JP2023513734A - 低シート抵抗コーティング - Google Patents
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 104
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 96
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 307
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 307
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims abstract description 223
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 112
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 111
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 105
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 104
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 104
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 88
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 88
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 76
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 71
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 45
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 45
- BSWGGJHLVUUXTL-UHFFFAOYSA-N silver zinc Chemical compound [Zn].[Ag] BSWGGJHLVUUXTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 38
- RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N indium tin Chemical compound [In].[Sn] RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 34
- FJMNNXLGOUYVHO-UHFFFAOYSA-N aluminum zinc Chemical compound [Al].[Zn] FJMNNXLGOUYVHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 31
- WLZALYOBOWIRBE-UHFFFAOYSA-N vanadium zinc Chemical compound [V].[Zn].[Zn].[Zn] WLZALYOBOWIRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 30
- NJWNEWQMQCGRDO-UHFFFAOYSA-N indium zinc Chemical compound [Zn].[In] NJWNEWQMQCGRDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N alumane;titanium Chemical compound [AlH3].[Ti] UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- GZCWPZJOEIAXRU-UHFFFAOYSA-N tin zinc Chemical compound [Zn].[Sn] GZCWPZJOEIAXRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- RJSRQTFBFAJJIL-UHFFFAOYSA-N niobium titanium Chemical compound [Ti].[Nb] RJSRQTFBFAJJIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- GFUGMBIZUXZOAF-UHFFFAOYSA-N niobium zirconium Chemical compound [Zr].[Nb] GFUGMBIZUXZOAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- VSSLEOGOUUKTNN-UHFFFAOYSA-N tantalum titanium Chemical compound [Ti].[Ta] VSSLEOGOUUKTNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- GAYPVYLCOOFYAP-UHFFFAOYSA-N [Nb].[W] Chemical compound [Nb].[W] GAYPVYLCOOFYAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- DZZDTRZOOBJSSG-UHFFFAOYSA-N [Ta].[W] Chemical compound [Ta].[W] DZZDTRZOOBJSSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- QNTVPKHKFIYODU-UHFFFAOYSA-N aluminum niobium Chemical compound [Al].[Nb] QNTVPKHKFIYODU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- MAKDTFFYCIMFQP-UHFFFAOYSA-N titanium tungsten Chemical compound [Ti].[W] MAKDTFFYCIMFQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- YJVLWFXZVBOFRZ-UHFFFAOYSA-N titanium zinc Chemical compound [Ti].[Zn] YJVLWFXZVBOFRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 179
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 103
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 93
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 63
- PJGYETVUTQUTEE-UHFFFAOYSA-N [O-2].[Zn+2].[V+5] Chemical compound [O-2].[Zn+2].[V+5] PJGYETVUTQUTEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 59
- BNEMLSQAJOPTGK-UHFFFAOYSA-N zinc;dioxido(oxo)tin Chemical compound [Zn+2].[O-][Sn]([O-])=O BNEMLSQAJOPTGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 55
- JAONJTDQXUSBGG-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dizinc;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].[Zn+2].[Zn+2] JAONJTDQXUSBGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 53
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 49
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 34
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 25
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 20
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 19
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- HTQOEHYNHFXMJJ-UHFFFAOYSA-N oxosilver zinc Chemical compound [Zn].[Ag]=O HTQOEHYNHFXMJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract description 50
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 50
- -1 combinations thereof Substances 0.000 abstract description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1121
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 137
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 136
- 238000000034 method Methods 0.000 description 131
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 114
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 76
- 239000000463 material Substances 0.000 description 56
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 50
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 46
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 42
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 37
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 36
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 34
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 30
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 29
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 28
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 28
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 28
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 25
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 22
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 21
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 18
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 17
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 15
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 15
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 14
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 14
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 14
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 14
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 14
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 13
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- JYMITAMFTJDTAE-UHFFFAOYSA-N aluminum zinc oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Al+3].[Zn+2] JYMITAMFTJDTAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N digallium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ga+3].[Ga+3] AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910001195 gallium oxide Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 12
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 12
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 12
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 10
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 10
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 10
- AIOWANYIHSOXQY-UHFFFAOYSA-N cobalt silicon Chemical compound [Si].[Co] AIOWANYIHSOXQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 8
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 8
- DUCFBDUJLLKKPR-UHFFFAOYSA-N [O--].[Zn++].[Ag+] Chemical compound [O--].[Zn++].[Ag+] DUCFBDUJLLKKPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 7
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 6
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 5
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 5
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 4
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N alumanylidynesilicon Chemical compound [Al].[Si] CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 2
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 2
- KYKLWYKWCAYAJY-UHFFFAOYSA-N oxotin;zinc Chemical compound [Zn].[Sn]=O KYKLWYKWCAYAJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 230000002000 scavenging effect Effects 0.000 description 2
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920012485 Plasticized Polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 229910001128 Sn alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003107 Zn2SnO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- 229910002064 alloy oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- VQYHBXLHGKQYOY-UHFFFAOYSA-N aluminum oxygen(2-) titanium(4+) Chemical compound [O-2].[Al+3].[Ti+4] VQYHBXLHGKQYOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000005524 ceramic coating Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical compound [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920001483 poly(ethyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical class [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005118 spray pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000012815 thermoplastic material Substances 0.000 description 1
- QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N tin(ii) oxide Chemical class [Sn]=O QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Abstract
コーティングされた物品は、基材と、基材の少なくとも一部の上の第１の誘電体層と、第１の誘電体層の少なくとも一部の上の第１の金属層と、第１の金属層の少なくとも一部の上の第１のプライマー層と、第１のプライマー層の少なくとも一部の上の第２の誘電体層とを含み、第１のプライマー層は、亜鉛、アルミニウムドープ銀、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、タングステンタンタル、チタンニオブ、ジルコニウムニオブ、タングステンニオブ、アルミニウムニオブ、アルミニウムチタン、タングステンチタン、タンタルチタン、亜鉛チタン、亜鉛スズ、インジウム亜鉛、銀亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、それらの混合物、それらの組み合わせ、およびそれらの合金からなる群から選択される。
Description
本発明は、広く言えば、車両のフロントガラスなどの車両の透明体に関するものであり、特定の一実施形態では、加熱可能な車両のフロントガラスに関するものである。
積層された自動車のフロントガラスの導体に電流を流すと、フロントガラスの温度が上昇する。これは、フロントガラスの上の氷および／または雪の曇りを取り除き、溶かすために寒い気候で特に有益である。
ワイヤー加熱フロントガラスでは、細い導電性ワイヤーがフロントガラス層の間に配置される。ワイヤーは、従来の１４ボルト車両オルタネータなどの電源に接続される。ワイヤーの抵抗は十分に低く、フロントガラスに５～７ワット／デシメートル平方（Ｗ／ｄｍ２）の電力密度を提供する。
ワイヤーで加熱されたフロントガラスの問題は、車両の乗員からワイヤーが見えることであり、これは美的に望ましくなく、フロントガラス越しの視界を妨げる可能性がある。ワイヤーの視認性を低下させるためにワイヤーの直径を小さくしようとすると、所望の電力密度を維持するためにワイヤーの数を増やす必要があり、フロントガラスによって透過される総太陽エネルギー（ＴＳＥＴ）が逆に減少する。フロントガラスの高さが高くなると、必要な電力密度を維持するためにワイヤーを長くする必要がある。美的感覚および／または透過率に関しても、より長いワイヤーは望ましくない。
加熱されたフロントガラスの中には、ワイヤーではなく透明な導電性コーティングを使用するものがある。しかしながら、これらのコーティングには独自の欠点がある。例えば、従来の加熱されたフロントガラスのコーティングは、典型的には、２オーム／スクエア（Ω／□）以上のシート抵抗を有する。従来の１４ｖ（８０アンペア、１，１２０ワット）オルタネータは、除氷に十分な温度まで加熱された従来のフロントガラスコーティングに電力供給するのに十分な電圧を提供しない。したがって、これらのコーティングを施した車両の場合、利用可能な電圧を上げるために車両を改造する必要がある。例えば、オルタネータを４２ｖオルタネータに交換することができるか、またはＤＣ／ＤＣコンバータを追加して１４ｖオルタネータから電圧を昇圧することができる。しかしながら、これらの解決策は、車両の電気システムのコストと複雑さを増大させる。
したがって、従来の加熱可能な透明体に関連する問題の少なくともいくつかを軽減または排除する透明体を提供することが望まれる。
本発明は、コーティングスタックに金属銀層を追加することによって、コーティングされた透明体のシート抵抗を低下させることを対象とする。具体的には、銀層は、銀層の単一スタックから四重スタックまでの範囲とすることができる。しかしながら、銀の厚さが厚すぎると、透過率が７０％未満に低下するため、これは許容できない。また、銀の厚さが厚すぎるとガラスが赤く見えるが、これも望ましくない。したがって、本発明は、銀全体の厚さが十分に厚く、１４ｖオルタネータでの除氷を可能にするシート抵抗を提供し、７０％を超える、好ましくは７０．５％を超える、より好ましくは７１％を超える光透過率を有する、コーティングスタックを対象とする。
本発明は、基材を含むコーティングされた物品に関するものである。コーティングされた物品は、基材の上に配置された少なくとも１つの誘電体層、少なくとも１つの金属層、および少なくとも１つのプライマー層でコーティングされる。少なくとも１つの金属層は、３０ｎｍ以上６５ｎｍ以下、３５ｎｍ以上５２ｎｍ以下、３５ｎｍ以上４８ｎｍ以下、または４０ｎｍ以上５２ｎｍ以下の合計厚さを有する。
一実施形態では、本発明はコーティングされた物品に関するものである。コーティングされた物品は、基材を含む。第１の誘電体層は、基材の少なくとも一部の上に配置される。第１の金属層は、第１の誘電体層の少なくとも一部の上に配置される。第１のプライマー層は、第１の金属層の少なくとも一部の上に配置される。第２の誘電体層は、第１のプライマー層の少なくとも一部の上に配置される。金属層を合わせた合計厚さは、３０ｎｍ以上６５ｎｍ以下である。
別の一実施形態では、本発明はコーティングされた物品に関するものである。コーティングされた物品は、基材を含む。第１の誘電体層は、基材の少なくとも一部の上に配置される。第１の金属層は、第１の誘電体層の少なくとも一部の上に配置される。第１のプライマー層は、第１の金属層の少なくとも一部の上に配置される。第２の誘電体層は、第１のプライマー層の少なくとも一部の上に配置される。第２の金属層は、第２の誘電体層の少なくとも一部の上に配置される。第２のプライマー層は、第２の金属層の少なくとも一部の上に配置される。第３の誘電体層は、第２のプライマー層の少なくとも一部の上に配置される。
別の一実施形態では、本発明はコーティングされた物品に関するものである。コーティングされた物品は、基材を含む。第１の誘電体層は、基材の少なくとも一部の上に配置される。第１の金属層は、第１の誘電体層の少なくとも一部の上に配置される。第１のプライマー層は、第１の金属層の少なくとも一部の上に配置される。第２の誘電体層は、第１のプライマー層の少なくとも一部の上に配置される。第２の金属層は、第２の誘電体層の少なくとも一部の上に配置される。第２のプライマー層は、第２の金属層の少なくとも一部の上に配置される。第３の誘電体層は、第２のプライマー層の少なくとも一部の上に配置される。第３の金属層は、第３の誘電体層の少なくとも一部の上に配置される。第３のプライマー層は、第３の金属層の少なくとも一部の上に配置される。第４の誘電体層は、第３のプライマー層の少なくとも一部の上に配置される。
別の一実施形態では、本発明はコーティングされた物品に関するものである。コーティングされた物品は、基材を含む。第１の誘電体層は、基材の少なくとも一部の上に配置される。第１の金属層は、第１の誘電体層の少なくとも一部の上に配置される。第１のプライマー層は、第１の金属層の少なくとも一部の上に配置される。第２の誘電体層は、第１のプライマー層の少なくとも一部の上に配置される。第２の金属層は、第２の誘電体層の少なくとも一部の上に配置される。第２のプライマー層は、第２の金属層の少なくとも一部の上に配置される。第３の誘電体層は、第２のプライマー層の少なくとも一部の上に配置される。第３の金属層は、第３の誘電体層の少なくとも一部の上に配置される。第３のプライマー層は、第３の金属層の少なくとも一部の上に配置される。第４の誘電体層は、第３のプライマー層の少なくとも一部の上に配置される。第４の金属層は、第４の誘電体層の少なくとも一部の上に配置される。第４プライマー層は、第４の金属層の少なくとも一部の上に配置される。第５の誘電体層は、第４のプライマー層の少なくとも一部の上に配置される。
本発明は、コーティングされた物品に関するものである。コーティングされた物品は、基材を含む。第１の誘電体層は、基材の少なくとも一部の上に配置される。第１の金属層は、第１の誘電体層の少なくとも一部の上に配置される。第１のプライマー層は、第１の金属層の少なくとも一部の上に配置される。第２の誘電体層は、第１のプライマー層の少なくとも一部の上に配置される。物品は、０．７オーム／スクエア以下のシート抵抗を有する。
本発明は、コーティングされた物品に関するものである。コーティングされた物品は、基材を含む。第１の誘電体層は、基材の少なくとも一部の上に配置される。第１の金属層は、第１の誘電体層の少なくとも一部の上に配置される。第１のプライマー層は、第１の金属層の少なくとも一部の上に配置される。第２の誘電体層は、第１のプライマー層の少なくとも一部の上に配置される。第２の金属層は、第２の誘電体層の少なくとも一部の上に配置される。第２のプライマー層は、第２の金属層の少なくとも一部の上に配置される。第３の誘電体層は、第２のプライマー層の少なくとも一部の上に配置される。物品は、０．７オーム／スクエア以下のシート抵抗を有する。
別の一実施形態では、本発明はコーティングされた物品に関するものである。コーティングされた物品は、基材を含む。第１の誘電体層は、基材の少なくとも一部の上に配置される。第１の金属層は、第１の誘電体層の少なくとも一部の上に配置される。第１のプライマー層は、第１の金属層の少なくとも一部の上に配置される。第２の誘電体層は、第１のプライマー層の少なくとも一部の上に配置される。第２の金属層は、第２の誘電体層の少なくとも一部の上に配置される。第２のプライマー層は、第２の金属層の少なくとも一部の上に配置される。第３の誘電体層は、第２のプライマー層の少なくとも一部の上に配置される。第３の金属層は、第３の誘電体層の少なくとも一部の上に配置される。第３のプライマー層は、第３の金属層の少なくとも一部の上に配置される。第４の誘電体層は、第３のプライマー層の少なくとも一部の上に配置される。物品は、０．７オーム／スクエア以下のシート抵抗を有する。
別の一実施形態では、本発明はコーティングされた物品に関するものである。コーティングされた物品は、基材を含む。第１の誘電体層は、基材の少なくとも一部の上に配置される。第１の金属層は、第１の誘電体層の少なくとも一部の上に配置される。第１のプライマー層は、第１の金属層の少なくとも一部の上に配置される。第２の誘電体層は、第１のプライマー層の少なくとも一部の上に配置される。第２の金属層は、第２の誘電体層の少なくとも一部の上に配置される。第２のプライマー層は、第２の金属層の少なくとも一部の上に配置される。第３の誘電体層は、第２のプライマー層の少なくとも一部の上に配置される。第３の金属層は、第３の誘電体層の少なくとも一部の上に配置される。第３のプライマー層は、第３の金属層の少なくとも一部の上に配置される。第４の誘電体層は、第３のプライマー層の少なくとも一部の上に配置される。第４の金属層は、第４の誘電体層の少なくとも一部の上に配置される。第４プライマー層は、第４の金属層の少なくとも一部の上に配置される。第５プライマー層は、第４プライマー層の少なくとも一部の上に配置される。物品は、０．７オーム／スクエア以下のシート抵抗を有する。
別の一実施形態では、本発明はコーティングされた物品に関するものである。コーティングされた物品は、第１の表面および第２の表面を有する第１の基材を含む。第２の基材は、第１の基材の少なくとも一部の上に配置され、第３の表面および第４の表面を含む。第２の表面または第３の表面のいずれかの上にコーティングが配置される。コーティングは、第２の表面または第３の表面の少なくとも一部の上に配置された第１の誘電体層を有する。第１の金属層は、第１の誘電体層の少なくとも一部の上に配置される。第１のプライマー層は、第１の金属層の少なくとも一部の上に配置される。第２の誘電体層は、第１のプライマー層の少なくとも一部の上に配置される。コーティングされた基材は、少なくとも７０％の可視光透過率を有する。金属層を合わせた合計厚さは、３０ｎｍ以上６５ｎｍ以下である。
金属層と誘電体層との間にシード膜を堆積させることができる。シード膜は、金属層と誘電体層との様々な組み合わせのうちの１つまたは複数の間にあり得る。シード膜は、第１の金属層と第１の誘電体層との間にあってもよい。シード膜は、第２の金属層と第２の誘電体層との間にあってもよい。シード膜は、第３の金属層と第３の誘電体層との間にあってもよい。シード膜は、第４の金属層と第４の誘電体層との間にあってもよい。シード膜は、任意の金属層に隣接し、直接接触することができる。特定の一実施形態では、シード膜は、すべての金属層と誘電体層との間（すなわち、第１の金属層と第１の誘電体層、第２の金属層と第２の誘電体層、第３の金属層と第３の誘電体層、および第４の金属層と第４の誘電体層との間）に存在し、金属層に隣接し、直接接触している。
シード膜は、二次元成長を促進し、高い表面エネルギーをもつ金属層（ほとんどの場合は銀）の密度を高めるのに役立つ。高い表面エネルギー（高いギブズ自由エネルギー、高い表面張力）により、金属層の銀の凝集が成長および加熱プロセス中に発生するのを防ぐ。金属層の銀の凝集を減らすのに最も適した材料は、凝集エネルギーが高い金属と、酸化物形成のギブズ自由エネルギーが高い酸化物である。これらの特定の材料は、加熱プロセス中に金属層内の銀の移動を防ぐ。
以下の図面を参照して本発明を説明し、同様の符号は全体を通して同様の部品を識別する。
本明細書で使用される場合、「左」、「右」、「内側」、「外側」、「上」、「下」などの空間的または方向的な用語は、図面に示されるように本発明に関連する。しかしながら、本発明は、様々な代替の向きを想定することができ、したがって、そのような用語は限定と見なされるべきではないことを理解すべきである。さらに、本明細書で使用される場合、明細書および特許請求の範囲で使用される、寸法、物理的特性、処理パラメータ、成分の量、反応条件などを表すすべての数字は、用語「約」によってすべての場合において修飾されると理解されるべきである。したがって、反対のことが示されない限り、以下の明細書および特許請求の範囲に示される数値は、本発明によって得られることが求められる所望の特性に応じて変化し得る。少なくとも、均等論の特許請求の範囲への適用を限定する試みとしてではなく、各々の数値は、少なくとも報告された有効桁数に照らして、通常の丸め手法を適用することによって解釈されるべきである。さらに、本明細書に開示されるすべての範囲は、範囲の開始値および終了値、ならびにそこに含まれるありとあらゆる部分範囲を包含すると理解されるべきである。例えば、「１～１０」という規定の範囲は、最小値１と最大値１０との（それらを含む）間のありとあらゆる部分範囲（つまり、１以上の最小値で始まり、１０以下の最大値で終わるすべての部分範囲（例えば、１～３．３、４．７～７．５、５．５～１０など））を含むと見なされる。さらに、本明細書で使用される場合、用語「上に形成される」、「上に堆積される」、または「上に提供される」は、表面上に形成される、堆積される、または提供されるが、必ずしも接触していないことを意味する。例えば、基材の「上に形成された」コーティング層は、形成されたコーティング層と基材との間に位置する同一または異なる組成の１つ以上の他のコーティング層または膜の存在を排除しない。本明細書で使用される場合、「ポリマー」または「ポリマーの」という用語は、オリゴマー、ホモポリマー、コポリマー、およびターポリマー、例えば、２種類以上のモノマーまたはポリマーから形成されたポリマーを含む。「可視領域」または「可視光」という用語は、３８０ｎｍ～８００ｎｍの範囲の波長を有する電磁放射を指す。「赤外線領域」または「赤外線放射」という用語は、８００ｎｍを超えて１００，０００ｎｍまでの範囲の波長を有する電磁放射を指す。「紫外線領域」または「紫外線放射」という用語は、３００ｎｍ～３８０ｎｍ未満の範囲の波長を有する電磁エネルギーを意味する。また、公表された特許および特許出願などであるがこれらに限定されない、本明細書で参照されるすべての文書は、その全体が「参照により組み込まれる」と見なされるべきである。本明細書で使用される場合、「膜」という用語は、所望のまたは選択されたコーティング組成物のコーティング領域を指す。「層」は、１つまたは複数の「膜」を含むことができ、「コーティング」または「コーティングスタック」は、１つまたは複数の「層」を含むことができる。「金属」および「金属酸化物」という用語は、ケイ素は従来、金属とはみなされない場合があるが、ケイ素およびシリカ、ならびに従来認識されている金属および金属酸化物をそれぞれ含む。厚さの値は、特に明記しない限り、幾何学的な厚さの値である。
本発明の議論は、特定の構成を、特定の制約内で「特に」または「好ましくは」（例えば、特定の制約内で「好ましくは」、「より好ましくは」、または「最も好ましくは」）と説明する場合がある。本発明は、これらの特定の制約または好ましい制約に限定されず、開示の全範囲を包含することを理解すべきである。
コーティング１０は、第１のガラスプライ１２（図１１）のＮｏ．２表面１６または第２のガラスプライ１１０のＮｏ．３表面１１４上など、ガラスプライ１２、１１２のうちの１つの主面の少なくとも一部の上に堆積されたコーティングである。コーティング１０は、ガラスプライ１２、１１２のうちの１つの少なくとも一部の上に順次付着された誘電体層の間に配置された最大４つの金属層を含むことができる。コーティング１０は、熱および／または放射線反射コーティングとすることができ、同じまたは異なる組成および／または機能の１つまたは複数のコーティング層または膜を有することができる。本明細書で使用される場合、「膜」という用語は、所望のまたは選択されたコーティング組成物のコーティング領域を指す。「層」は、１つまたは複数の「膜」を含むことができ、「コーティング」または「コーティングスタック」は、１つまたは複数の「層」を含むことができる。コーティング１０は、最大４層の金属層を含む多層コーティングとすることができる。
適切なコーティングの非限定的な例としては、通常、可視光に対して透明な、金属酸化物または金属合金の酸化物などの誘電体または反射防止材料を含む１つまたは複数の反射防止コーティング膜が含まれる。コーティング１０はまた、反射性金属（例えば、金、銅、または銀などの貴金属）またはそれらの組み合わせまたは合金を含む最大４つの金属層を含むことができ、当該技術分野で知られているように、金属反射層の上および／または任意選択でその下に位置する、チタンまたはチタンアルミニウム合金などのプライマー層またはバリア膜をさらに含むことができる。コーティング１０は、最大４つの金属層を有することができるか、または、少なくとも１つの金属層を有することができる。例えば、コーティング１０は、４つの金属層からなるか、または３つの金属層からなることができるか、または２つの金属層からなることができるか、または、１つの金属層からなることができる。非限定的な一実施形態では、金属層のうちの１つまたは複数は、銀および／またはアルミニウムドープ銀を含むことができる。
特定の実施形態では、コーティングは、最大４つのプライマー層を含むことができる。プライマー層に適した材料の非限定的な例には、亜鉛、アルミニウム、バナジウム、タングステン、タンタル、ニオブ、ジルコニウム、マンガン、クロム、スズ、ニッケル、ゲルマニウム、マグネシウム、モリブデン、銀、炭化ケイ素、アルミニウムドープ銀、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、タングステンタンタル、チタンニオブ、ジルコニウムニオブ、タングステンニオブ、アルミニウムニオブ、アルミニウムチタン、タングステンチタン、タンタルチタン、亜鉛チタン、亜鉛スズ、インジウム亜鉛、銀亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、それらの混合物、それらの組み合わせ、およびそれらの合金が含まれる。プライマー層の材料は、上に挙げたように、プライマー層として使用することができる材料のうちのいずれかの金属、酸化物、亜酸化物、窒化物、亜窒化物、酸窒化物、および／または亜酸窒化物の形態をとることができる。プライマー層の少なくとも一部は、酸化物または窒化物であってもよい。特定の実施形態では、プライマー層の一部は窒化物である。
特定の材料組成の場合、材料のうちの１つの下限は「０を超える」場合がある。下限が「０を超える」場合、これは、その材料の重量％がゼロに等しくないことを意味するが、０より大きく上限の重量％までの任意の重量％とすることができる。材料組成によっては、層を加熱する前後で組成が変化する場合がある。これは、大気中の化学種との材料反応によるもので、これは現在の化学種間で分配された重量％を変化させる。したがって、特定の材料組成は、この変化を説明するために、加熱前（「ＢＨ」）および加熱後（「ＡＨ」）の重量パーセント測定値を有し得る。一部の材料は、加熱前の測定値または加熱後の測定値の方が重要であるため、加熱前の測定値または加熱後の測定値のみを有する場合がある。
特定の実施形態では、プライマー層は、ＡｌｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて３０重量％まで、好ましくは０重量％を超えて２０重量％まで、より好ましくは０重量％を超えて１５重量％まで、最も好ましくは１～１２重量％の範囲内である）とすることができる。別の一実施形態では、プライマー層は、ＧａｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて２０重量％まで、好ましくは０重量％を超えて１５重量％まで、より好ましくは０重量％を超えて１０重量％まで、最も好ましくは１～５重量％の範囲内である）とすることができる。別の一実施形態では、プライマー層は、ＩｎｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて４０重量％まで、好ましくは０重量％を超えて１８重量％まで、より好ましくは０重量％を超えて１５重量％まで、最も好ましくは１～１０重量％の範囲内である）とすることができる。別の一実施形態では、プライマー層は、ＶｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて２０重量％まで、好ましくは０重量％を超えて１５重量％まで、より好ましくは０重量％を超えて１０重量％まで、最も好ましくは１～５重量％の範囲内である）とすることができる。別の一実施形態では、プライマー層は、ＡｇｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて５０重量％まで、好ましくは０重量％を超えて４０重量％まで、より好ましくは０重量％を超えて３０重量％まで、最も好ましくは５～３０重量％の範囲内である）とすることができる。
別の一実施形態では、プライマー層は、ＡｌｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前（以下「ＢＨ」）２～７５重量％および加熱後（以下「ＡＨ」）１～１００重量％、好ましくは２～６０重量％ＢＨおよび１～９８重量％ＡＨ、より好ましくは２～５０重量％ＢＨおよび２～９５重量％ＡＨ、最も好ましくは２～４０重量％ＢＨおよび２～１５重量％ＡＨまたは２０～９５重量％ＡＨの範囲内である）とすることができる。別の一実施形態では、プライマー層は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ（ただし、ｘは、２～４０重量％ＢＨおよび２～９５重量％ＡＨ、好ましくは２～３０重量％ＢＨおよび２～８０重量％ＡＨ、より好ましくは２～１９重量％ＢＨおよび３～６０重量％ＡＨ、最も好ましくは２～１３重量％ＢＨおよび４～４５重量％ＡＨの範囲内である）とすることができる。別の一実施形態では、プライマー層は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ窒化物（ただし、ｘは、１～１００重量％ＢＨおよび１～１００重量％ＡＨ、好ましくは１～９８重量％ＢＨおよび２～７５重量％ＡＨ、より好ましくは１～９５重量％ＢＨおよび３～５０重量％ＡＨ、最も好ましくは２～９３重量％ＢＨおよび４～４０重量％ＡＨの範囲内である）とすることができ、窒化物堆積のための８０％の窒素ガス流量が存在する。別の一実施形態では、プライマー層は、ＷｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、５５～１００重量％ＢＨ（堆積中に７％のＯ２を含む）および３０～９５重量％ＡＨ（堆積中に３％のＯ２を含む）、好ましくは６５～１００重量％ＢＨ（堆積中に７％のＯ２を含む）および４０～９５重量％ＡＨ（堆積中に３％のＯ２を含む）、より好ましくは７５～１００重量％ＢＨ（堆積中に７％のＯ２を含む）および５０～９５重量％ＡＨ（堆積中に３％のＯ２を含む）、最も好ましくは８０～１００重量％ＢＨ（堆積中に７％のＯ２を含む）および５５～９５重量％ＡＨ（堆積中に３％のＯ２を含む）の範囲内である）とすることができる。別の一実施形態では、プライマー層は、ＴｉｘＴａ１－ｘ（ただし、ｘは、２～８０重量％ＢＨおよび２～４０重量％ＡＨ、好ましくは２～６０重量％ＢＨおよび２～４０重量％ＡＨ、より好ましくは２～３５重量％ＢＨおよび２～２５重量％ＡＨ、最も好ましくは１～２０重量％ＢＨおよび１～２０重量％ＡＨの範囲内である）とすることができる。別の一実施形態では、プライマー層は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ（ただし、ｘは、２～９５重量％ＡＨ、好ましくは２～９３重量％ＡＨ、より好ましくは３～９２重量％ＡＨ、最も好ましくは５～９０重量％ＡＨの範囲内である）とすることができる。別の一実施形態では、プライマー層は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ窒化物（ただし、ｘは、１～６５重量％、好ましくは１～５０重量％、より好ましくは１～４０重量％、最も好ましくは１～３０重量％の範囲内である）とすることができ、窒化物堆積のための８０％の窒素ガス流量が存在する。別の一実施形態では、プライマー層は、ＮｂｘＺｒ１－ｘ（ただし、ｘは、１～８０重量％ＢＨおよび６０～１００重量％ＡＨ、好ましくは１～７０重量％ＢＨおよび７０～１００重量％ＡＨ、より好ましくは１～６０重量％ＢＨおよび８０～１００重量％ＡＨ、最も好ましくは１～５０重量％ＢＨおよび８５～１００重量％ＡＨの範囲内である）とすることができる。別の一実施形態では、プライマー層は、ＴａｘＷ１－ｘ（ただし、ｘは、２～９５重量％ＢＨ、好ましくは２～８０重量％ＢＨ、より好ましくは３～６０重量％ＢＨ、最も好ましくは５～５０重量％ＢＨの範囲内である）とすることができる。別の一実施形態では、プライマー層は、ＷｘＮｂ１－ｘ（ただし、ｘは、５～１００重量％ＢＨおよび２～５０重量％ＡＨ、好ましくは６～９０重量％ＢＨおよび２～４５重量％ＡＨ、より好ましくは８～８０重量％ＢＨおよび２～４０重量％ＡＨ、最も好ましくは１０～７０重量％ＢＨおよび２～３０重量％ＡＨの範囲内である）とすることができる。別の一実施形態では、プライマー層は、ＷｘＮｂ１－ｘ窒化物（ただし、ｘは、２～９０重量％ＢＨおよび２～７０重量％ＡＨ、好ましくは５～８０重量％ＢＨおよび１０～７０重量％ＡＨ、より好ましくは７～７５重量％ＢＨおよび２０～７０重量％ＡＨ、最も好ましくは１０～７０重量％ＢＨおよび３０～７０重量％ＡＨの範囲内である）とすることができ、窒化物堆積のための８０％の窒素ガス流量が存在する。別の一実施形態では、プライマー層は、ＺｎｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、１０～１００重量％ＢＨおよび２０～１００重量％ＡＨ、好ましくは１０～８０重量％ＢＨおよび４０～９７重量％ＡＨ、より好ましくは１０～７０重量％ＢＨおよび５０～９４重量％ＡＨ、最も好ましくは１０～６０重量％ＢＨおよび６０～９０重量％ＡＨの範囲内である）とすることができる。
コーティング１０は、従来の化学気相堆積（ＣＶＤ）法および／または物理気相堆積（ＰＶＤ）法などであるがこれらに限定されない任意の従来の方法によって堆積させることができる。ＣＶＤプロセスの例には、噴霧熱分解が含まれる。ＰＶＤプロセスの例には、電子ビーム蒸着および真空スパッタリング（例えば、マグネトロンスパッタ蒸着（ＭＳＶＤ））が含まれる。ゾルゲル堆積などであるがこれらに限定されない他のコーティング方法も使用できる。非限定的な一実施形態では、コーティング１０は、ＭＳＶＤによって堆積させることができる。ＭＳＶＤコーティング装置および方法の例は、当業者によって十分に理解され、例えば、米国特許第４，３７９，０４０号、第４，８６１，６６９号、第４，８９８，７８９号、第４，８９８，７９０号、第４，９００，６３３号、第４，９２０，００６号、第４，９３８，８５７号、第５，３２８，７６８号、および第５，４９２，７５０号に記載されている。
本発明に適した非限定的なコーティングを図１ａおよび図１ｂに示す。このコーティングは、１つの金属層と、２つの誘電体層の間に配置された１つのプライマー層とを含む。それは、基材の主表面（例えば、第１のプライ１２のＮｏ．２表面１６、または第２のプライ１１０のＮｏ．３表面１１４）の少なくとも一部の上に、またはそれと直接接触して配置されたベース層または第１の誘電体層２０を含む。第１の金属層２８は、第１の誘電体層２０の少なくとも一部の上に、またはそれと直接接触して配置される。第１のプライマー層３０は、第１の金属層２８の少なくとも一部の上に、またはそれと直接接触して配置することができる。第２の誘電体層３２は、第１のプライマー層３０の上に、またはそれと直接接触して配置される。保護層８４は、第２の誘電体層３２の上に、またはそれと直接接触して配置することができる。応力層８２は、第２の誘電体層３２と保護層８４との間に配置することができる。
本発明に適した別の非限定的なコーティングが、図２ａおよび図２ｂに示されている。このコーティングは、２つの金属層と、誘電体層間に配置された２つのプライマー層とを含む。それは、基材の主表面（例えば、第１のプライ１２のＮｏ．２表面１６、または第２のプライ１１０のＮｏ．３表面１１４）の少なくとも一部の上に、またはそれと直接接触して配置されたベース層または第１の誘電体層２０を含む。第１の金属層２８は、第１の誘電体層２０の少なくとも一部の上に、またはそれと直接接触して配置される。第１のプライマー層３０は、第１の金属層２８の少なくとも一部の上に、またはそれと直接接触して配置することができる。第２の誘電体層３２は、第１のプライマー層３０の上に、または直接接触して配置される。第２の金属層４２は、第２の誘電体層３２の少なくとも一部の上に、またはそれと直接接触して配置される。第２のプライマー層４４は、第２の金属層４２の上に、またはそれと直接接触して配置することができる。第３の誘電体層４６は、第２のプライマー層４４の上に、またはそれと直接接触して配置される。保護層８４は、第３の誘電体層４６の上に、またはそれと直接接触して配置することができる。応力層８２は、第３の誘電体層４６と保護層８４との間に配置することができる。
本発明に適した非限定的なコーティングを図３ａおよび図３ｂに示す。この例示的なコーティングは、３つの金属層と、誘電体層間に配置された３つのプライマー層とを含む。それは、基材の主表面（例えば、第１のプライ１２のＮｏ．２表面１６、または第２のプライ１１０のＮｏ．３表面１１４）の少なくとも一部の上に、またはそれと直接接触して配置されたベース層または第１の誘電体層２０を含む。第１の金属層２８は、第１の誘電体層２０の少なくとも一部の上に、またはそれと直接接触して配置される。第１のプライマー層３０は、第１の金属層２８の少なくとも一部の上に、またはそれと直接接触して配置することができる。第２の誘電体層３２は、第１のプライマー層３０の少なくとも一部の上に、またはそれと直接接触して配置される。第２の金属層４２は、第２の誘電体層３２の少なくとも一部の上に、またはそれと直接接触して配置される。第２のプライマー層４４は、第２の金属層４２の少なくとも一部の上に、またはそれと直接接触して配置することができる。第３の誘電体層４６は、第２のプライマー層４４の少なくとも一部の上に、またはそれと直接接触して配置される。第３の金属層５６は、第３の誘電体層４６の少なくとも一部の上に、またはそれと直接接触して配置される。第３のプライマー層５８は、第３の金属層５６の少なくとも一部の上に、またはそれと直接接触して配置することができる。第４の誘電体層６０は、第３のプライマー層５８の少なくとも一部の上に、またはそれと直接接触して配置される。保護層８４は、第４の誘電体層６０の少なくとも一部の上に、またはそれと直接接触して配置することができる。応力層８２は、第２の誘電体層３２と保護層８４との間に配置することができる。
第１の誘電体層２０は、金属酸化物、金属合金の酸化物、窒化物、酸窒化物、またはそれらの混合物などが挙げられるがこれらに限定されない、反射防止材料および／または誘電体材料のうちの１つまたは複数の膜を含むことができる。第１の誘電体層２０は、可視光に対して透明とすることができる。第１の誘電体層２０に適した金属酸化物の例には、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、亜鉛、ビスマス、鉛、インジウム、スズ、アルミニウム、ケイ素、およびそれらの混合物の酸化物が含まれる。これらの金属酸化物は、例えば、酸化ビスマス中のマンガン、酸化インジウム中のスズなど、少量の他の材料を含むことができる。あるいはまた、亜鉛およびスズを含む酸化物（例えば、スズ酸亜鉛）、インジウム－スズ合金の酸化物などの金属合金または金属混合物の酸化物、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、または窒化アルミニウムを使用することができる。さらに、アンチモンまたはインジウムドープスズ酸化物、またはニッケルまたはホウ素ドープケイ素酸化物などのドープされた金属酸化物を使用することができる。図５ａおよび図５ｂに示されるように、第１の誘電体層２０は、第１の膜２２および第２の膜２４を含むことができる。非限定的な一実施形態では、第１の膜２２は酸化亜鉛スズとすることができる。酸化亜鉛スズは、亜鉛とスズを１０重量％～９０重量％の亜鉛と９０重量％～１０重量％のスズの割合で含み得る亜鉛とスズの陰極からのマグネトロンスパッタ真空蒸着から得ることができる。第１の膜２２に存在することができる１つの適切な金属合金酸化物は、スズ酸亜鉛を含む。「スズ酸亜鉛」とは、ＺｎｘＳｎ１－ｘＯ２－ｘ（化学式１）（ただし、「ｘ」は、０を超えて１未満の範囲で変化する）の組成を意味する。例えば、「ｘ」は０より大きくすることができ、０を超えて１未満の任意の分数または小数にすることができる。例えば、ｘ＝２／３の場合、化学式１は、Ｚｎ２／３Ｓｎ１／３Ｏ４／３となり、Ｚｎ２ＳｎＯ４としてより一般的に記述される。スズ酸亜鉛含有膜は、化学式１の形態のうちの１つまたは複数を膜中に優勢な量で有する。
第２の膜２４は、酸化亜鉛などの亜鉛含有膜とすることができる。酸化亜鉛膜は、陰極のスパッタリング特性を改善するために他の材料を含む亜鉛陰極から堆積され得る。例えば、亜鉛陰極は、スパッタリングを改善するために、少量（例えば、１０重量％未満、例えば、０重量％を超えて５重量％まで）のスズを含むことができる。その場合、結果として得られる酸化亜鉛膜は、わずかなパーセンテージの酸化スズ（例えば、０～１０重量％未満の酸化スズ、例えば、０～５重量％の酸化スズ）を含む。９５パーセントの亜鉛と５パーセントのスズを有する亜鉛／スズ陰極からスパッタリングされた酸化物層は、本明細書ではＺｎ０．９５Ｓｎ０．５Ｏ１．０５と書かれ、酸化亜鉛膜と呼ばれる。陰極中の少量（例えば、１０重量％未満）のスズは、主に酸化亜鉛を含有する第２の膜２４中に少量の酸化スズを形成すると考えられる。非限定的な一実施形態では、第１の膜２２は、スズ酸亜鉛を含み、第２の膜２４は、酸化亜鉛（Ｚｎ０．９５Ｓｎ０．５Ｏ１．０５）を含む。
例示的な非限定的な一実施形態では、第２の膜２４は、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛のうちの少なくとも１つからなる膜である。酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛膜は、陰極のスパッタリング特性を改善するために他の材料を含む亜鉛陰極から堆積される。例えば、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛膜は、スパッタリングを改善するために、追加の少量（例えば、１０重量％未満、例えば、０重量％を超えて５重量％まで）のスズを含むことができる。陰極中の少量（例えば、１０重量％未満）のスズは、第２の膜２４中に少量の酸化スズを形成すると考えられる。非限定的な一実施形態では、第１の膜２２は、スズ酸亜鉛を含み、第２の膜２４は、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛を含む。非限定的な一実施形態では、第１の誘電体層または第２の誘電体層は、窒化ケイ素膜を含む。図５ｂなどのいくつかの実施形態では、第１の誘電体層２０は、第１の膜２２および第２の膜２４のみを有する。
第１の誘電体層２０は、１，０００Å以下（例えば、８００Å以下、例えば、２００Å～８００Å、３００Å～６００Å、例えば、４００Å～５５０Å、例えば、４１０Å～５００Å、または例えば、４２０Å～４７０Å、例えば、４２２Å、および４６３Å）の合計厚さを有することができる。
図５ａに示されるように、第１のシード膜２６は、第１の誘電体層２０の第２の膜の少なくとも一部の上に、またはそれと直接接触して配置することができる。第１のシード膜２６は、第１の金属層２８に隣接するか、またはそれと直接接触し、第１の誘電体層２０と第１の金属層２８との間にあってもよい。第１のシード膜２６は、以下：アルミニウム、アルミニウム亜鉛、亜鉛、亜鉛スズ、ゲルマニウム、ニッケル、マグネシウム、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、インジウム亜鉛、バナジウム亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、ニオブ、ジルコニウム、タンタル、モリブデン、アルミニウムドープ銀、銀、銀亜鉛、チタンアルミニウム、それらの混合物、それらの金属、それらの合金、それらの組み合わせ、それらの酸化物、それらの亜酸化物、それらの窒化物、それらの亜窒化物、それらの酸窒化物、それらの亜酸窒化物、それらの酸炭化物、それらの炭窒化物、またはそれらの酸炭窒化物のうちの少なくとも１つから構成される膜である。一実施形態では、第１のシード膜２６は、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、亜鉛、銀亜鉛、それらの金属、それらの合金、それらの酸化物、またはそれらの亜酸化物を含む。別の一実施形態では、第１のシード膜２６は、ガリウム亜鉛、インジウム亜鉛、インジウムスズ、それらの金属、それらの合金、それらの酸化物、それらの窒化物、それらの亜窒化物、またはそれらの亜酸化物を含む。
別の一実施形態では、第１のシード膜２６は、ＶｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２５重量％、好ましくは１～１５重量％、より好ましくは１～１０重量％、最も好ましくは１～８重量％の範囲内である）を含む。別の一実施形態では、第１のシード膜２６は、ＡｌｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２５重量％、好ましくは１～１５重量％、より好ましくは１～１２重量％、最も好ましくは１～１０重量％の範囲内である）を含む。別の一実施形態では、第１のシード膜２６は、ＧａｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２０重量％、好ましくは１～１５重量％、より好ましくは１～１０重量％、最も好ましくは１～５重量％の範囲内である）を含む。別の一実施形態では、第１のシード膜２６は、ＩｎｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～４０重量％、好ましくは１～１８重量％、より好ましくは１～１５重量％、最も好ましくは１～１０重量％の範囲内である）を含む。別の一実施形態では、第１のシード膜２６は、ＳｎｘＩｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２０重量％、好ましくは２～１８重量％、より好ましくは４～１５重量％、最も好ましくは５～１２重量％の範囲内である）を含む。別の一実施形態では、第１のシード膜２６は、酸素／アルゴンガス環境で堆積されたＡｇを含み、酸素の流量は１～７０％、好ましくは１～５０％、より好ましくは１０～４０％、最も好ましくは２０％～４０％である。別の一実施形態では、第１のシード膜２６は、ＡｌｘＡｇ１－ｘ（ただし、ｘは、１～３５重量％（ＢＨおよびＡＨ）、好ましくは１～２０重量％（ＢＨおよびＡＨ）、より好ましくは１～１８重量％（ＢＨおよびＡＨ）、最も好ましくは１～１５重量％（ＢＨおよびＡＨ）の範囲内である）を含む。図５ａなどのいくつかの実施形態では、第１の誘電体層２０は、第１の膜２２、第２の膜２４、および第１のシード膜２６を含む。
第１の金属層２８は、第１の誘電体層２０の上に堆積させることができる。第１の金属層２８は、金属の金、銅、銀、アルミニウム、またはそれらの混合物、合金、または組み合わせなどであるがこれらに限定されない反射性金属を含むことができる。一実施形態では、第１の金属層２８は、金属銀層を含む。別の一実施形態では、第１の金属層２８は、金属アルミニウムドープ銀層を含む。別の非限定的な一実施形態では、第１の金属層２８は、銀および／または銅を含む。第１の金属層２８は、５０Å～２００Å、好ましくは７５Å～１５０Å、より好ましくは８０Å～１２０Å、最も好ましくは９０Å～１１０Åの範囲の厚さを有することができる。
第１のプライマー層３０は、第１の金属層２８の上に堆積させることができる。第１のプライマー層３０は、チタンなどの酸素捕捉材料とすることができ、それはスパッタリングプロセスまたはその後の加熱プロセス中の第１の金属層２８の劣化または酸化を防止するために堆積プロセス中に犠牲となり得る。酸素捕捉材料は、第１の金属層２８の材料の前に酸化するように選択することができる。プライマー層に適した材料の例には、亜鉛、アルミニウム、バナジウム、タングステン、タンタル、ニオブ、ジルコニウム、マンガン、クロム、スズ、ニッケル、ガリウム、インジウム、ゲルマニウム、マグネシウム、モリブデン、銀、炭化ケイ素、アルミニウムドープ銀、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、タングステンタンタル、チタンニオブ、ジルコニウムニオブ、タングステンニオブ、アルミニウムニオブ、アルミニウムチタン、タングステンチタン、タンタルチタン、亜鉛チタン、亜鉛スズ、インジウム亜鉛、銀亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、それらの混合物、およびそれらの合金が含まれ、プライマーは金属として堆積され、続いて酸化され得る。プライマー層の少なくとも一部は、窒化物または酸化物である。第１のプライマー層は、第１のプライマー層として使用できる材料のうちのいずれかの酸化物、窒化物、亜酸化物、亜窒化物、酸窒化物、または亜酸窒化物を含むことができる。銀亜鉛、亜鉛、酸化銀亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、または酸化バナジウム亜鉛が第１のプライマー層３０として使用される場合、それは下にある銀層の酸化の前に優先的に酸化する。
一実施形態では、第１のプライマー層３０は、亜鉛を含む。別の一実施形態では、第１のプライマー層３０は、ＡｇｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第１のプライマー層３０は、ＡｇｘＺｎ１－ｘを含む。別の一実施形態では、第１のプライマー層３０は、ＡｌｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第１のプライマー層３０は、ＩｎｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第１のプライマー層３０は、ＧａｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第１のプライマー層３０は、ＶｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第１のプライマー層３０は、ＡｌｘＴｉ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第１のプライマー層３０は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第１のプライマー層３０は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ窒化物を含む。別の一実施形態では、第１のプライマー層３０は、ＷｘＮｂ１－ｘ窒化物を含む。別の一実施形態では、第１のプライマー層３０は、ＷｘＴｉ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第１のプライマー層３０は、ＴｉｘＴａ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第１のプライマー層３０は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第１のプライマー層３０は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ窒化物を含む。別の一実施形態では、第１のプライマー層３０は、ＮｂｘＺｒ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第１のプライマー層３０は、ＴａｘＷ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第１のプライマー層３０は、ＷｘＮｂ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第１のプライマー層３０は、ＺｎｘＴｉ１－ｘ酸化物を含む。第１のプライマー層３０は、５Å～５０Å、例えば、１０Å～３５Å、例えば、１５Å～３５Å、例えば、１０Å～２０Å、例えば、１０Å～３０Å、例えば、２０Å～３０Å、例えば、３０Å～４０Åの範囲の厚さを有する。
第２の誘電体層３２は、第１のプライマー層３０の上に堆積させることができる。図６ａ～図６ｄの図示された非限定的な実施形態において、第２の誘電体層３２は、第１の膜３４および第２の膜３６を含む。第１の膜３４は、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、亜鉛、ビスマス、鉛、インジウム、スズ、ケイ素、アルミニウム、ガリウム、バナジウム、およびそれらの混合物からなる群から選択される１つまたは複数の金属の、酸化物、窒化物、酸窒化物、または混合物から構成することができる。一実施形態では、第１の膜３４は、酸化亜鉛を含む。別の一実施形態では、第１の膜３４は、酸化アルミニウム亜鉛を含む。別の一実施形態では、第１の膜３４は、酸化インジウム亜鉛を含む。別の一実施形態では、第１の膜３４は、酸化ガリウム亜鉛を含む。別の一実施形態では、第１の膜３４は、酸化インジウムスズを含む。別の一実施形態では、第１の膜３４は、酸化バナジウム亜鉛を含む。
第２の膜３６は、第１の膜３４の上に堆積させることができる。第２の膜３６は、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、亜鉛、ビスマス、鉛、インジウム、スズ、ケイ素、アルミニウム、ガリウム、バナジウム、およびそれらの混合物からなる群から選択される１つまたは複数の金属の、酸化物、窒化物、酸窒化物、または混合物から構成することができる。一実施形態では、第２の膜３６は、スズ酸亜鉛を含む。いくつかの実施形態では、図６ｂのものと同様に、第１の膜３４および第２の膜３６だけが、第２の誘電体層３２の膜である。
任意選択の第３の膜３８を第２の膜３６の上に堆積させて、多層膜の第２の誘電体層３２を形成することができる。第３の膜３８は、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、亜鉛、ビスマス、鉛、インジウム、スズ、ケイ素、アルミニウム、ガリウム、およびバナジウムからなる群から選択される１つまたは複数の金属の、酸化物、窒化物、酸窒化物、または混合物から構成することができる。一実施形態では、第３の膜３８は、酸化亜鉛を含む。別の一実施形態では、第３の膜３８は、酸化インジウム亜鉛を含む。別の一実施形態では、第３の膜３８は、酸化アルミニウム亜鉛を含む。別の一実施形態では、第３の膜３８は、酸化ガリウム亜鉛を含む。別の一実施形態では、第３の膜３８は、酸化インジウムスズを含む。別の一実施形態では、第３の膜３８は、酸化バナジウム亜鉛を含む。非限定的な一実施形態では、第１の誘電体層２０または第２の誘電体層３２は、窒化ケイ素膜を含む。図６ａおよび図６ｃに示されているものなどのいくつかの実施形態では、第２の誘電体層３２は、第１の膜３４、第２の膜３６、および第３の膜３８を含む。図６ａなどのいくつかの実施形態では、第２の誘電体層３２は、第１の膜３４、第２の膜３６、および第３の膜３８のみを有する。
特定の実施形態では、第２の誘電体層３２は、最上部の誘電体層である。第２の誘電体層３２は、１，５００Å以下、例えば１，２００Å以下、例えば４００Å～１，２００Åの間、５００Å～１，１００Åの間、例えば６００Å～１，０００Å、例えば７００Å～９００Å、または例えば７７５Å～８５０Åの範囲の厚さを有することができる。
第２のシード膜４０は、第２の金属層４２に隣接するか、またはそれと直接接触し、第２の誘電体層３２と第２の金属層４２との間にあり得る。第２のシード膜４０は、以下：アルミニウム、アルミニウム亜鉛、亜鉛、亜鉛スズ、ゲルマニウム、ニッケル、マグネシウム、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、インジウム亜鉛、バナジウム亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、ニオブ、ジルコニウム、タンタル、モリブデン、アルミニウムドープ銀、銀、銀亜鉛、チタンアルミニウム、それらの混合物、それらの金属、それらの合金、それらの組み合わせ、それらの酸化物、それらの亜酸化物、それらの窒化物、それらの亜窒化物、それらの酸窒化物、それらの亜酸窒化物、それらの酸炭化物、それらの炭窒化物、またはそれらの酸炭窒化物のうちの少なくとも１つを含む膜である。一実施形態では、第２のシード膜４０は、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、亜鉛、銀亜鉛、それらの金属、それらの合金、それらの酸化物、またはそれらの亜酸化物を含む。別の一実施形態では、第２のシード膜４０は、ガリウム亜鉛、インジウム亜鉛、インジウムスズ、銀、アルミニウムドープ銀、それらの金属、それらの合金、それらの酸化物、またはそれらの亜酸化物である。
一実施形態では、第２のシード膜４０は、ＶｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２５重量％、好ましくは１～１５重量％、より好ましくは１～１０重量％、最も好ましくは１～８重量％の範囲内である）を含む。別の一実施形態では、第２のシード膜４０は、ＡｌｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２５重量％、好ましくは１～１５重量％、より好ましくは１～１２重量％、最も好ましくは１～１０重量％の範囲内である）を含む。別の一実施形態では、第２のシード膜４０は、ＧａｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２０重量％、好ましくは１～１５重量％、より好ましくは１～１０重量％、最も好ましくは１～５重量％の範囲内である）を含む。別の一実施形態では、第２のシード膜４０は、ＩｎｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～４０重量％、好ましくは１～１８重量％、より好ましくは１～１５重量％、最も好ましくは１～１０重量％の範囲内である）を含む。別の一実施形態では、第２のシード膜４０は、ＳｎｘＩｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２０重量％、好ましくは２～１８重量％、より好ましくは４～１５重量％、最も好ましくは５～１２重量％の範囲内である）を含む。別の一実施形態では、第２のシード膜４０は、酸素／アルゴンガス環境で堆積されたＡｇを含み、酸素の流量は１～７０％、好ましくは１～５０％、より好ましくは１０～４０％、最も好ましくは２０％～４０％である。別の一実施形態では、第２のシード膜４０は、ＡｌｘＡｇ１－ｘ（ただし、ｘは、１～３５重量％（ＢＨおよびＡＨ）、好ましくは１～２０重量％（ＢＨおよびＡＨ）、より好ましくは１～１８重量％（ＢＨおよびＡＨ）、最も好ましくは１～１５重量％（ＢＨおよびＡＨ）の範囲内である）を含む。図６ｃおよび６ｄなどのいくつかの実施形態では、第２の誘電体層３２は、第１の膜３４、第２の膜３６、および第２のシード膜４０を含む。図６ｄなどのいくつかの実施形態では、第２の誘電体層３２は、第１の膜３４、第２の膜３６、および第２のシード膜４０のみを有する。図６ｃなどのいくつかの実施形態では、第２の誘電体層３２は、第１の膜３４、第２の膜３６、第３の膜３８、および第２のシード膜４０を含む。
第２の金属層４２は、第２の誘電体層３２の上に堆積させることができる。第２の金属層４２は、第１の金属層２８に関して上記した反射性材料のうちのいずれか１つ以上を含むことができる。非限定的な一実施形態では、第２の金属層４２は、銀を含む。別の非限定的な一実施形態では、第２の金属層４２は、アルミニウムドープ銀を含む。別の非限定的な一実施形態では、第２の金属層４２は、銀および／または銅を含む。第２の金属層４２は、７５Å～１７５Å、好ましくは１００Å～１５０Å、より好ましくは１１０Å～１３０Å、最も好ましくは１１９Å～１２９Åの範囲の厚さを有することができる。別の非限定的な一実施形態では、この第２の金属層４２は、第１および／または第３の金属層より厚くすることができる。
第２のプライマー層４４は、第２の金属層４２の上に堆積することができる。第２のプライマー層４４は、第１のプライマー層３０に関して上記した材料のいずれかとすることができる。プライマー層に適した材料の例には、亜鉛、アルミニウム、バナジウム、タングステン、タンタル、ニオブ、ジルコニウム、マンガン、クロム、スズ、ニッケル、ガリウム、インジウム、ゲルマニウム、マグネシウム、モリブデン、銀、炭化ケイ素、アルミニウムドープ銀、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、タングステンタンタル、チタンニオブ、ジルコニウムニオブ、タングステンニオブ、アルミニウムニオブ、アルミニウムチタン、タングステンチタン、タンタルチタン、亜鉛チタン、亜鉛スズ、インジウム亜鉛、銀亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、それらの混合物、およびそれらの合金が含まれ、プライマーは金属として堆積され、続いて酸化され得る。プライマー層の少なくとも一部は、窒化物または酸化物である。第２のプライマー層は、第２のプライマー層として使用できる材料のうちのいずれかの酸化物、窒化物、亜酸化物、亜窒化物、酸窒化物、または亜酸窒化物を含むことができる。銀亜鉛、亜鉛、酸化銀亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、または酸化バナジウム亜鉛が第１のプライマー層３０として使用される場合、それは下にある銀層の酸化の前に優先的に酸化する。
一実施形態では、第２のプライマー層４４は、亜鉛を含む。別の一実施形態では、第２のプライマー層４４は、ＡｇｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第２のプライマー層４４は、ＡｇｘＺｎ１－ｘを含む。別の一実施形態では、第２のプライマー層４４は、ＡｌｘＺｎ１－ｘ酸化物である。別の一実施形態では、第２のプライマー層４４は、ＩｎｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第２のプライマー層４４は、ＧａｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第２のプライマー層４４は、ＶｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第２のプライマー層４４は、ＡｌｘＴｉ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第２のプライマー層４４は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第２のプライマー層４４は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ窒化物を含む。別の一実施形態では、第２のプライマー層４４は、ＷｘＮｂ１－ｘ窒化物を含む。別の一実施形態では、第２のプライマー層４４は、ＷｘＴｉ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第２のプライマー層４４は、ＴｉｘＴａ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第２のプライマー層４４は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第２のプライマー層４４は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ窒化物を含む。別の一実施形態では、第２のプライマー層４４は、ＮｂｘＺｒ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第２のプライマー層４４は、ＴａｘＷ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第２のプライマー層４４は、ＷｘＮｂ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第２のプライマー層４４は、ＺｎｘＴｉ１－ｘ酸化物を含む。第２のプライマー層４４は、約５Å～５０Å、例えば、１０Å～３５Å、例えば、１５Å～３５Å、例えば、１０Å～２０Å、例えば、１０Å～３０Å、例えば、２０Å～３０Å、例えば、３０Å～４０Åの範囲の厚さを有することができる。
第３の誘電体層４６は、第２の金属層４２の上に堆積させることができる。第３の誘電体層４６はまた、第１および第２の誘電体層２０、３２に関して上で議論された１つまたは複数の材料を含むことができる。非限定的な一実施形態では、第３の誘電体層４６は、第１の膜４８を含むことができる。第１の膜４８は、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、亜鉛、ビスマス、鉛、インジウム、スズ、ケイ素、アルミニウム、ガリウム、バナジウム、およびそれらの混合物からなる群から選択される１つまたは複数の金属の、酸化物、窒化物、酸窒化物、または混合物から構成することができる。一実施形態では、第１の膜４８は、酸化亜鉛を含む。別の一実施形態では、第１の膜４８は、酸化アルミニウム亜鉛を含む。別の一実施形態では、第１の膜４８は、酸化インジウム亜鉛を含む。別の一実施形態では、第１の膜４８は、酸化ガリウム亜鉛を含む。別の一実施形態では、第１の膜４８は、酸化インジウムスズを含む。別の一実施形態では、第１の膜４８は、酸化バナジウム亜鉛を含む。
第３の誘電体層４６は、第１の膜４８の上に堆積された第２の膜５０を含むことができる。一実施形態では、第２の膜５０は、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、亜鉛、ビスマス、鉛、インジウム、スズ、ケイ素、アルミニウム、ガリウム、バナジウム、およびそれらの混合物からなる群から選択される１つまたは複数の金属の、酸化物、窒化物、酸窒化物、または混合物から構成することができる。一実施形態では、第２の膜５０は、スズ酸亜鉛を含む。いくつかの実施形態では、図７ｂのものと同様に、第１の膜４８および第２の膜５０だけが、第３の誘電体層４６の膜である。
第３の誘電体層４６は、任意選択の第３の膜５２を含むことができる。第３の膜５２は、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、亜鉛、ビスマス、鉛、インジウム、スズ、ケイ素、アルミニウム、ガリウム、バナジウム、およびそれらの混合物からなる群から選択される１つまたは複数の金属の、酸化物、窒化物、酸窒化物、または混合物から構成することができる。一実施形態では、第３の膜５２は、酸化亜鉛を含む。別の一実施形態では、第３の膜５２は、酸化アルミニウム亜鉛を含む。別の一実施形態では、第３の膜５２は、酸化インジウム亜鉛を含む。別の一実施形態では、第３の膜５２は、酸化ガリウム亜鉛を含む。別の一実施形態では、第３の膜５２は、酸化インジウムスズを含む。別の一実施形態では、第３の膜５２は、酸化バナジウム亜鉛を含む。図７ａおよび図７ｃに示されているものなどのいくつかの実施形態では、第３の誘電体層４６は、第１の膜４８、第２の膜５０、および第３の膜５２を含む。図７ａなどのいくつかの実施形態では、第３の誘電体層４６は、第１の膜４８、第２の膜５０、および第３の膜５２のみを有する。
特定の実施形態では、第３の誘電体層４６は、最上部の誘電体層である。本発明の非限定的な一態様では、第２の誘電体層３２および第３の誘電体層４６は、互いの１５％以内、例えば１０％以内、例えば互いの５％以内である厚さを有する。第３の誘電体層４６は、１，５００Å以下、例えば１，２００Å以下、例えば３００Å～１，２００Åの間、４００Å～１，１００Åの間、例えば５００Å～１，０００Å、例えば６００Å～９００Å、例えば７００Å～８２５Å、または７３０Å～７６０Åの範囲の厚さを有することができる。
第３のシード膜５４は、第３の金属層５６に隣接する、および／または直接接触し、第３の誘電体層４６と第３の金属層５６との間にあり得る。第３のシード膜５４は、以下：アルミニウム、アルミニウム亜鉛、亜鉛、亜鉛スズ、ゲルマニウム、ニッケル、マグネシウム、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、インジウム亜鉛、バナジウム亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、ニオブ、ジルコニウム、タンタル、モリブデン、アルミニウムドープ銀、銀、銀亜鉛、チタンアルミニウム、それらの混合物、それらの金属、それらの合金、それらの組み合わせ、それらの酸化物、それらの亜酸化物、それらの窒化物、それらの亜窒化物、それらの酸窒化物、それらの亜酸窒化物、それらの酸炭化物、それらの炭窒化物、またはそれらの酸炭窒化物のうちの少なくとも１つから構成される膜である。一実施形態では、第３のシード膜５４は、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、亜鉛、銀亜鉛、それらの金属、それらの合金、それらの酸化物、またはそれらの亜酸化物を含む。別の一実施形態では、第３のシード膜５４は、ガリウム亜鉛、インジウム亜鉛、インジウムスズ、それらの金属、それらの合金、それらの酸化物、それらの窒化物、それらの亜窒化物、またはそれらの亜酸化物である。
別の一実施形態では、第３のシード膜５４は、ＶｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２５重量％、好ましくは１～１５重量％、より好ましくは１～１０重量％、最も好ましくは１～８重量％の範囲内である）を含む。別の一実施形態では、第３のシード膜５４は、ＡｌｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２５重量％、好ましくは１～１５重量％、より好ましくは１～１２重量％、最も好ましくは１～１０重量％の範囲内である）を含む。別の一実施形態では、第３のシード膜５４は、ＧａｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２０重量％、好ましくは１～１５重量％、より好ましくは１～１０重量％、最も好ましくは１～５重量％の範囲内である）を含む。別の一実施形態では、第３のシード膜５４は、ＩｎｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～４０重量％、好ましくは１～１８重量％、より好ましくは１～１５重量％、最も好ましくは１～１０重量％の範囲内である）を含む。別の一実施形態では、第３のシード膜５４は、ＳｎｘＩｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２０重量％、好ましくは２～１８重量％、より好ましくは４～１５重量％、最も好ましくは５～１２重量％の範囲内である）を含む。別の一実施形態では、第３のシード膜５４は、酸素／アルゴンガス環境で堆積されたＡｇを含み、酸素の流量は１～７０％、好ましくは１～５０％、より好ましくは１０～４０％、最も好ましくは２０％～４０％である。別の一実施形態では、第３のシード膜５４は、ＡｌｘＡｇ１－ｘ（ただし、ｘは、１～３５重量％（ＢＨおよびＡＨ）、好ましくは１～２０重量％（ＢＨおよびＡＨ）、より好ましくは１～１８重量％（ＢＨおよびＡＨ）、最も好ましくは１～１５重量％（ＢＨおよびＡＨ）の範囲内である）を含む。図７ｃおよび図７ｄなどのいくつかの実施形態では、第３の誘電体層４６は、第１の膜４８、第２の膜５０、および第３のシード膜５４を含む。図７ｄなどのいくつかの実施形態では、第３の誘電体層４６は、第１の膜４８、第２の膜５０、および第３のシード膜５４のみを有する。図７ｃなどのいくつかの実施形態では、第３の誘電体層４６は、第１の膜４８、第２の膜５０、第３の膜５２、および第３のシード膜５４を含む。
コーティング１０は、第３の誘電体層４６の上に堆積された第３の金属層５６をさらに含むことができる。第３の金属層５６は、第１および第２の金属層２８、４２に関して上で議論された材料のいずれかとすることができる。非限定的な一実施形態では、第３の金属層５６は、銀を含む。別の非限定的な一実施形態では、第３の金属層５６は、アルミニウムドープ銀を含む。別の非限定的な一実施形態では、第３の金属層５６は、銀および／または銅を含む。第３の金属層５６は、７５Å～１７５Å、好ましくは１００Å～１５０Å、より好ましくは１１０Å～１３０Å、最も好ましくは１１８Å～１２７Åの範囲の厚さを有することができる。本発明の非限定的な一態様では、第１の金属層２８は、第３の金属層５６よりも薄い。本発明の別の非限定的な一態様では、第２の金属層４２は、第３の金属層５６よりも薄い。
非限定的な一実施形態では、コーティングされた物品は、第１、第２、および第３の金属層２８、４２、５６のみを含む。コーティングされた物品に追加の金属層がなくてもよい。金属層は、銀のみ、アルミニウムドープ銀、または銀と銅を含むことができるか、または８０重量％を超える銀、アルミニウムドープ銀、または銀と銅を含むことができる。
第３のプライマー層５８は、第３の金属層５６の上に堆積することができる。第３のプライマー層５８は、第１または第２のプライマー層３０、４４に関して上記のプライマー材料のいずれかとすることができる。プライマー層に適した材料の例には、亜鉛、アルミニウム、バナジウム、タングステン、タンタル、ニオブ、ジルコニウム、マンガン、クロム、スズ、ニッケル、ガリウム、インジウム、ゲルマニウム、マグネシウム、モリブデン、銀、炭化ケイ素、アルミニウムドープ銀、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、タングステンタンタル、チタンニオブ、ジルコニウムニオブ、タングステンニオブ、アルミニウムニオブ、アルミニウムチタン、タングステンチタン、タンタルチタン、亜鉛チタン、亜鉛スズ、インジウム亜鉛、銀亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、それらの混合物、およびそれらの合金が含まれ、プライマーは金属として堆積され、続いて酸化され得る。プライマー層の少なくとも一部は、窒化物または酸化物である。第３のプライマー層は、第３のプライマー層として使用できる材料のうちのいずれかの酸化物、窒化物、亜酸化物、亜窒化物、酸窒化物、または亜酸窒化物を含むことができる。銀亜鉛、亜鉛、酸化銀亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、または酸化バナジウム亜鉛が第３のプライマー層５８として使用される場合、それは下にある銀層の酸化の前に優先的に酸化する。
一実施形態では、第３のプライマー層５８は、亜鉛を含む。別の一実施形態では、第３のプライマー層５８は、ＡｇｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第３のプライマー層５８は、ＡｇｘＺｎ１－ｘを含む。別の一実施形態では、第３のプライマー層５８は、ＡｌｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第３のプライマー層５８は、ＩｎｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第３のプライマー層５８は、ＧａｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第３のプライマー層５８は、ＶｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第３のプライマー層５８は、ＡｌｘＴｉ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第３のプライマー層５８は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第３のプライマー層５８は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ窒化物を含む。別の一実施形態では、第３のプライマー層５８は、ＷｘＮｂ１－ｘ窒化物を含む。別の一実施形態では、第３のプライマー層５８は、ＷｘＴｉ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第３のプライマー層５８は、ＴｉｘＴａ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第３のプライマー層５８は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第３のプライマー層５８は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ窒化物を含む。別の一実施形態では、第３のプライマー層５８は、ＮｂｘＺｒ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第３のプライマー層５８は、ＴａｘＷ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第３のプライマー層５８は、ＷｘＮｂ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第３のプライマー層５８は、ＺｎｘＴｉ１－ｘ酸化物を含む。第３のプライマー層５８は、５Å～５０Å、例えば、１０Å～３５Å、例えば、１５Å～３５Å、例えば、１０Å～２０Å、例えば、１０Å～３０Å、例えば、２０Å～３０Å、例えば、３０Å～４０Åの範囲の厚さを有する。
第４の誘電体層６０は、第３のプライマー層５８の上に堆積させることができる。第４の誘電体層６０は、第１、第２、または第３の誘電体層２０、３２、４６に関して上で論じたものなどの、１つまたは複数の金属酸化物または金属合金酸化物含有層から構成することができる。あるいはまた、第４の誘電体層は、窒化ケイ素または酸窒化ケイ素を含むことができる。非限定的な一実施形態では、第４の誘電体層６０は、第３のプライマー層５８の上に堆積された第１の膜６２、第１の膜６２の上に堆積された第２の膜６４、および第２の膜６４の上の任意選択の第３の膜６６を含む。第１の膜６２は、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、亜鉛、ビスマス、鉛、インジウム、スズ、ケイ素、ガリウム、バナジウム、およびそれらの混合物からなる群から選択される１つまたは複数の金属の、酸化物、窒化物、酸窒化物、または混合物から構成することができる。一実施形態では、第１の膜６２は、酸化亜鉛またはスズ酸亜鉛を含む。別の一実施形態では、第１の膜６２は、酸化アルミニウム亜鉛を含む。別の一実施形態では、第１の膜６２は、酸化インジウム亜鉛を含む。別の一実施形態では、第１の膜６２は、酸化ガリウム亜鉛を含む。別の一実施形態では、第１の膜６２は、酸化インジウムスズを含む。別の一実施形態では、第１の膜６２は、酸化バナジウム亜鉛を含む。
第４の誘電体層６０は、第１の膜６２の上に堆積された第２の膜６４を含むことができる。一実施形態では、第２の膜６４は、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、亜鉛、ビスマス、鉛、インジウム、スズ、ケイ素、アルミニウム、ガリウム、バナジウム、およびそれらの混合物からなる群から選択される１つまたは複数の金属の、酸化物、窒化物、酸窒化物、または混合物から構成することができる。一実施形態では、第２の膜６４は、スズ酸亜鉛、窒化ケイ素、または酸窒化ケイ素を含む。いくつかの実施形態では、図８ｂのものと同様に、第１の膜６２および第２の膜６４だけが、第４の誘電体層６０の膜である。
第４の誘電体層６０は、第２の膜６４の上に堆積された任意選択の第３の膜６６を含むことができる。第３の膜６６は、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、亜鉛、ビスマス、鉛、インジウム、スズ、ケイ素、アルミニウム、ガリウム、バナジウム、およびそれらの混合物からなる群から選択される１つまたは複数の金属の、酸化物、窒化物、酸窒化物、または混合物から構成することができる。一実施形態では、第３の膜６６は、酸化亜鉛、酸窒化ケイ素、または窒化ケイ素を含む。別の一実施形態では、第３の膜６６は、酸化亜鉛を含む。別の一実施形態では、第３の膜６６は、酸化アルミニウム亜鉛を含む。別の一実施形態では、第３の膜６６は、酸化インジウム亜鉛を含む。別の一実施形態では、第３の膜６６は、酸化ガリウム亜鉛を含む。別の一実施形態では、第３の膜６６は、酸化インジウムスズを含む。別の一実施形態では、第３の膜６６は、酸化バナジウム亜鉛を含む。図８ａおよび図８ｃに示されているものなどのいくつかの実施形態では、第４の誘電体層６０は、第１の膜６２、第２の膜６４、および第３の膜６６を含む。図８ｂなどのいくつかの実施形態では、第４の誘電体層６０は、第１の膜６２、第２の膜６４、および第３の膜６６のみを有する。
非限定的な一実施形態では、第４の誘電体層６０の第１および第３の膜６２、６６はそれぞれ、約５０Å～２００Å、例えば７５Å～１５０Åの範囲内（例えば、１００Å）の厚さを有することができる。第２の膜６４は、２５０Å～９００Å、例えば２７５Å～８００Å、例えば３００Å～７７５Å、例えば３５０Å～７１０Åの範囲内の厚さを有することができる。
第４の誘電体層６０が最上部の誘電体層である実施形態では、第４の誘電体層６０は、１，０００Å以下、例えば６００Å以下、例えば２００Å～６００Åの間、２５０Å～５５０Åの間、例えば３００Å～５００Å、例えば３２５Å～４７５Å、または例えば３６０Å～３９０Åの範囲の厚さを有することができる。第４の誘電体層６０が最上部の誘電体層である実施形態では、第１の誘電体層２０および第４の誘電体層６０の両方を、第２の誘電体層３２および第３の誘電体層４６よりも薄くすることができる。
第４のシード膜６８は、第４の金属層７０に隣接するか、またはそれと直接接触し、第４の誘電体層６０と第４の金属層７０との間にあり得る。第４シード膜６８は、以下：アルミニウム、アルミニウム亜鉛、亜鉛、亜鉛スズ、ゲルマニウム、ニッケル、マグネシウム、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、インジウム亜鉛、バナジウム亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、ニオブ、ジルコニウム、タンタル、モリブデン、アルミニウムドープ銀、銀、銀亜鉛、チタンアルミニウム、それらの混合物、それらの金属、それらの合金、それらの組み合わせ、それらの酸化物、それらの亜酸化物、それらの窒化物、それらの亜窒化物、それらの酸窒化物、それらの亜酸窒化物、それらの酸炭化物、それらの炭窒化物、またはそれらの酸炭窒化物のうちの少なくとも１つから構成される膜である。一実施形態では、第４のシード膜６８は、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、亜鉛、銀亜鉛、それらの金属、それらの合金、それらの酸化物、またはそれらの亜酸化物を含む。別の一実施形態では、第４のシード膜６８は、ガリウム亜鉛、インジウム亜鉛、インジウムスズ、それらの金属、それらの合金、それらの酸化物、それらの窒化物、それらの亜窒化物、またはそれらの亜酸化物を含む。
別の一実施形態では、第４のシード膜６８は、ＶｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２５重量％、好ましくは１～１５重量％、より好ましくは１～１０重量％、最も好ましくは１～８重量％の範囲内である）を含む。別の一実施形態では、第４のシード膜６８は、ＡｌｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２５重量％、好ましくは１～１５重量％、より好ましくは１～１２重量％、最も好ましくは１～１０重量％の範囲内である）を含む。別の一実施形態では、第４のシード膜６８は、ＧａｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２０重量％、好ましくは１～１５重量％、より好ましくは１～１０重量％、最も好ましくは１～５重量％の範囲内である）を含む。別の一実施形態では、第４のシード膜６８は、ＩｎｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～４０重量％、好ましくは１～１８重量％、より好ましくは１～１５重量％、最も好ましくは１～１０重量％の範囲内である）を含む。別の一実施形態では、第４のシード膜６８は、ＳｎｘＩｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２０重量％、好ましくは２～１８重量％、より好ましくは４～１５重量％、最も好ましくは５～１２重量％の範囲内である）を含む。別の一実施形態では、第４のシード膜６８は、酸素／アルゴンガス環境で堆積されたＡｇを含み、酸素の流量は１～７０％、好ましくは１～５０％、より好ましくは１０～４０％、最も好ましくは２０％～４０％である。別の一実施形態では、第４のシード膜６８は、ＡｌｘＡｇ１－ｘ（ただし、ｘは、１～３５重量％（ＢＨおよびＡＨ）、好ましくは１～２０重量％（ＢＨおよびＡＨ）、より好ましくは１～１８重量％（ＢＨおよびＡＨ）、最も好ましくは１～１５重量％（ＢＨおよびＡＨ）の範囲内である）を含む。図８ｃおよび図８ｄなどのいくつかの実施形態では、第４の誘電体層６０は、第１の膜６２、第２の膜６４、および第４のシード膜６８を含む。図８ｄなどのいくつかの実施形態では、第４の誘電体層６０は、第１の膜６２、第２の膜６４、および第４のシード膜６８のみを有する。図８ｃなどのいくつかの実施形態では、第４の誘電体層６０は、第１の膜６２、第２の膜６４、第３の膜６６、および第４のシード膜６８を含む。
本発明に適した別の例示的で非限定的なコーティング１０が、図４ａおよび図４ｂに示されている。コーティング１０は、第４の誘電体層６０の少なくとも一部の上に、またはそれと直接接触して堆積された第４の金属層７０をさらに含むことができる。第４の金属層７０は、第１、第２、または第３の金属層２８、４２、５６に関して上で議論された材料のいずれかとすることができる。非限定的な一実施形態では、第４の金属層７０は、銀および／または銅を含む。別の非限定的な一実施形態では、第４の金属層７０は、アルミニウムドープ銀を含む。第４の金属層７０は、５０Å～１７５Å、好ましくは７５Å～１５０Å、より好ましくは８０Å～１２０Å、最も好ましくは９０Å～１１０Åの範囲の厚さを有することができる。本発明の非限定的な一態様では、第１の金属層２８および第４の金属層７０は、互いの２０％以内、例えば１５％以内、例えば互いの５％～１０％以内の厚さを有する。
非限定的な一実施形態では、コーティングされた物品は、第１、第２、第３、および第４の金属層２８、４２、５６、および７０のみを含む。コーティングされた物品に追加の金属層がなくてもよい。金属層は、銀のみ、アルミニウムドープ銀、または銀と銅を含むか、または８０重量％を超える銀、アルミニウムドープ銀、または銀と銅を含むことができる。
各々の金属層は、ある厚さを有する。すべての金属層の厚さの合計は、少なくとも３０ｎｍ、多くとも６５ｎｍ（例えば、少なくとも３５ｎｍ、多くとも５２ｎｍ）である。非限定的な一実施形態では、金属層を合わせた合計厚さは、５５ナノメートル以下（例えば５２ｎｍ以下、例えば４８ナノメートル以下）である。別の非限定的な一実施形態では、金属層を合わせた合計厚さは、少なくとも３０ｎｍ、少なくとも３２ｎｍ、少なくとも３４ｎｍ、少なくとも３５ｎｍ、少なくとも３８ｎｍ、または少なくとも４０ｎｍである。
第４のプライマー層７２は、第４の金属層７０の少なくとも一部の上に、またはそれと直接接触して堆積させることができる。第４のプライマー層７２は、第１、第２、または第３のプライマー層３０、４４、５８に関して上記したプライマー材料のいずれかとすることができる。プライマー層に適した材料の例には、亜鉛、アルミニウム、バナジウム、タングステン、タンタル、ニオブ、ジルコニウム、マンガン、クロム、スズ、ニッケル、ガリウム、インジウム、ゲルマニウム、マグネシウム、モリブデン、銀、炭化ケイ素、アルミニウムドープ銀、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、タングステンタンタル、チタンニオブ、ジルコニウムニオブ、タングステンニオブ、アルミニウムニオブ、アルミニウムチタン、タングステンチタン、タンタルチタン、亜鉛チタン、亜鉛スズ、インジウム亜鉛、銀亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、それらの混合物、およびそれらの合金が含まれ、プライマーは金属として堆積され、続いて酸化され得る。第４のプライマー層は、第４のプライマー層として使用することができる材料のいずれかの酸化物、窒化物、亜酸化物、亜窒化物、酸窒化物、または亜酸窒化物を含むことができる。プライマー層の少なくとも一部は、窒化物または酸化物である。銀亜鉛、亜鉛、酸化銀亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、または酸化バナジウム亜鉛が第１のプライマー層３０として使用される場合、それは下にある銀層の酸化の前に優先的に酸化する。
一実施形態では、第４プライマー層７２は、亜鉛を含む。別の一実施形態では、第４プライマー層７２は。ＡｇｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第４プライマー層７２は、ＡｇｘＺｎ１－ｘを含む。別の一実施形態では、第４プライマー層７２は、ＡｌｘＺｎ１－ｘ酸化物である。別の一実施形態では、第４プライマー層７２は、ＩｎｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第４プライマー層７２は、ＧａｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第４プライマー層７２は、ＶｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第４プライマー層７２は、ＡｌｘＴｉ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第４プライマー層７２は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第４プライマー層７２は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ窒化物を含む。別の一実施形態では、第４プライマー層７２は、ＷｘＮｂ１－ｘ窒化物を含む。別の一実施形態では、第４プライマー層７２は、ＷｘＴｉ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第４プライマー層７２は、ＴｉｘＴａ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第４プライマー層７２は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第４プライマー層７２は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ窒化物を含む。別の一実施形態では、第４プライマー層７２は、ＮｂｘＺｒ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第４プライマー層７２は、ＴａｘＷ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第４プライマー層７２は、ＷｘＮｂ１－ｘ酸化物を含む。別の一実施形態では、第４プライマー層７２はＺｎｘＴｉ１－ｘ酸化物を含む。第４プライマー層７２は、５Å～５０Å、例えば、１０Å～３５Å、例えば、１５Å～３５Å、例えば、１０Å～２０Å、例えば、１０Å～３０Å、例えば、２０Å～３０Å、例えば、３０Å～４０Åの範囲の厚さを有する。
第５の誘電体層７４は、第４のプライマー層７２の上に、またはそれと直接接触して堆積させることができる。第５の誘電体層７４は、第１、第２、第３、または第４の誘電体層２０、３２、４６、６０に関して上で論じたものなど、１つまたは複数の金属酸化物または金属合金酸化物含有層から構成することができる。非限定的な一実施形態では、第５の誘電体層７４は、第４のプライマー層７２の上またはそれと直接接触して堆積された第１の膜７６を含む。第１の膜７６は、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、亜鉛、ビスマス、鉛、インジウム、スズ、ケイ素、アルミニウム、ガリウム、バナジウム、およびそれらの混合物から構成される群から選択される１つまたは複数の金属の、酸化物、窒化物、酸窒化物、またはそれらの混合物から構成することができる。一実施形態では、第１の膜７６は、酸化亜鉛またはスズ酸亜鉛を含む。別の一実施形態では、第１の膜７６は、酸化アルミニウム亜鉛を含む。別の一実施形態では、第１の膜７６は、酸化インジウム亜鉛を含む。別の一実施形態では、第１の膜７６は、酸化ガリウム亜鉛を含む。別の一実施形態では、第１の膜７６は、酸化インジウムスズを含む。別の一実施形態では、第１の膜７６は、酸化バナジウム亜鉛を含む。
第５の誘電体層７４は、第１の膜７６の少なくとも一部の上に堆積されるか、またはそれと直接接触する第２の膜７８を含むことができる。一実施形態では、第２の膜７８は、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、亜鉛、ビスマス、鉛、インジウム、スズ、ケイ素、アルミニウム、ガリウム、バナジウム、およびそれらの混合物からなる群から選択される１つまたは複数の金属の、酸化物、窒化物、酸窒化物、またはそれらの混合物を含む。一実施形態では、第２の膜７８は、スズ酸亜鉛、窒化ケイ素、または酸窒化ケイ素を含む。図９ｂなどのいくつかの実施形態では、第１の膜７６および第２の膜７８だけが、第５の誘電体層７４の膜である。
第５の誘電体層７４は、第２の膜７８の上に堆積された任意選択の第３の膜８０を含むことができる。第３の膜８０は、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、亜鉛、ビスマス、鉛、インジウム、スズ、ケイ素、アルミニウム、ガリウム、バナジウム、およびそれらの混合物からなる群から選択される１つまたは複数の金属の、酸化物、窒化物、酸窒化物、またはそれらの混合物を含む。一実施形態では、第３の膜８０は、酸化亜鉛、酸窒化ケイ素、または窒化ケイ素を含む。別の一実施形態では、第３の膜８０は、窒化ケイ素を含む。別の一実施形態では、第３の膜８０は、酸化亜鉛を含む。別の一実施形態では、第３の膜８０は、酸化アルミニウム亜鉛を含む。別の一実施形態では、第３の膜８０は、酸化インジウム亜鉛を含む。別の一実施形態では、第３の膜８０は、酸化ガリウム亜鉛を含む。別の一実施形態では、第３の膜８０は、酸化インジウムスズを含む。別の一実施形態では、第３の膜８０は、酸化バナジウム亜鉛を含む。図９ａなどのいくつかの実施形態では、第５の誘電体層７４は、第１の膜７６、第２の膜７８、および第３の膜８０を含む。
第５の誘電体層７４は、１，０００Å以下、例えば８００Å以下、例えば２００Å～７００Åの間、２７５Å～６００Åの間、例えば３００Å～５００Å、例えば３２５Å～４７５Å、または例えば３５０Å～４６０Åの範囲の厚さを有することができる。
物品が第５の誘電体層７４を含む実施形態では、第４の誘電体層６０は、１，４００Å以下、例えば１，２００Å以下、例えば４００Å～１，２００Åの間、５００Å～１，０００Åの間、例えば６００Å～８００Å、例えば６７５Å～７２５Å、または例えば６９０Å～７１０Åの範囲の厚さを有することができる。第５の誘電体層７４が最上部の誘電体層である実施形態では、第１の誘電体層２０および第５の誘電体層７４の両方を、第２の誘電体層３２、第３の誘電体層４６、および第４の誘電体層６０よりも薄くすることができる。
コーティング１０は、最外保護層８４を含むことができ、これは例えば、図１ａ～図４ｂに示される非限定的な実施形態では、処理中の機械的および化学的攻撃から、金属層などの下層を保護するのを助けるために、最上部の誘電体層の上に堆積される。非限定的な一実施形態では、保護層８４は、第２の誘電体層３２、第３の誘電体層４６、第４の誘電体層６０、または第５の誘電体層７４の上に堆積させることができる。別の非限定的な一実施形態では、保護層８４は、金属層３２、５６、または７０、またはプライマー層４４、５８、または７２の上に配置され、任意選択でそれと直接接触することができる。保護層８４は、加熱中または曲げ加工中などに、コーティング１０の下層への周囲酸素の通過を防止または低減するための酸素バリアコーティング層とすることができる。保護層８４は、任意の所望の材料または材料の混合物とすることができる。例示的な一実施形態では、保護層８４は、アルミニウム、ケイ素、またはそれらの混合物の酸化物および／または窒化物などであるがこれらに限定されない、１つまたは複数の金属酸化物または窒化物材料を有する層を含むことができる。例えば、保護コーティング８４は、０重量％～１００重量％のアルミナおよび／または１００重量％～０重量％のシリカ、例えば５重量％～９５重量％のアルミナ４５および９５重量％～５重量％のシリカ、例えば１０重量％～９０重量％のアルミナおよび９０重量％～１０重量％のシリカ、例えば１５重量％～９０重量％のアルミナおよび８５重量％～１０重量％のシリカ、例えば５０重量％～７５重量％のアルミナおよび５０重量％～２５重量％のシリカ、例えば５０重量％～７０重量％のアルミナおよび５０重量％～３０重量％のシリカ、例えば３５重量％～１００重量％のアルミナおよび６５重量％～０重量％のシリカ、例えば、７０重量％～９０重量％のアルミナおよび３０重量％～１０重量％のシリカ、例えば、７５重量％～８５重量％のアルミナおよび２５重量％～１５重量％のシリカ、例えば、８８重量％のアルミナおよび１２重量％のシリカ、例えば、６５重量％～７５重量％のアルミナおよび３５重量％～２５重量％のシリカ、例えば、７０重量％のアルミナおよび３０重量％のシリカ、例えば、６０重量％～７５重量％未満のアルミナおよび２５重量％を超えて４０重量％までのシリカを含む単一のコーティング層とすることができる。例えば、保護層８４の屈折率を調整するために、アルミニウム、クロム、ハフニウム、イットリウム、ニッケル、ホウ素、リン、チタン、ジルコニウム、および／またはそれらの酸化物などの他の材料も存在することができる。非限定的な一実施形態では、保護層８４の屈折率は、１～３、例えば１～２、例えば１．４～２、例えば１．４～１．８の範囲とすることができる。
非限定的な一実施形態では、保護層８４は、シリカとアルミナの組み合わせコーティングを含む。保護コーティング８４は、２つの陰極（例えば、１つのケイ素と１つのアルミニウム）から、またはケイ素とアルミニウムの両方を含む単一の陰極からスパッタリングすることができる。この酸化ケイ素／アルミニウム保護層８４は、ＳｉｘＡｌ［２（１－ｘ）］Ｏ（３－ｘ）（ただし、ｘは、０を超えて１未満で変化し得る）と書くことができる。
別の非限定的な一実施形態では、保護層８４は、チタニアとアルミナの組み合わせを含む。
非限定的な一実施形態では、保護層８４は、窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）、酸窒化ケイ素（ＳｉＯＮ）、窒化ケイ素アルミニウム（ＳｉＡｌＮ）、酸窒化ケイ素アルミニウム（ＳｉＡｌＯＮ）、それらの混合物、および／またはそれらの合金から構成することができ、それは、金属層４２、５６、または７０の耐久性を高めることができる。保護層８４は、ケイ素のスパッタリングを改善するために、優れた導電性を有する他の材料と共に堆積させた窒化ケイ素から形成することができる。例えば、堆積中、ケイ素陰極は、スパッタリングを改善するために少量（例えば、最大２０重量％、最大１５重量％、最大１０重量％、または最大５重量％）のアルミニウムを含むことができる。その場合、得られる窒化ケイ素保護層は、少量のアルミニウム、例えば最大１５重量％のアルミニウム、例えば最大１０重量％アルミニウム、例えば最大５重量％アルミニウムを含む。（陰極の導電率を高めるために添加される）最大１０重量％のアルミニウムを有するケイ素陰極から堆積されたコーティング層は、少量のアルミニウムが存在する場合があるが、本明細書では「窒化ケイ素」層と呼ばれる。陰極中の少量（例えば１５重量％以下、例えば１０重量％以下、例えば５重量％以下）のアルミニウムは、主に窒化ケイ素保護層８４中に窒化アルミニウムを形成すると考えられている。保護層８４は、窒素雰囲気で形成され得るが、保護層８４の堆積中、酸素、アルゴン、空気などの他のガスが雰囲気中に存在し得ることを理解すべきである。例えば、窒化ケイ素は、窒素雰囲気中で堆積され得る。非限定的な一実施形態では、最外保護層８４は、ＳｉＡｌＮ、ＳｉＯＮ、ＳｉＡｌＯＮ、チタニア、アルミナ、シリカ、ジルコニア、それらの合金、またはそれらの混合物から構成することができる。
保護層は、任意の所望の厚さとすることができる。保護層８４は、１０Å～１００，０００Å、例えば１０Å～９０，０００Å、例えば１０Å～８０，０００Å、例えば１０Å～７０，０００Å、例えば１０Å～６０，０００Å、例えば１０Å～５０，０００Å、例えば１０Å～４０，０００Å、例えば１０Å～３０，０００Å、例えば１０Å～２０，０００Å、例えば１０Å～１０，０００Å、例えば１０Å～９，０００Å、例えば１０Å～８，０００Å、例えば１０Å～７，０００Å、例えば１０Å～６，０００Å、例えば１０Å～５，０００Å、例えば１０Å～４，０００Å、例えば１０Å～３，０００Å、例えば１０Å～２，０００Å、例えば１０Å～１，０００Å、例えば１０Å～９００Å、例えば１０Å～８００Å、例えば１０Å～７００Å、例えば１０Å～６００Å、例えば１０Å～５００Å、例えば１０Å～４００Å、例えば１０Å～３００Å、例えば１０Å～２００Å、例えば１０Å～１００Å、例えば１０Å～５０Åの範囲の厚さを有することができる。非限定的な一実施形態では、保護コーティング８４は、１０Å～１００，０００Å、例えば１０Å～９０，０００Å、例えば１０Å～８０，０００Å、例えば１０Å～７０，０００Å、例えば１０Å～６０，０００Å、例えば１０Å～５０，０００Å、例えば１０Å～４０，０００Å、例えば１０Å～３０，０００Å、例えば１０Å～２０，０００Å、例えば１０Å～１０，０００Å、例えば１０Å～９，０００Å、例えば１０Å～８，０００Å、例えば１０Å～７，０００Å、例えば１０Å～６，０００Å、例えば１０Å～５，０００Å、例えば１０Å～４，０００Å、例えば１０Å～３，０００Å、例えば１０Å～２，０００Å、例えば１０Å～１，０００Å、例えば１０Å～９００Å、例えば１０Å～８００Å、例えば１０Å～７００Å、例えば１０Å～６００Å、例えば１０Å～５００Å、例えば１０Å～４００Å、例えば１０Å～３００Å、例えば１０Å～２００Å、例えば１０Å～１００Å、例えば１０Å～５０Åの範囲の厚さを有する酸化ケイ素／アルミニウムコーティング（ＳｉｘＡｌ［２（１－ｘ）］Ｏ（３－ｘ））を含む。保護層８４は、コーティングされた物品の最外層である。さらに、保護層８４は、不均一な厚さとすることができる。「不均一な厚さ」とは、保護層８４の厚さが所与の単位面積にわたって変化し得ることを意味し、例えば、保護層８４は、高いまたは低いスポットまたはエリアを有し得る。
別の非限定的な一実施形態では、保護コーティング８４は、第１の膜と、第１の膜の上に形成された第２の膜とを含む、多層コーティングとすることができる。第１の膜は、アルミナ、シリカ、チタニア、ジルコニア、酸化スズ、またはそれらの混合物を含むことができる。特定の非限定的な一実施形態では、第１の膜は、アルミナ、またはアルミナとシリカを含む混合物または合金を含むことができる。例えば、第１の膜は、５重量％を超えるアルミナ、例えば１０重量％を超えるアルミナ、例えば１５重量％を超えるアルミナ、例えば３０重量％を超えるアルミナ、例えば４０重量％を超えるアルミナ、例えば５０重量％～７０重量％のアルミナ、例えば６０重量％～１００重量％のアルミナおよび４０重量％～０重量％のシリカ、例えば６０重量％のアルミナと４０重量％のシリカを有するシリカ／アルミナ混合物を含むことができる。別の一例では、第１の膜は、スズ酸亜鉛を含むことができる。別の一例では、第１の膜は、ジルコニアを含むことができる。非限定的な一実施形態では、第１の膜は、０Åを超えて５０，０００Åまで、例えば０Åを超えて４５，０００Åまで、例えば０Åを超えて４０，０００Åまで、例えば０Åを超えて３５，０００Åまで、例えば０Åを超えて３０，０００Åまで、例えば０Åを超えて２５，０００Åまで、例えば０Åを超えて２０，０００Åまで、例えば０Åを超えて１５，０００Åまで、例えば０Åを超えて１０，０００Åまで、例えば０Åを超えて５，０００Åまで、例えば０Åを超えて４，５００Åまで、例えば０Åを超えて４，０００Åまで、例えば０Åを超えて３，５００Åまで、例えば０Å～３，０００Åまで、例えば０Åを超えて２，５００Åまで、例えば０Åを超えて２，０００Åまで、例えば０Åを超えて１，５００Åまで、例えば０Åを超えて１，０００Åまで、例えば０Å～５００Åまで、例えば０Åを超えて４５０Åまで、例えば０Åを超えて４００Åまで、例えば０Åを超えて３５０Åまで、例えば０Åを超えて３００Åまで、例えば０Åを超えて２５０Åまで、例えば０Åを超えて２００Åまで、例えば０Åを超えて１５０Åまで、例えば０Åを超えて１００Åまで、例えば０Åを超えて５０Åまで、例えば０Åを超えて２５Åまでの範囲の厚さを有することができる。
保護層８４の第２の膜は、例えば、金属酸化物または金属窒化物を含むことができる。第２の膜は、チタニア、アルミナ、シリカ、ジルコニア、酸化スズ、それらの混合物、またはそれらの合金とすることができる。例えば、第２の膜は、チタニアとアルミナの混合物、チタニアとシリカの混合物、またはジルコニアを含むことができる。第２の膜の一例は、４０～６０重量％のアルミナおよび６０～４０重量％のチタニア、４５～５５重量％のアルミナおよび４５～５５重量％のチタニア、４８～５２重量％のアルミナおよび５２～４８重量％のチタニア、４９～５１重量％のアルミナおよび５１～４９重量％のチタニア、または５０重量％のアルミナおよび５０重量％のチタニアを有するチタニア／アルミナ混合物を含むことができる。第２の膜の一例としては、酸化チタンアルミニウム（ＴｉＡｌＯ）が含まれる。第２の膜の別の一例は、４０重量％を超えるシリカ、例えば５０重量％を超えるシリカ、例えば６０重量％を超えるシリカ、例えば７０重量％を超えるシリカ、例えば８０重量％を超えるシリカ、例えば８０重量％～９０重量％のシリカおよび１０重量％～２０重量％のアルミナ、例えば８５重量％のシリカおよび１５重量％のアルミナを有するシリカ／アルミナ混合物を含む。非限定的な一実施形態では、第２の膜は、０Åを超えて５０，０００Åまで、例えば０Åを超えて４５，０００Åまで、例えば０Åを超えて４０，０００Åまで、例えば０Åを超えて３５，０００Åまで、例えば０Åを超えて３０，０００Åまで、例えば０Åを超えて２５，０００Åまで、例えば０Åを超えて２０，０００Åまで、例えば０Åを超えて１５，０００Åまで、例えば０Åを超えて１０，０００Åまで、例えば０Åを超えて５，０００Åまで、例えば０Åを超えて４，５００Åまで、例えば０Åを超えて４，０００Åまで、例えば０Åを超えて３，５００Åまで、例えば０Å～３，０００Åまで、例えば０Åを超えて２，５００Åまで、例えば０Åを超えて２，０００Åまで、例えば０Åを超えて１，５００Åまで、例えば０Åを超えて１，０００Åまで、例えば０Å～５００Åまで、例えば０Åを超えて４５０Åまで、例えば０Åを超えて４００Åまで、例えば０Åを超えて３５０Åまで、例えば０Åを超えて３００Åまで、例えば０Åを超えて２５０Åまで、例えば０Åを超えて２００Åまで、例えば０Åを超えて１５０Åまで、例えば０Åを超えて１００Åまで、例えば０Åを超えて５０Åまで、例えば０Åを超えて２５Åまでの範囲の厚さを有することができる。適切な保護層の非限定的な例は、例えば、米国特許出願第１０／００７，３８２号、第１０／１３３，８０５号、第１０／３９７，００１号、第１０／４２２，０９４号、第１０／４２２，０９５号、および第１０／４２２，０９６号に記載される。
非限定的な例では、保護層８４は、第２の膜の上に形成された追加の第３の膜を含むことができる。この第３の膜は、第１の膜または第２の膜を形成するために使用される材料のうちのいずれかとすることができる。第３の膜は、例えば、アルミナ、シリカ、チタニア、ジルコニア、酸化スズ、またはそれらの混合物を含むことができる。例えば、第３の膜は、シリカとアルミナの混合物を含むことができる。別の一例では、第３の膜は、ジルコニアを含む。
上部誘電体層と保護層８４との間、かつ上部誘電体層の少なくとも一部の上、または上部誘電体層と直接接触して、応力層８２があってもよい。応力層８２は、保護層８４の下に追加されて、コーティングのシート抵抗を減少させる。応力層８２は、０．５～３０ｎｍ、好ましくは１～２５ｎｍ、より好ましくは１～２０ｎｍ、または最も好ましくは１～１８ｎｍの厚さを有することができる。特定の実施形態では、応力層８２は、ケイ素、コバルト、チタン、ニオブ、ジルコニウム、タンタル、酸素、および／またはチタンを含むことができる。一実施形態では、応力層８２は、ケイ素コバルトを含む。一実施形態では、応力層８２は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ亜酸化物または酸化物（ただし、ｘは、１～１００重量％（ＢＨおよびＡＨ）の範囲内である）を含む。別の一実施形態では、応力層８２は、ＮｂｘＺｒ１－ｘ亜酸化物または酸化物（ただし、ｘは、１～１２重量％ＡＨ、好ましくは１～１１重量％ＡＨ、より好ましくは１～１１重量％ＡＨ、最も好ましくは１～１０重量％ＡＨの範囲内である）を含む。別の一実施形態では、応力層８２は、ＴｉｘＴａ１－ｘ亜酸化物または酸化物（ただし、ｘは、１～１００重量％ＡＨ、好ましくは１～２０重量％ＡＨまたは３０～１００重量％ＡＨ、より好ましくは１～１０重量％ＡＨまたは５００重量％ＡＨ、最も好ましくは１～４重量％ＡＨまたは６０～１００重量％ＡＨの範囲内である）を含む。別の一実施形態では、応力層８２は、ＳｉｘＣｏ１－ｘ亜酸化物または酸化物（ｘは、１０～９０重量％ＡＨ、好ましくは１５～９０重量％ＡＨ、より好ましくは１８～９０重量％ＡＨ、最も好ましくは２０～９０重量％ＡＨの範囲内である）を含む。
本発明の構成を組み込んだ非限定的な加熱可能な透明体１００（例えば、自動車のフロントガラス）が、図１０および図１１に示されている。透明体１００は、任意の所望の可視光、赤外放射線、または紫外放射線の透過および反射を有することができる。例えば、透明体１００は、任意の所望の量の（例えば０％を超えて１００％までの、例えば７０％を超える）可視光透過率を有することができる。米国におけるフロントガラスとフロントサイドライトのエリアでは、通常、可視光透過率は７０％以上である。後部座席のサイドライトおよび後部窓などのプライバシーエリアでは、可視光透過率はフロントガラスの透過率よりも低く、例えば７０％未満になり得る。
図１１に見られるように、透明体１００は、車両の外側に面する第１の主表面（すなわち、外側主表面１４（Ｎｏ．１表面）および反対側の第２のまたは内側主表面１６（Ｎｏ．２表面））を有する、第１のプライまたは第１の基材１２を含む。透明体１００はまた、外側（第１の）主表面１１２（Ｎｏ．４表面）および内側（第２の）主表面１１４（Ｎｏ．３表面）を有する、第２のプライまたは第２の基材１１０を含む。プライ表面のこの番号付けは、自動車技術における従来の慣行と一致している。第１および第２のプライ１２、１１０は、例えば、従来の中間層１０８によって、任意の適切な方法で共に結合することができる。必須ではないが、積層中および／または積層後に、任意の所望の方法で、従来のエッジシーラントを積層透明体１００の周囲に付着させることができる。装飾バンド、例えば不透明、半透明、または着色されたシェードバンド１０２（図１１に示される）、例えばセラミックスバンドは、プライ１２、１１０の少なくとも一方の表面上、例えば、第１のプライ１２の内側主表面１６の周囲の周りに提供され得る。コーティング１０は、プライ１２、１１０のうちの１つの少なくとも一部の上（例えば、Ｎｏ．２表面１６またはＮｏ．３表面１１４の上）に形成される。バスバーアセンブリ１２０（図１０）は、コーティング１０と電気的に接触している。バスバーアセンブリ１２０は、電源１２２（図１０）にも接続されており、以下でより詳細に説明する。本発明の非限定的な一態様では、電源１２２は、例えば、約１４ボルトを供給するように構成された従来の車両オルタネータとすることができる。したがって、本発明の非限定的な一実施形態の実施において、ＤＣ－ＤＣ電力コンバータは存在しない。非限定的な一実施形態では、電源１２２は、４２ボルトのＤＣオルタネータとすることができるか、またはＤＣ－ＤＣコンバータを追加して、１４ボルトのオルタネータからの電圧を十分なレベル（例えば、４２ボルトのＤＣ）まで昇圧することができる。別の一実施形態では、電源１２２は、１４ボルトの車両オルタネータとすることができる。
本発明の広範な実施において、透明体１００のプライ１２、１１０は、同じまたは異なる材料とすることができる。プライ１２、１１０は、任意の所望の特性を有する任意の所望の材料を含むことができる。例えば、プライ１２、１１０の１つまたは複数は、可視光に対して透明または半透明とすることができる。「透明」とは、可視光透過率が０％を超えて１００％までであることを意味する。あるいはまた、プライ１２、１１０の１つまたは複数を半透明にすることができる。「半透明」とは、電磁エネルギー（例えば、可視光）を通過させるが、このエネルギーを拡散させて、観察者の反対側の物体がはっきりと見えないようにすることを意味する。適切な材料の例としては、プラスチック基材（例えば、アクリルポリマー（例えば、ポリアクリレート）、ポリアルキルメタクリレート（例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリプロピルメタクリレートなど）、ポリウレタン、ポリカーボネート、ポリアルキルテレフタレート（例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなど）、ポリシロキサン含有ポリマー、またはこれらを調製するための任意のモノマーのコポリマー、またはそれらの任意の混合物）、セラミックス基材、ガラス基材、または上記のいずれかの混合物または組み合わせが挙げられるが、これらに限定されない。例えば、プライ１２、１１０の１つまたは複数は、従来のソーダ石灰ケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、または鉛ガラスを含むことができる。ガラスは、透明なガラスとすることができる。「透明なガラス」とは、無着色または無色のガラスを意味する。あるいはまた、ガラスは、着色されたガラスまたは別の方法で色付けされたガラスとすることができる。ガラスは、アニールまたは熱処理されたガラスとすることができる。本明細書で使用する場合、「熱処理」という用語は、焼き戻しまたは少なくとも部分焼き戻しを意味する。ガラスは、従来のフロートガラスなどの任意のタイプのものとすることができ、任意の光学特性（例えば、可視透過率、紫外線透過率、赤外線透過率、および／または全太陽エネルギー透過率の任意の値）を有する任意の組成のものとすることができる。「フロートガラス」とは、溶融ガラスを溶融金属浴上に堆積させ、制御可能に冷却してフロートガラスリボンを形成する従来のフロート法によって形成されたガラスを意味する。次に、リボンは、必要に応じて切断および／または成形および／または熱処理される。フロートガラスプロセスの例は、米国特許第４，４６６，５６２号および第４，６７１，１５５号に開示されている。第１および第２のプライ１２、１１０はそれぞれ、例えば、透明なフロートガラスとすることができるか、または着色ガラスまたは色ガラスとすることができるか、または一方のプライ１２、１１０を透明ガラスとして、他方のプライ１２、１１０を色ガラスとすることができる。本発明を限定するものではないが、第１のプライ１２および／または第２のプライ１１０に適したガラスの例は、米国特許第４，７４６，３４７号、第４，７９２，５３６号、第５，０３０，５９３号、第５，０３０，５９４号、第５，２４０，８８６号、第５，３８５，８７２号、および第５，３９３，５９３号に記載されている。第１および第２のプライ１２、１１０は、任意の所望の寸法（例えば、長さ、幅、形状、または厚さ）とすることができる。１つの例示的な自動車用透明体では、第１および第２のプライはそれぞれ、１ｍｍ～１０ｍｍの厚さ、例えば、１ｍｍ～５ｍｍの厚さ、または１．５ｍｍ～２．５ｍｍ、または１．８ｍｍ～２．３ｍｍとすることができる。非限定的な一実施形態では、第１のプライ１２および／または第２のプライ１１０は、５５０ｎｍの基準波長で９０％を超える（例えば、９１％を超える）可視光透過率を有することができる。第１のプライ１２および／または第２のプライ１１０のガラス組成は、０重量％を超えて０．２重量％までの範囲の全鉄含有量および／または０．３～０．６の範囲の酸化還元比を有することができる。
非限定的な一実施形態では、プライ１２、１１０の一方または両方が、５５０ナノメートル（ｎｍ）の基準波長で高い可視光透過率を有し得る。「高い可視光透過率」とは、５５０ｎｍでの可視光透過率が、２ｍｍ～２５ｍｍの板厚のガラスの場合、５．５ｍｍの等価厚で、８５％以上、例えば８７％以上、例えば９０％以上、例えば９１％以上、例えば９２％以上であることを意味する。本発明を実施するのに特に有用なガラスは、米国特許第５，０３０，５９３号および第５，０３０，５９４号に開示されている。
中間層１０８は、任意の所望の材料とすることができ、１つまたは複数の層またはプライを含むことができる。中間層１０８は、例えば、ポリビニルブチラール、可塑化ポリ塩化ビニル、またはポリエチレンテレフタレートなどを含む多層熱可塑性材料などのポリマー材料またはプラスチック材料とすることができる。適切な中間層は、例えば、米国特許第４，２８７，１０７号および第３，７６２，９８８号に開示されているが、限定として見なされるべきではない。中間層１０８は、第１および第２のプライ１２、１１０を共に固定し、エネルギー吸収を提供し、音を低減し、積層構造の強度を増加させる。中間層１０８はまた、例えば、米国特許第５，７９６，０５５号に記載されているように、吸音または減衰材料であってもよい。中間層１０８は、太陽制御コーティングをその上に設けるかまたはその中に組み込むことができるか、または太陽エネルギーの透過を低減するために色付けされた材料を含むことができる。
図１０および図１１に示される非限定的な実施形態では、バスバーアセンブリ１２０は、外側プライ１２の内面１６上に形成され、バスバーからバスバーまでの距離Ｄによって分離された、第１のまたは下部バスバー１０４および第２のまたは上部バスバー１０６を含む。バスバー１０４、１０６は、コーティング１０と電気的に接触している。バスバーアセンブリ１２０はまた、第１のバスバー１０４に接続された第１の導電性リードまたはストリップ１１６と、第２のバスバー１０６に接続された第２の導電性リードまたはストリップ１１８とを含む。リード１１６、１１８のそれぞれは、電源１２２に接続される。バスバー１０４、１０６および／または導電性ストリップ１１６、１１８は、導電性金属箔またはストリップ（銅箔またはスズメッキ銅箔などであるが、これらに限定されない）から形成することができるか、または導電性コーティング（例えば、セラミックスコーティング）によって形成することができるか、それらの組み合わせである。本発明の非限定的な一実施形態では、バスバー１０４および１０６は、（図１１に示すように）装飾バンド１０２上に少なくとも部分的に、または完全に配置することができる。
電源１２２は、任意の従来の電源とすることができる。しかしながら、非限定的な一実施形態では、電源１２２は、１３ボルト～１５ボルトの範囲、例えば約１４ボルトを供給するように構成された従来の車両オルタネータとすることができる。
本発明の構成を組み込んださらなる透明体１３０が図１２に示されている。透明体１３０の構成は、透明体１００と同様であるが、コーティング１０は、切り欠き１３２および１３４などの１つまたは複数の「切り欠き」領域を含む。切り欠き１３２および１３４は、コーティング１０を第１の主要部分１３６、第２の主要部分１３８、および中央部分１４０に分割する。この非限定的な実施形態におけるバスバーアセンブリ１４２は、クワッドフィードアセンブリである、すなわち、４つのバスバー１５２、１５４、１５６、および１５８にそれぞれ接続された４つのコネクタ１４４、１４６、１４８、および１５０を有する。バスバー１５２および１５４は、主に第１の主要部分１３６に電力を供給し、バスバー１５６および１５８は、主に第２の主要領域１３８に電力を供給する。
本発明の非限定的な一実施形態では、コーティングが従来の車両オルタネータ（例えば、８０アンペアと１４ボルトを生成する従来のオルタネータ）と電気的に接触している場合、コーティング１０は、２４インチ～３０インチ（６０ｃｍ～７５ｃｍ）の範囲で、バスバーからバスバーまでの距離Ｄ（図１０を参照）でデシメートル当たり２～１０ワット（Ｗ／ｄｍ２）の電力密度（例えば、４～８Ｗ／ｄｍ２、例えば、５～６Ｗ／ｄｍ２）を提供するように構成または寸法決めされる。そのような電力密度は、基材１２の外面１４と接触している氷を溶かすのに十分であると考えられる。米国における視界パネル（例えば、フロントガラス）の場合、透明体は、７０％以上（例えば、７１％以上）の可視光透過率も有する必要がある。当業者には理解されるように、十分な導電率と十分な透過率を有するコーティングを提供するには、いくつかの異なる競合要因のバランスを取る必要がある。例えば、バスバー間の距離Ｄが増加する（すなわち、透明体が上から下まで広くなる）につれて、バスバー間の抵抗が増加する。バスバー間の抵抗が増加すると、電力密度が低下する。バスバー間の距離が長くなっても電力密度を維持するには、コーティングの抵抗率を減少させる必要がある。抵抗率を減少させる１つの方法は、１つまたは複数の銀層の厚さを増加させることによる、および／または銀層の数を増加させることによるものである。本発明の１つの非限定的な実施において、銀層の厚さおよび／または数は、０．６～１．５オーム／スクエア（Ω／□）、例えば０．６～１．０オーム／スクエア（Ω／□）、例えば０．６～０．９オーム／スクエア（Ω／□）のコーティングの総抵抗率を与えるように構成される。本発明の１つの非限定的な実施において、銀層の厚さおよび／または数は、０．８５０オーム／スクエア（Ω／□）、例えば０．８００オーム／スクエア（Ω／□）、例えば０．７００オーム／スクエア（Ω／□）、例えば０．６９５オーム／スクエア（Ω／□）の総抵抗率を与えるように構成される。しかしながら、これもまた当業者には理解されるように、銀層の数または厚さが増加するにつれて、可視光透過率が減少する。フロントガラスなどの車両の前方視界領域では、銀層の厚さおよび／または数を、視界領域の可視光透過率が約７０％を下回る点まで増加させるべきではない。
本発明の１つの非限定的な実施において、コーティングは、２５％以下の可視光反射率を提供する。例えば、２０％以下、例えば１０％以下、例えば８％以下である。
本発明の１つの非限定的な実施において、コーティング１０は、０～－１０の範囲内の、８度の角度での外部反射ａ＊（Ｒｇ８ａ＊）を提供する。例えば、－１～－８、好ましくは－１．２～－７．０、より好ましくは－１．５～－６．８、最も好ましくは－１．７～－６．５の範囲内である。
本発明の１つの非限定的な実施において、コーティング１０は、２～－８の範囲内の、８度の角度での外部反射ｂ＊（Ｒｇ８ｂ＊）を提供する。例えば、２．５～－８．０、好ましくは２．０～－７．５、より好ましくは１．８～－７．３、最も好ましくは１．５～－７．０の範囲内である。
本発明の一実施形態は、誘電体層間に挟まれた３つの金属層のみを有する車両透明体である。各々の金属層は、ある厚さを有する。３つの金属層すべてを合わせた厚さは、３０ｎｍ～６５ｎｍであり、好ましくは３２ｎｍ～５２ｎｍの間、より好ましくは３４ｎｍ～５０ｎｍの間、最も好ましくは３５ｎｍ～４８ｎｍの間である。この車両の透明体は、表１に示すようなコーティングを有することができる。
本発明の一実施形態は、誘電体層間に挟まれた４つの金属層のみを有する車両透明体である。各々の金属層は、ある厚さを有する。４つの金属層すべてを合わせた厚さは、３０ｎｍ～６５ｎｍであり、好ましくは３５ｎｍ～５５ｎｍの間、より好ましくは３９ｎｍ～５３ｎｍの間、最も好ましくは４０ｎｍ～５２ｎｍの間である。この車両の透明体は、表２に示すようなコーティングを有することができる。
図１３は、表面上での膜成長の初期核生成の図を示している。核の形成は、体積および表面のギブズ自由エネルギーを含む、系のギブズ自由エネルギーの変化につながる。２Ｄ層を成長させるには、成長面が２次元成長のために高い表面エネルギー（つまり、高い表面張力）を有する必要があり、ギブズ自由エネルギーの変化は、より緻密な膜を生成するのに十分大きい必要がある。したがって、上に銀が成長する材料（すなわち、シード膜）と下で銀が覆われる材料（すなわち、プライマー層）は、緻密な２次元の銀の成長を促進し、銀の凝集を避けるために、高いギブズ自由エネルギーを有する必要がある。銀と比較して凝集エネルギーとギブズ自由エネルギーが高い元素の一部を以下の表３に示す。これらの元素は、シード膜またはプライマー層のいずれかとして使用すると、銀の凝集を減少させる可能性のある材料の一部である。
本発明は、コーティングされた物品のこれらの様々な実施形態を生成する方法も含む。これは、基材を提供するステップと、基材の上にコーティングを付着させるステップであって、コーティングは、基材の少なくとも一部の上に付着された第１の誘電体層と、第１の誘電体層の少なくとも一部の上に付着された任意選択の第１のシード膜と、第１の誘電体層または任意選択の第１のシード膜の少なくとも一部の上に付着された第１の金属層と、第１の金属層の少なくとも一部の上に付着された第１のプライマー層と、第１のプライマー層の少なくとも一部の上に付着された第２の誘電体層とを含む、付着させるステップとを含む。上記の方法で提供されるコーティングはまた、第２の誘電体層の少なくとも一部の上に付着された第２のシード膜、第２の誘電体層または第２のシード膜の少なくとも一部の上に付着された第２の金属層、第２の金属層の少なくとも一部の上に付着された第２のプライマー層、第２のプライマー層の少なくとも一部の上に付着された第３の誘電体層、第３の誘電体層の少なくとも一部の上に付着された第３のシード膜、第３の誘電体層または第３のシード膜の少なくとも一部の上に付着された第３の金属層、第３の金属層の少なくとも一部の上に付着された第３のプライマー層、第３のプライマー層の少なくとも一部の上に付着された第４の誘電体層、第４の誘電体層の少なくとも一部の上に付着された第４のシード膜、第４の誘電体層または第４のシード膜の少なくとも一部の上に付着された第４の金属層、第４の金属層の少なくとも一部の上に付着された第４のプライマー層、および／または第４のプライマー層の少なくとも一部の上に付着された第５の誘電体層を任意選択で含むことができる。上記の方法のコーティングはまた、任意選択で、最上部の誘電体層の少なくとも一部の上の保護層、および／または最上部の誘電体層の少なくとも一部の上で、最上部の誘電体層と保護層との間に付着された応力層を含むことができる。
本発明は、コーティングされた物品のこれらの様々な実施形態を生成する方法も含む。これは、基材を提供するステップと、基材の上にコーティングを付着させるステップと、コーティングを含む基材を加熱するステップと、コーティングを含む基材を所望の形状に曲げるステップとを含み、コーティングは、基材の少なくとも一部の上に付着された第１の誘電体層と、第１の誘電体層の少なくとも一部の上に付着された任意選択の第１のシード膜と、第１の誘電体層または任意選択の第１のシード膜の少なくとも一部の上に付着された第１の金属層と、第１の金属層の少なくとも一部の上に付着された第１のプライマー層と、第１のプライマー層の少なくとも一部の上に付着された第２の誘電体層とを含む。上記の方法で提供されるコーティングはまた、第２の誘電体層の少なくとも一部の上に付着された第２のシード膜、第２の誘電体層または第２のシード膜の少なくとも一部の上に付着された第２の金属層、第２の金属層の少なくとも一部の上に付着された第２のプライマー層、第２のプライマー層の少なくとも一部の上に付着された第３の誘電体層、第３の誘電体層の少なくとも一部の上に付着された第３のシード膜、第３の誘電体層または第３のシード膜の少なくとも一部の上に付着された第３の金属層、第３の金属層の少なくとも一部の上に付着された第３のプライマー層、第３のプライマー層の少なくとも一部の上に付着された第４の誘電体層、第４の誘電体層の少なくとも一部の上に付着された第４のシード膜、第４の誘電体層または第４のシード膜の少なくとも一部の上に付着された第４の金属層、第４の金属層の少なくとも一部の上に付着された第４のプライマー層、および／または第４のプライマー層の少なくとも一部の上に付着された第５の誘電体層を任意選択で含むことができる。上記の方法のコーティングはまた、任意選択で、最上部の誘電体層の少なくとも一部の上の保護層、および／または最上部の誘電体層の少なくとも一部の上で、最上部の誘電体層と保護層との間に付着された応力層を含むことができる。
前述のように、コーティングのシート抵抗は、個々の層に新しい材料を使用することで減少させることができる。新しい層をまとめて追加することで、シート抵抗はまた減少すると予想される。表４では、Ｔｉプライマー層の代わりに、Ｔｉ７８Ｎｂ２２をスタック内に統合した。銀金属層の下には、シード膜として酸素堆積を伴うＡｇも含まれていた。基材は、透明なガラス基材である。ＺＴは、スズ酸亜鉛としても知られる亜鉛スズを表す。Ｚｎ９０は、酸素の存在下で１０重量％のスズおよび９０重量％の亜鉛を含む陰極から堆積させたスズドープ酸化亜鉛（すなわち、ＺｎＯ ９０／１０）である。Ａｇは銀を意味する。ＰＰＯは、上で説明した保護層またはコーティングである。これらの層を統合する前に、各々の層はシート抵抗が最も低くなるように最適化された。次の表に、様々な組み合わせでの最良のサンプルを示す。
前述の応力層として保護層の下にＴｉ７８Ｎｂ２２Ｏｘを挿入した追加のコーティングスタックもテストされた。ベースラインから最終的なコーティングスタックまで、合計３つの層が変更された。そのシート抵抗の値を表５に見ることができる。
表６は、Ｔｉプライマー層またはＴｉ７８Ｎｂ２２プライマー層をＴｉ３Ｎｂ９７Ｎｘまたは窒化チタンニオブに置き換えている。
表７は、誘電体層の一部として銀層の上下にアルミニウム亜鉛プライマーおよび酸化アルミニウム亜鉛を用いたコーティングスタック実験を示す。単一の銀スタックの場合、シート抵抗は、３．７５から３．２１Ω／□に減少している。
表８は、銀層の上下にアルミニウム亜鉛プライマーおよび酸化アルミニウム亜鉛を用いたコーティングスタック実験を示す。ＡＺプライマーと、ＡｇとＺｎ９０Ｓｎ１０Ｏとの間のＡｇ酸素堆積シード膜とを使用したトリプル銀スタックでは、シート抵抗が１から０．７３Ω／□に減少している。
保護層の下に応力層を追加すると、コーティングスタックのシート抵抗がさらに減少する可能性がある。応力層として使用するために、様々な追加材料がテストされた。これらの材料のいくつかが表９に示され、これらの材料を応力層として含めると、シート抵抗が減少することを示している。
金属層を取り囲む誘電体層の膜をＶＺｎＯ（酸化バナジウム亜鉛）に置換する実験が行われた。金属層の直下の誘電体層の上部膜が置換され、金属層の直上の誘電体層の下部膜が置換された。これらは、Ｔｉプライマー層および亜鉛金属プライマー層の両方と対になった。これらの実験の結果を、以下の表１０に示す。
（条項１） 基材と、基材の少なくとも一部の上の第１の誘電体層と、第１の誘電体層の少なくとも一部の上の第１の金属層と、第１の金属層の少なくとも一部の上の第１のプライマー層と、第１のプライマー層の少なくとも一部の上の第２の誘電体層とを含み、プライマー層は、亜鉛、アルミニウムドープ銀、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、タングステンタンタル、チタンニオブ、ジルコニウムニオブ、タングステンニオブ、アルミニウムニオブ、アルミニウムチタン、タングステンチタン、タンタルチタン、亜鉛チタン、亜鉛スズ、インジウム亜鉛、銀亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、それらの組み合わせ、それらの混合物、またはそれらの合金からなる群から選択される、コーティングされた物品。
（条項２） プライマー層の少なくとも一部は、酸化物または窒化物である、条項１に記載の物品。
（条項３） 第１の金属層に隣接して直接接触し、かつ第１の誘電体層と第１の金属層との間のシード膜を含む、条項１または２に記載の物品。
（条項４） プライマー層は、銀亜鉛、亜鉛、酸化銀亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化バナジウム亜鉛、それらの混合物、それらの組み合わせ、またはそれらの合金からなる群から選択される、条項１～３のいずれか一項に記載の物品。
（条項５） プライマー層は、金属、酸化物、窒化物、亜酸化物、亜窒化物、酸窒化物、および／または亜酸窒化物である、条項１～４のいずれか一項に記載の物品。
（条項６） シード膜は、アルミニウム、アルミニウム亜鉛、亜鉛、亜鉛スズ、ゲルマニウム、ニッケル、マグネシウム、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、インジウム亜鉛、バナジウム亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、ニオブ、ジルコニウム、タンタル、モリブデン、アルミニウムドープ銀、銀、銀亜鉛、チタンアルミニウム、それらの混合物、それらの金属、それらの合金、それらの組み合わせ、それらの酸化物、それらの亜酸化物、それらの窒化物、それらの亜窒化物、それらの酸窒化物、それらの亜酸窒化物、それらの酸炭化物、それらの炭窒化物、またはそれらの酸炭窒化物から構成される、条項３～５のいずれか一項に記載の物品。
（条項７） シード膜は、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、亜鉛、または銀亜鉛を含む、条項３～６のいずれか一項に記載の物品。
（条項８） シード膜は、金属、酸化物、または亜酸化物である、条項７に記載の物品。
（条項９） シード膜は、ガリウム亜鉛、インジウム亜鉛、またはインジウムスズを含む、条項３～６のいずれか一項に記載の物品。
（条項１０） シード膜は、金属、酸化物、窒化物、亜酸化物、または亜窒化物である、条項９に記載の物品。
（条項１１） 第２の誘電体層の少なくとも一部の上の第２の金属層と、第２の金属層の少なくとも一部の上の第２のプライマー層と、第２のプライマー層の少なくとも一部の上の第３の誘電体層とをさらに含む、条項１～１０のいずれか一項に記載の物品。
（条項１２） 第３の誘電体層の少なくとも一部の上の第３の金属層と、第３の金属層の少なくとも一部の上の第３のプライマー層と、第３のプライマー層の少なくとも一部の上の第４の誘電体層とをさらに含む、条項１１に記載の物品。
（条項１３） 第４の誘電体層の少なくとも一部の上の第４の金属層と、第４の金属層の少なくとも一部の上の第４のプライマー層と、第４のプライマー層の少なくとも一部の上の第５の誘電体層とをさらに含む、条項１２に記載の物品。
（条項１４） １つまたは複数の金属層は、銀またはアルミニウムドープ銀を含む、条項１～１３のいずれか一項に記載の物品。
（条項１５） 第１の誘電体層は、スズ酸亜鉛膜と、スズ酸亜鉛膜の少なくとも一部の上に、酸化亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛のうちの少なくとも１つを含む第２の膜とを含む、条項１～１４のいずれか一項に記載の物品。
（条項１６） 第１の誘電体層は、スズ酸亜鉛膜と、スズ酸亜鉛膜の少なくとも一部の上に、酸化アルミニウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛のうちの少なくとも１つを含む第２の膜とを含む、条項１～１５のいずれか一項に記載の物品。
（条項１７） 第２の誘電体層および第３の誘電体層は、酸化亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛を含む第１の膜と、第１の膜の少なくとも一部の上に、スズ酸亜鉛を含む第２の膜と、第２の膜の少なくとも一部の上に、酸化亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛のうちの少なくとも１つを含む第３の膜とを含む、条項１１～１６のいずれか一項に記載の物品。
（条項１８） 第２の誘電体層および第３の誘電体層は、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛を含む第１の膜と、第１の膜の少なくとも一部の上に、スズ酸亜鉛を含む第２の膜と、第２の膜の少なくとも一部の上に、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛のうちの少なくとも１つを含む第３の膜とを含む、条項１１～１６のいずれか一項に記載の物品。
（条項１９） 第４の誘電体層は、酸化亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛のうちの少なくとも１つを含む第１の膜と、第１の膜の少なくとも一部の上のスズ酸亜鉛とを含む、条項１２～１８のいずれか一項に記載の物品。
（条項２０） 第４の誘電体層は、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛のうちの少なくとも１つを含む第１の膜と、第１の膜の少なくとも一部の上のスズ酸亜鉛膜とを含む、条項１２～１９のいずれか一項に記載の物品。
（条項２１） 第１の誘電体層または第２の誘電体層は、窒化ケイ素膜を含む、条項１～２０のいずれか一項に記載の物品。
（条項２２） ＳｉＡｌＮ、ＳｉＯＮ、ＳｉＡｌＯＮ、チタニア、アルミナ、シリカ、ジルコニア、それらの合金、またはそれらの混合物を含む、最外保護層をさらに含む、条項１～２１のいずれか一項に記載の物品。
（条項２３） 最外保護層の下に応力層をさらに含む、条項２２に記載の物品。
（条項２４） 応力層は、ケイ素コバルト、チタンニオブ、ジルコニウムニオブ、タンタルチタン、それらの酸化物、またはそれらの亜酸化物を含む、条項２３に記載の物品。
（条項２５） プライマー層は、ＡｌｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて３０重量％までの範囲内である）を含む、条項１～２４のいずれか一項に記載の物品。
（条項２６） プライマー層は、ＧａｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて２０重量％までの範囲内である）を含む、条項１～２４のいずれか一項に記載の物品。
（条項２７） プライマー層は、ＩｎｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて４０重量％までの範囲内である）を含む、条項１～２４のいずれか一項に記載の物品。
（条項２８） プライマー層は、ＶｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて２０重量％までの範囲内である）を含む、条項１～２４のいずれか一項に記載の物品。
（条項２９） プライマー層は、ＡｇｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて５０重量％までの範囲内である）を含む、条項１～２４のいずれか一項に記載の物品。
（条項３０） プライマー層は、ＡｌｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で２～７５重量％の範囲内である）を含む、条項１～２４のいずれか一項に記載の物品。
（条項３１） プライマー層は、ＡｌｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で１～１００重量％の範囲内である）を含む、条項１～２４のいずれか一項に記載の物品。
（条項３２） プライマー層は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で２～４０重量％の範囲内である）を含む、条項１～２４のいずれか一項に記載の物品。
（条項３３） プライマー層は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で２～９５重量％の範囲内である）を含む、条項１～２４のいずれか一項に記載の物品。
（条項３４） プライマー層は、ＷｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、堆積中に７％のＯ２を含む加熱前で５５～１００重量％の範囲内である）を含む、条項１～２４のいずれか一項に記載の物品。
（条項３５） プライマー層は、ＷｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、堆積中に３％のＯ２を含む加熱後で３０～９５重量％の範囲内である）を含む、条項１～２４のいずれか一項に記載の物品。
（条項３６） プライマー層は、ＴｉｘＴａ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で２～８０重量％の範囲内である）を含む、条項１～２４のいずれか一項に記載の物品。
（条項３７） プライマー層は、ＴｉｘＴａ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で２～４０重量％の範囲内である）を含む、条項１～２４のいずれか一項に記載の物品。
（条項３８） プライマー層は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で２～９５重量％の範囲内である）を含む、条項１～２４のいずれか一項に記載の物品。
（条項３９） プライマー層は、ＮｂｘＺｒ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で１～８０重量％の範囲内である）を含む、条項１～２４のいずれか一項に記載の物品。
（条項４０） プライマー層は、ＮｂｘＺｒ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で６０～１００重量％の範囲内である）を含む、条項１～２４のいずれか一項に記載の物品。
（条項４１） プライマー層は、ＴａｘＷ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で２～９５重量％の範囲内である）を含む、条項１～２４のいずれか一項に記載の物品。
（条項４２） プライマー層は、ＷｘＮｂ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で５～１００重量％の範囲内である）を含む、条項１～２４のいずれか一項に記載の物品。
（条項４３） プライマー層は、ＷｘＮｂ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で２～５０重量％の範囲内である）を含む、条項１～２４のいずれか一項に記載の物品。
（条項４４） プライマー層は、ＺｎｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で１０～１００重量％の範囲内である）を含む、条項１～２４のいずれか一項に記載の物品。
（条項４５） プライマー層は、ＺｎｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で２０～１００重量％の範囲内である）を含む、条項１～２４のいずれか一項に記載の物品。
（条項４６） １つまたは複数のプライマー層の少なくとも一部が窒化物である、条項１～４５のいずれか一項に記載の物品。
（条項４７） プライマー層は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ窒化物（ただし、ｘは、加熱前で１～１００重量％の範囲内である）を含む、条項４６に記載の物品。
（条項４８） プライマー層は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ窒化物（ただし、ｘは、加熱後で１～１００重量％の範囲内である）を含む、条項４６に記載の物品。
（条項４９） プライマー層は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ窒化物（ただし、ｘは、１～６５重量％の範囲内である）を含む、条項４６に記載の物品。
（条項５０） プライマー層は、ＷｘＮｂ１－ｘ窒化物（ただし、ｘは、加熱前で２～９０重量％の範囲内である）を含む、条項４６に記載の物品。
（条項５１） プライマー層は、ＷｘＮｂ１－ｘ窒化物（ただし、ｘは、加熱後で２～７０重量％の範囲内である）を含む、条項４６に記載の物品。
（条項５２） シード膜は、ＶｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２５重量％の範囲内である）を含む、条項３～５１のいずれか一項に記載の物品。
（条項５３） シード膜は、ＡｌｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２５重量％の範囲内である）を含む、条項３～５１のいずれか一項に記載の物品。
（条項５４） シード膜は、ＧａｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２０重量％の範囲内である）を含む、条項３～５１のいずれか一項に記載の物品。
（条項５５） シード膜は、ＩｎｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～４０重量％の範囲内である）を含む、条項３～５１のいずれか一項に記載の物品。
（条項５６） シード膜は、ＳｎｘＩｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２０重量％の範囲内である）を含む、条項３～５１のいずれか一項に記載の物品。
（条項５７） シード膜はＡｇを含み、Ａｇは、１～７０％の酸素ガス流量を有する酸素およびアルゴンガス環境内で堆積される、条項３～５１のいずれか一項に記載の物品。
（条項５８） シード膜は、ＡｌｘＡｇ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前後で１～３５重量％の範囲内である）を含む、条項３～５１のいずれか一項に記載の物品。
（条項５９） 応力層は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ亜酸化物または酸化物（ただし、ｘは、加熱前後で１～１００重量％の範囲である）を含む、条項２３～５８のいずれか一項に記載の物品。
（条項６０） 応力層は、ＮｂｘＺｒ１－ｘ亜酸化物または酸化物（ただし、ｘは、加熱後で１～１２重量％の範囲である）を含む、条項２３～５８のいずれか一項に記載の物品。
（条項６１） 応力層は、ＴｉｘＴａ１－ｘ亜酸化物または酸化物（ただし、ｘは、加熱後で１～１００重量％の範囲である）を含む、条項２３～５８のいずれか一項に記載の物品。
（条項６２） 応力層は、ＳｉｘＣｏ１－ｘ亜酸化物または酸化物（ただし、ｘは、加熱後で１０～９０重量％の範囲である）を含む、条項２３～５８のいずれか一項に記載の物品。
（条項６３） 物品は、少なくとも７０％の可視光透過率を有する、条項１～６２のいずれか一項に記載の物品。
（条項６４） 物品は、０．７オーム／スクエア以下のシート抵抗を有する、条項１～６３のいずれか一項に記載の物品。
（条項６５） 基材と、基材の少なくとも一部の上の第１の誘電体層と、第１の誘電体層の少なくとも一部の上の第１の金属層と、第１の金属層の少なくとも一部の上の第１のプライマー層と、第１のプライマー層の少なくとも一部の上の第２の誘電体層と、最外保護層とを含み、応力層が、保護外層と上部誘電体層との間に追加され、ケイ素コバルト、チタンニオブ、ジルコニウムニオブ、タンタルチタン、それらの酸化物、またはそれらの亜酸化物のうちの１つまたは組み合わせを含む、コーティングされた物品。
（条項６６） プライマー層の少なくとも一部は、酸化物または窒化物である、条項６５に記載の物品。
（条項６７） 第１の金属層に隣接して直接接触し、かつ第１の誘電体層と第１の金属層との間のシード膜を含む、条項６５または６６に記載の物品。
（条項６８） プライマー層は、銀亜鉛、亜鉛、酸化銀亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化バナジウム亜鉛、それらの混合物、それらの組み合わせ、およびそれらの合金からなる群から選択される、条項６５～６７のいずれか一項に記載の物品。
（条項６９） プライマー層は、金属、酸化物、窒化物、亜酸化物、亜窒化物、酸窒化物、または亜酸窒化物である、条項６５～６７のいずれか一項に記載の物品。
（条項７０） シード膜は、アルミニウム、アルミニウム亜鉛、亜鉛、亜鉛スズ、ゲルマニウム、ニッケル、マグネシウム、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、インジウム亜鉛、バナジウム亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、ニオブ、ジルコニウム、タンタル、モリブデン、アルミニウムドープ銀、銀、銀亜鉛、チタンアルミニウム、それらの混合物、それらの金属、それらの合金、それらの組み合わせ、それらの酸化物、それらの亜酸化物、それらの窒化物、それらの亜窒化物、それらの酸窒化物、それらの亜酸窒化物、それらの酸炭化物、それらの炭窒化物、またはそれらの酸炭窒化物から構成される、条項６７～６９のいずれか一項に記載の物品。
（条項７１） シード膜は、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、亜鉛、または銀亜鉛を含む、条項７０に記載の物品。
（条項７２） シード膜は、金属、酸化物、または亜酸化物である、条項７１に記載の物品。
（条項７３） シード膜は、ガリウム亜鉛、インジウム亜鉛、またはインジウムスズを含む、条項７０に記載の物品。
（条項７４） シード膜は、金属、酸化物、窒化物、亜酸化物、または亜窒化物である、条項７３に記載の物品。
（条項７５） 第２の誘電体層の少なくとも一部の上の第２の金属層と、第２の金属層の少なくとも一部の上の第２のプライマー層と、第２のプライマー層の少なくとも一部の上の第３の誘電体層とをさらに含む、条項６５～７４のいずれか一項に記載の物品。
（条項７６） 第３の誘電体層の少なくとも一部の上の第３の金属層と、第３の金属層の少なくとも一部の上の第３のプライマー層と、第３のプライマー層の少なくとも一部の上の第４の誘電体層とをさらに含む、条項７５に記載の物品。
（条項７７） 第４の誘電体層の少なくとも一部の上の第４の金属層と、第４の金属層の少なくとも一部の上の第４のプライマー層と、第４のプライマー層の少なくとも一部の上の第５の誘電体層とをさらに含む、条項７６に記載の物品。
（条項７８） １つまたは複数の金属層が、銀またはアルミニウムドープ銀を含む、条項６５～７７のいずれか一項に記載の物品。
（条項７９） 第１の誘電体層はスズ酸亜鉛膜を含み、第２の膜は、スズ酸亜鉛膜の少なくとも一部の上に、酸化亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛を含む、条項６５～７８のいずれか一項に記載の物品。
（条項８０） 第１の誘電体層は、スズ酸亜鉛膜と、スズ酸亜鉛膜の少なくとも一部の上に、酸化アルミニウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛のうちの少なくとも１つを含む第２の膜とを含む、条項６５～７８のいずれか一項に記載の物品。
（条項８１） 第２の誘電体層および第３の誘電体層は、酸化亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛を含む第１の膜と、第１の膜の少なくとも一部の上にスズ酸亜鉛を含む第２の膜と、第２の膜の少なくとも一部の上に、酸化亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛のうちの少なくとも１つを含む第３の膜とを含む、条項７５～８０のいずれか一項に記載の物品。
（条項８２） 第２の誘電体層および第３の誘電体層は、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛を含む第１の膜と、第１の膜の少なくとも一部の上にスズ酸亜鉛を含む第２の膜と、第２の膜の少なくとも一部の上に、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛のうちの少なくとも１つを含む第３の膜とを含む、条項７５～８１のいずれか一項に記載の物品。
（条項８３） 第４の誘電体層は、酸化亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛のうちの少なくとも１つを含む第１の膜と、第１の膜の少なくとも一部の上のスズ酸亜鉛とを含む、条項７６～８２のいずれか一項に記載の物品。
（条項８４） 第４の誘電体層は、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛のうちの少なくとも１つを含む第１の膜と、第１の膜の少なくとも一部の上のスズ酸亜鉛膜とを含む、条項７６～８３のいずれか一項に記載の物品。
（条項８５） 第１の誘電体層または第２の誘電体層は、窒化ケイ素膜を含む、条項６５～８４のいずれか一項に記載の物品。
（条項８６） 最外保護層は、ＳｉＡｌＮ、ＳｉＯＮ、ＳｉＡｌＯＮ、チタニア、アルミナ、シリカ、ジルコニア、それらの合金、またはそれらの混合物を含む、条項６５～８５のいずれか一項に記載の物品。
（条項８７） 応力層は、ケイ素コバルト、チタンニオブ、ジルコニウムニオブ、タンタルチタン、それらの酸化物、またはそれらの亜酸化物を含む、条項６５～８６のいずれか一項に記載の物品。
（条項８８） プライマー層は、ＡｌｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて３０重量％までの範囲内である）を含む、条項６５～８７のいずれか一項に記載の物品。
（条項８９） プライマー層は、ＧａｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて２０重量％までの範囲内である）を含む、条項６５～８７のいずれか一項に記載の物品。
（条項９０） プライマー層は、ＩｎｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて４０重量％までの範囲内である）を含む、条項６５～８７のいずれか一項に記載の物品。
（条項９１） プライマー層は、ＶｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて２０重量％までの範囲内である）を含む、条項６５～８７のいずれか一項に記載の物品。
（条項９２） プライマー層は、ＡｇｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて５０重量％までの範囲内である）を含む、条項６５～８７のいずれか一項に記載の物品。
（条項９３） プライマー層は、ＡｌｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で２～７５重量％の範囲内である）を含む、条項６５～８７のいずれか一項に記載の物品。
（条項９４） プライマー層は、ＡｌｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で１～１００重量％の範囲内である）を含む、条項６５～８７のいずれか一項に記載の物品。
（条項９５） プライマー層は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で２～４０重量％の範囲内である）を含む、条項６５～８７のいずれか一項に記載の物品。
（条項９６） プライマー層は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で２～９５重量％の範囲内である）を含む、条項６５～８７のいずれか一項に記載の物品。
（条項９７） プライマー層は、ＷｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、堆積中に７％のＯ２を含む加熱前で５５～１００重量％の範囲内である）を含む、条項６５～８７のいずれか一項に記載の物品。
（条項９８） プライマー層は、ＷｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、堆積中に３％のＯ２を含む加熱後で３０～９５重量％の範囲内である）を含む、条項６５～８７のいずれか一項に記載の物品。
（条項９９） プライマー層は、ＴｉｘＴａ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で２～８０重量％の範囲内である）を含む、条項６５～８７のいずれか一項に記載の物品。
（条項１００） プライマー層は、ＴｉｘＴａ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で２～４０重量％の範囲内である）を含む、条項６５～８７のいずれか一項に記載の物品。
（条項１０１） プライマー層は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で２～９５重量％の範囲内である）を含む、条項６５～８７のいずれか一項に記載の物品。
（条項１０２） プライマー層は、ＮｂｘＺｒ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で１～８０重量％の範囲内である）を含む、条項６５～８７のいずれか一項に記載の物品。
（条項１０３） プライマー層は、ＮｂｘＺｒ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で６０～１００重量％の範囲内である）を含む、条項６５～８７のいずれか一項に記載の物品。
（条項１０４） プライマー層は、ＴａｘＷ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で２～９５重量％の範囲内である）を含む、条項６５～８７のいずれか一項に記載の物品。
（条項１０５） プライマー層は、ＷｘＮｂ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で５～１００重量％の範囲内である）を含む、条項６５～８７のいずれか一項に記載の物品。
（条項１０６） プライマー層は、ＷｘＮｂ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で２～５０重量％の範囲内である）を含む、条項６５～８７のいずれか一項に記載の物品。
（条項１０７） プライマー層は、ＺｎｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で１０～１００重量％の範囲内である）を含む、条項６５～８７のいずれか一項に記載の物品。
（条項１０８） プライマー層は、ＺｎｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で２０～１００重量％の範囲内である）を含む、条項６５～８７のいずれか一項に記載の物品。
（条項１０９） １つまたは複数のプライマー層の少なくとも一部が窒化物である、条項６５～１０８のいずれか一項に記載の物品。
（条項１１０） プライマー層は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ窒化物（ただし、ｘは、加熱前で１～１００重量％の範囲内である）を含む、条項１０９に記載の物品。
（条項１１１） プライマー層は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ窒化物（ただし、ｘは、加熱後で１～１００重量％の範囲内である）を含む、条項１０９に記載の物品。
（条項１１２） プライマー層は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ窒化物（ただし、ｘは、１～６５重量％の範囲内である）を含む、条項１０９に記載の物品。
（条項１１３） プライマー層は、ＷｘＮｂ１－ｘ窒化物（ただし、ｘは、加熱前で２～９０重量％の範囲内である）を含む、条項１０９に記載の物品。
（条項１１４） プライマー層は、ＷｘＮｂ１－ｘ窒化物（ただし、ｘは、加熱後で２～７０重量％の範囲内である）を含む、条項１０９に記載の物品。
（条項１１５） シード膜は、ＶｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２５重量％の範囲内である）を含む、条項６７～１１４のいずれか一項に記載の物品。
（条項１１６） シード膜は、ＡｌｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２５重量％の範囲内である）を含む、条項６７～１１４のいずれか一項に記載の物品。
（条項１１７） シード膜は、ＧａｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２０重量％の範囲内である）を含む、条項６７～１１４のいずれか一項に記載の物品。
（条項１１８） シード膜は、ＩｎｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～４０重量％の範囲内である）を含む、条項６７～１１４のいずれか一項に記載の物品。
（条項１１９） シード膜は、ＳｎｘＩｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２０重量％の範囲内である）を含む、条項６７～１１４のいずれか一項に記載の物品。
（条項１２０） シード膜はＡｇを含み、Ａｇは、０～７０％のガス流量を有する酸素およびアルゴンガス環境内で堆積される、条項６７～１１４のいずれか一項に記載の物品。
（条項１２１） シード膜は、ＡｌｘＡｇ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前後で１～３５重量％の範囲内である）を含む、条項６７～１１４のいずれか一項に記載の物品。
（条項１２２） 応力層は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ亜酸化物または酸化物（ただし、ｘは、加熱前後で１～１００重量％の範囲である）を含む、条項６５～１２１のいずれか一項に記載の物品。
（条項１２３） 応力層は、ＮｂｘＺｒ１－ｘ亜酸化物または酸化物（ただし、ｘは、加熱後で１～１２重量％の範囲である）を含む、条項６５～１２１のいずれか一項に記載の物品。
（条項１２４） 応力層は、ＴｉｘＴａ１－ｘ亜酸化物または酸化物（ただし、ｘは、加熱後で１～１００重量％の範囲である）を含む、条項６５～１２１のいずれか一項に記載の物品。
（条項１２５） 応力層は、ＳｉｘＣｏ１－ｘ亜酸化物または酸化物（ただし、ｘは、加熱後で１０～９０重量％の範囲である）を含む、条項６５～１２１のいずれか一項に記載の物品。
（条項１２６） 物品は、少なくとも７０％の可視光透過率を有する、条項６５～１２５のいずれか一項に記載の物品。
（条項１２７） 物品は、０．７オーム／スクエア以下のシート抵抗を有する、条項６５～１２６のいずれか一項に記載の物品。
（条項１２８） コーティングされた物品の製造方法であって、基材を提供するステップと、基材の上にコーティングを付着させるステップであって、コーティングは、基材の少なくとも一部の上の第１の誘電体層と、第１の誘電体層の少なくとも一部の上の第１の金属層と、第１の金属層の少なくとも一部の上の第１のプライマー層と、第１のプライマー層の少なくとも一部の上の第２の誘電体層とを含み、プライマー層は、亜鉛、アルミニウムドープ銀、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、タングステンタンタル、チタンニオブ、ジルコニウムニオブ、タングステンニオブ、アルミニウムニオブ、アルミニウムチタン、タングステンチタン、タンタルチタン、亜鉛チタン、亜鉛スズ、インジウム亜鉛、銀亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、それらの混合物、またはそれらの合金からなる群から選択される、付着させるステップとを含む、方法。
（条項１２９） コーティングされた物品の製造方法であって、基材を提供するステップと、基材の上にコーティングを付着させるステップであって、コーティングは、基材の少なくとも一部の上の第１の誘電体層と、第１の誘電体層の少なくとも一部の上の第１の金属層と、第１の金属層の少なくとも一部の上の第１のプライマー層と、第１のプライマー層の少なくとも一部の上の第２の誘電体層とを含み、プライマー層は、亜鉛、アルミニウムドープ銀、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、タングステンタンタル、チタンニオブ、ジルコニウムニオブ、タングステンニオブ、アルミニウムニオブ、アルミニウムチタン、タングステンチタン、タンタルチタン、亜鉛チタン、亜鉛スズ、インジウム亜鉛、銀亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、それらの混合物、またはそれらの合金からなる群から選択される、付着させるステップと、コーティングを含む基材を加熱するステップと、コーティングを含む基材を所望の形状に曲げるステップとを含む、方法。
（条項１３０） プライマー層の少なくとも一部は、酸化物または窒化物である、条項１２８または１２９に記載の方法。
（条項１３１） 物品は、第１の金属層に隣接して直接接触し、かつ第１の誘電体層と第１の金属層との間のシード膜を含む、条項１２８～１３０のいずれか一項に記載の方法。
（条項１３２） プライマー層は、銀亜鉛、亜鉛、酸化銀亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化バナジウム亜鉛、それらの混合物、それらの組み合わせ、およびそれらの合金からなる群から選択される、条項１２８～１３１のいずれか一項に記載の方法。
（条項１３３） プライマー層は、金属、酸化物、窒化物、亜酸化物、亜窒化物、酸窒化物、または亜酸窒化物である、条項１２８～１３２のいずれか一項に記載の方法。
（条項１３４） シード膜は、アルミニウム、アルミニウム亜鉛、亜鉛、亜鉛スズ、ゲルマニウム、ニッケル、マグネシウム、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、インジウム亜鉛、バナジウム亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、ニオブ、ジルコニウム、タンタル、モリブデン、アルミニウムドープ銀、銀、銀亜鉛、チタンアルミニウム、それらの混合物、それらの金属、それらの合金、それらの組み合わせ、それらの酸化物、それらの亜酸化物、それらの窒化物、それらの亜窒化物、それらの酸窒化物、それらの亜酸窒化物、それらの酸炭化物、それらの炭窒化物、またはそれらの酸炭窒化物から構成される、条項１３１～１３３のいずれか一項に記載の方法。
（条項１３５） シード膜は、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、亜鉛、または銀亜鉛を含む、条項１３１～１３４のいずれか一項に記載の方法。
（条項１３６） シード膜は、金属、酸化物、または亜酸化物である、条項１３５に記載の方法。
（条項１３７） シード膜は、ガリウム亜鉛、インジウム亜鉛、またはインジウムスズを含む、条項１３１～１３４のいずれか一項に記載の方法。
（条項１３８） シード膜は、金属、酸化物、窒化物、亜酸化物、または亜窒化物である、条項１３７に記載の方法。
（条項１３９） 物品は、第２の誘電体層の少なくとも一部の上の第２の金属層と、第２の金属層の少なくとも一部の上の第２のプライマー層と、第２のプライマー層の少なくとも一部の上の第３の誘電体層とをさらに含む、条項１２８～１３８のいずれか一項に記載の方法。
（条項１４０） 物品は、第３の誘電体層の少なくとも一部の上の第３の金属層と、第３の金属層の少なくとも一部の上の第３のプライマー層と、第３のプライマー層の少なくとも一部の上の第４の誘電体層とをさらに含む、条項１３９に記載の方法。
（条項１４１） 物品は、第４の誘電体層の少なくとも一部の上の第４の金属層と、第４の金属層の少なくとも一部の上の第４のプライマー層と、第４のプライマー層の少なくとも一部の上の第５の誘電体層とをさらに含む、条項１４０に記載の方法。
（条項１４２） １つまたは複数の金属層が、銀またはアルミニウムドープ銀を含む、条項１２８～１４１のいずれか一項に記載の方法。
（条項１４３） 第１の誘電体層はスズ酸亜鉛膜を含み、第２の膜は、スズ酸亜鉛膜の少なくとも一部の上に、酸化亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛を含む、条項１２８～１４２のいずれか一項に記載の方法。
（条項１４４） 第１の誘電体層は、スズ酸亜鉛膜と、スズ酸亜鉛膜の少なくとも一部の上に、酸化アルミニウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛のうちの少なくとも１つを含む第２の膜とを含む、条項１２８～１４３のいずれか一項に記載の方法。
（条項１４５） 第２の誘電体層および第３の誘電体層は、酸化亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛を含む第１の膜と、第１の膜の少なくとも一部の上にスズ酸亜鉛を含む第２の膜と、第２の膜の少なくとも一部の上に、酸化亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛のうちの少なくとも１つを含む第３の膜とを含む、条項１３９～１４４のいずれか一項に記載の方法。
（条項１４６） 第２の誘電体層および第３の誘電体層は、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛を含む第１の膜と、第１の膜の少なくとも一部の上にスズ酸亜鉛を含む第２の膜と、第２の膜の少なくとも一部の上に、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛のうちの少なくとも１つを含む第３の膜とを含む、条項１３９～１４５のいずれか一項に記載の方法。
（条項１４７） 第４の誘電体層は、酸化亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛のうちの少なくとも１つを含む第１の膜と、第１の膜の少なくとも一部の上のスズ酸亜鉛とを含む、条項１４０～１４６のいずれか一項に記載の方法。
（条項１４８） 第４の誘電体層は、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛のうちの少なくとも１つを含む第１の膜と、第１の膜の少なくとも一部の上のスズ酸亜鉛膜とを含む、条項１４０～１４７のいずれか一項に記載の方法。
（条項１４９） 第１の誘電体層または第２の誘電体層は、窒化ケイ素膜を含む、条項１２８～１４８のいずれか一項に記載の方法。
（条項１５０） 物品は、ＳｉＡｌＮ、ＳｉＯＮ、ＳｉＡｌＯＮ、チタニア、アルミナ、シリカ、ジルコニア、それらの合金、またはそれらの混合物を含む最外保護層をさらに含む、条項１２８～１４９のいずれか一項に記載の方法。
（条項１５１） 物品は、最外保護層の下に応力層をさらに含む、条項１５０に記載の方法。
（条項１５２） 応力層は、ケイ素コバルト、チタンニオブ、ジルコニウムニオブ、タンタルチタン、それらの酸化物、またはそれらの亜酸化物を含む、条項１５１に記載の方法。
（条項１５３） プライマー層は、ＡｌｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて３０重量％までの範囲内である）を含む、条項１２８～１５２のいずれか一項に記載の方法。
（条項１５４） プライマー層は、ＧａｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて２０重量％までの範囲内である）を含む、条項１２８～１５２のいずれか一項に記載の方法。
（条項１５５） プライマー層は、ＩｎｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて４０重量％までの範囲内である）を含む、条項１２８～１５２のいずれか一項に記載の方法。
（条項１５６） プライマー層は、ＶｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて２０重量％までの範囲内である）を含む、条項１２８～１５２のいずれか一項に記載の方法。
（条項１５７） プライマー層は、ＡｇｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて５０重量％までの範囲内である）を含む、条項１２８～１５２のいずれか一項に記載の方法。
（条項１５８） プライマー層は、ＡｌｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で２～７５重量％の範囲内である）を含む、条項１２８～１５２のいずれか一項に記載の方法。
（条項１５９） プライマー層は、ＡｌｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で１～１００重量％の範囲内である）を含む、条項１２８～１５２のいずれか一項に記載の方法。
（条項１６０） プライマー層は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で２～４０重量％の範囲内である）を含む、条項１２８～１５２のいずれか一項に記載の方法。
（条項１６１） プライマー層は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で２～９５重量％の範囲内である）を含む、条項１２８～１５２のいずれか一項に記載の方法。
（条項１６２） プライマー層は、ＷｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、堆積中に７％のＯ２を含む加熱前で５５～１００重量％の範囲内である）を含む、条項１２８～１５２のいずれか一項に記載の方法。
（条項１６３） プライマー層は、ＷｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、堆積中に３％のＯ２を含む加熱後で３０～９５重量％の範囲内である）を含む、条項１２８～１５２のいずれか一項に記載の方法。
（条項１６４） プライマー層は、ＴｉｘＴａ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で２～８０重量％の範囲内である）を含む、条項１２８～１５２のいずれか一項に記載の方法。
（条項１６５） プライマー層は、ＴｉｘＴａ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で２～４０重量％の範囲内である）を含む、条項１２８～１５２のいずれか一項に記載の方法。
（条項１６６） プライマー層は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で２～９５重量％の範囲内である）を含む、条項１２８～１５２のいずれか一項に記載の方法。
（条項１６７） プライマー層は、ＮｂｘＺｒ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で１～８０重量％の範囲内である）を含む、条項１２８～１５２のいずれか一項に記載の方法。
（条項１６８） プライマー層は、ＮｂｘＺｒ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で６０～１００重量％の範囲内である）を含む、条項１２８～１５２のいずれか一項に記載の方法。
（条項１６９） プライマー層は、ＴａｘＷ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で２～９５重量％の範囲内である）を含む、条項１２８～１５２のいずれか一項に記載の方法。
（条項１７０） プライマー層は、ＷｘＮｂ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で５～１００重量％の範囲内である）を含む、条項１２８～１５２のいずれか一項に記載の方法。
（条項１７１） プライマー層は、ＷｘＮｂ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で２～５０重量％の範囲内である）を含む、条項１２８～１５２のいずれか一項に記載の方法。
（条項１７２） プライマー層は、ＺｎｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で１０～１００重量％の範囲内である）を含む、条項１２８～１５２のいずれか一項に記載の方法。
（条項１７３） プライマー層は、ＺｎｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で２０～１００重量％の範囲内である）を含む、条項１２８～１５２のいずれか一項に記載の方法。
（条項１７４） １つまたは複数のプライマー層の少なくとも一部が窒化物である、条項１２８～１７３のいずれか一項に記載の方法。
（条項１７５） プライマー層は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ窒化物（ただし、ｘは、加熱前で１～１００重量％の範囲内である）を含む、条項１７４に記載の方法。
（条項１７６） プライマー層は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ窒化物（ただし、ｘは、加熱後で１～１００重量％の範囲内である）を含む、条項１７４に記載の方法。
（条項１７７） プライマー層は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ窒化物（ただし、ｘは、１～６５重量％の範囲内である）を含む、条項１７４に記載の方法。
（条項１７８） プライマー層は、ＷｘＮｂ１－ｘ窒化物（ただし、ｘは、加熱前で２～９０重量％の範囲内である）を含む、条項１７４に記載の方法。
（条項１７９） プライマー層は、ＷｘＮｂ１－ｘ窒化物（ただし、ｘは、加熱後で２～７０重量％の範囲内である）を含む、条項１７４に記載の方法。
（条項１８０） シード膜は、ＶｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２５重量％の範囲内である）を含む、条項１３１～１７９のいずれか一項に記載の方法。
（条項１８１） シード膜は、ＡｌｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２５重量％の範囲内である）を含む、条項１３１～１７９のいずれか一項に記載の方法。
（条項１８２） シード膜は、ＧａｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２０重量％の範囲内である）を含む、条項１３１～１７９のいずれか一項に記載の方法。
（条項１８３） シード膜は、ＩｎｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～４０重量％の範囲内である）を含む、条項１３１～１７９のいずれか一項に記載の方法。
（条項１８４） シード膜は、ＳｎｘＩｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２０重量％の範囲内である）を含む、条項１３１～１７９のいずれか一項に記載の方法。
（条項１８５） シード膜はＡｇを含み、Ａｇは、１～７０％の酸素ガス流量を有する酸素およびアルゴンガス環境内で堆積される、条項１３１～１７９のいずれか一項に記載の方法。
（条項１８６） シード膜は、ＡｌｘＡｇ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前後で１～３５重量％の範囲内である）を含む、条項１３１～１７９のいずれか一項に記載の方法。
（条項１８７） 応力層は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ亜酸化物または酸化物（ただし、ｘは、加熱前後で１～１００重量％の範囲である）を含む、節１５１～１８６のいずれか一項に記載の方法。
（条項１８８） 応力層は、ＮｂｘＺｒ１－ｘ亜酸化物または酸化物（ただし、ｘは、加熱後で１～１２重量％の範囲である）を含む、条項１５１～１８６のいずれか一項に記載の方法。
（条項１８９） 応力層は、ＴｉｘＴａ１－ｘ亜酸化物または酸化物（ただし、ｘは、加熱後で１～１００重量％の範囲である）を含む、条項１５１～１８６のいずれか一項に記載の方法。
（条項１９０） 応力層は、ＳｉｘＣｏ１－ｘ亜酸化物または酸化物（ただし、ｘは、加熱後で１０～９０重量％の範囲である）を含む、条項１５１～１８６のいずれか一項に記載の方法。
（条項１９１） 物品は、少なくとも７０％の可視光透過率を有する、条項１２８～１９０のいずれか一項に記載の方法。
（条項１９２） 物品は、０．７オーム／スクエア以下のシート抵抗を有する、条項１２８～１９１のいずれか一項に記載の方法。
（条項１９３） コーティングされた物品の製造方法であって、基材を提供するステップと、基材の上にコーティングを付着させるステップであって、コーティングは、基材の少なくとも一部の上の第１の誘電体層と、第１の誘電体層の少なくとも一部の上の第１の金属層と、第１の金属層の少なくとも一部の上の第１のプライマー層と、第１のプライマー層の少なくとも一部の上の第２の誘電体層とを含み、保護外層と上部誘電体層との間に応力層が追加され、応力層は、ケイ素コバルト、チタンニオブ、ジルコニウムニオブ、タンタルチタン、それらの酸化物、またはそれらの亜酸化物を含む、付着させるステップとを含む、方法。
（条項１９４） コーティングされた物品の製造方法であって、基材を提供するステップと、基材の上にコーティングを付着させるステップであって、コーティングは、基材の少なくとも一部の上の第１の誘電体層と、第１の誘電体層の少なくとも一部の上の第１の金属層と、第１の金属層の少なくとも一部の上の第１のプライマー層と、第１のプライマー層の少なくとも一部の上の第２の誘電体層とを含み、保護外層と上部誘電体層との間に応力層が追加され、応力層は、ケイ素コバルト、チタンニオブ、ジルコニウムニオブ、タンタルチタン、それらの酸化物、またはそれらの亜酸化物を含む、付着させるステップと、コーティングを含む基材を加熱するステップと、コーティングを含む基材を所望の形状に曲げるステップとを含む、方法。
（条項１９５） プライマー層の少なくとも一部は、酸化物または窒化物である、条項１９３または１９４に記載の方法。
（条項１９６） 物品は、第１の金属層に隣接して直接接触し、かつ第１の誘電体層と第１の金属層との間のシード膜を含む、条項１９３～１９５のいずれか一項に記載の方法。
（条項１９７） プライマー層は、銀亜鉛、亜鉛、酸化銀亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化バナジウム亜鉛、それらの混合物、それらの組み合わせ、およびそれらの合金からなる群から選択される、条項１９３～１９６のいずれか一項に記載の方法。
（条項１９８） プライマー層は、金属、酸化物、窒化物、亜酸化物、亜窒化物、酸窒化物、または亜酸窒化物である、条項１９３～１９７のいずれか一項に記載の方法。
（条項１９９） シード膜は、アルミニウム、アルミニウム亜鉛、亜鉛、亜鉛スズ、ゲルマニウム、ニッケル、マグネシウム、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、インジウム亜鉛、バナジウム亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、ニオブ、ジルコニウム、タンタル、モリブデン、アルミニウムドープ銀、銀、銀亜鉛、チタンアルミニウム、それらの混合物、それらの金属、それらの合金、それらの組み合わせ、それらの酸化物、それらの亜酸化物、それらの窒化物、それらの亜窒化物、それらの酸窒化物、それらの亜酸窒化物、それらの酸炭化物、それらの炭窒化物、またはそれらの酸炭窒化物から構成される、条項１９６～１９８のいずれか一項に記載の方法。
（条項２００） シード膜は、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、亜鉛、または銀亜鉛を含む、条項１９６～１９９に記載の方法。
（条項２０１） シード膜は、金属、酸化物、または亜酸化物である、条項２００に記載の方法。
（条項２０２） シード膜は、ガリウム亜鉛、インジウム亜鉛、またはインジウムスズを含む、条項１９６～１９９に記載の方法。
（条項２０３） シード膜は、金属、酸化物、窒化物、亜酸化物、または亜窒化物である、条項２０２に記載の方法。
（条項２０４） 物品は、第２の誘電体層の少なくとも一部の上の第２の金属層と、第２の金属層の少なくとも一部の上の第２のプライマー層と、第２のプライマー層の少なくとも一部の上の第３の誘電体層とをさらに含む、条項１９３～２０３のいずれか一項に記載の方法。
（条項２０５） 物品は、第３の誘電体層の少なくとも一部の上の第３の金属層と、第３の金属層の少なくとも一部の上の第３のプライマー層と、第３のプライマー層の少なくとも一部の上の第４の誘電体層とをさらに含む、条項２０４に記載の方法。
（条項２０６） 物品は、第４の誘電体層の少なくとも一部の上の第４の金属層と、第４の金属層の少なくとも一部の上の第４のプライマー層と、第４のプライマー層の少なくとも一部の上の第５の誘電体層とをさらに含む、条項２０５に記載の方法。
（条項２０７） １つまたは複数の金属層が、銀またはアルミニウムドープ銀を含む、条項１９３～２０６のいずれか一項に記載の方法。
（条項２０８） 第１の誘電体層はスズ酸亜鉛膜を含み、第２の膜は、スズ酸亜鉛膜の少なくとも一部の上に、酸化亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛を含む、条項１９３～２０７のいずれか一項に記載の方法。
（条項２０９） 第１の誘電体層が、スズ酸亜鉛膜と、スズ酸亜鉛膜の少なくとも一部の上に、酸化アルミニウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛のうちの少なくとも１つを含む第２の膜とを含む、条項１９３～２０８のいずれか一項に記載の方法。
（条項２１０） 第２の誘電体層および第３の誘電体層は、酸化亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛を含む第１の膜と、第１の膜の少なくとも一部の上にスズ酸亜鉛を含む第２の膜と、第２の膜の少なくとも一部の上に、酸化亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛のうちの少なくとも１つを含む第３の膜とを含む、条項２０４～２０９のいずれか一項に記載の方法。
（条項２１１） 第２の誘電体層および第３の誘電体層は、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛を含む第１の膜と、第１の膜の少なくとも一部の上にスズ酸亜鉛を含む第２の膜と、第２の膜の少なくとも一部の上に、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛のうちの少なくとも１つを含む第３の膜とを含む、条項２０４～２１０のいずれか一項に記載の方法。
（条項２１２） 第４の誘電体層は、酸化亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛のうちの少なくとも１つを含む第１の膜と、第１の膜の少なくとも一部の上のスズ酸亜鉛とを含む、条項２０５～２１１のいずれか一項に記載の方法。
（条項２１３） 第４の誘電体層は、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛のうちの少なくとも１つを含む第１の膜と、第１の膜の少なくとも一部の上のスズ酸亜鉛膜とを含む、条項２０５～２１２のいずれか一項に記載の方法。
（条項２１４） 第１の誘電体層または第２の誘電体層は、窒化ケイ素膜を含む、条項１９３～２１３のいずれか一項に記載の方法。
（条項２１５） 最外保護層は、ＳｉＡｌＮ、ＳｉＯＮ、ＳｉＡｌＯＮ、チタニア、アルミナ、シリカ、ジルコニア、それらの合金、またはそれらの混合物を含む、条項１９３～２１４のいずれか一項に記載の方法。
（条項２１６） 応力層は、ケイ素コバルト、チタンニオブ、ジルコニウムニオブ、タンタルチタン、それらの酸化物、またはそれらの亜酸化物を含む、条項１９３～２１５のいずれか一項に記載の方法。
（条項２１７） プライマー層は、ＡｌｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて３０重量％までの範囲内である）を含む、条項１９３～２１６のいずれか一項に記載の方法。
（条項２１８） プライマー層は、ＧａｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて２０重量％までの範囲内である）を含む、条項１９３～２１６のいずれか一項に記載の方法。
（条項２１９） プライマー層は、ＩｎｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて４０重量％までの範囲内である）を含む、条項１９３～２１６のいずれか一項に記載の方法。
（条項２２０） プライマー層は、ＶｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて２０重量％までの範囲内である）を含む、条項１９３～２１６のいずれか一項に記載の方法。
（条項２２１） プライマー層は、ＡｇｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて５０重量％までの範囲内である）を含む、条項１９３～２１６のいずれか一項に記載の方法。
（条項２２２） プライマー層は、ＡｌｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で２～７５重量％の範囲内である）を含む、条項１９３～２１６のいずれか一項に記載の方法。
（条項２２３） プライマー層は、ＡｌｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で１～１００重量％の範囲内である）を含む、条項１９３～２１６のいずれか一項に記載の方法。
（条項２２４） プライマー層は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で２～４０重量％の範囲内である）を含む、条項１９３～２１６のいずれか一項に記載の方法。
（条項２２５） プライマー層は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で２～９５重量％の範囲内である）を含む、条項１９３～２１６のいずれか一項に記載の方法。
（条項２２６） プライマー層は、ＷｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、堆積中に７％のＯ２を含む加熱前で５５～１００重量％の範囲内である）を含む、条項１９３～２１６のいずれか一項に記載の方法。
（条項２２７） プライマー層は、ＷｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、堆積中に３％のＯ２を含む加熱後で３０～９５重量％の範囲内である）を含む、条項１９３～２１６のいずれか一項に記載の方法。
（条項２２８） プライマー層は、ＴｉｘＴａ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で２～８０重量％の範囲内である）を含む、条項１９３～２１６のいずれか一項に記載の方法。
（条項２２９） プライマー層は、ＴｉｘＴａ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で２～４０重量％の範囲内である）を含む、条項１９３～２１６のいずれか一項に記載の方法。
（条項２３０） プライマー層は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で２～９５重量％の範囲内である）を含む、条項１９３～２１６のいずれか一項に記載の方法。
（条項２３１） プライマー層は、ＮｂｘＺｒ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で１～８０重量％の範囲内である）を含む、条項１９３～２１６のいずれか一項に記載の方法。
（条項２３２） プライマー層は、ＮｂｘＺｒ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で６０～１００重量％の範囲内である）を含む、条項１９３～２１６のいずれか一項に記載の方法。
（条項２３３） プライマー層は、ＴａｘＷ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で２～９５重量％の範囲内である）を含む、条項１９３～２１６のいずれか一項に記載の方法。
（条項２３４） プライマー層は、ＷｘＮｂ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で５～１００重量％の範囲内である）を含む、条項１９３～２１６のいずれか一項に記載の方法。
（条項２３５） プライマー層は、ＷｘＮｂ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で２～５０重量％の範囲内である）を含む、条項１９３～２１６のいずれか一項に記載の方法。
（条項２３６） プライマー層は、ＺｎｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で１０～１００重量％の範囲内である）を含む、条項１９３～２１６のいずれか一項に記載の方法。
（条項２３７） プライマー層は、ＺｎｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で２０～１００重量％の範囲内である）を含む、条項１９３～２１６のいずれか一項に記載の方法。
（条項２３８） １つまたは複数のプライマー層の少なくとも一部が窒化物である、条項１９３～２３７のいずれか一項に記載の方法。
（条項２３９） プライマー層は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ窒化物（ただし、ｘは、加熱前で１～１００重量％の範囲内である）を含む、条項２３８に記載の方法。
（条項２４０） プライマー層は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ窒化物（ただし、ｘは、加熱後で１～１００重量％の範囲内である）を含む、条項２３８に記載の方法。
（条項２４１） プライマー層は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ窒化物（ただし、ｘは、１～６５重量％の範囲内である）を含む、条項２３８に記載の方法。
（条項２４２） プライマー層は、ＷｘＮｂ１－ｘ窒化物（ただし、ｘは、加熱前で２～９０重量％の範囲内である）を含む、条項２３８に記載の方法。
（条項２４３） プライマー層は、ＷｘＮｂ１－ｘ窒化物（ただし、ｘは、加熱後で２～７０重量％の範囲内である）を含む、条項２３８に記載の方法。
（条項２４４） シード膜は、ＶｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２５重量％の範囲内である）を含む、条項１９６～２４３のいずれか一項に記載の方法。
（条項２４５） シード膜は、ＡｌｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２５重量％の範囲内である）を含む、条項１９６～２４３のいずれか一項に記載の方法。
（条項２４６） シード膜は、ＧａｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２０重量％の範囲内である）を含む、条項１９６～２４３のいずれか一項に記載の方法。
（条項２４７） シード膜は、ＩｎｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～４０重量％の範囲内である）を含む、条項１９６～２４３のいずれか一項に記載の方法。
（条項２４８） シード膜は、ＳｎｘＩｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２０重量％の範囲内である）を含む、条項１９６～２４３のいずれか一項に記載の方法。
（条項２４９） シード膜はＡｇを含み、Ａｇは、０～７０％のガス流量を有する酸素およびアルゴンガス環境内で堆積される、条項１９６～２４３のいずれか一項に記載の方法。
（条項２５０） シード膜は、ＡｌｘＡｇ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前後で１～３５重量％の範囲内である）を含む、条項１９６～２４３のいずれか一項に記載の方法。
（条項２５１） 応力層は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ亜酸化物または酸化物（ただし、ｘは、加熱前後で１～１００重量％の範囲である）を含む、条項１９３～２５０のいずれか一項に記載の方法。
（条項２５２） 応力層は、ＮｂｘＺｒ１－ｘ亜酸化物または酸化物（ただし、ｘは、加熱後で１～１２重量％の範囲である）を含む、条項１９３～２５０のいずれか一項に記載の方法。
（条項２５３） 応力層は、ＴｉｘＴａ１－ｘ亜酸化物または酸化物（ただし、ｘは、加熱後で１～１００重量％の範囲である）を含む、条項１９３～２５０のいずれか一項に記載の方法。
（条項２５４） 応力層は、ＳｉｘＣｏ１－ｘ亜酸化物または酸化物（ただし、ｘは、加熱後で１０～９０重量％の範囲である）を含む、条項１９３～２５０のいずれか一項に記載の方法。
（条項２５５） 物品は、少なくとも７０％の可視光透過率を有する、条項１９３～２５４のいずれか一項に記載の方法。
（条項２５６） 物品は、０．７オーム／スクエア以下のシート抵抗を有する、条項１９３～２５５のいずれか一項に記載の方法。
（条項２５７） 基材と、基材の少なくとも一部の上の第１の誘電体層と、第１の誘電体層の少なくとも一部の上の第１の金属層と、第１の金属層の少なくとも一部の上の第１のプライマー層と、第１のプライマー層の少なくとも一部の上の第２の誘電体層とを含み、第１の金属層は、アルミニウムドープ銀から構成される、コーティングされた物品。
（条項２５８） プライマー層の少なくとも一部は、酸化物または窒化物である、条項２５７に記載の物品。
（条項２５９） 第１の金属層に隣接して直接接触し、かつ第１の誘電体層と第１の金属層との間のシード膜を含む、条項２５７または２５８に記載の物品。
（条項２６０） プライマー層は、銀亜鉛、亜鉛、酸化銀亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化バナジウム亜鉛、それらの混合物、それらの組み合わせ、およびそれらの合金からなる群から選択される、条項２５７～２５９のいずれか一項に記載の物品。
（条項２６１） プライマー層は、金属、酸化物、窒化物、亜酸化物、亜窒化物、酸窒化物、または亜酸窒化物である、条項２５７～２６０のいずれか一項に記載の物品。
（条項２６２） シード膜は、アルミニウム、アルミニウム亜鉛、亜鉛、亜鉛スズ、ゲルマニウム、ニッケル、マグネシウム、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、インジウム亜鉛、バナジウム亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、ニオブ、ジルコニウム、タンタル、モリブデン、アルミニウムドープ銀、銀、銀亜鉛、チタンアルミニウム、それらの混合物、それらの金属、それらの合金、それらの組み合わせ、それらの酸化物、それらの亜酸化物、それらの窒化物、それらの亜窒化物、それらの酸窒化物、それらの亜酸窒化物、それらの酸炭化物、それらの炭窒化物、またはそれらの酸炭窒化物から構成される、条項２５９～２６１のいずれか一項に記載の物品。
（条項２６３） シード膜は、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、亜鉛、または銀亜鉛を含む、条項２５９～２６２のいずれか一項に記載の物品。
（条項２６４） シード膜は、金属、酸化物、または亜酸化物である、条項２６３に記載の物品。
（条項２６５） シード膜は、ガリウム亜鉛、インジウム亜鉛、またはインジウムスズを含む、条項２５９～２６２のいずれか一項に記載の物品。
（条項２６６） シード膜は、金属、酸化物、窒化物、亜酸化物、または亜窒化物である、条項２６５に記載の物品。
（条項２６７） 第２の誘電体層の少なくとも一部の上の第２の金属層と、第２の金属層の少なくとも一部の上の第２のプライマー層と、第２のプライマー層の少なくとも一部の上の第３の誘電体層とをさらに含む、条項２５７～２６６のいずれか一項に記載の物品。
（条項２６８） 第３の誘電体層の少なくとも一部の上の第３の金属層と、第３の金属層の少なくとも一部の上の第３のプライマー層と、第３のプライマー層の少なくとも一部の上の第４の誘電体層とをさらに含む、条項２６７に記載の物品。
（条項２６９） 第４の誘電体層の少なくとも一部の上の第４の金属層と、第４の金属層の少なくとも一部の上の第４のプライマー層と、第４のプライマー層の少なくとも一部の上の第５の誘電体層とをさらに含む、条項２６８に記載の物品。
（条項２７０） 金属層は、銀またはアルミニウムドープ銀を含む、条項２５７～２６９のいずれか一項に記載の物品。
（条項２７１） 第１の誘電体層はスズ酸亜鉛膜を含み、第２の膜は、スズ酸亜鉛膜の少なくとも一部の上に、酸化亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛を含む、条項２５７～２７０のいずれか一項に記載の物品。
（条項２７２） 第１の誘電体層が、スズ酸亜鉛膜と、スズ酸亜鉛膜の少なくとも一部の上に、酸化アルミニウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛のうちの少なくとも１つを含む第２の膜とを含む、条項２５７～２７１のいずれか一項に記載の物品。
（条項２７３） 第２の誘電体層および第３の誘電体層は、酸化亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛を含む第１の膜と、第１の膜の少なくとも一部の上にスズ酸亜鉛を含む第２の膜と、第２の膜の少なくとも一部の上に、酸化亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛のうちの少なくとも１つを含む第３の膜とを含む、条項２６７～２７２のいずれか一項に記載の物品。
（条項２７４） 第２の誘電体層および第３の誘電体層は、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛を含む第１の膜と、第１の膜の少なくとも一部の上にスズ酸亜鉛を含む第２の膜と、第２の膜の少なくとも一部の上に、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛のうちの少なくとも１つを含む第３の膜とを含む、条項２６７～２７３のいずれか一項に記載の物品。
（条項２７５） 第４の誘電体層は、酸化亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛のうちの少なくとも１つを含む第１の膜と、第１の膜の少なくとも一部の上のスズ酸亜鉛とを含む、条項２６８～２７４のいずれか一項に記載の物品。
（条項２７６） 第４の誘電体層は、酸化アルミニウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛のうちの少なくとも１つを含む第１の膜と、第１の膜の少なくとも一部の上のスズ酸亜鉛膜とを含む、条項２６８～２７５のいずれか一項に記載の物品。
（条項２７７） 第１の誘電体層または第２の誘電体層は、窒化ケイ素膜を含む、条項２５７～２７６のいずれか一項に記載の物品。
（条項２７８） ＳｉＡｌＮ、ＳｉＯＮ、ＳｉＡｌＯＮ、チタニア、アルミナ、シリカ、ジルコニア、それらの合金、またはそれらの混合物を含む最外保護層をさらに含む、条項２５７～２７７のいずれか一項に記載の物品。
（条項２７９） 最外保護層の下に応力層をさらに含む、条項２７８に記載の物品。
（条項２８０） 応力層は、ケイ素コバルト、チタンニオブ、ジルコニウムニオブ、タンタルチタン、それらの酸化物、またはそれらの亜酸化物を含む、条項２７９に記載の物品。
（条項２８１） プライマー層は、ＡｌｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて３０重量％までの範囲内である）を含む、条項２５７～２８０のいずれか一項に記載の物品。
（条項２８２） プライマー層は、ＧａｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて２０重量％までの範囲内である）を含む、条項２５７～２８０のいずれか一項に記載の物品。
（条項２８３） プライマー層は、ＩｎｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて４０重量％までの範囲内である）を含む、条項２５７～２８０のいずれか一項に記載の物品。
（条項２８４） プライマー層は、ＶｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて２０重量％までの範囲内である）を含む、条項２５７～２８０のいずれか一項に記載の物品。
（条項２８５） プライマー層は、ＡｇｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて５０重量％までの範囲内である）を含む、条項２５７～２８０のいずれか一項に記載の物品。
（条項２８６） プライマー層は、ＡｌｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で２～７５重量％の範囲内である）を含む、条項２５７～２８０のいずれか一項に記載の物品。
（条項２８７） プライマー層は、ＡｌｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で１～１００重量％の範囲内である）を含む、条項２５７～２８０のいずれか一項に記載の物品。
（条項２８８） プライマー層は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で２～４０重量％の範囲内である）を含む、条項２５７～２８０のいずれか一項に記載の物品。
（条項２８９） プライマー層は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で２～９５重量％の範囲内である）を含む、条項２５７～２８０のいずれか一項に記載の物品。
（条項２９０） プライマー層は、ＷｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、堆積中に７％のＯ２を含む加熱前で５５～１００重量％の範囲内である）を含む、条項２５７～２８０のいずれか一項に記載の物品。
（条項２９１） プライマー層は、ＷｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、堆積中に３％のＯ２を含む加熱後で３０～９５重量％の範囲内である）を含む、条項２５７～２８０のいずれか一項に記載の物品。
（条項２９２） プライマー層は、ＴｉｘＴａ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で２～８０重量％の範囲内である）を含む、条項２５７～２８０のいずれか一項に記載の物品。
（条項２９３） プライマー層は、ＴｉｘＴａ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で２～４０重量％の範囲内である）を含む、条項２５７～２８０のいずれか一項に記載の物品。
（条項２９４） プライマー層は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で２～９５重量％の範囲内である）を含む、条項２５７～２８０のいずれか一項に記載の物品。
（条項２９５） プライマー層は、ＮｂｘＺｒ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で１～８０重量％の範囲内である）を含む、条項２５７～２８０のいずれか一項に記載の物品。
（条項２９６） プライマー層は、ＮｂｘＺｒ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で６０～１００重量％の範囲内である）を含む、条項２５７～２８０のいずれか一項に記載の物品。
（条項２９７） プライマー層は、ＴａｘＷ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で２～９５重量％の範囲内である）を含む、条項２５７～２８０のいずれか一項に記載の物品。
（条項２９８） プライマー層は、ＷｘＮｂ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で５～１００重量％の範囲内である）を含む、条項２５７～２８０のいずれか一項に記載の物品。
（条項２９９） プライマー層は、ＷｘＮｂ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で２～５０重量％の範囲内である）を含む、条項２５７～２８０のいずれか一項に記載の物品。
（条項３００） プライマー層は、ＺｎｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前で１０～１００重量％の範囲内である）を含む、条項２５７～２８０のいずれか一項に記載の物品。
（条項３０１） プライマー層は、ＺｎｘＴｉ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱後で２０～１００重量％の範囲内である）を含む、条項２５７～２８０のいずれか一項に記載の物品。
（条項３０２） １つまたは複数のプライマー層の少なくとも一部が窒化物である、条項２５７～３０１のいずれか一項に記載の物品。
（条項３０３） プライマー層は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ窒化物（ただし、ｘは、加熱前で１～１００重量％の範囲内である）を含む、条項３０２に記載の物品。
（条項３０４） プライマー層は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ窒化物（ただし、ｘは、加熱後で１～１００重量％の範囲内である）を含む、条項３０２に記載の物品。
（条項３０５） プライマー層は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ窒化物（ただし、ｘは、１～６５重量％の範囲内である）を含む、条項３０２に記載の物品。
（条項３０６） プライマー層は、ＷｘＮｂ１－ｘ窒化物（ただし、ｘは、加熱前で２～９０重量％の範囲内である）を含む、条項３０２に記載の物品。
（条項３０７） プライマー層は、ＷｘＮｂ１－ｘ窒化物（ただし、ｘは、加熱後で２～７０重量％の範囲内である）を含む、条項３０２に記載の物品。
（条項３０８） シード膜は、ＶｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２５重量％の範囲内である）を含む、条項２５９～３０７のいずれか一項に記載の物品。
（条項３０９） シード膜は、ＡｌｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２５重量％の範囲内である）を含む、条項２５９～３０７のいずれか一項に記載の物品。
（条項３１０） シード膜は、ＧａｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２０重量％の範囲内である）を含む、条項２５９～３０７のいずれか一項に記載の物品。
（条項３１１） シード膜は、ＩｎｘＺｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～４０重量％の範囲内である）を含む、条項２５９～３０７のいずれか一項に記載の物品。
（条項３１２） シード膜は、ＳｎｘＩｎ１－ｘ酸化物（ただし、ｘは、１～２０重量％の範囲内である）を含む、条項２５９～３０７のいずれか一項に記載の物品。
（条項３１３） シード膜はＡｇを含み、Ａｇは、１～７０％の酸素ガス流量を有する酸素およびアルゴンガス環境内で堆積される、条項２５９～３０７のいずれか一項に記載の物品。
（条項３１４） シード膜は、ＡｌｘＡｇ１－ｘ（ただし、ｘは、加熱前後で１～３５重量％の範囲内である）を含む、条項２５９～３０７のいずれか一項に記載の物品。
（条項３１５） 応力層は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ亜酸化物または酸化物（ただし、ｘは、加熱前後で１～１００重量％の範囲である）を含む、条項２７９～３１４のいずれか一項に記載の物品。
（条項３１６） 応力層は、ＮｂｘＺｒ１－ｘ亜酸化物または酸化物（ただし、ｘは、加熱後で１～１２重量％の範囲である）を含む、条項２７９～３１４のいずれか一項に記載の物品。
（条項３１７） 応力層は、ＴｉｘＴａ１－ｘ亜酸化物または酸化物（ただし、ｘは、加熱後で１～１００重量％の範囲である）を含む、条項２７９～３１４のいずれか一項に記載の物品。
（条項３１８） 応力層は、ＳｉｘＣｏ１－ｘ亜酸化物または酸化物（ただし、ｘは、加熱後で１０～９０重量％の範囲である）を含む、条項２７９～３１４のいずれか一項に記載の物品。
（条項３１９） 物品は、少なくとも７０％の可視光透過率を有する、条項２５７～３１８のいずれか一項に記載の物品。
（条項３２０） 物品は、０．７オーム／スクエア以下のシート抵抗を有する、条項２５７～３１９のいずれか一項に記載の物品。
Claims (15)
- 基材と、
前記基材の少なくとも一部の上の第１の誘電体層と、
前記第１の誘電体層の少なくとも一部の上の第１の金属層と、
前記第１の金属層の少なくとも一部の上の第１のプライマー層と、
前記第１のプライマー層の少なくとも一部の上の第２の誘電体層と
を含み、
前記第１のプライマー層は、亜鉛、アルミニウムドープ銀、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、タングステンタンタル、チタンニオブ、ジルコニウムニオブ、タングステンニオブ、アルミニウムニオブ、アルミニウムチタン、タングステンチタン、タンタルチタン、亜鉛チタン、亜鉛スズ、インジウム亜鉛、銀亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、それらの混合物、それらの組み合わせ、およびそれらの合金からなる群から選択される、コーティングされた物品。 - 前記第１のプライマー層は、酸化物、窒化物、亜酸化物、亜窒化物、酸窒化物、または亜酸窒化物である、請求項１に記載の物品。
- 前記第１のプライマー層は、銀亜鉛、亜鉛、酸化銀亜鉛、酸化アルミニウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化バナジウム亜鉛、それらの混合物、それらの組み合わせ、およびそれらの合金からなる群から選択される、請求項１に記載の物品。
- 前記第１のプライマー層は５Å～５０Åの範囲の厚さを有する、請求項１に記載の物品。
- 前記第１のプライマー層は、ＡｌｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて３０重量％までの範囲内である）を含む、請求項１に記載の物品。
- 前記第１の誘電体層は、スズ酸亜鉛を含む第１の膜と、前記第１の膜の少なくとも一部の上に、酸化アルミニウム亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化ガリウム亜鉛、酸化インジウムスズ、または酸化バナジウム亜鉛のうちの少なくとも１つを含む第２の膜とを含む、請求項１に記載の物品。
- 前記第２の誘電体層の少なくとも一部の上の第２の金属層と、
前記第２の金属層の少なくとも一部の上の第２のプライマー層と、
前記第２のプライマー層の少なくとも一部の上の第３の誘電体層と
をさらに含む、請求項１に記載の物品。 - 前記第２のプライマー層は、５Å～５０Åの範囲の厚さを有し、ＡｌｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて３０重量％までの範囲内である）を含む、請求項７に記載の物品。
- 前記第３の誘電体層の少なくとも一部の上の第３の金属層と、
前記第３の金属層の少なくとも一部の上の第３のプライマー層と、
前記第３のプライマー層の少なくとも一部の上の第４の誘電体層と
をさらに含む、請求項７に記載の物品。 - 前記第３のプライマー層は、５Å～５０Åの範囲の厚さを有し、ＡｌｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて３０重量％までの範囲内である）を含む、請求項９に記載の物品。
- 前記第４の誘電体層の少なくとも一部の上の第４の金属層と、
前記第４の金属層の少なくとも一部の上の第４のプライマー層と、
前記第４のプライマー層の少なくとも一部の上の第５の誘電体層と
をさらに含む、請求項９に記載の物品。 - 前記第４プライマー層は、５Å～５０Åの範囲の厚さを有し、ＡｌｘＺｎ１－ｘ（ただし、ｘは、０重量％を超えて３０重量％までの範囲内である）を含む、請求項１１に記載の物品。
- 前記物品は、少なくとも７０％の可視光透過率を有する、請求項１に記載の物品。
- 前記物品は、０．７オーム／スクエア以下のシート抵抗を有する、請求項１に記載の物品。
- コーティングされた物品の製造方法であって、
基材を提供するステップと、
前記基材の上にコーティングを付着させるステップであって、前記コーティングは、
基材の少なくとも一部の上の第１の誘電体層と、
前記第１の誘電体層の少なくとも一部の上の第１の金属層と、
前記第１の金属層の少なくとも一部の上の第１のプライマー層と、
前記第１のプライマー層の少なくとも一部の上の第２の誘電体層とを含み、
前記第１のプライマー層の少なくとも一部は、前記第１のプライマー層の付着後に酸化され、
前記プライマー層は、亜鉛、アルミニウムドープ銀、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、タングステンタンタル、チタンニオブ、ジルコニウムニオブ、タングステンニオブ、アルミニウムニオブ、アルミニウムチタン、タングステンチタン、タンタルチタン、亜鉛チタン、亜鉛スズ、インジウム亜鉛、銀亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、それらの混合物、それらの組み合わせ、およびそれらの合金からなる群から選択される、前記コーティングを付着させるステップと
を含む、方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US202062976645P | 2020-02-14 | 2020-02-14 | |
| US62/976,645 | 2020-02-14 | ||
| PCT/US2021/017645 WO2021163314A1 (en) | 2020-02-14 | 2021-02-11 | Low sheet resistance coating |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2023513734A true JP2023513734A (ja) | 2023-04-03 |
Family
ID=74860450
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2022548852A Pending JP2023513734A (ja) | 2020-02-14 | 2021-02-11 | 低シート抵抗コーティング |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20210274657A1 (ja) |
| EP (1) | EP4103982A1 (ja) |
| JP (1) | JP2023513734A (ja) |
| KR (1) | KR20220134783A (ja) |
| CN (1) | CN115362392A (ja) |
| AR (1) | AR121342A1 (ja) |
| BR (1) | BR112022015804A2 (ja) |
| CA (1) | CA3167821A1 (ja) |
| MX (1) | MX2022009983A (ja) |
| TW (1) | TW202140399A (ja) |
| WO (1) | WO2021163314A1 (ja) |
Family Cites Families (35)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US738208A (en) | 1902-08-08 | 1903-09-08 | James J Lawler | Fitting for hot-water boilers. |
| US3762988A (en) | 1971-08-09 | 1973-10-02 | Dow Chemical Co | Interlayer and laminated product |
| DE2846837A1 (de) | 1978-10-27 | 1980-05-08 | Hoechst Ag | Polyvinylbutyral-folie |
| US4379040A (en) | 1981-01-29 | 1983-04-05 | Ppg Industries, Inc. | Method of and apparatus for control of reactive sputtering deposition |
| US4466562A (en) | 1981-12-15 | 1984-08-21 | Ppg Industries, Inc. | Method of and apparatus for severing a glass sheet |
| US4606800A (en) * | 1983-09-20 | 1986-08-19 | Bethlehem Steel Corporation | Coating method and product thereof |
| US4671155A (en) | 1985-06-13 | 1987-06-09 | Ppg Industries, Inc. | Positioning apparatus |
| US4898790A (en) | 1986-12-29 | 1990-02-06 | Ppg Industries, Inc. | Low emissivity film for high temperature processing |
| US4746347A (en) | 1987-01-02 | 1988-05-24 | Ppg Industries, Inc. | Patterned float glass method |
| US4861669A (en) | 1987-03-26 | 1989-08-29 | Ppg Industries, Inc. | Sputtered titanium oxynitride films |
| US4938857A (en) | 1987-03-26 | 1990-07-03 | Ppg Industries, Inc. | Method for making colored metal alloy/oxynitride coatings |
| US4900633A (en) | 1987-03-26 | 1990-02-13 | Ppg Industries, Inc. | High performance multilayer coatings |
| US4920006A (en) | 1987-03-26 | 1990-04-24 | Ppg Industries, Inc. | Colored metal alloy/oxynitride coatings |
| US4792536A (en) | 1987-06-29 | 1988-12-20 | Ppg Industries, Inc. | Transparent infrared absorbing glass and method of making |
| US4898789A (en) | 1988-04-04 | 1990-02-06 | Ppg Industries, Inc. | Low emissivity film for automotive heat load reduction |
| US5328768A (en) | 1990-04-03 | 1994-07-12 | Ppg Industries, Inc. | Durable water repellant glass surface |
| US5030593A (en) | 1990-06-29 | 1991-07-09 | Ppg Industries, Inc. | Lightly tinted glass compatible with wood tones |
| US5030594A (en) | 1990-06-29 | 1991-07-09 | Ppg Industries, Inc. | Highly transparent, edge colored glass |
| US5240886A (en) | 1990-07-30 | 1993-08-31 | Ppg Industries, Inc. | Ultraviolet absorbing, green tinted glass |
| US5393593A (en) | 1990-10-25 | 1995-02-28 | Ppg Industries, Inc. | Dark gray, infrared absorbing glass composition and coated glass for privacy glazing |
| US5492750A (en) | 1994-09-26 | 1996-02-20 | Ppg Industries, Inc. | Mask for coated glass |
| JP3392000B2 (ja) * | 1996-12-25 | 2003-03-31 | セントラル硝子株式会社 | 断熱ガラス |
| US5796055A (en) | 1997-01-13 | 1998-08-18 | Ppg Industries, Inc. | Sound absorbing article and method of making same |
| US7078076B2 (en) * | 2001-02-14 | 2006-07-18 | Metal Coatings International Inc. | Particulate metal alloy coating for providing corrosion protection |
| CA2475192C (en) * | 2002-02-11 | 2008-12-09 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Solar control coating |
| US7335421B2 (en) * | 2005-07-20 | 2008-02-26 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Heatable windshield |
| ITRM20060181A1 (it) * | 2006-03-31 | 2007-10-01 | Pilkington Italia Spa | Lastra di vetro rivestita |
| US10654748B2 (en) * | 2010-03-29 | 2020-05-19 | Vitro Flat Glass Llc | Solar control coatings providing increased absorption or tint |
| FR2985724B1 (fr) * | 2012-01-16 | 2014-03-07 | Saint Gobain | Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques comportant quatre couches fonctionnelles metalliques. |
| ES2647988T3 (es) * | 2013-05-30 | 2017-12-27 | Agc Glass Europe | Acristalamiento con una baja emisividad y antisolar |
| DE102014002965A1 (de) * | 2013-07-30 | 2015-02-05 | Leybold Optics Gmbh | Schichtsystem eines transparenten Substrats sowie Verfahren zur Herstellung eines Schichtsystems |
| FR3015973B1 (fr) * | 2013-12-31 | 2016-01-01 | Saint Gobain | Vitrage lumineux avec isolateur optique et sa fabrication |
| US10345499B2 (en) * | 2015-02-03 | 2019-07-09 | Vitro Flat Glass LLC.. | Solar control coating with enhanced solar control performance |
| US10618252B2 (en) * | 2017-04-12 | 2020-04-14 | Vitro Flat Glass Llc | Solar control coating for laminated glazing |
| US11220455B2 (en) * | 2017-08-04 | 2022-01-11 | Vitro Flat Glass Llc | Flash annealing of silver coatings |
-
2021
- 2021-02-11 EP EP21710708.5A patent/EP4103982A1/en active Pending
- 2021-02-11 WO PCT/US2021/017645 patent/WO2021163314A1/en unknown
- 2021-02-11 US US17/173,924 patent/US20210274657A1/en active Pending
- 2021-02-11 BR BR112022015804A patent/BR112022015804A2/pt unknown
- 2021-02-11 JP JP2022548852A patent/JP2023513734A/ja active Pending
- 2021-02-11 MX MX2022009983A patent/MX2022009983A/es unknown
- 2021-02-11 CA CA3167821A patent/CA3167821A1/en active Pending
- 2021-02-11 CN CN202180024404.2A patent/CN115362392A/zh active Pending
- 2021-02-11 KR KR1020227031501A patent/KR20220134783A/ko active Search and Examination
- 2021-02-12 AR ARP210100386A patent/AR121342A1/es unknown
- 2021-02-17 TW TW110105353A patent/TW202140399A/zh unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP4103982A1 (en) | 2022-12-21 |
| BR112022015804A2 (pt) | 2022-10-11 |
| TW202140399A (zh) | 2021-11-01 |
| US20210274657A1 (en) | 2021-09-02 |
| KR20220134783A (ko) | 2022-10-05 |
| AR121342A1 (es) | 2022-05-11 |
| WO2021163314A1 (en) | 2021-08-19 |
| CN115362392A (zh) | 2022-11-18 |
| CA3167821A1 (en) | 2021-08-19 |
| MX2022009983A (es) | 2022-11-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20231206 |