KR20190127244A - Apparatus for treating waste gas - Google Patents
Apparatus for treating waste gas Download PDFInfo
- Publication number
- KR20190127244A KR20190127244A KR1020180051622A KR20180051622A KR20190127244A KR 20190127244 A KR20190127244 A KR 20190127244A KR 1020180051622 A KR1020180051622 A KR 1020180051622A KR 20180051622 A KR20180051622 A KR 20180051622A KR 20190127244 A KR20190127244 A KR 20190127244A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- gas
- reaction chamber
- waste gas
- waste
- space
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/005—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by heat treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
- B01D53/86—Catalytic processes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2258/00—Sources of waste gases
- B01D2258/02—Other waste gases
- B01D2258/0216—Other waste gases from CVD treatment or semi-conductor manufacturing
Abstract
Description
본 발명은 폐가스 처리 장치에 관한 것으로서, 상세하게는 열분해 방식의 폐가스 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a waste gas treatment apparatus, and more particularly, to a waste gas treatment apparatus of a pyrolysis method.
일반적으로 반도체, LED, LCD 등을 제조하는 전자산업 분야는 다양한 종류의 가스를 사용한다. 반도체 제조 공정에서 웨이퍼 상에 실리카(SiO2) 절연막을 증착하는 공정을 살펴보면, 고온 환경에서 실란(SiH4)과, 아산화질소(N2O) 가스를 반응시킴으로써 실리카 절연막을 형성한다. 이에 따라 반응 후 실란 및 아산화질소가 잔류하게 된다. 또한 반도체 세정 공정에서 삼불화질소(NF3)가 사용된다.In general, the electronics industry, which manufactures semiconductors, LEDs, and LCDs, uses various kinds of gases. In the process of depositing a silica (SiO 2) insulating film on a wafer in a semiconductor manufacturing process, a silica insulating film is formed by reacting silane (SiH 4) and nitrous oxide (N 2 O) gas in a high temperature environment. As a result, silane and nitrous oxide remain after the reaction. In addition, nitrogen trifluoride (NF 3) is used in the semiconductor cleaning process.
또한 산화제로 사용되는 아산화질소의 사용량은 급증하는 추세에 있으며, 아산화질소는 아디프산, 카프로락탐, 질산 생산 공장 등에서도 배출된다.In addition, the amount of nitrous oxide used as an oxidant is on the rise, and nitrous oxide is emitted from adipic acid, caprolactam, and nitric acid production plants.
아산화질소는 성층권 오존층을 파괴하고 온실 효과를 초래하는 가스로, 이산화탄소(CO2), 메탄(CH4), 과불화탄소(PFCs), 수소화불화탄소(HFCs), 육불화황(SF6)과 함께 6대 온실가스로 분류되고 있으며, 폐가스 처리장치에 의해 처리 된 후 대기 중으로 배출되어야 한다.Nitrous oxide is a gas that destroys the stratospheric ozone layer and causes the greenhouse effect. It is the sixth greenhouse with carbon dioxide (CO2), methane (CH4), perfluorocarbons (PFCs), hydrofluorocarbons (HFCs), and sulfur hexafluoride (SF6). It is classified as a gas and must be discharged to the atmosphere after it has been treated by a waste gas treatment system.
아산화질소를 포함한 폐가스를 처리하는 폐가스 처리장치는 처리 방식에 따라 연소, 플라즈마, 열분해 방식 등으로 구분된다. 연소 방식의 폐가스 처리장치는 산화용 공기 주입으로 인하여 추가적인 질소산화물이 생성될 수 있다. 플라즈마 방식의 폐가스 처리장치는 고온의 환경에서 폐가스를 이온형태로 해리하여 처리하는 방식으로, 플라즈마 발생에 에너지 소모가 크고, 플라즈마를 생성하는 전극을 자주 교체하여야 하는 등 유지 보수 비용이 많이 드는 문제점이 있다.Waste gas treatment apparatus for treating waste gas containing nitrous oxide is classified into combustion, plasma, pyrolysis method and the like according to the treatment method. Combustion waste gas treatment system may generate additional nitrogen oxides due to the injection of air for oxidation. Plasma-type waste gas treatment apparatus dissociates waste gas in the form of ions in a high temperature environment, and consumes a lot of energy, such as high energy consumption for plasma generation and frequent maintenance costs such as frequent replacement of electrodes generating plasma. have.
열분해 방식은 버너 대신 전기히터를 이용하여 반응기 내부를 가열하는 방식으로서, 고온 환경에서 촉매제를 이용하여 폐가스를 분해 처리하는 방식이다. 이 열분해 방식의 폐가스 처리장치는 불완전 연소로 인한 질소 화합물 및 다이옥신 생성을 낮출 수 있다. 한편 이 열분해 방식의 폐가스 처리장치는 처리 공정에 따라 폐가스의 온도를 효율적으로 관리할 필요가 있다.The pyrolysis method is a method of heating the inside of a reactor using an electric heater instead of a burner, and is a method of decomposing waste gas using a catalyst in a high temperature environment. This pyrolysis waste gas treatment system can lower the production of nitrogen compounds and dioxins due to incomplete combustion. On the other hand, this pyrolysis waste gas treatment system needs to efficiently manage the temperature of the waste gas in accordance with the treatment process.
