KR20190069467A - 경질화가능한 중합체 조성물 - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 적어도 1종의 아크릴레이트 화합물, 적어도 1종의 실릴-종결된 중합체 및 적어도 1종의 광개시제를 함유하는 경질화가능한(hardenable) 중합체 조성물, 및 접착제, 실란트, 가스켓(gasket), 나이핑(knifing) 충전제 또는 코팅 조성물 중에서의 또는 그로서의 중합체 조성물의 용도, 및 중합체 조성물을 포함하는 접착제 조성물, 실란트 조성물, 가스켓 조성물, 나이핑 충전제 조성물 또는 코팅 조성물에 관한 것이다.

Description

경질화가능한 중합체 조성물
본 발명은, 적어도 1종의 아크릴레이트 화합물, 적어도 1종의 실릴-종결된 중합체 및 적어도 1종의 광개시제를 함유하는 경질화가능한(hardenable) 중합체 조성물, 및 접착제, 실란트, 가스켓(gasket), 나이핑(knifing) 충전제 또는 코팅 조성물 중에서의 또는 그로서의 중합체 조성물의 용도, 및 중합체 조성물을 포함하는 접착제 조성물, 실란트 조성물, 가스켓 조성물, 나이핑 충전제 조성물 또는 코팅 조성물에 관한 것이다.
아크릴계 UV 경화성 접착제는 일반적으로 핫-멜트(hot-melt) 접착제이다. 핫 멜트 접착제 (HMA) (핫 아교(hot glue)라고도 공지됨)는 열가소성 접착제의 형태이며, 이는 다양한 직경의 고체 원통형 스틱에서부터, 전기 핫 아교 기계 (즉, 용융 포트(melting pot), 가열 링 메인(ring main), 건(gun) 등)에서 용융되도록 설계된 실리콘화지(siliconized paper) 내의 필로우(pillow) 또는 블록(block)까지의 범위의 상이한 형태로 공급된다. 가열 노즐에서부터 짜낸 아교는 초창기에는 표면을 적절하게 습윤시킬 만큼 낮은 점도를 달성하도록 고온이다. 아교는 고온일 때 점성이 있고, 수초 내지 1분 이내에 응고된다. 핫 멜트 접착제는 또한 슬롯(slot) 다이, 커튼 코팅 또는 분무에 의해 적용될 수 있다. 또한, 실온에서도 분배 후 그의 점착성을 유지하는 핫 멜트 접착제가 존재한다. 그러한 핫 멜트는 보편적으로 핫 멜트 감압 접착제 (HM-PSA)라고도 지칭된다.
핫 멜트 감압 접착제는 예를 들어 테이프에서 사용되고, 양호한 표면 점착 (양호한 접착)을 나타낸다. 그러나, 중합체를 경화시키기 위한 지속적인 UV 조사 후에도, 그의 더 두꺼운 층들이 탄성을 유지하고, 강한 응집력(cohesive force)을 전개시키지 않는다. 그러나, 강한 응집력은 구체적인 적용예에 있어서, 예를 들어 보다 두꺼운 접착제 층을 갖는 특수 테이프에서 또는 반-구조적(semi-structural) 특성을 갖는 테이프에서 요망되는 특성이다.
많은 적용예에 있어서, 결합 공정의 초반에는 서로 결합시키고자 하는 기판이 여전히 그의 상대적 위치로 조절 또는 교정될 수 있도록 제어가능한 접착력 (그린 강도(green strength)라 공지됨)을 갖지만, 조절 또는 교정 후에는 강한 접착력 및 응집력이 전개되도록 이미 특정 결합 (최종 강도)을 나타내는 것이 바람직하다.
WO 2004/083302는, UV 광으로 용융 및 가교될 수 있는 폴리아크릴레이트, 및 UV 광으로 가교될 수 있는 관능기를 함유하는 올리고머 화합물을 함유하는 UV 경화형 핫-멜트 접착제에 관한 것이다. 그 안에 사용된 아크레진(acResin)® 폴리아크릴레이트는 양호한 접착제 특성을 나타내지만, 보다 강한 접착력 및 응집력이 요구되는 적용예를 위해서는 적합하지 않다.
실릴-종결된 중합체 (STP)에 기반한 수분-가교성 중합체 조성물, 및 실란트, 접착제 및 코팅 조성물 중에서의 그의 용도는 예를 들어 US 2013/197141, EP 2199347, EP2172525, DE 10 2004018548 또는 DE 102011003425로부터 공지되어 있다. 대기 수분의 존재 하에, 알콕시 기와 같은 가수분해성 치환기를 갖는 STP는 실온에서도 서로 축합할 수 있고; 그에 따라 경화 또는 가교된 중합체가 생성된다. 가수분해성 치환기를 갖는 실릴 기의 함량 및 이들 실릴 기의 구조에 따라, 주로 장쇄 중합체 (열가소성 물질), 비교적 폭넓은 메쉬, 3차원 망상구조 (엘라스토머) 또는 고도로 가교된 시스템 (열경화성 물질)이 상기 공정 동안 형성된다.
그러나, 이들 STP는 또한 상기 기재된 요망되는 특성들을 통합하지 못한다.
본 발명의 목적은, 상기 기재된 특성들 둘 다, 즉, 결합 공정의 초반의 제어가능한 접착력 및 후속적인 강한 접착력 및 응집력의 전개를 통합하는 접착제 조성물을 제공하는 것이었다.
놀랍게도, 상기 목적은 아크릴레이트 화합물이 실릴-종결된 중합체 (STP)와 조합될 때 달성되는 것으로 밝혀졌다. 놀랍게도, STP는 청구된 아크릴레이트 화합물들과 임의의 비로 혼화가능하고, 그의 상이한 특성들은 진정 서로 보완된다. 따라서, 접착 특징 (보다 현저한 감압 접착 특성 또는 보다 현저한 강한 응집 특성)은 특정 적용예에 있어서 미세 조정될 수 있다.
<발명의 요약>
제1 측면에서, 본 발명은,
(a) 적어도 1종의 아크릴레이트 화합물;
(b) 적어도 1종의 실릴-종결된 중합체; 및
(c) 적어도 1종의 광개시제
를 포함하는 경질화가능한 중합체 조성물에 관한 것이다.
또 다른 측면에서, 본 발명은, 접착제, 실란트, 가스켓, 나이핑 충전제 또는 코팅 조성물 중에서의 또는 그로서의 중합체 조성물의 용도, 및 중합체 조성물을 포함하는 접착제 조성물, 실란트 조성물, 가스켓 조성물, 나이핑 충전제 조성물 또는 코팅 조성물에 관한 것이다.
물론, 적어도 1종의 아크릴레이트 화합물 및 적어도 1종의 실릴-종결된 중합체는 적어도 1개의 구조적 요소가, 예를 들어 관능기의 존재 또는 부재가 차이가 있는 상이한 화합물이다. 바람직하게는, 적어도 1종의 아크릴레이트 화합물 및 적어도 1종의 실릴-종결된 중합체는 적어도 아크릴레이트 화합물이 실릴 말단기를 전혀 갖지 않는다는 점에서 상이하다.
본 발명에서, 용어 "경화" 및 "가교"는 상호교환가능하게 사용된다 (중합체 쇄의 가교에 의한 중합체 재료의 강인화(toughening) 또는 경질화(hardening)라 지칭됨).
알콕시, 히드록시알킬 등의 알킬 모이어티에서 및 본원에서 사용되는 용어 "알킬"이란 1 내지 2개 ("C1-C2-알킬"), 1 내지 3개 ("C1-C3-알킬"), 1 내지 4개 ("C1-C4-알킬"), 2 내지 4개 ("C1-C4-알킬"), 1 내지 6개 ("C1-C6-알킬"), 1 내지 8개 ("C1-C8-알킬"), 3 내지 8개 ("C1-C8-알킬"), 4 내지 8개 ("C1-C8-알킬"), 1 내지 10개 ("C1-C10-알킬"), 2 내지 10개 ("C1-C10-알킬"), 1 내지 12개 ("C1-C12-알킬"), 1 내지 16개 ("C1-C16-알킬") 또는 1 내지 20개 ("C1-C20-알킬")의 탄소 원자를 갖는 포화 직쇄형 또는 분지형 탄화수소 라디칼을 지칭한다. C1-C2-알킬은 메틸 또는 에틸이다. C1-C3-알킬에 대한 예는, C1-C2-알킬에 대해 언급된 것들에 추가로, n-프로필 및 이소프로필이다. C1-C4-알킬에 대한 예는, C1-C3-알킬에 대해 언급된 것들에 추가로, n-부틸, 1-메틸프로필 (sec-부틸), 2-메틸프로필 (이소부틸) 또는 1,1-디메틸에틸 (tert-부틸)이다. C2-C4-알킬에 대한 예는, 메틸을 제외하고는, C1-C4-알킬에 대해 언급된 것들이다. C1-C6-알킬에 대한 예는, C1-C4-알킬에 대해 언급된 것들에 추가로, n-펜틸, 1-메틸부틸, 2-메틸부틸, 3-메틸부틸, 2,2-디메틸프로필, 1-에틸프로필, 1,1-디메틸프로필, 1,2-디메틸프로필, n-헥실, 1-메틸펜틸, 2-메틸펜틸, 3-메틸펜틸, 4-메틸펜틸, 1,1-디메틸부틸, 1,2-디메틸부틸, 1,3-디메틸부틸, 2,2-디메틸부틸, 2,3-디메틸부틸, 3,3-디메틸부틸, 1-에틸부틸, 2-에틸부틸, 1,1,2-트리메틸프로필, 1,2,2-트리메틸프로필, 1-에틸-1-메틸프로필, 또는 1-에틸-2-메틸프로필이다. C1-C8-알킬에 대한 예는, C1-C6-알킬에 대해 언급된 것들에 추가로, n-헵틸, n-옥틸, 2-에틸헥실 및 그의 위치 이성질체이다. C3-C8-알킬에 대한 예는, 메틸 및 에틸을 제외하고는, C1-C8-알킬에 대해 언급된 것들이다. C4-C8-알킬에 대한 예는, 메틸, 에틸, n-프로필 및 이소프로필을 제외하고는, C1-C8-알킬에 대해 언급된 것들이다. C1-C10-알킬에 대한 예는, C1-C8-알킬에 대해 언급된 것들에 추가로, n-노닐, n-데실 및 그의 위치 이성질체이다. C2-C10-알킬에 대한 예는, 메틸을 제외하고는, C1-C10-알킬에 대해 언급된 것들이다. C1-C12-알킬에 대한 예는, C1-C10-알킬에 대해 언급된 것들에 추가로, n-운데실, n-도데실, 및 그의 위치 이성질체이다. C1-C16-알킬에 대한 예는, C1-C12-알킬에 대해 언급된 것들에 추가로, n-트리데실, n-테트라데실, n-펜타데실, n-헥사데실 및 그의 위치 이성질체이다. C1-C20-알킬에 대한 예는, C1-C16-알킬에 대해 언급된 것들에 추가로, n-헵타데실, n-옥타데실, n-노나데실, n-에이코실 및 그의 위치 이성질체이다.
용어 "히드록시알킬"은, 1개의 수소 원자가 히드록실 기로 교체된 상기 언급된 바와 같은 알킬 기를 나타낸다. C2-C4-히드록시알킬은, 1개의 수소 원자가 히드록실 기로 교체된 C2-C4-알킬 기이다. 예는 1-히드록시에틸, 2-히드록시에틸, 1-히드록시프로필, 2-히드록시프로필, 3-히드록시프로필, 1-히드록시-1-메틸에틸, 2-히드록시-1-메틸에틸, 1-히드록시부틸, 2-히드록시부틸, 3-히드록시부틸, 4-히드록시부틸, 1-히드록시-1-메틸프로필, 2-히드록시-1-메틸프로필, 3-히드록시-1-메틸프로필, 1-(히드록시메틸)-프로필, 1-히드록시-2-메틸프로필, 2-히드록시-2-메틸프로필, 3-히드록시-2-메틸프로필, 2-(히드록시메틸)-프로필, 및 1-(히드록시메틸)-2-메틸-에틸이다. C2-C10-히드록시알킬은, 1개의 수소 원자가 히드록실 기로 교체된 C2-C10-알킬 기이다. 예는, C2-C4-히드록시알킬에 대해 상기 언급된 것들에 추가로, 1-, 2-, 3-, 4- 또는 5-히드록시펜틸, 1-, 2-, 3-, 4-, 5- 또는 6-히드록시헥실, 1-, 2-, 3-, 4-, 5-, 6- 또는 7-히드록시헵틸, 1-, 2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- 또는 8-히드록시옥틸, 1-, 2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7-, 8- 또는 9-히드록시노닐, 1-, 2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7-, 8-, 9- 또는 10-히드록시데실 및 그의 이성질체이다. 이들 중에는, 특히 히드록시알킬 기가 산소 또는 질소 원자에 결합되어 있는 경우, 분자의 나머지 부분에의 히드록시알킬의 부착 지점에 히드록실 기가 결합되어 있지 않은 라디칼이 바람직하다. 따라서, C2-C4-히드록시알킬의 바람직한 예는 2-히드록시에틸, 2-히드록시프로필, 3-히드록시프로필, 2-히드록시-1-메틸에틸, 2-히드록시부틸, 3-히드록시부틸, 4-히드록시부틸, 2-히드록시-1-메틸프로필, 3-히드록시-1-메틸프로필, 1-(히드록시메틸)-프로필, 2-히드록시-2-메틸프로필, 3-히드록시-2-메틸프로필, 2-(히드록시메틸)-프로필, 및 1-(히드록시메틸)-2-메틸-에틸이다.
알케닐옥시의 알킬 모이어티에서 및 본원에서 사용되는 용어 "알케닐"이 접두어 (Cn-Cm) 없이 사용되는 경우, 그것은 일반적으로 2 내지 20개 ("C2-C20-알케닐")의 탄소 원자, 특히 2 내지 10개 ("C2-C10-알케닐")의 탄소 원자, 구체적으로 2 내지 6개 ("C2-C6-알케닐") 또는 2 내지 4개 ("C2-C4-알케닐")의 탄소 원자를 갖는 단일불포화 (즉, 1개의 C-C 이중 결합 함유) 직쇄형 또는 분지형 지방족 탄화수소 라디칼을 가리키며, 여기서 C-C 이중 결합은 임의의 위치에 있을 수 있다. "C2-C3-알케닐"이란, 2 내지 3개의 탄소 원자, 및 임의의 위치의 C-C 이중 결합을 갖는 단일불포화 직쇄형 또는 분지형 지방족 탄화수소 라디칼을 지칭한다. "C2-C4-알케닐"이란, 2 내지 4개의 탄소 원자, 및 임의의 위치의 C-C 이중 결합을 갖는 단일불포화 직쇄형 또는 분지형 지방족 탄화수소 라디칼을 지칭한다. "C2-C6-알케닐"이란, 2 내지 6개의 탄소 원자, 및 임의의 위치의 C-C 이중 결합을 갖는 단일불포화 직쇄형 또는 분지형 지방족 탄화수소 라디칼을 지칭한다. "C2-C8-알케닐"이란, 2 내지 8개의 탄소 원자, 및 임의의 위치의 C-C 이중 결합을 갖는 단일불포화 직쇄형 또는 분지형 지방족 탄화수소 라디칼을 지칭한다. "C2-C10-알케닐"이란, 2 내지 10개의 탄소 원자, 및 임의의 위치의 C-C 이중 결합을 갖는 단일불포화 직쇄형 또는 분지형 지방족 탄화수소 라디칼을 지칭한다. "C2-C20-알케닐"이란, 2 내지 20개의 탄소 원자, 및 임의의 위치의 C-C 이중 결합을 갖는 단일불포화 직쇄형 또는 분지형 지방족 탄화수소 라디칼을 지칭한다. C2-C3-알케닐에 대한 예는 에테닐, 1-프로페닐, 2-프로페닐 또는 1-메틸에테닐이다. C2-C4-알케닐에 대한 예는 에테닐, 1-프로페닐, 2-프로페닐, 1-메틸에테닐, 1-부테닐, 2-부테닐, 3-부테닐, 1-메틸-1-프로페닐, 2-메틸-1-프로페닐, 1-메틸-2-프로페닐 또는 2-메틸-2-프로페닐이다. C2-C6-알케닐에 대한 예는 에테닐, 1-프로페닐, 2-프로페닐, 1-메틸에테닐, 1-부테닐, 2-부테닐, 3-부테닐, 1-메틸-1-프로페닐, 2-메틸-1-프로페닐, 1-메틸-2-프로페닐, 2-메틸-2-프로페닐, 1-펜테닐, 2-펜테닐, 3-펜테닐, 4-펜테닐, 1-메틸-1-부테닐, 2-메틸-1-부테닐, 3-메틸-1-부테닐, 1-메틸-2-부테닐, 2-메틸-2-부테닐, 3-메틸-2-부테닐, 1-메틸-3-부테닐, 2-메틸-3-부테닐, 3-메틸-3-부테닐, 1,1-디메틸-2-프로페닐, 1,2-디메틸-1-프로페닐, 1,2-디메틸-2-프로페닐, 1-에틸-1-프로페닐, 1-에틸-2-프로페닐, 1-헥세닐, 2-헥세닐, 3-헥세닐, 4-헥세닐, 5-헥세닐, 1-메틸-1-펜테닐, 2-메틸-1-펜테닐, 3-메틸-1-펜테닐, 4-메틸-1-펜테닐, 1-메틸-2-펜테닐, 2-메틸-2-펜테닐, 3-메틸-2-펜테닐, 4-메틸-2-펜테닐, 1-메틸-3-펜테닐, 2-메틸-3-펜테닐, 3-메틸-3-펜테닐, 4-메틸-3-펜테닐, 1-메틸-4-펜테닐, 2-메틸-4-펜테닐, 3-메틸-4-펜테닐, 4-메틸-4-펜테닐, 1,1-디메틸-2-부테닐, 1,1-디메틸-3-부테닐, 1,2-디메틸-1-부테닐, 1,2-디메틸-2-부테닐, 1,2-디메틸-3-부테닐, 1,3-디메틸-1-부테닐, 1,3-디메틸-2-부테닐, 1,3-디메틸-3-부테닐, 2,2-디메틸-3-부테닐, 2,3-디메틸-1-부테닐, 2,3-디메틸-2-부테닐, 2,3-디메틸-3-부테닐, 3,3-디메틸-1-부테닐, 3,3-디메틸-2-부테닐, 1-에틸-1-부테닐, 1-에틸-2-부테닐, 1-에틸-3-부테닐, 2-에틸-1-부테닐, 2-에틸-2-부테닐, 2-에틸-3-부테닐, 1,1,2-트리메틸-2-프로페닐, 1-에틸-1-메틸-2-프로페닐, 1-에틸-2-메틸-1-프로페닐, 1-에틸-2-메틸-2-프로페닐 등이다. C2-C10-알케닐에 대한 예는, C2-C6-알케닐에 대해 언급된 예에 추가로, 1-헵테닐, 2-헵테닐, 3-헵테닐, 1-옥테닐, 2-옥테닐, 3-옥테닐, 4-옥테닐, 1-노네닐, 2-노네닐, 3-노네닐, 4-노네닐, 1-데세닐, 2-데세닐, 3-데세닐, 4-데세닐, 5-데세닐 및 그의 위치 이성질체이다.
알키닐옥시의 알키닐 모이어티 및 본원에서 사용되는 용어 "알키닐"이 접두어 (Cn-Cm) 없이 사용되는 경우, 그것은 일반적으로 2 내지 20개 ("C2-C20-알키닐")의 탄소 원자, 특히 2 내지 10개 ("C2-C10-알키닐")의 탄소 원자, 구체적으로 2 내지 6개 ("C2-C6-알키닐") 또는 2 내지 4개 ("C2-C4-알키닐")의 탄소 원자, 및 임의의 위치의 1개의 삼중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 지방족 탄화수소 라디칼을 가리킨다. "C2-C3-알키닐"은, 2 내지 3개의 탄소 원자, 및 임의의 위치의 1개의 삼중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 탄화수소 라디칼을 가리킨다. "C2-C4-알키닐"은, 2 내지 4개의 탄소 원자, 및 임의의 위치의 1개의 삼중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 탄화수소 라디칼을 가리킨다. "C2-C6-알키닐"은, 2 내지 6개의 탄소 원자, 및 임의의 위치의 1개의 삼중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 탄화수소 라디칼을 가리킨다. "C2-C8-알키닐"은, 2 내지 8개의 탄소 원자, 및 임의의 위치의 1개의 삼중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 탄화수소 라디칼을 가리킨다. "C2-C10-알키닐"은, 2 내지 10개의 탄소 원자, 및 임의의 위치의 1개의 삼중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 탄화수소 라디칼을 가리킨다. "C2-C20-알키닐"은, 2 내지 20개의 탄소 원자, 및 임의의 위치의 1개의 삼중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 탄화수소 라디칼을 가리킨다. C2-C3-알키닐에 대한 예는 에티닐, 1-프로피닐 또는 2-프로피닐이다. C2-C4-알키닐에 대한 예는 에티닐, 1-프로피닐, 2-프로피닐, 1-부티닐, 2-부티닐, 3-부티닐, 1-메틸-2-프로피닐 등이다. C2-C6-알키닐에 대한 예는 에티닐, 1-프로피닐, 2-프로피닐, 1-부티닐, 2-부티닐, 3-부티닐, 1-메틸-2-프로피닐, 1-펜티닐, 2-펜티닐, 3-펜티닐, 4-펜티닐, 1-메틸-2-부티닐, 1-메틸-3-부티닐, 2-메틸-3-부티닐, 3-메틸-1-부티닐, 1,1-디메틸-2-프로피닐, 1-에틸-2-프로피닐, 1-헥시닐, 2-헥시닐, 3-헥시닐, 4-헥시닐, 5-헥시닐, 1-메틸-2-펜티닐, 1-메틸-3-펜티닐, 1-메틸-4-펜티닐, 2-메틸-3-펜티닐, 2-메틸-4-펜티닐, 3-메틸-1-펜티닐, 3-메틸-4-펜티닐, 4-메틸-1-펜티닐, 4-메틸-2-펜티닐, 1,1-디메틸-2-부티닐, 1,1-디메틸-3-부티닐, 1,2-디메틸-3-부티닐, 2,2-디메틸-3-부티닐, 3,3-디메틸-1-부티닐, 1-에틸-2-부티닐, 1-에틸-3-부티닐, 2-에틸-3-부티닐, 1-에틸-1-메틸-2-프로피닐 등이다.
