KR102011345B1 - New compound, photo-curable composition containing the same, and cured product thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 신규한 화합물, 이를 포함하는 조성물, 및 이의 경화물을 포함하는 봉지재로 봉지된 유기 전자장치에 관한 것으로, 상세하게 상기 신규한 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 것이다.
[화학식 1]

Figure 112017126729076-pat00017

(상기 화학식 1에서 X, Y, R1, R2 및 R3에 대한 정의는 청구항 1항에서의 정의와 동일하다.)The present invention relates to an organic electronic device encapsulated with a novel compound, a composition comprising the same, and an encapsulant including a cured product thereof, wherein the novel compound is represented by the following Chemical Formula 1.
[Formula 1]
Figure 112017126729076-pat00017

(Definitions for X, Y, R 1 , R 2 and R 3 in Chemical Formula 1 are the same as those in Claim 1).

Description

신규한 화합물, 이를 포함하는 광경화성 조성물 및 이의 경화물{New compound, photo-curable composition containing the same, and cured product thereof}New compound, photocurable composition comprising the same and cured product thereof New compound, photo-curable composition containing the same, and cured product

본 발명은 신규한 화합물, 이를 포함하는 광경화성 조성물 및 이의 경화물에 관한 것이다.The present invention relates to novel compounds, photocurable compositions comprising the same and cured products thereof.

현재 광조사 시 많이 사용되고 있는 할로겐 램프는 중합에 필요하지 않은 많은 불필요한 파장의 빛을 방출하기 때문에, 가시광선 조사기의 효율성이 떨어지고, 오랜 시간 광조사를 하여야 하는 문제가 지속된다. 또한 광조사 시간을 줄이기 위하여는 출력밀도(power density)가 더욱 놓은 가시광선 조사기를 사용하여야 하고, 부수적으로 광조사기로부터 높은 열이 방출되며, 광조사기의 수명은 더욱 짧아지는 악순환이 되풀이되고 있다.Halogen lamps, which are widely used at the time of light irradiation, emit light of many unnecessary wavelengths that are not necessary for polymerization, and thus the efficiency of visible light irradiator decreases, and the problem of long time light irradiation continues. In addition, in order to reduce the light irradiation time, a visible light irradiator having a higher power density should be used, and a high cycle is emitted by the light irradiator and the life cycle of the light irradiator is shortened.

이러한 문제점을 효과적으로 줄여줄 수 있는 대안으로 제시되어 최근 개발되기 시작한 것이 LED(light emitting diode) 램프를 이용한 광조사기이다. LED 램프는 중합에 꼭 필요한 파장대 영역의 빛만을 선택적으로 방출할 수 있어, 앞에서 제시한 문제점들을 효과적으로 해결할 수 있는 기기로 평가받고 있다.As an alternative that can effectively reduce this problem, a light emitter using a light emitting diode (LED) lamp has been recently developed. LED lamps can selectively emit only light in the wavelength range necessary for polymerization, and have been evaluated as a device that can effectively solve the problems presented above.

이와 같은 LED 램프의 조사광은 거의 400 ㎚ 대 영역까지 장파장화 되었으나, 광개시제만으로는 해당 파장대에서의 광중합이 효과적으로 일어나지 않기 때문에 광증감제 등을 함께 사용하여 중합 효율을 증가시키고 있는 실정이다.Although the irradiation light of such an LED lamp has a long wavelength up to almost 400 nm band, since photopolymerization does not occur effectively in the wavelength band with only the photoinitiator, a photosensitizer or the like is used to increase the polymerization efficiency.

일반적으로 디부톡시 안트라센(dibutoxy antracene) 등의 다환방향족 탄화수소(Polynuclear aromatic hydrocarbon)계 광증감제(대한민국 등록특허 제10-1293803호)가 감도가 우수하여 광개시제와 함께 주로 사용되고 있다.In general, polynuclear aromatic hydrocarbon-based photosensitizers such as dibutoxy antracene (dibutoxy antracene) (Korean Patent No. 10-1293803) have excellent sensitivity and are mainly used with photoinitiators.

한편, 페노티아진(Phenothiazine)은 반응성 단량체(reactive monomer)나 올리고머에 대한 용해도가 다환방향족 탄화수소계 광증감제보다 높은 장점이 있으나, 지금까지는 400 ㎚ 근처 파장을 효과적으로 흡수하지 못 하거나, 일부 치환을 통해 흡수를 높인 경우 가시광 영역에서 넓은 흡수띠가 발생하여 광증감제로의 활용이 어렵다는 단점이 있었다.On the other hand, phenothiazine has the advantage of higher solubility in reactive monomers or oligomers than polyaromatic hydrocarbon-based photosensitizers, but until now does not effectively absorb wavelengths near 400 nm, In the case of increased absorption, a wide absorption band was generated in the visible light region, making it difficult to use as a photosensitizer.

이에 본 출원인은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 거듭 연구한 결과, 조사광 파장대에서의 흡수율만으로 선택적으로 개선하여 중합도 및 투과도를 향상시킬 수 있으면서도, 기존의 장점인 반응성 단량체나 올리고머에 대한 용해도는 유지하여 상용성 또한 우수한 신규한 화합물을 고안하여 본 발명을 완성하였다.The present inventors have repeatedly studied to solve the conventional problems, and as a result, by selectively improving only the absorption in the irradiated light wavelength range to improve the degree of polymerization and transmittance, while maintaining the solubility in the reactive monomers or oligomers, which is an existing advantage, The present invention has been completed by devising a novel compound having excellent compatibility.

대한민국 등록특허 제10-1293803호 (2013.07.31.)Republic of Korea Patent No. 10-1293803 (2013.07.31.)

상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 본 발명은 조사광 파장대에서의 흡수율만으로 선택적으로 개선하여 중합도 및 투과도를 향상시킬 수 있으면서도, 반응성 단량체나 올리고머에 대한 용해도가 우수한 신규한 화합물을 제공하는 것을 목적으로 한다.In order to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a novel compound having a good solubility in reactive monomers and oligomers while being able to selectively improve only the absorption in the irradiated light wavelength band to improve the degree of polymerization and transmittance. .

또한, 본 발명의 또 다른 목적은 상기 신규한 화합물을 포함하여 감도 및 투과 특성이 우수하며, 봉지재 원료나 접착제 원료로서 유용한 광경화성 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a photocurable composition including the novel compound, which is excellent in sensitivity and permeability, and useful as a raw material for an encapsulant or an adhesive.

또한, 본 발명의 또 다른 목적은 향상된 내열성 및 우수한 표면 특성을 갖는 경화물을 포함하여 장수명 특성 및 장기 신뢰성을 갖는 유기 전자장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.Still another object of the present invention is to provide an organic electronic device having long life and long term reliability, including a cured product having improved heat resistance and excellent surface properties.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 양태는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물에 관한 것이다.One aspect of the present invention for achieving the above object relates to a compound represented by the following formula (1).

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112017126729076-pat00001
Figure 112017126729076-pat00001

(상기 화학식 1에서,(In Formula 1,

X 및 Y는 서로 독립적으로 직접결합, O 또는 S이되, X 및 Y가 모두 직접결합은 아니며;X and Y are each independently a direct bond, O or S, but both X and Y are not direct bonds;

R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조이며;R 1 and R 2 are each independently hydrogen, halogen, substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted heterocycloalkyl having 3 to 30 carbon atoms An alkyl group, a substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or a combination thereof;

R3는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조이다.)R 3 is a substituted or unsubstituted C 1 -C 30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C 3 -C 30 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C 3 -C 30 heterocycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C 3 -C 30 30 heteroaryl groups, substituted or unsubstituted aryl groups having 6 to 30 carbon atoms, or a combination thereof.)

상기 일 양태에 있어, 상기 화합물은 상기 X 및 Y는 서로 독립적으로 직접결합, O 또는 S이되, X 및 Y가 모두 직접결합은 아니며; R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조이며; R3는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조일 수 있다.In one embodiment, the compound wherein the X and Y are a direct bond, O or S independently of each other, X and Y are not all direct bonds; R 1 and R 2 are each independently hydrogen, halogen, substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted aryl having 6 to 30 carbon atoms Groups or structures in which these are combined; R 3 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted carbon group having 6 to 30 carbon atoms 30 aryl groups, or a combination thereof.

상기 일 양태에 있어, 상기 화합물은 상기 X 및 Y는 서로 독립적으로 직접결합, O 또는 S이되, X 및 Y가 모두 직접결합은 아니며; R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 15의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조이며; R3는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 15의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조일 수 있다.In one embodiment, the compound wherein the X and Y are a direct bond, O or S independently of each other, X and Y are not all direct bonds; R 1 and R 2 are each independently hydrogen, halogen, substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 20 carbon atoms, substituted or unsubstituted aryl having 6 to 20 carbon atoms Groups or structures in which these are combined; R 3 is a substituted or unsubstituted C1-C15 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3-C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C3-C20 heteroaryl group, a substituted or unsubstituted C6-C15 20 aryl groups, or a combination thereof.

상기 일 양태에 있어, 상기 화합물은 하기 구조에서 선택되는 것일 수 있다.In one embodiment, the compound may be selected from the following structures.

Figure 112017126729076-pat00002
Figure 112017126729076-pat00002

Figure 112017126729076-pat00003
Figure 112017126729076-pat00003

또한, 본 발명의 또 다른 일 양태는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 광경화성 조성물에 관한 것이다.In addition, another aspect of the present invention relates to a photocurable composition comprising a compound represented by the following formula (1).

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112017126729076-pat00004
Figure 112017126729076-pat00004

(상기 화학식 1에서,(In Formula 1,

X 및 Y는 서로 독립적으로 직접결합, O 또는 S이되, X 및 Y가 모두 직접결합은 아니며;X and Y are each independently a direct bond, O or S, but both X and Y are not direct bonds;

R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조이며;R 1 and R 2 are each independently hydrogen, halogen, substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted heterocycloalkyl having 3 to 30 carbon atoms An alkyl group, a substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or a combination thereof;

R3는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조이다.)R 3 is a substituted or unsubstituted C 1 -C 30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C 3 -C 30 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C 3 -C 30 heterocycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C 3 -C 30 30 heteroaryl groups, substituted or unsubstituted aryl groups having 6 to 30 carbon atoms, or a combination thereof.)

상기 또 다른 일 양태에 있어, 상기 화합물은 광흡수용으로 사용되는 것일 수 있다.In another aspect, the compound may be used for light absorption.

상기 또 다른 일 양태에 있어, 상기 광경화성 조성물은 광조사에 의해 양이온(cation), 라디칼(radical) 또는 양이온 및 라디칼이 발생되어 광경화 되는 것일 수 있다.In another aspect, the photocurable composition may be photocured by generating a cation, a radical or a cation and a radical by light irradiation.

상기 또 다른 일 양태에 있어, 상기 광경화성 조성물은 2개 이상의 광경화 가능한 불포화기를 갖는 광중합성 모노머 및 광개시제를 더 포함하는 것일 수 있다.In another aspect, the photocurable composition may further include a photopolymerizable monomer and a photoinitiator having two or more photocurable unsaturated groups.

상기 또 다른 일 양태에 있어, 상기 광개시제는 양이온성 광개시제일 수 있다.In another aspect, the photoinitiator may be a cationic photoinitiator.

상기 또 다른 일 양태에 있어, 상기 광개시제는 벤조인 유도체, 아세토페논 유도체, 안트라퀴논 유도체, 티오크산톤 유도체, 케탈 유도체, 벤조페논 유도체, α-아미노아세토페논 유도체, 아실포스핀옥사이드 유도체 및 옥심에스테르 유도체 등에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상일 수 있다.In another embodiment, the photoinitiator is a benzoin derivative, acetophenone derivative, anthraquinone derivative, thioxanthone derivative, ketal derivative, benzophenone derivative, α-aminoacetophenone derivative, acylphosphine oxide derivative and oxime ester It may be any one or two or more selected from derivatives and the like.

또한, 본 발명의 또 다른 일 양태는 전술한 광경화성 조성물의 경화물을 포함하는 봉지재로 봉지된 유기 전자장치에 관한 것이다.Further, another aspect of the present invention relates to an organic electronic device encapsulated with an encapsulant including a cured product of the photocurable composition described above.

