction vessel, and the contents in the reaction vessel were stirred at room temperature for 3 hours. Thereafter, 4.21 parts of OBBC and then 17.30 parts of TPC were added to the reaction vessel, and the contents in the reaction vessel were stirred at room temperature for 1 hour. Subsequently, 4.63 parts of 4-methylpyridine and 13.04 parts of acetic anhydride were further added into the reaction vessel, and the contents in the reaction vessel were stirred at room temperature for 30 minutes. After stirring, the temperature in the vessel was raised to 70 ° C. using an oil bath, maintained at 70 ° C., and stirred for an additional 3 hours to obtain a reaction solution.

얻어진 반응액을 실온까지 냉각하고, 대량의 메탄올 중에 실(絲) 형상으로 투입하고, 침전물을 석출시켰다. 석출한 침전물을 취출하고, 메탄올에서 6시간 침지 후, 메탄올로 세정하였다. 다음으로, 100℃에서 침전물의 감압 건조를 행하여, 폴리아미드이미드 수지 1을 얻었다. 얻어진 폴리아미드이미드 수지 1의 중량평균 분자량은 370,000이고, 이미드화율은 98.9%였다.The obtained reaction solution was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol in a thread shape, and precipitates were precipitated. The precipitated precipitate was taken out, immersed in methanol for 6 hours, and then washed with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 100 ° C to obtain polyamideimide resin 1. The weight average molecular weight of the obtained polyamide-imide resin 1 was 370,000, and the imidation rate was 98.9%.

제조예 2: 폴리아미드이미드 수지 2의 제조Production Example 2: Preparation of polyamideimide resin 2

질소 가스 분위기 하, 교반 날개를 구비한 세퍼러블 플라스크에, TFMB 50부 및 DMAc 642.07부를 추가하고, 실온에서 교반하면서 TFMB를 DMAc에 용해시켰다. 다음으로, 플라스크에 6FDA 20.84부를 첨가하고, 실온에서 3시간 교반하였다. 그 후, OBBC 9.23부, 이어서 TPC 15.87부를 플라스크에 추가하고, 실온에서 1시간 교반하였다. 이어서, 플라스크에 4-메틸피리딘 9.89부와 무수 아세트산 14.37부를 추가하고, 실온에서 30분간 교반 후, 오일 배스를 이용하여 70℃로 승온하고, 추가로 3시간 교반하여, 반응액을 얻었다. 얻어진 반응액을 실온까지 냉각하고, 대량의 메탄올 중에 실 형상으로 투입하고, 석출한 침전물을 취출하고, 메탄올에서 6시간 침지 후, 메탄올로 세정하였다. 다음으로, 100℃에서 침전물의 감압 건조를 행하여, 폴리아미드이미드 수지 2를 얻었다. 얻어진 폴리아미드이미드 수지 2의 중량평균 분자량은 420,000이고, 이미드화율은 99.0%였다.Under a nitrogen gas atmosphere, 50 parts of TFMB and 642.07 parts of DMAc were added to a separable flask equipped with a stirring blade, and TFMB was dissolved in DMAc while stirring at room temperature. Next, 20.84 parts of 6FDA was added to the flask and stirred at room temperature for 3 hours. Thereafter, 9.23 parts of OBBC and then 15.87 parts of TPC were added to the flask and stirred at room temperature for 1 hour. Subsequently, 9.89 parts of 4-methylpyridine and 14.37 parts of acetic anhydride were added to the flask, and after stirring at room temperature for 30 minutes, the temperature was raised to 70 ° C using an oil bath and stirred for another 3 hours to obtain a reaction solution. The resulting reaction solution was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol in a thread shape, and the precipitated precipitate was taken out, immersed in methanol for 6 hours, and then washed with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 100 ° C to obtain polyamideimide resin 2. The weight average molecular weight of the obtained polyamide-imide resin 2 was 420,000, and the imidation rate was 99.0%.

