KR20190080044A - Crucible for linear evaporation source and Linear evaporation source having the same - Google Patents

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Abstract

Disclosed are a crucible for a linear evaporation source capable of increasing deposition uniformity and a linear evaporation source thereof. According to one embodiment of the present invention, the crucible for a linear evaporation source linearly ejecting a deposition particle in the lateral direction of a substrate to perform deposition on the substrate comprises: a crucible body having an evaporation space with an opened upper part, having a deposition material filled in the evaporation space, and evaporating the deposition material by heating to eject a deposition particle; a nozzle cover coupled to the upper end of the crucible body to cover the evaporation space and including a first nozzle ejecting the deposition part and a plurality of second nozzles formed on both outer sides of the first nozzle and ejecting the deposition particle at intervals; a tubular nozzle tip coupled to the first nozzle; and a pair of nozzle boxes having a plurality of guide slits, which are outwardly penetrated with an upward inclination, formed therein corresponding to the second nozzles, respectively, and coupled to the nozzle cover to allow the guide slits to communicate with the second nozzles, respectively. To place the lowermost guide slit among the guide slits at a height greater than a parasitic deposition height performing deposition on the nozzle cover, the nozzle box outwardly protrudes from the upper surface of the nozzle cover with an upward inclination.

Description

선형 증발원용 도가니 및 선형 증발원{Crucible for linear evaporation source and Linear evaporation source having the same}Technical Field [0001] The present invention relates to a crucible for a linear evaporation source and a linear evaporation source,

본 발명은 선형 증발원용 도가니 및 선형 증발원에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 선형 증발원의 양측에 위치하는 노즐에서 분출되는 증착입자의 그림자 효과를 최소화하여 증착 균일도를 높일 수 있는 선형 증발원용 도가니 및 선형 증발원을 제공하는 것이다.The present invention relates to a crucible for a linear evaporation source and a linear evaporation source. More particularly, the present invention provides a crucible for linear evaporation source and a linear evaporation source capable of minimizing the shadow effect of evaporated particles ejected from the nozzles located on both sides of the linear evaporation source, thereby increasing the deposition uniformity.

유기 전계 발광소자(Organic Luminescence Emitting Device: OLED)는 형광성 유기화합물에 전류가 흐르면 빛을 내는 전계 발광현상을 이용하는 스스로 빛을 내는 자발광소자로서, 비발광소자에 빛을 가하기 위한 백라이트가 필요하지 않기 때문에 경량이고 박형의 평판표시장치를 제조할 수 있다.Organic Luminescence Emitting Device (OLED) is a self-luminous self-luminous device that uses an electroluminescent phenomenon that emits light when a current flows through a fluorescent organic compound, and does not require a backlight for applying light to a non- Therefore, a lightweight thin flat panel display device can be manufactured.

이러한 유기 전계 발광소자를 이용한 평판표시장치는 응답속도가 빠르며, 시야각이 넓어 차세대 표시장치로서 대두 되고 있다.A flat panel display device using such an organic electroluminescent device has a fast response speed and a wide viewing angle, and is emerging as a next generation display device.

유기 전계 발광 소자는, 애노드 및 캐소드 전극을 제외한 나머지 구성층인 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층 및 전자주입층 등이 유기 박막으로 되어 있고, 이러한 유기 박막은 진공열증착방법으로 기판 상에 증착하게 된다.The organic electroluminescent device comprises an organic thin film such as a hole injecting layer, a hole transporting layer, a light emitting layer, an electron transporting layer, and an electron injecting layer which are the remaining constituent layers except for the anode and the cathode. .

진공열증착법은 진공의 챔버 내에 기판을 배치하고, 일정 패턴이 형성된 마스크(mask)를 기판에 정렬시킨 후, 증발원의 도가니를 가열하여 도가니에서 증발되는 유기물을 기판 상에 증착하는 방식으로 이루어진다.In the vacuum thermal evaporation method, a substrate is disposed in a vacuum chamber, a mask having a predetermined pattern is aligned on a substrate, and a crucible of an evaporation source is heated to evaporate organic substances evaporated in the crucible.

최근에는 기판이 대면적화 됨에 따라 대면적 기판에 유기 박막을 균일하게 증착하기 위해 선형 증발원이 사용되고 있다.In recent years, a linear evaporation source has been used to uniformly deposit an organic thin film on a large-sized substrate as the substrate becomes large-sized.

선형 증발원을 이용한 증착 방법은 기판의 폭 방향으로 증착물질이 선형으로 분출되는 선형 증발원을 배치하고, 선형 증발원과 기판을 상대적으로 기판의 길이 방향으로 이동시켜 기판의 전면에 걸쳐 증착물질의 증착을 수행하게 된다.In the deposition method using a linear evaporation source, a linear evaporation source in which the evaporation material is linearly ejected in the width direction of the substrate is disposed, and the linear evaporation source and the substrate are relatively moved in the longitudinal direction of the substrate to perform deposition of the evaporation material over the entire surface of the substrate .

도 1은 종래 기술에 따른 선행 증발원의 증착과정을 설명하기 위한 도면이다. 선형 증발원(106)은, 증착물질이 수용되고 상단이 개방된 도가니 본체(115)와 도가니 본체(115) 상단을 커버하며 기체 상태의 증착물질이 분출되는 노즐(107)이 형성된 도가니 커버(112)를 이루어진 도가니(104), 도가니(104)를 가열하는 히터부(미도시) 등으로 구성된다. 1 is a view for explaining a deposition process of a preceding evaporation source according to the prior art. The linear evaporation source 106 includes a crucible main body 115 in which an evaporation material is contained and an upper end is opened and a crucible cover 112 which covers an upper end of the crucible main body 115 and in which a nozzle 107, (Not shown) for heating the crucible 104, and the like.

히터부에 의해 도가니(104)를 가열하면 도가니(104) 내부에 수용되어 있는 증착물질이 증발되면서 증착입자가 노즐(107)을 통해 기판(102)을 향하여 선형으로 분출된다. 선형 증발원(106)에서 분출되는 증착입자는 일정 패턴이 형성된 마스크(110)를 통과하여 기판(102) 상에 증착되는데, 일정한 위치에서 분출되는 증착입자가 경사를 이루어 마스크(110)의 패턴을 통과하는 경우 그림자 효과(shadow effect)에 의해 균일한 두께의 증착을 형성하기 어려운 문제가 있다. When the crucible 104 is heated by the heater, the evaporation material contained in the crucible 104 is evaporated, and the evaporation particles are linearly ejected toward the substrate 102 through the nozzle 107. The evaporated particles ejected from the linear evaporation source 106 are deposited on the substrate 102 through a mask 110 having a predetermined pattern. The evaporated particles ejected at a predetermined position are passed through the pattern of the mask 110 There is a problem that it is difficult to form a uniform thickness of deposition by a shadow effect.

도 1을 참고하면, 최외측에 위치하는 노즐(107)에서 분출되는 증착입자가 대각선 방향의 최외측의 마스크(110)의 패턴을 통과할 때 가장 큰 경사를 이루어 패턴을 통과하기 때문에 가장 큰 그림자 효과를 발생시키고, 중앙의 노즐(107)로 갈수록 마스크(110)의 패턴으로 입력되는 증착입자의 경사가 작아져 그림자 효과가 낮게 나타남을 알 수 있다.1, when the evaporated particles ejected from the nozzle 107 located at the outermost position pass through the pattern with the largest slope when passing through the outermost pattern of the mask 110 in the diagonal direction, And the inclination of the deposition particles input into the pattern of the mask 110 becomes smaller as the nozzle 107 is moved toward the center, and the shadow effect is lowered.

대한민국 공개특허 제10-2016-0087985호(2016.07.25 공개)Korean Patent Publication No. 10-2016-0087985 (published on July 25, 2016)

본 발명은 선형 증발원의 양측에 위치하는 노즐에서의 분출되는 증착입자의 그림자 효과를 최소화하여 증착 균일도를 높일 수 있는 선형 증발원용 도가니 및 선형 증발원을 제공하는 것이다.The present invention provides a linear evaporation source crucible and a linear evaporation source capable of minimizing the shadow effect of evaporated deposition particles at nozzles located on both sides of a linear evaporation source, thereby increasing deposition uniformity.

본 발명의 일 측면에 따르면, 기판의 폭 방향을 따라 선형으로 증착입자를 분사하여 상기 기판에 증착을 수행하는 선형 증발원에 사용되는 도가니로서, 상부가 개구되는 증발공간이 형성되며, 상기 증발공간에 증착물질이 충전되며 가열에 따라 증착물질이 증발되어 증착입자가 분출되는 도가니 본체와; 상기 도가니 본체의 상단에 결합되어 상기 증발공간을 커버하며, 상기 증착입자가 분출되는 제1 노즐구와, 상기 제1 노즐구의 양쪽 외측에 각각 형성되며 상기 증착입자가 분출되는 복수의 제2 노즐구가 이격되어 형성되는 노즐커버와; 상기 제1 노즐구에 결합되는 관 형의 노즐팁과; 외측으로 상향 경사를 이루어 관통하는 복수의 유도슬릿이 복수의 상기 제2 노즐구에 각각 상응하여 내부에 형성되며, 복수의 상기 유도슬릿이 상기 제2 노즐구와 각각 연통되도록 상기 노즐커버에 결합되는 한 쌍의 노즐박스를 포함하며, 상기 노즐박스는, 상기 복수의 유도슬릿 중 최하단 유도슬릿이 상기 노즐커버에 증착되는 기생증착 높이 보다 높게 위치하도록 상기 노즐커버의 상면에서 외측으로 상향 경사를 이루어 돌출되는 것을 특징으로 하는, 선형 증발원용 도가니가 제공된다.According to an aspect of the present invention, there is provided a crucible for use in a linear evaporation source for spraying evaporation particles linearly along a width direction of a substrate to perform deposition on the substrate, wherein an evaporation space is formed in which an upper portion is opened, A crucible body in which evaporation material is filled and evaporation material evaporates upon heating to eject evaporation particles; A plurality of second nozzle openings formed on outer sides of both sides of the first nozzle openings and through which the evaporated particles are ejected, the first nozzle openings being connected to an upper end of the crucible main body and covering the evaporation space, A nozzle cover spaced apart from the nozzle cover; A tubular nozzle tip coupled to the first nozzle opening; A plurality of induction slits extending upwardly outwardly inwardly corresponding to the plurality of second nozzle holes are formed, and a plurality of induction slits are coupled to the nozzle cover so as to be in communication with the second nozzle holes, respectively And the nozzle box is protruded upward from the upper surface of the nozzle cover so as to be positioned higher than the parasitic deposition height at which the lowermost induction slit of the plurality of induction slits is deposited on the nozzle cover Wherein the crucible for linear evapotranspiration is provided.

