CN110662650B - 用于层叠窗玻璃的太阳控制涂层 - Google Patents

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Abstract

层叠窗玻璃(110),具有:第一片(112)，其通过聚合物中间层(130)连接至第二片(118)，其中第一片(112)具有第一主表面(114)和第二主表面(116)，并且第二片(118)具有第三主表面(120)和第四主表面(122)；和位于至少一个主表面上的太阳控制涂层(30)，该太阳控制涂层(30)包括：第一相调节层(40)，位于第一相调节层(40)上方的第一金属性层(46)，位于第一金属性层(46)上方的第一底漆层(48)，位于第一底漆层(48)上方的第二相调节层(50)，位于第二相调节层(50)上方的第二金属性层(58)，位于第二金属性层(58)上方的第二底漆层(60)，位于第二底漆层(60)上方的第三相调节层(62)，位于第三相调节层(62)上方的第三金属性层(70)，位于第三金属性层(70)上方的第三底漆层(72)，位于第三底漆层(72)上方的第四相调节层(86)，和位于第四相调节层(86)上方的保护层(92)。

Description

用于层叠窗玻璃的太阳控制涂层
发明背景
1.发明领域
这一发明涉及用于层叠窗玻璃的太阳控制涂层并涉及包括太阳控制涂层的层叠窗玻璃。
2.技术考虑
太阳控制涂层阻挡或过滤所选范围的电磁辐射。通常，阻挡的辐射在电磁波谱的红外区域和/或紫外区域中。在窗玻璃例如建筑或交通工具窗上使用太阳控制涂层以减小进入建筑物或交通工具的所选范围太阳能的量。这减小在建筑物或交通工具内部的热积累。
许多建筑窗玻璃为隔热玻璃单元(IGU)的形式。这些隔热玻璃单元具有装配成间隔件并由空气间隙隔开的两个或更多个玻璃板。每个间隙填充有气体例如氩。许多交通工具的窗玻璃是层叠窗玻璃。层叠窗玻璃具有通过聚合物材料连接在一起的两个或更多个玻璃板。存在对于建筑物将优选使用层叠窗玻璃而不是IGU的一些情况。例如，可使层叠窗玻璃比常规IGU更耐冲击。另外，还存在可期望采用层叠窗玻璃作为IGU的一部分的一些情况。
因此，将期望提供太阳控制涂层，该太阳控制涂层在用于层叠建筑窗玻璃中时提供增强的太阳控制和/或美学性能。例如，将期望提供用于层叠建筑窗玻璃的太阳控制涂层，其具有低的太阳得热系数(SHGC)以防止建筑物内部的热积累。例如，将期望提供用于层叠建筑窗玻璃的太阳控制涂层，其具有高的可见光透射率。这改进建筑物内部的自然光照。例如，将期望提供用于层叠窗玻璃的太阳控制涂层，使得该窗玻璃可用于建筑或交通工具的窗玻璃。
另外，已经认识到将太阳控制涂层施加至IGU或层叠窗玻璃的目前的商业方法由于制造公差而在太阳控制涂层的每层的厚度中引入一些固有的偏差，并且这种固有的偏差可影响产品的颜色、透射率或其它光学性质。这种固有的偏差对产品的光学性质的影响随着涂层的设计而变化，并且在层厚度方面过多的偏差可使制造工艺商业上不可行。
还意识到在层叠窗玻璃中存在聚合物中间层可放大这种固有的偏差对最终窗玻璃产品的光学性质的影响。此外，最终产品的均匀性在建筑应用中比在交通工具应用中通常更重要，因为通常彼此并排布置相同产品的多个面板。如此，在IGU中或在交通工具的层叠窗玻璃中可接受的某些涂层组合物在建筑应用中使用的层叠窗玻璃中是不可接受的。因此，将期望提供太阳控制涂层组合物，其使制造偏差对成品的光学性质中的偏差的影响最小化，使得甚至可在用于建筑应用的层叠窗玻璃中实现在光学性质中可接受的偏差水平。
发明概述
为了解决一些或所有的以上提到的本领域中的缺陷，本公开内容提供层叠窗玻璃。层叠窗玻璃包含第一片，其通过聚合物中间层连接至第二片。第一片具有第一主表面和第二主表面，并且第二片具有第三主表面和第四主表面。太阳控制涂层位于至少一个主表面上。太阳控制涂层包含第一相调节层，位于第一相调节层上方的第一金属性层，位于第一金属性层上方的第一底漆层(primer layer)，位于第一底漆层上方的第二相调节层，位于第二相调节层上方的第二金属性层，位于第二金属性层上方的第二底漆层，位于第二底漆层上方的第三相调节层，位于第三相调节层上方的第三金属性层，位于第三金属性层上方的第三底漆层，位于第三底漆层上方的第四相调节层，和位于第四相调节层上方的保护层。第一相调节层具有在44nm至90nm范围内的光学厚度，优选在51nm至81nm范围内的光学厚度，更优选在53nm至74nm范围内的光学厚度。第二相调节层具有在97nm至176nm范围内的光学厚度，优选在99nm至156nm范围内的光学厚度，更优选在118nm至136nm范围内的光学厚度。第三相调节层具有在112nm至169nm范围内的光学厚度，优选在126nm至160nm范围内的光学厚度，更优选在147nm至156nm范围内的光学厚度；和/或其中第四相调节层具有在47nm至82nm范围内的光学厚度，优选在58nm至75nm范围内的光学厚度，更优选在60nm至73nm范围内的光学厚度。
附图简要描述
将参考以下附图描述本发明，其中相同的附图标记始终表示相同的部分。
图1是具有本发明的太阳控制涂层的涂覆制品的侧视图(未按比例)；
图2是图1的涂覆制品的侧视图(未按比例)，说明本发明的示例性太阳控制涂层的多层结构；和
图3是并入层叠窗玻璃中的图1或2的太阳控制涂层的侧视图(未按比例)。
优选实施方案描述
空间或方向术语，例如“左”、“右”、“内”、“外”、“上”、“下”等是指本发明如附图所示。然而，本发明可采取各种供选择的取向，并因此这样的术语不被视为限制性的。
说明书和权利要求书中使用的所有数字应理解为在所有情况下均由术语“约”修饰。“约”意指所述值的±10％的范围。
本文公开的所有范围包括开始和结束范围值和其中包含的任何及所有子范围。本文公开的范围表示在规定范围内的平均值。
关于本文描述的涂覆层或膜，术语“在...上方”意指离所讨论的涂覆层或膜所位于的基材(或基底层)更远。例如，位于第一层“上方”的第二层意味着第二层位于比第一层离基材(或基底层)更远。第二层可与第一层直接接触。或者，一个或多个其它层可位于第一层和第二层之间。
术语“膜”意指具有化学上不同的和/或均匀的组成的区域。“层”包含一个或多个“膜”。“涂层”包含一个或多个“层”。
术语“聚合物”或“聚合物的”包括低聚物、均聚物、共聚物和三元共聚物，例如由两种或更多种类型的单体或聚合物形成的聚合物。
术语“紫外辐射”意指波长在100nm至小于380nm范围内的电磁辐射。术语“可见辐射”或“可见光”意指波长在380nm至780nm范围内的电磁辐射。术语“红外辐射”意指波长在大于780nm至100,000nm范围内的电磁辐射。术语“太阳红外辐射”意指波长在1,000nm至3,000nm范围内的电磁辐射。术语“热红外辐射”意指波长在大于3,000nm至100,000nm范围内的电磁辐射。
本文提及的所有文献以其全文“通过引用并入”。
术语“光学厚度”意指材料的几何厚度乘以在550nm的参考波长下材料的折射率。例如，具有5nm的几何厚度和在550nm的参考波长下折射率为2的材料会具有10nm的光学厚度。
术语“回火的”或“热处理的”意指所讨论的制品或涂层已经被加热至足以实现热回火、热弯曲和/或热强化的温度。这一定义包括，例如，在烘箱或炉中在至少580℃、例如至少600℃、例如至少620℃的温度下将制品加热一段时间以实现热回火、热弯曲和/或热强化。例如，加热可为在1至15分钟、例如1至5分钟范围内的一段时间。
术语“未热处理的”意指没有回火或热处理的，或未设计成经回火或热处理以供最终使用。
术语“金属”和“金属氧化物”分别包括硅和二氧化硅，以及传统上认可的金属和金属氧化物，即使硅常规上可能不被认为是金属。
“至少”意指“大于或等于”。“不大于”意指“小于或等于”。
除非另有规定，否则任何提及的量均为“重量百分比”(重量％)。
除非有相反指示，否则厚度值是几何厚度值。
“掺杂剂”是以小于10重量％、例如小于5重量％、例如小于4重量％、例如小于2重量％的量存在的材料。例如，小于1重量％。例如，小于0.5重量％。例如，小于0.1重量％。
术语“包括”与“包含”同义。
术语“可固化的”意指能够聚合或交联的材料。“固化的”意指材料是至少部分聚合或交联的，优选完全聚合或交联的。