본 발명에 따른 페노티아진(Phenothiazine)계 화합물은 조사광 파장대 외 다른 불필요한 가시광 영역에서는 파장의 흡수가 거의 없으면서, 조사광 파장대에서의 흡수율만으로 선택적으로 개선하여 중합도 및 투과도를 향상시킬 수 있다는 장점이 있다. 또한, 반응성 단량체나 올리고머에 대한 용해도가 우수하여 상용성을 향상시킬 수 있다는 장점이 있다.Phenothiazine-based compounds according to the present invention have the advantage that the absorption of the wavelength in the unnecessary visible light region other than the irradiated light wavelength band can be selectively improved only by the absorption in the irradiated light wavelength band to improve the degree of polymerization and transmittance. have. In addition, there is an advantage that the solubility in the reactive monomer or oligomer can be improved to improve the compatibility.

또한, 본 발명에 따른 화합물을 포함하는 조성물은 고감도로 향상된 광경화성을 구현할 수 있으며, 그 경화물의 투명성 및 내열성을 현저하게 향상시킬 수 있다.In addition, the composition comprising the compound according to the present invention can implement a photocurability improved with high sensitivity, it can significantly improve the transparency and heat resistance of the cured product.

또한, 본 발명에 따른 화합물을 포함하는 조성물을 필름 또는 시트로 형상화할 시 표면을 보다 균일화 할 수 있으며, 이물질을 현저하게 감소시킬 수 있다.In addition, when the composition containing the compound according to the present invention is shaped into a film or sheet, the surface can be more uniform, and foreign matters can be significantly reduced.

또한, 본 발명에 화합물을 포함하는 조성물은 필름 또는 시트로 형성되어 유기 전자장치를 봉지화 하여, 수명 특성 및 내구성이 현저하게 향상된 고신뢰성의 유기 전자장치를 제공할 수 있다.In addition, the composition comprising the compound of the present invention may be formed of a film or sheet to encapsulate the organic electronic device, thereby providing a highly reliable organic electronic device with remarkably improved life characteristics and durability.

이하 본 발명에 따른 신규한 화합물, 이를 포함하는 광경화성 조성물 및 이의 경화물에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a novel compound according to the present invention, a photocurable composition including the same, and a cured product thereof will be described in detail.

이때, 사용되는 기술 용어 및 과학 용어에 있어서 다른 정의가 없다면, 이 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 통상적으로 이해하고 있는 의미를 가지며, 하기의 설명에서 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 공지 기능 및 구성에 대한 설명은 생략한다.In this case, unless there is another definition in the technical terms and scientific terms used, it has the meaning that is commonly understood by those of ordinary skill in the art, unnecessarily obscure the subject matter of the present invention in the following description Description of known functions and configurations that may be omitted.

본 발명에 있어, 「치환 또는 치환된」이란 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, 화합물 내 작용기 중의 하나 이상의 수소 원자가 할로겐(-F, -Cl, -Br 또는 -I), 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 탄소수 1 내지 30의 알콕시기, 탄소수 1 내지 30의 할로겐화알킬기, 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 탄소수 3 내지 30의 헤테로시클로알킬기, 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 탄소수 6 내지 30의 헤테로아릴기, 히드록시기, 아민기, 카르복실산기 및 알데히드기 등으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 치환기로 치환된 것을 의미하며, 단, 상기 화학식 1에 기재된 작용기의 탄소수에는 치환기의 탄소수는 포함되지 않을 수 있다.In the present invention, "substituted or substituted" means one or more hydrogen atoms of the functional group in the compound is halogen (-F, -Cl, -Br or -I), alkyl group having 1 to 30 carbon atoms unless otherwise specified herein , An alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, a heterocycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, a heteroaryl group having 6 to 30 carbon atoms It means substituted with one or more substituents selected from the group consisting of a hydroxy group, an amine group, a carboxylic acid group and an aldehyde group, and the like, provided that the carbon number of the functional group described in Formula 1 may not include the carbon number of the substituent.

본 발명에 기재된 「알킬」, 「알콕시」, 「티옥시」 및 그 외 「알킬」부분을 포함하는 치환기는 직쇄 또는 분쇄 형태를 모두 포함한다. 본 발명의 일 양태에 따르면, 탄소수 7 이하의 단쇄의 알킬, 알콕시, 티옥시 등이 바람직하나, 탄소수 8 이상의 장쇄 역시 본 발명의 일 양태임은 물론이다.Substituents including the "alkyl", "alkoxy", "thioxy" and other "alkyl" moieties described in the present invention include all linear or pulverized forms. According to one aspect of the present invention, short-chain alkyl, alkoxy, thioxy and the like having 7 or less carbon atoms are preferable, but long chains having 8 or more carbon atoms are also an aspect of the present invention.

또한, 본 발명에 기재된 「아릴」은 하나의 수소 제거에 의해서 방향족 탄화수소로부터 유도된 유기 라디칼로, 각 고리에 적절하게는 4 내지 7개, 바람직하게는 5 또는 6개의 고리원자를 포함하는 단일 또는 융합고리계를 포함하며, 다수개의 아릴이 단일결합으로 연결되어 있는 형태까지 포함한다. 구체적인 예로 페닐, 나프틸, 비페닐, 터페닐, 안트릴, 인데닐, 플루오레닐, 페난트릴, 트라이페닐레닐, 피렌일, 페릴렌일, 크라이세닐, 나프타세닐, 플루오란텐일 등을 포함하지만, 이에 한정되지 않으며, 본 발명에 기재된 「헤테로아릴」은 하나의 수소 제거에 의해서 방향족 탄화수소로부터 유도된 유기 라디칼로 B, N, O, S, P(=O), Si 및 P 등으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로원자를 포함하는 3 내지 8개의 고리원자를 포함하는 일환상 또는 다환상 방향족 탄화수소 라디칼일 수 있고, 각 고리에 적절하게는 3 내지 7개, 바람직하게는 5 또는 6개의 고리원자를 포함하는 단일 또는 융합고리계를 포함하며, 다수개의 헤테로아릴이 단일결합으로 연결되어 있는 형태까지 포함한다. 구체적인 예로 퓨릴, 티오펜일, 피롤릴, 피란일, 이미다졸릴, 피라졸릴, 티아졸릴, 티아디아졸릴, 이소티아졸릴, 이속사졸릴, 옥사졸릴, 옥사디아졸릴, 트리아진일, 테트라진일, 트리아졸릴, 테트라졸릴, 퓨라잔일, 피리딜, 피라진일, 피리미딘일, 피리다진일 등의 단환 헤테로아릴; 및 벤조퓨란일, 벤조티오펜일, 이소벤조퓨란일, 벤조이미다졸릴, 벤조티아졸릴, 벤조이소티아졸릴, 벤조이속사졸릴, 벤조옥사졸릴, 이소인돌릴, 인돌릴, 인다졸릴, 벤조티아디아졸릴, 퀴놀릴, 이소퀴놀릴, 신놀리닐, 퀴나졸리닐, 퀴놀리진일, 퀴녹살리닐, 카바졸릴, 페난트리딘일, 벤조디옥솔릴 등의 다환식 헤테로아릴; 등을 포함하지만, 이에 한정되지 않는다.In addition, "aryl" described in the present invention is an organic radical derived from an aromatic hydrocarbon by one hydrogen removal, and each ring preferably contains 4 to 7, preferably 5 or 6 ring atoms, or It includes a fused ring system, and includes a form in which a plurality of aryls are connected by a single bond. Specific examples include phenyl, naphthyl, biphenyl, terphenyl, anthryl, indenyl, fluorenyl, phenanthryl, triphenylenyl, pyrenyl, peryleneyl, chrysenyl, naphthacenyl, fluoranthenyl, and the like. Not limited to this, "heteroaryl" described in the present invention is an organic radical derived from an aromatic hydrocarbon by one hydrogen removal, at least one selected from B, N, O, S, P (= O), Si and P, etc. It may be a monocyclic or polycyclic aromatic hydrocarbon radical containing 3 to 8 ring atoms comprising heteroatoms, each ring being suitably containing 3 to 7, preferably 5 or 6 ring atoms Or it includes a fused ring system, and includes a form in which a plurality of heteroaryl is connected by a single bond. Specific examples include furyl, thiophenyl, pyrrolyl, pyranyl, imidazolyl, pyrazolyl, thiazolyl, thiadiazolyl, isothiazolyl, isoxazolyl, oxazolyl, oxdiazolyl, triazinyl, tetrazinyl, tria Monocyclic heteroaryl such as zolyl, tetrazolyl, furazanyl, pyridyl, pyrazinyl, pyrimidinyl and pyridazinyl; And benzofuranyl, benzothiophenyl, isobenzofuranyl, benzoimidazolyl, benzothiazolyl, benzoisothiazolyl, benzoisoxazolyl, benzooxazolyl, isoindoleyl, indolyl, indazolyl, benzothiadia Polycyclic heteroaryls such as zolyl, quinolyl, isoquinolyl, cinnolinyl, quinazolinyl, quinolizinyl, quinoxalinyl, carbazolyl, phenanthridinyl, and benzodioxolyl; And the like, but are not limited thereto.

또한, 본 발명에 기재된 「시클로알킬」은 3 내지 9개의 탄소 원자의 완전히 포화 및 부분적으로 불포화된 탄화수소 고리를 의미하며, 아릴 또는 헤테로아릴이 융합되어 있는 경우도 포함한다.In addition, "cycloalkyl" described in the present invention means a fully saturated and partially unsaturated hydrocarbon ring of 3 to 9 carbon atoms, including the case where aryl or heteroaryl is fused.

또한, 본 발명에 기재된 「고리」는 서로 인접한 치환기가 서로 연결되어 형성된 고리로, 본 발명의 일 양태에 따르면, 상기 고리는 페닐기를 형성하는 것이 우선된다.In addition, the "ring" described in the present invention is a ring formed by linking adjacent substituents to each other. According to one embodiment of the present invention, the ring preferably forms a phenyl group.

페노티아진(Phenothiazine)은 반응성 단량체(reactive monomer)나 올리고머에 대한 용해도가 다환방향족 탄화수소계 광증감제보다 높은 장점이 있으나, 지금까지는 400 ㎚ 근처 파장을 효과적으로 흡수하지 못 하거나, 일부 치환을 통해 흡수를 높인 경우 가시광 영역에서 넓은 흡수띠가 발생하여 광증감제로의 활용이 어렵다는 단점이 있었다. 이에, 본 발명자들은 페노티아진의 장점은 유지하면서도 전술한 단점을 해결할 수 있는 신규한 화합물을 제공하고자 한다.Phenothiazine has the advantage of higher solubility in reactive monomers or oligomers than polyaromatic hydrocarbon-based photosensitizers, but until now it does not effectively absorb wavelengths near 400 nm, or absorbs through some substitutions. In the case of increasing the high absorption band in the visible light region has a disadvantage that it is difficult to use as a photosensitizer. Accordingly, the present inventors seek to provide a novel compound that can solve the above-mentioned disadvantages while maintaining the advantages of phenothiazine.

상세하게, 본 발명의 일 예에 따른 페노티아진계 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물이다.In detail, the phenothiazine-based compound according to an embodiment of the present invention is a compound represented by the following Chemical Formula 1.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112017126729076-pat00005
Figure 112017126729076-pat00005

(상기 화학식 1에서,(In Formula 1,

X 및 Y는 서로 독립적으로 직접결합, O 또는 S이되, X 및 Y가 모두 직접결합은 아니며;X and Y are each independently a direct bond, O or S, but both X and Y are not direct bonds;

R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조이며;R 1 and R 2 are each independently hydrogen, halogen, substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted heterocycloalkyl having 3 to 30 carbon atoms An alkyl group, a substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or a combination thereof;

R3는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조이다.)R 3 is a substituted or unsubstituted C 1 -C 30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C 3 -C 30 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C 3 -C 30 heterocycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C 3 -C 30 30 heteroaryl groups, substituted or unsubstituted aryl groups having 6 to 30 carbon atoms, or a combination thereof.)

