KR20180124489A - 광간섭 측정 장치 - Google Patents

광간섭 측정 장치 Download PDF

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박재석
유정수
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휴멘 주식회사
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Abstract

광간섭 측정 장치가 개시된다. 본 발명의 일실시예에 따른 광간섭 측정 장치는 간섭무늬를 이용하여 측정대상물의 표면을 측정하는 광간섭 측정 장치에 있어서, 광대역 광원과, 광대역 광원으로부터 출력된 레이저광을 시간차를 가진 두 개의 레이저광으로 분리하고, 분리된 두 개의 레이저광을 결합하여 출력하는 지연 광학계 및 지연 광학계와 광섬유에 의해 연결되고, 지연 광학계로부터 출력된 결합 레이저광이 기준 미러에 반사된 기준광과, 기준 미러를 투과하여 측정대상물에 반사된 측정광을 서로 간섭시켜 간섭무늬를 형성하는 간섭계를 포함한다.

Description

광간섭 측정 장치{APPARATUS FOR MEASURING OPTICAL INTERFERENCE}
본 발명은 광간섭 측정 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 레이저 간섭계를 이용하여 측정대상물의 표면을 측정하는 광간섭 측정 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 레이저 간섭계를 이용하여 대면적의 측정대상물에 대한 간섭무늬를 생성하고, 생성된 간섭무늬를 이용하여 측정대상물의 표면을 측정한다.
레이저 간섭계, 예를 들면, 피조 간섭계(Fizeau interferometer)는 기준 광과 샘플광이 동일한 경로 내에서 발생하여 간섭무늬를 발생시키기 때문에 측정 과정에서의 잡음을 상쇄시키는데 유리하다. 따라서 진동의 영향을 줄이는 것이 중요한 측정분야나 정밀 측정을 요하는 분야에서 많이 사용된다.
서로 다른 광 경로를 갖는 두 개의 파면들이 합쳐지면 간섭무늬가 생성된다. 두 개의 파면들 중 하나의 파면의 광 경로를 강제적으로 변화시켜 여러 개의 간섭무늬를 얻은 후 해석하면 두 개의 파면들 사이의 광 경로 차에 대한 상대적 위상차를 구할 수 있다. 두 개의 파면들 중 하나의 파면의 광 경로를 강제적으로 변화시킨다는 것은 기준 파면이나 측정 파면의 위상 항에 시변 위상을 임의적으로 추가해 위상 변조를 구현하는 것을 의미한다. 위상 변조를 구현할 수 있는 방법은 회절격자를 이용하는 방법이나 압전 변환기(Piezo-electric transducer ; PZT)를 이용하는 방법 등이 있다. 일반적으로 PZT를 이용해 기준 파면 또는 측정 파면을 임의의 기준 위상만큼 천이시켜 광 경로차를 변화시키는 방법이 사용된다.
기존의 피조 간섭계를 이용한 광간섭 측정 장치는 PZT를 이용하여 기준 파면에 대응하는 기준 미러를 광축 방향으로 이동시켜 기준 파면과 측정 파면의 광 경로차를 변화시킨다.
하지만, PZT를 이용하여 기준 미러를 이동시키기 때문에 진동이 발생하고, 이 발생된 진동에 의해 간섭무늬가 영향을 받을 수 있다. 이로 인해, 측정 정확도가 떨어질 수 있다.
또한, 기존에는 피조 간섭계가 PZT를 포함하기 때문에 장치 구성을 소형화하기 어렵다.
일본공개특허공보 특개2002-340539호(2002.11.27.공개)
2005년 창원대학교 박사논문, 레이저 간섭계를 이용한 소형 비구면 렌즈의 성능 평가에 관한 연구, 장남영
본 발명의 실시예는 측정 정확도를 높이고 간섭계를 보다 작고 슬림하게 구현할 수 있는 광간섭 측정 장치를 제공하고자 한다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 간섭무늬를 이용하여 측정대상물의 표면을 측정하는 광간섭 측정 장치에 있어서, 광대역 광원; 상기 광대역 광원으로부터 출력된 레이저광을 시간차를 가진 두 개의 레이저광으로 분리하고, 상기 분리된 두 개의 레이저광을 결합하여 출력하는 지연 광학계; 및 상기 지연 광학계와 광섬유에 의해 연결되고, 상기 지연 광학계로부터 출력된 결합 레이저광이 기준 미러에 반사된 기준광과, 상기 기준 미러를 투과하여 측정대상물에 반사된 측정광을 서로 간섭시켜 간섭무늬를 형성하는 간섭계를 포함하는 광간섭 측정 장치가 제공될 수 있다.
또한, 상기 간섭계가 피조 간섭계에 의해 구성될 수 있다.
또한, 상기 간섭계가 마이컬슨 간섭계에 의해 구성될 수 있다.
또한, 상기 지연 광학계는 광 분배 결합기, 상기 광 분배 결합기로부터 출력된 제1 레이저광의 광축상에 마련된 제1 콜리메이터 렌즈와 제1 미러, 상기 광 분배 결합기로부터 출력된 제2 레이저광의 광축상에 마련된 제2 콜리메이터 렌즈와 제2 미러를 포함하고, 상기 광 분배 결합기는 상기 광대역 광원으로부터 출력된 레이저광을 상기 제1 레이저광과 제2 레이저광으로 분리시키고, 분리된 레이저광들 중 상기 제1 레이저광을 상기 제1 콜리메이터 렌즈를 거쳐 상기 제1 미러에 입사시키고, 상기 제2 레이저광을 상기 제2 콜리메이터 렌즈를 거쳐 상기 제2 미러에 입사시키고, 상기 제1 미러에 반사된 제1 레이저광과, 상기 제2 미러에 반사된 제2 레이저광을 결합하고, 상기 결합된 레이저광을 출력할 수 있다.
또한, 상기 지연 광학계는 상기 제1 레이저광과 상기 제2 레이저광이 시간차를 가지도록 상기 제1 미러와 제2 미러 중 어느 하나를 이동시키는 이동부를 포함할 수 있다.
또한, 상기 지연 광학계는 상기 광 분배 결합기와 상기 제1 콜리메이터 렌즈를 연결하는 제1 광섬유와, 상기 광 분배 결합기와 상기 제2 콜리메이터 렌즈를 연결하는 제2 광섬유를 포함하고, 상기 제1 레이저광과 상기 제2 레이저광이 시간차를 가지도록 상기 광섬유의 길이를 가변시키는 광섬유길이조절부가 마련될 수 있다.
또한, 상기 지연 광학계는 상기 광 분배 결합기와 상기 제1 콜리메이터 렌즈를 연결하는 제1 광섬유와, 상기 광 분배 결합기와 상기 제2 콜리메이터 렌즈를 연결하는 제2 광섬유를 포함하고, 상기 제1 광섬유와 상기 제2 광섬유 중 어느 하나에는 광섬유의 편광을 조절하는 편광조절부가 마련될 수 있다.
또한, 상기 기준 미러는 상기 측정대상물로부터 미리 설정된 간격으로 고정 설치될 수 있다.
본 발명의 실시예는 간섭계에서 PZT를 통해 기준 미러를 이동시키지 않기 때문에 진동으로 인해 간섭무늬가 영향을 받는 것을 미연에 방지할 수 있어 측정 정확도를 높일 수 있고, 간섭계가 PZT를 포함하지 않기 때문에 장치 구성을 작고 슬림하게 구현할 있다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 광간섭 측정 장치의 개략적인 구성도이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 광간섭 측정 장치에서 각 구성요소를 통과한 레이저광을 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 광간섭 측정 장치에서 지연 광학계의 다른 실시예를 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 광간섭 측정 장치의 개략적인 구성도이다.
이하에서는 본 발명의 실시예들을 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 이하에 소개되는 실시예들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명의 사상을 충분히 전달할 수 있도록 하기 위해 예로서 제공하는 것이다. 본 발명은 이하 설명되는 실시예들에 한정하지 않고 다른 형태로 구체화할 수도 있다. 본 발명을 명확하게 설명하기 위하여 설명과 관계없는 부분은 도면에서 생략하였으며 도면들에 있어서, 구성요소의 폭, 길이, 두께 등은 편의를 위하여 과장하여 표현할 수 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 광간섭 측정 장치의 개략적인 구성도이고, 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 광간섭 측정 장치에서 각 구성요소를 통과한 레이저광을 설명하기 위한 도면이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 광간섭 측정 장치는 광대역 광원(10), 지연 광학계(20), 피조 간섭계(30), 카메라(40) 및 제어기(50)를 포함할 수 있다.
광대역 광원(10)은 지연 광학계(20)와 광섬유(F)에 의해 연결되어 있다.
광대역 광원(10)은 광섬유(F)를 통해 지연 광학계(20)에 레이저광을 조사한다.
지연 광학계(20)는 광 분배 결합기(21), 한 쌍의 콜리메이터 렌즈(22A,22B), 한 쌍의 미러(23A,23B) 및 이동수단으로서의 압전 구동 소자(24)를 포함할 수 있다.
광 분배 결합기(21)와 한 쌍의 콜리메이터 렌즈(22A,22B)는 광섬유(F)에 의해 연결되어 있다.
광 분배 결합기(21)는 광대역 광원(10)으로부터 출력된 레이저광을 두 개로 분리한다. 분리된 레이저광 중 어느 하나는 제1 콜리메이터 렌즈(22A)에 입사된다.
제1 콜리메이터 렌즈(22A)는 광 분배 결합기(21)로부터의 레이저광을 평행광으로 제1 미러(23A)에 전달한다. 제1 미러(23A)에 입사된 평행광은 제1 미러(23A)에 반사된 후 제1 콜리메이터 렌즈(22A)를 거쳐 광 분배 결합기(21)에 입사된다.
제2 콜리메이터 렌즈(22B)는 광 분배 결합기(21)에 의해 분리된 다른 하나의 레이저광을 평행광으로 제2 미러(23B)에 전달한다. 제2 미러(23B)에 입사된 평행광은 제2 미러(23B)에 반사된 후 제2 콜리메이터 렌즈(22B)를 거쳐 광 분배 결합기(21)에 입사된다.
광 분배 결합기(21)는 광 분배 결합기(21)로부터 출사된 레이저광 중 제1 미러(23A)에 반사된 제1 레이저광(E1(t))과, 제2 미러(23B)에 반사된 제2 레이저광(E2(t+τ1))를 결합한 레이저광(EDelay, EDelay ≒ E1(t) + E2(t+τ1))를 광섬유를 통해 콜리메이터 렌즈(31)에 출력한다.
즉, 광 분배 결합기(21)는 광대역 광원(10)로부터 출력된 레이저광에 대하여 두 개의 레이저광의 시간차 변화가 일어나는 제1 레이저광(E1(t))과 제2 레이저광(E2(t+τ1))을 만들고, 만든 제1 레이저광(E1(t))과 제2 레이저광(E2(t+τ1))을 결합하고, 결합된 레이저광(EDelay)을 출력한다. τ1 은 제1 미러(23A)와 제2 미러(23B)의 거리 차이로 인한 레이저광의 추가 경로 진행 시간을 나타낸다.
압전 구동 소자(24)는 제어기(50)의 제어에 따라 제2 미러(23B)를 광축방향으로 이동시킨다. 이에 따라, 제2 레이저광(E2(t+τ1))의 τ1 이 변한다. τ1 을 변화시킴으로써 제1 레이저광(E1(t))과 제2 레이저광(E2(t+τ1))의 시간차 변화가 일어나게 할 수 있다.
압전 구동 소자(24) 외에도 모터 등을 이용하여 제2 미러(23B)를 이동시키는 것도 가능하다. 제2 미러(23B)를 이동시키는 수단이면 어떠한 수단도 사용 가능하다.
피조 간섭계(30)는 콜리메이터 렌즈(Collimator lens)(31), 빔 스플리터(Beam splitter)(32) 및 기준 미러(Reference mirror)(33)를 포함할 수 있다.
콜리메이터 렌즈(31)는 광 분배 결합기(21)로부터 출력된 결합 레이저광(EDelay)을 평행광으로 변환하여 빔 스플리터(32)에 전달한다.
빔 스플리터(32)는 결합 레이저광(EDelay)을 기준 미러(33)에 수직하게 출력한다. 피조 간섭계의 경우 이 기준 미러는 일정한 비율의 빛은 반사시키고 나머지는 투과시키는 특성을 가진다.
기준 미러(33)에 출력된 결합 레이저광(EDelay) 중 일부 기준 미러(33)에 반사되어 빔 스플리터(32)에 되돌아온다. 이것이 기준광(Ef(t))이 된다. 나머지는 기준 미러(33)를 투과하여 측정대상물에 반사되어 빔 스플리터(32)로 되돌아온다. 이것이 측정광(Es(t))이 된다.
빔 스플리터(32)는 기준 미러(33)에 반사된 기준광(Ef(t))과, 측정대상물(S)에 반사된 측정광(Es(t))이 서로 간섭하는 광학 소자이다. 기준광(Ef(t))에 측정광(Es(t))이 간섭하여 간섭광(ET(t))이 만들어진다. 그러한 간섭에 의해 기준광(Ef(t))과 측정광(Es(t))의 위상차에 따라 간섭무늬가 형성된다.
기준광(Ef(t)), 측정광(Es(t)) 및 간섭광(ET(t))은 다음의 식 [1] 로 나타낼 수 있다.
Ef(t) ≒ rfEDelay ≒ rf[E1(t) + E2(t+τ1)]
Es(t) ≒ rsEDelay (t+τ2) ≒ rs[E1(t+τ2) + E2(t+τ1+τ2)]
ET(t) ≒ Ef(t) + Es(t) --- 식 [1]
여기서, rf, rs 는 각각 기준 미러(33)와 샘플의 반사 계수(refection coefficient)를 나타내는 상수이고, τ2 는 기준 미러(33)와 측정대상물(S)의 거리 차이로 인한 레이저광의 추가 경로 진행 시간이다.
카메라(40)에는 빔 스플리터(32)로부터 출사된 간섭광(ET(t))이 결상된다. 카메라(40)는 이 간섭광(ET(t))를 촬영한 간섭무늬 이미지를 제어기(50)에 전송한다. 제어기(50)는 카메라(40)로부터 수신된 간섭무늬 이미지정보를 분석하여 측정대상물(S)까지의 거리, 형상 등 측정대상물(S)에 대한 표면을 측정한다.
간섭광(ET(t))의 강도(I)는 다음의 식 [2]로 나타낼 수 있다.
I ≒ DC + ρ[E2(t+τ1)E1(t-τ2)] --- 식 [2]
여기서, DC는 측정된 신호 중 직류성분의 항들만을 나타내고, ρ는 카메라의 광전 변환 효율을 나타내는 상수이다.
따라서, 간섭광에서 τ1과 τ2의 상대적인 시간차에 의해 간섭무늬가 나타낸다.
τ1은 제어기(50)에 의해 제어 가능한 값이므로 τ2를 알 수 있고, 이 τ2를 알면, 측정 대상물의 표면을 측정할 수 있다.
상기한 구성요소들을 갖는 광간섭 측정 장치의 작동을 살펴보면, 우선 광대역 광원(10)에서 레이저광이 출력되면, 이 레이저광은 광섬유를 통해 광 분배 결합기(21)에 입사된다.
광 분배 결합기(21)에 입사된 레이저광은 광 분배 결합기(21)에서 두 개의 레이저광으로 분리된다. 두 개의 레이저광 중 하나는 제1 콜리메이터 렌즈(22A)에 의해 평행광으로 변환되고 제1 미러(23A)에 반사되어 광 분배 결합기(21)로 되돌아온다.
두 개의 레이저광 중 다른 하나는 제2 콜리메이터 렌즈(22B)에 의해 평행광으로 변환되고 제2 미러(23B)에 반사되어 광 분배 결합기(21)로 되돌아온다.
광 분배 결합기(21)는 제1 미러(23A)에 반사된 제1 레이저광(E1(t)), 제2 미러(23B)에 반사된 제2 레이저광(E2(t+τ1))을 결합하고, 결합한 레이저광(EDelay)을 출력한다.
광 분배 결합기(21)에서 출력된 결합 레이저광(EDelay)은 광섬유를 통해 콜리메이터 렌즈(31)에 입사된다.
콜리메이터 렌즈(31)에 입사된 결한 레이저광(EDelay)은 평행광으로 변환되고, 빔 스플리터(32)에 입사된다.
빔 스플리터(32)에 입사된 레이저광은 기준 미러(33)에 반사되어 되돌아온다. 또한, 빔 스플리터(32)에 입사된 레이저광은 기준 미러(33)를 투과하여 측정대상물(S)에 반사되어 되돌아온다.
빔 스플리터(32)에서는 기준 미러(33)에 반사된 기준광(Ef(t))과 측정대상물(S)에 반사된 측정광(Es(t))이 서로 간섭한 간섭광(ET(t))에 의해 간섭무늬가 형성된다.
이 간섭광(ET(t))은 카메라(40)에 결상된다. 카메라(40)는 결상된 간섭무늬를 촬영하고, 촬영된 간섭무늬 이미지정보를 제어기(50)에 전송한다.
제어기(50)는 압전 구동 소자(24)를 구동시켜 제2 미러(23B)를 광축방향으로 이동시킨다. 이에 따라, τ1 값이 변한다.
τ1 값이 변경됨에 따라 최종적으로 기준 미러(33)에 반사된 기준광(Ef(t))과 측정대상물(S)에 반사된 측정광(Es(t))이 서로 간섭한 간섭광(ET(t))이 변경되고, 변경된 간섭광(ET(t))에 의해 간섭무늬가 달라진다. 달라진 간섭무늬를 다시 촬영하는 방식으로 간섭무늬 이미지정보를 축적하고, 축적된 간섭무늬 이미지정보를 분석함으로써 측정대상물(S)의 표면을 측정할 수 있다.
이와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 광간섭 측정 장치는 간섭무늬를 형성하기 위하여 피조 간섭계(30)의 기준 미러(33)를 이동시키는 대신에, 기준 미러(33)는 빔 스플리터(32) 또는 측정대상물(S)를 기준으로 고정시키고 피조 간섭계(30)에 입사되는 광원 자체를 시간차를 가진 두 개의 광원이 결합된 광원 형태로 구성한다.
따라서, 피조 간섭계(30)의 기준 미러(33)를 광축 방향으로 이동시킬 때 발생하는 진동에 의해 간섭무늬가 영향을 받는 것을 미연에 방지할 수 있어 측정 정확도를 향상시킬 수 있다. 즉, 두 개의 광원의 시간차를 발생시키기 위하여 지연 광학계(20)의 제2 미러(23B)를 이동시키지만, 지연 광학계(20)가 피조 간섭계(30)로부터 이격된 위치에 설치되어 있고 광섬유로만 연결되어 지연 광학계(20)의 진동이 피조 간섭계(30)에 영향을 미치지 않기 때문에 피조 간섭계(30)에서 생기는 간섭무늬에 영향이 없다.
