KR20190021376A

KR20190021376A - 감열 기록 매체 및 물품

Info

Publication number: KR20190021376A
Application number: KR1020197002077A
Authority: KR
Inventors: 가즈마사 노다; 겐지 시미즈; 야스히로 가도타
Original assignee: 가부시키가이샤 리코
Priority date: 2016-06-28
Filing date: 2017-06-26
Publication date: 2019-03-05
Also published as: CN109328143B; JP2019001141A; JP6874567B2; EP3475095B1; CN109328143A; US20190152248A1; EP3475095A1; WO2018003758A1

Abstract

지지체; 및 류코 염료 및 현색제를 함유하는, 지지체의 하나 이상의 표면 상에 제공되는 감열 기록층을 포함하는 감열 기록 매체로서, 상기 현색제는 각각 4-하이드록시-4'-벤질옥시디페닐설폰 및 일반식 (1)로 표시되는 디페닐설폰 화합물을 포함하고, 일반식 (1)로 표시되는 디페닐설폰 화합물의 함량은 4-하이드록시-4'-벤질옥시디페닐설폰의 1.0 질량부에 대해 3.0 질량부 미만인 감열 기록 매체가 제공된다.

Description

감열 기록 매체 및 물품

본 발명은 감열 기록 매체 및 물품에 관한 것이다.

감열 기록 매체를 사용하는 감열 기록 방법은, 예를 들어 현상 및 정착 공정에 대한 필요성이 없는 다른 기록 방법에 비해 유리하고, 기록은 상대적으로 간단한 구조를 갖는 장치를 사용하여 짧은 시간 내에 이용가능하고, 소요되는 비용이 적다. 따라서, 감열 기록 매체는 예를 들어, 상하기 쉬운 식품, 도시락, 및 델리카트슨에 대한 POS의 분야, 예를 들어 도서 및 문서의 복사의 분야, 예를 들어 팩시밀리에 의한 통신 분야, 예를 들어 영수증 및 발권 기계에 의한 서명 영수증의 발권, 및 항공 산업에서의 수하물 표의 분야와 같은 여러 분야에서 널리 사용되고 있다.

과거와 비교하면, 감열 기록 매체를 사용하는 대중 교통 및 정기권에 대한 티켓의 표면이 자동화 티켓 게이트의 대중화로 인하여 손가락으로 접촉되는 기회가 상당하게 증가되고 있다. 따라서, 손 보호를 위해 사용되는 핸드 크림이 티켓 및 정기권의 감열 기록층에 부착되어 화상부의 경도의 저하 또는 흐려짐과 같은 부정적인 영향을 일으키는 새로운 문제점이 존재한다.

또한, 감열 기록 매체를 형성하는 감열 기록 라벨이 예를 들어 약국에서 사용되는 약병 및 약 케이스 상에 붙여져 사용되는 경우가 존재한다. 약병 및 약 케이스는 가정에서 다양한 위치에서 저장되고, 손 보호를 위해 사용된 핸드 크림이 발려진 손과 접촉될 수 있다. 여기서, 핸드 크림과 접촉된 화상부가 흐릿해질 수 있는 새로운 문제점이 존재한다.

따라서, 예를 들어, 개선된 핸드 크림 내성, 개선된 세탁 견뢰도, 및 개선된 내열성을 가지도록 감열 기록층에서 결합제로서 히드라진 자기-가교형 아크릴계 수지를 함유하는 감열 기록 매체가 제시되어 있다(예를 들어, PTL 1을 참조한다).

[선행기술문헌]

[특허문헌]

[PLT 1] 미심사청구된 일본 특허 출원 공개번호 제07-117354호

본 발명은 높은 발색 감도, 높은 화상 농도, 및 우수한 핸드 크림 내성을 갖는 감열 기록 매체를 제공하기 위한 목적을 가진다.

본 발명의 일 양태에 따르면, 감열 기록 매체는 지지체, 및 류코 염료, 제1 현색제, 및 제2 현색제를 함유하는 상기 지지체의 하나 이상의 표면 상에 제공되는 감열 기록층을 포함한다. 제1 현색제 및 제2 현색제는 각각 4-하이드록시-4'-벤질옥시디페닐설폰 및 하기 일반식 (1)로 표시되는 디페닐설폰 화합물이다. 일반식 (1)로 표시되는 디페닐설폰 화합물의 함량은 4-하이드록시-4'-벤질옥시디페닐설폰의 1.0 질량부에 대해 3.0 질량부 미만이다.

<일반식 (1)>

일반식 (1)에서, R³는 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 및 탄소수 1 내지 6의 알케닐기 중 임의의 하나를 나타내고, 각각의 o는 독립적으로 0 내지 4의 정수를 나타내고, p는 1 내지 11의 정수를 나타내고, R⁴는 탄소수 1 내지 12의 임의의 하나의 포화된 또는 불포화된, 직쇄형 또는 분지형 탄화수소기를 나타내고, 이는 에테르 결합, 하기 일반식 (1-1)로 표시되는 치환된 페닐렌기, 및 하기 일반식 (1-2)로 표시되는 2가 기를 함유할 수 있다.

<일반식 (1-1)>

일반식 (1-1)에서, R⁵는 메틸렌기 및 에틸렌기 중 임의의 하나를 나타낸다.

<일반식 (1-2)>

일반식 (1-2)에서, R⁶는 수소 원자 및 탄소수 1 내지 4의 알킬기 중 임의의 하나를 나타낸다.

[본 발명의 유리한 효과]

본 발명은 높은 발색 감도, 높은 화상 농도, 및 우수한 핸드 크림 내성을 갖는 감열 기록 매체를 제공할 수 있다.

[구현예의 설명]

(감열 기록 매체)

본 발명의 감열 기록 매체는 지지체, 및 상기 지지체의 하나 이상의 표면 상의 감열 기록층을 포함하고, 바람직하게는 언더층 및 보호층을 포함하고, 필요에 따라 다른 층을 더 포함한다.

본 발명의 감열 기록 매체는 하기 발견에 기초한다. 현존 기술은 감열 기록층에 결합제로서 히드라진 자기-가교형 아크릴계 수지를 첨가하여, 감열 기록 매체의 표면을 경도, 즉, 핸드 크림 내성의 열화로부터 보호한다. 그러나, 현존 기술은 화상부에 대한 핸드 크림의 접착으로 인한 화상 열화를 방지할 수 없다.

한편, 본 발명의 감열 기록 매체의 감열 기록층에 함유된 제1 현색제 및 제2 현색제는 각각 일반식 (1)로 표시되는 4-하이드록시-4'-벤질옥시디페닐설폰 및 디페닐설폰 화합물이다. 일반식 (1)로 표시되는 디페닐설폰 화합물의 함량은 4-하이드록시-4'-벤질옥시디페닐설폰의 1.0 질량부에 대해 3.0 질량부 미만이다. 이러한 방식으로, 높은 발색 감도, 높은 화상 농도, 및 우수한 핸드 크림 내성이 실현될 수 있다.

핸드 크림 내성과 관련된 핸드 크림의 예는 보습 성분으로서 글리세린을 함유하는 큐렐 어드밴스드 세라마이드(Curel Advanced Ceramide)로부터 이용가능한 테라피 데일리 모이스처(THERAPY DAILY MOISTURE)를 포함한다.

우수한 핸드 크림 내성을 가능하게 하는 본 발명의 특정 메커니즘은 알려져 있지 않다. 그러나, 알코올에서의 낮은 용해도를 갖는 특정한 2개의 현색제를 병용 사용하여 글리세린과 같은 다가 알코올로 주로 형성되는 핸드 크림에 대해 내성을 가지는 류코 염료와 현색제의 반응 생성물이 얻어질 수 있다.

<감열 기록층>

감열 기록층은 류코 염료, 현색제, 및 결착 수지를 포함하고, 필요에 따라 다른 성분을 더 포함한다.

- 류코 염료 -

류코 염료는 특별히 제한되지 않으며, 감열 기록 매체에서 사용되는 류코 염료로부터의 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 류코 염료의 바람직한 예는 류코 화합물 예컨대 트리페닐메탄계, 플루오란계, 페노티아진계, 아우라민계, 스피로피란계, 및 인돌리노프탈라이드계 염료를 포함한다.