상기 노즐박스는, 상기 유도슬릿에 상응하는 슬릿이 형성되는 사각형의 횡단면을 갖는 사각형 박스 형태일 수 있으며, 이 경우 상기 노즐커버의 상면에 대하여 둔각을 이루는 제1 경사면과, 상기 제1 경사면에 대향하여 위치하며 상기 노즐커버의 상면에 대하여 예각을 이루는 제2 경사면을 포함하되, 상기 제2 경사면의 상기 노즐커버의 상면에서의 연장 길이는 상기 제1 경사면의 상기 노즐커버의 상면에서의 연장 길이 보다 길 수 있다.The nozzle box may be in the form of a rectangular box having a rectangular cross section in which a slit corresponding to the induction slit is formed. In this case, the nozzle box may include a first inclined surface at an obtuse angle with respect to an upper surface of the nozzle cover, And a second inclined surface located at an acute angle with respect to an upper surface of the nozzle cover, wherein an extension length of the second inclined surface on the upper surface of the nozzle cover is longer than an extension length of the first inclined surface on the upper surface of the nozzle cover It can be long.

상기 노즐커버의 상면과 상기 노즐박스의 상단면이 이루는 각도는 90도 이하일 수 있다.The angle formed by the upper surface of the nozzle cover and the upper surface of the nozzle box may be 90 degrees or less.

상기 유도슬릿의 상향 경사 각도는, 상기 노즐커버의 상면에 대하여 35 ~ 50도 일 수 있다.The upward inclination angle of the induction slit may be 35 to 50 degrees with respect to the upper surface of the nozzle cover.

상기 제2 노즐구은, 상기 노즐커버의 횡방향으로 길게 형성되는 슬릿(slit) 형태이며, 상기 유도슬릿은, 상기 슬릿과 연통되도록 동일한 단면으로 형성될 수 있다.The second nozzle hole may have a slit shape elongated in the lateral direction of the nozzle cover, and the induction slit may have the same cross section to communicate with the slit.

상기 증발공간은, 상부가 개구되는 직육면체 형상을 이루고, 상기 노즐커버는, 상기 직육면체의 상면을 커버할 수 있도록 직사각형 형상일 수 있다.The evaporation space may have a rectangular parallelepiped shape with an upper portion opened, and the nozzle cover may have a rectangular shape so as to cover an upper surface of the rectangular parallelepiped.

상기 노즐커버는, 중앙에 긴 장공이 형성되는 노즐커버 본체와; 상기 긴 장공을 커버하도록 상기 노즐커버 본체에 탈착 가능하게 결합되며, 상기 노즐팁과 상기 노즐박스가 결합되는 노즐유닛을 포함할 수 있다.The nozzle cover includes a nozzle cover body having a long slot formed at the center thereof; And a nozzle unit detachably coupled to the nozzle cover body to cover the elongated hole and to which the nozzle tip and the nozzle box are coupled.

그리고, 상기 선형 증발원용 도가니는, 바닥면에 복수의 배플공이 형성되는 상부가 개구되는 함입부가 형성되며, 상기 증발공간의 상부에 삽입되는 배플박스와; 상기 배플박스의 상기 함입부가 커버되도록 상기 함입부 상단에 결합되며, 복수의 배플공이 형성되는 배플플레이트를 더 포함할 수 있다.The crucible for linear evapotranspiration includes a baffle box having an opening formed in a bottom surface thereof and having an upper portion formed with a plurality of baffle holes, the baffle box being inserted into an upper portion of the evaporation space; The baffle plate may further include a baffle plate coupled to an upper end of the recess to cover the recess of the baffle box and having a plurality of baffle holes formed therein.

상기 증발공간은, 상기 증착물질이 각각 수용되도록 길이 방향으로 복수의 격벽을 형성하여 복수 개의 증발공간으로 구획될 수 있다.The evaporation space may be divided into a plurality of evaporation spaces by forming a plurality of partition walls in the longitudinal direction so that the evaporation materials are accommodated, respectively.

상기 도가니 본체는 두 개로 분절될 수 있으며, 서로 분절되는 두 개의 도가니 본체는 상기 기판의 폭의 길이에 상응하여 서로 이격거리가 조절될 수 있다.The crucible main body can be divided into two, and the distance between the two crucible bodies that are separated from each other can be adjusted according to the length of the width of the substrate.

상기 노즐커버는, 두 개로 분절되는 상기 도가니 본체에 상응하여 두 개로 분절되며, 상기 제1 노즐구 및 상기 제2 노즐구는 상기 두 개의 분절된 노즐커버에 대칭되도록 형성될 수 있다.The nozzle cover is divided into two portions corresponding to the crucible body divided into two portions, and the first nozzle hole and the second nozzle hole may be formed to be symmetrical to the two segmented nozzle covers.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 상기 선형 증발원용 도가니와; 상기 도가니를 감싸도록 설치되어 상기 도가니에 열을 가하는 히터부와; 상기 히터부를 감싸도록 설치되는 하우징을 포함하는, 선형 증발원이 제공된다.According to another aspect of the present invention, there is provided a crucible for linear evapotranspiration; A heater unit installed to surround the crucible and applying heat to the crucible; And a housing installed to surround the heater unit.

상기 선형 증발원은, 상기 히터부를 감싸도록 상기 히터부와 상기 하우징 사이에 배치되며 상기 히터부의 열을 상기 도가니를 향하여 반사시키는 리플렉터(reflector)와; 상기 히터부를 향하여 상기 리플렉터의 내벽에 위치하는 고리형 열전대 온도계와; 상기 온도계 열전대의 고리를 이용하여 상기 리플렉터의 내벽에 결합하는 체결구를 더 포함할 수 있다.The linear evaporation source includes a reflector disposed between the heater and the housing to surround the heater and reflecting the heat of the heater toward the crucible; An annular thermocouple thermometer positioned on the inner wall of the reflector toward the heater; And a fastener for coupling to the inner wall of the reflector using a ring of the thermometer thermocouple.

상기 노즐팁과 상기 노즐박스가 통과하는 관통부가 형성되고 냉매가 순환하는 쿨링라인이 형성될 수 있으며, 상기 노즐커버의 상면에 결합되는 쿨링플레이트를 더 포함할 수 있다.A cooling line may be formed in which the nozzle tip and the through-hole through which the nozzle box passes, and the coolant is circulated, and a cooling plate coupled to the upper surface of the nozzle cover.

본 발명의 실시예에 따르면, 선형 증발원의 양측에 위치하는 노즐에서의 분출되는 증착입자의 그림자 효과를 최소화하여 증착 균일도를 높일 수 있다.According to the embodiment of the present invention, the shadow effect of the ejected deposition particles in the nozzles located on both sides of the linear evaporation source can be minimized, and the deposition uniformity can be increased.

도 1은 종래 기술에 따른 선행 증발원의 증착과정을 설명하기 위한 도면.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 선형 증발원용 도가니를 나타낸 사시도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 선형 증발원 도가니를 나타낸 단면도.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 선형 증발원용 도가니의 노즐커버를 나타낸 도면.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 선형 증발원용 도가니의 노즐유닛의 일부분을 나타낸 단면도.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 선형 증발원용 도가니의 노즐유닛의 기하학적 형상 결정 방법을 설명하기 위한 도면.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 선형 증발원용 도가니를 구비하는 선형증발원을 나타낸 도면.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 선형 증발원용 도가니의 쿨링 플레이트를 나타낸 도면.
도 9은 본 발명의 일 실시예에 따른 선형 증발원용 도가니를 구비하는 선형증발원의 고리형 열전대 온도계를 도시한 도면.
도 10는 본 발명의 일 실시예에 따른 선형 증발원용 도가니를 구비하는 선형증발원의 고리형 열전대 온도계의 결합 상태를 도시한 도면.
도 11은 본 발명의 다른 실시예에 따른 선형 증발원용 도가니를 나타낸 도면.
1 is a view for explaining a deposition process of a preceding evaporation source according to the prior art.
2 is a perspective view illustrating a crucible for a linear evaporation source according to an embodiment of the present invention;
3 is a cross-sectional view illustrating a linear evaporation source crucible according to an embodiment of the present invention.
4 is a view illustrating a nozzle cover of a crucible for linear evapotranspiration according to an embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view of a portion of a nozzle unit of a crucible for linear evacuation sources in accordance with an embodiment of the present invention.
6 is a view for explaining a method of determining a geometric shape of a nozzle unit of a crucible for linear evapotranspiration according to an embodiment of the present invention.
7 illustrates a linear evaporation source having a crucible for a linear evaporation source according to one embodiment of the present invention.
8 is a view illustrating a cooling plate of a crucible for a linear evaporation source according to an embodiment of the present invention.
FIG. 9 is a diagram illustrating an annular thermocouple thermometer of a linear evaporation source having a crucible for linear evapotranspiration according to an embodiment of the present invention. FIG.
10 is a view showing a combined state of an annular thermocouple thermometer of a linear evaporation source having a crucible for linear evapotranspiration according to an embodiment of the present invention.
11 is a view illustrating a crucible for a linear evaporation source according to another embodiment of the present invention.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The present invention is capable of various modifications and various embodiments, and specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description. It is to be understood, however, that the invention is not to be limited to the specific embodiments, but includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

이하, 본 발명에 따른 선형 증발원용 도가니 및 선형 증발원의 실시예를 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an embodiment of a crucible for linear evapotranspiration and a linear evaporation source according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, wherein like reference numerals designate like or corresponding components A duplicate description thereof will be omitted.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 선형 증발원용 도가니를 나타낸 사시도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 선형 증발원 도가니를 나타낸 단면도이다. 그리고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 선형 증발원용 도가니의 노즐커버를 나타낸 도면이고, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 선형 증발원용 도가니의 노즐유닛의 일부분을 나타낸 단면도이다. 그리고, 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 선형 증발원용 도가니의 노즐유닛의 기하학적 형상 결정 방법을 설명하기 위한 도면이다.FIG. 2 is a perspective view illustrating a crucible for a linear evaporation source according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a linear evaporation source crucible according to an embodiment of the present invention. FIG. 4 is a view illustrating a nozzle cover of a crucible for linear evaporation source according to an embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a portion of a nozzle unit of a crucible for linear evaporation source according to an embodiment of the present invention. 6 is a view for explaining a method of determining a geometric shape of a nozzle unit of a crucible for linear evapotranspiration according to an embodiment of the present invention.

