KR20190002088U - 나사마이크로미터 기준봉의 측정장치 - Google Patents

나사마이크로미터 기준봉의 측정장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20190002088U
KR20190002088U KR2020180000598U KR20180000598U KR20190002088U KR 20190002088 U KR20190002088 U KR 20190002088U KR 2020180000598 U KR2020180000598 U KR 2020180000598U KR 20180000598 U KR20180000598 U KR 20180000598U KR 20190002088 U KR20190002088 U KR 20190002088U
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
jig
support part
rod
support
measuring
Prior art date
Application number
KR2020180000598U
Other languages
English (en)
Other versions
KR200490676Y1 (ko
Inventor
김임식
차민수
최병인
Original Assignee
두산중공업 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 두산중공업 주식회사 filed Critical 두산중공업 주식회사
Priority to KR2020180000598U priority Critical patent/KR200490676Y1/ko
Publication of KR20190002088U publication Critical patent/KR20190002088U/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR200490676Y1 publication Critical patent/KR200490676Y1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B5/00Measuring arrangements characterised by the use of mechanical techniques
    • G01B5/08Measuring arrangements characterised by the use of mechanical techniques for measuring diameters
    • G01B5/12Measuring arrangements characterised by the use of mechanical techniques for measuring diameters internal diameters
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B5/00Measuring arrangements characterised by the use of mechanical techniques
    • G01B5/0002Arrangements for supporting, fixing or guiding the measuring instrument or the object to be measured

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • A Measuring Device Byusing Mechanical Method (AREA)
  • Length-Measuring Instruments Using Mechanical Means (AREA)

Abstract

본 고안의 일 실시예는 나사마이크로미터 측정장비의 베이스 상에 한 쌍이 이격 배치되어 기준봉을 측정하는 측정장치로서, 상기 베이스 상에 고정되는 제2 받침부; 상기 제2 받침부의 일단에 배치되며, 상기 기준봉과 수평으로 지그봉을 지지하는 지지부;를 포함하는 나사마이크로미터 기준봉의 측정장치를 제공한다.

Description

나사마이크로미터 기준봉의 측정장치{TESTING APPARATUS FOR THREAD MICROMETER}
본 고안은 나사의 유효경을 측정하는 나사마이크로미터에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 나사마이크로미터 기준봉의 측정장치에 관한 것이다.
일반적으로 마이크로미터는 각종 금속가공물 등의 직경 및 길이 치수를 정밀하게 측정할 때 사용되는 것이다.
이러한 마이크로미터는 측정용도에 따라 종류 및 크기가 다양하게 사용되고 있다. 이에 마이크로미터가 제공하는 측정치수가 검사대상물의 치수기준이 되기 때문에 측정 치수에 대한 정밀도는 매우 중요하다.
그러나 종래의 마이크로미터의 측정 정밀도를 검사하는 데에 있어서는, 마이크로미터가 소형일 경우는 마이크로미터의 프레임부를 고정치부로 쉽게 장착시켜 간편하게 측정할 수 있지만, 마이크로미터의 크기가 대형일수록 최소한 2명 이상의 작업자가 필요하고 작업자 한사람은 대형 마이크로미터를 들고, 다른 작업자는 기준게이지를 들어서 교정하기 때문에, 작업자의 측정시 미세한 움직임이 손쉽게 발생하게 되면서, 피교정 게이지블럭 단면과 스핀들, 앤빌의 중심이 일정하게 일직선으로 유지되지 않아 전체적으로 마이크로미터의 교정 시 오차를 발생되는 문제가 있었다.
특히, 봉형 마이크로미터의 경우 최대 5m이상 연장시켜 사용할 수 있도록 한 것으로 길이가 길어 측정치수를 검사할 수 있는 검사장치가 현재까지 없는 실정이며, 이에 측정치수 만큼의 기준게이지를 연결하여 검사자가 연장된 마이크로미터를 잡은 상태에서 기준게이지에 접촉시켜 측정함으로써 검사 자체에 오류가 많이 발생하여 정밀한 측정이 어려운 문제점이 있다.
일예로, 마이크로미터 중 나사마이크로미터는 나사의 유효경을 측정할 수 있는 기구이다.
나사마이크로미터를 사용할 때는 항상 영점을 교정하여 사용하여야 측정에 대한 측정오차를 줄이고 정밀도를 향상시킬 수 있다.
예컨대, 나사마이크로미터는 영점이 틀어진 경우 눈금을 읽을 때마다 틀어진 만큼의 오차가 발생한다. 따라서, 영점을 먼저 맞춘 후에 측정을 하여야 한다.
이때, 통상 20밀리 이상의 나사마이크로미터는 기준봉이 제공되며, 이 기준봉을 이용하여 교정할 수 있다. 기준봉의 일단은 숫놈 타입으로 끝으로 갈수록 테이퍼지게 형성되고, 타단은 암놈 타입으로 홈이 형성될 수 있다.
예컨대, 도 1 및 도 2와 같이, 기존에는 나사마이크로미터 기준봉의 양단 즉, 숫놈 타입의 일단 및 암놈 타입의 타단을 투영기를 이용하여 투영한 후 측정자가 이를 토대로 기준봉의 치수를 확인하였다.
그러나 이와 같은 경우 측정 시간이 오래 소요되고, 또한 측정자에 따라 치수 오차가 발생할 수 있는 문제가 있었다.
한국공개실용신안 20-1991-0001166
본 고안은 기준봉의 정밀한 측정이 가능한 나사마이크로미터 기준봉의 측정장치를 제공한다.
본 고안의 목적은 전술한 바에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 본 고안의 다른 목적 및 장점들은 하기의 설명에 의해서 이해될 수 있다.
본 고안의 실시예에 의한 나사마이크로미터 기준봉의 측정장치는, 나사마이크로미터 측정장비의 베이스 상에 한 쌍이 이격 배치되어 기준봉을 측정하는 측정장치로서, 상기 베이스 상에 고정되는 제2 받침부; 상기 제2 받침부의 일단에 배치되며, 상기 기준봉과 수평으로 지그봉을 지지하는 제2 지지부;를 포함할 수 있다.
본 고안의 실시예에서, 상기 제2 받침부에는 복수의 제2 체결홀이 형성될 수 있다.
본 고안의 실시예에서, 상기 제2 받침부에는 상기 제2 받침부의 길이 방향 양단에 세팅홀이 형성될 수 있다.
본 고안의 실시예에서, 상기 제2 지지부에는 상기 지그봉이 삽입 결합되는 지그홀이 형성될 수 있다.
본 고안의 실시예에서, 상기 제2 지지부에는 상기 지그홀과 수직되게 고정홀이 형성될 수 있다.
본 고안의 실시예에서, 상기 기준봉의 일단은 숫놈 형태로 형성되고, 이에 대응 결합되는 지그봉의 단부는 암놈 형태로 형성될 수 있다.
본 고안의 실시예에서, 상기 기준봉의 타단은 암놈 형태로 형성되고, 이에 대응 결합되는 지그봉의 단부는 숫놈 형태로 형성될 수 있다.
본 고안의 실시예에서, 상기 한 쌍의 측정지그 사이에 배치되며, 상기 기준봉을 지지하는 지지블록을 더 포함할 수 있다.
본 고안의 실시예에서, 상기 지지블록은, 상기 베이스에 고정되는 제1 받침부; 상기 제1 받침부의 일단에 구비되며, 상기 기준봉이 안착되도록 안착홈이 형성된 제1 지지부;를 포함할 수 있다.
본 고안의 실시예에 따르면, 기준봉의 규격에 상관없이 기준봉의 치수에 대한 정밀 측정이 가능하며, 기존의 투영기를 이용한 기준봉의 측정작업 대비 측정시간을 현저하게 단축할 수 있다.
본 고안의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 고안의 상세한 설명 또는 특허청구범위에 기재된 고안의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
도 1 및 도 2는 일반적인 나사마이크로미터 기준봉 측정작업을 도시한 개략도이다.
도 3은 본 고안의 일 실시예에 의한 나사마이크로미터 기준봉의 측정장치를 도시한 개략도이다.
도 4는 본 고안의 일 실시예에 의한 기준봉 측정지그를 도시한 평면도이다.
도 5는 본 고안의 일 실시예에 의한 기준봉 측정지그를 도시한 측면도이다.
도 6은 도 5의 “A” 부분을 도시한 상세도이다.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 고안의 실시예에 대하여 상세히 설명한다. 본 고안은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
본 고안을 명확하게 설명하기 위해서 본 고안의 본질과 관계없는 부분은 그에 대한 상세한 설명을 생략할 수 있으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 부여할 수 있다.
또한, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. 여기서 사용되는 전문 용어는 단지 특정 실시 예를 언급하기 위한 것이며, 본 고안을 한정하도록 의도되지 않으며, 본 명세서에서 다르게 정의되지 않는 한 본 고안이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 의해 이해되는 개념으로 해석될 수 있다.
도 3 내지 도 6은 본 고안의 일 실시예에 의한 나사마이크로미터 기준봉의 측정장치를 도시한 것이다.
도 3 내지 도 6을 참고하면, 일 실시예에 의한 나사마이크로미터 기준봉의 측정장치는 기준봉이 안착되는 지지블록(200), 기준봉의 양단에 결합되는 지그봉(400)을 고정해 주는 측정지그(300)를 포함한다. 지지블록(200) 및 측정지그(300)는 베이스(100) 상에 안착 고정될 수 있다.
베이스는 지면에 고정되는 고정베이스(110), 고정베이스(110)에 대해 이격 거리가 조절되는 이동베이스(120), 고정베이스(110)와 이동베이스(120) 사이에 배치되는 블록베이스(130), 이동베이스(120)의 이동을 안내하는 가이드레일(140)을 포함한다. 즉, 이동베이스(120)는 측정하고자 하는 기준봉의 길이 등에 맞게 가이드레일(140)을 따라 이동하여 위치가 조정될 수 있다.
지지블록(200)은 기준봉의 수평 상태를 유지해 주는 것으로, 블록베이스(130) 상에 고정될 수 있다. 지지블록(200)은 한 쌍으로 이루어지며, 서로 이격된 한 쌍의 측정지그(300) 사이에 서로 대향되게 배치될 수 있다. 각각의 지지블록(200)은 제1 받침부(210), 제1 지지부(220)를 포함한다.
제1 받침부(210)는 평면에서 봤을 때 길이 방향의 길이가 폭 방향의 길이보다 긴 직사각형의 형태를 가질 수 있다. 제1 받침부(210)에는 적어도 하나 이상의 제1 체결홀(211)이 형성될 수 있다. 제1 체결홀(211)에는 체결스크류가 결합되어 제1 받침부(210)를 블록베이스(130)에 고정할 수 있다.
제1 지지부(220)는 제1 받침부(210)의 일단에 수직으로 배치된다. 제1 지지부(220)는 제1 받침부(210)와 일체로 형성되거나 또는 제1 받침부(210)와 별개로 구비되어 제1 받침부(210)에 고정 결합될 수 있다. 제1 지지부(220)의 상면에는 측면에서 봤을 때 “V” 형태의 안착홈(221)이 형성될 수 있다.
측정지그(300)는 한 쌍으로 이루어지며, 각각은 소정 간격을 두고 서로 대향되게 이격 배치된다. 즉, 하나의 측정지그(300)는 고정베이스(110) 상에 고정되고, 다른 하나의 측정지그(300)는 이동베이스(120) 상에 고정될 수 있다. 각각의 측정지그(300)는 제2 받침부(310), 제2 지지부(320)를 포함한다.
제2 받침부(310)는 평면에서 봤을 때 길이 방향의 길이가 폭 방향의 길이보다 긴 직사각형의 형태를 가질 수 있다. 즉, 제2 받침부(310)는 X축의 길이가 Y축의 길이보다 길게 형성될 수 있다.
제2 받침부(310)에는 Z축 방향으로 복수의 제2 체결홀(311)이 형성될 수 있다. 각각의 제2 체결홀(311)은 제2 받침부(310)의 길이 방향으로 동일선상에 위치할 수 있다. 제2 체결홀(311)에는 체결스크류가 결합되어 제2 받침부(310)를 고정베이스(110) 또는 이동베이스(120)에 고정할 수 있다. 제2 체결홀(311)은 체결스크류의 나사산이 형성된 몸통부가 삽입 결합되는 몸통결합홀(311a) 및 체결스크류의 머리부가 안착되는 머리안착홀(311b)을 포함할 수 있다.
제2 받침부(310)에는 Z축 방향으로 복수의 세팅홀(312)이 형성될 수 있다. 예컨대, 세팅홀(312)은 복수의 제2 체결홀(311)을 사이에 두고 제1 받침부(210)의 길이 방향 양측에 위치할 수 있다. 세팅홀(312)에는 세팅스크류가 결합될 수 있으며, 세팅스크류는 제2 받침부(310)의 양단의 높이를 미세하게 조정할 수 있다.
제2 지지부(320)는 제2 받침부(310)의 일단 예컨대, 지지블록(200)과 대면하는 방향에 수직으로 배치된다. 제2 지지부(320)는 제2 받침부(310)와 일체로 형성되거나 또는 제2 받침부(310)와 별개로 구비되어 제2 받침부(310)에 고정 결합될 수 있다. 제2 지지부(320)의 상부에는 X축 방향으로 지그홀(321)이 형성된다. 지그홀(321)에는 기준봉과 대응 결합되는 지그봉(400)이 삽입된다.
제2 지지부(320)의 상면에는 Z축 방향으로 고정홀(322)이 형성된다. 고정홀(322)은 지그홀(321)과 직교되도록 배치될 수 있다. 고정홀(322)에는 고정스크류가 결합되어 지그홀(321)에 삽입된 지그봉(400)을 고정할 수 있다.
이와 같이 구성된 일 실시예에 의한 측정장치를 이용하여 기준봉을 측정할 경우, 지그봉(400)과 지그봉(400)의 사이에 측정하고자 하는 기준봉의 양단이 각각 결합된다. 이때, 나사마이크로미터 기준봉의 경우 일단은 숫놈 형태로 테이퍼지게 형성되고, 타단은 암놈 형태로 홈이 형성될 수 있다. 이에 따라 하나의 측정지그(300)에 고정되는 지그봉(400)의 단부는 암놈 형태로 형성되어 숫놈 형태의 기준봉의 일단과 대응 결합되도록 하고, 다른 하나의 측정지그(300)에 고정되는 지그봉(400)의 단부는 숫놈 형태로 형성되어 암놈 형태의 기준봉의 타단과 대응 결합되도록 할 수 있다.
그 후, 기준봉의 길이에 맞게 고정베이스(110)에 대해 이동베이스(120)의 이격 거리를 조정하여 기준봉과 지그봉(400)이 대응 결합되도록 하여 기준봉의 측정작업을 진행할 수 있다.
따라서, 일 실시예에 따르면, 기준봉의 규격에 상관없이 기준봉의 치수에 대한 정밀 측정이 가능하며, 기존의 측정작업 대비 측정시간을 현저하게 단축할 수 있다.
본 고안이 속하는 기술 분야의 당업자는 본 고안이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있으므로, 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해해야만 한다.
본 고안의 범위는 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 고안의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
100; 베이스 110; 고정베이스
120; 이동베이스 130; 블록베이스
140; 가이드레일
200; 지지블록 210; 제1 받침부
211; 제1 체결홀 220; 제1 지지부
221; 안착홈
300; 측정지그 310; 제2 받침부
311; 제2 체결홀 312; 세팅홀
320; 제2 지지부 321; 지그홀
322; 고정홀
400; 지그봉

Claims (9)

  1. 나사마이크로미터 측정장비의 베이스 상에 한 쌍이 이격 배치되어 기준봉을 측정하는 측정장치로서,
    상기 베이스 상에 고정되는 제2 받침부;
    상기 제2 받침부의 일단에 배치되며, 상기 기준봉과 수평으로 지그봉을 지지하는 제2 지지부;
    를 포함하는 나사마이크로미터 기준봉의 측정장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제2 받침부에는 복수의 제2 체결홀이 형성되는 나사마이크로미터 기준봉의 측정장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 제2 받침부에는 상기 제2 받침부의 길이 방향 양단에 세팅홀이 형성되는 나사마이크로미터 기준봉의 측정장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 제2 지지부에는 상기 지그봉이 삽입 결합되는 지그홀이 형성되는 나사마이크로미터 기준봉의 측정장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 제2 지지부에는 상기 지그홀과 수직되게 고정홀이 형성되는 나사마이크로미터 기준봉의 측정장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 기준봉의 일단은 숫놈 형태로 형성되고, 이에 대응 결합되는 지그봉의 단부는 암놈 형태로 형성되는 나사마이크로미터 기준봉의 측정장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 기준봉의 타단은 암놈 형태로 형성되고, 이에 대응 결합되는 지그봉의 단부는 숫놈 형태로 형성되는 나사마이크로미터 기준봉의 측정장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 한 쌍의 측정지그 사이에 배치되며, 상기 기준봉을 지지하는 지지블록을 더 포함하는 나사마이크로미터 기준봉의 측정장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 지지블록은,
    상기 베이스에 고정되는 제1 받침부;
    상기 제1 받침부의 일단에 구비되며, 상기 기준봉이 안착되도록 안착홈이 형성된 제1 지지부;
    를 포함하는 나사마이크로미터 기준봉의 측정장치.
KR2020180000598U 2018-02-07 2018-02-07 나사마이크로미터 기준봉의 측정장치 KR200490676Y1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2020180000598U KR200490676Y1 (ko) 2018-02-07 2018-02-07 나사마이크로미터 기준봉의 측정장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2020180000598U KR200490676Y1 (ko) 2018-02-07 2018-02-07 나사마이크로미터 기준봉의 측정장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20190002088U true KR20190002088U (ko) 2019-08-16
KR200490676Y1 KR200490676Y1 (ko) 2019-12-16

Family

ID=67763516

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR2020180000598U KR200490676Y1 (ko) 2018-02-07 2018-02-07 나사마이크로미터 기준봉의 측정장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR200490676Y1 (ko)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR910001166Y1 (ko) 1988-03-29 1991-02-25 이태교 다단식 주차장의 인출입장치
KR0140176Y1 (ko) * 1995-12-26 1999-05-15 김태구 3차원 측정을 위한 축 고정용 지그
KR100554757B1 (ko) * 2003-07-16 2006-02-24 주식회사 포스코 대형 마이크로미터 교정장치
JP2015215324A (ja) * 2014-05-07 2015-12-03 静夫 古味 外径マイクロメーターガイドリング

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR910001166Y1 (ko) 1988-03-29 1991-02-25 이태교 다단식 주차장의 인출입장치
KR0140176Y1 (ko) * 1995-12-26 1999-05-15 김태구 3차원 측정을 위한 축 고정용 지그
KR100554757B1 (ko) * 2003-07-16 2006-02-24 주식회사 포스코 대형 마이크로미터 교정장치
JP2015215324A (ja) * 2014-05-07 2015-12-03 静夫 古味 外径マイクロメーターガイドリング

Also Published As

Publication number Publication date
KR200490676Y1 (ko) 2019-12-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4763420A (en) Base assembly for coordinate measuring machine
US20060219667A1 (en) Method and device for measuring and adjusting the electrode for taper machining on an electrical discharge machine
CN105133152B (zh) 喷气织机辅喷嘴专用定规校验装置
CN103822565B (zh) 一种孔距比较测量仪
CN108592851A (zh) 一种工件对称度检测工装及检测方法
KR200490676Y1 (ko) 나사마이크로미터 기준봉의 측정장치
US20140075770A1 (en) Vision system
CN216558635U (zh) 一种快速检测轴类工件止推面长度的检具
JP3818960B2 (ja) 高さ測定用コラム及び高さ測定用コラムの調整方法
CN205561706U (zh) 用于测量盲孔端面与定位基面之间距离的测量仪
JP2008096114A (ja) 測定装置
CN108871161B (zh) 一种用于小平面角度检测的检具总成及其使用方法
KR200456100Y1 (ko) 마이크로미터류 치수 검사지그
CN110440708B (zh) 一种用于三维白光扫描设备的标准件及其标定方法
CN108151613B (zh) 一种测量v型外环槽空间直径的测具的测量方法
KR200157841Y1 (ko) 자의 정밀도 교정장치
TWI618918B (zh) 長度量測裝置
CN218566354U (zh) 一种一体式尺寸偏差检查工装
CN220230337U (zh) 横梁检测工装
CN218776840U (zh) 管桩模具内壁变形点位的手动检测装置
CN210952615U (zh) 一种中心距类多参数检测装置
KR200147904Y1 (ko) 피스톤 링 마모 측정지그
CN105180757A (zh) 一种多功能高度检测仪
CN220783620U (zh) 一种夹具跨距调整机构
CN204944374U (zh) 一种多功能高度检测仪

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
REGI Registration of establishment