KR20180025533A - Display Device - Google Patents

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KR20180025533A
KR20180025533A KR1020160112242A KR20160112242A KR20180025533A KR 20180025533 A KR20180025533 A KR 20180025533A KR 1020160112242 A KR1020160112242 A KR 1020160112242A KR 20160112242 A KR20160112242 A KR 20160112242A KR 20180025533 A KR20180025533 A KR 20180025533A
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Abstract

The specification of the present invention provides a display device which prevents a contact defect of a test pin when testing a signal line. The display device comprises: a substrate including a display area and a non-display area; and a signal line arranged on the substrate. The signal line includes: a first conductive layer connected to a pad; a second conductive layer separated from the first conductive layer; an insulating layer positioned on the first and second conductive layers, and including an open area in which an end unit of the first conductive layer, an end unit of the second conductive layer, and a space between the first and second conductive layers are exposed; and a conductive pattern positioned in the open area, and positioned on the end unit of the first conductive layer and the end unit of the second conductive layer exposed to the open area.

Description

표시장치{Display Device}[0001]

본 명세서는 영상을 표시하는 표시장치에 관한 것이다. TECHNICAL FIELD The present invention relates to a display device for displaying an image.

정보화 사회가 발전함에 따라 영상을 표시하기 위한 표시장치에 대한 요구가 다양한 형태로 증가하고 있으며, 근래에는 액정표시장치(LCD: Liquid Crystal Display), 플라즈마표시장치(PDP: Plasma Display Panel), 유기발광표시장치(OLED: Organic Light Emitting Diode Display Device) 등과 같은 여러 가지 표시장치가 활용되고 있다.2. Description of the Related Art [0002] As an information-oriented society develops, demands for a display device for displaying an image have increased in various forms. Recently, a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP) Various display devices such as an OLED (Organic Light Emitting Diode Display Device) are being utilized.

일반적으로, 표시장치는 표시패널을 구동하기 위한 구동회로를 포함한다. 구동회로는 게이트라인들에 스캔신호를 순차적으로 인가하는 게이트 드라이버와, 게이트 드라이버의 스캔신호에 대응하여 데이터라인들을 통해 영상정보를 화소들에 인가하는 데이터 드라이버를 구비한다.Generally, the display device includes a drive circuit for driving the display panel. The driving circuit includes a gate driver for sequentially applying a scan signal to the gate lines and a data driver for applying image information to the pixels through the data lines corresponding to the scan signal of the gate driver.

최근, 표시장치는 기술 발전 및 소비자의 요구에 따라 해상도가 증가하고 있다. 또한, 해상도 증가는 신호라인의 검사를 위해서 오토-프루브(Auto-Prove: 이하, AP) 검사핀 추가 및 핀투핀(PIN to PIN) 피치 감소에 의해 신호라인의 검사시 검사핀의 접촉 불량이 발생할 수 있다.In recent years, display devices have been increasing in resolution according to technological advances and consumer demands. In addition, the resolution increase is caused by the addition of the auto-probe (AP) test pin and the decrease of the pitch of the pin to pin for inspecting the signal line, .

또한, 해상도가 증가함에 따라, 신호라인 및 패드에서 발열이 증가하여 표시장치의 비정상적인 구동을 유발할 수 있다. 이에, 발열에 의한 문제 발생을 해소하고, 비용 발생을 최소화하는 방안이 요구되고 있다.Also, as the resolution is increased, the heat generation in the signal lines and the pads may increase, which may cause abnormal driving of the display device. Accordingly, it is required to solve the problem caused by the heat generation and to minimize the cost incurred.

일 실시예는 신호라인의 검사시 검사핀의 접촉 불량을 방지하는 표시장치를 제공하고자 한다.One embodiment of the present invention is to provide a display device for preventing a contact failure of a test pin at the time of inspecting a signal line.

또한, 다른 실시예는 본 발명은 신호라인 및 그 패드의 저항을 낮추어 소비전력을 낮추고 발열량을 감소시키는 표시장치를 제공하고자 한다.Another embodiment of the present invention is to provide a display device for lowering the resistance of a signal line and a pad thereof so as to reduce power consumption and reduce a heat generation amount.

일측면에서, 일 실시예에 따른 표시장치는 표시 영역과 비표시 영역을 포함하는 기판 및 기판에 배열된 신호라인을 포함한다. In one aspect, a display device according to an embodiment includes a substrate including a display region and a non-display region, and a signal line arranged on the substrate.

신호라인은, 패드와 연결되는 제1도전층과, 제1도전층과 이격된 제2도전층을 포함한다. 또한 신호라인은, 제1도전층과 제2도전층 상에 위치하며, 제1도전층의 단부와 제2도전층의 단부 및 제1도전층과 제2도전층 사이가 노출된 개구 영역을 포함하는 절연층을 포함한다. 신호라인은 개구 영역에 위치하며 개구 영역으로 노출된 제1도전층의 단부와 제2도전층의 단부 상에 위치하는 도전 패턴을 포함한다. The signal line includes a first conductive layer connected to the pad and a second conductive layer spaced apart from the first conductive layer. The signal line is located on the first conductive layer and the second conductive layer and includes an end portion of the first conductive layer, an end portion of the second conductive layer, and an opening region exposed between the first conductive layer and the second conductive layer And an insulating layer. The signal line includes a conductive pattern located at an end of the first conductive layer and the end of the second conductive layer, which are located in the opening region and exposed to the opening region.

다른 측면에서, 다른 실시예에 따른 표시장치는 표시 영역과 비표시 영역을 포함하는 기판 및 기판에 배열된 로그라인, 로그라인을 구동 회로와 연결하는 연결 라인을 포함한다. In another aspect, a display device according to another embodiment includes a substrate including a display area and a non-display area, a log line arranged on the substrate, and a connection line connecting the log line to the driving circuit.

로그라인은, 패드와 연결되는 도전층과, 도전층 상에 위치하는 절연층을 포함한다. 절연층은 도전층의 일부를 노출하는 제1컨택홀을 포함하는 제1절연층과, 제1절연층 상에 위치하며 제1컨택홀과 연결라인의 일부분을 노출하는 제2컨택홀을 포함하는 제2절연층을 포함한다. The log line includes a conductive layer connected to the pad and an insulating layer disposed on the conductive layer. The insulating layer includes a first insulating layer including a first contact hole exposing a portion of the conductive layer, and a second contact hole located on the first insulating layer and exposing a portion of the first contact hole and the connection line And a second insulating layer.

로그라인은 제1컨택홀과 제2컨택홀에 도전층과 연결라인의 일부분 상에 위치하는 연결 패턴을 포함한다. The log line includes a connection pattern located on the conductive layer and a portion of the connection line in the first contact hole and the second contact hole.

일실시예에 따른 표시장치는 신호라인의 검사시 검사핀의 접촉 불량을 방지할 수 있다.The display device according to one embodiment can prevent the contact failure of the test pin at the time of inspecting the signal line.

또한, 다른 실시예에 따른 표시장치는 신호라인 및 그 패드의 저항을 낮추어 소비전력을 낮추고 발열량을 감소시킬 수 있다.In addition, the display device according to another embodiment can lower the resistance of the signal line and its pad, thereby lowering the power consumption and reducing the heat generation amount.

