KR20200022091A - Nozzle for cleaning substrate - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 기판에 세정액을 토출하는 기판 세정용 노즐에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate cleaning nozzle for discharging a cleaning liquid to a substrate.
반도체 칩, LED 칩 등의 제조를 위해 사용되는 기판은 포토리소그라피, 식각, 박막 증착 등의 다양한 공정들이 수행된다.Substrates used for the manufacture of semiconductor chips, LED chips and the like are subjected to various processes such as photolithography, etching and thin film deposition.
위와 같이, 기판에 다양한 공정들이 수행되는 과정에서 파티클 등의 이물질이 발생되며, 이러한 이물질을 제거하기 위해, 각각의 공정들이 진행되기 전 또는 진행된 후 단계에서 기판을 세정하는 세정 공정이 수행된다.As described above, foreign matters such as particles are generated in the process of performing various processes on the substrate, and in order to remove such foreign matters, a cleaning process for cleaning the substrate is performed before or after each process.
세정 공정으로는 기판 상에 잔류하는 이물질을 제거하기 위해 케미컬을 분사하거나, 가스가 혼합된 처리액을 분사하거나, 세정액을 분사하게 된다. 이 중, 세정액을 분사하는 방식은 기판 세정용 노즐에 세정액을 공급하여 세정액을 토출시킨다. In the cleaning process, chemicals are sprayed to remove foreign substances remaining on the substrate, a treatment liquid mixed with gas is sprayed, or a cleaning liquid is sprayed. Among these, in the method of spraying the cleaning liquid, the cleaning liquid is supplied to the nozzle for cleaning the substrate to discharge the cleaning liquid.
기판 세정용 노즐은 노즐 내부를 유동하는 처리액(또는 세정액)의 압력(이하, '유동압'이라 한다)을 견디는 정도, 즉, 노즐의 내압(耐壓) 특성이 중요하다. 이는, 유동압이 노즐의 내압보다 높을 경우 높은 유동압에 의해 노즐 내부의 유로가 파손되거나, 노즐 결합 부위 등에 리크가 발생하기 때문이다.The substrate cleaning nozzle is important to withstand the pressure of the processing liquid (or cleaning liquid) flowing in the nozzle (hereinafter referred to as "fluid pressure"), that is, the pressure resistance characteristic of the nozzle. This is because, when the flow pressure is higher than the internal pressure of the nozzle, the flow path inside the nozzle is broken by the high flow pressure, or leaks occur in the nozzle coupling portion or the like.
유동압의 상승 원인으로는 공급되는 처리액(또는 세정액)의 압력(이하, '공급압'이라 한다)이 높아서 유동압이 높게 유지되는 경우와, 토출홀이 파티클 등 이물질에 막혀 유동압이 비정상적으로 급격히 상승되는 경우가 있다.The reason for the increase in the flow pressure is that the pressure of the processing liquid (or cleaning liquid) to be supplied (hereinafter referred to as 'supply pressure') is high and the flow pressure is kept high, and the discharge hole is clogged with foreign matter such as particles, so the flow pressure is abnormal. May rise sharply.
공급압은 노즐의 토출홀로 토출되는 처리액의 토출 압력(이하, '토출압'이라 한다)과 연관이 있다. 이는 공급압이 높으면 유동압이 높게 유지되어 토출압 또한 높게 유지되기 때문이다. 이러한 공급압은 노즐의 내압 특성에 따라 정해지게 되며, 높은 내압 특성을 갖는 노즐일수록 높은 공급압을 통해 높은 토출압 성능을 발휘할 수 있다. 다시 말해, 노즐의 높은 내압 특성은 노즐의 토출 성능을 상승시키는 원인이 되는 것이다. The supply pressure is related to the discharge pressure (hereinafter referred to as 'discharge pressure') of the processing liquid discharged to the discharge hole of the nozzle. This is because if the supply pressure is high, the flow pressure is kept high and the discharge pressure is also kept high. The supply pressure is determined according to the pressure resistance characteristics of the nozzle, and a nozzle having a high pressure resistance characteristic may exhibit high discharge pressure performance through a high supply pressure. In other words, the high withstand pressure characteristic of the nozzle is the cause of raising the discharge performance of the nozzle.
이러한 노즐의 내압 특성은 세정액이 유동하는 노즐의 내부 유로의 형상과 밀접한 관련이 있다. 따라서, 이하에서 도 16을 참조하여 종래의 기판 세정용 노즐의 내부 유로와 그에 따른 노즐의 내압 특성에 대해 살펴본다.The pressure resistance characteristic of the nozzle is closely related to the shape of the internal flow path of the nozzle through which the cleaning liquid flows. Therefore, the internal flow path of the conventional substrate cleaning nozzle and the pressure resistance characteristic of the nozzle will be described below with reference to FIG. 16.
도 16은 종래의 기판 세정용 노즐의 내부 유로를 도시한 도이다.FIG. 16 is a view showing an internal flow path of a conventional substrate cleaning nozzle. FIG.
종래의 기판 세정용 노즐(1)은 도 1에 도시된 바와 같이, 기판 세정용 노즐(1)의 내부에 내부 유로가 구비되어 있으며, 내부 유로는 제1토출홀(2)이 구비된 제1원형유로(3)와, 제2토출홀(4)이 구비되며, 제1원형유로(3)의 내측에 위치하는 제2원형유로(5)와, 제1원형유로(3)와 제2원형유로(5)를 연결시키는 연결유로(6)와, 세정액이 유입되는 유입홀과 연결되며, 제1원형유로(3) 상에 구비되는 상하유로(7)를 포함하여 구성된다.As shown in FIG. 1, the conventional
전술한 구성을 갖는 종래의 기판 세정용 노즐(1)은, 세정액이 유입홀을 통해 상하유로(7)로 유입되면, 유입된 세정액은 제1원형유로(3)의 원주방향으로 2갈래로 분기되고, 연결유로(6)로 1갈래로 분기됨으로써, 총 3갈래로 분기되어 유동하게 된다.In the conventional
제1원형유로(3)의 원주방향으로 2갈래로 분기된 세정액의 유동은 제1원형유로(3)의 형상으로 인해, 제1원형유로(3)에서 제2원형유로(5) 방향, 즉, 종래의 기판 세정용 노즐(10)의 외측에서 내측 방향으로의 힘 벡터 방향성을 갖는다.The flow of the cleaning liquid bifurcated in the circumferential direction of the first
연결유로(6)로 1갈래로 분기된 세정액의 유동 또한, 제1원형유로(3)에서 제2원형유로(5) 방향, 즉, 종래의 기판 세정용 노즐(1)의 외측에서 내측 방향으로의 힘 벡터 방향성을 갖는다.The flow of the cleaning liquid branched into the connecting flow passage 6 in the direction of the first
위와 같이, 세정액의 유동이 종래의 기판 세정용 노즐(1)의 외측에서 내측 방향으로 힘 벡터 방향성을 가짐에 따라, 유동압은 외측에서 내측 방향으로 힘 벡터가 집중되어 가해진다.As described above, as the flow of the cleaning liquid has the force vector directionality from the outside of the conventional
따라서, 세정액의 공급 및 유동으로 인해 발생되는 세정액의 유동압은 제2원형유로(5) 부근에서 집중적으로 높아지게 되며, 이러한 유동압으로 인해, 유동압에 의한 내부 유로의 변형(deformation)이 제2원형유로(5)에 집중적으로 발생한다.Therefore, the flow pressure of the cleaning liquid generated due to the supply and flow of the cleaning liquid is increased intensively in the vicinity of the second
위와 같이, 제2원형유로(5)에 변형이 집중되는 현상은 도 18a에서 확인할 수 있다.As described above, the phenomenon in which deformation is concentrated in the second
이러한 유로의 변형은 제2원형유로(5)의 내측 영역에도 발생하며, 종래의 기판 세정용 노즐(1)의 내압 특성을 낮추는 원인이 된다.Such deformation of the flow path also occurs in the inner region of the second
다시 말해, 세정액의 공급 압력을 높이게 되면, 제2원형유로(5) 부근 영역에 파손이 이루어지거나, 리크가 발생할 수 있는 것이다.In other words, if the supply pressure of the cleaning liquid is increased, damage may occur to the region near the second
전술한 기판 세정용 노즐(1)과 같이, 한국등록특허 제10-1842128호(이하, '특허문헌 1'이라 한다)의 노즐의 경우에도 노즐의 내측의 유로에 유동압이 집중되는 문제점이 발생한다.Like the
이하, 도 17을 참조하여 특허문헌 1의 노즐의 내부 유로와 그에 따른 노즐의 내압 특성에 대해 살펴본다. 단, 도 17은 특허문헌 1의 도 4에 대한 도면이다.Hereinafter, with reference to FIG. 17, the internal flow path of the nozzle of
도 17에 도시된 바와 같이, 특허문헌 1의 노즐은 유입유로(432)및 유입유로(432)와 연결된 제3영역(412a)이 링 형상의 제1영역(412b) 및 제2영역(412c)의 외측에 위치하여 있다.As shown in FIG. 17, in the nozzle of
위와 같은 구성을 갖는 특허문헌 1의 노즐은 유입유로(432)를 통해 세정액이 공급되면 제1영역(412b)의 외측에 위치하는 제3영역(412a)으로 세정액이 유동된 후, 제1영역(412b)에서는, 세정액이 제1영역(412b)의 원주방향으로 2갈래로 분기되고, 제1영역(412b)의 내측에 위치하는 제3영역(412a)으로 1갈래로 분기됨으로써, 총 3갈래로 분기되어 유동한다. 또한, 제2영역(412c)에서는, 제1영역(412b)의 내측에 위치하는 제3영역(412a)으로 유동된 세정액이 제2영역(412c)의 원주방향으로 2갈래로 분기된다.In the nozzle of
이 경우, 전술한 종래의 기판 세정액 노즐(1)과 마찬가지로, 세정액의 유동압은 노즐의 제1영역(412b)에서 제2영역(412c) 방향, 즉, 외측에서 내측방향으로 힘 벡터가 집중되어 가해지게 된다.In this case, like the conventional substrate cleaning
따라서, 세정액의 공급 및 유동으로 인해 발생되는 세정액의 유동압은 제2영역(412c) 부근에서 집중적으로 높아지게 된다.Therefore, the flow pressure of the cleaning liquid generated due to the supply and flow of the cleaning liquid is concentrated in the vicinity of the
위와 같은 유동압에 의한 내부 유로의 변형(deformation)이 제2영역(412c)에 집중적으로 발생하는 것은 도 18b에서도 확인할 수 있다.It can be seen in FIG. 18B that the deformation of the internal flow path due to the above flow pressure is concentrated in the
이러한 유로의 변형은 제2영역(412c)의 내측 영역에도 발생하며, 종래의 기판 세정용 노즐(10)의 내압 특성을 낮추는 원인이 된다.Such a deformation of the flow path also occurs in the inner region of the
다시 말해, 세정액의 공급 압력을 높이게 되면, 제2영역(412c) 부근 영역에 파손이 이루어지거나, 리크가 발생할 수 있는 것이다.In other words, if the supply pressure of the cleaning liquid is increased, damage may occur to the region near the
전술한 바와 같이, 종래의 기판 세정용 노즐들은 유동압의 힘 벡터가 외측에서 내측 방향, 즉, 한 방향으로 집중적으로 가해짐에 따라 기판 세정용 노즐의 내압 특성이 낮아지는 문제점이 발생한다. 따라서, 이와 같은 한 방향으로의 유동압의 힘 벡터 집중 현상을 방지할 수 있는 내부 유로 구조를 갖는 기판 세정용 노즐을 개발할 필요가 있다.As described above, the conventional substrate cleaning nozzles have a problem in that the pressure resistance characteristic of the substrate cleaning nozzle is lowered as the force vector of the flow pressure is intensively applied from the outer side to the inner side, that is, in one direction. Accordingly, there is a need to develop a substrate cleaning nozzle having an internal flow path structure capable of preventing such a force vector concentration phenomenon of the flow pressure in one direction.
본 발명은 전술한 문제를 해결하기 위해 안출된 것으로서, 내측 방향으로의 유동압 힘 벡터의 집중 현상을 방지함으로써, 기판 세정용 노즐의 토출 성능의 향상과, 기판 세정용 노즐 내부 유로의 파손을 방지하고, 나아가, 높은 내압 특성을 갖는 기판 세정용 노즐을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and by preventing the phenomenon of concentration of the flow pressure force vector in the inward direction, it is possible to improve the discharge performance of the substrate cleaning nozzle and to prevent damage to the internal passage of the substrate cleaning nozzle. In addition, an object of the present invention is to provide a nozzle for cleaning a substrate having high breakdown voltage characteristics.
본 발명의 일 특징에 따른 기판 세정용 노즐은, 제1토출홀이 구비된 제1유로; 제2토출홀이 구비되며, 상기 제1유로의 내측에 위치하는 제2유로; 상기 제1유로와 상기 제2유로를 연결시키는 제1연결유로; 및 세정액이 유입되거나 유출되는 제1메인홀과 연결되며, 상기 제1연결유로 상에 구비되는 제1상하유로;를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, a substrate cleaning nozzle includes: a first passage having a first discharge hole; A second flow passage provided with a second discharge hole and positioned inside the first flow passage; A first connection channel connecting the first channel and the second channel; And a first up and down flow path connected to the first main hole through which the cleaning liquid flows in or out, and provided on the first connection flow path.
또한, 상기 제1유로 및 상기 제2유로는 동일한 중심점을 갖는 원형 형상인 것을 특징으로 한다.In addition, the first passage and the second passage is characterized in that the circular shape having the same center point.
또한, '상기 제1유로의 체적 : 상기 제2유로의 체적 = 1 : 1' 조건을 만족하는 것을 특징으로 한다.In addition, the 'volume of the first channel: the volume of the second channel = 1: 1' is characterized by satisfying the condition.
또한, 상기 제1유로와 상기 제2유로를 연결시키며, 상기 제1유로의 중심점을 기준으로 상기 제1연결유로와 대칭되게 위치하는 제2연결유로; 및 세정액이 유입되거나 유출되는 제2메인홀과 연결되며, 상기 제2연결유로 상에 구비되는 제2상하유로;를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, a second connection channel connecting the first channel and the second channel, the second channel is located symmetrically with respect to the first connection channel with respect to the center point of the first channel; And a second vertical flow passage connected to a second main hole through which the cleaning liquid flows in or out, and provided on the second connection flow passage.
또한, 복수개의 제3토출홀이 구비되며, 상기 제2유로의 내측에 위치하는 제3유로; 및 상기 제2유로와 상기 제3유로를 연결시키며, 상기 제1연결유로와 일직선 상에 위치하는 제3연결유로;를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the third passage is provided with a plurality of third discharge hole, located in the second passage; And a third connection channel connecting the second channel and the third channel, wherein the third connection channel is in line with the first connection channel.
또한, '상기 제1유로의 체적 : 상기 제2유로의 체적 + 상기 제3유로의 체적 = 1 : 1' 조건을 만족하는 것을 특징으로 한다.In addition, the 'volume of the first channel: the volume of the second channel + the volume of the third channel = 1: 1) is characterized in that it is satisfied.
또한, 상기 제1유로와 상기 제2유로를 연결시키며, 상기 제1유로의 중심점을 기준으로 상기 제1연결유로와 대칭되게 위치하는 제2연결유로; 및 세정액이 유입되거나 유출되는 제2메인홀과 연결되며, 상기 제2연결유로 상에 구비되는 제2상하유로; 및 상기 제2유로와 상기 제3유로를 연결시키며, 상기 제2유로의 중심점을 기준으로 상기 제3연결유로와 대칭되게 위치하고, 상기 제2연결유로와 일직선 상에 위치하는 제4연결유로;를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, a second connection channel connecting the first channel and the second channel, the second channel is located symmetrically with respect to the first connection channel with respect to the center point of the first channel; And a second vertical flow passage connected to a second main hole through which a cleaning solution flows in or out, and provided on the second connection flow passage. And a fourth connection channel connecting the second channel and the third channel, positioned symmetrically with the third connection channel based on the center point of the second channel, and positioned in a line with the second connection channel. It further comprises.
또한, 상기 제1유로, 상기 제2유로 및 상기 제3유로는 동일한 중심점을 갖는 원형 형상이며, 상기 제1 내지 제4연결유로는 상기 중심점을 지나는 일직선 상에 위치하는 것을 특징으로 한다.In addition, the first channel, the second channel and the third channel has a circular shape having the same center point, the first to fourth connection channel is characterized in that located on a straight line passing through the center point.
