KR102572882B1 - 플라즈마 발생 장치 - Google Patents
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- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 123
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 55
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000003796 beauty Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 4
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 3
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000006558 Dental Calculus Diseases 0.000 description 1
- 206010014357 Electric shock Diseases 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical class [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007943 implant Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001151 other effect Effects 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 210000004761 scalp Anatomy 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 230000037380 skin damage Effects 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 1
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- B01D39/2055—Carbonaceous material
- B01D39/2058—Carbonaceous material the material being particulate
- B01D39/2062—Bonded, e.g. activated carbon blocks
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- B01D—SEPARATION
- B01D39/00—Filtering material for liquid or gaseous fluids
- B01D39/14—Other self-supporting filtering material ; Other filtering material
- B01D39/20—Other self-supporting filtering material ; Other filtering material of inorganic material, e.g. asbestos paper, metallic filtering material of non-woven wires
- B01D39/2068—Other inorganic materials, e.g. ceramics
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
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- H05H2245/30—Medical applications
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Abstract
플라즈마 발생을 위해 별도로 가스를 공급하지 않고도 대기의 공기(air)를 이용하여 플라즈마를 효율적으로 발생할 수 있으며, 피부 미용을 위한 용도로 활용되기에 적합한 플라즈마 발생 장치가 개시된다. 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치는: 플라즈마 팁을 포함하고, 상기 플라즈마 팁 내에서 플라즈마를 발생시켜 대상체에 전달하도록 구성되는 플라즈마 발생부;를 포함한다.
상기 플라즈마 팁은: 상기 플라즈마가 발생되는 내부 공간을 가지는 팁 본체; 상기 팁 본체 내의 상기 내부 공간에 마련되고, 상기 플라즈마를 생성하기 위한 전원이 인가되도록 구성되는 전극부; 및 상기 팁 본체의 외부 영역으로부터 상기 전극부를 향해 공기가 유입되도록 상기 팁 본체의 상기 외부 영역과 상기 내부 공간 간에 연통되는 공기 유입 통로;를 포함한다.
상기 플라즈마 팁은: 상기 플라즈마가 발생되는 내부 공간을 가지는 팁 본체; 상기 팁 본체 내의 상기 내부 공간에 마련되고, 상기 플라즈마를 생성하기 위한 전원이 인가되도록 구성되는 전극부; 및 상기 팁 본체의 외부 영역으로부터 상기 전극부를 향해 공기가 유입되도록 상기 팁 본체의 상기 외부 영역과 상기 내부 공간 간에 연통되는 공기 유입 통로;를 포함한다.
Description
본 발명은 플라즈마 발생 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 플라즈마 발생을 위해 별도로 가스를 공급하지 않고 대기의 공기(air)를 이용하여 플라즈마를 효율적으로 발생할 수 있으며, 특히 피부 미용을 위한 용도로 활용되기에 적합한 플라즈마 발생 장치에 관한 것이다.
이하에서 설명되는 배경 기술은 본 발명의 출원 전 공지된 기술로서 기재된 것이 아니라, 본 발명이 도출된 배경을 설명하기 위한 것이다. 일반적으로 플라즈마 발생 장치는 플라즈마 생성을 위한 가스를 여기시켜 플라즈마를 생성한다. 이를 위해 플라즈마 발생 장치는 플라즈마 발생을 위한 전원이 인가되는 전극과, 전극을 향해 플라즈마 발생을 위한 가스를 공급하는 가스 공급관을 구비한다. 이와 같은 종래의 플라즈마 발생 장치는 플라즈마를 제트 형태로 불꽃 방출하여 용접이나 가공품의 표면을 처리하는 등의 용도에 유리하게 활용될 수 있으나, 피부 미용을 위한 미용기나, 인체 치료를 위한 의료기기, 혹은 의료기구의 표면 처리 등에 사용되기에는 적합하지 않다.
피부 미용에 사용되는 플라즈마 발생 장치는 피부 미용 효과를 높이기 위해 플라즈마화된 가스가 피부와 충분한 접촉을 하도록 할 필요가 있으며, 이와 함께 플라즈마에 의해 피부가 손상되지 않도록 하는 것도 중요하다. 또한, 플라즈마 발생 장치는 플라즈마 생성 과정에서 부산물로 오존 가스가 발생될 수 있는데, 특히 피부 미용에 사용되는 플라즈마 발생 장치의 경우 플라즈마에서 발생된 오존 가스가 인체에 해로운 영향을 미치지 않도록 오존 가스를 효율적으로 제거할 필요가 있다.
본 발명은 플라즈마 발생을 위해 별도로 가스를 공급하지 않고도 대기의 공기(air)를 이용하여 플라즈마를 효율적으로 발생할 수 있으며, 피부 미용을 위한 용도로 활용되기에 적합한 플라즈마 발생 장치를 제공하기 위한 것이다.
또한, 본 발명은 플라즈마화된 가스가 피부와 충분히 접촉할 수 있도록 하고, 플라즈마에서 부산물로 발생되는 오존 가스를 효율적으로 제거할 수 있는 플라즈마 발생 장치를 제공하기 위한 것이다.
또한, 본 발명은 플라즈마에 의해 피부가 손상되는 것을 방지할 수 있으며, 플라즈마 발생부 및/또는 오존 제거부의 교체가 용이한 플라즈마 발생 장치를 제공하기 위한 것이다.