“参考层叠单元”被定义为具有两片2mm的透明玻璃，其通过0.76mm的聚乙烯醇缩丁醛中间层连接且在第2表面上有涂层。参考层叠单元值意指当涂层在第2表面上并入参考层叠单元时的报告值。
术语“太阳控制涂层”是指包含一个或多个影响涂覆制品的太阳性质(例如从涂层反射、由涂层吸收或透过涂层的太阳辐射量)的层或膜的涂层。
除非有相反指示，否则光学和太阳控制性能值(例如可见光透射率和/或雾度)是使用Perkin Elmer 1050分光光度计测定的值。除非有相反指示，否则参考层叠单元值是按照可从劳伦斯伯克利国家实验室得到的OPTICS(v6.0)软件和WINDOWS(v7.3.4.0)软件测定、窗玻璃中心(COG)测量、根据NFRC 2010(包括NFRC 100-2010)标准默认设置计算的。
除非有相反指示，否则薄层电阻值是使用四点探针(例如Nagy Instruments SD-600测量装置或Alessi四点探针)测定的值。表面粗糙度值是使用Instrument Dimension3100原子力显微镜测定的值。
颜色值(例如L*、a*、b*、C*和色调°)按照国际照明委员会规定的1976CIELAB颜色体系。
说明书和权利要求书中的L*、a*和b*值表示颜色中心点值。
本发明的讨论可将某些特征描述为在某些限制内“特别地”或“优选地”(例如，在某些限制内“优选地”、“更优选地”或“甚至更优选地”)。应理解本发明不限于这些特定或优选的限制，而是包括公开内容的整个范围。
本发明以任何组合包含本发明的以下方面、由本发明的以下方面组成或基本上由本发明的以下方面组成。在单独的附图中说明了本发明的各个方面。然而，应理解这仅是为了便于说明和讨论。在本发明的实践中，一个附图中所示的本发明的一个或多个方面可与一个或多个其它附图中所示的本发明的一个或多个方面组合。
将参考建筑窗玻璃讨论本发明。“建筑窗玻璃”意指位于建筑物上或建筑物中的任何窗玻璃。建筑窗玻璃的实例包括窗、天窗或隔板。然而，应理解本发明不限于用于建筑窗玻璃，而可实践于在任何所需领域中的窗玻璃。实例包括层叠或非层叠的住宅和/或商业窗，和/或用于陆地、天空、太空、水上和/或水下交通工具的窗玻璃。因此，应理解仅呈现具体公开的实例来解释本发明的一般构思，并且本发明不限于这些具体实例。另外，虽然典型的“窗玻璃”可具有足够的可见光透射率，使得可通过窗玻璃观察材料，但在本发明的实践中，“窗玻璃”不需要对可见光透明，而可为半透明的或不透明的。
在图1和2中说明包括本发明特征的涂覆制品10。涂覆制品10包括具有至少一个主表面的基材11。本发明的太阳控制涂层30位于主表面之一的至少一部分上方。
如图1中所示，太阳控制涂层30包含第一相调节层40。第一金属性层46位于第一相调节层40上方。第一底漆层48位于第一金属性层46上方。第二相调节层50位于第一底漆层48上方。第二金属性层58位于第二相调节层50上方。第二底漆层60位于第二金属性层58上方。第三相调节层62位于第二底漆层60上方。第三金属性层70位于第三相调节层62上方。第三底漆层72位于第三金属性层70上方。第四相调节层86位于第三底漆层72上方。保护层92位于第四相调节层86上方。
基材11可对可见辐射是透明的或半透明的。“透明的”意指具有大于0％直至100％的可见辐射透射率。或者，基材11可为半透明的。“半透明的”意指传播可见辐射使得与观察者相对侧上的物体不是清晰可见的。或者，基材11可为不透明的。“不透明的”意指具有为0％的可见光透射率。基材11可为透明的或者可为有色的或着色的。
适合于基材11的材料的实例包括塑料基材(例如丙烯酸聚合物，例如聚丙烯酸酯；聚甲基丙烯酸烷基酯，例如聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸乙酯、聚甲基丙烯酸丙酯等；聚氨酯；聚碳酸酯；聚对苯二甲酸烷基酯，例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯等；含聚硅氧烷的聚合物；或用于制备这些的任何单体的共聚物，或它们的任何混合物)；陶瓷基材；玻璃基材；或以上任何的混合物或组合。例如，基材11可包含常规的钠钙硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃或含铅玻璃。玻璃可为透明玻璃。“透明玻璃”意指未着色或无色玻璃。或者，玻璃可为着色的或以其他方式有色的玻璃。玻璃可为未热处理或热处理的玻璃。玻璃可具有任何类型(例如常规浮法玻璃)并且可为具有任何光学性质(例如任何可见辐射透射率值、紫外辐射透射率值、红外辐射透射率值和/或总太阳能透射率值)的任何组成。“浮法玻璃”意指通过常规浮法工艺形成的玻璃，其中将熔融玻璃沉积在熔融金属浴上并受控地冷却以形成浮法玻璃带。
基材11可为透明浮法玻璃或可为着色或有色玻璃。基材11可具有任何期望的尺寸(例如长度、宽度、形状或厚度)。可用于本发明实践的玻璃的实例包括透明玻璃、
Figure BDA0002286355960000071
Figure BDA0002286355960000072
GL-35TM、
Figure BDA0002286355960000073
玻璃、
Figure BDA0002286355960000074
玻璃、
Figure BDA0002286355960000075
玻璃和
Figure BDA0002286355960000076
玻璃，全部可从宾夕法尼亚州切斯威克的Vitro Architectural Glass商购得到。
相调节层40、50、62、86包含非金属性材料。例如，相调节层40、50、62、86可包含介电或半导体材料。例如，相调节层40、50、62、86可包含氧化物、氮化物、氧氮化物、硼化物、碳化物、氧碳化物、硼碳化物、硼氮化物、碳氮化物、和/或它们的混合物、组合、共混物或合金。适合于相调节层40、50、62、86的材料的实例包括以下的氧化物、氮化物或氧氮化物：钛、铪、锆、铌、锌、铋、铅、铟、锡、硅、铝、硼，和它们的混合物、组合、共混物或合金。这些可具有少量的其它材料。实例包括氧化铋中的锰、氧化铟中的锡等。另外，可使用金属合金或金属混合物的氧化物。实例包括含锌和锡的氧化物(例如锡酸锌)、铟-锡合金的氧化物、硅氮化物、硅铝氮化物、或铝氮化物。此外，可使用掺杂的金属氧化物、低氧化物、氮化物、低氮化物、或氧氮化物。实例包括锑或铟掺杂的锡氧化物或者镍或硼掺杂的硅氧化物。材料的特别实例包括锌氧化物、锡氧化物、硅氮化物、硅铝氮化物、硅镍氮化物、硅铬氮化物、锑掺杂的氧化锡、锡掺杂的氧化锌、铝掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、氧化钛，和/或它们的混合物、组合、共混物或合金。
相调节层40、50、62、86中一个或多个可包含单一材料和/或单膜。或者，相调节层40、50、62、86中一个或多个可包含多种材料和/或多种膜。相调节层40、50、62、86可包含化学上不同的材料或相的分层序列膜和/或可包含一种或多种化学上不同的材料或相的一种或多种复合材料。不同的相调节层40、50、62、86可包含相同的材料或不同的材料。相调节层40、50、62、86可具有相同的厚度或不同的厚度。
相调节层40、50、62、86允许调节由太阳控制涂层30的层的各个界面边界部分地反射的和/或部分地透射的电磁辐射的相长和相消光学干涉。改变相调节层40、50、62、86的厚度和/或组成可改变太阳控制涂层30的总反射率、透射率和/或吸收率，这可改变太阳控制涂层30的太阳控制性能、热红外隔热性能、颜色和/或美观。另外，相调节层40、50、62、86可为太阳控制涂层30的一个或多个其它层(例如一个或多个金属性层46、58、70)提供化学和/或机械保护。
期望高的可见光透射率时，相调节层40、50、62、86可充当减反射层来减少金属性层46、58、70反射以减小整体可见光反射率和/或提高太阳控制涂层30的可见光透射率。具有折射率大约为2的材料特别可用于许多金属性层的减反射。
一个或多个相调节层可位于基材11和最下的金属性层46之间。一个或多个相调节层可位于最上的金属性层70和周围环境例如空气之间。