화학식 1로 표시되는 화합물은 조사광 파장대 외 다른 불필요한 가시광 영역에서는 파장의 흡수가 거의 없으면서, 조사광 파장대에서의 흡수율만으로 선택적으로 개선하여 중합도 및 투과도를 향상시킬 수 있다는 장점이 있다. 또한, 반응성 단량체나 올리고머에 대한 용해도가 우수하여 상용성을 향상시킬 수 있다는 장점이 있다.The compound represented by the formula (1) has an advantage in that the absorption in the unnecessary visible light region other than the irradiation light wavelength band has almost no absorption, and can be selectively improved only by the absorption rate in the irradiation light wavelength band to improve the degree of polymerization and transmittance. In addition, there is an advantage that the solubility in the reactive monomer or oligomer can be improved to improve the compatibility.

보다 구체적인 일 예로, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물에 있어, 상기 X 및 Y는 서로 독립적으로 직접결합, O 또는 S이되, X 및 Y가 모두 직접결합은 아니며; R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조이며; R3는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조이다.In a more specific example, in the compound represented by Formula 1, X and Y are a direct bond, O or S independently of each other, X and Y are not all direct bonds; R 1 and R 2 are each independently hydrogen, halogen, substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted aryl having 6 to 30 carbon atoms Groups or structures in which these are combined; R 3 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted carbon group having 6 to 30 carbon atoms An aryl group of 30 or a combination thereof.

더욱 구체적인 일 예로, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물에 있어, 상기 X 및 Y는 서로 독립적으로 직접결합, O 또는 S이되, X 및 Y가 모두 직접결합은 아니며; R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 15의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조이며; R3는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 15의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조이다.In a more specific example, in the compound represented by Formula 1, X and Y are each independently a direct bond, O or S, X and Y are not all direct bonds; R 1 and R 2 are each independently hydrogen, halogen, substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 20 carbon atoms, substituted or unsubstituted aryl having 6 to 20 carbon atoms Groups or structures in which these are combined; R 3 is a substituted or unsubstituted C1-C15 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3-C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C3-C20 heteroaryl group, a substituted or unsubstituted C6-C15 An aryl group of 20 or a combination thereof.

본 발명의 일 실시예에 따른 화합물의 보다 바람직한 일 예로는 하기 구조의 화합물을 들 수 있으나, 본 발명이 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.More preferred examples of the compound according to an embodiment of the present invention include a compound having the following structure, but the present invention is not necessarily limited thereto.

Figure 112017126729076-pat00006
Figure 112017126729076-pat00006

Figure 112017126729076-pat00007
Figure 112017126729076-pat00007

또한, 본 발명은 전술한 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 광경화성 조성물을 제공한다. 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 광경화성 조성물은 고감도로 향상된 광경화 특성을 구현할 수 있으며, 그 경화물의 투명성 및 내열성을 현저하게 향상시킬 수 있다. 아울러, 화학식 1로 표시되는 화합물은 반응성 단량체 또는 올리고머 등에 대한 용해도가 우수하여 광경화성 조성물을 필름 또는 시트로 형상화할 시 표면을 보다 균일화 할 수 있으며, 이 물질을 현저하게 감소시킬 수 있다는 장점이 있다.In addition, the present invention provides a photocurable composition comprising a compound represented by the above formula (1). The photocurable composition including the compound represented by Formula 1 may realize improved photocuring properties with high sensitivity, and may significantly improve transparency and heat resistance of the cured product. In addition, the compound represented by Formula 1 has excellent solubility in reactive monomers or oligomers, so that when the photocurable composition is shaped into a film or sheet, the surface may be more uniform, and the material may be significantly reduced. .

구체적으로, 본 발명의 일 양태에 따른 광경화성 조성물은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 것일 수 있으며, 일 예시로, 광경화성 조성물 또는 봉지재 조성물 등으로 활용되는 것일 수 있다.Specifically, the photocurable composition according to an aspect of the present invention may include a compound represented by the following Chemical Formula 1, and as an example, may be used as a photocurable composition or an encapsulant composition.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112017126729076-pat00008
Figure 112017126729076-pat00008

(상기 화학식 1에서,(In Formula 1,

X 및 Y는 서로 독립적으로 직접결합, O 또는 S이되, X 및 Y가 모두 직접결합은 아니며;X and Y are each independently a direct bond, O or S, but both X and Y are not direct bonds;

R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조이며;R 1 and R 2 are each independently hydrogen, halogen, substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted heterocycloalkyl having 3 to 30 carbon atoms An alkyl group, a substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or a combination thereof;

R3는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 이들이 조합된 구조이다.)R 3 is a substituted or unsubstituted C 1 -C 30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C 3 -C 30 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C 3 -C 30 heterocycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C 3 -C 30 30 heteroaryl groups, substituted or unsubstituted aryl groups having 6 to 30 carbon atoms, or a combination thereof.)

이처럼, 본 발명에 따른 광경화성 조성물은 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함함으로써 우수한 감도 및 투과 특성을 확보할 수 있다. 이때, 본 발명에 따른 화학식 1로 표시되는 화합물은 광증감제의 역할을 수행하는 것일 수 있으며, 보다 구체적으로 상기 화합물은 광흡수용으로 사용되는 것일 수 있다.As such, the photocurable composition according to the present invention may ensure excellent sensitivity and transmission characteristics by including the compound represented by the formula (1). In this case, the compound represented by Formula 1 according to the present invention may be to perform the role of a photosensitizer, more specifically, the compound may be used for light absorption.

이때, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물의 사용량은 제한되지 않으나, 상기 광경화성 조성물 총 중량을 기준으로, 0.01 내지 20 중량%로 포함될 수 있으며, 구체적으로는 0.01 내지 10 중량%, 보다 구체적으로는 0.1 내지 5 중량%로 포함되는 것이 좋다.In this case, the amount of the compound represented by Formula 1 is not limited, but may be included as 0.01 to 20% by weight, specifically 0.01 to 10% by weight, more specifically 0.1 based on the total weight of the photocurable composition It is preferably included in 5% by weight.

본 발명의 일 예에 따른 광경화성 조성물은 광조사에 의해 광경화될 수 있으며, 구체적으로 광조사에 의해 양이온(cation), 라디칼(radical) 또는 양이온 및 라디칼이 발생되어 광경화 되는 것일 수 있다.The photocurable composition according to an embodiment of the present invention may be photocured by light irradiation, and specifically, may be photocured by generating cations, radicals or cations and radicals by light irradiation.

보다 상세하게, 본 발명의 일 예에 따른 광경화성 조성물은 2개 이상의 광경화 가능한 불포화기를 갖는 광중합성 모노머 및 광개시제를 더 포함하는 것일 수 있다.In more detail, the photocurable composition according to an embodiment of the present invention may further include a photopolymerizable monomer and photoinitiator having two or more photocurable unsaturated groups.

이때, 상기 광중합성 모노머는 제한되지 않으며, 열경화에 의해 경화되거나 활성 에너지선을 조사하여 경화되는 것일 수 있다. 이때, 상기 광중합성 모노머의 관능기의 비한정적인 일 예로는 옥사졸린기, 카바메이트기, 히드록시기, 티올기, 카르복시기, 에폭시기, 옥세탄기, 이소시아네이트기, 글리시딜기, 아크릴기, 메타크릴기, 아크로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기 등을 들 수 있다.In this case, the photopolymerizable monomer is not limited and may be cured by thermal curing or cured by irradiating active energy rays. At this time, non-limiting examples of the functional group of the photopolymerizable monomer are oxazoline group, carbamate group, hydroxy group, thiol group, carboxyl group, epoxy group, oxetane group, isocyanate group, glycidyl group, acrylic group, methacryl group, Acroyl group, methacryloyl group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, etc. are mentioned.

상기 활성 에너지선의 범주에는 마이크로파(microwaves), 적외선(IR), 자외선(UV), X선 및 감마선은 물론, 알파-입자선(alpha-particle beam), 프로톤빔(proton beam), 뉴트론빔(neutron beam) 또는 전자선(electron beam)과 같은 입자빔 등이 포함될 수 있고, 통상적으로는 자외선 또는 전자선 등일 수 있다.The categories of active energy rays include microwaves, infrared rays (IR), ultraviolet rays (UV), X-rays and gamma rays, as well as alpha-particle beams, proton beams, and neutron beams. Particle beams, such as beams or electron beams, may be included, and typically may be ultraviolet rays or electron beams.

본 발명의 일 실시예에 따른 상기 광중합성 모노머는 구체적으로, 아크릴로옥시기 또는 메타크릴로일옥시기 등을 포함하는 아크릴레이트계 화합물에서 선택되는 것이 좋다. 이때, 상기 광중합성 모노머는 본 발명에 따른 화합물과 혼합된 후 라디칼(radical)에 의해 광경화 됨으로써, 우수한 경화도로 강도는 물론 향상된 광투과율을 가지는 경화물을 제공하기 위한 측면에서, 보다 구체적으로는 1,3-부탄다이올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산다이올디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난다이올디(메타)아크릴레이트, 1,10-데칸다이올디(메타)아크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 펜옥시에틸(메타)아크릴레이트, 2-메타아크릴로일옥시에틸에시트포스페이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 사이클로헥산디메탄올디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜(200)디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜(400)디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜(600)디(메타)아크릴레이트, 글리세린디(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-아크릴로옥시프로필메타아크릴레이트, 디메틸롤트리사이크로데칸디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리(2-히드록시에틸)이소시안우레이트트리아크릴레이트, 트리(2-히드록시에틸)이소시아우레이트, 펜타리트리톨트리아크릴레이트, 에톡시레이트 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프록시레이트트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로란테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 에폭시레이트펜타리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 트리에틸프로판 트리아크릴레이트 및 펜타아크릴레이트에스터 등을 들 수 있다. 이때, 상기 아크릴레이트계 화합물은 (메타)아크릴레이트 대신 아크릴레이트인 것 또한 포함한다.Specifically, the photopolymerizable monomer according to an embodiment of the present invention may be selected from an acrylate compound including an acrylooxy group or a methacryloyloxy group. In this case, the photopolymerizable monomer is mixed with the compound according to the present invention and then photocured by radicals, and more specifically, in terms of providing a cured product having excellent lightness and improved light transmittance. 1,3-butanedioldi (meth) acrylate, 1,6-hexanedioldi (meth) acrylate, 1,9-nonanedioldi (meth) acrylate, 1,10-decanedioldi (meth) acrylic Ethylene, 1, 3- butylene glycol di (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, 2-methacryloyl oxyethyl acetate phosphate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (Meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (Meth) acrylate, cyclohexane dimethanol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol (200) di (meth) acrylate, polyethylene glycol (400) di (meth) acrylate, Polyethylene glycol (600) di (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-acrylooxypropyl methacrylate, dimethylol tricyclodecanedi (meth) acrylate, trimethylol Propane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethyl propane tri (meth) acrylate, tri ( 2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate, tri (2-hydroxyethyl) isocyanurate, pentaritritol triacrylate, ethoxylate trimes All propane tri (meth) acrylate, proxyate trimethylol propane tri (meth) acrylate, pentathritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylol proanthera (meth) acrylate, dipentatritol penta (meth) ) Acrylate, an epoxide pentaryl tritol tetra (meth) acrylate, a triethyl propane triacrylate, pentaacrylate ester, etc. are mentioned. In this case, the acrylate compound also includes an acrylate instead of (meth) acrylate.

