KR20190137536A - Reference plate for controling the optical axis of up-look review camera with z-axis stage in the tension mask assembly - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은, 디스플레이장치, 반도체장치 등의 제조공정에 사용되는 업룩 리뷰카메라가 부착된 텐션마스크 프레임 어셈블리 제조장치에서 마스크 홀의 위치를 측정하는 리뷰카메라의 광축을 측정, 조정하는데 사용되는 리뷰카메라 광축 조절용 표준 플레이트 및 상기 표준 플레이트를 이용한 광축조정방법에 관한 것으로, 보다 상세히는, 리뷰카메라를 상하로 움직이는 z축 스테이지에 부착된 리뷰카메라의 광중심축이, z축 스테이지의 5mm 이동에 따라, 광중심축이 500nm이하로 변하도록 하는 광축 조절용 표준 플레이트 및 상기 표준 플레이트를 이용하여 z축 스테이지에 부착된 리뷰카메라의 광축을 500nm이하로 맞추는 방법에 관한 것이다.The present invention is to adjust the optical axis of the review camera used to measure and adjust the optical axis of the review camera for measuring the position of the mask hole in the apparatus for manufacturing a tension mask frame assembly with an uplook review camera used in the manufacturing process of display devices, semiconductor devices, etc. It relates to a standard plate and an optical axis adjustment method using the standard plate, more specifically, the optical center axis of the review camera attached to the z axis stage to move the review camera up and down, the optical center as the 5 mm movement of the z axis stage A standard plate for adjusting the optical axis to change the axis to 500 nm or less, and a method for adjusting the optical axis of the review camera attached to the z-axis stage to 500 nm or less using the standard plate.
일반적으로 디스플레이 장치들 중에 유기발광표시장치(OLED; Organic Light Emitting Diode)는 시야각이 넓고, 콘트라스트가 우수할 뿐만 아니라, 응답 속도가 빠르다는 장점을 가지고 있다.In general, organic light emitting diodes (OLEDs) among display devices have advantages of wide viewing angle, excellent contrast, and fast response speed.
OLED는 양극과 음극에서 주입된 정공과 전자가 내부의 유기 발광층에서 만나 재결합되면서 가시광선 영역의 빛을 발하여 인간에게 필요한 정보를 표시하는 디스플레이 소자를 말한다. 자발광 소자인 OLED는 액정표시장치(LCD; Liquid Crystal Display)와 달리 백라이트 장치(BLU; Backlight Unit)가 필요 없고 구조가 간단하여 두께가 얇고 매우 가볍다. 또한, LCD에 비해 빠른 응답 속도와 넓은 시야각을 가져, 모든 각도에서 높은 명암비와 화질을 구현할 수 있다. 게다가 전체 패널의 광투과율도 LCD의 3배 수준인 23%에 달하고 유연한 기판에도 적용 가능하여 투명 디스플레이와 플렉시블 디스플레이를 구현하는데도 최적이다. 이러한 장점들을 바탕으로 OLED는 LCD 이후의 디스플레이 산업을 석권할 차세대 기술로써 큰 각광을 받고 있다. 반면 OLED는 유기물이 주요한 구성물로 사용되기 때문에 수분과 산소에 취약하여 근본적으로 수명이 짧고, 현재는 LCD에 비해 가격이 비싸며 고해상도와 대면적화에 어려움이 있다.OLED refers to a display device that displays information necessary for humans by emitting light in the visible region when holes and electrons injected from an anode and a cathode meet and recombine in an organic emission layer. Unlike liquid crystal displays (LCDs), OLEDs, which are self-luminous devices, do not require a backlight unit (BLU) and have a simple structure and are thin and very light. In addition, it has faster response speed and wider viewing angle than LCD, enabling high contrast ratio and image quality at all angles. In addition, the light transmittance of the entire panel reaches 23%, which is three times that of LCD, and can be applied to flexible substrates, which is optimal for realizing transparent and flexible displays. Based on these advantages, OLEDs are in the spotlight as the next generation technology that will dominate the display industry after LCD. On the other hand, OLED is vulnerable to moisture and oxygen because organic material is used as a major component, and its life is fundamentally short. Currently, it is more expensive than LCD and has difficulty in high resolution and large area.
OLED의 전극들과, 발광층을 포함한 중간층은 여러 가지 방법에 의하여 형성시킬 수 있는데, 이중 하나의 방법은 증착법이다. 증착법을 이용하여 OLED를 제조하기 위해서는 기판상에 형성될 박막 등의 패턴과 동일한 패턴을 가지는 파인 메탈 마스크(fine metal mask, FMM)를 정렬하고, 박막의 원소재를 증착하여 소망하는 패턴의 박막을 형성하게 된다.The electrodes of the OLED and the intermediate layer including the light emitting layer can be formed by various methods, one of which is a vapor deposition method. In order to manufacture an OLED using a deposition method, a fine metal mask (FMM) having the same pattern as a pattern of a thin film to be formed on a substrate is aligned, and a thin film having a desired pattern is deposited by depositing a raw material of the thin film. Will form.
이러한 파인 메탈 마스크가 대면적화되면 패턴 형성을 위한 에칭 오차도 커지므로 최근에는 마스크를 여러 개의 스틱(stick) 형상으로 만든 후 프레임에 붙여서 사용하는 분할 마스크 타입의 프레임 조립체가 선호되는 추세에 있다. 이 분할 마스크를 사용하면 전체 마스크 프레임 조립체 중 일부 분할 마스크에 문제가 생길 경우 그 해당 분할 마스크만 교체하면 된다는 장점도 있다.As the fine metal mask has a large area, an etching error for pattern formation also increases, and thus, in recent years, a split mask type frame assembly that makes a mask into a plurality of stick shapes and attaches it to a frame has been preferred. The advantage of using this split mask is that if the split mask in the entire mask frame assembly fails, only the split mask needs to be replaced.
도 1은 국내 공개특허공보 제10-2018-0042933호의 도 1로, 분할 마스크를 프레임에 조립하는 종래의 텐션마스크 프레임 어셈블리 제조장치(10)를 나타낸다. 1 shows a conventional tension mask frame assembly manufacturing apparatus 10 for assembling a split mask into a frame as shown in FIG. 1 of Korean Laid-Open Patent Publication No. 10-2018-0042933.