도 1은 본 실시예들에 따른 표시장치의 개략적인 구성도이다.
도 2는 도 1의 표시장치의 일부를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 3은 도 2의 X 영역을 상세히 나타낸 도면이다.
도 4는 도 3의 지시선 A-A'을 따라 절취한 단면도이다.
도 5는 도 3의 지시선 B-B'을 따라 절취한 단면도다.
도 6은 도 3의 지시선 C-C'을 따라 절취한 단면도이다.
도 7은 도 2의 Z영역을 상세히 나타낸 도면이다.
도 8은 도 7의 지시선 E-E'을 따라 절취한 단면도이다.
도 9는 도 2의 Y 영역을 상세히 나타낸 도면이다.
도 10은 도 9의 지시선 D-D'을 따라 절취한 단면도이다.
도 11은 표시장치가 터치스크린 패널 일체형 액정표시장치인 경우 표시장치의 단면도이다.
1 is a schematic configuration diagram of a display device according to the present embodiments.
2 is a view schematically showing a part of the display device of FIG.
FIG. 3 is a view showing the X region of FIG. 2 in detail.
4 is a cross-sectional view taken along the line A-A 'in Fig.
5 is a cross-sectional view taken along the line B-B 'in Fig.
6 is a cross-sectional view taken along the line C-C 'of FIG.
FIG. 7 is a detailed view of the Z region of FIG. 2. FIG.
8 is a cross-sectional view taken along the line E-E 'of Fig.
9 is a view showing the Y region of FIG. 2 in detail.
10 is a cross-sectional view taken along the line D-D 'of FIG.
11 is a cross-sectional view of a display device when the display device is a touch screen panel-integrated liquid crystal display device.

이하, 본 발명의 일부 실시예들을 예시적인 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가질 수 있다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략할 수 있다.Hereinafter, some embodiments of the present invention will be described in detail with reference to exemplary drawings. In the drawings, like reference numerals are used to denote like elements throughout the drawings, even if they are shown on different drawings. In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.

또한, 본 발명의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제 1, 제 2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질, 차례, 순서 또는 개수 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 또는 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 다른 구성 요소가 "개재"되거나, 각 구성 요소가 다른 구성 요소를 통해 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.In describing the components of the present invention, terms such as first, second, A, B, (a), and (b) may be used. These terms are intended to distinguish the components from other components, and the terms do not limit the nature, order, order, or number of the components. When a component is described as being "connected", "coupled", or "connected" to another component, the component may be directly connected or connected to the other component, Quot; intervening "or that each component may be" connected, "" coupled, "or " connected" through other components.

도 1은 본 실시예들에 따른 표시장치의 개략적인 구성도이다.1 is a schematic configuration diagram of a display device according to the present embodiments.

도 1을 참조하면, 본 실시예들에 따른 표시장치는 액정표시장치(LCD: Liquid Crystal Display), 플라즈마표시장치(PDP: Plasma Display Panel), 유기발광표시장치(OLED: Organic Light Emitting Diode Display Device) 등과 같은 여러 가지 표시장치일 수 있다.Referring to FIG. 1, the display device according to the exemplary embodiments of the present invention includes a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an organic light emitting diode (OLED) ), And the like.

본 실시예들에 따른 표시장치는 복수의 게이트라인(GL1 ~ GLn)과 복수의 데이터라인(DL1 ~ DLm)이 교차되며 그 교차부에 화소(Pixel, P)를 구동하기 위한 박막트랜지스터(TFT)가 형성된 표시패널(100)과, 게이트라인(GL1 ~ GLn)에 스캔 신호를 공급하기 위한 게이트 드라이버(110)와, 데이터라인(DL1 ~ DLm)에 데이터를 공급하기 위한 데이터 드라이버(120)와, 게이트 드라이버(110) 및 데이터 드라이버(120)를 제어하는 타이밍 컨트롤러(130)를 포함할 수 있다.A display device according to the present embodiment includes a thin film transistor TFT for driving a pixel Pixel at an intersection of a plurality of gate lines GL1 to GLn and a plurality of data lines DL1 to DLm, A gate driver 110 for supplying a scan signal to the gate lines GL1 to GLn; a data driver 120 for supplying data to the data lines DL1 to DLm; And a timing controller 130 for controlling the gate driver 110 and the data driver 120.

게이트 드라이버(110)는 타이밍 컨트롤러(130)로부터의 게이트 제어신호(GCS)에 응답하여, 복수의 게이트라인(GL1 ~ GLn)에 복수의 스캔 신호들을 공급할 수 있다. 복수의 스캔 신호들은 복수의 게이트라인(GL1 ~ GLn)이 순차적으로 1 수평동기신호의 기간씩 인에이블 되게 할 수 있다. 게이트 드라이버(110)는 복수의 게이트 드라이버 집적회로를 포함할 수 있다.The gate driver 110 may supply a plurality of scan signals to the plurality of gate lines GL1 to GLn in response to a gate control signal GCS from the timing controller 130. [ The plurality of scan signals may enable the plurality of gate lines GL1 to GLn to sequentially enable one horizontal synchronous signal period. The gate driver 110 may comprise a plurality of gate driver integrated circuits.

데이터 드라이버(120)는 타이밍 컨트롤러(130)로부터의 데이터 제어신호(DCS)들에 응답하여, 복수의 게이트라인(GL1 ~ GLn) 중 어느 하나가 인에이블 될 때마다 복수의 화소 데이터전압을 발생하여 표시패널(100) 상의 복수의 데이터라인(DL1 ~ DLm)에 각각 공급할 수 있다. 데이터 드라이버(120)는 복수의 데이터 드라이버 집적회로를 포함할 수 있다.The data driver 120 generates a plurality of pixel data voltages each time one of the plurality of gate lines GL1 to GLn is enabled in response to the data control signals DCS from the timing controller 130 To the plurality of data lines DL1 to DLm on the display panel 100, respectively. The data driver 120 may comprise a plurality of data driver integrated circuits.

타이밍 컨트롤러(130)는 외부의 시스템(예를 들면, 컴퓨터의 시스템의 그래픽 모듈 또는 텔레비전 수신 시스템의 영상 복조 모듈, 도시하지 않음)으로부터 공급된 동기신호들(Vsync, Hsync)과, 데이터 인에이블(DE) 신호 및 클럭신호(Clk)를 이용하여 게이트 드라이버(110)를 제어하는 게이트 제어신호(GCS)와 데이터 드라이버(120)를 제어하는 데이터 제어신호(DCS)를 생성한다. 또한, 타이밍 컨트롤러(130)는 외부의 시스템으로부터 입력된 영상 데이터(Data)를 정렬하여 정렬된 데이터(Vdata)를 데이터 드라이버(120)로 공급할 수 있다.The timing controller 130 receives the synchronization signals (Vsync, Hsync) supplied from an external system (for example, a graphics module of a computer system or a video demodulation module of a television receiving system, not shown) A gate control signal GCS for controlling the gate driver 110 and a data control signal DCS for controlling the data driver 120 are generated using the clock signal CLK and the DE signal. In addition, the timing controller 130 may sort the image data (Data) input from the external system and supply the aligned data (Vdata) to the data driver 120.

도 2는 도 1의 표시장치의 일부를 개략적으로 나타낸 도면이다.2 is a view schematically showing a part of the display device of FIG.

도 2를 참조하면, 표시패널(100)은 영상을 표시하는 표시 영역(104)과, 표시 영역(104)의 주변으로 영상을 표시하지 않는 비표시 영역(105)을 포함하는 기판(101)을 포함한다. 2, the display panel 100 includes a substrate 101 including a display region 104 for displaying an image and a non-display region 105 for not displaying an image around the display region 104 .

