KR20180133390A - Polyarylate resin and resin composition thereof - Google Patents
Polyarylate resin and resin composition thereof Download PDFInfo
- Publication number
- KR20180133390A KR20180133390A KR1020187026335A KR20187026335A KR20180133390A KR 20180133390 A KR20180133390 A KR 20180133390A KR 1020187026335 A KR1020187026335 A KR 1020187026335A KR 20187026335 A KR20187026335 A KR 20187026335A KR 20180133390 A KR20180133390 A KR 20180133390A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- polyarylate resin
- group
- formula
- component
- divalent phenol
- Prior art date
Links
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 188
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 188
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 title claims abstract description 171
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 46
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 142
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 85
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 47
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 44
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 32
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims abstract description 25
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 14
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 13
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims abstract description 6
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 32
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 32
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 26
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 22
- 150000002762 monocarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 18
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 18
- 239000012783 reinforcing fiber Substances 0.000 claims description 15
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 13
- 239000004744 fabric Substances 0.000 claims description 12
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims description 9
- DDTBPAQBQHZRDW-UHFFFAOYSA-N cyclododecane Chemical compound C1CCCCCCCCCCC1 DDTBPAQBQHZRDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 5
- UMPGNGRIGSEMTC-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-hydroxyphenyl)-3,3,5-trimethylcyclohexyl]phenol Chemical compound C1C(C)CC(C)(C)CC1(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 UMPGNGRIGSEMTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 101100402127 Escherichia coli (strain K12) moaA gene Proteins 0.000 claims description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical group 0.000 claims 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 abstract description 29
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 abstract 1
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 72
- -1 ester compound Chemical class 0.000 description 41
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 39
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 38
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 27
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 17
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 11
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 10
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 9
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 8
- 238000006640 acetylation reaction Methods 0.000 description 7
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 7
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 6
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 150000002894 organic compounds Chemical group 0.000 description 5
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 5
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KAUQJMHLAFIZDU-UHFFFAOYSA-N 6-Hydroxy-2-naphthoic acid Chemical compound C1=C(O)C=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 KAUQJMHLAFIZDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 4
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 4
- 238000003381 deacetylation reaction Methods 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 4
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 4
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxolane Chemical compound C1COCO1 WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- QQOMQLYQAXGHSU-UHFFFAOYSA-N 236TMPh Natural products CC1=CC=C(C)C(O)=C1C QQOMQLYQAXGHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 3
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 3
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 3
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 3
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 3
- LMGZGXSXHCMSAA-UHFFFAOYSA-N cyclodecane Chemical group C1CCCCCCCCC1 LMGZGXSXHCMSAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 3
- 230000006196 deacetylation Effects 0.000 description 3
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 3
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 3
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- OGRAOKJKVGDSFR-UHFFFAOYSA-N 2,3,5-trimethylphenol Chemical compound CC1=CC(C)=C(C)C(O)=C1 OGRAOKJKVGDSFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 2-butylphenol Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1O GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UCZMNMPFXUIPAC-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-hydroxyphenyl)cyclodecyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)CCCCCCCCC1 UCZMNMPFXUIPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BHWMWBACMSEDTE-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-hydroxyphenyl)cyclododecyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)CCCCCCCCCCC1 BHWMWBACMSEDTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZEYHEAKUIGZSGI-UHFFFAOYSA-N 4-methoxybenzoic acid Chemical compound COC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ZEYHEAKUIGZSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 0 CIC*(*)(*)CCCC(c(cc1)ccc1O)c(cc1)ccc1O Chemical compound CIC*(*)(*)CCCC(c(cc1)ccc1O)c(cc1)ccc1O 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 2
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- PVNIIMVLHYAWGP-UHFFFAOYSA-N Niacin Chemical compound OC(=O)C1=CC=CN=C1 PVNIIMVLHYAWGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229950011260 betanaphthol Drugs 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- PFURGBBHAOXLIO-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-diol Chemical compound OC1CCCCC1O PFURGBBHAOXLIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004113 cyclononanyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- UEVXKGPJXXDGCX-UHFFFAOYSA-N cyclotridecane Chemical group C1CCCCCCCCCCCC1 UEVXKGPJXXDGCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfone Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 2
- PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N isoindolin-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NCC2=C1 PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002960 margaryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-dicarboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- IXQGCWUGDFDQMF-UHFFFAOYSA-N o-Hydroxyethylbenzene Natural products CCC1=CC=CC=C1O IXQGCWUGDFDQMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N p-toluic acid Chemical compound CC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M potassium acetate Chemical compound [K+].CC([O-])=O SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 2
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LTVUCOSIZFEASK-MPXCPUAZSA-N (3ar,4s,7r,7as)-3a-methyl-3a,4,7,7a-tetrahydro-4,7-methano-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C([C@H]1C=C2)[C@H]2[C@H]2[C@]1(C)C(=O)OC2=O LTVUCOSIZFEASK-MPXCPUAZSA-N 0.000 description 1
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- AAWZDTNXLSGCEK-LNVDRNJUSA-N (3r,5r)-1,3,4,5-tetrahydroxycyclohexane-1-carboxylic acid Chemical compound O[C@@H]1CC(O)(C(O)=O)C[C@@H](O)C1O AAWZDTNXLSGCEK-LNVDRNJUSA-N 0.000 description 1
- ALSTYHKOOCGGFT-KTKRTIGZSA-N (9Z)-octadecen-1-ol Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCO ALSTYHKOOCGGFT-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- QVLAWKAXOMEXPM-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2-tetrachloroethane Chemical class ClCC(Cl)(Cl)Cl QVLAWKAXOMEXPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)CC1 PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IATQKBSYFBIRLT-UHFFFAOYSA-N 1-[1-(3,5-dimethylphenyl)ethyl]-3,5-dimethylbenzene Chemical compound C=1C(C)=CC(C)=CC=1C(C)C1=CC(C)=CC(C)=C1 IATQKBSYFBIRLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1H-imidazole Chemical compound CN1C=CN=C1 MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNETULKMXZVUST-UHFFFAOYSA-N 1-naphthoic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1 LNETULKMXZVUST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEBOPSGVIIUIQD-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,5-tetramethylbenzoic acid Chemical compound CC1=CC(C(O)=O)=C(C)C(C)=C1C JEBOPSGVIIUIQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDIJZFORGDBEKL-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trimethylbenzoic acid Chemical compound CC1=CC=C(C(O)=O)C(C)=C1C HDIJZFORGDBEKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIZUCYSQUWMQLX-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbenzoic acid Chemical compound CC1=CC=CC(C(O)=O)=C1C RIZUCYSQUWMQLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHDSRXYHVZECER-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris[(dimethylamino)methyl]phenol Chemical compound CN(C)CC1=CC(CN(C)C)=C(O)C(CN(C)C)=C1 AHDSRXYHVZECER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUIQBJHUESBZNU-UHFFFAOYSA-N 2-[(dimethylazaniumyl)methyl]phenolate Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1O FUIQBJHUESBZNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNUYOWCKBJFOGS-UHFFFAOYSA-N 2-[[10-(2,2-dicarboxyethyl)anthracen-9-yl]methyl]propanedioic acid Chemical compound C1=CC=C2C(CC(C(=O)O)C(O)=O)=C(C=CC=C3)C3=C(CC(C(O)=O)C(O)=O)C2=C1 DNUYOWCKBJFOGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASLNDVUAZOHADR-UHFFFAOYSA-N 2-butyl-3-methylphenol Chemical compound CCCCC1=C(C)C=CC=C1O ASLNDVUAZOHADR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMNNDVUKAKPGDD-UHFFFAOYSA-N 2-butylbenzoic acid Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1C(O)=O SMNNDVUKAKPGDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDZMPRGFOOFSBL-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxybenzoic acid Chemical compound CCOC1=CC=CC=C1C(O)=O XDZMPRGFOOFSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGMMPMYKMDITEA-UHFFFAOYSA-N 2-ethylbenzoic acid Chemical compound CCC1=CC=CC=C1C(O)=O CGMMPMYKMDITEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRBJBYGJVIBWIY-UHFFFAOYSA-N 2-isopropylphenol Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1O CRBJBYGJVIBWIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GADSJKKDLMALGL-UHFFFAOYSA-N 2-propylbenzoic acid Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1C(O)=O GADSJKKDLMALGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCHYEKKJCUJAKN-UHFFFAOYSA-N 2-propylphenol Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1O LCHYEKKJCUJAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-Butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMTYZTXUZLQUSF-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethylbisphenol A Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C(C)(C)C=2C=C(C)C(O)=CC=2)=C1 YMTYZTXUZLQUSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALKYHXVLJMQRLQ-UHFFFAOYSA-N 3-Hydroxy-2-naphthoate Chemical compound C1=CC=C2C=C(O)C(C(=O)O)=CC2=C1 ALKYHXVLJMQRLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCUBUGPGVCEURB-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-2-propylphenol Chemical compound CCCC1=C(C)C=CC=C1O FCUBUGPGVCEURB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGENSHRLAKPCSM-UHFFFAOYSA-N 3-methylcyclohexane-1,1,2,2-tetracarboxylic acid Chemical compound CC1CCCC(C(O)=O)(C(O)=O)C1(C(O)=O)C(O)=O MGENSHRLAKPCSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXNYJUSEXLAVNQ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Dihydroxybenzophenone Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1 RXNYJUSEXLAVNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWGKEVWFBOUAND-UHFFFAOYSA-N 4,4'-thiodiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1SC1=CC=C(O)C=C1 VWGKEVWFBOUAND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxybenzoyl)phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVDRSXGPQWNUBN-UHFFFAOYSA-N 4-(4-carboxyphenoxy)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1OC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 WVDRSXGPQWNUBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEQFBGHQPUXOFH-UHFFFAOYSA-N 4-(4-carboxyphenyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 NEQFBGHQPUXOFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZGQHKSLKRFZFL-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenoxy)phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1OC1=CC=C(O)C=C1 NZGQHKSLKRFZFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGSBHTZEJMPDSZ-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-amino-3-methylcyclohexyl)methyl]-2-methylcyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)C(C)CC1CC1CC(C)C(N)CC1 IGSBHTZEJMPDSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminocyclohexyl)methyl]cyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)CCC1CC1CCC(N)CC1 DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIFGCULLADMRTF-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-hydroxy-3-methylphenyl)methyl]-2-methylphenol Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(CC=2C=C(C)C(O)=CC=2)=C1 MIFGCULLADMRTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVOBELCYOCEECO-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-hydroxy-3-methylphenyl)cyclohexyl]-2-methylphenol Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C2(CCCCC2)C=2C=C(C)C(O)=CC=2)=C1 SVOBELCYOCEECO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBWVOELZAMJXRD-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-hydroxy-3-methylphenyl)cyclopentyl]-2-methylphenol Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C2(CCCC2)C=2C=C(C)C(O)=CC=2)=C1 OBWVOELZAMJXRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHMYOZSUJUQIRL-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-hydroxy-3-phenylphenyl)-3,3,5-trimethylcyclohexyl]-2-phenylphenol Chemical compound C1C(C)CC(C)(C)CC1(C=1C=C(C(O)=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=C(O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1 HHMYOZSUJUQIRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAXGLQXSXZPOIJ-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-hydroxyphenyl)-3,3,4-trimethylcyclohexyl]phenol Chemical compound C1C(C)(C)C(C)CCC1(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 SAXGLQXSXZPOIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPKVNNDYZRCVQR-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-hydroxyphenyl)cycloheptyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)CCCCCC1 LPKVNNDYZRCVQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKOJMYSJSAUAGV-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-hydroxyphenyl)cyclooctyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)CCCCCCC1 YKOJMYSJSAUAGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVVCSFQRAXVPGT-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-hydroxyphenyl)cyclopentyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)CCCC1 OVVCSFQRAXVPGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYVTWTWCIKDJOK-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-hydroxyphenyl)cyclotridecyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)CCCCCCCCCCCC1 BYVTWTWCIKDJOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFBQWRWTKJDGPY-UHFFFAOYSA-N 4-[3,3,5-triethyl-1-(4-hydroxyphenyl)cyclohexyl]phenol Chemical compound C1C(CC)CC(CC)(CC)CC1(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 KFBQWRWTKJDGPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUDSREQIJYWLRA-UHFFFAOYSA-N 4-[9-(4-hydroxy-3-methylphenyl)fluoren-9-yl]-2-methylphenol Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C2(C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C32)C=2C=C(C)C(O)=CC=2)=C1 NUDSREQIJYWLRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSAGPCOTGOTBQB-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxynaphthalene-1-carboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=C(O)C2=C1 PSAGPCOTGOTBQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQRONKZLYKUEMO-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-(2,4,6-trimethylphenyl)pent-4-en-2-one Chemical group CC(=C)CC(=O)Cc1c(C)cc(C)cc1C UQRONKZLYKUEMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CC(C)=CC2C(=O)OC(=O)C12 MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWFPGFJLYRKYJZ-UHFFFAOYSA-N 9,9-bis(4-hydroxyphenyl)fluorene Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21 YWFPGFJLYRKYJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000021357 Behenic acid Nutrition 0.000 description 1
- VOWWYDCFAISREI-UHFFFAOYSA-N Bisphenol AP Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C=1C=CC(O)=CC=1)(C)C1=CC=CC=C1 VOWWYDCFAISREI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N Bisphenol Z Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)CCCCC1 SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAWZDTNXLSGCEK-UHFFFAOYSA-N Cordycepinsaeure Natural products OC1CC(O)(C(O)=O)CC(O)C1O AAWZDTNXLSGCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Natural products CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N Isophorone Natural products CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N Nonylphenol Natural products CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKTVCZAKENNCDL-UHFFFAOYSA-N OC1=CC=C(C=C1)C(C1=CC(=C(C(=C1)C)O)C)C1=CC=C(C=C1)O Chemical compound OC1=CC=C(C=C1)C(C1=CC(=C(C(=C1)C)O)C)C1=CC=C(C=C1)O GKTVCZAKENNCDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQVGRATUJCXGDD-UHFFFAOYSA-N OC1=CC=C(C=C1)C1(C=CCCCCCC1)C1=CC=C(C=C1)O Chemical compound OC1=CC=C(C=C1)C1(C=CCCCCCC1)C1=CC=C(C=C1)O QQVGRATUJCXGDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- AAWZDTNXLSGCEK-ZHQZDSKASA-N Quinic acid Natural products O[C@H]1CC(O)(C(O)=O)C[C@H](O)C1O AAWZDTNXLSGCEK-ZHQZDSKASA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYPYTERUKNKOLP-UHFFFAOYSA-N Tetrachlorobisphenol A Chemical compound C=1C(Cl)=C(O)C(Cl)=CC=1C(C)(C)C1=CC(Cl)=C(O)C(Cl)=C1 KYPYTERUKNKOLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVXNKFYSHAUJIA-UHFFFAOYSA-N acetic acid;ethoxyethane Chemical compound CC(O)=O.CCOCC KVXNKFYSHAUJIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- IBVAQQYNSHJXBV-UHFFFAOYSA-N adipic acid dihydrazide Chemical compound NNC(=O)CCCCC(=O)NN IBVAQQYNSHJXBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- ZIXLDMFVRPABBX-UHFFFAOYSA-N alpha-methylcyclopentanone Natural products CC1CCCC1=O ZIXLDMFVRPABBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001204 arachidyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 229940116226 behenic acid Drugs 0.000 description 1
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2-ol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4,4'-diol Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N butyl alcohol Substances CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WIHMDCQAEONXND-UHFFFAOYSA-M butyl-hydroxy-oxotin Chemical compound CCCC[Sn](O)=O WIHMDCQAEONXND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N cis-4-Hydroxy-L-proline Chemical compound O[C@@H]1CN[C@H](C(O)=O)C1 PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M cyanate Chemical compound [O-]C#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBZSBBLNHFMTEB-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCC(C(O)=O)C1 XBZSBBLNHFMTEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLMGYIOTPQVQJR-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,3-diol Chemical compound OC1CCCC(O)C1 RLMGYIOTPQVQJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- GWZCCUDJHOGOSO-UHFFFAOYSA-N diphenic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1C(O)=O GWZCCUDJHOGOSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCO LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002168 ethanoic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000040 m-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UEGPKNKPLBYCNK-UHFFFAOYSA-L magnesium acetate Chemical compound [Mg+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O UEGPKNKPLBYCNK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011654 magnesium acetate Substances 0.000 description 1
- 229940069446 magnesium acetate Drugs 0.000 description 1
- 235000011285 magnesium acetate Nutrition 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- IJFXRHURBJZNAO-UHFFFAOYSA-N meta--hydroxybenzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=CC(O)=C1 IJFXRHURBJZNAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N methylhexahydrophthalic anhydride Chemical compound C1CCCC2C(=O)OC(=O)C21C VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylpyridin-2-amine Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=N1 PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N n-propyl alcohol Natural products CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003512 nicotinic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000001968 nicotinic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011664 nicotinic acid Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000001196 nonadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003261 o-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940055577 oleyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- XMLQWXUVTXCDDL-UHFFFAOYSA-N oleyl alcohol Natural products CCCCCCC=CCCCCCCCCCCO XMLQWXUVTXCDDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001117 oleyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])/C([H])=C([H])\C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 235000011056 potassium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007763 reverse roll coating Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005482 strain hardening Methods 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- FAGUFWYHJQFNRV-UHFFFAOYSA-N tetraethylenepentamine Chemical compound NCCNCCNCCNCCN FAGUFWYHJQFNRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QENJZWZWAWWESF-UHFFFAOYSA-N tri-methylbenzoic acid Natural products CC1=CC(C)=C(C(O)=O)C=C1C QENJZWZWAWWESF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTQVDTLACAAQTR-DYCDLGHISA-N trifluoroacetic acid-d1 Chemical compound [2H]OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-DYCDLGHISA-N 0.000 description 1
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 150000003739 xylenols Chemical class 0.000 description 1
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/24—Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs
- C08J5/241—Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs using inorganic fibres
- C08J5/244—Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs using inorganic fibres using glass fibres
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G63/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G63/02—Polyesters derived from hydroxycarboxylic acids or from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds
- C08G63/12—Polyesters derived from hydroxycarboxylic acids or from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds derived from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds
- C08G63/16—Dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
- C08G63/18—Dicarboxylic acids and dihydroxy compounds the acids or hydroxy compounds containing carbocyclic rings
- C08G63/181—Acids containing aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G63/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G63/02—Polyesters derived from hydroxycarboxylic acids or from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds
- C08G63/12—Polyesters derived from hydroxycarboxylic acids or from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds derived from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds
- C08G63/16—Dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
- C08G63/18—Dicarboxylic acids and dihydroxy compounds the acids or hydroxy compounds containing carbocyclic rings
- C08G63/19—Hydroxy compounds containing aromatic rings
- C08G63/193—Hydroxy compounds containing aromatic rings containing two or more aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/24—Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/24—Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs
- C08J5/241—Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs using inorganic fibres
- C08J5/243—Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs using inorganic fibres using carbon fibres
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2367/00—Characterised by the use of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Derivatives of such polymers
- C08J2367/02—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Reinforced Plastic Materials (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
본 발명은, 우수한 내열성 및 유전 특성을 갖고, 가공 시의 유동성 및 비할로젠화 용매에 대한 용해성도 우수한 폴리아릴레이트 수지를 제공한다. 본 발명은, 2가 페놀 성분, 방향족 다이카복실산 성분 및 하이드록시카복실산 성분을 함유하는 폴리아릴레이트 수지로서, 전체 2가 페놀 성분에 있어서의 화학식(1)로 표시되는 2가 페놀의 함유량이 30∼70몰%이고, 전체 모노머 성분에 있어서의 하이드록시카복실산 성분의 함유량이 1∼30몰%이고, 수 평균 분자량이 10000 미만인 폴리아릴레이트 수지이다:
[식(1) 중, R1, R2, R3 및 R4는 수소 원자, 탄소 원자수가 1∼12인 탄화수소기 또는 할로젠 원자를 나타내고, R5 및 R6은 수소 원자 또는 탄소수가 1∼4인 탄화수소기를 나타낸다; m은 4∼12의 정수를 나타내고, X는 포화 지방족 탄화수소환을 형성하는 탄소 원자를 나타낸다].The present invention provides a polyarylate resin having excellent heat resistance and dielectric properties, and having excellent flowability upon processing and solubility in a non-halogenated solvent. The present invention relates to a polyarylate resin containing a divalent phenol component, an aromatic dicarboxylic acid component and a hydroxycarboxylic acid component, wherein the content of the divalent phenol represented by the formula (1) 70 mol%, the content of the hydroxycarboxylic acid component in the total monomer component is 1 to 30 mol%, and the number average molecular weight is less than 10,000.
Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms or a halogen atom, R 5 and R 6 each represent a hydrogen atom or a carbon atom having a carbon number of 1 ≪ / RTI > m represents an integer of 4 to 12, and X represents a carbon atom which forms a saturated aliphatic hydrocarbon ring.
Description
본 발명은, 우수한 내열성 및 유전 특성을 갖고, 가공 시의 유동성 및 비할로젠화 용매에 대한 용해성도 우수한 폴리아릴레이트 수지 및 당해 폴리아릴레이트 수지를 함유하는 폴리아릴레이트 수지 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a polyarylate resin having excellent heat resistance and dielectric properties and also having excellent flowability during processing and solubility in a non-halogenated solvent, and a polyarylate resin composition containing the polyarylate resin.
근년, 각종 전자 기기는 정보 처리량의 증대에 수반하여, 탑재되는 반도체 디바이스의 고집적화, 배선의 고밀도화, 다층화 기술이 급속히 진전되고 있다. 각종 전자 기기에 있어서 이용되는 프린트 배선판 등의 절연 재료에는, 신호의 전달 속도를 높이기 위해서 유전율이 낮고, 나아가 신호 전송 시의 손실을 저감시키기 위해서 유전 정접이 낮을 것이 요구되고 있다. 또한, 프린트 배선판 등의 절연 재료에는, 땜납 처리 등의 열처리에 견디는 것과 같은 우수한 내열성이 요구되고 있다.2. Description of the Related Art In recent years, with the increase of information processing amount in various electronic apparatuses, high integration of semiconductor devices to be mounted, high density wiring, and multilayering technology are rapidly progressing. Insulating materials such as printed wiring boards used in various electronic devices are required to have a low dielectric constant in order to increase the transmission speed of signals and a low dielectric tangent in order to reduce loss in signal transmission. In addition, an insulating material such as a printed wiring board is required to have excellent heat resistance such as to withstand a heat treatment such as soldering.
내열성, 및 유전율 및 유전 정접 등의 유전 특성이 우수한 수지로서는, 폴리아릴레이트 수지가 알려져 있다. 예를 들면, 특허문헌 1에는, 폴리아릴레이트 수지에, 활성 에스터 화합물, 경화 촉진제 및 에폭시 수지를 배합한 수지 조성물을 프린트 배선판에 이용하는 것이 개시되어 있다.As a resin excellent in dielectric properties such as heat resistance, dielectric constant and dielectric loss tangent, polyarylate resin is known. For example, Patent Document 1 discloses the use of a resin composition comprising an active ester compound, a curing accelerator, and an epoxy resin in a polyarylate resin for a printed wiring board.
폴리아릴레이트 수지를 프린트 배선판 등에 이용하는 경우에는, 폴리아릴레이트 수지는 유기 용매에 용해되어 이용되고 있다. 그러나, 일반적으로, 폴리아릴레이트 수지는 용해성이 낮아, 할로젠화 용매에는 용해되지만, 근년 환경 의식의 고양으로 인해 요망되고 있는 비할로젠화 용매에 대한 용해성이 낮거나, 용해될 수 있었던 경우에도 용액 안정성이 나쁘거나 한다는 문제가 있다. 더욱이 폴리아릴레이트 수지가 비할로젠화 용매에 용해되었다고 해도, 용해량이 너무 적다는 문제가 있다. 또한, 일반적으로, 폴리아릴레이트 수지는 유리 전이 온도가 높아, 가공 시의 유동성이 낮기 때문에, 프리프레그를 다층화하거나 하는 경우에 보이드가 발생하기 쉬워, 신뢰성이 높은 다층 프린트 배선판이 얻어지지 않는다는 문제가 있었다.When a polyarylate resin is used for a printed wiring board or the like, the polyarylate resin is used by being dissolved in an organic solvent. However, in general, polyarylate resins are low in solubility and soluble in halogenated solvents. However, in recent years, solubility in a non-halogenated solvent which is desired due to enhancement of environmental consciousness is low, There is a problem that stability is poor. Even if the polyarylate resin is dissolved in the non-halogenated solvent, there is a problem that the amount of the polyarylate resin is too small. In general, the polyarylate resin has a high glass transition temperature and low fluidity at the time of processing, so voids tend to occur when the prepreg is multilayered, and a problem that a highly reliable multilayered printed circuit board can not be obtained there was.
본 발명은, 이러한 종래 기술에 비추어, 우수한 내열성 및 유전 특성을 갖고, 가공 시의 유동성 및 비할로젠화 용매에 대한 용해성도 우수한 폴리아릴레이트 수지 및 당해 폴리아릴레이트 수지를 함유하는 폴리아릴레이트 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned prior arts, and a polyarylate resin having excellent heat resistance and dielectric properties, And to provide the above objects.
본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토한 결과, 특정한 2가 페놀 성분을 특정량 함유하는 폴리아릴레이트 수지에 있어서, 하이드록시카복실산 성분을 추가로 특정량 함유시키고, 수 평균 분자량을 특정 범위로 하는 것에 의해, 상기 목적을 달성할 수 있음을 발견하여, 본 발명에 도달했다.Means for Solving the Problems As a result of intensive studies for solving the above problems, the present inventors have found that, in a polyarylate resin containing a specific amount of a specific divalent phenol component, a specific amount of a hydroxycarboxylic acid component is further contained, , It is possible to achieve the above object, and the present invention has been reached.
즉, 본 발명의 요지는 이하와 같다.That is, the gist of the present invention is as follows.
<1><1>
2가 페놀 성분, 방향족 다이카복실산 성분 및 하이드록시카복실산 성분을 함유하는 폴리아릴레이트 수지로서,A polyarylate resin containing a divalent phenol component, an aromatic dicarboxylic acid component, and a hydroxycarboxylic acid component,
전체 2가 페놀 성분에 있어서의 화학식(1)로 표시되는 2가 페놀의 함유량이 30∼70몰%이고,Wherein the content of the divalent phenol represented by the formula (1) in the entire divalent phenol component is 30 to 70 mol%
전체 모노머 성분에 있어서의 하이드록시카복실산 성분의 함유량이 1∼30몰%이고,The content of the hydroxycarboxylic acid component in the total monomer component is 1 to 30 mol%
수 평균 분자량이 10000 미만인 것을 특징으로 하는 폴리아릴레이트 수지:A polyarylate resin having a number average molecular weight of less than 10,000;
[식(1) 중, R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자수가 1∼12인 탄화수소기 또는 할로젠 원자를 나타내고, R5 및 R6은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수가 1∼4인 탄화수소기를 나타낸다; m은 4∼12의 정수를 나타내고, X는 하이드록시페닐기가 결합하는 탄소 원자와 함께 포화 지방족 탄화수소환을 형성하는 탄소 원자를 나타낸다].Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms or a halogen atom, R 5 and R 6 are each independently A hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms; m represents an integer of 4 to 12, and X represents a carbon atom which forms a saturated aliphatic hydrocarbon ring together with the carbon atom to which the hydroxyphenyl group is bonded.
<2>≪ 2 &
상기 폴리아릴레이트 수지가 말단기로서 하기 화학식(2) 또는/및 (3)으로 표시되는 구조를 갖고,Wherein the polyarylate resin has a structure represented by the following formula (2) or / and (3) as an end group,
하기 화학식(2) 및 (3)의 말단기의 합계량이 100geq/t 이상인 것을 특징으로 하는 <1>에 기재된 폴리아릴레이트 수지:The polyarylate resin according to < 1 >, wherein the total amount of terminal groups of the following formulas (2) and (3) is 100 g / t or more:
[화학식(2)의 말단기는 모노하이드록시 화합물 성분 유래의 구조를 나타내고, 화학식(3)의 말단기는 모노카복실산 성분 유래의 구조를 나타내고, R7 및 R8은 각각 독립적으로 지방족 탄화수소기 또는 방향족 탄화수소기를 나타낸다].[Wherein the terminal group in the formula (2) represents a structure derived from a monohydroxy compound component, the terminal group in the formula (3) represents a structure derived from a monocarboxylic acid component, and R 7 and R 8 each independently represent an aliphatic hydrocarbon group or An aromatic hydrocarbon group].
<3>≪ 3 &
화학식(1)로 표시되는 2가 페놀이 1,1-비스(4-하이드록시페닐)-3,3,5-트라이메틸사이클로헥세인 및/또는 1,1-비스(4-하이드록시페닐)-사이클로도데케인인 것을 특징으로 하는 <1> 또는 <2>에 기재된 폴리아릴레이트 수지.Wherein the divalent phenol represented by the formula (1) is 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane and / or 1,1- The polyarylate resin according to < 1 > or < 2 >, which is a cyclododecane.
<4>≪ 4 &
전체 방향족 다이카복실산 성분에 있어서의 아이소프탈산의 함유량이 50몰% 이상인 것을 특징으로 하는 <1>∼<3> 중 어느 하나에 기재된 폴리아릴레이트 수지.The polyarylate resin according to any one of < 1 > to < 3 >, wherein the content of isophthalic acid in the entire aromatic dicarboxylic acid component is 50 mol% or more.
<5>≪ 5 &
상기 2가 페놀 성분이 2,2-비스(4-하이드록시페닐)프로페인(BisA) 및/또는 1,1-비스(4-하이드록시페닐)-1-페닐에테인(BisAP)과, 상기 화학식(1)로 표시되는 2가 페놀을 함유하는, <1>∼<4> 중 어느 하나에 기재된 폴리아릴레이트 수지.Wherein the divalent phenol component is at least one selected from the group consisting of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (BisA) and / or 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) The polyarylate resin according to any one of <1> to <4>, wherein the polyarylate resin contains a divalent phenol represented by the following formula (1).
<6>≪ 6 &
상기 BisA 및/또는 상기 BisAP의 합계 함유량과 상기 화학식(1)로 표시되는 2가 페놀의 합계 함유량의 함유 비율((BisA+BisAP)/(화학식(1)로 표시되는 2가 페놀))이 35/65∼65/35(몰비)인, <5>에 기재된 폴리아릴레이트 수지.(BisA + BisAP) / (divalent phenol represented by the formula (1)) of the total content of the bisA and / or the bisAP and the total content of the divalent phenol represented by the formula (1) / 65 to 65/35 (molar ratio). ≪ 5 > The polyarylate resin according to < 5 >
<7>≪ 7 &
상기 2가 페놀 성분과 상기 방향족 다이카복실산 성분의 함유 비율이 70/100∼140/100(몰비)인, <1>∼<6> 중 어느 하나에 기재된 폴리아릴레이트 수지.The polyarylate resin according to any one of <1> to <6>, wherein the content ratio of the dihydric phenol component and the aromatic dicarboxylic acid component is 70/100 to 140/100 (molar ratio).
<8>≪ 8 &
<1>∼<7> 중 어느 하나에 기재된 폴리아릴레이트 수지와, 에폭시 수지와, 경화 촉진제로 이루어지는 것을 특징으로 하는 폴리아릴레이트 수지 조성물.A polyarylate resin composition comprising a polyarylate resin according to any one of < 1 > to < 7 >, an epoxy resin, and a curing accelerator.
<9>≪ 9 &
<1>∼<7> 중 어느 하나에 기재된 폴리아릴레이트 수지 또는 <8>에 기재된 폴리아릴레이트 수지 조성물로 이루어지는 피막.A coating film comprising a polyarylate resin according to any one of <1> to <7> or a polyarylate resin composition according to <8>.
<10>≪ 10 &
<1>∼<7> 중 어느 하나에 기재된 폴리아릴레이트 수지 또는 <8>에 기재된 폴리아릴레이트 수지 조성물로 이루어지는 필름.A film comprising the polyarylate resin according to any one of <1> to <7> or the polyarylate resin composition according to <8>.
<11>≪ 11 &
<1>∼<7> 중 어느 하나에 기재된 폴리아릴레이트 수지 또는 <8>에 기재된 폴리아릴레이트 수지 조성물과, 유기 용매를 함유하는 것을 특징으로 하는 수지 용액.A resin solution characterized by containing a polyarylate resin according to any one of < 1 > to < 7 > or a polyarylate resin composition according to < 8 >, and an organic solvent.
<12>≪ 12 &
상기 유기 용매가 비할로젠화 용매인, <11>에 기재된 수지 용액.The resin solution according to < 11 >, wherein the organic solvent is a non-halogenated solvent.
<13>≪ 13 &
<11> 또는 <12>에 기재된 수지 용액이 강화 섬유 클로스에 함침 또는 도포되어 있는 것을 특징으로 하는 프리프레그.A prepreg characterized in that the resin solution described in <11> or <12> is impregnated or coated with a reinforcing fiber cloth.
<14>≪ 14 &
<13>에 기재된 프리프레그가 적층되어 있는 것을 특징으로 하는 적층체.The laminate according to < 13 >, wherein the prepreg is laminated.
본 발명에 의하면, 우수한 내열성 및 유전 특성을 갖고, 가공 시의 유동성 및 비할로젠화 용매에 대한 용해성도 우수한 폴리아릴레이트 수지 및 당해 폴리아릴레이트 수지를 함유하는 폴리아릴레이트 수지 조성물을 제공할 수 있다. 본 발명의 폴리아릴레이트 수지 및 폴리아릴레이트 수지 조성물은 프린트 배선판의 절연 재료로서 적합하게 이용할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a polyarylate resin having excellent heat resistance and dielectric properties, excellent in fluidity during processing and solubility in a non-halogenated solvent, and a polyarylate resin composition containing the polyarylate resin . The polyarylate resin and polyarylate resin composition of the present invention can be suitably used as an insulating material for a printed wiring board.
본 발명의 폴리아릴레이트 수지는 2가 페놀 성분, 방향족 다이카복실산 성분 및 하이드록시카복실산 성분으로 구성된다.The polyarylate resin of the present invention is composed of a divalent phenol component, an aromatic dicarboxylic acid component, and a hydroxycarboxylic acid component.
2가 페놀 성분은 1분자 중, 2개의 페놀성 하이드록실기를 함유하는 유기 화합물이고, 화학식(1)로 표시되는 지환식 2가 페놀을 포함한다. 페놀성 하이드록실기란, 방향족환에 직접적으로 결합한 하이드록실기이다.The bifunctional phenol component is an organic compound containing two phenolic hydroxyl groups in one molecule and includes an alicyclic divalent phenol represented by the formula (1). The phenolic hydroxyl group is a hydroxyl group directly bonded to an aromatic ring.
식(1) 중, R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자수 1∼12의 탄화수소기 또는 할로젠 원자를 나타낸다. 탄소 원자수 1∼12의 탄화수소기는 포화 지방족 탄화수소기, 불포화 지방족 탄화수소기 및 방향족 탄화수소기를 포함한다. 포화 지방족 탄화수소기는 탄소 원자수 1∼12, 바람직하게는 1∼6, 보다 바람직하게는 1∼3의 알킬기를 포함하고, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 아이소프로필기, n-뷰틸기, 아이소뷰틸기, t-뷰틸기, n-펜틸기, n-헥실기 등을 들 수 있다. 불포화 지방족 탄화수소기는 탄소 원자수 1∼6, 바람직하게는 1∼3의 알켄일기를 포함하고, 예를 들면, 바이닐기, 알릴기 등을 들 수 있다. 방향족 탄화수소기는 탄소 원자수 6∼10, 바람직하게는 6의 아릴기를 포함하고, 예를 들면, 페닐기, 나프틸기 등을 들 수 있다. 할로젠 원자로서는, 예를 들면, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 아이오딘 원자를 들 수 있고, 바람직하게는 염소 원자, 브로민 원자이다.In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms or a halogen atom. The hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms includes a saturated aliphatic hydrocarbon group, an unsaturated aliphatic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group. The saturated aliphatic hydrocarbon group includes an alkyl group having 1 to 12, preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3, carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, ethyl group, n-propyl group, Butyl group, isobutyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group and the like. The unsaturated aliphatic hydrocarbon group includes an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms, and examples thereof include a vinyl group and an allyl group. The aromatic hydrocarbon group includes an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, preferably 6 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, and preferably a chlorine atom and a bromine atom.
식(1) 중, 바람직한 R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자수 1∼6(특히 1∼3)의 알킬기, 탄소 원자수 6∼10(특히 6)의 아릴기, 또는 할로젠 원자(특히 염소 원자, 브로민 원자)를 나타낸다. 보다 바람직한 R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소 원자수 1∼6(특히 1∼3)의 알킬기를 나타낸다. R1, R2, R3 및 R4는 일부 또는 전부가 서로 상이한 기여도 되고, 또는 동일한 기여도 되며, 바람직하게는 동일한 기를 나타낸다.In the formula (1), preferable R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (particularly 1 to 3 carbon atoms) Or a halogen atom (in particular, a chlorine atom or a bromine atom). More preferably, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (particularly 1 to 3 carbon atoms). R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are partly or wholly different from each other, or represent the same group, and preferably represent the same group.
식(1) 중, R5 및 R6은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소 원자수 1∼4의 탄화수소기를 나타낸다. 탄소 원자수 1∼4의 탄화수소기는 포화 지방족 탄화수소기 및 불포화 지방족 탄화수소기를 포함한다. 포화 지방족 탄화수소기는 탄소 원자수 1∼4, 바람직하게는 1∼3의 알킬기를 포함하고, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 아이소프로필기, n-뷰틸기, 아이소뷰틸기, t-뷰틸기 등을 들 수 있다. 불포화 지방족 탄화수소기는 탄소 원자수 1∼4, 바람직하게는 1∼3의 알켄일기를 포함하고, 예를 들면, 바이닐기, 알릴기 등을 들 수 있다. R5 및 R6은 후술하는 m의 값에 따라서 복수개로 존재하고, 당해 복수의 R5 및 복수의 R6은 각각 독립적으로 상기 범위 내로부터 선택되면 된다.In the formula (1), R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms. The hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms includes a saturated aliphatic hydrocarbon group and an unsaturated aliphatic hydrocarbon group. The saturated aliphatic hydrocarbon group includes an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, t -Butyl group and the like. The unsaturated aliphatic hydrocarbon group includes an alkenyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms, and examples thereof include a vinyl group and an allyl group. R 5 and R 6 are present in a plurality in accordance with the value of m to be described later, and the plurality of R 5 and the plurality of R 6 may independently be selected from within the above range.
식(1) 중, 바람직한 R5 및 R6은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소 원자수 1∼4의 알킬기를 나타낸다. 보다 바람직한 R5 및 R6은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소 원자수 1∼3의 알킬기, 특히 수소 원자를 나타낸다.In the formula (1), preferable R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. More preferably, R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, particularly a hydrogen atom.
식(1) 중, m은 4∼12의 정수, 바람직하게는 4∼11의 정수, 보다 바람직하게는 5∼11의 정수를 나타낸다.In the formula (1), m represents an integer of 4 to 12, preferably an integer of 4 to 11, more preferably an integer of 5 to 11.
식(1) 중, X는 하이드록시페닐기가 결합하는 탄소 원자와 함께 포화 지방족 탄화수소환(단환)을 형성하는 탄소 원자를 나타낸다. 포화 지방족 탄화수소환은 m의 수에 따른 사이클로알케인환을 나타낸다. 포화 지방족 탄화수소환의 구체예로서, 예를 들면, 사이클로펜테인환(m=4), 사이클로헥세인환(m=5), 사이클로헵테인환(m=6), 사이클로옥테인환(m=7), 사이클로노네인환(m=8), 사이클로데케인환(m=9), 사이클로운데케인환(m=10), 사이클로도데케인환(m=11), 사이클로트라이데케인환(m=12)을 들 수 있다.In the formula (1), X represents a carbon atom forming a saturated aliphatic hydrocarbon ring (monocyclic ring) together with the carbon atom to which the hydroxyphenyl group is bonded. The saturated aliphatic hydrocarbon ring represents a cycloalkane ring according to the number of m. Specific examples of the saturated aliphatic hydrocarbon ring include cyclopentane ring (m = 4), cyclohexane ring (m = 5), cycloheptane ring (m = 6), cyclooctane ring ), A cyclododecane ring (m = 8), a cyclodecane ring (m = 9), a cyclododecane ring (m = ).
화학식(1)로 표시되는 지환식 2가 페놀 중, 폴리아릴레이트 수지의 비할로젠화 용매(특히 메틸 에틸 케톤)에 대한 용해성, 내열성 및 유전 특성, 및 당해 폴리아릴레이트 수지와 에폭시 수지의 경화물이 갖는 내열성의 더한층의 향상의 관점에서, 바람직한 구체예로서, 화학식(1a), (1b), (1c), (1d), (1e), (1f), (1g), (1h) 및 (1i), 특히 화학식(1b)∼(1h)로 표시되는 지환식 2가 페놀을 들 수 있다.Among the alicyclic divalent phenols represented by the formula (1), the solubility, heat resistance and dielectric properties of the polyarylate resin to a non-halogenated solvent (particularly methyl ethyl ketone), and the cured product of the polyarylate resin and the epoxy resin (1b), (1c), (1d), (1e), (1f), (1g), (1h) and (1b) 1i), particularly alicyclic divalent phenols represented by the formulas (1b) to (1h).
식(1a) 중, R1, R2, R3 및 R4는 각각 상기 식(1)에 있어서의 R1, R2, R3 및 R4와 마찬가지이고, 바람직한 R1, R2, R3 및 R4 및 보다 바람직한 R1, R2, R3 및 R4도 또한 상기 식(1)에 있어서와 마찬가지이다.Equation (1a) of, R 1, R 2, R 3 and R 4 each is the same as the formula (1) R 1, R 2, R 3 and R 4 in the preferred R 1, R 2, R 3 and R 4, and more preferably R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are also the same as those in the formula (1).
식(1a) 중, n1은 0∼8의 정수이고, 바람직하게는 0∼4의 정수이고, 보다 바람직하게는 0∼2의 정수이다.In the formula (1a), n1 is an integer of 0 to 8, preferably 0 to 4, and more preferably 0 to 2.
식(1a) 중, R10은 탄소 원자수 1∼4의 탄화수소기를 나타낸다. 탄소 원자수 1∼4의 탄화수소기는 포화 지방족 탄화수소기 및 불포화 지방족 탄화수소기를 포함한다. 포화 지방족 탄화수소기는 탄소 원자수 1∼4, 바람직하게는 1∼3의 알킬기를 포함하고, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 아이소프로필기, n-뷰틸기, 아이소뷰틸기, t-뷰틸기 등을 들 수 있다. 불포화 지방족 탄화수소기는 탄소 원자수 1∼4, 바람직하게는 1∼3의 알켄일기를 포함하고, 예를 들면, 바이닐기, 알릴기 등을 들 수 있다. 상기 n1이 2 이상의 정수일 때, 복수의 R10은 각각 독립적으로 상기 범위 내로부터 선택되면 된다. 사이클로펜테인환에 있어서의 R10의 결합 위치는 특별히 한정되지 않지만, 식(1a)에 있어서 하이드록시페닐기가 결합하는 사이클로펜테인환의 탄소 원자를 1위로 했을 때, 3위 및 4위의 탄소 원자로부터 선택되는 탄소 원자에 각 R10이 결합하고 있는 것이 바람직하다.In the formula (1a), R 10 represents a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms. The hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms includes a saturated aliphatic hydrocarbon group and an unsaturated aliphatic hydrocarbon group. The saturated aliphatic hydrocarbon group includes an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, t -Butyl group and the like. The unsaturated aliphatic hydrocarbon group includes an alkenyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms, and examples thereof include a vinyl group and an allyl group. When n1 is an integer of 2 or more, a plurality of R < 10 > s may be independently selected from within the above range. The bonding position of R < 10 > in the cyclopentane ring is not particularly limited. When the carbon atom of the cyclopentane ring to which the hydroxyphenyl group is bonded is 1, the carbon atom at the 3rd and 4th positions And each R < 10 > is bonded to a carbon atom selected from R < 10 >
바람직한 R10은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼4의 알킬기를 나타낸다. 보다 바람직한 R10은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼3의 알킬기를 나타낸다.Each of R < 10 > preferably independently represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. More preferable R < 10 > each independently represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
화학식(1a)로 표시되는 지환식 2가 페놀의 구체예로서, 예를 들면, 1,1-비스(4-하이드록시페닐)사이클로펜테인, 1,1-비스(4-하이드록시-3,5-다이메틸페닐)사이클로펜테인, 1,1-비스(4-하이드록시-3-메틸페닐)사이클로펜테인을 들 수 있다.Specific examples of the alicyclic divalent phenol represented by the formula (1a) include 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclopentane, 1,1-bis (4-hydroxy- 5-dimethylphenyl) cyclopentane, and 1,1-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) cyclopentane.
식(1b) 중, R1, R2, R3 및 R4는 각각 상기 식(1)에 있어서의 R1, R2, R3 및 R4와 마찬가지이고, 바람직한 R1, R2, R3 및 R4 및 보다 바람직한 R1, R2, R3 및 R4도 또한 상기 식(1)에 있어서와 마찬가지이다.Equation (1b) of, R 1, R 2, R 3 and R 4 each is the same as the formula (1) R 1, R 2, R 3 and R 4 in the preferred R 1, R 2, R 3 and R 4, and more preferably R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are also the same as those in the formula (1).
식(1b) 중, n2는 0∼10의 정수이고, 바람직하게는 0∼5의 정수이고, 보다 바람직하게는 2∼4의 정수이다.In the formula (1b), n2 is an integer of 0 to 10, preferably 0 to 5, and more preferably 2 to 4.
식(1b) 중, R20은 상기 식(1a)에 있어서의 R10과 마찬가지이다. 상기 n2가 2 이상의 정수일 때, 복수의 R20은 각각 독립적으로 상기 R10과 마찬가지의 범위 내로부터 선택되면 된다. 사이클로헥세인환에 있어서의 R20의 결합 위치는 특별히 한정되지 않지만, 식(1b)에 있어서 하이드록시페닐기가 결합하는 사이클로헥세인환의 탄소 원자를 1위로 했을 때, 3위, 4위 및 5위의 탄소 원자로부터 선택되는 탄소 원자, 특히 3위 및 5위의 탄소 원자에 각 R20이 결합하고 있는 것이 바람직하다.In the formula (1b), R 20 is the same as R 10 in the formula (1a). When n2 is an integer of 2 or more, a plurality of R < 20 > s may be independently selected within the same range as that of R < 10 >. The bonding position of R 20 in the cyclohexane ring is not particularly limited, but when the carbon atom of the cyclohexene ring to which the hydroxyphenyl group is bonded is 1 in the formula (1b), the bonding positions of the 3 rd, 4 th and 5 th on the carbon atoms selected from carbon atoms, especially 3 carbon atoms in the above and 5 above is preferred that each R 20 is bonded.
바람직한 R20은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼4의 알킬기를 나타낸다. 보다 바람직한 R20은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼3의 알킬기를 나타낸다.Each R < 20 > independently represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. More preferably, R < 20 > each independently represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
화학식(1b)로 표시되는 지환식 2가 페놀의 구체예로서, 예를 들면, 1,1-비스(4-하이드록시페닐)사이클로헥세인, 1,1-비스(3,5-다이메틸-4-하이드록시페닐)사이클로헥세인, 1,1-비스(3-메틸-4-하이드록시페닐)사이클로헥세인, 1,1-비스(4-하이드록시페닐)-3,3,5-트라이메틸사이클로헥세인〔BisTMC〕, 1,1-비스(4-하이드록시페닐)-3,3,5-트라이에틸사이클로헥세인, 1,1-비스-(4-하이드록시페닐)-3,3,5,5-테트라메틸-사이클로헥세인, 1,1-비스-(4-하이드록시페닐)-3,3,4-트라이메틸-사이클로헥세인, 1,1-비스-(4-하이드록시페닐)-3,3-다이메틸-5-에틸-사이클로헥세인, 1,1-비스-(3,5-다이메틸-4-하이드록시페닐)-3,3,5-트라이메틸-사이클로헥세인, 1,1-비스-(3,5-다이페닐-4-하이드록시페닐)-3,3,5-트라이메틸-사이클로헥세인, 1,1-비스-(3-메틸-4-하이드록시페닐)-3,3,5-트라이메틸-사이클로헥세인, 1,1-비스-(3-페닐-4-하이드록시페닐)-3,3,5-트라이메틸-사이클로헥세인, 1,1-비스-(3,5-다이클로로-4-하이드록시페닐)-3,3,5-트라이메틸-사이클로헥세인, 1,1-비스-(3,5-다이브로모-4-하이드록시페닐)-3,3,5-트라이메틸-사이클로헥세인을 들 수 있다. 그 중에서도, 범용성이 높기 때문에, BisTMC가 특히 바람직하다.Specific examples of the alicyclic divalent phenol represented by the formula (1b) include 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (3,5- (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, Methyl cyclohexane BisTMC, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-triethylcyclohexane, 1,1-bis- (4-hydroxyphenyl) , 5,5-tetramethyl-cyclohexane, 1,1-bis- (4-hydroxyphenyl) -3,3,4-trimethyl-cyclohexane, 1,1- Phenyl) -3,3-dimethyl-5-ethyl-cyclohexane, 1,1-bis- (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) -3,3,5- (3,5-diphenyl-4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethyl-cyclohexane, 1,1-bis- (3-methyl- Lt; / RTI > phenyl) -3,3,5-trimethyl-cyclohexane, 1,1-bis- (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethyl-cyclohexane, 1,1-bis- ) -3,3,5-trimethyl-cyclohexane, 1,1-bis- (3,5-dibromo-4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethyl- . Above all, BisTMC is particularly preferable because of its high versatility.
식(1c) 중, R1, R2, R3 및 R4는 각각 상기 식(1)에 있어서의 R1, R2, R3 및 R4와 마찬가지이고, 바람직한 R1, R2, R3 및 R4 및 보다 바람직한 R1, R2, R3 및 R4도 또한 상기 식(1)에 있어서와 마찬가지이다.Equation (1c) of, R 1, R 2, R 3 and R 4 each is the same as the formula (1) R 1, R 2, R 3 and R 4 in the preferred R 1, R 2, R 3 and R 4, and more preferably R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are also the same as those in the formula (1).
식(1c) 중, n3은 0∼12의 정수이고, 바람직하게는 0∼6의 정수이고, 보다 바람직하게는 0∼2의 정수이다.In the formula (1c), n3 is an integer of 0 to 12, preferably 0 to 6, more preferably 0 to 2.
식(1c) 중, R30은 상기 식(1a)에 있어서의 R10과 마찬가지이다. 상기 n3이 2 이상의 정수일 때, 복수의 R30은 각각 독립적으로 상기 R10과 마찬가지의 범위 내로부터 선택되면 된다. 사이클로헵테인환에 있어서의 R30의 결합 위치는 특별히 한정되지 않지만, 식(1c)에 있어서 하이드록시페닐기가 결합하는 사이클로헵테인환의 탄소 원자를 1위로 했을 때, 3위, 4위, 5위 및 6위의 탄소 원자로부터 선택되는 탄소 원자에 각 R30이 결합하고 있는 것이 바람직하다.In the formula (1c), R 30 is the same as R 10 in the formula (1a). When n3 is an integer of 2 or more, a plurality of R < 30 > s may be independently selected within the same range as that of R < 10 >. The bonding position of R 30 in the cycloheptane ring is not particularly limited. When the carbon atom of the cycloheptane ring to which the hydroxyphenyl group is bonded is 1, the position of the 3 rd, 4 th, 5 th and the carbon atom selected from a carbon atom of the 6 above it is preferred that each R 30 is bonded.
바람직한 R30은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼4의 알킬기를 나타낸다. 보다 바람직한 R30은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼3의 알킬기를 나타낸다.Each R < 30 > independently represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. More preferably, each R 30 independently represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
화학식(1c)로 표시되는 지환식 2가 페놀의 구체예로서, 예를 들면, 1,1-비스(4-하이드록시페닐)-사이클로헵테인을 들 수 있다.Specific examples of the alicyclic divalent phenol represented by the formula (1c) include 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -cycloheptane.
식(1d) 중, R1, R2, R3 및 R4는 각각 상기 식(1)에 있어서의 R1, R2, R3 및 R4와 마찬가지이고, 바람직한 R1, R2, R3 및 R4 및 보다 바람직한 R1, R2, R3 및 R4도 또한 상기 식(1)에 있어서와 마찬가지이다.Formula (1d) of, R 1, R 2, R 3 and R 4 each is the same as the formula (1) R 1, R 2, R 3 and R 4 in the preferred R 1, R 2, R 3 and R 4, and more preferably R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are also the same as those in the formula (1).
식(1d) 중, n4는 0∼14의 정수이고, 바람직하게는 0∼7의 정수이고, 보다 바람직하게는 0∼2의 정수이다.In the formula (1d), n4 is an integer of 0 to 14, preferably 0 to 7, more preferably 0 to 2.
식(1d) 중, R40은 상기 식(1a)에 있어서의 R10과 마찬가지이다. 상기 n4가 2 이상의 정수일 때, 복수의 R40은 각각 독립적으로 상기 R10과 마찬가지의 범위 내로부터 선택되면 된다. 사이클로옥테인환에 있어서의 R40의 결합 위치는 특별히 한정되지 않지만, 식(1d)에 있어서 하이드록시페닐기가 결합하는 사이클로옥테인환의 탄소 원자를 1위로 했을 때, 4위, 5위 및 6위의 탄소 원자로부터 선택되는 탄소 원자에 각 R40이 결합하고 있는 것이 바람직하다.In the formula (1d), R 40 is the same as R 10 in the formula (1a). When the n4 is an integer of 2 or more, when a plurality of R 40 are each independently the same as R 10 and selected from the range of is. The bonding position of R 40 in the cyclooctane ring is not particularly limited, but when the carbon atom of the cyclooctane ring bonded to the hydroxyphenyl group in Formula (1d) is set to 1, the 4th, 5th and 6th positions And each R < 40 & gt ; is bonded to a carbon atom selected from carbon atoms of R < 40 >
바람직한 R40은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼4의 알킬기를 나타낸다. 보다 바람직한 R40은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼3의 알킬기를 나타낸다.Each R < 40 > independently represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. More preferably, R < 40 > each independently represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
화학식(1d)로 표시되는 지환식 2가 페놀의 구체예로서, 예를 들면, 1,1-비스(4-하이드록시페닐)-사이클로옥테인을 들 수 있다.Specific examples of the alicyclic divalent phenol represented by the formula (1d) include 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -cyclooctane.
식(1e) 중, R1, R2, R3 및 R4는 각각 상기 식(1)에 있어서의 R1, R2, R3 및 R4와 마찬가지이고, 바람직한 R1, R2, R3 및 R4 및 보다 바람직한 R1, R2, R3 및 R4도 또한 상기 식(1)에 있어서와 마찬가지이다.Formula (1e) of, R 1, R 2, R 3 and R 4 each is the same as the formula (1) R 1, R 2, R 3 and R 4 in the preferred R 1, R 2, R 3 and R 4, and more preferably R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are also the same as those in the formula (1).
식(1e) 중, n5는 0∼16의 정수이고, 바람직하게는 0∼8의 정수이고, 보다 바람직하게는 0∼2의 정수이다.In the formula (1e), n5 is an integer of 0 to 16, preferably 0 to 8, more preferably 0 to 2.
식(1e) 중, R50은 상기 식(1a)에 있어서의 R10과 마찬가지이다. 상기 n5가 2 이상의 정수일 때, 복수의 R50은 각각 독립적으로 상기 R10과 마찬가지의 범위 내로부터 선택되면 된다. 사이클로노네인환에 있어서의 R50의 결합 위치는 특별히 한정되지 않지만, 식(1e)에 있어서 하이드록시페닐기가 결합하는 사이클로노네인환의 탄소 원자를 1위로 했을 때, 4위, 5위, 6위 및 7위의 탄소 원자로부터 선택되는 탄소 원자에 각 R50이 결합하고 있는 것이 바람직하다.In the formula (1e), R 50 is the same as R 10 in the formula (1a). When n5 is an integer of 2 or more, a plurality of R < 50 > s may be independently selected within the same range as that of R < 10 >. The bonding position of R 50 in the cyclononane ring is not particularly limited. When the carbon atom of the cyclononane ring to which the hydroxyphenyl group is bonded is 1 in the formula (1e), the 4th, 5th, 6th and It is preferable that each R < 50 > is bonded to a carbon atom selected from the 7th carbon atom.
바람직한 R50은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼4의 알킬기를 나타낸다. 보다 바람직한 R50은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼3의 알킬기를 나타낸다.Each R < 50 > independently represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. More preferably, each R < 50 > independently represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
화학식(1e)로 표시되는 지환식 2가 페놀의 구체예로서, 예를 들면, 1,1-비스(4-하이드록시페닐)-사이클로노네인을 들 수 있다.Specific examples of the alicyclic divalent phenol represented by the formula (1e) include 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -cyclo-nonene.
식(1f) 중, R1, R2, R3 및 R4는 각각 상기 식(1)에 있어서의 R1, R2, R3 및 R4와 마찬가지이고, 바람직한 R1, R2, R3 및 R4 및 보다 바람직한 R1, R2, R3 및 R4도 또한 상기 식(1)에 있어서와 마찬가지이다.Formula (1f) of, R 1, R 2, R 3 and R 4 each is the same as the formula (1) R 1, R 2, R 3 and R 4 in the preferred R 1, R 2, R 3 and R 4, and more preferably R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are also the same as those in the formula (1).
식(1f) 중, n6은 0∼18의 정수이고, 바람직하게는 0∼9의 정수이고, 보다 바람직하게는 0∼2의 정수이다.In the formula (1f), n6 is an integer of 0 to 18, preferably 0 to 9, and more preferably 0 to 2.
식(1f) 중, R60은 상기 식(1a)에 있어서의 R10과 마찬가지이다. 상기 n6이 2 이상의 정수일 때, 복수의 R60은 각각 독립적으로 상기 R10과 마찬가지의 범위 내로부터 선택되면 된다. 사이클로데케인환에 있어서의 R60의 결합 위치는 특별히 한정되지 않지만, 식(1f)에 있어서 하이드록시페닐기가 결합하는 사이클로데케인환의 탄소 원자를 1위로 했을 때, 4위, 5위, 6위, 7위 및 8위, 특히 5위, 6위 및 7위의 탄소 원자로부터 선택되는 탄소 원자에 각 R60이 결합하고 있는 것이 바람직하다.In the formula (1f), R 60 is the same as R 10 in the formula (1a). When the n6 is an integer 2 or more, plural R 60 are each independently selected from the R 10 when the same selected from the range of. The bonding position of R 60 in the cyclodecane ring is not particularly limited, but when the carbon atom of the cyclodecane ring bonded to the hydroxyphenyl group in Formula (1f) is set to 1, the 4th, 5th, 6th , the carbon atom to which the No. 7 and No. 8, in particular above 5, 6, selected from carbon atoms and the above seventh it is preferable that each of R 60 are combined.
바람직한 R60은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼4의 알킬기를 나타낸다. 보다 바람직한 R60은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼3의 알킬기를 나타낸다.Each R < 60 > independently represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. More preferably, R < 60 > each independently represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
화학식(1f)로 표시되는 지환식 2가 페놀의 구체예로서, 예를 들면, 1,1-비스(4-하이드록시페닐)-사이클로데케인을 들 수 있다.Specific examples of the alicyclic divalent phenol represented by the formula (1f) include, for example, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -cyclodecane.
식(1g) 중, R1, R2, R3 및 R4는 각각 상기 식(1)에 있어서의 R1, R2, R3 및 R4와 마찬가지이고, 바람직한 R1, R2, R3 및 R4 및 보다 바람직한 R1, R2, R3 및 R4도 또한 상기 식(1)에 있어서와 마찬가지이다.Formula (1g) of, R 1, R 2, R 3 and R 4 each is the same as the formula (1) R 1, R 2, R 3 and R 4 in the preferred R 1, R 2, R 3 and R 4, and more preferably R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are also the same as those in the formula (1).
식(1g) 중, n7은 0∼20의 정수이고, 바람직하게는 0∼10의 정수이고, 보다 바람직하게는 0∼2의 정수이다.In the formula (1g), n7 is an integer of 0 to 20, preferably 0 to 10, more preferably 0 to 2.
식(1g) 중, R70은 상기 식(1a)에 있어서의 R10과 마찬가지이다. 상기 n7이 2 이상의 정수일 때, 복수의 R70은 각각 독립적으로 상기 R10과 마찬가지의 범위 내로부터 선택되면 된다. 사이클로운데케인환에 있어서의 R70의 결합 위치는 특별히 한정되지 않지만, 식(1g)에 있어서 하이드록시페닐기가 결합하는 사이클로운데케인환의 탄소 원자를 1위로 했을 때, 4위, 5위, 6위 및 7위의 탄소 원자로부터 선택되는 탄소 원자에 각 R70이 결합하고 있는 것이 바람직하다.In the formula (1g), R 70 is the same as R 10 in the formula (1a). When n7 is an integer of 2 or more, a plurality of R < 70 > s may be independently selected within the same range as that of R < 10 >. The bonding position of R < 70 > in the cycloalkane ring is not particularly limited. When the carbon atom of the cyclohexane ring to which the hydroxyphenyl group is bonded is 1, the 4th, 5th, and the carbon atom selected from carbon atom 7 of the above it is preferred that each R 70 is bonded.
바람직한 R70은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼4의 알킬기를 나타낸다. 보다 바람직한 R70은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼3의 알킬기를 나타낸다.Each R 70 independently represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. More preferably, R < 70 > independently represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
화학식(1g)로 표시되는 지환식 2가 페놀의 구체예로서, 예를 들면, 1,1-비스(4-하이드록시페닐)-사이클로운데케인을 들 수 있다.Specific examples of the alicyclic divalent phenol represented by the formula (1g) include, for example, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -cyclo-decane.
식(1h) 중, R1, R2, R3 및 R4는 각각 상기 식(1)에 있어서의 R1, R2, R3 및 R4와 마찬가지이고, 바람직한 R1, R2, R3 및 R4 및 보다 바람직한 R1, R2, R3 및 R4도 또한 상기 식(1)에 있어서와 마찬가지이다.Formula (1h) of, R 1, R 2, R 3 and R 4 each is the same as the formula (1) R 1, R 2, R 3 and R 4 in the preferred R 1, R 2, R 3 and R 4, and more preferably R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are also the same as those in the formula (1).
식(1h) 중, n8은 0∼22의 정수이고, 바람직하게는 0∼11의 정수이고, 보다 바람직하게는 0∼2의 정수이다.In the formula (1h), n8 is an integer of 0 to 22, preferably 0 to 11, more preferably 0 to 2.
식(1h) 중, R80은 상기 식(1a)에 있어서의 R10과 마찬가지이다. 상기 n8이 2 이상의 정수일 때, 복수의 R80은 각각 독립적으로 상기 R10과 마찬가지의 범위 내로부터 선택되면 된다. 사이클로도데케인환에 있어서의 R80의 결합 위치는 특별히 한정되지 않지만, 식(1h)에 있어서 하이드록시페닐기가 결합하는 사이클로도데케인환의 탄소 원자를 1위로 했을 때, 5위, 6위, 7위, 8위 및 9위의 탄소 원자로부터 선택되는 탄소 원자에 각 R80이 결합하고 있는 것이 바람직하다.In the formula (1h), R 80 is the same as R 10 in the formula (1a). When n8 is an integer of 2 or more, a plurality of R < 80 & gt ; s may independently be selected from the same range as that of R < 10 >. The bonding position of R 80 in the cyclododecane ring is not particularly limited, but when the carbon atom of the cyclododecane ring bonded to the hydroxyphenyl group in Formula (1h) is taken as the first carbon atom, the carbon atom of the fifth, sixth, seventh , a carbon atom selected from 8 carbon atoms to the above 9 and above it is preferable that each of R 80 are combined.
바람직한 R80은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼4의 알킬기를 나타낸다. 보다 바람직한 R80은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼3의 알킬기를 나타낸다.Each preferable R 80 independently represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. More preferably, R 80 independently represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
화학식(1h)로 표시되는 지환식 2가 페놀의 구체예로서, 예를 들면, 1,1-비스(4-하이드록시페닐)-사이클로도데케인(BisCDE)을 들 수 있다.Specific examples of the alicyclic divalent phenol represented by the formula (1h) include 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -cyclododecane (BisCDE).
식(1i) 중, R1, R2, R3 및 R4는 각각 상기 식(1)에 있어서의 R1, R2, R3 및 R4와 마찬가지이고, 바람직한 R1, R2, R3 및 R4 및 보다 바람직한 R1, R2, R3 및 R4도 또한 상기 식(1)에 있어서와 마찬가지이다.Formula (1i) of, R 1, R 2, R 3 and R 4 each is the same as the formula (1) R 1, R 2, R 3 and R 4 in the preferred R 1, R 2, R 3 and R 4, and more preferably R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are also the same as those in the formula (1).
식(1i) 중, n9는 0∼24의 정수이고, 바람직하게는 0∼12의 정수이고, 보다 바람직하게는 0∼2의 정수이다.In the formula (1i), n9 is an integer of 0 to 24, preferably 0 to 12, more preferably 0 to 2.
식(1i) 중, R90은 상기 식(1a)에 있어서의 R10과 마찬가지이다. 상기 n9가 2 이상의 정수일 때, 복수의 R90은 각각 독립적으로 상기 R10과 마찬가지의 범위 내로부터 선택되면 된다. 사이클로트라이데케인환에 있어서의 R90의 결합 위치는 특별히 한정되지 않지만, 식(1i)에 있어서 하이드록시페닐기가 결합하는 사이클로트라이데케인환의 탄소 원자를 1위로 했을 때, 6위, 7위, 8위 및 9위의 탄소 원자로부터 선택되는 탄소 원자에 각 R90이 결합하고 있는 것이 바람직하다.In the formula (1i), R 90 is the same as R 10 in the formula (1a). When n9 is an integer of 2 or more, a plurality of R < 90 & gt ; s may be independently selected within the same range as that of R < 10 >. The bonding position of R 90 in the cyclotridecane ring is not particularly limited. When the carbon atom of the cyclotridecane ring bonded to the hydroxyphenyl group in Formula (1i) is set to 1, the 6th, 7th, It is preferable that each R 90 is bonded to a carbon atom selected from the 8th and 9th carbon atoms.
바람직한 R90은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼4의 알킬기를 나타낸다. 보다 바람직한 R90은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼3의 알킬기를 나타낸다.Each R < 90 > independently represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. More preferably, each R < 90 > independently represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
화학식(1i)로 표시되는 지환식 2가 페놀의 구체예로서, 예를 들면, 1,1-비스(4-하이드록시페닐)-사이클로트라이데케인을 들 수 있다.As specific examples of the alicyclic divalent phenol represented by the formula (1i), for example, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -cyclotridecane.