본 발명은 상기한 바와 같은 점을 감안하여 창안된 것으로서, 폐가스를 보다 효과적으로 제거함과 에너지 효율을 높일 수 있도록 열분해 방식의 폐가스 처리장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made in view of the above-described point, and an object thereof is to provide a waste gas treatment apparatus of a pyrolysis method to more effectively remove waste gas and to increase energy efficiency.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명은 외부 폐가스원에서 공급된 폐가스를 처리하여 정화가스를 배출하는 폐가스 처리장치에 있어서, 혼합가스 유입구와 정화가스 배출구를 가지며, 열반응에 의하여 폐가스를 정화하는 반응챔버와; 상기 반응챔버 내에 설치되어, 상기 반응챔버 내로 유입된 폐가스를 가열하는 히터와; 상기 외부 폐가스원과 상기 반응챔버 사이에 마련되고, 상기 외부 폐가스원에서 공급된 폐가스가 유입되는 폐가스 유입구와, 상기 정화가스 배출구에서 배출된 정화가스의 일부가 유입되는 순환가스 유입구 및 상기 폐가스 유입구와 상기 순환가스 유입구를 통하여 유입된 가스를 상기 반응챔버 방향으로 배출하는 혼합가스 배출구를 가지며, 상기 순환가스 유입구를 통하여 유입된 가스의 폐열에 의하여 상기 폐가스 유입구를 통하여 유입된 가스를 예열하는 이젝터와; 상기 외부 폐가스원과 상기 폐가스 유입구 사이를 연결하는 제1경로와; 상기 혼합가스 배출구와 상기 혼합가스 유입구 사이를 연결하는 제2경로와; 상기 정화가스 배출구와 상기 순환가스 유입구 사이를 연결하는 것으로, 상기 반응챔버에서 배출된 정화가스의 일부를 재순환시키는 가스순환경로와; 상기 정화가스 배출구와 연결되며, 상기 반응챔버에서 배출된 정화가스를 배출하는 제3경로를 포함한다.The present invention for achieving the above object is a waste gas treatment apparatus for treating the waste gas supplied from an external waste gas source to discharge the purification gas, having a mixed gas inlet and a purification gas outlet, the reaction for purifying the waste gas by thermal reaction A chamber; A heater installed in the reaction chamber to heat the waste gas introduced into the reaction chamber; A waste gas inlet provided between the external waste gas source and the reaction chamber, the waste gas inlet through which the waste gas supplied from the external waste gas source flows, and a circulating gas inlet and a waste gas inlet through which a portion of the purge gas discharged from the purge gas outlet flows; An ejector having a mixed gas outlet for discharging the gas introduced through the circulating gas inlet toward the reaction chamber, and preheating the gas introduced through the waste gas inlet by waste heat of the gas introduced through the circulating gas inlet; A first path connecting between the external waste gas source and the waste gas inlet; A second path connecting the mixed gas outlet and the mixed gas inlet; A gas circulating environment path connecting the purge gas discharge port and the circulating gas inlet port to recycle a part of the purge gas discharged from the reaction chamber; And a third path connected to the purge gas discharge port and discharging the purge gas discharged from the reaction chamber.
또한 상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명은 외부 폐가스원에서 공급된 폐가스를 처리하여 정화가스를 배출하는 폐가스 처리장치에 있어서, 혼합가스 유입구와 정화가스 배출구를 가지며, 열반응에 의하여 유입된 폐가스를 정화하고, 정화가스를 배출하는 반응챔버와; 상기 반응챔버 내에 설치되어, 상기 반응챔버 내로 유입된 폐가스를 가열하는 히터와; 상기 외부 폐가스원과 상기 반응챔버 사이에 마련되고, 상기 반응챔버에서 배출되는 가스의 일부를 상기 외부 폐가스원에서 공급된 폐가스와 혼합하여 상기 반응챔버로 공급하는 이젝터를 포함하여, 상기 반응챔버에서 배출되는 가스의 폐열에 의하여 상기 외부 폐가스원에서 공급된 폐가스를 예열할 수 있다. 여기서, 상기 이젝터는, 상기 외부 폐가스원에서 공급되는 폐가스의 유속에 의하여, 상기 반응챔버에서 배출되는 가스의 일부를 흡입하는 벤추리관으로 이루어질 수 있다. In addition, the present invention for achieving the above object is a waste gas treatment apparatus for treating the waste gas supplied from the external waste gas source to discharge the purification gas, having a mixed gas inlet and a purification gas outlet, the waste gas introduced by the thermal reaction A reaction chamber for purifying and discharging the purge gas; A heater installed in the reaction chamber to heat the waste gas introduced into the reaction chamber; And an ejector provided between the external waste gas source and the reaction chamber, the ejector mixing part of the gas discharged from the reaction chamber with the waste gas supplied from the external waste gas source and supplying the reaction chamber to the reaction chamber. The waste gas supplied from the external waste gas source may be preheated by the waste heat of the gas. Here, the ejector may be made of a venturi tube for sucking a part of the gas discharged from the reaction chamber by the flow rate of the waste gas supplied from the external waste gas source.
여기서, 상기 반응챔버와 상기 이젝터 사이를 연결하는 것으로, 상기 반응챔버에서 배출된 정화가스의 일부를 재순환시키는 가스순환경로를 더 포함할 수 있다. 또한 반응챔버는, 상기 반응챔버의 상부에 형성되며, 정화된 폐가스의 대부분을 배출하는 제1가스배출구와; 상기 반응챔버의 하부에 형성되며, 상기 반응챔버 내의 가스 일부를 상기 가스순환경로로 배출하는 제2가스배출구를 포함할 수 있다.Here, by connecting between the reaction chamber and the ejector, it may further include a gas circulation environment path for recycling a portion of the purge gas discharged from the reaction chamber. The reaction chamber may include: a first gas outlet formed at an upper portion of the reaction chamber and discharging most of the purified waste gas; It is formed in the lower portion of the reaction chamber, it may include a second gas outlet for discharging a portion of the gas in the reaction chamber to the gaseous environment.
상기 정화가스 배출구는, 상기 반응챔버의 상부에 형성되며, 상기 정화가스의 대부분을 상기 제3경로로 배출하는 제1정화가스 배출구와; 상기 반응챔버의 하부에 형성되며, 상기 정화가스의 일부를 상기 가스순환경로로 배출하는 제2정화가스 배출구를 포함하는 폐가스 처리할 수 있다.The purge gas discharge port is formed in an upper portion of the reaction chamber, the first purge gas discharge port for discharging most of the purge gas to the third path; The waste gas may be disposed under the reaction chamber and include a second purified gas outlet configured to discharge a portion of the purified gas to the gas pure environment.
또한 본 발명은 상기 반응챔버 내에 설치되며, 상기 반응챔버 내의 공간을 상기 혼합가스 유입구와 연통되며 상기 히터가 설치되는 제1공간과, 상기 정화가스 배출구와 연통되는 제2공간으로 분리하는 분리부를 더 포함할 수 있다.In another aspect, the present invention is installed in the reaction chamber, the separation unit for separating the space in the reaction chamber into a first space in communication with the mixed gas inlet and the heater is installed, and a second space in communication with the purge gas discharge port It may include.
또한 본 발명은 상기 제2공간 내에 설치되며, 상기 히터에 의해 가열된 폐가스를 촉매환원 반응에 의하여 정화하는 촉매부재를 더 포함할 수 있다.In addition, the present invention may further include a catalyst member installed in the second space and purifying the waste gas heated by the heater by a catalytic reduction reaction.
또한 본 발명은 상기 반응챔버 내에 설치되며, 상기 혼합가스 유입구와 연통되어 상기 반응챔버 내부로 유입되는 가스가 회전되면서 공급되도록 가이드하는 가이드부를 더 포함할 수 있다.In another aspect, the present invention may further include a guide part installed in the reaction chamber, the guide part communicating with the mixed gas inlet and guided while the gas flowing into the reaction chamber is rotated.
여기서 상기 이젝터는, 상기 폐가스 유입구와 상기 혼합가스 배출구 사이의 폐가스 유속에 의하여, 상기 순환가스 유입구를 통하여 상기 이젝터 내부로 정화가스를 흡입하는 벤추리관으로 이루어질 수 있다.The ejector may be formed of a venturi tube that sucks purge gas into the ejector through the circulating gas inlet by the waste gas flow rate between the waste gas inlet and the mixed gas outlet.
