KR20190122068A - Power Coating Apparatus - Google Patents

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KR20190122068A
KR20190122068A KR1020180045739A KR20180045739A KR20190122068A KR 20190122068 A KR20190122068 A KR 20190122068A KR 1020180045739 A KR1020180045739 A KR 1020180045739A KR 20180045739 A KR20180045739 A KR 20180045739A KR 20190122068 A KR20190122068 A KR 20190122068A
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powder
reaction vessel
pocket
coating apparatus
fine particle
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KR1020180045739A
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윤능구
박성진
유연상
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주식회사 소로나
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Abstract

Described is a technology for a device for coating fine powder. The coating device has: a reaction container for accommodating a powder by fine particles to be coated therein; a powder transport body installed in an inner wall of the reaction container and having a plurality of pockets for accommodating a predetermined amount of the powder; a gas supply part for supplying the required gas to the reaction container; and a rotating device for rotating the reaction container. Therefore, the present invention is capable of improving a coating quality for fine particles.

Description

분말 코팅 장치{Power Coating Apparatus}Powder Coating Apparatus {Power Coating Apparatus}

본 발명은 분말 코팅 장치에 관한 것으로 상세하게는 미세 입자의 표면에타겟 물질 또는 반응물질을 코팅하는 증착 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a powder coating apparatus, and more particularly, to a deposition apparatus for coating a target material or a reactant on the surface of a fine particle.

미세 입자에 대한 코팅 장치는 반응 용기를 회전시키면서 미세 입자에 소정의 물질을 코팅하는 장치이다. 이러한 코팅 장치는 반응 용기의 내벽에 일정한 간격으로 교반익 형태의 블레이드가 설치되는 구조를 가지는데, 이는 반응 용기 내부에서 미세 입자를 용기 내부의 상방으로 끌어 올린 후 자중에 의해 낙하시키면서 비산 시키는 기능을 가진다.The coating apparatus for the fine particles is a device for coating a predetermined material on the fine particles while rotating the reaction vessel. Such a coating device has a structure in which blades in the form of agitator blades are installed at regular intervals on the inner wall of the reaction vessel, which draws up fine particles from the inside of the vessel and then drops them by their own weight. Have

미세 입자에 코팅을 수행하는 코팅 장치에서 양질의 코팅을 위해서 반응용기 내부에서 미세 입자를 고르게 분포시키고, 그리고 미세 입자의 체류 시간을 길게 하는 것이 필요하다.In the coating apparatus for coating the fine particles, it is necessary to distribute the fine particles evenly in the reaction vessel and to increase the residence time of the fine particles in order to obtain a high quality coating.

그런데, 미세 입자를 고르게 분포시키기에는 소수의 블레이드에 의한 미세 입자 이송 및 낙하 구조로는 역부족이다. 즉, 블레이드에 의한 미세 입자 낙하 구조는 미세 입자를 비산 구조는 미세 입자가 한꺼번에 뭉쳐서 떨어지기 때문에 고른 분포로 미세 입자를 낙하시키기 어렵고 미세 입자가 충분히 상승하지 않은 상태에서 낙하되기 때문에 체류 시간의 연장에 불리하다.However, in order to distribute the fine particles evenly, the fine particle transport and drop structure by a few blades is insufficient. In other words, the fine particle drop structure by the blade is because it is difficult to drop the fine particles with even distribution because the fine particles scattering the fine particles at once, and the fine particles fall in a state where the fine particles are not sufficiently raised to extend the residence time. It is disadvantageous.

KRKR 10-2014-000642010-2014-0006420 AA

본 발명은 미세 입자에 대한 코팅 품질을 향상시킬 수 있는 코팅 장치를 제공한다.The present invention provides a coating apparatus that can improve the coating quality for the fine particles.

본 발명은 미세 입자에 대한 코팅 속도를 향상시킬 수 있는 코팅 장치를 제공한다.The present invention provides a coating apparatus that can improve the coating speed for the fine particles.

