KR20190142098A - Two track vacuum powder collection system - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a dual track vacuum dust collecting system, and more specifically, to a dual track vacuum dust collecting system capable of continuously collecting dust without stoppage during a dust collecting operation even when there is a need to clean a filter, and completely cleaning the filter since compressed air is used to clean the filter, thereby maximizing filtering efficiency to extend a lifespan of a scrubber and the filter as well as a lifespan of a vacuum pump. To this end, according to the present invention, the dual track vacuum dust collecting system is installed at the front or rear of the vacuum pump to purify waste gas supplied to the vacuum pump or the scrubber. In the dual track vacuum dust collecting system, a pair of dust collectors are connected in parallel to each other to purify the waste gas, wherein one dust collector performs a purification operation when the other dust collector performs a cleaning operation.

Description

이중 트랙 진공 집진 시스템{Two track vacuum powder collection system}Two track vacuum powder collection system

본 발명은 이중 트랙 진공 집진 시스템에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 집진 작용을 수행할 때, 필터의 청소가 필요하더라도 멈춤이 없이 지속적으로 집진 작용을 진행할 수 있으며, 필터의 청소시 압축공기를 사용하기 때문에 보다 완전하게 청소할 수 있어 여과효율을 극대화하여 진공펌프의 수명을 연장시킬 수 있을 뿐만 아니라, 스크러버의 수명과 필터 자체의 수명 역시 연장시킬 수 있는 이중 트랙 진공 집진 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a dual-track vacuum dust collecting system, and more particularly, when performing the dust collecting operation, even if the cleaning of the filter is required, the dust collecting can be continuously performed without stopping, and using compressed air when cleaning the filter. Therefore, the present invention relates to a dual track vacuum dust collecting system which can be cleaned more completely, thereby maximizing the filtration efficiency and extending the life of the vacuum pump, as well as the life of the scrubber and the filter itself.

반도체 제조 공정 중에서 증착 및 확산, 식각 공정 등에는 실란(SiH4)과 아르신(AsH3) 등의 유해가스와 수소 등의 공정용 가스가 사용되는 바, 이와 같은 가스는 발화성 및 독성이 있으므로, 사용이 끝난 공정용 가스는 폐가스로 배기 시스템을 통하여 대기로 배출되기 전에 반드시 정화과정을 거쳐야 한다.In the semiconductor manufacturing process, harmful gases such as silane (SiH4) and arsine (AsH3) and process gases such as hydrogen are used for the deposition, diffusion, and etching processes. Such gases are ignitable and toxic. The finished process gas must be purified before it is discharged to the atmosphere through the exhaust system as waste gas.

따라서, 반도체 제조 공정의 각 배기 시스템에는 폐가스를 정화하는 여러 가지 가스 스크러버(Gas Scrubber)가 설치되어 운영되고 있으며, 처리 방식에 따라 일반적으로 습식 스크러버와 건식 스크러버로 구분된다.Therefore, various exhaust gas scrubbers (Gas Scrubber) for purifying waste gas are installed and operated in each exhaust system of the semiconductor manufacturing process, and are generally classified into a wet scrubber and a dry scrubber according to a treatment method.

이 중에서 습식 스크러버는 폐가스를 물(H2O) 또는 가스 흡착성 액상 화학 약품에 통과시키거나 연무 상태로 분무시켜 흡착에 의한 방법으로 배출 가스를 제거하는 방식으로, 비교적 간단한 구성을 가지므로 제작이 용이하고 대용량화 할 수 있는 장점이 있으나, 발화성이 강한 수소기를 포함하는 가스의 처리에는 부적절하고, 액상의 화학 물질을 반응의 주체로 사용하는 경우에는 2차 오염 물질이 발생되어 지속적인 유지 보수가 요구되는 문제점이 있으며, 건식 스크러버는 히터(Heater) 등의 열원을 이용하여 고온의 챔버(Chamber)를 형성하고, 이 챔버 속으로 공정용 가스를 통과시켜 폐가스를 열반응에 의해 고형 미립자화 하는 것으로, 비교적 안전하고 온도 제어가 용이한 바 습식 스크러버에 비하여 상대적으로 널리 사용되고 있다.Among these, the wet scrubber is a method of removing waste gas by the adsorption method by passing the waste gas through water (H 2 O) or gas adsorbent liquid chemical or spraying it in a mist state. Although there is an advantage in that it is inadequate for the treatment of a gas containing a hydrogen group having a high ignition, when using a liquid chemical as the main agent of the reaction there is a problem that the secondary pollution is generated, requiring continuous maintenance The dry scrubber forms a high temperature chamber using a heat source such as a heater, and passes the process gas into the chamber to solidify the waste gas by thermal reaction. Since it is easy to control, it is relatively widely used compared to the wet scrubber.

이때, 도 1에 도시된 바와 같이 반도체 제조공정에서 발생하는 폐가스는 진공펌프를 통하여 흡입하여 후부에 연결되는 스크러버로 공급하게 되는데, 제조공정에서 발생하는 폐가스에는 SiO2가 다량 함유되어 있고, 이러한 SiO2는 스크러버에서 제거되기는 하지만 SiO2의 영향으로 진공펌프가 보다 빨리 손상되고, 스크러버 역시 손상되는 문제점이 있다.At this time, the waste gas generated in the semiconductor manufacturing process, as shown in Figure 1 is sucked through the vacuum pump and supplied to the scrubber connected to the rear, the waste gas generated in the manufacturing process contains a large amount of SiO 2 , such SiO Although 2 is removed from the scrubber, the vacuum pump is damaged more quickly by the influence of SiO 2 , and the scrubber is also damaged.

