KR20190065854A - 이중의 고주파수를 이용한 플라즈마의 시스와 벌크의 확장방법 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 37
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 claims abstract description 26
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 5
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 claims description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 8
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 6
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 5
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010028980 Neoplasm Diseases 0.000 description 2
- 230000023555 blood coagulation Effects 0.000 description 2
- 201000011510 cancer Diseases 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000002560 therapeutic procedure Methods 0.000 description 2
- 206010052428 Wound Diseases 0.000 description 1
- 208000027418 Wounds and injury Diseases 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003796 beauty Effects 0.000 description 1
- 230000005495 cold plasma Effects 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 210000002345 respiratory system Anatomy 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 230000029663 wound healing Effects 0.000 description 1
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32192—Microwave generated discharge
- H01J37/32201—Generating means
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
- H05H1/461—Microwave discharges
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- H05H2001/4607—
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Abstract
Description
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 이중의 고주파수를 이용한 플라즈마의 시스와 벌크의 확장방법에 의한 마이크로파로 생성된 플라즈마에 제1진폭의 RF 바이어스가 걸린 초기의 상태도이다.
도 3은 일 실시예에 따른 이중의 고주파수를 이용한 플라즈마의 시스와 벌크의 확장방법에 의한 마이크로파로 생성된 플라즈마에 제2진폭(>제1진폭)의 RF 바이어스가 걸린 상태도이다.
도 4는 일 실시예에 따른 이중의 고주파수를 이용한 플라즈마의 시스와 벌크의 확장방법에 의한 마이크로파로 생성된 플라즈마에 제3진폭(최대 진폭)의 RF 바이어스가 걸린 상태도이다.
도 5a 및 도 5b는 일 실시예에 따른 이중의 고주파수를 이용한 플라즈마의 시스와 벌크의 확장방법에 의한 마이크로파로 생성된 플라즈마에 RF 바이어스가 인가되기 전과 인가된 후를 비교한 사진이다.
도 6은 일 실시예에 따른 이중의 고주파수를 이용한 플라즈마의 시스와 벌크의 확장방법에 의한 마이크로파로 생성된 플라즈마에 매우 낮은 RF(25kHz) 바이어스 인가시, 나타나는 아크 형태의 플라즈마 사진이다.
2: 플라즈마
3: 무선주파수 전극
11: 마이크로파 전극
C: 플라즈마 채널
D: 설정 간격
MW: 마이크로파
Claims (8)
- 마이크로파 플라즈마 발생기로 플라즈마를 생성하는 생성단계; 및
상기 마이크로파 플라즈마 발생기와 설정 간격으로 이격 배치되는 무선주파수 전극에 무선주파수(RF)를 바이어스 인가하여 상기 플라즈마의 시스와 벌크를 확장하는 확장단계
를 포함하는 이중의 고주파수를 이용한 플라즈마의 시스와 벌크의 확장방법. - 제1항에 있어서,
상기 생성단계는
상기 마이크로파 플라즈마 발생기의 마이크로파 전극의 외주로 방전가스를 공급하고,
상기 마이크로파 전극에 마이크로파를 인가하여
상기 플라즈마를 생성하는
이중의 고주파수를 이용한 플라즈마의 시스와 벌크의 확장방법. - 제2항에 있어서,
상기 마이크로파는
0.4~11 GHz 영역대를 포함하며 전자의 소스로 사용하는
이중의 고주파수를 이용한 플라즈마의 시스와 벌크의 확장방법. - 제2항에 있어서,
상기 확장단계는
상기 마이크로파 전극과 상기 설정 간격으로 이격된 상기 무선주파수 전극에 무선주파수(RF)를 바이어스 인가하여 상기 플라즈마의 시스와 벌크를 확장하는
이중의 고주파수를 이용한 플라즈마의 시스와 벌크의 확장방법. - 제4항에 있어서,
상기 무선주파수(RF)는
1 kHz~99 MHz 영역대를 사용하는
이중의 고주파수를 이용한 플라즈마의 시스와 벌크의 확장방법. - 제1항에 있어서,
상기 생성단계는 대기압에서 플라즈마를 생성하고,
상기 확장단계는 대기압에서 플라즈마의 시스와 벌크를 확장하는
이중의 고주파수를 이용한 플라즈마의 시스와 벌크의 확장방법. - 제1항에 있어서,
상기 확장단계는