또한, 제1몸체; 상기 제1몸체의 하면과 그 상면이 맞닿도록 상기 제1몸체의 하부에 결합되는 제2몸체; 상기 제1몸체의 하면 또는 상기 제2몸체의 상면 중 어느 하나에 형성되는 복수개의 홈; 및 상기 제1몸체의 하면 또는 상기 제2몸체의 상면 중 나머지 하나에 형성되며, 상기 복수개의 홈에 대응되게 형성되어 상기 복수개의 홈 각각에 삽입되는 복수개의 돌기;를 더 포함하고, 상기 제1유로, 상기 제2유로 및 상기 제1연결유로는 상기 제1몸체의 하면 및 상기 제2몸체의 상면 중 적어도 어느 하나에 구비되되, 상기 제1유로, 상기 제2유로 및 상기 제1연결유로는 상기 복수개의 홈 및 상기 복수개의 돌기가 결합된 부분 사이에 위치하는 것을 특징으로 한다.In addition, the first body; A second body coupled to a lower portion of the first body such that a lower surface of the first body and an upper surface thereof contact each other; A plurality of grooves formed on any one of a lower surface of the first body and an upper surface of the second body; And a plurality of protrusions formed on the other surface of the lower surface of the first body or the upper surface of the second body and formed to correspond to the plurality of grooves and inserted into each of the plurality of grooves. The flow path, the second flow path and the first connection flow path are provided on at least one of the lower surface of the first body and the upper surface of the second body, wherein the first flow path, the second flow path and the first connection flow path Characterized in that located between the plurality of grooves and the portion coupled to the plurality of projections.
본 발명의 다른 특징에 따른 기판 세정용 노즐은, 제1토출홀이 구비된 제1유로; 제2토출홀이 구비되며, 상기 제1유로의 내측에 위치하는 제2유로; 상기 제1유로와 상기 제2유로를 연결시키는 제1연결유로; 및 세정액이 유입되는 제1메인홀과 연결되는 제1상하유로;를 포함하되, 상기 제1메인홀을 통해 제1연결유로로 유입되는 세정액은 상기 제1, 2유로 각각으로 분기되어 유동되되, 상기 제1, 2유로 각각으로 분기되어 유동되는 세정액의 방향은 상기 제1상하유로와 상기 제1연결유로의 연결부를 기준으로 서로 반대 방향인 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a substrate cleaning nozzle comprising: a first passage having a first discharge hole; A second flow passage provided with a second discharge hole and positioned inside the first flow passage; A first connection channel connecting the first channel and the second channel; And a first up and down flow passage connected to the first main hole into which the cleaning liquid is introduced, wherein the cleaning liquid flowing into the first connection channel through the first main hole is branched and flows into the first and second flow paths, respectively. Directions of the washing liquid branched into the first and second flow paths may be opposite to each other based on the connection portion between the first upper and lower flow paths and the first connection channel.
본 발명의 다른 특징에 따른 기판 세정용 노즐은, 제1토출홀이 구비된 제1유로; 제2토출홀이 구비되며, 상기 제1유로의 내측에 위치하는 제2유로; 상기 제1유로와 상기 제2유로를 연결시키며, 상기 제1유로의 중심점을 기준으로 서로 대칭되게 위치하는 제1, 2연결유로; 세정액이 유입되는 제1메인홀과 연결되는 제1상하유로; 및 세정액이 유출되는 제2메인홀과 연결되는 제2상하유로;를 포함하되, 상기 제1메인홀을 통해 제1연결유로로 유입되는 세정액은 상기 제1, 2유로 각각으로 분기되어 유동되되, 상기 제1, 2유로 각각으로 분기되어 유동되는 세정액의 방향은 상기 제1상하유로와 상기 제1연결유로의 연결부를 기준으로 서로 반대 방향이고, 상기 제2연결유로를 통해 상기 제2메인홀로 유출되는 세정액은 상기 제1, 2유로 각각으로부터 상기 제2연결유로로 유동되되, 상기 제1, 2유로 각각으로부터 유동되는 세정액의 방향은 상기 제2상하유로와 상기 제2연결유로의 연결부를 기준으로 서로 반대 방향인 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a substrate cleaning nozzle comprising: a first passage having a first discharge hole; A second flow passage provided with a second discharge hole and positioned inside the first flow passage; First and second connection passages connecting the first channel and the second channel and symmetrically positioned with respect to the center point of the first channel; A first vertical flow passage connected to the first main hole into which the cleaning liquid flows; And a second vertical flow passage connected to the second main hole through which the cleaning liquid flows out, wherein the cleaning liquid flowing into the first connection channel through the first main hole flows branched into the first and second flow paths, respectively. Directions of the cleaning liquid branched into the first and second flow paths are respectively opposite to each other based on the connection portion between the first upper and lower flow paths and the first connection flow path, and flow out to the second main hole through the second connection flow path. The cleaning solution flows from the first and second flow paths to the second connection flow path, respectively, and the direction of the cleaning liquid flowing from each of the first and second flow paths is based on the connection portion between the second up and down flow path and the second connection flow path. Characterized in opposite directions to each other.
이상에서 설명한 바와 같은 본 발명의 기판 세정용 노즐에 따르면 다음과 같은 효과가 있다.According to the nozzle for cleaning the substrate of the present invention as described above has the following advantages.
기판 세정용 노즐의 내부로 공급된 세정액이 제1연결유로 상에서 서로 내, 외측 방향으로 유동되어 제1, 2유로(또는 제1 내지 제3유로) 각각으로 유동됨에 따라 세정액의 유동압의 힘 벡터가 내측 방향으로 집중되지 않고, 내, 외측으로 고르게 분포됨으로써, 어느 한 유로에 집중적으로 변형이 발생하는 것을 최소화할 수 있다.Force vector of the flow pressure of the cleaning liquid as the cleaning liquids supplied into the substrate cleaning nozzles flow inward and outward from each other on the first connection channel and flow into the first and second channels (or first to third channels), respectively. Since is not concentrated inwardly and evenly distributed inward and outward, it is possible to minimize deformation occurring in any one flow path.
본 발명의 기판 세정용 노즐은 유동압의 내, 외측 방향으로의 고른 분포를 통해, 내부 유로들의 파손, 리크 등이 방지될 수 있으며, 기판 세정용 노즐의 높은 내압특성에 기여할 수 있다.The substrate cleaning nozzle of the present invention can prevent breakage, leakage, etc. of the internal flow paths through an even distribution of the flow pressure in the inward and outward directions, and can contribute to a high breakdown voltage characteristic of the nozzle for cleaning the substrate.
본 발명의 기판 세정용 노즐의 높은 내압 특성을 통해, 높은 공급압으로 높은 토출압 성능을 발취할 수 있고, 토출홀을 통해 토출되는 세정액의 균일성을 보장하여, 사영역 없는 세정액의 토출을 달성할 수 있다. 또한, 기판 세정용 노즐의 내부 유로들의 파손 방지 및 제1, 2몸체의 결합 부위 파손을 방지할 수 있다.Through the high pressure resistance characteristic of the nozzle for cleaning the substrate of the present invention, it is possible to extract high discharge pressure performance at a high supply pressure and to ensure uniformity of the cleaning liquid discharged through the discharge hole, thereby achieving a discharge of the cleaning liquid without dead zone. can do. In addition, it is possible to prevent breakage of the internal flow paths of the substrate cleaning nozzle and damage of the joint portions of the first and second bodies.
기판 세정용 노즐의 내부 유로들이 복수개의 홈 및 복수개의 돌기 사이에 위치하므로, 세정액이 내부 유로들에서 새어나가는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.Since the inner flow paths of the substrate cleaning nozzle are located between the plurality of grooves and the plurality of protrusions, it is possible to effectively prevent the cleaning liquid from leaking from the inner flow paths.
내부 유로들의 최외측과 최내측에 융착산 및 융착산홈을 통해 초음파 융착이 이루어짐으로써, 내부 유로들을 최외측과 최내측에서 가두는 효과를 달성할 수 있다.Ultrasonic fusion is performed on the outermost and innermost sides of the inner passages through fusion and fusion grooves, thereby achieving the effect of confining the inner passages at the outermost and innermost sides.
도 1은 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 사시도.
도 2는 도 1의 기판 세정용 노즐의 분해 사시도.
도 3은 도 2의 제1몸체의 하면을 도시한 저면도.
도 4는 도 2의 제2몸체의 상면을 도시한 평면도.
도 5는 도 2의 제2몸체의 하면을 도시한 저면도.
도 6은 도 4의 토출홀의 단면도.
도 7a는 도 1의 기판 세정용 노즐의 내부 유로를 도시한 도.
도 7b는 도 7a의 세정액의 유동을 도시한 도.
도 8은 본 발명의 바람직한 제2실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 제1몸체의 하면을 도시한 저면도.
도 9는 본 발명의 바람직한 제2실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 제2몸체의 상면을 도시한 평면도.
도 10은 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 제1몸체의 하면을 도시한 저면도.
도 11은 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 제2몸체의 상면을 도시한 평면도.
도 12는 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 제2몸체의 하면을 도시한 저면도.
도 13a는 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 내부 유로를 도시한 도.
도 13b는 도 13a의 세정액의 유동을 도시한 도.
도 14는 본 발명의 바람직한 제4실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 제1몸체의 하면을 도시한 저면도.
도 15는 본 발명의 바람직한 제4실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 제2몸체의 상면을 도시한 평면도.
도 16은 종래의 기판 세정용 노즐의 내부 유로를 도시한 도.
도 17은 특허문헌 1의 노즐의 내부 유로를 도시한 도.
도 18a는 세정액의 공급시 종래의 기판 세정용 노즐의 변형을 도시한 도.
도 18b는 세정액의 공급시 특허문헌 1의 노즐의 변형을 도시한 도.
도 18c는 세정액의 공급시 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 변형을 도시한 도.
도 18d는 세정액의 공급시 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 변형을 도시한 도.1 is a perspective view of a nozzle for cleaning a substrate according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is an exploded perspective view of the substrate cleaning nozzle of FIG. 1. FIG.
3 is a bottom view illustrating the bottom surface of the first body of FIG. 2;
4 is a plan view illustrating an upper surface of the second body of FIG. 2;
5 is a bottom view illustrating the bottom surface of the second body of FIG. 2;
6 is a cross-sectional view of the discharge hole of FIG.
FIG. 7A is a view illustrating an inner flow path of the substrate cleaning nozzle of FIG. 1. FIG.
FIG. 7B illustrates the flow of the cleaning liquid of FIG. 7A. FIG.
8 is a bottom view illustrating a bottom surface of a first body of a substrate cleaning nozzle according to a second preferred embodiment of the present invention.
9 is a plan view illustrating a top surface of a second body of the substrate cleaning nozzle according to the second embodiment of the present invention.
FIG. 10 is a bottom view illustrating a bottom surface of a first body of a substrate cleaning nozzle according to a third exemplary embodiment of the present invention. FIG.
FIG. 11 is a plan view illustrating a top surface of a second body of a substrate cleaning nozzle according to a third exemplary embodiment of the present invention. FIG.
12 is a bottom view showing a lower surface of a second body of a substrate cleaning nozzle according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 13A illustrates an internal flow path of a nozzle for cleaning a substrate according to a third exemplary embodiment of the present invention. FIG.
FIG. 13B shows the flow of the cleaning liquid of FIG. 13A. FIG.
FIG. 14 is a bottom view illustrating a bottom surface of a first body of a substrate cleaning nozzle according to a fourth preferred embodiment of the present invention. FIG.
FIG. 15 is a plan view illustrating a top surface of a second body of a substrate cleaning nozzle according to a fourth preferred embodiment of the present invention. FIG.
16 is a view showing an inner flow path of a conventional substrate cleaning nozzle.
FIG. 17 is a view showing an internal flow path of a nozzle of
FIG. 18A shows a variation of a conventional substrate cleaning nozzle upon supply of a cleaning liquid. FIG.
18B is a view showing a deformation of a nozzle of
18C is a view showing a modification of the nozzle for cleaning a substrate according to the first embodiment of the present invention when supplying the cleaning liquid.
FIG. 18D illustrates a variation of the nozzle for cleaning the substrate according to the third preferred embodiment of the present invention when supplying the cleaning liquid. FIG.
이하의 내용은 단지 발명의 원리를 예시한다. 그러므로 당업자는 비록 본 명세서에 명확히 설명되거나 도시되지 않았지만 발명의 원리를 구현하고 발명의 개념과 범위에 포함된 다양한 장치를 발명할 수 있는 것이다. 또한, 본 명세서에 열거된 모든 조건부 용어 및 실시 예들은 원칙적으로, 발명의 개념이 이해되도록 하기 위한 목적으로만 명백히 의도되고, 이와 같이 특별히 열거된 실시 예들 및 상태들에 제한적이지 않는 것으로 이해되어야 한다.The following merely illustrates the principles of the invention. Therefore, those skilled in the art, although not explicitly described or illustrated herein, can embody the principles of the invention and invent various devices included in the concept and scope of the invention. In addition, all conditional terms and embodiments listed herein are in principle clearly intended to be understood only for the purpose of understanding the concept of the invention and are not to be limited to the embodiments and states specifically listed. .
상술한 목적, 특징 및 장점은 첨부된 도면과 관련한 다음의 상세한 설명을 통하여 보다 분명해 질 것이며, 그에 따라 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 것이다.The above objects, features, and advantages will become more apparent from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings, whereby the technical spirit of the invention may be easily implemented by those skilled in the art. .
본 명세서에서 기술하는 실시 예들은 본 발명의 이상적인 예시 도인 단면도 및/또는 사시도들을 참고하여 설명될 것이다. 따라서, 본 발명의 실시 예들은 도시된 특정 형태로 제한되는 것이 아니라 제조 공정에 따라 생성되는 형태의 변화도 포함하는 것이다.Embodiments described herein will be described with reference to cross-sectional and / or perspective views, which are ideal exemplary views of the invention. Accordingly, the embodiments of the present invention are not limited to the specific forms shown, but also include changes in forms generated according to manufacturing processes.
설명에 들어가기에 앞서, 이하의 설명에서 참조되는 도 18a 내지 도 18d에 대해 설명한다.Prior to the description, FIGS. 18A to 18D will be described with reference to the following description.
도 18a는 세정액의 공급시 종래의 기판 세정용 노즐의 변형을 도시한 도이다.18A is a diagram showing a modification of a conventional substrate cleaning nozzle when supplying a cleaning liquid.
도 18a의 종래의 기판 세정용 노즐의 유로들의 치수(Dimension) 및 세정액의 공급압은 다음과 같다.The dimensions of the flow paths of the conventional substrate cleaning nozzle of FIG. 18A and the supply pressure of the cleaning liquid are as follows.
최외측 유로의 원주의 중심을 잇는 선은 기판 세정용 노즐의 중심선으로부터 15mm 이격되어 있으며, 최외측 유로의 폭은 1mm 이고, 높이는 1.25mm 이다. 내측 유로의 원주의 중심을 잇는 선은 기판 세정용 노즐의 중심선으로부터 7.5mm 이격되어 있으며, 내측 유로의 폭은 2mm 이고, 높이는 1.25mm 이다. 또한, 도 18a의 종래의 기판 세정용 노즐은 최외측 유로 상에 위치하는 왼쪽 공급구를 통해 5Mpa 의 세정액을 공급하였다.The line connecting the center of the circumference of the outermost flow path is 15 mm away from the center line of the substrate cleaning nozzle, the width of the outermost flow path is 1 mm, and the height is 1.25 mm. The line connecting the center of the circumference of the inner channel is 7.5 mm away from the center line of the substrate cleaning nozzle, the width of the inner channel is 2 mm, and the height is 1.25 mm. In addition, the conventional substrate cleaning nozzle of FIG. 18A supplied the cleaning liquid of 5 Mpa through the left supply port located on the outermost flow path.
도 18b는 세정액의 공급시 특허문헌 1의 노즐의 변형을 도시한 도이다.18B is a diagram showing a deformation of the nozzle of
도 18b의 특허문헌 1의 노즐의 유로들의 치수(Dimension) 및 세정액의 공급압은 다음과 같다.The dimension of the flow path of the nozzle of
최외측 유로의 원주의 중심을 잇는 선은 기판 세정용 노즐의 중심선으로부터 15mm 이격되어 있으며, 최외측 유로의 폭은 1.5mm 이고, 높이는 1.25mm 이다. 내측 유로의 원주의 중심을 잇는 선은 기판 세정용 노즐의 중심선으로부터 7.5mm 이격되어 있으며, 내측 유로의 폭은 2mm 이고, 높이는 1.25mm 이다. 또한, 도 18b의 특허문헌 1의 노즐은 최외측 유로에서 외측 방향으로 이격된 왼쪽 공급구를 통해 5Mpa 의 세정액을 공급하였다.The line connecting the center of the circumference of the outermost flow path is 15 mm away from the center line of the substrate cleaning nozzle, the width of the outermost flow path is 1.5 mm, and the height is 1.25 mm. The line connecting the center of the circumference of the inner channel is 7.5 mm away from the center line of the substrate cleaning nozzle, the width of the inner channel is 2 mm, and the height is 1.25 mm. In addition, the nozzle of
도 18c는 세정액의 공급시 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 변형을 도시한 도이다.FIG. 18C is a view showing a modification of the nozzle for cleaning a substrate according to the first embodiment of the present invention when supplying the cleaning liquid.
도 18c의 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 유로들의 치수(Dimension) 및 세정액의 공급압은 다음과 같다.The dimensions of the flow paths of the flow paths of the substrate cleaning nozzle and the supply pressure of the cleaning liquid of FIG. 18C are as follows.
