KR20200022091A - Nozzle for cleaning substrate - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a nozzle for cleaning a substrate, which discharges cleaning liquid to the substrate, and more specifically, to a nozzle for cleaning a substrate, which prevents flow pressure concentration in one direction, thereby improving discharge performance of the nozzle for cleaning a substrate, preventing a flow path in the nozzle for cleaning a substrate from being damaged, and having high pressure-resistant properties.

Description

기판 세정용 노즐{NOZZLE FOR CLEANING SUBSTRATE}Nozzle for Cleaning Substrate {NOZZLE FOR CLEANING SUBSTRATE}

본 발명은 기판에 세정액을 토출하는 기판 세정용 노즐에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate cleaning nozzle for discharging a cleaning liquid to a substrate.

반도체 칩, LED 칩 등의 제조를 위해 사용되는 기판은 포토리소그라피, 식각, 박막 증착 등의 다양한 공정들이 수행된다.Substrates used for the manufacture of semiconductor chips, LED chips and the like are subjected to various processes such as photolithography, etching and thin film deposition.

위와 같이, 기판에 다양한 공정들이 수행되는 과정에서 파티클 등의 이물질이 발생되며, 이러한 이물질을 제거하기 위해, 각각의 공정들이 진행되기 전 또는 진행된 후 단계에서 기판을 세정하는 세정 공정이 수행된다.As described above, foreign matters such as particles are generated in the process of performing various processes on the substrate, and in order to remove such foreign matters, a cleaning process for cleaning the substrate is performed before or after each process.

세정 공정으로는 기판 상에 잔류하는 이물질을 제거하기 위해 케미컬을 분사하거나, 가스가 혼합된 처리액을 분사하거나, 세정액을 분사하게 된다. 이 중, 세정액을 분사하는 방식은 기판 세정용 노즐에 세정액을 공급하여 세정액을 토출시킨다. In the cleaning process, chemicals are sprayed to remove foreign substances remaining on the substrate, a treatment liquid mixed with gas is sprayed, or a cleaning liquid is sprayed. Among these, in the method of spraying the cleaning liquid, the cleaning liquid is supplied to the nozzle for cleaning the substrate to discharge the cleaning liquid.

기판 세정용 노즐은 노즐 내부를 유동하는 처리액(또는 세정액)의 압력(이하, '유동압'이라 한다)을 견디는 정도, 즉, 노즐의 내압(耐壓) 특성이 중요하다. 이는, 유동압이 노즐의 내압보다 높을 경우 높은 유동압에 의해 노즐 내부의 유로가 파손되거나, 노즐 결합 부위 등에 리크가 발생하기 때문이다.The substrate cleaning nozzle is important to withstand the pressure of the processing liquid (or cleaning liquid) flowing in the nozzle (hereinafter referred to as "fluid pressure"), that is, the pressure resistance characteristic of the nozzle. This is because, when the flow pressure is higher than the internal pressure of the nozzle, the flow path inside the nozzle is broken by the high flow pressure, or leaks occur in the nozzle coupling portion or the like.

유동압의 상승 원인으로는 공급되는 처리액(또는 세정액)의 압력(이하, '공급압'이라 한다)이 높아서 유동압이 높게 유지되는 경우와, 토출홀이 파티클 등 이물질에 막혀 유동압이 비정상적으로 급격히 상승되는 경우가 있다.The reason for the increase in the flow pressure is that the pressure of the processing liquid (or cleaning liquid) to be supplied (hereinafter referred to as 'supply pressure') is high and the flow pressure is kept high, and the discharge hole is clogged with foreign matter such as particles, so the flow pressure is abnormal. May rise sharply.

공급압은 노즐의 토출홀로 토출되는 처리액의 토출 압력(이하, '토출압'이라 한다)과 연관이 있다. 이는 공급압이 높으면 유동압이 높게 유지되어 토출압 또한 높게 유지되기 때문이다. 이러한 공급압은 노즐의 내압 특성에 따라 정해지게 되며, 높은 내압 특성을 갖는 노즐일수록 높은 공급압을 통해 높은 토출압 성능을 발휘할 수 있다. 다시 말해, 노즐의 높은 내압 특성은 노즐의 토출 성능을 상승시키는 원인이 되는 것이다. The supply pressure is related to the discharge pressure (hereinafter referred to as 'discharge pressure') of the processing liquid discharged to the discharge hole of the nozzle. This is because if the supply pressure is high, the flow pressure is kept high and the discharge pressure is also kept high. The supply pressure is determined according to the pressure resistance characteristics of the nozzle, and a nozzle having a high pressure resistance characteristic may exhibit high discharge pressure performance through a high supply pressure. In other words, the high withstand pressure characteristic of the nozzle is the cause of raising the discharge performance of the nozzle.

이러한 노즐의 내압 특성은 세정액이 유동하는 노즐의 내부 유로의 형상과 밀접한 관련이 있다. 따라서, 이하에서 도 16을 참조하여 종래의 기판 세정용 노즐의 내부 유로와 그에 따른 노즐의 내압 특성에 대해 살펴본다.The pressure resistance characteristic of the nozzle is closely related to the shape of the internal flow path of the nozzle through which the cleaning liquid flows. Therefore, the internal flow path of the conventional substrate cleaning nozzle and the pressure resistance characteristic of the nozzle will be described below with reference to FIG. 16.

도 16은 종래의 기판 세정용 노즐의 내부 유로를 도시한 도이다.FIG. 16 is a view showing an internal flow path of a conventional substrate cleaning nozzle. FIG.

종래의 기판 세정용 노즐(1)은 도 1에 도시된 바와 같이, 기판 세정용 노즐(1)의 내부에 내부 유로가 구비되어 있으며, 내부 유로는 제1토출홀(2)이 구비된 제1원형유로(3)와, 제2토출홀(4)이 구비되며, 제1원형유로(3)의 내측에 위치하는 제2원형유로(5)와, 제1원형유로(3)와 제2원형유로(5)를 연결시키는 연결유로(6)와, 세정액이 유입되는 유입홀과 연결되며, 제1원형유로(3) 상에 구비되는 상하유로(7)를 포함하여 구성된다.As shown in FIG. 1, the conventional substrate cleaning nozzle 1 includes an internal flow path inside the substrate cleaning nozzle 1, and the internal flow path includes a first discharge hole 2 having a first discharge hole 2. The circular flow path 3 and the second discharge hole 4 are provided, the second circular flow path 5 located inside the first circular flow path 3, the first circular flow path 3 and the second circular shape It comprises a connecting passage (6) for connecting the flow path (5), and the up and down flow passage (7) which is connected to the inflow hole in which the cleaning liquid flows, provided on the first circular flow passage (3).

전술한 구성을 갖는 종래의 기판 세정용 노즐(1)은, 세정액이 유입홀을 통해 상하유로(7)로 유입되면, 유입된 세정액은 제1원형유로(3)의 원주방향으로 2갈래로 분기되고, 연결유로(6)로 1갈래로 분기됨으로써, 총 3갈래로 분기되어 유동하게 된다.In the conventional substrate cleaning nozzle 1 having the above-described configuration, when the cleaning liquid flows into the upper and lower flow passages 7 through the inflow hole, the introduced cleaning liquid branches into two branches in the circumferential direction of the first circular flow passage 3. By branching to the connecting passage 6 in one branch, the branching flows in three branches.

제1원형유로(3)의 원주방향으로 2갈래로 분기된 세정액의 유동은 제1원형유로(3)의 형상으로 인해, 제1원형유로(3)에서 제2원형유로(5) 방향, 즉, 종래의 기판 세정용 노즐(10)의 외측에서 내측 방향으로의 힘 벡터 방향성을 갖는다.The flow of the cleaning liquid bifurcated in the circumferential direction of the first circular flow passage 3 is due to the shape of the first circular flow passage 3 and thus, from the first circular flow passage 3 to the second circular flow passage 5, that is, And force vector directionality from the outer side to the inner side of the conventional substrate cleaning nozzle 10.

연결유로(6)로 1갈래로 분기된 세정액의 유동 또한, 제1원형유로(3)에서 제2원형유로(5) 방향, 즉, 종래의 기판 세정용 노즐(1)의 외측에서 내측 방향으로의 힘 벡터 방향성을 갖는다.The flow of the cleaning liquid branched into the connecting flow passage 6 in the direction of the first circular flow passage 3 to the second circular flow passage 5, that is, from the outside of the conventional substrate cleaning nozzle 1 to the inner direction. Force vector has directionality.

위와 같이, 세정액의 유동이 종래의 기판 세정용 노즐(1)의 외측에서 내측 방향으로 힘 벡터 방향성을 가짐에 따라, 유동압은 외측에서 내측 방향으로 힘 벡터가 집중되어 가해진다.As described above, as the flow of the cleaning liquid has the force vector directionality from the outside of the conventional substrate cleaning nozzle 1 to the inward direction, the flow pressure is applied with the force vector concentrated from the outside to the inward direction.

따라서, 세정액의 공급 및 유동으로 인해 발생되는 세정액의 유동압은 제2원형유로(5) 부근에서 집중적으로 높아지게 되며, 이러한 유동압으로 인해, 유동압에 의한 내부 유로의 변형(deformation)이 제2원형유로(5)에 집중적으로 발생한다.Therefore, the flow pressure of the cleaning liquid generated due to the supply and flow of the cleaning liquid is increased intensively in the vicinity of the second circular flow path 5, and due to this flow pressure, the deformation of the internal flow path due to the flow pressure is second It occurs intensively in the circular flow path (5).

위와 같이, 제2원형유로(5)에 변형이 집중되는 현상은 도 18a에서 확인할 수 있다.As described above, the phenomenon in which deformation is concentrated in the second circular channel 5 may be confirmed in FIG. 18A.

이러한 유로의 변형은 제2원형유로(5)의 내측 영역에도 발생하며, 종래의 기판 세정용 노즐(1)의 내압 특성을 낮추는 원인이 된다.Such deformation of the flow path also occurs in the inner region of the second circular flow path 5, which causes a decrease in the pressure resistance characteristic of the conventional substrate cleaning nozzle 1.

다시 말해, 세정액의 공급 압력을 높이게 되면, 제2원형유로(5) 부근 영역에 파손이 이루어지거나, 리크가 발생할 수 있는 것이다.In other words, if the supply pressure of the cleaning liquid is increased, damage may occur to the region near the second circular flow passage 5, or leakage may occur.

전술한 기판 세정용 노즐(1)과 같이, 한국등록특허 제10-1842128호(이하, '특허문헌 1'이라 한다)의 노즐의 경우에도 노즐의 내측의 유로에 유동압이 집중되는 문제점이 발생한다.Like the substrate cleaning nozzle 1 described above, the nozzle of Korean Patent No. 10-1842128 (hereinafter referred to as 'Patent Document 1') also has a problem in that the flow pressure is concentrated in the flow path inside the nozzle. do.

이하, 도 17을 참조하여 특허문헌 1의 노즐의 내부 유로와 그에 따른 노즐의 내압 특성에 대해 살펴본다. 단, 도 17은 특허문헌 1의 도 4에 대한 도면이다.Hereinafter, with reference to FIG. 17, the internal flow path of the nozzle of patent document 1 and the withstand pressure characteristic of the nozzle are examined. 17 is a figure with respect to FIG. 4 of patent document 1. FIG.

도 17에 도시된 바와 같이, 특허문헌 1의 노즐은 유입유로(432)및 유입유로(432)와 연결된 제3영역(412a)이 링 형상의 제1영역(412b) 및 제2영역(412c)의 외측에 위치하여 있다.As shown in FIG. 17, in the nozzle of Patent Document 1, the inflow passage 432 and the third region 412a connected to the inflow passage 432 have a ring-shaped first region 412b and a second region 412c. It is located outside of.

위와 같은 구성을 갖는 특허문헌 1의 노즐은 유입유로(432)를 통해 세정액이 공급되면 제1영역(412b)의 외측에 위치하는 제3영역(412a)으로 세정액이 유동된 후, 제1영역(412b)에서는, 세정액이 제1영역(412b)의 원주방향으로 2갈래로 분기되고, 제1영역(412b)의 내측에 위치하는 제3영역(412a)으로 1갈래로 분기됨으로써, 총 3갈래로 분기되어 유동한다. 또한, 제2영역(412c)에서는, 제1영역(412b)의 내측에 위치하는 제3영역(412a)으로 유동된 세정액이 제2영역(412c)의 원주방향으로 2갈래로 분기된다.In the nozzle of Patent Document 1 having the above configuration, when the cleaning liquid is supplied through the inflow passage 432, the cleaning liquid flows into the third region 412a located outside the first region 412b, and then the first region ( In 412b, the cleaning liquid is bifurcated in the circumferential direction of the first region 412b, and bifurcated into the third region 412a located inside the first region 412b. Branch and flow. In addition, in the second region 412c, the cleaning liquid flowing into the third region 412a located inside the first region 412b is bifurcated in the circumferential direction of the second region 412c.

이 경우, 전술한 종래의 기판 세정액 노즐(1)과 마찬가지로, 세정액의 유동압은 노즐의 제1영역(412b)에서 제2영역(412c) 방향, 즉, 외측에서 내측방향으로 힘 벡터가 집중되어 가해지게 된다.In this case, like the conventional substrate cleaning liquid nozzle 1 described above, the flow pressure of the cleaning liquid is concentrated in the direction of the force vector from the first region 412b of the nozzle to the second region 412c, that is, from the outside to the inside. Will be added.

따라서, 세정액의 공급 및 유동으로 인해 발생되는 세정액의 유동압은 제2영역(412c) 부근에서 집중적으로 높아지게 된다.Therefore, the flow pressure of the cleaning liquid generated due to the supply and flow of the cleaning liquid is concentrated in the vicinity of the second region 412c.

위와 같은 유동압에 의한 내부 유로의 변형(deformation)이 제2영역(412c)에 집중적으로 발생하는 것은 도 18b에서도 확인할 수 있다.It can be seen in FIG. 18B that the deformation of the internal flow path due to the above flow pressure is concentrated in the second region 412c.

이러한 유로의 변형은 제2영역(412c)의 내측 영역에도 발생하며, 종래의 기판 세정용 노즐(10)의 내압 특성을 낮추는 원인이 된다.Such a deformation of the flow path also occurs in the inner region of the second region 412c, which causes the breakdown voltage characteristic of the conventional substrate cleaning nozzle 10 to be lowered.

다시 말해, 세정액의 공급 압력을 높이게 되면, 제2영역(412c) 부근 영역에 파손이 이루어지거나, 리크가 발생할 수 있는 것이다.In other words, if the supply pressure of the cleaning liquid is increased, damage may occur to the region near the second region 412c or leakage may occur.

전술한 바와 같이, 종래의 기판 세정용 노즐들은 유동압의 힘 벡터가 외측에서 내측 방향, 즉, 한 방향으로 집중적으로 가해짐에 따라 기판 세정용 노즐의 내압 특성이 낮아지는 문제점이 발생한다. 따라서, 이와 같은 한 방향으로의 유동압의 힘 벡터 집중 현상을 방지할 수 있는 내부 유로 구조를 갖는 기판 세정용 노즐을 개발할 필요가 있다.As described above, the conventional substrate cleaning nozzles have a problem in that the pressure resistance characteristic of the substrate cleaning nozzle is lowered as the force vector of the flow pressure is intensively applied from the outer side to the inner side, that is, in one direction. Accordingly, there is a need to develop a substrate cleaning nozzle having an internal flow path structure capable of preventing such a force vector concentration phenomenon of the flow pressure in one direction.

한국등록특허 제10-1842128호Korean Patent Registration No. 10-1842128

본 발명은 전술한 문제를 해결하기 위해 안출된 것으로서, 내측 방향으로의 유동압 힘 벡터의 집중 현상을 방지함으로써, 기판 세정용 노즐의 토출 성능의 향상과, 기판 세정용 노즐 내부 유로의 파손을 방지하고, 나아가, 높은 내압 특성을 갖는 기판 세정용 노즐을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and by preventing the phenomenon of concentration of the flow pressure force vector in the inward direction, it is possible to improve the discharge performance of the substrate cleaning nozzle and to prevent damage to the internal passage of the substrate cleaning nozzle. In addition, an object of the present invention is to provide a nozzle for cleaning a substrate having high breakdown voltage characteristics.

본 발명의 일 특징에 따른 기판 세정용 노즐은, 제1토출홀이 구비된 제1유로; 제2토출홀이 구비되며, 상기 제1유로의 내측에 위치하는 제2유로; 상기 제1유로와 상기 제2유로를 연결시키는 제1연결유로; 및 세정액이 유입되거나 유출되는 제1메인홀과 연결되며, 상기 제1연결유로 상에 구비되는 제1상하유로;를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, a substrate cleaning nozzle includes: a first passage having a first discharge hole; A second flow passage provided with a second discharge hole and positioned inside the first flow passage; A first connection channel connecting the first channel and the second channel; And a first up and down flow path connected to the first main hole through which the cleaning liquid flows in or out, and provided on the first connection flow path.

또한, 상기 제1유로 및 상기 제2유로는 동일한 중심점을 갖는 원형 형상인 것을 특징으로 한다.In addition, the first passage and the second passage is characterized in that the circular shape having the same center point.

또한, '상기 제1유로의 체적 : 상기 제2유로의 체적 = 1 : 1' 조건을 만족하는 것을 특징으로 한다.In addition, the 'volume of the first channel: the volume of the second channel = 1: 1' is characterized by satisfying the condition.

또한, 상기 제1유로와 상기 제2유로를 연결시키며, 상기 제1유로의 중심점을 기준으로 상기 제1연결유로와 대칭되게 위치하는 제2연결유로; 및 세정액이 유입되거나 유출되는 제2메인홀과 연결되며, 상기 제2연결유로 상에 구비되는 제2상하유로;를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, a second connection channel connecting the first channel and the second channel, the second channel is located symmetrically with respect to the first connection channel with respect to the center point of the first channel; And a second vertical flow passage connected to a second main hole through which the cleaning liquid flows in or out, and provided on the second connection flow passage.

또한, 복수개의 제3토출홀이 구비되며, 상기 제2유로의 내측에 위치하는 제3유로; 및 상기 제2유로와 상기 제3유로를 연결시키며, 상기 제1연결유로와 일직선 상에 위치하는 제3연결유로;를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the third passage is provided with a plurality of third discharge hole, located in the second passage; And a third connection channel connecting the second channel and the third channel, wherein the third connection channel is in line with the first connection channel.

또한, '상기 제1유로의 체적 : 상기 제2유로의 체적 + 상기 제3유로의 체적 = 1 : 1' 조건을 만족하는 것을 특징으로 한다.In addition, the 'volume of the first channel: the volume of the second channel + the volume of the third channel = 1: 1) is characterized in that it is satisfied.

또한, 상기 제1유로와 상기 제2유로를 연결시키며, 상기 제1유로의 중심점을 기준으로 상기 제1연결유로와 대칭되게 위치하는 제2연결유로; 및 세정액이 유입되거나 유출되는 제2메인홀과 연결되며, 상기 제2연결유로 상에 구비되는 제2상하유로; 및 상기 제2유로와 상기 제3유로를 연결시키며, 상기 제2유로의 중심점을 기준으로 상기 제3연결유로와 대칭되게 위치하고, 상기 제2연결유로와 일직선 상에 위치하는 제4연결유로;를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, a second connection channel connecting the first channel and the second channel, the second channel is located symmetrically with respect to the first connection channel with respect to the center point of the first channel; And a second vertical flow passage connected to a second main hole through which a cleaning solution flows in or out, and provided on the second connection flow passage. And a fourth connection channel connecting the second channel and the third channel, positioned symmetrically with the third connection channel based on the center point of the second channel, and positioned in a line with the second connection channel. It further comprises.

또한, 상기 제1유로, 상기 제2유로 및 상기 제3유로는 동일한 중심점을 갖는 원형 형상이며, 상기 제1 내지 제4연결유로는 상기 중심점을 지나는 일직선 상에 위치하는 것을 특징으로 한다.In addition, the first channel, the second channel and the third channel has a circular shape having the same center point, the first to fourth connection channel is characterized in that located on a straight line passing through the center point.

또한, 제1몸체; 상기 제1몸체의 하면과 그 상면이 맞닿도록 상기 제1몸체의 하부에 결합되는 제2몸체; 상기 제1몸체의 하면 또는 상기 제2몸체의 상면 중 어느 하나에 형성되는 복수개의 홈; 및 상기 제1몸체의 하면 또는 상기 제2몸체의 상면 중 나머지 하나에 형성되며, 상기 복수개의 홈에 대응되게 형성되어 상기 복수개의 홈 각각에 삽입되는 복수개의 돌기;를 더 포함하고, 상기 제1유로, 상기 제2유로 및 상기 제1연결유로는 상기 제1몸체의 하면 및 상기 제2몸체의 상면 중 적어도 어느 하나에 구비되되, 상기 제1유로, 상기 제2유로 및 상기 제1연결유로는 상기 복수개의 홈 및 상기 복수개의 돌기가 결합된 부분 사이에 위치하는 것을 특징으로 한다.In addition, the first body; A second body coupled to a lower portion of the first body such that a lower surface of the first body and an upper surface thereof contact each other; A plurality of grooves formed on any one of a lower surface of the first body and an upper surface of the second body; And a plurality of protrusions formed on the other surface of the lower surface of the first body or the upper surface of the second body and formed to correspond to the plurality of grooves and inserted into each of the plurality of grooves. The flow path, the second flow path and the first connection flow path are provided on at least one of the lower surface of the first body and the upper surface of the second body, wherein the first flow path, the second flow path and the first connection flow path Characterized in that located between the plurality of grooves and the portion coupled to the plurality of projections.

본 발명의 다른 특징에 따른 기판 세정용 노즐은, 제1토출홀이 구비된 제1유로; 제2토출홀이 구비되며, 상기 제1유로의 내측에 위치하는 제2유로; 상기 제1유로와 상기 제2유로를 연결시키는 제1연결유로; 및 세정액이 유입되는 제1메인홀과 연결되는 제1상하유로;를 포함하되, 상기 제1메인홀을 통해 제1연결유로로 유입되는 세정액은 상기 제1, 2유로 각각으로 분기되어 유동되되, 상기 제1, 2유로 각각으로 분기되어 유동되는 세정액의 방향은 상기 제1상하유로와 상기 제1연결유로의 연결부를 기준으로 서로 반대 방향인 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a substrate cleaning nozzle comprising: a first passage having a first discharge hole; A second flow passage provided with a second discharge hole and positioned inside the first flow passage; A first connection channel connecting the first channel and the second channel; And a first up and down flow passage connected to the first main hole into which the cleaning liquid is introduced, wherein the cleaning liquid flowing into the first connection channel through the first main hole is branched and flows into the first and second flow paths, respectively. Directions of the washing liquid branched into the first and second flow paths may be opposite to each other based on the connection portion between the first upper and lower flow paths and the first connection channel.

본 발명의 다른 특징에 따른 기판 세정용 노즐은, 제1토출홀이 구비된 제1유로; 제2토출홀이 구비되며, 상기 제1유로의 내측에 위치하는 제2유로; 상기 제1유로와 상기 제2유로를 연결시키며, 상기 제1유로의 중심점을 기준으로 서로 대칭되게 위치하는 제1, 2연결유로; 세정액이 유입되는 제1메인홀과 연결되는 제1상하유로; 및 세정액이 유출되는 제2메인홀과 연결되는 제2상하유로;를 포함하되, 상기 제1메인홀을 통해 제1연결유로로 유입되는 세정액은 상기 제1, 2유로 각각으로 분기되어 유동되되, 상기 제1, 2유로 각각으로 분기되어 유동되는 세정액의 방향은 상기 제1상하유로와 상기 제1연결유로의 연결부를 기준으로 서로 반대 방향이고, 상기 제2연결유로를 통해 상기 제2메인홀로 유출되는 세정액은 상기 제1, 2유로 각각으로부터 상기 제2연결유로로 유동되되, 상기 제1, 2유로 각각으로부터 유동되는 세정액의 방향은 상기 제2상하유로와 상기 제2연결유로의 연결부를 기준으로 서로 반대 방향인 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a substrate cleaning nozzle comprising: a first passage having a first discharge hole; A second flow passage provided with a second discharge hole and positioned inside the first flow passage; First and second connection passages connecting the first channel and the second channel and symmetrically positioned with respect to the center point of the first channel; A first vertical flow passage connected to the first main hole into which the cleaning liquid flows; And a second vertical flow passage connected to the second main hole through which the cleaning liquid flows out, wherein the cleaning liquid flowing into the first connection channel through the first main hole flows branched into the first and second flow paths, respectively. Directions of the cleaning liquid branched into the first and second flow paths are respectively opposite to each other based on the connection portion between the first upper and lower flow paths and the first connection flow path, and flow out to the second main hole through the second connection flow path. The cleaning solution flows from the first and second flow paths to the second connection flow path, respectively, and the direction of the cleaning liquid flowing from each of the first and second flow paths is based on the connection portion between the second up and down flow path and the second connection flow path. Characterized in opposite directions to each other.

이상에서 설명한 바와 같은 본 발명의 기판 세정용 노즐에 따르면 다음과 같은 효과가 있다.According to the nozzle for cleaning the substrate of the present invention as described above has the following advantages.

기판 세정용 노즐의 내부로 공급된 세정액이 제1연결유로 상에서 서로 내, 외측 방향으로 유동되어 제1, 2유로(또는 제1 내지 제3유로) 각각으로 유동됨에 따라 세정액의 유동압의 힘 벡터가 내측 방향으로 집중되지 않고, 내, 외측으로 고르게 분포됨으로써, 어느 한 유로에 집중적으로 변형이 발생하는 것을 최소화할 수 있다.Force vector of the flow pressure of the cleaning liquid as the cleaning liquids supplied into the substrate cleaning nozzles flow inward and outward from each other on the first connection channel and flow into the first and second channels (or first to third channels), respectively. Since is not concentrated inwardly and evenly distributed inward and outward, it is possible to minimize deformation occurring in any one flow path.

본 발명의 기판 세정용 노즐은 유동압의 내, 외측 방향으로의 고른 분포를 통해, 내부 유로들의 파손, 리크 등이 방지될 수 있으며, 기판 세정용 노즐의 높은 내압특성에 기여할 수 있다.The substrate cleaning nozzle of the present invention can prevent breakage, leakage, etc. of the internal flow paths through an even distribution of the flow pressure in the inward and outward directions, and can contribute to a high breakdown voltage characteristic of the nozzle for cleaning the substrate.

본 발명의 기판 세정용 노즐의 높은 내압 특성을 통해, 높은 공급압으로 높은 토출압 성능을 발취할 수 있고, 토출홀을 통해 토출되는 세정액의 균일성을 보장하여, 사영역 없는 세정액의 토출을 달성할 수 있다. 또한, 기판 세정용 노즐의 내부 유로들의 파손 방지 및 제1, 2몸체의 결합 부위 파손을 방지할 수 있다.Through the high pressure resistance characteristic of the nozzle for cleaning the substrate of the present invention, it is possible to extract high discharge pressure performance at a high supply pressure and to ensure uniformity of the cleaning liquid discharged through the discharge hole, thereby achieving a discharge of the cleaning liquid without dead zone. can do. In addition, it is possible to prevent breakage of the internal flow paths of the substrate cleaning nozzle and damage of the joint portions of the first and second bodies.

기판 세정용 노즐의 내부 유로들이 복수개의 홈 및 복수개의 돌기 사이에 위치하므로, 세정액이 내부 유로들에서 새어나가는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.Since the inner flow paths of the substrate cleaning nozzle are located between the plurality of grooves and the plurality of protrusions, it is possible to effectively prevent the cleaning liquid from leaking from the inner flow paths.

내부 유로들의 최외측과 최내측에 융착산 및 융착산홈을 통해 초음파 융착이 이루어짐으로써, 내부 유로들을 최외측과 최내측에서 가두는 효과를 달성할 수 있다.Ultrasonic fusion is performed on the outermost and innermost sides of the inner passages through fusion and fusion grooves, thereby achieving the effect of confining the inner passages at the outermost and innermost sides.

도 1은 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 사시도.
도 2는 도 1의 기판 세정용 노즐의 분해 사시도.
도 3은 도 2의 제1몸체의 하면을 도시한 저면도.
도 4는 도 2의 제2몸체의 상면을 도시한 평면도.
도 5는 도 2의 제2몸체의 하면을 도시한 저면도.
도 6은 도 4의 토출홀의 단면도.
도 7a는 도 1의 기판 세정용 노즐의 내부 유로를 도시한 도.
도 7b는 도 7a의 세정액의 유동을 도시한 도.
도 8은 본 발명의 바람직한 제2실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 제1몸체의 하면을 도시한 저면도.
도 9는 본 발명의 바람직한 제2실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 제2몸체의 상면을 도시한 평면도.
도 10은 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 제1몸체의 하면을 도시한 저면도.
도 11은 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 제2몸체의 상면을 도시한 평면도.
도 12는 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 제2몸체의 하면을 도시한 저면도.
도 13a는 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 내부 유로를 도시한 도.
도 13b는 도 13a의 세정액의 유동을 도시한 도.
도 14는 본 발명의 바람직한 제4실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 제1몸체의 하면을 도시한 저면도.
도 15는 본 발명의 바람직한 제4실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 제2몸체의 상면을 도시한 평면도.
도 16은 종래의 기판 세정용 노즐의 내부 유로를 도시한 도.
도 17은 특허문헌 1의 노즐의 내부 유로를 도시한 도.
도 18a는 세정액의 공급시 종래의 기판 세정용 노즐의 변형을 도시한 도.
도 18b는 세정액의 공급시 특허문헌 1의 노즐의 변형을 도시한 도.
도 18c는 세정액의 공급시 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 변형을 도시한 도.
도 18d는 세정액의 공급시 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 변형을 도시한 도.
1 is a perspective view of a nozzle for cleaning a substrate according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is an exploded perspective view of the substrate cleaning nozzle of FIG. 1. FIG.
3 is a bottom view illustrating the bottom surface of the first body of FIG. 2;
4 is a plan view illustrating an upper surface of the second body of FIG. 2;
5 is a bottom view illustrating the bottom surface of the second body of FIG. 2;
6 is a cross-sectional view of the discharge hole of FIG.
FIG. 7A is a view illustrating an inner flow path of the substrate cleaning nozzle of FIG. 1. FIG.
FIG. 7B illustrates the flow of the cleaning liquid of FIG. 7A. FIG.
8 is a bottom view illustrating a bottom surface of a first body of a substrate cleaning nozzle according to a second preferred embodiment of the present invention.
9 is a plan view illustrating a top surface of a second body of the substrate cleaning nozzle according to the second embodiment of the present invention.
FIG. 10 is a bottom view illustrating a bottom surface of a first body of a substrate cleaning nozzle according to a third exemplary embodiment of the present invention. FIG.
FIG. 11 is a plan view illustrating a top surface of a second body of a substrate cleaning nozzle according to a third exemplary embodiment of the present invention. FIG.
12 is a bottom view showing a lower surface of a second body of a substrate cleaning nozzle according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 13A illustrates an internal flow path of a nozzle for cleaning a substrate according to a third exemplary embodiment of the present invention. FIG.
FIG. 13B shows the flow of the cleaning liquid of FIG. 13A. FIG.
FIG. 14 is a bottom view illustrating a bottom surface of a first body of a substrate cleaning nozzle according to a fourth preferred embodiment of the present invention. FIG.
FIG. 15 is a plan view illustrating a top surface of a second body of a substrate cleaning nozzle according to a fourth preferred embodiment of the present invention. FIG.
16 is a view showing an inner flow path of a conventional substrate cleaning nozzle.
FIG. 17 is a view showing an internal flow path of a nozzle of Patent Document 1. FIG.
FIG. 18A shows a variation of a conventional substrate cleaning nozzle upon supply of a cleaning liquid. FIG.
18B is a view showing a deformation of a nozzle of Patent Document 1 when supplying a cleaning liquid.
18C is a view showing a modification of the nozzle for cleaning a substrate according to the first embodiment of the present invention when supplying the cleaning liquid.
FIG. 18D illustrates a variation of the nozzle for cleaning the substrate according to the third preferred embodiment of the present invention when supplying the cleaning liquid. FIG.

이하의 내용은 단지 발명의 원리를 예시한다. 그러므로 당업자는 비록 본 명세서에 명확히 설명되거나 도시되지 않았지만 발명의 원리를 구현하고 발명의 개념과 범위에 포함된 다양한 장치를 발명할 수 있는 것이다. 또한, 본 명세서에 열거된 모든 조건부 용어 및 실시 예들은 원칙적으로, 발명의 개념이 이해되도록 하기 위한 목적으로만 명백히 의도되고, 이와 같이 특별히 열거된 실시 예들 및 상태들에 제한적이지 않는 것으로 이해되어야 한다.The following merely illustrates the principles of the invention. Therefore, those skilled in the art, although not explicitly described or illustrated herein, can embody the principles of the invention and invent various devices included in the concept and scope of the invention. In addition, all conditional terms and embodiments listed herein are in principle clearly intended to be understood only for the purpose of understanding the concept of the invention and are not to be limited to the embodiments and states specifically listed. .

상술한 목적, 특징 및 장점은 첨부된 도면과 관련한 다음의 상세한 설명을 통하여 보다 분명해 질 것이며, 그에 따라 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 것이다.The above objects, features, and advantages will become more apparent from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings, whereby the technical spirit of the invention may be easily implemented by those skilled in the art. .

본 명세서에서 기술하는 실시 예들은 본 발명의 이상적인 예시 도인 단면도 및/또는 사시도들을 참고하여 설명될 것이다. 따라서, 본 발명의 실시 예들은 도시된 특정 형태로 제한되는 것이 아니라 제조 공정에 따라 생성되는 형태의 변화도 포함하는 것이다.Embodiments described herein will be described with reference to cross-sectional and / or perspective views, which are ideal exemplary views of the invention. Accordingly, the embodiments of the present invention are not limited to the specific forms shown, but also include changes in forms generated according to manufacturing processes.

설명에 들어가기에 앞서, 이하의 설명에서 참조되는 도 18a 내지 도 18d에 대해 설명한다.Prior to the description, FIGS. 18A to 18D will be described with reference to the following description.

도 18a는 세정액의 공급시 종래의 기판 세정용 노즐의 변형을 도시한 도이다.18A is a diagram showing a modification of a conventional substrate cleaning nozzle when supplying a cleaning liquid.

도 18a의 종래의 기판 세정용 노즐의 유로들의 치수(Dimension) 및 세정액의 공급압은 다음과 같다.The dimensions of the flow paths of the conventional substrate cleaning nozzle of FIG. 18A and the supply pressure of the cleaning liquid are as follows.

최외측 유로의 원주의 중심을 잇는 선은 기판 세정용 노즐의 중심선으로부터 15mm 이격되어 있으며, 최외측 유로의 폭은 1mm 이고, 높이는 1.25mm 이다. 내측 유로의 원주의 중심을 잇는 선은 기판 세정용 노즐의 중심선으로부터 7.5mm 이격되어 있으며, 내측 유로의 폭은 2mm 이고, 높이는 1.25mm 이다. 또한, 도 18a의 종래의 기판 세정용 노즐은 최외측 유로 상에 위치하는 왼쪽 공급구를 통해 5Mpa 의 세정액을 공급하였다.The line connecting the center of the circumference of the outermost flow path is 15 mm away from the center line of the substrate cleaning nozzle, the width of the outermost flow path is 1 mm, and the height is 1.25 mm. The line connecting the center of the circumference of the inner channel is 7.5 mm away from the center line of the substrate cleaning nozzle, the width of the inner channel is 2 mm, and the height is 1.25 mm. In addition, the conventional substrate cleaning nozzle of FIG. 18A supplied the cleaning liquid of 5 Mpa through the left supply port located on the outermost flow path.

도 18b는 세정액의 공급시 특허문헌 1의 노즐의 변형을 도시한 도이다.18B is a diagram showing a deformation of the nozzle of Patent Document 1 when supplying the cleaning liquid.

도 18b의 특허문헌 1의 노즐의 유로들의 치수(Dimension) 및 세정액의 공급압은 다음과 같다.The dimension of the flow path of the nozzle of patent document 1 of FIG. 18B, and the supply pressure of a washing | cleaning liquid are as follows.

최외측 유로의 원주의 중심을 잇는 선은 기판 세정용 노즐의 중심선으로부터 15mm 이격되어 있으며, 최외측 유로의 폭은 1.5mm 이고, 높이는 1.25mm 이다. 내측 유로의 원주의 중심을 잇는 선은 기판 세정용 노즐의 중심선으로부터 7.5mm 이격되어 있으며, 내측 유로의 폭은 2mm 이고, 높이는 1.25mm 이다. 또한, 도 18b의 특허문헌 1의 노즐은 최외측 유로에서 외측 방향으로 이격된 왼쪽 공급구를 통해 5Mpa 의 세정액을 공급하였다.The line connecting the center of the circumference of the outermost flow path is 15 mm away from the center line of the substrate cleaning nozzle, the width of the outermost flow path is 1.5 mm, and the height is 1.25 mm. The line connecting the center of the circumference of the inner channel is 7.5 mm away from the center line of the substrate cleaning nozzle, the width of the inner channel is 2 mm, and the height is 1.25 mm. In addition, the nozzle of patent document 1 of FIG. 18B supplied the washing | cleaning liquid of 5 Mpa through the left supply port spaced outwardly from the outermost flow path.

도 18c는 세정액의 공급시 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 변형을 도시한 도이다.FIG. 18C is a view showing a modification of the nozzle for cleaning a substrate according to the first embodiment of the present invention when supplying the cleaning liquid.

도 18c의 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 유로들의 치수(Dimension) 및 세정액의 공급압은 다음과 같다.The dimensions of the flow paths of the flow paths of the substrate cleaning nozzle and the supply pressure of the cleaning liquid of FIG. 18C are as follows.

최외측 유로(이하, '제1유로'라 한다)의 원주의 중심을 잇는 선은 기판 세정용 노즐의 중심선으로부터 15mm 이격되어 있으며, 제1유로의 폭은 1.5mm 이고, 높이는 1.25mm 이다. 내측 유로(이하, '제2유로'라 한다)의 원주의 중심을 잇는 선은 기판 세정용 노즐의 중심선으로부터 7.5mm 이격되어 있으며, 제2유로의 폭은 1.5mm 이고, 높이는 1.25mm 이다. 또한, 도 18c의 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐은 제1유로와 제2유로를 연결하는 유로(이하, '제1연결유로'라 한다) 상에 형성된 왼쪽 공급구(이하, '제1메인홀'이라 한다)를 통해 5Mpa 의 세정액을 공급하였다.The line connecting the center of the circumference of the outermost flow path (hereinafter referred to as 'first flow path') is 15 mm away from the center line of the substrate cleaning nozzle, and the width of the first flow path is 1.5 mm and the height is 1.25 mm. The line connecting the center of the circumference of the inner passage (hereinafter referred to as 'second channel') is 7.5 mm away from the center line of the substrate cleaning nozzle, the width of the second channel is 1.5 mm, and the height is 1.25 mm. In addition, the substrate cleaning nozzle according to the first preferred embodiment of the present invention of FIG. 18C may include a left supply hole formed on a flow path connecting the first flow path and the second flow path (hereinafter, referred to as a “first connection flow path”). Hereinafter, a 5 Mpa washing liquid was supplied through the 'first main hole'.

도 18d는 세정액의 공급시 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 변형을 도시한 도이다.18D is a view showing a modification of the nozzle for cleaning a substrate according to the third embodiment of the present invention when supplying the cleaning liquid.

도 18d의 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 유로들의 치수(Dimension) 및 세정액의 공급압은 다음과 같다.The dimensions of the flow paths of the nozzles for cleaning the substrate according to the third embodiment of the present invention of FIG. 18D and the supply pressure of the cleaning liquid are as follows.

최외측 유로(이하, '제1유로'라 한다)의 원주의 중심을 잇는 선은 기판 세정용 노즐의 중심선으로부터 17.5mm 이격되어 있으며, 제1유로의 폭은 1.5mm 이고, 높이는 1.25mm 이다. 내측 유로(이하, '제2유로'라 한다)의 원주의 중심을 잇는 선은 기판 세정용 노즐의 중심선으로부터 12.5mm 이격되어 있으며, 제2유로의 폭은 1.5mm 이고, 높이는 1.25mm 이다. 최내측 유로(이하, '제3유로'라 한다)의 원주의 중심을 잇는 선은 기판 세정용 노즐의 중심선으로부터 7.5mm 이격되어 있으며, 제3유로의 폭은 1.5mm 이고, 높이는 1.25mm 이다. 또한, 도 18d의 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐은 제1유로와 제2유로를 연결하는 유로(이하, '제1연결유로'라 한다) 상에 형성된 왼쪽 공급구(이하, '제1메인홀'이라 한다)를 통해 5Mpa 의 세정액을 공급하였다.The line connecting the center of the circumference of the outermost flow path (hereinafter referred to as 'first flow path') is 17.5 mm away from the center line of the substrate cleaning nozzle, and the width of the first flow path is 1.5 mm and the height is 1.25 mm. The line connecting the center of the circumference of the inner passage (hereinafter referred to as 'second channel') is 12.5 mm away from the center line of the substrate cleaning nozzle, the width of the second channel is 1.5 mm, and the height is 1.25 mm. The line connecting the center of the circumference of the innermost flow path (hereinafter referred to as 'third flow path') is 7.5 mm away from the center line of the substrate cleaning nozzle, and the third flow path has a width of 1.5 mm and a height of 1.25 mm. In addition, the substrate cleaning nozzle according to the third embodiment of the present invention of FIG. 18D may include a left supply hole formed on a flow path connecting the first flow path and the second flow path (hereinafter, referred to as a “first connection flow path”). Hereinafter, a 5 Mpa washing liquid was supplied through the 'first main hole'.

본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10)Substrate cleaning nozzle 10 according to a first embodiment of the present invention

이하, 도 1 내지 도 6을 참조하여 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10)에 대해 설명한다.Hereinafter, a substrate cleaning nozzle 10 according to a first exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 6.

도 1은 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 사시도이고, 도 2는 도 1의 기판 세정용 노즐의 분해 사시도이고, 도 3은 도 2의 제1몸체의 하면을 도시한 저면도이고, 도 4는 도 2의 제2몸체의 상면을 도시한 평면도이고, 도 5는 도 2의 제2몸체의 하면을 도시한 저면도이고, 도 6은 도 4의 토출홀의 단면도이다.1 is a perspective view of a substrate cleaning nozzle according to a first embodiment of the present invention, Figure 2 is an exploded perspective view of the substrate cleaning nozzle of Figure 1, Figure 3 is a bottom view of the first body of Figure 2 4 is a plan view illustrating the top surface of the second body of FIG. 2, FIG. 5 is a bottom view illustrating the bottom surface of the second body of FIG. 2, and FIG. 6 is a cross-sectional view of the discharge hole of FIG. 4.

도 1 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10)은, 제1토출홀(210)이 구비된 제1유로(130)와, 제2토출홀(220)이 구비되며, 제1유로(130)의 내측에 위치하는 제2유로(140)와, 제1유로(130)와 제2유로(140)를 연결시키는 제1연결유로(131)와, 제1유로(130)와 제2유로(140)를 연결시키며, 제1유로(130)의 중심점을 기준으로 제1연결유로(131)와 대칭되게 위치하는 제2연결유로(132)와, 세정액이 유입되거나 유출되는 제1메인홀(110)과 연결되며, 제1연결유로(131) 상에 구비되는 제1상하유로(111)와, 세정액이 유입되거나 유출되는 제2메인홀(120)과 연결되며, 제2연결유로(132) 상에 구비되는 제2상하유로(121)와, 그 상면에 제1메인홀(110), 제2메인홀(120)이 형성되고, 그 내부에 제1상하유로(111), 제2상하유로(121)가 형성되고, 그 하면에 제1유로(130), 제2유로(140), 제1연결유로(131), 제2연결유로(132)가 형성된 제1몸체(100)와, 제1몸체(100)의 하면과 그 상면이 맞닿도록 제1몸체(100)의 하부에 결합되며, 제1유로(130)에 구비되는 제1토출홀(210)과, 제2유로(140)에 구비되는 제2토출홀(220)이 형성된 제2몸체(200)를 포함하여 구성될 수 있다.1 to 5, the substrate cleaning nozzle 10 according to the first exemplary embodiment of the present invention includes a first passage 130 provided with a first discharge hole 210, and a second nozzle. The discharge hole 220 is provided, and the first flow passage 131 connecting the second flow passage 140 located inside the first flow passage 130 and the first flow passage 130 and the second flow passage 140. ) And a second connection channel 132 connecting the first channel 130 and the second channel 140 to be symmetrical with the first connection channel 131 based on the center point of the first channel 130. And, the first main hole 110 is connected to the cleaning solution flows in or out, the first upper and lower flow paths 111 provided on the first connection flow path 131, the second main hole in which the cleaning liquid flows in or out ( A second main passage 121 and a first main hole 110 and a second main hole 120 formed on an upper surface of the second upper and lower flow passages 121 which are provided on the second connection passage 132. The first upper and lower flow passages 111 and the second upper and lower flow passages 121 are formed therein, and the first flow passages are formed on the lower surface thereof. 130, the first body 100 formed with the second flow path 140, the first connection flow path 131, and the second connection flow path 132, and the lower surface of the first body 100 and the upper surface thereof contact with each other. A second coupled to the lower portion of the first body 100, the first discharge hole 210 provided in the first flow path 130 and the second discharge hole 220 provided in the second flow path 140 is formed It may be configured to include a body (200).

제1유로(130)는 제1몸체(100)의 하면에 형성된다.The first passage 130 is formed on the bottom surface of the first body 100.

제1유로(130)는 원형 형상을 갖을 수 있다.The first passage 130 may have a circular shape.

제1유로(130)는 제1몸체(100)와 제2몸체(200)가 상하 결합될 때, 제1몸체(100)의 하면 부분이 제1유로(130)의 상부 부분이 되고, 제2몸체(200)의 상면 부분이 제1유로(130)의 바닥 부분이 된다.In the first flow path 130, when the first body 100 and the second body 200 are coupled up and down, the lower surface portion of the first body 100 becomes an upper portion of the first flow path 130, and the second An upper surface portion of the body 200 becomes a bottom portion of the first passage 130.

제1유로(130)에는 복수개의 제1토출홀(210)이 구비되는데, 이러한 복수개의 제1토출홀(210)은 제2몸체(200)의 상면과 하면을 관통하도록 형성된다.A plurality of first discharge holes 210 are provided in the first flow path 130, and the plurality of first discharge holes 210 are formed to penetrate the upper and lower surfaces of the second body 200.

제1몸체(100)와 제2몸체(200)가 상하 결합되면, 복수개의 제1토출홀(210)이 제1유로(130)의 바닥 부분에 위치하게 됨으로써, 제1유로(130)는 복수개의 제1토출홀(210)과 연결된다.When the first body 100 and the second body 200 are coupled up and down, the plurality of first discharge holes 210 are positioned in the bottom portion of the first flow path 130, so that the first flow path 130 has a plurality of. Are connected to the first discharge holes 210.

복수개의 제1토출홀(210)은 원형 형상의 제1유로(130)의 원주 방향을 따라 1열로 서로 일정한 간격을 갖도록 구비될 수 있다.The plurality of first discharge holes 210 may be provided to have a predetermined distance from each other in a row along the circumferential direction of the circular first flow path 130.

제2유로(140)는 제1몸체(100)의 하면에 제1유로(130)의 내측에 위치하도록 형성된다.The second flow path 140 is formed on the lower surface of the first body 100 to be located inside the first flow path 130.

제2유로(140)는 원형 형상을 갖을 수 있다.The second flow path 140 may have a circular shape.

제1유로(130)와 제2유로(140)가 원형 형상을 갖을 경우, 제1유로(130)와 제2유로(140)는 동일한 중심점을 갖을 수 있다. 다시 말해, 제1유로(130)와 제2유로(140)는 동일한 중심점을 갖는 동심원(同心圓)일 수 있다.When the first passage 130 and the second passage 140 have a circular shape, the first passage 130 and the second passage 140 may have the same center point. In other words, the first passage 130 and the second passage 140 may be concentric circles having the same center point.

제2유로(140)는 제1몸체(100)와 제2몸체(200)가 상하 결합될 때, 제1몸체(100)의 하면 부분이 제2유로(140)의 상부 부분이 되고, 제2몸체(200)의 상면 부분이 제2유로(140)의 바닥 부분이 된다.When the first body 100 and the second body 200 are coupled up and down, the second flow path 140 is a lower portion of the first body 100 to become an upper portion of the second flow path 140. An upper surface portion of the body 200 becomes a bottom portion of the second flow passage 140.

제2유로(140)에는 복수개의 제2토출홀(220)이 구비되는데, 이러한 복수개의 제2토출홀(220)은 제2몸체(200)의 상면과 하면을 관통하도록 형성된다.A plurality of second discharge holes 220 are provided in the second flow passage 140, and the plurality of second discharge holes 220 are formed to penetrate the upper and lower surfaces of the second body 200.

제1몸체(100)와 제2몸체(200)가 상하 결합되면, 복수개의 제2토출홀(220)이 제2유로(140)의 바닥 부분에 위치하게 됨으로써, 제2유로(140)는 복수개의 제2토출홀(220)과 연결된다.When the first body 100 and the second body 200 are coupled up and down, the plurality of second discharge holes 220 are positioned at the bottom of the second flow path 140, so that the second flow path 140 has a plurality of. Are connected to the second discharge holes 220.

복수개의 제2토출홀(220)은 원형 형상의 제2유로(140)의 원주 방향을 따라 1열로 서로 일정한 간격을 갖도록 구비될 수 있다.The plurality of second discharge holes 220 may be provided to have a predetermined distance from each other in one row along the circumferential direction of the circular second flow passage 140.

복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상은 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상의 내측에 위치할 수 있다. 이 경우, 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상과 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상은 동일한 중심점을 갖는 동심원일 수 있다.The circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220 may be located inside the circular shape formed by the plurality of first discharge holes 210. In this case, the circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220 and the circular shape formed by the plurality of first discharge holes 210 may be concentric circles having the same center point.

제1연결유로(131)는 제1몸체(100)의 하면에 형성된다.The first connection passage 131 is formed on the lower surface of the first body 100.

제1연결유로(131)는 제1유로(130)의 내측과 제2유로(140)의 외측 사이에 위치하는 유로로서, 제1유로(130)와 제2유로(140)를 연결시킨다.The first connection passage 131 is a passage located between the inside of the first passage 130 and the outside of the second passage 140, and connects the first passage 130 and the second passage 140.

제1연결유로(131)는 제1몸체(100)와 제2몸체(200)가 상하 결합될 때, 제1몸체(100)의 하면 부분이 제1연결유로(131)의 상부 부분이 되고, 제2몸체(200)의 상면 부분이 제1연결유로(131)의 바닥 부분이 된다.When the first body 100 and the second body 200 are coupled up and down, the first connection channel 131 is a lower portion of the first body 100 to become an upper portion of the first connection channel 131. An upper surface portion of the second body 200 becomes a bottom portion of the first connection passage 131.

제1연결유로(131)는 직선 형상을 갖는 것이 바람직하다.It is preferable that the first connection passage 131 has a straight shape.

제2연결유로(132)는 제1유로(130)의 내측과 제2유로(140)의 외측 사이에 위치하는 유로로서, 제1유로(130)와 제2유로(140)를 연결시킨다.The second connection passage 132 is a passage located between the inside of the first passage 130 and the outside of the second passage 140, and connects the first passage 130 and the second passage 140.

제2연결유로(132)는 제1몸체(100)와 제2몸체(200)가 상하 결합될 때, 제1몸체(100)의 하면 부분이 제2연결유로(132)의 상부 부분이 되고, 제2몸체(200)의 상면 부분이 제2연결유로(132)의 바닥 부분이 된다.When the first body 100 and the second body 200 are coupled up and down, the second connection flow path 132 becomes an upper portion of the second connection flow path 132 when the first body 100 is coupled up and down. An upper surface portion of the second body 200 becomes a bottom portion of the second connection passage 132.

제2연결유로(132)는 직선 형상을 갖는 것이 바람직하다.It is preferable that the second connection passage 132 has a straight shape.

제2연결유로(132)는 제1유로(130)의 중심점 또는 제2유로(140)의 중심점을 기준으로 제1연결유로(131)와 대칭되게 위치한다. 따라서, 제1연결유로(131)와 제2연결유로(132)는 제1유로(130)의 중심점 또는 제2유로(140)의 중심점을 지나는 일직선 상에 위치하게 된다.The second connection channel 132 is positioned symmetrically with the first connection channel 131 based on the center point of the first channel 130 or the center point of the second channel 140. Therefore, the first connection passage 131 and the second connection passage 132 are positioned on a straight line passing through the center point of the first passage 130 or the center point of the second passage 140.

제1메인홀(110)과 제2메인홀(120)은 제1몸체(100)의 상면에 형성되며, 세정액이 유입되는 유입구 기능을 하거나 세정액이 유출되는 유출구 기능을 하게 된다.The first main hole 110 and the second main hole 120 are formed on the upper surface of the first body 100, and serve as an inlet for cleaning liquid to flow in or an outlet for cleaning liquid to flow out.

제1메인홀(110)과 제2메인홀(120)은 중공(101)을 기준으로 서로 대칭되게 구비된다.The first main hole 110 and the second main hole 120 are provided symmetrically with respect to the hollow 101.

제1상하유로(111)는 세정액이 유입되거나 유출되는 제1메인홀(110)과 연결되며, 제1연결유로(131) 상에 구비된다.The first up and down flow passage 111 is connected to the first main hole 110 through which the cleaning liquid flows in or out, and is provided on the first connection flow passage 131.

제1상하유로(111)는 제1몸체(100)의 상하를 관통하도록 제1몸체(100)의 내부에 형성되며, 제1상하유로(111)의 상부 부분은 제1메인홀(110)과 연결되고, 제1상하유로(111)의 하부 부분은 제1연결유로(131)와 연결된다. The first upper and lower flow passages 111 are formed inside the first body 100 to penetrate the upper and lower sides of the first body 100, and an upper portion of the first upper and lower flow passages 111 may be formed in the first main hole 110. The lower portion of the first up and down flow passage 111 is connected to the first connection flow passage 131.

제1상하유로(111)는 직선 형상을 갖는 것이 바람직하며, 제1연결유로(131)가 직선 형상을 갖는 경우, 제1상하유로(111)와 제1연결유로(131)는 서로 수직을 이룬다.Preferably, the first up and down flow passage 111 has a straight shape, and when the first connection flow passage 131 has a straight shape, the first up and down flow passage 111 and the first connection flow passage 131 are perpendicular to each other. .

제2상하유로(121)는 세정액이 유입되거나 유출되는 제2메인홀(120)과 연결되며, 제2연결유로(132) 상에 구비된다.The second up and down flow passage 121 is connected to the second main hole 120 through which the cleaning liquid flows in or out, and is provided on the second connection flow passage 132.

제2상하유로(121)는 제1몸체(100)의 상하를 관통하도록 제1몸체(100)의 내부에 형성되며, 제2상하유로(121)의 상부 부분은 제2메인홀(120)과 연결되고, 제2상하유로(121)의 하부 부분은 제2연결유로(132)와 연결된다. The second up and down flow passage 121 is formed inside the first body 100 so as to penetrate the top and bottom of the first body 100, and an upper portion of the second up and down flow passage 121 is formed with the second main hole 120. The lower portion of the second up and down flow passage 121 is connected to the second connection flow passage 132.

제2상하유로(121)는 직선 형상을 갖는 것이 바람직하며, 제2연결유로(132)가 직선 형상을 갖는 경우, 제2상하유로(121)와 제2연결유로(132)는 서로 수직을 이룬다.Preferably, the second up and down flow passage 121 has a straight shape, and when the second connection flow passage 132 has a straight shape, the second up and down flow passage 121 and the second connection flow passage 132 are perpendicular to each other. .

제1몸체(100)는 제1몸체(100)의 상면 중앙에 압전소자(미도시)가 삽입되는 중공(101)이 형성되고, 제1몸체(100)의 상면에서 중공(101)을 중심으로 양측에 제1메인홀(110)과 제2메인홀(120)이 형성된다.The first body 100 has a hollow 101 in which a piezoelectric element (not shown) is inserted in the center of the upper surface of the first body 100, and is formed around the hollow 101 on the upper surface of the first body 100. The first main hole 110 and the second main hole 120 are formed at both sides.

제1몸체(100)의 하면에는 제1유로(130), 제2유로(140), 제1연결유로(131), 제2연결유로(132)가 형성되며, 제1몸체(100)이 내부에는 제1메인홀(110)과 제1연결유로(131)를 연결하는 제1상하유로(111) 및 제2메인홀(120)과 제2연결유로(132)를 연결하는 제2상하유로(121)가 형성된다.The first passage 130, the second passage 140, the first connection passage 131, and the second connection passage 132 are formed on the lower surface of the first body 100, and the first body 100 is inside. There is a first up and down flow path 111 connecting the first main hole 110 and the first connection flow path 131 and the second up and down flow path connecting the second main hole 120 and the second connection flow path 132 ( 121) is formed.

제2몸체(200)는 제1몸체(100)의 하면과 제2몸체(200)의 상면이 맞닿도록 제1몸체(100)의 하부에 결합된다. 다시 말해, 제1몸체(100)와 제2몸체(200)는 상하 결합한다.The second body 200 is coupled to the lower portion of the first body 100 so that the lower surface of the first body 100 and the upper surface of the second body 200 abut. In other words, the first body 100 and the second body 200 are coupled up and down.

제2몸체(200)에는 복수개의 제1토출홀(210)과 복수개의 제2토출홀(220)이 형성된다. 복수개의 제1토출홀(210)과 복수개의 제2토출홀(220)은 제2몸체(200)의 상면과 하면을 관통하도록 형성된다.A plurality of first discharge holes 210 and a plurality of second discharge holes 220 are formed in the second body 200. The plurality of first discharge holes 210 and the plurality of second discharge holes 220 are formed to penetrate the upper and lower surfaces of the second body 200.

전술한 바와 같이, 복수개의 제1토출홀(210)은 제1유로(130)의 원주 방향을 따라 1열로 서로 일정한 간격으로 형성될 수 있으며, 복수개의 제2토출홀(220)은 제2유로(140)의 원주 방향을 따라 1열로 서로 일정한 간격으로 형성될 수 있다. As described above, the plurality of first discharge holes 210 may be formed at regular intervals from each other in one row along the circumferential direction of the first flow path 130, and the plurality of second discharge holes 220 may have a second flow path. It may be formed at regular intervals from each other in a row along the circumferential direction of 140.

또한, 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상은 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상의 내측에 위치할 수 있다. 이 경우, 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상과 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상은 동일한 중심점을 갖는 동심원일 수 있다.In addition, the circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220 may be located inside the circular shape formed by the plurality of first discharge holes 210. In this case, the circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220 and the circular shape formed by the plurality of first discharge holes 210 may be concentric circles having the same center point.

도 6에 도시된 바와 같이, 복수개의 제1토출홀(210) 각각은 제1토출홀 상부영역(210a)과 제1토출홀 하부영역(210b) 및 제1토출홀 중앙영역(210c)을 갖도록 형성될 수 있으며, 복수개의 제2토출홀(220) 각각은 제2토출홀 상부영역(220a)과 제2토출홀 하부영역(220b) 및 제2토출홀 중앙영역(220c)을 갖도록 형성될 수 있다.As shown in FIG. 6, each of the plurality of first discharge holes 210 has a first discharge hole upper region 210a, a first discharge hole lower region 210b, and a first discharge hole central region 210c. Each of the plurality of second discharge holes 220 may be formed to have a second discharge hole upper region 220a, a second discharge hole lower region 220b, and a second discharge hole central region 220c. have.

제1토출홀 상부영역(210a)(또는 제2토출홀 상부영역(220a))은 기계 가공 등에 의해 형성되어 제1토출홀 하부영역(210b)(또는 제2토출홀 하부영역(220b))보다 큰 지름을 갖는다.The first discharge hole upper region 210a (or the second discharge hole upper region 220a) is formed by a machining process, so that the first discharge hole upper region 210a (or the second discharge hole upper region 220a) is lower than the first discharge hole lower region 210b (or the second discharge hole lower region 220b). Have a large diameter

제1토출홀 하부영역(210b)(또는 제2토출홀 하부영역(220b))은 상부에서 하부 방향으로 제2몸체(200)에 레이저를 조사함으로써, 제1토출홀(210)(또는 제2토출홀(220))을 형성시킨 영역으로써, 제1토출홀 상부영역(210a)(또는 제2토출홀 상부영역(220a))보다 작은 지름을 갖는다.The first discharge hole 210b (or the second discharge hole lower area 220b) is irradiated with the laser beam to the second body 200 from the upper direction to the lower direction, and thus, the first discharge hole 210 (or the second discharge hole 210b). As a region in which the discharge hole 220 is formed, the discharge hole 220 has a smaller diameter than the first discharge hole upper region 210a (or the second discharge hole upper region 220a).

제1토출홀 중앙영역(210c)(또는 제2토출홀 중앙영역(220c))은 제1토출홀 상부영역(210a)(또는 제2토출홀 상부영역(220a))과 제1토출홀 하부영역(210b)(또는 제2토출홀 하부영역(220b)) 사이를 연결하는 부분으로써, 제1토출홀 하부영역(210b)(또는 제2토출홀 하부영역(220b))을 레이저로 조사하여 형성할 때, 상부에서 하부로 갈수록 그 지름이 작아지는 경사진 영역이다.The first discharge hole central region 210c (or the second discharge hole central region 220c) includes the first discharge hole upper region 210a (or the second discharge hole upper region 220a) and the first discharge hole lower region. A portion connecting the second discharge hole 210b (or the second discharge hole lower region 220b) to be formed by irradiating the first discharge hole lower region 210b (or the second discharge hole lower region 220b) with a laser. At this time, it is an inclined area whose diameter decreases from the top to the bottom.

위와 같이, 복수개의 제1토출홀(210)(또는 복수개의 제2토출홀(220)) 각각은 제1토출홀 상부영역(210a)(또는 제2토출홀 상부영역(220a))과 제1토출홀 하부영역(210b)(또는 제2토출홀 하부영역(220b)) 및 제1토출홀 중앙영역(210c)(또는 제2토출홀 중앙영역(220c))을 갖도록 형성됨에 따라, 제1토출홀(210)(또는 제2토출홀(220))은 상부에서 하부로 갈수록 지름이 작아지는 경사진 영역을 갖게 된다.As described above, each of the plurality of first discharge holes 210 (or the plurality of second discharge holes 220) is the first discharge hole upper region 210a (or the second discharge hole upper region 220a) and the first one. The first discharge is formed to have the discharge hole lower region 210b (or the second discharge hole lower region 220b) and the first discharge hole central region 210c (or the second discharge hole central region 220c). The hole 210 (or the second discharge hole 220) has an inclined area whose diameter decreases from the top to the bottom.

이 경우, 레이저에 의해 조사되어 형성된 제1토출홀(210)(또는 제2토출홀(220))의 지름, 즉, 제1토출홀 하부영역(210b)(또는 제2토출홀 하부영역(220b))의 지름은 5㎛ ~ 15㎛의 크기를 갖을 수 있다.In this case, the diameter of the first discharge hole 210 (or the second discharge hole 220) formed by irradiation with a laser, that is, the first discharge hole lower region 210b (or the second discharge hole lower region 220b) The diameter of)) may have a size of 5㎛ ~ 15㎛.

전술한 제1몸체(100)와 제2몸체(200)는 쿼츠(Quartz), 알루미늄 옥사이드 재질의 사파이어(Sappahire), 엔지니어링 플라스틱(Engineering Plastics) 재질로 이루어질 수 있다.The first body 100 and the second body 200 may be made of quartz, sapphire of aluminum oxide, and engineering plastics.

엔지니어링 플라스틱은 500㎏f/㎠이상의 인장강도, 20,000㎏f/㎠ 이상의 굴곡 탄성율, 100 ℃이상의 내열성을 갖는 것으로서, 가열하면 성형이 가능한 열가소성엔프라와 가열하면 경화하는 열경화성엔프라로 구분될 수 있다. 이러한 열가소성엔프라의 예로서는 폴리아미드, POM(Polyacetal), PBT(Polybutylene Terephthalate), PET(Polyethylene Terephthalate), SPS(Syndiotactic Polystyrene), PES(Polyether Sulfone), PEEK(Polyetheretherketone) 등이 있고, 열경화성엔프라의 예로서는 페놀, 요소, 멜라민, 알키드, 불포화 폴리에스텔, 에폭시, 디아릴프탈레이트, 실리콘, 폴리우레탄 등이 있다.Engineering plastics have a tensile strength of 500 kgf / cm 2 or more, a flexural modulus of 20,000 kgf / cm 2 or more, and heat resistance of 100 ° C. or more. . Examples of such thermoplastic enpra include polyamide, POM (Polyacetal), PBT (Polybutylene Terephthalate), PET (Polyethylene Terephthalate), SPS (Syndiotactic Polystyrene), PES (Polyether Sulfone), PEEK (Polyetheretherketone), and the like. Examples are phenol, urea, melamine, alkyds, unsaturated polyesters, epoxies, diarylphthalates, silicones, polyurethanes and the like.

열가소성엔프라 중 PEEK는, 할로겐화 벤조페논과 하이드로 키논의 용액중축함 반응에 의해 제조된 것으로서 내열성, 강인성, 내염성, 내약품성 등이 우수한 특징이 있다.. 또한, 고강도, 고강성, 고치수정밀용으로 유리섬유를 10, 20, 30% 함유한 그레이드들이 들어있고, GF 20%강화품의 경우 열변형온도가 약 300 ℃, UL온도 인덱스에서 장기내열성은 240℃이다. 아울러, 우수한 내열성에도 불구하고 일반 사출성형기 또는 압출성형기로 성형이 가능하며 감마선조사에 대한 내성 또한 양호한 특성이 있다.PEEK in the thermoplastic enpra is produced by solution condensation reaction of halogenated benzophenone and hydrokinone, and has excellent characteristics such as heat resistance, toughness, flame resistance, chemical resistance, etc. In addition, for high strength, high rigidity and high precision The grade contains 10, 20 and 30% glass fiber, and the GF 20% reinforced product has a heat deflection temperature of about 300 ° C and a long term heat resistance of 240 ° C at UL temperature index. In addition, despite the excellent heat resistance, it is possible to mold by a general injection molding machine or an extrusion molding machine, and also has good characteristics of resistance to gamma irradiation.

제1몸체(100)의 하면 중 유로가 형성되지 않은 면과, 제2몸체(200)의 상면 중 유로가 형성되지 않은 면에 접착제를 도포하여 제1, 2몸체(100, 200)를 결합함으로써 이루어질 수 있다. 다시 말해, 제1몸체(100)와 제2몸체(200)의 결합은 접착제를 통해 이루어질 수 있다.By applying an adhesive to the surface of the lower surface of the first body 100 is not formed, and the surface of the upper surface of the second body 200 is not formed by combining the first and second bodies (100, 200) Can be done. In other words, the first body 100 and the second body 200 may be coupled to each other through an adhesive.

이하, 도 7a, 도 7b, 도 18a, 도 18b 및 도 18c를 참조하여 전술한 구성을 갖는 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10)의 세정액의 유동에 대해 설명한다.Hereinafter, the flow of the cleaning liquid of the substrate cleaning nozzle 10 according to the first preferred embodiment of the present invention having the above-described configuration will be described with reference to FIGS. 7A, 7B, 18A, 18B, and 18C.

도 7a는 도 1의 기판 세정용 노즐의 내부 유로를 도시한 도이고, 도 7b는 도 7a의 세정액의 유동을 도시한 도이다.FIG. 7A is a diagram illustrating an internal flow path of the substrate cleaning nozzle of FIG. 1, and FIG. 7B is a diagram illustrating a flow of the cleaning liquid of FIG. 7A.

단, 이하의 설명에서, 제1메인홀(110)을 통해 세정액 공급되어 기판 세정용 노즐(10)의 내부로 세정액이 유입되고, 제2메인홀(120)을 통해 기판 세정용 노즐(10) 내부의 세정액이 외부로 유출되는 것을 기준으로 설명한다.However, in the following description, the cleaning liquid is supplied through the first main hole 110, and the cleaning liquid flows into the substrate cleaning nozzle 10, and the substrate cleaning nozzle 10 through the second main hole 120. It demonstrates based on the outflow of the washing | cleaning liquid inside.

먼저, 제1메인홀(110)을 통해 세정액이 공급되어, 복수개의 제1토출홀(210) 및 복수개의 제2토출홀(220)을 통해 상기 공급된 세정액이 토출되는 유동에 대해 설명한다.First, a flow in which the cleaning liquid is supplied through the first main hole 110 and the supplied cleaning liquid is discharged through the plurality of first discharge holes 210 and the plurality of second discharge holes 220 will be described.

제1메인홀(110)을 통해 세정액이 공급되면, 공급된 세정액은 제1상하유로(111)를 따라 유동된 후, 제1상하유로(111)와 제1연결유로(131)의 연결부로 유동하게 된다. 이 경우, 제1상하유로(111)와 제1연결유로(131)의 연결부는 제1상하유로(111)와 제1연결유로(131)가 서로 수직으로 연결된 부분을 의미한다.When the cleaning liquid is supplied through the first main hole 110, the supplied cleaning liquid flows along the first upper and lower flow passage 111, and then flows to the connection portion between the first upper and lower flow passage 111 and the first connection passage 131. Done. In this case, the connecting portion of the first up and down flow passage 111 and the first connection flow passage 131 means a portion in which the first up and down flow passage 111 and the first connection flow passage 131 are vertically connected to each other.

도 7a 및 도 7b에 도시된 바와 같이, 제1상하유로(111)와 제1연결유로(131)의 연결부로 유동된 세정액은 제1연결유로(131) 상에서 A 방향과 B 방향으로 2갈래로 분기되어 유동된다. 이 경우, A 방향과 B 방향은 제1상하유로(111)와 제1연결유로(131)의 연결부를 기준으로 서로 반대 방향이다.As shown in FIGS. 7A and 7B, the cleaning liquid flowing into the connecting portion between the first upper and lower flow passages 111 and the first connection passage 131 is divided into two directions in the A and B directions on the first connection passage 131. Branch and flow. In this case, the A direction and the B direction are opposite to each other based on the connecting portion of the first up and down flow path 111 and the first connection flow path 131.

다시 말해, 제1메인홀(110)을 통해 제1연결유로(131)로 유입되는 세정액은 제1, 2유로(130, 140) 각각으로 분기되어 유동되되, 제1, 2유로(130, 140) 각각으로 분기되어 유동되는 세정액의 방향은, 즉, A 방향과 B 방향은 제1상하유로(111)와 제1연결유로(131)의 연결부를 기준으로 서로 반대 방향이다.In other words, the cleaning liquid flowing into the first connection passage 131 through the first main hole 110 is branched and flows into the first and second passages 130 and 140, respectively. Directions of the cleaning liquid branched to each other, i.e., the A direction and the B direction are opposite to each other based on the connection portions of the first upper and lower flow passages 111 and the first connection passages 131.

A 방향으로 분기된 세정액은 제1연결유로(131)를 통해 제1유로(130)로 유동된 후, 제1유로(130)의 원주방향을 따라 A1 방향과 A2 방향으로 2갈래로 분기되어 유동한다.The cleaning liquid branched in the A direction flows into the first channel 130 through the first connection channel 131, and then branches into two branches in the A1 direction and the A2 direction along the circumferential direction of the first channel 130. do.

A1 방향과 A2 방향으로 분기되어 유동된 세정액은 압전소자의 초음파 진동에 의해 제1유로(130)의 바닥면에 구비된 복수개의 제1토출홀(210)을 통해 기판 세정용 노즐(10)의 외부로 토출된다.The cleaning liquid branched and flown in the A1 and A2 directions of the substrate cleaning nozzle 10 through the plurality of first discharge holes 210 provided on the bottom surface of the first passage 130 by ultrasonic vibration of the piezoelectric element. It is discharged to the outside.

B 방향으로 분기된 세정액은 제1연결유로(131)를 통해 제2유로(140)로 유동된 후, 제2유로(140)의 원주방향을 따라 B1 방향과 B2 방향으로 2갈래로 분기되어 유동한다.The cleaning liquid branched in the B direction flows to the second flow passage 140 through the first connection flow passage 131, and then branches in two directions in the B1 direction and the B2 direction along the circumferential direction of the second flow passage 140. do.

B1 방향과 B2 방향으로 분기되어 유동된 세정액은 압전소자의 초음파 진동에 의해 제2유로(140)의 바닥면에 구비된 복수개의 제2토출홀(220)을 통해 기판 세정용 노즐(10)의 외부로 토출된다.The cleaning liquid branched and flown in the B1 and B2 directions of the substrate cleaning nozzle 10 through the plurality of second discharge holes 220 provided in the bottom surface of the second passage 140 by ultrasonic vibration of the piezoelectric element. It is discharged to the outside.

이하, 제2메인홀(120)을 통해, 제1, 2유로(130, 140)의 세정액이 기판 세정용 노즐(10)의 외부로 유출되는 유동에 대해 설명한다.Hereinafter, a flow through which the cleaning liquid in the first and second flow paths 130 and 140 flows out of the substrate cleaning nozzle 10 through the second main hole 120 will be described.

제2메인홀(120)과 연통된 외부 흡입 장치(미도시)를 작동시키면, 제1유로(130)의 내부에 존재하는 세정액 중 제2연결유로(132) 근방의 세정액은, 즉, 제1유로(130)의 우측 내부 영역에 존재하는 세정액은 도 7a 및 도 7b에 도시된 바와 같이, 제1유로(130) 상에서 C1 방향 및 C2 방향 2갈래를 통해 C 방향으로 유동됨으로써, 제2연결유로(132)로 유입된다. When the external suction device (not shown) in communication with the second main hole 120 is operated, the cleaning liquid near the second connection passage 132 among the cleaning liquids existing inside the first passage 130 may be a first liquid. As shown in FIGS. 7A and 7B, the cleaning liquid present in the right inner region of the flow path 130 flows in the C direction through the C1 direction and the C2 direction bifurcation on the first flow path 130, thereby providing a second connection flow path. 132 flows into.

제1유로(130)의 내부에 존재하는 세정액 중 제2연결유로(132)와 멀리 떨어진 곳의 세정액, 즉, 제1유로(130)의 좌측 내부 영역에 존재하는 세정액은 제1유로(130)를 따라 A1 반대 방향 및 A2 반대 방향으로 유동된 후, 제1연결유로(131)로 유입된다. 제1연결유로(131)로 유입된 세정액은 A 반대 방향 및 B 방향으로 제1연결유로(131)를 따라 유동된 후, B1 방향 및 B2 방향으로 2갈래로 분기되어 유동되어 제2유로(140)로 유입된다. 그 후, 제2유로(140)를 따라 D1 방향 및 D2 방향 2갈래를 통해 D 방향으로 유동됨으로써, 제2연결유로(132)로 유입된다.Among the cleaning liquids existing in the first passage 130, the cleaning liquid far away from the second connection passage 132, that is, the cleaning liquid existing in the left inner region of the first passage 130 may be formed in the first passage 130. After flowing in the direction opposite to A1 and the direction A2 along, it flows into the first connection channel 131. The cleaning liquid introduced into the first connection channel 131 flows along the first connection channel 131 in the opposite direction to the A and B directions, and then branches and flows into two branches in the B1 direction and the B2 direction to flow through the second channel 140. Flows into). Thereafter, the second flow path 140 flows in the D direction through the two branches of the D1 direction and the D2 direction and flows into the second connection channel 132.

이렇게 제2연결유로(132)로 유입된 세정액은 제2상하유로(121) 및 제2메인홀(120)을 통해 기판 세정용 노즐(10) 외부로 유출된다.The cleaning liquid introduced into the second connection passage 132 flows out of the substrate cleaning nozzle 10 through the second upper and lower passage 121 and the second main hole 120.

제2유로(140) 내부에 존재하는 세정액은 제2유로(140)의 원주 방향으로 유동된 후, D1 방향 및 D2 방향 2갈래를 통해 D 방향으로 유동됨으로써, 제2연결유로(132)로 유입된다. The cleaning liquid present in the second flow passage 140 flows in the circumferential direction of the second flow passage 140 and then flows in the D direction through two branches of the D1 direction and the D2 direction, and thus flows into the second connection flow passage 132. do.

이렇게 제2연결유로(132)로 유입된 세정액은 제2상하유로(121) 및 제2메인홀(120)을 통해 기판 세정용 노즐(10) 외부로 유출된다.The cleaning liquid introduced into the second connection passage 132 flows out of the substrate cleaning nozzle 10 through the second upper and lower passage 121 and the second main hole 120.

전술한 바와 같이, 제2메인홀(120)과 연결된 외부 흡입 장치가 작동되면, 제1유로(130) 및 제2유로(140) 각각에서 제2연결유로(132)로 유동되는 세정액은 도 7에 도시된 바와 같이, 제2연결유로(132) 상에서 C 방향과 D 방향으로 2갈래로 유동되어 제2상하유로(121)로 유입된다. 이 경우, C 방향과 D 방향은 제2상하유로(121)와 제2연결유로(132)의 연결부를 기준으로 서로 반대 방향이다.As described above, when the external suction device connected to the second main hole 120 is operated, the cleaning liquid flowing from each of the first passage 130 and the second passage 140 to the second connection passage 132 is shown in FIG. 7. As shown in FIG. 2, the two flow paths flow in two directions in the C direction and the D direction on the second connection channel 132, and flow into the second vertical channel 121. In this case, the C direction and the D direction are opposite to each other based on the connecting portion of the second up and down flow passage 121 and the second connection flow passage 132.

다시 말해, 제2연결유로(132)를 통해 제2메인홀(120)로 유출되는 세정액은 제1, 2유로(130, 140) 각각으로부터 제2연결유로(132)로 유동되되, 제1, 2유로(130, 140) 각각으로부터 유동되는 세정액의 방향은, 즉, C 방향과 D 방향은 제2상하유로(121)와 제2연결유로(132)의 연결부를 기준으로 서로 반대 방향이다.In other words, the cleaning liquid flowing out of the second main hole 120 through the second connection channel 132 flows from the first and second channels 130 and 140 to the second connection channel 132, respectively. The direction of the cleaning liquid flowing from each of the two flow paths 130 and 140, that is, the C direction and the D direction are opposite to each other based on the connection portion of the second up and down flow passage 121 and the second connection flow passage 132.

이 경우, 제2상하유로(121)와 제2연결유로(132)의 연결부는 제2상하유로(121)와 제2연결유로(132)가 서로 수직으로 연결된 부분을 의미한다.In this case, the connection portion of the second up and down flow passage 121 and the second connection flow passage 132 means a portion in which the second up and down flow passage 121 and the second connection flow passage 132 are perpendicular to each other.

위와 같은 내부 유로의 구조 및 세정액의 유동으로 인해, 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10)은 다음과 같은 효과를 갖는다.Due to the structure of the internal flow path and the flow of the cleaning liquid as described above, the nozzle for cleaning the substrate 10 according to the first embodiment of the present invention has the following effects.

제1메인홀(110) 및 제1상하유로(111)를 통해 기판 세정용 노즐(10)의 내부로 공급된 세정액이 제1연결유로(131) 상에서 서로 다른 방향, 즉, A 방향(외측 방향) 및 B 방향(내측 방향)으로 유동되어 제1, 2유로(130, 140) 각각으로 유동됨에 따라 세정액의 유동압이 내측 방향으로 집중되지 않고, 고르게 확산됨으로써, 제2유로(140)의 변형을 최소화시킬 수 있다.The cleaning liquids supplied into the substrate cleaning nozzle 10 through the first main hole 110 and the first upper and lower flow passages 111 are different from each other on the first connection passage 131, that is, in the A direction (outward direction). ) Flows in the B and B directions (inner direction) and flows in the first and second flow paths 130 and 140, respectively, so that the flow pressure of the cleaning liquid is not concentrated in the inward direction, but diffuses evenly, thereby deforming the second flow path 140. Can be minimized.

상세하게 설명하면, 도 18a 및 도 18b에 도시된 바와 같이, 종래의 기판 세정용 노즐과 특허문헌 1의 노즐의 경우에는 공급된 세정액이 노즐의 내측 방향으로의 방향성만을 갖고 있으므로, 내측의 원형 유로의 변형이 집중적으로 발생하였다.In detail, as shown in Figs. 18A and 18B, in the case of the nozzle for cleaning the substrate and the nozzle of Patent Document 1, the cleaning liquid supplied has only the direction in the inward direction of the nozzle. The deformation of intensively occurred.

그러나, 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10)의 경우, 공급된 세정액이 B 방향을 따라 유동되어 제2유로(140)로 유동되고, B 방향과 반대되는 A 방향을 따라 유동되어 제1유로(130)로 유동됨에 따라 유동압이 기판 세정용 노즐(10)의 내측 및 외측 전반에 고르게 가해지게 된다.However, in the case of the substrate cleaning nozzle 10 according to the first preferred embodiment of the present invention, the supplied cleaning liquid flows along the B direction and flows to the second channel 140, and the A direction opposite to the B direction is changed. As it flows along the first channel 130, the flow pressure is evenly applied to the inside and outside of the substrate cleaning nozzle 10.

이러한 유동압의 고른 분포는 도 18c에서 확인할 수 있으며, 이를 통해, 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10)은 종래의 노즐들에 비해 제2유로(140)의 변형이 크게 발생되지 않는다는 것을 확인할 수 있다. This even distribution of the flow pressure can be seen in Figure 18c, through which, the substrate cleaning nozzle 10 according to the first preferred embodiment of the present invention is a deformation of the second passage 140 compared to the conventional nozzles It can be confirmed that it does not occur greatly.

이처럼, 제2유로(140)에 가해지는 유동압이 낮아짐에 따라, 종래의 노즐들에 비해 제2유로(140)의 파손 및 리크 등을 효과적으로 방지할 수 있다.As such, as the flow pressure applied to the second flow passage 140 is lowered, breakage and leakage of the second flow passage 140 can be effectively prevented compared to the conventional nozzles.

기판 세정용 노즐(10)의 내부 유로들에 가해지는 유동압의 고른 분포는 기판 세정용 노즐(10)의 높은 내압 특성에 기여하게 된다. The even distribution of the flow pressure applied to the internal flow paths of the substrate cleaning nozzle 10 contributes to the high breakdown voltage characteristic of the substrate cleaning nozzle 10.

높은 내압 특성은 높은 공급압으로 높은 토출압 성능을 발휘하거나, 제1, 2토출홀(210, 220)로 토출되는 세정액의 균일성을 보장하여, 사영역 없는 세정액의 토출을 달성할 수 있다. 또한, 높은 내압 특성으로 인해, 기판 세정용 노즐(10) 내부의 유로 파손을 방지할 뿐만 아니라, 제1, 2몸체(100, 200)의 결합 부위가 파손되는 것을 방지할 수 있다.The high pressure resistance characteristics can exert high discharge pressure performance at a high supply pressure or ensure uniformity of the cleaning liquid discharged to the first and second discharge holes 210 and 220, thereby achieving discharge of the cleaning liquid without dead zones. In addition, due to the high withstand voltage characteristics, not only can damage of the flow path inside the nozzle 10 for cleaning the substrate can be prevented, but also the coupling portions of the first and second bodies 100 and 200 can be prevented from being damaged.

전술한 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10)은 제1유로(130)와 제2유로(140)의 관계가 '제1유로(130)의 체적 : 제2유로(140)의 체적 = 1 : 1' 조건을 만족하게 형성되는 것이 바람직하다.In the substrate cleaning nozzle 10 according to the first preferred embodiment of the present invention described above, the relationship between the first passage 130 and the second passage 140 is' volume of the first passage 130: the second passage ( It is preferable that the volume of 140) is satisfactorily formed.

이처럼, 제1유로(130)의 체적과 제2유로(140)의 체적의 비가 1 : 1이 됨에 따라, 제1연결유로(131)에서 A 방향 및 B 방향으로 2갈래로 분기되어 유동하는 세정액의 유동량의 비율이 1 : 1 에 가깝게 될 수 있다. 따라서, 제1, 2유로(130, 140)에 균일한 양의 세정액이 유동될 수 있으며, 이를 통해, 제1유로(130)의 복수개의 제1토출홀(210)을 통해 토출되는 세정액의 토출량과 제2유로(140)의 복수개의 제2토출홀(220)을 통해 토출되는 세정액의 토출량의 균일성이 보장될 수 있다. 이러한 토출량의 균일성은 기판 세정시 사영역이 발생하는 것을 방지할 수 있다.As such, as the ratio of the volume of the first channel 130 to the volume of the second channel 140 becomes 1: 1, the cleaning liquid is branched and flows in two directions in the A direction and the B direction from the first connection channel 131. The ratio of the flow rate of can be close to 1: 1. Therefore, a uniform amount of the cleaning liquid may flow into the first and second flow paths 130 and 140, and through this, the discharge amount of the cleaning liquid discharged through the plurality of first discharge holes 210 of the first flow path 130. The uniformity of the discharge amount of the cleaning liquid discharged through the plurality of second discharge holes 220 of the second passage 140 may be ensured. The uniformity of the discharge amount can prevent the dead zone from being generated during substrate cleaning.

전술한 제1유로(130) 및 제2유로(140)의 체적의 조건과 더불어 복수개의 제1토출홀(210)의 갯수와 복수개의 제2토출홀(220)의 갯수는 동일한 갯수로 형성되는 것이 바람직하다. 이는, 제1, 2토출홀(210, 220)의 갯수가 동일해짐에 따라, 전술한 토출량의 균일성이 더욱 효과적으로 달성될 수 있기 때문이다.The number of the plurality of first discharge holes 210 and the number of the plurality of second discharge holes 220 together with the condition of the volume of the first channel 130 and the second channel 140 are formed to be the same number. It is preferable. This is because as the number of the first and second discharge holes 210 and 220 become the same, the uniformity of the above-described discharge amount can be more effectively achieved.

전술한 바와 달리, 복수개의 제2토출홀(220)은 원형 형상의 제2유로(140)의 원주 방향을 따라 2열로 서로 일정한 간격을 갖도록 구비될 수 있다. 이처럼, 복수개의 제2토출홀(220)이 2열로 구비됨에 따라, 쉽게 복수개의 제1토출홀(210)과 복수개의 제2토출홀(220)의 갯수를 동일하게 형성시킬 수 있는 장점이 있다.Unlike the foregoing, the plurality of second discharge holes 220 may be provided to have a predetermined distance from each other in two rows along the circumferential direction of the circular second flow path 140. As such, as the plurality of second discharge holes 220 are provided in two rows, there is an advantage in that the number of the plurality of first discharge holes 210 and the plurality of second discharge holes 220 can be easily formed to be the same. .

전술한 설명에서는 제1, 2유로(130, 140), 제1, 2연결유로(131, 132)가 제1몸체(100)의 하면에 형성되는 것을 기준으로 설명하였으나, 제1, 2유로(130, 140), 제1, 2연결유로(131, 132)는 제1몸체(100)의 하면 및 제2몸체(200)의 상면 중 적어도 어느 하나에 형성될 수 있다.In the above description, the first and second euros 130 and 140 and the first and second connection euros 131 and 132 are formed on the lower surface of the first body 100, but the first and second euros ( 130 and 140 and the first and second connection passages 131 and 132 may be formed on at least one of the lower surface of the first body 100 and the upper surface of the second body 200.

본 발명의 바람직한 제2실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10')Substrate cleaning nozzle 10 ′ according to the second embodiment of the present invention

이하, 도 8 및 도 9를 참조하여 본 발명의 바람직한 제2실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10')에 대해 설명한다.Hereinafter, the substrate cleaning nozzle 10 ′ according to the second preferred embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 8 and 9.

도 8은 본 발명의 바람직한 제2실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 제1몸체의 하면을 도시한 저면도이고, 도 9는 본 발명의 바람직한 제2실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 제2몸체의 상면을 도시한 평면도이다.8 is a bottom view illustrating a bottom surface of a first body of a substrate cleaning nozzle according to a second preferred embodiment of the present invention, and FIG. 9 is a second view of the substrate cleaning nozzle according to a second preferred embodiment of the present invention. It is a top view which shows the upper surface of a body.

도 8 및 도 9에 도시된 바와 같이, 본 발명의 바람직한 제2실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10')은 제1몸체(100')의 하면에 복수개의 홈(160)이 형성되고, 제2몸체(200')의 상면에 복수개의 홈(160)에 대응되게 형성되어 복수개의 홈(160) 각각에 삽입되는 복수개의 돌기(260)가 형성되어 있다. 8 and 9, in the substrate cleaning nozzle 10 ′ according to the second preferred embodiment of the present invention, a plurality of grooves 160 are formed on the lower surface of the first body 100 ′. A plurality of protrusions 260 are formed on the upper surface of the second body 200 ′ corresponding to the plurality of grooves 160 and inserted into the plurality of grooves 160, respectively.

다시 말해, 본 발명의 바람직한 제2실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10')은 전술한 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10)의 제1몸체(100)의 하면에 복수개의 홈(160)이 추가적으로 형성되고, 제2몸체(200)의 상면에 복수개의 돌기(260)가 추가적으로 형성된 형상을 갖는 것이다.In other words, the substrate cleaning nozzle 10 ′ according to the second preferred embodiment of the present invention is a lower surface of the first body 100 of the substrate cleaning nozzle 10 according to the first preferred embodiment of the present invention described above. A plurality of grooves 160 are additionally formed in the plurality of grooves 160, and a plurality of protrusions 260 are additionally formed on the upper surface of the second body 200.

도 8에 도시된 바와 같이, 복수개의 홈(160)은 제1몸체(100')의 하면에 형성되며, 복수개의 돌기(260)가 삽입되는 공간을 제공하는 기능을 한다.As shown in FIG. 8, the plurality of grooves 160 are formed on the lower surface of the first body 100 ′, and serve to provide a space into which the plurality of protrusions 260 are inserted.

복수개의 홈(160)은 제1유로(130) 외측에 형성되는 제1홈(161)과, 제1유로(130)와 제2유로(140) 사이에 위치하는 제2, 3홈(162, 163)과, 제2유로(140)의 내측에 형성되는 제4홈(164)을 포함하여 구성될 수 있다.The plurality of grooves 160 may include a first groove 161 formed outside the first channel 130, and second and third grooves 162 positioned between the first channel 130 and the second channel 140. 163 and a fourth groove 164 formed inside the second passage 140.

제1홈(161)은 제1유로(130)보다 더 큰 지름을 갖는 원형 형상을 갖으며, 제1유로(130)를 둘러싸도록 형성된다. The first groove 161 has a circular shape having a larger diameter than the first passage 130 and is formed to surround the first passage 130.

제1홈(161)은 그 중심점이 제1, 2유로(130, 140)의 중심점과 동일하게 형성될 수 있다. 다시 말해, 제1홈(161), 제1유로(130) 및 제2유로(140)는 동일한 중심점을 갖는 동심원일 수 있다. The center of the first groove 161 may be formed to be the same as the center of the first and second flow paths 130 and 140. In other words, the first groove 161, the first passage 130, and the second passage 140 may be concentric circles having the same center point.

제1홈(161)의 내부에는 후술할 제1돌기(261)의 제1융착산(261a)이 삽입되는 제1융착산홈(161a)이 형성될 수 있다.A first fusion groove 161a into which the first fusion mountain 261a of the first protrusion 261 to be described later is inserted may be formed in the first groove 161.

제1융착산홈(161a)은 제1홈(161)의 중앙에 형성되는 것이 바람직하다.The first fusion groove 161a is preferably formed at the center of the first groove 161.

제2홈(162)은 제1, 2유로(130, 140) 사이에서 제1, 2연결유로(131, 132)의 전방 방향에 위치하도록 형성될 수 있다. 다시 말해, 제2홈(162)은 제2유로(140)의 전방 영역, 즉, 일부 영역을 둘러싸도록 형성된다.The second groove 162 may be formed to be positioned in the front direction of the first and second connection passages 131 and 132 between the first and second passages 130 and 140. In other words, the second groove 162 is formed to surround the front region, that is, a partial region of the second passage 140.

제3홈(163)은 제1, 2유로(130, 140) 사이에서 제1, 2연결유로(131, 132)의 후방 방향에 위치하도록 형성될 수 있다. 다시 말해, 제3홈(163)은 제2유로(140)의 후방 영역, 즉, 나머지 영역을 둘러싸도록 형성된다.The third groove 163 may be formed to be located in the rear direction of the first and second connection passages 131 and 132 between the first and second passages 130 and 140. In other words, the third groove 163 is formed to surround the rear region, that is, the remaining region of the second passage 140.

제4홈(164)은 제2유로(140)보다 더 작은 지름을 갖는 원형 형상을 갖으며, 제2유로(140)에 의해 둘러싸이도록 형성된다. The fourth groove 164 has a circular shape having a smaller diameter than the second passage 140 and is formed to be surrounded by the second passage 140.

제4홈(164)은 그 중심점이 제1, 2유로(130, 140)의 중심점과 동일하게 형성될 수 있다. 다시 말해, 제4홈(164), 제1유로(130) 및 제2유로(140)는 동일한 중심점을 갖는 동심원일 수 있다. The fourth groove 164 may have a center point the same as a center point of the first and second flow paths 130 and 140. In other words, the fourth groove 164, the first passage 130, and the second passage 140 may be concentric circles having the same center point.

제4홈(164)의 내부에는 후술할 제4돌기(264)의 제2융착산(264a)이 삽입되는 제2융착산홈(164a)이 형성될 수 있다.A second fusion groove 164a into which the second fusion acid 264a of the fourth protrusion 264 to be described later is inserted may be formed in the fourth groove 164.

제2융착산홈(164a)은 제4홈(164)의 중앙에 형성되는 것이 바람직하다.The second fusion groove 164a is preferably formed at the center of the fourth groove 164.

도 9에 도시된 바와 같이, 복수개의 돌기(260)는 제2몸체(200')의 상면에 형성되며, 제1, 2몸체(100', 200')가 결합시 복수개의 홈(160) 각각에 삽입되는 기능을 한다.As shown in FIG. 9, the plurality of protrusions 260 are formed on the upper surface of the second body 200 ′, and each of the plurality of grooves 160 when the first and second bodies 100 ′ and 200 ′ are coupled to each other. It is inserted into.

복수개의 돌기(260)는 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상의 외측에 형성되는 제1돌기(261)와, 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상과 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상 사이에 위치하는 제2, 3돌기(262, 263)와, 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상의 내측에 형성되는 제4돌기(264)를 포함하여 구성될 수 있다.The plurality of protrusions 260 may include first and second protrusions 261 formed on the outer side of the circular shape formed by the plurality of first discharge holes 210 and circular shapes and the plurality of first discharge holes 210. The second and third protrusions 262 and 263 positioned between the circular shapes formed by the two second discharge holes 220 and the fourth formed inside the circular shapes formed by the plurality of second discharge holes 220. It may be configured to include a projection (264).

제1돌기(261)는 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상보다 더 큰 지름을 갖는 원형 형상을 갖으며, 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상을 둘러싸도록 형성된다. 이러한 제1돌기(261)는 제1, 2몸체(100', 200')가 결합될 때, 제1홈(161)에 삽입되도록 제1홈(161)에 대응되는 위치에 형성된다.The first protrusion 261 has a circular shape having a larger diameter than the circular shape formed by the plurality of first discharge holes 210 and surrounds the circular shape formed by the plurality of first discharge holes 210. Is formed. The first protrusion 261 is formed at a position corresponding to the first groove 161 to be inserted into the first groove 161 when the first and second bodies 100 'and 200' are coupled to each other.

제1돌기(261)의 상면에는 제1융착산(261a)이 형성되며, 제1융착산(261a)은 제1돌기(261)보다 더 작은 폭을 갖으며, 상부로 돌출되게 형성된다. 이러한 제1융착산(261a)은 제1홈(161)의 제1융착산홈(161a)에 삽입된다.A first fusion acid 261a is formed on an upper surface of the first protrusion 261, and the first fusion acid 261a has a smaller width than the first projection 261 and protrudes upward. The first fusion acid 261a is inserted into the first fusion groove 161a of the first groove 161.

제1돌기(261)는 그 중심점이 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상 및 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상의 중심점과 동일하게 형성될 수 있다. 다시 말해, 제1돌기(261), 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상 및 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상은 동일한 중심점을 갖는 동심원일 수 있다. The first protrusion 261 may have the center point the same as the center point of the circular shape formed by the plurality of first discharge holes 210 and the circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220. In other words, the first protrusion 261, the circular shape formed by the plurality of first discharge holes 210 and the circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220 may be concentric circles having the same center point.

제2돌기(262)는 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상 및 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상 사이에서 전방 방향에 위치하도록 형성될 수 있다. 다시 말해, 제2돌기(262)는 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상의 전방 영역, 즉, 일부 영역을 둘러싸도록 형성된다. The second protrusion 262 may be formed to be located in a forward direction between a circular shape formed by the plurality of first discharge holes 210 and a circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220. In other words, the second protrusion 262 is formed to surround a circular front region, that is, a partial region, formed by the plurality of second discharge holes 220.

이러한 제2돌기(262)는 제1, 2몸체(100', 200')가 결합될 때, 제2홈(162)에 삽입되도록 제2홈(162)에 대응되는 위치에 형성된다.The second protrusion 262 is formed at a position corresponding to the second groove 162 to be inserted into the second groove 162 when the first and second bodies 100 'and 200' are coupled.

제3돌기(263)는 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상 및 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상 사이에서 후방 방향에 위치하도록 형성될 수 있다. 다시 말해, 제3돌기(263)는 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상의 후방 영역, 즉, 나머지 영역을 둘러싸도록 형성된다. The third protrusion 263 may be formed to be located in the rear direction between the circular shape formed by the plurality of first discharge holes 210 and the circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220. In other words, the third protrusion 263 is formed to surround a circular rear region formed by the plurality of second discharge holes 220, that is, the remaining region.

이러한 제3돌기(263)는 제1, 2몸체(100', 200')가 결합될 때, 제3홈(163)에 삽입되도록 제3홈(163)에 대응되는 위치에 형성된다.The third protrusion 263 is formed at a position corresponding to the third groove 163 to be inserted into the third groove 163 when the first and second bodies 100 ′ and 200 ′ are coupled to each other.

제4돌기(264)는 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상보다 작은 지름을 갖는 원형 형상을 갖으며, 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상에 둘러싸이도록 형성된다. 이러한 제4돌기(264)는 제1, 2몸체(100', 200')가 결합될 때, 제4홈(164)에 삽입되도록 제4홈(164)에 대응되는 위치에 형성된다.The fourth protrusion 264 has a circular shape having a diameter smaller than the circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220, and is formed to be surrounded by the circular shape formed by the plurality of first discharge holes 210. do. The fourth protrusion 264 is formed at a position corresponding to the fourth groove 164 to be inserted into the fourth groove 164 when the first and second bodies 100 'and 200' are coupled.

제4돌기(264)의 상면에는 제2융착산(264a)이 형성되며, 제2융착산(264a)은 제4돌기(264)보다 더 작은 폭을 갖으며, 상부로 돌출되게 형성된다. 이러한 제2융착산(264a)은 제4홈(164)의 제2융착산홈(164a)에 삽입된다.A second fusion acid 264a is formed on an upper surface of the fourth protrusion 264, and the second fusion acid 264a has a smaller width than the fourth protrusion 264 and protrudes upward. The second fusion 264a is inserted into the second fusion groove 164a of the fourth groove 164.

제4돌기(264)는 그 중심점이 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상 및 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상의 중심점과 동일하게 형성될 수 있다. 다시 말해, 제4돌기(264), 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상 및 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상은 동일한 중심점을 갖는 동심원일 수 있다. The fourth protrusion 264 may have the center point the same as the center point of the circular shape formed by the plurality of first discharge holes 210 and the circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220. In other words, the fourth protrusion 264, the circular shape formed by the plurality of first discharge holes 210, and the circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220 may be concentric circles having the same center point.

전술한 구성을 갖는 본 발명의 바람직한 제2실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10')은 제1몸체(100') 및 제2몸체(200')가 수지 재질로 이루어질 경우, 제1, 2몸체(100, 200)의 결합이 초음파 융착에 의해 이루어질 수 있다. 특히, 제1몸체(100') 및 제2몸체(200')는 수지재질 중 PEEK 재질로 이루어지는 것이 바람직하다.The substrate cleaning nozzle 10 ′ according to the second preferred embodiment of the present invention having the above-described configuration may include the first and second bodies when the first body 100 ′ and the second body 200 ′ are made of a resin material. Coupling of the bodies (100, 200) may be made by ultrasonic welding. In particular, the first body 100 ′ and the second body 200 ′ are preferably made of a PEEK material.

초음파 융착이란, 플라스틱 자체의 초음파진동에 의한 발열, 연화, 용융현상에 따라 2개 이상의 플라스틱 접합면이 밀착하여 그곳에 확산 작용이 일어나 융착이 이루어지는 것으로서, 전달융착(WELDING), 점융착(SPOT WELDING), 봉합융착(STADING), 삽입융착(INSERTING), 스웨징(SWAGING), 스리팅(SLITTING) 등의 방식으로 구분될 수 있다. 이러한 초음파 융착을 하기 위한 초음파 융착기는 100~250V, 50~60Hz의 전원을 발전기(Generator)를 통해 20KHz와 35KHz의 전기에너지로 변환시키고 이것을 다시 변환기(Converter)를 통해 기계적 진동에너지로 바꾼 후 변압기(Booster)로 그 진폭을 조절하며 이와 같이 형성된 초음파진동에너지가 혼(Horn)을 통해 융착물에 전달되면서 융착물의 접합면에서 순간적인 마찰열이 발생하여 플라스틱이 용해 접착되어 강력한 분자적 결합이 이루어지는 원리일 수 있다. Ultrasonic welding refers to the bonding of two or more plastic joint surfaces due to heat generation, softening, and melting caused by ultrasonic vibration of the plastic itself. , Suture fusion (STADING), insert fusion (INSERTING), swaging (SWAGING), the slitting (SLITTING) and the like can be divided into ways. Ultrasonic fusion machine for ultrasonic welding is to convert the power of 100 ~ 250V, 50 ~ 60Hz into electric energy of 20KHz and 35KHz through generator, and then convert it into mechanical vibration energy through converter. It is a principle that the ultrasonic vibration energy thus formed is transmitted to the fusion through the horn and instantaneous frictional heat is generated at the fusion surface of the fusion, so that the plastic is dissolved and bonded to form a strong molecular bond. Can be.

위와 같은 초음파 융착은 초음파 융착기인 혼에서 전기적 에너지가 진동자를 통해 기계적 진동에너지로 변환된 후, 제1몸체(100')와 제2몸체(200')가 적층된 상태에서 혼을 통해 초음파 발사 및 제1, 2몸체(100', 200') 중 적어도 어느 하나를 가압하면 제1몸체(100')와 제2몸체(200')의 결합면, 즉, 접합면에 순간적으로 강력한 마찰열이 발생되어 결합면이 용해 접착됨으로써, 이루어질 수 있다.The ultrasonic fusion as described above is the ultrasonic energy fusion in the ultrasonic fusion machine after the electrical energy is converted into the mechanical vibration energy through the vibrator, ultrasonic firing and firing through the horn in the state in which the first body 100 'and the second body 200' When at least one of the first and second bodies 100 'and 200' is pressed, a strong frictional heat is generated instantaneously on the mating surface of the first body 100 'and the second body 200', that is, the joint surface. The bonding surface can be made by dissolution bonding.

위와 같이, 혼을 통해 초음파 진동을 가하게 되면, 제1돌기(261)의 제1융착산(261a) 및 제4돌기(264)의 제2융착산(264a) 각각이 제1홈(161)의 제1융착산홈(161a) 및 제4홈(164)의 제2융착산홈(164a) 내부에서 용융되며, 이를 통해, 제1, 2몸체(100', 200')가 결합될 수 있다. 다시 말해, 제1, 2융착산홈(161a, 164a) 각각에 삽입된 제1, 2융착산(261a, 264a)의 삽입면은 결합면 또는 접합면이 되는 것이다.As described above, when the ultrasonic vibration is applied through the horn, each of the first fusion mountain 261a of the first projection 261 and the second fusion mountain 264a of the fourth projection 264 is formed of the first groove 161. The first fusion groove 161a and the second fusion groove 164a of the fourth groove 164 are melted inside, and through this, the first and second bodies 100 ′ and 200 ′ may be coupled. In other words, the insertion surface of the first and second fusion acids 261a and 264a inserted into each of the first and second fusion grooves 161a and 164a may be a bonding surface or a bonding surface.

전술한 바와 달리, 초음파 융착은 제2몸체(200)의 하면을 통해 혼에서 생성된 초음파를 발사함으로써 수행될 수 있으며, 이 경우, 정밀한 융착을 위해, 제1, 2융착산(261a, 264a) 및 제1, 2융착산홈(161a, 164a)에만 초음파를 발사할 수도 있다.Unlike the foregoing, ultrasonic fusion may be performed by firing ultrasonic waves generated in the horn through the lower surface of the second body 200, in which case, for precise fusion, the first and second fusion acids 261a and 264a may be used. Ultrasonic waves may be emitted only to the first and second fusion grooves 161a and 164a.

전술한 제1홈(161) 및 제1돌기(261), 제4홈(164) 및 제4돌기(264)는 제1, 2융착산(261a, 264a)이 각각 제1, 2융착산홈(161a, 164a)에 삽입되어 초음파 융착됨으로써, 제1, 2몸체(100', 200')를 결합시키는 기능을 한다.The first groove 161, the first protrusion 261, the fourth groove 164, and the fourth protrusion 264 are formed of the first and second fusion holes 261a and 264a, respectively. It is inserted into the 161a, 164a and ultrasonically fused, thereby functioning to join the first and second bodies 100 ', 200'.

제2, 3홈(162, 163) 및 제2, 3돌기(262, 263)는 제2, 3돌기(262, 263)가 제2, 3홈(162, 163)에 삽입됨으로써, 제1몸체(100')와 제2몸체(200')의 위치를 정렬해주는 기능을 한다.In the second and third grooves 162 and 163 and the second and third protrusions 262 and 263, the second and third protrusions 262 and 263 are inserted into the second and third grooves 162 and 163, thereby providing a first body. The function of aligning the position of the 100 'and the second body 200'.

위와 같이, 본 발명의 바람직한 제2실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10')의 제1, 2몸체(100', 200')가 초음파 융착에 의해 서로 결합되면, 제1유로(130), 제2유로(140), 제1연결유로(131) 및 제2연결유로(132)는 복수개의 홈(160) 및 복수개의 돌기(260)가 결합된 부분 사이에 위치하게 된다.As described above, when the first and second bodies 100 'and 200' of the substrate cleaning nozzle 10 'according to the second exemplary embodiment of the present invention are coupled to each other by ultrasonic welding, the first passage 130, The second channel 140, the first connection channel 131, and the second connection channel 132 are positioned between a portion where the plurality of grooves 160 and the plurality of protrusions 260 are coupled to each other.

상세하게 설명하면, 제1유로(130)는 제1홈(161) 및 제2돌기(262)가 결합된 부분과, 제2홈(162) 및 제2돌기(262)가 결합된 부분과, 제3홈(163) 및 제3돌기(263)가 결합된 부분 사이에 위치한다. 또한, 제2유로(140)는 제2홈(162) 및 제2돌기(262)가 결합된 부분, 제3홈(163) 및 제3돌기(263)가 결합된 부분과 제4홈(164) 및 제4돌기(264)가 결합된 부분 사이에 위치한다. 또한, 제1, 2연결유로(131, 132)는 제2홈(162) 및 제2돌기(262)가 결합된 부분과, 제3홈(163) 및 제3돌기(263)가 결합된 부분 사이에 위치한다.In detail, the first passage 130 may include a portion in which the first groove 161 and the second protrusion 262 are coupled, a portion in which the second groove 162 and the second protrusion 262 are coupled to each other, The third groove 163 and the third protrusion 263 is located between the combined portion. In addition, the second channel 140 may include a portion in which the second groove 162 and the second protrusion 262 are coupled, a portion in which the third groove 163 and the third protrusion 263 are coupled, and a fourth groove 164. ) And the fourth protrusion 264 are located between the combined portions. In addition, the first and second connection passages 131 and 132 are portions in which the second grooves 162 and the second protrusions 262 are coupled, and portions in which the third grooves 163 and the third protrusions 263 are coupled to each other. Located in between.

전술한 본 발명의 바람직한 제2실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10')은 다음과 같은 효과를 갖는다.The substrate cleaning nozzle 10 ′ according to the second embodiment of the present invention described above has the following effects.

별도의 접착제가 필요하지 않고, 강력한 분자적 결합으로 결합상태가 매우 견고하게 유지될 수 있다. 이와 같은 높은 결합력으로 인해, 유로들의 파손을 방지할 수 있으므로, 기판 세정용 노즐(10')의 높은 내압 특성을 유지하는데 기여한다.There is no need for a separate adhesive, and the strong molecular bond allows the bond to remain very solid. Due to such a high bonding force, it is possible to prevent the breakage of the flow paths, thereby contributing to maintaining the high withstand voltage characteristic of the substrate cleaning nozzle 10 '.

또한, 초음파 융착은 0.1초 내지 1초 이내로 공정이 이루어져 공정시간이 매우 짧으므로, 대량생산에 유리하고, 제품 표면의 변형 및 변질 없이 깨끗하게 접합 가공이 가능하다.In addition, the ultrasonic fusion process is performed within 0.1 seconds to 1 second, so the process time is very short, which is advantageous for mass production, and the bonding process can be performed cleanly without deforming or altering the surface of the product.

또한, 석영 등 유리재질에 비해 식각 현상이 적은 반도체, 즉, 수지 재질을 사용하게 되므로, 반영구적이고, 제1, 2몸체(100', 200')의 결합시, 전력 소모가 적어 제품의 불량율을 줄일 수 있을뿐만 아니라 공정비용을 절감하는 효과를 가질 수 있다.In addition, since semiconductors, that is, resin materials, are used, which are less etched than glass materials such as quartz, they are semi-permanent, and when the first and second bodies 100 'and 200' are combined, the power consumption is low and the defect rate of the product is reduced. Not only can it reduce, it also has the effect of reducing process costs.

제1유로(130), 제2유로(140), 제1연결유로(131) 및 제2연결유로(132)는 복수개의 홈(160) 및 복수개의 돌기(260) 사이에 위치하게 되므로, 복수개의 홈(160) 및 복수개의 돌기(260)가 초음파 융착에 의해 결합될 때, 상기 내부 유로들은 결합 부위의 내측에 위치하게 된다. 따라서, 세정액이 상기 내부 유로들에서 새어나가는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.Since the first passage 130, the second passage 140, the first connection passage 131, and the second connection passage 132 are positioned between the plurality of grooves 160 and the plurality of protrusions 260, When the two grooves 160 and the plurality of protrusions 260 are coupled by ultrasonic welding, the inner flow paths are positioned inside the coupling portion. Therefore, it is possible to effectively prevent the cleaning liquid from leaking out of the inner flow paths.

또한, 상기 내부 유로들의 최외측인 제1돌기(261)에 제1융착산(261a)이 형성되고, 최내측인 제4돌기(264)에 제2융착산(264a)이 형성됨으로써, 상기 내부 유로들을 최외측과 최내측에서 가두는 효과를 달성할 수 있으며, 이를 통해, 상기 내부 유로들에서 세정액이 새어나가는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.In addition, a first fusion acid 261a is formed in the first protrusion 261, which is the outermost side of the inner flow paths, and a second fusion acid 264a is formed in the fourth protrusion 264, which is the innermost side. The effect of confining the flow paths at the outermost and innermost sides can be achieved, thereby effectively preventing the cleaning liquid from leaking from the inner flow paths.

전술한 설명에서는 제1몸체(100')의 하면에 복수개의 홈(160)이 형성되고, 제2몸체(200')의 상면에 복수개의 돌기(260)가 형성되는 것을 기준으로 설명하였으나, 복수개의 홈(160)은 제1몸체(100')의 하면 및 제2몸체(200')의 상면 중 어느 하나에 형성되고, 복수개의 돌기(260)는 제1몸체(100')의 하면 및 제2몸체(200')의 상면 중 나머지 하나에 형성될 수 있다.In the above description, a plurality of grooves 160 are formed on the lower surface of the first body 100 'and a plurality of protrusions 260 are formed on the upper surface of the second body 200', but the plurality of grooves are formed on the lower surface of the first body 100 '. Dog grooves 160 are formed on any one of the lower surface of the first body 100 'and the upper surface of the second body 200', and the plurality of protrusions 260 are formed on the lower surface and the first surface of the first body 100 '. It may be formed on the other one of the upper surface of the two body (200 ').

본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10")Substrate cleaning nozzle 10 "according to the third embodiment of the present invention

이하, 도 10 내지 도 12를 참조하여 본 발명의 바람직한 제2실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10")에 대해 설명한다.Hereinafter, a substrate cleaning nozzle 10 ″ according to a second exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 10 to 12.

도 10은 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 제1몸체의 하면을 도시한 저면도이고, 도 11은 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 제2몸체의 상면을 도시한 평면도이고, 도 12는 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 제2몸체의 하면을 도시한 저면도이다.FIG. 10 is a bottom view illustrating a bottom surface of a first body of a substrate cleaning nozzle according to a third preferred embodiment of the present invention, and FIG. 11 is a second view of the substrate cleaning nozzle according to a third preferred embodiment of the present invention. 12 is a plan view showing a top surface of the body, and FIG. 12 is a bottom view showing a bottom surface of the second body of the nozzle for cleaning the substrate according to the third embodiment of the present invention.

도 10 내지 도 12에 도시된 바와 같이, 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10")은, 제1토출홀(210)이 구비된 제1유로(130)와, 제2토출홀(220)이 구비되며, 제1유로(130)의 내측에 위치하는 제2유로(140)와, 복수개의 제3토출홀(230)이 구비되며, 제2유로(140)의 내측에 위치하는 제3유로(150)와, 제1유로(130)와 제2유로(140)를 연결시키는 제1연결유로(131)와, 제1유로(130)와 제2유로(140)를 연결시키며, 제1유로(130)의 중심점을 기준으로 제1연결유로(131)와 대칭되게 위치하는 제2연결유로(132)와, 제2유로(140)와 제3유로(150)를 연결시키며, 제1연결유로(131)와 일직선 상에 위치하는 제3연결유로(141)와, 제2유로(140)와 제3유로(150)를 연결시키며, 제2유로(140)의 중심점을 기준으로 제3연결유로(141)와 대칭되게 위치하고, 제2연결유로(132)와 일직선 상에 위치하는 제4연결유로(142)와, 세정액이 유입되거나 유출되는 제1메인홀(110)과 연결되며, 제1연결유로(131) 상에 구비되는 제1상하유로(111)와, 세정액이 유입되거나 유출되는 제2메인홀(120)과 연결되며, 제2연결유로(132) 상에 구비되는 제2상하유로(121)와, 그 상면에 제1메인홀(110), 제2메인홀(120)이 형성되고, 그 내부에 제1상하유로(111), 제2상하유로(121)가 형성되고, 그 하면에 제1유로(130), 제2유로(140), 제1연결유로(131), 제2연결유로(132)가 형성된 제1몸체(100")와, 제1몸체(100")의 하면과 그 상면이 맞닿도록 제1몸체(100")의 하부에 결합되며, 제1유로(130)에 구비되는 제1토출홀(210)과, 제2유로(140)에 구비되는 제2토출홀(220)이 형성된 제2몸체(200")를 포함하여 구성될 수 있다.10 to 12, the substrate cleaning nozzle 10 ″ according to the third exemplary embodiment of the present invention may include a first passage 130 having a first discharge hole 210 and a first passage 130. The second discharge hole 220 is provided, the second passage 140 located inside the first passage 130 and the plurality of third discharge holes 230 are provided, and the inside of the second passage 140 is provided. A third passage 150, a first connection passage 131 connecting the first passage 130 and the second passage 140, and a first passage 130 and a second passage 140. The second connection passage 132, which is positioned symmetrically with the first connection passage 131 based on the center point of the first passage 130, connects the second passage 140 and the third passage 150. And a third connection passage 141 located in line with the first connection passage 131, connecting the second passage 140 and the third passage 150 to each other, and forming a center point of the second passage 140. A fourth symmetrically positioned with respect to the third connection channel 141 and positioned in line with the second connection channel 132. The condensation passage 142 and the first main hole 110 through which the cleaning liquid flows in or out, and the first upper and lower flow passages 111 provided on the first connection passage 131 and the cleaning liquid flows in or out. The second main passage 120 is connected to the second main hole 120 and is provided on the second connection passage 132, and the first main hole 110 and the second main hole 120 are formed on the upper surface thereof. The first upper and lower flow passages 111 and the second upper and lower flow passages 121 are formed therein, and the first flow passage 130, the second flow passage 140, the first connection flow passage 131, The first body 100 ″ having the second connection channel 132 formed thereon is coupled to the lower portion of the first body 100 ″ so that the lower surface of the first body 100 ″ contacts the upper surface thereof, 130 may include a first discharge hole 210 and a second body 200 ″ having a second discharge hole 220 provided in the second flow passage 140.

본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10")은 전술한 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10)과 비교하여, 제3유로(150), 제3연결유로(141), 제4연결유로(142)가 추가적으로 형성되어 있다는 점에서 차이가 있을 뿐, 나머지 구성요소는 동일하다. 따라서, 전술한 설명과 동일한 구성요소에 대한 설명은 생략한다.The substrate cleaning nozzle 10 ″ according to the third preferred embodiment of the present invention is compared to the substrate cleaning nozzle 10 according to the first preferred embodiment of the present invention. The only difference is that the third connection channel 141 and the fourth connection channel 142 are additionally formed, and the remaining components are the same, and thus, descriptions of the same components as those described above will be omitted.

제3유로(150)는 제1몸체(100")의 하면에 제2유로(140)의 내측에 위치하도록 형성된다.The third flow path 150 is formed to be located inside the second flow path 140 on the bottom surface of the first body 100 ″.

제3유로(150)는 원형 형상을 갖을 수 있다.The third passage 150 may have a circular shape.

제1유로(130)와 제2유로(140)와, 제3유로(150)가 원형 형상을 갖을 경우, 제1유로(130)와 제2유로(140)와, 제3유로(150)는 동일한 중심점을 갖을 수 있다. 다시 말해, 제1유로(130)와 제2유로(140)와, 제3유로(150)는 동일한 중심점을 갖는 동심원일 수 있다.When the first passage 130, the second passage 140, and the third passage 150 have a circular shape, the first passage 130, the second passage 140, and the third passage 150 may be It can have the same center point. In other words, the first passage 130, the second passage 140, and the third passage 150 may be concentric circles having the same center point.

제3유로(150)는 제1몸체(100")와 제2몸체(200")가 상하 결합될 때, 제1몸체(100")의 하면 부분이 제3유로(150)의 상부 부분이 되고, 제2몸체(200")의 상면 부분이 제3유로(150)의 바닥 부분이 된다.In the third flow path 150, when the first body 100 ″ and the second body 200 ″ are coupled up and down, the lower portion of the first body 100 ″ becomes the upper portion of the third flow path 150. The upper portion of the second body 200 ″ becomes the bottom portion of the third flow path 150.

제3유로(150)에는 복수개의 제3토출홀(230)이 구비되는데, 이러한 복수개의 제3토출홀(230)은 제2몸체(200)의 상면과 하면을 관통하도록 형성된다.A plurality of third discharge holes 230 are provided in the third flow path 150, and the plurality of third discharge holes 230 are formed to penetrate the upper and lower surfaces of the second body 200.

제1몸체(100")와 제2몸체(200")가 상하 결합되면, 복수개의 제3토출홀(230)이 제3유로(150)의 바닥 부분에 위치하게 됨으로써, 제3유로(150)는 복수개의 제3토출홀(230)과 연결된다.When the first body 100 ″ and the second body 200 ″ are coupled up and down, the plurality of third discharge holes 230 may be positioned at the bottom of the third flow path 150, such that the third flow path 150 is disposed. Is connected to the plurality of third discharge holes 230.

복수개의 제3토출홀(230)은 원형 형상의 제3유로(150)의 원주 방향을 따라 1열로 서로 일정한 간격을 갖도록 구비될 수 있다.The plurality of third discharge holes 230 may be provided to have a predetermined distance from each other in a row along the circumferential direction of the circular third flow path 150.

복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상은 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상의 내측에 위치할 수 있다. 이 경우, 복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상과 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상은 동일한 중심점을 갖는 동심원일 수 있다.The circular shape formed by the plurality of third discharge holes 230 may be located inside the circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220. In this case, the circular shape formed by the plurality of third discharge holes 230 and the circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220 may be concentric circles having the same center point.

제3연결유로(141)는 제1몸체(100")의 하면에 형성된다.The third connection passage 141 is formed on the lower surface of the first body 100 ″.

제3연결유로(141)는 제2유로(140)의 내측과 제3유로(150)의 외측 사이에 위치하는 유로로서, 제2유로(140)와 제3유로(150)를 연결시킨다.The third connection passage 141 is a passage located between the inside of the second passage 140 and the outside of the third passage 150, and connects the second passage 140 and the third passage 150.

제3연결유로(141)는 제1몸체(100")와 제2몸체(200")가 상하 결합될 때, 제1몸체(100)의 하면 부분이 제3연결유로(141)의 상부 부분이 되고, 제2몸체(200")의 상면 부분이 제3연결유로(141)의 바닥 부분이 된다.When the first body 100 ″ and the second body 200 ″ are vertically coupled to the third connection channel 141, the lower portion of the first body 100 is an upper portion of the third connection channel 141. The upper surface portion of the second body 200 ″ becomes the bottom portion of the third connection passage 141.

제3연결유로(141)는 제1연결유로(131)와 일직선 상에 위치한다.The third connection channel 141 is positioned in line with the first connection channel 131.

제3연결유로(141)는 직선 형상을 갖는 것이 바람직하다.The third connection passage 141 preferably has a straight shape.

제4연결유로(142)는 제2유로(140)의 내측과 제3유로(150)의 외측 사이에 위치하는 유로로서, 제2유로(140)와 제3유로(150)를 연결시킨다.The fourth connection passage 142 is a passage located between the inside of the second passage 140 and the outside of the third passage 150, and connects the second passage 140 and the third passage 150.

제4연결유로(142)는 제1몸체(100")와 제2몸체(200")가 상하 결합될 때, 제1몸체(100)의 하면 부분이 제4연결유로(142)의 상부 부분이 되고, 제2몸체(200")의 상면 부분이 제4연결유로(142)의 바닥 부분이 된다.When the first body 100 ″ and the second body 200 ″ are vertically coupled to the fourth connection channel 142, the lower portion of the first body 100 is an upper portion of the fourth connection channel 142. The upper surface portion of the second body 200 ″ becomes the bottom portion of the fourth connection passage 142.

제4연결유로(142)는 직선 형상을 갖는 것이 바람직하다.It is preferable that the fourth connection passage 142 has a straight shape.

제4연결유로(142)는 제2연결유로(132)와 일직선 상에 위치한다.The fourth connection passage 142 is positioned in line with the second connection passage 132.

제4연결유로(142)는 제1유로(130)의 중심점 또는 제2유로(140)의 중심점을 기준으로 제3연결유로(141)와 대칭되게 위치한다. 따라서, 제1연결유로(131), 제2연결유로(132), 제3연결유로(141) 및 제4연결유로(142)는 제1유로(130)의 중심점 또는 제2유로(140)의 중심점 또는 제3유로(150)의 중심점을 지나는 일직선 상에 위치하게 된다.The fourth connection channel 142 is positioned symmetrically with the third connection channel 141 based on the center point of the first channel 130 or the center point of the second channel 140. Accordingly, the first connection passage 131, the second connection passage 132, the third connection passage 141, and the fourth connection passage 142 may be formed at the center of the first passage 130 or the second passage 140. It is positioned on a straight line passing through the center point or the center point of the third flow path 150.

제2몸체(200")에는 복수개의 제3토출홀(230)이 형성된다. 복수개의 제3토출홀(230)은 제2몸체(200")의 상면과 하면을 관통하도록 형성된다.A plurality of third discharge holes 230 are formed in the second body 200 ". The plurality of third discharge holes 230 are formed to penetrate the upper and lower surfaces of the second body 200".

복수개의 제3토출홀(230)은 제3유로(150)의 원주 방향을 따라 1열로 서로 일정한 간격으로 형성될 수 있다.The plurality of third discharge holes 230 may be formed at regular intervals from each other in one row along the circumferential direction of the third flow path 150.

복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상은 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상의 내측에 위치할 수 있다. 이 경우, 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상과, 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상과 복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상은 동일한 중심점을 갖는 동심원일 수 있다.The circular shape formed by the plurality of third discharge holes 230 may be located inside the circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220. In this case, the circular shape formed by the plurality of first discharge holes 210 and the circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220 and the circular shape formed by the plurality of third discharge holes 230 are the same. It can be a concentric circle with a center point.

복수개의 제3토출홀(230)은 전술한 제1, 2토출홀(210, 220)과 같이, 제3토출홀 상부영역(미도시), 제3토출홀 하부영역(미도시) 및 제3토출홀 중앙영역(미도시)를 갖도록 형성될 수 있으며, 이에 대한 자세한 설명은 전술한 설명으로 대체될 수 있다.The plurality of third discharge holes 230 are the same as the first and second discharge holes 210 and 220 described above, and the third discharge hole upper region (not shown), the third discharge hole lower region (not shown), and the third The discharge hole may be formed to have a central area (not shown), and a detailed description thereof may be replaced with the above description.

따라서, 복수개의 제3토출홀(230)은 상부에서 하부로 갈수록 지름이 작아지는 경사진 영역을 갖을 수 있다.Therefore, the plurality of third discharge holes 230 may have an inclined area whose diameter decreases from the top to the bottom.

이하, 도 13a, 도 13b, 도 18d를 참조하여 전술한 구성을 갖는 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10")의 세정액의 유동에 대해 설명한다.Hereinafter, the flow of the cleaning liquid of the substrate cleaning nozzle 10 ″ according to the third preferred embodiment of the present invention having the above-described configuration will be described with reference to FIGS. 13A, 13B, and 18D.

단, 이하의 설명에서, 제1메인홀(110)을 통해 세정액 공급되어 기판 세정용 노즐(10")의 내부로 세정액이 유입되고, 제2메인홀(120)을 통해 기판 세정용 노즐(10") 내부의 세정액이 외부로 유출되는 것을 기준으로 설명한다.However, in the following description, the cleaning liquid is supplied through the first main hole 110, and the cleaning liquid is introduced into the substrate cleaning nozzle 10 ″, and the substrate cleaning nozzle 10 is passed through the second main hole 120. ") It demonstrates based on outflow of the washing | cleaning liquid inside.

도 13a는 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 내부 유로를 도시한 도이고, 도 13b는 도 13a의 세정액의 유동을 도시한 도이다.FIG. 13A illustrates an internal flow path of a substrate cleaning nozzle according to a third exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 13B illustrates a flow of the cleaning liquid of FIG. 13A.

먼저, 제1메인홀(110)을 통해 세정액이 공급되어, 복수개의 제1토출홀(210), 복수개의 제2토출홀(220) 및 복수개의 제3토출홀(230)을 통해 상기 공급된 세정액이 토출되는 유동에 대해 설명한다.First, the cleaning liquid is supplied through the first main hole 110, and the cleaning liquid is supplied through the plurality of first discharge holes 210, the plurality of second discharge holes 220, and the plurality of third discharge holes 230. The flow through which the cleaning liquid is discharged will be described.

제1메인홀(110)을 통해 세정액이 공급되면, 공급된 세정액은 제1상하유로(111)를 따라 유동된 후, 제1상하유로(111)와 제1연결유로(131)의 연결부로 유동하게 된다. 이 경우, 제1상하유로(111)와 제1연결유로(131)의 연결부는 제1상하유로(111)와 제1연결유로(131)가 서로 수직으로 연결된 부분을 의미한다.When the cleaning liquid is supplied through the first main hole 110, the supplied cleaning liquid flows along the first upper and lower flow passage 111, and then flows to the connection portion between the first upper and lower flow passage 111 and the first connection passage 131. Done. In this case, the connecting portion of the first up and down flow passage 111 and the first connection flow passage 131 means a portion in which the first up and down flow passage 111 and the first connection flow passage 131 are vertically connected to each other.

도 13a 및 도 13b에 도시된 바와 같이, 제1상하유로(111)와 제1연결유로(131)의 연결부로 유동된 세정액은 제1연결유로(131) 상에서 A 방향(외측 방향)과 B 방향(내측 방향)으로 2갈래로 분기되어 유동된다. 이 경우, A 방향과 B 방향은 제1상하유로(111)와 제1연결유로(131)의 연결부를 기준으로 서로 반대 방향이다.As shown in FIGS. 13A and 13B, the cleaning liquid flowing to the connection portion between the first upper and lower flow passages 111 and the first connection passage 131 is in the A direction (outward direction) and the B direction on the first connection passage 131. It branches in two directions (inward direction) and flows. In this case, the A direction and the B direction are opposite to each other based on the connecting portion of the first up and down flow path 111 and the first connection flow path 131.

다시 말해, 제1메인홀(110)을 통해 제1연결유로(131)로 유입되는 세정액은 제1, 2유로(130, 140) 각각으로 분기되어 유동되되, 제1, 2유로(130, 140) 각각으로 분기되어 유동되는 세정액의 방향은, 즉, A 방향과 B 방향은 제1상하유로(111)와 제1연결유로(131)의 연결부를 기준으로 서로 반대 방향이다.In other words, the cleaning liquid flowing into the first connection passage 131 through the first main hole 110 is branched and flows into the first and second passages 130 and 140, respectively. Directions of the cleaning liquid branched to each other, i.e., the A direction and the B direction are opposite to each other based on the connection portions of the first upper and lower flow passages 111 and the first connection passages 131.

A 방향으로 분기된 세정액은 제1연결유로(131)를 통해 제1유로(130)로 유동된 후, 제1유로(130)의 원주방향을 따라 A1 방향과 A2 방향으로 2갈래로 분기되어 유동한다.The cleaning liquid branched in the A direction flows into the first channel 130 through the first connection channel 131, and then branches into two branches in the A1 direction and the A2 direction along the circumferential direction of the first channel 130. do.

A1 방향과 A2 방향으로 분기되어 유동된 세정액은 압전소자의 초음파 진동에 의해 제1유로(130)의 바닥면에 구비된 복수개의 제1토출홀(210)을 통해 기판 세정용 노즐(10")의 외부로 토출된다.The cleaning liquid branched in the A1 and A2 directions flows through the substrate cleaning nozzles 10 ″ through the plurality of first discharge holes 210 provided in the bottom surface of the first flow path 130 by ultrasonic vibration of the piezoelectric element. Is discharged to the outside.

B 방향으로 분기된 세정액은 제1연결유로(131)를 통해 제2유로(140)로 유동된 후, 제2유로(140)의 원주방향을 따라 B1 방향, B2 방향 및 C 방향으로 3갈래로 분기되어 유동한다.The cleaning liquid branched in the B direction flows through the first connection channel 131 to the second channel 140, and then flows in three directions in the B1 direction, the B2 direction, and the C direction along the circumferential direction of the second channel 140. Branch and flow.

B1 방향과 B2 방향으로 분기되어 유동된 세정액은 압전소자의 초음파 진동에 의해 제2유로(140)의 바닥면에 구비된 복수개의 제2토출홀(220)을 통해 기판 세정용 노즐(10")의 외부로 토출된다.The cleaning liquid branched in the B1 direction and the B2 direction flows through the plurality of second discharge holes 220 provided in the bottom surface of the second flow path 140 by ultrasonic vibration of the piezoelectric element. Is discharged to the outside.

C 방향으로 유동된 세정액은 제3연결유로(141)를 따라 유동된 후, 제3유로(150)의 원주 방향을 따라 C1 방향과 C2 방향으로 2갈래로 분기되어 유동한다.After the cleaning liquid flowing in the C direction flows along the third connection channel 141, the washing liquid is branched into two branches in the C1 direction and the C2 direction along the circumferential direction of the third channel 150.

C1 방향과 C2 방향으로 분기되어 유동된 세정액은 압전소자의 초음파 진동에 의해 제3유로(150)의 바닥면에 구비된 복수개의 제3토출홀(230)을 통해 기판 세정용 노즐(10")의 외부로 토출된다.The cleaning liquid branched in the C1 direction and the C2 direction flows through the plurality of third discharge holes 230 provided in the bottom surface of the third flow path 150 by ultrasonic vibration of the piezoelectric element. Is discharged to the outside.

이하, 제2메인홀(120)을 통해, 제1, 2유로(130, 140)의 세정액이 기판 세정용 노즐(10")의 외부로 유출되는 유동에 대해 설명한다.Hereinafter, the flow through which the cleaning liquids of the first and second flow paths 130 and 140 flow out of the substrate cleaning nozzle 10 ″ through the second main hole 120 will be described.

제2메인홀(120)과 연통된 외부 흡입 장치(미도시)를 작동시키면, 제1유로(130)의 내부에 존재하는 세정액 중 제2연결유로(132) 근방의 세정액은, 즉, 제1유로(130)의 우측 내부 영역에 존재하는 세정액은 도 13a 및 도 13b에 도시된 바와 같이, 제1유로(130) 상에서 D1 방향 및 D2 방향 2갈래를 통해 D 방향으로 유동됨으로써, 제2연결유로(132)로 유입된다. When the external suction device (not shown) in communication with the second main hole 120 is operated, the cleaning liquid near the second connection passage 132 among the cleaning liquids existing inside the first passage 130 may be a first liquid. As shown in FIGS. 13A and 13B, the cleaning liquid present in the right inner region of the flow path 130 flows in the D direction through the two branches of the D1 direction and the D2 direction on the first flow path 130, thereby providing a second connection flow path. 132 flows into.

제1유로(130)의 내부에 존재하는 세정액 중 제2연결유로(132)와 멀리 떨어진 곳의 세정액, 즉, 제1유로(130)의 좌측 내부 영역에 존재하는 세정액은 제1유로(130)를 따라 A1 반대 방향 및 A2 반대 방향으로 유동된 후, 제1연결유로(131)로 유입된다. 제1연결유로(131)로 유입된 세정액은 A 반대 방향 및 B 방향으로 제1연결유로(131)를 따라 유동된 후, B1 방향, B2 방향, C 방향으로 3갈래로 분기되어 유동된다.Among the cleaning liquids present in the first passage 130, the cleaning liquid far away from the second connection passage 132, that is, the cleaning liquid existing in the left inner region of the first passage 130 may be disposed in the first passage 130. After flowing in the direction opposite to A1 and the direction A2 along, it flows into the first connection channel 131. The washing liquid introduced into the first connection channel 131 flows along the first connection channel 131 in the opposite direction to the A direction and the B direction, and then branches into the B1 direction, the B2 direction, and the C direction.

이 중 B1 방향 및 B2 방향을 통해 제2유로(140)로 유입된 세정액은 제2유로(140)의 원주 방향을 따라 유동된 후, E1 방향 및 E2 방향 2갈래를 통해 E 방향으로 유동됨으로써, 제2연결유로(132)로 유입된다. 이렇게 제2연결유로(132)로 유입된 세정액은 제2상하유로(121) 및 제2메인홀(120)을 통해 기판 세정용 노즐(10) 외부로 유출된다.Among these, the cleaning liquid introduced into the second flow path 140 through the B1 direction and the B2 direction flows along the circumferential direction of the second flow path 140, and then flows in the E direction through the two branches of the E1 direction and the E2 direction, It flows into the second connection passage 132. The cleaning liquid introduced into the second connection passage 132 flows out of the substrate cleaning nozzle 10 through the second upper and lower passage 121 and the second main hole 120.

C 방향으로 유동된 세정액은 C1 방향, C2 방향으로 2갈래로 분기되어 제3유로(150)의 원주 방향으로 유동된 후, F1 방향 및 F2 방향 2갈래를 통해 F 방향으로 유동됨으로써, 제4연결유로(142)로 유입된다. 그 후, 세정액은 E방향으로 유동됨으로써, 제2연결유로(132)로 유입되고, 이렇게 제2연결유로(132)로 유입된 세정액은 제2상하유로(121) 및 제2메인홀(120)을 통해 기판 세정용 노즐(10) 외부로 유출된다.The cleaning liquid flowing in the C direction is branched into two branches in the C1 direction and the C2 direction, flows in the circumferential direction of the third flow path 150, and then flows in the F direction through the two branches in the F1 direction and the F2 direction, thereby providing a fourth connection. It flows into the flow path 142. Thereafter, the cleaning liquid flows in the E direction, thereby flowing into the second connection passage 132, and thus the cleaning liquid flowing into the second connection passage 132 is the second upper and lower passage 121 and the second main hole 120. Through the outflow to the substrate cleaning nozzle 10.

제2유로(140)의 내부에 존재하는 세정액 중 제2연결유로(132) 근방의 세정액은, 즉, 제2유로(140)의 우측 내부 영역에 존재하는 세정액은 제2유로(140) 상에서 E1 방향 및 E2 방향 2갈래를 통해 E 방향으로 유동됨으로써, 제2연결유로(132)로 유입된다. Among the cleaning liquids present in the second flow passage 140, the cleaning liquid near the second connection flow passage 132, that is, the cleaning liquid existing in the right inner region of the second flow passage 140, is E1 on the second flow passage 140. It flows in the E direction through the bifurcation direction and E2 direction, thereby entering the second connection flow path (132).

제2유로(140)의 내부에 존재하는 세정액 중 제2연결유로(132)와 멀리 떨어진 곳의 세정액, 즉, 제2유로(140)의 좌측 내부 영역에 존재하는 세정액은 제2유로(140)를 따라 B1 반대 방향 및 B2 반대 방향으로 유동된 후, 제3연결유로(141)로 유입된다. 제3연결유로(141)로 유입된 세정액은 C 방향으로 제3연결유로(141)를 따라 유동된 후, C1 방향, C2 방향으로 2갈래로 분기되어 유동된다.Among the cleaning liquids existing in the second flow passage 140, the cleaning liquid far away from the second connection passage 132, that is, the cleaning liquid existing in the left inner region of the second flow passage 140, is formed in the second flow passage 140. After flowing in the direction opposite to B1 and the direction B2 along, it flows into the third connection channel 141. The cleaning liquid introduced into the third connection channel 141 flows along the third connection channel 141 in the C direction, and then branches into two branches in the C1 direction and the C2 direction.

C1 방향 및 C2 방향을 통해 제3유로(150)로 유입된 세정액은 제3유로(150)의 원주 방향을 따라 유동된 후, F1 방향 및 F2 방향 2갈래를 통해 F 방향으로 유동됨으로써, 제4연결유로(142)로 유입된다. 그 후, 세정액은 E방향으로 유동됨으로써, 제2연결유로(132)로 유입되고, 이렇게 제2연결유로(132)로 유입된 세정액은 제2상하유로(121) 및 제2메인홀(120)을 통해 기판 세정용 노즐(10) 외부로 유출된다.The cleaning liquid introduced into the third flow path 150 through the C1 direction and the C2 direction flows along the circumferential direction of the third flow path 150, and then flows in the F direction through the bifurcation of the F1 direction and the F2 direction and thus, the fourth flow path. It flows into the connecting passage 142. Thereafter, the cleaning liquid flows in the E direction, thereby flowing into the second connection passage 132, and thus the cleaning liquid flowing into the second connection passage 132 is the second upper and lower passage 121 and the second main hole 120. Through the outflow to the substrate cleaning nozzle 10.

위와 같은 내부 유로의 구조 및 세정액의 유동으로 인해, 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10")은 다음과 같은 효과를 갖는다.Due to the structure of the internal flow path as described above and the flow of the cleaning liquid, the substrate cleaning nozzle 10 "according to the third preferred embodiment of the present invention has the following effects.

제1메인홀(110) 및 제1상하유로(111)를 통해 기판 세정용 노즐(10")의 내부로 공급된 세정액이 제1연결유로(131) 상에서 서로 다른 방향, 즉, A 방향(외측 방향) 및 B 방향(내측 방향)으로 유동되어 제1유로(130), 제2유로(140) 및 제3유로(150) 각각으로 유동됨에 따라 세정액의 유동압이 내측 방향으로 집중되지 않고, 고르게 확산됨으로써, 제2유로(140) 및 제3유로(150)의 변형을 최소화시킬 수 있다.The cleaning liquids supplied into the substrate cleaning nozzle 10 ″ through the first main hole 110 and the first upper and lower flow passages 111 are different from each other on the first connection passage 131, that is, in the A direction (outside). Direction) and B direction (inner direction) and flows into each of the first flow path 130, the second flow path 140, and the third flow path 150, so that the flow pressure of the cleaning liquid is not concentrated inwardly and evenly. By diffusion, deformation of the second channel 140 and the third channel 150 can be minimized.

이러한 제2유로(140) 및 제3유로(150)의 변형의 최소화는 도 18d에서 확인할 수 있다.Minimization of the deformation of the second channel 140 and the third channel 150 can be seen in FIG. 18D.

도 18d에 도시된 바와 같이, 기판 세정용 노즐(10")의 내부 유로들, 즉, 제1유로(130), 제2유로(140) 및 제3유로(150)의 변형은 균일하게 이루어지며, 이로 인해, 제2유로(140) 및 제3유로(150)에만 변형이 집중되지 않는 것을 확인할 수 있다.As shown in FIG. 18D, the internal flow paths of the substrate cleaning nozzle 10 ″, that is, the first flow path 130, the second flow path 140, and the third flow path 150 are uniformly deformed. Therefore, it can be confirmed that the deformation is not concentrated only in the second passage 140 and the third passage 150.

다시 말해, 제2유로(140) 또는 제3유로(150)에 가해지는 유동압이 낮아짐에 따라, 제2유로(140) 또는 제3유로(150)의 변형이 최소화되고, 나아가, 제2유로(140) 및 제3유로(150)의 파손 및 리크 등을 효과적으로 방지할 수 있는 것이다.In other words, as the flow pressure applied to the second passage 140 or the third passage 150 decreases, the deformation of the second passage 140 or the third passage 150 is minimized, and further, the second passage Damage and leakage of the 140 and the third passage 150 can be effectively prevented.

위와 같은 기판 세정용 노즐(10")의 내부 유로들에 가해지는 유동압의 고른 분포는 기판 세정용 노즐(10")의 높은 내압 특성에 기여하게 된다. The even distribution of the flow pressure applied to the internal flow paths of the substrate cleaning nozzle 10 ″ as described above contributes to the high pressure resistance characteristic of the substrate cleaning nozzle 10 ″.

높은 내압 특성은 높은 공급압으로 높은 토출압 성능을 발휘하거나, 제1 내지 제3토출홀(210, 220, 230)로 토출되는 세정액의 균일성을 보장하여, 사영역 없는 세정액의 토출을 달성할 수 있다. 또한, 높은 내압 특성으로 인해, 기판 세정용 노즐(10") 내부의 유로 파손을 방지할 뿐만 아니라, 제1, 2몸체(100, 200)의 결합 부위가 파손되는 것을 방지할 수 있다.The high pressure resistance characteristics can achieve high discharge pressure performance at a high supply pressure, or ensure uniformity of the cleaning liquid discharged to the first to third discharge holes 210, 220, and 230, thereby achieving discharge of the cleaning liquid without dead zones. Can be. In addition, due to the high withstand voltage characteristics, not only the passage passage inside the substrate cleaning nozzle 10 ″ can be prevented, but also the joining portions of the first and second bodies 100 and 200 can be prevented from being broken.

전술한 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10")은 제1유로(130), 제2유로(140) 및 제3유로(150)의 관계가 '제1유로(130)의 체적 : 제2유로(140)의 체적 + 제3유로(150)의 체적 = 1 : 1' 조건을 만족하게 형성되는 것이 바람직하다.In the substrate cleaning nozzle 10 ″ according to the third exemplary embodiment of the present invention, the relationship between the first passage 130, the second passage 140, and the third passage 150 is “first passage 130. ) Volume: the volume of the second channel 140 + the volume of the third channel 150 = 1: 1 'condition is preferably satisfied.

예컨데, 제1유로(130), 제2유로(140) 및 제3유로(150)의 관계는 '제1유로(130)의 체적 : 제2유로(140)의 체적 : 제3유로(150)의 체적 = 3 : 2 : 1' 관계를 만족할 수 있다.For example, the relationship between the first passage 130, the second passage 140, and the third passage 150 is 'volume of the first passage 130: volume of the second passage 140: third passage 150'. Volume = 3: 2: 1 'relationship can be satisfied.

이처럼, 제1유로(130)의 체적과 제2유로(140)의 체적 및 제3유로(150)의 체적의 합의 비가 1 : 1이 됨에 따라, 제1연결유로(131)에서 A 방향 및 B 방향으로 2갈래로 분기되어 유동하는 세정액의 유동량의 비율이 1 : 1 에 가깝게 될 수 있다. 따라서, 제1유로(130)와 제2, 3유로(140, 150)에 균일한 양의 세정액이 유동될 수 있으며, 이를 통해, 제1유로(130)의 복수개의 제1토출홀(210)을 통해 토출되는 세정액의 토출량과 제2, 3유로(140, 150)의 복수개의 제2, 3토출홀(220, 230)을 통해 토출되는 세정액의 토출량의 균일성이 보장될 수 있다. 이러한 토출량의 균일성은 기판 세정시 사영역이 발생하는 것을 방지할 수 있다.As such, when the ratio of the sum of the volume of the first channel 130, the volume of the second channel 140, and the volume of the third channel 150 becomes 1: 1, the direction A and B in the first connection channel 131 are obtained. The ratio of the flow amount of the washing liquid which flows bifurcated in two directions may be close to 1: 1. Therefore, a uniform amount of the cleaning liquid may flow in the first flow passage 130 and the second and third flow passages 140 and 150, and thus, the plurality of first discharge holes 210 of the first flow passage 130. The uniformity of the discharge amount of the cleaning liquid discharged through the cleaning liquid discharged through the plurality of second and third discharge holes 220 and 230 of the second and third flow paths 140 and 150 may be ensured. The uniformity of the discharge amount can prevent the dead zone from being generated during substrate cleaning.

전술한 제1유로(130) 및 제2유로(140)의 체적의 조건과 더불어 복수개의 제1토출홀(210)의 갯수와 복수개의 제2토출홀(220) 및 복수개의 제3토출홀(230)의 갯수의 합은 동일한 갯수로 형성되는 것이 바람직하다. 다시 말해, '복수개의 제1토출홀(210)의 갯수 : 복수개의 제2토출홀(220)의 갯수 + 복수개의 제3토출홀(230)의 갯수 = 1 : 1' 관계를 만족하는 것이 바람직하다.The number of the plurality of first discharge holes 210, the plurality of second discharge holes 220, and the plurality of third discharge holes, together with the volume conditions of the first flow path 130 and the second flow path 140 described above ( The sum of the number of 230) is preferably formed in the same number. In other words, it is preferable to satisfy the relationship 'Number of the plurality of first discharge holes 210: Number of the plurality of second discharge holes 220 + Number of the plurality of third discharge holes 230 = 1: 1'. Do.

이는, 제1토출홀(210)의 갯수와, 제2, 3토출홀(220, 230)의 갯수의 합이 동일해짐에 따라, 전술한 토출량의 균일성이 더욱 효과적으로 달성될 수 있기 때문이다.This is because, as the sum of the number of the first discharge holes 210 and the number of the second and third discharge holes 220 and 230 becomes equal, the uniformity of the above-described discharge amount can be more effectively achieved.

본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10")은 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10)에 비해, 복수개의 토출홀을 구비한 하나의 유로, 즉, 복수개의 제3토출홀(230)을 구비한 제3유로(150)가 추가되므로, 촘촘한 토출홀의 배치를 달성할 수 있으며, 이를 통해, 기판의 사영역이 발생되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.The substrate cleaning nozzle 10 ″ according to the third exemplary embodiment of the present invention has one flow path having a plurality of discharge holes, that is, a plurality of substrates, compared to the substrate cleaning nozzle 10 according to the first embodiment. Since the third flow path 150 having the third discharge hole 230 is added, it is possible to achieve a precise arrangement of the discharge holes, thereby preventing the dead area of the substrate from being generated.

전술한 설명에서는 제1 내지 제3유로(130, 140, 150), 제1 내지 제4연결유로(131, 132, 141, 142)가 제1몸체(100")의 하면에 형성되는 것을 기준으로 설명하였으나, 제1 내지 제3유로(130, 140, 150), 제1 내지 제4연결유로(131, 132, 141, 142)는 제1몸체(100")의 하면 및 제2몸체(200")의 상면 중 적어도 어느 하나에 형성될 수 있다.In the above description, the first to third flow paths 130, 140, and 150 and the first to fourth connection flow paths 131, 132, 141, and 142 are formed on the bottom surface of the first body 100 ″. Although described above, the first to third flow paths 130, 140, and 150 and the first to fourth connection flow paths 131, 132, 141, and 142 are formed on the lower surface of the first body 100 ″ and the second body 200 ″. It may be formed on at least one of the upper surface of the).

본 발명의 바람직한 제4실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10"')Substrate cleaning nozzle 10 "'according to the fourth embodiment of the present invention

이하, 도 14 및 도 15를 참조하여 본 발명의 바람직한 제4실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10"')에 대해 설명한다.Hereinafter, a substrate cleaning nozzle 10 ″ ′ according to a fourth exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 14 and 15.

도 14는 본 발명의 바람직한 제4실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 제1몸체의 하면을 도시한 저면도이고, 도 15는 본 발명의 바람직한 제4실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 제2몸체의 상면을 도시한 평면도이다.FIG. 14 is a bottom view illustrating a bottom surface of a first body of a substrate cleaning nozzle according to a fourth preferred embodiment of the present invention, and FIG. 15 is a second view of the substrate cleaning nozzle according to a fourth preferred embodiment of the present invention. It is a top view which shows the upper surface of a body.

도 14 및 도 15에 도시된 바와 같이, 본 발명의 바람직한 제4실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10"')은 제1몸체(100"')의 하면에 복수개의 홈(160)이 형성되고, 제2몸체(200"')의 상면에 복수개의 홈(160)에 대응되게 형성되어 복수개의 홈(160) 각각에 삽입되는 복수개의 돌기(260)가 형성되어 있다. 14 and 15, in the substrate cleaning nozzle 10 ″ ′ according to the fourth exemplary embodiment of the present invention, a plurality of grooves 160 are formed on the bottom surface of the first body 100 ″ ′. A plurality of protrusions 260 are formed on the upper surface of the second body 200 ′ ′ to correspond to the plurality of grooves 160 and inserted into the plurality of grooves 160, respectively.

다시 말해, 본 발명의 바람직한 제4실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10"')은 전술한 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10")의 제1몸체(100")의 하면에 복수개의 홈(160)이 추가적으로 형성되고, 제2몸체(200")의 상면에 복수개의 돌기(260)가 추가적으로 형성된 형상을 갖는 것이다.In other words, the substrate cleaning nozzle 10 "'according to the fourth preferred embodiment of the present invention is the first body 100" of the substrate cleaning nozzle 10 "according to the third preferred embodiment of the present invention described above. A plurality of grooves 160 are additionally formed on the bottom of the bottom surface, and a plurality of protrusions 260 are additionally formed on the top surface of the second body 200 ″.

도 14에 도시된 바와 같이, 복수개의 홈(160)은 제1몸체(100"')의 하면에 형성되며, 복수개의 돌기(260)가 삽입되는 공간을 제공하는 기능을 한다.As shown in FIG. 14, the plurality of grooves 160 are formed on the lower surface of the first body 100 ″ ′ and serve to provide a space into which the plurality of protrusions 260 are inserted.

복수개의 홈(160)은 제1유로(130) 외측에 형성되는 제1홈(161)과, 제1유로(130)와 제2유로(140) 사이에 위치하는 제2, 3홈(162, 163)과, 제2유로(140)와 제3유로(150) 사이에 위치하는 제4, 5홈(164, 165)과, 제3유로(150)의 내측에 형성되는 제6홈(166)을 포함하여 구성될 수 있다.The plurality of grooves 160 may include a first groove 161 formed outside the first channel 130, and second and third grooves 162 positioned between the first channel 130 and the second channel 140. 163, the fourth and fifth grooves 164 and 165 positioned between the second passage 140 and the third passage 150, and the sixth groove 166 formed inside the third passage 150. It may be configured to include.

제1홈(161)은 제1유로(130)보다 더 큰 지름을 갖는 원형 형상을 갖으며, 제1유로(130)를 둘러싸도록 형성된다. The first groove 161 has a circular shape having a larger diameter than the first passage 130 and is formed to surround the first passage 130.

제1홈(161)은 그 중심점이 제1 내지 제3유로(130, 140, 150)의 중심점과 동일하게 형성될 수 있다. 다시 말해, 제1홈(161), 제1 내지 제3유로(130, 140, 150)는 동일한 중심점을 갖는 동심원일 수 있다.The center point of the first groove 161 may be formed to be the same as the center point of the first to third flow paths 130, 140, and 150. In other words, the first grooves 161 and the first to third flow paths 130, 140, and 150 may be concentric circles having the same center point.

제1홈(161)의 내부에는 후술할 제1돌기(261)의 제1융착산(261a)이 삽입되는 제1융착산홈(161a)이 형성될 수 있다.A first fusion groove 161a into which the first fusion mountain 261a of the first protrusion 261 to be described later is inserted may be formed in the first groove 161.

제1융착산홈(161a)은 제1홈(161)의 중앙에 형성되는 것이 바람직하다.The first fusion groove 161a is preferably formed at the center of the first groove 161.

제2홈(162)은 제1, 2유로(130, 140) 사이에서 제1, 2연결유로(131, 132)의 전방 방향에 위치하도록 형성될 수 있다. 다시 말해, 제2홈(162)은 제2유로(140)의 전방 영역, 즉, 일부 영역을 둘러싸도록 형성된다.The second groove 162 may be formed to be positioned in the front direction of the first and second connection passages 131 and 132 between the first and second passages 130 and 140. In other words, the second groove 162 is formed to surround the front region, that is, a partial region of the second passage 140.

제3홈(163)은 제1, 2유로(130, 140) 사이에서 제1, 2연결유로(131, 132)의 후방 방향에 위치하도록 형성될 수 있다. 다시 말해, 제3홈(163)은 제2유로(140)의 후방 영역, 즉, 나머지 영역을 둘러싸도록 형성된다.The third groove 163 may be formed to be located in the rear direction of the first and second connection passages 131 and 132 between the first and second passages 130 and 140. In other words, the third groove 163 is formed to surround the rear region, that is, the remaining region of the second passage 140.

제4홈(164)은 제2, 3유로(140, 150) 사이에서 제3, 4연결유로(141, 142)의 전방 방향에 위치하도록 형성될 수 있다. 다시 말해, 제4홈(164)은 제3유로(150)의 전방 영역, 즉, 일부 영역을 둘러싸도록 형성된다.The fourth groove 164 may be formed to be located in the front direction of the third and fourth connection passages 141 and 142 between the second and third passages 140 and 150. In other words, the fourth groove 164 is formed to surround the front region, that is, a partial region of the third passage 150.

제5홈(165)은 제2, 3유로(140, 150) 사이에서 제3, 4연결유로(141, 142)의 후방 방향에 위치하도록 형성될 수 있다. 다시 말해, 제4홈(164)은 제3유로(150)의 후방 영역, 즉, 일부 영역을 둘러싸도록 형성된다.The fifth groove 165 may be formed to be positioned in the rear direction of the third and fourth connection passages 141 and 142 between the second and third passages 140 and 150. In other words, the fourth groove 164 is formed to surround the rear region, that is, the partial region of the third passage 150.

제6홈(166)은 제3유로(150)보다 더 작은 지름을 갖는 원형 형상을 갖으며, 제3유로(150)에 의해 둘러싸이도록 형성된다. The sixth groove 166 has a circular shape having a diameter smaller than that of the third flow path 150 and is formed to be surrounded by the third flow path 150.

제6홈(166)은 그 중심점이 제1 내지 제3유로(130, 140, 150)의 중심점과 동일하게 형성될 수 있다. 다시 말해, 제4홈(164), 제1 내지 제3유로(130, 140, 150)는 동일한 중심점을 갖는 동심원일 수 있다. The center point of the sixth groove 166 may be formed to be the same as the center point of the first to third flow paths 130, 140, and 150. In other words, the fourth groove 164 and the first to third flow paths 130, 140, and 150 may be concentric circles having the same center point.

제6홈(166)의 내부에는 후술할 제6돌기(266)의 제2융착산(266a)이 삽입되는 제2융착산홈(166a)이 형성될 수 있다.A second fusion groove 166a into which the second fusion acid 266a of the sixth protrusion 266 is inserted may be formed in the sixth groove 166.

제2융착산홈(166a)은 제6홈(166)의 중앙에 형성되는 것이 바람직하다.The second fusion groove 166a is preferably formed at the center of the sixth groove 166.

도 15에 도시된 바와 같이, 복수개의 돌기(260)는 제2몸체(200)의 상면에 형성되며, 제1, 2몸체(100"', 200"')가 결합시 복수개의 홈(160) 각각에 삽입되는 기능을 한다.As shown in FIG. 15, the plurality of protrusions 260 are formed on the upper surface of the second body 200, and the plurality of grooves 160 when the first and second bodies 100 ″ ′ and 200 ″ ′ are combined. It is inserted into each.

복수개의 돌기(260)는 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상의 외측에 형성되는 제1돌기(261)와, 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상과 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상 사이에 위치하는 제2, 3돌기(262, 263)와, 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상과 복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상 사이에 위치하는 제4, 5돌기(264, 265)와, 복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상의 내측에 형성되는 제6돌기(266)를 포함하여 구성될 수 있다.The plurality of protrusions 260 may include first and second protrusions 261 formed on the outer side of the circular shape formed by the plurality of first discharge holes 210 and circular shapes and the plurality of first discharge holes 210. The second and third protrusions 262 and 263 positioned between the circular shapes formed by the two second discharge holes 220, and the circular shapes and the plurality of third discharge holes formed by the plurality of second discharge holes 220. Fourth and fifth projections 264 and 265 positioned between the circular shapes formed by the 230 and the sixth projections 266 formed inside the circular shapes formed by the plurality of third discharge holes 230 are formed. It can be configured to include.

제1돌기(261)는 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상보다 더 큰 지름을 갖는 원형 형상을 갖으며, 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상을 둘러싸도록 형성된다. 이러한 제1돌기(261)는 제1, 2몸체(100, 200)가 결합될 때, 제1홈(161)에 삽입되도록 제1홈(161)에 대응되는 위치에 형성된다.The first protrusion 261 has a circular shape having a larger diameter than the circular shape formed by the plurality of first discharge holes 210 and surrounds the circular shape formed by the plurality of first discharge holes 210. Is formed. The first protrusion 261 is formed at a position corresponding to the first groove 161 to be inserted into the first groove 161 when the first and second bodies 100 and 200 are coupled.

제1돌기(261)의 상면에는 제1융착산(261a)이 형성되며, 제1융착산(261a)은 제1돌기(261)보다 더 작은 폭을 갖으며, 상부로 돌출되게 형성된다. 이러한 제1융착산(261a)은 제1홈(161)의 제1융착산홈(161a)에 삽입된다.A first fusion acid 261a is formed on an upper surface of the first protrusion 261, and the first fusion acid 261a has a smaller width than the first projection 261 and protrudes upward. The first fusion acid 261a is inserted into the first fusion groove 161a of the first groove 161.

제1돌기(261)는 그 중심점이 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상, 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상 및 복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상의 중심점과 동일하게 형성될 수 있다. 다시 말해, 제1돌기(261), 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상, 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상 및 복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상은 동일한 중심점을 갖는 동심원일 수 있다. The first protrusion 261 has a circular shape formed at a plurality of first discharge holes 210, a circular shape formed at a plurality of second discharge holes 220, and a plurality of third discharge holes 230. It may be formed to be the same as the center point of the circular shape to be formed. In other words, the first protrusion 261, the circular shape formed by the plurality of first discharge holes 210, the circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220 and the plurality of third discharge holes 230 are The circular shape to be formed may be concentric circles having the same center point.

제2돌기(262)는 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상 및 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상 사이에서 전방 방향에 위치하도록 형성될 수 있다. 다시 말해, 제2돌기(262)는 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상의 전방 영역, 즉, 일부 영역을 둘러싸도록 형성된다. The second protrusion 262 may be formed to be located in a forward direction between a circular shape formed by the plurality of first discharge holes 210 and a circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220. In other words, the second protrusion 262 is formed to surround a circular front region, that is, a partial region, formed by the plurality of second discharge holes 220.

이러한 제2돌기(262)는 제1, 2몸체(100"', 200"')가 결합될 때, 제2홈(162)에 삽입되도록 제2홈(162)에 대응되는 위치에 형성된다.The second protrusion 262 is formed at a position corresponding to the second groove 162 to be inserted into the second groove 162 when the first and second bodies 100 "'and 200"' are coupled.

제3돌기(263)는 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상 및 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상 사이에서 후방 방향에 위치하도록 형성될 수 있다. 다시 말해, 제3돌기(263)는 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상의 후방 영역, 즉, 나머지 영역을 둘러싸도록 형성된다. The third protrusion 263 may be formed to be located in the rear direction between the circular shape formed by the plurality of first discharge holes 210 and the circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220. In other words, the third protrusion 263 is formed to surround a circular rear region formed by the plurality of second discharge holes 220, that is, the remaining region.

이러한 제3돌기(263)는 제1, 2몸체(100"', 200"')가 결합될 때, 제3홈(163)에 삽입되도록 제3홈(163)에 대응되는 위치에 형성된다.The third protrusion 263 is formed at a position corresponding to the third groove 163 to be inserted into the third groove 163 when the first and second bodies 100 "'and 200"' are coupled.

제4돌기(264)는 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상 및 복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상 사이에서 전방 방향에 위치하도록 형성될 수 있다. 다시 말해, 제4돌기(264)는 복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상의 전방 영역, 즉, 일부 영역을 둘러싸도록 형성된다. The fourth protrusion 264 may be formed in a forward direction between a circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220 and a circular shape formed by the plurality of third discharge holes 230. In other words, the fourth protrusion 264 is formed to surround a circular front region, that is, a partial region formed by the plurality of third discharge holes 230.

이러한 제4돌기(264)는 제1, 2몸체(100"', 200"')가 결합될 때, 제4홈(164)에 삽입되도록 제4홈(164)에 대응되는 위치에 형성된다.The fourth protrusion 264 is formed at a position corresponding to the fourth groove 164 to be inserted into the fourth groove 164 when the first and second bodies 100 "'and 200"' are coupled.

제5돌기(265)는 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상 및 복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상 사이에서 후방 방향에 위치하도록 형성될 수 있다. 다시 말해, 제5돌기(265)는 복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상의 후방 영역, 즉, 나머지 영역을 둘러싸도록 형성된다. The fifth protrusion 265 may be formed in a rear direction between a circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220 and a circular shape formed by the plurality of third discharge holes 230. In other words, the fifth protrusion 265 is formed to surround a circular rear region formed by the plurality of third discharge holes 230, that is, the remaining region.

이러한 제5돌기(265)는 제1, 2몸체(100"', 200"')가 결합될 때, 제5홈(165)에 삽입되도록 제5홈(165)에 대응되는 위치에 형성된다.The fifth protrusion 265 is formed at a position corresponding to the fifth groove 165 to be inserted into the fifth groove 165 when the first and second bodies 100 "'and 200"' are coupled.

제6돌기(266)는 복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상보다 작은 지름을 갖는 원형 형상을 갖으며, 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상에 둘러싸이도록 형성된다. 이러한 제6돌기(266)는 제1, 2몸체(100"', 200"')가 결합될 때, 제6홈(166)에 삽입되도록 제6홈(166)에 대응되는 위치에 형성된다.The sixth protrusion 266 has a circular shape having a diameter smaller than the circular shape formed by the plurality of third discharge holes 230 and is formed to be surrounded by the circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220. do. The sixth protrusion 266 is formed at a position corresponding to the sixth groove 166 to be inserted into the sixth groove 166 when the first and second bodies 100 "'and 200"' are coupled.

제6돌기(266)의 상면에는 제2융착산(266a)이 형성되며, 제2융착산(266a)은 제6돌기(266)보다 더 작은 폭을 갖으며, 상부로 돌출되게 형성된다. 이러한 제2융착산(266a)은 제6홈(166)의 제2융착산홈(166a)에 삽입된다.A second fusion acid 266a is formed on the top surface of the sixth protrusion 266, and the second fusion acid 266a has a smaller width than the sixth protrusion 266 and protrudes upward. The second fusion acid 266a is inserted into the second fusion groove 166a of the sixth groove 166.

제6돌기(266)는 그 중심점이 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상, 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상 및 복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상의 중심점과 동일하게 형성될 수 있다. 다시 말해, 제6돌기(266), 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상, 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상 및 복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상은 동일한 중심점을 갖는 동심원일 수 있다. The sixth protrusion 266 has a circular shape formed at a plurality of first discharge holes 210, a circular shape formed at a plurality of second discharge holes 220, and a plurality of third discharge holes 230. It may be formed to be the same as the center point of the circular shape to be formed. In other words, the sixth protrusion 266, the circular shape formed by the plurality of first discharge holes 210, the circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220, and the plurality of third discharge holes 230 may be formed. The circular shape to be formed may be concentric circles having the same center point.

전술한 구성을 갖는 본 발명의 바람직한 제4실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10"')은 제1몸체(100"') 및 제2몸체(200"')가 수지 재질로 이루어질 경우, 제1, 2몸체(100, 200)의 결합이 초음파 융착에 의해 이루어질 수 있으며, 이에 대한 상세한 설명은 전술하였으므로 생략한다.The substrate cleaning nozzle 10 ″ ′ according to the fourth embodiment of the present invention having the above-described configuration may be formed when the first body 100 ″ ′ and the second body 200 ″ ′ are made of a resin material. 1, 2 body (100, 200) of the coupling may be made by ultrasonic fusion, detailed description thereof will be omitted because it was described above.

제1몸체(100"')와 제2몸체(200"')가 초음파 융착에 의해 결합되면, 제1돌기(261)의 제1융착산(261a) 및 제6돌기(266)의 제2융착산(266a) 각각이 제1홈(161)의 제1융착산홈(161a) 및 제6홈(166)의 제2융착산홈(166a) 내부에서 용융되며, 이를 통해, 제1, 2몸체(100"', 200"')가 결합될 수 있다. 다시 말해, 제1, 2융착산홈(161a, 166a) 각각에 삽입된 제1, 2융착산(261a, 266a)의 삽입면은 결합면 또는 접합면이 되는 것이다.When the first body 100 "'and the second body 200"' are joined by ultrasonic fusion, the second fusion of the first fusion mountain 261a and the sixth protrusion 266 of the first protrusion 261 is performed. Each of the mountains 266a is melted in the first fusion groove 161a of the first groove 161 and the second fusion groove 166a of the sixth groove 166, and thereby, the first and second bodies 100. "', 200"') may be combined. In other words, the insertion surface of the first and second fusion acids 261a and 266a inserted into each of the first and second fusion grooves 161a and 166a may be a bonding surface or a bonding surface.

전술한 제1홈(161) 및 제1돌기(261), 제6홈(166) 및 제6돌기(266)는 제1, 2융착산(261a, 266a)이 각각 제1, 2융착산홈(161a, 166a)에 삽입되어 초음파 융착됨으로써, 제1, 2몸체(100"', 200"')를 결합시키는 기능을 한다.In the above-described first groove 161, the first protrusion 261, the sixth groove 166, and the sixth protrusion 266, the first and second fusion acids 261a and 266a are respectively the first and second fusion grooves ( It is inserted into the 161a, 166a and ultrasonically fused, thereby functioning to join the first and second bodies 100 "', 200"'.

제2 내지 제4홈(162, 163, 164) 및 제2 내지 제4돌기(262, 263, 264)는 제2 내지 제4돌기(262, 263, 264)가 각각 제2 내지 제4홈(162, 163, 164)에 삽입됨으로써, 제1몸체(100"')와 제2몸체(200"')의 위치를 정렬해주는 기능을 한다.The second to fourth grooves 162, 163, and 164 and the second to fourth protrusions 262, 263, and 264 have the second to fourth grooves 262, 263, and 264, respectively. 162, 163, and 164, the first body 100 ″ ′ and the second body 200 ″ ′ are aligned.

위와 같이, 본 발명의 바람직한 제4실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10"')의 제1, 2몸체(100"', 200"')가 초음파 융착에 의해 서로 결합되면, 제1 내지 제3유로(130, 140, 150), 제1 내지 제4연결유로(131, 132, 141, 142)는 복수개의 홈(160) 및 복수개의 돌기(260)가 결합된 부분 사이에 위치하게 된다.As described above, when the first and second bodies 100 "'and 200"' of the substrate cleaning nozzle 10 "'according to the fourth embodiment of the present invention are coupled to each other by ultrasonic welding, the first to the second The three flow paths 130, 140, and 150 and the first to fourth connection flow paths 131, 132, 141, and 142 are positioned between the plurality of grooves 160 and the plurality of protrusions 260.

상세하게 설명하면, 제1유로(130)는 제1홈(161) 및 제2돌기(262)가 결합된 부분과, 제2홈(162) 및 제2돌기(262)가 결합된 부분과, 제3홈(163) 및 제3돌기(263)가 결합된 부분 사이에 위치한다. In detail, the first passage 130 may include a portion in which the first groove 161 and the second protrusion 262 are coupled, a portion in which the second groove 162 and the second protrusion 262 are coupled to each other, The third groove 163 and the third protrusion 263 is located between the combined portion.

제2유로(140)는 제2홈(162), 제2돌기(262)가 결합된 부분과 제4홈(164), 제4돌기(264)가 결합된 부분 사이 및 제3홈(163), 제3돌기(263)가 결합된 부분과 제5홈(165), 제5돌기(265)가 결합된 부분 사이에 위치한다.The second flow path 140 is between the second groove 162, the portion where the second protrusion 262 is coupled and the fourth groove 164, the portion where the fourth protrusion 264 is coupled, and the third groove 163. The third protrusion 263 is coupled between the portion where the fifth groove 165 and the fifth protrusion 265 are coupled.

제3유로(150)는 제4홈(164), 제4돌기(264)가 결합된 부분 및 제5홈(165), 제5돌기(265)가 결합된 부분과 제6홈(166), 제6돌기(266)가 결합된 부분 사이에 위치한다.The third flow path 150 includes a fourth groove 164, a portion where the fourth protrusion 264 is coupled, and a fifth groove 165, a portion where the fifth protrusion 265 is coupled with the sixth groove 166, The sixth protrusion 266 is positioned between the coupled portions.

제1, 2연결유로(131, 132)는 제2홈(162) 및 제2돌기(262)가 결합된 부분과, 제3홈(163) 및 제3돌기(263)가 결합된 부분 사이에 위치한다.The first and second connection passages 131 and 132 are provided between a portion in which the second groove 162 and the second protrusion 262 are coupled, and a portion in which the third groove 163 and the third protrusion 263 are coupled to each other. Located.

제3, 4연결유로(141, 142)는 제4홈(164) 및 제4돌기(264)가 결합된 부분과, 제5홈(165) 및 제5돌기(265)가 결합된 부분 사이에 위치한다.The third and fourth connection passages 141 and 142 are provided between a portion in which the fourth groove 164 and the fourth protrusion 264 are coupled, and a portion in which the fifth groove 165 and the fifth protrusion 265 are coupled to each other. Located.

전술한 본 발명의 바람직한 제4실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10"')은 전술한 본 발명의 바람직한 제2실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10')과 동일한 효과를 갖는다.The substrate cleaning nozzle 10 ′ ′ according to the fourth preferred embodiment of the present invention described above has the same effect as the substrate cleaning nozzle 10 ′ according to the second preferred embodiment of the present invention described above.

제1 내지 제3유로(130, 140, 150), 제1 내지 제4연결유로(131, 132, 141, 142)는 복수개의 홈(160) 및 복수개의 돌기(260) 사이에 위치하게 되므로, 복수개의 홈(160) 및 복수개의 돌기(260)가 초음파 융착에 의해 결합될 때, 상기 내부 유로들은 결합 부위의 내측에 위치하게 된다. 따라서, 세정액이 상기 내부 유로들에서 새어나가는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.Since the first to third flow paths 130, 140, and 150 and the first to fourth connection flow paths 131, 132, 141, and 142 are positioned between the plurality of grooves 160 and the plurality of protrusions 260, When the plurality of grooves 160 and the plurality of protrusions 260 are coupled by ultrasonic welding, the inner flow paths are positioned inside the coupling portion. Therefore, it is possible to effectively prevent the cleaning liquid from leaking out of the inner flow paths.

또한, 상기 내부 유로들의 최외측인 제1돌기(261)에 제1융착산(261a)이 형성되고, 최내측인 제6돌기(266)에 제2융착산(266a)이 형성됨으로써, 상기 내부 유로들을 최외측과 최내측에서 가두는 효과를 달성할 수 있으며, 이를 통해, 상기 내부 유로들에서 세정액이 새어나가는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.In addition, a first fusion acid 261a is formed in the first protrusion 261 that is the outermost side of the inner flow paths, and a second fusion acid 266a is formed in the sixth protrusion 266 that is the innermost side. The effect of confining the flow paths at the outermost and innermost sides can be achieved, thereby effectively preventing the cleaning liquid from leaking from the inner flow paths.

전술한 설명에서는 제1몸체(100"')의 하면에 복수개의 홈(160)이 형성되고, 제2몸체(200"')의 상면에 복수개의 돌기(260)가 형성되는 것을 기준으로 설명하였으나, 복수개의 홈(160)은 제1몸체(100"')의 하면 및 제2몸체(200"')의 상면 중 어느 하나에 형성되고, 복수개의 돌기(260)는 제1몸체(100"')의 하면 및 제2몸체(200"')의 상면 중 나머지 하나에 형성될 수 있다.In the above description, a plurality of grooves 160 are formed on the lower surface of the first body 100 "'and a plurality of protrusions 260 are formed on the upper surface of the second body 200"'. The plurality of grooves 160 are formed on any one of a lower surface of the first body 100 "'and an upper surface of the second body 200"', and the plurality of protrusions 260 are formed on the first body 100 "'. ) May be formed on the other one of the lower surface and the upper surface of the second body 200 "'.

전술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시 예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 통상의 기술자는 하기의 특허 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 또는 변형하여 실시할 수 있다.As described above, although described with reference to preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art various modifications of the present invention without departing from the spirit and scope of the present invention described in the claims below. Or it may be modified.

10, 10', 10", 10"': 기판 세정용 노즐
100, 100', 100", 100"': 제1몸체
101: 중공 110: 제1메인홀
111: 제1상하유로 120: 제2메인홀
121: 제2상하유로 130: 제1유로
131: 제1연결유로 132: 제2연결유로
140: 제2유로 141: 제3연결유로
142: 제4연결유로 150: 제3유로
160: 홈 161: 제1홈
161a: 제1융착산홈 162: 제2홈
163: 제3홈 164: 제4홈
164a, 166a: 제2융착산홈 165: 제5홈
166: 제6홈
200, 200', 200", 200"': 제2몸체
210: 제1토출홀 210a: 제1토출홀 상부영역
210b: 제1토출홀 하부영역 210c: 제1토출홀 중앙영역
220: 제2토출홀 220a: 제2토출홀 상부영역
220b: 제2토출홀 하부영역 220c: 제2토출홀 중앙영역
230: 제3토출홀
260: 돌기 261: 제1돌기
261a: 제1융착산 262: 제2돌기
263: 제3돌기 264: 제4돌기
264a, 266a: 제2융착산 265: 제5돌기
266: 제6돌기
10, 10 ', 10 ", 10"': nozzle for cleaning substrate
100, 100 ', 100 ", 100"': first body
101: hollow 110: first main hole
111: first and second euros 120: second main hall
121: second and second euros 130: first euro
131: first connection channel 132: second connection channel
140: second euro 141: third connection euro
142: fourth connection euro 150: third euro
160: home 161: first home
161a: first fusion groove 162: second groove
163: third groove 164: fourth groove
164a, 166a: second fusion groove 165: fifth groove
166: sixth groove
200, 200 ', 200 ", 200"': second body
210: first discharge hole 210a: first discharge hole upper region
210b: lower area of the first discharge hole 210c: center area of the first discharge hole
220: second discharge hole 220a: second discharge hole upper region
220b: lower area of the second discharge hole 220c: center area of the second discharge hole
230: third discharge hole
260: protrusion 261: first protrusion
261a: first molten acid 262: second projection
263: third projection 264: fourth projection
264a and 266a: second melted acid 265: fifth protrusion
266: sixth projection

Claims (11)

제1토출홀이 구비된 제1유로;
제2토출홀이 구비되며, 상기 제1유로의 내측에 위치하는 제2유로;
상기 제1유로와 상기 제2유로를 연결시키는 제1연결유로; 및
세정액이 유입되거나 유출되는 제1메인홀과 연결되며, 상기 제1연결유로 상에 구비되는 제1상하유로;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정용 노즐.
A first flow passage provided with a first discharge hole;
A second flow passage provided with a second discharge hole and positioned inside the first flow passage;
A first connection channel connecting the first channel and the second channel; And
And a first up and down flow path connected to a first main hole through which a cleaning liquid flows in or out, and provided on the first connection flow path.
제1항에 있어서,
상기 제1유로 및 상기 제2유로는 동일한 중심점을 갖는 원형 형상인 것을 특징으로 하는 기판 세정용 노즐.
The method of claim 1,
And the first flow path and the second flow path have a circular shape having the same center point.
제1항에 있어서,
'상기 제1유로의 체적 : 상기 제2유로의 체적 = 1 : 1' 조건을 만족하는 것을 특징으로 하는 기판 세정용 노즐.
The method of claim 1,
A nozzle for cleaning a substrate, which satisfies the condition 'volume of the first flow passage: volume of the second flow passage = 1: 1'.
제1항에 있어서,
상기 제1유로와 상기 제2유로를 연결시키며, 상기 제1유로의 중심점을 기준으로 상기 제1연결유로와 대칭되게 위치하는 제2연결유로; 및
세정액이 유입되거나 유출되는 제2메인홀과 연결되며, 상기 제2연결유로 상에 구비되는 제2상하유로;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정용 노즐.
The method of claim 1,
A second connection channel connecting the first channel and the second channel and positioned symmetrically with the first connection channel based on a center point of the first channel; And
And a second vertical flow passage connected to a second main hole through which a cleaning liquid flows in or out, and provided on the second connection flow passage.
제1항에 있어서,
복수개의 제3토출홀이 구비되며, 상기 제2유로의 내측에 위치하는 제3유로; 및
상기 제2유로와 상기 제3유로를 연결시키며, 상기 제1연결유로와 일직선 상에 위치하는 제3연결유로;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정용 노즐.
The method of claim 1,
A third flow passage having a plurality of third discharge holes and positioned inside the second flow passage; And
And a third connection channel connecting the second channel and the third channel to be in line with the first channel.
제5항에 있어서,
'상기 제1유로의 체적 : 상기 제2유로의 체적 + 상기 제3유로의 체적 = 1 : 1' 조건을 만족하는 것을 특징으로 하는 기판 세정용 노즐.
The method of claim 5,
A nozzle for cleaning a substrate, which satisfies the condition 'volume of the first flow path: volume of the second flow path + volume of the third flow path = 1: 1'.
제5항에 있어서,
상기 제1유로와 상기 제2유로를 연결시키며, 상기 제1유로의 중심점을 기준으로 상기 제1연결유로와 대칭되게 위치하는 제2연결유로; 및
세정액이 유입되거나 유출되는 제2메인홀과 연결되며, 상기 제2연결유로 상에 구비되는 제2상하유로; 및
상기 제2유로와 상기 제3유로를 연결시키며, 상기 제2유로의 중심점을 기준으로 상기 제3연결유로와 대칭되게 위치하고, 상기 제2연결유로와 일직선 상에 위치하는 제4연결유로;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정용 노즐.
The method of claim 5,
A second connection channel connecting the first channel and the second channel and positioned symmetrically with the first connection channel based on a center point of the first channel; And
A second vertical flow passage connected to a second main hole through which a cleaning liquid flows in or out, and provided on the second connection flow passage; And
A fourth connection channel connecting the second channel and the third channel, positioned symmetrically with the third connection channel with respect to the center point of the second channel, and located in a line with the second connection channel; Substrate cleaning nozzle comprising a.
제7항에 있어서,
상기 제1유로, 상기 제2유로 및 상기 제3유로는 동일한 중심점을 갖는 원형 형상이며,
상기 제1 내지 제4연결유로는 상기 중심점을 지나는 일직선 상에 위치하는 것을 특징으로 하는 기판 세정용 노즐.
The method of claim 7, wherein
The first passage, the second passage and the third passage have a circular shape having the same center point,
And the first to fourth connection flow paths are located on a straight line passing through the center point.
제1항에 있어서,
제1몸체;
상기 제1몸체의 하면과 그 상면이 맞닿도록 상기 제1몸체의 하부에 결합되는 제2몸체;
상기 제1몸체의 하면 또는 상기 제2몸체의 상면 중 어느 하나에 형성되는 복수개의 홈; 및
상기 제1몸체의 하면 또는 상기 제2몸체의 상면 중 나머지 하나에 형성되며, 상기 복수개의 홈에 대응되게 형성되어 상기 복수개의 홈 각각에 삽입되는 복수개의 돌기;를 더 포함하고,
상기 제1유로, 상기 제2유로 및 상기 제1연결유로는 상기 제1몸체의 하면 및 상기 제2몸체의 상면 중 적어도 어느 하나에 구비되되, 상기 제1유로, 상기 제2유로 및 상기 제1연결유로는 상기 복수개의 홈 및 상기 복수개의 돌기가 결합된 부분 사이에 위치하는 것을 특징으로 하는 기판 세정용 노즐.
The method of claim 1,
First body;
A second body coupled to a lower portion of the first body such that a lower surface of the first body and an upper surface thereof contact each other;
A plurality of grooves formed on any one of a lower surface of the first body and an upper surface of the second body; And
A plurality of protrusions formed on the other surface of the lower surface of the first body or the upper surface of the second body and formed to correspond to the plurality of grooves and inserted into each of the plurality of grooves;
The first flow path, the second flow path and the first connection flow path are provided on at least one of the lower surface of the first body and the upper surface of the second body, the first flow path, the second flow path and the first flow path The connection passage is a substrate cleaning nozzle, characterized in that located between the plurality of grooves and the portion where the plurality of projections are coupled.
제1토출홀이 구비된 제1유로;
제2토출홀이 구비되며, 상기 제1유로의 내측에 위치하는 제2유로;
상기 제1유로와 상기 제2유로를 연결시키는 제1연결유로; 및
세정액이 유입되는 제1메인홀과 연결되는 제1상하유로;를 포함하되,
상기 제1메인홀을 통해 제1연결유로로 유입되는 세정액은 상기 제1, 2유로 각각으로 분기되어 유동되되, 상기 제1, 2유로 각각으로 분기되어 유동되는 세정액의 방향은 상기 제1상하유로와 상기 제1연결유로의 연결부를 기준으로 서로 반대 방향인 것을 특징으로 하는 기판 세정용 노즐.
A first flow passage provided with a first discharge hole;
A second flow passage provided with a second discharge hole and positioned inside the first flow passage;
A first connection channel connecting the first channel and the second channel; And
It includes; First up and down flow passage connected to the first main hole in which the cleaning liquid is introduced;
The cleaning liquid flowing into the first connection channel through the first main hole flows by branching into the first and second flow paths, respectively, and the direction of the cleaning liquid branching and flowing into the first and second flow paths is the first vertical flow path. And nozzles in opposite directions with respect to the connection part of the first connection channel.
제1토출홀이 구비된 제1유로;
제2토출홀이 구비되며, 상기 제1유로의 내측에 위치하는 제2유로;
상기 제1유로와 상기 제2유로를 연결시키며, 상기 제1유로의 중심점을 기준으로 서로 대칭되게 위치하는 제1, 2연결유로;
세정액이 유입되는 제1메인홀과 연결되는 제1상하유로; 및
세정액이 유출되는 제2메인홀과 연결되는 제2상하유로;를 포함하되,
상기 제1메인홀을 통해 제1연결유로로 유입되는 세정액은 상기 제1, 2유로 각각으로 분기되어 유동되되, 상기 제1, 2유로 각각으로 분기되어 유동되는 세정액의 방향은 상기 제1상하유로와 상기 제1연결유로의 연결부를 기준으로 서로 반대 방향이고,
상기 제2연결유로를 통해 상기 제2메인홀로 유출되는 세정액은 상기 제1, 2유로 각각으로부터 상기 제2연결유로로 유동되되, 상기 제1, 2유로 각각으로부터 유동되는 세정액의 방향은 상기 제2상하유로와 상기 제2연결유로의 연결부를 기준으로 서로 반대 방향인 것을 특징으로 하는 기판 세정용 노즐.
A first flow passage provided with a first discharge hole;
A second flow passage provided with a second discharge hole and positioned inside the first flow passage;
First and second connection passages connecting the first channel and the second channel and symmetrically positioned with respect to the center point of the first channel;
A first vertical flow passage connected to the first main hole into which the cleaning liquid flows; And
And a second vertical flow passage connected to the second main hole through which the cleaning liquid flows out.
The cleaning liquid flowing into the first connection channel through the first main hole flows by branching into the first and second flow paths, respectively, and the direction of the cleaning liquid branching and flowing into the first and second flow paths is the first vertical flow path. Opposite to each other based on the connection part of the first connection channel,
The cleaning liquid flowing out to the second main hole through the second connection channel flows from the first and second channels to the second connection channel, and the direction of the cleaning liquid flowing from each of the first and second channels is the second. The nozzle for cleaning the substrate, characterized in that the opposite direction with respect to the connecting portion of the up and down flow path and the second connection flow path.
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