KR20180133584A - 기판 지지 장치 - Google Patents

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KR20180133584A
KR20180133584A KR1020170070531A KR20170070531A KR20180133584A KR 20180133584 A KR20180133584 A KR 20180133584A KR 1020170070531 A KR1020170070531 A KR 1020170070531A KR 20170070531 A KR20170070531 A KR 20170070531A KR 20180133584 A KR20180133584 A KR 20180133584A
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Abstract

기판 지지 장치는 다이들이 본딩될 기판을 지지하는 스테이지와, 상기 스테이지의 하방에 배치되며, 상기 대상물을 가열하기 위해 상기 스테이지를 가열하는 가열 플레이트 및 상기 가열 플레이트의 하방에 구비되며, 상기 가열 플레이트의 하부면으로부터 돌출된 제1 내지 제3 돌출부들을 지지하는 베이스 플레이트를 포함하고, 상기 베이스 플레이트의 상면과 수평한 수평 방향으로 이동하지 않도록 지지하는 제1 지지부, 상기 수평 방향 중 일 방향으로 이동 가능하도록 지지하는 제2 지지부 및 상기 수평 방향 중 어느 방향으로도 이동 가능하도록 지지하는 제3 지지부가 상기 제1 내지 제3 돌출부들을 각각 지지할 수 있다.

Description

기판 지지 장치{Apparatus for supporting a substrate}
본 발명은 기판 지지 장치에 관한 것으로, 다이들이 본딩될 기판을 가열하면서 기울기를 조절할 수 있는 기판 지지 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 다이 본딩 공정은 스테이지 상에 기판을 안착시킨 상태에서 본딩 헤드가 다이를 이송하여 상기 기판에 본딩한다. 이때, 상기 본딩 헤드의 기울기와 상기 스테이지의 기울기가 다른 경우, 상기 다이가 상기 기판에 정확하게 본딩되지 못하는 본딩 불량이 발생할 수 있다.
이를 방지하기 위해 상기 스테이지의 기울기를 조절할 수 있다. 구체적으로, 작업자가 계측기를 이용하여 상기 스테이지의 기울기를 측정한 후, 상기 스테이지의 네 모서리에 구비된 볼트를 조절하여 상기 스테이지의 기울기를 조절한다.
상기 네 지점의 볼트 중 어느 하나를 조절하여 기울기를 조절하면, 상기 스테이지의 좌우 기울기 뿐만 아니라 전후 기울기도 변하게 된다. 즉, 상기 스테이지의 상기 좌우 기울기와 상기 좌우 기울기가 독립적으로 조절되지 못한다. 따라서, 상기 스테이지의 기울기를 조절하는데 많은 시간이 소요된다. 또한, 상기 스테이지의 기울기를 조절할 때 작업자마다 상기 기울기의 정도 차이가 발생한다.
본 발명은 기판을 가열하면서 기울기를 신속하고 용이하게 조절할 수 있는 기판 지지 장치를 제공한다.
본 발명에 따른 기판 지지 장치는 다이들이 본딩될 기판을 지지하는 스테이지와, 상기 스테이지의 하방에 배치되며, 상기 대상물을 가열하기 위해 상기 스테이지를 가열하는 가열 플레이트 및 상기 가열 플레이트의 하방에 구비되며, 상기 가열 플레이트의 하부면으로부터 돌출된 제1 내지 제3 돌출부들을 지지하는 베이스 플레이트를 포함하고, 상기 베이스 플레이트의 상면과 수평한 수평 방향으로 이동하지 않도록 지지하는 제1 지지부, 상기 수평 방향 중 일 방향으로 이동 가능하도록 지지하는 제2 지지부 및 상기 수평 방향 중 어느 방향으로도 이동 가능하도록 지지하는 제3 지지부가 상기 제1 내지 제3 돌출부들을 각각 지지할 수 있다.
본 발명의 일 실시예들에 따르면, 상기 제1 지지부는 콘 형상의 홈이며, 상기 제2 지지부는 상기 일 방향으로 연장된 형상의 홈이며, 상기 제3 지지부는 평탄면일 수 있다.
본 발명의 일 실시예들에 따르면, 상기 가열 플레이트와 상기 베이스 플레이트의 열팽창율의 차이로 인해 상기 베이스 플레이트가 상기 가열 플레이트의 열팽창을 제한하는 것을 방지하기 위해 상기 제2 지지부의 홈은 상기 제1 지지부를 향하도록 연장할 수 있다.
본 발명의 일 실시예들에 따르면, 상기 제1 돌출부 및 상기 제2 돌출부는 상기 스테이지에 의해 노출된 상기 가열 플레이트의 양측의 하부면에 각각 위치하고, 상기 제3 돌출부는 상기 스테이지에 의해 커버된 상기 가열 플레이트의 중앙의 하부면에 위치하며, 상기 제1 내지 제3 돌출부들은 삼각형 형태로 배치될 수 있다.
본 발명의 일 실시예들에 따르면, 상기 제1 돌출부 및 상기 제2 돌출부 중 어느 하나는 상기 가열 플레이트를 관통하면서 체결되는 볼 플런저이며, 상기 볼 플런저를 회전시켜 상기 가열 플레이트와 상기 스테이지의 기울기를 조절할 수 있다.
본 발명의 일 실시예들에 따르면, 상기 베이스 플레이트는 상기 제1 돌출부와 상기 제2 돌출부를 지지하는 제1 플레이트 및 상기 제3 돌출부를 지지하며, 일측이 상기 제1 플레이트와 힌지 결합되고 상기 일측과 반대되는 타측이 상기 제1 플레이트로부터 돌출된 지지블록에 의해 지지되는 제2 플레이트를 포함하고, 상기 제2 플레이트의 타측을 관통하여 상기 지지블록과 접촉하는 세트 스크류가 회전함에 따라 상기 제2 플레이트가 힌지축을 중심으로 회전하면서 가열 플레이트와 상기 스테이지의 기울기를 조절할 수 있다.
본 발명의 일 실시예들에 따르면, 상기 기판 지지 장치는 상기 베이스 플레이트에 삽입되며, 상기 가열 플레이트를 자력으로 고정하기 위한 자석을 더 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 기판 지지 장치는 베이스 플레이트의 상면과 수평한 수평 방향으로 이동하지 않도록 지지하는 제1 지지부, 상기 수평 방향 중 일 방향으로 이동 가능하도록 지지하는 제2 지지부 및 상기 수평 방향 중 어느 방향으로도 이동 가능하도록 지지하는 제3 지지부가 상기 제1 내지 제3 돌출부들을 각각 지지한다. 따라서, 상기 베이스 플레이트는 가열 플레이트가 회전하지 않도록 지지할 수 있다.
또한, 상기 제2 지지부의 홈이 상기 제1 지지부를 향하도록 연장하도록 구비되므로, 상기 가열 플레이트와 상기 베이스 플레이트의 열팽창율의 차이로 인해 상기 베이스 플레이트가 상기 가열 플레이트의 열팽창을 제한하는 것을 방지할 수 있다.
그리고, 상기 스테이지에 의해 노출된 상기 가열 플레이트의 양측의 하부면에 각각 위치하는 상기 제1 돌출부 및 상기 제2 돌출부 중 어느 하나는 볼 플런저이다. 또한, 상기 베이스 플레이트는 상기 제1 돌출부와 상기 제2 돌출부를 지지하는 제1 플레이트 및 상기 제3 돌출부를 지지하며, 일측이 상기 제1 플레이트와 힌지 결합되고 상기 일측과 반대되는 타측이 상기 제1 플레이트로부터 돌출된 지지블록에 의해 지지되는 제2 플레이트를 포함하고, 상기 제2 플레이트의 타측을 관통하여 상기 지지블록과 접촉하는 세트 스크류가 구비된다. 상기 볼 플런저와 상기 세트 스크류를 회전시켜 상기 가열 플레이트와 상기 스테이지의 기울기를 조절할 수 있다. 따라서, 상기 스테이지의 기울기를 신속하고 용이하게 조절할 수 있다. 또한, 상기 스테이지가 수평을 이루지 못해 발생하는 다이의 본딩 불량을 방지할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 지지 장치를 설명하기 위한 분해 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 기판 지지 장치를 설명하기 위한 평면도이다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 기판 지지 장치에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 지지 장치를 설명하기 위한 분해 사시도이고, 도 2는 도 1에 도시된 기판 지지 장치를 설명하기 위한 평면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 기판 지지 장치(100)는 스테이지(110), 가열 플레이트(120), 베이스 플레이트(130), 볼 플런저(140), 세트 스크류(150) 및 자석(160)을 포함할 수 있다.
스테이지(110)는 평판 형태를 가지며, 다이들이 본딩되는 기판(미도시)을 지지한다.
가열 플레이트(120)는 스테이지(110)의 하방에서 스테이지(110)를 지지하도록 구비되며, 대략 평판 형태를 갖는다. 가열 플레이트(120)는 스테이지(110)와 평행하도록 배치된다. 따라서, 가열 플레이트(120)는 스테이지(110)와 동일한 기울기를 가질 수 있다.
가열 플레이트(120)는 열을 발생하여 스테이지(110)를 통해 스테이지(110)에 지지된 상기 기판을 가열한다. 예를 들면, 가열 플레이트(120)는 발열체를 내장하거나, 가열 유체가 흐르는 유로가 내장될 수 있다.
가열 플레이트(120)는 좌우 방향 양측에 스테이지(110)에 의해 노출될 수 있다. 예를 들면, 가열 플레이트(120)는 상기 좌우 방향 양측으로 연장하는 제1 연장부(122) 및 제2 연장부(124)를 가질 수 있다. 제1 연장부(122) 및 제2 연장부(124)는 스테이지(110)에 의해 커버되지 않고 노출된다.
가열 플레이트(120)는 하부면으로부터 돌출되는 제1 돌출부(126), 제2 돌출부(127) 및 제3 돌출부(128)를 갖는다. 제1 돌출부(126), 제2 돌출부(127) 및 제3 돌출부(128)는 다양한 모양을 가질 수 있으나, 반구 모양 또는 구 모양을 갖는 것이 바람직하다.
구체적으로, 제1 돌출부(126) 및 제2 돌출부(127)는 스테이지(110)에 의해 노출된 가열 플레이트(120)의 양측에 각각 위치할 수 있다. 예를 들면, 제1 돌출부(126) 및 제2 돌출부(127)는 제1 연장부(122) 및 제2 연장부(124)의 하부면에 각각 위치할 수 있다.
제3 돌출부(128)는 스테이지(110)에 의해 커버된 가열 플레이트(120)의 중앙의 하부면에 위치할 수 있다.
한편, 제1 돌출부(126), 제2 돌출부(127) 및 제3 돌출부(128)는 동일 선상에 배치되지 않고 삼각형 형태를 이루도록 배치될 수 있다.
베이스 플레이트(130)는 가열 플레이트(120)의 하방에 구비된다. 베이스 플레이트(130)는 가열 플레이트(120)의 하부면으로부터 돌출된 제1 돌출부(126), 제2 돌출부(127) 및 제3 돌출부(128)를 지지할 수 있다. 즉, 베이스 플레이트(130)는 가열 플레이트(120)를 3점 지지할 수 있다.
구체적으로, 베이스 플레이트(130)는 제1 지지부(131), 제2 지지부(132) 및 제3 지지부(133)를 갖는다.
제1 지지부(131)는 제1 돌출부(126), 제2 돌출부(127) 및 제3 돌출부(128) 중 어느 하나를 베이스 플레이트(130)의 상면과 수평한 수평 방향으로 이동하지 않도록 지지할 수 있다. 예를 들면, 제1 지지부(131)는 콘 형상의 홈일 수 있다. 제1 돌출부(126), 제2 돌출부(127) 및 제3 돌출부(128) 중 어느 하나가 제1 지지부(131)에 삽입되면, 상기 수평방향으로 이동하지 않고 고정될 수 있다.
제2 지지부(132)는 제1 돌출부(126), 제2 돌출부(127) 및 제3 돌출부(128) 중 어느 하나를 상기 수평 방향 중 일 방향으로 이동 가능하도록 지지한다. 예를 들면, 제2 지지부(132)는 상기 일 방향으로 연장된 형상의 홈일 수 있다. 제1 돌출부(126), 제2 돌출부(127) 및 제3 돌출부(128) 중 어느 하나가 제2 지지부(132)에 삽입되면 상기 일 방향으로만 이동할 수 있다.
제3 지지부(133)는 제1 돌출부(126), 제2 돌출부(127) 및 제3 돌출부(128) 중 어느 하나를 상기 수평 방향 중 어느 방향으로도 이동 가능하도록 지지한다. 예를 들면, 제3 지지부(133)는 평탄면 또는 평탄 홈일 수 있다. 제1 돌출부(126), 제2 돌출부(127) 및 제3 돌출부(128) 중 어느 하나가 제3 지지부(133)에 놓여지면 상기 수평 방향으로 자유롭게 이동할 수 있다.
한편, 제1 지지부(131), 제2 지지부(132) 및 제3 지지부(133) 각각은 제1 돌출부(126), 제2 돌출부(127) 및 제3 돌출부(128) 중 특정한 돌출부를 각각 지지하는 것이 아니라 제1 돌출부(126), 제2 돌출부(127) 및 제3 돌출부(128) 중 어느 하나를 자유롭게 지지할 수 있다.
이하에서는 제1 지지부(131)가 제1 돌출부(126)를 지지하고, 제2 지지부(132)가 제2 돌출부(127)를 지지하고, 제3 지지부(133)가 제3 돌출부(128)를 지지하는 것을 기준으로 설명한다.
제2 지지부(132)에서 홈이 연장하는 상기 일 방향은 제1 지지부(131)를 향하는 방향일 수 있다. 가열 플레이트(120)가 가열되면 열팽창할 수 있다. 이때, 재질과 온도의 차이로 인해 가열 플레이트(120)의 열팽창율과 베이스 플레이트(130)의 열팽창율이 다를 수 있다.
제1 지지부(131)에 의해 지지된 제1 돌출부(126)를 기준으로, 제2 돌출부(127)는 제2 지지부(132)의 연장 방향인 상기 일 방향을 따라 제1 지지부(131)로부터 멀어지는 방향으로 열팽창할 수 있고, 제3 돌출부(128)는 상기 수평 방향을 따라 자유롭게 열팽창할 수 있다. 따라서, 가열 플레이트(120)의 열팽창율과 베이스 플레이트(130)의 열팽창율이 다르더라도 베이스 플레이트(130)가 가열 플레이트(120)의 열팽창을 제한하지 않는다.
제1 지지부(131), 제2 지지부(132) 및 제3 지지부(133)가 제1 돌출부(126), 제2 돌출부(127) 및 제3 돌출부(128)를 상기 수평 방향으로 이동하지 않도록, 상기 일 방향으로 이동 가능하도록, 상기 수평 방향 중 어느 방향으로도 이동 가능하도록 각각 지지하므로, 가열 플레이트(120)는 베이스 플레이트(130)에 안정적으로 고정된다. 따라서, 가열 플레이트(120)는 베이스 플레이트(130)에 대해 수평 방향 이동이나 회전이 방지될 수 있다.
한편, 제1 돌출부(126) 및 제2 돌출부(127) 중 어느 하나는 가열 플레이트(120)를 관통하면서 체결되어 가열 플레이트(120)의 하부면으로부터 돌출되는 볼 플런저(140)일 수 있다. 예를 들면, 볼 플런저(140)는 제1 연장부(122)를 관통하면서 체결되어 제1 지지부(131)에 의해 지지되는 제1 돌출부(126)일 수 있다.
볼 플런저(140)를 회전시킴으로써 베이스 플레이트(130)에 대한 가열 플레이트(120)와 스테이지(110)의 기울기를 조절할 수 있다. 구체적으로, 볼 플런저(140)를 이용하여 가열 플레이트(120)와 스테이지(110)의 상기 좌우 방향 기울기를 조절할 수 있다.
베이스 플레이트(130)는 제1 플레이트(130a) 및 제2 플레이트(130b)로 이루어진다.
제1 플레이트(130a)는 제1 돌출부(126)와 제2 돌출부(127)를 지지한다. 제2 플레이트(130b)는 제3 돌출부(128)를 지지한다.
제1 플레이트(130a)와 제2 플레이트(130b)는 동일 수평면 상에 배치되며, 일측이 힌지 결합된다. 예를 들면, 제2 플레이트(130b)에서 제1 플레이트(130a)와 마주보는 측면 일측에 힌지 축(134)이 돌출되고, 제1 플레이트(130a)에서 제2 플레이트(130a)와 마주보는 측면 일측에 힌지 축(134)이 삽입되는 홀(135)이 구비될 수 있다.
제1 플레이트(130a)에서 제2 플레이트(130a)와 마주보는 측면 타측에 지지블록(136)이 돌출된다. 상기 일측과 반대되는 제2 플레이트(130b)의 타측이 지지블록(136)에 의해 지지될 수 있다.
세트 스크류(150)는 제2 플레이트(130b)의 타측을 관통하여 지지블록(136)과 접촉한다. 세트 스크류(150)가 회전함에 따라 제2 플레이트(130b)가 힌지축(134)을 중심으로 회전한다. 따라서, 제2 플레이트(130b)가 회전함에 따라 베이스 플레이트(130)에 대해 가열 플레이트(120)와 스테이지(110)의 기울기를 조절할 수 있다.
구체적으로, 세트 스크류(150)를 이용하여 가열 플레이트(120)와 스테이지(110)의 전후 방향 기울기를 조절할 수 있다.
볼 플런저(140)와 세트 스크류(150)를 이용하여 가열 플레이트(120)와 스테이지(110)의 상기 좌우 방향 기울기 및 상기 전후 방향 기울기를 조절할 수 있으므로, 스테이지(110)의 기울기를 신속하고 용이하게 조절할 수 있다. 또한, 스테이지(110)가 수평을 이루지 못해 발생하는 다이의 본딩 불량을 방지할 수 있다.
자석(160)은 베이스 플레이트(160), 구체적으로 제1 플레이트(130a)에 삽입되어 구비된다. 자석(160)은 스테이지(110)에 자력에 의한 수직 하중을 부여한다. 이때, 스테이지(110)는 금속 재질로 이루어질 수 있다. 따라서, 스테이지(110)와 가열 플레이트(120)가 베이스 플레이트(160)에 대해 상방으로 이탈하지 않도록 고정한다.
한편, 도시되지는 않았지만, 스테이지(110)를 관통하여 베이스 플레이트(130)와 체결되는 다수의 고정 나사들이 더 구비될 수 있다. 상기 고정 나사들은 스테이지(110)와 가열 플레이트(120)의 기울기가 조절된 상태에서 체결될 수 있다. 따라서, 스테이지(110)와 가열 플레이트(120)의 기울기를 일정한 상태로 유지할 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 기판 지지 장치는 스테이지의 좌우 기울기 및 전후 기울기를 볼 플런저 및 세트 스크류를 이용하여 신속하고 정확하게 조절할 수 있다. 또한, 상기 기판 지지 장치를 이용한 다이 본딩 공정의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
100 : 기판 지지 장치 110 : 스테이지
120 : 가열 플레이트 130 : 베이스 플레이트
140 : 볼 플런저 150 : 세트 스크류
160 : 자석

Claims (7)

  1. 다이들이 본딩될 기판을 지지하는 스테이지;
    상기 스테이지의 하방에 배치되며, 상기 대상물을 가열하기 위해 상기 스테이지를 가열하는 가열 플레이트; 및
    상기 가열 플레이트의 하방에 구비되며, 상기 가열 플레이트의 하부면으로부터 돌출된 제1 내지 제3 돌출부들을 지지하는 베이스 플레이트를 포함하고,
    상기 베이스 플레이트의 상면과 수평한 수평 방향으로 이동하지 않도록 지지하는 제1 지지부, 상기 수평 방향 중 일 방향으로 이동 가능하도록 지지하는 제2 지지부 및 상기 수평 방향 중 어느 방향으로도 이동 가능하도록 지지하는 제3 지지부가 상기 제1 내지 제3 돌출부들을 각각 지지하는 것을 특징으로 하는 기판 지지 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1 지지부는 콘 형상의 홈이며, 상기 제2 지지부는 상기 일 방향으로 연장된 형상의 홈이며, 상기 제3 지지부는 평탄면인 것을 특징으로 하는 기판 지지 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 가열 플레이트와 상기 베이스 플레이트의 열팽창율의 차이로 인해 상기 베이스 플레이트가 상기 가열 플레이트의 열팽창을 제한하는 것을 방지하기 위해 상기 제2 지지부의 홈은 상기 제1 지지부를 향하도록 연장하는 것을 특징으로 하는 기판 지지 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제1 돌출부 및 상기 제2 돌출부는 상기 스테이지에 의해 노출된 상기 가열 플레이트의 양측의 하부면에 각각 위치하고, 상기 제3 돌출부는 상기 스테이지에 의해 커버된 상기 가열 플레이트의 중앙의 하부면에 위치하며, 상기 제1 내지 제3 돌출부들은 삼각형 형태로 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 지지 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 제1 돌출부 및 상기 제2 돌출부 중 어느 하나는 상기 가열 플레이트를 관통하면서 체결되는 볼 플런저이며, 상기 볼 플런저를 회전시켜 상기 가열 플레이트와 상기 스테이지의 기울기를 조절하는 것을 특징으로 하는 기판 지지 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 베이스 플레이트는 상기 제1 돌출부와 상기 제2 돌출부를 지지하는 제1 플레이트 및 상기 제3 돌출부를 지지하며, 일측이 상기 제1 플레이트와 힌지 결합되고 상기 일측과 반대되는 타측이 상기 제1 플레이트로부터 돌출된 지지블록에 의해 지지되는 제2 플레이트를 포함하고,
    상기 제2 플레이트의 타측을 관통하여 상기 지지블록과 접촉하는 세트 스크류가 회전함에 따라 상기 제2 플레이트가 힌지축을 중심으로 회전하면서 가열 플레이트와 상기 스테이지의 기울기를 조절하는 것을 특징으로 하는 기판 지지 장치.
  7. 제1항에 있어서, 상기 베이스 플레이트에 삽입되며, 상기 가열 플레이트를 자력으로 고정하기 위한 자석을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 지지 장치.
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