KR20180030624A - 부가적 제조용 슬러리의 박층을 형성하기 위한 방법 및 장치 - Google Patents

부가적 제조용 슬러리의 박층을 형성하기 위한 방법 및 장치 Download PDF

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Abstract

3차원 물체를 제공하기 위한 부가적 제조 장치, 및 3차원 물체(5)의 부가적 제조를 위한 방법이 제공된다. 노출 유닛(11)은 형성될 물체(5) 상에 슬러리의 층을 경화하도록 배열되며, 그리고 기질(2)은 미리 정해진 양의 슬러리(4)를 받고 미리 정해진 양의 슬러리(4)를 상기 노출 유닛(11)과 연관된 노출 위치에 위치시키도록 배열된다. 기질(2)은 기질(2)의 표면 상에 슬러리 방치층(3)을 포함한다. 형성될 물체(5)를 유지하기 위해 물체 홀더가 제공되며, 상기 물체 홀더는 다음 부가적 제조 단계를 위해 원하는 두께의 층에 도달할 때까지 형성될 물체(5)를 기질(2)을 향해 미리 정해진 양의 슬러리(4) 내로 프레싱하도록 배열된다.

Description

부가적 제조용 슬러리의 박층을 형성하기 위한 방법 및 장치
본 발명은 기질 상에 층으로서 미리 정해진 양의 슬러리를 제공하고 형성될 물체 상에서 상기 층을 경화(curing)하는 것을 반복하여 물체를 제조하는 것을 포함하는, 3차원 물체의 부가적 제조(additive manufacturing)를 위한 방법에 관한 것이다. 다른 견지로, 본 발명은 형성될 물체 상에 슬러리의 층을 경화하도록 배열된 노출 유닛, 미리 정해진 양의 슬러리를 받고 미리 정해진 양의 슬러리를 상기 노출 유닛과 연관된 노출 위치에 위치시키도록 배열된 기질을 포함하는 3차원 물체를 제공하기 위한 부가적 제조 장치에 관한 것이다.
미국 특허공개 US2013/292863에는 이미지 플래이트로부터 부분 분리와 관련하여 향상을 갖는 부가적 제조 장치가 개시되어 있다. 경화 억제층이 이미지 플래이트의 상부 표면 상에 제공되며, 이 층은 예를 들어 폴리-디메틸 실록산, PDMS로 이루어진다.
국제 공개공보 WO2014/006399에는 형성될 물체('빌드(build)')가 광-반응성 물질에 잠기는 타입의 부가적 제조 장치가 개시되어 있다. 광에 대한 노출을 이용하여 물질을 굳히기 위해 광 투과 부재가 제공된다. 일 구현으로, 광 투과 부재는 투명한 실린더 형상의 구성요소이며, 이는 형성될 물체를 '둘러쌀(roll)' 수 있다(도 1 및 2는 장치의 각각 y-면 및 x-면 단면도이다).
유럽 특허공개 EP-A-2 151 214에는 바인더, 광-중합 개시제 및 필러를 갖는 슬러리가 치과 성분의 부가적 제조용으로 사용되는 용도가 개시되어 있다. 개시된 부가적 제조 장치는 형성될 물체가 슬러리에 잠기는 타입이다.
미국 특허 공개 US2011/0309554에는 물체를 층으로 빌드 업하기 위한 광-중합가능한 물질을 처리하는 장치가 개시되어 있다. 일 구현으로, 상기 장치는 회전가능하게 배치된 배트(vat), 물체를 빌드 업 하기 위해 상기 배트 위에 배치된 빌드 플랫폼, 광-중합가능한 물질을 상기 배트의 바닥에 공급하기 위한 공급 장치, 광 모듈레이터 및 상기 빌드 플랫폼 아래 및 위에 각각, 추가 노출 유닛을 포함한다.
본 발명은 부가적 제조를 위한 향상된 방법 및 장치를 제공하기 위한 것으로, 특히 슬러리의 조성물 때문에 박층의 슬러리가 사용될 필요가 있는 경우에 부가적 제조를 위한 향상된 방법 및 장치(그리고 이에 따라 궁극적으로 3차원 물체)를 제공하기 위한 것이다.