일반적으로 종래의 텐션마스크 프레임 어셈블리 제조장치(10)는 분할 마스크(11)를 인장하는 클램프(13), 분할 마스크(11) 내의 홀의 위치를 측정하는 리뷰카메라(14), 프레임(12)에 분할 마스크(11)를 용접하기 위한 레이저용접기(15)로 구성되어 진다. 도 1에서와 같이, 텐션마스크 프레임 어셈블리 제조장치(10)는 중앙에 놓여 있는 사각틀 형상의 프레임(12)을 중심으로 마주보는 한 쌍의 y축 레일(22), y축 레일(22)을 따라 이동하도록 y축 레일(22)에 장착된 한 쌍의 y슬라이더(24), 한 쌍의 슬라이더(24)에 걸쳐 배치되는 x축 레일(26), x축레일(26)을 따라 이동하도록 x축 레일(26)에 장착된 x슬라이더(28)를 포함한다. 리뷰카메라(14) 및 레이저용접기(15)는 x슬라이더(28)에 고정되어 x축 레일을 따라 이동한다. 결과적으로 리뷰카메라(14)는 x축과 y축을 따라 이동하면서 프레임(12)에 장착된 분할마스크(11)의 홀을 촬영할 수 있다.In general, the conventional tension mask frame assembly manufacturing apparatus 10 is divided into a
스마트폰용 OLED의 생산성을 높이기 위해서는 증착용 글래스 사이즈가 큰 것이 좋다. 증착용 글래스 사이즈가 커짐에 따라 프레임(12)의 사이즈가 증가한다. 텐션마스크 프레임 어셈블리 제조장치(10)는 6세대(GH) 크기 이상의 글래스에 증착하기 위해 다수의 분할마스크(11)가 장력을 부여된 상태로 부착된 큰 사이즈의 프레임(12)에 용접한다. 이때, x축레일(26), x슬라이더(28), 리뷰카메라(14), 레이저 용접기(15) 등으로 이루어진 x슬라이더 어셈블리의 길이는 예를 들면 3,275mm, 하중은 약 295Kg의 무게이다.In order to increase the productivity of OLED for smartphones, it is preferable that the deposition glass size is large. As the evaporation glass size increases, the size of the
텐션마스크 프레임 어셈블리 제조장치에서 x축레일의 중력변형을 보면, 도 2에서와 같이, 295Kg의 하중이 x축레일(26)에 가해질 때 중력에 의해 x축레일(26)은 중심에서 아래 방향으로 20.38um 처지게 된다. 이 경우에 리뷰카메라(14)는 촬영의 중심 위치가 이동하게 되어 분할마스크(12)의 홀 위치가 이동하는 에러가 발생하게 된다.When looking at the gravity deformation of the x-axis rail in the tension mask frame assembly manufacturing apparatus, as shown in Figure 2, when the load of 295Kg is applied to the
이러한 하향 측정 방식을 사용하는 종래의 텐션마스크 프레임 어셈블리 제조장치(10)는 6GH 이상의 크기를 가진 텐션마스크 프레임 어셈블리를 제작할 때 업계 요구수준인 ±1um 이내 마스크 홀의 측정오차를 만족할 수 없다.Conventional tension mask frame assembly manufacturing apparatus 10 using this downward measurement method can not meet the measurement error of the mask hole within ± 1um, the industry requirement level when manufacturing a tension mask frame assembly having a size of 6GH or more.
또한, x슬라이더(28)는 에어베어링으로 일정한 갭을 유지할 수 있어야 x축레일(26)을 따라 이동하는 속도를 최대인 200mm/sec로 구동할 수 있다. 그러나 x슬라이더(28)는 x축레일(26)의 중력변형에 의해 일정한 갭을 유지하기 어려워 최대 속도를 내기 어렵기 때문에, 측정속도 및 용접속도 저하에 따른 생산성이 저하되는 문제가 있다. 이러한 문제를 해결하기 위한 것으로, 텐션마스크의 홀 측정 오차를 줄이고 측정 속도의 저하를 방지할 수 있도록 업룩 리뷰 카메라가 부착된 텐션마스크 프레임 어셈블리 제조장치를 사용할 수 있다. In addition, the
도 3은 국내 공개특허공보 제10-2018-0042933호의 도 3으로, 분할 마스크를 프레임에 조립하는 업룩 리뷰카메라가 부착된 텐션마스크 프레임 어셈블리 제조장치를 나타낸다. 이 텐션마스크 프레임 어셈블리 제조장치(100)는 베이스(110), 프레임지지부(120), 용접부(130), 및 촬영부(140)를 포함한다FIG. 3 is a view illustrating a tension mask frame assembly manufacturing apparatus equipped with an uplook review camera for assembling a split mask to a frame as shown in FIG. 3 of Korean Laid-Open Patent Publication No. 10-2018-0042933. The tension mask frame
베이스(110)는 평평한 평면을 가진 장방형 블록으로 바닥에 수평 조정을 위한 수평조정받침부(112)를 가진다.The base 110 is a rectangular block having a flat plane and has a
프레임지지부(120)는 베이스(110)의 상면으로부터 이격된 높이의 위치에서 텐션마스크 프레임 어셈블리를 지지하는 수단으로, 베이스(110) 상에 간격을 두고 나란히 배치한 한 쌍의 종축 지지블록(122) 및 한 쌍의 종축 지지블록(122)을 가로지르도록 간격을 두고 고정되는 한 쌍의 횡축 지지블록(124)을 포함한다.The
용접부(130)는 프레임지지부의 상부에서 텐션마스크를 프레임의 장변에 용접하기 위한 수단으로, 텐션마스크를 프레임의 장변에 용접하는 용접기, 상기 용접기를 지지하는 용접슬라이더 및 상기 용접슬라이더를 프레임의 장변 방향을 따라 안내하는 용접레일을 구비한다. 즉, 용접부(130)는 베이스(110)를 사이에 두고 배치되는 격자상 블록지지대(131), 상기 블록지지대(131)의 상면에 베이스(110)의 장변을 따라 나란 배치된 한 쌍의 레일지지블록(132), 상기 한 쌍의 레일지지블록(132)의 상면에 배치된 한 쌍의 종축용접레일(133), 상기 한 쌍의 종축용접레일(133)을 따라 이동하는 한 쌍의 종축용접슬라이더(134), 한 쌍의 종축용접슬라이더(134)에 걸쳐 배치되는 횡축용접레일(135), 횡축용접레일(135)에 이격 배치된 한 쌍의 용접기(136)를 포함한다. The
촬영부(140)는 프레임지지부의 하부에서 텐션마스크의 홀을 촬영하기 위한 수단으로, 프레임지지부의 하부에서 텐션마스크의 홀을 촬영하는 카메라, 카메라를 지지하는 촬영슬라이더, 및 촬영슬라이더를 프레임의 종축 및 횡축 방향을 따라 안내하는 카메라레일을 포함한다. The photographing
또한 마스크 프레임의 두께 때문에 리뷰카메라의 렌즈의 작동 거리(working distance)는 45mm 이상 되어야 한다. 기존 인피니트 타입의 대물렌즈로 10x 또는 20x 배율의 최대 작동 거리(working distance)는 30mm이다. 따라서 작동 거리(working distance)가 45mm 이상되면서 10x인 렌즈는 텔리센트릭(telecentric) 렌즈에 해당된다. 이 때문에 기존 레이저를 이용한 오토포커스 장치를 사용할 수 없어 이미지 오토포커스 만을 이용하여 초점을 맞출 수 있다. 이 경우에 z축 스테이지(stage)에 10x 텔리센트릭 렌즈를 부착하고 z축 스테이지를 위 아래로 움직여 초점을 맞추게 된다. 이에 따라 z축 스테이지의 상하 이동이 필요하며 업계에서 요구하는 정밀도는 z축 스테이지의 5mm이동에 따른 광중심축이 500nm 이하로 변해야 한다. Also, because of the thickness of the mask frame, the working distance of the review camera's lens should be at least 45 mm. With a conventional Infinite-type objective, the maximum working distance at 10x or 20x magnification is 30mm. Thus, lenses with a working distance of 45 mm or more and 10x are equivalent to telecentric lenses. For this reason, an autofocus device using a conventional laser cannot be used to focus using only image autofocus. In this case, a 10x telecentric lens is attached to the z-axis stage and the z-axis stage is moved up and down to focus. Accordingly, the vertical movement of the z-axis stage is required, and the precision required by the industry requires that the optical center axis of 5 mm movement of the z-axis stage be changed to 500 nm or less.