최외측 유로(이하, '제1유로'라 한다)의 원주의 중심을 잇는 선은 기판 세정용 노즐의 중심선으로부터 15mm 이격되어 있으며, 제1유로의 폭은 1.5mm 이고, 높이는 1.25mm 이다. 내측 유로(이하, '제2유로'라 한다)의 원주의 중심을 잇는 선은 기판 세정용 노즐의 중심선으로부터 7.5mm 이격되어 있으며, 제2유로의 폭은 1.5mm 이고, 높이는 1.25mm 이다. 또한, 도 18c의 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐은 제1유로와 제2유로를 연결하는 유로(이하, '제1연결유로'라 한다) 상에 형성된 왼쪽 공급구(이하, '제1메인홀'이라 한다)를 통해 5Mpa 의 세정액을 공급하였다.The line connecting the center of the circumference of the outermost flow path (hereinafter referred to as 'first flow path') is 15 mm away from the center line of the substrate cleaning nozzle, and the width of the first flow path is 1.5 mm and the height is 1.25 mm. The line connecting the center of the circumference of the inner passage (hereinafter referred to as 'second channel') is 7.5 mm away from the center line of the substrate cleaning nozzle, the width of the second channel is 1.5 mm, and the height is 1.25 mm. In addition, the substrate cleaning nozzle according to the first preferred embodiment of the present invention of FIG. 18C may include a left supply hole formed on a flow path connecting the first flow path and the second flow path (hereinafter, referred to as a “first connection flow path”). Hereinafter, a 5 Mpa washing liquid was supplied through the 'first main hole'.
도 18d는 세정액의 공급시 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 변형을 도시한 도이다.18D is a view showing a modification of the nozzle for cleaning a substrate according to the third embodiment of the present invention when supplying the cleaning liquid.
도 18d의 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 유로들의 치수(Dimension) 및 세정액의 공급압은 다음과 같다.The dimensions of the flow paths of the nozzles for cleaning the substrate according to the third embodiment of the present invention of FIG. 18D and the supply pressure of the cleaning liquid are as follows.
최외측 유로(이하, '제1유로'라 한다)의 원주의 중심을 잇는 선은 기판 세정용 노즐의 중심선으로부터 17.5mm 이격되어 있으며, 제1유로의 폭은 1.5mm 이고, 높이는 1.25mm 이다. 내측 유로(이하, '제2유로'라 한다)의 원주의 중심을 잇는 선은 기판 세정용 노즐의 중심선으로부터 12.5mm 이격되어 있으며, 제2유로의 폭은 1.5mm 이고, 높이는 1.25mm 이다. 최내측 유로(이하, '제3유로'라 한다)의 원주의 중심을 잇는 선은 기판 세정용 노즐의 중심선으로부터 7.5mm 이격되어 있으며, 제3유로의 폭은 1.5mm 이고, 높이는 1.25mm 이다. 또한, 도 18d의 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐은 제1유로와 제2유로를 연결하는 유로(이하, '제1연결유로'라 한다) 상에 형성된 왼쪽 공급구(이하, '제1메인홀'이라 한다)를 통해 5Mpa 의 세정액을 공급하였다.The line connecting the center of the circumference of the outermost flow path (hereinafter referred to as 'first flow path') is 17.5 mm away from the center line of the substrate cleaning nozzle, and the width of the first flow path is 1.5 mm and the height is 1.25 mm. The line connecting the center of the circumference of the inner passage (hereinafter referred to as 'second channel') is 12.5 mm away from the center line of the substrate cleaning nozzle, the width of the second channel is 1.5 mm, and the height is 1.25 mm. The line connecting the center of the circumference of the innermost flow path (hereinafter referred to as 'third flow path') is 7.5 mm away from the center line of the substrate cleaning nozzle, and the third flow path has a width of 1.5 mm and a height of 1.25 mm. In addition, the substrate cleaning nozzle according to the third embodiment of the present invention of FIG. 18D may include a left supply hole formed on a flow path connecting the first flow path and the second flow path (hereinafter, referred to as a “first connection flow path”). Hereinafter, a 5 Mpa washing liquid was supplied through the 'first main hole'.
본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10)
이하, 도 1 내지 도 6을 참조하여 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10)에 대해 설명한다.Hereinafter, a
도 1은 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 사시도이고, 도 2는 도 1의 기판 세정용 노즐의 분해 사시도이고, 도 3은 도 2의 제1몸체의 하면을 도시한 저면도이고, 도 4는 도 2의 제2몸체의 상면을 도시한 평면도이고, 도 5는 도 2의 제2몸체의 하면을 도시한 저면도이고, 도 6은 도 4의 토출홀의 단면도이다.1 is a perspective view of a substrate cleaning nozzle according to a first embodiment of the present invention, Figure 2 is an exploded perspective view of the substrate cleaning nozzle of Figure 1, Figure 3 is a bottom view of the first body of Figure 2 4 is a plan view illustrating the top surface of the second body of FIG. 2, FIG. 5 is a bottom view illustrating the bottom surface of the second body of FIG. 2, and FIG. 6 is a cross-sectional view of the discharge hole of FIG. 4.
도 1 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10)은, 제1토출홀(210)이 구비된 제1유로(130)와, 제2토출홀(220)이 구비되며, 제1유로(130)의 내측에 위치하는 제2유로(140)와, 제1유로(130)와 제2유로(140)를 연결시키는 제1연결유로(131)와, 제1유로(130)와 제2유로(140)를 연결시키며, 제1유로(130)의 중심점을 기준으로 제1연결유로(131)와 대칭되게 위치하는 제2연결유로(132)와, 세정액이 유입되거나 유출되는 제1메인홀(110)과 연결되며, 제1연결유로(131) 상에 구비되는 제1상하유로(111)와, 세정액이 유입되거나 유출되는 제2메인홀(120)과 연결되며, 제2연결유로(132) 상에 구비되는 제2상하유로(121)와, 그 상면에 제1메인홀(110), 제2메인홀(120)이 형성되고, 그 내부에 제1상하유로(111), 제2상하유로(121)가 형성되고, 그 하면에 제1유로(130), 제2유로(140), 제1연결유로(131), 제2연결유로(132)가 형성된 제1몸체(100)와, 제1몸체(100)의 하면과 그 상면이 맞닿도록 제1몸체(100)의 하부에 결합되며, 제1유로(130)에 구비되는 제1토출홀(210)과, 제2유로(140)에 구비되는 제2토출홀(220)이 형성된 제2몸체(200)를 포함하여 구성될 수 있다.1 to 5, the
제1유로(130)는 제1몸체(100)의 하면에 형성된다.The
제1유로(130)는 원형 형상을 갖을 수 있다.The
제1유로(130)는 제1몸체(100)와 제2몸체(200)가 상하 결합될 때, 제1몸체(100)의 하면 부분이 제1유로(130)의 상부 부분이 되고, 제2몸체(200)의 상면 부분이 제1유로(130)의 바닥 부분이 된다.In the
제1유로(130)에는 복수개의 제1토출홀(210)이 구비되는데, 이러한 복수개의 제1토출홀(210)은 제2몸체(200)의 상면과 하면을 관통하도록 형성된다.A plurality of first discharge holes 210 are provided in the
제1몸체(100)와 제2몸체(200)가 상하 결합되면, 복수개의 제1토출홀(210)이 제1유로(130)의 바닥 부분에 위치하게 됨으로써, 제1유로(130)는 복수개의 제1토출홀(210)과 연결된다.When the
복수개의 제1토출홀(210)은 원형 형상의 제1유로(130)의 원주 방향을 따라 1열로 서로 일정한 간격을 갖도록 구비될 수 있다.The plurality of first discharge holes 210 may be provided to have a predetermined distance from each other in a row along the circumferential direction of the circular
제2유로(140)는 제1몸체(100)의 하면에 제1유로(130)의 내측에 위치하도록 형성된다.The
제2유로(140)는 원형 형상을 갖을 수 있다.The
제1유로(130)와 제2유로(140)가 원형 형상을 갖을 경우, 제1유로(130)와 제2유로(140)는 동일한 중심점을 갖을 수 있다. 다시 말해, 제1유로(130)와 제2유로(140)는 동일한 중심점을 갖는 동심원(同心圓)일 수 있다.When the
제2유로(140)는 제1몸체(100)와 제2몸체(200)가 상하 결합될 때, 제1몸체(100)의 하면 부분이 제2유로(140)의 상부 부분이 되고, 제2몸체(200)의 상면 부분이 제2유로(140)의 바닥 부분이 된다.When the
제2유로(140)에는 복수개의 제2토출홀(220)이 구비되는데, 이러한 복수개의 제2토출홀(220)은 제2몸체(200)의 상면과 하면을 관통하도록 형성된다.A plurality of second discharge holes 220 are provided in the
제1몸체(100)와 제2몸체(200)가 상하 결합되면, 복수개의 제2토출홀(220)이 제2유로(140)의 바닥 부분에 위치하게 됨으로써, 제2유로(140)는 복수개의 제2토출홀(220)과 연결된다.When the
복수개의 제2토출홀(220)은 원형 형상의 제2유로(140)의 원주 방향을 따라 1열로 서로 일정한 간격을 갖도록 구비될 수 있다.The plurality of second discharge holes 220 may be provided to have a predetermined distance from each other in one row along the circumferential direction of the circular
복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상은 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상의 내측에 위치할 수 있다. 이 경우, 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상과 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상은 동일한 중심점을 갖는 동심원일 수 있다.The circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220 may be located inside the circular shape formed by the plurality of first discharge holes 210. In this case, the circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220 and the circular shape formed by the plurality of first discharge holes 210 may be concentric circles having the same center point.
제1연결유로(131)는 제1몸체(100)의 하면에 형성된다.The
제1연결유로(131)는 제1유로(130)의 내측과 제2유로(140)의 외측 사이에 위치하는 유로로서, 제1유로(130)와 제2유로(140)를 연결시킨다.The
제1연결유로(131)는 제1몸체(100)와 제2몸체(200)가 상하 결합될 때, 제1몸체(100)의 하면 부분이 제1연결유로(131)의 상부 부분이 되고, 제2몸체(200)의 상면 부분이 제1연결유로(131)의 바닥 부분이 된다.When the
제1연결유로(131)는 직선 형상을 갖는 것이 바람직하다.It is preferable that the
제2연결유로(132)는 제1유로(130)의 내측과 제2유로(140)의 외측 사이에 위치하는 유로로서, 제1유로(130)와 제2유로(140)를 연결시킨다.The
제2연결유로(132)는 제1몸체(100)와 제2몸체(200)가 상하 결합될 때, 제1몸체(100)의 하면 부분이 제2연결유로(132)의 상부 부분이 되고, 제2몸체(200)의 상면 부분이 제2연결유로(132)의 바닥 부분이 된다.When the
제2연결유로(132)는 직선 형상을 갖는 것이 바람직하다.It is preferable that the
제2연결유로(132)는 제1유로(130)의 중심점 또는 제2유로(140)의 중심점을 기준으로 제1연결유로(131)와 대칭되게 위치한다. 따라서, 제1연결유로(131)와 제2연결유로(132)는 제1유로(130)의 중심점 또는 제2유로(140)의 중심점을 지나는 일직선 상에 위치하게 된다.The
제1메인홀(110)과 제2메인홀(120)은 제1몸체(100)의 상면에 형성되며, 세정액이 유입되는 유입구 기능을 하거나 세정액이 유출되는 유출구 기능을 하게 된다.The first
제1메인홀(110)과 제2메인홀(120)은 중공(101)을 기준으로 서로 대칭되게 구비된다.The first
제1상하유로(111)는 세정액이 유입되거나 유출되는 제1메인홀(110)과 연결되며, 제1연결유로(131) 상에 구비된다.The first up and down
제1상하유로(111)는 제1몸체(100)의 상하를 관통하도록 제1몸체(100)의 내부에 형성되며, 제1상하유로(111)의 상부 부분은 제1메인홀(110)과 연결되고, 제1상하유로(111)의 하부 부분은 제1연결유로(131)와 연결된다. The first upper and
제1상하유로(111)는 직선 형상을 갖는 것이 바람직하며, 제1연결유로(131)가 직선 형상을 갖는 경우, 제1상하유로(111)와 제1연결유로(131)는 서로 수직을 이룬다.Preferably, the first up and down
제2상하유로(121)는 세정액이 유입되거나 유출되는 제2메인홀(120)과 연결되며, 제2연결유로(132) 상에 구비된다.The second up and down
제2상하유로(121)는 제1몸체(100)의 상하를 관통하도록 제1몸체(100)의 내부에 형성되며, 제2상하유로(121)의 상부 부분은 제2메인홀(120)과 연결되고, 제2상하유로(121)의 하부 부분은 제2연결유로(132)와 연결된다. The second up and down
제2상하유로(121)는 직선 형상을 갖는 것이 바람직하며, 제2연결유로(132)가 직선 형상을 갖는 경우, 제2상하유로(121)와 제2연결유로(132)는 서로 수직을 이룬다.Preferably, the second up and down
제1몸체(100)는 제1몸체(100)의 상면 중앙에 압전소자(미도시)가 삽입되는 중공(101)이 형성되고, 제1몸체(100)의 상면에서 중공(101)을 중심으로 양측에 제1메인홀(110)과 제2메인홀(120)이 형성된다.The
제1몸체(100)의 하면에는 제1유로(130), 제2유로(140), 제1연결유로(131), 제2연결유로(132)가 형성되며, 제1몸체(100)이 내부에는 제1메인홀(110)과 제1연결유로(131)를 연결하는 제1상하유로(111) 및 제2메인홀(120)과 제2연결유로(132)를 연결하는 제2상하유로(121)가 형성된다.The
제2몸체(200)는 제1몸체(100)의 하면과 제2몸체(200)의 상면이 맞닿도록 제1몸체(100)의 하부에 결합된다. 다시 말해, 제1몸체(100)와 제2몸체(200)는 상하 결합한다.The
제2몸체(200)에는 복수개의 제1토출홀(210)과 복수개의 제2토출홀(220)이 형성된다. 복수개의 제1토출홀(210)과 복수개의 제2토출홀(220)은 제2몸체(200)의 상면과 하면을 관통하도록 형성된다.A plurality of first discharge holes 210 and a plurality of second discharge holes 220 are formed in the
전술한 바와 같이, 복수개의 제1토출홀(210)은 제1유로(130)의 원주 방향을 따라 1열로 서로 일정한 간격으로 형성될 수 있으며, 복수개의 제2토출홀(220)은 제2유로(140)의 원주 방향을 따라 1열로 서로 일정한 간격으로 형성될 수 있다. As described above, the plurality of first discharge holes 210 may be formed at regular intervals from each other in one row along the circumferential direction of the
또한, 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상은 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상의 내측에 위치할 수 있다. 이 경우, 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상과 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상은 동일한 중심점을 갖는 동심원일 수 있다.In addition, the circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220 may be located inside the circular shape formed by the plurality of first discharge holes 210. In this case, the circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220 and the circular shape formed by the plurality of first discharge holes 210 may be concentric circles having the same center point.