상기 히터는, 상기 반응챔버 내의 공간을 상기 혼합가스 유입구와 연통되는 제1공간과, 상기 정화가스 배출구와 연통되는 제2공간으로 분리할 수 있도록, 상기 반응챔버 내에 설치될 수 있다. 본 발명은 상기 제2공간 내에 설치되며, 상기 히터에 의해 가열된 폐가스를 촉매환원 반응에 의하여 정화하는 촉매부재를 더 포함할 수 있다.The heater may be installed in the reaction chamber to separate the space in the reaction chamber into a first space communicating with the mixed gas inlet and a second space communicating with the purge gas discharge. The present invention may further include a catalyst member installed in the second space and purifying the waste gas heated by the heater by a catalytic reduction reaction.
또한 본 발명은 상기 반응챔버 내부 및/또는 상기 가스순환경로 상에 설치되며, 폐기가스 처리과정에서 발생하는 부산물을 집진하는 집진부를 더 포함할 수 있다.In another aspect, the present invention may further include a dust collector installed in the reaction chamber and / or on the gaseous-environment furnace, and collects a by-product generated in a waste gas treatment process.
또한 본 발명은 상기 제1경로와 상기 제3경로가 교차하는 위치에 설치되어, 상기 제3경로를 통하여 배기되는 정화가스의 폐열로부터 상기 제1경로로 이동하는 폐가스를 가열하는 열교환기를 더 포함할 수 있다.The present invention may further include a heat exchanger installed at a position where the first path and the third path cross each other to heat waste gas moving from the waste heat of the purge gas exhausted through the third path to the first path. Can be.
본 발명에 따른 폐가스 처리장치는 다음과 같은 효과가 있다.Waste gas treatment apparatus according to the present invention has the following effects.
첫째, 이중 폐열 회수 구조를 적용하여 에너지 회수율을 향상시킴으로써, 소비전력을 종래 장치 대비 3/4 이하로 저감할 수 있다. 둘째, 반응기 내부에 음압을 유지하여 안정적으로 가스를 처리할 수 있다. 셋째, 불소화합물에 내식성이 강한 환원촉매를 이용함으로써 가스 분해온도를 낮출 수 있고, 폐가스 처리시 발생하는 부산물을 최소화할 수 있다. 넷째, 전자산업의 제조 공정 중 증착 공정에서 사용하는 아산화질소, 실란 및 삼불화질소를 포함한 폐가스들을 통합적으로 처리함과 아울러 이들 폐가스를 90% 이상 제거할 수 있다.First, by applying a dual waste heat recovery structure to improve the energy recovery rate, power consumption can be reduced to less than three quarters of the conventional device. Second, the gas can be stably processed by maintaining a negative pressure inside the reactor. Third, by using a reduction catalyst having a high corrosion resistance to the fluorine compound can lower the gas decomposition temperature, it is possible to minimize the by-products generated during the waste gas treatment. Fourth, the waste gas including nitrous oxide, silane, and nitrogen trifluoride used in the deposition process of the electronics industry can be integrated, and at least 90% of these waste gases can be removed.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 폐가스 처리장치를 보인 개략적인 도면.
도 2는 도 1에 도시된 이젝터를 보인 개략적인 단면도.
도 3은 발명의 제2실시예에 따른 폐가스 처리장치를 보인 개략적인 도면.
도 4는 본 발명의 제3실시예에 따른 폐가스 처리장치를 보인 개략적인 도면.
도 5는 본 발명의 제1 내지 제3실시예에 따른 폐가스 처리장치의 반응기를 보인 부분 단면 분리 사시도.
도 6a는 도 5의 가이드부의 배치를 설명하기 위한 개략적인 도면이고, 도 6b는 도 6a의 가이드부에 의한 폐가스의 순환 구조를 설명하기 위한 개략적인 도면.
도 7은 본 발명의 제4실시예에 따른 폐가스 처리장치의 반응기를 보인 부분 단면 분리 사시도.
도 8은 본 발명예에 따른 폐가스 처리장치의 반응기의 변형예를 보인 개략적인 단면도.1 is a schematic view showing a waste gas treatment apparatus according to a first embodiment of the present invention.
2 is a schematic cross-sectional view showing the ejector shown in FIG.
Figure 3 is a schematic view showing a waste gas treatment apparatus according to a second embodiment of the present invention.
Figure 4 is a schematic view showing a waste gas treatment apparatus according to a third embodiment of the present invention.
Figure 5 is a partial cross-sectional perspective view showing a reactor of the waste gas treatment apparatus according to the first to third embodiments of the present invention.
FIG. 6A is a schematic view for explaining the arrangement of the guide part of FIG. 5, and FIG. 6B is a schematic view for explaining the circulation structure of the waste gas by the guide part of FIG. 6A.
Figure 7 is a partial cross-sectional perspective view showing a reactor of the waste gas treatment apparatus according to the fourth embodiment of the present invention.