또한, 기존에는 광대역 광원을 사용할 경우 기준광과 측정광이 간섭을 일으키는 간섭시간이 매우 짧기 때문에 피조 간섭계(30)의 기준 미러(33)와 측정대상물(S)의 간격을 줄여야 하므로 광학계 구성에 어려움이 있다. 하지만, 본 발명의 일실시예에서는 τ1 과 τ2의 상대적인 시간차에 의해 간섭이 이루어지는데, τ1를 상대적으로 크게 확보할 수 있어 간섭시간을 상대적으로 길게 할 수 있다. 이로 인해, 피조 간섭계의 셋업이 용이하다.
이하에서는 지연 광학계에서 진동을 발생시키는 미러 이동방식 대신에 미러는 고정시키고 광섬유의 길이를 변경하는 방식에 의해 광대역 광원으로부터 분리된 두 개의 광원 간에 시간차를 갖도록 하는 것을 설명한다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 광간섭 측정 장치에서 지연 광학계의 다른 실시예를 나타낸 도면이다.
도 3을 참조하면, 지연 광학계(20)는 광섬유길이조절부(25)을 포함할 수 있다.
광섬유길이조절부(25)는 광 분배 결합기(21)와 제2 콜리메이터 렌즈(22B)를 연결하는 광섬유의 길이를 신축적으로 조절하여 광로 길이를 변경시킨다.
광섬유길이조절부(25)는 광로 길이를 변경시키도록 제어기(50)의 제어에 따라 광섬유에 고전압을 인가하여 광섬유의 길이를 신축적으로 조절한다.
또한, 지연 광학계(20)는 편광조절부(26)을 포함할 수 있다.
편광조절부(26)는 광 분배 결합기(21)와 제1 콜리메이터 렌즈(22A)를 연결하는 광섬유의 곡률을 변경시키거나 전압을 가하여 광섬유를 통과하는 레이저광의 편광을 조절한다.
광 분배 결합기(21)가 광대역 광원(10)으로부터 입사된 레이저광을 두 개의 레이저광으로 분리하면, 분리된 두 개의 레이저광은 동일한 파형을 가져야 하지만 분리되는 과정에서 파형이 일그러지는 등 파장의 모양이 달라질 수 있다.
편광조절부(26)는 이와 같이 두 개의 레이저광이 동일한 파형을 가지도록 어느 하나의 레이저광의 편광을 조정하여 레이저광의 파형을 조정한다.
편광조절부(26)는 레이저광의 파형을 조정할 수 있도록 광섬유의 분산값을 조절할 수도 있다. 이와 같이, 광섬유의 편광과 분산을 조절함으로써 레이저광의 최적화가 용이하다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 광간섭 측정 장치의 개략적인 구성도이다.
도 4는 광간섭 측정 장치에 피조 간섭계(30) 대신에 마이컬슨 간섭계(Michelson interferometer)(60)를 적용한 것을 나타낸다.
마이컬슨 간섭계(60)는 콜리메이터 렌즈(61), 빔 스플리터(62) 및 기준 미러(63)를 포함할 수 있다.
기준 미러(63)는 빔 스플리터(62) 또는 측정대상물(S)로부터 미리 설정된 간격만큼 이격된 위치에 고정 설치된다.
피조 간섭계(30)에 적용한 경우와 마찬가지로 마이컬슨 간섭계(60)의 기준 미러(63)를 이동시킬 필요가 없기 때문에 간섭무늬가 진동에 영향을 받지 않는다.
또한, 기준 미러(63)를 이동시킬 필요가 없기 때문에 기준 미러(63)의 위치 변경이 용이하다.
상기한 실시예에서는 광섬유길이조절부(25)와 편광조절부(26)를 모두 가지는 것으로 기재하였지만, 이에 한정되지 않으며, 광섬유길이를 조절하는 대신에 미러를 이동시키는 방식에도 편광조절부(26)를 적용하더라도 동일한 효과를 얻을 수 있다.
10 : 광대역 광원 20 : 지연 광학계
21 : 광 분배 결합기 22A : 제1 콜리메이터 렌즈
22B : 제2 콜리메이터 렌즈 23A : 제1 미러
23B : 제2 미러 30 : 피조 간섭계
31 : 콜리메이터 렌즈 32 : 빔 스플리터
33 : 기준 미러 40 : 카메라
50 : 제어기

Claims (8)

  1. 간섭무늬를 이용하여 측정대상물의 표면을 측정하는 광간섭 측정 장치에 있어서,
    광대역 광원;
    상기 광대역 광원으로부터 출력된 레이저광을 시간차를 가진 두 개의 레이저광으로 분리하고, 상기 분리된 두 개의 레이저광을 결합하여 출력하는 지연 광학계; 및
    상기 지연 광학계와 광섬유에 의해 연결되고, 상기 지연 광학계로부터 출력된 결합 레이저광이 기준 미러에 반사된 기준광과, 상기 기준 미러를 투과하여 측정대상물에 반사된 측정광을 서로 간섭시켜 간섭무늬를 형성하는 간섭계를 포함하는 광간섭 측정 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 간섭계가 피조 간섭계에 의해 구성된 광간섭 측정 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 간섭계가 마이컬슨 간섭계에 의해 구성된 광간섭 측정 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 지연 광학계는 광 분배 결합기, 상기 광 분배 결합기로부터 출력된 제1 레이저광의 광축상에 마련된 제1 콜리메이터 렌즈와 제1 미러, 상기 광 분배 결합기로부터 출력된 제2 레이저광의 광축상에 마련된 제2 콜리메이터 렌즈와 제2 미러를 포함하고,
    상기 광 분배 결합기는 상기 광대역 광원으로부터 출력된 레이저광을 상기 제1 레이저광과 제2 레이저광으로 분리시키고, 분리된 레이저광들 중 상기 제1 레이저광을 상기 제1 콜리메이터 렌즈를 거쳐 상기 제1 미러에 입사시키고, 상기 제2 레이저광을 상기 제2 콜리메이터 렌즈를 거쳐 상기 제2 미러에 입사시키고, 상기 제1 미러에 반사된 제1 레이저광과, 상기 제2 미러에 반사된 제2 레이저광을 결합하고, 상기 결합된 레이저광을 출력하는 광간섭 측정 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 지연 광학계는 상기 제1 레이저광과 상기 제2 레이저광이 시간차를 가지도록 상기 제1 미러와 제2 미러 중 어느 하나를 이동시키는 이동부를 포함하는 광간섭 측정 장치.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 지연 광학계는 상기 광 분배 결합기와 상기 제1 콜리메이터 렌즈를 연결하는 제1 광섬유와, 상기 광 분배 결합기와 상기 제2 콜리메이터 렌즈를 연결하는 제2 광섬유를 포함하고,
    상기 제1 레이저광과 상기 제2 레이저광이 시간차를 가지도록 상기 광섬유의 길이를 가변시키는 광섬유길이조절부가 마련된 광간섭 측정 장치.
  7. 제4항에 있어서,
    상기 지연 광학계는 상기 광 분배 결합기와 상기 제1 콜리메이터 렌즈를 연결하는 제1 광섬유와, 상기 광 분배 결합기와 상기 제2 콜리메이터 렌즈를 연결하는 제2 광섬유를 포함하고,
    상기 제1 광섬유와 상기 제2 광섬유 중 어느 하나에는 광섬유의 편광을 조절하는 편광조절부가 마련된 광간섭 측정 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 기준 미러는 상기 측정대상물로부터 미리 설정된 간격으로 고정 설치된 광간섭 측정 장치.
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