본 발명에서 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않는다. 언급하지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치는: 플라즈마 팁을 포함하고, 상기 플라즈마 팁 내에서 플라즈마를 발생시켜 대상체에 전달하도록 구성되는 플라즈마 발생부;를 포함한다.
상기 플라즈마 팁은: 상기 플라즈마가 발생되는 내부 공간을 가지는 팁 본체; 상기 팁 본체 내의 상기 내부 공간에 마련되고, 상기 플라즈마를 생성하기 위한 전원이 인가되도록 구성되는 전극부; 및 상기 팁 본체의 외부 영역으로부터 상기 전극부를 향해 공기가 유입되도록 상기 팁 본체의 상기 외부 영역과 상기 내부 공간 간에 연통되는 공기 유입 통로;를 포함한다.
본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치는: 상기 전극부가 지지되고, 상기 플라즈마에 부수적으로 발생되는 오존 가스가 흡입되는 오존 흡입 통로가 중심부에 형성되는 전극 지지부;를 더 포함할 수 있다.
상기 팁 본체는: 상기 전극부의 주위를 감싸도록 상기 전극 지지부에 결합되고, 상기 내부 공간에서 발생된 상기 플라즈마를 대상체에 전달하도록 구성되는 노즐부;를 포함할 수 있다. 상기 공기 유입 통로는, 상기 전극 지지부와 상기 노즐부 사이에 형성되거나 상기 노즐부를 관통하여 형성될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치는: 상기 공기 유입 통로를 통해 상기 내부 공간으로 유입된 상기 공기에 와류를 일으키도록 상기 전극 지지부의 내경부로부터 돌출 형성되는 보스부;를 더 포함할 수 있다.
상기 전극부는 유전체, 상기 유전체의 제1 면에 코팅된 제1 전극, 및 상기 유전체의 제2 면에 코팅된 제2 전극을 포함할 수 있다. 상기 유전체는 상기 오존 흡입 통로를 형성하도록 중심부가 개방된 링 형태로 구성될 수 있다.
상기 팁 본체는: 상기 전극부의 주위를 감싸도록 상기 전극부가 지지되는 전극 지지부에 결합되고, 상기 내부 공간에서 발생된 상기 플라즈마를 대상체에 전달하도록 구성되는 노즐부;를 포함할 수 있다. 상기 노즐부는 상기 플라즈마에 부수적으로 발생되는 오존 가스가 흡입되는 오존 흡입 통로를 구비하고, 상기 공기 유입 통로는 상기 노즐부를 관통하여 형성될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치는: 상기 오존 흡입 통로를 통해 흡입된 상기 오존 가스를 제거하기 위한 오존 제거부; 및 흡입 팬 또는 진공 펌프에 의해 상기 오존 흡입 통로를 통해 상기 오존 가스가 흡입되도록 하고 상기 내부 공간에 음압을 형성하도록 구성되는 오존 흡입부를 더 포함할 수 있다.
상기 오존 제거부는 상기 플라즈마 발생부와 상기 오존 흡입부 사이에 배치될 수 있다. 상기 오존 제거부는 활성탄 또는 이산화망간으로 이루어진 오존 필터에 다수의 구멍들이 타공된 다공성 필터를 포함할 수 있다.
상기 오존 제거부는: 상기 플라즈마 발생부와 상기 다공성 필터 사이에 마련되고, 상기 플라즈마 발생부에서 발생한 오존 가스를 흡입하여 불순물을 제거하는 제1 헤파필터; 및 상기 다공성 필터와 상기 오존 흡입부 사이에 마련되고, 상기 다공성 필터에서 발생되는 불순물을 제거하는 제2 헤파필터를 더 포함할 수 있다.
상기 오존 제거부는, 상기 다공성 필터의 유입부에 마련되어 상기 다공성 필터로 유입되는 오존 가스에 와류를 형성하여 상기 다공성 필터에 분산시키도록 구성되는 와류 발생부;를 더 포함할 수 있다. 상기 와류 발생부는 활성탄 등의 재료로 형성된 다공성 스펀지, 플라스틱 형상 구조, 상기 오존 가스의 흡입에 의해 자력으로 회전하는 팬 구조, 솜 또는 필터를 포함할 수 있다.
상기 플라즈마 발생부 및 상기 오존 제거부 중 적어도 하나는 교체형 모듈로 제공될 수 있다.
상기 플라즈마 팁은: 상기 내부 공간에 마련되고, 상기 전극부가 피부에 직접 닿는 것을 방지하도록 상기 전극부와 상기 노즐부의 단부 사이에 배치되는 메쉬망을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 의하면, 플라즈마 발생을 위해 별도로 가스를 공급하지 않고도 대기의 공기(air)를 이용하여 플라즈마를 효율적으로 발생할 수 있으며, 피부 미용을 위한 용도로 활용되기에 적합한 플라즈마 발생 장치가 제공된다.
또한, 본 발명의 실시예에 의하면, 플라즈마화된 가스가 피부와 충분히 접촉할 수 있도록 하고, 플라즈마에서 부산물로 발생되는 오존 가스를 효율적으로 제거할 수 있는 플라즈마 발생 장치가 제공된다.
또한, 본 발명의 실시예에 의하면, 플라즈마에 의해 피부가 손상되는 것을 방지할 수 있으며, 플라즈마 발생부 및/또는 오존 제거부의 교체가 용이한 플라즈마 발생 장치가 제공된다.
