KR20190074096A - New compound, photo-curable composition containing the same, and cured product thereof - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a novel compound, a composition comprising the same, and an organic electronic device encapsulated with an encapsulating material containing a cured product thereof. More particularly, the novel compound is represented by chemical formula 1. In the chemical formula 1, a definition of X, Y, R_1, R_2, and R_3 is the same as defined in claim 1. The composition containing a compound according to the present invention can realize photo-curability improved with high sensitivity.

Description

신규한 화합물, 이를 포함하는 광경화성 조성물 및 이의 경화물{New compound, photo-curable composition containing the same, and cured product thereof}TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel compound, a photocurable composition containing the same, and a cured product thereof,

본 발명은 신규한 화합물, 이를 포함하는 광경화성 조성물 및 이의 경화물에 관한 것이다.The present invention relates to a novel compound, a photocurable composition containing the same, and a cured product thereof.

현재 광조사 시 많이 사용되고 있는 할로겐 램프는 중합에 필요하지 않은 많은 불필요한 파장의 빛을 방출하기 때문에, 가시광선 조사기의 효율성이 떨어지고, 오랜 시간 광조사를 하여야 하는 문제가 지속된다. 또한 광조사 시간을 줄이기 위하여는 출력밀도(power density)가 더욱 놓은 가시광선 조사기를 사용하여야 하고, 부수적으로 광조사기로부터 높은 열이 방출되며, 광조사기의 수명은 더욱 짧아지는 악순환이 되풀이되고 있다.Halogen lamps, which are frequently used in light irradiation, emit many unwanted wavelengths of light that are not necessary for polymerization, so that the efficiency of the visible light irradiation apparatus is lowered and the problem of long-time light irradiation is continued. Also, in order to reduce the light irradiation time, a visible ray irradiator having a more power density is used, and a vicious cycle in which the heat is emitted from the light irradiator incidentally and the life time of the light irradiator is further shortened.

이러한 문제점을 효과적으로 줄여줄 수 있는 대안으로 제시되어 최근 개발되기 시작한 것이 LED(light emitting diode) 램프를 이용한 광조사기이다. LED 램프는 중합에 꼭 필요한 파장대 영역의 빛만을 선택적으로 방출할 수 있어, 앞에서 제시한 문제점들을 효과적으로 해결할 수 있는 기기로 평가받고 있다.Recently, a light emitting diode (LED) lamp has been developed as an alternative to effectively reduce these problems. The LED lamp is capable of selectively emitting only the light of the wavelength range necessary for polymerization, and is evaluated as a device capable of effectively solving the above-mentioned problems.

이와 같은 LED 램프의 조사광은 거의 400 ㎚ 대 영역까지 장파장화 되었으나, 광개시제만으로는 해당 파장대에서의 광중합이 효과적으로 일어나지 않기 때문에 광증감제 등을 함께 사용하여 중합 효율을 증가시키고 있는 실정이다.The irradiation light of such an LED lamp has a long wavelength up to almost 400 nm band region. However, since photo-polymerization is not effectively performed at the corresponding wavelength range only by the photoinitiator, a photosensitizer and the like are used together to increase the polymerization efficiency.

일반적으로 디부톡시 안트라센(dibutoxy antracene) 등의 다환방향족 탄화수소(Polynuclear aromatic hydrocarbon)계 광증감제(대한민국 등록특허 제10-1293803호)가 감도가 우수하여 광개시제와 함께 주로 사용되고 있다.Generally, Polynuclear aromatic hydrocarbons such as dibutoxy antracene (Korean Patent No. 10-1293803) have excellent sensitivity and are mainly used together with photoinitiators.

한편, 페노티아진(Phenothiazine)은 반응성 단량체(reactive monomer)나 올리고머에 대한 용해도가 다환방향족 탄화수소계 광증감제보다 높은 장점이 있으나, 지금까지는 400 ㎚ 근처 파장을 효과적으로 흡수하지 못 하거나, 일부 치환을 통해 흡수를 높인 경우 가시광 영역에서 넓은 흡수띠가 발생하여 광증감제로의 활용이 어렵다는 단점이 있었다.On the other hand, phenothiazine has advantages of higher solubility to reactive monomers and oligomers than polycyclic aromatic hydrocarbon type photosensitizer, but up to now, it has not been able to effectively absorb wavelength near 400 nm, A wide absorption band is generated in the visible light region and it is difficult to utilize it as a photosensitizer.

이에 본 출원인은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 거듭 연구한 결과, 조사광 파장대에서의 흡수율만으로 선택적으로 개선하여 중합도 및 투과도를 향상시킬 수 있으면서도, 기존의 장점인 반응성 단량체나 올리고머에 대한 용해도는 유지하여 상용성 또한 우수한 신규한 화합물을 고안하여 본 발명을 완성하였다.As a result of repeated studies to solve the problems of the prior art, the applicant has found that it is possible to improve the degree of polymerization and the transmittance by selectively improving only the absorption rate at the wavelength of the irradiation light, while maintaining the solubility of the reactive monomers or oligomers, The present inventors have completed the present invention by devising a novel compound having excellent compatibility.

대한민국 등록특허 제10-1293803호 (2013.07.31.)Korean Registered Patent No. 10-1293803 (July 31, 2013)

상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 본 발명은 조사광 파장대에서의 흡수율만으로 선택적으로 개선하여 중합도 및 투과도를 향상시킬 수 있으면서도, 반응성 단량체나 올리고머에 대한 용해도가 우수한 신규한 화합물을 제공하는 것을 목적으로 한다.In order to solve the above problems, it is an object of the present invention to provide a novel compound capable of improving the polymerization degree and the transmittance by selectively improving only the absorption rate at the wavelength of the irradiated light, and having high solubility in the reactive monomer or oligomer .

또한, 본 발명의 또 다른 목적은 상기 신규한 화합물을 포함하여 감도 및 투과 특성이 우수하며, 봉지재 원료나 접착제 원료로서 유용한 광경화성 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.Still another object of the present invention is to provide a photocurable composition which is excellent in sensitivity and permeability, including the novel compound, and is useful as an encapsulating material or an adhesive raw material.

또한, 본 발명의 또 다른 목적은 향상된 내열성 및 우수한 표면 특성을 갖는 경화물을 포함하여 장수명 특성 및 장기 신뢰성을 갖는 유기 전자장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide an organic electronic device having a long-life characteristic and a long-term reliability including a cured product having improved heat resistance and excellent surface properties.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 양태는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물에 관한 것이다.In order to accomplish the above object, one aspect of the present invention relates to a compound represented by the following general formula (1).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

(상기 화학식 1에서,(In the formula 1,

X 및 Y는 서로 독립적으로 직접결합, O 또는 S이되, X 및 Y가 모두 직접결합은 아니며;X and Y are independently a direct bond, O or S, and X and Y are not both direct bonds;

R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조이며;R 1 and R 2 are each independently selected from the group consisting of hydrogen, halogen, substituted or unsubstituted C 1 -C 30 alkyl, substituted or unsubstituted C 3 -C 30 cycloalkyl, substituted or unsubstituted C 3 -C 30 heterocyclo An alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C30 heteroaryl group, a substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group, or a combination thereof;

R3는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조이다.)R 3 represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted heterocycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted C3- A substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or a combination thereof.

상기 일 양태에 있어, 상기 화합물은 상기 X 및 Y는 서로 독립적으로 직접결합, O 또는 S이되, X 및 Y가 모두 직접결합은 아니며; R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조이며; R3는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조일 수 있다.In this embodiment, the compound is a compound wherein X and Y are independently a direct bond, O or S, and X and Y are not both direct bonds; R 1 and R 2 are each independently selected from the group consisting of hydrogen, halogen, substituted or unsubstituted C 1 -C 30 alkyl, substituted or unsubstituted C 3 -C 30 heteroaryl, substituted or unsubstituted C 6 -C 30 aryl Or a combination thereof; R 3 is a substituted or unsubstituted C1-C30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3-C30 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C3-C30 heteroaryl group, a substituted or unsubstituted C6- 30 aryl group, or a combination thereof.

상기 일 양태에 있어, 상기 화합물은 상기 X 및 Y는 서로 독립적으로 직접결합, O 또는 S이되, X 및 Y가 모두 직접결합은 아니며; R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 15의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조이며; R3는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 15의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조일 수 있다.In this embodiment, the compound is a compound wherein X and Y are independently a direct bond, O or S, and X and Y are not both direct bonds; R 1 and R 2 are independently selected from the group consisting of hydrogen, halogen, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms Or a combination thereof; R 3 represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted C6- 20 aryl group, or a combination thereof.

상기 일 양태에 있어, 상기 화합물은 하기 구조에서 선택되는 것일 수 있다.In such an embodiment, the compound may be selected from the following structures.

Figure pat00002
Figure pat00002

Figure pat00003
Figure pat00003

또한, 본 발명의 또 다른 일 양태는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 광경화성 조성물에 관한 것이다.Another embodiment of the present invention relates to a photocurable composition comprising a compound represented by the following general formula (1).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00004
Figure pat00004

(상기 화학식 1에서,(In the formula 1,

X 및 Y는 서로 독립적으로 직접결합, O 또는 S이되, X 및 Y가 모두 직접결합은 아니며;X and Y are independently a direct bond, O or S, and X and Y are not both direct bonds;

R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조이며;R 1 and R 2 are each independently selected from the group consisting of hydrogen, halogen, substituted or unsubstituted C 1 -C 30 alkyl, substituted or unsubstituted C 3 -C 30 cycloalkyl, substituted or unsubstituted C 3 -C 30 heterocyclo An alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C30 heteroaryl group, a substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group, or a combination thereof;

R3는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조이다.)R 3 represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted heterocycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted C3- A substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or a combination thereof.

상기 또 다른 일 양태에 있어, 상기 화합물은 광흡수용으로 사용되는 것일 수 있다.In another embodiment described above, the compound may be one used for light absorption.

상기 또 다른 일 양태에 있어, 상기 광경화성 조성물은 광조사에 의해 양이온(cation), 라디칼(radical) 또는 양이온 및 라디칼이 발생되어 광경화 되는 것일 수 있다.In another embodiment of the present invention, the photocurable composition may be photocurable by generating a cation, a radical or a cation and a radical by light irradiation.

상기 또 다른 일 양태에 있어, 상기 광경화성 조성물은 2개 이상의 광경화 가능한 불포화기를 갖는 광중합성 모노머 및 광개시제를 더 포함하는 것일 수 있다.In another such aspect, the photocurable composition may further comprise a photopolymerizable monomer having at least two photocurable unsaturated groups and a photoinitiator.

상기 또 다른 일 양태에 있어, 상기 광개시제는 양이온성 광개시제일 수 있다.In another embodiment described above, the photoinitiator may be a cationic photoinitiator.

상기 또 다른 일 양태에 있어, 상기 광개시제는 벤조인 유도체, 아세토페논 유도체, 안트라퀴논 유도체, 티오크산톤 유도체, 케탈 유도체, 벤조페논 유도체, α-아미노아세토페논 유도체, 아실포스핀옥사이드 유도체 및 옥심에스테르 유도체 등에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상일 수 있다.In still another embodiment of the present invention, the photoinitiator is a benzoin derivative, an acetophenone derivative, an anthraquinone derivative, a thioxanthone derivative, a ketal derivative, a benzophenone derivative, an α-amino acetophenone derivative, an acylphosphine oxide derivative, Derivatives, and the like.

또한, 본 발명의 또 다른 일 양태는 전술한 광경화성 조성물의 경화물을 포함하는 봉지재로 봉지된 유기 전자장치에 관한 것이다.Still another aspect of the present invention relates to an organic electronic device encapsulated with an encapsulant comprising a cured product of the photo-curable composition described above.

본 발명에 따른 페노티아진(Phenothiazine)계 화합물은 조사광 파장대 외 다른 불필요한 가시광 영역에서는 파장의 흡수가 거의 없으면서, 조사광 파장대에서의 흡수율만으로 선택적으로 개선하여 중합도 및 투과도를 향상시킬 수 있다는 장점이 있다. 또한, 반응성 단량체나 올리고머에 대한 용해도가 우수하여 상용성을 향상시킬 수 있다는 장점이 있다.The Phenothiazine compound according to the present invention has an advantage that the degree of polymerization and the degree of transparency can be improved by selectively improving the absorptance only at the wavelength of the irradiated light while the wavelength is not absorbed in the unnecessary visible light region other than the irradiated light wavelength band have. In addition, it has an advantage of being excellent in solubility in reactive monomers and oligomers and improving compatibility.

또한, 본 발명에 따른 화합물을 포함하는 조성물은 고감도로 향상된 광경화성을 구현할 수 있으며, 그 경화물의 투명성 및 내열성을 현저하게 향상시킬 수 있다.In addition, the composition containing the compound according to the present invention can realize photo-curability improved with high sensitivity, and the transparency and heat resistance of the cured product can be remarkably improved.

또한, 본 발명에 따른 화합물을 포함하는 조성물을 필름 또는 시트로 형상화할 시 표면을 보다 균일화 할 수 있으며, 이물질을 현저하게 감소시킬 수 있다.Further, when the composition comprising the compound according to the present invention is formed into a film or a sheet, the surface can be more uniform and the foreign matter can be remarkably reduced.

또한, 본 발명에 화합물을 포함하는 조성물은 필름 또는 시트로 형성되어 유기 전자장치를 봉지화 하여, 수명 특성 및 내구성이 현저하게 향상된 고신뢰성의 유기 전자장치를 제공할 수 있다.In addition, the composition containing the compound in the present invention can be formed into a film or sheet to encapsulate an organic electronic device, thereby providing a highly reliable organic electronic device with remarkably improved lifetime characteristics and durability.

이하 본 발명에 따른 신규한 화합물, 이를 포함하는 광경화성 조성물 및 이의 경화물에 대하여 상세히 설명한다.BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, a novel compound, a photocurable composition containing the same, and a cured product thereof according to the present invention will be described in detail.

이때, 사용되는 기술 용어 및 과학 용어에 있어서 다른 정의가 없다면, 이 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 통상적으로 이해하고 있는 의미를 가지며, 하기의 설명에서 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 공지 기능 및 구성에 대한 설명은 생략한다.Here, unless otherwise defined, technical terms and scientific terms used herein have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which the present invention belongs. In the following description, the gist of the present invention is unnecessarily blurred And a description of the known function and configuration will be omitted.

본 발명에 있어, 「치환 또는 치환된」이란 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, 화합물 내 작용기 중의 하나 이상의 수소 원자가 할로겐(-F, -Cl, -Br 또는 -I), 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 탄소수 1 내지 30의 알콕시기, 탄소수 1 내지 30의 할로겐화알킬기, 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 탄소수 3 내지 30의 헤테로시클로알킬기, 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 탄소수 6 내지 30의 헤테로아릴기, 히드록시기, 아민기, 카르복실산기 및 알데히드기 등으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 치환기로 치환된 것을 의미하며, 단, 상기 화학식 1에 기재된 작용기의 탄소수에는 치환기의 탄소수는 포함되지 않을 수 있다.In the present invention, the term " substituted or substituted " means that at least one hydrogen atom in the functional group in the compound is a halogen (-F, -Cl, -Br or -I), an alkyl group having 1 to 30 carbon , An alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, a heterocycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, a heteroaryl group having 6 to 30 carbon atoms , A hydroxyl group, an amine group, a carboxylic acid group, and an aldehyde group, with the proviso that the number of carbon atoms of the substituent may not be included in the number of carbon atoms of the functional group of Formula 1.

본 발명에 기재된 「알킬」, 「알콕시」, 「티옥시」 및 그 외 「알킬」부분을 포함하는 치환기는 직쇄 또는 분쇄 형태를 모두 포함한다. 본 발명의 일 양태에 따르면, 탄소수 7 이하의 단쇄의 알킬, 알콕시, 티옥시 등이 바람직하나, 탄소수 8 이상의 장쇄 역시 본 발명의 일 양태임은 물론이다.The substituents comprising the "alkyl", "alkoxy", "thioxy" and other "alkyl" moieties described in the present invention include both linear and branched forms. According to one embodiment of the present invention, short chain alkyl, alkoxy, thioxy and the like having 7 or less carbon atoms are preferable, but long chain having 8 or more carbon atoms is also an aspect of the present invention.

또한, 본 발명에 기재된 「아릴」은 하나의 수소 제거에 의해서 방향족 탄화수소로부터 유도된 유기 라디칼로, 각 고리에 적절하게는 4 내지 7개, 바람직하게는 5 또는 6개의 고리원자를 포함하는 단일 또는 융합고리계를 포함하며, 다수개의 아릴이 단일결합으로 연결되어 있는 형태까지 포함한다. 구체적인 예로 페닐, 나프틸, 비페닐, 터페닐, 안트릴, 인데닐, 플루오레닐, 페난트릴, 트라이페닐레닐, 피렌일, 페릴렌일, 크라이세닐, 나프타세닐, 플루오란텐일 등을 포함하지만, 이에 한정되지 않으며, 본 발명에 기재된 「헤테로아릴」은 하나의 수소 제거에 의해서 방향족 탄화수소로부터 유도된 유기 라디칼로 B, N, O, S, P(=O), Si 및 P 등으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로원자를 포함하는 3 내지 8개의 고리원자를 포함하는 일환상 또는 다환상 방향족 탄화수소 라디칼일 수 있고, 각 고리에 적절하게는 3 내지 7개, 바람직하게는 5 또는 6개의 고리원자를 포함하는 단일 또는 융합고리계를 포함하며, 다수개의 헤테로아릴이 단일결합으로 연결되어 있는 형태까지 포함한다. 구체적인 예로 퓨릴, 티오펜일, 피롤릴, 피란일, 이미다졸릴, 피라졸릴, 티아졸릴, 티아디아졸릴, 이소티아졸릴, 이속사졸릴, 옥사졸릴, 옥사디아졸릴, 트리아진일, 테트라진일, 트리아졸릴, 테트라졸릴, 퓨라잔일, 피리딜, 피라진일, 피리미딘일, 피리다진일 등의 단환 헤테로아릴; 및 벤조퓨란일, 벤조티오펜일, 이소벤조퓨란일, 벤조이미다졸릴, 벤조티아졸릴, 벤조이소티아졸릴, 벤조이속사졸릴, 벤조옥사졸릴, 이소인돌릴, 인돌릴, 인다졸릴, 벤조티아디아졸릴, 퀴놀릴, 이소퀴놀릴, 신놀리닐, 퀴나졸리닐, 퀴놀리진일, 퀴녹살리닐, 카바졸릴, 페난트리딘일, 벤조디옥솔릴 등의 다환식 헤테로아릴; 등을 포함하지만, 이에 한정되지 않는다.Furthermore, the "aryl" described in the present invention is an organic radical derived from an aromatic hydrocarbon by one hydrogen elimination, which may be a single or an aliphatic group containing, suitably, 4 to 7, preferably 5 or 6, ring atoms in each ring, A fused ring system, and a form in which a plurality of aryls are connected by a single bond. Specific examples include phenyl, naphthyl, biphenyl, terphenyl, anthryl, indenyl, fluorenyl, phenanthryl, triphenylenyl, pyrenyl, perylenyl, The "heteroaryl" described in the present invention is not limited thereto. The "heteroaryl" described in the present invention is an organic radical derived from aromatic hydrocarbons by removal of one hydrogen, and at least one selected from B, N, O, S, P May be monocyclic or polycyclic aromatic hydrocarbon radicals containing from 3 to 8 ring atoms containing heteroatoms and may optionally include 3 to 7, preferably 5 or 6, ring atoms in each ring Or a fused ring system, and includes a form in which a plurality of heteroaryls are connected by a single bond. Specific examples include furyl, thiophenyl, pyrrolyl, pyranyl, imidazolyl, pyrazolyl, thiazolyl, thiadiazolyl, isothiazolyl, isoxazolyl, oxazolyl, oxadiazolyl, triazinyl, tetrazinyl, tri Monocyclic heteroaryl such as, for example, pyrrolyl, pyrrolyl, pyrazinyl, pyrimidinyl and pyridazinyl; And benzofuranyl, benzofuranyl, benzothiophenyl, isobenzofuranyl, benzoimidazolyl, benzothiazolyl, benzoisothiazolyl, benzoisoxazolyl, benzoxazolyl, isoindolyl, indolyl, indazolyl, benzothiadiazole Polycyclic heteroaryl such as benzyl, tolyl, quinolyl, isoquinolyl, cinnolinyl, quinazolinyl, quinolizinyl, quinoxalinyl, carbazolyl, phenanthridinyl, benzodioxolyl and the like; But are not limited thereto.

또한, 본 발명에 기재된 「시클로알킬」은 3 내지 9개의 탄소 원자의 완전히 포화 및 부분적으로 불포화된 탄화수소 고리를 의미하며, 아릴 또는 헤테로아릴이 융합되어 있는 경우도 포함한다.The term " cycloalkyl " as used herein also means a fully saturated and partially unsaturated hydrocarbon ring of 3 to 9 carbon atoms, including the case where aryl or heteroaryl is fused.

또한, 본 발명에 기재된 「고리」는 서로 인접한 치환기가 서로 연결되어 형성된 고리로, 본 발명의 일 양태에 따르면, 상기 고리는 페닐기를 형성하는 것이 우선된다.Further, the "ring" described in the present invention is a ring formed by connecting adjacent substituents to each other, and according to one aspect of the present invention, it is preferred that said ring forms a phenyl group.

페노티아진(Phenothiazine)은 반응성 단량체(reactive monomer)나 올리고머에 대한 용해도가 다환방향족 탄화수소계 광증감제보다 높은 장점이 있으나, 지금까지는 400 ㎚ 근처 파장을 효과적으로 흡수하지 못 하거나, 일부 치환을 통해 흡수를 높인 경우 가시광 영역에서 넓은 흡수띠가 발생하여 광증감제로의 활용이 어렵다는 단점이 있었다. 이에, 본 발명자들은 페노티아진의 장점은 유지하면서도 전술한 단점을 해결할 수 있는 신규한 화합물을 제공하고자 한다.Phenothiazine has a higher solubility in reactive monomers and oligomers than polycyclic aromatic hydrocarbon type photosensitizers. However, up to now, it has not been able to effectively absorb wavelengths near 400 nm, A wide absorption band is generated in the visible light region and it is difficult to utilize it as a photosensitizer. Accordingly, the present inventors intend to provide a novel compound capable of solving the aforementioned drawback while maintaining the advantages of phenothiazine.

상세하게, 본 발명의 일 예에 따른 페노티아진계 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물이다.In detail, the phenothiazine compound according to an embodiment of the present invention is a compound represented by the following formula (1).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00005
Figure pat00005

(상기 화학식 1에서,(In the formula 1,

X 및 Y는 서로 독립적으로 직접결합, O 또는 S이되, X 및 Y가 모두 직접결합은 아니며;X and Y are independently a direct bond, O or S, and X and Y are not both direct bonds;

R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조이며;R 1 and R 2 are each independently selected from the group consisting of hydrogen, halogen, substituted or unsubstituted C 1 -C 30 alkyl, substituted or unsubstituted C 3 -C 30 cycloalkyl, substituted or unsubstituted C 3 -C 30 heterocyclo An alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C30 heteroaryl group, a substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group, or a combination thereof;

R3는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조이다.)R 3 represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted heterocycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted C3- A substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or a combination thereof.

화학식 1로 표시되는 화합물은 조사광 파장대 외 다른 불필요한 가시광 영역에서는 파장의 흡수가 거의 없으면서, 조사광 파장대에서의 흡수율만으로 선택적으로 개선하여 중합도 및 투과도를 향상시킬 수 있다는 장점이 있다. 또한, 반응성 단량체나 올리고머에 대한 용해도가 우수하여 상용성을 향상시킬 수 있다는 장점이 있다.The compound represented by the formula (1) has an advantage that the polymerization degree and the transmittance can be improved by selectively improving the absorptivity only at the wavelength of the irradiated light while the wavelength is not absorbed in an unnecessary visible light region other than the irradiated light wavelength band. In addition, it has an advantage of being excellent in solubility in reactive monomers and oligomers and improving compatibility.

보다 구체적인 일 예로, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물에 있어, 상기 X 및 Y는 서로 독립적으로 직접결합, O 또는 S이되, X 및 Y가 모두 직접결합은 아니며; R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조이며; R3는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조이다.More specifically, in the compound represented by Formula 1, X and Y are independently a direct bond, O or S, and X and Y are not a direct bond; R 1 and R 2 are each independently selected from the group consisting of hydrogen, halogen, substituted or unsubstituted C 1 -C 30 alkyl, substituted or unsubstituted C 3 -C 30 heteroaryl, substituted or unsubstituted C 6 -C 30 aryl Or a combination thereof; R 3 is a substituted or unsubstituted C1-C30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3-C30 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C3-C30 heteroaryl group, a substituted or unsubstituted C6- 30 aryl group, or a combination thereof.

더욱 구체적인 일 예로, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물에 있어, 상기 X 및 Y는 서로 독립적으로 직접결합, O 또는 S이되, X 및 Y가 모두 직접결합은 아니며; R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 15의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조이며; R3는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 15의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조이다.As a more specific example, in the compound represented by Formula 1, X and Y are independently a direct bond, O or S, and X and Y are not a direct bond; R 1 and R 2 are independently selected from the group consisting of hydrogen, halogen, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms Or a combination thereof; R 3 represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted C6- 20 aryl group, or a combination thereof.

본 발명의 일 실시예에 따른 화합물의 보다 바람직한 일 예로는 하기 구조의 화합물을 들 수 있으나, 본 발명이 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.More preferred examples of the compound according to an embodiment of the present invention include compounds having the following structures, but the present invention is not necessarily limited thereto.

Figure pat00006
Figure pat00006

Figure pat00007
Figure pat00007

또한, 본 발명은 전술한 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 광경화성 조성물을 제공한다. 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 광경화성 조성물은 고감도로 향상된 광경화 특성을 구현할 수 있으며, 그 경화물의 투명성 및 내열성을 현저하게 향상시킬 수 있다. 아울러, 화학식 1로 표시되는 화합물은 반응성 단량체 또는 올리고머 등에 대한 용해도가 우수하여 광경화성 조성물을 필름 또는 시트로 형상화할 시 표면을 보다 균일화 할 수 있으며, 이 물질을 현저하게 감소시킬 수 있다는 장점이 있다.The present invention also provides a photocurable composition comprising the compound represented by the above-mentioned general formula (1). The photo-curing composition containing the compound represented by the formula (1) can realize photo-curing properties improved with high sensitivity, and the transparency and heat resistance of the cured product can be remarkably improved. In addition, the compound represented by the general formula (1) is excellent in solubility with respect to reactive monomers or oligomers, so that the surface can be more uniformized when the photocurable composition is formed into a film or a sheet, and the material can be remarkably reduced .

구체적으로, 본 발명의 일 양태에 따른 광경화성 조성물은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 것일 수 있으며, 일 예시로, 광경화성 조성물 또는 봉지재 조성물 등으로 활용되는 것일 수 있다.Specifically, the photo-curable composition according to an embodiment of the present invention may include a compound represented by the following formula (1), and may be used, for example, as a photo-curing composition or an encapsulating composition.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00008
Figure pat00008

(상기 화학식 1에서,(In the formula 1,

X 및 Y는 서로 독립적으로 직접결합, O 또는 S이되, X 및 Y가 모두 직접결합은 아니며;X and Y are independently a direct bond, O or S, and X and Y are not both direct bonds;

R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조이며;R 1 and R 2 are each independently selected from the group consisting of hydrogen, halogen, substituted or unsubstituted C 1 -C 30 alkyl, substituted or unsubstituted C 3 -C 30 cycloalkyl, substituted or unsubstituted C 3 -C 30 heterocyclo An alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C30 heteroaryl group, a substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group, or a combination thereof;

R3는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조이다.)R 3 represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted heterocycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted C3- A substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or a combination thereof.

이처럼, 본 발명에 따른 광경화성 조성물은 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함함으로써 우수한 감도 및 투과 특성을 확보할 수 있다. 이때, 본 발명에 따른 화학식 1로 표시되는 화합물은 광증감제의 역할을 수행하는 것일 수 있으며, 보다 구체적으로 상기 화합물은 광흡수용으로 사용되는 것일 수 있다.As described above, the photocurable composition according to the present invention can ensure excellent sensitivity and transmission characteristics by including the compound represented by the formula (1). At this time, the compound represented by the formula (1) according to the present invention may act as a photosensitizer, and more specifically, the compound may be used for light absorption.

이때, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물의 사용량은 제한되지 않으나, 상기 광경화성 조성물 총 중량을 기준으로, 0.01 내지 20 중량%로 포함될 수 있으며, 구체적으로는 0.01 내지 10 중량%, 보다 구체적으로는 0.1 내지 5 중량%로 포함되는 것이 좋다.The amount of the compound represented by Formula 1 is not limited, but may be 0.01 to 20% by weight, more preferably 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 10% by weight, based on the total weight of the photocurable composition. By weight to 5% by weight.

본 발명의 일 예에 따른 광경화성 조성물은 광조사에 의해 광경화될 수 있으며, 구체적으로 광조사에 의해 양이온(cation), 라디칼(radical) 또는 양이온 및 라디칼이 발생되어 광경화 되는 것일 수 있다.The photocurable composition according to an exemplary embodiment of the present invention may be photo-cured by light irradiation. Specifically, cation, radical or cation and radical may be generated by light irradiation to be photo-cured.

보다 상세하게, 본 발명의 일 예에 따른 광경화성 조성물은 2개 이상의 광경화 가능한 불포화기를 갖는 광중합성 모노머 및 광개시제를 더 포함하는 것일 수 있다.More specifically, the photocurable composition according to an example of the present invention may further comprise a photopolymerizable monomer having two or more photocurable unsaturated groups and a photoinitiator.

이때, 상기 광중합성 모노머는 제한되지 않으며, 열경화에 의해 경화되거나 활성 에너지선을 조사하여 경화되는 것일 수 있다. 이때, 상기 광중합성 모노머의 관능기의 비한정적인 일 예로는 옥사졸린기, 카바메이트기, 히드록시기, 티올기, 카르복시기, 에폭시기, 옥세탄기, 이소시아네이트기, 글리시딜기, 아크릴기, 메타크릴기, 아크로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기 등을 들 수 있다.Here, the photopolymerizable monomer is not limited and may be cured by thermal curing or curing by irradiating an active energy ray. Examples of the functional groups of the photopolymerizable monomer include an oxazoline group, a carbamate group, a hydroxyl group, a thiol group, a carboxyl group, an epoxy group, an oxetane group, an isocyanate group, a glycidyl group, An acroyl group, a methacryloyl group, an acryloyloxy group, or a methacryloyloxy group.

상기 활성 에너지선의 범주에는 마이크로파(microwaves), 적외선(IR), 자외선(UV), X선 및 감마선은 물론, 알파-입자선(alpha-particle beam), 프로톤빔(proton beam), 뉴트론빔(neutron beam) 또는 전자선(electron beam)과 같은 입자빔 등이 포함될 수 있고, 통상적으로는 자외선 또는 전자선 등일 수 있다.The categories of active energy rays include, but are not limited to, microwaves, infrared (IR), ultraviolet (UV), X-rays and gamma rays, as well as alpha-particle beams, proton beams, neutron beams a particle beam such as a beam or an electron beam, and the like, and may be typically an ultraviolet ray or an electron beam.

본 발명의 일 실시예에 따른 상기 광중합성 모노머는 구체적으로, 아크릴로옥시기 또는 메타크릴로일옥시기 등을 포함하는 아크릴레이트계 화합물에서 선택되는 것이 좋다. 이때, 상기 광중합성 모노머는 본 발명에 따른 화합물과 혼합된 후 라디칼(radical)에 의해 광경화 됨으로써, 우수한 경화도로 강도는 물론 향상된 광투과율을 가지는 경화물을 제공하기 위한 측면에서, 보다 구체적으로는 1,3-부탄다이올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산다이올디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난다이올디(메타)아크릴레이트, 1,10-데칸다이올디(메타)아크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 펜옥시에틸(메타)아크릴레이트, 2-메타아크릴로일옥시에틸에시트포스페이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 사이클로헥산디메탄올디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜(200)디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜(400)디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜(600)디(메타)아크릴레이트, 글리세린디(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-아크릴로옥시프로필메타아크릴레이트, 디메틸롤트리사이크로데칸디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리(2-히드록시에틸)이소시안우레이트트리아크릴레이트, 트리(2-히드록시에틸)이소시아우레이트, 펜타리트리톨트리아크릴레이트, 에톡시레이트 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프록시레이트트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로란테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 에폭시레이트펜타리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 트리에틸프로판 트리아크릴레이트 및 펜타아크릴레이트에스터 등을 들 수 있다. 이때, 상기 아크릴레이트계 화합물은 (메타)아크릴레이트 대신 아크릴레이트인 것 또한 포함한다.The photopolymerizable monomer according to an embodiment of the present invention is preferably selected from acrylate compounds including an acryloxy group or a methacryloyloxy group. The photopolymerizable monomer is mixed with a compound according to the present invention and is photocured by a radical so as to provide a cured product having an improved light transmittance as well as an excellent curability. More specifically, (Meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, 1,10- Acrylate, 2-methacryloyloxyethyl stearate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, (Meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (Meth) acrylate, polyethylene glycol (di) (meth) acrylate, cyclohexanedimethanol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol Polyethylene glycol (600) di (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-acryloxypropyl methacrylate, dimethylol tricyclodecanediol Acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate, tri (2-hydroxyethyl) isocyanate, pentaerythritol triacrylate, ethoxylate trime (Meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra ) Acrylate, epoxylated pentaerythritol tetra (meth) acrylate, triethylpropane triacrylate, and pentaacrylate esters. Here, the acrylate-based compound may be acrylate instead of (meth) acrylate.

본 발명의 일 실시예에 따른 상기 광중합성 모노머는 구체적으로, 에폭시기를 포함하는 불포화 에폭시계 화합물 및 옥세탄기를 포함하는 불포화 옥세탄계 화합물에서 선택되는 것이 좋다. 이때, 상기 광중합성 모노머는 본 발명에 따른 화합물과 혼합된 후 양이온(cation)에 의해 광경화 됨으로써, 우수한 경화도로 강도가 높은 경화물을 제공하기 위한 측면에서, 보다 구체적으로는 디시클로펜타디엔디옥사이드, 리모넨디옥사이드, 4-비닐시클로헥센디옥사이드, 2,4-에폭시시클로헥실메틸 3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트 및 비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸)아디페이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4'-에폭시시클로헥산카복실레이트, 비스(3,4-에폭시 시클로 헥실메틸)아디페이트 디시클로펜타디엔 디옥사이드 등의 불포화에폭시계 화합물; 및 3-에틸-3-[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸]옥세탄, 1,4-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸]벤젠, 1,4-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]벤젠, 1,3-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]벤젠, 1,2-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]벤젠, 4,4'-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]비페닐, 2,2'-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]비페닐, 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]비페닐, 2,7-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]나프탈렌, 비스[4-{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}페닐]메탄, 비스[2-{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}페닐]메탄, 2,2-비스[4-{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}페닐]프로판, 3(4),8(9)-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸]-트리시클로[5.2.1.0 2,6]데칸, 2,3-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸]노르보르난, 1,1,1-트리스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸]프로판, 1-부톡시-2,2-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸]부탄, 1,2-비스[{2-(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}에틸티오]에탄, 비스[{4-(3-에틸옥세탄-3-일)메틸티오}페닐]술피드, 비스[{1-에틸(3-옥세타닐)}메틸]에테르 및 1,6-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]-2,2,3,3,4,4,5,5-옥타플루오로헥산 등의 불포화 옥세탄계 화합물; 등을 들 수 있다.The photopolymerizable monomer according to one embodiment of the present invention is preferably selected from an unsaturated oxetane-based compound containing an epoxy group and an unsaturated epoxy compound containing an oxetane group. In this regard, the photopolymerizable monomer is mixed with the compound of the present invention and then photocured by cations. Thus, in view of providing a cured product having excellent hardenability and high strength, more specifically, it is preferable to use dicyclopentadiene dioxide , Limonene dioxide, 4-vinylcyclohexene dioxide, 2,4-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate and bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, 3,4-epoxycyclo Unsaturated epoxy compounds such as hexylmethyl-3,4'-epoxycyclohexanecarboxylate and bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate dicyclopentadiene dioxide; And 3-ethyl-3 - [(3-ethyloxetan-3-yl) methoxymethyl] oxetane, 1,4-bis [ Methoxy] benzene, 1,3-bis [(3-ethyloxetan-3-yl) methoxy] benzene, 1,2-bis [ Methoxy] benzene, 4,4'-bis [(3-ethyloxetan-3-yl) methoxy] biphenyl, 2,2'-bis [ 3-yl) methoxy] biphenyl, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-bis [(3-ethyloxetan- Methoxy] naphthalene, bis [4- {(3-ethyloxetan-3-yl) methoxy} phenyl] methane, bis [2- { Methoxy} phenyl] methane, 2,2-bis [4- (3-ethyloxetan- 8 (9) -bis [(3-ethyloxetan-3-yl) methoxymethyl] -tricyclo [5.2.1.0 2,6] decane, 2,3- Methoxymethyl] norbornane, 1,1,1-tris [(3-ethyloxetan-3-yl) methoxymethyl] propane, 1-butoxy-2,2-bis [ Methoxyethyl] butane, 1,2-bis [{2- (3-ethyloxetan-3-yl) methoxy} ethylthio] ethane, bis [{4- (3-oxetanyl) methyl] ether and 1,6-bis [(3-ethyloxetan-3-yl) methylthio} phenyl] sulfide, bis [ Methoxy] -2,2,3,3,4,4,5,5-octafluorohexane and the like; And the like.

이때, 상기 광중합성 모노머의 사용량은 제한되지 않으나, 상기 광경화성 조성물 총 중량을 기준으로, 50 내지 99 중량%로 포함될 수 있으며, 구체적으로는 60 내지 99 중량%, 보다 구체적으로는 70 내지 99 중량%로 포함되는 것이 좋다.The amount of the photopolymerizable monomer to be used is not limited, but may be 50 to 99% by weight based on the total weight of the photocurable composition, specifically 60 to 99% by weight, more preferably 70 to 99% %.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 광개시제는 공지의 것이라면 제한되지는 않으며, 일 예로 상기 활성 에너지선의 조사에 의해 양이온종이나 루이스산을 만들어 내는 양이온성 광개시제이거나 상기 활성 에너지선의 조사에 의해 라디칼을 만들어내는 광개시제일 수 있다.In addition, the photoinitiator according to an embodiment of the present invention is not limited as long as it is a known one. For example, the photoinitiator may be a cationic photoinitiator that produces a cationic species or a Lewis acid by irradiation of the active energy ray, Can be a photoinitiator.

양이온성 광개시제는 친핵성이 약한 음이온이 있는 오늄(onium) 염일 수 있으며, 일 예로 할로늄 염, 요오도실 염, 술포늄 염, 술폭소늄 염, 또는 디아조늄 염 등을 들 수 있다. 상업적인 양이온성 광개시제의 비한정적인 일예로는 UVI-6974 ,UVI-6976, UVI-6970, UVI-6960, UVI-6990 (다우(DOW Corp.)), CD1010, CD-1011, CD-1012 (사토머(Sartomer Corp.)), 아데카오프토머(Adekaoptomer) SP-150, SP-151, SP-170, SP-171 (아사히 덴카 코교(Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.)), 이르가큐어 261 (시바 스페셜티 케미칼스), CI-2481, CI-2624, CI-2639, CI-2064 (니폰 소다(Nippon Soda Co, Ltd.)), 및 DTS-102, DTS-103, NAT-103, NDS-103, TPS-103, MDS-103, MPI-103, BBI-103 (미도리 케미칼(Midori Chemical Co, Ltd.)) 등을 들 수 있다.The cationic photoinitiator may be an onium salt having a weakly nucleophilic anion, and examples thereof include a halonium salt, an iodosyl salt, a sulfonium salt, a sulfoxonium salt, and a diazonium salt. Non-limiting examples of commercial cationic photoinitiators include UVI-6974, UVI-6976, UVI-6970, UVI-6990 (DOW Corp.), CD1010, CD-1011, CD- (Sartomer Corp.), Adekaoptomer SP-150, SP-151, SP-170 and SP-171 (Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), Irgacure 261 (Nippon Soda Co., Ltd.) and DTS-102, DTS-103, NAT-103, NDS-1024 and CI- 103, TPS-103, MDS-103, MPI-103 and BBI-103 (Midori Chemical Co., Ltd.).

또한 상기 광개시제는 벤조인 유도체, 아세토페논 유도체, 안트라퀴논 유도체, 티오크산톤 유도체, 케탈 유도체, 벤조페논 유도체, α-아미노아세토페논 유도체, 아실포스핀옥사이드 유도체 및 옥심에스테르 유도체 등에서 선택되는 것일 수 있다. 이때, 상기 광개시제의 비한정적인 일 예로는 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르 등의 벤조인 유도체; 아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 1,1-디클로로아세토페논, 4-(1-t-부틸디옥시-1-메틸에틸)아세토페논 등의 아세토페논 유도체; 2-메틸안트라퀴논, 2-아밀안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 1-클로로안트라퀴논 등의 안트라퀴논 유도체; 2,4-디메틸티오크산톤, 2,4-디이소프로필티오크산톤, 2-클로로티오크산톤 등의 티오크산톤 유도체; 아세토페논디메틸케탈, 벤질디메틸케탈 등의 케탈류; 벤조페논, 4-(1-t-부틸디옥시-1-메틸에틸)벤조페논, 3,3',4,4'-테트라키스(t-부틸디옥시카르보닐)벤조페논 등의 벤조페논 유도체; 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로파논-1,2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰포리노페닐)-부탄-1-온, 2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-[4-(4-몰포리닐)페닐]-1-부타논, N,N-디메틸아미노아세토페논(시판품으로서는 치바스페셜리티케미컬사(현, 치바저팬사) 제품의 이루가큐어(등록상표) 907, 이루가큐어 369, 이루가큐어 379 등) 등의 α-아미노아세토페논 유도체; 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐호스핀옥사이트, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥사이드(시판품으로서는, BASF사 제품 루실린(등록상표) TPO, 치바스페셜리티케미컬사 제품의 이루가큐어 819 등) 등의 아실포스핀옥사이드 유도체; 2-(아세틸옥시이미노메틸)티오크산텐-9-온, (1,2-옥탄디온, 1-[4-(페닐티오)페닐]-, 2-(O-벤조일옥심)), (에탄온, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심)) 등의 옥심에스테르 유도체 등을 들 수 있으며, 이중 상술된 옥심에스테르 유도체 등에서 선택되는 하나 또는 둘 이상의 혼합물을 사용하는 것이 좋으나 이에 한정되지 않음은 물론이다.The photoinitiator may be selected from benzoin derivatives, acetophenone derivatives, anthraquinone derivatives, thioxanthone derivatives, ketal derivatives, benzophenone derivatives,? -Aminoacetophenone derivatives, acylphosphine oxide derivatives and oxime ester derivatives . At this time, non-limiting examples of the photoinitiator include benzoin derivatives such as benzoin, benzoin methyl ether, and benzoin ethyl ether; Acetophenone derivatives such as acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone and 4- (1-t-butyldioxy-1-methylethyl) acetophenone; Anthraquinone derivatives such as 2-methyl anthraquinone, 2-amylanthraquinone, 2-t-butyl anthraquinone, and 1-chloro anthraquinone; Thioxanthone derivatives such as 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone and 2-chlorothioxanthone; Ketal such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal; Benzophenone derivatives such as benzophenone, 4- (1-t-butyldioxy-1-methylethyl) benzophenone and 3,3 ', 4,4'-tetrakis (t-butyldioxycarbonyl) benzophenone ; Methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1,2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) , N, N-dimethylaminoacetophenone (commercially available products such as N, N-dimethylaminoethyl) -2 - [(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) Α-amino acetophenone derivatives such as Irgacure (registered trademark) 907, Irgacure 369, Irgacure 379 from Chiba Specialty Chemicals (now Ciba Japan); Bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl Acylphosphine oxide derivatives such as pentylphosphine oxide (commercially available products such as Lucylin (registered trademark) TPO from BASF, and IRGACURE 819 from Ciba Specialty Chemicals); (4-phenylthio) phenyl, 2- (O-benzoyloxime), (ethanone) Oxime ester derivatives such as 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -, 1- (O-acetyloxime) Oxime ester derivatives, and the like. However, the present invention is not limited thereto.

이때, 상기 광개시제의 사용량은 제한되지 않으나, 상기 광경화성 조성물 총 중량을 기준으로, 0.5 내지 20 중량%로 포함될 수 있으며, 구체적으로는 1 내지 15 중량%, 보다 구체적으로는 1 내지 10 중량%로 포함되는 것이 좋다.The amount of the photoinitiator may be in the range of 0.5 to 20% by weight based on the total weight of the photocurable composition, specifically 1 to 15% by weight, more preferably 1 to 10% by weight It should be included.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 광경화성 조성물은 보다 우수한 경화도를 구현하기 위한 측면에서, 제2광증감제, 접착조제, 계면활성제, 자외선 흡수제, 광안정제, 열안정제, 산화 방지제, 수분 흡착제, 유연화제, 가소제, 윤활제, 난연제, 대전방지제, 소포제, 레벨링제 등의 첨가제를 더 포함할 수 있다.In addition, the photocurable composition according to an embodiment of the present invention may further contain a second photosensitizer, an adhesion promoter, a surfactant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a heat stabilizer, an antioxidant, , A plasticizing agent, a plasticizer, a lubricant, a flame retardant, an antistatic agent, a defoaming agent, and a leveling agent.

상기 첨가제의 일 예로, 상기 제2광증감제의 비한정적인 일 예로는 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센(2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene), 9,10-디클로로안트라센(9,10-dichloroanthracene), 1-클로로안트라센(1-chloroanthracene), 2-메틸안트라센(2-methylanthracene), 9-메틸안트라센(9-methylanthracene), 2-t-부틸안트라센(2-t-butylanthracene), 안트라센(anthracene), 1,2-벤즈안트라센(1,2-benzanthracene), 1,2,3,4-디벤즈안트라센(1,2,3,4-dibenzanthracene), 1,2,5,6-디벤즈안트라센(1,2,5,6-dibenzanthracene), 1,2,7,8-디벤즈안트라센(1,2,7,8-dibenzanthracene), 9,10-디메톡시디메틸안트라센(9,10-dimethoxydimethylanthracene), 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센(2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene), N-메틸페노티아진(N-methylphenothiazine), 2-이소프로필티옥산톤(2-isopropylthioxanthone) 등을 들 수 있다. 또한 상업적인 제2광증감제의 비한정적인 일예로는 카야큐어(등록상표)-DMBI, BDMK, BP-100, BMBI, DETX-S, EPA(이상, 닛뽄카야쿠주식회사 제품), 안트라큐어(등록상표) UVS-1331, UVS-1221(이상, 가와사키카세이코교(川崎化成工業) 주식회사 제품), 유베크릴 P102, 103, 104, 105(이상, UCB사 제품)등을 들 수 있다.As an example of the additive, a non-limiting example of the second photosensitizer is 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-dichloroanthracene (9 1-chloroanthracene, 2-methylanthracene, 9-methylanthracene, 2-t-butylanthracene, Anthracene, 1,2-benzanthracene, 1,2,3,4-dibenzanthracene, 1,2,5,6- 1,2,5,6-dibenzanthracene, 1,2,7,8-dibenzanthracene, 9,10-dimethoxydimethylanthracene (9,10-dibenzanthracene) dimethoxydimethylanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, N-methylphenothiazine, 2-isopropylthioxanthone, ) And the like. Nonlimiting examples of commercially available second photosensitizers include Kayacure TM-DMBI, BDMK, BP-100, BMBI, DETX-S, EPA (available from Nippon Kayaku Co., Ltd.) UVS-1331, UVS-1221 (manufactured by Kawasaki Kasei Kogyo Co., Ltd.), Yubecryl P102, 103, 104 and 105 (manufactured by UCB Co., Ltd.) and the like.

