KR20180006872A - Electroconductive pressure-sensitive adhesive material, and electroconductive pressure-sensitive adhesive material with electroconductive substrate - Google Patents

Electroconductive pressure-sensitive adhesive material, and electroconductive pressure-sensitive adhesive material with electroconductive substrate Download PDF

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Abstract

피착체의 표면에 요철이 있더라도 전자파 실드 기능을 충분히 높일 수 있는 도전성 점착재를 제공한다. 본 발명에 따른 도전성 점착재는, 복수의 금속 입자와, 복수의 도전성 입자와, 점착 성분을 포함하고, 상기 도전성 입자가, 금속 입자를 제외한 기재 입자와, 상기 기재 입자의 표면 상에 배치된 도전부를 구비하는 도전성 입자이며, 상기 도전성 입자가, 상기 도전부의 외표면에 복수의 돌기를 갖는다.Provided is a conductive adhesive material capable of sufficiently raising the electromagnetic shielding function even if the surface of the adherend has irregularities. The conductive adhesive material according to the present invention comprises a plurality of metal particles, a plurality of conductive particles, and an adhesive component, wherein the conductive particles comprise base particles excluding metal particles and conductive parts disposed on the surface of the base particles And the conductive particles have a plurality of protrusions on the outer surface of the conductive portion.

Description

도전성 점착재 및 도전성 기재 부착 도전성 점착재{ELECTROCONDUCTIVE PRESSURE-SENSITIVE ADHESIVE MATERIAL, AND ELECTROCONDUCTIVE PRESSURE-SENSITIVE ADHESIVE MATERIAL WITH ELECTROCONDUCTIVE SUBSTRATE}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a conductive adhesive material and a conductive adhesive material with an electrically conductive substrate,

본 발명은, 도전성 점착재에 관한 것으로, 특히 전자파를 실드하기 위해서 적합하게 사용되는 도전성 점착재에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 상기 도전성 점착재를 사용한 도전성 기재 부착 도전성 점착재에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to a conductive adhesive material, and more particularly to a conductive adhesive material suitably used for shielding electromagnetic waves. The present invention also relates to a conductive adhesive material with a conductive base using the conductive adhesive.

종래, 전기 또는 전자 기기에 있어서, 회로나 전자 부품 소자를 보호하기 위해 전자파 실드재가 사용되고 있다.2. Description of the Related Art Conventionally, in electric or electronic equipment, an electromagnetic wave shielding material is used to protect circuits and electronic component devices.

일반적으로, 전자파 실드재로서, 금속 입자를 포함하는 점착 시트가 사용되고 있다. 또한, 이 점착 시트는, 도전성 기재에 적층하여 사용되는 경우가 있다.Generally, as an electromagnetic shielding material, a pressure-sensitive adhesive sheet containing metal particles is used. Further, the pressure-sensitive adhesive sheet may be laminated on a conductive base material.

또한, 하기의 특허문헌 1에는, 도전성 입자와 수지를 포함하는 도전성 수지 조성물을, 전자파 실드재로서 사용하는 것이 개시되어 있다. 특허문헌 1에서는, 상기 도전성 입자는, 도전성 물질을 포함하는 핵체와, 해당 핵체를 피복하고 있는 피복층을 구비한다. 상기 피복층은, 상기 핵체와는 상이한 도전성 물질에 의해 형성되어 있으며, 또한 적어도 일부가 최외층을 구성하고 있다.In addition, Patent Document 1 below discloses the use of a conductive resin composition containing conductive particles and a resin as an electromagnetic wave shielding material. In Patent Document 1, the conductive particles include a core including a conductive material and a coating layer covering the core. The coating layer is formed of a conductive material different from that of the core, and at least a part of the coating layer constitutes an outermost layer.

WO2013/132831A1WO2013 / 132831A1

특허문헌 1과 같은 종래의 전자파 실드재에서는, 전자파 실드 기능이 충분히 발휘되지 않는 경우가 있다. 특히, 전자파 실드재가 적용되는 피착체의 표면에 요철이 있는 경우에, 전자파 실드 기능이 낮아지기 쉽다고 하는 문제가 있다.In the conventional electromagnetic shielding material as in Patent Document 1, the electromagnetic shielding function may not be sufficiently exhibited. In particular, when the surface of the adherend to which the electromagnetic shielding material is applied has irregularities, there is a problem that the electromagnetic shielding function tends to be lowered.