따라서, z축 스테이지의 상하 이동시, z축 스테이지의 5mm이동에 따른 광중심축이 500nm 이하로 변하도록 하는 광축 조절용 표준 플레이트가 요망된다. 또한, 상기 광축 조절용 표준 플레이트를 이용하여, z축 스테이지에 부착된 리뷰카메라의 광축을 500nm이하로 맞추는 방법도 요망된다.Accordingly, there is a demand for a standard plate for adjusting the optical axis such that the optical center axis of the z-axis stage is shifted to 500 nm or less upon vertical movement of the z-axis stage. In addition, a method of adjusting the optical axis of the review camera attached to the z-axis stage to 500 nm or less using the standard plate for adjusting the optical axis is also desired.
그러나 이러한 광축 조절용 표준 플레이트 및 이를 이용한 광축조정방법에 대해서는 현재 어디에서도 찾을 수 없다.However, the standard plate for adjusting the optical axis and the optical axis adjusting method using the same cannot be found anywhere now.
본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는, 업룩 리뷰카메라가 부착된 텐션마스크 프레임 어셈블리 제조장치에서, 리뷰카메라를 상하로 움직이는 z축 스테이지에 부착된 리뷰카메라의 광중심축이, z축 스테이지의 5mm 이동에 따라, 광중심축이 500nm이하로 변하도록 하는 광축 조절용 표준 플레이트 및 이를 이용하여 z축 스테이지에 부착된 리뷰카메라의 광축을 500nm이하로 맞추는 방법을 제공하는 것이다.The technical problem to be solved by the present invention, in the tension mask frame assembly manufacturing apparatus with an uplook review camera, the optical center axis of the review camera attached to the z-axis stage moving the review camera up and down, 5mm movement of the z-axis stage According to the present invention, a standard plate for adjusting the optical axis such that the optical center axis is changed to 500 nm or less, and a method of adjusting the optical axis of the review camera attached to the z axis stage to 500 nm or less using the same.
본 발명이 해결하고자 하는 다른 기술적 과제는, 업룩 리뷰카메라가 부착된 텐션마스크 프레임 어셈블리를 제조장치에서 마스크 홀의 위치를 측정하는 리뷰카메라의 광축을 측정하는 표준 플레이트에 있어서, 십자패턴과 원형 마크가 새겨진 상면과 상기 상면으로부터 5mm 아래에 십자패턴과 원형 마크가 새겨진 하면을 구비하는, 광축 조절용 표준 플레이트를 제공하는 것이다.Another technical problem to be solved by the present invention, in the standard plate for measuring the optical axis of the review camera for measuring the position of the mask hole in the apparatus for manufacturing a tension mask frame assembly with an uplook review camera, the cross pattern and the circular mark is engraved A standard plate for adjusting an optical axis having an upper surface and a lower surface engraved with a cross pattern and a circular mark 5 mm below the upper surface is provided.
본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 기술적 과제는, 업룩 리뷰카메라가 부착된 텐션마스크 프레임 어셈블리를 제조장치에서 마스크 홀의 위치를 측정하는 리뷰카메라의 광축을 측정하는 표준 플레이트에 있어서, 업룩 리뷰카메라의 수직 직각도를 500nm이하로 맞출 수 있어, 마스크 홀의 위치를 측정하는데 z축에 의해 발생하는 위치 오차를 줄일 수 있는 광축 조절용 표준 플레이트를 제공하는 것이다.Another technical problem to be solved by the present invention, in the standard plate for measuring the optical axis of the review camera for measuring the position of the mask hole in the apparatus for manufacturing a tension mask frame assembly with an uplook review camera, the vertical right angle of the uplook review camera To provide a standard plate for adjusting the optical axis that can be adjusted to less than 500nm, to reduce the position error caused by the z-axis in measuring the position of the mask hole.
상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은, 업룩 리뷰카메라가 부착된 텐션마스크 프레임 어셈블리 제조장치에서 마스크 홀의 위치를 측정하는 리뷰카메라의 광축을 조정하는데 사용되는, 리뷰카메라 광축 조절용 표준 플레이트에 있어서, 저면부는 정사각형의 면으로 이루어지며, 상면부는 중간벽에 의해 단차를 이루는 제1상면과 제2상면을 구비하며, 제1상면과 제2상면은 동일한 크기의 직사각형인 것을 특징으로 한다.In order to solve the above problems, the present invention is a standard plate for adjusting the review camera optical axis, which is used to adjust the optical axis of the review camera for measuring the position of the mask hole in the tension mask frame assembly manufacturing apparatus with an uplook review camera, The portion is formed of a square surface, the upper surface portion has a first upper surface and a second upper surface formed by the intermediate wall step, characterized in that the first upper surface and the second upper surface is a rectangle of the same size.
