KR20200020365A - 일체형 나노원통 금형 제작을 위한 원통에서 감광제를 균일하게 코팅하는 장치 및 방법 - Google Patents

일체형 나노원통 금형 제작을 위한 원통에서 감광제를 균일하게 코팅하는 장치 및 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20200020365A
KR20200020365A KR1020180095999A KR20180095999A KR20200020365A KR 20200020365 A KR20200020365 A KR 20200020365A KR 1020180095999 A KR1020180095999 A KR 1020180095999A KR 20180095999 A KR20180095999 A KR 20180095999A KR 20200020365 A KR20200020365 A KR 20200020365A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
cylinder
coating
photosensitive agent
photoresist
mold
Prior art date
Application number
KR1020180095999A
Other languages
English (en)
Inventor
정명영
장민혁
Original Assignee
부산대학교 산학협력단
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 부산대학교 산학협력단 filed Critical 부산대학교 산학협력단
Priority to KR1020180095999A priority Critical patent/KR20200020365A/ko
Publication of KR20200020365A publication Critical patent/KR20200020365A/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B13/00—Machines or plants for applying liquids or other fluent materials to surfaces of objects or other work by spraying, not covered by groups B05B1/00 - B05B11/00
    • B05B13/02—Means for supporting work; Arrangement or mounting of spray heads; Adaptation or arrangement of means for feeding work
    • B05B13/0207—Means for supporting work; Arrangement or mounting of spray heads; Adaptation or arrangement of means for feeding work the work being an elongated body, e.g. wire or pipe
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B13/00—Machines or plants for applying liquids or other fluent materials to surfaces of objects or other work by spraying, not covered by groups B05B1/00 - B05B11/00
    • B05B13/02—Means for supporting work; Arrangement or mounting of spray heads; Adaptation or arrangement of means for feeding work
    • B05B13/0221—Means for supporting work; Arrangement or mounting of spray heads; Adaptation or arrangement of means for feeding work characterised by the means for moving or conveying the objects or other work, e.g. conveyor belts
    • B05B13/0228—Means for supporting work; Arrangement or mounting of spray heads; Adaptation or arrangement of means for feeding work characterised by the means for moving or conveying the objects or other work, e.g. conveyor belts the movement of the objects being rotative
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/02—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by baking
    • B05D3/0254—After-treatment
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/168—Finishing the coated layer, e.g. drying, baking, soaking
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/18—Coating curved surfaces
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70991—Connection with other apparatus, e.g. multiple exposure stations, particular arrangement of exposure apparatus and pre-exposure and/or post-exposure apparatus; Shared apparatus, e.g. having shared radiation source, shared mask or workpiece stage, shared base-plate; Utilities, e.g. cable, pipe or wireless arrangements for data, power, fluids or vacuum

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

본 발명은 리소그래피를 이용한 일체형 원통금형 제작을 위한 감광제를 코팅하는 장치 및 방법으로 원통에 감광제 코팅 시 균일하게 제어하는 것이 어려운 문제를 해결하고,또한 코팅 공정 중에 코팅 두께를 실시간으로 확인가능 하여 원통 코팅 공정 시 효율적인 코팅이 가능하도록 한다.