본 발명의 목적은, 피착체의 표면에 요철이 있더라도, 전자파 실드 기능을 충분히 높일 수 있는 도전성 점착재를 제공하는 것이다. 또한, 본 발명은, 상기 도전성 점착재를 사용하는 도전성 기재 부착 도전성 점착재를 제공하는 것도 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a conductive adhesive material capable of sufficiently enhancing an electromagnetic wave shielding function even if there is unevenness on the surface of an adherend. It is also an object of the present invention to provide a conductive adhesive material with a conductive base using the conductive adhesive.

본 발명의 넓은 국면에 의하면, 복수의 금속 입자와, 복수의 도전성 입자와, 점착 성분을 포함하고, 상기 도전성 입자가, 금속 입자를 제외한 기재 입자와, 상기 기재 입자의 표면 상에 배치된 도전부를 구비하는 도전성 입자이며, 상기 도전성 입자가 상기 도전부의 외표면에 복수의 돌기를 갖는 도전성 점착재가 제공된다.According to a broad aspect of the present invention, there is provided a conductive particle comprising a plurality of metal particles, a plurality of conductive particles, and an adhesive component, wherein the conductive particles comprise base particles excluding metal particles and conductive parts disposed on the surface of the base particles Wherein the conductive particles have a plurality of protrusions on the outer surface of the conductive portion.

본 발명에 따른 도전성 점착재의 어떤 특정한 국면에서는, 도전성 점착재 100중량% 중, 상기 도전성 입자의 함유량이 1중량% 이상 30중량% 이하이다.In a specific aspect of the conductive adhesive material according to the present invention, the content of the conductive particles in the conductive adhesive agent is from 1 wt% to 30 wt%.

본 발명에 따른 도전성 점착재의 어떤 특정한 국면에서는, 상기 도전성 입자의 입자 직경이 3㎛ 이상 40㎛ 이하이다.In a specific aspect of the conductive adhesive material according to the present invention, the particle diameter of the conductive particles is 3 탆 or more and 40 탆 or less.

본 발명에 따른 도전성 점착재의 어떤 특정한 국면에서는, 상기 도전성 입자의 체적 저항률이 0.001Ω·㎝ 이하이다.In a specific aspect of the conductive adhesive according to the present invention, the volume resistivity of the conductive particles is 0.001? · Cm or less.

본 발명에 따른 도전성 점착재의 어떤 특정한 국면에서는, 상기 도전성 입자의 입자 직경의 상기 금속 입자의 입자 직경에 대한 비가 0.7 이상 5000 이하이다.In a specific aspect of the conductive adhesive according to the present invention, the ratio of the particle diameter of the conductive particles to the particle diameter of the metal particles is 0.7 or more and 5,000 or less.

본 발명에 따른 도전성 점착재의 어떤 특정한 국면에서는, 상기 돌기의 평균 높이가 30㎚ 이상 1000㎚ 이하이다.In a specific aspect of the conductive adhesive material according to the present invention, the average height of the projections is 30 nm or more and 1000 nm or less.

본 발명에 따른 도전성 점착제의 어떤 특정한 국면에서는, 상기 도전부의 외표면의 전체 표면적 100% 중, 상기 돌기가 있는 부분의 표면적이 0.1% 이상이다.In a specific aspect of the conductive pressure-sensitive adhesive according to the present invention, the surface area of the projected portion is 0.1% or more out of 100% of the total surface area of the outer surface of the conductive portion.

본 발명에 따른 도전성 점착재의 어떤 특정한 국면에서는, 상기 도전성 입자는, 상기 도전부의 외표면을 융기시키고 있는 복수의 코어 물질을 구비한다.In a specific aspect of the conductive adhesive material according to the present invention, the conductive particles comprise a plurality of core materials which rupture the outer surface of the conductive portion.

본 발명에 따른 도전성 점착재의 어떤 특정한 국면에서는, 상기 코어 물질의 재료 모스 경도가 5 이상이다.In a specific aspect of the conductive adhesive according to the present invention, the core material has a material Mohs hardness of 5 or more.

본 발명에 따른 도전성 점착재의 어떤 특정한 국면에서는, 상기 도전성 점착재의 두께가 5㎛ 이상 40㎛ 이하이다.In a specific aspect of the conductive adhesive material according to the present invention, the thickness of the conductive adhesive material is 5 占 퐉 or more and 40 占 퐉 or less.

본 발명의 넓은 국면에 의하면, 전술한 도전성 점착재와, 도전성 기재를 갖고, 상기 도전성 점착재가 상기 도전성 기재의 표면 상에 배치되어 있는, 도전성 기재 부착 도전성 점착재가 제공된다.According to a broad aspect of the present invention, there is provided a conductive adhesive material with a conductive base material, which has the conductive adhesive material and the conductive base material and the conductive adhesive material is disposed on the surface of the conductive base material.

본 발명에 따른 도전성 기재 부착 도전성 점착재의 어떤 특정한 국면에서는, 상기 도전성 기재가 구리박이다.In a specific aspect of the conductive adhesive material with conductive base according to the present invention, the conductive base is a copper foil.

본 발명에 따른 도전성 점착재는, 복수의 금속 입자와, 복수의 도전성 입자와, 점착 성분을 포함하고, 상기 도전성 입자가, 금속 입자를 제외한 기재 입자와, 상기 기재 입자의 표면 상에 배치된 도전부를 구비하는 도전성 입자이며, 상기 도전성 입자가 상기 도전부의 외표면에 복수의 돌기를 가지므로, 피착체의 표면에 요철이 있더라도, 전자파 실드 기능을 충분히 높일 수 있다.The conductive adhesive material according to the present invention comprises a plurality of metal particles, a plurality of conductive particles, and an adhesive component, wherein the conductive particles comprise base particles excluding metal particles and conductive parts disposed on the surface of the base particles Since the conductive particles have a plurality of projections on the outer surface of the conductive portion, the electromagnetic shielding function can be sufficiently enhanced even if there is irregularity on the surface of the adherend.

도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 도전성 기재 부착 도전성 점착재를 나타내는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시 형태에 따른 도전성 기재 부착 도전성 점착재에 사용한 도전성 입자를 나타내는 단면도이다.
도 3은 도전성 입자의 제1 변형예를 나타내는 단면도이다.
도 4는 도전성 입자의 제2 변형예를 나타내는 단면도이다.
도 5는 도전성 입자의 제3 변형예를 나타내는 단면도이다.
도 6은 접속 저항의 평가 방법을 설명하기 위한 도면이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a cross-sectional view showing a conductive adhesive material with a conductive base according to an embodiment of the present invention. Fig.
2 is a cross-sectional view showing conductive particles used in the conductive adhesive material with conductive base according to one embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view showing a first modification of the conductive particle.
4 is a cross-sectional view showing a second modification of the conductive particles.
5 is a cross-sectional view showing a third modification of the conductive particles.
6 is a diagram for explaining a method of evaluating connection resistance.

이하, 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명에 따른 도전성 점착재는, 특히 전자파를 실드하기 위해서 적합하게 사용된다. 본 발명에 따른 도전성 점착재는, 특히 전자파 실드재로서 적합하게 사용된다. 본 발명에 따른 도전성 점착재는, 전자파 실드 기능을 갖는다. 또한, 본 발명에 따른 도전성 점착재는, 발열 부품의 표면 상에 배치되어도 되며, 방열 부재로서 사용되어도 된다.The conductive adhesive material according to the present invention is suitably used particularly for shielding electromagnetic waves. The conductive adhesive material according to the present invention is suitably used particularly as an electromagnetic wave shielding material. The conductive adhesive material according to the present invention has an electromagnetic wave shielding function. Further, the conductive adhesive material according to the present invention may be disposed on the surface of the heat-generating component, or may be used as the heat-radiating member.

본 발명에 따른 도전성 점착재는 점착층이다. 본 발명에 따른 도전성 점착재는, 상기 도전성 점착재(점착층)와 도전성 기재를 구비하는 도전성 기재 부착 도전성 점착재를 얻기 위해서 적합하게 사용된다. 상기 도전성 점착재(점착층)는, 상기 도전성 기재의 표면 상에 배치되어 있어도 된다.The conductive adhesive material according to the present invention is an adhesive layer. The conductive adhesive material according to the present invention is suitably used for obtaining the conductive adhesive material with conductive base material comprising the conductive adhesive material (adhesive layer) and the conductive base material. The conductive adhesive material (adhesive layer) may be disposed on the surface of the conductive base material.

