KR20200011859A - Glass Mask - Google Patents

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KR20200011859A
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Abstract

The present invention relates to a novel mask which maintains shape properties while maintaining the mask thickness at a micrometer level, can be easily chucked on a substrate, and can solve the deformation problems occurring during a deposition process due to the difference in thermal expansion coefficient between the mask and the substrate. The present invention uses a micrometer-level thin glass as a mask material, coats a material with a small coefficient of thermal expansion such as invar on both sides of the glass mask, and prevents deformation due to thermal expansion by forming the same or different thicknesses of coating layers on both sides.

Description

유리 마스크{Glass Mask}Glass Mask {Glass Mask}

본 발명은 박막 증착용 마스크에 관한 것으로, 좀 더 상세하게는 유리소재로 된 섀도마스크에 관한 것이다. The present invention relates to a mask for thin film deposition, and more particularly to a shadow mask made of a glass material.

OLED 등의 반도체 소자 또는 평판 조명 소자를 형성하는 공정에서 기판에 원하는 패턴으로 물질을 형성하고자 할 경우, 기판에 마스크를 부착하고 물질을 증착하는 것이 일반적이다. When forming a material in a desired pattern on a substrate in a process of forming a semiconductor device such as an OLED or a flat lighting element, it is common to attach a mask to the substrate and deposit the material.

마스크는 대개 금속으로 구성되며, 패턴의 정밀도는 그 두께가 얇을수록 좋아진다. 패턴의 정밀도 향상을 위해 금속재 마스크의 두께를 μm 수준으로 얇게 할 경우, 문제는 그 형상성이 불안정해지는 것이다. 즉, 알루미늄 포일과도 같이 구겨지거나 늘어지게 되어 마스크로 사용할 수 없게 된다. 따라서 금속으로 마스크를 만들 경우, 쉐도우 현상이 생기더라도 취급상 문제가 없는 정도의 내구성을 유지할 수 있는 두께로 구성하고, 이들이 공정 중 처지거나 할 것을 감안하여 마스크 프레임에 마스크를 용접하여 사용하거나(대한민국등록특허제10-1002185) 별도의 탄성재를 구성하기도 한다(JP2005165015A). 이때 마스크 프레임은 무게가 많이 나가는 것으로 그 자체로서 취급이 어려우며, 마스크를 마스크 프레임에 고정하기 위해 신장시키는 작업을 요하여 셋팅 작업 또한 번거롭다. The mask is usually made of metal, and the finer the pattern, the better the thickness. If the thickness of the metal mask is reduced to a μm level in order to improve the precision of the pattern, the problem is that its shape becomes unstable. In other words, they are wrinkled or stretched like aluminum foil and thus cannot be used as a mask. Therefore, if the mask is made of metal, it should be constructed to a thickness that can maintain durability to the extent that there is no problem of handling even if a shadow phenomenon occurs, and it is used by welding the mask to the mask frame in consideration of their sagging during the process. It may also constitute a separate elastic material (JP2005165015A). At this time, the mask frame is very expensive and difficult to handle as it is, and the setting work is also cumbersome since it requires stretching the mask to fix the mask frame.

따라서 본 발명의 목적은 마스크 두께를 마이크로미터 수준으로 하면서도 그 형상성을 유지할 수 있고 기판에 쉽게 척킹 할 수 있는 새로운 구성의 마스크를 제공하고자 하는 것이다. Accordingly, it is an object of the present invention to provide a mask of a novel configuration that can maintain its shape and easily chuck to a substrate while maintaining the mask thickness at the micrometer level.

본 발명의 또 다른 목적은 마스크와 기판의 열팽창률의 차이로 인해 증착 공정 중 발생하는 변형 문제를 해결할 수 있는 새로운 마스크를 제공하고자 하는 것이다. Another object of the present invention is to provide a new mask that can solve the deformation problem that occurs during the deposition process due to the difference in thermal expansion coefficient between the mask and the substrate.

상기 목적에 따라 본 발명은, 마이크로미터 수준의 얇은 유리를 마스크 소재로 하고, 유리마스크의 양면에 인바(invar)와 같이 열팽창 계수가 작은 물질을 코팅하고, 양면의 코팅층의 두께를 동일하게 또는 각각 다르게 형성하여 열팽창에 의한 변형을 방지한 유리마스크를 제공한다.In accordance with the above object, the present invention is a micrometer-level thin glass as a mask material, and coated with a material having a small coefficient of thermal expansion, such as invar on both sides of the glass mask, the thickness of the coating layer on both sides the same or each Formed differently to provide a glass mask that prevents deformation due to thermal expansion.