Description

일체형 나노원통 금형 제작을 위한 원통에서 감광제를 균일하게 코팅하는 장치 및 방법{Apparatus and method for uniformity coating of photoresist on a cylinder}
본 발명은 원통에 직접 리소그래피 공정을 실시하여 일체형 원통금형을 제작하기 위해 원통에 감광제를 목표한 두께로 코팅하고 균일도를 제어하는 방법에 관한 것이다.
롤투롤 공정을 통해 기능성필름,전자 소자와 같은 첨단 제품을 연속적으로 생산할 수 있다.하지만 롤투롤 공정에는 효율적인 면에서 해결되어야 할 문제가 있는데 원통금형을 제작하는 것이다.
원통금형의 목표한 패턴이 이음매 없이 원통 전면적에 새겨져야 하고,제작된 원통금형이 오랫동안 사용될 수 있도록 수명이 길어야 한다.이 두가지를 동시에 해결할 수 있는 방법이 원통에 소프트 몰드를 감아서 원통금형을 제작하는 방식이 아닌 금속 재질인 원통에 직접 리소그래피 공정을 통해 원통금형을 만드는 것이다.
특수한 기능을 가진 마이크로/나노 패턴을 롤투롤 공정을 통해 대면적으로 대량 생산이 가능 하려면 원통 금형의 크기가 대면적으로 제작되어야 한다.대면적 원통에 적용하기 적합한 리소그래피 공정에는 포토 마스크를 사용하지 않고 넓은 면적에 패턴을 새길 수 있는 레이저 간섭 리소그래피 공정 등이 있다.
이를 위해서 대면적 원통에 리소그래피공정시 사용하는 파장에 적합한 감광제를 균일하게 코팅하고 이를 제어할 수 있는 기술이 필요하다.
대한민국 공개특허 제10-2010-0079841호 대한민국 공개특허 제10-2009-0051422호 대한민국 공개특허 제10-2013-0119687호
본 발명은 상기에 서술한 문제를 해결하기 위해 리소그래피공정시 사용되는 파장에 따라 필요한 감광제의 두께를 선정하고 이를 원통에 균일하게 코팅 하는 방법을 제공한다.
또한, 종래의 기술의 단점을 해결하면서 원통 코팅 공정이 가능한 감광제를 도포하는 장치에 관한 기술을 제공한다.
본 발명의 다른 목적들은 이상에서 언급한 목적으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 일체형 나노원통 금형 제작을 위한 원통에서 감광제를 균일하게 코팅하는 장치는 외부 환경으로부터 원통 코팅 공정을 보호해 줄 수 있는 차폐 장치;코팅 시 감광제 잔여 물질의 기체나 액체를 외부로 배출할 수 있는 배기장치;원통에 감광제를 일정한 양으로 분사하여 원통에 감광제를 도포하는 노즐;원통을 회전시켜 전면적에 감광제가 고르게 도포될 수 있도록 하는 장치;원통에 감광제 도포 후 감광제를 베이크할 수 있도록 열 처리를 할 수있는 장치;원통에 감광제가 원하는 두께로 코팅되었는지 실시간으로 측정할 수 있는 박막 측정 장치;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
여기서, 외부 환경으로부터 원통 코팅 공정을 보호 할 수 있도록 하는 챔버 구조와 열처리 시 열이 외부로 배출되지 않도록 단열할 수 있는 구조로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
그리고 원통에 일정한 양의 감광제를 분사하기 위한 노즐은 대면적 원통에 적용할 수 있도록 용량에 맞는 감광제를 담을 수 있는 수조로 구성되어 있고, 감광제를 분사하는 바늘을 코팅 공정 시 이송하기 쉽도록 수조와 바늘이 유연 파이프로 연결되어 있는 것을 특징으로 한다.
그리고 수조와 바늘을 연결하는 유연 파이프는 내열성이 있는 열경화성 수지를 재료로 하는 것을 특징으로 한다.