본 발명에 따른 코팅 장치:는Coating device according to the invention:

내부에 코팅 대상인 분말 상태의 미세 입자가 수용되는 반응용기;A reaction vessel accommodating fine particles in a powder state to be coated therein;

상기 반응용기의 내벽에 설치되는 것으로 상기 분말을 소정량 수용하는 포켓이 다수 마련되어 있는 파우더 수송체;A powder transporter provided on the inner wall of the reaction container and provided with a plurality of pockets for accommodating a predetermined amount of the powder;

상기 반응용기에 상기 필요 가스를 공급하는 가스 공급부; 그리고A gas supply unit supplying the required gas to the reaction vessel; And

상기 반응용기를 회전시키는 회전장치;를 구비한다.It is provided with a rotating device for rotating the reaction vessel.

본 발명의 일 실시 예에 따르면, 상기 파우더 수송체는 다수의 홈이 배열되어 있는 판상 부재를 포함하고, 상기 홈에 의해 상기 포켓이 마련될 수 있다.\According to an embodiment of the present invention, the powder transporter may include a plate-like member in which a plurality of grooves are arranged, and the pocket may be provided by the groove.

본 발명의 일 실시 예에 따르면, 상기 파우더 수송체는 다수의 홈이 배열되어 있는 판상 부재를 포함하고, 그리고 상기 홈에 의해 상기 포켓이 마련될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the powder transporter may include a plate-like member in which a plurality of grooves are arranged, and the pocket may be provided by the groove.

본 발명의 일 실시 예에 따르면, 상기 홈은 원형, 사각형 또는 다각형의 개구부를 가지는 우물 구조를 가지며, 그 내면에 다수의 돌기가 형성될 수 있다.According to one embodiment of the invention, the groove has a well structure having an opening of a circular, square or polygonal, a plurality of protrusions may be formed on the inner surface.

본 발명의 일 실시 예에 따르면, 상기 파우더 수송체는 상기 반응용기의 내벽에 반응용기의 회전축방향에 나란하게 마련되는 다수의 격벽을 포함하고, 상기 격벽의 사이에 상기 포켓이 마련될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the powder transporter may include a plurality of partition walls arranged side by side in the rotation axis direction of the reaction vessel on the inner wall of the reaction vessel, the pocket may be provided between the partition walls.

본 발명의 일 실시 예에 따르면, 상기 반응 용기의 내부에 타겟 물질이 마련되고, 상기 가스는 스퍼터링 가스일 수 있다.According to one embodiment of the present invention, a target material is provided in the reaction vessel, and the gas may be a sputtering gas.

본 발명의 다른 실시 예에 따르면, 상기 포켓의 내벽에 주름 형태의 요철부가 형성되어 있을 수 있다.According to another embodiment of the present invention, a wrinkled concave-convex portion may be formed on the inner wall of the pocket.

본 발명은 반응 용기 내면에 마련되는 우물 형태의 포켓에 의해 반응 용기의 회전과 함께 분말을 반응 용기 내부의 상방으로 효과적으로 수송함으로써 반응 용기 내에서 공중 체류 시간을 길게 연장하며 따라서 분말 입자에 대한 코팅 시간을 연장할 수 있다.The present invention effectively prolongs the air residence time in the reaction vessel by effectively transporting the powder upwardly inside the reaction vessel with the rotation of the reaction vessel by the well-shaped pocket provided on the inner surface of the reaction vessel, and thus the coating time for the powder particles. Can be extended.

도1은 본 발명에 따른 미세 입자 코팅 장치의 전체 구조를 도식적으로 보이는 구성도이다.
도2는 본 발명에 따른 미세 입자 코팅 장치에서 파우더에 대한 코팅 과정 중 파우더의 이송 경로를 설명하는 반응 용기의 단면도이다.
도3은 도2에 도시된 반응용기의 "I" 부분의 확대도이다.
도4는 본 발명에 따른 포켓을 구비하는 반응용기의 회전과 이에 따른 파우더의 이송 루우프를 설명하는 도면이다.
도5 (a), (b)는 본 발명의 실시 예들에 따른 반응 용기에 마련되는 파우더 이송체의부분 발췌도이다.
도6의 (a), (b), (c)는 본 발명의 또 다른 실시 예들에 따른 파우더 수송체의 다양한 형태의 포켓의 구조를 보인다.
도7은 본 발명의 또 다른 실시 예들에 따른 파우더 수송체의 다양한 형태의 단면 (개구부) 구조를 포켓의 구조를 보인다1 is a schematic view showing the overall structure of a fine particle coating apparatus according to the present invention.
Figure 2 is a cross-sectional view of the reaction vessel illustrating the transport path of the powder during the coating process for the powder in the fine particle coating apparatus according to the present invention.
FIG. 3 is an enlarged view of portion “I” of the reaction vessel shown in FIG. 2.
Figure 4 is a view illustrating the rotation of the reaction vessel having a pocket according to the present invention and thus the conveying loop of the powder.
Figure 5 (a), (b) is a partial extract of the powder carrier provided in the reaction vessel according to the embodiments of the present invention.
Figure 6 (a), (b), (c) shows the structure of the pocket of various types of powder transporter according to another embodiment of the present invention.
Figure 7 shows the structure of the pocket of the cross-sectional (opening) structure of the various forms of the powder transporter according to another embodiment of the present invention

