KR20190080597A - 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치 - Google Patents

물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치 Download PDF

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Abstract

대기압에서 플라즈마 특수 가스를 주입하지 않고 피처리물의 다양한 형태에 대응하면서 안정적으로 장시간 플라즈마를 방전하고 대기압에서 피처리물의 개질 하고 피부 질환 치료가 가능한 유연한 플라즈마 발생 장치를 제공하고자 한다. 본 발명의 실시예에 따른 유연한 플라즈마 발생 장치는 제1 금속와이어, 제1 금속와이어를 감싸며 위치하는 제1 유전체를 포함하고 유연성을 가지는 제1 케이블, 제1 금속와이어와 대향하며 위치하는 제2 금속와이어, 제2 금속와이어를 감싸며 위치하는 제2 유전체를 포함하고 유연성을 가지는 제2 케이블, 표면에 관통홀이 형성되고 소스 가스가 주입되고 유연성을 가지는 제1 하우징, 그리고 제1 케이블과 제2 케이블에 전원을 인가하는 전원공급부를 포함하고 제1 케이블과 제2 케이블은 제1 하우징의 외면을 감싸며 위치할 수 있다.

Description

물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치{FLEXIBLE PLASMA GENERATION DEVICE FOR TREATING OF MATERIALS}
물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치가 제공된다.
플라즈마(Plasma) 장치는 표면 처리, 오염수의 정화, 토양의 복원, 식품 살균 등의 분야에서 이용되고 있다. 일반적으로 플라즈마 장치의 전극은 비유연전극(Non-flexible Electrode)의 형태를 이용하는데 피처리물의 다양한 형태에 대응하기 어렵다. 또한 플라즈마 장치는 플라즈마 생성하기 위해서 플루오린(Fluorine, F) 또는 메탄(Methane, CH4) 등의 가스를 추가적으로 이용해야 하기 때문에 사용 시 가스 공급에 따른 장소의 제한이 발생될 수 있다.
한국등록특허 1,573,231은 "플라즈마 발생 전극모듈, 플라즈마 발생 전극 집합체 및 이를 이용한 플라즈마 발생 장치"에 대한 것으로, 유연한 재질로 이루어지는 플라즈마 발생 전극모듈을 개시한다. 그러나, 플라즈마 발생 전극모듈은 플라즈마가 전극의 관통홀과 유전체의 관통홀을 모두 통과하여 외부로 방출되는 형태로 구성되기 때문에, 피처리물에 대한 플라즈마의 접촉 면적이 작아지므로 피처리물의 처리 효율이 낮아질 수 있다. 또한, 피처리물의 면적이 클 경우, 너무 많은 전극모듈이 필요하여, 비용이 많이 든다.
한국등록특허 1,605,087은 "유연성을 가지는 유전체 장벽 플라즈마 발생 장치"에 대한 것으로, 우레탄으로 이루어지는 전극부를 개시한다. 그러나, 플라즈마 발생 장치는 하우징 사이에 냉각수 구성을 포함하기 때문에, 냉각수를 유입하기 위한 장치가 별도로 필요하고, 냉각수로 인해 피처리물의 형상에 대응하기 위한 발생 장치 자체의 유연성이 낮아질 수 있다.
일본등록특허 4,982,851은 "플라스마 생성 장치, 표면 처리 장치 및 유체 개질 장치"에 대한 것으로, 유연성을 가지는 부재를 개시한다. 그러나, 플라즈마 생성 장치는 피처리물의 개질 처리가 이루어지기 위하여 플라즈마 생성부 표면에 헬륨 등의 가스 구성을 포함하기 때문에, 가스 공급 장치가 필요하며 피처리물의 처리 장소에 제약이 발생될 수 있다.
본 발명의 한 실시예는 대기압에서 플라즈마 특수 가스를 주입하지 않고 피처리물의 다양한 형태에 대응하면서 안정적으로 장시간 플라즈마를 방전하기 위한 것이다.
본 발명의 한 실시예는 대기압에서 피처리물을 개질 시키고 피부 치료를 위한 것이다.
상기 과제 이외에도 구체적으로 언급되지 않은 다른 과제를 달성하는 데 본 발명에 따른 실시예가 사용될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 유연한 플라즈마 발생 장치는 제1 금속와이어, 제1 금속와이어를 감싸며 위치하는 제1 유전체를 포함하고 유연성을 가지는 제1 케이블, 제1 금속와이어와 대향하며 위치하는 제2 금속와이어, 제2 금속와이어를 감싸며 위치하는 제2 유전체를 포함하고 유연성을 가지는 제2 케이블, 표면에 관통홀이 형성되고 소스 가스가 주입되고 유연성을 가지는 제1 하우징, 그리고 제1 케이블과 제2 케이블에 전원을 인가하는 전원공급부를 포함하고 제1 케이블과 제2 케이블은 제1 하우징의 외면을 감싸며 위치할 수 있다.