한편, 본 발명에서 얻을 수 있는 효과는 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않는다. 언급하지 않은 또 다른 효과들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치를 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치의 일부를 나타낸 단면도로서, 도 1의 'A'부 확대도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치를 구성하는 플라즈마 팁의 작용을 설명하기 위한 개념도이다.
도 4a 내지 도 4c는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치를 구성하는 전극부를 나타낸 저면도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치의 일부를 나타낸 단면도이다.
도 6은 도 5에 도시된 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치의 일부를 나타낸 측면도이다.
도 7 및 도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치를 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치의 일부를 나타낸 단면도로서, 도 1의 'A'부 확대도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치를 구성하는 플라즈마 팁의 작용을 설명하기 위한 개념도이다.
도 4a 내지 도 4c는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치를 구성하는 전극부를 나타낸 저면도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치의 일부를 나타낸 단면도이다.
도 6은 도 5에 도시된 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치의 일부를 나타낸 측면도이다.
도 7 및 도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치를 개략적으로 나타낸 단면도이다.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제의 해결 방안을 명확하게 하기 위한 발명의 구성을 본 발명의 바람직한 실시예에 근거하여 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명하되, 도면의 구성요소들에 참조번호를 부여함에 있어서 동일 구성요소에 대해서는 비록 다른 도면상에 있더라도 동일 참조번호를 부여하였으며 당해 도면에 대한 설명 시 필요한 경우 다른 도면의 구성요소를 인용할 수 있음을 미리 밝혀둔다.
본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치는 특히, 휴대용 피부미용기, 개인용 피부미용기에 적합하게 활용될 수 있으나, 본 발명의 실시예가 반드시 이러한 용도로 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치는 플라즈마 팁 내에서 플라즈마를 발생시켜 대상체에 전달하도록 구성되는 플라즈마 발생부를 포함한다. 플라즈마 팁은 플라즈마가 발생되는 내부 공간을 가지는 팁 본체와, 팁 본체의 내부 공간에 마련되고 플라즈마를 생성하기 위한 전원이 인가되는 전극부, 및 팁 본체의 외부 영역으로부터 전극부를 향해 외부 공기가 유입되도록 팁 본체의 외부 영역과 팁 본체의 내부 공간 간에 연통되는 공기 유입 통로를 포함한다.
이러한 본 발명의 실시예에 의하면, 플라즈마 발생을 위해 별도로 가스를 공급하지 않고도 대기의 공기를 이용하여 플라즈마를 효율적으로 발생할 수 있으며, 별도의 가스 공급관을 필요로 하지 않아 플라즈마 발생 장치를 소형, 경량화할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치는 공기 유입 통로를 통해 팁 본체의 내부 공간으로 유입된 공기에 와류를 일으키도록 전극 지지부의 내경부로부터 보스부가 기둥 형태로 돌출 형성될 수 있다. 이에 따라 오존 가스를 분산시켜 다공성 필터에 균등하게 흡입시킴과 동시에, 플라즈마화된 가스의 체류 시간을 증가시켜 피부와 충분히 접촉하도록 하여 피부 미용 효과를 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치는 팁 본체의 내부 공간에서 발생되는 오존 가스가 흡입될 수 있는 오존 흡입 통로를 구비하며, 오존 흡입 통해 흡입된 오존 가스를 제거하도록 다수의 구멍들이 타공된 다공성 필터를 포함하는 오존 제거부와, 팁 본체의 내부 공간에 음압을 형성하고 오존 가스가 흡입되도록 하는 오존 흡입부를 포함할 수 있다.
오존 제거부는 다공성 필터의 유입부에 마련되어 다공성 필터로 유입되는 오존 가스에 와류를 형성하여 다공성 필터에 분산시키는 와류 발생부를 포함할 수 있다. 이에 따라 와류 발생부에 의해 오존 가스를 분산시켜 다공성 필터에 균등하게 흡입시킴과 동시에, 오존 가스가 다공성 필터에 체류하는 시간을 증가시켜 플라즈마 발생 과정에서 부산물로 발생되는 오존 가스를 효율적으로 제거할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치는 플라즈마 발생부 및 오존 제거부 중 적어도 하나가 교체형 모듈로 제공될 수 있다. 이에 따라 소모성 부품인 플라즈마 발생부 및/또는 오존 제거부의 교체를 용이하게 할 수 있다. 또한, 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치는 플라즈마 팁의 전극부와 노즐부의 단부 사이에 메쉬망을 구비할 수 있으며, 이에 따라 플라즈마에 의해 피부가 손상되는 것을 방지할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치를 개략적으로 나타낸 단면도이다. 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치의 일부를 나타낸 단면도로서, 도 1의 'A'부 확대도이다. 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치를 구성하는 플라즈마 팁의 작용을 설명하기 위한 개념도이다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치(10)는 플라즈마 발생부(100), 오존 제거부(102) 및 오존 흡입부(900)를 포함할 수 있다.
플라즈마 발생부(100)는 플라즈마 팁(100a)을 포함할 수 있다. 플라즈마 발생부(100)는 플라즈마 팁(100a) 내에서 플라즈마를 발생시켜 대상체(예를 들어, 인체 피부 등)에 전달하도록 구성될 수 있다.
플라즈마 팁(100a)은 플라즈마가 발생되는 내부 공간(S)을 가지는 팁 본체, 예를 들어, 노즐부(140)와, 팁 본체 내의 내부 공간(S)에 마련되는 전극부(130) 및 외부의 공기를 내부 공간(S)으로 유입하기 위한 공기 유입 통로(150)를 구비할 수 있다.
플라즈마 팁(100a)의 팁 본체는 절연성의 재질로 구성되는 것이 바람직하며, 예를 들어, 절연성이 뛰어나고 유전율이 높아 플라즈마를 효율적으로 발생시키기 위해 열전도, 내열성 및 내식성이 우수한 내열 플라스틱 또는 세라믹 재질로 형성될 수 있다.
플라즈마 팁(100a)의 팁 본체는 전극 지지부(110, 120)에 결합되는 노즐부(140)를 구비할 수 있다. 전극 지지부(110, 120)는 전극부(130)를 지지할 수 있다. 전극 지지부(110, 120)는 외부 지지부(110)와 내부 지지부(120)를 포함할 수 있다.
노즐부(140)는 전극부(130)의 주위를 감싸도록 전극 지지부(110, 120)에 나사 결합, 볼트 결합, 용접, 접합 등의 다양한 방식으로 결합될 수 있다. 노즐부(140)는 팁 본체 내의 내부 공간(S)에서 발생된 플라즈마를 대상체(예를 들어, 인체 피부 등)에 전달하도록 구성될 수 있다.
공기 유입 통로(150)는 전극 지지부(110, 120)의 외부 지지부(110)와 노즐부(140) 사이에 형성되거나 노즐부(140)를 관통하여 형성될 수 있다. 공기 유입 통로(150)는 플라즈마가 내부 공간(S)에서 체류하는 시간이 일정 시간 확보될 수 있도록 좁은 틈을 가지도록 형성될 수 있다.
공기 유입 통로(150)는 내경이 작은 관 형태로 형성되거나, 노즐부(140)의 중심축과 동축을 이루는 통 형상으로 제공될 수 있다. 공기 유입 통로(150)는 전극 지지부(110, 120) 또는 노즐부(140)의 일측으로부터 전극부(130)가 형성된 내부 공간(S)까지 연장될 수 있다.
외부 지지부(110)의 하단부에는 플라즈마 토출부를 향하여 너비가 감소되는 팁 부재(112)가 형성될 수 있다. 전극 지지부(110, 120)는 플라즈마에 부수적으로 발생되는 오존 가스가 흡입되는 오존 흡입 통로(118)가 중심부에 형성될 수 있다.
팁 부재(112)의 내경부에는 내부 공간(S)으로부터 오존 흡입 통로(118)를 따라 오존 가스의 흡입 흐름 방향으로 너비가 증가하는 확장면(115)을 가지는 지지부(114)가 형성된다.
플라즈마 발생 과정에서 부산물로 발생하는 오존 가스는 오존 흡입 통로(118)를 통해 제1 헤파필터(120)로 전달될 수 있다. 이때 오존 가스는 확장면(115)을 가지는 지지부(114)를 따라 퍼지게 되어 제1 헤파필터(120)로 유입되며, 이에 따라 오존 가스와 제1 헤파필터(120)의 반응 면적이 증대될 수 있다.
내부 지지부(120)는 외부 지지부(110)의 지지부(114) 상에 지지될 수 있다. 내부 지지부(120)의 하단부에는 중심축을 향하여 내측으로 제1 단턱(122)이 형성되고, 제1 단턱(122)의 내측으로부터 하방으로 연장되는 수직벽(124)이 형성된다. 수직벽(124)의 하단부에는 중심축을 향하여 내측으로 제2 단턱(124)이 형성된다.
제1 헤파필터(200)는 수직벽(124)과 제2 단턱(124)에 의해 지지된다. 제2 단턱(124)의 내경 크기는 지지부(114)의 상단부 내경 크기와 동일하게 설계될 수 있다.
도 4a 내지 도 4c는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치를 구성하는 전극부를 나타낸 저면도이다. 도 1 내지 도 3, 도 4a 내지 도 4c를 참조하면, 전극부(130)는 플라즈마를 생성하기 위한 전원이 인가되도록 구성될 수 있다.
앞서 설명한 바와 같이, 공기 유입 통로(150)는 플라즈마 팁(100a)의 팁 본체의 외부 영역으로부터 전극부(130)를 향해 공기가 유입되도록 팁 본체의 외부 영역과 내부 공간(S) 간에 연통될 수 있다.
팁 본체는 보스부(116)를 포함할 수 있다. 보스부(116)는 공기 유입 통로(150)를 통해 팁 본체의 내부 공간(S)으로 유입된 공기에 와류를 일으키도록 전극 지지부(110)의 내경부로부터 기둥 형태로 돌출 형성될 수 있다.
플라즈마 팁(100a)의 내부 공간(S)에서 플라즈마화된 기체는 플라즈마 발생부(100)의 중앙에 형성된 기둥 형태의 보스부(116)에 의해 와류가 형성되고, 이에 따라 피부 미용 등의 작용을 하는 가스가 플라즈마 처리 대상체인 인체 피부와 충분한 접촉을 할 수 있다.
또한, 보스부(116)의 기둥형 구조는 피부가 눌려지거나 압력에 의해 상승하여 플라즈마와 직접적으로 닿는 것을 방지하여 누설전류 등에 의한 감전 위험을 줄이고, 플라즈마 소스에서 발생된 열에 의한 화상 등을 방지하는 역할도 할 수 있다.
전극부(130)는 유전체(131), 유전체(131)의 제1 면에 코팅된 제1 전극(132, 134), 및 유전체(131)의 제2 면에 코팅된 제2 전극(도시 생략)을 포함할 수 있다. 유전체(131)는 오존 흡입 통로를 형성하도록 중심부(131a)가 개방된 링 형태(원형 고리 형태, 둥근모서리 사각형 고리 형태, 타원형 고리 형태 등)로 구성될 수 있다.
제1 전극(132, 134)은 외부 전극 패턴(132)과 내부 전극 패턴(134)으로 구성될 수 있다. 외부 전극 패턴(132)과 내부 전극 패턴(134)은 동심을 이루도록 배치되고 상호 간에 전기적으로 연결될 수 있다.
실시예에서, 유전체는 세라믹(알루미나), 쿼츠, 아세탈, PEEK(Polyether ether keton) 등의 플라스틱 소재 등으로 제공될 수 있으나, 반드시 이러한 소재로 한정되는 것은 아니다.
전극부(130)의 전극은 금속 등의 도전성 소재로 형성될 수 있다. 전극부(130)의 전극은 예를 들어, 니켈, 구리, 알루미늄, 텅스텐, 티타늄, 은 또는 이 재료의 합금으로 제공될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
높은 내구성이 필요한 플라즈마 발생면의 전극에는 이를 보호할 수 있는 유전체 코팅이나 텅스텐 또는 티타늄 등의 금속 코팅이 형성될 수 있다. 금속 패턴은 전자빔(e-beam), 스퍼터링(sputtering) 등의 증착 공정으로 형성될 수 있으며, 실크 스크린(silk screen) 방법 등으로 인쇄될 수 있다.
전극부(130)의 플라즈마 발생면(피부를 향하는 면)은 전기적인 충격(피부를 통해 흐르는 누설전류 및 아크방전)을 방지하기 위해 접지(Ground)와 연결될 수 있으며, 뒤쪽면(피부와 반대되는 면)에 고전압이 인가될 수 있다.
플라즈마에 의한 식각 현상을 최소화하기 위해 약 1000℃ 이상의 소성온도를 통하여 금속 형상이 유전체 표면에 소성될 수 있다. 금속 패턴은 플라즈마 발생 전압인 방전개시 전압을 낮추기 위해 돌기 패턴(136, 138)이 형성될 수 있다.
전극부(130)의 금속 패턴은 벌집구조 또는 고리(ring) 모양 등 여러가지 형상으로 제작될 수 있으며, 금속 패턴의 형상 설계를 통해 플라즈마의 강도 및 양을 조절할 수 있다.
도 4a의 실시예에서는 유전체(131)와 제1 전극(132, 134)이 원형의 형상이나, 전극부(130)는 도 4b의 실시예에 도시된 바와 같이, 둥근모서리의 사각 형상을 가지는 유전체(131)와 전극(133)을 포함하거나, 도 4c의 실시예에 도시된 바와 같이, 타원 형상을 가지는 유전체(131)와 전극(135)을 포함할 수도 있다.
오존 제거부(102)는 오존 흡입 통로(118)를 통해 흡입된 오존 가스를 제거하도록 구성될 수 있다. 오존은 플라즈마에서 발생된 부산물로서 인체에 해로우므로 필수적으로 제거되어야 한다.
오존 흡입부(900)는 흡입 팬(910) 또는 진공 펌프에 의해 플라즈마 발생부(100)에서 발생된 오존 가스가 오존 흡입 통로(118)를 통해 흡입되도록 하고 팁 본체의 내부 공간(S)에 음압을 형성하도록 구성될 수 있다.
팁 본체의 내부 공간(S)에 형성되는 음압에 의해 외부 공기가 플라즈마 팁(100a)의 외부에 형성되어 있는 틈을 통하여 팁 내부로 흡입되며, 흡입된 공기는 플라즈마 발생부(100)에 의해 이온화 과정을 거쳐 전자, 이온, 하전입자 및 라디컬 등으로 형성될 수 있다.
또한, 오존 흡입부(900)는 플라즈마 발생부(100)에서 발생된 오존 가스가 다공성 필터(300, 400, 500)의 활성탄 필터 또는 촉매 필터를 거치게 하여 오존이 제거되도록 할 수 있다.
오존 제거부(102)는 플라즈마 발생부(100)와 오존 흡입부(900) 사이에 배치될 수 있다. 오존 제거부(102)는 제1 헤파필터(200), 적어도 하나의 다공성 필터(300, 400, 500), 적어도 하나의 와류 발생부(600, 700), 및 제2 헤파필터(800)를 포함할 수 있다.
제1 헤파필터(200)는 플라즈마 발생부(100)와 적어도 하나의 다공성 필터(300, 400, 500) 사이에 마련될 수 있다. 제1 헤파필터(200)는 플라즈마 발생부(100)에서 발생한 오존 가스를 흡입하여 불순물을 제거할 수 있다.
다공성 필터(300, 400, 500)는 오존을 제거할 수 있는 물질인 활성탄(카본계열) 및/또는 이산화망간(MnO2) 촉매 재료로 이루어진 오존 필터에 다수의 구멍들(310, 410, 510)이 타공된 구조로 제공될 수 있다.
활성탄 계열의 오존 필터는 오존과 직접 반응하여 제거를 하므로 수명이 한정되지만, 이산화망간 필터의 경우 자신과 직접 반응하지 않는 촉매반응이 일어나기 때문에 반영구적으로 사용이 가능한 장점이 있다.
활성탄 또는 이산화망간으로 이루어진 필터에 구멍(310, 410, 510)이 촘촘하게 뚫려있는 구조를 가지는 다공성 필터(300, 400, 500)를 사용함으로써 오존과 반응하는 필터의 표면적과 오존 가스가 지나가는 속도를 적절히 제어할 수 있으며, 오존을 효율적으로 제거할 수 있다.
다공성 필터(300, 400, 500)는 육각형 형태의 구멍들이 연속적으로 타공되어 있는 허니컴 구조 또는 사각형 형상의 구멍들이 연속적으로 타공되어 있는 구조 등으로 제작될 수 있다.
이러한 다공성 필터(300, 400, 500)의 구멍들(310, 410, 510)에 의해 표면적이 넓어지고, 오존 가스가 지나가는 속도를 낮출 수 있으며, 이에 따라 오존제거 효율이 높아질 수 있다.
또한 타공 구조의 다공성 필터(300, 400, 500)는 종래의 원형 기둥 형태의 활성탄 및 이산화망간 촉매에 비하여 분진이 일어나지 않으며, 상대적으로 밀도가 낮아 가벼운 장점을 가진다.
와류 발생부(600, 700)는 다공성 필터(400, 500)의 유입부에 마련되어 다공성 필터(400, 500)로 유입되는 오존 가스에 와류를 형성하여 다공성 필터(400, 500)에 분산시키도록 구성될 수 있다.
와류 발생부(600, 700)는 오존 가스에 와류를 일으킬 수 있는 구조, 예를 들어, 활성탄 등의 재료로 형성된 다공성 스펀지, 플라스틱 형상 구조, 오존 가스의 흡입에 의해 자력으로 회전하는 팬 구조, 일정 두께의 솜(예를 들어, 활성탄 소재로 만들어진 일정 두께의 솜) 또는 필터 등을 포함할 수 있다.
와류 발생부(600, 700)는 플라즈마 발생부(100)로부터 흡입된 오존을 다공성 필터(400, 500)의 다공성 구멍으로 골고루 분산되어 통과될 수 있도록 와류로 만들어주는 역할을 할 수 있다. 오존 가스는 와류 발생부(600, 700)에 의해 다공성 필터(400, 500)를 균일하게 거치게 되며, 이에 따라 오존 제거 효율이 높아질 수 있다.
제2 헤파필터(800)는 적어도 하나의 다공성 필터(300, 400, 500)와 오존 흡입부(900) 사이에 마련될 수 있다. 제2 헤파필터(800)는 다공성 필터(300, 400, 500)에서 발생되는 불순물을 제거할 수 있다.
플라즈마 발생부(100)에서 발생한 부산물은 1차적으로 제1 헤파필터(200)를 거치면서 입자가 큰 불순물들이 걸러진다. 또한, 다공성 필터(300, 400, 500)에서 발생될 수 있는 불순물들은 끝단부에 장착된 제2 헤파필터(800)를 거치치면서 제거될 수 있다.
팁 본체의 내부 공간(S)에는 메쉬망(160)이 마련될 수 있다. 메쉬망(160)은 전극부(130)가 피부에 직접 닿는 것을 방지하도록, 전극부(130)와 노즐부(140)의 단부 사이에 배치될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치는 대기 중의 공기를 이용하여 플라즈마를 발생하므로, 플라즈마 발생을 위해 별도의 가스(예를 들어, 헬륨, 네온, 아르곤 또는 질소 등과 같은 불활성 기체)를 공급할 필요가 없으며, 가스 공급을 위한 가스 공급 배관을 구비할 필요가 없다.
이에 따라 플라즈마 발생 장치를 소형, 경량화할 수 있으며, 특히 휴대용 개인 피부 미용기에 적합하게 활용될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치는 피부 미용 외에, 의료기구 소독, 구강내 치료, 치아 미백, 치석제거, 임플란트 픽스쳐 표면 재생, 두피 치료 또는 피부 치료 등에 사용될 수도 있다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치의 일부를 나타낸 단면도이다. 도 6은 도 5에 도시된 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치의 일부를 나타낸 측면도이다.
도 5 및 도 6을 참조하면, 플라즈마 팁(100a')의 팁 본체는 전극부(130')의 주위를 감싸도록 전극부(130')가 지지되는 전극 지지부(110', 120')에 결합되는 노즐부(140')를 포함할 수 있다. 노즐부(140')는 팁 본체의 내부 공간(S)에서 발생된 플라즈마를 대상체에 전달하도록 구성될 수 있다.
전극 지지부(110', 120')는 외부 지지부(110')와 내부 지지부(120')를 포함할 수 있다. 외부 지지부(110')의 하부 측에는 원통 형상의 노즐부(140')가 나사 결합, 볼트 결합, 용접 결합, 접합 등에 의해 결합될 수 있다.
내부 지지부(120')는 바닥면(128')이 막혀 있는 원통부(126')로 제공될 수 있다. 내부 지지부(120')의 단턱부(122')에 오존 흡입공(124')이 형성될 수 있다. 노즐부(140')는 플라즈마에 부수적으로 발생되는 오존 가스가 흡입되는 오존 흡입 통로(144')를 구비할 수 있다. 오존 흡입공(124')은 노즐부(140')에 형성된 오존 흡입 통로(144')와 연통될 수 있다.
외부 지지부(110')의 측면부에는 공기 유입 통로(114')가 관통 형성될 수 있다. 노즐부(140')의 측면부에는 외부 지지부(110')의 공기 유입 통로(114')와 연통되는 공기 유입 통로(142')가 형성될 수 있다.
또한, 플라즈마 팁(100a')의 외부 지지부(110')와 내부 지지부(120') 사이에는 외부 지지부(110')의 공기 유입 통로(114')와 연통되는 공기 유입 통로(150')가 형성될 수 있다.
도 5의 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치는 외부 지지부(110')의 측면부에 형성된 공기 유입 통로(114'), 노즐부(140')의 측면부에 형성된 공기 유입 통로(142') 및 외부 지지부(110')와 내부 지지부(120') 사이에 형성된 공기 유입 통로(150')를 통해 전극부(130')가 위치한 내부 공간(S')으로 외부 공기가 유입될 수 있다.
플라즈마 발생 장치의 내부 공간(S')으로 유입된 외부 공기는 전극부(130')에 인가되는 전원에 의해 여기되고, 이에 따라 외부 공기로부터 플라즈마가 발생될 수 있다. 플라즈마 발생 과정에서 부산물로 발생되는 오존 가스는 노즐부(140')에 형성된 오존 흡입 통로(144')를 통해 오존 제거부의 다공성 필터(300)로 전달될 수 있다. 오존 흡입 통로(144')의 상단부와 다공성 필터(300) 사이에는 오존 가스에 와류를 일으키는 와류 발생부(도 5에서 도시 생략됨)가 구비될 수 있다.
도 7 및 도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치를 개략적으로 나타낸 단면도이다. 도 7 및 도 8을 참조하면, 플라즈마 발생부(100) 및 오존 제거부(102) 중 적어도 하나는 기구적으로 탈착이 가능하도록 교체형 모듈로 제공될 수 있다.
플라즈마 발생부(100)는 포고핀(32, 42, 52, 62)을 이용하여 전기신호를 입력받도록 구성될 수 있으며, 이에 따라 소모성 부품인 플라즈마 발생부 및/또는 오존 제거부로 구성되는 모듈(30, 50)을 본체(40, 60)에서 탈착하여 쉽게 교체할 수 있다.
플라즈마 발생 장치(10)의 본체(40, 60)는 고전압 회로(920), 제어 회로(930), 충전 회로(940), 오존 센서(950) 등이 장착되어 있는 회로부와 배터리부로 구성될 수 있다. 플라즈마 발생부(100) 및/또는 오존 제거부(102)는 해당 모듈(30, 50)을 본체(40, 60)에 탈착 가능하게 구성될 수 있다. 플라즈마 발생부(100)와 오존 제거부(102)는 1 세트로 이루어져 함께 교체형 모듈로 구성될 수도 있다.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다.
저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
10: 플라즈마 발생 장치
100: 플라즈마 발생부
100a: 플라즈마 팁
102: 오존 제거부
110: 전극 지지부
116: 보스부
118: 오존 흡입 통로
130: 전극부
140: 노즐부
150: 공기 유입 통로
160: 메쉬망
200: 제1 헤파필터
300, 400, 500: 다공성 필터
600, 700: 와류 발생부
800: 제2 헤파필터
900: 오존 흡입부
100: 플라즈마 발생부
100a: 플라즈마 팁
102: 오존 제거부
110: 전극 지지부
116: 보스부
118: 오존 흡입 통로
130: 전극부
140: 노즐부
150: 공기 유입 통로
160: 메쉬망
200: 제1 헤파필터
300, 400, 500: 다공성 필터
600, 700: 와류 발생부
800: 제2 헤파필터
900: 오존 흡입부
Claims (12)
- 플라즈마 팁을 포함하고, 상기 플라즈마 팁 내에서 플라즈마를 발생시켜 대상체에 전달하도록 구성되는 플라즈마 발생부;를 포함하고,
상기 플라즈마 팁은:
상기 플라즈마가 발생되는 내부 공간을 가지는 팁 본체;
상기 팁 본체 내의 상기 내부 공간에 마련되고, 상기 플라즈마를 생성하기 위한 전원이 인가되도록 구성되는 전극부;
상기 팁 본체의 외부 영역으로부터 상기 전극부를 향해 공기가 유입되도록 상기 팁 본체의 상기 외부 영역과 상기 내부 공간 간에 연통되는 공기 유입 통로; 및
상기 전극부가 지지되고, 상기 플라즈마에 부수적으로 발생되는 오존 가스가 흡입되는 오존 흡입 통로가 중심부에 형성되는 전극 지지부;를 포함하고,
상기 팁 본체는:
상기 전극부의 주위를 감싸도록 상기 전극 지지부에 결합되고, 상기 내부 공간에서 발생된 상기 플라즈마를 대상체에 전달하도록 구성되는 노즐부;를 포함하고,
상기 공기 유입 통로는, 상기 전극 지지부와 상기 노즐부 사이에 형성되거나 상기 노즐부를 관통하여 형성되는, 플라즈마 발생 장치. - 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 공기 유입 통로를 통해 상기 내부 공간으로 유입된 상기 공기에 와류를 일으키도록 상기 전극 지지부의 내경부로부터 돌출 형성되는 보스부;를 더 포함하는, 플라즈마 발생 장치. - 제3항에 있어서,
상기 전극부는 유전체, 상기 유전체의 제1 면에 코팅된 제1 전극, 및 상기 유전체의 제2 면에 코팅된 제2 전극을 포함하고,
상기 유전체는 상기 오존 흡입 통로를 형성하도록 중심부가 개방된 링 형태로 구성되는, 플라즈마 발생 장치. - 제1항에 있어서,
상기 공기 유입 통로는, 상기 노즐부를 관통하여 형성되는, 플라즈마 발생 장치. - 제1항, 제3항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 오존 흡입 통로를 통해 흡입된 상기 오존 가스를 제거하기 위한 오존 제거부; 및
흡입 팬 또는 진공 펌프에 의해 상기 오존 흡입 통로를 통해 상기 오존 가스가 흡입되도록 하고 상기 내부 공간에 음압을 형성하도록 구성되는 오존 흡입부;를 더 포함하고,
상기 오존 제거부는 상기 플라즈마 발생부와 상기 오존 흡입부 사이에 배치되는, 플라즈마 발생 장치. - 제6항에 있어서,
상기 오존 제거부는 활성탄 또는 이산화망간으로 이루어진 오존 필터에 다수의 구멍들이 타공된 다공성 필터를 포함하는, 플라즈마 발생 장치. - 제7항에 있어서,
상기 오존 제거부는:
상기 플라즈마 발생부와 상기 다공성 필터 사이에 마련되고, 상기 플라즈마 발생부에서 발생한 오존 가스를 흡입하여 불순물을 제거하는 제1 헤파필터; 및
상기 다공성 필터와 상기 오존 흡입부 사이에 마련되고, 상기 다공성 필터에서 발생되는 불순물을 제거하는 제2 헤파필터;를 더 포함하는, 플라즈마 발생 장치. - 제7항에 있어서,
상기 오존 제거부는: 상기 다공성 필터의 유입부에 마련되어 상기 다공성 필터로 유입되는 오존 가스에 와류를 형성하여 상기 다공성 필터에 분산시키도록 구성되는 와류 발생부;를 더 포함하는, 플라즈마 발생 장치. - 제9항에 있어서,
상기 와류 발생부는 활성탄 재료로 형성된 다공성 스펀지, 또는 상기 오존 가스의 흡입에 의해 자력으로 회전하는 팬 구조를 포함하는, 플라즈마 발생 장치. - 제9항에 있어서,
상기 플라즈마 발생부 및 상기 오존 제거부 중 적어도 하나는 교체형 모듈로 제공되는, 플라즈마 발생 장치. - 제1항, 제3항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 플라즈마 팁은: 상기 내부 공간에 마련되고, 상기 전극부가 피부에 직접 닿는 것을 방지하도록 상기 전극부와 상기 노즐부의 단부 사이에 배치되는 메쉬망;을 더 포함하는, 플라즈마 발생 장치.
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020210001110A KR102572882B1 (ko) | 2021-01-05 | 2021-01-05 | 플라즈마 발생 장치 |
| US18/270,838 US20240071735A1 (en) | 2021-01-05 | 2021-12-30 | Plasma generation apparatus |
| PCT/KR2021/020248 WO2022149795A1 (ko) | 2021-01-05 | 2021-12-30 | 플라즈마 발생 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020210001110A KR102572882B1 (ko) | 2021-01-05 | 2021-01-05 | 플라즈마 발생 장치 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20220099213A KR20220099213A (ko) | 2022-07-13 |
| KR102572882B1 true KR102572882B1 (ko) | 2023-08-31 |
Family
ID=82358196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020210001110A KR102572882B1 (ko) | 2021-01-05 | 2021-01-05 | 플라즈마 발생 장치 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20240071735A1 (ko) |
| KR (1) | KR102572882B1 (ko) |
| WO (1) | WO2022149795A1 (ko) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102556908B1 (ko) * | 2022-08-05 | 2023-07-20 | 주식회사 지씨에스 | 플라즈마 발생 장치 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102013113941B4 (de) * | 2013-12-12 | 2015-07-23 | Reinhausen Plasma Gmbh | Anordnung zur Behandlung von Wunden |
| KR101810926B1 (ko) * | 2015-08-19 | 2017-12-20 | 한국전자통신연구원 | 플라즈마 발생 장치 및 플라즈마 공급 방법 |
| KR101973020B1 (ko) * | 2017-03-29 | 2019-04-26 | 한국기계연구원 | 피부 처리 장치 |
| KR101978057B1 (ko) * | 2017-10-17 | 2019-05-13 | 광운대학교 산학협력단 | 이극 접지 패드를 구비한 오존 방출 없는 플라즈마 피부처리 장치 |
| KR102018180B1 (ko) * | 2017-11-24 | 2019-09-04 | 주식회사 엠마헬스케어 | 플라즈마를 이용한 피부 치료장치 |
| KR102188170B1 (ko) * | 2019-04-04 | 2020-12-07 | (주)아그네스메디컬 | 플라즈마 피부 미용장치 |
-
2021
- 2021-01-05 KR KR1020210001110A patent/KR102572882B1/ko active IP Right Grant
- 2021-12-30 WO PCT/KR2021/020248 patent/WO2022149795A1/ko active Application Filing
- 2021-12-30 US US18/270,838 patent/US20240071735A1/en active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20220099213A (ko) | 2022-07-13 |
| US20240071735A1 (en) | 2024-02-29 |
| WO2022149795A1 (ko) | 2022-07-14 |
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