이하, 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명에 따른 미세 입자 코팅 장치의 실시 예를 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail an embodiment of a fine particle coating apparatus according to the present invention.

이하에서 스퍼터링 증착을 적용하는 미세 분말 입자 코팅 장치가 일 실시 예로서 설명된다. 그러나, 본 발명의 코팅 장치에는 PVD(Physical Vapor Deposition)의 일종인 스퍼터링 증착 외에, CVD(Chemical Vapor Deposition) 계열의 코팅 방법 등의 다양한 형태의 박막 형성 방법이 적용될 수 있다.Hereinafter, a fine powder particle coating apparatus applying sputter deposition is described as an embodiment. However, in addition to sputter deposition, which is a kind of physical vapor deposition (PVD), various types of thin film formation methods, such as a chemical vapor deposition (CVD) -based coating method, may be applied to the coating apparatus of the present invention.

코팅 대상은 직경 5 미크론 이하의 미세 입자이며, 여기에는 화장품 기초재료, 촉매의 제조 등에 사용될 수 있으며, 특히 다양한 목적에 의해 미세 입자의 표면개질에도 코팅이 적용될 수 있다. 일례로서 분말 재료 입자(파우더 입자)는 탄소, 합성수지 등이 될 수 있으며, 코팅 물질로서는 Pt, Ru 등이 이용될 수 있다.The coating target is fine particles having a diameter of 5 microns or less, and may be used for preparing cosmetic base materials, catalysts, and the like, and in particular, coating may be applied to surface modification of fine particles for various purposes. As an example, the powder material particles (powder particles) may be carbon, synthetic resin, or the like, and Pt, Ru, or the like may be used as the coating material.

도1은 PVD 방법을 적용하는 코팅 장치의 일 실시 예를 도시한다. 도1은 참조하면, 챔버(10) 내에 코팅 대상 분말(20)이 수용되는 반응용기(11)가 마련되어 있다. 이 반응용기(11)는 챔버(10) 외부에 마련된 회전장치(12)에 기계적으로 연결되어 소정의 속도로 회전된다. 한편, 반응용기(11) 내에는 스퍼터링 타겟(16)이 마련되며 이는 챔버(10) 외부에 마련되는 RF 파워소스(15)에 연결된다. 상기 챔버(10)는 외부 진공 배기장치(13)에 연결되고, 그리고 외부로부터의 반응가스가 주입되는 반응 가스공급부(14)와도 연결되어 있다.1 shows an embodiment of a coating apparatus applying the PVD method. Referring to FIG. 1, a reaction vessel 11 in which a powder to be coated 20 is accommodated is provided in a chamber 10. The reaction vessel 11 is mechanically connected to the rotating device 12 provided outside the chamber 10 and rotated at a predetermined speed. Meanwhile, the sputtering target 16 is provided in the reaction vessel 11, which is connected to the RF power source 15 provided outside the chamber 10. The chamber 10 is connected to an external vacuum exhaust device 13 and also to a reaction gas supply unit 14 into which a reaction gas from the outside is injected.