내부에 제1 케이블, 제2 케이블, 그리고 제1 하우징이 위치하고 유연성을 가지는 제2 하우징을 더 포함할 수 있다. 제1 케이블과 제2 케이블은 상호 교차하며 메쉬(Mesh) 형태로 위치할 수 있다. 제1 하우징은 모터와 전기적으로 연결되는 진동부재를 포함할 수 있다. 제1 하우징은 모터를 고정하는 고정부재, 모터와 전기적으로 연결되는 회전부재를 포함할 수 있다. 관통홀을 통과한 소스 가스에 의해 제1 하우징의 외면에 플라즈마가 발생되고, 플라즈마는 대기압에서 피처리물을 친수성 또는 소수성으로 개질 시킬 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 유연한 플라즈마 발생 장치는 제1 금속와이어, 제1 금속와이어를 감싸며 위치하는 제1 유전체를 포함하고 유연성을 가지는 제1 케이블, 제1 금속와이어와 대향하며 위치하는 제2 금속와이어, 제2 금속와이어를 감싸며 위치하는 제2 유전체를 포함하고 유연성을 가지는 제2 케이블, 소스 가스가 주입되고 유연성을 가지는 제1 하우징, 그리고 제1 케이블과 제2 케이블에 전원을 인가하는 전원공급부를 포함하고, 제1 케이블과 제2 케이블은 제1 하우징의 내부에 위치할 수 있다.
제1 케이블은 제1 유전체를 감싸며 위치하는 제1 외면유전체를 포함할 수 있다. 제2 케이블은 제2 유전체를 감싸며 위치하는 제2 외면유전체를 포함할 수 있다. 제1 케이블과 제2 케이블은 상호 교차하며 꼬일 수 있다. 제1 케이블과 제2 케이블이 상호 꼬인 경우, 제1 케이블과 제2 케이블 사이에 골부가 형성될 수 있다.
제1 하우징의 내부에 위치하고, 제1 금속와이어와 대향하며 위치하는 제3 금속와이어, 제3 금속와이어를 감싸며 위치하는 제3 유전체를 포함하고 유연성을 가지는 제3 케이블을 더 포함할 수 있다. 제1 케이블, 제2 케이블 그리고 제3 케이블은 상호 교차하며 꼬일 수 있다.
제1 케이블, 제2 케이블 그리고 제3 케이블이 상호 꼬인 경우, 제1 케이블, 제2 케이블 그리고 제3 케이블 사이에 골부가 형성될 수 있다. 골부에 위치하는 세라믹 분말을 포함할 수 있다. 제1 케이블과 제2 케이블은 상호 교차하며 메쉬(Mesh) 형태로 위치할 수 있다. 제1 하우징은 모터와 전기적으로 연결되는 진동부재를 포함할 수 있다. 제1 하우징은 모터를 고정하는 고정부재, 모터와 전기적으로 연결되는 회전부재를 포함할 수 있다. 소스 가스에 의해 제1 하우징의 내부에서 플라즈마가 발생되고, 플라즈마는 대기압에서 피처리물을 친수성 또는 소수성으로 개질시킬 수 있다.
본 발명의 한 실시예에 따르면, 유연성을 가지는 케이블을 이용하여 대기압에서 다양한 피처리물의 형상에 대응하여 플라즈마 처리를 수행할 수 있으며, 특수 가스의 주입 없이 대기압에서 피처리물을 개질시키고 피부의 치료에 적용될 수 있다.
도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 유연한 플라즈마 발생 장치를 나타내는 사시도이다.
도 2 내지 도 4는 본 발명의 한 실시예에 따른 유연한 플라즈마 발생 장치를 나타내는 단면도이다.
도 5는 본 발명의 한 실시예에 따른 유연한 플라즈마 발생 장치를 나타내는 사시도이다.
도 6은 본 발명의 한 실시예에 따른 유연한 플라즈마 발생 장치를 나타내는 단면도이다.
도 7은 본 발명의 한 실시예에 따른 유연한 플라즈마 발생 장치를 나타내는 사시도이다.
도 8은 본 발명의 한 실시예에 따른 유연한 플라즈마 발생 장치를 나타내는 단면도이다.
도 9 및 도 10은 본 발명의 한 실시예에 따른 유연한 플라즈마 발생 장치를 나타내는 사시도이다.
도 11은 본 발명의 한 실시예에 따른 유연한 플라즈마 발생 장치를 나타내는 단면도이다.
도 12 및 도 13은 본 발명의 실험예에 따른 개질 상태의 촬상 이미지를 나타낸 사진들이다.
도 14 및 도 15는 본 발명의 실험예에 따른 유동 상태의 촬상 이미지를 나타낸 사진들이다.
여기서 사용되는 전문용어는 단지 특정 실시예를 언급하기 위한 것이며, 본 발명을 한정하는 것을 의도하지 않는다. 여기서 사용되는 단수 형태들은 문구들이 이와 명백히 반대의 의미를 나타내지 않는 한 복수 형태들도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함하는"의 의미는 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소 및/또는 성분을 구체화하며, 다른 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소, 성분 및/또는 군의 존재나 부가를 제외시키는 것은 아니다.
다르게 정의하지는 않았지만, 여기에 사용되는 기술용어 및 과학용어를 포함하는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 일반적으로 이해하는 의미와 동일한 의미를 가진다. 보통 사용되는 사전에 정의된 용어들은 관련기술문헌과 현재 개시된 내용에 부합하는 의미를 가지는 것으로 추가 해석되고, 정의되지 않는 한 이상적이거나 매우 공식적인 의미로 해석되지 않는다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)의 사시도를 나타낸다. 도 1의 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)의 구조는 단지 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니다. 따라서 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)의 구조를 다른 형태로도 변형할 수 있다.