도 6에 도시된 바와 같이, 복수개의 제1토출홀(210) 각각은 제1토출홀 상부영역(210a)과 제1토출홀 하부영역(210b) 및 제1토출홀 중앙영역(210c)을 갖도록 형성될 수 있으며, 복수개의 제2토출홀(220) 각각은 제2토출홀 상부영역(220a)과 제2토출홀 하부영역(220b) 및 제2토출홀 중앙영역(220c)을 갖도록 형성될 수 있다.As shown in FIG. 6, each of the plurality of first discharge holes 210 has a first discharge hole
제1토출홀 상부영역(210a)(또는 제2토출홀 상부영역(220a))은 기계 가공 등에 의해 형성되어 제1토출홀 하부영역(210b)(또는 제2토출홀 하부영역(220b))보다 큰 지름을 갖는다.The first discharge hole
제1토출홀 하부영역(210b)(또는 제2토출홀 하부영역(220b))은 상부에서 하부 방향으로 제2몸체(200)에 레이저를 조사함으로써, 제1토출홀(210)(또는 제2토출홀(220))을 형성시킨 영역으로써, 제1토출홀 상부영역(210a)(또는 제2토출홀 상부영역(220a))보다 작은 지름을 갖는다.The
제1토출홀 중앙영역(210c)(또는 제2토출홀 중앙영역(220c))은 제1토출홀 상부영역(210a)(또는 제2토출홀 상부영역(220a))과 제1토출홀 하부영역(210b)(또는 제2토출홀 하부영역(220b)) 사이를 연결하는 부분으로써, 제1토출홀 하부영역(210b)(또는 제2토출홀 하부영역(220b))을 레이저로 조사하여 형성할 때, 상부에서 하부로 갈수록 그 지름이 작아지는 경사진 영역이다.The first discharge hole
위와 같이, 복수개의 제1토출홀(210)(또는 복수개의 제2토출홀(220)) 각각은 제1토출홀 상부영역(210a)(또는 제2토출홀 상부영역(220a))과 제1토출홀 하부영역(210b)(또는 제2토출홀 하부영역(220b)) 및 제1토출홀 중앙영역(210c)(또는 제2토출홀 중앙영역(220c))을 갖도록 형성됨에 따라, 제1토출홀(210)(또는 제2토출홀(220))은 상부에서 하부로 갈수록 지름이 작아지는 경사진 영역을 갖게 된다.As described above, each of the plurality of first discharge holes 210 (or the plurality of second discharge holes 220) is the first discharge hole
이 경우, 레이저에 의해 조사되어 형성된 제1토출홀(210)(또는 제2토출홀(220))의 지름, 즉, 제1토출홀 하부영역(210b)(또는 제2토출홀 하부영역(220b))의 지름은 5㎛ ~ 15㎛의 크기를 갖을 수 있다.In this case, the diameter of the first discharge hole 210 (or the second discharge hole 220) formed by irradiation with a laser, that is, the first discharge hole
전술한 제1몸체(100)와 제2몸체(200)는 쿼츠(Quartz), 알루미늄 옥사이드 재질의 사파이어(Sappahire), 엔지니어링 플라스틱(Engineering Plastics) 재질로 이루어질 수 있다.The
엔지니어링 플라스틱은 500㎏f/㎠이상의 인장강도, 20,000㎏f/㎠ 이상의 굴곡 탄성율, 100 ℃이상의 내열성을 갖는 것으로서, 가열하면 성형이 가능한 열가소성엔프라와 가열하면 경화하는 열경화성엔프라로 구분될 수 있다. 이러한 열가소성엔프라의 예로서는 폴리아미드, POM(Polyacetal), PBT(Polybutylene Terephthalate), PET(Polyethylene Terephthalate), SPS(Syndiotactic Polystyrene), PES(Polyether Sulfone), PEEK(Polyetheretherketone) 등이 있고, 열경화성엔프라의 예로서는 페놀, 요소, 멜라민, 알키드, 불포화 폴리에스텔, 에폭시, 디아릴프탈레이트, 실리콘, 폴리우레탄 등이 있다.Engineering plastics have a tensile strength of 500 kgf / cm 2 or more, a flexural modulus of 20,000 kgf / cm 2 or more, and heat resistance of 100 ° C. or more. . Examples of such thermoplastic enpra include polyamide, POM (Polyacetal), PBT (Polybutylene Terephthalate), PET (Polyethylene Terephthalate), SPS (Syndiotactic Polystyrene), PES (Polyether Sulfone), PEEK (Polyetheretherketone), and the like. Examples are phenol, urea, melamine, alkyds, unsaturated polyesters, epoxies, diarylphthalates, silicones, polyurethanes and the like.
열가소성엔프라 중 PEEK는, 할로겐화 벤조페논과 하이드로 키논의 용액중축함 반응에 의해 제조된 것으로서 내열성, 강인성, 내염성, 내약품성 등이 우수한 특징이 있다.. 또한, 고강도, 고강성, 고치수정밀용으로 유리섬유를 10, 20, 30% 함유한 그레이드들이 들어있고, GF 20%강화품의 경우 열변형온도가 약 300 ℃, UL온도 인덱스에서 장기내열성은 240℃이다. 아울러, 우수한 내열성에도 불구하고 일반 사출성형기 또는 압출성형기로 성형이 가능하며 감마선조사에 대한 내성 또한 양호한 특성이 있다.PEEK in the thermoplastic enpra is produced by solution condensation reaction of halogenated benzophenone and hydrokinone, and has excellent characteristics such as heat resistance, toughness, flame resistance, chemical resistance, etc. In addition, for high strength, high rigidity and high precision The grade contains 10, 20 and 30% glass fiber, and the GF 20% reinforced product has a heat deflection temperature of about 300 ° C and a long term heat resistance of 240 ° C at UL temperature index. In addition, despite the excellent heat resistance, it is possible to mold by a general injection molding machine or an extrusion molding machine, and also has good characteristics of resistance to gamma irradiation.
제1몸체(100)의 하면 중 유로가 형성되지 않은 면과, 제2몸체(200)의 상면 중 유로가 형성되지 않은 면에 접착제를 도포하여 제1, 2몸체(100, 200)를 결합함으로써 이루어질 수 있다. 다시 말해, 제1몸체(100)와 제2몸체(200)의 결합은 접착제를 통해 이루어질 수 있다.By applying an adhesive to the surface of the lower surface of the
이하, 도 7a, 도 7b, 도 18a, 도 18b 및 도 18c를 참조하여 전술한 구성을 갖는 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10)의 세정액의 유동에 대해 설명한다.Hereinafter, the flow of the cleaning liquid of the
도 7a는 도 1의 기판 세정용 노즐의 내부 유로를 도시한 도이고, 도 7b는 도 7a의 세정액의 유동을 도시한 도이다.FIG. 7A is a diagram illustrating an internal flow path of the substrate cleaning nozzle of FIG. 1, and FIG. 7B is a diagram illustrating a flow of the cleaning liquid of FIG. 7A.
단, 이하의 설명에서, 제1메인홀(110)을 통해 세정액 공급되어 기판 세정용 노즐(10)의 내부로 세정액이 유입되고, 제2메인홀(120)을 통해 기판 세정용 노즐(10) 내부의 세정액이 외부로 유출되는 것을 기준으로 설명한다.However, in the following description, the cleaning liquid is supplied through the first
먼저, 제1메인홀(110)을 통해 세정액이 공급되어, 복수개의 제1토출홀(210) 및 복수개의 제2토출홀(220)을 통해 상기 공급된 세정액이 토출되는 유동에 대해 설명한다.First, a flow in which the cleaning liquid is supplied through the first
제1메인홀(110)을 통해 세정액이 공급되면, 공급된 세정액은 제1상하유로(111)를 따라 유동된 후, 제1상하유로(111)와 제1연결유로(131)의 연결부로 유동하게 된다. 이 경우, 제1상하유로(111)와 제1연결유로(131)의 연결부는 제1상하유로(111)와 제1연결유로(131)가 서로 수직으로 연결된 부분을 의미한다.When the cleaning liquid is supplied through the first
도 7a 및 도 7b에 도시된 바와 같이, 제1상하유로(111)와 제1연결유로(131)의 연결부로 유동된 세정액은 제1연결유로(131) 상에서 A 방향과 B 방향으로 2갈래로 분기되어 유동된다. 이 경우, A 방향과 B 방향은 제1상하유로(111)와 제1연결유로(131)의 연결부를 기준으로 서로 반대 방향이다.As shown in FIGS. 7A and 7B, the cleaning liquid flowing into the connecting portion between the first upper and
다시 말해, 제1메인홀(110)을 통해 제1연결유로(131)로 유입되는 세정액은 제1, 2유로(130, 140) 각각으로 분기되어 유동되되, 제1, 2유로(130, 140) 각각으로 분기되어 유동되는 세정액의 방향은, 즉, A 방향과 B 방향은 제1상하유로(111)와 제1연결유로(131)의 연결부를 기준으로 서로 반대 방향이다.In other words, the cleaning liquid flowing into the
A 방향으로 분기된 세정액은 제1연결유로(131)를 통해 제1유로(130)로 유동된 후, 제1유로(130)의 원주방향을 따라 A1 방향과 A2 방향으로 2갈래로 분기되어 유동한다.The cleaning liquid branched in the A direction flows into the
A1 방향과 A2 방향으로 분기되어 유동된 세정액은 압전소자의 초음파 진동에 의해 제1유로(130)의 바닥면에 구비된 복수개의 제1토출홀(210)을 통해 기판 세정용 노즐(10)의 외부로 토출된다.The cleaning liquid branched and flown in the A1 and A2 directions of the
B 방향으로 분기된 세정액은 제1연결유로(131)를 통해 제2유로(140)로 유동된 후, 제2유로(140)의 원주방향을 따라 B1 방향과 B2 방향으로 2갈래로 분기되어 유동한다.The cleaning liquid branched in the B direction flows to the
B1 방향과 B2 방향으로 분기되어 유동된 세정액은 압전소자의 초음파 진동에 의해 제2유로(140)의 바닥면에 구비된 복수개의 제2토출홀(220)을 통해 기판 세정용 노즐(10)의 외부로 토출된다.The cleaning liquid branched and flown in the B1 and B2 directions of the
이하, 제2메인홀(120)을 통해, 제1, 2유로(130, 140)의 세정액이 기판 세정용 노즐(10)의 외부로 유출되는 유동에 대해 설명한다.Hereinafter, a flow through which the cleaning liquid in the first and
제2메인홀(120)과 연통된 외부 흡입 장치(미도시)를 작동시키면, 제1유로(130)의 내부에 존재하는 세정액 중 제2연결유로(132) 근방의 세정액은, 즉, 제1유로(130)의 우측 내부 영역에 존재하는 세정액은 도 7a 및 도 7b에 도시된 바와 같이, 제1유로(130) 상에서 C1 방향 및 C2 방향 2갈래를 통해 C 방향으로 유동됨으로써, 제2연결유로(132)로 유입된다. When the external suction device (not shown) in communication with the second
제1유로(130)의 내부에 존재하는 세정액 중 제2연결유로(132)와 멀리 떨어진 곳의 세정액, 즉, 제1유로(130)의 좌측 내부 영역에 존재하는 세정액은 제1유로(130)를 따라 A1 반대 방향 및 A2 반대 방향으로 유동된 후, 제1연결유로(131)로 유입된다. 제1연결유로(131)로 유입된 세정액은 A 반대 방향 및 B 방향으로 제1연결유로(131)를 따라 유동된 후, B1 방향 및 B2 방향으로 2갈래로 분기되어 유동되어 제2유로(140)로 유입된다. 그 후, 제2유로(140)를 따라 D1 방향 및 D2 방향 2갈래를 통해 D 방향으로 유동됨으로써, 제2연결유로(132)로 유입된다.Among the cleaning liquids existing in the
이렇게 제2연결유로(132)로 유입된 세정액은 제2상하유로(121) 및 제2메인홀(120)을 통해 기판 세정용 노즐(10) 외부로 유출된다.The cleaning liquid introduced into the
제2유로(140) 내부에 존재하는 세정액은 제2유로(140)의 원주 방향으로 유동된 후, D1 방향 및 D2 방향 2갈래를 통해 D 방향으로 유동됨으로써, 제2연결유로(132)로 유입된다. The cleaning liquid present in the
이렇게 제2연결유로(132)로 유입된 세정액은 제2상하유로(121) 및 제2메인홀(120)을 통해 기판 세정용 노즐(10) 외부로 유출된다.The cleaning liquid introduced into the
전술한 바와 같이, 제2메인홀(120)과 연결된 외부 흡입 장치가 작동되면, 제1유로(130) 및 제2유로(140) 각각에서 제2연결유로(132)로 유동되는 세정액은 도 7에 도시된 바와 같이, 제2연결유로(132) 상에서 C 방향과 D 방향으로 2갈래로 유동되어 제2상하유로(121)로 유입된다. 이 경우, C 방향과 D 방향은 제2상하유로(121)와 제2연결유로(132)의 연결부를 기준으로 서로 반대 방향이다.As described above, when the external suction device connected to the second
다시 말해, 제2연결유로(132)를 통해 제2메인홀(120)로 유출되는 세정액은 제1, 2유로(130, 140) 각각으로부터 제2연결유로(132)로 유동되되, 제1, 2유로(130, 140) 각각으로부터 유동되는 세정액의 방향은, 즉, C 방향과 D 방향은 제2상하유로(121)와 제2연결유로(132)의 연결부를 기준으로 서로 반대 방향이다.In other words, the cleaning liquid flowing out of the second
이 경우, 제2상하유로(121)와 제2연결유로(132)의 연결부는 제2상하유로(121)와 제2연결유로(132)가 서로 수직으로 연결된 부분을 의미한다.In this case, the connection portion of the second up and down
위와 같은 내부 유로의 구조 및 세정액의 유동으로 인해, 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10)은 다음과 같은 효과를 갖는다.Due to the structure of the internal flow path and the flow of the cleaning liquid as described above, the nozzle for cleaning the
제1메인홀(110) 및 제1상하유로(111)를 통해 기판 세정용 노즐(10)의 내부로 공급된 세정액이 제1연결유로(131) 상에서 서로 다른 방향, 즉, A 방향(외측 방향) 및 B 방향(내측 방향)으로 유동되어 제1, 2유로(130, 140) 각각으로 유동됨에 따라 세정액의 유동압이 내측 방향으로 집중되지 않고, 고르게 확산됨으로써, 제2유로(140)의 변형을 최소화시킬 수 있다.The cleaning liquids supplied into the
상세하게 설명하면, 도 18a 및 도 18b에 도시된 바와 같이, 종래의 기판 세정용 노즐과 특허문헌 1의 노즐의 경우에는 공급된 세정액이 노즐의 내측 방향으로의 방향성만을 갖고 있으므로, 내측의 원형 유로의 변형이 집중적으로 발생하였다.In detail, as shown in Figs. 18A and 18B, in the case of the nozzle for cleaning the substrate and the nozzle of
그러나, 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10)의 경우, 공급된 세정액이 B 방향을 따라 유동되어 제2유로(140)로 유동되고, B 방향과 반대되는 A 방향을 따라 유동되어 제1유로(130)로 유동됨에 따라 유동압이 기판 세정용 노즐(10)의 내측 및 외측 전반에 고르게 가해지게 된다.However, in the case of the
이러한 유동압의 고른 분포는 도 18c에서 확인할 수 있으며, 이를 통해, 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10)은 종래의 노즐들에 비해 제2유로(140)의 변형이 크게 발생되지 않는다는 것을 확인할 수 있다. This even distribution of the flow pressure can be seen in Figure 18c, through which, the
이처럼, 제2유로(140)에 가해지는 유동압이 낮아짐에 따라, 종래의 노즐들에 비해 제2유로(140)의 파손 및 리크 등을 효과적으로 방지할 수 있다.As such, as the flow pressure applied to the
기판 세정용 노즐(10)의 내부 유로들에 가해지는 유동압의 고른 분포는 기판 세정용 노즐(10)의 높은 내압 특성에 기여하게 된다. The even distribution of the flow pressure applied to the internal flow paths of the
높은 내압 특성은 높은 공급압으로 높은 토출압 성능을 발휘하거나, 제1, 2토출홀(210, 220)로 토출되는 세정액의 균일성을 보장하여, 사영역 없는 세정액의 토출을 달성할 수 있다. 또한, 높은 내압 특성으로 인해, 기판 세정용 노즐(10) 내부의 유로 파손을 방지할 뿐만 아니라, 제1, 2몸체(100, 200)의 결합 부위가 파손되는 것을 방지할 수 있다.The high pressure resistance characteristics can exert high discharge pressure performance at a high supply pressure or ensure uniformity of the cleaning liquid discharged to the first and second discharge holes 210 and 220, thereby achieving discharge of the cleaning liquid without dead zones. In addition, due to the high withstand voltage characteristics, not only can damage of the flow path inside the
전술한 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10)은 제1유로(130)와 제2유로(140)의 관계가 '제1유로(130)의 체적 : 제2유로(140)의 체적 = 1 : 1' 조건을 만족하게 형성되는 것이 바람직하다.In the
이처럼, 제1유로(130)의 체적과 제2유로(140)의 체적의 비가 1 : 1이 됨에 따라, 제1연결유로(131)에서 A 방향 및 B 방향으로 2갈래로 분기되어 유동하는 세정액의 유동량의 비율이 1 : 1 에 가깝게 될 수 있다. 따라서, 제1, 2유로(130, 140)에 균일한 양의 세정액이 유동될 수 있으며, 이를 통해, 제1유로(130)의 복수개의 제1토출홀(210)을 통해 토출되는 세정액의 토출량과 제2유로(140)의 복수개의 제2토출홀(220)을 통해 토출되는 세정액의 토출량의 균일성이 보장될 수 있다. 이러한 토출량의 균일성은 기판 세정시 사영역이 발생하는 것을 방지할 수 있다.As such, as the ratio of the volume of the
전술한 제1유로(130) 및 제2유로(140)의 체적의 조건과 더불어 복수개의 제1토출홀(210)의 갯수와 복수개의 제2토출홀(220)의 갯수는 동일한 갯수로 형성되는 것이 바람직하다. 이는, 제1, 2토출홀(210, 220)의 갯수가 동일해짐에 따라, 전술한 토출량의 균일성이 더욱 효과적으로 달성될 수 있기 때문이다.The number of the plurality of first discharge holes 210 and the number of the plurality of second discharge holes 220 together with the condition of the volume of the
전술한 바와 달리, 복수개의 제2토출홀(220)은 원형 형상의 제2유로(140)의 원주 방향을 따라 2열로 서로 일정한 간격을 갖도록 구비될 수 있다. 이처럼, 복수개의 제2토출홀(220)이 2열로 구비됨에 따라, 쉽게 복수개의 제1토출홀(210)과 복수개의 제2토출홀(220)의 갯수를 동일하게 형성시킬 수 있는 장점이 있다.Unlike the foregoing, the plurality of second discharge holes 220 may be provided to have a predetermined distance from each other in two rows along the circumferential direction of the circular
전술한 설명에서는 제1, 2유로(130, 140), 제1, 2연결유로(131, 132)가 제1몸체(100)의 하면에 형성되는 것을 기준으로 설명하였으나, 제1, 2유로(130, 140), 제1, 2연결유로(131, 132)는 제1몸체(100)의 하면 및 제2몸체(200)의 상면 중 적어도 어느 하나에 형성될 수 있다.In the above description, the first and
본 발명의 바람직한 제2실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10')
이하, 도 8 및 도 9를 참조하여 본 발명의 바람직한 제2실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10')에 대해 설명한다.Hereinafter, the
도 8은 본 발명의 바람직한 제2실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 제1몸체의 하면을 도시한 저면도이고, 도 9는 본 발명의 바람직한 제2실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 제2몸체의 상면을 도시한 평면도이다.8 is a bottom view illustrating a bottom surface of a first body of a substrate cleaning nozzle according to a second preferred embodiment of the present invention, and FIG. 9 is a second view of the substrate cleaning nozzle according to a second preferred embodiment of the present invention. It is a top view which shows the upper surface of a body.
도 8 및 도 9에 도시된 바와 같이, 본 발명의 바람직한 제2실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10')은 제1몸체(100')의 하면에 복수개의 홈(160)이 형성되고, 제2몸체(200')의 상면에 복수개의 홈(160)에 대응되게 형성되어 복수개의 홈(160) 각각에 삽입되는 복수개의 돌기(260)가 형성되어 있다. 8 and 9, in the
다시 말해, 본 발명의 바람직한 제2실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10')은 전술한 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10)의 제1몸체(100)의 하면에 복수개의 홈(160)이 추가적으로 형성되고, 제2몸체(200)의 상면에 복수개의 돌기(260)가 추가적으로 형성된 형상을 갖는 것이다.In other words, the
도 8에 도시된 바와 같이, 복수개의 홈(160)은 제1몸체(100')의 하면에 형성되며, 복수개의 돌기(260)가 삽입되는 공간을 제공하는 기능을 한다.As shown in FIG. 8, the plurality of
복수개의 홈(160)은 제1유로(130) 외측에 형성되는 제1홈(161)과, 제1유로(130)와 제2유로(140) 사이에 위치하는 제2, 3홈(162, 163)과, 제2유로(140)의 내측에 형성되는 제4홈(164)을 포함하여 구성될 수 있다.The plurality of
제1홈(161)은 제1유로(130)보다 더 큰 지름을 갖는 원형 형상을 갖으며, 제1유로(130)를 둘러싸도록 형성된다. The
제1홈(161)은 그 중심점이 제1, 2유로(130, 140)의 중심점과 동일하게 형성될 수 있다. 다시 말해, 제1홈(161), 제1유로(130) 및 제2유로(140)는 동일한 중심점을 갖는 동심원일 수 있다. The center of the
제1홈(161)의 내부에는 후술할 제1돌기(261)의 제1융착산(261a)이 삽입되는 제1융착산홈(161a)이 형성될 수 있다.A
제1융착산홈(161a)은 제1홈(161)의 중앙에 형성되는 것이 바람직하다.The
제2홈(162)은 제1, 2유로(130, 140) 사이에서 제1, 2연결유로(131, 132)의 전방 방향에 위치하도록 형성될 수 있다. 다시 말해, 제2홈(162)은 제2유로(140)의 전방 영역, 즉, 일부 영역을 둘러싸도록 형성된다.The
제3홈(163)은 제1, 2유로(130, 140) 사이에서 제1, 2연결유로(131, 132)의 후방 방향에 위치하도록 형성될 수 있다. 다시 말해, 제3홈(163)은 제2유로(140)의 후방 영역, 즉, 나머지 영역을 둘러싸도록 형성된다.The
제4홈(164)은 제2유로(140)보다 더 작은 지름을 갖는 원형 형상을 갖으며, 제2유로(140)에 의해 둘러싸이도록 형성된다. The
제4홈(164)은 그 중심점이 제1, 2유로(130, 140)의 중심점과 동일하게 형성될 수 있다. 다시 말해, 제4홈(164), 제1유로(130) 및 제2유로(140)는 동일한 중심점을 갖는 동심원일 수 있다. The
제4홈(164)의 내부에는 후술할 제4돌기(264)의 제2융착산(264a)이 삽입되는 제2융착산홈(164a)이 형성될 수 있다.A
제2융착산홈(164a)은 제4홈(164)의 중앙에 형성되는 것이 바람직하다.The
도 9에 도시된 바와 같이, 복수개의 돌기(260)는 제2몸체(200')의 상면에 형성되며, 제1, 2몸체(100', 200')가 결합시 복수개의 홈(160) 각각에 삽입되는 기능을 한다.As shown in FIG. 9, the plurality of
복수개의 돌기(260)는 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상의 외측에 형성되는 제1돌기(261)와, 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상과 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상 사이에 위치하는 제2, 3돌기(262, 263)와, 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상의 내측에 형성되는 제4돌기(264)를 포함하여 구성될 수 있다.The plurality of
제1돌기(261)는 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상보다 더 큰 지름을 갖는 원형 형상을 갖으며, 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상을 둘러싸도록 형성된다. 이러한 제1돌기(261)는 제1, 2몸체(100', 200')가 결합될 때, 제1홈(161)에 삽입되도록 제1홈(161)에 대응되는 위치에 형성된다.The
제1돌기(261)의 상면에는 제1융착산(261a)이 형성되며, 제1융착산(261a)은 제1돌기(261)보다 더 작은 폭을 갖으며, 상부로 돌출되게 형성된다. 이러한 제1융착산(261a)은 제1홈(161)의 제1융착산홈(161a)에 삽입된다.A
제1돌기(261)는 그 중심점이 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상 및 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상의 중심점과 동일하게 형성될 수 있다. 다시 말해, 제1돌기(261), 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상 및 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상은 동일한 중심점을 갖는 동심원일 수 있다. The
제2돌기(262)는 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상 및 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상 사이에서 전방 방향에 위치하도록 형성될 수 있다. 다시 말해, 제2돌기(262)는 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상의 전방 영역, 즉, 일부 영역을 둘러싸도록 형성된다. The
이러한 제2돌기(262)는 제1, 2몸체(100', 200')가 결합될 때, 제2홈(162)에 삽입되도록 제2홈(162)에 대응되는 위치에 형성된다.The
제3돌기(263)는 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상 및 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상 사이에서 후방 방향에 위치하도록 형성될 수 있다. 다시 말해, 제3돌기(263)는 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상의 후방 영역, 즉, 나머지 영역을 둘러싸도록 형성된다. The
이러한 제3돌기(263)는 제1, 2몸체(100', 200')가 결합될 때, 제3홈(163)에 삽입되도록 제3홈(163)에 대응되는 위치에 형성된다.The
제4돌기(264)는 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상보다 작은 지름을 갖는 원형 형상을 갖으며, 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상에 둘러싸이도록 형성된다. 이러한 제4돌기(264)는 제1, 2몸체(100', 200')가 결합될 때, 제4홈(164)에 삽입되도록 제4홈(164)에 대응되는 위치에 형성된다.The
제4돌기(264)의 상면에는 제2융착산(264a)이 형성되며, 제2융착산(264a)은 제4돌기(264)보다 더 작은 폭을 갖으며, 상부로 돌출되게 형성된다. 이러한 제2융착산(264a)은 제4홈(164)의 제2융착산홈(164a)에 삽입된다.A
제4돌기(264)는 그 중심점이 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상 및 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상의 중심점과 동일하게 형성될 수 있다. 다시 말해, 제4돌기(264), 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상 및 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상은 동일한 중심점을 갖는 동심원일 수 있다. The
전술한 구성을 갖는 본 발명의 바람직한 제2실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10')은 제1몸체(100') 및 제2몸체(200')가 수지 재질로 이루어질 경우, 제1, 2몸체(100, 200)의 결합이 초음파 융착에 의해 이루어질 수 있다. 특히, 제1몸체(100') 및 제2몸체(200')는 수지재질 중 PEEK 재질로 이루어지는 것이 바람직하다.The
초음파 융착이란, 플라스틱 자체의 초음파진동에 의한 발열, 연화, 용융현상에 따라 2개 이상의 플라스틱 접합면이 밀착하여 그곳에 확산 작용이 일어나 융착이 이루어지는 것으로서, 전달융착(WELDING), 점융착(SPOT WELDING), 봉합융착(STADING), 삽입융착(INSERTING), 스웨징(SWAGING), 스리팅(SLITTING) 등의 방식으로 구분될 수 있다. 이러한 초음파 융착을 하기 위한 초음파 융착기는 100~250V, 50~60Hz의 전원을 발전기(Generator)를 통해 20KHz와 35KHz의 전기에너지로 변환시키고 이것을 다시 변환기(Converter)를 통해 기계적 진동에너지로 바꾼 후 변압기(Booster)로 그 진폭을 조절하며 이와 같이 형성된 초음파진동에너지가 혼(Horn)을 통해 융착물에 전달되면서 융착물의 접합면에서 순간적인 마찰열이 발생하여 플라스틱이 용해 접착되어 강력한 분자적 결합이 이루어지는 원리일 수 있다. Ultrasonic welding refers to the bonding of two or more plastic joint surfaces due to heat generation, softening, and melting caused by ultrasonic vibration of the plastic itself. , Suture fusion (STADING), insert fusion (INSERTING), swaging (SWAGING), the slitting (SLITTING) and the like can be divided into ways. Ultrasonic fusion machine for ultrasonic welding is to convert the power of 100 ~ 250V, 50 ~ 60Hz into electric energy of 20KHz and 35KHz through generator, and then convert it into mechanical vibration energy through converter. It is a principle that the ultrasonic vibration energy thus formed is transmitted to the fusion through the horn and instantaneous frictional heat is generated at the fusion surface of the fusion, so that the plastic is dissolved and bonded to form a strong molecular bond. Can be.
위와 같은 초음파 융착은 초음파 융착기인 혼에서 전기적 에너지가 진동자를 통해 기계적 진동에너지로 변환된 후, 제1몸체(100')와 제2몸체(200')가 적층된 상태에서 혼을 통해 초음파 발사 및 제1, 2몸체(100', 200') 중 적어도 어느 하나를 가압하면 제1몸체(100')와 제2몸체(200')의 결합면, 즉, 접합면에 순간적으로 강력한 마찰열이 발생되어 결합면이 용해 접착됨으로써, 이루어질 수 있다.The ultrasonic fusion as described above is the ultrasonic energy fusion in the ultrasonic fusion machine after the electrical energy is converted into the mechanical vibration energy through the vibrator, ultrasonic firing and firing through the horn in the state in which the first body 100 'and the second body 200' When at least one of the first and second bodies 100 'and 200' is pressed, a strong frictional heat is generated instantaneously on the mating surface of the first body 100 'and the second body 200', that is, the joint surface. The bonding surface can be made by dissolution bonding.
위와 같이, 혼을 통해 초음파 진동을 가하게 되면, 제1돌기(261)의 제1융착산(261a) 및 제4돌기(264)의 제2융착산(264a) 각각이 제1홈(161)의 제1융착산홈(161a) 및 제4홈(164)의 제2융착산홈(164a) 내부에서 용융되며, 이를 통해, 제1, 2몸체(100', 200')가 결합될 수 있다. 다시 말해, 제1, 2융착산홈(161a, 164a) 각각에 삽입된 제1, 2융착산(261a, 264a)의 삽입면은 결합면 또는 접합면이 되는 것이다.As described above, when the ultrasonic vibration is applied through the horn, each of the
전술한 바와 달리, 초음파 융착은 제2몸체(200)의 하면을 통해 혼에서 생성된 초음파를 발사함으로써 수행될 수 있으며, 이 경우, 정밀한 융착을 위해, 제1, 2융착산(261a, 264a) 및 제1, 2융착산홈(161a, 164a)에만 초음파를 발사할 수도 있다.Unlike the foregoing, ultrasonic fusion may be performed by firing ultrasonic waves generated in the horn through the lower surface of the
전술한 제1홈(161) 및 제1돌기(261), 제4홈(164) 및 제4돌기(264)는 제1, 2융착산(261a, 264a)이 각각 제1, 2융착산홈(161a, 164a)에 삽입되어 초음파 융착됨으로써, 제1, 2몸체(100', 200')를 결합시키는 기능을 한다.The
제2, 3홈(162, 163) 및 제2, 3돌기(262, 263)는 제2, 3돌기(262, 263)가 제2, 3홈(162, 163)에 삽입됨으로써, 제1몸체(100')와 제2몸체(200')의 위치를 정렬해주는 기능을 한다.In the second and
위와 같이, 본 발명의 바람직한 제2실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10')의 제1, 2몸체(100', 200')가 초음파 융착에 의해 서로 결합되면, 제1유로(130), 제2유로(140), 제1연결유로(131) 및 제2연결유로(132)는 복수개의 홈(160) 및 복수개의 돌기(260)가 결합된 부분 사이에 위치하게 된다.As described above, when the first and second bodies 100 'and 200' of the substrate cleaning nozzle 10 'according to the second exemplary embodiment of the present invention are coupled to each other by ultrasonic welding, the
상세하게 설명하면, 제1유로(130)는 제1홈(161) 및 제2돌기(262)가 결합된 부분과, 제2홈(162) 및 제2돌기(262)가 결합된 부분과, 제3홈(163) 및 제3돌기(263)가 결합된 부분 사이에 위치한다. 또한, 제2유로(140)는 제2홈(162) 및 제2돌기(262)가 결합된 부분, 제3홈(163) 및 제3돌기(263)가 결합된 부분과 제4홈(164) 및 제4돌기(264)가 결합된 부분 사이에 위치한다. 또한, 제1, 2연결유로(131, 132)는 제2홈(162) 및 제2돌기(262)가 결합된 부분과, 제3홈(163) 및 제3돌기(263)가 결합된 부분 사이에 위치한다.In detail, the
전술한 본 발명의 바람직한 제2실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10')은 다음과 같은 효과를 갖는다.The
별도의 접착제가 필요하지 않고, 강력한 분자적 결합으로 결합상태가 매우 견고하게 유지될 수 있다. 이와 같은 높은 결합력으로 인해, 유로들의 파손을 방지할 수 있으므로, 기판 세정용 노즐(10')의 높은 내압 특성을 유지하는데 기여한다.There is no need for a separate adhesive, and the strong molecular bond allows the bond to remain very solid. Due to such a high bonding force, it is possible to prevent the breakage of the flow paths, thereby contributing to maintaining the high withstand voltage characteristic of the substrate cleaning nozzle 10 '.
또한, 초음파 융착은 0.1초 내지 1초 이내로 공정이 이루어져 공정시간이 매우 짧으므로, 대량생산에 유리하고, 제품 표면의 변형 및 변질 없이 깨끗하게 접합 가공이 가능하다.In addition, the ultrasonic fusion process is performed within 0.1 seconds to 1 second, so the process time is very short, which is advantageous for mass production, and the bonding process can be performed cleanly without deforming or altering the surface of the product.
또한, 석영 등 유리재질에 비해 식각 현상이 적은 반도체, 즉, 수지 재질을 사용하게 되므로, 반영구적이고, 제1, 2몸체(100', 200')의 결합시, 전력 소모가 적어 제품의 불량율을 줄일 수 있을뿐만 아니라 공정비용을 절감하는 효과를 가질 수 있다.In addition, since semiconductors, that is, resin materials, are used, which are less etched than glass materials such as quartz, they are semi-permanent, and when the first and second bodies 100 'and 200' are combined, the power consumption is low and the defect rate of the product is reduced. Not only can it reduce, it also has the effect of reducing process costs.
제1유로(130), 제2유로(140), 제1연결유로(131) 및 제2연결유로(132)는 복수개의 홈(160) 및 복수개의 돌기(260) 사이에 위치하게 되므로, 복수개의 홈(160) 및 복수개의 돌기(260)가 초음파 융착에 의해 결합될 때, 상기 내부 유로들은 결합 부위의 내측에 위치하게 된다. 따라서, 세정액이 상기 내부 유로들에서 새어나가는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.Since the
또한, 상기 내부 유로들의 최외측인 제1돌기(261)에 제1융착산(261a)이 형성되고, 최내측인 제4돌기(264)에 제2융착산(264a)이 형성됨으로써, 상기 내부 유로들을 최외측과 최내측에서 가두는 효과를 달성할 수 있으며, 이를 통해, 상기 내부 유로들에서 세정액이 새어나가는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.In addition, a
전술한 설명에서는 제1몸체(100')의 하면에 복수개의 홈(160)이 형성되고, 제2몸체(200')의 상면에 복수개의 돌기(260)가 형성되는 것을 기준으로 설명하였으나, 복수개의 홈(160)은 제1몸체(100')의 하면 및 제2몸체(200')의 상면 중 어느 하나에 형성되고, 복수개의 돌기(260)는 제1몸체(100')의 하면 및 제2몸체(200')의 상면 중 나머지 하나에 형성될 수 있다.In the above description, a plurality of
본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10")
이하, 도 10 내지 도 12를 참조하여 본 발명의 바람직한 제2실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10")에 대해 설명한다.Hereinafter, a
도 10은 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 제1몸체의 하면을 도시한 저면도이고, 도 11은 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 제2몸체의 상면을 도시한 평면도이고, 도 12는 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 제2몸체의 하면을 도시한 저면도이다.FIG. 10 is a bottom view illustrating a bottom surface of a first body of a substrate cleaning nozzle according to a third preferred embodiment of the present invention, and FIG. 11 is a second view of the substrate cleaning nozzle according to a third preferred embodiment of the present invention. 12 is a plan view showing a top surface of the body, and FIG. 12 is a bottom view showing a bottom surface of the second body of the nozzle for cleaning the substrate according to the third embodiment of the present invention.