류코 염료는 특별하게 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 류코 염료의 예는 3,3-비스(p-디메틸아미노페닐)-프탈라이드, 3,3-비스(p-디메틸아미노페닐)-6-디메틸아미노프탈라이드(크리스탈 바이올렛 락톤으로도 공지됨), 3,3-비스(p-디메틸아미노페닐)-6-디에틸아미노프탈라이드, 3,3-비스(p-디메틸아미노페닐)-6-클로로프탈라이드, 3,3-비스(p-디부틸아미노페닐)프탈라이드, 3-사이클로헥실아미노-6-클로로플루오란, 3-디메틸아미노-5,7-디메틸플루오란, 3-디에틸아미노-7-클로로플루오란, 3-디에틸아미노-7-메틸플루오란, 3-디에틸아미노-7,8-벤즈플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-클로로플루오란, 3-(N-p-톨릴-N-에틸아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 2-{N-(3'-트리플루오로메틸페닐)아미노}-6-디에틸아미노플루오란, 2-{3,6-비스(디에틸아미노)-9-(o-클로로아닐리노)크산틸 락탐 벤조에이트}, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-(m-트리클로로메틸아닐리노)플루오란, 3-디에틸아미노-7-(o-클로로아닐리노)플루오란, 3-피롤리디노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디-n-부틸아미노-7-o-클로로아닐리노)플루오란, 3-N-메틸-N,n-아밀미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-N-메틸-N-사이클로헥실아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N,N-디에틸아미노)-5-메틸-7-(N,N-디벤질아미노)플루오란, 벤조일 류코 메틸렌 블루, 6'-클로로-8'-메톡시-벤조인돌리노-스피로피란, 6'-브로모-3'-메톡시-벤조인돌리노-스피로피란, 3-(2'-하이드록시-4'-디메틸아미노페닐)-3-(2'-메톡시-5' 클로로페닐)프탈라이드, 3-(2'-하이드록시-4'-디메틸아미노페닐)-3-(2'-메톡시-5'-니트로페닐)프탈라이드, 3-(2'-하이드록시-4'-디에틸아미노페닐)-3-(2'-메톡시-5'-메틸페닐)프탈라이드, 3-(2'-메톡시-4'-디메틸아미노페닐)-3-(2'-하이드록시-4'-클로로-5'-메틸페닐)프탈라이드, 3-(N-에틸-N-테트라하이드로푸르푸릴)아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-N-에틸-N-(2-에톡시프로필)아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-N-메틸-N-이소부틸-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-모폴리노-7-(N-프로필-트리플루오로메틸아닐리노)플루오란, 3-피롤리디노-7-트리플루오로메틸아닐리노플루오란, 3-디에틸아미노-5-클로로-7-(N-벤질-트리플루오로메틸아닐리노)플루오란, 3-피롤리디노-7-(디-p-클로로페닐)메틸아미노플루오란, 3-디에틸아미노-5-클로로-7-(α-페닐에틸아미노)플루오란, 3-(N-에틸-p-톨루이디노)-7-(α-페닐에틸아미노)플루오란, 3-디에틸아미노-7-(o-메톡시카보닐페닐아미노)플루오란, 3-디에틸아미노-5-메틸-7-(α-페닐에틸아미노)플루오란, 3-디에틸아미노-7-피페리디노플루오란, 2-클로로-3-(N-메틸톨루이디노)-7-(p-n-부틸아닐리노)플루오란, 3-디-n-부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3,6-비스(디메틸아미노)플루오렌스피로(9,3')-6'-디메틸아미노프탈라이드, 3-(N-벤질-N-사이클로헥실아미노)-5,6-벤조-7-α-나프틸아미노-4'-브로모플루오란, 3-디에틸아미노-6-클로로-7-아닐리노플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-메시티디노-4',5'-벤조플루오란, 3-N-메틸-N-이소프로필-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-N-에틸-N-이소아밀-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-(2',4'-디메틸아닐리노)플루오란, 3-모폴리노-7-(N-프로필-트리플루오로메틸아닐리노)플루오란, 3-피롤리디노-7-트리플루오로메틸아닐리노플루오란, 3-디에틸아미노-5-클로로-7-(N-벤질-트리플루오로메틸아닐리노)플루오란, 3-피롤리디노-7-(디-p-클로로페닐)메틸아미노플루오란, 3-디에틸아미노-5-클로로-(α-페닐에틸아미노)플루오란, 3-(N-에틸-p-톨루이디노)-7-(α-페닐에틸아미노)플루오란, 3-디에틸아미노-7-(o-메톡시카보닐페닐아미노)플루오란, 3-디에틸아미노-5-메틸-7-(α-페닐에틸아미노)플루오란, 3-디에틸아미노-7-피페리디노플루오란, 2-클로로-3-(N-메틸톨루이디노)-7-(p-N-부틸아닐리노)플루오란, 3,6-비스(디메틸아미노)플루오렌스피로(9,3')-6'-디메틸아미노프탈라이드, 3-(N-벤질-N-사이클로헥실아미노)-5,6-벤조-7-α-나프틸아미노-4'-브로모플루오란, 3-디에틸아미노-6-클로로-7-아닐리노플루오란, 3-N-에틸-N-(-2-에톡시프로필)아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-N-에틸-N-테트라하이드로푸르푸릴아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-메시티디노-4',5'-벤조플루오란, 3-p-디메틸아미노페닐)-3-{1,1-비스(p-디메틸아미노페닐)에틸렌-2-일}프탈라이드, 3-(p-디메틸아미노페닐)-3-{1,1-비스(p-디메틸아미노페닐)에틸렌-2-일}-6-디메틸아미노프탈라이드, 3-(p-디메틸아미노페닐)-3-(1-p-디메틸아미노페닐-1-페닐에틸렌-2-일)프탈라이드, 3-(p-디메틸아미노페닐)-3-(1-p-디메틸아미노페닐-1-p-클로로페닐에틸렌-2-일)-6-디메틸아미노프탈라이드, 3-(4'-디메틸아미노-2'-메톡시)-3-(1"-p-디메틸아미노페닐-1"-p-클로로페닐-1",3"-부타디엔-4"-일)벤조프탈라이드, 3-(4'-디메틸아미노-2'-벤질옥시)-3-(1"-p-디메틸아미노페닐-1"-페닐-1",3"-부타디엔-4"-일)벤조프탈라이드, 3-디메틸아미노-6-디메틸아미노-플루오렌-9-스피로-3'-(6'-디메틸아미노)프탈라이드, 3,3-비스(2-(p-디메틸아미노페닐)-2-p-메톡시페닐)에테닐)-4,5,6,7-테트라클로로프탈라이드, 3-비스{1,1-비스(4-피롤리디노페닐)에틸렌-2-일}-5,6-디클로로-4,7-디브로모프탈라이드, 비스(p-디메틸아미노스티릴)-1-나프탈렌설포닐메탄, 및 비스(p-디메틸아미노스티릴)-1-p-트리설포닐메탄을 포함한다. 이들 류코 염료 중 하나는 단독으로 사용될 수 있거나 또는 이러한 류코 염료 중 2개 이상이 조합하여 사용될 수 있다.

-현색제-

제1 현색제 및 제2 현색제는 각각 4-하이드록시-4'-벤질옥시디페닐설폰 및 하기 일반식 (1)으로 표시되는 디페닐설폰 화합물이다.

<일반식 (1)>

<일반식 (1-1)>

<일반식 (1-2)>

각각의 R³는 동일하거나 상이할 수 있고, 바람직하게는 동일하며, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 및 탄소수 1 내지 6의 알케닐기 중 임의의 하나를 나타내고, 바람직하게는 수소 원자를 나타낸다.

알킬기 또는 알케닐기는 탄소수 1 내지 6의 알킬기 또는 알케닐기이고, 이러한 알킬기 및 알케닐기의 예는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, n-헥실기, 이소헥이실기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기, 비닐기, 알릴기, 이소프로페닐기, 1-프로페닐기, 2-부테닐기, 3-부테닐기, 1,3-부탄디에닐기, 및 2-메틸-2-프로페닐기를 포함한다.

할로겐 원자의 예는 염소 원자, 브롬 원자, 불소 원자, 및 요오드 원자를 포함한다. 이러한 할로겐 원자 중에서, 염소 원자 및 브롬 원자가 바람직하다.

각각의 o는 독립적으로 0 내지 4이고, 바람직하게는 0을 나타낸다.

OH 기 및 -OR⁴O- 기가 SO₂기의 파라 위치에 있는 것이 바람직하다.

디페닐설폰 화합물들의 혼합물을 사용하는 것이 바람직하고, 이의 각각은 일반식 (1)으로 표시되며, p의 상기 언급된 값에 있어서 상이하다.

R⁴는 동일하거나 상이할 수 있으나, 바람직하게는 동일하다.

R⁴는 탄소수 1 내지 12, 바람직하게는 탄소수 3 내지 7의 포화된 또는 불포화된, 바람직하게는 포화된 직쇄형 또는 분지형, 바람직하게는 직쇄형 탄화수소기이고, 이는 에테르 결합을 함유할 수 있다. 이러한 탄화수소의 바람직한 예는 폴리알킬렌 산화물 사슬 및 알킬렌기를 포함한다. 폴리알킬렌 산화물 사슬이 바람직하다.

폴리알킬렌 산화물 사슬(-OR⁴O-)의 예는 -O-(C_aH_2aO)_1-3-를 포함한다(여기서 a는 2 내지 4, 바람직하게는 2 내지 3, 보다 바람직하게는 2이다). 알킬렌기의 예는 -C_bH_2b-이다(여기서 b는 임의의 정수를 나타낸다).

R⁴는 하기 일반식 (1-1)으로 표시되는 치환된 페닐렌기 또는 하기 일반식 (1-2)로 표시되는 2가 기를 나타낸다.

<일반식 (1-1)>

<일반식 (1-2)>

이러한 예 중에서, R⁴는 바람직하게는 탄소수 1 내지 12의 포화된 또는 불포화된, 직쇄형 또는 분지형 탄화수소기이고, 이는 에테르 결합을 포함할 수 있다.

디페닐설폰 화합물에서 R⁴로 표시되는 기의 예는 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기, 펜타메틸렌기, 헥사메틸렌기, 헵타메틸렌기, 옥타메틸렌기, 노나메틸렌기, 데카메틸렌기, 운데카메틸렌기, 도데카메틸렌기, 메틸 메틸렌기, 디메틸 메틸렌기, 메틸 에틸렌기, 메틸렌 에틸렌기, 에틸 에틸렌기, 1,2-디메틸 에틸렌기, 1-메틸 트리메틸렌기, 1-메틸 테트라메틸렌기, 1,3-디메틸 트리메틸렌기, 1-에틸-4-메틸-테트라메틸렌기, 비닐렌기, 프로페닐렌기, 2-부테닐렌기, 에티닐렌기, 2-부티닐렌기, 1-비닐 에틸렌기, 에틸렌 옥시에틸렌기, 테트라메틸렌 옥시테트라메틸렌기, 에틸렌 옥시에틸렌 옥시에틸렌기, 에틸렌 옥시메틸렌 옥시에틸렌기, 1,3-디옥산-5,5-비스메틸렌기, 1,2-크실릴기, 1,3-크실릴기, 1,4-크실릴기, 2-하이드록시트리메틸렌기, 2-하이드록시-2-메틸 트리메틸렌기, 2-하이드록시-2-에틸 트리메틸렌기, 2-하이드록시-2-프로필 트리메틸렌기, 2-하이드록시-2-이소프로필 트리메틸렌기, 및 2-하이드록시-2-부틸 트리메틸렌기를 포함한다.