도 1에 도시한 바와 같이, 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)는 제1 케이블(10), 제2 케이블(20), 제1 하우징(40) 그리고 전원공급부(50)를 포함할 수 있다. 제1 케이블(10)은 제1 금속와이어(11)와 제1 유전체(12)를 포함할 수 있다. 제1 케이블(10)은 전원공급부(50)와 전기적으로 연결될 수 있다. 제1 금속와이어(11)는 원통형 형상을 가질 수 있다. 제1 금속와이어(11)는 유연성을 가질 수 있다. 제1 유전체(12)는 제1 금속와이어(11)를 감싸며 위치할 수 있다. 제1 유전체(12)는 유연성을 가질 수 있다.
제2 케이블(20)은 제1 케이블(10)과 대향하며 위치할 수 있다. 제2 케이블(20)은 전원공급부(50)와 전기적으로 연결될 수 있다. 제2 케이블(20)은 제2 금속와이어(21), 제2 유전체(22)를 포함할 수 있다. 제2 금속와이어(21)는 원통형 형상을 가질 수 있다. 제2 금속와이어(21)는 제1 금속와이어(11)와 대향하며 위치할 수 있다. 제2 금속와이어(21)는 유연성을 가질 수 있다. 제2 유전체(22)는 제2 금속와이어(21)를 감싸며 위치할 수 있다. 제2 유전체(22)는 유연성을 가질 수 있다.
제1 금속와이어(11)와 제2 금속와이어(21)는 전기전도성이 높은 물질로 제조될 수 있다. 제1 금속와이어(11)와 제2 금속와이어(21)는 구리(Cu), 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt) 또는 알루미늄(Al) 등으로 제조될 수 있다. 제1 유전체(12)와 제2 유전체(22)는 폴리에스테르, 폴리에테르와 이소시아네이트와의 반응에 의해 제조된 탄성체로 제조될 수 있다.
제1 하우징(40)은 일방향으로 길게 뻗은 튜브 형상을 가질 수 있다. 제1 하우징(40)은 유연성을 가질 수 있다. 제1 하우징(40)에는 소스 가스가 주입될 수 있다. 소스 가스는 이산화탄소, 질소, 산소, 공기 및 불활성가스로 구성되는 군으로부터 선택된 하나 이상의 가스일 수 있다.
전원공급부(50)는 제1 케이블(10) 및 제2 케이블(20)과 연결되어 전원을 인가할 수 있다. 전원공급부(50)에서 전원을 인가하면 제1 하우징(40)에 주입된 소스 가스와 제1 케이블(10) 및 제2 케이블(20)의 사이 공간에서 방전이 되어 소스 가스의 이온화가 이루어져 플라즈마(P)가 형성될 수 있다. 이 경우, 플라즈마(P)는 대기압 상태에서 안정적으로 장시간 방전될 수 있다.
물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)는 제1 케이블(10), 제2 케이블(20) 그리고 제1 하우징(40)이 유연성을 가질 수 있으므로 피처리물의 다양한 형태에 대응할 수 있다. 이하에서는 도 2 내지 도 11을 통해 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)의 구조를 좀더 상세하게 설명한다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)의 단면도를 나타낸다. 도 2에 도시한 바와 같이, 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)는 제1 케이블(10), 제2 케이블(20), 제1 하우징(40) 그리고 전원공급부(50)를 포함할 수 있다.
제1 하우징(40)은 관통홀(41)을 포함할 수 있다. 관통홀(41)은 제1 하우징(40)의 표면에 복수 개로 형성될 수 있다. 관통홀(41)은 미세홀 또는 메쉬(Mesh) 타입으로 형성될 수 있다. 제1 하우징(40)에 주입된 소스 가스는 관통홀(41)을 통과할 수 있다.
제1 케이블(10) 및 제2 케이블(20)은 각각 양극과 음극을 가지며 전원공급부(50)와 연결될 수 있다. 제1 케이블(10)과 제2 케이블(20)은 제1 하우징(40)의 외면을 감싸며 위치할 수 있다. 관통홀(41)을 통과한 소스 가스는 전원이 인가된 제1 케이블(10) 및 제2 케이블(20)의 사이 공간에서 방전 되어 플라즈마(P)를 형성시킬 수 있다.
물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)는 제1 케이블(10), 제2 케이블(20) 그리고 제1 하우징(40)이 유연성을 가질 수 있으므로 다양한 형상으로 휘어지고 형상에 부분적 또는 전체적으로 플라즈마 처리를 수행할 수 있다. 또한, 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)는 플루오린(Fluorine, F) 또는 메탄(Methane, CH4 등의 추가적인 외부 가스를 이용하지 않고 대기압 상태에서 플라즈마를 장시간 방전할 수 있다.
반면, 종래의 플라즈마 장치는 비유연전극을 사용하여 피처리물의 다양한 형태에 대응하기 어려웠으며 플라즈마의 발생 공간에 불활성가스를 주입하고 방전 압력으로 유지시켜야 하므로 진공 장비 또는 가스 공급 기구가 필요하여 비용이 많이 들 수 있다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)가 구비된 피처리물(F) 반응기의 단면도를 나타낸다. 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)는 피처리물(F)의 반응기에 위치하여 피처리물(F)을 개질 시킬 수 있다. 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)는 플라즈마를 발생시켜 대기압에서 피처리물(F)을 친수성 또는 소수성으로 개질 시킬 수 있다. 또한, 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)는 대기압에서 피부에 적용되어 피부 질환을 치료할 수 있다.