제조예 3: 폴리이미드 수지의 제조Production Example 3: Preparation of polyimide resin

세퍼러블 플라스크에 실리카겔 관, 교반 장치 및 온도계를 장착한 반응기와 오일 배스를 준비하였다. 이 플라스크 내에 6FDA 75.52부와 TFMB 54.44부를 투입하였다. 이를 400 rpm으로 교반하면서 DMAc 519.84부를 추가하고, 플라스크의 내용물이 균일한 용액이 될 때까지 교반을 계속하였다. 계속해서, 오일 배스를 이용하여 용기 내 온도가 20∼30℃의 범위가 되도록 조정하면서 추가로 20시간 교반을 계속하고, 반응시켜 폴리아믹산을 생성시켰다. 30분 후, 교반 속도를 100 rpm으로 변경하였다. 20시간 교반 후, 반응계 온도를 실온으로 되돌리고, DMAc 649.8부를 추가하여 폴리머 농도가 10 질량%로 되도록 조정하였다. 또한, 피리딘 32.27부, 무수 아세트산 41.65부를 추가하고, 실온에서 10시간 교반하여 이미드화를 행하였다. 반응 용기로부터 폴리이미드 바니시를 취출하였다. 얻어진 폴리이미드 바니시를 메탄올 중에 적하하여 재침전을 행하고, 얻어진 분체(粉體)를 가열 건조하여 용매를 제거하여, 고형분으로서 폴리이미드 수지를 얻었다. 얻어진 폴리이미드 수지의 중량평균 분자량은 360,000이고, 이미드화율은 98.9%였다.A reactor and an oil bath equipped with a silica gel tube, a stirring device, and a thermometer were prepared in the separable flask. 75.52 parts of 6FDA and 54.44 parts of TFMB were charged into the flask. While stirring at 400 rpm, 519.84 parts of DMAc was added, and stirring was continued until the contents of the flask became a uniform solution. Subsequently, stirring was continued for another 20 hours while adjusting the temperature in the vessel to be in the range of 20 to 30 ° C using an oil bath, and reacted to produce polyamic acid. After 30 minutes, the stirring speed was changed to 100 rpm. After stirring for 20 hours, the reaction system temperature was returned to room temperature, and 649.8 parts of DMAc was added to adjust the polymer concentration to 10% by mass. Further, 32.27 parts of pyridine and 41.65 parts of acetic anhydride were added, and the mixture was stirred at room temperature for 10 hours to imidize. The polyimide varnish was taken out from the reaction vessel. The obtained polyimide varnish was added dropwise to methanol to reprecipitate, and the obtained powder was dried by heating to remove a solvent to obtain a polyimide resin as a solid content. The weight average molecular weight of the obtained polyimide resin was 360,000, and the imidation rate was 98.9%.

제조예 4: 실리카졸 1의 조제Preparation Example 4: Preparation of silica sol 1

졸-겔법에 의해 제작된 평균 일차입자경(BET법으로 측정된 평균 일차입자경) 27 ㎚의 아몰퍼스 실리카졸을 원료로 하고, 용매 치환에 의해, GBL 치환 실리카졸을 조제하였다. 얻어진 졸을 구멍 크기 10 ㎛의 멤브레인 필터로 여과하여, GBL 치환 실리카졸 1을 얻었다. 얻어진 GBL 치환 실리카졸 1 중, 실리카 입자의 함유량은 30∼32 질량%였다.Amorphous silica sol having an average primary particle diameter (average primary particle diameter measured by the BET method) of 27 nm prepared as a sol-gel method was used as a raw material, and GBL-substituted silica sol was prepared by solvent substitution. The obtained sol was filtered through a membrane filter having a pore size of 10 µm to obtain GBL-substituted silica sol 1. In the obtained GBL-substituted silica sol 1, the content of silica particles was 30 to 32 mass%.

제조예 5: 실리카졸 2의 조제Preparation Example 5: Preparation of silica sol 2

졸-겔법에 의해 제작된 평균 일차입자경 25 ㎚의 아몰퍼스 실리카졸을 원료로 하고, 용매 치환에 의해, GBL 치환 실리카졸을 조제하였다. 얻어진 졸을 구멍 크기 10 ㎛의 멤브레인 필터로 여과하여, GBL 치환 실리카졸 2를 얻었다. 얻어진 GBL 치환 실리카졸 2 중, 실리카 입자의 함유량은 30∼32 질량%였다.Amorphous silica sol having an average primary particle diameter of 25 nm produced by the sol-gel method was used as a raw material, and GBL-substituted silica sol was prepared by solvent substitution. The obtained sol was filtered through a membrane filter having a pore size of 10 µm to obtain GBL-substituted silica sol 2. In the obtained GBL-substituted silica sol 2, the content of silica particles was 30 to 32 mass%.

제조예 6: 바니시 (1)의 조제Preparation Example 6: Preparation of varnish (1)

제조예 1에서 얻은 폴리아미드이미드 수지 1과, 제조예 4에서 얻은 실리카졸1을 이용하여, GBL 용매에 폴리아미드이미드 수지와 실리카 입자의 조성비가 60:40으로 되도록 혼합하였다. 얻어진 혼합액에, Sumisorb 340(UVA 흡수제) 및 Sumiplast Violet B(BA, 블루잉제)를, 폴리머와 실리카의 합계 질량에 대하여, 각각 5.7 phr 및 35 ppm으로 되는 양으로 첨가하고, 균일해질 때까지 교반하여, 바니시 (1)을 얻었다. 바니시 (1)의 고형분은 11.0 질량%이고, 25℃에 있어서의 점도는 38,500 cps였다.Using the polyamideimide resin 1 obtained in Production Example 1 and the silica sol 1 obtained in Production Example 4, the composition ratio of the polyamideimide resin and the silica particles in the GBL solvent was 60:40. To the resulting mixture, Sumisorb 340 (UVA absorbent) and Sumiplast Violet B (BA, blueing agent) were added in amounts of 5.7 phr and 35 ppm, respectively, based on the total mass of polymer and silica, and stirred until uniform. , Varnish (1) was obtained. The solid content of the varnish (1) was 11.0% by mass, and the viscosity at 25 ° C was 38,500 cps.

제조예 7: 바니시 (2)의 조제Preparation Example 7: Preparation of varnish (2)

제조예 2에서 얻은 폴리아미드이미드 수지 2를 이용한 것 이외에는, 제조예 6과 마찬가지의 방법으로, 고형분 9.9 질량%, 25℃에 있어서의 점도 38,000 cps인 바니시 (2)를 얻었다A varnish (2) having a solid content of 9.9% by mass and a viscosity at 25 ° C of 38,000 cps was obtained in the same manner as in Production Example 6, except that the polyamideimide resin 2 obtained in Production Example 2 was used.

제조예 8: 바니시 (3)의 조제Production Example 8: Preparation of varnish (3)

제조예 3에서 얻은 폴리이미드 수지를 이용한 것 이외에는, 제조예 6과 마찬가지의 방법으로, 고형분 18.0 질량%, 25℃에 있어서의 점도 35,000 cps인 바니시 (3)을 얻었다.A varnish (3) having a solid content of 18.0 mass% and a viscosity at 25 ° C of 35,000 cps was obtained in the same manner as in Production Example 6, except that the polyimide resin obtained in Production Example 3 was used.

실시예 1Example 1

바니시 (1)을, PET 필름(도요보(주) 「코스모샤인(등록상표) A4100」, 막 두께 188 ㎛, 막 두께 분포 ±2 ㎛) 상에 도포하고, 유연 성형하여, 바니시의 도막을 성형하였다. 이 때, 선속(線速)은 0.3 m/분이었다. 바니시의 도막을, 80℃에서 10분 가열한 후, 100℃에서 10분 가열하고, 이어서 90℃에서 10분 가열하고, 마지막으로 80℃에서 10분 가열한다는 건조 조건으로 건조시켜, 건조 도막을 형성시켰다. 그 후, PET 필름으로부터 도막을 박리하여, 막 두께 58 ㎛, 폭 700 ㎜의 원료 필름 1을 얻었다. 원료 필름 1 중의 잔존 용매량은 9.7 질량%였다. 이어서, 원료 필름 1을 필름 횡(橫)연신 장치(텐터)로 200℃에서 25분, 연신 배율 0.98배의 조건으로 가열함으로써, 막 두께 50 ㎛의 폴리아미드이미드 필름 1을 얻었다. 폴리아미드이미드 필름 1 중의 잔존 용매량은 0.8 질량%였다.The varnish (1) was applied onto a PET film (Toyobo Co., Ltd., "Cosmoshine (registered trademark) A4100", film thickness 188 µm, film thickness distribution ± 2 µm), and flexible molded to form a varnish coating film. Did. At this time, the line speed was 0.3 m / min. The coating film of the varnish was heated at 80 ° C for 10 minutes, then heated at 100 ° C for 10 minutes, then heated at 90 ° C for 10 minutes, and finally dried under the drying conditions of heating at 80 ° C for 10 minutes to form a dry coating film. Ordered. Then, the coating film was peeled off from the PET film to obtain a raw film 1 having a thickness of 58 µm and a width of 700 mm. The amount of residual solvent in the raw film 1 was 9.7 mass%. Subsequently, the polyamideimide film 1 with a film thickness of 50 µm was obtained by heating the raw material film 1 with a film transverse stretching device (tenter) at 200 ° C. for 25 minutes and a draw ratio of 0.98 times. The amount of residual solvent in the polyamideimide film 1 was 0.8% by mass.

실시예 2Example 2

건조 조건을 80℃에서 10분 가열한 후, 100℃에서 10분 가열하고, 이어서 90℃에서 10분 가열하고, 마지막으로 85℃에서 10분 가열하는 조건으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 막 두께 58 ㎛, 폭 700 ㎜의 원료 필름 2를 얻었다. 원료 필름 2 중의 잔존 용매량은 9.8 질량%였다. 이어서, 원료 필름 1 대신에 원료 필름 2를 이용한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 막 두께 50 ㎛의 폴리아미드이미드 필름 2를 얻었다. 폴리아미드이미드 필름 2 중의 잔존 용매량은 0.7 질량%였다.As in Example 1, except that the drying conditions were heated to 80 ° C for 10 minutes, then heated to 100 ° C for 10 minutes, then heated to 90 ° C for 10 minutes, and finally changed to conditions for heating at 85 ° C for 10 minutes. Thus, a raw film 2 having a thickness of 58 µm and a width of 700 mm was obtained. The amount of residual solvent in the raw film 2 was 9.8 mass%. Subsequently, a polyamideimide film 2 having a film thickness of 50 µm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the raw film 2 was used instead of the raw film 1. The amount of the residual solvent in the polyamideimide film 2 was 0.7% by mass.

실시예 3Example 3

바니시 (3)을, PET 필름(도요보(주) 「코스모샤인(등록상표) A4100」, 막 두께 188 ㎛, 막 두께 분포 ±2 ㎛) 상에 도포하고, 유연 성형하여, 바니시의 도막을 성형하였다. 이 때, 선속은 0.8 m/분이었다. 바니시의 도막을, 100℃에서 3.5분 가열한 후, 120℃에서 3.5분 가열하고, 이어서 90℃에서 3.5분 가열하고, 마지막으로 80℃에서 3.5분 가열한다는 건조 조건으로 건조시켜, 건조 도막을 형성시켰다. 그 후, PET 필름으로부터 도막을 박리하여, 막 두께 58 ㎛, 폭 700 ㎜의 원료 필름 3을 얻었다. 원료 필름 3 중의 잔존 용매량은 9.5 질량%였다. 이어서, 원료 필름 1 대신에 원료 필름 3을 이용한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 막 두께 50 ㎛의 폴리이미드 필름을 얻었다. 폴리이미드 필름 중의 잔존 용매량은 1.0 질량%였다.The varnish (3) was applied onto a PET film (Toyobo Co., Ltd., Cosmoshine (registered trademark) A4100), film thickness 188 µm, film thickness distribution ± 2 µm), flexible molded to form a varnish coated film. Did. At this time, the line speed was 0.8 m / min. The coating film of the varnish was heated at 100 ° C for 3.5 minutes, then heated at 120 ° C for 3.5 minutes, then heated at 90 ° C for 3.5 minutes, and finally dried under drying conditions of heating at 80 ° C for 3.5 minutes to form a dry coating film. Ordered. Then, the coating film was peeled from the PET film to obtain a raw film 3 having a thickness of 58 µm and a width of 700 mm. The amount of residual solvent in the raw film 3 was 9.5 mass%. Subsequently, a polyimide film having a thickness of 50 µm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the raw film 3 was used instead of the raw film 1. The amount of residual solvent in the polyimide film was 1.0 mass%.

비교예 1Comparative Example 1

바니시 (2)를 이용하여, 건조 조건을, 70℃에서 10분 가열한 후, 80℃에서 10분 가열하고, 이어서 100℃에서 10분 가열하고, 마지막으로 100℃에서 10분 가열하는 조건으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 막 두께 58 ㎛, 폭 700 ㎜의 원료 필름 4를 얻었다. 원료 필름 4 중의 잔존 용매량은 9.7 질량%였다. 이어서, 원료 필름 1 대신에 원료 필름 3을 이용한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 막 두께 50 ㎛의 폴리아미드이미드 필름 3을 얻었다. 얻어진 폴리아미드이미드 필름 3 중의 잔존 용매량은 0.7 질량%였다.Using the varnish (2), the drying conditions were changed to conditions of heating at 70 ° C for 10 minutes, heating at 80 ° C for 10 minutes, then heating at 100 ° C for 10 minutes, and finally heating at 100 ° C for 10 minutes. A raw material film 4 having a thickness of 58 µm and a width of 700 mm was obtained in the same manner as in Example 1 except for doing it. The amount of residual solvent in the raw film 4 was 9.7 mass%. Subsequently, a polyamideimide film 3 having a thickness of 50 µm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the raw film 3 was used instead of the raw film 1. The amount of the residual solvent in the obtained polyamideimide film 3 was 0.7% by mass.

참고예 1Reference Example 1

DMAc의 도입량을 1650부로 한 것 이외에는 제조예 1과 마찬가지로 하여, 폴리아미드이미드 수지 3을 얻었다. 얻어진 폴리아미드이미드 수지 3의 중량평균 분자량은 180,000이었다. 폴리아미드이미드 수지 1 대신에 폴리아미드이미드 수지 3을 이용한 것 이외에는 제조예 6과 마찬가지로 하여 바니시를 조제하고, 당해 바니시를 이용하여 실시예 1과 마찬가지로 하여 참고용의 막 두께 50 ㎛ 필름을 제조하였다.A polyamideimide resin 3 was obtained in the same manner as in Production Example 1 except that the amount of DMAc introduced was 1650 parts. The weight average molecular weight of the obtained polyamideimide resin 3 was 180,000. A varnish was prepared in the same manner as in Production Example 6 except that polyamideimide resin 3 was used instead of polyamideimide resin 1, and a film having a thickness of 50 µm for reference was prepared in the same manner as in Example 1 using the varnish.

실시예 및 비교예의 필름의 제조에 사용한 바니시의 물성값, 및, 제 1 건조의 조건을 표 1에 나타낸다. 또, 실시예 및 비교예에서 얻은 필름에 대하여, 상기 측정 방법에 따라 각종 물성값을 측정한 결과를, 표 2∼표 4에 나타낸다. 또, 참고예 1에 나타내는 필름에 대하여, 내굴곡성 시험을 행한 결과를 표 3에 나타낸다.Table 1 shows the physical properties of the varnish used in the production of the films of Examples and Comparative Examples, and the conditions for the first drying. In addition, the results obtained by measuring various physical property values according to the above measuring methods for the films obtained in Examples and Comparative Examples are shown in Tables 2-4. In addition, Table 3 shows the results of the bending resistance test for the film shown in Reference Example 1.

[표 1][Table 1]

Figure pat00021
Figure pat00021

[표 2][Table 2]

Figure pat00022
Figure pat00022

[표 3][Table 3]

Figure pat00023
Figure pat00023

[표 4][Table 4]

Figure pat00024
Figure pat00024

실시예 1∼3의 광학 필름은, Ymh 및 Ymv가 30 미만이고, A/B가 30 미만이고, 시인성의 평가는 모두 ◎ 또는 ○였다. 이에 비하여, 비교예 1의 광학 필름은 A/B가 30 이상이고, 시인성의 평가 결과는 ×였다. 또, 중량평균 분자량이 23만 미만인 수지를 함유하는 참고예 1의 필름은, 충분한 내굴곡성을 갖는 것은 아니었다.In the optical films of Examples 1 to 3, Y mh and Y mv were less than 30, A / B was less than 30, and evaluation of visibility was all ◎ or ○. On the other hand, in the optical film of Comparative Example 1, A / B was 30 or more, and the evaluation result of visibility was x. Moreover, the film of Reference Example 1 containing a resin having a weight average molecular weight of less than 230,000 did not have sufficient bending resistance.

1: 광원
2: 필름
3: 투영면
4: 투영 화상
5: 광
6: 카메라
7: 카메라 각도
1: light source
2: Film
3: Projection plane
4: Projected image
5: Optical
6: Camera
7: Camera angle

Claims (9)

중량평균 분자량이 23만 이상인 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지 중 적어도 하나, 및 평균 일차입자경이 5∼35 ㎚인 필러를 포함하는 광학 필름으로서, 당해 광학 필름을 이용하여 투영법에 의해 얻은 투영 화상을 푸리에 변환하여 얻은 필름 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h 및 방향 v에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h 및 라인 프로파일 v라고 하고, 상기 투영법에 있어서 상기 광학 필름을 이용하지 않고 얻은 배경 화상을 푸리에 변환하여 얻은 배경 역공간상에 있어서 서로 직교하는 방향 h' 및 방향 v'에 있어서의 라인 프로파일을 각각 라인 프로파일 h' 및 라인 프로파일 v'라고 하고, 라인 프로파일 h로부터 라인 프로파일 h'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (h-h')의 최대 강도를 Ymh라고 하고, 최대 강도 Ymh를 나타내는 주파수를 Xmh라고 하고, 라인 프로파일 v로부터 라인 프로파일 v'를 빼서 얻은 라인 프로파일 (v-v')의 최대 강도를 Ymv라고 하고, 최대 강도 Ymv를 나타내는 주파수를 Xmv라고 하면, Ymh 및 Ymv는 모두 30 이하이고, Ymh, Ymv, Xmh 및 Xmv는 다음의 관계:
Figure pat00025

를 만족시키는, 광학 필름.
An optical film comprising at least one of a polyimide resin and a polyamide resin having a weight average molecular weight of 230,000 or more, and a filler having an average primary particle diameter of 5 to 35 nm, a projection image obtained by a projection method using the optical film The line profiles in directions h and v that are orthogonal to each other on the film inverse space obtained by Fourier transform are referred to as line profiles h and line profiles v, respectively, and the background image obtained without using the optical film in the projection method. In the background inverse space obtained by Fourier transform, line profiles in directions h 'and v which are orthogonal to each other are referred to as line profiles h' and line profiles v ', respectively, and line profile h' is subtracted from line profile h. The maximum intensity of the obtained line profile (h-h ') is called Y mh , and the frequency representing the maximum intensity Y mh If the number is X mh , the maximum intensity of the line profile (v-v ') obtained by subtracting the line profile v' from the line profile v is Y mv , and the frequency representing the maximum intensity Y mv is X mv , then Y mh And Y mv are all 30 or less, and Y mh , Y mv , X mh and X mv are the following relationships:
Figure pat00025

Satisfying, optical film.
제 1 항에 있어서,
필름의 황색도는 3 이하인, 광학 필름.
According to claim 1,
The optical film of which the yellowness of the film is 3 or less.
제 1 항에 있어서,
필러는 실리카 입자인, 광학 필름.
According to claim 1,
The filler is an silica particle, an optical film.
제 1 항에 있어서,
필러의 함유량은, 광학 필름의 질량에 대하여 5∼60 질량%인, 광학 필름.
According to claim 1,
The content of the filler is 5 to 60% by mass based on the mass of the optical film.
제 1 항에 있어서,
플렉시블 표시 장치의 전면판용의 필름인, 광학 필름.
According to claim 1,
An optical film that is a film for a front panel of a flexible display device.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름을 구비하는 플렉시블 표시 장치.A flexible display device comprising the optical film according to any one of claims 1 to 5. 제 6 항에 있어서,
터치 센서를 추가로 구비하는, 플렉시블 표시 장치.
The method of claim 6,
A flexible display device further comprising a touch sensor.
제 6 항에 있어서,
편광판을 추가로 구비하는, 플렉시블 표시 장치.
The method of claim 6,
A flexible display device further comprising a polarizing plate.
(a) 중량평균 분자량이 23만 이상인 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지 중 적어도 하나, 평균 일차입자경이 5∼35 ㎚인 필러, 및 용매를 적어도 함유하는 바니시를 지지체 상에 도포하고, 건조시켜, 도막을 형성시키는 공정,
(b) 지지체로부터 도막을 박리하는 공정, 및
(c) 박리한 도막을 가열하여, 필름을 얻는 공정,
을 적어도 포함하는, 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름의 제조 방법.
(a) At least one of a polyimide resin and a polyamide resin having a weight average molecular weight of 230,000 or more, a filler having an average primary particle diameter of 5 to 35 nm, and a varnish containing at least a solvent are coated on a support and dried. , Process of forming a coating film,
(b) a step of peeling off the coating film from the support, and
(c) a step of heating the peeled coating film to obtain a film,
The manufacturing method of the optical film in any one of Claims 1-5 containing at least.
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