상기에서, 유리마스크의 양면에 열팽창계수가 서로 다른 물질을 코팅하고 코팅층의 두께를 조절하여 열팽창에 의한 변형을 방지할 수도 있다. In the above, the thermal expansion coefficient may be coated on both surfaces of the glass mask and the thickness of the coating layer may be adjusted to prevent deformation due to thermal expansion.

상기와 같은 유리마스크를 고정하는 마스크 프레임은 자석을 포함하고, 상기 유리마스크는 자성체를 포함하여 자력에 의해 유리마스크를 마스크 프레임에 고정할 수 있다. The mask frame fixing the glass mask may include a magnet, and the glass mask may include a magnetic material to fix the glass mask to the mask frame by magnetic force.

본 발명의 유리마스크는 코팅층으로 인해 증착 공정 온도에서도 휨과 같은 변형이 방지되는 효과가 있다.The glass mask of the present invention has an effect of preventing deformation such as warpage even at the deposition process temperature due to the coating layer.

또한, 본 발명의 유리마스크는 습식 에칭, 건식 에칭 등의 방식을 적용하여 마이크로미터 수준의 정밀한 패턴 형성이 가능하여 메탈 마스크에 비해 좀 더 용이하게 제작될 수 있고 공정 중 정밀도가 유지될 수 있다. In addition, the glass mask of the present invention is capable of forming a micrometer precise pattern by applying wet etching, dry etching, etc., so that the glass mask may be manufactured more easily than the metal mask, and precision during the process may be maintained.

또한, 본 발명에 따라 유리마스크를 자력으로 마스크 프레임에 고정시킴으로써 취급 상 취약성을 극복할 수 있다. In addition, according to the present invention it is possible to overcome the handling vulnerability by fixing the glass mask to the mask frame by magnetic force.

도 1은 본 발명에 따른 유리마스크의 단면구성을 보여주는 단면도.
도 2는 본 발명에 따른 유리마스크를 메탈 마스크 프레임과 결합하여 실제 공정에 사용할 수 있도록 구성한 것을 보여주는 단면도.
도 3은 50um 및 100um 두께의 유리마스크에 대해 코팅을 하지 않은 경우 대비 양면 코팅을 동일한 두께로 한 경우에 대해 10℃ 상승 시 변형량을 시뮬레이션한 결과표 및 해석에 사용한 3 layer 구조이다.
도 4는 도 3과 같은 실시예에 대한 컨투어 플롯이다.
도 5는 도 3의 유리마스크에 대해 양면에 코팅된 코팅층의 두께를 서로 달리한 경우에 대한 변형량 시뮬레이션 결과표이다.
도 6은 도 5의 실시예에 대한 컨투어 플롯이다.
도 7은 코팅을 하지 않은 유리마스크와 양면 코팅된 유리마스크에 대해 20℃ 온도 상승에 따른 변형량을 시뮬레이션한 결과표이다. 1 is a cross-sectional view showing a cross-sectional configuration of a glass mask according to the present invention.
2 is a cross-sectional view showing that the glass mask according to the present invention is configured to be used in an actual process by combining with a metal mask frame.
Figure 3 is a three-layer structure used in the results and simulation results of the simulation of the amount of deformation at the rise of 10 ℃ for the case of the two-side coating to the same thickness compared to the case of not coating the glass mask of 50um and 100um thickness.
4 is a contour plot for the same embodiment as in FIG. 3.
FIG. 5 is a deformation simulation result table for a case in which the thicknesses of the coating layers coated on both surfaces of the glass mask of FIG. 3 are different from each other.
FIG. 6 is a contour plot for the embodiment of FIG. 5.
7 is a result table for simulating the deformation amount according to the temperature rise 20 ℃ for the glass mask not coated and the double-coated glass mask.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.

도 1은 본 발명에 따른 유리마스크(100)의 단면구성을 보여준다. 기본소재를 유리로 하기 때문에 마스크가 합착되는 유리기판과 같은 물성을 지녀 증착 공정 중 종래 메탈 마스크가 일으키는 열변형에 의한 문제가 거의 없으며, 유리마스크 양면에 코팅층을 형성하여 코팅층에 의해 유리마스크가 받는 열변형을 완화시켜 열팽창에 의한 변형 문제를 좀 더 완벽하게 방지한다. 1 shows a cross-sectional configuration of a glass mask 100 according to the present invention. Since the base material is made of glass, it has the same properties as that of the glass substrate to which the mask is bonded, and thus there is almost no problem due to thermal deformation caused by the conventional metal mask during the deposition process. By alleviating thermal deformation, the problem of deformation due to thermal expansion is more completely prevented.

즉, 본 발명은 본체를 유리로 만든 유리마스크의 변형을 방지하기 위해 코팅층을 인바(invar)와 같이 열팽창계수가 작은 금속으로 형성하여 증착공정 중 패턴의 정밀도를 유지시킨다. 인바 경우 박막을 코팅하는 방법으로는 스퍼터와 같은 PVD(Physical Vapor Deposition) 또는 전주도금(전기도금) 등이 있다.That is, in the present invention, the coating layer is formed of a metal having a small thermal expansion coefficient such as invar to prevent deformation of the glass mask made of glass, thereby maintaining the precision of the pattern during the deposition process. Inba is a method of coating a thin film, such as PVD (Physical Vapor Deposition) or electroplating (electroplating), such as sputtering.

유리마스크(100)에 인바 코팅층(110)을 형성한 다음, PR 공정을 이용한 습식 에칭, 드라이 에칭(샌드 블라스팅, RIE)과 같은 방법으로 패턴을 형성한다. 상기 에칭 방법은 널리 알려진 기술로 자세한 공정의 설명은 생략한다. 마스크 미세 패턴 가공을 위해서 펨토초 레이저 또는 피코초 레이저 등의 극초단파 레이저를 이용할 수도 있다. 레이저 패터닝은 레이저 빔의 위치를 조정하여 원하는 위치에 직접 패턴을 형성하므로 PR 공정이 필요없는 특징이 있다. After forming the inva coating layer 110 on the glass mask 100, a pattern is formed by a method such as wet etching using a PR process and dry etching (sand blasting, RIE). The etching method is a well-known technique, and detailed description of the process will be omitted. Microwave lasers such as femtosecond lasers or picosecond lasers may be used for the mask fine pattern processing. Laser patterning is characterized by eliminating the PR process because the pattern is formed directly at a desired position by adjusting the position of the laser beam.

또한, 본 발명은, 패턴이 형성된 유리마스크(100)의 이면에도 코팅층(120)을 형성한다. 이면에 형성되는 코팅층(120)은 전면에 형성된 코팅층(110)과 같은 물질로 이루어지고, 코팅층 두께는 동일하게 하거나 또는 서로 달리하여 열팽창에 따른 변형을 방지하게 할 수 있다. 상기한 예와 같이 유리마스크의 양면에 모두 인바 코팅층을 형성할 수 있다. In addition, in the present invention, the coating layer 120 is also formed on the rear surface of the glass mask 100 on which the pattern is formed. The coating layer 120 formed on the rear surface is made of the same material as the coating layer 110 formed on the front surface, and the coating layer thickness may be the same or different to prevent deformation due to thermal expansion. As described above, both surfaces of the glass mask may be formed with an invar coating layer.

유리마스크(100)는 증착공정 중 일어나는 온도변화(대략 10℃ 내외)에 대해 거의 열변형이 일어나지 않으며, 유리마스크(100)에 형성된 코팅층(110)의 열팽창계수도 작아 증착공정 중 패턴의 변형없이 정밀도를 유지한다. The glass mask 100 hardly undergoes thermal deformation due to the temperature change (approximately 10 ° C. or less) occurring during the deposition process, and the thermal expansion coefficient of the coating layer 110 formed on the glass mask 100 is also small, without deformation of the pattern during the deposition process. Maintain precision.

또한, 코팅층(110)과 같은 물질로 이루어진 이면의 코팅층(120)의 두께 t2를 코팅층(110)의 두께 t1과 달리하여 마스크 패턴의 정밀도를 더욱 견고히 유지하게 할 수 있다. 증발원이 있는 쪽에 위치하는 코팅층의 두께 t2를 유리기판에 접하는 코팅층의 두께 t1에 비해 더 두껍게 할 수 있다.In addition, the thickness t2 of the coating layer 120 on the back surface made of the same material as the coating layer 110 may be different from the thickness t1 of the coating layer 110 to maintain the precision of the mask pattern more firmly. The thickness t2 of the coating layer located on the side where the evaporation source is located can be made thicker than the thickness t1 of the coating layer in contact with the glass substrate.

