KR20190139257A - 적층된 글레이징을 위한 태양광 제어 코팅 - Google Patents

적층된 글레이징을 위한 태양광 제어 코팅 Download PDF

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KR20190139257A
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film
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geometric thickness
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앤드류 브이 와그너
마이클 제이 뷰캐넌
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비트로 플랫 글래스 엘엘씨
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Abstract

중합체성 중간층(130)에 의해 제 2 플라이(118)에 연결된 제 1 플라이(112) (이때, 제 1 플라이(112)는 제 1 주 표면(114) 및 제 2 주 표면(116)을 갖고, 제 2 플라이(118)는 제 3 주 표면(120) 및 제 4 주 표면(122)을 가짐); 및 상기 주 표면들 중 적어도 하나 상에 위치된 태양광 제어 코팅(30)을 포함하는 적층된 글레이징(110)으로서, 여기서, 태양광 제어 코팅(30)은 제 1 상 조정 층(40); 제 1 상 조정 층(40) 위에 위치된 제 1 금속층(46); 제 1 금속층(46) 위에 위치된 제 1 프라이머 층(48); 제 1 프라이머 층(48) 위에 위치된 제 2 상 조정 층(50); 제 2 상 조정 층(50) 위에 위치된 제 2 금속층(58); 제 2 금속층(58) 위에 위치된 제 2 프라이머 층(60); 제 2 프라이머 층(60) 위에 위치된 제 3 상 조정 층(62); 제 3 상 조정 층(62) 위에 위치된 제 3 금속층(70); 제 3 금속층(70) 위에 위치된 제 3 프라이머 층(72); 제 3 프라이머 층(72) 위에 위치된 제 4 상 조정 층(86); 및 제 4 상 조정 층(86) 위에 위치된 보호층(92)을 포함한다.

Description

적층된 글레이징을 위한 태양광 제어 코팅
본 발명은 적층된 글레이징을 위한 태양광 제어 코팅 및 태양광 제어 코팅을 포함하는 적층된 글레이징에 관한 것이다.
태양광 제어 코팅은 선택된 범위의 전자기 복사선을 차단 또는 여과한다. 일반적으로, 차단된 복사선은 전자기 스펙트럼의 적외선 영역 및/또는 자외선 영역 내에 든다. 태양광 제어 코팅은 건축 또는 차량 창문과 같은 글레이징에 사용되어 건물 또는 차량으로 들어가는 태양 에너지의 선택된 범위의 양을 감소시킨다. 이것은 건물이나 차량 내부에서의 열 축적을 감소시킨다.
많은 건축용 글레이징은 단열 유리 유닛(IGU)의 형태이다. 이러한 단열 유리 유닛은, 스페이서에 끼워지고 에어 갭에 의해 분리된 둘 이상의 유리 판을 갖는다. 각각의 갭은 아르곤과 같은 가스로 채워진다. 많은 차량용 글레이징은 적층된 글레이징이다. 적층된 글레이징은, 중합체 재료에 의해 함께 연결된 2 개 이상의 유리 판을 갖는다. 건물의 경우 IGU보다는 적층된 글레이징을 사용하는 것이 바람직한 일부 상황이 있다. 예를 들어, 적층된 글레이징은 종래의 IGU보다 내충격성이 더 우수하게 제조될 수 있다. 또한, IGU의 일부로서 적층된 글레이징을 사용하는 것이 바람직할 수 있는 일부 상황도 있다.
따라서, 적층된 건축용 글레이징에 사용될 때 향상된 태양광 제어능 및/또는 심미적 성능을 제공하는 태양광 제어 코팅을 제공하는 것이 바람직할 것이다. 예를 들어, 건물 내부의 열 축적을 방지하기 위해 낮은 태양열 이득 계수(solar heat gain coefficient)(SHGC)를 갖는 적층된 건축용 글레이징을 위한 태양광 제어 코팅을 제공하는 것이 바람직할 것이다. 예를 들어, 가시광 투과율이 높은 적층된 건축용 글레이징용 태양광 제어 코팅을 제공하는 것이 바람직할 것이다. 이것은 건물 내부의 자연 조명을 향상시킨다. 예를 들어, 글레이징이 건축용 또는 차량용 글레이징에 사용될 수 있도록 적층된 글레이징용 태양광 제어 코팅을 제공하는 것이 바람직할 것이다.
또한, IGU 또는 적층된 글레이징에 태양광 제어 코팅을 적용하는 현재의 상업적인 방법은 제조 상의 용인성(manufacturing tolerance)으로 인해 태양광 제어 코팅의 각 층의 두께에 있어서 약간의 고유한 변화를 야기하며, 이러한 고유한 변화는 제품의 색상, 투과율 또는 기타 광학 특성에 영향을 줄 수 있다는 것이 인식되었다. 제품의 광학 특성에 대한 이러한 고유한 변화의 영향은 코팅의 디자인에 따라 다르며, 층 두께의 너무 많은 변화는 제조 공정이 상업적으로 수행될 수 없게 만들 수 있다.
적층된 글레이징 내의 중합체 중간층의 존재는 최종 글레이징 제품의 광학적 특성에 대한 이러한 고유한 변화의 영향을 증폭시킬 수 있다는 것이 추가로 인식되었다. 또한, 최종 제품의 균일성은 일반적으로, 차량 용도보다 건축 용도에서 더 중요한데, 그 이유는, 동일한 제품의 다수의 패널이 서로 나란히 배열되기 때문이다. 이에 따라, IGU 또는 차량용의 적층된 글레이징에서는 허용될 수 있는 특정 코팅 조성물이, 건축 용도에 사용되는 적층된 글레이징에서는 허용되지 않을 수 있다. 따라서, 건축 용도로 사용되는 적층된 글레이징에서도 광학 특성의 허용될 수 있는 수준의 변화가 달성될 수 있도록, 제조 상의 변화가 완성된 제품의 광학 특성의 변화에 미치는 영향을 최소화하는 태양광 제어 코팅 조성물을 제공하는 것이 바람직할 수 있다.
당해 기술 분야에서의 상기 언급된 결함의 일부 또는 전부를 해결하기 위해, 본 개시는 적층된 글레이징을 제공한다. 상기 적층된 글레이징은 중합체 중간층에 의해 제 2 플라이(ply)에 연결된 제 1 플라이를 포함한다. 제 1 플라이는 제 1 주(main) 표면 및 제 2 주 표면을 가지며, 제 2 플라이는 제 3 주 표면 및 제 4 주 표면을 갖는다. 상기 태양광 제어 코팅은 상기 주 표면들 중 하나 이상 상에 위치한다. 상기 태양광 제어 코팅은 제 1 상 조정(phase adjustment) 층; 상기 제 1 상 조정 층 위에 위치된 제 1 금속층; 상기 제 1 금속층 위에 위치된 제 1 프라이머 층; 상기 제 1 프라이머 층 위에 위치된 제 2 상 조정 층; 상기 제 2 상 조정 층 위에 위치된 제 2 금속층; 상기 제 2 금속층 위에 위치된 제 2 프라이머 층; 상기 제 2 프라이머 층 위에 위치된 제 3 상 조정 층; 상기 제 3 상 조정 층 위에 위치된 제 3 금속층; 상기 제 3 금속층 위에 위치된 제 3 프라이머 층; 상기 제 3 프라이머 층 위에 위치된 제 4 상 조정 층; 및 제 4 상 조정 층 위에 위치된 보호층을 포함한다. 제 1 상 조정 층은 44 nm 내지 90 nm 범위의 광학적 두께(optical thickness), 바람직하게는 51 nm 내지 81 nm 범위의 광학적 두께, 보다 바람직하게는 53 nm 내지 74 nm 범위의 광학적 두께를 갖는다. 제 2 상 조정 층은 97 nm 내지 176 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 99 nm 내지 156 nm 범위의 광학적 두께, 더욱 바람직하게는 118 nm 내지 136 nm 범위의 광학적 두께를 갖는다. 제 3 상 조정 층은 112 nm 내지 169 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 126 nm 내지 160 nm 범위의 광학적 두께, 보다 바람직하게는 147 nm 내지 156 nm 범위의 광학적 두께를 갖고/갖거나, 제 4 상 조정 층은 47 nm 내지 82 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 58 nm 내지 75 nm 범위의 광학적 두께, 보다 바람직하게는 60 nm 내지 73 nm 범위의 광학적 두께를 갖는다.
본 발명은 이하의 도면을 참조하여 설명될 것이며, 여기서 동일한 참조 번호는 전체에 걸쳐 동일한 부분을 식별한다.
도 1은 본 발명의 태양광 제어 코팅을 갖는 코팅된 제품의 측면도(축척에 따르지 않음)이다.
도 2는, 본 발명의 예시적인 태양광 제어 코팅의 다층 구조를 예시하는, 도 1의 코팅된 물품의 측면도(축척에 따르지 않음)이다.
도 3은 적층된 글레이징에 포함된 도 1 및 2의 태양광 제어 코팅의 측면도(축척에 따르지 않음)이다.
"왼쪽", "오른쪽", "내부", "외부", "위", "아래" 등과 같은 공간적 또는 방향적 용어는 첨부 도면에 도시된 바와 같은 본 발명에 관한 것이다. 그러나, 본 발명은 다양한 대안적인 배향을 가정할 수 있으며, 따라서 이러한 용어는 제한적인 것으로 간주되지 않아야 한다.
명세서 및 청구 범위에 사용된 모든 수치는 모든 경우에 "약"이라는 용어에 의해 수정되는 것으로 이해되어야 한다. "약"은 언급된 값의 ±10%의 범위를 의미한다.
본 명세서에 개시된 모든 범위는 시작 및 종료 범위 값 및 그 안에 포함된 임의의 모든 부분 범위를 포함한다. 본 명세서에 개시된 범위는 특정 범위에 대한 평균값을 나타낸다.
본원에 기술된 코팅 층 또는 필름과 관련하여, 용어 "위에"는 논의되는 코팅 층 또는 필름이 위치하는 기재(또는 베이스 층)으로부터 더 먼 것을 의미한다. 예를 들어, 제 1 층 "위"에 위치한 제 2 층은 제 2 층이 제 1 층보다 기재(또는 베이스 층)으로부터 더 멀리 위치됨을 의미한다. 제 2 층은 제 1 층과 직접 접촉할 수 있다. 대안적으로, 하나 이상의 다른 층이 제 1 층과 제 2 층 사이에 위치될 수 있다.
용어 "필름"은 화학적으로 구별되고/되거나 균질한 조성을 갖는 영역을 의미한다. "층"은 하나 이상의 "필름"을 포함한다. "코팅"은 하나 이상의 "층"을 포함한다.
용어 "중합체" 또는 "중합체성"은 올리고머, 단독 중합체, 공중합체 및 삼원 공중합체, 예를 들어 2 종 이상의 단량체 또는 중합체로부터 형성된 중합체를 포함한다.
용어 "자외선 복사선"은 100 nm 내지 380 nm 미만의 파장을 갖는 전자기 복사선을 의미한다. "가시 복사선" 또는 "가시광"이라는 용어는 380 nm 내지 780 nm 범위의 파장을 갖는 전자기 복사선을 의미한다. 용어 "적외선 복사선"은 780 nm 초과 내지 100,000 nm 범위의 파장을 갖는 전자기 복사선을 의미한다. 용어 "태양 적외선"은 1,000 nm 내지 3,000 nm 범위의 파장을 갖는 전자기 복사선을 의미한다. "열 적외선"이라는 용어는 3,000 nm 초과 내지 100,000 nm 범위의 파장을 갖는 전자기 복사선을 의미한다.
본 명세서에 언급된 모든 문헌은 그 전체가 "참조로 인용된다".
용어 "광학적 두께"는 재료의 기하학적 두께와 550 nm의 기준 파장에서의 재료의 굴절률을 곱한 값을 의미한다. 예를 들어, 기하학적 두께가 5 nm이고 550 nm의 기준 파장에서의 굴절률이 2인 재료는 광학적 두께가 10 nm일 것이다.
"템퍼링된" 또는 "열처리된"이라는 용어는 논의되는 물품 또는 코팅이 열 템퍼링, 열 굽힘 및/또는 열 강화를 달성하기에 충분한 온도로 가열되었음을 의미한다. 이러한 정의는, 예를 들어, 열 템퍼링, 열 굽힘 및/또는 열 강화를 달성하기 위해 일정 기간 동안 580℃ 이상, 예컨대 600℃ 이상, 예컨대 620℃ 이상의 온도에서 오븐 또는 로(furnace) 내에서 물품을 가열하는 것을 포함한다. 예를 들어, 가열은 1 내지 15 분, 예를 들어 1 내지 5 분 범위의 기간 동안 수행될 수 있다.
용어 "비-열처리된"은 템퍼링 또는 열처리되지 않거나, 최종 사용을 위해 템퍼링 또는 열처리되도록 설계되지 않은 것을 의미한다.
용어 "금속" 및 "금속 산화물"은, 규소는 통상적으로 금속으로 간주되지 않을지라도, 전통적으로 인식되는 금속 및 금속 산화물뿐만 아니라, 각각 규소 및 실리카를 포함한다.
"적어도"는 "이상"을 의미한다. "~보다 크지 않다"는 "~이하이다"를 의미한다.
달리 명시되지 않는 한, 양에 대한 임의의 언급은 "중량%"(wt%)이다.
반대로 기재되지 않는 한, 두께 값은 기하학적 두께 값이다.
"도펀트"는 10 중량% 미만, 예컨대 5 중량% 미만, 예컨대 4 중량% 미만, 예컨대 2 중량% 미만 (예를 들어 1 중량% 미만, 예를 들어 0.5 중량% 미만, 예를 들어 0.1 중량% 미만)의 양으로 존재하는 물질이다.
용어 "함유한다"는 "포함한다"와 동의어이다.
용어 "경화성(curable)"은 중합 또는 가교될 수 있는 물질을 의미한다. "경화된"은 물질이 적어도 부분적으로 중합되거나 가교된 것, 바람직하게는 완전히 중합되거나 가교된 것을 의미한다.
"기준 적층된 유닛"은 0.76 mm 폴리비닐 부티랄 중간층에 의해 연결된 2 플라이(ply)의 2mm 투명 유리 (2번 표면 상에 코팅을 가짐)를 갖는 것으로 정의된다. 기준 적층된 유닛 값은 코팅이 2번 표면 상에서 기준 적층된 유닛에 포함될 때 보고된 값을 의미한다.
"태양광 제어 코팅"이라는 용어는, 코팅된 물품의 태양광 특성(예를 들어, 코팅으로부터 반사되거나 코팅에 의해 흡수되거나 코팅을 투과되는 태양 복사량)에 영향을 미치는 하나 이상의 층 또는 필름으로 구성된 코팅을 지칭한다.
반대로 기재되지 않는 한, 광학 및 태양광 제어 성능 값 (예를 들어, 가시광 투과율 및/또는 헤이즈)은 퍼킨 엘머 1050 분광 광도계를 사용하여 결정된 값이다. 반대로 기재되지 않은 한, 기준 적층된 유닛 값은, 로렌스 버클리 국립 연구소에서 입수할 수 있고 글레이징 중심(COG)이 측정되고 (NFRC 2010(NFRC 100-2010 포함) 표준 기본 설정에 따라 계산되는 OPTICS(v6.0) 소프트웨어 및 WINDOWS(v7.3.4.0) 소프트웨어에 따라 결정된다.
반대로 기재되지 않는 한, 시트 저항 값은 4-포인트 프로브(예를 들어, 나기 인스트루먼츠(Nagy Instruments) SD-600 측정 장치 또는 알레씨(Alessi) 4-포인트 프로브)를 사용하여 결정된 값이다. 표면 조도 값은 인스트루먼트 디멘션(Instrument Dimension) 3100 원자력 현미경을 사용하여 결정된 값이다.
색상 값(예를 들어, L*, a*, b*, C*, 및 hue0)은 국제 조명위원회에 의해 지정된 1976 CIELAB 색 시스템에 따른다.
본 명세서 및 청구 범위에서 L*, a* 및 b* 값은 색 중심점 값을 나타낸다.
본 발명의 논의는 특정 특징이 "특히" 또는 "바람직하게" 특정 제한 내에 드는 것 (예를 들어, "바람직하게는", "보다 바람직하게는" 또는 "더욱더 바람직하게는" 특정 제한 내에 드는 것)으로 기술될 수 있다. 본 발명은 이들 특정 또는 바람직한 제한에 제한되지 않고 본 개시의 전체 범위를 포함한다는 것을 이해해야 한다.
본 발명은 임의의 조합으로 본 발명의 하기 양태를 포함하거나, 이로 이루어 지거나 또는 본질적으로 이로 이루어진다. 본 발명의 다양한 양태는 별도의 도면에 도시되어 있다. 그러나, 이는 단지 예시 및 논의의 용이함을 위한 것임을 이해해야 한다. 본 발명의 실시에서, 하나의 도면에 도시된 본 발명의 하나 이상의 양태는, 하나 이상의 다른 도면에 도시된 본 발명의 하나 이상의 양태와 조합될 수 있다.
본 발명은 건축용 글레이징을 참조하여 논의될 것이다. "건축용 글레이징"은 건물 상에 또는 건물 내에 있는 글레이징을 의미한다. 건축용 글레이징의 예로는 창문, 채광창 및 디바이더(divider) 패널이 있다. 그러나, 본 발명은 건축용 글레이징에 사용되는 것으로 제한되지 않고 임의의 원하는 분야에서 글레이징으로 실시될 수 있음을 이해해야 한다. 예는 적층된 또는 비-적층된 주거용 및/또는 상업용 창문, 및/또는 육상, 공기, 우주, 수상 및/또는 수중 차량용 글레이징을 포함한다. 따라서, 구체적으로 개시된 예는 본 발명의 일반적인 개념을 설명하기 위해 제공되는 것으로 이해되어야 하며, 본 발명은 이들 특정 예에 제한되지 않는다는 것을 이해해야 한다. 또한, 전형적인 "글레이징"은 글레이징을 통해 물질을 볼 수 있도록 충분한 가시광 투과율을 가질 수 있지만, 본 발명의 실시에서, "글레이징"은 가시광선에 대해 반드시 투과성일 필요가 없고 반투명성이거나 불투명성일 수도 있다.
본 발명의 특징을 포함하는 코팅된 물품(10)이 도 1 및 2에 도시되어 있다. 코팅된 물품(10)은 적어도 하나의 주 표면을 갖는 기재(11)을 포함한다. 본 발명의 태양광 제어 코팅(30)은 주 표면 중 하나의 적어도 일부분 위에 위치된다.
도 1에 도시된 바와 같이, 태양광 제어 코팅(30)은 제 1 상 조정 층(40)을 포함한다. 제 1 금속층(46)이 제 1 상 조정 층(40) 위에 위치된다. 제 1 프라이머 층(48)이 제 1 금속층 위에 위치된다. 제 2 상 조정 층(50)이 제 1 프라이머 층(48) 위에 위치된다. 제 2 금속층(58)이 제 2 상 조정 층(50) 위에 위치된다. 제 2 프라이머 층(60)이 제 2 금속층(58) 위에 위치된다. 제 3 상 조정 층(62)이 제 2 프라이머 층(60) 위에 위치된다. 제 3 금속층(70)이 제 3 상 조정 층(62) 위에 위치된다. 제 3 프라이머 층(72)이 제 3 금속층(70) 위에 위치된다. 제 4 상 조정 층(86)이 제 3 프라이머 층(72) 위에 위치된다. 보호층(92)이 제 4 상 조정 층(86) 위에 위치된다.
기재(11)는 가시광선에 대해 투과성이거나 반투과성일 수 있다. "투과성"은 가시광 투과율이 0% 초과 내지 100%인 것을 의미한다. 대안적으로, 기재(11)는 반투과성일 수 있다. "반투과성"은 뷰어(viewer) 반대 측의 물체가 명확하게 보이지 않을 정도로 가시 복사선이 확산됨을 의미한다. 대안적으로, 기재(11)는 불투과성일 수 있다. "불투과성"은 가시광 투과율이 0%임을 의미한다. 기재(11)는 투명하거나 착색된 또는 유색화된 것일 수 있다.
기재(11)에 적합한 재료의 예는 플라스틱 기재 (예를 들면, 아크릴 중합체, 예컨대 폴리아크릴레이트; 폴리알킬메타크릴레이트, 예컨대 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리에틸메타크릴레이트, 폴리프로필메타크릴레이트; 폴리우레탄; 폴리카보네이트; 폴리알킬테레프탈레이트, 예컨대 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리프로필렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등; 폴리실록산 함유 중합체; 또는 이들을 제조하기 위한 임의의 단량체 또는 이들의 혼합물의 공중합체); 세라믹 기재; 유리 기재; 또는 상기 중 임의의 것의 혼합물 또는 조합물을 포함한다. 예를 들어, 기재(11)는 종래의 소다-라임-실리케이트 유리, 보로실리케이트 유리 또는 납-첨가(leaded) 유리를 포함할 수 있다. 유리는 투명 유리일 수 있다. "투명 유리"는 착색되거나 달리 유색화되지 않은 유리를 의미한다. 대안적으로, 유리는 착색되거나 달리 유색화된 유리일 수 있다. 유리는 비-열처리된 또는 열처리된 유리일 수 있다. 유리는 종래의 플로트(float) 유리와 같은 임의의 유형의 것일 수 있고, 임의의 광학적 특성, 예를 들어 가시광 투과율, 자외선 투과율, 적외선 투과율 및/또는 총 태양 에너지 투과율을 갖는 임의의 조성물을 갖는 것일 수 있다. "플로트 유리"는, 용융 유리가 용융 금속 욕 상에 침착되고 제어가능하게 냉각되어 플로트 유리 리본을 형성하는 종래의 플로트 공정에 의해 형성된 유리를 의미한다.
기재(11)는 투명한 플로트 유리일 수 있거나 착색되거나 유색화된 유리일 수 있다. 기재(11)는 임의의 원하는 치수, 예를 들어 길이, 폭, 형상 또는 두께일 수 있다. 본 발명의 실시에 사용될 수 있는 유리의 예는 투명 유리, 스타파이어(Starphire)®, 솔라그린(Solargreen)®, 솔렉스트라(Solextra)®, GL-20®, GL-35™, 솔라브론즈(Solarbronze)®, 솔라그레이(Solargray)® 유리, 파시피카(Pacifica)® 유리, 솔라블루(SolarBlue)® 유리 및 옵티블루(Optiblue)® 유리 (이들 모두 펜실베이니아주 체스윅 소재의 비트로 아키텍츄럴 글래스(Vitro Architectural Glass)로부터 상업적으로 입수가능함)를 포함한다.
상 조정 층(40, 50, 62, 86)은 비-금속성(non-metallic) 재료를 포함한다. 예를 들어, 상 조정 층(40, 50, 62, 86)은 유전체 또는 반도체 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상 조정 층(40, 50, 62, 86)은 산화물, 질화물, 옥시질화물, 붕소화물, 탄화물, 옥시탄화물, 붕탄화물, 붕질화물, 탄질화물 및/또는 이들의 혼합물, 조합물, 블렌드 또는 합금을 포함할 수 있다. 상 조정 층(40, 50, 62, 86)에 적합한 재료의 예는 티타늄, 하프늄, 지르코늄, 니오븀, 아연, 비스무트, 납, 인듐, 주석, 규소, 알루미늄, 붕소 및 이들의 혼합물, 조합물, 블렌드 또는 합금의 산화물, 질화물 또는 옥시질화물을 포함한다. 이들은 소량의 다른 재료를 가질 수 있다. 그러한 예는 산화 비스무트 내의 망간, 산화 인듐 내의 주석 등을 포함한다. 또한, 금속 합금 또는 금속 혼합물의 산화물이 사용될 수 있다. 그러한 예는 아연 및 주석을 함유하는 산화물(예를 들어, 아연 주석산염), 인듐-주석 합금의 산화물, 규소 질화물, 규소 알루미늄 질화물 또는 알루미늄 질화물을 포함한다. 또한, 도핑된 금속 산화물, 아산화물, 질화물, 아질화물 또는 옥시질화물이 사용될 수 있다. 그러한 예는 안티몬 또는 인듐 도핑된 산화 주석 또는 니켈 또는 붕소 도핑된 산화 규소를 포함한다. 특정 재료 예는 산화 아연, 산화 주석, 질화 규소, 규소-알루미늄 질화물, 규소-니켈 질화물, 규소-크롬 질화물, 안티몬 도핑된 산화 주석, 주석 도핑된 산화 아연, 알루미늄 도핑된 산화 아연, 인듐 도핑된 산화 아연, 산화 티타늄 및/또는 이들의 혼합물, 조합물, 블렌드 또는 합금을 포함한다.
상 조정 층(40, 50, 62, 86) 중 하나 이상은 단일 재료 및/또는 단일 필름을 포함할 수 있다. 대안적으로, 상 조정 층(40, 50, 62, 86) 중 하나 이상은 다수의 재료 및/또는 다수의 필름을 포함할 수 있다. 상 조정 층(40, 50, 62, 86)은 화학적으로 구별되는 재료 또는 상(phase)들의 적층된(stratified) 일련의 필름을 포함할 수 있고/있거나 하나 이상의 화학적으로 구별되는 재료 또는 상들의 하나 이상의 복합체를 포함할 수 있다. 상이한 상 조정 층(40, 50, 62, 86)은 동일한 재료 또는 상이한 재료를 포함할 수 있다. 상 조정 층(40, 50, 62, 86)은 동일한 두께 또는 상이한 두께를 가질 수 있다.
상 조정 층(40, 50, 62, 86)은, 태양광 제어 코팅(30)의 층들의 다양한 계면 경계로부터 부분적으로 반사되고/되거나 그에 의해 부분적으로 투과되는 전자기 복사선의 구성적 및 파괴적 광 간섭을 조정할 수 있게 한다. 상 조정 층(40, 50, 62, 86)의 두께 및/또는 조성을 변화시키는 것은, 태양광 제어 코팅(30)의 전체 반사율, 투과율 및/또는 흡수율을 변화시킬 수 있고, 이는 태양광 제어 코팅(30)의 태양광 제어 성능, 열 적외선 단열 성능, 색상 및/또는 심미성을 변화시킬 수 있다. 또한, 상 조정 층(40, 50, 62, 86)은 태양광 제어 코팅(30)의 다른 층 중 하나 이상, 예를 들어 금속층(46, 58, 70) 중 하나 이상에 대한 화학적 및/또는 기계적 보호를 제공할 수 있다.
높은 가시광 투과율이 요구되는 경우, 상 조정 층(40, 50, 62, 86)은 금속층(46, 58, 70)을 반사-방지하기 위한 반사-방지층으로서 작용하여, 태양광 제어 코팅(30)의 전체 가시광선 반사율을 감소시키고/시키거나 가시광 투과율을 증가시킬 수 있다. 많은 금속층의 반사-방지를 위해 약 2의 굴절률을 갖는 재료가 특히 유용하다.
하나 이상의 상 조정 층은 기재(11)와 최하부 금속층(46) 사이에 위치될 수 있다. 하나 이상의 상 조정 층은 최상부 금속층(70)과 주위 환경, 예를 들어 공기 사이에 위치될 수 있다.
도시된 예시적인 코팅(30)에서, 제 1 상 조정 층(40)은 기재(11)의 주 표면의 적어도 일부분 위에 위치된다. 예를 들어, 제 1 상 조정 층(40)은 기재(11)와 직접 접촉할 수 있다. 제 1 상 조정 층(40)은 단일 층일 수 있거나, 전술한 반사-방지성 재료 및/또는 유전체 재료의 하나 이상의 필름을 포함할 수 있다. 제 1 상 조정 층(40)은 가시광에 대해 투과성일 수 있다. 제 1 상 조정 층(40)은 전자기 복사선 스펙트럼의 하나 이상의 영역(예를 들어 가시광)에서 최소 흡수를 나타내거나 나타내지 않을 수 있다.
제 1 상 조정 층(40)은 전술한 임의의 상 조정 재료를 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 1 상 조정 층(40)은 금속 산화물, 도핑된 금속 산화물, 금속 산화물의 혼합물 또는 금속 합금 산화물을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 1 상 조정 층(40)은 아연 및 주석의 도핑되거나 비-도핑된 산화물을 포함할 수 있다.
제 1 상 조정 층(40)은 44 nm 내지 90 nm 범위의 광학적 두께 (예를 들어, 51 nm 내지 81 nm 범위의 광학적 두께, 예를 들어, 53 nm 내지 74 nm 범위의 광학적 두께)를 가질 수 있다.
제 1 상 조정 층(40)은 22 nm 내지 45 nm 범위의 기하학적 두께 (예를 들어, 25 nm 내지 41 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어, 26 nm 내지 37 nm 범위의 기하학적 두께)를 가질 수 있다.
도 2에 도시된 바와 같이, 제 1 상 조정 층(40)은 제 1 필름(42) 및 제 2 필름(44)을 갖는 다중-필름 구조를 포함할 수 있다. 제 2 필름(44)은 제 1 필름(42) 위에 위치될 수 있다.
제 1 필름(42)은 예를 들어 금속 합금의 산화물 또는 금속 산화물의 혼합물을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 1 필름(42)은 아연과 주석의 합금의 산화물일 수 있다. "아연과 주석의 합금"은 진정한(true) 합금 및 또한 혼합물 둘다를 의미한다. 아연 및 주석 합금의 산화물은 아연 및 주석의 캐쏘드로부터 마그네트론 스퍼터링 진공 증착(MSVD)으로부터 얻어진 것일 수 있다. 캐쏘드는 아연 및 주석을 5 중량% 내지 95 중량%의 아연 및 95 중량% 내지 5 중량%의 주석, 예컨대 10 중량% 내지 90 중량%의 아연 및 90 중량% 내지 10 중량%의 주석으로 포함할 수 있다. 그러나, 아연 대 주석의 다른 비율도 사용될 수 있다. 제 1 필름(42)을 위한 금속 합금의 예시적인 산화물은 ZnXSn1 -XO2-X (화학식 1)로 기재될 수 있으며, 여기서 "x"는 0보다 크고 1보다 작은 범위에서 변한다. 예를 들어, "x"는 0 초과일 수 있고, 0 초과 1 미만의 임의의 분수 또는 소수(decimal)일 수 있다. 화학식 1의 화학량론적 형태는 일반적으로 주석산 아연으로 지칭되는 "Zn2SnO4"이다. 주석산 아연 층은 산소 존재 하에서 52 중량% 아연 및 48 중량% 주석을 갖는 캐쏘드로부터 스퍼터링 증착될 수 있다. 예를 들어, 제 1 필름(42)은 주석산 아연을 포함할 수 있다.
캐쏘드의 스퍼터링 특성을 향상시키기 위해, 다른 물질을 포함하는 아연 캐쏘드로부터 도핑된 산화 아연이 증착될 수 있다. 예를 들어, 아연 캐쏘드는 스퍼터링을 개선시키기 위해 소량의 주석(예를 들어, 최대 20 wt%, 최대 15 wt%, 최대 10 wt%, 예컨대 최대 5 wt%)을 포함할 수 있으며, 이 경우, 생성된 산화 아연 필름은 소량의 산화 주석, 예를 들어 최대 20 중량%, 최대 15 중량%, 최대 10 중량%의 산화 주석, 예를 들어 최대 5 중량%의 산화 주석(산소 제외)을 포함할 것이다. 상기 다른 물질의 예는 알루미늄, 인듐 및 이들의 조합물을 포함한다. 바람직하게는, 상기 다른 물질은 주석을 포함한다.
제 2 필름(44)은 금속 산화물, 도핑된 금속 산화물 또는 산화물 혼합물을 포함할 수 있다. 제 2 필름(44)은 금속 산화물 또는 도핑된 금속 산화물을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 2 필름(44)은 산화 아연 또는 도핑된 산화 아연을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 2 필름(44)은 주석 도핑된 산화 아연을 포함할 수 있다.
제 1 필름(42)은 30 nm 내지 60 nm 범위의 광학적 두께(예를 들어, 36 nm 내지 54 nm 범위의 광학적 두께, 예를 들어 37 nm 내지 50 nm 범위의 광학적 두께)를 가질 수 있다.
제 1 필름(42)은 15 nm 내지 30 nm 범위의 기하학적 두께(예를 들어, 18 nm 내지 27 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 18 nm 내지 25 nm 범위의 기하학적 두께)를 가질 수 있다.
제 2 필름(44)은 14 nm 내지 30 nm 범위의 광학적 두께(예를 들어, 14 nm 내지 28 nm 범위의 광학적 두께, 예를 들어 16 nm 내지 25 nm 범위의 광학적 두께)를 가질 수 있다.
제 2 필름(44)은 7 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께(예를 들어, 7 nm 내지 14 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 8 nm 내지 13 nm 범위의 기하학적 두께)를 가질 수 있다.
금속층(46, 58, 70)은 단일 필름일 수 있다. 예를 들어, 금속층(46, 58, 70)은 연속적인 금속 필름을 포함할 수 있다. "연속적인" 금속 필름은 균질 필름과 같은 끊기지 않은 또는 비-불연속적 필름을 의미한다. 또는, 하나 이상의 금속층(46, 58, 70)은 다중-필름 층일 수 있다. 금속층(46, 58, 70)은 바람직하게는 하나 이상의 적외선 반사성 필름을 포함한다.
적외선 반사성 필름의 예는 연속적인 금속 필름을 포함한다. 적외선 반사성 필름에 유용한 적외선 반사성 금속의 예는 귀금속 또는 거의 귀금속을 포함한다. 이러한 금속의 예는 은, 금, 백금, 팔라듐, 오스뮴, 이리듐, 로듐, 루테늄, 구리, 수은, 레늄, 알루미늄 및 이들의 조합물, 혼합물, 블렌드 또는 합금을 포함한다. 예를 들어, 하나 이상의 상기 금속 필름은 연속적인 금속성 은 필름을 포함할 수 있다.
제 1 금속층(46)은 임의의 상기 적외선 반사성 금속을 포함하는 단일 적외선 반사성 필름을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 1 금속층(46)은 연속적인 금속성 은 필름을 포함할 수 있다.
제 1 금속층(46)은 8 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께(예를 들어, 8 nm 내지 13 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 9 nm 내지 11 nm 범위의 기하학적 두께)를 가질 수 있다.
관련된 하부 금속층과 직접 접촉하여 프라이머 층(48, 60, 72)이 위치된다. 프라이머 층(48, 60, 72)은 코팅 공정 및/또는 후속 공정, 예컨대 열 템퍼링(thermal tempering) 동안 관련 금속층을 보호한다. 프라이머 물질은 금속으로서 침착된다. 상부에 위치되는 상 조정 층의 침착 및/또는 열 템퍼링과 같은 후속 처리 동안, 금속 프라이머의 일부 또는 전부가 산화된다. 산화물 또는 질화물 물질이 상 조정 층에 사용될 때, 프라이머 층(48, 60, 72)은 각각 친산소성(oxophillic) 또는 친질소성(nitrophillic) 물질을 포함할 수 있다. 프라이머 층(48, 60, 72)은 모두 동일한 물질일 필요는 없다. 프라이머 층(48, 60, 72)은 동일한 두께일 필요는 없다.
프라이머 층(48, 60, 72)은, 완전히 산화될 때 2 내지 3 범위의 굴절률을 갖는 재료를 포함할 수 있다.
프라이머 층(48, 60, 72)에 유용한 물질의 예는 티타늄, 니오브, 텅스텐, 니켈, 크롬, 철, 탄탈, 지르코늄, 알루미늄, 규소, 인듐, 주석, 아연, 몰리브덴, 하프늄, 비스무트, 바나듐, 망간 및 이들의 조합물, 혼합물, 블렌드 또는 합금을 포함한다.
제 1 프라이머 층(48)은 제 1 금속층(46) 위에 위치된다. 제 1 프라이머 층(48)은 단일 필름 또는 다중 필름 층일 수 있다. 제 1 프라이머 층(48)은 상기 기재된 임의의 프라이머 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 1 프라이머 층(48)은 티타늄을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 1 프라이머 층(48)은 티타늄 금속으로서 침착될 수 있다. 침착된 티타늄은 추가 공정시, 예를 들어 가열 또는 추가 코팅층의 부가시 티타니아로 산화된다.
제 1 프라이머 층(48)은, 완전히 산화될 때, 6 nm 내지 14 nm 범위(예를 들어, 7 nm 내지 12 nm의 범위, 예를 들어 8 nm 내지 10 nm의 범위)의 광학적 두께를 가질 수 있다.
제 1 프라이머 층(48)은 2.5 nm 내지 5.5 nm 범위(예를 들어, 3 nm 내지 4.5 nm의 범위, 예를 들어 3.5 nm 내지 4 nm의 범위)의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
제 1 프라이머 층(48) 위에 제 2 상 조정 층(50)이 위치된다. 제 2 상 조정 층(50)은 상 조정 층에 대해 전술한 하나 이상의 상 조정 재료 및/또는 필름을 포함할 수 있다.
제 2 상 조정 층(50)은 97 nm 내지 176 nm 범위의 광학적 두께(예를 들어, 99 nm 내지 156 nm 범위의 광학적 두께, 예를 들어 118 nm 내지 136 nm 범위의 광학적 두께)를 가질 수 있다.
제 2 상 조정 층(50)은 33 nm 내지 88 nm 범위의 기하학적 두께(예를 들어, 33.5 nm 내지 78 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 59 nm 내지 68 nm 범위의 기하학적 두께)를 가질 수 있다.
제 2 상 조정 층(50)은 단일 필름 또는 다중 필름 구조일 수 있다. 예를 들어, 제 2 상 조정 층(50)은 제 1 필름(52), 제 2 필름(54) 및 제 3 필름(56)을 포함할 수 있다.
제 1 필름(52) 및 제 3 필름(56)은 동일하거나 상이한 재료를 포함할 수 있고/있거나 동일하거나 상이한 두께를 가질 수 있다. 제 1 필름(52) 및/또는 제 3 필름(56)은 금속 산화물 또는 도핑된 금속 산화물을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 1 필름(52) 및/또는 제 3 필름(56)은 산화 아연 또는 도핑된 산화 아연을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 1 필름(52) 및/또는 제 3 필름(56)은 주석 도핑된 산화 아연을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 1 필름(52) 및/또는 제 3 필름(56)은 ZnO 90/10을 포함할 수 있다.
제 2 필름(54)은 금속 합금의 산화물, 예를 들어 아연 및 주석을 포함하는 산화물을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 2 필름(54)은 주석산 아연을 포함할 수 있다.
제 1 필름(52) (및/또는 제 3 필름(56))은 17 nm 내지 33 nm 범위의 광학적 두께(예를 들어, 17 nm 내지 30 nm 범위의 광학적 두께, 예를 들어 20 nm 내지 25 nm 범위의 광학적 두께)를 가질 수 있다.
제 1 필름(52) (및/또는 제 3 필름(56))은 7 nm 내지 13 nm 범위의 기하학적 두께(예를 들어, 7 nm 내지 12 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 8 nm 내지 10 nm 범위의 기하학적 두께)를 가질 수 있다.
제 2 필름(54)은 70 nm 내지 130 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 2 필름(54)은 80 nm 내지 112 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 2 필름(54)은 84 nm 내지 98 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다.
제 2 필름(54)은 35 nm 내지 65 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 2 필름(54)은 40 nm 내지 56 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 2 필름(54)은 42 nm 내지 49 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
제 2 상 조정 층(50) 위에 제 2 금속층(58)이 위치된다. 제 2 금속층(58)은 적외선 반사성 필름을 포함하는 단일 필름일 수 있다. 대안적으로, 제 2 금속층(58)은 다중-필름 층을 포함할 수 있다.
제 2 금속층(58)은 전술한 적외선 반사성 물질 중 임의의 것을 포함한다. 예를 들어, 제 2 금속층(58)은 연속적인 금속 필름일 수 있다. 예를 들어, 제 2 금속층(58)은 연속적인 은 필름일 수 있다.
제 2 금속층(58)은 8.5 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 2 금속층(58)은 10 nm 내지 13.5 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 2 금속층(58)은 10 nm 내지 13 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
제 2 금속층(58) 위에 제 2 프라이머 층(60)이 위치된다. 제 2 프라이머 층(60)은 임의의 프라이머 물질을 포함할 수 있고, 임의의 제 1 프라이머 층(48)과 관련하여 전술한 임의의 두께를 갖는 것일 수 있다. 제 2 프라이머 층(60)은 티타늄을 포함할 수 있다.
제 2 프라이머 층(60)은 6 nm 내지 13 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 2 프라이머 층(60)은 7 nm 내지 12 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 2 프라이머 층(60)은 8 nm 내지 10 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다.
제 2 프라이머 층(60)은 2.5 nm 내지 5 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 2 프라이머 층(60)은 3 nm 내지 4.5 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 2 프라이머 층(60)은 3.5 nm 내지 4 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
제 2 프라이머 층(60) 위에 제 3 상 조정 층(62)이 위치된다. 제 3 상 조정 층(62)은 제 1 및 제 2 상 조정 층(40, 50)과 관련하여 위에서 논의된 바와 같은 임의의 상 조절 재료 및/또는 필름을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 3 상 조정 층(62)은 다중-필름 구조일 수 있다. 예를 들어, 제 3 상 조정 층(62)은 제 1 필름(64), 제 2 필름(66) 및 제 3 필름(68)을 포함할 수 있다.
제 3 상 조정 층(62)은 112 nm 내지 169 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 3 상 조정 층(62)은 126 nm 내지 160 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 3 상 조정 층(62)은 147 nm 내지 156 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다.
제 3 상 조정 층(62)은 56 nm 내지 85 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 3 상 조정 층(62)은 63 nm 내지 80 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 3 상 조정 층(62)은 73.5 nm 내지 78 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
제 1 필름(64) 및/또는 제 3 필름(68)은 금속 산화물 또는 도핑된 금속 산화물을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 1 필름(64) 및/또는 제 3 필름(68)은 산화 아연, 도핑된 산화 아연, 주석 도핑된 산화 아연을 포함할 수 있다. 제 2 필름(66)은 금속 합금의 산화물, 예를 들어 아연 및 주석을 포함하는 산화물 또는 주석산 아연을 포함할 수 있다.
제 1 필름(64) 및/또는 제 3 필름(68)은 17 nm 내지 40 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 1 필름(64) 및/또는 제 3 필름(68)은 20 nm 내지 35 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 1 필름(64) 및/또는 제 3 필름(68)은 25 nm 내지 35 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다. 제 1 필름(64)과 제 3 필름(68)은 동일하거나 상이한 두께의 것일 수 있다.
제 1 필름(64) 및/또는 제 3 필름(68)은 7 nm 내지 16 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 1 필름(64) 및/또는 제 3 필름(68)은 8 nm 내지 14 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 1 필름(64) 및/또는 제 3 필름(68)은 10 nm 내지 14 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
제 2 필름(66)은 80 nm 내지 120 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 2 필름(66)은 88 nm 내지 110 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 2 필름(66)은 104 nm 내지 108 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다.
제 2 필름(66)은 40 nm 내지 60 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 2 필름(66)은 44 nm 내지 55 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 2 필름(66)은 52 nm 내지 54 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
제 3 금속층(70)은 단일 필름 또는 다중 필름 구조일 수 있다. 제 3 금속층(70)은 연속적인 금속 필름일 수 있다. 예를 들어, 제 3 금속층(70)은 연속적인 금속 필름일 수 있다. 예를 들어, 제 3 금속층(70)은 금속성 은 필름일 수 있다.
제 3 금속층(70)은 8.5 nm 내지 16 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 3 금속층(70)은 10 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 3 금속층(70)은 12 nm 내지 14 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
제 3 프라이머 층(72)은 상기 기재된 프라이머 물질들 중 임의의 것을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 3 프라이머 층(72)은 티타늄을 포함할 수 있다. 전술한 바와 같이, 티타늄은 추가 처리시 티타니아로 산화될 수 있다.
제 3 프라이머 층(72)은 2.5 nm 내지 10 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 3 프라이머 층(72)은 3.5 nm 내지 8 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 3 프라이머 층(72)은 5 nm 내지 6.5 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다.
제 3 프라이머 층(72)은 1 nm 내지 4 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 3 프라이머 층(72)은 1.5 nm 내지 3 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 3 프라이머 층(72)은 2 nm 내지 2.5 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
제 4 상 조정 층(86)은 제 1, 제 2 또는 제 3 상 조정 층(40, 50, 62)과 관련하여 위에서 논의된 상 조정 재료 및/또는 필름들 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
제 4 상 조정 층(86)은 47 nm 내지 82 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 4 상 조정 층(86)은 58 nm 내지 75 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 4 상 조정 층(86)은 60 nm 내지 73 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다.
제 4 상 조정 층(86)은 23 nm 내지 41 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 4 상 조정 층(86)은 29 nm 내지 38 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 4 상 조정 층(86)은 30 nm 내지 37 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
제 4 상 조정 층(86)은 제 1 필름(88) 및 제 2 필름(90)을 포함할 수 있다.
제 1 필름(88)은 금속 산화물 또는 도핑된 금속 산화물, 예를 들어 산화 아연 또는 도핑된 산화 아연을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 1 필름(88)은 주석 도핑된 산화 아연, 예를 들어 ZnO 90/10을 포함할 수 있다. 제 2 필름(90)은 금속 합금의 산화물, 예를 들어 아연 및 주석을 포함하는 산화물, 또는 주석산 아연을 포함할 수 있다.
제 1 필름(88)은 17 nm 내지 30 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 1 필름(88)은 20 nm 내지 27 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 1 필름(88)은 20 nm 내지 26 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다.
제 1 필름(88)은 8 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 1 필름(88)은 10 nm 내지 14 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 1 필름(88)은 10 nm 내지 13 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
제 2 필름(90)은 30 nm 내지 52 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 2 필름(90)은 36 nm 내지 50 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 2 필름(90)은 38 nm 내지 48 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다.
제 2 필름(90)은 15 nm 내지 26 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 2 필름(90)은 18 nm 내지 25 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 2 필름(90)은 19 nm 내지 24 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
보호층(92)은 태양광 제어 코팅(30)의 마지막(terminal) 층일 수 있다. 보호층(92)은 상 조정 층과 관련하여 전술한 것과 같은 하나 이상의 비-금속(non-metal) 재료를 포함할 수 있다. 대안적으로, 보호층(92)은 금속 물질을 포함할 수 있다. 보호층(92)은 하부 코팅층에 화학적 및/또는 기계적 보호를 제공할 수 있다. 보호층(92)은 상 조정 및/또는 흡수를 제공할 수 있다. 보호층(92)은 단일 필름일 수 있거나 다중-필름 구조를 가질 수 있다.
보호층(92)은 하나 이상의 금속 산화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 알루미노실리케이트, 규소 질화물, 규소 탄화물 및 규소 옥시탄화물을 포함할 수 있다. 보호층(92)에 적합한 재료의 예는 지르코늄, 아연, 주석, 알루미늄, 규소, 티타늄 및 이들의 혼합물 및/또는 합금 중 하나 이상의 산화물을 포함한다. 예를 들어, 보호층(92)은 금속 산화물을 포함할 수 있다. 예를 들어, 보호층은 이산화 티탄(즉, 티타니아)을 포함할 수 있다.
예시적인 금속 산화물 보호층(92)은 12.5 nm 내지 20 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 금속 산화물 보호층(92)은 13 nm 내지 18 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 금속 산화물 보호층(92)은 14 nm 내지 16.5 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 금속 산화물 보호층(92)은 5 nm 내지 8 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 금속 산화물 보호층(92)은 5.5 nm 내지 7 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 금속 산화물 보호층(92)은 5.7 nm 내지 6.5 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
대안적으로, 보호층(92)은 금속 산화물의 혼합물, 예를 들어 실리카와 알루미나의 혼합물을 포함할 수 있다.
보호층(92)은, 1 중량% 내지 99 중량%의 실리카 및 99 중량% 내지 1 중량%의 알루미나, 예컨대 40 중량% 이상의 실리카 및 60 중량% 이하의 알루미나, 예컨대 70 중량% 이상의 실리카 및 30 중량% 이하의 알루미나, 예컨대 75 중량% 이상의 실리카, 예컨대 80 중량% 이상의 실리카, 예컨대 85 중량% 이상의 실리카를 포함하는 혼합된 금속 산화물을 포함한다. 예를 들어, 보호층(92)은 85 중량%의 실리카 및 15 중량%의 알루미나를 포함할 수 있다.
예시적인 혼합된 금속 산화물 보호층(92)은 100 nm 내지 180 nm 범위, 바람직하게는 120 nm 내지 160 nm 범위, 더욱 바람직하게는 130 nm 내지 150 nm 범위의 광학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 혼합된 금속 산화물 보호층(92)은 50 nm 내지 90 nm 범위, 바람직하게는 60 nm 내지 80 nm 범위, 더욱 바람직하게는 65 nm 내지 75 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 코팅(30)에서, 제 1 상 조정 층(40)은 주석산 아연을 포함하는 제 1 층(42), 및 산화 아연, 도핑된 산화 아연 또는 주석 도핑된 산화 아연을 포함하는 제 2 층(44)을 포함한다. 제 1 금속 층(46)은 연속적인 금속성 은 층을 포함한다. 제 1 프라이머 층(48)은 티타니아(티타늄 금속으로서 침착됨)를 포함한다. 제 2 상 조정 층(50)은, 산화 아연, 도핑된 산화 아연 또는 주석 도핑된 산화 아연을 포함하는 제 1 층(52), 주석산 아연을 포함하는 제 2 층(54), 및 산화 아연, 도핑된 산화 아연 또는 주석 도핑된 산화 아연을 포함하는 제 3 층(56)을 포함한다. 제 2 금속 층(58)은 연속적인 금속성 은 층을 포함한다. 제 2 프라이머 층(60)은 티타니아(티타늄 금속으로서 침착됨)를 포함한다. 제 3 상 조정 층(62)은, 산화 아연, 도핑된 산화 아연 또는 주석 도핑된 산화 아연을 포함하는 제 1 층(64), 주석산 아연을 포함하는 제 2 층(66), 및 산화 아연, 도핑된 산화 아연 또는 주석 도핑된 산화 아연을 포함하는 제 3 층(68)을 포함한다. 제 3 금속층(70)은 연속적인 금속성 은 층을 포함한다. 제 3 프라이머 층(72)은 티타니아(티타늄 금속으로서 침착됨)를 포함한다. 제 4 상 조정 층(86)은, 산화 아연, 도핑된 산화 아연 또는 주석 도핑된 산화 아연을 포함하는 제 1 층(88) 및 주석산 아연을 포함하는 제 2 층(90)을 포함한다. 보호층(92)은 실리카와 알루미나의 혼합물을 포함한다. 대안적으로, 보호층(92)은 티타니아를 포함할 수 있다.
태양광 제어 코팅(30)의 층 및/또는 필름은 임의의 통상적인 방법에 의해 형성될 수 있다. 이러한 방법의 예는 통상적인 화학적 증착(CVD) 및/또는 물리적 증착(PVD) 방법을 포함한다. CVD 공정의 예는 분무 열분해를 포함한다. PVD 공정의 예는 전자빔 증발 및 진공 스퍼터링, 예컨대 마그네트론 스퍼터 증착(MSVD)을 포함한다. 비제한적으로 졸-겔 침착과 같은 다른 코팅 방법이 또한 사용될 수 있다. 하나 이상의 층 또는 필름은 하나의 방법으로 형성될 수 있고, 하나 이상의 다른 층 또는 필름은 다른 방법으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 코팅(30)은 MSVD에 의해 형성될 수 있다.
도 3은 적층된 글레이징(110) 내로 혼입된 도 1 및 도 2의 코팅(30)을 도시한다. 적층된 글레이징(110)은 제 2 플라이(118)에 연결된 제 1 플라이(112)를 포함한다. 제 1 플라이(112)는 제 1 주 표면(114) 및 제 2 주 표면(116)을 갖는다. 제 1 주 표면(114)(1번 표면)은 건물 외부를 향하고, 즉 외부 주 표면이고, 제 2 주 표면(116)(2번 표면)은 건물의 내부를 향한다. 제 2 플라이(118)는 바깥쪽으로 대면하는 주 표면(120)(3번 표면) 및 안쪽으로 대면하는 주 표면(122)(4번 표면)을 갖는다. 이러한 플라이 표면의 번호 부여는 창호(fenestration) 기술에서의 통상적인 관행에 부합한다.
도시된 예에서, 태양광 제어 코팅(30)은 2 번 표면(116) 상에 위치되어 있다. 그러나, 태양광 제어 코팅(30)은 다른 표면들 중 임의의 표면 상에 위치될 수 있다. 예를 들어, 태양광 제어 코팅(30)은 3번 표면(120) 상에 위치될 수 있다. 예를 들어, 태양광 제어 코팅(30)은 1번 표면(114) 또는 4번 표면(122) 상에 위치될 수도 있다.
제 1 플라이(112)는 중간층(130)에 의해 제 2 플라이(118)에 연결된다. 중간층(130)은 임의의 통상적인 중간층 재료일 수 있다. 예를 들어, 중간층은 폴리비닐 부티랄(PVB)일 수 있다.
제 1 플라이(112) 및 제 2 플라이(118)는 기재(11)에 대해 전술한 재료들 중 임의의 것일 수 있다. 제 2 플라이(118)는 제 1 플라이(112)와 동일하거나 제 2 플라이(118)는 제 1 플라이(112)와 다를 수 있다. 제 1 및 제 2 플라이(112, 118)는 각각이 예를 들어 투명한 플로트 유리이거나 착색되거나 유색화된 유리일 수 있거나, 하나의 플라이(112, 118)는 투명 유리일 수 있고 다른 플라이(112, 118)는 착색되거나 유색화된 유리일 수 있다 .
제 1 플라이(112) 및 제 2 플라이(118)는 임의의 원하는 치수의 것일 수 있다.
제 1 플라이(112)와 제 2 플라이(118)는 상이한 수준의 가시광 투과율을 가질 수 있다. 예를 들어, 제 1 플라이(112)는 제 2 플라이(118)보다 더 높은 가시광 투과율을 가질 수 있다. 예를 들어, 제 1 플라이(112)는 투명한 유리일 수 있고 제 2 플라이(118)는 착색된 유리일 수 있다.
태양광 제어 코팅(30)은 0.3 이하, 예를 들어 0.29 이하, 0.28 이하, 0.27 이하, 0.26 이하, 또는 0.25 이하의 기준 적층된 유닛 SHGC를 제공할 수 있다.
태양광 제어 코팅(30)은 60% 내지 80%, 예를 들어 65% 내지 75%, 또는 71% 내지 73% 범위의 기준 적층된 유닛 가시광 투과율(LTA)을 제공한다.
태양광 제어 코팅(30)은 5Ω/□ 미만, 예를 들어 2Ω/□ 미만, 1Ω/□ 미만, 0.9Ω/□ 미만, 0 초과 내지 1.5 Ω/□ 범위 또는 0 초과 내지 1 Ω/□ 범위의 시트 저항을 제공한다.
태양광 제어 코팅(30)은 75 내지 95의 범위, 82 내지 92의 범위, 또는 87 내지 89 범위의 기준 적층된 유닛 투과된 L*을 제공한다.
태양광 제어 코팅(30)은 -6 내지 1의 범위, -5 내지 -1의 범위, 또는 -3 내지 -2 범위의 기준 적층된 유닛 투과된 a*을 제공한다.
태양광 제어 코팅(30)은 2 내지 6의 범위, 2.5 내지 5의 범위, 또는 3.8 내지 4.4 범위의 기준 적층된 유닛 투과된 b*를 제공한다.
태양광 제어 코팅(30)은 30 내지 50의 범위, 35 내지 45의 범위, 또는 39 내지 42 범위의 기준 적층된 유닛 반사된 (외부) L*을 제공한다.
태양광 제어 코팅(30)은 -9 내지 1의 범위, -8 내지 0의 범위, 또는 -7.4 내지 -2 범위의 기준 적층된 유닛 반사된 (외부) a*을 제공한다.
태양광 제어 코팅(30)은 -7 내지 3의 범위, -6 내지 1.5의 범위, 또는 -5 내지 0 범위의 기준 적층된 유닛 반사된 (외부) b*를 제공한다.
태양광 제어 코팅(30)은 30 내지 50의 범위, 35 내지 45의 범위, 또는 40 내지 42 범위의 기준 적층된 유닛 반사된 (내부) L*을 제공한다.
태양광 제어 코팅(30)은 -9 내지 0의 범위, -8 내지 -1의 범위, 또는 -7.2 내지 -3 범위의 기준 적층된 유닛 반사된 (내부) a*을 제공한다.
태양광 제어 코팅(30)은 -6.5 내지 1의 범위, -5.5 내지 0의 범위, 또는 4.3 내지 -1 범위의 기준 적층된 유닛 반사된 (내부) b*를 제공한다.
본 발명은 하기 번호의 항목들에서 추가로 설명된다.
항목 1. 제 1 상 조정 층(40); 제 1 상 조정 층(40) 위에 위치된 제 1 금속층(46); 제 1 금속층(46) 위에 위치된 제 1 프라이머 층(48); 제 1 프라이머 층(48) 위에 위치된 제 2 상 조정 층(50); 제 2 상 조정 층(50) 위에 위치된 제 2 금속층(58); 제 2 금속층(58) 위에 위치된 제 2 프라이머 층(60); 제 2 프라이머 층(60) 위에 위치된 제 3 상 조정 층(62); 제 3 상 조정 층(62) 위에 위치된 제 3 금속층(70); 제 3 금속층(70) 위에 위치된 제 3 프라이머 층(72); 제 3 프라이머 층(72) 위에 위치된 제 4 상 조정 층(86); 및 제 4 상 조정 층(86) 위에 위치된 보호층(92)을 포함하는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 2. 항목 1에 있어서, 상 조정 층(40, 50, 62, 86)은 비-금속 물질을 포함하는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 3. 항목 1 또는 2에 있어서, 상 조정 층(40, 50, 62, 86)은 유전체 또는 반도체 물질을 포함하는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 4. 항목 1 내지 3 중 어느 하나에 있어서, 제 1 상 조정 층(40)은 금속 산화물, 도핑된 금속 산화물, 금속 산화물의 혼합물 또는 금속 합금 산화물을 포함하는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 5. 항목 1 내지 4 중 어느 하나에 있어서, 제 1 상 조정 층(40)은 아연 및 주석의 도핑되거나 비-도핑된 산화물을 포함하는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 6. 항목 1 내지 5 중 어느 하나에 있어서, 제 1 상 조정 층(40)은 44 nm 내지 90 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 51 nm 내지 81 nm 범위의 광학적 두께, 더욱 바람직하게는 53 nm 내지 74 nm 범위의 광학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 7. 항목 1 내지 5 중 어느 하나에 있어서, 제 1 상 조정 층(40)은 22 nm 내지 45 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 25 nm 내지 41 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 26 nm 내지 37 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 8. 항목 1 내지 7 중 어느 하나에 있어서, 제 1 상 조정 층(40)은 제 1 필름(42) 및 제 1 필름(42) 위에 위치된 제 2 필름(44)을 갖는 다층 구조를 포함하는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 9. 항목 8에 있어서, 제 1 필름(42)은 아연과 주석의 합금 산화물을 포함하는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 10. 항목 8 또는 9에 있어서, 제 1 필름(42)은 주석산 아연을 포함하는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 11. 항목 8 내지 10 중 어느 하나에 있어서, 제 2 필름(44)은 주석 도핑된 산화 아연을 포함하는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 12. 항목 8 내지 11 중 어느 하나에 있어서, 제 1 필름(42)은 30 nm 내지 60 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 36 nm 내지 54 nm 범위의 광학적 두께, 보다 바람직하게는 37 nm 내지 50 nm 범위의 광학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 13. 항목 8 내지 12 중 어느 하나에 있어서, 제 1 필름(42)은 15 nm 내지 30 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 18 nm 내지 27 nm 범위의 기하학적 두께, 보다 바람직하게는 18 nm 내지 25 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 14. 항목 8 내지 13 중 어느 하나에 있어서, 제 2 필름(44)은 14 nm 내지 30 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 14 nm 내지 28 nm 범위의 광학적 두께, 보다 바람직하게는 16 nm 내지 25 nm 범위의 광학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 15. 항목 8 내지 14 중 어느 하나에 있어서, 제 2 필름(44)은 7 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 7 nm 내지 14 nm 범위의 기하학적 두께, 보다 바람직하게는 8 nm 내지 13 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 16. 항목 1 내지 15 중 어느 하나에 있어서, 제 1 금속층(46)은 연속적인 금속성 은 필름을 포함하는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 17. 항목 1 내지 16 중 어느 하나에 있어서, 제 1 금속층(46)은 8 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 8 nm 내지 13 nm 범위의 기하학적 두께, 보다 바람직하게는 9 nm 내지 11 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 18. 항목 1 내지 17 중 어느 하나에 있어서, 제 1 프라이머 층(48)은 티타니아를 포함하는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 19. 항목 1 내지 18 중 어느 하나에 있어서, 제 1 프라이머 층(48)은 6 nm 내지 14 nm 범위, 바람직하게는 7 nm 내지 12 nm 범위, 더욱 바람직하게는 8 nm 내지 10 nm 범위의 광학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 20. 항목 1 내지 19 중 어느 하나에 있어서, 제 1 프라이머 층(48)은 2.5 nm 내지 5.5 nm 범위, 바람직하게는 3 nm 내지 4.5 nm 범위, 보다 바람직하게는 3.5 nm 내지 4 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 21. 항목 1 내지 20 중 어느 하나에 있어서, 제 2 상 조정 층(50)은 97 nm 내지 176 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 99 nm 내지 156 nm 범위의 광학적 두께, 보다 바람직하게는 118 nm 내지 136 nm 범위의 광학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 22. 항목 1 내지 21 중 어느 하나에 있어서, 제 2 상 조정 층(50)은 33 nm 내지 88 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 33.5 nm 내지 78 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 59 nm 내지 68 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 23. 항목 1 내지 22 중 어느 하나에 있어서, 제 2 상 조정 층(50)은 제 1 필름(52), 제 2 필름(54) 및 제 3 필름(56)을 포함하는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 24. 항목 23에 있어서, 제 1 필름(52) 및 제 3 필름(56)은 산화 아연 또는 주석 도핑된 산화 아연을 포함하는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 25. 항목 23 또는 24에 있어서, 제 2 필름(54)은 주석산 아연을 포함하는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 26. 항목 23 내지 25 중 어느 하나에 있어서, 제 1 필름(52) 및/또는 제 3 필름(56)은 17 nm 내지 33 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 17 nm 내지 30 nm 범위의 광학적 두께, 보다 바람직하게는 20 nm 내지 25 nm 범위의 광학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 27. 항목 23 내지 26 중 어느 하나에 있어서, 제 1 필름(52) 및/또는 제 3 필름(56)은 7 nm 내지 13 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 7 nm 내지 12 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 8 nm 내지 10 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 28. 항목 23 내지 27 중 어느 하나에 있어서, 제 2 필름(54)은 70 nm 내지 130 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 80 nm 내지 112 범위의 광학적 두께, 보다 바람직하게는 84 nm 내지 98 nm 범위의 광학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 29. 항목 23 내지 28 중 어느 하나에 있어서, 제 2 필름(54)은 35 nm 내지 65 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 40 nm 내지 56 nm 범위의 기하학적 두께, 보다 바람직하게는 42 nm 내지 49 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 30. 항목 1 내지 29 중 어느 하나에 있어서, 제 2 금속층(58)은 연속적인 은 필름을 포함하는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 31. 항목 1 내지 30 중 어느 하나에 있어서, 제 2 금속층(58)은 8.5 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 10 nm 내지 13.5 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 10 nm 내지 13 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 32. 항목 1 내지 31 중 어느 하나에 있어서, 제 2 프라이머 층(60)이 티타니아를 포함하는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 33. 항목 1 내지 32 중 어느 하나에 있어서, 제 2 프라이머 층(60)은 6 nm 내지 13 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 7 nm 내지 12 nm 범위의 광학적 두께, 보다 바람직하게는 8 nm 내지 10 nm 범위의 광학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 34. 항목 1 내지 33 중 어느 하나에 있어서, 제 2 프라이머 층(60)은 2.5 nm 내지 5 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 3 nm 내지 4.5 nm 범위의 기하학적 두께, 보다 바람직하게는 3.5 nm 내지 4 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 35. 항목 1 내지 34 중 어느 하나에 있어서, 제 3 상 조정 층(62)은 112 nm 내지 169 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 126 nm 내지 160 nm 범위의 광학적 두께, 더욱 바람직하게는 147 nm 내지 156 nm 범위의 광학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 36. 항목 1 내지 35 중 어느 하나에 있어서, 제 3 상 조정 층(62)은 56 nm 내지 85 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 63 nm 내지 80 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 73.5 nm 내지 78 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 37. 항목 1 내지 36 중 어느 하나에 있어서, 제 3 상 조정 층(62)은 제 1 필름(64), 제 2 필름(66) 및 제 3 필름(68)을 포함하는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 38. 항목 37에 있어서, 제 1 필름(64) 및/또는 제 3 필름(68)은 산화 아연 또는 주석 도핑된 산화 아연을 포함하는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 39. 항목 37 또는 38에 있어서, 제 2 필름(66)은 주석산 아연을 포함하는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 40. 항목 37 내지 39 중 어느 하나에 있어서, 제 1 필름(64) 및/또는 제 3 필름(68)은 17 nm 내지 40 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 20 nm 내지 35 nm 범위, 보다 바람직하게는 25 nm 내지 35 nm 범위의 광학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 41. 항목 37 내지 40 중 어느 하나에 있어서, 제 1 필름(64) 및/또는 제 3 필름(68)은 7 nm 내지 16 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 8 nm 내지 14 nm 범위의 기하학적 두께, 보다 바람직하게는 10 nm 내지 14 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 42. 항목 37 내지 41 중 어느 하나에 있어서, 제 2 필름(66)은 80 nm 내지 120 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 88 nm 내지 110 nm 범위의 광학적 두께, 보다 바람직하게는 104 nm 내지 108 nm 범위의 광학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 43. 항목 37 내지 42 중 어느 하나에 있어서, 제 2 필름(66)은 40 nm 내지 60 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 44 nm 내지 55 nm 범위의 기하학적 두께, 보다 바람직하게는 52 nm 내지 54 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 44. 항목 1 내지 43 중 어느 하나에 있어서, 제 3 금속층(70)은 금속성 은 필름을 포함하는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 45. 항목 1 내지 44 중 어느 하나에 있어서, 제 3 금속층(70)은 8.5 nm 내지 16 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 10 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께, 보다 바람직하게는 12 nm 내지 14 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 46. 항목 1 내지 45 중 어느 하나에 있어서, 제 3 프라이머 층(72)은 티타니아를 포함하는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 47. 항목 1 내지 46 중 어느 하나에 있어서, 제 3 프라이머 층(72)은 2.5 nm 내지 10 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 3.5 nm 내지 8 nm 범위의 광학적 두께, 더욱 바람직하게는 5 nm 내지 6.5 nm 범위의 광학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 48. 항목 1 내지 47 중 어느 하나에 있어서, 제 3 프라이머 층(72)은 1 nm 내지 4 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 1.5 nm 내지 3 범위의 기하학적 두께, 보다 바람직하게는 2 nm 내지 2.5 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 49. 항목 1 내지 48 중 어느 하나에 있어서, 제 4 상 조정 층(86)은 47 nm 내지 82 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 58 nm 내지 75 nm 범위의 광학적 두께, 보다 바람직하게는 60 nm 내지 73 nm 범위의 광학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 50. 항목 1 내지 49 중 어느 하나에 있어서, 제 4 상 조정 층(86)은 23 nm 내지 41 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 29 nm 내지 38 nm 범위의 기하학적 두께, 보다 바람직하게는 30 nm 내지 37 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 51. 항목 1 내지 50 중 어느 하나에 있어서, 제 4 상 조정 층(86)은 제 1 필름(88) 및 제 2 필름(90)을 포함하는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 52. 항목 51에 있어서, 제 1 필름(88)은 산화 아연 또는 주석 도핑된 산화 아연을 포함하는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 53. 항목 51 또는 52에 있어서, 제 2 필름(90)은 주석산 아연을 포함하는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 54. 항목 51 내지 53 중 어느 하나에 있어서, 제 1 필름(88)은 17 nm 내지 30 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 20 nm 내지 27 nm 범위의 광학적 두께, 보다 바람직하게는 20 nm 내지 26 nm 범위의 광학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 55. 항목 51 내지 54 중 어느 하나에 있어서, 제 1 필름(88)은 8 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 10 nm 내지 14 nm 범위의 기하학적 두께, 보다 바람직하게는 10 nm 내지 13 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 56. 항목 51 내지 55 중 어느 하나에 있어서, 제 2 필름(90)은 30 nm 내지 52 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 36 nm 내지 50 nm 범위의 광학적 두께, 보다 바람직하게는 38 nm 내지 48 nm 범위의 광학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 57. 항목 51 내지 56 중 어느 하나에 있어서, 제 2 필름(90)은 15 nm 내지 26 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 18 nm 내지 25 nm 범위의 기하학적 두께, 보다 바람직하게는 19 nm 내지 24 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 58. 항목 1 내지 57 중 어느 하나에 있어서, 보호층(92)은 실리카와 알루미나의 혼합물을 포함하는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 59. 항목 1 내지 58 중 어느 하나에 있어서, 보호층(92)은 100 nm 내지 180 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 120 nm 내지 160 nm 범위의 광학적 두께, 보다 바람직하게는 130 nm 내지 150 nm 범위의 광학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 60. 항목 1 내지 59 중 어느 하나에 있어서, 보호층(92)은 50 nm 내지 90 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 60 nm 내지 80 nm 범위의 기하학적 두께, 보다 바람직하게는 65 nm 내지 75 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 61. 항목 1 내지 60 중 어느 하나에 있어서, 제 1 상 조정 층(40)은 주석산 아연을 포함하는 제 1 층(42) 및 ZnO 90/10을 포함하는 제 2 층(44)을 포함하고; 제 1 금속 층(46)은 연속적인 금속성 은 층을 포함하고; 제 1 프라이머 층(48)은 티타늄 금속으로서 침착된 티타니아를 포함하고; 제 2 상 조정 층(50)은 ZnO 90/10을 포함하는 제 1 층(52), 주석산 아연을 포함하는 제 2 층(54) 및 ZnO 90/10을 포함하는 제 3 층(56)을 포함하고; 제 2 금속 층(58)은 연속적인 금속성 은 층을 포함하고; 제 2 프라이머 층(60)은 티타늄 금속으로서 침착된 티타니아를 포함하고; 제 3 상 조정 층(62)은 ZnO 90/10을 포함하는 제 1 층(64), 주석산 아연을 포함하는 제 2 층(66) 및 ZnO 90/10을 포함하는 제 3 층(68)을 포함하고; 제 3 금속층(70)은 연속적인 금속성 은 층을 포함하고; 제 3 프라이머 층(72)은 티타늄 금속으로서 침착된 티타니아를 포함하고; 제 4 상 조정 층(86)은 ZnO 90/10을 포함하는 제 1 층(88) 및 주석산 아연을 포함하는 제 2 층(90)을 포함하고; 보호층(92)은 실리카와 알루미나의 혼합물을 포함하는, 태양광 제어 코팅(30).
항목 62. 중합체 중간층(130)에 의해 제 2 플라이(118)에 연결된 제 1 플라이(112)(이때, 제 1 플라이(112)는 제 1 주 표면(114) 및 제 2 주 표면(116)을 가지며, 제 2 플라이(118)는 제 3 주 표면(120) 및 제 4 주 표면(122)을 가짐); 및 상기 주 표면 중 적어도 하나 상에 위치된 항목 1 내지 61 중 어느 하나의 태양광 제어 코팅(30)을 포함하는 적층된 글레이징(110).
항목 63. 항목 62에 있어서, 태양광 제어 코팅(30)이 제 2 주 표면(116) 상에 위치되는, 적층된 글레이징(110).
항목 64. 항목 62 또는 63에 있어서, 제 1 플라이(112) 및 제 2 플라이(118)는 상이한 수준의 가시광 투과율을 가질 수 있는, 적층된 글레이징(110).
항목 65. 항목 62 내지 64 중 어느 하나에 있어서, 제 1 플라이(112)는 제 2 플라이(118)보다 더 높은 가시광 투과율을 갖는, 적층된 글레이징(110).
항목 66. 항목 62 내지 65 중 어느 하나에 있어서, 제 1 플라이(112)는 투명 유리를 포함하고, 제 2 플라이(118)는 착색된 유리를 포함하는, 적층 글레이징(110).
항목 67. 중합체 중간층(130)에 의해 제 2 플라이(118)에 연결된 제 1 플라이(112)(이때, 제 1 플라이(112)는 제 1 주 표면(114) 및 제 2 주 표면(116)을 가지며, 제 2 플라이(118)는 제 3 주 표면(120) 및 제 4 주 표면(122)을 가짐); 및 상기 주 표면 중 적어도 하나 상에 위치된 태양광 제어 코팅(30)을 포함하는 적층된 글레이징(110)으로서, 이때
태양광 제어 코팅(30)은 제 1 상 조정 층(40); 제 1 상 조정 층(40) 위에 위치된 제 1 금속층(46); 제 1 금속층(46) 위에 위치된 제 1 프라이머 층(48); 제 1 프라이머 층(48) 위에 위치된 제 2 상 조정 층(50); 제 2 상 조정 층(50) 위에 위치된 제 2 금속층(58); 제 2 금속층(58) 위에 위치된 제 2 프라이머 층(60); 제 2 프라이머 층(60) 위에 위치된 제 3 상 조정 층(62); 제 3 상 조정 층(62) 위에 위치된 제 3 금속층(70); 제 3 금속층(70) 위에 위치된 제 3 프라이머 층(72); 제 3 프라이머 층(72) 위에 위치된 제 4 상 조정 층(86); 및 제 4 상 조정 층(86) 위에 위치된 보호층(92)을 포함하고, 여기서
제 1 상 조정 층(40)은 44 nm 내지 90 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 51 nm 내지 81 nm 범위의 광학적 두께, 더욱 바람직하게는 53 nm 내지 74 nm 범위의 광학적 두께를 가지며;
제 2 상 조정 층(50)은 97 nm 내지 176 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 99 nm 내지 156 nm 범위의 광학적 두께, 더욱 바람직하게는 118 nm 내지 136 nm 범위의 광학적 두께를 가지며;
제 3 상 조정 층(62)은 112 nm 내지 169 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 126 nm 내지 160 nm 범위의 광학적 두께, 보다 바람직하게는 147 nm 내지 156 nm 범위의 광학적 두께를 가지며; 및/또는
제 4 상 조정 층(86)은 47 nm 내지 82 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 58 nm 내지 75 nm 범위의 광학적 두께, 더욱 바람직하게는 60 nm 내지 73 nm 범위의 광학적 두께를 갖는, 적층된 글레이징(110).
항목 68. 항목 67에 있어서, 상 조정 층(40, 50, 62, 86)은 유전체 또는 반도체 물질을 포함하는, 적층된 글레이징(110).
항목 69. 항목 67 및 68 중 어느 하나에 있어서, 상 조정 층(40, 50, 62, 86)은 비-금속 물질을 포함하는, 적층된 글레이징(110).
항목 70. 항목 67 내지 69 중 어느 하나에 있어서,
제 1 상 조정 층(40)은 22 nm 내지 45 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 25 nm 내지 41 nm 범위의 기하학적 두께, 보다 바람직하게는 26 nm 내지 37 nm 범위의 기하학적 두께를 갖고;
제 2 상 조정 층(50)은 33 nm 내지 88 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 33.5 nm 내지 78 nm 범위의 기하학적 두께, 보다 바람직하게는 59 nm 내지 68 nm 범위의 기하학적 두께를 가지며;
제 3 상 조정 층(62)은 56 nm 내지 85 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 63 nm 내지 80 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 73.5 nm 내지 78 nm 범위의 기하학적 두께를 가지며; 및/또는
제 4 상 조정 층(86)은 23 nm 내지 41 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 29 nm 내지 38 nm 범위의 기하학적 두께, 보다 바람직하게는 30 nm 내지 37 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 적층된 글레이징(110).
항목 71. 항목 67 내지 70 중 어느 하나에 있어서,
제 1 프라이머 층(48)은 6 nm 내지 14 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 7 nm 내지 12 nm 범위의 광학적 두께, 더욱 바람직하게는 8 nm 내지 10 nm의 범위의 광학적 두께를 가지며;
제 2 프라이머 층(60)은 6 nm 내지 13 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 7 nm 내지 12 nm 범위의 광학적 두께, 더욱 바람직하게는 8 nm 내지 10 nm 범위의 광학적 두께를 가지며; 및/또는
제 3 프라이머 층(72)은 2.5 nm 내지 10 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 3.5 nm 내지 8 nm 범위의 광학적 두께, 더욱 바람직하게는 5 nm 내지 6.5 nm 범위의 광학적 두께를 갖는, 적층된 글레이징(110).
항목 72. 항목 67 내지 71 중 어느 하나에 있어서,
제 1 프라이머 층(48)은 2.5 nm 내지 5.5 nm의 범위, 바람직하게는 3 nm 내지 4.5 nm의 범위, 보다 바람직하게는 3.5 nm 내지 4 nm의 범위의 기하학적 두께를 가지며;
제 2 프라이머 층(60)은 2.5 nm 내지 5 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 3 nm 내지 4.5 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 3.5 nm 내지 4 nm 범위의 기하학적 두께를 가지며; 및/또는
제 3 프라이머 층(72)은 1 nm 내지 4 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 1.5 nm 내지 3 nm 범위의 기하학적 두께, 보다 바람직하게는 2 nm 내지 2.5 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 적층된 글레이징(110).
항목 73. 항목 67 내지 72 중 어느 하나에 있어서,
제 1 금속층(46)은 8 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 8 nm 내지 13 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 9 nm 내지 11 nm 범위의 기하학적 두께를 갖고;
제 2 금속층(58)은 8.5 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 10 nm 내지 13.5 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 10 nm 내지 13 nm 범위의 기하학적 두께를 가지며; 및/또는
제 3 금속층(70)은 8.5 nm 내지 16 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 10 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께, 보다 바람직하게는 12 nm 내지 14 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 적층된 글레이징(110).
항목 74. 항목 67 내지 73 중 어느 하나에 있어서, 보호층(92)은 60 nm 내지 200 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 100 nm 내지 180 nm 범위의 광학적 두께, 보다 바람직하게는 120 nm 내지 160 nm 범위의 광학적 두께, 더욱 바람직하게는 130 nm 내지 150 nm 범위의 광학적 두께를 갖는, 적층된 글레이징(110).
항목 75. 항목 67 내지 74 중 어느 하나에 있어서, 상 조정 층(40, 50, 62) 중 하나 이상은 금속 산화물, 도핑된 금속 산화물, 비-도핑된 금속 산화물, 금속 산화물의 혼합물 또는 금속 합금 산화물을 포함하고; 금속 층(46, 58, 70) 중 하나 이상은 연속적인 금속성 은 필름을 포함하고; 및/또는 프라이머 층(48, 60, 72) 중 하나 이상은 티타니아를 포함하는, 적층된 글레이징(110).
항목 76. 항목 67 내지 75 중 어느 하나에 있어서,
제 1 상 조정 층(40)은 제 1 필름(42) 및 제 1 필름(42) 위에 위치된 제 2 필름(44)을 갖는 다층 구조를 포함하고;
제 1 필름(42)은 15 nm 내지 30 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 18 nm 내지 27 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 18 nm 내지 25 nm 범위의 기하학적 두께를 가지며;
제 2 필름(44)은 7 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 7 nm 내지 14 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 8 nm 내지 13 nm 범위의 기하학적 두께를 가지며;
제 1 필름(42)은 아연과 주석의 합금 산화물을 포함하고; 및/또는
제 2 필름(44)은 주석 도핑된 산화 아연을 포함하는, 적층된 글레이징(110).
항목 77. 항목 67 내지 76 중 어느 하나에 있어서,
제 2 상 조정 층(50)은 제 1 필름(52), 제 2 필름(54) 및 제 3 필름(56)을 포함하고;
제 1 필름(52) 및/또는 제 3 필름(56)은 7 nm 내지 13 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 7 nm 내지 12 nm 범위의 기하학적 두께, 보다 바람직하게는 8 nm 내지 10 nm 범위의 기하학적 두께를 갖고;
제 2 필름(54)은 35 nm 내지 65 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 40 nm 내지 56 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 42 nm 내지 49 nm 범위의 기하학적 두께를 가지며;
제 1 필름(52) 및 제 3 필름(56)은 산화 아연 또는 주석 도핑된 산화 아연을 포함하고; 및/또는
제 2 필름(54)은 주석산 아연을 포함하는, 적층된 글레이징(110).
항목 78. 항목 67 내지 77 중 어느 하나에 있어서,
제 3 상 조정 층(62)은 제 1 필름(64), 제 2 필름(66) 및 제 3 필름(68)을 포함하고,
제 1 필름(64) 및/또는 제 3 필름(68)은 7 nm 내지 16 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 8 nm 내지 14 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 10 nm 내지 14 nm 범위의 기하학적 두께를 가지며;
제 2 필름(66)은 40 nm 내지 60 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 44 nm 내지 55 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 52 nm 내지 54 nm 범위의 기하학적 두께를 가지며;
제 1 필름(64) 및/또는 제 3 필름(68)은 산화 아연 또는 주석 도핑된 산화 아연을 포함하고; 및/또는
제 2 필름(66)은 주석산 아연을 포함하는, 적층된 글레이징(110).
항목 79. 항목 67 내지 78 중 어느 하나에 있어서, 보호층(92)은 30 nm 내지 100 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 50 nm 내지 90 nm 범위의 기하학적 두께, 보다 바람직하게는 60 nm 내지 80 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 65 nm 내지 75 nm 범위의 기하학적 두께를 갖고; 및/또는 보호층(92)은 실리카와 알루미나의 혼합물을 포함하는, 적층된 글레이징(110).
항목 80. 항목 67 내지 79 중 어느 하나에 있어서,
제 1 상 조정 층(40)은 주석산 아연을 포함하는 제 1 필름(42) 및 ZnO 90/10을 포함하는 제 2 필름(44)을 포함하고;
제 1 금속 층(46)은 연속적인 금속성 은 층을 포함하고;
제 1 프라이머 층(48)은 티타늄 금속으로서 침착된 티타니아를 포함하고;
제 2 상 조정 층(50)은 ZnO 90/10을 포함하는 제 1 필름(52), 주석산 아연을 포함하는 제 2 필름(54) 및 ZnO 90/10을 포함하는 제 3 필름(56)을 포함하고;
제 2 금속 층(58)은 연속적인 금속성 은 층을 포함하고;
제 2 프라이머 층(60)은 티타늄 금속으로서 침착된 티타니아를 포함하고;
제 3 상 조정 층(62)은 ZnO 90/10을 포함하는 제 1 필름(64), 주석산 아연을 포함하는 제 2 필름(66) 및 ZnO 90/10을 포함하는 제 3 필름(68)을 포함하고;
제 3 금속층(70)은 연속적인 금속성 은 층을 포함하고;
제 3 프라이머 층(72)은 티타늄 금속으로서 침착된 티타니아를 포함하고;
제 4 상 조정 층(86)은 ZnO 90/10을 포함하는 제 1 층(88) 및 주석산 아연을 포함하는 제 2 층(90)을 포함하고;
보호층(92)은 실리카와 알루미나의 혼합물을 포함하는, 적층된 글레이징(110).