따라서, 진공 펌프가 손상될 경우, 반도체 생산라인이 멈추어야 하므로 그에 따른 손실이 상당하기 때문에 생산라인을 최대한 멈추지 않도록 하기 위하여 진공펌프로 공급되는 SiO2를 최대한 제거하여야 한다.Therefore, when the vacuum pump is damaged, since the semiconductor production line must be stopped, the loss is considerable, so SiO 2 supplied to the vacuum pump should be removed as much as possible to avoid stopping the production line as much as possible.

그래서, 이러한 문제점을 해결하기 위하여 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같은 한국등록실용신안 제20-0178284호에 기재된 기술이 제안되었는데, 그 기술적 특징은 폐가스를 공급하는 제1 유로(12) 및 제2 유로(14)를 갖는 폐가스 공급관(10)과; 상기 폐가스 공급관(10)의 제1 유로(12)와 연결되고, 폐가스 도입구(22) 및 폐가스 배출구(132)를 갖는 제1 집진기(20)와; 상기 폐가스 공급관(10)의 제2 유로(14)와 연결되며, 폐가스 도입구(122) 및 폐가스 배출구(32)를 갖는 제2 집진기(120)와; 상기 제1 및 제2 집진기(20,120)에 각각 설치되어 폐가스속의 파우더를 여과하는 여과수단(50,150)과; 상기 폐가스 공급관(10)의 제1 및 제2 유로(12,14)를 선택적으로 차단하여 폐가스가 상기 제1 및 제2 집진기(20,120)중 어느 하나로 도입되도록 하는 유로절환수단(60,160)과; 상기 여과수단(50,150)의 하면을 지지하도록 설치되는 지지판(80,180)과; 상기 여과수단(50,150)을 반복적으로 변형시켜서 그것에 부착되어 있는 이물질을 탈락시킬 수 있도록 상기 지지판(80,180)을 운동시키는 캠수단(82,182)과; 상기 캠수단(82,182)을 작동시키는 구동수단(100,200)을 포함하는 것을 특징으로 한다.Thus, in order to solve this problem, the technique described in Korea Utility Model Model No. 20-0178284 as shown in Figs. 2 and 3 has been proposed, the technical characteristics of the first flow path 12 and the first supply of waste gas A waste gas supply pipe 10 having two flow passages 14; A first dust collector 20 connected to the first flow passage 12 of the waste gas supply pipe 10 and having a waste gas inlet 22 and a waste gas outlet 132; A second dust collector 120 connected to the second flow passage 14 of the waste gas supply pipe 10 and having a waste gas inlet 122 and a waste gas outlet 32; Filtering means (50,150) installed in the first and second dust collectors (20,120), respectively, to filter powder in the waste gas; Flow path switching means (60,160) for selectively blocking the first and second flow paths (12, 14) of the waste gas supply pipe (10) so that the waste gas is introduced into any one of the first and second dust collectors (20, 120); Support plates (80, 180) installed to support the lower surfaces of the filtering means (50, 150); Cam means (82,182) for moving the support plates (80,180) so as to repeatedly deform the filtration means (50,150) to remove foreign substances attached thereto; It characterized in that it comprises a drive means (100,200) for operating the cam means (82,182).

그런데, 한국등록실용신안 제20-0178284호에 기재된 기술은 폐가스가 가스 스크러버로 도입되기 전에 폐가스속의 파우더를 효율적으로 제거할 수 있을 뿐만 아니라, 이중으로 형성되어 일측 필터를 수리하거나 교환시에도 폐가스의 흐름을 중단시키지 않도록 하여 폐가스속에 포함된 파우더를 연속적으로 제거할 수 있으며, 필터를 반복적으로 변형시켜 필터에 부착된 이물질을 강제로 제거할 수 있는 장점은 있으나, 필터에 부착된 이물질 제거시 필터를 변형시키기 때문에 필터의 수명이 빨리 줄어들게 되며 이물질의 제거 효율이 떨어지는 문제점이 있다.However, the technique described in Korean Utility Model Registration No. 20-0178284 can not only efficiently remove the powder in the waste gas before the waste gas is introduced into the gas scrubber, but also is formed in duplicate so that the waste gas can be removed even when repairing or replacing one filter. The powder contained in the waste gas can be removed continuously without interrupting the flow, and the filter can be deformed repeatedly to forcibly remove foreign substances attached to the filter. Due to the deformation, the life of the filter is shortened quickly and there is a problem that the efficiency of removing foreign matters is lowered.

또한, 진공펌프의 앞 단에 설치되기 때문에 각 집진기의 완전한 밀폐상태를 유지하여야 하는데, 필터(50,180)를 흔들어서 변형시키기 위한 캠수단(82,182) 및 구동수단(100,200)의 구조에 의해 완전한 밀폐구조를 형성하기가 어려운 문제점이 있다.In addition, since it is installed at the front end of the vacuum pump, each of the dust collectors should be kept in a completely sealed state, and the structure of the cam means 82 and 182 and the driving means 100 and 200 for shaking and deforming the filters 50 and 180 to form a complete sealed structure. There is a problem that is difficult to form.