在所示的示例性涂层30中，第一相调节层40位于基材11的至少一部分主表面上方。例如，第一相调节层40可与基材11直接接触。第一相调节层40可为单层或可包含一个或多个上述抗反射材料膜和/或介电材料膜。第一相调节层40可对可见光透明。第一相调节层40可以或可以不在电磁波谱的一个或多个区域(例如可见光)内表现出最小吸收。
第一相调节层40可包含任何上述相调节材料。例如，第一相调节层40可包含金属氧化物、掺杂的金属氧化物、金属氧化物的混合物或金属合金氧化物。例如，第一相调节层40可包含掺杂的或未掺杂的锌和锡的氧化物。
第一相调节层40可具有在44nm至90nm范围内的光学厚度。例如，在51nm至81nm范围内的光学厚度。例如，在53nm至74nm范围内的光学厚度。
第一相调节层40可具有在22nm至45nm范围内的几何厚度。例如，在25nm至41nm范围内的几何厚度。例如，在26nm至37nm范围内的几何厚度。
如图2中所示，第一相调节层40可包含具有第一膜42和第二膜44的多膜结构。第二膜44可位于第一膜42上方。
第一膜42可包含例如金属合金的氧化物或金属氧化物的混合物。例如，第一膜42可为锌和锡的合金的氧化物。“锌和锡的合金”意指真正的合金以及混合物。锌和锡的合金的氧化物可为由锌和锡的阴极磁控溅射真空沉积(MSVD)获得的氧化物。阴极可包含锌和锡，其比例为5重量％至95重量％的锌和95重量％至5重量％的锡，例如10重量％至90重量％的锌和90重量％至10重量％的锡。然而，还可使用锌与锡的其它比率。第一膜42的示例性的金属合金氧化物可写作ZnxSn1-xO2-x(式1)，其中“x”在大于0至小于1的范围内变化。例如，“x”可大于0并且可为大于0和小于1的任何分数或小数。式1的化学计量形式是“Zn2SnO4”，常被称作锡酸锌。可在氧的存在下由具有52重量％的锌和48重量％的锡的阴极来溅射沉积锡酸锌层。例如，第一膜42可包含锡酸锌。
可由包括另一种材料用来改进阴极溅射特性的锌阴极来沉积掺杂的氧化锌。例如，锌阴极可包括少量的锡(例如至多20重量％，至多15重量％，至多10重量％，例如至多5重量％)以改进溅射。在该情况下，所得的氧化锌膜将包括小百分比的氧化锡，例如至多20重量％，至多15重量％，至多10重量％氧化锡，例如至多5重量％氧化锡(不包括氧)。其它材料的实例包括铝、铟、和它们的组合。优选地，其它材料包含锡。
第二膜44可包含金属氧化物、掺杂的金属氧化物或氧化物混合物。第二膜44可包含金属氧化物或掺杂的金属氧化物。例如，第二膜44可包含氧化锌或掺杂的氧化锌。例如，第二膜44可包含锡掺杂的氧化锌。
第一膜42可具有在30nm至60nm范围内的光学厚度。例如，在36nm至54nm范围内的光学厚度。例如，在37nm至50nm范围内的光学厚度。
第一膜42可具有在15nm至30nm范围内的几何厚度。例如，在18nm至27nm范围内的几何厚度。例如，在18nm至25nm范围内的几何厚度。
第二膜44可具有在14nm至30nm范围内的光学厚度。例如，在14nm至28nm范围内的光学厚度。例如，在16nm至25nm范围内的光学厚度。
第二膜44可具有在7nm至15nm范围内的几何厚度。例如，在7nm至14nm范围内的几何厚度。例如，在8nm至13nm范围内的几何厚度。
金属性层46、58、70可为单层。例如，金属性层46、58、70可包含连续的金属膜。“连续的”金属膜意指未破裂或非断开的膜例如均匀的膜。或者，一个或多个金属性层46、58、70可为多膜层。金属性层46、58、70优选包含至少一个红外反射膜。
红外反射膜的实例包括连续的金属膜。可用于红外反射膜的红外反射金属的实例包括贵金属或近似贵金属。这样的金属的实例包括银、金、铂、钯、锇、铱、铑、钌、铜、汞、铼、铝、和它们的组合、混合物、共混物或合金。例如，一个或多个金属性膜可包含连续的金属性银膜。
第一金属性层46可包含单个红外反射膜，其包含任何以上红外反射金属。例如，第一金属性层46可包含金属性银的连续膜。
第一金属性层46可具有在8nm至15nm范围内的几何厚度。例如，在8nm至13nm范围内的几何厚度。例如，在9nm至11nm范围内的几何厚度。
底漆层48、60、72可位于与相关的在下面的金属性层直接接触。在涂覆工艺和/或后续加工(例如热回火)过程中底漆层48、60、72保护相关的金属性层。底漆材料沉积为金属。在后续加工(例如沉积上面的相调节层和/或热回火)过程中，一些或所有的金属底漆氧化。当在相调节层中使用氧化物或氮化物材料时，底漆层48、60、72可分别包含亲氧(oxophillic)或亲氮(nitrophillic)材料。底漆层48、60、72不需要是全部相同的材料。底漆层48、60、72不需要具有相同的厚度。
底漆层48、60、72可包含当完全被氧化时具有折射率在2至3范围内的材料。
可用于底漆层48、60、72的材料的实例包括钛、铌、钨、镍、铬、铁、钽、锆、铝、硅、铟、锡、锌、钼、铪、铋、钒、锰、和它们的组合、混合物、共混物或合金。
第一底漆层48位于第一金属性层46上方。第一底漆层48可为单膜或多膜层。第一底漆层48可包含任何上述底漆材料。例如，第一底漆层48可包含钛。例如，第一底漆层48可沉积为钛金属。在进一步加工例如加热或添加另外的涂覆层时沉积的钛氧化为氧化钛。
当被完全氧化时，第一底漆层48可具有在6nm至14nm范围内的光学厚度。例如，在7nm至12nm的范围内。例如，在8nm至10nm的范围内。
第一底漆层48可具有在2.5nm至5.5nm范围内的几何厚度。例如，在3nm至4.5nm的范围内。例如，在3.5nm至4nm的范围内。
第二相调节层50位于第一底漆层48上方。第二相调节层50可包含用于相调节层的一种或多种上述相调节材料和/或膜。
第二相调节层50可具有在97nm至176nm范围内的光学厚度。例如，在99nm至156nm范围内的光学厚度。例如，在118nm至136nm范围内的光学厚度。
第二相调节层50可具有在33nm至88nm范围内的几何厚度。例如，在33.5nm至78nm范围内的几何厚度。例如，在59nm至68nm范围内的几何厚度。
第二相调节层50可为单膜或多膜结构。例如，第二相调节层50可包括第一膜52、第二膜54和第三膜56。
第一膜52和第三膜56可包含相同或不同的材料和/或可具有相同或不同的厚度。第一膜52和/或第三膜56可包含金属氧化物或掺杂的金属氧化物。例如，第一膜52和/或第三膜56可包含氧化锌或掺杂的氧化锌。例如，第一膜52和/或第三膜56可包含锡掺杂的氧化锌。例如，第一膜52和/或第三膜56可包含ZnO 90/10。
第二膜54可包含金属合金的氧化物。例如，包含锌和锡的氧化物。例如，第二膜54可包含锡酸锌。
第一膜52(和/或第三膜56)可具有在17nm至33nm范围内的光学厚度。例如，在17nm至30nm范围内的光学厚度。例如，在20nm至25nm范围内的光学厚度。
第一膜52(和/或第三膜56)可具有在7nm至13nm范围内的几何厚度。例如，在7nm至12nm范围内的几何厚度。例如，在8nm至10nm范围内的几何厚度。
第二膜54可具有在70nm至130nm范围内的光学厚度。例如，第二膜54可具有在80nm至112nm范围内的光学厚度。例如，第二膜54可具有在84nm至98nm范围内的光学厚度。
第二膜54可具有在35nm至65nm范围内的几何厚度。例如，第二膜54可具有在40nm至56nm范围内的几何厚度。例如，第二膜54可具有在42nm至49nm范围内的几何厚度。
第二金属性层58位于第二相调节层50上方。第二金属性层58可为包含红外反射膜的单膜。或者，第二金属性层58可包含多膜层。
第二金属性层58包含任何上述红外反射材料。例如，第二金属性层58可为连续的金属膜。例如，第二金属性层58可为连续的银膜。
第二金属性层58可具有在8.5nm至15nm范围内的几何厚度。例如，第二金属性层58可具有在10nm至13.5nm范围内的几何厚度。例如，第二金属性层58可具有在10nm至13nm范围内的几何厚度。
第二底漆层60位于第二金属性层58上方。关于任选的第一底漆层48，第二底漆层60可包括任何底漆材料并且可具有任何上述厚度。例如，第二底漆层60可包含钛。
第二底漆层60可具有在6nm至13nm范围内的光学厚度。例如，第二底漆层60可具有在7nm至12nm范围内的光学厚度。例如，第二底漆层60可具有在8nm至10nm范围内的光学厚度。