사용될 수 있는 디페닐설폰 화합물은 치환기 (R³) 및 p 중 적어도 임의의 하나가 변화된 일부 종류의 디페닐설폰 화합물들의 혼합물일 수 있다. 이러한 종류의 디페닐설폰 화합물의 함량비는 선택적이다. 혼합 방법의 예는 특별하게 제한되지 않으나, 분말의 형태로 혼합하는 것, 분산액, 예를 들어, 물의 형태로 혼합하는 것, 및 복수개의 종류의 디페닐설폰 화합물이 혼합물에 포함되게 하는 제조 조건에 따라 복수개의 종류의 디페닐설폰 화합물을 동시에 생성하는 방법을 포함한다.

일반식 (1)로 표시되는 화합물의 예는 하기를 포함한다: 4,4'-비스[4-[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시]-2-트랜스-부테닐옥시]디페닐설폰; 4,4'-비스[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시-4-부틸옥시]디페닐설폰; 4,4'-비스[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시-3-프로필옥시]디페닐설폰; 4,4'-비스[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시-2-에틸옥시]디페닐설폰; 4-[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시-4-부틸옥시]-4'-[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시-3-프로필옥시]디페닐설폰; 4-[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시-4-부틸옥시]-4'-[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시-2-에틸옥시]디페닐설폰; 4-[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시-3-프로필옥시]-4'-[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시-2-에틸옥시]디페닐설폰; 4,4'-비스[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시-5-펜틸옥시]디페닐설폰; 4,4'-비스[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시-6-헥실옥시]디페닐설폰; 4-[4-[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시]-2-트랜스-부테닐옥시]-4'-[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시-4-부틸옥시]디페닐설폰; 4-[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시-2-트랜스-부테닐옥시]-4'-[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시-3-프로필옥시]디페닐설폰; 4-[4-[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시]-2-트랜스-부테닐옥시]-4'-[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시-2-에틸옥시]디페닐설폰; 1,4-비스[4-[4-[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시-2-트랜스-부테닐옥시]페닐설포닐]페녹시]-시스-2-부텐; 1,4-비스[4-[4-[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시-2-트랜스-부테닐옥시]페닐설포노일]페녹시]-트랜스-2-부텐; 4,4'-비스[4-[4-(2-하이드록시페닐설포닐)페녹시]부틸옥시]디페닐설폰; 4,4'-비스[4-[2-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시]부틸옥시]디페닐설폰; 4,4'-비스[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시-2-에틸렌옥시에톡시]디페닐설폰; 4,4'-비스[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페닐-1,4-페닐렌비스메틸렌옥시]디페닐설폰; 4,4'-비스[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페닐-1,3-페닐렌비스메틸렌옥시]디페닐설폰; 4,4'-비스[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페닐-1,2-페닐렌비스메틸렌옥시]디페닐설폰; 2,2'-비스[4-[4-[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시-2-에틸렌옥시에톡시]페닐설포닐]페녹시]디에틸 에테르; α,α'-비스[4-[4-[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페닐-1,4-페닐렌비스메틸렌옥시]페닐설포닐]페녹시]-p-크실렌; α,α'-비스[4-[4-[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페닐-1,3-페닐렌비스메틸렌옥시]페닐설포닐]페녹시]-m-크실렌; α,α'-비스[4-[4-[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페닐-1,2-페닐렌비스메틸렌옥시]페닐설포닐]페녹시]-o-크실렌; 2,4'-비스[2-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시-2-에틸렌옥시에톡시]디페닐설폰; 2,4'-비스[4-(2-하이드록시페닐설포닐)페녹시-2-에틸렌옥시에톡시]디페닐설폰; 4,4'-비스[3,5-디메틸-4-(3,5-디메틸-4-하이드록시페닐설포닐)페녹시-2-에틸렌옥시에톡시]디페닐설폰; 4,4'-비스[3-알릴-4-(3-알릴-4-하이드록시페닐설포닐)페녹시-2-에틸렌옥시에톡시]디페닐설폰; 4,4'-비스[3,5-디메틸-4-(3,5-디메틸-4-하이드록시페닐설포닐)페닐-1,4-페닐렌비스메틸렌옥시]디페닐설폰; 4,4'-비스[3,5-디메틸-4-(3,5-디메틸-4-하이드록시페닐설포닐)페닐-1,3-페닐렌비스메틸렌옥시]디페닐설폰; 4,4'-비스[3,5-디메틸-4-(3,5-디메틸-4-하이드록시페닐설포닐)페닐-1,2-페닐렌비스메틸렌옥시]디페닐설폰; 4,4'-비스[3-알릴-4-(3-알릴-4-하이드록시페닐설포닐)1,4-페닐렌비스메틸렌옥시]디페닐설폰; 4,4'-비스[3-알릴-4-(3-알릴-4-하이드록시페닐설포닐)1,3-페닐렌비스메틸렌옥시]디페닐설폰; 4,4'-비스[3-알릴-4-(3-알릴-4-하이드록시페닐설포닐)1,2-페닐렌비스메틸렌옥시]디페닐설폰; 4,4'-비스[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시-2-하이드록시프로필옥시]디페닐설폰; 및 1,3-비스[4-[4-[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시-2-하이드록시프로필옥시]페닐설포닐]페녹시]-2-하이드록시프로판. 이러한 화합물 중 하나는 단독으로 사용될 수 있거나 또는 이러한 화합물 중 2개 이상이 조합하여 사용될 수 있다.

각각 일반식 (1)로 표시되는 일부 부류의 디페닐설폰 화합물이 혼합물로서 사용되는 경우, 혼합물의 특히 바람직한 조성물은 2개 이상의 종류의 디페닐설폰 화합물을 포함하고, 여기서 R³는 동일하고, 유일하게 p가 상이한 값을 가진다. 이러한 화합물은 간단한 방법으로 제조될 수 있고, 물질의 반응 비를 변화시킴으로써 임의의 함량비에서 상이한 p 값을 갖는 화합물을 동시에 합성하는 것이 가능하다. 이러한 화합물 중에서, 특히, p=1인 일반식 (1)로 표시되는 화합물의 예는 1,3-비스[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시]-2-하이드록시프로판, 1,1-비스[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시]메탄, 1,2-비스[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시]에탄, 1,3-비스[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시]프로판, 1,4-비스[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시]부탄, 1,5-비스[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시]펜탄, 1,6-비스[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시]헥산, α,α'-비스[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시]-p-크실렌, α,α'-비스[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시]-m-크실렌, α,α'-비스[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시]-o-크실렌, 2,2'-비스[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시]디에틸 에테르, 4,4'-비스[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시]디부틸 에테르, 1,2-비스[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시]에틸렌, 및 1,4-비스[4-(4-하이드록시페닐설포닐)페녹시]-2-부텐(예를 들어, 미심사청구된 일본 특허 출원 공개번호 제07-149713호, 국제공개번호 WO 93/06074, 및 국제공개번호 WO 95/33714 참조)을 포함한다.

이러한 화합물로서, 하기 구조식 A로 표시되는 D90로 명명되는 상업적으로 시판되는 제품(닛폰 소다 주식회사(Nippon Soda Co., Ltd.)로부터 시판됨)이 사용될 수 있다.

<구조식 A>

구조식 A에서, n은 1 내지 11의 수치값이다.

생성물은 구조식 A로 표시되는 화합물의 혼합물이고, 여기서 n은 1 내지 11의 수치값이다.

일반식 (1)로 표시되는 디페닐설폰 화합물의 함량은 4-하이드록시-4'-벤질옥시디페닐설폰의 1.0 질량부에 대해 3.0 질량부 미만, 바람직하게는 0.1 질량부 이상 2.5 질량부 이하, 더 바람직하게는 0.3 질량부 이상 1.5 질량부 이하, 더욱 더 바람직하게는 0.3 질량부 이상 1.0 질량부 이하이다. 일반식 (1)로 표시되는 디페닐설폰 화합물의 함량이 4-하이드록시-4'-벤질옥시디페닐설폰의 1.0 질량부에 대해 3.0 질량부 미만인 경우, 높은 발색 감도, 높은 화상 농도, 및 우수한 핸드 크림 내성을 갖는 감열 기록 매체를 얻을 수 있다.

4-하이드록시-4'-벤질옥시디페닐설폰 및 일반식 (1)로 표시되는 디페닐설폰 화합물 이외에, 현색제는 본 발명의 목적 및 효과가 달성되는 한, 임의의 다른 공지된 현색제를 더 포함할 수 있다.

현색제의 함량은 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있고, 바람직하게는 류코 염료의 1 질량부에 대해 1 질량부 이상 20 질량부 이하, 더 바람직하게는 2 질량부 이상 10 질량부 이하이다.

-결착 수지-

결착 수지는 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 결착 수지의 예는 하기를 포함한다: 폴리비닐 알코올 수지, 및 전분 또는 전분의 유도체; 셀룰로오스 유도체 예컨대 하이드록시메틸 셀룰로오스, 하이드록시에틸 셀룰로오스, 카복시메틸 셀룰로오스, 메틸 셀룰로오스, 및 에틸 셀룰로오스; 수용성 폴리머 예컨대 나트륨 폴리아크릴레이트, 폴리비닐 피롤리돈, 아크릴아미드-아크릴산 에스테르 공중합체, 아크릴아미드-아크릴산 에스테르-메타크릴산 삼원중합체, 스티렌-말레산 무수물 공중합체의 알칼리염, 이소부틸렌-말레산 무수물 공중합체의 알칼리염, 폴리아크릴아미드, 나트륨 알기네이트, 젤라틴, 및 카세인; 예를 들어 폴리비닐 아세테이트, 폴리우레탄, 폴리아크릴산, 폴리아크릴산 에스테르, 염화비닐-비닐 아세테이트 공중합체, 폴리부틸 메타크릴레이트, 및 에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체의 에멀젼; 및 예를 들어, 스티렌-부타디엔 공중합체 및 스티렌-부타디엔-아크릴 공중합체의 라텍스. 이러한 결착 수지 중 하나가 단독으로 사용될 수 있거나 또는 이러한 결착 수지 중 2개 이상이 조합하여 사용될 수 있다. 이러한 결착 수지 중에서, 스티렌-부타디엔 공중합체(SBR)이 개선된 내수성과 관련하여 특히 바람직하다.

필요에 따라, 다양한 열가용성 물질이 감도 향상제로서 감열 기록층에 첨가될 수 있다.

열가용성 물질은 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 열가용성 물질의 예는 하기를 포함한다: 지방산 예컨대 스테아르산 및 베헨산; 지방산 아미드 예컨대 스테아르산 아미드 및 팔미트산 아미드; 지방산 금속염 예컨대 스테아르산아연, 알루미늄 스테아레이트, 칼슘 스테아레이트, 아연 팔미테이트, 및 아연 베헤네이트; 및 p-벤질 바이페닐, 테르페닐, 트리페닐메탄, 벤질 p-벤질옥시벤조에이트, β-벤질옥시나프탈렌, 페닐 β-나프토에이트, 페닐 1-하이드록시-2-나프토에이트, 메틸 1-하이드록시-2-나프토에이트, 디페닐 카보네이트, 글리콜 카보네이트, 디벤질 테레프탈레이트, 디메틸 테레프탈레이트, 1,4-디메톡시나프탈렌, 1,4-디에톡시나프탈렌, 1,4-디벤질옥시나프탈렌, 1,2-디페녹시에탄, 1,2-비스(3-메틸페녹시)에탄, 1,2-비스(4-메틸페녹시)에탄, 1,4-디페녹시-2-부텐, 1,2-비스(4-메톡시페닐티오)에탄, 디벤조일 메탄, 1,4-디페닐티오부탄, 1,4-디페닐티오-2-부텐, 1,3-비스(2-비닐옥시에톡시)벤젠, 1,4-비스(2-비닐옥시에톡시)벤젠, p-(2-비닐옥시에톡시)바이페닐, p-아릴옥시바이페닐, p-프로파르길옥시바이페닐, 디벤조일옥시메탄, 디벤조일옥시프로판, 디벤질 디설파이드, 1,1-디페닐 에탄올, 1,1-디페닐 프로판올, p-벤질옥시벤질 알코올, 1,3-페녹시-2-프로판올, N-옥타데실 카바모일-p-메톡시카보닐 벤젠, N-옥타데실 카바모일 벤젠, 1,2-비스(4-메톡시페녹시)프로판, 1,5-비스(4-메톡시페녹시)-3-옥사펜탄, 디벤질 옥살레이트, 비스(4-메틸벤질) 옥살레이트, 및 비스(4-클로로벤질) 옥살레이트. 이러한 열가용성 물질 중 하나는 단독으로 사용될 수 있거나 또는 이러한 열가용성 물질 중 2개 이상이 조합하여 사용될 수 있다.

필요에 따라, 전자수용성을 가지나, 상대적으로 낮은 발색력을 가지는 다양한 힌더드 페놀 화합물 또는 힌더드 아민 화합물이 보조 첨가제로서 감열 기록층에 첨가될 수 있다. 이러한 보조 첨가제의 특정 예는 2,2'-메틸렌 비스(4-에틸-6-3차 부틸페놀), 4,4'-부틸리덴 비스(6-3차 부틸-2-메틸페놀), 1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-3차 부틸페닐)부탄, 1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-사이클로헥실페닐)부탄, 4,4'-티오 비스(6-3차 부틸-2-메틸페놀), 테트라브로모비스페놀 A, 테트라브로모비스페놀 S, 4,4-티오 비스(2-메틸페놀), 4,4'-티오 비스(2-클로로페놀), 테트라키스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄 테트라카복실레이트, 및 테트라키스(1,2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄 테트라카복실레이트를 포함한다.

-기타 성분-

기타 성분은 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 기타 성분의 예는 계면활성제, 활제, 및 전료를 포함한다.

활제의 예는 고차 지방산 또는 고차의 지방산의 금속염, 고차 지방산 아미드, 고차 지방산 에스테르, 동물성 왁스, 식물성 왁스, 광물 왁스, 및 석유계 왁스를 포함한다.

전료의 예는 하기를 포함한다: 예를 들어, 탈산칼슘, 실리카, 산화아연, 산화티탄, 수한화알루미늄, 수산화아연, 황산바륨, 점토, 카올린, 탈크, 표면-처리된 칼슘, 및 표면-처리된 실리카의 무기 분말; 및 우레아-포르말린 수지, 스티렌-메타크릴산 공중합체, 폴리스티렌 수지, 및 염화비닐리덴 수지의 유기 분말.

감열 기록층은 특별하게 제한되지 않는 공지된 방법에 의해 형성될 수 있다. 예를 들어, 감열 기록층은 분산된 입경이 0.1 ㎛ 이상 3 ㎛ 이하가 될 때까지 볼밀, 아트리토(attritor), 및 샌드밀과 같은 분산기를 사용하여 결착 수지 및 기타 성분과 함께 류코 염료와 현색제를 분쇄하고 분산시키는 단계, 생성물을 예를 들어 전료 및 필요에 따라 열가용성 물질의 분산액과 함께 혼합하여 감열 기록층 도포액을 제조하는 단계, 언더층 상에 감열 기록층 도포액을 도포하는 단계, 및 감열 기록층 도포액을 건조시키는 단계에 의해 형성될 수 있다.

도포 방법은 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 도포 방법의 예는 블레이드 코팅법, 그라비어 코팅법, 그라비어 오프셋 코팅법, 바코팅법, 롤코팅법, 나이프 코팅법, 에어 나이프 코팅법, 코마 코팅법, U-코마 코팅법, AKKU 코팅법, 스무딩 코팅법, 마이크로그라비어 코팅법, 리버스 롤 코팅법, 4- 또는 5-롤 코팅법, 딥코팅법, 커튼 코팅법, 슬라이드 코팅법, 및 다이 코팅법을 포함한다.

감열 기록층의 건조후 부착량은 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있고, 바람직하게는 1g/m²이상20g/m² 이하, 더 바람직하게는 3g/m²이상10g/m²이하이다.

<지지체>

지지체의 형상, 구조, 크기, 및 재료는 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 지지체의 형상의 예는 평판형 및 시트형을 포함한다. 지지체의 구조의 예는 단층 구조 및 적층 구조를 포함한다. 지지체의 크기는 예를 들어 감열 기록 매체의 크기에 따라 적절하게 선택될 수 있다.

지지체의 재료는 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 지지체의 재료의 예는 무기 재료 및 유기 재료를 포함한다.

무기 재료의 예는 유리, 석영, 실리콘, 산화실리콘, 산화알루미늄, SiO₂, 및 금속을 포함한다.

유기 재료의 예는 하기를 포함한다: 종이 예컨대 상질지, 아트지, 코팅지, 및 합성지; 셀룰로오스 유도체 예컨대 셀룰로오스 트리아세테이트; 및 예를 들어 폴리에스테르 수지, 예컨대 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 및 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리스티렌, 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리에틸렌, 및 폴리프로필렌의 플라스틱 필름. 이러한 재료 중 하나가 단독으로 사용될 수 있거나 또는 이러한 재료 중 2개 이상이 조합하여 사용될 수 있다.

지지체와의 언더층의 부착력을 개선하기 위하여, 예를 들어 코로나 방전 처리, 산화 반응 처리(예를 들어, 크롬산), 에칭 처리, 용이한 부착력을 부여하기 위한 처리, 및 정전기 방지 처리에 의해 지지체를 표면 개질시키는 것이 바람직하다. 예를 들어 백색 안료 예컨대 이산화티탄을 첨가함으로써 지지체를 백색이 되게 하는 것이 바람직하다.

지지체의 평균 두께는 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있고, 바람직하게는 20 ㎛ 이상 2,000 ㎛ 이하, 더 바람직하게는 50 ㎛ 이상 1,000 ㎛ 이하이다.

<언더층>

언더층은 중공 입자를 포함하고, 바람직하게는 수지 및 가교제를 포함하고, 필요에 따라 기타 성분을 더 포함한다. 언더층은 또한 중간층으로서 지칭될 수 있다.

-중공 입자-

중공 입자는 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 중공 입자의 중공률은 바람직하게는 50% 이상, 더 바람직하게는 80% 이상이다. 중공 입자의 중공률이 50% 이상인 경우, 발색 감도 및 발색 정세도(精細性)가 양호하다.

중공률은 중공 입자와 공극의 부피 간의 비이고, 백분율(%)로 표현된다. 중공 입자가 거의 구형인 것으로 나타날 수 있기 때문에, 중공률은 하기 식으로 표시된다.

중공률(%) = [(공극의 부피)/(중공 입자의 부피)]×100

중공 입자는 이미 발포된 상태이고, 열가소성 수지 쉘 및 상기 쉘 내의 공기 또는 임의의 기타 가스를 포함하는 비발포성 중공 입자이다. 중공 입자의 체적 평균 입경은 바람직하게는 0.4 ㎛ 이상 10㎛ 이하이다. 체적 평균 입경(입자 외경)이 0.4 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하인 경우, 양호한 감도 향상 효과가 얻어질 수 있다. 따라서, 중공 입자가 상기 기재된 범위의 체적 평균 입경 및 적은 편차로의 균일한 분포 피크를 가지는 것이 바람직하다.

중공 입자의 쉘을 형성하는 열가소성 수지의 예는 폴리스티렌 수지, 다염화비닐 수지, 폴리비닐리덴 염화물 수지, 폴리비닐 아세테이트 수지, 폴리아크릴산 에스테르 수지, 폴리아크릴로니트릴 수지, 폴리부타디엔 수지, 및 이들 수지의 공중합체를 포함한다. 이러한 열가소성 수지 중에서, 염화비닐리덴 및 아크릴로니트릴로 주로 형성된 공중합체가 특히 바람직하다.

중공 입자는 적절하게 제조된 제품 또는 상업적으로 이용가능한 제품일 수 있다. 상업적으로 이용가능한 제품의 예는 중공 입자(롬 앤 하스 컴퍼니(Rohm and Haas Company) 사제, ROPAQUE SN-1055, 50%의 중공률을 가짐), 중공 입자(롬 앤 하스 컴퍼니 사제, ROPAQUE OP-62, 33%의 중공률을 가짐), 중공 입자(마츠모토 유시 세이야쿠 주식회사(Matsumoto Yushi-Seiyaku Co., Ltd.) 사제, MATSUMOTO MICROSPHERE R-500, 90%의 중공률을 가짐), 및 중공 입자(JSR 코포레이션 사제, SX8782(D), 50%의 중공률을 가짐)를 포함한다.

언더층에서의 중공 입자의 함량은 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있고, 바람직하게는 20 질량% 이상 50 질량% 이하, 더 바람직하게는 30 질량% 이상 40 질량% 이하이다.

-결착 수지-

결착 수지는 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있고, 바람직하게는 수용성 폴리머 및 수성 폴리머 에멀젼 중 임의의 하나이다.

수용성 폴리머는 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 수용성 폴리머의 예는 하기를 포함한다: 폴리비닐 알코올; 개질된 폴리비닐 알코올 예컨대 카복실기를 함유하는 폴리비닐 알코올; 전분 또는 전분의 유도체; 셀룰로오스 유도체 예컨대 메톡시 셀룰로오스, 하이드록시에틸 셀룰로오스, 카복시메틸 셀룰로오스, 메틸 셀룰로오스, 및 에틸 셀룰로오스; 및 폴리우레탄, 나트륨 폴리아크릴레이트, 폴리비닐 피롤리돈, 아크릴아미드/아크릴산 에스테르 공중합체, 아크릴아미드/아크릴산 에스테르/메타크릴산 삼원중합체, 스티렌/말레산 무수물 공중합체의 알칼리염, 이소부틸렌/말레산 무수물 공중합체의 알칼리염, 폴리아크릴아미드, 나트륨 알기네이트, 젤라틴, 및 카세인. 수용성 폴리머 중 하나가 단독으로 사용될 수 있거나 또는 이러한 수용성 폴리머 중 2개 이상이 조합하여 사용될 수 있다.

수성 폴리머 에멀젼은 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 수성 폴리머 에멀젼의 예는 하기를 포함한다: 예를 들어 아크릴 수지, 개질된 아크릴 수지 예컨대 카복실기를 함유하는 아크릴 수지, 스티렌/부타디엔 공중합체, 및 스티렌/부타디엔/아크릴계 공중합체의 라텍스; 및 예를 들어, 비닐 아세테이트 수지, 비닐 아세테이트/아크릴산 공중합체, 스티렌/아크릴산 에스테르 공중합체, 아크릴산 에스테르 수지, 및 폴리우레탄 수지의 에멀젼. 이러한 수성 폴리머 에멀젼 중 하나가 단독으로 사용될 수 있거나 또는 이러한 수성 폴리머 에멀젼 중 2개 이상이 조합하여 사용될 수 있다.

언더층 내의 결착 수지의 함량은 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있고, 바람직하게는 중공 입자의 100 질량부에 대해 30 질량부 이상 300 질량부 이하, 더 바람직하게는 40 질량부 이상 200 질량부 이하이다.

결착 수지의 함량이 30 질량부 이상 300 질량부 이하인 경우, 충분한 결착력이 지지체와 언더층 사이에서 얻어질 수 있다. 이는 양호한 발색 특성을 제공한다.

-가교제-

가교제는 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 가교제의 예는 옥사졸린기를 함유하는 화합물, 글리옥살 유도체, 메틸올 유도체, 에피클로로히드린 유도체, 에폭시 화합물, 아지리딘 화합물, 히드라진, 히드라자이드 유도체, 및 카보디이미드 유도체를 포함한다. 이러한 가교제 중 하나가 단독으로 사용될 수 있거나 또는 이러한 가교제 중 2개 이상이 조합하여 사용될 수 있다. 이러한 가교제 중에서, 옥사졸린기를 함유하는 화합물이 특히 바람직하며, 이는 이러한 화합물이 지지체와의 높은 결합성 및 내수성을 가져 언더층에 적합하며, 내수성을 얻는데 필요한 경화 시간이 짧기 때문이다.

옥사졸린기를 함유하는 화합물은 적절하게 합성된 제품 또는 시판되는 제품일 수 있다. 시판되는 제품의 예는 EPOCROS WS-700(닛폰 쇼쿠바이 주식회사(Nippon Shokubai Co., Ltd.) 사제)를 포함한다.

옥사졸린기를 함유하는 화합물의 함량은 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있고, 바람직하게는 결착 수지의 100 질량부에 대해 20 질량부 이상 70 질량부 이하, 더 바람직하게는 30 질량부 이상 50 질량부 이하이다. 옥사졸린기를 함유하는 화합물의 함량은 20 질량부 이상 70 질량부 이하인 것이 바람직하고, 이는 언더층이 내수성이게 만드는데 긴 경화 시간이 필요하지 않고, 양호한 발색 특성이 얻어지기 때문이다.

-기타 성분-

기타 성분은 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 기타 성분의 예는 계면활성제, 필러, 활제, 및 전료를 포함한다.

언더층을 형성하는 방법은 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 예를 들어, 언더층은 결착 수지, 중공 입자, 및 물, 바람직하게는 가교제, 및 필요에 따라 기타 성분을 분산기를 사용하여 분산시켜 언더층 도포액을 제조하는 단계, 언더층 도포액을 지지체 상에 도포하는 단계, 및 언더층 도포액을 건조시키는 단계에 의해 형성될 수 있다. 도포 방법은 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 도포 방법의 예는 블레이드 코팅법, 그라비어 코팅법, 그라비어 오프셋 코팅법, 바코팅법, 롤코팅법, 나이프 코팅법, 에어 나이프 코팅법, 코마 코팅법, U-코마 코팅법, AKKU 코팅법, 스무딩 코팅법, 마이크로그라비어 코팅법, 리버스 롤 코팅법, 4- 또는 5-롤 코팅법, 딥코팅법, 커튼 코팅법, 슬라이드 코팅법, 및 다이 코팅법을 포함한다.

언더층의 건조 후의 부착량은 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있고, 바람직하게는 1g/m²이상5g/m² 이하, 더 바람직하게는 2g/m²이상5g/m² 이하이다.

-보호층-

보호층은 결착 수지 및 가교제를 포함하고, 필요에 따라 기타 성분을 더 포함한다.

결착 수지는 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있고, 특히 바람직하게는 수용성 수지이다.

수용성 수지의 예는 폴리비닐 알코올, 개질된 폴리비닐 알코올, 전분 또는 전분 또는 전분의 유도체, 셀룰로오스 유도체 예컨대 메톡시 셀룰로오스, 하이드록시에틸 셀룰로오스, 카복시메틸 셀룰로오스, 메틸 셀룰로오스, 및 에틸 셀룰로오스, 나트륨 폴리아크릴레이트, 폴리비닐 피롤리돈, 아크릴아미드-아크릴산 에스테르 공중합체, 아크릴아미드-아크릴산 에스테르-메타크릴산 삼원중합체, 스티렌-말레산 무수물 공중합체의 알칼리염, 이소부틸렌-말레산 무수물 공중합체의 알칼리염, 폴리아크릴아미드, 개질된 폴리아크릴아미드, 메틸비닐 에테르-말레산 무수물 공중합체, 카복시-개질된 폴리에틸렌, 폴리비닐 알코올-아크릴아미드 블록 공중합체, 멜라민-포름알데하이드 수지, 우레아-포름알데하이드 수지, 나트륨 알기네이트, 젤라틴, 및 카세인을 포함하다. 이러한 수용성 수지 중 하나가 단독으로 사용될 수 있거나 또는 이러한 수용성 수지 중 2개 이상이 조합하여 사용될 수 있다. 이러한 수용성 수지 중에서, 개질된 폴리비닐 알코올이 바람직하다.

개질된 폴리비닐 알코올의 예는 하기를 포함한다: 디아세톤-개질된 폴리비닐 알코올; 아세토아세틸-개질된 폴리비닐 알코올; 및 카복실산-개질된 폴리비닐 알코올 예컨대 이타콘산-개질된 폴리비닐 알코올 및 말레산-개질된 폴리비닐 알코올.

가교제가 수용성 수지와의 반응을 진행시킴으로써 수용성 수지의 수용해도를 감소시킬 수 있는 한, 가교제는 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 가교제의 예는 글리옥살 유도체, 메틸올 유도체, 에피클로로히드린, 폴리아미드 에피클로로히드린, 에폭시 화합물, 아지리딘 화합물, 히드라진, 히드라자이드 유도체, 옥사졸린 유도체, 및 카보디이미드 유도체를 포함한다. 가교제 중 하나가 단독으로 사용될 수 있거나 또는 이러한 가교제 중 2개 이상이 조합하여 사용될 수 있다. 이러한 가교제 중에서, 폴리아미드 에피클로로히드린이 특히 바람직하며, 이는 폴리아미드 에피클로로히드린이 취급에 있어서 매우 안전하고, 내수성을 얻는데 짧은 경화시간을 필요로 하기 때문이다.

폴리아미드 에피클로로히드린의 함량은 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있고, 바람직하게는 결착 수지의 100 질량부에 대해 10 질량부 이상 60 질량부 이하, 더 바람직하게는 20 질량부 이상 50 질량부 이하이다.

필요에 따라 보호층에 안료(필러)를 첨가하는 것이 바람직하다. 보호층에 사용되는 안료의 예는 무기 안료 예컨대 산화아연, 탄산칼슘, 황산바륨, 산화티탄, 리토폰, 탈크, 파이로필라이트, 카올린, 수산화알루미늄, 및 하소된 카올린, 및 유기 안료 예컨대 가교결합된 폴리스티렌 수지, 우레아 수지, 실리콘 수지, 가교결합된 폴리메틸 메타크릴레이트 수지, 및 멜라민-포름알데히드 수지를 포함한다.

보호층에서의 본원에 사용되는 보조 첨가제 성분, 예컨대 계면활성제, 열가용성 물질, 활제, 및 가압 착색 억제제를 본원에 기재된 수지, 내수성 첨가제, 및 안료와 조합하여 사용하는 것이 가능하다.

보호층은 특별히 제한되지 않는 공지된 방법에 의해 형성될 수 있다.

보호층의 평균 두께는 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있고, 바람직하게는 0.5 ㎛ 이상 5 ㎛ 이하, 더 바람직하게는 1 ㎛ 이상 3 ㎛ 이하이다.

<기타 층>

기타 층은 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 기타 층의 예는 후면층을 포함한다.

-후면층-

필요에 따라, 후면층은 감열 기록층이 제공되지 않는 면의 지지체의 표면 상에 제공될 수 있다.

후면층은 필러 및 결착 수지를 함유하고, 필요에 따라 기타 성분 예컨대 활제 및 착색제를 더 포함한다.

필러의 사용가능한 예는 무기 필러 및 유기 필러를 포함한다.

무기 필러의 예는 탄산염, 규산염, 금속 산화물, 및 황산 화합물을 포함한다.

유기 필러의 예는 실리콘 수지, 셀룰로오스, 에폭시 수지, 나일론 수지, 페놀 수지, 폴리우레탄 수지, 우레아 수지, 멜라민 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리카보네이트 수지, 스티렌 수지, 아크릴 수지, 폴리에테르 수지, 포름알데히드 수지, 및 폴리메틸 메타크릴레이트 수지를 포함한다.

결착 수지는 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있고, 감열 기록층에서의 결착 수지와 동일할 수 있다.

후면층의 평균 두께는 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있고, 바람직하게는 0.1 ㎛ 이상 20 ㎛ 이하, 더 바람직하게는 0.3 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하이다.

본 발명의 감열 기록 매체의 구현예는 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 예를 들어, 감열 기록 매체는 라벨로서 사용될 수 있거나, 또는 보호층 또는 지지체 상에 정보, 예컨대 문자, 마크, 그림, 및 2차원 코드 예컨대 바코드 또는 QR 코드(등록 상표)가 기록된 층을 가질 수 있다. 감열 기록 매체는 점착층이 감열 기록층이 제공되는 면의 반대편에 있는 지지체의 면에 제공되는 구현예일 수 있다.

본 발명의 감열 기록 매체의 형상은 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 감열 기록 매체의 형상의 예는 라벨 형상, 시트 형상, 및 롤 형상을 포함한다.

본 발명의 감열 기록 매체의 구현예의 특정 예는 하기에 기재될 것이다.

<감열 기록 라벨>

본 구현예의 감열 기록 매체는 감열 기록층이 제공되는 표면의 반대편에 있는 지지체의 표면 상의 점착층, 및 상기 점착층 상의 이형지를 포함하고, 필요에 따라 다른 층을 더 포함하는 감열 기록 라벨이다. 점착층은 모두 라벨 상에 코팅될 수 있거나 또는 일정 위치에만 코팅될 수 있다.

점착층의 재료는 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 접착제층의 재료의 예는 우레아 수지, 멜라민 수지, 페놀 수지, 에폭시 수지, 비닐 아세테이트 수지, 비닐 아세테이트-아크릴 공중합체, 에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체, 아크릴 수지, 폴리비닐 에테르 수지, 염화비닐-아세트산비닐 공중합체, 폴리스티렌 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리아미드 수지, 염소화된 폴리올레핀 수지, 폴리비닐 부티랄 수지, 아크릴산 에스테르 공중합체, 메타크릴산 에스테르 공중합체, 천연 고무, 시아노아크릴레이트 수지, 및 실리콘 수지를 포함한다. 이러한 재료 중 하나가 단독으로 사용될 수 있거나 또는 이러한 재료 중 2개 이상이 조합하여 사용될 수 있다.

<라이너리스 감열 기록 매체>

(이형층을 갖는 유형)

본 구현예의 감열 기록 매체는 감열 기록층이 제공되는 지지체의 표면(정면) 상의 최상층으로서 이형층을 더 포함하고, 감열 기록층이 제공되는 표면의 반대편에 있는 지지체의 표면(후면) 상에 점착층을 더 포함하는 라이너리스 감열 기록 매체이다. 감열 기록 매체는 필요에 따라 다른 층을 더 포함할 수 있다.

이형층은 바람직하게는 점착층으로부터의 양호한 분리가능성을 갖는 재료로 형성되는 층이고, 특히 바람직하게는 실리콘을 함유하는 층이다.

본 구현예의 라이너리스 감열 기록 매체는 점착층이 이형층 상에 적층되는 방식으로 권취된 롤 형태로 취급될 수 있다.

(이형층 없는 유형)

본 구현예의 감열 기록 매체는 감열 기록층이 제공되는 표면의 반대편에 있는 지지체의 표면 상의 점착층을 더 포함하고, 필요에 따라 다른 층을 더 포함하는 는 라이너리스 감열 기록 매체이다. 점착층은 가열되는 경우에 점착성을 발현하는 감열 점착층이다.

감열 점착층은 열가소성 수지 및 열가용성 물질을 포함하고, 필요에 따라 점착부여제를 더 포함한다.

열가소성 수지는 점착력 및 접착력을 부여한다. 열가용성 물질은 표준 온도에서 고체이고, 이에 따라 수지에 가소성을 부여하지 않으나, 가열되는 경우에 용융되어 수지를 팽윤시키거나 또는 연화시켜 수지의 점착성을 발현시킨다. 접착부여제는 점착성을 개선하는 기능을 가진다.

<감열 자기 기록지>

본 구현예의 감열 기록 매체는 감열 기록층이 제공되는 표면의 반대편에 있는 지지체의 표면 상의 자기 기록층을 포함하고, 필요에 따라 다른 층을 더 포함하는 감열 자기 기록지이다.

자기 기록지는 예를 들어 지지체 상에 산화철 및 바륨 페라이트, 및 예를 들어 염화비닐 수지, 우레탄 수지, 및 나일론 수지를 코팅함으로써, 또는 예를 들어 증기 증착 또는 수지를 사용하지 않은 스퍼터링과 같은 이러한 방법에 의해 형성된다. 감열 기록층이 제공되는 표면의 반대편에 있는 지지체의 표면 상의 자기 기록층을 제공하는 것이 바람직하고, 그러나, 또한 지지체와 감열 기록층 사이에 또는 감열 기록층의 적어도 일부분 상에 자기 기록층을 제공하는 것이 가능하다.

(기록 방법)

본 발명의 감열 기록 매체를 사용하는 기록 방법은 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 기록 방법의 예는 서멀 헤드 및 레이저를 포함한다.

서멀 헤드의 형상, 구조, 및 크기는 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다.

레이저는 특별히 제한되지 않으며, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 레이저의 예는 CO₂ 레이저 및 반도체 레이저를 포함하며, 이는 9.3 ㎛ 이상 10.6 ㎛ 이하의 파장을 가진다.

(용도)

본 발명의 감열 기록 매체는 발색 감도, 높은 화상 농도, 및 우수한 핸드 크림 내성을 가진다. 따라서, 본 발명의 감열 기록 매체는, 예를 들어 상하기 쉬운 식품, 도시락, 및 델리카트슨에 대한 POS의 분야; 예를 들어 도서 및 문서의 복사의 분야; 예를 들어 팩시밀리에 의한 통신 분야; 예를 들어 영수증 및 발권 기계의 의한 서명 영수증의 발권의 분야; 항공 산업에서의 수하물 표; 약 케이스 및 약병과 같은 여러 분야에 사용될 수 있다.

(물품)

본 발명의 물품은 본 발명의 감열 기록 매체를 포함한다.

감열 기록 매체로서, 본 발명의 감열 기록 매체가 바람직하게 사용될 수 있다.

물품이 본 발명의 감열 기록 매체를 포함하는 것으로 언급되는 경우는, 본 발명의 감열 기록 매체가 예를 들어 물품 상에 고정 또는 부착되는 것을 의미한다.

본 발명의 물품은 특별히 제한되지 않으며, 물품이 본 발명의 감열 기록 매체를 포함하는 한, 의도된 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 물품의 예는 충전재, 포장재, 및 포장지를 포함한다.

물품의 보다 구체적인 예는 상하기 쉬운 식품, 도시락, 델리카트슨, 도서, 및 문서에 대한 포장재를 포함한다.

실시예

본 발명은 실시예에 의해 하기에 기재될 것이다. 본 발명은 이러한 실시예로 제한되는 것으로 해석되지 않아야 한다.

(실시예 1)

<감열 기록 매체의 제조>

- 언더층 도포액<A 액체>의 제조 -

하기 기재된 조성의 성분을 혼합하고, 교반하여 언더층 도포액<A액체>를 제조하였다.

- 중공 입자(90%의 중공률, 4.4 ㎛의 체적 평균 입경, 및 33질량%의 고형분 농도를 가짐): 20 질량부

- 스티렌/부타디엔 공중합체 라텍스(47.5 질량%의 고형분 농도를 가짐): 20 질량부

- 10 질량% 폴리비닐 알코올 수용액(구라레이 주식회사(Kuraray Co., Ltd.) 사제): 20 질량부

- 이온교환수: 40 질량부

- 감열 기록층 도포액<E 액체>의 제조 -

류코 염료 또는 현색제를 샌드 글라인더를 사용하여 분산시켜 임의의 , <C 액체>, 및 <D 액체>에 류코 염료 또는 현색제의 평균 입경이 각각 0.5 ㎛, 1.0 ㎛, 및 1.0 ㎛가 되게 하는 방식으로 각각 하기 기재된 성분을 포함하는 , <C 액체>, 및 <D 액체>의 조성물을 제조하였다.

다음으로, (20 질량부), <C 액체>(30 질량부), <D 액체>(10 질량부), 스티렌-부타디엔 공중합체 라텍스(47.5 질량%의 고형분 농도를 가짐)(5 질량부), 10 질량%의 이타콘산-개질된 폴리비닐 알코올 수용액(10 질량부), 및 이온교환수(40 질량부)를 혼합하고, 교반하여 감열 기록층 도포액 <E 액체>를 제조하였다.

- 류코 염료(3-디부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란): 20 질량부

- 10 질량% 이타콘산-개질된 폴리비닐 알코올 수용액(구라레이 주식회사 사제, 25-88KL):40 질량부

- 계면활성제(닛폰 뉴카자이 주식회사(Nippon Nyukazai Co., Ltd.) 사제, NEWCOL 290, 100 질량%의 고형분 농도를 가짐): 0.2 질량부

- 이온교환수: 40 질량부

- 4-하이드록시-4'-벤질옥시디페닐설폰: 20 질량부

- 10 질량%의 이타콘산-개질된 폴리비닐 알코올 수용액(구라레이 주식회사 사제, 25-88KL): 20 질량부

- 비결정성 실리카(미즈사와 인더스트리얼 케미컬 주식회사(Mizusawa Industrial Chemicals, Ltd.) 사제, MIZUKASIL P527): 15 질량부

- 계면활성제(니신 케미컬 주식회사(Nissin Chemical Co., Ltd.) 사제, PD-001, 100 질량%의 고형분 농도를 가짐): 0.2 질량부

- 이온교환수: 60 질량부

- 하기 구조식 A로 표시된 D90(닛폰 소다 주식회사 사제): 20 질량부

<구조식 A>

D90은 구조식 A로 표시되는 화합물의 혼합물이고, 여기서 n은 1 내지 11의 수치 값이다.

- 비결정성 실리카(미즈사와 인더스트리얼 케미컬 주식회사, MIZUKASIL P527): 15 질량부

- 계면활성제(니신 케미컬 주식회사, PD-001, 100 질량%의 고형분 농도를 가짐): 0.2 질량부

- 이온교환수: 60 질량부

- 보호층 도포액<G 액체>의 제조 -

하기 기재된 조성물을 갖는 혼합물은 체적 평균 입경이 0.5 ㎛이 되도록 샌드 글라인더를 사용하여 분산되어 <F 액체>를 제조하였다.

- 수산화알루미늄: 30 질량부

- 10 질량%의 이타콘산-개질된 폴리비닐 알코올 수용액(구라레이 주식회사 사제, 25-88KL): 30 질량부

- 이온교환수: 40 질량부

다음으로, 하기 기재된 조성의 성분을 혼합하고, 교반하여 보호층 도포액 <G 액체>를 제조하였다.

- 하기 기재된 <F 액체>: 30 질량부

- 10 질량%의 디아세톤-개질된 폴리비닐 알코올 수용액(재팬 VAM & Poval 주식회사(Japan VAM & Poval Co., Ltd.) 사제, DF-17): 50 질량부

- 가교제 액체(아디프산 디히드라자이드, 10 질량%의 고형분 농도를 가짐): 20 질량부

- 몬탄산 에스테르 왁스 분산액(30 질량%의 고형분 농도를 가짐): 5 질량부

- 이온교환수: 15 질량부

- 보호층 도포액<H 액체>의 제조 -

- 하기 기재된 <F 액체>: 30 질량부

- 10 질량%의 이타콘산-개질된 폴리비닐 알코올 수용액(구라레이 주식회사 사제, 25-88KL): 50 질량부

- 가교제 액체(폴리아미드 에피클로로히드린, 10 질량%의 고형분 농도를 가짐): 20 질량부

- 이온교환수: 15 질량부

- 보호층 도포액의 제조-

다음으로, 하기 기재된 조성의 성분을 혼합하고, 교반하여 보호층 도포액를 제조하였다.

- 하기 기재된 <F 액체>: 30 질량부

- 10 질량%의 완전 비누화된 폴리비닐 알코올 수용액(구라레이 주식회사 사제, 28-98): 50 질량부

- 옥사졸린계 가교제 액체(닛폰 쇼쿠바이 주식회사 사제, WS-500, 39 질량%의 고형분 농도를 가짐): 5 질량부

- 이온교환수: 15 질량부

- 보호층 도포액<J 액체>의 제조-

다음으로, 하기 기재된 조성의 성분을 혼합하고, 교반하여 보호층 도포액<J 액체>을 제조하였다.

- 하기 기재된 <F 액체>: 30 질량부

- 코어-쉘 유형의 아크릴산 에멀젼(미쓰이 케미컬 인코포레이션(Mitsui Chemicals, Inc.) 사제, BARIASTAR B-2000, 19질량%의 고형분 농도를 가짐): 27 질량부

- 이온교환수: 15 질량부

- 보호층 도포액<K 액체>의 제조-

다음으로, 하기 기재된 조성의 성분을 혼합하고, 교반하여 보호층 도포액<K 액체>을 제조하였다.

- 하기 기재된 <F 액체>: 30 질량부

- 10 질량% 아세토아세틸-개질된 폴리비닐 알코올 수용액(닛폰 합성 화학 인더스트리 주식회사(Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) 사제, Z-200): 50 질량부

- 이온교환수: 15 질량부

다음으로, 언더층 도포액<A 액체>, 감열 기록층 도포액<E 액체>, 및 보호층 도포액<G 액체>을 62g/m²의 평량을 갖는 종이인 지지체의 표면 상에 코팅하였고, 건조후 언더층, 감열 기록층, 및 보호층의 부착량이 3.0g/m², 2.5g/m², 및 3.0g/m²이 되도록 건조하였다.

다음으로, 생성물을 수퍼-캘린더를 사용하여 표면 처리하였고, 이로써 표면 평활도가 1,500초 내지 2,500초가 되고, 이후 고밀도 폴리에틸렌 백에 기밀 밀봉시켰고, 예정된 기간 동안 40℃의 환경에서 경화시켰다. 이러한 방식으로, 실시예 1의 감열 기록 매체를 제조하였다.

(실시예 2 내지 15 및 비교 실시예 1 내지 7)

실시예 1의 감열 기록층 및 보호층의 조합이 하기 표 1에 나타난 조합으로 변화된 것을 제외하고, 실시예 2 내지 15 및 비교 실시예 1 내지 7의 감열 기록 매체를 실시예 1과 동일한 방식으로 제조하였다.

[표 1]

다음으로, 실시예 1 내지 15 및 비교 실시예 1 내지 7의 제조된 감열 기록 매체의 다양한 특성을 하기 기재된 방식으로 평가하였다. 결과는 표 2에 나타나 있다.

<최대 발색 농도>

열구배 시험기(히트 그래디언트(HEAT GRADIENT), 도요 세이키 주식회사 사제)를 사용하여, 각각의 감열 기록 매체는 130℃, 140℃, 150℃, 160℃, 및 170℃℃ 각각에서 2초 동안 0.2 MPa에서 발색되었고, 생성된 화상 농도를 맥베스 반사 농도계(Macbeth reflection densitometer)(RD-914, 그레태그 맥베스 주식회사(Gretag Macbeth Ltd.) 사제)를 사용하여 측정하였다. 최대 농도를 기록하였고, 하기 기재된 기준에 따라 평가하였다.

<평가 기준>

A: 최대 발색 밀도는 1.30 이상이었다.

B: 최대 발색 밀도는 1.20 이상 1.29 이하이었다.

C: 최대 발색 밀도는 1.19 이하이었다.

<감도 배율>

기록 시뮬레이터(오쿠라 덴키(Ohkura Denki) 사제)를 사용하여, 0.45 w/dot의 헤드 전력 하에 0.1 msec 간격으로 0.1 msec 내지 1.2 msec의 펄스 폭(인가된 에너지)을 갖는 각각의 감열 기록 매체에 대해 기록을 수행하였고, 화상 농도를 멕베스 반사 농도계(RD-914, 그레태그 맥베스 주식회사 사제)로 측정하였다. 1.0의 화상 농도를 얻기 위해 필요한 펄스 폭이 계산되었다. 얻어진 에너지 값 기준으로, 실시예 1에 대한 감도 배율을 하기 기재된 수학식에 따라 계산하였다. 감도 배율을 하기 기재된 기준에 따라 평가하였다.

감도 배율 = (실시예 1에서의 펄스 폭)/(측정된 샘플에 대한 퍽스 폭)

<평가 기준>

A: 감도 배율은 0.95 이상이었다.

B: 감도 배율은 0.75 이상 0.94 이하이었다.

C: 감도 배율은 0.74 이하이었다.

<핸드 크림 내성>

기록 시뮬레이터(오쿠라 덴키 사제)를 사용하여, 0.45 w/dot의 헤드 전력 하에 0.1 msec 간격으로 1.0 msec의 펄스 폭(인가된 에너지)을 갖는 각각의 감열 기록 매체 상에 대해 기록함으로써 샘플을 생성하였다. 핸드 크림(큐렐 어드밴스드 세라마이드 사제, 테라피 데일리 모이스처(THERAPY DAILY MOISTURE))를 면 직물을 갖는 제조된 샘플의 화상부 상에 균일하게 적용하였고, 15 시간 동안 90% RH에서 40℃로 저장하였다. 저장 이후 화상 농도를 맥베스 반사 농도계(RD-914, 그레태그 맥베스 주식회사 사제)로 측정하였고, 화상 잔존비를 하기 식의 식에 따라 계산하였고, 하기 기재된 기준에 따라 평가하였다.

화상 잔존률(%)=[(핸드 크림 적용 이후 및 15시간 동안의 저장 이후의 화상 농도)/(핸드 크림 적용 이전의 화상 농도)]×100

<평가 기준>

A: 화상 잔존률은 80% 이상이었다.

B: 화상 잔존률은 60% 이상 79% 이하이었다.

C: 화상 잔존률은 59% 이하이었다.

[표 2]

본 발명의 양태는 예를 들면 하기와 같다.

<1> 감열 기록 매체로서,

지지체; 및

류코 염료, 제1 현색제, 및 제2 현색제를 포함하는, 지지체의 하나 이상의 표면 상에 제공되는 감열 기록층을 포함하며,

상기 제1 현색제 및 제2 현색제는 각각 4-하이드록시-4'-벤질옥시디페닐설폰 및 하기 일반식 (1)로 표시되는 디페닐설폰 화합물이고,

하기 일반식 (1)로 표시되는 디페닐설폰 화합물의 함량은 4-하이드록시-4'-벤질옥시디페닐설폰의 1.0 질량부에 대해 3.0 질량부 미만인 감열 기록 매체:

<일반식 (1)>

일반식 (1)에서, R³는 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 및 탄소수 1 내지 6의 알케닐기 중 임의의 하나를 나타내고, 각각의 o는 독립적으로 0 내지 4의 정수를 나타내고, p는 1 내지 11의 정수를 나타내고, R⁴는 탄소수 1 내지 12의 임의의 하나의 포화된 또는 불포화된, 직쇄형 또는 분지형 탄화수소기를 나타내고, 이는 에테르 결합, 하기 일반식 (1-1)로 표시되는 치환된 페닐렌기, 및 하기 일반식 (1-2)로 표시되는 2가 기를 함유할 수 있음,

<일반식 (1-1)>

일반식 (1-1)에서, R⁵는 메틸렌기 및 에틸렌기 중 임의의 하나를 나타냄,

<일반식 (1-2)>

<2> <1>에 있어서, 상기 일반식 (1)로 표시되는 디페닐설폰 화합물의 함량은 4-하이드록시-4'-벤질옥시디페닐설폰의 1.0 질량부에 대해 0.1 질량부 이상 2.5 질량부 이하인 감열 기록 매체.

<3> <1> 또는 <2>에 있어서, 상기 일반식 (1)로 표시되는 디페닐설폰 화합물의 함량은 4-하이드록시-4'-벤질옥시디페닐설폰의 1.0 질량부에 대해 0.3 질량부 이상 1.5 질량부 이하인 감열 기록 매체.

<4> <1> 내지 <3> 중 어느 하나에 있어서, 상기 일반식 (1)로 표시된 디페닐설폰 화합물이 하기 구조식 A로 표시되는 화합물인 감열 기록 매체:

<구조식 A>

구조식 A에서, n은 1 내지 11의 수치값이다.

<5> <1> 내지 <4> 중 어느 하나에 있어서, 개질된 폴리비닐 알코올을 함유하고, 감열 기록층 상에 제공되는 보호층을 포함하는 감열 기록 매체.

<6> <5>에 있어서, 상기 개질된 폴리비닐 알코올은 디아세톤-개질된 폴리비닐 알코올, 아세토아세틸-개질된 폴리비닐 알코올, 및 카복실산-개질된 폴리비닐 알코올로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상인 감열 기록 매체.

<7> <1> 내지 <6> 중 어느 하나에 있어서, 중공 입자를 함유하는, 지지체와 감열 기록층 사이에 제공되는 언더층을 포함하는 감열 기록 매체.

<8> <7>에 있어서, 상기 중공 입자의 중공률이 50% 이상인 감열 기록 매체.

<9> <7> 또는 <8>에 있어서, 언더층에서의 중공 입자의 함량은 20 질량% 이상 50 질량% 이하인 감열 기록 매체.

<10> <1> 내지 <9> 중 어느 하나에 있어서, 감열 기록층이 제공되는 표면의 반대편에 있는 지지체의 표면 상에 제공되는 점착층을 더 포함하는 감열 기록 매체.

<11> <1> 내지 <9> 중 어느 하나에 있어서, 감열 기록층이 제공되는 지지체의 표면 상에의 최상층으로서의 이형층; 및

감열 기록층이 제공되는 표면의 반대편에 있는 지지체의 표면 상에 제공되는 점착층을 더 포함하는 감열 기록 매체.

<12> <1> 내지 <11> 중 어느 하나에 따른 감열 기록 매체를 포함하는 물품.

<1> 내지 <11> 중 어느 하나에 따른 감열 기록 매체 및 <12>에 따른 물품은 관련 기술분야에서의 다양한 문제점을 해결할 수 있으며, 본 발명의 목적을 달성할 수 있다.

Claims

감열 기록 매체로서,
지지체; 및
류코 염료, 제1 현색제, 및 제2 현색제를 포함하는, 지지체의 하나 이상의 표면 상에 제공되는 감열 기록층을 포함하며,
상기 제1 현색제 및 제2 현색제는 각각 4-하이드록시-4'-벤질옥시디페닐설폰 및 하기 일반식 (1)로 표시되는 디페닐설폰 화합물이고,
하기 일반식 (1)로 표시되는 디페닐설폰 화합물의 함량은 4-하이드록시-4'-벤질옥시디페닐설폰의 1.0 질량부에 대해 3.0 질량부 미만인 감열 기록 매체:
<일반식 (1)>

일반식 (1)에서, R³는 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 및 탄소수 1 내지 6의 알케닐기 중 임의의 하나를 나타내고, 각각의 o는 독립적으로 0 내지 4의 정수를 나타내고, p는 1 내지 11의 정수를 나타내고, R⁴는 탄소수 1 내지 12의 임의의 하나의 포화된 또는 불포화된, 직쇄형 또는 분지형 탄화수소기를 나타내고, 이는 에테르 결합, 하기 일반식 (1-1)로 표시되는 치환된 페닐렌기, 및 하기 일반식 (1-2)로 표시되는 2가 기를 함유할 수 있음,
<일반식 (1-1)>

일반식 (1-1)에서, R⁵는 메틸렌기 및 에틸렌기 중 임의의 하나를 나타냄,
<일반식 (1-2)>

일반식 (1-2)에서, R⁶는 수소 원자 및 탄소수 1 내지 4의 알킬기 중 임의의 하나를 나타낸다.
제1항에 있어서, 상기 일반식 (1)로 표시되는 디페닐설폰 화합물의 함량은 4-하이드록시-4'-벤질옥시디페닐설폰의 1.0 질량부에 대해 0.1 질량부 이상 2.5 질량부 이하인 감열 기록 매체.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 일반식 (1)로 표시되는 디페닐설폰 화합물의 함량은 4-하이드록시-4'-벤질옥시디페닐설폰의 1.0 질량부에 대해 0.3 질량부 이상 1.5 질량부 이하인 감열 기록 매체.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 일반식 (1)로 표시되는 디페닐설폰 화합물이 하기 구조식 A로 표시되는 화합물을 포함하는 감열 기록 매체:
<구조식 A>

구조식 A에서, n은 1 내지 11의 수치값이다.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 개질된 폴리비닐 알코올을 포함하는, 상기 감열 기록층 상에 제공되는 보호층을 포함하는 감열 기록 매체.
제5항에 있어서, 상기 개질된 폴리비닐 알코올은 디아세톤-개질된 폴리비닐 알코올, 아세토아세틸-개질된 폴리비닐 알코올, 및 카복실산-개질된 폴리비닐 알코올로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상을 포함하는 감열 기록 매체.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 중공 입자를 함유하는, 상기 지지체와 감열 기록층 사이에 제공되는 언더층을 포함하는 감열 기록 매체.
제7항에 있어서, 상기 중공 입자의 중공률이 50% 이상인 감열 기록 매체.
제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 언더층에서의 중공 입자의 함량은 20 질량% 이상 50 질량% 이하인 감열 기록 매체.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 감열 기록층이 제공되는 표면의 반대편에 있는 지지체의 표면 상에 제공되는 점착층을 더 포함하는 감열 기록 매체.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 감열 기록층이 제공되는 지지체의 표면 상의 최상층으로서의 이형층; 및
상기 감열 기록층이 제공되는 표면의 반대편에 있는 지지체의 표면 상에 제공되는 점착층을 더 포함하는 감열 기록 매체.
제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 따른 감열 기록 매체를 포함하는 물품.