도 2 내지 도 6에는, 선형 증발원용 도가니(10), 기판(11), 도가니 본체(12), 증발공간(13), 증착물질(15), 노즐커버(16), 마스크(17), 노즐커버 본체(18), 패턴(19), 노즐유닛(20), 제1 노즐구(22), 제2 노즐구(24), 슬릿(26), 노즐팁(28), 유도슬릿(30), 노즐박스(32), 상단(33), 격벽(34), 쿨링플레이트(36), 배플박스(38), 함입부(40), 배플플레이트(42), 제1 경사면(60), 제2 경사면(62), 최하단 슬릿(64)이 도시되어 있다.2 to 6 show a crucible 10 for a linear evaporation source, a substrate 11, a crucible body 12, an evaporation space 13, an evaporation material 15, a nozzle cover 16, a mask 17, The cover body 18, the pattern 19, the nozzle unit 20, the first nozzle opening 22, the second nozzle opening 24, the slit 26, the nozzle tip 28, the induction slit 30, The nozzle box 32, the upper end 33, the partition wall 34, the cooling plate 36, the baffle box 38, the depression 40, the baffle plate 42, the first inclined surface 60, (62), and a lowermost slit (64).

본 실시예에 따른 선형 증발원용 도가니(10)는, 기판(11)의 폭 방향을 따라 선형으로 증착입자를 분사하여 상기 기판(11)에 증착을 수행하는 선형 증발원에 사용되는 도가니(10)로서, 상부가 개구되는 증발공간(13)이 형성되며, 상기 증발공간(13)에 증착물질(15)이 충전되며 가열에 따라 증착물질(15)이 증발되어 증착입자가 분출되는 도가니 본체(12)와; 상기 도가니 본체(12)의 상단에 결합되어 상기 증발공간(13)을 커버하며, 상기 증착입자가 분출되는 제1 노즐구(22)와, 상기 제1 노즐구(22)의 양쪽 외측에 각각 형성되며 상기 증착입자가 분출되는 복수의 제2 노즐구(24)가 형성되는 노즐커버(16)와; 상기 제1 노즐구(22)에 결합되는 관 형의 노즐팁(28)과; 외측으로 상향 경사를 이루어 관통하는 복수의 유도슬릿(30)이 복수의 상기 제2 노즐구(22)에 각각 상응하여 내부에 형성되며, 복수의 상기 유도슬릿(30)이 상기 제2 노즐구(22)와 각각 연통되도록 상기 노즐커버(16)에 결합되는 한 쌍의 노즐박스(32)를 포함한다. 이 때, 상기 노즐박스(32)는, 상기 복수의 유도슬릿(30) 중 최하단 유도슬릿(64)이 상기 노즐커버(16)에 증착되는 기생증착 높이 보다 높게 위치하도록 상기 노즐커버(16)의 상면에서 외측으로 상향 경사를 이루어 돌출된다. The crucible 10 for a linear evaporation source according to the present embodiment is a crucible 10 used in a linear evaporation source for performing vapor deposition on the substrate 11 by spraying evaporation particles linearly along the width direction of the substrate 11 And an evaporation space 13 in which an upper portion is opened are formed in the evaporation space 13. The crucible main body 12 in which the evaporation material 15 is filled in the evaporation space 13 and the evaporation material 15 is evaporated by heating, Wow; A first nozzle hole 22 which is coupled to an upper end of the crucible main body 12 and covers the evaporation space 13 and through which the deposition particles are ejected and a second nozzle hole 22 which is formed on both sides of the first nozzle hole 22 A nozzle cover (16) having a plurality of second nozzle openings (24) through which the deposition particles are ejected; A tubular nozzle tip 28 coupled to the first nozzle orifice 22; A plurality of induction slits (30) penetrating upwardly outwardly are formed corresponding to the plurality of second nozzle holes (22), and a plurality of the induction slits (30) are formed in the second nozzle holes And a pair of nozzle boxes 32 coupled to the nozzle cover 16 to communicate with the nozzle cover 22, respectively. At this time, the nozzle box 32 is positioned so that the lowermost induction slit 64 of the plurality of induction slits 30 is positioned higher than the parasitic deposition height at which the nozzle slit is deposited on the nozzle cover 16 And is protruded upward from the upper surface to the outside.

선형 증발원에서 선형으로 분출되는 증착입자가 기판(11)의 폭 방향을 따라 배출되도록 기판(11)의 길이 방향에 대해 선형 증발원은 횡방향으로 배치된다. The linear evaporation sources are arranged in the transverse direction with respect to the longitudinal direction of the substrate 11 such that the evaporated particles linearly ejected from the linear evaporation source are ejected along the width direction of the substrate 11. [

기판(11)의 폭 방향으로 선형 증발원이 횡방향으로 배치된 상태에서 선형 증발원이나 기판(11)을 기판(11)의 길이 방향을 따라 상대적으로 이동하면 선형으로 분출되는 증착입자가 기판(11)의 전면에 걸쳐 증착된다.When the linear evaporation source or the substrate 11 is relatively moved along the longitudinal direction of the substrate 11 in a state in which the linear evaporation sources are arranged in the transverse direction in the width direction of the substrate 11, As shown in FIG.

도가니 본체(12)에는, 상부가 개구되는 증발공간(13)이 형성되며, 증발공간(13)에 증착물질(15)이 충전된다. 증착물질(15)은 도가니 본체(12)의 증발공간(13)에 충전되어 있으며, 도가니(10)의 외주에 있는 히터부(도 7의 48)에 의해 도가니(10)가 가열되면, 증착물질(15)이 증발되면서 형성되는 증착입자가 도가니(10)의 상단으로 분출된다.The crucible body 12 is provided with an evaporation space 13 in which an upper portion is opened and an evaporation material 15 is filled in the evaporation space 13. The evaporation material 15 is filled in the evaporation space 13 of the crucible main body 12. When the crucible 10 is heated by the heater portion 48 on the outer circumference of the crucible 10, The evaporated particles formed as the evaporated particles 15 are ejected to the upper end of the crucible 10.

본 실시예에 따른 도가니 본체(12) 내부에는, 일변에 비해 인접한 변이 긴 직육면체 형상의 증발공간(13)이 형성된다. 증발공간(13)를 직육면체 형상으로 구현함으로써 보다 많은 증착물질(15)이 수용될 수 있고, 노즐커버(16)를 도가니 본체(12)의 개구된 상단에 결합하여 하나의 도가니(10)를 형성하게 된다.In the crucible body 12 according to the present embodiment, the evaporation space 13 having a rectangular parallelepiped shape, which is adjacent to the one side, is formed. The evaporation space 13 is formed in a rectangular parallelepiped shape so that more evaporation material 15 can be accommodated and the nozzle cover 16 is coupled to the opened upper end of the crucible body 12 to form one crucible 10 .

한편, 도 3에 도시된 바와 같이, 증발공간(13)은, 증착물질(15)이 각각 수용되도록 길이 방향으로 복수의 격벽(34)을 형성하여 복수 개의 증발공간(13)으로 구획될 수 있다.3, the evaporation space 13 may be divided into a plurality of evaporation spaces 13 by forming a plurality of partition walls 34 in the longitudinal direction so that the evaporation materials 15 are accommodated, respectively .

넓은 증발공간(13)에 증착물질(15)이 충진되어 있는 경우 도가니(10)의 외측의 히터부(도 7의 48)에 의해 도가니(10)를 가열하면 증발공간(13)에서 증착물질(15)의 증발이 일어나면서 증착입자가 발생하게 되는데, 넓은 증발공간(13)으로 인해 히터부(48)의 열이 증발공간(13) 내부에 일정 하게 전달되지 않을 수 있고, 이로 인해 증착물질(15)의 전 표면에서 걸쳐 증착입자가 고르게 증발되지 않는 경우가 있다. When the crucible 10 is heated by the heater portion (48 in Fig. 7) outside the crucible 10 in the case where the evaporation material 15 is filled in the large evaporation space 13, the evaporation material 13 The heat of the heater unit 48 may not be constantly transferred to the evaporation space 13 due to the wide evaporation space 13, The evaporated particles may not evaporate evenly over the entire surface of the substrate.

따라서, 본 실시예에서는 넓은 증발공간을 격벽(34)에 의해 복수 개의 증발공간(13)으로 구획하여 히터부(48)의 열이 개개의 증발공간(13)에 고르게 전달되어 각 증발공간(13)에서 고른 증착물질(15)의 증발이 일어날 수 있도록 하였다.Therefore, in this embodiment, the wide evaporation space is partitioned into the plurality of evaporation spaces 13 by the partition wall 34, so that the heat of the heater portion 48 is evenly distributed to the respective evaporation spaces 13, So that evaporation of the evaporated material 15 can be performed.

노즐커버(16)는, 도가니 본체(12)의 상단에 결합되어 증발공간(13)을 커버한다. 도 4에 도시된 바와 같이, 노즐커버(16)에는 증발공간(13)의 증착입자가 분출되는 제1 노즐구(22)와, 상기 제1 노즐구(22)의 양쪽 외측에 각각 형성되며 상기 증착입자가 분출되는 복수의 제2 노즐구(24)가 형성된다. The nozzle cover 16 is coupled to the upper end of the crucible main body 12 to cover the evaporation space 13. 4, the nozzle cover 16 is provided with a first nozzle orifice 22 through which evaporated particles of the evaporation space 13 are ejected, and a second nozzle orifice 22 formed on both outer sides of the first nozzle orifice 22, A plurality of second nozzle orifices 24 through which the deposition particles are ejected are formed.

본 실시예에 따르면 제1 노즐구(22)가 노즐커버(16)의 중앙부에 형성되고 제1 노즐구(22)의 양쪽 외측에 복수의 제2 노즐구(24)가 각각 형성되어 있다. 노즐커버(16)의 중앙부에 위치하는 제1 노즐구(22)에는 후술할 관 형상의 노즐팁(28)이 결합되고, 복수의 제2 노즐구(24)에는 후술할 노즐박스(32)가 결합된다.According to the present embodiment, the first nozzle orifice 22 is formed at the center of the nozzle cover 16, and a plurality of second nozzle orifices 24 are formed on both sides of the first nozzle orifice 22, respectively. A nozzle tip 28 of a tubular shape to be described later is coupled to a first nozzle hole 22 located at the center of the nozzle cover 16. A plurality of second nozzle holes 24 are formed with a nozzle box 32 .

제1 노즐구(22)는 노즐커버(16)의 중앙부에 형성되며 기판(11)의 폭의 중앙부에 대향하여 위치하게 된다. 제1 노즐구(22)는 기판(11)의 폭 방향에서 중앙부에 위치하고 있어 제1 노즐구(22)에서 분출되는 증착입자는 마스크(17)의 양단부의 패턴(19)에서 상대적으로 작은 그림자 현상(shadow effect)가 발생한다. 반면, 제1 노즐구(22)의 양쪽에 각각 위치하는 제2 노즐구(24)는 서로 대각선 방향에 위치하는 마스크(17)의 패턴(19)에서 상대적으로 큰 그림자 현상이 발생하게 된다.The first nozzle orifice 22 is formed at the center of the nozzle cover 16 and is located opposite to the center of the width of the substrate 11. The first nozzle orifices 22 are located at the center in the width direction of the substrate 11 so that the evaporated particles ejected from the first nozzle orifices 22 are relatively small in the pattern 19 at both ends of the mask 17 a shadow effect is generated. On the other hand, the second nozzle openings 24 located on both sides of the first nozzle openings 22 are relatively large in the pattern 19 of the mask 17 located diagonally to each other.

본 실시예는 제2 노즐구(24)에서 분출되는 증착입자의 대각선 방향의 패턴(19)에서의 그림자 현상을 최소화하여 증착의 균일도를 높이게 된다.The present embodiment minimizes the shadowing phenomenon in the diagonal pattern 19 of the evaporated particles ejected from the second nozzle orifice 24, thereby increasing the uniformity of the deposition.

노즐팁(28)은, 일단에서 타단으로 관통홀이 형성되는 관 형의 튜브체로서, 제1 노즐구(22)에 결합된다. 제1 노즐구(22)를 통과한 증착입자는 노즐팁(28)의 관통홀을 통과하여 기판(11)에 도달하게 된다. 각 노즐팁(28)의 관통홀의 단면 크기는 기판(11) 폭의 길이, 증착율에 따라 달리 할 수 있다. The nozzle tip 28 is a tubular tube body having through holes formed at one end to the other end thereof and is coupled to the first nozzle orifice 22. [ The deposited particles having passed through the first nozzle orifice 22 pass through the through hole of the nozzle tip 28 and reach the substrate 11. [ The cross-sectional size of the through-holes of each nozzle tip 28 may vary depending on the length of the substrate 11 and the deposition rate.

노즐박스(32)는, 외측으로 상향 경사를 이루어 관통하는 복수의 유도슬릿(30)이 복수의 제2 노즐구(24)에 각각 상응하여 내부에 형성되며, 복수의 유도슬릿(30)이 제2 노즐구(24)와 각각 연통되도록 노즐커버(16)에 결합된다. 복수의 제2 노즐구(24)는 제1 노즐구(22)의 양쪽에 각각 형성되고, 한 쌍의 노즐박스(32)는 복수의 제2 노즐구(24)와 각각 연통되도록 결합된다. A plurality of induction slits (30) passing through the nozzle box (32) with an upward inclination outward are formed corresponding to the plurality of second nozzle holes (24), and a plurality of induction slits (30) 2 nozzle openings 24, respectively. A plurality of second nozzle openings 24 are formed on both sides of the first nozzle openings 22 and a pair of nozzle openings 32 are respectively connected to the plurality of second nozzle openings 24 in communication.

노즐박스(32)에는 외측으로 상향 경사를 이루어 관통하는 복수의 유도슬릿(30)이 형성되어 있는데, 복수의 유도슬릿(30)은 복수의 제2 노즐구(24)와 각각 연통된다. 도 3을 참조하면, 좌측의 노즐박스(32)의 경우, 유도슬릿(30)이 제1 노즐구(22)의 외측 즉, 기판(11)의 폭에 대해 좌측 방향으로 상향 경사를 이루어 형성되어 있고, 우측의 노즐박스(32)의 경우, 유도슬릿(30)이 제1 노즐구(22)의 외측 즉, 기판(11)의 폭에 대해 우측 방향으로 상향 경사를 이루어 형성되어 있다. The plurality of induction slits 30 are communicated with the plurality of second nozzle openings 24, respectively, in the nozzle box 32. The plurality of induction slits 30 pass through the nozzle box 32, 3, in the case of the left nozzle box 32, the induction slit 30 is formed on the outer side of the first nozzle orifice 22, that is, upward in the left direction with respect to the width of the substrate 11 In the case of the right nozzle box 32, the induction slit 30 is formed on the outer side of the first nozzle orifice 22, that is, upward in the right direction with respect to the width of the substrate 11.

도가니 본체(12)의 증발공간(13)에서 증발되는 증착입자는 제2 노즐구(24)를 거쳐 외측으로 상향 경사를 이루는 유도슬릿(30)을 통과하여 기판(11)의 양단부로 유도된다. 이때, 외측으로 상향 경사를 이룬 유도슬릿(30)을 통과한 증착입자는 대각선 방향에 위치하는 마스크(17)의 패턴(19)으로의 도달이 제한되어 그림자 현상이 최소화된다. 즉, 도 3을 참조하면, 좌측에 배치된 노즐박스(32)의 유도슬릿(30)은 좌측으로 상향 경사를 이루고 있어 유도슬릿(30)을 통과한 증착입자가 우측에 위치하는 마스크(17) 패턴(19)으로의 도달이 제한되어 우측의 패턴(19)에서의 그림자 현상이 최소화되고, 우측에 배치된 노즐박스(32)의 유도슬릿(30)은 우측으로 상향 경사를 이루고 있어 유도슬릿(30)을 통과한 증착입자가 좌측에 위치하는 마스크(17) 패턴(19)으로의 도달이 제한되어 좌측의 패턴(19)에서의 그림자 현상이 최소화된다.The evaporated particles evaporated in the evaporation space 13 of the crucible main body 12 are guided to both ends of the substrate 11 through the induction slit 30 which is upwardly inclined outward through the second nozzle hole 24. [ At this time, the deposition particles having passed through the induction slit 30 having the upward inclination outward are limited in reaching the pattern 19 of the mask 17 located in the diagonal direction, so that the shadow phenomenon is minimized. 3, the induction slit 30 of the nozzle box 32 disposed on the left side is inclined upward to the left, and the mask 17, on which deposition particles having passed through the induction slit 30 are positioned on the right side, The reaching of the pattern 19 is limited so that the shadowing phenomenon in the right pattern 19 is minimized and the induction slit 30 of the nozzle box 32 disposed on the right side is inclined upward to the right, 30 reaching the mask 17 pattern 19 located on the left side is limited and the shadow phenomenon in the left pattern 19 is minimized.

그리고, 노즐박스(32)는, 복수의 유도슬릿(30) 중 최하단 유도슬릿(64)이 노즐커버(16)에 증착되는 기생증착 높이 보다 높게 위치하도록 노즐커버(16)의 상면에서 외측으로 상향 경사를 이루어 돌출된다. 도 6을 참조하면, 노즐박스 (32)내부에 형성된 복수의 유도슬릿(30)이 상향 경사를 이루어 층층이 쌓여 형성하게 되는데, 층층이 쌓인 유도슬릿(30) 중 최하단 유도슬릿(64)의 높이(h)를 기생증착 높이보다 높게 위치하도록 할 필요가 있다. The nozzle box 32 is upwardly raised from the upper surface of the nozzle cover 16 so that the lowermost induction slit 64 of the plurality of induction slits 30 is positioned higher than the parasitic deposition height at which the lowermost induction slit 64 is deposited on the nozzle cover 16 And is projected with an inclination. 6, a plurality of induction slits 30 formed in the nozzle box 32 are formed by stacking upwardly inclined layers so that the height h of the lowermost induction slit 64 among the induction slits 30 ) To be higher than the parasitic deposition height.

진공 챔버 내에서 증착 공정을 진행하는 동안 기판을 향하여 분출되는 증착입자 중 일부가 기판의 증착면 이외에 증착되는 것을 기생증착이라 하는데, 노즐커버(16) 상면의 냉각 등으로 인해 증착입자가 노즐커버(16) 상면에 증착되어 쌓여지게 되는데, 기생증착의 높이가 높아져서 최하단 유도슬릿(64)에 도달하는 경우 최하단 유도슬릿(64)의 입구를 막아 증착입자의 분출을 방해할 수 있다. 따라서, 노즐커버(16) 상면의 기생증착으로 인한 유도슬릿(64)의 닫힘을 방지하기 위해 노즐박스(32)는 노즐커버의 상면에서 일정 높이 이상 돌출될 수 있도록 한다. 이때 노즐커버(16)의 상면에 기생증착의 높이는 실제 실행되는 증착 공정의 시뮬레이션 실험을 통해 미리 예측하고 이에 따라 노즐박스(32)의 돌출높이를 결정할 수 있다. The deposition of particles on the upper surface of the nozzle cover 16 due to cooling or the like causes the deposition of particles on the surface of the nozzle cover When the height of the parasitic deposition increases to reach the lowermost induction slit 64, the entrance of the lowermost induction slit 64 may be blocked to prevent the deposition of the deposition particles. Therefore, in order to prevent the induction slit 64 from being closed due to parasitic deposition on the upper surface of the nozzle cover 16, the nozzle box 32 can protrude from the upper surface of the nozzle cover by a predetermined height or more. At this time, the height of the parasitic deposition on the top surface of the nozzle cover 16 can be predicted in advance through a simulation experiment of the actual deposition process, and accordingly, the height of the protrusion of the nozzle box 32 can be determined.

본 실시예에 따른 노즐박스(32)는, 유도슬릿(64)에 상응하는 슬릿이 형성되는 사각형의 횡단면을 갖는 사각형 박스 형태이다. The nozzle box 32 according to the present embodiment is in the form of a rectangular box having a rectangular cross section in which slits corresponding to the induction slit 64 are formed.

이에 따라 사각형 박스 형태의 노즐박스(32)가 노즐커버(16)의 상면에 대하여 외측으로 상향 경사를 이루어 돌출되기 때문에, 도 6에 도시된 바와 같이, 노즐커버(16)의 상면에 대하여 둔각을 이루는 제1 경사면(60)과, 제1 경사면(60)에 대향하여 위치하며 노즐커버(16)의 상면에 대하여 예각을 이루는 제2 경사면(62)을 포함하게 된다. 이때, 제2 경사면(62)의 노즐커버(16)의 상면에서의 연장 길이(δ')는 제1 경사면(60)의 노즐커버(16)의 상면에서의 연장 길이(δ) 보다 길게 형성된다. 6, the obtuse angle with respect to the upper surface of the nozzle cover 16 is set to be larger than the obtuse angle with respect to the upper surface of the nozzle cover 16, And a second inclined surface 62 positioned opposite to the first inclined surface 60 and having an acute angle with respect to the upper surface of the nozzle cover 16. The first inclined surface 60 and the second inclined surface 62, The extended length? 'Of the second inclined surface 62 on the upper surface of the nozzle cover 16 is longer than the extended length? Of the upper surface of the nozzle cover 16 of the first inclined surface 60 .