예를 들어, 피처리물(F)은 폴리메틸메타크릴레이트(Poly(methyl methacrylate), PMMA)일 수 있다. 도 3에 도시한 바와 같이, 사용자는 반응기에 물과 PMMA가 섞인 피처리물(F)에 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)를 넣어 플라즈마 처리를 수행할 수 있다. 소수성을 가지고 있는 PMMA는 플라즈마 발생 장치(1)의 플라즈마 처리를 통해 특수가스의 주입 없이 대기압에서 친수성으로 개질 될 수 있다.
종래의 플라즈마 장치의 경우 피처리물을 개질 시키기 위해 특수가스를 별도로 주입하고 압력을 높게 설정하여 고기압에서 개질 되므로 가스 공급 장치가 필요하고 플라즈마 처리 효율이 낮다.
피처리물(F)이 10um 이하의 물질일 경우, 입자가 미세하므로 상호 응집하여 다른 반응에 이용하기 어려울 수 있다. 이 경우, 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)가 피처리물(F)의 물질을 친수성에서 소수성으로 또는 소수성에서 친수성으로 개질 시킬 수 있으므로 다른 반응에 이용할 수 있다. 또한 플라즈마 발생 장치(1)는 상호 응집된 피처리물(F)의 유동성을 증가시켜 반응성을 높일 수 있으므로 기능기(Functional Group)를 부여할 수 있다. 그리고 플라즈마 발생 장치(1)는 피부에 적용되어 피부 질환 치료용으로 사용할 수 있다.
물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)는 진동부재(70)를 포함할 수 있다. 진동부재(70)는 전원공급부(50)와 전기적으로 연결될 수 있다. 진동부재(70)는 제1 하우징(40)과 연결될 수 있다. 진동부재(70)는 제1 하우징(40)의 내부에 위치할 수 있다. 진동부재(70)는 제1 하우징(40)으로 주입된 소스 가스를 진동시켜 소스 가스의 유동성을 높일 수 있으므로, 플라즈마 생성 효율을 높일 수 있다. 또한 진동부재(70)는 피처리물(F)이 유체일 경우, 플라즈마가 방전이 시작된 후에 피처리물(F)에 기포를 생성시킬 수도 있으므로 플라즈마를 안정적으로 생성하여 피처리물(F)의 플라즈마 처리 효율을 높일 수 있다.
물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)가 진동부재(70)에 의해 진동하면서 피처리물(F)을 플라즈마 처리할 경우, 피처리물(F) 입자도 진동될 수 있으므로 피처리물(F)의 플라즈마 처리 효율을 높일 수 있다. 또한, 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)가 플라즈마를 이용한 표면 처리에 적용될 경우, 진동부재(70)는 표면 처리 시 발생될 수 있는 탄화물이 전극에 생성되는 것을 미연에 방지할 수 있다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)의 단면도를 나타낸다. 도 4에서는 제2 하우징(42)을 제외하고는 도 2의 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)와 유사하므로, 동일한 부분에는 동일한 도면 부호를 사용하며, 그 상세한 설명을 생략한다.
도 4에 도시한 바와 같이, 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)는 제2 하우징(42)을 포함할 수 있다. 제2 하우징(42)은 일방향으로 길게 뻗은 튜브 형상을 가질 수 있다. 제2 하우징(42)은 유연성을 가질 수 있다.
제2 하우징(42)은 제1 케이블(10), 제2 케이블(20), 그리고 제1 하우징(40)을 감싸며 위치할 수 있다. 제2 하우징(42)의 내부에 제1 케이블(10), 제2 케이블(20), 그리고 제1 하우징(40)이 위치할 수 있다.
소스 가스가 제1 하우징(40)에 주입되어 관통홀(41)을 통과하면 전원이 인가된 제1 케이블(10) 및 제2 케이블(20)의 사이 공간에서 플라즈마(P)가 생성되어 제2 하우징(42)의 내부에 모아질 수 있다. 사용자는 제2 하우징(42)의 단부를 개구하여 제2 하우징(42)에 모아진 플라즈마(P)를 피처리물의 필요 부분에 위치시켜 집중적으로 플라즈마 처리를 수행할 수 있다. 사용자가 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)를 피부에 적용할 경우, 해당 피부 질환 부위를 집중적으로 치료할 수 있다. 제2 하우징(42)은 표면에 복수개의 관통홀(미도시)를 포함할 수도 있다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)의 사시도를 나타낸다. 도 5의 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)의 구조는 단지 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니다. 따라서 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)의 구조를 다른 형태로도 변형할 수 있다.
물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)는 제1 케이블(10), 제2 케이블(20) 그리고 제1 하우징(40)을 포함할 수 있다. 제1 케이블(10)은 제1 금속와이어(11) 및 제1 유전체(12)를 포함할 수 있다. 제2 케이블(20)은 제1 케이블(10)과 대향하며 위치하고, 제2 금속와이어(21) 및 제2 유전체(22)를 포함할 수 있다.
금속와이어(11, 21)는 원통형 형상을 가질 수 있다. 금속와이어(11, 21)는 유연성을 가질 수 있다. 유전체(12, 22)는 각각 금속와이어(11, 21)를 감싸며 위치할 수 있다. 유전체(12, 22)는 유연성을 가질 수 있다.