Figure 8 is a schematic cross-sectional view showing a modification of the reactor of the waste gas treatment apparatus according to the present invention.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 폐가스 처리장치를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, a waste gas treating apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 폐가스 처리장치를 보인 개략적인 도면이다.1 is a schematic view showing a waste gas treatment apparatus according to a first embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 본 발명의 제1실시예에 따른 폐가스 처리장치는 외부 폐가스원에서 공급된 폐가스를 처리하여 정화가스를 배출하는 것으로, 열반응에 의하여 유입된 폐가스를 정화하는 반응기(100)와, 반응기(100)에서 배출되는 가스의 일부를 폐가스원에서 공급된 폐가스와 혼합하여 반응기(100)에 공급하는 이젝터(200)를 포함한다.Referring to Figure 1, the waste gas treatment apparatus according to the first embodiment of the present invention is to discharge the purification gas by treating the waste gas supplied from the external waste gas source, the
반응기(100)는 유입되는 폐가스를 정화하는 반응챔버(110)와, 이 반응챔버(110) 내에 설치되는 히터(120)를 포함한다. 반응기(100)는 이젝터(200)로부터 혼합가스가 유입되는 혼합가스 유입구(111)와, 정화가스를 배출하는 정화가스 배출구(115)를 포함한다. 이 반응챔버(110)는 그 내부에 설치되는 분리부(130)에 의하여 제1공간(110a)과 제2공간(110b)으로 분리된다. 제1공간(110a)은 혼합가스 유입구(111)와 연통되며, 그 내부에 히터(120)가 설치된다. 히터(120)는 제1공간(110a)으로 유입되는 가스를 고온으로 가열함으로써, 열반응에 의하여 폐가스를 분해할 수 있도록 한다. 제2공간(110b)은 정화가스 배출구(115)와 연통되는 공간으로서 처리된 폐가스가 분리 배출되는 공간이다. 분리부(130)는 도 1에 도시된 바와 같이, 제1공간(110a)이 반응챔버(110) 중앙부에 배치되고, 히터(120)와의 사이 공간을 좁게 형성될 수 있다.The
이젝터(200)는 외부 폐가스원과 반응챔버(110) 사이에 마련되고, 반응챔버(110)에서 배출되는 가스의 일부를 외부 폐가스원에서 공급된 폐가스와 혼합하여 반응챔버(110)로 공급한다. 여기서, 외부 폐가스원과 이젝터(200) 사이에는 폐가스가 유입되는 제1경로(310)가 형성된다. 이젝터(200)와 반응챔버(110) 사이에는 제2경로(320)가 형성될 수 있으며, 이 제2경로(320)를 통하여 혼합가스가 반응챔버(110)로 이동한다. 또한 반응챔버(110)에서 배출된 정화가스를 배출하는 제3경로(340)가 형성될 수 있다. 반응챔버(110)와 이젝터(200) 사이에는 가스순환경로(330)가 형성될 수 있다. 이 가스순환경로(330)는 반응챔버(110)에서 배출된 정화가스의 일부를 이젝터(200) 내로 재순환시킨다. 이젝터(200)를 구비함으로써, 반응챔버(110)에서 배출되는 가스의 폐열에 의하여 폐가스원에서 공급된 폐가스를 직접적으로 예열할 수 있어서, 예열하지 않고 공급하는 경우 대비 히터(120)의 소비전력을 저감할 수 있다.The
이젝터(200)는 도 2에 도시된 바와 같이, 외부 폐가스원에서 공급되는 폐가스의 유속에 의하여, 반응챔버(110)에서 배출되는 가스의 일부를 흡입하는 벤추리관(201)으로 이루어질 수 있다. 즉 이젝터(200)는 직관 내에 잘록한 부분이 형성된 관으로, 벤추리 원리에 의하여 잘록한 부분 내의 압력이 낮아지는 구조를 가진다. 이 이젝터(200)는 폐가스 유입구(210), 순환가스 유입구(220) 및 혼합가스 배출구(230)를 포함한다. 외부 폐가스원으로부터 공급되는 폐가스는 폐가스 유입구(210)를 통하여 이젝터(200) 내부로 유입된다. 정화가스 배출구(도 1의 115)에서 배출된 정화가스의 일부는 정화가스 배출구와 순환가스 유입구(220) 사이의 압력차이에 의하여 벤추리관(201) 내부로 유입된다. 상기 폐가스 유입구(210)와 상기 순환가스 유입구(220)를 통하여 유입된 가스는 서로 혼합되면서, 순환가스의 폐열에 의해 폐가스가 예열된다. 이 혼합가스는 혼합가스 배출구(230)를 통하여 배출되며, 혼합가스 유입구(111)를 통하여 반응챔버(110) 내부에 유입된다.As shown in FIG. 2, the
폐가스 유입구(210)와 혼합가스 배출구(230)는 직관의 양단 각각에 형성된다. 순환가스 유입구(220)는 벤추리 관(201)의 잘록한 부분에 형성된다. 폐가스 유입구(210)를 통하여 유입되는 폐가스의 유속에 연동되어, 순환가스 유입구(220)를 통하여 유입되는 순환가스의 흡입량이 결정된다.The
상기한 바와 같이, 외부 폐가스원과 반응기(100) 사이에 벤추리관(201) 형태의 이젝터(200)를 설치함으로써, 반응챔버(110)에서 배출되는 정화가스에 의해 반응챔버(110)로 유입되는 폐가스를 예열할 수 있다. 이에 따라 에너지 회수율을 높여, 열원(120)에서의 소비전력을 낮출 수 있다. 이에 따라 에너지 회수율을 보다 향상시킴으로써, 소비전력을 종래 장치 대비 3/4 이하로 저감할 수 있다.As described above, by installing an
도 3은 본 발명의 제2실시예에 따른 폐가스 처리장치를 보인 개략적인 도면이다.3 is a schematic view showing a waste gas treatment apparatus according to a second embodiment of the present invention.
도 3을 참조하면, 본 발명의 제2실시예에 따른 폐가스 처리장치는 열반응에 의하여 유입된 폐가스를 정화하는 반응기(100)와, 반응기(100)에서 배출되는 가스의 일부를 폐가스원에서 공급된 폐가스와 혼합하여 반응기(100)에 공급하는 이젝터(200)를 포함한다. 본 실시예에 따른 폐가스 처리장치는 제1실시예에 따른 폐가스 처리장치와 비교하여 볼 때, 정화가스 배출구(115) 및 배기 경로를 변경한 점에서 구별된다.Referring to FIG. 3, the waste gas treating apparatus according to the second embodiment of the present invention supplies a
정화가스 배출구(115)는 제2공간(110b)에 형성되는 제1 및 제2정화가스 배출구(116)(117)를 포함할 수 있다. 제1정화가스 배출구(116)는 반응챔버(110)의 상부에 형성되며, 정화가스의 대부분을 외부로 배출한다. 여기서 제3경로(340)는 제1정화가스 배출구(116)와 연결된다. 제2정화가스 배출구(117)는 반응챔버(110)의 하부에 형성되며, 정화가스의 일부를 가스순환경로(330)로 배출한다. 이와 같이 반응챔버(110) 하부에 제2정화가스 배출구(117)를 마련하고, 이젝터(200)의 순환가스 유입구(220)에서의 흡인력과 중력에 의하여 처리 후 잔류하는 부산물이 제2정화가스 배출구(117) 방향으로 이동한다. 이에 따라 반응챔버(110) 내부에 잔류하는 부산물이 비산되는 것을 방지할 수 있어서, 제1정화가스 배출구(116)를 통하여 외부로 직접 배출되는 것을 예방할 수 있다. The
또한 본 발명은 폐기가스 처리과정에서 발생하는 부산물을 집진하는 집진부(350)를 더 포함할 수 있다. 이 집진부(350)는 가스순환경로(330) 상에 설치될 수 있으며, 이젝터(300) 방향으로 재공급되는 가스와 함께 이동하는 부산물을 포집한다. 또한 집진부(350)는 반응챔버(110)의 하부에 설치되는 것도 가능하다.In addition, the present invention may further include a
또한 본 실시예에 따른 폐가스 처리장치는 반응챔버(110)에서 배출된 정화가스를 배출하는 제3경로(340)가 제1경로(310)와 교차 가능하게 설치될 수 있다. 여기서, 제1경로(310)와 제3경로(340)가 교차하는 위치에 열교환기(400)가 더 포함될 수 있다. 따라서 제3경로(340)로 이동하는 정화가스의 폐열에 의하여 제1경로(310)로 공급되는 폐가스를 일차적으로 예열할 수 있다. 이와 같이 열교환기를 함께 구비함으로써, 이중 폐열 회수 구조를 적용할 수 있다.In addition, in the waste gas treating apparatus according to the present exemplary embodiment, a
도 4는 본 발명의 제3실시예에 따른 폐가스 처리장치를 보인 개략적인 도면이다.4 is a schematic view showing a waste gas treatment apparatus according to a third embodiment of the present invention.