그리고 감광제를저장하고 분사할 수 있는 장치는 다른 코팅된 물질이 열처리 되는 동안 열로부터 보호될 수 있도록 장치에 단열할 수있는 공간을 따로 두어 이에 보관하도록 하는 것을 특징으로 한다.
그리고 원통을 회전시키는 장치는 원통의 크기에 따라 지그의 높이를 조절할 수 있도록 하는 것으로 원통의 지름이 클수록지그의 높이를 높여 장치의 바닥으로부터 이격시킬 수 있는 것을 특징으로 한다.
그리고 원통에 코팅 두께를 측정할 수 있도록 빛을 이용하여 박막 두께를 측정하는 기기를 설치하여 코팅된 원통을 코팅장치에서 분리하지 않아도 측정할 수 있도록 한 것을 특징으로 한다.
그리고 코팅 두께 측정 기기는 곡면을 가지는 원통에 빛을 조사하여 변화된 파장을 감지하여 두께를 측정하므로 조사된 빛이 원통 기판에 반사되어 감지센서에 정확히 입사될 수 있도록 원통과 측정 기기를 정렬 시키고 레일을 통해 정렬된 위치에 고정되고 원통의 축 방향으로 이동할 수 있는 것을 특징으로 한다.
다른 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 일체형 나노원통 금형 제작을 위한 원통에서 감광제를 균일하게 코팅하는 방법은 원통의 회전속도를 조절함으로 감광제의 코팅 균일도를 조절하는 단계;를 포함하고, 감광제 점도에 따른 임계회전속도 이상으로 원통을 회전시켜 코팅 균일도를 조절하는 것을 특징으로 한다.
이상에서 설명한 바와 같은 본 발명에 따른 일체형 나노원통 금형 제작을 위한 원통에서 감광제를 균일하게 코팅하는 장치 및 방법은 다음과 같은 효과가 있다.
코팅이 완료되기까지 외부와의 접촉을 최소화하고, 코팅후 열처리가 가능해 감광제가 원통 표면에 잘 접착되고 패턴형성 시 감광제가 빛과 잘 반응할 수 있도록 하며,코팅 공정 중에 코팅 두께를 실시간으로 확인가능 하다.
도 1은 본 발명에 따른 일체형 나노원통 금형 제작을 위한 원통에서 감광제를 균일하게 코팅하는 장치의 구성도
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 일체형 나노원통 금형 제작을 위한 원통에서 감광제를 균일하게 코팅하는 장치의 구성도
이하, 본 발명에 따른 일체형 나노원통 금형 제작을 위한 원통에서 감광제를 균일하게 코팅하는 장치 및 방법의 바람직한 실시 예에 관하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 발명에 따른 일체형 나노원통 금형 제작을 위한 원통에서 감광제를 균일하게 코팅하는 장치 및 방법의 특징 및 이점들은 이하에서의 각 실시 예에 대한 상세한 설명을 통해 명백해질 것이다.
도 1은 본 발명에 따른 일체형 나노원통 금형 제작을 위한 원통에서 감광제를 균일하게 코팅하는 장치의 구성도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 일체형 나노원통 금형 제작을 위한 원통에서 감광제를 균일하게 코팅하는 장치의 구성도이다.
본 발명에 따른 원통에 감광제를 코팅하기 위한 방법에는 감광제가 담긴 수조에 원통을 넣었다 빼는 방식인 딥 코팅과 원통에 감광제를 스프레이 방식으로 분사를 하여 코팅하는 것이 있다.
스프레이 방식은 코팅 균일도를 나노 단위로 제어하는 것이 어렵고,딥 코팅 방식은다층 코팅을 하는 것이 어렵다.
따라서 본 발명의 목적을 달성하기 위한 장치는 감광제를 피스톤을 통해 미세한 크기로 한방울씩 떨어뜨릴 수 있도록 고안하여 전면적에 골고루 감광제가 도포되도록 한다.