본원에서 사용되는 용어 "시클로알킬"이란 3 내지 6개의 탄소 원자를 갖는 모노시클릭 포화 탄화수소 라디칼 ("C3-C6-시클로알킬")을 지칭한다. C3-C6-시클로알킬의 예는 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸 및 시클로헥실이다.
용어 "알콕시"란, 산소 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 결합된 상기 언급된 바와 같은 알킬 기를 나타낸다. 용어 "알콕시"가 접두어 (Cn-Cm) 없이 사용되는 경우, 그것은 C1-C20-알콕시에 관한 것이다. "C1-C2-알콕시"는, 산소 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C2-알킬 기이다. "C1-C3-알콕시"는, 산소 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C3-알킬 기이다. "C1-C4-알콕시"는, 산소 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C4-알킬 기이다. "C1-C6-알콕시"는, 산소 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C6-알킬 기이다. "C1-C10-알콕시"는, 산소 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C10-알킬 기이다. "C1-C12-알콕시"는, 산소 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C12-알킬 기이다. "C1-C20-알콕시"는 산소 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 C1-C20-알킬 기이다. C1-C2-알콕시는 메톡시 또는 에톡시이다. C1-C3-알콕시에 대한 예는, C1-C2-알콕시에 대해 언급된 것들에 추가로, n-프로폭시 및 1-메틸에톡시 (이소프로폭시)이다. C1-C4-알콕시에 대한 예는, C1-C3-알콕시에 대해 언급된 것들에 추가로, 부톡시, 1-메틸프로폭시 (sec-부톡시), 2-메틸프로폭시 (이소부톡시) 또는 1,1-디메틸에톡시 (tert-부톡시)이다. C1-C6-알콕시에 대한 예는, C1-C4-알콕시에 대해 언급된 것들에 추가로, 펜톡시, 1-메틸부톡시, 2-메틸부톡시, 3-메틸부톡시, 1,1-디메틸프로폭시, 1,2-디메틸프로폭시, 2,2-디메틸프로폭시, 1-에틸프로폭시, 헥속시, 1-메틸펜톡시, 2-메틸펜톡시, 3-메틸펜톡시, 4-메틸펜톡시, 1,1-디메틸부톡시, 1,2-디메틸부톡시, 1,3-디메틸부톡시, 2,2-디메틸부톡시, 2,3-디메틸부톡시, 3,3-디메틸부톡시, 1-에틸부톡시, 2-에틸부톡시, 1,1,2-트리메틸프로폭시, 1,2,2-트리메틸프로폭시, 1-에틸-1-메틸프로폭시 또는 1-에틸-2-메틸프로폭시이다. C1-C10-알콕시에 대한 예는, C1-C6-알콕시에 대해 언급된 것들에 추가로, 헵틸옥시, 옥틸옥시, 2-에틸헥실옥시, 노닐옥시, 데실옥시, 및 그의 위치 이성질체이다. C1-C12-알콕시에 대한 예는, C1-C10-알콕시에 대해 언급된 것들에 추가로, 운데실옥시, 도데실옥시, 및 그의 위치 이성질체이다. C1-C20-알콕시에 대한 예는, C1-C12-알콕시에 대해 언급된 것들에 추가로, 트리데실옥시, 테트라데실옥시, 펜타데실옥시, 헥사데실옥시, 헵타데실옥시, 옥타데실옥시, 노나데실옥시, 에이코사닐옥시, 및 그의 위치 이성질체이다.
용어 "알케닐옥시"란, 산소 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 알케닐 기를 지칭한다. 용어 "알케닐옥시"가 접두어 (Cn-Cm) 없이 사용되는 경우, 그것은 C2-C20-알케닐옥시에 관한 것이다. C2-C3-알케닐옥시에 대한 예는 에테닐옥시, 1-프로페닐옥시, 2-프로페닐옥시 또는 1-메틸에테닐옥시이다. C2-C4-알케닐옥시에 대한 예는 에테닐옥시, 1-프로페닐옥시, 2-프로페닐옥시, 1-메틸에테닐옥시, 1-부테닐옥시, 2-부테닐옥시, 3-부테닐옥시, 1-메틸-1-프로페닐옥시, 2-메틸-1-프로페닐옥시, 1-메틸-2-프로페닐옥시 또는 2-메틸-2-프로페닐옥시이다. C2-C6-알케닐옥시에 대한 예는, C2-C6-알케닐옥시에 대해 언급된 것들에 추가로, 1-펜테닐옥시, 2-펜테닐옥시, 3-펜테닐옥시, 4-펜테닐옥시, 1-메틸-1-부테닐옥시, 2-메틸-1-부테닐옥시, 3-메틸-1-부테닐옥시, 1-메틸-2-부테닐옥시, 2-메틸-2-부테닐옥시, 3-메틸-2-부테닐옥시, 1-메틸-3-부테닐옥시, 2-메틸-3-부테닐옥시, 3-메틸-3-부테닐옥시, 1,1-디메틸-2-프로페닐옥시, 1,2-디메틸-1-프로페닐옥시, 1,2-디메틸-2-프로페닐옥시, 1-에틸-1-프로페닐옥시, 1-에틸-2-프로페닐옥시, 1-헥세닐옥시, 2-헥세닐옥시, 3-헥세닐옥시, 4-헥세닐옥시, 5-헥세닐옥시, 1-메틸-1-펜테닐옥시, 2-메틸-1-펜테닐옥시, 3-메틸-1-펜테닐옥시, 4-메틸-1-펜테닐옥시, 1-메틸-2-펜테닐옥시, 2-메틸-2-펜테닐옥시, 3-메틸-2-펜테닐옥시, 4-메틸-2-펜테닐옥시, 1-메틸-3-펜테닐옥시, 2-메틸-3-펜테닐옥시, 3-메틸-3-펜테닐옥시, 4-메틸-3-펜테닐옥시, 1-메틸-4-펜테닐옥시, 2-메틸-4-펜테닐옥시, 3-메틸-4-펜테닐옥시, 4-메틸-4-펜테닐옥시, 1,1-디메틸-2-부테닐옥시, 1,1-디메틸-3-부테닐옥시, 1,2-디메틸-1-부테닐옥시, 1,2-디메틸-2-부테닐옥시, 1,2-디메틸-3-부테닐옥시, 1,3-디메틸-1-부테닐옥시, 1,3-디메틸-2-부테닐옥시, 1,3-디메틸-3-부테닐옥시, 2,2-디메틸-3-부테닐옥시, 2,3-디메틸-1-부테닐옥시, 2,3-디메틸-2-부테닐옥시, 2,3-디메틸-3-부테닐옥시, 3,3-디메틸-1-부테닐옥시, 3,3-디메틸-2-부테닐옥시, 1-에틸-1-부테닐옥시, 1-에틸-2-부테닐옥시, 1-에틸-3-부테닐옥시, 2-에틸-1-부테닐옥시, 2-에틸-2-부테닐옥시, 2-에틸-3-부테닐옥시, 1,1,2-트리메틸-2-프로페닐옥시, 1-에틸-1-메틸-2-프로페닐옥시, 1-에틸-2-메틸-1-프로페닐옥시, 1-에틸-2-메틸-2-프로페닐옥시 등이다. C2-C10-알케닐옥시에 대한 예는, C2-C6-알케닐옥시에 대해 언급된 예에 추가로, 1-헵테닐옥시, 2-헵테닐옥시, 3-헵테닐옥시, 1-옥테닐옥시, 2-옥테닐옥시, 3-옥테닐옥시, 4-옥테닐옥시, 1-노네닐옥시, 2-노네닐옥시, 3-노네닐옥시, 4-노네닐옥시, 1-데세닐옥시, 2-데세닐옥시, 3-데세닐옥시, 4-데세닐옥시, 5-데세닐옥시 및 그의 위치 이성질체이다.
용어 "알키닐옥시"란, 산소 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 알키닐 기를 지칭한다. 용어 "알키닐옥시"가 접두어 (Cn-Cm) 없이 사용되는 경우, 그것은 C2-C20-알키닐옥시에 관한 것이다. C2-C3-알키닐옥시에 대한 예는 에티닐옥시, 1-프로피닐옥시 또는 2-프로피닐옥시이다. C2-C4-알키닐에 대한 예는 에티닐옥시, 1-프로피닐옥시, 2-프로피닐옥시, 1-부티닐옥시옥시, 2-부티닐, 3-부티닐옥시, 1-메틸-2-프로피닐옥시 등이다. C2-C6-알키닐옥시에 대한 예는, C2-C6-알케닐옥시에 대해 언급된 것들에 추가로, 1-펜티닐옥시, 2-펜티닐옥시, 3-펜티닐옥시, 4-펜티닐옥시, 1-메틸-2-부티닐옥시, 1-메틸-3-부티닐옥시, 2-메틸-3-부티닐옥시, 3-메틸-1-부티닐옥시, 1,1-디메틸-2-프로피닐옥시, 1-에틸-2-프로피닐옥시, 1-헥시닐옥시, 2-헥시닐옥시, 3-헥시닐옥시, 4-헥시닐옥시, 5-헥시닐옥시, 1-메틸-2-펜티닐옥시, 1-메틸-3-펜티닐옥시, 1-메틸-4-펜티닐옥시, 2-메틸-3-펜티닐옥시, 2-메틸-4-펜티닐옥시, 3-메틸-1-펜티닐옥시, 3-메틸-4-펜티닐옥시, 4-메틸-1-펜티닐옥시, 4-메틸-2-펜티닐옥시, 1,1-디메틸-2-부티닐옥시, 1,1-디메틸-3-부티닐옥시, 1,2-디메틸-3-부티닐옥시, 2,2-디메틸-3-부티닐옥시, 3,3-디메틸-1-부티닐옥시, 1-에틸-2-부티닐옥시, 1-에틸-3-부티닐옥시, 2-에틸-3-부티닐옥시, 1-에틸-1-메틸-2-프로피닐옥시 등이다.
용어 "시클로알콕시"란, 산소 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 시클로알킬 기를 지칭한다. 용어 "시클로알콕시"가 접두어 (Cn-Cm) 없이 사용되는 경우, 그것은 C3-C6-시클로알콕시에 관한 것이다. C3-C6-시클로알콕시의 예는 시클로프로폭시, 시클로부톡시, 시클로펜톡시 및 시클로헥속시이다.
용어 "알킬티오"란, 황 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 알킬 기를 지칭한다. C1-C4-알킬티오는 예를 들어 메틸티오, 에틸티오, n-프로필티오, 1-메틸에틸티오 (이소프로필티오), 부틸티오, 1-메틸프로필티오 (sec-부틸티오), 2-메틸프로필티오 (이소부틸티오) 또는 1,1-디메틸에틸티오 (tert-부틸티오)이다. C1-C6-알킬티오에 대한 예는, C1-C4-알킬티오에 대해 언급된 것들에 추가로, 펜틸티오, 1-메틸부틸티오, 2-메틸부틸티오, 3-메틸부틸티오, 1,1-디메틸프로필티오, 1,2-디메틸프로필티오, 2,2-디메틸프로필티오, 1-에틸프로필티오, 헥실티오, 1-메틸펜틸티오, 2-메틸펜틸티오, 3-메틸펜틸티오, 4-메틸펜틸티오, 1,1-디메틸부틸티오, 1,2-디메틸부틸티오, 1,3-디메틸부틸티오, 2,2-디메틸부틸티오, 2,3-디메틸부틸티오, 3,3-디메틸부틸티오, 1-에틸부틸티오, 2-에틸부틸티오, 1,1,2-트리메틸프로필티오, 1,2,2-트리메틸프로필티오, 1-에틸-1-메틸프로필티오 또는 1-에틸-2-메틸프로필티오이다. C1-C10-알킬티오에 대한 예는, C1-C6-알킬티오에 대해 언급된 것들에 추가로, 헵틸티오, 옥틸티오, 노닐티오, 데실티오 및 그의 위치 이성질체이다.
용어 "알킬술피닐"이란, 술피닐 기 [S(=O)]를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 알킬 기를 지칭한다. C1-C4-알킬술피닐은 예를 들어 메틸술피닐, 에틸술피닐, n-프로필술피닐, 1-메틸에틸술피닐 (이소프로필술피닐), 부틸술피닐, 1-메틸프로필술피닐 (sec-부틸술피닐), 2-메틸프로필술피닐 (이소부틸술피닐) 또는 1,1-디메틸에틸술피닐 (tert-부틸술피닐)이다. C1-C6-알킬술피닐에 대한 예는, C1-C4-알킬술피닐에 대해 언급된 것들에 추가로, 펜틸술피닐, 1-메틸부틸술피닐, 2-메틸부틸술피닐, 3-메틸부틸술피닐, 1,1-디메틸프로필술피닐, 1,2-디메틸프로필술피닐, 2,2-디메틸프로필술피닐, 1-에틸프로필술피닐, 헥실술피닐, 1-메틸펜틸술피닐, 2-메틸펜틸술피닐, 3-메틸펜틸술피닐, 4-메틸펜틸술피닐, 1,1-디메틸부틸술피닐, 1,2-디메틸부틸술피닐, 1,3-디메틸부틸술피닐, 2,2-디메틸부틸술피닐, 2,3-디메틸부틸술피닐, 3,3-디메틸부틸술피닐, 1-에틸부틸술피닐, 2-에틸부틸술피닐, 1,1,2-트리메틸프로필술피닐, 1,2,2-트리메틸프로필술피닐, 1-에틸-1-메틸프로필술피닐 또는 1-에틸-2-메틸프로필술피닐이다.
용어 "알킬술포닐"이란, 술포닐 기 [S(=O)2]를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 알킬 기를 지칭한다. "C1-C2-알킬술포닐"은, 술포닐 기를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C2-알킬 기이다. "C1-C3-알킬술포닐"은, 술포닐 기를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C3-알킬 기이다. "C1-C4-알킬술포닐"은, 술포닐 기를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C4-알킬 기이다. "C1-C6-알킬술포닐"은, 술포닐 기를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C6-알킬 기이다. C1-C2-알킬술포닐은 메틸술포닐 또는 에틸술포닐이다. C1-C3-알킬술포닐에 대한 예는, C1-C2-알킬술포닐에 대해 언급된 것들에 추가로, n-프로필술포닐 및 1-메틸에틸술포닐 (이소프로필술포닐)이다. C1-C4-알킬술포닐에 대한 예는, C1-C3-알킬술포닐에 대해 언급된 것들에 추가로, 부틸술포닐, 1-메틸프로필술포닐 (sec-부틸술포닐), 2-메틸프로필술포닐 (이소부틸술포닐) 또는 1,1-디메틸에틸술포닐 (tert-부틸술포닐)이다. C1-C6-알킬술포닐에 대한 예는, C1-C4-알킬술포닐에 대해 언급된 것들에 추가로, 펜틸술포닐, 1-메틸부틸술포닐, 2-메틸부틸술포닐, 3-메틸부틸술포닐, 1,1-디메틸프로필술포닐, 1,2-디메틸프로필술포닐, 2,2-디메틸프로필술포닐, 1-에틸프로필술포닐, 헥실술포닐, 1-메틸펜틸술포닐, 2-메틸펜틸술포닐, 3-메틸펜틸술포닐, 4-메틸펜틸술포닐, 1,1-디메틸부틸술포닐, 1,2-디메틸부틸술포닐, 1,3-디메틸부틸술포닐, 2,2-디메틸부틸술포닐, 2,3-디메틸부틸술포닐, 3,3-디메틸부틸술포닐, 1-에틸부틸술포닐, 2-에틸부틸술포닐, 1,1,2-트리메틸프로필술포닐, 1,2,2-트리메틸프로필술포닐, 1-에틸-1-메틸프로필술포닐 또는 1-에틸-2-메틸프로필술포닐이다.
용어 "알킬카르보닐"이란, 카르보닐 기 [C(=O)]를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 알킬 기를 지칭한다. C1-C4-알킬카르보닐은 예를 들어 메틸카르보닐, 에틸카르보닐, n-프로필카르보닐, 1-메틸에틸카르보닐 (이소프로필카르보닐), 부틸카르보닐, 1-메틸프로필카르보닐 (sec-부틸카르보닐), 2-메틸프로필카르보닐 (이소부틸카르보닐) 또는 1,1-디메틸에틸카르보닐 (tert-부틸카르보닐)이다. C1-C6-알킬카르보닐에 대한 예는, C1-C4-알킬카르보닐에 대해 언급된 것들에 추가로, 펜틸카르보닐, 1-메틸부틸카르보닐, 2-메틸부틸카르보닐, 3-메틸부틸카르보닐, 1,1-디메틸프로필카르보닐, 1,2-디메틸프로필카르보닐, 2,2-디메틸프로필카르보닐, 1-에틸프로필카르보닐, 헥실카르보닐, 1-메틸펜틸카르보닐, 2-메틸펜틸카르보닐, 3-메틸펜틸카르보닐, 4-메틸펜틸카르보닐, 1,1-디메틸부틸카르보닐, 1,2-디메틸부틸카르보닐, 1,3-디메틸부틸카르보닐, 2,2-디메틸부틸카르보닐, 2,3-디메틸부틸카르보닐, 3,3-디메틸부틸카르보닐, 1-에틸부틸카르보닐, 2-에틸부틸카르보닐, 1,1,2-트리메틸프로필카르보닐, 1,2,2-트리메틸프로필카르보닐, 1-에틸-1-메틸프로필카르보닐 또는 1-에틸-2-메틸프로필카르보닐이다.
용어 "알콕시카르보닐"이란, 카르보닐 기 [C(=O)]를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 알콕시 기를 지칭한다. C1-C4-알콕시카르보닐은 예를 들어 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐, n-프로폭시카르보닐, 1-메틸에톡시카르보닐 (이소프로폭시카르보닐), 부톡시카르보닐, 1-메틸프로폭시카르보닐 (sec-부톡시카르보닐), 2-메틸프로폭시카르보닐 (이소부톡시카르보닐) 또는 1,1-디메틸에톡시카르보닐 (tert-부톡시카르보닐)이다. C1-C6-알콕시카르보닐에 대한 예는, C1-C4-알콕시카르보닐에 대해 언급된 것들에 추가로, 펜톡시카르보닐, 1-메틸부톡시카르보닐, 2-메틸부톡시카르보닐, 3-메틸부톡시카르보닐, 1,1-디메틸프로폭시카르보닐, 1,2-디메틸프로폭시카르보닐, 2,2-디메틸프로폭시카르보닐, 1-에틸프로폭시카르보닐, 헥속시카르보닐, 1-메틸펜톡시카르보닐, 2-메틸펜톡시카르보닐, 3-메틸펜톡시카르보닐, 4-메틸펜톡시카르보닐, 1,1-디메틸부톡시카르보닐, 1,2-디메틸부톡시카르보닐, 1,3-디메틸부톡시카르보닐, 2,2-디메틸부톡시카르보닐, 2,3-디메틸부톡시카르보닐, 3,3-디메틸부톡시카르보닐, 1-에틸부톡시카르보닐, 2-에틸부톡시카르보닐, 1,1,2-트리메틸프로폭시카르보닐, 1,2,2-트리메틸프로폭시카르보닐, 1-에틸-1-메틸프로폭시카르보닐 또는 1-에틸-2-메틸프로폭시카르보닐이다. C1-C10-알콕시카르보닐에 대한 예는, C1-C6-알콕시카르보닐에 대해 언급된 것들에 추가로, 헵톡시카르보닐, 옥틸옥시카르보닐, 노닐옥시카르보닐, 데실옥시카르보닐 및 그의 위치 이성질체이다.
"아미노"는 -NH2이다.
"C1-C4-알킬아미노"는 기 -N(H)-C1-C4-알킬이며, 여기서 C1-C4-알킬은 상기 정의된 바와 같다. 예는 메틸아미노, 에틸아미노, 프로필아미노, 이소프로필아미노, 부틸아미노 등이다.
용어 "디(C1-C4-알킬)아미노"는 기 -N(C1-C4-알킬)2를 나타내며, 여기서 각각의 C1-C4-알킬은 독립적으로 상기 정의된 바와 같다. 예는 디메틸아미노, 디에틸아미노, 에틸메틸아미노, 디프로필아미노, 디이소프로필아미노, 메틸프로필아미노, 메틸이소프로필아미노, 에틸프로필아미노, 에틸이소프로필아미노, 디부틸아미노 등이다.
알케닐렌은 선형 또는 분지형 2가 알켄디일 라디칼, 예를 들어 C2-C4-알케닐렌이며, 이는 또한 2, 3 또는 4개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 2가 알케닐 라디칼이다. 예는 -CH=CH-, -CH=CH-CH2-, -CH2-CH=CH-, -CH=CH-CH2-CH2-, -CH2-CH=CH-CH2-, 및 -CH2-CH2-CH=CH-이다.
알키닐렌은 선형 또는 분지형 2가 알킨디일 라디칼, 예를 들어 C2-C4-알키닐렌이며, 이는 또한 2, 3 또는 4개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 2가 알키닐 라디칼이다. 예는 -C≡C-, -C≡C-CH2-, -CH2-C≡C-, -C≡C-CH2-CH2-, -CH2-C≡C-CH2-, 및 -CH2-CH2-C≡C-이다.
2가 지방족 라디칼 (지방족 디라디칼이라고도 지칭됨)은 지환족, 방향족 또는 헤테로시클릭 구성요소를 함유하지 않는 라디칼이다. 예는 알킬렌, 알케닐렌 및 알키닐렌 라디칼이다.
2가 지환족 라디칼 (지환족 디라디칼이라고도 지칭됨)은 1개 이상, 예를 들어 1개 또는 2개의 지환족 라디칼을 함유할 수 있으나; 방향족 또는 헤테로시클릭 구성요소를 함유하지 않는다. 지환족 라디칼은 지방족 라디칼로 치환될 수 있으나, 분자의 나머지 부분에의 결합 자리는 지환족 라디칼 상에 위치한다.