도 4를 참조하면, 본 발명의 제3실시예에 따른 폐가스 처리장치는 반응기(100)와, 이젝터(200)를 포함한다. 본 실시예에 따른 폐가스 처리장치는 제2실시예에 따른 폐가스 처리장치와 비교하여 볼 때, 반응챔버(110) 내에 촉매부재(140)를 더 포함하는 점에서 구별된다. Referring to FIG. 4, the waste gas treating apparatus according to the third embodiment of the present invention includes a
촉매부재(140)는 제2공간(110b) 내에 설치되며, 상기 히터(120)에 의해 가열된 폐가스를 촉매환원 반응에 의하여 최종적으로 정화한다. 이 촉매부재(140)는 제2공간(110b) 중 제1정화가스 배출구(116)와 제2정화가스 배출구(117) 사이 공간에 설치될 수 있다. 이 촉매부재(140)는 불소화합물에 내식성이 강한 환원촉매로 구성될 수 있으며, 이를 적용함으로써 가스 분해온도를 낮출 수 있고, 폐가스 처리시 발생하는 부산물을 최소화할 수 있다.The
또한 본 발명은 열원으로서 전기히터를 사용하고 환원촉매를 적용함으로써, 무화염 환원촉매 반응에 의하여 폐가스를 처리할 수 있다. 이에 따라 전자산업의 제조 공정 중 증착 공정에서 사용하는 아산화질소, 실란 및 삼불화질소를 포함한 폐가스들을 통합적으로 처리함과 아울러 이들 폐가스를 90% 이상 제거할 수 있다.In addition, according to the present invention, by using an electric heater as a heat source and applying a reduction catalyst, the waste gas can be treated by a flameless reduction catalyst reaction. Accordingly, the waste gases including nitrous oxide, silane, and nitrogen trifluoride used in the deposition process of the electronics industry can be integrated, and at least 90% of these waste gases can be removed.
도 5는 본 발명의 제1 내지 제3실시예에 따른 폐가스 처리장치의 반응기를 보인 부분 단면 분리 사시도이며, 도 6a는 도 5의 가이드부의 배치를 설명하기 위한 개략적인 도면이고, 도 6b는 도 6a의 가이드부에 의한 폐가스의 순환 구조를 설명하기 위한 개략적인 도면이다. 5 is a partial cross-sectional perspective view showing a reactor of the waste gas treatment apparatus according to the first to third embodiments of the present invention, Figure 6a is a schematic view for explaining the arrangement of the guide of Figure 5, Figure 6b It is a schematic diagram for demonstrating the waste gas circulation structure by the guide part of 6a.
도 5를 참조하면, 본 발명에 따른 폐가스 처리장치의 반응기(100)는 반응챔버(110), 히터(120) 및 분리부(130)를 포함한다. 반응챔버(110)에는 정화가스 배출구(115)가 형성되어 있다. 분리부(130)는 반응챔버(110)에 대해 체결 가능하게 설치되는 것으로, 그 단면 형상이 깔때기 형상을 가질 수 있다. 이 분리부(130) 내에 히터(120)가 위치하며, 반응챔버(110) 내부 공간을 제1공간(110a)과 제2공간(110b)으로 분리한다. 분리부(130) 상에는 고정판(151)이 결합 설치될 수 있다. 이 고정판(151)에는 혼합가스 유입구(111)가 형성되며, 그 중앙에 히터(120)가 결합 설치된다. Referring to FIG. 5, the
또한 반응기(100)는 반응챔버(110) 내에 설치되어 유입되는 가스의 진행방향을 가이드하는 가이드부(155)를 더 포함할 수 있다. 이 가이드부(155)는 혼합가스 유입구(111)와 연통되도록 고정판(151)에 결합 설치된다. 이 가이드부(155)는 반응챔버(110) 내부로 유입되는 폐가스가 회전되면서 공급되도록 가이드한다. 이를 위하여 도 6a에 도시된 바와 같이, 혼합가스 유입구(111)와 가이드부(155)는 서로 대응되는 위치에 복수개 구비되며, 고정판(151)에 소정 간격으로 이격 설치될 수 있다. 또한 가이드부(155)는 고정판(151) 하부에 일 회전 방향으로 경사지게 형성될 수 있다. 따라서 도 6b에 도시된 바와 같이 분리부(130) 내측에 폐가스 주입시 화살표 A로 표시한 바와 같이 일 회전 방향으로 회전하면서 공급할 수 있다. 그러므로 주입되는 폐가스가 히터(120) 주변에 머무는 시간을 늘려주므로, 폐가스 가열 효율을 보다 향상시킬 수 있다. 또한 주입되는 가스가 반응챔버(110)의 하부로 직접 향하지 않으므로, 반응챔버(110) 하부에 잔류하는 부산물이 주입되는 가스에 의해 비산되는 것을 방지할 수 있다.In addition, the
도 7은 본 발명의 제4실시예에 따른 폐가스 처리장치를 보인 개략적인 도면이다. 7 is a schematic view showing a waste gas treatment apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.
본 실시예에 따른 폐가스 처리장치는 제2실시예에 따른 폐가스 처리장치와 비교하여 볼 때, 반응기(100) 내부로 유입되는 폐가스의 유량과, 반응기(100) 내부 온도를 감지할 수 있도록, 유량계(510)와 온도센서(520)를 더 포함하는 점에서 구별된다. 유량계(510)는 제2경로(320)에 설치되며, 이젝터(300)의 혼합가스 배출구(230)에서 배출되어 혼합가스 유입구(111)로 이동하는 폐가스의 유량을 검출한다. 이 유량계(510)는 제1경로(310)에 설치되는 것도 가능하며, 가스순환경로(330) 상에 추가 설치될 수도 있다. 또한 온도센서(520)는 반응챔버(110) 내의 적어도 한 곳에 설치되어, 반응챔버(110) 내의 온도를 체크할 수 있으며, 온도 조건에 따라 히터(120)를 제어할 수 있다. 또한 온도센서(520)는 제1정화가스 배출구(116)에 추가적으로 설치되어, 폐열의 온도 조건을 감지할 수도 있다. 이와 같이 유량계(510) 및 온도센서(520)를 더 포함함으로써, 반응기(100)의 내부 조건을 실시간으로 파악할 수 있고, 이를 기초로 내부에 공급되는 폐가스의 유량 및 히터(120)의 온도를 제어함으로써, 반응조건을 최적화 할 수 있다.Compared to the waste gas treatment apparatus according to the second embodiment, the waste gas treatment apparatus according to the present embodiment has a flow meter to detect the flow rate of the waste gas introduced into the
도 8은 본 발명에 따른 폐가스 처리장치의 반응기의 변형예를 보인 개략적인 단면도이다.8 is a schematic cross-sectional view showing a modification of the reactor of the waste gas treatment apparatus according to the present invention.