위의 구조에 따르면, 상기 RF 파워소스(15)와 전기적 루우프를 형성하는 가스 공굽부(14)를 통해 가스가 유입되면, 이 가스를 상기 스퍼터링 타겟(16)에 강하게 충돌하게 되고, 따라서 여기에서 다량의 타겟 물질의 입자가 기체 상태로 반응 용기(10)의 내부에 부유하게 된다. 이러한 상태에서 반응 용기(10)의 공간에 파우더가 공중에 체류하게 되며, 타겟 물질이 파우더 입자의 표면에 코팅되게 된다.According to the above structure, when gas is introduced through the gas bent portion 14 forming the electrical loop with the RF power source 15, the gas strongly collides with the sputtering target 16, and thus A large amount of particles of the target material are suspended inside the reaction vessel 10 in a gaseous state. In this state, the powder stays in the air in the space of the reaction vessel 10, and the target material is coated on the surface of the powder particles.

즉, 도1의 구조는 일반적인 스퍼터링 방식에 따르며, 일반적인 스퍼터링 장치와 다른 면은 회전형 반응용기(11)에 있다. 회전형 반응용기(11)는 수평방향의 회전축을 중심으로 회전되며, 그 내부에는 파우더 수송체에 의해 증착 대상인 파우더(20)가 수용되며, 이 파우더는 반응용기(11)의 내면을 따라서 상승(A)과 낙하(B)를 반복한다. 즉 파우더(20)는 중력에 의해 반응용기(11)의 하방에 위치하며, 회전하는 반응용기(11)의 내면을 따라 상방으로 이송(A)되다가 어느 정도 높이 올라 가면 중력에 의해 그 하방으로 낙하(B)한다. 기존에는 내부에 블레이드를 마련하여 파우더(20)가 반응용기(11)의 상방으로 끌어 올리도록 하는데, 본 발명은 보다 확실한 파우더의 이송 및 낙하를 유도함으로써 파우더(20)가 반응 용기 내부의 충분한 높이에서 골고루 낙하하고, 이를 통해 보다 긴 시간 반응용기 내 공간에 체류하도록 한다.That is, the structure of FIG. 1 is in accordance with the general sputtering method, and the surface different from the general sputtering apparatus is in the rotary reaction vessel 11. The rotary reaction vessel 11 is rotated about a horizontal axis of rotation, and the powder 20 to be deposited is accommodated by the powder transporter, and the powder is raised along the inner surface of the reaction vessel 11 ( Repeat A) and drop (B). That is, the powder 20 is located below the reaction vessel 11 by gravity, and is transported upwards along the inner surface of the rotating reaction vessel 11 (A), and if the height is raised to some extent, it falls down by gravity. (B) Conventionally, by providing a blade therein so that the powder 20 is pulled up above the reaction vessel 11, the present invention induces a more reliable powder transfer and drop by the powder 20 is a sufficient height inside the reaction vessel Evenly fall in, so that it stays in the space in the reaction vessel for a longer time.

도3은 본 발명에 따라 반응용기(11)의 내면에 파우더 수송체의 한 요소로서파우더를 소량씩 저장하는 포켓을 마련하여, 반응용기(11)가 회전될 때에 파우더가 포켓 단위로 이송 후 낙하되도록 한다.Figure 3 provides a pocket for storing a small amount of the powder as an element of the powder transporter on the inner surface of the reaction container 11 according to the present invention, when the reaction container 11 is rotated, the powder is dropped in the pocket unit after falling Be sure to

도3을 참조하면, 반응용기(11)의 벽체(11a)의 내면에 격벽(31)들에 의해 구획된 포켓(30)이 일정 간격으로 다수 마련되어 있다. 파우더(20)가 상기 포켓(30)을 덮도록 쌓여 있고, 따라서 파우더(20)의 하부 측은 포켓(30) 내부에 수용된다.Referring to FIG. 3, a plurality of pockets 30 partitioned by the partition walls 31 on the inner surface of the wall 11a of the reaction vessel 11 are provided at regular intervals. The powder 20 is stacked to cover the pocket 30, so that the lower side of the powder 20 is housed inside the pocket 30.

상기 포켓(30) 내의 파우더(20)는 반응용기 내의 전체 파우더의 자중과 낙하하는 파우더에 의해 다져지게 된다. 따라서 포켓(30) 내의 파우더는 그 내부에서 어느 정도 응집되어 있는 상태가 된다. 이와 같이 포켓(30) 내에서 어느 정도의 압력 등에 의해 다져진 파우더는 반응용기(11)가 회전되면서 상부 측으로 이송되고, 어느 정도의 높이가 되어 중력에 의해 포켓(30) 내의 파우더가 아래로 쏟아져 내려 낙하하게 된다. 이렇게 낙하하면서 바닥에 다다르기 전, 공중에 체류하는 동안 스퍼터링 타겟에서 떨어져 나온 물질이 파우더의 입자 표면에 증착되게 된다.The powder 20 in the pocket 30 is compacted by the weight of the powder and the falling powder of the entire powder in the reaction vessel. Therefore, the powder in the pocket 30 will be in the state which was aggregated to some extent inside. As such, the powder compacted by a certain pressure or the like in the pocket 30 is transferred to the upper side while the reaction vessel 11 is rotated, and the powder in the pocket 30 is poured down by gravity due to gravity. Will fall. During this drop, the material falling off the sputtering target during the stay in the air, before reaching the bottom, is deposited on the particle surface of the powder.

도4는 상기와 같은 파우더의 이송, 낙하, 포켓 내의 응집의 과정을 도식적으로 보인다 도4에서, A는 파우더가 포켓(30)에 일정량씩 수용된 상태로 이송되는 경로이며, B는 포켓(30)의 개구부가 하방을 향하면서 포켓(30) 내의 파우더(20)가 쏟아져 내려 비산, 낙하하는 구간이며, C는 낙하한 파우더가 포켓(30)에 재차 수용되면서 지속적으로 쏟아져 내리는 파우들에 의해 다져지는 구간을 나타낸다.Figure 4 schematically shows the process of conveying, dropping, and agglomeration of the powder as described above. In Figure 4, A is a path through which the powder is accommodated in the pocket 30 by a predetermined amount, and B is the pocket 30. It is a section in which the powder 20 in the pocket 30 is poured down and falls while the opening of the pocket 30 is downward, and C is compacted by the continuously pouring down powder as the powder is dropped in the pocket 30 again. Indicates an interval.

상기와 같은 본 발명에서 상기 포켓은 파우더를 회전하는 반응 용기 내에서 최상위로 이송하는 이송 용기이며, 이 포켓은 파우더를 일정한 압력으로 수용한다. 이러한 포켓은 다양한 형태로 구현이 가능하다.In the present invention as described above, the pocket is a transfer container for transporting the powder to the uppermost level in the rotating reaction vessel, the pocket receives the powder at a constant pressure. These pockets can be implemented in various forms.

도5는 반응용기 내벽에서, 스트라이프 형태로 다수의 격벽(31)이 일정한 간격으로 배치되어 있는 포켓을 구조를 보인다. 상기 격벽(31)은 상기 반응용기의 회전 중심축 방향으로 나란하게 또는 소정의 각도 방향으로 연장될 수 있다.FIG. 5 shows a structure in which a plurality of partition walls 31 are arranged at regular intervals in a stripe form on the inner wall of the reaction vessel. The partition wall 31 may extend side by side in the direction of the central axis of rotation of the reaction vessel or in a predetermined angle direction.

여기에서 도5의 (a)를 참조하며, 포켓(30)이나 격벽(31)이 공히 사각형의 단면을 가질 수 있으며, 다른 실시 예에 따라 (b)에 도시된 바와 같이 격벽(31)이 핀쿠션형 단면을 가지고, 포켓(30)은 원형, 타원형, 반달형 또는 허리가 굵은 베럴형 수직 단면을 가지는 우물형태를 가질 수 있다. 포켓(30)이 원형 또는 타원형의 단면을 가지는 경우, 파우더를 보다 안정적으로 수용하여 반응용기 내에서 보다 높은 곳까지 이송할 수 있다.Referring to FIG. 5 (a), the pocket 30 or the partition wall 31 may have a rectangular cross section, and the partition wall 31 may be a pincushion as shown in FIG. Having a cross section, the pocket 30 may have a well shape having a circular, elliptical, half-moon-shaped or waist-barrel vertical cross section. When the pocket 30 has a circular or oval cross section, the powder 30 can be more stably received and transported to a higher place in the reaction vessel.

한편, 도6에 도시된 바와 같이 상기 포켓은 평면적으로 배열된 원형 또는 사각형 또는 육각형 등의 개구를 가지는 우물형 오목 구조에 의해 제공될 수 있다.On the other hand, as shown in Figure 6, the pocket may be provided by a well-shaped concave structure having an opening, such as a circular or square or hexagonal planar arrangement.

도6의 (a)를 참조하면, 상기 반응용기(11)의 내벽에 육각형의 관통공 또는 오목부에 의한 포켓(30)이 형성된 판상부재, 즉 판재(32)가 마련된다. 판재(32)는 자체적으로 격벽(31)을 포함하는데, 이러한 판재는 소위 허니컴 또는 벌집 구조로 배열된 포켓(30)을 포함한다.Referring to Figure 6 (a), the inner wall of the reaction vessel 11 is provided with a plate-like member, that is, a plate member 32 is formed with a pocket 30 by a hexagonal through hole or recess. The plate 32 itself comprises a partition wall 31, which includes a pocket 30 arranged in a so-called honeycomb or honeycomb structure.

다른 실시 예에 따르면, 도6의 (b)에 도시된 바와 같이 포켓(30)이 사각형의개구를 가지며, 또 다른 실시 예에 따르면, 도6의 (c)에 도시된 바와 같이 포켓은 원기둥형의 구멍 또는 오목(우물)을 가질 수 있다.According to another embodiment, as shown in FIG. 6 (b), the pocket 30 has a rectangular opening. According to another embodiment, as shown in FIG. 6 (c), the pocket is cylindrical. It can have a hole or a recess of (well).

도7은 본 발명에 따른 또 다른 실시 예에 의한 포켓의 구조를 예시한다.Figure 7 illustrates the structure of a pocket according to another embodiment according to the present invention.

도7의 (a), (b), (c)는 도6의 (a), (b), (c)에 도시된 포켓의 변형 구조를 가지는 것으로 각 포켓의 내면에 톱니모양 또는 삼각구조의 돌기가 형성된 것을 도시한다.(A), (b) and (c) of FIG. 7 have a modified structure of the pockets shown in FIGS. 6 (a), (b) and (c), wherein the inner surface of each pocket has a serrated or triangular structure. The protrusions are formed.

이와 같이 포켓(30)의 내면에 스트라이프 또는 줄무늬 모양 또는 톱니모양등의 돌기를 냄으로써 포켓(30) 내에 파우더(20)를 보다 효과적으로 홀딩하기에 유리할 수 있다.In this way, it may be advantageous to more effectively hold the powder 20 in the pocket 30 by giving a stripe or stripe or jagged protrusion on the inner surface of the pocket 30.

전술한 바와 같이 본 발명에 따른 포켓(30)은 보다 효과적으로 그 내부에 파우더를 홀딩할 수 있도록 구성될 수 있다. 이와 같은 본 발명에서 상기 포켓(30)의 크기는 설계 조건에 따라 증감이 가능할 것이다. 여기에서 증감대상이 되는 것을 포켓의 개구부의 크기 또는 직경 또는 폭, 그리고 포켓의 깊이가 포함될 수 있다.As described above, the pocket 30 according to the present invention may be configured to more effectively hold the powder therein. In the present invention as described above, the size of the pocket 30 may be increased or decreased according to design conditions. Herein, the increase or decrease may include the size or diameter or width of the opening of the pocket, and the depth of the pocket.

위의 실시 예의 설명에서는 PVD 구조를 배경으로 하였으나 전술한 바와 같이 CVD 구조 또는 다른 형태의 증착 구조를 가질 수 있으며, 이들 모두 본 발명의 범주에 있다 할 것이다.In the description of the above embodiment, the PVD structure is set as a background, but as described above, the CVD structure or another type of deposition structure may be provided, all of which are within the scope of the present invention.

위와 같은 본 발명에서 상기 포켓에 수용되는 파우더에 대해 인위적 압력이 가해지지 않는 것이 바람직하다. 이는 자칫 파우더의 응집에 의해 개별 입자 표면에 대한 코팅이 어려워지기 때문이다. 결론적으로 상기 반응용기(11)가 회전하는 과정에서 자연적으로 포켓에 대한 파워의 충진, 파우더 이송 및 중력에 의한 포켓 내부의 파우더 이탈, 낙하가 이루어지게 하는 것이 바람직하다. In the present invention as described above it is preferable that no artificial pressure is applied to the powder accommodated in the pocket. This is because the agglomeration of the powder makes it difficult to coat the individual particle surfaces. In conclusion, in the process of rotating the reaction container 11, it is preferable to naturally allow the powder to fall out and fall inside the pocket by the filling of the power into the pocket, the powder transfer and the gravity.

