KR20190008342A - 전압 균일화를 위한 저항성 코팅 - Google Patents

전압 균일화를 위한 저항성 코팅 Download PDF

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마이클 티. 스테펜슨
슈 에프. 프란츠
헨리 에이. 루텐
존 에스. 앤더슨
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젠텍스 코포레이션
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Abstract

전도층 위에 배치된 저항층을 포함하는 전기변색 장치용 전극이 제공된다. 저항층은 전기변색 장치 내의 전도층과 전기변색 물질 사이에 배치된다. 전기변색 장치가 작동할 때, 전극은 전기변색 물질의 불균일한 반응을 감소시킨다.

Description

전압 균일화를 위한 저항성 코팅
관련출원에 대한 상호 참조
본 출원은 2016년 5월 20일에 출원된 미국 가출원 번호 제 62/339,301호의 우선권 이익을 주장하며, 이의 전체 개시는 임의의 그리고 모든 목적으로 본원에 참조로서 원용된다.
기술분야
본 발명은 일반적으로 전기변색 장치 분야에 관한 것이다.
본 발명은 일반적으로 전기변색 장치 분야에 관한 것이다. 전압을 인가할 때의 전기변색 재료의 색 및 광 투과도의 가변성은 가변 반사율을 갖는 미러 및 가변 광투과율을 갖는 윈도우를 제조할 수 있게 하였다. 전기변색 장치에서, 장치에 걸쳐 실질적으로 균일한 색상, 광 투과도 또는 반사율과 같은 균일한 외관을 유지하는 것이 바람직하다. 전기변색 장치에서 전기변색 물질에 인가된 전압의 변화는 전기변색 물질의 반응에 변화를 일으킬 수 있으며, 이에 따라 전기변색 장치의 외관에 변화를 일으킬 수 있다.
원하지 않는 전압 변화에 대한 전기변색 장치의 민감도는 전기변색 물질의 전류 부하의 함수일 수 있다. 예를 들어, 전기변색 물질의 전류 부하는 전기변색 장치의 면적이 증가하거나, 전기변색 장치의 셀 간격이 감소하거나, 또는 전기변색 염료의 농도가 증가함에 따라 증가할 수 있다. 전기변색 장치의 증가된 전류 부하는 전기변색 장치 양단의 원하지 않는 전압 강하를 생성할 수 있다. 전압 강하는 전기변색 물질의 불균일한 반응 및 전기변색 장치의 불균일한 외관을 생성한다. 전기변색 물질에 전압을 제공하는 전극의 전도성을 증가시킴으로써 전기변색 장치 양단의 전압 강하를 감소시키기 위한 노력이 이루어졌다. 그러나, 전기변색 물질의 현재 부하가 계속 증가함에 따라, 전극의 전도성은 원하지 않는 전압 변화를 완전히 방지하기에 충분히 증가될 수는 없다.
본원에 제공된 구현예는 일반적으로 전기변색 장치에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 구현예는 향상된 전압 균일도를 생성하기 위하여 저항성 코팅을 포함하는 전기변색 장치에 관한 것이다.
구현예는 전기변색 장치용 전극 어셈블리를 제공한다. 전극 어셈블리는 기판, 기판 위에 배치된 전도층, 전도층 위에 배치된 저항층을 포함한다. 기판, 전도층, 및 저항층은 실질적으로 투명하다. 전극 어셈블리는 저항층 위에 배치된 추가의 전도층을 포함할 수 있고, 상기 추가의 전도층은 실질적으로 투명할 수 있다. 전도층은 인듐 주석 옥사이드를 포함할 수 있다. 저항층은 산화된 티타늄 디실리사이드를 포함할 수 있다. 저항층은 하부 전도층 및 EC 물질 사이에 약 1,000 내지 약 10,000 Ω/□(또는 Ω/sq)의 저항을 가질 수 있다. 기판은 유리 재료 또는 폴리머 재료를 포함할 수 있다.
다른 구현예는 전기변색 장치를 제공한다. 전기변색 장치는 제1 기판, 제1 기판 위에 배치된 제1 전도층, 제1 전도층 위에 배치된 제1 저항층, 전기변색 물질, 제2 기판, 제2 기판 위에 배치된 제2 전도층, 및 제2 전도층 위에 배치된 제2 저항층을 포함할 수 있다. 제1 저항층은 제1 전도층과 전기변색 물질 사이에 배치되고, 제2 저항층은 제2 전도층과 전기변색 물질 사이에 배치된다. 전기변색 장치는 전기변색 물질이 전기변색 장치 밖으로 새고/새거나 대기에 노출되는 것을 방지하도록 구성되는 적어도 하나의 밀봉부(seal)를 포함할 수 있다. 전기변색 장치는 제1 저항층과 전기변색 물질 사이에 배치되는 제1 추가 전도층, 및 제2 전도층과 전기변색 물질 사이에 배치되는 제2 추가 전도층을 포함할 수 있다. 전기변색 장치는 약 10 μm 내지 약 750 μm 의 전기변색 셀 간격을 가질 수 있다. 제1 저항층은 약 1,000 Ω/□ 내지 약 10,000 Ω/□의 저항을 가질 수 있고, 제2 저항층은 약 1,000 Ω/□ 내지 약 10,000 Ω/□의 저항을 가질 수 있다. 전기변색 장치는 윈도우 또는 미러일 수 있다.
다른 구현예는 전기변색 장치의 전극을 제조하는 방법을 제공한다. 방법은 기판 위에 전도층을 배치하는 단계, 및 전도층 위에 저항층을 배치하는 단계를 포함한다. 기판, 전도층, 및 저항층은 실질적으로 투명하다. 방법은 저항층 위에 추가의 전도층을 배치하는 단계를 포함할 수 있고, 추가 전도층은 실질적으로 투명할 수 있다. 방법은 전도층 위에 저항층을 배치하기 전에 전도층의 일부 위에 희생 재료(sacrificial material)를 배치하는 단계, 및 저항층 증착 이후 희생 재료를 제거하는 단계를 포함할 수 있다. 희생 재료를 제거하는 단계는 레이저 어블레이션(laser ablation) 공정을 포함할 수 있다. 희생 재료는 크롬을 포함할 수 있다. 저항층을 배치하는 단계는 스퍼터 증착 공정을 포함할 수 있다. 전도층을 배치하는 단계는 화학 기상 증착 또는 물리 기상 증착 공정을 포함할 수 있다.
본 개시의 부분을 형성하는 첨부 도면을 참조하여, 본 명세서에 기술된 시스템 및 방법이 실시될 수 있는 구현예를 도시한다. 도면 전체에 걸쳐 동일한 참조 번호는 동일한 부분을 나타낸다.
도 1은 일 구현예에 따라, 전기변색 장치의 횡단면이다.
도 2는 일 구현예에 따라, 희생 부위를 포함하는 전극 선행물(precursor)의 횡단면이다.
도 3은 일 구현예에 따라, 희생 부위를 제거한 후의 도 3의 전극 선행물(precursor)의 횡단면이다.
도 4는 일 구현예에 따라, 전극 내에 저항층을 포함하지 않는 전기변색 장치의 개략도이다.
도 5는 일 구현예에 따라, 전극 내에 저항층을 포함하는 전기변색 장치의 개략도이다.
도 6은 일 구현예에 따라, 전극 내에 저항층을 포함하는 전기변색 장치의 개략도이다.
도 7은 일 구현예에 따라, 양 전극 내에 저항층을 포함하는 전기변색 장치의 개략도이다.
도 8은 일 구현예에 따라, 좌측에는 각 전극 내에 3,000 Ω의 저항층을 갖는 전기변색 장치와 우측에는 저항층이 없는 전기변색 장치의 실험실 시뮬레이션 사진이다.
도 9는 일 구현예에 따라, 도 8의 각 전극 내에 3,000 Ω의 저항층을 갖는 전기변색 장치의 시뮬레이션 사진으로 12 V의 전압으로 전력 공급되고, 전력 공급된 가장자리는 좌측에 있다.
도 10은 일 구현예에 따라, 도 8의 각 전극 내에 저항층이 없는 전기변색 장치의 시뮬레이션 사진으로 2.2 V의 전압으로 전력 공급되고, 전력 공급된 가장자리는 좌측에 있다.
도 11은 일 구현예에 따라, 저항층 임피던스의 함수로써 전력 공급된 가장자리로부터 10 cm의 거리에서의 전기변색 물질 양단의 전압 강하의 그래프이다.
도 12는 일 구현예에 따라, 저항층 임피던스의 함수로써 전기변색 물질 양단에서 1.2 V의 전압을 달성하기 위해 전극에 공급된 구동 전압의 그래프이다.
도 13은 도 8의 전기변색 장치의 실험실 시뮬레이션에 대한 전위 함수로써의 전류 그래프이다.
이하에서 다양한 구현예가 설명된다. 구체적인 구현예가 한정적인 설명으로 또는 본원에서 논의된 더 넓은 양태에 대한 제한으로서 의도된 것이 아님을 주목하여야 한다. 특별한 구현예와 함께 설명된 일 양태는 이와 같은 구현예로 반드시 제한되지 않고, 임의의 다른 구현예(들)와 함께 실시될 수 있다.
본원에 사용된 바와 같이, "약(about)"은 당업자에게 이해될 것이고 사용되는 문맥에 따라 어느 정도 가변적일 것이다. 당업자에게 명확하지 않은 용어가 사용된다면, 용어가 사용되는 문맥이 주어지는 경우, "약(about)"은 특정 용어의 플러스 또는 마이너스 10 %까지를 의미할 것이다.
(특히 아래의 청구범위의 문맥에서) 요소를 설명하는 문맥에서의 용어 "임의의 하나(a)" 및 "임의의 하나(an)"와 "정해진 하나(the)" 그리고 유사한 지시 대상의 사용은, 여기에서 달리 지시되지 않거나 문맥에서 명확히 부정되지 않는다면, 단일형과 복수형 모두를 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 여기에서 값의 범위의 설명은, 여기에서 달리 지시되지 않는 한, 단지 범위 내에 해당하는 각각의 별도 값을 개별적으로 참조하는 속기 방법의 역할을 하고자 의도되며, 각각의 별도 값은 마치 여기서 개별적으로 인용되는 바와 같이 명세서로 원용된다. 여기에 설명되는 모든 방법은 여기에 달리 지시되지 않거나 또는 달리 문맥으로 명확히 부정되지 않는 한 임의의 적합한 지시로 실행될 수 있다. 임의의 그리고 모든 실시예, 또는 여기에 제공되는 예시적인 언어(예, "와 같은(such as)")의 사용은 달리 언급하지 않는 한 단지 구현예를 보다 양호하게 분명히 하기 위한 것이지 청구항의 범위에 대한 제한을 하고자 의도된 것은 아니다. 본 명세서 내의 어떠한 언어도 필수적인 것으로 임의의 청구되지 않는 요소를 지시하는 것으로 이해되어서는 안 된다.
본원에서 사용되는 바와 같이, "실질적으로 투명한"이라는 용어는 당업자에 의해 이해될 것이고, 사용되는 문맥에 따라 어느 정도 변경될 것이다. 만약 당업자에게 명확하지 않은 용어가 사용된 경우에, 이와 같은 용어가 사용된 문맥을 고려하여, 이와 같은 용어는, 재료가 재료의 2 mm의 두께를 통해서 10°의 반사각으로, 재료로 지향된 400 nm의 파장을 가지는 광의 빔의 약 75 % 이상의 광 투과를 허용한다는 것을 의미한다.
본원에 제공된 구현예는 일반적으로 전기변색 장치에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 구현예는 전기변색 물질 양단의 향상된 전압 균일도를 생성하기 위하여 저항성 코팅을 포함하는 전기변색 장치에 관한 것이다.
높은 전류 부하를 갖는 전기변색 장치는 장치 양단의 원하지 않는 전압 변동으로 인해서 작동 중에 불균일한 외관을 경험할 수 있다. 예를 들어, 에지형 버스 배열을 갖는 고전류 부하형 전기변색 장치는 에지형 버스로부터의 거리에 따라 증가하는 장치 영역 양단에서의 전압 강하를 경험할 수 있다. 이러한 전압 강하로 인해서, 활성화될 때에 장치 양단의 균일한 착색을 유지할 수 없는 전기변색 장치가 생길 수 있으며, 이는 바람직하지 않다. 전기변색 장치가 장치의 중앙에 실질적으로 균일하게 색깔을 낼 수 없는 것을 홍채 효과(irising effect)로 지칭할 수 있다.
장치 양단의 전압 강하는 전기변색 물질에 이용 가능한 전류를 증가시킴으로써 해결될 수 있다. 그러나, 전기변색 물질의 응답은 거기에 인가될 수 있는 전압의 양과 관련하여 자기 제한적일 수 있다. 이러한 이유로, 전기변색 물질에 이용 가능한 전류를 증가시키기 위한 이전의 노력은 전기변색 물질에 전압을 공급하는 전극의 전도성을 증가시키려고 노력해왔다. 이러한 접근법은 전극에 공급된 구동 전압을 증가시키지 않으면서 전기변색 물질에 이용 가능한 전류가 증가되도록 한다. 전극의 전도성을 증가시키기 위한 현재의 노력은 투명 전극 물질로 기술적으로 가능한 한계에 도달했다. 따라서, 전기변색 물질에 이용 가능한 전류를 증가시키는 다른 접근법이 바람직하다.
본 발명은 전기변색 물질 및 전기변색 물질에 전압을 공급하는 전극들 사이에 저항층을 배치함으로써, 전기변색 물질에 인가된 전압을 증가시키지 않으면서 전극에 공급되는 구동 전압을 증가시킬 수 있다는 발명자의 발견을 포함한다. 이러한 접근법은 허용 범위 내에서 전기변색 물질에 공급되는 전압을 유지하면서, 전기변색 물질의 전류 부하 요건을 만족시키기 위해 이용 가능한 전류를 효과적으로 증가시킨다. 이 해결책은 간단하고 비용 효과적인데, 이유는 저전압에서 작동하도록 설계된 현재의 전기변색 물질이 사용될 수 있기 때문이다. 또한, 그러한 배열을 포함하는 시스템의 증가된 전류 전달 용량은 증가된 면적, 감소된 셀 간격 및 증가된 전기변색 염료 농도를 갖는 전기변색 장치의 생산을 허용한다.
도 1을 참조하면, 전술한 유형의 저항층을 포함하는 전기변색 장치(100)의 단면이 도시되어 있다. 전기변색 장치는 제1 기판(110)과 제2 기판(120)을 포함한다. 제1 전도층(112)은 제1 기판(110) 위에 배치되고, 제1 저항층(114)은 제1 전도층(112)과 전기변색 물질(130) 사이에 배치된다. 유사하게, 제2 전도층(122)은 제2 기판(120) 위에 배치되고, 제2 저항층(124)은 제2 전도층(122)과 전기변색 물질(130) 사이에 배치된다. 전압원(미도시)은 전기변색 물질(130) 양단에 전압을 인가하는 방식으로 제1 전도층(112) 및 제2 전도층(122)에 전기적으로 연결된다. 전기변색 물질(130) 양단에 전압을 인가하면 전기변색 물질의 착색이 변함으로써, 전기변색 장치(100)의 외관이 변하게 된다.
일부 구현예에서, 제1 추가 전도층(116)이 제1 저항층(114)와 전기변색 물질(130) 사이에 배치될 수 있다. 유사하게 일부 구현예에서, 제2 추가 전도층(126)이 제2 저항층(124)와 전기변색 물질(130) 사이에 배치될 수 있다. 추가 전도층은 짧은 거리 규모에 대해 저항층의 변동성으로부터 기인하는 임의의 전압 불규칙성을 분산시킴으로써, 저항층 양단의 변동성을 제어하는 역할을 한다. 추가 전도층은 전도층에 직접적으로 전기 연결되지 않는다. 제1 기판(110), 제1 전도층(112), 제1 저항층(114) 및 추가 전도층은 제1 패널로서 제공될 수 있다. 제2 기판(120), 제2 전도층(122), 제1 저항층(124) 및 추가 전도층(126)은 제2 패널로서 제공될 수 있다. 제1 패널과 제2 패널은 밀봉부(140)에 의해 결합되어 전기변색 물질(130)이 수용되는 셀을 생성할 수 있다.
일부 구현예에서, 전기변색 장치(100)는 제2 기판(120) 위에 배치된 반사층(150)을 포함하는 미러일 수 있다. 반사층(150)은 제2 전도층(122)이 위에 형성된 제2 기판(120)의 표면과 반대인 제2 기판(120)의 표면 위에 배치될 수 있다. 선택적으로, 제2 전도층(122) 또는 제2 추가 전도층(126)은 반사성일 수 있다.
일부 구현예에서, 전기변색 장치는 반사층(150)을 포함하지 않는 윈도우일 수 있다. 전기변색 장치가 윈도우인 경우에, 제1 기판(110), 제1 전도층(112), 제1 저항층(114), 제1 추가 전도층(116), 제2 기판(120), 제2 전도층(122), 제2 저항층(124) 및 제2 추가 전도층(126)은 투명하거나 실질적으로 투명하다. 본원에 사용된 바와 같이, "투명(transparent)"은 가시광선 및 선택적으로 근적외선에 대한 투명성을 지칭할 수 있다. 또한, 전기변색 장치가 윈도우인 경우, 전기변색 장치가 활성화 또는 비활성화 상태에 있을 때 전기변색 물질(130)은 투명하거나 실질적으로 투명하다. 본원에서 사용된 바와 같이, 전기 변색 장치의 "활성화된 상태(activated state)"는 전압이 전기변색 물질(130)에 인가되는 상태이다.
제1 기판(110) 및 제2 기판(220)은 본원에서 총체적으로 기판으로 지칭되며 예를 들어, 보로실리케이트 유리, 소다라임 유리, 천연 및 합성 폴리머 레진, 플라스틱, 및/또는 폴리에스테르(예, PET), 폴리이미드(PI), 폴리탄산염, 폴리술폰, 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN), 에틸렌 비닐 아세테이트(EVA), 아크릴레이트 폴리머, 및 Topas®와 같이, 전자기 스펙트럼의 가시 영역에서 투명하거나 실질적으로 투명한 임의의 적합한 재료로부터 제조될 수 있다. 일부 구현예에서, 기판은 유리 또는 플라스틱 시트일 수 있다. 기판을 형성하는 재료의 유형은 사용 온도, 복사선 노출 및 강도 요구와 같은 의도된 사용 조건에 기반하여 선택될 수 있다. 기판의 물리적 치수는 또한 기판이 원하는 물리적 특성을 나타내도록 선택될 수 있다. 또한, 일부 구현예에서 기판은 기판, 전기변색 물질(130), 또는 전기변색 장치(100)의 다른 요소에 대한 자외선 손상을 방지하기 위해 자외선 흡수 물질 또는 층을 포함할 수 있다. 전기변색 장치가 미러인 구현예에서, 제2 기판(120)은 불투명 및/또는 반사성 금속, 유리, 폴리머, 세라믹 또는 복합 재료와 같이 투명하지 않거나 실질적으로 투명한 재료로 제조될 수 있다. 일부 구현예에서, 제1 기판(110) 및 제2 기판(120)은 동일한 재료로 제조될 수 있고, 동일한 두께를 가질 수 있다. 다른 구현예에서 제1 기판(110)은 제2 기판(120)과 상이한 재료로 형성될 수 있고/거나, 상이한 두께를 가질 수 있다.
제1 전도층(112), 제1 추가 전도층(116), 제2 전도층(122) 및 제2 추가 전도층(126)은 본원에서 총체적으로 전도층으로 지칭되며, 투명하거나 실질적으로 투명한 전기 전도성 재료와 같이, 임의의 적절한 전기 전도성 재료일 수 있다. 이러한 전도층은 미국 특허 공보 제 2016/0266460 호에 기술된 것을 포함하지만 이에 한정되지는 않으며, 전체로써 본원에 참조 원용된다.
전도층은 인듐 주석 옥사이드(ITO), 주석 옥사이드, 불소 도핑된 주석 옥사이드(FTO), 아연 옥사이드, 도핑된 아연 옥사이드, 인듐 아연 옥사이드와 같이 당업계에 알려진 투명 전도성 옥사이드로부터 형성될 수 있다. 일부 구현예에서, 전도층은 ITO를 포함한다. 전도층은, 미러의 경우에 반사에 또는 창의 경우에 투명도에 실질적으로 영향을 미치지 않는 치수를 가지는 전도성 나노와이어 코팅 또는 전도성 금속 메시 재료일 수 있고/거나 포함할 수 있다. 예를 들어, 메시 또는 나노와이어 코팅이 50 % 초과의 투과율을 가질 수 있다. 전술한 구현예들 중 임의의 구현예에서, 메시는 60 % 초과, 70 % 초과, 80 % 초과, 또는 90 % 초과의 투과율을 가질 수 있다. 예시적인 나노와이어 코팅 또는 전도성 금속 메시 재료는, 은, 금, 스테인리스 강, 알루미늄, 구리, 니켈, 몰리브덴, 텅스텐, 이리듐, 로듐, 루테늄, 백금, 코발트, 팔라듐, 크롬, 티타늄, 및 그 합금을 포함하지만 이에 제한되지 않는다. 나노와이어계 막은 용액 코팅 화학, 인쇄 프로세스, 사진 기술, 롤링 리소그래피, 또는 자기-조립을 통해서 형성될 수 있다. 용액 코팅 화학을 통한 막의 예는 Cambrios Technologies Corporation로부터의 ClearOhmTM(10 내지 300 Ω/□, 80 %T 초과) 및 Carestream Advanced Materials로부터의 FlexxTM(10 내지 100 Ω/□, 80 %T 초과)을 포함한다. 이들 막은 PET를 기반으로 한다. 자기-조립을 통해서 생산되는 나노와이어계 막은 Cima NanoTech로부터의 Sante®(10 내지 100 Ω/sq, 80 %T 초과)이다. 전도성 금속 메시 막은 인쇄, 롤링 리소그래피, 및 사진 기술을 포함하는 다양한 프로세싱의 어레이를 이용하여 생산된다. Applied Nanotech로부터의 ExclucentTM 막(0.1 Ω/sq 미만, 80 %T)이 인쇄 프로세스를 통해서 생산된다. Rolith사로부터의 NanoWebTM 금속 메시(5 Ω/sq, 80 %T 초과)가 롤링 리소그래피를 통해서 생산된다. Fujifilm은, 은 할로겐화물 사진 프로세스를 이용하여 생산된 ExclearTM 금속 메시(1 내지 50 Ω/sq, 80 %T 초과)를 제공한다. 전도성 재료는 또한, 미국 특허 제7,830,583호 및 제8,368,992호에 개시된 것과 같은 절연체/금속/절연체 적층체("IMI 적층체")일 수 있고/거나 포함할 수 있다. 절연체는 ITO와 같은 투명 전도성 옥사이드일 수 있고, 금속은 은과 같은 전도성 금속일 수 있다. 이와 같은 구조는 5 내지 9 Ω/sq의 시트 저항을 획득할 수 있는 한편, 80 % 초과의 투과 및 110 nm 미만의 두께를 가질 수 있고, 이는 860 nm 두께에서 5 Ω/sq를 가지는 플라스틱 상의 ITO 코팅보다 상당히 작은 것이다. 또한, 메시, 나노와이어 코팅, 및 IMI 적층체는 1,000 Ω/sq 미만의 면저항을 가질 수 있다. 이는 10 Ω/sq 미만 1 Ω/sq 미만, 0.5 Ω/sq 미만, 0.2 Ω/sq 미만, 0.1 Ω/sq 미만, 0.05 Ω/sq 미만, 또는 0.01 Ω/sq 미만의 면저항을 포함할 수 있다. 전술한 구현예들 중 임의의 구현예에서, 메시는 약 0.0001 Ω/sq 내지 약 50 Ω/sq의 면저항을 가질 수 있다. 이는 약 0.0001 Ω/sq 내지 약 10 Ω/sq, 약 0.0001 Ω/sq 내지 약 5 Ω/sq, 약 0.0001 Ω/sq 내지 약 1 Ω/sq, 약 0.001 Ω/sq 내지 약 10 Ω/sq, 및 약 0.001 Ω/sq 내지 약 1 Ω/sq의 면저항을 가지는 메시, 나노와이어 코팅, 및 IMI 적층체를 포함할 수 있다.
일부 구현예에 따라 전도층은 0.1 내지 1,000 Ω/□의 면저항을 나타낼 수 있다. 이는 1 내지 1,000 Ω/□, 1 내지 100 Ω/□, 또는 1 내지 50 Ω/□를 포함할 수 있다. 전도층은 또한 제1 기판 및 제2 기판과의 충분한 결합 강도, 전기 전도성 및 내식성을 보장하도록 선택될 수 있다. 전기변색 장치가 미러인 구현예에서, 제2 전도층(122) 및/또는 제2 추가 전도층(126)은 투명하거나 실질적으로 투명하지 않을 수 있다.
제1 저항층(114) 및 제2 저항층(124)은 본원에서 총체적으로 저항층으로 지칭되며, 투명하거나 실질적으로 투명한 저항성 재료와 같이 임의의 적절한 저항성 재료일 수 있다. 저항층은 적어도 약 1,000 Ω/□ 및 약 1,000 내지 6,000 Ω/□와 같이 약 10,000 Ω/□ 미만의 저항을 가질 수 있다. 일부 구현예에서 저항층은 약 3,000 Ω/□의 저항을 가질 수 있다. 일부 구현예에서, 저항층은 약 1,000 Ω/□ 내지 약 10,000 Ω/□의 저항을 가진다. 다양한 다른 구현예에서, 저항층은 약 1,000 Ω/□ 내지 약 6,000 Ω/□ 또는 약 2,000 Ω/□ 내지 4,000 Ω/□의 저항을 가진다. 저항층은 구동 전압이 감소하여 최소 착색 전위(minimum coloring potential) 이상 및 전기변색 물질의 손상 전위(damage potential) 이하의 최대 전압을 인가하도록 선택될 수 있다. 일부 구현예에서, 저항층은 산화 티타늄 디실리사이드, 도핑되지 않은 주석 옥사이드, 세라믹, 폴리머 및 폴리머/나노 입자 복합체를 포함할 수 있다. 저항층은 전도층과 충분한 결합 강도를 생성하는 재료로 형성될 수 있고, 저항층의 두께는 저항층을 투명하거나 실질적으로 투명하게 만들 수 있다.
전기변색 물질(130)은 단일층, 단상 전기변색 물질, 다층 전기변색 물질 또는 다상 전기변색 물질과 같이 임의의 적합한 전기변색 물질일 수 있다. 예시적인 전기변색 물질은, 미국 특허 제4,902,108호; 제5,888,431호; 제5,940,201호; 제6, 057, 956호; 제6,268,950호, 제6,635,194호, 및 제8,928,966호, 그리고 미국 특허 공보 제2002/0015214호, 제 2016/0377946호 및 미국 특허 출원 제15/065,808에서 설명된 것을 포함하며, 각각은 본원에 전체로써 참조 원용된다. 아노드 및 캐소드 전기변색 물질 또한 미국 특허 제6,249,369호에 기술된 것처럼 커플링된 물질을 포함할 수 있다. 그리고, 전기변색 물질의 농도는 미국 특허 제6,137,620호에 교시된 바와 같이 선택될 수 있다. 전기변색 물질은 특정 전압에 노출될 때 하나 이상의 파장에서 소광 계수의 변화를 나타낼 수 있으며, 이러한 거동은 전기변색 물질의 착색 또는 투과도의 변화로써 관측될 수 있다. 일부 구현예에서, 전기변색 물질은 인가된 전압에 응답하여 전기변색 장치의 외관에 변화를 생성할 수 있다.
밀봉부(140)는 레진 재료와 같이 임의의 적합한 밀봉 재료일 수 있다. 밀봉부는 전도층과 충분한 결합 강도를 생성하도록 선택될 수 있다. 밀봉부(140)는 전기변색 장치의 셀 공간에서 전기변색 물질을 유지하도록 구성되며, 전기변색 물질(130)에 불용성이거나 실질적으로 불용성인 재료로 형성될 수 있다. 밀봉부(140)는 에폭시, 우레탄, 시아노아크릴레이트, 아크릴, 폴리이미드, 폴리아미드, 폴리설파이드, 페녹시 레진, 폴리올레핀, 실리콘, 또는 이들 중 둘 이상의 조합으로부터 형성될 수 있다.
일부 구현예에서 전기변색 장치는 감지 전극을 포함할 수 있다. 감지 전극은 전기변색 물질에 인가된 전압을 측정하도록 구성될 수 있다. 제어 회로 또는 장치는 측정된 전압을 활용하여 전압원에 의해 공급된 구동 전압을 조정하여 약 1.2 V와 같은 원하는 범위에서 전기변색 물질에 인가된 전압을 유지할 수 있다. 전기변색 물질에서의 원하는 전압을 생성하기 위해 필요한 구동 전압은 온도와 같은 환경 요인에 의존할 수 있다. 이러한 이유로, 감지 전극은 전기화학 장치가 다양한 환경 조건에 적용될 수 있는 응용 분야에서는 특히 유용할 수 있다.
전기변색 장치용 전극은 임의의 적절한 공정에 의해 형성될 수 있다. 일부 구현예에서, 전극은 기판 위에 전도층을 배치함으로써 형성될 수 있다. 전도층은 화학 기상 증착(CVD) 공정 또는 물리 기상 증착(PVD) 공정과 같이 임의의 적합한 증착 공정에 의해 형성될 수 있다. 일부 구현예에서, 전도층은 스퍼터 증착 공정에 의해 형성될 수 있다.
저항층은 그 다음 임의의 적합한 증착 공정에 의해 전도층 위에 배치될 수 있다. 일부 구현예에서 저항층은 CVD 공정 또는 스퍼터 증착 공정과 같은 PVD 공정에 의해 형성될 수 있다.
추가 전도층은 그 다음 임의의 적합한 증착 공정에 의해 저항층 위에 배치될 수 있다. 일부 구현예에서 저항층은 CVD 공정 또는 스퍼터 증착 공정과 같은 PVD 공정에 의해 형성될 수 있다. 추가 전도층은 전도층과 동일한 증착 공정을 활용하여 배치될 수 있다.
일부 구현예에서 희생 재료는 저항층을 증착하기 전에 전도층의 일부 위에 배치될 수 있다. 희생 재료는 저항층, 및 크롬을 포함하는 재료와 같은 추가 전도층의 증착 완료 이후에 전극으로부터 제거될 수 있는 임의의 적절한 재료일 수 있다. 도 2는 전도층(222)의 일부 위에 배치되고, 저항층(224) 및 추가 전도층(226) 아래에 배치되는 희생 재료(230)를 포함하는 전극(200)을 나타낸다. 전극(200)은 전도층이 그 위에 배치되는 기판(200)을 포함한다. 도 3에 나타난 바와 같이, 희생 재료의 제거는 희생 재료 위에 배치된 저항층 및 추가 전도층의 일부를 제거함으로써 전도층(222)에 액세스(232)를 제공한다. 희생 재료의 제거는 전압원이 전도층에 편리하게 연결되게 한다. 희생 재료는 전도층 또는 기판을 손상시키지 않는 임의의 적절한 공정에 의해 제거될 수 있다. 일부 구현예에서, 희생 재료는 레이저 어블레이션 공정에 의해 제거될 수 있다.
전극은 전기변색 장치를 형성하기 위해 그 다음 조립될 수 있다. 전극은 전기변색 물질로 채워질 전기변색 셀을 형성하도록 조립될 수 있다. 전기변색 셀 간격은 전극 사이의 거리로 결정될 수 있다. 셀 간격은 약 20 μm 내지 약 600 μm와 같이 약 10 μm 내지 약 750 μm의 범위일 수 있다. 일부 구현예에서 셀 간격은 약 135 μm일 수 있다. 일부 구현예에서, 원하는 셀 간격을 유지하기 위해 전극 사이에 유리 또는 폴리머 비드와 같은 스페이서가 배치될 수 있다. 전기변색 셀의 열린 가장자리는 밀봉부로 닫혀진다. 밀봉부는 또한 전극 어셈블리를 같이 결합하는 기능을 할 수도 있다.
전기변색 셀은 전기변색 물질로 그 다음 채워진다. 전기변색 물질이 전기변색 셀로 제공되는 개구(opening)는 그 다음 플러그 또는 밀봉부로 닫혀진다. 닫혀진 전기변색 셀은 전기변색 물질이 전기변색 장치 밖으로 새고/새거나 대기에 노출되는 것을 방지한다.
전기변색 장치의 제조는 또한 전압원 및 제어 회로로부터 전극으로의 전기적 접속을 확립하는 것을 포함할 수 있다. 전기적 접속은 당 업계에 알려진 유형의 배선 및 솔더 접속과 같은 임의의 적절한 수단을 통해 확립될 수 있다. 전압원은 임의의 적절한 전압원일 수 있으며, 직류 전압원일 수 있다. 일부 구현예에서, 전압원은 임의의 적절한 전압원일 수 있고, 약 12 V 이하에서 작동하는 직류 전압원일 수 있다. 컴퓨터 제어 회로와 같이 제어 회로는 전기변색 장치에 공급되는 전압을 변경시킬 수 있다.
저항층의 효과를 확인하기 위해 전기변색 장치는 LT SPICE 소프트웨어로 시뮬레이션 되었다. 모델링된 전기변색 장치는 1 cm x 10 cm이고 단일 측부에서 전력을 공급받는다. 전기변색 장치는 4.25 Ω/□의 면저항으로 모델링 되었고, 전기변색 물질은 1,430 Ω/□ (1.2 V에서 0.00083 mA의 정상 상태 전류)의 저항을 갖는다. 전술한 유형의 저항층을 갖지 않는 전기변색 장치가 도 4에 도시되어있고, 이 시뮬레이션은 전기변색 장치의 베이스라인 성능을 확립하기 위해 사용되었다. 이 시뮬레이션은 137 μm의 셀 간격에 기반한다. 도 4에 나타난 시뮬레이션에서, 요소(R1-R10)는 제1 전도층에 대응하고, 요소(R21-R30)는 전기변색 물질에 대응하고, 요소(R11-R20)는 제2 전도층에 대응한다. 도 4에 나타난 회로에 대한 DC 스윕 시뮬레이션은 1.2 V의 전원으로부터의 구동 전압을 갖고, 노드 R1-R21 양단에는 1.17 V의 측정 전압이, 노드 R10-R30 양단에는 1.045 V로 측정된 전압이 나왔다. 따라서, 저항층을 포함하지 않는 전기변색 장치는 장치 양단에 전압 강하 125 mV를 나타냈다.
도 5는 제1 전도층에 대응하는 요소(R1-R10)와 전기변색 물질에 대응하는 요소(R21-R30) 사이에 배치된 요소(R31-R40)에 대응하는 저항층을 갖는 전기변색 장치의 시뮬레이션을 도시한다. 저항층 요소(R31-R40)는 300 Ω 저항으로 모델링 된다. 도 5에 나타난 회로에 대한 DC 스윕 시뮬레이션은 노드 R31-R21 양단의 측정된 전압 1.2 V를 생성하는 전원으로부터의 구동 전압을 갖고, 노드 R40-R30 양단에는 1.103 V의 측정 전압 결과를 나타낸다. 따라서, 도 5에 나타난 저항층을 포함하는 전기변색 장치는 장치 양단에 전압 강하 97 mV를 나타냈다.
도 6은 저항층 요소(R31-R40)는 1,000 Ω 저항으로 모델링 된다는 점을 제외하고는 도 5에 나타난 장치와 유사한 전기변색 장치 시뮬레이션을 도시한다. 도 6에 나타난 회로에 대한 DC 스윕 시뮬레이션은 노드 R31-R21 양단의 측정된 전압 1.2 V를 생성하는 전원으로부터의 구동 전압을 갖고, 노드 R40-R30 양단에는 1.175 V의 측정 전압 결과를 나타낸다. 따라서, 도 6에 나타난 저항층을 포함하는 전기변색 장치는 장치 양단에 전압 강하 25 mV를 나타냈다.
도 7은 제2 저항층이 전기변색 물질과 제2 전도층 사이에 제공된 것으로 도 6에 나타난 장치와 유사한 전기변색 장치 시뮬레이션을 도시한다. 제2 저항층은 요소(R41-R50)에 해당하며, 1,000 Ω 저항으로 모델링 된다. 도 7에 나타난 회로에 대한 DC 스윕 시뮬레이션은 전력 에지에 가장 가까운 노드에서의 전기변색 물질 양단의 측정 전압 1.2 V를 생성하는 전원으로부터의 구동 전압을 갖고 전력 에지로부터 가장 멀리 떨어진 노드에서의 전기변색 물질 양단의 측정 전압은 1.08 V 결과를 나타냈다. 구동 전압은 2.95 V였다. 따라서, 도 7에 나타낸 전기변색 장치는 장치 양단에 120 mV의 전압 강하를 나타냈다. 전기변색 장치는 3,000 Ω 저항으로 모델링 된 저항층을 갖고서 또한 시뮬레이션 되었다.
도 7에 나타난 회로에 대한 DC 스윕 시뮬레이션은 구동 전압 1.2 V를 갖고서 전력 에지에 가장 가까운 노드에서의 전기변색 물질 양단의 측정 전압 1.142 V를 그리고 전력 에지로부터 가장 멀리 떨어진 노드에서의 전기변색 물질 양단의 측정 전압은 0.892 V를 나타냈다. 따라서, 도 7에 나타난 전기변색 장치는 구동 전압 1.2 V를 사용할 때 장치 양단에 0.25 V의 전압 강하를 나타냈다.
소프트웨어 시뮬레이션에 의해 예측된 거동을 확인하기 위해, 전기변색 장치의 실험실 시뮬레이션이 생성되었다. 도 8에 나타난 바와 같이 각각의 전극에 3,000 Ω의 저항층을 갖는 전기변색 장치가 좌측에 나타난 바와 같이 제조되었고, 우측에는 저항층이 없는 전기변색 장치가 대조군으로 제조되었다. 발광 다이오드(LED)는 전기변색 물질을 시뮬레이션 하기 위해 사용되었는데, LED 요소는 전기변색 물질과 몇 가지 유사점이 있으며 효과를 시각적으로 보여준다. 도 9는 12 V의 구동 전압을 갖는 3,000 Ω 저항층을 갖는 장치의 조명 응답을 보여준다. 도 9에 나타난 LED 요소에 의해 생성된 광 세기는 장치 전체에 걸쳐 실질적으로 균일하다. 도 10은 2.2 V의 구동 전압을 갖는 저항층이 없는 장치의 조명 응답을 도시한다. LED 요소에 의해 생성된 광 세기는 장치의 전력 에지로부터의 거리가 증가함에 따라 현저한 감소를 나타내었다. 도 9 및 도 10의 이미지는 눈부심을 최소화하는 필터로 제작되었다.
시뮬레이션 된 전기변색 장치는 이러한 장치의 거동 경향에 대한 정보를 주었다. 도 11은 전력(버스 전극) 에지로부터 전력 에지에서 10 cm 지점까지의 전기변색 물질 양단의 전압 강하를 저항층 임피던스의 함수로써 도시한다. 도 11에 나타난 바와 같이 전압 강하는 저항층 임피던스가 증가함에 따라 감소한다. 도 12는 전기변색 장치의 전력 에지에서 전기변색 구성 양단의 전압 1.2 V를 달성하기 위해 필요한 구동 전압을 저항층 임피던스의 함수로써 도시한다. 도 12에 나타난 바와 같이 구동 전압은 저항층 임피던스가 증가함에 따라 증가한다. 도 11 및 도 12는 위에 설명된 유형의 LT SPICE 시뮬레이션을 사용하여 만들어졌다.
도 13은 전기변색 물질에 공급되는 전류를 전기변색 물질의 양단 전위의 함수로써 도시한다. 도 13에 보고된 데이터는 전술한 LED 요소를 포함한 실험실 시뮬레이션을 이용하여 만들어졌다. 도 13에 나타난 바와 같이 3,000 Ω 저항으로 모델링 된 저항층을 포함하는 장치는 장치와 관련한 I-E 커브의 휨(bending)을 유도한다. 저항층의 포함은 주어진 전류를 생성하는 데 필요한 전압을 약 1.5 V 이상으로 증가시킨다.
저항층을 포함하는 전기변색 장치를 포함하는 것과 관련하여 전술한 원리는 임의의 전기변색 장치에 적용될 수 있다. 예를 들어, 전기변색 장치는 윈도우, 미러 또는 디스플레이일 수 있다.
본원에 사용된 용어는 특정 구현예를 설명하기 위한 것이며 제한하려는 것은 아니다. 본원에서 사용된 용어 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 명시된 특징, 정수, 단계, 동작, 요소 및/또는 구성요소의 존재를 나타내지만, 하나 이상의 다른 특징, 정수, 단계, 동작, 요소 및/또는 구성 요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.
전술한 설명과 관련하여, 변경이 상세하게 이루어질 수 있음을 이해해야 하며, 특히 본 개시의 범위를 벗어나지 않고서 사용되는 구조 재료 및 부품의 형상, 크기 및 배열과 관련해서 그러하다. 본원에서 사용된 "구현예(embodiment)"라는 단어는 반드시 동일한 구현예를 지칭할 수도 있지만 반드시 그런 것은 아니다. 본원에 기술된 구현예는 오직 예시적이다. 본원의 기본 범위를 벗어나지 않고서 다른 구현예가 더 고안될 수 있다.
본 발명은 다음의 문자 표시된 단락에 열거된 특징 및 특징의 조합을 포함할 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니며, 다음 단락은 첨부된 청구항의 범위를 제한하는 것으로써 또는 모든 그러한 특징이 반드시 그러한 청구항에 포함되어야 하는 것으로써 해석되어서는 아니 됨을 이해해야 한다.
A. 전기변색 장치를 위한 전극 어셈블리로서,
기판;
상기 기판 위에 배치된 전도층; 및
상기 전도층 위에 배치된 저항층을 포함하되,
상기 기판, 상기 전도층, 및 상기 저항층은 실질적으로 투명한 전극 어셈블리.
B. 단락A에 있어서, 상기 저항층 위에 배치된 추가의 전도층을 더 포함하되, 상기 추가의 전도층은 실질적으로 투명한 전극 어셈블리.
C. 단락A 또는 단락B에 있어서, 상기 기판 위에 배치된 상기 전도층은 인듐 주석 옥사이드를 포함하는 전극 어셈블리.
D. 단락A 내지 단락C 중 어느 한 단락에 있어서, 상기 저항층은 산화된 티타늄 디실리사이드를 포함하는 전극 어셈블리.
E. 단락A 내지 단락D 중 어느 한 단락에 있어서, 상기 저항층은 약 1,000 Ω/□ 내지 약 10,000 Ω/□의 저항을 갖는 전극 어셈블리.
F. 단락A 내지 단락E 중 어느 한 단락에 있어서, 상기 기판은 유리 재료 또는 폴리머 재료를 포함하는 전극 어셈블리.
G. 전기변색 장치로서,
제1 기판;
상기 제1 기판 위에 배치된 제1 전도층;
상기 제1 전도층 위에 배치된 제1 저항층;
전기변색 물질;
제2 기판;
상기 제2 기판 위에 배치된 제2 전도층; 및
상기 제2 전도층 위에 배치된 제2 저항층을 포함하되,
상기 제1 저항층은 상기 제1 전도층과 상기 전기변색 물질 사이에 배치되고, 상기 제2 저항층은 상기 제2 전도층과 상기 전기변색 물질 사이에 배치되는 전기변색 장치.
H. 단락G에 있어서, 상기 전기변색 물질이 상기 전기변색 장치 밖으로 새는 것을 방지하고/하거나 상기 전기변색 물질의 대기 노출을 방지하도록 구성되는 적어도 하나의 밀봉부를 더 포함하는 전기변색 장치.
I. 단락G 또는 단락H에 있어서, 상기 제1 전도층은 인듐 주석 옥사이드를 포함하는 전기변색 장치.
J. 단락G 내지 단락I 중 어느 한 단락에 있어서, 상기 제2 전도층은 인듐 주석 옥사이드를 포함하는 전기변색 장치.
K. 단락G 내지 단락J 중 어느 한 단락에 있어서, 상기 제1 저항층은 산화된 티타늄 디실리사이드를 포함하는 전기변색 장치.
L. 단락G 내지 단락K 중 어느 한 단락에 있어서, 상기 제2 저항층은 산화된 티타늄 디실리사이드를 포함하는 전기변색 장치.
M. 단락G 내지 단락L 중 어느 한 단락에 있어서, 상기 제1 저항층과 상기 전기변색 물질 사이에 배치되는 제1 추가 전도층, 및 상기 제2 저항층과 상기 전기변색 물질 사이에 배치되는 제2 추가 전도층을 더 포함하는 전기변색 장치.
N. 단락M에 있어서, 상기 제1 전도층은 인듐 주석 옥사이드를 포함하는 전기변색 장치.
O. 단락M 또는 단락N에 있어서, 상기 제2 추가 전도층은 인듐 주석 옥사이드를 포함하는 전기변색 장치.
P. 단락G 내지 단락O 중 어느 한 단락에 있어서, 상기 전기변색 장치는 약 10 μm 내지 약 750 μm의 전기변색 셀 간격을 가지는 전기변색 장치.
Q. 단락G 내지 단락P 중 어느 한 단락에 있어서, 상기 제1 저항층은 약 1,000 Ω/□ 내지 약 10,000 Ω/□의 저항을 갖고, 상기 제2 저항층은 1,000 Ω/□ 내지 약 10,000 Ω/□의 저항을 갖는 전기변색 장치.
R. 단락G 내지 단락Q 중 어느 한 단락에 있어서, 상기 제1 기판은 유리 재료 또는 폴리머 재료를 포함하는 전기변색 장치.
S. 단락G 내지 단락R 중 어느 한 단락에 있어서, 상기 제2 기판은 유리 재료 또는 폴리머 재료를 포함하는 전기변색 장치.
T. 단락G 내지 단락S 중 어느 한 단락에 있어서, 상기 전기변색 장치는 윈도우 또는 미러인 전기변색 장치.
U. 전기변색 장치용 전극을 제조하는 방법으로서,
기판 위에 전도층을 배치하는 단계; 및
상기 전도층 위에 저항층을 배치하는 단계를 포함하되,
상기 기판, 상기 전도층, 및 상기 저항층은 실질적으로 투명한 방법.
V. 단락U에 있어서, 상기 전도층은 인듐 주석 옥사이드를 포함하는 방법.
W. 단락U 또는 단락V에 있어서, 상기 저항층은 산화된 티타늄 디실리사이드를 포함하는 방법.
X. 단락U 내지 단락W 중 어느 한 단락에 있어서, 상기 기판은 유리 재료 또는 폴리머 재료를 포함하는 방법.
Y. 단락U 내지 단락X 중 어느 한 단락에 있어서, 상기 저항층 위에 추가의 전도층을 배치하는 단계를 더 포함하되, 상기 추가의 전도층은 실질적으로 투명한 방법.
Z. 단락Y에 있어서, 상기 추가 전도층은 인듐 주석 옥사이드를 포함하는 방법.
AA. 단락U 내지 단락Z 중 어느 한 단락에 있어서,
상기 전도층 위에 상기 저항층을 배치하기 전에 상기 전도층의 일부 위에 희생 재료를 배치하는 단계; 및
상기 저항층의 증착 이후 상기 희생 재료를 제거하는 단계를 더 포함하는 방법.
AB. 단락AA에 있어서, 상기 희생 재료를 제거하는 단계가 레이저 어블레이션 공정을 포함하는 방법.
AC. 단락AA 또는 단락AB에 있어서, 상기 희생 재료는 크롬을 포함하는 방법.
AD. 단락U 내지 단락AC 중 어느 한 단락에 있어서, 상기 저항층을 배치하는 단계는 스퍼터 증착 공정 또는 습식 화학 적용 코팅을 포함하는 방법.
AE. 단락U 내지 단락AD 중 어느 한 단락에 있어서, 상기 전도층을 배치하는 단계는 화학 기상 증착 또는 물리 기상 증착 공정을 포함하는 방법.
다른 구현예는 아래 청구범위에 기재되어 있다.

Claims (19)

  1. 전기변색 장치를 위한 전극 어셈블리로서,
    기판;
    상기 기판 위에 배치된 전도층; 및
    상기 전도층 위에 배치된 저항층을 포함하되,
    상기 기판, 상기 전도층, 및 상기 저항층은 실질적으로 투명한 전극 어셈블리.
  2. 제1항에 있어서, 상기 저항층 위에 배치된 추가의 전도층을 더 포함하되, 상기 추가의 전도층은 실질적으로 투명한 전극 어셈블리.
  3. 제1항에 있어서, 상기 전도층은 인듐 주석 옥사이드를 포함하는 전극 어셈블리.
  4. 제1항에 있어서, 상기 저항층은 산화된 티타늄 디실리사이드를 포함하는 전극 어셈블리.
  5. 제1항에 있어서, 상기 저항층은 약 1,000 Ω/□ 내지 약 10,000 Ω/□의 저항을 갖는 전극 어셈블리.
  6. 제1항에 있어서, 상기 기판은 유리 재료 또는 폴리머 재료를 포함하는 전극 어셈블리.
  7. 제1 기판;
    상기 제1 기판 위에 배치된 제1 전도층;
    상기 제1 전도층 위에 배치된 제1 저항층;
    전기변색 물질;
    제2 기판;
    상기 제2 기판 위에 배치된 제2 전도층; 및
    상기 제2 전도층 위에 배치된 제2 저항층을 포함하되,
    상기 제1 저항층은 상기 제1 전도층과 상기 전기변색 물질 사이에 배치되고, 상기 제2 저항층은 상기 제2 전도층과 상기 전기변색 물질 사이에 배치되는 전기변색 장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 전기변색 물질이 상기 전기변색 장치 밖으로 새는 것을 방지하고/하거나 상기 전기변색 물질의 대기 노출을 방지하도록 구성되는 적어도 하나의 밀봉부를 더 포함하는 전기변색 장치.
  9. 제7항에 있어서, 상기 제1 저항층과 상기 전기변색 물질 사이에 배치되는 제1 추가 전도층, 및 상기 제2 저항층과 상기 전기변색 물질 사이에 배치되는 제2 추가 전도층을 더 포함하는 전기변색 장치.
  10. 제7항에 있어서, 상기 전기변색 장치는 약 10 μm 내지 750 μm 의 전기변색 셀 간격을 가지는 전기변색 장치.
  11. 제7항에 있어서, 상기 제1 저항층은 약 1,000 Ω/□ 내지 약 10,000 Ω/□의 저항을 갖고, 상기 제2 저항층은 1,000 Ω/□ 내지 약 10,000 Ω/□의 저항을 갖는 전기변색 장치.
  12. 제7항에 있어서, 상기 전기변색 장치는 윈도우 또는 미러인 전기변색 장치.
  13. 전기변색 장치용 전극을 제조하는 방법으로서,
    기판 위에 전도층을 배치하는 단계; 및
    상기 전도층 위에 저항층을 배치하는 단계를 포함하되,
    상기 기판, 상기 전도층, 및 상기 저항층은 실질적으로 투명한 방법
  14. 제13항에 있어서, 상기 저항층 위에 추가의 전도층을 배치하는 단계를 더 포함하되, 상기 추가의 전도층은 실질적으로 투명한 방법.
  15. 제13항에 있어서,
    상기 전도층 위에 상기 저항층을 배치하기 전에 상기 전도층의 일부 위에 희생 재료를 배치하는 단계; 및
    상기 저항층의 증착 이후 상기 희생 재료를 제거하는 단계를 더 포함하는 방법.
  16. 제15항에 있어서, 상기 희생 재료를 제거하는 단계가 레이저 어블레이션 공정을 포함하는 방법.
  17. 제15항에 있어서, 상기 희생 재료는 크롬을 포함하는 방법.
  18. 제13항에 있어서, 상기 저항층을 배치하는 단계는 스퍼터 증착 공정 또는 습식 화학 적용 코팅을 포함하는 방법.
  19. 제13항에 있어서, 상기 전도층을 배치하는 단계는 화학 기상 증착 또는 물리 기상 증착 공정을 포함하는 방법.
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