도 8을 참조하면, 반응기(100)는 유입되는 폐가스를 정화하는 반응챔버(160)와, 이 반응챔버(160) 내에 설치되는 히터(170)를 포함하며, 히터(170)가 반응챔버(160) 내의 공간을 두 부분으로 분리하는 분리부의 기능을 수행한다. 이 반응기(100)는 혼합가스가 유입되는 혼합가스 유입구(161)와, 정화가스를 배출하는 정화가스 배출구(165)를 포함한다. 여기서 정화가스 배출구(165)는 히터(170) 내측 상부에 위치하는 제1정화가스 배출구(166)와, 반응챔버의 하부에 위치하는 제2정화가스 배출구(167)를 포함한다. 또한 히터(170)의 내부에는 촉매부재(180)가 설치될 수 있다. Referring to FIG. 8, the
이와 같이 히터(170)를 이용하여 공간을 분리함으로써, 별도의 분리부를 이용한 구성에 비하여 구성을 보다 단순화 할 수 있다는 이점이 있다.By separating the space using the
상기한 실시예들은 예시적인 것에 불과한 것으로, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 사람이라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 청구범위에 기재된 발명의 기술적 사상에 의해 정해져야만 할 것이다.The above embodiments are merely exemplary, and various modifications and equivalent other embodiments are possible to those skilled in the art to which the present invention pertains. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the invention described in the claims.
100: 반응기
110, 160: 반응챔버
110a: 제1공간
110b: 제2공간
111, 161: 혼합가스 유입구
115, 165: 정화가스 배출구
120, 170: 히터
130: 분리부
140, 180: 촉매부재
151: 고정판
155: 가이드부
200: 이젝터
201: 벤추리관
210: 폐가스 유입구
220: 순환가스 유입구
230: 혼합가스 배출구
310: 제1경로
320: 제2경로
330: 가스순환경로
340: 제3경로
350: 집진부
400: 열교환기
510: 유량계
520: 온도센서100: reactor
110, 160:
110b:
115, 165: purge
130:
151: fixing plate 155: guide portion
200: ejector
201: Venturi Tube 210: Waste gas inlet
220: circulating gas inlet 230: mixed gas outlet
310: first path 320: second path
330: gas net environment path 340: third path
350: dust collector
400: heat exchanger
510: flow meter 520: temperature sensor
Claims (19)
혼합가스 유입구와 정화가스 배출구를 가지며, 열반응에 의하여 폐가스를 정화하는 반응챔버와;
상기 반응챔버 내에 설치되어, 상기 반응챔버 내로 유입된 폐가스를 가열하는 히터와;
상기 외부 폐가스원과 상기 반응챔버 사이에 마련되고, 상기 외부 폐가스원에서 공급된 폐가스가 유입되는 폐가스 유입구와, 상기 정화가스 배출구에서 배출된 정화가스의 일부가 유입되는 순환가스 유입구 및 상기 폐가스 유입구와 상기 순환가스 유입구를 통하여 유입된 가스를 상기 반응챔버 방향으로 배출하는 혼합가스 배출구를 가지며, 상기 순환가스 유입구를 통하여 유입된 가스의 폐열에 의하여 상기 폐가스 유입구를 통하여 유입된 가스를 예열하는 이젝터와;
상기 외부 폐가스원과 상기 폐가스 유입구 사이를 연결하는 제1경로와;
상기 혼합가스 배출구와 상기 혼합가스 유입구 사이를 연결하는 제2경로와;
상기 정화가스 배출구와 상기 순환가스 유입구 사이를 연결하는 것으로, 상기 반응챔버에서 배출된 정화가스의 일부를 재순환시키는 가스순환경로와;
상기 정화가스 배출구와 연결되며, 상기 반응챔버에서 배출된 정화가스를 배출하는 제3경로를 포함하는 폐가스 처리장치.In the waste gas treatment apparatus for treating the waste gas supplied from the external waste gas source to discharge the purification gas,
A reaction chamber having a mixed gas inlet port and a purification gas outlet port, and configured to purify the waste gas by thermal reaction;
A heater installed in the reaction chamber to heat waste gas introduced into the reaction chamber;
A waste gas inlet provided between the external waste gas source and the reaction chamber, the waste gas inlet through which the waste gas supplied from the external waste gas source flows, and a circulating gas inlet and a waste gas inlet through which a portion of the purge gas discharged from the purge gas outlet flows; An ejector having a mixed gas outlet for discharging the gas introduced through the circulating gas inlet toward the reaction chamber, and preheating the gas introduced through the waste gas inlet by waste heat of the gas introduced through the circulating gas inlet;
A first path connecting the external waste gas source and the waste gas inlet;
A second path connecting between the mixed gas outlet and the mixed gas inlet;
A gas circulating environment path connecting the purge gas discharge port and the circulating gas inlet port to recycle a part of the purge gas discharged from the reaction chamber;
And a third path connected to the purge gas discharge port and discharging the purge gas discharged from the reaction chamber.
상기 정화가스 배출구는,
상기 반응챔버의 상부에 형성되며, 상기 정화가스의 대부분을 상기 제3경로로 배출하는 제1정화가스 배출구와;
상기 반응챔버의 하부에 형성되며, 상기 정화가스의 일부를 상기 가스순환경로로 배출하는 제2정화가스 배출구를 포함하는 폐가스 처리장치.The method of claim 1,
The purge gas outlet,
A first purge gas outlet formed at an upper portion of the reaction chamber and discharging most of the purge gas to the third path;
And a second purge gas outlet formed at a lower portion of the reaction chamber and discharging a portion of the purge gas to the gas pure environment.
상기 반응챔버 내부 및/또는 상기 가스순환경로 상에 설치되며, 폐기가스 처리과정에서 발생하는 부산물을 집진하는 집진부를 더 포함하는 폐가스 처리장치. The method of claim 2,
And a dust collecting unit installed in the reaction chamber and / or on the gas pure environment furnace, and collecting a by-product generated in a waste gas treatment process.
상기 반응챔버 내에 설치되며,
상기 반응챔버 내의 공간을 상기 혼합가스 유입구와 연통되며 상기 히터가 설치되는 제1공간과, 상기 정화가스 배출구와 연통되는 제2공간으로 분리하는 분리부를 더 포함하는 폐가스 처리장치.The method of claim 1,
Installed in the reaction chamber,
And a separation unit configured to separate the space in the reaction chamber into a first space in communication with the mixed gas inlet and a second space in communication with the purge gas discharge port.
상기 제2공간 내에 설치되며, 상기 히터에 의해 가열된 폐가스를 촉매환원 반응에 의하여 정화하는 촉매부재를 더 포함하는 폐가스 처리장치.The method of claim 4, wherein
And a catalyst member installed in the second space and purifying the waste gas heated by the heater by a catalytic reduction reaction.
상기 반응챔버 내에 설치되며, 상기 혼합가스 유입구와 연통되어 상기 반응챔버 내부로 유입되는 가스가 회전되면서 공급되도록 가이드하는 가이드부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치.The method of claim 1,
And a guide part installed in the reaction chamber, the guide part communicating with the mixed gas inlet and guiding the gas flowing into the reaction chamber while being rotated.
상기 이젝터는,
상기 폐가스 유입구와 상기 혼합가스 배출구 사이의 폐가스 유속에 의하여, 상기 순환가스 유입구를 통하여 상기 이젝터 내부로 정화가스를 흡입하는 벤추리관으로 이루어진 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치.The method of claim 1,
The ejector,
And a venturi tube for sucking purge gas into the ejector through the circulating gas inlet by the waste gas flow rate between the waste gas inlet and the mixed gas outlet.
상기 히터는,
상기 반응챔버 내의 공간을 상기 혼합가스 유입구와 연통되는 제1공간과, 상기 정화가스 배출구와 연통되는 제2공간으로 분리할 수 있도록, 상기 반응챔버 내에 설치된 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치.The method of claim 1,
The heater,
And a space within the reaction chamber so as to be separated into a first space communicating with the mixed gas inlet and a second space communicating with the purge gas discharge.
상기 제2공간 내에 설치되며, 상기 히터에 의해 가열된 폐가스를 촉매환원 반응에 의하여 정화하는 촉매부재를 더 포함하는 폐가스 처리장치.The method of claim 8,
And a catalyst member installed in the second space and purifying the waste gas heated by the heater by a catalytic reduction reaction.
상기 제1경로와 상기 제3경로가 교차하는 위치에 설치되어, 상기 제3경로를 통하여 배기되는 정화가스의 폐열로부터 상기 제1경로로 이동하는 폐가스를 가열하는 열교환기를 더 포함하는 폐가스 처리장치.The method according to any one of claims 1 to 9,
And a heat exchanger disposed at a position where the first path and the third path cross each other, and configured to heat a waste gas moving from the waste heat of the purge gas exhausted through the third path to the first path.
혼합가스 유입구와 정화가스 배출구를 가지며, 열반응에 의하여 유입된 폐가스를 정화하고, 정화가스를 배출하는 반응챔버와;
상기 반응챔버 내에 설치되어, 상기 반응챔버 내로 유입된 폐가스를 가열하는 히터와;
상기 외부 폐가스원과 상기 반응챔버 사이에 마련되고, 상기 반응챔버에서 배출되는 가스의 일부를 상기 외부 폐가스원에서 공급된 폐가스와 혼합하여 상기 반응챔버로 공급하는 이젝터를 포함하여,
상기 반응챔버에서 배출되는 가스의 폐열에 의하여 상기 외부 폐가스원에서 공급된 폐가스를 예열할 수 있도록 된 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치.In the waste gas treatment apparatus for treating the waste gas supplied from the external waste gas source to discharge the purification gas,
A reaction chamber having a mixed gas inlet port and a purge gas outlet, purifying the waste gas introduced by the thermal reaction and discharging the purge gas;
A heater installed in the reaction chamber to heat the waste gas introduced into the reaction chamber;
Including an ejector provided between the external waste gas source and the reaction chamber, a portion of the gas discharged from the reaction chamber is mixed with the waste gas supplied from the external waste gas source to supply to the reaction chamber,
Waste gas treatment apparatus, characterized in that for preheating the waste gas supplied from the external waste gas source by the waste heat of the gas discharged from the reaction chamber.
상기 이젝터는,
상기 외부 폐가스원에서 공급되는 폐가스의 유속에 의하여, 상기 반응챔버에서 배출되는 가스의 일부를 흡입하는 벤추리관으로 이루어진 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치.The method of claim 11,
The ejector,
And a venturi tube for sucking a part of the gas discharged from the reaction chamber by the flow rate of the waste gas supplied from the external waste gas source.
상기 반응챔버와 상기 이젝터 사이를 연결하는 것으로, 상기 반응챔버에서 배출된 정화가스의 일부를 재순환시키는 가스순환경로를 더 포함하는 폐가스 처리장치.The method of claim 11,
By connecting between the reaction chamber and the ejector, waste gas treatment apparatus further comprising a gas circulation environment for recirculating a portion of the purge gas discharged from the reaction chamber.
상기 반응챔버는,
상기 반응챔버의 상부에 형성되며, 정화된 폐가스의 대부분을 배출하는 제1가스배출구와;
상기 반응챔버의 하부에 형성되며, 상기 반응챔버 내의 가스 일부를 상기 가스순환경로로 배출하는 제2가스배출구를 포함하는 폐가스 처리장치.The method of claim 13,
The reaction chamber,
A first gas outlet formed at an upper portion of the reaction chamber and discharging most of the purified waste gas;
And a second gas outlet formed under the reaction chamber and discharging a portion of the gas in the reaction chamber to the gaseous environment.
상기 반응챔버 내부 및/또는 상기 가스순환경로 상에 설치되며, 폐기가스 처리과정에서 발생하는 부산물을 집진하는 집진부를 더 포함하는 폐가스 처리장치. The method of claim 14,
And a dust collecting unit installed in the reaction chamber and / or on the gas pure environment furnace, and collecting a by-product generated in a waste gas treatment process.
상기 반응챔버 내에 설치되며, 상기 반응챔버 내의 공간을 상기 혼합가스 유입구와 연통되며 상기 히터가 설치되는 제1공간과, 상기 정화가스 배출구와 연통되는 제2공간으로 분리하는 분리부를 더 포함하는 폐가스 처리장치.The method of claim 11,
Installed in the reaction chamber, the waste gas treatment further comprises a separation unit for separating the space in the reaction chamber into the first space in communication with the mixed gas inlet and the heater and the second space in communication with the purge gas discharge port Device.
