KR20200032485A - Hybrid reflow apparatus combining mass reflow and laser selective reflow - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 매스 리플로우와 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 리플로우 장치에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 매스 리플로우(mass reflow)와 선택적 레이저 리플로우(laser selective reflow)의 장점을 결합함으로써, 전자소자의 본딩 품질을 향상시키는 동시에, 본딩과 관련하여 소요되는 시간을 단축시키고, 비용을 줄일 수 있는 하이브리드 리플로우 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a hybrid reflow device combining mass reflow and selective laser reflow. More specifically, the present invention combines the advantages of mass reflow and laser selective reflow, thereby improving the bonding quality of an electronic device while reducing the time required for bonding. , It relates to a hybrid reflow device that can reduce the cost.
일반적으로 반도체칩과 같은 전자소자를 인쇄회로기판(PCB)에 부착하기 위한 기술의 하나로 표면실장기술(SMT; Surface Mount Technology)의 표준공정인 써멀 리플로우 오븐(Thermal Reflow Oven) 기술과 같은 매스 리플로우(Mass Reflow, MR) 기술이 알려져 있다.In general, as a technology for attaching an electronic device such as a semiconductor chip to a printed circuit board (PCB), a mass ripple such as a thermal reflow oven technology, which is a standard process of surface mount technology (SMT) Low (Mass Reflow, MR) technology is known.
매스 리플로우 기술은 전자소자가 배치된 기판을 고온 환경인 리플로우 오븐으로 이동시키면서 연속적, 다른 표현으로, 플로잉(flowing) 방식으로 솔더링을 수행하는 기술로서, 대량 처리에 특히 적합하다는 장점이 있다.Mass reflow technology is a technology that performs soldering in a continuous manner, in a different way, by flowing a substrate on which an electronic device is placed in a reflow oven in a high temperature environment, and is particularly suitable for mass processing. .
한편, 이러한 매스 리플로우 기술에 따르면, 본딩 대상인 전자소자가 배치된 기판이 수백초의 시간 동안 100 ~ 300℃의 공기온도 환경속에 노출되므로 열팽창계수(Coefficient of Thermal Expansion, CTE) 차이로 인해 솔더링 본딩 접착불량이 칩 외곽부 휨(Chip-Boundary Warpage), PCB 외곽부 휨(PCB-Boundary Warpage), 열충격형 랜덤 본딩 불량(Random-Bonding Failure by Thermal Shock)등의 다양한 형태로 발생할 수 있다.On the other hand, according to this mass reflow technology, the substrate on which the electronic device to be bonded is placed is exposed to an air temperature environment of 100 to 300 ° C. for a time of hundreds of seconds, so that the soldering bonding is adhered due to a difference in coefficient of thermal expansion (CTE). Defects can occur in various forms, such as chip-boundary warpage, PCB-boundary warpage, and thermal-bonding failure by thermal shock.
또한, 매스 리플로우 기술은 프로세스 시간이 길며(수백초), 공정 전후로 장시간 고온상태를 유지해야 하므로 전기소비량이 크며, 실제 공정 전에 고온동작을 위한 워밍업 시간이 30분 ~ 2시간으로 길게 필요하며, 매스 리플로우 오븐의 3차원적인 공간 전체를 고온으로 유지해야 하므로 전기소비량이 수십kW 이상으로 매우 크며, 소량 다품종 생산에 적합하지 않다는 등의 단점들이 있다.In addition, the mass reflow technology requires a long process time (several hundreds of seconds), and requires high temperature consumption for a long time before and after the process. Since the entire three-dimensional space of the mass reflow oven needs to be maintained at a high temperature, there are disadvantages such as electric consumption is very large, more than several tens of kilowatts, and it is not suitable for small-scale production of various kinds.
다른 본딩 기술의 하나인 선택적 레이저 리플로우(Laser Selective Reflow, LSR) 기술은 비접촉식이라는 장점을 가지고 있고, 레이저광이 직접 반도체칩에 흡수되는 방법이 1차적인 열흡수 메카니즘이므로 열팽창계수의 차이에 의한 열충격이 없다는 장점이 있으며, 적당한 파장을 선택하면 반도체칩의 상부뿐만 아니라 하부까지 골고루 레이저광이 직접적인 흡수가열을 수행할 수 있다는 장점이 있으며, 매우 국부적인 가열을 꼭 필요한 시간만 수행하므로 저전력 소비/총입열량 최소화/열충격 최소화/프로세스 시간 최소화 등의 장점들을 가지고 있다.The selective laser reflow (LSR) technology, which is one of the other bonding technologies, has the advantage of being non-contact, and the method by which laser light is directly absorbed by the semiconductor chip is the primary heat-absorption mechanism, resulting in differences in thermal expansion coefficients. It has the advantage that there is no thermal shock, and if the proper wavelength is selected, it has the advantage that the laser light can perform the direct absorption heating evenly to the upper and lower portions of the semiconductor chip, and it consumes only a very necessary time for very local heating. It has advantages such as minimizing total heat input / minimizing thermal shock / minimizing process time.
한편, 선택적 레이저 리플로우 기술에 따르면, 처리 대상이 되는 기판이 대면적인 경우, 그에 상응하여 레이저를 조사하는 레이저 광학계의 출력 용량도 높아져야하는데, 레이저 광학계의 가격은 출력 용량에 비례하여 급격히 상승하기 때문에, 본딩과 관련한 전체적인 제조비용이 크게 상승하는 문제점이 있다.On the other hand, according to the selective laser reflow technology, when the substrate to be processed is a large area, the output capacity of the laser optical system for irradiating the laser should be increased accordingly, because the price of the laser optical system increases rapidly in proportion to the output capacity. , There is a problem that the overall manufacturing cost related to bonding is significantly increased.
또한, 본딩 대상이 되는 영역이 대면적인 경우, 이 본딩 대상 영역의 면적에 상응하는 대면적을 갖는 레이저 빔을 1회 조사하는 방식에 따르면, 레이저 빔의 균일도에 편차가 발생할 수 있으며, 이러한 편차는 결과적으로 본딩 공정 불량으로 이어질 수 있다는 문제점이 있다.In addition, when the area to be bonded is a large area, according to a method of irradiating a laser beam having a large area corresponding to the area of the bonding object once, a deviation may occur in the uniformity of the laser beam. As a result, there is a problem that it may lead to a defective bonding process.