2가 지방족-지환족 라디칼 (지방족-지환족 디라디칼이라고도 지칭됨)은 적어도 1개의 2가 지방족 라디칼 뿐만 아니라 적어도 1개의 2가 지환족 라디칼을 함유하며, 분자의 나머지 부분에의 2개의 결합 자리는 둘 다 지환족 라디칼(들) 상에 또는 둘 다 지방족 라디칼(들) 상에 또는 하나는 지방족 라디칼 상에 그리고 다른 하나는 지환족 라디칼 상에 위치한다.
2가 방향족 라디칼 (방향족 디라디칼이라고도 지칭됨)은 1개 이상, 예를 들어 1개 또는 2개의 방향족 라디칼을 함유할 수 있으나; 지환족 또는 헤테로시클릭 구성요소를 함유하지 않는다. 방향족 라디칼은 지방족 라디칼로 치환될 수 있으나, 분자의 나머지 부분에의 결합 자리 둘 다 방향족 라디칼(들) 상에 위치한다.
2가 아르지방족 라디칼 (아르지방족 디라디칼이라고도 지칭됨)은 적어도 1개의 2가 지방족 라디칼 뿐만 아니라 적어도 1개의 2가 방향족 라디칼을 함유하며, 분자의 나머지 부분에의 2개의 결합 자리는 둘 다 방향족 라디칼(들) 상에 또는 둘 다 지방족 라디칼(들) 상에 또는 하나는 지방족 라디칼 상에 그리고 다른 하나는 방향족 라디칼 상에 위치한다.
알킬렌은 선형 또는 분지형 2가 알칸디일 라디칼이다. C1-C3-알킬렌은 1, 2 또는 3개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 2가 알킬 라디칼이다. 예는 -CH2-, -CH2CH2-, -CH(CH3)-, -CH2CH2CH2-, -CH(CH3)CH2-, -CH2CH(CH3)- 및 -C(CH3)2-이다. C3-알킬렌은 3개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 2가 알킬 라디칼이다. 예는 -CH2CH2CH2-, -CH(CH3)CH2-, -CH2CH(CH3)- 및 -C(CH3)2-이다. C1-C4-알킬렌은 1, 2, 3 또는 4개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 2가 알킬 라디칼이다. 예는 -CH2-, -CH2CH2-, -CH(CH3)-, -CH2CH2CH2-, -CH(CH3)CH2-, -CH2CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH(CH3)CH2CH2-, -CH2CH2CH(CH3)-, -C(CH3)2CH2- 및 -CH2C(CH3)2-이다. 선형 또는 분지형 C2-C4-알킬렌은 2, 3 또는 4개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 2가 알킬 라디칼이다. 예는 -CH2CH2-, -CH(CH3)-, -CH2CH2CH2-, -CH(CH3)CH2-, -CH2CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH(CH3)CH2CH2-, -CH2CH2CH(CH3)-, -C(CH3)2CH2- 및 -CH2C(CH3)2-이다. 선형 또는 분지형 C2-C10-알킬렌은 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 또는 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 2가 알킬 라디칼이다. 예는, C2-C4-알킬렌에 대해 상기 언급된 라디칼에 추가로, -(CH2)5-, -(CH2)6-, -(CH2)7-, -(CH2)8-, -(CH2)9-, -(CH2)10- 및 그의 위치 이성질체이다. 선형 또는 분지형 C1-C10-알킬렌은 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 또는 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 2가 알킬 라디칼이다. 한 예는, C2-C10-알킬렌에 대해 상기 언급된 라디칼에 추가로, 메틸렌 (-CH2-)이다. 선형 또는 분지형 C6-C10-알킬렌은 6, 7, 8, 9 또는 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 2가 알킬 라디칼이다. 예는 -(CH2)6-, -(CH2)7-, -(CH2)8-, -(CH2)9-, -(CH2)10- 및 그의 위치 이성질체이다.
알칸올은 R이 선형 또는 분지형 알킬 기인 화학식 R-OH의 화합물이다. 달리 언급되지 않은 경우, R은 바람직하게는 C1-C16-알킬이다 (그에 따라 R-OH는 바람직하게는 C1-C16-알칸올임). C1-C4-알칸올은 R이 선형 또는 분지형 C1-C4-알킬 기인 화합물 R-OH이다. C1-C6-알칸올은 R이 선형 또는 분지형 C1-C6-알킬 기인 화합물 R-OH이다. C1-C4-알칸올에 대한 예는 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, n-부탄올, sec-부탄올, 이소부탄올 및 tert-부탄올이다. C1-C6-알칸올에 대한 예는, C1-C4-알칸올에 대해 언급된 것들에 추가로, 1-펜탄올, 2-펜탄올, 3-펜탄올, 1-헥산올, 2-헥산올, 3-헥산올 및 그의 이성질체이다. C1-C16-알칸올에 대한 예는, C1-C6-알칸올에 대해 언급된 것들에 추가로, 선형 헵탄올, 옥탄올, 노난올, 데칸올, 운데칸올, 도데칸올, 트리데칸올, 테트라데칸올, 펜타데칸올, 헥사데칸올 및 그의 이성질체이다.
알칸디올은, A가 선형 또는 분지형 알킬렌 기, 즉, 2가 선형 또는 분지형 알칸디일 라디칼인 화학식 HO-A-OH의 화합물이다. C2-C4-알칸디올은, A가 선형 또는 분지형 C2-C4-알킬렌 기인 화학식 HO-A-OH의 화합물이다. 예는 1,2-에탄디올 (에틸렌 글리콜), 1,2-프로판디올 (프로필렌 글리콜), 1,3-프로판디올, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올 및 1,4-부탄디올이다.
시클로알칸올은 R이 시클로알킬 기인 화학식 R-OH의 화합물이다. 달리 언급되지 않은 경우, R은 바람직하게는 C3-C6-시클로알킬이다 (이에 따라 R-OH는 바람직하게는 C3-C6-시클로알칸올임). 시클로알킬 고리는 추가의 치환기를 가질 수 있다.
시클로알칸디올은 2개의 OH 기를 갖는 시클로알킬 고리이다. 달리 언급되지 않은 경우, 시클로알킬 고리는 바람직하게는 C3-C6-시클로알킬이다. 시클로알킬 고리는 추가의 치환기를 가질 수 있다.
폴리에테르폴리올은, 일반적으로 적어도 2개의 OH 기를 갖고 중합된 알킬렌옥시드에서 유래된 폴리에테르이다. 폴리에테르모노올은, 일반적으로 1개의 OH 기를 갖고 중합된 알킬렌옥시드에서 유래된 폴리에테르이다.
히드록시방향족 화합물은 1개 이상의 OH 기를 갖는 방향족 화합물이다. 예는 페놀, 크레졸, 카테콜, 레조르시놀, 히드로퀴논, 1- 또는 2-나프톨 등이다.
포르밀 기는 기 -CHO (-C(=O)H)이다.
케토 기는 기 -C(=O)R (여기서, R은 유기 라디칼임)이다.
티오케토 기는 기 -C(=S)R (여기서, R은 유기 라디칼임)이다.
본원에서 사용되는 용어 "고리 구성원으로서 N, O, S, NO, SO 및 SO2로부터 선택된 1, 2 또는 3개의 헤테로원자 또는 헤테로원자 기를 함유하는 3원, 4원, 5원, 6원 또는 7원 포화, 부분 불포화 또는 최대 불포화 헤테로시클릭 고리" [여기서, "최대 불포화"는 또한 "방향족"을 포함함]는 모노시클릭 라디칼을 나타내며, 모노시클릭 라디칼은 포화, 부분 불포화 또는 최대 불포화 (방향족 포함)이다.
불포화 고리는 적어도 1개의 C-C 및/또는 C-N 및/또는 N-N 이중 결합(들)을 함유한다. 최대 불포화 고리는, 고리 크기에 의해 허용되는 정도로 많은 공액 C-C 및/또는 C-N 및/또는 N-N 이중 결합을 함유한다. 최대 불포화 5원 또는 6원 헤테로모노시클릭 고리는 일반적으로 방향족이다. 방향족이 아닌 피란 및 티오피란과 같이, 고리 구성원으로서 O, S, SO 및/또는 SO2를 함유하는 최대 불포화 6원 고리는 예외이다. 부분 불포화 고리는, 고리 크기에 의해 허용되는 최대 수 미만의 C-C 및/또는 C-N 및/또는 N-N 이중 결합(들)을 함유한다. 헤테로시클릭 고리는 탄소 고리 구성원 또는 질소 고리 구성원을 통해 분자의 나머지 부분에 부착될 수 있다. 물론, 헤테로시클릭 고리는 적어도 1개의 탄소 고리 원자를 함유한다. 고리가 1개 초과의 O 고리 원자를 함유하는 경우, 이것들은 인접하지 않는다.
3원, 4원, 5원, 6원 또는 7원 포화 헤테로모노시클릭 고리의 예는 옥시란-2-일, 티이란-2-일, 아지리딘-1-일, 아지리딘-2-일, 옥세탄-2-일, 옥세탄-3-일, 티에탄-2-일, 티에탄-3-일, 1-옥소티에탄-2-일, 1-옥소티에탄-3-일, 1,1-디옥소티에탄-2-일, 1,1-디옥소티에탄-3-일, 아제티딘-1-일, 아제티딘-2-일, 아제티딘-3-일, 테트라히드로푸란-2-일, 테트라히드로푸란-3-일, 테트라히드로티엔-2-일, 테트라히드로티엔-3-일, 1-옥소테트라히드로티엔-2-일, 1,1-디옥소테트라히드로티엔-2-일, 1-옥소테트라히드로티엔-3-일, 1,1-디옥소테트라히드로티엔-3-일, 피롤리딘-1-일, 피롤리딘-2-일, 피롤리딘-3-일, 피라졸리딘-1-일, 피라졸리딘-3-일, 피라졸리딘-4-일, 피라졸리딘-5-일, 이미다졸리딘-1-일, 이미다졸리딘-2-일, 이미다졸리딘-4-일, 옥사졸리딘-2-일, 옥사졸리딘-3-일, 옥사졸리딘-4-일, 옥사졸리딘-5-일, 이속사졸리딘-2-일, 이속사졸리딘-3-일, 이속사졸리딘-4-일, 이속사졸리딘-5-일, 티아졸리딘-2-일, 티아졸리딘-3-일, 티아졸리딘-4-일, 티아졸리딘-5-일, 이소티아졸리딘-2-일, 이소티아졸리딘-3-일, 이소티아졸리딘-4-일, 이소티아졸리딘-5-일, 1,2,4-옥사디아졸리딘-2-일, 1,2,4-옥사디아졸리딘-3-일, 1,2,4-옥사디아졸리딘-4-일, 1,2,4-옥사디아졸리딘-5-일, 1,2,4-티아디아졸리딘-2-일, 1,2,4-티아디아졸리딘-3-일, 1,2,4-티아디아졸리딘-4-일, 1,2,4-티아디아졸리딘-5-일, 1,2,4-트리아졸리딘-1-일, 1,2,4-트리아졸리딘-3-일, 1,2,4-트리아졸리딘-4-일, 1,3,4-옥사디아졸리딘-2-일, 1,3,4-옥사디아졸리딘-3-일, 1,3,4-티아디아졸리딘-2-일, 1,3,4-티아디아졸리딘-3-일, 1,3,4-트리아졸리딘-1-일, 1,3,4-트리아졸리딘-2-일, 1,3,4-트리아졸리딘-3-일, 테트라히드로피란-2-일, 테트라히드로피란-3-일, 테트라히드로피란-4-일, 1,3-디옥산-2-일, 1,3-디옥산-4-일, 1,3-디옥산-5-일, 1,4-디옥산-2-일, 피페리딘-1-일, 피페리딘-2-일, 피페리딘-3-일, 피페리딘-4-일, 헥사히드로피리다진-1-일, 헥사히드로피리다진-3-일, 헥사히드로피리다진-4-일, 헥사히드로피리미딘-1-일, 헥사히드로피리미딘-2-일, 헥사히드로피리미딘-4-일, 헥사히드로피리미딘-5-일, 피페라진-1-일, 피페라진-2-일, 1,3,5-헥사히드로트리아진-1-일, 1,3,5-헥사히드로트리아진-2-일, 1,2,4-헥사히드로트리아진-1-일, 1,2,4-헥사히드로트리아진-2-일, 1,2,4-헥사히드로트리아진-3-일, 1,2,4-헥사히드로트리아진-4-일, 1,2,4-헥사히드로트리아진-5-일, 1,2,4-헥사히드로트리아진-6-일, 모르폴린-2-일, 모르폴린-3-일, 모르폴린-4-일, 티오모르폴린-2-일, 티오모르폴린-3-일, 티오모르폴린-4-일, 1-옥소티오모르폴린-2-일, 1-옥소티오모르폴린-3-일, 1-옥소티오모르폴린-4-일, 1,1-디옥소티오모르폴린-2-일, 1,1-디옥소티오모르폴린-3-일, 1,1-디옥소티오모르폴린-4-일, 아제판-1-, -2-, -3- 또는 -4-일, 옥세판-2-, -3-, -4- 또는 -5-일, 헥사히드로-1,3-디아제피닐, 헥사히드로-1,4-디아제피닐, 헥사히드로-1,3-옥사제피닐, 헥사히드로-1,4-옥사제피닐, 헥사히드로-1,3-디옥세피닐, 헥사히드로-1,4-디옥세피닐 등을 포함한다.
3원, 4원, 5원, 6원 또는 7원 부분 불포화 헤테로모노시클릭 고리의 예는 2,3-디히드로푸란-2-일, 2,3-디히드로푸란-3-일, 2,4-디히드로푸란-2-일, 2,4-디히드로푸란-3-일, 2,3-디히드로티엔-2-일, 2,3-디히드로티엔-3-일, 2,4-디히드로티엔-2-일, 2,4-디히드로티엔-3-일, 2-피롤린-2-일, 2-피롤린-3-일, 3-피롤린-2-일, 3-피롤린-3-일, 2-이속사졸린-3-일, 3-이속사졸린-3-일, 4-이속사졸린-3-일, 2-이속사졸린-4-일, 3-이속사졸린-4-일, 4-이속사졸린-4-일, 2-이속사졸린-5-일, 3-이속사졸린-5-일, 4-이속사졸린-5-일, 2-이소티아졸린-3-일, 3-이소티아졸린-3-일, 4-이소티아졸린-3-일, 2-이소티아졸린-4-일, 3-이소티아졸린-4-일, 4-이소티아졸린-4-일, 2-이소티아졸린-5-일, 3-이소티아졸린-5-일, 4-이소티아졸린-5-일, 2,3-디히드로피라졸-1-일, 2,3-디히드로피라졸-2-일, 2,3-디히드로피라졸-3-일, 2,3-디히드로피라졸-4-일, 2,3-디히드로피라졸-5-일, 3,4-디히드로피라졸-1-일, 3,4-디히드로피라졸-3-일, 3,4-디히드로피라졸-4-일, 3,4-디히드로피라졸-5-일, 4,5-디히드로피라졸-1-일, 4,5-디히드로피라졸-3-일, 4,5-디히드로피라졸-4-일, 4,5-디히드로피라졸-5-일, 2,3-디히드로옥사졸-2-일, 2,3-디히드로옥사졸-3-일, 2,3-디히드로옥사졸-4-일, 2,3-디히드로옥사졸-5-일, 3,4-디히드로옥사졸-2-일, 3,4-디히드로옥사졸-3-일, 3,4-디히드로옥사졸-4-일, 3,4-디히드로옥사졸-5-일, 3,4-디히드로옥사졸-2-일, 3,4-디히드로옥사졸-3-일, 3,4-디히드로옥사졸-4-일, 2-, 3-, 4-, 5- 또는 6-디- 또는 테트라히드로피리디닐, 3-디- 또는 테트라히드로피리다지닐, 4-디- 또는 테트라히드로피리다지닐, 2-디- 또는 테트라히드로피리미디닐, 4-디- 또는 테트라히드로피리미디닐, 5-디- 또는 테트라히드로피리미디닐, 디- 또는 테트라히드로피라지닐, 1,3,5-디- 또는 테트라히드로트리아진-2-일, 1,2,4-디- 또는 테트라히드로트리아진-3-일, 2,3,4,5-테트라히드로[1H]아제핀-1-, -2-, -3-, -4-, -5-, -6- 또는 -7-일, 3,4,5,6-테트라히드로[2H]아제핀-2-, -3-, -4-, -5-, -6- 또는 -7-일, 2,3,4,7-테트라히드로[1H]아제핀-1-, -2-, -3-, -4-, -5-, -6- 또는 -7-일, 2,3,6,7-테트라히드로[1H]아제핀-1-, -2-, -3-, -4-, -5-, -6- 또는 -7-일, 테트라히드로옥세피닐, 예컨대 2,3,4,5-테트라히드로[1H]옥세핀-2-, -3-, -4-, -5-, -6- 또는 -7-일, 2,3,4,7-테트라히드로[1H]옥세핀-2-, -3-, -4-, -5-, -6- 또는 -7-일, 2,3,6,7-테트라히드로[1H]옥세핀-2-, -3-, -4-, -5-, -6- 또는 -7-일, 테트라히드로-1,3-디아제피닐, 테트라히드로-1,4-디아제피닐, 테트라히드로-1,3-옥사제피닐, 테트라히드로-1,4-옥사제피닐, 테트라히드로-1,3-디옥세피닐, 테트라히드로-1,4-디옥세피닐 등을 포함한다.
3원, 4원, 5원, 6원 또는 7원 최대 불포화 (방향족 포함) 헤테로모노시클릭 고리의 예는 2-푸릴, 3-푸릴, 2-티에닐, 3-티에닐, 1-피롤릴, 2-피롤릴, 3-피롤릴, 1-피라졸릴, 3-피라졸릴, 4-피라졸릴, 5-피라졸릴, 1-이미다졸릴, 2-이미다졸릴, 4-이미다졸릴, 5-이미다졸릴, 2-옥사졸릴, 4-옥사졸릴, 5-옥사졸릴, 3-이속사졸릴, 4-이속사졸릴, 5-이속사졸릴, 2-티아졸릴, 4-티아졸릴, 5-티아졸릴, 3-이소티아졸릴, 4-이소티아졸릴, 5-이소티아졸릴, 1,3,4-트리아졸-1-일, 1,3,4-트리아졸-2-일, 1,3,4-트리아졸-3-일, 1,2,3-트리아졸-1-일, 1,2,3-트리아졸-2-일, 1,2,3-트리아졸-4-일, 1,2,5-옥사디아졸-3-일, 1,2,3-옥사디아졸-4-일, 1,2,3-옥사디아졸-5-일, 1,3,4-옥사디아졸-2-일, 1,2,5-티아디아졸-3-일, 1,2,3-티아디아졸-4-일, 1,2,3-티아디아졸-5-일, 1,3,4-티아디아졸-2-일, 2-피리디닐, 3-피리디닐, 4-피리디닐, 1-옥소피리딘-2-일, 1-옥소피리딘-3-일, 1-옥소피리딘-4-일, 3-피리다지닐, 4-피리다지닐, 2-피리미디닐, 4-피리미디닐, 5-피리미디닐, 2-피라지닐, 1,3,5-트리아진-2-일, 1,2,4-트리아진-3-일, 1,2,4-트리아진-5-일, 1,2,3,4-테트라진-1-일, 1,2,3,4-테트라진-2-일, 1,2,3,4-테트라진-5-일, 피란-2-일, 피란-3-일, 피란-4-일, 티오피란-2-일, 티오피란-3-일, 티오피란-4-일, 1-옥소티오피란-2-일, 1-옥소티오피란-3-일, 1-옥소티오피란-4-일, 1,1-디옥소티오피란-2-일, 1,1-디옥소티오피란-3-일, 1,1-디옥소티오피란-4-일, 2H-옥사진-2-일, 2H-옥사진-3-일, 2H-옥사진-4-일, 2H-옥사진-5-일, 2H-옥사진-6-일, 4H-옥사진-3-일, 4H-옥사진-4-일, 4H-옥사진-5-일, 4H-옥사진-6-일, 6H-옥사진-3-일, 6H-옥사진-4-일, 7H-옥사진-5-일, 8H-옥사진-6-일, 2H-1,3-옥사진-2-일, 2H-1,3-옥사진-4-일, 2H-1,3-옥사진-5-일, 2H-1,3-옥사진-6-일, 4H-1,3-옥사진-2-일, 4H-1,3-옥사진-4-일, 4H-1,3-옥사진-5-일, 4H-1,3-옥사진-6-일, 6H-1,3-옥사진-2-일, 6H-1,3-옥사진-4-일, 6H-1,3-옥사진-5-일, 6H-1,3-옥사진-6-일, 2H-1,4-옥사진-2-일, 2H-1,4-옥사진-3-일, 2H-1,4-옥사진-5-일, 2H-1,4-옥사진-6-일, 4H-1,4-옥사진-2-일, 4H-1,4-옥사진-3-일, 4H-1,4-옥사진-4-일, 4H-1,4-옥사진-5-일, 4H-1,4-옥사진-6-일, 6H-1,4-옥사진-2-일, 6H-1,4-옥사진-3-일, 6H-1,4-옥사진-5-일, 6H-1,4-옥사진-6-일, 1,4-디옥신-2-일, 1,4-옥사티인-2-일, 1H-아제핀, 1H-[1,3]-디아제핀, 1H-[1,4]-디아제핀 등이다.
