JP3142660B2 - グロー放電プラズマ発生用電極及びこの電極を用いた反応装置 - Google Patents

グロー放電プラズマ発生用電極及びこの電極を用いた反応装置

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JP3142660B2
JP3142660B2 JP04253481A JP25348192A JP3142660B2 JP 3142660 B2 JP3142660 B2 JP 3142660B2 JP 04253481 A JP04253481 A JP 04253481A JP 25348192 A JP25348192 A JP 25348192A JP 3142660 B2 JP3142660 B2 JP 3142660B2
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glow discharge
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、グロー放電プラズマ発
生用電極及びこの電極を用いた反応装置に関し、特に、
高温となるアーク放電への移行を防ぎ、グロー放電を均
一かつ安定に発生させることができるグロー放電プラズ
マ発生用電極と、この電極を利用した反応装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来、大気圧以上の気圧下の各種気相内
において放電を発生させることにより、各種気相内にお
いて化学反応を行わせる装置が数多く開発されている。
このような装置としては、例えば親水化処理等を行うコ
ロナ放電処理装置(特公昭45−12981号)、無声
放電、沿面放電によるオゾン発生装置(特公昭61−1
2841号等)、排気ガス中の毒性物質(酸化窒素(N
Ox)や酸化硫黄(SOx))を処理する処理装置(特
公昭54−33591号)等が挙げられる。また、数To
rr以下の低圧下において処理されるエッチング、プラズ
マ表面処理、あるいはプラズマによる薄膜合成等が開発
され、最近では大気圧下で前記低圧下の処理よりもはる
かに低コストにできる大気圧グロー放電プラズマ方法や
その応用装置も開発されている(特開平1−30656
9号)。
【0003】ところで、上述したように材料の表面処理
や薄膜製造に使用される大気圧グロー放電プラズマ方法
においては、電極間の電場を均一にする必要から、電極
表面上に溝を設けるか、電極表面上をブラッシ状にする
か、あるいは電極表面に突起等を設ける等の工夫がされ
ていた。さらに、前記大気圧グロー放電プラズマ方法の
場合には、均一かつ安定なグロー放電を発生させるため
に、系内に導入する気体としては主に大量のヘリウムガ
スとするか(特開平2−15171号)、あるいはアル
ゴン−アセトン混合気体が用いられていた(特願平2ー
29436号)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上述したように大気圧
グロー放電プラズマ方法の場合、グロー放電を発生させ
るために、例えばヘリウムガスあるいはアルゴン−アセ
トン混合気体を使用しているがヘリウムガスは高価であ
り、またアルゴン−アセトン系の混合気体は系内に酸素
の混入を望まないときに使用することができないという
欠点があった。そこで、本発明の目的は、上述した問題
点を解消し、従来、大気圧においてグロー放電を発生さ
せることのできなかったガス(窒素、アルゴン、酸素、
空気等)を使用しても均一かつ安定にグロー放電を発生
させることのできるグロー放電プラズマ発生用電極と、
この電極を用いて従来の放電による各種の処理(表面処
理、オゾン発生、排気ガス処理等)と比べてエネルギー
効率等の優れた反応装置を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1記載の発明によるグロー放電プラズマ発生
用電極は大気圧以上の気圧の気相内に設置する電極とし
て、プラズマ発生用気体の種類に応じて線径が0.01
〜0.5mm太さの金属細線で構成した金網を用い、こ
の金網上に誘電体を設けてなることを特徴とするもので
ある。
【0006】請求項2記載の発明によるグロー放電プラ
ズマ発生用電極は、大気圧以上の気圧の気相内に設置す