또한, 코팅 시 외부 환경에 작용을 받지 않도록 하기 위해 밀폐된 공간을 제공할 수 있는 챔버를 구성하며 감광제를 도포하는 노즐은 대면적 코팅에 적합하도록 대량의 감광제를 담을 수 있도록 제작하며 노즐의 끝에 감광제를 분사시키는 바늘은 감광제 방울의 사이즈를 조절할 수 있도록 다양한 크기의 바늘을 장착할 수 있다.
또한, 감광제를 코팅 후 감광제를 베이크 할 수 있는 열처리 장치가 있는 것을 특징으로 한다.열처리 장치는 전면적에 균일하게 열을 전달하기 위해서 원통외부에 원형으로 열처리 장치를 장착한다.
감광제가 원통의 전면적에 도포될 수 있도록 감광제가 노즐로부터 분사 되는 동안 원통은 회전을 할 수 있도록한다.
원통에 감광제가 도포된 후 코팅에 필요한 양 이외의 잔여 감광제를 외부로 배출할 수 있도록 원통을여러 각도로 기울일 수 있도록 하는 것을 특징으로 한다.
또한, 도포가 완료된 후 목표한 코팅 두께가 코팅되었는지 바로 확인할 수 있도록 코팅 두께를 측정할 수 있는 장치를 내장한다.
도 1은 일체형 원통금형 제작을 위한 감광제를 다층으로 코팅하는 장치를 설명하기 위한 도면이다.
도 1 에서 원통(7)은 감광제를 도포하였을 때 코팅에 사용되고 남은감광제를 외부로 흘려 주기 위해서 여러 각도로 기울여 사용할 수 있도록 한다.또한 원통이 회전이 가능하도록 챔버(1) 외부에 설치된 모터(3)와 연결되어 있다.
챔버(1)는 코팅 공정 시 외부환경으로부터 보호할 수 있도록 차폐할 수 있도록 하며,코팅이 끝나고 열처리를 할 수 있도록 단열의 기능을 포함한다.
감광제를 분사할 수 있는 노즐(6)은 감광제를 보관하는 용기를 단열공간(2)에 설치하여 열처리 시 사용되지 않은 감광제가 열로부터 보호받을 수 있도록 한다.
다층 코팅 공정을 실시하기 전 이전에 사용된 감광제의잔여 가스나 액체는 배기관(5)를 통해 배출된다.
또한 원통의 크기에 따라 원통을고정하는 지그(4)의 위치를 조절할 수 있도록 한다.
코팅 두께 측정장치(8)을 통해 원통에 도포된 코팅 두께를 실시간으로측정할 수 있도록 하여 코팅두께가 목표한 두께로 코팅되었는지 확인할 수 있다.또한 가이드 레일(9) 통해 측정 장치와 원통을 정렬 시킬 수 있도록 한다.
도 2는 원통 코팅하는 방법을 모식도로 나타낸 것으로, 원통에 감광제를 코팅하는방법은노즐(6)을 통해감광제(61) 방울을원통에 분사하면서 원통을 회전시킨다.
이때 노즐은 설정한 속도로 원통의 축을 따라 이동한다.
원통 코팅에 있어서 코팅 두께에 영향을 주는 변수로는 원통의 직경,원통의 회전속도, 감광제의 점도가있다.감광제의 점도는 용매를 희석시켜 조절한다.
감광제를 도포한 후 감광제 내 용매를 휘발 시키기위해서 열처리 공정을 실시하기 위해 챔버(1)을 원하는 온도로 열을 가할 수 있도록 한다.
이상에서의 설명에서와 같이 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 변형된 형태로 본 발명이 구현되어 있음을 이해할 수 있을 것이다.
그러므로 명시된 실시 예들은 한정적인 관점이 아니라 설명적인 관점에서 고려되어야 하고, 본 발명의 범위는 전술한 설명이 아니라 특허청구 범위에 나타나 있으며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 차이점은 본 발명에 포함된 것으로 해석되어야 할 것이다.
1. 챔버 2. 단열 부
3. 모터 4. 원통 고정 지그
5. 배출구 6. 노즐
7. 원통금형 8. 원통두께 측정 장치
9. 가이드 레일

Claims (9)

  1. 외부 환경으로부터 원통 코팅 공정을 보호해 줄 수 있는 차폐 장치;
    코팅 시 감광제 잔여 물질의 기체나 액체를 외부로 배출할 수 있는 배기장치;
    원통에 감광제를 일정한 양으로 분사하여 원통에 감광제를 도포하는 노즐;
    원통을 회전시켜 전면적에 감광제가 고르게 도포될 수 있도록 하는 장치;
    원통에 감광제 도포 후 감광제를 베이크할 수 있도록 열 처리를 할 수있는 장치;
    원통에 감광제가 원하는 두께로 코팅되었는지 실시간으로 측정할 수 있는 박막 측정 장치;를 포함하는 일체형 나노원통 금형 제작을 위한 원통에서 감광제를 균일하게 코팅하는 장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 외부 환경으로부터 원통 코팅 공정을 보호 할 수 있도록 하는 챔버 구조와, 열처리 시 열이 외부로 배출되지 않도록 단열할 수 있는 구조로 이루어지는 것을 특징으로 하는 일체형 나노원통 금형 제작을 위한 원통에서 감광제를 균일하게 코팅하는 장치.
  3. 제 1 항에 있어서, 원통에 일정한 양의 감광제를 분사하기 위한 노즐은,
    대면적 원통에 적용할 수 있도록 용량에 맞는 감광제를 담을 수 있는 수조로 구성되어 있고,
    감광제를 분사하는 바늘을 코팅 공정 시 이송하기 쉽도록 수조와 바늘이 유연 파이프로 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 일체형 나노원통 금형 제작을 위한 원통에서 감광제를 균일하게 코팅하는 장치.
  4. 제 3 항에 있어서, 수조와 바늘을 연결하는 유연 파이프는,
    내열성이 있는 열경화성 수지를 재료로 하는 것을 특징으로 하는 일체형 나노원통 금형 제작을 위한 원통에서 감광제를 균일하게 코팅하는 장치.
  5. 제 3 항에 있어서, 감광제를 저장하고 분사할 수 있는 장치는,
    다른 코팅된 물질이 열처리 되는 동안 열로부터 보호될 수 있도록 장치에 단열할 수있는 공간을 따로 두어 이에 보관하도록 하는 것을 특징으로 하는 일체형 나노원통 금형 제작을 위한 원통에서 감광제를 균일하게 코팅하는 장치.
  6. 제 1 항에 있어서, 원통을 회전시키는 장치는,
    원통의 크기에 따라 지그의 높이를 조절할 수 있도록 하는 것으로 원통의 지름이 클수록 지그의 높이를 높여 장치의 바닥으로부터 이격시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 일체형 나노원통 금형 제작을 위한 원통에서 감광제를 균일하게 코팅하는 장치.
  7. 제 1 항에 있어서, 원통에 코팅 두께를 측정할 수 있도록 빛을 이용하여 박막 두께를 측정하는 기기를 설치하여 코팅된 원통을 코팅장치에서 분리하지 않아도 측정할 수 있도록 한 것을 특징으로 하는 일체형 나노원통 금형 제작을 위한 원통에서 감광제를 균일하게 코팅하는 장치.
  8. 제 7 항에 있어서, 코팅 두께 측정 기기는,
    곡면을 가지는 원통에 빛을 조사하여 변화된 파장을 감지하여 두께를 측정하므로 조사된 빛이 원통 기판에 반사되어 감지센서에 정확히 입사될 수 있도록 원통과 측정 기기를 정렬 시키고 레일을 통해 정렬된 위치에 고정되고 원통의 축 방향으로 이동할 수 있는 것을 특징으로 하는 일체형 나노원통 금형 제작을 위한 원통에서 감광제를 균일하게 코팅하는 장치.
  9. 원통의 회전속도를 조절함으로 감광제의 코팅 균일도를 조절하는 단계;를 포함하고,
    감광제 점도에 따른 임계회전속도 이상으로 원통을 회전시켜 코팅 균일도를 조절하는 것을 특징으로 하는 일체형 나노원통 금형 제작을 위한 원통에서 감광제를 균일하게 코팅하는 방법.
KR1020180095999A 2018-08-17 2018-08-17 일체형 나노원통 금형 제작을 위한 원통에서 감광제를 균일하게 코팅하는 장치 및 방법 KR20200020365A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180095999A KR20200020365A (ko) 2018-08-17 2018-08-17 일체형 나노원통 금형 제작을 위한 원통에서 감광제를 균일하게 코팅하는 장치 및 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180095999A KR20200020365A (ko) 2018-08-17 2018-08-17 일체형 나노원통 금형 제작을 위한 원통에서 감광제를 균일하게 코팅하는 장치 및 방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20200020365A true KR20200020365A (ko) 2020-02-26

Family

ID=69638118

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180095999A KR20200020365A (ko) 2018-08-17 2018-08-17 일체형 나노원통 금형 제작을 위한 원통에서 감광제를 균일하게 코팅하는 장치 및 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20200020365A (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111266219B (zh) * 2020-02-28 2021-01-05 杭州丰衡机电有限公司 一种机箱钣金喷涂加工设备

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090051422A (ko) 2007-11-19 2009-05-22 한국전기연구원 원통형 기판용 스핀 코터 및 이를 이용한 코팅방법
KR20100079841A (ko) 2008-12-31 2010-07-08 엘아이지에이디피 주식회사 기판흡착장치 및 기판흡착방법
KR20130119687A (ko) 2012-04-24 2013-11-01 (주)뉴옵틱스 원통형 금형 표면을 코팅하기 위한 스프레이 장치

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090051422A (ko) 2007-11-19 2009-05-22 한국전기연구원 원통형 기판용 스핀 코터 및 이를 이용한 코팅방법
KR20100079841A (ko) 2008-12-31 2010-07-08 엘아이지에이디피 주식회사 기판흡착장치 및 기판흡착방법
KR20130119687A (ko) 2012-04-24 2013-11-01 (주)뉴옵틱스 원통형 금형 표면을 코팅하기 위한 스프레이 장치

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111266219B (zh) * 2020-02-28 2021-01-05 杭州丰衡机电有限公司 一种机箱钣金喷涂加工设备

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6629865B2 (ja) ワークの金属被覆のための設備および方法
US20060263514A1 (en) Device and method for forming improved resist layer
TWI625804B (zh) 晶圓邊緣的測量與控制
KR101443437B1 (ko) 원통형 금형 표면을 코팅하기 위한 스프레이 장치
WO2012053532A1 (ja) 有機膜形成装置及び有機膜形成方法
KR20200020365A (ko) 일체형 나노원통 금형 제작을 위한 원통에서 감광제를 균일하게 코팅하는 장치 및 방법
WO2015111504A1 (en) Imprint apparatus and method of manufacturing article
BR112017020667B1 (pt) Processo de pulverização térmica e pistola de pulverização térmica
JP6156633B2 (ja) 薄膜形成方法及び薄膜形成装置
JP2000516529A (ja) 基体表面にフォトレジストを塗布するための装置および方法
CN103930969B (zh) 半导体制造用薄膜涂布装置
JP2004087934A (ja) レジスト塗布方法およびレジスト塗布装置
KR20180107725A (ko) 리소그래피 장치 및 물품의 제조 방법
JP6341635B2 (ja) 薄膜形成方法及び薄膜形成装置
US11439024B2 (en) Method for manufacturing water resistant printed circuit board
JP2018073989A (ja) インプリント方法、インプリント装置および物品製造方法
KR100432854B1 (ko) 레이저를 이용한 반도체 소자의 세정 방법
KR102436660B1 (ko) 전자 부품 실장 시스템
JP2008159727A (ja) レジスト塗布装置
US11772127B2 (en) Methods for applying a blanket polymer coating to a substrate
KR101069924B1 (ko) 기판 코팅장치 및 기판 제조방법
JP2014204055A (ja) レジスト塗布ベーク装置およびレジスト設置済みロール
WO2023228000A1 (en) Coated medicament cannister
JP7512132B2 (ja) 平坦化装置、平坦化方法、物品の製造方法及びコンピュータプログラム
KR20130137797A (ko) 개선된 롤 표면 코팅 장치 및 방법