도 10 내지 도 12에 도시된 바와 같이, 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10")은, 제1토출홀(210)이 구비된 제1유로(130)와, 제2토출홀(220)이 구비되며, 제1유로(130)의 내측에 위치하는 제2유로(140)와, 복수개의 제3토출홀(230)이 구비되며, 제2유로(140)의 내측에 위치하는 제3유로(150)와, 제1유로(130)와 제2유로(140)를 연결시키는 제1연결유로(131)와, 제1유로(130)와 제2유로(140)를 연결시키며, 제1유로(130)의 중심점을 기준으로 제1연결유로(131)와 대칭되게 위치하는 제2연결유로(132)와, 제2유로(140)와 제3유로(150)를 연결시키며, 제1연결유로(131)와 일직선 상에 위치하는 제3연결유로(141)와, 제2유로(140)와 제3유로(150)를 연결시키며, 제2유로(140)의 중심점을 기준으로 제3연결유로(141)와 대칭되게 위치하고, 제2연결유로(132)와 일직선 상에 위치하는 제4연결유로(142)와, 세정액이 유입되거나 유출되는 제1메인홀(110)과 연결되며, 제1연결유로(131) 상에 구비되는 제1상하유로(111)와, 세정액이 유입되거나 유출되는 제2메인홀(120)과 연결되며, 제2연결유로(132) 상에 구비되는 제2상하유로(121)와, 그 상면에 제1메인홀(110), 제2메인홀(120)이 형성되고, 그 내부에 제1상하유로(111), 제2상하유로(121)가 형성되고, 그 하면에 제1유로(130), 제2유로(140), 제1연결유로(131), 제2연결유로(132)가 형성된 제1몸체(100")와, 제1몸체(100")의 하면과 그 상면이 맞닿도록 제1몸체(100")의 하부에 결합되며, 제1유로(130)에 구비되는 제1토출홀(210)과, 제2유로(140)에 구비되는 제2토출홀(220)이 형성된 제2몸체(200")를 포함하여 구성될 수 있다.10 to 12, the
본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10")은 전술한 본 발명의 바람직한 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10)과 비교하여, 제3유로(150), 제3연결유로(141), 제4연결유로(142)가 추가적으로 형성되어 있다는 점에서 차이가 있을 뿐, 나머지 구성요소는 동일하다. 따라서, 전술한 설명과 동일한 구성요소에 대한 설명은 생략한다.The
제3유로(150)는 제1몸체(100")의 하면에 제2유로(140)의 내측에 위치하도록 형성된다.The
제3유로(150)는 원형 형상을 갖을 수 있다.The
제1유로(130)와 제2유로(140)와, 제3유로(150)가 원형 형상을 갖을 경우, 제1유로(130)와 제2유로(140)와, 제3유로(150)는 동일한 중심점을 갖을 수 있다. 다시 말해, 제1유로(130)와 제2유로(140)와, 제3유로(150)는 동일한 중심점을 갖는 동심원일 수 있다.When the
제3유로(150)는 제1몸체(100")와 제2몸체(200")가 상하 결합될 때, 제1몸체(100")의 하면 부분이 제3유로(150)의 상부 부분이 되고, 제2몸체(200")의 상면 부분이 제3유로(150)의 바닥 부분이 된다.In the
제3유로(150)에는 복수개의 제3토출홀(230)이 구비되는데, 이러한 복수개의 제3토출홀(230)은 제2몸체(200)의 상면과 하면을 관통하도록 형성된다.A plurality of third discharge holes 230 are provided in the
제1몸체(100")와 제2몸체(200")가 상하 결합되면, 복수개의 제3토출홀(230)이 제3유로(150)의 바닥 부분에 위치하게 됨으로써, 제3유로(150)는 복수개의 제3토출홀(230)과 연결된다.When the
복수개의 제3토출홀(230)은 원형 형상의 제3유로(150)의 원주 방향을 따라 1열로 서로 일정한 간격을 갖도록 구비될 수 있다.The plurality of third discharge holes 230 may be provided to have a predetermined distance from each other in a row along the circumferential direction of the circular
복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상은 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상의 내측에 위치할 수 있다. 이 경우, 복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상과 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상은 동일한 중심점을 갖는 동심원일 수 있다.The circular shape formed by the plurality of third discharge holes 230 may be located inside the circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220. In this case, the circular shape formed by the plurality of third discharge holes 230 and the circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220 may be concentric circles having the same center point.
제3연결유로(141)는 제1몸체(100")의 하면에 형성된다.The
제3연결유로(141)는 제2유로(140)의 내측과 제3유로(150)의 외측 사이에 위치하는 유로로서, 제2유로(140)와 제3유로(150)를 연결시킨다.The
제3연결유로(141)는 제1몸체(100")와 제2몸체(200")가 상하 결합될 때, 제1몸체(100)의 하면 부분이 제3연결유로(141)의 상부 부분이 되고, 제2몸체(200")의 상면 부분이 제3연결유로(141)의 바닥 부분이 된다.When the
제3연결유로(141)는 제1연결유로(131)와 일직선 상에 위치한다.The
제3연결유로(141)는 직선 형상을 갖는 것이 바람직하다.The
제4연결유로(142)는 제2유로(140)의 내측과 제3유로(150)의 외측 사이에 위치하는 유로로서, 제2유로(140)와 제3유로(150)를 연결시킨다.The
제4연결유로(142)는 제1몸체(100")와 제2몸체(200")가 상하 결합될 때, 제1몸체(100)의 하면 부분이 제4연결유로(142)의 상부 부분이 되고, 제2몸체(200")의 상면 부분이 제4연결유로(142)의 바닥 부분이 된다.When the
제4연결유로(142)는 직선 형상을 갖는 것이 바람직하다.It is preferable that the
제4연결유로(142)는 제2연결유로(132)와 일직선 상에 위치한다.The
제4연결유로(142)는 제1유로(130)의 중심점 또는 제2유로(140)의 중심점을 기준으로 제3연결유로(141)와 대칭되게 위치한다. 따라서, 제1연결유로(131), 제2연결유로(132), 제3연결유로(141) 및 제4연결유로(142)는 제1유로(130)의 중심점 또는 제2유로(140)의 중심점 또는 제3유로(150)의 중심점을 지나는 일직선 상에 위치하게 된다.The
제2몸체(200")에는 복수개의 제3토출홀(230)이 형성된다. 복수개의 제3토출홀(230)은 제2몸체(200")의 상면과 하면을 관통하도록 형성된다.A plurality of third discharge holes 230 are formed in the
복수개의 제3토출홀(230)은 제3유로(150)의 원주 방향을 따라 1열로 서로 일정한 간격으로 형성될 수 있다.The plurality of third discharge holes 230 may be formed at regular intervals from each other in one row along the circumferential direction of the
복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상은 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상의 내측에 위치할 수 있다. 이 경우, 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상과, 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상과 복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상은 동일한 중심점을 갖는 동심원일 수 있다.The circular shape formed by the plurality of third discharge holes 230 may be located inside the circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220. In this case, the circular shape formed by the plurality of first discharge holes 210 and the circular shape formed by the plurality of second discharge holes 220 and the circular shape formed by the plurality of third discharge holes 230 are the same. It can be a concentric circle with a center point.
복수개의 제3토출홀(230)은 전술한 제1, 2토출홀(210, 220)과 같이, 제3토출홀 상부영역(미도시), 제3토출홀 하부영역(미도시) 및 제3토출홀 중앙영역(미도시)를 갖도록 형성될 수 있으며, 이에 대한 자세한 설명은 전술한 설명으로 대체될 수 있다.The plurality of third discharge holes 230 are the same as the first and second discharge holes 210 and 220 described above, and the third discharge hole upper region (not shown), the third discharge hole lower region (not shown), and the third The discharge hole may be formed to have a central area (not shown), and a detailed description thereof may be replaced with the above description.
따라서, 복수개의 제3토출홀(230)은 상부에서 하부로 갈수록 지름이 작아지는 경사진 영역을 갖을 수 있다.Therefore, the plurality of third discharge holes 230 may have an inclined area whose diameter decreases from the top to the bottom.
이하, 도 13a, 도 13b, 도 18d를 참조하여 전술한 구성을 갖는 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10")의 세정액의 유동에 대해 설명한다.Hereinafter, the flow of the cleaning liquid of the
단, 이하의 설명에서, 제1메인홀(110)을 통해 세정액 공급되어 기판 세정용 노즐(10")의 내부로 세정액이 유입되고, 제2메인홀(120)을 통해 기판 세정용 노즐(10") 내부의 세정액이 외부로 유출되는 것을 기준으로 설명한다.However, in the following description, the cleaning liquid is supplied through the first
도 13a는 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 내부 유로를 도시한 도이고, 도 13b는 도 13a의 세정액의 유동을 도시한 도이다.FIG. 13A illustrates an internal flow path of a substrate cleaning nozzle according to a third exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 13B illustrates a flow of the cleaning liquid of FIG. 13A.
먼저, 제1메인홀(110)을 통해 세정액이 공급되어, 복수개의 제1토출홀(210), 복수개의 제2토출홀(220) 및 복수개의 제3토출홀(230)을 통해 상기 공급된 세정액이 토출되는 유동에 대해 설명한다.First, the cleaning liquid is supplied through the first
제1메인홀(110)을 통해 세정액이 공급되면, 공급된 세정액은 제1상하유로(111)를 따라 유동된 후, 제1상하유로(111)와 제1연결유로(131)의 연결부로 유동하게 된다. 이 경우, 제1상하유로(111)와 제1연결유로(131)의 연결부는 제1상하유로(111)와 제1연결유로(131)가 서로 수직으로 연결된 부분을 의미한다.When the cleaning liquid is supplied through the first
도 13a 및 도 13b에 도시된 바와 같이, 제1상하유로(111)와 제1연결유로(131)의 연결부로 유동된 세정액은 제1연결유로(131) 상에서 A 방향(외측 방향)과 B 방향(내측 방향)으로 2갈래로 분기되어 유동된다. 이 경우, A 방향과 B 방향은 제1상하유로(111)와 제1연결유로(131)의 연결부를 기준으로 서로 반대 방향이다.As shown in FIGS. 13A and 13B, the cleaning liquid flowing to the connection portion between the first upper and
다시 말해, 제1메인홀(110)을 통해 제1연결유로(131)로 유입되는 세정액은 제1, 2유로(130, 140) 각각으로 분기되어 유동되되, 제1, 2유로(130, 140) 각각으로 분기되어 유동되는 세정액의 방향은, 즉, A 방향과 B 방향은 제1상하유로(111)와 제1연결유로(131)의 연결부를 기준으로 서로 반대 방향이다.In other words, the cleaning liquid flowing into the
A 방향으로 분기된 세정액은 제1연결유로(131)를 통해 제1유로(130)로 유동된 후, 제1유로(130)의 원주방향을 따라 A1 방향과 A2 방향으로 2갈래로 분기되어 유동한다.The cleaning liquid branched in the A direction flows into the
A1 방향과 A2 방향으로 분기되어 유동된 세정액은 압전소자의 초음파 진동에 의해 제1유로(130)의 바닥면에 구비된 복수개의 제1토출홀(210)을 통해 기판 세정용 노즐(10")의 외부로 토출된다.The cleaning liquid branched in the A1 and A2 directions flows through the
B 방향으로 분기된 세정액은 제1연결유로(131)를 통해 제2유로(140)로 유동된 후, 제2유로(140)의 원주방향을 따라 B1 방향, B2 방향 및 C 방향으로 3갈래로 분기되어 유동한다.The cleaning liquid branched in the B direction flows through the
B1 방향과 B2 방향으로 분기되어 유동된 세정액은 압전소자의 초음파 진동에 의해 제2유로(140)의 바닥면에 구비된 복수개의 제2토출홀(220)을 통해 기판 세정용 노즐(10")의 외부로 토출된다.The cleaning liquid branched in the B1 direction and the B2 direction flows through the plurality of second discharge holes 220 provided in the bottom surface of the
C 방향으로 유동된 세정액은 제3연결유로(141)를 따라 유동된 후, 제3유로(150)의 원주 방향을 따라 C1 방향과 C2 방향으로 2갈래로 분기되어 유동한다.After the cleaning liquid flowing in the C direction flows along the
C1 방향과 C2 방향으로 분기되어 유동된 세정액은 압전소자의 초음파 진동에 의해 제3유로(150)의 바닥면에 구비된 복수개의 제3토출홀(230)을 통해 기판 세정용 노즐(10")의 외부로 토출된다.The cleaning liquid branched in the C1 direction and the C2 direction flows through the plurality of third discharge holes 230 provided in the bottom surface of the
이하, 제2메인홀(120)을 통해, 제1, 2유로(130, 140)의 세정액이 기판 세정용 노즐(10")의 외부로 유출되는 유동에 대해 설명한다.Hereinafter, the flow through which the cleaning liquids of the first and
제2메인홀(120)과 연통된 외부 흡입 장치(미도시)를 작동시키면, 제1유로(130)의 내부에 존재하는 세정액 중 제2연결유로(132) 근방의 세정액은, 즉, 제1유로(130)의 우측 내부 영역에 존재하는 세정액은 도 13a 및 도 13b에 도시된 바와 같이, 제1유로(130) 상에서 D1 방향 및 D2 방향 2갈래를 통해 D 방향으로 유동됨으로써, 제2연결유로(132)로 유입된다. When the external suction device (not shown) in communication with the second
제1유로(130)의 내부에 존재하는 세정액 중 제2연결유로(132)와 멀리 떨어진 곳의 세정액, 즉, 제1유로(130)의 좌측 내부 영역에 존재하는 세정액은 제1유로(130)를 따라 A1 반대 방향 및 A2 반대 방향으로 유동된 후, 제1연결유로(131)로 유입된다. 제1연결유로(131)로 유입된 세정액은 A 반대 방향 및 B 방향으로 제1연결유로(131)를 따라 유동된 후, B1 방향, B2 방향, C 방향으로 3갈래로 분기되어 유동된다.Among the cleaning liquids present in the
이 중 B1 방향 및 B2 방향을 통해 제2유로(140)로 유입된 세정액은 제2유로(140)의 원주 방향을 따라 유동된 후, E1 방향 및 E2 방향 2갈래를 통해 E 방향으로 유동됨으로써, 제2연결유로(132)로 유입된다. 이렇게 제2연결유로(132)로 유입된 세정액은 제2상하유로(121) 및 제2메인홀(120)을 통해 기판 세정용 노즐(10) 외부로 유출된다.Among these, the cleaning liquid introduced into the
C 방향으로 유동된 세정액은 C1 방향, C2 방향으로 2갈래로 분기되어 제3유로(150)의 원주 방향으로 유동된 후, F1 방향 및 F2 방향 2갈래를 통해 F 방향으로 유동됨으로써, 제4연결유로(142)로 유입된다. 그 후, 세정액은 E방향으로 유동됨으로써, 제2연결유로(132)로 유입되고, 이렇게 제2연결유로(132)로 유입된 세정액은 제2상하유로(121) 및 제2메인홀(120)을 통해 기판 세정용 노즐(10) 외부로 유출된다.The cleaning liquid flowing in the C direction is branched into two branches in the C1 direction and the C2 direction, flows in the circumferential direction of the
제2유로(140)의 내부에 존재하는 세정액 중 제2연결유로(132) 근방의 세정액은, 즉, 제2유로(140)의 우측 내부 영역에 존재하는 세정액은 제2유로(140) 상에서 E1 방향 및 E2 방향 2갈래를 통해 E 방향으로 유동됨으로써, 제2연결유로(132)로 유입된다. Among the cleaning liquids present in the
제2유로(140)의 내부에 존재하는 세정액 중 제2연결유로(132)와 멀리 떨어진 곳의 세정액, 즉, 제2유로(140)의 좌측 내부 영역에 존재하는 세정액은 제2유로(140)를 따라 B1 반대 방향 및 B2 반대 방향으로 유동된 후, 제3연결유로(141)로 유입된다. 제3연결유로(141)로 유입된 세정액은 C 방향으로 제3연결유로(141)를 따라 유동된 후, C1 방향, C2 방향으로 2갈래로 분기되어 유동된다.Among the cleaning liquids existing in the
C1 방향 및 C2 방향을 통해 제3유로(150)로 유입된 세정액은 제3유로(150)의 원주 방향을 따라 유동된 후, F1 방향 및 F2 방향 2갈래를 통해 F 방향으로 유동됨으로써, 제4연결유로(142)로 유입된다. 그 후, 세정액은 E방향으로 유동됨으로써, 제2연결유로(132)로 유입되고, 이렇게 제2연결유로(132)로 유입된 세정액은 제2상하유로(121) 및 제2메인홀(120)을 통해 기판 세정용 노즐(10) 외부로 유출된다.The cleaning liquid introduced into the
위와 같은 내부 유로의 구조 및 세정액의 유동으로 인해, 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10")은 다음과 같은 효과를 갖는다.Due to the structure of the internal flow path as described above and the flow of the cleaning liquid, the
제1메인홀(110) 및 제1상하유로(111)를 통해 기판 세정용 노즐(10")의 내부로 공급된 세정액이 제1연결유로(131) 상에서 서로 다른 방향, 즉, A 방향(외측 방향) 및 B 방향(내측 방향)으로 유동되어 제1유로(130), 제2유로(140) 및 제3유로(150) 각각으로 유동됨에 따라 세정액의 유동압이 내측 방향으로 집중되지 않고, 고르게 확산됨으로써, 제2유로(140) 및 제3유로(150)의 변형을 최소화시킬 수 있다.The cleaning liquids supplied into the
이러한 제2유로(140) 및 제3유로(150)의 변형의 최소화는 도 18d에서 확인할 수 있다.Minimization of the deformation of the
도 18d에 도시된 바와 같이, 기판 세정용 노즐(10")의 내부 유로들, 즉, 제1유로(130), 제2유로(140) 및 제3유로(150)의 변형은 균일하게 이루어지며, 이로 인해, 제2유로(140) 및 제3유로(150)에만 변형이 집중되지 않는 것을 확인할 수 있다.As shown in FIG. 18D, the internal flow paths of the
다시 말해, 제2유로(140) 또는 제3유로(150)에 가해지는 유동압이 낮아짐에 따라, 제2유로(140) 또는 제3유로(150)의 변형이 최소화되고, 나아가, 제2유로(140) 및 제3유로(150)의 파손 및 리크 등을 효과적으로 방지할 수 있는 것이다.In other words, as the flow pressure applied to the
위와 같은 기판 세정용 노즐(10")의 내부 유로들에 가해지는 유동압의 고른 분포는 기판 세정용 노즐(10")의 높은 내압 특성에 기여하게 된다. The even distribution of the flow pressure applied to the internal flow paths of the
높은 내압 특성은 높은 공급압으로 높은 토출압 성능을 발휘하거나, 제1 내지 제3토출홀(210, 220, 230)로 토출되는 세정액의 균일성을 보장하여, 사영역 없는 세정액의 토출을 달성할 수 있다. 또한, 높은 내압 특성으로 인해, 기판 세정용 노즐(10") 내부의 유로 파손을 방지할 뿐만 아니라, 제1, 2몸체(100, 200)의 결합 부위가 파손되는 것을 방지할 수 있다.The high pressure resistance characteristics can achieve high discharge pressure performance at a high supply pressure, or ensure uniformity of the cleaning liquid discharged to the first to third discharge holes 210, 220, and 230, thereby achieving discharge of the cleaning liquid without dead zones. Can be. In addition, due to the high withstand voltage characteristics, not only the passage passage inside the
전술한 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10")은 제1유로(130), 제2유로(140) 및 제3유로(150)의 관계가 '제1유로(130)의 체적 : 제2유로(140)의 체적 + 제3유로(150)의 체적 = 1 : 1' 조건을 만족하게 형성되는 것이 바람직하다.In the
예컨데, 제1유로(130), 제2유로(140) 및 제3유로(150)의 관계는 '제1유로(130)의 체적 : 제2유로(140)의 체적 : 제3유로(150)의 체적 = 3 : 2 : 1' 관계를 만족할 수 있다.For example, the relationship between the
이처럼, 제1유로(130)의 체적과 제2유로(140)의 체적 및 제3유로(150)의 체적의 합의 비가 1 : 1이 됨에 따라, 제1연결유로(131)에서 A 방향 및 B 방향으로 2갈래로 분기되어 유동하는 세정액의 유동량의 비율이 1 : 1 에 가깝게 될 수 있다. 따라서, 제1유로(130)와 제2, 3유로(140, 150)에 균일한 양의 세정액이 유동될 수 있으며, 이를 통해, 제1유로(130)의 복수개의 제1토출홀(210)을 통해 토출되는 세정액의 토출량과 제2, 3유로(140, 150)의 복수개의 제2, 3토출홀(220, 230)을 통해 토출되는 세정액의 토출량의 균일성이 보장될 수 있다. 이러한 토출량의 균일성은 기판 세정시 사영역이 발생하는 것을 방지할 수 있다.As such, when the ratio of the sum of the volume of the
전술한 제1유로(130) 및 제2유로(140)의 체적의 조건과 더불어 복수개의 제1토출홀(210)의 갯수와 복수개의 제2토출홀(220) 및 복수개의 제3토출홀(230)의 갯수의 합은 동일한 갯수로 형성되는 것이 바람직하다. 다시 말해, '복수개의 제1토출홀(210)의 갯수 : 복수개의 제2토출홀(220)의 갯수 + 복수개의 제3토출홀(230)의 갯수 = 1 : 1' 관계를 만족하는 것이 바람직하다.The number of the plurality of first discharge holes 210, the plurality of second discharge holes 220, and the plurality of third discharge holes, together with the volume conditions of the
이는, 제1토출홀(210)의 갯수와, 제2, 3토출홀(220, 230)의 갯수의 합이 동일해짐에 따라, 전술한 토출량의 균일성이 더욱 효과적으로 달성될 수 있기 때문이다.This is because, as the sum of the number of the first discharge holes 210 and the number of the second and third discharge holes 220 and 230 becomes equal, the uniformity of the above-described discharge amount can be more effectively achieved.
본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10")은 제1실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10)에 비해, 복수개의 토출홀을 구비한 하나의 유로, 즉, 복수개의 제3토출홀(230)을 구비한 제3유로(150)가 추가되므로, 촘촘한 토출홀의 배치를 달성할 수 있으며, 이를 통해, 기판의 사영역이 발생되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.The
전술한 설명에서는 제1 내지 제3유로(130, 140, 150), 제1 내지 제4연결유로(131, 132, 141, 142)가 제1몸체(100")의 하면에 형성되는 것을 기준으로 설명하였으나, 제1 내지 제3유로(130, 140, 150), 제1 내지 제4연결유로(131, 132, 141, 142)는 제1몸체(100")의 하면 및 제2몸체(200")의 상면 중 적어도 어느 하나에 형성될 수 있다.In the above description, the first to
본 발명의 바람직한 제4실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10"')
이하, 도 14 및 도 15를 참조하여 본 발명의 바람직한 제4실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10"')에 대해 설명한다.Hereinafter, a
도 14는 본 발명의 바람직한 제4실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 제1몸체의 하면을 도시한 저면도이고, 도 15는 본 발명의 바람직한 제4실시 예에 따른 기판 세정용 노즐의 제2몸체의 상면을 도시한 평면도이다.FIG. 14 is a bottom view illustrating a bottom surface of a first body of a substrate cleaning nozzle according to a fourth preferred embodiment of the present invention, and FIG. 15 is a second view of the substrate cleaning nozzle according to a fourth preferred embodiment of the present invention. It is a top view which shows the upper surface of a body.
도 14 및 도 15에 도시된 바와 같이, 본 발명의 바람직한 제4실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10"')은 제1몸체(100"')의 하면에 복수개의 홈(160)이 형성되고, 제2몸체(200"')의 상면에 복수개의 홈(160)에 대응되게 형성되어 복수개의 홈(160) 각각에 삽입되는 복수개의 돌기(260)가 형성되어 있다. 14 and 15, in the
다시 말해, 본 발명의 바람직한 제4실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10"')은 전술한 본 발명의 바람직한 제3실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10")의 제1몸체(100")의 하면에 복수개의 홈(160)이 추가적으로 형성되고, 제2몸체(200")의 상면에 복수개의 돌기(260)가 추가적으로 형성된 형상을 갖는 것이다.In other words, the
도 14에 도시된 바와 같이, 복수개의 홈(160)은 제1몸체(100"')의 하면에 형성되며, 복수개의 돌기(260)가 삽입되는 공간을 제공하는 기능을 한다.As shown in FIG. 14, the plurality of
복수개의 홈(160)은 제1유로(130) 외측에 형성되는 제1홈(161)과, 제1유로(130)와 제2유로(140) 사이에 위치하는 제2, 3홈(162, 163)과, 제2유로(140)와 제3유로(150) 사이에 위치하는 제4, 5홈(164, 165)과, 제3유로(150)의 내측에 형성되는 제6홈(166)을 포함하여 구성될 수 있다.The plurality of
제1홈(161)은 제1유로(130)보다 더 큰 지름을 갖는 원형 형상을 갖으며, 제1유로(130)를 둘러싸도록 형성된다. The
제1홈(161)은 그 중심점이 제1 내지 제3유로(130, 140, 150)의 중심점과 동일하게 형성될 수 있다. 다시 말해, 제1홈(161), 제1 내지 제3유로(130, 140, 150)는 동일한 중심점을 갖는 동심원일 수 있다.The center point of the
제1홈(161)의 내부에는 후술할 제1돌기(261)의 제1융착산(261a)이 삽입되는 제1융착산홈(161a)이 형성될 수 있다.A
제1융착산홈(161a)은 제1홈(161)의 중앙에 형성되는 것이 바람직하다.The
제2홈(162)은 제1, 2유로(130, 140) 사이에서 제1, 2연결유로(131, 132)의 전방 방향에 위치하도록 형성될 수 있다. 다시 말해, 제2홈(162)은 제2유로(140)의 전방 영역, 즉, 일부 영역을 둘러싸도록 형성된다.The
제3홈(163)은 제1, 2유로(130, 140) 사이에서 제1, 2연결유로(131, 132)의 후방 방향에 위치하도록 형성될 수 있다. 다시 말해, 제3홈(163)은 제2유로(140)의 후방 영역, 즉, 나머지 영역을 둘러싸도록 형성된다.The
제4홈(164)은 제2, 3유로(140, 150) 사이에서 제3, 4연결유로(141, 142)의 전방 방향에 위치하도록 형성될 수 있다. 다시 말해, 제4홈(164)은 제3유로(150)의 전방 영역, 즉, 일부 영역을 둘러싸도록 형성된다.The
제5홈(165)은 제2, 3유로(140, 150) 사이에서 제3, 4연결유로(141, 142)의 후방 방향에 위치하도록 형성될 수 있다. 다시 말해, 제4홈(164)은 제3유로(150)의 후방 영역, 즉, 일부 영역을 둘러싸도록 형성된다.The
제6홈(166)은 제3유로(150)보다 더 작은 지름을 갖는 원형 형상을 갖으며, 제3유로(150)에 의해 둘러싸이도록 형성된다. The
제6홈(166)은 그 중심점이 제1 내지 제3유로(130, 140, 150)의 중심점과 동일하게 형성될 수 있다. 다시 말해, 제4홈(164), 제1 내지 제3유로(130, 140, 150)는 동일한 중심점을 갖는 동심원일 수 있다. The center point of the
제6홈(166)의 내부에는 후술할 제6돌기(266)의 제2융착산(266a)이 삽입되는 제2융착산홈(166a)이 형성될 수 있다.A
제2융착산홈(166a)은 제6홈(166)의 중앙에 형성되는 것이 바람직하다.The
도 15에 도시된 바와 같이, 복수개의 돌기(260)는 제2몸체(200)의 상면에 형성되며, 제1, 2몸체(100"', 200"')가 결합시 복수개의 홈(160) 각각에 삽입되는 기능을 한다.As shown in FIG. 15, the plurality of
복수개의 돌기(260)는 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상의 외측에 형성되는 제1돌기(261)와, 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상과 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상 사이에 위치하는 제2, 3돌기(262, 263)와, 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상과 복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상 사이에 위치하는 제4, 5돌기(264, 265)와, 복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상의 내측에 형성되는 제6돌기(266)를 포함하여 구성될 수 있다.The plurality of
제1돌기(261)는 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상보다 더 큰 지름을 갖는 원형 형상을 갖으며, 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상을 둘러싸도록 형성된다. 이러한 제1돌기(261)는 제1, 2몸체(100, 200)가 결합될 때, 제1홈(161)에 삽입되도록 제1홈(161)에 대응되는 위치에 형성된다.The
제1돌기(261)의 상면에는 제1융착산(261a)이 형성되며, 제1융착산(261a)은 제1돌기(261)보다 더 작은 폭을 갖으며, 상부로 돌출되게 형성된다. 이러한 제1융착산(261a)은 제1홈(161)의 제1융착산홈(161a)에 삽입된다.A
제1돌기(261)는 그 중심점이 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상, 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상 및 복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상의 중심점과 동일하게 형성될 수 있다. 다시 말해, 제1돌기(261), 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상, 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상 및 복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상은 동일한 중심점을 갖는 동심원일 수 있다. The
제2돌기(262)는 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상 및 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상 사이에서 전방 방향에 위치하도록 형성될 수 있다. 다시 말해, 제2돌기(262)는 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상의 전방 영역, 즉, 일부 영역을 둘러싸도록 형성된다. The
이러한 제2돌기(262)는 제1, 2몸체(100"', 200"')가 결합될 때, 제2홈(162)에 삽입되도록 제2홈(162)에 대응되는 위치에 형성된다.The
제3돌기(263)는 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상 및 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상 사이에서 후방 방향에 위치하도록 형성될 수 있다. 다시 말해, 제3돌기(263)는 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상의 후방 영역, 즉, 나머지 영역을 둘러싸도록 형성된다. The
이러한 제3돌기(263)는 제1, 2몸체(100"', 200"')가 결합될 때, 제3홈(163)에 삽입되도록 제3홈(163)에 대응되는 위치에 형성된다.The
제4돌기(264)는 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상 및 복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상 사이에서 전방 방향에 위치하도록 형성될 수 있다. 다시 말해, 제4돌기(264)는 복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상의 전방 영역, 즉, 일부 영역을 둘러싸도록 형성된다. The
이러한 제4돌기(264)는 제1, 2몸체(100"', 200"')가 결합될 때, 제4홈(164)에 삽입되도록 제4홈(164)에 대응되는 위치에 형성된다.The
제5돌기(265)는 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상 및 복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상 사이에서 후방 방향에 위치하도록 형성될 수 있다. 다시 말해, 제5돌기(265)는 복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상의 후방 영역, 즉, 나머지 영역을 둘러싸도록 형성된다. The
이러한 제5돌기(265)는 제1, 2몸체(100"', 200"')가 결합될 때, 제5홈(165)에 삽입되도록 제5홈(165)에 대응되는 위치에 형성된다.The
제6돌기(266)는 복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상보다 작은 지름을 갖는 원형 형상을 갖으며, 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상에 둘러싸이도록 형성된다. 이러한 제6돌기(266)는 제1, 2몸체(100"', 200"')가 결합될 때, 제6홈(166)에 삽입되도록 제6홈(166)에 대응되는 위치에 형성된다.The
제6돌기(266)의 상면에는 제2융착산(266a)이 형성되며, 제2융착산(266a)은 제6돌기(266)보다 더 작은 폭을 갖으며, 상부로 돌출되게 형성된다. 이러한 제2융착산(266a)은 제6홈(166)의 제2융착산홈(166a)에 삽입된다.A
제6돌기(266)는 그 중심점이 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상, 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상 및 복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상의 중심점과 동일하게 형성될 수 있다. 다시 말해, 제6돌기(266), 복수개의 제1토출홀(210)이 형성하는 원형 형상, 복수개의 제2토출홀(220)이 형성하는 원형 형상 및 복수개의 제3토출홀(230)이 형성하는 원형 형상은 동일한 중심점을 갖는 동심원일 수 있다. The
전술한 구성을 갖는 본 발명의 바람직한 제4실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10"')은 제1몸체(100"') 및 제2몸체(200"')가 수지 재질로 이루어질 경우, 제1, 2몸체(100, 200)의 결합이 초음파 융착에 의해 이루어질 수 있으며, 이에 대한 상세한 설명은 전술하였으므로 생략한다.The
제1몸체(100"')와 제2몸체(200"')가 초음파 융착에 의해 결합되면, 제1돌기(261)의 제1융착산(261a) 및 제6돌기(266)의 제2융착산(266a) 각각이 제1홈(161)의 제1융착산홈(161a) 및 제6홈(166)의 제2융착산홈(166a) 내부에서 용융되며, 이를 통해, 제1, 2몸체(100"', 200"')가 결합될 수 있다. 다시 말해, 제1, 2융착산홈(161a, 166a) 각각에 삽입된 제1, 2융착산(261a, 266a)의 삽입면은 결합면 또는 접합면이 되는 것이다.When the
전술한 제1홈(161) 및 제1돌기(261), 제6홈(166) 및 제6돌기(266)는 제1, 2융착산(261a, 266a)이 각각 제1, 2융착산홈(161a, 166a)에 삽입되어 초음파 융착됨으로써, 제1, 2몸체(100"', 200"')를 결합시키는 기능을 한다.In the above-described
제2 내지 제4홈(162, 163, 164) 및 제2 내지 제4돌기(262, 263, 264)는 제2 내지 제4돌기(262, 263, 264)가 각각 제2 내지 제4홈(162, 163, 164)에 삽입됨으로써, 제1몸체(100"')와 제2몸체(200"')의 위치를 정렬해주는 기능을 한다.The second to
위와 같이, 본 발명의 바람직한 제4실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10"')의 제1, 2몸체(100"', 200"')가 초음파 융착에 의해 서로 결합되면, 제1 내지 제3유로(130, 140, 150), 제1 내지 제4연결유로(131, 132, 141, 142)는 복수개의 홈(160) 및 복수개의 돌기(260)가 결합된 부분 사이에 위치하게 된다.As described above, when the first and
상세하게 설명하면, 제1유로(130)는 제1홈(161) 및 제2돌기(262)가 결합된 부분과, 제2홈(162) 및 제2돌기(262)가 결합된 부분과, 제3홈(163) 및 제3돌기(263)가 결합된 부분 사이에 위치한다. In detail, the
제2유로(140)는 제2홈(162), 제2돌기(262)가 결합된 부분과 제4홈(164), 제4돌기(264)가 결합된 부분 사이 및 제3홈(163), 제3돌기(263)가 결합된 부분과 제5홈(165), 제5돌기(265)가 결합된 부분 사이에 위치한다.The
제3유로(150)는 제4홈(164), 제4돌기(264)가 결합된 부분 및 제5홈(165), 제5돌기(265)가 결합된 부분과 제6홈(166), 제6돌기(266)가 결합된 부분 사이에 위치한다.The
제1, 2연결유로(131, 132)는 제2홈(162) 및 제2돌기(262)가 결합된 부분과, 제3홈(163) 및 제3돌기(263)가 결합된 부분 사이에 위치한다.The first and
제3, 4연결유로(141, 142)는 제4홈(164) 및 제4돌기(264)가 결합된 부분과, 제5홈(165) 및 제5돌기(265)가 결합된 부분 사이에 위치한다.The third and
전술한 본 발명의 바람직한 제4실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10"')은 전술한 본 발명의 바람직한 제2실시 예에 따른 기판 세정용 노즐(10')과 동일한 효과를 갖는다.The
제1 내지 제3유로(130, 140, 150), 제1 내지 제4연결유로(131, 132, 141, 142)는 복수개의 홈(160) 및 복수개의 돌기(260) 사이에 위치하게 되므로, 복수개의 홈(160) 및 복수개의 돌기(260)가 초음파 융착에 의해 결합될 때, 상기 내부 유로들은 결합 부위의 내측에 위치하게 된다. 따라서, 세정액이 상기 내부 유로들에서 새어나가는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.Since the first to
또한, 상기 내부 유로들의 최외측인 제1돌기(261)에 제1융착산(261a)이 형성되고, 최내측인 제6돌기(266)에 제2융착산(266a)이 형성됨으로써, 상기 내부 유로들을 최외측과 최내측에서 가두는 효과를 달성할 수 있으며, 이를 통해, 상기 내부 유로들에서 세정액이 새어나가는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.In addition, a
전술한 설명에서는 제1몸체(100"')의 하면에 복수개의 홈(160)이 형성되고, 제2몸체(200"')의 상면에 복수개의 돌기(260)가 형성되는 것을 기준으로 설명하였으나, 복수개의 홈(160)은 제1몸체(100"')의 하면 및 제2몸체(200"')의 상면 중 어느 하나에 형성되고, 복수개의 돌기(260)는 제1몸체(100"')의 하면 및 제2몸체(200"')의 상면 중 나머지 하나에 형성될 수 있다.In the above description, a plurality of
전술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시 예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 통상의 기술자는 하기의 특허 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 또는 변형하여 실시할 수 있다.As described above, although described with reference to preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art various modifications of the present invention without departing from the spirit and scope of the present invention described in the claims below. Or it may be modified.
10, 10', 10", 10"': 기판 세정용 노즐
100, 100', 100", 100"': 제1몸체
101: 중공
110: 제1메인홀
111: 제1상하유로
120: 제2메인홀
121: 제2상하유로
130: 제1유로
131: 제1연결유로
132: 제2연결유로
140: 제2유로
141: 제3연결유로
142: 제4연결유로
150: 제3유로
160: 홈
161: 제1홈
161a: 제1융착산홈
162: 제2홈
163: 제3홈
164: 제4홈
164a, 166a: 제2융착산홈
165: 제5홈
166: 제6홈
200, 200', 200", 200"': 제2몸체
210: 제1토출홀
210a: 제1토출홀 상부영역
210b: 제1토출홀 하부영역
210c: 제1토출홀 중앙영역
220: 제2토출홀
220a: 제2토출홀 상부영역
220b: 제2토출홀 하부영역
220c: 제2토출홀 중앙영역
230: 제3토출홀
260: 돌기
261: 제1돌기
261a: 제1융착산
262: 제2돌기
263: 제3돌기
264: 제4돌기
264a, 266a: 제2융착산
265: 제5돌기
266: 제6돌기10, 10 ', 10 ", 10"': nozzle for cleaning substrate
100, 100 ', 100 ", 100"': first body
101: hollow 110: first main hole
111: first and second euros 120: second main hall
121: second and second euros 130: first euro
131: first connection channel 132: second connection channel
140: second euro 141: third connection euro
142: fourth connection euro 150: third euro
160: home 161: first home
161a: first fusion groove 162: second groove
163: third groove 164: fourth groove
164a, 166a: second fusion groove 165: fifth groove
166: sixth groove
200, 200 ', 200 ", 200"': second body
210:
210b: lower area of the
220:
220b: lower area of the
230: third discharge hole
260: protrusion 261: first protrusion
261a: first molten acid 262: second projection
263: third projection 264: fourth projection
264a and 266a: second melted acid 265: fifth protrusion
266: sixth projection
Claims (11)
제2토출홀이 구비되며, 상기 제1유로의 내측에 위치하는 제2유로;
상기 제1유로와 상기 제2유로를 연결시키는 제1연결유로; 및
세정액이 유입되거나 유출되는 제1메인홀과 연결되며, 상기 제1연결유로 상에 구비되는 제1상하유로;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정용 노즐.A first flow passage provided with a first discharge hole;
A second flow passage provided with a second discharge hole and positioned inside the first flow passage;
A first connection channel connecting the first channel and the second channel; And
And a first up and down flow path connected to a first main hole through which a cleaning liquid flows in or out, and provided on the first connection flow path.
상기 제1유로 및 상기 제2유로는 동일한 중심점을 갖는 원형 형상인 것을 특징으로 하는 기판 세정용 노즐.The method of claim 1,
And the first flow path and the second flow path have a circular shape having the same center point.
'상기 제1유로의 체적 : 상기 제2유로의 체적 = 1 : 1' 조건을 만족하는 것을 특징으로 하는 기판 세정용 노즐.The method of claim 1,
A nozzle for cleaning a substrate, which satisfies the condition 'volume of the first flow passage: volume of the second flow passage = 1: 1'.
상기 제1유로와 상기 제2유로를 연결시키며, 상기 제1유로의 중심점을 기준으로 상기 제1연결유로와 대칭되게 위치하는 제2연결유로; 및
세정액이 유입되거나 유출되는 제2메인홀과 연결되며, 상기 제2연결유로 상에 구비되는 제2상하유로;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정용 노즐.The method of claim 1,
A second connection channel connecting the first channel and the second channel and positioned symmetrically with the first connection channel based on a center point of the first channel; And
And a second vertical flow passage connected to a second main hole through which a cleaning liquid flows in or out, and provided on the second connection flow passage.
복수개의 제3토출홀이 구비되며, 상기 제2유로의 내측에 위치하는 제3유로; 및
상기 제2유로와 상기 제3유로를 연결시키며, 상기 제1연결유로와 일직선 상에 위치하는 제3연결유로;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정용 노즐.The method of claim 1,
A third flow passage having a plurality of third discharge holes and positioned inside the second flow passage; And
And a third connection channel connecting the second channel and the third channel to be in line with the first channel.
'상기 제1유로의 체적 : 상기 제2유로의 체적 + 상기 제3유로의 체적 = 1 : 1' 조건을 만족하는 것을 특징으로 하는 기판 세정용 노즐.The method of claim 5,
A nozzle for cleaning a substrate, which satisfies the condition 'volume of the first flow path: volume of the second flow path + volume of the third flow path = 1: 1'.
상기 제1유로와 상기 제2유로를 연결시키며, 상기 제1유로의 중심점을 기준으로 상기 제1연결유로와 대칭되게 위치하는 제2연결유로; 및
세정액이 유입되거나 유출되는 제2메인홀과 연결되며, 상기 제2연결유로 상에 구비되는 제2상하유로; 및
상기 제2유로와 상기 제3유로를 연결시키며, 상기 제2유로의 중심점을 기준으로 상기 제3연결유로와 대칭되게 위치하고, 상기 제2연결유로와 일직선 상에 위치하는 제4연결유로;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정용 노즐.The method of claim 5,
A second connection channel connecting the first channel and the second channel and positioned symmetrically with the first connection channel based on a center point of the first channel; And
A second vertical flow passage connected to a second main hole through which a cleaning liquid flows in or out, and provided on the second connection flow passage; And
A fourth connection channel connecting the second channel and the third channel, positioned symmetrically with the third connection channel with respect to the center point of the second channel, and located in a line with the second connection channel; Substrate cleaning nozzle comprising a.
상기 제1유로, 상기 제2유로 및 상기 제3유로는 동일한 중심점을 갖는 원형 형상이며,
상기 제1 내지 제4연결유로는 상기 중심점을 지나는 일직선 상에 위치하는 것을 특징으로 하는 기판 세정용 노즐.The method of claim 7, wherein
The first passage, the second passage and the third passage have a circular shape having the same center point,
And the first to fourth connection flow paths are located on a straight line passing through the center point.
제1몸체;
상기 제1몸체의 하면과 그 상면이 맞닿도록 상기 제1몸체의 하부에 결합되는 제2몸체;
상기 제1몸체의 하면 또는 상기 제2몸체의 상면 중 어느 하나에 형성되는 복수개의 홈; 및
상기 제1몸체의 하면 또는 상기 제2몸체의 상면 중 나머지 하나에 형성되며, 상기 복수개의 홈에 대응되게 형성되어 상기 복수개의 홈 각각에 삽입되는 복수개의 돌기;를 더 포함하고,
상기 제1유로, 상기 제2유로 및 상기 제1연결유로는 상기 제1몸체의 하면 및 상기 제2몸체의 상면 중 적어도 어느 하나에 구비되되, 상기 제1유로, 상기 제2유로 및 상기 제1연결유로는 상기 복수개의 홈 및 상기 복수개의 돌기가 결합된 부분 사이에 위치하는 것을 특징으로 하는 기판 세정용 노즐.The method of claim 1,
First body;
A second body coupled to a lower portion of the first body such that a lower surface of the first body and an upper surface thereof contact each other;
A plurality of grooves formed on any one of a lower surface of the first body and an upper surface of the second body; And
A plurality of protrusions formed on the other surface of the lower surface of the first body or the upper surface of the second body and formed to correspond to the plurality of grooves and inserted into each of the plurality of grooves;
The first flow path, the second flow path and the first connection flow path are provided on at least one of the lower surface of the first body and the upper surface of the second body, the first flow path, the second flow path and the first flow path The connection passage is a substrate cleaning nozzle, characterized in that located between the plurality of grooves and the portion where the plurality of projections are coupled.
제2토출홀이 구비되며, 상기 제1유로의 내측에 위치하는 제2유로;
상기 제1유로와 상기 제2유로를 연결시키는 제1연결유로; 및
세정액이 유입되는 제1메인홀과 연결되는 제1상하유로;를 포함하되,
상기 제1메인홀을 통해 제1연결유로로 유입되는 세정액은 상기 제1, 2유로 각각으로 분기되어 유동되되, 상기 제1, 2유로 각각으로 분기되어 유동되는 세정액의 방향은 상기 제1상하유로와 상기 제1연결유로의 연결부를 기준으로 서로 반대 방향인 것을 특징으로 하는 기판 세정용 노즐.A first flow passage provided with a first discharge hole;
A second flow passage provided with a second discharge hole and positioned inside the first flow passage;
A first connection channel connecting the first channel and the second channel; And
It includes; First up and down flow passage connected to the first main hole in which the cleaning liquid is introduced;
The cleaning liquid flowing into the first connection channel through the first main hole flows by branching into the first and second flow paths, respectively, and the direction of the cleaning liquid branching and flowing into the first and second flow paths is the first vertical flow path. And nozzles in opposite directions with respect to the connection part of the first connection channel.
제2토출홀이 구비되며, 상기 제1유로의 내측에 위치하는 제2유로;
상기 제1유로와 상기 제2유로를 연결시키며, 상기 제1유로의 중심점을 기준으로 서로 대칭되게 위치하는 제1, 2연결유로;
세정액이 유입되는 제1메인홀과 연결되는 제1상하유로; 및
세정액이 유출되는 제2메인홀과 연결되는 제2상하유로;를 포함하되,
상기 제1메인홀을 통해 제1연결유로로 유입되는 세정액은 상기 제1, 2유로 각각으로 분기되어 유동되되, 상기 제1, 2유로 각각으로 분기되어 유동되는 세정액의 방향은 상기 제1상하유로와 상기 제1연결유로의 연결부를 기준으로 서로 반대 방향이고,
상기 제2연결유로를 통해 상기 제2메인홀로 유출되는 세정액은 상기 제1, 2유로 각각으로부터 상기 제2연결유로로 유동되되, 상기 제1, 2유로 각각으로부터 유동되는 세정액의 방향은 상기 제2상하유로와 상기 제2연결유로의 연결부를 기준으로 서로 반대 방향인 것을 특징으로 하는 기판 세정용 노즐.A first flow passage provided with a first discharge hole;
A second flow passage provided with a second discharge hole and positioned inside the first flow passage;
First and second connection passages connecting the first channel and the second channel and symmetrically positioned with respect to the center point of the first channel;
A first vertical flow passage connected to the first main hole into which the cleaning liquid flows; And
And a second vertical flow passage connected to the second main hole through which the cleaning liquid flows out.
The cleaning liquid flowing into the first connection channel through the first main hole flows by branching into the first and second flow paths, respectively, and the direction of the cleaning liquid branching and flowing into the first and second flow paths is the first vertical flow path. Opposite to each other based on the connection part of the first connection channel,
The cleaning liquid flowing out to the second main hole through the second connection channel flows from the first and second channels to the second connection channel, and the direction of the cleaning liquid flowing from each of the first and second channels is the second. The nozzle for cleaning the substrate, characterized in that the opposite direction with respect to the connecting portion of the up and down flow path and the second connection flow path.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020180097784A KR102102990B1 (en) | 2018-08-22 | 2018-08-22 | Nozzle for cleaning substrate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020180097784A KR102102990B1 (en) | 2018-08-22 | 2018-08-22 | Nozzle for cleaning substrate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20200022091A true KR20200022091A (en) | 2020-03-03 |
KR102102990B1 KR102102990B1 (en) | 2020-04-21 |
Family
ID=69938129
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020180097784A KR102102990B1 (en) | 2018-08-22 | 2018-08-22 | Nozzle for cleaning substrate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102102990B1 (en) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20120099584A (en) * | 2011-03-01 | 2012-09-11 | 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 | Nozzle, substrate processing apparatus, and substrate processing method |
KR101641948B1 (en) * | 2015-01-28 | 2016-07-25 | 세메스 주식회사 | Substrate treating apparatus and chemical nozzle |
KR20170034135A (en) * | 2015-09-18 | 2017-03-28 | 주식회사 티더블유티 | Nozzle manufacturing method for cleaning substrate using vibrating body |
KR101842128B1 (en) | 2017-03-27 | 2018-03-27 | 세메스 주식회사 | Nozzle, Apparatus for treating a substrate with the same |
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2018
- 2018-08-22 KR KR1020180097784A patent/KR102102990B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20120099584A (en) * | 2011-03-01 | 2012-09-11 | 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 | Nozzle, substrate processing apparatus, and substrate processing method |
KR101641948B1 (en) * | 2015-01-28 | 2016-07-25 | 세메스 주식회사 | Substrate treating apparatus and chemical nozzle |
KR20170034135A (en) * | 2015-09-18 | 2017-03-28 | 주식회사 티더블유티 | Nozzle manufacturing method for cleaning substrate using vibrating body |
KR101842128B1 (en) | 2017-03-27 | 2018-03-27 | 세메스 주식회사 | Nozzle, Apparatus for treating a substrate with the same |
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Publication number | Publication date |
---|---|
KR102102990B1 (en) | 2020-04-21 |
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