제2 경사면(62)의 노즐커버(16)의 상면에서의 연장 길이(δ')는 제1 경사면(60)의 노즐커버(16)의 상면에서의 연장 길이(δ) 보다 길게 형성되기 때문에, 노즐박스(32)의 상단면(33)은 유도슬릿(30)의 길이 방향에 대해 횡방향으로 경사를 이루게 된다. Since the extension length? 'Of the second inclined surface 62 on the upper surface of the nozzle cover 16 is longer than the extension length? Of the first inclined surface 60 on the upper surface of the nozzle cover 16, The upper end face 33 of the nozzle box 32 is inclined in the transverse direction with respect to the longitudinal direction of the induction slit 30. [

다만, 이 경우, 노즐커버(16) 상면의 열이 노즐박스(32)의 상단면(33)까지 도달하여 증착입자가 유도슬릿(30)에 기생증착되는 것을 방지할 수 있도록, 제2 경사면(62)의 노즐커버(16)의 상면에서의 연장 길이(δ') 및 제1 경사면(60)의 노즐커버(16)의 상면에서의 연장 길이(δ)를 결정하는 것이 좋다. 이와 관련하여, 본 실시예에서는 노즐커버(16)의 상면과 노즐박스(32)의 상단면(33)이 이루는 각도는 90도 이하로 설정하는 것을 제안한다. 즉, 제1 경사면(60)의 노즐커버(16)의 상면에서의 연장 길이(δ)보다 제2 경사면(62)의 노즐커버(16)의 상면에서의 연장 길이(δ)를 길게 하되, 노즐커버(16)의 상면과 노즐박스(32)의 상단면(33)이 이루는 각도를 90도 이하로 설정함으로써 제2 경사면(62)의 노즐커버(16)의 상면에서의 연장 길이(δ')를 제한하여 선형 도가니의 가열에 따른 노즐커버(16)의 열이 제2 경사면(62)에 폭넓게 도달할 수 있도록 한다.In this case, in order to prevent parasitic deposition of the deposited particles on the induction slit 30 due to the heat of the upper surface of the nozzle cover 16 reaching the upper end surface 33 of the nozzle box 32, Of the nozzle cover 16 on the upper surface of the nozzle cover 16 and the extension length delta of the first inclined surface 60 on the upper surface of the nozzle cover 16 may be determined. In this regard, in this embodiment, it is proposed that the angle formed by the upper surface of the nozzle cover 16 and the upper end surface 33 of the nozzle box 32 is set to 90 degrees or less. That is, the extension length delta of the second inclined surface 62 on the upper surface of the nozzle cover 16 is made longer than the extension length delta on the upper surface of the nozzle cover 16 of the first inclined surface 60, By setting the angle formed between the upper surface of the cover 16 and the upper end surface 33 of the nozzle box 32 to be 90 degrees or less, the extension length? 'Of the second inclined surface 62 on the upper surface of the nozzle cover 16, So that the heat of the nozzle cover 16 due to the heating of the linear crucible can reach the second inclined surface 62 widely.

도 5 및 도 6은 우측의 노즐박스(32)를 도시하고 있는데, 유도슬릿(30)은 우측으로 상향 경사를 이루어 형성되어 있고, 제2 경사면(62)의 노즐커버(16)의 상면에서의 연장 길이(δ')를 제1 경사면(60)의 노즐커버(16)의 상면에서의 연장 길이(δ) 보다 길게 형성함으로써 노즐박스(32)의 상단면(33)은 유도슬릿(30)의 길이 방향에 대해 횡방향으로 경사를 이루어 형성되어 있다. 이와 같은 형태에 의해 증착입자의 대부분은 유도슬릿(30)에 의해 유도된 기판(11) 우측을 향하여 분출되고, 일부는 대각선 방향의 기판(11) 좌측을 향하여 이동하게 되는데 노즐박스(32)의 상단이 유도슬릿(30)에 대해 횡방향으로 경사를 이루고 있어 증착입자가 기판(11) 좌측의 마스크 패턴(19)으로의 이동이 제한되어 좌측의 패턴(19)에서 그림자 현상이 최소화되게 된다. 반대로, 좌측의 노즐박스(32)의 경우는, 좌측 노즐박스(32)의 유도슬릿(30)에 분출되는 증착입자가 기판(11) 우측의 마스크 패턴(19)으로 이동하는 것을 제한하여 우측의 패턴(19)에서 그림자 현상이 최소화되게 된다.5 and 6 show the nozzle box 32 on the right hand side. The induction slit 30 is formed with an upward slope to the right, and the second slope surface 62 of the nozzle cover 16 on the upper surface of the nozzle cover 16 The upper end surface 33 of the nozzle box 32 is formed to be longer than the extension length delta of the upper surface of the nozzle cover 16 of the first inclined surface 60, And are inclined in the transverse direction with respect to the longitudinal direction. Most of the deposited particles are ejected toward the right side of the substrate 11 induced by the induction slit 30 and part of the deposited particles move toward the left side of the substrate 11 in the diagonal direction. The upper end is inclined in the transverse direction with respect to the induction slit 30, so that the deposition particles are restricted from moving to the mask pattern 19 on the left side of the substrate 11, thereby minimizing the shadowing phenomenon in the pattern 19 on the left side. Conversely, in the case of the left nozzle box 32, deposition particles ejected to the induction slit 30 of the left nozzle box 32 are restricted from moving to the mask pattern 19 on the right side of the substrate 11, The shadow phenomenon in the pattern 19 is minimized.

한편, 노즐박스(32)에 형성되는 유도슬릿(30)의 상향 경사 각도는 노즐커버(16)의 상면에 대하여 35 ~ 50도로 설정할 수 있다. 유도슬릿(30)의 각도는 기판과 선형 증발원과의 길이, 제1 노즐구(22)와 제2 노즐구(24)의 위치 등에 따라 달라질 수 있으나, 유도슬릿(30)의 각도를 35도 이하로 하는 경우 노즐박스(32)에서 분출되는 증착입자가 낮은 밀도로 넓게 분포되어 그림자 현상 방지에 취약하고, 50도 이상으로 하는 경우 증착입자가 높은 밀도로 좁게 분포되어 기판에 대한 증착량 조절이 어려울 수 있다. 본 실시예에서는 유도슬릿(30)의 상향 경사 각도가 40도인 것을 제시하고 있다.The upward inclination angle of the induction slit 30 formed in the nozzle box 32 may be set to 35 to 50 degrees with respect to the upper surface of the nozzle cover 16. [ The angle of the induction slit 30 may vary depending on the length of the substrate and the linear evaporation source, the positions of the first nozzle hole 22 and the second nozzle hole 24, The deposition particles ejected from the nozzle box 32 are widely distributed at a low density and are susceptible to shadows. When the temperature is more than 50 degrees, the deposition particles are narrowly distributed at a high density, making it difficult to control the deposition amount on the substrate . In this embodiment, the upward sloping angle of the induction slit 30 is 40 degrees.

노즐커버(16)는, 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 중앙에 긴 장공이 형성되는 노즐커버 본체(18)와; 긴 장공을 커버하도록 노즐커버 본체(18)에 탈착 가능하게 결합되며, 노즐팁(28)과 노즐박스(32)가 결합되는 노즐유닛(20)으로 구성될 수 있다. 이는 노즐유닛(20)의 교체를 용이하게 하기 위한 것으로, 노즐팁(28)의 크기, 유도슬릿(30)의 경사각 등을 달리한 다양한 형태의 노즐유닛(20)을 준비하여 두고 필요에 따라 교체하여 사용할 수 있도록 하기 위함이다.As shown in Figs. 3 and 4, the nozzle cover 16 includes a nozzle cover body 18 having a long elongated hole formed at the center thereof; And a nozzle unit 20 detachably coupled to the nozzle cover body 18 to cover a long slot and to which the nozzle tip 28 and the nozzle box 32 are coupled. In order to facilitate the replacement of the nozzle unit 20, various types of nozzle units 20 having different sizes of the nozzle tips 28, inclination angles of the induction slits 30, and the like are prepared, So that it can be used.

노즐커버 본체(18)는 긴 판 형태로서 중앙부에 노즐유닛(20)이 결합되기 위한 장공이 형성되고, 노즐유닛(20)은 노즐커버 본체(18)의 장공을 커버하도록 노즐커버 본체(18)에 탈착 가능하게 결합된다.The nozzle cover body 18 is formed in a long plate shape and has a long hole for the nozzle unit 20 to be coupled to the center of the nozzle cover body 18. The nozzle unit 20 has a nozzle cover body 18 for covering the long hole of the nozzle cover body 18. [ As shown in Fig.

한편, 제1 노즐구(22)의 양쪽 외측에 각각 형성되는 제2 노즐구(24)는, 노즐커버(16)의 횡방향으로 길게 형성된 슬릿(26)(slit) 형태로 형성될 수 있다. 도 4를 참조하면, 제1 노즐구(22)는 원형 형태로서 노즐커버(16)의 중앙부에 형성되고, 제2 노즐구(24)는 노즐커버(16)의 횡방향으로 길게 형성된 슬릿(26)형태로 제1 노즐구(22)의 양쪽에 각각 형성될 수 있다. The second nozzle orifices 24 formed on the outer sides of the first nozzle orifices 22 may be formed in the form of slits 26 formed in the lateral direction of the nozzle cover 16. 4, the first nozzle orifice 22 is formed in the center of the nozzle cover 16 in a circular shape, and the second nozzle orifice 24 is formed in the lateral direction of the nozzle cover 16 by a slit 26 ) Of the first nozzle orifice 22, respectively.

제2 노즐구(24)를 슬릿(26) 형태로 형성하는 경우 복수의 슬릿(26)를 매우 인접시켜 여러 개를 연속하여 형성할 수 있는 장점이 있다. 그리고, 이에 따라 슬릿(26)과 연통되는 유도슬릿(30)도 컴팩트하게 구성할 수 있어 노즐박스(32)를 컴팩트하게 구성할 수 있다. 제2 노즐구(24)를 슬릿(26) 형태로 구성한 경우 유도슬릿(30) 또한 동일한 단면 크기로 하여 제2 노즐구(24)의 슬릿(26)과 유도슬릿(30)이 단차없이 연통되도록 구성할 수 있다.When the second nozzle orifice 24 is formed in the form of the slit 26, there is an advantage that a plurality of slits 26 can be closely adjacent to each other and a plurality of the slits 26 can be continuously formed. In addition, the induction slit 30 communicating with the slit 26 can be constructed in a compact manner, so that the nozzle box 32 can be made compact. When the second nozzle orifice 24 is formed in the shape of the slit 26, the induction slit 30 is also made to have the same cross-sectional size so that the slit 26 of the second nozzle orifice 24 and the induction slit 30 can communicate with each other stepwise Can be configured.

한편, 본 실시예에 따른 선형 증발원용 도가니(10)는, 바닥면에 복수의 배플공이 형성되는 상부가 개구되는 함입부(40)가 형성되며, 증발공간(13)의 상부에 삽입되는 배플박스(38)와; 배플박스(38)의 함입부(40)가 커버되도록 함입부(40) 상단에 결합되며, 복수의 배플공이 형성되는 배플플레이트(42)를 더 포함할 수 있다. The crucible 10 for a linear evaporation source according to the present embodiment includes a baffle box 30 having a plurality of baffle holes formed on a bottom surface thereof and having an upper portion opened therein, (38); The baffle plate 38 may further include a baffle plate 42 coupled to an upper end of the recessed portion 40 so that the recessed portion 40 of the baffle box 38 is covered and formed with a plurality of baffle holes.