한편, 전면 코팅층(110)과 이면 코팅층(120)의 소재 자체를 달리할 수도 있다. 열팽창계수가 작은 금속 물질로는 인바, 코바(kovar) 등 Fe, Ni, Co 합금과 몰리브덴, 크롬, 텅스텐 등이 있으며, 더 작은 열팽창계수를 갖는 물질로 이루어진 코팅층의 두께를 좀 더 두껍게 형성할 수 있다. 서로 다른 물질로 된 코팅층의 두께는 서로 같게 설정될 수도 있다. 이때, 공정 온도에서 코팅층의 두께는 물질의 열팽창계수에 의한 열변형이 최소화될 수 있도록 산출된다. On the other hand, the material of the front coating layer 110 and the back coating layer 120 may be different. Metal materials having a low coefficient of thermal expansion include Fe, Ni, Co alloys such as Invar and Kovar, molybdenum, chromium and tungsten, and can form a thicker coating layer made of a material having a smaller coefficient of thermal expansion. have. The thicknesses of the coating layers of different materials may be set the same. At this time, the thickness of the coating layer at the process temperature is calculated to minimize the thermal deformation caused by the thermal expansion coefficient of the material.

코팅층(110,120)의 두께는 모두 마이크로미터 수준이며, 유리마스크 전체의 두께도 마이크로미터 수준으로 구성된다. 즉, 코팅층을 포함한 유리마스크 전체의 두께는 100um 이하 인 것이 바람직하며, 그에 따라 코팅층의 두께는 1 내지 30um 정도로 한다. The thicknesses of the coating layers 110 and 120 are all micrometer level, and the thickness of the entire glass mask is also micrometer level. That is, the thickness of the entire glass mask including the coating layer is preferably 100um or less, and thus the thickness of the coating layer is about 1 to 30um.

도 2는 본 발명에 따른 유리마스크를 마스크 프레임에 장착한 것을 보여준다.2 shows that the glass mask according to the present invention is mounted on the mask frame.

유리마스크(100)의 취약성을 고려하여 유리마스크(100)를 금속으로 제작된 마스크 프레임(200)에 고정하여 사용한다. 유리마스크의 취약성으로 인해 마스크 프레임(200)과의 고정은 자력을 이용하도록 구성한다. 유리마스크를 자력으로 고정하기 위해 유리마스크(100)의 소재 자체를 산화철 입자와 같은 강자성 입자를 포함한 자성 유리를 사용할 수 있다. 그러나 일반 유리를 사용한 경우에도 코팅층이 인바 등 자성을 나타내는 소재로 이루어져 있는 경우에는 코팅층에 의해 자력으로 마스크 프레임에 고정될 수 있다. 마스크 프레임(200)에는 유리마스크 가장자리를 따라 자석(300)을 배열하여 유리마스크(100)를 자력으로 마스크 프레임에 고정시킨다. In consideration of the vulnerability of the glass mask 100, the glass mask 100 is fixed to the mask frame 200 made of metal and used. Due to the fragility of the glass mask, fixing with the mask frame 200 is configured to use magnetic force. In order to fix the glass mask by magnetic force, a magnetic glass including ferromagnetic particles such as iron oxide particles may be used as the material of the glass mask 100 itself. However, even in the case of using glass, when the coating layer is made of a material showing magnetic properties such as Invar, it may be fixed to the mask frame by magnetic force by the coating layer. The magnet 300 is arranged on the mask frame 200 along the edge of the glass mask to fix the glass mask 100 to the mask frame by magnetic force.

한편, 증착공정 중에 기판과 유리마스크(100)가 밀착되도록 기판과 유리마스크와의 밀착면의 반대편(상향식 증착원 사용 시 기판의 상부)에 자석배열체를 배치하여 유리마스크(100)를 기판쪽으로 당겨주도록 한다.Meanwhile, the magnet array is disposed on the opposite side of the contact surface between the substrate and the glass mask (upper side of the substrate when using the upward deposition source) so that the substrate and the glass mask 100 adhere to each other during the deposition process, so that the glass mask 100 is directed toward the substrate. Pull it out.

