KR20190046567A - Anisotropic conductive film, connection structure comprising the same and display apparatus comprising the same - Google Patents

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Abstract

Provided is an anisotropic conductive film comprising a binder, a radical polymerizing substance, a curing agent, inorganic particles, and conductive particles. Specifically, provided are: the anisotropic conductive film having a haze of 50% or more, wherein the inorganic particles have an average particle diameter (D10) of 0.1 to 0.5 μm, and the conductive particles have the average particle diameter (D10) of 0.1 to 1 μm; a connection structure comprising the same; and a display apparatus comprising the same.

Description

이방 도전성 필름, 이를 포함하는 접속 구조체 및 이를 포함하는 디스플레이 장치{ANISOTROPIC CONDUCTIVE FILM, CONNECTION STRUCTURE COMPRISING THE SAME AND DISPLAY APPARATUS COMPRISING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an anisotropic conductive film, a connection structure including the same, and a display device including the anisotropic conductive film.

본 발명은 이방 도전성 필름, 이를 포함하는 접속 구조체 및 이를 포함하는 디스플레이 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 초기 및 신뢰성 평가 후의 접착력, 접속 저항이 우수하고, 이방 도전성 필름의 가 압착 완료 여부를 쉽게 확인할 수 있게 하는 이방 도전성 필름, 이를 포함하는 접속 구조체 및 이를 포함하는 디스플레이 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an anisotropic conductive film, a connection structure including the same, and a display device including the same. More specifically, the present invention relates to an anisotropic conductive film which is excellent in adhesion and connection resistance after initial and reliability evaluation, and which can easily confirm whether the anisotropic conductive film is completely pressed, a connection structure including the anisotropic conductive film, and a display device .

이방 도전성 필름은 금속 코팅된 플라스틱 또는 금속 입자 등의 도전성 입자를 분산시킨 필름 상의 접착제이다. 이방 도전성 필름은 평판 디스플레이 분야의 회로 접속, 반도체 분야의 부품 실장 등에 널리 이용되고 있다. 이방 도전성 필름을 접속시키고자 하는 회로 사이에 위치시킨 후 온도, 압력 및 시간에 의한 열 압착 공정을 실시하면, 회로 단자들 사이는 도전성 입자에 의해 전기적으로 접속되고, 인접 회로 단자간 스페이스에는 절연성 접착 수지가 충진 되어 도전성 입자가 서로 독립적으로 존재하게 되기 때문에, 절연성을 부여하게 된다.The anisotropic conductive film is a film-like adhesive in which conductive particles such as metal coated plastic or metal particles are dispersed. Anisotropic conductive films are widely used for circuit connection in the field of flat panel displays and component mounting in semiconductor fields. When an anisotropic conductive film is placed between the circuits to be connected and subjected to a thermocompression process by temperature, pressure and time, the circuit terminals are electrically connected by the conductive particles and the space between the adjacent circuit terminals is electrically insulated The resin is filled and the conductive particles exist independently of each other, so that the insulating property is given.

최근, 전극 패턴의 표면에 산화막이 형성되기 쉬운 알루미늄이나 크롬 등으로 이루어지는 배선 패턴을 사용한 액정 패널의 접속에 있어서 소형화, 박형화에 회로 전극의 미세화, 다전극화의 요구가 높아짐에 따라 이방 도전성 필름도 절연 특성 및 포집율 개선 문제가 대두되고 있다.In recent years, in connection with liquid crystal panels using wiring patterns made of aluminum or chromium, in which an oxide film is likely to be formed on the surface of the electrode pattern, demands for miniaturization and miniaturization of circuit electrodes and thinning and electrode formation have increased, There is a problem of improving the insulation characteristics and the collection rate.

따라서, 이방 도전성 필름 조성물의 절연 특성 및 플로우 조정을 통한 포집율 개선을 위하여 도전 입자 및 실리카 등 무기 입자의 함량이 상승되고 있고, 이에 따른 분산성 저하로 인한 불량이 증가하고 있는 실정이다. 또한, 양산 공정에서의 생산성 향상을 위한 택 타임을 줄이기 위한 공정 개선에 대한 노력도 같이 이루어지고 있어, 양산에 적용 시 적절한 헤이즈를 갖는 이방 도전성 필름 제공이 필요하다.Therefore, the content of inorganic particles such as conductive particles and silica is increased in order to improve the insulating property and flow rate adjustment of the anisotropic conductive film composition, resulting in an increase in defects due to a decrease in dispersibility. In addition, efforts are being made to improve the process to reduce the tack time for the productivity improvement in the mass production process, and it is necessary to provide an anisotropic conductive film having appropriate haze when applied to mass production.

이방 도전성 필름은 일반적으로 열가소성 수지를 포함하는 바인더부에 도전성 입자가 분산되어 있어 투명도가 높아짐에 따라, 회로 부재에 필름을 가압착한 후에도 필름의 유무를 쉽게 확인할 수 없었다. 이는 압착 장치의 오작동으로 인한 제조 비용의 증가를 수반할 수도 있다. 따라서, 이방 도전성 필름에 안료, 염료를 첨가하여 유색화할 경우, 가압착한 후에 필름이 있는지 여부를 쉽게 확인할 수 있다. 그러나, 안료 등의 염료는 이방 도전성 필름이 기본적으로 갖추어야 하는 접착력, 접속 저항 및 절연 저항 등을 포함하는 전기적 물성을 나쁘게 할 수 있다. The transparency of the anisotropic conductive film is generally high because the conductive particles are dispersed in the binder portion containing the thermoplastic resin. Therefore, even after the film is pressed on the circuit member, the presence or absence of the film can not be easily confirmed. This may be accompanied by an increase in manufacturing cost due to malfunction of the compression device. Therefore, when a pigment or a dye is added to the anisotropic conductive film to make it colored, it can be easily confirmed whether or not the film exists after pressurization. However, dyes such as pigments can deteriorate electrical properties, including adhesive strength, connection resistance, insulation resistance and the like, which are basically required for anisotropic conductive films.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 안료, 염료 등의 유색 재료를 포함하지 않더라도 가 압착 완료 여부를 쉽게 확인할 수 있게 하는 이방 도전성 필름을 제공하는 것이다.A problem to be solved by the present invention is to provide an anisotropic conductive film which makes it possible to easily confirm whether or not a colored material such as a pigment or a dye is contained.

본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 초기 및 신뢰성 평가 후의 접착력, 접속 저항이 우수한 이방 도전성 필름을 제공하는 것이다.Another object to be solved by the present invention is to provide an anisotropic conductive film excellent in adhesion and connection resistance after initial and reliability evaluation.

본 발명의 이방 도전성 필름은 바인더, 라디칼 중합성 물질, 경화제, 무기 입자 및 도전성 입자를 포함하고, 상기 이방 도전성 필름은 헤이즈가 50% 이상이고, 상기 무기 입자는 평균 입경(D10)이 0.1㎛ 이상 0.5㎛ 이하이고, 상기 도전성 입자는 평균 입경(D10)이 0.1㎛ 이상 1㎛ 이하일 수 있다.The anisotropic conductive film of the present invention comprises a binder, a radical polymerizing substance, a curing agent, inorganic particles and conductive particles, wherein the anisotropic conductive film has a haze of 50% or more, and the inorganic particles have an average particle diameter (D10) And the average particle diameter (D10) of the conductive particles may be 0.1 占 퐉 or more and 1 占 퐉 or less.

본 발명의 접속 구조체는 본 발명의 이방 도전성 필름을 포함할 수 있다.The connection structure of the present invention may include the anisotropic conductive film of the present invention.

본 발명의 디스플레이 장치는 본 발명의 이방 도전성 필름을 포함할 수 있다.The display device of the present invention may include the anisotropic conductive film of the present invention.

본 발명은 안료, 염료 등의 유색 재료를 포함하지 않더라도 가압착 완료 여부를 쉽게 확인할 수 있게 하는 이방 도전성 필름을 제공하였다.The present invention provides an anisotropic conductive film which makes it possible to easily confirm whether pressure bonding is completed even when a pigment or dye is not contained.

본 발명은 초기 및 신뢰성 평가 후의 접착력, 접속 저항이 우수한 이방 도전성 필름을 제공하였다.The present invention provides an anisotropic conductive film excellent in adhesion and connection resistance after initial and reliability evaluations.

이하, 본 출원의 실시예들을 보다 상세하게 설명한다. 그러나, 본 출원에 개시된 기술은 여기서 설명되는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 단지, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 출원의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다.Below, Embodiments of the present application will be described in more detail. However, the techniques disclosed in this application are not limited to the embodiments described herein but may be embodied in other forms. It should be understood, however, that the embodiments disclosed herein are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art.

본 명세서에서 "평균 입경(D10)", "평균 입경(D50)", "평균 입경(D90)"은 각각 무기 입자 또는 도전성 입자의 입경을 측정하고 입경에 따른 질량의 누적 곡선을 그렸을 때 각각 통과 질량 백분율이 10 중량%, 50 중량%, 90 중량%에 해당되는 입경을 의미한다. 무기 입자 및 도전성 입자의 입경은 입도 분석 장치(심파텍)를 사용하여 측정할 수 있다.In the present specification, "average particle diameter (D10)", "average particle diameter (D50)" and "average particle diameter (D90)" refer to the particle diameters of inorganic particles or conductive particles, Means a particle diameter corresponding to 10% by weight, 50% by weight and 90% by weight, respectively, when the cumulative curve of mass is drawn. Inorganic particle And particle diameters of the conductive particles can be measured using a particle size analyzer (Simpatec).

본 발명의 이방 도전성 필름은 가시광선 영역(예: 파장 380nm 내지 780nm)에서의 헤이즈가 50% 이상이 될 수 있다. 상기 범위에서, 이방 도전성 필름의 가압착시 필름의 가 압착 여부를 용이하게 확인할 수 있다. 바람직하게는 헤이즈는 50% 이상 90% 이하, 더 바람직하게는 50% 이상 80% 이하, 가장 바람직하게는 65% 이상 75% 이하가 될 수 있다. 상기 범위에서, 광학표시장치에 적절하게 사용될 수 있다. 본 발명의 이방 도전성 필름은 염료, 안료 등의 유색 물질을 포함하지 않지만, 무기 입자와 도전성 입자의 평균 입경 및 이들의 함량을 제어함으로써 헤이즈를 50% 이상으로 확보할 수 있었다.The anisotropic conductive film of the present invention may have a haze of 50% or more in a visible light region (e.g., a wavelength of 380 nm to 780 nm). Within the above-mentioned range, it is possible to easily confirm whether or not the film of the anisotropic conductive film is pressed. Preferably, the haze may be 50% or more and 90% or less, more preferably 50% or more and 80% or less, and most preferably 65% or more and 75% or less. Within the above range, it can be suitably used in an optical display device. The anisotropic conductive film of the present invention does not contain colored materials such as dyes and pigments, but the haze can be secured to 50% or more by controlling the average particle size of the inorganic particles and the conductive particles and the content thereof.

본 발명의 이방 도전성 필름은 바인더 수지, 라디칼 중합성 물질, 경화제, 무기 입자 및 도전성 입자를 포함하고, 무기 입자의 평균 입경(D10)이 0.1㎛ 이상 0.5㎛ 이하, 도전성 입자의 평균 입경(D10)이 0.1㎛ 이상 1㎛ 이하가 될 수 있다.The anisotropic conductive film of the present invention comprises a binder resin, a radical polymerizing substance, a curing agent, inorganic particles and conductive particles, wherein an average particle diameter (D10) of the inorganic particles is 0.1 m or more and 0.5 m or less, Can be 0.1 탆 or more and 1 탆 or less.

무기 입자Inorganic particle

무기 입자는 평균 입경(D10)이 0.1㎛ 이상 0.5㎛ 이하가 될 수 있다. 상기 범위에서, 도전성 입자와 함께 본 발명의 이방 도전성 필름의 헤이즈를 확보할 수 있다. 이방 도전성 필름은 박막의 두께로서 이방 도전성 필름의 헤이즈를 높이기 위해서는 평균 입경(D10)이 더 낮은 무기 입자를 포함하는 것이 유리할 수도 있지만, 무기 입자의 평균 입경(D10)이 너무 낮으면 이방 도전성 필름 조성물의 유동성이 저하될 수도 있다. 본 발명은 무기 입자의 평균 입경(D10)을 제어함으로써, 이방 도전성 필름의 헤이즈를 확보할 수 있었다. 바람직하게는 무기 입자는 평균입경(D10)이 0.2㎛ 이상 0.4㎛ 이하가 될 수 있다.The average particle diameter (D10) of the inorganic particles may be 0.1 占 퐉 or more and 0.5 占 퐉 or less. Within the above range, the haze of the anisotropic conductive film of the present invention can be ensured together with the conductive particles. It may be advantageous for the anisotropic conductive film to contain inorganic particles having a lower average particle diameter (D10) in order to increase the haze of the anisotropic conductive film. However, if the average particle size (D10) of the inorganic particles is too low, May be deteriorated. The present invention can secure the haze of the anisotropic conductive film by controlling the average particle diameter (D10) of the inorganic particles. Preferably, the inorganic particles may have an average particle diameter (D10) of 0.2 mu m or more and 0.4 mu m or less.

무기 입자는 평균 입경(D90)이 이 1㎛ 이상 3㎛ 이하가 될 수 있다. 상기 범위에서, 이방 도전성 필름의 헤이즈 및 투과도를 조정하여 공정성을 개선하고, 조성물의 플로우성을 조절하여 접착력과 접속 신뢰성을 좋게 할 수 있다. 무기 입자는 평균 입경(D50)이 0.5㎛ 이상 1.5㎛ 이하, 바람직하게는 0.7㎛ 이상 1.2㎛ 이하가 될 수 있다. 상기 범위에서, 이방 도전성 필름의 헤이즈 및 투과도를 조정하여 공정성을 개선하고, 조성물의 플로우성을 조절하여 접착력과 접속 신뢰성을 좋게 할 수 있다. The average particle diameter (D90) of the inorganic particles may be 1 mu m or more and 3 mu m or less. Within the above range, the haze and the transparency of the anisotropic conductive film can be adjusted to improve the processability, and the flow property of the composition can be controlled to improve the adhesive strength and the connection reliability. The inorganic particles may have an average particle diameter (D50) of 0.5 mu m or more and 1.5 mu m or less, preferably 0.7 mu m or more and 1.2 mu m or less. Within the above range, the haze and the transparency of the anisotropic conductive film can be adjusted to improve the processability, and the flow property of the composition can be controlled to improve the adhesive strength and the connection reliability.

무기 입자의 형상은 구형의 입자일 수 있다. 박편 형상의 무기 입자는 이방 도전성 필름에 포함 시 분산성이 떨어져서 이방 도전성 필름의 헤이즈를 낮출 수 있어 바람직하지 않다. 무기 입자가 섬유 형상인 경우는 이방 도전성 필름 중에서 무질서하게 충전되기 때문에 접속 신뢰성에 영향을 줄 수 있어서 바람직하지 않다. 무기 입자가 비늘 형상인 경우 박편 형상과 마찬가지로 분산성이 떨어져서 이방 도전성 필름의 헤이즈를 낮출 수 있어 바람직하지 않다. The shape of the inorganic particles may be spherical particles. When the inorganic particles in the form of flakes are included in the anisotropic conductive film, the dispersibility of the inorganic particles tends to be low and the haze of the anisotropic conductive film can be lowered. When the inorganic particles are in the form of fibers, they are unfavorably adversely charged in the anisotropic conductive film, which may affect the connection reliability. When the inorganic particles are in the form of scales, the dispersibility is lowered similarly to the shape of the flakes, and the haze of the anisotropic conductive film can be lowered, which is not preferable.

무기 입자는 실리카, 마그네시아, 벤토나이트, 스멕타이트, 알루미나, 이산화 티타늄 등의 산화 티타늄 또는 질화 붕소로 구성되는 필러를 포함할 수 있다. 바람직하게는, 무기 입자는 실리카를 사용할 수 있다. 실리카는 졸겔법, 침전법 등 액상법에 의한 실리카, 화염 산화(flame oxidation) 법 등 기상법에 의해 생성된 실리카, 실리카겔을 미분쇄한 미 분말 실리카를 사용할 수 있다. 건식 실리카(fumed silica), 용융 실리카(fused silica), 및 합성 실리카를 사용할 수 있으며, 분산액에 분산된 형태의 콜로이드 실리카로도 사용할 수 있다.The inorganic particles may include fillers composed of titanium oxide or boron nitride such as silica, magnesia, bentonite, smectite, alumina, titanium dioxide and the like. Preferably, silica can be used as the inorganic particles. Silica can be silica, silica produced by liquid phase method such as sol-gel method or precipitation method, silica produced by vapor-phase method such as flame oxidation method, and silica powder obtained by pulverizing silica gel. Fumed silica, fused silica, and synthetic silica can be used, and colloidal silica in the form of dispersion in a dispersion can also be used.

무기 입자는 실란 화합물 예를 들면 실란 커플링제로 표면 처리되는 것이 바람직하다. 무기 입자의 표면을 실란 커플링제로 표면 처리함으로써, 이방 도전성 필름용 조성물 중 다른 성분 예를 들면 바인더, 라디칼 중합성 물질과의 젖음성, 밀착성을 향상시키고, 유동성 및 접착 강도를 높일 수 있다. The inorganic particles are preferably surface-treated with a silane compound, for example, a silane coupling agent. By surface-treating the surface of the inorganic particles with a silane coupling agent, it is possible to improve wettability and adhesiveness with other components such as a binder and a radical polymerizable substance in the composition for anisotropic conductive films, and to improve fluidity and adhesion strength.

무기 입자는 이방 도전성 필름 중 0.1 중량% 이상 30 중량% 이하, 바람직하게는 1 중량% 이상 25 중량% 이하, 5 중량% 이상 20 중량% 이하로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 전극에 가해지는 압력이 균일하게 분산될 수 있고, 이방 도전성 필름의 접착성과 접속 신뢰성을 향상시킬 수 있으며, 본 발명의 이방 도전성 필름의 헤이즈 확보가 용이할 수 있다.The inorganic particles may be contained in an amount of 0.1 to 30% by weight, preferably 1 to 25% by weight and 5 to 20% by weight in the anisotropic conductive film. Within this range, the pressure applied to the electrode can be uniformly dispersed, the adhesion of the anisotropic conductive film and the connection reliability can be improved, and the haze of the anisotropic conductive film of the present invention can be easily secured.

도전성 입자Conductive particle

도전성 입자는 평균 입경(D10)이 0.1㎛ 이상 1㎛ 이하가 될 수 있다. 상기 범위에서, 무기 입자와 함께 이방 도전성 필름의 헤이즈를 확보하게 할 수 있다. 이방 도전성 필름은 박막의 두께로서 이방 도전성 필름의 헤이즈를 높이기 위해서는 평균 입경(D10)이 더 낮은 도전성 입자를 포함하는 것이 유리할 수도 있지만, 도전성 입자의 평균 입경(D10)이 너무 낮으면 본딩 후 압흔 미약 및 균일성 저하 문제가 발생할 수 있으며, 이방 도전성 필름 조성물의 유동성에도 영향을 미친다. 바람직하게는 도전성 입자는 평균 입경(D10)이 0.3㎛ 이상 0.8㎛ 이하가 될 수 있다. The average particle diameter (D10) of the conductive particles may be 0.1 占 퐉 or more and 1 占 퐉 or less. Within the above range, it is possible to secure the haze of the anisotropic conductive film together with the inorganic particles. It may be advantageous that the anisotropic conductive film contains conductive particles having a lower average particle diameter (D10) in order to increase the haze of the anisotropic conductive film. However, if the average particle diameter (D10) of the conductive particles is too low, And lowering of the uniformity may occur, and the fluidity of the anisotropic conductive film composition may also be affected. Preferably, the average particle diameter (D10) of the conductive particles may be 0.3 占 퐉 or more and 0.8 占 퐉 or less.

도전성 입자는 평균 입경(D90)이 4㎛ 이상 7㎛ 이하, 바람직하게는 4.5㎛ 이상 6.5㎛ 이하가 될 수 있다. 상기 범위에서, 이방 도전성 필름의 균일한 압흔 구현 및 접속 신뢰성을 확보할 수 있다. 도전성 입자는 평균 입경(D50)이 2.5㎛ 이상 4.5㎛ 이하, 바람직하게는 3㎛ 이상 4㎛ 이하가 될 수 있다. 상기 범위에서, 이방 도전성 필름의 균일한 압흔 구현 및 접속 신뢰성을 확보할 수 있다 The conductive particles may have an average particle diameter (D90) of 4 占 퐉 or more and 7 占 퐉 or less, preferably 4.5 占 퐉 or more and 6.5 占 퐉 or less. Within the above range, uniform indentation of the anisotropic conductive film and connection reliability can be ensured. The conductive particles may have an average particle diameter (D50) of 2.5 占 퐉 or more and 4.5 占 퐉 or less, preferably 3 占 퐉 or more and 4 占 퐉 or less. Within the above range, uniform indentation of the anisotropic conductive film and connection reliability can be ensured

도전성 입자는 구형 혹은 돌기형의 입자일 수 있다. The conductive particles may be spherical or protruding particles.

도전성 입자는 금, 은, 니켈, 구리, 땜납 등을 포함하는 금속 입자; 탄소, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에스테르, 폴리스타이렌, 폴리비닐알콜 등을 포함하는 수지 또는 그의 변성 수지를 코어로 하여 금, 은, 니켈, 구리 또는 땜납 등을 포함하는 금속으로 도금 코팅한 입자; 상기 금속 입자 또는 도금 코팅한 입자에 절연성 입자를 추가로 코팅하여 절연 처리한 입자를 포함할 수 있다. 도전성 입자는 단독 또는 2종 이상 혼합하여 포함될 수 있다.The conductive particles include metal particles including gold, silver, nickel, copper, solder, and the like; Particles coated with a metal containing gold, silver, nickel, copper or solder or the like using a resin including carbon, polyethylene, polypropylene, polyester, polystyrene, polyvinyl alcohol or the like or a modified resin thereof as a core; The metal particles or the particles coated with a coating may further include insulating particles coated with insulating particles to insulate the particles. The conductive particles may be contained singly or in combination of two or more.

도전성 입자는 이방 도전성 필름 중 1 중량% 이상 20 중량% 이하, 바람직하게는 3 중량% 이상 10 중량% 이하로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 접속 및/또는 절연 불량의 발생을 방지하여 우수한 접속성을 확보할 수 있다.The conductive particles may be contained in an anisotropic conductive film in an amount of 1 wt% or more and 20 wt% or less, preferably 3 wt% or more and 10 wt% or less. Within the above range, occurrence of connection and / or insulation failure can be prevented and excellent connectivity can be ensured.

무기 입자와 도전성 입자 전체는 이방 도전성 필름 중 1 중량% 이상 50 중량% 이하, 바람직하게는 5 중량% 이상 30 중량% 이하로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 헤이즈를 높이고, 접속 및 절연 신뢰성을 높일 수 있다.The inorganic particles and the whole conductive particles may be contained in an anisotropic conductive film in an amount of 1 wt% to 50 wt%, preferably 5 wt% to 30 wt%. Within this range, it is possible to increase the haze and increase the connection and insulation reliability.

바인더 수지Binder resin

바인더 수지는 특별히 제한되지 아니하며 당해 기술 분야에서 통상적으로 사용하는 바인더 수지를 사용할 수 있다. 바인더 수지의 비 제한적인 예로는 아크릴로니트릴 부타디엔 고무(acrylonitrile-butadiene rubber, NBR) 수지, 페녹시 수지, 폴리우레탄 수지, 아크릴 수지, 폴리에스테르 우레탄 수지 등을 들 수 있다.The binder resin is not particularly limited and binder resins commonly used in the art can be used. Non-limiting examples of the binder resin include acrylonitrile-butadiene rubber (NBR) resin, phenoxy resin, polyurethane resin, acrylic resin, and polyester urethane resin.

아크릴로니트릴 부타디엔 고무 수지는 아크릴로니트릴과 부타디엔의 유화 중합에 의해 제조된 공중합체를 의미한다. 상기 공중합체 중 아크릴로니트릴과 부타디엔의 각각의 함량은 특별히 제한되지 않으며, 그 중합 방법도 특별히 제한되지 않는다. 상기 아크릴로니트릴 부타디엔 고무 수지의 중량 평균 분자량은 특별히 제한되지 아니하나 바람직하게는 50,000g/mol 내지 1,000,000g/mol인 것을 사용할 수 있다.The acrylonitrile butadiene rubber resin means a copolymer produced by emulsion polymerization of acrylonitrile and butadiene. The content of each of acrylonitrile and butadiene in the copolymer is not particularly limited, and the polymerization method thereof is not particularly limited. The weight average molecular weight of the acrylonitrile butadiene rubber resin is not particularly limited, but is preferably 50,000 to 1,000,000 g / mol.

페녹시 수지는 비스페놀계 페녹시 수지 등을 포함할 수 있다. The phenoxy resin may include a bisphenol-based phenoxy resin and the like.

폴리우레탄 수지는 우레탄 결합을 갖는 고분자 수지로서, 예를 들어 이소포론디이소시아네이트, 폴리테트라메틸렌글리콜 등을 중합하여 제조될 수 있으나 이에 제한되지는 않는다. 상기 폴리우레탄 수지의 중량 평균 분자량은 특별히 제한되지 아니하나 바람직하게는 10,000g/mol 내지 200,000g/mol인 것을 사용할 수 있다.The polyurethane resin is a polymer resin having a urethane bond and can be produced by, for example, polymerizing isophorone diisocyanate, polytetramethylene glycol and the like, but is not limited thereto. The weight average molecular weight of the polyurethane resin is not particularly limited, but is preferably 10,000 g / mol to 200,000 g / mol.