본 발명에 따르면, 상기 정의된 서두에 따른 방법이 제공되며, 여기서 슬러리 방지층(slurry repellant layer)은 기질의 표면 상에 제공되며, 상기 방법은 다음 부가적 제조 단계를 위해 원하는 두께의 층에 이를 때까지 형성될 물체를 미리 정해진 양의 슬러리 내로 프레싱하고(is pressed into slurry), 형성될 물체를 미리 정해진 양의 슬러리 내로 프레싱하는 동안에 미리 정해진 양의 슬러리를 교반하는 것을 추가로 포함한다. 슬러리의 교반과 결합하여 슬러리 방지층은, 그 슬러리가 이에 따라 형성된 물체에 의해 보다 쉽게 밀어젖혀질 수 있는 효과를 가지며, 이는 보다 적은 힘을 요구하며 이미 형성된 물체의 층에 대한 손상 기회를 낮춰준다.
특히, 노출될 슬러리의 박층이 필요한 경우(예, 보다 적은 투명성의 슬러리 조성물을 사용할 경우), 또는 고 점성 슬러리 조성물이 사용될 경우에, 이는 고 품질의 3차원 물질을 제공하는데 매우 유리할 수 있다.
본 발명의 다른 견지로, 부가적 제조 장치는 상기 정의된 바와 같이 제공되며, 여기서 기질은 기질의 표면 상의 슬러리 방지층, 형성될 물체를 유지시키기 위한 물체 홀더 및 미리 정해진 양의 슬러리를 교반하기 위해 배열된 교반 시스템을를 포함하며, 여기서 물체 홀더는 다음 부가적 제조 단계를 위해 원하는 두께의 층에 이를 때까지 형성될 물체를 기질을 향해 미리 정해진 양의 슬러리 내로 프레싱하도록 배열된다. 또한, 특히 3차원 물체를 제조하는 동안에 박층이 요구되는 경우에, 그리고/또는 고 점성 슬러리 조성물이 사용될 경우에, 물체 홀더에 의해 가해지는 데 요구되는 힘은 낮아지며, 그 결과 보다 신뢰할 수 있고 탄탄한 부가적 제조 장치가 된다.
본 발명의 방법 및 장치에, 첨부된 청구범위에 기술되고 하기 예시적인 구현의 기재에 설명된 바와 같이, 추가로 가능한 특징이 개별적으로 또는 조합으로 첨가되는 것이 가능하다.
본 발명은 첨부된 도면을 참조하여 다수의 예시적인 구현들을 이용하여 이하 보다 상세히 설명된다.
도 1은 부가적 제조를 이용하여 제조되는 3차원 물체의 단면도를 나타내며;
도 2는 본 발명의 구현에 따른 부가적 제조 장치의 추가적 구성요소들을 포함하는 도 1의 단면도를 나타낸다.
본 발명은 특히 경화성 물질의 층의 노출을 이용하여 예를 들어, 슬러리의 형태로 3차원 물체를 층층이(layer by layer) 제조하는 부가적 제조 기술에 적용가능하다. 그 다음, 형성될 물체를 후속적으로 새로운 갓 형성된 슬러리층과 접촉하도록 배치하고, 그 새로운 층을 노출/경화하여 물체가 생성된다.
특정 적용에 있어서, 슬러리는 경화성 수지뿐만 아니라 고 품질 옥사이드 세라믹을 포함할 수 있으며, 이는 노출 방사선(예, 디지털 광 프로세서(DLP)로부터 기원하는)을 흡수하지 않아 결과적으로 전체 층이 노출될 수 있어 형성될 물체 상에 경화될 수 있다.
노출을 위해 사용되는 방사선을 (다소) 흡수하는 다른 물질이 슬러리에 사용되는 경우에, 사용된 노출 방사선의 침투 깊이 및 효능이 약화되므로 부가적 제조는 방해받는다. 그래서, 이러한 타입의 층층이 부가적 제조는, 만일 박층의 감광성 슬러리가 사용되는 경우에만 성공적일 수 있다.
이에 따라 처하게 된 문제는 또한 사용하려고 하는 슬러리가 일반적으로 고 점성이라는 것이다. 새로운 슬러리층과 접촉하며, 그리고 전체층이 경화될 수 있도록(즉, 전체적인 경화) 그 층의 알맞은 양의 두께를 갖는 형성될 물체(형성되는 마지막층)를 얻기 위해, 형성될 물체는 힘으로 점성 슬러리 내로 프레싱되어져야 한다. 이에 따라, 그 힘이 너무 큰 경우에는, 형성될 물체가 손상될 수 있으며, 또는 원하는(작은) 두께의 슬러리층에 이를 수 없다.
도 1은 (형성될 물체(5)에서 수평선으로 나타낸) 부가적 제조를 이용한 3차원 물체(5)를 제조할 경우에 사용되는 주요 구성요소들의 단면도를 나타낸다. 개별 슬러리 방지층(3)을 갖는 구현에서, 기질(2)은 미리 정해진 양의 슬러리(4)를 유지시키기 위해 제공된다. 형성될 물체(5)의 각 층에 있어서, 물체는 미리 정해진 층 두께를 달성할 때까지 기질(2)을 향해 아래로 낮춰져 슬러리(4)로 향한다. 그 후, 슬러리(4) 층은 방사선에 노출되어 형성될 물체 상에 슬러리(4)가 경화된다.
따라서, 본 발명의 제 1 구현에 따르면, 미리 정해진 양의 슬러리(4)를 기질(2) 상에 층으로서 제공하고 형성될 물체(5) 상에 상기 층을 경화하는 것을 반복하여 물체(5)를 제조하는 것을 포함하는, 3차원 물체의 부가적 제조를 위한 방법이 제공된다. 기질(2)은 예를 들어, 기질(2) 상에 새로 형성된 슬러리(4) 층이 적절한 방사선 투여량에 노출될 수 있도록 투명하거나 또는 반투명한 것이다. 슬러리 방지층(3)은 기질(2)의 표면 상에 제공된다. 상기 방법은 다음 부가적 제조 단계를 위해 원하는 두께의 층에 도달할 때까지 미리 정해진 양의 슬러리(4)로 형성될 물체(5)를 프레싱하는 것을 추가로 포함한다. 슬러리 방지층(3)에 기인하여, 형성될 물체(5)를 갓 형성된 슬러리(4)의 층으로 밀어넣을 경우에 기질(2)의 상부에 방지층(3)을 이용하여 (기질을 향한) 높은 하향 힘이 가해질 필요가 있으며, 이는 그 면에 경계층이 더 이상 존재하지 않으며(여기에서 슬러리 이동이 이론적으로 0이 될 수 있음), 이는 상당한 수고를 들이지 않고 슬러리(4)의 양을 밀어젖히게 할 수 있음을 의미한다. 이는 기질(2) 또는 형성될 물체(5)(또는 사용된 장치의 다른 부분)(의 이미 형성된 층)에 대한 손상 등의 기회를 줄인다.
슬러리 방지층은 특정 구현으로 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE)을 포함하며, 이는 개별층으로서 기질(2)에 첨가하기에 용이하다. 슬러리 방지층(3)은 또한 기질(2)의 상위 부분(upper part) 또는 기질(2)의 물리적 또는 화학적 구조물로서 형성될 수 있다. 슬러리 방지층을 위한 대체 물질은 예를 들어, 퍼플루오로알콕시(PFA) 및 플루오르화 에틸렌 프로필렌(FEP)이다. 보다 일반적인 용어로, 슬러리 방지층(3)은 슬러리(4)가 쉽게 밀어젖혀질 수 있도록 기질(2)의 일반 표면에 비해 더 낮은 표면 장력을 제공한다.
다른 구현으로, 상기 방법은 형성될 물체(5)를 미리 정해진 양의 슬러리(4) 내로 프레싱하는 동안에 미리 정해진 양의 슬러리(4)를 교반하는 것을 추가로 포함한다. 이 교반은 점도와 같은 슬러리의 특성에 영향을 주는데 유리할 수 있으며, 이는 형성될 물체(5)를 슬러리(4) 내로 프레싱하는 것을 보다 용이하게 해 준다. 또한 형성될 물체(5)의 이전 층과 갓 형성된 슬러리층의 접촉이 향상된다.
상기 교반은 다른 구현으로, 예를 들어 (초음파) 진동에 의한 것과 같이 간접적인 교반을 포함한다. 이는 초음파 변환기와 같은 쉽게 이용가능한 구성요소를 이용하여 비용 효과적인 방식으로 수행될 수 있다.
노출 직전에 슬러리(4) 층의 원하는 두께는 예를 들어, 5㎛와 같이 10㎛ 미만이다. 이는 방사선(예, 광)이 슬러리(4)의 전체 층을 침투할 수 있도록 하여, 노출 동안에 방사선을 반사시키거나 확산시키는 입자(예, 금속 입자)를 갖는 슬러리(4)가 사용되는 경우에도 새로운 층의 전체 깊이의 적절하고 충분한 경화를 가능하게 한다. 일반적으로, 두 표면(형성될 물체(5)의 하부와 기질(2)의 상부) 사이에 이러한 슬러리(4)의 박층을 생성하는 것은 슬러리를 몰아내기 위해 높은 힘을 필요로 할 수 있다. (방지층(3)을 이용하는) 본 발명의 구현으로, 이는 가능하게 되었으며, 미리 정해진 양의 슬러리(4)의 교반을 이용하는 경우에는 심지어 더욱 증가될 수 있다.
본 발명의 구현은 예를 들어, 금속 입자와 같은 높은 부하의 입자와 경화성 수지의 혼합물과 같은 고 점성 슬러리를 사용할 경우에 특히 유리하다. 따라서, 슬러리(4)는 예를 들어, 20-500 Poise 범위의 점도를 갖는 다른 구현에서 고 점성이다.
다른 구현으로, 슬러리(4)는 금속 입자, 또는 금속 입자의 전구체를 포함한다. 예로서 텅스텐 또는 티타늄 입자와 같은 것이 있으나, 이에 한정하는 것은 아니나 금속 하이드라이드 또는 금속-유기 화합물과 같은 금속의 전구체가 또한 사용될 수 있다.
다른 구현으로, 형성될 물체(5)의 단면 표면은 예를 들어, 10㎠ 초과와 같이 1㎠ 초과이다. 이러한 치수는 원하는 두께의 슬러리(4)의 층을 얻기 위해 상대적으로 많은 슬러리(4)가 밀어젖혀질 필요가 있는 것을 시사함에도 불구하고, 이는 본 발명의 구현을 이용하여 가능하다.
도 2는 본 발명의 다른 견지에 따른 3차원 물체를 제공하기 위한 부가적 제조 장치의 추가 구성요소들을 갖는 도 1의 단면도를 나타낸다. 상기 장치는 형성될 물체(5) 상에 슬러리(4)의 층을 경화하기 위해 배열된 노출 유닛(11)을 포함한다. 기질(2)는 미리 정해진 양의 슬러리(4)를 받고, 노출 유닛(11)과 연관된 노출 위치에 미리 정해진 양의 슬러리(4)를 위치시키도록 배열된다. 기질(2)은 기질(2)의 표면 상에 슬러리 방지층(3)을 포함한다. 물체 홀더는 형성될 물체(5)를 유지하기 위해 제공되며, 여기서 물체 홀더는 다음 부가적 제조 단계를 위해 원하는 두께의 층에 이를 때까지 형성될 물체(5)를 기질(2)를 향해 미리 정해진 양의 슬러리(4) 내로 프레싱하도록 배열된다. 상기 언급된 구현에서와 같이, 슬러리 방지층(3)은 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE)을 포함한다. 상기 언급된 바와 같이, 슬러리 방지층(3)은 각 부가적 제조 단계를 위해 매우 얇은 슬러리(4) 층을 갖는 것이 가능하다.
나아가, 상기 부가적 제조 장치는 미리 정해진 양의 (갓 디포지팅된) 슬러리(4)를, 예를 들어, 형성될 물체(5)를 슬러리(4) 내로 프레싱하면서 동시에 교반하도록 배열된 교반기 시스템(12)를 추가로 포함할 수 있다. 교반기 시스템(12)은 일 구현으로 예를 들어, 초음파 변환기와 같은 진동 부재를 포함할 수 있다. 진동 부재는 슬러리(4)의 층과 직접적인 접촉으로 존재하거나, 또는 예를 들어 기질(2) 또는 장치의 다른 중간 물체를 통해(예, 기질(2)을 지탱하는 지지 플래이트, 또는 예를 들어, 기질(2)가 호일 기질로서 시행되는 경우) 간접적인 접촉을 이용하여 시행될 수 있다.
교반기 시스템(12)은 또한 형성될 물체(5) 상에 슬러리 층을 경화하도록 배열된 노출 유닛(11), 미리 정해진 양의 슬러리(4)를 받고, 노출 유닛(11)과 연관된 노출 위치에 미리 정해진 양의 슬러리(4)를 위치시키도록 배열된 기질(2), 및 형성될 물체(5)를 유지시키기 위한 물체 홀더를 포함하는 보다 포괄적인 부가적 제조 장치에 제공될 수 있다. 교반기 시스템(12)은 또한 예를 들어, 수지 층을 경화한 후에 중간 3차원 물체(5)를 들어올리는 것을 용이하게 하기 위해, 다른 단계의 3차원 물체의 제조 공정에 사용될 수 있다.
유리한 구현으로, 기질(2)를 지지하기 위해 지지 플래이트가 제공되며, 경화 공정을 최적화하기 위해 경화 수지(4)의 층이 미리 정해진 점도가 얻어질 수 있는 교반기 시스템(12)(또는 수지 점도 감소 유닛(12))을 포함한다. 예를 들어, 물체(5)의 단면 슬라이스를 제조하기 위해, (중간) 물체(5)를 지탱하는 스테이지는 (호일) 기질(2)을 향해 낮아지며, 가장 최근에 경화된 수지 층은 새로 제공된 슬러리(4) 층 내로 프레싱된다. 이는 새로 공급된 슬러리(4)의 층이 형성될 물체(5) 아래의 원하는 두께를 얻고, 물체(5)와 호일 기질(2)(슬러리 방지층(3)을 포함함) 사이의 경화되지 않은 수지가 균질하게 분포되는 것을 확실히 해준다. 더욱이, 물체(5)와 호일 기질(2) 사이의 경화성 수지(슬러리(4))의 점도는 물체(5)를 슬러리층(4) 내로 프레싱하기 위해 적용되어져야 하는 압축력을 최소화시키며, 이는 호일 기질(2)에 대한 스테이지 및 물체(5)의 보다 적절한 포지셔닝을 가능하게 한다.
슬러리(4)의 층의 점도를 조절하는 것은 여러 방식으로 수행될 수 있다. 예를 들어, 일 구현으로, 수지 점도 감소 유닛(12)은 표면 가열 장치를 포함한다. 표면 가열 장치는 지지 플래이트를 가열하도록 배열되며, 결과적으로 호일 기질(2)뿐만 아니라 그 위에 배치된 슬러리(4)의 층을 가열하도록 배열된다. 결국, 슬러리(4)의 층의 점도는 물체(5)가 그 아래의 수지로 낮아지는 경우에, 스테이지의 압축력이 감소되도록 낮아질 수 있다. 또한, 수지의 점도가 감소됨에 따라, 물체(5)와 호일 기질(2) 사이의 슬러리(4)의 층은 보다 균질하고 고른 형태로 흐른다.
다른 구현으로, 표면 가열 장치는 가열 에어 블로어(heated air blower)를 포함한다. 가열 에어 블로어는 기질(2)이 아래 및/또는 위에서 가열되도록 한다. 가열 에어 블로어는 신속한 가열을 제공하며, 가열 에어 흐름을 가능하게 하며, 여기서 가열 에어 흐름의 온도 및 흐름 방향은 부가적 제조 장치(1)를 둘러싸는 분위기 조건에 따라 물체(5)에 쉽게 맞춰진다.
다른 구현으로, 수지 점도 감소 유닛(12)은 초음파 장치를 포함하여, 슬러리(4)의 층의 점도는 예를 들어, 지지 플래이트 (및/또는 스테이지) 상에 고주파 진동을 부과함으로써 낮춰지는 것과 같이 조절될 수 있다. 즉, 슬러리(4)의 층에 높은 진동 주파수를 직접 부과하여 슬러리(4)의 층의 점도에 있어서 원하는 변화를 달성하도록 초음파 장치는 지지 플래이트(및/또는 스테이지)에 직접 연결될 수 있다. 대안적인 구현으로, 수지 점도 감소 유닛(12)은 예를 들어, 지지 플래이트(및/또는 스테이지(9))를 진동시키기 위한 고 주파 압전 작동기(piezo actuator)와 같은 진동 작동기를 포함한다. 수지 점도 감소 유닛(12)의 상기 구현은, 종종 폴리머 기반 수지에 대한 경우인 수지 내의 전단 속도가 증가할 경우 감소된 점도를 나타내는 비뉴튼(non-Newtonian) 경화성 수지의 경우에 유리하다.
도 2에 나타낸 바와 같은 구현에 나타낸 바와 같이, 또한 컨트롤 유닛(10)은 노출 유닛(11) 및 교반기 시스템(12)과 접촉하도록 제공될 수 있다. 또한, 컨트롤 유닛(10)은 부가적인 제조 공정 동안에 형성될 물체(5)를 적절한 위치로 이동시키기 위한 물체 홀더와 통하도록 존재할 수 있다.
본 발명의 구현은 도면에 나타낸 바와 같은 다수의 예시적인 구현을 참조하여 상술되었다. 일부 부분 또는 요소의 변형 및 대안적인 실행이 가능하며, 이는 첨부된 청구범위에 정의된 보호범위에 포함된다.

Claims (14)

  1. 3차원 물체(5)의 부가적 제조를 위한 방법으로서,
    미리 정해진 양의 슬러리(4)를 기질(2) 상에 층으로서 제공하고, 형성될 물체(5) 상에 상기 층을 경화하는 것을 반복하여, 상기 물체(5)를 제조하는 것을 포함하며, 여기서 슬러리 방지층(slurry repellant layer)(3)은 기질(2)의 표면 상에 제공되며, 그리고 상기 방법은
    다음 부가적 제조 단계를 위해 원하는 두께의 층에 도달할 때까지 미리 정해진 양의 슬러리(4)로 형성될 물체(5)를 프레싱하고, 형성될 물체를 미리 정해진 양의 슬러리(4) 내로 프레싱하는 동안에 미리 정해진 양의 슬러리(4)를 교반하는 것을 추가로 포함하는, 3차원 물체(5)의 부가적 제조를 위한 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    슬러리 방지층(3)은 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE)을 포함하는, 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    교반은, 예를 들어, 진동에 의한 직접 교반을 포함하는, 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 원하는 두께의 층은, 예를 들어, 5㎛와 같이, 10㎛ 미만인, 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    슬러리(4)는 고 점성인, 방법.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    슬러리(4)는 금속 입자, 또는 금속 입자의 전구체를 포함하는, 방법.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    형성될 물체(5)의 단면 표면은, 예를 들어, 10㎠ 초과와 같이 1㎠ 초과인, 방법.
  8. 형성될 물체(5) 상에 슬러리의 층을 경화하도록 배열된 노출 유닛(11), 미리 정해진 양의 슬러리(4)를 받고 미리 정해진 양의 슬러리(4)를 상기 노출 유닛(11)과 연관된 노출 위치에 위치시키도록 배열된 기질(2), 여기서 기질(2)은 기질(2)의 표면 상에 슬러리 방지층(3)을 포함하며,
    형성될 물체(5)를 유지시키기 위한 물체 홀더, 여기서 물체 홀더는 다음 부가적 제조 단계를 위해 원하는 두께의 층에 도달할 때까지 형성될 물체(5)를 기질(2)을 향해 미리 정해진 양의 슬러리(4) 내로 프레싱하도록 배열되며, 및
    미리 정해진 양의 슬러리(4)를 교반하기 위해 배열된 교반 시스템(12)
    을 포함하는, 3차원 물체를 제공하기 위한 부가적 제조 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    슬러리 방지층(3)은 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE)을 포함하는, 부가적 제조 장치.
  10. 제8항 또는 제9항에 있어서,
    교반 시스템(12)은 진동 부재를 포함하는, 부가적 제조 장치.
  11. 제8항 또는 제9항에 있어서,
    교반 시스템(12)은 수지 점도 감소 장치를 포함하는, 부가적 제조 장치.
  12. 제11항에 있어서,
    수지 점도 감소 장치(12)는 표면 가열 장치를 포함하는, 부가적 제조 장치.
  13. 제12항에 있어서,
    표면 가열 장치는 가열 에어 블로어(heated air blower)를 포함하는, 부가적 제조 장치.
  14. 제12항에 있어서,
    수지 점도 감소 장치(12)는 초음파 장치를 포함하는, 부가적 제조 장치.
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