본 발명의 일 실시예에 따른 상기 광중합성 모노머는 구체적으로, 에폭시기를 포함하는 불포화 에폭시계 화합물 및 옥세탄기를 포함하는 불포화 옥세탄계 화합물에서 선택되는 것이 좋다. 이때, 상기 광중합성 모노머는 본 발명에 따른 화합물과 혼합된 후 양이온(cation)에 의해 광경화 됨으로써, 우수한 경화도로 강도가 높은 경화물을 제공하기 위한 측면에서, 보다 구체적으로는 디시클로펜타디엔디옥사이드, 리모넨디옥사이드, 4-비닐시클로헥센디옥사이드, 2,4-에폭시시클로헥실메틸 3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트 및 비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸)아디페이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4'-에폭시시클로헥산카복실레이트, 비스(3,4-에폭시 시클로 헥실메틸)아디페이트 디시클로펜타디엔 디옥사이드 등의 불포화에폭시계 화합물; 및 3-에틸-3-[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸]옥세탄, 1,4-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸]벤젠, 1,4-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]벤젠, 1,3-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]벤젠, 1,2-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]벤젠, 4,4'-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]비페닐, 2,2'-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]비페닐, 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]비페닐, 2,7-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]나프탈렌, 비스[4-{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}페닐]메탄, 비스[2-{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}페닐]메탄, 2,2-비스[4-{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}페닐]프로판, 3(4),8(9)-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸]-트리시클로[5.2.1.0 2,6]데칸, 2,3-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸]노르보르난, 1,1,1-트리스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸]프로판, 1-부톡시-2,2-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸]부탄, 1,2-비스[{2-(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}에틸티오]에탄, 비스[{4-(3-에틸옥세탄-3-일)메틸티오}페닐]술피드, 비스[{1-에틸(3-옥세타닐)}메틸]에테르 및 1,6-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]-2,2,3,3,4,4,5,5-옥타플루오로헥산 등의 불포화 옥세탄계 화합물; 등을 들 수 있다.Specifically, the photopolymerizable monomer according to an embodiment of the present invention may be selected from an unsaturated epoxy compound including an epoxy group and an unsaturated oxetane compound including an oxetane group. At this time, the photopolymerizable monomer is mixed with the compound according to the present invention and then photocured by cation, in terms of providing a hardened product having high strength with excellent curing degree, more specifically dicyclopentadiene dioxide , Limonene dioxide, 4-vinylcyclohexene dioxide, 2,4-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate and bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, 3,4-epoxycyclo Unsaturated epoxy compounds such as hexylmethyl-3,4'-epoxycyclohexanecarboxylate and bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate dicyclopentadiene dioxide; And 3-ethyl-3-[(3-ethyloxetan-3-yl) methoxymethyl] oxetane, 1,4-bis [(3-ethyloxetan-3-yl) methoxymethyl] benzene, 1 , 4-bis [(3-ethyloxetan-3-yl) methoxy] benzene, 1,3-bis [(3-ethyloxetan-3-yl) methoxy] benzene, 1,2-bis [( 3-ethyloxetan-3-yl) methoxy] benzene, 4,4'-bis [(3-ethyloxetan-3-yl) methoxy] biphenyl, 2,2'-bis [(3-ethyl Oxetan-3-yl) methoxy] biphenyl, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-bis [(3-ethyloxetan-3-yl) methoxy] biphenyl, 2,7-bis [(3-ethyloxetan-3-yl) methoxy] naphthalene, bis [4-{(3-ethyloxetan-3-yl) methoxy} phenyl] methane, bis [2- { (3-ethyloxetan-3-yl) methoxy} phenyl] methane, 2,2-bis [4-{(3-ethyloxetan-3-yl) methoxy} phenyl] propane, 3 (4), 8 (9) -bis [(3-ethyloxetan-3-yl) methoxymethyl] -tricyclo [5.2.1.0 2,6] decane, 2,3-bis [(3-ethyloxetane-3- Yl) methoxymethyl] norbornane, 1,1,1-tris [(3-ethyloxetan-3-yl) methoxymethyl] propane, 1-butoxy-2,2-bis [(3-in Thioxetan-3-yl) methoxymethyl] butane, 1,2-bis [{2- (3-ethyloxetan-3-yl) methoxy} ethylthio] ethane, bis [{4- (3-ethyl Oxetan-3-yl) methylthio} phenyl] sulfide, bis [{1-ethyl (3-oxetanyl)} methyl] ether and 1,6-bis [(3-ethyloxetan-3-yl) Unsaturated oxetane compounds such as methoxy] -2,2,3,3,4,4,5,5-octafluorohexane; Etc. can be mentioned.

이때, 상기 광중합성 모노머의 사용량은 제한되지 않으나, 상기 광경화성 조성물 총 중량을 기준으로, 50 내지 99 중량%로 포함될 수 있으며, 구체적으로는 60 내지 99 중량%, 보다 구체적으로는 70 내지 99 중량%로 포함되는 것이 좋다.At this time, the amount of the photopolymerizable monomer is not limited, but may be included in 50 to 99% by weight based on the total weight of the photocurable composition, specifically 60 to 99% by weight, more specifically 70 to 99% by weight It is good to be included in%.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 광개시제는 공지의 것이라면 제한되지는 않으며, 일 예로 상기 활성 에너지선의 조사에 의해 양이온종이나 루이스산을 만들어 내는 양이온성 광개시제이거나 상기 활성 에너지선의 조사에 의해 라디칼을 만들어내는 광개시제일 수 있다.In addition, the photoinitiator according to an embodiment of the present invention is not limited as long as it is a known one. For example, a cationic photoinitiator that produces a cationic species or Lewis acid by irradiation of the active energy ray or a radical by irradiation of the active energy ray. It can be a photoinitiator that produces

양이온성 광개시제는 친핵성이 약한 음이온이 있는 오늄(onium) 염일 수 있으며, 일 예로 할로늄 염, 요오도실 염, 술포늄 염, 술폭소늄 염, 또는 디아조늄 염 등을 들 수 있다. 상업적인 양이온성 광개시제의 비한정적인 일예로는 UVI-6974 ,UVI-6976, UVI-6970, UVI-6960, UVI-6990 (다우(DOW Corp.)), CD1010, CD-1011, CD-1012 (사토머(Sartomer Corp.)), 아데카오프토머(Adekaoptomer) SP-150, SP-151, SP-170, SP-171 (아사히 덴카 코교(Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.)), 이르가큐어 261 (시바 스페셜티 케미칼스), CI-2481, CI-2624, CI-2639, CI-2064 (니폰 소다(Nippon Soda Co, Ltd.)), 및 DTS-102, DTS-103, NAT-103, NDS-103, TPS-103, MDS-103, MPI-103, BBI-103 (미도리 케미칼(Midori Chemical Co, Ltd.)) 등을 들 수 있다.The cationic photoinitiator may be an onium salt having a weak nucleophilic anion, and examples thereof include a halonium salt, an iodosil salt, a sulfonium salt, a sulfoxnium salt, or a diazonium salt. Non-limiting examples of commercial cationic photoinitiators include UVI-6974, UVI-6976, UVI-6970, UVI-6960, UVI-6990 (DOW Corp.), CD1010, CD-1011, CD-1012 (Sato Saromer Corp.), Adekaoptomer SP-150, SP-151, SP-170, SP-171 (Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), Irgacure 261 (Ciba Specialty Chemicals), CI-2481, CI-2624, CI-2639, CI-2064 (Nippon Soda Co, Ltd.), and DTS-102, DTS-103, NAT-103, NDS- 103, TPS-103, MDS-103, MPI-103, BBI-103 (Midori Chemical Co, Ltd.), etc. are mentioned.

또한 상기 광개시제는 벤조인 유도체, 아세토페논 유도체, 안트라퀴논 유도체, 티오크산톤 유도체, 케탈 유도체, 벤조페논 유도체, α-아미노아세토페논 유도체, 아실포스핀옥사이드 유도체 및 옥심에스테르 유도체 등에서 선택되는 것일 수 있다. 이때, 상기 광개시제의 비한정적인 일 예로는 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르 등의 벤조인 유도체; 아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 1,1-디클로로아세토페논, 4-(1-t-부틸디옥시-1-메틸에틸)아세토페논 등의 아세토페논 유도체; 2-메틸안트라퀴논, 2-아밀안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 1-클로로안트라퀴논 등의 안트라퀴논 유도체; 2,4-디메틸티오크산톤, 2,4-디이소프로필티오크산톤, 2-클로로티오크산톤 등의 티오크산톤 유도체; 아세토페논디메틸케탈, 벤질디메틸케탈 등의 케탈류; 벤조페논, 4-(1-t-부틸디옥시-1-메틸에틸)벤조페논, 3,3',4,4'-테트라키스(t-부틸디옥시카르보닐)벤조페논 등의 벤조페논 유도체; 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로파논-1,2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰포리노페닐)-부탄-1-온, 2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-[4-(4-몰포리닐)페닐]-1-부타논, N,N-디메틸아미노아세토페논(시판품으로서는 치바스페셜리티케미컬사(현, 치바저팬사) 제품의 이루가큐어(등록상표) 907, 이루가큐어 369, 이루가큐어 379 등) 등의 α-아미노아세토페논 유도체; 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐호스핀옥사이트, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥사이드(시판품으로서는, BASF사 제품 루실린(등록상표) TPO, 치바스페셜리티케미컬사 제품의 이루가큐어 819 등) 등의 아실포스핀옥사이드 유도체; 2-(아세틸옥시이미노메틸)티오크산텐-9-온, (1,2-옥탄디온, 1-[4-(페닐티오)페닐]-, 2-(O-벤조일옥심)), (에탄온, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심)) 등의 옥심에스테르 유도체 등을 들 수 있으며, 이중 상술된 옥심에스테르 유도체 등에서 선택되는 하나 또는 둘 이상의 혼합물을 사용하는 것이 좋으나 이에 한정되지 않음은 물론이다.In addition, the photoinitiator may be selected from benzoin derivatives, acetophenone derivatives, anthraquinone derivatives, thioxanthone derivatives, ketal derivatives, benzophenone derivatives, α-aminoacetophenone derivatives, acylphosphine oxide derivatives and oxime ester derivatives. . In this case, non-limiting examples of the photoinitiator include benzoin derivatives such as benzoin, benzoin methyl ether and benzoin ethyl ether; Acetophenone derivatives such as acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone and 4- (1-t-butyldioxy-1-methylethyl) acetophenone; Anthraquinone derivatives such as 2-methylanthraquinone, 2-amylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone and 1-chloroanthraquinone; Thioxanthone derivatives, such as 2, 4- dimethyl thioxanthone, 2, 4- diisopropyl thioxanthone, and 2-chloro thioxanthone; Ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal; Benzophenone derivatives such as benzophenone, 4- (1-t-butyldioxy-1-methylethyl) benzophenone, 3,3 ', 4,4'-tetrakis (t-butyldioxycarbonyl) benzophenone ; 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1,2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one , 2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone, N, N-dimethylaminoacetophenone (as a commercial item Α-aminoacetophenone derivatives such as Irugacure (registered trademark) 907, Irugacure 369, Irugacure 379, etc. manufactured by Chiba Specialty Chemical Co., Ltd .; 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylhospinoxite, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphineoxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl Acyl phosphine oxide derivatives, such as a pentyl phosphine oxide (A commercially available product, Lucilin TPO by BASF Corporation, Irugacure 819 by Chiba Specialty Chemicals, etc.); 2- (acetyloxyiminomethyl) thioxanthene-9-one, (1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio) phenyl]-, 2- (O-benzoyloxime)), (ethanone , Oxime ester derivatives such as 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime)), and the like. It is preferred to use one or two or more mixtures selected from oxime ester derivatives.

이때, 상기 광개시제의 사용량은 제한되지 않으나, 상기 광경화성 조성물 총 중량을 기준으로, 0.5 내지 20 중량%로 포함될 수 있으며, 구체적으로는 1 내지 15 중량%, 보다 구체적으로는 1 내지 10 중량%로 포함되는 것이 좋다.In this case, the amount of the photoinitiator is not limited, but may be included in 0.5 to 20% by weight based on the total weight of the photocurable composition, specifically 1 to 15% by weight, more specifically 1 to 10% by weight It is good to be included.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 광경화성 조성물은 보다 우수한 경화도를 구현하기 위한 측면에서, 제2광증감제, 접착조제, 계면활성제, 자외선 흡수제, 광안정제, 열안정제, 산화 방지제, 수분 흡착제, 유연화제, 가소제, 윤활제, 난연제, 대전방지제, 소포제, 레벨링제 등의 첨가제를 더 포함할 수 있다.In addition, the photocurable composition according to an embodiment of the present invention in terms of achieving a superior degree of curing, the second photosensitizer, adhesive aid, surfactant, ultraviolet light absorber, light stabilizer, heat stabilizer, antioxidant, moisture absorbent , Additives such as a softening agent, a plasticizer, a lubricant, a flame retardant, an antistatic agent, an antifoaming agent, and a leveling agent may be further included.

