KR20190015188A - Piezoelectric film - Google Patents

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KR20190015188A
KR20190015188A KR1020187028511A KR20187028511A KR20190015188A KR 20190015188 A KR20190015188 A KR 20190015188A KR 1020187028511 A KR1020187028511 A KR 1020187028511A KR 20187028511 A KR20187028511 A KR 20187028511A KR 20190015188 A KR20190015188 A KR 20190015188A
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piezoelectricity
coating layer
piezoelectric film
film
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KR1020187028511A
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Inventor
히로시 벳푸
다카노부 야노
모토키 하이시
노리토시 기소
도모타케 나시키
Original Assignee
닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명의 압전 필름 (10) 은 기재 필름 (11) 과 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 적층체를 구비한다. 압전성을 갖는 코팅층 (12) 은 불소 수지를 함유한다. 불소 수지는, 불화비닐리덴의 중합체, 또는, (불화비닐리덴, 트리플루오로에틸렌, 클로로트리플루오로에틸렌) 중 2 종류 이상의 공중합체이다. 압전성을 갖는 코팅층 (12) 은, 불소 수지의 용액을 기재 필름 (11) 에 도포 및 건조시켜 얻어진다. 본 발명의 압전 필름 (10) 에 의해, 헤이즈값이 작고, 전광선 투과율이 높은 압전 필름을 실현한다.A piezoelectric film (10) of the present invention comprises a laminate of a base film (11) and a coating layer (12) having piezoelectricity. The coating layer 12 having piezoelectricity contains a fluororesin. The fluororesin is a polymer of vinylidene fluoride or two or more kinds of copolymers (vinylidene fluoride, trifluoroethylene, chlorotrifluoroethylene). The coating layer 12 having piezoelectricity is obtained by applying a solution of a fluororesin to the base film 11 and drying it. The piezoelectric film (10) of the present invention realizes a piezoelectric film having a small haze value and a high total light transmittance.

Description

압전 필름Piezoelectric film

본 발명은 압전 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a piezoelectric film.

일반적으로, 터치 패널에서는, 터치 패널의 표면에 터치하는 손가락 혹은 펜의 표면 상의 2 차원 위치를 검출한다 (이후, 「손가락 혹은 펜」을 간단히 「손가락」이라고 하고, 손가락 혹은 펜의 터치 패널의 표면 상의 2 차원 위치를 「손가락의 XY 좌표」라고 한다). 이 경우, 손가락이 터치하는 압력은 검출할 수 없다 (이후, 손가락이 터치하는 압력의 크기를 Z 축 방향으로 잡는 것으로 생각하여, 「손가락의 Z 좌표」라고 한다). 즉, 손가락이 터치하는 압력 (손가락의 Z 좌표) 의 대소에 관계없이, 검출되는 것은, 손가락의 터치 위치의 XY 좌표뿐이다.Generally, in a touch panel, a two-dimensional position on a surface of a touch panel or a finger to be touched is detected (hereinafter, "finger or pen" is simply referred to as "finger" Quot; finger XY coordinate "). In this case, the pressure to which the finger is touched can not be detected. (Hereinafter, it is assumed that the magnitude of pressure to be touched by the finger is held in the Z-axis direction, and is referred to as "Z-coordinate of the finger"). That is, regardless of the magnitude of the pressure (the Z-coordinate of the finger) that the finger touches, only the XY coordinates of the touch position of the finger are detected.

그러나, 터치 패널에서 사용되는 어플리케이션에 따라서는, 손가락이 터치하는 압력 (손가락의 Z 좌표) 의 식별도 필요한 경우가 있다. 통상적인 정전 용량식 터치 패널에서는, 손가락이 닿음으로써, 닿은 위치가 선택됨과 동시에, 닿은 위치에 있는 명령이 실행된다. 정전 용량식 터치 패널의 감도가 매우 높은 경우에는, 손가락이 정전 용량식 터치 패널에 가까워진 것만으로 (손가락이 닿지 않아도), 손가락에 가장 가까운 위치가 선택됨과 동시에, 그 위치에 있는 명령이 실행된다. 그러나, 예를 들어, 공작 기계의 조작 패널 등에서, 잘못된 명령의 실행이 허용되지 않을 경우에는, 선택과 실행이 분리되어 있는 것이 바람직하다. 즉, 손가락이 닿음으로써 (혹은 손가락이 가까워짐으로써) 명령이 선택되지만, 그것만으로는 명령은 실행되지 않고, 다음에 손가락으로 압력을 가함으로써, 비로소 명령이 실행되는 것이, 오동작을 방지하기 위해서 바람직하다.However, depending on the application used in the touch panel, it may be necessary to identify the pressure (finger Z coordinate) to be touched by the finger. In a conventional capacitive touch panel, by touching a finger, a touch position is selected and a command at a touch position is executed. In the case where the sensitivity of the capacitive touch panel is very high, the position closest to the finger is selected and the command at that position is executed, just because the finger is close to the capacitive touch panel (without touching the finger). However, for example, when the execution of erroneous commands is not allowed in the operation panel of the machine tool or the like, it is preferable that the selection and the execution are separated. That is, the command is selected by touching the finger (or the finger is brought closer), but it is preferable that the command is not executed by itself and that the command is executed only after the pressure is applied by the finger next .

이와 같은 손가락이 터치하는 압력 (손가락의 Z 좌표) 도 검출할 수 있는 터치 패널이, 예를 들어, 특허문헌 1 (일본 공개특허공보 2010-26938) 에 기재되어 있다. 특허문헌 1 의 터치 패널에서는, 폴리불화비닐리덴-사불화에틸렌 공중합체를 함유하는 압전체층의 양면에, 투명 전극이 적층된 적층체가 사용된다. 폴리불화비닐리덴-사불화에틸렌 공중합체를 함유하는 압전체층의 두께는 20 ㎛ ∼ 300 ㎛ 이다. 특허문헌 1 의 폴리불화비닐리덴-사불화에틸렌 공중합체를 함유하는 압전체층은, 캐스팅법 혹은 압출법으로 제조한다고 기재되어 있기 때문에, 자립 (自立) 된 필름 (다른 필름에 적층되어 있지 않은 필름) 으로 생각된다.A touch panel capable of detecting the pressure (finger's Z-coordinate) detected by the finger is described in, for example, Patent Document 1 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-26938). In the touch panel of Patent Document 1, a laminate in which transparent electrodes are laminated on both surfaces of a piezoelectric layer containing a polyvinylidene fluoride-tetrafluoroethylene copolymer is used. The thickness of the piezoelectric layer containing the polyvinylidene fluoride-tetrafluoroethylene copolymer is 20 mu m to 300 mu m. Since the piezoelectric layer containing the polyvinylidene fluoride-tetrafluoroethylene copolymer of Patent Document 1 is manufactured by the casting method or the extrusion method, the self-sustaining film (a film not laminated on another film) .

특허문헌 1 에는, 폴리불화비닐리덴-사불화에틸렌 공중합체를 함유하는 압전체층의 헤이즈값 (흐림값) 은 5 % ∼ 7 %, 전광선 투과율은 95 % 라고 기재되어 있다. 이 특허문헌 1 의 실시예의 헤이즈값, 전광선 투과율은, 투명 전극이 적층되기 전의, 폴리불화비닐리덴-사불화에틸렌 공중합체를 함유하는 압전체층 단독의 값이다.In Patent Document 1, a haze value (fog value) of a piezoelectric layer containing a polyvinylidene fluoride-tetrafluoroethylene copolymer is 5% to 7% and a total light transmittance is 95%. The haze value and the total light transmittance of the embodiment of Patent Document 1 are the values of the piezoelectric layer alone containing the polyvinylidene fluoride-tetrafluoroethylene copolymer before the transparent electrodes are laminated.

본원 발명자의 실험에 의하면, 터치 패널의 배면에 있는 디스플레이의 화상의 시인성은, 적어도, 압전 필름의 헤이즈값과 전광선 투과율의 영향을 받는다. 특허문헌 1 의 폴리불화비닐리덴-사불화에틸렌 공중합체를 함유하는 압전체층은 헤이즈값이 크기 때문에, 터치 패널의 배면에 있는 디스플레이의 화상의 시인성이 낮아질 우려가 있다.According to the experiment of the present inventor, the visibility of the image of the display on the back surface of the touch panel is affected at least by the haze value of the piezoelectric film and the total light transmittance. The piezoelectric layer containing the polyvinylidene fluoride-tetrafluoroethylene copolymer of Patent Document 1 has a large haze value, so that the visibility of the image on the display on the back surface of the touch panel may be lowered.

일본 공개특허공보 2010-26938호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-26938

본원 발명자의 실험에 의하면, 터치 패널의 배면에 있는 디스플레이의 화상의 시인성의 저하에 대해서는, 전광선 투과율보다 헤이즈값 쪽이 영향이 크다. 그래서 본 발명의 목적은, 헤이즈값이 작고, 추가로, 전광선 투과율이 높은 압전 필름을 실현하는 것이다.According to the experiment of the inventor of the present invention, the decrease in the visibility of the image of the display on the rear surface of the touch panel has a larger influence on the haze value than the total light transmittance. Therefore, an object of the present invention is to realize a piezoelectric film having a small haze value and a high total light transmittance.

(1) 본 발명의 압전 필름은, 기재 필름과 압전성을 갖는 코팅층의 적층체를 구비한다.(1) The piezoelectric film of the present invention comprises a laminate of a base film and a coating layer having piezoelectricity.

(2) 본 발명의 압전 필름은, 기재 필름과 압전성을 갖는 코팅층 사이에, 언더 코트층을 구비한다.(2) The piezoelectric film of the present invention includes an undercoat layer between a base film and a coating layer having piezoelectricity.

(3) 본 발명의 압전 필름은, 압전성을 갖는 코팅층의, 기재 필름과 반대측의 표면에, 적어도 1 층의 광학 조정층을 구비한다. 적어도 1 층의 광학 조정층이란, 광학 조정층이 2 층 이상의 다층막이어도 된다는 의미이다.(3) The piezoelectric film of the present invention has at least one optical adjustment layer on the surface of the coating layer having piezoelectricity opposite to the base film. At least one optical adjustment layer means that the optical adjustment layer may be a multilayer film of two or more layers.

(4) 본 발명의 압전 필름은, 기재 필름과 압전성을 갖는 코팅층 사이에, 적어도 1 층의 제 1 광학 조정층을 구비한다. 적어도 1 층의 제 1 광학 조정층이란, 제 1 광학 조정층이 2 층 이상의 다층막이어도 된다는 의미이다.(4) The piezoelectric film of the present invention has at least one first optical adjustment layer between the base film and the coating layer having piezoelectricity. The first optical adjustment layer of at least one layer means that the first optical adjustment layer may be a multilayer film of two or more layers.

(5) 본 발명의 압전 필름은, 압전성을 갖는 코팅층의, 제 1 광학 조정층과 반대측의 표면에, 적어도 1 층의 제 2 광학 조정층을 구비한다. 적어도 1 층의 제 2 광학 조정층이란, 제 2 광학 조정층이 2 층 이상의 다층막이어도 된다는 의미이다.(5) The piezoelectric film of the present invention has at least one second optical adjustment layer on the surface of the coating layer having piezoelectricity opposite to the first optical adjustment layer. At least one second optical adjustment layer means that the second optical adjustment layer may be a multilayer film of two or more layers.

(6) 본 발명의 압전 필름은, 기재 필름과 압전성을 갖는 코팅층 사이에, 적어도 1 층의 안티 블로킹층을 구비한다. 적어도 1 층의 안티 블로킹층이란, 안티 블로킹층이 2 층 이상의 다층막이어도 된다는 의미이다.(6) The piezoelectric film of the present invention has at least one anti-blocking layer between the base film and the coating layer having piezoelectricity. At least one anti-blocking layer means that the anti-blocking layer may be a multilayer film of two or more layers.

(7) 본 발명의 압전 필름은, 기재 필름의, 압전성을 갖는 코팅층과 반대측의 표면에, 적어도 1 층의 안티 블로킹층을 구비한다.(7) The piezoelectric film of the present invention has at least one anti-blocking layer on the surface of the base film opposite to the coating layer having piezoelectricity.

(8) 본 발명의 압전 필름은, 압전성을 갖는 코팅층의, 기재 필름과 반대측의 표면에, 적어도 1 층의 투명 점착층을 구비한다. 적어도 1 층의 투명 점착층이란, 투명 점착층이 2 층 이상의 다층막이어도 된다는 의미이다.(8) The piezoelectric film of the present invention has at least one transparent adhesive layer on the surface of the coating layer having piezoelectricity opposite to the base film. The transparent adhesive layer of at least one layer means that the transparent adhesive layer may be a multilayer film of two or more layers.

(9) 본 발명의 압전 필름은, 기재 필름의, 압전성을 갖는 코팅층과 반대측의 표면에, 적어도 1 층의 투명 점착층을 구비한다.(9) In the piezoelectric film of the present invention, at least one transparent adhesive layer is provided on the surface of the base film opposite to the coating layer having piezoelectricity.

(10) 본 발명의 압전 필름에 있어서는, 압전성을 갖는 코팅층이 불소 수지를 함유한다.(10) In the piezoelectric film of the present invention, the coating layer having piezoelectricity contains a fluororesin.

(11) 본 발명의 압전 필름에 있어서는, 불소 수지가, 불화비닐리덴의 중합체, 또는, (불화비닐리덴, 트리플루오로에틸렌, 클로로트리플루오로에틸렌) 중 2 종류 이상의 공중합체이다.(11) In the piezoelectric film of the present invention, the fluororesin is a polymer of vinylidene fluoride or a copolymer of two or more of (vinylidene fluoride, trifluoroethylene, chlorotrifluoroethylene).

(12) 본 발명의 압전 필름에 있어서는, 불소 수지가, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체로서, 공중합체에 함유되는 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 몰비가, 전체를 100 으로 하여, (50 ∼ 85) : (50 ∼ 15) 의 범위이다.(12) In the piezoelectric film of the present invention, it is preferable that the fluororesin is a copolymer of vinylidene fluoride and trifluoroethylene, and the molar ratio of vinylidene fluoride and trifluoroethylene contained in the copolymer is 100 , (50 to 85): (50 to 15).

(13) 본 발명의 압전 필름에 있어서는, 불소 수지가, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체로서, 공중합체에 함유되는 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 몰비가, 전체를 100 으로 하여, (63 ∼ 65) : (27 ∼ 29) : (10 ∼ 6) 의 범위이다.(13) In the piezoelectric film of the present invention, it is preferable that the fluororesin is a copolymer of vinylidene fluoride, trifluoroethylene and chlorotrifluoroethylene, vinylidene fluoride contained in the copolymer, trifluoroethylene and chlorotri Fluoroethylene is in the range of (63 to 65): (27 to 29): (10 to 6), where the molar ratio of fluoroethylene is 100 as a whole.

(14) 본 발명의 압전 필름에 있어서는, 압전성을 갖는 코팅층이, 불소 수지의 용액을 기재 필름에 도포 및 건조시켜 얻어지는 코팅층이다.(14) In the piezoelectric film of the present invention, the coating layer having piezoelectricity is a coating layer obtained by applying a solution of a fluororesin to a base film and drying the base film.

(15) 본 발명의 압전 필름에 있어서는, 압전성을 갖는 코팅층의 두께가, 0.5 ㎛ ∼ 20 ㎛ 이다.(15) In the piezoelectric film of the present invention, the thickness of the coating layer having piezoelectricity is 0.5 mu m to 20 mu m.

(16) 본 발명의 압전 필름에 있어서는, 기재 필름의 재료가, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리올레핀, 폴리시클로올레핀, 시클로올레핀 코폴리머, 폴리카보네이트, 폴리에테르술폰, 폴리아릴레이트, 폴리이미드, 폴리아미드, 폴리스티렌, 폴리노르보르넨의 적어도 1 종에서 선택된다.(16) In the piezoelectric film of the present invention, the material of the base film is at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyolefin, polycycloolefin, cycloolefin copolymer, polycarbonate, polyether sulfone, polyarylate, Polyamide, polystyrene, and polynorbornene.

(17) 본 발명의 압전 필름은 헤이즈값이 5 % 이하이다.(17) The piezoelectric film of the present invention has a haze value of 5% or less.

(18) 본 발명의 압전 필름은 전광선 투과율이 90 % 이상이다.(18) The piezoelectric film of the present invention has a total light transmittance of 90% or more.

본 발명의 압전 필름에 있어서는, 압전체층이 코팅에 의해 형성되기 때문에, 압전체층의 두께가, 종래의 자립된 필름으로 이루어지는 압전체층보다 얇다. 그 때문에, 압전체층에 의한 헤이즈값의 상승과 전광선 투과율의 저하가, 자립된 필름으로 이루어지는 압전체층보다 적다. 그 효과에 의해, 헤이즈값이 작고, 추가로, 전광선 투과율이 높은 압전 필름이 실현된다. 본 발명의 압전 필름을, 터치 패널의 Z 좌표 검출용 압전 필름으로서 사용하면, 터치 패널의 배면에 있는 디스플레이의 시인성이 양호하여, Z 좌표 (손가락의 가압력) 검출 기능을 갖는 터치 패널을 실현할 수 있다.In the piezoelectric film of the present invention, since the piezoelectric layer is formed by coating, the thickness of the piezoelectric layer is thinner than the piezoelectric layer made of a conventional self-supporting film. Therefore, the haze value of the piezoelectric layer and the total light transmittance are lower than the piezoelectric layer made of the self-supporting film. By this effect, a piezoelectric film having a small haze value and a high total light transmittance can be realized. When the piezoelectric film of the present invention is used as a piezoelectric film for Z coordinate detection of a touch panel, the visibility of the display on the back surface of the touch panel is good, and a touch panel having a Z coordinate (finger pressing force) detecting function can be realized .

도 1 은, 본 발명의 압전 필름의 제 1 기본 구성의 모식도이다.
도 2 는, 본 발명의 압전 필름의 제 2 기본 구성의 모식도이다.
도 3 은, 본 발명의 압전 필름의 제 3 기본 구성의 모식도이다.
도 4 는, 본 발명의 압전 필름의 제 4 기본 구성의 모식도이다.
도 5 는, 본 발명의 압전 필름의 제 5 기본 구성의 모식도이다.
도 6 은, 본 발명의 압전 필름의 제 6 기본 구성의 모식도이다.
도 7 은, 본 발명의 압전 필름의 제 7 기본 구성의 모식도이다.
도 8 은, 본 발명의 압전 필름의 제 8 기본 구성의 모식도이다.
도 9 는, 본 발명의 압전 필름의 제 9 기본 구성의 모식도이다.
도 10 은, 본 발명의 압전 필름에 투명 전극을 형성한 구성을 나타내는 모식도이다.
1 is a schematic view of a first basic structure of a piezoelectric film of the present invention.
2 is a schematic view of a second basic configuration of the piezoelectric film of the present invention.
3 is a schematic view of a third basic configuration of the piezoelectric film of the present invention.
4 is a schematic view of a fourth basic constitution of the piezoelectric film of the present invention.
5 is a schematic view of a fifth basic configuration of the piezoelectric film of the present invention.
6 is a schematic view of a sixth basic configuration of the piezoelectric film of the present invention.
7 is a schematic view of a seventh basic constitution of the piezoelectric film of the present invention.
8 is a schematic view of an eighth basic constitution of the piezoelectric film of the present invention.
9 is a schematic view of a ninth basic constitution of the piezoelectric film of the present invention.
10 is a schematic diagram showing a configuration in which a transparent electrode is formed on a piezoelectric film of the present invention.

[압전 필름의 기본 구성][Basic Configuration of Piezoelectric Film]

도 1 에 본 발명의 압전 필름의 제 1 기본 구성을 나타낸다. 본 발명의 압전 필름의 제 1 기본 구성은, 기재 필름 (11) 에, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 이 적층되어 이루어지는 압전 필름 (10) 이다. 기재 필름 (11) 과 압전성을 갖는 코팅층 (12) 사이에, 도시되지 않은 접착 용이층이 적층되어 있어도 된다.Fig. 1 shows a first basic structure of a piezoelectric film of the present invention. The first basic structure of the piezoelectric film of the present invention is a piezoelectric film 10 in which a coating layer 12 having piezoelectricity is laminated on a base film 11. An easy adhesion layer (not shown) may be laminated between the base film 11 and the coating layer 12 having piezoelectricity.

도 2 에 본 발명의 압전 필름의 제 2 기본 구성을 나타낸다. 제 1 기본 구성과 공통되는 요소에는 동일한 부호를 부여한다. 본 발명의 압전 필름의 제 2 기본 구성은, 기재 필름 (11) 에 언더 코트층 (13) 이 적층되고, 추가로, 언더 코트층 (13) 에 압전성을 갖는 코팅층 (12) 이 적층되어 이루어지는 압전 필름 (20) 이다. 언더 코트층 (13) (혹은 앵커 코트층) 은, 기재 필름 (11) 과 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 밀착성을 높게 하는 기능이 있다.Fig. 2 shows a second basic structure of the piezoelectric film of the present invention. The same reference numerals are given to the elements common to the first basic configuration. The second basic structure of the piezoelectric film of the present invention is a piezoelectric film in which an undercoat layer 13 is laminated on a base film 11 and a coating layer 12 having piezoelectricity is further laminated on an undercoat layer 13 Film 20. The undercoat layer 13 (or the anchor coat layer) has a function of increasing the adhesion between the base film 11 and the coating layer 12 having piezoelectricity.

도 3 에 본 발명의 압전 필름의 제 3 기본 구성을 나타낸다. 제 1 기본 구성과 공통되는 요소에는 동일한 부호를 부여한다. 본 발명의 압전 필름의 제 3 기본 구성은, 기재 필름 (11) 에 압전성을 갖는 코팅층 (12) 이 적층되고, 추가로, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 에 적어도 1 층의 광학 조정층 (14) 이 적층되어 이루어지는 압전 필름 (30) 이다. 광학 조정층 (14) (Index matching layer) (굴절률 조정층이라고도 한다) 은, 압전 필름 (30) 의 반사율을 조정하는 기능이 있다. 기재 필름 (11) 과 압전성을 갖는 코팅층 (12) 사이에, 도시되지 않은 접착 용이층이 적층되어 있어도 된다.3 shows a third basic structure of the piezoelectric film of the present invention. The same reference numerals are given to the elements common to the first basic configuration. The third basic structure of the piezoelectric film of the present invention is that a coating layer 12 having piezoelectricity is laminated on the base film 11 and at least one layer of the optical adjustment layer 14 is further laminated on the coating layer 12 having piezoelectricity, Is laminated on the piezoelectric film 30. The index matching layer (also referred to as a refractive index adjusting layer) has a function of adjusting the reflectance of the piezoelectric film 30. [ An easy adhesion layer (not shown) may be laminated between the base film 11 and the coating layer 12 having piezoelectricity.

도 4 에 본 발명의 압전 필름의 제 4 기본 구성을 나타낸다. 제 1 기본 구성과 공통되는 요소에는 동일한 부호를 부여한다. 본 발명의 압전 필름의 제 4 기본 구성은, 기재 필름 (11) 에, 적어도 1 층의 제 1 광학 조정층 (15) 이 적층되고, 추가로, 적어도 1 층의 제 1 광학 조정층 (15) 에 압전성을 갖는 코팅층 (12) 이 적층되어 이루어지는 압전 필름 (40) 이다.Fig. 4 shows a fourth basic structure of the piezoelectric film of the present invention. The same reference numerals are given to the elements common to the first basic configuration. The fourth basic structure of the piezoelectric film of the present invention is such that at least one first optical adjustment layer 15 is laminated on the base film 11 and at least one first optical adjustment layer 15 is further laminated, And a coating layer 12 having piezoelectricity is laminated on the piezoelectric film 40.

도 5 에 본 발명의 압전 필름의 제 5 기본 구성을 나타낸다. 제 4 기본 구성과 공통되는 요소에는 동일한 부호를 부여한다. 본 발명의 압전 필름의 제 5 기본 구성은, 기재 필름 (11) 에, 적어도 1 층의 제 1 광학 조정층 (15) 이 적층되고, 또한 적어도 1 층의 제 1 광학 조정층 (15) 에 압전성을 갖는 코팅층 (12) 이 적층되고, 추가로, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 에 적어도 1 층의 제 2 광학 조정층 (16) 이 적층되어 이루어지는 압전 필름 (50) 이다.5 shows a fifth basic configuration of the piezoelectric film of the present invention. The same reference numerals are given to the elements common to the fourth basic configuration. The fifth basic structure of the piezoelectric film of the present invention is such that at least one first optical adjustment layer 15 is laminated on the base film 11 and at least one first optical adjustment layer 15 is piezoelectric And at least one second optical adjustment layer 16 is laminated on the coating layer 12 having piezoelectricity. In addition, the piezoelectric film 50 is formed by laminating at least one layer of the second optical adjustment layer 16 on the coating layer 12 having piezoelectricity.

도 6 에 본 발명의 압전 필름의 제 6 기본 구성을 나타낸다. 제 1 기본 구성과 공통되는 요소에는 동일한 부호를 부여한다. 본 발명의 압전 필름의 제 6 기본 구성은, 기재 필름 (11) 에, 적어도 1 층의 안티 블로킹층 (17) 이 적층되고, 추가로, 적어도 1 층의 안티 블로킹층 (17) 에 압전성을 갖는 코팅층 (12) 이 적층되어 이루어지는 압전 필름 (60) 이다. 안티 블로킹층 (17) 은, 중첩되거나, 혹은, 권회된 압전 필름 (60) 끼리가 압착 (블로킹) 되는 것을 방지하는 기능이 있다.6 shows a sixth basic structure of the piezoelectric film of the present invention. The same reference numerals are given to the elements common to the first basic configuration. The sixth basic structure of the piezoelectric film of the present invention is such that at least one anti-blocking layer (17) is laminated on the base film (11), and furthermore, at least one antireflection layer And a coating layer 12 laminated on the piezoelectric film 60. [ The anti-blocking layer 17 has a function of preventing the piezoelectric films 60 that are overlapped or wound with each other from squeezing (blocking).

도 7 에 본 발명의 압전 필름의 제 7 기본 구성을 나타낸다. 제 3 기본 구성과 공통되는 요소에는 동일한 부호를 부여한다. 본 발명의 압전 필름의 제 7 기본 구성은, 기재 필름 (11) 의 일면에 압전성을 갖는 코팅층 (12) 이 적층되고, 추가로, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 에 적어도 1 층의 광학 조정층 (14) 이 적층되며, 기재 필름 (11) 의 타면에, 적어도 1 층의 안티 블로킹층 (17) 이 적층되어 이루어지는 압전 필름 (70) 이다. 기재 필름 (11) 과 압전성을 갖는 코팅층 (12) 사이에, 도시되지 않은 접착 용이층이 적층되어 있어도 된다.7 shows a seventh basic configuration of the piezoelectric film of the present invention. Elements common to the third basic configuration are assigned the same reference numerals. A seventh basic configuration of the piezoelectric film of the present invention is a piezoelectric film in which a coating layer 12 having piezoelectricity is laminated on one surface of a base film 11 and a coating layer 12 having piezoelectricity is further laminated on at least one layer of an optical adjustment layer 14 is laminated on the other surface of the substrate film 11 and at least one anti-blocking layer 17 is laminated on the other surface of the base film 11. An easy adhesion layer (not shown) may be laminated between the base film 11 and the coating layer 12 having piezoelectricity.

도 8 에 본 발명의 압전 필름의 제 8 기본 구성을 나타낸다. 제 1 기본 구성과 공통되는 요소에는 동일한 부호를 부여한다. 본 발명의 압전 필름의 제 8 기본 구성은, 기재 필름 (11) 에 압전성을 갖는 코팅층 (12) 이 적층되고, 추가로, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 에 적어도 1 층의 투명 점착층 (18) 이 적층되어 이루어지는 압전 필름 (80) 이다. 적어도 1 층의 투명 점착층 (18) 은, 적어도 1 층의 투명 접착층이어도 된다. 기재 필름 (11) 과 압전성을 갖는 코팅층 (12) 사이에, 도시되지 않은 접착 용이층이 적층되어 있어도 된다.8 shows the eighth basic constitution of the piezoelectric film of the present invention. The same reference numerals are given to the elements common to the first basic configuration. The eighth basic structure of the piezoelectric film of the present invention is such that a coating layer 12 having piezoelectricity is laminated on a base film 11 and at least one transparent adhesive layer 18 is laminated on a coating layer 12 having piezoelectricity, And the piezoelectric film 80 is a laminated piezoelectric film. At least one transparent adhesive layer 18 may be a transparent adhesive layer of at least one layer. An easy adhesion layer (not shown) may be laminated between the base film 11 and the coating layer 12 having piezoelectricity.

도 9 에 본 발명의 압전 필름의 제 9 기본 구성을 나타낸다. 제 8 기본 구성과 공통되는 요소에는 동일한 부호를 부여한다. 본 발명의 압전 필름의 제 9 기본 구성은, 기재 필름 (11) 의 일면에, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 이 적층되고, 기재 필름 (11) 의 타면에, 적어도 1 층의 투명 점착층 (18) 이 적층되어 이루어지는 압전 필름 (90) 이다. 적어도 1 층의 투명 점착층 (18) 은, 적어도 1 층의 투명 접착층이어도 된다. 기재 필름 (11) 과 압전성을 갖는 코팅층 (12) 사이에, 도시되지 않은 접착 용이층이 적층되어 있어도 된다.9 shows a ninth basic constitution of the piezoelectric film of the present invention. Elements common to those of the eighth basic configuration are denoted by the same reference numerals. The ninth basic structure of the piezoelectric film of the present invention is such that a coating layer 12 having piezoelectricity is laminated on one surface of a base film 11 and at least one transparent adhesive layer 18 Is laminated on the piezoelectric film 90. At least one transparent adhesive layer 18 may be a transparent adhesive layer of at least one layer. An easy adhesion layer (not shown) may be laminated between the base film 11 and the coating layer 12 having piezoelectricity.

[기재 필름][Base film]

기재 필름 (11) 은, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리올레핀, 폴리시클로올레핀, 시클로올레핀 코폴리머, 폴리카보네이트, 폴리에테르술폰, 폴리아릴레이트, 폴리이미드, 폴리아미드, 폴리스티렌, 폴리노르보르넨 등의 고분자 필름으로 이루어진다. 기재 필름 (11) 의 재료는 이것들에 한정되는 경우는 없지만, 투명성, 내열성, 및 기계 특성이 우수한 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 가 바람직하다.The base film 11 may be formed of a material such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyolefin, polycycloolefin, cycloolefin copolymer, polycarbonate, polyether sulfone, polyarylate, polyimide, polyamide, polystyrene, poly Norbornene and the like. Although the material of the base film 11 is not limited to these materials, polyethylene terephthalate (PET) excellent in transparency, heat resistance, and mechanical characteristics is preferable.

기재 필름 (11) 의 두께는, 바람직하게는, 10 ㎛ ∼ 200 ㎛ 이지만, 이것에 한정되는 경우는 없다. 단 기재 필름 (11) 의 두께가 10 ㎛ 미만이면 취급이 곤란해질 우려가 있다. 또 기재 필름 (11) 의 두께가 200 ㎛ 를 초과하면, 압전 필름 (10, 20, 30, 40, 50, 60, 70, 80, 90) 을 권회하여 롤로 하는 것이 어려워질 우려가 있다. 또 기재 필름 (11) 의 두께가 200 ㎛ 를 초과하면, 압전 필름 (10, 20, 30, 40, 50, 60, 70, 80, 90) 을 터치 패널 등에 실장했을 때에 두께가 지나치게 두꺼워질 우려가 있다.The thickness of the base film 11 is preferably 10 탆 to 200 탆, but the thickness is not limited thereto. If the thickness of the base material film 11 is less than 10 占 퐉, handling may become difficult. If the thickness of the base film 11 exceeds 200 占 퐉, it may be difficult to roll the piezoelectric films 10, 20, 30, 40, 50, 60, 70, 80, 90 to roll. If the thickness of the base film 11 exceeds 200 占 퐉, there is a fear that the thickness becomes excessively thick when the piezoelectric films 10, 20, 30, 40, 50, 60, 70, 80, 90 are mounted on a touch panel or the like have.

[압전성을 갖는 코팅층][Coating layer having piezoelectricity]

압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 재료는, 기재 필름 (11) 의 표면에 박막상으로 코팅하는 것이 가능하고, 코팅 후의 박막이 압전성을 갖는 것이면, 특별히 한정 되는 경우는 없다. 압전성을 갖는 코팅층 (12) 은, 폴링 (분극 처리) 을 실시하지 않아도 압전성을 나타내는 것이 바람직하지만, 폴링 후에 압전성을 나타내는 것이어도 된다.The material of the coating layer 12 having piezoelectricity can be coated in the form of a thin film on the surface of the base film 11 and is not particularly limited as long as the thin film after the coating has piezoelectricity. It is preferable that the coating layer 12 having piezoelectricity exhibits piezoelectricity without performing poling (polarization treatment), but it may be a material showing piezoelectricity after poling.

폴링 (분극 처리) 으로서 비접촉식의 폴링과 접촉식의 폴링이 있다. 비접촉식의 폴링에서는, 예를 들어, 코팅층 (12) 을 코로나 방전 처리함으로써 코팅층 (12) 을 분극시킨다. 접촉식의 폴링에서는, 예를 들어, 2 장의 금속판으로 코팅층 (12) 을 사이에 끼우고, 2 장의 금속판 사이에 전압을 인가하여 코팅층 (12) 을 분극시킨다.There are non-contact polling and contact polling as polling (polarization treatment). In non-contact polling, for example, the coating layer 12 is corona discharge treated to polarize the coating layer 12. In the contact type polling, for example, two metal plates sandwich the coating layer 12, and a voltage is applied between the two metal plates to polarize the coating layer 12.

압전성을 갖는 코팅층 (12) 은, 예를 들어, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 재료를 용매에 용해시켜 용액으로 하고, 바 코터나 그라비아 코터 등의 이미 알려진 코팅 장치에 의해 기재 필름 (11) 의 표면에 얇고 일정하게 코팅하고, 그 후 건조시켜 얻어진다.The coating layer 12 having piezoelectricity can be obtained by, for example, dissolving the material of the coating layer 12 having piezoelectricity in a solvent to form a solution, and coating the substrate film 11 with a known coating apparatus such as a bar coater or a gravure coater Coated on the surface with a uniform thickness, and then dried.

[압전성을 갖는 코팅층의 재료][Material of the coating layer having piezoelectricity]

압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 재료는, 예를 들어, 불소 수지를 함유하는 재료가 바람직하게 사용된다. 불소 수지를 함유하는 재료를 구체적으로 예시하면, 불화비닐리덴의 중합체, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체, 헥사플루오로프로필렌과 비닐리덴플로라이드의 공중합체, 퍼플루오로비닐에테르와 비닐리덴플로라이드의 공중합체, 테트라플루오로에틸렌과 비닐리덴플로라이드의 공중합체, 헥사플루오로프로필렌옥사이드와 비닐리덴플로라이드의 공중합체, 헥사플루오로프로필렌과 테트라플루오로에틸렌과 비닐리덴플로라이드의 공중합체를 들 수 있다. 이들 폴리머는, 단독으로도 혼합체로도 사용할 수 있다.As the material of the coating layer 12 having piezoelectricity, for example, a material containing a fluororesin is preferably used. Specific examples of the material containing the fluororesin include polymers of vinylidene fluoride, copolymers of vinylidene fluoride and trifluoroethylene, copolymers of vinylidene fluoride and trifluoroethylene and chlorotrifluoroethylene, hexafluoroethylene, Copolymers of propylene and vinylidene fluoride, copolymers of perfluorovinyl ether and vinylidene fluoride, copolymers of tetrafluoroethylene and vinylidene fluoride, copolymers of hexafluoropropylene oxide and vinylidene fluoride, And copolymers of hexafluoropropylene, tetrafluoroethylene and vinylidene fluoride. These polymers can be used alone or as a mixture.

불소 수지를 함유하는 재료는, 바람직하게는, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체, 혹은, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체이다. 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체를 2 원계 공중합체로 한다. 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체를 3 원계 공중합체로 하기로 한다.The fluororesin-containing material is preferably a copolymer of vinylidene fluoride and trifluoroethylene, or a copolymer of vinylidene fluoride and trifluoroethylene and chlorotrifluoroethylene. A copolymer of vinylidene fluoride and trifluoroethylene is used as a binary copolymer. A copolymer of vinylidene fluoride, trifluoroethylene and chlorotrifluoroethylene is used as the ternary copolymer.

불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체 (2 원계 공중합체) 를, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 재료로서 사용하는 경우에는, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 몰비는, 전체를 100 으로 하여, (50 ∼ 85) : (50 ∼ 15) 의 범위가 적절하다.When a copolymer (binary copolymer) of vinylidene fluoride and trifluoroethylene is used as the material of the coating layer 12 having piezoelectricity, the molar ratio of vinylidene fluoride and trifluoroethylene is 100 (50 to 85): (50 to 15) is appropriate.

또, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체 (3 원계 공중합체) 를, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 재료로서 사용하는 경우에는, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 몰비는, 전체를 100 으로 하여 (63 ∼ 65) : (27 ∼ 29) : (10 ∼ 6) 의 범위가 적절하다.When a copolymer (ternary copolymer) of vinylidene fluoride, trifluoroethylene and chlorotrifluoroethylene is used as a material for the coating layer 12 having piezoelectricity, vinylidene fluoride and trifluoroethylene (63 to 65): (27 to 29): (10 to 6) is suitable as the molar ratio of chlorotrifluoroethylene to chlorotrifluoroethylene.

[압전성을 갖는 코팅층의 두께][Thickness of the coating layer having piezoelectricity]

압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 한정되는 경우는 없지만, 후술하는 광학 특성을 고려하면, 0.5 ㎛ ∼ 20 ㎛ 가 바람직하고, 0.5 ㎛ ∼ 10 ㎛ 가 보다 바람직하며, 0.5 ㎛ ∼ 5 ㎛ 가 더욱 바람직하다. 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 0.5 ㎛ 미만이면, 형성된 막이 불완전해질 우려가 있다. 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 20 ㎛ 를 초과하면, 광학 특성 (헤이즈값 및 전광선 투과율) 이 부적절해질 우려가 있다.The thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity is not limited. However, considering the optical characteristics to be described later, the thickness is preferably 0.5 m to 20 m, more preferably 0.5 m to 10 m, and more preferably 0.5 m to 5 m desirable. If the thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity is less than 0.5 占 퐉, the formed film may be incomplete. If the thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity is more than 20 mu m, the optical characteristics (haze value and total light transmittance) may become inadequate.

[투명 점착층][Transparent adhesive layer]

투명 점착층 (18) 은 광학 투명 점착제로 이루어지는 것이 바람직하다. 예를 들어, 광학 투명 점착제의 시트를 사용하여 투명 점착층 (18) 을 형성할 수 있다. 또 투명 접착층은 광학 투명 접착제로 이루어지는 것이 바람직하다. 예를 들어, 액상의 광학 투명 접착제를 도포하고, 자외선을 조사하여 경화시켜, 투명 접착층을 형성할 수 있다. 투명 점착층 (18) 혹은 투명 접착층의 굴절률은, 그 양측에 적층된 재료의 각각의 굴절률의 중간적인 값인 것이 바람직하다. 그와 같이 투명 점착층 (18) 혹은 투명 접착층의 굴절률을 선택함으로써, 투명 점착층 (18) 혹은 투명 접착층과, 그 양측에 적층된 재료의 계면에 있어서의 광의 반사를 억제할 수 있다.The transparent pressure-sensitive adhesive layer 18 is preferably made of an optical transparent pressure-sensitive adhesive. For example, a transparent adhesive layer 18 can be formed using a sheet of optical transparent pressure-sensitive adhesive. The transparent adhesive layer is preferably made of an optical transparent adhesive. For example, it is possible to form a transparent adhesive layer by applying a liquid optical transparent adhesive and curing by irradiating ultraviolet rays. The refractive index of the transparent adhesive layer 18 or the transparent adhesive layer is preferably an intermediate value of the refractive index of each of the materials laminated on both sides thereof. By selecting the refractive index of the transparent adhesive layer 18 or the transparent adhesive layer, reflection of light at the interface between the transparent adhesive layer 18 or the transparent adhesive layer and the material stacked on both sides of the transparent adhesive layer 18 can be suppressed.

[압전 필름의 광학 특성][Optical properties of piezoelectric film]

일반적으로, 압전 필름의 헤이즈값이 커져도, 광은 흡수되지 않고 산란하는 경우가 있기 때문에, 전광선 투과율은 저하되지 않는 경우가 있다. 그러나, 압전 필름의 전광선 투과율은 저하되지 않아도, 헤이즈값이 커지는 것에 따라, 디스플레이 화상의 시인성은 저하된다. 그 때문에 압전 필름의 전광선 투과율의 값만으로는, 디스플레이 화상의 시인성은 판단할 수 없다. 본원 발명자의 실험에 의하면, 디스플레이 화상의 시인성을 확보하기 위해서는, 압전 필름의 헤이즈값은 5 % 이하가 바람직하고, 4 % 이하가 보다 바람직하고, 3 % 이하가 더욱 바람직하고, 2 % 이하가 특히 바람직하며, 1 % 이하가 특히 바람직하다. 또, 압전 필름의 전광선 투과율은 90 % 이상이 바람직하고, 91 % 이상이 보다 바람직하며, 92 % 이상이 특히 바람직하다. 압전 필름의 헤이즈값이 5 % 를 초과하는 경우, 혹은, 전광선 투과율이 90 % 미만인 경우, 디스플레이의 화상을 명료하게 시인할 수 없게 될 우려가 있다.Generally, even when the haze value of the piezoelectric film is increased, the light is not absorbed and scattered in some cases, so that the total light transmittance may not be lowered. However, even if the total light transmittance of the piezoelectric film is not lowered, the visibility of the display image is lowered as the haze value becomes larger. Therefore, the visibility of the display image can not be determined only by the value of the total light transmittance of the piezoelectric film. According to the experiment of the present inventor, in order to ensure the visibility of the display image, the haze value of the piezoelectric film is preferably 5% or less, more preferably 4% or less, still more preferably 3% , And particularly preferably 1% or less. The total light transmittance of the piezoelectric film is preferably 90% or more, more preferably 91% or more, and particularly preferably 92% or more. When the haze value of the piezoelectric film is more than 5% or the total light transmittance is less than 90%, the image of the display may not be clearly visible.

[투명 전극][Transparent electrode]

또, 본원의 압전 필름 (10) 에 투명 전극을 적층하고, 투명 전극에 의해 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 전위의 변화를 검출할 수 있다. 예를 들어, 도 10 과 같이, 도 1 의 압전 필름 (10) 에 광학 조정층 (14) 과 투명 전극 (20) 을 적층한다. 또, 기재 필름 (11) 에 있어서의 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 반대측의 면에 안티 블로킹 기능을 갖는 하드 코트층 (22) 을 적층하고 있다.Further, a transparent electrode may be laminated on the piezoelectric film 10 of the present invention, and the change of the electric potential of the coating layer 12 having piezoelectricity can be detected by the transparent electrode. For example, as shown in Fig. 10, the optical adjusting layer 14 and the transparent electrode 20 are laminated on the piezoelectric film 10 of Fig. A hard coat layer 22 having an anti-blocking function is laminated on a surface of the base film 11 opposite to the surface of the coating layer 12 having piezoelectricity.

투명 전극 (20) 은, 인듐계 복합 산화물, 대표적으로는 인듐주석 복합 산화물 (ITO : Indium Tin Oxide), 인듐아연 복합 산화물을 들 수 있지만, 4 가 금속 이온 또는 2 가 금속 이온이 도핑된 산화인듐 (In2O3) 을 들 수 있다. 인듐계 복합 산화물은, 가시광 영역 (380 ∼ 780 ㎚) 에서 투과율이 80 % 이상으로 높고, 또한 단위 면적당의 표면 저항이 낮다는 (30 ∼ 1000 Ω/□) 특징을 가지고 있다.The transparent electrode 20 may be an indium based composite oxide, typically indium tin oxide (ITO), or an indium zinc composite oxide. However, the transparent electrode 20 may be a metal oxide or a metal oxide, (In2O3). The indium based composite oxide is characterized in that the transmittance is as high as 80% or more at the visible light region (380 to 780 nm) and the surface resistance per unit area is low (30 to 1000? /?).

상기 인듐계 복합 산화물의 표면 저항값은, 바람직하게는 300 Ω/□ (ohms per square) 이하이고, 더욱 바람직하게는 150 Ω/□ 이다. 표면 저항이 작은 투명 전극은, 예를 들어, 스퍼터링법 또는 진공 증착법에 의해, 인듐계 복합 산화물의 비정질층을 경화 수지층 상에 형성한 후, 100 ∼ 200 ℃ 에서 가열 처리하여, 비정질층을 결정질층으로 변화시킴으로써 얻어진다.The surface resistance value of the indium based composite oxide is preferably 300 Ω / □ (ohms per square) or less, more preferably 150 Ω / □. The transparent electrode having a small surface resistance can be obtained by forming an amorphous layer of an indium based composite oxide on a cured resin layer by, for example, a sputtering method or a vacuum deposition method and then heat-treating the amorphous layer at a temperature of 100 to 200 ° C to form a crystalline Layer.

투명 전극 (20) 은 상기의 재료에 한정되지 않고, 주석아연 산화물, 산화아연, 불소 도프 주석 산화물 등의 투명 도전성 산화물, 폴리에틸렌디옥시티오펜 등의 도전성 고분자를 사용할 수 있다.The transparent electrode 20 is not limited to the above materials, but may be a transparent conductive oxide such as tin zinc oxide, zinc oxide, or fluorine-doped tin oxide, or a conductive polymer such as polyethylene dioxythiophene.

압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께로서 0.5 ∼ 10 ㎛, 광학 조정층 (14) 의 두께로서 80 ∼ 160 ㎚, 투명 전극 (20) 의 두께로서 20 ㎚ 이상을 일례로서 들 수 있다. 또, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 굴절률로서 1.40 ∼ 1.50, 광학 조정층 (14) 의 굴절률로서 1.50 ∼ 1.70, 투명 전극 (20) 의 굴절률로서 1.90 ∼ 2.10 을 일례로서 들 수 있다. 또, 기재 필름 (11) 의 두께를 2 ∼ 100 ㎛, 굴절률을 1.50 ∼ 1.70 으로 한다. 이상의 두께와 굴절률로 함으로써, 투명 전극 (20) 과 광학 조정층 (14) 의 반사율차가 2.0 % 이하가 되어, 외관이 양호해진다.The thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity of 0.5 to 10 占 퐉, the thickness of the optical adjustment layer 14 of 80 to 160 nm and the thickness of the transparent electrode 20 of 20 nm or more. The refractive index of the coating layer 12 having a piezoelectric property is 1.40 to 1.50, the refractive index of the optical adjustment layer 14 is 1.50 to 1.70, and the refractive index of the transparent electrode 20 is 1.90 to 2.10. The base film 11 has a thickness of 2 to 100 占 퐉 and a refractive index of 1.50 to 1.70. Or more and the refractive index, the difference in reflectance between the transparent electrode 20 and the optical adjusting layer 14 becomes 2.0% or less, and the appearance becomes better.

실시예Example

[실시예 1][Example 1]

실시예 1 의 압전 필름 (10) 은, 본 발명의 압전 필름의 제 1 기본 구성으로 이루어진다. 실시예 1 의 압전 필름 (10) 은, 기재 필름 (11) (폴리에틸렌테레프탈레이트 필름) 의 표면에, 먼저 도시되지 않은 접착 용이를 형성하고, 다음으로 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체 (2 원계 공중합체) 의 용액을 코팅하여 제작되었다. 기재 필름 (11) (폴리에틸렌테레프탈레이트 필름) 의 두께는 23 ㎛ 였다.The piezoelectric film 10 of the first embodiment has the first basic structure of the piezoelectric film of the present invention. The piezoelectric film 10 of Example 1 was obtained by firstly forming an unshown adhesive property on the surface of the base film 11 (polyethylene terephthalate film), and then forming a copolymer of vinylidene fluoride and trifluoroethylene 2-type copolymer). The thickness of the base film 11 (polyethylene terephthalate film) was 23 占 퐉.

압전성을 갖는 코팅층 (12) 을 제작하는 데에 있어서, 먼저, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체 (2 원계 공중합체) 를, 메틸에틸케톤에 초음파에 의해 용해시키고, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체 (2 원계 공중합체) 의 용액을 제작하였다. 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체 (2 원계 공중합체) 에 함유되는, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 몰비는, 70/30 이었다.In producing the coating layer 12 having piezoelectricity, first, a copolymer (binary copolymer) of vinylidene fluoride and trifluoroethylene is dissolved in methyl ethyl ketone by ultrasonic wave, and a mixture of vinylidene fluoride and tri A solution of a copolymer of fluoroethylene (binary copolymer) was prepared. The molar ratio of vinylidene fluoride to trifluoroethylene contained in the copolymer (binary copolymer) of vinylidene fluoride and trifluoroethylene was 70/30.

다음으로, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체 (2 원계 공중합체) 의 용액을, 바 코터에 의해, 기재 필름 (11) (폴리에틸렌테레프탈레이트 필름) 의 표면에 코팅하였다. 다음으로, 기재 필름 (11) (폴리에틸렌테레프탈레이트 필름) 및 미건조된 코팅층을, 60 ℃, 5 분의 건조 조건에서 건조시켜, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 을 얻었다. 건조 후의 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께는 1 ㎛ 였다.Next, a solution of a copolymer (binary copolymer) of vinylidene fluoride and trifluoroethylene was coated on the surface of the base film 11 (polyethylene terephthalate film) by a bar coater. Next, the base film 11 (polyethylene terephthalate film) and the non-dried coating layer were dried at 60 DEG C for 5 minutes to obtain a coating layer 12 having piezoelectricity. The thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity after drying was 1 mu m.

[실시예 2][Example 2]

실시예 2 의 압전 필름 (10) 은, 본 발명의 압전 필름의 제 1 기본 구성으로 이루어진다. 실시예 2 의 압전 필름 (10) 은, 건조 후의 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 5 ㎛ 인 것을 제외하고는, 실시예 1 의 압전 필름 (10) 과 동일하게 하여 제작되었다.The piezoelectric film 10 of the second embodiment has the first basic structure of the piezoelectric film of the present invention. The piezoelectric film 10 of Example 2 was produced in the same manner as the piezoelectric film 10 of Example 1 except that the thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity after drying was 5 占 퐉.

[실시예 3][Example 3]

실시예 3 의 압전 필름 (10) 은, 본 발명의 압전 필름의 제 1 기본 구성으로 이루어진다. 실시예 3 의 압전 필름 (10) 은, 건조 후의 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 10 ㎛ 인 것을 제외하고는, 실시예 1 의 압전 필름 (10) 과 동일하게 하여 제작되었다.The piezoelectric film 10 of the third embodiment has the first basic structure of the piezoelectric film of the present invention. The piezoelectric film 10 of Example 3 was produced in the same manner as the piezoelectric film 10 of Example 1 except that the thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity after drying was 10 占 퐉.

[실시예 4][Example 4]

실시예 4 의 압전 필름 (10) 은, 본 발명의 압전 필름의 제 1 기본 구성으로 이루어진다. 실시예 4 의 압전 필름 (10) 은, 건조 후의 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 20 ㎛ 인 것을 제외하고는, 실시예 1 의 압전 필름 (10) 과 동일하게 하여 제작되었다.The piezoelectric film 10 of the fourth embodiment has the first basic structure of the piezoelectric film of the present invention. The piezoelectric film 10 of Example 4 was produced in the same manner as the piezoelectric film 10 of Example 1 except that the thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity after drying was 20 占 퐉.

[실시예 5][Example 5]

실시예 5 의 압전 필름 (10) 은, 본 발명의 압전 필름의 제 1 기본 구성으로 이루어진다. 실시예 5 의 압전 필름 (10) 은, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체 (2 원계 공중합체) 에 함유되는, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 몰비가 75/25 인 것을 제외하고는, 실시예 1 의 압전 필름 (10) 과 동일하게 하여 제작되었다.The piezoelectric film 10 of the fifth embodiment has the first basic structure of the piezoelectric film of the present invention. The piezoelectric film 10 of Example 5 was obtained in the same manner as the piezoelectric film 10 except that the molar ratio of vinylidene fluoride to trifluoroethylene contained in the copolymer (binary copolymer) of vinylidene fluoride and trifluoroethylene was 75/25 Was produced in the same manner as the piezoelectric film 10 of Example 1.

[실시예 6][Example 6]

실시예 6 의 압전 필름 (10) 은, 본 발명의 압전 필름의 제 1 기본 구성으로 이루어진다. 실시예 6 의 압전 필름 (10) 은, 건조 후의 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 5 ㎛ 인 것을 제외하고는, 실시예 5 의 압전 필름 (10) 과 동일하게 하여 제작되었다.The piezoelectric film 10 of the sixth embodiment has the first basic structure of the piezoelectric film of the present invention. The piezoelectric film 10 of Example 6 was manufactured in the same manner as the piezoelectric film 10 of Example 5, except that the thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity after drying was 5 占 퐉.

[실시예 7][Example 7]

실시예 7 의 압전 필름 (10) 은, 본 발명의 압전 필름의 제 1 기본 구성으로 이루어진다. 실시예 7 의 압전 필름 (10) 은, 건조 후의 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 10 ㎛ 인 것을 제외하고는, 실시예 5 의 압전 필름 (10) 과 동일하게 하여 제작되었다.The piezoelectric film 10 of the seventh embodiment has the first basic structure of the piezoelectric film of the present invention. The piezoelectric film 10 of Example 7 was produced in the same manner as the piezoelectric film 10 of Example 5 except that the thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity after drying was 10 占 퐉.

[실시예 8][Example 8]

실시예 8 의 압전 필름 (10) 은, 본 발명의 압전 필름의 제 1 기본 구성으로 이루어진다. 실시예 8 의 압전 필름 (10) 은, 건조 후의 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 2 ㎛ 인 것, 및 건조 조건이 135 ℃, 5 분인 것을 제외하고는, 실시예 5 의 압전 필름 (10) 과 동일하게 하여 제작되었다.The piezoelectric film 10 of the eighth embodiment is composed of the first basic structure of the piezoelectric film of the present invention. The piezoelectric film 10 of Example 8 is the piezoelectric film 10 of Example 5 except that the thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity after drying is 2 占 퐉 and the drying condition is 135 占 폚 for 5 minutes. ).

[실시예 9][Example 9]

실시예 9 의 압전 필름 (10) 은, 본 발명의 압전 필름의 제 1 기본 구성으로 이루어진다. 실시예 9 의 압전 필름 (10) 은, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 재료가, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체 (3 원계 공중합체) 인 것을 제외하고는, 실시예 1 의 압전 필름 (10) 과 동일하게 하여 제작되었다.The piezoelectric film 10 of the ninth embodiment has the first basic structure of the piezoelectric film of the present invention. The piezoelectric film 10 of Example 9 is the same as the piezoelectric film 10 except that the material of the coating layer 12 having piezoelectricity is a copolymer of vinylidene fluoride and trifluoroethylene and chlorotrifluoroethylene , And the piezoelectric film 10 of the first embodiment.

압전성을 갖는 코팅층 (12) 을 제작하는 데에 있어서, 먼저, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체 (3 원계 공중합체) 를, 상온의 메틸이소부틸케톤에 초음파에 의해 용해시키고, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체 (3 원계 공중합체) 의 용액을 제작하였다. 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체 (3 원계 공중합체) 에 함유되는, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 몰비는, 64.2/27.1/8.7 이었다.In producing the coating layer 12 having piezoelectricity, first, a copolymer of vinylidene fluoride, trifluoroethylene and chlorotrifluoroethylene (ternary copolymer) is added to methyl isobutyl ketone at room temperature by ultrasonic wave , And a solution of a copolymer of vinylidene fluoride, trifluoroethylene and chlorotrifluoroethylene (ternary copolymer) was prepared. The molar ratio of vinylidene fluoride to trifluoroethylene and chlorotrifluoroethylene contained in the copolymer (ternary copolymer) of vinylidene fluoride, trifluoroethylene and chlorotrifluoroethylene was 64.2 / 27.1 / 8.7 .

다음으로 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체 (3 원계 공중합체) 의 용액을, 바 코터에 의해, 기재 필름 (11) (폴리에틸렌테레프탈레이트 필름) 의 표면에 코팅하였다. 다음으로, 기재 필름 (11) (폴리에틸렌테레프탈레이트 필름) 및 미건조된 코팅층을, 60 ℃, 5 분의 건조 조건에서 건조시켜, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 을 제작하였다. 건조 후의 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께는 1 ㎛ 였다.Next, a solution of a copolymer (ternary copolymer) of vinylidene fluoride, trifluoroethylene and chlorotrifluoroethylene was coated on the surface of the base film 11 (polyethylene terephthalate film) by a bar coater . Next, the base film 11 (polyethylene terephthalate film) and the non-dried coating layer were dried at 60 DEG C for 5 minutes to dryness to prepare a coating layer 12 having piezoelectricity. The thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity after drying was 1 mu m.

[실시예 10][Example 10]

실시예 10 의 압전 필름 (10) 은, 본 발명의 압전 필름의 제 1 기본 구성으로 이루어진다. 실시예 10 의 압전 필름 (10) 은, 건조 후의 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 5 ㎛ 인 것을 제외하고는, 실시예 9 의 압전 필름 (10) 과 동일하게 하여 제작되었다.The piezoelectric film 10 of the tenth embodiment is composed of the first basic structure of the piezoelectric film of the present invention. The piezoelectric film 10 of Example 10 was produced in the same manner as the piezoelectric film 10 of Example 9, except that the thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity after drying was 5 占 퐉.

[비교예 1][Comparative Example 1]

비교예 1 의 압전 필름은, 불화비닐리덴의 중합체 (폴리불화비닐리덴) 의, 두께 40 ㎛ 의 자립된 필름 (기재 필름을 갖지 않는다) 으로 이루어진다. 비교예 1 의 압전 필름은, 불화비닐리덴의 중합체 (폴리불화비닐리덴) 를, 상온의 이소부틸케톤에 초음파에 의해 용해시킨 용액을, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에, 건조 후의 두께가 40 ㎛ 가 되도록 코팅하고, 건조 후, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름으로부터 박리하여 제작되었다.The piezoelectric film of Comparative Example 1 is composed of a self-supporting film (without a base film) having a thickness of 40 占 퐉 of a vinylidene fluoride polymer (polyvinylidene fluoride). The piezoelectric film of Comparative Example 1 was obtained by dissolving a polymer of vinylidene fluoride (polyvinylidene fluoride) in isobutyl ketone at room temperature by ultrasonic waves to a surface of a polyethylene terephthalate film with a thickness of 40 mu m after drying , Dried, and then peeled off from the polyethylene terephthalate film.

Figure pct00001
Figure pct00001

표 1 에 본 발명의 압전 필름의 실시예와 비교예의 압전 필름의 구성, 압전성을 갖는 코팅층의 몰비와 두께, 압전 필름의 헤이즈값과 전광선 투과율을 나타낸다. 표 1 중, VDF 는 불화비닐리덴, TrFE 는 트리플루오로에틸렌, CTFE 는 클로로트리플루오로에틸렌, PET 는 폴리에틸렌테레프탈레이트를 나타낸다. P( ) 는 공중합체를 나타낸다. 따라서, 「P(VDF-TrFE)」는, 「불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체」라는 의미이다. 「P(VDF-TrFE-CTFE)」는, 「불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체」라는 의미이다. 「P(VDF-TrFE)/PET 기재 필름」은, 「불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체를, 폴리에틸렌테레프탈레이트로 이루어지는 기재 필름 (11) 의 표면에 코팅하였다」라는 의미이다. 「P(VDF-TrFE-CTFE)/PET 기재 필름」은, 「불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체를, 폴리에틸렌테레프탈레이트로 이루어지는 기재 필름 (11) 의 표면에 코팅하였다」라는 의미이다. PVDF 는 불화비닐리덴의 중합체 (폴리불화비닐리덴) 를 의미한다.Table 1 shows the composition of the piezoelectric film of Examples and Comparative Examples of the piezoelectric film of the present invention, the molar ratio and thickness of the piezoelectric layer having the piezoelectric property, the haze value of the piezoelectric film and the total light transmittance. In Table 1, VDF represents vinylidene fluoride, TrFE represents trifluoroethylene, CTFE represents chlorotrifluoroethylene, and PET represents polyethylene terephthalate. P () represents a copolymer. Therefore, "P (VDF-TrFE)" means "a copolymer of vinylidene fluoride and trifluoroethylene". "P (VDF-TrFE-CTFE)" means "a copolymer of vinylidene fluoride, trifluoroethylene and chlorotrifluoroethylene". "P (VDF-TrFE) / PET base film" means "a copolymer of vinylidene fluoride and trifluoroethylene was coated on the surface of the base film 11 made of polyethylene terephthalate". The "P (VDF-TrFE-CTFE) / PET base film" is a film obtained by coating a copolymer of vinylidene fluoride, trifluoroethylene and chlorotrifluoroethylene onto the surface of a base film 11 made of polyethylene terephthalate "It means. PVDF means a polymer of vinylidene fluoride (polyvinylidene fluoride).

실시예 1 ∼ 실시예 4 의 압전 필름은, 구성 및 재료는 동일하지만, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 상이하다. 실시예 1 ∼ 실시예 4 를 비교하면, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 두꺼워짐에 따라, 헤이즈값이 상승하는 경향이 보인다. 그러나, 실시예 1 ∼ 실시예 4 의 압전 필름의 헤이즈값과 전광선 투과율은, 모두 문제가 없는 레벨이다.The piezoelectric films of Examples 1 to 4 have the same constitution and materials but differ in the thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity. Comparing Examples 1 to 4, the haze value tends to increase as the thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity increases. However, the haze value and the total light transmittance of the piezoelectric films of Examples 1 to 4 are all at a level of no problem.

실시예 5 ∼ 실시예 7 의 압전 필름은, 구성 및 재료는 동일하지만, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 상이하다. 실시예 5 ∼ 실시예 7 을 비교하면, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 두꺼워짐에 따라, 헤이즈값이 약간 상승하는 경향이 보인다. 그러나, 실시예 5 ∼ 실시예 7 의 압전 필름의 헤이즈값과 전광선 투과율은, 모두 문제가 없는 레벨이다.The piezoelectric films of Examples 5 to 7 have the same constitution and materials but differ in the thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity. Comparing Examples 5 to 7, the haze value tends to increase slightly as the thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity increases. However, the haze value and the total light transmittance of the piezoelectric films of Examples 5 to 7 are all at a level at which no problem occurs.

실시예 8 의 압전 필름은, 실시예 5 의 압전 필름과 구성 및 재료는 동일하고, 코팅층 (12) 의 두께도 가깝지만, 헤이즈값은 크게 상이하다. 실시예 8 의 압전 필름의 헤이즈값이 큰 원인은, 건조 온도가 135 ℃ 인 것에 따른다 (그 밖의 실시예의 건조 온도는 60 ℃ 이다). 이와 같이, 코팅층 (12) 의 건조 온도를 높게 하면, 압전 필름의 헤이즈값이 커지는 경향이 있다.The piezoelectric film of Example 8 is the same in constitution and material as the piezoelectric film of Example 5, and the thickness of the coating layer 12 is close, but the haze value is greatly different. The reason why the haze value of the piezoelectric film of Example 8 is great is that the drying temperature is 135 ° C (the drying temperature in the other Examples is 60 ° C). As described above, when the drying temperature of the coating layer 12 is increased, the haze value of the piezoelectric film tends to increase.

실시예 9 와 실시예 10 의 압전 필름은, 구성 및 재료는 동일하지만, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 상이하다. 실시예 9 과 실시예 10 으로부터, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 두꺼워짐에 따라, 헤이즈값이 상승하는 경향이 보인다. 그러나, 실시예 9 와 실시예 10 의 압전 필름의 헤이즈값과 전광선 투과율은, 모두 문제가 없는 레벨이다.The piezoelectric films of Examples 9 and 10 have the same constitution and materials but differ in the thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity. From Examples 9 and 10, the haze value tends to increase as the thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity increases. However, the haze value and the total light transmittance of the piezoelectric films of Example 9 and Example 10 are all levels at which no problem occurs.

비교예 1 의 불화비닐리덴의 중합체 (폴리불화비닐리덴) 의 자립된 필름은, 본 발명의 실시예 1 ∼ 실시예 10 의 압전 필름에 비해, 헤이즈값이 상당히 크다. 그 때문에, 디스플레이의 화상의 시인성이 낮아질 우려가 크다. 그러나, 비교예 1 의 압전 필름의 전광선 투과율은, 본 발명의 실시예 1 ∼ 실시예 10 의 압전 필름과 거의 다르지 않다. 비교예 1 로부터, 헤이즈값이 커져도, 전광선 투과율이 저하된다고는 할 수 없는 것을 알 수 있다.The self-supporting film of the vinylidene fluoride polymer (polyvinylidene fluoride) of Comparative Example 1 has a significantly larger haze value than that of the piezoelectric films of Examples 1 to 10 of the present invention. Therefore, the visibility of the image on the display is likely to be lowered. However, the total light transmittance of the piezoelectric film of Comparative Example 1 is not substantially different from that of the piezoelectric films of Examples 1 to 10 of the present invention. From Comparative Example 1, it can be understood that the total light transmittance can not be reduced even if the haze value is increased.

[측정 방법][How to measure]

(두께)(thickness)

1 ㎛ 미만의 막의 두께는, 투과형 전자 현미경 (히타치 제작소 제조 H-7650) 을 사용하여, 단면을 관찰하여 측정하였다. 1 ㎛ 를 초과하는 막 혹은 필름의 두께는, 막후계 (Peacock 사 제조 디지털 다이얼 게이지 DG-205) 를 사용하여 측정하였다.The thickness of the film less than 1 mu m was measured by observing a cross section using a transmission electron microscope (H-7650, Hitachi, Ltd.). The thickness of the film or film exceeding 1 mu m was measured using a film thickness meter (digital dial gauge DG-205 manufactured by Peacock).

[헤이즈값, 전광선 투과율][Haze value, total light transmittance]

헤이즈값, 전광선 투과율은, Direct Reading Haze Computer (Suga Test Instruments 사 제조 HGM-ZDP) 를 사용하여 측정하였다.The haze value and the total light transmittance were measured using a Direct Reading Haze Computer (HGM-ZDP manufactured by Suga Test Instruments).

[실시예 11 ∼ 16][Examples 11 to 16]

또, 도 10 과 같이, 본원의 압전 필름 (10) 에 투명 전극 (20) 이 적층되는 경우를 상정하여, 압전 필름 (10) 과 투명 전극 (20) 사이에 광학 조정층 (14) 을 배치한 경우의 압전성을 갖는 코팅층 (12), 광학 조정층 (14), 투명 전극 (20) 의 두께 및 굴절률을 측정하였다. 압전 필름 (10) 은 상기 실시예와 동일하고, PET 필름에 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체를 코팅한 것이다.10, assuming that the transparent electrode 20 is laminated on the piezoelectric film 10 of the present invention, the optical adjusting layer 14 is disposed between the piezoelectric film 10 and the transparent electrode 20 The thickness and the refractive index of the coating layer 12, the optical adjusting layer 14, and the transparent electrode 20 having the piezoelectric properties were measured. The piezoelectric film 10 is the same as the above embodiment, and a PET film is coated with a copolymer of vinylidene fluoride and trifluoroethylene.

광학 조정층 (14) 은 아래의 표 2 에 나타내는 바와 같이, 굴절률이 1.54, 1.62, 1.7 인 경우가 있다. 굴절률에 따라 제조 방법이 상이하므로 굴절률마다 설명한다. 굴절률이 1.54 인 경우, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 일방의 면에, 멜라민 수지 : 알키드 수지 : 유기 실란 축합물의 중량비 2 : 2 : 1 의 열 경화형 수지 (광의 굴절률 n = 1.54) 에 의해, 두께가 120 ㎚ 인 광학 조정층 (14) 을 형성하였다.The optical adjustment layer 14 may have refractive indexes of 1.54, 1.62, and 1.7 as shown in Table 2 below. Since the manufacturing method differs depending on the refractive index, the refractive index will be described for each refractive index. (Refractive index n = 1.54 of light) of a melamine resin: alkyd resin: organosilane condensate in a weight ratio of 2: 2: 1 on the surface of one side of the coating layer 12 having piezoelectricity when the refractive index is 1.54, The optical adjustment layer 14 having a thickness of 120 nm was formed.

굴절률이 1.62 인 경우, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 일방의 면에, 자외선 경화성 수지 47 질량부, 산화지르코니아 입자 (메디안 직경 40 ㎚) 57 질량부 및 PGME 를 함유한 광학 조정 조성물 (JSR 사 제조, 「오프스타 Z7412」, 고형분 12 질량%) 을 그라비아 코터를 사용하여 도포하고, 무풍 상태 (0.1 m/s 미만) 에서 즉시 60 ℃ 에서 1 분간 가열 건조시켰다. 그 후, 고압 수은 램프로, 적산 광량 250 mJ/㎠ 의 자외선을 조사하여 경화 처리를 실시하였다. 이 방법에 의해, 두께 90, 120, 또는 150 ㎚ 이고 굴절률 1.62 의 광학 조정층 (14) 을, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 상에 형성하였다.47 parts by mass of an ultraviolet curing resin, 57 parts by mass of zirconia oxide particles (median diameter 40 nm), and an optical adjusting composition containing PGME (manufactured by JSR Corporation) were laminated on one surface of a coating layer 12 having piezoelectricity, , "Opsta Z7412", solid content: 12 mass%) was applied using a gravure coater, and immediately dried in a no-wind condition (less than 0.1 m / s) at 60 ° C for 1 minute. Thereafter, a curing treatment was carried out by irradiating with a high-pressure mercury lamp an ultraviolet ray having an accumulated light quantity of 250 mJ / cm 2. By this method, an optical adjustment layer 14 having a thickness of 90, 120, or 150 nm and a refractive index of 1.62 was formed on the coating layer 12 having piezoelectricity.

굴절률이 1.7 인 경우, 멜라민 수지, 알키드 수지 및 유기 실란 축합물로 이루어지는 열 경화형 수지 (중량비로, 멜라민 수지 : 알키드 수지 : 유기 실란 축합물 = 2 : 2 : 1) 에 TiO2 (굴절률 = 2.35) 의 미립자를 혼합한 수지 조성물을 조제하였다. 이 때, 상기 수지 조성물의 굴절률이 1.70 이 되도록 TiO2 미립자의 혼합량을 조정하였다. 그리고, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 상에 상기 수지 조성물을 도공하고, 이것을 경화시켜, 두께 150 ㎚ 의 광학 조정층 (14) (굴절률 1.70) 을 형성하였다.If the refractive index of 1.7, a thermosetting resin composed of a melamine resin, an alkyd resin and an organosilane condensate of TiO 2 (refractive index = 2.35) to (a weight ratio of melamine resin: alkyd resin: 1 organic silane condensate = 2: 2) Based on the total weight of the resin composition. At this time, the mixing amount of the TiO 2 fine particles was adjusted so that the refractive index of the resin composition became 1.70. Then, the resin composition was coated on the coating layer 12 having piezoelectricity and cured to form an optical adjustment layer 14 (refractive index: 1.70) having a thickness of 150 nm.

또, 투명 전극 (20) 은, 인듐주석 산화물을 스퍼터링에 의해 성막하였다. 그 결과를 표 2 에 나타내는데, 「제 1 층」이 압전성을 갖는 코팅층 (12), 「제 2 층」이 광학 조정층 (14), 「제 3 층」이 투명 전극 (20) 이다.The transparent electrode 20 was formed by sputtering indium tin oxide. The results are shown in Table 2, where the "first layer" is the coating layer 12 having piezoelectricity, the "second layer" is the optical adjustment layer 14, and the "third layer" is the transparent electrode 20.

각 실시예는 상기와 같이 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 0.5 ∼ 10 ㎛, 광학 조정층 (14) 의 두께가 80 ∼ 160 ㎚, 투명 전극 (20) 의 두께가 20 ㎚ 이상으로 되어 있다. 또, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 굴절률이 1.40 ∼ 1.50, 광학 조정층 (14) 의 굴절률이 1.50 ∼ 1.70, 투명 전극 (20) 의 굴절률이 1.90 ∼ 2.10 으로 되어 있다. 투명 전극 (20) 과 광학 조정층 (14) 의 반사율차는 2 % 이하이고, 외관은 양호하였다.In each embodiment, the thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity is 0.5 to 10 占 퐉, the thickness of the optical adjustment layer 14 is 80 to 160 nm, and the thickness of the transparent electrode 20 is 20 nm or more as described above . The refractive index of the coating layer 12 having piezoelectricity is 1.40 to 1.50, the refractive index of the optical adjustment layer 14 is 1.50 to 1.70, and the refractive index of the transparent electrode 20 is 1.90 to 2.10. The difference in reflectance between the transparent electrode 20 and the optical adjusting layer 14 was 2% or less, and the appearance was good.

또한, 필요에 따라 투명 전극 (20) 은 에칭되어 원하는 전극 등이 된다. 상기 굴절률을 구할 때, 광학 조정층 (14) 의 굴절률은 투명 전극 (20) 을 에칭에 의해 제거한 부분을 사용하였다. 그 때문에, 각 굴절률로부터 공기와 투명 전극 (20), 공기와 광학 조정층 (14) 의 반사율을 구함으로써, 반사율차를 구하였다.In addition, the transparent electrode 20 is etched to become a desired electrode or the like, if necessary. When obtaining the refractive index, the refractive index of the optical adjustment layer 14 was the portion from which the transparent electrode 20 was removed by etching. Therefore, the reflectance ratios of the air, the transparent electrode 20, and the air and the optical adjusting layer 14 were determined from the respective refractive indices, and the reflectance difference was obtained.

[비교예 2 ∼ 3][Comparative Examples 2 to 3]

실시예 11 ∼ 16 에 대한 비교예로서, 광학 조정층 (14) 이 없는 경우 (비교예 2) 와 광학 조정층 (14) 의 굴절률이 1.5 보다 작은 경우 (비교예 3) 를 실시하였다. 광학 조정층 (14) 이 없는 경우, 반사율차는 투명 전극 (20) 과 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 차이다. 반사율차가 2 % 보다 커져, 외관이 나빠졌다.As a comparative example for Examples 11 to 16, Comparative Example 2 in which the optical adjusting layer 14 was not provided (Comparative Example 3) was performed when the refractive index of the optical adjusting layer 14 was smaller than 1.5. In the absence of the optical adjustment layer 14, the reflectance difference is a difference between the transparent electrode 20 and the coating layer 12 having piezoelectricity. The reflectance difference was larger than 2%, and the appearance was deteriorated.

또한, 굴절률이 1.46 인 경우 (비교예 4) 의 광학 조정층 (14) 은, 실리카 졸 (콜코트 (주) 제조, 콜코트 P) 을, 고형분 농도 2 % 가 되도록 에탄올로 희석시키고, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 일방의 위에, 실리카 코트법에 의해 도포하고, 그 후, 150 ℃ 에서 2 분간 건조, 경화시켜, 두께가 120 ㎚ 인 층 (SiO2 막, 광의 굴절률 1.46) 을 형성하여 광학 조정층 (14) 으로 하였다. 비교예에 있어서 그 밖의 구성의 제조 방법은 실시예와 동일하다.The optical adjustment layer 14 in the case where the refractive index was 1.46 (Comparative Example 4) was prepared by diluting silica sol (Colcoat P, manufactured by Colcoat Co., Ltd.) with ethanol so as to have a solid concentration of 2% (SiO 2 film, refractive index of light: 1.46) was formed on one side of the coating layer 12 having a thickness of 120 nm by applying silica coating method at 150 캜 for 2 minutes, The adjustment layer 14 was formed. The manufacturing method of the other constitution in the comparative example is the same as that of the embodiment.

Figure pct00002
Figure pct00002

압전성을 갖는 코팅층 (12) 위에 투명 전극 (20) 을 구비함으로써 투명 전극 (20) 에 의해 황색 또는 갈색으로 정색 (呈色) 하여 외관을 해치는 경우가 있다. 상기 실시예와 같이 광학 조정층 (14) 을 형성하고, 투명 전극 (20), 광학 조정층 (14), 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께 및 굴절률을 상기 서술한 값의 범위가 되도록 조절함으로써, 표 2 와 같이 반사율차를 작게 할 수 있어, 외관을 해치지 않는 것을 알 수 있었다. 압전 필름 (10) 에 광학 조정층 (14) 과 투명 전극 (20) 을 적층한 구성을 디스플레이의 전면에 배치해도 디스플레이의 외관을 잘 해치지 않는 것을 알 수 있었다.The transparent electrode 20 may be provided on the coating layer 12 having piezoelectricity, so that the transparent electrode 20 may be colored yellow or brown, thereby deteriorating the appearance. The optical adjustment layer 14 is formed and the thickness and the refractive index of the transparent electrode 20, the optical adjustment layer 14, and the coating layer 12 having piezoelectricity are adjusted to be within the range described above, , The reflectance difference can be made small as shown in Table 2, and the appearance is not impaired. It has been found that the appearance of the display is not hurt well even if a configuration in which the optical adjusting layer 14 and the transparent electrode 20 are laminated on the piezoelectric film 10 is disposed on the front surface of the display.

산업상 이용가능성Industrial availability

본 발명의 압전 필름의 이용에 제한은 없지만, 특히 터치 패널의 Z 좌표 (손가락이 터치하는 압력) 를 검출하기 위한 압전 필름으로서 바람직하게 사용된다.The use of the piezoelectric film of the present invention is not particularly limited, but is particularly preferably used as a piezoelectric film for detecting the Z coordinate (pressure at which a finger touches) of the touch panel.

10, 20, 30, 40, 50, 60, 70, 80, 90 : 압전 필름
11 : 기재 필름
12 : 압전성을 갖는 코팅층
13 : 언더 코트층
14 : 광학 조정층
15 : 제 1 광학 조정층
16 : 제 2 광학 조정층
17 : 안티 블로킹층
18 : 투명 점착층
20 : 투명 전극
22 : 안티 블로킹 기능을 갖는 하드 코트층
10, 20, 30, 40, 50, 60, 70, 80, 90:
11: base film
12: Coating layer having piezoelectricity
13: Undercoat layer
14: Optical adjustment layer
15: first optical adjusting layer
16: second optical adjusting layer
17: Anti-blocking layer
18: transparent adhesive layer
20: Transparent electrode
22: Hard coat layer having anti-blocking function

Claims (18)

기재 필름과 압전성을 갖는 코팅층의 적층체를 구비한, 압전 필름.A piezoelectric film comprising a laminate of a base film and a coating layer having piezoelectricity. 제 1 항에 있어서,
상기 기재 필름과 상기 압전성을 갖는 코팅층 사이에, 언더 코트층을 구비한, 압전 필름.
The method according to claim 1,
A piezoelectric film having an undercoat layer between the base film and the coating layer having piezoelectricity.
제 1 항에 있어서,
상기 압전성을 갖는 코팅층의, 상기 기재 필름과 반대측의 표면에, 적어도 1 층의 광학 조정층을 구비한, 압전 필름.
The method according to claim 1,
Wherein at least one layer of the optical adjustment layer is provided on a surface of the coating layer having piezoelectricity opposite to the base film.
제 1 항에 있어서,
상기 기재 필름과 상기 압전성을 갖는 코팅층 사이에, 적어도 1 층의 제 1 광학 조정층을 구비한, 압전 필름.
The method according to claim 1,
Wherein at least one first optical adjustment layer is provided between the base film and the coating layer having piezoelectricity.
제 4 항에 있어서,
상기 압전성을 갖는 코팅층의, 상기 제 1 광학 조정층과 반대측의 표면에, 적어도 1 층의 제 2 광학 조정층을 구비한, 압전 필름.
5. The method of claim 4,
Wherein at least one second optical adjustment layer is provided on a surface of the coating layer having piezoelectricity opposite to the first optical adjustment layer.
제 1 항에 있어서,
상기 기재 필름과 상기 압전성을 갖는 코팅층 사이에, 적어도 1 층의 안티 블로킹층을 구비한, 압전 필름.
The method according to claim 1,
And at least one anti-blocking layer between the base film and the coating layer having piezoelectricity.
제 3 항에 있어서,
상기 기재 필름의, 상기 압전성을 갖는 코팅층과 반대측의 표면에, 적어도 1 층의 안티 블로킹층을 구비한, 압전 필름.
The method of claim 3,
Wherein at least one anti-blocking layer is provided on the surface of the base film opposite to the coating layer having piezoelectricity.
제 1 항에 있어서,
상기 압전성을 갖는 코팅층의, 상기 기재 필름과 반대측의 표면에, 적어도 1 층의 투명 점착층을 구비한, 압전 필름.
The method according to claim 1,
Wherein at least one transparent adhesive layer is provided on a surface of the coating layer having piezoelectricity opposite to the base film.
제 1 항에 있어서,
상기 기재 필름의, 상기 압전성을 갖는 코팅층과 반대측의 표면에, 적어도 1 층의 투명 점착층을 구비한, 압전 필름.
The method according to claim 1,
Wherein at least one transparent adhesive layer is provided on a surface of the base film opposite to the coating layer having piezoelectricity.
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 압전성을 갖는 코팅층이 불소 수지를 함유하는, 압전 필름.
10. The method according to any one of claims 1 to 9,
Wherein the coating layer having piezoelectricity contains a fluororesin.
제 10 항에 있어서,
상기 불소 수지가, 불화비닐리덴의 중합체, 또는, (불화비닐리덴, 트리플루오로에틸렌, 클로로트리플루오로에틸렌) 중 2 종류 이상의 공중합체인, 압전 필름.
11. The method of claim 10,
Wherein the fluororesin is a polymer of vinylidene fluoride or a copolymer of two or more of (vinylidene fluoride, trifluoroethylene, chlorotrifluoroethylene).
제 11 항에 있어서,
상기 불소 수지가, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체로서, 상기 공중합체에 함유되는 상기 불화비닐리덴과 상기 트리플루오로에틸렌의 몰비가, 전체를 100 으로 하여, (50 ∼ 85) : (50 ∼ 15) 의 범위인, 압전 필름.
12. The method of claim 11,
Wherein the fluororesin is a copolymer of vinylidene fluoride and trifluoroethylene, and the molar ratio of the vinylidene fluoride and the trifluoroethylene contained in the copolymer is 100: (50 to 85): (50 to 15).
제 11 항에 있어서,
상기 불소 수지가, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체로서, 상기 공중합체에 함유되는 상기 불화비닐리덴과 상기 트리플루오로에틸렌과 상기 클로로트리플루오로에틸렌의 몰비가, 전체를 100 으로 하여, (63 ∼ 65) : (27 ∼ 29) : (10 ∼ 6) 의 범위인, 압전 필름.
12. The method of claim 11,
Wherein the fluororesin is a copolymer of vinylidene fluoride, trifluoroethylene and chlorotrifluoroethylene, wherein the molar ratio of the vinylidene fluoride contained in the copolymer to the trifluoroethylene and the chlorotrifluoroethylene is , And the total is 100, and (63 to 65): (27 to 29): (10 to 6).
제 10 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 압전성을 갖는 코팅층이, 상기 불소 수지의 용액을 상기 기재 필름에 도포 및 건조시켜 얻어지는 코팅층인, 압전 필름.
14. The method according to any one of claims 10 to 13,
Wherein the piezoelectric layer is a coating layer obtained by applying a solution of the fluororesin to the substrate film and drying the coating layer.
제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 압전성을 갖는 코팅층의 두께가, 0.5 ㎛ ∼ 20 ㎛ 인, 압전 필름.
15. The method according to any one of claims 1 to 14,
Wherein the thickness of the coating layer having the piezoelectric property is 0.5 mu m to 20 mu m.
제 1 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기재 필름의 재료가, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리올레핀, 폴리시클로올레핀, 시클로올레핀 코폴리머, 폴리카보네이트, 폴리에테르술폰, 폴리아릴레이트, 폴리이미드, 폴리아미드, 폴리스티렌, 폴리노르보르넨의 적어도 1 종에서 선택되는, 압전 필름.
16. The method according to any one of claims 1 to 15,
Wherein the material of the base film is selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyolefin, polycycloolefin, cycloolefin copolymer, polycarbonate, polyether sulfone, polyarylate, polyimide, polyamide, polystyrene, polynorbornene Wherein the piezoelectric film is selected from at least one kind.
제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서,
헤이즈값이 5 % 이하인, 압전 필름.
17. The method according to any one of claims 1 to 16,
And a haze value of 5% or less.
제 1 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서,
전광선 투과율이 90 % 이상인, 압전 필름.
18. The method according to any one of claims 1 to 17,
A piezoelectric film having a total light transmittance of 90% or more.
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015129829A1 (en) * 2014-02-26 2015-09-03 ダイキン工業株式会社 Bimorph-type piezoelectric film
WO2020194135A1 (en) * 2019-03-22 2020-10-01 Gentex Corporation Piezoelectric films with low haze and methods of making and using
CN113121935A (en) * 2019-12-27 2021-07-16 株式会社吴羽 Sheet for touch panel
WO2022091828A1 (en) * 2020-10-30 2022-05-05 株式会社クレハ Piezoelectric film, touch panel, and piezoelectric film manufacturing method
KR20230078716A (en) * 2020-10-30 2023-06-02 가부시끼가이샤 구레하 Transparent piezoelectric laminated film and touch panel

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4383799B2 (en) * 2003-08-13 2009-12-16 三菱樹脂株式会社 Sheet material laminated with fluororesin film
JP2007018869A (en) * 2005-07-07 2007-01-25 Bridgestone Corp Transparent conductive film and touch panel
JP4247282B2 (en) * 2006-07-27 2009-04-02 株式会社コイケ Piezoelectric substrate and manufacturing method thereof
US20100256497A1 (en) * 2007-11-21 2010-10-07 Kenji Ohnuma Oscillator for ultrasonic wave reception, its manufacturing method, ultrasonic wave probe and ultrasonic wave medical diagnostic imaging system
US20090263671A1 (en) * 2008-04-21 2009-10-22 Kui Yao Ferroelectric Poly (Vinylidene Fluoride) Film on a Substrate and Method for its Formation
WO2010018760A1 (en) * 2008-08-12 2010-02-18 コニカミノルタエムジー株式会社 Organic piezoelectric material, method for manufacturing organic piezoelectric material film, ultrasonic oscillator, and ultrasonic probe
JP2011222679A (en) * 2010-04-07 2011-11-04 Daikin Ind Ltd Transparent piezoelectric sheet
US8564177B2 (en) * 2011-09-09 2013-10-22 Dvx, Llc Piezopolymer transducer with matching layer
CN105189106B (en) * 2013-04-10 2017-10-27 三井化学株式会社 Laminated body
JP6866064B2 (en) * 2013-10-08 2021-04-28 ダイキン工業株式会社 Transparent piezoelectric panel
WO2015064328A1 (en) * 2013-10-29 2015-05-07 ダイキン工業株式会社 Piezoelectric film
US10126807B2 (en) * 2014-02-18 2018-11-13 Cambridge Touch Technologies Ltd. Dynamic switching of power modes for touch screens using force touch
JP2015214053A (en) * 2014-05-09 2015-12-03 日東電工株式会社 Laminate
JP6434716B2 (en) * 2014-05-09 2018-12-05 日東電工株式会社 Sheet sensor for touch panel
JP6487178B2 (en) * 2014-10-20 2019-03-20 三井化学株式会社 Laminate
JP2015186910A (en) * 2014-10-20 2015-10-29 三井化学株式会社 laminate

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