다만, 본 발명의 다른 실시 예에 따라 상기 파우더의 응집을 억제하기 위한 용기 진동장치, 파우더 교반 수반 등의 다양한 수단이 수반될 수 있다.However, according to another embodiment of the present invention may be accompanied by a variety of means, such as a container vibrator, powder agitation accompanying to suppress the aggregation of the powder.

본 발명은 도면에 도시된 실시 예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시 예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해서만 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the embodiments illustrated in the drawings, this is merely exemplary, and it will be understood by those skilled in the art that various modifications and equivalent other embodiments are possible. Therefore, the true scope of protection of the present invention should be defined only by the appended claims.

10: 챔버
11: 반응용기
11a: 벽체
12: 회전장치
13: 진공배기펌프
14: 가스공급장치
20: 파우더 (코팅대상)
30: 포켓
31: 격벽
32: 판재(포켓 베이스)10: chamber
11: reaction vessel
11a: wall
12: rotator
13: vacuum exhaust pump
14: gas supply device
20: powder (coating target)
30: pocket
31: bulkhead
32: plate (pocket base)

Claims (6)

내부에 코팅 대상인 미세 입자에 의한 분말(파우더)를 수용되는 반응용기;
상기 반응용기의 내벽에 설치되는 것으로 상기 파우더를 소정량 수용하는 포켓이 다수 마련되어 있는 파우더 수송체;
상기 반응용기에 상기 필요 가스를 공급하는 가스 공급부; 그리고
상기 반응용기를 회전시키는 회전장치;를 구비하는 미세 입자 코팅 장치.A reaction vessel accommodating the powder (powder) by the fine particles to be coated therein;
A powder transporter provided on the inner wall of the reaction container and provided with a plurality of pockets for accommodating a predetermined amount of the powder;
A gas supply unit supplying the required gas to the reaction vessel; And
A fine particle coating device having a; rotating device for rotating the reaction vessel. 제1항에 있어서,
상기 파우더 수송체는 다수의 홈이 배열되어 있는 판상 부재를 포함하고, 그리고
상기 홈에 의해 상기 포켓이 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 미세입자 코팅 장치.The method of claim 1,
The powder transporter comprises a plate-like member in which a plurality of grooves are arranged; and
The microparticle coating apparatus, characterized in that the pocket is provided by the groove. 제2항에 있어서
상기 홈은 원형, 사각형 또는 다각형의 개구부를 가지는 우물 구조를 가지며,
그 내면에 다수의 돌기가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 미세입자 코팅 장치.The method of claim 2
The groove has a well structure having an opening of a circular, square or polygonal shape,
A fine particle coating apparatus, characterized in that a plurality of projections are formed on the inner surface. 제1항에 있어서,
상기 파우더 수송체는 상기 반응용기의 내벽에 반응용기의 회전축방향에 나란하게 마련되는 다수의 격벽을 포함하고, 상기 격벽의 사이에 상기 포켓이 마련되는 것을 특징으로 하는 미세 입자 코팅 장치. The method of claim 1,
The powder transport body includes a plurality of partitions arranged side by side in the rotation axis direction of the reaction vessel on the inner wall of the reaction vessel, the fine particle coating apparatus, characterized in that the pocket is provided between the partition wall. 제5항에 있어서, 상기 격벽은 핀쿠션형 단면을 가지며, 상기 격벽에 의해 마련되는 포켓은 배럴형 단면을 가지는 것을 특징으로 하는 미세 입자 코팅 장치.The fine particle coating apparatus of claim 5, wherein the partition has a pincushion-shaped cross section, and the pocket provided by the partition has a barrel-shaped cross section. 제4항 또는 제5항에 있어서,
상기 격벽은 판재에 형성되며, 상기 판재는 상기 반응용기의 내면에 설치되는 것을 특징으로 하는 미세 입자 코팅 장치.The method according to claim 4 or 5,
The partition wall is formed on a plate, the plate is fine particle coating apparatus, characterized in that installed on the inner surface of the reaction vessel.
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