第二底漆层60可具有在2.5nm至5nm范围内的几何厚度。例如，第二底漆层60可具有在3nm至4.5nm范围内的几何厚度。例如，第二底漆层60可具有在3.5nm至4nm范围内的几何厚度。
第三相调节层62位于第二底漆层60上方。第三相调节层62可包括如关于第一和第二相调节层40、50以上讨论的任何相调节材料和/或膜。例如，第三相调节层62可为多膜结构。例如，第三相调节层62可包括第一膜64、第二膜66和第三膜68。
第三相调节层62可具有在112nm至169nm范围内的光学厚度。例如，第三相调节层62可具有在126nm至160nm范围内的光学厚度。例如，第三相调节层62可具有在147nm至156nm范围内的光学厚度。
第三相调节层62可具有在56nm至85nm范围内的几何厚度。例如，第三相调节层62可具有在63nm至80nm范围内的几何厚度。例如，第三相调节层62可具有在73.5nm至78nm范围内的几何厚度。
第一膜64和/或第三膜68可包含金属氧化物或掺杂的金属氧化物。例如，第一膜64和/或第三膜68可包含氧化锌、掺杂的氧化锌、锡掺杂的氧化锌。第二膜66可包含金属合金的氧化物，例如包含锌和锡的氧化物或锡酸锌。
第一膜64和/或第三膜68可具有在17nm至40nm范围内的光学厚度。例如，第一膜64和/或第三膜68可具有在20nm至35nm范围内的光学厚度。例如，第一膜64和/或第三膜68可具有在25nm至35nm范围内的光学厚度。第一膜64和第三膜68可具有相同或不同的厚度。
第一膜64和/或第三膜68可具有在7nm至16nm范围内的几何厚度。例如，第一膜64和/或第三膜68可具有在8nm至14nm范围内的几何厚度。例如，第一膜64和/或第三膜68可具有在10nm至14nm范围内的几何厚度。
第二膜66可具有在80nm至120nm范围内的光学厚度。例如，第二膜66可具有在88nm至110nm范围内的光学厚度。例如，第二膜66可具有在104nm至108nm范围内的光学厚度。
第二膜66可具有在40nm至60nm范围内的几何厚度。例如，第二膜66可具有在44nm至55nm范围内的几何厚度。例如，第二膜66可具有在52nm至54nm范围内的几何厚度。
第三金属性层70可为单膜或多膜结构。第三金属性层70可为连续的金属膜。例如，第三金属性层70可为连续的金属性膜。例如，第三金属性层70可为金属性银膜。
第三金属性层70可具有在8.5nm至16nm范围内的几何厚度。例如，第三金属性层70可具有在10nm至15nm范围内的几何厚度。例如，第三金属性层70可具有在12nm至14nm范围内的几何厚度。
第三底漆层72可包括任何上述底漆材料。例如，第三底漆层72可包含钛。如上所述，在进一步加工时钛可被氧化为氧化钛。
第三底漆层72可具有在2.5nm至10nm范围内的光学厚度。例如，第三底漆层72可具有在3.5nm至8nm范围内的光学厚度。例如，第三底漆层72可具有在5nm至6.5nm范围内的光学厚度。
第三底漆层72可具有在1nm至4nm范围内的几何厚度。例如，第三底漆层72可具有在1.5nm至3nm范围内的几何厚度。例如，第三底漆层72可具有在2nm至2.5nm范围内的几何厚度。
第四相调节层86可包含如关于第一、第二或第三相调节层40、50、62以上讨论的一种或多种相调节材料和/或膜。
第四相调节层86可具有在47nm至82nm范围内的光学厚度。例如，第四相调节层86可具有在58nm至75nm范围内的光学厚度。例如，第四相调节层86可具有在60nm至73nm范围内的光学厚度。
第四相调节层86可具有在23nm至41nm范围内的几何厚度。例如，第四相调节层86可具有在29nm至38nm范围内的几何厚度。例如，第四相调节层86可具有在30nm至37nm范围内的几何厚度。
第四相调节层86可包含第一膜88和第二膜90。
第一膜88可包含金属氧化物或掺杂的金属氧化物。例如，氧化锌或掺杂的氧化锌。例如，第一膜88可包含锡掺杂的氧化锌。例如，ZnO90/10。第二膜90可包含金属合金的氧化物，例如包含锌和锡的氧化物或锡酸锌。
第一膜88可具有在17nm至30nm范围内的光学厚度。例如，第一膜88可具有在20nm至27nm范围内的光学厚度。例如，第一膜88可具有在20nm至26nm范围内的光学厚度。
第一膜88可具有在8nm至15nm范围内的几何厚度。例如，第一膜88可具有在10nm至14nm范围内的几何厚度。例如，第一膜88可具有在10nm至13nm范围内的几何厚度。
第二膜90可具有在30nm至52nm范围内的光学厚度。例如，第二膜90可具有在36nm至50nm范围内的光学厚度。例如，第二膜90可具有在38nm至48nm范围内的光学厚度。
第二膜90可具有在15nm至26nm范围内的几何厚度。例如，第二膜90可具有在18nm至25nm范围内的几何厚度。例如，第二膜90可具有在19nm至24nm范围内的几何厚度。
保护层92可为太阳控制涂层30的最终层。保护层92可包含一种或多种非金属性材料，例如关于相调节层的上述材料。或者，保护层92可包含金属材料。保护层92可对在下面的涂覆层提供化学和/或机械保护。保护层92可提供相调节和/或吸收。保护层92可为单膜或具有多膜结构。
保护层92可包括一种或多种金属氧化物、硅氧化物、铝氧化物、铝硅酸盐、硅氮化物、硅碳化物、和硅氧碳化物。适合于保护层92的材料的实例包括以下一种或多种的氧化物：锆、锌、锡、铝、硅、钛、和它们的混合物和/或合金。例如，保护层92可包含金属氧化物。例如，保护层可包含二氧化钛(即氧化钛)。
示例性金属氧化物保护层92可具有在12.5nm至20nm范围内的光学厚度。例如，金属氧化物保护层92可具有在13nm至18nm范围内的光学厚度。例如，金属氧化物保护层92可具有在14nm至16.5nm范围内的光学厚度。
示例性金属氧化物保护层92可具有在5nm至8nm范围内的几何厚度。例如，金属氧化物保护层92可具有在5.5nm至7nm范围内的几何厚度。例如，金属氧化物保护层92可具有在5.7nm至6.5nm范围内的几何厚度。
或者，保护层92可包含金属氧化物的混合物，例如氧化硅和氧化铝的混合物。
保护层92可包含混合的金属氧化物，其包含1重量％至99重量％氧化硅和99重量％至1重量％氧化铝，例如至少40重量％氧化硅和60重量％或更少氧化铝、例如至少70重量％氧化硅和30重量％或更少氧化铝，例如至少75重量％氧化硅，例如至少80重量％氧化硅，例如至少85重量％氧化硅。例如，保护层92可包含85重量％氧化硅和15重量％氧化铝。
示例性的混合金属氧化物保护层92可具有在100nm至180nm范围内，优选在120nm至160nm范围内，更优选在130nm至150nm范围内的光学厚度。
示例性的混合金属氧化物保护层92可具有在50nm至90nm范围内，优选在60nm至80nm范围内，更优选在65nm至75nm范围内的几何厚度。
在示例性涂层30中，第一相调节层40包含第一层42(包含锡酸锌)和第二层44(包含氧化锌、掺杂的氧化锌或锡掺杂的氧化锌)。第一金属性层46包含金属性银的连续层。第一底漆层48包含氧化钛(沉积为钛金属)。第二相调节层50包含第一层52(包含氧化锌、掺杂的氧化锌或锡掺杂的氧化锌)，第二层54(包含锡酸锌)和第三层56(包含氧化锌、掺杂的氧化锌或锡掺杂的氧化锌)。第二金属性层58包含金属性银的连续层。第二底漆层60包含氧化钛(沉积为钛金属)。第三相调节层62包含第一层64(包含氧化锌、掺杂的氧化锌或锡掺杂的氧化锌)，第二层66(包含锡酸锌)和第三层68(包含氧化锌、掺杂的氧化锌或锡掺杂的氧化锌)。第三金属性层70包含金属性银的连续层。第三底漆层72包含氧化钛(沉积为钛金属)。第四相调节层86包含第一层88(包含氧化锌、掺杂的氧化锌或锡掺杂的氧化锌)和第二层90(包含锡酸锌)。保护层92包含氧化硅和氧化铝的混合物。或者，保护层92可包含氧化钛。
可通过任何常规方法形成太阳控制涂层30的层和/或膜。这样的方法的实例包括常规化学气相沉积(CVD)和/或物理气相沉积(PVD)方法。CVD工艺的实例包括喷雾热解。PVD工艺的实例包括电子束蒸发和真空溅射，例如磁控溅射气相沉积(MSVD)。也可使用其它涂覆方法，例如但不限于溶胶-凝胶沉积。可通过一种方法形成一个或多个层或膜和可通过不同的方法形成一个或多个其它层或膜。例如，可通过MSVD形成涂层30。