제1상면은 제1 +자(십자) 패턴과 제1 원형 패턴을 구비하되, 제1 +자(십자) 패턴과 제1 원형 패턴은 일렬로 배치되어 있으며, 제2상면은 제2 +자(십자) 패턴과 제2 원형 패턴을 구비하되, 제1 +자(십자) 패턴과 제1 원형 패턴은 일렬로 배치되어 있으며, 위에서 상기 리뷰카메라 광축 조절용 표준 플레이트를 내려다 보았을 때, 제1 +자(십자) 패턴과 제2 +자(십자) 패턴은 일직선 상에 위치되며, 제1 원형 패턴과 제2 원형 패턴은 일직선 상에 위치된다.The first upper surface has a first + cross (cross) pattern and the first circular pattern, the first + cross (cross) pattern and the first circular pattern is arranged in a line, the second upper surface has a second + ( (Cross) pattern and the second circular pattern, the first + cross (cross) pattern and the first circular pattern is arranged in a line, when looking down the standard plate for adjusting the optical axis of the review camera from above, The cross pattern and the second + cross pattern are located on a straight line, and the first circular pattern and the second circular pattern are located on a straight line.
제1상면은 'ㄷ'자 형태를 이루는 제1 테두리 패턴을 더 구비하되, 제1 +자(십자) 패턴과 제1 원형 패턴을 둘러싸고 있으며, 제1 테두리 패턴의 오픈(open)된 부분에 중간벽이 위치되며, 제2상면은 'ㄷ'자 형태를 이루는 제2 테두리 패턴을 더 구비하되, 제2 +자(십자) 패턴과 제2 원형 패턴을 둘러싸고 있으며, 제2 테두리 패턴의 오픈(open)된 부분에 중간벽이 위치된다.The first upper surface further includes a first border pattern forming a 'c' shape, surrounding the first + cross pattern and the first circular pattern, and having an intermediate portion in an open portion of the first border pattern. The wall is located, and the second upper surface further includes a second border pattern forming a 'c' shape, surrounding the second + cross pattern and the second circular pattern, and opening the second border pattern. The middle wall is located at the part where).
위에서 상기 리뷰카메라 광축 조절용 표준 플레이트를 내려다 보았을 때, 제1 테두리 패턴과 제2 테두리 패턴은 서로 맞물려 사각형을 룬다.When looking down from the standard plate for adjusting the optical axis of the review camera from above, the first border pattern and the second border pattern mesh with each other to form a rectangle.
중간벽의 높이는 5mm인 것이 바람직하다.The height of the intermediate wall is preferably 5 mm.
제1상면과 제2상면의 가로길이(상단길이)는 저면부의 가로길이(상단길이)의 반이며, 제1상면과 제2상면의 세로길이(측단길이)는 저면부의 세로길이(측단길이)와 동일하다.The horizontal length (upper length) of the first top surface and the second top surface is half of the horizontal length (upper length) of the bottom surface portion, and the vertical length (side end length) of the first top surface and the second top surface is the vertical length (side length length) of the bottom surface portion. Is the same as
제1 +자(십자) 패턴과 제2 +자(십자) 패턴의 선의 두께는 50um이고, 제1 원형 패턴 및 제2 원형 패턴의 지름은 100um이다.The thickness of the lines of the first + cross pattern and the second + cross pattern is 50 μm, and the diameters of the first circular pattern and the second circular pattern are 100 μm.
본 발명은 업룩 리뷰카메라가 부착된 텐션마스크 프레임 어셈블리 제조장치에서 마스크 홀의 위치를 측정하는 리뷰카메라의 광축을 조정하기 위해, 상면부가 중간벽에 의해 단차를 이루는 제1상면과 제2상면을 구비하되, 제1상면과 제2상면은 십자 패턴과 원형 패턴을 구비하는 리뷰카메라 광축 조절용 표준 플레이트를 이용하여, 리뷰카메라의 광축을 조정하는 방법에 있어서, 제1상면에는 광축 조절용 표준 플레이트를 미세하게 회전시키는 회전 스테이지가 부착되어 있으며, 마스크가 제작되는 평면상에 제1상면이 위치하고 제1상면 위 5mm 떨어진 위치에 제2상면이 위치된 상태에서,광축 조절용 표준 플레이트를 마스크가 제작되는 평면상에 놓여지게 하며, 촬영된 영상에서 제2상면의 십자 패턴과 원형 패턴 만이 보여지며, 제1상면의 십자 패턴과 원형 패턴은 보이지 않도록, 업룩 카메라의 초점을 조정하는, 제1단계; 제1단계 후, 제2상면의 십자 패턴과 원형 패턴의 중심이 수직이 되도록, 제1상면에 부착된 미세 회전 스테이지를 돌려 조정하는 제2단계; 제2단계 후, 리뷰카메라의 z축을 5mm 아래로 움직인 후에, 촬영된 영상에서 제1상면의 십자 패턴과 원형 패턴 만이 보여지며, 제2상면의 십자 패턴과 원형 패턴은 보이지 않도록, 업룩 카메라의 초점을 조정하는, 제3단계;를 포함한다.The present invention is provided with a first upper surface and a second upper surface, the upper surface of which is stepped by an intermediate wall, in order to adjust the optical axis of the review camera for measuring the position of the mask hole in the tension mask frame assembly manufacturing apparatus equipped with an uplook review camera, In the method for adjusting the optical axis of the review camera using a standard camera for adjusting the optical axis of the review camera having a cross pattern and a circular pattern on the first and second top surfaces, the first top surface is finely rotated the standard plate for adjusting the optical axis A rotating stage is attached, and the standard plate for adjusting the optical axis is placed on the plane on which the mask is manufactured, with the first top surface on the plane on which the mask is made and the second top surface on a position 5 mm above the first top surface. In the captured image, only the cross pattern and the circular pattern of the second upper surface are shown, and the cross pattern and the circle of the first upper surface are shown. Pattern is not visible, to adjust the focus of the camera eopruk, the first step; A second step of rotating the fine rotation stage attached to the first top surface such that the center of the cross pattern of the second top surface and the circular pattern are vertical after the first step; After the second step, after moving the z axis of the review camera below 5mm, only the cross pattern and the circular pattern of the first top surface are shown in the captured image, and the cross pattern and the circular pattern of the second top surface are not visible. And a third step of adjusting the focus.