한국등록실용신안 제20-0178284호Korean Utility Model Registration No. 20-0178284 한국등록특허 제10-0507239호Korea Patent Registration No. 10-0507239

본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 두 개의 집진기를 구비하여 일측 집진기가 집진작용을 할 때, 타측 집진기는 필터의 청소작업을 진행하도록 하여 멈춤이 없이 집진작용을 수행할 수 있으며, 청소 작업시 압축공기를 필터로 분사하도록 함으로써, 집진기의 여과효율을 안정적으로 유지할 수 있을 뿐만 아니라, 청소시에 보다 완전하게 청소할 수 있어 정화 효율을 높여 주어 진공펌프의 수명을 보다 연장시킬 수 있으며, 필터가 청소작업에 의해 손상되는 것을 방지할 수 있는 이중 트랙 진공 집진 시스템을 제공하는 것이다.The present invention has been made in order to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a dust collector with two dust collector, when the dust collector on the other side, the other dust collector to proceed with the cleaning operation of the filter to stop the dust collection operation without stopping By injecting compressed air into the filter during the cleaning operation, not only can the filtration efficiency of the dust collector be stably maintained, but also it can be cleaned more completely during cleaning, thereby increasing the purification efficiency and improving the life of the vacuum pump. It is to provide a double track vacuum dust collecting system which can be extended more and prevents the filter from being damaged by the cleaning operation.

그리고, 본 발명의 다른 목적은 집진기를 형성하는 본체의 측부에 청소작업시 공기를 배출하기 위한 보조 배출구를 형성하고, 상기 보조 배출구에는 필터의 청소시 제거된 이물질이 외부로 배출되는 것을 방지하기 위하여 배출되는 공기는 타측의 집진 작용을 수행하는 집진기로 다시 공급하도록 하되, 타측 집진기로 공급하기 위한 연결관에 유량조절밸브를 구비하여 최소한으로 공기를 공급하도록 함으로써, 진공펌프에 의해 발생하는 진공도가 변화하는 것을 방지하여 안정적으로 폐가스를 정화시켜 배출할 수 있도록 하는 이중 트랙 진공 집진 시스템을 제공하는 것이다.In addition, another object of the present invention is to form an auxiliary outlet for discharging air during the cleaning operation on the side of the main body forming the dust collector, the auxiliary outlet to prevent the foreign substances removed during cleaning of the filter to be discharged to the outside The discharged air is supplied back to the dust collector which performs the dust collecting function of the other side, and a flow control valve is provided in the connection pipe for supplying the dust collector of the other side to supply the air to the minimum, thereby changing the vacuum degree generated by the vacuum pump. It is to provide a double track vacuum dust collecting system that can prevent the waste to be reliably purged and discharged waste gas.

이러한 문제점을 해결하기 위한 본 발명은;The present invention for solving this problem;

진공펌프의 전부 또는 후부 설치하여 진공펌프 또는 스크러버로 공급되는 폐가스를 정화시키기 위한 이중 트랙 진공 집진 시스템으로서, 폐가스를 정화하기 위한 한 쌍의 집진기가 병렬로 연결되되, 상기 집진기 중 일측이 정화작업을 수행을 할 때, 타측은 청소작업을 수행하는 것을 특징으로 한다.A dual track vacuum dust collecting system for purifying the waste gas supplied to the vacuum pump or the scrubber by installing all or the rear of the vacuum pump, wherein a pair of dust collectors for purifying the waste gas are connected in parallel, and one of the dust collectors When performing, the other side is characterized by performing a cleaning operation.

여기서, 상기 집진기는 몸체와, 상기 몸체의 측부에 구비되어 폐가스의 공급을 제어하는 흡입 밸브와, 상기 몸체의 내측에 구비되는 폐가스를 정화하는 필터와, 상기 몸체의 상부에 구비되어 상기 필터에 의해 정화된 폐가스의 배출을 제어하는 배출 밸브와, 상기 필터의 상부에 구비되는 청소 장치를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.Here, the dust collector is provided on the body, the suction valve is provided on the side of the body to control the supply of waste gas, the filter for purifying the waste gas provided on the inside of the body, the upper portion of the body by the filter It characterized in that it comprises a discharge valve for controlling the discharge of the purified waste gas, and a cleaning device provided on the upper portion of the filter.

그리고, 상기 청소 장치는 필터로 압축공기를 분사하는 에어 제트 모듈로 이루어지며, 상기 몸체의 측부에는 상기 에어 제트 모듈에서 분사한 공기를 외부로 배출하는 보조 배출구가 형성되는 것을 특징으로 한다.And, the cleaning device is made of an air jet module for injecting compressed air to the filter, characterized in that the side of the body is formed with an auxiliary outlet for discharging the air injected from the air jet module to the outside.

여기서, 상기 보조 배출구에서 배출되는 공기는 타측의 집진기에 형성된 흡입 밸브와 연결되는 것을 특징으로 한다.Here, the air discharged from the auxiliary outlet is characterized in that it is connected to the suction valve formed on the other side dust collector.

이때, 상기 에어 제트 모듈은 외부에서 압축공기를 공급받아 필터의 상부로 분사하도록 다수개의 청소밸브를 구비하고, 각 청소밸브는 설정된 압력의 공기를 설정된 시간 동안 순차적으로 분사하는 것을 특징으로 한다.At this time, the air jet module is provided with a plurality of cleaning valves to receive compressed air from the outside and to spray the upper portion of the filter, each cleaning valve is characterized in that for sequentially spraying the air of a predetermined pressure for a predetermined time.

한편, 상기 보조 배출구와 흡입 밸브 사이에는 유량조절밸브가 더 구비되되, 상기 유량조절밸브는 진공펌프에 의해 형성되는 진공상태가 변하지 않도록 에어 제트 모듈을 통하여 분사된 공기를 설정된 양만큼 지속적으로 배출하는 것을 특징으로 한다.Meanwhile, a flow control valve is further provided between the auxiliary outlet port and the suction valve, and the flow control valve continuously discharges the air injected through the air jet module by a predetermined amount so that the vacuum state formed by the vacuum pump does not change. It is characterized by.

또한, 상기 보조 배출구에는 전단부에는 보조 필터가 구비되고, 후단부에는 보조 배출 밸브가 구비되는 것을 특징으로 한다.In addition, the auxiliary outlet is characterized in that the auxiliary filter is provided at the front end, and the auxiliary discharge valve is provided at the rear end.

