KR20180092529A - Black photo sensitive resin composition for a forming pixel defined layer of oled and qled - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a black photosensitive resin composition for forming a pixel defined layer of an organic light emitting device comprising a colorant (A), binder resin (B), a photo-polymerizable compound (C), a photo-polymerization initiator (D), and a solvent, wherein the binder resin (B) includes a compound (B1) represented by chemical formula 1. In addition, provided are an organic light emitting device including a pixel defined layer manufactured by the black photosensitive resin composition, a quantum dot light emitting device, and a display device including the organic light emitting device or the quantum dot light emitting device. According to chemical formula 1, R1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1-4 carbon atoms, wherein the alkyl group can be substituted with a hydroxyl group. R2 represents an aliphatic or aromatic hydrocarbon of C1-C20 including or excluding a simple bond or a heteroatom. According to the present invention, the black photosensitive resin composition is able to remarkably reduce emission of outgas, thereby preventing brightness and performance of a device from being degraded.

Description

유기발광소자 및 양자점발광소자의 화소정의막 형성용 흑색 감광성 수지 조성물{BLACK PHOTO SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR A FORMING PIXEL DEFINED LAYER OF OLED AND QLED}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a black photosensitive resin composition for forming a pixel defining layer of an organic light emitting device and a quantum dot light emitting device,

본 발명은 유기발광소자 및 양자점발광소자의 화소정의막 형성용 흑색 감광성 수지 조성물, 상기 흑색 감광성 수지 조성물로 제조된 화소정의막을 포함하는 유기발광소자 및 양자점발광소자, 및 상기 유기발광소자 또는 양자점발광소자를 포함하는 디스플레이 장치에 관한 것이다. The present invention relates to an organic light emitting device and a black photosensitive resin composition for forming a pixel defining film of a quantum dot light emitting device, an organic light emitting device and a quantum dot light emitting device including a pixel defining film made of the black photosensitive resin composition, And a display device including the device.

평판 표시 소자(Flat Panel Display Device) 중에 하나인 유기발광소자는 자체 발광형이기 때문에 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display Deivce)에 비해 시야각, 콘트라스트(Contrast) 등이 우수하며 백라이트(Back Light)가 필요하지 않기 때문에 경량박형이 가능하고, 소비전력 측면에서도 유리하다. 또한 직류 저전압 구동이 가능하고 응답속도가 빠르며 구성하는 소자 모두가 고체이기 때문에 외부 충격에 강하고 사용 온도 범위도 넓을 뿐만 아니라 제조 비용 측면에서도 저렴하다는 장점을 가지고 있다.Since the organic light emitting device, which is one of the flat panel display devices, is self-emitting type, it has excellent viewing angle and contrast compared to a liquid crystal display device and requires a back light It is lightweight and thin because it does not, is also advantageous in terms of power consumption. In addition, it is possible to drive DC low voltage, fast response speed, and all of the constituent elements are solid, which is strong against external impact, has a wide temperature range, and is also inexpensive in terms of manufacturing cost.

특히, 상기 유기발광소자의 제조 공정은 액정 표시 장치나 PDP(Plasma Display Panel)와는 달리 증착/식각(Deposition/Etching) 공정의 반복 및 인캡슐레이션(Encapsulation) 공정이 전부라고 할 수 있기 때문에 공정이 매우 단순하다는 장점이 있다.Particularly, since the manufacturing process of the organic light emitting diode is a repetition and encapsulation process of a deposition / etching process, unlike a liquid crystal display device or a PDP (Plasma Display Panel) It has the advantage of being very simple.

상기 유기발광소자는 콘트라스트(contrast) 및 휘도가 좋아야 하는데, 외광이 밝을 경우 콘트라스트가 좋지 않다. 배면 발광형인 유기발광소자 의 경우, 소자의 음극이 반사율이 우수한 금속으로 되어있기 때문에 외부에서 소자내부로 들어오는 빛이 음극면에 반사되어, 발광층에서 나오는 빛과 섞이게 된다. The organic light emitting device must have good contrast and brightness. However, when the external light is bright, the contrast is poor. In the case of an organic light emitting device of a bottom emission type, since the cathode of the device is made of a metal having a high reflectance, the light entering the device from the outside is reflected on the cathode surface and mixed with the light emitted from the light emitting layer.

상기와 같은 문제를 해결하기 위하여 현재 대부분의 유기발광소자는 투명기판 하부에 원편광판(Circular polarizer)을 형성함으로써 음극에 의한 외부 입사광의 반사를 줄였다. 즉, 상기 원편광판에 의해 외부의 빛이 입사될 때, 절반이 차단되고, 나머지 반은 음극에 반사되어 나올 때 차단됨으로써, 외광에 의한 콘트라스트 저하를 억제할 수 있다. In order to solve the above problems, most of the organic light emitting devices currently have a circular polarizer formed under the transparent substrate, thereby reducing the reflection of external incident light by the cathode. That is, when external light is incident by the circularly polarizing plate, half is cut off, and the other half is blocked when it is reflected on the cathode, thereby suppressing a decrease in contrast due to external light.

그러나 상술한 종래의 투명기판 위에 원편광판을 붙인 유기발광소자는 음극에 의한 외부 입사광의 반사를 크게 줄여줌과 동시에 유기 발광층으로부터 외부로 발산되는 빛까지도 차단하기 때문에, 콘트라스트는 향상되지만 휘도는 50%이상 감소하는 문제점과 고비용이 야기되는 문제점이 있었다. However, since the organic light emitting device having the circular polarizer on the above-mentioned conventional transparent substrate greatly reduces the reflection of the external incident light by the cathode and also blocks the light emitted to the outside from the organic light emitting layer, the contrast is improved, There is a problem in that the cost is reduced.

따라서, 상기 문제점을 해결하기 위해, 외부 입사광을 흡수하여, 콘트라스트를 향상시키는 블랙 화소정의막을 형성할 수 있다. 블랙 화소정의막(Pixel Defined Layer)은 포토리소그래피 공정을 통해 정밀하게 패터닝되며, 유기발광소자 픽셀을 제작하는 고압 증착 공정 중에 소자 구동에 치명적인 gas 성분이 용출되지 않아야 하는 신뢰성이 요구된다.  Therefore, in order to solve the above problems, it is possible to form a black pixel defining layer that absorbs external incident light and improves the contrast. The black pixel definition layer is precisely patterned through a photolithography process, and reliability is required such that a gas component that is lethal to device driving is not eluted during a high-pressure deposition process for manufacturing organic light emitting device pixels.

그러나 종래의 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display Deivce)에서 사용되는 BM(Black Matrix)용 감광성 수지 조성물은 유기발광소자 픽셀을 제작하는 고압 증착 공정 중에 유기발광소자 구동에 치명적인 gas 성분이 용출되어 간단하게는 휘도 저하와 심하게는 유기발광소자가 구동이 불가능하게 하는 문제가 있어서, 유기발광 소자에 적용하기 어렵다. However, the photosensitive resin composition for a BM (Black Matrix) used in a conventional liquid crystal display (OLED) device has a problem that a gas component that is critical to the organic light emitting device is eluted during the high pressure deposition process for manufacturing organic light emitting device pixels, There is a problem in that the luminance is lowered and the organic light emitting element is made incapable of driving so that it is difficult to apply it to the organic light emitting element.

대한민국 특허공개 10-2015-0072581Korean Patent Publication No. 10-2015-0072581

본 발명은 상기한 종래기술의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서,SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art,

고압 증착 공정 등 유기발광소자 또는 양자점발광소자 픽셀의 제조시 아웃가스 방출량을 현저하게 감소시킬 수 있는 유기발광소자 및 양자점발광소자의 화소정의막 형성용 흑색 감광성 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다. And an object of the present invention is to provide an organic light emitting device and a black photosensitive resin composition for forming a pixel defining layer of a quantum dot light emitting device which can significantly reduce the outgassing amount during the manufacture of organic light emitting devices such as high pressure deposition processes or quantum dot light emitting device pixels.

또한, 상기 흑색 감광성 수지 조성물로 제조된 화소정의막을 포함하는 유기발광소자, 양자점발광소자, 및 상기 유기발광소자 또는 양자점발광소자를 포함하는 디스플레이 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. It is another object of the present invention to provide an organic light emitting device including a pixel defining layer made of the black photosensitive resin composition, a quantum dot light emitting device, and a display device including the organic light emitting device or the quantum dot light emitting device.

상기의 목적을 달성하기 위하여,In order to achieve the above object,

본 발명은 착색제(A), 결합제 수지(B), 광중합성 화합물(C), 광중합 개시제(D), 및 용제를 포함하며,The present invention relates to a colorant composition comprising a colorant (A), a binder resin (B), a photopolymerizable compound (C), a photopolymerization initiator (D)

상기 결합제 수지(B)가 하기 화학식 1로 표시되는 화합물(B1)을 포함하는 유기발광소자 및 양자점발광소자의 화소정의막(Pixel Defined Layer) 형성용 흑색 감광성 수지 조성물을 제공한다: There is provided a black photosensitive resin composition for forming a pixel defining layer of an organic light emitting device and a quantum dot light emitting device, wherein the binder resin (B) comprises a compound (B1) represented by the following formula (1)

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

상기 식에서 In the above formula

R1은 수소원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타내며, 여기에서 상기 알킬기는 수산기로 치환될 수 있으며;R1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, wherein the alkyl group may be substituted with a hydroxyl group;

R2는 단순결합 또는 헤테로 원자가 포함되거나 포함되지 않는 C1~C20의 지방족 또는 방향족 탄화수소를 나타낸다.R 2 represents a C 1 -C 20 aliphatic or aromatic hydrocarbon containing a simple bond or a hetero atom.

또한, 본 발명은 In addition,

상기 흑색 감광성 수지 조성물로 제조된 화소정의막을 포함하는 유기발광소자 및 양자점발광소자를 제공한다.An organic light emitting device including the pixel defining layer made of the black photosensitive resin composition, and a quantum dot light emitting device.

또한, 본 발명은 In addition,

상기 유기발광소자 또는 양자점발광소자를 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다. And a display device including the organic light emitting device or the quantum dot light emitting device.

본 발명의 유기발광소자 및 양자점발광소자의 화소정의막 형성용 흑색 감광성 수지 조성물은 고압 증착 공정 등 유기발광소자 또는 양자점발광소자 픽셀의 제조시 아웃가스 방출량을 현저하게 감소시키므로, 아웃가스로 인하여 발생하는 소자의 휘도저하 및 구동성능저하를 야기하지 않는 효과를 제공한다. The black light sensitive resin composition for forming a pixel defining layer of the organic light emitting device and the quantum dot light emitting device of the present invention remarkably reduces the amount of outgassing during the production of the organic light emitting device or the quantum dot light emitting device pixel such as a high pressure deposition process, And the effect of preventing degradation of the luminance and driving performance of the device.

그러므로, 상기 흑색 감광성 수지 조성물로 제조된 화소정의막을 포함하는 유기발광소자, 양자점발광소자, 및 상기 유기발광소자 또는 양자점발광소자를 포함하는 디스플레이 장치는 휘도, 구동성 및 내구성 등에서 우수한 품질을 제공할 수 있다. Therefore, an organic light emitting device, a quantum dot light emitting device, and a display device including the organic light emitting device or the quantum dot light emitting device including the pixel defining layer made of the black photosensitive resin composition provide excellent quality in terms of brightness, driving property and durability .

본 발명은 착색제(A), 결합제 수지(B), 광중합성 화합물(C), 광중합 개시제(D), 및 용제를 포함하며,The present invention relates to a colorant composition comprising a colorant (A), a binder resin (B), a photopolymerizable compound (C), a photopolymerization initiator (D)

상기 결합제 수지(B)가 하기 화학식 1로 표시되는 화합물(B1)을 포함하는 유기발광소자 및 양자점발광소자의 화소정의막(Pixel Defined Layer) 형성용 흑색 감광성 수지 조성물을 제공한다: There is provided a black photosensitive resin composition for forming a pixel defining layer of an organic light emitting device and a quantum dot light emitting device, wherein the binder resin (B) comprises a compound (B1) represented by the following formula (1)

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00002
Figure pat00002

상기 식에서 In the above formula

R1은 수소원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타내며, 여기에서 상기 알킬기는 수산기로 치환될 수 있으며;R1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, wherein the alkyl group may be substituted with a hydroxyl group;

R2는 단순결합 또는 헤테로 원자가 포함되거나 포함되지 않는 C1~C20의 지방족 또는 방향족 탄화수소를 나타낸다.R 2 represents a C 1 -C 20 aliphatic or aromatic hydrocarbon containing a simple bond or a hetero atom.

이하 본 발명의 흑색 감광성 수지 조성물을 구성하는 각 성분에 대하여 설명한다. 그러나 본 발명이 이들 성분들에 의해 한정되는 것은 아니다.Each component constituting the black photosensitive resin composition of the present invention will be described below. However, the present invention is not limited to these components.

착색제(A)The colorant (A)

착색제(A)는 흑색 구현을 위해 사용하며, 화소정의막의 차광성 및 외광반사 억제 특성을 부여한다.The colorant (A) is used for black coloring and imparts the light shielding property of the pixel defining layer and the anti-reflection of external light.

상기 착색제는 가시광선에서 차광성이 있는 것이라면 유기 안료, 염료 및 흑색 안료 등 이 분야에 공지된 모든 착색제가 사용 가능하나, 흑색 안료를 사용하는 것이 바람직하다. The coloring agent may be any coloring agent known in the art such as organic pigments, dyes and black pigments, as far as it is shielding from visible light, but it is preferable to use black pigments.

상기 흑색 안료로는, 특별한 제한 없이 공지된 것이 사용될 수 있으나, 구체적으로 아닐린 블랙, 락탐 블랙, 퍼릴렌 블랙, 카본블랙, 산화크롬, 산화철 및 티탄블랙 등이 사용될 수 있다. 이들은 1종 단독 또는 2종 이상의 조합으로 사용될 수 있다. 상기 카본 블랙으로는 채널 블랙, 퍼니스 블랙, 서멀 블랙, 램프 블랙 등을 들 수 있다.Specific examples of the black pigment include, but are not limited to, aniline black, lactam black, perylene black, carbon black, chromium oxide, iron oxide and titanium black. These may be used singly or in combination of two or more. Examples of the carbon black include channel black, furnace black, thermal black and lamp black.

필요한 경우 전기 절연성을 위해 표면에 수지가 피복된 카본 블랙이 사용될 수 있다. 부연하면, 수지가 피복된 카본 블랙은 수지가 피복되어 있지 않은 카본 블랙에 비해 도전성이 낮기 때문에, 블랙 매트릭스, 화소정의막 형성 시에 우수한 전기 절연성을 부여 할 수 있다.Carbon black coated with a resin on its surface may be used for electrical insulation if necessary. In addition, since the resin-coated carbon black has a lower conductivity than the carbon black not coated with the resin, excellent electrical insulation can be imparted at the time of forming the black matrix and the pixel defining film.

상기 착색제는 흑색 안료 및 청색 안료를 포함할 수 있으며, 이 때 상기 흑색 안료는 흑색 유기 안료 및/또는 흑색 무기 안료일 수 있다.The colorant may comprise a black pigment and a blue pigment, wherein the black pigment may be a black organic pigment and / or a black inorganic pigment.

흑색 안료와 청색 안료를 사용할 경우, 안료 비율에 따라 가시광 영역과 자외선 영역의 투과율을 조절할 수 있어서 바람직하다.When a black pigment and a blue pigment are used, the transmittance of the visible light region and the ultraviolet ray region can be adjusted depending on the pigment ratio, which is preferable.

상기 흑색 유기 안료, 흑색 무기 안료, 및 청색 안료로서는 공지의 것이라면 어느 것이라도 사용이 가능하며, 예를 들어 컬러 인덱스(The Society of Dyers and Colourists 출판)에서 안료(pigment)로 분류되어 있는 화합물을 포함할 수 있고, 공지의 염료를 포함할 수 있다.As the black organic pigments, black inorganic pigments and blue pigments, any known pigments can be used, and for example, a compound classified as a pigment in the color index (The Society of Dyers and Colourists) And may contain known dyes.

흑색 유기 안료로서 아닐린 블랙, 락탐 블랙 및 퍼릴렌 블랙 중에서 선택된 1종 이상을 병행하여 사용할 수 있으며 이에 제한되는 것은 아니다.As the black organic pigment, at least one selected from aniline black, lactam black and perylene black may be used in combination, but is not limited thereto.

흑색 무기 안료는 카본블랙, 산화크롬, 산화철 및 티탄블랙을 들 수 있다.The black inorganic pigments include carbon black, chromium oxide, iron oxide and titanium black.

또한 청색 안료의 구체예로는 C.I 피그먼트 블루 15:6, C.I 피그먼트 블루 15:4, C.I 피그먼트 블루 60, C.I 피그먼트 블루 16 등을 들 수 있다.Specific examples of the blue pigment include CI Pigment Blue 15: 6, CI Pigment Blue 15: 4, CI Pigment Blue 60, CI Pigment Blue 16, and the like.

상기 흑색 유기 안료, 흑색 무기 안료 및 청색 안료의 비율은, 각각 70 내지 95 중량%, 1 내지 15 중량%, 및 1 내지 20 중량%일 수 있다.The ratio of the black organic pigment, the black inorganic pigment and the blue pigment may be 70 to 95 wt%, 1 to 15 wt%, and 1 to 20 wt%, respectively.

상기 흑색 유기 안료 및 흑색 무기 안료가 함께 사용되는 경우 유전 특성이 낮고, 동시에 높은 착색력을 갖는 점에서 바람직할 수 있다.When the black organic pigment and the black inorganic pigment are used together, they may be preferable in that they have a low dielectric property and a high coloring power.

또한, 상기 착색제는 필요에 따라서 선택적으로 색보정제를 더 포함할 수 있다. 상기 색보정제로는 안트라퀴논계 안료 또는 페릴렌계 안료 등의 축합다환 안료, 프탈로시아닌 안료 또는 아조안료 등의 유기안료가 사용될 수 있다.In addition, the colorant may further optionally include a color correcting agent. As the color correcting agent, condensation polycyclic pigments such as anthraquinone pigments or perylene pigments, phthalocyanine pigments or organic pigments such as azo pigments can be used.

상기 착색제는 흑색 감광성 수지 조성물 총 중량에 대하여 1 내지 50 중량%, 바람직하기로 5 내지 40 중량%로 함유될 수 있다. 착색제의 함량이 상기 범위 미만이면 차광성이 충분치 않아 상기 언급한 효과를 확보할 수 없고, 반대로 상기 범위를 초과하면 패터닝 후 얻어진 패턴의 품질이 저하될 우려가 있으므로, 상기 범위 내에서 적절히 사용될 수 있다.The colorant may be contained in an amount of 1 to 50% by weight, preferably 5 to 40% by weight, based on the total weight of the black photosensitive resin composition. If the content of the colorant is less than the above range, the light shielding property is not sufficient and the above-mentioned effect can not be ensured. On the other hand, if the content exceeds the above range, the quality of the pattern obtained after patterning may deteriorate. .

결합제 수지(B)The binder resin (B)

결합제 수지(B)는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물(B1)을 포함하여 공중합 반응으로 얻어지는 공중합체인 것을 특징으로 한다: The binder resin (B) is characterized by being a copolymer obtained by a copolymerization reaction, which comprises a compound (B1) represented by the following formula (1)

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00003
Figure pat00003

상기 식에서 In the above formula

R1은 수소원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타내며, 여기에서 상기 알킬기는 수산기로 치환될 수 있으며;R1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, wherein the alkyl group may be substituted with a hydroxyl group;

R2는 단순결합 또는 헤테로 원자가 포함되거나 포함되지 않는 C1~C20의 지방족 또는 방향족 탄화수소를 나타낸다.R 2 represents a C 1 -C 20 aliphatic or aromatic hydrocarbon containing a simple bond or a hetero atom.

상기에서 R2로는, 예를 들어 C1~C10의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬렌기, C2~C10의 직쇄 또는 분지쇄의 알케닐렌기, C3~C12의 치환 또는 비치환된 시클로알킬렌기, C3~C12의 치환 또는 비치환된 시클로알케닐렌기, 치환 또는 비치환된 페닐렌기, 및 아릴렌기로 이루어진 군에서 선택되는 구조 등을 들 수 있다.Examples of R 2 include a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, a linear or branched alkenylene group having 2 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkylene group having 3 to 12 carbon atoms, A substituted or unsubstituted cycloalkenylene group, a substituted or unsubstituted phenylene group, and an arylene group.

또한, 상기 결합제 수지(B)는 상기 (B1) 화합물과 하기 (B2) 및 (B3) 화합물 중 적어도 1종을 포함하여 공중합 반응으로 얻어지는 공중합체인 것을 특징으로 한다.The binder resin (B) is a copolymer obtained by copolymerization reaction of the compound (B1) and at least one of the following compounds (B2) and (B3).

(B2): 불포화 카르복실기 함유 단량체(B2): unsaturated carboxyl group-containing monomer

(B3): (B1) 및 (B2)와 공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 화합물 (B3): a compound having an unsaturated bond copolymerizable with (B1) and (B2)

상기 결합제 수지(B)의 구성단위의 전체 몰수에 대한 상기 (B1)으로부터 유도되는 구성단위의 비율은 20 내지 90몰%인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 40 내지 70몰%로 포함될 수 있다. 상기 (B1)이 20몰% 미만으로 포함되는 경우에는 아웃가스 발생량을 감소시키는 효과가 부족해 지며, 90몰%를 초과하는 경우에는 현상액에 대한 용해도가 낮아져 패턴 형성이 어려운 문제가 발생되어 바람직하지 않다.The proportion of the structural unit derived from (B1) to the total number of the structural units of the binder resin (B) is preferably 20 to 90 mol%, more preferably 40 to 70 mol%. When the content of (B1) is less than 20 mol%, the effect of decreasing the outgassing amount is insufficient. When the content of (B1) is more than 90 mol%, the solubility in the developer is lowered, .

상기 (B1)으로부터 유도되는 구성단위 비율은 결합제 수지(B)의 구성단위의 전체 몰수에 대하여 50몰%를 초과하는 것이 더욱 바람직하다.It is more preferable that the proportion of the constituent unit derived from the above-mentioned (B1) is more than 50 mol% relative to the total mol number of the constituent units of the binder resin (B).

상기 결합제 수지(B)에 상기 (B2)가 함유되는 경우, 상기 결합제 수지(B)의 구성단위의 합계 몰수에 대한 상기 (B2)로부터 유도되는 구성단위의 비율은 0 초과 70몰% 이하인 것이 바람직하다. 상기 (B3)가 함유되는 경우, 상기 결합제 수지(B)의 구성단위의 합계 몰수에 대한 상기 (B3)로부터 유도되는 구성단위의 비율은 0 초과 70몰% 이하인 것이 바람직하다. When the binder resin (B) contains the above-mentioned (B2), the ratio of the constituent unit derived from (B2) to the total molar number of the constituent unit of the binder resin (B) is preferably from 0 to 70 mol% Do. When the above-mentioned (B3) is contained, the ratio of the structural unit derived from (B3) to the total number of moles of the structural units of the binder resin (B) is preferably from more than 0 to 70 mol%.

상기 결합제 수지(B)는 광이나 열의 작용에 의한 반응성 및 알칼리 용해성을 가지며, 착색제를 비롯한 고형분의 분산매로서 작용하며, 결착 수지의 기능을 수행하는 것을 의미한다. The binder resin (B) has reactivity and alkali solubility due to the action of light or heat, and acts as a dispersion medium for solids including colorants, and functions as a binder resin.

상기 불포화 카르복실기 함유 단량체(B2)로는, 예를 들어, 불포화 모노카르복실산이나, 불포화 디카르복실산, 불포화 트리카르복실산 등의 분자 중에 1개 이상의 카르복실기를 갖는 불포화 카르복실산 등을 들 수 있다.Examples of the unsaturated carboxyl group-containing monomer (B2) include an unsaturated carboxylic acid having at least one carboxyl group in the molecule such as an unsaturated monocarboxylic acid, an unsaturated dicarboxylic acid, and an unsaturated tricarboxylic acid. have.

상기 불포화 모노카르복실산으로는, 예를 들어, 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, α-클로로아크릴산, 신남산 등을 들 수 있다Examples of the unsaturated monocarboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid,? -Chloroacrylic acid, cinnamic acid, and the like

상기 불포화 디카르복실산으로서는, 예를 들어, 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 시트라콘산, 메사콘산 등을 들 수 있다.Examples of the unsaturated dicarboxylic acid include maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, and mesaconic acid.

상기 불포화 다가 카르복실산은 산무수물일수도 있으며, 구체적으로는 말레산 무수물, 이타콘산 무수물, 시트라콘산 무수물 등을 들 수 있다. 또한, 상기 불포화 다가 카르복실산은 그의 모노(2-메타크릴로일옥시알킬)에스테르일 수도 있으며, 예컨대, 숙신산모노(2-아크릴로일옥시에틸), 숙신산모노(2-메타크릴로일옥시에틸), 프탈산모노(2-아크릴로일옥시에틸), 프탈산모노(2-메타크릴로일옥시에틸) 등 일 수 있다. 상기 불포화 다가 카르복실산은 그 양말단 디카르복시중합체의 모노(메타)아크릴레이트일 수도 있으며, 예컨대, ω-카르복시폴리카프로락톤모노아크릴레이트, ω-카르복시폴리카프로락톤모노메타크릴레이트 등을 들수 있다.The unsaturated polycarboxylic acid may be an acid anhydride, and specific examples thereof include maleic anhydride, itaconic anhydride, citraconic anhydride and the like. The unsaturated polycarboxylic acid may also be mono (2-methacryloyloxyalkyl) ester thereof, and examples thereof include mono (2-acryloyloxyethyl) succinate, mono (2-methacryloyloxyethyl) ), Phthalic acid mono (2-acryloyloxyethyl), phthalic acid mono (2-methacryloyloxyethyl), and the like. The unsaturated polycarboxylic acid may be mono (meth) acrylate of the dicarboxylic polymer at both ends thereof, and examples thereof include ω-carboxypolycaprolactone monoacrylate and ω-carboxypolycaprolactone monomethacrylate.

상기 카르복실기 함유 단량체는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The carboxyl group-containing monomers may be used alone or in combination of two or more.

상기 (B1) 및 (B2)와 공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 화합물(B3)로는, 예를 들면 스티렌, α-메틸스티렌, o-비닐톨루엔, m-비닐톨루엔, p-비닐톨루엔, p-클로로스티렌, o-메톡시스티렌, m-메톡시스티렌, p-메톡시스티렌, o-비닐벤질메틸에테르, m-비닐벤질메틸에테르, p-비닐벤질메틸에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르,m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르, 인덴 등의 방향족 비닐 화합물; 메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, n-프로필아크릴레이트, n-프로필메타크릴레이트, i-프로필아크릴레이트, i-프로필메타크릴레이트, n-부틸아크릴레이트, n-부틸메타크릴레이트, i-부틸아크릴레이트, i-부틸메타크릴레이트, sec-부틸아크릴레이트, sec-부틸메타크릴레이트, t-부틸아크릴레이트, t-부틸메타크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-히드록시프로필메타크릴레이트, 3-히드록시프로필아크릴레이트, 3-히드록시프로필메타크릴레이트, 2-히드록시부틸아크릴레이트, 2-히드록시부틸메타크릴레이트, 3-히드록시부틸아크릴레이트, 3-히드록시부틸메타크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트, 4-히드록시부틸메타크릴레이트, 알릴아크릴레이트, 알릴메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 페닐아크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 2-메톡시에틸아크릴레이트, 2-메톡시에틸메타크릴레이트, 2-페녹시에틸아크릴레이트, 2-페녹시에틸메타크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜아크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시프로필렌글리콜아크릴레이트, 메톡시프로필 렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜아크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜메타크릴레이트, 이소보르닐아크릴레이트, 이소보르닐메타크릴레이트, 디시클로펜타디에닐아크릴레이트, 디시클로펜타디에틸메타크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필메타크릴레이트, 글리세롤모노아크릴레이트, 글리세롤모노메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 에스테르류; 2-아미노에틸아크릴레이트, 2-아미노에틸메타크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸메타크릴레이트, 2-아미노프로필아크릴레이트, 2-아미노프로필메타크릴레이트, 2-디메틸아미노프로필아크릴레이트, 2-디메틸아미노프로필메타크릴레이트, 3-아미노프로필아크릴레이트, 3-아미노프로필메타크릴레이트, 3-디메틸아미노프로필아크릴레이트, 3-디메틸아미노프로필메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 아미노알킬에스테르류; 글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 글리시딜에스테르류; 아세트산비닐, 프로피온산비닐, 부티르산비닐, 벤조산비닐 등의 카르복실산 비닐에스테르류; 비닐메틸에테르, 비닐에틸에테르, 알릴글리시딜에테르 등의 불포화에테르류; 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴, 시안화비닐리덴 등의 시안화 비닐 화합물; 아크릴아미드, 메타크릴아미드, α-클로로아크릴아미드, N-2-히드록시에틸아크릴아미드, N-2-히드록시에틸메타크릴아미드 등의 불포화 아미드류; 말레이미드, N-페닐말레이미드. N-시클로헥실말레이미드 등의 불포화 이미드류; 1,3-부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 지방족 공액 디엔류; 및 폴리스티렌, 폴리메틸아크릴레이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리-n-부틸아크릴레이트, 폴리-n-부틸메타크릴레이트, 폴리실록산의 중합체 분자쇄의 말단에 모노아크릴로일기 또는 모노메타크릴로일기를 갖는 거대 단량체류 등을 들 수 있다. 이들 단량체는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.Examples of the compound (B3) having an unsaturated bond capable of copolymerization with (B1) and (B2) include styrene,? -Methylstyrene, o-vinyltoluene, m-vinyltoluene, p-vinyltoluene, Styrene, o-methoxystyrene, m-methoxystyrene, p-methoxystyrene, o-vinylbenzylmethyl ether, m-vinylbenzyl methyl ether, p-vinylbenzyl methyl ether, o-vinylbenzyl glycidyl ether, aromatic vinyl compounds such as m-vinylbenzyl glycidyl ether, p-vinylbenzyl glycidyl ether, and indene; Methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-propyl methacrylate, i-propyl acrylate, i-propyl methacrylate, butyl methacrylate, i-butyl acrylate, i-butyl methacrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl methacrylate, t-butyl acrylate, t-butyl methacrylate, Ethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 3-hydroxybutyl acrylate, 3-hydroxybutyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, Acrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, phenyl acrylate, phenyl methacrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 2-methoxyethyl Methacrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, 2-phenoxyethyl methacrylate, methoxy diethylene glycol acrylate, methoxy diethylene glycol methacrylate, methoxy triethylene glycol acrylate, methoxy triethylene glycol methacrylate Acrylate, methoxypropylene glycol methacrylate, methoxypropylene glycol acrylate, methoxydipropylene glycol methacrylate, isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate, dicyclopentane Dienyl acrylate, dicyclopentadiethyl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxy Unsaturated carboxylic acid esters such as cyproxy acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl methacrylate, glycerol monoacrylate, and glycerol monomethacrylate; Aminoethyl methacrylate, 2-aminoethyl methacrylate, 2-dimethylaminoethyl acrylate, 2-dimethylaminoethyl methacrylate, 2-aminopropyl acrylate, 2-aminopropyl methacrylate, 2- Unsaturated carboxylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl methacrylate, isopropyl acrylate, isopropyl acrylate, isopropyl acrylate, isopropyl acrylate, isopropyl acrylate, Acid amino alkyl esters; Unsaturated carboxylic acid glycidyl esters such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate; Carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate and vinyl benzoate; Unsaturated ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether and allyl glycidyl ether; Vinyl cyanide compounds such as acrylonitrile, methacrylonitrile,? -Chloroacrylonitrile, and vinylidene cyanide; Unsaturated amides such as acrylamide, methacrylamide,? -Chloroacrylamide, N-2-hydroxyethyl acrylamide and N-2-hydroxyethyl methacrylamide; Maleimide, N-phenylmaleimide. Unsaturated imides such as N-cyclohexylmaleimide; Aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene and chloroprene; And a monoacryloyl group or monomethacryloyl group at the end of the polymer molecular chain of polystyrene, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, poly-n-butyl acrylate, poly-n-butyl methacrylate, And the like. These monomers may be used alone or in combination of two or more.

상기 결합제 수지(B)는 중량평균분자량이 5,000 내지 50,000이 되도록 직접 중합하거나 구입하여 사용한다. 상기 범위의 분자량 분포도를 갖는 결합제 수지(B)는 경도가 높으며, 높은 잔막율 뿐만 아니라 현상액 중의 비-노출부의 용해성이 탁월하며, 해상도를 향상시킬 수 있다.The binder resin (B) is directly polymerized or purchased so as to have a weight average molecular weight of 5,000 to 50,000. The binder resin (B) having a molecular weight distribution in the above range has a high hardness and is excellent in not only the high residual film ratio but also the solubility of the non-exposed portion in the developer, and the resolution can be improved.

상기 결합제 수지(B)는 흑색 감광성 수지 조성물 총 중량에 대하여 5 내지 80 중량%, 바람직하기로 5 내지 50 중량%로 사용될 수 있다. 이러한 함량은 현상액에 대한 용해도와, 패턴 형성 등을 다각적으로 고려하여 선정된 범위로서, 상기 범위 내에서 사용할 경우 현상액에 대한 용해성이 충분하여 패턴 형성이 용이하며, 현상시에 노광부의 화소 부분의 막감소가 방지되어 비화소 부분의 누락성이 양호해진다.The binder resin (B) may be used in an amount of 5 to 80% by weight, preferably 5 to 50% by weight based on the total weight of the black photosensitive resin composition. Such a content is a range selected considering various factors such as solubility in a developing solution, pattern formation, etc. When used within the above range, solubility in a developing solution is sufficient and pattern formation is easy, So that the dropout of the non-pixel portion is improved.

광중합성Photopolymerization 화합물(C) The compound (C)

상기 광중합성 화합물(C)는, 특별히 한정되지 않으나, 카르복실기 함유 불포화 단량체의 중합체, 카르복실기 함유 불포화 단량체 및 그와 공중합 가능한 불포화 결합을 갖는 단량체와의 공중합체 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상이 사용될 수 있다.The photopolymerizable compound (C) is not particularly limited, but may be a copolymer of a carboxyl group-containing unsaturated monomer, a copolymer of a carboxyl group-containing unsaturated monomer and a monomer having an unsaturated bond copolymerizable therewith, and a combination thereof Or more can be used.

상기 카르복실기 함유 불포화 단량체로는 불포화 모노카르복실산, 불포화 디카르복실산, 불포화 트리카르복실산 등이 사용가능하다. 구체적으로, 불포화 모노카르복실산으로서는, 예를 들면 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, α-클로로아크릴산, 신남산 등을 들 수 있다. 불포화 디카르복실산으로서는, 예를 들면 푸마르산, 메사콘산, 이타콘산, 시트라콘산 등을 들 수 있다. 불포화 다가 카르복실산은 산무수물일 수도 있으며, 구체적으로는 말레산 무수물, 이타콘산 무수물, 시트라콘산 무수물 등을 들 수 있다. 또한, 불포화 다가 카르복실산은 ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트 등의 양 말단에 카르복실기와 수산기를 갖는 폴리머의 모노(메타)아크릴레이트류, 모노메틸말레인산, 5-노보넨-2-카르복실산, 모노-2-((메타)아크릴로일옥시)에틸프탈레이트, 모노-2-((메타)아크릴로일옥시)에틸숙시네이트 등이 가능하다. 이들 불포화 카르복실기를 갖는 화합물들은 각각 단독으로 또는 둘 이상을 조합하여 사용할 수 있으며, 그중 아크릴산 및 메타크릴산이 공중합 반응성 및 현상액에 대한 용해성이 우수하여 바람직하게 사용될 수 있다.As the carboxyl group-containing unsaturated monomer, unsaturated monocarboxylic acids, unsaturated dicarboxylic acids, and unsaturated tricarboxylic acids can be used. Specific examples of the unsaturated monocarboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid,? -Chloroacrylic acid, cinnamic acid, and the like. Examples of the unsaturated dicarboxylic acid include fumaric acid, mesaconic acid, itaconic acid and citraconic acid. The unsaturated polycarboxylic acid may be an acid anhydride, and specific examples thereof include maleic anhydride, itaconic anhydride, citraconic anhydride and the like. Examples of the unsaturated polycarboxylic acid include mono (meth) acrylates, monomethyl maleic acid, 5-norbornene-2-one (meth) acrylate of a polymer having a carboxyl group and a hydroxyl group at both terminals such as omega -carboxylic polycaprolactone mono (Meth) acryloyloxy) ethyl phthalate, mono-2 - ((meth) acryloyloxy) ethyl succinate, and the like. These unsaturated carboxyl group-containing compounds may be used singly or in combination of two or more thereof, and acrylic acid and methacrylic acid among them may be preferably used because of their excellent copolymerization reactivity and solubility in a developing solution.

또한, 카르복실기 함유 불포화 단량체와 공중합이 가능한 단량체로는 방향족 비닐 화합물, 불포화 카르복실레이트 화합물, 불포화 아미노알킬카르복실레이트 화합물, 비닐시아나이드 화합물, 불포화 옥세탄카르복실레이트 화합물 등이 사용될 수 있으며, 이들은 1종 단독으로 또한 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As the monomer capable of copolymerizing with the carboxyl group-containing unsaturated monomer, an aromatic vinyl compound, an unsaturated carboxylate compound, an unsaturated aminoalkyl carboxylate compound, a vinyl cyanide compound, and an unsaturated oxetanecarboxylate compound can be used. One kind may be used singly or two or more kinds may be used in combination.

구체적으로, 상기 공중합이 가능한 단량체로는 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔 등의 방향족 비닐 화합물; 메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 부틸메타크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실레이트 화합물; 아미노에틸아크릴레이트 등의 불포화 아미노알킬카르복실레이트 화합물; 글리시딜메타크릴레이트 등의 불포화 글리시딜카르복실레이트 화합물; 비닐아세테이트, 비닐프로피오네이트 등의 비닐카르복실레이트 화합물; 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴 등의 비닐시아나이드 화합물; 3-메틸-3-아크릴옥시메틸옥세탄, 3-메틸-3-메타크릴옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-아크릴옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-메타크릴옥시메틸옥세탄, 3-메틸-3-아크릴옥시에틸옥세탄, 3-메틸-3-메타크릴옥시에틸옥세탄, 3-메틸-3-아크릴옥시에틸옥세탄, 3-메틸-3-메타크릴옥시에틸옥세탄 등의 불포화 옥세탄카르복실레이트 화합물 등을 들 수 있다.Specifically, examples of the copolymerizable monomer include aromatic vinyl compounds such as styrene,? -Methylstyrene, and vinyltoluene; Acrylates such as methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, butyl acrylate, butyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, benzyl acrylate, Unsaturated carboxylate compounds such as acrylate; Unsaturated aminoalkyl carboxylate compounds such as aminoethyl acrylate; Unsaturated glycidyl carboxylate compounds such as glycidyl methacrylate; Vinyl carboxylate compounds such as vinyl acetate and vinyl propionate; Vinylcyanide compounds such as acrylonitrile, methacrylonitrile and? -Chloroacrylonitrile; 3-methyl-3-acryloxymethyloxetane, 3-methyl-3-acryloxymethyloxetane, 3-methyl-3-methacryloxymethyloxetane, Methyl-3-acryloxyethyl oxetane, 3-methyl-3-acryloxyethyl oxetane, 3-methyl-3-methacryloxyethyl oxetane, Unsaturated oxetanecarboxylate compounds, and the like.

상기 광중합성 화합물은 흑색 감광성 수지 조성물 총 중량에 대하여 1 내지 30 중량%, 바람직하게는 2 내지 15 중량%로 사용될 수 있다. 이러한 함량 범위는 최종 얻어지는 화소정의막의 강도나 평활성이 양호하게 되는 경향 등을 다각적으로 고려하여 선정된 범위로서, 만약 그 함량이 상기 범위 미만이면 강도 및 평활성이 부족하고, 반대로 상기 범위를 초과할 경우 높은 강도로 인해 패터닝이 용이하지 않은 문제가 발생하므로, 상기 범위 내에서 적절히 사용된다.The photopolymerizable compound may be used in an amount of 1 to 30% by weight, preferably 2 to 15% by weight based on the total weight of the black photosensitive resin composition. This content range is a range selected considering the strength and smoothness of the finally obtained pixel defining layer, etc. If the content is less than the above range, the strength and smoothness are insufficient. On the other hand, A problem that patterning is not easy due to high strength occurs, and therefore, it is suitably used within the above range.

광중합Light curing 개시제Initiator (D)(D)

상기 광중합 개시제(D)로는 감광성 수지 조성물에 일반적으로 사용되는 광중합 개시제로서 아세토페논계, 벤조페논계, 트리아진계, 티오크산톤계, 옥심계, 벤조인계, 안트라센계, 안트라퀴논계, 및 비이미다졸계 화합물 등이 사용될 수 있으며, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용이 가능하다. Examples of the photopolymerization initiator (D) include photopolymerization initiators generally used in photosensitive resin compositions such as acetophenone, benzophenone, triazine, thioxanthone, oxime, benzoin, anthracene, anthraquinone, Based compounds, etc. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 아세토페논계 화합물로는 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-메틸프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온의 올리고머 등을 들 수 있다.Examples of the acetophenone compound include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethylketal, 2- hydroxy- 1- [4- 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropane-1-one, 2- Oligomers of benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one and 2-hydroxy-2- methyl [4- (1-methylvinyl) phenyl] propan- .

상기 벤조페논계 화합물로는 벤조페논, 벤조일 안식향산, 벤조일 안식향산 메틸, 4-페닐 벤조페논, 히드록시 벤조페논, 아크릴화 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸 아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸 아미노) 벤조페논 등을 들 수 있다.Examples of the benzophenone compound include benzophenone, benzoyl benzoic acid, benzoyl benzoate, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, acrylated benzophenone, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, Bis (diethylamino) benzophenone, and the like.

상기 트리아진계 화합물로는 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(3',4'-디메톡시 스티릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시 나프틸)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(p-메톡시 페닐)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(p-트릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-비페닐-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 비스(트리클로로 메틸)-6-스티릴-s-트리아진, 2-(나프토 1-일)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시 나프토 1-일)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2,4-트리클로로 메틸(피페로닐)-6-트리아진, 2,4-트리클로로 메틸(4'-메톡시 스티릴)-6-트리아진 등을 들 수 있다. Examples of the triazine compound include 2,4,6-trichloro-s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) (Trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4'-methoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) (trichloromethyl) -s-triazine, 2 - (p-methoxyphenyl) -4,6-bis -Bis (trichloromethyl) -6-styryl-s-triazine, 2- (naphtho-1-yl) -4,6 (Trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxynaphtho 1-yl) -4,6-bis (trichloromethyl) (Piperonyl) -6-triazine, 2,4-trichloromethyl (4'-methoxystyryl) -6-triazine and the like.

상기 티오크산톤계 화합물로는 2-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등을 들 수 있다.Examples of the thioxanthone compound include 2-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone and 1-chloro-4-propanecioxanthone. have.

상기 옥심계 화합물로는 o-에톡시카르보닐-α-옥시이미노-1-페닐프로판-1-온 등을 들 수 있으며, 시판품으로 Ciba사의 OXE-01, OXE-02가 대표적이다.Examples of the oxime compounds include o-ethoxycarbonyl-α-oximino-1-phenylpropan-1-one and the like. Commercially available products include OXE-01 and OXE-02 manufactured by Ciba.

상기 벤조인계 화합물로는 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다. Examples of the benzoin compound include benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzyl dimethyl ketal.

상기 안트라센계 화합물로는 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센 또는 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센 등을 들 수 있다.Examples of the anthracene compound include 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, and 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene. .

상기 안트라퀴논계 화합물로는 2-에틸 안트라퀴논, 옥타메틸 안트라퀴논, 1,2-벤즈 안트라퀴논, 2,3-디페닐 안트라퀴논 등을 들 수 있다. Examples of the anthraquinone-based compounds include 2-ethyl anthraquinone, octamethylanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, and 2,3-diphenylanthraquinone.

상기 비이미다졸계 화합물로는 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸, 4,4',5,5' 위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 이미다졸 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the nonimidazole-based compounds include 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'- ) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (alkoxyphenyl) (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (trialkoxyphenyl) biimidazole, a phenyl group in the 4,4', 5,5 'position is bonded to a carboalkoxy group And an imidazole compound substituted by a halogen atom.

이러한 광중합 개시제는 흑색 감광성 수지 조성물 총 중량에 대하여 0.01 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.01 내지 5 중량%로 사용할 수 있다. 이러한 함량 범위는 광중합성 화합물의 광중합 속도 및 최종 얻어지는 도막의 물성을 고려한 것으로, 상기 범위 미만이면 중합 속도가 낮아 전체적인 공정 시간이 길어질 수 있으며, 반대로 상기 범위를 초과할 경우 과도한 반응에 의해 도막의 물성이 오히려 저하될 수 있기 때문에, 상기 범위 내에서 적절히 사용한다. Such a photopolymerization initiator may be used in an amount of 0.01 to 10% by weight, preferably 0.01 to 5% by weight based on the total weight of the black photosensitive resin composition. Such a content range takes into account the photopolymerization rate of the photopolymerizable compound and the physical properties of the resulting coating film. When the amount is less than the above range, the polymerization rate is low and the overall process time may become long. On the other hand, It may be deteriorated, and therefore, it is suitably used within the above range.

상기 광중합 개시제는 광중합 개시 보조제를 조합하여 사용할 수도 있다. 광중합 개시제를 병용하면 흑색 감광성 수지의 조성물은 더욱 고감도가 되어 생산성이 향상되므로 바람직하다. 사용되는 광중합 개지 보조제로는 아민 화합물 및 카르복실산 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물이 바람직하게 사용될 수 있다.The photopolymerization initiator may be used in combination with a photopolymerization initiator. When the photopolymerization initiator is used in combination, the composition of the black photosensitive resin becomes more sensitive and productivity is improved, which is preferable. As the photopolymerization and opening adjuvant to be used, at least one compound selected from the group consisting of an amine compound and a carboxylic acid compound can be preferably used.

상기 광중합 개시 보조제는 광중합 개시제 1몰당 통상적으로 10몰 이하, 바람직하게는 0.01 내지 5몰의 범위 내에서 사용하는 것이 바람직하다. 상기 범위 내에서 광중합 개시 보조제를 사용할 경우 중합 효율을 높여 생산성 향상 효과를 기대할 수 있다.The photopolymerization initiator is preferably used in an amount of usually not more than 10 mol, preferably 0.01 to 5 mol, per mol of the photopolymerization initiator. When the photopolymerization initiator is used within the above range, the polymerization efficiency can be increased and the productivity improvement effect can be expected.

(F)용제(F) Solvent

상기 용제로는 상기 언급한 바의 조성을 용해 또는 분산시킬 수 있고, 다른 구성성분들과 반응하지 않는 것이면 어느 것이든 사용이 가능하며, 특별히 한정되지 않는다. 바람직하게는 도포성 및 건조성 면에서 비점이 100 내지 200인 유기 용제를 사용할 수 있다.The solvent may be any solvent that can dissolve or disperse the above-mentioned composition and does not react with other components, and is not particularly limited. Preferably, an organic solvent having a boiling point of 100 to 200 in terms of coating property and dryness can be used.

대표적으로, 사용 가능한 용제로는 알킬렌글리콜 모노알킬에테르류, 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류, 방향족 탄화수소류, 케톤류, 저급 및 고급 알코올류, 환상 에스테르류 등을 들 수 있다. 보다 구체적으로, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜 모노프로필에테르, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르 등의 알킬렌글리콜 모노알킬에테르류; 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜 디프로필에테르, 디에틸렌글리콜 디부틸에테르 등의 디에틸렌글리콜 디알킬에테르류; 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노프로필에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트 및 메톡시펜틸아세테이트 등의 알킬렌글리콜 알킬에테르아세테이트류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥사놀, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 글리세린 등의 알코올류; 3-에톡시프로피온산 에틸, 3-메톡시프로피온산 메틸 등의 에스테르류; γ-부티로락톤 등의 환상 에스테르류 등을 들 수 있다. Representative examples of usable solvents include alkylene glycol monoalkyl ethers, alkylene glycol alkyl ether acetates, aromatic hydrocarbons, ketones, lower and higher alcohols, and cyclic esters. More specifically, alkylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether and ethylene glycol monobutyl ether; Diethylene glycol dialkyl ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether and diethylene glycol dibutyl ether; Alkylene glycol alkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methoxybutyl acetate and methoxypentyl acetate Ryu; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and mesitylene; Ketones such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; Alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol and glycerin; Esters such as ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-methoxypropionate; and cyclic esters such as? -butyrolactone.

상기 용제는 흑색 감광성 수지 조성물이 100 중량%를 만족하도록 잔량으로 포함될 수 있다. 이러한 함량은 조성의 분산 안정성 및 제조 공정에서의 공정 용이성(예, 도포성)을 고려하여 선정된 범위이다. The solvent may be contained in a balance such that the black photosensitive resin composition satisfies 100 wt%. Such a content is selected in consideration of dispersion stability of the composition and easiness of process in the production process (for example, applicability).

(G)첨가제(G) Additive

본 발명의 흑색 감광성 수지 조성물은 다양한 목적을 위하여 이 분야에 공지된 첨가제를 더 포함할 수 있다. 이러한 첨가제로는 기판과의 접착성을 높이기 위한 것으로, 카르복실기, 메타크릴로일기, 이소시아네이트기, 에폭시기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 반응성 치환기를 갖는 실란 커플링제를 들 수 있다. 실란 커플링제의 예로는 트리메톡시실릴 벤조산, γ-메타크릴 옥시프로필 트리메톡시 실란, 비닐트리아세톡시실란, 비닐 트리메톡시실란, γ-이소시아네이트 프로필 트리에톡시실란, γ-글리시독시 프로필 트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있으면, 이것들은 단독 및 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 코팅성을 향상을 위해서는 계면활성제를 사용할 수 있는데, BM-1000, BM-1100(BM Chemie社), 프로라이드 FC-135/FC-170C/FC-430(스미토모 쓰리엠㈜), SH-28PA/-190/SZ-6032(도레 시리콘㈜)등의 불소계 계면 활성제를 사용할 수 있다.The black photosensitive resin composition of the present invention may further contain additives known in the art for various purposes. Examples of such an additive include a silane coupling agent having a reactive substituent selected from the group consisting of a carboxyl group, a methacryloyl group, an isocyanate group, an epoxy group, and a combination thereof for enhancing adhesion to a substrate. Examples of the silane coupling agent include trimethoxysilylbenzoic acid,? -Methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxysilane,? -Isocyanatepropyltriethoxysilane,? -Glycidoxypropyl Trimethoxysilane, and? - (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane. These may be used alone or in combination of two or more. Surfactants can be used to improve the coating properties. Examples include BM-1000, BM-1100 (BM Chemie), Proride FC-135 / FC-170C / FC-430 (Sumitomo 3M Co., 190 / SZ-6032 (Doresilicon Co., Ltd.) can be used.

또한, 본 발명은 In addition,

상기 흑색 감광성 수지 조성물로 제조된 화소정의막을 포함하는 유기발광소자 및 양자점발광소자에 관한 것이다.An organic light emitting device including the pixel defining layer made of the black photosensitive resin composition, and a quantum dot light emitting device.

또한, 본 발명은 In addition,

상기 유기발광소자 또는 양자점발광소자를 포함하는 디스플레이 장치에 관한 것이다. And a display device including the organic light emitting device or the quantum dot light emitting device.

포토리쏘그래피 방법에 따른 화소정의막을 형성하는 통상의 패터닝 공정은 다음과 같은 단계를 포함하여 이루어진다:A typical patterning process for forming a pixel defining layer according to a photolithography method comprises the following steps:

a) 기판에 흑색 감광성 수지 조성물을 도포하는 단계;a) applying a black photosensitive resin composition to a substrate;

b) 용매를 건조하는 프리베이크 단계; b) prebaking step of drying the solvent;

c) 얻어진 피막 위에 포토 마스크를 대어 활성 광선을 조사해 노광부를 경화시키는 단계; c) applying a photomask onto the obtained film to irradiate an actinic ray to cure the exposed portion;

d) 알칼리 수용액을 이용하여 미노광부를 용해하는 현상 공정을 수행하는 단계; 및 d) performing a developing step of dissolving the unexposed portion using an aqueous alkali solution; And

e) 건조 및 포스트 베이크 수행단계e) drying and post-baking steps

상기 도포는 원하는 두께를 얻을 수 있도록 롤 코터, 스핀 코터, 슬릿 앤드 스핀 코터, 슬릿 코터(다이 코터라고도 하는 경우가 있음), 잉크젯 등의 도포 장치를 이용한 습식 코팅 방법에 의해 수행될 수 있다.The application may be performed by a wet coating method using a coating apparatus such as a roll coater, a spin coater, a slit and spin coater, a slit coater (which may be referred to as a die coater), an ink jet or the like so as to obtain a desired thickness.

프리베이크는 오븐, 핫 플레이트 등에 의해 가열함으로써 행해진다. 이때 프리베이크에 있어서의 가열 온도 및 가열 시간은 사용하는 용제에 따라 적의 선택 되어 예를 들면, 80 내지 150℃의 온도로 1 내지 30분간 행해진다.Prebaking is performed by heating with an oven, a hot plate or the like. At this time, the heating temperature and the heating time in the pre-baking are appropriately selected depending on the solvent to be used, for example, at a temperature of 80 to 150 ° C for 1 to 30 minutes.

또 프리베이크 후에 행해지는 노광은, 노광기에 의해 행해져 포토 마스크를 통하여 노광함으로써 패턴에 대응한 부분만을 감광시킨다. 이때 조사하는 빛은, 예를 들면, 가시광선, 자외선, X선 및 전자선 등이 가능하다.The exposure performed after the pre-baking is performed by an exposure machine, and exposed through a photomask to expose only the portion corresponding to the pattern. The light to be irradiated may be, for example, visible light, ultraviolet light, X-ray, electron beam, or the like.

노광 후의 알칼리 현상 비노광 부분의 제거되지 않는 부분의 감광성 수지 조성물을 제거하는 목적으로 행해져 이 현상에 의해 원하는 패턴이 형성된다. 이 알칼리 현상에 적합한 현상액으로는, 예를 들면 알칼리 금속이나 알칼리 토류 금속의 탄산염의 수용액 등을 사용할 수 있다. 특히, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산 리튬등의 탄산염을 1~3 중량%를 함유하는 미만 알칼리 수용액을 이용하여 10~50℃, 바람직하게는 20~40℃의 온도 내에서 현상기 또는 초음파 세정기 등을 이용하여 수행한다.Alkali development after exposure is carried out for the purpose of removing the photosensitive resin composition in the portion where the non-exposed portion is not removed, and a desired pattern is formed by this development. As the developer suitable for the alkali development, for example, an aqueous solution of a carbonate of an alkali metal or an alkaline earth metal may be used. Particularly, a weakly alkaline aqueous solution containing 1 to 3% by weight of a carbonate such as sodium carbonate, potassium carbonate or lithium carbonate is used at a temperature of 10 to 50 ° C, preferably 20 to 40 ° C, using a developing machine or an ultrasonic cleaner .

포스트 베이크는 패터닝 된 막과 기판과의 밀착성을 높이기 위해서 수행하며, 80~220℃에서 10~120 분의 조건으로 열처리를 통해 이루어진다. 포스트 베이크 프리베이크와 같게, 오븐, 핫 플레이트 등을 이용하여 수행한다.The post bake is performed to enhance the adhesion between the patterned film and the substrate, and is performed by heat treatment at 80 to 220 ° C for 10 to 120 minutes. Post-baking Pre-baking is carried out using an oven, hot plate or the like.

본 발명의 흑색 감광성 수지 조성물로 제조된 화소정의막은 광학밀도, 밀착성, 전기 절연성, 차광성 등의 물성이 우수할뿐만 아니라, 내열성 및 내용제성 등이 우수하여 유기발광소자, 양자점발광소자, 및 상기 유기발광소자 또는 양자점발광소자를 포함하는 디스플레이 장치의 신뢰도를 향상시킬 수 있다.The pixel defining layer made of the black photosensitive resin composition of the present invention is excellent in physical properties such as optical density, adhesion, electrical insulating property and light shielding property, and is excellent in heat resistance and solvent resistance and can be used for an organic light emitting device, a quantum dot light emitting device, The reliability of a display device including an organic light emitting element or a quantum dot light emitting element can be improved.

이하에서, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명한다. 그러나, 하기의 실시예는 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하기 위한 것으로서, 본 발명의 범위가 하기의 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다. 하기의 실시예는 본 발명의 범위 내에서 당업자에 의해 적절히 수정, 변경될 수 있다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples. However, the following examples are intended to further illustrate the present invention, and the scope of the present invention is not limited by the following examples. The following examples can be appropriately modified and changed by those skilled in the art within the scope of the present invention.

제조예Manufacturing example 1: 결합제 수지 A의 합성 1: Synthesis of Binder Resin A

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하였다. 모노머 적하 로트로서, 3,4-에폭시트리시클로데칸-8-일(메타)아크릴레이트와 3,4-에폭시트리시클로데칸-9-일(메타)아크릴레이트를 몰비 50:50으로 혼합한 혼합물 177부, 아크릴산 23부, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 4부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 40부를 첨가하여 교반을 준비하였다. 연쇄이동제 적하조로서, n-도데칸티올 6부, PGMEA 24부를 첨가하여 교반을 준비하였다. 이후 플라스크에 PGMEA 395부를 첨가하고 플라스크내 분위기를 공기에서 질소로 교환한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온시켰다. 그 후 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하를 개시하였다. 적하는 90℃를 유지하면서, 각각 2 시간 동안 진행하였고 1 시간 후에 110℃까지 승온하여 5 시간동안 유지하여 고형분 산가가 80㎎KOH/g인 수지를 얻었다. GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량은 9,000이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.2이었다.A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet tube was prepared. As a monomer dropping lot, a mixture 177 (a) obtained by mixing 3,4-epoxy tricyclodecan-8-yl (meth) acrylate and 3,4-epoxytricyclodecan-9- , 23 parts of acrylic acid, 4 parts of t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, and 40 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) were added to prepare a stirrer. As a chain transfer agent, 6 parts of n-dodecanethiol and 24 parts of PGMEA were added and stirred. Then 395 parts of PGMEA was added to the flask, and the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen in air, and the temperature of the flask was raised to 90 DEG C with stirring. The monomer and the chain transfer agent were then started to be added dropwise from the dropping funnel. The mixture was allowed to stand at 90 DEG C for 2 hours, elevated to 110 DEG C after 1 hour, and maintained for 5 hours to obtain a resin having a solid acid value of 80 mgKOH / g. The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC was 9,000 and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.2.

제조예Manufacturing example 2: 결합제 수지 B의 합성 2: Synthesis of Binder Resin B

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하였다. 모노머 적하 로트로서, 3,4-에폭시트리시클로데칸-8-일(메타)아크릴레이트와 3,4-에폭시트리시클로데칸-9-일(메타)아크릴레이트를 몰비 50:50으로 혼합한 혼합물 20부, 아크릴산 30부, 시클로헥실말레이미드 110부, 2-히드록시메타크릴레이트 40부 t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 4부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 40부를 첨가하여 교반을 준비하였다. 연쇄이동제 적하조로서, n-도데칸티올 6부, PGMEA 24부를 첨가하여 교반을 준비하였다. 이후 플라스크에 PGMEA 395부를 첨가하고 플라스크내 분위기를 공기에서 질소로 교환한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온시켰다. 그 후 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하를 개시하였다. 적하는 90℃를 유지하면서, 각각 2 시간 동안 진행하였고 1 시간 후에 110℃까지 승온하여 5 시간동안 유지하여 고형분 산가가 110㎎KOH/g인 수지를 얻었다. GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량은 8,000이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.2이었다.A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet tube was prepared. As a monomer dropping lot, a mixture 20 of 3,4-epoxytricyclodecan-8-yl (meth) acrylate and 3,4-epoxytricyclodecan-9-yl (meth) acrylate in a molar ratio of 50:50 , 30 parts of acrylic acid, 110 parts of cyclohexylmaleimide, 40 parts of 2-hydroxymethacrylate, 4 parts of t-butylperoxy-2-ethylhexanoate and 40 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) Stirring was prepared. As a chain transfer agent, 6 parts of n-dodecanethiol and 24 parts of PGMEA were added and stirred. Then 395 parts of PGMEA was added to the flask, and the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen in air, and the temperature of the flask was raised to 90 DEG C with stirring. The monomer and the chain transfer agent were then started to be added dropwise from the dropping funnel. The mixture was allowed to stand at 90 DEG C for 2 hours each. After 1 hour, the temperature was elevated to 110 DEG C and maintained for 5 hours to obtain a resin having a solid acid value of 110 mgKOH / g. The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC was 8,000 and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.2.

제조예Manufacturing example 3: 결합제 수지 C의 합성 3: Synthesis of binder resin C

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하였다. 모노머 적하 로트로서, 3,4-에폭시트리시클로데칸-8-일(메타)아크릴레이트와 3,4-에폭시트리시클로데칸-9-일(메타)아크릴레이트를 몰비 50:50으로 혼합한 혼합물 20부, 아크릴산 30부, 시클로헥실말레이미드 80부, 2-히드록시메타크릴레이트 70부 t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 4부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 40부를 첨가하여 교반을 준비하였다. 연쇄이동제 적하조로서, n-도데칸티올 6부, PGMEA 24부를 첨가하여 교반을 준비하였다. 이후 플라스크에 PGMEA 395부를 첨가하고 플라스크내 분위기를 공기에서 질소로 교환한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온시켰다. 그 후 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하를 개시하였다. 적하는 90℃를 유지하면서, 각각 2 시간 동안 진행하였고 1 시간 후에 110℃까지 승온하여 5 시간동안 유지하여 고형분 산가가 100㎎KOH/g인 수지를 얻었다. GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량은 10,100이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.2이었다.A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet tube was prepared. As a monomer dropping lot, a mixture 20 of 3,4-epoxytricyclodecan-8-yl (meth) acrylate and 3,4-epoxytricyclodecan-9-yl (meth) acrylate in a molar ratio of 50:50 , 30 parts of acrylic acid, 80 parts of cyclohexylmaleimide, 70 parts of 2-hydroxymethacrylate, 4 parts of t-butylperoxy-2-ethylhexanoate and 40 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) Stirring was prepared. As a chain transfer agent, 6 parts of n-dodecanethiol and 24 parts of PGMEA were added and stirred. Then 395 parts of PGMEA was added to the flask, and the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen in air, and the temperature of the flask was raised to 90 DEG C with stirring. The monomer and the chain transfer agent were then started to be added dropwise from the dropping funnel. The mixture was allowed to stand at 90 DEG C for 2 hours, elevated to 110 DEG C after 1 hour, and maintained for 5 hours to obtain a resin having a solid acid value of 100 mgKOH / g. The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC was 10,100 and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.2.

제조예Manufacturing example 4: 결합제 수지 D의 합성 4: Synthesis of Binder Resin D

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크에 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 40부, 로필렌글리콜모노메틸에테르 140부를 도입하여, 플라스크내 분위기를 공기에서 질소로 한 후, 100℃로 승온 후 벤질말레이미드 10부, 메틸메타크릴레이트 60부, 메타크릴산 30부 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 136부를 포함하는 혼합물에 아조비스이소부티로니트릴 4부를 첨가한 용액을 적하 로트로부터 2시간에 걸쳐 플라스크에 적하하여 80℃에서 4시간 더 교반을 계속하였다. 이어서, 플라스크내 위기를 질소에서 공기로 하고, 글리시딜메타크릴레이트 15부 트리스디메틸아미노메틸페놀 0.5부 및 히드로퀴논 0.1부를 플라스크내에 투입하여 110℃에서 6시간 반응을 계속하고, 고형분 산가가 110㎎KOH/g인 수지 A를 얻었다. GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량은 12,000이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.5이었다.A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet tube was charged with 40 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate and 140 parts of ropylene glycol monomethyl ether. The atmosphere in the flask was changed to nitrogen in air, , A solution prepared by adding 4 parts of azobisisobutyronitrile to a mixture containing 10 parts of benzylmaleimide, 60 parts of methyl methacrylate, 30 parts of methacrylic acid and 136 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate was added dropwise from a dropping funnel The mixture was added dropwise to the flask over 2 hours, and stirring was further continued at 80 캜 for 4 hours. Subsequently, the inside of the flask was purged with nitrogen, air, 15 parts of glycidyl methacrylate, 0.5 part of trisdimethylaminomethylphenol and 0.1 part of hydroquinone were charged into the flask, and the reaction was continued at 110 DEG C for 6 hours. The solid acid value was 110 mg KOH / g. The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC was 12,000 and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.5.

실시예Example 1~7 및  1 to 7 and 비교예Comparative Example 1~2: 흑색 감광성 수지 조성물의 제조 1 to 2: Preparation of Black Photosensitive Resin Composition

혼합기에 용제를 첨가한 후 착색제, 결합제 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 첨가제를 첨가하고, 교반을 통해 균일하게 혼합하여 흑색 감광성 수지 조성물을 제조하였다. 이때 조성은 하기 표 1의 조성에 따랐다.After adding a solvent to the mixer, a colorant, a binder resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and an additive were added and uniformly mixed by stirring to prepare a black photosensitive resin composition. The composition was as shown in Table 1 below.

실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 실시예4Example 4 실시예5Example 5 실시예6Example 6 실시예7Example 7 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 착색제(A)The colorant (A) 카본 블랙Carbon black 8.008.00 8.008.00 8.008.00 8.008.00 8.008.00 A-1A-1 A-2A-2 8.008.00 8.008.00 결합제 수지(B)The binder resin (B) 수지 A(제조예1) Resin A (Preparation Example 1) 7.247.24 3.623.62 3.623.62 7.247.24 2.102.10 수지 B(제조예2)Resin B (Production Example 2) 7.247.24 3.623.62 7.247.24 수지 C(제조예3)Resin C (Production Example 3) 7.247.24 3.623.62 수지 D(제조예4)Resin D (Preparation Example 4) 7.247.24 5.145.14 광중합성 화합물(C)The photopolymerizable compound (C) 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트
(Kayarad DPHA: 닛본 카야꾸㈜))
Dipentaerythritol hexaacrylate
(Kayarad DPHA: Nippon Kayaku Co., Ltd.))
3.123.12 3.123.12 3.123.12 3.123.12 3.123.12 3.123.12 3.123.12 3.123.12 3.123.12
광중합 개시제(D)Photopolymerization initiator (D) 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카바졸-3-일]-에타논-1-(O-아세틸옥심) (Irgacure OXE-02: Ciba사)(O-acetyloxime) (Irgacure OXE-02, manufactured by Ciba) was added to a solution of 1- [9- ethyl-6- (2-methylbenzoyl) 0.310.31 0.310.31 0.310.31 0.310.31 0.310.31 0.310.31 0.310.31 0.310.31 0.310.31 용제(E)Solvent (E) 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트Propylene glycol monomethyl ether acetate 80.0080.00 80.0080.00 80.0080.00 80.0080.00 80.0080.00 80.0080.00 80.0080.00 80.0080.00 80.0080.00 첨가제additive 안료 분산제 (폴리에스테르계)Pigment dispersant (polyester type) 1.331.33 1.331.33 1.331.33 1.331.33 1.331.33 1.331.33 1.331.33 1.331.33 1.331.33

(단위: 중량%)(Unit: wt%)

주) week)

A-1: 흑색 유기 안료(아닐린 블랙) 71 중량% + 흑색 무기 안료 (카본블랙) 12 중량% + 청색안료(피그먼트 블루 60) 17 중량%A-1: Black organic pigment (aniline black) 71% by weight + Black inorganic pigment (carbon black) 12% by weight + Blue pigment (Pigment Blue 60) 17%

A-2: 흑색 유기 안료(아닐린 블랙) 75 중량% + 흑색 무기 안료 (카본블랙) 10 중량% + 청색안료(피그먼트 블루 60) 15 중량%A-2: Black organic pigment (aniline black) 75% by weight + Black inorganic pigment (carbon black) 10% by weight + Blue pigment (Pigment Blue 60) 15%

시험예Test Example 1: 아웃가스 특성 평가 1: Outgas characteristics evaluation

(1) 착색 기판 제작(1) Preparation of colored substrate

5cm X 5cm의 유리기판(코닝社)을 중성세제 및 물로 세정 후 건조하였다. 상기 유리기판 상에 상기 실시예 및 비교예에서 제조된 흑색 감광성 수지 조성물 각각을 최종 막 두께가 2.0㎛가 되도록 스핀 코팅을 하고, 80 내지 120℃에서 선 소성하여 1 내지 2분간 건조하여 용제를 제거하였다. 그런 다음, 노광량 40 내지 100 mJ/cm2로 노광하여 1cm X 3cm 패턴을 형성하고 알카리 수용액을 사용하여 비노광부를 제거하였다. 이어서 220℃에서 후 소성을 20분간 하여 착색기판을 제조하였다.A 5 cm x 5 cm glass substrate (Corning) was cleaned with a neutral detergent and water and dried. Each of the black photosensitive resin compositions prepared in Examples and Comparative Examples was spin-coated on the glass substrate such that the final film thickness was 2.0 탆, prebaked at 80 to 120 캜 and dried for 1 to 2 minutes to remove the solvent Respectively. Then, exposure was performed at an exposure dose of 40 to 100 mJ / cm 2 to form a 1 cm x 3 cm pattern, and an unexposed area was removed using an aqueous alkaline solution. Subsequently, the substrate was baked at 220 캜 for 20 minutes to prepare a colored substrate.

(2) 아웃가스 평가(2) Outgassing evaluation

아웃가스 평가는 상기에서 제조된 착색기판을 230℃에서 30분간 열분해시키면서 포집된 화합물을 Py-GC/MS로 분석하는 방법으로 실시되었다. 분석결과는 하기 표 2에 나타내었다.The outgassing was carried out by pyrolyzing the colored substrate prepared above at 230 DEG C for 30 minutes and analyzing the collected compound by Py-GC / MS. The results of the analysis are shown in Table 2 below.

항목Item 실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예
3
Example
3
실시예4Example 4 실시예5Example 5 실시예
6
Example
6
실시예
7
Example
7
비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2
아웃가스량Outgas volume 7,805,
702
7,805,
702
7,867,
164
7,867,
164
8,282,
034
8,282,
034
7,850,
039
7,850,
039
8,095,
337
8,095,
337
9,500,
387
9,500,
387
9,638,
720
9,638,
720
15,365,
555
15,365,
555
12,930,
859
12,930,
859

상기 표 2에서 확인되는 바와 같이, 본 발명의 흑색 감광성 조성물로 제조된 실시예 패턴의 경우, 비교예 패턴과 비교하여 아웃가스 발생량이 현저하게 감소된다.As can be seen from the above Table 2, in the case of the example pattern made of the black photosensitive composition of the present invention, the outgas generation amount is remarkably reduced as compared with the comparative example pattern.

Claims (10)

착색제(A), 결합제 수지(B), 광중합성 화합물(C), 광중합 개시제(D), 및 용제를 포함하며,
상기 결합제 수지(B)가 하기 화학식 1로 표시되는 화합물(B1)을 포함하는 유기발광소자 및 양자점발광소자의 화소정의막(Pixel Defined Layer) 형성용 흑색 감광성 수지 조성물:
[화학식 1]
Figure pat00004

상기 식에서
R1은 수소원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타내며, 여기에서 상기 알킬기는 수산기로 치환될 수 있으며;
R2는 단순결합 또는 헤테로 원자가 포함되거나 포함되지 않는 C1~C20의 지방족 또는 방향족 탄화수소를 나타낸다.
(A), a binder resin (B), a photopolymerizable compound (C), a photopolymerization initiator (D), and a solvent,
Wherein the binder resin (B) comprises a compound (B1) represented by the following formula (1) and a black photosensitive resin composition for forming a pixel defining layer of a quantum dot light emitting device:
[Chemical Formula 1]
Figure pat00004

In the above formula
R1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, wherein the alkyl group may be substituted with a hydroxyl group;
R 2 represents a C 1 -C 20 aliphatic or aromatic hydrocarbon containing a simple bond or a hetero atom.
청구항 1에 있어서,
흑색 감광성 수지 조성물 총 중량에 대하여 (A)착색제 1~50 중량%, (B)결합제 수지 5~80 중량%, (C)광중합성 화합물 1~30 중량%, (D)광중합 개시제 0.01~10 중량%, (F)잔량의 용제를 포함하는 것을 특징으로 하는 흑색 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
(A) 1 to 50% by weight of a colorant, (B) 5 to 80% by weight of a binder resin, (C) 1 to 30% by weight of a photopolymerizable compound, (D) 0.01 to 10% by weight of a photopolymerization initiator %, And (F) residual amount of a solvent.
청구항 1에 있어서,
상기 결합제 수지(B)는 화학식 1로 표시되는 화합물(B1)의 구성단위 비율이 결합제 수지(B)의 구성단위의 전체 몰수에 대하여 20 내지 90몰%인 것을 특징으로 하는 흑색 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the binder resin (B) has a constituent unit ratio of the compound (B1) represented by the general formula (1) is 20 to 90 mol% based on the total mol number of the constituent units of the binder resin (B).
청구항 1에 있어서,
상기 결합제 수지(B)의 중량평균분자량이 5,000에서 50,000인것을 특징으로 하는 흑색 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the binder resin (B) has a weight average molecular weight of 5,000 to 50,000.
청구항 3에 있어서
상기 화학식 1로 표시되는 화합물(B1)의 구성단위 비율이 결합제 수지(B)의 구성단위의 전체 몰수에 대하여 50몰%를 초과하는 것을 특징으로 하는 흑색 감광성 수지 조성물.
Claim 3
Wherein the proportion of the constituent units of the compound (B1) represented by the formula (1) is more than 50 mol% based on the total mol number of the constituent units of the binder resin (B).
청구항 1에 있어서,
상기 광중합 개시제(D)는 아세토페논계, 벤조페논계, 트리아진계, 티오크산톤계, 옥심계, 벤조인계, 안트라센계, 안트라퀴논계, 및 비이미다졸계 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 흑색 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
The photopolymerization initiator (D) is at least one selected from the group consisting of acetophenone, benzophenone, triazine, thioxanthone, oxime, benzoin, anthracene, anthraquinone, Based on the weight of the black photosensitive resin composition.
청구항 1 내지 6 중 어느 한 항의 흑색 감광성 수지 조성물로 제조된 화소정의막을 포함하는 유기발광소자.An organic light emitting device comprising a pixel defining layer made of the black photosensitive resin composition according to any one of claims 1 to 6. 청구항 1 내지 6 중 어느 한 항의 흑색 감광성 수지 조성물로 제조된 화소정의막을 포함하는 양자점발광소자.A quantum dot light emitting device comprising a pixel defining layer made of the black photosensitive resin composition according to any one of claims 1 to 6. 청구항 7의 유기발광소자가 포함된 디스플레이 장치. A display device comprising the organic light emitting device according to claim 7. 청구항 8의 양자점발광소자가 포함된 디스플레이 장치. A display device comprising the quantum dot light-emitting element according to claim 8.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220042541A (en) 2020-09-28 2022-04-05 함호상 Green Real Estate System to Improve Reliability
CN115433486A (en) * 2021-06-02 2022-12-06 广东聚华印刷显示技术有限公司 Printing ink, light emitting device and display device

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011099918A (en) * 2009-11-04 2011-05-19 Sumitomo Chemical Co Ltd Colored photosensitive resin composition, coating film, pattern and display device
KR20150072581A (en) 2013-12-20 2015-06-30 주식회사 이그잭스 Composition of photo sensitive resin including polysiloxane
JP2015172742A (en) * 2014-02-18 2015-10-01 旭硝子株式会社 Negative type photosensitive resin composition, resin cured film, partition wall and optical element
KR20160091524A (en) * 2015-01-23 2016-08-03 삼성디스플레이 주식회사 Photosensitive resin composition and display device
KR20160114362A (en) * 2015-03-24 2016-10-05 동우 화인켐 주식회사 Color filter and display dece comprising thereof

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008031248A (en) * 2006-07-27 2008-02-14 Daicel Chem Ind Ltd Curable resin composition and method for forming cured coating film
KR101995094B1 (en) * 2012-06-11 2019-07-02 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Colored photosensitive resin composition
CN104298074B (en) * 2013-07-19 2019-11-01 东友精细化工有限公司 Transparent pixels are formed with photosensitive polymer combination and the colour filter formed using it
KR101987107B1 (en) * 2014-03-31 2019-06-10 동우 화인켐 주식회사 Colored photosensitive resin composition and color filter manufactured by the same
WO2016010077A1 (en) * 2014-07-18 2016-01-21 旭硝子株式会社 Negative-type photosensitive resin composition, and resin cured film, partition and optical element
KR101609234B1 (en) * 2015-01-13 2016-04-05 동우 화인켐 주식회사 Photosensitive resin comopsition, photocurable pattern formed from the same and image display comprising the pattern
KR101611836B1 (en) * 2015-01-13 2016-04-12 동우 화인켐 주식회사 Photosensitive resin comopsition, photocurable pattern formed from the same and image display comprising the pattern
KR20160091646A (en) * 2015-01-26 2016-08-03 동우 화인켐 주식회사 Photosensitive resin comopsition, photocurable pattern formed from the same and image display comprising the pattern
KR20160094668A (en) * 2015-02-02 2016-08-10 동우 화인켐 주식회사 Color photosensitive resin composition, column spacer manufactured thereby and liquid crystal display comprising the same
KR102206015B1 (en) * 2015-03-27 2021-01-20 동우 화인켐 주식회사 IR-Pass photo resist composition
CN110618583B (en) * 2015-03-27 2024-02-23 三菱化学株式会社 Colored resin composition, color filter, and image display device
JP6707380B2 (en) * 2015-03-30 2020-06-10 住友化学株式会社 Colored photosensitive resin composition

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011099918A (en) * 2009-11-04 2011-05-19 Sumitomo Chemical Co Ltd Colored photosensitive resin composition, coating film, pattern and display device
KR20150072581A (en) 2013-12-20 2015-06-30 주식회사 이그잭스 Composition of photo sensitive resin including polysiloxane
JP2015172742A (en) * 2014-02-18 2015-10-01 旭硝子株式会社 Negative type photosensitive resin composition, resin cured film, partition wall and optical element
KR20160091524A (en) * 2015-01-23 2016-08-03 삼성디스플레이 주식회사 Photosensitive resin composition and display device
KR20160114362A (en) * 2015-03-24 2016-10-05 동우 화인켐 주식회사 Color filter and display dece comprising thereof

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220042541A (en) 2020-09-28 2022-04-05 함호상 Green Real Estate System to Improve Reliability
CN115433486A (en) * 2021-06-02 2022-12-06 广东聚华印刷显示技术有限公司 Printing ink, light emitting device and display device
CN115433486B (en) * 2021-06-02 2023-12-05 广东聚华印刷显示技术有限公司 Printing ink, light emitting device and display device

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