이와 같이 하여 유리마스크를 구성할 수 있다. In this way, a glass mask can be comprised.

다음으로, 유리마스크의 코팅에 따른 온도변화시 변형량에 대한 구조해석을 통한 시험 결과를 살핀다. 구조해석은 Ansys 상용 구조해석 소프트웨어를 이용하여 실시하였다. 패턴이 형성되지 않은 마스크 시트의 변형량으로부터 마스크 변형에 대해 간접적인 정보를 얻어 비교하였다. 글라스는 코닝사의 디스플레이용 글라스인 Eagle2000 또는 이와 동등한 소재가 사용된 것으로 가정하였고, 해석에 적용된 물성도 Eagle2000과 동일하다. Next, look at the test results through the structural analysis of the amount of deformation during the temperature change according to the coating of the glass mask. Structural analysis was performed using Ansys commercial structural analysis software. Indirect information on the mask deformation was obtained from the deformation amount of the mask sheet on which the pattern was not formed and compared. The glass assumes that Corning's display glass Eagle2000 or equivalent material is used, and the physical properties applied to the analysis are the same as Eagle2000.

도 3은 50um 및 100um 두께의 유리마스크에 대해 코팅을 하지 않은 경우 대비 양면 코팅을 동일한 두께로 한 경우에 대해 10℃ 상승 시 변형량을 시뮬레이션한 결과표이다.3 is a table showing the results of simulation of the amount of deformation at a rise of 10 ° C. for a case in which both sides of the coating have the same thickness as compared to the case where the glass masks of 50 um and 100 um thickness are not coated.

인바/유리/인바 3 레이어로 구성된 100x80mm2 샘플 형태에서 길이 80mm 에지를 고정한 조건에서 구조해석을 실시하였다. -Z가 중력이 방향이고, 온도는 상온으로부터 10℃ 상승하는 조건을 적용하였다. 코팅을 하지 않은 유리마스크의 경우 본래 유리 두께가 50 um이면 변형량이 386 um 이고, 본래 유리 두께가 100 um이면 변형량이 393 um이다. 코팅을 한 경우는 변형량이 222 ~ 374 um으로 코팅에 의해 변형이 감소하는 효과가 있음을 알 수 있다. Structural analysis was performed under fixed conditions of 80 mm length edges in a 100x80 mm 2 sample form consisting of three layers of Invar / Glass / Invar. -Z is the direction in which gravity is a direction, and the temperature was applied the conditions which rise 10 degreeC from normal temperature. In the case of the uncoated glass mask, if the glass thickness is 50 um, the deformation amount is 386 um, and if the glass thickness is 100 um, the deformation amount is 393 um. When the coating is applied, the deformation amount is 222 ~ 374 um, it can be seen that there is an effect that the deformation is reduced by the coating.

도 4는 도 3과 같은 실시예에 대한 컨투어 플롯이다. 이로부터 변형량의 차이를 육안으로 확인할 수 있다. 4 is a contour plot for the same embodiment as in FIG. 3. From this, the difference in deformation amount can be visually confirmed.

도 5는 도 3의 유리마스크에 대해 양면에 코팅된 코팅층의 두께를 서로 달리한 경우에 대한 변형량 시뮬레이션 결과표이다. 시뮬레이션에서 유리층의 두께는 50um과 100um으로 설정하였다. 50um 경우 인바층 두께 t1, t2를 조절함에 따라 변형량이 200um까지 줄어들었고, 코팅을 하지 않은 경우 변형량 386 um에 비해 상당히 감소한 것으로 나타났다. 100um 경우에도 인바층 두께 t1, t2에 따라 변형량이 다르게 나타나고, 코팅을 하지 않은 경우 변형량 393um로부터 117um까지 변형량 감소가 나타났다. FIG. 5 is a deformation simulation result table for a case in which the thicknesses of the coating layers coated on both surfaces of the glass mask of FIG. 3 are different from each other. In the simulation, the thickness of the glass layer was set to 50um and 100um. In the case of 50um, the strain amount was reduced to 200um by adjusting the thickness of the Invar layer t1 and t2, and when the coating was not applied, the strain amount was considerably reduced compared to the strain amount of 386um. Even in the case of 100um, the deformation amount was different according to the thickness of the Invar layer t1 and t2, and when the coating was not applied, the deformation amount was decreased from 393um to 117um.