항목 81. 항목 67 내지 80 중 어느 하나에 있어서, 적층된 글레이징(110)은 제 2 주 표면(116) 상에 위치되고/있거나 제 1 플라이(112)는 제 2 플라이(118)보다 높은 가시광 투과율을 갖는, 적층된 글레이징(110).
전술한 설명에 개시된 개념으로부터 벗어나지 않고 본 발명에 대한 수정이 이루어질 수 있다는 것이 당업자에게 쉽게 이해될 것이다. 따라서, 본 명세서에 상세히 설명된 특정 실시예는 단지 예시적인 것이며, 첨부된 청구 범위의 전체 폭 및 이의 임의의 및 모든 등가물로 제공되는 본 발명의 범위를 제한하는 것이 아니다.

Claims (15)

  1. 중합체성 중간층(130)에 의해 제 2 플라이(118)에 연결된 제 1 플라이(112) (이때, 제 1 플라이(112)는 제 1 주 표면(114) 및 제 2 주 표면(116)을 가지며, 제 2 플라이(118)는 제 3 주 표면(120) 및 제 4 주 표면(122)을 가짐); 및
    상기 주 표면들 중 적어도 하나 상에 위치된 태양광 제어 코팅(solar control coating)(30)
    을 포함하는 적층된 글레이징(laminated glazing)(110)으로서,
    태양광 제어 코팅(30)은, 제 1 상 조정(phase adjustment) 층(40); 제 1 상 조정 층(40) 위에 위치된 제 1 금속층(46); 제 1 금속층(46) 위에 위치된 제 1 프라이머(primer) 층(48); 제 1 프라이머 층(48) 위에 위치된 제 2 상 조정 층(50); 제 2 상 조정 층(50) 위에 위치된 제 2 금속층(58); 제 2 금속층(58) 위에 위치된 제 2 프라이머 층(60); 제 2 프라이머 층(60) 위에 위치된 제 3 상 조정 층(62); 제 3 상 조정 층(62) 위에 위치된 제 3 금속층(70); 제 3 금속층(70) 위에 위치된 제 3 프라이머 층(72); 제 3 프라이머 층(72) 위에 위치된 제 4 상 조정 층(86); 및 제 4 상 조정 층(86) 위에 위치된 보호층(92)을 포함하고,
    제 1 상 조정 층(40)은 44 nm 내지 90 nm 범위의 광학적(optical) 두께, 바람직하게는 51 nm 내지 81 nm 범위의 광학적 두께, 더욱 바람직하게는 53 nm 내지 74 nm 범위의 광학적 두께를 가지며;
    제 2 상 조정 층(50)은 97 nm 내지 176 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 99 nm 내지 156 nm 범위의 광학적 두께, 더욱 바람직하게는 118 nm 내지 136 nm 범위의 광학적 두께를 가지며;
    제 3 상 조정 층(62)은 112 nm 내지 169 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 126 nm 내지 160 nm 범위의 광학적 두께, 보다 바람직하게는 147 nm 내지 156 nm 범위의 광학적 두께를 가지며; 및/또는
    제 4 상 조정 층(86)은 47 nm 내지 82 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 58 nm 내지 75 nm 범위의 광학적 두께, 더욱 바람직하게는 60 nm 내지 73 nm 범위의 광학적 두께를 갖는, 적층된 글레이징(110).
  2. 제 1 항에 있어서,
    상 조정 층(40, 50, 62, 86)은 유전체 또는 반도체 물질을 포함하는, 적층된 글레이징(110).
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상 조정 층(40, 50, 62, 86)은 비-금속 물질을 포함하는, 적층된 글레이징(110).
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    제 1 상 조정 층(40)은 22 nm 내지 45 nm 범위의 기하학적(geometric) 두께, 바람직하게는 25 nm 내지 41 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 26 nm 내지 37 nm 범위의 기하학적 두께를 가지며;
    제 2 상 조정 층(50)은 33 nm 내지 88 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 33.5 nm 내지 78 nm 범위의 기하학적 두께, 보다 바람직하게는 59 nm 내지 68 nm 범위의 기하학적 두께를 가지며;
    제 3 상 조정 층(62)은 56 nm 내지 85 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 63 nm 내지 80 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 73.5 nm 내지 78 nm 범위의 기하학적 두께를 가지며; 및/또는
    제 4 상 조정 층(86)은 23 nm 내지 41 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 29 nm 내지 38 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 30 nm 내지 37 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 적층된 글레이징(110).
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    제 1 프라이머 층(48)은 6 nm 내지 14 nm의 범위, 바람직하게는 7 nm 내지 12 nm의 범위, 더욱 바람직하게는 8 nm 내지 10 nm의 광학적 두께를 가지며;
    제 2 프라이머 층(60)은 6 nm 내지 13 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 7 nm 내지 12 nm 범위의 광학적 두께, 더욱 바람직하게는 8 nm 내지 10 nm 범위의 광학적 두께를 가지며; 및/또는
    제 3 프라이머 층(72)은 2.5 nm 내지 10 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 3.5 nm 내지 8 nm 범위의 광학적 두께, 더욱 바람직하게는 5 nm 내지 6.5 nm 범위의 광학적 두께를 갖는, 적층된 글레이징(110).
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    제 1 프라이머 층(48)은 2.5 nm 내지 5.5 nm의 범위, 바람직하게는 3 nm 내지 4.5 nm의 범위, 보다 바람직하게는 3.5 nm 내지 4 nm의 기하학적 두께를 가지며;
    제 2 프라이머 층(60)은 2.5 nm 내지 5 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 3 nm 내지 4.5 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 3.5 nm 내지 4 nm 범위의 기하학적 두께를 가지며; 및/또는
    제 3 프라이머 층(72)은 1 nm 내지 4 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 1.5 nm 내지 3 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 2 nm 내지 2.5 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 적층된 글레이징(110).
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    제 1 금속층(46)은 8 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 8 nm 내지 13 nm 범위의 기하학적 두께, 보다 바람직하게는 9 nm 내지 11 nm 범위의 기하학적 두께를 가지며;
    제 2 금속층(58)은 8.5 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 10 nm 내지 13.5 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 10 nm 내지 13 nm 범위의 기하학적 두께를 가지며; 및/또는
    제 3 금속층(70)은 8.5 nm 내지 16 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 10 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 12 nm 내지 14 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 적층된 글레이징(110).
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    보호층(92)은 60 nm 내지 200 nm 범위의 광학적 두께, 바람직하게는 100 nm 내지 180 nm 범위의 광학적 두께, 더욱 바람직하게는 120 nm 내지 160 nm 범위의 광학적 두께, 더욱 바람직하게는 130 nm 내지 150 nm 범위의 광학적 두께를 갖는, 적층된 글레이징(110).
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상 조정 층(40, 50, 62) 중 하나 이상은 금속 산화물, 도핑된 금속 산화물, 비-도핑된 금속 산화물, 금속 산화물의 혼합물 또는 금속 합금 산화물을 포함하고;
    금속 층(46, 58, 70) 중 하나 이상은 연속적인 금속성 은 필름을 포함하고; 및/또는
    프라이머 층(48, 60, 72) 중 하나 이상은 티타니아를 포함하는, 적층된 글레이징(110).
  10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
    제 1 상 조정 층(40)은, 제 1 필름(42) 및 제 1 필름(42) 위에 위치된 제 2 필름(44)을 갖는 다중-필름 구조를 포함하고;
    제 1 필름(42)은 15 nm 내지 30 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 18 nm 내지 27 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 18 nm 내지 25 nm 범위의 기하학적 두께를 가지며;
    제 2 필름(44)은 7 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 7 nm 내지 14 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 8 nm 내지 13 nm 범위의 기하학적 두께를 가지며;
    제 1 필름(42)은 아연과 주석의 합금의 산화물을 포함하고; 및/또는
    제 2 필름(44)은 산화 아연 또는 주석 도핑된 산화 아연을 포함하는, 적층된 글레이징(110).
  11. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
    제 2 상 조정 층(50)은 제 1 필름(52), 제 2 필름(54) 및 제 3 필름(56)을 포함하고;
    제 1 필름(52) 및/또는 제 3 필름(56)은 7 nm 내지 13 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 7 nm 내지 12 nm 범위의 기하학적 두께, 보다 바람직하게는 8 nm 내지 10 nm 범위의 기하학적 두께를 갖고;
    제 2 필름(54)은 35 nm 내지 65 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 40 nm 내지 56 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 42 nm 내지 49 nm 범위의 기하학적 두께를 가지며;
    제 1 필름(52) 및 제 3 필름(56)은 산화 아연 또는 주석 도핑된 산화 아연을 포함하고; 및/또는
    제 2 필름(54)은 주석산 아연을 포함하는, 적층된 글레이징(110).
  12. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
    제 3 상 조정 층(62)은 제 1 필름(64), 제 2 필름(66) 및 제 3 필름(68)을 포함하고;
    제 1 필름(64) 및/또는 제 3 필름(68)은 7 nm 내지 16 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 8 nm 내지 14 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 10 nm 내지 14 nm 범위의 기하학적 두께를 갖고;
    제 2 필름(66)은 40 nm 내지 60 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 44 nm 내지 55 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 52 nm 내지 54 nm 범위의 기하학적 두께를 가지며;
    제 1 필름(64) 및/또는 제 3 필름(68)은 산화 아연 또는 주석 도핑된 산화 아연을 포함하고; 및/또는
    제 2 필름(66)은 주석산 아연을 포함하는, 적층된 글레이징(110).
  13. 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
    보호층(92)은 30 nm 내지 100 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 50 nm 내지 90 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 60 nm 내지 80 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 65 nm 내지 75 nm 범위의 기하학적 두께를 갖고; 및/또는
    보호층(92)은 실리카와 알루미나의 혼합물을 포함하는, 적층된 글레이징(110).
  14. 제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
    제 1 상 조정 층(40)은, 주석산 아연을 포함하는 제 1 필름(42) 및 산화 아연 또는 주석 도핑된 산화 아연을 포함하는 제 2 필름(44)을 포함하고;
    제 1 금속 층(46)은 연속적인 금속성 은 층을 포함하고;
    제 1 프라이머 층(48)은 티타늄 금속으로서 침착된 티타니아를 포함하고;
    제 2 상 조정 층(50)은, 산화 아연 또는 주석 도핑된 산화 아연을 포함하는 제 1 필름(52), 주석산 아연을 포함하는 제 2 필름(54), 및 산화 아연 또는 주석 도핑된 산화 아연을 포함하는 제 3 필름(56)을 포함하고;
    제 2 금속 층(58)은 연속적인 금속성 은 층을 포함하고;
    제 2 프라이머 층(60)은 티타늄 금속으로서 침착된 티타니아를 포함하고;
    제 3 상 조정 층(62)은, 산화 아연 또는 주석 도핑된 산화 아연을 포함하는 제 1 필름(64), 주석산 아연을 포함하는 제 2 필름(66), 및 산화 아연 또는 주석 도핑된 산화 아연을 포함하는 제 3 필름(68)을 포함하고;
    제 3 금속층(70)은 연속적인 금속성 은 층을 포함하고;
    제 3 프라이머 층(72)은 티타늄 금속으로서 침착된 티타니아를 포함하고;
    제 4 상 조정 층(86)은, 산화 아연 또는 주석 도핑된 산화 아연을 포함하는 제 1 층(88) 및 주석산 아연을 포함하는 제 2 층(90)을 포함하고;
    보호층(92)은 실리카와 알루미나의 혼합물을 포함하는, 적층된 글레이징(110).
  15. 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
    태양광 제어 코팅(30)은 제 2 주 표면(116) 상에 위치하고, 제 1 플라이(112)는 제 2 플라이(118)보다 가시광 투과율이 더 높은 것인, 적층된 글레이징(110).
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