본 발명은 매스 리플로우(mass reflow)와 선택적 레이저 리플로우(laser selective reflow)의 장점을 결합함으로써, 전자소자의 본딩 품질을 향상시키는 동시에, 본딩과 관련하여 소요되는 시간을 단축시키고, 비용을 줄일 수 있는 하이브리드 리플로우 장치를 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.The present invention combines the advantages of mass reflow and laser selective reflow, thereby improving the bonding quality of electronic devices, while reducing the time required for bonding and reducing costs. It is a technical problem to provide a hybrid reflow device capable of being used.
또한, 본 발명은 본딩 프로세스 시간을 단축하여 전자소자가 본딩 프로세스로 인해 유발되는 오염 구간에 노출되는 시간 자체를 단축할 수 있는 하이브리드 리플로우 장치를 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.In addition, it is a technical object of the present invention to provide a hybrid reflow device capable of shortening the bonding process time and shortening the time itself for the electronic device to be exposed to the contamination section caused by the bonding process.
또한, 본 발명은 대면적인 기판에 대하여, 플로잉(flowing) 방식의 매스 리플로우와 소면적/저출력의 레이저 광학 모듈을 이용한 선택적 레이저 리플로우를 병행하여 진행함으로써, 전체적인 본딩 균일도를 높이고 시간 및 비용 측면에서의 효율을 높일 수 있는 하이브리드 리플로우 장치를 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.In addition, according to the present invention, a large-scale substrate is processed in parallel with a mass-reflow of a flow type and a selective laser reflow using a small area / low-power laser optical module, thereby increasing the overall bonding uniformity and increasing time and cost. It is a technical problem to provide a hybrid reflow device capable of increasing efficiency in the aspect.
이러한 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 매스 리플로우와 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 리플로우 장치는, 본딩 대상인 전자소자가 형성된 기판을 입력하는 입력 컨베이어 모듈, 상기 입력 컨베이어 모듈로부터 입력받아 내부에 배치된 기판에 대하여 매스 리플로우(mass reflow)를 수행하는 챔버 모듈, 상기 챔버 모듈의 내부에 배치되어 상기 매스 리플로우가 수행되는 기판에 대하여, 플로잉(flowing) 방식으로 선택적 레이저 리플로우(laser selective reflow)를 수행하는 레이저 광학 모듈 및 상기 매스 리플로우와 상기 선택적 레이저 리플로우를 통해 본딩이 수행된 기판을 출력하는 출력 컨베이어 모듈을 포함하고, 상기 레이저 광학 모듈의 레이저 조사 면적은 상기 기판의 전체 면적보다 작고, 상기 레이저 광학 모듈과 상기 기판이 배치된 챔버 모듈의 상대적인 움직임을 이용한 플로잉 방식에 따라 상기 기판의 전체 면적에 대한 선택적 레이저 리플로우를 수행한다.The hybrid reflow device combining the mass reflow and the selective laser reflow according to the present invention for solving the above technical problem is an input conveyor module for inputting a substrate on which an electronic device to be bonded is formed, and is input from the input conveyor module to Chamber module for performing mass reflow on the placed substrate, and selective laser reflow for a substrate disposed inside the chamber module to perform the mass reflow in a flowing manner and a laser optical module performing selective reflow, and an output conveyor module outputting a substrate on which bonding is performed through the mass reflow and the selective laser reflow, wherein the laser irradiation area of the laser optical module is the entire area of the substrate. Smaller than the area, the laser optical module and the substrate In accordance with the flowing method using the relative movement of the deployed chamber module performs the selectively laser reflow on the entire area of the substrate.
본 발명에 따른 매스 리플로우와 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 리플로우 장치에 있어서, 상기 챔버 모듈이 고정된 상태에서 상기 레이저 광학 모듈이 이동하거나, 상기 상기 레이저 광학 모듈이 고정된 상태에서 상기 챔버 모듈이 이동하여, 상기 기판의 전체 면적에 대한 선택적 레이저 리플로우가 수행되는 것을 특징으로 한다.In the hybrid reflow device combining the mass reflow and the selective laser reflow according to the present invention, the laser optical module is moved while the chamber module is fixed, or the chamber module while the laser optical module is fixed This movement is characterized in that a selective laser reflow is performed for the entire area of the substrate.
본 발명에 따른 매스 리플로우와 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 리플로우 장치에 있어서, 상기 챔버 모듈은, 하부 유닛, 상기 하부 유닛에 결합되어 상기 기판에 형성된 전자소자가 리플로우되는 공간을 제공하는 상부 유닛, 상기 상부 유닛을 상하 방향으로 구동하는 구동부 및 상기 상부 유닛에 결합되어 있으며 상기 레이저 광학 모듈이 조사하는 레이저 빔을 투과시켜 상기 기판에 형성된 전자소자로 전달하는 윈도우 유닛을 포함하는 것을 특징으로 한다.In the hybrid reflow apparatus combining the mass reflow and the selective laser reflow according to the present invention, the chamber module is coupled to the lower unit, the lower unit, and an upper portion providing a space for reflow of electronic devices formed on the substrate. It is characterized in that it comprises a unit, a driving unit for driving the upper unit in the vertical direction, and a window unit coupled to the upper unit and transmitting a laser beam irradiated by the laser optical module to an electronic device formed on the substrate. .
본 발명에 따른 매스 리플로우와 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 리플로우 장치에 있어서, 상기 챔버 모듈은, 상기 하부 유닛에 결합되어 있으며, 상기 입력 컨베이어 모듈로부터 입력받은 기판을 흡입하여 고정하는 흡입 척 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In the hybrid reflow apparatus combining the mass reflow and the selective laser reflow according to the present invention, the chamber module is coupled to the lower unit, and the suction chuck unit suctions and fixes the substrate received from the input conveyor module. It characterized in that it further comprises.
본 발명에 따른 매스 리플로우와 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 리플로우 장치에 있어서, 상기 챔버 모듈은, 상기 기판을 흡입하여 고정하는 흡입 척 유닛을 가열하여 상기 흡입 척 유닛에 의해 고정되어 있는 기판에 상기 매스 리플로우를 위한 열을 공급하는 히팅 플레이트 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In the hybrid reflow device combining mass reflow and selective laser reflow according to the present invention, the chamber module heats the suction chuck unit that sucks and fixes the substrate to a substrate fixed by the suction chuck unit. It characterized in that it further comprises a heating plate unit for supplying heat for the mass reflow.