상기 첨가제의 일 예로, 상기 제2광증감제의 비한정적인 일 예로는 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센(2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene), 9,10-디클로로안트라센(9,10-dichloroanthracene), 1-클로로안트라센(1-chloroanthracene), 2-메틸안트라센(2-methylanthracene), 9-메틸안트라센(9-methylanthracene), 2-t-부틸안트라센(2-t-butylanthracene), 안트라센(anthracene), 1,2-벤즈안트라센(1,2-benzanthracene), 1,2,3,4-디벤즈안트라센(1,2,3,4-dibenzanthracene), 1,2,5,6-디벤즈안트라센(1,2,5,6-dibenzanthracene), 1,2,7,8-디벤즈안트라센(1,2,7,8-dibenzanthracene), 9,10-디메톡시디메틸안트라센(9,10-dimethoxydimethylanthracene), 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센(2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene), N-메틸페노티아진(N-methylphenothiazine), 2-이소프로필티옥산톤(2-isopropylthioxanthone) 등을 들 수 있다. 또한 상업적인 제2광증감제의 비한정적인 일예로는 카야큐어(등록상표)-DMBI, BDMK, BP-100, BMBI, DETX-S, EPA(이상, 닛뽄카야쿠주식회사 제품), 안트라큐어(등록상표) UVS-1331, UVS-1221(이상, 가와사키카세이코교(川崎化成工業) 주식회사 제품), 유베크릴 P102, 103, 104, 105(이상, UCB사 제품)등을 들 수 있다.As an example of the additive, a non-limiting example of the second photosensitizer is 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-dichloroanthracene (9 , 10-dichloroanthracene, 1-chloroanthracene, 2-methylanthracene, 2-methylanthracene, 9-methylanthracene, 2-t-butylanthracene, 2-t-butylanthracene, Anthracene, 1,2-benzanthracene, 1,2,3,4-dibenzanthracene, 1,2,5,6- Dibenzanthracene (1,2,5,6-dibenzanthracene), 1,2,7,8-dibenzanthracene (1,2,7,8-dibenzanthracene), 9,10-dimethoxydimethylanthracene (9,10 -dimethoxydimethylanthracene), 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, N-methylphenothiazine, 2-isopropylthioxanthone ), And the like. In addition, non-limiting examples of commercial second photosensitizers include Kayacure (registered trademark) -DMBI, BDMK, BP-100, BMBI, DETX-S, EPA (above, Nippon Kayaku Co., Ltd.), anthracure (registered) Trademarks) UVS-1331, UVS-1221 (above, manufactured by Kawasaki Kasei Co., Ltd.), and Ubecryl P102, 103, 104, 105 (above, manufactured by UCB).

상기 접착조제는 가수분해성기(예, 알콕시, 아실옥시, 할로겐 등) 및 유기 관능기(예, 아미노, 메르캅토, 비닐, 에폭시, 메타크릴옥시, 아크릴옥시, 이소시아네이트 등)로부터 선택되는 둘 이상의 유형의 상이한 치환기를 갖는 실란 화합물일 수 있다. 이의 비한정적인 일예로는 N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-트리에톡시실릴-N-(1,3-디메틸-부틸리덴)프로필아민, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(비닐벤질)-2-아미노에틸-3-아미노프로필트리메톡시실란 및 3-글리시독시프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다.The adhesion aid may be of at least two types selected from hydrolyzable groups (e.g. alkoxy, acyloxy, halogen, etc.) and organic functional groups (e.g., amino, mercapto, vinyl, epoxy, methacryloxy, acryloxy, isocyanate, etc.). Silane compounds having different substituents. Non-limiting examples thereof include N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl ) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) propyl Amine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (vinylbenzyl) -2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and the like. have.

상기 계면활성제는 계면활성능을 가지는 폴리에테르계 실리콘 오일일 수 있으며, 이의 비한정적인 일예로는 상품명 KF-101, KF-102, KF-105, KF-351, KF-352, KF-618, KF-945, KF-2001, KF-2004, X-22-163A, X-22-163B, X-22-167B, X-22-169AS, X-22-2000, X-22-4741, X-22-4741(이상, 신에츠 화학공업주식회사 제품), 상품명 BYK-307, BYK-325, BYK-333(이상, 비크 케미 재팬사 제품)등을 들 수 있다.The surfactant may be a polyether silicone oil having a surfactant activity, and non-limiting examples thereof include trade names KF-101, KF-102, KF-105, KF-351, KF-352, KF-618, and KF. -945, KF-2001, KF-2004, X-22-163A, X-22-163B, X-22-167B, X-22-169AS, X-22-2000, X-22-4741, X-22 -4741 (above, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), brand names BYK-307, BYK-325, BYK-333 (above, the product made by Vik Chemi Japan), etc. are mentioned.

상기 자외선 흡수제는 광경화성 조성물의 용도에 따라서, 태양광 등으로부터의 자외선을 흡수하여, 분자 내에서 무해한 열에너지로 변환시켜 광열화 개시의 활성종이 여기되는 것을 방지하는 역할을 할 수 있다. 이때, 상기 자외선 흡수제의 비한정적인 일 예로는 벤조페논계, 벤조트리아졸계, 아크릴니트릴계, 금속 착염계, 힌더드 아민계, 초미립자 산화티탄 또는 초미립자 산화 아연 등의 무기계 자외선 흡수제 등의 1종 이상 또는 2종 이상의 혼합을 사용할 수 있다.According to the use of the photocurable composition, the ultraviolet absorber may serve to absorb ultraviolet rays from sunlight or the like and convert them into harmless thermal energy in the molecule to prevent the active species of the photodegradation from being excited. At this time, one non-limiting example of the ultraviolet absorber is one or more kinds of inorganic ultraviolet absorbers such as benzophenone-based, benzotriazole-based, acrylonitrile-based, metal complex salt, hindered amine-based, ultrafine titanium oxide or ultrafine zinc oxide Or two or more kinds of mixtures may be used.

상기 광안정제는 광열화 개시의 활성종을 포착하여, 광산화를 방지하는 역할을 할 수 있다. 이때, 상기 광안정제의 비한정적인 일 예로는 힌더드 아민계 화합물 또는 힌더드 피페리딘계 화합물 등과 같은 공지의 화합물을 들 수 있다.The light stabilizer may play a role of capturing active species of photodegradation initiation and preventing photooxidation. In this case, a non-limiting example of the light stabilizer may be a known compound such as a hindered amine compound or a hindered piperidine compound.

상기 열안정제의 비한정적인 일 예로는 트리스(2,4-디-터트-부틸페닐)포스파이트, 비스[2,4-비스(1,1-디메틸에틸)-6-메틸페닐]에틸에스테르 아인산, 테트라키스(2,4-디-터트-부틸페닐)[1,1-비페닐]-4,4'-디일비스포스포네이트 및 비스(2,4-디-터트-부틸페닐)펜타에리쓰리톨디포스파이트 등의 인계 열안정제; 8-하이드록시-5,7-디-터트-부틸-푸란-2-온과 o-크실렌과의 반응 생성물 등의 락톤계 열안정제;를 들 수 있고, 이들 중 1종 이상 또는 2종 이상의 혼합을 사용할 수 있다.Non-limiting examples of the heat stabilizer include tris (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, bis [2,4-bis (1,1-dimethylethyl) -6-methylphenyl] ethylester phosphorous acid, Tetrakis (2,4-di-tert-butylphenyl) [1,1-biphenyl] -4,4'-diylbisphosphonate and bis (2,4-di-tert-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite Phosphorus thermal stabilizers such as these; Lactone-based heat stabilizers such as reaction products of 8-hydroxy-5,7-di-tert-butyl-furan-2-one and o-xylene; and one or more of these or a mixture of two or more thereof. Can be used.

상기 수분 흡착제는 광경화성 조성물을 봉지재로 활용할 시, 봉지재로 침투한 수분 내지는 습기와의 화학적 반응 또는 물리적 반응을 통해 수분을 흡착 또는 제거할 수 있는 물질을 의미한다. 상기 수분 흡착제의 비한정적일 일예로는 금속 산화물, 황산염, 유기 금속 산화물, 클레이, 탈크, 침상 실리카, 판상 실리카, 다공성 실리카, 제올라이트, 티타니아 또는 지르코니아 등을 들 수 있으며, 이의 구체적인 일예로는 산화마그네슘, 산화칼슘, 산화스트론튬, 산화바륨 또는 산화알루미늄 등의 금속 산화물; 황산마그네슘, 황산나트륨 또는 황산니켈 등의 황산염; 알루미늄 옥사이드 옥틸레이트 등의 유기 금속 산화물을 들 수 있다.The moisture adsorbent refers to a material capable of adsorbing or removing moisture through chemical reaction or physical reaction with moisture or moisture penetrated into the encapsulant when the photocurable composition is used as the encapsulant. Non-limiting examples of the moisture adsorbent include metal oxides, sulfates, organic metal oxides, clay, talc, acicular silica, plate silica, porous silica, zeolite, titania or zirconia, and specific examples thereof are magnesium oxide Metal oxides such as calcium oxide, strontium oxide, barium oxide or aluminum oxide; Sulfates such as magnesium sulfate, sodium sulfate or nickel sulfate; Organic metal oxides, such as aluminum oxide octylate, are mentioned.

이때, 상기 첨가제는 상기 조성물 총 중량을 기준으로 각각 0.01 내지 10 중량부로 포함될 수 있으며, 구체적으로는 0.05 내지 5 중량부, 보다 구체적으로는 0.1 내지 5 중량부로 포함되는 것이 좋으나 이에 한정되지 않음은 물론이다.In this case, the additive may be included in each of 0.01 to 10 parts by weight based on the total weight of the composition, specifically, it is preferably included in 0.05 to 5 parts by weight, more specifically 0.1 to 5 parts by weight, but is not limited thereto. to be.

또한, 본 발명은 상술된 조합의 광경화성 조성물의 경화물을 포함하는 봉지재로 봉지된 유기 전자소자를 제공한다.The present invention also provides an organic electronic device encapsulated with an encapsulant including a cured product of the photocurable composition of the above-described combination.

상기 봉지재의 형태는 특별히 제한되지 않으나, 바람직하게 시트 또는 필름 형태로 제조될 수 있다. 이때, 상기 봉지재 시트 또는 필름의 막 두께는 유기 전자장치의 셀 등의 소자의 지지 효율 및 파손 가능성, 장치의 경량화나 작업성 등을 고려하여, 적절하게 조절될 수 있음은 물론이며, 구체적으로는 5 내지 2,000 ㎛ 두께로 제조될 수 있으며, 보다 구체적으로는 5 내지 1,000 ㎛ 두께로 제조될 수 있다.The shape of the encapsulant is not particularly limited, but may be preferably in the form of a sheet or film. In this case, the film thickness of the encapsulant sheet or film may be appropriately adjusted in consideration of support efficiency and breakage potential of devices such as cells of organic electronic devices, weight reduction or workability of the device, and the like. May be prepared to have a thickness of 5 to 2,000 μm, and more specifically, may be prepared to have a thickness of 5 to 1,000 μm.

본 발명에 따른 경화물, 즉 봉지재는 상술된 본 발명에 따른 조합의 광경화성 조성물을 이용하여 제조됨으로써, 우수한 경화도를 구현할 뿐 아니라 흡습성이 낮고 내습성이 우수한 경화물을 제공할 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 봉지재는 향상된 내열성 및 우수한 표면 특성(일예, 표면 경도, 접착성, 균열 내성, 내열 충격성 등)의 확보가 가능하다.The cured product according to the present invention, that is, the encapsulant may be prepared using the photocurable composition of the combination according to the present invention as described above, thereby providing a cured product having excellent hygroscopicity and excellent moisture resistance as well as achieving excellent degree of curing. In addition, the encapsulant according to the present invention can ensure improved heat resistance and excellent surface properties (eg, surface hardness, adhesion, crack resistance, thermal shock resistance, etc.).

또한 본 발명에 따르면, 대면적의 장치에서 소자의 보호를 위하여 적용되는 경우에도 기포 등의 유발 없이 소자 상에 적층될 수 있고, 봉지 공정 후에 외부 성분, 예를 들면, 수분 등으로부터 소자를 효과적으로 보호할 수 있다.In addition, according to the present invention, even when applied for the protection of the device in a large-area device can be laminated on the device without causing bubbles, etc., and effectively protect the device from external components, for example, moisture, etc. after the sealing process can do.

본 발명의 일 실시예에 따른 봉지재는 상기 광경화성 조성물을 포함하는 유기층을 2층 이상 적층한 다층 구조를 가질 수 있다. 이때, 상기 다층 구조의 각 유기층은 서로 상이한 탄성률, 광투과율, 수증기 투과율을 갖는 것일 수 있다.The encapsulant according to an embodiment of the present invention may have a multilayer structure in which two or more organic layers including the photocurable composition are laminated. In this case, each organic layer of the multilayer structure may have different elastic modulus, light transmittance, and water vapor transmission rate.

본 발명의 일 실시예에 따른 봉지재는 400 ㎚ 파장에서의 광투과율이 80 내지 99%로 우수한 투명성을 보일 뿐 아니라 향상된 경화률로 전제적인 필름 특성을 향상시킬 수 있다. The encapsulant according to an embodiment of the present invention may not only show excellent transparency with a light transmittance of 80 to 99% at a wavelength of 400 nm, but also improve prerequisite film properties with an improved curing rate.

본 발명의 일 실시예에 따른 봉지재의 광투과율(@400nm)은 구체적으로 85 내지 99%, 보다 구체적으로 90 내지 99%인 것일 수 있다.Light transmittance (@ 400nm) of the encapsulation material according to an embodiment of the present invention may be specifically 85 to 99%, more specifically 90 to 99%.

본 발명의 일 실시예에 따른 봉지재는, 기재를 추가로 포함할 수 있다. 기재는 봉지재의 일면 또는 양면에 배치될 수 있다. 상기 기재는 이형 처리가 되어 있는 기재일 수 있고, 이러한 기재의 종류는 당업계에서 사용하는 것을 제한없이 사용하는 것이 가능하다.The encapsulant according to an embodiment of the present invention may further include a substrate. The substrate may be disposed on one side or both sides of the encapsulant. The substrate may be a substrate that has been subjected to a release treatment, and the type of such substrate may be used without limitation in the art.

본 발명의 일 실시예에 따른 봉지재는 다양한 대상을 봉지(encapsulation)하여 보호하는 것에 적용될 수 있다. 특히, 상기 봉지재는 산소 또는 수분에 민감한 소자를 포함하는 대상의 보호에 효과적일 수 있다. 상기 봉지재가 적용될 수 있는 대상의 일예로는, 광전지 장치(photovoltaic device), 정류기(rectifier), 트랜스미터(transmitter) 또는 유기발광소자(organic light emitting diode; OLED) 등과 같은 유기 전자장치를 들 수 있으며, 태양전지 또는 이차전지 등 역시 적용될 수 있음은 물론이다.The encapsulant according to an embodiment of the present invention may be applied to encapsulation and protection of various objects. In particular, the encapsulant may be effective for protecting an object including an element sensitive to oxygen or moisture. Examples of the object to which the encapsulant may be applied include an organic electronic device such as a photovoltaic device, a rectifier, a transmitter, or an organic light emitting diode (OLED). Of course, solar cells or secondary batteries, etc. can also be applied.

이하, 실시예를 통해 본 발명에 따른 신규한 화합물, 이를 포함하는 광경화성 조성물 및 이의 경화물에 대하여 더욱 상세히 설명한다. 다만 하기 실시예는 본 발명을 상세히 설명하기 위한 하나의 참조일 뿐 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 여러 형태로 구현될 수 있다.Hereinafter, a novel compound, a photocurable composition comprising the same, and a cured product thereof according to the present invention will be described in more detail with reference to Examples. However, the following examples are only one reference for describing the present invention in detail, and the present invention is not limited thereto and may be implemented in various forms.

또한 달리 정의되지 않은 한, 모든 기술적 용어 및 과학적 용어는 본 발명이 속하는 당업자 중 하나에 의해 일반적으로 이해되는 의미와 동일한 의미를 갖는다. 본원에서 설명에 사용되는 용어는 단지 특정 실시예를 효과적으로 기술하기 위함이고 본 발명을 제한하는 것으로 의도되지 않는다. 또한 명세서에서 특별히 기재하지 않은 첨가물의 단위는 중량%일 수 있다.Also, unless defined otherwise, all technical and scientific terms have the same meanings as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. The terminology used in the description herein is for the purpose of effectively describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. In addition, the unit of the additive which is not specifically described in the specification may be wt%.

[[ 실시예Example 1] 화합물 1의 제조 1] Preparation of Compound 1

Figure 112017126729076-pat00009
Figure 112017126729076-pat00009

질소 분위기 하에서, 2-(에틸티오)-10H-페노티아진(2-(Ethylthio)-10H-phenothiazine) 2.59 g, 4-아이오도아니솔(4-iodoanisole) 3.51 g, 무수탄산칼륨 4.15 g, 구리가루(copper bronze) 1.82 g, 18-crown-6(1,4,7,10,13,16-헥사옥사시클로옥타데케인( 1,4,7,10,13,16-hexaoxacyclooctadecane)) 0.53 g, 1,2-디크롤로벤젠 100 ㎖를 혼합한 후 180℃에서 48시간 동안 교반하였다.Under a nitrogen atmosphere, 2.59 g of 2- (Ethylthio) -10H-phenothiazine, 3.51 g of 4-iodoanisole, 4.15 g of anhydrous potassium carbonate, Copper bronze 1.82 g, 18-crown-6 (1,4,7,10,13,16-hexaoxacyclooctadecane) (1,4,7,10,13,16-hexaoxacyclooctadecane) 0.53 g, 1,2-dichlorobenzene 100ml were mixed and stirred at 180 ° C for 48 hours.

반응완료 후 반응액을 냉각시키고 감압여과한 후, 그 여액을 증류수로 2~3회 수세하였다, 다음으로 회전농축기를 이용하여 유기용매를 제거한 후, 컬럼 크로마토그래피를 통해 정제하여 2.9 g의 화합물 1을 얻었다.After completion of the reaction, the reaction solution was cooled, filtered under reduced pressure, and the filtrate was washed with distilled water two to three times. Then, the organic solvent was removed using a rotary concentrator, and then purified through column chromatography to obtain 2.9 g of Compound 1. Got.

1H NMR (acetone-d6, 300 MHz), δ: 7.36(d, J=6.0 Hz, 2H), 7.23(d, J=6.0 Hz, 2H), 7.00(d, J=6.0 Hz, 1H), 6.94(d, J=6.0 Hz, 1H), 6.89(d, J=6.0 Hz, 1H), 6.83(t, J=9.0 Hz, 2H), 6.21(d, J=6.0 Hz, 1H), 6.16(s, 1H), 3.91(s, 1H), 2.73(m, 2H), 1.14(t, J=9.0Hz, 3H). 1 H NMR (acetone-d 6 , 300 MHz), δ: 7.36 (d, J = 6.0 Hz, 2H), 7.23 (d, J = 6.0 Hz, 2H), 7.00 (d, J = 6.0 Hz, 1H) , 6.94 (d, J = 6.0 Hz, 1H), 6.89 (d, J = 6.0 Hz, 1H), 6.83 (t, J = 9.0 Hz, 2H), 6.21 (d, J = 6.0 Hz, 1H), 6.16 (s, 1H), 3.91 (s, 1H), 2.73 (m, 2H), 1.14 (t, J = 9.0 Hz, 3H).

[[ 실시예Example 2] 화합물 2의 제조 2] Preparation of Compound 2

Figure 112017126729076-pat00010
Figure 112017126729076-pat00010

질소 분위기 하에서, 2-(에틸티오)-10H-페노티아진 2.59 g, 2,4-디메톡시 아이오도벤젠(2,4-dimethoxy iodobenzene) 3.96 g, 무수탄산칼륨 4.15 g, 구리가루 1.82 g, 18-crown-6 0.53 g, 1,2-디크롤로벤젠 100 ㎖를 혼합한 후 180℃에서 48시간 동안 교반하였다.Under a nitrogen atmosphere, 2.59 g of 2- (ethylthio) -10H-phenothiazine, 3.96 g of 2,4-dimethoxy iodobenzene, 4.15 g of anhydrous potassium carbonate, 1.82 g of copper powder, 0.53 g of 18-crown-6 and 100 ml of 1,2-dichlorobenzene were mixed and then stirred at 180 ° C. for 48 hours.

반응완료 후 반응액을 냉각시키고 감압여과한 후, 그 여액을 증류수로 2~3회 수세하였다, 다음으로 회전농축기를 이용하여 유기용매를 제거한 후, 컬럼 크로마토그래피를 통해 정제하여 2.97 g의 화합물 2를 얻었다.After completion of the reaction, the reaction solution was cooled, filtered under reduced pressure, and the filtrate was washed with distilled water two to three times. Next, the organic solvent was removed using a rotary concentrator, and then purified by column chromatography to obtain 2.97 g of Compound 2. Got.

1H NMR (acetone-d6, 300 MHz), δ: 7.25(d, J=6.0 Hz, 1H), 6.97(s, 1H), 6.89(d, J=6.0 Hz, 2H), 6.80-6.74(m, 4H), 6.12(d, J=6.0 Hz, 1H), 6.08(s, 1H), 3.92(s, 3H), 3.81(s, 3H), 2.73(m, 2H), 1.14(t, J=9.0 Hz, 3H). 1 H NMR (acetone-d 6 , 300 MHz), δ: 7.25 (d, J = 6.0 Hz, 1H), 6.97 (s, 1H), 6.89 (d, J = 6.0 Hz, 2H), 6.80-6.74 ( m, 4H), 6.12 (d, J = 6.0 Hz, 1H), 6.08 (s, 1H), 3.92 (s, 3H), 3.81 (s, 3H), 2.73 (m, 2H), 1.14 (t, J = 9.0 Hz, 3H).

[[ 실시예Example 3] 화합물 3의 제조 3] Preparation of Compound 3

Figure 112017126729076-pat00011
Figure 112017126729076-pat00011

질소 분위기 하에서, 2-(에틸티오)-10H-페노티아진 2.59 g, 아이오도벤젠(iodobenzene) 3.06 g, 무수탄산칼륨 4.15 g, 구리가루 1.82 g, 18-crown-6 0.53 g, 1,2-디크롤로벤젠 100 ㎖를 혼합한 후 150℃에서 24시간 동안 교반하였다.Under a nitrogen atmosphere, 2.59 g of 2- (ethylthio) -10H-phenothiazine, 3.06 g of iodobenzene, 4.15 g of anhydrous potassium carbonate, copper powder 1.82 g, 18-crown-6 0.53 g, 1,2 -100 ml of dichlorobenzene was mixed and stirred at 150 ° C. for 24 hours.

반응완료 후 반응액을 냉각시키고 감압여과한 후, 그 여액을 증류수로 2~3회 수세하였다, 다음으로 회전농축기를 이용하여 유기용매를 제거한 후, 컬럼 크로마토그래피를 통해 정제하여 2.85 g의 화합물 3을 얻었다.After completion of the reaction, the reaction solution was cooled, filtered under reduced pressure, and the filtrate was washed with distilled water two to three times. Next, the organic solvent was removed using a rotary concentrator, and then purified through column chromatography to obtain 2.85 g of Compound 3. Got.

1H NMR (acetone-d6, 300 MHz), δ: 7.71(t, J=9.0 Hz, 2H), 7.57(t, J=9.0 Hz, 1H), 7.46(t, J=9.0 Hz, 2H), 7.03(d, J=6.0 Hz, 1H), 6.97(d, J=6.0 Hz, 1H), 6.89-6.81(m, 3H), 5.22(d, J=6.0 Hz, 1H), 5.15(s, 1H), 2.72(m, 2H), 1.12(t, J=9.0 Hz, 3H). 1 H NMR (acetone-d 6 , 300 MHz), δ: 7.71 (t, J = 9.0 Hz, 2H), 7.57 (t, J = 9.0 Hz, 1H), 7.46 (t, J = 9.0 Hz, 2H) , 7.03 (d, J = 6.0 Hz, 1H), 6.97 (d, J = 6.0 Hz, 1H), 6.89-6.81 (m, 3H), 5.22 (d, J = 6.0 Hz, 1H), 5.15 (s, 1H), 2.72 (m, 2H), 1.12 (t, J = 9.0 Hz, 3H).

[[ 실시예Example 4] 화합물 4의 제조 4] Preparation of Compound 4

Figure 112017126729076-pat00012
Figure 112017126729076-pat00012

질소 분위기 하에서, 2-(에틸티오)-10H-페노티아진 2.59 g, 4-부톡시 아이오도벤젠(4-butoxy iodobenzene) 4.14 g, 무수탄산칼륨 4.15 g, 구리가루 1.82 g, 18-crown-6 0.53 g, 1,2-디크롤로벤젠 100 ㎖를 혼합한 후 180℃에서 48시간 동안 교반하였다.Under nitrogen atmosphere, 2.59 g of 2- (ethylthio) -10H-phenothiazine, 4.14 g of 4-butoxy iodobenzene, 4.15 g of anhydrous potassium carbonate, 1.82 g of copper powder, 18-crown- 6 0.53 g, 1,2-dichlorobenzene 100 ml were mixed and stirred at 180 ° C. for 48 hours.

반응완료 후 반응액을 냉각시키고 감압여과한 후, 그 여액을 증류수로 2~3회 수세하였다, 다음으로 회전농축기를 이용하여 유기용매를 제거한 후, 컬럼 크로마토그래피를 통해 정제하여 2.71 g의 화합물 4-1을 얻었다.After completion of the reaction, the reaction solution was cooled, filtered under reduced pressure, and the filtrate was washed with distilled water two to three times. Next, the organic solvent was removed using a rotary concentrator, and then purified by column chromatography to obtain 2.71 g of Compound 4. -1 was obtained.

다음으로, 질소분위기 하에서 화합물 4-1 1.3 g을 디메틸포름아미드(DMF) 30 ㎖에 용해시킨 후 0℃로 냉각시키고, N-브로모숙신이미드(NBS) 0.74 g을 첨가하여 실온(약 25℃)에서 8시간동안 교반하였다. 반응이 완료되면 묽은 수산화칼륨을 이용하여 pH 7로 중화시키고, 메틸렌 클로라이드(MC)를 사용하여 추출하였다. 생성물을 컬럼 크로마토그래피를 통해 정제하여 1.32 g의 화합물 4-2를 얻었다.Next, 1.3 g of compound 4-1 was dissolved in 30 ml of dimethylformamide (DMF) under a nitrogen atmosphere, cooled to 0 ° C., and 0.74 g of N-bromosuccinimide (NBS) was added to room temperature (about 25 Agitation) for 8 hours. Upon completion of the reaction, the mixture was neutralized to pH 7 with dilute potassium hydroxide and extracted with methylene chloride (MC). The product was purified via column chromatography to give 1.32 g of compound 4-2.

다음으로, 질소분위기 하에서 화합물 4-2 1.1 g, CuI 0.024 g, 8-히드록시퀴놀린(8-hydroxyquinoline) 0.038 g, 인산칼륨(K3PO4) 1.1 g을 혼합하여 교반하였다. 교반액에 1-부타놀 6 ㎖를 첨가하고, 110℃에서 24시간동안 교반하였다. 반응이 완료되면 실온(약 25℃)으로 냉각하고 용매를 제거한 후 MC를 사용하여 추출하였다. 생성물을 컬럼 크로마토그래피를 통해 정제하여 0.7 g의 화합물 4를 얻었다.Next, 1.1 g of compound 4-2, 0.024 g of CuI, 0.038 g of 8-hydroxyquinoline (8-hydroxyquinoline), and 1.1 g of potassium phosphate (K 3 PO 4 ) were mixed and stirred under a nitrogen atmosphere. 6 ml of 1-butanol was added to the stirred solution, and stirred at 110 ° C. for 24 hours. After the reaction was completed, the reaction mixture was cooled to room temperature (about 25 ° C.), the solvent was removed, and extracted using MC. The product was purified via column chromatography to give 0.7 g of compound 4.

1H NMR (CDCl3 , 500 MHz), δ: 7.24(t, J=9.0 Hz, 2H), 7.08-7.06(m, 4H), 6.89(d, J=9.0 Hz, 1H), 6.56(s, 1H), 6.39(d, J=9.0 Hz, 1H), 6.10(d, J=9.0 Hz, 1H), 6.03 (d, J=9.0 Hz, 1H), 4.03(t, J=6.5 Hz, 2H), 3.85(t, J=6.5 Hz, 2H), 1.82(m, 2H), 1.69(m, 2H), 1.53(m, 2H), 1.44(m, 2H), 1.02(t, J=7.5 Hz, 3H), 0.95(t, J=7.5 Hz, 3H). 1 H NMR (CDCl 3 , 500 MHz), δ: 7.24 (t, J = 9.0 Hz, 2H), 7.08-7.06 (m, 4H), 6.89 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 6.56 (s, 1H), 6.39 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 6.10 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 6.03 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 4.03 (t, J = 6.5 Hz, 2H) , 3.85 (t, J = 6.5 Hz, 2H), 1.82 (m, 2H), 1.69 (m, 2H), 1.53 (m, 2H), 1.44 (m, 2H), 1.02 (t, J = 7.5 Hz, 3H), 0.95 (t, J = 7.5 Hz, 3H).

[ 실시예 5] 양이온 광경화성 조성물의 제조 [Example 5] Preparation of a cationic photo-curable composition

광중합성 모노머(3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4'-에폭시시클로헥산카복실레이트, UVR-6110, Dow chemical) 45.85g, 양이온 광개시제(CD-1012, Sartomer) 2.0g, 상기 실시예 1의 화합물 1.0g, 접착조제(KBM-403) 1.0g 및 계면활성제(BYK-307) 0.15g을 순차적으로 혼합하여, 상온(23℃)에서 3시간 동안 교반하여 양이온 광경화성 조성물을 제조하였다. 45.85 g of photopolymerizable monomers (3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4'-epoxycyclohexanecarboxylate, UVR-6110, Dow chemical), cationic photoinitiator (CD-1012, Sartomer) 2.0 g, Example 1 1.0 g of the compound, 1.0 g of the adhesion aid (KBM-403) and 0.15 g of the surfactant (BYK-307) were sequentially mixed, and stirred at room temperature (23 ° C.) for 3 hours to prepare a cationic photocurable composition.

[ 실시예 6 내지 8] 양이온 광경화성 조성물의 제조 [Example 6-8] Preparation of a cationic photo-curable composition

상기 실시예 1의 화합물 대신에 상기 실시예 2, 실시예 3 또는 실시예 4의 화합물 각각 1.0g을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 5과 동일한 조성 및 방법으로 양이온 광경화성 조성물을 제조하였다.A cationic photocurable composition was prepared by the same composition and method as Example 5, except that 1.0 g of the compound of Example 2, Example 3, or Example 4 was used instead of the compound of Example 1.

[ 실시예 9] 양이온 광경화성 조성물의 제조 Example 9 Preparation of the cationic photo-curing composition

광중합성 모노머(UVR-6110, Dow chemical) 45.85g, 광개시제(CD-1012, Sartomer) 2.0g, 상기 실시예 1의 화합물 0.5g, 광증감제(UVS-1331, Kawasaki Kasei chemical) 0.5g, 접착조제(KBM-403) 1.0g 및 계면활성제(BYK-307) 0.15g을 순차적으로 혼합하여, 상온에서 3시간 동안 교반하여 양이온 광경화형 광경화성 조성물을 제조하였다. 45.85 g of photopolymerizable monomer (UVR-6110, Dow chemical), 2.0 g of photoinitiator (CD-1012, Sartomer), 0.5 g of compound of Example 1, 0.5 g of photosensitizer (UVS-1331, Kawasaki Kasei chemical), adhesion 1.0 g of the preparation (KBM-403) and 0.15 g of the surfactant (BYK-307) were sequentially mixed and stirred at room temperature for 3 hours to prepare a cationic photocurable photocurable composition.

[ 실시예 10 내지 12] 양이온 광경화성 조성물의 제조 [Examples 10 to 12 Preparation of the cationic photo-curing composition

상기 실시예 1의 화합물 대신에 상기 실시예 2, 실시예 3, 실시예 4의 화합물 각각 0.5g을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 9와 동일한 조성 및 방법으로 양이온 광경화성 조성물을 제조하였다.A cationic photocurable composition was prepared in the same composition and method as in Example 9, except that 0.5 g of each of the compounds of Examples 2, 3, and 4 was used instead of the compound of Example 1.

[ 실시예 13] 라디칼 광경화성 조성물의 제조 Example 13 Preparation of radical photo-curable composition

펜옥시에틸아크릴레이트 10.37g, 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트 55.34g, 트리에틸프로판 트리아크릴레이트 8.30g, 상기 실시예 1의 화합물 0.83g, 광개시제(Irgacure TPO, BASF) 1.66g, 접착조제(KBM-503) 1.0g 및 계면활성제(BYK-307) 0.15g을 순차적으로 혼합하여, 상온에서 3시간 동안 교반하여 라디칼 광경화성 조성물을 제조하였다. 10.37 g of phenoxyethyl acrylate, 55.34 g of tripropylene glycol diacrylate, 8.30 g of triethyl propane triacrylate, 0.83 g of the compound of Example 1, 1.66 g of a photoinitiator (Irgacure TPO, BASF), an adhesion aid (KBM- 503) 1.0g and 0.15g of surfactant (BYK-307) were sequentially mixed and stirred at room temperature for 3 hours to prepare a radical photocurable composition.

[ 실시예 14 내지 16] 라디칼 광경화성 조성물의 제조 [Examples 14 to 16 Preparation of a radical photo-curable composition

상기 실시예 1의 화합물 대신에 상기 실시예 2, 실시예 3 또는 실시예 4의 화합물 각각 0.83g을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 13과 동일한 조성 및 방법으로 라디칼 광경화성 조성물을 제조하였다.Radical photocurable compositions were prepared in the same composition and method as in Example 13, except that 0.83 g of the compound of Example 2, Example 3, or Example 4 was used instead of the compound of Example 1.

[ 실시예 17] 라디칼 광경화성 조성물의 제조 Example 17 Preparation of radical photo-curable composition

펜옥시에틸아크릴레이트 10.37g, 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트 55.34g, 트리에틸프로판 트리아크릴레이트 8.30g, 상기 실시예 1의 화합물 0.83g, 상기 실시예 1의 화합물 0.43g, 광증감제(UVS-1331, Kawasaki Kasei chemical) 0.4g, (Irgacure TPO, BASF) 1.66g, 접착조제(KBM-503) 1.0g 및 계면활성제(BYK-307) 0.15g을 순차적으로 혼합하여, 상온에서 3시간 동안 교반하여 라디칼 광경화성 조성물을 제조하였다. 10.37 g of phenoxyethyl acrylate, 55.34 g of tripropylene glycol diacrylate, 8.30 g of triethyl propane triacrylate, 0.83 g of the compound of Example 1, 0.43 g of the compound of Example 1, and a photosensitizer (UVS- 1331, Kawasaki Kasei chemical) 0.4g, (Irgacure TPO, BASF) 1.66g, a mixture of adhesive aid (KBM-503) 1.0g and 0.15g surfactant (BYK-307) was sequentially mixed and stirred for 3 hours at room temperature Radical photocurable compositions were prepared.

[ 실시예 18 내지 20] 라디칼 광경화성 조성물의 제조 [Examples 18 to 20 Preparation of a radical photo-curable composition

상기 실시예 1에서 제조된 광활성 화합물 대신에 상기 실시예 2, 실시예 3 또는 실시예 4의 화합물 각각 0.43g을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 17과 동일한 조성 및 방법으로 라디칼 광경화성 조성물을 제조하였다.A radical photocurable composition was prepared in the same composition and method as in Example 17, except that 0.43 g of each of the compounds of Example 2, 3, or 4 was used instead of the photoactive compound prepared in Example 1. It was.

(비교예 1) 양이온 광경화성 조성물의 제조 Comparative Example 1 Preparation of Cationic Photocurable Composition

상기 실시예 1의 화합물 대신에 광증감제(UVS-1331, Kawasaki Kasei chemical) 1.0g을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 5와 동일한 조성 및 방법으로 양이온 광경화성 조성물을 제조하였다.A cationic photocurable composition was prepared by the same composition and method as Example 5, except that 1.0 g of a photosensitizer (UVS-1331, Kawasaki Kasei chemical) was used instead of the compound of Example 1.

(비교예 2) 라디칼 광경화성 조성물의 제조Comparative Example 2 Preparation of Radical Photocurable Composition

상기 실시예 1의 화합물 대신에 광증감제(UVS-1331, Kawasaki Kasei chemical) 0.83g을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 13과 동일한 조성 및 방법으로 라디칼 광경화성 조성물을 제조하였다.A radical photocurable composition was prepared in the same composition and method as in Example 13, except that 0.83 g of a photosensitizer (UVS-1331, Kawasaki Kasei chemical) was used instead of the compound of Example 1.

상기 방법으로 제조된 광경화성 조성물을 폴리이미드 필름 기판 위에 잉크젯 방식으로 코팅한 후 질소 분위기에서 395nm 파장의 1000mW LED 노광기로 1초 동안 1000mJ 자외선 조사하여 두께 5 ㎛의 필름을 형성한 후 물성을 측정하였다.The photocurable composition prepared by the above method was coated on a polyimide film substrate by inkjet method, and then 1000mJ UV irradiation was performed for 1 second with a 1000mW LED exposure machine having a wavelength of 395nm in a nitrogen atmosphere to form a film having a thickness of 5 μm, and then physical properties thereof were measured. .

1)경화도 측정1) Hardness Measurement

상기 실시예 및 비교예에서 제조된 광경화성 조성물을 이용하여 폴리이미드 기재 필름에 잉크젯 방식으로 코팅한 후 질소 분위기에서 395nm 파장의 1000mW LED 노광기로 1초 동안 1000mJ 자외선 조사하여 두께 5 ㎛의 봉지재 기판을 제조하였다. 제조된 각각의 필름을 폭이 5cm이고, 길이가 5 ㎝가 되도록 재단하였다. 그 다음 FT-IR(적외선 분광기)을 이용하여 경화 전 필름 및 경화 후 필름의 흡수 스펙트럼을 측정 후 경화도를 하기 식 1로 계산하였다.Encapsulation substrate having a thickness of 5 μm by coating the polyimide substrate film by inkjet method using the photocurable compositions prepared in Examples and Comparative Examples and irradiating 1000mJ UV light for 1 second with a 1000mW LED exposure machine having a wavelength of 395nm in a nitrogen atmosphere. Was prepared. Each film produced was cut to 5 cm wide and 5 cm long. Then, using the FT-IR (infrared spectrometer), the absorption spectra of the film before curing and the film after curing were measured, and then the degree of curing was calculated by the following Equation 1.

(식 1)(Equation 1)

경화도(%) = 100-(Wf/Wi ⅹ 100)Hardness (%) = 100- (Wf / Wi ⅹ 100)

[상기 식 1에서, 상기 Wi는 경화 전 조성물에 포함된 광중합성 모노머의 관능기의 피크면적(흡수도)이고, 상기 Wf는 경화 후 필름에 포함된 광중합성 모노머의 관능기의 피크면적(흡수도)을 의미한다.][Equation 1, wherein Wi is the peak area (absorption) of the functional group of the photopolymerizable monomer included in the composition before curing, the Wf is the peak area (absorption) of the functional group of the photopolymerizable monomer included in the film after curing. Means.]

2) 표면경도 측정2) Surface hardness measurement

상기 실시예 및 비교예에서 제조된 광경화성 조성물을 이용하여 잉크젯 방식으로 글라스 위에 코팅한 후 질소 분위기에서 395nm 파장의 1000mW LED 노광기로 1초 동안 1000mJ 자외선 조사하여 두께 5 ㎛의 봉지재 기판을 제조하였다. 제조한 기판을 200 g 무게 조건에서 연필경도계로 표면경도를 측정하였다.An encapsulant substrate having a thickness of 5 μm was prepared by coating the glass on the glass by an inkjet method using the photocurable compositions prepared in Examples and Comparative Examples, and then irradiating 1000mJ UV light for 1 second with a 1000mW LED exposure machine having a wavelength of 395nm in a nitrogen atmosphere. . The surface hardness of the prepared substrate was measured with a pencil hardness tester at 200 g weight.

3) 광투과율 측정3) Light transmittance measurement

상기 실시예 및 비교예에서 제조된 광경화성 조성물을 이용하여 잉크젯 방식으로 글라스 위에 코팅한 후 질소 분위기에서 395nm 파장의 1000mW LED 노광기로 1초 동안 1000mJ 자외선 조사하여 두께 5 ㎛의 봉지재 기판을 제조하였다. 제조한 기판을 UV-VIS spectrophotometer(@400nm)를 이용한 광투과도를 측정하였다.An encapsulant substrate having a thickness of 5 μm was prepared by coating the glass on the glass by an inkjet method using the photocurable compositions prepared in Examples and Comparative Examples, and then irradiating 1000mJ UV light for 1 second with a 1000mW LED exposure machine having a wavelength of 395nm in a nitrogen atmosphere. . The prepared substrate was measured for light transmittance using a UV-VIS spectrophotometer (@ 400nm).

4) 아웃게싱 측정4) Outgassing Measurement

상기 실시예 및 비교예에서 제조된 광경화성 조성물을 이용하여 잉크젯 방식으로 글라스 위에 코팅한 후 질소 분위기에서 395nm 파장의 1000mW LED 노광기로 1초 동안 1000mJ 자외선 조사하여 두께 5 ㎛의 봉지재 기판을 제조하였다. 제조한 기판을 100℃에서 10분간 열처리에서 발생되는 TVOC를 TD-GC/MS를 이용하여 아웃게싱을 측정하였다.An encapsulant substrate having a thickness of 5 μm was prepared by coating the glass on the glass by an inkjet method using the photocurable compositions prepared in Examples and Comparative Examples, and then irradiating 1000mJ UV light for 1 second with a 1000mW LED exposure machine having a wavelength of 395nm in a nitrogen atmosphere. . TVOC generated by heat treatment for 10 minutes at 100 ℃ prepared substrate was measured using TD-GC / MS.

상기 방법으로 제조된 봉지재 필름의 물성을 측정하여 하기 표 1 및 2에 도시하였다.The physical properties of the encapsulant film prepared by the above method were measured and shown in Tables 1 and 2 below.

경화도
(Curing Rate)
Curing degree
(Curing Rate)
표면경도
Surface hardness
광투과율
(@400nm)
Light transmittance
(@ 400nm)
아웃게싱
Outgasing
실시예 5Example 5 93%93% 3H3H 97%97% 151ppm151 ppm 실시예 6Example 6 90%90% 2H2H 96%96% 182ppm182ppm 실시예 7Example 7 92%92% 3H3H 97%97% 168ppm168 ppm 실시예 8Example 8 85%85% 2H2H 96%96% 485ppm485 ppm 실시예 9Example 9 92%92% 3H3H 94%94% 201ppm201 ppm 실시예 10Example 10 90%90% 2H2H 94%94% 252ppm252 ppm 실시예 11Example 11 91%91% 3H3H 94%94% 221ppm221 ppm 실시예 12Example 12 84%84% 2H2H 93%93% 433ppm433 ppm 비교예 1Comparative Example 1 84%84% 2H2H 81%81% 855ppm855 ppm

경화도
(Curing Rate)
Curing degree
(Curing Rate)
표면경도
Surface hardness
광투과율
(@400nm)
Light transmittance
(@ 400nm)
아웃게싱
Outgasing
실시예 13Example 13 88%88% 2H2H 98%98% 908ppm908 ppm 실시예 14Example 14 86%86% 2H2H 96%96% 952ppm952 ppm 실시예 15Example 15 88%88% 2H2H 98%98% 917ppm917ppm 실시예 16Example 16 83%83% HH 97%97% 1232ppm1232ppm 실시예 17Example 17 87%87% 2H2H 93%93% 941ppm941 ppm 실시예 18Example 18 87%87% HH 93%93% 987ppm987 ppm 실시예 19Example 19 86%86% 2H2H 92%92% 970ppm970 ppm 실시예 20Example 20 81%81% HH 92%92% 1320ppm1320ppm 비교예 2Comparative Example 2 78%78% HH 84%84% 1500ppm1500 ppm

상기 표 1 및 표 2에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 양이온 광경화성 조성물 및 라디칼 광경화성 조성물을 이용한 필름의 경우, 높은 경화도로 인해 우수한 경도, 현저하게 낮아진 아웃게싱 특성을 가질 뿐 아니라, 다환방향족 탄화수소(Polynuclear aromatic hydrocarbon)계 광증감제의 가장 큰 문제점인 400nm의 광투과도에서 매우 우수한 특성을 보였다. 또한 본 발명에서 제조된 광증감제와 기존 광증감제와의 혼합하여 사용하여도, 우수한 특성을 가짐을 확인 할 수 있었다. 이는 다양한 조성물의 경화 조건(노광 파장 및 노광량등)에 따라 본 발명의 광증감제와 기존의 광증감제 혼합비의 조절만으로도 사용자의 목적에 맞는 다양한 특성의 필름을 제조할 수 있음을 의미한다.As shown in Table 1 and Table 2, in the case of the film using the cationic photocurable composition and the radical photocurable composition according to the present invention, not only has excellent hardness and significantly lower outgassing properties due to the high degree of curing, but also polycyclic In the light transmittance of 400 nm, which is the biggest problem of the polynuclear aromatic hydrocarbon-based photosensitizer, the characteristics were excellent. In addition, even when used in combination with the photosensitizer prepared in the present invention and the existing photosensitizer, it was confirmed that it has excellent characteristics. This means that according to the curing conditions (exposure wavelength and exposure amount, etc.) of the various compositions, only the adjustment of the mixing ratio of the photosensitizer and the existing photosensitizer of the present invention can produce a film having various characteristics that meet the user's purpose.

이상과 같이 특정된 사항들과 한정된 실시예를 통해 본 발명이 설명되었으나, 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다.Although the present invention has been described through the specific matters and the limited embodiments as described above, it is provided only to help a more general understanding of the present invention, and the present invention is not limited to the above embodiments, and the present invention belongs to Those skilled in the art can make various modifications and variations from this description.

따라서, 본 발명의 사상은 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니되며, 후술하는 특허청구범위뿐 아니라 이 특허청구범위와 균등하거나 등가적 변형이 있는 모든 것들은 본 발명 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.Therefore, the spirit of the present invention should not be limited to the described embodiments, and all the things that are equivalent to or equivalent to the claims as well as the following claims will belong to the scope of the present invention. .

Claims (11)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 하기 구조에서 선택되는 화합물:
Figure 112019033035413-pat00018

Figure 112019033035413-pat00019
Compounds selected from the following structures:
Figure 112019033035413-pat00018

Figure 112019033035413-pat00019
제 4항에 따른 화합물을 포함하는 광경화성 조성물.A photocurable composition comprising the compound of claim 4. 제 5항에 있어서,
상기 화합물은 광흡수용으로 사용되는 것인, 광경화성 조성물.
The method of claim 5,
The compound is used for light absorption, photocurable composition.
제 5항에 있어서,
상기 광경화성 조성물은 광조사에 의해 양이온; 라디칼; 또는 양이온 및 라디칼; 이 발생되어 광경화 되는 것인, 광경화성 조성물.
The method of claim 5,
The photocurable composition is a cation by light irradiation; Radicals; Or cations and radicals; Will be generated and photocured, photocurable composition.
제 5항에 있어서,
상기 광경화성 조성물은 2개 이상의 광경화 가능한 불포화기를 갖는 광중합성 모노머 및 광개시제를 더 포함하는 것인, 광경화성 조성물.
The method of claim 5,
The photocurable composition further comprises a photopolymerizable monomer having a two or more photocurable unsaturated groups and a photoinitiator, photocurable composition.
제 8항에 있어서,
상기 광개시제는 양이온성 광개시제인, 광경화성 조성물.
The method of claim 8,
The photoinitiator is a cationic photoinitiator, photocurable composition.
제 8항에 있어서,
상기 광개시제는 벤조인 유도체, 아세토페논 유도체, 안트라퀴논 유도체, 티오크산톤 유도체, 케탈 유도체, 벤조페논 유도체, α-아미노아세토페논 유도체, 아실포스핀옥사이드 유도체 및 옥심에스테르 유도체에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상인, 광경화성 조성물.
The method of claim 8,
The photoinitiator is any one or two selected from benzoin derivatives, acetophenone derivatives, anthraquinone derivatives, thioxanthone derivatives, ketal derivatives, benzophenone derivatives, α-aminoacetophenone derivatives, acylphosphine oxide derivatives and oxime ester derivatives The photocurable composition which is the above.
제 5항 내지 제 10항에서 선택되는 어느 한 항의 광경화성 조성물의 경화물을 포함하는 봉지재로 봉지된 유기 전자장치.An organic electronic device encapsulated with an encapsulant comprising a cured product of the photocurable composition of any one of claims 5 to 10.
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