시스와 벌크가 확장된 플라즈마에서 상기 마이크로파 플라즈마 발생기에 입력된 전력에 비하여, 활성종 생성을 증가시키는
이중의 고주파수를 이용한 플라즈마의 시스와 벌크의 확장방법. - 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
확장된 플라즈마를
플라즈마 토치, 플라즈마 제트, 표면 처리, 및 멸균 처리 중 어느 하나에 적용하는 적용단계
를 더 포함하는 이중의 고주파수를 이용한 플라즈마의 시스와 벌크의 확장방법.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020170165416A KR20190065854A (ko) | 2017-12-04 | 2017-12-04 | 이중의 고주파수를 이용한 플라즈마의 시스와 벌크의 확장방법 |
PCT/KR2018/009898 WO2019112148A1 (ko) | 2017-12-04 | 2018-08-28 | 이중의 고주파수를 이용한 플라즈마의 시스와 벌크의 확장방법 |
US16/770,043 US11330698B2 (en) | 2017-12-04 | 2018-08-28 | Method for expanding sheath and bulk of plasma by using double radio frequency |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020170165416A KR20190065854A (ko) | 2017-12-04 | 2017-12-04 | 이중의 고주파수를 이용한 플라즈마의 시스와 벌크의 확장방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20190065854A true KR20190065854A (ko) | 2019-06-12 |
Family
ID=66751533
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020170165416A KR20190065854A (ko) | 2017-12-04 | 2017-12-04 | 이중의 고주파수를 이용한 플라즈마의 시스와 벌크의 확장방법 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11330698B2 (ko) |
KR (1) | KR20190065854A (ko) |
WO (1) | WO2019112148A1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102216854B1 (ko) * | 2019-09-30 | 2021-02-17 | 포항공과대학교 산학협력단 | 마이크로파 플라즈마를 이용한 아크 방전장치 및 아크 방전방법 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2017
- 2017-12-04 KR KR1020170165416A patent/KR20190065854A/ko active Search and Examination
-
2018
- 2018-08-28 US US16/770,043 patent/US11330698B2/en active Active
- 2018-08-28 WO PCT/KR2018/009898 patent/WO2019112148A1/ko active Application Filing
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2019112148A1 (ko) | 2019-06-13 |
US11330698B2 (en) | 2022-05-10 |
US20200389967A1 (en) | 2020-12-10 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
AMND | Amendment | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
AMND | Amendment | ||
J201 | Request for trial against refusal decision | ||
J301 | Trial decision |
Free format text: TRIAL NUMBER: 2019101003712; TRIAL DECISION FOR APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL REQUESTED 20191108 Effective date: 20200731 |
|
J2X1 | Appeal (before the patent court) |
Free format text: TRIAL NUMBER: 2020201005931; APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL |
|
J303 | Written judgement (supreme court) |
Free format text: TRIAL NUMBER: 2021301010787; JUDGMENT (SUPREME COURT) FOR APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL REQUESTED 20210811 Effective date: 20230518 |
|
J303 | Written judgement (supreme court) |
Free format text: TRIAL NUMBER: 2021301010787; JUDGMENT (SUPREME COURT) FOR APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL REQUESTED 20210811 Effective date: 20230518 |
|
J301 | Trial decision |
Free format text: TRIAL NUMBER: 2024131000007; TRIAL DECISION FOR APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL REQUESTED 20240610 Effective date: 20240621 |