KR101892341B1 - Anisotropic conductive film - Google Patents

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KR101892341B1 KR1020160049231A KR20160049231A KR101892341B1 KR 101892341 B1 KR101892341 B1 KR 101892341B1 KR 1020160049231 A KR1020160049231 A KR 1020160049231A KR 20160049231 A KR20160049231 A KR 20160049231A KR 101892341 B1 KR101892341 B1 KR 101892341B1
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Abstract

본 발명은 열기계분석기(Thermo Mechanical Analyzer)에서 20℃에서의 이방성 도전 필름의 Z축 방향의 길이를 T0, 20℃ 에서 10℃/min 승온속도로 220 ℃까지 가열 후 10℃/min 감온속도로 감온하여 20℃ 에서 측정한 Z축 방향의 길이를 T1이라 할 때, 하기 식 1로 표시되는 치수변화율(Dimensional change)이 0% 내지 10% 이며, 50℃ 내지 80℃, 1 내지 3초간 및 1.0MPa 내지 3.0MPa의 조건에서 가압착하고, 120℃ 내지 160℃, 1 내지 5초간 및 60MPa 내지 90MPa의 압력 조건 하에서 본압착한 후, 85℃ 및 상대 습도 85%의 조건하에서 500 시간 동안 방치한 후의 신뢰성 버블 면적이 10% 이하인 이방성 도전 필름을 제공하기 위한 것이며, 바인더 수지 및 경화제로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상과 동일한 종류의 관능기를 포함하도록 표면 처리된 무기필러를 사용한 이방성 도전 필름을 제공한다.
<식 1>
┃ T0 - T1 ┃ / T0 × 100
In the present invention, the length of the anisotropic conductive film in the Z axis direction at 20 ° C is measured by a thermo mechanical analyzer at T 0 , the temperature is raised from 20 ° C to 220 ° C at a heating rate of 10 ° C / min at 20 ° C, And the length in the Z-axis direction measured at 20 캜 is T 1 , the dimensional change represented by the following formula 1 is 0% to 10%, the temperature is 50 ° C to 80 ° C for 1 to 3 seconds Pressed under the conditions of a pressure of 1.0 MPa to 3.0 MPa and subjected to pressure bonding at 120 to 160 DEG C for 1 to 5 seconds under a pressure of 60 to 90 MPa and then left for 500 hours under the conditions of 85 DEG C and 85% And an anisotropic conductive film using an inorganic filler surface-treated so as to contain a functional group of the same kind as any one or more selected from the group consisting of a binder resin and a curing agent, I will.
<Formula 1>
┃ T 0 - T 1 ┃ / T 0 × 100

Description

이방성 도전 필름{ANISOTROPIC CONDUCTIVE FILM}ANISOTROPIC CONDUCTIVE FILM [0002]

본 발명은 이방성 도전 필름에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 상기 이방성 도전 필름의 일 구성요소인 바인더 수지 및 경화제로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상과 동일한 종류의 관능기를 포함하도록 표면 처리된 무기필러를 사용함으로써, 필름의 두께 방향으로 측정된 치수변화율(Dimensional change), 신뢰성 버블 면적, 및 모듈러스 등 물성이 향상된 이방성 도전 필름을 제공한다.The present invention relates to an anisotropic conductive film. More specifically, the present invention uses an inorganic filler surface-treated so as to include a functional group of the same kind as any one or more selected from the group consisting of a binder resin and a curing agent, which are components of the anisotropic conductive film, A dimensional change, a reliable bubble area, and a modulus of the anisotropic conductive film.

최근 대형화 및 박형화 추세에 있는 디스플레이 산업의 경향에 따라 전극 및 회로들 간의 피치 또한 점차 미세화되고 있다. 이러한 미세 회로 단자들을 접속하기 위한 배선 기구 중의 하나로서 이방성 도전 필름이 매우 중요한 역할을 수행하고 있다. 그 결과 이방성 도전 필름은 전기적 접속 재료로 많은 주목을 받고 있다.The pitch between the electrode and the circuit is gradually becoming finer according to the tendency of the display industry in the trend of becoming larger and thinner in recent years. Anisotropic conductive films play a very important role as one of the wiring mechanisms for connecting these fine circuit terminals. As a result, the anisotropic conductive film has received much attention as an electrically connecting material.

이방성 도전 필름은 접착제 성분에 미세한 도전볼 입자를 균일하게 분산시켜 열과 압에 의해 접착이 일어나는 소재로, XY축 방향으로는 절연을 Z축 방향으로는 도전성을 갖는 필름이다. 이방성 도전 필름은 액정디스플레이, 퍼스널컴퓨터, 휴대 통신기기 등과 같은 전자제품의 제조 시에 반도체 소자와 같은 소형 전기 부품을 기판에 전기적으로 접속시키거나 기판 사이를 전기적으로 접속하기 위해 사용된다.The anisotropic conductive film is a material in which fine conductive ball particles are uniformly dispersed in an adhesive component and adhered to each other by heat and pressure, and has insulation in the XY axis direction and conductivity in the Z axis direction. The anisotropic conductive film is used for electrically connecting small electrical components such as semiconductor elements to a substrate or electrically connecting the substrates when manufacturing electronic products such as liquid crystal displays, personal computers, and portable communication devices.

종래의 이방성 도전 필름에 사용되는 바인더부는 필름 형성제로서의 역할을 수행하며, 접속 신뢰성에 크게 기여하지 못하고, 주로 사용되던 낮은 유리전이온도의 고분자 수지로 인하여 접속 구조 내에 수축과 팽창이 반복되어 장기 접속 및 접착 신뢰성을 보장할 수 없는 문제점이 있었다. The binder portion used in the conventional anisotropic conductive film plays a role as a film forming agent and does not greatly contribute to the connection reliability and is repeatedly shrunk and expanded in the connection structure due to the polymer resin having a low glass transition temperature, And adhesion reliability can not be assured.

종래 이와 같은 문제를 해결하기 위하여 알려진 방법으로는 유리 전이 온도(Tg)가 높은 바인더 수지를 사용하는 방법(일본공개특허 제2011-0159486호 등)이 있다. 그러나, 유리 전이 온도가 높은 바인더 수지를 사용하는 경우, 모듈러스가 높아서 수축 및 팽창에 대한 물성의 변화가 없을지라도 수지의 흐름성이 저하되어 압흔이 약해지는 결과, 도전 입자의 접촉 면적이 감소하게 됨으로써 장기간 고온에 방치될 시, 접속 저항 저하를 막지 못하는 문제가 있었다.Conventionally known methods for solving such problems include a method of using a binder resin having a high glass transition temperature (Tg) (Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2011-0159486). However, when a binder resin having a high glass transition temperature is used, the flowability of the resin is lowered and the indentation is weakened even though there is no change in the physical properties to shrinkage and expansion due to the high modulus. As a result, There has been a problem in that a decrease in connection resistance can not be prevented when the device is left at a high temperature for a long period of time.

일본공개특허공보 A 제2011-0159486호 (2011.08.08.공개)Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2011-0159486 (Published August 8, 2011)

본 발명의 일 목적은 본압착 이후 부피가 팽창하는 정도를 억제하고, 버블 면적을 감소시키며, 모듈러스(Modulus)를 개선시킴으로써, 피접속부재와 균일하게 접착되도록 하여 접착력을 향상시킴으로써 접착력 및 저항특성을 향상시킬 수 있는 이방성 도전 필름을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to improve adhesion and resistance characteristics by improving the adhesion by uniformly adhering to the member to be connected by suppressing the extent of expansion of the volume, reducing the bubble area, and improving the modulus And to provide an anisotropic conductive film which can be improved.

본 발명의 또 다른 목적은 접속 신뢰성 및 장기 신뢰성이 우수한 이방 도전성 필름을 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide an anisotropic conductive film excellent in connection reliability and long-term reliability.

본 발명의 한 양태에서, In one aspect of the invention,

열기계분석기(Thermo Mechanical Analyzer)에서 20℃에서의 이방성 도전 필름의 Z축 방향의 길이를 T0, 20℃ 에서 10℃/min 승온속도로 220 ℃까지 가열 후 10℃/min 감온속도로 감온하여 20℃ 에서 측정한 Z축 방향의 길이를 T1이라 할 때, 하기 식 1로 표시되는 치수변화율(Dimensional change)이 0% 내지 10% 이며,Thermomechanical analyzer (Thermo Mechanical Analyzer) from the temperature sensing with the length of the Z-axis direction of the anisotropic conductive film T 0, then heated at 20 ℃ to 10 ℃ / min rate of temperature rise up to 220 ℃ 10 ℃ / min heat-sensing rate in 20 ℃ And a length in the Z-axis direction measured at 20 캜 is T 1 , the dimensional change represented by the following formula (1) is 0% to 10%

50℃ 내지 80℃, 1 내지 3초간 및 1.0MPa 내지 3.0MPa의 조건에서 가압착하고, 120℃ 내지 160℃, 1 내지 5초간 및 60MPa 내지 90MPa의 압력 조건 하에서 본압착한 후, 85℃ 및 상대 습도 85%의 조건하에서 500 시간 동안 방치한 후의 신뢰성 버블 면적이 10% 이하인, 이방성 도전 필름이 제공된다.Pressed at a temperature of 50 to 80 ° C for 1 to 3 seconds and at a pressure of 1.0 to 3.0 MPa and pressure-bonded at 120 to 160 ° C for 1 to 5 seconds under a pressure of 60 to 90 MPa, And a reliability bubble area after standing for 500 hours under a condition of 85% is 10% or less.

<식 1><Formula 1>

┃ T0 - T1 ┃ / T0 × 100┃ T 0 - T 1 ┃ / T 0 × 100

본 발명의 상기 양태에서, 바인더 수지; 경화제; 무기필러; 및 도전입자;를 포함하고, 상기 무기필러는 상기 바인더 수지 및 상기 경화제로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상과 동일한 종류의 관능기를 하나 이상 포함하도록 표면 처리된, 이방성 도전 필름이 제공된다.In this embodiment of the present invention, the binder resin; Curing agent; Inorganic filler; And an inorganic filler, wherein the inorganic filler is surface-treated to include at least one functional group of the same kind as any one or more selected from the group consisting of the binder resin and the curing agent.

본 발명의 또 다른 양태에서, 바인더 수지; 경화제; 무기필러; 및 도전입자;를 포함하고, 상기 무기필러는 상기 바인더 수지 및 상기 경화제로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상과 동일한 종류의 관능기를 하나 이상 포함하도록 표면 처리되고, 상기 무기필러는 상기 이방성 도전 필름 고형 100 중량부를 기준으로 10 중량부 내지 30 중량부인, 이방성 도전 필름이 제공된다.In another embodiment of the present invention, the binder resin; Curing agent; Inorganic filler; And the inorganic filler is surface-treated so as to include at least one functional group of the same kind as any one or more selected from the group consisting of the binder resin and the curing agent, and the inorganic filler is an anisotropic conductive film solid And 10 parts by weight to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the anisotropic conductive film.

본 발명의 상기 양태에서, 상기 이방성 도전 필름 고형 100 중량부를 기준으로, 상기 바인더 수지가 10 중량부 내지 65 중량부, 상기 경화제가 5 중량부 내지 20 중량부, 상기 무기필러가 10 중량부 내지 30 중량부, 및 상기 도전입자가 1 중량부 내지 15 중량부인, 이방성 도전 필름이 제공된다.In the embodiment of the present invention, the binder resin is contained in an amount of 10 to 65 parts by weight, the curing agent is 5 to 20 parts by weight, the inorganic filler is contained in an amount of 10 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the anisotropic conductive film solid, By weight, and the conductive particles are 1 to 15 parts by weight.

본 발명의 상기 양태에서, 50℃ 내지 80℃, 1 내지 3초간 및 1.0MPa 내지 3.0MPa의 조건에서 가압착하고, 120℃ 내지 160℃, 1 내지 5초간 및 60MPa 내지 90MPa의 압력 조건 하에서 본압착한 후, 온도 85℃ 및 상대 습도 85%의 조건하에서 500 시간 동안 방치한 후의 상기 이방성 도전 필름의 접착력이 1,100 gf/cm 이상인, 디스플레이 장치가 제공된다.In this embodiment of the present invention, press-bonding is carried out under the conditions of 50 ° C to 80 ° C for 1 to 3 seconds and 1.0 MPa to 3.0 MPa and compression bonding is carried out under pressure conditions of 120 ° C to 160 ° C for 1 to 5 seconds and 60 MPa to 90 MPa The adhesive strength of the anisotropic conductive film after being left for 500 hours at a temperature of 85 캜 and a relative humidity of 85% is 1,100 gf / cm or more.

본 발명의 상기 양태에서, 50℃ 내지 80℃, 1 내지 3초간 및 1.0MPa 내지 3.0MPa의 조건에서 가압착하고, 120℃ 내지 160℃, 1 내지 5초간 및 60MPa 내지 90MPa의 압력 조건 하에서 본압착한 후, 온도 85℃ 및 상대 습도 85%의 조건하에서 500 시간 동안 방치한 후의 상기 이방성 도전 필름의 접속저항이 1.0 Ω 이하인, 디스플레이 장치가 제공된다. In this embodiment of the present invention, press-bonding is carried out under the conditions of 50 ° C to 80 ° C for 1 to 3 seconds and 1.0 MPa to 3.0 MPa and compression bonding is carried out under pressure conditions of 120 ° C to 160 ° C for 1 to 5 seconds and 60 MPa to 90 MPa The connection resistance of the anisotropic conductive film after being left for 500 hours at a temperature of 85 캜 and a relative humidity of 85% is 1.0 Ω or less.

본 발명의 일 양태에 따른 상기 이방성 도전 필름은 바인더 및 경화제로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상과 동일한 종류의 관능기를 하나 이상 포함하도록 표면 처리된 무기필러를 포함하므로, 경화된 이방성 도전 필름의 경화 구조를 매우 견고하도록 유도하여 고온 팽창 현상을 억제할 수 있고, 피착재와의 균일한 접착을 유도함으로써 초기 접착력, 접속저항 및 신뢰성 평가 후 접착력, 접속저항 특성을 향상시킬 수 있다.Since the anisotropic conductive film according to an embodiment of the present invention includes the inorganic filler surface-treated so as to include at least one functional group of the same kind as any one or more selected from the group consisting of a binder and a curing agent, The structure can be guided to be very firm to suppress the high-temperature expansion phenomenon, and the uniform adhesion to the adherend can be induced, thereby improving the initial adhesion, the connection resistance, the adhesive strength after the reliability evaluation, and the connection resistance characteristic.

