KR20190020139A - Optical device, exposure device and method of manufacturing article - Google Patents

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Abstract

광학 소자의 형상 보정에 수반하는 발열을 억제하여, 고정밀도로 형상을 보정하는 것이 가능한 광학 장치를 제공한다. 미러(1)의 반사면(1a)을 변형시키는 광학 장치(10)는 반사면(1a)의 반대측의 면인 이면(1b)에 이격하여 배치되는 베이스 플레이트(5)와, 반사면(1a)의 반대측의 면에 설치되는 미러측 자석(3)과, 베이스 플레이트(5)의 미러측 자석(3)에 대향하는 위치에 배치되는 베이스측 자석(4)을 포함하는 보정 유닛(2)을 갖는다. 보정 유닛(2)은 미러측 자석(3)과 베이스측 자석(4)에 의해 발생하는 반발력 또는 흡인력에 의해, 반사면(1a)의 형상을 보정한다.Provided is an optical device capable of suppressing heat generation accompanying shape correction of an optical element and correcting a shape with high accuracy. The optical device 10 for deforming the reflecting surface 1a of the mirror 1 includes a base plate 5 disposed to be spaced from the back surface 1b which is the opposite side of the reflecting surface 1a, And a correction unit 2 including a base side magnet 4 disposed at a position facing the mirror side magnet 3 of the base plate 5. The mirror side magnet 3 is provided on the opposite side of the base plate 5, The correction unit 2 corrects the shape of the reflecting surface 1a by the repulsive force or the attracting force generated by the mirror side magnet 3 and the base side magnet 4. [

Description

광학 장치, 노광 장치 및 물품의 제조 방법Optical device, exposure device and method of manufacturing article

본 발명은 광학 장치, 노광 장치 및 물품의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an optical device, an exposure apparatus, and a method of manufacturing an article.

반도체 디바이스 등의 제조에 사용되는 노광 장치의 해상도를 향상시키기 위해서, 노광 장치에 있어서의 투영 광학계의 광학 수차, 상 배율, 상 왜곡, 포커스 등의 다양한 광학 특성을 보정할 것이 요구되고 있다. 광학 특성의 보정은, 투영 광학계에 포함되는 미러의 형상을 기준 형상으로부터 변형시킴으로써 실현된다. 여기서, 가공 오차 등에 의해 미러의 형상이 기준 형상으로부터 어긋나서 형상 오차를 갖는 경우, 광학 특성의 보정을 위해서는, 형상 오차도 고려하여 미러를 변형시킬 필요가 있다. 특허문헌 1은, 미러 설치 시의 나사 체결에 의해 발생하는 이상(理想) 형상(기준 형상)으로부터의 형상 오차를, 전자석 액추에이터를 구동함으로써 보정하는 기술을 개시하고 있다.In order to improve the resolution of an exposure apparatus used in manufacturing semiconductor devices and the like, it is required to correct various optical characteristics of the projection optical system in the exposure apparatus such as optical aberration, phase magnification, phase distortion, and focus. The correction of the optical characteristics is realized by deforming the shape of the mirror included in the projection optical system from the reference shape. Here, when the shape of the mirror deviates from the reference shape due to processing errors or the like and has a shape error, it is necessary to deform the mirror in consideration of the shape error in order to correct the optical characteristics. Patent Document 1 discloses a technique of correcting a shape error from an ideal shape (reference shape) generated by screwing at the time of installing a mirror by driving an electromagnet actuator.

일본 특허 공개 평2-101402호 공보Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2-101402

그러나, 상기 문헌의 기술을 사용하여, 전자석 액추에이터에 의해 형상 오차를 보정하면서, 광학 특성의 보정을 위하여 미러를 변형시키는 경우, 전자석 액추에이터로부터의 발열에 의해 미러에 의도하지 않는 변형이 일어나서, 새로운 광학 수차가 발생할 수 있다.However, when the mirror is deformed for correcting the optical characteristics while correcting the shape error by the electromagnet actuator using the technique of the above document, unintentional deformation occurs in the mirror due to heat generation from the electromagnet actuator, Aberration may occur.

본 발명은 예를 들어, 광학 소자의 형상 보정에 수반하는 발열을 억제하여, 고정밀도로 형상을 보정하는 것이 가능한 광학 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide an optical device capable of correcting a shape with high precision by suppressing heat generation accompanying correction of the shape of an optical element, for example.