그리고, 상기 몸체의 하부에는 상기 청소장치에 의해 필터에서 분리된 분진이 수용되는 더스트 캔이 구비되는 것을 특징으로 한다.And, the lower portion of the body is characterized in that the dust can is provided with dust separated from the filter by the cleaning device is provided.

상기한 구성의 본 발명에 따르면, 두 개의 집진기를 구비하여 일측 집진기가 집진작용을 할 때, 타측 집진기는 필터의 청소작업을 진행하도록 하여 멈춤이 없이 집진작용을 수행할 수 있으며, 청소 작업시 압축공기를 필터로 분사하도록 함으로써, 집진기의 여과효율을 안정적으로 유지할 수 있을 뿐만 아니라, 청소시에 보다 완전하게 청소할 수 있어 정화 효율을 높여 주어 진공펌프의 수명을 보다 연장시킬 수 있으며, 필터가 청소작업에 의해 손상되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention having the above-described configuration, when one of the dust collector is provided with two dust collectors, the other dust collector can perform the cleaning operation of the filter to perform the dust collection operation without stopping, and the compression during the cleaning operation By injecting air into the filter, not only can the filtration efficiency of the dust collector be maintained stably, but also it can be cleaned more completely at the time of cleaning, improving the purification efficiency and extending the life of the vacuum pump. There is an effect that can be prevented from being damaged by.

그리고, 본 발명은 집진기를 형성하는 본체의 측부에 청소작업시 공기를 배출하기 위한 보조 배출구를 형성하고, 상기 보조 배출구에는 필터의 청소시 제거된 이물질이 외부로 배출되는 것을 방지하기 위하여 배출되는 공기는 타측의 집진 작용을 수행하는 집진기로 다시 공급하도록 하되, 타측 집진기로 공급하기 위한 연결관에 유량조절밸브를 구비하여 최소한으로 공기를 공급하도록 함으로써, 진공펌프에 의해 발생하는 진공도가 변화하는 것을 방지하여 안정적으로 폐가스를 정화시켜 배출할 수 있도록 하는 효과가 있다.Further, the present invention forms an auxiliary outlet for discharging air during the cleaning operation on the side of the main body forming the dust collector, the air discharged to prevent the foreign substances removed during cleaning of the filter to be discharged to the outside The supply is supplied back to the dust collector to perform the dust collecting action of the other side, provided with a flow control valve in the connection pipe for supplying to the other dust collector to supply the air to the minimum, thereby preventing the vacuum degree generated by the vacuum pump to change It is effective in stably purifying the waste gas to be discharged.

도 1은 일반적인 반도체 제조공장에서의 폐가스 배출을 보여주는 개념도이다.
도 2는 종래의 파우더 집진 장치의 종단면도이다.
도 3은 종래의 파우더 집진 장치의 횡단면도이다.
도 4는 본 발명에 따른 이중 트랙 진공 집진 시스템의 개념도이다.
도 5는 본 발명에 따른 이중 트랙 진공 집진 시스템의 집진 작용시의 필터 및 에어 제트 모듈의 개념도이다.
도 6은 본 발명에 따른 이중 트랙 진공 집진 시스템의 필터를 청소할 때의 공기 흐름을 보여주는 필터부의 개념도이다.
도 7은 본 발명에 따른 이중 트랙 진공 집진 시스템의 집진기가 동작시의 공기 흐름을 보여주는 개념도이다.1 is a conceptual diagram illustrating waste gas emission in a general semiconductor manufacturing plant.
2 is a longitudinal sectional view of a conventional powder dust collector.
3 is a cross-sectional view of a conventional powder dust collector.
4 is a conceptual diagram of a dual track vacuum dust collecting system according to the present invention.
5 is a conceptual diagram of a filter and an air jet module in the dust collecting action of the dual track vacuum dust collecting system according to the present invention.
6 is a conceptual view illustrating a filter part showing air flow when cleaning the filter of the dual track vacuum dust collecting system according to the present invention.
7 is a conceptual diagram showing the air flow during operation of the dust collector of the dual track vacuum dust collecting system according to the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 보다 상세하게 설명한다. 도면상의 동일한 구성요소에 대해서는 동일한 참조부호를 사용하고 동일한 구성요소에 대해서 중복된 설명은 생략한다. 그리고, 본 발명은 다수의 상이한 형태로 구현될 수 있고, 기술된 실시 예에 한정되지 않음을 이해하여야 한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the present invention. The same reference numerals are used for the same elements in the drawings, and duplicate descriptions of the same elements are omitted. And, it is to be understood that the present invention may be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth.

도 4는 본 발명에 따른 이중 트랙 진공 집진 시스템의 개념도이고, 도 5는 본 발명에 따른 이중 트랙 진공 집진 시스템의 집진 작용시의 필터 및 에어 제트 모듈의 개념도이고, 도 6은 본 발명에 따른 이중 트랙 진공 집진 시스템의 필터를 청소할 때의 공기 흐름을 보여주는 필터부의 개념도이고, 도 7은 본 발명에 따른 이중 트랙 진공 집진 시스템의 집진기가 동작시의 공기 흐름을 보여주는 개념도이다.4 is a conceptual diagram of a dual track vacuum dust collection system according to the present invention, FIG. 5 is a conceptual diagram of a filter and an air jet module in the dust collection operation of the dual track vacuum dust collection system according to the present invention, and FIG. It is a conceptual diagram of the filter part which shows the air flow at the time of cleaning the filter of a track vacuum dust collection system, and FIG. 7 is a conceptual diagram which shows the air flow at the time of the dust collector of the dual track vacuum dust collection system which concerns on this invention.