제1 케이블(10)과 제2 케이블(20)은 제1 하우징(40)의 내부에 위치할 수 있다. 제1 하우징(40)은 일방향으로 길게 뻗은 튜브 형상을 가질 수 있다. 제1 하우징(40)은 유연성을 가질 수 있다. 제1 하우징(40)에는 소스 가스가 주입될 수 있다. 제1 하우징(40)은 표면에 복수개의 관통홀(미도시)를 포함할 수도 있다.
제1 케이블(10)과 제2 케이블(20)에 전원공급부(50)로부터 전원이 인가되면, 제1 하우징(40)에 주입된 소스 가스와 반응하여 제1 케이블(10) 및 제2 케이블(20)의 사이 공간에서 방전되면서 플라즈마(P)가 형성될 수 있다. 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)는 제1 케이블(10), 제2 케이블(20) 그리고 제1 하우징(40)이 유연성을 가질 수 있으므로 피처리물의 다양한 형태에 대응할 수 있으며 대기압 상태에서 플라즈마(P)가 안정적으로 장시간 방전될 수 있다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)가 구비된 피처리물(F) 반응기의 단면도를 나타낸다. 도 6에서는 고정부재(71) 및 회전부재(72)를 제외하고는 도 3의 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)와 유사하므로, 동일한 부분에는 동일한 도면 부호를 사용하며, 그 상세한 설명을 생략한다.
도 6에 도시한 바와 같이, 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)는 제1 케이블(10), 제2 케이블(20), 제1 하우징(40), 고정부재(71) 및 회전부재(72)를 포함할 수 있다. 제1 하우징(40)의 내부에서는 소스 가스가 주입되어 제1 케이블(10) 및 제2 케이블(20)의 사이 공간에서 반응하여 플라즈마를 발생시킬 수 있다. 제1 하우징(40)의 내부에서 플라즈마가 발생되면 플라즈마는 대기압에서 피처리물(F)을 친수성 또는 소수성으로 개질 시킬 수 있다.
고정부재(71)는 제1 하우징(40)에 설치될 수 있다. 모터(M)는 고정부재(71)에 설치될 수 있다. 모터(M)는 전원공급부(50)와 전기적으로 연결될 수 있다. 모터(M)의 일측은 고정부재(71)와 연결될 수 있고, 타측은 회전부재(72)와 연결될 수 있다.
회전부재(72)는 날개를 포함하는 팬(Fan)형상을 가질 수 있다. 회전부재(72)는 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)에서 생성된 플라즈마가 피처리물(F)에 퍼질 수 있도록 피처리물(F)의 입자를 유동시킬 수 있다. 따라서 회전부재(72)는 피처리물(F)의 플라즈마 처리 효율을 높일 수 있다.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)의 사시도를 나타낸다. 도 7에 도시한 바와 같이, 제1 케이블(10)과 제2 케이블(20)은 제1 하우징(40)의 내부에 위치할 수 있다. 제1 케이블(10)과 제2 케이블(20)은 상호 교차하며 꼬인 형상을 가질 수 있다.
제1 케이블(10)과 제2 케이블(20)이 상호 꼬인 형상일 경우, 제1 케이블(10)과 제2 케이블(20)의 꼬인 부분 사이에는 골부(60)가 형성될 수 있다. 골부(60)에는 세라믹분말(61)을 포함할 수 있다. 세라믹분말(61)이 골부(60)에 도포될 경우, 제1 케이블(10)과 제2 케이블(20)에 인가된 전원의 전압의 최대치가 증가할 수 있으므로 플라즈마 생성 효율을 높일 수 있다.
도 8은 본 발명의 실시예에 따른 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)의 단면도를 나타낸다. 도 8에 도시한 바와 같이, 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)는 제1 케이블(10), 제2 케이블(20) 그리고 제3 케이블(30)을 포함할 수 있다.
제1 케이블(10), 제2 케이블(20) 그리고 제3 케이블(30)은 제1 하우징(40)의 내부에 위치할 수 있다. 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)는 내부에 위치하는 또 다른 케이블을 복수 개 더 포함할 수도 있다.
제3 케이블(30)은 제1 케이블(10)과 대향하며 위치할 수 있다. 제3 케이블(30)은 전원공급부(50)와 전기적으로 연결될 수 있다. 제3 케이블(30)은 제3 금속와이어(31), 제3 유전체(32)를 포함할 수 있다. 제3 금속와이어(31)는 원통형 형상을 가질 수 있다. 제3 금속와이어(31)는 제1 금속와이어(11)와 대향하며 위치할 수 있다. 제3 금속와이어(31)는 유연성을 가질 수 있다. 제3 유전체(32)는 제3 금속와이어(31)를 감싸며 위치할 수 있다. 제3 유전체(32)는 유연성을 가질 수 있다.
금속와이어(11, 21, 31)는 원통형 형상으로 유연성을 가질 수 있다. 유전체(12, 22, 32)는 각각 금속와이어(11, 21, 31)를 감싸며 위치할 수 있다. 유전체(12, 22, 32)는 유연성을 가질 수 있다.
케이블(10, 20, 30)은 각각 외면유전체(13, 23, 33)를 포함할 수 있다. 외면유전체(13, 23, 33)는 각각 유전체(12, 22, 32)를 감싸며 위치할 수 있다. 외면유전체(13, 23, 33)는 항복 전압(Breakdown Voltage)이 높아질 수 있으므로 케이블(10, 20, 30)에 더 높은 전압을 인가할 수 있다.
세라믹분말(61)은 제1 하우징(40)의 내부에 도포될 수 있다. 세라믹분말(61)은 케이블(10, 20, 30)의 사이 사이에 위치할 수 있다. 세라믹분말(61)은 외면유전체(13, 23, 33)가 상호 맞닿는 면적을 줄여줄 수 있으므로 케이블(10, 20, 30)에 더 높은 전압을 인가할 수 있다. 따라서 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)는 외면유전체(13, 23, 33)와 세라믹분말(61)을 이용하여 플라즈마 생성 효율을 높일 수 있다.
도 9 및 도 10은 본 발명의 실시예에 따른 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)의 사시도를 나타낸다. 도 9 및 도 10에 도시한 바와 같이, 제1 케이블(10), 제2 케이블(20) 그리고 제3 케이블(30)은 제1 하우징(40)의 내부에 위치할 수 있다. 제1 케이블(10), 제2 케이블(20) 그리고 제3 케이블(30)은 상호 교차하며 꼬인 형상을 가질 수 있다.
도 9에 도시한 바와 같이, 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)는 제1 케이블(10)을 중심에 두고 제2 케이블(20)과 제3 케이블(30)이 같은 방향으로 제1 케이블(10)의 상면을 감싸며 꼬인 형상을 가질 수 있다.
제1 케이블(10)은 양극일 경우, 제2 케이블(20)과 제3 케이블(30)은 음극을 가질 수 있으며, 제1 케이블(10)이 음극인 경우, 제2 케이블(20)과 제3 케이블(30)은 양극을 가질 수 있다. 이 경우, 제1 케이블(10)은 제2 케이블(20)과 제3 케이블(30)의 사이 공간에서 방전되어 플라즈마를 형성할 수 있으므로 플라즈마 생성 효율을 높일 수 있다. 세라믹분말(61)은 케이블(10, 20, 30)가 상호 꼬아지며 형성된 골부(60)에 위치할 수 있다.
제1 케이블(10)을 중심에 두고 제2 케이블(20)과 제3 케이블(30)이 같은 방향으로 꼬아진 형상일 경우, 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)의 형상을 변형시키더라도 케이블(10, 20, 30) 사이의 접촉 상태가 안정적으로 유지될 수 있으므로 플라즈마를 균일하게 생성시킬 수 있다.
도 10에 도시한 바와 같이, 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)는 제1 케이블(10), 제2 케이블(20) 그리고 제3 케이블(30)이 순서에 따라 교차되며 꼬인 형상을 가질 수 있다. 이 경우, 골부(60)가 주기적으로 일정한 간격을 두고 위치될 수 있으므로 세라믹분말(61)의 도포 양이 커져 피처리물의 플라즈마 처리 효율을 높일 수 있다. 또한 제1 케이블(10), 제2 케이블(20) 그리고 제3 케이블(30)이 순서에 따라 교차될 경우, 방전 거리가 짧아 질 수 있으므로 대기압에서도 플라즈마를 안정적이고 균일하게 생성할 수 있다.
도 11은 본 발명의 실시예에 따른 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)의 단면도를 나타낸다. 도 11에 도시한 바와 같이, 제1 케이블(10)과 제2 케이블(20)은 제1 하우징(40)의 내부에 위치할 수 있다. 제1 케이블(10)과 제2 케이블(20)은 상호 교차하는 방향으로 직조될 수 있다. 이 경우, 제1 하우징(40)은 평면 또는 곡면을 갖는 플레이트 형상을 가질 수 있으므로 피처리물을 포함하고 있는 용기 모양에 따라 유연하게 다양한 형상으로 휘어지면서 플라즈마 처리를 수행할 수 있다. 또한 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치(1)가 피부에 적용될 경우, 피부 질환 부위 형상에 맞추어 휘어지면서 플라즈마가 생성될 수 있으므로 피부 질환을 치료 효과를 높일 수 있다.
이하에서는 실험예를 사용하여 본 발명을 좀더 상세하게 설명한다. 이러한 실험예는 단지 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니다.
개질 관찰 실험예
도 12는 반응기에 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치를 삽입한 사진이다. 먼저 도 1과 동일한 구조의 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치를 제조한다. 반응기에 물과 폴리메틸메타크릴레이트(Poly(methyl methacrylate), PMMA)를 섞고 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치를 반응기에 삽입한다.
개질 관찰 실험 결과
도 13은 본 발명의 개질 관찰 실험에 따라 물과 PMMA가 섞인 피처리물 반응기에 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치를 삽입하여 플라즈마 처리한 사진을 나타낸다. 도 13의 (a)는 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치가 플라즈마 처리를 하기 전 사진이고, (b)는 플라즈마 처리를 한 후의 사진이다.
도 13의 (a)에 도시한 바와 같이, 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치가 피처리물에 플라즈마 처리를 하기 전에는 PMMA가 소수성을 가지고 있으므로 물에 잘 섞이지 않아 투명한 상태임을 확인할 수 있다. 도 13의 (b)에 도시한 바와 같이, 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치가 피처리물에 플라즈마 처리를 수행하면, 소수성을 가지고 있던 PMMA가 개질 되어 친수성을 가지게 되므로 물에 잘 섞인 상태임을 확인 할 수 있다. 따라서 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치에서 발생된 플라즈마가 대기압에서 피처리물을 소수성에서 친수성으로 개질시키는 것을 확인할 수 있다.
유동 관찰 실험예
도 14는 반응기에 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치를 삽입한 사진이다. 먼저 도 1과 동일한 구조의 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치를 제조한다. 반응기에 10um의 산화이트륨(Y2O3) 용사 분말을 넣고 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치를 반응기에 삽입한다.
유동 관찰 실험 결과
도 15는 본 발명의 유동 관찰 실험에 따라 산화이트륨(Y2O3) 용사 분말의 피처리물 반응기에 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치를 삽입하여 플라즈마 처리하여 유동성 측정 장치를 통해 유동을 관찰한 사진을 나타낸다. 도 15의 (a)는 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치가 플라즈마 처리를 하기 전 유동성 측정 장치의 사진이고, (b)는 플라즈마 처리를 한 후의 유동성 측정 장치의 사진이다.
도 15의 (a)의 점선원에 도시한 바와 같이, 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치가 피처리물에 플라즈마 처리를 하기 전에는 피처리물이 10um로 입자가 미세하여 상호 응집하므로 유동성이 낮아 낙하가 이루어지기 어려운 상태임을 확인할 수 있다. 도 15의 (b)의 점선원에 도시한 바와 같이, 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치가 피처리물에 플라즈마 처리를 수행하면, 산화이트륨(Y2O3) 용사 분말의 유동성이 높아져 낙하가 잘 이루어지는 상태임을 확인할 수 있다. 따라서, 물질 처리용 유연한 플라즈마 발생 장치에서 발생된 플라즈마가 대기압에서 10um 이하의 미세한 입자를 가진 피처리물의 유동성을 높일 수 있는 것을 확인할 수 있다. 또한 응집 상태의 피처리물의 유동성을 증가시킬 경우 반응성을 높일 수 있으므로 기능기(Functional Group)를 부여할 수 있음을 알 수 있었다.
본 발명을 앞서 기재한 바에 따라 설명하였지만, 다음에 기재하는 특허청구범위의 개념과 범위를 벗어나지 않는 한, 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에서 종사하는 자들은 쉽게 이해할 것이다.
10. 제1 케이블 11. 제1 금속와이어
12. 제1 유전체 13. 제1 외면유전체
20. 제2 케이블 21. 제2 금속와이어
22. 제2 유전체 23. 제2 외면유전체
30. 제3 케이블 31. 제3 금속와이어
32. 제3 유전체 33. 외면유전체
40. 제1 하우징 41. 관통홀
42. 제2 하우징 50. 전원공급부
60. 골부 61. 세라믹 분말
70. 진동부재 71. 고정부재
72. 회전부재 M. 모터
P. 플라즈마 F. 피처리물

Claims (19)

  1. 제1 금속와이어, 상기 제1 금속와이어를 감싸며 위치하는 제1 유전체를 포함하고 유연성을 가지는 제1 케이블,
    상기 제1 금속와이어와 대향하며 위치하는 제2 금속와이어, 상기 제2 금속와이어를 감싸며 위치하는 제2 유전체를 포함하고 유연성을 가지는 제2 케이블,
    표면에 관통홀이 형성되고 소스 가스가 주입되고 유연성을 가지는 제1 하우징, 그리고
    상기 제1 케이블과 상기 제2 케이블에 전원을 인가하는 전원공급부,
    를 포함하고,
    상기 제1 케이블과 상기 제2 케이블은 상기 제1 하우징의 외면을 감싸며 위치하는 유연한 플라즈마 발생 장치.
  2. 제1항에서,
    내부에 상기 제1 케이블, 상기 제2 케이블, 그리고 상기 제1 하우징이 위치하고 유연성을 가지는 제2 하우징을 더 포함하는 유연한 플라즈마 발생 장치.
  3. 제2항에서,
    상기 제1 케이블과 상기 제2 케이블은 상호 교차하며 메쉬(Mesh) 형태로 위치하는 유연한 플라즈마 발생 장치.
  4. 제3항에서,
    상기 제1 하우징은 모터와 전기적으로 연결되는 진동부재를 포함하는 유연한 플라즈마 발생 장치.
  5. 제4항에서,
    상기 제1 하우징은 상기 모터를 고정하는 고정부재, 상기 모터와 전기적으로 연결되는 회전부재를 포함하는 유연한 플라즈마 발생 장치.
  6. 제1항에서,
    상기 관통홀을 통과한 상기 소스 가스에 의해 상기 제1 하우징의 외면에 플라즈마가 발생되고, 상기 플라즈마는 대기압에서 피처리물을 친수성 또는 소수성으로 개질시키는 유연한 플라즈마 발생 장치.
  7. 제1 금속와이어, 상기 제1 금속와이어를 감싸며 위치하는 제1 유전체를 포함하고 유연성을 가지는 제1 케이블,
    상기 제1 금속와이어와 대향하며 위치하는 제2 금속와이어, 상기 제2 금속와이어를 감싸며 위치하는 제2 유전체를 포함하고 유연성을 가지는 제2 케이블,
    소스 가스가 주입되고 유연성을 가지는 제1 하우징, 그리고
    상기 제1 케이블과 상기 제2 케이블에 전원을 인가하는 전원공급부,
    를 포함하고,
    상기 제1 케이블과 상기 제2 케이블은 상기 제1 하우징의 내부에 위치하는 유연한 플라즈마 발생 장치.