상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명의 일 측면인 광학 장치는, 광학 소자의 반사면을 변형시키는 광학 장치이며, 상기 반사면의 반대측 면에 이격하여 배치되는 베이스 플레이트와, 상기 반사면의 반대측 면에 설치되는 제1 영구 자석과, 상기 베이스 플레이트의 상기 제1 영구 자석에 대향하는 위치에 배치되는 제2 영구 자석을 포함하는 보정 유닛을 갖고, 상기 보정 유닛은, 상기 제1 영구 자석과 상기 제2 영구 자석에 의해 발생하는 반발력 또는 흡인력에 의해, 상기 반사면의 형상을 보정한다.According to an aspect of the present invention, there is provided an optical device for deforming a reflecting surface of an optical element, the optical device comprising: a base plate spaced from a surface opposite to the reflecting surface; And a second permanent magnet disposed at a position opposite to the first permanent magnet of the base plate, wherein the correction unit includes a first permanent magnet and a second permanent magnet, The shape of the reflecting surface is corrected by the repulsive force or the attractive force generated by the two permanent magnets.

본 발명에 따르면, 예를 들어, 광학 소자의 형상 보정에 수반하는 발열을 억제하여, 고정밀도로 형상을 보정하는 것이 가능한 광학 장치를 제공할 수 있다.According to the present invention, for example, it is possible to provide an optical device capable of suppressing heat generation accompanying correction of the shape of an optical element and correcting the shape with high precision.

도 1은 제1 실시 형태에 따른 노광 장치의 개략 구성을 도시하는 도면이다.
도 2는 제1 실시 형태에 따른 광학 장치의 개략 구성을 도시하는 단면도이다.
도 3은 제1 실시 형태에 따른 광학 장치의 개략 구성을 도시하는 정면도이다.
도 4는 제2 실시 형태에 따른 광학 장치의 개략 구성을 도시하는 단면도이다.
도 5는 제2 실시 형태에 따른 광학 장치의 개략 구성을 도시하는 정면도이다.Fig. 1 is a view showing a schematic configuration of an exposure apparatus according to the first embodiment.
2 is a cross-sectional view showing a schematic structure of an optical device according to the first embodiment.
3 is a front view showing a schematic structure of an optical device according to the first embodiment.
4 is a cross-sectional view showing a schematic structure of the optical device according to the second embodiment.
5 is a front view showing a schematic structure of an optical device according to the second embodiment.

도 1은, 노광 장치의 개략 구성을 도시하는 도면이다. 노광 장치(50)는 조명 광학계(IL)와, 투영 광학계(UM)와, 마스크(55)를 보유 지지하여 이동 가능한 마스크 스테이지(MS)와, 기판(56)을 보유 지지하여 이동 가능한 기판 스테이지(PS)를 포함한다. 또한, 노광 장치(50)는 기판(56)을 노광하는 처리를 제어하는 제어부(51)를 포함한다.1 is a view showing a schematic configuration of an exposure apparatus. The exposure apparatus 50 includes an illumination optical system IL, a projection optical system UM, a mask stage MS movable by holding the mask 55, and a substrate stage PS). Further, the exposure apparatus 50 includes a control unit 51 for controlling the process of exposing the substrate 56. Fig.

조명 광학계(IL)에 포함되는 광원(도시하지 않음)으로부터 사출된 광은, 조명 광학계(IL)에 포함되는 슬릿(도시하지 않음)에 의해, 예를 들어, Y 방향으로 긴 원호형 조명 영역을 마스크(55) 상에 형성할 수 있다. 마스크(55) 및 기판(56)은 마스크 스테이지(MS) 및 기판 스테이지(PS)에 의해 각각 보유 지지되어 있고, 투영 광학계(UM)를 통하여 광학적으로 거의 공액인 위치(투영 광학계(UM)의 물체면 및 상면(像面)의 위치)에 배치된다. 투영 광학계(UM)는, 소정의 투영 배율(예를 들어 1/2배)을 갖고, 마스크(55)에 형성된 패턴을 기판(56)에 투영한다. 그리고, 마스크 스테이지(MS) 및 기판 스테이지(PS)를, 투영 광학계(UM)의 물체면과 평행한 방향(예를 들어 도 1의 X 방향)으로, 투영 광학계(UM)의 투영 배율에 따른 속도비로 주사시킨다. 이에 의해, 마스크(55)에 형성된 패턴을 기판(56)에 전사할 수 있다.Light emitted from a light source (not shown) included in the illumination optical system IL is guided by a slit (not shown) included in the illumination optical system IL, for example, into a long arc- Can be formed on the mask 55. The mask 55 and the substrate 56 are held by the mask stage MS and the substrate stage PS respectively and are held at positions optically nearly conjugate through the projection optical system UM The position of the surface and the image plane). The projection optical system UM has a predetermined projection magnification (for example, ½ times) and projects a pattern formed on the mask 55 onto the substrate 56. The mask stage MS and the substrate stage PS are moved in the direction parallel to the object plane of the projection optical system UM (for example, the X direction in Fig. 1) It is injected with rain. As a result, the pattern formed on the mask 55 can be transferred to the substrate 56.

투영 광학계(UM)는, 예를 들어, 도 1에 도시한 바와 같이, 평면경(52)과, 오목 거울인 미러(1)와, 볼록 거울(54)을 포함하도록 구성된다. 조명 광학계(IL)로부터 출사하고, 마스크(55)를 투과한 노광광은, 평면경(52)의 제1면(52a)에 의해 광로가 절곡되어, 미러(1)의 제1면(1a1)에 입사한다. 미러(1)의 제1면(1a1)에서 반사된 노광광은, 볼록 거울(54)에서 반사되어, 미러(1)의 제2면(1a2)에 입사한다. 미러(1)의 제2면(1a2)에서 반사된 노광광은, 평면경(52)의 제2면(52b)에 의해 광로가 절곡되어, 기판(56) 상에 결상한다.The projection optical system UM is configured to include, for example, a planar mirror 52, a mirror 1 as a concave mirror, and a convex mirror 54, as shown in Fig. The exposure light emitted from the illumination optical system IL and transmitted through the mask 55 is reflected by the first surface 52a of the plane mirror 52 and is reflected on the first surface 1a1 of the mirror 1 I will join. The exposure light reflected by the first surface 1a1 of the mirror 1 is reflected by the convex mirror 54 and enters the second surface 1a2 of the mirror 1. The exposure light reflected by the second surface 1a2 of the mirror 1 is formed on the substrate 56 by bending the optical path by the second surface 52b of the plane mirror 52. [

제1 실시 형태First Embodiment

이어서, 도 2 및 도 3을 참조하여 제1 실시 형태의 광학 장치(10) 및 형상 오차의 보정 방법에 대하여 설명한다. 광학 장치(10)는 예를 들어, 반사 미러형의 노광 장치에 사용되는 대구경 오목면 미러 장치이다. 도 2는, 광학 장치의 단면도이다. 광학 장치(10)는 미러(1)와 베이스 플레이트(5)와 복수의 형상 오차 보정 유닛(보정 유닛)(2)을 구비한다. 미러(1)는 광을 반사하는 반사면(1a)과, 반사면의 반대측 면인 이면(1b)을 갖는 광학 소자이다. 미러(1)는 고정 부재(6)를 통하여, 베이스 플레이트(5)에 고정되어 있다. 베이스 플레이트(5)는 이면(1b)에 이격하여 배치되어 있다.Next, the optical device 10 of the first embodiment and the method of correcting the shape error will be described with reference to Figs. 2 and 3. Fig. The optical device 10 is, for example, a large diameter concave mirror device used in a reflecting mirror type exposure apparatus. 2 is a cross-sectional view of the optical device. The optical device 10 includes a mirror 1, a base plate 5, and a plurality of shape error correction units (correction units) 2. The mirror 1 is an optical element having a reflecting surface 1a that reflects light and a back surface 1b that is the opposite side of the reflecting surface. The mirror 1 is fixed to the base plate 5 via a fixing member 6. [ The base plate 5 is disposed apart from the back surface 1b.

보정 유닛(2)은 미러(1)와 베이스 플레이트(5)의 사이에 배치되고, 미러(1)의 이면(1b)에 설치된 미러측의 제1 영구 자석(미러측 자석)(3)과, 대향하는 베이스 플레이트(5)에 배치된 베이스측의 제2 영구 자석(베이스측 자석)(4)으로 구성되어 있다. 보정 유닛(2)은 미러측 자석(3)에 대향하는 베이스측 자석(4)의 극성을 반전시켜서 설치함으로써, 흡인력 또는 반발력을 발생할 수 있다. 또한, 미러측 자석(3)과 대향하는 베이스측 자석(4)의 자석간 거리를, 조정 기구(13)를 사용하여 조정함으로써, 발생하는 힘의 양을 조정할 수 있다. 구체적으로는, 조정 기구(13)에 의해 베이스측 자석(4)의 배치하는 위치를 조정함으로써, 자석간 거리를 조정한다. 또한, 본 실시 형태에 있어서는 베이스측 자석(4)의 극성을 바꾸는 경우를 설명했지만, 이것에 한정되는 것은 아니고, 미러측 자석(3)의 극성을 바꿈으로써 흡인력과 반발력을 전환해도 된다.The correction unit 2 is disposed between the mirror 1 and the base plate 5 and includes a mirror-side first permanent magnet (mirror-side magnet) 3 provided on the back surface 1b of the mirror 1, And a second permanent magnet (base-side magnet) 4 disposed on the base plate 5 facing the base. The correction unit 2 can generate a suction force or a repulsive force by reversing the polarity of the base-side magnet 4 opposed to the mirror-side magnet 3. It is also possible to adjust the amount of force generated by adjusting the distance between the magnets of the base-side magnet 4 and the mirror-side magnet 3 using the adjustment mechanism 13. Specifically, the position of the base-side magnet 4 is adjusted by the adjusting mechanism 13, thereby adjusting the distance between magnets. In the present embodiment, the case of changing the polarity of the base-side magnet 4 has been described. However, the present invention is not limited to this, and the attractive force and the repulsive force may be switched by changing the polarity of the mirror-side magnet 3.

이어서, 보정 유닛(2)을 사용한 미러(1)의 형상 오차 보정 방법에 대하여 설명한다. 계측부(12)를 사용하여 미러(1)의 반사면(1a)의 형상을 측정하고, 형상의 오차를 보정하기 위하여 필요한 힘의 방향 및 양(형상 오차)을 산출한다. 계측부(12)는 레이저 간섭계나 샥·하트만 센서 등, 미러(1)의 반사면(1a)의 형상을 계측하는 계측기로 구성된다.Next, a method of correcting the shape error of the mirror 1 using the correction unit 2 will be described. The shape of the reflecting surface 1a of the mirror 1 is measured using the measuring unit 12 and the direction and amount of force required to correct the shape error are calculated. The measuring section 12 is constituted by a measuring instrument for measuring the shape of the reflecting surface 1a of the mirror 1, such as a laser interferometer or a? Hartmann sensor.

형상의 오차를 보정하기 위하여 필요한 힘의 방향 및 양을 나타내는 형상 오차의 정부(요철)에 따라, 각 보정 유닛(2)의 베이스측 자석(4)의 극성을 선택하고, 흡인력 또는 반발력 중 어느 것을 발생시킨다. 형상 오차의 크기에 따라, 각 보정 유닛(2)의 미러측 자석(3)과 베이스측 자석(4)의 자석간 거리를 조정 기구(13)에 의해 조절하여, 발생력을 조정한다. 복수의 보정 유닛(2)에 의해, 미러(1)에 부분적으로 인장 응력 또는 압축 응력이 발생한다. 그 때문에, 미러면(1a)이 인장 응력 또는 압축 응력에 따라서 부분적으로 탄성 변형하여, 미러면(1a)의 형상 오차가 보정된다. 본 실시 형태의 광학 장치(10)는 영구 자석으로 구성되는 보정 유닛(2)에 의해 형상 보정 기구가 발열하는 일 없이 미러(1)의 형상 오차를 보정할 수 있다.The polarity of the base-side magnet 4 of each of the correction units 2 is selected in accordance with the shape error (irregularity) indicating the direction and amount of the force required for correcting the error of the shape, and either the attraction force or the repulsive force . The distance between the magnets of the mirror side magnet 3 and the base side magnet 4 of each correction unit 2 is adjusted by the adjustment mechanism 13 to adjust the generation force according to the size of the shape error. Tensile stress or compressive stress is partially generated in the mirror 1 by the plurality of correction units 2. Therefore, the mirror surface 1a is partially elastically deformed in accordance with the tensile stress or the compressive stress, and the shape error of the mirror surface 1a is corrected. The optical device 10 of the present embodiment can correct the shape error of the mirror 1 without causing the shape correcting mechanism to generate heat by the correction unit 2 constituted by the permanent magnets.

이어서, 도 3을 참조하여 보정 유닛(2)의 배치에 대해서 설명한다. 도 3은, 도 2의 화살표 A의 방향에서 광학 장치(10)를 본 정면도이다. 보정 유닛(2)은 동일 원주 상에 90° 간격으로 4군데에 배치하고, 그것과는 별도의 더 외측의 원주 상에 45° 간격으로 추가로 8군데에 배치한다. 그러나, 보정 유닛(2)의 배치는 이것에 한정되는 것은 아니고, 보정하고자 하는 광학 수차에 따라 개수 및 배치를 바꾸어도 된다.Next, the arrangement of the correction unit 2 will be described with reference to Fig. 3 is a front view showing the optical device 10 in the direction of arrow A in Fig. The correction units 2 are arranged in four places at intervals of 90 degrees on the same circumference and in eight places on the outer circumference other than the compensation unit 2 at intervals of 45 degrees. However, the arrangement of the correction unit 2 is not limited to this, and the number and arrangement may be changed according to the optical aberration to be corrected.

또한, 본 실시 형태의 광학 장치는 요지를 일탈하지 않는 범위에서 여러가지로 변형하는 것이 가능하다. 예를 들어, 보정 유닛(2)의 수나 배치 등을 임의로 설정하는 것이 가능하다. 또한, 미러(1)의 외주부를 고정 부재(6)에 의해 베이스 플레이트(5)에 고정하고 있지만, 미러(1)가 임의의 개소를 고정 부재(6)에 의해 베이스 플레이트(5)에 고정해도 된다. 또한, 미러(1)와 베이스 플레이트(5)의 연결에, 나사나 접착 등의 수단을 채용해도 된다. 제1 실시 형태에서는, 원형의 오목면을 갖는 구면 미러를 미러(1)로서 사용하는 예에 대하여 설명했지만, 거기에 한정되는 것은 아니고, 예를 들어, 평면 미러나 볼록면을 갖는 구면 미러를 미러(1)로서 사용해도 된다. 계측부(12)는 면 형상을 계측하는 센서를 예로 들어 설명했지만, 미러(1)의 복수의 위치를 계측하는 복수의 변위 센서로 구성된 센서 어레이를 사용해도 된다.Further, the optical device of the present embodiment can be modified in various ways within the range not deviating from the gist. For example, it is possible to arbitrarily set the number, arrangement, and the like of the correction units 2. Although the outer periphery of the mirror 1 is fixed to the base plate 5 by the fixing member 6, even if an arbitrary portion of the mirror 1 is fixed to the base plate 5 by the fixing member 6 do. In addition, a means such as a screw or an adhesive may be used to connect the mirror 1 and the base plate 5. [ In the first embodiment, a spherical mirror having a circular concave surface is used as the mirror 1. However, the present invention is not limited thereto. For example, a spherical mirror having a plane mirror or a convex surface may be used as the mirror 1, (1). A sensor array configured by a plurality of displacement sensors for measuring a plurality of positions of the mirror 1 may be used.

제2 실시 형태Second Embodiment

이어서, 도 4 및 도 5를 참조하여 제2 실시 형태의 광학 장치(20) 및 형상 오차의 보정 방법에 대하여 설명한다. 또한, 도 4 및 도 5에 있어서, 제1 실시 형태와 공통되는 부재에는 동일한 부호를 부여하고, 그 설명을 생략한다. 도 4는, 제2 실시 형태에 따른 광학 장치의 단면도이다. 광학 장치(20)는 예를 들어, 반사 미러형의 노광 장치에 사용되는 대구경 오목면 미러 장치이며, 도 1의 노광 장치에서는 미러(1)에 적용될 수 있다. 제2 실시 형태의 광학 장치(20)는 예를 들어, 노광 장치의 투영 광학계에 포함되는 미러(1)의 반사면(1a)을 변형시킴으로써 투영 광학계의 광학 수차나, 투영 상의 배율이나 왜곡이나 포커스를 보정한다. 광학 장치(20)는 미러(1)와, 베이스 플레이트(5)와, 복수의 액추에이터(7)와, 복수의 변위 센서(14)와, 제어부(11)를 포함한다.Next, the optical device 20 and the method of correcting the shape error of the second embodiment will be described with reference to Figs. 4 and 5. Fig. 4 and 5, members common to those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and a description thereof will be omitted. 4 is a cross-sectional view of the optical device according to the second embodiment. The optical device 20 is, for example, a large diameter concave mirror device used in a reflecting mirror type exposure apparatus, and can be applied to the mirror 1 in the exposure device of FIG. The optical device 20 according to the second embodiment is capable of correcting the optical aberration of the projection optical system, the magnification, the distortion, and the focus of the projection image by deforming the reflecting surface 1a of the mirror 1 included in the projection optical system of, . The optical device 20 includes a mirror 1, a base plate 5, a plurality of actuators 7, a plurality of displacement sensors 14, and a control unit 11.

제어부(11)는 CPU나 메모리 등을 갖고, 변위 센서(14)와 복수의 액추에이터(7)를 제어한다. 액추에이터(7)는 미러(1)와 베이스 플레이트(5) 사이에 배치되고, 미러(1)의 이면(1b)에 힘을 가한다. 액추에이터(7)는 이면(1b)에 고정된 가동자 자석(8)과 베이스 플레이트(5)에 고정되어 있는 고정자 코일(9)을 갖는다. 변위 센서(14)는 미러(1)의 이면(1b)까지의 거리를 계측한다. 변위 센서(14)의 계측값을 바탕으로 제어부(11)로 액추에이터(7)의 구동 명령값이 산출되어, 원하는 힘이 발생된다. 이에 의해, 미러(1)의 반사면(1a)을 고속이고 고정밀도로 변형시킬 수 있어, 투영 광학계(UM)에 있어서의 광학 수차를 리얼타임 또한 고정밀도로 보정할 수 있다.The control unit 11 has a CPU, a memory, and the like, and controls the displacement sensor 14 and the plurality of actuators 7. The actuator 7 is disposed between the mirror 1 and the base plate 5 and exerts a force on the back surface 1b of the mirror 1. The actuator 7 has a stator coil 9 fixed to the base plate 5 and a mover magnet 8 fixed to the back surface 1b. The displacement sensor 14 measures the distance to the back surface 1b of the mirror 1. Based on the measured value of the displacement sensor 14, the control unit 11 calculates the drive command value of the actuator 7, and a desired force is generated. As a result, the reflecting surface 1a of the mirror 1 can be deformed at high speed and high precision, and the optical aberration in the projection optical system UM can be corrected with high accuracy in real time.

또한, 광학 장치(20)는 보정 유닛(2)을 갖고 있다. 보정 유닛(2)은 미러(1)와 베이스 플레이트(5) 사이에 배치되고, 미러(1)의 이면(1b)에 설치된 미러측 자석(3)과 대향하는 베이스 플레이트(5)에 배치된 베이스측 자석(4)으로 구성되어 있다. 보정 유닛(2)에 의한 형상 보정 방법은 제1 실시 형태와 마찬가지이다. 형상 오차의 측정에는, 제1 실시 형태와 마찬가지로 계측부(12)를 사용해도 되고, 변위 센서(14)를 사용해도 된다.Further, the optical device 20 has the correction unit 2. The correction unit 2 is disposed between the mirror 1 and the base plate 5 and is disposed on the base plate 5 opposed to the mirror side magnet 3 provided on the back surface 1b of the mirror 1, And a side magnet (4). The shape correcting method by the correcting unit 2 is the same as that of the first embodiment. As in the case of the first embodiment, the measurement unit 12 may be used for measuring the shape error, or the displacement sensor 14 may be used.

미러(1)의 조립 오차나 가공 오차에 기인하는 형상 오차를, 이 각 액추에이터(7)로 보정을 행하면, 형상 오차에 따라 필요한 힘을 상시 계속하여 내야만 하므로 발열이 커져버려, 미러(1)에 의도하지 않는 변형을 초래해버린다. 그러나, 보정 유닛(2)을 사용하여 조립 오차나 가공 오차에 기인하는 형상 오차를 보정함으로써 발열하지 않고 조립 오차나 가공 오차에 기인하는 형상 오차를 보정할 수 있다. 이에 의해 각 액추에이터는, 투영 광학계(UM)에 있어서의 광학 수차의 보정에 필요한 변형 구동량에 대하여 필요한 힘만을 발생하면 되게 되므로, 상대적으로 발열을 억제할 수 있다. 또한, 일반적으로 제2 실시 형태와 같이 복수의 액추에이터로 변형 구동을 행하는 광학 장치(20)에 있어서는 미러(1)에 요구되는 가공 정밀도는 높아지지만, 가공 오차를 보정 유닛(2)으로 보정할 수 있으므로, 미러(1)의 가공 시간 및 가공 비용을 억제할 수 있다.If the shape error caused by the assembly error of the mirror 1 or the machining error is corrected by each of the actuators 7, the required heat must be continuously applied in accordance with the shape error, Resulting in unintended deformation. However, by correcting the shape error caused by the assembly error or the machining error by using the correction unit 2, it is possible to correct the shape error caused by the assembly error or the machining error without generating heat. As a result, each of the actuators needs to generate only a necessary force with respect to the amount of deformation drive necessary for correcting the optical aberration in the projection optical system UM, so that the heat generation can be relatively suppressed. In general, in the optical device 20 that performs deformation drive with a plurality of actuators as in the second embodiment, although the machining accuracy required for the mirror 1 is increased, the machining error can be corrected by the correction unit 2 Therefore, the machining time and the machining cost of the mirror 1 can be suppressed.

이어서, 도 5를 사용하여 보정 유닛(2) 및 액추에이터(7)의 배치에 대해서 설명한다. 도 5는, 도 4의 화살표 B의 방향에서 광학 장치(20)를 본 정면도이다. 제2 실시 형태에서는, 보정 유닛(2) 및 액추에이터(7)를 각각 동일 원주 상에 90° 간격으로 4군데씩 배치하고, 그것과는 별도의 더 외측의 원주 상에 45° 간격으로 추가로 8군데씩 배치하고 있다. 그러나, 보정 유닛(2) 및 액추에이터(7)의 배치는 이것에 한정되는 것은 아니고, 보정하고자 하는 광학 수차에 따라 개수 및 배치를 바꾸어도 된다.Next, the arrangement of the correction unit 2 and the actuator 7 will be described with reference to Fig. Fig. 5 is a front view showing the optical device 20 in the direction of the arrow B in Fig. In the second embodiment, the correction unit 2 and the actuator 7 are arranged on the same circumference at intervals of 90 degrees in four places, and on the outer circumference other than the correction unit 2 and the actuator 7, They are placed in groups. However, the arrangement of the correction unit 2 and the actuator 7 is not limited to this, and the number and arrangement may be changed according to the optical aberration to be corrected.

제2 실시 형태에서는, 미러(1)의 중심부를 고정 부재(6)에 의해 베이스 플레이트(5)에 고정하고 있지만, 미러(1)가 임의의 개소를 고정 부재(6)에 의해 베이스 플레이트(5)에 고정해도 된다. 각 액추에이터(7)로서는, 예를 들어, 보이스 코일 모터(VCM) 등, 서로 접촉하지 않는 가동자 자석(8)과 고정자 코일(9)을 포함하는 비접촉형의 액추에이터나, 압전 소자 등의 변위 액추에이터가 사용되어도 된다.The central portion of the mirror 1 is fixed to the base plate 5 by the fixing member 6 in the second embodiment and the mirror 1 is fixed to the base plate 5 . As the actuator 7, for example, a noncontact actuator including a mover magnet 8 and a stator coil 9 which do not contact each other such as a voice coil motor (VCM), a displacement actuator such as a piezoelectric element, May be used.

이상 설명한 바와 같이, 영구 자석으로 구성된 보정 유닛으로 광학 장치의 형상 보정을 행함으로써, 제1 실시 형태에 도시한 바와 같이 형상 보정에 수반하는 발열을 하지 않고, 또는, 제2 실시 형태에 도시한 바와 같이 발열을 억제하여, 고정밀도의 형상 보정을 행할 수 있다. 또한, 상기 실시 형태에서는, 노광 장치에 적용하는 예를 설명했지만, 상기 실시 형태에 따른 광학 장치를 적용 가능한 장치는, 예를 들어, EUV광의 조사에 의해 기판 상에 레지스트의 잠상 패턴을 형성하는 리소그래피 장치가 있다. 기타, 레이저 가공 장치, 안저 촬영 장치, 망원경 등에도 적용 가능하다.As described above, by performing the shape correction of the optical device with the correction unit constituted by the permanent magnets, heat generation accompanying the shape correction is not performed as shown in the first embodiment, The heat generation can be suppressed, and the shape correction with high accuracy can be performed. In the above embodiment, an example in which the present invention is applied to an exposure apparatus has been described. However, an apparatus to which the optical apparatus according to the above embodiment can be applied is, for example, a lithography There is a device. Other laser processing devices, fundus photography devices, telescopes, and the like.

물품의 제조 방법에 관한 실시 형태Embodiments relating to a method for manufacturing an article

본 실시 형태에 따른 물품의 제조 방법은, 예를 들어, 반도체 디바이스 등의 마이크로 디바이스나 미세 구조를 갖는 소자 등의 물품을 제조하기에 적합하다. 본 실시 형태의 물품 제조 방법은, 기판에 도포된 감광제에 상기 노광 장치를 사용하여 잠상 패턴을 형성하는 공정(기판을 노광하는 공정)과, 이러한 공정에서 잠상 패턴이 형성된 기판을 현상하는 공정을 포함한다. 또한, 이러한 제조 방법은, 다른 주지의 공정(산화, 성막, 증착, 도핑, 평탄화, 에칭, 레지스트 박리, 다이싱, 본딩, 패키징 등)을 포함한다. 본 실시 형태의 물품 제조 방법은, 종래의 방법에 비하여, 물품의 성능·품질·생산성·생산 비용 중 적어도 하나에 있어서 유리하다.The method of manufacturing an article according to the present embodiment is suitable for producing, for example, an article such as a micro device such as a semiconductor device or a device having a fine structure. The article manufacturing method of the present embodiment includes a step of forming a latent image pattern (a step of exposing a substrate) using the above exposure apparatus to a photosensitive agent applied to the substrate, and a step of developing the substrate on which the latent image pattern is formed in this step do. Such a manufacturing method also includes other known processes (oxidation, deposition, deposition, doping, planarization, etching, resist stripping, dicing, bonding, packaging, and the like). The article manufacturing method of the present embodiment is advantageous in at least one of the performance, quality, productivity, and production cost of an article as compared with a conventional method.

이상, 본 발명의 바람직한 실시 형태에 대하여 설명했지만, 본 발명은 이들 실시 형태에 한정되지 않고, 그 요지의 범위 내에서 다양한 변형 및 변경이 가능하다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to these embodiments, and various modifications and changes may be made within the scope of the present invention.

1: 미러
2: 보정 유닛
3: 미러측 자석
4: 베이스측 자석
5: 베이스 플레이트1: mirror
2: correction unit
3: Mirror side magnet
4: Base side magnet
5: Base plate

Claims (12)

광학 소자의 반사면을 변형시키는 광학 장치이며,
상기 반사면의 반대측 면에 이격하여 배치되는 베이스 플레이트와,
상기 반사면의 반대측 면에 설치되는 제1 영구 자석과, 상기 베이스 플레이트의 상기 제1 영구 자석에 대향하는 위치에 배치되는 제2 영구 자석을 포함하는 보정 유닛과,
상기 반사면의 반대측 면에 상기 제1 영구 자석과는 다른 위치에 설치되는 제3 자석과, 상기 베이스 플레이트의 상기 제3 자석에 대향하는 위치에 배치되는 코일을 포함하는 액추에이터를 갖고,
상기 보정 유닛은, 상기 반사면의 형상을 측정하는 계측부에 의해 계측된 형상 오차를 저감하도록 상기 광학 소자에 힘을 가하고,
상기 액추에이터는, 상기 광학 장치의 광학 특성을 변경하기 위하여 상기 보정 유닛에 의해 바뀐 상기 반사면의 형상을 바꾸도록 상기 광학 소자에 힘을 가하는 것을 특징으로 하는, 광학 장치.An optical device for deforming a reflecting surface of an optical element,
A base plate spaced apart from a surface opposite to the reflection surface,
A correction unit including a first permanent magnet provided on an opposite side of the reflection surface and a second permanent magnet disposed at a position opposite to the first permanent magnet on the base plate;
A third magnet provided at a position different from the first permanent magnet on an opposite surface of the reflecting surface and an actuator including a coil disposed at a position facing the third magnet of the base plate,
Wherein the correcting unit applies a force to the optical element so as to reduce a shape error measured by a measuring unit that measures the shape of the reflecting surface,
Wherein the actuator applies a force to the optical element to change the shape of the reflecting surface changed by the correcting unit to change an optical characteristic of the optical device. 제1항에 있어서,
상기 액추에이터는, 상기 보정 유닛이 상기 광학 소자에 힘을 가하는 위치와는 다른 상기 광학 소자의 위치에 힘을 가하는 것을 특징으로 하는, 광학 장치.The method according to claim 1,
Wherein the actuator applies a force to a position of the optical element different from a position at which the correction unit applies a force to the optical element. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 보정 유닛은, 상기 반사면의 형상을 유지시키도록 상기 광학 소자에 힘을 가하는 것을 특징으로 하는, 광학 장치.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the correction unit applies a force to the optical element so as to maintain the shape of the reflecting surface. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 보정 유닛은, 상기 제1 영구 자석과 상기 제2 영구 자석에 의해 발생하는 반발력 또는 흡인력에 의해, 상기 반사면의 형상을 보정하는 것을 특징으로 하는, 광학 장치.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the correction unit corrects the shape of the reflection surface by a repulsive force or a suction force generated by the first permanent magnet and the second permanent magnet. 제4항에 있어서,
상기 제2 영구 자석의 극성을 바꿈으로써, 상기 반발력과 상기 흡인력을 전환하는 것을 특징으로 하는, 광학 장치.5. The method of claim 4,
And switching the repulsive force and the attractive force by changing the polarity of the second permanent magnet. 제5항에 있어서,
상기 제2 영구 자석의 극성은, 상기 반사면의 형상을 측정하는 계측부에 의해 계측된 형상 오차에 기초하여 바뀌는 것을 특징으로 하는, 광학 장치.6. The method of claim 5,
Wherein the polarity of the second permanent magnet is changed based on a shape error measured by a measuring unit that measures the shape of the reflecting surface. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제2 영구 자석의 위치를 조정함으로써, 상기 제1 영구 자석과 상기 제2 영구 자석의 거리를 조정하는 조정 기구를 더 갖는 것을 특징으로 하는, 광학 장치.7. The method according to any one of claims 1 to 6,
And an adjusting mechanism for adjusting a distance between the first permanent magnet and the second permanent magnet by adjusting the position of the second permanent magnet. 제7항에 있어서,
상기 조정 기구는, 상기 반사면의 형상을 측정하는 계측부에 의해 계측된 형상 오차에 기초하여 상기 제2 영구 자석의 위치를 조정하는 것을 특징으로 하는, 광학 장치.8. The method of claim 7,
Wherein the adjusting mechanism adjusts the position of the second permanent magnet based on the shape error measured by the measuring unit that measures the shape of the reflecting surface. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 베이스 플레이트에 배치된, 상기 베이스 플레이트와 상기 반사면의 반대측 면의 거리를 계측하는 변위 센서를 더 갖는 것을 특징으로 하는, 광학 장치.9. The method according to any one of claims 1 to 8,
And a displacement sensor disposed on the base plate for measuring a distance between the base plate and a surface opposite to the reflection surface. 제9항에 있어서,
상기 액추에이터는, 상기 변위 센서가 계측한 상기 거리에 기초하여 구동되는 것을 특징으로 하는, 광학 장치.10. The method of claim 9,
And the actuator is driven based on the distance measured by the displacement sensor. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 기재된 광학 장치를 갖는 것을 특징으로 하는, 노광 장치.An exposure apparatus comprising the optical device according to any one of claims 1 to 10. 제9항에 기재된 노광 장치를 사용하여 기판을 노광하는 공정과,
상기 노광된 상기 기판을 현상하는 공정을 포함하고,
현상된 상기 기판으로부터 물품을 제조하는 것을 특징으로 하는, 물품의 제조 방법.A step of exposing the substrate using the exposure apparatus according to claim 9;
And developing the exposed substrate,
≪ / RTI > wherein the article is produced from the developed substrate.
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