본 발명에 따른 매스 리플로우와 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 리플로우 장치에 있어서, 상기 레이저 광학 모듈과 상기 기판이 배치된 챔버 모듈의 상대 속도는 상기 히팅 플레이트의 가열 온도에 반비례하는 것을 특징으로 한다.In the hybrid reflow device combining mass reflow and selective laser reflow according to the present invention, the relative speed of the chamber module on which the laser optical module and the substrate are disposed is inversely proportional to the heating temperature of the heating plate. .
본 발명에 따른 매스 리플로우와 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 리플로우 장치에 있어서, 상기 기판에 형성된 전자소자가 상기 매스 리플로우와 상기 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 방식으로 리플로우되는 챔버 모듈의 내부는 질소 분위기를 유지하는 것을 특징으로 한다.In the hybrid reflow device combining the mass reflow and the selective laser reflow according to the present invention, the interior of the chamber module in which the electronic device formed on the substrate is reflowed in a hybrid manner combining the mass reflow and the selective laser reflow It is characterized by maintaining a nitrogen atmosphere.
본 발명에 따른 매스 리플로우와 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 리플로우 장치에 있어서, 상기 윈도우 유닛은 석영 재질을 갖는 것을 특징으로 한다.In the hybrid reflow device combining the mass reflow and the selective laser reflow according to the present invention, the window unit is characterized by having a quartz material.
본 발명에 따른 매스 리플로우와 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 리플로우 장치에 있어서, 상기 입력 컨베이어 모듈에 의해 상기 기판이 입력되는 경우, 상기 구동부가 상기 상부 유닛을 하강시켜 상기 상부 유닛과 상기 하부 유닛을 밀폐 결합시키고, 상기 상부 유닛과 상기 하부 유닛이 밀폐 결합되는 경우, 상기 흡입 척 유닛이 상기 기판을 흡입하여 고정한 상태에서 상기 매스 리플로우와 상기 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 방식으로 상기 기판에 형성된 전자소자를 리플로우하는 것을 특징으로 한다.In the hybrid reflow device combining mass reflow and selective laser reflow according to the present invention, when the substrate is input by the input conveyor module, the driving unit lowers the upper unit to cause the upper unit and the lower unit When the upper unit and the lower unit are hermetically coupled, the suction chuck unit suctions the substrate to fix it, and is formed on the substrate in a hybrid manner combining the mass reflow and the selective laser reflow. It characterized in that the reflow of the electronic device.
본 발명에 따른 매스 리플로우와 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 리플로우 장치에 있어서, 상기 매스 리플로우와 상기 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 리플로우가 완료된 경우, 상기 구동부가 상기 상부 유닛을 상승시켜 상기 상부 유닛과 상기 하부 유닛을 분리시키고, 상기 흡입 척 유닛에 의한 상기 기판의 흡입 고정이 해제된 상태에서, 상기 기판을 외부로 출력하는 것을 특징으로 한다.In the hybrid reflow device combining the mass reflow and the selective laser reflow according to the present invention, when the hybrid reflow combining the mass reflow and the selective laser reflow is completed, the driving unit raises the upper unit to It is characterized in that the upper unit and the lower unit are separated, and the substrate is output to the outside while the suction fixing of the substrate by the suction chuck unit is released.
본 발명에 따르면, 매스 리플로우(mass reflow)와 선택적 레이저 리플로우(laser selective reflow)의 장점을 결합함으로써, 전자소자의 본딩 품질을 향상시키는 동시에, 본딩과 관련하여 소요되는 시간을 단축시키고, 비용을 줄일 수 있는 하이브리드 리플로우 장치를 제공되는 효과가 있다.According to the present invention, by combining the advantages of mass reflow (mass reflow) and selective laser reflow (laser selective reflow), while improving the bonding quality of the electronic device, while reducing the time associated with bonding, cost It has the effect of providing a hybrid reflow device that can reduce.
또한, 본딩 프로세스 시간을 단축하여 전자소자가 본딩 프로세스로 인해 유발되는 오염 구간에 노출되는 시간 자체를 단축할 수 있는 하이브리드 리플로우 장치가 제공되는 효과가 있다.In addition, there is an effect of providing a hybrid reflow device capable of shortening the bonding process time and shortening the time itself for the electronic device to be exposed to the contamination section caused by the bonding process.
또한, 대면적인 기판에 대하여, 플로잉(flowing) 방식의 매스 리플로우와 소면적/저출력의 레이저 광학 모듈을 이용한 선택적 레이저 리플로우를 병행하여 진행함으로써, 전체적인 본딩 균일도를 높이고 시간 및 비용 측면에서의 효율을 높일 수 있는 하이브리드 리플로우 장치가 제공되는 효과가 있다.In addition, for large-area substrates, by performing mass flow reflow of the flow type and selective laser reflow using a small area / low power laser optical module in parallel, the overall bonding uniformity is increased and time and cost are increased. There is an effect that a hybrid reflow device capable of increasing efficiency is provided.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 매스 리플로우와 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 리플로우 장치를 나타낸 도면이고,
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 있어서, 챔버 모듈의 예시적인 구성을 나타낸 도면이고,
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 있어서, 챔버 모듈의 예시적인 부분 절개 사시도이고,
도 4는 본 발명의 일 실시 예에 있어서, 챔버 모듈을 구성하는 상부 유닛의 결합/분리 방식을 예시적으로 설명하기 위한 도면이고,
도 5는 본 발명의 일 실시 예에 있어서, 레이저 플로잉(laser flowing)의 하나의 예시적인 방식을 나타낸 도면이고,
도 6은 본 발명의 일 실시 예에 있어서, 레이저 플로잉의 다른 예시적인 방식을 나타낸 도면이고,
도 7은 본 발명의 일 실시 예에 있어서, 기판의 전체 면적보다 작은 조사 면적을 갖는 레이저 광학 모듈이 플로잉 방식으로 기판의 전체 면적에 레이저를 조사하는 방식을 예시적으로 나타낸 도면이다.1 is a view showing a hybrid reflow device combining a mass reflow and a selective laser reflow according to an embodiment of the present invention,
2 is a view showing an exemplary configuration of the chamber module in an embodiment of the present invention,
3 is an exemplary partial cutaway perspective view of a chamber module in one embodiment of the present invention,
4 is a view for explaining the coupling / separation method of the upper unit constituting the chamber module in an embodiment of the present invention by way of example,
5 is a diagram showing an exemplary method of laser flowing in one embodiment of the present invention,
6 is a diagram showing another exemplary method of laser flow in an embodiment of the present invention,
FIG. 7 is a diagram illustrating a method in which a laser optical module having an irradiation area smaller than the total area of the substrate irradiates a laser to the entire area of the substrate in a floating manner in an embodiment of the present invention.
본 명세서에 개시되어 있는 본 발명의 개념에 따른 실시 예들에 대해서 특정한 구조적 또는 기능적 설명은 단지 본 발명의 개념에 따른 실시 예들을 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로서, 본 발명의 개념에 따른 실시 예들은 다양한 형태들로 실시될 수 있으며 본 명세서에 설명된 실시 예들에 한정되지 않는다.Specific structural or functional descriptions of the embodiments according to the concept of the present invention disclosed in this specification are exemplified only for the purpose of explaining the embodiments according to the concept of the present invention, and the embodiments according to the concept of the present invention It can be implemented in various forms and is not limited to the embodiments described herein.
본 발명의 개념에 따른 실시 예들은 다양한 변경들을 가할 수 있고 여러 가지 형태들을 가질 수 있으므로 실시 예들을 도면에 예시하고 본 명세서에서 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명의 개념에 따른 실시 예들을 특정한 개시 형태들에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물, 또는 대체물을 포함한다.Embodiments according to the concept of the present invention can be applied to various changes and can have various forms, so the embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail herein. However, this is not intended to limit the embodiments according to the concept of the present invention to specific disclosure forms, and includes all changes, equivalents, or substitutes included in the spirit and scope of the present invention.
이하에서는, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 매스 리플로우와 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 리플로우 장치를 나타낸 도면이고, 도 2는 본 발명의 일 실시 예에 있어서, 챔버 모듈(20)의 예시적인 구성을 나타낸 도면이고, 도 3은 본 발명의 일 실시 예에 있어서, 챔버 모듈(20)의 예시적인 부분 절개 사시도이다.1 is a view showing a hybrid reflow device combining a mass reflow and a selective laser reflow according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an exemplary embodiment of the
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 매스 리플로우와 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 리플로우 장치는 입력 컨베이어 모듈(10), 챔버 모듈(20), 레이저 광학 모듈(30) 및 출력 컨베이어 모듈(40)을 포함한다.1 to 3, a hybrid reflow device combining mass reflow and selective laser reflow according to an embodiment of the present invention includes an
본 발명의 구성요소들을 상세히 설명하기에 앞서 도 7을 참조하여 본 발명의 주요 기술적 특징을 먼저 설명한다.Prior to describing the components of the present invention in detail, the main technical features of the present invention will be first described with reference to FIG. 7.
도 7은 본 발명의 일 실시 예에 있어서, 기판(1)의 전체 면적보다 작은 조사 면적을 갖는 레이저 광학 모듈(30)이 플로잉(flowing) 방식으로 기판(1)의 전체 면적에 레이저를 조사하는 방식을 예시적으로 나타낸 도면이다.7 shows that in an embodiment of the present invention, the laser
먼저 도 7을 추가로 참조하면, 대면적의 기판(1)에 대하여 레이저 리플로우를 수행하기 위해서는 고출력의 레이저가 필요하고 전체 면적에 대하여 균일한 리플로우를 수행하기 어렵다는 문제점이 있다.Referring first to FIG. 7, in order to perform a laser reflow on the
이러한 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명의 일 실시 예는 레이저 광학 모듈(30)이 기판(1)의 전체 면적보다 작은 레이저 조사 면적을 갖도록 구성되고, 기판(1)이 배치된 챔버 모듈(20)과 레이저 광학 모듈(30)의 상대적인 움직임을 이용한 플로잉(flowing) 방식에 따라 기판의 전체 면적에 대한 선택적 레이저 리플로우(laser selective reflow)를 수행하도록 구성된다.In order to solve this problem, an embodiment of the present invention, the laser
이를 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다.This will be described in more detail as follows.
먼저, 도 7의 (a)에 예시된 바와 같이, 대면적 기판(1)의 경우, 그 전체 영역에 대하여 레이저를 조사하는 경우 고용량의 레이저 광학 모듈(30)이 요구되어 제조비용이 크게 상승하고, 레이저 광학 모듈(30)의 전력 소모가 크고, 대면적 기판(1)에 대한 리플로우 균일도가 보장되지 않는다.First, as illustrated in (a) of FIG. 7, in the case of a
이러한 문제를 해결하기 위한 수단으로, 도 7의 (b) 및 도 7의 (c)에 예시된 바와 같이, 레이저 광학 모듈(30)이 기판(1)의 전체 면적보다 작은 레이저 조사 면적을 갖도록 구성하고, 기판(1)이 배치된 챔버 모듈(20)과 레이저 광학 모듈(30)의 상대적인 움직임을 이용한 플로잉(flowing) 방식에 따라 기판의 전체 면적에 대한 선택적 레이저 리플로우(laser selective reflow)를 수행하도록 구성될 수 있다.As a means for solving this problem, as illustrated in FIGS. 7 (b) and 7 (c), the laser