상기 화학식(1)로 표시되는 지환식 2가 페놀의 함유량은 전체 2가 페놀 성분에 대해서 30∼70몰%인 것이 필요하다. 당해 함유량은, 폴리아릴레이트 수지의 비할로젠화 용매(특히 메틸 에틸 케톤)에 대한 용해성, 내열성 및 유전 특성의 더한층의 향상의 관점에서는, 전체 2가 페놀 성분에 대해서 40∼65몰%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 45∼65몰%이며, 더 바람직하게는 45∼55몰%이다. 전체 2가 페놀 성분에 있어서의 상기 지환식 2가 페놀의 함유량이 30몰% 미만인 경우, 70몰%를 초과하는 경우, 어느 경우여도, 폴리아릴레이트 수지의 비할로젠화 용매(특히 메틸 에틸 케톤)에 대한 용해성이 저하되므로 바람직하지 않다. 상기 화학식(1)로 표시되는 지환식 2가 페놀로 표시되는 지환식 2가 페놀은 단독으로 이용해도 되고, 복수종을 병용해도 되며, 그 경우, 그들의 합계량이 상기 범위 내이면 된다. 폴리아릴레이트 수지의 비할로젠화 용매에 대한 용해성은, 폴리아릴레이트 수지가 고형분 농도 20질량% 정도로 비할로젠화 용매에 용해되는 용해성뿐만 아니라, 고형분 농도가 후술과 같이 바람직하게는 30질량% 이상, 보다 바람직하게는 40질량% 이상, 더 바람직하게는 50질량% 이상인 고농도로 비할로젠화 용매에 용해되는 고농도 용해성도 포함한다. 폴리아릴레이트 수지의 내열성은 폴리아릴레이트 수지 자체의 내열성뿐만 아니라, 폴리아릴레이트 수지를 함유하는 폴리아릴레이트 수지 조성물의 경화물의 내열성도 포함한다. 유전 특성은 비유전율 및 유전 정접에 관한 특성을 포함한다.The content of the alicyclic divalent phenol represented by the above formula (1) is required to be 30 to 70 mol% with respect to the total divalent phenol component. The content is preferably 40 to 65 mol% with respect to the total divalent phenol component from the viewpoint of further improving the solubility, heat resistance and dielectric properties of the polyarylate resin to a non-halogenated solvent (particularly methyl ethyl ketone) , More preferably 45 to 65 mol%, and still more preferably 45 to 55 mol%. When the content of the alicyclic divalent phenol in the total divalent phenol component is less than 30 mol% and in the case of more than 70 mol%, the non-halogenated solvent of the polyarylate resin (particularly methyl ethyl ketone) The solubility in the solution is lowered. The alicyclic divalent phenol represented by the alicyclic divalent phenol represented by the above formula (1) may be used alone or in combination of two or more. In this case, the total amount of the alicyclic divalent phenol may be within the above range. The solubility of the polyarylate resin in the non-solubilized solvent is such that the solubility of the polyarylate resin in the non-halogenated solvent at a solids concentration of about 20% by mass is as high as 30% More preferably not less than 40% by mass, and more preferably not less than 50% by mass, in the non-halogenated solvent at a high concentration. The heat resistance of the polyarylate resin includes not only the heat resistance of the polyarylate resin itself, but also the heat resistance of the cured product of the polyarylate resin composition containing the polyarylate resin. The dielectric properties include properties relating to dielectric constant and dielectric tangent.
2가 페놀 성분은 상기 화학식(1)로 표시되는 지환식 2가 페놀 이외의 2가 페놀을 함유해도 된다. 폴리아릴레이트 수지의 비할로젠화 용매에 대한 용해성의 더한층의 향상의 관점에서는, 2가 페놀 성분은 상기 화학식(1)로 표시되는 지환식 2가 페놀 이외의 2가 페놀을 함유하는 것이 바람직하다.The bifunctional phenol component may contain a divalent phenol other than the alicyclic divalent phenol represented by the above formula (1). From the viewpoint of further improving the solubility of the polyarylate resin in the non-halogenated solvent, it is preferable that the divalent phenol component contains a divalent phenol other than the alicyclic divalent phenol represented by the above formula (1).
상기 화학식(1)로 표시되는 지환식 2가 페놀 이외의 2가 페놀은, 상기 화학식(1)로 표시되는 지환식 2가 페놀에 포함되지 않는 2가 페놀 성분이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 이하의 2가 페놀을 들 수 있다: 4,4'-다이하이드록시바이페닐, 2,2-비스(4-하이드록시페닐)프로페인〔BisA〕, 2,2-비스(3,5-다이메틸-4-하이드록시페닐)프로페인, 2,2-비스(3-메틸-4-하이드록시페닐)프로페인, 2,2-비스(4-하이드록시-3,5-다이브로모페닐)프로페인, 2,2-비스(4-하이드록시-3,5-다이클로로페닐)프로페인, 4,4'-다이하이드록시다이페닐메테인, 4,4'-다이하이드록시다이페닐 설폰, 4,4'-다이하이드록시다이페닐 에터, 4,4'-다이하이드록시다이페닐 설파이드, 4,4'-다이하이드록시다이페닐 케톤, 9,9-비스(4-하이드록시페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-하이드록시-3-메틸페닐)플루오렌, N-페닐-3,3-비스(4-하이드록시페닐)프탈이미딘, N-메틸-3,3-비스(4-하이드록시페닐)프탈이미딘, 1,1-비스(4-하이드록시페닐)-1-페닐에테인〔BisAP〕, 1,1-비스(4-하이드록시페닐)에테인, 1,1-비스(3,5-다이메틸-4-하이드록시페닐)에테인, 1,1-비스(3-메틸-4-하이드록시페닐)에테인, 비스(4-하이드록시페닐)메테인, 비스(3,5-다이메틸-4-하이드록시페닐)메테인, 비스(3-메틸-4-하이드록시페닐)메테인. 그 중에서도, 범용성 및 비할로젠화 용매(특히 메틸 에틸 케톤)에 대한 용해성이 높기 때문에, BisA 및/또는 BisAP가 바람직하다. 상기 화학식(1)로 표시되는 지환식 2가 페놀 이외의 2가 페놀은 단독으로 이용해도 되고, 복수종을 병용해도 된다.The divalent phenol other than the alicyclic divalent phenol represented by the formula (1) is not particularly limited as long as it is a divalent phenol component not included in the alicyclic divalent phenol represented by the formula (1) , The following bifunctional phenols are exemplified: 4,4'-dihydroxybiphenyl, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane BisA, 2,2- Dihydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2- Propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) propane, 4,4'-dihydroxydiphenylmethane, 4,4'-dihydroxydiphenylsulfone, 4,4'-dihydroxy diphenyl ether, 4,4'-dihydroxy diphenyl sulfide, 4,4'-dihydroxy diphenyl ketone, 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene , 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene, N-phenyl- (4-hydroxyphenyl) phthalimidine, N-methyl-3,3-bis (4-hydroxyphenyl) phthalimidine, 1,1- Bis (3,5-dimethylphenyl) ethane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) methane, bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) methane, bis . Among them, BisA and / or BisAP are preferred because of their high solubility in general-purpose and non-halogenated solvents (particularly methyl ethyl ketone). The divalent phenol other than the alicyclic divalent phenol represented by the above formula (1) may be used alone or in combination of plural kinds.
2가 페놀 성분은 상기의 2가 페놀을 단독으로 이용해도 되고, 복수종을 병용해도 되지만, 폴리아릴레이트 수지의 비할로젠화 용매(특히 메틸 에틸 케톤)에 대한 용해성이 더 높아지기 때문에, 복수종을 이용하는 것이 바람직하다. 그 중에서도, 폴리아릴레이트 수지의 비할로젠화 용매(특히 메틸 에틸 케톤)에 대한 용해성의 더한층의 향상의 관점에서, 2가 페놀 성분은 BisA 및/또는 BisAP와, 화학식(1)로 표시되는 지환식 2가 페놀(특히 BisTMC 및/또는 BisCDE)을 조합하여 함유하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 BisA와, 화학식(1)로 표시되는 지환식 2가 페놀(특히 BisTMC 및/또는 BisCDE)을 조합하여 함유한다. BisA 및/또는 BisAP와, 화학식(1)로 표시되는 지환식 2가 페놀(특히 BisTMC 및/또는 BisCDE)을 이용하는 경우, BisA 및 BisAP의 합계 함유량과 화학식(1)로 표시되는 지환식 2가 페놀(특히 BisTMC 및 BisCDE)의 합계 함유량의 함유 비율((BisA+BisAP)/(화학식(1)로 표시되는 2가 페놀))은, 10/90∼90/10(몰비)으로 하는 것이 바람직하고, 특히 폴리아릴레이트 수지의 비할로젠화 용매(특히 메틸 에틸 케톤)에 대한 용해성, 내열성 및 유전 특성이 더 높아지기 때문에, 35/65∼65/35(몰비)로 하는 것이 보다 바람직하고, 40/60∼60/40(몰비)으로 하는 것이 더 바람직하다.The bivalent phenol component may be used alone or in combination of two or more of the above divalent phenols. However, since the solubility of the polyarylate resin in a non-halogenated solvent (particularly, methyl ethyl ketone) becomes higher, Is preferably used. Among them, from the standpoint of further improving the solubility of the polyarylate resin in a non-halogenated solvent (particularly, methyl ethyl ketone), the divalent phenol component can be obtained by reacting BisA and / or BisAP with an alicyclic (Particularly BisTMC and / or BisCDE), and more preferably BisA and a combination of alicyclic divalent phenols represented by the formula (1) (particularly BisTMC and / or BisCDE) . When BisA and / or BisAP and the alicyclic divalent phenols represented by the formula (1) (particularly BisTMC and / or BisCDE) are used, the total content of BisA and BisAP and the content of alicyclic bivalent phenol represented by the formula (1) ((BisA + BisAP) / (divalent phenol represented by the formula (1)) in the total content of the bisphenol A (particularly BisTMC and BisCDE) is preferably 10/90 to 90/10 (molar ratio) The molar ratio is more preferably 35/65 to 65/35 because the solubility, heat resistance and dielectric properties of the polyarylate resin to the non-halogenated solvent (particularly, methyl ethyl ketone) 60/40 (molar ratio).
방향족 다이카복실산 성분은 1분자 중, 방향족환에 직접적으로 결합한 2개의 카복실기를 함유하는 모든 유기 화합물이어도 된다. 방향족 다이카복실산 성분의 구체예로서, 예를 들면, 테레프탈산〔TPA〕, 아이소프탈산〔IPA〕, 오쏘프탈산, 4,4'-다이페닐다이카복실산, 다이페닐 에터-2,2'-다이카복실산, 다이페닐 에터-2,3'-다이카복실산, 다이페닐 에터-2,4'-다이카복실산, 다이페닐 에터-3,3'-다이카복실산, 다이페닐 에터-3,4'-다이카복실산, 다이페닐 에터-4,4'-다이카복실산, 2,6-나프탈렌다이카복실산〔NDCA〕, 다이펜산 비스(p-카복시페닐)알케인을 들 수 있다.The aromatic dicarboxylic acid component may be any organic compound containing two carboxyl groups directly bonded to aromatic rings in one molecule. Specific examples of the aromatic dicarboxylic acid component include terephthalic acid [TPA], isophthalic acid [IPA], orthophthalic acid, 4,4'-diphenyldicarboxylic acid, diphenylether-2,2'-dicarboxylic acid, Phenyl ether-2,3'-dicarboxylic acid, diphenyl ether-2,4'-dicarboxylic acid, diphenyl ether-3,3'-dicarboxylic acid, diphenyl ether- 4,4'-dicarboxylic acid, 2,6-naphthalene dicarboxylic acid [NDCA], and diphenic acid bis (p-carboxyphenyl) alkane.
방향족 다이카복실산 성분은 상기 중 1종의 화합물을 단독으로 이용해도 되고, 복수종의 화합물을 병용해도 된다. 그 중에서도, 폴리아릴레이트 수지의 비할로젠화 용매(특히 메틸 에틸 케톤)에 대한 용해성 및 유전 특성의 더한층의 향상의 관점에서, 적어도 IPA를 이용하는 것이 바람직하고, TPA 및/또는 NDCA와 IPA를 병용하여 이용하는 것이 보다 바람직하고, TPA와 IPA를 병용하여 이용하는 것이 더 바람직하다. IPA의 함유량은, 전체 방향족 다이카복실산 성분에 대해서, 30몰% 이상으로 하는 것이 바람직하고, 50몰% 이상으로 하는 것이 보다 바람직하고, 50∼90몰%로 하는 것이 더 바람직하고, 60∼85몰%로 하는 것이 가장 바람직하다. 방향족 다이카복실산 성분이 TPA 및/또는 NDCA와 IPA를 함유하는 경우, 폴리아릴레이트 수지의 비할로젠화 용매(특히 메틸 에틸 케톤)에 대한 용해성 및 유전 특성의 더한층의 향상의 관점에서, (TPA+NDCA)/IPA의 함유 비율은 몰비로 10/90∼70/30이 바람직하고, 10/90∼50/50이 보다 바람직하고, 15/85∼40/60이 더 바람직하고, 20/80∼40/60이 더욱 바람직하다.As the aromatic dicarboxylic acid component, one kind of the above-mentioned compounds may be used alone, or plural kinds of compounds may be used in combination. Among them, it is preferable to use at least IPA from the viewpoint of further improving the solubility and dielectric properties of the polyarylate resin to a non-halogenating solvent (particularly methyl ethyl ketone), and it is preferable to use TPA and / or NDCA and IPA in combination It is more preferable to use TPA and IPA in combination. The content of IPA is preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, still more preferably 50 to 90 mol%, further preferably 60 to 85 mol%, based on the entire aromatic dicarboxylic acid component % Is most preferable. From the viewpoint of further improving the solubility and dielectric properties of the polyarylate resin to a non-halogenating solvent (particularly methyl ethyl ketone) when the aromatic dicarboxylic acid component contains TPA and / or NDCA and IPA, (TPA + NDCA ) / IPA is preferably 10/90 to 70/30, more preferably 10/90 to 50/50, still more preferably 15/85 to 40/60, still more preferably 20/80 to 40/60, 60 is more preferable.
2가 페놀 성분과 방향족 다이카복실산 성분의 함유 비율(2가 페놀 성분/방향족 다이카복실산 성분)은 통상 70/100∼140/100(몰비)이고, 폴리아릴레이트 수지의 비할로젠화 용매(특히 메틸 에틸 케톤)에 대한 용해성 및 내열성의 더한층의 향상의 관점에서, 바람직하게는 90/100∼140/100(몰비), 보다 바람직하게는 105/100∼140/100(몰비), 더 바람직하게는 110/100∼135/100(몰비), 가장 바람직하게는 115/100∼130/100(몰비)이다.The content ratio of the dihydric phenol component and the aromatic dicarboxylic acid component (bivalent phenol component / aromatic dicarboxylic acid component) is usually 70/100 to 140/100 (molar ratio), and the non-halogenated solvent of the polyarylate resin 100 to 140/100 (molar ratio), more preferably 105/100 to 140/100 (molar ratio), and still more preferably 110/100 to 140/100, from the viewpoints of further improving the solubility and heat resistance of the polymer 100 to 135/100 (molar ratio), and most preferably from 115/100 to 130/100 (molar ratio).
하이드록시카복실산은 1분자 중, 1개의 하이드록실기 및 1개의 카복실기를 함유하는 모든 유기 화합물(특히 방향족 화합물)이어도 된다. 하이드록시카복실산의 구체예로서는, 예를 들면, p-하이드록시벤조산〔PHBA〕, m-하이드록시벤조산 등의 벤젠계 하이드록시카복실산; 2-하이드록시-6-나프토산(HNA), 2-하이드록시-3-나프토산, 1-하이드록시-4-나프토산 등의 나프탈렌계 하이드록시카복실산을 들 수 있다. 그 중에서도, 폴리아릴레이트 수지의 비할로젠화 용매(특히 메틸 에틸 케톤)에 대한 용해성, 폴리아릴레이트 수지 조성물의 경화물의 내열성 및 범용성의 더한층의 향상의 관점에서, 벤젠계 하이드록시카복실산, 특히 PHBA가 바람직하다.The hydroxycarboxylic acid may be any organic compound (especially an aromatic compound) containing one hydroxyl group and one carboxyl group in one molecule. Specific examples of the hydroxycarboxylic acid include benzene-based hydroxycarboxylic acids such as p-hydroxybenzoic acid [PHBA] and m-hydroxybenzoic acid; Naphthalene-based hydroxycarboxylic acids such as 2-hydroxy-6-naphthoic acid (HNA), 2-hydroxy-3-naphthoic acid and 1-hydroxy-4-naphthoic acid. Among them, a benzene-based hydroxycarboxylic acid, especially PHBA, is preferable from the viewpoints of solubility in a non-halogenated solvent (particularly methyl ethyl ketone) of the polyarylate resin, heat resistance of the cured product of the polyarylate resin composition, desirable.
하이드록시카복실산 성분의 함유량은, 전체 모노머 성분 100몰%에 대해서, 1∼30몰%로 하는 것이 필요하고, 폴리아릴레이트 수지의 비할로젠화 용매(특히 메틸 에틸 케톤)에 대한 용해성, 폴리아릴레이트 수지 및 폴리아릴레이트 수지 조성물의 내열성, 및 폴리아릴레이트 수지 및 폴리아릴레이트 수지 조성물 경화물의 유전 특성의 더한층의 향상의 관점에서, 바람직하게는 4∼21몰%이며, 보다 바람직하게는 4∼19몰%이고, 더 바람직하게는 10∼19몰%이다. 하이드록시카복실산 성분의 함유량이 1몰% 미만 또는 30몰% 초과인 경우, 폴리아릴레이트 수지의 비할로젠화 용매(특히 메틸 에틸 케톤)에 대한 용해성이 저하된다. 한편, 전체 모노머 성분이란, 폴리아릴레이트 수지를 구성하는 모든 모노머 성분이라는 의미이다. 예를 들면, 폴리아릴레이트 수지가 2가 페놀 성분과 방향족 다이카복실산 성분과 하이드록시카복실산 성분만으로 이루어지는 경우에는, 전체 모노머 성분은 2가 페놀 성분과 방향족 다이카복실산 성분과 하이드록시카복실산 성분의 전부(합계량)이다. 또한 예를 들면, 폴리아릴레이트 수지가, 2가 페놀 성분과 방향족 다이카복실산 성분과 하이드록시카복실산 성분에 더하여, 다른 모노머 성분을 포함하는 경우에는, 이들 성분의 전부(합계량)이다. 모노머 성분이란 중합 반응 가능한 2작용 이상의 유기 화합물을 의미한다. 따라서, 폴리아릴레이트 수지가 후술하는 모노하이드록시 화합물 성분 및/또는 모노카복실산 성분을 함유하는 경우, 전체 모노머 성분에는, 당해 모노하이드록시 화합물 성분 및/또는 모노카복실산 성분은 포함되지 않는다.The content of the hydroxycarboxylic acid component is required to be 1 to 30 mol% based on 100 mol% of the total monomer component. The content of the hydroxycarboxylic acid component in the polyarylate resin is preferably in the range of 1 to 30 mol% Is preferably from 4 to 21 mol%, more preferably from 4 to 19 mol%, from the viewpoints of further improving the heat resistance of the resin and the polyarylate resin composition and the dielectric properties of the polyarylate resin and the polyarylate resin composition cured product. Mol%, and more preferably 10 to 19 mol%. When the content of the hydroxycarboxylic acid component is less than 1 mol% or exceeds 30 mol%, the solubility of the polyarylate resin in a non-halogenated solvent (particularly methyl ethyl ketone) is lowered. On the other hand, the term "whole monomer component" means all monomer components constituting the polyarylate resin. For example, in the case where the polyarylate resin comprises only a divalent phenol component, an aromatic dicarboxylic acid component and a hydroxycarboxylic acid component, the total monomer component includes all of a divalent phenol component, an aromatic dicarboxylic acid component and a hydroxycarboxylic acid component )to be. Also, for example, when the polyarylate resin contains, in addition to the divalent phenol component, the aromatic dicarboxylic acid component and the hydroxycarboxylic acid component, other monomer components, all of these components (total amount). The monomer component means an organic compound having two or more functional groups capable of being polymerized. Therefore, when the polyarylate resin contains a monohydroxy compound component and / or a monocarboxylic acid component described later, the total monomer component does not include the monohydroxy compound component and / or the monocarboxylic acid component.
폴리아릴레이트 수지는, 본 발명의 효과를 해치지 않는 범위에서, 상기한 2가 페놀 성분, 방향족 다이카복실산 성분 및 하이드록시카복실산 성분 이외의 다른 모노머 성분을 함유해도 된다. 다른 모노머 성분의 구체예로서, 예를 들면, 에틸렌 글라이콜, 프로필렌 글라이콜 등의 지방족 다이올; 1,4-사이클로헥세인다이올, 1,3-사이클로헥세인다이올, 1,2-사이클로헥세인다이올 등의 지환족 다이올; 트라이메틸올프로페인, 펜타에리트리톨 등의 다가 알코올; 아디프산 및 세바스산 등의 지방족 다이카복실산; 1,4-사이클로헥세인다이카복실산, 1,3-사이클로헥세인다이카복실산, 1,2-사이클로헥세인다이카복실산 등의 지환족 다이카복실산; 트라이멜리트산, 피로멜리트산 등의 다가 카복실산을 들 수 있다. 지방족 다이카복실산, 지환족 다이카복실산 및 다가 카복실산은 그의 유도체 및 그의 무수물이어도 된다. 상기한 다른 모노머 성분의 함유량은, 전체 모노머 성분 100몰%에 대해서, 통상은 10몰% 이하이고, 바람직하게는 5몰% 이하이고, 보다 바람직하게는 0몰%이다.The polyarylate resin may contain monomer components other than the above-mentioned divalent phenol component, aromatic dicarboxylic acid component and hydroxycarboxylic acid component within the range not to impair the effect of the present invention. Specific examples of other monomer components include, for example, aliphatic diols such as ethylene glycol and propylene glycol; Cycloaliphatic diols such as 1,4-cyclohexanediol, 1,3-cyclohexanediol, and 1,2-cyclohexanediol; Polyhydric alcohols such as trimethylol propane and pentaerythritol; Aliphatic dicarboxylic acids such as adipic acid and sebacic acid; Cycloaliphatic dicarboxylic acids such as 1,4-cyclohexane dicarboxylic acid, 1,3-cyclohexane dicarboxylic acid, and 1,2-cyclohexane dicarboxylic acid; And polyvalent carboxylic acids such as trimellitic acid and pyromellitic acid. The aliphatic dicarboxylic acids, alicyclic dicarboxylic acids and polyvalent carboxylic acids may be derivatives and anhydrides thereof. The content of the other monomer component is usually 10 mol% or less, preferably 5 mol% or less, and more preferably 0 mol%, based on 100 mol% of the total monomer component.
본 발명의 폴리아릴레이트 수지의 제조 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 아세틸화 반응과 탈아세트산 중합 반응을 행하여 폴리아릴레이트 수지를 제조하는 방법을 들 수 있다.The method for producing the polyarylate resin of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a method of producing a polyarylate resin by performing an acetylation reaction and a deacetylation polymerization reaction.
아세틸화 반응이란, 2가 페놀 성분을 아세틸화하는 반응이다. 아세틸화 반응에 있어서는, 반응 캔에, 다이카복실산 성분과 무수 아세트산을 투입하고, 질소 치환을 행하여, 불활성 분위기하, 100∼240℃, 바람직하게는 120∼180℃의 온도에서, 5분∼8시간, 바람직하게는 30분∼5시간, 상압 또는 가압하에서 교반한다. 2가 페놀 성분과 하이드록시카복실산 성분의 하이드록시기에 대한 무수 아세트산의 몰비는, 또는 2가 페놀 성분과 하이드록시카복실산 성분과 모노하이드록시 화합물의 하이드록시기에 대한 무수 아세트산의 몰비는, 1.00∼1.20으로 하는 것이 바람직하다.The acetylation reaction is a reaction in which a bivalent phenol component is acetylated. In the acetylation reaction, the dicarboxylic acid component and acetic anhydride are added to the reaction can, and the reaction solution is purged with nitrogen and heated at a temperature of 100 to 240 캜, preferably 120 to 180 캜, for 5 to 8 hours , Preferably 30 minutes to 5 hours, at normal pressure or under pressure. The molar ratio of the acetic anhydride to the hydroxyl group of the dihydric phenol component and the hydroxycarboxylic acid component or the molar ratio of the acetic anhydride to the dihydroxy phenol component and the hydroxy group of the hydroxycarboxylic acid component and the monohydroxy compound is in the range of 1.00 - 1.20.
탈아세트산 중합 반응이란, 아세틸화한 2가 페놀과 방향족 다이카복실산을 반응시켜 중축합하는 반응이다. 탈아세트산 중합 반응에 있어서는, 240℃ 이상, 바람직하게는 260℃ 이상, 더 바람직하게는 280℃ 이상의 온도, 500Pa 이하, 바람직하게는 260Pa 이하, 보다 바람직하게는 130Pa 이하의 감압도에서, 30분 이상 유지하고, 교반한다. 온도가 240℃ 미만인 경우, 감압도가 500Pa을 초과하는 경우, 및 유지 시간이 30분 미만인 경우, 탈아세트산 반응이 불충분해져 얻어지는 폴리아릴레이트 수지 중의 아세트산량이 높아지거나, 전체의 중합 시간이 길어지거나, 폴리머 색조가 악화되거나 하는 경우가 있다.The deacetic acid polymerization reaction is a reaction of polycondensation by reacting an acetylated divalent phenol with an aromatic dicarboxylic acid. In the deacetic acid polymerization reaction, at a decompression degree of 240 ° C or higher, preferably 260 ° C or higher, more preferably 280 ° C or higher, 500 Pa or lower, preferably 260 Pa or lower, more preferably 130 Pa or lower, And stirred. When the temperature is less than 240 占 폚, the reduced pressure is more than 500 Pa, and the retention time is less than 30 minutes, the deacetylation reaction becomes insufficient and the amount of acetic acid in the resulting polyarylate resin becomes high, Or the polymer color tone may deteriorate.
아세틸화 반응을 행한 후, 탈아세트산 중합 반응을 행할 때까지의 사이에는 통상, 반응계의 온도 및 압력을 탈아세트산 중합 반응을 위한 온도 및 압력으로 조정하는 예비 단계가 존재한다. 본 발명의 폴리아릴레이트 수지의 제조 방법에 있어서는, 이 예비 단계에 있어서 하이드록시카복실산 성분을 첨가해도 된다. 구체적으로는, 예비 단계에 있어서, 반응계를 승온한 후, 감압을 행함에 있어서, 승온 전에 하이드록시카복실산 성분을 첨가해도 되고, 또는 승온 후이면서 감압 전에 하이드록시카복실산 성분을 첨가해도 된다. 승온 전과, 승온 후이면서 감압 전의 양방 시에, 하이드록시카복실산 성분을 첨가해도 된다.There is usually a preliminary step of adjusting the temperature and pressure of the reaction system to the temperature and pressure for deacetic acid polymerization reaction during the period from the acetylation reaction to the deacetylation polymerization reaction. In the method for producing the polyarylate resin of the present invention, the hydroxycarboxylic acid component may be added in this preliminary step. Specifically, in the preliminary step, the hydroxycarboxylic acid component may be added prior to elevating the temperature in the reaction system after the temperature is elevated, or the hydroxycarboxylic acid component may be added before the decompression while the temperature is elevated. The hydroxycarboxylic acid component may be added before the temperature rise and after the temperature rise and both before the decompression.
아세틸화 반응 및 탈아세트산 중합 반응에 있어서는, 필요에 따라서, 촉매를 이용하는 것이 바람직하다. 촉매로서는, 예를 들면, 테트라뷰틸 타이타네이트 등의 유기 타이타늄산 화합물, 아세트산 아연, 아세트산 칼륨 등의 알칼리 금속염, 아세트산 마그네슘 등의 알칼리 토류 금속염, 삼산화 안티모니, 하이드록시뷰틸주석 옥사이드, 옥틸산 주석 등의 유기 주석 화합물, N-메틸이미다졸 등의 헤테로환화합물을 들 수 있다. 촉매의 첨가량은, 얻어지는 수지 질량에 대해, 1.0질량% 이하로 하는 것이 바람직하다.In the acetylation reaction and the deacetylation polymerization reaction, a catalyst is preferably used if necessary. Examples of the catalyst include organic titanium acid compounds such as tetrabutyl titanate, alkali metal salts such as zinc acetate and potassium acetate, alkaline earth metal salts such as magnesium acetate, antimony trioxide, hydroxybutyltin oxide, tin octylate , And heterocyclic compounds such as N-methylimidazole. The addition amount of the catalyst is preferably 1.0% by mass or less with respect to the amount of the resin to be obtained.
본 발명의 폴리아릴레이트 수지를 제조하는 장치로서는, 공지의 반응 장치를 들 수 있고, 예를 들면, 회분식 반응 장치 및 연속식 반응 장치를 들 수 있다.Examples of the apparatus for producing the polyarylate resin of the present invention include known reaction apparatuses, for example, a batch reaction apparatus and a continuous reaction apparatus.
본 발명의 폴리아릴레이트 수지의 수 평균 분자량은 10000 미만인 것이 필요하고, 8000 미만인 것이 바람직하며, 6000 미만인 것이 보다 바람직하고, 4000 이하인 것이 더 바람직하고, 3000 이하인 것이 가장 바람직하다. 수 평균 분자량이 10000 이상인 경우, 폴리아릴레이트 수지의 유리 전이 온도가 높아져, 가공 시의 유동성이 나빠지므로 바람직하지 않다. 또한 폴리아릴레이트 수지의 비할로젠화 용매(특히 메틸 에틸 케톤)에 대한 용해성이 저하된다. 폴리아릴레이트 수지의 수 평균 분자량의 하한치는 특별히 한정되지 않고, 통상, 당해 수 평균 분자량은 500 이상이며, 바람직하게는 1000 이상이다.The number average molecular weight of the polyarylate resin of the present invention is required to be less than 10,000, preferably less than 8,000, more preferably less than 6,000, more preferably 4,000 or less, most preferably 3,000 or less. When the number average molecular weight is 10,000 or more, the glass transition temperature of the polyarylate resin is increased and the fluidity at the time of processing is deteriorated. And the solubility of the polyarylate resin in a non-halogenated solvent (particularly methyl ethyl ketone) is lowered. The lower limit of the number average molecular weight of the polyarylate resin is not particularly limited and usually the number average molecular weight is 500 or more, and preferably 1000 or more.
폴리아릴레이트 수지의 수 평균 분자량은 반응 조건을 조정하는 것에 의해 제어할 수 있다. 예를 들면, 반응 시간을 상기 범위 내에서 짧게 하거나, 또는 반응 온도를 상기 범위 내에서 내리면, 수 평균 분자량은 저하된다. 또한 예를 들면, 반응 시간을 상기 범위 내에서 길게 하거나, 또는 반응 온도를 상기 범위 내에서 올리면, 수 평균 분자량은 증가한다.The number average molecular weight of the polyarylate resin can be controlled by adjusting the reaction conditions. For example, if the reaction time is shortened within the above range or the reaction temperature is lowered within the above range, the number average molecular weight is lowered. Further, for example, if the reaction time is increased within the above range or the reaction temperature is increased within the above range, the number average molecular weight increases.
또한, 다이카복실산 성분과 2가 페놀 성분의 몰비를 200:100∼100:200의 범위 내에서 조정하는 것에 의해 제어할 수 있다. 예를 들면, 다이카복실산 성분과 2가 페놀 성분의 몰비의 차를 상기 범위 내에서 크게 하면, 수 평균 분자량은 저하된다. 또한 예를 들면, 다이카복실산 성분과 2가 페놀 성분의 몰비의 차를 상기 범위 내에서 작게 하면, 수 평균 분자량은 증가한다.Further, it can be controlled by adjusting the molar ratio of the dicarboxylic acid component and the dihydric phenol component within the range of 200: 100 to 100: 200. For example, if the difference between the molar ratio of the dicarboxylic acid component and the dihydric phenol component is increased within the above range, the number average molecular weight is lowered. Also, for example, if the difference in the molar ratio of the dicarboxylic acid component to the dihydric phenol component is reduced within the above range, the number average molecular weight increases.
또한, 모노하이드록시 화합물 또는/및 모노카복실산 성분의 합계량을 조정하는 것에 의해 제어할 수 있다. 예를 들면 모노하이드록시 화합물 또는/및 모노카복실산 성분의 합계량을 증가시키면, 수 평균 분자량은 저하된다. 또한 예를 들면, 모노하이드록시 화합물 또는/및 모노카복실산 성분의 합계량을 저하시키면, 수 평균 분자량은 증가한다.Further, it can be controlled by adjusting the total amount of the monohydroxy compound and / or the monocarboxylic acid component. For example, when the total amount of monohydroxy compound and / or monocarboxylic acid component is increased, the number average molecular weight is lowered. Further, for example, when the total amount of the monohydroxy compound and / or the monocarboxylic acid component is decreased, the number average molecular weight increases.
본 발명의 폴리아릴레이트 수지의 분자쇄 말단은 특별히 한정되지 않지만, 유전 특성의 관점에서, 말단기로서 하기 화학식(2) 또는/및 (3)으로 표시되는 구조를 갖고, 하기 화학식(2) 및 (3)의 말단기의 합계량이 100geq/t 이상인 것이 바람직하며, 200geq/t 이상인 것이 보다 바람직하고, 400geq/t 이상인 것이 더 바람직하고, 600geq/t 이상인 것이 가장 바람직하다. 당해 말단기의 합계량의 상한치는 특별히 한정되지 않고, 통상, 당해 합계량은 2000geq/t 이하이지만, 폴리아릴레이트 수지의 비할로젠화 용매(특히 메틸 에틸 케톤)에 대한 용해성의 더한층의 향상 및 당해 용해성과 유전 특성의 밸런스의 관점에서, 바람직하게는 1500geq/t 이하이고, 보다 바람직하게는 1000geq/t 이하이고, 더 바람직하게는 900geq/t 이하이고, 가장 바람직하게는 800geq/t 이하이다. 상기와 같은 말단기의 합계량 범위는, R7이 후술하는 지방족 탄화수소기 및 방향족 탄화수소기[바람직하게는 아릴기(특히 나프틸기)]인 화학식(2)의 말단기의 양과, R8이 후술하는 지방족 탄화수소기[바람직하게는 알킬기(특히 메틸기 및 헵타데실기)] 및 방향족 탄화수소기[바람직하게는 아릴기(특히 페닐기)]인 화학식(3)의 말단기의 양의 합계량 범위인 것이 바람직하다.The molecular chain terminal end of the polyarylate resin of the present invention is not particularly limited, but has a structure represented by the following formula (2) or / and (3) as a terminal group from the viewpoint of dielectric properties, It is preferable that the total amount of terminal groups of the compound (3) is 100geq / t or more, more preferably 200geq / t or more, more preferably 400geq / t or more, most preferably 600geq / t or more. The upper limit of the total amount of the terminal groups is not particularly limited and usually the total amount is not more than 2000 g / t. However, the solubility of the polyarylate resin in non-halogenated solvents (particularly, methyl ethyl ketone) It is preferably not more than 1500geq / t, more preferably not more than 1000geq / t, still more preferably not more than 900geq / t, most preferably not more than 800geq / t from the viewpoint of balance of dielectric characteristics. Total amount of the range of the end groups as described above, R 7 is described aliphatic hydrocarbon group and aromatic hydrocarbon group [preferably, an aryl group (especially a naphthyl group)] in the amount of terminal group of formula (2), to R 8 are described below (3), which is an aliphatic hydrocarbon group (preferably an alkyl group (particularly a methyl group and a heptadecyl group)) and an aromatic hydrocarbon group (preferably an aryl group (particularly, a phenyl group)].
[화학식(2)의 말단기는 모노하이드록시 화합물 성분 유래의 구조를 나타내고, 화학식(3)의 말단기는 모노카복실산 성분 유래의 구조를 나타낸다.][The terminal group of the formula (2) represents a structure derived from a monohydroxy compound component, and the terminal group of the formula (3) represents a structure derived from a monocarboxylic acid component.]
화학식(2) 및 (3) 중, R7 및 R8은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼21의 지방족 탄화수소기 또는 탄소 원자수 1∼21의 방향족 탄화수소기를 나타내고, 이들의 혼합기여도 된다.In the formulas (2) and (3), R 7 and R 8 each independently represent an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms, or a mixture thereof.
R7로서의 지방족 탄화수소기는 알킬기, 알켄일기, 사이클로알킬기, 및 아릴 치환 알킬기를 포함한다.The aliphatic hydrocarbon group as R 7 includes an alkyl group, an alkenyl group, a cycloalkyl group, and an aryl substituted alkyl group.
R7로서의 알킬기는 탄소 원자수 1∼21, 바람직하게는 1∼18, 보다 바람직하게는 1∼12의 알킬기이다. 당해 알킬기의 구체예로서, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 뷰틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기, 트라이데실기, 테트라데실기, 펜타데실기, 헥사데실기, 헵타데실기, 옥타데실기, 노나데실기, 에이코실기를 들 수 있다.The alkyl group as R 7 is an alkyl group having 1 to 21, preferably 1 to 18, more preferably 1 to 12 carbon atoms. Specific examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, an undecyl group, a dodecyl group, A decyl group, a pentadecyl group, a hexadecyl group, a heptadecyl group, an octadecyl group, a nonadecyl group and an eicosyl group.
R7로서의 알켄일기는 탄소 원자수 2∼21, 바람직하게는 2∼18, 보다 바람직하게는 15∼18의 알켄일기이다. 당해 알켄일기의 구체예로서, 예를 들면, 올레일기를 들 수 있다.The alkenyl group as R 7 is an alkenyl group having 2 to 21, preferably 2 to 18, more preferably 15 to 18 carbon atoms. As specific examples of the alkenyl group, there can be mentioned, for example, an oleyl group.
R7로서의 사이클로알킬기는 탄소 원자수 1∼21, 바람직하게는 3∼18, 보다 바람직하게는 4∼8의 사이클로알킬기이다. 당해 사이클로알킬기의 구체예로서, 예를 들면, 사이클로헥실기를 들 수 있다.The cycloalkyl group as R 7 is a cycloalkyl group having 1 to 21 carbon atoms, preferably 3 to 18 carbon atoms, and more preferably 4 to 8 carbon atoms. Specific examples of the cycloalkyl group include, for example, a cyclohexyl group.
R7로서의 아릴 치환 알킬기는 탄소 원자수 7∼21, 바람직하게는 7∼18, 보다 바람직하게는 7∼10의 아릴 치환 알킬기이다. 아릴 치환 알킬기의 탄소 원자수는 아릴기와 알킬기의 합계의 탄소 원자수이다. 당해 아릴 치환 알킬기의 구체예로서, 예를 들면, 벤질기를 들 수 있다.The aryl-substituted alkyl group as R 7 is an aryl-substituted alkyl group having 7 to 21, preferably 7 to 18, more preferably 7 to 10 carbon atoms. The number of carbon atoms of the aryl-substituted alkyl group is the total number of carbon atoms of the aryl group and the alkyl group. Specific examples of the aryl-substituted alkyl group include, for example, a benzyl group.
R7로서의 방향족 탄화수소기는 아릴기, 알킬 치환 아릴기, 아릴 치환 아릴기를 포함한다.The aromatic hydrocarbon group as R 7 includes an aryl group, an alkyl-substituted aryl group, and an aryl-substituted aryl group.
R7로서의 아릴기는 탄소 원자수 6∼21, 바람직하게는 6∼18, 보다 바람직하게는 6∼10의 아릴기이다. 당해 아릴기의 구체예로서, 예를 들면, 페닐기, 나프틸기를 들 수 있다.The aryl group as R 7 is an aryl group having 6 to 21, preferably 6 to 18, more preferably 6 to 10 carbon atoms. Specific examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group.
R7로서의 알킬 치환 아릴기는 탄소 원자수 7∼21, 바람직하게는 7∼18, 보다 바람직하게는 7∼15의 알킬 치환 아릴기이다. 알킬 치환 아릴기의 탄소 원자수는 알킬기와 아릴기의 합계의 탄소 원자수이다. 당해 알킬 치환 아릴기의 구체예로서, 예를 들면, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 프로필페닐기, 뷰틸페닐기, 다이메틸페닐기, 다이에틸페닐기, 다이프로필페닐기, 다이뷰틸페닐기, 트라이메틸페닐기, 트라이에틸페닐기, 트라이프로필페닐기, 트라이뷰틸페닐기, 테트라메틸페닐기, 테트라에틸페닐기, 테트라프로필페닐기, 테트라뷰틸페닐기, 메틸프로필페닐기, 메틸뷰틸페닐기, 노닐페닐기를 들 수 있다.The alkyl-substituted aryl group as R 7 is an alkyl-substituted aryl group having 7 to 21, preferably 7 to 18, more preferably 7 to 15 carbon atoms. The number of carbon atoms of the alkyl-substituted aryl group is the total number of carbon atoms of the alkyl group and the aryl group. Specific examples of the alkyl-substituted aryl group include a methylphenyl group, an ethylphenyl group, a propylphenyl group, a butylphenyl group, a dimethylphenyl group, a diethylphenyl group, a dipropylphenyl group, a dibutylphenyl group, a trimethylphenyl group, A tribopropylphenyl group, a tributylphenyl group, a tetramethylphenyl group, a tetraethylphenyl group, a tetrapropylphenyl group, a tetrabutylphenyl group, a methylpropylphenyl group, a methylbutylphenyl group and a nonylphenyl group.
R7로서의 아릴 치환 아릴기는 탄소 원자수 12∼21, 바람직하게는 12∼18, 보다 바람직하게는 12의 아릴 치환 아릴기이다. 아릴 치환 아릴기의 탄소 원자수는 모든 아릴기의 합계의 탄소 원자수이다. 당해 아릴 치환 아릴기의 구체예로서, 예를 들면, 바이페닐기를 들 수 있다.The aryl-substituted aryl group as R 7 is an aryl-substituted aryl group having 12 to 21, preferably 12 to 18, more preferably 12 carbon atoms. The number of carbon atoms of the aryl-substituted aryl group is the total number of carbon atoms of all aryl groups. Specific examples of the aryl-substituted aryl group include, for example, a biphenyl group.
R8로서의 지방족 탄화수소기는 알킬기, 및 알켄일기를 포함한다.The aliphatic hydrocarbon group as R 8 includes an alkyl group, and an alkenyl group.
R8로서의 알킬기는 탄소 원자수 1∼21, 바람직하게는 1∼18의 알킬기이다. 당해 알킬기의 구체예로서, 예를 들면, R7로서의 알킬기와 마찬가지의 알킬기를 들 수 있다.The alkyl group as R 8 is an alkyl group having 1 to 21 carbon atoms, preferably 1 to 18 carbon atoms. As specific examples of the alkyl group, there can be mentioned, for example, the same alkyl group as R 7 .
R8로서의 알켄일기는 탄소 원자수 2∼21, 바람직하게는 2∼18, 보다 바람직하게는 2∼5의 알켄일기이다. 당해 알켄일기의 구체예로서, 예를 들면, 바이닐기를 들 수 있다.The alkenyl group as R 8 is an alkenyl group having 2 to 21, preferably 2 to 18, more preferably 2 to 5 carbon atoms. As specific examples of the alkenyl group, for example, a vinyl group can be given.
R8로서의 방향족 탄화수소기는 아릴기, 알킬 치환 아릴기, 알킬옥시 치환 아릴기, 헤테로환기를 포함한다.The aromatic hydrocarbon group as R 8 includes an aryl group, an alkyl-substituted aryl group, an alkyloxy-substituted aryl group, and a heterocyclic group.
R8로서의 아릴기는 탄소 원자수 6∼21, 바람직하게는 6∼18, 보다 바람직하게는 6∼10의 아릴기이다. 당해 아릴기의 구체예로서, 예를 들면, 페닐기, 나프틸기를 들 수 있다.The aryl group as R 8 is an aryl group having 6 to 21, preferably 6 to 18, more preferably 6 to 10 carbon atoms. Specific examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group.