상기 접착조제는 가수분해성기(예, 알콕시, 아실옥시, 할로겐 등) 및 유기 관능기(예, 아미노, 메르캅토, 비닐, 에폭시, 메타크릴옥시, 아크릴옥시, 이소시아네이트 등)로부터 선택되는 둘 이상의 유형의 상이한 치환기를 갖는 실란 화합물일 수 있다. 이의 비한정적인 일예로는 N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-트리에톡시실릴-N-(1,3-디메틸-부틸리덴)프로필아민, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(비닐벤질)-2-아미노에틸-3-아미노프로필트리메톡시실란 및 3-글리시독시프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다.The adhesion aid may be of two or more types selected from hydrolyzable groups (e.g., alkoxy, acyloxy, halogen, etc.) and organic functional groups (e.g., amino, mercapto, vinyl, epoxy, methacryloxy, acryloxy, isocyanate, etc.) May be a silane compound having a different substituent. Nonlimiting examples thereof include N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, Aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) propyl Amine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (vinylbenzyl) -2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane and 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane. have.

상기 계면활성제는 계면활성능을 가지는 폴리에테르계 실리콘 오일일 수 있으며, 이의 비한정적인 일예로는 상품명 KF-101, KF-102, KF-105, KF-351, KF-352, KF-618, KF-945, KF-2001, KF-2004, X-22-163A, X-22-163B, X-22-167B, X-22-169AS, X-22-2000, X-22-4741, X-22-4741(이상, 신에츠 화학공업주식회사 제품), 상품명 BYK-307, BYK-325, BYK-333(이상, 비크 케미 재팬사 제품)등을 들 수 있다.KF-101, KF-102, KF-105, KF-351, KF-352, KF-618, and KF-101 are commercially available products -945, KF-2001, KF-2004, X-22-163A, X-22-163B, X-22-167B, X-22-169AS, X-22-2000, X- -4741 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), trade names BYK-307, BYK-325 and BYK-333 (manufactured by Beck Chemie Japan).

상기 자외선 흡수제는 광경화성 조성물의 용도에 따라서, 태양광 등으로부터의 자외선을 흡수하여, 분자 내에서 무해한 열에너지로 변환시켜 광열화 개시의 활성종이 여기되는 것을 방지하는 역할을 할 수 있다. 이때, 상기 자외선 흡수제의 비한정적인 일 예로는 벤조페논계, 벤조트리아졸계, 아크릴니트릴계, 금속 착염계, 힌더드 아민계, 초미립자 산화티탄 또는 초미립자 산화 아연 등의 무기계 자외선 흡수제 등의 1종 이상 또는 2종 이상의 혼합을 사용할 수 있다.The ultraviolet absorber may act to absorb ultraviolet rays from sunlight or the like and convert the ultraviolet absorber into harmless thermal energy in the molecule to prevent excitation of the active species of photo-initiation initiation, depending on the use of the photo-curable composition. Examples of the ultraviolet absorber include inorganic ultraviolet absorbers such as benzophenone, benzotriazole, acrylonitrile, metal complex salt, hindered amine, ultrafine titanium oxide and ultrafine zinc oxide. Or a mixture of two or more of them may be used.

상기 광안정제는 광열화 개시의 활성종을 포착하여, 광산화를 방지하는 역할을 할 수 있다. 이때, 상기 광안정제의 비한정적인 일 예로는 힌더드 아민계 화합물 또는 힌더드 피페리딘계 화합물 등과 같은 공지의 화합물을 들 수 있다.The light stabilizer can capture the active species of photo-induced initiation and prevent photo-oxidation. At this time, non-limiting examples of the light stabilizer include a known compound such as a hindered amine compound or a hindered piperidine compound.

상기 열안정제의 비한정적인 일 예로는 트리스(2,4-디-터트-부틸페닐)포스파이트, 비스[2,4-비스(1,1-디메틸에틸)-6-메틸페닐]에틸에스테르 아인산, 테트라키스(2,4-디-터트-부틸페닐)[1,1-비페닐]-4,4'-디일비스포스포네이트 및 비스(2,4-디-터트-부틸페닐)펜타에리쓰리톨디포스파이트 등의 인계 열안정제; 8-하이드록시-5,7-디-터트-부틸-푸란-2-온과 o-크실렌과의 반응 생성물 등의 락톤계 열안정제;를 들 수 있고, 이들 중 1종 이상 또는 2종 이상의 혼합을 사용할 수 있다.Nonlimiting examples of the heat stabilizer include tris (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, bis [2,4-bis (1,1-dimethylethyl) -6- methylphenyl] ethyl ester phosphorous acid, (2,4-di-tert-butylphenyl) [1,1-biphenyl] -4,4'-diyl bisphosphonate and bis (2,4-di-tert-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite Phosphorus-based thermal stabilizers; And a lactone type heat stabilizer such as a reaction product of 8-hydroxy-5,7-di-tert-butyl-furan-2-one and o-xylene, Can be used.

상기 수분 흡착제는 광경화성 조성물을 봉지재로 활용할 시, 봉지재로 침투한 수분 내지는 습기와의 화학적 반응 또는 물리적 반응을 통해 수분을 흡착 또는 제거할 수 있는 물질을 의미한다. 상기 수분 흡착제의 비한정적일 일예로는 금속 산화물, 황산염, 유기 금속 산화물, 클레이, 탈크, 침상 실리카, 판상 실리카, 다공성 실리카, 제올라이트, 티타니아 또는 지르코니아 등을 들 수 있으며, 이의 구체적인 일예로는 산화마그네슘, 산화칼슘, 산화스트론튬, 산화바륨 또는 산화알루미늄 등의 금속 산화물; 황산마그네슘, 황산나트륨 또는 황산니켈 등의 황산염; 알루미늄 옥사이드 옥틸레이트 등의 유기 금속 산화물을 들 수 있다.The moisture adsorbent refers to a material capable of adsorbing or removing moisture through chemical reaction or physical reaction with moisture or moisture penetrated into the encapsulating material when the photo-curing composition is used as an encapsulating material. Specific examples of the moisture adsorbent include metal oxides, sulfates, organic metal oxides, clay, talc, needle-like silica, plate-like silica, porous silica, zeolite, titania or zirconia. , Metal oxides such as calcium oxide, strontium oxide, barium oxide or aluminum oxide; Sulfates such as magnesium sulfate, sodium sulfate or nickel sulfate; And organic metal oxides such as aluminum oxide octylate.

이때, 상기 첨가제는 상기 조성물 총 중량을 기준으로 각각 0.01 내지 10 중량부로 포함될 수 있으며, 구체적으로는 0.05 내지 5 중량부, 보다 구체적으로는 0.1 내지 5 중량부로 포함되는 것이 좋으나 이에 한정되지 않음은 물론이다.In this case, the additive may be contained in an amount of 0.01 to 10 parts by weight based on the total weight of the composition, specifically 0.05 to 5 parts by weight, more specifically 0.1 to 5 parts by weight, to be.

또한, 본 발명은 상술된 조합의 광경화성 조성물의 경화물을 포함하는 봉지재로 봉지된 유기 전자소자를 제공한다.The present invention also provides an organic electronic device encapsulated with an encapsulant comprising a cured product of the photocurable composition of the combination described above.

상기 봉지재의 형태는 특별히 제한되지 않으나, 바람직하게 시트 또는 필름 형태로 제조될 수 있다. 이때, 상기 봉지재 시트 또는 필름의 막 두께는 유기 전자장치의 셀 등의 소자의 지지 효율 및 파손 가능성, 장치의 경량화나 작업성 등을 고려하여, 적절하게 조절될 수 있음은 물론이며, 구체적으로는 5 내지 2,000 ㎛ 두께로 제조될 수 있으며, 보다 구체적으로는 5 내지 1,000 ㎛ 두께로 제조될 수 있다.The shape of the encapsulating material is not particularly limited, but may be preferably formed in the form of a sheet or a film. At this time, it is a matter of course that the film thickness of the sealing material sheet or film can be appropriately adjusted in consideration of the supporting efficiency and breakage possibility of elements such as cells of the organic electronic device, lightening of the apparatus, workability, May be manufactured to a thickness of 5 to 2,000 mu m, and more specifically may be manufactured to a thickness of 5 to 1,000 mu m.

본 발명에 따른 경화물, 즉 봉지재는 상술된 본 발명에 따른 조합의 광경화성 조성물을 이용하여 제조됨으로써, 우수한 경화도를 구현할 뿐 아니라 흡습성이 낮고 내습성이 우수한 경화물을 제공할 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 봉지재는 향상된 내열성 및 우수한 표면 특성(일예, 표면 경도, 접착성, 균열 내성, 내열 충격성 등)의 확보가 가능하다.The cured product, that is, the sealing material according to the present invention can be produced by using the photocurable composition of the combination according to the present invention as described above, thereby providing a cured product that not only realizes an excellent curing degree but also has a low hygroscopicity and excellent moisture resistance. Further, the encapsulant according to the present invention can secure an improved heat resistance and excellent surface properties (e.g., surface hardness, adhesiveness, crack resistance, thermal shock resistance, etc.).

또한 본 발명에 따르면, 대면적의 장치에서 소자의 보호를 위하여 적용되는 경우에도 기포 등의 유발 없이 소자 상에 적층될 수 있고, 봉지 공정 후에 외부 성분, 예를 들면, 수분 등으로부터 소자를 효과적으로 보호할 수 있다.According to the present invention, even when applied to protect devices in a large-area device, the device can be stacked on the device without causing bubbles or the like, and after the sealing process, the device is effectively protected from external components, can do.

본 발명의 일 실시예에 따른 봉지재는 상기 광경화성 조성물을 포함하는 유기층을 2층 이상 적층한 다층 구조를 가질 수 있다. 이때, 상기 다층 구조의 각 유기층은 서로 상이한 탄성률, 광투과율, 수증기 투과율을 갖는 것일 수 있다.The encapsulant according to an embodiment of the present invention may have a multi-layer structure in which two or more organic layers including the photo-curable composition are laminated. At this time, the organic layers of the multi-layer structure may have different elastic moduli, light transmittance, and water vapor transmittance.

본 발명의 일 실시예에 따른 봉지재는 400 ㎚ 파장에서의 광투과율이 80 내지 99%로 우수한 투명성을 보일 뿐 아니라 향상된 경화률로 전제적인 필름 특성을 향상시킬 수 있다. The encapsulant according to an embodiment of the present invention not only exhibits excellent transparency with a light transmittance of 80 to 99% at a wavelength of 400 nm, but also can improve the overall film characteristic with an improved curing rate.

본 발명의 일 실시예에 따른 봉지재의 광투과율(@400nm)은 구체적으로 85 내지 99%, 보다 구체적으로 90 내지 99%인 것일 수 있다.The light transmittance (400 nm) of the encapsulant according to an embodiment of the present invention may be specifically 85 to 99%, more specifically 90 to 99%.

본 발명의 일 실시예에 따른 봉지재는, 기재를 추가로 포함할 수 있다. 기재는 봉지재의 일면 또는 양면에 배치될 수 있다. 상기 기재는 이형 처리가 되어 있는 기재일 수 있고, 이러한 기재의 종류는 당업계에서 사용하는 것을 제한없이 사용하는 것이 가능하다.The encapsulating material according to an embodiment of the present invention may further include a substrate. The substrate may be disposed on one side or both sides of the encapsulant. The substrate may be a substrate subjected to a releasing treatment, and the kind of substrate may be used without limitation in the art.

본 발명의 일 실시예에 따른 봉지재는 다양한 대상을 봉지(encapsulation)하여 보호하는 것에 적용될 수 있다. 특히, 상기 봉지재는 산소 또는 수분에 민감한 소자를 포함하는 대상의 보호에 효과적일 수 있다. 상기 봉지재가 적용될 수 있는 대상의 일예로는, 광전지 장치(photovoltaic device), 정류기(rectifier), 트랜스미터(transmitter) 또는 유기발광소자(organic light emitting diode; OLED) 등과 같은 유기 전자장치를 들 수 있으며, 태양전지 또는 이차전지 등 역시 적용될 수 있음은 물론이다.The encapsulant according to an embodiment of the present invention can be applied to encapsulate and protect various objects. In particular, the encapsulant may be effective in protecting an object comprising oxygen or moisture sensitive devices. Examples of objects to which the encapsulant can be applied include organic electronic devices such as a photovoltaic device, a rectifier, a transmitter or an organic light emitting diode (OLED) A solar cell, a secondary cell, or the like may also be applied.

이하, 실시예를 통해 본 발명에 따른 신규한 화합물, 이를 포함하는 광경화성 조성물 및 이의 경화물에 대하여 더욱 상세히 설명한다. 다만 하기 실시예는 본 발명을 상세히 설명하기 위한 하나의 참조일 뿐 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 여러 형태로 구현될 수 있다.BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the novel compounds according to the present invention, photocurable compositions containing them, and cured products thereof will be described in more detail by way of examples. It should be understood, however, that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the invention.

또한 달리 정의되지 않은 한, 모든 기술적 용어 및 과학적 용어는 본 발명이 속하는 당업자 중 하나에 의해 일반적으로 이해되는 의미와 동일한 의미를 갖는다. 본원에서 설명에 사용되는 용어는 단지 특정 실시예를 효과적으로 기술하기 위함이고 본 발명을 제한하는 것으로 의도되지 않는다. 또한 명세서에서 특별히 기재하지 않은 첨가물의 단위는 중량%일 수 있다.Unless otherwise defined, all technical and scientific terms have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. In addition, the unit of the additives not specifically described in the specification may be% by weight.

[[ 실시예Example 1] 화합물 1의 제조 1] Preparation of compound 1

Figure pat00009
Figure pat00009

질소 분위기 하에서, 2-(에틸티오)-10H-페노티아진(2-(Ethylthio)-10H-phenothiazine) 2.59 g, 4-아이오도아니솔(4-iodoanisole) 3.51 g, 무수탄산칼륨 4.15 g, 구리가루(copper bronze) 1.82 g, 18-crown-6(1,4,7,10,13,16-헥사옥사시클로옥타데케인( 1,4,7,10,13,16-hexaoxacyclooctadecane)) 0.53 g, 1,2-디크롤로벤젠 100 ㎖를 혼합한 후 180℃에서 48시간 동안 교반하였다.2.59 g of 2- (ethylthio) -10H-phenothiazine, 3.51 g of 4-iodoanisole, 4.15 g of anhydrous potassium carbonate, Copper bronze 1.82 g, 18-crown-6 (1,4,7,10,13,16-hexaoxacyclooctadecane) 0.53 g, and 1,2-diclorobenzene (100 ml) were mixed and stirred at 180 ° C for 48 hours.

반응완료 후 반응액을 냉각시키고 감압여과한 후, 그 여액을 증류수로 2~3회 수세하였다, 다음으로 회전농축기를 이용하여 유기용매를 제거한 후, 컬럼 크로마토그래피를 통해 정제하여 2.9 g의 화합물 1을 얻었다.After completion of the reaction, the reaction solution was cooled and filtered under reduced pressure, and the filtrate was washed with distilled water for 2 to 3 times. Then, the organic solvent was removed using a rotary evaporator and then purified by column chromatography to obtain 2.9 g of Compound 1 ≪ / RTI >

1H NMR (acetone-d6, 300 MHz), δ: 7.36(d, J=6.0 Hz, 2H), 7.23(d, J=6.0 Hz, 2H), 7.00(d, J=6.0 Hz, 1H), 6.94(d, J=6.0 Hz, 1H), 6.89(d, J=6.0 Hz, 1H), 6.83(t, J=9.0 Hz, 2H), 6.21(d, J=6.0 Hz, 1H), 6.16(s, 1H), 3.91(s, 1H), 2.73(m, 2H), 1.14(t, J=9.0Hz, 3H). 1 H NMR (acetone-d 6 , 300 MHz), δ: 7.36 (d, J = 6.0 Hz, 2H), 7.23 (d, J = 6.0 Hz, 2H), 7.00 (d, J = 6.0 Hz, 1H) , 6.94 (d, J = 6.0 Hz, 1H), 6.89 (d, J = 6.0 Hz, 1H) (s, 1H), 3.91 (s, 1H), 2.73 (m, 2H), 1.14 (t, J = 9.0 Hz, 3H).

[[ 실시예Example 2] 화합물 2의 제조 2] Preparation of compound 2

Figure pat00010
Figure pat00010

질소 분위기 하에서, 2-(에틸티오)-10H-페노티아진 2.59 g, 2,4-디메톡시 아이오도벤젠(2,4-dimethoxy iodobenzene) 3.96 g, 무수탄산칼륨 4.15 g, 구리가루 1.82 g, 18-crown-6 0.53 g, 1,2-디크롤로벤젠 100 ㎖를 혼합한 후 180℃에서 48시간 동안 교반하였다.2.59 g of 2- (ethylthio) -10H-phenothiazine, 3.96 g of 2,4-dimethoxy iodobenzene, 4.15 g of anhydrous potassium carbonate, 1.82 g of copper powder, 18-crown-6 (0.53 g) and 1,2-diclorobenzene (100 ml) were mixed, and the mixture was stirred at 180 ° C for 48 hours.

반응완료 후 반응액을 냉각시키고 감압여과한 후, 그 여액을 증류수로 2~3회 수세하였다, 다음으로 회전농축기를 이용하여 유기용매를 제거한 후, 컬럼 크로마토그래피를 통해 정제하여 2.97 g의 화합물 2를 얻었다.After completion of the reaction, the reaction solution was cooled and filtered under reduced pressure, and the filtrate was washed with distilled water two to three times. Next, the organic solvent was removed using a rotary evaporator, and then purified by column chromatography to obtain 2.97 g of Compound 2 .

1H NMR (acetone-d6, 300 MHz), δ: 7.25(d, J=6.0 Hz, 1H), 6.97(s, 1H), 6.89(d, J=6.0 Hz, 2H), 6.80-6.74(m, 4H), 6.12(d, J=6.0 Hz, 1H), 6.08(s, 1H), 3.92(s, 3H), 3.81(s, 3H), 2.73(m, 2H), 1.14(t, J=9.0 Hz, 3H). 1 H NMR (acetone-d 6 , 300 MHz), δ: 7.25 (d, J = 6.0 Hz, 1H), 6.97 (s, 1H), 6.89 (d, J = 6.0 Hz, 2H), 6.80-6.74 ( (s, 3H), 3.81 (s, 3H), 2.73 (m, 2H), 1.14 (t, J = 9.0 Hz, 3H).

[[ 실시예Example 3] 화합물 3의 제조 3] Preparation of Compound 3

Figure pat00011
Figure pat00011

질소 분위기 하에서, 2-(에틸티오)-10H-페노티아진 2.59 g, 아이오도벤젠(iodobenzene) 3.06 g, 무수탄산칼륨 4.15 g, 구리가루 1.82 g, 18-crown-6 0.53 g, 1,2-디크롤로벤젠 100 ㎖를 혼합한 후 150℃에서 24시간 동안 교반하였다.2.59 g of 2- (ethylthio) -10H-phenothiazine, 3.06 g of iodobenzene, 4.15 g of anhydrous potassium carbonate, 1.82 g of copper powder, 0.53 g of 18-crown-6, -Dichlorobenzene (100 ml) were mixed and stirred at 150 占 폚 for 24 hours.

반응완료 후 반응액을 냉각시키고 감압여과한 후, 그 여액을 증류수로 2~3회 수세하였다, 다음으로 회전농축기를 이용하여 유기용매를 제거한 후, 컬럼 크로마토그래피를 통해 정제하여 2.85 g의 화합물 3을 얻었다.After completion of the reaction, the reaction solution was cooled and filtered under reduced pressure, and the filtrate was washed with distilled water for 2 to 3 times. Next, the organic solvent was removed using a rotary condenser and then purified by column chromatography to obtain 2.85 g of Compound 3 ≪ / RTI >

1H NMR (acetone-d6, 300 MHz), δ: 7.71(t, J=9.0 Hz, 2H), 7.57(t, J=9.0 Hz, 1H), 7.46(t, J=9.0 Hz, 2H), 7.03(d, J=6.0 Hz, 1H), 6.97(d, J=6.0 Hz, 1H), 6.89-6.81(m, 3H), 5.22(d, J=6.0 Hz, 1H), 5.15(s, 1H), 2.72(m, 2H), 1.12(t, J=9.0 Hz, 3H). 1 H NMR (acetone-d 6 , 300 MHz), δ: 7.71 (t, J = 9.0 Hz, 2H), 7.57 (t, J = 9.0 Hz, 1H), 7.46 (t, J = 9.0 Hz, 2H) , 7.03 (d, J = 6.0 Hz, 1H), 6.97 (d, J = 6.0 Hz, 1H), 6.89-6.81 (m, 3H), 5.22 1H), 2.72 (m, 2H), 1.12 (t, J = 9.0 Hz, 3H).

[[ 실시예Example 4] 화합물 4의 제조 4] Preparation of compound 4

Figure pat00012
Figure pat00012

질소 분위기 하에서, 2-(에틸티오)-10H-페노티아진 2.59 g, 4-부톡시 아이오도벤젠(4-butoxy iodobenzene) 4.14 g, 무수탄산칼륨 4.15 g, 구리가루 1.82 g, 18-crown-6 0.53 g, 1,2-디크롤로벤젠 100 ㎖를 혼합한 후 180℃에서 48시간 동안 교반하였다.Phenylazine, 4.14 g of 4-butoxy iodobenzene, 4.15 g of anhydrous potassium carbonate, 1.82 g of copper powder, 18-crown- 6 (0.53 g) and 1,2-diclobulobenzene (100 ml) were mixed, and the mixture was stirred at 180 ° C for 48 hours.

반응완료 후 반응액을 냉각시키고 감압여과한 후, 그 여액을 증류수로 2~3회 수세하였다, 다음으로 회전농축기를 이용하여 유기용매를 제거한 후, 컬럼 크로마토그래피를 통해 정제하여 2.71 g의 화합물 4-1을 얻었다.After completion of the reaction, the reaction solution was cooled and filtered under reduced pressure, and the filtrate was washed with distilled water for 2 to 3 times. Then, the organic solvent was removed using a rotary evaporator and then purified by column chromatography to obtain 2.71 g of Compound 4 -1.

다음으로, 질소분위기 하에서 화합물 4-1 1.3 g을 디메틸포름아미드(DMF) 30 ㎖에 용해시킨 후 0℃로 냉각시키고, N-브로모숙신이미드(NBS) 0.74 g을 첨가하여 실온(약 25℃)에서 8시간동안 교반하였다. 반응이 완료되면 묽은 수산화칼륨을 이용하여 pH 7로 중화시키고, 메틸렌 클로라이드(MC)를 사용하여 추출하였다. 생성물을 컬럼 크로마토그래피를 통해 정제하여 1.32 g의 화합물 4-2를 얻었다.Subsequently, 1.3 g of the compound 4-1 was dissolved in 30 ml of dimethylformamide (DMF) in a nitrogen atmosphere, and the mixture was cooled to 0 캜. 0.74 g of N-bromosuccinimide (NBS) was added thereto, Lt; 0 > C) for 8 hours. When the reaction was completed, the mixture was neutralized to pH 7 with diluted potassium hydroxide and extracted with methylene chloride (MC). The product was purified by column chromatography to give 1.32 g of compound 4-2.

다음으로, 질소분위기 하에서 화합물 4-2 1.1 g, CuI 0.024 g, 8-히드록시퀴놀린(8-hydroxyquinoline) 0.038 g, 인산칼륨(K3PO4) 1.1 g을 혼합하여 교반하였다. 교반액에 1-부타놀 6 ㎖를 첨가하고, 110℃에서 24시간동안 교반하였다. 반응이 완료되면 실온(약 25℃)으로 냉각하고 용매를 제거한 후 MC를 사용하여 추출하였다. 생성물을 컬럼 크로마토그래피를 통해 정제하여 0.7 g의 화합물 4를 얻었다.Next, the mixture was stirred a mixture of compound 4-2 1.1 g, CuI 0.024 g, 8- hydroxyquinoline (8-hydroxyquinoline) 0.038 g, potassium phosphate (K 3 PO 4) 1.1 g in a nitrogen atmosphere. 6 ml of 1-butanol was added to the stirring solution, and the mixture was stirred at 110 DEG C for 24 hours. When the reaction was completed, the reaction mixture was cooled to room temperature (about 25 ° C), the solvent was removed, and the reaction solution was extracted using MC. The product was purified by column chromatography to obtain 0.7 g of compound 4. < 1 >

1H NMR (CDCl3 , 500 MHz), δ: 7.24(t, J=9.0 Hz, 2H), 7.08-7.06(m, 4H), 6.89(d, J=9.0 Hz, 1H), 6.56(s, 1H), 6.39(d, J=9.0 Hz, 1H), 6.10(d, J=9.0 Hz, 1H), 6.03 (d, J=9.0 Hz, 1H), 4.03(t, J=6.5 Hz, 2H), 3.85(t, J=6.5 Hz, 2H), 1.82(m, 2H), 1.69(m, 2H), 1.53(m, 2H), 1.44(m, 2H), 1.02(t, J=7.5 Hz, 3H), 0.95(t, J=7.5 Hz, 3H). 1 H NMR (CDCl 3, 500 MHz), δ: 7.24 (t, J = 9.0 Hz, 2H), 7.08-7.06 (m, 4H), 6.89 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 6.56 (s, J = 9.0 Hz, 1H), 6.39 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 6.10 (d, 2H, J = 7.5 Hz, 1H), 3.85 (m, 2H), 1.85 3H), 0.95 (t, J = 7.5 Hz, 3 H).

[ 실시예 5] 양이온 광경화성 조성물의 제조 [ Example 5] Preparation of cationic photo-curable composition

광중합성 모노머(3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4'-에폭시시클로헥산카복실레이트, UVR-6110, Dow chemical) 45.85g, 양이온 광개시제(CD-1012, Sartomer) 2.0g, 상기 실시예 1의 화합물 1.0g, 접착조제(KBM-403) 1.0g 및 계면활성제(BYK-307) 0.15g을 순차적으로 혼합하여, 상온(23℃)에서 3시간 동안 교반하여 양이온 광경화성 조성물을 제조하였다. 45.85 g of a photopolymerizable monomer (3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4'-epoxycyclohexanecarboxylate, UVR-6110, Dow chemical), 2.0 g of a cationic photoinitiator (CD-1012, Sartomer) (KBM-403) and 0.15 g of a surfactant (BYK-307) were sequentially mixed and stirred at room temperature (23 캜) for 3 hours to prepare a cationic photo-curable composition.

[ 실시예 6 내지 8] 양이온 광경화성 조성물의 제조 [ Examples 6 to 8] Preparation of cationic photo-curable composition

상기 실시예 1의 화합물 대신에 상기 실시예 2, 실시예 3 또는 실시예 4의 화합물 각각 1.0g을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 5과 동일한 조성 및 방법으로 양이온 광경화성 조성물을 제조하였다.A cationic photo-curable composition was prepared in the same manner as in Example 5 except that 1.0 g of each of the compounds of Example 2, Example 3 or Example 4 was used instead of the compound of Example 1 above.

[ 실시예 9] 양이온 광경화성 조성물의 제조 [ Example 9] Preparation of cationic photo-curable composition

광중합성 모노머(UVR-6110, Dow chemical) 45.85g, 광개시제(CD-1012, Sartomer) 2.0g, 상기 실시예 1의 화합물 0.5g, 광증감제(UVS-1331, Kawasaki Kasei chemical) 0.5g, 접착조제(KBM-403) 1.0g 및 계면활성제(BYK-307) 0.15g을 순차적으로 혼합하여, 상온에서 3시간 동안 교반하여 양이온 광경화형 광경화성 조성물을 제조하였다. 2.0 g of a photoinitiator (CD-1012, Sartomer), 0.5 g of the compound of Example 1, 0.5 g of a photosensitizer (UVS-1331, Kawasaki Kasei chemical) (KBM-403) and 0.15 g of a surfactant (BYK-307) were sequentially mixed, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to prepare a cationically photo-curable photocurable composition.

[ 실시예 10 내지 12] 양이온 광경화성 조성물의 제조 [ Examples 10 to 12] Preparation of cationic photo-curable composition

상기 실시예 1의 화합물 대신에 상기 실시예 2, 실시예 3, 실시예 4의 화합물 각각 0.5g을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 9와 동일한 조성 및 방법으로 양이온 광경화성 조성물을 제조하였다.A cationic photo-curable composition was prepared in the same manner as in Example 9 except that 0.5 g of each of the compounds of Example 2, Example 3 and Example 4 was used instead of the compound of Example 1 above.

[ 실시예 13] 라디칼 광경화성 조성물의 제조 [ Example 13] Preparation of radical photocurable composition

펜옥시에틸아크릴레이트 10.37g, 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트 55.34g, 트리에틸프로판 트리아크릴레이트 8.30g, 상기 실시예 1의 화합물 0.83g, 광개시제(Irgacure TPO, BASF) 1.66g, 접착조제(KBM-503) 1.0g 및 계면활성제(BYK-307) 0.15g을 순차적으로 혼합하여, 상온에서 3시간 동안 교반하여 라디칼 광경화성 조성물을 제조하였다. (Irgacure TPO, BASF) 1.66 g, and the adhesive preparation (KBM-1) were added to a solution prepared by dissolving 10.37 g of phenoxyethyl acrylate, 55.34 g of tripropylene glycol diacrylate, 8.30 g of triethylpropane triacrylate, 0.83 g of the compound of Example 1, 503) and 0.15 g of a surfactant (BYK-307) were sequentially mixed, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to prepare a radical photocurable composition.

[ 실시예 14 내지 16] 라디칼 광경화성 조성물의 제조 [ Examples 14 to 16] Preparation of radical photocurable composition

상기 실시예 1의 화합물 대신에 상기 실시예 2, 실시예 3 또는 실시예 4의 화합물 각각 0.83g을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 13과 동일한 조성 및 방법으로 라디칼 광경화성 조성물을 제조하였다.A radical photocurable composition was prepared in the same manner as in Example 13 except that 0.83 g of the compound of Example 2, Example 3 or Example 4 was used instead of the compound of Example 1, respectively.

[ 실시예 17] 라디칼 광경화성 조성물의 제조 [ Example 17] Preparation of radical photocurable composition

펜옥시에틸아크릴레이트 10.37g, 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트 55.34g, 트리에틸프로판 트리아크릴레이트 8.30g, 상기 실시예 1의 화합물 0.83g, 상기 실시예 1의 화합물 0.43g, 광증감제(UVS-1331, Kawasaki Kasei chemical) 0.4g, (Irgacure TPO, BASF) 1.66g, 접착조제(KBM-503) 1.0g 및 계면활성제(BYK-307) 0.15g을 순차적으로 혼합하여, 상온에서 3시간 동안 교반하여 라디칼 광경화성 조성물을 제조하였다. 10.37 g of phenoxyethyl acrylate, 55.34 g of tripropylene glycol diacrylate, 8.30 g of triethylpropane triacrylate, 0.83 g of the compound of Example 1, 0.43 g of the compound of Example 1, (KBK-1331, Kawasaki Kasei chemical), 1.66 g of Irgacure TPO (BASF), 1.0 g of adhesive preparation (KBM-503) and 0.15 g of a surfactant (BYK-307) were successively mixed and stirred at room temperature for 3 hours Radical photocurable compositions were prepared.

[ 실시예 18 내지 20] 라디칼 광경화성 조성물의 제조 [ Examples 18 to 20] Preparation of radical photocurable composition

상기 실시예 1에서 제조된 광활성 화합물 대신에 상기 실시예 2, 실시예 3 또는 실시예 4의 화합물 각각 0.43g을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 17과 동일한 조성 및 방법으로 라디칼 광경화성 조성물을 제조하였다.A radical photocurable composition was prepared in the same manner as in Example 17 except that 0.43 g of the compound of Example 2, Example 3 or Example 4 was used instead of the photoactive compound prepared in Example 1 Respectively.

(비교예 1) 양이온 광경화성 조성물의 제조 (Comparative Example 1) Preparation of cationically photo-curable composition

상기 실시예 1의 화합물 대신에 광증감제(UVS-1331, Kawasaki Kasei chemical) 1.0g을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 5와 동일한 조성 및 방법으로 양이온 광경화성 조성물을 제조하였다.A cationic photo-curable composition was prepared in the same manner as in Example 5 except that 1.0 g of a photosensitizer (UVS-1331, Kawasaki Kasei chemical) was used in place of the compound of Example 1.

(비교예 2) 라디칼 광경화성 조성물의 제조(Comparative Example 2) Preparation of radical photocurable composition

상기 실시예 1의 화합물 대신에 광증감제(UVS-1331, Kawasaki Kasei chemical) 0.83g을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 13과 동일한 조성 및 방법으로 라디칼 광경화성 조성물을 제조하였다.A radical photocurable composition was prepared in the same manner as in Example 13 except that 0.83 g of a photosensitizer (UVS-1331, Kawasaki Kasei chemical) was used instead of the compound of Example 1.

상기 방법으로 제조된 광경화성 조성물을 폴리이미드 필름 기판 위에 잉크젯 방식으로 코팅한 후 질소 분위기에서 395nm 파장의 1000mW LED 노광기로 1초 동안 1000mJ 자외선 조사하여 두께 5 ㎛의 필름을 형성한 후 물성을 측정하였다.The photo-curable composition prepared by the above method was coated on a polyimide film substrate by an ink jet method and irradiated with 1000 mJ ultraviolet rays for 1 second with a 1000 mW LED exposing device having a wavelength of 395 nm in a nitrogen atmosphere to form a film having a thickness of 5 탆 and measuring the physical properties .

1)경화도 측정1) Hardening degree measurement

상기 실시예 및 비교예에서 제조된 광경화성 조성물을 이용하여 폴리이미드 기재 필름에 잉크젯 방식으로 코팅한 후 질소 분위기에서 395nm 파장의 1000mW LED 노광기로 1초 동안 1000mJ 자외선 조사하여 두께 5 ㎛의 봉지재 기판을 제조하였다. 제조된 각각의 필름을 폭이 5cm이고, 길이가 5 ㎝가 되도록 재단하였다. 그 다음 FT-IR(적외선 분광기)을 이용하여 경화 전 필름 및 경화 후 필름의 흡수 스펙트럼을 측정 후 경화도를 하기 식 1로 계산하였다.The polyimide base film was coated on the polyimide base film by the ink jet method using the photocurable compositions prepared in the above Examples and Comparative Examples, and then irradiated with 1000 mJ ultraviolet rays for 1 second with a 1000 mW LED exposer having a wavelength of 395 nm in a nitrogen atmosphere, . Each of the produced films was cut to a width of 5 cm and a length of 5 cm. Then, the absorption spectrum of the pre-cured film and the post-cured film was measured using an FT-IR (infrared spectroscope), and the degree of cure was calculated by the following formula 1.

(식 1)(Equation 1)

경화도(%) = 100-(Wf/Wi ⅹ 100)Hardening degree (%) = 100- (Wf / Wi x 100)

[상기 식 1에서, 상기 Wi는 경화 전 조성물에 포함된 광중합성 모노머의 관능기의 피크면적(흡수도)이고, 상기 Wf는 경화 후 필름에 포함된 광중합성 모노머의 관능기의 피크면적(흡수도)을 의미한다.](Wf) is a peak area (degree of absorption) of the functional group of the photopolymerizable monomer contained in the film after curing, and Wf is a peak area (degree of absorption) of the functional group of the photopolymerizable monomer contained in the composition before curing. .]

2) 표면경도 측정2) Surface hardness measurement

상기 실시예 및 비교예에서 제조된 광경화성 조성물을 이용하여 잉크젯 방식으로 글라스 위에 코팅한 후 질소 분위기에서 395nm 파장의 1000mW LED 노광기로 1초 동안 1000mJ 자외선 조사하여 두께 5 ㎛의 봉지재 기판을 제조하였다. 제조한 기판을 200 g 무게 조건에서 연필경도계로 표면경도를 측정하였다.The photocurable composition prepared in the above Examples and Comparative Examples was coated on a glass by an inkjet method and irradiated with 1000 mJ ultraviolet rays for 1 second with a 1000 mW LED exposer having a wavelength of 395 nm in a nitrogen atmosphere to prepare an encapsulating substrate having a thickness of 5 탆 . The surface hardness of the prepared substrate was measured with a pencil hardness meter under the condition of 200 g weight.

3) 광투과율 측정3) Light transmittance measurement

상기 실시예 및 비교예에서 제조된 광경화성 조성물을 이용하여 잉크젯 방식으로 글라스 위에 코팅한 후 질소 분위기에서 395nm 파장의 1000mW LED 노광기로 1초 동안 1000mJ 자외선 조사하여 두께 5 ㎛의 봉지재 기판을 제조하였다. 제조한 기판을 UV-VIS spectrophotometer(@400nm)를 이용한 광투과도를 측정하였다.The photocurable composition prepared in the above Examples and Comparative Examples was coated on a glass by an inkjet method and irradiated with 1000 mJ ultraviolet rays for 1 second with a 1000 mW LED exposer having a wavelength of 395 nm in a nitrogen atmosphere to prepare an encapsulating substrate having a thickness of 5 탆 . The prepared substrate was measured for light transmittance using a UV-VIS spectrophotometer (@ 400 nm).

4) 아웃게싱 측정4) Outgasing measurement

상기 실시예 및 비교예에서 제조된 광경화성 조성물을 이용하여 잉크젯 방식으로 글라스 위에 코팅한 후 질소 분위기에서 395nm 파장의 1000mW LED 노광기로 1초 동안 1000mJ 자외선 조사하여 두께 5 ㎛의 봉지재 기판을 제조하였다. 제조한 기판을 100℃에서 10분간 열처리에서 발생되는 TVOC를 TD-GC/MS를 이용하여 아웃게싱을 측정하였다.The photocurable composition prepared in the above Examples and Comparative Examples was coated on a glass by an inkjet method and irradiated with 1000 mJ ultraviolet rays for 1 second with a 1000 mW LED exposer having a wavelength of 395 nm in a nitrogen atmosphere to prepare an encapsulating substrate having a thickness of 5 탆 . The TVOC produced by the heat treatment at 100 ° C for 10 minutes was measured by TD-GC / MS.

상기 방법으로 제조된 봉지재 필름의 물성을 측정하여 하기 표 1 및 2에 도시하였다.The physical properties of the encapsulant film prepared by the above method were measured and shown in Tables 1 and 2 below.

경화도
(Curing Rate)
Degree of hardening
(Curing Rate)
표면경도
Surface hardness
광투과율
(@400nm)
Light transmittance
(@ 400 nm)
아웃게싱
Outgasing
실시예 5Example 5 93%93% 3H3H 97%97% 151ppm151 ppm 실시예 6Example 6 90%90% 2H2H 96%96% 182ppm182 ppm 실시예 7Example 7 92%92% 3H3H 97%97% 168ppm168 ppm 실시예 8Example 8 85%85% 2H2H 96%96% 485ppm485ppm 실시예 9Example 9 92%92% 3H3H 94%94% 201ppm201 ppm 실시예 10Example 10 90%90% 2H2H 94%94% 252ppm252 ppm 실시예 11Example 11 91%91% 3H3H 94%94% 221ppm221 ppm 실시예 12Example 12 84%84% 2H2H 93%93% 433ppm433 ppm 비교예 1Comparative Example 1 84%84% 2H2H 81%81% 855ppm855ppm

경화도
(Curing Rate)
Degree of hardening
(Curing Rate)
표면경도
Surface hardness
광투과율
(@400nm)
Light transmittance
(@ 400 nm)
아웃게싱
Outgasing
실시예 13Example 13 88%88% 2H2H 98%98% 908ppm908ppm 실시예 14Example 14 86%86% 2H2H 96%96% 952ppm952 ppm 실시예 15Example 15 88%88% 2H2H 98%98% 917ppm917 ppm 실시예 16Example 16 83%83% HH 97%97% 1232ppm1232 ppm 실시예 17Example 17 87%87% 2H2H 93%93% 941ppm941ppm 실시예 18Example 18 87%87% HH 93%93% 987ppm987ppm 실시예 19Example 19 86%86% 2H2H 92%92% 970ppm970ppm 실시예 20Example 20 81%81% HH 92%92% 1320ppm1320ppm 비교예 2Comparative Example 2 78%78% HH 84%84% 1500ppm1500ppm

상기 표 1 및 표 2에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 양이온 광경화성 조성물 및 라디칼 광경화성 조성물을 이용한 필름의 경우, 높은 경화도로 인해 우수한 경도, 현저하게 낮아진 아웃게싱 특성을 가질 뿐 아니라, 다환방향족 탄화수소(Polynuclear aromatic hydrocarbon)계 광증감제의 가장 큰 문제점인 400nm의 광투과도에서 매우 우수한 특성을 보였다. 또한 본 발명에서 제조된 광증감제와 기존 광증감제와의 혼합하여 사용하여도, 우수한 특성을 가짐을 확인 할 수 있었다. 이는 다양한 조성물의 경화 조건(노광 파장 및 노광량등)에 따라 본 발명의 광증감제와 기존의 광증감제 혼합비의 조절만으로도 사용자의 목적에 맞는 다양한 특성의 필름을 제조할 수 있음을 의미한다.As shown in Tables 1 and 2, in the case of the film using the cationic photo-curable composition and the radical photo-curable composition according to the present invention, not only has an excellent hardness, a remarkably low outgasing characteristic due to a high degree of curing, It has excellent properties in light transmittance of 400nm which is the biggest problem of aromatic hydrocarbon (Polynuclear aromatic hydrocarbon) type photosensitizer. Also, it was confirmed that even when the photosensitizer prepared in the present invention is mixed with the conventional photosensitizer, it has excellent properties. This means that it is possible to produce films having various properties suitable for the user's purpose only by adjusting the mixing ratio of the photosensitizer of the present invention and the conventional photosensitizer according to the curing conditions (exposure wavelength and exposure amount, etc.) of various compositions.

이상과 같이 특정된 사항들과 한정된 실시예를 통해 본 발명이 설명되었으나, 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, Various modifications and variations may be made thereto by those skilled in the art.

따라서, 본 발명의 사상은 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니되며, 후술하는 특허청구범위뿐 아니라 이 특허청구범위와 균등하거나 등가적 변형이 있는 모든 것들은 본 발명 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.Accordingly, the spirit of the present invention should not be construed as being limited to the embodiments described, and all of the equivalents or equivalents of the claims, as well as the following claims, belong to the scope of the present invention .

Claims (11)

하기 화학식 1로 표시되는 화합물:
[화학식 1]
Figure pat00013

(상기 화학식 1에서,
X 및 Y는 서로 독립적으로 직접결합, O 또는 S이되, X 및 Y가 모두 직접결합은 아니며;
R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기 또는 이들이 조합된 구조이며;
R3는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기 또는 이들이 조합된 구조이다.)
A compound represented by the following formula (1):
[Chemical Formula 1]
Figure pat00013

(In the formula 1,
X and Y are independently a direct bond, O or S, and X and Y are not both direct bonds;
R 1 and R 2 are each independently selected from the group consisting of hydrogen, halogen, substituted or unsubstituted C 1 -C 30 alkyl, substituted or unsubstituted C 3 -C 30 cycloalkyl, substituted or unsubstituted C 3 -C 30 heterocyclo An alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C30 heteroaryl group, a substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group, or a combination thereof;
R 3 represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted heterocycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted C3- A substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or a combination thereof.
제 1항에 있어서,
상기 화합물은,
X 및 Y는 서로 독립적으로 직접결합, O 또는 S이되, X 및 Y가 모두 직접결합은 아니며;
R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기 또는 이들이 조합된 구조이며;
R3는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기 또는 이들이 조합된 구조인, 화합물.
The method according to claim 1,
The compound,
X and Y are independently a direct bond, O or S, and X and Y are not both direct bonds;
R 1 and R 2 are each independently selected from the group consisting of hydrogen, halogen, substituted or unsubstituted C 1 -C 30 alkyl, substituted or unsubstituted C 3 -C 30 heteroaryl, substituted or unsubstituted C 6 -C 30 aryl Or a combination thereof;
R 3 is a substituted or unsubstituted C1-C30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3-C30 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C3-C30 heteroaryl group, a substituted or unsubstituted C6- Lt; / RTI > is an aryl group of 1 to 30 carbon atoms, or a combination thereof.
제 1항에 있어서,
상기 화합물은,
X 및 Y는 서로 독립적으로 직접결합, O 또는 S이되, X 및 Y가 모두 직접결합은 아니며;
R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 15의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 20의 아릴기 또는 이들이 조합된 구조이며;
R3는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 15의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 20의 아릴기 또는 이들이 조합된 구조인, 화합물.
The method according to claim 1,
The compound,
X and Y are independently a direct bond, O or S, and X and Y are not both direct bonds;
R 1 and R 2 are independently selected from the group consisting of hydrogen, halogen, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms Or a combination thereof;
R 3 represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted C6- Lt; / RTI > or an aryl group having from 1 to 20 carbon atoms, or a combination thereof.
제 1항에 있어서,
상기 화합물은,
하기 구조에서 선택되는 것인, 화합물:
Figure pat00014

Figure pat00015
The method according to claim 1,
The compound,
A compound selected from the following structure:
Figure pat00014

Figure pat00015
하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 광경화성 조성물.
[화학식 1]
Figure pat00016

(상기 화학식 1에서,
X 및 Y는 서로 독립적으로 직접결합, O 또는 S이되, X 및 Y가 모두 직접결합은 아니며;
R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기 또는 이들이 조합된 구조이며;
R3는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기 또는 이들이 조합된 구조이다.)
1. A photocurable composition comprising a compound represented by the following formula (1).
[Chemical Formula 1]
Figure pat00016

(In the formula 1,
X and Y are independently a direct bond, O or S, and X and Y are not both direct bonds;
R 1 and R 2 are each independently selected from the group consisting of hydrogen, halogen, substituted or unsubstituted C 1 -C 30 alkyl, substituted or unsubstituted C 3 -C 30 cycloalkyl, substituted or unsubstituted C 3 -C 30 heterocyclo An alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C30 heteroaryl group, a substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group, or a combination thereof;
R 3 represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted heterocycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted C3- A substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or a combination thereof.
제 5항에 있어서,
상기 화합물은 광흡수용으로 사용되는 것인, 광경화성 조성물.
6. The method of claim 5,
Wherein the compound is used for light absorption.
제 5항에 있어서,
상기 광경화성 조성물은 광조사에 의해 양이온; 라디칼; 또는 양이온 및 라디칼; 이 발생되어 광경화 되는 것인, 광경화성 조성물.
6. The method of claim 5,
The photo-curable composition may be cured by light irradiation; Radical; Or cations and radicals; Is generated and photo-cured.
제 5항에 있어서,
상기 광경화성 조성물은 2개 이상의 광경화 가능한 불포화기를 갖는 광중합성 모노머 및 광개시제를 더 포함하는 것인, 광경화성 조성물.
6. The method of claim 5,
Wherein the photocurable composition further comprises a photopolymerizable monomer having at least two photocurable unsaturated groups and a photoinitiator.
제 8항에 있어서,
상기 광개시제는 양이온성 광개시제인, 광경화성 조성물.
9. The method of claim 8,
Wherein the photoinitiator is a cationic photoinitiator.
제 8항에 있어서,
상기 광개시제는 벤조인 유도체, 아세토페논 유도체, 안트라퀴논 유도체, 티오크산톤 유도체, 케탈 유도체, 벤조페논 유도체, α-아미노아세토페논 유도체, 아실포스핀옥사이드 유도체 및 옥심에스테르 유도체에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상인, 광경화성 조성물.
9. The method of claim 8,
Wherein the photoinitiator is selected from the group consisting of benzoin derivatives, acetophenone derivatives, anthraquinone derivatives, thioxanthone derivatives, ketal derivatives, benzophenone derivatives,? -Amino acetophenone derivatives, acylphosphine oxide derivatives and oxime ester derivatives Or more.
제 5항 내지 제 10항에서 선택되는 어느 한 항의 광경화성 조성물의 경화물을 포함하는 봉지재로 봉지된 유기 전자장치.An organic electronic device encapsulated with an encapsulant comprising a cured product of the photo-curable composition of any one of claims 5 to 10.
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