데이터 인쇄회로기판(124)은 표시패널(100)의 비표시 영역(105)에 구동회로를 표시패널과 연결하는 탭(tape automated bonding:탭) 방식, 예를 들어 가요성 필름(Flexible Film) 또는 가요성 회로기판(Flexible Printed Circuit, 128)을 통하여 전기적 물리적으로 연결될 수 있다. The data printed circuit board 124 is connected to the non-display area 105 of the display panel 100 by a tape automated bonding (TAB) method, for example, a flexible film And may be electrically and physically connected through a flexible printed circuit (128).

가요성 필름(128)은 도 1에 도시된 데이터 드라이버(120)를 구성하는 데이터 드라이버 집적회로(122)가 실장된다. 가요성 필름(128)은 복수의 데이터라인(DL)과 전기적으로 연결된 복수의 데이터 리드선(126) 및 게이트 드라이버(110)을 구성하는 게이트 드라이버 집적회로(111)와 전기적으로 연결된 복수의 게이트 리드선(113)을 포함할 수 있다. The flexible film 128 is mounted with the data driver integrated circuit 122 constituting the data driver 120 shown in Fig. The flexible film 128 includes a plurality of data lead wires 126 electrically connected to the plurality of data lines DL and a plurality of gate lead wires electrically connected to the gate driver integrated circuit 111 constituting the gate driver 110 113).

복수의 데이터 리드선(126)은 패드 구조를 통하여 표시패널(100)에 배치된 복수의 데이터라인(DL)과 연결되어 있어 영상 신호를 데이터 드라이버 집적회로(122)로부터 데이터라인(DL)에 전달할 수 있다. 게이트 리드선(113)은 패드 구조를 통하여 표시패널(110)에 배치된 스타트 신호 라인(SSL)과 연결되어 스타트 펄스를 게이트 드라이버 집적회로(111)에 전달할 수 있다. The plurality of data leads 126 are connected to the plurality of data lines DL arranged on the display panel 100 through the pad structure so that the video signals can be transferred from the data driver IC 122 to the data lines DL have. The gate lead line 113 may be connected to the start signal line SSL arranged on the display panel 110 through a pad structure to transmit a start pulse to the gate driver integrated circuit 111.

또한, 가요성 필름(128)에는 로그라인(LOG)과 전기적으로 연결된 로그라인 리드선(114)이 연결될 수 있다. 복수의 로그라인 리드선(114)은 제어신호들과 클럭신호, 게이트 전압, 전원전압, 그라운드 전압 등을 로그라인(LOG)을 통해 게이트 드라이버 집적회로(111)에 전달할 수 있다. The flexible film 128 may be connected to a log line lead 114 electrically connected to the log line LOG. The plurality of log line lead lines 114 may transmit control signals, a clock signal, a gate voltage, a power supply voltage, a ground voltage, and the like to the gate driver IC 111 via a log line LOG.

게이트 드라이버 집적회로(111)는 로그라인(LOG)을 통해 공급받은 제어신호들과 클럭신호, 게이트 전압, 전원전압, 그라운드 전압 등과 스타트 신호 라인(SSL)을 통해 공급받은 스타트 펄스를 이용하여 스캔 신호 또는 게이트 신호를 표시패널(100)의 게이트라인들(GL)로 공급할 수 있다.The gate driver integrated circuit 111 receives the control signals supplied through the log line LOG and the start signal supplied via the start signal line SSL with the clock signal, gate voltage, power supply voltage, ground voltage, Or the gate signal to the gate lines GL of the display panel 100. [

전술한 데이터 라인(DL) 및 게이트 라인(GL), 로그 라인(LOG), 스타트 신호 라인(SSL)은 기판(101)에 배열된 신호라인이라고 한다. 아래에서 도 3 내지 도 5를 참조하여 신호라인이 데이터 라인(DL)인 것을 예시적으로 설명하고, 도 6 내지 도 10을 참조하여 신호라인이 로그라인(LOG)인 것을 예시적으로 설명하나, 본 명세서에서 신호라인은 가요성 필름(128)과 전기적으로 연결된 어떠한 신호라인, 예를 들어 스타트 신호 라인(SSL)이나 미도시한 각종 전원 공급라인일 수 있다.The data line DL and the gate line GL, the log line LOG and the start signal line SSL are referred to as signal lines arranged on the substrate 101. 3 to 5, the signal lines are exemplarily illustrated as the data lines DL, and the signal lines are exemplarily shown as the log lines LOG with reference to FIGS. 6 to 10, Herein, the signal line may be any signal line electrically connected to the flexible film 128, for example, a start signal line (SSL) or various power supply lines not shown.

도 3은 도 2의 X 영역을 상세히 나타낸 도면이다. FIG. 3 is a view showing the X region of FIG. 2 in detail.

도 3을 참조하면, 데이터 라인(DL)은 패드(205)와 연결되는 제1도전층(210)과, 제1도전층(210)과 이격된 제2도전층(212), 제1도전층(210) 및 제2도전층(212) 사이에 위치하며 제1도전층(210) 및 제2도전층(212)과 전기적으로 연결된 도전 패턴(230)을 포함한다. Referring to FIG. 3, the data line DL includes a first conductive layer 210 connected to the pad 205, a second conductive layer 212 spaced apart from the first conductive layer 210, And a conductive pattern 230 located between the first conductive layer 210 and the second conductive layer 212 and electrically connected to the first conductive layer 210 and the second conductive layer 212.

패드(205)는 도 2를 참조하여 설명한 바와 같이 데이터 리드선(126)과 전기적으로 연결되어, 데이터 드라이버 집적회로(122)로부터 영상 신호를 데이터라인(DL)에 전달할 수 있다.The pad 205 may be electrically connected to the data lead 126 as described with reference to FIG. 2 to transfer the video signal from the data driver integrated circuit 122 to the data line DL.

도 4는 도 3의 지시선 A-A'을 따라 절취한 단면도이다. 4 is a cross-sectional view taken along the line A-A 'in Fig.

도 3 및 도 4를 참조하면, 제1도전층(210)과, 제2도전층(212)은 기판(101) 상에서 서로 이격되어 있다. 제1도전층(210)과 제2도전층(212)은 동일한 재료로 동일한 층에 위치할 수 있다. 공정상으로 제1도전층(210)과 제2도전층(212)은 동일한 재료로 동일한 층에 동시에 형성될 수 있다.Referring to FIGS. 3 and 4, the first conductive layer 210 and the second conductive layer 212 are spaced apart from each other on the substrate 101. The first conductive layer 210 and the second conductive layer 212 may be located in the same layer with the same material. In the process, the first conductive layer 210 and the second conductive layer 212 may be simultaneously formed on the same layer with the same material.

제1도전층(210)과 제2도전층(212) 상에 절연층(220)이 위치한다. 절연층(220)은 제1도전층(210)의 단부(210a)와 제2도전층(212)의 단부(212a) 및 제1도전층(210)과 제2도전층(212) 사이가 노출된 개구 영역(Open Area, OA)을 포함한다. 절연층(220)은 제1도전층(210)과 제2도전층(212) 상에 위치하는 제1절연층(222)과 제1절연층(222) 상에 위치하는 제2절연층(224)을 포함할 수 있다. 제2절연층(224)는 도 4에 도시한 바와 같이 개구 영역(OA)에서 경사질 수 있으나 이에 제한되지 않는다. An insulating layer 220 is disposed on the first conductive layer 210 and the second conductive layer 212. The insulating layer 220 is formed on the insulating layer 220 between the end 210a of the first conductive layer 210 and the end 212a of the second conductive layer 212 and between the first conductive layer 210 and the second conductive layer 212, And an open area (OA). The insulating layer 220 includes a first insulating layer 222 disposed on the first conductive layer 210 and the second conductive layer 212 and a second insulating layer 224 disposed on the first insulating layer 222 ). The second insulating layer 224 may be inclined in the opening area OA as shown in FIG. 4, but is not limited thereto.

도전 패턴(230)은 개구 영역(OA)에 위치하며 개구 영역(OA)으로 노출된 제1도전층(210)의 단부(210a)와 제2도전층(212)의 단부(212a) 상에 위치한다. 따라서, 제1도전층(210)과 제2도전층(212)은 도전 패턴(230)을 통해 전기적으로 연결되어 있다. The conductive pattern 230 is positioned on the end portion 210a of the first conductive layer 210 and the end portion 212a of the second conductive layer 212 which are located in the opening region OA and are exposed to the opening region OA do. Accordingly, the first conductive layer 210 and the second conductive layer 212 are electrically connected through the conductive pattern 230.

이러한 도전 패턴(230)은 데이터 라인(DL) 및 데이터 집적회로(122), 화소(P)를 검사하기 위한 검사 패드의 역할을 담당할 수 있다. 도전 패턴(230)이 도 3 및 도 4에 도시한 바와 같이 절연층(220)의 개구 영역(OA)에서 배치됨에 따라 데이터 라인(DL)를 검사하는 오토-프루브 검사핀이 접촉하여 데이터 라인(DL) 및 데이터 집적회로(122), 화소(P)의 이상 유무를 검사할 수 있다. The conductive patterns 230 may serve as inspection pads for inspecting the data lines DL and the data integration circuits 122 and the pixels P. [ As the conductive pattern 230 is disposed in the opening area OA of the insulating layer 220 as shown in Figs. 3 and 4, the auto-probe inspection pin for inspecting the data line DL is brought into contact with the data line DL, the data integration circuit 122, and the pixel P can be checked.

도전 패턴(230) 상에 금속 산화물(240)이 위치할 수 있다. 이 금속 산화물(240)은 도 11을 참조하여 후술하는 바와 같이 화소(P)를 구성하는 화소 전극과 동일한 재료일 수 있으나 이에 제한되지 않는다. 금속 산화물(240)은 도전 패턴(230)을 외부로부터 실드하는 역할(shielding)을 할 수 있다. The metal oxide 240 may be located on the conductive pattern 230. The metal oxide 240 may be the same material as the pixel electrode constituting the pixel P as described below with reference to FIG. 11, but is not limited thereto. The metal oxide 240 may shield the conductive pattern 230 from the outside.

도 5는 도 3의 지시선 B-B'을 따라 절취한 단면도다. 도 6은 도 3의 지시선 C-C'을 따라 절취한 단면도이다.5 is a cross-sectional view taken along the line B-B 'in Fig. 6 is a cross-sectional view taken along the line C-C 'of FIG.

도 5를 참조하면, 도전 패턴(230)의 선폭(W1)은 제1도전층(210) 및 제2도전층(212)의 선폭들(W2)보다 넓을 수 있다. 도전 패턴(230) 상에 금속 산화물(240)이 위치할 경우 금속 산화물(240)의 선폭은 도전 패턴(230)의 선폭(W1)과 실질적으로 동일할 수 있다. 따라서, 금속 산화물(240)의 선폭(W1)은 제1도전층(210) 및 제2도전층(212)의 선폭들(W2)보다 넓을 수 있다.5, the line width W1 of the conductive pattern 230 may be wider than the line widths W2 of the first conductive layer 210 and the second conductive layer 212. Referring to FIG. The line width of the metal oxide 240 may be substantially equal to the line width W1 of the conductive pattern 230 when the metal oxide 240 is disposed on the conductive pattern 230. [ The line width W1 of the metal oxide 240 may be wider than the line widths W2 of the first conductive layer 210 and the second conductive layer 212. [

도전 패턴(230)과 금속 산화물(240)의 선폭(W1)이 제1도전층(210)의 선폭(W2)보다 넓어 도전 패턴(230)과 금속 산화물(240)이 제1도전층(210)의 단부(210a)의 상부면(210b)과 측면(210c)을 덮을 수 있다. 동일하게 도전 패턴(230)과 금속 산화물(240)의 선폭(W1)이 제2도전층(212)의 단부(212a)의 선폭(W2)보다 넓어 도전 패턴(230)과 금속 산화물(240)이 제2도전층(212)의 상부면과 측면을 덮을 수 있다. The line width W1 of the conductive pattern 230 and the metal oxide 240 is wider than the line width W2 of the first conductive layer 210 so that the conductive pattern 230 and the metal oxide 240 form the first conductive layer 210, The upper surface 210b and the side surface 210c of the end portion 210a of the housing 210a. The line width W1 of the conductive pattern 230 and the metal oxide 240 is wider than the line width W2 of the end 212a of the second conductive layer 212 so that the conductive pattern 230 and the metal oxide 240 And may cover the top and sides of the second conductive layer 212.

도 5 및 도 6을 동시에 참조하면, 도전 패턴(230)은, 제1도전층(210)의 단부(210a) 및 제2도전층(212)의 단부(212a) 사이에 위치하는 도전 패턴(230)의 상부면(230a)의 폭(W4)이 제1도전층(210)의 단부(210a)와 제2도전층(212)의 단부(212a)에 위치하는 도전 패턴(230)의 상부면(230b)의 폭(W3)보다 넓을 수 있다.5 and 6, the conductive pattern 230 is electrically connected to the conductive pattern 230 located between the end portion 210a of the first conductive layer 210 and the end portion 212a of the second conductive layer 212 The width W4 of the upper surface 230a of the second conductive layer 212 is greater than the width W4 of the upper surface 230a of the conductive pattern 230 located at the end 210a of the first conductive layer 210 and the end 212a of the second conductive layer 212 230b, respectively.

도전 패턴(230) 상에 금속 산화물(240)이 위치할 경우 금속 산화물(240)의 상부면의 폭은 도전 패턴(230)의 상부면의 폭과 실질적으로 동일할 수 있다. 따라서, 제1도전층(210)의 단부(210a) 및 제2도전층(212)의 단부(212a) 사이에 위치하는 도전 패턴(230) 상에 위치하는 금속 산화물(240)의 상부면의 폭(W4)이 제1도전층(210)의 단부(210a)와 제2도전층(212)의 단부(212a)에 위치하는 도전 패턴(230) 상에 위치하는 금속산화물(240)의 상부면의 폭(W3)보다 넓을 수 있다.The width of the upper surface of the metal oxide 240 may be substantially the same as the width of the upper surface of the conductive pattern 230 when the metal oxide 240 is located on the conductive pattern 230. The width of the upper surface of the metal oxide 240 located on the conductive pattern 230 located between the end portion 210a of the first conductive layer 210 and the end portion 212a of the second conductive layer 212 The upper surface W4 of the metal oxide 240 located on the conductive pattern 230 located at the end portion 210a of the first conductive layer 210 and the end portion 212a of the second conductive layer 212 And may be wider than the width W3.

비교예로, 기판(101) 상에 제1도전층(210)과 제2도전층(212)을 이격하여 배치하지 않고 하나의 도전층으로 연결하여 배치하고 절연층(220)의 개구 영역(OA)에 도전 패턴(230)을 배치할 수 있다. 이 경우 도전 패턴(230)의 상부면의 폭은 도 5에 도시한 바와 동일하게 제1도전층(210)의 단부(210a) 및 제2도전층(212)의 단부(212a)에 위치하는 도전 패턴(230)의 상부면(230a)의 폭(W3)과 동일하게 된다.As a comparative example, the first conductive layer 210 and the second conductive layer 212 are not disposed on the substrate 101, but are connected to one conductive layer and disposed in the opening area OA The conductive pattern 230 can be disposed on the conductive pattern 230. In this case, the width of the upper surface of the conductive pattern 230 is the same as the width of the end portion 210a of the first conductive layer 210 and the end portion 212a of the second conductive layer 212, Becomes equal to the width W3 of the upper surface 230a of the pattern 230.

비교예에서 오토-프루브 검사핀이 접촉하는 도전 패턴(230)의 상부면의 폭(W3)이 좁아 검사핀과 접촉 불량이 발생할 수 있다. 전술한 바와 같이 표시장치의 해상도가 증가하여 신호라인의 검사를 위해서 오토-프루브(Auto-Prove: 이하, AP) 검사핀 추가 및 핀투핀(PIN to PIN) 피치 감소할수록 도전 패턴(230)의 상부면의 폭(W3)이 좁아 검사핀과 접촉 불량이 발생하거나 심지어 검사 자체가 불가능해지는 문제를 유발될 수 있다. In the comparative example, the width W3 of the upper surface of the conductive pattern 230 to which the auto-probe inspection pin is contacted is small, so that contact failure with the inspection pin may occur. As described above, since the resolution of the display device is increased and the number of the auto-probe (AF) inspection pins and the pitch of the PIN to PIN are decreased to inspect the signal lines, The width W3 of the surface is too small to cause a problem of contact failure with the test pin or even the test itself becomes impossible.

실시예에서 오토-프루브 검사핀이 접촉하는 도전 패턴(230)의 상부면(230b)의 폭(W4)이 넓어 검사핀의 접촉 불량을 방지할 수 있다.The width W4 of the upper surface 230b of the conductive pattern 230 in contact with the auto-probe inspection pin is widened in the embodiment, so that the contact failure of the inspection pin can be prevented.

도 7은 도 2의 Z영역을 상세히 나타낸 도면이다. 도 8은 도 7의 지시선 E-E'을 따라 절취한 단면도이다.FIG. 7 is a detailed view of the Z region of FIG. 2. FIG. 8 is a cross-sectional view taken along the line E-E 'of Fig.

도 7 및 도 8을 참조하면, 로그 라인(LOG)은 기판(101) 상에 비표시 영역(105)에 구부러져 배치될 수 있다. 로그 라인(LOG)는 기판(101) 상에 위치하는 도전층(310)과 다른 개구 영역(OA1)이 배치되는 절연층(320)과, 다른 개구 영역(OA1)에 위치하는 도전 패턴(330)을 포함하는 패드(305)를 포함한다. 이 패드(305)는 로그라인 패드라고 할 수 있다. 7 and 8, the log line LOG may be bent on the substrate 101 in the non-display area 105. [ The log line LOG includes an insulating layer 320 on which the conductive layer 310 and the other opening area OA1 are disposed and a conductive pattern 330 on the other opening area OA1, (Not shown). This pad 305 may be referred to as a log line pad.

로그라인 패드(305)는 도 2를 참조하여 설명한 바와 같이 로그라인 리드선(114)과 전기적으로 연결되어, 제어신호들과 클럭신호, 게이트 전압, 전원전압, 그라운드 전압 등을 로그라인(LOG)을 통해 게이트 드라이버 집적회로(111)에 전달할 수 있다.The log line pad 305 is electrically connected to the log line lead 114 as described with reference to FIG. 2, and outputs control signals, a clock signal, a gate voltage, a power supply voltage, and a ground voltage to the log line LOG To the gate driver integrated circuit (111).

절연층(320)은 도전층(310) 상에 위치하는 제1절연층(322)과 제1절연층(322) 상에 위치하는 제2절연층(324)을 포함할 수 있다.The insulating layer 320 may include a first insulating layer 322 located on the conductive layer 310 and a second insulating layer 324 located on the first insulating layer 322.

도전층(310)은 도 3 내지 도 6을 참조하여 설명한 제1도전층(210)과 제2도전층(212)과 동일한 재료로 동일한 층에 위치할 수 있다. 공정상으로 도전층(310)은 제1도전층(210)과 제2도전층(212)과 동일한 재료로 동일한 층에 동시에 형성될 수 있다. 도전 패턴(330)은 도 3 내지 도 6을 참조하여 설명한 도전 패턴(230)과 동일한 재료로 동일한 층에 위치할 수 있다. 공정상으로 도전 패턴(330)은 도전 패턴(230)과 동일한 재료로 동일한 층에 동시에 형성될 수 있다.The conductive layer 310 may be located on the same layer of the same material as the first conductive layer 210 and the second conductive layer 212 described with reference to FIGS. The conductive layer 310 may be formed on the same layer of the same material as the first conductive layer 210 and the second conductive layer 212 at the same time. The conductive pattern 330 may be located in the same layer with the same material as the conductive pattern 230 described with reference to Figs. The conductive patterns 330 may be formed on the same layer with the same material as the conductive patterns 230 at the same time.

도전 패턴(330) 상에 금속 산화물(340)이 위치할 수 있다. 이 금속 산화물(340)은 도 11을 참조하여 후술하는 바와 같이 화소(P)를 구성하는 화소 전극과 동일한 재료일 수 있으나 이에 제한되지 않는다. 금속 산화물(340)은 도전 패턴(330)을 외부로부터 실드하는 역할(shielding)을 할 수 있다. The metal oxide 340 may be positioned on the conductive pattern 330. The metal oxide 340 may be the same material as the pixel electrode constituting the pixel P as described below with reference to FIG. 11, but is not limited thereto. The metal oxide 340 may shield the conductive pattern 330 from the outside.

비교예에서 로그라인 패드는 절연층(320)의 개구 영역(OA1)에 도전층(310) 상에 금속 산화물(340)만이 배치될 수 있다. 이때 도전층(310)과 금속 산화물(340)의 저항(R)이 상대적으로 클 수 있다. 이에 따라 비교예에서 로그라인 패드의 소비전력(P=I2×R)은 상대적으로 크고 이 소비전력에 비례하는 발열량(Heat ∝ I2×R ×t)은 상대적으로 증가할 수 있다.In the comparative example, only the metal oxide 340 may be disposed on the conductive layer 310 in the opening area OA1 of the insulating layer 320 in the log line pad. At this time, the resistance R between the conductive layer 310 and the metal oxide 340 may be relatively large. Accordingly, in the comparative example, the power consumption (P = I 2 x R) of the log line pad is relatively large and the heat generation amount (Heat? I 2 x R x t) proportional to the power consumption can be relatively increased.

실시예로 도전층(310)과 금속 산화물(340) 사이에 도전 패턴(330)을 포함하는 로그라인 패드(305)는 전체적으로 저항을 낮출 수 있다. 이를 통해, 로그라인 패드(305)는 소비전력(P=I2×R)을 감소시키고, 소비전력에 비례하는 발열량(Heat ∝ I2×R ×t)을 감소시킬 수 있다.The log line pad 305 including the conductive pattern 330 between the conductive layer 310 and the metal oxide 340 may lower the resistance as a whole. Thus, the log line pad 305 can reduce the power consumption (P = I 2 x R) and reduce the heat generation amount (Heat? I 2 x R x t) proportional to the power consumption.

전술한 로그라인 패드(305)의 구조는 도 3 내지 도 6에 도시한 패드(205)에 동일하게 적용할 수 있다. 또한, 전술한 로그라인 패드(305)의 구조는 가요성 필름(128)과 전기적으로 연결된 어떠한 신호라인, 예를 들어 스타트 신호 라인(SSL)이나 미도시한 각종 전원 공급라인의 패드에도 동일하게 적용할 수 있다.The structure of the log line pad 305 described above can be applied to the pad 205 shown in FIGS. 3 to 6 in the same manner. The structure of the log line pad 305 may be applied to any signal line electrically connected to the flexible film 128, for example, a start signal line (SSL) or a pad of various power supply lines can do.

도 9는 도 2의 Y 영역을 상세히 나타낸 도면이다. 도 10은 도 9의 지시선 D-D'을 따라 절취한 단면도이다.9 is a view showing the Y region of FIG. 2 in detail. 10 is a cross-sectional view taken along the line D-D 'of FIG.

도 9를 참조하면, 기판(101)에 배열된 로그라인(LOG)은 도 7에 도시한 패드(305)로부터 연장되어 있다. 이 로그라인(LOG)는 연결라인(CL)과 연결되어 있다. 이 연결라인(CL)은 로그라인(LOG)을 구동 회로, 예를 들어 도 2에 도시한 게이트 드라이버를 구성하는 게이트 구동 집적회로(111)와 연결한다. Referring to FIG. 9, the log line LOG arranged on the substrate 101 extends from the pad 305 shown in FIG. This log line (LOG) is connected to the connection line (CL). This connection line CL connects the log line LOG to a drive circuit, for example, a gate drive integrated circuit 111 constituting the gate driver shown in Fig.

연결라인(CL)은 로그라인(LOG)과 일대일로 연결되어 있으며 로그라인(LOG)으로 공급되는 각종신호들 및 전압들을 게이트 드라이버 집적회로(111)로 공급할 수 있다. 이때, 각종신호들 및 전압들이 입력되는 게이트 드라이버 집적회로(111)의 입력단에 정전기 방지회로가 배치될 수 있다. 정전기 방지회로는 연결라인(CL)으로부터 공급되는 각종신호들 및 전압들에 정전기가 발생하는 것을 방지할 수 있다.The connection line CL is connected to the log line LOG on a one-to-one basis and can supply various signals and voltages supplied to the log line LOG to the gate driver integrated circuit 111. At this time, an antistatic circuit may be disposed at an input terminal of the gate driver integrated circuit 111 into which various signals and voltages are input. The antistatic circuit can prevent static electricity from being generated in various signals and voltages supplied from the connection line CL.

여기서, 연결라인(CL)은 데이터 라인(DL)과 동일한 평면 상에 형성될 수 있다. 또한, 연결라인(CL)은 데이터 라인(DL)과 동일한 재료로 형성될 수 있다. 이러한 연결라인(CL)은 추가 공정 없이 형성할 수 있으므로, 공정 비용 및 시간을 절감할 수 있다.Here, the connection line CL may be formed on the same plane as the data line DL. Further, the connection line CL may be formed of the same material as the data line DL. Since such a connection line CL can be formed without an additional process, the process cost and time can be saved.

도 10을 참조하면, 로그라인(LOG)은, 도 7 및 도 8에 도시한 패드(305)와 연결되는 도전층(410)과, 도전층(410) 상에 위치하며 도전층(410)의 일부를 노출하는 제1컨택홀(OA2)을 포함하는 제1절연층(422)과, 제1절연층(422) 상에 위치하며 제1컨택홀(0A2)과 연결라인(CL)의 일부분을 노출하는 제2컨택홀(OA3)을 포함하는 제2절연층(420)을 포함한다. 10, the log line LOG includes a conductive layer 410 connected to the pad 305 shown in FIGS. 7 and 8, a conductive layer 410 disposed on the conductive layer 410, A first insulating layer 422 including a first contact hole OA2 for exposing a part of the first contact hole OA2 and a second insulating layer 422 located on the first insulating layer 422 and including a part of the first contact hole 0A2 and the connection line CL And a second insulating layer 420 including a second contact hole OA3.

연결패턴(430)은 제1컨택홀(0A2)과 제2컨택홀(OA3)에 도전층(410)과 연결라인(CL)의 일부분(CLa) 상에 위치한다. 연결패턴(330) 상에는 금속 산화물(440)이 위치할 수 있으나 이에 제한되지 않는다. 결과적으로 제2컨택홀(OA3)에는 도 9에 도시한 바와 같이 연결패턴(430)과 금속 산화물(440)이 배치될 수 있다. The connection pattern 430 is positioned on the conductive layer 410 and the portion CLa of the connection line CL in the first contact hole 0A2 and the second contact hole OA3. The metal oxide 440 may be located on the connection pattern 330, but is not limited thereto. As a result, the connection pattern 430 and the metal oxide 440 may be disposed in the second contact hole OA3 as shown in FIG.

연결 패턴(430)은 도 10에 도시된 바와 같이 제2컨택홀(OA3)에서 게이트 구동 집적회로(111) 및 정전기 방지회로(미도시)와 연결된 연결라인(CL)과 접촉할 수 있다.The connection pattern 430 may contact the gate drive integrated circuit 111 and the connection line CL connected to the static electricity prevention circuit (not shown) in the second contact hole OA3 as shown in FIG.

도 3 내지 도 6을 참조하여 설명한 바와 같이 데이터 라인(DL)의 제1도전층(210)과 제2도전층(212), 제7 및 도 8을 참조하여 설명한 패드(305)의 도전층(310), 도 9 및 10을 참조하여 설명한 로그라인(LOG)의 도전층(410)은 동일한 재료, 예를 들어 단일층 또는 다층의 금속 또는 금속 합금으로 동일한 공정에 의해 형성될 수 있다. 예를 들어 도전층(210)과 제2도전층(212), 도전층(310), 도전층(410)은 게이트 라인(GL)과 동일한 재료로 동일한 공정에 의해 동시에 형성될 수 있다. The first conductive layer 210 and the second conductive layer 212 of the data line DL as well as the conductive layer of the pad 305 described with reference to FIGS. 310 and the conductive layer 410 of the log line LOG described with reference to FIGS. 9 and 10 may be formed by the same process with the same material, for example, a single layer or a multi-layer metal or metal alloy. For example, the conductive layer 210, the second conductive layer 212, the conductive layer 310, and the conductive layer 410 may be formed simultaneously by the same process using the same material as the gate line GL.

도 3 내지 도 6을 참조하여 설명한 바와 같이 데이터 라인(DL)의 도전 패턴(230), 제7 및 도 8을 참조하여 설명한 패드(305)의 도전 패턴(330), 도 9 및 10을 참조하여 설명한 로그라인(LOG)의 연결 패턴(430)은 동일한 재료, 예를 들어 단일층 또는 다층의 금속 또는 금속 합금로 동일한 공정에 의해 형성될 수 있다. 예를 들어, 데이터 라인(DL)의 도전 패턴(230), 패드(305)의 도전 패턴(330), 로그라인(LOG)의 연결 패턴(430)은 도 11을 참조하여 후술하는 바와 같이 표시 영역에 배치된 터치전극에 터치신호를 전달하는 터치 라인과 동일한 재료로 동일한 동일한 공정에 의해 동시에 형성될 수 있다.As described with reference to Figs. 3 to 6, the conductive pattern 230 of the data line DL, the conductive pattern 330 of the pad 305 described with reference to Figs. 7 and 8, Figs. 9 and 10 The connection pattern 430 of the log line (LOG) described can be formed by the same process with the same material, for example a single layer or a multi-layer metal or metal alloy. For example, the conductive pattern 230 of the data line DL, the conductive pattern 330 of the pad 305, and the connection pattern 430 of the log line LOG are formed as shown in FIG. The same material and the same material as the touch line that transmits the touch signal to the touch electrode disposed at the same time can be simultaneously formed by the same process.

도 3 내지 도 6을 참조하여 설명한 바와 같이 데이터 라인(DL)의 금속 산화물(240), 제7 및 도 8을 참조하여 설명한 패드(305)의 금속 산화물(440), 도 9 및 10을 참조하여 설명한 로그라인(LOG)의 금속 산화물(440)은 동일한 재료로 동일한 공정에 의해 형성될 수 있다. 예를 들어, 도 3 내지 도 6을 참조하여 설명한 바와 같이 데이터 라인(DL)의 금속 산화물(240), 제7 및 도 8을 참조하여 설명한 패드(305)의 금속 산화물(440), 도 9 및 10을 참조하여 설명한 로그라인(LOG)의 금속 산화물(440)은 도 11을 참조하여 후술하는 바와 같이 화소(P)를 구성하는 화소 전극과 동일한 재료로 동일한 공정에 의해 동시에 형성될 수 있다.The metal oxide 240 of the data line DL and the metal oxide 440 of the pad 305 described with reference to FIGS. 7 and 8, FIGS. 9 and 10, as described with reference to FIGS. 3 to 6 The metal oxide 440 of the log line (LOG) described can be formed by the same process with the same material. For example, as described with reference to FIGS. 3 to 6, the metal oxide 240 of the data line DL, the metal oxide 440 of the pad 305 described with reference to FIGS. 7 and 8, The metal oxide 440 of the log line LOG described with reference to FIG. 10 can be simultaneously formed by the same process with the same material as the pixel electrode constituting the pixel P as described later with reference to FIG.

도 3 내지 도 6을 참조하여 설명한 데이터 라인(DL)의 절연층(220)의 제1절연층(222) 및 제2절연층(224), 제7 및 도 8을 참조하여 설명한 패드(305)의 절연층(320)의 제1절연층(322) 및 제2절연층(324), 도 9 및 10을 참조하여 설명한 로그라인(LOG)의 절연층(420)의 제1절연층(422) 및 제2절연층(424)은 각각 도 11을 참조하여 후술하는 바와 같이 화소(P)를 구성하는 게이트 절연층, 제1보호층, 제2보호층 중 하나와 동일한 재료로 동일한 공정에 의해 동시에 형성될 수 있다.The first insulating layer 222 and the second insulating layer 224 of the insulating layer 220 of the data line DL described with reference to Figs. 3 to 6, the pads 305 described with reference to Figs. 7 and 8, The first insulating layer 322 and the second insulating layer 324 of the insulating layer 320 of the log line LOG and the first insulating layer 422 of the insulating layer 420 of the log line LOG described with reference to FIGS. And the second insulating layer 424 are formed of the same material as one of the gate insulating layer, the first protective layer and the second protective layer constituting the pixel P by the same process .

도 11은 표시장치가 터치스크린 패널 일체형 액정표시장치인 경우 표시장치의 단면도이다. 11 is a cross-sectional view of a display device when the display device is a touch screen panel-integrated liquid crystal display device.

도 11을 참조하면, 일 실시예에 따른 터치스크린 패널 일체형 액정표시장치에는, 일 예로, 제1기판(500)에 게이트라인(502)이 제1방향으로 형성되고, 그 위에 게이트 절연층(Gate Insulator, 504)이 형성된다.Referring to FIG. 11, in the touch screen panel integrated type liquid crystal display device according to one embodiment, for example, a gate line 502 is formed in the first direction on the first substrate 500, and a gate insulating layer Gate Insulator 504 is formed.

게이트 절연층(504) 위에 데이터라인(506)이 제2방향으로 형성되고, 그 위에, 제1보호층(508)이 형성된다. A data line 506 is formed in a second direction on the gate insulating layer 504, and a first passivation layer 508 is formed thereon.

제1보호층(508) 위에, 각 화소 영역의 화소 전극(510)과 터치 라인(512)이 형성되고, 그 위에, 제2보호층(514)이 형성될 수 있다. 여기서, 터치 라인(512)은 공통 전극 및 터치 전극 역할을 하는 복수의 전극 각각에서 터치 집적회로까지 연결되어, 디스플레이 구동모드에서는, 공통 전압 공급부에서 생성된 공통 전압(Vcom)을 복수의 전극으로 전달해주고, 터치 구동모드에서는, 터치 집적회로에서 생성된 터치 구동 신호를 복수의 전극으로 전달해준다.The pixel electrode 510 of each pixel region and the touch line 512 may be formed on the first passivation layer 508 and the second passivation layer 514 may be formed thereon. Here, the touch line 512 is connected from the plurality of electrodes serving as the common electrode and the touch electrode to the touch integrated circuit. In the display driving mode, the common voltage Vcom generated in the common voltage supply unit is transmitted to the plurality of electrodes In the touch driving mode, a touch driving signal generated in the touch integrated circuit is transmitted to a plurality of electrodes.

제2보호층(514) 위에, 공통 전극 및 터치 전극 역할을 하는 하나의 전극(516)이 형성되고, 그 위에, 액정층(518)이 형성된다. 액정층(518) 위에, 블랙 매트릭스(Black Matrix, 519a), 칼라 필터(Color Filter, 519b) 등이 형성되는 상부 기판(520)이 위치한다. On the second passivation layer 514, one electrode 516 serving as a common electrode and a touch electrode is formed, and a liquid crystal layer 518 is formed thereon. An upper substrate 520 on which a black matrix 519a, a color filter 519b, and the like are formed is disposed on the liquid crystal layer 518.

도 11에서 액정 표시장치에 대해 설명을 하고 있으나 본 발명은 이에 한정되지 않으며 터치패널과 결합가능한 다양한 표시장치에 적용할 수 있다.Although the liquid crystal display device is described with reference to FIG. 11, the present invention is not limited thereto and can be applied to various display devices that can be combined with a touch panel.

전술한 표시장치는 로그라인을 저항이 낮은 도전층을 활용하여 구성하므로 라인 저항을 낮추고 소비전력 및 발열량을 감소시킬 수 있다. 특히 전술한 표시장치는 로그라인을 저항이 낮은 터치 라인을 활용하여 구성하므로 형성 공정에서 추가 공정없이 형성될 수 있다.The above-described display device can reduce the line resistance and reduce the power consumption and the calorific power by configuring the log line by utilizing the conductive layer having a low resistance. Particularly, the display device described above can be formed without any additional process in the forming process since the log line is formed by utilizing a low-resistance touch line.

전술한 표시장치는 해상도가 증가하더라도 신호라인의 검사를 위해서 오토-프루브(Auto-Prove: 이하, AP) 검사핀 추가, 핀투핀(PIN to PIN) 피치 감소하더라도 신호라인의 검사시 검사핀의 접촉 불량을 방지할 수 있다.The above-described display device has a problem in that, even if the resolution is increased, an auto-probe (AF) inspection pin is added for inspecting a signal line, a pin contact Defects can be prevented.

전술한 표시장치는 해상도가 증가하더라도 소비전력 및 발열량을 감소시킬 수 있다. 특히 전술한 표시장치는 형성 공정시 추가 공정없이 형성하므로 제조 비용을 낮추고 제조 시간을 단출할 수 있다.The above-described display device can reduce power consumption and heat generation even when resolution is increased. Particularly, since the above-described display device is formed without any additional process in the forming process, the manufacturing cost can be lowered and the manufacturing time can be shortened.

이상에서의 설명 및 첨부된 도면은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 나타낸 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 구성의 결합, 분리, 치환 및 변경 등의 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the inventions. , Separation, substitution, and alteration of the invention will be apparent to those skilled in the art. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are intended to illustrate rather than limit the scope of the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The scope of protection of the present invention should be construed according to the following claims, and all technical ideas within the scope of equivalents should be construed as falling within the scope of the present invention.

100: 표시패널
101: 기판
DL: 데이터 라인
GL: 게이트 라인
LOG: 로그라인
도전층: 210, 212, 310, 410
절연층: 220, 320, 420
도전 패턴: 230, 330, 430
금속 산화물: 240, 340, 440
100: display panel
101: substrate
DL: Data line
GL: gate line
LOG: log line
Conductive layers 210, 212, 310, 410
Insulation layers: 220, 320, 420
Conductive patterns: 230, 330, 430
Metal oxides: 240, 340, 440

Claims (12)

표시 영역과 비표시 영역을 포함하는 기판; 및
상기 기판에 배열된 신호라인을 포함하며,
상기 신호라인은,
패드와 연결되는 제1도전층과,
상기 제1도전층과 이격된 제2도전층과,
상기 제1도전층과 상기 제2도전층 상에 위치하며, 상기 제1도전층의 단부와 상기 제2도전층의 단부 및 상기 제1도전층과 상기 제2도전층 사이가 노출된 개구 영역을 포함하는 절연층과,
상기 개구 영역에 위치하며 상기 개구 영역으로 노출된 상기 제1도전층의 단부와 상기 제2도전층의 단부 상에 위치하는 도전 패턴을 포함하는 표시장치.
A substrate including a display region and a non-display region; And
A signal line arranged on the substrate,
The signal line includes:
A first conductive layer connected to the pad,
A second conductive layer spaced apart from the first conductive layer,
And an opening region located on the first conductive layer and the second conductive layer and between the end of the first conductive layer and the end of the second conductive layer and between the first conductive layer and the second conductive layer, An insulating layer,
And a conductive pattern located in the opening region and positioned on an end of the first conductive layer exposed to the opening region and an end of the second conductive layer.
제1항에 있어서,
상기 도전 패턴의 선폭은 상기 제1도전층 및 상기 제2도전층의 선폭들보다 넓은 표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein the line width of the conductive pattern is larger than the line widths of the first conductive layer and the second conductive layer.
제2항에 있어서,
상기 도전 패턴은,
상기 제1도전층의 단부 및 상기 제2도전층의 단부 사이에 위치하는 상기 도전 패턴의 상부면의 폭이 상기 제1도전층의 단부와 상기 제2도전층의 단부에 위치하는 상기 도전 패턴의 상부면의 폭보다 넓은 표시장치.
3. The method of claim 2,
The conductive pattern may include:
Wherein a width of an upper surface of the conductive pattern located between an end of the first conductive layer and an end of the second conductive layer is smaller than a width of the end of the first conductive layer and the end of the second conductive layer, The width of the upper surface being larger than the width of the upper surface.
제1항에 있어서,
상기 도전 패턴 상에 위치하는 금속 산화물을 추가로 포함하는 표시장치.
The method according to claim 1,
And a metal oxide disposed on the conductive pattern.
제1항에 있어서,
상기 제1도전층과 상기 제2도전층은 동일한 재료로 동일한 층에 위치하는 표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein the first conductive layer and the second conductive layer are located in the same layer with the same material.
제1항에 있어서,
상기 신호라인은 영상신호를 공급하는 데이터라인인 표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein the signal line is a data line for supplying a video signal.
제1항에 있어서,
상기 신호라인은 게이트 드라이버에 제어신호 또는 전원전압을 공급하는 로그라인인 표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein the signal line is a log line for supplying a control signal or a power supply voltage to the gate driver.
제1항에 있어서,
상기 도전 패턴은 상기 표시 영역에 배치된 터치전극에 터치신호를 전달하는 터치 라인과 동일한 재료인 표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein the conductive pattern is the same material as the touch line that transmits touch signals to the touch electrodes disposed in the display area.
제1항에 있어서,
상기 패드는 상기 기판 상에 위치하는 도전층과 다른 개구 영역이 배치되는 절연층과, 상기 다른 개구 영역에 위치하는 도전 패턴을 포함하는 표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein the pad includes an insulating layer on which an opening region different from the conductive layer on the substrate is disposed, and a conductive pattern located in the other opening region.
표시 영역과 비표시 영역을 포함하는 기판;
상기 기판에 배열된 로그라인; 및
상기 로그라인을 구동 회로와 연결하는 연결 라인을 포함하며,
상기 로그라인은,
패드와 연결되는 도전층과,
상기 도전층 상에 위치하며 상기 도전층의 일부를 노출하는 제1컨택홀을 포함하는 제1절연층과, 상기 제1절연층 상에 위치하며 상기 제1컨택홀과 상기 연결라인의 일부분을 노출하는 제2컨택홀을 포함하는 제2절연층을 포함하는 절연층과,
상기 제1컨택홀과 상기 제2컨택홀에 상기 도전층과 상기 연결라인의 일부분 상에 위치하는 연결 패턴을 포함하는 표시장치.
A substrate including a display region and a non-display region;
A log line arranged on the substrate; And
And a connection line connecting the log line to a driving circuit,
The log-
A conductive layer connected to the pad,
A first insulating layer disposed on the conductive layer and including a first contact hole exposing a portion of the conductive layer; a second insulating layer located on the first insulating layer and partially exposing a portion of the first contact hole and the connecting line; An insulating layer including a second insulating layer including a second contact hole,
And a connection pattern located on the conductive layer and a part of the connection line in the first contact hole and the second contact hole.
제10항에 있어서,
상기 연결 패턴은 상기 표시 영역에 배치된 터치전극에 터치신호를 전달하는 터치 라인과 동일한 재료인 표시장치.
11. The method of claim 10,
Wherein the connection pattern is the same material as a touch line that transmits a touch signal to the touch electrode disposed in the display area.
제10항에 있어서,
상기 패드는 상기 기판 상에 위치하는 도전층과 개구 영역이 배치되는 절연층과, 개구 영역에 위치하는 도전 패턴을 포함하는 표시장치.
11. The method of claim 10,
Wherein the pad comprises an insulating layer on which a conductive layer and an opening region are disposed, and a conductive pattern located in the opening region.
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