또한 상기 리뷰카메라의 광축을 조정하는 방법은, 제3단계 후, 제2단계에 따라 정해진 제2상면의 십자 패턴의 중심위치와, 제3단계에 따라 정해진 제1상면의 십자 패턴의 중심 위치로부터 벗어난 리뷰카메라의 초점의 x축 값과 y축 값이 0이 되도록 업룩카메라에 부착된 틸트 조절기를 이용하여 조절하는, 제4단계;를 더 포함한다.In addition, the method of adjusting the optical axis of the review camera, after the third step, from the center position of the cross pattern of the second upper surface determined in accordance with the second step and the center position of the cross pattern of the first upper surface determined in accordance with the third step And a fourth step of adjusting by using a tilt adjuster attached to the uplook camera such that the x-axis value and the y-axis value of the focus of the review camera are out of the range.
제3단계 후, 제2상면의 십자패턴과 원형 패턴의 중심사이의 거리는 120um로 업룩 리뷰카메라의 FOV(field of view, 관측시야) 안에 있으며, 제1상면의 십자패턴과 제2상면의 십자패턴의 중심사이의 거리는 100um로, 룩 리뷰카메라의 FOV(field of view) 안에 있다.After the third step, the distance between the cross pattern of the second top surface and the center of the circular pattern is 120 um, which is in the field of view (FOV) of the uplook review camera, and the cross pattern of the first top surface and the cross pattern of the second top surface are 120um. The distance between the centers is 100um, which is in the field of view (FOV) of the look review camera.
본 발명은, 업룩 리뷰카메라가 부착된 텐션마스크 프레임 어셈블리 제조장치에서, 리뷰카메라를 상하로 움직이는 z축 스테이지에 부착된 리뷰카메라의 광중심축이, z축 스테이지의 5mm 이동에 따라, 광중심축이 500nm이하로 변하도록 하는 광축 조절용 표준 플레이트 및 상기 광축 조절용 표준 플레이트이용한 광축조정 방법을 제공하며, 광축 조절용 표준 플레이트를 이용하여 z축 스테이지에 부착된 리뷰카메라의 광축을 500nm이하로 맞출 수 있다.The present invention relates to a tension mask frame assembly manufacturing apparatus equipped with an uplook review camera, wherein an optical center axis of a review camera attached to a z-axis stage moving the review camera up and down is moved by 5 mm of the z-axis stage. The optical axis adjusting standard plate and the optical axis adjusting method using the standard plate for adjusting the optical axis to change below 500nm is provided, and the optical axis of the review camera attached to the z-axis stage can be adjusted to 500 nm or less by using the optical axis adjusting standard plate.
즉, 본 발명은, 업룩 리뷰카메라가 부착된 텐션마스크 프레임 어셈블리를 제조장치에서 마스크 홀의 위치를 측정하는 리뷰카메라의 광축을 측정하는 표준 플레이트에 있어서, 십자패턴과 원형 마크가 새겨진 상면과 상기 상면으로부터 5mm 아래에 십자패턴과 원형 마크가 새겨진 하면을 구비하는, 광축 조절용 표준 플레이트를 제공한다.That is, the present invention, in the standard plate for measuring the optical axis of the review camera for measuring the position of the mask hole in the manufacturing apparatus for the tension mask frame assembly with an uplook review camera, from the upper surface and the upper surface engraved with a cross pattern and a circular mark A standard plate for adjusting the optical axis is provided, which has a cross pattern with a cross mark and a round mark engraved below 5 mm.
이에 따라, 업룩 리뷰카메라의 수직 직각도를 500nm이하로 맞출 수 있어, 마스크 홀의 위치를 측정하는데 z축에 의해 발생하는 위치 오차를 줄일 수 있다.Accordingly, the vertical perpendicularity of the uplook review camera can be adjusted to 500 nm or less, thereby reducing the position error caused by the z-axis in measuring the position of the mask hole.
본 발명의 광축 조절용 표준 플레이트를 사용하는 경우, 업계 요구수준인 ±1um 이내 마스크 홀의 측정오차를 만족할 수 있다.When using the standard plate for adjusting the optical axis of the present invention, it is possible to satisfy the measurement error of the mask hole within ± 1um, the industry requirement level.
도 1은 국내 공개특허공보 제10-2018-0042933호의 도 1로, 종래의 일례의 텐션마스크 프레임 어셈블리 제조장치를 나타내는 사시도이다.
도 2는 국내 공개특허공보 제10-2018-0042933호의 도 2로, 도 1의 텐션마스크 프레임 어셈블리 제조장치에서 x축레일의 중력변형을 나타낸 도면이다.
도 3은 국내 공개특허공보 제10-2018-0042933호의 도 3으로, 분할 마스크를 프레임에 조립하는 업룩 리뷰카메라가 부착된 텐션마스크 프레임 어셈블리 제조장치를 나타낸다.
도 4는 본 발명의 광축 조절용 표준 플레이트의 사시도이다.
도 5는 도 4의 광축 조절용 표준 플레이트의 평면도이다.
도 6은 도 4의 광축 조절용 표준 플레이트의 측면도이다.1 is a perspective view showing a tension mask frame assembly manufacturing apparatus of a conventional example in FIG. 1 of the Korean Patent Publication No. 10-2018-0042933.
FIG. 2 is a view illustrating gravity deformation of an x-axis rail in the tension mask frame assembly manufacturing apparatus of FIG. 1 as in FIG. 2 of Korean Laid-Open Patent Publication No. 10-2018-0042933.
FIG. 3 is a view illustrating a tension mask frame assembly manufacturing apparatus equipped with an uplook review camera for assembling a split mask to a frame as shown in FIG. 3 of Korean Patent Publication No. 10-2018-0042933.
Figure 4 is a perspective view of a standard plate for adjusting the optical axis of the present invention.
5 is a plan view of the standard plate for adjusting the optical axis of FIG.
6 is a side view of the standard plate for adjusting the optical axis of FIG. 4.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시 예에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail an embodiment of the present invention.
본 발명에서는 광축 조절용 표준 플레이트는, 단차를 가진 구조물이라, 광축 조절용 표준 기구(장치, 수단, 캘리블레이터) 등이라 불릴 수 있으나, 보정판과 같은 역할을 하므로, 본발명에서는 '광축 조절용 표준 플레이트'로 명명한다.In the present invention, the standard plate for adjusting the optical axis is a structure having a step, but may be referred to as a standard mechanism for adjusting the optical axis (apparatus, means, calibrator), etc., but serves as a compensating plate, so in the present invention, 'standard plate for adjusting the optical axis' Named as
도 4는 본 발명의 광축 조절용 표준 플레이트의 사시도이고, 도 5는 도 4의 광축 조절용 표준 플레이트의 평면도이고, 도 6은 도 4의 광축 조절용 표준 플레이트의 측면도이다.4 is a perspective view of the standard plate for adjusting the optical axis of the present invention, Figure 5 is a plan view of the standard plate for adjusting the optical axis of Figure 4, Figure 6 is a side view of the standard plate for adjusting the optical axis of FIG.