배플박스(38)은 상단이 개구되는 함입부(40)가 형성된 용기 형상으로서, 바닥면에 복수의 배플공(미도시)이 형성되어 있다. 용기 형상의 배플박스(38)는 개구된 도가니 본체(12)의 상단을 통해 도가니 본체(12) 내부로 삽입되며, 배플박스(38)의 함입부(40)에는 다시 복수의 배플공(미도시)이 형성된 배플플레이트(42)가 결합된다. The baffle box 38 has a container shape formed with a recess 40 into which an upper end is opened, and a plurality of baffle holes (not shown) are formed on the bottom surface. The container-shaped baffle box 38 is inserted into the crucible body 12 through the upper end of the opened crucible body 12, and the baffle box 38 is provided with a plurality of baffle holes ) Is formed in the baffle plate 42. As shown in Fig.

도 3을 참조하면, 증발공간(13)의 내부에는 증착물질(15)이 수용되는데, 히터부(48)의 가열에 따라 증착물질(15)이 증발되면서 기체 상의 증착입자는 배플박스(38) 바닥면의 배플공을 통해 배플박스(38)의 함입부(40)로 유입되고, 함입부(40)로 유입되는 증착입자는 다시 배플플레이트(42)의 배플공을 통과하여 제1 노즐구(22) 및 제2 노즐구(24)를 통해 외부로 분출된다. 증발공간(13)에서 증발된 증착입자는 배플박스(38)의 함입부(40)로 유입되면서 함입부(40)에 고루 퍼지게 되고 고루 퍼진 함입부(40) 내의 증착입자는 배플플레이트(42)의 배플공을 통과하면서 다시 한번 넓게 퍼지면서 제1 노즐구(22)와 제2 노즐구(24)를 통해 외부로 분출된다. 한편, 배플박스(38)와 배플플레이트(42)는 히터부(48)의 가열에 따른 증착입자의 증발 과정에서 증착물질(15)이 작은 덩어리 형태 외부로 튀어 도가니(10)의 입구나 기판(11) 상에 증착되는 것을 방지한다.3, the deposition material 15 is accommodated in the evaporation space 13. When the deposition material 15 is evaporated as the heater portion 48 is heated, the deposition particles on the substrate are transferred to the baffle box 38, The deposition particles introduced into the baffle box 38 through the baffle hole on the bottom surface of the baffle plate 38 are discharged to the first nozzle hole 22 and the second nozzle orifice 24, respectively. The evaporated particles evaporated in the evaporation space 13 flow into the embedding section 40 of the baffle box 38 and spread evenly to the embedding section 40. The evaporated particles in the embedding section 40, And is ejected out through the first nozzle hole 22 and the second nozzle hole 24 while being spread widely again. The baffle box 38 and the baffle plate 42 are formed in such a manner that the evaporation material 15 protrudes out of the small lump shape in the process of evaporation of the evaporated particles due to the heating of the heater unit 48, Lt; RTI ID = 0.0 > 11). ≪ / RTI >

도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 선형 증발원용 도가니를 구비하는 선형증발원을 나타낸 도면이다. 도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 선형 증발원용 도가니의 쿨링 플레이트를 나타낸 도면이고, 도 9은 본 발명의 일 실시예에 따른 선형 증발원용 도가니를 구비하는 선형증발원의 고리형 열전대 온도계를 도시한 도면이며, 도 10는 본 발명의 일 실시예에 따른 선형 증발원용 도가니를 구비하는 선형 증발원의 고리형 열전대 온도계의 결합 상태를 도시한 도면이다.7 is a view showing a linear evaporation source having a crucible for a linear evaporation source according to an embodiment of the present invention. FIG. 8 is a view illustrating a cooling plate of a crucible for linear evapotranspiration according to an embodiment of the present invention, and FIG. 9 is a schematic view illustrating an annular thermocouple thermometer of a linear evaporation source having a crucible for linear evapillation according to an embodiment of the present invention. And FIG. 10 is a view showing a combined state of an annular thermocouple thermometer of a linear evaporation source having a crucible for linear evapotranspiration according to an embodiment of the present invention.

도 7 내지 도 9에는, 선형 증발원용 도가니(10), 쿨링플레이트(36), 관통부(44), 쿨링라인(46), 히터부(48), 리플렉터(50), 하우징(52), 고리부(54), 고리형 열전대 온도계(56), 체결구(58)가 도시되어 있다.7 to 9 show a crucible 10 for a linear evaporation source, a cooling plate 36, a penetrating portion 44, a cooling line 46, a heater portion 48, a reflector 50, a housing 52, A portion 54, an annular thermocouple thermometer 56, and a fastener 58 are shown.

본 실시예에 따른 선형 증발원은, 상술한 선형 증발원용 도가니(10)와; 상기 도가니(10)를 감싸도록 설치되어 상기 도가니(10)에 열을 가하는 히터부(48)와; 상기 히터부(48)를 감싸도록 설치되는 하우징(52)과; 상기 히터부(48)를 감싸도록 상기 히터부(48)와 상기 하우징(52) 사이에 배치되며 상기 히터부(48)의 열을 상기 도가니(10)를 향하여 반사시키는 리플렉터(50)(reflector)를 포함한다.The linear evaporation source according to the present embodiment includes the aforementioned crucible for linear evapotranspiration 10; A heater unit 48 installed to surround the crucible 10 to apply heat to the crucible 10; A housing 52 installed to surround the heater unit 48; A reflector 50 disposed between the heater unit 48 and the housing 52 to surround the heater unit 48 and reflecting the heat of the heater unit 48 toward the crucible 10, .

히터부(48)는, 도가니(10)를 감싸도록 설치되어 도가니(10)에 열을 가한다. 히터부(48)는, 열선을 포함할 수 있으며, 열선이 도가니(10)의 외측에 설치되는 열선고정부(미도시)에 나선 또는 지그재그 형태로 권선되어 히터부(48)를 구성할 수 있다.The heater unit 48 is installed to surround the crucible 10 and applies heat to the crucible 10. The heater portion 48 may include a heat wire and may be wound in a spiral or zigzag form on a heat fixing portion (not shown) provided on the outer side of the crucible 10 to constitute the heater portion 48 .

히터부(48)는 도가니(10)의 전체 높이에 걸쳐 배치되거나, 도 7에 도시된 바와 같이 도가니(10)의 상단과 하단에 대응되어 히터부(48)가 배치될 수 있다. The heater portion 48 may be disposed over the entire height of the crucible 10 or the heater portion 48 may be disposed corresponding to the upper and lower ends of the crucible 10 as shown in FIG.

리플렉터(50)는 히터부(48)를 감싸도록 설치되며 히터부(48)에서 발생한 열이 도가니(10)를 향하도록 반사시킨다. 히터부(48)에서 방출되는 복사열을 도가니(10) 측으로 다시 반사되도록 하여 히터부(48)에서 방출되는 복사열 에너지의 낭비를 최소화할 수 있으며, 복사열 에너지가 도가니(10)를 향해 집중적으로 방출됨으로써 도가니(10) 내의 증발물질의 증발 작용을 보다 촉진할 수 있다.The reflector 50 is provided to surround the heater unit 48 and reflects heat generated by the heater unit 48 toward the crucible 10. The radiant heat emitted from the heater unit 48 is reflected back to the crucible 10 side to minimize the waste of radiant heat energy emitted from the heater unit 48. Radiant heat energy is intensively discharged toward the crucible 10 The evaporation action of the evaporation material in the crucible 10 can be further promoted.

하우징(52)은 리플렉터(50)를 감싸도록 설치되어 내부에 배치되는 도가니(10), 히터부(48), 리플렉터(50) 등을 보호한다. 도가니(10)는 하우징(52)에 대해 탈착이 가능하여 증착물질(15)이 소진된 경우 도가니(10)를 하우징(52)으로부터 인출하여 증착물질(15)을 교체하거나 충전하여 도가니(10)를 하우징(52)으로 다시 결착할 수 있다.The housing 52 is provided to enclose the reflector 50 and protects the crucible 10, the heater unit 48, the reflector 50, and the like disposed inside. The crucible 10 is detachable with respect to the housing 52 so that the crucible 10 is pulled out of the housing 52 to replace or charge the evaporation material 15 when the evaporation material 15 is exhausted, To the housing (52).

한편, 본 실시예에 따른 선형 증발원은, 노즐팁(28)과 노즐박스(32)가 통과하는 관통부(44)가 형성되고 냉매가 순환하는 쿨링라인(46)이 형성되며, 노즐커버(16)의 상면에 결합되는 쿨링플레이트(36)를 포함할 수 있다. In the linear evaporation source according to the present embodiment, a cooling line 46 is formed in which the nozzle tip 28 and the penetration portion 44 through which the nozzle box 32 passes and the coolant circulates. The nozzle cover 16 And a cooling plate 36 coupled to the upper surface of the cooling plate 36.

히터부(48)의 가열에 따라 도가니(10)의 열이 대향하고 있는 기판(11)이나 마스크(17) 등에 전달되고 이에 따라 기판(11)이나 마스크(17)가 열팽창되면서 증착의 정밀도가 떨어지는 경우가 있다. 따라서, 도가니(10) 상단의 열이 마스크(17)나 기판(11)에 도달하는 것을 방지하기 위해 도가니(10) 상단에 쿨링플레이트(36)가 결합될 수 있다.The heat of the crucible 10 is transmitted to the opposing substrate 11 or the mask 17 or the like due to the heating of the heater section 48 and the substrate 11 or the mask 17 is thermally expanded, There is a case. The cooling plate 36 may be coupled to the upper end of the crucible 10 to prevent the heat at the upper end of the crucible 10 from reaching the mask 17 or the substrate 11. [

도 8에 도시된 바와 같이, 쿨링플레이트(36)는 도가니(10) 상단 즉, 노즐커버(16)의 상면에 결합되기 때문에 노즐커버(16)에 결합되는 노즐팁(28)과 노즐박스(32)가 관통하도록 관통부(44)가 형성된다. 그리고, 쿨링을 위한 냉매가 순환하는 쿨링라인(46)이 내부에 형성되어 증착과정에서 냉매를 쿨링라인(46)에 순환시켜 도가니(10)의 상단의 열을 쿨링하게 된다.8, since the cooling plate 36 is coupled to the upper end of the crucible 10, that is, the upper surface of the nozzle cover 16, the nozzle tip 28 and the nozzle box 32 The penetrating portion 44 is formed. A cooling line 46 through which coolant is circulated for cooling is formed in the inside of the crucible 10 to circulate the coolant to the cooling line 46 during the deposition process to cool the upper end of the crucible 10.

도 10은 도가니(10)의 열을 측정하기 위한 고리부(54)를 갖는 고리형 열전대 온도계(56)를 도시하고 있다. 기판(11)에 대한 증착율을 제어하기 위해서는 하우징(52) 내부의 히터부(48)의 온도를 수시로 측정하여야 한다. Fig. 10 shows an annular thermocouple thermometer 56 having an annulus 54 for measuring the heat of the crucible 10. In order to control the deposition rate on the substrate 11, the temperature of the heater section 48 inside the housing 52 should be measured at any time.

종래의 막대형 열전대 온도계의 경우, 열전대 온도계의 선단이 하우징(52)의 외측에서 하우징(52)과 리플렉터(50)를 관통하여 히터부(48)의 외주에 대향하여 배치되는데, 하우징(52)과 리플렉터(50)를 관통한 막대형 열전대 온도계의 고정이 불안정하여 온도계의 위치의 변동에 따라 정확한 온도 측정이 이루어지지 않았었다.In the case of the conventional rod-shaped thermocouple thermometer, the tip of the thermocouple thermometer is disposed outside the housing 52 and opposed to the outer periphery of the heater portion 48 through the housing 52 and the reflector 50, And the fixation of the rod-shaped thermocouple thermometer passing through the reflector 50 was unstable, so that the accurate temperature measurement was not performed according to the change of the position of the thermometer.

본 실시예에서는 고리부(54)가 구비된 고리형 열전도 온도계(56)를 적용하여 히터부(48)를 마주하여 리플렉터(50)의 내벽에 고리형 열전대 온도계(56)를 배치시킨 상태에서 볼트 등의 체결구(58)를 고리형 열전대 온도계(56)의 고리부를 관통시켜 리플렉터(50)에 고정함으로써 열전대 온도계(56)의 위치를 확고히 하여 보다 정확한 히터부(48)의 온도를 측정할 수 있도록 하였다.In this embodiment, in the state that the annular thermo-optic thermometer 56 having the annular portion 54 is applied and the annular thermocouple thermometer 56 is disposed on the inner wall of the reflector 50 facing the heater portion 48, The temperature of the heater section 48 can be measured more accurately by fixing the position of the thermocouple thermometer 56 by fixing the fastener 58 such as a screw through the annulus of the annular thermocouple thermometer 56 to the reflector 50 Respectively.

도 11은 본 발명의 다른 실시예에 따른 선형 증발원용 도가니(10)를 나타낸 도면이다. 도 11에는, 선형 증발원용 도가니(10), 도가니 본체(12, 12'), 노즐커버(16, 16'), 노즐커버 본체(18), 노즐유닛(20), 노즐팁(28), 유도슬릿(30), 노즐박스(32)가 도시되어 있다.11 is a view showing a crucible 10 for a linear evaporation source according to another embodiment of the present invention. 11 shows a crucible 10 for a linear evaporation source, crucible bodies 12 and 12 ', nozzle covers 16 and 16', a nozzle cover body 18, a nozzle unit 20, a nozzle tip 28, A slit 30, and a nozzle box 32 are shown.

본 실시예에 따른 선형 증발원용 도가니(10)는 기판의 폭의 길이 대응하여 도가니(10)에서 분출되는 선형의 증착입자의 길이 조절할 수 있도록 구성한 형태이다. 즉, 도 11에 도시된 바와 같이, 도가니 본체(12, 12')를 한 쌍으로 구성하여 한 쌍의 도가니 본체(12, 12')의 이격 거리를 기판의 폭 방향으로 조절함으로써 다양한 기판 규격에 대응할 수 있도록 구성한 형태이다.The crucible 10 for a linear evaporation source according to the present embodiment is configured to adjust the length of the linear deposited particles ejected from the crucible 10 corresponding to the width of the substrate. That is, as shown in FIG. 11, by arranging the crucible bodies 12 and 12 'as a pair and adjusting the spacing distance of the pair of crucible bodies 12 and 12' in the width direction of the substrate, It is a form that is configured to respond.

본 실시예에 따른 선형 증발원용 도가니(10)에 있어, 도가니 본체(12, 12')는 두 개로 분절되며, 서로 분절되는 두 개의 도가니 본체(12, 12')를 기판의 폭의 길이에 상응하여 서로 이격시킬 수 있다. 이에 따라, 노즐커버(16, 16')는, 두 개로 분절되는 도가니 본체(12, 12')에 상응하여 두 개로 분절되어 각각 결합되며, 제1 노즐구 및 제2 노즐구는 두 개의 분절된 노즐커버(16, 16')에 대칭되도록 형성된다.In the crucible 10 for a linear evaporation source according to the present embodiment, the crucible main bodies 12 and 12 'are divided into two and two crucible bodies 12 and 12', which are separated from each other, So that they can be separated from each other. Accordingly, the nozzle covers 16 and 16 'are divided into two parts corresponding to the two divided crucible bodies 12 and 12', respectively, and the first nozzle hole and the second nozzle hole are divided into two divided nozzles Are formed to be symmetrical to the covers 16 and 16 '.

두 개의 도가니 본체(12, 12')가 기판의 폭에 대해 선형으로 배열되기 때문에 제1 노즐구는 두 개의 도가니 본체(12, 12')의 중심에 대하여 대칭되도록 두 개의 노즐커버(16, 16')에 각각 형성되고, 제1 노즐구의 양 쪽에 각각 형성되는 제2 노즐구도 두 개의 노즐커버(16, 16')에 나뉘어 각각 형성된다. 관 형의 노즐팁(28)은 두 개의 노즐커버(16, 16')에 형성되는 제1 노즐구에 각각 결합되고, 두 개의 노즐박스(32)는 두 개의 노즐커버(16, 16')에 나뉘어 각각 결합되게 된다.Since the two crucible bodies 12 and 12 'are linearly arranged with respect to the width of the substrate, the first nozzle orifice is symmetrical with respect to the center of the two crucible bodies 12 and 12' And the second nozzle orifices formed on both sides of the first nozzle orifice are respectively formed in the two nozzle covers 16 and 16 '. The tubular nozzle tip 28 is respectively coupled to a first nozzle opening formed in the two nozzle covers 16 and 16 'and two nozzle boxes 32 are connected to the two nozzle covers 16 and 16' Respectively.

두 개로 나누어진 선형 증발원용 도가니(10)는 기판의 폭에 상응하여 일정 거리 이격되어 배치된 상태로 하우징 내부에 배치될 수 있다.The crucibles 10 for linear evaporation source divided into two parts can be disposed inside the housing in a state of being spaced apart from each other by a distance corresponding to the width of the substrate.

상기에서는 본 발명의 특정의 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the present invention as set forth in the following claims It will be understood that the invention may be modified and varied without departing from the scope of the invention.

전술한 실시예 외의 많은 실시예들이 본 발명의 특허청구범위 내에 존재한다.Many embodiments other than the above-described embodiments are within the scope of the claims of the present invention.

10: 선형 증발원용 도가니 11: 기판
12, 12': 도가니 본체 13: 증발공간
15: 증착물질 16, 16': 노즐커버
17: 마스크 18: 노즐커버 본체
19: 패턴 20: 노즐유닛
22: 제1 노즐구 24: 제2 노즐구
26: 슬릿 28: 노즐팁
30: 유도슬릿 32: 노즐박스
33: 상단 34: 격벽
36: 쿨링플레이트 38: 배플박스
40: 함입부 42: 배플플레이트
44: 관통부 46: 쿨링라인
48: 히터부 50: 리플렉터
52: 하우징 54: 고리부
56: 고리형 열전대 온도계 58: 체결구
60: 제1 경사면 62: 제2 경사면
64: 최하단 유도슬릿
10: crucible for linear evaporation source 11: substrate
12, 12 ': Crucible body 13: Evaporation space
15: deposition material 16, 16 ': nozzle cover
17: mask 18: nozzle cover body
19: pattern 20: nozzle unit
22: first nozzle hole 24: second nozzle hole
26: Slit 28: Nozzle tip
30: induction slit 32: nozzle box
33: top 34: bulkhead
36: cooling plate 38: baffle box
40: penetration part 42: baffle plate
44: penetrating part 46: cooling line
48: heater part 50: reflector
52: housing 54:
56: annular thermocouple thermometer 58: fastener
60: first inclined plane 62: second inclined plane
64: lowest guiding slit

Claims (14)

기판의 폭 방향을 따라 선형으로 증착입자를 분사하여 상기 기판에 증착을 수행하는 선형 증발원에 사용되는 도가니로서,
상부가 개구되는 증발공간이 형성되며, 상기 증발공간에 증착물질이 충전되며 가열에 따라 증착물질이 증발되어 증착입자가 분출되는 도가니 본체와;
상기 도가니 본체의 상단에 결합되어 상기 증발공간을 커버하며, 상기 증착입자가 분출되는 제1 노즐구와, 상기 제1 노즐구의 양쪽 외측에 각각 형성되며 상기 증착입자가 분출되는 복수의 제2 노즐구가 이격되어 형성되는 노즐커버와;
상기 제1 노즐구에 결합되는 관 형의 노즐팁과;
외측으로 상향 경사를 이루어 관통하는 복수의 유도슬릿이 복수의 상기 제2 노즐구에 각각 상응하여 내부에 형성되며, 복수의 상기 유도슬릿이 상기 제2 노즐구와 각각 연통되도록 상기 노즐커버에 결합되는 한 쌍의 노즐박스를 포함하며,
상기 노즐박스는,
상기 복수의 유도슬릿 중 최하단 유도슬릿이 상기 노즐커버에 증착되는 기생증착 높이 보다 높게 위치하도록 상기 노즐커버의 상면에서 외측으로 상향 경사를 이루어 돌출되는 것을 특징으로 하는, 선형 증발원용 도가니.
A crucible for use in a linear evaporation source for spraying deposition particles linearly along a width direction of a substrate to perform deposition on the substrate,
A crucible body formed with an evaporation space in which an upper portion is opened, evaporation material is filled in the evaporation space, evaporation material evaporates upon heating, and evaporation particles are ejected;
A plurality of second nozzle openings formed on outer sides of both sides of the first nozzle openings and through which the evaporated particles are ejected, the first nozzle openings being connected to an upper end of the crucible main body and covering the evaporation space, A nozzle cover spaced apart from the nozzle cover;
A tubular nozzle tip coupled to the first nozzle opening;
A plurality of induction slits extending upwardly outwardly inwardly corresponding to the plurality of second nozzle holes are formed, and a plurality of induction slits are coupled to the nozzle cover so as to be in communication with the second nozzle holes, respectively A pair of nozzle boxes,
The nozzle box includes:
Wherein the lowermost induction slit of the plurality of induction slits protrudes upward from the upper surface of the nozzle cover so as to be positioned higher than a parasitic deposition height of the nozzle cover deposited on the nozzle cover.
제1항에 있어서,
상기 노즐박스는,
상기 유도슬릿에 상응하는 슬릿이 형성되는 사각형의 횡단면을 갖는 사각형 박스 형태이며,
상기 노즐커버의 상면에 대하여 둔각을 이루는 제1 경사면과, 상기 제1 경사면에 대향하여 위치하며 상기 노즐커버의 상면에 대하여 예각을 이루는 제2 경사면을 포함하되,
상기 제2 경사면의 상기 노즐커버의 상면에서의 연장 길이는 상기 제1 경사면의 상기 노즐커버의 상면에서의 연장 길이 보다 긴 것을 특징으로 하는, 선형 증발원용 도가니.
The method according to claim 1,
The nozzle box includes:
A rectangular box shape having a rectangular cross section in which a slit corresponding to the induction slit is formed,
And a second inclined surface located opposite to the first inclined surface and having an acute angle with respect to an upper surface of the nozzle cover, wherein the first inclined surface is inclined at an obtuse angle with respect to the upper surface of the nozzle cover,
Wherein an extending length of the second inclined surface on the upper surface of the nozzle cover is longer than an extending length of the first inclined surface on the upper surface of the nozzle cover.
제2항에 있어서,
상기 노즐커버의 상면과 상기 노즐박스의 상단면이 이루는 각도는 90도 이하인 것을 특징으로 하는, 선형 증발원용 도가니.
3. The method of claim 2,
Wherein the angle formed by the upper surface of the nozzle cover and the upper surface of the nozzle box is 90 degrees or less.
제1항에 있어서,
상기 유도슬릿의 상향 경사 각도는,
상기 노즐커버의 상면에 대하여 35 ~ 50도 인 것을 특징으로 하는, 선형 증발원용 도가니.
The method according to claim 1,
The upward inclination angle of the induction slit
Is 35 to 50 degrees with respect to the upper surface of the nozzle cover.
제1항에 있어서,
상기 제2 노즐구은,
상기 노즐커버의 횡방향으로 길게 형성되는 슬릿(slit) 형태이며,
상기 유도슬릿은,
상기 슬릿과 연통되도록 동일한 단면으로 형성되는 것을 특징으로 하는, 선형 증발원용 도가니.
The method according to claim 1,
The second nozzle hole
A slit shape formed to be long in the lateral direction of the nozzle cover,
The induction slit
Wherein the slit is formed in the same cross-section as the slit.
제1항이 있어서,
상기 증발공간은,
상부가 개구되는 직육면체 형상을 이루고,
상기 노즐커버는,
상기 직육면체의 상면을 커버할 수 있도록 직사각형 형상인 것을 특징으로 하는, 선형 증발원용 도가니.
The method of claim 1,
The evaporation space
A rectangular parallelepiped shape in which an upper portion is opened,
The nozzle cover
And a rectangular shape to cover the upper surface of the rectangular parallelepiped.
제1항에 있어서,
상기 노즐커버는,
중앙에 긴 장공이 형성되는 노즐커버 본체와;
상기 긴 장공을 커버하도록 상기 노즐커버 본체에 탈착 가능하게 결합되며, 상기 노즐팁과 상기 노즐박스가 결합되는 노즐유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는, 선형 증발원용 도가니.
The method according to claim 1,
The nozzle cover
A nozzle cover body having a long slot formed at the center thereof;
And a nozzle unit detachably coupled to the nozzle cover body to cover the elongated hole and to which the nozzle tip and the nozzle box are coupled.
제1항에 있어서,
바닥면에 복수의 배플공이 형성되는 상부가 개구되는 함입부가 형성되며, 상기 증발공간의 상부에 삽입되는 배플박스와;
상기 배플박스의 상기 함입부가 커버되도록 상기 함입부 상단에 결합되며, 복수의 배플공이 형성되는 배플플레이트를 더 포함하는, 선형 증발원용 도가니.
The method according to claim 1,
A baffle box formed in the bottom of the evaporation space, in which a plurality of baffle holes are formed;
Further comprising a baffle plate coupled to an upper end of the recess to cover the recess of the baffle box and having a plurality of baffle holes formed therein.
제1항에 있어서,
상기 증발공간은,
상기 증착물질이 각각 수용되도록 길이 방향으로 복수의 격벽을 형성하여 복수 개의 증발공간으로 구획되는 것을 특징으로 하는, 선형 증발원용 도가니.
The method according to claim 1,
The evaporation space
Wherein a plurality of partition walls are formed in the longitudinal direction so as to accommodate the deposition materials, respectively, and are divided into a plurality of evaporation spaces.
제1항에 있어서,
상기 도가니 본체는 두 개로 분절되며,
서로 분절되는 두 개의 도가니 본체는 상기 기판의 폭의 길이에 상응하여 서로 이격거리가 조절되는 것을 특징으로 하는, 선형 증발원용 도가니.
The method according to claim 1,
The crucible body is divided into two,
Wherein the two crucible bodies that are separated from each other are spaced apart from each other in accordance with the length of the width of the substrate.
제10항에 있어서,
상기 노즐커버는,
두 개로 분절되는 상기 도가니 본체에 상응하여 두 개로 분절되며,
상기 제1 노즐구 및 상기 제2 노즐구는 상기 두 개의 분절된 노즐커버에 대칭되도록 형성되는 것을 특징으로 하는, 선형 증발원용 도가니.
11. The method of claim 10,
The nozzle cover
And is divided into two corresponding to the crucible main body divided into two,
Wherein the first nozzle orifice and the second nozzle orifice are formed to be symmetrical to the two segmented nozzle covers.
제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 따른 선형 증발원용 도가니와;
상기 도가니를 감싸도록 설치되어 상기 도가니에 열을 가하는 히터부와;
상기 히터부를 감싸도록 설치되는 하우징을 포함하는, 선형 증발원.
11. A crucible for linear evapotranspiration according to any one of claims 1 to 11;
A heater unit installed to surround the crucible and applying heat to the crucible;
And a housing installed to surround the heater unit.
제12항에 있어서,
상기 히터부를 감싸도록 상기 히터부와 상기 하우징 사이에 배치되며 상기 히터부의 열을 상기 도가니를 향하여 반사시키는 리플렉터(reflector)와;
상기 히터부를 향하여 상기 리플렉터의 내벽에 위치하는 고리형 열전대 온도계와;
상기 온도계 열전대의 고리를 이용하여 상기 리플렉터의 내벽에 결합하는 체결구를 더 포함하는, 선형 증발원.
13. The method of claim 12,
A reflector disposed between the heater and the housing to surround the heater and reflecting the heat of the heater toward the crucible;
An annular thermocouple thermometer positioned on the inner wall of the reflector toward the heater;
Further comprising a fastener coupled to an inner wall of the reflector using a loop of the thermometer thermocouple.
제12항에 있어서,
상기 노즐팁과 상기 노즐박스가 통과하는 관통부가 형성되고 냉매가 순환하는 쿨링라인이 형성되며, 상기 노즐커버의 상면에 결합되는 쿨링플레이트를 더 포함하는, 선형 증발원.
13. The method of claim 12,
Further comprising a cooling plate formed with a nozzle tip and a penetrating portion through which the nozzle box passes, and a cooling line through which refrigerant circulates, and a cooling plate coupled to an upper surface of the nozzle cover.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112779502A (en) * 2019-11-05 2021-05-11 三星显示有限公司 Deposition source
KR20210120321A (en) * 2020-03-26 2021-10-07 주식회사 선익시스템 Box type linear evaporation source
KR20220046981A (en) * 2020-10-08 2022-04-15 엘지전자 주식회사 Linear Deposition Source
CN115700292A (en) * 2021-07-15 2023-02-07 佳能特机株式会社 Film forming apparatus, film forming method, and evaporation source
CN116121711A (en) * 2023-03-30 2023-05-16 京东方科技集团股份有限公司 Auxiliary evaporation device and evaporation crucible

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110072092A (en) * 2009-12-22 2011-06-29 삼성모바일디스플레이주식회사 Evaporation source and deposition apparatus having the same
KR20110085486A (en) * 2010-01-20 2011-07-27 주식회사 야스 An evaporator for vacuum thermal evaporation
KR20120081811A (en) * 2011-01-12 2012-07-20 삼성모바일디스플레이주식회사 Deposition source and apparatus for organic layer deposition having the same
KR20130123775A (en) * 2012-05-03 2013-11-13 주식회사 야스 Linear evapoator with replaceble evaporation nozzle
KR20140050931A (en) * 2012-10-22 2014-04-30 삼성디스플레이 주식회사 Linear evaporation source and vacuum deposition apparatus and having the same
KR20140054615A (en) * 2012-10-29 2014-05-09 주식회사 선익시스템 Crucible with multiple diffuser
JP2015010257A (en) * 2013-06-28 2015-01-19 株式会社日立ハイテクファインシステムズ Evaporation source for vacuum deposition apparatus, and vacuum vapor deposition apparatus and vacuum deposition method using the evaporation source
KR20160087985A (en) 2015-01-14 2016-07-25 삼성디스플레이 주식회사 Depositing apparatus
KR20170071984A (en) * 2015-12-16 2017-06-26 주식회사 선익시스템 Depositing Apparatus

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110072092A (en) * 2009-12-22 2011-06-29 삼성모바일디스플레이주식회사 Evaporation source and deposition apparatus having the same
KR20110085486A (en) * 2010-01-20 2011-07-27 주식회사 야스 An evaporator for vacuum thermal evaporation
KR20120081811A (en) * 2011-01-12 2012-07-20 삼성모바일디스플레이주식회사 Deposition source and apparatus for organic layer deposition having the same
KR20130123775A (en) * 2012-05-03 2013-11-13 주식회사 야스 Linear evapoator with replaceble evaporation nozzle
KR20140050931A (en) * 2012-10-22 2014-04-30 삼성디스플레이 주식회사 Linear evaporation source and vacuum deposition apparatus and having the same
KR20140054615A (en) * 2012-10-29 2014-05-09 주식회사 선익시스템 Crucible with multiple diffuser
JP2015010257A (en) * 2013-06-28 2015-01-19 株式会社日立ハイテクファインシステムズ Evaporation source for vacuum deposition apparatus, and vacuum vapor deposition apparatus and vacuum deposition method using the evaporation source
KR20160087985A (en) 2015-01-14 2016-07-25 삼성디스플레이 주식회사 Depositing apparatus
KR20170071984A (en) * 2015-12-16 2017-06-26 주식회사 선익시스템 Depositing Apparatus

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112779502A (en) * 2019-11-05 2021-05-11 三星显示有限公司 Deposition source
KR20210120321A (en) * 2020-03-26 2021-10-07 주식회사 선익시스템 Box type linear evaporation source
KR20220046981A (en) * 2020-10-08 2022-04-15 엘지전자 주식회사 Linear Deposition Source
CN115700292A (en) * 2021-07-15 2023-02-07 佳能特机株式会社 Film forming apparatus, film forming method, and evaporation source
CN116121711A (en) * 2023-03-30 2023-05-16 京东方科技集团股份有限公司 Auxiliary evaporation device and evaporation crucible

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