R8로서의 알킬 치환 아릴기는 탄소 원자수 7∼21, 바람직하게는 7∼18, 보다 바람직하게는 7∼15의 알킬 치환 아릴기이다. 알킬 치환 아릴기의 탄소 원자수는 알킬기와 아릴기의 합계의 탄소 원자수이다. 당해 알킬 치환 아릴기의 구체예로서, 예를 들면, R7로서의 알킬 치환 아릴기와 마찬가지의 알킬 치환 아릴기를 들 수 있다.The alkyl-substituted aryl group as R 8 is an alkyl-substituted aryl group having 7 to 21, preferably 7 to 18, more preferably 7 to 15 carbon atoms. The number of carbon atoms of the alkyl-substituted aryl group is the total number of carbon atoms of the alkyl group and the aryl group. Specific examples of the alkyl-substituted aryl group include an alkyl-substituted aryl group similar to the alkyl-substituted aryl group as R 7 .
R8로서의 알킬옥시 치환 아릴기는 탄소 원자수 7∼21, 바람직하게는 7∼18, 보다 바람직하게는 7∼10의 알킬옥시 치환 아릴기이다. 알킬옥시 치환 아릴기의 탄소 원자수는 알킬옥시기와 아릴기의 합계의 탄소 원자수이다. 당해 알킬옥시 치환 아릴기의 구체예로서, 예를 들면, 메틸옥시페닐기, 에틸옥시페닐기, 프로필옥시페닐기, 뷰틸옥시페닐기를 들 수 있다.The alkyloxy-substituted aryl group as R 8 is an alkyloxy-substituted aryl group having 7 to 21, preferably 7 to 18, more preferably 7 to 10 carbon atoms. The number of carbon atoms of the alkyloxy-substituted aryl group is the total number of carbon atoms of the alkyloxy group and the aryl group. Specific examples of the alkyloxy-substituted aryl group include a methyloxyphenyl group, an ethyloxyphenyl group, a propyloxyphenyl group, and a butyloxyphenyl group.
R8로서의 헤테로환기는 탄소 원자수 2∼9, 바람직하게는 3∼5, 보다 바람직하게는 4∼5의 헤테로환기이다. 당해 헤테로환기의 구체예로서, 예를 들면, 피리딜기, 퓨릴기를 들 수 있다.The heterocyclic group as R 8 is a heterocyclic group having 2 to 9, preferably 3 to 5, more preferably 4 to 5 carbon atoms. Specific examples of the heterocyclic group include, for example, a pyridyl group and a furyl group.
화학식(2)로 표시되는 말단기(이하, 「말단기(2)」라고 하는 경우가 있음)를 폴리아릴레이트 수지에 도입할 수 있는 모노하이드록시 화합물 성분의 구체예로서, 예를 들면, 메틸 알코올, 에틸 알코올, 프로필 알코올, 뷰틸 알코올, 옥틸 알코올, 라우릴 알코올, 올레일 알코올, 사이클로헥산올, 벤질 알코올 등의 1가 알코올류; 페놀, o-크레졸, p-크레졸, m-크레졸, 페닐페놀, 에틸페놀, n-프로필페놀, 아이소프로필페놀, t-뷰틸페놀, 자일렌올, 메틸프로필페놀, 메틸뷰틸페놀, 다이프로필페놀, 다이뷰틸페놀, 노닐페놀, 메시톨, 2,3,5-트라이메틸페놀, 2,3,6-트라이메틸페놀, 1-나프톨, 2-나프톨 등의 페놀류를 들 수 있다. 모노하이드록시 화합물 성분은 1종을 단독으로 이용해도, 2종 이상을 병용해도 된다. 그 중에서도, 유전 특성과 반응성이 우수하기 때문에, 페놀류가 바람직하고, 1-나프톨, 2-나프톨이 특히 바람직하다.Specific examples of the monohydroxy compound component capable of introducing the terminal group represented by the formula (2) (hereinafter sometimes referred to as "terminal group (2)") into the polyarylate resin include, for example, methyl Monohydric alcohols such as alcohol, ethyl alcohol, propyl alcohol, butyl alcohol, octyl alcohol, lauryl alcohol, oleyl alcohol, cyclohexanol and benzyl alcohol; But are not limited to, phenol, o-cresol, p-cresol, m-cresol, phenylphenol, ethylphenol, n-propylphenol, isopropylphenol, t-butylphenol, xylenol, methylpropylphenol, methylbutylphenol, Butylphenol, nonylphenol, mesityl, 2,3,5-trimethylphenol, 2,3,6-trimethylphenol, 1-naphthol and 2-naphthol. The monohydroxy compound component may be used singly or in combination of two or more. Among them, phenols are preferable, and 1-naphthol and 2-naphthol are particularly preferable because of excellent dielectric properties and reactivity.
화학식(3)으로 표시되는 말단기(이하, 「말단기(2)」라고 하는 경우가 있음)를 폴리아릴레이트 수지에 도입할 수 있는 모노카복실산 성분의 구체예로서, 예를 들면, 아세트산, 프로피온산, 펜탄산, 피발산, 카프로산, 카프릴산, 옥틸산, 노닐산, 데칸산, 도데칸산, 라우르산, 트라이데칸산, 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산, 베헨산, 아크릴산 등의 지방족 모노카복실산류; 벤조산, 다이메틸벤조산, 트라이메틸벤조산, 테트라메틸벤조산, 에틸벤조산, 프로필벤조산, 뷰틸벤조산, 큐민산, 파라터셔리뷰틸벤조산, 오쏘톨루산, 메타톨루산, 파라톨루산, 에톡시벤조산, 프로폭시벤조산, 나프토산, 니코틴산, 퓨로산, 아니스산 등의 방향족 모노카복실산류를 들 수 있다. 모노카복실산 성분은 염화 벤조일 및 그의 유도체여도 되고, 또는 상기한 지방족 모노카복실산 및/또는 방향족 모노카복실산의 무수물이어도 된다. 모노카복실산 성분은 1종을 단독으로 이용해도, 2종 이상을 병용해도 된다. 그 중에서도, 유전 특성과 반응성이 우수하기 때문에, 무수 아세트산, 스테아르산이 특히 바람직하다.Specific examples of the monocarboxylic acid component capable of introducing the terminal group represented by the formula (3) (hereinafter occasionally referred to as "terminal group (2)") into the polyarylate resin include, for example, acetic acid, , Stearic acid, behenic acid, acrylic acid, and the like, which may be used alone or in a mixture of two or more kinds selected from the group consisting of citric acid, tartaric acid, citric acid, Aliphatic monocarboxylic acids; Benzoic acid, dimethylbenzoic acid, trimethylbenzoic acid, tetramethylbenzoic acid, ethylbenzoic acid, propylbenzoic acid, butylbenzoic acid, quinic acid, paratintyl tilobenzoic acid, orthotolyl acid, metatolyl acid, paratoluic acid, ethoxybenzoic acid, And aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, naphthoic acid, nicotinic acid, furoic acid and anisic acid. The monocarboxylic acid component may be benzoyl chloride and derivatives thereof, or an anhydride of the above-mentioned aliphatic monocarboxylic acid and / or aromatic monocarboxylic acid. The monocarboxylic acid component may be used singly or in combination of two or more. Of these, acetic anhydride and stearic acid are particularly preferred because of their excellent dielectric properties and reactivity.
모노하이드록시 화합물 성분 및 모노카복실산 성분은 통상, 폴리아릴레이트 수지의 제조 시에 있어서, 방향족 다이카복실산 성분 및 2가 페놀 성분과 함께, 아세틸화 반응 전부터 반응계 내에 존재시키는 것에 의해 사용된다. 모노하이드록시 화합물 성분 및 모노카복실산 성분은 각각을 단독으로 이용해도, 모두 병용해도 된다.The monohydroxy compound component and the monocarboxylic acid component are usually used in the production of the polyarylate resin by allowing the aromatic dicarboxylic acid component and the divalent phenol component to exist in the reaction system before the acetylation reaction. The monohydroxy compound component and the monocarboxylic acid component may be used alone or in combination.
화학식(2) 또는/및 (3)으로 표시되는 구조의 말단기가 에폭시기와 반응하는 경우, 극성이 높은 하이드록시기를 생성하는 일이 없기 때문에, 얻어지는 경화물은 극성기가 적어져, 유전 특성이 우수하다.When a terminal group of the structure represented by the formula (2) or / and (3) is reacted with an epoxy group, since a hydroxy group having a high polarity is not generated, the resulting cured product has less polar groups and excellent dielectric properties .
상기 화학식(2) 및 (3)의 말단기의 합계량은 반응 성분 및 반응 조건을 조정하는 것에 의해 제어할 수 있다.The total amount of the terminal groups of the above formulas (2) and (3) can be controlled by adjusting the reaction components and the reaction conditions.
예를 들면, 다이카복실산 성분에 대해서, 2가 페놀 성분을 많이 존재시키면, 당해 합계량은 증가한다.For example, when a dicarboxylic acid component is present in a large amount of a divalent phenol component, the total amount of the dicarboxylic acid component increases.
또한 예를 들면, 상기의 모노하이드록시 화합물 성분 및/또는 모노카복실산 성분을, 방향족 다이카복실산 성분 및 2가 페놀 성분과 함께, 아세틸화 반응 전부터 반응계 내에 존재시키면, 당해 합계량은 증가한다. 이때, 당해 모노하이드록시 화합물 성분 및/또는 모노카복실산 성분의 사용량을 증가시키면, 당해 합계량은 더 증가한다. 한편, 당해 모노하이드록시 화합물 성분 및/또는 모노카복실산 성분을 사용하지 않으면 당해 합계량은 저하된다.For example, when the monohydroxy compound component and / or the monocarboxylic acid component together with the aromatic dicarboxylic acid component and the divalent phenol component are present in the reaction system before the acetylation reaction, the total amount is increased. At this time, when the amount of the monohydroxy compound component and / or the monocarboxylic acid component used is increased, the total amount of the monohydroxy compound component and the monocarboxylic acid component is further increased. On the other hand, if the monohydroxy compound component and / or the monocarboxylic acid component is not used, the total amount is reduced.
본 발명의 폴리아릴레이트 수지는, 폴리아릴레이트 수지의 비할로젠화 용매(특히 메틸 에틸 케톤)에 대한 용해성의 더한층의 향상의 관점에서, 상기 모노하이드록시 화합물 성분 및 모노카복실산 성분을 함유함이 없이, 상기 합계량으로 상기 화학식(2) 및 (3)의 말단기를 갖고 있는 것이 바람직하다.The polyarylate resin of the present invention is preferably a polyarylate resin in which the monohydroxy compound component and the monocarboxylic acid component are not contained in the polyarylate resin from the viewpoint of further improving the solubility of the polyarylate resin in a non-halogenating solvent (particularly methyl ethyl ketone) , And the total amount of the terminal groups of the above formulas (2) and (3).
본 발명의 폴리아릴레이트 수지는 에폭시 수지 및 경화 촉진제와 병용하여 폴리아릴레이트 수지 조성물로 할 수 있다. 폴리아릴레이트 수지 조성물은 폴리아릴레이트 수지, 에폭시 수지 및 경화 촉진제를 단순히 혼합하여 얻어지는 블렌드물이다.The polyarylate resin of the present invention can be used in combination with an epoxy resin and a curing accelerator to form a polyarylate resin composition. The polyarylate resin composition is a blend obtained by simply mixing a polyarylate resin, an epoxy resin and a curing accelerator.
본 발명에 이용되는 에폭시 수지는 1분자 중, 2개 이상의 에폭시기를 갖는 유기 화합물인 한 특별히 한정은 되지 않는다. 에폭시 수지의 구체예로서, 예를 들면, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 바이페닐형 에폭시 수지, 다이사이클로펜다다이엔형 에폭시 수지, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 아이소사이아누레이트형 에폭시 수지, 지환식 에폭시 수지, 아크릴산 변성 에폭시 수지, 다작용 에폭시 수지, 브로민화 에폭시 수지, 인 변성 에폭시 수지를 들 수 있다. 에폭시 수지는 단독으로 이용해도 되고, 2종류 이상을 병용해도 된다.The epoxy resin used in the present invention is not particularly limited as long as it is an organic compound having two or more epoxy groups in one molecule. Specific examples of the epoxy resin include, for example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, Novolak type epoxy resins, cresol novolak type epoxy resins, isocyanurate type epoxy resins, alicyclic epoxy resins, acrylic acid modified epoxy resins, polyfunctional epoxy resins, brominated epoxy resins and phosphorus modified epoxy resins. The epoxy resin may be used alone, or two or more epoxy resins may be used in combination.
에폭시 수지의 에폭시 당량은 통상 100∼3000이고, 바람직하게는 150∼300이다.The epoxy equivalent of the epoxy resin is usually from 100 to 3,000, and preferably from 150 to 300. [
에폭시 수지의 연화점은 통상 200℃ 이하이고, 바람직하게는 100℃ 이하이다.The softening point of the epoxy resin is usually 200 DEG C or lower, preferably 100 DEG C or lower.
폴리아릴레이트 수지의 배합량은, 폴리아릴레이트 수지의 작용기 당량이 에폭시 수지의 에폭시 당량에 대해서, 바람직하게는 0.5∼1.5당량비, 보다 바람직하게는 0.7∼1.3당량비가 되는 양인 것이 바람직하다. 폴리아릴레이트 수지의 작용기 당량은 페놀성 하이드록실기와 에스터기의 함유량으로부터 산출되는 당량에 상당한다. 그와 같은 폴리아릴레이트 수지의 배합량은 통상, 에폭시 수지와 폴리아릴레이트 수지의 합계량 100질량부에 대해서, 20∼80질량부이고, 바람직하게는 35∼65질량부, 보다 바람직하게는 40∼50질량부이다.The blending amount of the polyarylate resin is preferably such that the functional equivalent of the polyarylate resin is in the range of preferably 0.5 to 1.5 equivalents, more preferably 0.7 to 1.3 equivalents, based on the epoxy equivalent of the epoxy resin. The functional equivalent of the polyarylate resin corresponds to the equivalent calculated from the content of the phenolic hydroxyl group and the ester group. The blending amount of such a polyarylate resin is usually 20 to 80 parts by mass, preferably 35 to 65 parts by mass, more preferably 40 to 50 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the total amount of the epoxy resin and the polyarylate resin Mass part.
본 발명에서 이용되는 경화 촉진제는 특별히 한정은 되지 않지만, 예를 들면, 2-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸 등의 이미다졸류, 4-다이메틸아미노피리딘, 벤질다이메틸아민, 2-(다이메틸아미노메틸)페놀, 2,4,6-트리스(다이메틸아미노메틸)페놀 등의 3급 아민류, 트라이페닐포스핀, 트라이뷰틸포스핀 등의 유기 포스핀류를 들 수 있다. 경화 촉진제는 단독으로 이용해도 되고, 2종류 이상을 병용해도 된다.The curing accelerator used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole and 2-phenylimidazole, 4- Tertiary amines such as dimethylaminopyridine, benzyldimethylamine, 2- (dimethylaminomethyl) phenol and 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, triphenylphosphine, tributylphosphine Of organic phosphines. The curing accelerator may be used alone or in combination of two or more.
본 발명의 수지 조성물에는, 경화제를 병용할 수 있다. 경화제로서는, 예를 들면, 다이에틸렌트라이아민, 트리에틸렌테트라민, 테트라에틸렌펜타민, 다이사이안다이아민, 아디프산 다이하이드라자이드 및 폴리아마이드 폴리아민 등의 지방족 폴리아민 화합물, 멘센다이아민, 아이소포론다이아민, 비스(4-아미노-3-메틸사이클로헥실)메테인 및 비스(4-아미노사이클로헥실)메테인 등의 지환족 폴리아민 화합물, 메타자일렌다이아민, 다이아미노다이페닐메테인, 다이아미노다이페닐설폰 및 메타페닐렌다이아민 등의 방향족 폴리아민 화합물, 무수 프탈산, 테트라하이드로 무수 프탈산, 헥사하이드로 무수 프탈산, 메틸테트라하이드로 무수 프탈산, 메틸헥사하이드로 무수 프탈산, 무수 메틸 나딕산, 도데실 무수 석신산, 무수 클로렌딕산 등의 1작용성 산 무수물, 무수 피로멜리트산, 벤조페논테트라카복실산 무수물, 에틸렌 글라이콜 비스(안하이드로트라이메이트), 메틸사이클로헥세인 테트라카복실산 무수물 등의 2작용성 산 무수물, 무수 트라이멜리트산, 폴리아젤라산 무수물 등의 유리산 무수 카복실산을 들 수 있다. 경화제는 단독으로 이용해도 되고, 2종류 이상을 병용해도 된다.In the resin composition of the present invention, a curing agent may be used in combination. Examples of the curing agent include aliphatic polyamine compounds such as diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, dicyandiamine, adipic acid dihydrazide and polyamide polyamines, menendaiamine, isophorone Alicyclic polyamine compounds such as diamine, bis (4-amino-3-methylcyclohexyl) methane and bis (4-aminocyclohexyl) methane, meta-xylene diamine, diaminodiphenylmethane, Aromatic polyamine compounds such as diphenyl sulfone and metaphenylene diamine, aromatic polyamine compounds such as phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methylnadic anhydride, , Monofunctional acid anhydride such as chlorogenic anhydride, anhydrous pyromellitic acid, benzophenone tetracarboxylic acid Bifunctional acid anhydrides such as ethylene glycol bis (anhydrotrimate) and methylcyclohexane tetracarboxylic acid anhydride, and free acid anhydride carboxylic acids such as trimellitic anhydride and polyazelaic acid anhydride. The curing agent may be used alone, or two or more kinds of curing agents may be used in combination.
또한, 본 발명의 수지 조성물에는, 사이아네이트 수지, 아이소사이아네이트 수지, 말레이미드 수지, 폴리이미드 수지, 유레테인 수지, 페놀 수지 등의 열경화성 수지, 및 실리카, 유리, 알루미나, 탤크, 마이카, 황산 바륨, 수산화 알루미늄, 수산화 마그네슘, 탄산 칼슘, 탄산 마그네슘, 산화 마그네슘, 산화 타이타늄, 질화 규소, 질화 붕소 등의 무기 충전재를 병용해도 된다. 열경화성 수지 및 무기 충전재는 각각 독립적으로 단독으로 이용해도 되고, 2종류 이상을 병용해도 된다. 또한, 무기 충전재는 에폭시실레인 커플링제, 아미노실레인 커플링제 등의 표면 처리제로 표면 처리된 것이 바람직하다.The resin composition of the present invention may contain a thermosetting resin such as a cyanate resin, an isocyanate resin, a maleimide resin, a polyimide resin, a uretene resin and a phenol resin, and a thermosetting resin such as silica, glass, alumina, talc, , Inorganic fillers such as barium sulfate, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, magnesium oxide, titanium oxide, silicon nitride and boron nitride may be used in combination. The thermosetting resin and the inorganic filler may be used independently or in combination of two or more. The inorganic filler is preferably surface-treated with a surface treating agent such as an epoxy silane coupling agent or an amino silane coupling agent.
본 발명의 폴리아릴레이트 수지 및 폴리아릴레이트 수지 조성물은 유기 용매에 용해하여 수지 용액으로 할 수 있다. 수지 용액의 제작 방법은 특별히 한정되지 않지만, 폴리아릴레이트 수지 조성물의 수지 용액을 제작하는 경우, 폴리아릴레이트 수지와 에폭시 수지를 동시에 유기 용매에 용해하는 것보다도, 미리 폴리아릴레이트 수지와 에폭시 수지를 각각 유기 용매에 용해한 후 그들을 혼합하는 편이, 단시간에 균일한 수지 용액을 얻기 쉽다. 한편, 미리 폴리아릴레이트 수지와 에폭시 수지를 각각 유기 용매에 용해한 후 그들을 혼합하는 경우, 양자의 수지 용액의 고형분 농도가 가까운 편이, 보다 단시간에 균일한 수지 용액을 얻기 쉽다.The polyarylate resin and polyarylate resin composition of the present invention can be dissolved in an organic solvent to prepare a resin solution. The method of preparing the resin solution is not particularly limited. However, in the case of preparing the resin solution of the polyarylate resin composition, the polyarylate resin and the epoxy resin are preliminarily mixed before the polyarylate resin and the epoxy resin are simultaneously dissolved in the organic solvent It is easy to obtain a homogeneous resin solution in a short period of time by mixing them after dissolving them in an organic solvent. On the other hand, when the polyarylate resin and the epoxy resin are respectively dissolved in an organic solvent and then mixed, it is easy to obtain a homogeneous resin solution in a shorter time, as the solids concentration of the resin solution of both is close.
본 발명의 폴리아릴레이트 수지의 수지 용액에 이용하는 유기 용매는, 폴리아릴레이트 수지가 균일하게 용해될 수 있으면 특별히 한정되지 않고, 환경에 대한 영향의 관점에서 비할로젠화 용매가 바람직하다. 본 발명의 폴리아릴레이트 수지 조성물의 수지 용액에 이용하는 유기 용매는, 에폭시 수지와 폴리아릴레이트 수지가 균일하게 용해될 수 있으면 특별히 한정되지 않고, 환경에 대한 영향의 관점에서 비할로젠화 용매가 바람직하다. 본 발명의 폴리아릴레이트 수지의 수지 용액 및 본 발명의 폴리아릴레이트 수지 조성물의 수지 용액에 사용되는 비할로젠화 용매는 공통의 것이 사용 가능하다. 이와 같은 비할로젠화 용매로서는, 예를 들면, N,N-다이메틸폼아마이드, N,N-다이메틸아세트아마이드, N-메틸-2-피롤리돈 등의 아마이드 화합물, 1,4-다이옥세인, 1,3-다이옥솔레인, 테트라하이드로퓨란 등의 에터 화합물, 메틸 에틸 케톤, 사이클로펜탄온, 사이클로헥산온 등의 케톤 화합물, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류, 아세트산 에틸, 프로필렌 글라이콜 모노에틸 에터 아세테이트 등의 아세트산 에스터류를 들 수 있다. 이들 비할로젠화 용매는 모두 범용 용매로서 유용하고, 케톤 화합물 및 방향족 탄화수소류, 특히 메틸 에틸 케톤 및 톨루엔은 보다 범용적인 용제로서 유용하다. 가장 유용한 비할로젠화 범용 용매는 메틸 에틸 케톤이다. 상기 유기 용매는 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.The organic solvent used in the resin solution of the polyarylate resin of the present invention is not particularly limited as long as the polyarylate resin can be uniformly dissolved, and a non-halogenated solvent is preferable from the viewpoint of environmental impact. The organic solvent used in the resin solution of the polyarylate resin composition of the present invention is not particularly limited as long as the epoxy resin and the polyarylate resin can be uniformly dissolved and a non-halogenated solvent is preferable from the viewpoint of environmental impact . A common non-halogenated solvent may be used for the resin solution of the polyarylate resin of the present invention and the resin solution of the polyarylate resin composition of the present invention. Examples of such a non-halogenating solvent include amide compounds such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone, , Ether compounds such as 1,3-dioxolane and tetrahydrofuran, ketone compounds such as methyl ethyl ketone, cyclopentanone and cyclohexanone, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, ethyl acetate, propylene glycol And acetic acid esters such as monoethyl ether acetate. All of these non-halogenated solvents are useful as general-purpose solvents, and ketone compounds and aromatic hydrocarbons, especially methyl ethyl ketone and toluene, are useful as more general-purpose solvents. The most useful non-halogenated general purpose solvent is methyl ethyl ketone. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.
본 발명의 폴리아릴레이트 수지 및 폴리아릴레이트 수지 조성물은 비할로젠화 용매에 대한 용해성이 매우 우수하기 때문에, 각각의 수지 용액의 고형분 농도를 높게 할 수 있다. 구체적으로는, 20질량% 이상으로 할 수 있고, 바람직하게는 30질량% 이상으로 할 수 있고, 보다 바람직하게는 40질량% 이상으로 할 수 있고, 더 바람직하게는 50질량% 이상으로 할 수 있다. 특히 본 발명의 폴리아릴레이트 수지는, 예를 들면, 5∼40질량%, 바람직하게는 10∼40질량%, 보다 바람직하게는 20∼40질량%, 더 바람직하게는 30∼40질량%의 고형분 농도로 비할로젠화 용매에 용해시킬 수 있다. 본 발명의 수지 용액의 용매로서 이용하는 메틸 에틸 케톤 및/또는 톨루엔은 전기 전자 분야에서 폭넓게 이용되고 있으며, 입수하기 쉽고, 또한 염가이기 때문에, 특히 편리성이 높은 유기 용매이다. 종래, 폴리아릴레이트 수지는 방향환의 농도가 높기 때문에, 상기 용매에는 용해되기 어렵다고 생각되고 있었다. 그러나, 폴리아릴레이트 수지를 특정한 수지 조성으로 하는 것에 의해, 상기 용매에 고농도로 용해됨을 알 수 있었다. 그 때문에, 본 발명의 폴리아릴레이트 수지 및 폴리아릴레이트 수지 조성물은 피막 및 필름의 형성, 및 프리프레그의 제작에 있어서 매우 취급성이 높아, 그 공업적 의의는 매우 높다.Since the polyarylate resin and the polyarylate resin composition of the present invention have excellent solubility in a non-halogenated solvent, the solid concentration of each resin solution can be increased. Specifically, it may be 20 mass% or more, preferably 30 mass% or more, more preferably 40 mass% or more, and further preferably 50 mass% or more . Particularly, the polyarylate resin of the present invention has a solid content of 5 to 40 mass%, preferably 10 to 40 mass%, more preferably 20 to 40 mass%, and still more preferably 30 to 40 mass% Concentration in the non-halogenated solvent. The methyl ethyl ketone and / or toluene used as the solvent of the resin solution of the present invention is widely used in the field of electric and electronic devices, and is an organic solvent particularly convenient because it is easy to obtain and inexpensive. Conventionally, it has been considered that polyarylate resins are difficult to dissolve in the above solvents because of the high concentration of aromatic rings. However, it was found that the polyarylate resin was dissolved in the solvent at a high concentration by using a specific resin composition. Therefore, the polyarylate resin and the polyarylate resin composition of the present invention are very easy to handle in the formation of coatings and films and in the production of prepregs, and their industrial significance is very high.
본 발명의 수지 용액을 기재에 도포 건조한 후, 피막을 형성하고, 기재로부터 박리하는 것에 의해, 필름을 얻을 수 있다. 피막 및 필름을 형성할 때의 수지 용액은, 폴리아릴레이트 수지를 유기 용매에 용해한 수지 용액이어도 되고, 또는 폴리아릴레이트 수지 조성물을 유기 용매에 용해한 수지 용액이어도 된다.After the resin solution of the present invention is applied to a substrate and dried, a film is formed, and the film is peeled off from the substrate. The resin solution for forming the coating film and the film may be a resin solution obtained by dissolving the polyarylate resin in an organic solvent or a resin solution obtained by dissolving the polyarylate resin composition in an organic solvent.
기재로서는, 예를 들면, PET 필름, 폴리이미드 필름, 유리판, 스테인리스판을 들 수 있다. 도포 방법으로서는, 예를 들면, 와이어 바 코터 칠법, 필름 어플리케이터 칠법, 브러시 칠법, 스프레이 칠법, 그라비어 롤 코팅법, 스크린 인쇄법, 리버스 롤 코팅법, 립 코팅법, 에어 나이프 코팅법, 커튼 플로 코팅법, 침지 코팅법을 들 수 있다.Examples of the substrate include a PET film, a polyimide film, a glass plate, and a stainless steel plate. Examples of the coating method include a wire bar coating method, a film applicator coating method, a brush coating method, a spray coating method, a gravure roll coating method, a screen printing method, a reverse roll coating method, a lip coating method, an air knife coating method, , And an immersion coating method.
본 발명의 수지 용액은 강화 섬유 클로스에 함침 또는 도포시킨 후, 건조하는 것에 의해, 프리프레그를 얻을 수 있다. 프리프레그를 제조할 때의 수지 용액은 폴리아릴레이트 수지 또는 폴리아릴레이트 수지 조성물을 유기 용매에 용해한 수지 용액이어도 된다.The resin solution of the present invention can be impregnated or coated with a reinforcing fiber cloth and then dried to obtain a prepreg. The resin solution for preparing the prepreg may be a resin solution obtained by dissolving a polyarylate resin or polyarylate resin composition in an organic solvent.
강화 섬유 클로스를 구성하는 강화 섬유로서는, 예를 들면, 유리 섬유, 탄소 섬유, 유기계 섬유, 세라믹계 섬유를 들 수 있다. 이들의 직포, 부직포 등 어떠한 형태의 것도 이용할 수 있다. 또한, 피브리드를 이용하여 이들 섬유를 단(短)섬유 상태로 혼합 초지한 합성지를 이용해도 된다. 그 중에서도, 가공성이 우수하기 때문에, 유리 섬유, 탄소 섬유가 바람직하다. 강화 섬유 클로스의 두께는 5∼50μm로 하는 것이 바람직하고, 10∼45μm로 하는 것이 보다 바람직하고, 15∼40μm로 하는 것이 더 바람직하다.Examples of the reinforcing fiber constituting the reinforcing fiber cloth include glass fiber, carbon fiber, organic fiber and ceramic fiber. Any of these woven or nonwoven fabrics can be used. A synthetic paper obtained by mixing and fibrillating these fibers in a short fiber state using fibrids may also be used. Above all, glass fibers and carbon fibers are preferable because of excellent workability. The thickness of the reinforcing fiber cloth is preferably 5 to 50 mu m, more preferably 10 to 45 mu m, and further preferably 15 to 40 mu m.
강화 섬유 클로스에 수지 용액을 함침하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 공지의 방법을 이용할 수 있다. 상기 함침 방법으로서는, 예를 들면 시판 또는 자작의 연속 함침 장치를 이용하는 방법, 폴리아릴레이트 수지로 이루어지는 수지 용액에 강화 섬유를 침지하는 방법, 이형지, 유리판, 스테인리스판 등의 판 상에 강화 섬유를 펼치고, 폴리아릴레이트 수지로 이루어지는 수지 용액을 도공하는 방법을 들 수 있다. 프리프레그는, 상기 도공 후, 도공한 수지 용액으로부터 유기 용매를 증발 건조시킴으로써 얻어진다.A method of impregnating the reinforcing fiber cloth with the resin solution is not particularly limited, and a known method can be used. Examples of the impregnating method include a method of using a continuous impregnation apparatus commercially available or a self-working apparatus, a method of immersing a reinforcing fiber in a resin solution made of a polyarylate resin, a method of spreading reinforcing fibers on a plate such as a release paper, a glass plate or a stainless steel plate , And a method of coating a resin solution comprising a polyarylate resin. The prepreg is obtained by evaporating and drying the organic solvent from the coated resin solution after the coating.
강화 섬유 클로스에 수지 용액을 도공하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 공지의 방법을 이용할 수 있다. 상기 도공 방법으로서는, 예를 들면 시판 도공기를 이용하여 도공이 가능하다. 양면 도공을 행하는 경우는, 편면 도공을 행한 후, 일단 건조하고 다시 반대면에 도공하는 방법, 편면 도공을 행한 후 건조를 거치지 않고 반대면에 도공하는 방법, 동시에 양면에 도공하는 방법을 들 수 있다. 그들 도공 방법은 작업성, 얻어지는 프리프레그의 성능을 가미하여 적절히 선택할 수 있다. 프리프레그는, 상기 도공 후, 도공한 수지 용액으로부터 유기 용매를 증발 건조시킴으로써 얻어진다.The method of applying the resin solution to the reinforcing fiber cloth is not particularly limited, and a known method can be used. As the coating method, for example, it is possible to coat using a commercially available coating machine. In the case of performing both-side coating, there is a method in which a single-side coating is performed, a method in which drying is performed once and then coating is conducted on the opposite side, a method in which coating is performed on the opposite side without performing drying after the single- side coating is applied, . These coating methods can be appropriately selected in consideration of workability and the performance of the resulting prepreg. The prepreg is obtained by evaporating and drying the organic solvent from the coated resin solution after the coating.
프리프레그의 두께는 이용하는 강화 섬유 클로스의 두께에 따라서 상이하지만, 10∼150μm인 것이 바람직하고, 20∼140μm인 것이 보다 바람직하고, 30∼130μm인 것이 더 바람직하다. 한편, 프리프레그는 강화 섬유 클로스에 수지 용액을 함침 또는 도공 후, 건조함으로써 얻어지지만, 이용하는 강화 섬유 클로스의 두께의 대체로 3배의 두께가 되도록 프리프레그를 얻음으로써 내열성, 기계 특성, 접착성, 나아가 외관이 우수한 프리프레그로 할 수 있다.The thickness of the prepreg varies depending on the thickness of the reinforcing fiber cloth used, but is preferably 10 to 150 占 퐉, more preferably 20 to 140 占 퐉, and still more preferably 30 to 130 占 퐉. On the other hand, the prepreg is obtained by impregnating or coating with a resin solution in a reinforcing fiber cloth and then drying the reinforcing fiber cloth. However, by obtaining a prepreg so as to have a thickness three times as large as the thickness of the reinforcing fiber cloth used, heat resistance, mechanical characteristics, A prepreg having excellent appearance can be obtained.
본 발명의 프리프레그는 경화를 위한 가열 처리 등을 함이 없이 그대로 이용할 수 있다. 또한, 프리프레그에 함유하는 폴리아릴레이트 수지는 그의 유리 전이 온도 이상으로 가열하면 용융되어 유동성을 나타내므로, 프리프레그를 그대로 혹은 몇 장 적층하고, 가열 프레스하는 것에 의해, 치밀화하여, 적층체로 할 수 있다. 상기 적층체는, 프리프레그끼리의 접착성이 우수하기 때문에, 기계적 강도가 충분히 향상되고 내열성도 우수하다. 또한, 상기 적층체는 고강도의 판상 성형체로서 이용할 수 있다. 더욱이, 이 판상 성형체는 원하는 형상으로 성형할 수도 있다. 성형성에 관해서는, 이용하는 강화 섬유 클로스의 재질, 프리프레그 함유의 고형분량에 따라서도 상이하지만, 소정 금형에 따른 부형(賦型) 가공이 가능하다. 기계 특성을 크게 해치지 않는 범위에 있어서, 타발 등을 행해도 된다. 본 발명의 프리프레그는 열경화성 수지를 이용하고 있지 않는 경우, 특히, 접착성, 부형 가공성, 타발성 등의 가공성이 우수하다. 한편, 부형 가공, 타발은 냉간 가공도 가능하지만, 필요에 따라서 가온하 가공을 행할 수도 있다.The prepreg of the present invention can be used as it is without any heat treatment or the like for curing. Since the polyarylate resin contained in the prepreg is melted when heated to a temperature not lower than its glass transition temperature and exhibits fluidity, the prepreg can be laminated as it is or several times, and can be densified by hot pressing to form a laminate have. Since the laminate has excellent adhesiveness between prepregs, the laminate has sufficiently improved mechanical strength and excellent heat resistance. Further, the laminate can be used as a plate-shaped formed body having high strength. Furthermore, the plate-shaped formed body may be molded into a desired shape. With respect to the moldability, although it depends on the material of the reinforcing fiber cloth to be used and the solid content of the prepreg, it is possible to perform shaping according to a predetermined mold. The punching may be carried out in a range not largely deteriorating the mechanical characteristics. When the thermosetting resin is not used in the prepreg of the present invention, the prepreg of the present invention is excellent in workability such as adhesiveness, formability and puncture. On the other hand, cold working can be applied to the form processing and punching, but it is also possible to carry out under-temperature processing as required.
본 발명의 폴리아릴레이트 수지 조성물의 용액을 이용하여 얻어진 피막, 필름, 및 프리프레그 및 그의 적층체를 가열하는 것에 의해, 폴리아릴레이트 수지와 에폭시 수지를 반응시켜, 경화를 완전히 달성할 수 있다. 가열 온도(경화 온도)는 통상 110∼250℃이고, 바람직하게는 130∼220℃이다. 가열 시간(경화 시간)은 통상 1분∼20시간이고, 바람직하게는 5분∼10시간이다.By curing the film, film, prepreg and laminate thereof obtained by using the solution of the polyarylate resin composition of the present invention, the polyarylate resin and the epoxy resin are reacted to complete the curing. The heating temperature (curing temperature) is usually 110 to 250 캜, preferably 130 to 220 캜. The heating time (curing time) is usually from 1 minute to 20 hours, preferably from 5 minutes to 10 hours.
본 발명의 폴리아릴레이트 수지는 우수한 내열성 및 유전 특성을 갖고, 가공 시의 유동성 및 비할로젠화 용매에 대한 용해성도 우수하기 때문에, 프린트 배선판 등의 절연 재료로서 적합하게 이용할 수 있다.The polyarylate resin of the present invention has excellent heat resistance and dielectric properties and is excellent in fluidity at the time of processing and solubility in a non-halogenated solvent, and thus can be suitably used as an insulating material for printed wiring boards and the like.
실시예Example
이하, 본 발명을 실시예에 의해 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들에 의해 한정되는 것은 아니다. 한편, 폴리아릴레이트 수지의 물성 측정은 이하의 방법에 의해 행했다.Hereinafter, the present invention will be described concretely with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto. On the other hand, the physical properties of the polyarylate resin were measured by the following methods.
(I) 폴리아릴레이트 수지의 수지 조성, 말단기(2)와 (3)의 합계량(I) The resin composition of the polyarylate resin, the total amount of the terminal groups (2) and (3)
고분해능 핵자기 공명 장치(니혼전자사제 LA-400 NMR)를 이용하여 1H-NMR 분석하는 것에 의해, 각각의 공중합 성분의 피크 강도로부터 수지 조성, 및 말단기(2)와 (3)의 합계량을 구했다(분해능: 400MHz, 용매: 중수소화 트라이플루오로아세트산과 중수소화 테트라클로로에테인의 용량비가 1/11인 혼합 용매, 온도: 50℃). 1 H-NMR analysis was performed using a high-resolution nuclear magnetic resonance apparatus (LA-400 NMR manufactured by Nippon Denshi KK) to determine the resin composition and the total amount of the terminal groups (2) and (3) from the peak intensities of the respective copolymer components (Resolution: 400 MHz, solvent: mixed solvent having a volume ratio of deuterated trifluoroacetic acid and deuterated tetrachloroethane of 1/11, temperature: 50 ° C).
(II) 폴리아릴레이트 수지의 유리 전이 온도(II) Glass transition temperature of polyarylate resin
시차 주사 열량 측정 장치(퍼킨엘머사제 DSC7)를 이용하여, 승온 속도 20℃/분으로 40℃로부터 340℃까지 승온하고, 얻어진 승온 곡선 중의 유리 전이 온도에서 유래하는 불연속 변화의 개시 온도를 유리 전이 온도로 했다.The temperature was raised from 40 DEG C to 340 DEG C at a temperature raising rate of 20 DEG C / min using a differential scanning calorimeter (DSC7, manufactured by Perkin Elmer), and the initiation temperature of the discontinuous change derived from the glass transition temperature in the obtained temperature rising curve was set at a glass transition temperature .
S(최량): 144℃ 이상;S (optimum): 144 占 폚 or higher;
A(양): 130℃ 이상, 144℃ 미만.A (quantity): 130 ° C or higher and lower than 144 ° C.
B(합격): 60℃ 이상, 130℃ 미만. (실용상 문제 없음)B (Pass): 60 ° C or more, less than 130 ° C. (No problem in practical use)
C(불합격): 60℃ 미만. (실용상 문제 있음)C (fail): less than 60 ℃. (Problems in practical use)
(III) 폴리아릴레이트 수지의 수 평균 분자량(III) Number average molecular weight of polyarylate resin
클로로폼을 용매로 하고, 폴리아릴레이트 수지의 펠릿을 농도 1000ppm이 되도록 용해시켜 용액을 얻었다. GPC 분석에 의해, 폴리스타이렌 환산으로 수 평균 분자량을 구했다.Using chloroform as a solvent, the pellets of the polyarylate resin were dissolved at a concentration of 1000 ppm to obtain a solution. The number average molecular weight was determined by GPC analysis in terms of polystyrene.
(IV) 폴리아릴레이트 수지의 용해성(IV) Solubility of polyarylate resin
내용량 50mL의 유리제 나사구 병에, 합계량이 30g이고, 고형분 농도가 20, 30, 40, 50질량%가 되도록 폴리아릴레이트 수지와 메틸 에틸 케톤을 칭량하여 투입했다. 그 후, 유리제 나사구 병을 밀봉하고, 23℃의 실온에서 믹스 로터를 이용하여 70rpm으로 24시간 회전(교반)시키고, 23℃의 실온하, 2주간 정치했다. 정치 후, 수지 용액을 육안으로 관찰하여, 이하의 기준으로 수지 용액의 용해 안정성을 판단했다. 폴리아릴레이트 수지는 분쇄기(DAS-28; 다이코세이키사제)를 이용하여 조(粗)분쇄한 상태의 것을 사용했다. 폴리아릴레이트 수지의 입자는 최대 직경이 5mm였다. 최대 직경은 임의의 100개의 입자의 최대 치수의 평균치이다.A polylaurate resin and methyl ethyl ketone were weighed and added to a glass or sludge bottle having an internal volume of 50 mL so that the total amount was 30 g and the solid content concentration was 20, 30, 40 and 50 mass%. Thereafter, the glass or dust bottle was sealed, and the mixture was rotated (stirred) at 70 rpm for 24 hours at room temperature of 23 DEG C using a mix rotor and allowed to stand at room temperature of 23 DEG C for 2 weeks. After standing, the resin solution was visually observed, and the dissolution stability of the resin solution was judged based on the following criteria. The polyarylate resin was ground in a pulverizer (DAS-28; manufactured by Daicose Chemical Industry Co., Ltd.). The particles of the polyarylate resin had a maximum diameter of 5 mm. The maximum diameter is the average of the largest dimension of any 100 particles.
○: 투명성이 유지되어 있고, 증점되어 있지 않았다.?: Transparency was maintained, and no thickening was observed.
△: 투명성이 유지되어 있지 않았거나, 증점되어 있었다.?: Transparency was not maintained or thickened.
×: 투명성이 유지되어 있지 않고, 증점되어 있었다.X: Transparency was not maintained, and the film was thickened.
또한, 용매가 메틸 에틸 케톤인 경우와 마찬가지로 하여, 용매가 톨루엔, 사이클로헥산온, 테트라하이드로퓨란, 1,3-다이옥솔레인, N-메틸피롤리돈, N,N-다이메틸폼아마이드인 경우에 대해서도 수지 용액의 안정성을 확인했다.In the same manner as in the case where the solvent is methyl ethyl ketone, when the solvent is toluene, cyclohexanone, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, N-methylpyrrolidone or N, N- dimethylformamide The stability of the resin solution was also confirmed.
(V) 폴리아릴레이트 수지 조성물의 유전율 및 유전 정접(V) Dielectric constant and dielectric tangent of polyarylate resin composition
폴리아릴레이트 수지 50질량부와, 에폭시 수지(jER828, 미쓰비시화학사제, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 에폭시 당량 184∼194g/eq, 점도 120∼150(25℃), 연화점 20℃ 이하) 50질량부와, 경화 촉진제(2-에틸-4-메틸이미다졸, 도쿄화성공업사제) 0.2질량부와, 메틸 에틸 케톤 100질량부를 혼합하고, 투명해질 때까지 교반하여, 수지 용액을 얻었다.50 parts by mass of a polyarylate resin and 50 parts by mass of an epoxy resin (jER 828, bisphenol A type epoxy resin, epoxy equivalent 184 to 194 g / eq, viscosity 120 to 150 (25 캜) , 0.2 parts by mass of a curing accelerator (2-ethyl-4-methylimidazole, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 100 parts by mass of methyl ethyl ketone were mixed and stirred until transparent to obtain a resin solution.
얻어진 수지 용액을 알루미늄 컵에 붓고, 실온에서 2시간 건조시켰다. 그 후, 진공 건조기를 이용하여, 진공하 170℃에서 2시간, 계속해서 진공하 200℃에서 3시간 건조해서, 탈용매 및 경화를 행하여, 경화물을 얻었다.The obtained resin solution was poured into an aluminum cup and dried at room temperature for 2 hours. Thereafter, using a vacuum drier, it was desolvated and cured by drying under vacuum at 170 DEG C for 2 hours and then in vacuum at 200 DEG C for 3 hours to obtain a cured product.
한편, 비교예 1∼4, 6에서 얻어진 폴리아릴레이트 수지는, 메틸 에틸 케톤에 용해되지 않았기 때문에, 메틸 에틸 케톤 100질량부 대신에 테트라하이드로퓨란 300질량부를 이용하여 수지 용액을 얻고, 경화물을 제작했다.On the other hand, since the polyarylate resins obtained in Comparative Examples 1 to 4 and 6 were not dissolved in methyl ethyl ketone, a resin solution was obtained by using 300 parts by mass of tetrahydrofuran instead of 100 parts by mass of methyl ethyl ketone, .
얻어진 경화물의 판을 절삭하여, 이하의 조건에서 유전율, 유전 정접을 측정했다.A plate of the obtained cured product was cut, and dielectric constant and dielectric loss tangent were measured under the following conditions.
장치: 아질런트·테크놀로지 주식회사제, E4991A RF 임피던스/머티리얼·애널라이저 시료 치수: 길이 60mm×폭 60mm×두께 100μmDevice: manufactured by Agilent Technologies, Inc. E4991A RF Impedance / Material Analyzer Sample size: 60 mm in length × 60 mm in width × 100 μm in thickness
주파수: 1GHzFrequency: 1GHz
측정 온도: 23℃Measuring temperature: 23 ° C
시험 환경: 23℃±1℃, 50%RH±5%RHTest environment: 23 ° C ± 1 ° C, 50% RH ± 5% RH
유전율permittivity
S(최량): 2.84 이하;S (optimum): not more than 2.84;
A(양): 2.84 초과, 2.85 이하;A (quantity): more than 2.84, not more than 2.85;
B(합격): 2.85 초과, 2.89 이하(실용상 문제 없음);B (pass): more than 2.85, 2.89 or less (practically no problem);
C(불합격): 2.89 초과(실용상 문제 있음).C (Failed): exceeded 2.89 (practical problem).
유전 정접Dielectric tangent
S(최량): 0.010 이하;S (optimum): 0.010 or less;
A(양): 0.010 초과, 0.011 이하;A (quantity): more than 0.010, not more than 0.011;
B(합격): 0.011 초과, 0.013 이하(실용상 문제 없음);B (acceptance): more than 0.011, less than 0.013 (practically no problem);
C(불합격): 0.013 초과(실용상 문제 있음).C (failure): exceeding 0.013 (there is a problem in practical use).
(VI) 폴리아릴레이트 수지 조성물의 유동성(VI) Flowability of polyarylate resin composition
(V)에서 얻어진 경화물의 판을 관찰하여, 이하의 기준으로 폴리아릴레이트 수지 조성물의 유동성의 판단을 했다.The plate of the cured product obtained in the step (V) was observed to determine the fluidity of the polyarylate resin composition on the basis of the following criteria.
○: 경화물에 기포가 보이지 않았다.○: No air bubbles were observed in the cured product.
×: 경화물에 기포가 보였다.X: Bubbles were observed in the cured product.
(VII) 폴리아릴레이트 수지 조성물의 유리 전이 온도(VII) Glass transition temperature of polyarylate resin composition
(V)에서 얻어진 경화물을 이용한 것 이외에, 폴리아릴레이트 수지의 유리 전이 온도의 측정 방법과 마찬가지의 방법에 의해, 폴리아릴레이트 수지 조성물의 유리 전이 온도를 측정했다.The glass transition temperature of the polyarylate resin composition was measured in the same manner as in the method of measuring the glass transition temperature of the polyarylate resin in addition to using the cured product obtained in the step (V).
S(최량): 163℃ 이상;S (optimum): 163 DEG C or higher;
A(양): 150℃ 이상, 163℃ 미만;A (quantity): 150 占 폚 or higher, lower than 163 占 폚;
B(합격): 110℃ 이상, 150℃ 미만(실용상 문제 없음);B (pass): 110 ° C or more, less than 150 ° C (no problem in practical use);
C(불합격): 110℃ 미만(실용상 문제 있음).C (Fail): Less than 110 ℃ (Practical problem).
실시예 1Example 1
교반 장치를 구비한 반응 용기에, TPA 8.3질량부, IPA 8.3질량부, BisA 14.3질량부, BisTMC 19.4질량부, PHBA 6.9중량부, 무수 아세트산 32.2질량부를 투입하고(TPA:IPA:BisA:BisTMC:PHBA:무수 아세트산(몰비)=50:50:63:63:50:315), 질소 분위기하에서, 상압, 140℃에서 2시간 교반 혼합시켜 반응시켰다.8.3 parts by mass of TPA, 8.3 parts by mass of IPA, 14.3 parts by mass of BisA, 19.4 parts by mass of BisTMC, 6.9 parts by mass of PHBA and 32.2 parts by mass of acetic anhydride were charged (TPA: BisA: BisTMC: PHBA: acetic anhydride (molar ratio) = 50: 50: 63: 63: 50: 315) and the mixture was stirred and reacted under normal pressure and at 140 DEG C for 2 hours.
계속해서, 280℃까지 3시간에 걸쳐 승온하고, 280℃에서 1시간 유지했다.Subsequently, the temperature was raised to 280 deg. C over 3 hours and maintained at 280 deg. C for 1 hour.
그 후, 90분에 걸쳐 130Pa까지 감압하고, 2시간 교반하여, 폴리아릴레이트 수지를 얻었다.Thereafter, the pressure was reduced to 130 Pa over 90 minutes and the mixture was stirred for 2 hours to obtain a polyarylate resin.
얻어진 폴리아릴레이트 수지의 수지 조성을 분석한바, TPA:IPA:BisA:BisTMC:PHBA(몰비)=50:50:63:63:50으로, 투입의 조성과 동일했다.The resin composition of the obtained polyarylate resin was analyzed, and the composition of TPA: IPA: BisA: BisTMC: PHBA (molar ratio) = 50: 50: 63: 63:
실시예 2∼16 및 비교예 1∼6?Examples 2 to 16 and Comparative Examples 1 to 6?
이하의 표에 기재된 바와 같이 원료의 투입의 조성을 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 조작을 행하여, 폴리아릴레이트 수지를 얻었다.A polyarylate resin was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition of the feedstock was changed as shown in the following table.
실시예 17Example 17
교반 장치를 구비한 반응 용기에, TPA 5.0질량부, IPA 11.6질량부, BisA 14.3질량부, BisTMC 19.4질량부, 무수 아세트산 25.5질량부를 투입하고(TPA:IPA:BisA:BisTMC:무수 아세트산(몰비)=30:70:62.5:62.5:250), 질소 분위기하에서, 상압, 140℃에서 2시간 교반 혼합시켜 반응시켰다.5.0 parts by mass of TPA, 11.6 parts by mass of IPA, 14.3 parts by mass of BisA, 19.4 parts by mass of BisTMC and 25.5 parts by mass of acetic anhydride were fed into a reaction vessel equipped with a stirrer (TPA: IPA: BisA: BisTMC: acetic anhydride = 30: 70: 62.5: 62.5: 250), and the mixture was stirred and reacted at 140 ° C for 2 hours under atmospheric pressure in a nitrogen atmosphere.
계속해서, 140℃에서 PHBA 5.1질량부를 투입한 후, 280℃까지 3시간에 걸쳐 승온하고, 280℃에서 1시간 유지한 후, 280℃에 있어서 90분에 걸쳐 130Pa까지 감압하고, 2시간 교반하여, 폴리아릴레이트 수지를 얻었다.Subsequently, 5.1 parts by mass of PHBA was added at 140 占 폚, the temperature was raised to 280 占 폚 over 3 hours, the temperature was maintained at 280 占 폚 for 1 hour, the pressure was reduced to 130 Pa at 280 占 폚 over 90 minutes, To obtain a polyarylate resin.
얻어진 폴리아릴레이트 수지의 수지 조성을 분석한바, TPA:IPA:BisA:BisTMC:PHBA(몰비)=30:70:63:63:37로, 투입의 조성과 동일했다.The resin composition of the obtained polyarylate resin was analyzed, and the composition of the TPA: IPA: BisA: BisTMC: PHBA (molar ratio) = 30: 70: 63: 63:
실시예 18∼19?Examples 18 to 19?
이하의 표에 기재된 바와 같이 원료의 투입의 조성을 변경하는 것 이외에는, 실시예 17과 마찬가지의 조작을 행하여, 폴리아릴레이트 수지를 얻었다.A polyarylate resin was obtained in the same manner as in Example 17 except that the composition of the feedstock was changed as shown in the following table.
실시예 1∼19 및 비교예 1∼6에서 얻어진 폴리아릴레이트 수지의 수지 조성 및 그의 평가, 폴리아릴레이트 수지 조성물의 평가를 이하의 표에 나타낸다.The resin compositions of the polyarylate resins obtained in Examples 1 to 19 and Comparative Examples 1 to 6 and the evaluation thereof and the evaluation of the polyarylate resin composition are shown in the following Tables.
TPA: 테레프탈산TPA: terephthalic acid
NDCA: 2,6-나프탈렌다이카복실산NDCA: 2,6-naphthalene dicarboxylic acid
IPA: 아이소프탈산IPA: isophthalic acid
BisA: 2,2-비스(4-하이드록시페닐)프로페인BisA: 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane
BisAP: 1,1-비스(4-하이드록시페닐)-1-페닐에테인BisAP: 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane
BisTMC: 1,1-비스(4-하이드록시페닐)-3,3,5-트라이메틸사이클로헥세인BisTMC: 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane
BisCDE: 1,1-비스(4-하이드록시페닐)-사이클로도데케인BisCDE: 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) - cyclododecane
PHBA: 파라하이드록시벤조산PHBA: Parahydroxybenzoic acid
HNA: 2-하이드록시-6-나프토산HNA: 2-Hydroxy-6-naphthoic acid
Ac2O: 무수 아세트산Ac 2 O: Acetic anhydride
BA: 벤조산BA: benzoic acid
St: 스테아르산St: Stearic acid
1-NPOH: 1-나프톨1-NPOH: 1-naphthol
실시예 1∼19의 폴리아릴레이트 수지는 내열성 및 비할로젠화 용매에 대한 용해성이 우수하고, 수지 조성물로 한 경우의 유전 특성 및 가공 시의 유동성이 우수했다.The polyarylate resins of Examples 1 to 19 were excellent in heat resistance and solubility in a non-halogenated solvent, and had excellent dielectric properties and fluidity at the time of processing in the case of a resin composition.
비교예 1, 2의 폴리아릴레이트 수지는 하이드록시카복실산 성분을 이용하지 않았기 때문에, 용해성이 나빴다.The polyarylate resins of Comparative Examples 1 and 2 had poor solubility because they did not use the hydroxycarboxylic acid component.
비교예 3의 폴리아릴레이트 수지는 화학식(1)로 표시되는 2가 페놀의 함유량이 본 발명에서 규정하는 범위보다도 많았기 때문에, 용해성이 나빴다.The polyarylate resin of Comparative Example 3 had poor solubility because the content of the divalent phenol represented by the formula (1) was larger than the range specified in the present invention.
비교예 4의 폴리아릴레이트 수지는 화학식(1)로 표시되는 2가 페놀의 함유량이 본 발명에서 규정하는 범위보다도 적었기 때문에, 용해성이 나빴다.The polyarylate resin of Comparative Example 4 had poor solubility because the content of the divalent phenol represented by the formula (1) was smaller than the range specified in the present invention.
비교예 5의 폴리아릴레이트 수지는 하이드록시카복실산 성분이 본 발명에서 규정하는 범위보다도 많았기 때문에, 용해성이 나빴다. 또한, 메틸 에틸 케톤, 톨루엔, 사이클로헥산온, 테트라하이드로퓨란, 1,3-다이옥솔레인, N-메틸피롤리돈, N,N-다이메틸폼아마이드 어느 용매에도 용해되지 않았기 때문에, 경화물의 제작을 할 수 없었다.The polyarylate resin of Comparative Example 5 had poor solubility because the hydroxycarboxylic acid component was larger than the range specified in the present invention. In addition, since it is not dissolved in any solvent such as methyl ethyl ketone, toluene, cyclohexanone, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, N-methylpyrrolidone and N, N-dimethylformamide, I could not do it.
비교예 6의 폴리아릴레이트 수지는 수 평균 분자량이 본 발명에서 규정하는 범위보다도 높았기 때문에, 용해성이 나빴다. 또한, 수지 조성물로 한 경우에, 가공 시의 유동성이 나빴다.The polyarylate resin of Comparative Example 6 had a higher number-average molecular weight than the range specified in the present invention, and thus had poor solubility. Further, when the resin composition is used, the fluidity at the time of processing is poor.
본 발명의 폴리아릴레이트 수지 및 그 수지 조성물은 전자 분야에서 사용되고 있는 절연 재료로서 유용하다. 본 발명의 폴리아릴레이트 수지 및 그 수지 조성물은 특히, 프린트 배선판 등의 절연 재료로서 유용하다.The polyarylate resin and the resin composition of the present invention are useful as an insulating material used in the field of electronics. The polyarylate resin of the present invention and the resin composition thereof are particularly useful as insulating materials for printed wiring boards and the like.
Claims (14)
전체 2가 페놀 성분에 있어서의 화학식(1)로 표시되는 2가 페놀의 함유량이 30∼70몰%이고,
전체 모노머 성분에 있어서의 하이드록시카복실산 성분의 함유량이 1∼30몰%이고,
수 평균 분자량이 10000 미만인 것을 특징으로 하는 폴리아릴레이트 수지:
[식(1) 중, R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자수가 1∼12인 탄화수소기 또는 할로젠 원자를 나타내고, R5 및 R6은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수가 1∼4인 탄화수소기를 나타낸다; m은 4∼12의 정수를 나타내고, X는 하이드록시페닐기가 결합하는 탄소 원자와 함께 포화 지방족 탄화수소환을 형성하는 탄소 원자를 나타낸다].A polyarylate resin containing a divalent phenol component, an aromatic dicarboxylic acid component, and a hydroxycarboxylic acid component,
Wherein the content of the divalent phenol represented by the formula (1) in the entire divalent phenol component is 30 to 70 mol%
The content of the hydroxycarboxylic acid component in the total monomer component is 1 to 30 mol%
A polyarylate resin having a number average molecular weight of less than 10,000;
Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms or a halogen atom, R 5 and R 6 are each independently A hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms; m represents an integer of 4 to 12, and X represents a carbon atom which forms a saturated aliphatic hydrocarbon ring together with the carbon atom to which the hydroxyphenyl group is bonded.
상기 폴리아릴레이트 수지가 말단기로서 하기 화학식(2) 또는/및 (3)으로 표시되는 구조를 갖고,
하기 화학식(2) 및 (3)의 말단기의 합계량이 100geq/t 이상인 것을 특징으로 하는 폴리아릴레이트 수지:
[화학식(2)의 말단기는 모노하이드록시 화합물 성분 유래의 구조를 나타내고, 화학식(3)의 말단기는 모노카복실산 성분 유래의 구조를 나타내고, R7 및 R8은 각각 독립적으로 지방족 탄화수소기 또는 방향족 탄화수소기를 나타낸다].The method according to claim 1,
Wherein the polyarylate resin has a structure represented by the following formula (2) or / and (3) as an end group,
A polyarylate resin characterized in that the total amount of terminal groups of the following formulas (2) and (3) is 100 g / t or more:
[Wherein the terminal group in the formula (2) represents a structure derived from a monohydroxy compound component, the terminal group in the formula (3) represents a structure derived from a monocarboxylic acid component, and R 7 and R 8 each independently represent an aliphatic hydrocarbon group or An aromatic hydrocarbon group].
화학식(1)로 표시되는 2가 페놀이 1,1-비스(4-하이드록시페닐)-3,3,5-트라이메틸사이클로헥세인 및/또는 1,1-비스(4-하이드록시페닐)-사이클로도데케인인 것을 특징으로 하는 폴리아릴레이트 수지.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the divalent phenol represented by the formula (1) is 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane and / or 1,1- - < / RTI > cyclododecane.
전체 방향족 다이카복실산 성분에 있어서의 아이소프탈산의 함유량이 50몰% 이상인 것을 특징으로 하는 폴리아릴레이트 수지.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the content of isophthalic acid in the entire aromatic dicarboxylic acid component is 50 mol% or more.
상기 2가 페놀 성분이 2,2-비스(4-하이드록시페닐)프로페인(BisA) 및/또는 1,1-비스(4-하이드록시페닐)-1-페닐에테인(BisAP)과, 상기 화학식(1)로 표시되는 2가 페놀을 함유하는, 폴리아릴레이트 수지.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the divalent phenol component is at least one selected from the group consisting of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (BisA) and / or 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) A polyarylate resin containing a divalent phenol represented by the following formula (1).
상기 BisA 및/또는 상기 BisAP의 합계 함유량과 상기 화학식(1)로 표시되는 2가 페놀의 합계 함유량의 함유 비율((BisA+BisAP)/(화학식(1)로 표시되는 2가 페놀))이 35/65∼65/35(몰비)인, 폴리아릴레이트 수지.6. The method of claim 5,
(BisA + BisAP) / (divalent phenol represented by the formula (1)) of the total content of the bisA and / or the bisAP and the total content of the divalent phenol represented by the formula (1) / 65 to 65/35 (molar ratio).
상기 2가 페놀 성분과 상기 방향족 다이카복실산 성분의 함유 비율이 70/100∼140/100(몰비)인, 폴리아릴레이트 수지.7. The method according to any one of claims 1 to 6,
Wherein the content ratio of the dihydric phenol component and the aromatic dicarboxylic acid component is 70/100 to 140/100 (molar ratio).
상기 유기 용매가 비할로젠화 용매인, 수지 용액.12. The method of claim 11,
Wherein the organic solvent is a non-halogenated solvent.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016075895 | 2016-04-05 | ||
JPJP-P-2016-075895 | 2016-04-05 | ||
PCT/JP2017/013937 WO2017175716A1 (en) | 2016-04-05 | 2017-04-03 | Polyarylate resin and resin composition of same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20180133390A true KR20180133390A (en) | 2018-12-14 |
KR102313046B1 KR102313046B1 (en) | 2021-10-14 |
Family
ID=60001246
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020187026335A KR102313046B1 (en) | 2016-04-05 | 2017-04-03 | Polyarylate resin and its resin composition |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6951707B2 (en) |
KR (1) | KR102313046B1 (en) |
CN (1) | CN108699227B (en) |
TW (1) | TWI746536B (en) |
WO (1) | WO2017175716A1 (en) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6815025B2 (en) * | 2016-10-27 | 2021-01-20 | ユニチカ株式会社 | Polyarylate resin |
JP7217472B2 (en) * | 2017-04-25 | 2023-02-03 | ユニチカ株式会社 | Polyarylate resin and polyarylate resin composition |
JP7002122B2 (en) * | 2018-01-11 | 2022-01-20 | ユニチカ株式会社 | Laminate |
JP2020176239A (en) * | 2019-04-22 | 2020-10-29 | 帝人株式会社 | Epoxy resin composition, prepreg, method for producing prepreg, and method for producing fiber-reinforced composite material |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02214720A (en) * | 1988-12-23 | 1990-08-27 | Bayer Ag | New thermotropic polyester, its preparation, and its use for manufacture of molded article, filament, short fiber, and film |
JP2004224890A (en) | 2003-01-22 | 2004-08-12 | Dainippon Ink & Chem Inc | Method for manufacturing cured epoxy resin composition |
WO2016024569A1 (en) * | 2014-08-15 | 2016-02-18 | ユニチカ株式会社 | Resin composition and the laminate using same |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102822232B (en) * | 2010-12-27 | 2014-05-14 | 东丽株式会社 | Wholly aromatic liquid crystal polyester and method for manufacturing same |
JP2015044930A (en) * | 2013-08-28 | 2015-03-12 | 東洋紡株式会社 | Polyacrylate resin, and production method thereof |
JP6152235B1 (en) * | 2015-10-30 | 2017-06-21 | ユニチカ株式会社 | Polyarylate resin, method for producing the same, and polyarylate resin composition |
-
2017
- 2017-04-03 CN CN201780011360.3A patent/CN108699227B/en active Active
- 2017-04-03 JP JP2018510593A patent/JP6951707B2/en active Active
- 2017-04-03 KR KR1020187026335A patent/KR102313046B1/en active IP Right Grant
- 2017-04-03 WO PCT/JP2017/013937 patent/WO2017175716A1/en active Application Filing
- 2017-04-05 TW TW106111357A patent/TWI746536B/en active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02214720A (en) * | 1988-12-23 | 1990-08-27 | Bayer Ag | New thermotropic polyester, its preparation, and its use for manufacture of molded article, filament, short fiber, and film |
JP2004224890A (en) | 2003-01-22 | 2004-08-12 | Dainippon Ink & Chem Inc | Method for manufacturing cured epoxy resin composition |
WO2016024569A1 (en) * | 2014-08-15 | 2016-02-18 | ユニチカ株式会社 | Resin composition and the laminate using same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2017175716A1 (en) | 2017-10-12 |
TW201807011A (en) | 2018-03-01 |
CN108699227A (en) | 2018-10-23 |
CN108699227B (en) | 2021-05-14 |
TWI746536B (en) | 2021-11-21 |
KR102313046B1 (en) | 2021-10-14 |
JP6951707B2 (en) | 2021-10-20 |
JPWO2017175716A1 (en) | 2019-02-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102567077B1 (en) | Polyarylate resin and its preparation method, and polyarylate resin composition | |
JP6676529B2 (en) | Resin composition and laminate using the same | |
TWI502023B (en) | Resin composition, resin varnish, prepreg, metal foil laminate, and printed wiring board | |
KR20180133390A (en) | Polyarylate resin and resin composition thereof | |
JP5719562B2 (en) | High molecular weight epoxy resin, resin film using the high molecular weight epoxy resin, resin composition, and cured product | |
JP4658070B2 (en) | Modified phenolic resin, epoxy resin composition containing the same, and prepreg using the same | |
KR101314785B1 (en) | Polyamide resin, epoxy resin compositions, and cured articles thereof | |
US20150376444A1 (en) | Resin composition, resin varnish, prepreg, metal-clad laminate and printed wiring board | |
US7141627B2 (en) | Epoxy resin composition | |
US9107307B2 (en) | Resin composition for printed circuit board, insulating film, prepreg, and printed circuit board | |
US20230106477A1 (en) | Composite, slurry composition, film, and metal-clad laminate | |
KR20090087479A (en) | Polyamide resin, epoxy resin composition using the same, and use of the composition | |
JP7217472B2 (en) | Polyarylate resin and polyarylate resin composition | |
JPWO2018199127A1 (en) | Modified polyarylate resin | |
JP4273720B2 (en) | Epoxy resin composition and cured product thereof | |
JP2014062249A (en) | Epoxy resin composition for insulation, insulating film, prepreg and printed circuit board | |
JP2008291279A (en) | Epoxy resin composition | |
JPWO2020116467A1 (en) | Thermosetting resin composition and sheet |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |