KR20190080609A - Electroless Ag plating solution and methods of plating using the same - Google Patents

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Abstract

The present invention provides an electroless silver plating solution which comprises: silver cyanide as silver salt; at least one selected from sodium cyanide and potassium cyanide as a complexing agent; and any one selected from sodium potassium tartrate, sodium borohydride, dimethylamine borane, hydrazine, and hydrazine sulfate as a reducing agent.

Description

무전해 은 도금액 및 도금방법{Electroless Ag plating solution and methods of plating using the same}[0001] Electroless silver plating solution and methods [0002]

본 발명은 무전해 도금액 및 도금방법에 관한 것으로서, 더 상세하게는 무전해 은 도금액 및 도금방법에 관한 것이다. The present invention relates to an electroless plating solution and a plating method, and more particularly, to electroless plating solution and a plating method.

무전해 은 도금은 외부 전원을 사용하지 않고 은 도금층을 형성하는 도금이다. 무전해 은 도금은 크게 환원 도금과 치환 도금으로 나눌 수 있는데, 환원 도금의 경우 건욕이 불안정해 공업적 사용이 제한되어 있고, 치환 반응의 경우 환원제가 함유되지 않아 안정성은 우수하나, 하지 금속이 구리로 제한되고 반응이 진행됨에 따라 하지 금속을 부식시키는 한계점을 가진다. 무전해 치환 도금은 치환 도금의 특성 상 도금 두께에 한계가 있기 때문에, 하지 금속의 형태를 따라가는 것이 일반적이며, 도금을 통해 하지 표면과 다른 표면 형태를 만드는 것이 어렵다. 이러한 표면 형태 변화의 어려움으로 다양한 어플리케이션 적용이 제한되고 있다. Electroless silver plating is a plating that forms a silver plating layer without using an external power source. Electroless silver plating can be roughly classified into reduction plating and substitution plating. In the case of reduction plating, the industrial use is limited due to unstable bathing, and the substitution reaction does not contain a reducing agent, And has a limit to corrosion of the underlying metal as the reaction progresses. Since electroless substitution plating has a limited plating thickness due to the nature of substitution plating, it follows that it follows the shape of the base metal, and it is difficult to make the surface shape different from the base surface through plating. This difficulty of changing the surface shape limits the application of various applications.

1. 한국공개특허 제20170018228호1. Korean Patent Publication No. 20170018228 2. 한국공개특허 제20030015226호2. Korean Patent Publication No. 20030015226

본 발명은 첨가하는 시안화물의 종류에 따라 도금 표면을 조절함에 따라 다양한 어플리케이션에 적용 가능한 무전해 은 도금액 및 도금방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 그러나 이러한 과제는 예시적인 것으로, 이에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.An object of the present invention is to provide an electroless plating solution and a plating method which can be applied to various applications by adjusting the plating surface according to the type of cyanide to be added. However, these problems are exemplary and do not limit the scope of the present invention.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 관점에 의한 무전해 은 도금액을 제공한다. 상기 무전해 은 도금액은 은염으로 시안화은; 착화제로 시안화나트륨 및 시안화칼륨 중에서 선택된 적어도 어느 하나; 및 환원제로 타타르산칼륨나트륨, 수소화붕소나트륨, 디메틸아민보란, 히드라진 및 황산히드라진 중에서 선택된 어느 하나;를 포함한다. According to an aspect of the present invention, an electroless plating solution is provided. The electroless silver plating solution is a silver salt; silver cyanide; At least one selected from the group consisting of sodium cyanide and potassium cyanide as complexing agents; And any one selected from among sodium potassium tartrate, sodium borohydride, dimethylamine borane, hydrazine, and hydrazine sulfate as a reducing agent.

상기 무전해 은 도금액에서, 도금하고자 하는 은 도금층의 표면을 매끄럽게 하도록 상기 착화제는 시안화나트륨으로만 구성될 수 있다. In the electroless silver plating solution, the complexing agent may be composed solely of sodium cyanide to smooth the surface of the silver plating layer to be plated.

상기 무전해 은 도금액에서, 도금하고자 하는 은 도금층의 표면을 울퉁불퉁하게 하도록 상기 착화제는 시안화칼륨으로만 구성될 수 있다. In the electroless silver plating solution, the complexing agent may be composed only of potassium cyanide so as to make the surface of the silver plating layer to be plated rugged.

상기 무전해 은 도금액에서, 상기 착화제는 시안화나트륨 및 시안화칼륨를 모두 포함할 수 있다. In the electroless silver plating solution, the complexing agent may include both sodium cyanide and potassium cyanide.

상기 무전해 은 도금액에서, 상기 착화제가 시안화나트륨으로만 구성될 때 도금되는 은 도금층의 표면 거칠기를 제 1 기준으로 할 경우, 도금하고자 하는 은 도금층의 표면 거칠기가 상기 제 1 기준 대비 상대적으로 더 울퉁불퉁할수록 상기 착화제 중에서 시안화칼륨을 상대적으로 더 많이 포함할 수 있다. In the electroless silver plating solution, when the surface roughness of the silver plating layer plated when the complexing agent is composed only of sodium cyanide is used as a first reference, the surface roughness of the silver plating layer to be plated is relatively more uneven The greater the amount of potassium cyanide in the complexing agent.

상기 무전해 은 도금액에서, 상기 착화제가 시안화나트륨으로만 구성될 때 도금되는 은 도금층의 결정립 크기를 제 2 기준으로 할 경우, 도금하고자 하는 은 도금층의 결정립 크기가 상기 제 2 기준 대비 상대적으로 더 클수록 상기 착화제 중에서 시안화칼륨을 상대적으로 더 많이 포함할 수 있다. In the electroless silver plating solution, when the crystal grain size of the silver plating layer to be plated when the complexing agent is composed only of sodium cyanide is set as the second reference, the larger the grain size of the silver plating layer to be plated is, And relatively more potassium cyanide among the complexing agents.

상기 무전해 은 도금액에서, 상기 은염은 전체 도금액 중에서 1 내지 30 g/L의 농도를 가지고, 상기 착화제는 전체 도금액 중에서 8 내지 50 g/L의 농도를 가지고, 상기 환원제는 전체 도금액 중에서 10 내지 15 g/L의 농도를 가질 수 있다. Wherein the silver salt has a concentration of 1 to 30 g / L in the whole plating solution, the complexing agent has a concentration of 8 to 50 g / L in the whole plating solution, It can have a concentration of 15 g / L.

상기 무전해 은 도금액은 보조착화제로 에틸렌디아민테트라아세트산 및 에틸렌디아민 중에서 선택된 적어도 어느 하나를 더 포함할 수 있다. The electroless silver plating solution may further include at least one selected from ethylenediamine tetraacetic acid and ethylenediamine as a secondary complexing agent.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 다른 관점에 의한 무전해 은 도금방법을 제공한다. 상기 무전해 은 도금방법은 은염으로 시안화은; 착화제로 시안화나트륨 및 시안화칼륨 중에서 선택된 적어도 어느 하나; 및 환원제로 타타르산칼륨나트륨, 수소화붕소나트륨, 디메틸아민보란, 히드라진 및 황산히드라진 중에서 선택된 어느 하나;를 포함하는, 무전해 은 도금액을 준비하는 단계; 및 상기 무전해 은 도금액을 사용하여 금속 파우더 상에 무전해 은 도금층을 형성하는 단계;를 포함한다. According to another aspect of the present invention, there is provided a plating method for electroless plating. The electroless silver plating method is silver silver cyanide; At least one selected from the group consisting of sodium cyanide and potassium cyanide as complexing agents; And a reducing agent selected from the group consisting of sodium potassium tartrate, sodium borohydride, dimethylamine borane, hydrazine, and hydrazine sulfate; And forming an electroless silver plated layer on the metal powder using the electroless silver plating solution.

상기 무전해 은 도금방법에서, 도금하고자 하는 은 도금층의 표면을 매끄럽게 하도록 상기 착화제는 시안화나트륨으로만 구성될 수 있다. In the electroless silver plating method, the complexing agent may be composed solely of sodium cyanide so as to smooth the surface of the silver plating layer to be plated.

상기 무전해 은 도금방법에서, 도금하고자 하는 은 도금층의 표면을 울퉁불퉁하게 하도록 상기 착화제는 시안화칼륨으로만 구성될 수 있다. In the electroless silver plating method, the complexing agent may be composed only of potassium cyanide so as to make the surface of the silver plating layer to be plated rugged.

상기 무전해 은 도금방법에서, 상기 착화제는 시안화나트륨 및 시안화칼륨을 모두 포함하되, 상기 착화제가 시안화나트륨으로만 구성될 때 도금되는 은 도금층의 표면 거칠기를 제 1 기준으로 할 경우, 도금하고자 하는 은 도금층의 표면 거칠기가 상기 제 1 기준 대비 상대적으로 더 울퉁불퉁할수록 상기 착화제 중에서 시안화칼륨을 상대적으로 더 많이 포함할 수 있다. In the electroless silver plating method, when the surface roughness of the silver plating layer plated when the complexing agent is composed only of sodium cyanide is included as the first reference, the complexing agent includes both sodium cyanide and potassium cyanide, The more rough the surface roughness of the plating layer relative to the first reference, the more the potassium cyanide can be contained in the complexing agent.

상기 무전해 은 도금방법에서, 상기 착화제는 시안화나트륨 및 시안화칼륨을 모두 포함하되, 상기 착화제가 시안화나트륨으로만 구성될 때 도금되는 은 도금층의 결정립 크기를 제 2 기준으로 할 경우, 도금하고자 하는 은 도금층의 결정립 크기가 상기 제 2 기준 대비 상대적으로 더 클수록 상기 착화제 중에서 시안화칼륨을 상대적으로 더 많이 포함할 수 있다. In the electroless silver plating method, the complexing agent includes both sodium cyanide and potassium cyanide, and when the complexing agent is composed only of sodium cyanide, when the grain size of the silver plating layer plated is used as the second reference, The greater the grain size of the plated layer relative to the second criterion, the greater the amount of potassium cyanide in the complexing agent.

상기 무전해 은 도금방법은 상기 무전해 은 도금액을 사용하여 금속 파우더 상에 무전해 은 도금층을 형성하는 단계; 이전에 산세를 통하여 금속 파우더의 산화막을 제거하는 단계;를 더 포함할 수 있다. The electroless silver plating method comprising the steps of: forming an electroless silver plating layer on the metal powder using the electroless silver plating liquid; And removing the oxide film of the metal powder through the pickling process.

상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 일 실시예에 따르면, 첨가하는 시안화물의 종류에 따라 도금 표면을 조절함에 따라 다양한 어플리케이션에 적용 가능한 무전해 은 도금액 및 도금방법을 구현할 수 있다. 물론 이러한 효과에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.According to one embodiment of the present invention as described above, the electroless plating solution and plating method applicable to various applications can be realized by adjusting the plating surface according to the type of cyanide to be added. Of course, the scope of the present invention is not limited by these effects.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 무전해 은 도금방법을 도해하는 순서도이다.
도 2 내지 도 4는 본 발명의 실험예에 따른 무전해 은 도금액 및 도금방법에서 시안화칼륨 첨가 비율 증가에 따른 금속 파우더 상의 은 도금층 표면 형상을 관찰한 FE-SEM 이미지이다.
도 5 내지 도 6은 본 발명의 실험예에 따른 무전해 은 도금액 및 도금방법에서 착화제 구성에 따른 금속 파우더 상의 은 도금층 두께의 균일도를 관찰한 FIB 단면 분석 사진이다.
1 is a flowchart illustrating an electroless plating method according to an embodiment of the present invention.
FIGS. 2 to 4 are FE-SEM images showing the surface morphology of the silver plating layer on the metal powder according to the increase of the potassium cyanide addition ratio in the electroless silver plating solution and the plating method according to the experimental example of the present invention.
FIGS. 5 to 6 are photographs of FIB cross section analysis of the uniformity of the thickness of the silver plating layer on the metal powder according to the composition of the complexing agent in the electroless silver plating solution and the electroless plating solution according to the experimental example of the present invention.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있는 것으로, 이하의 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 또한 설명의 편의를 위하여 도면에서는 적어도 일부의 구성 요소들이 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다. 도면에서 동일한 부호는 동일한 요소를 지칭한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. It should be understood, however, that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but may be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, Is provided to fully inform the user. Also, at least some of the components may be exaggerated or reduced in size for convenience of explanation. Like numbers refer to like elements throughout the drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 무전해 은 도금방법을 도해하는 순서도이다. 1 is a flowchart illustrating an electroless plating method according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 무전해 은 도금방법은 은염으로 시안화은; 착화제로 시안화나트륨 및 시안화칼륨 중에서 선택된 적어도 어느 하나; 및 환원제로 타타르산칼륨나트륨, 수소화붕소나트륨, 디메틸아민보란, 히드라진 및 황산히드라진 중에서 선택된 어느 하나;를 포함하는, 무전해 은 도금액을 준비하는 단계(S100); 및 상기 무전해 은 도금액을 사용하여 금속 파우더 상에 무전해 은 도금층을 형성하는 단계(S200);를 포함한다. 이러한 무전해 은 도금방법은 도금액에 첨가하는 시안화염 종류에 따라 도금되는 도금층의 표면 형태를 조절할 수 있다. 상기 무전해 은 도금방법은, 단계(S100)와 단계(S200) 사이에, 산세를 통하여 금속 파우더의 산화막을 제거하는 단계(S150);를 더 포함할 수 있다. Referring to FIG. 1, an electroless silver plating method according to an embodiment of the present invention includes the steps of: At least one selected from the group consisting of sodium cyanide and potassium cyanide as complexing agents; And a reducing agent selected from the group consisting of sodium potassium tartrate, sodium borohydride, dimethylamine borane, hydrazine, and hydrazine sulfate; (S100) preparing an electroless silver plating solution; And a step (S200) of forming an electroless silver plated layer on the metal powder using the electroless silver plating solution. This electroless plating method can control the surface morphology of the plated layer to be plated according to the type of cyanide added to the plating solution. The electroless silver plating method may further include a step (S150) of removing an oxide film of the metal powder through a pickling process between a step S100 and a step S200.

일반적으로 사용되는 은염 중 시안화은이 질산은보다 안정한 형태이나, 시안화은은 물에 잘 녹지 않는 문제점이 있다. 본 발명에서는 무전해 은 도금액에 시안화물을 착화제로 첨가하여 은의 착염을 형성함으로써 시안화은의 사용을 가능하게 한다. 무전해 은도금 건욕액에 시안화물을 첨가하는 경우, 시안화물이 은의 착염을 형성해 건욕액의 안정성을 높일 수 있다. 착염 형성으로 인해 은이온의 안정성이 높아져 은의 석출과 욕 분해 방지를 가능하게 한다. Generally, cyanide in silver salt is more stable than silver nitrate, but silver cyanide is not soluble in water. In the present invention, electroless plating makes it possible to use cyanide silver by adding cyanide as a complexing agent to the plating liquid to form silver complexes. When cyanide is added to the electroless silver plating bath solution, cyanide forms a silver complex, thereby enhancing the stability of the dry bath solution. The stability of the silver ion is increased due to the complex formation, which makes it possible to prevent the silver precipitation and the bath decomposition.

시안화물로 시안화나트륨(NaCN)을 적용하는 경우, 도금층의 결정립 크기(grain size)가 작고 표면이 매끈한 형태로 형성된다. 한편, 시안화물로 시안화칼륨(KCN)을 적용하는 경우, 도금층의 결정립 크기(grain size)가 크고 표면이 울퉁불퉁한 돌기 형태로 형성될 수 있다. When sodium cyanide (NaCN) is applied as the cyanide, the crystal grain size of the plating layer is small and the surface is formed smooth. On the other hand, when potassium cyanide (KCN) is used as the cyanide, the crystal grain size of the plated layer may be large and the surface may be formed in the shape of a rugged protrusion.

즉, 상기 무전해 은 도금액 및 도금방법에서, 도금하고자 하는 은 도금층의 표면을 매끄럽게 하도록 상기 착화제는 시안화나트륨으로만 구성될 수 있다. That is, in the electroless silver plating solution and the plating method, the complexing agent may be composed solely of sodium cyanide so as to smooth the surface of the silver plating layer to be plated.

한편, 상기 무전해 은 도금액 및 도금방법에서, 도금하고자 하는 은 도금층의 표면을 울퉁불퉁하게 하도록 상기 착화제는 시안화칼륨으로만 구성될 수 있다. Meanwhile, in the electroless silver plating solution and the plating method, the complexing agent may be composed only of potassium cyanide so as to make the surface of the silver plating layer to be plated rugged.

또한, 시안화나트륨과 시안화칼륨을 동시에 투입하여 적절한 비율 조정을 통해 도금층의 표면 거칠기 및 결정립 크기를 조절할 수 있다. 즉, 상기 착화제는 시안화나트륨 및 시안화칼륨을 모두 포함하되, 상기 착화제가 시안화나트륨으로만 구성될 때 도금되는 은 도금층의 표면 거칠기를 제 1 기준으로 할 경우, 도금하고자 하는 은 도금층의 표면 거칠기가 상기 제 1 기준 대비 상대적으로 더 울퉁불퉁할수록 상기 착화제 중에서 시안화칼륨을 상대적으로 더 많이 포함할 수 있다. 한편, 상기 착화제는 시안화나트륨 및 시안화칼륨을 모두 포함하되, 상기 착화제가 시안화나트륨으로만 구성될 때 도금되는 은 도금층의 결정립 크기를 제 2 기준으로 할 경우, 도금하고자 하는 은 도금층의 결정립 크기가 상기 제 2 기준 대비 상대적으로 더 클수록 상기 착화제 중에서 시안화칼륨을 상대적으로 더 많이 포함할 수 있다. In addition, the surface roughness and the grain size of the plating layer can be adjusted by appropriately adjusting the amount of sodium cyanide and potassium cyanide simultaneously. That is, when the complexing agent includes both sodium cyanide and potassium cyanide and the complexing agent is composed only of sodium cyanide, when the surface roughness of the silver plating layer to be plated is used as a first reference, the surface roughness of the silver plating layer to be plated is The more irregular the first criterion is, the more the potassium cyanide can be contained in the complexing agent. When the complexing agent is composed of sodium cyanide and potassium cyanide and the complexing agent is composed only of sodium cyanide, when the grain size of the silver plating layer is the second standard, the grain size of the silver plating layer to be plated is The greater the relative value of the second criterion, the greater the amount of potassium cyanide in the complexing agent.

이를 다른 관점에서 살펴보면, 본 발명의 일 실시예에 따른 무전해 은 도금액 및 도금방법에서 도금 건욕액의 착화 시안화물 중 시안화칼륨의 비율이 높아질수록 울퉁불퉁한 표면이 형성되어 비율 조절로 원하는 정도의 표면 형성이 가능하다. 물론, 시안화나트륨 및 시안화칼륨 중 어느 한 가지의 착화제만 투입해도 도금이 가능하다. 착화 시안화물 투입에 의한 융기점을 돌기 형태로 볼 때, 1개의 금속 입자에 대해 10 내지 1000개의 융기점이 존재한다고 이해할 수 있다. 각 융기점은 직경이 200nm 내지 2㎛의 범위를 가질 수 있다. 착화제 중에서 시안화칼륨(KCN)의 비율이 상대적으로 높아질수록 융기점이 더욱 돌출하고, 융기점의 개수도 많아진다. According to another aspect of the present invention, in the electroless plating solution and the plating method, a rugged surface is formed as the ratio of potassium cyanide in the complexed cyanide of the plating bath solution increases, Lt; / RTI > Of course, plating is possible even if only one complexing agent of sodium cyanide and potassium cyanide is added. It can be understood that 10 to 1000 ridges exist for one metal particle in the form of protrusions due to the introduction of complex cyanide. Each ridge may have a diameter ranging from 200 nm to 2 탆. The higher the ratio of potassium cyanide (KCN) in the complexing agent is, the more the bulging point protrudes and the more the number of bulge points increases.

첨가하는 시안화물의 종류에 따라 도금 표면을 조절함에 따라 다양한 어플리케이션에 적용이 가능하다. 예를 들어, 러버 소켓(Rubber Socket) 제조 시, 금속 파우더에 돌기 형상을 가지도록 도금을 하면 소켓 내의 금속 파우더끼리의 공극이 최소화되고 접촉 면적이 확대되어, 접촉 저항이 감소함에 따라 전기전도도의 향상을 기대할 수 있다. 다른 예를 들면, 전기 전도도나 열전도도의 향상을 위해 공극을 최소화하고 싶은 경우, 금속 파우더에 돌기 형상을 가지도록 도금을 하면 금속 파우더끼리의 접촉을 최대화할 수 있다. 또 다른 예를 들면, 페이스트(Paste) 제조 시, 구형의 금속 파우더에 매끈한 도금을 한 후 필러 입자로 사용할 경우, 체적당 표면적의 비율을 낮춰 금속 필러 입자 첨가에 따른 레진 점도 증가를 최소화할 수 있다. Depending on the type of cyanide added, it can be applied to various applications by adjusting the plating surface. For example, when a rubber socket is manufactured, if the metal powder is plated so as to have a protrusion shape, the pores between the metal powder in the socket are minimized and the contact area is enlarged, thereby improving the electrical conductivity Can be expected. In another example, when it is desired to minimize the voids for improving the electrical conductivity or the thermal conductivity, it is possible to maximize the contact between the metal powders by plating the metal powders so as to have projections. As another example, when the paste is used as filler particles after smooth plating on a spherical metal powder, the ratio of the surface area per volume can be lowered to minimize the increase in the resin viscosity due to the addition of the metal filler particles .

한편, 첨가하는 시안화물의 종류에 따라 도금 표면을 조절함에 따라 금속 파우더 표면의 표면 거칠기(Roughness)를 조절함으로써, 반사율 및 색상 조절이 가능할 수 있다. 예를 들어, 도금 파우더를 적용한 완제품에서 색상이 중요한 경우, 금속 파우더 표면의 표면 거칠기를 조절함으로써 반사율 및 색상 조절이 가능하다. 구체적인 예로서, KCN 투입 비율을 늘려 도금층의 표면이 울퉁불퉁해질수록 반사율이 감소해서 색상이 어두워지는 효과를 나타낸다. On the other hand, depending on the type of the cyanide to be added, it is possible to control the reflectance and the color by controlling the surface roughness of the metal powder surface by adjusting the surface of the plating. For example, if color is important in finished products that are coated with plated powder, it is possible to adjust reflectivity and color by adjusting the surface roughness of the metal powder surface. As a concrete example, as the surface of the plating layer becomes uneven by increasing the KCN charging ratio, the reflectance decreases and the color becomes dark.

상기 무전해 은 도금액에서, 상기 은염은 전체 도금액 중에서 1 내지 30 g/L의 농도를 가지고, 상기 착화제는 전체 도금액 중에서 8 내지 50 g/L의 농도를 가지고, 상기 환원제는 전체 도금액 중에서 10 내지 15 g/L의 농도를 가질 수 있다.Wherein the silver salt has a concentration of 1 to 30 g / L in the whole plating solution, the complexing agent has a concentration of 8 to 50 g / L in the whole plating solution, It can have a concentration of 15 g / L.

이를 상세하게 살펴보면, 평균 입경이 1 내지 70㎛인 금속 파우더(금속 입자) 상에 도금을 하는 경우는 일반적인 벌크(bulk) 도금에 비해 동일 질량에 대해 표면적이 매우 크기 때문에, 동일 두께의 은을 도금하기 위해서 많은 양의 은염이 필요하다. 도금액 중 은염의 농도는 일반적으로 1 내지 20g/L로 도금하고자 하는 목표 두께에 따라 다르지만, 크기가 작은 금속 입자에 높은 두께의 은을 도금하는 경우에는 7 내지 30g/L의 고농도의 은염이 필요할 수 있다. 한편, 투입하는 시안계 착화제의 경우 은염 투입량에 따라 달라지나, 8 내지 50g/L로 일반적인 벌크 도금에 비해 많은 양이 필요하다. In detail, when a metal powder (metal particle) having an average particle diameter of 1 to 70 μm is plated, since the surface area is very large for the same mass as compared with general bulk plating, silver of the same thickness is plated A large amount of silver salt is needed to do this. The concentration of silver salt in the plating solution is generally from 1 to 20 g / L, depending on the target thickness to be plated. However, in the case of plating silver particles having a small thickness to a large thickness, silver salt of 7 to 30 g / L may be required have. On the other hand, the amount of cyanide complexing agent to be added is 8 to 50 g / L, which is larger than that of general bulk plating.

한편, 건욕액 중 높은 은염 농도로 인해 도금액이 분해되는 것을 방지하고, 안정성을 높이기 위해 보조 착화제를 더 포함할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 무전해 은 도금액 및 도금방법에서는, 보조 착화제로 에틸렌디아민테트라아세트산 또는 에틸렌디아민을 포함할 수 있다. On the other hand, a supplementary complexing agent may be further included to prevent decomposition of the plating solution due to a high silver salt concentration in the dry bath solution and to enhance stability. The electroless plating solution and the plating method according to an embodiment of the present invention may include ethylene diamine tetraacetic acid or ethylenediamine as the auxiliary complexing agent.

한편, 본 발명의 추가적인 실시예에 의하면, 착화 시안화물 조성 비율로 표면 형태 조절을 한 상기 은 도금층 위에 표면을 금, 로듐 또는 팔라듐으로 더 피복할 수도 있다. According to a further embodiment of the present invention, the surface of the silver plating layer having the surface morphology controlled by the complex cyanide composition ratio may be further coated with gold, rhodium or palladium.

지금까지 설명한 본 발명의 일 실시예에 따른 무전해 은 도금액 및 무전해 은 도금방법을 설명하였다. 이러한 기술적 사상은 상기 도금액을 사용하여 도금을 수행하는 도금장치에 구현될 수도 있다. 이 경우, 상기 도금장치는 상기 무전해 은 도금액을 수용할 수 있는 적어도 하나 이상의 도금조; 및 상기 도금액 내의 착화제의 구성을 필요로 하는 조건에 맞추어 변경하도록 조절할 수 있는 제어부;를 포함할 수 있다. The electroless plating solution and the electroless plating plating method according to one embodiment of the present invention described above have been described. This technical idea may be implemented in a plating apparatus that performs plating using the plating liquid. In this case, the plating apparatus may further include at least one plating vessel capable of receiving the plating liquid, And a controller capable of adjusting the composition of the complexing agent in the plating liquid so as to be changed in accordance with a required condition.