  8. 제7항에서,
    상기 제1 케이블은 상기 제1 유전체를 감싸며 위치하는 제1 외면유전체를 포함하는 유연한 플라즈마 발생 장치.
  9. 제8항에서,
    상기 제2 케이블은 상기 제2 유전체를 감싸며 위치하는 제2 외면유전체를 포함하는 유연한 플라즈마 발생 장치.
  10. 제9항에서,
    상기 제1 케이블과 상기 제2 케이블은 상호 교차하며 꼬인 유연한 플라즈마 발생 장치.
  11. 제10항에서,
    상기 제1 케이블과 상기 제2 케이블이 상호 꼬인 경우, 상기 제1 케이블과 상기 제2 케이블 사이에 골부가 형성되는 유연한 플라즈마 발생 장치.
  12. 제11항에서,
    상기 제1 하우징의 내부에 위치하고, 상기 제1 금속와이어와 대향하며 위치하는 제3 금속와이어, 상기 제3 금속와이어를 감싸며 위치하는 제3 유전체를 포함하고 유연성을 가지는 제3 케이블을 더 포함하는 유연한 플라즈마 발생 장치.
  13. 제12항에서,
    상기 제1 케이블, 상기 제2 케이블 그리고 상기 제3 케이블은 상호 교차하며 꼬인 유연한 플라즈마 발생 장치.
  14. 제13항에서,
    상기 제1 케이블, 상기 제2 케이블 그리고 상기 제3 케이블이 상호 꼬인 경우, 상기 제1 케이블, 상기 제2 케이블 그리고 상기 제3 케이블 사이에 골부가 형성되는 유연한 플라즈마 발생 장치.
  15. 제14항에서,
    상기 골부에 위치하는 세라믹 분말을 포함하는 유연한 플라즈마 발생 장치.
  16. 제15항에서,
    상기 제1 케이블과 상기 제2 케이블은 상호 교차하며 메쉬(Mesh) 형태로 위치하는 유연한 플라즈마 발생 장치.
  17. 제16항에서,
    상기 제1 하우징은 모터와 전기적으로 연결되는 진동부재를 포함하는 유연한 플라즈마 발생 장치.
  18. 제17항에서,
    상기 제1 하우징은 상기 모터를 고정하는 고정부재, 상기 모터와 전기적으로 연결되는 회전부재를 포함하는 유연한 플라즈마 발생 장치.
  19. 제7항에서,
    상기 소스 가스에 의해 상기 제1 하우징의 내부에서 플라즈마가 발생되고, 상기 플라즈마는 대기압에서 피처리물을 친수성 또는 소수성으로 개질시키는 유연한 플라즈마 발생 장치.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111918472A (zh) * 2020-08-14 2020-11-10 清华大学 以流体作阻挡介质的柔性平板等离子体发生器
WO2021260023A1 (de) * 2020-06-24 2021-12-30 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Plasmareaktor zur plasmachemischen und/oder plasmakatalytischen umsetzung von verbindungen sowie verwendung eines plasmareaktors

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008130343A (ja) * 2006-11-20 2008-06-05 Kyoto Univ プラズマ生成装置、表面処理装置、表示装置、および流体改質装置
KR101605087B1 (ko) * 2014-09-29 2016-03-22 인하대학교 산학협력단 유연성을 가지는 유전체 장벽 플라즈마 발생 장치
KR20160134593A (ko) * 2016-07-05 2016-11-23 광운대학교 산학협력단 플라즈마 패드
KR20170075391A (ko) * 2015-12-23 2017-07-03 한국기초과학지원연구원 회전하는 전극을 이용하여 오염된 피처리물을 처리하는 플라즈마 처리장치

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008130343A (ja) * 2006-11-20 2008-06-05 Kyoto Univ プラズマ生成装置、表面処理装置、表示装置、および流体改質装置
KR101605087B1 (ko) * 2014-09-29 2016-03-22 인하대학교 산학협력단 유연성을 가지는 유전체 장벽 플라즈마 발생 장치
KR20170075391A (ko) * 2015-12-23 2017-07-03 한국기초과학지원연구원 회전하는 전극을 이용하여 오염된 피처리물을 처리하는 플라즈마 처리장치
KR20160134593A (ko) * 2016-07-05 2016-11-23 광운대학교 산학협력단 플라즈마 패드

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
저널, IEEE TRANSACTION PLASMA SCIENCE, Vol. 37, No. 3, pp. 449 - 455 (2009. 03. 31.)* *
저널, J. Phys. D: Appl. Phys. Vol. 44, No 1, p. 013002 (2010. 12. 08.)* *

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021260023A1 (de) * 2020-06-24 2021-12-30 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Plasmareaktor zur plasmachemischen und/oder plasmakatalytischen umsetzung von verbindungen sowie verwendung eines plasmareaktors
CN111918472A (zh) * 2020-08-14 2020-11-10 清华大学 以流体作阻挡介质的柔性平板等离子体发生器
CN111918472B (zh) * 2020-08-14 2021-06-29 清华大学 以流体作阻挡介质的柔性平板等离子体发生器

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