KR20180109270A - Semiconductor device - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 86
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 claims abstract 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 85
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 10
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 10
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 3
- VRIVJOXICYMTAG-IYEMJOQQSA-L iron(ii) gluconate Chemical compound [Fe+2].OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O.OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O VRIVJOXICYMTAG-IYEMJOQQSA-L 0.000 description 3
- 229910002704 AlGaN Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910019897 RuOx Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017083 AlN Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000980 Aluminium gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005540 GaP Inorganic materials 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 Si 3 N 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020286 SiOxNy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020776 SixNy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020781 SixOy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- DZLPZFLXRVRDAE-UHFFFAOYSA-N [O--].[O--].[O--].[O--].[Al+3].[Zn++].[In+3] Chemical compound [O--].[O--].[O--].[O--].[Al+3].[Zn++].[In+3] DZLPZFLXRVRDAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000005251 gamma ray Effects 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N nickel(II) oxide Inorganic materials [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 description 1
- 238000009877 rendering Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/15—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components having potential barriers, specially adapted for light emission
- H01L27/153—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components having potential barriers, specially adapted for light emission in a repetitive configuration, e.g. LED bars
- H01L27/156—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components having potential barriers, specially adapted for light emission in a repetitive configuration, e.g. LED bars two-dimensional arrays
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/36—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes
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- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/62—Arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body, e.g. lead-frames, wire-bonds or solder balls
-
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/12—Passive devices, e.g. 2 terminal devices
- H01L2924/1204—Optical Diode
- H01L2924/12041—LED
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- Power Engineering (AREA)
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Abstract
Description
실시 예는 반도체 소자에 관한 것이다.Embodiments relate to semiconductor devices.
GaN, AlGaN 등의 화합물을 포함하는 반도체 소자는 넓고 조정이 용이한 밴드 갭 에너지를 가지는 등의 많은 장점이 있기 때문에 발광 소자, 수광 소자 및 각종 다이오드 등으로 다양하게 사용되고 있다.Semiconductor devices including compounds such as GaN and AlGaN are widely used as light emitting devices, light receiving devices and various diodes because they have many advantages such as wide and easy bandgap energy.
특히, 반도체의 3-5족 또는 2-6족 화합물 반도체 물질을 이용한 발광 다이오드(Light Emitting Diode)나 레이저 다이오드(Laser Diode)와 같은 발광소자는 박막 성장 기술 및 소자 재료의 개발로 적색, 녹색, 청색 및 자외선 등 다양한 색을 구현할 수 있으며, 형광 물질을 이용하거나 색을 조합함으로써 효율이 좋은 백색 광선도 구현이 가능하며, 형광등, 백열등 등 기존의 광원에 비해 저소비전력, 반영구적인 수명, 빠른 응답속도, 안전성, 환경 친화성의 장점을 가진다. Particularly, a light emitting device such as a light emitting diode or a laser diode using a semiconductor material of Group 3-5 or 2-6 group semiconductors can be applied to various devices such as a red, Blue, and ultraviolet rays. By using fluorescent materials or combining colors, it is possible to realize a white light beam with high efficiency. Also, compared to conventional light sources such as fluorescent lamps and incandescent lamps, low power consumption, , Safety, and environmental friendliness.
뿐만 아니라, 광검출기나 태양 전지와 같은 수광 소자도 반도체의 3-5족 또는 2-6족 화합물 반도체 물질을 이용하여 제작하는 경우 소자 재료의 개발로 다양한 파장 영역의 빛을 흡수하여 광 전류를 생성함으로써 감마선부터 라디오 파장 영역까지 다양한 파장 영역의 빛을 이용할 수 있다. 또한 빠른 응답속도, 안전성, 환경 친화성 및 소자 재료의 용이한 조절의 장점을 가져 전력 제어 또는 초고주파 회로나 통신용 모듈에도 용이하게 이용할 수 있다.In addition, when a light-receiving element such as a photodetector or a solar cell is manufactured using a semiconductor material of Group 3-5 or Group 2-6 compound semiconductor, development of a device material absorbs light of various wavelength regions to generate a photocurrent , It is possible to use light in various wavelength ranges from the gamma ray to the radio wave region. It also has advantages of fast response speed, safety, environmental friendliness and easy control of device materials, so it can be easily used for power control or microwave circuit or communication module.
따라서, 반도체 소자는 광 통신 수단의 송신 모듈, LCD(Liquid Crystal Display) 표시 장치의 백라이트를 구성하는 냉음극관(CCFL: Cold Cathode Fluorescence Lamp)을 대체하는 발광 다이오드 백라이트, 형광등이나 백열 전구를 대체할 수 있는 백색 발광 다이오드 조명 장치, 자동차 헤드 라이트 및 신호등 및 Gas나 화재를 감지하는 센서 등에까지 응용이 확대되고 있다. 또한, 반도체 소자는 고주파 응용 회로나 기타 전력 제어 장치, 통신용 모듈에까지 응용이 확대될 수 있다.Accordingly, the semiconductor device can be replaced with a transmission module of an optical communication means, a light emitting diode backlight replacing a cold cathode fluorescent lamp (CCFL) constituting a backlight of an LCD (Liquid Crystal Display) display device, White light emitting diodes (LEDs), automotive headlights, traffic lights, and gas and fire sensors. In addition, semiconductor devices can be applied to high frequency application circuits, other power control devices, and communication modules.
최근에는 발광 구조물을 복수 개로 구획하여 고전력으로 구동 가능한 반도체 소자에 대한 연구가 진행되고 있다.In recent years, research on a semiconductor device capable of dividing a light emitting structure into a plurality of light emitting elements and driving the same with high power has been under way.
실시 예는 고전압에서 신뢰성이 향상된 반도체 소자를 제공할 수 있다.The embodiment can provide a semiconductor device with improved reliability at a high voltage.
또한, 전류 분산 효율이 향상된 반도체 소자를 제공할 수 있다.Further, a semiconductor device with improved current dispersion efficiency can be provided.
또한, 각 발광 영역의 전류 밀도가 균일한 반도체 소자를 제공할 수 있다.Further, it is possible to provide a semiconductor device in which the current density of each light emitting region is uniform.
본 발명의 일 실시 예에 따른 반도체 소자는, 일 측에 배치되는 복수 개의 제1 발광부, 및 타 측에 배치되는 복수 개의 제2 발광부를 포함하는 발광구조물; 상기 복수 개의 제1 발광부를 전기적으로 연결하는 복수 개의 제1 연결전극; 상기 복수 개의 제2 발광부를 전기적으로 연결하는 복수 개의 제2 연결전극; 상기 복수 개의 제1 발광부상에 배치되는 제1 패드; 및 상기 복수 개의 제2 발광부상에 배치되는 제2 패드를 포함하고, 상기 제1 연결전극은 이웃한 제1 발광부로 연장되는 제1-2 연결전극을 포함하고, 상기 제2 연결전극은 이웃한 제2 발광부로 연장되는 제2-2 연결전극을 포함하고, 상기 발광구조물은 제1방향으로 배치되어 상기 제1 발광부와 상기 제2 발광부를 구획하는 제1 이격구간, 및 상기 제1 이격구간에서 제2방향으로 연장된 제1 영역을 포함하고, 상기 제1 영역은 상기 제1-2 연결전극과 상기 제2-2 연결전극을 포함하는 최소 영역이고, 상기 제2방향은 상기 제1방향과 수직한 방향이고, 반도체 소자의 상기 제2방향의 최대폭과 상기 제1 영역의 상기 제2방향의 폭의 비는 1:0.25 내지 1:0.5를 만족한다.A semiconductor device according to an embodiment of the present invention includes: a light emitting structure including a plurality of first light emitting portions disposed on one side and a plurality of second light emitting portions disposed on the other side; A plurality of first connection electrodes electrically connecting the plurality of first light emitting units; A plurality of second connection electrodes electrically connecting the plurality of second light emitting units; A first pad disposed on the plurality of first light emitting portions; And a second pad disposed on the plurality of second light emitting units, wherein the first connection electrode includes a first and second connection electrodes extending to neighboring first light emitting units, And the second light emitting structure includes a first light emitting portion and a second light emitting portion, the first light emitting portion and the second light emitting portion being arranged in a first direction to define the first light emitting portion and the second light emitting portion, Wherein the first region is a minimum region including the first and second connection electrodes and the second connection electrode and the second direction is a second region extending in the first direction And a ratio of a maximum width of the semiconductor element in the second direction to a width of the first region in the second direction is in a range of 1: 0.25 to 1: 0.5.
상기 복수 개의 제1-2 연결전극에서 전류가 흐르는 방향과 상기 복수 개의 제2-2 연결전극에서 전류가 흐르는 방향은 반대 방향일 수 있다.The direction in which the current flows in the plurality of first connection electrodes and the direction in which the current flows in the plurality of second connection electrodes may be opposite to each other.
상기 복수 개의 제1 발광부 중 어느 하나와 상기 복수 개의 제2 발광부 중 어느 하나를 전기적으로 연결하는 제3 연결전극을 포함하고, 상기 복수 개의 제1-2 연결전극, 상기 제3 연결전극, 및 상기 제2-2 연결전극을 순차적으로 흐르는 전류의 흐름은 U자 형상을 가질 수 있다.And a third connection electrode electrically connecting any one of the plurality of first light emitting units and the plurality of second light emitting units, wherein the plurality of first connection electrodes, the third connection electrode, And the current flowing sequentially through the second -2 connection electrode may have a U-shape.
상기 복수 개의 제1 발광부는 제1방향으로 이격 배치되고, 상기 복수 개의 제2 발광부는 상기 제1방향으로 이격 배치되고, 상기 복수 개의 제1 발광부와 복수 개의 제2 발광부는 상기 제2방향으로 이격 배치될 수 있다.Wherein the plurality of first light emitting portions are spaced apart from each other in the first direction, the plurality of second light emitting portions are spaced apart in the first direction, and the plurality of first light emitting portions and the plurality of second light emitting portions are arranged in the second direction Can be spaced apart.
상기 제1 패드는 상기 제1방향으로 연장되어 상기 복수 개의 제1 발광부상에 배치되는 제1-1 패드, 및 상기 제2 패드를 향해 연장되는 제1-2 패드를 포함하고, 상기 제2 패드는 상기 복수 개의 상기 제1방향으로 연장되어 제2 발광부상에 배치되는 제2-1 패드, 및 상기 제1 패드를 향해 연장된 제2-2 패드를 포함할 수 있다.The first pad includes a 1-1 pad extending in the first direction and disposed on the plurality of first light emitting portions and a 1-2 pad extending toward the second pad, A second -1 pad extending in the plurality of first directions and disposed on the second light emitting portion, and a second 2-2 pad extending toward the first pad.
상기 제1 연결전극은 상기 제1 발광부상에 배치되는 제1-1연결전극을 포함하고, 상기 제2 연결전극은 상기 제2 발광부상에 배치되는 제2-1연결전극을 포함할 수 있다.The first connection electrode may include a 1-1 connection electrode disposed on the first light emitting unit, and the second connection electrode may include a 2-1 connection electrode disposed on the second light emitting unit.
상기 제1-1연결전극은 상기 복수 개의 제1-2 패드 사이에 배치되는 제2 영역을 포함하고, 상기 제2 영역의 합과 상기 제1 패드의 면적비는 1:0.2 내지 1:0.4일 수 있다.Wherein the first 1-1 connection electrode includes a second region disposed between the plurality of first 1-2 pads, the area ratio of the sum of the second regions and the first pad being 1: 0.2 to 1: 0.4 have.
상기 제1 패드는 상기 복수 개의 제1 발광부 상에 각각 배치되는 복수 개의 제1 서브패드를 포함하고, 상기 제2 패드는 상기 복수 개의 제2 발광부 상에 각각 배치되는 복수 개의 제2 서브패드를 포함할 수 있다.The first pad includes a plurality of first sub-pads respectively disposed on the plurality of first light emitting units, and the second pad includes a plurality of second sub-pads disposed on the plurality of second light- . ≪ / RTI >
상기 제1 발광부와 상기 제1 서브패드의 면적비는 1:0.2 내지 1:0.4일 수 있다.The area ratio of the first light emitting portion and the first sub pad may be 1: 0.2 to 1: 0.4.
상기 복수 개의 제1, 제2 발광부 사이에 배치되는 중간층을 포함하고, 상기 중간층의 두께는 상기 제1, 2발광부의 돌출높이와 대응되고, 상기 제1-2 연결전극 및 제2-2 연결전극은 상기 중간층상에 배치될 수 있다.And an intermediate layer disposed between the plurality of first and second light emitting portions, wherein the thickness of the intermediate layer corresponds to the protruding height of the first and second light emitting portions, and the first and second connection electrodes and the second- An electrode may be disposed on the intermediate layer.
상기 발광구조물은 상기 제2방향과 평행한 한 쌍의 측면을 포함하고, 상기 한 쌍의 측면의 중간 지점을 연장한 제1가상선은 상기 제1 발광부와 교차할 수 있다.The light emitting structure may include a pair of side surfaces parallel to the second direction, and a first imaginary line extending from an intermediate point of the pair of side surfaces may intersect with the first light emitting portion.
상기 제1 패드의 면적은 상기 제2 패드의 면적보다 클 수 있다.The area of the first pad may be larger than the area of the second pad.
상기 제2-2 패드의 제1방향 폭은 상기 제1-2 패드의 제1방향 폭보다 크고, 상기 제1-2 패드의 제2방향 폭은 상기 2-2패드의 제2방향 폭보다 클 수 있다.The first directional width of the second-2 pad is greater than the first directional width of the second-second pad, and the second directional width of the second-second pad is greater than the second directional width of the second- .
상기 복수 개의 제1 발광부의 개수는 상기 복수 개의 제2 발광부의 개수보다 많을 수 있다.The number of the plurality of first light emitting units may be greater than the number of the plurality of second light emitting units.
상기 제1 발광부의 면적과 상기 제2 발광부의 면적의 비는 1:0.8 내지 1:1.2일 수 있다.The ratio of the area of the first light emitting portion to the area of the second light emitting portion may be 1: 0.8 to 1: 1.2.
상기 제2 패드와 상기 제2 발광부를 전기적으로 연결하는 제4연결전극을 포함할 수 있다.And a fourth connection electrode electrically connecting the second pad and the second light emitting unit.
실시 예에 따르면, 고전압에 의한 반도체 소자의 파손을 방지할 수 있다.According to the embodiment, breakage of the semiconductor element due to high voltage can be prevented.
또한, 연결전극과 패드의 중첩을 회피 설계 하므로 열 스트레스(Thermal stress)에 의한 절연층의 파괴를 억제할 수 있으며, 절연층의 파괴되어 일부 셀(Cell)이 점등되지 않는 문제를 개선할 수 있다.In addition, since the overlapping of the connection electrode and the pad is avoided, breakdown of the insulation layer due to thermal stress can be suppressed, and the problem that the insulation layer is broken and some cells are not lighted can be solved .
또한, 각 발광 영역의 전류 밀도가 균일해질 수 있다.Further, the current density of each luminescent region can be made uniform.
본 발명의 다양하면서도 유익한 장점과 효과는 상술한 내용에 한정되지 않으며, 본 발명의 구체적인 실시형태를 설명하는 과정에서 보다 쉽게 이해될 수 있을 것이다.The various and advantageous advantages and effects of the present invention are not limited to the above description, and can be more easily understood in the course of describing a specific embodiment of the present invention.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 반도체 소자의 평면도이고,
도 2는 도 1의 A-A 방향 단면도이고,
도 3은 도 1의 B-B 방향 단면도이고,
도 4는 도 1의 C-C 방향 단면도이고,
도 5는 본 발명의 일 실시 예에 따른 반도체 소자의 전류 흐름을 보여주는 도면이고,
도 6은 패드와 연결 전극의 배치 관계를 설명하기 위한 도면이고,
도 7은 반도체 소자의 반사층을 설명하기 위한 도면이고,
도 8은 제1, 제2발광부 사이에 배치되는 중간층을 설명하기 위한 도면이고,
도 9는 도 1의 변형예이고,
도 10은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 반도체 소자의 평면도이고,
도 11은 본 발명의 또 다른 실시 예에 따른 반도체 소자의 평면도이고,
도 12는 본 발명의 또 다른 실시 예에 따른 반도체 소자의 평면도이다.1 is a plan view of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention,
Fig. 2 is a sectional view in the AA direction in Fig. 1,
3 is a cross-sectional view taken along line BB in Fig. 1,
Fig. 4 is a sectional view in the CC direction of Fig. 1,
5 is a view showing a current flow of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention,
6 is a view for explaining the arrangement relationship between the pad and the connection electrode,
7 is a view for explaining a reflective layer of a semiconductor device,
8 is a view for explaining an intermediate layer disposed between the first and second light emitting portions,
Fig. 9 is a modification of Fig. 1,
10 is a plan view of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention,
11 is a plan view of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention,
12 is a plan view of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention.
본 실시 예들은 다른 형태로 변형되거나 여러 실시 예가 서로 조합될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 각각의 실시 예로 한정되는 것은 아니다. The embodiments may be modified in other forms or various embodiments may be combined with each other, and the scope of the present invention is not limited to each embodiment described below.
특정 실시 예에서 설명된 사항이 다른 실시 예에서 설명되어 있지 않더라도, 다른 실시 예에서 그 사항과 반대되거나 모순되는 설명이 없는 한, 다른 실시 예에 관련된 설명으로 이해될 수 있다. Although not described in the context of another embodiment, unless otherwise described or contradicted by the description in another embodiment, the description in relation to another embodiment may be understood.
예를 들어, 특정 실시 예에서 구성 A에 대한 특징을 설명하고 다른 실시 예에서 구성 B에 대한 특징을 설명하였다면, 구성 A와 구성 B가 결합된 실시 예가 명시적으로 기재되지 않더라도 반대되거나 모순되는 설명이 없는 한, 본 발명의 권리범위에 속하는 것으로 이해되어야 한다.For example, if the features of configuration A are described in a particular embodiment, and the features of configuration B are described in another embodiment, even if the embodiment in which configuration A and configuration B are combined is not explicitly described, It is to be understood that they fall within the scope of the present invention.
실시 예의 설명에 있어서, 어느 한 element가 다른 element의 "상(위) 또는 하(아래)(on or under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, 상(위) 또는 하(아래)(on or under)는 두 개의 element가 서로 직접(directly)접촉되거나 하나 이상의 다른 element가 상기 두 element 사이에 배치되어(indirectly) 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 "상(위) 또는 하(아래)(on or under)"으로 표현되는 경우 하나의 element를 기준으로 위쪽 방향뿐만 아니라 아래쪽 방향의 의미도 포함할 수 있다.In the description of the embodiments, in the case where one element is described as being formed "on or under" another element, the upper (upper) or lower (lower) or under are all such that two elements are in direct contact with each other or one or more other elements are indirectly formed between the two elements. Also, when expressed as "on or under", it may include not only an upward direction but also a downward direction with respect to one element.
이하에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시 예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily carry out the present invention.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 반도체 소자의 평면도이고, 도 2는 도 1의 A-A 방향 단면도이고, 도 3은 도 1의 B-B 방향 단면도이고, 도 4는 도 1의 C-C 방향 단면도이다.FIG. 1 is a plan view of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along a line A-A in FIG. 1, FIG. 3 is a cross-sectional view taken along a line B-B in FIG. 1, and FIG.
도 1을 참조하면, 실시 예에 따른 반도체 소자는 복수 개의 제1 발광부(120-1) 및 제2 발광부(120-2)를 포함하는 발광구조물, 복수 개의 제1 발광부(120-1)를 전기적으로 연결하는 복수 개의 제1 연결전극(150), 복수 개의 제2 발광부(120-2)를 전기적으로 연결하는 복수 개의 제2 연결전극(170), 복수 개의 제1 발광부(120-1)상에 배치되는 제1 패드(191), 및 복수 개의 제2 발광부(120-2)상에 배치되는 제2 패드(192)를 포함한다.1, a semiconductor device according to an embodiment includes a light emitting structure including a plurality of first light emitting units 120-1 and a second light emitting unit 120-2, a plurality of first light emitting units 120-1 A plurality of
발광구조물(120-1, 120-2)은 일 측에 배치되는 복수 개의 제1 발광부(120-1), 및 타 측에 배치되는 복수 개의 제2 발광부(120-2)를 포함할 수 있다. 복수 개의 제1 발광부(120-1)와 복수 개의 제2 발광부(120-2)는 식각에 의해 아이솔레이션된 발광셀일 수 있다. 발광부는 독립적으로 활성층을 갖는 영역으로 정의할 수 있다.The light emitting structures 120-1 and 120-2 may include a plurality of first light emitting portions 120-1 disposed on one side and a plurality of second light emitting portions 120-2 disposed on the other side. have. The plurality of first light emitting units 120-1 and the plurality of second light emitting units 120-2 may be light emitting cells isolated by etching. The light emitting portion can be defined as a region having an active layer independently.
제1 발광부(120-1)와 제2 발광부(120-2)는 제1 이격구간(d1)을 기준으로 제2방향(Y축 방향)으로 이격 배치될 수 있다. 복수 개의 제1 발광부(120-1)와 제2 발광부(120-2)는 제1방향(X축 방향)으로 이격 배치될 수 있다. 이하에서 편의상 제1방향(X축 방향)은 수평 방향으로 정의하고, 제2방향(Y축 방향)은 수직 방향으로 정의하나 반드시 이에 한정되지 않는다.The first light emitting portion 120-1 and the second light emitting portion 120-2 may be spaced apart from each other in the second direction (Y axis direction) with respect to the first spacing distance d1. The plurality of first light emitting units 120-1 and the second light emitting units 120-2 may be spaced apart from each other in the first direction (X axis direction). Hereinafter, the first direction (X-axis direction) is defined as a horizontal direction, and the second direction (Y-axis direction) is defined as a vertical direction, but the present invention is not limited thereto.
제1 발광부(120-1)의 개수는 제2 발광부(120-2)의 개수보다 많을 수 있다. 제1 발광부(120-1)와 제2 발광부(120-2)의 합은 홀수일 수 있다. 예시적으로 제1 발광부(120-1)은 4개이고 제2 발광부(120-2)는 3개로 구성되어 전체 발광부의 개수는 7개일 수 있으나 반드시 이에 한정하지 않는다.The number of the first light emitting units 120-1 may be greater than the number of the second light emitting units 120-2. The sum of the first light emitting portion 120-1 and the second light emitting portion 120-2 may be an odd number. Illustratively, the number of the first light emitting units 120-1 is four, the number of the second light emitting units 120-2 is three, and the number of the total light emitting units is seven, but the present invention is not limited thereto.
제1 연결전극(150)은 이웃한 제1 발광부(120-1)를 전기적으로 연결할 수 있다. 제1 연결전극(150)은 복수 개의 제1 발광부(120-1)를 직렬 연결할 수 있다. The
제1 연결전극(150)은 어느 하나의 제1 발광부(120-1)상에 배치되는 제1-1 연결전극(151), 및 이웃한 제1 발광부(120-1)로 연장되는 제1-2 연결전극(152)을 포함할 수 있다. 제1-2 연결전극(152)는 제2 이격구간(d2)상에 배치될 수 있다. 제1-1 연결전극(151)은 복수 개의 제2 홀(H2)과 중첩되게 배치될 수 있으며, 제1-2 연결전극(152)은 제3 홀(H3)과 중첩되게 배치될 수 있다.The
제2 연결전극(170)은 복수 개의 제2 발광부(120-2)를 전기적으로 연결할 수 있다. 제2 연결전극(170)은 복수 개의 제2 발광부(120-2)를 직렬 연결할 수 있다. 제2 연결전극(170)은 어느 하나의 제2 발광부(120-2)상에 배치되는 제2-1 연결전극(171), 및 이웃한 제2 발광부(120-2)로 연장되는 제2-2 연결전극(172)을 포함할 수 있다. 제2-2 연결전극(172)는 제3 이격구간(d3)상에 배치될 수 있다. 제2-1 연결전극(171)은 복수 개의 제5 홀(H5)과 중첩되게 배치될 수 있으며, 제2-2 연결전극(172)은 제6 홀(H6)과 중첩되게 배치될 수 있다.The
제3 연결전극(160)은 복수 개의 제1 발광부(120-1) 중 어느 하나와 복수 개의 제2 발광부(120-2) 중 어느 하나를 전기적으로 연결할 수 있다. 제3 연결전극(160)은 제1 이격구간(d1)상에 배치되어 제1 발광부(120-1)와 제2 발광부(120-2)를 전기적으로 연결할 수 있다.The
제4 연결전극(180)은 마지막 제2 발광부(120-2) 상에 배치되어 제2 패드(192)와 전기적으로 연결될 수 있다. 즉, 제4 연결전극(180)은 발광부를 전기적으로 연결하는 전극이 아니라 발광부와 패드를 연결하는 더미전극일 수 있다.The
제1 패드(191)는 수평방향으로 연장되어 복수 개의 제1 발광부(120-1)상에 배치되는 제1-1 패드(191a), 및 제1-1 패드(191a)에서 제2 패드(192)를 향해 연장되는 복수 개의 제1-2 패드(191b)를 포함할 수 있다. 제1-1 연결전극(151)은 평면상에서 이웃한 제1-2 패드(191b) 사이에 배치될 수 있다.The
제2 패드(192)는 수평방향으로 연장되어 복수 개의 제2 발광부(120-2)상에 배치되는 제2-1 패드(192a), 및 제2-1 패드(192a)에서 제1 패드(191)를 향해 연장된 복수 개의 제2-2 패드(192b)를 포함할 수 있다. 제2-1 연결전극(171)은 평면상에서 이웃한 제2-2 패드(192b) 사이에 배치될 수 있다.The
실시 예에 따르면, 제1 패드(191)는 발광구조물의 두께 방향(Z축 방향)으로 제1 연결전극(150)과 중첩되지 않고, 제2 패드(192)는 두께 방향으로 제2 연결전극(170)과 중첩되지 않도록 배치될 수 있다.The
제1 패드(191)와 제1 연결전극(150)이 중첩되는 경우 그 사이에 배치되는 절연층에 크랙이 발생하면 해당 발광부로 주입되어야 하는 전류가 누설되므로 해당 발광부는 발광하지 못할 수 있다. 그러나, 실시 예에 따르면, 절연층에 크랙이 발생하여도 제1 패드(191)와 제1 연결전극(150)이 중첩되지 않으므로 전류가 누설되는 것을 개선할 수 있다.When the
도 2를 참조하면, 제1 도전형 반도체층(121)은 -Ⅴ족, -Ⅵ족 등의 화합물 반도체로 구현될 수 있으며, 제1도펀트가 도핑될 수 있다. 제1 도전형 반도체층(121)은 Inx1Aly1Ga1 -x1- y1N(0≤x1≤1, 0≤y1≤1, 0≤x1+y1≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료, 예를 들어 GaN, AlGaN, InGaN, InAlGaN 등에서 선택될 수 있다. 그리고, 제1도펀트는 Si, Ge, Sn, Se, Te와 같은 n형 도펀트일 수 있다. 제1도펀트가 n형 도펀트인 경우, 제1도펀트가 도핑된 제1 도전형 반도체층(121)은 n형 반도체층일 수 있다.Referring to FIG. 2, the first
활성층(122)은 제1 도전형 반도체층(121)과 제2 도전형 반도체층(123) 사이에 배치될 수 있다. 활성층(122)은 제1 도전형 반도체층(121)을 통해서 주입되는 전자(또는 정공)와 제2 도전형 반도체층(123)을 통해서 주입되는 정공(또는 전자)이 만나는 층이다. 활성층(122)은 전자와 정공이 재결합함에 따라 낮은 에너지 준위로 천이하며, 자외선 파장을 가지는 빛을 생성할 수 있다.The
활성층(122)은 우물층과 장벽층을 포함하고, 단일 우물 구조, 다중 우물 구조, 단일 양자 우물 구조, 다중 양자 우물(Multi Quantum Well; MQW) 구조, 양자점 구조 또는 양자선 구조 중 어느 하나의 구조를 가질 수 있으며, 활성층(122)의 구조는 이에 한정하지 않는다.The
제2 도전형 반도체층(123)은 활성층(122) 상에 형성되며, -Ⅴ족, -Ⅵ족 등의 화합물 반도체로 구현될 수 있으며, 제2 도전형 반도체층(123)에 제2도펀트가 도핑될 수 있다. 제2 도전형 반도체층(123)은 Inx5Aly2Ga1 -x5- y2N (0≤x5≤1, 0≤y2≤1, 0≤x5+y2≤1)의 조성식을 갖는 반도체 물질 또는 AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP 중 선택된 물질로 형성될 수 있다. 제2도펀트가 Mg, Zn, Ca, Sr, Ba 등과 같은 p형 도펀트인 경우, 제2도펀트가 도핑된 제2 도전형 반도체층(123)은 p형 반도체층일 수 있다.The second conductivity
제2 도전형 반도체층(123)상에 배치되는 제2 전극(130)은 오믹전극 및/또는 반사전극일 수 있다. 제2 전극(130)은 ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), IZTO(indium zinc tin oxide), IAZO(indium aluminum zinc oxide), IGZO(indium gallium zinc oxide), IGTO(indium gallium tin oxide), AZO(aluminum zinc oxide), ATO(antimony tin oxide), GZO(gallium zinc oxide), IZON(IZO Nitride), AGZO(Al-Ga ZnO), IGZO(In-Ga ZnO), ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au, 또는 Ni/IrOx/Au/ITO, Ag, Ni, Cr, Ti, Al, Rh, Pd, Ir, Sn, In, Ru, Mg, Zn, Pt, Au, Hf 중 적어도 하나를 포함하여 형성될 수 있으나, 이러한 재료에 한정되는 않는다.The
제1 절연층(141)은 발광구조물(120-1, 120-2)과 제1 연결전극(150) 사이에 배치될 수 있다. 제2 절연층(142)은 제1 연결전극(150)과 제1 패드(191) 사이에 배치될 수 있다. 제1 절연층(141)과 제2 절연층(142)은 SiO2, SixOy, Si3N4, SixNy, SiOxNy, Al2O3, TiO2, AlN 등으로 이루어진 군에서 적어도 하나가 선택되어 형성될 수 있으나, 이에 한정하지 않는다. The first insulating
제1 절연층(141)과 제2 절연층(142)은 단층 또는 다층으로 형성될 수 있다. 예시적으로 제1 절연층(141)과 제2 절연층(142)은 Ag, Si 산화물이나 Ti 화합물을 포함하는 다층 구조의 DBR(distributed Bragg reflector) 일 수도 있다. 그러나, 반드시 이에 한정하지 않고 제1 절연층(141)은 다양한 반사 구조를 포함할 수 있다.The first insulating
제1 절연층(141)이 반사기능을 수행하는 경우, 활성층(122)에서 방출되는 광을 반사시켜 광 추출 효율을 향상시킬 수 있다. 그러나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니고 별도의 반사층을 더 구비할 수도 있다.When the first insulating
제1 패드(191)는 제2 절연층(142)에 형성된 제1 홀(H1)을 통해 제2 전극(130)과 접촉할 수 있다. 따라서, 제1 패드(191)는 제1 발광부(120-1)의 제2 도전형 반도체층(123)과 전기적으로 연결될 수 있다. The
제1 패드(191)와 제2 전극(130) 사이에는 별도의 더미 전극(153)이 배치될 수 있다. 더미 전극(153)은 제1 패드(191)상에 배치되는 솔더가 제1 발광부(120-1)로 확산되는 것을 차단할 수 있다. 그러나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니고 더미 전극(153)은 생략될 수도 있다. 더미 전극은 제1 연결전극(150) 형성시 동시에 형성될 수 있다.A
제1 연결전극(150)은 제2 홀(H2)을 통해 제1 도전형 반도체층(121)과 전기적으로 연결될 수 있다. 따라서, 제1 패드(191)를 통해 주입된 전류는 제1 발광부(120-1)를 통해 제1 연결전극(150)으로 흐를 수 있다.The
제1 연결전극(150)은 제2 이격구간(d2)으로 연장되어 이웃한 제1 발광부(120-1)까지 연장될 수 있다. 제2 이격구간(d2)은 복수 개의 제1 발광부(120-1)가 아이솔레이션된 구간일 수 있다. 이웃한 제1 발광부(120-1)로 연장된 제1 연결전극(150)은 제3 홀(H3)을 통해 이웃한 제1 발광부(120-1)의 제2 전극(130) 및 제2 도전형 반도체층(123)과 연결될 수 있다. 따라서, 제1 연결전극(150)은 이웃한 제1 발광부(120-1)를 직렬 연결할 수 있다.The
도 1 및 도 3을 참조하면, 제3 연결전극(160)은 복수 개의 제1 발광부(120-1) 중 어느 하나와 복수 개의 제2 발광부(120-2) 중 어느 하나를 전기적으로 연결할 수 있다. 제3 연결전극(160)은 제1 이격구간(d1)상에 배치될 수 있다. 구체적으로 제3 연결전극(160)은 제2 홀(H2)을 통해 제1 발광부(120-1)의 제1 도전형 반도체층(121)과 전기적으로 연결되고, 제4 홀(H4)을 통해 제2 발광부(120-2)의 제2 도전형 반도체층(123)과 전기적으로 연결될 수 있다.Referring to FIGS. 1 and 3, the
도 1 및 도 4를 참조하면, 제2 연결전극(170)은 이웃한 제2 발광부(120-2)로 연장되고 제6 홀(H6)을 통해 이웃한 제2 발광부(120-2)와 전기적으로 연결될 수 있다. 제2 연결전극(170)은 제5 홀(H5)과 제6 홀(H6)을 통해 이웃한 제2 발광부(120-2)를 직렬 연결할 수 있다.Referring to FIGS. 1 and 4, the
제4 연결전극(180)은 마지막 제2 발광부(120-2)상에 배치될 수 있다. 제4 연결전극(180)은 제5 홀(H5)을 통해 제2 발광부(120-2)와 전기적으로 연결되고, 제7 홀(H7)을 통해 제2 패드(192)와 전기적으로 연결될 수 있다. 따라서, 제1 패드(191)와 제2 패드(192)를 통해 전류가 주입되면 전류는 일 방향으로 흐를 수 있다. 전류(또는 전하)의 이동 방향은 제1, 제2 패드(191, 192)에 인가되는 전원의 극성에 따라 결정될 수 있다.And the
도 5는 본 발명의 일 실시 예에 따른 반도체 소자의 전류 흐름을 보여주는 도면이고, 도 6은 패드와 연결 전극의 배치 관계를 설명하기 위한 도면이다.FIG. 5 is a view showing a current flow of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a view for explaining the arrangement relationship of a pad and a connection electrode.
전술한 바와 같이 제1 패드(191)를 통해 주입되는 전류는 제1 발광부(120-1)에 주입된 후, 제1 연결전극(150)에 의해 이웃한 제1 발광부(120-1)로 흐를 수 있다. 이후, 제3 연결전극(160)에 의해 제2 발광부(120-2)로 주입된 전류는 제2 연결전극(170)에 의해 이웃한 제2 발광부(120-2)로 연속적으로 흐르게 된다.As described above, the current injected through the
전술한 바와 같이 연결전극에 의해 발광부에 전류가 주입되어 분산된 후 다시 이웃한 연결전극으로 전류가 흐를 수 있다. 제1, 제2 발광부(120-1, 120-2)에서 전류의 흐름을 점선 화살표로 표시하였고 제1 내지 제3 연결전극(150, 160, 170)에서 전류 흐름을 실선 화살표로 표시하였다.As described above, after a current is injected and dispersed into the light emitting portion by the connection electrode, a current can flow to the neighboring connection electrode again. Current flows in the first and second light emitting units 120-1 and 120-2 are indicated by dashed arrows and current flows in the first to third connecting
이때, 복수 개의 제1-2 연결전극(152)에서 전류가 흐르는 방향(N1)과 복수 개의 제2-2 연결전극(172)에서 전류가 흐르는 방향(N2)은 서로 반대 방향일 수 있다. 예시적으로 제1-2 연결전극(152)에서 전류가 흐르는 방향(N1)은 도면을 기준으로 왼쪽에서 오른쪽 방향(X1 방향)으로 흐를 수 있으며, 제2-2 연결전극(172)에서 전류가 흐르는 방향(N2)은 오른쪽에서 왼쪽 방향(X2 방향)일 수 있다.At this time, the direction N1 in which the current flows in the plurality of
또한, 제3 연결전극(160)에 의해 제1 발광부(120-1)와 제2 발광부(120-2)가 전기적으로 연결되므로 제1-2 연결전극(152), 제3 연결전극(160), 및 제2-2 연결전극(172)은 U자 형상(X1, Y2, X2 방향)을 가질 수 있다. 따라서, 제1-2 연결전극(152), 제3 연결전극(160), 및 제2-2 연결전극(172)을 순차적으로 흐르는 전류 방향은 U자 형상을 가질 수 있다.Since the first light emitting portion 120-1 and the second light emitting portion 120-2 are electrically connected by the
제1 발광부(120-1)의 개수는 제2 발광부(120-2)의 개수보다 많을 수 있다. 제1 발광부(120-1)의 면적과 제2 발광부(120-2)의 면적의 합의 비는 1:0.8 내지 1:1.2일 수 있다. 즉, 제1 발광부(120-1)와 제2 발광부(120-2)의 면적은 유사하게 제작될 수 있다. 따라서, 각 발광부에 주입되는 전류의 밀도는 유사해져 균일한 발광이 가능해질 수 있다.The number of the first light emitting units 120-1 may be greater than the number of the second light emitting units 120-2. The ratio of the sum of the area of the first light emitting portion 120-1 and the area of the second light emitting portion 120-2 may be 1: 0.8 to 1: 1.2. That is, the areas of the first light emitting portion 120-1 and the second light emitting portion 120-2 can be made similar. Therefore, the density of current injected into each light emitting portion becomes similar, and uniform light emission can be made possible.
제1 이격구간(d1)은 수평방향으로 연장되어 반도체 소자를 이등분한 제1가상선(C1)과 일치하지 않을 수 있다. 제1 이격구간(d1)은 제1가상선(C1)보다 하부로 치우쳐 배치될 수 있다. 제1가상선(C1)과 제2가상선(C2)은 서로 일치하지 않을 수 있다. 제2가상선(C2)은 제1 이격구간(d1)을 수평방향으로 이등분한 가상의 직선일 수 있다. 따라서, 제1가상선(C1)은 제1 발광부(120-1)상에 배치될 수 있다.The first spacing distance d1 may not coincide with the first imaginary line C1 extending in the horizontal direction and bisecting the semiconductor element. The first spacing d1 may be disposed lower than the first imaginary line C1. The first virtual line C1 and the second virtual line C2 may not coincide with each other. The second imaginary line C2 may be a hypothetical straight line bisecting the first spacing d1 in the horizontal direction. Therefore, the first virtual line C1 can be disposed on the first light emitting portion 120-1.
만약 제1가상선(C1)과 제2가상선(C2)이 일치한다면 상부 영역과 하부 영역의 면적이 거의 동일해진다. 그러면, 상부 영역을 4등분한 제1 발광부(120-1)의 면적은 하부 영역을 3등분한 제2 발광부(120-2)의 면적보다 작아질 수 있다. 따라서, 제1 발광부(120-1)와 제2 발광부(120-2)의 전류 밀도가 달라져 균일한 발광이 어려워질 수 있다.If the first virtual line C1 and the second virtual line C2 coincide with each other, the areas of the upper area and the lower area become almost equal. In this case, the area of the first light emitting portion 120-1, which divides the upper region into four equal parts, may be smaller than the area of the second light emitting portion 120-2 that divides the lower region into three equal parts. Accordingly, the current density between the first light emitting portion 120-1 and the second light emitting portion 120-2 is different, and uniform light emission may be difficult.
제1-2 연결전극(152)과 제2-2 연결전극(172)은 제1 이격구간(d1)보다 폭이 넓은 제1 영역(d19) 내에 배치될 수 있다. 제1 영역(d19)은 제1 이격구간(d1)에서 수직방향으로 연장되어 제1-2 연결전극(152)과 제2-2 연결전극(172)을 포함하는 최소 영역일 수 있다. 따라서, 제1 영역(d19)의 상부 라인은 제1-2 연결전극(152)의 상부 끝단과 일치할 수 있으며, 제1 영역(d19)의 하부 라인은 제2-2 연결전극(172)의 하부 끝단과 일치할 수 있다. The 1-2 connecting
제1 영역(d19)내에는 제1-2 연결전극(152)과 제1 발광부(120-1)의 제2 도전형 반도체층을 연결하는 제3 홀(H3), 및 제2-2 연결전극(172)과 제2 발광부(120-2)의 제2 도전형 반도체층을 연결하는 제6 홀(H6)이 배치될 수 있다.The first region d19 includes a third hole H3 for connecting the first and
반도체 소자의 수직방향 폭(d9)과 제1 영역(d19)의 폭의 비(d9:d19)는 1:0.25 내지 1:0.5일 수 있다. 폭의 비가 1:0.25보다 작아지는 경우(예: 1:0.2), 제1-2 연결전극(152)과 제2-2 연결전극(172)의 폭이 좁아지므로 전류가 집중되어 전극이 파손될 수 있다. 또한, 폭의 비가 1:0.5보다 커지는 경우 제1-2 연결전극(152)과 제2-2 연결전극(172)의 폭이 커지므로 상대적으로 제1 패드(191)와 제2 패드(192)의 면적이 작아질 수 있다. 따라서, 솔더링시 신뢰성이 저하될 수 있다.The ratio (d9: d19) of the width d9 of the semiconductor device in the vertical direction to the width of the first region d19 may be 1: 0.25 to 1: 0.5. (For example, 1: 0.2), the widths of the first-
도 6을 참조하면, 제1 패드(191)의 면적은 제2 패드(192)의 면적보다 클 수 있다. 제1 패드(191)의 전체 면적과 제2 패드(192)의 전체 면적의 비는 1:0.6 내지 1:0.9일 수 있다. 면적의 비가 1:0.6보다 작은 경우 제2 패드(192)의 면적이 과도하게 작아져 제2 패드(192)에 솔더링시 신뢰성이 저하될 수 있다. 또한, 면적 비가 1:0.9보다 커지는 경우 제2-2 연결전극(172)의 폭이 좁아질 수 있다. 제2 패드(192)의 면적이 증가하기 위해서는 제2 패드(192)가 수직방향으로 커져야 하므로 상대적으로 제2-2 연결전극(172)의 폭이 작아질 수 있다. 따라서, 고전압 인가시 제2-2 연결전극(172)이 파손될 수 있다.Referring to FIG. 6, the area of the
제1-2 패드(191b)의 수직방향 폭(d23)은 제1-1 패드(191a)의 수직방향 폭(d22)보다 두꺼울 수 있다. 또한, 제1-1 연결전극(151)들 사이에 배치된 제1-2 패드(192b)의 수평방향 폭(d20)은 제1-1 패드(191a)의 수직방향 폭(d22)보다 두꺼울 수 있다.The vertical width d23 of the 1-2
제2-2 패드(192b)의 수직방향 폭(d24)은 제2-1 패드(192a)의 수직방향 폭(d25)보다 두꺼울 수 있다. 또한, 제2-1 연결전극(171)들 사이에 배치된 제2-2 패드(192b)의 수평방향 폭(d21)은 제2-1 패드(192a)의 수직방향 폭(d25)보다 두꺼울 수 있다.The vertical width d24 of the second-2
제2-2 패드(192b)의 수평방향 폭(d21)은 제1-2 패드(191b)의 수평방향 폭(d20)보다 클 수 있다. 예시적으로 제1-2 패드(191b)의 수평방향 폭(d20)과 제2-2 패드(192b)의 수평방향 폭(d21)의 비(d20:d21)는 1:1.2 내지 1:1.7일 수 있다. 폭의 비가 1:1.2보다 작은 경우(예: 1:1), 제2 패드(192)의 면적이 작아져 솔더링이 어려워질 수 있다. 또한, 폭의 비가 1:1.7보다 커지는 경우 제1-1 패드(191a)의 폭이 증가하므로 제1-1 연결전극(151)의 폭이 감소할 수 있다. 따라서, 전류 집중시 전극이 파손될 수 있다. 또한, 제1-2 패드(191b)의 수직방향 폭(d23)은 2-2 패드(192b)의 수직방향 폭(d24)보다 클 수 있다.The horizontal width d21 of the 2-2
제1 발광부(120-1)의 수직방향 폭(d13)과 제1-2 연결전극(152)의 수직방향 폭(d15)의 비(d13:d15)는 1:0.15 내지 1:0.35일 수 있다. 폭의 비가 1:0.15보다 작은 경우 제1-2 연결전극(152)의 폭이 작아지므로 전류가 집중되어 파손될 수 있다. 또한, 폭의 비가 1:0.35보다 커지는 경우에는 상대적으로 제1 패드(191)의 면적이 작아져 솔더링시 신뢰성이 저하될 수 있다. 동일한 이유로 제1 패드(191)의 수직방향 폭(d14)과 제1-2 연결전극(152)의 수직방향 폭(d15)의 비는 1:0.25 내지 1:0.4를 만족할 수 있다.The ratio d13: d15 of the vertical width d13 of the first light emitting portion 120-1 to the vertical width d15 of the first-
제2 발광부(120-2)의 수직방향 폭(d16)과 제2-2 연결전극(172)의 수직방향 폭(d17)의 비는 1:0.1 내지 1:0.3일 수 있다. 폭의 비가 1:0.1보다 작은 경우 제2-2 연결전극(172)의 폭이 작아지므로 전류가 집중되어 파손될 수 있다. 또한, 폭의 비가 1:0.3보다 큰 경우 제2 패드(192)의 면적이 작아져 솔더링시 신뢰성이 저하될 수 있다. 동일한 이유로 제2 패드(192)의 수직방향 폭(d18)과 제2-2 연결전극(172)의 수직방향 폭(d17)의 비는 1:0.2 내지 1:0.35를 만족할 수 있다.The ratio of the vertical width d16 of the second light emitting portion 120-2 to the vertical width d17 of the second-
제1-2 연결전극(152)의 수직방향 폭(d15)과 제2-2 연결전극(172)의 수직방향 폭(d17)의 비(d15:d17)는 1:0.4 내지 1:0.7일 수 있다. 폭의 비가 1:0.4보다 작아지는 경우 제2-2 연결전극(172)의 폭이 작아져 전류가 전류가 집중될 수 있다. 또한, 폭의 비가 1:0.7보다 커지는 경우 제2-2 연결전극(172)의 폭이 커져 상대적으로 제2 패드(192)의 면적이 줄어들 수 있다. 따라서, 제2 패드(192)에 솔더링시 신뢰성이 저하될 수 있다.The ratio (d15: d17) of the width d15 in the vertical direction of the 1-2 connecting
제1 발광부(120-1)와 제2 발광부(120-2)의 수평방향 폭의 비(d6:d12)는 1:1.1 내지 1:1.5이 수 있다. 또한, 제1 발광부(120-1)와 제2 발광부(120-2)의 수직방향 폭의 비(d13:d16)는 1:0.6 내지 1:0.9일 수 있다. 즉, 수평방향으로는 제1 발광부(120-1)의 폭이 더 크고 수직방향으로는 제2 발광부(120-2)의 폭이 더 크게 배치될 수 있다. 따라서, 제1 발광부(120-1)와 제2 발광부(120-2)의 면적은 거의 유사해질 수 있다.The ratio d6: d12 of the horizontal widths of the first light emitting portion 120-1 and the second light emitting portion 120-2 may be 1: 1.1 to 1: 1.5. The ratio d13: d16 of the widths of the first light emitting portion 120-1 and the second light emitting portion 120-2 in the vertical direction may be 1: 0.6 to 1: 0.9. That is, the width of the first light emitting portion 120-1 may be larger in the horizontal direction and the width of the second light emitting portion 120-2 may be larger in the vertical direction. Accordingly, the areas of the first light emitting portion 120-1 and the second light emitting portion 120-2 can be made substantially similar.
제1-1 연결전극(151)은 복수 개의 제1-2 패드(191b) 사이에 배치되는 제2 영역(S31)을 포함할 수 있다. 제2 영역(S31)은 제1 패드(191)가 사각 형상으로 형성되는 경우 제1 연결전극(150)과 중첩되는 면적일 수 있다.The 1-1
제2 영역(S31)의 합과 제1 패드(191)의 면적비는 1:0.2 내지 1:0.4일 수 있다. 면적비가 1:0.2보다 작은 경우 제1-1 연결전극(151)의 면적이 작아져 전류 집중에 의해 전극이 파손될 우려가 있다. 또한, 면적비가 1:0.4보다 커지는 경우 제1 패드(191)의 면적이 작아져 솔더링시 신뢰성이 저하될 수 있다.The sum of the second regions S31 and the area ratio of the
제1-2 연결전극(171)은 복수 개의 제2-2 패드(192b) 사이에 배치되는 제3 영역(S32)을 포함할 수 있다. 이때, 제3 영역(S32)의 합과 제2 패드(192)의 면적비는 상기와 동일한 이유로 1:0.2 내지 1:0.4를 만족할 수 있다.The 1-2 connecting
도 7은 반도체 소자의 반사층을 설명하기 위한 도면이고, 도 8은 제1, 제2발광부 사이에 배치되는 중간층을 설명하기 위한 도면이고, 도 9는 도 1의 변형예이다.Fig. 7 is a view for explaining a reflective layer of a semiconductor element, Fig. 8 is a view for explaining an intermediate layer disposed between the first and second light emitting portions, and Fig. 9 is a modification of Fig.
도 7을 참조하면, 제1절연층(141) 상에는 반사층(143)이 더 배치될 수 있다. 반사층(143)은 Ag, Si 산화물이나 Ti 화합물을 포함하는 다층 구조의 DBR(distributed Bragg reflector) 일 수도 있다. 그러나, 반드시 이에 한정하지 않고 반사층은 다양한 반사 구조를 포함할 수 있다. 예시적으로 반사층(143)은 고굴절층과 저굴절층이 반복 적층될 수 있으나 반드시 이에 한정하지 않는다. 반사층(143)은 활성층(122)에서 방출되는 광을 반사시켜 광 추출 효율을 향상시킬 수 있다.Referring to FIG. 7, a
도 8을 참조하면, 복수 개의 제1, 제2발광부(120-1, 120-2) 사이에는 중간층(144)이 배치될 수 있다. 중간층(144)은 제1, 제2발광부(120-1, 120-2) 또는 제1절연층(141)의 돌출 높이와 동일한 두께를 가질 수 있다. 예시적으로 중간층(144)은 평탄화층일 수도 있다.Referring to FIG. 8, an
제1 내지 제3 연결전극(150, 160, 170)은 제1 이격구간(d1), 제2 이격구간(d2), 및 제3 이격구간(d3)상에 각각 배치될 수 있다. 도 8에서는 제2 연결전극(160)이 제2 이격구간(d2)상에 배치된 것을 예시하였다. The first to
제1, 제2발광부(120-1, 120-2)가 돌출 형성되므로 그 위에 제1 내지 제3연결전극(150, 160, 170)을 균일한 두께로 형성하기 어려울 수 있다. 그러나, 실시 예에 따르면 제1 내지 제3연결전극(150, 160, 170)은 중간층(144)상에 배치되므로 제조가 용이하고 두께를 균일하게 형성할 수 있다. 따라서, 저전류 특성 및 신뢰성이 향상될 수 있다.Since the first and second light emitting units 120-1 and 120-2 are protruded, it may be difficult to form the first to
중간층(144)의 재질은 특별히 한정하지 않는다. 중간층(144)은 제1절연층(141)과 동일한 재질을 포함할 수 있다. 예시적으로 중간층(144)은 SiO2, Si3N4, 레진(Resin), SOG(Spin on Glass) 또는 SOD (Spin on dielectric)중 어느 하나를 포함할 수 있으나 반드시 이에 한정하지 않는다.The material of the
도 9를 참조하면, 제1 패드(191)는 복수 개의 제1 발광부(120-1)상에 각각 배치되는 제1 서브패드(191c)를 포함할 수 있다. 제1 서브패드(191c)들은 서로 이격 배치될 수 있다. 제2 패드(192) 역시 복수 개의 제2 발광부(120-2)상에 각각 배치되는 제2 서브패드(192c)를 포함할 수 있다. 이러한 구성에 의하면 패드 디자인의 자유도가 개선될 수 있다.Referring to FIG. 9, the
제1 발광부(120-1)와 제1 서브패드(191c)의 면적비는 1:0.2 내지 1:0.4일 수 있다. 면적비가 1:0.2보다 작은 경우 제1 서브 패드(191c)의 면적이 작아져 솔더링시 신뢰성이 저하될 수 있으며, 면적비가 1:0.4보다 커지는 경우 패드의 면적이 증가하므로 상대적으로 제1 연결전극(150)의 면적이 작아질 수 있다. 따라서, 고전압 인가시 연결전극이 파손될 수 있다. 제2 발광부(120-2)와 제2 서브패드(192c)의 면적비 역시 동일한 이유로 1:0.2 내지 1:0.4를 만족할 수 있다.The area ratio of the first light emitting part 120-1 and the
도 10은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 반도체 소자의 평면도이다.10 is a plan view of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention.
도 10을 참조하면, 실시 예에 따른 반도체 소자는 일 측에 배치되는 복수 개의 제1 발광부(120-1), 및 타 측에 배치되는 복수 개의 제2 발광부(120-2)를 포함할 수 있다. 10, the semiconductor device according to the embodiment includes a plurality of first light emitting units 120-1 disposed on one side and a plurality of second light emitting units 120-2 disposed on the other side .
제1 발광부(120-1)와 제2 발광부(120-2)의 개수가 동일할 수 있다. 제1 발광부(120-1)와 제2 발광부(120-2)의 총 개수는 짝수일 수 있다. 예시적으로 제1 발광부(120-1)와 제2 발광부(120-2)는 각각 4개인 것을 도시하였으나 이에 한정하지 않는다.The number of the first light emitting unit 120-1 and the number of the second light emitting unit 120-2 may be the same. The total number of the first light emitting portion 120-1 and the second light emitting portion 120-2 may be an even number. For example, the number of the first light emitting unit 120-1 and the number of the second light emitting unit 120-2 are four, but the present invention is not limited thereto.
제1 발광부(120-1)와 제2 발광부(120-2) 사이에는 제1 이격구간(d1)이 배치될 수 있다. 제1 이격구간(d1)을 기준으로 제1 발광부(120-1)와 제2 발광부(120-2)는 수직방향으로 이격 배치될 수 있다. 예시적으로 상부에는 복수 개의 제1 발광부(120-1)가 배치되고 제2 발광부(120-2)가 배치될 수 있다. 실시 예에 따르면, 제1 발광부(120-1)와 제2 발광부(120-2)의 개수가 동일하므로 제1 이격구간(d1)은 반도체 소자를 이등분한 가상선과 일치할 수 있다. 즉, 제1 이격구간(d1)을 기준으로 상부 영역과 하부 영역의 면적이 동일할 수 있다. A first spacing distance d1 may be disposed between the first light emitting unit 120-1 and the second light emitting unit 120-2. The first light emitting portion 120-1 and the second light emitting portion 120-2 may be spaced apart from each other in the vertical direction based on the first spacing d1. Illustratively, a plurality of first light emitting units 120-1 may be disposed at the upper portion and a second light emitting unit 120-2 may be disposed at the upper portion. According to the embodiment, since the first light emitting portion 120-1 and the second light emitting portion 120-2 have the same number, the first spacing d1 can coincide with the imaginary line bisecting the semiconductor element. That is, the area of the upper area and the area of the lower area may be the same based on the first separation interval d1.
따라서, 제1 패드(191)와 제2 패드(192)의 면적은 동일해질 수 있으며, 제1 연결전극(150)과 제2 연결전극(170)의 형상은 실질적으로 동일할 수 있다. Accordingly, the areas of the
도 11은 본 발명의 또 다른 실시 예에 따른 반도체 소자의 평면도이고, 도 12는 본 발명의 또 다른 실시 예에 따른 반도체 소자의 평면도이다.FIG. 11 is a plan view of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention, and FIG. 12 is a plan view of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention.
도 11을 참조하면, 제1 발광부(120-1), 제2 발광부(120-2), 제1 연결전극(150), 및 제2 연결전극(170)의 구체적인 구성은 도 1에서 설명한 바가 그대로 적용될 수 있다. 다만, 제1 패드(191)는 제1 연결전극(150)과 두께 방향으로 중첩되고, 제2 패드(192)는 제2 연결전극(170)과 두께 방향으로 중첩될 수 있다. 이러한 구조에 의하면, 제1 패드(191)와 제2 패드(192)를 자유롭게 디자인 할 수 있고, 솔더링에 필요한 면적을 확보할 수 있다.11, the specific configuration of the first light emitting portion 120-1, the second light emitting portion 120-2, the
제1 패드(191)의 면적과 중첩면적(S1)의 비는 1:0.2 내지 1:0.4일 수 있다. 중첩면적(S1)은 제1 패드(191)와 제1 연결전극(150)이 두께 방향으로 중첩되는 면적일 수 있다. 면적비가 1:0.2보다 작은 경우 제1 연결전극(150)의 면적이 작아져 전류 집중에 의해 전극이 파손될 우려가 있다. 또한, 면적비가 0.4보다 커지는 경우 중첩 면적이 넓어져 절연층 파손시 전류가 누설될 수 있다. 동일한 이유로 제2 패드(192)의 면적과 중첩면적(S2)의 비는 1:0.2 내지 1:0.4일 수 있다. 중첩면적(S2)은 제2 패드(192)와 제2, 제4 연결전극(170, 180)이 두께 방향으로 중첩되는 총면적일 수 있다.The ratio of the area of the
제1 발광부(120-1)의 개수는 제2 발광부(120-2)의 개수보다 많을 수 있다. 각각의 제1 발광부(120-1)의 면적과 각각의 제2 발광부(120-2)의 면적의 합의 비는 1:0.8 내지 1:1.2일 수 있다. 즉, 제1 발광부(120-1)와 제2 발광부(120-2)의 면적은 유사하게 제작될 수 있다. 따라서, 각 발광부에 주입되는 전류의 밀도는 유사해져 균일한 발광이 가능해질 수 있다.The number of the first light emitting units 120-1 may be greater than the number of the second light emitting units 120-2. The ratio of the sum of the area of each first light emitting portion 120-1 to the sum of the area of each second light emitting portion 120-2 may be 1: 0.8 to 1: 1.2. That is, the areas of the first light emitting portion 120-1 and the second light emitting portion 120-2 can be made similar. Therefore, the density of current injected into each light emitting portion becomes similar, and uniform light emission can be made possible.
제1 이격구간(d1)은 수평방향으로 연장되어 반도체 소자를 이등분한 제1가상선(C1)과 일치하지 않을 수 있다. 제1 이격구간(d1)은 제1가상선(C1)보다 하부로 치우쳐 배치될 수 있다. 따라서, 제1가상선(C1)과 제2가상선(C2)은 서로 일치하지 않을 수 있다. 제2가상선(C2)은 제1 이격구간(d1)을 수평방향으로 이등분한 가상의 직선일 수 있다.The first spacing distance d1 may not coincide with the first imaginary line C1 extending in the horizontal direction and bisecting the semiconductor element. The first spacing d1 may be disposed lower than the first imaginary line C1. Therefore, the first virtual line C1 and the second virtual line C2 may not coincide with each other. The second imaginary line C2 may be a hypothetical straight line bisecting the first spacing d1 in the horizontal direction.
만약 제1가상선(C1)과 제2가상선(C2)이 중첩된다면 상부 영역과 하부 영역의 면적이 거의 동일해진다. 따라서, 상부 영역을 4등분한 제1 발광부(120-1)의 면적은 하부 영역을 3등분한 제2 발광부(120-2)의 면적보다 작아질 수 있다. 따라서, 제1 발광부(120-1)와 제2 발광부(120-2)의 전류 밀도가 달라져 균일한 발광이 어려워질 수 있다.If the first virtual line C1 and the second virtual line C2 are overlapped, the areas of the upper area and the lower area become almost the same. Therefore, the area of the first light emitting unit 120-1 divided into four equal parts can be smaller than the area of the second light emitting unit 120-2 divided into three equal parts of the lower area. Accordingly, the current density between the first light emitting portion 120-1 and the second light emitting portion 120-2 is different, and uniform light emission may be difficult.
제1-2 연결전극(152)과 제2-2 연결전극(172)은 제1 이격구간(d1)보다 폭이 넓은 제1영역(d19) 내에 배치될 수 있다. 이때, 수평방향으로 연장되어 제1영역(d19)을 이등분한 제3가상선과 제1 이격구간(d1)을 이등분한 제2가상선(C2)은 일치할 수 있다.The 1-2 connecting
반도체 소자의 폭과 제1영역(d19)의 폭의 비(d9:d19)는 1:0.25 내지 1:0.5일 수 있다. 폭의 비가 1:0.25보다 작아지는 경우(예: 1:0.2), 제1-2 연결전극(152)과 제2-2 연결전극(172)의 좁아지므로 전류가 집중되어 전극이 파손될 수 있다. 또한, 폭의 비가 1:0.5보다 커지는 경우 제1-2 연결전극(152)과 제2-2 연결전극(172)의 폭이 커지므로 상대적으로 제1 패드(191)와 제2 패드(192)의 면적이 작아질 수 있다. 따라서, 솔더링시 신뢰성이 저하될 수 있다.The ratio (d9: d19) of the width of the semiconductor device to the width of the first region d19 may be 1: 0.25 to 1: 0.5. (For example, 1: 0.2), the current may be concentrated and the electrode may be damaged because the first and second connecting
도 12를 참조하면, 제1 발광부(120-1)와 제2 발광부(120-2)의 개수가 동일할 수 있다. 제1 발광부(120-1)와 제2 발광부(120-2)의 총 개수는 짝수 개일 수 있다. 예시적으로 제1 발광부(120-1)와 제2 발광부(120-2)는 각각 4개인 것을 도시하였다.Referring to FIG. 12, the first light emitting unit 120-1 and the second light emitting unit 120-2 may have the same number. The total number of the first light emitting portion 120-1 and the second light emitting portion 120-2 may be an even number. Illustratively, the number of the first light emitting unit 120-1 and the number of the second light emitting unit 120-2 are four, respectively.
제1 발광부(120-1)와 제2 발광부(120-2) 사이에는 제1 이격구간(d1)이 배치될 수 있다. 제1 이격구간(d1)을 기준으로 제1 발광부(120-1)와 제2 발광부(120-2)는 수직방향으로 이격 배치될 수 있다. 예시적으로 상부에는 복수 개의 제1 발광부(120-1)가 배치되고 제2 발광부(120-2)재가 배치될 수 있다. 실시 예에 따르면, 제1 발광부(120-1)와 제2 발광부(120-2)의 개수가 동일하므로 제1 이격구간(d1)은 반도체 소자를 수직방향으로 이등분한 가상선과 일치할 수 있다. 즉, 제1 이격구간(d1)을 기준으로 상부 영역과 하부 영역의 면적이 동일할 수 있다.A first spacing distance d1 may be disposed between the first light emitting unit 120-1 and the second light emitting unit 120-2. The first light emitting portion 120-1 and the second light emitting portion 120-2 may be spaced apart from each other in the vertical direction based on the first spacing d1. Illustratively, a plurality of first light emitting units 120-1 may be disposed on the upper portion and a second light emitting unit 120-2 may be disposed on the upper portion. According to the embodiment, since the first light emitting portion 120-1 and the second light emitting portion 120-2 are the same in number, the first spacing d1 may correspond to a virtual line bisecting the semiconductor element in the vertical direction have. That is, the area of the upper area and the area of the lower area may be the same based on the first separation interval d1.
따라서, 제1 패드(191)와 제2 패드(192)의 면적은 동일해질 수 있으며, 제1 연결전극(150)과 제2 연결전극(170)의 형상은 실질적으로 동일할 수 있다.Accordingly, the areas of the
반도체 소자는 조명 시스템의 광원으로 사용되거나, 영상표시장치의 광원이나 조명장치의 광원으로 사용될 수 있다. 즉, 반도체 소자는 케이스에 배치되어 광을 제공하는 다양한 전자 디바이스에 적용될 수 있다. 예시적으로, 반도체 소자와 RGB 형광체를 혼합하여 사용하는 경우 연색성(CRI)이 우수한 백색광을 구현할 수 있다.The semiconductor device may be used as a light source of an illumination system, or as a light source of an image display device or a lighting device. That is, semiconductor devices can be applied to various electronic devices arranged in a case to provide light. Illustratively, when a semiconductor device and an RGB phosphor are mixed and used, white light with excellent color rendering (CRI) can be realized.
상술한 반도체 소자는 발광소자 패키지로 구성되어, 조명 시스템의 광원으로 사용될 수 있는데, 예를 들어 영상표시장치의 광원이나 조명 장치 등의 광원으로 사용될 수 있다.The above-described semiconductor device is composed of a light emitting device package and can be used as a light source of an illumination system, for example, as a light source of a video display device or a lighting device.
영상표시장치의 백라이트 유닛으로 사용될 때 에지 타입의 백라이트 유닛으로 사용되거나 직하 타입의 백라이트 유닛으로 사용될 수 있고, 조명 장치의 광원으로 사용될 때 등기구나 벌브 타입으로 사용될 수도 있으며, 또한 이동 단말기의 광원으로 사용될 수도 있다.When used as a backlight unit of a video display device, it can be used as an edge type backlight unit or as a direct-type backlight unit. When used as a light source of a lighting device, it can be used as a regulator or a bulb type. It is possible.
발광 소자는 상술한 발광 다이오드 외에 레이저 다이오드가 있다.The light emitting element includes a laser diode in addition to the light emitting diode described above.
레이저 다이오드는, 발광소자와 동일하게, 상술한 구조의 제1 도전형 반도체층과 활성층 및 제2 도전형 반도체층을 포함할 수 있다. 그리고, p-형의 제1 도전형 반도체와 n-형의 제2 도전형 반도체를 접합시킨 뒤 전류를 흘러주었을 때 빛이 방출되는 electro-luminescence(전계발광) 현상을 이용하나, 방출되는 광의 방향성과 위상에서 차이점이 있다. 즉, 레이저 다이오드는 여기 방출(stimulated emission)이라는 현상과 보강간섭 현상 등을 이용하여 하나의 특정한 파장(단색광, monochromatic beam)을 가지는 빛이 동일한 위상을 가지고 동일한 방향으로 방출될 수 있으며, 이러한 특성으로 인하여 광통신이나 의료용 장비 및 반도체 공정 장비 등에 사용될 수 있다.The laser diode may include the first conductivity type semiconductor layer, the active layer and the second conductivity type semiconductor layer having the above-described structure, like the light emitting element. Then, electro-luminescence (electroluminescence) phenomenon in which light is emitted when an electric current is applied after bonding the p-type first conductivity type semiconductor and the n-type second conductivity type semiconductor is used, And phase. That is, the laser diode can emit light having one specific wavelength (monochromatic beam) with the same phase and in the same direction by using a phenomenon called stimulated emission and a constructive interference phenomenon. It can be used for optical communication, medical equipment and semiconductor processing equipment.
수광 소자로는 빛을 검출하여 그 강도를 전기 신호로 변환하는 일종의 트랜스듀서인 광 검출기(photodetector)를 예로 들 수 있다. 이러한 광 검출기로서, 광전지(실리콘, 셀렌), 광도전 소자(황화 카드뮴, 셀렌화 카드뮴), 포토 다이오드(예를 들어, visible blind spectral region이나 true blind spectral region에서 피크 파장을 갖는 PD), 포토 트랜지스터, 광전자 증배관, 광전관(진공, 가스 봉입), IR(Infra-Red) 검출기 등이 있으나, 실시 예는 이에 국한되지 않는다.As the light receiving element, a photodetector, which is a kind of transducer that detects light and converts the intensity of the light into an electric signal, is exemplified. As such a photodetector, a photodiode (e.g., a PD with a peak wavelength in a visible blind spectral region or a true blind spectral region), a photodiode (e.g., a photodiode such as a photodiode (silicon, selenium), a photoconductive element (cadmium sulfide, cadmium selenide) , Photomultiplier tube, phototube (vacuum, gas-filled), IR (Infra-Red) detector, and the like.
또한, 광검출기와 같은 반도체 소자는 일반적으로 광변환 효율이 우수한 직접 천이 반도체(direct bandgap semiconductor)를 이용하여 제작될 수 있다. 또는, 광검출기는 구조가 다양하여 가장 일반적인 구조로는 p-n 접합을 이용하는 pin형 광검출기와, 쇼트키접합(Schottky junction)을 이용하는 쇼트키형 광검출기와, MSM(Metal Semiconductor Metal)형 광검출기 등이 있다. In addition, a semiconductor device such as a photodetector may be fabricated using a direct bandgap semiconductor, which is generally excellent in photo-conversion efficiency. Alternatively, the photodetector has a variety of structures, and the most general structure includes a pinned photodetector using a pn junction, a Schottky photodetector using a Schottky junction, and a metal-semiconductor metal (MSM) photodetector have.
포토 다이오드(Photodiode)는 발광소자와 동일하게, 상술한 구조의 제1 도전형 반도체층과 활성층 및 제2 도전형 반도체층을 포함할 수 있고, pn접합 또는 pin 구조로 이루어진다. 포토 다이오드는 역바이어스 혹은 제로바이어스를 가하여 동작하게 되며, 광이 포토 다이오드에 입사되면 전자와 정공이 생성되어 전류가 흐른다. 이때 전류의 크기는 포토 다이오드에 입사되는 광의 강도에 거의 비례할 수 있다.The photodiode, like the light emitting device, may include the first conductivity type semiconductor layer having the structure described above, the active layer, and the second conductivity type semiconductor layer, and may have a pn junction or a pin structure. The photodiode operates by applying reverse bias or zero bias. When light is incident on the photodiode, electrons and holes are generated and a current flows. At this time, the magnitude of the current may be approximately proportional to the intensity of the light incident on the photodiode.
광전지 또는 태양 전지(solar cell)는 포토 다이오드의 일종으로, 광을 전류로 변환할 수 있다. 태양 전지는, 발광소자와 동일하게, 상술한 구조의 제1 도전형 반도체층과 활성층 및 제2 도전형 반도체층을 포함할 수 있다. A photovoltaic cell or a solar cell is a type of photodiode that can convert light into current. The solar cell, like the light emitting device, may include the first conductivity type semiconductor layer, the active layer and the second conductivity type semiconductor layer having the above-described structure.
또한, p-n 접합을 이용한 일반적인 다이오드의 정류 특성을 통하여 전자 회로의 정류기로 이용될 수도 있으며, 초고주파 회로에 적용되어 발진 회로 등에 적용될 수 있다.In addition, it can be used as a rectifier of an electronic circuit through a rectifying characteristic of a general diode using a p-n junction, and can be applied to an oscillation circuit or the like by being applied to a microwave circuit.
또한, 상술한 반도체 소자는 반드시 반도체로만 구현되지 않으며 경우에 따라 금속 물질을 더 포함할 수도 있다. 예를 들어, 수광 소자와 같은 반도체 소자는 Ag, Al, Au, In, Ga, N, Zn, Se, P, 또는 As 중 적어도 하나를 이용하여 구현될 수 있으며, p형이나 n형 도펀트에 의해 도핑된 반도체 물질이나 진성 반도체 물질을 이용하여 구현될 수도 있다.In addition, the above-described semiconductor element is not necessarily implemented as a semiconductor, and may further include a metal material as the case may be. For example, a semiconductor device such as a light receiving element may be implemented using at least one of Ag, Al, Au, In, Ga, N, Zn, Se, P, or As, Or may be implemented using a doped semiconductor material or an intrinsic semiconductor material.
이상에서 실시 예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시 예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, It will be understood that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiments can be modified and implemented. It is to be understood that all changes and modifications that come within the meaning and range of equivalency of the claims are therefore intended to be embraced therein.
Claims (17)
상기 복수 개의 제1 발광부를 전기적으로 연결하는 복수 개의 제1 연결전극;
상기 복수 개의 제2 발광부를 전기적으로 연결하는 복수 개의 제2 연결전극;
상기 복수 개의 제1 발광부상에 배치되는 제1 패드; 및
상기 복수 개의 제2 발광부상에 배치되는 제2 패드를 포함하고,
상기 제1 연결전극은 이웃한 제1 발광부로 연장되는 제1-2 연결전극을 포함하고,
상기 제2 연결전극은 이웃한 제2 발광부로 연장되는 제2-2 연결전극을 포함하고,
상기 발광구조물은 제1방향으로 배치되어 상기 제1 발광부와 상기 제2 발광부를 구획하는 제1 이격구간, 및 상기 제1 이격구간에서 제2방향으로 연장된 제1 영역을 포함하고,
상기 제1 영역은 상기 제1-2 연결전극과 상기 제2-2 연결전극을 포함하는 최소 영역이고, 상기 제2방향은 상기 제1방향과 수직한 방향이고,
반도체 소자의 상기 제2방향의 최대폭과 상기 제1 영역의 상기 제2방향의 폭의 비는 1:0.25 내지 1:0.5인 반도체 소자.
A light emitting structure including a plurality of first light emitting portions disposed on one side and a plurality of second light emitting portions disposed on the other side;
A plurality of first connection electrodes electrically connecting the plurality of first light emitting units;
A plurality of second connection electrodes electrically connecting the plurality of second light emitting units;
A first pad disposed on the plurality of first light emitting portions; And
And a second pad disposed on the plurality of second light emitting portions,
The first connection electrode includes a first and second connection electrodes extending to neighboring first light emitting portions,
The second connection electrode includes a second-second connection electrode extending to the neighboring second light emitting portion,
Wherein the light emitting structure includes a first spacing region arranged in a first direction and partitioning the first light emitting portion and the second light emitting portion, and a first region extending in a second direction in the first spacing region,
Wherein the first region is a minimum region including the first and second connection electrodes and the second connection electrode, the second direction is a direction perpendicular to the first direction,
Wherein the ratio of the maximum width of the semiconductor element in the second direction to the width of the first region in the second direction is 1: 0.25 to 1: 0.5.
상기 복수 개의 제1-2 연결전극에서 전류가 흐르는 방향과 상기 복수 개의 제2-2 연결전극에서 전류가 흐르는 방향은 반대 방향인 반도체 소자.
The method according to claim 1,
Wherein a direction in which a current flows in the plurality of first connection electrodes and a direction in which current flows in the plurality of second connection electrodes are opposite to each other.
상기 복수 개의 제1 발광부 중 어느 하나와 상기 복수 개의 제2 발광부 중 어느 하나를 전기적으로 연결하는 제3 연결전극을 포함하고,
상기 복수 개의 제1-2 연결전극, 상기 제3 연결전극, 및 상기 제2-2 연결전극은 U자 형상을 갖는 반도체 소자.
The method according to claim 1,
And a third connection electrode electrically connecting any one of the plurality of first light emitting units and the plurality of second light emitting units,
Wherein the plurality of first connection electrodes, the third connection electrodes, and the second connection electrodes are U-shaped.
상기 복수 개의 제1 발광부는 제1방향으로 이격 배치되고,
상기 복수 개의 제2 발광부는 상기 제1방향으로 이격 배치되고,
상기 복수 개의 제1 발광부와 복수 개의 제2 발광부는 상기 제2방향으로 이격 배치되는 반도체 소자.
The method according to claim 1,
Wherein the plurality of first light emitting portions are spaced apart from each other in a first direction,
Wherein the plurality of second light emitting units are spaced apart from each other in the first direction,
Wherein the plurality of first light emitting portions and the plurality of second light emitting portions are spaced apart in the second direction.
상기 제1 패드는 상기 제1방향으로 연장되어 상기 복수 개의 제1 발광부상에 배치되는 제1-1 패드, 및 상기 제2 패드를 향해 연장되는 제1-2 패드를 포함하고,
상기 제2 패드는 상기 복수 개의 상기 제1방향으로 연장되어 제2 발광부상에 배치되는 제2-1 패드, 및 상기 제1 패드를 향해 연장된 제2-2 패드를 포함하는 반도체 소자.
The method according to claim 1,
The first pad includes a first 1-1 pad extending in the first direction and disposed on the plurality of first light emitting portions, and a 1-2 < th > pad extending toward the second pad,
The second pad comprises a second-1 pad extending in the plurality of first directions and disposed on the second light emitting portion, and a second-2 pad extending toward the first pad.
상기 제1 연결전극은 상기 제1 발광부상에 배치되는 제1-1연결전극을 포함하고,
상기 제2 연결전극은 상기 제2 발광부상에 배치되는 제2-1연결전극을 포함하는 반도체 소자.
6. The method of claim 5,
The first connection electrode includes a 1-1 connection electrode disposed on the first light emitting portion,
And the second connection electrode includes a second-1 connection electrode disposed on the second light emitting portion.
상기 제1-1연결전극은 상기 복수 개의 제1-2 패드 사이에 배치되는 제2 영역을 포함하고,
상기 제2 영역의 합과 상기 제1 패드의 면적비는 1:0.2 내지 1:0.4인 반도체 소자.
The method according to claim 6,
The first 1-1 connection electrode includes a second region disposed between the plurality of first 1-2 pads,
Wherein a sum of the second regions and an area ratio of the first pads is 1: 0.2 to 1: 0.4.
상기 제1 패드는 상기 복수 개의 제1 발광부 상에 각각 배치되는 복수 개의 제1 서브패드를 포함하고,
상기 제2 패드는 상기 복수 개의 제2 발광부 상에 각각 배치되는 복수 개의 제2 서브패드를 포함하는 반도체 소자.
The method according to claim 1,
Wherein the first pad includes a plurality of first sub-pads respectively disposed on the plurality of first light emitting portions,
And the second pad includes a plurality of second sub-pads respectively disposed on the plurality of second light emitting portions.
상기 제1 발광부와 상기 제1 서브패드의 면적비는 1:0.2 내지 1:0.4인 반도체 소자.
9. The method of claim 8,
And the area ratio of the first light emitting portion and the first sub pad is 1: 0.2 to 1: 0.4.
상기 복수 개의 제1, 제2 발광부 사이에 배치되는 중간층을 포함하고,
상기 중간층의 두께는 상기 제1, 2발광부의 돌출높이와 대응되고,
상기 제1-2 연결전극 및 제2-2 연결전극은 상기 중간층상에 배치되는 반도체 소자.
The method according to claim 1,
And an intermediate layer disposed between the plurality of first and second light emitting portions,
The thickness of the intermediate layer corresponds to the protruding height of the first and second light emitting portions,
And the first and second connection electrodes are disposed on the intermediate layer.
상기 발광구조물은 상기 제2방향과 평행한 한 쌍의 측면을 포함하고,
상기 한 쌍의 측면의 중간 지점을 연장한 제1가상선은 상기 제1 발광부와 교차하는 반도체 소자.
The method according to claim 1,
Wherein the light emitting structure includes a pair of side surfaces parallel to the second direction,
And a first imaginary line extending from an intermediate point of the pair of side surfaces crosses the first light emitting portion.
상기 제1 패드의 면적은 상기 제2 패드의 면적보다 큰 반도체 소자.
The method according to claim 1,
Wherein an area of the first pad is larger than an area of the second pad.
상기 제2-2 패드의 제1방향 폭은 상기 제1-2 패드의 제1방향 폭보다 크고,
상기 제1-2 패드의 제2방향 폭은 상기 제2-2패드의 제2방향 폭보다 큰 반도체 소자.
6. The method of claim 5,
The first directional width of the second -2 pad is larger than the first directional width of the second < RTI ID = 0.0 >
And the second direction width of the second-second pad is larger than the second direction width of the second-second pad.
상기 복수 개의 제1 발광부의 개수는 상기 복수 개의 제2 발광부의 개수보다 많은 반도체 소자.
The method according to claim 1,
Wherein the number of the plurality of first light emitting portions is greater than the number of the second light emitting portions.
상기 제1 발광부의 면적과 상기 제2 발광부의 면적의 비는 1:0.8 내지 1:1.2인 반도체 소자.
15. The method of claim 14,
Wherein a ratio of an area of the first light emitting portion to an area of the second light emitting portion is 1: 0.8 to 1: 1.2.
상기 제2 패드와 상기 제2 발광부를 전기적으로 연결하는 제4연결전극을 포함하는 반도체 소자.
The method according to claim 1,
And a fourth connection electrode electrically connecting the second pad and the second light emitting unit.
상기 복수 개의 제1 발광부를 전기적으로 연결하는 복수 개의 제1 연결전극;
상기 복수 개의 제2 발광부를 전기적으로 연결하는 복수 개의 제2 연결전극;
상기 복수 개의 제1 발광부상에 배치되는 제1 패드; 및
상기 복수 개의 제2 발광부상에 배치되는 제2 패드를 포함하고,
상기 복수 개의 제1 연결전극은 상기 제1 발광부상에 배치되는 제1-1연결전극, 및 이웃한 제1 발광부로 연장되는 제1-2 연결전극을 포함하고,
상기 복수 개의 제2 연결전극은 상기 제2 발광부상에 배치되는 제2-1연결전극, 및 이웃한 제2 발광부로 연장되는 제2-2 연결전극을 포함하고,
상기 복수 개의 제1-2 연결전극에서 전류가 흐르는 방향과 상기 복수 개의 제2-2 연결전극에서 전류가 흐르는 방향은 반대 방향인 반도체 소자.A light emitting structure including a plurality of first light emitting portions disposed on one side and a plurality of second light emitting portions disposed on the other side;
A plurality of first connection electrodes electrically connecting the plurality of first light emitting units;
A plurality of second connection electrodes electrically connecting the plurality of second light emitting units;
A first pad disposed on the plurality of first light emitting portions; And
And a second pad disposed on the plurality of second light emitting portions,
Wherein the plurality of first connection electrodes include a 1-1 connection electrode disposed on the first light emitting portion and a 1-2 connection electrode extending to the neighboring first light emitting portion,
The plurality of second connection electrodes include a second-1 connection electrode disposed on the second light-emitting portion, and a second-second connection electrode extending to the adjacent second light-emitting portion,
Wherein a direction in which a current flows in the plurality of first connection electrodes and a direction in which current flows in the plurality of second connection electrodes are opposite to each other.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020170038605A KR102392866B1 (en) | 2017-03-27 | 2017-03-27 | Semiconductor device |
US16/497,835 US11329097B2 (en) | 2017-03-27 | 2018-03-27 | Semiconductor device having a first pad not overlapping first connection electrodes and a second pad not overlapping second connection electrodes in a thickness direction |
PCT/KR2018/003620 WO2018182299A1 (en) | 2017-03-27 | 2018-03-27 | Semiconductor device |
CN201880022576.4A CN110462835B (en) | 2017-03-27 | 2018-03-27 | Semiconductor device with a semiconductor layer having a plurality of semiconductor layers |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020170038605A KR102392866B1 (en) | 2017-03-27 | 2017-03-27 | Semiconductor device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20180109270A true KR20180109270A (en) | 2018-10-08 |
KR102392866B1 KR102392866B1 (en) | 2022-05-02 |
Family
ID=63864279
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020170038605A KR102392866B1 (en) | 2017-03-27 | 2017-03-27 | Semiconductor device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102392866B1 (en) |
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KR20130054034A (en) * | 2011-11-16 | 2013-05-24 | 엘지이노텍 주식회사 | Light emitting device |
KR20150139194A (en) * | 2014-06-03 | 2015-12-11 | 서울바이오시스 주식회사 | Light emitting diode and method of fabricating the same |
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Publication number | Publication date |
---|---|
KR102392866B1 (en) | 2022-05-02 |
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