아크릴 수지는 아크릴 단량체 및/또는 이와 중합 가능한 단량체를 중합하여 얻을 수 있다. 예를 들면, 아크릴계 수지는 탄소수 2개 내지 10개의 알킬기를 갖는 (메타)아크릴레이트, (메타)아크릴산, 비닐 아세테이트 및 이로부터 변성된 아크릴계 단량체로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 단량체를 중합하여 제조된 것일 수 있다. 상기 중합 방법은 특별히 제한되지 않는다. 상기 아크릴 수지의 중량 평균 분자량은 특별히 제한되지 아니하나 바람직하게는 10,000g/mol 내지 200,000g/mol인 것을 사용할 수 있다.The acrylic resin can be obtained by polymerizing an acrylic monomer and / or a polymerizable monomer thereof. For example, the acrylic resin is a copolymer obtained by polymerizing at least one monomer selected from the group consisting of (meth) acrylates having 2 to 10 carbon atoms, (meth) acrylic acid, vinyl acetate and acrylic monomers modified therefrom Lt; / RTI > The polymerization method is not particularly limited. The weight average molecular weight of the acrylic resin is not particularly limited, but is preferably 10,000 g / mol to 200,000 g / mol.

폴리에스테르 우레탄 수지로는 폴리에스테르 폴리올 및 디이소시아네이트의 반응에 의해 얻어진 수지를 사용할 수 있다. 상기 폴리에스테르 폴리올은 복수의 에스테르기 및 복수의 수산기를 갖는 중합체를 말한다. 폴리에스테르 폴리올은 디카르복실산 및 디올의 반응에 의해 얻을 수 있다. 상기 디카르복실산의 예로는, 프탈릭산, 테레프탈산, 이소프탈산, 아디프산, 세박산, 숙신산, 글루타르산, 수베린산, 아젤란산, 도데칸디카르복실산, 헥사하이드로프탈산, 오르토-프탈산, 테트라클로로프탈산, 1,5-나프탈렌디카르복실산, 푸마르산, 말레인산, 이타콘산, 시트라콘산, 메사콘산 또는 테트라하이드로프탈산 등을 들 수 있으며, 상기와 같은 방향족 디카르복실산 또는 지방족 디카르복실산이 바람직하다. 상기 디올의 예로는, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 헥산디올, 네오펜틸글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 1,3-프로판디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 디프로필렌글리콜, 디부틸렌글리콜, 2-메틸-1,3-펜탄디올, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올 또는 1,4-사이클로헥산디메탄올 등을 들 수 있으며, 상기와 같은 글리콜류가 바람직하다. 상기 디이소시아네이트의 예로는, 이소포론디이소시아네이트(IPDI), 4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트(MDI), 1,6-헥사메틸렌 디이소시아네이트(HDI), 크실렌 디이소시아네이트, 수소화 디페닐메탄 디이소시아네이트, 나프탈렌 디이소시아네이트, 2,4-톨루엔 디이소시아네이트 또는 2,6-톨루엔 디이소시아네이트 등을 들 수 있으며, 방향족, 지환족, 또는 지방족의 디이소시아네이트가 바람직하다. 상기 폴리에스테르 우레탄 수지의 중량 평균 분자량은 특별히 제한되지 아니하나 바람직하게는 10,000g/mol 내지 200,000g/mol인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 50,000g/mol 내지 100,000g/mol인 것을 사용할 수 있다.As the polyester urethane resin, a resin obtained by a reaction of a polyester polyol and a diisocyanate can be used. The polyester polyol refers to a polymer having a plurality of ester groups and a plurality of hydroxyl groups. The polyester polyol can be obtained by the reaction of a dicarboxylic acid and a diol. Examples of the dicarboxylic acid include phthalic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, adipic acid, sebacic acid, succinic acid, glutaric acid, suberic acid, azelanic acid, dodecanedicarboxylic acid, hexahydrophthalic acid, ortho- There may be mentioned aromatic dicarboxylic acids or aliphatic dicarboxylic acids such as phthalic acid, tetrachlorophthalic acid, 1,5-naphthalene dicarboxylic acid, fumaric acid, maleic acid, itaconic acid, citraconic acid, mesaconic acid or tetrahydrophthalic acid. Reboxylic acid is preferred. Examples of the diols include ethylene glycol, propylene glycol, hexanediol, neopentyl glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, Pentanediol, 1,6-hexanediol, dipropylene glycol, dibutylene glycol, 2-methyl-1,3-pentanediol, 2,2,4-trimethyl- Hexane dimethanol and the like, and the above-mentioned glycols are preferable. Examples of the diisocyanate include isophorone diisocyanate (IPDI), 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (MDI), 1,6-hexamethylene diisocyanate (HDI), xylene diisocyanate, Isocyanate, naphthalene diisocyanate, 2,4-toluene diisocyanate or 2,6-toluene diisocyanate, and aromatic, alicyclic or aliphatic diisocyanates are preferred. The weight average molecular weight of the polyester urethane resin is not particularly limited, but is preferably 10,000 g / mol to 200,000 g / mol, more preferably 50,000 g / mol to 100,000 g / mol. .

바인더 수지는 단독으로 사용될 수 있으나 바람직하게는 중량 평균 분자량이 서로 상이한 2 종 이상의 수지를 함께 사용할 수 있다. 중량 평균 분자량이 상이한 2 종 이상의 수지를 함께 사용하는 경우에는, 분자량이 큰 바인더만을 사용하였을 때 발생하는 필름 물성이 지나치게 단단해지는 문제 및 분자량이 작은 바인더만을 사용하였을 때 발생하는 필름 형성이 어려운 문제를 방지할 수 있다. 또한 중간 정도의 분자량을 갖는 바인더를 단독으로 사용하는 경우에 비하여 서로 다른 분자량을 갖는 바인더 간의 상호 보완적 작용에 의하여 보다 우수한 물성의 필름을 형성할 수 있는 이점이 있다.The binder resin may be used alone, but preferably two or more resins having different weight average molecular weights may be used together. When two or more kinds of resins having different weight average molecular weights are used together, there is a problem that the physical properties of the film produced when only a binder having a large molecular weight is used are too hard and the problem that a film formed when only a binder having a small molecular weight is used is difficult . In addition, as compared with the case where a binder having a medium molecular weight is used alone, the binder having a different molecular weight has an advantage of being able to form a film having better physical properties by complementary action.

본원 발명의 일 양태에 따르면, 바인더 수지로서 보다 바람직하게는 아크릴로니트릴 부타디엔 고무 수지 및 페녹시 수지를 포함하는 수지 조성물을 사용할 수 있다.According to one aspect of the present invention, a resin composition comprising an acrylonitrile butadiene rubber resin and a phenoxy resin can more preferably be used as the binder resin.

아크릴로니트릴 부타디엔 고무 수지 및 페녹시 수지를 포함하는 수지를 사용하는 경우, 보다 바람직하게는 상기 수지 전체 100 중량부에 대하여 상기 아크릴로니트릴 부타디엔 고무 수지를 5 중량부 내지 50 중량부, 바람직하게는 15 중량부 내지 50 중량부로 사용하고, 상기 페녹시 수지를 50 중량부 내지 95 중량부, 바람직하게는 50 중량부 내지 85 중량부로 사용할 수 있다. 상기 범위 내에서 우수한 필름 형성력 및 접착력을 얻을 수 있다.When a resin containing an acrylonitrile-butadiene rubber resin and a phenoxy resin is used, the acrylonitrile-butadiene rubber resin is preferably added in an amount of 5 to 50 parts by weight, more preferably 5 to 50 parts by weight, 15 to 50 parts by weight of the phenoxy resin may be used, and 50 to 95 parts by weight, preferably 50 to 85 parts by weight of the phenoxy resin may be used. Excellent film forming ability and adhesion can be obtained within the above range.

바인더 수지는 이방성 도전 필름 중 20 중량% 내지 80 중량%로 함유될 수 있으며, 보다 바람직하게는 20 중량% 내지 70 중량%로 함유될 수 있고, 더욱 바람직하게는 20 중량% 내지 60 중량%로 함유될 수 있다. 상기 범위 내에서 우수한 필름 형성력 및 접착력을 얻을 수 있다.The binder resin may be contained in an amount of 20 to 80% by weight, more preferably 20 to 70% by weight, and more preferably 20 to 60% by weight in the anisotropic conductive film. . Excellent film forming ability and adhesion can be obtained within the above range.

라디칼 Radical 중합성Polymerizable 물질 matter

라디칼 중합성 물질은 우레탄계 (메트)아크릴레이트 수지, 다관능성 폴리에스테르 (메트)아크릴레이트 수지, 분자 내 (메타)아크릴레이트 반응기를 1개 이상 갖는 단량체 중 하나 이상을 포함할 수 있다. The radical polymerizable material may include at least one of a urethane (meth) acrylate resin, a polyfunctional polyester (meth) acrylate resin, and a monomer having at least one (meth) acrylate reactive group in the molecule.

분자 내 (메타)아크릴레이트 반응기를 1개 이상 갖는 단량체는 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 이소데실(메타)아크릴레이트, n-라우릴(메타)아크릴레이트, C12-C15의 알킬(메타)아크릴레이트, n-스테아릴(메타)아크릴레이트, n-부톡시에틸(메타)아크릴레이트, 부톡시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 테트라하이드로퍼퍼릴 (메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 디에틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸-2-하이드록시프로필프탈레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸엑시드포스페이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메타)아크릴레이트, 1,10-데칸디올디(메타)아크릴레이트, 글리세린디(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시-3-아크릴로일옥시프로필(메타)아크릴레이트, 디메틸올트리사이클로데칸디(메타)아크릴레이트, 트리플루오로에틸(메타)아크릴레이트, 퍼플루오로옥틸에틸(메타)아크릴레이트, 이소아밀 아크릴레이트, 라우릴 아크릴레이트, 에틸렌옥사이드의 디(메타)아크릴레이트로 변성된 비스페놀 A, 프로필렌옥사이드의 디(메타)아크릴레이트로 변성된 비스페놀 A, 트리메틸올프로판-벤조에이트-(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A 디글리시딜의 디(메타)아크릴레이트, 또는 2-하이드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트와 톨루엔디이소시아네이트의 반응물 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용되거나 2 종 이상 혼합하여 사용될 수 있다.The monomer having at least one (meth) acrylate reactive group in the molecule is at least one monomer selected from the group consisting of methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, n- lauryl (meth) acrylates, C 12 -C 15 alkyl (meth) acrylate, n- stearyl (Meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, n-butoxyethyl (meth) acrylate, butoxy ethyleneglycol (meth) acrylate, methoxy triethylene glycol (Meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, tetrahydroperfuryl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, Acrylate, 2-hydroxypropyl (Meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (Meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylhexahydrophthalate, 2- (meth) acryloyloxyethyl-2-hydroxypropyl phthalate, glycidyl (Meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di Butanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9- Diol di (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, (Meth) acrylate such as 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl (meth) acrylate, dimethyloltricyclodecanediol (meth) acrylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, perfluorooctylethyl Bis (meth) acrylate modified with di (meth) acrylate of propylene oxide, bisphenol A modified with di (meth) acrylate of ethylene oxide, trimethylolpropane-benzoate- Acrylate, di (meth) acrylate of bisphenol A diglycidyl, or a reaction product of 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate and toluene diisocyanate. These may be used alone or in combination of two or more.

바람직하게는, 라디칼 중합성 물질은 우레탄계 (메트)아크릴레이트 수지, 다관능성 폴리에스테르 (메트)아크릴레이트 수지의 혼합물을 포함할 수 있다. 상기 혼합물 중 우레탄계 (메트)아크릴레이트 수지: 다관능성 폴리에스테르 (메트)아크릴레이트 수지는 50 중량% 내지 90 중량%: 10 중량% 내지 50 중량%, 바람직하게는 50 중량% 내지 70 중량%: 30 중량% 내지 50 중량%로 포함될 수 있다.Preferably, the radically polymerizable material may comprise a mixture of a urethane (meth) acrylate resin, a polyfunctional polyester (meth) acrylate resin. (Meth) acrylate resin: polyfunctional polyester (meth) acrylate resin is contained in an amount of 50 wt% to 90 wt%: 10 wt% to 50 wt%, preferably 50 wt% to 70 wt%: 30 By weight to 50% by weight.

라디칼 중합성 물질은 이방성 도전 필름 중 10 중량% 내지 70 중량%, 바람직하게는 20 중량% 내지 65 중량%, 더욱 바람직하게는 30 중량% 내지 60 중량%로 함유될 수 있다. 상기 범위 내에서 전체 경화물이 아크릴레이트 경화 구조를 충분히 형성할 수 있도록 해주며 경화물의 경도가 지나치게 높아지는 것을 방지하여 계면 박리력 및 접착력이 저하되는 것을 방지하는 이점이 있을 수 있다.The radical polymerizable material may be contained in an amount of 10% by weight to 70% by weight, preferably 20% by weight to 65% by weight, more preferably 30% by weight to 60% by weight in the anisotropic conductive film. Within the above range, the entire cured product can sufficiently form an acrylate curing structure, and the hardness of the cured product can be prevented from becoming too high, thereby preventing deterioration of the interfacial peeling force and adhesion.

경화제Hardener

경화제는 열 또는 광에 의해 라디칼을 발생시키는 경화제를 사용한다. The curing agent uses a curing agent that generates radicals by heat or light.

경화제로서, 유기 과산화물을 사용할 수 있다. 유기 과산화물은 t-부틸 퍼옥시라우레이트, 1,1,3,3-t-메틸부틸퍼옥시-2-에틸 헥사노네이트, 2,5-디메틸-2,5-디(2-에틸헥사노일 퍼옥시) 헥산, 1-사이클로헥실-1-메틸에틸 퍼옥시-2-에틸 헥사노네이트, 2,5-디메틸-2,5-디(m-톨루오일 퍼옥시) 헥산, t-부틸 퍼옥시 이소프로필 모노카보네이트, t-부틸 퍼옥시-2-에틸헥실 모노카보네이트, t-헥실 퍼옥시 벤조에이트, t-부틸 퍼옥시 아세테이트, 디큐밀 퍼옥사이드, 2,5,-디메틸-2,5-디(t-부틸 퍼옥시) 헥산, t-부틸 큐밀 퍼옥사이드, t-헥실 퍼옥시 네오데카노에이트, t-헥실 퍼옥시-2-에틸 헥사노네이트, t-부틸 퍼옥시-2-2-에틸헥사노네이트, t-부틸 퍼옥시 이소부틸레이트, 1,1-비스(t-부틸 퍼옥시)사이클로헥산, t-헥실 퍼옥시 이소프로필 모노카보네이트, t-부틸 퍼옥시-3,5,5-트리메틸 헥사노네이트, t-부틸 퍼옥시 피발레이트, 큐밀 퍼옥시 네오데카노에이트, 디-이소프로필 벤젠 하이드로퍼옥사이드, 큐멘 하이드로퍼옥사이드, 이소부틸 퍼옥사이드, 2,4-디클로로 벤조일 퍼옥사이드, 3,5,5-트리메틸 헥사노일 퍼옥사이드, 옥타노일 퍼옥사이드, 라우로일 퍼옥사이드, 스테아로일 퍼옥사이드, 숙신 퍼옥사이드, 벤조일 퍼옥사이드, 3,5,5-트리메틸 헥사노일 퍼옥사이드, 벤조일 퍼옥시 톨루엔, 1,1,3,3-테트라메틸 부틸 퍼옥시 네오데카노에이트, 1-사이클로헥실-1-메틸 에틸 퍼옥시 노에데카노에이트, 디-n-프로필 퍼옥시 디카보네이트, 디-이소프로필 퍼옥시 카보네이트, 비스(4-t-부틸 사이클로헥실) 퍼옥시 디카보네이트, 디-2-에톡시 메톡시 퍼옥시 디카보네이트, 디(2-에틸 헥실 퍼옥시) 디카보네이트, 디메톡시 부틸 퍼옥시 디카보네이트, 디(3-메틸-3-메톡시 부틸 퍼옥시) 디카보네이트, 1,1-비스(t-헥실 퍼옥시)-3,3,5-트리메틸 사이클로헥산, 1,1-비스(t-헥실 퍼옥시) 사이클로헥산, 1,1-비스(t-부틸 퍼옥시)-3,3,5-트리메틸 사이클로헥산, 1,1-(t-부틸 퍼옥시) 사이클로도데칸, 2,2-비스(t-부틸 퍼옥시)데칸, t-부틸 트리메틸 실릴 퍼옥사이드, 비스(t-부틸) 디메틸 실릴 퍼옥사이드, t-부틸 트리알릴 실릴 퍼옥사이드, 비스(t-부틸) 디알릴 실릴 퍼옥사이드,트리스(t-부틸) 아릴 실릴 퍼옥사이드로 이루어지는 군에서 선택된 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 바람직하게는, 라우로일 퍼옥사이드, 벤조일 퍼옥사이드, 이소부틸 퍼옥사이드일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. As the hardener, an organic peroxide can be used. The organic peroxide is selected from the group consisting of t-butyl peroxylaurate, 1,1,3,3-t-methylbutylperoxy-2-ethylhexanonate, 2,5-dimethyl- 2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl-2,5-di (m-toluoylperoxy) hexane, t-butylperoxy T-butyl peroxybenzoate, t-butyl peroxyacetate, dicumyl peroxide, 2,5, -dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, t-butyl cumyl peroxide, t-hexyl peroxyneodecanoate, t-hexyl peroxy-2-ethyl hexanonate, Butyl peroxyisobutyrate, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, t-hexylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylperoxy- Trimethyl hexanoate, t-butyl peroxy pivalate, cue Peroxyneodecanoate, di-isopropylbenzene hydroperoxide, cumene hydroperoxide, isobutyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, octanoyl peroxide But are not limited to, peroxide, oxides, lauroyl peroxide, stearoyl peroxide, succin peroxide, benzoyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, benzoyl peroxytoluene, 1,1,3,3- Peroxyneodecanoate, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxino edecanoate, di-n-propyl peroxydicarbonate, di-isopropyl peroxycarbonate, bis (4-t- Di (2-ethylhexyl peroxy) dicarbonate, dimethoxybutyl peroxy dicarbonate, di (3-methyl-3-methoxy Butyl peroxy) dicarbonate, 1 (T-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1- (T-butylperoxy) decane, t-butyltrimethylsilyl peroxide, bis (t-butylperoxy) cyclododecane, 2,2- (T-butyl) dimethylsilyl peroxide, t-butyltriallyl silyl peroxide, bis (t-butyl) diallylsilyl peroxide, tris Or a mixture of two or more of them may be used. Preferably, it may be, but is not limited to, lauroyl peroxide, benzoyl peroxide, isobutyl peroxide.

경화제는 이방성 도전 필름 중 0.5 중량% 내지 10 중량%로 포함할 수 있고, 구체적으로 1 중량% 내지 8 중량%로 포함할 수 있으며, 보다 구체적으로, 2 중량% 내지 7 중량%로 포함할 수 있다. 상기 범위 내에서 접착제 중 경화하려는 성질과 접착제의 보존성을 균형 있게 구현할 수 있다.The curing agent may be included in the anisotropic conductive film in an amount of 0.5 to 10% by weight, specifically 1 to 8% by weight, and more specifically 2 to 7% by weight . Within the above range, the property of curing in the adhesive and the preservability of the adhesive can be balanced.

이방 도전성 필름은 분산제를 더 포함할 수 있다.The anisotropic conductive film may further include a dispersant.

분산제는 무기 입자 및/또는 도전성 입자를 잘 분산시킴으로써 이방 도전성 필름의 헤이즈를 높일 수 있다. 특히, 분산제는 실란 커플링제로 표면 처리된 무기 입자의 분산성을 높여 헤이즈를 높인다. 분산제는 당업자에게 알려진 통상의 분산제, 예를 들면 BYK 165 등을 사용할 수 있다. 분산제는 이방성 도전 필름 중 1 중량% 내지 10 중량%로 포함할 수 있고, 구체적으로 2 중량% 내지 7 중량%로 포함할 수 있다. 상기 범위 내에서 무기 입자를 분산시켜 헤이즈를 높이고, 접속 저항 및 접착력의 신뢰성을 높일 수 있다.The dispersing agent can increase the haze of the anisotropic conductive film by well dispersing the inorganic particles and / or the conductive particles. Particularly, the dispersant enhances the dispersibility of the inorganic particles surface-treated with the silane coupling agent to increase the haze. The dispersing agent may be a conventional dispersing agent known to those skilled in the art, for example, BYK 165 or the like. The dispersing agent may include 1 to 10% by weight of the anisotropic conductive film, specifically 2 to 7% by weight. It is possible to increase the haze by dispersing the inorganic particles within the above range, and to improve the reliability of the connection resistance and the adhesive force.

이방 도전성 필름은 180℃, 4MPa, 및 5초의 조건에서 압착한 후 측정한 90도 필 강도(peel strength) 접착력(B, 단위: gf/cm)과, 85℃ 및 85% 상대 습도에서 500시간 방치한 후 동일 방법으로 측정한 90도 필 강도 접착력(A, 단위: gf/cm)에 대하여, 하기 식 1에 따른 접착력 감소 비율이 30% 이하, 바람직하게는 20% 이하가 될 수 있다. The anisotropic conductive film was peeled at 90 DEG C for 5 hours at 85 DEG C and 85% relative humidity and peel strength adhesive strength (B, unit: gf / cm) measured after compression at 180 DEG C, 4 MPa and 5 seconds The adhesive strength reduction ratio according to the following formula 1 may be 30% or less, preferably 20% or less, with respect to the 90-degree peel strength adhesion (A, unit: gf / cm) measured by the same method.

<식 1><Formula 1>

접착력 감소 비율 = |A - B |/B x 100Adhesion reduction ratio = | A - B | / B x 100

식 1에서 A, B는 각각 600gf/cm 이상, 바람직하게는 600gf/cm 내지 1000gf/cm가 될 수 있다. In the formula (1), A and B may be 600 gf / cm or more, preferably 600 gf / cm to 1000 gf / cm, respectively.

이방 도전성 필름은 180℃, 4MPa 및 5초의 조건에서 압착한 후 측정한 접속 저항(D, 단위: Ω)과, 85℃ 및 85% 상대 습도에서 500시간 방치한 후 동일 방법으로 측정한 접속 저항(C, 단위: Ω)에 대하여, 하기 식 2에 따른 접속 저항 증가 비율이 100% 이하, 바람직하게는 50% 이하가 될 수 있다. The anisotropically conductive film was measured for connection resistance (D, unit: Ω) measured after compression at 180 ° C., 4 MPa and 5 seconds and connection resistance (D) measured in the same manner after left at 85 ° C. and 85% C, unit:?), The connection resistance increase ratio according to the following formula 2 may be 100% or less, preferably 50% or less.

<식 2><Formula 2>

접속 저항 증가 비율 = |C - D|/D x 100Connection resistance increase ratio = | C - D | / D x 100

식 2에서 D는 2Ω 이하, 바람직하게는 0.5Ω 내지 1.5Ω이 될 수 있다. 식 2에서 C는 4Ω 이하, 바람직하게는 1Ω 내지 3Ω이 될 수 있다. In the equation (2), D may be 2 Ω or less, preferably 0.5 Ω to 1.5 Ω. In the expression (2), C may be 4? Or less, preferably 1? To 3 ?.

이방 도전성 필름은 상술한 성분을 포함하는 이방 도전성 필름용 조성물을 이형 필름 위에 적당한 두께로 도포하고, 일정 시간 건조하여 제조될 수 있다. The anisotropic conductive film can be produced by applying a composition for anisotropic conductive films containing the above-described components onto a release film to a suitable thickness and drying for a certain period of time.

이방 도전성 필름은 박막의 두께로서 두께가 0.1㎛ 내지 10㎛, 바람직하게는 1㎛ 내지 5㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서 광학표시장치에 사용될 수 있다.The thickness of the anisotropically conductive film is as thin as 0.1 to 10 mu m, preferably 1 to 5 mu m. And can be used in an optical display device in the above range.

본 발명의 회로 접속 구조체는 배선 기판, 배선 기판 상에 탑재된 본 발명의 이방 도전성 필름, 및 이방 도전성 필름 상에 탑재된 칩을 포함할 수 있다. The circuit connection structure of the present invention may include a wiring board, an anisotropic conductive film of the present invention mounted on the wiring board, and a chip mounted on the anisotropic conductive film.

본 발명의 디스플레이 장치는 본 발명의 이방 도전성 필름 또는 회로 접속 구조체를 포함하고, 예를 들면 액정 디스플레이 장치 등을 포함할 수 있다.The display device of the present invention includes the anisotropic conductive film or circuit connection structure of the present invention, and may include, for example, a liquid crystal display device or the like.

이하, 본 발명의 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 하기 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되지는 않는다.Hereinafter, the configuration and operation of the present invention will be described in more detail with reference to embodiments of the present invention. However, the following examples are provided to aid understanding of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to the following examples.

실시예와 비교예에서 사용한 무기 입자인 실리카의 구성은 하기 표 1과 같다.The composition of the inorganic particles used in Examples and Comparative Examples is shown in Table 1 below.

무기 입자Inorganic particle 무기 입자
A
Inorganic particle
A
무기 입자
B
Inorganic particle
B
무기 입자
C
Inorganic particle
C
무기 입자
D
Inorganic particle
D
무기 입자
E
Inorganic particle
E
평균입경(㎛)Average particle diameter (占 퐉) D10D10 0.20.2 0.30.3 0.40.4 0.80.8 1One D50D50 0.80.8 0.70.7 1One 1.71.7 22 D90D90 1.51.5 2.22.2 2.72.7 3.23.2 4.54.5

실시예와 비교예에서 사용한 도전성 입자의 구성은 하기 표 2와 같다.The composition of the conductive particles used in Examples and Comparative Examples is shown in Table 2 below.

도전성 입자Conductive particle 도전성 입자
A
Conductive particle
A
도전성 입자
B
Conductive particle
B
도전성 입자
C
Conductive particle
C
도전성 입자
D
Conductive particle
D
도전성 입자
E
Conductive particle
E
평균입경(㎛)Average particle diameter (占 퐉) D10D10 0.30.3 0.50.5 0.80.8 1.31.3 1.91.9 D50D50 3.13.1 3.63.6 3.93.9 4.64.6 4.84.8 D90D90 4.94.9 5.95.9 6.26.2 6.66.6 6.96.9

실시예Example 1 One

필름 형성을 위한 매트릭스 역할의 바인더 수지로서는 20 부피%로 에틸아세테이트에 용해된 페녹시 수지(PKHH, Inchemrez사, 미국) 25 중량부 및 아크릴로니트릴 부타디엔 고무 수지(NBR, ZEON) 5 중량부, 경화 반응이 수반되는 라디칼 중합성 물질로서는 우레탄계 아크릴 수지(UA340P, Shin-Nakamura) 25 중량부, 다관능성 폴리에스테르 아크릴 수지(PS610, Miwon) 25중량부, 우레탄계 아크릴 수지(EB220, Skcytec) 5중량부, 열경화성 라디칼 경화제로 BPO(Sigma-aldrich) 와 LPO(Sigma-aldrich)의 혼합물 5중량부, 이방 전도성 필름에 도전 성능을 부여해주기 위한 필러로서 도전성 입자로 도전성 입자 A 5중량부, 무기 입자로서 무기 입자 A 5중량부를 혼합하여 이방 도전성 필름용 조성물을 제조하였다. 상기와 같이 제조한 이방 도전성 필름용 조성물을 각각 백색 이형 필름 위에 도포한 후 70℃ 건조기에서 5분간 용제를 휘발시켜 4㎛ 두께의 건조된 이방 도전성 필름을 얻었다.As the binder resin serving as a matrix for film formation, 25 parts by weight of a phenoxy resin (PKHH, Inchemrez, USA) dissolved in ethyl acetate at 20% by volume, 5 parts by weight of acrylonitrile butadiene rubber resin (NBR, ZEON) 25 parts by weight of a urethane-based acrylic resin (UA340P, Shin-Nakamura), 25 parts by weight of a polyfunctional polyester acrylic resin (PS610, Miwon), 5 parts by weight of a urethane-based acrylic resin (EB220, Skcytec) 5 parts by weight of a mixture of BPO (Sigma-aldrich) and LPO (Sigma-aldrich) as a thermosetting radical curing agent, 5 parts by weight of conductive particles A as conductive particles as fillers for imparting conductivity to the anisotropic conductive film, A were mixed to prepare a composition for anisotropic conductive films. The composition for anisotropic conductive films prepared as described above was coated on a white release film, and the solvent was evaporated for 5 minutes in a drier at 70 ° C to obtain a dried anisotropic conductive film having a thickness of 4 μm.

실시예Example 2 내지  2 to 실시예Example 44

실시예 1에서, 각 성분의 함량, 도전성 입자의 종류, 무기 입자의 종류를 하기 표 3(단위: 중량부)과 같이 변경한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 이방 도전성 필름을 얻었다.An anisotropic conductive film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the content of each component, the kind of conductive particles and the kind of inorganic particles were changed as shown in Table 3 (unit: parts by weight).

비교예Comparative Example 1 내지  1 to 비교예Comparative Example 2 2

실시예 1에서, 각 성분의 함량, 도전성 입자의 종류, 무기 입자의 종류를 하기 표 3과 같이 변경한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 이방 도전성 필름을 얻었다.An anisotropic conductive film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the content of each component, the kind of conductive particles, and the kind of inorganic particles were changed as shown in Table 3 below.

상품명product name 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 실시예4Example 4 바인더
수지
bookbinder
Suzy
NBRNBR 55 55 55 55 55 55
PKHHPKHH 2020 2525 2525 2525 2525 2020 라디칼 중합성
물질
Radical polymerizable
matter
EB220EB220 1010 55 55 55 55 55
UA340PUA340P 2525 2525 2525 2525 2525 2020 PS610PS610 2525 2525 2525 2525 2525 2020 경화제Hardener BPOBPO 33 33 33 33 33 33 LPOLPO 22 22 22 22 22 22 도전성 입자Conductive particle 종류Kinds DD EE AA BB CC AA 함량content 55 55 55 55 55 55 무기 입자Inorganic particle 종류Kinds DD EE AA BB CC AA 함량content 55 55 55 55 55 2020

실시예와 비교예에서 제조한 이방 도전성 필름에 대하여 하기 물성을 평가하고 그 결과를 하기 표 4에 나타내었다.The following properties of the anisotropic conductive films prepared in Examples and Comparative Examples were evaluated, and the results are shown in Table 4 below.

(1) 헤이즈와 전광선 투과율: 실시예와 비교예의 이방 도전성 필름을 길이 x 폭(2cm x 5cm)으로 샘플링하여 슬라이드 글라스 위에 올려 놓는다. 40℃ 오븐에 1분간 방치하여 밀착시킨 후 백색 이형 필름을 최대한 자국 없이 박리시킨다. filmetrics F10-RT에 시편을 넣고 헤이즈와 전광선 투과율을 측정한다.(1) Haze and total light transmittance: The anisotropic conductive films of Examples and Comparative Examples were sampled with a length x width (2 cm x 5 cm) and placed on a slide glass. Leave in the oven for 1 minute at 40 ° C to make the white release film peel off as much as possible. Put the specimen into a filmetrics F10-RT and measure the haze and total light transmittance.

(2) 접속 저항: 간격 50㎛ pitch, 두께 2000Å의 인듐 틴 옥사이드(ITO) 회로가 있는 유리 기판과 50㎛ pitch COF를 사용하여 실시예와 비교예의 이방 도전성 필름으로 상/하 계면 간을 압착한 후, 180℃에서 4MPa의 압력으로 5초간 가압 가열하여 샘플당 5개의 시편을 제작하였다. 4단자 측정 방법으로 접속 저항을 측정하였다. (2) Connection resistance: A glass substrate having an interval of 50 占 퐉 pitch and an indium tin oxide (ITO) circuit having a thickness of 2000 占 and a 50 占 퐉 pitch COF were squeezed between the upper and lower interfaces with the anisotropic conductive films of Examples and Comparative Examples Thereafter, the sample was heated under pressure of 180 MPa at 4 MPa for 5 seconds to prepare five specimens per sample. The connection resistance was measured by the 4-terminal measurement method.

신뢰성 평가로서 상기 접속 저항 측정이 완료된 이방 도전성 필름을 85℃ 및 상대 습도 85%의 고온 고습에 투입하여 각각 250 시간과 500 시간 방치한 후 상기와 동일한 방법으로 접속 저항을 측정하였다.As a reliability evaluation, the anisotropically conductive film having the connection resistance measurement completed was placed in a high temperature and high humidity environment at 85 캜 and 85% relative humidity, and left for 250 hours and 500 hours, respectively, and then the connection resistance was measured in the same manner as described above.

(3) 접착력: 이방전도성 필름의 기재에 대한 접착 특성을 파악하기 위하여 두께 2000Å 인듐 틴 옥사이드(ITO) 유리 기판과 50 pitch COF를 사용하여 상기 제조한 각각의 이방 도전성 필름으로 상/하 계면 간을 압착한 후, 180℃의 온도 조건에서 4MPa의 압력으로 5초간 가압 가열하여 샘플당 5개의 시편을 제작하였다, 이를 시마즈 UTM을 사용하여 90도 peel strength를 측정하였다.(3) Adhesion force: In order to determine the adhesion properties of the anisotropic conductive film to the substrate, the anisotropic conductive film prepared above was subjected to a top-to-bottom interface with a 2000 Å thick indium tin oxide (ITO) glass substrate and 50 pitch COF After pressing, the specimens were pressed under a pressure of 4 MPa at a temperature of 180 ° C for 5 seconds to prepare five specimens per sample. The 90 degree peel strength was measured using Shimadzu UTM.

신뢰성 평가로서 상기 접착력 측정이 완료된 이방 도전성 필름을 85℃ 및 상대 습도 85%의 고온 고습에 투입하고 각각 250시간과 500시간 방치한 후 상기와 동일한 방법으로 접착력을 측정하였다.As an evaluation of reliability, the anisotropic conductive film having the above adhesive force measurement was put into high temperature and high humidity at 85 캜 and 85% relative humidity, and left for 250 hours and 500 hours, respectively, and the adhesive force was measured in the same manner as above.

(4) 가압착한 후 필름의 가압착 완료 여부 평가: 이방도전성 필름을 가압착기를 이용하여 1Mpa/1s의 조건에서 가압착 한 후, 이형 필름을 박리한다, 박리된 시편을 현미경으로 관찰하고, 이방 도전성 필름의 부착된 부위의 사이드 박리(들뜸) 및 중간 버블 등의 이상 유무를 확인하였다.(4) Evaluation of whether or not the film was press-fitted after press-bonding: The anisotropic conductive film was press-bonded under the condition of 1 MPa / 1 s using a presser, and then the release film was peeled off. The peeled specimen was observed with a microscope, Side peeling (lifting) of the adhered portion of the conductive film and the presence of an abnormality such as an intermediate bubble were confirmed.

비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 실시예4Example 4 헤이즈(%)Haze (%) 4343 4343 7373 6565 5151 7878 전광선 투과율(%)Total light transmittance (%) 5151 5151 2222 2727 3737 2020 접속 저항
(Ω)
Connection resistance
(Ω)
초기Early 2.12.1 2.12.1 0.90.9 1.01.0 0.90.9 0.80.8
신뢰성 250시간 Reliability 250 hours 3.13.1 3.13.1 1.21.2 1.31.3 1.21.2 1.21.2 신뢰성 500 시간Reliability 500 hours 5.05.0 5.05.0 1.51.5 1.71.7 1.51.5 1.41.4 접착력
(gf/cm)
Adhesion
(gf / cm)
초기Early 600600 600600 890890 840840 890890 850850
신뢰성 250시간 Reliability 250 hours 510510 510510 840840 800800 840840 820820 신뢰성 500 시간Reliability 500 hours 400400 400400 780780 710710 780780 730730 필름의 가압착 완료 평가Evaluation of pressure bonding completion of film 들뜸Lifting 들뜸Lifting 양호Good 양호Good 양호Good 양호Good

상기 표 4에서 나타난 바와 같이, 본 실시예에 따른 이방 도전성 필름은 헤이즈가 50% 이상으로 안료, 염료 등의 유색 재료를 포함하지 않더라도 가압착 완료 여부를 쉽게 확인할 수 있다. 본 실시예에 따른 이방 도전성 필름은 초기 및 신뢰성 평가 후의 접착력, 접속 저항이 우수하였다.As shown in Table 4, the anisotropic conductive film according to the present embodiment can easily confirm whether the pressure bonding is completed even if the haze is 50% or more and does not include a pigment such as a pigment or a dye. The anisotropic conductive film according to this example was excellent in adhesion and connection resistance after initial and reliability evaluation.

본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

Claims (14)

바인더, 라디칼 중합성 물질, 경화제, 무기 입자 및 도전성 입자를 포함하는 이방 도전성 필름이고,
상기 이방 도전성 필름은 헤이즈가 50% 이상이고,
상기 무기 입자는 평균 입경(D10)이 0.1㎛ 이상 0.5㎛ 이하이고,
상기 도전성 입자는 평균 입경(D10)이 0.1㎛ 이상 1㎛ 이하인 것인, 이방 도전성 필름.
A thermosetting resin, a binder, a radical polymerizing substance, a curing agent, inorganic particles and conductive particles,
The anisotropic conductive film has a haze of 50% or more,
Wherein the inorganic particles have an average particle diameter (D10) of 0.1 占 퐉 or more and 0.5 占 퐉 or less,
Wherein the conductive particles have an average particle diameter (D10) of 0.1 占 퐉 or more and 1 占 퐉 or less.
제1항에 있어서, 상기 이방 도전성 필름은 헤이즈가 50% 이상 90% 이하인 것인, 이방 도전성 필름.
The anisotropic conductive film according to claim 1, wherein the anisotropic conductive film has a haze of 50% or more and 90% or less.
제1항에 있어서, 상기 무기 입자는 구형의 실리카를 포함하는 것인, 이방 도전성 필름.
The anisotropic conductive film according to claim 1, wherein the inorganic particles comprise spherical silica.
제1항에 있어서, 상기 무기 입자는 실란 화합물로 표면 처리된 것인, 이방 도전성 필름.
The anisotropic conductive film according to claim 1, wherein the inorganic particles are surface-treated with a silane compound.
제1항에 있어서, 상기 도전성 입자는 절연 입자를 포함하는 것인, 이방 도전성 필름.
The anisotropic conductive film according to claim 1, wherein the conductive particles comprise insulating particles.
제1항에 있어서, 상기 무기 입자와 상기 도전성 입자 전체는 상기 이방 도전성 필름 중 1 중량% 이상 50 중량% 이하로 포함되는 것인, 이방 도전성 필름.
The anisotropic conductive film according to claim 1, wherein the inorganic particles and the whole conductive particles are contained in an amount of 1 wt% to 50 wt% of the anisotropic conductive film.
제1항에 있어서, 상기 바인더 수지는 아크릴로니트릴 부타디엔 고무 수지와 페녹시 수지의 혼합물을 포함하는 것인, 이방 도전성 필름.
The anisotropic conductive film of claim 1, wherein the binder resin comprises a mixture of an acrylonitrile butadiene rubber resin and a phenoxy resin.
제1항에 있어서, 상기 라디칼 중합성 물질은 우레탄계 (메트)아크릴레이트 수지와 다관능성 폴리에스테르 (메트)아크릴레이트 수지의 혼합물을 포함하는 것인, 이방 도전성 필름.
The anisotropic conductive film of claim 1, wherein the radically polymerizable material comprises a mixture of a urethane (meth) acrylate resin and a polyfunctional polyester (meth) acrylate resin.
제1항에 있어서, 상기 이방 도전성 필름은 상기 바인더 20 중량% 내지 80 중량%, 상기 라디칼 중합성 물질 10 중량% 내지 70 중량%, 상기 경화제 0.5 중량% 내지 10 중량%, 상기 무기 입자 0.1 중량% 내지 30 중량% 및 상기 도전성 입자 1 중량% 내지 20 중량%를 포함하는 것인, 이방 도전성 필름.
The anisotropically conductive film according to claim 1, wherein the anisotropic conductive film comprises 20 to 80% by weight of the binder, 10 to 70% by weight of the radical polymerizable substance, 0.5 to 10% by weight of the curing agent, 0.1% To 30% by weight of the conductive particles and 1% to 20% by weight of the conductive particles.
제1항에 있어서, 상기 이방 도전성 필름은 분산제를 더 포함하는 것인, 이방 도전성 필름.
The anisotropic conductive film of claim 1, wherein the anisotropic conductive film further comprises a dispersing agent.
제1항에 있어서, 상기 이방 도전성 필름은 하기 식 1의 접착력 감소 비율이 30% 이하인 것인, 이방 도전성 필름:
<식 1>
접착력 감소 비율 = |A - B|/B x 100
(상기 식 1에서, B는 상기 이방 도전성 필름을 180℃, 4MPa 및 5초의 조건에서 압착한 후 측정한 90도 필 강도(peel strength) 접착력(단위:gf/cm),
A는 상기 이방 도전성 필름을 85℃ 및 85% 상대습도에서 500시간 방치한 후 상기와 동일 방법으로 측정한 90도 필 강도 접착력(단위:gf/cm)).
The anisotropically conductive film according to claim 1, wherein the anisotropic conductive film has an adhesive strength reduction ratio of 30%
<Formula 1>
Adhesion reduction ratio = | A - B | / B x 100
(In the formula 1, B is the peel strength adhesive force (unit: gf / cm) measured after pressing the anisotropic conductive film at 180 DEG C, 4 MPa and 5 seconds,
A is the 90 degree peel strength adhesive force (unit: gf / cm) measured by the same method as above after the anisotropic conductive film is allowed to stand at 85 DEG C and 85% relative humidity for 500 hours.
제1항에 있어서, 상기 이방 도전성 필름은 하기 식 2의 접속 저항 증가 비율이 100% 이하인 것인, 이방 도전성 필름:
<식 2>
접속 저항 증가 비율 = |C - D|/D x 100
(상기 식 2에서, D는 상기 이방 도전성 필름을 180℃, 4MPa 및 5초의 조건에서 압착한 후 측정한 접속 저항(단위:Ω),
C는 상기 이방 도전성 필름을 85℃ 및 85% 상대습도에서 500시간 방치한 후 상기와 동일 방법으로 측정한 접속 저항(단위:Ω)).
The anisotropic conductive film according to claim 1, wherein the anisotropic conductive film has a connection resistance increase ratio of 100%
<Formula 2>
Connection resistance increase ratio = | C - D | / D x 100
(In the above formula 2, D represents the connection resistance (unit: Ω) measured after the anisotropic conductive film is pressed at 180 ° C., 4 MPa and 5 seconds,
C is a connection resistance (unit: Ω) measured in the same manner as above after the anisotropic conductive film is allowed to stand at 85 ° C. and 85% relative humidity for 500 hours.
제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따른 이방 도전성 필름을 포함하는 접속 구조체.
A connection structure comprising an anisotropic conductive film according to any one of claims 1 to 12.
제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따른 이방 도전성 필름을 포함하는 디스플레이 장치.

A display device comprising an anisotropic conductive film according to any one of claims 1 to 12.

KR1020170140511A 2017-10-26 2017-10-26 Anisotropic conductive film, connection structure comprising the same and display apparatus comprising the same KR102146998B1 (en)

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