KR102193387B1 - Holding device, projection optical system, exposure device, and article manufacturing method - Google Patents

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Abstract

곡면을 갖는 광학 소자의 자중 변형의 영향을 경감하는 데 유리한 보유 지지 장치를 제공한다. 곡면을 갖는 광학 소자(M)를, 그 광축 방향이 수평 방향으로 되도록 보유 지지하는 보유 지지 장치(110)이며, 광학 소자(M)를 지지하는 지지 부재(112)를 갖고, 광학 소자(M)의 광축의 방향과 중력의 방향을 포함하는 평면 내에 있어서, 지지 부재(112)는 지지 부재(112)가 광학 소자(M)를 지지하는 부분을 광축의 방향에 대하여 기울여서 지지하고 있다.A holding device advantageous for reducing the influence of the self-weight deformation of an optical element having a curved surface is provided. A holding device 110 for holding an optical element M having a curved surface so that its optical axis direction is in a horizontal direction, and has a support member 112 for supporting the optical element M, and the optical element M In a plane including the direction of the optical axis of and the direction of gravity, the support member 112 supports the portion in which the support member 112 supports the optical element M inclined with respect to the direction of the optical axis.

Description

보유 지지 장치, 투영 광학계, 노광 장치 및 물품 제조 방법Holding device, projection optical system, exposure device, and article manufacturing method

본 발명은 보유 지지 장치, 투영 광학계, 노광 장치 및 물품 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a holding device, a projection optical system, an exposure device, and an article manufacturing method.

광로의 도중에 형상 가변 미러를 배치하여 수차 보정을 행하는 광학계가 알려져 있다. 천문 분야에 있어서는, 별을 관찰할 때에 대기의 흔들림에 의한 상의 분해능 저하를 억제하기 위해서, 고속으로 파면을 계측하고, 형상 가변 미러로 보정하는 기술이 있다. 또한, 반도체의 제조에 사용되는 투영 노광 장치에 있어서는, 노광 시의 온도 변화에 의한 수차의 열화에 대응하기 위해서, 광학계에 사용되고 있는 미러를 형상 가변 미러로 하여 수차를 보정하는 기술이 있다.An optical system is known in which a shape variable mirror is disposed in the middle of an optical path to correct aberration. In the field of astronomy, there is a technique for measuring a wavefront at high speed and correcting it with a shape-variable mirror in order to suppress a decrease in the resolution of an image due to shaking of the atmosphere when observing a star. In addition, in a projection exposure apparatus used for manufacturing a semiconductor, in order to cope with the deterioration of aberration due to temperature change during exposure, there is a technique for correcting aberration by using a mirror used in an optical system as a shape variable mirror.

형상 가변 미러는, 변형되기 쉽도록 얇은 미러(예를 들어, 5mm 정도)가 사용되지만, 그 얇음에 의해 자중으로 변형될 수 있다. 자중 변형을 해소하려고 하는 광학 소자의 제조 방법으로서, 광학 소자를 실제 사용 상태와 거의 동일한 상태로 유지하고, 면 형상을 계측하여 가공량을 결정하고, 결정된 가공량을 기초로 피가공면을 수정 가공하는 방법이 있다(특허문헌 1). As for the shape variable mirror, a thin mirror (for example, about 5 mm) is used so as to be easily deformed, but can be deformed into its own weight by its thinness. As a method of manufacturing an optical element that attempts to eliminate self-weight deformation, the optical element is kept in a state that is almost identical to the actual state of use, the surface shape is measured to determine the amount of processing, and the surface to be processed is modified based on the determined amount of processing. There is a way to do it (Patent Document 1).

일본 특허 공개 제2000-84795호 공보Japanese Patent Publication No. 2000-84795

그러나, 자중 변형의 해소를 위해 상기 특허문헌 1의 방법에 따라 형상 가변 미러를 가공할 경우, 가공량이 커질 수 있기 때문에, 가공 시간, 비용 면에서 불리해질 수 있다. 또한, 형상 가변 미러는, 통상 복수의 지지 부재(액추에이터 등)에 의해 다점에서 지지된다. 그리고, 가공 시는, 형상 가변 미러가 지지 부재로부터 분리되어, 면 형상의 계측 시는, 형상 가변 미러가 지지 부재에 장착된다. 가공과 계측을 반복할 경우, 작업 시간, 비용 면에서 불리해질 수 있다.However, in the case of processing the shape-variable mirror according to the method of Patent Document 1 in order to eliminate the self-weight deformation, the processing amount may be increased, and thus processing time and cost may be disadvantageous. In addition, the shape variable mirror is usually supported at multiple points by a plurality of support members (actuators, etc.). And, at the time of processing, the shape variable mirror is separated from the support member, and at the time of measurement of a surface shape, a shape variable mirror is attached to the support member. Repeated machining and measurement can be disadvantageous in terms of working time and cost.

본 발명은, 예를 들어 곡면을 갖는 광학 소자의 자중 변형의 영향을 경감시키는 데 유리한 보유 지지 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a holding device which is advantageous for reducing the influence of self-weight deformation of an optical element having a curved surface, for example.

상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명은 곡면을 갖는 광학 소자를, 그 광축 방향이 수평 방향으로 되도록 보유 지지하는 보유 지지 장치이며, 광학 소자를 지지하는 지지 부재를 갖고, 광학 소자의 광축 방향과 중력의 방향을 포함하는 평면 내에 있어서, 지지 부재는, 지지 부재가 광학 소자를 지지하는 부분을 광축의 방향에 대하여 기울여서 지지하고 있는 것을 특징으로 한다.In order to solve the above problems, the present invention is a holding device for holding an optical element having a curved surface so that its optical axis direction is in a horizontal direction, and has a support member for supporting the optical element, and the optical axis direction and gravity of the optical element In a plane including the direction of, the support member is characterized in that the support member supports a portion for supporting the optical element inclined with respect to the direction of the optical axis.

본 발명에 따르면, 예를 들어 곡면을 갖는 광학 소자의 자중 변형의 영향을 경감하는 데 유리한 보유 지지 장치를 제공할 수 있다.According to the present invention, for example, it is possible to provide a holding device which is advantageous in reducing the influence of the self-weight deformation of an optical element having a curved surface.

도 1은 제1 실시 형태에 따른 보유 지지 장치를 포함하는 노광 장치의 구성을 나타내는 개략도이다.
도 2는 지지 부재에 의한 오목면 미러의 보유 지지 상태를 나타내는 도면이다.
도 3은 액추에이터의 위치와, 오목면 미러의 원하는 반사면 형상으로부터의 어긋남양을 등고선으로 나타내는 도면이다.
도 4는 통상 노광을 행하는 경우의 투영 영역을 나타내는 도면이다.1 is a schematic diagram showing a configuration of an exposure apparatus including a holding device according to a first embodiment.
Fig. 2 is a diagram showing a state in which the concave mirror is held by the support member.
Fig. 3 is a diagram showing the position of the actuator and the amount of deviation from the desired shape of the reflective surface of the concave mirror by contour lines.
Fig. 4 is a diagram showing a projection area in the case of normal exposure.

이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태에 대하여 도면 등을 참조하여 설명한다.Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings and the like.

제1 실시 형태Embodiment 1

도 1은, 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 보유 지지 장치를 포함하는 노광 장치의 구성을 나타내는 개략도이다. 노광 장치(100)는, 예를 들어, 액정 표시 디바이스나 유기 EL 디바이스 등의 플랫 패널의 제조 공정에 있어서의 리소그래피 공정에서 사용될 수 있다. 특히 본 실시 형태에서는, 노광 장치(100)는 스텝 앤드 스캔 방식으로, 도시되지 않은 레티클(마스크)에 형성된 패턴 상을 도시되지 않은 기판 상에 전사(노광)하는 주사형 투영 노광 장치로 한다.1 is a schematic diagram showing a configuration of an exposure apparatus including a holding device according to a first embodiment of the present invention. The exposure apparatus 100 can be used, for example, in a lithography process in a manufacturing process of a flat panel such as a liquid crystal display device or an organic EL device. In particular, in this embodiment, the exposure apparatus 100 is a scanning type projection exposure apparatus that transfers (exposes) a pattern image formed on a reticle (mask), not shown, onto a substrate not shown in a step-and-scan manner.

노광 장치(100)는 보유 지지 장치(110)와, 조명 광학계(120)와, 투영 광학계(130)와, 마스크를 보유 지지하여 이동 가능한 마스크 스테이지(140)와, 기판을 보유 지지하여 이동 가능한 기판 스테이지(150)를 포함한다. 기판의 노광 처리는 도시되지 않은 제어부가 각 부를 제어함으로써 실행된다. 또한, 도 1 이하의 각 도면에서는, 연직 방향 s인 Z축에 수직인 평면 내에서 노광 시의 레티클 및 기판의 주사 방향으로 Y축을 취하고, Y축에 직교하는 비주사 방향으로 X축을 취하고 있다. 또한, 기판은, 예를 들어 유리 재료로 만들어져 있으며, 표면에 감광제(레지스트)가 도포되어 있는 피처리 기판이다. 추가로, 레티클은, 예를 들어 유리 재료로 만들어져 있으며, 기판에 전사되어야 할 패턴(미세한 요철 패턴)이 형성된 원판이다.The exposure apparatus 100 includes a holding device 110, an illumination optical system 120, a projection optical system 130, a mask stage 140 that is movable by holding a mask, and a substrate that is movable by holding a substrate. It includes a stage 150. The exposure processing of the substrate is performed by a control unit (not shown) controlling each unit. In addition, in each drawing below FIG. 1, the Y axis is taken in the scanning direction of the reticle and substrate during exposure in a plane perpendicular to the Z axis, which is the vertical direction s, and the X axis is taken in the non-scanning direction orthogonal to the Y axis. In addition, the substrate is made of, for example, a glass material, and is a substrate to be processed on which a photosensitive agent (resist) is coated on the surface. In addition, the reticle is made of, for example, a glass material, and is an original plate on which a pattern to be transferred (fine uneven pattern) is formed.

조명 광학계(120)에 포함되는 광원(도시하지 않음)으로부터 사출된 광은, 조명 광학계(120)에 포함되는 슬릿(도시하지 않음)에 의해, 예를 들어 X 방향으로 긴 원호형 조명 영역을 마스크 상에 형성할 수 있다. 마스크 및 기판은, 마스크 스테이지(140) 및 기판 스테이지(150)에 의해 각각 보유 지지되어 있고, 투영 광학계(130)를 통하여 광학적으로 거의 공액인 위치(투영 광학계(130)의 물체면 및 상면(像面)의 위치)에 배치된다. 투영 광학계(130)는 소정의 투영 배율을 갖고, 마스크에 형성된 패턴을 기판에 투영한다. 그리고, 마스크 스테이지(140) 및 기판 스테이지(150)를 투영 광학계(130)의 물체면과 평행한 방향(예를 들어 Y 방향)으로, 투영 광학계(130)의 투영 배율에 따른 속도비로 상대적으로 이동시킨다. 이에 의해, 슬릿 광을 기판 상에서 주사하는 주사 노광을 행하고, 마스크에 형성된 패턴을 기판에 전사할 수 있다.Light emitted from a light source (not shown) included in the illumination optical system 120 masks, for example, a long arc-shaped illumination area in the X direction by a slit (not shown) included in the illumination optical system 120 It can be formed on the top. The mask and the substrate are held by the mask stage 140 and the substrate stage 150, respectively, and are optically almost conjugated through the projection optical system 130 (the object surface and the image surface of the projection optical system 130). Is placed in the position of (面). The projection optical system 130 has a predetermined projection magnification and projects a pattern formed on the mask onto a substrate. Then, the mask stage 140 and the substrate stage 150 are moved relatively in a direction parallel to the object surface of the projection optical system 130 (for example, in the Y direction), at a speed ratio according to the projection magnification of the projection optical system 130 Let it. Thereby, scanning exposure in which slit light is scanned on the substrate is performed, and the pattern formed on the mask can be transferred to the substrate.

투영 광학계(130)는 평면 미러(131 및 133)와, 볼록면 미러(132)와, 오목면 미러(형상 가변 미러)(M)를 보유 지지하는 경통에 의해 구성된다. 조명 광학계(120)로부터 사출되고, 마스크를 투과한 노광 광은, 평면 미러(131)에 의해 광로를 절곡하고, 오목면 미러(M)의 반사면의 상부로 입사한다. 오목면 미러(M)의 상부로부터 반사된 노광 광은, 볼록면 미러(132)에서 반사되고, 오목면 미러(M)의 반사면의 하부로 입사한다. 오목면 미러(M)의 하부로부터 반사된 노광 광은, 평면 미러(133)에 의해 광로가 꺾여, 기판 상에 결상된다. 이렇게 구성된 투영 광학계(30)에서는, 볼록면 미러(132)의 표면이 광학적인 퓨필로 된다.The projection optical system 130 is constituted by a barrel that holds planar mirrors 131 and 133, a convex mirror 132, and a concave mirror (shape variable mirror) M. The exposure light emitted from the illumination optical system 120 and transmitted through the mask is bent in an optical path by the planar mirror 131 and enters the upper part of the reflective surface of the concave mirror M. The exposure light reflected from the top of the concave mirror M is reflected by the convex mirror 132 and enters the lower part of the reflective surface of the concave mirror M. The exposure light reflected from the lower part of the concave mirror M is formed on the substrate by bending the optical path by the planar mirror 133. In the projection optical system 30 configured in this way, the surface of the convex mirror 132 becomes an optical pupil.

또한, 노광 장치(100)는 얼라인먼트 계측부(171)와, 기판 높이 계측부(172)와, 상면 계측부(161)를 포함할 수 있다. 얼라인먼트 계측부(171)는, 예를 들어 기판 스테이지(150)에 탑재된 기판상의 마크(얼라인먼트 마크)를 촬상하고, 화상 처리를 행함으로써, 기판의 위치(XY 방향)를 계측한다. 기판 높이 계측부(172)는 기판 스테이지(150)가 이동하고 있는 상태에 있어서, 기판의 표면 Z 방향에 있어서의 위치(기판의 표면 높이)를 계측한다.Further, the exposure apparatus 100 may include an alignment measurement unit 171, a substrate height measurement unit 172, and an upper surface measurement unit 161. The alignment measurement unit 171 measures the position (XY direction) of the substrate by imaging, for example, a mark (alignment mark) on the substrate mounted on the substrate stage 150 and performing image processing. The substrate height measurement unit 172 measures the position (the surface height of the substrate) in the Z direction of the surface of the substrate in a state in which the substrate stage 150 is moving.

상면 계측부(161)는, 예를 들어 기판 스테이지(150)에 마련되어 있고, 마스크 스테이지(131)에 마련된 기준 마크(162)의 투영 상을 포착함으로써, 상면의 위치와 높이(도면 중의 X, Y, Z 방향)를 계측한다. 마스크의 상이 장치상의 어느 위치에 있는지를 알기 위한 것이고, 기판 스테이지(150)를 이동시킴으로써, 마스크 패턴이 장치 좌표상의 어느 위치에 투영되는지를 정확하게 알 수 있다. 상면 계측부(161)는 형상 가변 미러의 구동량과 상의 관계를 교정하기 위하여 사용된다.The image surface measurement unit 161 is provided on the substrate stage 150, for example, and captures the projection image of the reference mark 162 provided on the mask stage 131, thereby capturing the position and height of the image surface (X, Y, and Z direction) is measured. It is to know where the image of the mask is on the device, and by moving the substrate stage 150, it is possible to know exactly where the mask pattern is projected on the device coordinates. The image surface measurement unit 161 is used to correct the relationship between the driving amount and the image of the shape variable mirror.

여기서, 노광 장치(100)에서는, 해상도를 향상시키기 위해서, 투영 광학계(130)의 광학 수차를 보정할 것이 요구되고 있다. 그 때문에, 본 실시 형태의 노광 장치(100)는 투영 광학계(130)에 포함되는 광학 소자인 오목면 미러(M)를 보유 지지하고, 그 반사면을 변형시키는 보유 지지 장치(110)를 포함한다. 보유 지지 장치(110)는 오목면 미러(M)의 반사면을 기준 형상으로부터 투영 광학계(130)의 광학 수차, 투영 상의 배율, 왜곡 및 포커스를 보정하는 목표 형상으로 변형시킨다. 기준 형상이란, 오목면 미러(M)의 반사면에 대한 임의의 형상이며, 예를 들어 어떤 시각에 있어서의 오목면 미러(M)의 반사면의 형상이나 설계 형상이 사용될 수 있다. 여기서, 본 실시 형태에서는, 보유 지지 장치(110)가 오목면 미러(M)의 반사면을 변형시키는 예에 대하여 설명하지만, 보유 지지 장치(110)가 반사면을 변형시키는 미러는 오목면 미러에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어 오목면이나 볼록면의 곡면을 갖는 구면 미러나 비구면 미러 등이어도 된다. 또한, 본 실시 형태에서는, 보유 지지 장치(110)는 노광 장치(100)의 투영 광학계(130)에 포함되는 미러의 반사면을 변형시키기 위하여 사용되고 있지만, 그것에 한정되는 것이 아니라, 예를 들어 망원경에 포함되는 미러의 반사면을 변형시키기 위하여 사용되어도 된다. 추가로, 보유 지지 장치(110)의 보유 지지 대상은, 반사성 광학 소자뿐만 아니라 투과성 또는 굴절성 광학 소자여도 된다.Here, in the exposure apparatus 100, it is required to correct the optical aberration of the projection optical system 130 in order to improve the resolution. Therefore, the exposure apparatus 100 of the present embodiment includes a holding device 110 that holds the concave mirror M, which is an optical element included in the projection optical system 130, and deforms the reflective surface. . The holding device 110 transforms the reflective surface of the concave mirror M from a reference shape into a target shape for correcting optical aberration of the projection optical system 130, magnification, distortion, and focus of the projection image. The reference shape is an arbitrary shape with respect to the reflection surface of the concave mirror M, for example, a shape or a design shape of the reflection surface of the concave mirror M at a certain time point may be used. Here, in this embodiment, an example in which the holding device 110 deforms the reflective surface of the concave mirror M is described, but the mirror in which the holding device 110 deforms the reflective surface is It is not limited. For example, a spherical mirror or an aspherical mirror having a concave or convex curved surface may be used. In addition, in the present embodiment, the holding device 110 is used to deform the reflective surface of the mirror included in the projection optical system 130 of the exposure device 100, but is not limited thereto, for example, a telescope. It may be used to deform the reflective surface of the included mirror. Additionally, the object to be held by the holding device 110 may be a transmissive or refractive optical element as well as a reflective optical element.

본 실시 형태의 보유 지지 장치(110)는 베이스(111)와, 오목면 미러(M)를 지지하는 지지 부재(112)와, 복수의 액추에이터(113)와, 검출부(114)를 포함한다. 복수의 액추에이터(113)는 도시되지 않은 제어부에 의해 제어된다. 오목면 미러(M)는, 광을 반사하는 반사면과, 반사면의 반대측 면인 이면을 갖고, 오목면 미러(M)의 중심을 포함하는 일부(이하, 중심부)가 지지 부재(112)를 통하여 베이스(111)에 고정되어 있다. 오목면 미러(M)의 중심부를 베이스(111)에 고정하는 것은, 투영 광학계(130)에 사용되는 오목면 미러(M)의 중심부는 광의 입사량이 다른 영역과 비교하여 적은 유효 영역 외인 경우가 많아, 당해 중심부를 변형시킬 필요성이 작기 때문이다.The holding device 110 of this embodiment includes a base 111, a support member 112 for supporting the concave mirror M, a plurality of actuators 113, and a detection unit 114. The plurality of actuators 113 are controlled by a control unit (not shown). The concave mirror M has a reflective surface that reflects light and a rear surface that is a side opposite to the reflective surface, and a part (hereinafter, central part) including the center of the concave mirror M is through the support member 112 It is fixed to the base 111. Fixing the center of the concave mirror M to the base 111 is that the center of the concave mirror M used in the projection optical system 130 is often outside the effective area where the incident amount of light is small compared to other areas. This is because the necessity to deform the central part is small.

오목면 미러(M)의 반사면은 초기 상태에서는 곡률 반경 2000mm 정도의 오목의 구면인데, 본 실시 형태의 보유 지지 장치(110)는 반사면의 법선 방향에 수 100nm 정도의 구동량만큼 형상을 바꾸는 것이 가능이다. 반사면의 형상을 바꿈으로써 기판 상에 투영되는 마스크 패턴의 상 초점 면과 디스토션을 기판 상의 패턴에 맞춰서 변화시키는 것이 가능하게 된다. 기판의 두께 불균일에 의한 초점 위치의 변동이나, 프로세스를 거쳐서 패턴이 삐뚤어져 있어도, 그 왜곡된 패턴에 맞추어, 투영 상을 바꿈으로써, 중첩 정밀도, CD(Critical Dimension) 정밀도를 향상시키는 것이다.The reflective surface of the concave mirror M is a concave spherical surface with a curvature radius of about 2000 mm in the initial state, and the holding device 110 of this embodiment changes its shape by a driving amount of about 100 nm in the normal direction of the reflective surface. It is possible. By changing the shape of the reflective surface, it becomes possible to change the image focal plane and distortion of the mask pattern projected on the substrate according to the pattern on the substrate. Even if the focal position fluctuates due to the non-uniform thickness of the substrate or the pattern is distorted through the process, the overlapping accuracy and the CD (Critical Dimension) accuracy are improved by changing the projection image according to the distorted pattern.

오목면 미러(M)는, 직경 1m, 두께 5mm 정도의 얇은 미러이며, 반사면(오목면)의 형상을 변화시키기 위해서, 얇은 유리로 만들어져 있다. 얇게 함으로써 비교적 작은 힘으로 변형될 수 있다. 베이스(111)는 보유 지지 장치(110)의 전체를 지지한다. 지지 부재(112)는 오목면 미러(M)를 고정하고 있는 지지 지주이며, 일단부가 오목면 미러(M)의 중심 부분을 고정, 보유 지지하고 있다. 오목면 미러(M)를 지지하는 단부와는 다른 타단부는 베이스(111)에 고정되어 있다.The concave mirror M is a thin mirror of about 1 m in diameter and 5 mm in thickness, and is made of thin glass in order to change the shape of the reflective surface (concave surface). By making it thin, it can be deformed with a relatively small force. The base 111 supports the entire holding device 110. The support member 112 is a support post fixing the concave mirror M, and one end fixes and holds the central portion of the concave mirror M. The other end that is different from the end that supports the concave mirror M is fixed to the base 111.

오목면 미러(M)는, 예를 들어 두께 5mm의 평판을 구부린 것으로, 대략 구면 형상으로 가공하고, 그 후 반사면을 연마 가공함으로써 정밀한 구면 형상으로 마무리한다. 벌크의 유리 재료로부터 연삭, 연마하여 구면 형상으로 마무리하는 가공에 비해, 유리 재료 비용, 가공 비용 면에서 유리해진다.The concave mirror M is formed by bending a flat plate having a thickness of 5 mm, for example, and is processed into a substantially spherical shape, and then the reflective surface is polished to finish in a precise spherical shape. Compared to the processing of grinding and polishing from a bulk glass material to finish in a spherical shape, it is advantageous in terms of glass material cost and processing cost.

복수의 액추에이터(113)는 오목면 미러(M)와 베이스(111) 사이에 배치되고, 오목면 미러(M)의 이면의 복수 개소에 각각 힘을 가한다. 복수의 액추에이터(113)는, 예를 들어 오목면 미러(M)의 주연 영역에 각각 힘을 가하는 복수의 제1 액추에이터(113a)와, 주연 영역보다도 중심에 가까운 오목면 미러(M)의 영역에 각각 힘을 가하는 복수의 제2 액추에이터(113b)를 포함한다.The plurality of actuators 113 are disposed between the concave mirror M and the base 111 and apply a force to a plurality of locations on the rear surface of the concave mirror M, respectively. The plurality of actuators 113 are, for example, in a region of the plurality of first actuators 113a each applying a force to the peripheral region of the concave mirror M and the concave mirror M closer to the center than the peripheral region. It includes a plurality of second actuators (113b) each applying a force.

복수의 제1 액추에이터(113a) 각각은, 오목면 미러(M)의 이면에 접속된 제1 단과 베이스(111)에 접속된 제2 단의 거리를 변화시키도록 변형된다. 이에 의해, 복수의 제1 액추에이터(113a) 각각은, 제1 단이 접속된 오목면 미러(M)의 이면의 각 개소에 힘을 가할 수 있다. 제1 액추에이터(113a)로서는, 예를 들어 피에조 액추에이터나 자기 변형 액추에이터 등, 강성이 비교적 높은 액추에이터가 사용될 수 있다.Each of the plurality of first actuators 113a is deformed so as to change the distance between the first end connected to the rear surface of the concave mirror M and the second end connected to the base 111. Thereby, each of the plurality of first actuators 113a can apply a force to each location on the rear surface of the concave mirror M to which the first end is connected. As the first actuator 113a, an actuator having relatively high rigidity, such as a piezo actuator or a magnetostrictive actuator, can be used.

복수의 제2 액추에이터(113b) 각각은, 예를 들어 서로 접촉되지 않는 가동자(113b1)와 고정자(113b2)를 포함하고, 오목면 미러(M)의 이면의 각 개소에 힘을 가할 수 있다. 제2 액추에이터(113b)로서는, 예를 들어 보이스 코일 모터나 리니어 모터 등이 사용될 수 있다. 제2 액추에이터(113b)로서 보이스 코일 모터를 사용하는 경우에서는, 고정자(113b2)로서의 코일이 베이스(111)에 고정되고, 가동자(113b1)로서의 자석이 오목면 미러(M)의 이면에 고정될 수 있다. 그리고, 제각기 제2 액추에이터(114b)는 코일에 전류가 공급됨으로써 코일과 자석 사이에 로렌츠 힘을 발생시켜, 오목면 미러(M)의 각 개소에 힘을 가할 수 있다. 본 실시 형태에서는, 가동자(113b1)와 고정자(113b2) 사이는, 0.1mm 정도의 간극이 있고, 양자는 접촉되어 있지 않다.Each of the plurality of second actuators 113b includes, for example, a mover 113b 1 and a stator 113b 2 that are not in contact with each other, and can apply a force to each location on the rear surface of the concave mirror M. have. As the second actuator 113b, for example, a voice coil motor or a linear motor may be used. In the case of using a voice coil motor as the second actuator 113b, the coil as the stator 113b 2 is fixed to the base 111, and the magnet as the mover 113b 1 is placed on the rear surface of the concave mirror M. Can be fixed. Further, each of the second actuators 114b generates a Lorentz force between the coil and the magnet by supplying current to the coil, so that a force can be applied to each location of the concave mirror M. In this embodiment, there is a gap of about 0.1 mm between the mover 113b 1 and the stator 113b 2 , and both are not in contact.

검출부(114)는 오목면 미러(M)와 베이스(111) 사이의 거리를 검출한다. 검출부(114)는 오목면 미러(M)와 베이스(111) 사이의 거리를 각각 검출하는 복수의 센서(예를 들어 정전 용량 센서)를 포함할 수 있다. 이렇게 검출부(114)를 마련함으로써, 검출부(114)에 의한 검출 결과에 기초하여 복수의 액추에이터(113)를 피드백 제어할 수 있고, 오목면 미러(M)의 반사면을 목표 형상으로 고정밀도로 변형시킬 수 있다.The detection unit 114 detects the distance between the concave mirror M and the base 111. The detection unit 114 may include a plurality of sensors (eg, capacitive sensors) respectively detecting a distance between the concave mirror M and the base 111. By providing the detection unit 114 in this way, feedback control of the plurality of actuators 113 can be performed based on the detection result by the detection unit 114, and the reflective surface of the concave mirror M can be transformed into a target shape with high precision. I can.

검출부(114)에 있어서의 복수의 센서는, 제1 액추에이터(113a)의 근방에 각각 마련되는 것이 바람직하다. 이것은, 제1 액추에이터(113a)로서 사용되는 피에조 액추에이터에서는 히스테리시스가 발생하고, 명령값(전압)에 상당하는 변위를 얻을 수 없기 때문이다. 따라서, 복수의 제1 액추에이터(113a) 각각에 대해서, 검출부(114)에 의한 검출 결과에 기초한 피드백 제어가 행하여지면 된다. 한편, 제2 액추에이터(113b)로서 사용되는 보이스 코일 모터에서는, 히스테리시스가 발생되기 어렵고, 명령값(전압 또는 전류)에 상당하는 변위를 얻을 수 있다. 그 때문에, 제2 액추에이터(113b)에 대해서는, 검출부(114)에 의한 검출 결과에 기초한 피드백 제어가 행하여지지 않아도 된다.It is preferable that the plurality of sensors in the detection unit 114 are provided in the vicinity of the first actuator 113a, respectively. This is because hysteresis occurs in the piezo actuator used as the first actuator 113a, and a displacement corresponding to the command value (voltage) cannot be obtained. Therefore, feedback control based on the detection result by the detection unit 114 may be performed for each of the plurality of first actuators 113a. On the other hand, in the voice coil motor used as the second actuator 113b, hysteresis is less likely to occur, and a displacement corresponding to the command value (voltage or current) can be obtained. Therefore, for the second actuator 113b, feedback control based on the detection result by the detection unit 114 does not need to be performed.

도 2의 (A) 및 도 2의 (B)는 보유 지지 장치(110)의 지지 부재(112)에 의한 오목면 미러(M)의 보유 지지 상태를 나타내는 도면이다. 도 2의 (A)는 지지 부재(112)에 의한 오목면 미러(M)의 지지 방향을 수평 방향(광축 방향)을 따르는 방향으로 한 경우이다. 한편, 도 2의 (B)는 오목면 미러(M)의 광축의 방향과 중력의 방향을 포함하는 평면 내에 있어서, 오목면 미러(M)를 지지하는 부분을 광축의 방향에 대하여 상향으로 기울여서 지지한 경우이다. 오목면 미러(M)의 이면 중심(오목면 미러(M)의 곡률 중심을 통과하는 방향, 외경 중심)에 구멍이 마련되어 있다. 그 구멍에 지지 부재(112)의 단부면을 끼워 맞춤으로써 위치 결정되고, 접착제 등으로 접합되어 있다. 오목면 미러(M)의 반사면의 광축 방향은 수평 방향(Y축을 따르는 방향)이며, 도면 중에 있어서 1점 쇄선으로 나타나 있다. 오목면 미러(M)의 지지 방향은, 실선으로 나타나 있다. 또한, 도 2의 (A)에서는, 광축 방향과 지지 방향이 일치하고 있어, 편의상, 광축 방향만 나타나 있다.2A and 2B are views showing a state of holding the concave mirror M by the support member 112 of the holding device 110. 2A is a case in which the support direction of the concave mirror M by the support member 112 is a direction along the horizontal direction (optical axis direction). On the other hand, in (B) of FIG. 2, in the plane including the direction of the optical axis and the direction of gravity of the concave mirror M, the portion supporting the concave mirror M is supported by tilting upward with respect to the direction of the optical axis. This is the case. A hole is provided in the center of the rear surface of the concave mirror M (the direction passing through the center of curvature of the concave mirror M, the center of the outer diameter). It is positioned by fitting the end surface of the support member 112 into the hole and bonded with an adhesive or the like. The optical axis direction of the reflective surface of the concave mirror M is a horizontal direction (a direction along the Y axis), and is indicated by a dashed-dotted line in the drawing. The support direction of the concave mirror M is indicated by a solid line. In addition, in Fig. 2A, the optical axis direction and the support direction coincide, and for convenience, only the optical axis direction is shown.

오목면 미러(M)는, 두께 5mm로 얇기 때문에, 자중으로 변형된다(기운다). 변형 후의 오목면 미러(M')의 형상은, 도면 중 2점 쇄선으로 나타나 있다. 도 2의 (A)의 경우, 자중 변형에 의해, 오목면 미러(M)의 반사면은, X축 주위로 회전하여 하향으로 되어 버린다. 한편, 도 2의 (B)와 같이 지지 방향을 상향으로 한 경우, 변형 후의 오목면 미러(M')의 광축은, 수평 방향으로 된다. 도 2의 (B)에 나타내는 지지 방향은, 지그 상에서 실제로 오목면 미러를 수평 방향으로 보유 지지하고, 자중에 의한 경사량을, 위치 센서 등을 사용하여 계측하여 구하고, 구해진 양에 기초하여 결정한다. 혹은, 계산에 의해 구해도 된다.Since the concave mirror M is thin with a thickness of 5 mm, it deforms (tilts) by its own weight. The shape of the concave mirror M'after deformation is indicated by a chain two-dotted line in the drawing. In the case of Fig. 2A, the reflection surface of the concave mirror M rotates around the X-axis and goes downward due to self-weight deformation. On the other hand, when the support direction is made upward as shown in Fig. 2B, the optical axis of the concave mirror M'after deformation becomes a horizontal direction. The support direction shown in FIG. 2B is actually holding the concave mirror on the jig in the horizontal direction, and the amount of inclination due to its own weight is measured using a position sensor or the like, and determined based on the obtained amount. . Alternatively, you may obtain it by calculation.

지지 방향을 기울여서 고정부(112)에 의해 오목면 미러(M)를 보유 지지하고, 주연 영역에 제1 액추에이터(113a)를 장착한다. 제1 액추에이터(113a)에 힘이 걸리지 않는 상태에서는 오목면 미러(M)의 반사면(오목면)은 왜곡이 적은 형상으로 된다.The concave mirror M is held by the fixing part 112 by tilting the support direction, and the first actuator 113a is attached to the peripheral region. In a state in which no force is applied to the first actuator 113a, the reflective surface (concave surface) of the concave mirror M has a shape with little distortion.

도 3은, 제1 액추에이터(113a) 및 제2 액추에이터(113b)의 위치와, 오목면 미러(M)의 원하는 반사면 형상으로부터의 어긋남양을 등고선으로 나타내는 도면이다. 제1 액추에이터(113a)의 위치는 동그라미 표시로, 제2 액추에이터(113b)의 위치는 X표로 나타나 있다. 오목면 미러(M)의 원하는 반사면 형상으로부터의 어긋남양은, 실선 및 파선의 등고선으로 나타나 있다. 등고선의 파선으로 나타낸 것은 원하는 반사면 형상보다도 파여 있는 것을 나타내고, 실선으로 나타낸 것은 돌출되어 있는 것을 나타내고 있다.FIG. 3 is a diagram showing the positions of the first actuator 113a and the second actuator 113b and the amount of shift from the desired reflective surface shape of the concave mirror M by contour lines. The position of the first actuator 113a is indicated by a circle, and the position of the second actuator 113b is indicated by an X mark. The amount of deviation of the concave mirror M from the desired shape of the reflective surface is indicated by solid and broken contour lines. The dashed line of the contour line indicates that it is more dent than the desired reflective surface shape, and the solid line indicates that it is protruding.

본 실시 형태의 고정 방법에 의하면, 자중 변형의 큰 성분인 기울기(틸트) 성분은 보정된다. 그러나, 중심 1점에서만 보유 지지하고 있기 때문에, 등고선으로 나타낸 바와 같은 국소적으로 미소한 변형이 발생된다. 이것은, 오목면 미러(M)의 이면 측의 보유 지지점이 엄밀하게는 점이 아니라 면으로 고정되어 있기 때문에, 보유 지지 위치의 주위에는 미소한 요철이 남기 때문이다.According to the fixing method of this embodiment, the inclination (tilt) component, which is a large component of self-weight deformation, is corrected. However, since it is held only at one center point, a small deformation occurs locally as indicated by the contour line. This is because the holding point on the rear surface side of the concave mirror M is strictly fixed to a surface rather than a point, so that minute irregularities remain around the holding position.

오목면 미러(M)가 직경 1m, 두께 10mm의 치수인 경우, 돌출량, 파임양 모두, 어긋남양은 1㎛ 이하이고, 제2 액추에이터(113b)에 의해 보정 가능하다. 제2 액추에이터(113b)에 의해, 상기 양을 보정하기 위해서는, 10N 정도의 추력이 있으면 되고, 보이스 코일 모터에 의해 충분히 대응할 수 있는 양이다.When the concave mirror M has a size of 1 m in diameter and 10 mm in thickness, both the protruding amount and the dent amount, and the displacement amount are 1 µm or less, and can be corrected by the second actuator 113b. In order to correct the amount by the second actuator 113b, it is sufficient to have a thrust of about 10N, which is an amount that can be sufficiently coped with by the voice coil motor.

종래의 기술에서는, 자중 변형 전체를 수정 가공하게 되기 때문에, 어긋남양(가공량)은 10㎛ 이상으로 되지만, 본 실시 형태에서는 국소적인 변형만을 수정하기 때문에, 상술한 바와 같이 가공량은 1㎛ 정도면 된다. 따라서, 가공에 요하는 시간을 대폭 단축할 수 있고, 비용을 억제할 수 있다.In the prior art, since the entire self-weight deformation is corrected, the amount of shift (processing amount) is 10 µm or more, but in this embodiment, only local deformation is corrected, so the amount of processing is about 1 µm as described above. Just do it. Therefore, the time required for processing can be significantly shortened, and the cost can be suppressed.

보정 후의 반사면 형상을 기준 형상(액추에이터(113)의 초기 위치)으로 한다. 제어부는, 오목면 미러(M)의 반사면 형상을 기준 형상으로부터, 광학 수차나, 투영 상의 배율, 왜곡, 포커스를 보정하는 목표 형상으로 하기 위한 반사면 변형량에 기초하여, 액추에이터(113) 각각을 구동시킨다.The shape of the reflective surface after correction is taken as a reference shape (initial position of the actuator 113). The control unit sets each of the actuators 113 based on the amount of deformation of the reflective surface for correcting optical aberration, magnification, distortion, and focus of the concave mirror M from the reference shape. Drive.

또한, 어긋남양의 보정은, 상기와는 다른 수단으로서, 미리 국소적인 변형(영향이 큰 기울기 성분을 제외한 변형 성분)을 계측하고, 그것을 보정하도록 오목면 미러(M)의 형상을 가공하는 방법이 있다. 국소적인 변형을 가공에 의해 보정할 경우에는, 액추에이터(113b)를 초기 상태에서 구동할 필요가 없기 때문에, 액추에이터(113b)를 상시 구동할 필요가 없어져, 발열을 억제할 수 있다. 열 왜곡의 관점에서는, 발열을 억제한 가공에 의한 보정쪽이, 액추에이터(113b)의 구동에 의한 보정보다도 반사면 형상의 보정 정밀도를 향상시킬 수 있다.In addition, as a method different from the above, a method of measuring the local deformation (deformation component excluding the gradient component having a large influence) in advance and processing the shape of the concave mirror M to correct it is a method different from the above. have. In the case of correcting local deformation by machining, since it is not necessary to drive the actuator 113b in the initial state, it is not necessary to always drive the actuator 113b, and heat generation can be suppressed. From the viewpoint of thermal distortion, the correction by processing in which heat generation is suppressed can improve the correction accuracy of the shape of the reflective surface than the correction by driving the actuator 113b.

이상과 같이, 본 실시 형태의 보유 지지 장치(110)는, 자중 변형의 보정을 위하여 오목면 미러(M)를 지지 부재(112)로부터 분리하여, 형상 가공할 필요가 없어, 예를 들어 가공 시간 및 비용 면에서 유리해진다. 또한, 자중 변형을 가공에 의해 보정하는 경우에도, 가공량이 종래보다도 적어도 되기 때문에, 가공 시간 면에서 유리해질 수 있다. 본 실시 형태에 따르면, 자중 변형의 영향을 억제한 가변 형상 미러의 보유 지지 장치를 제공할 수 있다.As described above, the holding device 110 of the present embodiment does not need to separate the concave mirror M from the support member 112 and perform shape processing in order to correct the self-weight deformation. For example, the processing time And it becomes advantageous in terms of cost. In addition, even when the self-weight deformation is corrected by machining, since the machining amount is smaller than that of the prior art, it can be advantageous in terms of machining time. According to this embodiment, it is possible to provide a holding device for a variable shape mirror in which the influence of self-weight deformation is suppressed.

제2 실시 형태Second embodiment

도 4는, 본 발명의 제2 실시 형태에 따른 노광 장치(200)의 구성을 나타내는 개략도이다. 제1 실시 형태와 동일한 기능을 갖는 부재에 대해서는, 동일한 부호를 부여하고, 상세한 설명은 생략한다. 본 실시 형태에서는, 오목면 미러(M)가 투영 광학계를 구성하는 경통(230)에 접합된 고정 부재(210)에 의해 보유 지지된다. 제1 실시 형태와 마찬가지로 오목면 미러(M)는 자중 변형한 상태에서 반사면의 광축(도면 중 1점 쇄선으로 나타냄)이 수평이 되도록, 고정 부재(210)의 지지 방향(도중 실선으로 나타냄)을 기울이고 있다. 자중 변형 후의 오목면 미러(M')의 형상은, 도면 중 2점 쇄선으로 나타나 있다. 실선은 자중 변형 전 오목면 미러(M)의 형상을 나타낸다. 제1 실시 형태와 마찬가지로 오목면 미러(M)의 중심부에는, 국소적인 요철이 발생한다. 보다 고정밀도인 패턴 전사 성능을 실현하기 위해서, 국소적인 변형은 사전에 가공에 의해 보정해도 된다. 본 실시 형태의 구성에 의하면, 액추에이터가 불필요해지기 때문에, 보다 저비용으로 패턴 전사 성능이 양호한 주사형 노광 장치를 실현할 수 있다.4 is a schematic diagram showing a configuration of an exposure apparatus 200 according to a second embodiment of the present invention. Members having the same functions as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed descriptions are omitted. In this embodiment, the concave mirror M is held by the fixing member 210 bonded to the barrel 230 constituting the projection optical system. As in the first embodiment, the concave mirror M is in a state in which its own weight is deformed, so that the optical axis of the reflective surface (indicated by a dashed-dotted line in the drawing) is horizontal, and the support direction of the fixing member 210 (indicated by a solid line in the drawing) Is tilting. The shape of the concave mirror M'after its own weight deformation is indicated by a chain double-dotted line in the figure. The solid line represents the shape of the concave mirror M before its own weight deformation. As in the first embodiment, local irregularities occur in the center of the concave mirror M. In order to realize more highly accurate pattern transfer performance, local deformation may be corrected by processing in advance. According to the configuration of the present embodiment, since an actuator is not required, it is possible to realize a scanning exposure apparatus having excellent pattern transfer performance at a lower cost.

또한, 상기 실시 형태에서는, 자중 변형 후의 오목면 미러(M)의 광축을 수평 방향으로 되도록 지지했지만, 자중 변형 후에 목표로 하는 광축 방향은, 투영 광학계에 포함되는 그 외의 미러의 배치 등으로부터 결정된다. 또한, 상기 실시 형태에서 지지하고 있는 오목면 미러(M)를 볼록면 미러로 한 경우에는, 예를 들어 미러를 지지하는 부분을 광축의 방향에 대하여 하향으로 기울여서 지지한다.In addition, in the above embodiment, the optical axis of the concave mirror M after self-weight deformation is supported so as to be in a horizontal direction, but the target optical axis direction after self-weight deformation is determined from the arrangement of other mirrors included in the projection optical system. . In the case where the concave mirror M supported in the above embodiment is a convex mirror, for example, the portion supporting the mirror is tilted downward with respect to the direction of the optical axis and supported.

물품 제조 방법에 관한 실시 형태Embodiments related to the article manufacturing method

본 실시 형태에 따른 물품의 제조 방법은, 예를 들어 반도체 디바이스 등의 마이크로 디바이스나 미세 구조를 갖는 소자 등의 물품을 제조하기에 적합하다. 본 실시 형태의 물품 제조 방법은, 기판에 도포된 감광제에 상기 노광 장치를 사용하여 잠상 패턴을 형성하는 공정(기판을 노광하는 공정)과, 이러한 공정에서 잠상 패턴이 형성된 기판을 현상(처리)하는 공정을 포함한다. 또한, 이러한 제조 방법은, 다른 주지의 공정(산화, 성막, 증착, 도핑, 평탄화, 에칭, 레지스트 박리, 다이싱, 본딩, 패키징 등)을 포함한다. 본 실시 형태의 물품 제조 방법은, 종래의 방법에 비하여, 물품의 성능·품질·생산성·생산 비용 중 적어도 하나에 있어서 유리하다.The manufacturing method of an article according to the present embodiment is suitable for manufacturing an article such as a micro device such as a semiconductor device or an element having a fine structure, for example. The article manufacturing method of the present embodiment includes a step of forming a latent image pattern on a photosensitive agent applied to a substrate using the exposure apparatus (a step of exposing the substrate), and developing (processing) a substrate on which the latent image pattern is formed in this step. Including the process. In addition, this manufacturing method includes other well-known processes (oxidation, film formation, vapor deposition, doping, planarization, etching, resist stripping, dicing, bonding, packaging, etc.). The article manufacturing method of the present embodiment is advantageous in at least one of the performance, quality, productivity, and production cost of the article as compared to the conventional method.

기타 실시 형태Other embodiments

이상, 본 발명의 바람직한 실시 형태에 대하여 설명했지만, 본 발명은 이들 실시 형태에 한정되지 않고, 그 요지의 범위 내에서 다양한 변형 및 변경이 가능하다.As described above, preferred embodiments of the present invention have been described, but the present invention is not limited to these embodiments, and various modifications and changes are possible within the scope of the gist.

100: 노광 장치
110: 보유 지지 장치
112: 지지 부재
113: 액추에이터
M: 미러(광학 소자)100: exposure apparatus
110: holding device
112: support member
113: actuator
M: Mirror (optical element)

Claims (12)

곡면을 갖고 자중으로 변형되는 광학 소자를 보유 지지하는 보유 지지 장치이며,
상기 광학 소자의 소정의 위치를 고정 지지하는 지지 부재로서, 상기 지지 부재에 의해 상기 광학 소자를 고정 지지할 때, 상기 광학 소자의 광축을 수평 방향에 대하여 기울인 상태에서 상기 광학 소자를 고정 지지하여, 상기 지지 부재에 의해 상기 광학 소자를 고정 지지한 상태에 있어서, 상기 광학 소자가 자중으로 변형되어 상기 광학 소자의 광축이 수평 방향을 향하도록 고정 지지하는 지지 부재와,
상기 지지 부재에 의해 상기 광학 소자를 고정 지지한 상태에서, 상기 광학 소자에 힘을 가하여 상기 곡면을 변형시키는 액추에이터
를 포함하는 것을 특징으로 하는 보유 지지 장치.It is a holding device that holds an optical element that has a curved surface and is deformed into its own weight,
A support member for fixing and supporting a predetermined position of the optical element, wherein when the optical element is fixedly supported by the support member, the optical element is fixedly supported while the optical axis of the optical element is tilted with respect to a horizontal direction, A support member for fixing and supporting the optical element so that the optical axis of the optical element faces a horizontal direction when the optical element is deformed into its own weight while the optical element is fixedly supported by the support member;
Actuator for deforming the curved surface by applying a force to the optical element while the optical element is fixedly supported by the support member
Holding device comprising a. 제1항에 있어서,
상기 곡면은 반사곡면을 포함하고, 상기 지지 부재는 상기 반사곡면과는 반대 측의 상기 광학 소자의 이면 측에서 상기 광학 소자를 고정 지지하는 것을 특징으로 하는 보유 지지 장치.The method of claim 1,
The curved surface includes a reflective curved surface, and the supporting member fixedly supports the optical element at a rear surface of the optical element opposite to the reflective curved surface. 제2항에 있어서,
상기 지지 부재가 상기 광학 소자를 지지하는 상기 이면의 부분은 상기 반사곡면 중 유효 영역 외의 부분의 반대 측의 부분인 것을 특징으로 하는 보유 지지 장치.The method of claim 2,
A holding device, wherein a portion of the back surface on which the support member supports the optical element is a portion of the reflective curved surface opposite to a portion outside the effective area. 제1항에 있어서,
상기 지지 부재의 일부는 상기 광학 소자에 형성된 구멍에 삽입되어 고정되는 것을 특징으로 하는 보유 지지 장치.The method of claim 1,
A holding device, wherein a part of the support member is inserted into and fixed to a hole formed in the optical element. 제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 곡면은 오목면이고, 상기 지지 부재는 상기 지지 부재에 의해 상기 광학 소자를 고정 지지할 때, 상기 광학 소자의 광축을 수평 방향에 대해 상향으로 기울인 상태에서 상기 광학 소자를 고정 지지하는 것을 특징으로 하는 보유 지지 장치.The method according to any one of claims 2 to 4,
The curved surface is a concave surface, and the support member fixedly supports the optical element in a state in which the optical axis of the optical element is tilted upward with respect to the horizontal direction when the optical element is fixedly supported by the support member. Holding device. 제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 곡면은 볼록면이고, 상기 지지 부재는 상기 지지 부재에 의해 상기 광학 소자를 고정 지지할 때, 상기 광학 소자의 광축을 수평 방향에 대하여 하향으로 기울인 상태에서 상기 광학 소자를 고정 지지하는 것을 특징으로 하는 보유 지지 장치.The method according to any one of claims 2 to 4,
The curved surface is a convex surface, and the support member fixedly supports the optical element in a state in which the optical axis of the optical element is tilted downward with respect to the horizontal direction when the optical element is fixedly supported by the support member. Holding device. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 액추에이터는 상기 광학 소자의 이면의 복수 개소에 각각 힘을 가하여 상기 곡면을 변형시키는 복수의 액추에이터를 포함하고,
상기 복수의 액추에이터를 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 보유 지지 장치.The method according to any one of claims 1 to 4,
The actuator includes a plurality of actuators for deforming the curved surface by applying a force to a plurality of locations on the rear surface of the optical element, respectively,
A holding device comprising a control unit for controlling the plurality of actuators. 원판의 패턴을 기판에 투영하는 투영 광학계이며,
곡면을 갖는 광학 소자와,
상기 광학 소자를 보유 지지하는 보유 지지 장치를 포함하고,
상기 보유 지지 장치는
상기 광학 소자의 소정의 위치를 고정 지지하는 지지 부재로서, 상기 지지 부재에 의해 상기 광학 소자를 고정 지지할 때, 상기 광학 소자의 광축을 수평 방향에 대하여 기울인 상태에서 상기 광학 소자를 고정 지지하여, 상기 지지 부재에 의해 상기 광학 소자를 고정 지지한 상태에 있어서, 상기 광학 소자가 자중으로 변형되어 상기 광학 소자의 광축이 수평 방향을 향하도록 고정 지지하는 지지 부재와,
상기 지지 부재에 의해 상기 광학 소자를 고정 지지한 상태에서, 상기 광학 소자에 힘을 가하여 상기 곡면을 변형시키는 액추에이터
를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 광학계.It is a projection optical system that projects the pattern of the original plate onto the substrate,
An optical element having a curved surface,
And a holding device for holding the optical element,
The holding device
A support member for fixing and supporting a predetermined position of the optical element, wherein when the optical element is fixedly supported by the support member, the optical element is fixedly supported while the optical axis of the optical element is tilted with respect to a horizontal direction, A support member for fixing and supporting the optical element so that the optical axis of the optical element faces a horizontal direction when the optical element is deformed into its own weight while the optical element is fixedly supported by the support member;
Actuator for deforming the curved surface by applying a force to the optical element while the optical element is fixedly supported by the support member
Projection optical system comprising a. 기판을 노광하는 노광 장치이며,
원판의 패턴을 기판에 투영하는 투영 광학계를 통해 상기 기판을 노광하고,
상기 투영 광학계는
곡면을 갖는 광학 소자와,
상기 광학 소자를 보유 지지하는 보유 지지 장치를 포함하고,
상기 보유 지지 장치는
상기 광학 소자의 소정의 위치를 고정 지지하는 지지 부재로서, 상기 지지 부재에 의해 상기 광학 소자를 고정 지지할 때, 상기 광학 소자의 광축을 수평 방향에 대하여 기울인 상태에서 상기 광학 소자를 고정 지지하여, 상기 지지 부재에 의해 상기 광학 소자를 고정 지지한 상태에 있어서, 상기 광학 소자가 자중으로 변형되어 상기 광학 소자의 광축이 수평 방향을 향하도록 고정 지지하는 지지 부재와,
상기 지지 부재에 의해 상기 광학 소자를 고정 지지한 상태에서, 상기 광학 소자에 힘을 가하여 상기 곡면을 변형시키는 액추에이터
를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.It is an exposure apparatus that exposes a substrate,
Exposing the substrate through a projection optical system that projects the pattern of the original plate onto the substrate,
The projection optical system
An optical element having a curved surface,
A holding device for holding the optical element,
The holding device
A support member for fixing and supporting a predetermined position of the optical element, wherein when the optical element is fixedly supported by the support member, the optical element is fixedly supported while the optical axis of the optical element is tilted with respect to a horizontal direction, A support member for fixing and supporting the optical element so that the optical axis of the optical element faces a horizontal direction when the optical element is deformed into its own weight while the optical element is fixedly supported by the support member;
Actuator for deforming the curved surface by applying a force to the optical element while the optical element is fixedly supported by the support member
An exposure apparatus comprising a. 노광 장치를 사용하여 기판을 노광하는 공정과,
상기 공정에서 노광된 상기 기판을 현상하는 공정을 포함하고,
상기 노광 장치는 원판의 패턴을 기판에 투영하는 투영 광학계를 통해 상기 기판을 노광하고,
상기 투영 광학계는 곡면을 갖는 광학 소자와 상기 광학 소자를 보유 지지하는 보유 지지 장치를 포함하고,
상기 보유 지지 장치는
상기 광학 소자의 소정의 위치를 고정 지지하는 지지 부재로서, 상기 지지 부재에 의해 상기 광학 소자를 고정 지지할 때, 상기 광학 소자의 광축을 수평 방향에 대하여 기울인 상태에서 상기 광학 소자를 고정 지지하여, 상기 지지 부재에 의해 상기 광학 소자를 고정 지지한 상태에 있어서, 상기 광학 소자가 자중으로 변형하여 상기 광학 소자의 광축이 수평 방향을 향하도록 고정 지지하는 지지 부재와,
상기 지지 부재에 의해 상기 광학 소자를 고정 지지한 상태에서, 상기 광학 소자에 힘을 가하여 상기 곡면을 변형시키는 액추에이터
를 포함하는 것을 특징으로 하는 물품의 제조 방법.A process of exposing the substrate using an exposure apparatus, and
Including a process of developing the substrate exposed in the process,
The exposure apparatus exposes the substrate through a projection optical system that projects a pattern of the original plate onto the substrate,
The projection optical system includes an optical element having a curved surface and a holding device for holding the optical element,
The holding device
A support member for fixing and supporting a predetermined position of the optical element, wherein when the optical element is fixedly supported by the support member, the optical element is fixedly supported while the optical axis of the optical element is tilted with respect to a horizontal direction, A support member for fixing and supporting the optical element so that the optical axis of the optical element faces a horizontal direction when the optical element is deformed into its own weight while the optical element is fixedly supported by the support member;
Actuator for deforming the curved surface by applying a force to the optical element while the optical element is fixedly supported by the support member
A method of manufacturing an article comprising a. 삭제delete 삭제delete
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