る導電板に、プラズマ発生用気体の種類に応じた線径の
金属細線で構成した金網を接触固定し、この金網上に誘
電体を設けてなることを特徴とするものである。また、
前記金網は、プラズマ発生用気体の種類に応じ線径が
0.01〜0.5mm太さの金属細線より構成したこと
を特徴とする。
【0007】請求項3記載の発明による反応装置は、大
気圧以上の気圧の気相内に電極を対向させて、前記電極
間に所定の電圧を印加してなる反応装置であって、前記
対向電極の少なくとも一方の電極としてプラズマ発生用
気体の種類に応じて線径が0.01〜0.5mm太さの
金属細線で構成した金網を用い、前記金網に誘電体を設
けてなるグロー放電プラズマ発生用電極で構成してなる
ことを特徴とするものである。
【0008】請求項4記載の発明による反応装置は、大
気圧以上の気圧の気相内に電極を対向させて、前記電極
間に所定の電圧を印加してなる反応装置であって、前記
対向電極の少なくとも一方を、導電板にプラズマ発生用
気体の種類に応じて線径が0.01〜0.5mm太さの
金属細線で構成した金網を接触固定し、前記金網に誘電
体を設けてなるグロー放電プラズマ発生用電極で構成し
てなることを特徴とするものである。
【0009】
【作用】請求項1および2記載の発明のグロー放電プラ
ズマ発生用電極により、高温アークに移行することなく
大気圧下で均一なグロー放電が目的ガスごとに発生し
た。添加ガスではなくプラズマ発生用電極を研究するこ
とで、ヘリウム、アルゴン−アセトン混合ガスのみなら
ず、アルゴン、酸素、窒素、空気等あるいはこれらの混
合ガスにおいて使用するガスに適応した線径範囲の金網
を使用することにより、安定なグロー放電が発生するこ
とが分かった。
【0010】請求項3および4記載の発明の反応装置に
よれば、ヘリウム、アルゴン−アセトン混合ガスのみな
らず、アルゴンガス、窒素ガス、空気、酸素ガス等ある
いはこれらの混合ガスにおいて安定なグロー放電が発生
し、気相内で放電プラズマ化学反応により物質を合成ま
たは変化せしめることができる。この際に、前記反応装
置では、金網電極の配置は片側電極でもグロー放電プラ
ズマを得ることができるが、両極に用いることにより被
処理物として絶縁体はもちろんのこと半導体、導体であ
っても均一かつ安定なグロー放電プラズマを得ることが
できる。
【0011】
【実施例】以下、本発明について図示の実施例に基づい
て説明する。図1は、本発明のグロー放電プラズマ発生
用電極を用いた反応装置の第一の実施例を示す構成図で
ある。
【0012】図1において、反応容器1の内部には、一
定の間隔Lでグロー放電プラズマ発生用電極2a(上部
電極)、2b(下部電極)が対向させてある。この反応
容器1の中間部であって反応容器1の一方の側面には、
前記電極2a、2bの間にガスを供給するガス供給管3
が連通してある。前記反応容器1の中間部であって反応
容器1の他方の側面には、ガス排気管4が連通してあ
る。前記電極2aは、上部導電板5aと、上部金網6a
と、上部誘電体7aとからなる。前記電極2bは、下部
導電板5bと、下部金網6bと、下部誘電体7bとから
なる。ここで、上部金網6a及び下部金網6bの材料と
しては、ステンレス、銅、真鍮、アルミニウム、タング
ステン、タンタル等を使用すればよい。また、金網の織
り方としては、平織、綾織、畳織等種々の公知の織り方
を採用することができる。また上部誘電体7a及び下部
誘電体7bの材料としては、ガラス、セラミックス、マ
イカ、ほうろう、ポリエステル、ポリイミド、ポリサル
フォン、テフロン等を使用すればよい。そして、前記上
部導電板5aはプラズマ発生用電源8に接続されてい
る。また下部導電板5bは接地されている。
【0013】図2ないし図4はグロー放電プラズマ発生
用電極の構造を詳細に示したものであり、図2は分解斜
視図、図3は側面図、図4は平面図である。なお、グロ
ー放電プラズマ発生用電極2a、2bとも同一構造であ
るので、ここでは符号a、bを取って説明する。また、
グロー放電プラズマ発生用電極の形状は平板状、円筒状
等形状は問わない。これらの図において、導電板5は、
所定の厚さで円板状をしている。この導電板5の上に金
網6を接触固定する。金網6は、概ね導電板5と同一形
状をしている。この金網6の上に誘電体7を張り付け
る。この誘電体7は、上記導電板5の円形より1〜2割
程大きな直径を有する円板で構成している。なお、誘電
体7は、導電板5および金網6を覆っていてもよい。
【0014】このように構成された第一の実施例におけ
るグロー放電の発生について以下に説明する。図1に示
す反応装置において、グロー放電プラズマ発生用電極2
a、2b間にプラズマ発生用電源8から周波数50〔H
z〕で下記条件の電圧Eを印加し、かつガス供給管3か
ら前記電極2a、2bの間に下記条件の使用ガスを導入
してグロー放電を発生させた。また、前記電極2a、2
bに使用する金網6a、6bについても下記の条件のも
のを使用した。
【0015】(条件1) (1)金網6 :線径0.29〔mm〕、メッシュ♯3
0 (2)使用ガス :アルゴン (3)電極間距離L:3.0〔mm〕 (4)印加電圧E :3.5〔kV〕 (5)ガス流量 :200〔ml/min〕 この条件によりグロー放電の発生が確認できた。これ
は、従来のヘリウムガス単独あるいはアルゴンガスに微
量のアセトンを混合させた気体により発生させたグロー
放電と同様な大気圧グロー放電を上記条件においてアル
ゴンガス単独で発生させることができた。
【0016】(条件2) (1)金網6 :線径0.035〔mm〕、メッシュ♯
325 (2)使用ガス :窒素 (3)電極間距離L:3.4〔mm〕 (4)印加電圧E :3.8〔kV〕 (5)ガス流量 :350〔ml/min〕 この条件によりグロー放電の発生が確認できた。これ
は、従来のヘリウムガス単独あるいはアルゴンガスに微
量のアセトンを混合させた気体により発生させたグロー
放電と同様な大気圧グロー放電を上記条件において窒素
ガス単独で発生させることができた。
【0017】(条件3) (1)金網6 :線径0.035〔mm〕、メッシュ♯
325 (2)使用ガス :アルゴン、窒素 (3)電極間距離L:3.5〔mm〕 (4)印加電圧E :3.5〔kV〕 (5)ガス流量 :アルゴンが20〔ml/min〕、窒素
が200〔ml/min〕 この条件によりグロー放電の発生が確認できた。これ
は、従来のヘリウムガス単独あるいはアルゴンガスに微
量のアセトンを混合させた気体により発生させたグロー
放電と同様な大気圧グロー放電を上記条件においてアル
ゴンガスと窒素ガスの混合ガスで発生させることができ
た。なお、上記条件(1)ないし条件(3)において両
電極に誘電体を設置した従来の平行平板電極による放電
を試みたが、いずれもアーク放電あるいはフィラメント
状の無声放電であった。
【0018】図5は、本発明のグロー放電プラズマ発生
用電極を用いた反応装置の第二の実施例を示す構成図で
ある。図5において、第一の実施例と同一構成要素には
同一の符号を付して説明を省略する。
【0019】図5では、反応容器1の中間部であって反
応容器1の一方の側面には、前記電極2a、2bの間に
ガスを供給するガス混合管9が連通してある。ガス混合
管9には、フローメータ(図示せず)を設けたガス供給
管3と、ガス供給管10とが連通されている。ガス供給
管10は、バブリング装置11からの気体をガス混合管
9に供給する。バブリング装置11には、フローメータ
12を設けたガス供給管13が連通されている。フロー
メータ12は、ガス供給管13に流れるガスの流量を検
出できる。なお、他の構成は、第一の実施例と同様なの
で説明を省略する。
【0020】このように構成された第二の実施例におい
てグロー放電の発生について説明する。図5に示す反応
装置において、前記電極2a、2b間にプラズマ発生用
電源8から周波数50〔Hz〕で下記条件の電圧Eを印加
し、かつガス混合管9から前記電極2a、2bの間に下
記条件の使用ガスを導入してグロー放電を発生させた。
また、前記電極2a、2bに使用する金網6a、6bに
ついても下記の条件のものを使用した。
【0021】(条件1) (1)金網6 :線径0.035〔mm〕、メッシュ♯
325 (2)使用ガス :窒素、アセトン (3)ガス流量等 :窒素が300〔ml/min〕、アセト
ンは数〔ppm〕〜数十〔ppm〕 (4)電極間距離L:3.5〔mm〕 (5)印加電圧E :3.9〔kV〕 アセトンをバブリング装置11内に満たし、ガス供給管
13から窒素を流してバブリング装置11内でアセトン
を窒素でバブリングし、ガス供給管3よりの窒素とガス
混合管9を介して反応容器1の前記電極2a、2b間に
導いた。この条件によりグロー放電の発生が確認でき
た。これは、従来技術であるヘリウムガス単独あるいは
アルゴンガスに微量のアセトンを混合させた気体により
発生させたグロー放電と同様な大気圧グロー放電を上記
条件において窒素と微量のアセトンの混合ガスで発生さ
せることができた。
【0022】(条件2) (1)金網6 :線径0.035〔mm〕、メッシュ♯
325 (2)使用ガス :窒素、メタノール (3)ガス流量等 :窒素が300〔ml/min〕、メタノ
ールは数〔ppm〕〜数十〔ppm〕 (4)電極間距離L:3.5〔mm〕 (5)印加電圧E :3.8〔kV〕 メタノールをバブリング装置11内に満たし、ガス供給
管13から窒素を流してバブリング装置11内でメタノ
ールを窒素でバブリングし、ガス供給管3よりの窒素と
ガス混合管9を介して反応容器1の前記電極2a、2b
間に導いた。この条件によりグロー放電の発生が確認で
きた。これは、従来技術であるヘリウムガス単独あるい
はアルゴンガスに微量のアセトンを混合させた気体によ
り発生させたグロー放電と同様な大気圧グロー放電を上
記条件において窒素と微量のメタノールの混合ガスで発
生させることができた。
【0023】(条件3) (1)金網6 :線径0.035〔mm〕、メッシュ♯
325 (2)使用ガス :窒素、エタノール (3)ガス流量等 :窒素が300〔ml/min〕、エタノ
ールは数〔ppm〕〜数十〔ppm〕 (4)電極間距離L:3.5〔mm〕 (5)印加電圧E :3.8〔kV〕 エタノールをバブリング装置11内に満たし、ガス供給
管13から窒素を流してバブリング装置11内でエタノ
ールを窒素でバブリングし、ガス供給管3よりの窒素と
ガス混合管9を介して反応容器1の前記電極2a、2b
間に導いた。この条件によりグロー放電の発生が確認で
きた。これは、従来技術であるヘリウムガス単独あるい
はアルゴンガスに微量のアセトンを混合させた気体によ
り発生させたグロー放電と同様な大気圧グロー放電を上
記条件において窒素と微量のエタノールの混合ガスで発
生させることができた。
【0024】(条件4) (1)金網6 :線径0.035〔mm〕、メッシュ♯
325 (2)使用ガス :窒素、水 (3)ガス流量等 :窒素が1000〔ml/min〕、水は
数〔ppm〕〜数十〔ppm〕 (3)電極間距離L:3.5〔mm〕 (4)印加電圧E :3.8〔kV〕 水をバブリング装置11内に満たし、ガス供給管13か
ら窒素を流してバブリング装置11内で水を窒素でバブ
リングし、ガス供給管3よりの窒素とガス混合管9を介
して反応容器1の前記電極2a、2b間に導いた。この
条件によりグロー放電の発生が確認できた。これは、従
来技術であるヘリウムガス単独あるいはアルゴンガスに
微量のアセトンを混合させた気体により発生させたグロ
ー放電と同様な大気圧グロー放電を上記条件において窒
素と微量の水の混合ガスで発生させることができた。な
お、上記条件(1)ないし条件(4)において両電極に
誘電体を設置した従来の平行平板電極による放電を試み
たが、いずれもアーク放電あるいはフィラメント状の無
声放電であった。
【0025】上述した第一の実施例も第二の実施例も各
々大気圧グロー放電を各ガスにおいて発生させることが
できた。なお、上記各実施例では、グロー放電プラズマ
発生用電極2a、2bとも導電板5、金網6、誘電体7
を設けたもので説明したが、対向した電極の一方にのみ
前記電極2を使用し、他方の電極には導電板5(金網
6)に誘電体7、あるいは導電板5に金網6または金網
6だけを設けたものであってもよい。前記電極2を両極
に用いることにより被処理物として絶縁体はもちろんの
こと半導体、導体であっても均一かつ安定なグロー放電
プラズマを得ることができる。
【0026】また、上記各実施例では、高温となるアー
ク放電への移行を防ぎ、均一かつ安定なグロー放電を発
生させることが可能になったため、次のような処理に利
用することができる。
【0027】すなわち、上記各実施例を利用する第1の
例としては、材料表面の改質、有機・無機薄膜合成等、
材料面上の電流密度が均一に分布していることが要求さ
れる分野に利用することができる。この処理としては、
例えば撥水性をもたせる(フッ素化等)こと,または親
水化すること等である。
【0028】撥水性をもたせることの具体例としては、
(a)プラスチックフィルムをフッ素化すること、
(b)繊維、不織布、紙等をフッ素化すること、(c)
ガラスをフッ素化すること等が挙げられる。(a)につ
いては、ポリエチレンテレフタレートのフッ素化により
離型フイルム等が得られ、塩化ビニル系樹脂のフッ素化
により、可塑剤の溶出がない人工臓器等の器具、液体飲
料、医療品容器、血液バック等が得られる。(b)につ
いては、繊維のフッ素化をすることにより、撥水性の付
与および防縮、防汚効果も得られる。
【0029】親水化についての具体例としては、(a)
プラスチックフィルムを親水化すること、(b)繊維、
不織布、紙等を親水化すること等が挙げられる。(a)
については、印刷性の向上、塗布性がよくなること、フ
イルムと他の物質との接着性がよくなること、帯電の防
止等が図れる。(b)については、染色性等がよくな
る。
【0030】さらに、上記各実施例を利用する第3の例
としては、気相内で分子−電子衝突効率が高い放電形式
であるグロー放電が要求される気相内合成、物質構造変
化等、プラズマ化学が用いられる全ての分野がある。こ
れは、例えばオゾン発生装置(オゾナイザー)が考えら
れる。通常のオゾナイザーは、電極を一定の間隔を持た
せて対向させておき、これら電極間に前記高圧電源の電
圧を印加して無声放電または沿面放電を発生させ、オゾ
ンを製造している。このオゾナイザーの場合、原料の空
気・酸素の絶縁破壊電圧が例えば30〔kV/cm〕で
あって極端に高いため、電極の形状が平板型・二重円筒
型とも電極間距離を1〔mm〕近辺にせざるを得なかっ
た。
【0031】上記反応装置において、金網6の線径を
0.1〔mm〕、メッシュ♯100で乾燥空気をグロー
放電プラズマ発生用電極2a、2b間に導入し、グロー
放電を発生させた。その結果、オゾンは120〔g/k
Wh〕の収率を上げることができ、従来技術において9
0〔g/kWh〕であることから、本発明のグロー放電
の方がはるかにオゾンの収率がよいことが分かる。
【0032】上述したように上記金網6を含む前記電極
2を使用した反応装置によれば、大気圧グロー放電を容
易に発生することができる。
【0033】上述したように上記実施例によれば、前記
電極2を用いたことにより、大気圧グロー放電プラズマ
がより安定化するようになった。また、使用するガスに
適応する線径の範囲で選択した金網を用いた前記電極2
を使用することにより、大気圧近辺の空気はもとより、
窒素ガス、酸素ガス、アルゴンガス単独あるいはこれら
の混合ガスでグロー放電を均一かつ安定に発生させるこ
とが可能になった。したがって、これらのガスを目的に
応じて選択することにより、環境汚染、人体への影響の
ない、安全性の高い、安価なガスの使用が可能になり、
充分なコストダウンにつながることが可能になった。し
たがって、産業上、極めて有用な装置を得ることができ
る。
【0034】また、上記のグロー放電プラズマ発生用電
極2を使用すれば、高周波はもちろんのこと低周波ま
で、幅広い範囲で均一かつ安定なグロー放電を発生させ
ることができる。したがって、気相内でプラズマに接し
させ、放電プラズマ化学反応により、下流ガス領域に配
置した凝固相物質に各種変化を生ぜしめ、またはその表
面上に気相より凝固相を析出せしめることができる。ま
た、これによれば、商用電源が使用できることになる。
したがって、本実施例によれば、高価な高周波電源を不
要とすることが可能となる。
【0035】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によればグ
ロー放電プラズマ発生用電極に使用するガスに適応する
線径の範囲で選択した金網を使用することにより、従来
技術においてグロー放電を発生することができなかった
大気圧以上の気相内の空気はもとより、窒素ガス、酸素
ガス、アルゴンガス単独あるいはこれらの混合ガスで安
定かつ均一なグロー放電を発生させることが可能となっ
た。
【0036】したがって、これらのガスを使用目的に応
じて選択することにより、環境汚染、人体へ影響のない
安全性の高い安価なガスの使用が可能になり、充分なコ
ストダウンにつながることが可能になる。
【0037】また、高周波はもちろんのこと、従来技術
においてグロー放電を発生させることができなかった低
周波まで、幅広い範囲で均一かつ安定なグロー放電が発
生でき、高価な高周波電源が不要となる。
【0038】さらに、従来無声放電または沿面放電によ
りオゾンの製造、排気ガス処理等が行われていた分野に
おいても、酸素ガス、空気、窒素ガス、アルゴンガスあ
るいはこれらの混合ガスの大気圧グロー放電プラズマが
得られることにより高効率の処理の実現が可能になっ
た。したがって、産業上、その他応用の広いきわめて有
用なグロー放電発生用電極およびこの電極を用いた反応
装置である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の反応装置の第一の実施例を示す構成図
である。
【図2】本発明のグロー放電プラズマ発生用電極の実施
例を示す分解斜視図である。
【図3】本発明のグロー放電プラズマ発生用電極の側面
図である。
【図4】本発明のグロー放電プラズマ発生用電極の平面
図である。
【図5】本発明の反応装置の第二の実施例を示す構成図
である。
【符号の説明】
1 反応容器 2 グロー放電プラズマ発生用電極 2a (上部)グロー放電プラズマ発生用電極 2b (下部)グロー放電プラズマ発生用電極 3 ガス供給管 4 ガス排気管 5 導電板 5a 上部導電板 5b 下部導電板 6 金網 6a 上部金網 6b 下部金網 7 誘電体 7a 上部誘電体 7b 下部誘電体 8 プラズマ発生用電源 9 ガス混合管 10 ガス供給管 11 バブリング装置 12 フローメータ 13 ガス供給管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H05H 1/46 H05H 1/46 M // C23F 4/00 C23F 4/00 A (72)発明者 上原 真 埼玉県与野市鈴谷四丁目6番35号 株式 会社きもと開発研究所内 (72)発明者 木村 剛久 埼玉県与野市鈴谷四丁目6番35号 株式 会社きもと開発研究所内 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05H 1/24 H05H 1/46 B01J 19/08

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 大気圧以上の気圧の気相内に設置する電
    極として、プラズマ発生用気体の種類に応じて線径が
    0.01〜0.5mm太さの金属細線で構成した金網を
    用い、この金網上に誘電体を設けてなることを特徴とす
    るグロー放電プラズマ発生用電極。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のグロー放電プラズマ発生
    用電極を導電板上に接触固定したことを特徴とするグロ
    ー放電プラズマ発生用電極。
  3. 【請求項3】 大気圧以上の気圧の気相内に電極を対向
    させて、前記電極間に所定の電圧を印加してなる反応装
    置であって、 前記対向電極の少なくとも一方の電極としてプラズマ発
    生用気体の種類に応じて線径が0.01〜0.5mm太
    さの金属細線で構成した金網を用い、前記金網に誘電体
    を設けてなるグロー放電プラズマ発生用電極で構成して
    なることを特徴とする反応装置。
  4. 【請求項4】 大気圧以上の気圧の気相内に電極を対向
    させて、前記電極間に所定の電圧を印加してなる反応装
    置であって、 前記対向電極の少なくとも一方の電極にプラズマ発生用
    気体の種類に応じて線径が0.01〜0.5mm太さの
    金属細線で構成した金網を接触固定し、前記金網に誘電
    体を設けてなるグロー放電プラズマ発生用電極で構成し
    てなることを特徴とする反応装置。
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US7691278B2 (en) * 2005-09-27 2010-04-06 Lam Research Corporation Apparatus for the removal of a fluorinated polymer from a substrate and methods therefor
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