도 4에서와 같이, 광축 조절용 표준 플레이트(700)는 제일 밑면이 되는 저면부(780)가 정사각형을 이루며, 윗면이 되는 상면부(710)은 직사각형으로 이루어진 제1상면(711)과 제2상면(712)을 구비하되, 제1상면(711)과 제2상면(712)의 사이에는 단차를 형성하는 중간벽(730)을 구비한다. As shown in FIG. 4, in the
광축 조절용 표준 플레이트(700)는, 도 6에서와 같이, 일 측면에서 보았을 때 "ㄴ" 자 형태로 이루어져 있다. 다시말해, 광축 조절용 표준 플레이트(700)의 일 측면(730)은 "ㄴ" 자 형태로 이루어져 있다. The
제1상면(711)과 제2상면(712)의 직사각형의 상단 길이(가로길이)는, 저면부(780)가 이루는 정사각형의 상단길이의 반이다. 제1상면(711)과 제2상면(712)의 직사각형의 측단 길이(세로길이)는, 저면부(780)의 측단 길이와 동일하다. 따라서, 제1상면(711)과 제2상면(712)의 직사각형의 면적은 저면부(780)의 정사각형의 면적의 반이라 할 수 있다. The upper end length (width length) of the rectangle of the 1st
제1상면(711)과 제2상면(712)는 위에서 내려다 보았을 때, 저면부(780)와 동일한 정사각형을 이룬다.When viewed from above, the first
예를들어, 저면부(780)는 상단 길이(가로길이)가 20mm이고, 측단 길이(세로길이)가 20mm이면, 제1상면(711)과 제2상면(712)은 상단 길이(가로길이)가 10mm이고, 측단 길이(세로길이)가 20mm이다.For example, if the
제1상면(711)는 제1 +자(십자) 패턴(771)과 제1 원형 패턴(761)과 제1 테두리 패턴(721)을 구비하되, 제1 +자(십자) 패턴(771)과 제1 원형 패턴(761)은 일렬로 배치되고, 제1 테두리 패턴(721)은 제1 +자(십자) 패턴(771)과 제1 원형 패턴(761)을 둘러싸고 있다. 제1 테두리 패턴(721)은 'ㄷ'자 형태를 이루며, 제1 테두리 패턴(721)의 오픈(open)된 부분에 중간벽(730)이 위치된다.The first
제2상면(712)는 제2 +자(십자) 패턴(772)과 제2 원형 패턴(762)과 제2 테두리 패턴(722)을 구비하되, 제2 +자(십자) 패턴(772)과 제2 원형 패턴(762)은 일렬로 배치되고, 제2 테두리 패턴(722)은 제2 +자(십자) 패턴(772)과 제2 원형 패턴(762)을 둘러싸고 있다. 제2 테두리 패턴(722)은 'ㄷ'자 형태를 이루며, 제2 테두리 패턴(722)의 오픈(open)된 부분에 중간벽(730)이 위치된다.The second
따라서, 도 5에서와 같이, 위에서 내려다보면, 광축 조절용 표준 플레이트(700)는 제1 테두리 패턴(721)과 제2 테두리 패턴(722)은 서로 맞물려 정 사각형을 이루며, 제1 +자(십자) 패턴(771)과 제2 +자(십자) 패턴(772)은 일직선상에 위치되며, 제1 원형 패턴(761)과 제2 원형 패턴(762)은 일직선상에 위치된다.Accordingly, as shown in FIG. 5, when viewed from above, the
광축 조절용 표준 플레이트(700)는 제1상면(711)과 제2상면(712)으로 구성되며, 제1상면(711)에는 광축 조절용 표준 플레이트(700)를 미세하게 회전할 수 있는 회전 스테이지(미도시)가 부착되어 있다.
마스크, 즉, 텐션마스크가 제작되는 평면상에 제1상면(711)이 위치하고 그 로부터 수직으로 밑으로 5mm 떨어진 위치에 제2상면(712)가 위치한다. 즉, 제1상면(711)으로부터 제2상면(712)까지의 길이(거리)는 약 5mm이고, 이는 중간벽(730)의 높이라 할 수 있다.The first
또한, 저면부(780)에서 제2상면(712)까지의 높이는 2mm 정도인 것이 바람직하다.In addition, the height from the
또한, 제1 +자(십자) 패턴(771), 제2 +자(십자) 패턴(772), 제1 테두리 패턴(721), 제2 테두리 패턴(722) 등의 패턴 선의 두께는 50um이고, 제1 원형 패턴(761) 및 제2 원형 패턴(762)의 원형 패턴의 지름은 100um인 것이 바람직하다.In addition, the thickness of the pattern lines such as the first + cross
이하, 업룩 리뷰카메라의 광축을 조정하는 과정을 설명한다. Hereinafter, a process of adjusting the optical axis of the uplook review camera will be described.
제1상면에는 광축 조절용 표준 플레이트를 미세하게 회전시키는 회전 스테이지가 부착되어 있으며, 마스크가 제작되는 평면상에 제1상면(711)이 위치하고 그 위 5mm 떨어진 위치에 제2상면(712)이 위치되게 한다.The first upper surface is attached with a rotating stage for finely rotating the standard plate for adjusting the optical axis, and the first
업룩 리뷰카메라의 광축을 수직으로 맞추기 위해서, 업룩 리뷰카메라가 부착된 텐션마스크 프레임 어셈블리 제조장치를 이용하여, 마스크 프레임에, 마스크를 용접시에 업룩 리뷰카메라가 마스크 홀의 위치를 찾아, 설계값과 일치하도록, 업룩 리뷰카메라가 부착된 텐션마스크 프레임 어셈블리 제조장치를 작동시킨다. In order to align the optical axis of the uplook review camera vertically, using a tension mask frame assembly manufacturing apparatus equipped with an uplook review camera, the uplook review camera finds the position of the mask hole when welding the mask to the mask frame and matches the design value. The tension mask frame assembly manufacturing apparatus to which the uplook review camera is attached is operated.
이때에 마스크는 중력에 의해 아래로 처지게 되는데 최대 처지는 정도가 6GH 크기의 글라스 기준으로 1mm이다. 따라서 광축조절용 표준 플레이트의 제1상면(711)과 제2상면(712)의 높이차는 5mm 이내면 충분하다.At this time, the mask sags downward due to gravity, and the maximum sag is 1mm based on 6GH glass. Therefore, the height difference between the first
업룩 리뷰카메라의 광축을 수직으로 맞추기 위해서, 우선 광축 조절용 표준 플레이트(700)를 마스크가 제작되는 평면상에 놓고, 업룩 리뷰카메라로 보면서, 업룩 카메라의 초점을 하면에 있도록 하고, 촬영된 영상은 제2상면(712)의 패턴만을 볼 수 있으며, 제1상면(711)에 있는 패턴을 볼 수 없다. 제2상면(712)에 있는 제2 십자 패턴(772)과 제2 원형 패턴(762)의 중심이 수직이 되도록 제1상면(711)에 부착된 미세 회전 스테이지(미도시)를 돌려서 맞춘다. In order to align the optical axis of the uplook review camera vertically, first, the
제2상면(712)에 있는 제2 십자패턴(772)의 중심과 제2 원형 패턴(762)의 중심의 사이의 거리가 200um로, 업룩 리뷰카메라(10x)의 FOV(field of view, 관측시야) 안에 있다. 또한 제1상면(711)과 제2상면(712)에 있는 십자패턴(771, 772)의 중심사이의 거리는 100um로, 룩 리뷰카메라(10x)의 FOV(field of view) 안에 있다. The distance between the center of the
제2상면(712)에서 제2 십자패턴(772)의 중심과 제2 원형패턴(762)의 중심이 수직이 되었으면, 다음으로 업룩 리뷰카메라의 z축을 5mm 아래로 움직이고, 이렇게 움직인 후에 초점을 미세 조정한다. 이때에 보이는 영상은 제1상면(711)의 패턴(771, 761)으로, 제2상면(712)의 패턴(762,772)을 볼 수 없다. 제1상면(711)과 제2상면(712)의 십자 패턴(771, 772)의 중심위치를 알고 있기 때문에 상기 중심위치가 벗어난 x, y 값이 0이 되도록 업룩카메라에 부착된 틸트 조절기를 이용하여 조절한다.When the center of the
본 발명에서 저면부의 상단 길이(가로길이)와 측단 길이(세로길이), 중간벽의 높이, 저면부(780)에서 제2상면(712)까지의 높이 등을 소정 수치로 나타내고 있으나, 이로써 본 발명을 한정하기 위한 것이 아니며, 상황에 따라 상기 수치들은 바뀔 수 있음을 밝혀둔다.In the present invention, the top length (length) and the side end length (length) of the bottom portion, the height of the middle wall, the height from the
이상과 같이 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 이는 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다 따라서, 본 발명의 사상은 아래에 기재된 특허청구범위에 의해서만 파악되어야 하고, 이의 균등 또는 등가적 변형 모두는 본 발명 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.As described above, the present invention has been described by way of limited embodiments and drawings, but the present invention is not limited to the above-described embodiments, which can be variously modified and modified by those skilled in the art to which the present invention pertains. Modifications are possible Accordingly, the spirit of the present invention should be understood only by the claims set forth below, and all equivalent or equivalent modifications thereof will fall within the scope of the present invention.
700 : 광축 조절용 표준 플레이트 710 : 상면부
711 : 제1상면 712 : 제2상면
721 : 제1 테두리 패턴 722 : 제2 테두리 패턴
730 : 중간벽 730 : 측면(9P20줄)
761 : 제1 원형 패턴 762 : 제2 원형 패턴
771 : 제1 +자 패턴 772 : 제2 +자 패턴
780 : 저면부700: standard plate for adjusting the optical axis 710: upper surface
711: first top 712: second top
721: first border pattern 722: second border pattern
730: middle wall 730: side (9P20 rows)
761: first circular pattern 762: second circular pattern
771: first + character pattern 772: second + character pattern
780: bottom part
Claims (10)
저면부는 정사각형의 면으로 이루어지며,
상면부는 중간벽에 의해 단차를 이루는 제1상면과 제2상면을 구비하며, 제1상면과 제2상면은 동일한 크기의 직사각형인 것을 특징으로 하는, 리뷰카메라 광축 조절용 표준 플레이트.
A standard plate for adjusting a review camera optical axis, which is used to adjust an optical axis of a review camera for measuring a position of a mask hole in a tension mask frame assembly manufacturing apparatus equipped with an uplook review camera,
The bottom part is composed of square faces,
The upper surface portion has a first upper surface and a second upper surface formed by the intermediate wall, the first upper surface and the second upper surface, characterized in that the rectangular shape of the same size, the review camera optical axis adjustment standard plate.
제1상면은 제1 +자(십자) 패턴과 제1 원형 패턴을 구비하되, 제1 +자(십자) 패턴과 제1 원형 패턴은 일렬로 배치되어 있으며,
제2상면은 제2 +자(십자) 패턴과 제2 원형 패턴을 구비하되, 제1 +자(십자) 패턴과 제1 원형 패턴은 일렬로 배치되어 있으며,
위에서 상기 리뷰카메라 광축 조절용 표준 플레이트를 내려다 보았을 때,
제1 +자(십자) 패턴과 제2 +자(십자) 패턴은 일직선 상에 위치되며,
제1 원형 패턴과 제2 원형 패턴은 일직선 상에 위치되는 것을 특징으로 하는, 리뷰카메라 광축 조절용 표준 플레이트.
The method of claim 1,
The first upper surface has a first + cross (cross) pattern and the first circular pattern, the first + cross (cross) pattern and the first circular pattern is arranged in a line,
The second upper surface has a second + cross (cross) pattern and a second circular pattern, the first + cross (cross) pattern and the first circular pattern is arranged in a line,
When looking down at the standard plate for adjusting the review camera optical axis from above,
The first + cross pattern and the second + cross pattern are located on a straight line.
A standard plate for adjusting a review camera optical axis, characterized in that the first circular pattern and the second circular pattern are located in a straight line.
제1상면은 'ㄷ'자 형태를 이루는 제1 테두리 패턴을 더 구비하되, 제1 +자(십자) 패턴과 제1 원형 패턴을 둘러싸고 있으며, 제1 테두리 패턴의 오픈(open)된 부분에 중간벽이 위치되며,
제2상면은 'ㄷ'자 형태를 이루는 제2 테두리 패턴을 더 구비하되, 제2 +자(십자) 패턴과 제2 원형 패턴을 둘러싸고 있으며, 제2 테두리 패턴의 오픈(open)된 부분에 중간벽이 위치되는 것을 특징으로 하는, 리뷰카메라 광축 조절용 표준 플레이트.
The method of claim 2,
The first upper surface further includes a first border pattern forming a 'c' shape, surrounding the first + cross pattern and the first circular pattern, and having an intermediate portion in an open portion of the first border pattern. The wall is located,
The second upper surface further includes a second border pattern forming a 'c' shape, surrounding the second plus cross (cross) pattern and the second circular pattern, and having an intermediate portion in an open portion of the second border pattern. A standard plate for adjusting the review camera optical axis, characterized in that the wall is located.
위에서 상기 리뷰카메라 광축 조절용 표준 플레이트를 내려다 보았을 때,
제1 테두리 패턴과 제2 테두리 패턴은 서로 맞물려 사각형을 이루는 것을 특징으로 하는, 리뷰카메라 광축 조절용 표준 플레이트.
The method of claim 3,
When looking down at the standard plate for adjusting the review camera optical axis from above,
Standard frame for adjusting the review camera optical axis, characterized in that the first border pattern and the second border pattern is meshed with each other to form a square.
중간벽의 높이는 5mm인 것을 특징으로 하는, 리뷰카메라 광축 조절용 표준 플레이트.
The method of claim 3,
The height of the middle wall is 5mm, standard plate for adjusting the review camera optical axis.
제1상면과 제2상면의 가로길이(상단길이)는 저면부의 가로길이(상단길이)의 반이며,
제1상면과 제2상면의 세로길이(측단길이)는 저면부의 세로길이(측단길이)와 동일한 것을 특징으로 하는, 리뷰카메라 광축 조절용 표준 플레이트.
The method of claim 2,
The horizontal length (upper length) of the first and second upper surfaces is half of the horizontal length (upper length) of the bottom portion,
The vertical length (side end length) of a 1st upper surface and a 2nd upper surface is the same as the longitudinal length (side end length) of a bottom part, The review camera optical axis adjustment standard plate.
제1 +자(십자) 패턴과 제2 +자(십자) 패턴의 선의 두께는 50um이고,
제1 원형 패턴 및 제2 원형 패턴의 지름은 100um인 것을 특징으로 하는, 리뷰카메라 광축 조절용 표준 플레이트.
The method of claim 6,
The thickness of the first + cross pattern and the second + cross pattern is 50 um,
Standard diameter of the review camera optical axis adjustment, characterized in that the diameter of the first circular pattern and the second circular pattern is 100um.
제1상면에는 광축 조절용 표준 플레이트를 미세하게 회전시키는 회전 스테이지가 부착되어 있으며, 마스크가 제작되는 평면상에 제1상면이 위치하고 제1상면 위 5mm 떨어진 위치에 제2상면이 위치된 상태에서,
광축 조절용 표준 플레이트를 마스크가 제작되는 평면상에 놓여지게 하며, 촬영된 영상에서 제2상면의 십자 패턴과 원형 패턴 만이 보여지며, 제1상면의 십자 패턴과 원형 패턴은 보이지 않도록, 업룩 카메라의 초점을 조정하는, 제1단계
제1단계 후, 제2상면의 십자 패턴과 원형 패턴의 중심이 수직이 되도록, 제1상면에 부착된 미세 회전 스테이지를 돌려 조정하는 제2단계;
제2단계 후, 리뷰카메라의 z축을 5mm 아래로 움직인 후에, 촬영된 영상에서 제1상면의 십자 패턴과 원형 패턴 만이 보여지며, 제2상면의 십자 패턴과 원형 패턴은 보이지 않도록, 업룩 카메라의 초점을 조정하는, 제3단계;
를 포함하는 것을 특징으로 하는, 리뷰카메라의 광축을 조정하는 방법.
In order to adjust the optical axis of the review camera for measuring the position of the mask hole in the apparatus for manufacturing a tension mask frame assembly with an uplook review camera, the upper surface part includes a first upper surface and a second upper surface which are stepped by an intermediate wall. In the method of adjusting the optical axis of the review camera by using a standard plate for review camera optical axis adjustment, the upper surface and the second upper surface having a cross pattern and a circular pattern,
The first upper surface is attached with a rotation stage for finely rotating the standard plate for adjusting the optical axis, and the first upper surface is positioned on the plane where the mask is manufactured, and the second upper surface is positioned 5 mm away from the first upper surface.
The standard plate for adjusting the optical axis is placed on the plane on which the mask is manufactured, and only the cross pattern and the circular pattern of the second top surface are visible in the captured image, and the crosshair and the circular pattern of the first top surface are not visible. The first step, adjusting
A second step of rotating the fine rotation stage attached to the first top surface such that the center of the cross pattern of the second top surface and the circular pattern are vertical after the first step;
After the second step, after moving the z axis of the review camera below 5mm, only the cross pattern and the circular pattern of the first top surface are shown in the captured image, and the cross pattern and the circular pattern of the second top surface are not visible. Adjusting a focus;
Method for adjusting the optical axis of the review camera, comprising a.
제3단계 후, 제2단계에 따라 정해진 제2상면의 십자 패턴의 중심위치와, 제3단계에 따라 정해진 제1상면의 십자 패턴의 중심 위치로부터 벗어난 리뷰카메라의 초점의 x축 값과 y축 값이 0이 되도록 업룩카메라에 부착된 틸트 조절기를 이용하여 조절하는, 제4단계;
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 리뷰카메라의 광축을 조정하는 방법.
The method of claim 8,
After the third step, the x-axis value and the y-axis of the focal point of the review camera deviate from the center position of the cross pattern of the second upper surface determined according to the second step and the center position of the cross pattern of the first upper surface determined according to the third step Adjusting by using a tilt controller attached to the uplook camera such that the value is 0;
Further comprising a, How to adjust the optical axis of the review camera.
제3단계 후, 제2상면의 십자패턴과 원형 패턴의 중심사이의 거리는 120um로 업룩 리뷰카메라의 FOV(field of view, 관측시야) 안에 있으며,
제1상면의 십자패턴과 제2상면의 십자패턴의 중심사이의 거리는 100um로, 룩 리뷰카메라의 FOV(field of view) 안에 있는 것을 특징으로 하는, 리뷰카메라의 광축을 조정하는 방법.The method of claim 8,
After the third step, the distance between the cross pattern of the second upper surface and the center of the circular pattern is 120um, which is in the field of view (FOV) of the Uplook review camera.
The distance between the cross pattern of the first top surface and the center of the cross pattern of the second top surface is 100um, which is in the field of view (FOV) of the look review camera.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020180063812A KR102187587B1 (en) | 2018-06-01 | 2018-06-01 | Reference plate for controling the optical axis of up-look review camera with z-axis stage in the tension mask assembly |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20190137536A true KR20190137536A (en) | 2019-12-11 |
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2018
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