KR20190015965A - 균일한 열전달을 위한 웨이퍼 캐리어 - Google Patents

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Abstract

일 실시예에 따르면, 화학 기상 증착 장치에서 웨이퍼를 지지하기 위한 웨이퍼 캐리어가 제공되는데, 이 웨이퍼 캐리어는, 캐리어 하부면; 캐리어 상부면; 캐리어 하부면으로 둘러싸인 스핀들 수용홈을 포함하고, 캐리어 하부면은, 스핀들 수용홈의 입구와 동일 높이에 위치하며 상기 캐리어 상부면에 평행한 기준면에 대해, 기준면보다 아래에 위치하는 덧살면을 포함하되, 덧살면은 상기 스핀들 수용홈을 기준으로 원형 링 형상을 가진다.

Description

균일한 열전달을 위한 웨이퍼 캐리어{WAFER CARRIER FOR UNIFORM HEAT CONDUCTION}
본 발명은 화학 기상 증착 장치의 웨이퍼 캐리어에 관한 것으로, 특히, 웨이퍼에 균일한 열전달을 할 수 있는 웨이퍼 캐리어에 관한 것이다.
일반적으로, 질화갈륨계 반도체층은 성장 기판(웨이퍼) 상에서 화학 기상 증착 장비를 이용하여 성장된다. 사파이어 기판과 같은 웨이퍼가 웨이퍼 캐리어에 배치되어 고온 가열이 가능한 챔버 내에 장착되며, 500~1200℃의 온도에서 소스 가스들이 챔버 내에 도입되어 질화갈륨계 에피층들이 기판 상에 성장된다.
현재 질화갈륨계 화합물 반도체의 에피 성장에 널리 사용되고 있는 사파이어 기판은 대구경화 추세에 있으며, 현재 12인치 웨이퍼에 대한 연구가 진행 중이다. 웨이퍼의 대구경화 추세를 뒷받침하기 위해 화학 기상 증착 장비 및 웨이퍼 캐리어 또한 대구경화 추세에 있다.
웨이퍼 캐리어는 에피 박막의 전기적, 광학적 특성에 주요한 영향을 미치며 에피 박막 성장면의 표면 특성 및 에피 박막 내 크랙 등의 결함 발생에 영향을 미친다. 따라서, 웨이퍼 캐리어의 중요성은 웨이퍼의 대구경화에 따라 더욱 중요해진다.
도 1은 종래의 스핀들을 이용한 회전 타입의 웨이퍼 캐리어(10)를 설명하기 위한 단면도이다.
도 1을 참조하면, 종래의 웨이퍼 캐리어(10)는 캐리어 하부면(10l), 캐리어 상부면(10u), 및 캐리어의 하부면(10l)으로 둘러싸인 스핀들 수용홈(19)을 구비한다. 또한, 도시하지는 않았지만, 상기 캐리어 상부면(10u)에 웨이퍼를 안착시키기 위해 적어도 하나의 포켓이 마련된다.
한편, 스핀들 수용홈(19)은 캐리어(10)의 하부면(10l)측에 형성된다. 캐리어(10)는 챔버 내에서 스핀들 상에 배치되며, 이때, 상기 캐리어 수용홈(19)이 스핀들을 수용한다. 구동 시, 스핀들의 회전에 의해 캐리어(10)가 회전된다.
한편, 상기 캐리어(10)는 히터(도시하지 않음) 상부에 배치되며, 히터에 의해 가열되고, 이에 따라, 열을 그 위에 안착된 웨이퍼에 전달한다.
상기 캐리어(10)는 화학 기상 증착 장비의 챔버 내에 탑재될 수 있는 크기를 가진다. 종래 캐리어(10)의 구경은 대략 50cm 미만인 것이 사용되고 있는데, 캐리어(10)의 크기는 챔버 크기에 의해 제한된다.
캐리어 하부면(10l)은 스핀들 수용홈(19)을 제외하면 평면 형상을 가지며, 히터에서 전달된 열을 캐리어 상부면(10u)으로 전달한다. 기존 웨이퍼 케리어(10)는 2, 4, 6, 8인치 등의 소구경 사파이어 기판에 적합하도록 디자인되어 있어 웨이퍼 캐리어 내 온도 편차 발생을 컨트롤할 수 없다.