상기 히터는,
상기 반응챔버 내의 공간을 상기 혼합가스 유입구와 연통되는 제1공간과, 상기 정화가스 배출구와 연통되는 제2공간으로 분리할 수 있도록, 상기 반응챔버 내에 설치된 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치.The method of claim 11,
The heater,
And a space within the reaction chamber so as to be separated into a first space communicating with the mixed gas inlet and a second space communicating with the purge gas discharge.
상기 제2공간 내에 설치되며, 상기 히터에 의해 가열된 폐가스를 촉매환원 반응에 의하여 정화하는 촉매부재를 더 포함하는 폐가스 처리장치.The method according to claim 16 or 17,
And a catalyst member installed in the second space and purifying the waste gas heated by the heater by a catalytic reduction reaction.
상기 반응챔버 내에 설치되며, 상기 혼합가스 유입구와 연통되어 상기 반응챔버 내부로 유입되는 가스가 회전되면서 공급되도록 가이드하는 가이드부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치.The method according to any one of claims 11 to 17,
And a guide part installed in the reaction chamber, the guide part communicating with the mixed gas inlet and guiding the gas flowing into the reaction chamber while being rotated.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020180051622A KR102177129B1 (en) | 2018-05-04 | 2018-05-04 | Apparatus for treating waste gas |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020180051622A KR102177129B1 (en) | 2018-05-04 | 2018-05-04 | Apparatus for treating waste gas |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20190127244A true KR20190127244A (en) | 2019-11-13 |
KR102177129B1 KR102177129B1 (en) | 2020-11-10 |
Family
ID=68534746
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020180051622A KR102177129B1 (en) | 2018-05-04 | 2018-05-04 | Apparatus for treating waste gas |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102177129B1 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20220154286A (en) * | 2021-05-12 | 2022-11-22 | 한국핵융합에너지연구원 | Plasma reactor for treatment of exhaust gas and waste gas |
KR102489165B1 (en) * | 2022-06-24 | 2023-01-18 | 한정훈 | Heating Apparatus For Cutter Scrubber Unit |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102382384B1 (en) | 2021-02-16 | 2022-04-04 | (주)씨에스피 | Pipe protecting apparatus and exhaust system for harmful gas having the same |
KR102498680B1 (en) | 2021-05-18 | 2023-02-10 | (주)씨에스피 | Flow control apparatus and exhaust system for harmful gas having the same |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20000073514A (en) * | 1999-05-11 | 2000-12-05 | 윤종용 | Apparatus for treating fine particles and toxic gas used in manufacturing process of semiconductor elements |
JP2004195412A (en) * | 2002-12-20 | 2004-07-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Gas purifying apparatus and gas purifying method |
KR20100010583A (en) * | 2008-07-23 | 2010-02-02 | 주식회사 대봉엔지니어링 | An ozone apparatus with its recirculation |
KR20120084983A (en) | 2011-01-21 | 2012-07-31 | 김대성 | A measure method with one snap shot |
US20130064730A1 (en) | 2010-06-21 | 2013-03-14 | Izumi Nakayama | Gas abatement system |
KR20130084981A (en) | 2010-06-04 | 2013-07-26 | 티센크루프 우데 게엠베하 | Method and device for eliminating nox and n2o |
KR101591190B1 (en) * | 2014-07-30 | 2016-02-04 | 두산엔진주식회사 | Exhaust gas purification device |
-
2018
- 2018-05-04 KR KR1020180051622A patent/KR102177129B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20000073514A (en) * | 1999-05-11 | 2000-12-05 | 윤종용 | Apparatus for treating fine particles and toxic gas used in manufacturing process of semiconductor elements |
JP2004195412A (en) * | 2002-12-20 | 2004-07-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Gas purifying apparatus and gas purifying method |
KR20100010583A (en) * | 2008-07-23 | 2010-02-02 | 주식회사 대봉엔지니어링 | An ozone apparatus with its recirculation |
KR20130084981A (en) | 2010-06-04 | 2013-07-26 | 티센크루프 우데 게엠베하 | Method and device for eliminating nox and n2o |
US20130064730A1 (en) | 2010-06-21 | 2013-03-14 | Izumi Nakayama | Gas abatement system |
KR20120084983A (en) | 2011-01-21 | 2012-07-31 | 김대성 | A measure method with one snap shot |
KR101591190B1 (en) * | 2014-07-30 | 2016-02-04 | 두산엔진주식회사 | Exhaust gas purification device |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20220154286A (en) * | 2021-05-12 | 2022-11-22 | 한국핵융합에너지연구원 | Plasma reactor for treatment of exhaust gas and waste gas |
KR102489165B1 (en) * | 2022-06-24 | 2023-01-18 | 한정훈 | Heating Apparatus For Cutter Scrubber Unit |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102177129B1 (en) | 2020-11-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20190127244A (en) | Apparatus for treating waste gas | |
JP3280173B2 (en) | Exhaust gas treatment equipment | |
JP5307556B2 (en) | Gas processing equipment | |
CN1917932B (en) | Method and apparatus for treating a fluorocompound-containing gas stream | |
KR102023950B1 (en) | Apparatus for treating waste gas | |
US9937467B2 (en) | Exhaust gas processing device | |
KR100882052B1 (en) | Nitrogen enriched cooling air module for uv curing system | |
US7394041B2 (en) | Apparatus for treating a waste gas using plasma torch | |
KR101774710B1 (en) | Hybrid Dry Hazardous Gas Treatment Apparatus Using Plasma and Catalyst and Operation Method Thereof | |
MX2008015641A (en) | Method and apparatus for the removal of fluorine from a gas stream. | |
KR101226603B1 (en) | Apparatus for treating hazardous gas using counterflow of plasma and hazardous gas, method for treating hazardous gas using the same | |
KR102133870B1 (en) | Apparatus for treating waste gas | |
US10617997B1 (en) | Apparatus for exhaust gas abatement under reduced pressure | |
KR101791478B1 (en) | Treating system of waste gas | |
WO2009010792A2 (en) | Plasma reactor | |
WO2018141088A1 (en) | Plasma abatement of nitrous oxide from semiconductor process effluents | |
JP2007021290A (en) | Method and apparatus for treating exhaust gas | |
KR101617691B1 (en) | Device for purifying exhuasted gas from chemical vapor deposition | |
US20200033000A1 (en) | Method and apparatus for exhaust gas abatement under reduced pressure | |
KR20110017126A (en) | Reactor assembly for hybrid scrubber | |
WO2022009313A1 (en) | Gas processing furnace and exhaust gas processing device in which same is used | |
JP2004349442A (en) | Method and apparatus for detoxifying exhaust gas | |
CN115461131A (en) | Treatment device for semiconductor manufacturing waste gas | |
KR100545696B1 (en) | Waste gas scrubber integral with vaccum pump | |
WO2024075312A1 (en) | Gas removal apparatus and gas treatment method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |