KR102622857B1 - Black photo sensitive resin composition for a forming pixel defined layer of oled and qled - Google Patents

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Abstract

본 발명은 착색제(A), 결합제 수지(B), 광중합성 화합물(C), 광중합 개시제(D), 및 용제를 포함하며, 상기 결합제 수지(B)가 하기 화학식 1로 표시되는 화합물(B1)을 포함하는 유기발광소자의 화소정의막(Pixel Defined Layer) 형성용 흑색 감광성 수지 조성물, 상기 흑색 감광성 수지 조성물로 제조된 화소정의막을 포함하는 유기발광소자, 양자점발광소자, 및 상기 유기발광소자 또는 양자점발광소자를 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.
[화학식 1]

상기 식에서
R1은 수소원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타내며, 여기에서 상기 알킬기는 수산기로 치환될 수 있으며;
R2는 단순결합 또는 헤테로 원자가 포함되거나 포함되지 않는 C1~C20의 지방족 또는 방향족 탄화수소를 나타낸다.
The present invention includes a colorant (A), a binder resin (B), a photopolymerizable compound (C), a photopolymerization initiator (D), and a solvent, and the binder resin (B) is a compound (B1) represented by the following formula (1) A black photosensitive resin composition for forming a pixel defining layer (Pixel Defined Layer) of an organic light emitting device comprising a black photosensitive resin composition, an organic light emitting device comprising a pixel defining layer made of the black photosensitive resin composition, a quantum dot light emitting device, and the organic light emitting device or quantum dot. A display device including a light emitting element is provided.
[Formula 1]

In the above equation
R1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, where the alkyl group may be substituted with a hydroxyl group;
R2 represents a C1 to C20 aliphatic or aromatic hydrocarbon with or without a simple bond or hetero atom.

Description

유기발광소자 및 양자점발광소자의 화소정의막 형성용 흑색 감광성 수지 조성물{BLACK PHOTO SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR A FORMING PIXEL DEFINED LAYER OF OLED AND QLED}Black photosensitive resin composition for forming pixel defining layers of organic light emitting devices and quantum dot light emitting devices {BLACK PHOTO SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR A FORMING PIXEL DEFINED LAYER OF OLED AND QLED}

본 발명은 유기발광소자 및 양자점발광소자의 화소정의막 형성용 흑색 감광성 수지 조성물, 상기 흑색 감광성 수지 조성물로 제조된 화소정의막을 포함하는 유기발광소자 및 양자점발광소자, 및 상기 유기발광소자 또는 양자점발광소자를 포함하는 디스플레이 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a black photosensitive resin composition for forming a pixel-defining film of an organic light-emitting device and a quantum dot light-emitting device, an organic light-emitting device and a quantum dot light-emitting device including a pixel-defining film made of the black photosensitive resin composition, and the organic light-emitting device or quantum dot light-emitting device. It relates to a display device including an element.

평판 표시 소자(Flat Panel Display Device) 중에 하나인 유기발광소자는 자체 발광형이기 때문에 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display Deivce)에 비해 시야각, 콘트라스트(Contrast) 등이 우수하며 백라이트(Back Light)가 필요하지 않기 때문에 경량박형이 가능하고, 소비전력 측면에서도 유리하다. 또한 직류 저전압 구동이 가능하고 응답속도가 빠르며 구성하는 소자 모두가 고체이기 때문에 외부 충격에 강하고 사용 온도 범위도 넓을 뿐만 아니라 제조 비용 측면에서도 저렴하다는 장점을 가지고 있다.Organic light emitting devices, one of the flat panel display devices, are self-emitting, so they have superior viewing angles and contrast compared to liquid crystal displays, and do not require a backlight. Therefore, it is possible to be lightweight and thin, and it is also advantageous in terms of power consumption. In addition, it has the advantage of being capable of low-voltage direct current operation, fast response speed, and since all of its components are solid, it is resistant to external shocks, has a wide operating temperature range, and is also inexpensive in terms of manufacturing cost.

특히, 상기 유기발광소자의 제조 공정은 액정 표시 장치나 PDP(Plasma Display Panel)와는 달리 증착/식각(Deposition/Etching) 공정의 반복 및 인캡슐레이션(Encapsulation) 공정이 전부라고 할 수 있기 때문에 공정이 매우 단순하다는 장점이 있다.In particular, the manufacturing process of the organic light emitting device, unlike a liquid crystal display device or PDP (Plasma Display Panel), can be said to be all about repetition of the deposition/etching process and the encapsulation process. It has the advantage of being very simple.

상기 유기발광소자는 콘트라스트(contrast) 및 휘도가 좋아야 하는데, 외광이 밝을 경우 콘트라스트가 좋지 않다. 배면 발광형인 유기발광소자 의 경우, 소자의 음극이 반사율이 우수한 금속으로 되어있기 때문에 외부에서 소자내부로 들어오는 빛이 음극면에 반사되어, 발광층에서 나오는 빛과 섞이게 된다. The organic light emitting device must have good contrast and brightness, but when external light is bright, the contrast is not good. In the case of a bottom-emitting organic light-emitting device, the cathode of the device is made of a metal with excellent reflectivity, so the light entering the device from the outside is reflected on the cathode surface and mixed with the light coming from the light-emitting layer.

상기와 같은 문제를 해결하기 위하여 현재 대부분의 유기발광소자는 투명기판 하부에 원편광판(Circular polarizer)을 형성함으로써 음극에 의한 외부 입사광의 반사를 줄였다. 즉, 상기 원편광판에 의해 외부의 빛이 입사될 때, 절반이 차단되고, 나머지 반은 음극에 반사되어 나올 때 차단됨으로써, 외광에 의한 콘트라스트 저하를 억제할 수 있다. In order to solve the above problem, most current organic light emitting devices reduce reflection of external incident light by the cathode by forming a circular polarizer at the bottom of the transparent substrate. That is, when external light is incident on the circular polarizer, half of it is blocked, and the other half is blocked when it is reflected to the cathode, thereby suppressing a decrease in contrast caused by external light.

그러나 상술한 종래의 투명기판 위에 원편광판을 붙인 유기발광소자는 음극에 의한 외부 입사광의 반사를 크게 줄여줌과 동시에 유기 발광층으로부터 외부로 발산되는 빛까지도 차단하기 때문에, 콘트라스트는 향상되지만 휘도는 50%이상 감소하는 문제점과 고비용이 야기되는 문제점이 있었다. However, the organic light-emitting device in which a circularly polarizing plate is attached to the conventional transparent substrate described above significantly reduces the reflection of external incident light by the cathode and at the same time blocks light emitted to the outside from the organic light-emitting layer, so the contrast is improved, but the luminance is reduced by 50%. There were problems with the above reduction and problems with high costs.

따라서, 상기 문제점을 해결하기 위해, 외부 입사광을 흡수하여, 콘트라스트를 향상시키는 블랙 화소정의막을 형성할 수 있다. 블랙 화소정의막(Pixel Defined Layer)은 포토리소그래피 공정을 통해 정밀하게 패터닝되며, 유기발광소자 픽셀을 제작하는 고압 증착 공정 중에 소자 구동에 치명적인 gas 성분이 용출되지 않아야 하는 신뢰성이 요구된다. Therefore, in order to solve the above problem, a black pixel definition film that absorbs external incident light and improves contrast can be formed. The black pixel defined layer is precisely patterned through a photolithography process, and reliability is required to ensure that gas components critical to device operation are not eluted during the high-pressure deposition process that produces organic light-emitting device pixels.

그러나 종래의 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display Deivce)에서 사용되는 BM(Black Matrix)용 감광성 수지 조성물은 유기발광소자 픽셀을 제작하는 고압 증착 공정 중에 유기발광소자 구동에 치명적인 gas 성분이 용출되어 간단하게는 휘도 저하와 심하게는 유기발광소자가 구동이 불가능하게 하는 문제가 있어서, 유기발광 소자에 적용하기 어렵다. However, the photosensitive resin composition for BM (Black Matrix) used in conventional liquid crystal display devices elutes gas components that are fatal to the operation of organic light-emitting devices during the high-pressure deposition process of manufacturing organic light-emitting device pixels. It is difficult to apply to organic light-emitting devices because it has problems such as lowering luminance and, in severe cases, making it impossible to drive organic light-emitting devices.

대한민국 특허공개 10-2015-0072581Republic of Korea Patent Publication 10-2015-0072581

본 발명은 상기한 종래기술의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서,The present invention was devised to solve the problems of the prior art described above,

고압 증착 공정 등 유기발광소자 또는 양자점발광소자 픽셀의 제조시 아웃가스 방출량을 현저하게 감소시킬 수 있는 유기발광소자 및 양자점발광소자의 화소정의막 형성용 흑색 감광성 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다. The purpose is to provide a black photosensitive resin composition for forming a pixel defining film of an organic light emitting device or a quantum dot light emitting device that can significantly reduce the amount of outgassed during the manufacture of an organic light emitting device or quantum dot light emitting device pixel, such as a high pressure deposition process.

또한, 상기 흑색 감광성 수지 조성물로 제조된 화소정의막을 포함하는 유기발광소자, 양자점발광소자, 및 상기 유기발광소자 또는 양자점발광소자를 포함하는 디스플레이 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. Another object is to provide an organic light emitting device, a quantum dot light emitting device, and a display device including the organic light emitting device or the quantum dot light emitting device including a pixel defining film made of the black photosensitive resin composition.

상기의 목적을 달성하기 위하여,In order to achieve the above purpose,

본 발명은 착색제(A), 결합제 수지(B), 광중합성 화합물(C), 광중합 개시제(D), 및 용제를 포함하며,The present invention includes a colorant (A), a binder resin (B), a photopolymerizable compound (C), a photopolymerization initiator (D), and a solvent,

상기 결합제 수지(B)가 하기 화학식 1로 표시되는 화합물(B1)을 포함하는 유기발광소자 및 양자점발광소자의 화소정의막(Pixel Defined Layer) 형성용 흑색 감광성 수지 조성물을 제공한다: Provided is a black photosensitive resin composition for forming a pixel defined layer of an organic light emitting device and a quantum dot light emitting device, wherein the binder resin (B) includes a compound (B1) represented by the following formula (1):

[화학식 1][Formula 1]

상기 식에서 In the above equation

R1은 수소원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타내며, 여기에서 상기 알킬기는 수산기로 치환될 수 있으며;R1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, where the alkyl group may be substituted with a hydroxyl group;

R2는 단순결합 또는 헤테로 원자가 포함되거나 포함되지 않는 C1~C20의 지방족 또는 방향족 탄화수소를 나타낸다.R2 represents a C1 to C20 aliphatic or aromatic hydrocarbon with or without a simple bond or hetero atom.

또한, 본 발명은 In addition, the present invention

상기 흑색 감광성 수지 조성물로 제조된 화소정의막을 포함하는 유기발광소자 및 양자점발광소자를 제공한다.Provided is an organic light emitting device and a quantum dot light emitting device including a pixel defining film made of the black photosensitive resin composition.

또한, 본 발명은 In addition, the present invention

상기 유기발광소자 또는 양자점발광소자를 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다. A display device including the organic light emitting device or quantum dot light emitting device is provided.

본 발명의 유기발광소자 및 양자점발광소자의 화소정의막 형성용 흑색 감광성 수지 조성물은 고압 증착 공정 등 유기발광소자 또는 양자점발광소자 픽셀의 제조시 아웃가스 방출량을 현저하게 감소시키므로, 아웃가스로 인하여 발생하는 소자의 휘도저하 및 구동성능저하를 야기하지 않는 효과를 제공한다. The black photosensitive resin composition for forming a pixel defining film of an organic light-emitting device and a quantum dot light-emitting device of the present invention significantly reduces the amount of outgassed during the manufacturing of an organic light-emitting device or a quantum dot light-emitting device pixel, such as through a high-pressure deposition process, thereby reducing the amount of outgassed due to outgassing. It provides an effect that does not cause a decrease in luminance or driving performance of the device being used.

그러므로, 상기 흑색 감광성 수지 조성물로 제조된 화소정의막을 포함하는 유기발광소자, 양자점발광소자, 및 상기 유기발광소자 또는 양자점발광소자를 포함하는 디스플레이 장치는 휘도, 구동성 및 내구성 등에서 우수한 품질을 제공할 수 있다. Therefore, an organic light-emitting device, a quantum dot light-emitting device, including a pixel defining film made of the black photosensitive resin composition, and a display device including the organic light-emitting device or the quantum dot light-emitting device may provide excellent quality in terms of brightness, drivability, and durability. You can.

본 발명은 착색제(A), 결합제 수지(B), 광중합성 화합물(C), 광중합 개시제(D), 및 용제를 포함하며,The present invention includes a colorant (A), a binder resin (B), a photopolymerizable compound (C), a photopolymerization initiator (D), and a solvent,

상기 결합제 수지(B)가 하기 화학식 1로 표시되는 화합물(B1)을 포함하는 유기발광소자 및 양자점발광소자의 화소정의막(Pixel Defined Layer) 형성용 흑색 감광성 수지 조성물을 제공한다: Provided is a black photosensitive resin composition for forming a pixel defined layer of an organic light emitting device and a quantum dot light emitting device, wherein the binder resin (B) includes a compound (B1) represented by the following formula (1):

[화학식 1][Formula 1]

상기 식에서 In the above equation

R1은 수소원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타내며, 여기에서 상기 알킬기는 수산기로 치환될 수 있으며;R1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, where the alkyl group may be substituted with a hydroxyl group;

R2는 단순결합 또는 헤테로 원자가 포함되거나 포함되지 않는 C1~C20의 지방족 또는 방향족 탄화수소를 나타낸다.R2 represents a C1 to C20 aliphatic or aromatic hydrocarbon with or without a simple bond or hetero atom.

이하 본 발명의 흑색 감광성 수지 조성물을 구성하는 각 성분에 대하여 설명한다. 그러나 본 발명이 이들 성분들에 의해 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, each component constituting the black photosensitive resin composition of the present invention will be described. However, the present invention is not limited to these components.

착색제(A)Colorant (A)

착색제(A)는 흑색 구현을 위해 사용하며, 화소정의막의 차광성 및 외광반사 억제 특성을 부여한다.The colorant (A) is used to achieve black color and provides light blocking and external light reflection suppression properties to the pixel defining film.

상기 착색제는 가시광선에서 차광성이 있는 것이라면 유기 안료, 염료 및 흑색 안료 등 이 분야에 공지된 모든 착색제가 사용 가능하나, 흑색 안료를 사용하는 것이 바람직하다. The colorant can be any colorant known in the field, such as organic pigments, dyes, and black pigments, as long as it has light-blocking properties in visible light, but it is preferable to use black pigments.

상기 흑색 안료로는, 특별한 제한 없이 공지된 것이 사용될 수 있으나, 구체적으로 아닐린 블랙, 락탐 블랙, 퍼릴렌 블랙, 카본블랙, 산화크롬, 산화철 및 티탄블랙 등이 사용될 수 있다. 이들은 1종 단독 또는 2종 이상의 조합으로 사용될 수 있다. 상기 카본 블랙으로는 채널 블랙, 퍼니스 블랙, 서멀 블랙, 램프 블랙 등을 들 수 있다.As the black pigment, any known pigment may be used without particular limitation, and specifically, aniline black, lactam black, perylene black, carbon black, chromium oxide, iron oxide, and titanium black may be used. These may be used individually or in combination of two or more types. Examples of the carbon black include channel black, furnace black, thermal black, and lamp black.

필요한 경우 전기 절연성을 위해 표면에 수지가 피복된 카본 블랙이 사용될 수 있다. 부연하면, 수지가 피복된 카본 블랙은 수지가 피복되어 있지 않은 카본 블랙에 비해 도전성이 낮기 때문에, 블랙 매트릭스, 화소정의막 형성 시에 우수한 전기 절연성을 부여 할 수 있다.If necessary, carbon black with a resin coating on the surface for electrical insulation may be used. To elaborate, since carbon black coated with resin has lower conductivity than carbon black not coated with resin, it can provide excellent electrical insulation when forming a black matrix and pixel defining film.

상기 착색제는 흑색 안료 및 청색 안료를 포함할 수 있으며, 이 때 상기 흑색 안료는 흑색 유기 안료 및/또는 흑색 무기 안료일 수 있다.The colorant may include a black pigment and a blue pigment. In this case, the black pigment may be a black organic pigment and/or a black inorganic pigment.

흑색 안료와 청색 안료를 사용할 경우, 안료 비율에 따라 가시광 영역과 자외선 영역의 투과율을 조절할 수 있어서 바람직하다.When using a black pigment and a blue pigment, it is desirable because the transmittance in the visible light region and ultraviolet light region can be adjusted depending on the pigment ratio.

상기 흑색 유기 안료, 흑색 무기 안료, 및 청색 안료로서는 공지의 것이라면 어느 것이라도 사용이 가능하며, 예를 들어 컬러 인덱스(The Society of Dyers and Colourists 출판)에서 안료(pigment)로 분류되어 있는 화합물을 포함할 수 있고, 공지의 염료를 포함할 수 있다.As the black organic pigment, black inorganic pigment, and blue pigment, any known pigment can be used, and examples include compounds classified as pigments in the Color Index (published by The Society of Dyers and Colourists). It can be done and may contain known dyes.

흑색 유기 안료로서 아닐린 블랙, 락탐 블랙 및 퍼릴렌 블랙 중에서 선택된 1종 이상을 병행하여 사용할 수 있으며 이에 제한되는 것은 아니다.As a black organic pigment, one or more types selected from aniline black, lactam black, and perylene black can be used in combination, but are not limited thereto.

흑색 무기 안료는 카본블랙, 산화크롬, 산화철 및 티탄블랙을 들 수 있다.Black inorganic pigments include carbon black, chromium oxide, iron oxide, and titanium black.

또한 청색 안료의 구체예로는 C.I 피그먼트 블루 15:6, C.I 피그먼트 블루 15:4, C.I 피그먼트 블루 60, C.I 피그먼트 블루 16 등을 들 수 있다.In addition, specific examples of the blue pigment include C.I Pigment Blue 15:6, C.I Pigment Blue 15:4, C.I Pigment Blue 60, and C.I Pigment Blue 16.

상기 흑색 유기 안료, 흑색 무기 안료 및 청색 안료의 비율은, 각각 70 내지 95 중량%, 1 내지 15 중량%, 및 1 내지 20 중량%일 수 있다.The proportions of the black organic pigment, black inorganic pigment, and blue pigment may be 70 to 95% by weight, 1 to 15% by weight, and 1 to 20% by weight, respectively.

상기 흑색 유기 안료 및 흑색 무기 안료가 함께 사용되는 경우 유전 특성이 낮고, 동시에 높은 착색력을 갖는 점에서 바람직할 수 있다.When the black organic pigment and the black inorganic pigment are used together, it may be preferable in that they have low dielectric properties and high coloring power at the same time.

또한, 상기 착색제는 필요에 따라서 선택적으로 색보정제를 더 포함할 수 있다. 상기 색보정제로는 안트라퀴논계 안료 또는 페릴렌계 안료 등의 축합다환 안료, 프탈로시아닌 안료 또는 아조안료 등의 유기안료가 사용될 수 있다.Additionally, the colorant may optionally further include a color corrector as needed. As the color corrector, condensed polycyclic pigments such as anthraquinone-based pigments or perylene-based pigments, and organic pigments such as phthalocyanine pigments or azo pigments may be used.

상기 착색제는 흑색 감광성 수지 조성물 총 중량에 대하여 1 내지 50 중량%, 바람직하기로 5 내지 40 중량%로 함유될 수 있다. 착색제의 함량이 상기 범위 미만이면 차광성이 충분치 않아 상기 언급한 효과를 확보할 수 없고, 반대로 상기 범위를 초과하면 패터닝 후 얻어진 패턴의 품질이 저하될 우려가 있으므로, 상기 범위 내에서 적절히 사용될 수 있다.The colorant may be contained in an amount of 1 to 50% by weight, preferably 5 to 40% by weight, based on the total weight of the black photosensitive resin composition. If the content of the colorant is less than the above range, the light blocking effect is not sufficient and the above-mentioned effects cannot be secured. Conversely, if the content of the colorant exceeds the above range, there is a risk that the quality of the pattern obtained after patterning may deteriorate, so it can be appropriately used within the above range. .

결합제 수지(B)Binder Resin (B)

결합제 수지(B)는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물(B1)을 포함하여 공중합 반응으로 얻어지는 공중합체인 것을 특징으로 한다: The binder resin (B) is characterized in that it is a copolymer obtained through a copolymerization reaction containing a compound (B1) represented by the following formula (1):

[화학식 1][Formula 1]

상기 식에서 In the above equation

R1은 수소원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타내며, 여기에서 상기 알킬기는 수산기로 치환될 수 있으며;R1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, where the alkyl group may be substituted with a hydroxyl group;

R2는 단순결합 또는 헤테로 원자가 포함되거나 포함되지 않는 C1~C20의 지방족 또는 방향족 탄화수소를 나타낸다.R2 represents a C1 to C20 aliphatic or aromatic hydrocarbon with or without a simple bond or hetero atom.

상기에서 R2로는, 예를 들어 C1~C10의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬렌기, C2~C10의 직쇄 또는 분지쇄의 알케닐렌기, C3~C12의 치환 또는 비치환된 시클로알킬렌기, C3~C12의 치환 또는 비치환된 시클로알케닐렌기, 치환 또는 비치환된 페닐렌기, 및 아릴렌기로 이루어진 군에서 선택되는 구조 등을 들 수 있다.In the above, R2 includes, for example, a C1-C10 straight-chain or branched alkylene group, a C2-C10 straight-chain or branched alkenylene group, a C3-C12 substituted or unsubstituted cycloalkylene group, and a C3-C12 straight-chain alkenylene group. Structures selected from the group consisting of substituted or unsubstituted cycloalkenylene groups, substituted or unsubstituted phenylene groups, and arylene groups may be mentioned.

또한, 상기 결합제 수지(B)는 상기 (B1) 화합물과 하기 (B2) 및 (B3) 화합물 중 적어도 1종을 포함하여 공중합 반응으로 얻어지는 공중합체인 것을 특징으로 한다.In addition, the binder resin (B) is characterized in that it is a copolymer obtained through a copolymerization reaction containing the compound (B1) and at least one of the compounds (B2) and (B3) below.

(B2): 불포화 카르복실기 함유 단량체(B2): Monomer containing unsaturated carboxyl group

(B3): (B1) 및 (B2)와 공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 화합물 (B3): Compound having an unsaturated bond capable of copolymerization with (B1) and (B2)

상기 결합제 수지(B)의 구성단위의 전체 몰수에 대한 상기 (B1)으로부터 유도되는 구성단위의 비율은 20 내지 90몰%인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 40 내지 70몰%로 포함될 수 있다. 상기 (B1)이 20몰% 미만으로 포함되는 경우에는 아웃가스 발생량을 감소시키는 효과가 부족해 지며, 90몰%를 초과하는 경우에는 현상액에 대한 용해도가 낮아져 패턴 형성이 어려운 문제가 발생되어 바람직하지 않다.The ratio of the structural units derived from (B1) to the total number of moles of structural units of the binder resin (B) is preferably 20 to 90 mol%, and more preferably 40 to 70 mol%. If (B1) is included in less than 20 mol%, the effect of reducing the amount of outgassing is insufficient, and if it exceeds 90 mol%, the solubility in the developer is lowered, making pattern formation difficult, which is not desirable. .

상기 (B1)으로부터 유도되는 구성단위 비율은 결합제 수지(B)의 구성단위의 전체 몰수에 대하여 50몰%를 초과하는 것이 더욱 바람직하다.It is more preferable that the proportion of structural units derived from (B1) above exceeds 50 mol% with respect to the total number of moles of structural units of the binder resin (B).

상기 결합제 수지(B)에 상기 (B2)가 함유되는 경우, 상기 결합제 수지(B)의 구성단위의 합계 몰수에 대한 상기 (B2)로부터 유도되는 구성단위의 비율은 0 초과 70몰% 이하인 것이 바람직하다. 상기 (B3)가 함유되는 경우, 상기 결합제 수지(B)의 구성단위의 합계 몰수에 대한 상기 (B3)로부터 유도되는 구성단위의 비율은 0 초과 70몰% 이하인 것이 바람직하다. When the binder resin (B) contains the above (B2), the ratio of the structural units derived from the above (B2) to the total number of moles of the structural units of the binder resin (B) is preferably greater than 0 and not more than 70 mol%. do. When the above (B3) is contained, the ratio of the structural units derived from the above (B3) to the total number of moles of the structural units of the binder resin (B) is preferably greater than 0 and not more than 70 mol%.

상기 결합제 수지(B)는 광이나 열의 작용에 의한 반응성 및 알칼리 용해성을 가지며, 착색제를 비롯한 고형분의 분산매로서 작용하며, 결착 수지의 기능을 수행하는 것을 의미한다. The binder resin (B) has reactivity and alkali solubility under the action of light or heat, acts as a dispersion medium for solids including colorants, and performs the function of a binder resin.

상기 불포화 카르복실기 함유 단량체(B2)로는, 예를 들어, 불포화 모노카르복실산이나, 불포화 디카르복실산, 불포화 트리카르복실산 등의 분자 중에 1개 이상의 카르복실기를 갖는 불포화 카르복실산 등을 들 수 있다.Examples of the unsaturated carboxyl group-containing monomer (B2) include unsaturated carboxylic acids having one or more carboxyl groups in the molecule, such as unsaturated monocarboxylic acids, unsaturated dicarboxylic acids, and unsaturated tricarboxylic acids. there is.

상기 불포화 모노카르복실산으로는, 예를 들어, 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, α-클로로아크릴산, 신남산 등을 들 수 있다Examples of the unsaturated monocarboxylic acids include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, α-chloroacrylic acid, and cinnamic acid.

상기 불포화 디카르복실산으로서는, 예를 들어, 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 시트라콘산, 메사콘산 등을 들 수 있다.Examples of the unsaturated dicarboxylic acids include maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, and mesaconic acid.

상기 불포화 다가 카르복실산은 산무수물일수도 있으며, 구체적으로는 말레산 무수물, 이타콘산 무수물, 시트라콘산 무수물 등을 들 수 있다. 또한, 상기 불포화 다가 카르복실산은 그의 모노(2-메타크릴로일옥시알킬)에스테르일 수도 있으며, 예컨대, 숙신산모노(2-아크릴로일옥시에틸), 숙신산모노(2-메타크릴로일옥시에틸), 프탈산모노(2-아크릴로일옥시에틸), 프탈산모노(2-메타크릴로일옥시에틸) 등 일 수 있다. 상기 불포화 다가 카르복실산은 그 양말단 디카르복시중합체의 모노(메타)아크릴레이트일 수도 있으며, 예컨대, ω-카르복시폴리카프로락톤모노아크릴레이트, ω-카르복시폴리카프로락톤모노메타크릴레이트 등을 들수 있다.The unsaturated polyhydric carboxylic acid may be an acid anhydride, and specific examples include maleic anhydride, itaconic anhydride, and citraconic anhydride. In addition, the unsaturated polyhydric carboxylic acid may be its mono(2-methacryloyloxyalkyl) ester, for example, mono(2-acryloyloxyethyl) succinate, mono(2-methacryloyloxyethyl) succinate. ), monophthalate (2-acryloyloxyethyl), monophthalate (2-methacryloyloxyethyl), etc. The unsaturated polyhydric carboxylic acid may be a mono(meth)acrylate of a dicarboxylic polymer at both ends, and examples include ω-carboxypolycaprolactone monoacrylate, ω-carboxypolycaprolactone monomethacrylate, etc.

상기 카르복실기 함유 단량체는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The above carboxyl group-containing monomers can be used individually or in combination of two or more types.

상기 (B1) 및 (B2)와 공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 화합물(B3)로는, 예를 들면 스티렌, α-메틸스티렌, o-비닐톨루엔, m-비닐톨루엔, p-비닐톨루엔, p-클로로스티렌, o-메톡시스티렌, m-메톡시스티렌, p-메톡시스티렌, o-비닐벤질메틸에테르, m-비닐벤질메틸에테르, p-비닐벤질메틸에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르,m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르, 인덴 등의 방향족 비닐 화합물; 메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, n-프로필아크릴레이트, n-프로필메타크릴레이트, i-프로필아크릴레이트, i-프로필메타크릴레이트, n-부틸아크릴레이트, n-부틸메타크릴레이트, i-부틸아크릴레이트, i-부틸메타크릴레이트, sec-부틸아크릴레이트, sec-부틸메타크릴레이트, t-부틸아크릴레이트, t-부틸메타크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-히드록시프로필메타크릴레이트, 3-히드록시프로필아크릴레이트, 3-히드록시프로필메타크릴레이트, 2-히드록시부틸아크릴레이트, 2-히드록시부틸메타크릴레이트, 3-히드록시부틸아크릴레이트, 3-히드록시부틸메타크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트, 4-히드록시부틸메타크릴레이트, 알릴아크릴레이트, 알릴메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 페닐아크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 2-메톡시에틸아크릴레이트, 2-메톡시에틸메타크릴레이트, 2-페녹시에틸아크릴레이트, 2-페녹시에틸메타크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜아크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시프로필렌글리콜아크릴레이트, 메톡시프로필 렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜아크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜메타크릴레이트, 이소보르닐아크릴레이트, 이소보르닐메타크릴레이트, 디시클로펜타디에닐아크릴레이트, 디시클로펜타디에틸메타크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필메타크릴레이트, 글리세롤모노아크릴레이트, 글리세롤모노메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 에스테르류; 2-아미노에틸아크릴레이트, 2-아미노에틸메타크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸메타크릴레이트, 2-아미노프로필아크릴레이트, 2-아미노프로필메타크릴레이트, 2-디메틸아미노프로필아크릴레이트, 2-디메틸아미노프로필메타크릴레이트, 3-아미노프로필아크릴레이트, 3-아미노프로필메타크릴레이트, 3-디메틸아미노프로필아크릴레이트, 3-디메틸아미노프로필메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 아미노알킬에스테르류; 글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 글리시딜에스테르류; 아세트산비닐, 프로피온산비닐, 부티르산비닐, 벤조산비닐 등의 카르복실산 비닐에스테르류; 비닐메틸에테르, 비닐에틸에테르, 알릴글리시딜에테르 등의 불포화에테르류; 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴, 시안화비닐리덴 등의 시안화 비닐 화합물; 아크릴아미드, 메타크릴아미드, α-클로로아크릴아미드, N-2-히드록시에틸아크릴아미드, N-2-히드록시에틸메타크릴아미드 등의 불포화 아미드류; 말레이미드, N-페닐말레이미드. N-시클로헥실말레이미드 등의 불포화 이미드류; 1,3-부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 지방족 공액 디엔류; 및 폴리스티렌, 폴리메틸아크릴레이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리-n-부틸아크릴레이트, 폴리-n-부틸메타크릴레이트, 폴리실록산의 중합체 분자쇄의 말단에 모노아크릴로일기 또는 모노메타크릴로일기를 갖는 거대 단량체류 등을 들 수 있다. 이들 단량체는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.Compounds (B3) having an unsaturated bond capable of copolymerization with the above (B1) and (B2) include, for example, styrene, α-methylstyrene, o-vinyltoluene, m-vinyltoluene, p-vinyltoluene, and p-chloro. Styrene, o-methoxystyrene, m-methoxystyrene, p-methoxystyrene, o-vinylbenzyl methyl ether, m-vinylbenzyl methyl ether, p-vinylbenzyl methyl ether, o-vinylbenzyl glycidyl ether, Aromatic vinyl compounds such as m-vinylbenzyl glycidyl ether, p-vinylbenzyl glycidyl ether, and indene; Methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-propyl methacrylate, i-propyl acrylate, i-propyl methacrylate, n-butylacrylate, n-butyl methacrylate, i-butyl acrylate, i-butyl methacrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl methacrylate, t-butyl acrylate, t-butyl methacrylate, 2-hydroxy Ethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate Roxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 3-hydroxybutyl acrylate, 3-hydroxybutyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, allyl acrylate Latex, allyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, phenyl acrylate, phenyl methacrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 2-methoxyethyl methacrylate Crylate, 2-phenoxyethyl acrylate, 2-phenoxyethyl methacrylate, methoxydiethylene glycol acrylate, methoxydiethylene glycol methacrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, methoxytriethylene glycol methacrylate Latex, methoxypropylene glycol acrylate, methoxypropylene glycol methacrylate, methoxydipropylene glycol acrylate, methoxydipropylene glycol methacrylate, isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate, dicyclopentadiene Nyl acrylate, dicyclopentadiethyl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl methacrylate, glycerol monoacrylate, glycerol monomethacrylate unsaturated carboxylic acid esters such as; 2-Aminoethyl acrylate, 2-aminoethyl methacrylate, 2-dimethylaminoethyl acrylate, 2-dimethylaminoethyl methacrylate, 2-aminopropyl acrylate, 2-aminopropyl methacrylate, 2-dimethyl Unsaturated carboxyl such as aminopropyl acrylate, 2-dimethylaminopropyl methacrylate, 3-aminopropyl acrylate, 3-aminopropyl methacrylate, 3-dimethylaminopropyl acrylate, and 3-dimethylaminopropyl methacrylate. acid aminoalkyl esters; Unsaturated carboxylic acid glycidyl esters such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate; Carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, and vinyl benzoate; unsaturated ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, and allyl glycidyl ether; vinyl cyanide compounds such as acrylonitrile, methacrylonitrile, α-chloroacrylonitrile, and vinylidene cyanide; unsaturated amides such as acrylamide, methacrylamide, α-chloroacrylamide, N-2-hydroxyethyl acrylamide, and N-2-hydroxyethyl methacrylamide; Maleimide, N-phenylmaleimide. Unsaturated imides such as N-cyclohexylmaleimide; Aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene, and chloroprene; and a monoacryloyl group or monomethacryloyl group at the end of the polymer molecule chain of polystyrene, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, poly-n-butylacrylate, poly-n-butyl methacrylate, and polysiloxane. Examples include large monomers with These monomers can be used individually or in combination of two or more types.

상기 결합제 수지(B)는 중량평균분자량이 5,000 내지 50,000이 되도록 직접 중합하거나 구입하여 사용한다. 상기 범위의 분자량 분포도를 갖는 결합제 수지(B)는 경도가 높으며, 높은 잔막율 뿐만 아니라 현상액 중의 비-노출부의 용해성이 탁월하며, 해상도를 향상시킬 수 있다.The binder resin (B) is directly polymerized or purchased so that the weight average molecular weight is 5,000 to 50,000. The binder resin (B) having a molecular weight distribution in the above range has high hardness, not only has a high residual film rate, but also has excellent solubility of non-exposed parts in the developer, and can improve resolution.

상기 결합제 수지(B)는 흑색 감광성 수지 조성물 총 중량에 대하여 5 내지 80 중량%, 바람직하기로 5 내지 50 중량%로 사용될 수 있다. 이러한 함량은 현상액에 대한 용해도와, 패턴 형성 등을 다각적으로 고려하여 선정된 범위로서, 상기 범위 내에서 사용할 경우 현상액에 대한 용해성이 충분하여 패턴 형성이 용이하며, 현상시에 노광부의 화소 부분의 막감소가 방지되어 비화소 부분의 누락성이 양호해진다.The binder resin (B) may be used in an amount of 5 to 80% by weight, preferably 5 to 50% by weight, based on the total weight of the black photosensitive resin composition. This content is a range selected based on various considerations such as solubility in the developer and pattern formation. When used within the above range, the solubility in the developer is sufficient so that pattern formation is easy, and the film of the pixel portion of the exposed area is used during development. Decrease is prevented, and missingness of non-pixel parts becomes good.

광중합성photopolymerizability 화합물(C) Compound (C)

상기 광중합성 화합물(C)는, 특별히 한정되지 않으나, 카르복실기 함유 불포화 단량체의 중합체, 카르복실기 함유 불포화 단량체 및 그와 공중합 가능한 불포화 결합을 갖는 단량체와의 공중합체 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상이 사용될 수 있다.The photopolymerizable compound (C) is not particularly limited, but is one selected from the group consisting of a polymer of an unsaturated monomer containing a carboxyl group, a copolymer of an unsaturated monomer containing a carboxyl group and a monomer having an unsaturated bond copolymerizable therewith, and a combination thereof. The above can be used.

상기 카르복실기 함유 불포화 단량체로는 불포화 모노카르복실산, 불포화 디카르복실산, 불포화 트리카르복실산 등이 사용가능하다. 구체적으로, 불포화 모노카르복실산으로서는, 예를 들면 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, α-클로로아크릴산, 신남산 등을 들 수 있다. 불포화 디카르복실산으로서는, 예를 들면 푸마르산, 메사콘산, 이타콘산, 시트라콘산 등을 들 수 있다. 불포화 다가 카르복실산은 산무수물일 수도 있으며, 구체적으로는 말레산 무수물, 이타콘산 무수물, 시트라콘산 무수물 등을 들 수 있다. 또한, 불포화 다가 카르복실산은 ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트 등의 양 말단에 카르복실기와 수산기를 갖는 폴리머의 모노(메타)아크릴레이트류, 모노메틸말레인산, 5-노보넨-2-카르복실산, 모노-2-((메타)아크릴로일옥시)에틸프탈레이트, 모노-2-((메타)아크릴로일옥시)에틸숙시네이트 등이 가능하다. 이들 불포화 카르복실기를 갖는 화합물들은 각각 단독으로 또는 둘 이상을 조합하여 사용할 수 있으며, 그중 아크릴산 및 메타크릴산이 공중합 반응성 및 현상액에 대한 용해성이 우수하여 바람직하게 사용될 수 있다.As the carboxyl group-containing unsaturated monomer, unsaturated monocarboxylic acid, unsaturated dicarboxylic acid, unsaturated tricarboxylic acid, etc. can be used. Specifically, examples of unsaturated monocarboxylic acids include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, α-chloroacrylic acid, and cinnamic acid. Examples of unsaturated dicarboxylic acids include fumaric acid, mesaconic acid, itaconic acid, and citraconic acid. The unsaturated polyhydric carboxylic acid may be an acid anhydride, and specific examples include maleic anhydride, itaconic anhydride, and citraconic anhydride. In addition, unsaturated polyhydric carboxylic acids include mono(meth)acrylates of polymers having carboxyl groups and hydroxyl groups at both ends, such as ω-carboxypolycaprolactone mono(meth)acrylate, monomethylmaleic acid, and 5-norbornene-2- Carboxylic acid, mono-2-((meth)acryloyloxy)ethyl phthalate, mono-2-((meth)acryloyloxy)ethyl succinate, etc. are possible. These compounds having an unsaturated carboxyl group can be used individually or in combination of two or more, and among them, acrylic acid and methacrylic acid are preferably used because they have excellent copolymerization reactivity and solubility in a developer.

또한, 카르복실기 함유 불포화 단량체와 공중합이 가능한 단량체로는 방향족 비닐 화합물, 불포화 카르복실레이트 화합물, 불포화 아미노알킬카르복실레이트 화합물, 비닐시아나이드 화합물, 불포화 옥세탄카르복실레이트 화합물 등이 사용될 수 있으며, 이들은 1종 단독으로 또한 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.In addition, monomers that can be copolymerized with carboxyl group-containing unsaturated monomers include aromatic vinyl compounds, unsaturated carboxylate compounds, unsaturated aminoalkylcarboxylate compounds, vinyl cyanide compounds, and unsaturated oxetane carboxylate compounds. One type can be used alone or in combination of two or more types.

구체적으로, 상기 공중합이 가능한 단량체로는 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔 등의 방향족 비닐 화합물; 메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 부틸메타크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실레이트 화합물; 아미노에틸아크릴레이트 등의 불포화 아미노알킬카르복실레이트 화합물; 글리시딜메타크릴레이트 등의 불포화 글리시딜카르복실레이트 화합물; 비닐아세테이트, 비닐프로피오네이트 등의 비닐카르복실레이트 화합물; 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴 등의 비닐시아나이드 화합물; 3-메틸-3-아크릴옥시메틸옥세탄, 3-메틸-3-메타크릴옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-아크릴옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-메타크릴옥시메틸옥세탄, 3-메틸-3-아크릴옥시에틸옥세탄, 3-메틸-3-메타크릴옥시에틸옥세탄, 3-메틸-3-아크릴옥시에틸옥세탄, 3-메틸-3-메타크릴옥시에틸옥세탄 등의 불포화 옥세탄카르복실레이트 화합물 등을 들 수 있다.Specifically, the copolymerizable monomers include aromatic vinyl compounds such as styrene, α-methylstyrene, and vinyl toluene; Methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, butyl acrylate, butyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate unsaturated carboxylate compounds such as crylates; Unsaturated aminoalkylcarboxylate compounds such as aminoethyl acrylate; Unsaturated glycidyl carboxylate compounds such as glycidyl methacrylate; Vinyl carboxylate compounds such as vinyl acetate and vinyl propionate; Vinyl cyanide compounds such as acrylonitrile, methacrylonitrile, and α-chloroacrylonitrile; 3-methyl-3-acryloxymethyloxetane, 3-methyl-3-methacryloxymethyloxetane, 3-ethyl-3-acryloxymethyloxetane, 3-ethyl-3-methacryloxymethyloxetane, 3-methyl-3-acryloxyethyloxetane, 3-methyl-3-methacryloxyethyloxetane, 3-methyl-3-acryloxyethyloxetane, 3-methyl-3-methacryloxyethyloxetane, etc. unsaturated oxetane carboxylate compounds, etc.

상기 광중합성 화합물은 흑색 감광성 수지 조성물 총 중량에 대하여 1 내지 30 중량%, 바람직하게는 2 내지 15 중량%로 사용될 수 있다. 이러한 함량 범위는 최종 얻어지는 화소정의막의 강도나 평활성이 양호하게 되는 경향 등을 다각적으로 고려하여 선정된 범위로서, 만약 그 함량이 상기 범위 미만이면 강도 및 평활성이 부족하고, 반대로 상기 범위를 초과할 경우 높은 강도로 인해 패터닝이 용이하지 않은 문제가 발생하므로, 상기 범위 내에서 적절히 사용된다.The photopolymerizable compound may be used in an amount of 1 to 30% by weight, preferably 2 to 15% by weight, based on the total weight of the black photosensitive resin composition. This content range is a range selected by taking into account various aspects such as the tendency for the final pixel defining film to have good strength and smoothness. If the content is less than the above range, the strength and smoothness are insufficient, and if the content exceeds the above range, the strength and smoothness are insufficient. Since patterning is not easy due to high strength, it is appropriately used within the above range.

광중합light curing 개시제initiator (D)(D)

상기 광중합 개시제(D)로는 감광성 수지 조성물에 일반적으로 사용되는 광중합 개시제로서 아세토페논계, 벤조페논계, 트리아진계, 티오크산톤계, 옥심계, 벤조인계, 안트라센계, 안트라퀴논계, 및 비이미다졸계 화합물 등이 사용될 수 있으며, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용이 가능하다. The photopolymerization initiator (D) includes photopolymerization initiators commonly used in photosensitive resin compositions, such as acetophenone-based, benzophenone-based, triazine-based, thioxanthone-based, oxime-based, benzoin-based, anthracene-based, anthraquinone-based, and biimide. Dazole-based compounds, etc. can be used, and they can be used alone or in combination of two or more types.

상기 아세토페논계 화합물로는 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-메틸프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온의 올리고머 등을 들 수 있다.The acetophenone-based compounds include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 2-hydroxy-1-[4-(2-hydroxy Toxy)phenyl]-2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-1-(4-methylthiophenyl)-2-morpholinopropan-1-one, 2- Oligomers of benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl[4-(1-methylvinyl)phenyl]propan-1-one, etc. can be mentioned.

상기 벤조페논계 화합물로는 벤조페논, 벤조일 안식향산, 벤조일 안식향산 메틸, 4-페닐 벤조페논, 히드록시 벤조페논, 아크릴화 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸 아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸 아미노) 벤조페논 등을 들 수 있다.The benzophenone-based compounds include benzophenone, benzoyl benzoic acid, methyl benzoyl benzoate, 4-phenyl benzophenone, hydroxy benzophenone, acrylated benzophenone, 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone, 4,4'- Bis(diethylamino)benzophenone, etc. can be mentioned.

상기 트리아진계 화합물로는 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(3',4'-디메톡시 스티릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시 나프틸)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(p-메톡시 페닐)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(p-트릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-비페닐-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 비스(트리클로로 메틸)-6-스티릴-s-트리아진, 2-(나프토 1-일)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시 나프토 1-일)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2,4-트리클로로 메틸(피페로닐)-6-트리아진, 2,4-트리클로로 메틸(4'-메톡시 스티릴)-6-트리아진 등을 들 수 있다. The triazine-based compounds include 2,4,6-trichloro-s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(3',4'-dimethyl Toxy styryl)-4,6-bis(trichloro methyl)-s-triazine, 2-(4'-methoxy naphthyl)-4,6-bis(trichloro methyl)-s-triazine, 2 -(p-methoxy phenyl)-4,6-bis(trichloro methyl)-s-triazine, 2-(p-tryl)-4,6-bis(trichloro methyl)-s-triazine, 2 -Biphenyl-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, bis(trichloromethyl)-6-styryl-s-triazine, 2-(naphtho 1-yl)-4,6 -bis(trichloro methyl)-s-triazine, 2-(4-methoxy naphtho 1-yl)-4,6-bis(trichloro methyl)-s-triazine, 2,4-trichloro methyl (piperonyl)-6-triazine, 2,4-trichloromethyl(4'-methoxy styryl)-6-triazine, and the like.

상기 티오크산톤계 화합물로는 2-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등을 들 수 있다.Examples of the thioxanthone-based compounds include 2-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, and 1-chloro-4-propoxythioxanthone. there is.

상기 옥심계 화합물로는 o-에톡시카르보닐-α-옥시이미노-1-페닐프로판-1-온 등을 들 수 있으며, 시판품으로 Ciba사의 OXE-01, OXE-02가 대표적이다.The oxime-based compounds include o-ethoxycarbonyl-α-oxyimino-1-phenylpropan-1-one, and commercially available products include OXE-01 and OXE-02 from Ciba.

상기 벤조인계 화합물로는 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다. Examples of the benzoin-based compounds include benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzyldimethyl ketal.

상기 안트라센계 화합물로는 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센 또는 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센 등을 들 수 있다.Examples of the anthracene-based compound include 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, or 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene. .

상기 안트라퀴논계 화합물로는 2-에틸 안트라퀴논, 옥타메틸 안트라퀴논, 1,2-벤즈 안트라퀴논, 2,3-디페닐 안트라퀴논 등을 들 수 있다. Examples of the anthraquinone-based compounds include 2-ethyl anthraquinone, octamethyl anthraquinone, 1,2-benz anthraquinone, and 2,3-diphenyl anthraquinone.

상기 비이미다졸계 화합물로는 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸, 4,4',5,5' 위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 이미다졸 화합물 등을 들 수 있다.The biimidazole-based compounds include 2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis(2,3-dichlorophenyl) )-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetra(alkoxyphenyl)biimidazole, 2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetra(trialkoxyphenyl)biimidazole, the phenyl group at the 4,4',5,5' position is attached to the carboalkoxy group. and imidazole compounds substituted by .

이러한 광중합 개시제는 흑색 감광성 수지 조성물 총 중량에 대하여 0.01 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.01 내지 5 중량%로 사용할 수 있다. 이러한 함량 범위는 광중합성 화합물의 광중합 속도 및 최종 얻어지는 도막의 물성을 고려한 것으로, 상기 범위 미만이면 중합 속도가 낮아 전체적인 공정 시간이 길어질 수 있으며, 반대로 상기 범위를 초과할 경우 과도한 반응에 의해 도막의 물성이 오히려 저하될 수 있기 때문에, 상기 범위 내에서 적절히 사용한다. This photopolymerization initiator can be used in an amount of 0.01 to 10% by weight, preferably 0.01 to 5% by weight, based on the total weight of the black photosensitive resin composition. This content range takes into account the photopolymerization speed of the photopolymerizable compound and the physical properties of the final coating film. If it is less than the above range, the polymerization rate may be low and the overall process time may be prolonged. Conversely, if it exceeds the above range, the physical properties of the coating film may be damaged due to excessive reaction. Since this may actually decrease, it should be used appropriately within the above range.

상기 광중합 개시제는 광중합 개시 보조제를 조합하여 사용할 수도 있다. 광중합 개시제를 병용하면 흑색 감광성 수지의 조성물은 더욱 고감도가 되어 생산성이 향상되므로 바람직하다. 사용되는 광중합 개지 보조제로는 아민 화합물 및 카르복실산 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물이 바람직하게 사용될 수 있다.The photopolymerization initiator may be used in combination with a photopolymerization initiation auxiliary agent. The combined use of a photopolymerization initiator is preferable because the black photosensitive resin composition becomes more sensitive and productivity improves. As the photopolymerization opening aid used, one or more compounds selected from the group consisting of amine compounds and carboxylic acid compounds may be preferably used.

상기 광중합 개시 보조제는 광중합 개시제 1몰당 통상적으로 10몰 이하, 바람직하게는 0.01 내지 5몰의 범위 내에서 사용하는 것이 바람직하다. 상기 범위 내에서 광중합 개시 보조제를 사용할 경우 중합 효율을 높여 생산성 향상 효과를 기대할 수 있다.The photopolymerization initiation aid is typically used in an amount of 10 mol or less, preferably 0.01 to 5 mol, per mole of photopolymerization initiator. When a photopolymerization initiation aid is used within the above range, productivity improvement effects can be expected by increasing polymerization efficiency.

(F)용제(F)Solvent

상기 용제로는 상기 언급한 바의 조성을 용해 또는 분산시킬 수 있고, 다른 구성성분들과 반응하지 않는 것이면 어느 것이든 사용이 가능하며, 특별히 한정되지 않는다. 바람직하게는 도포성 및 건조성 면에서 비점이 100 내지 200인 유기 용제를 사용할 수 있다.The solvent may be any solvent that can dissolve or disperse the composition mentioned above and does not react with other components, and is not particularly limited. Preferably, an organic solvent having a boiling point of 100 to 200 can be used in terms of applicability and drying properties.

대표적으로, 사용 가능한 용제로는 알킬렌글리콜 모노알킬에테르류, 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류, 방향족 탄화수소류, 케톤류, 저급 및 고급 알코올류, 환상 에스테르류 등을 들 수 있다. 보다 구체적으로, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜 모노프로필에테르, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르 등의 알킬렌글리콜 모노알킬에테르류; 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜 디프로필에테르, 디에틸렌글리콜 디부틸에테르 등의 디에틸렌글리콜 디알킬에테르류; 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노프로필에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트 및 메톡시펜틸아세테이트 등의 알킬렌글리콜 알킬에테르아세테이트류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥사놀, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 글리세린 등의 알코올류; 3-에톡시프로피온산 에틸, 3-메톡시프로피온산 메틸 등의 에스테르류; γ-부티로락톤 등의 환상 에스테르류 등을 들 수 있다. Typically, usable solvents include alkylene glycol monoalkyl ethers, alkylene glycol alkyl ether acetates, aromatic hydrocarbons, ketones, lower and higher alcohols, and cyclic esters. More specifically, alkylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, and ethylene glycol monobutyl ether; Diethylene glycol dialkyl ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, and diethylene glycol dibutyl ether; Alkylene glycol alkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methoxybutyl acetate, and methoxypentyl acetate. Ryu; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and mesitylene; Ketones such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; Alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, and glycerin; esters such as ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-methoxypropionate; Cyclic esters, such as γ-butyrolactone, etc. are mentioned.

상기 용제는 흑색 감광성 수지 조성물이 100 중량%를 만족하도록 잔량으로 포함될 수 있다. 이러한 함량은 조성의 분산 안정성 및 제조 공정에서의 공정 용이성(예, 도포성)을 고려하여 선정된 범위이다. The solvent may be included in a residual amount so that the black photosensitive resin composition satisfies 100% by weight. This content is a range selected in consideration of the dispersion stability of the composition and ease of processing in the manufacturing process (e.g., applicability).

(G)첨가제(G) Additives

본 발명의 흑색 감광성 수지 조성물은 다양한 목적을 위하여 이 분야에 공지된 첨가제를 더 포함할 수 있다. 이러한 첨가제로는 기판과의 접착성을 높이기 위한 것으로, 카르복실기, 메타크릴로일기, 이소시아네이트기, 에폭시기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 반응성 치환기를 갖는 실란 커플링제를 들 수 있다. 실란 커플링제의 예로는 트리메톡시실릴 벤조산, γ-메타크릴 옥시프로필 트리메톡시 실란, 비닐트리아세톡시실란, 비닐 트리메톡시실란, γ-이소시아네이트 프로필 트리에톡시실란, γ-글리시독시 프로필 트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있으면, 이것들은 단독 및 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 코팅성을 향상을 위해서는 계면활성제를 사용할 수 있는데, BM-1000, BM-1100(BM Chemie社), 프로라이드 FC-135/FC-170C/FC-430(스미토모 쓰리엠㈜), SH-28PA/-190/SZ-6032(도레 시리콘㈜)등의 불소계 계면 활성제를 사용할 수 있다.The black photosensitive resin composition of the present invention may further include additives known in the art for various purposes. Such additives are used to increase adhesion to the substrate and include silane coupling agents having a reactive substituent selected from the group consisting of carboxyl group, methacryloyl group, isocyanate group, epoxy group, and combinations thereof. Examples of silane coupling agents include trimethoxysilyl benzoic acid, γ-methacryl oxypropyl trimethoxy silane, vinyltriacetoxysilane, vinyl trimethoxysilane, γ-isocyanate propyl triethoxysilane, γ-glycidoxy propyl. Trimethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, etc. can be used individually or in combination of two or more. To improve coating properties, surfactants can be used: BM-1000, BM-1100 (BM Chemie), Prolide FC-135/FC-170C/FC-430 (Sumitomo 3M Co., Ltd.), SH-28PA/- A fluorine-based surfactant such as 190/SZ-6032 (Doray Silicone Co., Ltd.) can be used.

또한, 본 발명은 In addition, the present invention

상기 흑색 감광성 수지 조성물로 제조된 화소정의막을 포함하는 유기발광소자 및 양자점발광소자에 관한 것이다.It relates to an organic light emitting device and a quantum dot light emitting device including a pixel defining film made from the black photosensitive resin composition.

또한, 본 발명은 In addition, the present invention

상기 유기발광소자 또는 양자점발광소자를 포함하는 디스플레이 장치에 관한 것이다. It relates to a display device including the organic light emitting device or quantum dot light emitting device.

포토리쏘그래피 방법에 따른 화소정의막을 형성하는 통상의 패터닝 공정은 다음과 같은 단계를 포함하여 이루어진다:A typical patterning process for forming a pixel defining layer according to a photolithography method includes the following steps:

a) 기판에 흑색 감광성 수지 조성물을 도포하는 단계;a) applying a black photosensitive resin composition to a substrate;

b) 용매를 건조하는 프리베이크 단계; b) prebake step of drying the solvent;

c) 얻어진 피막 위에 포토 마스크를 대어 활성 광선을 조사해 노광부를 경화시키는 단계; c) curing the exposed area by placing a photo mask on the obtained film and irradiating actinic light;

d) 알칼리 수용액을 이용하여 미노광부를 용해하는 현상 공정을 수행하는 단계; 및 d) performing a development process to dissolve the unexposed area using an aqueous alkaline solution; and

e) 건조 및 포스트 베이크 수행단계e) Drying and post-bake performance steps

상기 도포는 원하는 두께를 얻을 수 있도록 롤 코터, 스핀 코터, 슬릿 앤드 스핀 코터, 슬릿 코터(다이 코터라고도 하는 경우가 있음), 잉크젯 등의 도포 장치를 이용한 습식 코팅 방법에 의해 수행될 수 있다.The application may be performed by a wet coating method using a coating device such as a roll coater, spin coater, slit and spin coater, slit coater (sometimes called a die coater), or inkjet to obtain the desired thickness.

프리베이크는 오븐, 핫 플레이트 등에 의해 가열함으로써 행해진다. 이때 프리베이크에 있어서의 가열 온도 및 가열 시간은 사용하는 용제에 따라 적의 선택 되어 예를 들면, 80 내지 150℃의 온도로 1 내지 30분간 행해진다.Prebaking is performed by heating using an oven, hot plate, etc. At this time, the heating temperature and heating time in the prebake are appropriately selected depending on the solvent used, and are performed, for example, at a temperature of 80 to 150°C for 1 to 30 minutes.

또 프리베이크 후에 행해지는 노광은, 노광기에 의해 행해져 포토 마스크를 통하여 노광함으로써 패턴에 대응한 부분만을 감광시킨다. 이때 조사하는 빛은, 예를 들면, 가시광선, 자외선, X선 및 전자선 등이 가능하다.Additionally, exposure performed after prebaking is performed by an exposure machine and exposed through a photo mask to expose only the portion corresponding to the pattern. At this time, the light irradiated may be, for example, visible light, ultraviolet rays, X-rays, and electron beams.

노광 후의 알칼리 현상 비노광 부분의 제거되지 않는 부분의 감광성 수지 조성물을 제거하는 목적으로 행해져 이 현상에 의해 원하는 패턴이 형성된다. 이 알칼리 현상에 적합한 현상액으로는, 예를 들면 알칼리 금속이나 알칼리 토류 금속의 탄산염의 수용액 등을 사용할 수 있다. 특히, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산 리튬등의 탄산염을 1~3 중량%를 함유하는 미만 알칼리 수용액을 이용하여 10~50℃, 바람직하게는 20~40℃의 온도 내에서 현상기 또는 초음파 세정기 등을 이용하여 수행한다.Alkaline development after exposure is performed for the purpose of removing the photosensitive resin composition from the non-removed portion of the unexposed portion, and a desired pattern is formed by this development. As a developer suitable for this alkaline development, for example, an aqueous solution of carbonate of an alkali metal or an alkaline earth metal can be used. In particular, use a slightly alkaline aqueous solution containing 1 to 3% by weight of carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate, and lithium carbonate, and use a developer or ultrasonic cleaner at a temperature of 10 to 50 ℃, preferably 20 to 40 ℃. and perform it.

포스트 베이크는 패터닝 된 막과 기판과의 밀착성을 높이기 위해서 수행하며, 80~220℃에서 10~120 분의 조건으로 열처리를 통해 이루어진다. 포스트 베이크 프리베이크와 같게, 오븐, 핫 플레이트 등을 이용하여 수행한다.Post-baking is performed to increase the adhesion between the patterned film and the substrate, and is performed through heat treatment at 80 to 220°C for 10 to 120 minutes. Post-bake, like pre-bake, is performed using an oven, hot plate, etc.

본 발명의 흑색 감광성 수지 조성물로 제조된 화소정의막은 광학밀도, 밀착성, 전기 절연성, 차광성 등의 물성이 우수할뿐만 아니라, 내열성 및 내용제성 등이 우수하여 유기발광소자, 양자점발광소자, 및 상기 유기발광소자 또는 양자점발광소자를 포함하는 디스플레이 장치의 신뢰도를 향상시킬 수 있다.The pixel defining film manufactured from the black photosensitive resin composition of the present invention not only has excellent physical properties such as optical density, adhesion, electrical insulation, and light blocking, but also has excellent heat resistance and solvent resistance, and is used in organic light-emitting devices, quantum dot light-emitting devices, and the above. The reliability of a display device including an organic light emitting device or a quantum dot light emitting device can be improved.

이하에서, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명한다. 그러나, 하기의 실시예는 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하기 위한 것으로서, 본 발명의 범위가 하기의 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다. 하기의 실시예는 본 발명의 범위 내에서 당업자에 의해 적절히 수정, 변경될 수 있다. Below, the present invention will be described in more detail through examples. However, the following examples are intended to illustrate the present invention in more detail, and the scope of the present invention is not limited by the following examples. The following examples can be appropriately modified and changed by those skilled in the art within the scope of the present invention.

제조예Manufacturing example 1: 결합제 수지 A의 합성 1: Synthesis of binder resin A

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하였다. 모노머 적하 로트로서, 3,4-에폭시트리시클로데칸-8-일(메타)아크릴레이트와 3,4-에폭시트리시클로데칸-9-일(메타)아크릴레이트를 몰비 50:50으로 혼합한 혼합물 177부, 아크릴산 23부, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 4부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 40부를 첨가하여 교반을 준비하였다. 연쇄이동제 적하조로서, n-도데칸티올 6부, PGMEA 24부를 첨가하여 교반을 준비하였다. 이후 플라스크에 PGMEA 395부를 첨가하고 플라스크내 분위기를 공기에서 질소로 교환한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온시켰다. 그 후 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하를 개시하였다. 적하는 90℃를 유지하면서, 각각 2 시간 동안 진행하였고 1 시간 후에 110℃까지 승온하여 5 시간동안 유지하여 고형분 산가가 80㎎KOH/g인 수지를 얻었다. GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량은 9,000이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.2이었다.A flask equipped with a stirrer, thermometer reflux cooling pipe, dropping lot, and nitrogen introduction pipe was prepared. As a monomer dropping lot, a mixture of 3,4-epoxytricyclodecan-8-yl(meth)acrylate and 3,4-epoxytricyclodecan-9-yl(meth)acrylate at a molar ratio of 50:50 177 Stirring was prepared by adding 23 parts of acrylic acid, 4 parts of t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, and 40 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA). As a chain transfer agent dropping tank, 6 parts of n-dodecanethiol and 24 parts of PGMEA were added and stirred. Afterwards, 395 parts of PGMEA was added to the flask, the atmosphere in the flask was changed from air to nitrogen, and the temperature of the flask was raised to 90°C while stirring. After that, the monomer and chain transfer agent were started dropwise from the dropping lot. The dropping was carried out for 2 hours while maintaining 90℃, and after 1 hour, the temperature was raised to 110℃ and maintained for 5 hours to obtain a resin with a solid acid value of 80mgKOH/g. The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC was 9,000, and the molecular weight distribution (Mw/Mn) was 2.2.

제조예Manufacturing example 2: 결합제 수지 B의 합성 2: Synthesis of binder resin B

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하였다. 모노머 적하 로트로서, 3,4-에폭시트리시클로데칸-8-일(메타)아크릴레이트와 3,4-에폭시트리시클로데칸-9-일(메타)아크릴레이트를 몰비 50:50으로 혼합한 혼합물 20부, 아크릴산 30부, 시클로헥실말레이미드 110부, 2-히드록시메타크릴레이트 40부 t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 4부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 40부를 첨가하여 교반을 준비하였다. 연쇄이동제 적하조로서, n-도데칸티올 6부, PGMEA 24부를 첨가하여 교반을 준비하였다. 이후 플라스크에 PGMEA 395부를 첨가하고 플라스크내 분위기를 공기에서 질소로 교환한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온시켰다. 그 후 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하를 개시하였다. 적하는 90℃를 유지하면서, 각각 2 시간 동안 진행하였고 1 시간 후에 110℃까지 승온하여 5 시간동안 유지하여 고형분 산가가 110㎎KOH/g인 수지를 얻었다. GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량은 8,000이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.2이었다.A flask equipped with a stirrer, thermometer reflux cooling pipe, dropping lot, and nitrogen introduction pipe was prepared. As a monomer dropping lot, a mixture of 3,4-epoxytricyclodecan-8-yl(meth)acrylate and 3,4-epoxytricyclodecan-9-yl(meth)acrylate at a molar ratio of 20:50. 30 parts acrylic acid, 110 parts cyclohexylmaleimide, 40 parts 2-hydroxymethacrylate, 4 parts t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, and 40 parts propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA). Stirring was prepared. As a chain transfer agent dropping tank, 6 parts of n-dodecanethiol and 24 parts of PGMEA were added and stirred. Afterwards, 395 parts of PGMEA was added to the flask, the atmosphere in the flask was changed from air to nitrogen, and the temperature of the flask was raised to 90°C while stirring. After that, the monomer and chain transfer agent were started dropwise from the dropping lot. Dropping was carried out for 2 hours while maintaining 90°C, and after 1 hour, the temperature was raised to 110°C and maintained for 5 hours to obtain a resin with a solid acid value of 110 mgKOH/g. The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC was 8,000, and the molecular weight distribution (Mw/Mn) was 2.2.

제조예Manufacturing example 3: 결합제 수지 C의 합성 3: Synthesis of binder resin C

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하였다. 모노머 적하 로트로서, 3,4-에폭시트리시클로데칸-8-일(메타)아크릴레이트와 3,4-에폭시트리시클로데칸-9-일(메타)아크릴레이트를 몰비 50:50으로 혼합한 혼합물 20부, 아크릴산 30부, 시클로헥실말레이미드 80부, 2-히드록시메타크릴레이트 70부 t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 4부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 40부를 첨가하여 교반을 준비하였다. 연쇄이동제 적하조로서, n-도데칸티올 6부, PGMEA 24부를 첨가하여 교반을 준비하였다. 이후 플라스크에 PGMEA 395부를 첨가하고 플라스크내 분위기를 공기에서 질소로 교환한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온시켰다. 그 후 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하를 개시하였다. 적하는 90℃를 유지하면서, 각각 2 시간 동안 진행하였고 1 시간 후에 110℃까지 승온하여 5 시간동안 유지하여 고형분 산가가 100㎎KOH/g인 수지를 얻었다. GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량은 10,100이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.2이었다.A flask equipped with a stirrer, thermometer reflux cooling pipe, dropping lot, and nitrogen introduction pipe was prepared. As a monomer dropping lot, a mixture of 3,4-epoxytricyclodecan-8-yl(meth)acrylate and 3,4-epoxytricyclodecan-9-yl(meth)acrylate at a molar ratio of 20:50. 30 parts acrylic acid, 80 parts cyclohexylmaleimide, 70 parts 2-hydroxymethacrylate, 4 parts t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, and 40 parts propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA). Stirring was prepared. As a chain transfer agent dropping tank, 6 parts of n-dodecanethiol and 24 parts of PGMEA were added and stirred. Afterwards, 395 parts of PGMEA was added to the flask, the atmosphere in the flask was changed from air to nitrogen, and the temperature of the flask was raised to 90°C while stirring. After that, the monomer and chain transfer agent were started dropwise from the dropping lot. Dropping was carried out for 2 hours while maintaining 90°C, and after 1 hour, the temperature was raised to 110°C and maintained for 5 hours to obtain a resin with a solid acid value of 100 mgKOH/g. The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC was 10,100, and the molecular weight distribution (Mw/Mn) was 2.2.

제조예Manufacturing example 4: 결합제 수지 D의 합성 4: Synthesis of binder resin D

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크에 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 40부, 로필렌글리콜모노메틸에테르 140부를 도입하여, 플라스크내 분위기를 공기에서 질소로 한 후, 100℃로 승온 후 벤질말레이미드 10부, 메틸메타크릴레이트 60부, 메타크릴산 30부 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 136부를 포함하는 혼합물에 아조비스이소부티로니트릴 4부를 첨가한 용액을 적하 로트로부터 2시간에 걸쳐 플라스크에 적하하여 80℃에서 4시간 더 교반을 계속하였다. 이어서, 플라스크내 위기를 질소에서 공기로 하고, 글리시딜메타크릴레이트 15부 트리스디메틸아미노메틸페놀 0.5부 및 히드로퀴논 0.1부를 플라스크내에 투입하여 110℃에서 6시간 반응을 계속하고, 고형분 산가가 110㎎KOH/g인 수지 A를 얻었다. GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량은 12,000이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.5이었다.40 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate and 140 parts of propylene glycol monomethyl ether were introduced into a flask equipped with a stirrer, thermometer reflux cooling pipe, dropping funnel, and nitrogen introduction pipe, and the atmosphere in the flask was changed from air to nitrogen, and then 100% After raising the temperature to ℃, a solution containing 10 parts of benzylmaleimide, 60 parts of methyl methacrylate, 30 parts of methacrylic acid, and 136 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate was added and 4 parts of azobisisobutyronitrile was added from the dropping lot. It was added dropwise to the flask over 2 hours, and stirring was continued at 80°C for an additional 4 hours. Next, the atmosphere in the flask was changed from nitrogen to air, 15 parts of glycidyl methacrylate, 0.5 parts of trisdimethylaminomethylphenol, and 0.1 part of hydroquinone were added into the flask, reaction was continued at 110°C for 6 hours, and the solid acid value was 110 mg. Resin A with KOH/g was obtained. The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC was 12,000, and the molecular weight distribution (Mw/Mn) was 2.5.

실시예Example 1~7 및 1~7 and 비교예Comparative example 1~2: 흑색 감광성 수지 조성물의 제조 1-2: Preparation of black photosensitive resin composition

혼합기에 용제를 첨가한 후 착색제, 결합제 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 첨가제를 첨가하고, 교반을 통해 균일하게 혼합하여 흑색 감광성 수지 조성물을 제조하였다. 이때 조성은 하기 표 1의 조성에 따랐다.After adding the solvent to the mixer, the colorant, binder resin, photopolymerizable compound, photopolymerization initiator, and additives were added and mixed uniformly through stirring to prepare a black photosensitive resin composition. At this time, the composition followed the composition in Table 1 below.

실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 실시예4Example 4 실시예5Example 5 실시예6Example 6 실시예7Example 7 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative example 2 착색제(A)Colorant (A) 카본 블랙carbon black 8.008.00 8.008.00 8.008.00 8.008.00 8.008.00 A-1A-1 A-2A-2 8.008.00 8.008.00 결합제 수지(B)Binder Resin (B) 수지 A(제조예1) Resin A (Production Example 1) 7.247.24 3.623.62 3.623.62 7.247.24 2.102.10 수지 B(제조예2)Resin B (Production Example 2) 7.247.24 3.623.62 7.247.24 수지 C(제조예3)Resin C (Production Example 3) 7.247.24 3.623.62 수지 D(제조예4)Resin D (Production Example 4) 7.247.24 5.145.14 광중합성 화합물(C)Photopolymerizable compound (C) 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트
(Kayarad DPHA: 닛본 카야꾸㈜))
Dipentaerythritol hexaacrylate
(Kayarad DPHA: Nippon Kayaku Co., Ltd.))
3.123.12 3.123.12 3.123.12 3.123.12 3.123.12 3.123.12 3.123.12 3.123.12 3.123.12
광중합 개시제(D)Photopolymerization initiator (D) 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카바졸-3-일]-에타논-1-(O-아세틸옥심) (Irgacure OXE-02: Ciba사)1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazol-3-yl]-ethanone-1-(O-acetyloxime) (Irgacure OXE-02: Ciba) 0.310.31 0.310.31 0.310.31 0.310.31 0.310.31 0.310.31 0.310.31 0.310.31 0.310.31 용제(E)Solvent (E) 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트Propylene glycol monomethyl ether acetate 80.0080.00 80.0080.00 80.0080.00 80.0080.00 80.0080.00 80.0080.00 80.0080.00 80.0080.00 80.0080.00 첨가제additive 안료 분산제 (폴리에스테르계)Pigment dispersant (polyester type) 1.331.33 1.331.33 1.331.33 1.331.33 1.331.33 1.331.33 1.331.33 1.331.33 1.331.33

(단위: 중량%)(Unit: weight%)

주) main)

A-1: 흑색 유기 안료(아닐린 블랙) 71 중량% + 흑색 무기 안료 (카본블랙) 12 중량% + 청색안료(피그먼트 블루 60) 17 중량%A-1: Black organic pigment (aniline black) 71% by weight + black inorganic pigment (carbon black) 12% by weight + blue pigment (pigment blue 60) 17% by weight

A-2: 흑색 유기 안료(아닐린 블랙) 75 중량% + 흑색 무기 안료 (카본블랙) 10 중량% + 청색안료(피그먼트 블루 60) 15 중량%A-2: 75% by weight of black organic pigment (aniline black) + 10% by weight of black inorganic pigment (carbon black) + 15% by weight of blue pigment (Pigment Blue 60)

시험예Test example 1: 아웃가스 특성 평가 1: Outgas characteristic evaluation

(1) 착색 기판 제작(1) Production of colored substrate

5cm X 5cm의 유리기판(코닝社)을 중성세제 및 물로 세정 후 건조하였다. 상기 유리기판 상에 상기 실시예 및 비교예에서 제조된 흑색 감광성 수지 조성물 각각을 최종 막 두께가 2.0㎛가 되도록 스핀 코팅을 하고, 80 내지 120℃에서 선 소성하여 1 내지 2분간 건조하여 용제를 제거하였다. 그런 다음, 노광량 40 내지 100 mJ/cm2로 노광하여 1cm X 3cm 패턴을 형성하고 알카리 수용액을 사용하여 비노광부를 제거하였다. 이어서 220℃에서 후 소성을 20분간 하여 착색기판을 제조하였다.A 5cm x 5cm glass substrate (Corning) was washed with neutral detergent and water and dried. Each of the black photosensitive resin compositions prepared in the Examples and Comparative Examples above was spin-coated on the glass substrate so that the final film thickness was 2.0㎛, pre-baked at 80 to 120°C, and dried for 1 to 2 minutes to remove the solvent. did. Then, it was exposed at an exposure dose of 40 to 100 mJ/cm 2 to form a 1cm Subsequently, post-baking was performed at 220°C for 20 minutes to prepare a colored substrate.

(2) 아웃가스 평가(2) Outgas evaluation

아웃가스 평가는 상기에서 제조된 착색기판을 230℃에서 30분간 열분해시키면서 포집된 화합물을 Py-GC/MS로 분석하는 방법으로 실시되었다. 분석결과는 하기 표 2에 나타내었다.Outgas evaluation was conducted by thermally decomposing the colored substrate prepared above at 230°C for 30 minutes and analyzing the collected compounds using Py-GC/MS. The analysis results are shown in Table 2 below.

항목item 실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예
3
Example
3
실시예4Example 4 실시예5Example 5 실시예
6
Example
6
실시예
7
Example
7
비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative example 2
아웃가스량Out gas amount 7,805,
702
7,805,
702
7,867,
164
7,867,
164
8,282,
034
8,282,
034
7,850,
039
7,850,
039
8,095,
337
8,095,
337
9,500,
387
9,500,
387
9,638,
720
9,638,
720
15,365,
555
15,365,
555
12,930,
859
12,930,
859

상기 표 2에서 확인되는 바와 같이, 본 발명의 흑색 감광성 조성물로 제조된 실시예 패턴의 경우, 비교예 패턴과 비교하여 아웃가스 발생량이 현저하게 감소된다.As can be seen in Table 2, in the case of the example pattern made with the black photosensitive composition of the present invention, the amount of outgassing is significantly reduced compared to the comparative example pattern.

Claims (10)

착색제(A), 결합제 수지(B), 광중합성 화합물(C), 광중합 개시제(D), 및 용제를 포함하는 흑색 감광성 수지 조성물로,
상기 착색제(A)는 흑색 안료를 포함하고, 상기 흑색 안료는 카본 블랙만을 포함하며,
상기 결합제 수지(B)가 하기 화학식 1로 표시되는 화합물(B1)을 포함하고,
상기 흑색 감광성 수지 조성물로 제조된 패턴은, 230℃에서 30분간 열분해하여 포집된 화합물을 Py-GC/MS로 분석하였을 때 아웃가스 방출량이 8,282,034 이하인, 유기발광소자 및 양자점발광소자의 화소정의막(Pixel Defined Layer) 형성용 흑색 감광성 수지 조성물:
[화학식 1]

상기 식에서
R1은 수소원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타내며, 여기에서 상기 알킬기는 수산기로 치환될 수 있으며;
R2는 단순결합 또는 헤테로 원자가 포함되거나 포함되지 않는 C1~C20의 지방족 또는 방향족 탄화수소를 나타낸다.
A black photosensitive resin composition containing a colorant (A), a binder resin (B), a photopolymerizable compound (C), a photopolymerization initiator (D), and a solvent,
The colorant (A) includes a black pigment, and the black pigment includes only carbon black,
The binder resin (B) includes a compound (B1) represented by the following formula (1),
The pattern made from the black photosensitive resin composition is a pixel definition film (pixel definition film) of an organic light-emitting device and a quantum dot light-emitting device with an outgassing amount of 8,282,034 or less when the compound collected by thermal decomposition at 230° C. for 30 minutes is analyzed by Py-GC/MS. Black photosensitive resin composition for forming Pixel Defined Layer:
[Formula 1]

In the above equation
R1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, where the alkyl group may be substituted with a hydroxyl group;
R2 represents a C1 to C20 aliphatic or aromatic hydrocarbon with or without a simple bond or hetero atom.
청구항 1에 있어서,
흑색 감광성 수지 조성물 총 중량에 대하여 (A)착색제 1~50 중량%, (B)결합제 수지 5~80 중량%, (C)광중합성 화합물 1~30 중량%, (D)광중합 개시제 0.01~10 중량%, (F)잔량의 용제를 포함하는 것을 특징으로 하는 흑색 감광성 수지 조성물.
In claim 1,
Based on the total weight of the black photosensitive resin composition, (A) 1 to 50% by weight of colorant, (B) 5 to 80% by weight of binder resin, (C) 1 to 30% by weight of photopolymerizable compound, (D) 0.01 to 10% by weight of photopolymerization initiator. %, (F) A black photosensitive resin composition comprising a residual amount of solvent.
청구항 1에 있어서,
상기 결합제 수지(B)는 화학식 1로 표시되는 화합물(B1)의 구성단위 비율이 결합제 수지(B)의 구성단위의 전체 몰수에 대하여 20 내지 90몰%인 것을 특징으로 하는 흑색 감광성 수지 조성물.
In claim 1,
The binder resin (B) is a black photosensitive resin composition, characterized in that the ratio of the structural units of the compound (B1) represented by Chemical Formula 1 is 20 to 90 mol% with respect to the total number of moles of the structural units of the binder resin (B).
청구항 1에 있어서,
상기 결합제 수지(B)의 중량평균분자량이 5,000에서 50,000인것을 특징으로 하는 흑색 감광성 수지 조성물.
In claim 1,
A black photosensitive resin composition, wherein the binder resin (B) has a weight average molecular weight of 5,000 to 50,000.
청구항 3에 있어서
상기 화학식 1로 표시되는 화합물(B1)의 구성단위 비율이 결합제 수지(B)의 구성단위의 전체 몰수에 대하여 50몰%를 초과하는 것을 특징으로 하는 흑색 감광성 수지 조성물.
In claim 3
A black photosensitive resin composition, characterized in that the ratio of the structural units of the compound (B1) represented by the above formula (1) exceeds 50 mol% with respect to the total number of moles of the structural units of the binder resin (B).
청구항 1에 있어서,
상기 광중합 개시제(D)는 아세토페논계, 벤조페논계, 트리아진계, 티오크산톤계, 옥심계, 벤조인계, 안트라센계, 안트라퀴논계, 및 비이미다졸계 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 흑색 감광성 수지 조성물.
In claim 1,
The photopolymerization initiator (D) is one selected from the group consisting of acetophenone-based, benzophenone-based, triazine-based, thioxanthone-based, oxime-based, benzoin-based, anthracene-based, anthraquinone-based, and biimidazole-based compounds. A black photosensitive resin composition characterized by the above.
청구항 1 내지 6 중 어느 한 항의 흑색 감광성 수지 조성물로 제조된 화소정의막을 포함하는 유기발광소자.An organic light emitting device comprising a pixel defining layer made of the black photosensitive resin composition of any one of claims 1 to 6. 청구항 1 내지 6 중 어느 한 항의 흑색 감광성 수지 조성물로 제조된 화소정의막을 포함하는 양자점발광소자.A quantum dot light emitting device comprising a pixel defining film made of the black photosensitive resin composition of any one of claims 1 to 6. 청구항 7의 유기발광소자가 포함된 디스플레이 장치. A display device including the organic light emitting element of claim 7. 청구항 8의 양자점발광소자가 포함된 디스플레이 장치. A display device including the quantum dot light emitting device of claim 8.
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