KR20190054354A - Flexible display device - Google Patents

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KR20190054354A
KR20190054354A KR1020170150524A KR20170150524A KR20190054354A KR 20190054354 A KR20190054354 A KR 20190054354A KR 1020170150524 A KR1020170150524 A KR 1020170150524A KR 20170150524 A KR20170150524 A KR 20170150524A KR 20190054354 A KR20190054354 A KR 20190054354A
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Abstract

The present application provides a flexible display device which prevents a stain and a delamination defect of a light emitting layer generated in a display panel. According to the present application, the flexible display device comprises: a first substrate having a transmission region and a light emitting region; a second substrate having a transparent part overlapping with the transmission region and a color filter part overlapping with the light emitting region; a protective layer provided on the second substrate; and a transparent adhesive layer interposed between the first substrate and the protective layer. The protective layer is formed with a different thickness on the transparent part and the color filter part.

Description

플렉서블 디스플레이 장치{FLEXIBLE DISPLAY DEVICE}[0001] FLEXIBLE DISPLAY DEVICE [0002]

본 출원은 플렉서블 디스플레이 장치에 관한 것이다.This application relates to a flexible display device.

플렉서블 디스플레이 장치는 종이처럼 구부리거나 감을 수 있기 때문에 휴대성 및 보관성 등의 장점을 인하여 차세대 디스플레이로서 꾸준한 연구가 진행되고 있다. 예를 들면, 플렉서블 디스플레이 장치는 플라스틱과 같은 플렉서블 기판을 베이스 기판으로 사용하는 액정 디스플레이 장치, 발광 디스플레이 장치, 전기 영동 디스플레이 장치, 마이크로 발광 다이오드 디스플레이 장치, 전자 습윤 디스플레이 장치, 또는 양자점 발광 디스플레이 장치 등이 될 수 있다.Since the flexible display device can bend or roll like paper, it is being studied as a next generation display due to advantages such as portability and storage. For example, the flexible display device may be a liquid crystal display device, a light emitting display device, an electrophoretic display device, a micro light emitting diode display device, an electron wet display device, or a quantum dot light emitting display device using a flexible substrate such as plastic as a base substrate .

최근에는, 플렉서블 디스플레이 장치에 투명부를 마련한 투명 플렉서블 디스플레이 장치에 대한 연구 및 개발이 이루어지고 있다.BACKGROUND ART [0002] Recently, a transparent flexible display device having a transparent portion in a flexible display device has been researched and developed.

플렉서블 디스플레이 장치는 화소 어레이층을 갖는 하부 기판, 컬러필터 어레이층을 갖는 상부 기판, 및 하부 기판과 상부 기판 사이의 투명 접착층을 포함할 수 있다. 여기서 하부 기판 및 상부 기판은 플렉서블 기판을 포함하고, 플렉서블 기판은 글라스 기판과 LLO(Laser Lift off) 공정을 통하여 분리될 수 있다. 이러한 LLO 공정은 글라스 기판에 레이저를 조사하여 글라스 기판을 플렉서블 기판으로부터 분리하는 것으로, 글라스 기판에 조사한 레이저가 플렉서블 디스플레이 장치 내부로 투과하여 디스플레이 패널에 얼룩을 유발하거나 발광층의 박리 불량을 유발할 수 있다.The flexible display device may include a lower substrate having a pixel array layer, an upper substrate having a color filter array layer, and a transparent adhesion layer between the lower substrate and the upper substrate. Here, the lower substrate and the upper substrate include a flexible substrate, and the flexible substrate can be separated from the glass substrate through an LLO (Laser Lift off) process. In this LLO process, the glass substrate is separated from the flexible substrate by irradiating a laser beam onto the glass substrate, so that the laser irradiated on the glass substrate may penetrate into the flexible display device to cause unevenness on the display panel or to cause separation failure of the light emitting layer.

이상 설명한 배경기술의 내용은 본 출원의 발명자가 본 출원의 도출을 위해 보유하고 있었거나, 본 출원의 도출 과정에서 습득한 기술 정보로서, 반드시 본 출원의 출원 전에 일반 공중에게 공개된 공지기술이라 할 수는 없다.The contents of the background art described above are technical information acquired by the inventor of the present application for the purpose of deriving the present application or acquired in the process of deriving the present application, There is no number.

본 출원은 디스플레이 패널에 발생하는 얼룩 및 발광층의 박리 불량을 방지하는 플렉서블 디스플레이 장치를 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a flexible display device that prevents unevenness in the display panel and poor separation of the light emitting layer.

본 출원에 따른 플렉서블 디스플레이 장치는 투과 영역 및 발광 영역을 갖는 제 1 기판, 투과 영역과 중첩되는 투명부와 발광 영역과 중첩되는 컬러필터부를 갖는 제 2 기판, 제 2 기판 상에 마련된 보호층, 제 1 기판과 보호층 사이에 개재된 투명 접착층을 포함하며, 보호층은 투명부와 컬러필터부 상에 서로 다른 두께로 형성된다.A flexible display device according to the present application includes a first substrate having a transmissive region and a light emitting region, a second substrate having a transparent portion overlapped with the transmissive region and a color filter portion overlapping the transmissive region, a protective layer provided on the second substrate, And a transparent adhesive layer interposed between the substrate and the protective layer, wherein the protective layer is formed with different thicknesses on the transparent portion and the color filter portion.

본 출원에 따른 플렉서블 디스플레이 장치는 디스플레이 패널의 얼룩 및 유기 발광층의 박리 문제를 방지할 수 있고, 블랙 매트릭스 패턴의 비정상적인 형성과 유실이 방지될 수 있으며, 이로 인해 생산성이 증가될 수 있다. The flexible display device according to the present application can prevent the display panel from being stained and the organic light emitting layer from being peeled off, and abnormal formation and loss of the black matrix pattern can be prevented, thereby increasing the productivity.

위에서 언급된 본 출원의 효과 외에도, 본 출원의 다른 특징 및 이점들이 이하에서 기술되거나, 그러한 기술 및 설명으로부터 본 출원이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.In addition to the effects of the present application discussed above, other features and advantages of the present application will be set forth below, or may be apparent to those skilled in the art to which the present application belongs from such description and description.

도 1은 본 출원의 일 예에 따른 플렉서블 디스플레이 장치를 설명하기 위한 단면도이다.
도 2는 본 출원의 일 예에 따른 하부 기판을 설명하기 위한 단면도이다.
도 3a는 본 출원의 일 예에 따른 플렉서블 디스플레이 장치의 LLO 공정 전의 단면도이다.
도 3b는 본 출원의 일 예에 따른 플렉서블 디스플레이 장치의 LLO 공정 후의 단면도이다.
도 4는 본 출원의 일 예에 따른 상부 기판을 설명하기 위한 평면도이다.
도 5는 도 4의 I-I'에 따른 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a flexible display device according to an example of the present application.
2 is a cross-sectional view illustrating a lower substrate according to an example of the present application.
3A is a cross-sectional view of a flexible display device according to an example of the present application before an LLO process.
3B is a cross-sectional view of the flexible display device according to an example of the present application after the LLO process.
4 is a plan view for explaining an upper substrate according to an example of the present application.
5 is a cross-sectional view taken along line I-I 'of FIG.

본 출원의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 일 예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 출원은 이하에서 개시되는 일 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 출원의 일 예들은 본 출원의 개시가 완전하도록 하며, 본 출원이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 출원은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Brief Description of the Drawings The advantages and features of the present application, and how to accomplish them, will become apparent with reference to the embodiments described in detail below with reference to the accompanying drawings. It should be understood, however, that this application is not limited to the examples disclosed herein, but may be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the specific embodiments set forth herein, To fully disclose the scope of the invention to those skilled in the art, and this application is only defined by the scope of the claims.

본 출원의 일 예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 출원이 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 출원을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 출원의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. The shapes, sizes, ratios, angles, numbers, and the like described in the drawings for describing an example of the present application are illustrative, and thus the present application is not limited thereto. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification. In the description of the present application, a detailed description of known related arts will be omitted if it is determined that the gist of the present application may be unnecessarily obscured.

본 명세서에서 언급된 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다. Where the terms "comprises," "having," "consisting of," and the like are used in this specification, other portions may be added as long as "only" is not used. Unless the context clearly dictates otherwise, including the plural unless the context clearly dictates otherwise.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.In interpreting the constituent elements, it is construed to include the error range even if there is no separate description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.In the case of a description of the positional relationship, for example, if the positional relationship between two parts is described as 'on', 'on top', 'under', and 'next to' Or " direct " is not used, one or more other portions may be located between the two portions.