도 1은 제1 전극(70)을 함유하는 제1 피접속부재(50)와, 제2 전극(80)을 포함하는 제2 피접속부재(60), 및 상기 제1 피접속부재와 상기 제2 피접속부재 사이에 위치하여 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극을 접속시키는 본 발명의 일 양태에 따른 이방성 도전 필름을 포함하는, 반도체 장치(30)의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 이방성 도전 필름의 열기계분석기(Thermomechanical Analyzer)에서의 가열 및 냉각에 따른 이방 도전성 필름의 Z축 방향의 길이 T0 내지 T1을 보여주는 그래프이다.
1 shows a first embodiment of the present invention in which a first connected member 50 including a first electrode 70, a second connected member 60 including a second electrode 80, 2 is a cross-sectional view of the semiconductor device 30 including an anisotropic conductive film according to an aspect of the present invention, which is located between the connected members and connects the first electrode and the second electrode.
2 is a graph showing the lengths T 0 to T 1 in the Z axis direction of the anisotropic conductive film according to heating and cooling in the thermomechanical analyzer of the anisotropic conductive film according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 발명에 대하여 보다 상세히 설명한다. 본 명세서에 기재되지 않은 내용은 본 발명의 기술 분야 또는 유사 분야에서 숙련된 자이면 충분히 인식하고 유추할 수 있는 것이므로 그 설명을 생략한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail. Those skilled in the art will appreciate that various modifications, additions, and substitutions are possible, without departing from the scope and spirit of the invention as disclosed in the accompanying claims.

본 발명은 열기계분석기(Thermo Mechanical Analyzer)에서 20℃에서의 이방성 도전 필름의 Z축 방향의 길이를 T0, 20℃ 온도에서 10℃/min 승온속도로 220 ℃까지 가열 후 10℃/min 감온속도로 감온하여 20℃ 에서 측정한 Z축 방향의 길이를 T1이라 할 때, 하기 식 1로 표시되는 치수변화율(Dimensional change)이 0% 내지 10% 이며, 50℃ 내지 80℃, 1 내지 3초간 및 1.0MPa 내지 3.0MPa의 조건에서 가압착하고, 120℃ 내지 160℃, 1 내지 5초간 및 60MPa 내지 90MPa의 압력 조건 하에서 본압착한 후, 85℃ 및 상대 습도 85%의 조건하에서 500 시간 동안 방치한 후의 신뢰성 버블 면적이 10% 이하인, 이방성 도전 필름을 제공한다.The invention thermomechanical analyzer (Thermo Mechanical Analyzer) 10 ℃ / min and then heating at up to 220 ℃ the length of the Z-axis direction of the anisotropic conductive film at 20 ℃ to 10 ℃ / min rate of temperature rise at T 0, 20 ℃ temperature thermosensitive And the length in the Z-axis direction measured at 20 캜 at a temperature of 20 캜 is T 1 , the dimensional change represented by the following formula (1) is 0% to 10% Sec. And a pressure of 1.0 MPa to 3.0 MPa. After compression bonding at 120 to 160 DEG C for 1 to 5 seconds and under a pressure of 60 to 90 MPa, it is left for 500 hours under the conditions of 85 DEG C and 85% And a reliability bubble area after the step of forming the conductive film is 10% or less.

<식 1><Formula 1>

┃ T0 - T1 ┃ / T0 × 100┃ T 0 - T 1 ┃ / T 0 × 100

상기 이방성 도전 필름은 바인더 수지; 경화제; 무기필러; 및 도전입자;를 포함하고, 상기 무기필러는 상기 바인더 수지 및 상기 경화제로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상과 동일한 종류의 관능기를 하나 이상 포함하도록 표면 처리된 것 일 수 있다.The anisotropic conductive film comprises a binder resin; Curing agent; Inorganic filler; And the conductive particles; and the inorganic filler may be surface-treated to include at least one functional group of the same kind as any one or more selected from the group consisting of the binder resin and the curing agent.

즉, 본 발명자들은 이방성 도전 필름의 무기필러가 상기 바인더 및/또는 상기 경화제와 동일한 종류의 관능기를 하나 이상 포함하도록 표면처리됨으로써, 상기 바인더 수지 및 상기 경화제와 결합력을 향상시키고, 경화된 이방성 도전 필름의 경화 구조를 매우 견고하도록 유도하여 고온 팽창 현상을 억제하고자 하였다. 이에 따라 제조된 이방성 도전 필름이 우수한 초기 접착력 및 낮은 접속 저항을 발현하고, 고온/고습 및 열충격 조건 하에서도 접속 및 접착 신뢰성이 유지됨으로써, 장기 신뢰성이 크게 향상될 수 있었다.That is, the present inventors have found that when the inorganic filler of the anisotropic conductive film is surface-treated so as to include at least one functional group of the same kind as that of the binder and / or the curing agent, And to suppress the high temperature expansion phenomenon. The anisotropic conductive film thus produced exhibited excellent initial adhesion and low connection resistance, and connection and adhesion reliability were maintained even under high temperature / high humidity and thermal shock conditions, and the long term reliability could be greatly improved.

본 발명에서 사용된 용어인 이방성 도전 필름의 Z축 방향의 길이는, 전극과 전극 사이에서 압착되는 방향으로의 필름의 두께를 지칭한다.The term in the Z axis direction of the anisotropic conductive film, which is the term used in the present invention, refers to the thickness of the film in the direction in which it is pressed between the electrode and the electrode.

상기 치수변화율은 단위 길이 당 팽창한 길이에 해당하는 열팽창계수로 이방성 도전 필름의 물성을 측정하던 종래의 방법과 상이하게 두께방향의 팽창 정도를 측정한 것으로, 이방성 도전 필름을 포함하는 디스플레이 장치의 접속 불량 또는 장기 신뢰성 등에 보다 직접적으로 영향을 미치는 요소이다.The dimensional change rate is a measure of the degree of expansion in the thickness direction different from the conventional method of measuring the physical properties of the anisotropic conductive film with the thermal expansion coefficient corresponding to the expanded length per unit length. Poor or long-term reliability.

도 2를 참조하면, 상기 치수변화율은 20℃에서 측정한 Z축 방향의 필름의 두께 T0 및 TA Instrument Q400 TMA 장비(제조원: TA社)를 이용하여 Film/Fiber Mode로 0.05N의 압력 하에 10℃/min의 속도로 20℃에서 220℃까지 가열 후 다시 동일한 속도로 감온한 후 20℃에서의 측정된 Z축 방향의 필름의 두께 T1을 각각 측정한 후, 상기 식 1에 따라 T0에서 T1으로 변화된 정도(%)를 측정하고 평균값을 계산함으로써 측정될 수 있다. Referring to FIG. 2, the rate of dimensional change is measured by using a film thickness T 0 measured in a Z axis direction at 20 ° C. and a film thickness of 10 μm under a pressure of 0.05 N in a film / fiber mode using a TA Instrument Q 400 TMA (manufactured by TA Corporation) ℃ / at a rate of min and then heated at 20 ℃ to 220 ℃ and then again measuring the thickness T 1 of the Z of the axial film measured in after 20 ℃ temperature sensing at the same speed, respectively, at T 0 according to the formula 1 By measuring the degree of change (%) to T 1 and calculating the average value.

본 발명의 일 양태에 따른 상기 이방성 도전 필름의 치수변화율이 0% 내지 10%가 되도록 제어함으로써, 전극과 전극 사이의 상기 이방성 도전 필름의 충진이 충분하여 압착 후 또는 신뢰성 평가 후 버블 발생을 억제할 수 있고, 상기 이방성 도전 필름의 경화 시 Z축 방향으로 부풀어 오르면서 전극과 전극 사이에 도전 입자가 충분히 접촉되지 않아 접속저항이 상승하는 문제를 억제할 수 있었다. 구체적으로 상기 치수변화율은 9% 이내, 보다 구체적으로 8% 이내가 될 수 있다.By controlling the dimensional change ratio of the anisotropic conductive film according to an embodiment of the present invention to be 0% to 10%, it is possible to sufficiently fill the anisotropic conductive film between the electrode and the electrode to suppress bubble generation after compression or after reliability evaluation And when the anisotropic conductive film is cured, the conductive particles are not sufficiently brought into contact with the electrode and the electrode due to swelling in the Z-axis direction, thereby suppressing the problem of increase in connection resistance. Specifically, the dimensional change rate may be within 9%, more specifically, within 8%.

상기 버블 면적은 상기 이방성 도전 필름의 시편에 대하여 현미경(BX51TRF, Olympus社)을 이용하여 10 군데의 사진을 찍은 후 이미지 아날라이져를 이용하여, 본딩 시의 피착재의 전극 면적 대비 스페이스부에서 발생한 버블의 면적 크기를 200 배의 배율로 비교하여 측정될 수 있다. 본 발명의 일 양태에 따른 상기 이방성 도전 필름의 버블 면적이 10 % 이하가 되도록 제어함으로써 피착재와의 접착력을 향상시킬 수 있다.The bubble area was measured with respect to the specimen of the anisotropic conductive film by using a microscope (BX51TRF, Olympus) after 10 photographs were taken, and the image analyzer was used to measure the bubble area of the bubble area Can be measured by comparing the area size with a magnification of 200 times. By controlling the bubble area of the anisotropic conductive film according to an embodiment of the present invention to 10% or less, it is possible to improve the adhesion with the adherend.

상기 관능기로는 에폭시기, 페닐 아민기, 비닐기, 페닐기, 아크릴기, 메타아크릴기, 및 다이메틸기로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 또는 이들의 조합을 사용할 수 있다. As the functional group, any one selected from the group consisting of an epoxy group, a phenylamine group, a vinyl group, a phenyl group, an acryl group, a methacrylic group, and a dimethyl group, or a combination thereof may be used.

상기 무기필러는 상기 이방성 도전 필름 고형 100 중량부를 기준으로 10 중량부 내지 30 중량부, 예를 들어 15 중량부 내지 25 중량부로 포함될 수 있다. 상기 무기필러의 함량이 10 중량부 내지 30 중량부인 경우, 이방성 도전 필름의 경화 구조를 견고하게 유도함으로써 고분자 수지의 강도, 강성, 내마모성을 향상시키거나 고온 팽창 현상을 억제할 수 있고, 이에 따라 우수한 초기 접착력 및 낮은 접속 저항을 발현할 수 있으며, 고온/고습 및 열충격 조건 하에서도 접속 및 접착 신뢰성을 유지시켜 장기 신뢰성을 향상시킬 수 있다.The inorganic filler may be included in an amount of 10 to 30 parts by weight, for example, 15 to 25 parts by weight based on 100 parts by weight of the anisotropic conductive film solid. When the content of the inorganic filler is 10 parts by weight to 30 parts by weight, the hardening structure of the anisotropic conductive film is firmly induced, thereby improving the strength, rigidity and abrasion resistance of the polymer resin or suppressing the high temperature expansion phenomenon, It is possible to develop an initial adhesive force and a low connection resistance, and to maintain connection and adhesion reliability under high temperature / high humidity and thermal shock conditions, thereby improving long term reliability.

상기 이방성 도전 필름은 상기 이방성 도전 필름 고형 100 중량부를 기준으로, 상기 바인더 수지가 10 중량부 내지 65 중량부, 상기 경화제가 5 중량부 내지 20 중량부, 상기 무기필러가 10 중량부 내지 30 중량부, 및 상기 도전입자가 1 중량부 내지 15 중량부일 수 있다. Wherein the anisotropic conductive film comprises 10 to 65 parts by weight of the binder resin, 5 to 20 parts by weight of the curing agent, 10 to 30 parts by weight of the inorganic filler based on 100 parts by weight of the anisotropic conductive film solid, , And the conductive particles may be 1 part by weight to 15 parts by weight.

상기 바인더 수지의 함량이 10 중량부 미만이면 이방성 도전 필름의 제조 시 필름 형성의 매트릭스 역할을 수행하기 불가능할 수 있고, 고온/고압 조건하에서 접속 시 경화부의 과도한 흐름성을 조절하기가 어렵게 되어 물성이 크게 저하되는 문제점이 발생할 수 있으며, 65 중량부를 초과하여 사용하게 되면 고온/고압 조건하에서 접속 시 흐름성이 매우 저하되어 도전입자가 충분히 접촉되지 못하는 문제점이 발생될 수 있다. If the content of the binder resin is less than 10 parts by weight, it may not be possible to perform a film forming matrix during the production of the anisotropic conductive film, and it may be difficult to control the excessive flowability of the cured portion under high temperature / If it is used in excess of 65 parts by weight, the flowability at the time of connection under high temperature / high pressure conditions may be very low, and conductive particles may not be sufficiently contacted.

또한, 상기 경화제 함량이 5 중량부 내지 20 중량부가 되도록 제어함으로써, 고온/고압 하에서 흐름 특성을 디스플레이 패널 실장 시의 공정 조건 별로 조절하기가 용이하게 되어 우수한 초기 접착력 및 낮은 접속 저항을 발현할 수 있고, 고온/고습 및 열충격 조건 하에서도 접속 및 접착 신뢰성을 유지시켜서 높은 신뢰성을 나타낼 수 있다. Further, by controlling the content of the curing agent to be 5 parts by weight to 20 parts by weight, it becomes easy to control flow characteristics under high temperature / high pressure according to processing conditions at the time of mounting a display panel, thereby exhibiting excellent initial adhesion and low connection resistance , High reliability can be achieved by maintaining connection and adhesion reliability under high temperature / high humidity and thermal shock conditions.

한편, 상기 무기필러의 함량은 상기 기술한 바와 같이 10 중량부 내지 30 중량부가 되도록 제어할 수 있고, 상기 도전입자의 함량은 적용되는 회로의 피치(pitch)에 따라 및 상기 무기필러의 함량에 따라 1 중량부 내지 15 중량부 사이에서 제어할 수 있다. The content of the inorganic filler can be controlled to be 10 parts by weight to 30 parts by weight as described above, and the content of the conductive particles can be controlled according to the pitch of the applied circuit and the content of the inorganic filler 1 to 15 parts by weight can be controlled.

본 발명의 일 양태에 따른 상기 이방성 도전 필름은 상기 기술한 바와 같이 표면 처리된 무기필러를 포함하고, 구체적으로 상기 무기필러가 상기 바인더 수지 및 상기 경화제로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상과 동일한 종류의 관능기를 하나 이상 포함하도록 표면 처리되도록 함으로써, 경화된 이방성 도전 필름의 경화 구조가 매우 견고해지도록 유도하여 고온 팽창 현상을 억제함으로써, 초기 접착력, 접속저항 및 신뢰성 평가 후 접착력, 접속저항 특성을 모두 향상시킬 수 있다.The anisotropic conductive film according to an embodiment of the present invention includes an inorganic filler surface-treated as described above. Specifically, the inorganic filler is the same as any one or more selected from the group consisting of the binder resin and the curing agent , The cured structure of the cured anisotropic conductive film is induced to be very rigid so that the high temperature expansion phenomenon is suppressed. Thus, the initial adhesion force, the connection resistance, the adhesion force after reliability evaluation, Can be improved.

본 발명의 이방성 도전 필름은 상기 조성물로 이루어진 경우, 경화 후 30℃에서의 모듈러스는 100 내지 400MPa가 바람직하며, 상기 범위에서 필름의 탄성력이 높아져 가압착시 압력을 균등하게 분배함으로써 젖음성 및 가압착성을 개선시킬 수 있고, 신뢰성을 향상시킬 수 있다.When the anisotropic conductive film of the present invention is formed of the above composition, the modulus at 30 ° C after curing is preferably 100 to 400 MPa, and the elasticity of the film is increased in the above range, thereby uniformly distributing the pressure during pressure application to improve the wettability and pressure- And reliability can be improved.

상기 모듈러스 측정방법은 시료를 hot press를 이용하여 경화시키고, 시차주사 열량측정법(differential scanning calorimetry, DSC)을 이용하여 상기 시료가 90%이상 경화되었음을 확인한 후, 10℃/min 속도로 -40℃부터 200℃까지 온도를 상승시키면서 DMA(Dynamic Mechanical Analyzer, TA社)를 이용하여 측정할 수 있다.The modulus measurement method is a method in which the sample is cured using a hot press and the sample is confirmed to have hardened by 90% or more using differential scanning calorimetry (DSC). The measurement can be performed using DMA (Dynamic Mechanical Analyzer, TA) while raising the temperature to 200 ° C.

이하, 본 발명의 이방성 도전 필름의 각 구성 성분에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, each component of the anisotropic conductive film of the present invention will be described in detail.

상기 이방성 도전 필름은, 바인더 수지; 경화제; 무기필러; 및 도전입자를 포함할 수 있다.Wherein the anisotropic conductive film comprises a binder resin; Curing agent; Inorganic filler; And conductive particles.

상기 바인더 수지의 비제한적이 예로는, 폴리이미드 수지, 폴리아미드 수지, 페녹시 수지, 폴리메타크릴레이트 수지, 폴리아크릴레이트 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리에스테르우레탄 수지, 폴리비닐 부티랄 수지, 스타이렌-부티렌-스타이렌(SBS) 수지, 에폭시 변성체, 스타이렌-에틸렌-부틸렌-스타이렌(SEBS) 수지 및 그 변성체, 아크릴산 에스테르 공중합체, 스타일렌 아크릴로 니트릴 수지, 아크릴로니트릴 부타디엔 고무, 우레탄 수지, 우레탄아크릴레이트 수지 및 그 수소화체 또는 이들의 조합을 들 수 있다. 본 발명에서 바인더 수지는 무기 필러의 관능기와 동일한 종류의 관능기를 이의 말단이나 구조 중에 갖는 것이라면 사용할 수 있다. 관능기로는 에폭시, 페닐 아민, 비닐, 페닐, 메타크릴, 및 다이메틸기로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 또는 이들의 조합을 사용할 수 있다.Non-limiting examples of the binder resin include polyimide resin, polyamide resin, phenoxy resin, polymethacrylate resin, polyacrylate resin, polyurethane resin, polyester resin, polyester urethane resin, polyvinyl butyral (SBS) resin, an epoxy modified product, a styrene-ethylene-butylene-styrene (SEBS) resin and its modified product, an acrylic acid ester copolymer, a styrene acrylonitrile resin, an acryl Rhenitrile butadiene rubber, urethane resin, urethane acrylate resin and hydrogenated product thereof, or a combination thereof. In the present invention, the binder resin can be used as long as it has a functional group of the same kind as the functional group of the inorganic filler in its terminal or structure. The functional group may be any one selected from the group consisting of epoxy, phenylamine, vinyl, phenyl, methacryl, and dimethyl groups, or a combination thereof.

구체적으로, 상기 바인더 수지로 아크릴로니트릴 부타디엔 고무를 사용할 경우, 아크릴로니트릴과 부타디엔의 유화 중합에 의해 제조될 수 있고, 공중합체 중 아크릴로니트릴과 부타디엔의 각각의 함량은 특별히 제한되지 않으며, 중합 방법도 특별히 제한되지 않는다. 아크릴로니트릴 부타디엔 고무는 중량평균분자량이 50,000g/mol 내지 2,000,000g/mol인 수지일 수 있다.Specifically, when acrylonitrile butadiene rubber is used as the binder resin, it can be produced by emulsion polymerization of acrylonitrile and butadiene. The content of each of acrylonitrile and butadiene in the copolymer is not particularly limited, The method is not particularly limited. The acrylonitrile butadiene rubber may be a resin having a weight average molecular weight of 50,000 g / mol to 2,000,000 g / mol.

본 발명에서 바람직하게는 카르복실기 변성 아크릴로니트릴 부타디엔 고무가 사용될 수 있으며, 상기 카르복실기의 존재로 인하여 수지 혼합물의 안정성을 증가시키므로 다른 수지 및 첨가제와의 혼화성을 향상시킬 수 있으며, 도포 특성 등 가공성을 용이하게 하는 작용을 할 수 있다. 또한, 극성 증가에 의해 접착력을 향상시키며, 내습성, 내열성 등의 물성도 향상시키는 작용을 할 수 있다.In the present invention, a carboxyl group-modified acrylonitrile butadiene rubber can be preferably used. Since the presence of the carboxyl group increases the stability of the resin mixture, it is possible to improve the miscibility with other resins and additives, It is possible to facilitate the operation. In addition, it is possible to improve the adhesive force by increasing the polarity and to improve the physical properties such as moisture resistance and heat resistance.

상기 카르복실기 변성 아크릴로니트릴 부타디엔 고무는 중량평균분자량이 2,000g/mol 내지 270,000g/mol이고, 상기 카르복실기 변성 아크릴로니트릴 부타디엔 고무 100 중량부 당 아크릴로니트릴 함유율이 10 중량부 내지 60 중량부이며, 카르복실기 함유율이 1 중량부 내지 20 중량부인 것이 바람직하다. 특히, 상기 카르복실기 변성 아크릴로니트릴 부타디엔 고무는 중량평균분자량이 3,000g/mol 내지 250,000g/mol이고, 아크릴로니트릴 함유율이 20 중량부 내지 50 중량부인 것이 더욱 바람직하다.Wherein the carboxyl group-modified acrylonitrile butadiene rubber has a weight average molecular weight of 2,000 g / mol to 270,000 g / mol, and the acrylonitrile content per 100 parts by weight of the carboxyl group-modified acrylonitrile butadiene rubber is 10 parts by weight to 60 parts by weight, The carboxyl group content is preferably 1 part by weight to 20 parts by weight. In particular, the carboxyl group-modified acrylonitrile butadiene rubber preferably has a weight average molecular weight of 3,000 g / mol to 250,000 g / mol and an acrylonitrile content of 20 to 50 parts by weight.

상기 카르복실기 변성 아크릴로니트릴 부타디엔 고무의 중량평균분자량이 2,000g/mol 미만일 경우에는 열안정성이 불량해지고, 270,000g/mol을 초과할 경우에는 용매에 대한 용해성이 열악해지며 용액 제조시 점도가 증가하여 작업성이 불량해지고, 접착력 또한 저하될 수 있다. 또한, 아크릴로니트릴 함량이 10 중량부 미만일 경우에는 용매 용해성이 낮아질 수 있고, 60 중량부를 초과할 경우에는 전기 절연성이 불량해질 수 있다.When the weight average molecular weight of the carboxyl group-modified acrylonitrile butadiene rubber is less than 2,000 g / mol, the thermal stability is poor. When the weight average molecular weight is more than 270,000 g / mol, the solubility in solvents is poor, The workability may be poor and the adhesive strength may be lowered. If the acrylonitrile content is less than 10 parts by weight, solvent solubility may be lowered. If the acrylonitrile content exceeds 60 parts by weight, electrical insulation may be poor.

상기와 같은 카르복실기 변성 아크릴로니트릴 부타디엔 고무는 당업계에서 사용되는 통상의 것이면 제한없이 사용할 수 있으며, 시판되고 있는 상품으로는 Du pont사의 Vamac MR, Vamac Ultra IP, VMX30380, Zeon사의 N34, Nipol NBR, 1072J, 1072CGX 등이 있고, 구체적으로는 20부피%로 에틸아세테이트에 용해된 카르복실기 변성 아크릴로니트릴 부타디엔 고무를 사용할 수 있다.Vamac MR, Vamac Ultra IP, VMX30380 from Du Pont, N34, Nipol NBR from Zeon Co., Ltd., Nipol NBR, and Nipol NBR are commercially available products as long as the carboxyl group modified acrylonitrile butadiene rubber can be used without limitation, 1072J, 1072CGX, etc. Specifically, carboxyl group-modified acrylonitrile butadiene rubber dissolved in ethyl acetate at 20% by volume can be used.

상기 아크릴로니트릴 부타디엔 고무는 바인더 수지의 한 성분으로 사용될 수 있고, 상기 이방성 도전 필름 고형 100 중량부를 기준으로 1 중량부 내지 10 중량부, 바람직하게는 3 중량부 내지 8 중량부를 사용할 수 있다. 상기 아크릴로니트릴 부타디엔 고무가 1 중량부 미만인 경우, 피착재와의 접착력이 열악해질 수 있고, 10 중량부 초과인 경우 바인더부의 분자량이 지나치게 높아져 열압착 공정 시 수지의 흐름성이 열악해짐에 따라 피착재와의 균일한 접착력이 달성되지 못할 수 있다.The acrylonitrile butadiene rubber may be used as a component of the binder resin, and 1 part by weight to 10 parts by weight, preferably 3 parts by weight to 8 parts by weight, based on 100 parts by weight of the anisotropic conductive film solid. When the amount of the acrylonitrile butadiene rubber is less than 1 part by weight, the adhesive strength with the adherend may be poor. When the amount exceeds 10 parts by weight, the molecular weight of the binder part becomes excessively high, Uniform adhesion with the ash may not be achieved.

또한, 본 발명에서 바람직하게 우레탄 아크릴레이트 수지가 사용될 수 있으며, 상기 우레탄 아크릴레이트 수지는 100℃ 이하의 유리전이온도를 갖기 때문에 열압착 공정 시 흐름성이 향상될 수 있고, 분자 내의 우레탄기에 의한 높은 접착력이 발현될 수 있고, 경화 성능이 향상되어 접속 공정의 온도를 낮출 수 있다.In the present invention, urethane acrylate resin can be preferably used. Since the urethane acrylate resin has a glass transition temperature of 100 캜 or less, the flowability in the thermocompression bonding step can be improved, and the urethane acrylate resin having a high The adhesive force can be developed, and the curing performance can be improved and the temperature of the connecting step can be lowered.

상기 우레탄 아크릴레이트 수지는 디이소시아네이트, 폴리올, 디올 및 아크릴레이트의 성분을 포함할 수 있지만, 이들에 제한되는 것은 아니다.The urethane acrylate resin may include, but is not limited to, components of diisocyanate, polyol, diol, and acrylate.

상기 디이소시아네이트는 방향족, 지방족, 지환족 디이소시아네이트, 이들의 조합물 등이 사용될 수 있고, 구체적으로, 디이소시아네이트는 테트라메틸렌-1,4-디이소시아네이트, 헤사메틸렌-1,6-디이소시아네이트, 시클로헥실렌-1,4-디이소시아네이트, 메틸렌비스(4-시클로헥실 디이소시아네이트), 이소포론 디이소시아네이트, 4-4 메틸렌비스(시클로헥실 디이소시아네이트) 등을 단독 또는 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The diisocyanate may be an aromatic, aliphatic, alicyclic diisocyanate, or a combination thereof. Specifically, the diisocyanate may be tetramethylene-1,4-diisocyanate, hexamethylene-1,6-diisocyanate, cyclo Hexylene 1,4-diisocyanate, methylene bis (4-cyclohexyl diisocyanate), isophorone diisocyanate, and 4-4 methylene bis (cyclohexyl diisocyanate). These may be used singly or in combination.

상기 폴리올은 분자쇄내에 2개 이상의 수산기를 가지는 폴리에스테르 폴리올, 폴리에테르 폴리올, 폴리카보네이트 폴리올 등을 사용할 수 있다. 폴리에스테르 폴리올은 디카르복실산 화합물과 디올 화합물의 축합 반응에 의하여 수득되는 것이 바람직하다. 여기서, 디카르복실산 화합물로는 숙신산, 글루타르산, 이소프탈산, 아디프산, 수베린산, 아젤란산, 세바스산, 도데칸디카르복실산, 헥사히드로프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 오르토-프탈산, 테트라클로로프탈산, 1,5-나프탈렌디카르복실산, 푸마르산, 말레인산, 이타콘산, 시트라콘산, 메사콘산, 테트라히드로프탈산 등이 있으며, 디올 화합물로는 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 1,3-프로판디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 네오펜틸글리콜, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 테트라에틸렌글리콜, 디부틸렌글리콜, 2-메틸-1,3-펜탄디올, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올, 1,4-시클로헥산디메탄올 등을 사용할 수 있다. 폴리에테르 폴리올로는 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리테트라에틸렌글리콜 등을 사용할 수 있다. 상기 폴리에테르 폴리올의 경우 폴리올의 중량평균분자량은 400 내지 10,000g/mol인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 400 내지 3,000g/mol일 수 있다. 폴리카보네이트 폴리올로는 폴리알킬렌 카보네이트와 실리콘 유래의 폴리카보네이트 폴리올 등을 사용할 수 있다.The polyol may be polyester polyol, polyether polyol, polycarbonate polyol or the like having two or more hydroxyl groups in the molecular chain. The polyester polyol is preferably obtained by a condensation reaction of a dicarboxylic acid compound and a diol compound. Examples of the dicarboxylic acid compound include succinic acid, glutaric acid, isophthalic acid, adipic acid, suberic acid, azelanic acid, sebacic acid, dodecanedicarboxylic acid, hexahydrophthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, ortho-phthalic acid , Diacrylate, tetrachlorophthalic acid, 1,5-naphthalene dicarboxylic acid, fumaric acid, maleic acid, itaconic acid, citraconic acid, mesaconic acid and tetrahydrophthalic acid. Examples of the diol compound include ethylene glycol, propylene glycol, Propane diol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, diethyleneglycol, dipropyleneglycol, triethyleneglycol, tetraethyleneglycol, di Butylene glycol, 2-methyl-1,3-pentanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol and the like. As the polyether polyol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetraethylene glycol and the like can be used. In the case of the polyether polyol, the weight average molecular weight of the polyol is preferably 400 to 10,000 g / mol, more preferably 400 to 3,000 g / mol. As the polycarbonate polyol, a polyalkylene carbonate and a polycarbonate polyol derived from a silicone can be used.

상기 디올로는 1,3-프로판디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 네오펜틸글리콜, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 테트라에틸렌글리콜, 디부틸렌글리콜, 2-메틸-1,3-펜탄디올, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올, 1,4-시클로헥산디메탄올 등을 사용할 수 있다.The diol may be selected from the group consisting of 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, Ethylene glycol, tetraethylene glycol, dibutylene glycol, 2-methyl-1,3-pentanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, have.

상기 아크릴레이트는 하이드록시 아크릴레이트 또는 아민 아크릴레이트를 포함할 수 있다.The acrylate may include hydroxy acrylate or amine acrylate.

상기 디이소시아네이트, 폴리올, 디올, 및 아크릴레이트로 구성되는 4가지 성분을 포함하여 형성되는 우레탄 아크릴레이트 수지는 아크릴레이트를 제외한 3가지 성분 중 디이소시아네이트기(NCO)/하이드록시기(OH)가 1.04 내지 1.6의 몰비이고, 아크릴레이트를 제외한 3가지 성분 중 폴리올의 함량이 70% 이하가 되도록 중합 반응시키는 단계 및 상기 중합 반응에 의해 합성된 우레탄의 말단 관능기인 디이소시아네이트기 중 어느 하나에 하이드록시 아크릴레이트 또는 아민 아크릴레이트를 0.1 내지 2.1의 몰비로 반응시키는 단계로 제조할 수 있다. 추가로, 잔류 이소시아네이트기는 알코올류를 사용하여 반응시켜 최종 우레탄 아크릴레이트 수지를 제조할 수 있다. 이때, 상기 중부가 중합 단계는 공지된 중합방법을 사용할 수 있다. 상기 단계에서 반응 온도는 90℃, 반응압력은 1기압, 시간은 5시간 및 촉매는 틴계열 촉매를 사용하여 제조할 수 있으나, 반드시 이에 제한되지 않는다.The urethane acrylate resin formed by the four components composed of the diisocyanate, polyol, diol and acrylate has a diisocyanate group (NCO) / hydroxyl group (OH) of 1.04 To 1.6, and the content of the polyol in the three components other than acrylate is 70% or less; and a step of reacting a hydroxy acrylate or a diacrylate with a diisocyanate group, which is a terminal functional group of urethane synthesized by the polymerization reaction, Or amine acrylate at a molar ratio of 0.1 to 2.1. Further, the residual isocyanate group can be reacted with an alcohol to prepare a final urethane acrylate resin. At this time, as the middle polymerization step, a known polymerization method may be used. In the above step, the reaction temperature may be 90 ° C, the reaction pressure may be 1 atm, the time may be 5 hours, and the catalyst may be prepared using a tin-based catalyst.

상기 우레탄 아크릴레이트 수지는 중량평균분자량이 1,000g/mol 내지 500,000g/mol일 수 있고, 바람직하게는 20,000g/mol 내지 100,000g/mol, 예를 들어 20,000 내지 40,000g/mol일 수 있으며, 말단 관능기 중 한 개 이상이 아크릴레이트로 이루어질 수 있다.The urethane acrylate resin may have a weight average molecular weight of 1,000 g / mol to 500,000 g / mol, preferably 20,000 g / mol to 100,000 g / mol, for example 20,000 to 40,000 g / mol, One or more of the functional groups may be composed of acrylate.

상기 우레탄 아크릴레이트 수지는 상기 이방성 도전 필름 고형 100 중량부를 기준으로 30 중량부 내지 60 중량부를 사용할 수 있고, 바람직하게는 상기 아크릴로니트릴 부타디엔 고무와 함께 바인더 수지로 사용할 수 있다.The urethane acrylate resin may be used in an amount of 30 to 60 parts by weight based on 100 parts by weight of the anisotropic conductive film solid, and may be used as a binder resin together with the acrylonitrile butadiene rubber.

상기 경화제는 라디칼 중합성 화합물일 수 있고, 구체적으로는 라디칼 중합형 반응성 아크릴계 모노머를 사용할 수 있으며, 또는 양이온 중합성 화합물일 수 있다.The curing agent may be a radical polymerizable compound, specifically, a radical polymerization type reactive acrylic monomer, or a cationic polymerizable compound.

상기 라디칼 중합성 화합물의 비제한적인 예로는 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 이소데실(메타)아크릴레이트, n-라우릴(메타)아크릴레이트, C12-C15 알킬(메타)아크릴레이트, n-스테아릴(메타)아크릴레이트, n-부톡시에틸(메타)아크릴레이트, 부톡시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜(메타)아 크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 테트라하이드로퍼퓨릴(tetrahydrofurfuryl)(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 디에틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸-2-하이드록시프로필프탈레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸엑시드포스페이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메타)아크릴레이트, 1,10-데칸디올디(메타)아크릴레이트, 글리세린디(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시-3-아크릴로일옥시프로필(메타)아크릴레이트, 디메틸올트리사이클로데칸디(메타)아크릴레이트, 트리플루오로에틸(메타)아크릴레이트, 퍼플루오로옥틸에틸(메타)아크릴레이트, 이소아밀 아크릴레이트, 라우로일 아크릴레이트, 비스페놀 A 에틸렌옥사이드의 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A 디글리시딜 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있으며, 이들은 단독으로 사용되거나 2 종 이상 혼합하여 사용될 수 있다.Non-limiting examples of the radically polymerizable compound include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, , 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, n- lauryl (meth) acrylates, C 12 -C 15 alkyl (meth) acrylate, n- stearyl (meth) acrylate (meth) acrylate, n-butoxy ethyl (meth) acrylate, butoxy ethyleneglycol (meth) acrylate, methoxy triethylene glycol (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl Hydroxypropyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl (meth) acrylate, isobonyl Acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) (Meth) acrylate, (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, diethylaminoethyl (meth) acrylate, Acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl hexahydrophthalate, 2- (meth) acryloyloxyethyl-2-hydroxypropyl phthalate, glycidyl (meth) (Meth) acrylate, ethyleneglycol di (meth) acrylate, diethyleneglycol di (meth) acrylate, triethyleneglycol di (Meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, Hydroxy-3-acryloyloxypropyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, perfluorooctylethyl (meth) acrylate, isoamyl acrylate, lauroyl acrylate, bisphenol A ethylene (meth) acrylate, (Meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate and the like, which can be used singly or in combination of two or more selected from the group consisting of di (meth) acrylate of bisphenol A Or a mixture of two or more thereof.

바람직하게는 (메타)아크릴레이트기를 갖는 화합물을 사용할 수 있고, 상기 (메타)아크릴레이트기를 갖는 화합물은 라디칼 중합성 물질로 라디칼 경화반응이 진행됨으로써 접속층 간의 접착력 및 접속 신뢰성을 보장해주는 경화부 성분으로 포함될 수 있다.The compound having a (meth) acrylate group is preferably a compound having a (meth) acrylate group. The compound having a (meth) acrylate group is a radically polymerizable substance, and a radical hardening reaction proceeds, &Lt; / RTI &gt;

(메타)아크릴레이트기를 갖는 화합물로는 (메타)아크릴레이트 올리고머, (메타)아크릴레이트 모노머 등을 사용할 수 있다. (메타)아크릴레이트 올리고머로는 통상의 (메타)아크릴레이트 올리고머를 사용할 수 있으며, 예를 들어 평균 분자량이 약 1,000 내지 100,000g/mol의 우레탄계 (메타)아크릴레이트, 에폭시계 (메타)아크릴레이트, 폴리에스터계 (메타)아크릴레이트, 불소계 (메타)아크릴레이트, 플루오렌계 (메타)아크릴레이트, 실리콘계 (메타)아크릴레이트, 인산계 (메타)아크릴레이트, 말레이미드 개질 (메타)아크릴레이트, 아크릴레이트(메타크릴레이트) 등을 사용할 수 있다.Examples of the compound having a (meth) acrylate group include (meth) acrylate oligomer and (meth) acrylate monomer. (Meth) acrylate oligomer may be used. For example, urethane (meth) acrylate having an average molecular weight of about 1,000 to 100,000 g / mol, epoxy (meth) acrylate, (Meth) acrylate, maleimide-modified (meth) acrylate, acryl-based (meth) acrylate, (Methacrylate) and the like can be used.

우레탄계 (메타)아크릴레이트는 분자의 중간 구조들이 폴리에스테르 폴리올, 폴리에테르 폴리올, 폴리카보네이트 폴리올, 폴리카프로락톤 폴리올, 링 개환 테트라하이드로퓨란 프로필렌옥사이드 공중합체, 폴리부타디엔 디올, 폴리디메틸실록산디올, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 네오펜틸 글리콜, 1,4-시클로헥산 디메탄올, 비스페놀-에이, 수소화 비스페놀-에이, 2,4-톨루엔 디이소시아네이트, 1,3-자일렌 디이소시아네이트, 1,4-자일렌 디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌 디이소시아네이트, 1,6-헥산 디이소시아네이트, 이소포론 디이소시아네이트, 비스페놀 에이 프로피렌옥사이드 변성 디아크릴레이트 등으로부터 합성되어지는 것을 사용할 수 있다. 에폭시 (메타)아크릴레이트계로는 중간의 분자구조가 2-브로모히드로퀴논, 레졸시놀, 카테콜, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 AD, 비스페놀 S 등의 비스페놀류, 4,4'-디히드록시비페닐, 비스(4-히드록시페닐)에테르 등의 골격으로 되어진 것과 알킬기, 아릴기, 메틸올기, 알릴기, 환상 지방족기, 할로겐(테트라브로모비스페놀 A 등), 니트로기 등으로 이루어진 (메타)아크릴레이트 올리고머군으로부터 선택되는 것을 사용할 수 있다. 그 외에 본 발명의 (메타)아크릴레이트 올리고머로서 분자 중에 말레이미드기를 적어도 2개 이상 함유하는, 예를 들어 1-메틸-2,4-비스말레이미드벤젠, N,N'-m-페닐렌비스말레이미드, N,N'-p-페닐렌비스말레이미드, N,N'-m-토일렌비스말레이미드, N,N'-4,4-비페닐렌비스말레이미드, N,N'-4,4-(3,3'-디메틸비페닐렌) 비스말레이미드, N,N'-4,4-(3,3'-디메틸 디페닐 메탄) 비스말레이미드, N,N'-4,4-(3,3'-디에틸 디페닐 메탄) 비스말레이미드, N,N'-4,4-디페닐메탄비스말레이미드, N,N'-4,4-디페닐프로판비스말레이미드, N,N'-4,4-디페닐에테르비스말레이미드, N,N'-3,3'-디페닐스르혼비스말레이미드, 2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시)페닐) 프로판, 2,2-비스(3-s-부틸-4-8(4-말레이미드페녹시) 페닐) 프로판, 1,1-비스(4-(4-말레이미드페녹시)페닐) 데칸, 4,4'-시크로헤키시리덴비스(1-(4 말레이미드페노키시)-2-시클로 헥실벤젠, 2,2-비스(4-(4 말레이미드페녹시)페닐) 헥사 플루오르 프로판 등을 사용할 수 있다.The urethane-based (meth) acrylate is a compound in which the intermediate structure of the molecule is a polyester polyol, a polyether polyol, a polycarbonate polyol, a polycaprolactone polyol, a ring-opening tetrahydrofuran propylene oxide copolymer, a polybutadiene diol, a polydimethylsiloxane diol, , Propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol, bisphenol-A, hydrogenated bisphenol- But are not limited to, toluene diisocyanate, 1,3-xylene diisocyanate, 1,4-xylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, 1,6-hexane diisocyanate, isophorone diisocyanate, bisphenolpropylene oxide- Acrylate and the like can be used. Examples of the epoxy (meth) acrylate resin include bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, bisphenol S, and the like, 4,4'-dihydroxybenzene derivatives having an intermediate molecular structure of 2-bromohydroquinone, resorcinol, catechol, (Tetrabromobisphenol A), a nitro group, and the like which are constituted of a skeleton such as phenyl, bis (4-hydroxyphenyl) ether or the like and an alkyl group, aryl group, methylol group, allyl group, cyclic aliphatic group, halogen ) Acrylate oligomer group can be used. Other examples of the (meth) acrylate oligomer of the present invention include at least two maleimide groups in the molecule such as 1-methyl-2,4-bismaleimide benzene, N, N'-m- Maleimide, N, N'-p-phenylene bismaleimide, N, N'-m-tolylenbismaleimide, N, N'- N, N'-4,4- (3,3'-dimethyldiphenylmethane) bismaleimide, N, N'- N, N'-4,4-diphenylmethane bismaleimide, N, N'-4,4-diphenylpropane bismaleimide, N, N, N'-4,4-diphenyl ether bismaleimide, N, N'-3,3'-diphenylsulfonylbismaleimide, 2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl Propane, 1,1-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, 2,2- Phenyl) decane, 4,4'-cyclohexylidene bis (1- (4-maleimidophenoxy) -2-cyclohexylbenzene, 2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) Hexafluoropropane and the like can be used.

또한, (메타)아크릴레이트로 모노머로는 통상의 (메타)아크릴레이트 모노머를 사용할 수 있으며, 예를 들어 1,6-헥산디올 모노(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시 에틸 (메타)아크릴레이트, 2-하이드록시 프로필 (메타)아크릴레이트, 2-하이드록시 부틸 (메타)아크릴레이트, 2-하이드록시-3-페닐 옥시프로필 (메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 (메타)아크릴레이트, 2-하이드록시알킬 (메타)아크릴로일 포스페이트, 4-하이드록시 사이클로헥실 (메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 모노(메타)아크릴레이트, 트리메틸올에판 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 글리세린디(메타)아크릴레이트, t-하이드로퍼퓨릴 (메타)아크릴레이트, iso-데실 (메타)아크릴레이트, 2-(2-에톡시에톡시) 에틸 (메타)아크릴레이트, 스테아릴 (메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 2-페녹시에틸 (메타)아크릴레이트, 이소보닐 (메타)아크릴레이트, 트리데실 (메타)아크릴레이트, 에톡시부가형 노닐페놀 (메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, t-에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 에톡시 부가형 비스페놀-A 디(메타)아크릴레이트, 사이클로헥산디메탄올 디(메타)아크릴레이트, 페녹시-t-글리콜 (메타)아크릴레이트, 2-메타아크릴로일록시에틸 포스페이트, 디메틸올 트리사이클로 데케인 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판벤조에이트 아크릴레이트, 플루오렌계 (메타)아크릴레이트, 에시드 포스폭시 에틸 (메타)아크릴레이트 등을 사용할 수 있다. As the (meth) acrylate, a typical (meth) acrylate monomer may be used as the monomer. Examples thereof include 1,6-hexanediol mono (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) (Meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2- (Meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, 2-hydroxyalkyl (Meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (metha) acrylate, (Meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, isophorone di (meth) acrylate, isophorone diisocyanate, Acrylate, lauryl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl (meth) acrylate, isobonyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, ethoxy addition type nonylphenol Ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, t-ethylene glycol di (Meth) acrylate, cyclohexanedimethanol di (meth) acrylate, phenoxy-t-butyl (meth) acrylate, tripropylene glycol di - Glycol (meth) acrylate Acrylate, trimethylolpropane benzoate acrylate, fluorene-based (meth) acrylate, acid phosphoxyethyl (meth) acrylate, 2-methacryloyloxyethyl phosphate, dimethyloltricyclodecane di Acrylate and the like can be used.

상기 (메타)아크릴레이트를 갖는 화합물은 이방성 도전 필름의 고형 100 중량부를 기준으로 1 내지 10 중량부, 바람직하게는 1 내지 5 중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위 내에서, 압착온도가 올라가도 접착력이 감소하지 않고, 압착온도가 낮아져도 미경화가 발생하지 않아 접속신뢰성이 떨어지지 않는다.The (meth) acrylate-containing compound may be contained in an amount of 1 to 10 parts by weight, preferably 1 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid of the anisotropic conductive film. Within this range, even if the compression temperature is elevated, the adhesive strength is not reduced, and even if the compression temperature is lowered, uncalibration is not caused and the connection reliability is not deteriorated.

상기 경화제는 경화 개시제와 함께 사용될 수 있고, 상기 경화 개시제는 라디칼 중합 개시제일 수 있고, 구체적으로는 라디칼 중합형 반응성 아크릴계 모노머를 사용할 수 있으며, 또는 양이온 중합 개시제일 수 있다. The curing agent may be used together with a curing initiator, and the curing initiator may be a radical polymerization initiator. Specifically, a radical polymerization type reactive acrylic monomer may be used, or may be a cation polymerization initiator.

상기 라디칼 중합 개시제는 특별히 제한되지 아니하며 당해 기술분야에서 통상적으로 사용하는 라디칼 중합 개시제를 사용할 수 있다. 본 발명에서 사용되는 라디칼 중합 개시제는 가열 또는 광에 의해 유리 라디칼을 발생시키는 경화제로 작용하며, 유기 과산화물이 바람직하게 적용될 수 있다.The radical polymerization initiator is not particularly limited and a radical polymerization initiator commonly used in the art can be used. The radical polymerization initiator used in the present invention acts as a curing agent that generates free radicals by heating or light, and organic peroxides can be preferably applied.

상기 유기과산화물은 가열 또는 광에 의해 유기라디칼을 발생시키는 경화제로 작용한다. 유기과산화물은 퍼옥시디카보네이트, 라우로일퍼옥사이드, t-부틸 퍼옥시라우레이트, 1,1,3,3-t-메틸부틸퍼옥시-2-에틸 헥사노네이트, 2,5-디메틸-2,5-디(2-에틸헥사노일 퍼옥시) 헥산, 1-사이클로헥실-1-메틸에틸 퍼옥시-2-에틸 헥사노네이트, 2,5-디메틸-2,5-디(m-톨루오일 퍼옥시) 헥산, t-부틸 퍼옥시 이소프로필 모노카보네이트, t-부틸 퍼옥시-2-에틸헥실 모노카보네이트, t-헥실 퍼옥시 벤조에이트, t-부틸 퍼옥시 아세테이트, 디큐밀 퍼옥사이드, 2,5,-디메틸-2,5-디(t-부틸 퍼옥시)헥산, t-부틸 큐밀 퍼옥사이드, t-헥실 퍼옥시 네오데카노에이트, t-헥실 퍼옥시-2-에틸 헥사노네이트, t-부틸퍼옥시-2-2-에틸헥사노네이트, t-부틸 퍼옥시 이소부틸레이트, 1,1-비스(t-부틸 퍼옥시)사이클로헥산, t-헥실퍼옥시 이소프로필 모노카보네이트, t-부틸 퍼옥시-3,5,5-트리메틸 헥사노네이트, t-부틸 퍼옥시 피발레이트, 큐밀 퍼옥시 네오데카노에이트, 디-이소프로필 벤젠 하이드로퍼옥사이드, 큐멘 하이드로퍼옥사이드, 이소부틸퍼옥사이드, 2,4-디클로로벤조일 퍼옥사이드, 3,5,5-트리메틸 헥사노일 퍼옥사이드, 옥타노일 퍼옥사이드, 스테아로일 퍼옥사이드, 숙신 퍼옥사이드, 벤조일 퍼옥사이드, 3,5,5-트리메틸 헥사노일 퍼옥사이드, 벤조일 퍼옥시톨루엔, 1,1,3,3-테트라메틸 부틸 퍼옥시 네오데카노에이트, 1-사이클로헥실-1-메틸 에틸 퍼옥시 노에데카노에이트, 디-n-프로필 퍼옥시 디카보네이트, 디-이소프로필 퍼옥시 카보네이트, 비스(4-t-부틸 사이클로헥실) 퍼옥시 디카보네이트, 디-2-에톡시 메톡시 퍼옥시 디카보네이트, 디(2-에틸 헥실 퍼옥시) 디카보네이트, 디메톡시부틸 퍼옥시 디카보네이트, 디(3-메틸-3-메톡시 부틸 퍼옥시) 디카보네이트, 1,1-비스(t-헥실 퍼옥시)-3,3,5-트리메틸 사이클로헥산, 1,1-비스(t-헥실 퍼옥시) 사이클로헥산, 1,1-비스(t-부틸 퍼옥시)-3,3,5-트리메틸 사이클로헥산, 1,1-(t-부틸 퍼옥시) 사이클로도데칸, 2,2-비스(t-부틸 퍼옥시)데칸, t-부틸 트리메틸 실릴퍼옥사이드, 비스(t-부틸) 디메틸 실릴 퍼옥사이드, t-부틸 트리알릴 실릴 퍼옥사이드, 비스(t-부틸) 디알릴 실릴 퍼옥사이드, 트리스(t-부틸) 아릴 실릴 퍼옥사이드 등이 있으며, 바람직하게는 퍼옥시디카보네이트, 라우로일퍼옥사이드를 사용할 수 있고, 접속 온도 및 시간, 제품의 보존안정성의 관점으로부터 선택하여 복수의 과산화물을 병용하여 사용할 수 있다. The organic peroxide functions as a curing agent which generates organic radicals by heating or light. Organic peroxides include peroxydicarbonate, lauroyl peroxide, t-butyl peroxylaurate, 1,1,3,3-t-methylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, 2,5- Ethylhexanoylperoxy) hexane, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxy-2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl-2,5-di (m- Butyl peroxy isopropyl monocarbonate, t-butyl peroxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t-hexyl peroxybenzoate, t-butyl peroxyacetate, dicumyl peroxide, 2,5 T-butyl peroxyneodecanoate, t-hexyl peroxy-2-ethylhexanoate, t-butyl peroxyneodecanoate, t- T-butylperoxyisobutylate, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, t-hexylperoxyisopropylmonocarbonate, t-butyl Peroxy-3,5,5-trimethylhexa Nonanoate, t-butyl peroxypivalate, cumyl peroxyneodecanoate, di-isopropylbenzene hydroperoxide, cumene hydroperoxide, isobutyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, 3,5 , 5-trimethylhexanoyl peroxide, octanoyl peroxide, stearoyl peroxide, succin peroxide, benzoyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, benzoyl peroxytoluene, 1,1,3 , 3-tetramethylbutyl peroxyneodecanoate, 1-cyclohexyl-1-methylethyl peroxynoedecanoate, di-n-propyl peroxydicarbonate, di-isopropyl peroxycarbonate, bis Di (2-ethylhexyl peroxy) dicarbonate, dimethoxybutyl peroxy dicarbonate, di (3-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, Methyl-3-methoxybutylperoxy) (Tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1- Oxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1- (t-butylperoxy) cyclododecane, 2,2-bis (t-butylperoxy) decane, t- butyltrimethylsilyl peroxide, (T-butyl) dimethylsilyl peroxide, t-butyltriallylsilyl peroxide, bis (t-butyl) diallylsilyl peroxide, tris Sodicarbonate, and lauroyl peroxide can be used, and a plurality of peroxides can be used in combination in a selection from the viewpoint of connection temperature and time, and storage stability of the product.

상기 유기과산화물은 40℃ 내지 100℃에서 5시간 내지 15시간 반감기 온도를 갖는 것을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 유기과산화물의 반감기 온도가 너무 낮으면 그 분해속도가 빠르기 때문에 상온 보관성에 문제를 일으킬 수 있으며, 반감기 온도가 너무 높은 경우에는 중합반응 속도가 너무 늦어져 속경화형에 적합하지 않다.It is preferable that the organic peroxide has a half-life temperature of from 5 to 15 hours at 40 to 100 캜. If the half-life temperature of the organic peroxide is too low, the decomposition rate of the organic peroxide is too fast to cause a problem in room temperature storage. If the half-life temperature is too high, the polymerization reaction rate becomes too slow.

상기 유기과산화물은 상기 이방성 도전 필름 고형 100 중량부를 기준으로 1 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위 내에서, 경화 반응 속도가 저하되지 않아 본압착 특성이 저하되지 않고, 필름이 가열에 의해 경화한 후 이방성 도전 필름의 깨지려는 특성이 증가하지 않아 재작업시에도 이방성 도전 필름이 완전히 제거되지 않는 문제가 발생하지 않을 수 있다.The organic peroxide may be included in an amount of 1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the anisotropic conductive film solid. Within the above range, the curing reaction rate is not lowered and the original squeezing property is not lowered. Since the anisotropic conductive film is not cured after the film is cured by heating, the anisotropic conductive film is not completely removed during reworking No problem can arise.

상기 양이온 중합성 화합물로는 에폭시 수지, 구체적으로는 열 경화형 에폭시 수지를 사용할 수 있으며, 예를 들어, 에폭시 당량이 90 g/eq 내지 5000 g/eq 이고, 분자 중에 2 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 수지를 사용할 수 있다. 보다 구체적으로, 수소화, 비스페놀형, 노볼락형, 글리시딜형, 지방족 및 지환족 에폭시 수지로 이루어진 군으로부터 선택된 에폭시 수지를 하나 이상 포함할 수 있다. 일 예로, 나프탈렌계 에폭시 수지를 사용할 수 있다. 보다 구체적으로는, 수소화 에폭시 수지 혹은 프로필렌 옥사이드계 에폭시 수지를 사용할 수 있다. 수소화 에폭시 수지 혹은 프로필렌 옥사이드계 에폭시 수지를 사용하면 저온에서 신속히 경화되게 할 뿐 아니라 양호한 안정성을 확보할 수 있다. As the cationic polymerizable compound, an epoxy resin, specifically, a thermosetting epoxy resin can be used. For example, an epoxy resin having an epoxy equivalent of 90 g / eq to 5000 g / eq and having two or more epoxy groups in the molecule Can be used. More specifically, it may include at least one epoxy resin selected from the group consisting of hydrogenated, bisphenol-type, novolak-type, glycidyl-type, aliphatic and alicyclic epoxy resins. As an example, a naphthalene-based epoxy resin can be used. More specifically, a hydrogenated epoxy resin or a propylene oxide-based epoxy resin can be used. Use of a hydrogenated epoxy resin or a propylene oxide-based epoxy resin enables rapid curing at a low temperature and secures good stability.

상기 수소화 에폭시 수지는 구체적으로 수소화 비스페놀 A형 에폭시 수지 또는 시클로알리파틱계 등의 지환족 수소화 에폭시 수지를 사용할 수 있다. 시클로알리파틱계 에폭시 수지로는 알리시클릭 다이에폭시 아세탈, 알리시클릭 다이에폭시 아디페이트, 알리시클릭 다이에폭시 카복시에이트, 비닐 시클로헥센 다이 옥사이드 등의 구조를 갖는 수지가 사용될 수 있다. 상기 수소화 비스페놀 A형 에폭시 수지는 일반적으로 수소화 비스페놀 A 유도체와 에피클로로히드린을 사용해서 얻어지며, 상기 비스페놀 A 분자 구조식내 이중결합을 수소 분자로 치환시킨 구조일 수 있다.Specifically, the hydrogenated epoxy resin may be an alicyclic hydrogenated epoxy resin such as a hydrogenated bisphenol A type epoxy resin or a cycloaliphatic system. As the cycloaliphatic epoxy resin, resins having a structure such as alicyclic diepoxyacetal, alicyclic diepoxy adipate, alicyclic diepoxy carboxyate, or vinylcyclohexene dioxide may be used. The hydrogenated bisphenol A type epoxy resin is generally obtained by using a hydrogenated bisphenol A derivative and epichlorohydrin, and may be a structure in which the double bond in the bisphenol A molecular structure is substituted with a hydrogen molecule.

상기 수소화 에폭시 수지는 구체적으로 에폭시 당량이 150 g/eq 내지 1,200 g/eq이고, 점도가 900 cps/25℃ 내지 12,000 cps/25℃인 것을 사용할 수 있다. Specifically, the hydrogenated epoxy resin may have an epoxy equivalent of 150 g / eq to 1,200 g / eq and a viscosity of 900 cps / 25 ° C to 12,000 cps / 25 ° C.

상기 양이온 중합 개시제는 에폭시 수지의 경화를 촉매할 수 있는 것이면 제한되지 않지만, 예를 들어, 설포늄계, 이미다졸계, 이소시아네이트계, 아민계, 아미드계, 페놀계 또는 산무수물계 경화제 등을 사용할 수 있으며, 이들은 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 있다.The cationic polymerization initiator is not limited as long as it can catalyze the curing of the epoxy resin, and for example, a sulfone, imidazole, isocyanate, amine, amide, phenol or acid anhydride curing agent These may be used singly or in combination of two or more.

상기 무기필러는 실리카(silica, SiO2), Al2O3, TiO2, ZnO, MgO, ZrO2, PbO, Bi2O3, MoO3, V2O5, Nb2O5, Ta2O5, WO3, 및 In2O3 에서 선택되는 어느 하나 또는 이들을 조합하여 사용할 수 있고, 바람직하게는 실리카를 사용할 수 있다. 상기 실리카는 졸겔법, 침전법 등 액상법에 의한 실리카, 화염산화(flame oxidation)법 등 기상법에 의해 생성된 실리카일 수 있으며, 실리카겔을 미분쇄한 비분말 실리카를 사용할 수도 있고, 건식 실리카(fumed silica), 용융 실리카(fused silica)를 사용할 수도 있으며 그 형상은 구형, 파쇄형, 에지리스(edgeless)형 등일 수 있으며, 이에 제한되지 않는다.The inorganic filler may be selected from the group consisting of silica (SiO 2 ), Al 2 O 3 , TiO 2 , ZnO, MgO, ZrO 2 , PbO, Bi 2 O 3 , MoO 3 , V 2 O 5 , Nb 2 O 5 , Ta 2 O 5 , WO 3 , and In 2 O 3 , or a combination thereof, and silica can be preferably used. The silica may be a silica produced by a vapor phase method such as a silica or flame oxidation method by a liquid phase method such as a sol-gel method or a precipitation method. Non-powder silica in which silica gel is pulverized may be used, or fumed silica ), Fused silica may be used, and the shape thereof may be spherical, crushed, edgeless, and the like, but is not limited thereto.

상기 무기필러는 도전입자보다 사이즈(평균 입경)가 크면 통전에 문제가 생길 수 있으므로, 상기 무기필러의 평균 입경은 도전입자의 평균 입경 보다 작을 수 있다. 보다 구체적으로, 본 양태에 사용되는 무기필러의 평균입경은 10nm 내지 500nm일 수 있고, 예를 들어, 40㎚ 내지 100㎚ 이며, 비표면적이 50 내지 100 ㎡/g일 수 있다. 또한, 상기 무기필러가 상기 이방성 도전 필름 고형 100 중량부를 기준으로 10 중량부 내지 30 중량부로 포함될 수 있고, 상기 평균 입경 및 함량의 무기필러를 함유함으로써 상기 이방성 도전 필름의 점착력 및 가압착력을 조절할 수 있다.When the size of the inorganic filler (average particle diameter) is larger than that of the conductive particles, there is a problem in conduction, and thus the average particle diameter of the inorganic filler may be smaller than the average particle diameter of the conductive particles. More specifically, the average particle diameter of the inorganic filler used in this embodiment may be 10 nm to 500 nm, for example, 40 nm to 100 nm, and the specific surface area may be 50 to 100 m 2 / g. The inorganic filler may be included in an amount of 10 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the anisotropic conductive film solid. The anisotropic conductive film may contain an inorganic filler having an average particle size and a content, have.

바람직하게는, 본 발명의 일 양태에 따른 무기필러는 실리카 입자를 사용할 수 있다. 상기 실리카 입자는 Aerosil R-972, Aerosil R-202, Aerosil R-805, Aerosil R-812, Aerosil R-8200 (이상 데구사) 등에서 이루어진 군에서 선택한 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다. Preferably, the inorganic filler according to an embodiment of the present invention may use silica particles. The silica particles may be used alone or in combination of two or more selected from the group consisting of Aerosil R-972, Aerosil R-202, Aerosil R-805, Aerosil R-812 and Aerosil R-8200 , But is not limited thereto.

본 발명의 일 양태에 따른 무기필러는 상기 바인더 수지 및 경화제로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상과 동일한 종류의 관능기를 포함하도록 표면처리 된 실리카 입자일 수 있다. 상기 관능기는 에폭시기, 페닐 아민기, 비닐기, 페닐기, 아크릴기, 메타아크릴기, 및 다이메틸기로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 또는 이들의 조합일 수 이다.The inorganic filler according to an embodiment of the present invention may be a silica particle surface-treated to include a functional group of the same kind as any one or more selected from the group consisting of the binder resin and the curing agent. The functional group may be any one selected from the group consisting of an epoxy group, a phenylamine group, a vinyl group, a phenyl group, an acryl group, a methacrylic group, and a dimethyl group, or a combination thereof.

따라서, 상기 무기필러는 상기 바인더 수지 및 상기 경화제와 결합력이 향상됨에 따라, 경화된 이방성 도전 필름의 경화 구조를 매우 견고하도록 유도하여 고온에서 팽창이 일어나지 않도록 할 수 있고, 이에 따라 우수한 초기 접착력 및 낮은 접속 저항을 발현하고, 고온/고습 및 열충격 조건 하에서도 접속 및 접착 신뢰성을 유지시킴으로써, 장기 신뢰성이 크게 향상된 지닌 이방성 도전 필름을 제공할 수 있다.Accordingly, the inorganic filler has a strong bonding force with the binder resin and the curing agent, so that the cured structure of the cured anisotropic conductive film is guided to be very firm so that expansion does not occur at a high temperature, It is possible to provide an anisotropic conductive film having a remarkably improved long-term reliability by exhibiting connection resistance and maintaining connection and adhesion reliability even under high temperature / high humidity and thermal shock conditions.

상기 표면 처리된 실리카 입자는 상기 이방성 도전 필름 고형 100 중량부를 기준으로 10 중량부 내지 30 중량부, 예를 들어 15 중량부 내지 25 중량부로 포함될 수 있다. The surface-treated silica particles may be included in an amount of 10 to 30 parts by weight, for example, 15 to 25 parts by weight based on 100 parts by weight of the anisotropic conductive film solid.

상기 표면 처리된 실리카 입자의 함량이 10 중량부 내지 30 중량부인 경우, 이방성 도전 필름의 경화 구조를 견고하게 유도함으로써 고분자 수지의 강도, 강성, 내마모성을 향상시키거나 고온 팽창 현상을 억제할 수 있고, 이에 따라 우수한 초기 접착력 및 낮은 접속 저항을 발현할 수 있으며, 고온/고습 및 열충격 조건 하에서도 접속 및 접착 신뢰성을 유지시켜 장기 신뢰성을 향상시킬 수 있다.When the content of the surface-treated silica particles is 10 parts by weight to 30 parts by weight, the hardening structure of the anisotropic conductive film is firmly induced, thereby improving the strength, rigidity and abrasion resistance of the polymer resin, As a result, excellent initial adhesion and low connection resistance can be exhibited, and connection and adhesion reliability can be maintained even under high temperature / high humidity and thermal shock conditions, thereby improving long-term reliability.

상기 도전입자는 금, 은, 구리, 니켈, 알루미늄, 팔라듐, 땜납(solder)으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상의 금속 또는 상기 금속들의 합금으로 이루어지는 입자; 상기 금속 표면에 금, 팔라듐, 은으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상이 도금된 금속 입자; 또는 수지 볼에 니켈, 금, 팔라듐, 은 중에서 선택되는 어느 하나 이상이 도금된 수지 코어볼;을 포함할 수 있다. 또한, 상기 도전입자는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에스테르, 폴리스타이렌, 및 폴리비닐알코올로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 수지가 상기 금속 또는 상기 금속들의 합금으로 코팅된 입자일 수 있다. 또한, 상기 도전입자의 평균입경은 적용되는 회로의 피치(pitch)에 따라 2㎛ 내지 10㎛ 일 수 있다.Wherein the conductive particles are particles of at least one metal selected from the group consisting of gold, silver, copper, nickel, aluminum, palladium, and solder, or an alloy of the metals; Metal particles plated with at least one selected from the group consisting of gold, palladium, and silver on the metal surface; Or a resin core ball in which at least one selected from nickel, gold, palladium, and silver is plated on the resin ball. In addition, the conductive particles may be particles in which a resin containing at least one selected from the group consisting of polyethylene, polypropylene, polyester, polystyrene, and polyvinyl alcohol is coated with the metal or an alloy of the metals. Also, the average particle diameter of the conductive particles may be 2 탆 to 10 탆, depending on the pitch of the applied circuit.

상기 이방성 도전 필름은 바인더 수지, 경화제, 무기필러, 및 도전입자 외에 유기입자를 추가로 포함할 수 있다. The anisotropic conductive film may further include organic particles in addition to the binder resin, the curing agent, the inorganic filler, and the conductive particles.

상기 유기입자는 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체로 인한 조성물의 지나친 흐름성을 보완하는 역할을 할 수 있다. 또한, 상기 유기입자에 의해 경화시 수반되는 열수축 하에서 응력이 완화될 수 있고, 수축과 팽창에 의한 열변형을 낮출 수 있어 고온 고습 조건 하에서 접착 신뢰성을 필름에 부여할 수 있다.The organic particles may serve to compensate for the excessive flow of the composition due to the ethylene-vinyl acetate copolymer. In addition, stress can be relaxed under heat shrinkage accompanied by curing by the organic particles, thermal deformation due to shrinkage and expansion can be lowered, and adhesion reliability can be imparted to the film under high temperature and high humidity conditions.

상기 유기입자는 스티렌-디비닐 벤젠(Styrene-Divinyl benzene), 염소화 폴리에틸렌(Chlorinated polyethylene), 디메틸 폴리실록산(Dimethyl polysiloxane), 메틸 메타크릴레이트-부틸아크릴레이트-디메틸실록산 공중합체(Methylmathacrylate-Butylacrylate-Dimethylsiloxane copolymer), 스티렌-부타디엔-스티렌 블록 공중합체(Styrene-Butadiene-Styrene block copolymer), 스티렌-부타디엔 열가소성 탄성 중합체(Styrene-Butadiene Thermoplastic elastomer), 부타디엔 고무(Butadiene Rubber), 스티렌-부타디엔 고무(Styrene-Butadiene Rubber) 및 에틸렌 글리시딜 메타크릴레이트(Ethylene glycidyl methacrylate)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다.The organic particles may be selected from the group consisting of styrene-divinyl benzene, chlorinated polyethylene, dimethyl polysiloxane, methyl methacrylate-butyl acrylate-dimethylsiloxane copolymer (Methylmethacrylate-Butylacrylate-Dimethylsiloxane copolymer Butadiene-styrene block copolymers, styrene-butadiene thermoplastic elastomers, butadiene rubbers, styrene-butadiene rubbers (styrene-butadiene-styrene block copolymers) ), And ethylene glycidyl methacrylate. [0033] The term &quot; anionic surfactant &quot;

상기 유기입자의 직경은 특별히 제한되지 않고, 0.1㎛ 내지 10㎛, 바람직하게는 0.3㎛ 내지 5㎛일 수 있다. 상기 유기입자의 크기가 상기 범위일 때 유기입자의 분산이 양호하고 도전입자의 통전 특성이 상기 유기입자로 인해 방해를 받지 않아 바람직하다. The diameter of the organic particles is not particularly limited and may be 0.1 탆 to 10 탆, preferably 0.3 탆 to 5 탆. When the size of the organic particles is within the above range, dispersion of the organic particles is favorable and the conductive properties of the conductive particles are not hindered by the organic particles.

상기 이방성 도전 필름은 바인더 수지, 경화제, 무기필러, 도전입자, 유기입자 외에 중합방지제, 산화방지제, 열안정제 등의 첨가제를 추가로 포함하여, 기본 물성을 저해하지 않으면서 부가적인 물성을 제공할 수 있다. 상기 첨가제는 특별히 제한되지 않지만, 이방성 도전 필름 고형 100 중량부를 기준으로 0.01 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다.The anisotropic conductive film may further contain additives such as a polymerization inhibitor, an antioxidant, and a heat stabilizer in addition to a binder resin, a curing agent, an inorganic filler, conductive particles, and organic particles to provide additional properties have. The additive is not particularly limited but may be included in an amount of 0.01 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the anisotropic conductive film solid.

본 발명의 이방성 도전 필름용 조성물은 목적하는 경화물 특성을 얻기 위해 제품화 시의 성상이나 작업성을 고려하여 착색용 안료, 염료, 중합금지제, 실란커플링제 등을 추가로 배합할 수 있으며, 첨가량은 본 발명의 목적을 해치지 않는 범위에서 제어할 수 있다. The composition for an anisotropic conductive film of the present invention may further contain a coloring pigment, a dye, a polymerization inhibitor, a silane coupling agent and the like in consideration of properties and workability at the time of commercialization in order to obtain desired cured characteristics. Can be controlled within a range that does not impair the object of the present invention.

본 발명은 상기 이방성 도전 필름을 포함하는 디스플레이 장치를 제공할 수 있다. 상기 디스플레이 장치는 금속이 최외층에 포함된 배선 기판; 상기 배선 기판의 칩 탑재면에 부착되어 있는 이방성 도전 필름; 및 상기 이방성 도전 필름상에 탑재된 칩을 포함할 수 있다.The present invention can provide a display device including the anisotropic conductive film. Wherein the display device comprises: a wiring board including a metal in an outermost layer; An anisotropic conductive film attached to the chip mounting surface of the wiring board; And a chip mounted on the anisotropic conductive film.

본 발명에 따른 상기 이방성 도전 필름은 단층 구조이거나 복층 구조일 수 있으며, 미세 회로 단자들을 접속신뢰성을 개선하는 측면에서 복층 구조의 도전층에도 사용될 수 있다.The anisotropic conductive film according to the present invention may have a single-layer structure or a multi-layer structure, and may be used for a multilayered conductive layer in terms of improving connection reliability of the microcircuit terminals.

상기 디스플레이 장치에 포함된 상기 이방성 도전 필름은 50℃ 내지 80℃, 1 내지 3초간 및 1.0MPa 내지 3.0MPa의 조건에서 가압착하고, 120℃ 내지 160℃, 1 내지 5초간 및 60MPa 내지 90MPa의 압력 조건 하에서 본압착한 후, 온도 85℃ 및 상대 습도 85%의 조건하에서 500 시간 동안 방치한 후의 접착력이 1,100 gf/cm 이상일 수 있고, 상기 접착력 측정과 동일한 가압착 및 본압착 조건 후 동일한 신뢰성 평가 조건에서 측정한 접속저항이 1.0 Ω 이하일 수 있다.The anisotropic conductive film included in the display device is pressurized at a temperature of 50 to 80 DEG C for 1 to 3 seconds and at a pressure of 1.0 to 3.0 MPa and pressurized at 120 to 160 DEG C for 1 to 5 seconds and at a pressure of 60 to 90 MPa , The adhesive strength after being left for 500 hours at a temperature of 85 캜 and a relative humidity of 85% may be 1,100 gf / cm or more. In the same reliability evaluation condition after pressurization and main compression conditions same as the above adhesive force measurement The measured connection resistance may be 1.0 Ω or less.

구체적으로, 상기 접착력은 실측 온도 70℃에서 1초, 1MPa 조건의 가압착 후, 150℃, 4초, 4.0MPa의 본압착한 시편에 대하여, 필강도 (Peel Strength) 측정기 (H5KT, Tinius Olsen社)를 이용하여 필 각도 90° 및 필 속도 50 mm/min의 조건하에서 초기 접착력을 측정하고, 온도 85℃ 및 상대 습도 85%의 조건하에서 500 시간 동안 방치하여 고온ㆍ고습 신뢰성 평가를 진행한 후 초기 접착력 측정 방법과 동일한 방법으로 신뢰성 접착력을 측정할 수 있다.Specifically, the adhesive force was measured by peel strength meter (H5KT, manufactured by Tinius Olsen Co., Ltd., Japan) with respect to the main compression bonded specimen at 150 deg. C for 4 seconds and 4.0 MPa after pressurization at 1 deg. ) Under the conditions of a fill angle of 90 ° and a fill speed of 50 mm / min. The initial adhesion strength was measured and allowed to stand at a temperature of 85 ° C and a relative humidity of 85% for 500 hours to evaluate a high temperature and high humidity reliability. The reliability adhesive force can be measured by the same method as the adhesive force measuring method.

또한, 상기 접속저항은 실측 온도 70℃에서 1초, 1MPa 조건의 가압착 후, 150℃, 4초, 4.0MPa의 본압착한 시편에 대하여, 기기에 연결되어 있는 2개의 probe를 이용하여 2 point 사이에서의 저항을 측정하는 방법인 2 point probe 법을 이용하여 저항측정기기(2000 Multimeter, Keithley社)로 측정하고, 온도 85℃ 및 상대 습도 85%의 조건하에서 500 시간 동안 방치하여 고온ㆍ고습 신뢰성 평가를 진행한 후 초기 접속저항 측정 방법과 동일한 방법으로 신뢰성 접속저항을 측정할 수 있다. 한편, 상기 저항측정기기에 1mA를 인가하며 이때 측정되는 전압으로 저항을 계산할 수 있다.The connection resistance was measured by using two probes connected to the device for the main compression bonded specimen of 150 DEG C, 4 second, and 4.0 MPa after pressurization under the conditions of 1 second and 1 MPa at an actual temperature of 70 DEG C, (2000 Multimeter, Keithley) using a 2-point probe method, which is a method for measuring the resistance between the electrodes, and allowed to stand at a temperature of 85 ° C and a relative humidity of 85% for 500 hours, After the evaluation, the reliability connection resistance can be measured in the same manner as the initial connection resistance measurement method. Meanwhile, 1 mA is applied to the resistance measuring device, and the resistance can be calculated by the measured voltage.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 본 발명의 바람직한 예시로 제시된 것이며 어떠한 의미로도 이에 의해 본 발명이 제한되는 것으로 해석될 수는 없다. Hereinafter, the configuration and operation of the present invention will be described in more detail with reference to preferred embodiments of the present invention. It is to be understood, however, that the same is by way of illustration and example only and is not to be construed in a limiting sense.

여기에 기재되지 않은 내용은 이 기술 분야에서 숙련된 자이면 충분히 기술적으로 유추할 수 있는 것이므로 그 설명을 생략하기로 한다.The contents not described here are sufficiently technically inferior to those skilled in the art, and a description thereof will be omitted.

실시예Example

실시예Example 1: 이방성 도전 필름의 제조 1: Preparation of anisotropic conductive film

(1) 이방성 도전 필름 조성물의 제조(1) Preparation of anisotropic conductive film composition

에틸아세테이트에 20 부피%로 용해된 아크릴로니트릴 부타디엔 고무(중량평균분자량 230000, 1072J, Zeon Chemical) 6중량%, 우레탄 아크릴레이트 수지(NPC7001H, 나눅스社) 50 중량%, 경화 개시제로 라우로일 퍼옥사이드 5 중량%, 메타크릴기로 표면 처리된 평균입경 40 내지 100 ㎚의 실리카 입자 20 중량%, 평균 입경 4 내지 6 ㎛인 니켈 도전입자 7 중량%, 및 경화제 12 중량%으로, 이방성 도전 필름 고형 100 중량부를 기준으로 상기 메타크릴기로 표면 처리된 실리카 입자의 함량이 20 중량부가 되도록 이방성 도전 필름용 조성물을 수득하였다.6% by weight of acrylonitrile butadiene rubber (weight average molecular weight: 230000, 1072J, Zeon Chemical) dissolved in 20% by volume of ethyl acetate, 50% by weight of urethane acrylate resin (NPC7001H, 5% by weight of peroxide, 20% by weight of silica particles having an average particle diameter of 40 to 100 nm surface-treated with a methacrylic group, 7% by weight of nickel conductive particles having an average particle diameter of 4 to 6 탆 and 12% by weight of a curing agent, A composition for an anisotropic conductive film was obtained such that the content of the silica particles surface-treated with the methacryl group was 20 parts by weight based on 100 parts by weight.

(2) 이방성 도전 필름의 제조(2) Production of anisotropic conductive film

상기 이방성 도전 필름 조성물을 도전성 입자가 분쇄되지 않는 속도 범위 내에서 상온(25℃)에서 60 분간 교반하였다.The anisotropic conductive film composition was agitated at room temperature (25 캜) for 60 minutes in a speed range in which conductive particles were not pulverized.

이후, 상기 이방성 도전 필름 조성물을 실리콘이 이형 표면 처리된 폴리에틸렌나프탈레이트 필름에 캐스팅 나이프(Casting Knife)를 이용하여 35㎛ 두께로 필름을 형성하였고, 70℃에서 5분 동안 건조하여 유기용제를 휘발시킴으로써 이방성 도전 필름을 제조하였다. Thereafter, the anisotropic conductive film composition was formed into a film having a thickness of 35 mu m by using a casting knife in a polyethylene naphthalate film having a silicone-modified surface treated, and dried at 70 DEG C for 5 minutes to volatilize the organic solvent An anisotropic conductive film was produced.

실시예Example 2 2

에틸아세테이트에 20 부피%로 용해된 아크릴로니트릴 부타디엔 고무(중량평균분자량 230000, 1072J, Zeon Chemical) 8중량%, 우레탄 아크릴레이트 수지(NPC7001H, 나눅스社) 53 중량%, 경화 개시제로 라우로일 퍼옥사이드 6 중량%, 메타크릴기로 표면 처리된 평균입경 40 내지 100 ㎚의 실리카 입자 10 중량%, 평균 입경 4 내지 6 ㎛인 니켈 도전입자 8 중량% 및 경화제 15 중량%으로, 이방성 도전 필름 고형 100 중량부를 기준으로 상기 메타크릴기로 표면 처리된 실리카 입자의 함량이 10 중량부가 되도록 이방성 도전 필름용 조성물을 수득하였다.8% by weight of acrylonitrile butadiene rubber (weight average molecular weight: 230000, 1072J, Zeon Chemical) dissolved in 20% by volume of ethyl acetate, 53% by weight of urethane acrylate resin (NPC7001H, 10% by weight of silica particles having an average particle diameter of 40 to 100 nm, 6% by weight of peroxide, 8% by weight of nickel conductive particles having an average particle diameter of 4 to 6 탆 and 15% by weight of a curing agent, A composition for an anisotropic conductive film was obtained such that the content of the silica particles surface-treated with the methacryl group was 10 parts by weight.

비교예Comparative Example 1 One

상기 실시예 1에서, 상기 메타크릴기로 표면 처리된 실리카 입자 대신 표면 처리되지 않은 평균입경 50 내지 100 ㎚의 실리카 입자 20 중량%를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 함으로써, 이방성 도전 필름 고형 100 중량부를 기준으로 상기 표면 처리되지 않은 실리카 입자의 함량이 20 중량부가 되도록 이방성 도전 필름용 조성물을 수득하였다.The procedure of Example 1 was repeated, except that 20 wt% of silica particles having an average particle diameter of 50 to 100 nm, which had not been surface-treated, were used in place of the silica particles surface-treated with the methacryl group, A composition for an anisotropic conductive film was obtained such that the amount of the non-surface-treated silica particles was 20 parts by weight based on 100 parts by weight of solid.

비교예Comparative Example 2 2

에틸아세테이트에 20 부피%로 용해된 아크릴로니트릴 부타디엔 고무(중량평균분자량 230000, 1072J, Zeon Chemical) 8중량%, 우레탄 아크릴레이트 수지(NPC7001H, 나눅스社) 56 중량%, 경화 개시제로 라우로일 퍼옥사이드 6 중량%, 메타크릴기로 표면 처리된 평균입경 40 내지 100 ㎚의 실리카 입자 5 중량%, 평균 입경 4 내지 6 ㎛인 니켈 도전입자 9 중량% 및 경화제 16 중량%으로, 이방성 도전 필름 고형 100 중량부를 기준으로 상기 메타크릴기로 표면 처리된 실리카 입자의 함량이 5 중량부가 되도록 이방성 도전 필름용 조성물을 수득하였다.8% by weight of acrylonitrile butadiene rubber (weight average molecular weight: 230000, 1072J, Zeon Chemical) dissolved in ethyl acetate at 20% by volume, 56% by weight of urethane acrylate resin (NPC7001H, 6% by weight of peroxide, 5% by weight of silica particles having an average particle diameter of 40 to 100 nm surface-treated with a methacrylic group, 9% by weight of nickel conductive particles having an average particle diameter of 4 to 6 占 퐉 and 16% by weight of a curing agent, A composition for an anisotropic conductive film was obtained such that the content of the silica particles surface-treated with the methacrylic group was 5 parts by weight based on the weight parts.

(단위: 함량 중량%)(Unit:% by weight) 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 (A) 부타디엔 수지(A) a butadiene resin 66 88 66 88 (B) 바인더 (B) Binder 5050 5353 5050 5656 (C) 경화 개시제 (C) Curing initiator 55 66 55 66 (D) 실리카 입자 1(D) Silica Particles 1 2020 1010 55 (E) 실리카 입자 2(E) Silica Particles 2 2020 (F) 도전입자(F) conductive particles 77 88 77 99 (G) 경화제 (G) Curing agent 1212 1515 1212 1616

(A) 부타디엔 수지: 에틸아세테이트에 20 부피%로 용해된 아크릴로니트릴 부타디엔 고무(중량평균분자량 230000, 1072J, Zeon Chemical)(A) Butadiene resin: Acrylonitrile butadiene rubber (weight average molecular weight: 230000, 1072J, Zeon Chemical) dissolved in ethyl acetate at 20 vol%

(B) 바인더: NPC7001H(나눅스社) (B) Binder: NPC7001H (NaNux)

(C) 경화 개시제: 라우로일 퍼옥시드 (유기과산화물)(C) Curing initiator: Lauroyl peroxide (organic peroxide)

(D) 실리카 입자 1: 메타크릴기로 표면 처리된 평균입경 40~100 ㎚의 실리카 입자(D) Silica Particles 1: Silica particles having an average particle diameter of 40 to 100 nm surface-treated with a methacryl group

(E) 실리카 입자 2: 표면 처리 되지 않은 평균입경 50~100nm의 실리카 입자(E) Silica Particles 2: Silica particles having an average particle size of 50 to 100 nm

(F) 도전입자: 평균입경 4 내지 6㎛인 니켈 도전볼(F) Conductive particles: Nickel-conductive balls having an average particle diameter of 4 to 6 탆

(G) 경화제 : DSC 발열 피크가 92 내지 95℃인 이소시아누릭 에시드 에틸렌옥사이드 변성 디아크릴레이트(G) Curing agent: DSC An isocyanuric acid ethylene oxide-modified diacrylate having an exothermic peak of 92 to 95 ° C

실험예Experimental Example 1 - 이방성 도전 필름의 치수변화율(Dimensional Change) ( 1 - Dimensional Change of Anisotropic Conductive Film ( %% ) 측정) Measure

상기 실시예 1 내지 2 및 비교예 1 내지 2에 따라 제조된 이방성 도전 필름의 시편을 5개씩 준비한 후, 도 2를 참조하여, 20℃에서 측정한 Z축 방향의 필름의 두께 T0 및 TA Instrument Q400 TMA 장비(제조원: TA社)를 이용하여 Film/Fiber Mode로 0.05N의 압력 하에 10℃/min의 속도로 20℃에서 220℃까지 가열 후 다시 동일한 속도로 감온한 후 20℃에서의 측정된 Z축 방향의 필름의 두께 T1을 각각 측정한 후, 하기 식 1에 따라 T0에서 T1으로 변화된 정도(%)를 측정하고 평균값을 계산하였다.After preparing five specimens of the anisotropic conductive film prepared according to Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2, the thickness T 0 of the film in the Z-axis direction measured at 20 ° C and the TA Instrument After heating from 20 ° C to 220 ° C at a rate of 10 ° C / min under a pressure of 0.05N in a film / fiber mode using a Q400 TMA equipment (manufactured by TA Corporation), the resultant was again heated at the same rate and then measured at 20 ° C After measuring the thickness T 1 of the film in the Z-axis direction, the degree of change (%) from T 0 to T 1 according to the following equation 1 was measured and the average value was calculated.

<식 1><Formula 1>

┃ T0 - T1 ┃ / T0 × 100┃ T 0 - T 1 ┃ / T 0 × 100

실험예Experimental Example 2 - 이방성 도전 필름의  2-anisotropic conductive film 버블bubble 면적 측정 Area measurement

상기 실시예 1 내지 2 및 비교예 1 내지 2에 따라 제조된 이방성 도전 필름 각각을 이용하여 PCB(피치 200㎛, 단자 폭 100㎛, 단자간 거리 100㎛, 단자 높이 35㎛, 삼성전자)와 COF(피치 200㎛, 단자 폭 100㎛, 단자간 거리 100㎛, 단자 높이 8㎛, 삼성전자)를, 실측 온도 70℃에서 1초, 1MPa 조건의 가압착 조건과, 150℃, 4초, 4.0MPa의 본압착 조건으로 접속시켜 상기 각각의 시편을 5개씩 준비한다.(Pitch: 200 占 퐉, terminal width 100 占 퐉, terminal-to-terminal distance 100 占 퐉, terminal height 35 占 퐉, Samsung Electronics Co., Ltd.) and COF (Pitch: 200 占 퐉, terminal width 100 占 퐉, distance between terminals 100 占 퐉, terminal height 8 占 퐉, Samsung Electronics Co., Ltd.) at 150 占 폚 for 4 seconds, 4.0 MPa And 5 pieces of each of the above specimens are prepared.

상기 준비된 각각의 시편에 대하여 현미경(BX51TRF, Olympus社)을 이용하여 10 군데의 사진을 찍은 후 이미지 아날라이져를 이용하여, 본딩 시의 피착재의 전극 면적 대비 스페이스부에서 발생한 버블의 면적 크기를 200 배의 배율로 비교 측정하여, 전극 면적 대비 버블 면적의 비율로 나타내었다.Each of the prepared specimens was photographed at 10 positions using a microscope (BX51TRF, Olympus), and then the size of the bubble generated in the space portion relative to the electrode area of the adherend at the time of bonding was 200 times , And expressed as a ratio of the bubble area to the electrode area.

실험예Experimental Example 3 - 이방성 도전 필름의 초기 및 신뢰성 접착력 측정 3 - Initial and Reliability of Anisotropic Conductive Film

상기 실시예 1 내지 2 및 비교예 1 내지 2에 따라 제조된 이방성 도전 필름 각각에 대하여 상기 실험예 2와 동일한 조건으로 가압착 및 본압착 후, 각각의 시편을 5개씩 준비한다.For each of the anisotropic conductive films produced according to Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2, five specimens were prepared after pressurization and final compression under the same conditions as Experimental Example 2.

상기 준비된 각각의 시편에 대하여 필강도 (Peel Strength) 측정기 (H5KT, Tinius Olsen社)를 이용하여 필 각도 90도 및 필 속도 50 mm/min의 조건하에서 초기 접착력을 측정한 후, 평균값을 계산하였다. Initial peel strengths were measured at 90 degrees of fill angle and 50 mm / min of peel strength using a peel strength meter (H5KT, Tinius Olsen), and the average values were calculated.

그 다음, 상기 각각의 5개씩의 시편을 온도 85℃ 및 상대 습도 85%의 조건하에서 500 시간 동안 방치하여 고온ㆍ고습 신뢰성 평가를 진행한 후, 이들 각각의 신뢰성 접착력을 상기와 동일한 방법으로 측정하여 평균값을 계산하였다Then, each of the five specimens was allowed to stand for 500 hours at a temperature of 85 ° C and a relative humidity of 85% to conduct a high-temperature / high-humidity reliability evaluation, and then the reliability adhesive strength of each of the five specimens was measured in the same manner as described above The mean value was calculated

실험예Experimental Example 4 - 이방성 도전 필름의 초기 및 신뢰성 접속저항 측정 4 - Initial and Reliable Connection Resistance Measurement of Anisotropic Conductive Film

상기 실시예 1 내지 2 및 비교예 1 내지 2에 따라 제조된 이방성 도전 필름 각각을 상기 실험예 2와 동일한 조건으로 가압착 및 본압착 후, 신뢰성 평가를 위한 항온 항습 조건에 보관 후 2 point probe 법을 이용하여 측정하였다. 상기 2 point probe 법은 저항측정기기를 이용할 수 있는데 기기에 연결되어 있는 2개의 probe를 이용하여 2 point 사이에서의 저항을 측정하였다. 저항측정기기(2000 Multimeter, Keithley社)는 1mA를 인가하며 이때 측정되는 전압으로 저항을 계산하여 표시하였다.Each of the anisotropic conductive films produced according to Examples 1 to 2 and Comparative Examples 1 and 2 was subjected to pressure bonding and final compression bonding under the same conditions as in Experimental Example 2 and then stored under constant temperature and humidity conditions for reliability evaluation. . The 2-point probe method can use a resistance measuring device. The resistance between two points is measured using two probes connected to the device. A resistance measuring instrument (2000 Multimeter, Keithley) is applied with 1 mA and the resistance is calculated by the measured voltage.

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 치수변화율 (%)Dimensional change ratio (%) 66 99 1616 2222 버블 면적(%)Bubble area (%) X (관찰되지 않음)X (not observed) 88 1515 3030 초기 접착력
(gf/cm)
Initial adhesion
(gf / cm)
1,3871,387 1,2561,256 10561056 938938
신뢰성 접착력
(gf/cm)
Reliable adhesion
(gf / cm)
1,2381,238 1,2201,220 10081008 832832
초기 접속저항(Ω)Initial connection resistance (Ω) 0.380.38 0.400.40 0.420.42 0.470.47 신뢰성 접속저항
(Ω)
Reliable connection resistance
(Ω)
0.520.52 0.590.59 0.780.78 1.451.45

상기 표 2의 결과로부터 확인할 수 있는 바와 같이, 바인더 수지 또는 경화제와 동일한 종류의 관능기를 하나 이상 포함하도록 표면 처리된 무기필러를 10 중량부 내지 30 중량부로 포함하는 실시예 1 내지 2의 이방성 도전 필름의 경우, 치수변화율(Dimensional change)이 10% 이하이고, 신뢰성 버블 면적이 10% 이하의 범위로 신뢰성 접속저항이 매우 낮은 반면, 표면 처리되어 있지 않은 무기필러를 사용(비교예 1)하거나, 이의 함량이 10 중량부 미만으로 적게 사용(비교예 2)한 경우, 치수변화율의 변화가 크고, 버블 면적 역시 커서 신뢰성 접속저항이 크게 증가하였다. As can be seen from the results of the above Table 2, the anisotropic conductive films of Examples 1 and 2 containing 10 to 30 parts by weight of an inorganic filler surface-treated to contain at least one functional group of the same kind as the binder resin or curing agent (Comparative Example 1) in which the dimensional change is 10% or less and the reliability bubble area is 10% or less while the reliability connection resistance is extremely low, while the inorganic filler which is not surface-treated is used (Comparative Example 1) When the content was less than 10 parts by weight (Comparative Example 2), the change in dimensional change was large, and the bubble area was large, resulting in a large increase in the reliability connection resistance.

Claims (14)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 바인더 수지;
경화제;
무기필러; 및
도전입자;
를 포함한 이방성 도전 필름이며,
상기 무기필러는 상기 바인더 수지 및 상기 경화제로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상과 동일한 종류의 관능기를 하나 이상 포함하도록 아크릴기 또는 메타아크릴기로 표면 처리된 실리카이고,
상기 무기필러는 상기 이방성 도전 필름 고형 100 중량부를 기준으로 10 중량부 내지 30 중량부이며,
상기 이방성 도전 필름은 열기계분석기(Thermo Mechanical Analyzer)에서 20℃에서의 이방성 도전 필름의 Z축 방향의 길이를 T0, 20℃ 에서 10℃/min 승온속도로 220 ℃까지 가열 후 10℃/min 감온속도로 감온하여 20℃ 에서 측정한 Z축 방향의 길이를 T1이라 할 때, 하기 식 1로 표시되는 치수변화율(Dimensional change)이 0% 내지 10%이고, 50℃ 내지 80℃, 1 내지 3초간 및 1.0MPa 내지 3.0MPa의 조건에서 가압착하고, 120℃ 내지 160℃, 1 내지 5초간 및 60MPa 내지 90MPa의 압력 조건 하에서 본압착한 후, 85℃ 및 상대 습도 85%의 조건하에서 500 시간 동안 방치한 후의 신뢰성 버블 면적이 10% 이하인, 이방성 도전 필름.
<식 1>
┃ T0 - T1 ┃ / T0 × 100
Binder resin;
Curing agent;
Inorganic filler; And
Conductive particles;
Wherein the anisotropic conductive film comprises:
Wherein the inorganic filler is a silica surface-treated with an acrylic group or a methacrylic group so as to contain at least one functional group of the same kind as any one or more selected from the group consisting of the binder resin and the curing agent,
Wherein the inorganic filler is 10 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the anisotropic conductive film solid,
The anisotropic conductive film is a thermo-mechanical analyzer (Thermo Mechanical Analyzer) the length of the Z-axis direction of the anisotropic conductive film at 20 ℃ at T 0, 10 ℃ / min and then heated at 20 ℃ to 10 ℃ / min rate of temperature rise up to 220 ℃ when the temperature sensing by the temperature sensing speed to as the length in the Z-axis direction measured at 20 ℃ T 1, dimensional change (dimensional change) of 0% to 10% represented by the following formula 1 and, 50 ℃ to 80 ℃, 1 to For 3 seconds and at a pressure of 1.0 MPa to 3.0 MPa and press-contacted under 120 to 160 deg. C for 1 to 5 seconds under a pressure of 60 to 90 MPa and then subjected to compression under conditions of 85 deg. C and 85% relative humidity for 500 hours And an anisotropic conductive film having a reliability bubble area of 10% or less after standing.
<Formula 1>
┃ T 0 - T 1 ┃ / T 0 × 100
제8항에 있어서,
상기 무기필러는 평균입경이 10nm 내지 500nm 이며, 비표면적이 50 내지 100 ㎡/g인, 이방성 도전 필름.
9. The method of claim 8,
The inorganic filler has an average particle diameter of 10 nm to 500 nm and a specific surface area of 50 to 100 m 2 / g.
제8항에 있어서,
상기 이방성 도전 필름 고형 100 중량부를 기준으로, 상기 바인더 수지가 10 중량부 내지 65 중량부, 상기 경화제가 5 중량부 내지 20 중량부, 및 상기 도전입자가 1 중량부 내지 15 중량부인, 이방성 도전 필름.
9. The method of claim 8,
Wherein the binder resin is 10 to 65 parts by weight, the curing agent is 5 to 20 parts by weight, and the conductive particles are 1 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the anisotropic conductive film solid, .
제8항에 있어서,
경화 후, 30℃에서 측정한 모듈러스가 100 내지 400MPa 인, 이방성 도전 필름.
9. The method of claim 8,
Anisotropic conductive film having a modulus of 100 to 400 MPa measured at 30 캜 after curing.
제8항 내지 제11항 중 어느 하나의 항에 따른 이방성 도전 필름을 포함하는, 디스플레이 장치.
A display device comprising an anisotropic conductive film according to any one of claims 8 to 11.
제12항에 있어서,
50℃ 내지 80℃, 1 내지 3초간 및 1.0MPa 내지 3.0MPa의 조건에서 가압착하고, 120℃ 내지 160℃, 1 내지 5초간 및 60MPa 내지 90MPa의 압력 조건 하에서 본압착한 후, 온도 85℃ 및 상대 습도 85%의 조건하에서 500 시간 동안 방치한 후의 상기 이방성 도전 필름의 접착력이 1,100 gf/cm 이상인, 디스플레이 장치.
13. The method of claim 12,
Pressed under the conditions of 50 to 80 ° C for 1 to 3 seconds and at a pressure of 1.0 to 3.0 MPa and press-bonded under pressure conditions of 120 to 160 ° C for 1 to 5 seconds and 60 to 90 MPa, Wherein the adhesive force of the anisotropic conductive film after leaving for 500 hours under a humidity of 85% is 1,100 gf / cm or more.
제12항에 있어서,
50℃ 내지 80℃, 1 내지 3초간 및 1.0MPa 내지 3.0MPa의 조건에서 가압착하고, 120℃ 내지 160℃, 1 내지 5초간 및 60MPa 내지 90MPa의 압력 조건 하에서 본압착한 후, 온도 85℃ 및 상대 습도 85%의 조건하에서 500 시간 동안 방치한 후의 상기 이방성 도전 필름의 접속저항이 1.0 Ω 이하인, 디스플레이 장치.


13. The method of claim 12,
Pressed under the conditions of 50 to 80 ° C for 1 to 3 seconds and at a pressure of 1.0 to 3.0 MPa and press-bonded under pressure conditions of 120 to 160 ° C for 1 to 5 seconds and 60 to 90 MPa, And the connection resistance of the anisotropic conductive film after being left for 500 hours under a humidity of 85% is 1.0 Ω or less.


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