또한, 웨이퍼의 대구경화에 따라 상기 웨이퍼 캐리어 상에 안착되는 웨이퍼의 무게가 증가하고, 이에 따라, 에피 박막을 형성하는 동안 웨이퍼 캐리어와 웨이퍼의 전체 무게 중심이 소구경 웨이퍼를 안착한 경우에 비해 위쪽 방향으로 이동된다. 이에 따라, 화학 기상 증착 장치 내에서 웨이퍼 캐리어가 고속 회전할 때, 웨이퍼 캐리어의 위치가 이탈하거나 웨이퍼 캐리어에 흔들림이 발생하기 쉬워 웨이퍼의 전면에 걸쳐 균일한 박막을 성장하기 어렵다.
나아가, 웨이퍼의 대구경화에 따라, 웨이퍼 내 위치별 온도 편차가 발생하기 쉽다. 이러한 온도 편차 발생은 에피 박막의 전기적, 광학적 특성에 영향을 미치고 에피 박막 성장 면의 표면 거칠기와 사파이어 기판의 크랙 발생의 주요 원인이 된다. 종래의 웨이퍼 캐리어는 캐리어 내 위치별 온도 보정 및 온도 편차 개선이 불가능하므로, 대구경 웨이퍼 내에 발생되는 온도 편차를 해결하지 못한다.
도 2는 종래의 가장자리 고정부를 이용한 회전 타입의 웨이퍼 캐리어(20)를 설명하기 위한 단면도이다.
도 2를 참조하면, 종래의 웨이퍼 캐리어(20)는 캐리어 하부면(20l), 캐리어 상부면(20u), 및 고정부(23)를 포함한다. 또한, 도시하지는 않았지만, 상기 캐리어 상부면(20u)에 웨이퍼를 안착시키기 위해 적어도 하나의 포켓이 마련된다.
한편, 고정부(23)은 캐리어의 가장자리에 마련되며, 화학 기상 증착 장치 내의 회전체에 고정되어, 회전체가 회전할 때, 회전체와 함께 웨피어 캐리어(20)가 회전한다.
한편, 상기 캐리어(20)는 히터(도시하지 않음) 상부에 배치되며, 히터에 의해 가열되고, 이에 따라, 열을 그 위에 안착된 웨이퍼에 전달한다.
웨이퍼 캐리어(20)는 고정부를 이용하여 회전체에 고정되기 때문에 무게 중심의 이동에 의한 흔들림 발생을 방지할 수는 있지만, 평평한 하부면을 갖기 때문에 웨이퍼 내 온도 편차를 해결하지 못한다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 웨이퍼 캐리어 내 열 전달의 편차를 감소시켜 웨이퍼에 균일하게 열을 전달할 수 있는 웨이퍼 캐리어를 제공하는 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 과제는, 웨이퍼 캐리어 회전시 흔들림이나 이탈을 방지할 수 있는 웨이퍼 캐리어를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 웨이퍼 캐리어는, 화학 기상 증착 장치에서 웨이퍼를 지지하기 위한 것으로, 캐리어 하부면; 캐리어 상부면; 상기 캐리어 하부면으로 둘러싸인 스핀들 수용홈을 포함하고, 상기 캐리어 하부면은, 상기 스핀들 수용홈의 입구와 동일 높이에 위치하며 상기 캐리어 상부면에 평행한 기준면에 대해, 상기 기준면보다 아래에 위치하는 덧살면을 포함하되, 상기 덧살면은 상기 스핀들 수용홈을 기준으로 원형 링 형상을 가진다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 웨이퍼 캐리어는, 화학 기상 증착 장치에서 웨이퍼를 지지하기 위한 것으로, 화학 기상 증착 장치에서 웨이퍼를 지지하기 위한 웨이퍼 캐리어에 있어서, 캐리어 하부면; 캐리어 상부면; 상기 웨이퍼 캐리어의 가장자리에서 아래로 연장되어 상기 웨이퍼 캐리어를 화학 기상 증착 장치 내의 회전체에 고정하기 위한 고정구를 포함하고, 상기 캐리어 하부면은, 상기 고정구에 연결되는 캐리어 하부면의 가장자리와 동일 높이에 위치하며 상기 캐리어 상부면에 평행한 기준면에 대해, 상기 기준면보다 아래에 위치하는 덧살면을 포함하되, 상기 덧살면은 상기 웨이퍼 캐리어의 중심에 대해 원형 대칭 형상을 가진다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 웨이퍼 캐리어 하부면이 덧살면을 포함하므로, 웨이퍼 캐리어의 무게 중심을 낮출 수 있으며, 나아가, 웨이퍼 캐리어의 열 전달 특성에 따라 덧살면의 위치를 조절하여 균일한 열 전달을 도모할 수 있다.