고리 구성원으로서 N, O 및 S로부터 선택된 1, 2, 3 또는 4개의 헤테로원자를 함유하는 5원 또는 6원 모노시클릭 헤테로방향족 고리에 대한 예는 2-푸릴, 3-푸릴, 2-티에닐, 3-티에닐, 1-피롤릴, 2-피롤릴, 3-피롤릴, 1-피라졸릴, 3-피라졸릴, 4-피라졸릴, 5-피라졸릴, 1-이미다졸릴, 2-이미다졸릴, 4-이미다졸릴, 5-이미다졸릴, 2-옥사졸릴, 4-옥사졸릴, 5-옥사졸릴, 3-이속사졸릴, 4-이속사졸릴, 5-이속사졸릴, 2-티아졸릴, 4-티아졸릴, 5-티아졸릴, 3-이소티아졸릴, 4-이소티아졸릴, 5-이소티아졸릴, 1,3,4-트리아졸-1-일, 1,3,4-트리아졸-2-일, 1,3,4-트리아졸-3-일, 1,2,3-트리아졸-1-일, 1,2,3-트리아졸-2-일, 1,2,3-트리아졸-4-일, 1,2,5-옥사디아졸-3-일, 1,2,3-옥사디아졸-4-일, 1,2,3-옥사디아졸-5-일, 1,3,4-옥사디아졸-2-일, 1,2,5-티아디아졸-3-일, 1,2,3-티아디아졸-4-일, 1,2,3-티아디아졸-5-일, 1,3,4-티아디아졸-2-일, 2-피리디닐, 3-피리디닐, 4-피리디닐, 1-옥소피리딘-2-일, 1-옥소피리딘-3-일, 1-옥소피리딘-4-일, 3-피리다지닐, 4-피리다지닐, 2-피리미디닐, 4-피리미디닐, 5-피리미디닐, 2-피라지닐, 1,3,5-트리아진-2-일, 1,2,4-트리아진-3-일, 1,2,4-트리아진-5-일, 1,2,3,4-테트라진-1-일, 1,2,3,4-테트라진-2-일, 1,2,3,4-테트라진-5-일 등이다.
본 발명의 견지에서 "방향족 고리 또는 고리 시스템"은 카르보방향족이며; 즉, 그것은 고리 구성원으로서 헤테로원자를 함유하지 않는다. 그것은 모노시클릭 또는 축합된 시스템이며, 여기서 고리 중 적어도 1종은 방향족이다 (즉, 휘켈(Hueckel) 4n+2 π 전자 규칙을 따름). 예는 페닐, 나프틸, 안트라세닐, 페난트레닐, 인다닐, 인데닐 및 플루오레닐이다.
본 발명의 견지에서 "헤테로방향족 고리 또는 고리 시스템"은 고리 구성원으로서 N, O, S, NO, SO 및 SO2로부터 선택된 적어도 1개의 헤테로원자 또는 헤테로원자 기를 함유한다. 그것은 모노시클릭 또는 축합된 시스템이며, 여기서 고리 중 적어도 1종은 방향족이다. 모노시클릭 헤테로방향족 고리에 대한 예는 상기 열거된 5원 또는 6원 모노시클릭 헤테로방향족 고리이다. 축합된 시스템에 대한 예는 하기이다:
Figure pct00001
Figure pct00002
Figure pct00003
Figure pct00004
상기 구조에서, #은 분자의 나머지 부분에의 부착 지점을 나타낸다. 부착 지점은 그것이 도시되어 있는 고리로 제한되지 않으나, 2개의 고리 중 하나 상에 있을 수 있고, 탄소 또는 질소 고리 원자 상에 있을 수 있다. 고리가 1개 이상의 치환기를 갖는 경우, 이들은 탄소 및/또는 질소 고리 원자에 결합될 수 있다.
아크릴레이트 화합물, STP 및 광개시제 뿐만 아니라 그의 용도의 바람직한 및 특정 실시양태에 대한 하기 언급은 단독으로 취할 때, 및 특히, 서로와의 임의의 생각할 수 있는 조합으로 둘 다 적용된다.
아크릴레이트 화합물
본 발명에서, 용어 "아크릴레이트 화합물"이란, 한편으로는, 중합체 (적절한 관점에서 아크릴레이트 중합체)의 주성분으로서 중합된 형태의 아크릴레이트 (보다 정확하게는 아크릴산 에스테르)를 함유하는 중합체를 지칭한다. 이와 관련해서 "주성분"이란, 중합체가 중합체 1 mol에 대해 적어도 60 mol%, 바람직하게는 적어도 80 mol%, 특히 적어도 90 mol%, 구체적으로 적어도 95 mol%의 아크릴레이트 (= 아크릴산 에스테르) 반복 단위로 구성됨을 의미한다. 다른 한편으로는, 용어 "아크릴레이트 화합물"은 또한, 무손상 C-C 이중 결합을 갖는 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 기를 함유하는 단량체 또는 중합체 화합물을 포괄하고; 즉, 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 기가 중합된 형태로 존재하지 않으나, 예를 들어 그의 카르복실 기를 통해 분자의 나머지 부분에 결합된다. 중합체 화합물은 그의 말단에 및/또는 그의 측쇄 내에 무손상 C-C 이중 결합을 갖는 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 기를 함유하고, 중합체의 나머지는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트와 상이한 단량체에서 유래된다. 달리 명시되지 않는 경우, 본원에 사용되는 용어 "아크릴레이트 중합체"는 적절한 관점에서 상기 및 하기에 정의된 바와 같은 아크릴레이트 중합체에 관한 것이다.
적절한 관점에서 아크릴레이트 중합체는 중합체의 주성분으로서 하기 화학식 I의 반복 단위를 함유한다:
Figure pct00005
Rα는, 유기 히드록시 화합물, 예를 들어 알콜, 예를 들어 알칸올, 시클로알칸올, 알칸디올, 시클로알칸디올, 폴리에테르폴리올, 폴리에테르모노올, OH 기 이외에도 다른 관능기를 함유하는 알칸올, 히드록시방향족 화합물 등에서 유래된 기이다. 다양한 반복 단위 내의 Rα는 상이한 히드록시 화합물에서 유래될 수 있다. 이와 관련해서 "주성분"이란, 중합체가 중합체 1 mol에 대해 적어도 60 mol%, 바람직하게는 적어도 80 mol%, 특히 적어도 90 mol%, 구체적으로 적어도 95 mol%의 상기 화학식 I의 아크릴레이트 반복 단위로 구성됨을 의미한다. 다른 임의로 존재하는 반복 단위는 예를 들어, 하기 화학식 II를 갖는 반복 단위인 메타크릴레이트; 하기 화학식 III을 갖는 반복 단위인 아크릴산; 또는 하기 화학식 IV를 갖는 반복 단위인 메타크릴산에서 유래된다:
Figure pct00006
화합물 II 내의 Rα는, 히드록시 화합물, 예를 들어 알칸올, 알칸디올 또는 히드록시방향족 화합물에서 유래된 기이다. 화합물 I 및 II 내의 Rα는 동일하거나 상이할 수 있다.
임의로 존재하는 반복 단위는 아울러, 비닐 에스테르, 예컨대 비닐 아세테이트 또는 비닐 프로피오네이트, 비닐 에테르, 예컨대 메틸비닐 에테르, 에틸비닐 에테르, 프로필비닐 에테르, 이소프로필비닐 에테르, 이소부틸비닐 에테르, tert-부틸비닐 에테르 등, 비닐방향족 화합물, 예컨대 스티렌, 또는 올레핀, 특히 α-올레핀, 예컨대 에틸렌, 프로펜, 부트-1-엔, 이소부텐 등에서 유래될 수 있다.
그러나 바람직하게는, 임의로 존재하는 반복 단위는 메타크릴레이트 (화학식 II), 아크릴산 (화학식 III) 및 메타크릴산 (화학식 IV)에서만 유래된다.
무손상 C-C 이중 결합을 갖는 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 기를 함유하고 분자의 나머지는 다른 단위로 구성된 단량체 또는 중합체 아크릴레이트 화합물은 화학식 V의 화합물로서 예시될 수 있다:
Figure pct00007
식 중,
A는 단량체 또는 중합체 백본 기이고,
Rβ는 H 또는 메틸이고;
n은 2 내지 100, 바람직하게는 2 내지 50이다.
특정 실시양태에서, n은 2 내지 10, 구체적으로 2 내지 5이다.
또 다른 특정 실시양태에서, n은 5 내지 100, 구체적으로 5 내지 50, 보다 구체적으로 5 내지 20이다.
이와 관련해서 "백본 기"란, A가 n개의 기 -O-C(O)-C(Rβ)=CH2로 치환된 정의된 몰질량 (이와 같은 경우 A는 단량체 백본 기임)을 갖는 디라디칼 (n = 2인 경우) 또는 그 초과의 라디칼 (n > 2인 경우)이거나, 또는 n개의 기 -O-C(O)-C(Rβ)=CH2를 보유하는 몰질량 분포 (그에 따라 중합체 백본 기)를 갖는 중합체 디라디칼 (n = 2인 경우) 또는 그 초과의 라디칼 (n > 2인 경우)임을 의미한다. 중합체 백본 A의 경우, 기 -O-C(O)-C(Rβ)=CH2는 중합체의 말단 상에 및/또는 측쇄 내에 있을 수 있다. 단량체 백본 기 A의 경우, n는 일반적으로 2, 3 또는 4, 대체로 2 또는 3이다.
본 발명의 견지에서, 용어 "중합체"는 올리고머, 즉, 이량체, 삼량체 및 다른 그 미만의 "-량체"를 포함한다.
중합체 백본 A는, 예를 들어, 폴리우레아, 폴리우레탄, 폴리에스테르, 폴리에테르, 에폭시 화합물 등에서 유래될 수 있다.
A가 2가 (n = 2)이면, 백본 기 A는 바람직하게는 단량체 기이거나, 또는 무손상 C-C 이중 결합을 갖는 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 기를 2개의 말단에 갖는 중합체 백본이다. 그에 대한 예는 하기 화학식의 화합물이다:
Figure pct00008
식 중, A는 2가 단량체 또는 중합체 백본이다. 단량체 백본의 경우, A는 바람직하게는, 1개 이상의 -O-, -NH-, -S-, -C(O)-, -C(O)-O- 또는 -C(O)-NH- 기가 개재될 수 있고/거나 1개 이상의 OH, NH2, C(O)OH 또는 C(O)OR 기 (여기서, R은 C1-C4-알킬임)로 치환될 수 있는 지방족, 지환족, 혼합 지방족-지환족, 방향족 또는 아르지방족 디라디칼이다. 이러한 기 A에 대한 예는 예를 들어 비스페놀 A 글리시딜 에테르에서 유래된다. 중합체 백본 기 A에 대한 예는 비스페놀 A 글리시딜 에테르의 올리고머 또는 중합체에서 유래된다. A가 2가 단량체 또는 중합체 백본이고 비스페놀 A 글리시딜 에테르에서 유래된 화합물은 하기 화학식으로 예시된다:
Figure pct00009
식 중, M은
Figure pct00010
이며, 여기서
j는 0 (A가 2가 단량체 백본임) 또는 1 내지 20, 바람직하게는 1 내지 4 (A가 2가 중합체 백본임)이다.
2가 중합체 백본 A에 대한 추가 예는 폴리에테르 기, 예컨대, k가 0인 하기 폴리에테르 구조이다.
A가 3가 또는 다가 (n = 3 내지 100 또는 바람직하게는 3 내지 50)이면, 무손상 C-C 이중 결합을 갖는 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 기는 일반적으로, 중합체 백본 A의 측쇄로서 및 임의로 또한 중합체 말단의 말단기로서 함유된다.
상기 예 이외에도, A가 n개의 아크릴레이트 기를 갖는 중합체 백본인 화합물 V에 대한 추가의 예시적인 예는 하기 구조이다:
Figure pct00011
(식 중, k는 0 내지 20이고, l은 2 내지 25이고, Aa는 2가 지방족, 지환족, 혼합 지방족-지환족, 방향족 또는 아르지방족 라디칼이고, Ab는 2가 지방족 라디칼이고, T는 H, -NCO, -NH-C(O)-NH2 또는 -O-C(O)-NH2와 같은 말단기임).
폴리에테르 기는 바람직하게는 에틸렌옥시드, 프로필렌옥시드 또는 그의 혼합물에서 유래된다.
Aa는 바람직하게는 C2-C10-알킬렌, 또는 하기 화학식의 디라디칼이고, 특히 C2-C10-알킬렌이며; Ab는 C2-C4-알킬렌이다.
Figure pct00012
무손상 C-C 이중 결합을 갖는 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 기를 함유하는 이러한 아크릴레이트 화합물 및 그의 제조 방법은 공지되어 있으며, 예를 들어 바스프(BASF)의 라로머(Laromer)® 브랜드로 상업화되어 있다.
상기 기재된 아크릴레이트 화합물 중에는, 적절한 관점에서 아크릴레이트 중합체, 즉, 중합체의 주성분으로서 중합된 형태의 아크릴레이트 (아크릴산 에스테르)를 함유하는 중합체가 바람직하다.
바람직한 실시양태에서, 아크릴레이트 화합물은, 광개시 경향이 있는 관능기를 함유하는 아크릴레이트 화합물; 히드록실 기를 함유하는 아크릴레이트 화합물; 및 그의 혼합물로부터 선택된다. 보다 바람직하게는 아크릴레이트 화합물은, 광개시 경향이 있는 관능기를 함유하는 아크릴레이트 중합체 (적절한 관점에서; 즉, 중합체의 주성분으로서 중합된 형태의 아크릴레이트 (아크릴산 에스테르)를 함유하는 중합체); 히드록실 기를 함유하는 아크릴레이트 중합체 (적절한 관점에서); 및 그의 혼합물로부터 선택된다.
본 발명의 견지에서, 광개시 경향이 있는 기는, UV 또는 가시광을 사용한 조사 (= 광개시 또는 광활성화) 시에, 일반적으로 새로운 공유 결합의 형성에 의해 가교 또는 경화 반응을 초래하는 관능기이다. 따라서, 이들 기는 통합 광개시제로서 작용한다. 광개시 경향이 있는 이러한 기에 대한 예는 케토 기, 포르밀 기, 티오케토 기, C-C 이중 결합 및 C-C 삼중 결합이다. C-C 이중 및 삼중 기는, 광활성화 시에, 일반적으로 다른 C-C 이중 또는 삼중 결합과 반응하는 라디칼을 형성한다. 그러나, C-H 삽입이 또한 가능하다. 카르보닐 또는 티오카르보닐 기는 종종 C-H 삽입 반응을 제공하며, (티오)카르보닐 기는 OH 또는 SH 기로 전환된다.
따라서, 무손상 C-C 이중 결합을 갖는 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 기를 함유하는 아크릴레이트 화합물은 본래, 광개시 경향이 있는 기, 즉, 상기 무손상 C-C 이중 결합을 함유한다.
바람직하게는, 광개시 경향이 있는 기는 케토 기, 포르밀 기, 티오케토 기 및 C-C 삼중 결합, 보다 바람직하게는 케토 기, 포르밀 기 및 티오케토 기로 이루어진 군으로부터 선택된다.
광개시 경향이 있는 관능기를 함유하는 아크릴레이트 화합물은 바람직하게는, 적절한 관점에서 광개시 경향이 있고 특히 케토 기, 포르밀 기 및 티오케토 기로부터 선택된 관능기를 함유하는 아크릴레이트 중합체 (즉, 중합체의 주성분으로서 화학식 I의 반복 단위를 함유하는 중합체)로부터 선택된다.
적절한 관점에서 케토 기, 포르밀 기 및 티오케토 기로부터 선택된 관능기를 함유하는 아크릴레이트 중합체에서, 이들 케토, 포르밀 또는 티오케토 기는 일반적으로 라디칼 Rα의 일부이고; 즉, 화학식 I 또는 II의 반복 단위의 일부에서, 존재하는 경우, Rα는 케토, 포르밀 또는 티오케토 기를 함유하는 히드록시 화합물에서 유래된다.
특히, 광개시 경향이 있는 관능기를 함유하는 아크릴레이트 화합물은 적절한 관점에서 케토 기를 함유하는 아크릴레이트 중합체 (즉, 중합체의 주성분으로서 화학식 I의 반복 단위를 함유하는 중합체)로부터 선택된다.
케토 기는 바람직하게는 벤조페논 기 또는 아세토페논 기로서 존재한다. 따라서, 화학식 I 또는 II의 반복 단위의 일부에서, 존재하는 경우, Rα는 바람직하게는, 벤조페논 또는 아세토페논 기를 함유하는 히드록시 화합물에서 유래된다.
벤조페논 기를 함유하는 이러한 라디칼 Rα는 바람직하게는 하기 화학식 Rα.1의 기이다:
Figure pct00013
(식 중,
#은 분자의 나머지 부분에의, 즉, (메트)아크릴레이트 기의 O에의 부착 지점이고;
L은 결합 또는 스페이서 기, 예컨대 C1-C8-알킬렌 기이며, 이는 임의로 -O-, -O-C(O)-, -C(O)-O-, -O-C(O)-O-, -NH-, -NH-C(O)-, -C(O)-NH-, -NH-C(O)-NH-, -O-C(O)-NH-, -NH-C(O)-O- 등과 같은 연결기를 통해 페닐 고리에 결합되고;
Rγ는 OH, C1-C6-알킬 및 C1-C6-알콕시로부터 선택되고;
m은 0, 1, 2, 3, 4 또는 5임).
아세토페논 기를 함유하는 라디칼 Rα는 바람직하게는 하기 화학식 Rα.2의 기이다:
Figure pct00014
(식 중,
#은 분자의 나머지 부분에의, 즉, (메트)아크릴레이트 기의 O에의 부착 지점이고;
L은 결합 또는 스페이서 기, 예컨대 C1-C8-알킬렌 기이며, 이는 임의로 -O-, -O-C(O)-, -C(O)-O-, -O-C(O)-O-, -NH-, -NH-C(O)-, -C(O)-NH-, -NH-C(O)-NH-, -O-C(O)-NH-, -NH-C(O)-O- 등과 같은 연결기를 통해 페닐 고리에 결합됨).
상기 벤조페논 기 내에 L은 바람직하게는 스페이서 기, 특히 C2-C6-알킬렌 기이며, 이는 -O-C(O)-O- 기를 통해 페닐 고리에 결합되고, m은 바람직하게는 0이다.
상기 아세토페논 기 내에 L은 바람직하게는 스페이서 기, 특히 C2-C6-알킬렌 기이다.
보다 바람직하게는, 케토 기는 바람직하게는 벤조페논 기로서 존재한다. 따라서, 화학식 I 또는 II의 반복 단위의 일부에서, 후자가 존재하는 경우, Rα는 바람직하게는 벤조페논 기를 함유하는 히드록시 화합물에서 유래된다. 보다 바람직하게는, Rα는 상기 화학식 Rα.1의 벤조페논 기이다. L은 바람직하게는 C1-C8-알킬렌 기이며, 이는 임의로 -O-, -O-C(O)-, -C(O)-O-, -O-C(O)-O-, -NH-, -NH-C(O)-, -C(O)-NH-, -NH-C(O)-NH-, -O-C(O)-NH- 및 -NH-C(O)-O-로부터 선택된 연결기를 통해 페닐 고리에 결합된다. 특히, Rα는 화학식 Rα.1.1의 벤조페논 기이다:
Figure pct00015
(식 중, x는 2 내지 6, 특히 4임).
특히, 광개시 경향이 있는 관능기를 함유하는 아크릴레이트 화합물은 (적절한 관점에서) 중합체 1 mol에 대해,
- Rα가 C1-C10-알킬, 바람직하게는 C4-C8-알킬인 화학식 I의 반복 단위 80 내지 99.9 mol%, 바람직하게는 85 내지 99.9 mol%, 특히 90 내지 99.9 mol%;
- Rα가 상기 정의된 바와 같은 화학식 Rα.1의 벤조페논 기인 화학식 I의 반복 단위 0.01 내지 20 mol%, 바람직하게는 0.02 내지 10 mol%, 특히 0.1 내지 1 mol%, 구체적으로 0.1 내지 0.5 mol%, 매우 구체적으로 0.1 내지 0.3 mol%; 및
- 화학식 III (아크릴산)의 반복 단위 0 내지 15 mol%, 바람직하게는 0 내지 10 mol%
로 구성된 아크릴레이트 중합체로부터 선택되며,
여기서 Rα가 C1-C10-알킬인 화학식 I의 반복 단위, Rα가 벤조페논 기인 화학식 I의 반복 단위, 및 화학식 III의 반복 단위의 mol 퍼센트의 합계는 본질적으로 100 mol%이다.
구체적으로, 광개시 경향이 있는 관능기를 함유하는 아크릴레이트 화합물은 (적절한 관점에서) 중합체 1 mol에 대해,
- Rα가 n-부틸 및/또는 2-에틸헥실인 화학식 I의 반복 단위 (즉, 반복 단위가 n-부틸아크릴레이트 및/또는 2-에틸헥실아크릴레이트에서 유래됨) 80 내지 99.9 mol%, 바람직하게는 85 내지 99.9 mol%, 특히 90 내지 99.9 mol%;
- Rα가 상기 정의된 바와 같은 화학식 Rα.1.1의 벤조페논 기인 화학식 I의 반복 단위 0.01 내지 20 mol%, 바람직하게는 0.02 내지 10 mol%, 특히 0.1 내지 1 mol%, 구체적으로 0.1 내지 0.5 mol%, 매우 구체적으로 0.1 내지 0.3 mol%; 및
- 화학식 III의 반복 단위 (즉, 반복 단위가 아크릴산에서 유래됨) 0 내지 15 mol%, 바람직하게는 0 내지 10 mol%
로 구성된 아크릴레이트 중합체로부터 선택되며,
여기서 Rα가 n-부틸 및/또는 2-에틸헥실인 화학식 I의 반복 단위, Rα가 벤조페논 기인 화학식 I의 반복 단위, 및 화학식 III의 반복 단위의 mol 퍼센트의 합계는 본질적으로 100 mol%이다.
"합계가 본질적으로 100 mol%"란, 아크릴레이트 중합체가 또한, 제조 공정에서 유래된, 예를 들어 출발물질 화합물에서 유래된 성분, 쇄 조절제 등을 미량 함유할 수 있음을 표현하도록 의도된다. 이러한 임의로 존재하는 화합물의 양은 중합체의 5 mol%를 초과하지 않고, 특히 중합체의 2 mol%를 초과하지 않는다.
적절한 관점에서 케토 기를 갖는 아크릴레이트 중합체 및 그의 제조 방법은 공지되어 있으며, 예를 들어 바스프의 아크레진® 브랜드로 상업화되어 있다. 포르밀 또는 티오케토 기를 갖는 중합체는 유사하게 제조될 수 있다. 적절한 관점에서 광활성화 경향이 있는 다른 기를 갖는 아크릴레이트 중합체는, 예를 들어 올레핀계 불포화 단량체의 라디칼 중합을 통해, 및 요망되거나 또는 필요한 경우, (메트)아크릴레이트 중합체의 에스테르교환, 또는 임의로 존재하는 중합된 (메트)아크릴산과 요망되는 조성의 히드록시 화합물의 에스테르화를 통해 유사하게 제조될 수 있다.
대안적으로 보다 바람직한 실시양태에서 아크릴레이트 화합물은 적절한 관점에서 히드록실 기를 함유하는 아크릴레이트 중합체이다.
바람직하게는, 히드록실 기를 함유하는 아크릴레이트 중합체는 (공)중합된 형태의 C2-C10-히드록시알킬아크릴레이트, 보다 바람직하게는 C2-C4-히드록시알킬아크릴레이트를 함유한다.
"(공)중합된"이란, 아크릴레이트 중합체가 히드록시알킬아크릴레이트만으로 (물론, 중합된 형태로) 구성된 단독중합체, 및 중합된 형태의 히드록시알킬아크릴레이트 이외에도, 중합된 형태의 다른 단량체, 예컨대 C1-C10-알킬아크릴레이트를 함유하는 공중합체 둘 다를 포함하도록 의도된다.
바람직하게는, 히드록실 기를 함유하는 아크릴레이트 중합체는, C2-C10-히드록시알킬아크릴레이트, 보다 바람직하게는 C2-C4-히드록시알킬아크릴레이트와 기타 에틸렌계 불포화 단량체의 공중합체이며, 여기서 이들 기타 단량체는 바람직하게는 C1-C10-알킬아크릴레이트로부터 선택된다.
보다 바람직하게는, 히드록실 기를 함유하는 아크릴레이트 중합체는 중합체 1 mol에 대해 적어도 60 mol%, 바람직하게는 적어도 80 mol%, 특히 적어도 90 mol%, 구체적으로 적어도 95 mol%의 상기 화학식 I의 아크릴레이트 반복 단위로 구성되며, 여기서 기 Rα의 일부는 C2-C10-히드록시알킬 기, 바람직하게는 C2-C4-히드록시알킬 기이다.
바람직하게는, 기 Rα의 1 내지 90 mol%, 보다 바람직하게는 2 내지 50 mol%, 특히 3 내지 10 mol%는 C2-C10-히드록시알킬 기, 바람직하게는 C2-C4-히드록시알킬 기이다. 그 밖의 기 Rα는 바람직하게는 C1-C10-알킬 기, 보다 바람직하게는 C1-C4-알킬 기이다.
상기 화학식 I의 아크릴레이트 반복 단위 이외에도, 히드록실 기를 함유하는 아크릴레이트 중합체는, 비닐 에스테르, 예컨대 비닐 아세테이트 또는 비닐 프로피오네이트, 비닐 에테르, 예컨대 메틸비닐 에테르, 에틸비닐 에테르, 프로필비닐 에테르, 이소프로필비닐 에테르, 이소부틸비닐 에테르, tert-부틸비닐 에테르 등, 비닐방향족 화합물, 예컨대 스티렌, 또는 올레핀, 특히 α-올레핀, 예컨대 에틸렌, 프로펜, 부트-1-엔, 이소부텐 등에서 유래된 반복 단위와 같은 반복 단위를 추가로 함유할 수 있다.
그러나 바람직하게는, 히드록실 기를 함유하는 아크릴레이트 중합체는, 기 Rα의 일부가 C2-C10-히드록시알킬 기, 바람직하게는 C2-C4-히드록시알킬 기인 상기 화학식 I의 아크릴레이트 반복 단위만으로 구성된다. 그러나, 제조 공정에서 유래된, 예를 들어 출발물질 화합물에서 유래된 성분, 쇄 조절제 등이 미량 존재할 수 있다.
히드록실 기를 함유하는 아크릴레이트 중합체 및 그의 제조 방법은 공지되어 있으며, 예를 들어 바스프의 존크릴(Joncryl)® 브랜드로 상업화되어 있다.
특히, 아크릴레이트 화합물은 적절한 관점에서 광개시 경향이 있는 관능기를 함유하는 상기 기재된 아크릴레이트 중합체 (즉, 중합체의 주성분으로서 화학식 I의 반복 단위를 함유하는 중합체)이다.
바람직한 실시양태에서, 아크릴레이트 화합물은 30000 초과, 예를 들어 >30000 내지 1000000 또는 >30000 내지 500000 또는 >30000 내지 300000, 보다 바람직하게는 적어도 50000, 예를 들어 50000 내지 1000000 또는 50000 내지 500000 또는 50000 내지 300000, 특히 적어도 100000, 예를 들어 100000 내지 1000000 또는 100000 내지 500000 또는 특히 100000 내지 300000의 중량 평균 분자량을 갖는다. 이들 분자량은 구체적으로 적절한 관점에서 광개시 경향이 있는 관능기를 함유하고 특이적으로 케토 기를 함유하는 아크릴레이트 중합체에 적용된다.
대안적으로 바람직한 실시양태에서 아크릴레이트 화합물은 500 내지 30000, 보다 바람직하게는 1000 내지 25000의 중량 평균 분자량을 갖는다. 이들 분자량은 구체적으로 적절한 관점에서 히드록시 기를 함유하는 아크릴레이트 중합체에 적용된다.
또 다른 실시양태에서 아크릴레이트 화합물은 200 내지 10000, 특히 200 내지 5000의 중량 평균 분자량을 갖는다. 이들 분자량은 구체적으로 무손상 C-C 이중 결합을 갖는 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 기를 함유하는 아크릴레이트 화합물에 적용된다.
특정 실시양태에서, 아크릴레이트 화합물은 30000 초과, 예를 들어 >30000 내지 1000000 또는 >30000 내지 500000 또는 >30000 내지 300000, 보다 바람직하게는 적어도 50000, 예를 들어 50000 내지 1000000 또는 50000 내지 500000 또는 50000 내지 300000, 특히 적어도 100000, 예를 들어 100000 내지 1000000 또는 100000 내지 500000 또는 특히 100000 내지 300000의 중량 평균 분자량을 갖는다.
달리 언급되지 않은 경우, 본 발명의 견지에서, 수-평균 및 중량-평균 분자량에 대한 값은 폴리스티렌 표준을 사용하여 겔 투과 크로마토그래피 (GPC) (크기-배제 크로마토그래피 (SEC)라고도 지칭됨)로 결정된다:
표준: 좁은 몰질량 표준을 갖는 폴리스티렌 (PS) (PS 몰질량 범위 580-7500000 g/mol, PSS). 헥실벤젠 (162 g/mol)을 저몰질량 마커(marker)로서 사용하였음. 외삽을 사용하여 배제 및 투과 한도에 대한 이들 검정 표준의 범위를 벗어나는 분자량 분포를 산정하였음.
용리액: THF + 0.1% 트리플루오로아세트산
유속: 1 mL/min
주입 부피: 100 μl
농도: 2 mg/ml
샘플 용액을 여과한 후 사르토리우스 미니사르트(Sartorius Minisart) SRP 25 (0,2 μm) 상에서 분석하였다.
컬럼 온도: 35℃
PLgel 프리컬럼(pre-column)/PLgel 믹스트(MIXED)-B의 컬럼 조합
검출기: DRI 애질런트(Agilent) 1100
바람직하게는, 아크릴레이트 중합체는 -75 내지 -25℃, 보다 바람직하게는 -70 내지 -30℃, 특히 -65 내지 -40℃의 유리 전이 온도 (Tg)를 갖는다.
상기 주어진 유리 전이 온도는 Tg 방법 92/69/EEC A.1 DSC 10℃/min로 수득된 바와 같은 값을 지칭한다.
실릴-종결된 중합체
실릴-종결된 중합체 (STP)는, 중합체의 말단 (쇄 단부)에 실릴 기를 함유하며 일반적으로 유기 백본을 갖는 중합체이다. 일반적으로, 규소 원자 상의 치환기 중 적어도 1종은 가수분해성 기, 특히 알콕시 기이다. 대기 수분의 존재 하에 이러한 알콕시실릴-종결된 중합체는 서로 가수분해/축합 반응을 일으킬 수 있고, 이는 중합체의 경화 또는 가교를 초래한다. STP의 중합체 백본은 일반적으로 폴리에테르, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리이민, 폴리우레탄, 폴리(메트)아크릴레이트, 폴리비닐에스테르, 폴리올레핀 또는 이들의 혼합 형태이다.
STP 및 그의 제조 방법은 일반적으로 공지되어 있으며, 특히 US 2012/0238695, DE-A-102011003425, DE-A-102004018548 및 그 안에 언급된 참고문헌에 기재되어 있다.
350 내지 30000, 보다 바람직하게는 500 내지 25000, 더욱 더 바람직하게는 1000 내지 22000, 특히 5000 내지 20000, 구체적으로 7000 내지 19000의 중량-평균 분자량 Mw를 갖는 STP가 바람직하다.
STP의 수-평균 및 중량-평균 분자량은 폴리스티렌 표준을 사용하여 상기 기재된 GPC/SEC 방법에 의해 결정된다.
바람직한 실시양태에서, 실릴-종결된 중합체는 화학식 VI의 중합체이다:
Figure pct00016
(식 중,
Po는 베이스 중합체의 2가, 3가 또는 4가 라디칼이고;
각각의 Y는 결합, -NH-C(=O)-O-, -O-C(=O)-NH-, -C(=O)-NH-L2-NH-C(=O)-NH-, -NH-C(=O)-NH-L2-NH-C(=O)-, -O-C(=O)-, -C(=O)-O-, -NH-C(=O)-S-, -S-C(=O)-NH- 및 -O-로부터 독립적으로 선택되고;
R' 및 R"은 서로 독립적으로 및 각 경우 독립적으로 C1-C6-알킬로부터 선택되고;
L1은 C1-C4-알킬렌이고;
L2는 2가 지방족, 지환족 또는 방향족 라디칼이고;
각각의 a는 독립적으로 0 또는 1이고;
b는 2, 3 또는 4임).
Po가 산소 원자로 종결되는 경우, 이것은 Y의 산소 원자에 직접 결합되지 않는다. 이와 같은 경우, Y의 산소 원자는 생략되는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들면 Po의 말단기가 산소 원자이고 Y가 -O-C(=O)-NH-이면, Po의 상기 산소 원자에 결합된 기 Y는, Po-Y가 이 경우 요컨대 Po-O-C(=O)-NH-이도록, 상기 경우에 -C(=O)-NH-인 것으로 이해되어야 한다.
바람직한 실시양태에서, Po는, 폴리에테르, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리이민, 폴리우레탄, 폴리(메트)아크릴레이트, 폴리비닐에스테르, 폴리올레핀 및 이들의 혼합 형태로부터 선택된 중합체의 2가, 3가 또는 4가 라디칼이다.
Po가 유래되는 폴리에테르 중합체는 바람직하게는 하기 반복 단위로 구성된다:
Figure pct00017
(식 중, 각각의 A1은 독립적으로 -CH2-CH2-, -CH2-CH(CH3)-, -CH(CH3)-CH2-, 또는 -(CH2)4-이고; 즉, 그것들은 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리테트라히드로푸란, 및 이들의 혼합 형태 (공중합체)에서 유래됨).
Po가 유래되는 폴리에스테르는 바람직하게는 하기 반복 단위로 구성된다:
Figure pct00018
(식 중, B1 및 B2는 서로 독립적으로 2가 지방족, 지환족, 지방족-지환족, 방향족 또는 아르지방족 라디칼임).
Po가 유래되는 폴리아미드는 바람직하게는 하기 반복 단위로 구성된다:
Figure pct00019
(식 중, B1 및 B2는 서로 독립적으로 2가 지방족, 지환족, 지방족-지환족, 방향족 또는 아르지방족 라디칼이고, R은 H 또는 C1-C4-알킬이거나 또는 분지 지점이고, 예를 들어
Figure pct00020
또는
Figure pct00021
또는
Figure pct00022
를 나타냄).
Po가 유래되는 폴리이민 중합체는 바람직하게는 반복 단위
Figure pct00023
로 구성되며, 여기서 각각의 A1은 독립적으로 2가 지방족, 지환족, 지방족-지환족, 방향족 또는 아르지방족 라디칼이고, R은 H 또는 C1-C4-알킬이거나 또는 분지 지점이고, 예를 들어
Figure pct00024
을 나타낸다.
Po가 유래되는 폴리우레탄은 바람직하게는 하기 반복 단위로 구성된다:
Figure pct00025
(식 중, B1 및 B2는 서로 독립적으로 2가 지방족, 지환족, 지방족-지환족, 방향족 또는 아르지방족 라디칼이고, R은 H 또는 C1-C4-알킬이거나 또는 분지 지점임).
Po가 유래되는 폴리(메트)아크릴레이트는 바람직하게는 하기 반복 단위로 구성된다:
Figure pct00026
(식 중, R은 H (폴리아크릴레이트) 또는 메틸 (메타크릴레이트)이고, R'은 C1-C12-알킬이며, 이는 다양한 치환기, 예컨대 OH, C1-C4-알콕시, 아미노, C1-C4-알킬아미노, 디-(C1-C4)-알킬아미노, CN, 트리메틸실릴 등을 가질 수 있음).
Po가 유래되는 폴리비닐에스테르는 바람직하게는 하기 반복 단위로 구성된다:
Figure pct00027
(식 중, R은 C1-C12-알킬임).
Po가 유래되는 폴리올레핀은 바람직하게는 α-올레핀의 중합체이고, 바람직하게는 하기 반복 단위로 구성된다:
Figure pct00028
(식 중, R은 H, C1-C12-알킬임).
특히, Po는 폴리에테르의 2가 라디칼 (즉, b가 2임)이다. 폴리에테르는 특히 폴리에틸렌 글리콜 또는 폴리프로필렌 글리콜이고, 구체적으로 폴리프로필렌 글리콜이다.
특정 실시양태에서, 중합체 VI에서,
Y는 -NH-C(=O)-O- (여기서, NH는 L1에 결합됨)이고;
R' 및 R"은 서로 독립적으로 및 각 경우 독립적으로 메틸 및 에틸로 이루어진 군으로부터 선택되고, 특히 메틸이고;
각각의 L1은 독립적으로 -CH2- 또는 C3-알킬렌, 특히 -CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이다.
구체적인 실시양태에서, 중합체 VI은 화학식 VI.1의 중합체이다:
Figure pct00029
(식 중, u는 1 내지 500, 바람직하게는 10 내지 400, 보다 바람직하게는 50 내지 300, 특히 100 내지 250, 구체적으로 100 내지 200, 매우 구체적으로 120 내지 180임).
또 다른 구체적인 실시양태에서, 중합체 VI은 화학식 VI.2의 중합체이다:
Figure pct00030
(식 중, u는 1 내지 500, 바람직하게는 10 내지 400, 보다 바람직하게는 50 내지 400, 특히 100 내지 350, 구체적으로 200 내지 350, 매우 구체적으로 200 내지 310임).
이러한 STP는 공지되어 있으며, 예를 들어 와커(Wacker)로부터 게니오실(Geniosil)® 브랜드로 판매된다 (예를 들어, 게니오실® STP-E 10 또는 게니오실® STP-E 35).
광개시제
바람직한 실시양태에서 적어도 1종의 광개시제는, UV C 방사선, UV B 방사선, UV A 방사선 및/또는 가시광선 범위의 방사선으로 활성이 되는 광잠재성 개시제; UV C 방사선 (100 내지 <280 nm)으로 활성이 되며 광잠재성이 아닌 광개시제; 또는 상기 광잠재성 개시제와 UV C 방사선으로 활성이 되며 광잠재성이 아닌 상기 광개시제와의 혼합물이다.
보다 바람직하게는 적어도 1종의 광개시제는, UV C 방사선, UV B 방사선, UV A 방사선 및/또는 가시광선 범위의 방사선으로 활성이 되는 광잠재성 개시제이거나, 또는 상기 광잠재성 개시제와 UV C 방사선으로 활성이 되며 광잠재성이 아닌 상기 광개시제의 혼합물이다.
UV A 방사선은 315 내지 <380 nm의 파장 범위의 전자기 방사선이다. UV B 방사선은 280 내지 <315 nm의 파장 범위의 전자기 방사선이다. UV C 방사선은 100 내지 <280 nm의 파장 범위의 전자기 방사선이다. 가시광은 380 내지 780 nm의 파장 범위의 전자기 방사선이다.
본 발명에서, 광잠재성 개시제는 주로 STP의 경화를 촉발시키기 위해 사용되는 반면, UV C 방사선으로 활성이 되며 광잠재성이 아닌 "전통적인" 광개시제는 주로 아크릴레이트 화합물의 가교를 촉발시키는 역할을 한다.
광잠재성 개시제, 및 UV C 방사선으로 활성이 되며 광잠재성이 아닌 상기 광개시제 둘 다를 함유하는 혼합 시스템을 사용하면, 본 발명의 조성물에서 실시될 수 있는 2개의 상이한 가교 반응 (한편으로는 아크릴레이트 화합물의 경화 및 다른 한편으로는 STP의 가교)이 선택적으로 촉발될 수 있다는 이점을 갖는다. 광잠재성 개시제가 UV B 방사선, UV A 방사선 및/또는 가시광선 범위의 방사선으로 활성이 되도록 선택되면, STP의 가교가 선택적으로 촉발될 수 있다 (방사선 공급원이 본질적으로 UV C 범위로 방출되지 않지만 UV B, UV A 및/또는 가시광선 영역으로 방출되는 경우). 반대로, 방사선 공급원이 본질적으로 UV A, UV B 및/또는 가시광선 영역으로 방출되지 않는 경우에는 아크릴레이트 화합물의 경화가 선택적으로 촉발될 수 있다. 그러나, 비록 두 개시제가 동일한 파장 범위에서 활성화되더라도, UV C 방사선으로 활성이 되는 광잠재성 개시제와, UV C 방사선으로 활성이 되며 광잠재성이 아닌 상기 광개시제의 조합이 또한 유리한데, 그 이유는 UV C 방사선으로 활성이 되는 광잠재성 개시제가 "전통적인" 광개시제보다 더 심부(deeper) 층에서 활성화될 수 있기 때문이다.
광잠재성 개시제
본 발명의 견지에서 광잠재성 개시제는, 광, 특히 UV 방사선 및/또는 가시광의 영향 하에, 화학 반응의 개시제로서 작용할 수 있는 화합물로 전환되는 화합물이다. 보다 정확하게는, 광잠재성 개시제는, 활성화 시, 중합체, 특히, 본 발명의 중합체 조성물 중에 함유된 중합체(들), 구체적으로 STP의 경화 또는 가교를 활성화 또는 촉진 또는 촉매할 수 있다. 불활성화된 형태에서, 광잠재성 개시제는 중합체의 경화 또는 가교에 영향을 미치지 않거나 또는 실제로 영향을 미치지 않는다.
중합체의 경화 또는 가교를 위해 광잠재성 개시제를 사용하면, 이러한 개시제를 함유하는 중합체 조성물이 일반적으로 양호한 오픈 시간(open time) (포트 수명(pot life))을 갖는 동시에 요구 시 경화될 수 있다는 이점을 갖는다.
STP 내의 알콕시 기와 같은 가수분해성 치환기의 축합은 염기 뿐만 아니라 산 또는 특정 금속 또는 금속 착물에 의해 촉매된다.
따라서, 바람직한 실시양태에서, 광잠재성 개시제는 광잠재성 염기, 광잠재성 산 발생기 및 광잠재성 금속계 개시제로부터 선택된다.
광잠재성 염기 (PLB)는, 광활성화될 때, 유의한 pKa 점프를 일으키는 화합물이다. 불활성화된 형태에서 광잠재성 염기는 다소 약염기 또는 심지어 중성 화합물이다. 광활성화는 그것들을 유의하게 더 높은 염기도(basicity)를 갖는 화합물로 전환시킨다.
일반적으로, PLB는 질소 강염기의 전구체, 예컨대 아미딘, 구아니딘, 아민 (일반적으로 2급 아민) 또는 이미다졸이다. 이들 전구체 화합물에서, 염기성 질소 원자 중 1개는 광분해 절단성 기로 치환된다. 상기 광분해 절단성 기는 (루이스(Lewis)) 염기도를, 전구체 화합물 (즉, 질소 염기가 광분해 절단성 기를 갖는 형태)이 개시제로서 작용하지 않도록 하는 정도로 감소시킨다. 아울러, 아미딘 및 구아니딘 전구체 화합물에서, C=N 이중 결합은, PLB가 중성 화합물이고 암모늄 염이 아니도록, 환원된 형태로, 즉, 단일 결합으로서 존재한다.
광분해 절단성 기는, UV 또는 가시광 범위, 예를 들어 200 내지 650 nm 범위의 방사선을 흡수할 수 있는 모이어티를 함유하고, 광분해 절단성 기의 광제거(photoelimination) 및 그에 따른 활성 염기의 형성을 유발한다. 광분해 절단성 기는 일반적으로, (치환된) 메틸렌 브릿지, (치환된) 메틸렌-CO-브릿지 또는 (치환된) 에틸렌 브릿지를 통해 염기의 질소 원자에 결합된 방향족 또는 헤테로방향족 고리 또는 고리 시스템을 함유한다. 대안적으로 광분해 절단성 기는 (치환된) 알릴 기이다. 방향족 또는 헤테로방향족 고리 또는 고리 시스템은 비치환될 수 있거나 또는 1개 이상의 치환기를 가질 수 있다. 적합한 치환기는 예를 들어 C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, C1-C6-알킬티오, C1-C6-알킬술피닐, C1-C6-알킬술포닐, C1-C6-알킬카르보닐, C1-C6-알콕시카르보닐, 페닐, 및 고리 구성원으로서 N, O, S, NO, SO 및 SO2로부터 선택된 1, 2 또는 3개의 헤테로원자 또는 헤테로원자 기를 포함하는 3원, 4원, 5원, 6원 또는 7원 포화, 부분 불포화 또는 최대 불포화 헤테로시클릭 고리이며, 여기서 페닐 또는 헤테로시클릭 고리는 또한 임의로 C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, C1-C6-알킬티오, C1-C6-알킬술피닐, C1-C6-알킬술포닐, C1-C6-알킬카르보닐 및 C1-C6-알콕시카르보닐로부터 선택된 1개 이상의 치환기로 치환된다. 물론, 이들 군에서, 헤테로방향족 고리 또는 고리 시스템 뿐만 아니라 3원 내지 7원 포화, 부분 불포화 또는 최대 불포화 헤테로시클릭 고리는 그의 염기도가 그것들이 개시제로서 작용할 수 있는 정도가 아니도록 선택된다.
바람직한 실시양태에서, PLB는 화합물 Ba-Za (여기서, Ba 및 Za는 공유 결합되어 있고, Ba는 아미딘, 구아니딘 및 2급 아민으로부터 선택된 강염기에서 유래되고, Za는 광분해적으로 제거가능한 기임)로부터 선택된다.
특히, PLB는 화학식 PLB.1 내지 PLB.7의 화합물로부터 선택된다:
Figure pct00031
식 중,
각각의 R18은 C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, C1-C6-알킬티오, C1-C6-알킬술피닐, C1-C6-알킬술포닐, C1-C6-알킬카르보닐 및 C1-C6-알콕시카르보닐로부터 독립적으로 선택되고;
R19는 수소 및 C1-C4-알킬로부터 선택되고;
s는 0, 1, 2, 3, 4 또는 5이다.
이들 중에는, PLB.1, PLB.2, PLB.4, PLB.5, PLB.6 및 PLB.7이 바람직하고, PLB.1, PLB.2, PLB.6 및 PLB.7이 보다 바람직하고, PLB.1이 특히 바람직하다.
PLB.1 및 PLB.2의 특정 실시양태에서, R18은 C1-C6-알콕시카르보닐, 구체적으로 메톡시카르보닐이고, s는 0 또는 1이고, R19는 수소이다. 구체적인 실시양태에서, s는 1이다. 바람직하게는, s는 1이고, R18은 CHR19에 대한 파라-위치에 결합된다. 또 다른 구체적인 실시양태에서, s는 0이다.
상기 PLB는 UV B 및/또는 UV A 방사선으로 활성이 된다.
광분해 절단성 기의 광활성화를 용이하게 하는 광감작제(photosensitizer)를 부가적으로 사용하는 것이 유리할 수 있다. 적합한 광감작제는 예를 들어 방향족 케톤, 예를 들어 치환 및 비치환된 벤조페논, 티오크산톤, 안트라퀴논 또는 염료, 예컨대 옥사진, 아크리딘, 페나진 및 로다민이다.
치환된 벤조페논 및 티오크산톤이 특히 적합하다. 그에 대한 예는, 벤조페논 및 티오크산톤 그 자체에 추가로, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(에틸메틸아미노)벤조페논, 4,4'-디페닐벤조페논, 4,4'-디페녹시벤조페논, 4,4'-비스(p-이소프로필페녹시)벤조페논, 4-메틸벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논, 4-페닐벤조페논, 2-메톡시카르보닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 4-메톡시-3,3'-메틸벤조페논, 이소프로필티오크산톤, 클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤, 2,4-디메틸티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤 및 1,3-디메틸-2-(2-에틸헥실옥시)티오크산톤 뿐만 아니라 상기 화합물들의 혼합물이다.
추가의 광감작제는 예를 들어 3-아실쿠마린, 예를 들어 3-벤조일쿠마린, 3-벤조일-7-메톡시쿠마린, 3-벤조일-5,7-디(프로폭시)쿠마린, 3-벤조일-6,8-디클로르쿠마린, 3-벤조일-6-클로르쿠마린, 3,3'-카르보닐비스[5,7-디(프로폭시)쿠마린], 3,3'-카르보닐비스(7-메톡시쿠마린), 3,3'-카르보닐비스(7-디에틸아미노쿠마린), 3-이소부티로일쿠마린, 3-벤조일-5,7-디메톡시쿠마린, 3-벤조일-5,7-디에톡시쿠마린, 3-벤조일-5,7-디부톡시쿠마린, 3-벤조일-5,7-디(메톡시에톡시)쿠마린, 3-벤조일-5,7-디(알릴옥시)쿠마린, 3-벤조일-7-디메틸아미노쿠마린, 3-벤조일-7-디에틸아미노쿠마린, 3-이소부티로일-7-디메틸아미노쿠마린, 5,7-디메톡시-3-(1-나프토일)쿠마린, 5,7-디메톡시-3-(1-나프토일)쿠마린, 3-벤조일벤조[f]쿠마린, 7-디에틸아미노-3-티에노일쿠마린, 또는 3-(4-시아노벤조일)-5,7-디메톡시쿠마린; 또는 3-(아로일메틸렌)티아졸린, 예를 들어 3-메틸-2-벤조일메틸렌나프토티아졸린, 3-메틸-2-벤조일메틸렌벤조티아졸린, 또는 3-메틸-2-프로피오닐메틸렌-p-나프토티아졸린; 또는 다른 카르보닐 화합물, 예를 들어 아세토페논, 3-메톡시아세토페논, 4-페닐아세토페논, 2-아세틸나프탈린, 2-나프트알데히드, 9,10-안트라퀴논, 9-플루오레논, 디벤조수베론, 크산톤, 2,5-비스(4-디에틸아미노벤질리덴)시클로펜타논, 2-(4-디메틸아미노벤질리덴)인단-1-온 또는 3-(4-디메틸아미노페닐)-1-인단-S-일-프로페논, 3-페닐티오프탈이미드 또는 N-메틸-3,5-디(에틸티오)프탈이미드이다.
그러나, 티오크산톤, 특히 상기 치환된 티오크산톤이 바람직하다.
광감작제는 PLB의 중량을 기준으로 바람직하게는 0.1 내지 3 중량%, 특히 0.5 내지 1.5 중량%의 양으로 사용된다.
광잠재성 산 발생기 (보다 빈번하게는 광산(photoacid) 발생기라 지칭됨, PAG)는, 광활성화될 때 산, 예를 들어 술폰산, 술핀산, 카르복실산, 인산 또는 차인산을 방출하는 화합물이다. 그것들은 옥심 술포네이트, 이미노술포네이트, 술폰산, 술핀산 또는 카르복실산의 에스테르, 아렌 술포네이트 유도체, 히드록시이미드 술포네이트, 페나실 술폰 유도체, 니트로벤질 에스테르, 트리아릴 포스페이트 유도체, 셀레나이드, 유기실란계 화합물, 나프탈이미드, 1-클로로-치환된 티오크산톤, 페놀 및 티안트렌과 같은 여러 유형의 구조에 기반한다.
특히, PAG는 화합물 Ab-Zb (여기서, Ab 및 Zb는 공유 결합되어 있고, Ab는 지방족 및 방향족 술폰산으로부터 선택된 강산에서 유래되고, Zb는 광분해적으로 제거가능한 기임)로부터 선택된다. 보다 특히, PAG는 옥심 술포네이트, 특히 하기 화학식 PAG.1의 옥심 술포네이트이다:
Figure pct00032
(식 중,
각각의 R20은 C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, C1-C6-알킬티오, C1-C6-알킬술피닐, C1-C6-알킬술포닐, C1-C6-알킬카르보닐 및 C1-C6-알콕시카르보닐로부터 독립적으로 선택되고;
R21은 C1-C12-알킬, C3-C6-시클로알킬 및 페닐로부터 선택되며, 여기서 페닐은 C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, C1-C6-알킬티오, C1-C6-알킬술피닐, C1-C6-알킬술포닐, C1-C6-알킬카르보닐 및 C1-C6-알콕시카르보닐로부터 선택된 1, 2 또는 3개의 치환기를 가질 수 있고;
t는 0, 1, 2, 3, 4 또는 5임).
구체적인 실시양태에서 R20은 C1-C6-알킬, 구체적으로 메틸이다. 구체적인 실시양태에서 t는 1이고, R20은 -C(CN)= 기에 대해 오르토에 결합된다. 구체적인 실시양태에서 R21은 C3-C8-알킬 또는 페닐이며, 상기 페닐은 1개의 메틸 치환기를 가질 수 있다. 보다 구체적인 실시양태에서 t는 1이고, R20은 -C(CN)= 기에 대해 오르토에 결합된 메틸이고, R21은 C3-C8-알킬 또는 페닐이며, 상기 페닐은 술포닐 기에 대한 파라 위치에 1개의 메틸 치환기를 갖는다.
상기 PAG는 UV B 및/또는 UV A 방사선으로 활성이 된다.
또 다른 특정 실시양태에서 PAG는 아실포스핀 옥시드로부터 선택된다. 아실포스핀 옥시드는 C(O) 기가 P(O) 기에 이웃하여 결합된 것을 특징으로 한다. 일반적으로, 아실포스핀 옥시드는 조사 시 자유 라디칼을 방출하는 "전통적인" 광개시제로서 간주된다. 그러나, 본 발명자들은 아실포스핀 옥시드가 또한 STP를 경화시키는 것을 관찰하였는데, 이는 STP가 라디칼 경화될 수 없기 때문에 자유 라디칼의 방출로 설명될 수 없다. 이론에 얽매이고자 하는 의도는 없지만, 아실포스핀 옥시드가 활성화 시 (또한) 차인산을 방출하여 PAG로서 작용하는 것으로 생각된다. 따라서, 본 발명과 관련해서, 그것들은 PAG로서 판정된다.
바람직한 아실포스핀 옥시드는 화학식 PAG.2의 화합물이다:
Figure pct00033
(식 중,
R22는 C1-C10-알킬, C1-C10-알콕시 및 페닐로부터 선택되며, 상기 페닐은 C1-C6-알킬 및 C1-C6-알콕시로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 치환기를 가질 수 있고;
R23은 C1-C10-알킬, C1-C10-알콕시, C(O)R25 및 페닐로부터 선택되며, 상기 페닐은 C1-C6-알킬 및 C1-C6-알콕시로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 치환기를 가질 수 있고;
R24는 C1-C6-알킬 및 C1-C6-알콕시로부터 선택되고;
R25는 C1-C10-알킬, C1-C10-알콕시 및 페닐로부터 선택되며, 상기 페닐은 C1-C6-알킬 및 C1-C6-알콕시로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 치환기를 가질 수 있고;
q는 0, 1, 2, 3, 4 또는 5임).
바람직하게는, R22는, C1-C6-알킬 및 C1-C6-알콕시로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 치환기를 가질 수 있는 페닐이고, 특히 3개의 메틸 치환기, 구체적으로 페닐 고리의 C(O)에의 부착 지점의 1-위치에 대한 2, 4 및 6-위치에 3개의 메틸 치환기를 갖는 페닐이다.
바람직하게는, R23은 C1-C6-알콕시, C(O)R25 및 페닐로부터 선택된다.
바람직하게는, R25는, C1-C6-알킬 및 C1-C6-알콕시로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 치환기를 가질 수 있는 페닐이고, 특히 3개의 메틸 치환기, 구체적으로 페닐 고리의 C(O)에의 부착 지점의 1-위치에 대한 2, 4 및 6-위치에 3개의 메틸 치환기를 갖는 페닐이다.
바람직하게는, q는 0이다.
특히, 아실포스핀옥시드는 화학식 PAG.2.1, PAG.2.2 및 PAG.2.3 중 선택된 화합물이다:
Figure pct00034
상기 아실포스핀 옥시드는 UV C 방사선으로 활성이 된다.
또 다른 특정 실시양태에서 PAG는 이온성 광산 발생기로부터 선택된다. 이온성 광산 발생기는 예를 들어 오늄 염, 예컨대 할로늄, 구체적으로 아이오도늄; 술포늄, 술폭소늄, 셀레늄, 암모늄, 포스포늄 또는 아르소늄 염이다. 그의 상대-음이온은 바람직하게는 비-배위 착물 음이온, 예컨대, 반금속 및 금속의 착물 음이온, 예를 들어 B, P, As, Sb, Sn, Fe, Bi, Al, Ga, In, Ti, Zr, Sc, Cr, Hf 또는 Cu의 착물 음이온; 및 또한 안정화된 탄소 음이온이다.
이러한 이온성 PAG는 공지되어 있으며, 예를 들어 US 6,280,911 및 그 안에 언급된 문헌에 기재되어 있다.
바람직하게는 이온성 PAG는 아이오도늄 및 술포늄 염으로부터 선택된다. 아이오도늄 또는 술포늄 중심 원자는 바람직하게는 적어도 1개의 방향족 고리로 치환되고, 아이오딘 원자는 바람직하게는 2개의 방향족 고리로 치환되고, 황 원자는 바람직하게는 3개의 방향족 고리로 치환된다. 방향족 고리는 또한 예를 들어 1개 이상의 C1-C10-알킬, C1-C10-알콕시, C1-C10-티오알킬, C1-C4-알킬카르보닐, C1-C10-알콕시카르보닐, 아릴, 아릴옥시 또는 아릴티오 기로 치환될 수 있으며, 여기서 마지막 언급된 3개의 치환기 내의 아릴 기는 또한, C1-C10-알킬, C1-C10-알콕시, C1-C10-티오알킬, C1-C4-알킬카르보닐 및 C1-C10-알콕시카르보닐로부터 선택된 1개 이상의 치환기를 가질 수 있다.
상대-음이온은 바람직하게는 BF4 -, PF6 -, SbF6 -, B(C6H6)4 -, B(C6F5)4 - 및 C(S(O)2CF3)3 -로부터 선택된다.
이온성 PAG에 대한 구체적인 예는 화학식 PAG.3.1 및 PAG.3.2의 염이다:
Figure pct00035
(식 중, X-는 PF6 -, B(C6F5)4 - 및 C(S(O)2CF3)3 -로부터 선택됨).
금속계 광개시제는, 적어도 1개의 광분해적으로 제거가능한 리간드를 함유하는 주기율표의 제3 또는 제4 주족(main-group)의 전이 금속 또는 금속의 착물이다. 바람직한 실시양태에서, 그것들은 적어도 1개의 광분해적으로 제거가능한 리간드를 함유하는 티타늄 착물로부터 선택된다.
광분해적으로 제거가능한 리간드는 예를 들어 아세틸아세토네이트 및 그의 유도체, 예컨대, C6H5C(O)CH2C(O)C6H5 (dbaH) 및 (CH3)3CC(O)CH2C(O)CC(CH3)3의 음이온; 및 특정 페닐 기이다.
구체적으로 티타늄 착물은 Ti(IV)(acac)2(OiPr)2 및 Ti(0)(페닐)2(2,6-디플루오로-4-피롤-1-일-페닐)2로부터 선택된다.
상기 금속계 광개시제는 UV B 및/또는 UV A 방사선 및/또는 가시광선 범위의 방사선으로 활성이 된다.
광잠재성 개시제 및 그의 제조 방법은 공지되어 있다.
UV C 방사선으로 활성이 되며 광잠재성이 아닌 광개시제
본 발명에 따라 사용하기에 적합한 광개시제는 원칙적으로, UV C 방사선으로 조사될 때 1종 이상의 자유 라디칼을 형성하는 임의의 화합물 및 혼합물이다. 이들은 서로 독립적으로 또는 상승작용적으로 기능하는 복수종의 개시제 및 시스템으로 이루어진 개시제 시스템을 포함한다. 아민, 티올, 보레이트, 에놀레이트, 포스핀, 카르복실레이트 및 이미다졸과 같은 공개시제(co-initiator)에 추가로, 아크리딘, 크산텐, 티아젠, 쿠마린, 티오크산톤, 트리아진 및 염료와 같은 감작제를 사용하는 것이 또한 가능하다. 이러한 화합물 및 개시제 시스템에 대한 설명은 예를 들어 문헌 [Crivello J.V., Dietliker K.K., (1999): Chemistry & Technology of UV & EB Formulation for Coatings, Inks & Paints] 및 [Bradley G. (ed.) Vol. 3: Photo-initiators for Free Radical and Cationic Polymerisation 2nd Edition, John Wiley & Son Ltd.]에서 찾아볼 수 있다. 광개시제는 불포화 기를 갖거나 갖지 않는다. 적합한 광개시제는 예를 들어 하기 부류의 화합물에서 유래된다: 벤조인, 케탈, 예컨대 벤질 케탈, 예컨대 벤질 디메틸 케탈 (2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온); 아세토페논, 할로겐화 아세토페논, 히드록시케톤, 예컨대 α-히드록시케톤 또는 히드록시알킬페논; 아미노알킬-페논, 아실포스핀 옥시드, 아실포스핀 술피드, 아실옥시이미노케톤, 알킬아미노-치환된 케톤, 예컨대 미힐러(Michler) 케톤, 퍼옥시 화합물, 디니트릴 화합물, 페닐글리옥실레이트, 이량체 페닐글리옥살레이트, 벤조페논, 옥심 및 옥심 에스테르, 티오크산톤, 쿠마린, 페로센, 티타노센, 오늄 염, 예컨대 술포늄 염, 아이오도늄 염 또는 디아조늄 염; 보레이트, 트리아진, 비스이미다졸, 폴리-실란 및 염료. 언급된 부류로부터의 화합물들의 조합 또는 공개시제 시스템 및/또는 감작제와의 조합을 사용하는 것이 또한 가능하다.
상기 부류 및 하위부류 중에는, α-히드록시케톤, 페닐글리옥실레이트 및 벤질 케탈이 바람직하다.
특정 α-히드록시케톤은 화학식 PI.1, PI.2 및 PI.3의 화합물이다. 특정 페닐글리옥실레이트는 화학식 PI.4의 화합물이다. 특정 벤질 케탈은 예 PI.5의 화합물이다.
Figure pct00036
구체적으로, 상기 α-히드록시케톤 중 1종이 사용된다. 상기 α-히드록시케톤 PI.1, PI.2 및 PI.3 중에는, PI.3이 구체적으로 사용된다.
바람직하게는, 적어도 1종의 광개시제 (c)는 광잠재성 개시제, 또는 광잠재성 개시제와 UV C 방사선으로 활성이 되는 광개시제의 혼합물이다. 바람직한 광잠재성 개시제, 및 UV C 방사선으로 활성이 되는 광개시제와 관련하여서는 상기 바람직한 실시양태를 참고할 수 있다. 구체적으로, PLB, 특히 상기 바람직한 PLB 중 1종, 또는 PAG, 특히 상기 바람직한 PAG 중 1종이 사용된다.
광잠재성 개시제와 UV C 방사선으로 활성이 되는 광개시제의 혼합물이 사용되는 경우, 광잠재성 개시제 및 UV C로 활성이 되는 광개시제의 중량비는 바람직하게는 1:100 내지 100:1, 보다 바람직하게는 1:50 내지 50:1, 더욱 더 바람직하게는 1:20 내지 20:1, 특히 1:10 내지 10:1의 범위이다.
상기 언급한 바와 같이, 아크릴레이트 화합물 및 STP는 조성물의 요망되는 특성에 따라 임의의 중량비로 사용될 수 있다. 다소 깊게 경화가능한 조성물이 요망되는 경우에는 아크릴레이트 화합물이 지배적이고, 다소 감압 접착제 특성이 우세해야 하는 경우에는 STP가 더 많은 양으로 사용된다. 바람직하게는, 아크릴레이트 화합물 및 STP는 50:1 내지 1:50, 보다 바람직하게는 20:1 내지 1:20, 더욱 더 바람직하게는 10:1 내지 1:10, 특히 10:1 내지 1:1의 중량비로 사용된다.
광개시제 (c) 및 상기 중합체 (a) 또는 더 적은 양으로 사용되는 (b)는 바람직하게는 1:10 내지 1:10000, 보다 바람직하게는 1:20 내지 1:5000, 더욱 더 바람직하게는 1:50 내지 1:1000, 특히 1:100 내지 1:500의 중량비로 사용된다. 중합체 (a) 및 (b)가 동일량으로 사용되는 경우, 상기 비는 물론 그들 중 어느 하나에 적용된다.
중합체 조성물은 아울러, 성분 (a) 내지 (c)와 상이한 1종 이상의 추가의 첨가제 (d)를 함유할 수 있다. 추가의 첨가제 (d)는 바람직하게는 접착제 조성물을 위한 통상적인 첨가제 중에서 선택된다:
(d.1) 산화방지제;
(d.2) 광 안정화제;
(d.3) UV 흡수제;
(d.4) 레올로지 개질제;
(d.5) 건조제;
(d.6) 난연제;
(d.7) 라디칼 스캐빈저;
(d.8) 금속 불활성화제;
(d.9) 오존화방지제;
(d.10) 퍼옥시드 분해제/스캐빈저;
(d.11) 발포제;
(d.12) 대전방지제;
(d.13) 접착 프로모터;
(d.14) 킬레이트;
(d.15) 충전제;
(d.16) 부식 억제제;
(d.17) 안료;
(d.18) 소포제;
(d.19) 상기 기재된 광개시제와 상이한 경화/가교 촉매.
(d.1) 산화방지제는 예를 들어 티오에테르 기-함유 산화방지제, 예컨대 상업적으로 입수가능한 제품 이르가녹스(Irganox)® 1520, 이르가녹스® 1726, 이르가녹스® 1035, 이르가녹스® 565 또는 DSTDP; 인-함유 산화방지제, 예컨대 상업적으로 입수가능한 제품 이르가포스(Irgafos)® 38, 이르가포스® 168, 호스타녹스(Hostanox)® P-EPQ 또는 웨스톤(Weston) ODPP; 또는 입체 장애 페놀성 화합물, 예컨대 상업적으로 입수가능한 제품 이르가녹스® 245, 이르가녹스® 565, 이르가녹스® 1010, 이르가녹스® 1035 (이는 동시에 또한 열 안정화제임), 이르가녹스® 1076, 이르가녹스® 1098, 이르가녹스® 1135, 티누빈(Tinuvin)® 144 (이는 동시에 또한 광 안정화제임) 또는 불카녹스(Vulkanox)® BHT 등이다.
(d.2) 광 안정화제는 일반적으로 HALS 아민 (입체 장애 아민)이다. HALS는 2,2,6,6-테트라알킬 피페리딘, 대체로 2,2,6,6-테트라메틸 피페리딘의 유도체이며, 관련 기술분야에 널리 공지되어 있다. 피페리딘 고리의 2급 질소 원자는 예를 들어 알킬 기로 치환될 수 있으며, 이는 또한 알콕시, 알케닐옥시, 알키닐옥시, 시클로알콕시, 페닐옥시 또는 벤질옥시 기로 치환될 수 있거나, 또는 분자내 5원 또는 6원 고리가 N과 C(=O) 또는 C(=S) 기의 상호작용에 의해 형성될 수 있도록 질소 고리 원자에 대한 γ- 또는 δ-위치에 유연하게 또는 직접 결합된 카르보닐 또는 티오카르보닐 기로 치환될 수 있다. 예는 상업적으로 입수가능한 제품 티누빈® 123, 티누빈® 144 (이는 동시에 또한 산화방지제임), 티누빈® 249, 티누빈® 292, 티누빈® 622, 티누빈® 770, 키마소르브(Chimassorb)® 944 등이다.
(d.3) UV 흡수제는 예를 들어 트리아진, 벤조페논, 시아노아크릴레이트, 포름아미딘, 옥사닐리드 또는 벤조트리아졸 부류이다.
트리아진 부류의 UV 흡수제에서 트리아진 고리는 일반적으로 적어도 1종의 히드록시페닐 고리를 갖는다. 예를 들어, 트리아진 흡수제는 화학식 VII의 화합물이다:
Figure pct00037
식 중,
RA는 수소, 및 1개 이상의 치환기 R17을 가질 수 있는 C1-C12-알킬로부터 선택되고;
RB 및 RC는 서로 독립적으로, 1개 이상의 치환기 R17을 가질 수 있는 C1-C12-알킬; OH; 및 C1-C12-알콕시 (여기서, 알콕시 내의 알킬 모이어티는 1개 이상의 치환기 R17을 가질 수 있음)로부터 선택되고;
각각의 R17은 OH 및 C1-C20-알콕시로부터 독립적으로 선택되고;
q 및 r은 서로 독립적으로 0, 1 또는 2이다.
그에 대한 상업적인 예는 티누빈® 400이다.
벤조페논 부류의 UV 흡수제는 일반적으로 히드록시벤조페논이다. 이들은 예를 들어 2-히드록시벤조페논, 예컨대 2-히드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논, 2,4-디히드록시벤조페논, 2,2',4,4'-테트라히드록시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2-히드록시-4-(2-에틸헥실옥시)벤조페논, 2-히드록시-4-(n-옥틸옥시)벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시-4'-메틸벤조페논, 2-히드록시-3-카르복시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논-5-술폰산 및 그의 나트륨 염, 및 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논-5,5'-비스술폰산 및 그의 나트륨 염을 포함한다.
시아노아크릴레이트 부류의 UV 흡수제는 일반적으로 디페닐시아노아크릴레이트이다. 예를 들면 이들은, 바스프 아게(BASF AG, 독일 루드빅샤펜)로부터 예를 들어 명칭 우비눌(Uvinul)® 3035로 상업적으로 수득가능한 에틸 2-시아노-3,3-디페닐아크릴레이트, 바스프 아게 (독일 루드빅샤펜)로부터 예를 들어 우비눌® 3039로서 상업적으로 수득가능한 2-에틸헥실 2-시아노-3,3-디페닐아크릴레이트, 및 바스프 아게 (독일 루드빅샤펜)로부터 예를 들어 명칭 우비눌® 3030으로 상업적으로 수득가능한 1,3-비스[(2'-시아노-3',3'-디페닐아크릴로일)옥시]-2,2-비스{[2'-시아노-3',3'-디페닐아크릴로일)옥시]메틸}프로판을 포함한다.
옥사닐리드는 예를 들어 4,4'-디옥틸옥시옥사닐리드, 2,2'-디에톡시옥사닐리드, 2,2'-디옥틸옥시-5,5'-디-tert-부톡사닐리드, 2,2'-디도데실옥시-5,5'-디-tert-부톡사닐리드, 2-에톡시-2'-에틸옥사닐리드, N,N'-비스(3-디메틸아미노프로필)옥사미드, 2-에톡시-5-tert-부틸-2'-에톡사닐리드 및 그와 2-에톡시-2'-에틸-5,4'-디-tert-부톡사닐리드의 혼합물, 및 또한 오르토-, 파라-메톡시-이치환된 옥사닐리드의 혼합물 및 오르토- 및 파라-에톡시-이치환된 옥사닐리드의 혼합물이다.
벤조트리아졸은 예를 들어 2-(2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 예컨대 2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-tert-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(5'-tert-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-tert-부틸-2'-히드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-sec-부틸-5'-tert-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-4'-옥틸옥시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-tert-아밀-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-비스(α,α-디메틸벤질)-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카르보닐에틸]-2'-히드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카르보닐에틸]-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-도데실-2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸 및 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-이소옥틸옥시카르보닐에틸)페닐벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-벤조트리아졸-2-일페놀]; 2-[3'-tert-부틸-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)-2'-히드록시페닐]-2H-벤조트리아졸의 폴리에틸렌 글리콜 300에 의한 에스테르화 생성물; [R-CH2CH2-COO(CH2)3]2 (여기서, R = 3'-tert-부틸-4'-히드록시-5'-2H-벤조트리아졸-2-일페닐), 및 그의 혼합물을 포함한다.
상기 UV 흡수제 중에는, 트라진, 특히 상기 화합물 VI이 바람직하고, 벤조트리아졸, 특히 2-(2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 구체적으로 2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸이 더욱 더 바람직하다.
(d.4) 레올로지 개질제는 예를 들어 요변화제, 예컨대 폴리아미드 왁스, 수소화된 피마자 오일 유도체, 금속 비누 (예를 들어, 칼슘, 바륨 또는 알루미늄 스테아레이트), 지방산 아미드 및 팽윤성 중합체, 예컨대 PVC이다.
(d.5) 건조제는 예를 들어 실리카, 제올라이트, 황산칼슘, 황산나트륨 및 다양한 실란, 예컨대 비닐실란 (예를 들어, 비닐트리메톡시실란), 옥심 실란, 벤즈아미도실란, 카르바메이토실란 및 알콕시실란이다.
(d.6) 난연제는 예를 들어 할로겐 함유 화합물, 예컨대 테트라브로모비스페놀 A, 데카브로모디페닐 옥시드, 데카브로모디페닐 에탄, 브로민화 카르보네이트 올리고머, 브로민화 에폭시 올리고머, 및 폴리(브로모스티렌)이다. 추가의 예는, 2, 4, 12, 13, 14 및 15족 (반)금속의 수산화물, 산화물 및 산화물 수화물, 예컨대 마그네슘 산화물 또는 수산화물, 알루미늄 산화물, 알루미늄 삼수화물, 실리카, 주석 산화물, 안티모니 산화물 (III 및 V) 및 산화물 수화물, 티타늄 산화물 및 아연 산화물 또는 산화물 수화물; 질소계 난연제, 예컨대 멜라민 및 우레아 기반 수지 및 멜라민 시아누레이트, 멜라민 포스페이트, 멜라민 폴리포스페이트 및 멜라민 보레이트; 및 인계 난연제, 예컨대 암모늄 폴리포스페이트, 인산 에스테르, 특히 트리아릴포스페이트, 예컨대 트리페닐 포스페이트, 트리벤질 포스페이트, 트리크레실 포스페이트, 트리-(디메틸페닐) 포스페이트, 벤질 디메틸포스페이트, 디-(디메틸페닐) 페닐 포스페이트, 레조르시놀-비스(디페닐 포스페이트), 레조르시놀-비스-[디-(2,6-디메틸페닐)-포스페이트] (PX-200), 알루미늄 디에틸포스피네이트 (엑솔리트(Exolit)® OP 1230) 뿐만 아니라 지방족 포스페이트, 예컨대 트리스(2-클로로이소프로필)포스페이트 (루프라겐(Lupragen)® TCPP), 방향족 폴리포스페이트, 예를 들어, US 2004/0249022에 기재된 화합물들과 같은 비스페놀에서 유래된 폴리포스페이트, 및 포스폰산 에스테르, 예컨대 디메틸-메틸 포스포네이트 및 포스폰산 (2-((히드록시메틸)카르바밀)에틸) 디메틸에스테르, 및 폴리시클릭 인-함유 화합물, 예컨대 9,10-디히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥시드 (DOPO)이다.
(d.7) 라디칼 스캐빈저는 예를 들어 니트록실 화합물, 예컨대 2,2,6,6-테트라메틸피페리디닐옥실 (TEMPO) 및 그의 유도체 또는 히드록실아민, 예컨대 NRR'OH (여기서, R 및 R'은 서로 독립적으로 장쇄 알킬 기, 예를 들어 4 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 알킬 기임); 아릴 아민, 예를 들어, 페닐 고리 중 적어도 1개가 C1-C10-알킬 기를 갖는 디페닐 아민; 또는 퀴논 화합물이다.
(d.8) 금속 불활성화제는 예를 들어 살리실산 유도체, 예컨대 N,N'-디살리실리덴-1,2-프로판디아민, N-살리실랄-N'-살리실로일 히드라진, N,N'-비스(살리실로일)히드라진, 3-살리실로일아미노-1,2,4-트리아졸, N,N'-비스(살리실로일)옥살릴 디히드라지드, 또는 N,N'-비스(살리실로일)티오프로피오닐 디히드라지드; 히드라진 유도체, 예컨대 N,N-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)히드라진, 비스(벤질리덴)옥살릴 디히드라지드, 이소프탈로일 디히드라지드, 세바코일 비스페닐히드라지드, 또는 N,N'-디아세틸아디포일 디히드라지드, 추가로 N,N'-디페닐옥사미드 또는 옥사닐리드, 및 아울러 벤조트리아졸 또는 톨루트리아졸 (바스프의 이르가메트(Irgamet)® 브랜드로 상업화됨)이다.
(d.9) 오존화방지제는, 오존에의 노출에 의해 야기되는 완성품의 열화를 지연시키기 위해 첨가된다. 예는 p-페닐렌디아민, 예컨대 6PPP (N-(1,3-디메틸부틸)-N'-페닐-p-페닐렌디아민) 또는 IPPD (N-이소프로필-N'-페닐-p-페닐렌디아민); 6-에톡시-2,2,4-트리메틸-1,2-디히드로퀴놀린 (ETMQ), 에틸렌 디우레아 (EDU), 니켈 디부틸 디티오카르바메이트 또는 파라핀 왁스, 예컨대 아크로왁스(Akrowax)® 195이다.
(d.10) 퍼옥시드 불활성화제 (분해제/스캐빈저)는 예를 들어 β-티오디프로피온산의 에스테르, 예를 들어 라우릴, 스테아릴, 미리스틸 또는 트리데실 에스테르, 메르캅토벤즈이미다졸, 또는 2-메르캅토벤즈이미다졸의 아연 염, 아연 디부틸디티오카르바메이트, 디옥타데실 디술피드, 및 펜타에리트리톨 테트라키스(β-도데실메르캅토)프로피오네이트이다.
(d.11) 적합한 발포제는, 승온에서 분해되어 기체를 방출하는 화합물인 화학 발포제이다. 예는 염소화 파라핀 왁스, 카르바모일이미노우레아 또는 [(4-메틸페닐)술포닐아미노]우레아이다.
(d.12) 대전방지제는 정전기의 축적을 감소시키거나 또는 제거하기 위해 사용된다. 대전방지제는 자체적으로 전도성임으로써, 또는 공기로부터 수분을 흡수함으로써 표면 또는 재료 자체를 약간 전도성이 되도록 하고; 이에 따라 일부 보습제가 적합하다. 대전방지제의 분자는 종종 친수성 및 소수성 영역 둘 다를 갖는다. 예는 장쇄 지방족 아민 (임의로 에톡시화됨) 및 아미드, 4급 암모늄 염 (예를 들어, 베헨트리모늄 클로라이드 또는 코카미도프로필 베타인), 인산의 에스테르, 폴리에틸렌 글리콜 에스테르, 또는 폴리올; 추가로 카본 블랙, 전도성 섬유, 또는 나노재료; 이온성 액체, 또는 이온성 액체 중의 염의 용액; 아울러 인듐 주석 산화물이다.
(d.13) 접착 프로모터는 표면 상의 접착제 층의 접착 특성 (점착성 또는 고착성)을 개선시키는 물질인 것으로 이해되며; 이러한 화합물은 점착부여제라고도 공지되어 있다. 통상 그것들은 높은 유리 전이 온도를 갖는 저분자량 화합물이다. 실란트 조성물에서 유용한 접착 프로모터에 대한 예는 실란 접착 프로모터, 특히 아미노실란, 예를 들어 3-아미노프로필트리메톡시실란, 및 폴리에틸렌이민, 특별히 10000 이하, 특히 5000 이하의 중량 평균 분자량을 갖는 폴리에틸렌이민이다. 접착성 조성물에서 유용한 접착 프로모터에 대한 예는 수지, 테르펜 올리고머, 쿠마론/인덴 수지, 지방족, 석유화학 수지 및 개질된 페놀성 수지이다. 예를 들어, 테르펜, 주로 α- 또는 β-피넨, 디펜텐 또는 리모넨의 중합에 의해 수득된 바와 같은 탄화수소 수지가 본 발명의 프레임워크 내에서 적합하다. 이들 모노머의 중합은 일반적으로 프리에델-크래프츠(Friedel-Crafts) 촉매에 의해 양이온 개시로 실시된다. 테르펜 수지는 또한, 테르펜과 다른 모노머, 예를 들어 스티렌, α-메틸스티렌, 이소프렌 등의 공중합체를 포함한다. 상기 수지는 예를 들어 코팅 재료 및 감압 접착제를 위한 접착 프로모터로서 사용된다. 테르펜 또는 로진에의 페놀의 산-촉매 부가에 의해 생성된 테르펜-페놀성 수지가 또한 적합하다. 추가로, 로진 및 그의 유도체, 예를 들어 그의 에스테르 또는 알콜이 상기 관점에서 접착 프로모터로서 적합하다. 실란 접착 프로모터, 특히 아미노실란, 예를 들어 3-아미노프로필트리메톡시실란 뿐만 아니라, 폴리에틸렌이민, 특별히 10000 이하, 특히 5000 이하의 중량 평균 분자량을 갖는 폴리에틸렌이민이 또한 적합하다.
(d.14) 킬레이트는 금속을 결합시키는 역할을 하며, 이는 달리 부적절한 시점에 비의도적 방식으로 본 발명의 조성물의 특성에 영향을 미칠 수 있다. 예는 아세틸아세톤 (acac), 에틸렌디아민 (en), 2-(2-아미노에틸아미노)에탄올 (AEEA), 디에틸렌트리아민 (dien), 이미노디아세테이트 (ida), 트리에틸렌테트라아민 (trien, TETA), 트리아미노트리에틸아민 (tren), 니트릴로트리아세테이트 (nta), 비스(살리실리덴)에틸렌디아민 (salen), 에틸렌디아미노트리아세테이트 (ted), 에틸렌디아민테트라아세테이트 (EDTA), 디에틸렌트리아민펜타아세테이트 (DTPA), 1,4,7,10-테트라아자시클로도데칸-1,4,7,10-테트라아세테이트 (DOTA), 옥살레이트 (ox), 타르트레이트 (tart), 시트레이트 (cit), 디메틸글리옥심 (dmg), 8-히드록시퀴놀린 (oxin), 2,2'-바이피리딘 (bpy), 1,10-페난트롤린 (phen), 디메르캅토숙신산 (DMSA) 또는 1,2-비스(디페닐포스피노)에탄 (dppe)이다.
(d.15) 충전제는 예를 들어 무기 충전제, 예컨대 탄산칼슘, 예를 들어 백악 또는 석회 더스트의 형태의 것; 활석, 점토, 모래, 석영, 플린트(flint), 운모, 유리 분말 및 기타 분쇄된 미네랄 물질, 세라믹 미소구체(microsphere), 침강 또는 소성(pyrogenic) 실리카, 제올라이트, 벤토나이트, 고령토, 키젤거(kieselguhr), 금속 산화물, 예컨대 티타늄, 철 또는 아연 산화물; 규소와 알루미늄의 혼합 산화물; 황산바륨, 질화규소, 탄화규소, 질화붕소, 카본 블랙; 또는 유기 충전제, 예컨대 흑연 분말, 목재 가루, 소더스트(sawdust), 분쇄된 호두 껍질 및 기타 세단(chopped) 섬유, 예컨대 셀룰로스 또는 면화 섬유이다.
(d.16) 부식 억제제는 예를 들어 알칼리 금속 또는 (치환된) 암모늄 염 또는 폴리카르복실산, 예컨대, 세바스산 또는 트리스(카르복시알킬아미노)-1,3,5-트리아진의 염; 또는 N-아실사르코신이다. 이들 화합물은 바스프의 이르가코르(Irgacor)® 브랜드로 상업화되어 있다.
(d.17) 안료는 예를 들어 티타늄 이산화물, 철 산화물 또는 카본 블랙이다.
(d.18) 탈포제인 소포제 또는 소포 작용제는 가공 동안 발포를 중지 또는 억제하도록 의도된다. 전형적으로 실리콘, 예컨대 디메틸실리콘이 사용된다.
(d.19) 상기 기재된 광개시제와 상이한 경화/가교 촉매는 예를 들어 주석계 촉매, 예컨대 디부틸주석 디라우레이트 (DBTL), 디부틸주석 디옥토에이트 또는 디부틸주석 디아세틸아세토네이트, 또는 유기아연 화합물이다.
상기 추가의 성분 (d) 중에는 건조제, 특히 비닐 실란, 및 접착 프로모터, 특히 로진 에스테르가 바람직하다.
바람직한 실시양태에서 본 발명의 조성물은 하기 성분을 하기 비로 함유한다:
(a) 적어도 1종의 아크릴레이트 화합물: 1 내지 98 중량%;
(b) 적어도 1종의 실릴-종결된 중합체: 1 내지 98 중량%;
(c) 적어도 1종의 광개시제: 0.0001 내지 9 중량%;
(d) 적어도 1종의 추가의 첨가제: 0 내지 98 중량%.
중량 퍼센트는 조성물의 총 중량을 기준으로 한다. (a) 내지 (d)의 중량은 합계가 100 중량%이다.
(d)는 충전제를 포함하는 경우에만 다량으로 존재한다.
보다 바람직한 실시양태에서 본 발명의 조성물은 하기 성분을 하기 비로 함유한다:
(a) 적어도 1종의 아크릴레이트 화합물: 30 내지 90 중량%;
(b) 적어도 1종의 실릴-종결된 중합체: 5 내지 69.995 중량%;
(c) 적어도 1종의 광개시제: 0.005 내지 5 중량%;
(d) 적어도 1종의 추가의 첨가제: 0 내지 20 중량%.
특정 실시양태에서 본 발명의 조성물은 하기 성분을 하기 비로 함유한다:
(a) 적어도 1종의 아크릴레이트 화합물: 50 내지 90 중량%;
(b) 적어도 1종의 실릴-종결된 중합체: 5 내지 49.95 중량%;
(c) 적어도 1종의 광개시제: 0.05 내지 5 중량%;
(d) 적어도 1종의 추가의 첨가제: 0 내지 10 중량%.
바람직한 실시양태에서, 본 발명의 조성물은 25℃ 및 1013 mbar에서 액체이며, 조성물의 총 중량을 기준으로 5 중량% 이하, 특히 2 중량% 이하의 용매를 함유한다. 이는 조성물을 매우 편리한 방식으로, 예를 들어 심지어 분무 적용에 의해, 가열할 필요 없이 및 용매를 제거할 필요 없이 적용하는 것을 가능케 한다. 추가의 이점은, 조성물이 감열성 기판에 적용될 수 있다는 것이다. 핫 멜트 접착제는 용융물의 온도에서 손상되거나 또는 심지어 파괴되는 감열성 기판에 적용될 수 없다. 아울러, 조성물은 용매, 특히 유기 용매에 민감한 기판에 적용될 수 있다.
본 발명의 견지에서 "25℃ 및 1013 mbar에서 액체"란, 조성물이 100 s-1의 전단 속도로 DIN EN ISO 3219, 부록 B에 따라 CAP 2000+ 점도계 (브룩필드(Brookfield)), 콘 4로 측정 시 25℃ 및 1013 mbar에서 250 Pa·s 이하의 점도를 가짐을 의미한다. 특히, 조성물은 25℃에서 200 Pa·s 이하의 점도, 특히 25℃에서 150 Pa·s 이하의 점도, 보다 특히 25℃에서 100 Pa·s 이하의 점도, 더욱 더 특히 25℃에서 50 Pa·s 이하의 점도, 구체적으로 25℃에서 10 Pa·s 이하의 점도, 매우 구체적으로 25℃에서 1 Pa·s 이하의 점도를 갖는다. 점도는 상기 기재된 방법으로 수득된 바와 같은 값에 관한 것이다.
"용매"는 용질 (화학적으로 상이한 액체, 고체 또는 기체)을 용해시켜 용액을 생성하는 액체 물질이다. 본 발명의 견지에서, 용매는 적절한 관점에서 용질을 용해시키는 화합물 또는 매질로 제한되지 않는다: 이 화합물 또는 매질은 보다 일반적으로 분산 매질일 수 있어, "용액"은 적절한 관점에서 현탁액, 유화액 또는 용액일 수 있음 (즉, 용질의 입자를 육안으로 볼 수 없고 광을 산란시키지 않는, 2종 이상의 물질로 구성된 균질 혼합물). 상기 사용된 바와 같이, 용어 "용매"는, 이들이 액체이고 주로 다른 성분들 중 1종 이상을 위한 용매로서 작용할 수 있더라도 성분 (a) 내지 (c) 중 어느 것도 포함하지 않는다. 상기 사용된 바와 같이, 이 용어는, 용질을 용해시킬 수 있고 성분 (a) 내지 (c)와 상이한 액체 물질만을 포함한다.
또 다른 바람직한 실시양태에서, 본 발명의 조성물은 25℃ 및 1013 mbar에서 핫 멜트 조성물이다. 결과적으로, 조성물은 25℃ 및 1013 mbar에서 고체이다.
본 발명의 견지에서 "25℃ 및 1013 mbar에서 고체"란, 조성물이 100 s-1의 전단 속도로 DIN EN ISO 3219, 부록 B에 따라 CAP 2000+ 점도계 (브룩필드), 콘 4로 측정 시 25℃ 및 1013 mbar에서 250 Pa·s 초과의 점도를 가짐을 의미한다. 특히, 조성물은 EN ISO 3219, 부록 B, 콘 및 플레이트, 전단 속도 100 s-1에 따라 결정 시 130℃에서 적어도 5 Pa·s, 예를 들어 130℃에서 5 내지 100 Pa·s, 보다 특히 130℃에서 적어도 20 Pa·s, 예를 들어 130℃에서 20 내지 70 Pa·s의 점도를 갖는다.
조성물이 액체 또는 고체인지의 여부는 주로 아크릴레이트 화합물에 의해, 보다 정확하게는 대체로 그의 분자량에 의해 결정된다. 100000 초과의 Mw를 갖는 아크릴레이트 화합물을 함유하는 조성물은 다소 고체인 반면, 100000 미만의 Mw를 갖는 아크릴레이트 화합물을 함유하는 조성물은 다소 액체이다.
특정 실시양태에서, 본 발명의 조성물은, 주석에 기반한 경화/가교 촉매 (예를 들어, 통상 존재하는 디부틸주석 디라우레이트 (DBTL) 또는 디부틸주석 디옥토에이트 또는 디부틸주석 디아세틸아세토네이트)를 전혀 함유하지 않고, 보다 특히 금속계 경화/가교 촉매를 전혀 함유하지 않는 것을 특징으로 한다.
조성물은 주로 공지된 방법에 의해, 예컨대 성분들을 동시에 또는 연속적으로 적합한 분산 장치, 예컨대 혼합기, 특히 고속 혼합기, 유성(planetary) 혼합기, 내부 혼합기, 컴파운더, 이축-스크류-압출기 등에서 치밀 혼합함으로써 제조된다.
본 발명은 추가로, 접착제, 실란트, 액체 가스켓, 나이핑 충전제 또는 코팅 조성물 중에서의 또는 그로서의 본 발명에 따른 중합체 조성물의 용도에 관한 것이다.
본 발명은 또한, 본 발명에 따른 중합체 조성물을 포함하는 접착제 조성물, 또는 실란트 조성물, 또는 액체 가스켓 조성물, 또는 나이핑 충전제 조성물 또는 코팅 조성물에 관한 것이다.
본 발명의 접착제 조성물에 대한 일부 적용예는 예를 들어 특수 테이프, 구조용 테이프 또는 예비코팅 물품이다.
본 발명의 조성물은 결합 공정의 초반의 제어가능한 접착력 및 후속적인 강한 접착력 및 응집력의 전개 둘 다를 통합한다. 두 주성분 (a) 및 (b)는 임의의 비로 혼화가능하기 때문에, 접착 특징 (보다 현저한 감압 접착 특성 또는 다소 보다 현저한 강한 응집 특성)이 구체적인 적용예에 있어서 미세 조정될 수 있다. 본 발명의 조성물로 생성된 접착제 층은 500 μm의 두께까지 또는 심지어 1 mm의 두께까지 관통-경화(through-cured)될 수 있다.
이하, 본 발명을 하기 실시예로 예시한다.
<실시예>
사용된 재료:
게니오실® STP-E 35: 와커로부터의 트리메톡시실릴프로필카르바메이트- 종결된 폴리에테르 중합체
게니오실® STP-E 10: 와커로부터의 디메톡시(메틸)실릴메틸카르바메이트 -종결된 폴리에테르 중합체
아크레진® A 204 UV: 중합체의 중량에 대해 약 0.5 중량%의 공중합된 벤 조페논 아크릴레이트 (즉, Rα가 화학식 Rα.1 내에 상기 표시된 바와 같은 벤조페논 기인 화학식 I의 반복 단위이며, 여기서 L은 (CH2)4-O-C(O)-O- 기 (O 는 페닐 고리에 결합됨)이고 m = 0임)를 함유하는 부틸아크릴레이트와 2-에틸헥실아크릴레이트의 공 중합체; Mw = 200000; K 값 (THF 중 1% 용액; DIN ISO 1628-1): 48-52; 점도: 130℃에서 20-55 Pa·s (EN ISO 3219, 부록 B, 콘 및 플레이트, 전단 속도 100 s-1에 따라 결정 시); 바스프
아크레진® A 260 UV: 중합체의 중량에 대해 약 0.5 중량%의 공중합된 벤 조페논 아크릴레이트 (즉, Rα가 화학식 Rα.1 내에 상기 표시된 바와 같은 벤조페논 기인 화학식 I의 반복 단위이며, 여기서 L은 (CH2)4-O-C(O)-O- 기 (O 는 페닐 고리에 결합됨)이고 m = 0임)를 함유하는 부틸아크릴레이트 중합체; Mw = 200000; K 값 (THF 중 1% 용액; DIN ISO 1628-1): 48-52; 점도: 130℃ 에서 30-70 Pa·s (EN ISO 3219, 부록 B, 콘 및 플 레이트, 전단 속도 100 s-1에 따라 결정 시); 바스 프
에프카(Efka)® RM 1920 수소화된 피마자 오일; 바스프 에스이로부터의 레 올로지 개질제 (증점제)
PLB1a 활성화 시 DBN (1,5-디아자바이시클로[4.3.0]논-5- 엔)을 생성하는 화학식 PLB.1 (s = 1, R18 = 파라- 위치에 결합된 메톡시카르보닐, R19 = H)의 광잠재 성 염기
PLB1b 활성화 시 DBN (1,5-디아자바이시클로[4.3.0]논-5- 엔)을 생성하는 화학식 PLB.1 (s = 0, R19 = H)의 광잠재성 염기
이르가큐어® 369 광잠재성 염기; 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르 폴리노페닐)-부탄온-1; 화학식 PLB.6의 화합물; 바 스프
이르가큐어® 121 광잠재성 산 발생기; 화학식 PAG.1의 화합물, 여기 서 t는 1이고, R20 = 페닐 고리의 부착 지점에 대한 오르토-위치에 결합된 메틸, 및 R21 = 4-메틸페닐; 바스프
이르가큐어® 2022 20%의 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥시 드 (화학식 PAG.2의 화합물, 여기서 R22 = 2,4,6-트 리메틸페닐, R23 = -C(O)-트리메틸페닐 및 q = 0)와 80%의 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-1-프로판온 (화학 식 PI.3의 화합물)의 혼합물; 바스프
이르가큐어® 2100 이르가큐어 819 (비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐 포스핀 옥시드)와 독점권이 부여된 다른 광개시제 의 조합에 기반한 라디칼 중합을 개시하기 위한 고 도로 효율적인 액체 경화제
솔리패스트® 0010 Ti(IV)(acac)2(OiPr)2
포랄(Foral)® 85-E 수소화된 로진 에스테르; 점착부여제; 이스트 먼(Eastman)
VTMO 비닐트리메톡시실란; 건조제; 와커
VTMOEO 와커로부터의 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란
<조성물>
조성물은 성분들을 하기 표에 주어진 상대량으로 120℃에서 치밀 혼합하여 제조하였다. 양은 중량부 단위로 주어져 있다.
<시험 방법>
구조 시험은 다음과 같이 수행하였다:
응집, 즉, 기계적 강도 데이터 (전단 강도)는 즈윅 로엘(Zwick Roell)/Z010으로부터의 인장 강도 시험기에 의해 ISO 4587:2003에 따라 결정하였다.
점착은 ASTM D2979-95 (DIN 55405)에 따라 프로브 점착 시험기 (테스팅 머신즈 인크.(Testing Machines Inc.), 기계 80-02-01)를 사용하여 시험하였다. 결과는 그램에서 N/25 mm2으로 전환시켰다.
시험 샘플은 비치(beech) 기판 상에서 제조하였다. 제형은 120℃에서 적용하였고, 시험 단편은 40 x 20 mm2 에 대해 80 N (0.1 N/mm²에 상응함)로 30초 동안 가압하였다.
UV 경화는 유형 M 400 U2L/LA의 2개의 램프 (UV 180-450 nm)로 이세스테 메츠 게엠베하(IST Metz GmbH), 안라겐 게엠베하(Anlagen GmbH)로부터의 UV 터널(Tunnel) (유형 M-40-2x1-TR-CMK-SLC)에서 수행하였다.
드라이-오버(dry-over) 시간은 샌딩된(sanded) 표면에서부터 취하였다. 표면은 샌드가 머물러 있는 경우 여전히 점성이 있는 것으로 간주되었다. 샌드가 고압 공기에 의해 제거될 수 있는 경우, 표면은 점착성이 없는 것으로 간주되었다.
<결과>
표 1: 접착 특성 (점착)
Figure pct00038
표 2: 상이한 UV 노출 후 점착 및 기계적 강도
Figure pct00039
표 3: 상이한 광개시제를 사용하여 80 mJ/cm2로 노출 후 기계적 강도
Figure pct00040
Null: 첨가제 없음
Cmp.: 비교예
Inv.: 본 발명에 따른 실시예
알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 조성물은 명백하게 더 강하고 점성이 더 적은 접착제 필름을 초래한다.
감압 접착제 (PSA) 시험은 다음과 같이 수행하였다:
제2 시리즈로 PSA 시험을 적용하였다: 60 g의 제형을 PET 포일에 코팅하였다 (코팅 두께: 60 g/m2). 이와 같이 처리된 포일에 대해 UV 노출을 수행하였다 (UV 조사량: 30 mJ/cm2). 시험 샘플을 밤새 노화시키고, 14일 동안 경화시켰다. 전단 측정은 FINAT TM 8에 따라 수행하였다 (3.2 g/mm2). 전단 접착 파괴 온도(shear adhesion failure temperature, SAFT)는 PSTC 17 (감압 테이프 협회(Pressure Sensitive Tapes Council))에 따라 결정하였다. 박리 시험은 FINAT TM 1 및 2에 따라 수행하였다.
표 4: 감압 접착
Figure pct00041
표 5: 감압 접착
Figure pct00042
Cmp.: 비교예
Inv.: 본 발명에 따른 실시예
알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 조성물은 명백하게 증가된 응집 값 (전단 값으로 반영됨), 및 명백하게 증가된 전단 접착 파괴 온도를 초래한다.

Claims (25)

  1. (a) 적어도 1종의 아크릴레이트 화합물;
    (b) 적어도 1종의 실릴-종결된 중합체; 및
    (c) 적어도 1종의 광개시제
    를 포함하는 경질화가능한(hardenable) 중합체 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 아크릴레이트 화합물이, 중합체의 주성분으로서 중합된 형태의 아크릴산 에스테르를 함유하는 아크릴레이트 중합체로부터 선택된 것인 중합체 조성물.
  3. 제2항에 있어서, 아크릴레이트 중합체가, 광개시 경향이 있는 관능기를 함유하는 아크릴레이트 중합체; 히드록실 기를 함유하는 아크릴레이트 중합체; 및 그의 혼합물로부터 선택된 것인 중합체 조성물.
  4. 제3항에 있어서, 광개시 경향이 있는 관능기가 케토 기, 포르밀 기, 티오케토 기 및 C-C 삼중 결합으로부터 선택되고; 바람직하게는 케토 기인 중합체 조성물.
  5. 제4항에 있어서, 광개시 경향이 있는 관능기가 벤조페논 기에서 유래된 것인 중합체 조성물.
  6. 제5항에 있어서, 광개시 경향이 있는 관능기를 함유하는 아크릴레이트 중합체가 중합체 1 mol에 대해 적어도 60 mol%의 하기 화학식 I의 반복 단위로 구성되고 임의로 화학식 II, III 및/또는 IV의 반복 단위를 함유하는 것인 중합체 조성물.
    Figure pct00043

    (식 중, 라디칼 Rα는 반복 단위의 일부에서 C1-C10-알킬이고, 반복 단위의 또 다른 부분에서 화학식 Rα.1의 기이고,
    Figure pct00044

    여기서,
    #은 분자의 나머지 부분에의 부착 지점이고;
    L은 결합이거나, 또는 -O-, -O-C(O)-, -C(O)-O-, -O-C(O)-O-, -NH-, -NH-C(O)-, -C(O)-NH-, -NH-C(O)-NH-, -O-C(O)-NH- 및 -NH-C(O)-O-로부터 선택된 연결기를 통해 페닐 고리에 임의로 결합된 C1-C8-알킬렌으로부터 선택된 스페이서(spacer) 기이고;
    Rγ는 OH, C1-C6-알킬 및 C1-C6-알콕시로부터 선택되고;
    m은 0, 1, 2, 3, 4 또는 5임)
    Figure pct00045

    (식 중, Rα는 독립적으로 상기 정의된 바와 같음)
  7. 제6항에 있어서, 광개시 경향이 있는 관능기를 함유하는 아크릴레이트 중합체가 중합체 1 mol에 대해,
    - Rα가 C1-C10-알킬, 바람직하게는 C4-C8-알킬인 화학식 I의 반복 단위 80 내지 99.9 mol%, 바람직하게는 85 내지 99.9 mol%, 특히 90 내지 99.9 mol%;
    - Rα가 화학식 Rα.1의 벤조페논 기인 화학식 I의 반복 단위 0.01 내지 20 mol%, 바람직하게는 0.02 내지 10 mol%, 특히 0.1 내지 1 mol%, 구체적으로 0.1 내지 0.5 mol%, 매우 구체적으로 0.1 내지 0.3 mol%; 및
    - 화학식 III의 반복 단위 0 내지 15 mol%, 바람직하게는 0 내지 10 mol%
    로 구성되며,
    여기서 Rα가 C1-C10-알킬인 화학식 I의 반복 단위, Rα가 벤조페논 기인 화학식 I의 반복 단위, 및 화학식 III의 반복 단위의 mol 퍼센트의 합계는 본질적으로 100 mol%인
    중합체 조성물.
  8. 제3항에 있어서, 히드록실 기를 함유하는 아크릴레이트 중합체가 (공)중합된 형태의 C2-C4-히드록시알킬아크릴레이트를 함유하고, 바람직하게는 히드록실 기를 함유하는 아크릴레이트 중합체가 C2-C4-히드록시알킬아크릴레이트와 C1-C10-알킬아크릴레이트의 공중합체인 중합체 조성물.
  9. 제1항 또는 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 아크릴레이트 화합물이 30000 초과, 특히 50000 초과의 중량 평균 분자량을 갖는 것인 중합체 조성물.
  10. 제1항 또는 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 실릴-종결된 중합체가 화학식 I의 중합체인 중합체 조성물.
    Figure pct00046

    (식 중,
    Po는 베이스 중합체의 2가, 3가 또는 4가 라디칼이고;
    각각의 Y는 결합, -NH-C(=O)-O-, -O-C(=O)-NH-, -C(=O)-NH-L2-NH-C(=O)-NH-, -NH-C(=O)-NH-L2-NH-C(=O)-, -O-C(=O)-, -C(=O)-O-, -NH-C(=O)-S-, -S-C(=O)-NH- 및 -O-로부터 독립적으로 선택되고;
    R' 및 R"은 서로 독립적으로 및 각 경우 독립적으로 C1-C6-알킬로부터 선택되고;
    L1은 C1-C3-알킬렌이고;
    L2는 2가 지방족, 지환족 또는 방향족 라디칼이고;
    각각의 a는 독립적으로 0 또는 1이고;
    b는 2, 3 또는 4임)
  11. 제10항에 있어서, Po가 폴리에테르, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리이민, 폴리우레탄, 폴리(메트)아크릴레이트, 폴리비닐에스테르, 폴리올레핀 및 이들의 혼합 형태로부터 선택된 중합체의 2가, 3가 또는 4가 라디칼인 중합체 조성물.
  12. 제11항에 있어서, Po가 폴리에테르의 2가 라디칼 (즉, b가 2임)이며, 여기서 폴리에테르는 특히 폴리에틸렌 글리콜 또는 폴리프로필렌 글리콜, 구체적으로 폴리프로필렌 글리콜인 중합체 조성물.
  13. 제10항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
    Y가 -NH-C(=O)-O- (여기서, NH는 L1에 결합됨)이고;
    R' 및 R"이 서로 독립적으로 및 각 경우 독립적으로 메틸 및 에틸로부터 선택되고;
    각각의 L1이 독립적으로 -CH2- 또는 C3-알킬렌, 특히 -CH2- 또는 -CH2CH2CH2-인
    중합체 조성물.
  14. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 1종의 광개시제가, UV C 방사선, UV B 방사선, UV A 방사선 및/또는 가시광선 범위의 방사선으로 활성이 되는 광잠재성 개시제; UV C 방사선 (100 내지 280 nm)으로 활성이 되며 광잠재성이 아닌 광개시제; 또는 상기 광잠재성 개시제와 UV C 방사선으로 활성이 되는 상기 광개시제의 혼합물인 중합체 조성물.
  15. 제14항에 있어서, 적어도 1종의 광개시제가 광잠재성 개시제, 또는 광잠재성 개시제와 UV C 방사선으로 활성이 되며 광잠재성이 아닌 광개시제의 혼합물인 중합체 조성물.
  16. 제14항 또는 제15항에 있어서, 광잠재성 개시제가 광잠재성 염기, 광잠재성 산 발생기, 및 광잠재성 금속계 개시제로부터 선택된 것인 중합체 조성물.
  17. 제16항에 있어서,
    - 광잠재성 염기가 화합물 Ba-Za (여기서, Ba 및 Za는 공유 결합되어 있고, Ba는 아미딘, 구아니딘 및 2급 아민으로부터 선택된 강염기에서 유래되고, Za는 광분해적으로 제거가능한 기임)로부터 선택되고;
    - 광잠재성 산 발생기가 화합물 Ab-Zb (여기서, Ab 및 Zb는 공유 결합되어 있고, Ab는 지방족 및 방향족 술폰산으로부터 선택된 강산에서 유래되고, Zb는 광분해적으로 제거가능한 기임); 아실포스핀 옥시드; 및 이온성 광산(photoacid) 발생기로부터 선택되고;
    - 금속계 개시제가 적어도 1개의 광분해적으로 제거가능한 리간드를 함유하는 티타늄 착물로부터 선택된 것인
    조성물.
  18. 제17항에 있어서, 광잠재성 염기가 화학식 PLB.1 내지 PLB.7의 화합물로부터 선택된 것인 조성물.
    Figure pct00047

    (식 중,
    각각의 R18은 C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, C1-C6-알킬티오, C1-C6-알킬술피닐, C1-C6-알킬술포닐, C1-C6-알킬카르보닐 및 C1-C6-알콕시카르보닐로부터 독립적으로 선택되고;
    R19는 수소 및 C1-C4-알킬로부터 선택되고;
    s는 0, 1, 2, 3, 4 또는 5임)
  19. 제17항에 있어서, 광잠재성 염기가 화학식 PLB.1, PLB.2, PLB.4, PLB.5, PLB.6 및 PLB.7, 특히 PLB.1, PLB.2, PLB.6 및 PLB.7, 구체적으로 PLB.1의 화합물의 군으로부터 선택된 것인 조성물.
  20. 제17항에 있어서, 광잠재성 산 발생기가 화학식 PAG.2의 아실포스핀 옥시드인 조성물.
    Figure pct00048

    (식 중,
    R22는 C1-C10-알킬, C1-C10-알콕시 및 페닐로부터 선택되며, 상기 페닐은 C1-C6-알킬 및 C1-C6-알콕시로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 치환기를 가질 수 있고;
    R23은 C1-C10-알킬, C1-C10-알콕시, C(O)R25 및 페닐로부터 선택되며, 상기 페닐은 C1-C6-알킬 및 C1-C6-알콕시로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 치환기를 가질 수 있고;
    R24는 C1-C6-알킬 및 C1-C6-알콕시로부터 선택되고;
    R25는 C1-C10-알킬, C1-C10-알콕시 및 페닐로부터 선택되며, 상기 페닐은 C1-C6-알킬 및 C1-C6-알콕시로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 치환기를 가질 수 있고;
    q는 0, 1, 2, 3, 4 또는 5임)
  21. 제1항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서,
    (a) 적어도 1종의 아크릴레이트 화합물: 1 내지 98 중량%;
    (b) 적어도 1종의 실릴-종결된 중합체: 1 내지 98 중량%;
    (c) 적어도 1종의 광개시제: 0.0001 내지 9 중량%;
    (d) 적어도 1종의 추가의 첨가제: 0 내지 98 중량%
    를 함유하며,
    여기서 아크릴레이트 화합물 및 실릴-종결된 중합체는 50:1 내지 1:50, 보다 바람직하게는 20:1 내지 1:20, 더욱 더 바람직하게는 10:1 내지 1:10, 특히 10:1 내지 1:1의 중량비로 사용되고; 광개시제 (c) 및 상기 중합체 (a) 또는 더 적은 양으로 사용되는 (b)는 1:10 내지 1:10000, 바람직하게는 1:20 내지 1:5000, 보다 바람직하게는 1:50 내지 1:1000, 특히 1:100 내지 1:500의 중량비로 사용되는 것인
    중합체 조성물.
  22. 제1항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서, 25℃ 및 1013 mbar에서 액체이며, 조성물의 총 중량을 기준으로 5 중량% 이하의 용매를 함유하는 중합체 조성물.
  23. 제1항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서, 25℃ 및 1013 mbar에서 핫 멜트(hot melt) 조성물인 중합체 조성물.
  24. 접착제, 실란트, 액체 가스켓(gasket), 나이핑(knifing) 충전제 또는 코팅 조성물 중에서의 또는 그로서의, 제1항 내지 제23항 중 어느 한 항에 따른 중합체 조성물의 용도.
  25. 제1항 내지 제23항 중 어느 한 항에 따른 중합체 조성물을 포함하는, 접착제 조성물, 또는 실란트 조성물, 또는 가스켓 조성물, 또는 나이핑 충전제 조성물 또는 코팅 조성물.
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