도 6은 도 5의 실시예에 대한 컨투어 플롯이다.FIG. 6 is a contour plot for the embodiment of FIG. 5.

도 7은 코팅을 하지 않은 유리마스크와 양면 코팅된 유리마스크에 대해 20℃ 온도 상승에 따른 변형량을 시뮬레이션한 결과표이다. 7 is a result table for simulating the deformation amount according to the temperature rise 20 ℃ for the glass mask not coated and the double-coated glass mask.

공정 중 온도상승 ΔT = 20 oC 로 가정하고, 유리마스크 변형 해석을 실시하였다. 코팅하지 않은 유리마스크 경우 최대 변형량이 546 um임에 반해, 코팅한 경우에는 t1, t2 두께 조절에 따라 196um 정도까지 변형량 감소 효과가 나타났다. 증발원 쪽에 코팅 두께 t2보다 반대면의 두께 t1이 큰 경우는 변형량 감소 효과가 줄어들었다. ΔT = 20 oC로 온도상승 폭이 커지는 경우에도 유리마스크 코팅 두께 조절에 의한 변형 감소 효과를 얻을 수 있음을 확인할 수 있다. The glass mask deformation analysis was performed assuming that the temperature rise ΔT = 20 ° C during the process. In the case of the uncoated glass mask, the maximum deformation amount was 546 um, whereas in the case of coating, the deformation amount was reduced to about 196um by adjusting the thickness of t1 and t2. When the thickness t1 of the opposite side was larger than the coating thickness t2 on the evaporation source side, the effect of reducing the deformation amount was reduced. It can be seen that even when the temperature rise width is increased to ΔT = 20 o C, the deformation reduction effect by the glass mask coating thickness control can be obtained.

본 발명의 권리는 위에서 설명된 실시 예에 한정되지 않고 청구범위에 기재된 바에 의해 정의되며, 본 발명의 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 청구범위에 기재된 권리범위 내에서 다양한 변형과 개작을 할 수 있다는 것은 자명하다.The rights of the present invention are not limited to the embodiments described above but are defined by the claims, and those skilled in the art can make various modifications and adaptations within the scope of the claims. It is self-evident.

100: 유리마스크
110, 120: 코팅층
200: 마스크 프레임
300: 자석100: glass mask
110, 120: coating layer
200: mask frame
300: magnet

Claims (5)

증착공정용 마스크로서,
유리로 된 마스크 본체에 유리보다 열팽창 계수가 작은 물질로 된 코팅층으로 양면 코팅된 것을 특징으로 하는 유리마스크.As a mask for the deposition process,
A glass mask characterized in that the mask body made of glass is coated on both sides with a coating layer made of a material having a smaller coefficient of thermal expansion than glass. 제1항에 있어서, 유리마스크 전면과 이면에 형성된 코팅층은 같은 물질로 구성되되, 두께가 서로 같거나 다르게 형성된 것을 특징으로 하는 유리마스크.The glass mask of claim 1, wherein the coating layers formed on the front and rear surfaces of the glass mask are made of the same material and have the same or different thicknesses. 제1항에 있어서, 유리마스크 전면과 이면에 형성된 코팅층은 서로 다른 물질로 구성되는 것을 특징으로 하는 유리마스크.The glass mask of claim 1, wherein the coating layers formed on the front and rear surfaces of the glass mask are made of different materials. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 코팅층은 인바, 코바(kovar), Fe, Ni, Co중 하나 이상을 포함한 합금, 몰리브덴, 크롬, 텅스텐 중 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 유리마스크.The method of claim 1, wherein the coating layer comprises at least one of an alloy including at least one of Invar, Kovar, Fe, Ni, and Co, molybdenum, chromium, and tungsten. Glass mask. 제1항의 유리마스크를 고정하는 마스크 프레임으로서,
상기 마스크 프레임은 자석을 포함하고, 상기 유리마스크는 자성체를 포함하여 자력에 의해 유리마스크를 마스크 프레임에 고정하는 것을 특징으로 하는 마스크 프레임.
A mask frame for fixing the glass mask of claim 1,
The mask frame includes a magnet, and the glass mask includes a magnetic material to fix the glass mask to the mask frame by magnetic force.
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