图3显示并入层叠窗玻璃110中的图1和2的涂层30。层叠窗玻璃110包括第一片112，其连接至第二片118。第一片112具有第一主表面114和第二主表面116。第一主表面114(第1表面)朝向建筑物外部即为外主表面，并且第二主表面116(第2表面)朝向建筑物内部。第二片118具有朝向外的主表面120(第3表面)和朝向内的主表面122(第4表面)。这种片表面的编号与开窗术领域中的常规实践一致。
在说明的实例中，太阳控制涂层30位于第2表面116上。然而，太阳控制涂层30可位于任何其它表面上。例如，太阳控制涂层30可位于第3表面120上。例如，太阳控制涂层30可位于第1表面114或第4表面122上。
第一片112通过中间层130连接至第二片118。中间层130可具有任何常规中间层材料。例如，中间层可为聚乙烯醇缩丁醛(PVB)。
第一片112和第二片118可具有用于基材11的任何上述材料。第二片118可与第一片112相同或者第二片118可与第一片112不同。第一和第二片112、118每个可为例如透明浮法玻璃或者可为着色的或有色玻璃，或者一片112、118可为透明玻璃而另一片112、118为着色的或有色玻璃。
第一片112和第二片118可具有任何期望尺寸。
第一片112和第二片118可具有不同的可见光透射率水平。例如，第一片112可具有比第二片118更高的可见光透射率。例如，第一片112可为透明玻璃和第二片118可为着色的玻璃。
太阳控制涂层30可提供不大于0.3，例如不大于0.29、不大于0.28、不大于0.27、不大于0.26、或不大于0.25的参考层叠单元SHGC。
太阳控制涂层30提供在60％至80％，例如65％至75％或71％至73％范围内的参考层叠单元可见光透射率(LTA)。
太阳控制涂层30提供小于5欧姆/平方(Ω/□)，例如小于2Ω/□、小于1Ω/□、小于0.9Ω/□，在大于0至1.5Ω/□范围内或在大于0至1Ω/□范围内的薄层电阻。
太阳控制涂层30提供在75至95范围内、在82至92范围内或在87至89范围内的参考层叠单元透射的L*。
太阳控制涂层30提供在-6至1范围内、在-5至-1范围内或在-3至-2范围内的参考层叠单元透射的a*。
太阳控制涂层30提供在2至6范围内、在2.5至5范围内或在3.8至4.4范围内的参考层叠单元透射的b*。
太阳控制涂层30提供在30至50范围内、在35至45范围内或在39至42范围内的参考层叠单元反射的(外部)L*。
太阳控制涂层30提供在-9至1范围内、在-8至0范围内或在-7.4至-2范围内的参考层叠单元反射的(外部)a*。
太阳控制涂层30提供在-7至3范围内、在-6至1.5范围内或在-5至0范围内的参考层叠单元反射的(外部)b*。
太阳控制涂层30提供在30至50范围内、在35至45范围内或在40至42范围内的参考层叠单元反射的(内部)L*。
太阳控制涂层30提供在-9至0范围内、在-8至-1范围内或在-7.2至-3范围内的参考层叠单元反射的(内部)a*。
太阳控制涂层30提供在-6.5至1范围内、在-5.5至0范围内或在-4.3至-1范围内的参考层叠单元反射的(内部)b*。
在以下编号的条款中进一步描述本发明。
条款1.太阳控制涂层30，包含：第一相调节层40，位于第一相调节层40上方的第一金属性层46，位于第一金属性层46上方的第一底漆层48，位于第一底漆层48上方的第二相调节层50，位于第二相调节层50上方的第二金属性层58，位于第二金属性层58上方的第二底漆层60，位于第二底漆层60上方的第三相调节层62，位于第三相调节层62上方的第三金属性层70，位于第三金属性层70上方的第三底漆层72，位于第三底漆层72上方的第四相调节层86，和位于第四相调节层86上方的保护层92。
条款2.条款1的太阳控制涂层30，其中相调节层40、50、62、86包含非金属性材料。
条款3.条款1或2的太阳控制涂层30，其中相调节层40、50、62、86包含介电或半导体材料。
条款4.条款1至3中任一项的太阳控制涂层30，其中第一相调节层40包含金属氧化物、掺杂的金属氧化物、金属氧化物的混合物或金属合金氧化物。
条款5.条款1至4中任一项的太阳控制涂层30，其中第一相调节层40包含掺杂的或未掺杂的锌和锡的氧化物。
条款6.条款1至5中任一项的太阳控制涂层30，其中第一相调节层40具有在44nm至90nm范围内的光学厚度，优选在51nm至81nm范围内的光学厚度，更优选在53nm至74nm范围内的光学厚度。
条款7.条款1至5中任一项的太阳控制涂层30，其中第一相调节层40具有在22nm至45nm范围内的几何厚度，优选在25nm至41nm范围内的几何厚度，更优选在26nm至37nm范围内的几何厚度。
条款8.条款1至7中任一项的太阳控制涂层30，其中第一相调节层40包含具有第一膜42和位于该第一膜42上方的第二膜44的多膜结构。
条款9.条款8的太阳控制涂层30，其中第一膜42包含锌和锡的合金的氧化物。
条款10.条款8或9的太阳控制涂层30，其中第一膜42包含锡酸锌。
条款11.条款8至10中任一项的太阳控制涂层30，其中第二膜44包含锡掺杂的氧化锌。
条款12.条款8至11中任一项的太阳控制涂层30，其中第一膜42具有在30nm至60nm范围内的光学厚度，优选在36nm至54nm范围内的光学厚度，更优选在37nm至50nm范围内的光学厚度。
条款13.条款8至12中任一项的太阳控制涂层30，其中第一膜42具有在15nm至30nm范围内的几何厚度，优选在18nm至27nm范围内的几何厚度，更优选在18nm至25nm范围内的几何厚度。
条款14.条款8至13中任一项的太阳控制涂层30，其中第二膜44具有在14nm至30nm范围内的光学厚度，优选在14nm至28nm范围内的光学厚度，更优选在16nm至25nm范围内的光学厚度。
条款15.条款8至14中任一项的太阳控制涂层30，其中第二膜44具有在7nm至15nm范围内的几何厚度，优选在7nm至14nm范围内的几何厚度，更优选在8nm至13nm范围内的几何厚度。
条款16.条款1至15中任一项的太阳控制涂层30，其中第一金属性层46包含金属性银的连续膜。
条款17.条款1至16中任一项的太阳控制涂层30，其中第一金属性层46具有在8nm至15nm范围内的几何厚度，优选在8nm至13nm范围内的几何厚度，更优选在9nm至11nm范围内的几何厚度。
条款18.条款1至17中任一项的太阳控制涂层30，其中第一底漆层48包含氧化钛。
条款19.条款1至18中任一项的太阳控制涂层30，其中第一底漆层48具有在6nm至14nm范围内，优选在7nm至12nm范围内，更优选在8nm至10nm范围内的光学厚度。
条款20.条款1至19中任一项的太阳控制涂层30，其中第一底漆层48具有在2.5nm至5.5nm范围内，优选在3nm至4.5nm范围内，更优选在3.5nm至4nm范围内的几何厚度。
条款21.条款1至20中任一项的太阳控制涂层30，其中第二相调节层50具有在97nm至176nm范围内的光学厚度，优选在99nm至156nm范围内的光学厚度，更优选在118nm至136nm范围内的光学厚度。
条款22.条款1至21中任一项的太阳控制涂层30，其中第二相调节层50具有在33nm至88nm范围内的几何厚度，优选在33.5nm至78nm范围内的几何厚度，更优选在59nm至68nm范围内的几何厚度。
条款23.条款1至22中任一项的太阳控制涂层30，其中第二相调节层50包括第一膜52、第二膜54和第三膜56。
条款24.条款23的太阳控制涂层30，其中第一膜52和第三膜56包含氧化锌或锡掺杂的氧化锌。
条款25.条款23或24的太阳控制涂层30，其中第二膜54包含锡酸锌。
条款26.条款23至25中任一项的太阳控制涂层30，其中第一膜52和/或第三膜56具有在17nm至33nm范围内的光学厚度，优选在17nm至30nm范围内的光学厚度，更优选在20nm至25nm范围内的光学厚度。
条款27.条款23至26中任一项的太阳控制涂层30，其中第一膜52和/或第三膜56具有在7nm至13nm范围内的几何厚度，优选在7nm至12nm范围内的几何厚度，更优选在8nm至10nm范围内的几何厚度。
条款28.条款23至27中任一项的太阳控制涂层30，其中第二膜54具有在70nm至130nm范围内的光学厚度，优选在80nm至112nm范围内的光学厚度，更优选在84nm至98nm范围内的光学厚度。
条款29.条款23至28中任一项的太阳控制涂层30，其中第二膜54具有在35nm至65nm范围内的几何厚度，优选在40nm至56nm范围内的几何厚度，更优选在42nm至49nm范围内的几何厚度。
条款30.条款1至29中任一项的太阳控制涂层30，其中第二金属性层58包含连续的银膜。
条款31.条款1至30中任一项的太阳控制涂层30，其中第二金属性层58具有在8.5nm至15nm范围内的几何厚度，优选在10nm至13.5nm范围内的几何厚度，更优选在10nm至13nm范围内的几何厚度。
条款32.条款1至31中任一项的太阳控制涂层30，其中第二底漆层60包含氧化钛。
条款33.条款1至32中任一项的太阳控制涂层30，其中第二底漆层60具有在6nm至13nm范围内的光学厚度，优选在7nm至12nm范围内的光学厚度，更优选在8nm至10nm范围内的光学厚度。
条款34.条款1至33中任一项的太阳控制涂层30，其中第二底漆层60具有在2.5nm至5nm范围内的几何厚度，优选在3nm至4.5nm范围内的几何厚度，更优选在3.5nm至4nm范围内的几何厚度。
条款35.条款1至34中任一项的太阳控制涂层30，其中第三相调节层62具有在112nm至169nm范围内的光学厚度，优选在126nm至160nm范围内的光学厚度，更优选在147nm至156nm范围内的光学厚度。
条款36.条款1至35中任一项的太阳控制涂层30，其中第三相调节层62具有在56nm至85nm范围内的几何厚度，优选在63nm至80nm范围内的几何厚度，更优选在73.5nm至78nm范围内的几何厚度。
条款37.条款1至36中任一项的太阳控制涂层30，其中第三相调节层62包括第一膜64、第二膜66和第三膜68。
条款38.条款37的太阳控制涂层30，其中第一膜64和/或第三膜68包含氧化锌或锡掺杂的氧化锌。
条款39.条款37或38的太阳控制涂层30，其中第二膜66包含锡酸锌。
条款40.条款37至39中任一项的太阳控制涂层30，其中第一膜64和/或第三膜68具有在17nm至40nm范围内的光学厚度，优选在20nm至35nm范围内的光学厚度，更优选在25nm至35nm范围内的光学厚度。
条款41.条款37至40中任一项的太阳控制涂层30，其中第一膜64和/或第三膜68具有在7nm至16nm范围内的几何厚度，优选在8nm至14nm范围内的几何厚度，更优选在10nm至14nm范围内的几何厚度。
条款42.条款37至41中任一项的太阳控制涂层30，其中第二膜66具有在80nm至120nm范围内的光学厚度，优选在88nm至110nm范围内的光学厚度，更优选在104nm至108nm范围内的光学厚度。
条款43.条款37至42中任一项的太阳控制涂层30，其中第二膜66具有在40nm至60nm范围内的几何厚度，优选在44nm至55nm范围内的几何厚度，更优选在52nm至54nm范围内的几何厚度。
条款44.条款1至43中任一项的太阳控制涂层30，其中第三金属性层70包含金属性银膜。
条款45.条款1至44中任一项的太阳控制涂层30，其中第三金属性层70具有在8.5nm至16nm范围内的几何厚度，优选在10nm至15nm范围内的几何厚度，更优选在12nm至14nm范围内的几何厚度。
条款46.条款1至45中任一项的太阳控制涂层30，其中第三底漆层72包含氧化钛。
条款47.条款1至46中任一项的太阳控制涂层30，其中第三底漆层72具有在2.5nm至10nm范围内的光学厚度，优选在3.5nm至8nm范围内的光学厚度，更优选在5nm至6.5nm范围内的光学厚度。
条款48.条款1至47中任一项的太阳控制涂层30，其中第三底漆层72具有在1nm至4nm范围内的几何厚度，优选在1.5nm至3nm范围内的几何厚度，更优选在2nm至2.5nm范围内的几何厚度。
条款49.条款1至48中任一项的太阳控制涂层30，其中第四相调节层86具有在47nm至82nm范围内的光学厚度，优选在58nm至75nm范围内的光学厚度，更优选在60nm至73nm范围内的光学厚度。
条款50.条款1至49中任一项的太阳控制涂层30，其中第四相调节层86具有在23nm至41nm范围内的几何厚度，优选在29nm至38nm范围内的几何厚度，更优选在30nm至37nm范围内的几何厚度。
条款51.条款1至50中任一项的太阳控制涂层30，其中第四相调节层86包含第一膜88和第二膜90。
条款52.条款51的太阳控制涂层30，其中第一膜88包含氧化锌或锡掺杂的氧化锌。
条款53.条款51或52的太阳控制涂层30，其中第二膜90包含锡酸锌。
条款54.条款51至53中任一项的太阳控制涂层30，其中第一膜88具有在17nm至30nm范围内的光学厚度，优选在20nm至27nm范围内的光学厚度，更优选在20nm至26nm范围内的光学厚度。
条款55.条款51至54中任一项的太阳控制涂层30，其中第一膜88具有在8nm至15nm范围内的几何厚度，优选在10nm至14nm范围内的几何厚度，更优选在10nm至13nm范围内的几何厚度。
条款56.条款51至55中任一项的太阳控制涂层30，其中第二膜90具有在30nm至52nm范围内的光学厚度，优选在36nm至50nm范围内的光学厚度，更优选在38nm至48nm范围内的光学厚度。
条款57.条款51至56中任一项的太阳控制涂层30，其中第二膜90具有在15nm至26nm范围内的几何厚度，优选在18nm至25nm范围内的几何厚度，更优选在19nm至24nm范围内的几何厚度。
条款58.条款1至57中任一项的太阳控制涂层30，其中保护层92包含氧化硅和氧化铝的混合物。
条款59.条款1至58中任一项的太阳控制涂层30，其中保护层92具有在100nm至180nm范围内的光学厚度，优选在120nm至160nm范围内的光学厚度，更优选在130nm至150nm范围内的光学厚度。
条款60.条款1至59中任一项的太阳控制涂层30，其中保护层92具有在50nm至90nm范围内的几何厚度，优选在60nm至80nm范围内的几何厚度，更优选在65nm至75nm范围内的几何厚度。
条款61.条款1至60中任一项的太阳控制涂层30，其中第一相调节层40包含第一层42和第二层44，所述第一层42包含锡酸锌，所述第二层44包含ZnO 90/10；第一金属性层46包含金属性银的连续层；第一底漆层48包含沉积为钛金属的氧化钛；第二相调节层50包含第一层52、第二层54和第三层56，所述第一层52包含ZnO 90/10，所述第二层54包含锡酸锌，所述第三层56包含ZnO 90/10；第二金属性层58包含金属性银的连续层；第二底漆层60包含沉积为钛金属的氧化钛；第三相调节层62包含第一层64、第二层66和第三层68，所述第一层64包含ZnO 90/10，所述第二层66包含锡酸锌，所述第三层68包含ZnO 90/10；第三金属性层70包含金属性银的连续层；第三底漆层72包含沉积为钛金属的氧化钛；第四相调节层86包含第一层88和第二层90，所述第一层88包含ZnO 90/10，所述第二层90包含锡酸锌；和保护层92包含氧化硅和氧化铝的混合物
条款62.层叠窗玻璃110，包含：第一片112，其通过聚合物中间层130连接至第二片118，其中第一片112具有第一主表面114和第二主表面116，并且第二片118具有第三主表面120和第四主表面122，并且权利要求1至61中任一项的太阳控制涂层30位于至少一个主表面上。
条款63.条款62的层叠窗玻璃110，其中太阳控制涂层30位于第二主表面116上。
条款64.条款62或63的层叠窗玻璃110，其中第一片112和第二片118可具有不同的可见光透射率水平。
条款65.条款62至64中任一项的层叠窗玻璃110，其中第一片112具有比第二片118更高的可见光透射率。
条款66.条款62至65中任一项的层叠窗玻璃110，其中第一片112包含透明玻璃和第二片118包含着色的玻璃。
条款67.层叠窗玻璃110，包含：第一片112，该第一片112通过聚合物中间层130连接至第二片118，其中第一片112具有第一主表面114和第二主表面116，并且第二片118具有第三主表面120和第四主表面122；并且太阳控制涂层30位于至少一个主表面上，该太阳控制涂层30包含：第一相调节层40，位于第一相调节层40上方的第一金属性层46，位于第一金属性层46上方的第一底漆层48，位于第一底漆层48上方的第二相调节层50，位于第二相调节层50上方的第二金属性层58，位于第二金属性层58上方的第二底漆层60，位于第二底漆层60上方的第三相调节层62，位于第三相调节层62上方的第三金属性层70，位于第三金属性层70上方的第三底漆层72，位于第三底漆层72上方的第四相调节层86，和位于第四相调节层86上方的保护层92，其中第一相调节层40具有在44nm至90nm范围内的光学厚度，优选在51nm至81nm范围内的光学厚度，更优选在53nm至74nm范围内的光学厚度；其中第二相调节层50具有在97nm至176nm范围内的光学厚度，优选在99nm至156nm范围内的光学厚度，更优选在118nm至136nm范围内的光学厚度；其中第三相调节层62具有在112nm至169nm范围内的光学厚度，优选在126nm至160nm范围内的光学厚度，更优选在147nm至156nm范围内的光学厚度；和/或其中第四相调节层86具有在47nm至82nm范围内的光学厚度，优选在58nm至75nm范围内的光学厚度，更优选在60nm至73nm范围内的光学厚度。
条款68.条款67的层叠窗玻璃110：其中相调节层40、50、62、86包含介电或半导体材料。
条款69.条款67-68中任一项的层叠窗玻璃110：其中相调节层40、50、62、86包含非金属性材料。
条款70.条款67-69中任一项的层叠窗玻璃110：其中第一相调节层40具有在22nm至45nm范围内的几何厚度，优选在25nm至41nm范围内的几何厚度，更优选在26nm至37nm范围内的几何厚度；其中第二相调节层50具有在33nm至88nm范围内的几何厚度，优选在33.5nm至78nm范围内的几何厚度，更优选在59nm至68nm范围内的几何厚度；其中第三相调节层62具有在56nm至85nm范围内的几何厚度，优选在63nm至80nm范围内的几何厚度，更优选在73.5nm至78nm范围内的几何厚度；和/或其中第四相调节层86具有在23nm至41nm范围内的几何厚度，优选在29nm至38nm范围内的几何厚度，更优选在30nm至37nm范围内的几何厚度。
条款71.条款67-70中任一项的层叠窗玻璃110：其中第一底漆层48具有在6nm至14nm范围内，优选在7nm至12nm范围内，更优选在8nm至10nm范围内的光学厚度；其中第二底漆层60具有在6nm至13nm范围内的光学厚度，优选在7nm至12nm范围内的光学厚度，更优选在8nm至10nm范围内的光学厚度；和/或其中第三底漆层72具有在2.5nm至10nm范围内的光学厚度，优选在3.5nm至8nm范围内的光学厚度，更优选在5nm至6.5nm范围内的光学厚度。
条款72.条款67-71中任一项的层叠窗玻璃110：其中第一底漆层48具有在2.5nm至5.5nm范围内的几何厚度，优选在3nm至4.5nm范围内的几何厚度，更优选在3.5nm至4nm范围内的几何厚度；其中第二底漆层60具有在2.5nm至5nm范围内的几何厚度，优选在3nm至4.5nm范围内的几何厚度，更优选在3.5nm至4nm范围内的几何厚度；和/或其中第三底漆层72具有在1nm至4nm范围内的几何厚度，优选在1.5nm至3nm范围内的几何厚度，更优选在2nm至2.5nm范围内的几何厚度。
条款73.条款67-72中任一项的层叠窗玻璃110：其中第一金属性层46具有在8nm至15nm范围内的几何厚度，优选在8nm至13nm范围内的几何厚度，更优选在9nm至11nm范围内的几何厚度；其中第二金属性层58具有在8.5nm至15nm范围内的几何厚度，优选在10nm至13.5nm范围内的几何厚度，更优选在10nm至13nm范围内的几何厚度；和/或其中第三金属性层70具有在8.5nm至16nm范围内的几何厚度，优选在10nm至15nm范围内的几何厚度，更优选在12nm至14nm范围内的几何厚度。
条款74.条款67-73中任一项的层叠窗玻璃110：其中保护层92具有在60nm至200nm范围内的光学厚度，优选在100nm至180nm范围内的光学厚度，更优选在120nm至160nm范围内的光学厚度，更优选在130nm至150nm范围内的光学厚度。
条款75.条款67-74中任一项的层叠窗玻璃110：其中相调节层40、50、62中至少一个包含金属氧化物、掺杂的金属氧化物、未掺杂的金属氧化物、金属氧化物的混合物或金属合金氧化物；其中金属性层46、58、70中至少一个包含金属性银的连续膜；和/或其中底漆层48、60、72中至少一个包含氧化钛。
条款76.条款67-75中任一项的层叠窗玻璃110：其中第一相调节层40包含具有第一膜42和位于该第一膜42上方的第二膜44的多膜结构；其中第一膜42具有在15nm至30nm范围内的几何厚度，优选在18nm至27nm范围内的几何厚度，更优选在18nm至25nm范围内的几何厚度；其中第二膜44具有在7nm至15nm范围内的几何厚度，优选在7nm至14nm范围内的几何厚度，更优选在8nm至13nm范围内的几何厚度；其中第一膜42包含锌和锡的合金的氧化物；和/或其中第二膜44包含锡掺杂的氧化锌。
条款77.条款67-76中任一项的层叠窗玻璃110：其中第二相调节层50包括第一膜52、第二膜54和第三膜56；其中第一膜52和/或第三膜56具有在7nm至13nm范围内的几何厚度，优选在7nm至12nm范围内的几何厚度，更优选在8nm至10nm范围内的几何厚度；其中第二膜54具有在35nm至65nm范围内的几何厚度，优选在40nm至56nm范围内的几何厚度，更优选在42nm至49nm范围内的几何厚度；其中第一膜52和第三膜56包含氧化锌或锡掺杂的氧化锌；和/或其中第二膜54包含锡酸锌。
条款78.条款67-77中任一项的层叠窗玻璃110：其中第三相调节层62包括第一膜64、第二膜66和第三膜68，其中第一膜64和/或第三膜68具有在7nm至16nm范围内的几何厚度，优选在8nm至14nm范围内的几何厚度，更优选在10nm至14nm范围内的几何厚度；其中第二膜66具有在40nm至60nm范围内的几何厚度，优选在44nm至55nm范围内的几何厚度，更优选在52nm至54nm范围内的几何厚度；其中第一膜64和/或第三膜68包含氧化锌或锡掺杂的氧化锌；和/或其中第二膜66包含锡酸锌。
条款79.条款67-78中任一项的层叠窗玻璃110：其中保护层92具有在30nm至100nm范围内的几何厚度，优选在50nm至90nm范围内的几何厚度，更优选在60nm至80nm范围内的几何厚度，更优选在65nm至75nm范围内的几何厚度；和/或其中保护层92包含氧化硅和氧化铝的混合物。
条款80.条款67-79中任一项的层叠窗玻璃110：其中第一相调节层40包含第一膜42和第二膜44，所述第一膜42包含锡酸锌，所述第二膜44包含ZnO 90/10；第一金属性层46包含金属性银的连续层；第一底漆层48包含沉积为钛金属的氧化钛；第二相调节层50包含第一膜52、第二膜54和第三膜56，所述第一膜52包含ZnO 90/10，所述第二膜54包含锡酸锌，所述第三膜56包含ZnO 90/10；第二金属性层58包含金属性银的连续层；第二底漆层60包含沉积为钛金属的氧化钛；第三相调节层62包含第一膜64、第二膜66和第三膜68，所述第一膜64包含ZnO 90/10，所述第二膜66包含锡酸锌，所述第三膜68包含ZnO 90/10；第三金属性层70包含金属性银的连续层；第三底漆层72包含沉积为钛金属的氧化钛；第四相调节层86包含第一层88和第二层90，所述第一层88包含ZnO 90/10，所述第二层90包含锡酸锌；和保护层92包含氧化硅和氧化铝的混合物。
条款81.条款67-80中任一项的层叠窗玻璃110：其中太阳控制涂层30位于第二主表面116上，和/或其中第一片112具有比第二片118更高的可见光透射率。
本领域技术人员将容易领会可在不脱离前述描述中公开的构思的情况下对本发明进行修改。因此，本文详细描述的特定实施方案仅是说明性的，并不限制本发明的范围，本发明的范围由所附权利要求书以及它的任何和所有等同物的全部范围给出。

Claims (17)

1.层叠窗玻璃(110)，包含：第一片(112)，所述第一片(112)通过聚合物中间层(130)连接至第二片(118)，其中该第一片(112)具有第一主表面(114)和第二主表面(116)，并且该第二片(118)具有第三主表面(120)和第四主表面(122)；和位于至少一个主表面上的太阳控制涂层(30)，该太阳控制涂层(30)包含：
第一相调节层(40)，位于该第一相调节层(40)上方的第一金属性层(46)，位于该第一金属性层(46)上方的第一底漆层(48)，位于该第一底漆层(48)上方的第二相调节层(50)，位于该第二相调节层(50)上方的第二金属性层(58)，位于该第二金属性层(58)上方的第二底漆层(60)，位于该第二底漆层(60)上方的第三相调节层(62)，位于该第三相调节层(62)上方的第三金属性层(70)，位于该第三金属性层(70)上方的第三底漆层(72)，位于该第三底漆层(72)上方的第四相调节层(86)，和位于该第四相调节层(86)上方的保护层(92)，
其中该第一相调节层(40)具有在53nm至74nm范围内的光学厚度；
其中该第二相调节层(50)具有在118nm至136nm范围内的光学厚度；
其中该第三相调节层(62)具有在147nm至156nm范围内的光学厚度；和
其中该第四相调节层(86)具有在60nm至73nm范围内的光学厚度。
2.根据权利要求1所述的层叠窗玻璃(110)，其中该第一相调节层(40)、该第二相调节层(50)、该第三相调节层(62)、该第四相调节层(86)包含介电或半导体材料。
3.根据权利要求1或2所述的层叠窗玻璃(110)，其中该第一相调节层(40)、该第二相调节层(50)、该第三相调节层(62)、该第四相调节层(86)包含非金属性材料。
4.根据权利要求1或2所述的层叠窗玻璃(110)：
其中该第一相调节层(40)具有在26nm至37nm范围内的几何厚度；
其中该第二相调节层(50)具有在59nm至68nm范围内的几何厚度；
其中该第三相调节层(62)具有在73.5nm至78nm范围内的几何厚度；和/或
其中该第四相调节层(86)具有在30nm至37nm范围内的几何厚度。
5.根据权利要求1或2所述的层叠窗玻璃(110)：
其中该第一底漆层(48)具有在6nm至14nm范围内的光学厚度；
其中该第二底漆层(60)具有在6nm至13nm范围内的光学厚度；和/或
其中该第三底漆层(72)具有在2.5nm至10nm范围内的光学厚度。
6.根据权利要求1或2所述的层叠窗玻璃( 110) ：
其中该第一底漆层(48)具有在2.5nm至5.5nm范围内的几何厚度；
其中该第二底漆层(60)具有在2.5nm至5nm范围内的几何厚度；和/或
其中该第三底漆层(72)具有在1nm至4nm范围内的几何厚度。
7.根据权利要求1或2所述的层叠窗玻璃(110)：
其中该第一金属性层(46)具有在8nm至15nm范围内的几何厚度；
其中该第二金属性层(58)具有在8.5nm至15nm范围内的几何厚度；和/或
其中该第三金属性层(70)具有在8.5nm至16nm范围内的几何厚度。
8.根据权利要求1或2所述的层叠窗玻璃(110)，其中该保护层(92)具有在60nm至200nm范围内的光学厚度。
9.根据权利要求1或2所述的层叠窗玻璃(110)：
其中该第一相调节层(40)、该第二相调节层(50)、该第三相调节层(62)中至少一个包含金属氧化物、掺杂的金属氧化物、未掺杂的金属氧化物、金属氧化物的混合物或金属合金氧化物；
其中该第一金属性层(46)、该第二金属性层(58)、该第三金属性层(70)中至少一个包含金属性银的连续膜；和/或
其中该第一底漆层(48)、该第二底漆层(60)、该第三底漆层(72)中至少一个包含氧化钛。
10.根据权利要求1或2所述的层叠窗玻璃(110)：
其中该第一相调节层(40)包含具有第一膜(42)和位于该第一膜(42)上方的第二膜(44)的多膜结构；
其中该第一相调节层(40)的该第一膜(42)具有在18nm至25nm范围内的几何厚度；
其中该第一相调节层(40)的该第二膜(44)具有在8nm至13nm范围内的几何厚度；
其中该第一相调节层(40)的该第一膜(42)包含锌和锡的合金的氧化物；
其中该第一相调节层(40)的该第二膜(44)包含氧化锌或锡掺杂的氧化锌。
11.根据权利要求1或2所述的层叠窗玻璃(110)：
其中该第二相调节层(50)包括第一膜(52)、第二膜(54)和第三膜(56)；
其中该第二相调节层(50)的该第一膜(52)和/或该第三膜(56)具有在8nm至10nm范围内的几何厚度；
其中该第二相调节层(50)的该第二膜(54)具有在42nm至49nm范围内的几何厚度；
其中该第二相调节层(50)的该第一膜(52)和该第三膜(56)包含氧化锌或锡掺杂的氧化锌；和/或
其中该第二相调节层(50)的该第二膜(54)包含锡酸锌。
12.根据权利要求1或2所述的层叠窗玻璃(110)：
其中该第三相调节层(62)包括第一膜(64)、第二膜(66)和第三膜(68)；
其中该第三相调节层(62)的该第一膜(64)和/或该第三膜(68)具有在10nm至14nm范围内的几何厚度；
其中该第三相调节层(62)的该第二膜(66)具有在52nm至54nm范围内的几何厚度；
其中该第三相调节层(62)的该第一膜(64)和/或该第三膜(68)包含氧化锌或锡掺杂的氧化锌；和/或
其中该第三相调节层(62)的该第二膜(66)包含锡酸锌。
13.根据权利要求1或2所述的层叠窗玻璃(110)：
其中该保护层(92)具有在30nm至100nm范围内的几何厚度；和/或
其中该保护层(92)包含氧化硅和氧化铝的混合物。
14.根据权利要求1或2所述的层叠窗玻璃(110)：
其中该第一相调节层(40)包含第一膜(42)和第二膜(44)，该第一相调节层(40)的该第一膜(42)包含锡酸锌，该第一相调节层(40)的该第二膜(44)包含氧化锌或锡掺杂的氧化锌；该第一金属性层(46)包含金属性银的连续层；该第一底漆层(48)包含沉积为钛金属的氧化钛；该第二相调节层(50)包含第一膜(52)、第二膜(54)和第三膜(56)，该第二相调节层(50)的该第一膜(52)包含氧化锌或锡掺杂的氧化锌，该第二相调节层(50)的该第二膜(54)包含锡酸锌，该第二相调节层(50)的该第三膜(56)包含氧化锌或锡掺杂的氧化锌；该第二金属性层(58)包含金属性银的连续层；该第二底漆层(60)包含沉积为钛金属的氧化钛；该第三相调节层(62)包含第一膜(64)、第二膜(66)和第三膜(68)，该第三相调节层(62)的该第一膜(64)包含氧化锌或锡掺杂的氧化锌，该第三相调节层(62)的该第二膜(66)包含锡酸锌，该第三相调节层(62)的该第三膜(68)包含氧化锌或锡掺杂的氧化锌；该第三金属性层(70)包含金属性银的连续层；该第三底漆层(72)包含沉积为钛金属的氧化钛；该第四相调节层(86)包含第一层(88)和第二层(90)，所述第一层(88)包含氧化锌或锡掺杂的氧化锌，所述第二层(90)包含锡酸锌；和该保护层(92)包含氧化硅和氧化铝的混合物。
15.根据权利要求1或2所述的层叠窗玻璃(110)，其中该太阳控制涂层(30)位于该第二主表面(116)上，其中该第一片(112)具有比该第二片(118)更高的可见光透射率。
16.根据权利要求1或2所述的层叠窗玻璃(110)：
其中该第一金属性层(46)具有在8nm至13nm范围内的几何厚度；
其中该第二金属性层(58)具有在10nm至13.5nm范围内的几何厚度；和/或
其中该第三金属性层(70)具有在10nm至15nm范围内的几何厚度。
17.根据权利要求1或2所述的层叠窗玻璃(110)：
其中该第一金属性层(46)具有在9nm至11nm范围内的几何厚度；
其中该第二金属性层(58)具有在10nm至13nm范围内的几何厚度；和/或
其中该第三金属性层(70)具有在12nm至14nm范围内的几何厚度。
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