본 발명은 이중 트랙 진공 집진 시스템에 관한 것으로 반도체 생산장치(300)를 통하여 반도체를 생산하는 과정에서 발생하는 폐가스를 흡입 배출하기 위한 진공펌프(400)의 전부 또는 후부에 구비되어 진공펌프(400) 또는 진공펌프(400)의 후부에 구비되는 스크러버(미도시)로 공급되는 폐가스를 정화하는 것으로서, 도 4 내지 도 7에 도시된 바와 같이 그 구성은 반도체 생산장치(300)에서 배출되는 폐가스를 정화하기 위한 한 쌍의 집진기(500)로 이루어지고, 상기 집진기(500)는 서로 병렬로 연결되어 후부에 위치하는 진공펌프(400)로 정화된 폐가스를 공급하게 된다.The present invention relates to a dual-track vacuum dust collecting system is provided in all or the rear of the vacuum pump 400 for suctioning and discharging the waste gas generated in the process of producing a semiconductor through the semiconductor production apparatus 300, the vacuum pump 400 Alternatively, as to purify the waste gas supplied to the scrubber (not shown) provided at the rear of the vacuum pump 400, as shown in Figures 4 to 7 the configuration is to purify the waste gas discharged from the semiconductor production apparatus 300 It consists of a pair of dust collector 500, the dust collector 500 is connected to each other in parallel to supply the purified waste gas to the vacuum pump 400 located in the rear.

이때, 한 쌍의 집진기(500) 중에서 일측이 폐가스를 정화하는 정화작업을 수행하는 중일 경우, 타측은 집진기(500)의 내부에 구비되는 필터(540)를 청소하는 청소작업을 수행하게 된다.At this time, if one side of the pair of dust collector 500 is performing a purification operation to purify the waste gas, the other side is to perform a cleaning operation for cleaning the filter 540 provided in the interior of the dust collector 500.

따라서, 본 발명에서는 진공펌프(400)의 전부에 한 쌍의 집진기(500)를 구비함으로써, 일측 집진기(500)의 필터를 청소할 때, 타측 집진기(500)가 집진작용을 하도록 하여 진공펌프(400)로 공급되는 폐가스가 정화된 상태로 공급되도록 하여 진공펌프(400)의 수명을 연장시킬 수 있게 된다.Therefore, in the present invention, a pair of dust collectors 500 are provided in all of the vacuum pumps 400, so that when the filter of one dust collector 500 is cleaned, the other dust collector 500 has a dust collecting action, so that the vacuum pump 400 ) So that the waste gas is supplied in a purified state to extend the life of the vacuum pump 400.

즉, 종래에는 진공펌프(400)에 공급되는 폐가스를 별도의 정화작용을 거치지 않기 때문에 진공펌프(400)가 폐가스에 함유된 분진에 의해 내부가 손상되어 수명이 짧아지게 되므로 진공펌프(400)를 자주 교체하여야 한다.That is, in the related art, since the waste gas supplied to the vacuum pump 400 does not undergo a separate purification operation, the vacuum pump 400 may be damaged by the dust contained in the waste gas, thereby shortening the lifespan thereof, thereby reducing the vacuum pump 400. It should be replaced frequently.

그런데, 반도체 생산장치(300)에서 생산되는 반도체가 고가이므로 진공펌프(400)의 교체를 위해서는 반도체 생산장치(300)의 가동을 멈추어야 할 경우, 교체하는 시간동안 제조하지 못한 제품의 양만큼의 많은 손실이 발생하게 된다.However, since the semiconductor produced in the semiconductor production apparatus 300 is expensive, when the operation of the semiconductor production apparatus 300 needs to be stopped for the replacement of the vacuum pump 400, as much as the amount of products not manufactured during the replacement time is required. Loss occurs.

그래서, 본 발명에서는 진공펌프(400)로 공급되는 폐가스에서 분진을 걸러 분진함량을 최소화함으로써, 진공펌프(400)의 수명을 연장시켜 주어 반도체 생산장치(300)의 가동시간을 최대한 늘려주어 반도체 생산장치(300)의 멈춤에 의한 손실을 최소화할 수 있게 된다.Therefore, in the present invention, by minimizing the dust content by filtering dust from the waste gas supplied to the vacuum pump 400, by extending the life of the vacuum pump 400 to increase the operating time of the semiconductor production apparatus 300 to maximize the production of semiconductor It is possible to minimize the loss caused by stopping the device 300.

그리고, 상기 집진기(500)는 몸체(510)와 상기 몸체(510)의 측부에 구비되는 흡입 밸브(520)와 몸체(510)의 내측에 구비되는 필터(540)와 몸체(510)의 상부에 구비되는 배출 밸브(530)와 상기 필터(540)의 상부에 구비되는 청소 장치(560)를 포함하여 이루어진다.The dust collector 500 has a body 510 and a suction valve 520 provided at the side of the body 510 and a filter 540 and a body 510 provided inside the body 510. It includes a discharge valve 530 provided and a cleaning device 560 provided on the filter 540.

여기서, 상기 흡입 밸브(520)는 몸체(510)의 측부에 형성되는 흡입구(522)를 통하여 폐가스의 공급 여부를 제어하게 되고, 상기 필터(540)는 세라믹 필터나 공지된 다양한 다른 필터로 이루어져 폐가스에 함유된 분진을 걸러주게 되며, 상기 배출 밸브(530)는 몸체(510)의 상부에 형성되는 배출구(532)를 통하여 필터(540)에 의해 정화된 폐가스의 배출 여부를 제어하게 된다.Here, the intake valve 520 controls the supply of the waste gas through the inlet 522 formed on the side of the body 510, the filter 540 is made of a ceramic filter or a variety of other known filters waste gas The dust contained in the filter is filtered, and the discharge valve 530 controls the discharge of the waste gas purified by the filter 540 through the discharge port 532 formed on the upper portion of the body 510.

그래서, 각 집진기(500)가 정화작업을 수행할 경우에는 상기 흡입 밸브(520)와 배출 밸브(530)를 모두 개방하여, 상기 진공펌프(400)에 의해 생성되는 음압에 의해 반도체 생산장치(300)에서 발생하는 폐가스를 흡입하여 필터(540)를 통하여 정화한 후 배출하게 된다.Therefore, when each dust collector 500 performs a purification operation, both the intake valve 520 and the discharge valve 530 are opened, and the semiconductor production apparatus 300 is driven by the negative pressure generated by the vacuum pump 400. Inhaled waste gas generated in the) is purified through the filter 540 and discharged.

또한, 일측 집진기(500)가 정화작업을 수행할 때, 타측 집진기(500)는 청소작업을 수행하게 되는데, 청소작업시에 상기 흡입 밸브(520)와 배출 밸브(530)는 밀폐된 상태를 유지하고, 상기 청소장치(560)는 에어 제트 모듈로 이루어져 하부에 위치하는 필터(540)로 압축공기를 분사하여 필터(540)에 묻어 있는 분진을 분리시키게 된다.In addition, when one side dust collector 500 performs a purification operation, the other dust collector 500 performs a cleaning operation. The cleaning operation of the intake valve 520 and the discharge valve 530 is maintained in a closed state. In addition, the cleaning device 560 is composed of an air jet module to separate the dust on the filter 540 by spraying compressed air to the filter 540 located at the bottom.

여기서, 상기 몸체(510)의 측부에는 보조 배출구(552)가 형성되며, 상기 보조 배출구(552)에는 보조 배출 밸브(550)가 형성되는데, 상기 보조 배출 밸브(550)는 청소작업 시에만 개방하여 청소장치(560)에서 분사한 공기를 몸체(510)의 외부로 배출하게 된다.Here, an auxiliary outlet 552 is formed at the side of the body 510, and an auxiliary discharge valve 550 is formed at the auxiliary outlet 552, and the auxiliary discharge valve 550 is opened only during a cleaning operation. The air injected by the cleaning device 560 is discharged to the outside of the body 510.

이때, 상기 보조 배출구(552)는 정화작업을 진행하고 있는 타측 집진기(500)의 흡입 밸브(520)와 연결되어 보조 배출구(552)를 통하여 배출되는 공기에 포함된 분진을 다시 걸러주게 된다.At this time, the auxiliary outlet 552 is connected to the intake valve 520 of the other dust collector 500 which is performing the purification work to filter out the dust contained in the air discharged through the auxiliary outlet 552.

또한, 상기 보조 배출 밸브(550)는 보조 배출구(552)의 후단에 형성되고, 상기 보조 배출구(552) 전단에는 보조 필터(551)가 더 구비되어 보조 배출구(552)를 통하여 배출되는 분진을 걸러줄 수 있게 된다.In addition, the auxiliary discharge valve 550 is formed at the rear end of the auxiliary discharge port 552, and the auxiliary filter 551 is further provided in front of the auxiliary discharge port 552 to filter the dust discharged through the auxiliary discharge port 552. I can give it.

한편, 상기 에어 제트 모듈로 이루어지는 청소장치(560)는 외부에 구비되는 압축공기 공급장치(600)로부터 공급되는 압축공기를 하부에 위치하는 필터(540)로 분사하는 다수개의 청소밸브(562)가 구비되는데, 상기 청소밸브(562)는 공급받은 일정 압력의 공기를 순차적으로 분사하게 된다.On the other hand, the cleaning device 560 made of the air jet module is provided on the outside A plurality of cleaning valves 562 are provided for injecting the compressed air supplied from the compressed air supply device 600 to the filter 540 positioned below, and the cleaning valve 562 sequentially supplies the air having a predetermined pressure. To spray.

여기서, 상기 압축공기 공급장치(600)와 청소장치(560) 사이에는 레귤레이터(610)가 구비되어 압축공기 공급장치(600)로부터 공급되는 압축공기를 일정한 압력으로 조절하여 공급하게 되며, 상기 압축공기 공급장치(600)와 청소장치(560)사이에는 제어밸브(620)가 구비되어 압축공기 공급장치(600)로부터의 압축공기 공급을 제어하게 된다.Here, a regulator 610 is provided between the compressed air supply device 600 and the cleaning device 560 to adjust and supply the compressed air supplied from the compressed air supply device 600 to a constant pressure, the compressed air A control valve 620 is provided between the supply device 600 and the cleaning device 560 to control the supply of compressed air from the compressed air supply device 600.

즉, 상기 진공펌프(400)에 의해 적절한 진공상태를 유지하여야 안정적으로 폐가스를 배출할 수 있기 때문에 너무 큰 압력의 공기를 다량으로 공급하게 되면 진공상태의 유지가 어렵기 때문에 적정한 압력으로 공기를 공급하고, 다수개의 청소밸브(562)로 동시에 분사하는 것이 아니라 각 청소밸브(562)가 순차적으로 분사하여 적절한 진공상태를 유지하도록 한다.That is, since the waste gas can be stably discharged only by maintaining the proper vacuum state by the vacuum pump 400, when a large amount of air is supplied in a large amount, it is difficult to maintain the vacuum state so that the air is supplied at an appropriate pressure. In addition, instead of simultaneously spraying the plurality of cleaning valves 562, each cleaning valve 562 is sequentially sprayed to maintain an appropriate vacuum state.

그리고, 상기 보조 배출구(552)와 타측 집진기(500)의 흡입 밸브(520) 사이에는 유량조절밸브(554)가 더 구비되는데, 상기 유량조절밸브(554)는 에어 제트 모듈로 이루어지는 청소장치(560)의 일측 청소밸브(562)에서 한번에 분사한 공기를 설정된 시간 동안 나누어서 배출하게 된다.Further, a flow control valve 554 is further provided between the auxiliary outlet 552 and the intake valve 520 of the other dust collector 500, and the flow control valve 554 is a cleaning device 560 formed of an air jet module. At one side of the cleaning valve 562, the air injected at one time is discharged by dividing for a set time.

즉, 상기 유량조절밸브(554)는 일정한 양을 지속적으로 배출하도록 하여 청소밸브(562)를 통하여 한번에 분사된 양을 일정한 시간동안 적은 양으로 지속적으로 배출하도록 함으로써, 진공펌프(400)에 의해 형성된 진공상태가 안정적으로 유지되도록 한다.That is, the flow control valve 554 is to be continuously discharged by a constant amount by discharging the amount injected at one time through the cleaning valve 562 in a small amount for a predetermined time, formed by the vacuum pump 400 Ensure that the vacuum remains stable.

한편, 상기 몸체(510)의 내측에는 청소장치(560)의 하부에 상하 분할하기 위한 격판(512)이 구비되고, 상기 격판(512)의 중심부에 상하 연통되도록 유입구(514)가 형성되며, 상기 유입구(514)에는 상기 필터(540)가 착탈 가능하게 설치된다.On the other hand, the inside of the body 510 is provided with a diaphragm 512 for splitting up and down in the lower portion of the cleaning device 560, the inlet 514 is formed so as to communicate vertically to the center of the diaphragm 512, The filter 540 is detachably installed at the inlet 514.

여기서, 상기 필터(540)는 전술한 바와 같이 필터(540)에 형성되는 다수의 미세공을 통하여 외부의 폐가스가 미세공을 통과하는 과정에서 분진을 걸러주고, 정화된 공기는 상부의 유입구(514)를 통하여 배출구(532)로 배출되게 된다.Here, the filter 540 filters the dust in the process of passing the external waste gas through the micropores through a plurality of micropores formed in the filter 540 as described above, the purified air is the inlet 514 of the upper portion It is discharged to the outlet 532 through the).

그리고, 상기 몸체(510)의 하부에는 청소장치(560)에 의해 필터(540)에서 분리된 분진이 자유낙하하여 수용되는 더스트 캔(570)이 구비되고, 상기 더스트 캔(570)의 상부에는 이물질 배출 밸브(572)가 형성된다.In addition, a dust can 570 is provided at a lower portion of the body 510 to freely receive dust separated from the filter 540 by a cleaning device 560, and a foreign substance at an upper portion of the dust can 570. A discharge valve 572 is formed.

여기서, 상기 이물질 배출 밸브(572)는 각 집진기(500)가 청소작업을 진행할 때에만 개방되도록 하여 필터(540)에서 분리된 분진은 수용하게 되며, 정화작업시에는 밀페되도록 하여 내부에 형성되는 음압에 의해 더스트 캔(570)에 수용된 분진이 다시 필터(540)로 이동하는 것을 방지하게 된다.Here, the foreign matter discharge valve 572 is open to each dust collector 500 only when the cleaning operation proceeds to accommodate the dust separated from the filter 540, the sound pressure is formed therein to be sealed during the purification operation By doing so, the dust contained in the dust can 570 is prevented from moving back to the filter 540.

이때, 상기 더스트 캔(570)은 서랍식이나 개방 가능하게 형성되어 내부에 수용된 분진을 용이하게 외부로 배출할 수 있게 된다.In this case, the dust can 570 is formed to be a drawer or openable to easily discharge the dust contained therein to the outside.

그리고, 상기 반도체 제조장치(300)와 진공펌프(400)는 별도의 배관으로 직결되는데, 직결된 배관에는 바이패스 밸브(580)이 구비되어 한 쌍으로 이루어지는 집진기(500)가 모두 작동 불가능하거나 다른 긴급 상황에서 개방되도록 하여 진공펌프(400)로 폐가스를 직접 신속하게 공급하도록 한다.In addition, the semiconductor manufacturing apparatus 300 and the vacuum pump 400 are directly connected to separate pipes, and the pipes directly connected to each other are provided with a bypass valve 580, so that a pair of dust collectors 500 are all inoperable or different. It is to be opened in an emergency to quickly supply the waste gas directly to the vacuum pump (400).

이상에서 본 발명의 바람직한 실시 예를 설명하였으나, 본 발명의 권리범위는 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 실시 예와 실질적으로 균등한 범위에 있는 것까지 본 발명의 권리 범위가 미치는 것으로 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형 실시가 가능한 것이다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the scope of the present invention is not limited thereto, and the scope of the present invention extends to the scope of the present invention to those which are substantially equivalent to the embodiments of the present invention. Various modifications can be made by those skilled in the art without departing from the scope of the present invention.

본 발명은 이중 트랙 진공 집진 시스템에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 집진 작용을 수행할 때, 필터의 청소가 필요하더라도 멈춤이 없이 지속적으로 집진 작용을 진행할 수 있으며, 필터의 청소시 압축공기를 사용하기 때문에 보다 완전하게 청소할 수 있어 여과효율을 극대화하여 진공펌프의 수명을 연장시킬 수 있을 뿐만 아니라, 스크러버의 수명과 필터 자체의 수명 역시 연장시킬 수 있는 이중 트랙 진공 집진 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a dual-track vacuum dust collecting system, and more particularly, when performing the dust collecting operation, even if the cleaning of the filter is required, the dust collecting can be continuously performed without stopping, and using compressed air when cleaning the filter. Therefore, the present invention relates to a dual track vacuum dust collecting system which can be cleaned more completely, thereby maximizing the filtration efficiency and extending the life of the vacuum pump, as well as the life of the scrubber and the filter itself.

300 : 반도체 생산장치 400 : 진공펌프
500 : 집진기 510 : 몸체
520 : 흡입밸브 530 : 배출밸브
540 : 필터 550 : 보조 배출 밸브
560 : 청소장치 570 : 더스트 캔
580 : 바이패스 밸브 600 : 압축공기 공급장치
610 : 레귤레이터300: semiconductor production apparatus 400: vacuum pump
500: dust collector 510: body
520: suction valve 530: discharge valve
540: filter 550: auxiliary discharge valve
560: cleaning device 570: dust can
580: bypass valve 600: compressed air supply device
610: Regulator

Claims (8)

진공펌프의 전부 또는 후부 설치하여 진공펌프 또는 스크러버로 공급되는 폐가스를 정화시키기 위한 이중 트랙 진공 집진 시스템으로서,
폐가스를 정화하기 위한 한 쌍의 집진기가 병렬로 연결되되,
상기 집진기 중 일측이 정화작업을 수행을 할 때, 타측은 청소작업을 수행하는 것을 특징으로 하는 이중 트랙 진공 집진 시스템.
A dual track vacuum dust collecting system for purifying the waste gas supplied to the vacuum pump or the scrubber by installing all or the rear of the vacuum pump,
A pair of dust collectors are connected in parallel to purify the waste gas,
When one side of the dust collector to perform the purging operation, the other side is a dual track vacuum dust collection system, characterized in that for performing a cleaning operation.
제1항에 있어서,
상기 집진기는 몸체와,
상기 몸체의 측부에 구비되어 폐가스의 공급을 제어하는 흡입 밸브와,
상기 몸체의 내측에 구비되는 폐가스를 정화하는 필터와,
상기 몸체의 상부에 구비되어 상기 필터에 의해 정화된 폐가스의 배출을 제어하는 배출 밸브와,
상기 필터의 상부에 구비되는 청소 장치를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 이중 트랙 진공 집진 시스템.
The method of claim 1,
The dust collector and the body,
A suction valve provided at a side of the body to control supply of waste gas;
A filter for purifying waste gas provided inside the body;
A discharge valve provided at an upper portion of the body to control discharge of the waste gas purified by the filter;
Dual-track vacuum dust collecting system comprising a cleaning device provided on the upper portion of the filter.
제2항에 있어서,
상기 청소 장치는 필터로 압축공기를 분사하는 에어 제트 모듈로 이루어지며,
상기 몸체의 측부에는 상기 에어 제트 모듈에서 분사한 공기를 외부로 배출하는 보조 배출구가 형성되는 것을 특징으로 하는 이중 트랙 진공 집진 시스템.
The method of claim 2,
The cleaning device is composed of an air jet module for injecting compressed air into the filter,
Dual side vacuum dust collection system, characterized in that the side of the body is formed with an auxiliary outlet for discharging the air injected from the air jet module to the outside.
제3항에 있어서,
상기 보조 배출구에서 배출되는 공기는 타측의 집진기에 형성된 흡입 밸브와 연결되는 것을 특징으로 하는 이중 트랙 진공 집진 시스템.
The method of claim 3,
The air discharged from the auxiliary outlet is connected to the suction valve formed on the other side dust collector vacuum track system.
제4항에 있어서,
상기 에어 제트 모듈은 외부에서 압축공기를 공급받아 필터의 상부로 분사하도록 다수개의 청소밸브를 구비하고,
각 청소밸브는 설정된 압력의 공기를 설정된 시간 동안 순차적으로 분사하는 것을 특징으로 하는 이중 트랙 진공 집진 시스템.
The method of claim 4, wherein
The air jet module is provided with a plurality of cleaning valves to receive compressed air from the outside and to spray the upper portion of the filter,
And each cleaning valve sequentially sprays air of a set pressure for a set time.
제5항에 있어서,
상기 보조 배출구와 타측 집진기의 흡입 밸브 사이에는 유량조절밸브가 더 구비되되,
상기 유량조절밸브는 진공펌프에 의해 형성되는 진공상태가 변하지 않도록 에어 제트 모듈을 통하여 분사된 공기를 설정된 양만큼 지속적으로 배출하는 것을 특징으로 하는 이중 트랙 진공 집진 시스템.
The method of claim 5,
Between the auxiliary outlet and the suction valve of the other dust collector is further provided with a flow control valve,
The flow regulating valve is a double track vacuum dust collecting system, characterized in that for continuously discharging the air injected through the air jet module by a set amount so that the vacuum state formed by the vacuum pump does not change.
제4항에 있어서,
상기 보조 배출구에는 전단부에 보조 필터가 구비되고, 후단부에 보조 배출 밸브가 구비되는 것을 특징으로 하는 이중 트랙 진공 집진 시스템.
The method of claim 4, wherein
The auxiliary discharge port is provided with an auxiliary filter at the front end, and a secondary track vacuum dust collecting system, characterized in that the auxiliary discharge valve is provided at the rear end.
제2항에 있어서,
상기 몸체의 하부에는 상기 청소장치에 의해 필터에서 분리된 분진이 수용되는 더스트 캔이 구비되는 것을 특징으로 하는 이중 트랙 진공 집진 시스템.
The method of claim 2,
The bottom of the body is a dual track vacuum dust collecting system, characterized in that the dust can is accommodated in the dust separated from the filter by the cleaning device.
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