시간 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~후에', '~에 이어서', '~다음에', '~전에' 등으로 시간적 선후 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우도 포함할 수 있다.In the case of a description of a temporal relationship, for example, if the temporal relationship is described by 'after', 'after', 'after', 'before', etc., May not be continuous unless they are not used.

제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 출원의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.The first, second, etc. are used to describe various components, but these components are not limited by these terms. These terms are used only to distinguish one component from another. Accordingly, the first component mentioned below may be the second component within the scope of the present application.

"제1 수평 축 방향", "제2 수평 축 방향" 및 "수직 축 방향"은 서로 간의 관계가 수직으로 이루어진 기하학적인 관계만으로 해석되어서는 아니 되며, 본 출원의 구성이 기능적으로 작용할 수 있는 범위 내에서보다 넓은 방향성을 가지는 것을 의미할 수 있다. The terms " first horizontal axis direction ", " second horizontal axis direction ", and " vertical axis direction " should not be interpreted solely by the geometric relationship in which the relationship between them is vertical, It may mean having a wider directionality in the inside.

"적어도 하나"의 용어는 하나 이상의 관련 항목으로부터 제시 가능한 모든 조합을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, "제 1 항목, 제 2 항목 및 제 3 항목 중에서 적어도 하나"의 의미는 제 1 항목, 제 2 항목 또는 제 3 항목 각각 뿐만 아니라 제 1 항목, 제 2 항목 및 제 3 항목 중에서 2개 이상으로부터 제시될 수 있는 모든 항목의 조합을 의미할 수 있다. It should be understood that the term " at least one " includes all possible combinations from one or more related items. For example, the meaning of " at least one of the first item, the second item and the third item " means not only the first item, the second item or the third item, but also the second item and the second item among the first item, May refer to any combination of items that may be presented from more than one.

본 출원의 여러 예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시할 수도 있다.Each of the features of the various embodiments of the present application may be combined or combined with each other partially or entirely, technically various interlocking and driving are possible, and the examples may be independently performed with respect to each other, .

이하에서는 본 출원에 따른 플렉서블 디스플레이 장치의 바람직한 예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가질 수 있다. Hereinafter, a preferred example of the flexible display device according to the present application will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the drawings, like reference numerals are used to denote like elements throughout the drawings, even if they are shown on different drawings.

도 1은 본 출원의 일 예에 따른 플렉서블 디스플레이 장치를 설명하기 위한 단면도이고, 도 2는 본 출원의 일 예에 따른 하부 기판을 설명하기 위한 단면도로 도 1에 도시된 화소 어레이층의 구체적인 구조를 도시한 것이다.FIG. 1 is a cross-sectional view for explaining a flexible display device according to one example of the present application, FIG. 2 is a sectional view for explaining a lower substrate according to one example of the present application, and shows a specific structure of the pixel array layer shown in FIG. Respectively.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 예에 따른 플렉서블 디스플레이 장치는 하부 기판(100), 상부 기판(200), 및 투명 접착층(300)을 포함한다.Referring to FIGS. 1 and 2, the flexible display device according to the present embodiment includes a lower substrate 100, an upper substrate 200, and a transparent adhesive layer 300.

상기 하부 기판(100)은 박막 트랜지스터 어레이 기판으로 정의될 수 있다. 일 예에 따른 하부 기판(100)은 제 1 플렉서블 기판(110), 제 1 버퍼층(120), 및 화소 어레이층(130)을 포함한다.The lower substrate 100 may be defined as a thin film transistor array substrate. The lower substrate 100 according to an exemplary embodiment includes a first flexible substrate 110, a first buffer layer 120, and a pixel array layer 130.

상기 제 1 플렉서블 기판(110)은 구부리거나 휠 수 있는 투명 플렉서블 재질로 이루어진다. 일 예에 따른 제 1 플렉서블 기판(110)은 투명 폴리이미드(polyimide) 재질을 포함할 수 있으나, 이에 한정되지 않고 폴리에틸렌 테레프탈레이드(polyethylene terephthalate) 등의 투명 플라스틱 재질로 이루어질 수 있다. 일 예로서, 투명 폴리이미드 재질의 제 1 플렉서블 기판(11)은 캐리어 유리 기판에 마련되어 있는 릴리즈층의 전면(前面)에 일정 두께로 코팅된 폴리이미드 수지가 경화된 것일 수 있다. 캐리어 유리 기판은 LLO 공정을 이용한 릴리즈층의 릴리즈에 의해 제 1 플렉서블 기판(110)으로부터 분리된다.The first flexible substrate 110 is made of a transparent flexible material capable of bending or rolling. The first flexible substrate 110 according to an exemplary embodiment may include a transparent polyimide material, but is not limited thereto. The first flexible substrate 110 may be made of a transparent plastic material such as polyethylene terephthalate. For example, the first flexible substrate 11 made of transparent polyimide may be a polyimide resin coated with a predetermined thickness on the front surface of a release layer provided on a carrier glass substrate. The carrier glass substrate is separated from the first flexible substrate 110 by the release of the release layer using the LLO process.

상기 제 1 플렉서블 기판(110)은 표시 영역, 및 표시 영역을 둘러싸는 비표시 영역을 포함한다. 상기 비표시 영역은 제 1 플렉서블 기판(110)의 가장자리 부분에 마련된다.The first flexible substrate 110 includes a display region and a non-display region surrounding the display region. The non-display area is provided at an edge portion of the first flexible substrate 110.

이러한 제 1 플렉서블 기판(110)의 표시 영역은 발광 영역(EA) 및 투과 영역(TA)을 포함한다.The display region of the first flexible substrate 110 includes a light emitting region EA and a transmissive region TA.

상기 발광 영역(EA)은 빛을 발광하는 영역으로 화상을 표시한다. 이러한 발광 영역(EA)에는 제 2 방향(Y)을 따라 인접하게 배치된 복수의 화소들이 마련될 수 있다. 예를 들면, 복수의 화소들은 제 1 내지 제 4 화소일 수 있다. 여기서, 제 1 화소는 적색 화소로 정의될 수 있고, 제 2 화소는 영역은 백색 화소로 정의될 있고, 제 3 화소는 청색 화소로 정의될 수 있으며, 제 4 화소는 녹색 화소로 정의될 수 있다.The light emitting area EA displays an image as a light emitting area. A plurality of pixels arranged adjacently along the second direction Y may be provided in the light emitting area EA. For example, the plurality of pixels may be the first to fourth pixels. Here, the first pixel may be defined as a red pixel, the second pixel may be defined as a white pixel, the third pixel may be defined as a blue pixel, and the fourth pixel may be defined as a green pixel .

상기 투과 영역(TA)은 입사되는 빛을 그대로 통과시키는 영역이다. 이때, 투과 영역(TA)의 크기는 발광 영역(EA)과 동일한 크기로 설정될 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않고, 본 출원에 따른 플렉서블 디스플레이 장치에 설정되는 투명도에 따라 변경될 수 있다.The transmissive area TA is an area through which the incident light passes. At this time, the size of the transmissive area TA may be set to be the same as the size of the light emitting area EA, but it is not necessarily limited thereto, and may be changed according to the transparency set in the flexible display device according to the present application.

본 출원에 따른 플렉서블 디스플레이 장치는 발광 영역(EA)과 투과 영역(TA)를 포함하는 투명 플렉서블 디스플레이 장치에 해당하므로, 투과 영역(TA)들로 인해 디스플레이 패널의 배면에 위치한 사물 또는 배경을 볼 수 있고, 발광 영역(EA)들로 인해 화상을 표시할 수 있다.Since the flexible display device according to the present application corresponds to a transparent flexible display device including a light emitting area EA and a transmissive area TA, it is possible to display an object or a background located on the back surface of the display panel due to the transmission areas TA And the image can be displayed due to the light emitting regions EA.

상기 제 1 버퍼층(120)은 제 1 플렉서블 기판(110)을 통해 화소 어레이층(130)으로 침투하는 수분을 차단하기 위하여, 제 1 플렉서블 기판(110)의 전면 전체에 형성된다. 일 예에 따른 제 1 버퍼층(120)은 무기 물질로 이루어진 적어도 하나의 무기층을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 1 버퍼층(120)은 실리콘 산화막(SiOx), 실리콘 질화막(SiNx), 실리콘 산질화막(SiON), 티타늄 산화막(TiOx), 및 알루미늄 산화막(AlOx) 중 어느 하나의 무기 물질을 포함할 수 있다.The first buffer layer 120 is formed on the entire front surface of the first flexible substrate 110 to block moisture penetrating the pixel array layer 130 through the first flexible substrate 110. The first buffer layer 120 according to an exemplary embodiment may include at least one inorganic layer made of an inorganic material. For example, the first buffer layer 120 may include any one of a silicon oxide film (SiO x), a silicon nitride film (SiN x), a silicon oxynitride film (SiON), a titanium oxide film (TiO x), and an aluminum oxide film can do.

상기 화소 어레이층(130)은 제 1 버퍼층(120) 상에 마련된다. 일 예에 따른 화소 어레이층(130)은 게이트 라인들, 데이터 라인들, 구동 전원 라인들, 박막 트랜지스터(T), 뱅크(134), 유기 발광층(135)을 포함할 수 있다.The pixel array layer 130 is provided on the first buffer layer 120. The pixel array layer 130 according to an exemplary embodiment may include gate lines, data lines, driving power lines, a thin film transistor T, a bank 134, and an organic light emitting layer 135.

상기 게이트 라인들은 제 1 버퍼층(120) 상에 마련되고, 제 1 방향(X)과 나란하면서 제 2 방향(Y)을 따라 서로 이격될 수 있다. 이러한 게이트 라인들은 제 2 절연층(132)에 의해 덮인다.The gate lines may be provided on the first buffer layer 120 and may be spaced apart from each other along the second direction Y parallel to the first direction X. [ These gate lines are covered by the second insulating layer 132.

상기 데이터 라인들은 제 2 절연층(132) 상에 마련되고, 제 2 방향(Y)과 나란하면서 제 1 방향(X)을 따라 서로 이격될 수 있다.The data lines may be provided on the second insulating layer 132 and may be spaced apart from each other along the first direction X parallel to the second direction Y. [

상기 구동 전원 라인들은 데이터 라인들과 나란하도록 제 2 절연층(132) 상에 마련될 수 있다.The driving power supply lines may be provided on the second insulating layer 132 so as to be parallel with the data lines.

상기 박막 트랜지스터(T)는 제 1 버퍼층(120) 상에 마련된다. 구체적으로, 박막 트랜지스터(T)는 발광 영역(EA)과 중첩되는 제 1 버퍼층(120) 상의 영역에 형성된다. 박막 트랜지스터(T)는 제 1 버퍼층(120)상에 마련된 액티브층(ACT), 액티브층(ACT)상에 마련된 제 1 절연층(131), 제 1 절연층(131)상에 마련된 게이트 전극(GE), 게이트 전극(GE)상에 마련된 제 2 절연층(132), 제 2 절연층(132)상에 마련되고 액티브층(ACT)에 접속되는 소스 전극(SE)과 드레인 전극(DE)을 포함한다. 도 2에서는 트랜지스터(T)가 탑 게이트 방식으로 형성된 것을 예시하였으나, 이에 한정되지 않으며, 게이트 전극(GE)이 액티브층(ACT)아래 배치되는 보텀 게이트 방식으로 형성될 수도 있다. 이러한 박막 트랜지스터(T)는 인접한 게이트 라인으로부터 공급되는 게이트 신호, 인접한 구동 전원 라인으로부터 공급되는 구동 전원, 및 데이터 라인으로부터 공급되는 데이터 신호에 따라 유기 발광층(134)을 발광시킨다.The thin film transistor T is provided on the first buffer layer 120. Specifically, the thin film transistor T is formed in a region on the first buffer layer 120 overlapping the light emitting region EA. The thin film transistor T includes an active layer ACT provided on the first buffer layer 120, a first insulating layer 131 provided on the active layer ACT, a gate electrode (not shown) provided on the first insulating layer 131 A second insulating layer 132 provided on the gate electrode GE and a source electrode SE and a drain electrode DE provided on the second insulating layer 132 and connected to the active layer ACT, . In FIG. 2, the transistor T is formed in a top gate manner. However, the present invention is not limited thereto. The bottom gate type in which the gate electrode GE is disposed under the active layer ACT may be formed. The thin film transistor T emits the organic light emitting layer 134 according to a gate signal supplied from an adjacent gate line, a driving power supplied from an adjacent driving power supply line, and a data signal supplied from a data line.

상기 뱅크(134)는 발광 영역(EA)을 정의하는 것으로, 화소 정의막으로 표현될 수도 있다. 뱅크(134)는 제 1 전극(E1)의 가장자리와 제 3 절연층(133) 상에 마련되어 발광 영역(EA)을 정의한다. 일 예로서, 뱅크(134)는 아크릴 수지(acryl resin), 에폭시 수지(epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리 아미드 수지(polyamide resin), 폴리 이미드 수지(polyimide resin), 벤조사이클로부텐(benzocyclobutene) 수지, 및 불소 수지 중 어느 하나의 유기 물질로 이루어질 수 있다. 다른 예로서, 뱅크(134)는 검정색 안료를 포함하는 감광 물질로 이루어질 수 있으며, 이 경우, 뱅크(134)는 차광 패턴의 역할을 할 수 있다.The bank 134 defines the light emitting region EA and may be expressed as a pixel defining layer. The bank 134 is provided on the edge of the first electrode E1 and on the third insulating layer 133 to define the light emitting region EA. For example, the bank 134 may be formed of one or more materials selected from the group consisting of an acryl resin, an epoxy resin, a phenolic resin, a polyamide resin, a polyimide resin, a benzocyclobutene resin, and a fluorine resin. As another example, the bank 134 may be comprised of a photosensitive material comprising a black pigment, in which case the bank 134 may serve as a shielding pattern.

상기 유기 발광층(135)은 박막 트랜지스터(T) 상에 마련된다. 이러한 유기 발광층(135)은 제 1 전극(E1), 발광층(EL), 제 2 전극(E2)을 포함한다.The organic light emitting layer 135 is provided on the thin film transistor T. The organic light emitting layer 135 includes a first electrode E1, a light emitting layer EL, and a second electrode E2.

상기 제 1 전극(E1)은 박막 트랜지스터(T) 상에 마련되는 것으로, 애노드 전극으로 표현될 수도 있다. 제 1 전극(E1)은 제 3 절연층(133)에 마련된 컨택홀을 통해 박막 트랜지스터(T)에 전기적으로 연결된다. 이러한 제 1 전극(E1)은 반사율이 높은 금속 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 1 전극(E1)은 알루미늄(Al)과 티타늄(Ti)의 적층 구조(Ti/Al/Ti), 알루미늄(Al)과 ITO(Indium Tin Oxide)의 적층 구조(ITO/Al/ITO), APC(Ag/Pd/Cu) 합금, 및 APC 합금과 ITO의 적층 구조(ITO/APC/ITO)과 같은 다층 구조로 형성되거나, 은(Ag), 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 금(Au), 마그네슘(Mg), 칼슘(Ca), 또는 바륨(Ba) 중에서 선택된 어느 하나의 물질 또는 2 이상의 합금 물질로 이루어진 단층 구조를 포함할 수 있다.The first electrode E1 is provided on the thin film transistor T and may be expressed as an anode electrode. The first electrode E1 is electrically connected to the thin film transistor T through a contact hole provided in the third insulating layer 133. [ The first electrode E1 may include a metal material having a high reflectivity. For example, the first electrode E1 may include a laminated structure of aluminum (Al) and titanium (Ti), a laminated structure of aluminum (Al) and indium tin oxide (ITO) Layer structure such as ITO, APC (Ag / Pd / Cu) alloy, and APC alloy and ITO laminated structure (ITO / APC / ITO), silver (Ag), aluminum (Al), molybdenum (Mo) (Au), magnesium (Mg), calcium (Ca), or barium (Ba) or a single layer structure composed of two or more alloy materials.

상기 발광층(EL)은 제 1 전극(E1) 상에 마련된다. 일 예에 따른 발광층(EL)은 백색 광을 방출하기 위한 2 이상의 발광부를 포함한다. 예를 들어, 발광층(EL)은 제 1 광과 제 2 광의 혼합에 의해 백색 광을 방출하기 위한 제 1 발광부와 제 2 발광부를 포함할 수 있다. 여기서, 제 1 발광부는 제 1 광을 방출하는 것으로 청색 발광층, 녹색 발광층, 적색 발광층, 황색 발광층, 및 황록색 발광층 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 제 2 발광부는 청색 발광층, 녹색 발광층, 적색 발광층, 황색 발광층, 및 황록색 발광층 중 제 1 광과 보색 관계를 갖는 광을 방출하는 발광층을 포함할 수 있다.The light emitting layer EL is provided on the first electrode E1. The light emitting layer EL according to an example includes two or more light emitting portions for emitting white light. For example, the light emitting layer EL may include a first light emitting portion and a second light emitting portion for emitting white light by mixing the first light and the second light. Here, the first light emitting portion may include any one of a blue light emitting layer, a green light emitting layer, a red light emitting layer, a yellow light emitting layer, and a yellow-green light emitting layer to emit the first light. The second light emitting portion may include a blue light emitting layer, a green light emitting layer, a red light emitting layer, a yellow light emitting layer, and a light emitting layer that emits light having a complementary relationship with the first light among the yellow light emitting layer.

상기 제 2 전극(E2)은 발광층(EL)을 덮도록 형성되는 것으로, 캐소드 전극으로 표현될 수도 있다. 일 예에 따른 제 2 전극(E2)은 발광층(EL)에서 방출되는 광이 상부 기판(200) 쪽으로 투과될 수 있도록 TCO(Transparent Conductive Oxide)와 같은 투명 도전 물질인 ITO(Indium Tin Oxide), 또는 IZO(Indium Zinc Oxide) 등으로 형성된다.The second electrode E2 is formed to cover the light emitting layer EL and may be expressed as a cathode electrode. The second electrode E2 according to an exemplary embodiment may be a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide) such as TCO (Transparent Conductive Oxide) so that light emitted from the light emitting layer EL can be transmitted to the upper substrate 200, IZO (Indium Zinc Oxide) or the like.

여기서 제 1 전극(E1)과 발광층(EL)은 발광 영역(EA)과 중첩되도록 형성되고, 제 2 전극(E2)은 투과 영역(TA) 및 발광 영역(EA) 모두와 중첩되도록 제 1 플렉서블 기판(110) 상의 전면에 마련된다. 제 1 전극(E1)은 반사 재질의 금속으로 형성되고 발광층(EL)은 발광부를 포함하므로, 제 1 전극(E1)과 발광층(EL)이 투과 영역(TA)에 형성되면 투과 영역(TA)에서 광의 투과가 저하될 수 있다. 이와 달리 제 2 전극(E2)은 투명 도전 물질로 형성되므로 투과 영역(TA)을 포함한 제 1 플렉서블 기판(110) 상의 전면에 마련되고 무방하다.The first electrode E1 and the light emitting layer EL are formed so as to overlap with the light emitting region EA and the second electrode E2 overlaps with both the transmissive region TA and the light emitting region EA. (Not shown). Since the first electrode E1 is formed of a reflective metal and the light emitting layer EL includes a light emitting portion, when the first electrode E1 and the light emitting layer EL are formed in the transmissive region TA, The transmission of light may be reduced. The second electrode E2 may be formed on the entire surface of the first flexible substrate 110 including the transmissive region TA because the second electrode E2 is formed of a transparent conductive material.

이와 같은, 화소 어레이층(130)은 박막 트랜지스터(T)로부터 공급되는 데이터 신호에 따라 발광 영역(EA)과 중첩되는 발광층(EL)에서 발광이 이루어짐으로써 발광층(EL)에서 방출되는 광이 제 2 전극(E2)을 통해 상부 기판(200) 쪽으로 방출된다. 이에 따라, 본 예에 따른 플렉서블 디스플레이 장치는 상부 발광 구조를 갖는다.The pixel array layer 130 emits light in the light emitting layer EL overlapping the light emitting region EA in accordance with the data signal supplied from the thin film transistor T so that light emitted from the light emitting layer EL is emitted to the second And is discharged toward the upper substrate 200 through the electrode E2. Accordingly, the flexible display device according to this example has an upper light emitting structure.

본 예에 따른 하부 기판(100)은 격벽(140)을 더 포함할 수 있다.The lower substrate 100 according to the present example may further include barrier ribs 140.

상기 격벽(140)은 뱅크(134) 상에 마련된다. 이러한 격벽(140)은 발광 영역(EA)과 중첩되는 영역에 마련되는 발광층(EL)을 격리시킬 수 있다. 예를 들어, 격벽(140)은 투명 영역(EA)과 발광 영역(EA)의 경계를 이루는 경계부에 마련될 수 있다. 이에 따라 발광 영역(EA)과 중첩되는 영역에 마련되는 발광층(EL)은 투명 영역(EA)으로부터 격리되어 형성될 수 있다. 일 예로서, 격벽(140)은 아크릴 수지(acryl resin), 에폭시 수지(epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리 아미드 수지(polyamide resin), 폴리 이미드 수지(polyimide resin), 벤조사이클로부텐(benzocyclobutene) 수지, 및 불소 수지 중 어느 하나의 유기 물질로 이루어질 수 있다.The barrier ribs 140 are provided on the banks 134. The barrier rib 140 may isolate the light emitting layer EL provided in the region overlapping with the light emitting region EA. For example, the barrier ribs 140 may be provided at boundaries between the transparent region EA and the light emitting region EA. Accordingly, the light emitting layer EL provided in the region overlapping the light emitting region EA can be formed isolated from the transparent region EA. For example, the barrier ribs 140 may be formed of a material selected from the group consisting of an acryl resin, an epoxy resin, a phenolic resin, a polyamide resin, a polyimide resin, a benzocyclobutene resin, and a fluorine resin.

본 예에 따른 하부 기판(100)은 봉지층(150)을 더 포함할 수 있다.The lower substrate 100 according to the present example may further include an encapsulation layer 150.

상기 봉지층(150)은 픽셀 어레이층(130) 및 격벽(140)을 덮도록 마련된다. 일 예에 따른 봉지층(150)은 발광층(EL)에 산소 또는 수분이 침투되는 것을 방지하는 역할을 한다. 일 예에 따른 봉지층(150)은 실리콘 산화막(SiOx), 실리콘 질화막(SiNx), 실리콘 산질화막(SiON), 티타늄 산화막(TiOx), 및 알루미늄 산화막(AlOx) 중 어느 하나의 무기 물질을 포함할 수 있다.The sealing layer 150 is provided to cover the pixel array layer 130 and the barrier ribs 140. The sealing layer 150 according to one example serves to prevent penetration of oxygen or moisture into the light emitting layer EL. The sealing layer 150 according to an exemplary embodiment may include any one of a silicon oxide film (SiOx), a silicon nitride film (SiNx), a silicon oxynitride film (SiON), a titanium oxide film (TiOx), and an aluminum oxide film .

선택적으로, 봉지층(150)은 적어도 하나의 유기막을 더 포함할 수 있다. 유기막은 이물들(particles)이 봉지층(150)을 뚫고 발광 소자층으로 침투하는 것을 방지하기 위해 충분한 두께로 형성될 수 있다. 일 예에 따른 유기막은 아크릴 수지(acryl resin), 에폭시 수지(epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리 아미드 수지(polyamide resin), 폴리 이미드 수지(polyimide resin), 벤조사이클로부텐(benzocyclobutene) 수지, 및 불소 수지 중 어느 하나의 유기 물질로 이루어질 수 있다.Optionally, the encapsulation layer 150 may further comprise at least one organic film. The organic layer may be formed to a thickness sufficient to prevent particles from penetrating the encapsulation layer 150 and penetrating the light emitting device layer. The organic film according to an exemplary embodiment may include an acrylic resin, an epoxy resin, a phenolic resin, a polyamide resin, a polyimide resin, a benzocyclobutene, A resin, and a fluorine resin.

상기 상부 기판(200)은 컬러필터 어레이 기판으로 정의될 수 있다. 일 예에 따른 상부 기판(200)은 제 2 플렉서블 기판(210), 제 2 버퍼층(220), 보호층(230), 컬러필터 어레이층(240)을 포함한다.The upper substrate 200 may be defined as a color filter array substrate. The upper substrate 200 includes a second flexible substrate 210, a second buffer layer 220, a protective layer 230, and a color filter array layer 240.

상기 제 2 플렉서블 기판(210)은 구부리거나 휠 수 있는 투명 플렉서블 재질로 이루어진다. 일 예에 따른 제 2 플렉서블 기판(210)은 투명 폴리이미드(polyimide) 재질을 포함할 수 있으나, 이에 한정되지 않고 폴리에틸렌 테레프탈레이드(polyethylene terephthalate) 등의 투명 플라스틱 재질로 이루어질 수 있다. 일 예로서, 투명 폴리이미드 재질의 제 2 플렉서블 기판(210)은 캐리어 유리 기판에 마련되어 있는 릴리즈층의 전면(前面)에 일정 두께로 코팅된 폴리이미드 수지가 경화된 것일 수 있다. 캐리어 유리 기판은 LLO 공정을 이용한 릴리즈층의 릴리즈에 의해 제 2 플렉서블 기판(210)으로부터 분리된다.The second flexible substrate 210 is made of a transparent flexible material capable of bending or rolling. The second flexible substrate 210 may include a transparent polyimide material. However, the second flexible substrate 210 may be formed of a transparent plastic material such as polyethylene terephthalate. As an example, the second flexible substrate 210 made of transparent polyimide may be formed by curing a polyimide resin coated on a front surface of a release layer provided on a carrier glass substrate to a predetermined thickness. The carrier glass substrate is separated from the second flexible substrate 210 by the release of the release layer using the LLO process.

이러한 제 2 플렉서블 기판(210)은 컬러필터부(CP) 및 투명부(TP)를 포함한다.The second flexible substrate 210 includes a color filter portion CP and a transparent portion TP.

상기 컬러필터부(CP)는 제 1 플렉서블 기판(110)의 발광 영역(EA)과 중첩되는 영역으로 발광층(EL)에서 방출되는 광이 투과되는 영역으로 볼 수 있다. The color filter unit CP may be viewed as a region where light emitted from the light emitting layer EL is transmitted through a region overlapping the light emitting region EA of the first flexible substrate 110.

상기 투명부(TP)는 제 1 플렉서블 기판(110)의 투과 영역(TA)과 중첩되는 영역으로 입사되는 빛을 그대로 통과시키는 영역이다. The transparent portion TP is an area through which light incident on a region overlapping the transmission region TA of the first flexible substrate 110 is directly passed.

상기 제 2 버퍼층(220)은 제 2 플렉서블 기판(210)의 전면 전체에 형성되어 외부의 수분 또는 습기가 침투하는 것을 방지하는 것으로, 베리어층이라 표현될 수도 있다.The second buffer layer 220 is formed on the entire front surface of the second flexible substrate 210 to prevent external moisture or moisture from penetrating it, and may be expressed as a barrier layer.

일 예에 따른 제 2 버퍼층(220)은 무기 물질로 이루어진 적어도 하나의 무기층을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 2 버퍼층(220)은 실리콘 산화막(SiOx), 실리콘 질화막(SiNx), 실리콘 산질화막(SiON), 티타늄 산화막(TiOx), 및 알루미늄 산화막(AlOx) 중 어느 하나의 무기 물질을 포함할 수 있다.The second buffer layer 220 according to an exemplary embodiment may include at least one inorganic layer made of an inorganic material. For example, the second buffer layer 220 may include any one of a silicon oxide film (SiOx), a silicon nitride film (SiNx), a silicon oxynitride film (SiON), a titanium oxide film (TiOx), and an aluminum oxide film can do.

상기 보호층(230)은 제 2 버퍼층(220) 상에 마련된다. 보호층(230)은 상부 LLO 공정시 자외선 및 열에 의해 디스플레이 패널에 얼룩이 발생하거나 발광층(EL)이 박리되는 불량을 방지하기 위하여 마련된다. 여기서 하부 기판(200)에는 다수의 금속이 형성되어 있어, 하부 LLO 공정은 문제되지 않는다. 일 예에 따른 보호층(230)은 투명한 재질의 산화막으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 보호층(230)은 TiO2, ITO, IZO, ZnO, In2O3, IGO, AZO 중 적어도 하나 이상을 포함할 수 있다.The protective layer 230 is provided on the second buffer layer 220. The protective layer 230 is provided to prevent defects such as unevenness on the display panel due to ultraviolet rays and heat during the upper LLO process or peeling of the light emitting layer EL. Here, since a plurality of metals are formed on the lower substrate 200, the lower LLO process is not a problem. The protective layer 230 according to one example may be formed of an oxide film of a transparent material. For example, the protective layer 230 may include at least one of TiO2, ITO, IZO, ZnO, In2O3, IGO, and AZO.

이와 같이, 투명한 재질의 산화막으로 보호층(230)을 형성하면, 상부 LLO 공정시 보호층(230)이 디스플레이 패널로 조사되는 자외선을 흡수하게 된다. 투명한 재질의 산화막은 낮은 밴드 갭을 가지고 있어서 자외선을 흡수할 수 있다. 따라서 디스플레이 패널의 내부에 자외선이 도달하지 않아 디스플레이 패널에 얼룩이 발생하는 것을 방지할 수 있다. When the protective layer 230 is formed of a transparent oxide material, the protective layer 230 absorbs ultraviolet light irradiated to the display panel during the upper LLO process. The transparent oxide film has a low bandgap and can absorb ultraviolet rays. Therefore, ultraviolet rays do not reach the inside of the display panel, thereby preventing occurrence of unevenness on the display panel.

일 예에 다른 보호층(230)은 광이 진행하는 경로에 형성되고, 상부 기판(200)의 전면에 형성된다. 다만, 일 예에 따른 보호층(230)은 투명한 재질로 형성되므로, 디스플레이 패널 전면의 투과도에 영향을 주지 않는다. 따라서 보호층(230)은 디스플레이 패널의 투과도에 영향을 주지 않으면서 디스플레이 패널의 불량을 방지할 수 있다.In another example, the protective layer 230 is formed on the entire surface of the upper substrate 200. However, since the protective layer 230 is formed of a transparent material, the transparency of the entire display panel is not affected. Therefore, the protective layer 230 can prevent defects of the display panel without affecting the transmittance of the display panel.

상기 보호층(230)은 컬러필터부(CP), 투명부(TP) 각각과 중첩되는 영역에서 서로 다른 두께로 형성된다. 보호층(230)은 컬러필터부(CP)와 중첩되는 영역보다 투명부(TP)와 중첩되는 영역에서 더 얇게 형성될 수 있다. 보호층(230)은 투명한 재질의 산화막으로 열전도 효율이 높은 물질로 형성된다. 따라서 보호층(230)을 얇게 형성하면 열전도 효율이 높은 보호층(230)을 통해 열이 쉽게 외부로 방출될 수 있다.The protective layer 230 is formed to have a different thickness in a region overlapping each of the color filter portion CP and the transparent portion TP. The protective layer 230 may be formed to be thinner in a region overlapping the transparent portion TP than a region overlapping the color filter portion CP. The protective layer 230 is an oxide film of a transparent material and is formed of a material having high heat conduction efficiency. Therefore, when the protective layer 230 is formed thin, heat can be easily released to the outside through the protective layer 230 having high thermal conductivity.

본 출원에 따른 플렉서블 디스플레이 장치는 투명부(TP)와 중첩되는 영역에서 보호층(230)의 두께를 얇게 형성하므로, 상부 LLO 공정시 발생하여 하부 기판(100)으로 향하는 열은 투명부(TP)와 중첩되는 보호층(230)을 통해 배출되기 용이하다. 보호층(230)은 열전도 효율이 높은 물질로 형성되고 전후좌우로 열을 전달하기 용이하므로 보호층(230)의 열은 측면 외곽부를 통하여 외부로 배출될 수 있고, 하부 기판(100)을 통하여 외부로 배출될 수 있다. 이때, 보호층(230)의 두께가 두꺼운 영역에서는 하부 기판(100)으로 향하는 열의 경로가 길고, 보호층(230)의 두께가 얇은 영역에서는 하부 기판(100)으로 향하는 열의 경로가 짧으므로, 하부 기판(100)으로 향하는 열은 투명부(TP)와 중첩되는 보호층(230)을 통하여 전달된다. Since the flexible display device according to the present application forms a thin protective layer 230 in a region overlapping the transparent portion TP, the heat generated in the upper LLO process and directed to the lower substrate 100 is transmitted through the transparent portion TP, It is easy to discharge through the protective layer 230 which overlaps with the protective layer 230. Since the protective layer 230 is formed of a material having a high thermal conductivity and is easy to transfer heat to the front, rear, and left sides, the heat of the protective layer 230 can be discharged to the outside through the side outer frame, . At this time, since the path of the heat toward the lower substrate 100 is long in the region where the thickness of the protective layer 230 is thick and the path of the heat toward the lower substrate 100 is short in the region where the thickness of the protective layer 230 is thin, Heat toward the substrate 100 is transferred through the protective layer 230 which overlaps the transparent portion TP.

여기서 투명부(TP)는 하부 기판(100)의 투과 영역(TA)과 중첩되고, 하부 기판(100)의 투과 영역(TA)에는 발광층(EL) 및 제 2 전극(E2)이 형성되지 않으므로, 투명부(TP)와 중첩되는 보호층(230)을 통해 배출된 열은 발광층(EL)의 박리 문제를 일으키지 않는다. 또한, 발광층(EL)은 격벽(140)을 통해 투과 영역(TA)과 격리되어 있고, 격벽(140)은 투과 영역(TA)에 도달한 열이 발광층(EL)으로 전달되는 것을 차단할 수 있다. 따라서 보호층(230)을 통해 배출된 열은 투과 영역(TA)을 지나 하부 기판(100)의 외부로 배출된다. 이와 같이 본 출원에 따른 플렉서블 디스플레이 장치는 보호층(230) 및 격벽(140)을 통하여 발광층(EL)에 도달하는 열을 차단할 수 있고, 열에 의해 발광층(EL)과 제 2 전극(E2)의 계면 분리가 일어나 공극이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 이처럼 발광층(EL)의 박리를 방지하게 되면 발광층(EL)과 제 2 전극(E2)의 적층 스트레스를 완화시킬 수 있으므로, 플렉서블 디스플레이 장치의 신축성을 높이는데 유리하다.Since the transparent part TP overlaps the transmissive area TA of the lower substrate 100 and the light emitting layer EL and the second electrode E2 are not formed in the transmissive area TA of the lower substrate 100, The heat discharged through the protective layer 230 overlapping the transparent portion TP does not cause the peeling problem of the light emitting layer EL. The light emitting layer EL is isolated from the transmissive area TA through the barrier 140 and the barrier rib 140 can prevent the heat from reaching the transmissive area TA from being transmitted to the light emitting layer EL. Therefore, the heat discharged through the protective layer 230 is discharged to the outside of the lower substrate 100 through the transmission region TA. The flexible display device according to the present application can block the heat reaching the light emitting layer EL through the protective layer 230 and the barrier ribs 140 and can prevent heat from reaching the interface between the light emitting layer EL and the second electrode E2 It is possible to prevent separation from occurring and generation of voids. Preventing the peeling of the light emitting layer (EL) can alleviate the layering stress of the light emitting layer (EL) and the second electrode (E2), which is advantageous for enhancing the stretchability of the flexible display device.

일 예에 따른 보호층(230)은 볼록부 및 오목부를 포함할 수 있다. 상기 볼록부는 컬러필터부와 중첩되는 영역이고, 상기 오목부는 투명부와 중첩되는 영역으다. 이러한 보호층(230)은 볼록부 및 오목부를 포함하는 구조를 통하여, 전술한 바와 같이 발광층(EL)의 박리를 방지할 수 있다.The protective layer 230 according to an example may include a convex portion and a concave portion. The convex portion is a region overlapping the color filter portion, and the concave portion is a region overlapping the transparent portion. Such a protective layer 230 can prevent peeling of the light emitting layer EL as described above through the structure including the convex portion and the concave portion.

상기 컬러필터 어레이층(240)은 볼록부 상에 마련된다. 컬러필터 어레이층(240)은 발광 영역(EA)에서 입사되는 광에서 원하는 색상의 광을 투과시키기 위하여 마련되는 것으로 이에 대한 구체적인 구조에 대하여는 후술하기로 한다.The color filter array layer 240 is provided on the convex portion. The color filter array layer 240 is provided to transmit light of a desired color in the light incident from the light emitting region EA, and a specific structure thereof will be described later.

상기 투명 접착층(300)은 상부 기판(200)과 하부 기판(100) 사이에 개재되어 상부 기판(200)과 하부 기판(100)을 대향 합착시키는 것으로, 충진제로 표현될 수도 있다. 일 예에 따른 투명 접착층(300)은 하부 기판(100)과 상부 기판(200) 사이에 충진될 수 있는 물질로 이루어지며, 광을 투과시킬 수 있는 투명 에폭시(epoxy) 물질로 이루어질 수 있으나 반드시 이에 한정되지 않는다. 이러한 투명 접착층(300)은 잉크젯(inkjet), 슬릿 코팅(slit coating), 또는 스크린 프린팅(screen printing) 등의 공정에 의해 하부 기판(100) 상에 형성될 수 있으나, 이에 한정되지 않고 상부 기판(200)에 형성될 수도 있다.The transparent adhesive layer 300 is interposed between the upper substrate 200 and the lower substrate 100 to adhere the upper substrate 200 and the lower substrate 100 to each other and may be represented by a filler. The transparent adhesive layer 300 may be made of a transparent epoxy material that can be filled between the lower substrate 100 and the upper substrate 200 and may transmit light. It is not limited. The transparent adhesive layer 300 may be formed on the lower substrate 100 by a process such as inkjet, slit coating, or screen printing, 200 as shown in FIG.

상기 투명 접착층(300)은 컬러필터부(CP)에서 컬러필터 어레이층(240)과 접촉되고, 투명부(TP)에서 보호층(230)과 접촉된다. 이때, 보호층(230)은 볼록부와 오목부를 포함하는 요철 구조로 형성되기에, 이와 접촉하는 투명 접착층(300)도 요철 구조로 형성될 수 있다.The transparent adhesive layer 300 is in contact with the color filter array layer 240 in the color filter portion CP and in contact with the protective layer 230 in the transparent portion TP. At this time, since the protective layer 230 is formed by the concavo-convex structure including the convex portion and the concave portion, the transparent bonding layer 300 which is in contact with the convex portion and the concave portion may also be formed in a concavo-convex structure.

추가적으로, 본 예에 따른 플렉서블 디스플레이 장치는 투명 접착층(300)의 외곽부를 둘러싸는 댐을 더 포함할 수 있다. 상기 댐은 상부 기판(200)의 가장자리에 폐루프 형태로 마련됨으로써 투명 접착층(300)의 퍼짐 또는 넘침을 차단하는 역할을 하며, 하부 기판(100)과 상부 기판(200)을 합착시키는 역할도 한다. 이러한 댐은 외부의 수분 및/또는 산소가 합착된 하부 기판(100)과 상부 기판(200) 사이로 침투하는 것을 차단하여 수분 및/또는 산소로부터 발광층(EL)을 보호함으로써 수분 및/또는 산소에 의해 발광층(EL)의 수명 저하를 방지하면서 발광층(EL)의 신뢰성을 증가시킨다.In addition, the flexible display device according to the present example may further include a dam surrounding the outer portion of the transparent adhesive layer 300. [ The dam is provided in the form of a closed loop at the edge of the upper substrate 200 to prevent the transparent adhesive layer 300 from spreading or overflowing and also serves to attach the lower substrate 100 and the upper substrate 200 together . The dam is prevented from penetrating between the lower substrate 100 and the upper substrate 200 to which external moisture and / or oxygen is adhered, thereby protecting the light emitting layer EL from moisture and / or oxygen, The reliability of the light-emitting layer (EL) is increased while preventing the lifetime of the light-emitting layer (EL) from being lowered.

도 3a는 본 출원의 일 예에 따른 플렉서블 디스플레이 장치의 LLO 공정 전의 단면도이고, 도 3b는 본 출원의 일 예에 따른 플렉서블 디스플레이 장치의 LLO 공정 후의 단면도이다. 이하 중복되는 구성에 대한 중복 설명은 생략하기로 한다.FIG. 3A is a cross-sectional view of a flexible display device according to an exemplary embodiment of the present invention before an LLO process, and FIG. 3B is a cross-sectional view of a flexible display device after an LLO process according to an example of the present application. Hereinafter, redundant description of the redundant configuration will be omitted.

도 3a 및 도 3b를 참조하면, LLO 공정 전의 플렉서블 디스플레이 장치는 제 1 지지 기판(400), 제 2 지지 기판(500), 제 1 희생층(410), 제 2 희생층(510)을 포함한다.3A and 3B, the flexible display device before the LLO process includes a first support substrate 400, a second support substrate 500, a first sacrificial layer 410, and a second sacrificial layer 510 .

상기 제 1 지지 기판(400)은 제 1 플렉서블 기판(110)을 지지하기 위한 것으로 유리 기판과 같이 단단한 재질로 형성된 캐리어 기판으로 볼수 있다.The first supporting substrate 400 supports the first flexible substrate 110 and can be seen as a carrier substrate formed of a hard material such as a glass substrate.

상기 제 1 희생층(410)은 제 1 지지 기판(400) 상에 마련된다. 제 1 희생층(410)은 비결정성 실리콘(Amorphous Silicon)으로 이루어질 수 있다.The first sacrificial layer 410 is provided on the first supporting substrate 400. The first sacrificial layer 410 may be made of amorphous silicon.

도 3a 및 도 3b에 도시된 바와 같이, 제 1 지지 기판(400)에 레이저(LASER)를 조사하면 제 1 플렉서블 기판(110)으로부터 제 1 지지 기판(400)이 분리된다. 이때 제 1 지지 기판(400)에 조사된 레이저는 제 1 지지 기판(400)을 통과하여 제 1 희생층(410)에 조사되고, 제 1 희생층(410)은 레이저가 갖는 에너지에 의해 변형되어 제 1 플렉서블 기판(110)으로부터 분리될 수 있다. 예를 들어, 제 1 희생층(410)에 조사된 레이저는 a-Si:H의 반응을 유도하고, 해당 반응에서 발생한 수소(H)에 의해 제 1 희생층(410)과 제 1 플렉서블 기판(110)이 분리됨으로써 이루어질 수 있다.3A and 3B, when the first support substrate 400 is irradiated with a laser beam, the first support substrate 400 is separated from the first flexible substrate 110. As shown in FIG. At this time, the laser beam irradiated on the first supporting substrate 400 is irradiated to the first sacrificing layer 410 through the first supporting substrate 400, and the first sacrificing layer 410 is deformed by the energy of the laser And can be separated from the first flexible substrate 110. For example, the laser irradiated on the first sacrificial layer 410 induces a reaction of a-Si: H, and the hydrogen (H) generated in the reaction causes the first sacrificial layer 410 and the first flexible substrate 110) are separated from each other.

상기 제 2 지지 기판(500), 및 상기 제 2 희생층(510)은 각각 제 1 기판(400), 및 제 1 희생층(410)과 동일한 물질로 형성되고 전술한 바와 같은 방법으로 제 2 플렉서블 기판(210)으로부터 분리될 수 있다.The second support substrate 500 and the second sacrificial layer 510 may be formed of the same material as the first substrate 400 and the first sacrificial layer 410 and may be formed of a second flexible Can be separated from the substrate 210.

이와 같이, 본 출원에 따른 디스플레이 장치는 하부 기판(100)과 상부 기판(200)의 합착 공정 이후에 하부 LLO 공정, 및 상부 LLO 공정을 진행하여 형성될 수 있다. 이때, 하부 LLO 공정시 하부 기판(100)에는 박막 트랜지스터(T), 다수의 배선과 같은 금속 재질의 물질이 형성되어 있으므로, LLO 공정시 발생하는 자외선 및 열이 유기 발광층(EL)에 도달하는 것을 방지할 수 있으므로 디스플레이 패널의 얼룩 및 유기 발광층(EL)의 박리 문제가 발생하지 않는다. 다만, 상부 LLO 공정시 상부 기판(200)에는 금속 재질의 물질이 형성되어 있지 않으므로, LLO 공정시 발생하는 자외선 및 열이 유기 발광층(EL)에 도달하여 디스플레이 패널의 얼룩 및 유기 발광층(EL)의 박리 문제를 일으킬 수도 있다.As described above, the display device according to the present invention can be formed by performing the lower LLO process and the upper LLO process after the process of bonding the lower substrate 100 and the upper substrate 200 together. In this case, since the metal material such as the thin film transistor T and a plurality of wirings is formed on the lower substrate 100 during the lower LLO process, ultraviolet rays and heat generated in the LLO process reach the organic light emitting layer EL It is possible to prevent smearing of the display panel and peeling of the organic light emitting layer (EL). However, since no metallic material is formed on the upper substrate 200 during the upper LLO process, ultraviolet rays and heat generated in the LLO process reach the organic light emitting layer EL, It may cause peeling problem.

그러나, 본 출원에 따른 디스플레이 장치는, 전술한 바와 같이, 상부 기판(200)에 투명한 재질의 산화막으로 이루어지고 볼록부와 오목부를 갖는 보호층(230)을 형성함으로써 디스플레이 패널의 얼룩 및 유기 발광층(EL)의 박리 문제를 방지할 수 있다. However, in the display device according to the present invention, as described above, the protective layer 230 made of an oxide film of a transparent material and having convex portions and concave portions is formed on the upper substrate 200, EL) can be prevented.

도 4는 본 출원의 일 예에 따른 상부 기판을 설명하기 위한 평면도이고, 도 5는 도 4의 I-I'에 따른 단면도이다.4 is a plan view for explaining an upper substrate according to one example of the present application, and FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line I-I 'of FIG.

도 4 및 도 5를 참조하면, 본 예에 따른 상부 기판(200)은 제 2 플렉서블 기판(210), 제 2 버퍼층(220), 보호층(230), 블랙 매트릭스 패턴(241), 복수의 컬러필터를 포함한다. 이하 전술한 내용과의 중복 설명은 생략하기로 한다.4 and 5, the upper substrate 200 according to the present embodiment includes a second flexible substrate 210, a second buffer layer 220, a protective layer 230, a black matrix pattern 241, Filter. Hereinafter, the overlapping description with the above-mentioned contents will be omitted.

상기 블랙 매트릭스 패턴(241)은 보호층(230) 상에 마련되어 복수의 개구부를 정의한다. 이때, 복수의 개구부 중 제 2 방향(Y)을 따라 인접한 4개의 개구부는 하나의 단위 화소를 구성할 수 있다.The black matrix pattern 241 is provided on the passivation layer 230 to define a plurality of openings. At this time, among the plurality of openings, the four openings adjacent to each other along the second direction Y may constitute one unit pixel.

일 예에 따른 블랙 매트릭스 패턴(241)은 크롬(Cr 또는 CrOx) 등의 불투명 금속 물질 또는 수지 물질로 이루어지거나 광 흡수 물질로 이루어질 수 있다.The black matrix pattern 241 according to an exemplary embodiment may be made of an opaque metal material such as chrome (Cr or CrOx), a resin material, or a light absorbing material.

일 예에 따른 블랙 매트릭스 패턴(241)은 직사각 형상, 테이퍼 형상, 또는 역테이퍼 형상을 가질 수 있다. 이러한 블랙 매트릭스 패턴(241)의 형상은 블랙 매트릭스를 형성하는 포토 리소그래피 공정에서의 노광 조건 및 현상 조건에 따른 형상을 가질 수 있다.The black matrix pattern 241 according to an example may have a rectangular shape, a taper shape, or an inverted taper shape. The shape of the black matrix pattern 241 may have a shape corresponding to an exposure condition and a development condition in a photolithography process for forming a black matrix.

이러한 블랙 매트릭스 패턴(241)은 보호층(230)과 직접적으로 접촉되어 마련된다. 보호층(230)은 블랙 매트릭스 패턴(241)과의 접착력이 높은 물질로 형성되므로, 블랙 매트릭스 패턴(241)의 접착력이 증대될 수 있다. 블랙 매트릭스 패턴(241)의 접착력이 증가되면 블랙 매트릭스 패턴(241)의 패터닝시 발생되는 블랙 매트릭스 패턴(241)의 비정상적인 형성과 유실이 방지될 수 있으며, 이로 인해 생산성이 증가될 수 있다.This black matrix pattern 241 is provided in direct contact with the protective layer 230. Since the protective layer 230 is formed of a material having high adhesion to the black matrix pattern 241, the adhesion of the black matrix pattern 241 can be increased. If the adhesion of the black matrix pattern 241 is increased, abnormal formation and loss of the black matrix pattern 241 caused by patterning of the black matrix pattern 241 can be prevented, and productivity can be increased.

상기 복수의 컬러필터는 복수의 개구부 각각에 형성된다. 이때, 복수의 컬러필터는 복수의 개구부 각각과 중첩되는 보호층(230)에 직접적으로 접촉된다.The plurality of color filters are formed in each of the plurality of openings. At this time, the plurality of color filters are directly in contact with the protective layer 230 overlapping each of the plurality of openings.

일 에에 따른 복수의 컬러필터는 제 1 컬러 필터(242), 제 2 컬러 필터(243), 및 제 3 컬러 필터(244)를 포함할 수 있다. 여기서, 제 1 컬러 필터(242)는 적색 컬러 필터, 청색 컬러 필터, 및 녹색 컬러 필터 중 어느 하나의 컬러 필터로 정의될 수 있고, 제 2 컬러 필터(243)는 적색 컬러 필터, 청색 컬러 필터, 및 녹색 컬러 필터 중 제 1 컬러 필터(242)를 제외한 나머지 컬러 필터 중 어느 하나의 컬러 필터로 정의될 수 있으며, 제 3 컬러 필터(244)는 적색 컬러 필터, 청색 컬러 필터, 및 녹색 컬러 필터 중 제 1 및 제 2 컬러 필터(242, 243)를 제외한 나머지 컬러 필터로 정의될 수 있다. 예를 들어, 도 4와 같이, 제 1 컬러 필터(242)는 적색 컬러 필터, 제 2 컬러 필터(243)는 청색 컬러 필터, 제 3 컬러 필터(244)는 녹색 컬러 필터로 각각 정의될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The plurality of color filters depending on the job may include a first color filter 242, a second color filter 243, and a third color filter 244. Here, the first color filter 242 may be defined as any one of a red color filter, a blue color filter, and a green color filter, and the second color filter 243 may be defined as a red color filter, a blue color filter, And a color filter other than the first color filter 242 among the green color filters, and the third color filter 244 may be defined as a red color filter, a blue color filter, and a green color filter And may be defined as other color filters except for the first and second color filters 242 and 243. For example, as shown in FIG. 4, the first color filter 242 may be defined as a red color filter, the second color filter 243 may be defined as a blue color filter, and the third color filter 244 may be defined as a green color filter But is not limited thereto.

제 1 내지 제 3 컬러 필터(242, 243, 244)는 제 1 방향(X)을 따라 반복하여 배치될 수 있다. 즉, 제 1 방향(X)을 따라 정의된 복수의 단위 화소 중, 제 1 개구부에는 제 1 컬러 필터(242)가 형성되고, 제 2 개구부에는 제 2 컬러 필터(243)가 형성되며, 제 3 개구부에는 제 3 컬러 필터(244)가 형성될 수 있다. 이때 컬러필터가 형성되지 않는 제 4 개구부는 백색광을 방출하는 영역으로 볼 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The first to third color filters 242, 243 and 244 may be repeatedly arranged along the first direction X. [ That is, among the plurality of unit pixels defined along the first direction X, the first color filter 242 is formed in the first opening portion, the second color filter 243 is formed in the second opening portion, A third color filter 244 may be formed in the opening. At this time, the fourth opening where the color filter is not formed may be regarded as a region emitting white light, but is not limited thereto.

이와 같은, 본 예에 따른 플렉서블 디스플레이 장치는 상부 기판(200)에 투명한 재질의 산화막으로 이루어지고 볼록부와 오목부를 갖는 보호층(230)을 형성함으로써 디스플레이 패널의 얼룩 및 유기 발광층(EL)의 박리 문제를 방지할 수 있고, 블랙 매트릭스 패턴(241)의 비정상적인 형성과 유실이 방지될 수 있으며, 이로 인해 생산성이 증가될 수 있다. 본 예에 따른 플렉서블 디스플레이 장치는 불량을 개선함에 따라 생산성이 증가될 수 있고, 불량이 감소됨에 따라 양품을 확보하는 것도 가능하다.In the flexible display device according to this embodiment, the protective layer 230 made of an oxide film of a transparent material and having convex portions and concave portions is formed on the upper substrate 200, thereby preventing smearing of the display panel and peeling of the organic light- Problems can be prevented, abnormal formation and loss of the black matrix pattern 241 can be prevented, and productivity can be increased. In the flexible display device according to this example, the productivity can be improved as the defect is improved, and it is also possible to secure the good product as the defect is reduced.

이상에서 설명한 본 출원은 전술한 실시 예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 출원의 기술적 사항을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 출원이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다. 그러므로, 본 출원의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 출원의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. Will be clear to those who have knowledge of. Therefore, the scope of the present application is to be defined by the appended claims, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included within the scope of the present application.

100: 하부 기판 110: 제 1 플렉서블 기판
120: 제 1 버퍼층 130: 화소 어레이층
140: 격벽 150: 봉지층
200: 상부 기판 610: 제 2 희생층
210: 제 2 플렉서블 기판 220: 제 2 버퍼층
230: 보호층 240: 컬러필터 어레이층
300: 투명 접착층 500: 제 1 지지 기판
510: 제 1 희생층 600: 제 2 지지 기판100: lower substrate 110: first flexible substrate
120: first buffer layer 130: pixel array layer
140: barrier rib 150: sealing layer
200: upper substrate 610: second sacrificial layer
210: second flexible substrate 220: second buffer layer
230: protective layer 240: color filter array layer
300: transparent adhesive layer 500: first supporting substrate
510: first sacrificial layer 600: second supporting substrate

Claims (10)

발광 영역 및 투과 영역을 갖는 제 1 플렉서블 기판;
상기 발광 영역과 중첩되는 컬러필터부와 상기 투과 영역과 중첩되는 투명부를 갖는 제 2 플렉서블 기판;
상기 제 2 플렉서블 기판 상에 마련된 보호층; 및
상기 제 1 플렉서블 기판과 상기 보호층 사이에 개재된 투명 접착층을 포함하며,
상기 보호층은 상기 컬러필터부와 상기 투명부 상에 서로 다른 두께로 형성된, 플렉서블 디스플레이 장치. A first flexible substrate having a light emitting region and a transmissive region;
A second flexible substrate having a color filter portion overlapping the light emitting region and a transparent portion overlapping the transmissive region;
A protective layer provided on the second flexible substrate; And
And a transparent adhesive layer interposed between the first flexible substrate and the protective layer,
Wherein the protective layer is formed to have a different thickness on the color filter portion and the transparent portion. 제 1 항에 있어서,
상기 보호층은 상기 컬러필터부와 중첩되는 영역보다 상기 투명부와 중첩되는 영역에서 더 얇게 형성된, 플렉서블 디스플레이 장치.The method according to claim 1,
Wherein the protective layer is thinner in a region overlapping the transparent portion than a region overlapping the color filter portion. 제 1 항에 있어서,
상기 보호층은 투명한 재질의 산화막으로 이루어진, 플렉서블 디스플레이 장치.The method according to claim 1,
Wherein the protective layer is made of a transparent oxide material. 제 1 항에 있어서,
상기 보호층은,
상기 컬러필터부와 중첩되는 볼록부; 및
상기 투명부와 중첩되는 오목부를 포함하는, 플렉서블 디스플레이 장치.The method according to claim 1,
The protective layer may be formed,
A convex portion overlapping the color filter portion; And
And a concave portion overlapping the transparent portion. 제 4 항에 있어서,
상기 볼록부와 상기 투명 접착층 사이에 마련된 컬러필터 어레이층을 더 포함하는, 플렉서블 디스플레이 장치.5. The method of claim 4,
And a color filter array layer provided between the convex portion and the transparent adhesive layer. 제 5 항에 있어서,
상기 컬러필터 어레이층은,
복수의 화소 개구부를 정의하는 블랙 매트릭스 패턴; 및
상기 블랙 매트릭스 패턴 사이에 마련된 복수의 컬러필터를 포함하는, 플렉서블 디스플레이 장치.6. The method of claim 5,
Wherein the color filter array layer comprises:
A black matrix pattern defining a plurality of pixel openings; And
And a plurality of color filters provided between the black matrix patterns. 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 플렉서블 기판과 상기 투명 접착층 사이에 마련된 화소 어레이층을 더 포함하고,
상기 화소 어레이층은,
상기 제 1 플렉서블 기판 상에 상기 발광 영역과 중첩되도록 형성된 박막 트랜지스터; 및
상기 박막 트랜지스터 상에 마련된 유기 발광층을 포함하는, 플렉서블 디스플레이 장치.The method according to claim 1,
Further comprising a pixel array layer provided between the first flexible substrate and the transparent adhesive layer,
The pixel array layer includes:
A thin film transistor formed on the first flexible substrate to overlap with the light emitting region; And
And an organic light emitting layer provided on the thin film transistor. 제 7 항에 있어서,
상기 유기 발광층은,
상기 박막 트랜지스터 상에 마련된 제 1 전극;
상기 제 1 전극 상에 마련된 발광층;
상기 발광층 상에 마련된 제 2 전극을 포함하고,
상기 제 1 전극 및 상기 발광층은 상기 발광 영역과 중첩되며,
상기 제 2 전극은 상기 투과 영역 및 상기 발광 영역과 중첩되는, 플렉서블 디스플레이 장치.8. The method of claim 7,
The organic light-
A first electrode provided on the thin film transistor;
A light emitting layer provided on the first electrode;
And a second electrode provided on the light emitting layer,
The first electrode and the light emitting layer overlap the light emitting region,
And the second electrode overlaps the transmissive region and the light emitting region. 제 8 항에 있어서,
상기 제 1 전극의 가장자리 상에 마련되어 상기 발광 영역을 정의하는 뱅크를 더 포함하는, 플렉서블 디스플레이 장치.9. The method of claim 8,
And a bank provided on an edge of the first electrode to define the light emitting region. 제 9 항에 있어서,
상기 뱅크 상에 마련되어 상기 발광층을 격리시키는 격벽을 더 포함하는, 플렉서블 디스플레이 장치.10. The method of claim 9,
And a barrier provided on the bank to isolate the light emitting layer.
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