KR20180089068A - Method and workpiece of electroforming. - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a mold manufactured by electroforming, which does not control growth in a height direction, but controls growth in a lateral direction, and a manufacturing method thereof. According to the present invention, the mold manufactured by electroforming comprises: a step of forming a photosensitive layer on a substrate; a step of forming a protrusion part and a space part in the photosensitive layer through exposure and development processes, wherein the lower width of the space part is developed in a taper shape with a wider lower width than that of an upper width of the space part; a step of performing sputtering on the protrusion part and the space part; a step of forming an electroforming workpiece in a sputtered part through electroforming; and a step of removing the substrate and a photosensitive material from the electroforming workpiece to form a first type mold.

Description

전주가공법에 의하여 제작되는 금형과 그 제작방법{Method and workpiece of electroforming.}TECHNICAL FIELD The present invention relates to a mold made by a method for manufacturing electric pole and a method of manufacturing the same.

본 발명은 전주가공법에 의하여 제작되는 금형과 그 제작방법 그리고 전주가공법으로 제작한 금형을 사용하여 만든 가공물에 대한 것이다.The present invention relates to a mold manufactured by a pole forming method, a method of manufacturing the same, and a work made using a mold manufactured by a pole forming method.

본 발명에서의 금형은 최초에는 주로 감광재를 사용하여, 노광 및 현상을 하는 공정을 사용하여 금형을 제작한다. 감광재를 사용하여 얻어진 3차원 형태에 전주가공을 통하여 형상을 만들어 금형을 제작한다. In the present invention, a mold is initially manufactured using a photosensitive material mainly by a process of exposure and development. The shape is made through the electroforming to the three-dimensional shape obtained by using the photosensitive material, and a mold is produced.

본 발명에서의 금형은 대부분 돌출부와 오목부를 갖는다. 상기 돌출부는 대부분의 경우에 테이퍼를 형성하도록 하여, 금형에서 가공된 가공물의 탈형을 용이하게 한다.Most of the molds of the present invention have protrusions and recesses. The protrusions form a taper in most cases to facilitate demoulding of the workpiece processed in the mold.

이렇게 하여 제작이 된 금형은 반복적으로 동이란 가공물을 제작하는 데 사용이되며, 도금욕조에 투입을 하는 전주금형으로 사용이 되기도 한다.The mold thus manufactured is used repeatedly to manufacture workpieces for use in the manufacture of copper, and is also used as a preform die for putting into a plating bath.

본 발명의 금형에 의하여 만들어지는 가공물에는 수많은 종류가 있다.There are many kinds of workpieces made by the mold of the present invention.

첫째는, 전주가공법에 의하여 제작되는 금형을 사용하여, 3차원 형상이 이루어 지는 UV형틀, 에폭시 형틀, 폴리이미드 형틀, 실리콘 형틀, 기타 수지형틀을 만들고, 상기 형틀에 실버페이스트와 같은 도전성 물질을 충진하고 경화시키어 각종회로를 구성하는 가공물이 있다. 이러한 가공물에는 칩온 필름, FPCB, 초정밀 회로, 투명 열선, 전자파 차폐, 기타 전자회로 등을 들 수가 있다.First, UV molds, epoxy molds, polyimide molds, silicon molds, and other resin molds in which a three-dimensional shape is formed are formed by using molds produced by the electric pole forming method, and the molds are filled with a conductive material such as silver paste And curing them to form various circuits. Such workpieces include chip-on-film, FPCB, ultra-precision circuit, transparent heat wire, electromagnetic wave shielding, and other electronic circuits.

둘째는, 전주가공법의 의하여 제작되는 금형을 도금욕조에 넣어서 전주가공을 실행하여 3차원 형상이 이루어지는 전주가공물을 얻을 수가 있다.Secondly, the electroforming process is carried out by inserting a metal mold produced by the electroforming process into a plating bath to obtain a polished workpiece having a three-dimensional shape.

이러한 전주가공물에는 각종 인쇄용 메쉬, 스크린 메쉬, 필터, 3차원 멤스 부품 등이 있다. 특히 전주가공물을 수직으로 성장시켜서 두께가 두꺼운 메쉬를 만들거나 3차원 초정밀 가공물을 제작할 수가 있다. 전주금형에 전주가공을 실행하여 3차원 형상을 갖는 전주가공물을 만들되, 상기 전주가공물이 수직으로 성장하도록 하여 두께가 두껍고 개구도가 큰 제품을 만들 수가 있는 큰 장점이 있다.Such prismatic workpieces include various printing meshes, screen meshes, filters, and three-dimensional MEMS parts. Particularly, it is possible to make a thick mesh by vertically growing the CNC workpieces, or to produce 3D precise workpieces. The electroforming process is performed on the electroforming mold to make the electroformed workpiece having the three-dimensional shape, and the electroformed workpiece is allowed to grow vertically, thereby making it possible to produce a product having a large thickness and a large opening degree.

세째는, 상기 둘째 방법에 의하여 제작이 된 전주가공물에 시트상의 필름을 접합하여 제품을 만들거나, 상기 둘째 방법에 의하여 제작이 된 전주가공물에 액상 수지를 충진하고, 탈형시켜 제품을 만들 수가 있다. Third, a product can be made by bonding a sheet-like film to a polished workpiece made by the second method, filling the polished workpiece with the polished workpiece manufactured by the second method, and demolding the product.

본 발명의 방법으로 만들어지는 금형과 가공물, 전주금형과 전주가공물은 주로 메쉬, 미세회로, 칩온 필름, 멤스 가공, 3차원 부품가공에 획기적인 생산성을 가진 제작방법으로 사용이 될 수가 있다. Molds and workpieces made by the method of the present invention, electroforming molds and electroformed workpieces can be used as production methods with remarkable productivity in mesh, microcircuit, chip-on film, MEMS processing, and three-dimensional part processing.

가공물이 비교적 초 정밀한 마이크로미터 단위의 크기로 목적물 제작되는 것에 큰 효과가 있다. 본 발명에서 만들어지는 금형을 전주가공용 금형으로 만들어 사용이 되는 경우에, 3차원 형상을 가지는 부품가공용으로 사용이 되므로 일반적으로 행해지는 도금 기술과는 구분된다. 도금 기술은 표면에 도금물질을 형성시키는 것이라면, 본 발명은 필요한 부품을 형성시키는 가공기술이다.There is a great effect that a workpiece is manufactured in a target in a micrometer-unit size with a relatively high precision. In the case of using the metal mold produced by the present invention as a metal mold for electroplating, it is used for machining a part having a three-dimensional shape, and thus is distinguished from a plating technique generally used. If the plating technique is to form a plating material on the surface, the present invention is a processing technique for forming necessary parts.

본 발명을 이용하여 전주금형을 만들 경우, 본 발명의 전주금형을 사용하여 수직성장이 가능한 전주가공물을 만들 수가 있는 특징이 있다.When the electroforming die is made by using the present invention, the electroforming workpiece capable of vertically growing can be produced by using the electroforming die of the present invention.

본 발명은 이러한 수직성장을 이루는 전주가공물의 제작방법과 그 방법으로 얻어진 전주가공물도 본 발명의 대상으로 한다. The present invention is also directed to a method for manufacturing such a pole-shaped workpiece and a polepiece obtained by the method.

수직성장을 가능하도록 하는 전주금형과 그 제조방법도 본 발명의 대상이다.The electroforming die and the manufacturing method thereof capable of vertical growth are also objects of the present invention.

일반적으로 도금에 의하여 성장되는 전주가공물은 전주금형에 의하여 도금용액 안에서 성장한다. 본 발명은 수직성장이 가능하도록 하는 전주금형과 상기 전주금형을 통하여 수직 성장된 전주가공물을 형성하도록 하는 것이 핵심이다. In general, electroformed workpieces grown by plating grow in the plating solution by electroforming molds. It is essential that the electroforming die capable of vertical growth and the electroformed workpiece vertically grown through the electroforming die are formed.

본 발명은 수직성장을 하도록 만든 전주가공물의 가공방법과 그 방법으로 이루어진 결과물도 포함한다. 특히 그 결과물의 대표적인 실시예로는 메쉬, 필터, 회로 등이다.
The present invention also includes a method of processing a polished workpiece and a result of the method. Typical examples of the result are meshes, filters, circuits, and the like.

본 발명에서 사용되는 금형은 돌출부와 오목부를 가진다. The mold used in the present invention has a protruding portion and a concave portion.

본 발명에서 사용되는 금형은 일반금형와 전주금형의 2가지 종류가 있다. There are two types of molds used in the present invention, general molds and electric pole molds.

전주금형에서는 오목부에는 주로 비도전성 탄력체로 충진을 한다. In the electroforming mold, the recess is mainly filled with non-conductive elastic body.

전주금형의 가공의 시작점은 도전체 기판에 감광재를 적층하며, 상기 감광재에 노광기술을 통하여 테이퍼 형상의 노광을 주로 시행한다. 이후 현상공정을 통하여 테이퍼 형상의 공간부를 형성한다. 테이퍼 형상으로 전주금형이 제작하는 것은 가공물의 이형을 용이하게 하기 위함이다.The starting point of the machining of the electroforming die is to laminate a photosensitive material on a conductive substrate, and to expose the photosensitive material to a tapered shape through an exposure technique. Thereafter, a tapered space portion is formed through the developing process. The electric pole die is manufactured in a tapered shape in order to facilitate release of the workpiece.

본 발명은 주로 두께가 두꺼운 가공물의 제작에 많이 응용이 된다. 만약 테이퍼가 형성되지 않는다면, 피치는 작고 두께가 두꺼운 가공물을 탈형시키는 것은 현실적으로 불가능한 상황이다. 대부분의 경우, 본 발명을 적용하는 것은 테이퍼가 형성된 노광공법을 사용하는 것을 전제로 하나, 특수한 경우에는 테이퍼를 주지 않을 경우도 물론 포함한다.The present invention is widely applied to the production of thick workpieces. If a taper is not formed, it is practically impossible to demould a workpiece having a small pitch and a large thickness. In most cases, the application of the present invention is based on the assumption that a tapered exposure method is used, but in a special case, the case of not giving a taper is also included.

종래에도 전주가공물을 만들어 사용해 왔다. 이는 도금용액 속에 전주금형을 넣고, 상기 전주금형에 도금을 하여 원하는 도금체를 만드는 것이다. In the past, polynomial workpieces have been made and used. This is to put a preform die in the plating solution, and to plated the preform die to make a desired plating body.

일반적으로 전기가 통하는 도전체로 이루어진 전주금형을 넣고, 상기 도전체 전주금형에 전기를 부가하면 금속이온이 이동하여 전주가공물이 형성된다. 상기 전주가공물을 상기 금형에서 탈형하여 전주가공물을 만든다. In general, when a preform metal mold made of a conductive conductor is inserted and electricity is added to the conductor preform metal mold, metal ions move to form a preform workpiece. The preform workpiece is demolded from the mold to produce a preform workpiece.

일반적으로 도전체 전주금형에 전주가공을 실행하게 되면, 전주 가공물은 수평방향(폭방향), 수직방향(높이방향)으로 동시 성장한다. Generally, when electroforming is performed on the conductive preform die, the electroformed workpieces simultaneously grow in the horizontal direction (width direction) and the vertical direction (height direction).

도금의 성장방향을 인위적으로 제어를 한다는 것은 용이한 일이 아니다.It is not easy to artificially control the growth direction of the plating.

본 발명에서는 수직방향의 성장을 유도하고, 수평방향의 성장을 억제하는 전주금형을 제공한다. According to the present invention, there is provided an electroforming die for inducing growth in the vertical direction and suppressing growth in the horizontal direction.

수평방향으로의 성장을 억제하는 방법으로, 전주금형에 형성되는 공간부에 도금용액의 유동이 거의 발생하지 않도록 하는 정체영역을 형성하게 한다.A stagnation region is formed in the space portion formed in the electroforming die so that the flow of the plating solution hardly occurs, by a method of suppressing the growth in the horizontal direction.

본 발명의 전주금형을 사용하면, 전주가공이 수직방향으로 성장됨에 따라 상기 정체영역도 함께 수직방향으로 함께 높아지는 것이 특징이다.
When the electroforming die of the present invention is used, as the electroforming is grown in the vertical direction, the stagnant regions are also elevated together in the vertical direction.

본 발명은 감광재를 사용하여 테이퍼가 형성된 3차원 형상을 얻고, 상기 3차원 형상에 전주가공을 실행하여 금형 또는 전주금형을 얻는다.In the present invention, a three-dimensional shape in which a taper is formed is obtained by using a photosensitive material, and electroforming is performed on the three-dimensional shape to obtain a mold or electroforming die.

상기 금형 또는 전주금형을 사용하여 3차원 형상을 지닌 가공물 또는 전주가공물을 제작한다. A workpiece or a polished workpiece having a three-dimensional shape is manufactured by using the mold or electroforming die.

본 발명에서는 먼저, 본 발명의 전주금형을 사용하여 전주가공을 실행하는 경우를 설명한다. 그 뒤에 본 발명의 금형을 제작하는 기술을 설명하기로 한다.In the present invention, first, a case in which electric pole machining is performed using the electroforming die of the present invention will be described. Hereinafter, a technique for manufacturing the mold of the present invention will be described.

본 발명의 전주금형으로 전주가공을 행할 때, 금속조직을 주로 수직 성장시키는 기술을 핵심으로 한다. 본 발명의 전주금형을 사용하여 3차원 입체 형상의 전주가공물은 제작하여 많은 산업영역에 활용될 수가 있다. The technique of mainly vertically growing the metal structure is the core when the electroforming is performed with the electroforming die of the present invention. The electroformed workpiece having a three-dimensional shape can be produced using the electroforming die of the present invention and utilized in many industrial fields.

본 발명의 전주금형의 특징은 다음과 같다.The features of the electroforming die of the present invention are as follows.

첫째, 본 발명의 전주금형은, 그 자체로 하나의 제품 또는 제품의 소재가 될 수가 있다. 본 발명에서의 전주금형은 그 자체로 전주가공물로 사용될 수도 있다. 따라서 청구범위를 포함하는 본 발명의 전반에 걸쳐서 전주금형은 전주가공물이 될 수도 있고, 전주가공을 위한 금형이 될 수도 있다. First, the electroforming die of the present invention can be a single product or a material of a product itself. The electroforming die in the present invention can be used as a workpiece for electroforming itself. Accordingly, throughout the present invention including claims, the electroforming die may be a preform workpiece or a metal mold for electroforming.

둘째, 본 발명의 전주금형은 반복적으로 전주가공을 실시하여 다량의 전주가공물을 생산할 수가 있는 금형으로 사용할 수가 있다. 이때는 전주금형이 돌출부와 오목부를 갖도록 하며, 상기 오목부는 포물선 형상을 가지는 실리콘을 충진한다. Second, the electroforming die of the present invention can be used as a mold capable of producing a large number of electroformed workpieces by repetitively performing electroforming. At this time, the electroforming die has protrusions and recesses, and the recesses fill the parabolic silicon.

오목부에 비도전체를 충진하되, 포물선 형상으로 충진하여 성장되는 전주가공물은 수직으로 성장을 하게 된다. The non-conductive body is filled in the concave portion, but the electro-conductive workpiece which is filled with the parabolic shape grows vertically.

세째, 본 발명의 전주금형은 수지 등을 사용하여 프레스 하거나, 성형할 수가 있는 금형으로 사용될 수가 있다. Third, the electroforming die of the present invention can be used as a mold capable of being pressed or formed by using a resin or the like.

본 발명의 대상이 되는 물품은 메쉬, 회로, 칩온필름, FPCB, 멤스 부품, 투명 열선, 인쇄용 메쉬, 필터, 전자파 차폐물, TSP 등의 다양한 것이다.The article to be the subject of the present invention is various such as mesh, circuit, chip-on film, FPCB, MEMS parts, transparent heat wire, printing mesh, filter, electromagnetic shielding, TSP and the like.

본 발명의 전주금형이 사용이 될 때, 또는 이와 같은 목적으로 전주금형이 만들어지는 과정에서 공간부는 탈형을 용이하게 하기 위하여 테이퍼 진 형상으로 구성된다.When the electroforming die of the present invention is used, or for the same purpose, the space portion is formed in a tapered shape to facilitate demoulding.

전주금형을 사용하여 도금을 할때, 수직성장을 시키기 위하여서는 수직방향으로는 성장하되, 수평방향으로는 성장이 되지 않도록 하여야 한다. 이를 위하여 수직방향으로는 새로운 금속이온이 공급되게 하고, 수평방향으로는 새로운 금속이온이 공급되지 않도록 하여야 한다. 본 발명에서는 전주가공물이 성장하더라도 이러한 수직성장이 유지가 되도록 환경이 조성되게 하여야 한다.When plating by using electroforming mold, it is necessary to grow in the vertical direction for vertical growth but not in the horizontal direction. To this end, new metal ions should be supplied in the vertical direction and new metal ions should not be supplied in the horizontal direction. In the present invention, an environment should be provided so that vertical growth can be maintained even if a preform workpiece is grown.

본 발명은 수직성장을 유도하는 전주가공물의 가공 방법을 사용한다. The present invention employs a method of processing a pole former to induce vertical growth.

이는 수직성장을 하게 하는 본 발명의 전주금형을 사용하면 된다. This can be accomplished by using the electroforming die of the present invention for vertical growth.

전주금형은 도전체 금형으로 구성된다. 상기 도전체 금형에는 돌출부와 공간부가 형성된다. 상기 공간부에는 포물선 형상으로 비도전성 물질을 충진 또는 코팅한다. The electric pole mold is composed of a conductive mold. The conductor mold has a protruding portion and a space portion. The space is filled or coated with a non-conductive material in a parabolic shape.

상기 공간부에는 정체영역이 형성된다. A stagnation region is formed in the space portion.

본 발명에서 수직성장이 가능토록 하는 전주금형에 전주가공을 실행한다. 전주가공물을 성장시키고, 전주금형에서 전주가공물을 탈형하면 수직성장으로 유도된 전주가공물이 만들어진다.In the present invention, electroforming is performed on the electroforming die capable of vertical growth. When a pole workpiece is grown and a pole workpiece is demolded from a pole pole mold, a pole pole workpiece led to vertical growth is made.

상기 전주가공물은 메쉬, 인쇄용 메쉬, 실버 페이스트를 사용하는 회로 형성용 메쉬, 필터, 전자파 차폐물 등을 들 수가 있다. The electroconductive workpiece may include a mesh, a printing mesh, a circuit forming mesh using a silver paste, a filter, an electromagnetic wave shielding material, and the like.

일반적으로 도전체 금형에 전주가공을 실행하게 되면, 전주 가공물은 폭방향의 성장과 동시에 높이방향으로 동시 성장을 하게 된다. Generally, when electroforming is performed on a conductive metal mold, the electroformed workpiece simultaneously grows in the height direction simultaneously with the growth in the width direction.

본 발명은 높이방향의 성장은 자유성장을 하게 하며, 수평방향의 성장은 도금용액의 정체영역에서 일어나게 하는 것을 특징으로 한다. The present invention is characterized in that growth in the height direction causes free growth and growth in the horizontal direction occurs in the stagnation region of the plating solution.

상기 수직성장이 일어남과 비례하여 상기 정체영역도 높아진다. The stagnation area also increases in proportion to the vertical growth.

본 발명으로 만들어진 전주가공물은 개구도가 큰 메쉬를 만들 수가 있는 특징이 있다. 특히 개구도가 크고 메쉬의 두께가 두꺼운 형상으로 만들 수가 있는 특징이 있다. The electroformed workpiece made according to the present invention is characterized in that a mesh having a large opening degree can be produced. Particularly, it has a feature that the opening degree is large and the thickness of the mesh can be made thick.

이는 본 발명인이 발명한 선광원 발생장치를 사용하면 대면적의 제품을 만들수가 있으며, 테이퍼진 형상으로 감광재를 노광시킬 수가 있다.The present invention can produce a large-area product by using the present invention, and expose the photosensitive material in a tapered shape.

본 발명에 의하여 제작된 전주가공물은 두께를 두껍게 만들 수가 있다. The electroformed workpieces produced by the present invention can be made thick.

이것은 도금의 성장방향을 제어함으로써 얻을 수가 있다. 폭 방향으로의 성장은 작게 하며, 높이 방향으로의 성장은 극대화하면 가공결과물의 두께를 두껍게 할 수가 있게 된다. This can be achieved by controlling the growth direction of the plating. The growth in the width direction is made small and the growth in the height direction is maximized, so that the thickness of the resultant product can be made thick.

본 발명에 의하여 제작되는 전주가공물은 극히 미세한 메쉬의 제작에도 사용된다. 메쉬의 피치를 70마이크로미터 이하, 메쉬의 선폭 두께를 15마이크로미터 이하, 메쉬의 두께를 30마이크로미터 이상, 메쉬의 크기가 각각 가로세로 1미터 이상의 크기로 만든다는 것을 현재의 기술로서는 거의 불가능하돠.The electroformed workpieces produced by the present invention are also used in the production of extremely fine meshes. It is almost impossible to make a mesh with a pitch of 70 micrometers or less, a mesh line width of 15 micrometers or less, a mesh thickness of 30 micrometers or more, and a mesh size of 1 meter or more, respectively.

그러나, 본 발명을 이용하면 용이하게 생산 가능하게 된다.
However, by using the present invention, production becomes easy.

본 발명은 감광재를 노광 및 현상하여 만들어진 3차원 형상에 전주가공을 통하여 금형을 제작하는 것을 기본적인 과정으로 한다. 이 과정을 통하여 테이퍼가 형성된 노광부의 형상을 금형에 활용한다.The basic process of the present invention is to fabricate a mold by electroforming to a three-dimensional shape produced by exposing and developing a photosensitive material. Through this process, the shape of the exposed portion formed with the taper is utilized in the mold.

본 발명을 활용하여, 극히 미세한 피치와 미세한 선폭 그리고 두께가 두꺼운 형상의 회로 또는 3차원 가공물을 만드는 금형을 제작하는 데 큰 기여를 할 수가 있다. The present invention can be utilized to make a great contribution to the production of a mold for forming circuits or three-dimensional workpieces with extremely fine pitches, minute line widths, and thicker thicknesses.

두꺼운 두께를 얻으려면 기본적으로 두꺼운 감광층을 형성한다. 이러한 두꺼운 감광층에 미세한 선폭과 피치의 패턴 또는 회로를 노광을 시키고, 현상공정을 실행하면 대부분 밑바닥까지 깨끗하게 현상이 되지 못한다.In order to obtain a thick thickness, a thick photosensitive layer is basically formed. When such a thick photosensitive layer is exposed to a pattern or circuit of fine line width and pitch, and the development process is carried out, most of it can not be developed to the bottom.

부분적으로는 현상이 원하는 수준이 된다 하더라도 넓은 면적에 걸쳐서 완전한 현상이 되는 경우가 거의 없다.In part, even if the phenomenon is at a desired level, there is almost no complete phenomenon over a large area.

이러한 경우에도 거의 온전한 형태의 금형을 제작할 수가 있는 방법을 본 발명에서 제시한다. 이러한 금형을 활용하여 본 발명에서는 전주금형을 만든다.Even in such a case, a method capable of manufacturing an almost complete mold is presented in the present invention. By utilizing such a mold, the present invention makes a mold of a pole.

본 발명에서는 만들어 지는 전주금형은 수직성장이 가능하도록 하는 전주금형을 만드는 것에 특징이 있다.In the present invention, the electroforming die to be produced is characterized in that it forms the electroforming die capable of vertical growth.

본 발명의 전주금형으로 전주가공을 실행할 때, 수직성장을 하도록 하게 하기 위하여 본 발명에서는 돌출부와 공간부를 형성한다.In the present invention, the projecting portion and the space portion are formed so as to allow vertical growth when the electroforming process is carried out with the electroforming die of the present invention.

상기 공간부에는 비도전체를 포물선 형상으로 충진을 시킨다.The space is filled with parabolas in a parabolic shape.

전주금형의 돌출부에서 도금이 시작되어 금속이 성장을 하게 되면, 수직방향으로는 계속 새로운 금속이온이 공급된다. 그러나 수평방향으로는 금속이온의 이동이 정지되어 도금이 일어나지 못하게 하여 수직성장을 하게 한다.Plating begins at the projecting part of the electroforming mold, and when the metal grows, new metal ions are continuously supplied in the vertical direction. However, in the horizontal direction, the movement of the metal ions is stopped to prevent the plating, thereby causing the vertical growth.

금속층이 성장함에 따라서 수평방향으로 금속이온을 공급하는 역할을 하는 정체영역도 계속 성장하게 하여 계속적으로 수직성장을 이루게 한다.As the metal layer grows, the stagnation region, which serves to supply the metal ions in the horizontal direction, also continues to grow, allowing vertical growth to continue.

본 발명에서는 노광부를 테이퍼 진 형상으로 노광을 시키는 것이 필요하다.In the present invention, it is necessary to expose the exposed portion in a tapered shape.

일반적인 평행광 노광기로는 경사도를 갖도록 노광을 시키는 것은 어렵다. 그러나 본 발명가가 발명한 렌티큐라를 사용한 선광원 발생장치를 사용하면, 렌티큐라의 기능를 통하여 노광시키는 빛에 각도를 줄 수가 있다. 또한 대면적의 노광을 용이하게 할 수가 있다.It is difficult to expose the substrate so as to have an inclination with a general parallel light exposure apparatus. However, when the luminous source generating apparatus using the lenticular according to the present invention is used, an angle can be given to the light to be exposed through the function of the lenticular. In addition, exposure of a large area can be facilitated.

본 발명은 선광원 발생장치가 주제가 아니므로 이에 대하여 상세한 설명은 하지 않는다. 그러나 본 발명의 금형의 제작에서는 선광원 발생장치를 가진 노광기가 매우 유용하게 사용이 된다.The present invention is not described in detail because the apparatus is not a subject. However, in the production of the mold according to the present invention, an exposure apparatus having a light source generating apparatus is very usefully used.

종래에는 극히 미세한 회로, 극히 미세한 메쉬 등과 같이 제품을 얻고자 할 때, 주로 에칭으로 가공을 하였다. 그러나 에칭공법으로 제품을 만들면 에칭되는 방향을 인위적으로 제어를 할 수가 없기 때문에 가공의 한계를 갖게 된다.Conventionally, when obtaining a product such as an extremely fine circuit or an extremely fine mesh, it is mainly processed by etching. However, when a product is manufactured by an etching method, it is impossible to artificially control the direction of etching.

미세회로에 있어서, 가공되는 모재의 두께가 두껍고, 가공하고자 하는 회로의 선 폭이 가늘며, 또한 회로의 피치가 작을 경우에는 에칭공법으로 제작이 불가하다. 에칭은 수직방향(높이방향, 깊이방향)으로 에칭이 진행됨과 동시에 폭방향(수평방향, 폭방향)으로도 동시에 에칭이 진행되기 때문이다.In the case of a fine circuit, if the thickness of the base material to be processed is thick, the line width of the circuit to be processed is small, and the pitch of the circuit is small, it can not be manufactured by the etching method. This is because the etching progresses in the vertical direction (the height direction and the depth direction) and simultaneously the etching progresses in the width direction (the horizontal direction and the width direction).

물론 일반적인 전주가공에서도 동일한 문제가 발생한다. 전주금형에서 도금이 시작이 되면, 수직방향(높이방향, 깊이방향)과 폭방향 (수평방향, 폭방향)으로도 동시에 도금이 진행된다. Of course, the same problem also occurs in general electric pole machining. When plating is started in the electroforming mold, the plating proceeds simultaneously in the vertical direction (height direction, depth direction) and width direction (horizontal direction, width direction).

본 발명은 다양한 형태의 전주가공물 특히 극히 미세한 3차원 형상의 전주가공물을 제작할 수가 있게 한다. The present invention makes it possible to produce various types of electroformed workpieces, particularly electroformed workpieces of extremely fine three-dimensional shape.

전주가공물이 극히 미세회로인 경우, 가공되는 회로의 두께가 두껍고, 가공하고자 하는 회로의 선 폭이 가늘며, 또한 회로의 피치가 작은 경우에도 본 발명으로는 제작 가능하다. In the case of a very small circuit of a workpiece, it is possible to manufacture the present invention even when the thickness of the circuit to be processed is thick, the line width of the circuit to be processed is small, and the pitch of the circuit is small.

이것이 가능한 이유론, 미세회로를 제작하는 전주금형으로부터 성장되는 전주가공물을 폭 방향의 성장은 제어하고, 높이 방향으로만 성장하도록 하기 때문이다.
This is possible because, because of the possibility of controlling the growth in the width direction of the preprocessed workpiece to be grown from the electroforming die for producing the microcircuit, it can grow only in the height direction.

본 발명을 통하여, 전주금형에 전주가공을 실행할 때 도금되는 금속이 수직성장을 이루도록 한다. 이러한 전주금형을 만들기 위하여서 테이퍼 형상의 노광부를 만드는 것이 필요하다.Through the present invention, the metal to be plated can be vertically grown when electroforming is performed on the electroforming die. It is necessary to make a tapered exposure part in order to make such electroforming mold.

테이퍼 형상을 갖는 이유는 탈형을 용이하게 하기 위함이다.The reason for having a tapered shape is to facilitate demoulding.

또한 본 발명의 수직성장을 하게 하는 전주금형을 만들기 위해서는 공간부에 비전도성 물질을 충진한다. 상기 비전도성 물질은 포물선 형상으로 구성되게 한다. In order to make the electroforming die for vertical growth of the present invention, the space portion is filled with the nonconductive material. The nonconductive material is configured to have a parabolic shape.

포물선 형상의 비도전성 물질을 충진하는 이유는 수평성장은 거의 하지 않고 수직성장을 유도하기 위함이다. 수직성장을 한 전주가공물은 탈형하여 메쉬, 필터 등의 제품으로 사용한다.The reason for filling the parabolic non-conductive material is to induce vertical growth with little horizontal growth. The vertically grown CNC workpiece is demolded and used as mesh and filter products.

본 발명을 사용하면 극히 미세한 회로의 형성과 극히 미세한 3차원 구조물을 만드는 멤스 기술에 용이하게 적용된다. 본 발명에서 극히 미세하다고 칭하는 것은 일반적으로 수십 마이크로미터 이하, 수 마이크로미터 이하의 크기를 지칭하는 것으로 한다. The use of the present invention is easily applied to MEMS technology, which makes extremely fine circuit formation and extremely fine three-dimensional structures. In the present invention, it is generally referred to as a size of several tens of micrometers or less and a few micrometers or less.

그러나 전주가공물의 형상에 따라서 수백 마이크로미터 이상의 가공물에도 적용 가능함은 물론이다. However, it goes without saying that the present invention can be applied to a workpiece of several hundreds of micrometers or more depending on the shape of the electric pole workpiece.

본 발명은 전주가공물을 형성하는 도금용액이 수직방향으로는 원활하게 공급이 되나, 수평방향으로는 원활한 공급이 제한되도록 하는 기술을 제공한다. The present invention provides a technique for smoothly supplying a plating solution forming a polished workpiece in a vertical direction, but restricting smooth supply in a horizontal direction.

본 발명에서, 전주도금은 높이 방향으로 성장은 제어를 하지 않으나, 폭방향으로의 성장은 제어를 한다. In the present invention, the electroplating does not control the growth in the height direction, but controls the growth in the width direction.

이러한 폭 방향으로의 성장을 제어하는 원인은 전주금형에서 정체영역이라고 하는 곳이 구성되기 때문인데, 상기 정체영역에서는 도금용액의 이동이 정체되어 원활동 도금활동이 억제되는 것이다.The reason for controlling the growth in the width direction is that the stagnation region is formed in the electroforming die. In this stagnation region, the movement of the plating solution is stagnated and the original activity plating activity is suppressed.

본 발명에서는 높이 방향으로의 도금이 성장됨과 함께 정체영역도 동일한 높이만큼 성장을 하는 것이 특징이다. 따라서 도금은 높이 방향으로 활발하게 성장하지만 폭 방향으로는 정체영역으로 인하여 성장이 제한되게 된다.In the present invention, plating is grown in the height direction and the stagnation region is grown by the same height. Therefore, the plating grows actively in the height direction, but the growth is limited due to the stagnation region in the width direction.

정체영역은 도금물의 성장에 따라서 계속적으로 상부방향으로 성장되는 것이 본 발명의 특징이다. It is a feature of the present invention that the stagnation region is continuously grown upward in accordance with the growth of the plating material.

정체영역이 형성되면 도금이 ZERO라는 의미는 아니다. 정체영역에도 도금용액은 존재하나, 새로 유입되는 도금용액이 제한되므로 성장이 극히 제한되는 것이다. 본 발명에서 고여지는 도금용액이 정체영역 역할을 감당한다. When the stagnation zone is formed, it does not mean that the plating is ZERO. The plating solution is also present in the stagnation region, but the growth is limited because the plating solution is limited. In the present invention, the plating solution is liable to serve as a stagnation region.

본 발명에서는 전주금형에서 최초성장되는 스타트 형상이 결정적인 역할을 한다. 본 발명에서는 스타트 형상을 제어하기 위하여 전주금형의 공간부를 포물선 형상으로 구성한다. In the present invention, the shape of the start to be initially grown in the electroforming die plays a decisive role. In the present invention, the space portion of the electroforming die is configured in a parabolic shape in order to control the start shape.

이러한 포물선 형상을 이루기 위하여 공간부에는 비도전성 물질 대표적인 예로는 실리콘을 충진한다. 전주가공물의 성장방향 제어하는 포물선 형상의 실리콘 충진재는 성장되는 전주가공물이 수직방향으로는 활발하게 성장하게 하고, 폭 방향으로는 성장을 억제시킨다. 이를 통하여 본 발명의 수직성장 전주가공물이 제작된다.
In order to achieve such a parabolic shape, a typical example of the non-conductive material in the space portion is filled with silicon. The parabolic silicon filler controlling the growth direction of the electroformed workpiece allows the grown electroforming work to actively grow in the vertical direction and suppress the growth in the width direction. Through this, the vertically-grown electrostatic work piece of the present invention is manufactured.

도 1은 메쉬의 평면도이다.
도 2는 본 발명이 전주금형에 대한 설명도이다.
도 3은 전주금형의 공간부에 포물선 형태로 비도전성 물질이 충진된 것을 설명하는 설명도이다.
도 4는 본 발명의 전주금형으로 도금을 시행하는 초기의 형상을 설명하는 설명도이다.
도 5는 본 발명의 전주금형에 대한 도금용액의 유동성을 나타내는 설명도이다.
도 6, 도 7은 전주금형에 도금이 시작되면 정체역역에는 도금이 형성되지 않게 수직성장을 이루는 것을 설명하는 설명도이다.
도 8은 수직도금(11)이 진행됨과 동시에 정체영역(12)도 동시에 수직으로 높아지는 중간 과정을 설명하는 설명도이다.
도 9는 수직성장을 설명한다.
도 10은 본 발명의 수직성장 전주금형에서 성장된 전주가공물을 탈형시킨 제품의 단면도이다.
도 11은 일반적인 전주금형에서의 전주가공물의 성장상태를 설명하는 설명도이다.
도 12는 본 발명의 전주금형에 의한 수직성장한 전주가공물의 설명도이다.
도 13은 본 발명의 수직성장 전주금형에 대한 실시예이다.
도 14는 공간부에 형성된 충진물의 경사각에 대한 설명이다.
도 15는 같은 포물선을 가진 전주금형에서도 포물선의 깊이에 따라서 수직성장의 유무가 결정되는 것을 설명하는 설명도이다.
도 16은 돌출부의 높이, 돌출부와 이웃하는 돌출부와의 간격에 의한 수직상승에 대한 것을 설명하는 설명도이다.
도 17은 본 발명의 전주가공물에 생긴 하부방향 성장부 또는 최대폭 수평성장부를 제거하는 제거공정에 대한 설명도이다.
도 18은 본 발명의 1형태와 2형태 전주금형의 가공방법에 대한 설명이다.
도 19는 본 발명의 3형태와 4형태의 전주금형에 대한 설명도이다.
도 20은 본 발명의 5형태의 전주금형의 설명도이다.
도 21, 도 22, 도 23은 5형태 전주금형을 구성하는 패턴의 형상에 대한 실시예이다.
도 25은 포물선형의 비도전성 물질을 충진한 전주금형에 대한 설명도이다.
도 26은 본 발명의 전주금형을 사용하여 회로가 형성된 필름을 제작하는 공정의 설명도이다.
1 is a plan view of a mesh.
Fig. 2 is an explanatory view of the electroforming die according to the present invention.
3 is an explanatory view for explaining that a space of the electroforming die is filled with a non-conductive material in a parabolic shape.
Fig. 4 is an explanatory view for explaining the initial shape of the electroforming die of the present invention.
5 is an explanatory diagram showing the fluidity of the plating solution for the electroforming die of the present invention.
Figs. 6 and 7 are explanatory diagrams illustrating that vertical growth is performed so that plating is not formed in the static region when plating is started on the electroforming die.
8 is an explanatory view for explaining an intermediate process in which the stagnation area 12 is vertically elevated at the same time as the vertical plating 11 proceeds.
Figure 9 illustrates vertical growth.
FIG. 10 is a cross-sectional view of a product obtained by demoulding a polished workpiece grown in a vertical growth electroforming die of the present invention.
11 is an explanatory view for explaining a growth state of a polished workpiece in a general electroforming die.
12 is an explanatory view of a vertically-grown electroforming workpiece by the electroforming die of the present invention.
13 is an embodiment of the vertical growth electroforming die of the present invention.
14 is an explanatory view of the inclination angle of the filling material formed in the space portion.
Fig. 15 is an explanatory diagram for explaining whether or not vertical growth is determined according to the depth of a parabola even in a preform metal mold having the same parabola.
16 is an explanatory view for explaining the height of the projection and the vertical rise due to the distance between the projection and the adjacent projection.
17 is an explanatory view of a removal process for removing a lower growth portion or a maximum width horizontal growth portion generated in the electrophoresis work of the present invention.
Fig. 18 is a view for explaining one embodiment of the present invention and a method of processing a two-type electroforming die.
Fig. 19 is an explanatory view of the electroforming die of the third and fourth embodiments of the present invention. Fig.
Fig. 20 is an explanatory diagram of the electroforming die of the fifth embodiment of the present invention.
Figs. 21, 22, and 23 show examples of the shapes of the patterns constituting the five-shape electroforming die.
Fig. 25 is an explanatory view of an electroforming die filled with a parabolic non-conductive material. Fig.
26 is an explanatory diagram of a step of producing a film on which a circuit is formed by using the electroforming die of the present invention.

본 발명은 기본적으로 도전성 기판 또는 비도전성 기판에 감광재를 도포하고, 상기 감광재를 노광 및 현상하여 얻은 3 차원 형상을 사용하여 금형을 만드는 방법과 이를 통하여 제작된 금형을 대상으로 한다. The present invention basically involves a method of forming a mold using a three-dimensional shape obtained by applying a photosensitive material to a conductive substrate or a non-conductive substrate, exposing and developing the photosensitive material, and a mold produced through the method.

그러나 다른 형태로 금형을 제작하는 방법도 포함한다.However, it also includes methods of making molds in other forms.

본 발명의 금형은 전주금형을 포함한다. 이를 사용하여 제작된 전주가공물을 본 발명의 대상으로 한다. 전주금형이란 금형에 전기를 가하여, 도금욕조에서 전주가공물을 형성시키는 금형을 의미한다. 본 발명에서는 전주금형 중에서도 특히 수직성장을 가능케 하는 전주금형을 만드는 방법을 설명하며, 이는 본 발명의 핵심이기도 하다. The mold of the present invention includes a preform die. And a polynomial work produced by using the polynomial is used as an object of the present invention. The electric pole mold means a mold for applying electric power to a mold to form a pole workpiece in a plating bath. In the present invention, a method of making a metal mold for vertically growing, especially among the metal molds, is explained, which is also the core of the present invention.

본 발명의 가장 대표적인 전주가공물로는 태양광 회로 형성을 위한 인쇄용 메쉬, 극미세 필터 등을 들 수가 있다. 물론 메쉬 뿐만 아니라 극히 미세한 미세 회로와 회로기판, 투명열선, 플렉시블 회로기판, 칩온 필름, 3차원 멤스부품 및 이들을 가공하는 가공기술도 포함한다. The most typical prismatic workpiece of the present invention includes a printing mesh for forming a photovoltaic circuit, a microfine filter, and the like. Of course, not only meshes but also microscopic circuits and circuit boards, transparent heat lines, flexible circuit boards, chip-on films, three-dimensional MEMS parts, and processing techniques for processing them are included.

본 발명에서의 전주가공물은 초정밀한 것을 주로 다룬다. 선폭과 높이가 주로 수 마이크로미터에서 수십 마이크로미터에 해당하는 것이 일반적이다. The electroconductive workpiece in the present invention mainly deals with ultra-precision. It is common for line widths and heights to range from a few micrometers to tens of micrometers.

본 발명에 사용되는 전주금형은 도전체로 기판이 구성된다. 상기 도전체 기판에 돌출부와 공간부로 전주금형이 구성된다. 상기 공간부에는 비도전성 물질로 충진 또는 코팅 또는 도포한다. 상기 비도전성 물질은 정체영역을 만드는 역할을 하며 주로 포물선 형상으로 제작된다.The electroforming die used in the present invention is a substrate made of a conductor. The conductive substrate has a protruding portion and a space portion formed therein. The space portion is filled, coated or coated with a non-conductive material. The non-conductive material serves to form a stagnation region and is mainly formed in a parabolic shape.

본 발명에서 정체영역을 구성한 전주금형을 사용하면, 성장되는 전주가공물을 거의 수직으로 성장시킬 수가 있다. 정체영역을 구성하는 비도전성 물질은 탄성체가 이상적이다. 가장 대표적인 실시예로 실리콘을 주재료로 사용한다. 이하에서는 도면을 바탕으로 자세히 설명한다.
In the present invention, by using the electroforming die constituting the stagnation region, the electroformed workpiece to be grown can be grown almost vertically. The non-conductive material constituting the stagnation region is ideal as an elastic body. As a representative example, silicon is used as a main material. Hereinafter, a detailed description will be given based on the drawings.

도 1은 메쉬의 평면도이다. 정밀한 메쉬(1)는 메쉬의 선폭은 작고, 개구도는 크다. 이들은 주로 미세 인쇄에 많이 사용된다. 근래에는 태양광을 전기에너지로 만드는 기판에서 미세한 통전회로를 만드는 것에 많이 활용된다. 이들은 메쉬를 통하여 실버페이스트를 사용하여 미세한 통전회로를 구성하는 데 주로 사용된다. 1 is a plan view of a mesh. In the fine mesh 1, the line width of the mesh is small and the opening degree is large. These are mainly used for fine printing. In recent years, it is widely used to make fine electric current circuits on a substrate that converts sunlight into electric energy. These are mainly used to construct a fine electric circuit using a silver paste through a mesh.

여기에 사용되는 메쉬는 선폭과 피치가 미세하며, 두께는 두꺼워야 내구성을 가지게 된다. 두께가 두꺼우면 선폭은 굵어지고, 개구도가 작게 마련이다. Mesh used here is fine in line width and pitch, and thick in thickness, so it has durability. If the thickness is large, the line width becomes thick and the opening degree becomes small.

그러나 제품의 특성상 개구도는 크면서 두께는 두껍게 만들어야 한다. 이러한 특성으로 인하여 에칭공법으로는 거의 제작을 하지 못하며, 종래에는 수 마이크로미터의 직경을 갖는 선재를 직조하여 4각 메쉬를 만들어 사용하고 있었다. However, due to the nature of the product, the aperture must be large and thick. Due to these properties, it is hardly possible to produce by the etching method. In the past, a wire having a diameter of several micrometers was woven to make a quadrilateral mesh.

그러나 본 발명에서는 수직성장 전주금형을 만들고, 전주가공을 통하여 4각 또는 6각 또는 원형의 전주가공물을 만들어 메쉬를 제작한다. 이들은 선폭을 가늘게 하며 두께가 두껍고 개구도가 큰 형태를 만들 수가 있다. 또는 메쉬의 힘살이 테이퍼 진 형태를 만들 수가 있어서 실버페이스트를 인쇄할 때 용이하게 토출될 수 있게 한다.However, in the present invention, a vertically-grown electroforming die is made and a quadrangular, hexagonal, or circular electroformed workpiece is formed through electroforming to fabricate a mesh. They can be made thinner in line width, thicker in thickness and larger in aperture. Or the force of the mesh can be tapered so that the silver paste can be easily ejected when printing.

본 발명에 의하여 제작이 되는 전주가공물은 메쉬와 필터 이외에도 그 활용되는 용도가 다양하다. 본 발명에서 메쉬는 원형메쉬, 4각 메쉬, 6각 메쉬 (하니컴) 등의 다양한 형태로 제작이 된다. 종래에는 가는 금속 선을 직조하여 4각형 메쉬를 제작하여 사용이 되고 있다.In addition to the mesh and the filter, the electroformed workpiece produced by the present invention has various uses. In the present invention, the mesh may be manufactured in various shapes such as a circular mesh, a quadrilateral mesh, and a hexagonal mesh (honeycomb). Conventionally, a thin metal wire is woven to produce a quadrilateral mesh.

일반적으로 정밀 메쉬는 개구도를 좋게 하기 위하여 제품의 힘살, 즉 선 폭을 가늘게 한다. 메쉬의 두께는 두껍게 하여 내구성을 가지도록 한다. In general, the precision mesh reduces the force of the product, that is, the line width, in order to improve the aperture. The thickness of the mesh is made thick to have durability.

본 발명에서의 전주가공물은 이러한 메쉬를 기준으로 설명을 하나, 실제 적용은 메쉬 뿐 아니라, 다양한 제품에서 다양한 미세 형상의 3차원 전주가공물, 2차원 전주가공물을 제작할 수가 있다. 본 발명에서는 전주가공물의 선 폭과 두께는 수 마이크로미터에서 수십 마이크로미터 정도의 정밀한 전주가공물로 가공을 한다.
The electroformed workpiece according to the present invention will be described on the basis of such a mesh. However, a three-dimensional electroformed workpiece and a two-dimensional electroformed workpiece having various shapes can be manufactured in various products as well as a mesh. In the present invention, the line width and the thickness of the electroformed workpiece are processed into precise electroformed workpieces of several micrometers to several tens of micrometers.

도 2는 본 발명의 전주금형에 대한 설명도이다. 본 발명에서의 전주금형은 수직성장을 하도록 하는 전주금형을 대상으로 한다. Fig. 2 is an explanatory view of the electroforming die of the present invention. Fig. The electroforming die in the present invention is a preform die for vertical growth.

본 발명에서 수직성장이란 수직으로만 성장하는 것만을 의미하지 않는다. 전주가공물의 수직, 수평 성장을 한다. 수직성장이란 수평성장은 억제된 상태로 조금의 성장을 하게 하나, 수직방향으로는 성장의 제한을 두지 않는 것을 의미한다. In the present invention, vertical growth does not mean only vertical growth. The horizontal and vertical growth of the workpieces is carried out. Vertical growth means that horizontal growth is suppressed, but growth is not restricted in the vertical direction.

즉, 수평방향(폭방향)의 성장에 비하여, 높이 방향(수직방향)으로 전주가공물의 성장이 큰 것을 본 발명에서는 수직성장이라 정의한다. 본 발명에서의 수직성장을 위한 전주금형은 수직성장이 가능하도록 하는 전주금형을 의미한다. That is, vertical growth is defined in the present invention in which the growth of the polished workpiece in the height direction (vertical direction) is larger than the growth in the horizontal direction (width direction). In the present invention, the electroforming die for vertical growth means the electroforming die capable of vertical growth.

본 발명에서 전주금형은 주로 평판 형상의 전기가 통하는 도전체 기판(4)을 사용한다. 상기 도전체 기판에는 다수의 돌출부(2)가 형성된다. 돌출부도 물론 도전체이며 기판과 동일체로 구성되는 것이 일반적이다. 상기 돌출부와 돌출부 사이 사이에는 공간부(3)가 형성된다. 본 발명에서의 돌출부와 공간부의 크기는 수 마이크로미터에서 수십 마이크로미터의 크기이다. 큰 기판 위에 돌출부와 공간부가 무수히 형성되어 져 있다. 상기 돌출부의 상부는 균질한 평면부 또는 균질한 선(LINE) 형상으로 이루어진다. 상기 돌출부는 도금용액이 성장되는 스타트 면 또는 스타트 라인이 된다.
In the present invention, the electroforming die mainly uses the electrically conductive substrate 4 in which a plate-shaped electricity passes. A number of protrusions (2) are formed on the conductor substrate. The protrusions are also of course made of a conductor and the same body as the substrate. A space portion (3) is formed between the protruding portion and the protruding portion. The size of protrusions and spaces in the present invention is several micrometers to tens of micrometers. A large number of protrusions and voids are formed on a large substrate. The upper portion of the protrusion is formed in a homogeneous flat portion or a homogeneous line shape. The protrusion becomes a start surface or a start line on which the plating solution is grown.

도 3은 전주금형의 공간부에 비도전성 물질이 충진되어 정체영역을 형성한 것을 설명하는 설명도이다. 공간부에 충진되는 물질은 비도전성 물질이다. 공간부에 비도전성 물질을 충진하거나 코팅하거나 도포할 수가 있다. 3 is an explanatory view for explaining that a static area is formed by filling a non-conductive material in a space portion of the electroforming die. The material filled in space is non-conductive material. A non-conductive material can be filled, coated or applied to the space portion.

비도전성 물질의 대표적인 실시예는 실리콘과 불소수지 등을 들 수가 있다. Representative examples of the non-conductive material include silicon and fluororesin.

본 발명에서는 비도전성 물질이 탄력성이 있는 소재를 사용하는 것이 바람직하다. 만약 탄성을 갖지 않는다면, 코팅 또는 충진 또는 도포된 비전도성 물질이 전주가공이 진행됨에 따라, 깨어지는 현상이 생긴다. 따라서 전주금형의 내구성이 문제된다. In the present invention, it is preferable to use a material having a non-conductive material elasticity. If it does not have elasticity, the coating or the filled or non-conductive material will break as the electroforming proceeds. Therefore, the durability of the electroforming die is a problem.

본 발명에서 가장 대표적인 비전도성 탄성물질은 실리콘 소재이다. 공간부에 충진되는 비전도성 물질은 주로 포물선 형상으로 구성된다. 본 발명에서 포물선 형상이라는 용어는 반드시 포물선만을 의미하는 것은 아니다. 대략적으로 포물선의 형태로 구성된다는 것을 의미한다. The most representative nonconductive elastomer in the present invention is a silicon material. The nonconductive material filled in the space portion is mainly composed of a parabolic shape. In the present invention, the term " parabolic shape " does not necessarily mean parabolic shape. It means that it is roughly constituted in the form of a parabola.

본 발명에서는 비전도성 물질을 포물선 형상으로 도포를 시킨다는 의미는, 공간부에 비전도성 물질을 충진하거나 코팅하거나 도포하는 것을 포괄적으로 표현하는 단어이다. 한 개의 돌출부만 관찰하면, 돌출부의 측벽과 공간부의 하부면에 비전도성 물질로 얇게 도포만 되더라도 포물선 형상으로 충진된다고 표현할 수가 있다. 왜냐하면 돌출부의 양쪽 하부 코너는 자동으로 많은 량의 비전도성 물질로 채워져서 자도으로 라운드지게 도포가 되기 때문이다.In the present invention, the application of a nonconductive material in a parabolic shape is a comprehensive expression of filling, coating, or applying a nonconductive material to a space portion. If only one protrusion is observed, it can be expressed that even if the side wall of the protrusion and the lower surface of the space are thinly coated with a nonconductive material, they are filled in a parabolic shape. This is because the lower corners on both sides of the protrusion are automatically filled with a large amount of nonconductive material and applied in a rounded manner.

실시예로, 공간부의 양측면과 하부면에는 실리콘을 얇게 도포를 하면 공간부의 하부면 양쪽 코너에는 라운드 진 형태로 실리콘이 충진되는 것을 알 수가 있다.In an embodiment, when silicon is thinly coated on both sides and the lower surface of the space, silicone is filled in rounded corners at both corners of the lower part of the space part.

전주금형에서 돌출부 상부면의 양 모서리 부분에는 포물선의 기울기가 급격할 수록 공간부의 중앙 부위는 깊이가 깊을수록 정체영역이 활성화 된다.At the corners of the upper surface of the protruding part in the electroforming mold, as the slope of the parabolic curve abruptly increases, the stagnation area becomes more active as the depth of the central part of the space part becomes deeper.

본 발명에선 돌출부의 상부표면은 도금이 진행되는 부분이므로, 돌출부의 상부표면에는 비도전성 물질이 도포되지 않도록 한다. 돌출부의 양 측면에는 비전도성 물질이 도포되어져 있음으로 도금이 진행되지 않는다. 오직 돌출부의 상부 수평면에서만 도금이 시작되게 한다. 돌출부의 측면에는 다양한 방법으로 비도전성 물질로 코팅 또는 도포 또는 충진한다. 가장 대표적인 실시예로는 포물선 형상으로 실리콘을 충진시키는 것을 들 수가 있다.  In the present invention, since the upper surface of the protrusion is a portion where plating proceeds, the non-conductive material is not applied to the upper surface of the protrusion. Since the non-conductive material is applied to both sides of the protrusion, the plating does not proceed. Only plating is initiated on the upper horizontal surface of the protrusion. The sides of the protrusions are coated, coated or filled with a non-conductive material in various ways. The most representative example is filling the silicon in a parabolic shape.

가장 중요한 요소는, 도 3에서 보는 바와 같이, 돌출부의 상부평면의 양 모서리부는 경계가 정확하며 깨끗하여야만 전주가공물이 깨끗하고 균일하게 성장을 한다. 그리고 돌출부의 상부평면의 양 모서리부에서 비도전성 물질이 충진되기 시작한다. 이곳의 포물선은 급격한 경사도가 이루어져야만 전주가공물이 수직성장을 할 수가 있게 된다.
The most important factor is that, as shown in Fig. 3, the corners of the upper plane of the protrusions are clean and uniformly grown only when the boundaries are accurate and clean. And non-conductive material begins to fill at both corners of the upper plane of the protrusion. The parabolic curve of this place should be steeply sloped so that the Jeonju workpiece can grow vertically.

도 4는 본 발명의 수직성장 전주금형에 전주가공을 시행하는 초기형상을 설명하는 설명도이다. 도금욕조에서 본 발명의 전주금형을 넣으면, 도금용액(7)이 돌출부의 상부표면과 비전도성 물질로 이루어 지는 공간부를 에워싸게 된다. FIG. 4 is an explanatory diagram for explaining an initial shape for performing electroforming on a vertically-growing electroforming die of the present invention. When the electroforming die of the present invention is put in the plating bath, the plating solution 7 surrounds the space portion made of the nonconductive material and the upper surface of the projecting portion.

본 발명에서, 도금이 균일하고 활발하게 이루어지도록 하기 위하여 도금욕조 내에서 도금용액을 강제로 유동시킨다. 이를 위하여 도금욕조 내에서 전주금형이 회전을 하거나 좌우로 움직일 수 있도록 하는 것이 바람직하다. 다른 방법으로는 전주금형은 정지하고 도금용액을 유동시킬 수도 있다.
In the present invention, the plating solution is forced to flow in the plating bath so that the plating is uniform and active. For this purpose, it is desirable that the electroforming die can be rotated or moved left and right in the plating bath. Alternatively, the electroforming mold may be stopped and the plating solution may be flowed.

도 5는 본 발명의 수직성장 전주금형의 정체영역에 대한 설명도이다. 도금욕조 내에서 전주금형을 움직이면, 전주금형의 돌출부의 상부표면에는 유동하는 도금용액과 맞닿아 항상 새로운 도금용액을 접하게 된다. 그러나 포물선 형태로 비도전성 물질이 충진된 공간부의 도금용액은 유동없이 정체한 상태로 있게 된다. 5 is an explanatory view of the stagnation area of the vertically-growing electroforming die of the present invention. When the electroforming die is moved in the plating bath, the upper surface of the protruding portion of the electroforming die is brought into contact with the flowing plating solution to always contact the new plating solution. However, the plating solution in the space where the non-conductive material is filled in a parabolic shape is in a static state without flowing.

이 같이 비도전성 물질이 충진된 공간부의 도금용액이 정체한 상태로 있게 된 영역을 본 발명에서는 정체영역(8)정의한다. The region where the plating solution in the space portion filled with the non-conductive substance is stagnant is defined as the stagnation region 8 in the present invention.

포물선 형상의 공간부에 있는 도금용액은 갇혀 있게 된다. 도금용액은 흐름이 거의 정지된 상태 또는 흐름이 활발하지 않도록 제한된 상태가 된다. The plating solution in the parabolic space is trapped. The plating solution becomes a state in which the flow is almost stopped or the flow is not activated.

본 발명에서는 돌출부와 돌출부의 간격이 극히 미소하며, 돌출부의 높이가 간격에 비하여 높은 경우가 대부분이다. 이러한 상황에서, 공간부를 포물선 형상으로 도전성 물질로 충진하면 도금용액은 포물선 안에 갇혀서 움직임이 적을 수밖에 없다. 즉 정체영역이 형성된다. 이러한 정체영역은 포물선의 깊이가 깊을 수록 확실하게 형성이 된다.
In the present invention, the distance between the protruding portion and the protruding portion is extremely small, and the height of the protruding portion is often higher than the gap. In such a situation, if the space portion is filled with the conductive material in a parabolic shape, the plating solution is trapped in the parabola and the movement is small. A stagnation region is formed. This stagnation region is formed more reliably as the depth of the parabola becomes deeper.

도 6에서 도 9까지는 정체영역에서 수직도금이 진행된는 것을 설명하는 설명도이다. 도 6, 도 7의 정체영역이 형성된 수직성장 전주금형에 도금이 시작된다.6 to 9 are explanatory diagrams illustrating that vertical plating proceeds in the stagnation region. Plating starts on the vertical growth electroforming die in which the stagnation regions shown in Figs. 6 and 7 are formed.

정체영역에는 도금이 이루어지지 않고, 돌출부의 상부표면에서는 수직성장이 이루어진다. 돌출부의 상부표면의 수평방향으로는 금속의 성장이 거의 이루어 지지 않고, 수직방향으로는 금속의 성장이 활발하게 일어난다. 이를 본 발명에서는 수직성장이라 정의한다. Plating is not performed in the stagnation region, and vertical growth is performed on the upper surface of the protrusion. The growth of the metal hardly occurs in the horizontal direction of the upper surface of the protrusion, and the metal grows in the vertical direction actively. This is defined as vertical growth in the present invention.

엄밀하게 분석하면, 돌출부의 상부표면의 양 모서리 부위에서는 포물선의 모양을 따라서 하부방향으로 약간의 도금이 진행될 수가 있다. 그러나 돌출부의 상부표면에서 수직방향으로는 도금용액의 유동이 원활하므로 수직도금(9)이 활발하게 진행된다. Strictly speaking, some plating can proceed in the downward direction along the shape of the parabola at both corners of the upper surface of the protrusion. However, since the flow of the plating solution is smooth in the vertical direction on the upper surface of the projection, the vertical plating 9 actively proceeds.

전반적으로 수직성장은 활발하나 수평방향으로는 성장은 제한되게 된다. 수직도금에 의하여 도금 성장부가 상부로 성장하면 할수록, 동시에 정체영역(10)도 상부로 높아지게 되는 특징이 있다. 성장하는 수직 도금부가 위로 벽을 쌓아 주게 되는 효과가 생기므로 자동으로 정체영역도 함께 올라간다. Overall, vertical growth is active, but growth is limited in the horizontal direction. As the plating growth portion grows to the upper portion by vertical plating, the stagnation region 10 also becomes higher at the same time. The effect of stacking walls on top of the growing vertical plating part is automatically created, and the congestion area also automatically increases.

원하는 높이만큼 전주가공물이 성장할 때까지 도금은 계속 수직성장 한다. 상기 전주가공물이 수직 성장을 함에 따라서, 정체영역의 높이도 함께 높아지며, 상기 정체영역으로 인하여 측면성장은 상당히 억제된다.
The plating continues to grow vertically until the desired workpiece has grown to the desired height. As the electrophotographic workpiece is vertically grown, the height of the stagnation area is also increased, and lateral growth is significantly suppressed due to the stagnation area.

도 8은 수직 성장부(11)에 의하여 정체영역(12)도 동시에 높아지는 과정을 설명하는 설명도이다. 수직도금이 진행되면, 자동으로 정체영역도 상부로 높아지게 된다. 정체영역에서는 도금이 활성화되지 못하는 이유는 새로운 도금용액의 유입이 없기 때문이다. 원래 정체영역에 있던 금속이온은 초기에 모두 소진된 상태가 된다. 새로운 금속이온의 유입이 없으므로 자동으로 수평방향의 성장은 억제가 된다.8 is an explanatory view for explaining the process of simultaneously increasing the stagnation region 12 by the vertical growth unit 11. [ As the vertical plating proceeds, the congestion area also automatically increases to the upper part. The reason why the plating is not activated in the stagnation region is that there is no introduction of a new plating solution. The metal ions originally in the stagnation zone are initially depleted. Since there is no introduction of new metal ions, the growth in the horizontal direction is automatically suppressed.

정체영역에서는 금속이온이 희박하게 되며, 새로운 도금용액이 유입되지 못하는 상태가 된다. 이로 인하여 정체영역에서는 도금성장이 거의 없다. 따라서 수평방향으로의 도금성장은 조금밖에 일어나지 않게 된다. In the stagnation region, metal ions become lean and a new plating solution can not be introduced. As a result, there is almost no plating growth in the stagnation region. Therefore, the plating growth in the horizontal direction only occurs little.

수직 성장된 도금체는 정체영역을 높이는 구실을 한다. 초기에는 정체영역이 층진된 비도전성 물질에 의하여 형성되나, 수직성장이 일어나면 날수록 수직성장된 도금체가 정체영역을 형성하게 하는 역할을 자동으로 수행하게 된다. 즉 수직성장의 높이가 높아지면 자동으로 정체영역의 높이도 높아지게 된다.
The vertically grown plated body serves to enhance the stagnation area. Initially, the stagnation region is formed by the layered non-conductive material, but when the vertical growth occurs, the vertically grown plating body automatically performs the role of forming the stagnation region. That is, when the height of the vertical growth increases, the height of the stagnation area automatically increases.

도 9는 수직성장을 설명한다. 수직으로의 성장되는 전주가공물(13)의 높이가 제품의 높이에 이를 때까지 전주가공을 진행한다. 전주가공물의 높이만큼 정체영역(14)도 상승한다.Figure 9 illustrates vertical growth. The electroforming is continued until the height of the vertically grown electrostatic workpiece 13 reaches the height of the product. The stagnation area 14 also rises by the height of the electrophoresis workpiece.

본 발명에서, 전주금형에 형성된 수많은 갯수의 돌출부와 공간부의 크기가 미세할 수록 수직성장은 잘 이루어진다. 즉 정체영역이 잘 이루어진다. 정체영역을 유도하는 환경은, 돌출부와 공간부의 크기가 미세할수록 그리고 공간부의 깊이가 깊을수록 유리하다. 공간부의 폭이 좁을수록, 공간부의 깊이가 깊을수록, 정체영역의 형성이 용이하게 된다.
In the present invention, as the number of protrusions and spaces formed in the electroforming die is smaller, the vertical growth is better. That is, the stagnation area is well done. The environment for inducing the stagnation area is advantageous as the size of the protrusions and spaces becomes smaller and the depth of the space becomes deeper. The narrower the width of the space portion and the deeper the depth of the space portion, the easier the formation of the stagnation region.

도 10은 본 발명의 수직성장 전주금형으로 성장시킨 전주가공물을 탈형시킨 수직성장된 제품의 단면도이다. 10 is a cross-sectional view of a vertically grown product obtained by demolding a polished workpiece obtained by growing a vertical growth electroforming die of the present invention.

전주가공을 시작할 때, 탈형의 편리함을 위하여 수직성장 전주금형에 이형층을 형성한다. 돌출부의 상부표면에 형성된 이형층은 성장된 전주가공물의 탈형을 용이하게 한다. At the beginning of the electroforming process, a release layer is formed on the vertical growth electroforming die for the convenience of demolding. The release layer formed on the upper surface of the protrusion facilitates demoulding of the grown prismatic workpiece.

수직성장 전주금형을 사용한다고 하더라도, 수평성장(측면 방향 성장)이 완전히 없다는 것은 결코 아니다. 본 발명에서의 수직성장의 의미는 전주가공이 진행됨에 따라, 수직방향의 성장이 크고, 수평방향의 성장이 작다는 것을 의미하며, 측면방향 즉 수평방향의 성장이 없다는 것은 아니다. Even with the use of vertical growth prism molds, the horizontal growth (lateral growth) is not completely absent. The vertical growth in the present invention means that the growth in the vertical direction is large and the growth in the horizontal direction is small as the electrophotographic processing proceeds, and it does not mean that there is no growth in the lateral direction, that is, in the horizontal direction.

본 발명에서 전주가공물의 성장은 직선상으로 일어난다고 하지 않는다. 전주가공물의 성장은 금속용액의 방향과 속도, 금속용액의 성분, 첨가제의 유무, 돌출부의 높이, 공간부의 크기, 공간부에 충진된 비도전체의 형상과 깊이, 공간부에 충진된 비도전체의 성분, 도금용액의 온도 등 다양한 변수에 의하여 다양한 결과가 나타난다. In the present invention, it is not said that the growth of the platen workpiece occurs in a straight line. The growth of the electroformed workpiece depends on the direction and velocity of the metal solution, the presence of the additive, the height of the projecting portion, the size of the space portion, the shape and depth of the nonconductive portion filled in the space portion, , And the temperature of the plating solution.

본 발명의 수직성장 전주가공물의 성장에 영향을 미치는 여러 환경과 조건에도 불구하고, 전주가공이 수평방향으로 성장하는 성장의 크기는 억제를 하고, 수직방향(높이방향)으로 성장하는 크기가 크게 한 것이다. Despite the various circumstances and conditions affecting the growth of the vertically-grown electrophotographic workpiece of the present invention, the magnitude of growth in which the electroforming process grows in the horizontal direction is suppressed, and the size of the growth in the vertical direction (height direction) will be.

결과물의 개구도를 크게 하면서, 선 폭을 작게 하면서, 결과물의 두께는 두텁게 한 제품을 생산할 수 있게 하는 핵심기술은 정체영역의 형성이라 할 수가 있다. The key technology that can produce a product with a thicker product thickness while reducing the line width while increasing the aperture of the resulting product is the formation of the stagnation region.

수직 성장된 전주가공물의 단면도를 보면, 전주가공이 진행됨에 따라, 폭 방향(수평방향, 넓이방향)의 성장은 직선으로 이루어지기보다는 다양한 영향을 받으면서 다양한 형태로 이루어지는 것을 알 수가 있다. 가장 크게는 정체영역 효과의 정도에 따라서, 금속용액의 유동속도와 온도와 방향에 따라서, 기타의 환경적 요인과 물리적 요인에 따라서 영향을 받으면서 전주가공물은 성장을 한다. 따라서 전주가공물은 상부로 수직성장을 하면서 그 폭은 늘었다가 줄었다가 할 수가 있다.
As shown in the cross-sectional view of the vertically-grown electro-magnetic workpiece, it can be seen that as the electrophotographic process proceeds, the growth in the width direction (horizontal direction and width direction) takes various forms while being affected by various influences. Depending on the magnitude of the stagnation zone effect, the electrostatic workpiece grows most, depending on the flow rate, temperature and direction of the metal solution, and other environmental and physical factors. Therefore, the width of the workpiece can be increased while decreasing vertically.

도 11은 종래의 일반적인 전주금형으로 전주가공물을 만들 때의 전주가공물의 성장상태를 설명하는 설명도이다. 일반적으로 돌출부 사이의 공간부는 비도전체(17)로 채우되, 주로 수평하게 충진한다. 수평하게 충진을 하려고 하였지만 경우에 따라서 완만한 포물선 형태로 충진이 되는 경우가 많다.FIG. 11 is an explanatory view for explaining the growth state of electroconductive workpieces when a conventional electroconductive metal mold is used to produce electroconductive workpieces. Generally, the space between the projections is filled with the non-conductive body 17, and mainly filled horizontally. Although it was tried to fill it horizontally, it is often filled in a gentle parabolic shape in some cases.

종래의 이러한 경우, 전주가공물(16)은 수평 및 수직방향으로 동시 성장을 한다. 종래에는 전주가공물이 성장할 때 수평성장을 억제하지 않는다. 따라서 전주가공은 조금만 진행되더라도 성장된 도금체가 서로 만나게 된다.
In this conventional case, the electro-magnetic workpiece 16 simultaneously grows in the horizontal and vertical directions. Conventionally, horizontal growth is not suppressed when a polished workpiece is grown. Therefore, even if the electroforming process proceeds a little, the grown plated bodies meet each other.

도 12는 본 발명의 수직성장 전주금형에 의하여 수직방향으로 성장한 전주가공물의 설명도이다. FIG. 12 is an explanatory diagram of a preform workpiece grown in the vertical direction by the vertical growth preform mold of the present invention. FIG.

돌출부와 돌출부 사이의 공간부에 충진된 비도전성 물질의 형상에 따라 전주가공물의 단면모양은 다양하게 변한다. 물론 돌출부의 높이, 공간부의 폭, 포물선의 형상, 포물선의 깊이, 도금용액의 방향과 유속, 전류의 세기, 도금용액의 성분과 온도에 따라서 전주가공물의 형상은 다양한 변화를 할 수가 있다. The cross-sectional shape of the electro-magnetic workpiece varies in various ways depending on the shape of the non-conductive material filled in the space between the projections and the projections. Of course, depending on the height of the protrusion, the width of the space, the shape of the parabola, the depth of the parabola, the direction and velocity of the plating solution, the intensity of the current, and the composition and temperature of the plating solution,

정체영역에 가장 큰 영향을 미치는 것은 돌출부의 높이, 공간부의 폭, 포물선의 형상, 포물선의 깊이이며 그 중에서 포물선의 깊이가 가장 영향을 많이 미친다.The largest influence on the stagnation region is the height of the protrusion, the width of the space, the shape of the parabola, and the depth of the parabola, and the depth of the parabola has the greatest influence.

그러나 정체영역이 형성되면, 공통적으로는 수평방향의 성장보다 수직방향의 성장이 우세하도록 성장시킨다. 정체영역의 환경에 따라서 다양한 형태로 전주가공물(18)들이 얻어진다. However, when the stagnation region is formed, it is commonly grown such that vertical growth is dominant rather than horizontal growth. The electroformed workpieces 18 are obtained in various forms according to the environment of the stagnation region.

전주가공물의 형상 변화에 가장 많은 영향을 미치는 것은 공간부에 충진된 충진물의 형상과 깊이이다. The shape and depth of the filling material filled in the space portion are the most influential to the shape change of the electroforming workpiece.

수직성장을 이루기 위하여 가장 바람직한 형태는 깊이가 깊은 포물선 형태이다. 물론 포물선 형태란 엄밀한 의미의 포물선으로 형태만을 의미하지 않는다. 전체적으로 포물선 비슷한 형태를 이루며 비도전 물질이 도포, 충진, 코팅되는 것을 의미한다. The most desirable form for vertical growth is a deep parabolic shape. Of course, the parabolic form does not mean only a form with a strict parabola. Which means that the non-conductive material is coated, filled, and coated in a parabolic shape as a whole.

본 발명의 전주금형에서 정체영역의 형태에 따라서 얻어지는 전주가공물의 형상은 (A),(B),(C),(D),(E),(F) 등 다양한 형태가 있다. 물론 도시된 형태 외의 형태도 가능하다. The shape of the electroformed workpiece obtained in accordance with the shape of the stagnation region in the electroforming die of the present invention has various shapes such as (A), (B), (C), (D), (E), and (F). Of course, other than the illustrated form is also possible.

본 발명에서는 이들 모두를 수직 성장한 전주가공물이라 정의한다. In the present invention, all of them are defined as vertically grown electroforming workpieces.

물론 이들은 수직으로만 성장을 한 것이 아니다. Of course, they did not grow vertically.

이들은 일반적인 전주가공에서 제어하지 못하였던 수평방향으로의 성장이 어느정도 통제를 받으면서 수직방향으로의 성장을 이룬 것들이다. 본 발명에서는 이들을 수직 성장 전주가공물이라 칭한다. These are those that have grown in the vertical direction with some control over horizontal growth, which could not be controlled in general pole forming. In the present invention, these are referred to as vertical growth electroforming workpieces.

이곳에서 본 발명의 하부방향 성장부에 대한 용어를 정의한다. Herein, terms for the downward growth portion of the present invention are defined.

하부방향 성장부란 수직성장 전주금형에서 전주가공이 진행될 때, 돌출부의 상부표면보다 아랫방향으로 도금이 진행된 영역으로 정의한다.The lower growth area is defined as the area where the plating progresses downward from the upper surface of the protrusion when the electrophotographic processing is performed in the vertical growth electrophotographic mold.

(A),(B),(C)에서는 전주가공물(18)에서는 하부방향 성장부는 없다. 이들은 모두 모두 수직성장을 하면서 제한된 범주 내에서 수평성장을 하였다.(A), (B), and (C), there is no downward growth portion in the electret workpiece 18. All of them were growing vertically within a limited range while growing vertically.

그러나, (D)와 (F)의 전주가공물은 전주금형의 돌출부의 상부표면보다 하부로 성장된 부분이 있다. 본 발명에서는 이를 하부방향 성장부(19)라 칭한다. However, the electroformed workpiece of (D) and (F) has a portion that is lower than the upper surface of the projecting portion of the electroforming die. In the present invention, this is referred to as a lower growth portion 19.

하부방향 성장부는 돌출부의 상부표면에서 전주가공이 시작되는 초기단계에서, 전주가공이 실리콘의 포물선의 형상을 따라서 하부방향으로 일부 진행된 것이다. 돌출부의 상부표면의 중앙에는 수직방향으로만 성장한다. 그러나 돌출부의 상부표면의 양 모서리 부분에서는 실리콘의 포물선형상을 따라서 하부방향으로 성장이 진행되면서 측면방향의 성장도 동시에 진행된다.The downward growth part is a part of the lower part extending in the downward direction along the parabolic shape of silicon in the initial stage in which the electrophotographic processing is started at the upper surface of the protruding part. And grows only in the vertical direction at the center of the upper surface of the projection. However, in both corner portions of the upper surface of the protrusion, the growth progresses in the downward direction along the parabolic shape of the silicon, and the growth in the lateral direction progresses simultaneously.

돌출부의 상부표면의 중앙에서는 수직성장이 진행된다. 점차 수직성장이 위쪽으로 계속하여 이루어지게 되면, 정체영역도 위쪽으로 높아지게 된다. 정체영역에서 공급되던 금속이온의 보급이 점차 사라지게 되므로 하부방향 성장은 자동으로 멈춘다. Vertical growth proceeds at the center of the upper surface of the protrusion. When the vertical growth is progressively continued upward, the congestion area also becomes higher. The diffusion of metal ions supplied from the stagnation region gradually disappears, so that the downward growth is automatically stopped.

전주가공물이 수평방향 성장을 하게 되면 메쉬의 개구도가 작아지게 된다.When the electrophoresis workpiece grows in the horizontal direction, the opening degree of the mesh becomes small.

수직 성장된 전주가공물의 개구도를 개선하기 위하여 하부방향 성장부가 생기지 않도록 하는 것이 바람직하다. 물론 수평방향의 성장도 억제하여야만 개구도가 크게 되는 것이다. 하부방향 및 수평방향의 성장을 억제하려면 가장 중요한 요소는 포물선의 깊이를 깊게 하며, 시작되는 포물선의 경사도를 크게 한다. It is desirable to prevent the downward growth portion from occurring in order to improve the aperture of the vertically grown electrophotographic workpiece. Of course, if the growth in the horizontal direction is also suppressed, the degree of opening increases. The most important factor to suppress the growth in the downward and horizontal directions is to deepen the depth of the parabola and increase the slope of the starting parabola.

(E)는 하부방향 성장부는 갖고 있지 않지만, 전주가공이 시작되는 비교적 초기에 수평성장이 극대치를 이루는 과정을 겪은 것이다. 전주가공물에서 수평성장의 극대치를 이루는 부분을 본 발명에서는 최대폭 수평 성장부라 정의한다. (E) does not have a downward growth portion, but has undergone the process of making the horizontal growth at a maximum at a relatively early stage when the electroforming begins. In the present invention, the maximum width horizontal growth portion is defined as the portion that maximizes the horizontal growth in the electroconductive workpiece.

최대폭 수평성장부는 (D).(F)에서와 같이 하부방향 성장부에서 형성되기도 한다. 모든 전주가공물은 어딘 가에서 최대폭 수평 성장부를 갖는다.The maximum horizontal growth part is also formed in the downward growth part as in (D). (F). All electroformed workpieces have a maximum horizontal growth somewhere.

본 발명에서, 특이한 경우를 제외하면 보통은 최대폭 수평 성장부는 대부분 전주가공을 시작할 초기의 시점에 형성된다. In the present invention, except for the unusual case, usually the maximum width horizontal growth portion is formed at an initial point of time when most of the electroforming is started.

(E)는 최대폭을 가지는 수평 성장부가 전주가공을 시작할 초기의 시점에 생기었다가 점차 선 폭이 줄어드는 형상을 보인 실시예이다. (E) shows an embodiment in which the horizontal growth portion having the maximum width occurs at an initial stage of starting the electroforming process, and then the line width gradually decreases.

(D)와 (F)에서는 최대폭 수평성장부가 전주금형의 돌출부 표면보다 하부에 형성된 실시예이다. (D) and (F), the maximum width horizontal growth portion is formed below the projecting portion surface of the electroforming die.

전주가공이 시작될 때, 돌출부 상부표면의 중앙부에서는 높이방향의 성장이 진행이 되나, 돌출부 상부표면의 양 모서리에서는 비도전 물질을 따라 성장이 이루어 질 수도 있다. 금속성장이 비도전 물질을 따라 하부방향으로 어느 정도의 시점까지 진행된다. 어느 정도 지나면 하부로의 성장은 멈추게 된다. When the electrophotographic process is started, the growth progresses in the height direction at the central portion of the upper surface of the projection, but the growth may occur along the non-conductive material at both corners of the projection upper surface. Metal growth proceeds downward along a non-conductive material to some point. After some time, the growth to the bottom stops.

전주가공물이 성장을 시작할 때, 돌출부의 상부표면 모서리에서는 비전도성 물질을 따라 하부방향 및 수평 방향으로도 전주가공이 진행된다. When the electrophotographic workpiece starts to grow, electroforming proceeds also in the downward and horizontal directions along the nonconductive material at the upper surface edge of the projections.

본 발명의 수직성장 전주금형으로 전주가공을 진행할 때, 전주가공물은 하부방향 성장부를 갖는 경우가 많다. 충전물의 형상, 충진물의 깊이, 도금용액의 속도, 공간부의 폭, 돌출부의 높이, 포물선의 깊이 등을 변경하면 하부방향 성장부 또는 최대폭 수평 성장부의 통제가 어느 정도 가능하다. 이러한 조건들을 잘 조절하여 정체영역에 대한 제어를 할 수가 있게된다. When the electroforming is carried out with the vertical growth electroforming die of the present invention, the electroforming workpiece often has a downward growth portion. By changing the shape of the filling, the depth of the filling, the speed of the plating solution, the width of the space, the height of the projection, the depth of the parabola, etc., some control of the lower growth portion or the maximum horizontal growth portion is possible. It is possible to control the congestion area by controlling these conditions well.

이론적으로는 정체영역은 도금용액의 유동이 정지되어 전주가공이 거의 이루어 지지 않는 곳이다. 그러나 실무에서 도금용액의 유입이 미량 생기는 것은 당연한 일이다. 정체영역의 내부에 있었던 금속이온이 도금으로 석출되는 것을 막을 수가 없다. Theoretically, the stagnation region is a place where the flow of the plating solution is stopped and the processing of the electric pole is hardly achieved. However, it is a matter of course that a small amount of plating solution flows in practice. The metal ions existing in the stagnant region can not be prevented from being precipitated by the plating.

본 발명의 정체영역을 만들기 위하여, 공간부에 비도전성 물질을 코팅하거나 충진하거나 도포시키는 공법이 있다. 비도전성 물질은 포물선 형태로 도포 또는 충진 시키는 것이 용이하다.
In order to make the stagnant region of the present invention, there is a method of coating, filling or applying a non-conductive material to the space portion. Non-conductive materials are easy to apply or fill in parabolic form.

도 13은 본 발명의 수직성장 전주금형에 대한 실시예이다. 13 is an embodiment of the vertical growth electroforming die of the present invention.

본 발명의 수직성장 전주금형은, 도전체 기판에 돌출부와 공간부가 형성되는 것이 표준형태이다. 상기 공간부에 비도전성 물질로 충진한다. The vertical growth electroforming die of the present invention is a standard type in which protrusions and spaces are formed on a conductor substrate. And the space is filled with a non-conductive material.

비도전성 물질의 가장 대표적인 실시예로는 실리콘을 들 수가 있다. 기타 불소수지 등의 다른 물질도 대체 가능하다. 코팅 또는 도포 또는 충진된 비도전성 물질의 가장 대표적인 형상은 포물선 형상이다. 포물선의 깊이가 깊을수록 수직성장의 효과는 탁월하다. The most representative example of the non-conductive material is silicon. Other materials such as other fluorocarbon resins can be substituted. The most representative form of non-conductive material coated or applied or filled is parabolic. The deeper the depth of the parabola, the greater the effect of vertical growth.

본 발명에서 충진되는 비전도체 물질은 반드시 포물선 형상으로만 되어야 하는 것은 아니다. 본 발명에서 포물선 형상으로 구성을 하다는 용어는 포물선을 포함하여 포물선과 유사한 형태까지 포함하는 개념이다. The nonconductive material to be filled in the present invention does not necessarily have to be parabolic. In the present invention, the term " constituting a parabolic shape " includes a parabolic shape and a parabolic shape.

공간부의 양 벽면과 하부면에 대하여 얇게 비전도체가 도포되는 것도 포함하는 개념이다.And a nonconductive coating is applied thinly on both the wall surface and the bottom surface of the space portion.

도 (A)는 포물선 형상(22)으로 공간부(21)가 충진된 것을 나타낸다. 포물선의 중앙부의 깊이가 깊을수록 정체영역이 명확시 성립되며, 수직성장의 효과는 탁월하다. Figure (A) shows that the space portion 21 is filled with the parabolic shape 22. The deeper the depth of the central part of the parabola, the stagnant area becomes clear, and the effect of vertical growth is excellent.

돌출부(20)의 상부표면은 일반적으로 평면을 이룬다. 돌출부의 상부표면은 전체적으로 같은 높이, 같은 형상을 유지하게 하여 균일한 수직성장을 이루도록 한다. 돌출부의 상부표면은 매끈한 평면 또는 매끈한 선(LINE)의 형태로 구성된다.The upper surface of the protrusion 20 is generally planar. The upper surface of the protrusions maintains the same overall height and shape to achieve uniform vertical growth. The upper surface of the protrusion is configured in the form of a smooth flat or smooth line.

도 (B). (C)는 비도전성 물질이 공간부에 도포되거나 코팅되거나 충진된 된을 나타낸다. 이들의 형상은 포물선이라고 이외의 형태로 표현하기 어렵지만 기능은 포물선 형상으로 이루어진 정체영역의 기능을 수행할 수가 있다.(B). (C) shows that the non-conductive material is applied to the space portion, coated or filled. These shapes are parabolic, which is difficult to express in any other form, but the function can perform the function of the stagnation region in a parabolic shape.

공간부의 전체벽면과 바닥면에는 도전체가 노출이 되지 않도록 비도전성 물질로 도포, 코팅, 충진(24,26)된다. 이때도 도포 또는 충진된 공간부의 깊이가 깊을수록 수직성장 효과가 탁월하다. Coated and filled (24, 26) with a non-conductive material so that the conductor is not exposed to the entire wall surface and the bottom surface of the space portion. At this time, as the depth of the applied or filled space is deeper, the vertical growth effect is excellent.

도 (B)는 돌출부의 상부표면의 양 모서리부에 비도전성 물질이 같은 높이로 수평하게 유지되는 수평부(23)가 형성된 것을 설명한다. 수평부의 끝에서 비도전성 물질은 급격한 경사부를 형성하여 정체영역을 형성한다. 이러한 경우는 비도전성 물질로 돌출부와 공간부의 전체면에 균일도포를 하고, 돌출부의 상부표면을 수평으로 연마한 경우이다. Fig. 2B illustrates that the horizontal portion 23 is formed at both corners of the upper surface of the protruding portion, where the non-conductive material is horizontally held at the same height. At the end of the horizontal portion, the non-conductive material forms a steep slope to form a stagnation region. In this case, the entire surface of the protruding portion and the space portion is uniformly coated with a non-conductive material, and the upper surface of the protruding portion is horizontally polished.

이 경우에는 돌출부 상부표면의 양 모서리 끝에서 비도전성 물질이 바로 급격한 경사각을 형성하는 것이 아니라, 미량의 중간부(23)가 존재한다. 상기 중간부의 끝에서 급격하게 경사각을 형성시킨다. In this case, the non-conductive material does not directly form a sharp inclination angle at both edges of the upper surface of the projection, but a very small amount of intermediate portion 23 exists. And an abrupt angle is formed at the end of the intermediate portion.

도 (C)는 공간부에 도포 또는 충진 또는 코팅되는 비전도성 물질이 돌출부의 상부표면의 양 모서리에서 급격하게 경사각(25)을 형성 한 것을 설명한다.
FIG. 5C illustrates that the non-conductive material applied to, coated on, or coated in the space portion forms a sharp inclination angle 25 at both corners of the upper surface of the projection.

도 14는 본 발명의 수직성장 전주금형에서 공간부에 형성된 충진물의 경사각에 대한 설명이다. 돌출부와 돌출부 사이에 형성되는 공간부에 비도전성 물질을 충진함에 있어서, 경사각은 중요한 역할을 한다. FIG. 14 is an explanatory view of the inclination angle of the filling material formed in the space portion in the vertical growth electroforming die of the present invention. The inclination angle plays an important role in filling non-conductive material in the space portion formed between the protruding portion and the protruding portion.

경사각이 너무 완만하면, 돌출부 상부표면의 양 모서리에서는 하부방향 성장과 수평방향 성장이 활발하게 이루어진다. 이는 경사각이 완만하면 도금용액의 유동이 공간부에서도 활발하게 진행되기 때문이다. 이 경우에는 정체영역이 형성되지 못한 것이 된다. When the inclination angle is too gentle, both the downward growth and the horizontal growth are actively performed at both corners of the upper surface of the protrusion. This is because the flow of the plating solution actively proceeds also in the space portion if the inclination angle is gentle. In this case, the stagnation area can not be formed.

본 발명에서는 공간부를 충진하거나 도포를 할 때, 공간부의 중앙지점이 포물선의 가장 깊은 부분이 된다. 포물선의 중심의 깊이가 깊을수록 수직성장에 도움된다. 이 말은 곧 정체영역이 확실하게 성립하는 것을 의미한다. In the present invention, when the space is filled or applied, the center point of the space is the deepest part of the parabola. The deeper the depth of the center of the parabola, the more it helps to grow vertically. This means that the stagnation area is surely established.

도 (A)는 돌출부의 상부표면의 양 모서리에서 비도전성 물질이 급격한 경사각(27)을 형성하는 것을 나타내며, 도 (B)는 중간부를 거쳐서 급격한 경사각(28)을 이룸을 설명한다.
FIG. 2A shows that the non-conductive material forms a sharp inclination angle 27 at both corners of the upper surface of the protrusion, and FIG. 2B shows the abrupt inclination angle 28 through the intermediate portion.

도 15는 포물선의 깊이에 따라 수직성장의 형태가 결정되는 것을 설명하는 설명도이다. 포물선의 깊이가 얕으면 정체영역이 형성되지 못한다. 도 (A)의 경우는 포물선(29)의 깊이가 얕아서 도금용액이 활발하게 유동이 되므로 정체영역이 없는 형상이다. 이곳에서는 수평성장도 하부방향 성장도 활발하게 발생 되는 것을 의미한다. FIG. 15 is an explanatory diagram for explaining how the shape of vertical growth is determined according to the depth of a parabola. FIG. If the depth of the parabola is shallow, the stagnation area can not be formed. In the case of Figure (A), the depth of the parabola 29 is shallow, and the plating solution flows actively, so that the shape does not have a stagnation region. Here, it means that horizontal growth and downward growth also actively occur.

(B)의 경우에는 포물선(30)의 깊이가 깊어서, 정체영역이 형성되어 도금용액이 유동하지 않게 되며, 이로 인하여 수평성장이 억제되는 것을 설명한다.(B), the depth of the parabola 30 is deep, so that a stagnation region is formed and the plating solution does not flow, thereby suppressing horizontal growth.

(C)의 경우에는 도포되거나 충진된 비전도성 물질이 포물선의 형상이 아닌 임의형상(31)인 것을 나타낸다. 포물선 형상이 아닐지라도 정체영역이 만들어지면 수직성장이 생기지 않는 것을 설명한다. 다양한 형태로 비도전성 물질이 충진 또는 코팅 가능함을 설명한다. 본 발명에서는 이러한 형태도 포물선 형태란 용어 안에 포함시킨다.
(C) indicates that the non-conductive material applied or filled is an arbitrary shape (31) other than the shape of a parabola. Explain that vertical growth does not occur if the stagnation region is created even if it is not a parabolic shape. Explain that non-conductive materials can be filled or coated in various forms. In the present invention, this form is also included in the term parabolic form.

도 16은 수직상승 전주금형의 돌출부의 높이, 공간부의 넓이에 따른 수직상승 효과를 설명하는 설명도이다. 도전체 기판에 돌출부가 무수히 형성되고, 돌출부 사이 사이에는 공간부가 형성된다. 공간부의 양 벽면과 바닥면에는 비도전성 물질로 코팅한다. 코팅된 공간부에는 도금이 형성되지 않는다. 16 is an explanatory view for explaining the effect of vertical uplift depending on the height of the protruding portion of the vertical up-to-front electric pre-press mold and the width of the space portion. A plurality of projections are formed on the conductor substrate, and a space is formed between the projections. Both walls and bottom of the space are coated with non-conductive material. Plating is not formed in the coated space portion.

그러나 도금이 실행은 되지 않는 것과 상기 공간부에 정체영역이 형성된다는 것과는 별개의 문제이다. 돌출부의 상부표면에 도금되는 전주가공물이 수직상승을 하려면, 공간부는 비도전성 물질로 코팅되고, 또한 공간부에는 비도전성 물질로 인하여 정체영역이 형성되어야만 한다.However, this is a separate problem from the fact that the plating is not performed and the stagnation region is formed in the space portion. In order to vertically lift the electroplated workpiece to be plated on the upper surface of the protrusion, the space portion is coated with the non-conductive material and the stagnation region must be formed due to the non-conductive material in the space portion.

본 발명의 수직상승 전주금형은 공간부에 정체영역을 형성시켜 수평 및 하부방향 성장을 최대한 억제한다. 그리고 돌출부의 상부표면에서는 수직성장이 활발하게 형성되도록 하는 것이 목적이다. The vertical elevating electroforming die of the present invention forms a stagnation region in the space portion and suppresses horizontal and vertical growth as much as possible. And the vertical growth is actively formed on the upper surface of the protrusion.

정체영역은 공간부의 폭(b)이 작고, 돌출부의 높이(h)가 높다면 용이하게 형성된다. 본 발명에서 공간부의 폭(b)은 주로 수 마이크로미터~ 수십 마이크로미터의 크기이다. 좁은 간격의 공간부에 도금용액이 갇히면, 도금용액은 유동을 할 수 없는 정체영역이 된다. 정체영역을 이루기 위하여, 간격(b)과 높이 (h)는 일의적으로 한정 지을 수 없다. 도금용액의 흐름 속도를 비롯한 요소가 관련되어 진다.The stagnation region is easily formed when the width b of the space portion is small and the height h of the projection portion is high. In the present invention, the width (b) of the space portion is usually several micrometers to tens of micrometers. When the plating solution is trapped in the narrow space portion, the plating solution becomes a stagnant region in which the flow can not be performed. In order to form the stagnation region, the interval (b) and the height (h) can not be uniquely defined. Elements, including the flow rate of the plating solution, are involved.

본 발명에서는 전주가공물이 수직성장이 됨에 따라, 수직상승 전주금형의 정체영역도 상부로 함께 상승하는 것을 특징으로 한다.
According to the present invention, as the electroformed workpiece is vertically grown, the stagnation area of the vertically rising electroforming metal mold is also raised upward.

도 17은 하부방향 성장부 또는 최대폭 수평 성장부를 제거하는 공정에 대한 설명도이다. 본 발명의 수직상승 전주금형에 전주가공을 실시하면, 수직성장 전주가공물을 얻을 수 있다. 상기 수직상승 전주가공물에는 하부방향 성장부 또는 최대폭 수평 성장부가 생길 수도 있다. 17 is an explanatory view of a process of removing the lower growth portion or the maximum width growth portion. By subjecting the vertical elevating electroforming die of the present invention to electroforming, a vertically growing electroforming workpiece can be obtained. The vertically rising electrophotographic workpiece may have a downward growth portion or a maximum widthwise horizontal growth portion.

여러 환경적 요인을 조절하여, 하부방향 성장부가 억제되도록 한다. 또한 최대폭 수평 성장부의 폭을 가능한 작게 만든다. 이렇게 하여야만 전주가공물의 개구도를 크게 할 수가 있다. Various environmental factors are controlled to allow downward growth to be suppressed. And also makes the width of the horizontal growth portion as small as possible. Thus, the aperture of the pole piece workpiece can be increased.

수직상승 전주가공물에서 개구도의 개선이 필요할 경우에는 하부방향 성장부를 제거하며, 최대폭 수평 성장부의 폭을 줄일 수가 있다. 이는 후 가공을 통하여 진행한다. 이러한 후 가공은 하부방향 성장부를 제거하여 표면을 평탄하게 하거나 매끄럽게 하며, 개구도를 크게 증가 시킬 수가 있다.If improvement of the numerical aperture is required in the vertically rising electroconductive workpiece, the downward growth portion can be removed and the width of the maximum horizontal growth portion can be reduced. This proceeds through post processing. Such post-processing may remove the downward growth portion to flatten or smooth the surface and greatly increase the opening degree.

하부방향 성장부 또는 최대폭 수평성장부를 제거하기 위한 공정은 다양하다. 가장 대표적인 방법으로는 전해공정을 사용하거나, 에칭공정을 사용하거나, 기계적 연마공정을 사용한다.The processes for removing the downward growth portion or the maximum width horizontal growth portion are various. The most typical method is to use an electrolytic process, an etching process, or a mechanical polishing process.

상기 하부방향 성장부 또는 최대폭 수평성장부를 제거하면, 전주가공물은 개구도가 훨씬 개선된다. 하부방향으로 전주가공물이 성장하면 측면성장도 동시에 이루어진다. 따라서 개구도를 좁아지게 된다. Removing the downward growth portion or the maximum width horizontal growth portion further improves the aperture degree. When the electroplated workpiece is grown in the downward direction, side growth is also performed at the same time. Therefore, the aperture becomes narrower.

일반적으로 하부방향 성장부 또는 최대폭 수평성장부는 대부분 뾰쪽한 형상으로 돌출된 부분이므로 전기가 집중된다. 따라서 이 부분은 에칭 또는 전해가 활발하게 진행된다. Generally, the downward growth portion or the maximum width horizontal growth portion is a portion protruding in a sharp shape, so electricity is concentrated. Therefore, this portion is actively etched or electrolyzed.

도 (A)는 본 발명의 수직상승 전주금형(33)의 돌출부의 상부표면에 수직 성장된 전주가공물(32)이 제작된 실시예이다. FIG. 2A is an embodiment in which a preformed workpiece 32 is vertically grown on the upper surface of a protruding portion of the vertical elevating electroforming die 33 of the present invention.

도 (B)는 본 발명의 수직상승 전주금형의 돌출부 상부표면 모서리에 형성된 하부방향 성장부(34)를 가진 전주가공물을 탈형시킨 것의 단면도이다.Fig. 5 (B) is a cross-sectional view of a polished workpiece having a downward growth portion 34 formed on the upper surface edge of the projection of the vertical lifting preform mold of the present invention. Fig.

도 (C)는 하부방향 성장부(34)를 가진 전주가공물(36)의 하부방향 성장부를 갖는 평면과 반대쪽의 평면에 차단판(35)를 위치시킨다. 상기 차단판은 하부방향 성장부를 제거하는 데 요긴하게 사용되며, 전주가공물(36)의 윗면을 안전하게 보호할 수 있게 된다.(C) places the blocking plate 35 in a plane opposite to the plane having the downward growth portion of the electro-magnetic workpiece 36 having the downward growth portion 34. The blocking plate is used to remove the downward growth portion, and it is possible to safely protect the upper surface of the electro-magnetic workpiece 36.

도 (D)는 에칭공정 또는 전해공정 또는 기계연마를 실행하는 실시예에 대한 설명이다. 예리한 단부를 갖는 하부방향 성장부를 에칭이나 전해를 통하여 또는 기계연마를 통하여 제거한다. 예리한 단부에 전류가 집중되므로 에칭 또는 전해연마공정에서 하부방향 성장부는 용이하게 제거된다. 제거공정을 마치면 큰 개구가 형성된 전주가공물(38)이 얻어진다. Figure (D) illustrates an embodiment in which an etching process or an electrolytic process or a mechanical polishing is performed. The lower growth portion having sharp ends is removed through etching, electrolysis, or mechanical polishing. Since the current is concentrated at the sharp end, the downward growth portion is easily removed in the etching or electrolytic polishing process. Upon completion of the removal process, a polished workpiece 38 having a large opening is obtained.

가공 후에 차단판(37)을 제거한다. After machining, the shield plate 37 is removed.

기계적 연마시에는 전주가공물의 공간부에 임시 충진물을 채워서 전주가공물에 손상이 없도록 하는 것이 바람직하다.During mechanical polishing, it is preferable to fill the space portion of the electroplating workpiece with a temporary filler so as not to damage the electroplating workpiece.

도 (E)는 큰 개구가 형성된 전주가공물(39)의 단면도이다. 하부방향 성장부를 제거한 이후에 차판판을 제거하면 개구가 큰 전주가공물을 얻을 수가 있다. 이러한 공정을 거쳐서 만들어진 전주가공물은 큰 개구도를 전주가공물이 된다. 이는 개구도가 큰 메쉬 또는 필터 또는 그물망의 제작에 큰 효과가 있다.Diagram (E) is a cross-sectional view of a preform workpiece 39 having a large opening. If the car plate is removed after removing the downward growth portion, a poled workpiece having a large opening can be obtained. The poled workpieces made through these processes become large workpieces. This has a great effect on the production of a mesh or filter or mesh having a large aperture.

전주가공물이 메쉬로 사용될 때, 정밀인쇄용 메쉬, 실버 페이스트를 사용하여 회로를 인쇄하는 메쉬 등의 용도로 광범위하게 사용이 된다. 본 발명을 통하여 제작된 전주가공물은 정밀인쇄용 메쉬로 가장 이상적인 특성을 지닌다. It is used extensively for precise printing mesh, silver paste printing mesh, etc., when polynomial workpieces are used as meshes. The electroformed workpiece produced through the present invention has the most ideal characteristics as a precision printing mesh.

첫째, 인쇄 메쉬의 가장 이상적인 구조인 벌집모양 형상으로 메쉬의 제작이 가능하다. 둘째, 개구도가 큰 메쉬의 제작이 가능하다. 세째, 메쉬의 선폭을 최대한으로 작게 할 수가 있다. 네째, 메쉬의 내구성을 대표하는 두께를 두껍게 할 수가 있다. 다섯째, 메쉬의 단면은 테이퍼 형상을 가지고 있어서 인쇄시에 잉크 또는 실버페이스트의 토출이 용이하다. 여섯째, 종래에 사용되는 직조형태의 메쉬는 메쉬의 올이 움직이는 단점이 있으나 본 발명의 메쉬는 그러한 단점이 발생하지 않는다. 본 발명의 메쉬는 많은 부분에서 탁월한 효과를 발휘한다.
First, it is possible to fabricate a mesh with a honeycomb shape, which is the ideal structure of a print mesh. Second, it is possible to manufacture a mesh having a large opening degree. Third, the line width of the mesh can be minimized. Fourth, the thickness representing the durability of the mesh can be increased. Fifth, since the cross section of the mesh has a tapered shape, it is easy to discharge ink or silver paste at the time of printing. Sixth, a conventional woven mesh has disadvantages in that the mesh is moved, but the mesh of the present invention does not suffer from such disadvantages. The mesh of the present invention exerts an excellent effect in many parts.

도 18은 본 발명의 1형태와 2형태 금형의 가공방법에 대한 설명이다. 본 발명에서 설명하는 1형태, 2형태, 3형태, 4형태 금형은 본 발명에서 사용하는 수직성장 전주금형을 만들기 위하여 사용되는 금형들이다. 이들은 모두 기판에 감광층을 형성하고, 상기 감광층에 노광공정과 현상공정을 행한다. 현상과정을 거쳐서 기판에는 노광부에 의한 3차원 구조가 만들어진다. 본 발명의 1형태, 2형태, 3형태, 4형태 금형은 상기 노광부에 의한 3차원 구조를 갖는 기판을 공통적으로 사용한다.Fig. 18 is a view for explaining one embodiment of the present invention and a method of processing a two-piece mold. The one-shape, two-shape, three-shape, and four-shape molds described in the present invention are molds used to make the vertically-grown electroforming mold used in the present invention. All of them form a photosensitive layer on a substrate, and the photosensitive layer is subjected to an exposure process and a development process. Through the development process, a three-dimensional structure is formed on the substrate by the exposure part. The first, second, third, and fourth molds of the present invention commonly use a substrate having a three-dimensional structure formed by the exposure unit.

본 발명에서는 주로 감광재는 드리이 필름을 사용한다. 이러한 감광재의 두께는 보통 10마이크로미터, 20마이크로미처, 30마이크로미터, 40마이크로미터 등의 다양한 종류가 있다. 기판에 이들 감광재를 도포한 표면은 매끈하며 균일한 상태로 도포가 된다. In the present invention, a drier film is mainly used as the photosensitive material. The thickness of the photosensitive material is usually 10 micrometers, 20 micrometers, 30 micrometers, 40 micrometers, and the like. The surfaces coated with these photosensitive materials on the substrate are coated smoothly and uniformly.

본 발명에서는 다양한 형태의 패턴을 통하여 상기 감광재를 노광시킨다. In the present invention, the photosensitive material is exposed through various patterns.

보통 피치의 크기는 10, 20, 30, 40, 50, 60 ,70, 80, 90, 100 마이크로미터로 한다. Usually the pitch is 10, 20, 30, 40, 50, 60, 70, 80, 90, and 100 micrometers.

회로에서 선폭은 보통 5, 10, 15, 20, 25, 30 마이크로미터로 한다. In a circuit, the line width is usually 5, 10, 15, 20, 25, and 30 micrometers.

본 발명에서 재료 선택을 실시예로서, 만약 감광재의 두께가 40마이크로미터이고, 피치가 30마이크로미터, 선 폭이 10마이크로미터, 제품의 가로X세로 크기가 40센티 X 80센티로 한다고 가정한다. 이러한 데이타로 노광 및 현성을 가능케 할 노광비와 현상기는 종래에는 존재하지 않는다. 그러나 본 발명에서는 이를 가능하게 한다. 가장 중요한 것이 대형면적의 노광을 가능케하며, 미세 노광을 가능케 하는 본 발명자가 특허출원한 선광원 발생장치를 가지는 노광기를 사용하여야 한다.As an example of the material selection in the present invention, it is assumed that the thickness of the light-sensitive material is 40 micrometers, the pitch is 30 micrometers, the line width is 10 micrometers, and the horizontal dimension X dimension of the product is 40 centimeters by 80 centimeters. Exposure ratios and developing units which allow exposure and presenting with such data have not conventionally existed. However, the present invention makes this possible. Most importantly, it is necessary to use an exposing machine having a concentrating light source generating apparatus which enables the exposure of a large area and allows the fine exposure.

그러나 본 발명의 선광원 발생장치를 사용하여 실싱예에서 제시한 노광 및 현상을 성공한다고 하더라도 대면적에 적용하면, 항상 부분적으로 한 두 곳에 현상의 미숙이 발생하여 온전한 제품을 만드는데 무척 힘이 든다. However, even if the exposure and development proposed in the present invention can be successfully accomplished using the optical circulator of the present invention, it is very difficult to produce a perfect product because the phenomenon is always partially developed in one or two places.

본 발명에서는 이러한 현상의 미숙이 한두 곳에 발생한다 하더라도 원하는 금형을 만드는데 어려움을 주지 않도록 하는 기술을 제시한다. 이것은 현상공정이 불완전 하더라도, 도전성 금속을 스파터링하여 전주가공을 실행하여 현상의 미숙을 완전히 커버하는 획기적 기술이다.According to the present invention, a technique for preventing the occurrence of such a phenomenon from occurring in one or two places is not difficult. This is a breakthrough technology that completely covers the immaturity of the phenomenon by sputtering the conductive metal to perform electroplating, even if the development process is incomplete.

도 18은 1형태 금형과 2형태 금형의 제작방법을 설명한다. 1형태 금형은 기판에 감광재를 사용하여 3차원 형상을 만들고, 상기 3차원 형상에 도전성 금속으로 스파터링을 한 뒤, 전주가공을 실시하여 금형을 제작하는 것을 특징으로 한다.Fig. 18 illustrates a method of manufacturing the one-piece mold and the two-piece mold. The one-shape mold is characterized in that a three-dimensional shape is formed on a substrate using a photosensitive material, sputtering is performed on the three-dimensional shape with a conductive metal, and then a preform is formed to produce a mold.

노광부에 의하여 3차원 형상을 제작한다. 상기 노광부의 형상은 탈형을 용이하게 하기 위하여 테이퍼 형상으로 한다.A three-dimensional shape is produced by the exposure unit. The shape of the exposed portion is tapered to facilitate demoulding.

주로 평판으로 만들어진 기판(40)에 감광층(41)을 도포한다. 상기 감광층에 패턴을 통하여 노광을 시킨다. 감광재에는 노광부(42)와 비노광부(43)가 형성된다.The photosensitive layer 41 is applied to a substrate 40 mainly made of a flat plate. The photosensitive layer is exposed through a pattern. An exposed portion 42 and an unexposed portion 43 are formed on the photosensitive material.

본 발명에서 노광공정에서 노광부가 테이퍼(TAPE) 형상을 이루어 후 공정에서 탈형이 용이하도록 한다. 즉 노광부의 상부폭이 하부폭보다 좁도록 노광을 한다. 이러한 노광을 위하여 본 발명자가 특허출원한 선광원 발생장치를 사용한다.In the present invention, the exposure unit forms a TAPE shape in the exposure process, thereby facilitating demoulding in the subsequent process. That is, the upper width of the exposed portion is narrower than the lower width. For this exposure, the inventor of the present invention uses a patent-pending light source generating apparatus.

만약 노광부의 상부폭이 하부폭보다 넓게 되면 추후 탈형 과정이 불가능하게 된다. 노광부의 상부폭이 하부폭과 같을 경우에도 탈형 과정은 거의 불가능하게 된다. 왜냐하면 감광층의 두께가 두껍기 때문에, 경사면이 없다면 탈형은 거의 불가능하게 된다. If the upper width of the exposed portion is wider than the lower width, the subsequent demolding process becomes impossible. Even if the upper width of the exposed portion is equal to the lower width, the demolding process becomes almost impossible. Because the thickness of the photosensitive layer is thick, if there is no inclined surface, demoulding becomes almost impossible.

이러한 이유로 본 발명에서는 노광부의 상부폭이 하부폭보다 좁도록 노광이 진행된다. 즉 노광부는 테이퍼진 형상으로 형성되게 한다.For this reason, according to the present invention, the exposure progresses such that the upper width of the exposed portion is narrower than the lower width. That is, the exposed portion is formed in a tapered shape.

현상과정을 거쳐서 비노광부를 제거하면 기판에는 테이퍼 진 형상의 노광부만 남게 된다. 기판에 3차원 형상을 지닌 돌출부가 만들어지게 된다. When the unexposed portion is removed through the development process, only a tapered exposure portion remains on the substrate. A protrusion having a three-dimensional shape is formed on the substrate.

기판에는 노광부에 의하여 돌출부(45)와 공간부(44)가 형성된다.The projecting portion 45 and the space portion 44 are formed on the substrate by the exposure portion.

노광부로 이루어진 돌출부는 상부가 하부보다 좁은 형상이다. 이러한 테이퍼 형상의 노광을 위하여 본 발명자가 개발한 선광원 발생장치를 갖는 노광기를 사용한다. The projection made of the exposure part has a shape in which the upper part is narrower than the lower part. In order to expose such a tapered shape, an exposure apparatus having a toric light source generating apparatus developed by the present inventor is used.

이를 사용하면 테이퍼 형상의 노광을 용이하게 할 수가 있다. 선광원 발생장치에서 사용되는 렌티큐라 렌즈의 특성을 이용하여 테이퍼 형상의 가공이 가능하다.By using this, tapered exposure can be facilitated. The tapered shape can be processed by using the characteristics of the Lenticular lens used in the luminous source generating device.

기판에서 현상공정을 통하여 비노광부를 제거하면, 돌출부(45)만 남게 된다. 돌출부와 돌출부 사이에는 공간부(44)가 형성된다. 현상을 마치더라도 공간부에는 완전히 제거되지 아니한 잔존 감광재(46)가 흔히 남는다. 주로 기판의 바닥면에 잔존 감광재가 얇게 남는 경우가 흔히 있다. When the non-visible portion is removed from the substrate through the developing process, only the protruding portion 45 is left. A space portion 44 is formed between the protruding portion and the protruding portion. Even when the development is completed, the remaining photosensitive material 46, which has not been completely removed from the space portion, often remains. It is often the case that the remaining photosensitive material remains on the bottom surface of the substrate.

감광층의 두께가 수 마이크로미터 이하로 얇다면, 잔존 감광층이 생기지 않도록 노광 및 현상을 할 수가 있다. 그러나 감광층의 두께가 두껍다면, 잔존 감광층이 없도록 현상을 한다는 것은 실패할 확률이 너무나 높다. 만약 금형의 크기를 대형으로 제작하고자 할 경우, 전체 면적에서 적어도 한두 곳에는 잔존 감광층이 남더라도 이러한 현상은 실패로 결론이 난다.If the thickness of the photosensitive layer is as thin as several micrometers or less, exposure and development can be performed so that the remaining photosensitive layer is not formed. However, if the thickness of the photosensitive layer is large, it is too high to fail to develop the photosensitive layer so that there is no remaining photosensitive layer. If the size of the mold is to be made large, it is concluded that even if the remaining photosensitive layer remains in at least one or two places in the entire area, this phenomenon fails.

본 발명에서는 주로 수십 마이크로미터의 두께의 감광재를 사용하여 3차원 형상의 금형을 제작한다. 게다가 제작하고자 하는 금형의 크기를 대형으로 만드는 경우가 많다. In the present invention, a three-dimensional mold is produced by using a photosensitive material having a thickness of several tens of micrometers. In addition, the size of the mold to be produced is often made large.

정밀금형을 제작하는 경우, 공간부의 폭이 매우 좁고 감광층의 두께가 두꺼우므로 아무리 미세현상을 한다고 하더라도, 일반적인 현상기술로는 잔존 감광재를 완전히 제거하는 것은 불가능한 것이 현실이다. 따라서 잔존 감광재를 완전히 제거한다는 전제하에서 금형을 제작한다면 실패할 확률이 너무나 높다. When a precision mold is manufactured, the width of the space portion is very narrow and the thickness of the photosensitive layer is thick, so that no matter how fine the phenomenon is, it is a reality that it is impossible to completely remove the remaining photosensitive material by a general developing technique. Therefore, if the mold is manufactured under the premise that the residual photosensitive material is completely removed, the probability of failure is too high.

이러한 이유로, 본 발명에서는 잔존 감광재가 존재를 한다는 것을 전제로 ㅎ한다. 잔존 감광재가 있음에도 불구하고 우수한 금형을 제작하는 기술을 개시한다.For this reason, in the present invention, it is assumed that a remaining photosensitive material exists. Discloses a technique for producing an excellent mold despite the presence of a residual photosensitive material.

현상공정을 마치면, 기판 위에는 노광부에 의하여 돌출부가 형성된다. 그리고 돌출부와 돌출부 사이에는 공간부가 형성된다. 상기 일부 공간부에는 잔존 감광재가 남아 있다. When the development process is completed, a projecting portion is formed on the substrate by the exposure portion. And a space portion is formed between the projecting portion and the projecting portion. A remaining photosensitive material remains in the part of the space.

이러한 현실 속에서, 돌출부의 상부표면과 공간부와 잔존 감광재에 도전성 금속으로 스파터링 공정(47)을 행한다. 상기 스파터링 공정을 통하여 돌출부의 상부표면과 공간부와 잔존 감광재는 도전성이 부여된다.In this reality, the sputtering process 47 is performed on the upper surface of the projecting portion, the space portion, and the remaining photosensitive material with the conductive metal. Through the sputtering process, the upper surface of the projection, the space, and the remaining photosensitive material are given conductivity.

스파터링을 마친 기판에 다시 이형층을 형성한다. The release layer is again formed on the sputtered substrate.

상기 통전이 가능한 스파터링층에 전기를 통하게 하고 전주가공을 실행하여 전주가공물을 성장시킨다.Electricity is passed through the sputtering layer that can be energized, and electric pole machining is performed to grow a pole workpiece.

얻어진 전주가공물(48)을 탈형한다. The obtained electroforming work 48 is demoulded.

탈형된 전주가공물을 1형태 금형이라 정의한다. 1형태 금형은 도전성 기판에 다수의 돌출부가 형성된 형상이다. 돌출부(49)와 돌출부 사이에는 공간부(50)가 형성된다.The demolded prismatic workpiece is defined as a one-form mold. The one-piece mold has a shape in which a plurality of projections are formed on a conductive substrate. A space 50 is formed between the projection 49 and the projection.

상기 돌출부 상부표면의 높이는 잔존 감광재의 영향으로 다를 수가 있다. 잔존 감광재가 영향을 미치지 아니한 부분은 공간부의 밑바닥면이다. 상기 공간부의 밑바닥면은 깨끗한 평면이며, 이는 감광재의 표면조도를 그대로 보존하고 있다.The height of the upper surface of the protruding portion may differ depending on the influence of the remaining photosensitive material. The portion where the remaining photosensitive material has no influence is the bottom surface of the space portion. The bottom surface of the space portion is a clean plane, which preserves the surface roughness of the photosensitive material.

이같이 제작된 1형태 금형은 잔존 감광재가 존재한다 하더라도 완전한 금형으로 제작할 수가 있는 획기적 공법이다. 잔존 감광재는 돌출부의 높이에 미세한 변화를 주며, 잔존 감광재의 영향으로 돌출부 상부표면은 거칠어 질 수가 있다.The one-piece mold manufactured in this way is a breakthrough method that can be manufactured as a complete mold even if the remaining photosensitive material is present. The remaining photosensitive material gives a slight change in the height of the projecting portion, and the upper surface of the projecting portion can be roughened by the influence of the remaining photosensitive material.

본 발명에서는 최초에 감광층을 도포한 기판이 비록 도전성 기판이라 할지라도 상기 기판에 전기를 통전시켜 바로 전주가공을 하지 않는다. 그 대신 도전성 금속으로 스파터링 층을 형성하고, 이층층을 만든 다음, 상기 스파터링 층에 통전을 시키어 전주가공을 실시한다.In the present invention, even if the substrate to which the photosensitive layer is initially applied is a conductive substrate, electric power is not applied to the substrate to perform direct electric processing. Instead, a sputtering layer is formed of a conductive metal, a two-layered layer is formed, and the sputtering layer is energized to perform electric pole machining.

스파터링 하지 않고 도전성 기판에 바로 전기를 통전시키어 전주가공을 실시하면, 잔존 감광재가 있는 부분에서 불량이 생긴다. 그러나 상기 잔존 감광재에 도전성 금속을 스파터링을 한 다음, 상기 스파터링 된 부분에 전기를 통전시키어 전주가공을 실행하면, 잔존 감광재가 있더라도 흠 없이 전주가공이 이루어진다. If electricity is directly applied to the conductive substrate without sputtering and electroforming is performed, defects may occur in the portion where the photosensitive material is left. However, if the remaining photosensitive material is sputtered with a conductive metal, then electricity is applied to the sputtered portion to perform electric pole machining, electric pole machining is performed even if there is a remaining photosensitive material.

1형태 금형(51)에는 돌출부(49)와 공간부(50)가 형성된다. The one-piece mold 51 is formed with a protruding portion 49 and a space portion 50.

잔존 감광재의 영향으로 인하여 돌출부들의 높이는 미세한 차이가 난다. Due to the influence of the remaining photosensitive material, the heights of the projections are minutely different.

돌출부의 상부표면은 잔존 광감재의 영향으로 깨끗하지 못한 면을 형성한다. 그러나 공간부의 밑바닥은 감광재의 표면조도를 가지고 있어서 매끈하며 깨끗하다.The upper surface of the protrusion forms an unclean surface due to the influence of the remaining photosensitive material. However, the bottom of the space portion has a surface roughness of the photosensitive material and is smooth and clean.

공간부의 밑바닥의 높이는 균일하다. 공간부의 밑바닥은 감광재의 표면조도를 그대로 갖고 있으며, 높이가 모두 균일하다. 본 발명에서는 감광재의 표면조도와 높이를 보존하고 있는 부분을 보존면이라 정의한다. The height of the bottom of the space is uniform. The bottom of the space portion has the surface roughness of the photosensitive material as it is, and all the heights are uniform. In the present invention, a portion preserving the surface roughness and height of the photosensitive material is defined as a storage surface.

1형태 금형은 돌출부(49)와 공간부(50)로 구성되며, 공간부의 밑바닥은 보존면으로 되는 것이 특징이다. 1형태 금형은 잔존 노광재가 있다 하더라도, 공간부이 밑다닥은 보존면으로 형성된 휼륭한 금형이다.The one-piece mold is constituted by the projecting portion 49 and the space portion 50, and the bottom of the space portion is a storage surface. One type mold is a good mold formed with a preserving surface underneath the space portion even if there is a remaining exposure material.

그러나 만약 잔존 감광재가 전혀 남지 않는 이상적인 현상공정이 가능하다면, 1형태 금형의 제작방법은 더욱 단순하게 될 수가 있다. 그러나 이것은 희망에 불가하다. 그러나 이론적으로 잔존 감광재를 남기지 않는 노광이 가능한 것을 전제로 하면, 기판은 도전성 기판으로 사용한다. However, if an ideal development process is possible without remaining residual photosensitive material, the manufacturing method of the one-piece mold can be made simpler. But this is not possible with hope. However, theoretically, assuming that exposure can be performed without leaving a residual photosensitive material, the substrate is used as a conductive substrate.

노광, 현상을 거친 후, 스파터링을 하지 않고 이형층을 형성한다. 그리고 바로 도전성 기판에 통전 시키어 전주가공을 시행한다. 얻어진 전주가공물을 탈형하면 1형태 금형과 동일한 금형을 얻을 수가 있다. 그러나 이때, 잔존 감광재가 조금이라도 남아 있게 되면, 그 부분은 도금불량이 야기되어 1형태 금형이 실패하게 된다. 기판의 일부에 조금이라도 잔존 감광재가 남으면 도금불량이 야기되어 그 부분에는 전주가공물이 형성되지 않거나 흠이 생기게 된다. 따라서, 잘 만들어진다 하더라도 개선할 수 없는 흠이 있는 실패한 금형이 된다.After exposure and development, a release layer is formed without sputtering. Then, the electroconductive substrate is directly energized to perform electric pole machining. If the obtained preprocessed workpiece is demoulded, the same mold as the one-shaped mold can be obtained. However, at this time, if a small amount of the photosensitive material remains, a portion of the photosensitive material may fail to be plated and the one-piece mold may fail. If a photosensitive material remaining in a part of the substrate remains, plating defects are caused, and a polished workpiece is not formed or scratches are formed in the portion. Thus, even if it is well made, it becomes a failed mold with a flaw that can not be improved.

2형태 금형을 제작하기 위하여, 상기 1형태 금형에 이형층을 형성한다. 전주가공을 실행하여 새로운 전주가공물(52)을 형성한다. 새로운 전주가공물을 1형태 금형에서 탈형하면, 2형태 금형이 된다. In order to manufacture a two-piece mold, a release layer is formed on the one-piece mold. A new electroforming workpiece 52 is formed by performing electroforming. When a new electroforming workpiece is demolded from a one-piece mold, it becomes a two-piece mold.

2형태 금형은 도전체 기판에 돌출부와 공간부로 형성된 것과 같다. 2형태 금형의 돌출부의 상부표면은 보존면으로 구성된다. 즉 2형태 금형의 돌출부의 상부표면은 매끈하며 모두 높이가 동일하다. 상기 2형태 금형의 공간부에 비도전성 물질을 충진하여 정체영역을 만들면 수직성장을 가능케 하는 전주금형이 된다.The two-dimensional mold is the same as that formed on the conductor substrate by the projecting portion and the space portion. The upper surface of the protrusion of the two-piece mold is constituted by a preserving surface. That is, the upper surfaces of the projections of the two-piece mold are smooth and all have the same height. When the non-conductive material is filled in the space portion of the two-piece mold to form the stagnation region, it becomes the electroforming mold capable of vertical growth.

본 발명의 금형에서 돌출부의 테이퍼 각도가 없거나 각도가 너무 약하면, 전주가공물의 탈형이 어렵다. 돌출부에 테이퍼를 형성하는 것이 어려울 경우에는 탈형을 위하여 탄력성 몰드를 제시한다. If there is no taper angle of the projecting portion or the angle is too small in the mold of the present invention, demoulding of the electroforming workpiece is difficult. If it is difficult to form a taper on the protrusion, a flexible mold is proposed for demolding.

탄력성 몰드는 1형태 금형의 제작공정에서, 스파터링 공정을 실행하기 이전 단계에서, 3차원 형상이 만들어진 기판에 이형층을 형성힌디. 그리고 스파터링 공정을 행하지 않고 대신 실리콘과 같은 탄력성이 있는 유동성 소재를 붓고 성형물을 제작한다. The elastic mold forms a release layer on the substrate on which the three-dimensional shape is formed, before the sputtering process, in the one-piece mold manufacturing process. Instead, the sputtering process is not carried out, but instead a flexible material such as silicone is poured into the moldings.

고온 고압하에서 실리콘을 성형하면, 질기고 내구성이 있는 탄력성 성형물이 제작된다. 이후에 탄력성 성형물을 탈형한다. 테이퍼가 없다 하더라도 성형물이 탄력성을 갖고 있으므로 탈형은 용이하게 진행된다. 본 발명에서는 이것을 1형태 탄력성 몰드라 정의한다. 1형태 탄력성 몰드는 1형태 금형과 동일한 형상을 갖는다.When silicone is molded under high temperature and high pressure, a flexible and durable elastic molding is produced. Thereafter, the resilient molding is demolded. Even if there is no taper, the molded article has elasticity, so demolding is easy. In the present invention, this is defined as a one-dimensional elastic mold. 1 shape The elastic mold has the same shape as the one-shape mold.

2형태 금형을 제작하기 위하여, 1형태 탄력성 몰드에 도전성 금속을 스파터링을 하고 그 위에 이형층을 형성한다. 스파터링층에 통전하여 전주가공을 실행한다. 전주가공물이 완성되면 탄력성 몰드로부터 전주가공물을 탈형한다. 실리콘 몰드는 탄력성이 있으므로 전주가공물의 탈형이 용이하다. 탈형된 전주가공물은 2형태 금형이 된다. 상기 전주가공물은 돌출부와 공간부를 갖는다. 돌출부의 상부표면은 보존면으로 형성된다. 상기 2형태 금형의 공간부에 비도전성 물질을 충진하여 정체영역을 만들면 수직성장을 가능케 하는 전주금형이 된다.To fabricate a two-piece mold, a one-dimensional resilient mold is sputtered with a conductive metal and a release layer is formed thereon. Electricity is applied to the sputtering layer to perform electroforming. When the workpiece is finished, the workpiece is demolded from the elastic mold. Silicone mold has elasticity, so it is easy to demould the workpiece. The demoulded preform workpiece becomes a two-piece mold. The electret workpiece has a protruding portion and a space portion. The upper surface of the protrusion is formed as a preserving surface. When the non-conductive material is filled in the space portion of the two-piece mold to form the stagnation region, it becomes the electroforming mold capable of vertical growth.

2형태 금형을 사용하여 수직성장 전주금형을 만든다.Use a two-piece mold to make a vertical growth preform.

1형태 금형(또는 1형태 탄력성 몰드)을 사용하면, 플렉시블 회로판을 제작할 수 있다. 이를 위하여 먼저 1형태 탄력성 몰드 또는 1형태 금형에 이형층을 형성한다. 상기 이형층의 위로 액상의 수지를 주입한다. 그리고 상기 액상수지 위에 평판 필름 또는 롤 상의 필름을 위치시킨다. When a one-piece mold (or one-shape elastic mold) is used, a flexible circuit board can be manufactured. To this end, a release layer is formed on a one-shape elastic mold or a one-mold mold. A liquid resin is injected onto the release layer. Then, a flat film or a roll-like film is placed on the liquid resin.

액상의 수지는 UV수지, 에폭시 수지, 폴리이미드 수지 등을 들 수가 있다. Examples of the liquid resin include UV resin, epoxy resin, polyimide resin, and the like.

액상수지는 성형 건조되면서 필름과 접합된다. 액상수지가 성형 경화되고 필름 접착된 것을 1형태 탄력성 몰드 또는 1형태 금형으로부터 탈형한다. The liquid resin is bonded to the film while being molded and dried. The liquid resin is molded and cured, and the film is bonded and demolded from the one-shape elastic mold or the one-mold mold.

탈형된 프렉시블 회로기판은 돌출부와 오목부가 형성된 회로기판이 된다. 상기 돌출부의 상부표면은 매끈하며 높이가 동일한 보존면이 된다. 이러한 회로기판의 오목부에 실버페이스트 등의 도전성 물질을 주입하여 경화시키면 회로가 형성된 플렉시블 회로기판이 된다. 액상수지는 에폭시 수지, 폴리이미드 수지, UV수지 등의 다양한 형태의 액상수지가 사용된다.The deformed flexible circuit board is a circuit board having protrusions and recesses. The upper surface of the protrusion is smooth and the height becomes the same. When a conductive material such as silver paste is injected into the concave portion of the circuit board and cured, a circuit is formed into a flexible circuit board. As the liquid resin, various types of liquid resin such as epoxy resin, polyimide resin, and UV resin are used.

본 발명에서 상기에서 설명한 방법으로 다양한 형태의 탄력성 몰드를 제작할 수가 있다. In the present invention, various types of elastic molds can be manufactured by the above-described method.

본 발명에서는 금형 또는 탄력성 몰드의 종류에 따라, 보존면이 돌출부의 상부표면에 있거나 공간부의 하부면에 있다. 이들 보존면은 전주가공물의 표면이 매끈하고 같은 높이를 가지도록 하는데 중요한 역할을 한다. In the present invention, depending on the type of the mold or the elastic mold, the storage surface is on the upper surface of the protrusion or on the lower surface of the space portion. These preserving surfaces play an important role in ensuring that the surfaces of the polished workpieces are smooth and have the same height.

본 발명의 금형 또는 탄력성 몰드를 사용하여 제품을 설계할 경우, 항상 최종 제품의 표면이 매끈하며 균일하도록 설계를 하여야 한다. When designing a product using a mold or an elastic mold of the present invention, the surface of the final product should be designed to be smooth and uniform at all times.

이들 탄력성 몰드의 사용처는 다양하다. 먼저 탄력성 몰드로부터 전주가공물을 제작하고, 상기 전주가공물을 탈형시켜 제품으로 사용을 할 수가 있다. 또한 탄력성 몰드를 통하여 회로가 성형된 수지 필름기판을 제작할 수가 있다. These flexible molds are used in various places. First, a preprocessed workpiece is prepared from a flexible mold, and the preformed workpiece is demolded to be used as a product. In addition, a resin film substrate in which a circuit is molded through a flexible mold can be manufactured.

본 발명에서는 테이퍼의 형성이 어려운 경우, 제품의 탈형을 고려하여 탄력성 몰드를 제작한다. 본 발명에서는 금형, 전주금형, 탄력성 몰드를 사용하여 최종제품을 만든다. 최종제품에 형성된 돌출부의 상부면은 보존면이 되도록 하여, 제품의 표면이 매끈하며, 돌출부의 높이가 같도록 한다.
In the present invention, when formation of a taper is difficult, a flexible mold is manufactured in consideration of demolding of the product. In the present invention, a final product is produced by using a mold, an electroforming die, and a flexible mold. The upper surface of the protrusions formed in the final product is to be a preservation surface so that the surface of the product is smooth and the protrusions are the same height.

도 19는 본 발명의 3형태와 4형태의 금형에 대한 설명도이다.Fig. 19 is an explanatory view of a mold according to the third and fourth embodiments of the present invention. Fig.

이는 1형태 또는 2형태의 금형을 사용하여 제작한다. 본 발명의 3형태 금형, 4형태 금형은 1형태 금형 또는 2형태 금형의 피치와 동일한 피치를 가진다. 단, 돌출부와 공간부의 크기는 1형태 금형 또는 2형태 금형과 다르게 할 수가 있다.This is done using one or two molds. The three-shape mold and the four-shape mold of the present invention have the same pitch as the pitch of the one-shape mold or the two-shape mold. However, the size of the protruding portion and the space portion can be different from that of the one-piece mold or the two-piece mold.

도 19는 본 발명의 1형태 금형에서 3형태 금형과 4형태 금형을 만드는 공정을 설명한다. 돌출부(54)와 공간부(55)로 구성된 1형태 금형(58)에 추가적인 전주가공을 실시한다. 추가적인 전주가공을 실행하면, 1형태 금형의 돌출부의 상부표면 및 돌출부의 양 측면부에 거의 균일한 두께의 도금층이 형성된다. 동시에 공간부의 저부에도 거의 동일한 두께로 도금층이 형성된다. 이러한 도금층은 돌출부의 크기를 크게 하며, 동시에 공간부의 크기를 줄어들게 한다. 그렇지만 피치는 불변이다.Fig. 19 illustrates a process of making a three-metal mold and a four-metal mold in the one-metal mold of the present invention. The one-piece mold 58 constituted by the projecting portion 54 and the space portion 55 is subjected to additional electric pole machining. When additional electric pole machining is performed, a plating layer having a substantially uniform thickness is formed on both the upper surface of the protrusion of the one-piece mold and both side portions of the protrusion. At the same time, a plating layer is formed at almost the same thickness at the bottom of the space portion. Such a plating layer enlarges the size of the projecting portion and at the same time reduces the size of the space portion. However, the pitch is unchanged.

1형태 금형에 새로운 도금층(59)이 추가된다. 새로운 도금층으로 인하여 돌출부의 높이와 폭은 증가된다. 공간부의 폭은 줄어든다. 그러나 피치는 동일하게 보존된다. 이러한 방법을 통하여 돌출부의 크기와 공간부의 크기를 정밀하게 제어할 수가 있다. 이 방법을 통하여, 돌출부와 공간부의 크기를 원하는 크기로 만들어 새로운 금형을 제작한다. A new plating layer 59 is added to the one-piece mold. The height and width of the protrusions are increased due to the new plating layer. The width of the space portion is reduced. However, the pitch is kept the same. Through this method, the size of the protrusion and the size of the space can be precisely controlled. Through this method, a new mold is produced by making the size of the projections and spaces the desired size.

1형태 금형에 추가적인 전주가공을 실행하면, 피치는 유지하되 돌출부와 공간부의 크기가 조정된 3형태 금형(60)을 얻는다. 3형태 금형은 1형태 금형과 같이 오목부의 하부면이 보존면이 된다.By performing additional electric pole machining on the one-piece mold, a three-piece mold 60 is obtained in which the pitches are maintained but the sizes of the protrusions and spaces are adjusted. In the three-dimensional mold, the lower surface of the concave portion becomes the storage surface as in the one-piece mold.

3형태 금형(62)에 다시 이형층을 형성하고, 이형층 위에 전주가공을 실행하여 전주가공물(61)을 만들고, 이를 탈형하면 4형태 금형(66)을 얻는다. 4형태 금형은 돌출부(63)의 상부표면이 보존면이 된다.A mold releasing layer is formed again on the three-dimensional mold 62, and a pole forming process is performed on the mold releasing layer to prepare a pole forming workpiece 61, and demolding the pole forming workpiece 61 obtains a four-shape mold 66. In the four-piece mold, the upper surface of the protrusion 63 serves as a storage surface.

1형태 금형에서 3형태 및 4형태 금형의 금형이 제작된 것과 동일한 과정으로, 2형태 금형에서 5형태 및 6형태 금형이 제작된다.In the same process as that of the molds of the 3-shape and the 4-shape in the 1-shape mold, 5-shape and 6-shape are produced in the 2-shape mold.

본 발명에 의하여 제작된 금형은, 그 자체로서 금형의 역할을 하거나 제품으로 사용될 수가 있다. 본 발명의 각 형태의 금형을 사용하여 본 발명에서 사용하는 전주금형을 제작한다. 본 발명에서 전주금형이란 전주가공을 실행할 수가 있도록 하는 금형이라는 의미이다.
The mold manufactured by the present invention can serve as a mold itself or can be used as a product. Each of the molds of the present invention is used to produce a preform mold used in the present invention. In the present invention, the electroforming die means a mold capable of performing the electroforming process.

도 20은 본 발명의 수직상승 전주금형의 실시예이다. 이 실시예는 앞에서 설명한 1형태 금형, 2형태 금형, 3형태 금형 등을 사용하지 않고 전혀 다른 방법으로 전주금형을 제작한 것이다. 본 실시예는 도전성 기판을 사용한다.Fig. 20 shows an embodiment of the vertical elevating electroforming die of the present invention. In this embodiment, the electroforming die is manufactured by a completely different method without using the above-described one-type mold, two-type mold, and three-type mold. This embodiment uses a conductive substrate.

도전성 기판(68)위에 감광층을 형성한다. 감광층은 얇는 두께로 하는 것이 바람직하다. 패턴을 통하여 상기 감광층에 노광 공정을 거쳐서 필요한 형태와 크기의 노광부(67)를 구성한다. 현상공정을 거쳐서 비노광부를 제거한다. 비노광부를 완전히 제거하도록 하기 위하여 두께가 얇은 감광층이 바람직하다. 비노광부가 제거된 곳을 공간부라 칭한다. 상기 도전성 기판의 공간부와 노광부에 이형층을 형성한다.A photosensitive layer is formed on the conductive substrate 68. The thickness of the photosensitive layer is preferably thin. The photosensitive layer is exposed to light through a pattern to form an exposed portion 67 having a required shape and size. The unexposed portion is removed through the developing process. A thin photosensitive layer is preferable in order to completely remove the unexposed portion. The area where the unexposed area is removed is called the space area. A release layer is formed in the space portion and the exposed portion of the conductive substrate.

도금욕조에서 도전성 기판에 통전을 하여, 이형층 위에 전주가공물이 생성되게 한다. 도금층은 처음에는 상기 공간부에만 형성된다. 공간부에서 감광층의 높이 이상으로 도금층이 성장되면, 도금층은 노광부 위에 점차 확산하여 진행된다.Electricity is applied to the conductive substrate in the plating bath so that a polished workpiece is produced on the release layer. The plating layer is initially formed only in the space portion. When the plating layer is grown above the height of the photosensitive layer in the space portion, the plating layer progressively diffuses on the exposed portion.

도금층은 거의 균일한 속도로 노광부 상부를 확산하여 진행된다. The plating layer diffuses through the upper part of the exposure part at a substantially uniform speed.

도금이 진행될수록 도금층의 두께는 두꺼워 진다. As plating progresses, the thickness of the plating layer becomes thicker.

각각의 도금층이 수평방향 및 수직방향으로 성장을 하면서 노광부의 상부에서 확산 진행된다. 도금층과 이웃하는 도금층 사이의 간격이 점차 줄어든다. 도금층과 도금층의 간격이 원하는 크기가 되었을 때 전주가공을 중지한다. 이것을 기초도금층(69)이라 칭한다. 상기 기초도금충에서 도금층과 이웃하는 도금층 사이의 간격은 나중에 완성될 수직성장 전주금형의 돌출부의 크기가 된다.Each of the plating layers grows in the horizontal direction and the vertical direction, and diffusion proceeds at the upper portion of the exposure portion. The interval between the plating layer and the adjacent plating layer gradually decreases. When the gap between the plating layer and the plating layer becomes a desired size, the electroforming is stopped. This is referred to as a base plating layer 69. The distance between the plating layer and the adjacent plating layer in the basic plating bath becomes the size of the projection of the vertical growth electroforming die to be completed later.

상기 기초도금층은, 도전성 기판의 공간부로부터 성장하기 시작한 것이다. 공간부에서 도금층이 감광층의 높이 이상으로 성장하게 되면, 도금층은 노광부의 상부에서 확산 진행한다. 이때 도금층은 수평방향과 수직방향으로 동시 성장을 한다. The base plating layer started to grow from the space portion of the conductive substrate. When the plating layer is grown above the height of the photosensitive layer in the space portion, the plating layer spreads at the upper portion of the exposure portion. At this time, the plating layer grows simultaneously in the horizontal direction and the vertical direction.

전주가공은 균일한 속도로 진행되어 마침내 기초도금층(69)까지 성장한다.The electroplating process proceeds at a uniform speed and finally grows to the base plating layer 69.

원하는 형상과 크기의 기초도금층(69)이 형성되면 전주가공을 중지한다. When the base plating layer 69 having a desired shape and size is formed, the electroforming is stopped.

상기 기초도금층은 무수한 도금층의 집합체이다. 도금층과 도금층은 일정한 간격을 두고 구성된다. 상기 도금층들 사이의 간격은 새로운 공간부가 된다.The base plating layer is an aggregate of a number of plating layers. The plating layer and the plating layer are formed at regular intervals. The gap between the plating layers becomes a new space portion.

상기 새로운 공간부의 밑바닥면은 노광부의 표면이다. 상기 다수의 도금층들의 도금층이 두꺼워 지며 커질수록, 새로운 공간부는 자동으로 줄어든다. The bottom surface of the new space portion is the surface of the exposure portion. As the plating layer of the plurality of plating layers becomes thicker and larger, the new space portion is automatically reduced.

상기 기초도금층(69)과 새로운 공간부에 이형층을 형성하고, 재차 전주가공하여 전주가공물(70)을 형성한다. 상기 전주가공물을 탈형한다. A release layer is formed in the base plating layer (69) and the new space portion, and is again subjected to electroplating to form a preform workpiece (70). The preform workpiece is demoulded.

상기 탈형된 전주가공물(72)에는 돌출부와 공간부(71)가 형성된다. 상기 전주가공물에 정체영역을 형성하기 위하여, 상기 공간부에 실리콘과 같은 탄성을 가진 비도전성 물질을 충진한다. 상기 정체영역이 형성된 전주가공물은 수직성장 전주금형이 된다. 상기 비도전성 물질의 형상을 포물선 형상으로 만들어 정체영역을 형성한다. 통상 비도전성 물질의 충진된 형상은 포물선(73)이 된다. 상기 수직성장 전주금형은 돌출부(74)와 포물선으로 충진된 비도전성 영역으로 구성된다. 상기 돌출부의 상부표면에 비도전성 물질이 덮히지 않도록 주의한다. 이것은 본 발명의 수직성장 전주금형(75)의 또다른 실시예이다.
The demoulded preform workpiece 72 is provided with a protrusion and a space 71. In order to form a stagnant region in the electroconductive work, the space is filled with a non-conductive material having elasticity such as silicon. The preprocessed work in which the stagnant region is formed becomes a vertically-grown electroforming die. The shape of the non-conductive material is made into a parabolic shape to form a stagnation region. Usually, the filled shape of the non-conductive material becomes the parabolic curve 73. The vertical growth electroforming die is composed of a protruding portion 74 and a non-conductive region filled with a parabola. Care is taken not to cover the non-conductive material on the upper surface of the projecting portion. This is another embodiment of the vertical growth electroforming tool 75 of the present invention.

도 21, 도 22, 도 23은 도 20의 수직성장 전주금형을 구성하는 패턴형상에 대한 실시예이다. 수직성장 전주금형은 다양한 패턴으로 구성을 할 수가 있다. 패턴은 원형, 사각형, 육각형 등의 규칙적인 패턴과 불규칙적인 패턴으로 구성을 할 수가 있다. 패턴의 형상에 따라, 다양한 회로, 메쉬, 기타 다양한 형태의 3차원 가공물을 얻을 수가 있다. Figs. 21, 22, and 23 show examples of the pattern shapes constituting the vertically-grown electroforming die of Fig. Vertical growth prism molds can be configured in various patterns. Patterns can be composed of regular patterns such as circles, squares, and hexagons and irregular patterns. Depending on the shape of the pattern, various circuits, meshes, and various other types of three-dimensional workpieces can be obtained.

도 21은 노광된 감광층(76)의 중간 중간에 원형의 공간부(77)가 형성된 것을 설명한다. 상기 감광층은 도전성 기판에 균일하게 도포된 것이다.21 illustrates that the circular space portion 77 is formed in the middle of the exposed photosensitive layer 76. FIG. The photosensitive layer is uniformly applied to a conductive substrate.

상기 도전성 기판에 이형층을 형성하고, 상기 도전성 기판에 통전하여 전주가공을 실시한다. 도전성 기판에 전기를 가하여 도금욕조에서 도금을 실행하면, 상기 원형의 공간부(77)에 도금층이 생기기 시작한다. 상기 원형의 공간부에 도금이 완료된 뒤에는 노광부(76)에도 도금층이 점차 확산 진행된다. 더욱 도금층이 성장하면 도 21의 오른쪽 도면과 같이, 도전성 기판의 노광부는 작은 공간부만 남기고 나머지는 모두 원형 도금층으로 덮이게 된다. 전주도금은 상부방향과 측면방향으로 동시에 성장된다. 제작하고자 하는 형상과 크기가 도달되면 전주가공을 중지한다.A release layer is formed on the conductive substrate, and the conductive substrate is energized to perform electropolishing. When electricity is applied to the conductive substrate and plating is performed in the plating bath, a plating layer starts to be formed in the circular space 77. After completion of plating in the circular space portion, the plating layer gradually diffuses in the exposure portion 76. When the plating layer is further grown, the exposed portion of the conductive substrate is covered with the circular plating layer while leaving only a small space portion, as shown in the right drawing of Fig. The electroplating is grown simultaneously in the top and side directions. When the shape and size to be produced reach, stop the processing of the electric pole.

상기 원형 도금층들 사이의 간격은 새로운 공간부가 된다. 상기 새로운 공간부의 밑바닥면은 노광부의 표면이다. 상기 다수의 도금층들의 도금층이 두꺼워 지며 커질수록, 새로운 공간부는 자동으로 줄어든다. The interval between the circular plating layers becomes a new space portion. The bottom surface of the new space portion is the surface of the exposure portion. As the plating layer of the plurality of plating layers becomes thicker and larger, the new space portion is automatically reduced.

상기 기초도금층과 새로운 공간부에 이형층을 형성하고, 재차 전주가공하여 전주가공물을 형성한다. 상기 전주가공물을 탈형한다. 상기 탈형된 전주가공물에는 돌출부와 공간부가 형성된다. 상기 전주가공물에 정체영역을 형성하기 위하여, 상기 공간부에 실리콘과 같은 탄성을 가진 비도전성 물질을 충진한다. 상기 정체영역이 형성된 전주가공물은 수직성장 전주금형이 된다. 상기 비도전성 물질의 형상을 포물선 형상으로 만들어 정체영역을 형성한다. 통상 비도전성 물질의 충진된 형상은 포물선이 된다. 상기 수직성장 전주금형은 돌출부와 포물선으로 충진된 비도전성 영역으로 구성된다. 상기 돌출부의 상부표면에 비도전성 물질이 덮히지 않도록 주의한다. 이것은 본 발명의 수직성장 전주금형의 또다른 실시예이다.A release layer is formed in the base plating layer and the new space portion, and the preformed workpiece is again formed by electroforming. The preform workpiece is demoulded. A projecting portion and a space portion are formed in the demoulded preform work. In order to form a stagnant region in the electroconductive work, the space is filled with a non-conductive material having elasticity such as silicon. The preprocessed work in which the stagnant region is formed becomes a vertically-grown electroforming die. The shape of the non-conductive material is made into a parabolic shape to form a stagnation region. Usually, the filled shape of the non-conductive material becomes a parabola. The vertical growth electroforming die is composed of a non-conductive region filled with a protrusion and a parabola. Care is taken not to cover the non-conductive material on the upper surface of the projecting portion. This is yet another embodiment of the vertical growth electroforming die of the present invention.

도 22는 노광된 감광층(81)의 중간 중간에 사각형 공간부(80)가 형성된 것을 설명한다. 상기 감광층은 도전성 기판에 균일하게 도포된 것이다.22 illustrates that the rectangular space portion 80 is formed in the middle of the exposed photosensitive layer 81. FIG. The photosensitive layer is uniformly applied to a conductive substrate.

도 23는 노광된 감광층(85)의 중간 중간에 육각형 공간부(84)가 형성된 것을 설명한다. 상기 감광층은 도전성 기판에 균일하게 도포된 것이다.23 illustrates that the hexagonal space portion 84 is formed in the middle of the exposed photosensitive layer 85. FIG. The photosensitive layer is uniformly applied to a conductive substrate.

도 22와 도 23도 역시 도 21과 동일한 공정을 거쳐서 수직성장 전주금형의 또다른 실시예를 보인 것이다.
FIGS. 22 and 23 show still another embodiment of the vertical growth electroforming die through the same process as in FIG.

도 24는 포물선형의 비도전성 물질을 충진한 전주금형에 대한 설명도이다. 이 것은 돌출부와 공간부를 가는 금형에 비도전성 물질을 충진하여 수직성장이 가능한 전주금형을 제작하는 것을 설명하는 설명도이다.Fig. 24 is an explanatory view of an electroforming die filled with a parabolic non-conductive material. This is an explanatory view for explaining the production of a preform casting mold capable of vertical growth by filling non-conductive material into a thin metal mold with protrusions and spaces.

금형의 돌출부(88)와 돌출부 사이에 형성된 공간부에 비도전성 물질(89)을 충진한다. 탄력성을 갖는 비도전성 물질이 이상적이다. 탄력성을 갖는 비도전성 물질을 사용하면 금형의 내구성이 증가된다. 탄력성이 없는 비도전성 물질로 충진된 금형의 경우에는 성장하는 도금층 형성되면, 상기 도그층에 의하여 비도전성 물질이 쉽게 파괴된다. 이를 방지하기 위하여 탄력성이 있는 비도전성 물질로 충진을 한다. 이러한 탄력성 비도전 물질의 가장 대표적인 것은 실리콘 소재이다. The non-conductive material 89 is filled in the space portion formed between the projecting portion 88 of the mold and the projecting portion. Non-conductive materials with elasticity are ideal. The use of a non-conductive material having elasticity increases the durability of the mold. In the case of a mold filled with a non-conductive material having no elasticity, when a growing plated layer is formed, the non-conductive material is easily broken by the dog layer. In order to prevent this, fill with elastic non-conductive material. The most representative of these elastic non-conductive materials is silicon.

본 발명에서는 실리콘을 기본 소재로 하며 다양한 첨가물을 첨가하여 기능을 개선시킨다.In the present invention, silicon is used as a base material and various additives are added to improve the function.

본 발명의 수직성장 전주금형에서 가장 중요한 핵심기술은 탄력성 비도전성 물질을 공간부에 충진하되, 돌출부의 상부표면의 모서리에서 충진물질이 가파른 경사도를 갖도록 충진되어야 하며, 포물선의 깊이가 깊어야 한다는 것이다. The most important key technique in the vertical growth electroforming die of the present invention is to fill the space with a flexible non-conductive material so that the filling material has a steep slope at the edge of the upper surface of the projection, and the depth of the parabola must be deep .

본 발명의 수직성장 전주금형에서는 전주 도금층이 수직성장을 하도록 유도하는 것이 핵심기술의 하나이다. 이를 위하여서는 반드시 충진물질이 급격한 경사도를 갖도록 기울기를 형성하도록 한다. 이를 위한 가장 대표적인 형상이 포물선 형상이 된다.In the vertical growth electroforming die of the present invention, inducing the electroplated layer to vertically grow is one of the core technologies. For this purpose, the inclination of the filling material should be such that the filling material has a steep slope. The most typical shape for this is a parabolic shape.

포물선 형태의 비도전성 물질을 충진한 수직성장 전주금형에 전주도금을 실행하면, 돌출부 위에 수직 도금부(90)가 성장된다. 엄밀하게 말하면 완전한 수직으로 성장하는 것은 아니지만, 다른 도금으로 얻을 수가 없는 수직성장을 하게 된다. 이러한 수직 도금부를 탈형하여 제품으로 사용한다.When electroplating is performed on the vertically growing electroforming die filled with the parabolic non-conductive material, the vertical plating portion 90 is grown on the projecting portion. Strictly speaking, it does not grow perfectly vertically, but it does vertical growth that can not be achieved by other plating. This vertical plating part is demolded and used as a product.

제품의 제작방법으로, 수직성장 전주금형에서 탈형되지 않은 상태에서, 수직성장된 도금부(92)를 접착제를 사용하여 롤상 필름 또는 시트상 필름(91)에 접착한다. 이후 필름에 접찹된 도금부를 탈형하여 필름(94)에 부착된 회로(93)로 제품을 만든다. In the manufacturing method of the product, the vertically grown plating portion 92 is adhered to the rolled film or sheet-like film 91 using an adhesive in a state where the vertically grown electroforming die is not demolded. Thereafter, the plating portion joined to the film is demoulded to produce a product with the circuit 93 attached to the film 94. [

추가적으로 제품의 안정성을 확보하기 위하여, 회로와 회로 사이에 비도전성 물질(95)을 충진하여 회로를 더욱 안정화시킬 수도 있다.
In addition, to ensure product stability, the circuit may be further stabilized by filling non-conductive material (95) between the circuit and the circuit.

도 25는 본 발명의 다양한 금형을 사용하여 플렉시블 회로기판을 만드는 공정을 설명하는 설명도이다. 25 is an explanatory view for explaining a step of making a flexible circuit board using various molds of the present invention.

본 발명의 다양한 금형(98) 중에서 보전면이 공간부의 밑바닥에 있는 금형이 사용된다. 상기 금형과 필름기판(96) 사이에 액상의 에폭시 수지, 유브이 접착제, 폴리 이미드 등의 액상수지(97)를 주입한다. Among the various molds 98 of the present invention, a mold having a preserving surface at the bottom of the space portion is used. A liquid resin 97 such as a liquid epoxy resin, an ultraviolet adhesive, or a polyimide is injected between the mold and the film substrate 96.

상기 액상수지를 성형 및 경화시킨다. 상기 금형으로부터 성형된 수지에 의하여 음각(101)이 성형된 필름(102)을 탈형한다. 필름기판의 소재로는 폴리이미드 필름이 가장 대표적인 실시예이다. And the liquid resin is molded and cured. The film 102 formed with the engraved 101 is demolded by the resin molded from the mold. As a material of the film substrate, a polyimide film is the most typical embodiment.

음각은 돌출부와 돌출부 사이에서 형성된다. 돌출부의 상부(99)가 보존면이 되도록 하는 것이 바람직하다. 돌출부의 상부표면의 높이를 균일하게 하고, 제품 표면이 깨끗하도로 하기 위함이다.The engraved angle is formed between the protrusion and the protrusion. It is preferred that the upper portion 99 of the projection is a preserved surface. So that the height of the upper surface of the projection is uniform and the surface of the product is clean.

공간부가 형성된 상기 필름의 공간부에, 실버 페이스트 등의 유동성 도전체(103)를 충진하고, 유동성 도전체를 경화시키어 회로를 구성한다.A space portion of the film on which the space portion is formed is filled with a fluidic conductor 103 such as a silver paste, and the fluidic conductor is cured to form a circuit.

실버 페이스트를 충진하기 이전에 돌출부의 상부표면에는 불소 수지와 같은 이형층을 형성하는 것이 바람직하다. 이것은 돌출부의 상부표면에는 실버 페이스트가 묻지 않고 공간부에만 실버 페이스트가 충진되도록 하기 위함이다. 불소 수지로 이형층을 형성하면 설혹 돌출부의 상부표면에 실버 페이스트가 묻어 있다하더라도 깨끗하게 정리를 할 수가 있는 장점이 생긴다.
It is preferable to form a release layer such as a fluororesin on the upper surface of the protrusion before filling the silver paste. This is to ensure that silver paste is not applied to the upper surface of the protrusion but only silver paste is filled in the space portion. If a release layer is formed of fluorocarbon resin, it is possible to clean the surface even if silver paste is on the upper surface of the protrusion.

도 26는 본 발명의 수직성장 전주금형을 사용하여 메쉬를 제작하는 실시예의 설명도이다. 26 is an explanatory diagram of an embodiment in which a mesh is manufactured using the vertical growth electroforming die of the present invention.

돌출부(105)와 공간부(106)을 갖는 전주금형(104)의 공간부에 비도전성 물질을 충진한다. 공간부에 충진된 비도전성 물질은 포물선 형상의 실리콘(107)을 구성하여 정체영역을 형성한다. Non-conductive material is filled in the space portion of the electroforming die 104 having the projecting portion 105 and the space portion 106. The non-conductive material filled in the space part forms the parasitic silicon 107 to form the stagnation area.

정체영역이 형성된 상기 수직성장 전주금형에 이형층을 형성한다. 돌출부에 상부표면에 전주가공을 실행한다. 상기 돌출부 상부표면에는 수직성장의 전주가공물(108)이 구성된다.A mold releasing layer is formed on the vertically-growing pre-press mold in which the stagnation area is formed. And electroforming is performed on the upper surface of the projection. On the upper surface of the protrusions, a vertically growing prismatic workpiece 108 is formed.

상기 전주가공물을 탈형하여 메쉬(109)를 제작한다. The mesh 109 is fabricated by demoulding the electroformed workpiece.

이러한 메쉬를 태양광을 전기로 바꾸는 집광판의 회로를 그리는 메쉬로 사용한다. 상기 메쉬를 통하여 실버 페이스트를 인쇄하면 많은 장점이 있다.These meshes are used as a mesh to draw the circuit of the condenser that converts sunlight into electricity. Printing the silver paste through the mesh has many advantages.

수직성장을 이용하였으므로 개구도가 크며, 힘살의 선 폭이 작게 될 수가 있다. 또한 제품의 두께가 두꺼워 내구성이 있으며, 테이퍼가 형성되어 실버 페이스트의 토출을 용이하게 하는 장점이 있다.
Since vertical growth is used, the opening degree is large and the line width of the forceps can be made small. Further, the thickness of the product is thick and durable, and taper is formed, which facilitates the discharge of the silver paste.

본 발명에서 소개한 다양한 형태의 금형들을 활용하여 플렉시블 회로기판을 제작할 수가 있다. 플렉시블 회로기판을 만드는 실시예를 설명한다. 본 실시예에서는 다음 3가지 형태의 기판 또는 금형 또는 몰드를 사용한다.The flexible circuit board can be manufactured by utilizing the various types of dies introduced in the present invention. An embodiment for making a flexible circuit board will be described. In this embodiment, the following three types of substrates or molds or molds are used.

첫째, 기판에 감광층을 형성하고, 상기 감광층에 패턴을 통하여 노광부를 구성하며, 현상공정을 통하여 기판에는 돌출부와 공간부가 형성된 기판. 둘째, 돌출부와 공간부가 형성된 금형. 세째, 돌출부와 공간부가 형성된 탄력성 몰드. First, a substrate is provided with a photosensitive layer, a photosensitive layer is formed on the photosensitive layer, and a protrusion and a space are formed on the substrate through a developing process. Second, a mold having protrusions and spaces. Third, a flexible mold having protrusions and spaces formed therein.

상기 세 가지 형태 중의 하나를 사용한다. 공간부의 밑 바닥면에 보존부가 형성된 것이 바람직하다. 돌출부와 공간부의 상부에 이형층을 형성하고, 상기 이형층이 건조된 후에 액상수지를 도포한다. 상기 액상수지가 경화되기 이전에 액상수지의 상부에 폴리이미드 필름기판을 위치시킨다. 상기 액상수지는 높이가 균일하게 하며, 성형과 동시에 경화되면서 폴리이미드 필름기판에 접착된다.One of the above three forms is used. It is preferable that the storage portion is formed on the bottom surface of the space portion. A release layer is formed on the upper part of the protruding portion and the space portion, and the liquid resin is applied after the release layer is dried. The polyimide film substrate is placed on the liquid resin before the liquid resin is cured. The liquid resin has a uniform height, and is cured at the same time as the molding, and is adhered to the polyimide film substrate.

상기 기판 또는 금형 또는 탄력성 몰드로부터 성형된 수지가 접합된 필름기판을 탈형시키고, 상기 탈형된 필름기판의 돌출부의 상부표면에 이형층을 형성한다. 그리고 필름기판의 공간부에는 실버페이스트를 충진하여 플렉시블 회로기판을 제작한다. 액상수지는 에폭시 수지 또는 UV수지 또는 폴리이미드 수지를 사용할 수가 있다. 돌출부의 상부표면의 높이는 균일한 높이가 되며, 깨끗하고 정리된 플렉시블 회로기판을 제작할 수가 있다.
A film substrate bonded with the resin molded from the substrate or the mold or the elastic mold is demoulded and a release layer is formed on the upper surface of the protrusion of the demoulded film substrate. A flexible circuit board is fabricated by filling silver paste in the space portion of the film substrate. The liquid resin may be an epoxy resin, a UV resin, or a polyimide resin. The height of the upper surface of the protrusion becomes a uniform height, and a clean and organized flexible circuit board can be manufactured.

수직으로 성장시킨 전주가공물을 회로로 사용하여 플렉시블 회로기판을 제작하는 2 실시예를 설명한다. Two embodiments in which a flexible circuit board is manufactured by using a vertically grown electroconductive workpiece as a circuit will be described.

도전체 금형에 돌출부와 공간부를 구성하고, 상기 공간부에는 비도전성 물질을 충진 또는 코팅 또는 도포하여 정체영역을 형성시키어 수직성장 전주금형을 제작한다. A protruding portion and a space portion are formed in the conductive metal mold, and a non-conductive material is filled, coated or applied to the space portion to form a stagnation region, thereby fabricating a vertically grown electroforming die.

상기 수직성장 전주금형에 이형층을 형성하고 전주가공을 실행하여 수직성장 전주가공물을 제작한다.  A release layer is formed on the vertical growth electroforming die and electroforming is performed to produce a vertically growing electroforming workpiece.

상기 전주가공물의 위쪽 면을 접착재를 통하여 롤 상 필름기판 또는 시트 상의 필름기판과 접합시킨다. The upper surface of the electrophotographic workpiece is bonded to a roll-shaped film substrate or a sheet-like film substrate via an adhesive.

상기 전주금형에서 수직성장 전주가공물을 접합시킨 필름기판을 탈형시켜 플렉시블 회로기판을 제작한다. A flexible circuit board is manufactured by demolding a film substrate to which a vertically growing electrophotographic workpiece is bonded in the electroforming die.

회로의 안정성을 보강하기 위하여 플렉시블 회로기판의 공간부에 액상수지를 충진하고, 상기 액상수지를 경화시킬 수도 있다.
The space portion of the flexible circuit board may be filled with the liquid resin in order to reinforce the stability of the circuit, and the liquid resin may be cured.

이곳에서, 금형을 만드는 공정 중에서, 감광재에 대한 현상공정이 완전하지 못하여 잔존 감광재가 남는다 하더라도 양품의 금형을 만드는 방법에 대하여 더욱 상세히 설명을 하겠다.Here, a detailed description will be given of how to make good-sized molds even if the photosensitive material is not completely developed during the mold making process and the remaining photosensitive material remains.

기판에 감광층을 형성하고; 상기 감광층에 패턴을 통하여 상부폭이 하부폭보다 좁은 테이퍼 형상의 노광부를 구성한다. 현상공정을 통하여 비노광부를 제거하여 기판에는 공간부가 형성된다. 상기 공간부에는 제거되지 아니한 잔존 감광재가 남아 있을 수가 있다.Forming a photosensitive layer on the substrate; The photosensitive layer forms a tapered exposure portion having a top width narrower than a bottom width through a pattern. The unexposed portion is removed through the developing process, and a space is formed in the substrate. The remaining photoresist may remain in the space portion.

일반적으로 현상공정에서 조금이라도 잔존 감광재가 남아 있다면 이는 실패한 금형이 제작이 된다. 이것은 두께가 두꺼운 감광층을 사용하는 경우 극복하기 어려운 기술적 난제이다. 본 발명에서는 이러한 문제점을 해결하기 위하여, 돌출부, 공간부, 잔존 감광재에 도전성 금속을 스파터링을 하는 기술을 개시한다.Generally, if there remains a small amount of photosensitive material remaining in the developing process, a failed mold is produced. This is a technical difficulty that is difficult to overcome when using a thick photosensitive layer. In order to solve such a problem, the present invention discloses a technique of sputtering a conductive metal on a projecting portion, a space portion, and a remaining photosensitive material.

상기 스파터링 층에 이형층을 형성한 후, 전주가공을 실행하여 전주가공물을 제작한다. 상기 전주가공물을 탈형하여 1형태 금형을 제작한다. After a release layer is formed on the sputtering layer, electroforming is carried out to prepare electroforming workpieces. The preform workpiece is demoulded to produce a one-piece mold.

상기의 1형태 금형을 이용하여 플렉시블 회로기판을 제작하는 공정을 추가로 설명한다. 상기 1형태 금형에 이형층을 형성하고, 이형층 상부에 액상수지를 충진하며, 상기 액상수지의 상부에는 롤 상 또는 시트 상 필름기판을 얹는다. 액상주지는 에폭시 수지 또는 UV수지 또는 폴리이미드 수지로 할 수가 있다.The step of manufacturing the flexible circuit board using the one-piece mold described above will be further described. A release layer is formed on the one-piece mold, a liquid resin is filled in the upper part of the release layer, and a roll-like or sheet-like film substrate is placed on the liquid resin. The liquid phase can be an epoxy resin, a UV resin or a polyimide resin.

액상수지가 경화된 후에 상기 필름기판을 1형태 금형으로부터 탈형시켜 돌출부와 공간부가 형성된 필름기판을 만든다. After the liquid resin is cured, the film substrate is demolded from the one-piece mold to produce a film substrate having a protruding portion and a space portion.

상기 회로기판의 돌출부의 상부표면에서는 이형층을 형성하고, 공간부에는 실버페이스트를 충진하여 플렉시블 회로기판을 제작한다. A release layer is formed on the upper surface of the projecting portion of the circuit board, and a silver paste is filled in the space portion to manufacture a flexible circuit board.

이렇게 제작된 플렉시블 회로기판의 돌출부의 상부는 보존면이 되어, 평탄하며 깨끗한 상부표면을 얻을 수가 있다. 이는 잔존 감광층의 영향을 배제시킨 독창적인 기술이라 하겠다.The upper portion of the protruding portion of the flexible circuit board thus fabricated becomes a storage surface, and a flat and clean upper surface can be obtained. This is an original technique that excludes the influence of the residual photosensitive layer.

본 발명에서는 플렉시블 회로기판을 탄력성 몰드를 사용하여 제작 할 수도 있다. 기판에 감광층을 형성하고, 상기 감광층에 패턴을 통하여 노광부를 구성한다. 현상공정을 통하여 기판에 돌출부와 공간부를 형성한다. 상기 돌출부와 상기 공간부에 이형층을 형성하고, 상기 이형층의 상부에 탄력성 액상소재를 두껍게 충진하여 탄성 성형물을 제작한다. 상기 탄성 성형물이 경화된 후에 탈형하여 탄력성 몰드를 제작한다.In the present invention, the flexible circuit board can also be manufactured using a flexible mold. A photosensitive layer is formed on a substrate, and an exposed portion is formed on the photosensitive layer through a pattern. A protrusion and a space are formed on the substrate through a developing process. A release layer is formed on the projecting portion and the space portion, and an elastic liquid material is filled in the upper portion of the release layer to form an elastic molded product. After the elastic material is cured, it is deformed to produce a flexible mold.

상기 탄력성 몰드에 이형층을 형성하고, 상기 이형층 상부에 액상수지를 도포하고, 상기 액상수지 위에 롤 상 또는 시트 상 필름기판을 위치시킨다. A release layer is formed on the flexible mold, a liquid resin is applied on the release layer, and a roll or sheet film substrate is placed on the liquid resin.

액상수지의 높이를 균일하게 한다. 액상수지는 경화되면서 성형되고, 동시에 상기 필름기판에 접합된다. 필름기판을 상기 탄력성 몰드로부터 탈형시킨다. 필름기판의 공간부에 실버페이스트를 충진한다. Thereby making the height of the liquid resin uniform. The liquid resin is molded while being cured and bonded to the film substrate at the same time. The film substrate is demolded from the elastic mold. The space portion of the film substrate is filled with silver paste.

액상주지는 에폭시 수지 또는 UV수지 또는 폴리이미드 수지로 하며, 필름기판에 형성된 돌출부의 상부표면에 이형층을 형성한 뒤에 공간부에 실버페이스트를 충진한다.
The liquid phase is an epoxy resin, a UV resin or a polyimide resin. A release layer is formed on the upper surface of the protrusion formed on the film substrate, and the space portion is filled with silver paste.

본 발명에서는 감광재를 사용하여 노광을 시킬 때, 노광부의 상부폭이 하부폭보다 좁은 테이퍼 형상의 노광부를 구성한다. 이것은 추후의 공정에서 탈형을 용이하게 하는 역할을 한다. In the present invention, when exposure is performed using a photosensitive material, an exposed portion having a tapered shape whose upper width of the exposed portion is narrower than the lower width is formed. This serves to facilitate demoulding in subsequent processes.

도전성 기판에 감광층을 형성하고, 상기 감광층에 패턴을 통하여 노광을 할 때, 노광부의 상부폭이 하부폭보다 좁은 테이퍼 형상으로 하여 탈형이 용이하도록 할 수가 있다. 본 발명에서 탄력성 몰드가 사용되는 경우는 주로 돌출부가 테이프 형상으로 제작이 어려울 경우에 사용한다. 만약 돌출부가 테이퍼 형상으로 제작이 된다면, 굳이 탄력성 소재를 사용하지 않고 일반 수지를 사용한 수지몰드를 제작한다. When the photosensitive layer is formed on the conductive substrate and the photosensitive layer is exposed through the pattern, the top width of the exposed portion may be tapered to be narrower than the bottom width to facilitate demoulding. When the flexible mold is used in the present invention, it is mainly used when the protruding portion is difficult to be formed into a tape shape. If the protrusion is made in a tapered shape, a resin mold using ordinary resin is produced without using a resilient material.

수지몰드의 돌출부는 테이퍼 형상으로 형성이 되어 있으므로 탈형이 가능하다. 따라서 이러한 수지몰드는 다양한 용도로 사용이 될 수가 있다. 수지몰드에 이형층을 형성하여 제품을 제작할 수도 있다. Since the protruding portion of the resin mold is formed in a tapered shape, demoulding is possible. Therefore, such a resin mold can be used for various purposes. A release layer may be formed on the resin mold to produce a product.

또한 수지몰드에 도전성 금속을 스파트링 한 후 이형층을 형성하여 전주가공물을 제작할 수도 있다.It is also possible to prepare a polished workpiece by forming a release layer after sputtering a conductive metal on the resin mold.

본 발명의 또다른 실시예로, 노광 현상 공정이 완전하여 잔존 감광층이 남지 않을 경우에는 도전성 기판을 사용하여 바로 전주가공을 실시하여 금형을 만드는 것을 들 수가 있다. 상기 금형을 사용하여 플렉시블 회로기판을 만들 수가 있다. In another embodiment of the present invention, when the exposure and development process is completed and the remaining photosensitive layer is not left, a conductive substrate is used to conduct electroplating to form a mold. A flexible circuit board can be manufactured using the mold.

보통 잔존 감광재가 남지 않게 하려면 감광재를 두께가 20마이크로미터 이하를 사용하며, 제품의 크기가 작은 경우이다.Usually, the photosensitive material should be 20 micrometers or less in thickness and the size of the product should be small to prevent the remaining photosensitive material from remaining.

본 발명은, 본 발명에 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서, 여러 가지 치환, 변형이 가능하므로, 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에만 한정되는 것은 아니다.
It will be understood by those skilled in the art that various changes and modifications may be made without departing from the spirit of the invention, The present invention is not limited thereto.

1: 비노광부
2: 노광부
3: 감광층
4: 도전성 기판
1: Non-visible area
2: Exposure section
3: Photosensitive layer
4: conductive substrate

Claims (57)

기판에 감광층을 형성하는 단계;
상기 감광층에 노광 및 현상공정을 통하여 돌출부와 공간부를 형성하되, 공간부의 하부폭이 공간부의 상부폭에 비하여 넓은 테이퍼 형상으로 현상하는 단계;
상기 돌출부와 공간부에 스파터링을 하는 단계;
상기 스파트링부에 전주가공을 통하여 전주가공물을 형성하는 단계;
상기 전주가공물로부터 기판과 감광재를 제거하여 1형태 금형을 형성하는 것을 특징으로 하는 1형태 금형의 가공방법.
Forming a photosensitive layer on a substrate;
Forming a protruding portion and a space portion through the exposure and development process on the photosensitive layer, wherein the lower width of the space portion is wider than the upper width of the space portion;
Sputtering the protrusion and the space;
Forming a preform workpiece on the sparring part by electroforming;
And removing the substrate and the photosensitive material from the electroplating workpiece to form a one-piece mold.
제 1항에 있어서, 일부의 공간부 하부에는 잔존 감광재가 기판표면에 남아 있는 것을 특징으로 하는 1형태 금형의 가공방법.The method of processing a one-piece mold according to claim 1, wherein a remaining photosensitive material remains on the surface of the substrate at a lower portion of the space portion. 제 1항에 있어서, 1형태 금형에 이형층을 형성하고 전주가공을 행하여 전주가공물을 형성하며, 상기 전주가공물을 1형태 금형으로부터 분리한 것을 특징으로 하는 2형태 금형의 가공방법.The method of processing a two-piece mold according to claim 1, wherein a mold releasing layer is formed on the one-piece mold and the former workpiece is formed to form the former workpiece, and the former workpiece is separated from the one mold. 제 1항 또는 제 3항에 있어서, 1형태 금형 또는 2형태 금형에 추가적인 전주가공을 실행하여 금형의 피치는 유지하면서 돌출부와 공간부의 치수를 재조정 하는 것을 특징으로 하는 금형의 가공방법.The method according to any one of claims 1 to 3, further comprising the steps of: performing additional electroforming on the one-piece mold or the two-piece mold so as to readjust the dimensions of the projecting portion and the space portion while maintaining the pitch of the mold. 제 4항에 있어서, 돌출부와 공간부의 치수를 재조정한 금형에 이형층을 형성하고 전주가공을 행하여 전주가공물을 형성하며, 상기 전주가공물을 금형으로부터 분리 하여 새로운 금형으로 사용하는 것을 특징으로 하는 금형의 가공방법.The mold according to claim 4, characterized in that a release layer is formed on the mold having the projected portion and the space portion readjusted, and the former workpiece is formed by forming the former workpiece, and the former workpiece is separated from the mold and used as a new mold Processing method. 제 1항에서 제 5항의 어느 한 항으로 제작된 금형.A mold produced by any one of claims 1 to 5. 제 6항의 금형을 사용하여 제작한 메쉬 또는 필터 또는 열선 또는 3차원 회로, 3차원 초정밀 전주가공물.A mesh or filter made by using the mold of claim 6, a heat wire or a three-dimensional circuit, and a three-dimensional ultra-precise electrostatic workpiece. 수직성장을 유도하는 전주금형의 제조방법에 있어서,
도전체 금형에는 돌출부와 공간부를 구성하고;
상기 공간부에는 비도전성 물질이 충진되거나, 코팅되거나, 도포되어 정체영역을 형성하는 것을 특징으로 하는 수직성장 전주금형의 제작방법.
1. A method for manufacturing a preform casting mold for inducing vertical growth,
The conductor mold has a protruding portion and a space portion;
Wherein the space portion is filled with a non-conductive material, coated or applied to form a stagnation region.
제 8항에 있어서, 도전체 금형은 2형태 또는 4형태 금형인 것을 특징으로 하는 수직성장 전주금형의 제작방법. The method according to claim 8, wherein the conductive metal mold is a two-type or four-metal mold. 제 8항에 있어서, 도전체 금형은, 도전성 기판에 감광층을 형성하며;
상기 감광층에 노광 및 현상공정을 통하여 돌출부와 공간부의 3차원 형상을 갖는 도전성 기판을 구성하며; 상기 도전성 기판에 전주가공을 통하여 전주가공물을 형성하며; 상기 전주가공물을 상지 도전성 기판에서 탈형하여 도전체 금형을 제작하는 것을 특징으로 하는 수직성장 전주금형의 제작방법.
The method according to claim 8, wherein the conductive metal mold forms a photosensitive layer on the conductive substrate;
Forming a conductive substrate having a three-dimensional shape of a protruding portion and a space portion through exposure and development processes on the photosensitive layer; Forming a preprocessed workpiece by electroforming the conductive substrate; Wherein said electroconductive workpiece is demolded from a top conductive substrate to produce a conductive mold.
제 8항에 있어서, 도전체 금형에 추가적인 전주가공을 실행하여, 피치는 동일하나 돌출부와 공간부의 크기를 재조정한 전주가공물을 새로운 도전체 금형으로 사용하는 것을 특징으로 하는 수직성장 전주금형의 제작방법. A method of manufacturing a vertically-grown electroforming die according to claim 8, wherein the electroforming process is further performed on the conductive metal mold to use the electroformed workpiece having the same pitch but the size of the protruded portion and the voided portion as the new electroformed metal mold . 제 8항에 있어서, 도전체 금형은, 탄력성 몰드에 도전성 금속을 스파터링하고, 상기 스파터링 면에 이형층을 형성하고, 상기 스파터링 면에 전주가공을 실행하여 얻은 전주가공물을 탈형하여 제작한 것을 특징으로 하는 수직성장 전주금형의 제작방법. The conductive metal mold according to claim 8, wherein the conductive metal mold is formed by sputtering a conductive metal on an elastic mold, forming a release layer on the sputtering surface, performing electropolishing on the sputtering surface, Wherein the method comprises the steps of: 제 8항에 있어서, 비도전성 물질은 탄성체이며, 상기 탄성체는 공간부에서 포물선 형상으로 제작되는 것을 특징으로 하는 수직성장 전주금형의 제작방법. The method according to claim 8, wherein the non-conductive material is an elastic body, and the elastic body is formed in a parabolic shape in the space. 제 8항에 있어서, 수직 성장한 전주가공물은 하부방향 성장부 또는 최대폭 수평성장부를 갖는 것을 특징으로 하는 수직성장 전주금형의 제작방법. The method as claimed in claim 8, wherein the vertically-grown electroforming workpiece has a downward growth portion or a maximum width horizontal growth portion. 제 8항에 있어서, 비도전성 물질은 실리콘인 것을 특징으로 하는 수직성장 전주금형의 제작방법. 9. The method of claim 8, wherein the non-conductive material is silicon. 제 8항에 있어서, 상기 돌출부의 상부는 보존면인 것을 특징으로 하는 수직성장 전주금형의 제작방법. The method as claimed in claim 8, wherein the upper portion of the protrusion is a storage surface. 제 8항에서 제 16항의 어느 한 항으로 제작된 전주금형.The electroforming die produced by any one of claims 8 to 16. 제 17항의 전주금형에 전주가공을 실행하여 제작한 메쉬 또는 필터 또는 열선 또는 3차원 회로, 3차원 초정밀 전주가공물.A mesh, a filter, a hot wire or a three-dimensional circuit, or a three-dimensional ultra-precise electrostatic workpiece produced by subjecting the electroforming die of the seventeenth aspect to electroforming. 제 18항에 있어서, 수직 성장한 전주가공물의 하부방향 성장부를 전해연마 또는 에칭공정 또는 기계적 연마공정으로 제거하는 것을 특징으로 하는 전주가공물.19. A preform workpiece according to claim 18, wherein the downwardly grown portion of the vertically grown electroforming workpiece is removed by an electrolytic polishing or etching process or a mechanical polishing process. 제 18항에 있어서, 수직 성장한 전주가공물의 최대폭 수평성장부를 전해연마 또는 에칭공정 또는 기계적 연마공정으로 제거하는 것을 특징으로 하는 전주가공물.19. A preform workpiece according to claim 18, wherein the maximum horizontal growth portion of the vertically grown electroforming workpiece is removed by an electrolytic polishing or etching process or a mechanical polishing process. 수직으로 성장시킨 전주가공물의 가공방법에 있어서,
돌출부와 공간부가 형성된 도전체 전주금형을 사용하며, 상기 도전체 전주금형의 공간부는 비도전성 물질로 충진 또는 코팅 또는 도포되어 정체영역을 형성하며;
상기 전주금형에 전주가공을 실행하여 전주가공물을 성장시키고;
상기 성장된 전주가공물을 상기 전주금형으로부터 탈형시키어 수직 성장된 전주가공물을 제작하는 것을 특징으로 하는 수직성장 전주가공물의 가공 방법.
In a method for working a vertically grown electrostatic workpiece,
A conductive preform mold having protrusions and spaces is used, and the space portion of the conductive preform mold is filled, coated or applied with a non-conductive material to form a stagnation region;
Performing electroforming on the electroforming die to grow electroforming workpieces;
And the vertically grown electroforming workpiece is produced by demolding the grown electroforming workpiece from the electroforming die.
제 21항에 있어서, 비도전성 물질은 탄성체인 것을 특징으로 하는 수직성장 전주가공물의 가공 방법.22. The method of claim 21, wherein the non-conductive material is an elastic body. 제 21항에 있어서, 비도전성 물질은 실리콘인 것을 특징으로 하는 수직성장 전주가공물의 가공 방법.22. The method of claim 21, wherein the non-conductive material is silicon. 제 21항에 있어서, 수직 성장한 전주가공물이 하부방향 성장부 또는 최대폭 수평성장부를 갖는 것을 특징으로 하는 수직성장 전주가공물의 가공 방법.22. The method of claim 21, wherein the vertically-grown electrophotographic workpiece has a downward growth portion or a maximum width horizontal growth portion. 제 24항에 있어서, 하부방향 성장부 또는 최대폭 수평 성장부를 전해 공정 또는 에칭 공정 또는 연마 공정으로 제거하는 것을 특징으로 하는 수직성장 전주가공물의 가공 방법.25. The method of claim 24, wherein the lower growth portion or the maximum width horizontal growth portion is removed by an electrolytic process, an etching process, or a polishing process. 제 21항에서 제 25항 사이의 어느 한 항으로 제작된 수직으로 성장된 전주가공물.A vertically grown electrophoresis workpiece made according to any one of claims 21 to 25. 제 26항의 전주가공물은 원형 또는 사각 또는 육각의 조직으로 구성된 메쉬인 것을 특징으로 하는 전주가공물.26. A polynomial workpiece according to claim 26, wherein the polynomial workpiece is a mesh comprising a circular, square or hexagonal texture. 제 26항의 전주가공물은 원형 또는 사각 또는 육각의 조직으로 구성된 필터인 것을 특징으로 하는 전주가공물.26. A prismatic workpiece according to claim 26, wherein the prismatic workpiece is a filter made of a circular, rectangular or hexagonal structure. 잔존 감광재가 있는 남아 있는 문제를 해결하는 탄력성 몰드의 제조방법에 있어서,
기판에 감광층을 형성하고, 상기 감광층에 패턴을 통하여 노광부를 구성하며, 현상공정을 통하여 기판에 돌출부와 공간부를 형성하며, 상기 공간부에는 제거되지 아니한 잔존 감광재가 남아있으며;
상기 돌출부와 공간부 및 잔존 감광재에 이형층을 형성하고, 상기 이형층의 상부에 탄력성 유동성 소재를 충진하고 경화시켜 탄성 성형물을 제작하며;
상기 탄성 성형물을 탈형하여 탄력성 몰드를 제작하는 것을 특징으로 하는 탄력성 몰드의 제작방법.
A method of manufacturing a flexible mold that solves the remaining problem with remaining photoresist,
Forming a photosensitive layer on the substrate, forming an exposed portion through the pattern in the photosensitive layer, forming a protruding portion and a space portion on the substrate through a developing process, and remaining photosensitive material not removed in the space portion;
Forming a release layer on the protrusion, the space, and the remaining photosensitive material; filling a flexible fluid material on the release layer and curing the elastic fluid material;
And the elastic mold is deformed to produce a flexible mold.
제 29항에 있어서, 돌출부가 상부가 좁고, 하부가 넓은 테이퍼 진 형상으로 구성된 것을 특징으로 하는 탄력성 몰드의 제작방법.The method of manufacturing a flexible mold according to claim 29, wherein the protrusions are formed in a narrow tapered shape and a wide tapered shape at the bottom. 제 29항 또는 제 30항으로 만든 탄력성 몰드.A resilient mold made according to claim 29 or 30. 탄력성 몰드로부터 도전체 금형을 제조하는 방법에 있어서,
기판에 감광층을 형성하고; 상기 감광층에 패턴을 통하여 노광부를 구성하며; 현상공정을 통하여 기판에 돌출부와 공간부가 형성되며, 상기 돌출부와 공간부에 이형층을 형성하고, 상기 이형층의 상부에 탄력성 유동성 소재를 충진하여 성형물을 제작하며; 상기 성형물이 경화된 후에 탈형하여 탄력성 몰드를 제작하고, 상기 탄력성 몰드에 도전성 금속을 스파터링하며, 상기 스파터링 면 위에 이형층을 형성하며, 상기 스파터링 층에 전기가 통하게 하여 전주가공을 실행하여 전주가공물을 제작하고, 상기 전주가공물을 탄력성 몰드로부터 탈형하여 탄력성 몰드로 부터 도전체 금형을 제조하는 제조방법.
A method for producing a conductor mold from an elastic mold,
Forming a photosensitive layer on the substrate; Forming an exposure unit on the photosensitive layer through a pattern; A protrusion and a space are formed on a substrate through a development process, a release layer is formed on the protrusion and the space, and a flexible fluid material is filled on the release layer to manufacture a molded product; The mold is deformed to form a flexible mold, the elastic metal is sputtered on the elastic mold, a release layer is formed on the sputtering surface, electricity is passed through the sputtering layer, A method for manufacturing a conductive mold from a flexible mold by manufacturing a preform workpiece and demolding the preform workpiece from an elastic mold.
제 31항에 있어서, 돌출부는 상부가 좁고, 하부가 넓은 테이퍼 진 형상을 특징으로 하는 탄력성 몰드로 부터 도전체 금형을 제조하는 제조방법.32. A method according to claim 31, wherein the protrusions are fabricated from a resilient mold characterized by a narrow top portion and a wide tapered shape at the bottom. 제 32항 또는 제 33항의 제조방법으로 만든 도전체 금형.A conductor mold made by the manufacturing method of claim 32 or 33. 플렉시블 회로기판의 제조방법에 있어서,
감광재를 사용하여 돌출부와 공간부를 형성한 기판, 또는 돌출부와 공간부가 형성된 금형, 또는 돌출부와 공간부가 형성된 탄력성 몰드에서, 돌출부와 공간부 상부에 이형층을 형성하고 액상수지를 도포하며; 상기 액상수지의 상부에는 폴리이미드 필름기판을 위치시키며; 상기 액상수지를 균일한 두께로 경화시키면서 성형과 동시에 폴리이미드 필름기판에 접착케 하며;
상기 기판 또는 금형 또는 탄력성 몰드로부터 성형 수지가 접합된 필름기판을 탈형시키며;
상기 탈형된 필름기판의 돌출부의 상부표면에 이형층을 형성하고, 필름기판의 공간부에는 실버페이스트를 충진하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 회로기판의 제조방법.
A method of manufacturing a flexible circuit board,
A substrate on which protrusions and spaces are formed by using a photosensitive material or a mold in which protrusions and voids are formed or a flexible mold in which protrusions and spaces are formed, a release layer is formed on the protrusions and the space portion, and a liquid resin is applied; Placing a polyimide film substrate on top of the liquid resin; Adhering the liquid resin to the polyimide film substrate at the same time as curing the liquid resin to a uniform thickness;
Demolding a film substrate to which a molding resin is adhered from the substrate or the mold or the elastic mold;
Wherein a release layer is formed on the upper surface of the projecting portion of the demoulded film substrate, and a silver paste is filled in the space portion of the film substrate.
제 35항에 있어서, 액상수지는 에폭시 수지 또는 UV수지 또는 폴리이미드 수지인 것을 특징으로 하는 플렉시블 회로기판의 제조방법.The method of manufacturing a flexible circuit board according to claim 35, wherein the liquid resin is an epoxy resin, a UV resin, or a polyimide resin. 수직으로 성장시킨 전주가공물을 회로로 사용하는 플렉시블 회로기판의 제조 방법에 있어서,
도전체 금형에 돌출부와 공간부를 구성하고; 상기 공간부에는 비도전성 물질을 충진 또는 코팅 또는 도포하여 정체영역을 형성시키어 수직성장 전주금형을 제작하며;
상기 수직성장 전주금형에 이형층을 형성하고 전주가공을 실행하여 수직성장 전주가공물을 제작하며;
접착재를 통하여 롤 상 또는 시트 상의 필름기판을 상기 수직성장 전주가공물의 위쪽 면과 접합시키고;
상기 전주금형에서 수직성장 전주가공물을 접합시킨 필름기판을 탈형시키는 것을 특징으로 하는 플렉시블 회로기판의 제조방법.
A method for manufacturing a flexible circuit board using a preprocessed workpiece grown vertically as a circuit,
Forming a protruding portion and a space portion in the conductive mold; Forming a stagnation region by filling or coating or applying a non-conductive material to the space portion to fabricate a vertically growing preform;
Forming a release layer on the vertically-grown electroforming die and performing electroplating to produce a vertically-grown electroplating workpiece;
Joining a roll-shaped or sheet-like film substrate with an upper surface of the vertically growing electrophotographic workpiece through an adhesive;
Wherein the film substrate on which the vertically grown electroplated workpiece is bonded is demolded in the electroforming die.
제 37항에 있어서, 플렉시블 회로기판의 공간부에 액상수지를 충진하고, 상기 액상수지를 경화시키는 것을 특징으로 하는 플렉시블 회로기판의 제조방법.The method of manufacturing a flexible circuit board according to claim 37, wherein the space portion of the flexible circuit board is filled with liquid resin, and the liquid resin is cured. 플렉시블 회로기판의 제조방법에 있어서,
기판에 감광층을 형성하고; 상기 감광층에 패턴을 통하여 상부폭이 하부폭보다 좁은 테이퍼 형상의 노광부를 구성하며;
현상공정을 통하여 기판에는 돌출부와 공간부를 형성하며, 상기 공간부에는 제거되지 아니한 잔존 감광재가 남아 있으며;
상기 돌출부, 상기 공간부, 상기 잔존 감광재에 도전성 금속을 스파터링을 하며;
상기 스파터링 층에 이형층을 형성한 후, 전주가공을 실행하여 전주가공물을 제작하고, 상기 전주가공물을 탈형하여 1형태 금형을 제작하며;
상기 1형태 금형에 이형층을 형성하고, 이형층 상부에 액상수지를 충진하며, 상기 액상수지의 상부에는 롤 상 또는 시트 상 필름기판을 얹으며;
액상수지가 경화된 후에 상기 필름기판을 1형태 금형으로부터 탈형시켜 돌출부와 공간부가 형성된 플렉시블 회로기판을 제작하며;
상기 플렉시블 회로기판의 공간부에 실버페이스트를 충진하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 회로기판의 제조방법.
A method of manufacturing a flexible circuit board,
Forming a photosensitive layer on the substrate; The photosensitive layer forms a tapered exposure portion with a top width narrower than a bottom width through a pattern;
A protruding portion and a space portion are formed on the substrate through the developing process, and a remaining photosensitive material remains in the space portion;
Sputtering a conductive metal on the projecting portion, the space portion, and the remaining photosensitive material;
Forming a release layer on the sputtering layer, subjecting the sputtering layer to electrification processing to produce a preform workpiece, demoulding the preform workpiece to produce a one-piece mold;
Forming a release layer on the one-piece mold, filling the top of the release layer with a liquid resin, and placing a roll-like or sheet-like film substrate on the liquid resin;
After the liquid resin is cured, the film substrate is demolded from the one-piece mold to produce a flexible circuit board having a protruding portion and a space portion;
Wherein a space portion of the flexible circuit board is filled with a silver paste.
제 39항에 있어서, 액상주지는 에폭시 수지 또는 UV수지 또는 폴리이미드 수지인 것을 특징으로 하는 플렉시블 회로기판의 제조방법. 41. The method of manufacturing a flexible circuit board according to claim 39, wherein the liquid main material is an epoxy resin, a UV resin, or a polyimide resin. 제 39항에 있어서, 플렉시블 회로기판에 형성된 돌출부의 상부는 보존면인 것을 특징으로 하는 플렉시블 회로기판의 제조방법. 40. The method of manufacturing a flexible circuit board according to claim 39, wherein the upper portion of the protrusion formed on the flexible circuit board is a storage surface. 제 39항에 있어서, 플렉시블 회로기판에 형성된 돌출부의 상부표면에 이형층을 형성한 뒤, 회로기판의 공간부에 실버페이스트를 충진하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 회로기판의 제조방법. 40. The method of manufacturing a flexible circuit board according to claim 39, wherein a release layer is formed on the upper surface of the protrusion formed on the flexible circuit board, and then silver paste is filled in the space portion of the circuit board. 플렉시블 회로기판의 제조방법에 있어서,
도전성 기판에 감광층을 형성하고, 상기 감광층에 패턴을 통하여 상부폭이 하부폭보다 좁은 테이퍼 형상의 노광부를 구성하며;
현상공정을 통하여 도전성 기판에 돌출부와 공간부를 형성하며, 상기 도전성 기판에 이형층을 형성하고 전주가공을 두껍게 실행한 후, 상기 전주가공물을 탈형하여 금형을 제작하며;
상기 금형에 이형층을 형성하고, 상기 이형층 상부에 액상수지를 충진하며, 상기 액상수지의 상부에는 롤 상 또는 시트 상 필름기판을 얹으며;
액상수지가 경화된 후에 상기 금형으로부터 상기 필름기판을 탈형시키어 돌출부와 공간부가 형성된 플렉시블 회로기판을 제작하며;
상기 플렉시블 회로기판의 공간부에 실버페이스트를 충진하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 회로기판의 제조방법.
A method of manufacturing a flexible circuit board,
Forming a photosensitive layer on a conductive substrate, forming an exposed portion of the photosensitive layer through the pattern with a tapered shape whose top width is narrower than the bottom width;
Forming a protruding portion and a space portion in a conductive substrate through a developing process, forming a release layer on the conductive substrate, thickening the electroconductive substrate, and then demolding the electroconductive workpiece to produce a mold;
Forming a release layer on the mold, filling the top of the release layer with a liquid resin, and placing a roll or sheet film substrate on the liquid resin;
After the liquid resin is cured, the film substrate is demolded from the mold to produce a flexible circuit board having a protruding portion and a space portion;
Wherein a space portion of the flexible circuit board is filled with a silver paste.
제 43항에 있어서, 액상주지는 에폭시 수지 또는 UV수지 또는 폴리이미드 수지인 것을 특징으로 하는 플렉시블 회로기판의 제조방법. 44. The method of manufacturing a flexible circuit board according to claim 43, wherein the liquid main material is an epoxy resin, a UV resin, or a polyimide resin. 제 43항에 있어서, 플렉시블 회로기판에 형성된 돌출부의 상부표면에 이형층을 형성하고, 공간부에 실버페이스트를 충진하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 회로기판의 제조방법. The manufacturing method of a flexible circuit board according to claim 43, wherein a release layer is formed on the upper surface of the protrusion formed on the flexible circuit board, and the space is filled with silver paste. 플렉시블 회로기판의 제조방법에 있어서,
기판에 감광층을 형성하고; 상기 감광층에 패턴을 통하여 노광부를 구성하며;
현상공정을 통하여 기판에 돌출부와 공간부가 형성되며, 상기 돌출부와 상기 공간부에 이형층을 형성하고, 상기 이형층의 상부에 탄력성 액상소재를 두껍게 충진하여 탄성 성형물을 제작하며;
상기 탄성 성형물이 경화된 후에 탈형하여 탄력성 몰드를 제작하며;
상기 탄력성 몰드에 이형층을 형성하고, 상기 이형층 상부에 액상수지를 도포하고, 상기 액상수지 위에 롤 상 또는 시트 상 필름기판을 위치시키며;
액상수지가 경화된 후에 상기 필름기판을 상기 탄력성 몰드로부터 탈형시키어 공간부가 형성된 플렉시블 회로기판을 제작하며;
상기 플렉시블 회로기판의 공간부에 실버페이스트를 충진하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 회로기판의 제조방법.
A method of manufacturing a flexible circuit board,
Forming a photosensitive layer on the substrate; Forming an exposure unit on the photosensitive layer through a pattern;
A protrusion and a space are formed on the substrate through a development process, a release layer is formed on the protrusion and the space, and a flexible liquid material is filled in the upper portion of the release layer to produce an elastic molding;
After the elastic material is cured, deforming to produce a flexible mold;
Forming a releasing layer on the flexible mold, applying a liquid resin on the releasing layer, and placing a roll or sheet film substrate on the liquid resin;
Disassembling the film substrate from the elastic mold after the liquid resin is cured to manufacture a flexible circuit board having a space portion;
Wherein a space portion of the flexible circuit board is filled with a silver paste.
제 46항에 있어서, 액상주지는 에폭시 수지 또는 UV 수지 또는 폴리이미드 수지인 것을 특징으로 하는 플렉시블 회로기판의 제조방법. 47. The method of manufacturing a flexible circuit board according to claim 46, wherein the liquid main material is an epoxy resin, a UV resin, or a polyimide resin. 제 46항에 있어서, 플렉시블 회로기판에 형성된 돌출부의 상부표면에 이형층을 형성한 뒤에 공간부에 실버페이스트를 충진하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 회로기판의 제조방법. 47. The method of manufacturing a flexible circuit board according to claim 46, wherein a release layer is formed on the upper surface of the protrusion formed on the flexible circuit board, and then silver paste is filled in the space. 제 35항에서 제 48항의 어느 한 항으로 제작된 플렉시블 회로기판 또는 투명 열선 또는 칩온 필름 또는 전자파 차단시트.48. A flexible circuit board or transparent heat ray or chip-on film or electromagnetic wave shielding sheet produced by any one of claims 35 to 48. 도전성 기판 위에 감광층을 형성하고, 상기 감광층에 노광 및 현상공정을 거쳐서 필요한 형태의 노광부와 공간부를 구성하며;
상기 노광부와 공간부에 이형층을 형성하고 도금욕조에서 전주가공을 실행하여 도금부를 형성하며; 상기 도금부는 먼저 공간부를 채우고, 점차적으로 노광부로 균일한 속도로 확산되어 도금이 진행되며; 상기 도금부의 확산에 의하여, 도금부와 이웃하는 도금부의 간격이 원하는 크기로 형성되면 전주가공을 중지하며;
상기 도금부와 간격부 사이에 이형층을 형성하고, 재차 전주가공하여 전주가공물을 형성하며;
상기 전주가공물을 탈형하여 돌출부와 공간부가 형성된 전주금형을 제작하며; 상기 전주금형의 공간부에 비도전성 물질을 충진하여 정체영역을 형성하는 것을 특징으로 하는 수직성장 전주금형의 제작방법.
Forming a photosensitive layer on a conductive substrate, exposing and developing the photosensitive layer to form an exposed portion and a space portion of a required shape;
Forming a release layer in the exposed portion and the space portion, performing electroplating in a plating bath to form a plating portion; The plating section first fills the space section, gradually diffuses to the exposure section at a uniform velocity, and plating proceeds; When the gap between the plating section and the neighboring plating section is formed to a desired size by the diffusion of the plating section, the plating process is stopped;
Forming a release layer between the plating section and the spacing section, and performing electroplating again to form a preform workpiece;
Disassembling the electrophotographic workpiece to produce an electroforming die having a protruding portion and a space portion; And forming a stagnation region by filling a non-conductive material in a space portion of the electroconductive metal mold.
제 50항에 의하여 제작된 수직성장 전주금형.50. A vertically-grown electroforming die made according to claim 50. 제 50항에 의하여 제작된 수직성장 전주금형에 이형층을 형성하고 전주가공을 실행하여 수직성장 전주가공물을 제작하며;
접착재를 통하여 롤 상 또는 시트 상의 필름기판을 상기 수직성장 전주가공물의 위쪽 면과 접합시키고;
상기 전주금형에서 수직성장 전주가공물을 접합시킨 필름기판을 탈형시키는 것을 특징으로 하는 플렉시블 회로기판의 제조방법.
Forming a release layer on the vertically-grown electroforming die fabricated according to claim 50 and performing electroplating to produce a vertically-grown electroplating workpiece;
Joining a roll-shaped or sheet-like film substrate with an upper surface of the vertically growing electrophotographic workpiece through an adhesive;
Wherein the film substrate on which the vertically grown electroplated workpiece is bonded is demolded in the electroforming die.
제 52항에 있어서, 플렉시블 회로기판의 공간부에 액상수지를 충진하고, 상기 액상수지를 경화시키는 것을 특징으로 하는 플렉시블 회로기판의 제조방법.The manufacturing method of a flexible circuit board according to claim 52, wherein the space portion of the flexible circuit board is filled with a liquid resin, and the liquid resin is cured. 제 52항에 의하여 제작된 플렉시블 회로기판 또는 투명 열선 또는 칩온 필름 또는 전자파 차단시트.52. A flexible circuit board or transparent heat wire or chip-on film or electromagnetic wave shielding sheet manufactured by the method of claim 52. 제 53항에 의하여 제작된 플렉시블 회로기판 또는 투명 열선 또는 칩온 필름 또는 전자파 차단시트.A flexible circuit board or transparent heat wire or chip-on film or electromagnetic wave shielding sheet produced by the method of claim 53. 제 51항의 전주금형에 의하여 제작된 수직성장 3차원 전주가공물.A vertically-grown three-dimensional electroforming work produced by the electromechanical die of claim 51. 제 51항의 전주금형에 의하여 제작된 메쉬 또는 필터 또는 열선 또는 3차원 회로, 3차원 초정밀 구조물, 투명 열선, 칩온 필름, 전자파 차단시트.







A mesh or filter made by the electromechanical mold of claim 51, a heat wire or a three-dimensional circuit, a three-dimensional super-precision structure, a transparent heat wire, a chip on film, and an electromagnetic wave shielding sheet.







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