상기 제어부는 도금액 내의 착화제가 시안화나트륨 및 시안화칼륨 중에서 선택된 적어도 어느 하나를 포함하도록 조절하며, 필요로 하는 어플리케이션 적용 분야에 따라 착화제 내의 조성 비율도 조절하도록 구성될 수 있다. The controller may be configured to control the complexing agent in the plating liquid to include at least one selected from sodium cyanide and potassium cyanide, and to control the composition ratio in the complexing agent according to the application application required.

예를 들어, 상기 제어부는 도금하고자 하는 은 도금층의 표면을 매끄럽게 하도록 상기 착화제가 시안화나트륨으로만 구성되도록 조절할 수 있으며, 도금하고자 하는 은 도금층의 표면을 울퉁불퉁하게 하도록 상기 착화제가 시안화칼륨으로만 구성되도록 조절할 수 있다. For example, the controller can adjust the complexing agent to consist solely of sodium cyanide to smooth the surface of the silver plated layer to be plated, so that the complexing agent is composed solely of potassium cyanide to make the surface of the silver plated layer to be plated rugged Can be adjusted.

나아가, 상기 제어부는 상기 착화제는 시안화나트륨 및 시안화칼륨을 모두 포함하도록 조절할 수 있으며, 상기 착화제가 시안화나트륨으로만 구성될 때 도금되는 은 도금층의 표면 거칠기를 제 1 기준으로 할 경우, 도금하고자 하는 은 도금층의 표면 거칠기가 상기 제 1 기준 대비 상대적으로 더 울퉁불퉁할수록 상기 착화제 중에서 시안화칼륨을 상대적으로 더 많이 포함하도록 제어할 수 있다. In addition, the controller can control the complexing agent to include both sodium cyanide and potassium cyanide. When the complexing agent is composed only of sodium cyanide, when the surface roughness of the silver plating layer to be plated is used as a first reference, The more uneven the surface roughness of the plating layer than the first reference, the more control can be made to include the potassium cyanide in the complexing agent.

한편, 상기 제어부는 상기 착화제는 시안화나트륨 및 시안화칼륨을 모두 포함하도록 조절할 수 있으며, 상기 착화제가 시안화나트륨으로만 구성될 때 도금되는 은 도금층의 결정립 크기를 제 2 기준으로 할 경우, 도금하고자 하는 은 도금층의 결정립 크기가 상기 제 2 기준 대비 상대적으로 더 클수록 상기 착화제 중에서 시안화칼륨을 상대적으로 더 많이 포함하도록 제어할 수 있다. The controller may control the complexing agent to include both sodium cyanide and potassium cyanide. When the complexing agent is composed only of sodium cyanide and the crystal grain size of the silver plating layer is the second reference, Can control the relative amount of potassium cyanide in the complexing agent to be larger as the crystal grain size of the plating layer is relatively larger than the second criterion.

실험예Experimental Example

이하 본 발명의 이해를 돕기 위해 바람직한 실험예를 제시한다. 다만, 하기의 실험예는 본 발명의 이해를 돕기 위한 것일 뿐, 본 발명이 하기의 실험예에 의해 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, preferred examples of the present invention will be described in order to facilitate understanding of the present invention. It should be understood, however, that the following examples are intended to aid in the understanding of the present invention and are not intended to limit the scope of the present invention.

도 2 내지 도 4는 본 발명의 실험예에 따른 무전해 은 도금액 및 도금방법에서 시안화칼륨 첨가 비율 증가에 따른 금속 파우더 상의 은 도금층 표면 형상을 관찰한 FE-SEM 이미지이다. 구체적으로, 도 2는 착화제로 시안화나트륨만으로 구성된 도금액을 적용한 경우에 해당하며, 도 3은 착화제로 시안화나트륨 및 시안화칼륨이 50:50의 비율로 구성된 도금액을 적용한 경우에 해당하며, 도 4는 착화제로 시안화칼륨만으로 구성된 도금액을 적용한 경우에 해당한다. 이를 참조하면, 착화제로 시안화나트륨만으로 구성된 도금액을 적용하여 형성한 도금층의 표면은 매끄러운 반면에, 착화제 중 시안화칼륨의 비율이 증가할수록 도금층의 표면은 점점 울퉁불퉁해짐을 확인할 수 있다. FIGS. 2 to 4 are FE-SEM images showing the surface morphology of the silver plating layer on the metal powder according to the increase of the potassium cyanide addition ratio in the electroless silver plating solution and the plating method according to the experimental example of the present invention. Specifically, FIG. 2 corresponds to the case where a plating solution composed only of sodium cyanide is used as a complexing agent, FIG. 3 corresponds to a case where a plating solution composed of sodium cyanide and potassium cyanide in a ratio of 50:50 as a complexing agent is applied, This corresponds to the case where a plating solution composed of only potassium cyanide is applied. As a result, the surface of the plating layer formed by applying the plating solution composed only of sodium cyanide as a complexing agent is smooth, while the surface of the plating layer gradually becomes rugged as the ratio of potassium cyanide in the complexing agent increases.

도 5 내지 도 6은 본 발명의 실험예에 따른 무전해 은 도금액 및 도금방법에서 착화제 구성에 따른 금속 파우더 상의 은 도금층 두께의 균일도를 관찰한 FIB 단면 분석 사진이다. 구체적으로, 도 5는 착화제로 시안화나트륨 및 시안화칼륨을 투입한 경우에 해당하며, 도 6은 착화제로 시안화나트륨만을 투입한 경우에 해당한다. 사진 상에서 가장 하단층은 FIB 분석을 위한 코팅물질이며, 그 위로 피도금체인 니켈 파우더, 표면 형상 조절이 이루어진 은 도금층, 상기 은 도금층 상의 금 도금층이 순차적으로 형성되어 있다. 이를 참조하면, 착화제로 시안화나트륨 및 시안화칼륨을 투입한 경우 은 도금층의 두께는 714nm에서 1083nm까지 상대적으로 불균일함에 반하여, 착화제로 시안화나트륨만을 투입한 경우 은 도금층의 두께는 927nm에서 991nm까지 상대적으로 균일함을 확인할 수 있다. 또한, 이로부터 표면 형상 조절이 은 도금 단계에서 이루어졌다는 것을 증명할 수 있다. FIGS. 5 to 6 are photographs of FIB cross section analysis of the uniformity of the thickness of the silver plating layer on the metal powder according to the composition of the complexing agent in the electroless silver plating solution and the electroless plating solution according to the experimental example of the present invention. Specifically, FIG. 5 corresponds to the case where sodium cyanide and potassium cyanide are introduced as a complexing agent, and FIG. 6 corresponds to a case where only sodium cyanide is introduced as a complexing agent. The lower layer in the photograph is a coating material for FIB analysis, and nickel powder, a silver plating layer whose surface shape is adjusted, and a gold plating layer on the silver plating layer are sequentially formed thereon. When sodium cyanide and potassium cyanide are added as a complexing agent, the thickness of the plating layer is relatively uneven from 714 nm to 1083 nm, whereas when only sodium cyanide is introduced as a complexing agent, the thickness of the plating layer is relatively uniform from 927 nm to 991 nm . From this, it can be proved that the surface shape adjustment was made in the silver plating step.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.While the present invention has been described with reference to exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the invention. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims.

Claims (14)

은염으로 시안화은;
착화제로 시안화나트륨 및 시안화칼륨 중에서 선택된 적어도 어느 하나; 및
환원제로 타타르산칼륨나트륨, 수소화붕소나트륨, 디메틸아민보란, 히드라진 및 황산히드라진 중에서 선택된 어느 하나;
를 포함하는, 무전해 은 도금액.
Silver silver cyanide;
At least one selected from the group consisting of sodium cyanide and potassium cyanide as complexing agents; And
As the reducing agent, any one selected from sodium potassium tartrate, sodium borohydride, dimethylamine borane, hydrazine, and hydrazine sulfate;
Wherein the electroless silver plating solution is a plating solution.
제 1 항에 있어서,
도금하고자 하는 은 도금층의 표면을 매끄럽게 하도록 상기 착화제는 시안화나트륨으로만 구성된 것을 특징으로 하는,
무전해 은 도금액.
The method according to claim 1,
Characterized in that the complexing agent is composed only of sodium cyanide so as to smooth the surface of the silver plated layer to be plated.
Electroless silver plating solution.
제 1 항에 있어서,
도금하고자 하는 은 도금층의 표면을 울퉁불퉁하게 하도록 상기 착화제는 시안화칼륨으로만 구성된 것을 특징으로 하는,
무전해 은 도금액.
The method according to claim 1,
Characterized in that the complexing agent is composed only of potassium cyanide so as to make the surface of the silver plated layer to be plated rugged.
Electroless silver plating solution.
제 1 항에 있어서,
상기 착화제는 시안화나트륨 및 시안화칼륨인 것을 특징으로 하는,
무전해 은 도금액.
The method according to claim 1,
Wherein the complexing agent is sodium cyanide and potassium cyanide.
Electroless silver plating solution.
제 4 항에 있어서,
상기 착화제가 시안화나트륨으로만 구성될 때 도금되는 은 도금층의 표면 거칠기를 제 1 기준으로 할 경우,
도금하고자 하는 은 도금층의 표면 거칠기가 상기 제 1 기준 대비 상대적으로 더 울퉁불퉁할수록 상기 착화제 중에서 시안화칼륨을 상대적으로 더 많이 포함하는 것을 특징으로 하는,
무전해 은 도금액.
5. The method of claim 4,
When the complexing agent is composed only of sodium cyanide and the surface roughness of the plated silver layer is the first reference,
Characterized in that the more rough the surface roughness of the silver plating layer to be plated than the first reference, the more the potassium cyanide is contained in the complexing agent.
Electroless silver plating solution.
제 4 항에 있어서,
상기 착화제가 시안화나트륨으로만 구성될 때 도금되는 은 도금층의 결정립 크기를 제 2 기준으로 할 경우,
도금하고자 하는 은 도금층의 결정립 크기가 상기 제 2 기준 대비 상대적으로 더 클수록 상기 착화제 중에서 시안화칼륨을 상대적으로 더 많이 포함하는 것을 특징으로 하는,
무전해 은 도금액.
5. The method of claim 4,
When the complexing agent is composed only of sodium cyanide and the grain size of the plated silver layer is the second reference,
Characterized in that the greater the grain size of the silver plated layer to be plated than the second criterion, the more the potassium cyanide is contained in the complexing agent.
Electroless silver plating solution.
제 1 항에 있어서,
상기 은염은 전체 도금액 중에서 1 내지 30 g/L의 농도를 가지고,
상기 착화제는 전체 도금액 중에서 8 내지 50 g/L의 농도를 가지고,
상기 환원제는 전체 도금액 중에서 10 내지 15 g/L의 농도를 가지는,
무전해 은 도금액.
The method according to claim 1,
The silver salt has a concentration of 1 to 30 g / L in the whole plating solution,
The complexing agent has a concentration of 8 to 50 g / L in the whole plating solution,
Wherein the reducing agent has a concentration of 10 to 15 g / L in the whole plating solution,
Electroless silver plating solution.
제 1 항에 있어서,
보조착화제로 에틸렌디아민테트라아세트산 및 에틸렌디아민 중에서 선택된 적어도 어느 하나를 더 포함하는,
무전해 은 도금액.
The method according to claim 1,
Further comprising at least one selected from ethylenediamine tetraacetic acid and ethylenediamine as the auxiliary complexing agent,
Electroless silver plating solution.
은염으로 시안화은; 착화제로 시안화나트륨 및 시안화칼륨 중에서 선택된 적어도 어느 하나; 및 환원제로 타타르산칼륨나트륨, 수소화붕소나트륨, 디메틸아민보란, 히드라진 및 황산히드라진 중에서 선택된 어느 하나;를 포함하는, 무전해 은 도금액을 준비하는 단계;
상기 무전해 은 도금액을 사용하여 금속 파우더 상에 무전해 은 도금층을 형성하는 단계;
를 포함하는,
무전해 은 도금방법.
Silver silver cyanide; At least one selected from the group consisting of sodium cyanide and potassium cyanide as complexing agents; And a reducing agent selected from the group consisting of sodium potassium tartrate, sodium borohydride, dimethylamine borane, hydrazine, and hydrazine sulfate;
Forming an electroless silver plated layer on the metal powder using the electroless silver plating solution;
/ RTI >
Electroless silver plating method.
제 9 항에 있어서,
도금하고자 하는 은 도금층의 표면을 매끄럽게 하도록 상기 착화제는 시안화나트륨으로만 구성된 것을 특징으로 하는,
무전해 은 도금방법.
10. The method of claim 9,
Characterized in that the complexing agent is composed only of sodium cyanide so as to smooth the surface of the silver plated layer to be plated.
Electroless silver plating method.
제 9 항에 있어서,
도금하고자 하는 은 도금층의 표면을 울퉁불퉁하게 하도록 상기 착화제는 시안화칼륨으로만 구성된 것을 특징으로 하는,
무전해 은 도금방법.
10. The method of claim 9,
Characterized in that the complexing agent is composed only of potassium cyanide so as to make the surface of the silver plated layer to be plated rugged.
Electroless silver plating method.
제 9 항에 있어서,
상기 착화제는 시안화나트륨 및 시안화칼륨을 모두 포함하되,
상기 착화제가 시안화나트륨으로만 구성될 때 도금되는 은 도금층의 표면 거칠기를 제 1 기준으로 할 경우, 도금하고자 하는 은 도금층의 표면 거칠기가 상기 제 1 기준 대비 상대적으로 더 울퉁불퉁할수록 상기 착화제 중에서 시안화칼륨을 상대적으로 더 많이 포함하는 것을 특징으로 하는,
무전해 은 도금방법.
10. The method of claim 9,
The complexing agent includes both sodium cyanide and potassium cyanide,
When the surface roughness of the silver plated layer to be plated when the complexing agent is composed only of sodium cyanide is set as a first reference, the surface roughness of the silver plated layer to be plated becomes relatively more unstable than the first reference, Lt; RTI ID = 0.0 > of: < / RTI >
Electroless silver plating method.
제 9 항에 있어서,
상기 착화제는 시안화나트륨 및 시안화칼륨을 모두 포함하되,
상기 착화제가 시안화나트륨으로만 구성될 때 도금되는 은 도금층의 결정립 크기를 제 2 기준으로 할 경우, 도금하고자 하는 은 도금층의 결정립 크기가 상기 제 2 기준 대비 상대적으로 더 클수록 상기 착화제 중에서 시안화칼륨을 상대적으로 더 많이 포함하는 것을 특징으로 하는,
무전해 은 도금방법.
10. The method of claim 9,
The complexing agent includes both sodium cyanide and potassium cyanide,
When the grain size of the silver plating layer to be plated when the complexing agent is composed only of sodium cyanide is set as the second criterion, the larger the grain size of the silver plating layer to be plated is, ≪ RTI ID = 0.0 > more < / RTI >
Electroless silver plating method.
제 9 항에 있어서,
상기 무전해 은 도금액을 사용하여 금속 파우더 상에 무전해 은 도금층을 형성하는 단계; 이전에 산세를 통하여 금속 파우더의 산화막을 제거하는 단계;를 더 포함하는,
무전해 은 도금방법.
10. The method of claim 9,
Forming an electroless silver plated layer on the metal powder using the electroless silver plating solution; Removing the oxide film of the metal powder through the pickling process,
Electroless silver plating method.
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