도 1은 종래의 스핀들을 이용한 회전 타입의 웨이퍼 캐리어(10)를 설명하기 위한 단면도이다.
도 2는 종래의 가장자리 고정부를 이용한 회전 타입의 웨이퍼 캐리어(20)를 설명하기 위한 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 스핀들을 이용한 회전 타입의 웨이퍼 캐리어를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
도 4는 도 3의 배면도를 나타낸다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 스핀들을 이용한 회전 타입의 웨이퍼 캐리어를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 스핀들을 이용한 회전 타입의 웨이퍼 캐리어를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 스핀들을 이용한 회전 타입의 웨이퍼 캐리어를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 스핀들을 이용한 회전 타입의 웨이퍼 캐리어를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
도 9는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 가장자리 고정부를 이용한 회전 타입의 웨이퍼 캐리어를 설명하기 위한 단면도이다.
도 10은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 가장자리 고정부를 이용한 회전 타입의 웨이퍼 캐리어를 설명하기 위한 단면도이다.
도 11은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 가장자리 고정부를 이용한 회전 타입의 웨이퍼 캐리어를 설명하기 위한 단면도이다.
도 12는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 가장자리 고정부를 이용한 회전 타입의 웨이퍼 캐리어를 설명하기 위한 단면도이다.
도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 가장자리 고정부를 이용한 회전 타입의 웨이퍼 캐리어를 설명하기 위한 단면도이다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 다음에 소개되는 실시예는 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되는 것이다. 따라서, 본 발명은 이하 설명되는 실시예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수 있다. 그리고, 도면에 있어서, 구성요소의 폭, 길이, 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.
본 발명의 일 실시예에 따르며, 화학 기상 증착 장치에서 웨이퍼를 지지하기 위한 웨이퍼 캐리어가 제공된다. 이 웨이퍼 캐리어는, 캐리어 하부면; 캐리어 상부면; 상기 캐리어 하부면으로 둘러싸인 스핀들 수용홈을 포함하고, 상기 캐리어 하부면은, 상기 스핀들 수용홈의 입구와 동일 높이에 위치하며 상기 캐리어 상부면에 평행한 기준면에 대해, 상기 기준면보다 아래에 위치하는 덧살면을 포함하되, 상기 덧살면은 상기 스핀들 수용홈을 기준으로 원형 링 형상을 가진다.
본 명세서에서 "기준면"은 기준 위치에서 웨이퍼 캐리어의 상부면에 평행하게 연장되는 수평면을 의미한다. 여기서, "기준 위치"는, 스핀들을 이용한 회전 타입의 웨이퍼 캐리어의 경우, 스핀들 수용홈의 입구 위치이며, 가장자리 고정구를 이용한 회전 타입의 웨이퍼 캐리어의 경우, 고정구에 연결되는 웨이퍼 캐리어의 하부면의 가장자리의 위치이다.
상기 "기준면"은 기준 위치에서 수평하게 연장되는 가상의 면이다. 상기 "기준면"과 일치하는 면이 상기 웨이퍼 캐리어의 하부면의 일부를 형성할 수도 있지만, 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 웨이퍼 캐리어의 하부면은 모두 상기 기준면과 다른 위치에 있을 수도 있다.
상기 기준면 상에 덧살부가 배치되며, 이 덧살부에 의해 덧살면이 형성된다. 덧살면은 상기 웨이퍼 캐리어의 하부면의 적어도 일부를 형성한다. 덧살부는 기준면 아래에 위치하며, 따라서, 덧살면도 기준면 아래에 위치한다. 상기 덧살부는 상기 웨이퍼 캐리어와 일체일 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
덧살면을 배치함으로써 히터로부터 전달되는 열 전달 속도를 조절할 수 있으며, 따라서 웨이퍼 캐리어의 상부면으로 균일하게 열을 전달할 수 있다. 나아가, 상기 덧살부에 의해 웨이퍼 캐리어의 무게 중심을 낮출 수 있으며, 따라서, 웨이퍼 캐리어의 고속 회전시 웨이퍼 캐리어의 흔들림이나 이탈을 방지할 수 있다.
상기 덧살면은 상기 스핀들 수용홈보다 상기 웨이퍼 캐리어의 가장자리에 더 가깝거나 더 멀게 위치할 수 있다. 또한, 상기 덧살면은 상기 스핀들 수용홈과 상기 웨이퍼 캐리어 가장자리 사이의 중앙에 위치할 수 있다. 덧살면의 위치는 웨이퍼 캐리어 상의 온도 분포를 고려하여 조절될 수 있다.
상기 덧살면은 서로 높이가 다른 복수개의 면들을 포함할 수 있다. 나아가, 상기 복수개의 면들은 계단형으로 이어질 수 있다.
상기 복수개의 면들은 상기 웨이퍼 캐리어의 가장자리에 가까울수록 더 아래에 위치할 수 있다.
한편, 상기 덧살면은 상기 스핀들 수용홈측으로부터 상기 웨이퍼 캐리어의 가장자리를 향해 연속적으로 아래로 내려갈 수 있다.
또한, 상기 덧살면은 평면 또는 곡면일 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따르며, 화학 기상 증착 장치에서 웨이퍼를 지지하기 위한 웨이퍼 캐리어가 제공된다. 이 웨이퍼 캐리어는, 캐리어 하부면; 캐리어 상부면; 상기 웨이퍼 캐리어의 가장자리에서 아래로 연장되어 상기 웨이퍼 캐리어를 화학 기상 증착 장치 내의 회전체에 고정하기 위한 고정구를 포함하고, 상기 캐리어 하부면은, 상기 고정구에 연결되는 캐리어 하부면의 가장자리와 동일 높이에 위치하며 상기 캐리어 상부면에 평행한 기준면에 대해, 상기 기준면보다 아래에 위치하는 덧살면을 포함하되, 상기 덧살면은 상기 웨이퍼 캐리어의 중심에 대해 원형 대칭 형상을 가진다.
상기 덧살면을 채택함으로써 웨이퍼 캐리어의 위치별 열 전달 속도를 제어할 수 있으며, 이에 따라, 웨이퍼에 균일하게 열을 전달할 수 있다.
상기 덧살면은 상기 웨이퍼 캐리어의 중심에서 가장 낮게 위치할 수 있다. 이에 따라, 상기 웨이퍼 캐리어의 중심 영역에서 열 전달 속도를 늦출 수 있으며, 따라서, 중심 영역 부분에서 웨이퍼 온도가 높아지는 것을 방지할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 덧살면은 계단형상으로 이어진 복수의 면들을 포함할 수 있다.
또한, 상기 덧살면은 상기 캐리어 하부면의 가장자리측으로부터 상기 웨이퍼 캐리어의 중심에 가까워질수록 더 아래에 위치할 수 있다.
나아가, 상기 덧살면은 평면 또는 곡면일 수 있다.
상기 덧살면은 상기 캐리어 하부면의 가장자리측으로부터 상기 웨이퍼 캐리어의 중심에 가까워질수록 연속적으로 아래로 내려갈 수 있다.
한편, 상기 덧살면은 상기 기준면에 평행한 면을 포함할 수 있다.
또한, 상기 덧살면은 상기 기준면과 상기 평행한 면 사이에 경사면을 포함할 수 있다.
이하, 본 발명의 실시예들에 대해 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 스핀들을 이용한 회전 타입의 웨이퍼 캐리어(30a)를 설명하기 위한 개략적인 평면도이고, 도 4는 도 3의 배면도이다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 웨이퍼 캐리어(30a)는 도 1을 참조하여 설명한 종래 기술과 같이 캐리어 하부면(10l), 캐리어 상부면(10u), 및 스핀들 수용홈(29)을 포함한다. 다만, 본 실시예에 따른 웨이퍼 캐리어(30a)는 캐리어 하부면(10l)에 덧살부(33a)가 배치된 것에 차이가 있다.
덧살부(33a)는 도 4에 도시한 바와 같이 스핀들 수용홈(19)을 중심으로 원형 링 형상을 가진다. 종래의 웨이퍼 캐리어(10)에 덧살부(33a)를 배치함으로써 덧살부(33a)가 배치된 부분에서의 열 전달 속도를 늦출 수 있다. 더욱이, 덧살부를 아일랜드 형상으로 배치할 경우, 덧살부가 배치된 부분과 그 옆 부분에서의 열 전달 속도가 차이가 나기 때문에, 균일한 열 전달을 보증할 수 없다. 이에 반해, 원형 링 형상으로 배치할 경우, 웨이퍼 캐리어(33a)가 고속으로 회전할 때 덧살부(33a) 상부에 위치하는 캐리어 상부면(10u)에 균일하게 열을 전달할 수 있다.
덧살부(33a)의 위치는 화학기상증착 장치 내 히터에 의한 열 전달 특성을 고려하여 웨이퍼에 균일하게 열이 전달될 수 있도록 조절될 수 있다. 도 3의 웨이퍼 캐리어(30a)는 덧살부(33a)가 하부면(10l)의 가장자리측에 가깝게 위치하는 것을 도시한다. 이에 반해, 도 5 및 도 6은 각각 덧살부(33b, 33c)가 스핀들 수용홈(19)과 하부면(10l)의 가장자리 사이의 중앙 영역 및 스핀들 수용홈 측에 가깝게 위치하는 웨이퍼 캐리어들(30b, 30c)을 도시한다.
덧살부(33a, 33b, 33c)는 웨이퍼 캐리어(30a, 30b, 30c)를 가공하여 제작할 때, 웨이퍼 캐리어의 두께를 상대적으로 두껍게 하여 일체형으로 제작할 수도 있고, 웨이퍼 캐리어(10)에 추가적으로 덧살부(33a, 33b, 33c)을 부착하여 제작할 수도 있다.
도 3 내지 도 6의 실시예에 있어서, 종래 기술에 따른 캐리어 하부면(10l)은 웨이퍼 캐리어(33a, 33b, 33c)의 기준면이 된다. 즉, 캐리어 하부면(10l)은 스핀들 수용홈(19)의 입구와 동일한 높이에 위치한다. 한편, 덧살부(33a, 33b, 33c)에 의해 형성된 덧살면(덧살부의 하부면)은 상기 기준면(10l)보다 아래에 위치한다.
덧살부(33a, 33b, 33c)는 단면이 사각형 형상의 블록 형태로 배치될 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니며, 단면 형상은 다양하게 선택될 수 있다. 또한, 기준면의 다양한 위치에 덧살부가 하나 이상 배치될 수 있다.
도 7은 덧살부(33d)가 계단 형상으로 이어진 웨이퍼 캐리어(30d)를 예시한다. 덧살부(33d)가 계단 형상으로 이어지므로, 덧살부(33d)의 하면은 불연속적으로 배치된 복수의 면을 포함한다. 한편, 도시한 바와 같이, 웨이퍼 캐리어(30d)의 가장자리에 가까울수록 덧살부의 하면은 더 아래에 위치할 수 있다.
한편, 도 8은 덧살부(33e)가 스핀들 수용홈(19)측으로부터 가장자리를 향해 연속적으로 두꺼워지는 웨이퍼 캐리어(30e)를 예시한다. 덧살면은 스핀들 수용홈(19)측으로부터 가장자리를 향해 연속적으로 아래로 내려가며, 따라서, 덧살부(33e)이 단면 형상은 삼각형 형상을 나타낸다.
본 실시예들에 있어서, 덧살면은 평면인 것을 도시 및 설명하였지만, 이에 한정되는 것은 아니며, 덧살면은 볼록 또는 오목한 곡면일 수 있다.
도 9는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 가장자리 고정부를 이용한 회전 타입의 웨이퍼 캐리어(40a)를 설명하기 위한 단면도이다.
도 9를 참조하면, 웨이퍼 캐리어(40a)는 도 2를 참조하여 설명한 종래 기술과 같이 캐리어 상부면(20u), 및 고정구(23)를 포함한다. 다만, 본 실시예에 따른 웨이퍼 캐리어(33a)는 캐리어 하부면(20l)에 덧살부(43a)가 배치된 것에 차이가 있다.
캐리어 하부면(20l)의 일부는 덧살부(43a)의 바깥측에 노출될 수 있다. 도 9에서 캐리어 하부면(20l)은 고정구(23)에 연결되는 캐리어 하부면의 가장자리와 동일 높이에 위치하며 상기 캐리어 상부면에 평행한 기준면이 된다. 덧살부(43a)는 기준면 상에 원형 대칭으로 배치될 수 있다.
도 9에 도시한 바와 같이, 덧살부(43a)에 의해 덧살면이 형성되며, 웨이퍼 캐리어(40a)의 중심에서 가장 낮게 위치할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 덧살부(43a)가 웨이퍼 캐리어의 가장자리측에서 중심으로 갈수록 두꺼워지는 형상을 예시하였지만, 이에 한정되는 것은 아니며, 덧살부(43a)는 다양하게 변형될 수 있다. 예를 들어, 도 10은 단면 형상이 사다리꼴 형상인 덧살부(43b)를 포함하는 웨이퍼 캐리어(40b)를 예시하며, 도 11은 덧살부(43c)가 계단 형상으로 형성된 웨이퍼 캐리어(40c)를 예시한다. 도 11에서 덧살면은 계단형상으로 이어진 복수의 면들을 포함한다. 여기서, 상기 복수의 면들 중 웨이퍼 캐리어(40c)의 중심에 위치하는 면이 가장 아래에 위치한다. 이들 덧살부들(43b, 43c)은 기준면(20l)에 평행한 면을 포함한다. 또한, 덧살부(43b)는 기준면(20l)과 상기 평행한 면 사이에 경사면은 포함한다.
한편, 본 실시예에 있어서, 상기 덧살면은 평면인 것을 예시하지만, 이에 한정되는 것은 아니며, 곡면일 수도 있다. 도 12는 덧살면이 아래로 볼록한 곡면인 덧살부(43d)를 포함하는 웨이퍼 캐리어(40d)를 나타낸다.
도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 가장자리 고정부를 이용한 회전 타입의 웨이퍼 캐리어(40e)를 설명하기 위한 단면도이다.
앞의 실시예들에 따른 웨이퍼 캐리어(40a, 40b, 40c, 40d)는 종래 기술에 따른 웨이퍼 캐리어(20)에 덧살부(43a, 43b, 43c, 43d)를 부가한 것을 예시하는 것에 반해, 본 실시예에 따른 웨이퍼 캐리어(40e)는 종래 기술에 따른 웨이퍼 캐리어(20)에서 고정부(23)에 인접한 부분(43e)을 가공하여 부분적으로 제거한 것을 예시한다.
고정부(23)에 인접한 부분은 히터에 의해 가열되기 어려운 부분으로 대체로 열 전달이 적게 이루어져 온도가 낮아진다. 이에 따라, 웨이퍼 캐리어(20)의 중심에 비해 가장자리에서 온도가 낮아질 수 있다. 따라서, 히터에 의한 열을 더 신속하게 전달할 수 있도록 웨이퍼 캐리어(20)의 가장자리를 부분적으로 제거하여 온도 편차를 줄일 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 12인치 이상의 대구경 웨이퍼에 균일하게 열을 전달할 수 있는 웨이퍼 캐리어를 제공할 수 있다. 그러나 본 발명이 12인치 이상의 대구경 웨이퍼용 웨이퍼 캐리어에 한정되는 것은 아니며, 2인치, 4인친, 6인치 또는 8인치 웨이퍼용 웨이퍼 캐리어에도 적용될 수 있다.
이상에서 다양한 실시예들에 대해 설명하였지만, 특정 실시예에서 설명된 구성요소는 발명의 범위를 벗어나지 않는 한 다른 실시예에도 적용될 수 있다.

Claims (15)

  1. 화학 기상 증착 장치에서 웨이퍼를 지지하기 위한 웨이퍼 캐리어에 있어서,
    캐리어 하부면;
    캐리어 상부면;
    상기 캐리어 하부면으로 둘러싸인 스핀들 수용홈을 포함하고,
    상기 캐리어 하부면은, 상기 스핀들 수용홈의 입구와 동일 높이에 위치하며 상기 캐리어 상부면에 평행한 기준면에 대해, 상기 기준면보다 아래에 위치하는 덧살면을 포함하되,
    상기 덧살면은 상기 스핀들 수용홈을 기준으로 원형 링 형상을 가지는 웨이퍼 캐리어.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 덧살면은 상기 스핀들 수용홈보다 상기 웨이퍼 캐리어의 가장자리에 더 가깝거나 더 멀게 위치하는 웨이퍼 캐리어.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 덧살면은 상기 스핀들 수용홈과 상기 웨이퍼 캐리어 가장자리 사이의 중앙에 위치하는 웨이퍼 캐리어.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 덧살면은 서로 높이가 다른 복수개의 면들을 포함하되, 상기 복수개의 면들은 계단형으로 이어진 웨이퍼 캐리어.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 복수개의 면들은 상기 웨이퍼 캐리어의 가장자리에 가까울수록 더 아래에 위치하는 웨이퍼 캐리어.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 덧살면은 상기 스핀들 수용홈측으로부터 상기 웨이퍼 캐리어의 가장자리를 향해 연속적으로 아래로 내려가는 웨이퍼 캐리어.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 덧살면은 평면 또는 곡면인 웨이퍼 캐리어.
  8. 화학 기상 증착 장치에서 웨이퍼를 지지하기 위한 웨이퍼 캐리어에 있어서,
    캐리어 하부면;
    캐리어 상부면;
    상기 웨이퍼 캐리어의 가장자리에서 아래로 연장되어 상기 웨이퍼 캐리어를 화학 기상 증착 장치 내의 회전체에 고정하기 위한 고정구를 포함하고,
    상기 캐리어 하부면은, 상기 고정구에 연결되는 캐리어 하부면의 가장자리와 동일 높이에 위치하며 상기 캐리어 상부면에 평행한 기준면에 대해, 상기 기준면보다 아래에 위치하는 덧살면을 포함하되,
    상기 덧살면은 상기 웨이퍼 캐리어의 중심에 대해 원형 대칭 형상을 가지는 웨이퍼 캐리어.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 덧살면은 상기 웨이퍼 캐리어의 중심에서 가장 낮게 위치하는 웨이퍼 캐리어.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 덧살면은 계단형상으로 이어진 복수의 면들을 포함하는 웨이퍼 캐리어.
  11. 청구항 8에 있어서,
    상기 덧살면은 상기 캐리어 하부면의 가장자리측으로부터 상기 웨이퍼 캐리어의 중심에 가까워질수록 더 아래에 위치하는 웨이퍼 캐리어.
  12. 청구항 11에 있어서,
    상기 덧살면은 평면 또는 곡면인 웨이퍼 캐리어.
  13. 청구항 11에 있어서,
    상기 덧살면은 상기 캐리어 하부면의 가장자리측으로부터 상기 웨이퍼 캐리어의 중심에 가까워질수록 연속적으로 아래로 내려가는 웨이퍼 캐리어.
  14. 청구항 8에 있어서,
    상기 덧살면은 상기 기준면에 평행한 면을 포함하는 웨이퍼 캐리어.
  15. 청구항 14에 있어서,
    상기 덧살면은 상기 기준면과 상기 평행한 면 사이에 경사면을 포함하는 웨이퍼 캐리어.
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