이하에서는 본 발명의 일 실시 예의 세부 구성요소들을 설명하며, 본 발명의 기술적 특징과 관련성이 떨어지는 구성요소에 대한 설명은 생략하도록 한다. 설명이 생략되는 구성요소들 중의 하나로 제어 모듈이 있으며, 이 제어 모듈은 자동적인 프로세스에 따라 제품을 생산하는 생산 설비에 일반적으로 구비되는 구성요소로서, 본 발명의 일 실시 예에서는 입력 컨베이어 모듈(10), 챔버 모듈(20), 레이저 광학 모듈(30) 및 출력 컨베이어 모듈(40)을 포함하는 구성요소들의 전체적인 동작을 제어하는 기능을 수행한다.Hereinafter, detailed components of one embodiment of the present invention will be described, and descriptions of components less relevant to the technical features of the present invention will be omitted. A control module is one of the components whose description is omitted, and the control module is a component that is generally provided in a production facility that produces a product according to an automatic process. In one embodiment of the present invention, an input conveyor module 10 ), The
입력 컨베이어 모듈(10)은 본딩 대상인 전자소자가 형성된 기판(1)을 챔버 모듈(20)의 내부로 입력하는 기능을 수행한다. The
챔버 모듈(20)은 입력 컨베이어 모듈(10)로부터 입력받아 내부에 배치된 기판(1)에 대하여 매스 리플로우(mass reflow)를 수행하는 기능을 수행한다.The
예를 들어, 챔버 모듈(20)은, 하부 유닛(210), 상부 유닛(220), 구동부(230), 윈도우 유닛(240), 흡입 척 유닛(250) 및 히팅 플레이트 유닛(260)을 포함하여 구성될 수 있다.For example, the
하부 유닛(210)과 상부 유닛(220)은 상호 간의 직접적인 결합 또는 타 구성요소들을 매개로 하는 간접적인 결합에 의해 기판(1)에 형성된 전자소자가 리플로우되는 공간을 제공한다.The
구동부(230)는 상부 유닛(220)을 상하 방향으로 구동하는 기능을 수행한다. 예를 들어, 구동부(230)는 실린더일 수 있으며, 리플로우의 대상이 되는 기판(1)이 정위치로 공급되는 경우 상부 유닛(220)을 하강시켜 리플로우가 수행되는 공간을 밀폐시키고, 리플로우가 완료되는 경우에는 상부 유닛(220)을 상승시켜 기판(1)이 외부로 배출되도록 하는 기능을 수행할 수 있다.The driving
윈도우 유닛(240)은 상부 유닛(220)에 상면부에 레이저 광학 모듈(30)을 향하도록 결합되어 있으며, 레이저 광학 모듈(30)이 조사하는 레이저 빔을 투과시켜 기판(1)에 형성된 전자소자로 전달하는 기능을 수행한다.The
예를 들어, 윈도우 유닛(240)은 레이저 투과성이 우수한 석영 재질을 갖도록 구성될 수 있으나, 윈도우 유닛(240)의 재질이 이에 한정되지는 않는다.For example, the
흡입 척 유닛(250)은 하부 유닛(210)에 결합되어 있으며, 입력 컨베이어 모듈(10)로부터 입력받은 기판(1)을 흡입하여 고정하는 기능을 수행한다.The
예를 들어, 흡입 척 유닛(250)은 공기압을 이용하여 기판(1)을 흡입하여 고정할 수 있으며, 이를 위한 수단으로 흡입 척 유닛(250)은 기판(1)의 면적보다 큰 면적을 갖는 플레이트에 복수의 공기 유로를 형성하는 방식으로 구성될 수 있다.For example, the
히팅 플레이트 유닛(260)은 기판(1)을 흡입하여 고정하는 흡입 척 유닛(250)을 가열하여 흡입 척 유닛(250)에 의해 고정되어 있는 기판(1)에 매스 리플로우를 위한 열을 공급하는 기능을 수행한다.The
예를 들어, 기판(1)으로의 열전달 효율을 높이기 위하여 히팅 플레이트 유닛(260)과 흡입 척 유닛(250)은 금속 등과 같이 열전도율이 우수한 재질을 갖도록 구성될 수 있다.For example, in order to increase the heat transfer efficiency to the
예를 들어, 기판(1)에 형성된 전자소자가 매스 리플로우와 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 방식으로 리플로우되는 챔버 모듈(20)의 내부는 질소 분위기를 유지하도록 구성될 수 있다. 이와 같이 질소 분위기에서 리플로우를 수행하면, 리플로우 과정에서 가해지는 고온의 열에 의해 기판(1) 및 기판(1)에 형성된 전자소자의 표면이 산화되는 현상을 방지하여 솔더링 품질을 향상시킬 수 있다.For example, the interior of the
레이저 광학 모듈(30)은 챔버 모듈(20)의 내부에 배치되어 매스 리플로우가 수행되는 기판(1)에 대하여, 플로잉(flowing) 방식으로 선택적 레이저 리플로우(laser selective reflow)를 수행하는 기능을 수행한다.The laser
레이저 광학 모듈(30)의 레이저 조사 면적은 기판(1)의 전체 면적보다 작고, 레이저 광학 모듈(30)과 기판(1)이 배치된 챔버 모듈(20)의 상대적인 움직임을 이용한 플로잉 방식에 따라, 기판(1)의 전체 면적에 대한 선택적 레이저 리플로우가 수행되도록 구성된다.The laser irradiation area of the laser
앞서 설명한 바 있지만, 대면적의 기판(1)에 대하여 레이저 리플로우를 수행하기 위해서는 고출력의 레이저가 필요하고 전체 면적에 대하여 균일한 리플로우를 수행하기 어렵다는 문제점이 있다.As described above, in order to perform a laser reflow on the
이러한 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명의 일 실시 예는 레이저 광학 모듈(30)이 기판(1)의 전체 면적보다 작은 레이저 조사 면적을 갖도록 구성되고, 기판(1)이 배치된 챔버 모듈(20)과 레이저 광학 모듈(30)의 상대적인 움직임을 이용한 플로잉(flowing) 방식에 따라 기판의 전체 면적에 대한 선택적 레이저 리플로우(laser selective reflow)를 수행하도록 구성된다.In order to solve this problem, an embodiment of the present invention, the laser
이를 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다.This will be described in more detail as follows.
먼저, 도 7의 (a)에 예시된 바와 같이, 대면적 기판(1)의 경우, 그 전체 영역에 대하여 레이저를 조사하는 경우 고용량의 레이저 광학 모듈(30)이 요구되어 제조비용이 크게 상승하고, 레이저 광학 모듈(30)의 전력 소모가 크고, 대면적 기판(1)에 대한 리플로우 균일도가 보장되지 않는다.First, as illustrated in (a) of FIG. 7, in the case of a
이러한 문제를 해결하기 위한 수단으로, 도 7의 (b) 및 도 7의 (c)에 예시된 바와 같이, 레이저 광학 모듈(30)이 기판(1)의 전체 면적보다 작은 레이저 조사 면적을 갖도록 구성하고, 기판(1)이 배치된 챔버 모듈(20)과 레이저 광학 모듈(30)의 상대적인 움직임을 이용한 플로잉(flowing) 방식에 따라 기판(1)의 전체 면적에 대한 선택적 레이저 리플로우(laser selective reflow)를 수행하도록 구성될 수 있다.As a means for solving this problem, as illustrated in FIGS. 7 (b) and 7 (c), the laser
예를 들어, 레이저 광학 모듈(30)과 기판(1)이 배치된 챔버 모듈(20)의 상대 속도는 히팅 플레이트의 가열 온도에 반비례하도록 구성될 수 있다.For example, the relative speed of the
이와 같이 구성되는 이유 및 그에 따른 효과를 설명하면 다음과 같다.The reason for this configuration and the effects thereof are as follows.
본 발명의 일 실시 예는 매스 리플로우와 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 리플로우 장치로서, 히팅 플레이트는 매스 리플로우를 위한 수단이고 레이저 광학 모듈(30)은 플로잉 방식의 선택적 레이저 리플로우를 위한 수단이다. 이러한 2가지 기술적 수단의 결합을 통해 본딩 대상체, 즉, 전자소자의 솔더링 영역에 공급되는 에너지는 전체 면적 범위에 걸쳐 일정하게 유지되어야 한다. 한편, 레이저 광학 모듈(30)과 챔버 모듈(20)의 상대 속도는 플로잉 방식의 선택적 레이저 리플로우가 수행되는 시간을 결정하는 요소로서, 레이저 광학 모듈(30)과 챔버 모듈(20)의 상대 속도는 본딩 대상체에 공급되는 에너지에 반비례하고, 히팅 플레이트의 가열 온도는 본딩 대상체에 공급되는 에너지에 비례한다.One embodiment of the present invention is a hybrid reflow device that combines mass reflow and selective laser reflow, the heating plate is a means for mass reflow, and the laser
따라서, 본 발명의 일 실시 예는, 레이저 광학 모듈(30)과 챔버 모듈(20)의 상대 속도와 히팅 플레이트의 가열 온도를 반비례하도록 구성함으로써, 본딩 균일도를 향상시킬 수 있다. 보다 구체적으로, 히팅 플레이트의 가열 온도가 높은 경우에는 상대 속도를 빠르게, 즉, 레이저 리플로우가 수행되는 시간이 짧아지도록 하고, 반대로, 히팅 플레이트의 가열 온도가 낮은 경우에는 상대 속도를 느리게, 즉, 레이저 리플로우가 수행되는 시간이 길어지도록 함으로써, 솔더링에 공급되는 에너지를 일정하게 유지하여 기판(1)의 전체 면적에 대한 본딩 균일도를 향상시킬 수 있는 것이다.Therefore, according to an embodiment of the present invention, the bonding uniformity can be improved by configuring the relative speed of the laser
출력 컨베이어 모듈(40)은 챔버 모듈(20)의 내부에서 매스 리플로우와 선택적 레이저 리플로우를 통해 본딩이 수행된 기판(1)을 외부로 출력하는 기능을 수행한다.The
도 4는 본 발명의 일 실시 예에 있어서, 챔버 모듈(20)을 구성하는 상부 유닛(220)의 결합/분리 방식을 예시적으로 설명하기 위한 도면으로서, 도 4를 추가로 참조하면, 챔버 모듈(20)에는 상부 유닛(220)을 쉽고 빠르게 분리할 수 있는 4개의 상부유닛 분리핸들(271, 272, 273, 274)이 추가로 구비될 수 있다.FIG. 4 is a view for exemplarily illustrating a coupling / separation method of the
이하에서는, 도 5 및 도 6을 추가로 참조하여, 기판(1)이 배치된 챔버 모듈(20)과 레이저 광학 모듈(30)의 상대적인 움직임을 이용한 레이저 플로잉(laser flowing)을 수행하기 위한 예시적인 방식을 설명한다.Hereinafter, with reference to FIGS. 5 and 6, an example for performing laser flowing using relative movement of the
도 5는 본 발명의 일 실시 예에 있어서, 레이저 플로잉(laser flowing)의 하나의 예시적인 방식을 나타낸 도면이다.5 is a diagram illustrating an exemplary method of laser flowing in an embodiment of the present invention.
도 5를 추가로 참조하면, 기판이 배치되어 있는 챔버 모듈이 고정된 상태에서 레이저 광학 모듈이 이동하여, 기판의 전체 면적에 대한 선택적 레이저 리플로우가 수행될 수 있다.Referring to FIG. 5 further, the laser optical module moves while the chamber module on which the substrate is disposed is fixed, so that selective laser reflow of the entire area of the substrate can be performed.
구체적으로, 먼저, 도 5의 (a)를 참조하면, 기판(1)이 입력 컨베이어 모듈(10)에 적재된 상태에서, 구동부(230)가 상부 유닛(220)을 상승시키고, 입력 컨베이어 모듈(10)에 의해 기판(1)이 챔버 모듈(2)에 입력되는 과정이 수행된다.Specifically, first, referring to (a) of FIG. 5, in a state where the
다음으로, 도 5의 (b)를 참조하면, 흡입 척 유닛(250)에 의해 기판(1)이 고정되고, 챔버 모듈(20)의 내부가 질소 분위기로 유지되는 상태에서, 히팅 플레이트 유닛(260)을 가열하여 매스 리플로우를 진행하는 동시에, 플로잉 방식으로 레이저를 조사하여 기판(1)의 전체 영역에 대하여 플로잉 방식의 선택적 레이저 리플로우를 진행하는 과정이 수행된다.Next, referring to (b) of FIG. 5, the
이 과정을 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다.The process is described in more detail as follows.
먼저, 기판(1)이 흡입 척 유닛(250)에 안착된 상태에서, 구동부(230)가 상부 유닛(220)을 하강시켜 상부 유닛(220)과 하부 유닛(210)을 밀폐 결합시키는 과정이 수행된다. 이 과정이 수행되면, 본딩 대상이 되는 전자소자가 형성된 기판(1)이 상부 유닛(220)과 하부 유닛(210)의 결합에 의해 챔버 모듈(20) 내의 밀폐된 공간에 위치하게 된다. 이와 같이, 상부 유닛(220)과 하부 유닛(210)이 밀폐 결합되는 경우, 흡입 척 유닛(250)이 기판(1)을 흡입하여 고정하고, 질소 유입구(280)를 통해 질소를 공급하여 챔버 모듈(20)의 내부가 질소 분위기를 유지하도록 하는 과정이 수행되고, 레이저 광학 모듈(30)이 윈도우 유닛(240)을 통과하여 기판(1)의 전자소자에 도달하는 레이저를 조사하는 과정이 수행된다. 동시에, 챔버 모듈(2)이 고정된 상태에서 레이저 광학 모듈(30)이 기판(1)의 장변을 따라 이동한다. 즉, 레이저 광학 모듈(30)은 본딩 대상이 되는 영역을 따라 플로잉한다.First, in a state where the
다음으로, 도 5의 (c)를 참조하면, 매스 리플로우와 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 리플로우가 완료된 경우, 구동부(230)가 상부 유닛(220)을 상승시켜 상부 유닛(220)과 하부 유닛(210)을 분리시키고, 흡입 척 유닛(250)에 의한 기판(1)의 흡입 고정이 해제된 상태에서, 기판(1)이 챔버 모듈(20)의 외부로 출력되어 출력 컨베이어 모듈(40)에 적재되는 과정이 수행된다.Next, referring to (c) of FIG. 5, when the hybrid reflow combining the mass reflow and the selective laser reflow is completed, the driving
도 6은 본 발명의 일 실시 예에 있어서, 레이저 플로잉의 다른 예시적인 방식을 나타낸 도면이다.6 is a diagram illustrating another exemplary method of laser flow in an embodiment of the present invention.
도 6을 추가로 참조하면, 도 5에 예시된 구성과 반대로, 레이저 광학 모듈(30)이 고정된 상태에서 기판(1)이 배치되어 있는 챔버 모듈(20)이 이동하여, 기판(1)의 전체 면적에 대한 선택적 레이저 리플로우가 수행될 수 있다.Referring to FIG. 6 further, as opposed to the configuration illustrated in FIG. 5, the
앞서 상세히 설명한 도 5에 개시된 예에 따르면, 기판(1)이 배치되어 있는 챔버 모듈(20)이 고정된 상태에서 레이저 광학 모듈(30)이 이동, 즉, 플로잉하는 방식인 반면, 도 6에 개시된 예는, 반대로, 레이저 광학 모듈(30)이 고정된 상태에서 기판(1)이 배치되어 있는 챔버 모듈(20)이 이동, 즉, 플로잉하는 방식이다. 이 점을 제외한 동작은 서로 동일하기 때문에, 중복되는 설명은 생략한다.According to the example disclosed in FIG. 5 described in detail above, while the
이상에서 상세히 설명한 바와 같이 본 발명에 따르면, 매스 리플로우(mass reflow)와 선택적 레이저 리플로우(laser selective reflow)의 장점을 결합함으로써, 전자소자의 본딩 품질을 향상시키는 동시에, 본딩과 관련하여 소요되는 시간을 단축시키고, 비용을 줄일 수 있는 하이브리드 리플로우 장치를 제공되는 효과가 있다.As described in detail above, according to the present invention, by combining the advantages of mass reflow (mass reflow) and selective laser reflow (laser selective reflow), while improving the bonding quality of the electronic device, at the same time required for bonding It is effective to provide a hybrid reflow device that can reduce time and reduce costs.
또한, 본딩 프로세스 시간을 단축하여 전자소자가 본딩 프로세스로 인해 유발되는 오염 구간에 노출되는 시간 자체를 단축할 수 있는 하이브리드 리플로우 장치가 제공되는 효과가 있다.In addition, there is an effect of providing a hybrid reflow device capable of shortening the bonding process time and shortening the time itself for the electronic device to be exposed to the contamination section caused by the bonding process.
또한, 대면적인 기판에 대하여, 플로잉(flowing) 방식의 매스 리플로우와 소면적/저출력의 레이저 광학 모듈을 이용한 선택적 레이저 리플로우를 병행하여 진행함으로써, 전체적인 본딩 균일도를 높이고 시간 및 비용 측면에서의 효율을 높일 수 있는 하이브리드 리플로우 장치가 제공되는 효과가 있다.In addition, for large-area substrates, by performing mass flow reflow of the flow type and selective laser reflow using a small area / low power laser optical module in parallel, the overall bonding uniformity is increased and time and cost are increased. There is an effect that a hybrid reflow device capable of increasing efficiency is provided.
1: 기판
10: 입력 컨베이어 모듈
20: 챔버 모듈
30: 레이저 광학 모듈
40: 출력 컨베이어 모듈
210: 하부 유닛
220: 상부 유닛
230: 구동부
240: 윈도우 유닛
250: 흡입 척 유닛
260: 히팅 플레이트 유닛
271, 272, 273, 274: 상부유닛 분리핸들
280: 질소 유입구
290: 산소 센서1: Substrate
10: Input conveyor module
20: chamber module
30: laser optical module
40: output conveyor module
210: lower unit
220: upper unit
230: drive unit
240: window unit
250: suction chuck unit
260: heating plate unit
271, 272, 273, 274: upper unit separation handle
280: nitrogen inlet
290: oxygen sensor
Claims (10)
본딩 대상인 전자소자가 형성된 기판을 입력하는 입력 컨베이어 모듈;
상기 입력 컨베이어 모듈로부터 입력받아 내부에 배치된 기판에 대하여 매스 리플로우(mass reflow)를 수행하는 챔버 모듈;
상기 챔버 모듈의 내부에 배치되어 상기 매스 리플로우가 수행되는 기판에 대하여, 플로잉(flowing) 방식으로 선택적 레이저 리플로우(laser selective reflow)를 수행하는 레이저 광학 모듈; 및
상기 매스 리플로우와 상기 선택적 레이저 리플로우를 통해 본딩이 수행된 기판을 출력하는 출력 컨베이어 모듈을 포함하고
상기 레이저 광학 모듈의 레이저 조사 면적은 상기 기판의 전체 면적보다 작고,
상기 레이저 광학 모듈과 상기 기판이 배치된 챔버 모듈의 상대적인 움직임을 이용한 플로잉 방식에 따라 상기 기판의 전체 면적에 대한 선택적 레이저 리플로우를 수행하는, 매스 리플로우와 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 리플로우 장치.
A hybrid reflow device that combines mass reflow and selective laser reflow,
An input conveyor module for inputting a substrate on which an electronic device to be bonded is formed;
A chamber module that receives input from the input conveyor module and performs mass reflow on the substrate disposed therein;
A laser optical module disposed inside the chamber module to perform laser selective reflow on a substrate on which the mass reflow is performed; And
And an output conveyor module outputting a substrate on which bonding has been performed through the mass reflow and the selective laser reflow.
The laser irradiation area of the laser optical module is smaller than the total area of the substrate,
Hybrid reflow combining mass reflow and selective laser reflow, which performs selective laser reflow for the entire area of the substrate according to a flow method using the relative movement of the laser module and the chamber module on which the substrate is disposed. Device.
상기 챔버 모듈이 고정된 상태에서 상기 레이저 광학 모듈이 이동하거나, 상기 상기 레이저 광학 모듈이 고정된 상태에서 상기 챔버 모듈이 이동하여, 상기 기판의 전체 면적에 대한 선택적 레이저 리플로우가 수행되는 것을 특징으로 하는, 매스 리플로우와 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 리플로우 장치.
According to claim 1,
The laser optical module is moved while the chamber module is fixed, or the chamber module is moved while the laser optical module is fixed, so that selective laser reflow of the entire area of the substrate is performed. A hybrid reflow device that combines mass reflow and selective laser reflow.
상기 챔버 모듈은,
하부 유닛;
상기 하부 유닛에 결합되어 상기 기판에 형성된 전자소자가 리플로우되는 공간을 제공하는 상부 유닛;
상기 상부 유닛을 상하 방향으로 구동하는 구동부; 및
상기 상부 유닛에 결합되어 있으며 상기 레이저 광학 모듈이 조사하는 레이저 빔을 투과시켜 상기 기판에 형성된 전자소자로 전달하는 윈도우 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는, 매스 리플로우와 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 리플로우 장치.
According to claim 1,
The chamber module,
Lower unit;
An upper unit coupled to the lower unit to provide a space in which the electronic device formed on the substrate reflows;
A driving unit driving the upper unit in the vertical direction; And
A hybrid ripple combining a mass reflow and a selective laser reflow, which is coupled to the upper unit and includes a window unit that transmits a laser beam irradiated by the laser optical module and transmits it to an electronic device formed on the substrate. Low device.
상기 챔버 모듈은,
상기 하부 유닛에 결합되어 있으며, 상기 입력 컨베이어 모듈로부터 입력받은 기판을 흡입하여 고정하는 흡입 척 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 매스 리플로우와 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 리플로우 장치.
According to claim 3,
The chamber module,
It is coupled to the lower unit, characterized in that it further comprises a suction chuck unit for sucking and fixing the substrate received from the input conveyor module, hybrid reflow device combining a mass reflow and a selective laser reflow.
상기 챔버 모듈은,
상기 기판을 흡입하여 고정하는 흡입 척 유닛을 가열하여 상기 흡입 척 유닛에 의해 고정되어 있는 기판에 상기 매스 리플로우를 위한 열을 공급하는 히팅 플레이트 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 매스 리플로우와 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 리플로우 장치.
According to claim 4,
The chamber module,
And a heating plate unit that heats the suction chuck unit that sucks and fixes the substrate to supply heat for the mass reflow to the substrate fixed by the suction chuck unit. Hybrid reflow device combining selective laser reflow.
상기 레이저 광학 모듈과 상기 기판이 배치된 챔버 모듈의 상대 속도는 상기 히팅 플레이트의 가열 온도에 반비례하는 것을 특징으로 하는, 매스 리플로우와 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 리플로우 장치.
The method of claim 5,
A hybrid reflow device combining mass reflow and selective laser reflow, characterized in that the relative speed of the chamber module on which the laser optical module and the substrate are disposed is inversely proportional to the heating temperature of the heating plate.
상기 기판에 형성된 전자소자가 상기 매스 리플로우와 상기 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 방식으로 리플로우되는 챔버 모듈의 내부는 질소 분위기를 유지하는 것을 특징으로 하는, 매스 리플로우와 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 리플로우 장치.
According to claim 1,
The interior of the chamber module, in which the electronic device formed on the substrate is reflowed in a hybrid manner combining the mass reflow and the selective laser reflow, maintains a nitrogen atmosphere, and combines mass reflow and selective laser reflow. Hybrid reflow device.
상기 윈도우 유닛은 석영 재질을 갖는 것을 특징으로 하는, 매스 리플로우와 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 리플로우 장치.
According to claim 3,
The window unit is characterized in that it has a quartz material, hybrid reflow device combining a mass reflow and a selective laser reflow.
상기 입력 컨베이어 모듈에 의해 상기 기판이 입력되는 경우, 상기 구동부가 상기 상부 유닛을 하강시켜 상기 상부 유닛과 상기 하부 유닛을 밀폐 결합시키고,
상기 상부 유닛과 상기 하부 유닛이 밀폐 결합되는 경우, 상기 흡입 척 유닛이 상기 기판을 흡입하여 고정한 상태에서 상기 매스 리플로우와 상기 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 방식으로 상기 기판에 형성된 전자소자를 리플로우하는 것을 특징으로 하는, 매스 리플로우와 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 리플로우 장치.
The method of claim 5,
When the substrate is input by the input conveyor module, the driving unit lowers the upper unit to hermetically couple the upper unit and the lower unit,
When the upper unit and the lower unit are hermetically coupled, the electronic device formed on the substrate is reflowed in a hybrid manner in which the mass reflow and the selective laser reflow are combined while the suction chuck unit sucks and fixes the substrate. A hybrid reflow device combining mass reflow and selective laser reflow.
상기 매스 리플로우와 상기 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 리플로우가 완료된 경우, 상기 구동부가 상기 상부 유닛을 상승시켜 상기 상부 유닛과 상기 하부 유닛을 분리시키고,
상기 흡입 척 유닛에 의한 상기 기판의 흡입 고정이 해제된 상태에서, 상기 기판을 외부로 출력하는 것을 특징으로 하는, 매스 리플로우와 선택적 레이저 리플로우를 결합한 하이브리드 리플로우 장치.
The method of claim 9,
When the hybrid reflow combining the mass reflow and the selective laser reflow is completed, the driving unit raises the upper unit to separate the upper unit and the lower unit,
A hybrid reflow device combining mass reflow and selective laser reflow, characterized in that the substrate is output to the outside while the suction fixing of the substrate by the suction chuck unit is released.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020180111573A KR20200032485A (en) | 2018-09-18 | 2018-09-18 | Hybrid reflow apparatus combining mass reflow and laser selective reflow |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020180111573A KR20200032485A (en) | 2018-09-18 | 2018-09-18 | Hybrid reflow apparatus combining mass reflow and laser selective reflow |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20200032485A true KR20200032485A (en) | 2020-03-26 |
Family
ID=69958711
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020180111573A KR20200032485A (en) | 2018-09-18 | 2018-09-18 | Hybrid reflow apparatus combining mass reflow and laser selective reflow |
Country Status (1)
Country | Link |
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KR (1) | KR20200032485A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210144282A (en) * | 2020-05-22 | 2021-11-30 | 레이저쎌 주식회사 | Flow transfer type laser reflow method |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20170141865A (en) | 2016-06-16 | 2017-12-27 | 스템코 주식회사 | Apparatus for reflow |
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2018
- 2018-09-18 KR KR1020180111573A patent/KR20200032485A/en not_active Application Discontinuation
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KR20210144282A (en) * | 2020-05-22 | 2021-11-30 | 레이저쎌 주식회사 | Flow transfer type laser reflow method |
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