본 발명에 따른 도전성 점착재는, 복수의 금속 입자와, 복수의 도전성 입자와, 점착 성분을 포함한다.The conductive adhesive material according to the present invention includes a plurality of metal particles, a plurality of conductive particles, and an adhesive component.

본 발명에 따른 도전성 점착재에서는, 상기 도전성 입자가, 금속 입자를 제외한 기재 입자와, 상기 기재 입자의 표면 상에 배치된 도전부를 구비하는 도전성 입자이다.In the conductive adhesive material according to the present invention, the conductive particles are conductive particles having base particles excluding metal particles and conductive parts disposed on the surface of the base particles.

본 발명에 따른 도전성 점착재에서는, 상기 도전성 입자가 상기 도전부의 외표면에 복수의 돌기를 갖는다.In the conductive adhesive material according to the present invention, the conductive particles have a plurality of protrusions on the outer surface of the conductive portion.

본 발명에 따른 도전성 점착재에서는, 상기의 구성이 채용되어 있으므로, 피착체의 표면에 요철이 있더라도, 전자파 실드 기능을 충분히 높일 수 있다. 특히, 상기 금속 입자와 상기 도전성 입자를 병용하는 것, 상기 도전성 입자로서, 금속 입자를 제외한 기재 입자와, 상기 기재 입자의 표면 상에 배치된 도전부를 구비하는 도전성 입자를 사용하는 것, 나아가 상기 도전성 입자가, 도전부의 외표면에 돌기를 갖는 것이라는 구성의 조합은, 전자파 실드재를 요철 표면에 적용한 경우의 전자파 실드 기능의 향상에 크게 기여한다. 또한 특히, 상기 도전성 입자가, 도전부의 외표면에 돌기를 가짐으로써, 요철 표면에 대해, 도전성 점착재를 양호하게 추종시킬 수 있다. 이 결과, 전자파 실드 기능이 높아진다.In the conductive adhesive material according to the present invention, since the above-described structure is employed, even if the surface of the adherend has irregularities, the electromagnetic shielding function can be sufficiently enhanced. Particularly, the use of the above-mentioned metal particles and the conductive particles in combination, the use of the conductive particles having the base particles excluding the metal particles and the conductive parts arranged on the surface of the base particles as the conductive particles, The combination of the constitution in which the particles have protrusions on the outer surface of the conductive portion greatly contributes to the improvement of the electromagnetic shielding function when the electromagnetic shielding material is applied to the roughened surface. In particular, the conductive particles have projections on the outer surface of the conductive portion, so that the conductive adhesive can be favorably followed to the surface of the projections and depressions. As a result, the electromagnetic shielding function is enhanced.

또한, 본 발명에 따른 도전성 점착재에서는, 도전성 점착재의 형성 시에, 도포성이 양호하다. 상기 도전성 점착재에서는 도전성 입자의 분산성이 양호하며, 도포 영역에서의 점착 성분의 분포가 현격하게 균일하게 되어, 점착 강도의 변동을 작게 할 수 있다. 본 발명에 따른 도전성 점착재는, 상기의 구성을 가짐으로써, 열이나 충격 등에 기인하는 점착 부분의 변위에 의한 도통 경로의 끊어짐이 일어나기 어렵기 때문에, 전자파 실드의 내구성 및 내열성을 충분히 높일 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 도전성 점착재는, 상기의 구성을 갖기 때문에, 발열 부품의 표면 상에 배치되었을 때 방열성을 충분히 높일 수 있다. 본 발명에 따른 도전성 점착재에서는, 점착성, 접속 저항, 전자파 실드성, 및 전자파 실드 내구성의 전부를 양호하게 할 수 있다.Further, in the conductive adhesive material according to the present invention, the application property is good at the time of forming the conductive adhesive material. In the conductive adhesive material, the dispersibility of the conductive particles is good, the distribution of the adhesive component in the application region is remarkably uniform, and the fluctuation of the adhesive strength can be reduced. By having the above-described configuration, the conductive adhesive material according to the present invention is capable of sufficiently increasing the durability and the heat resistance of the electromagnetic wave shield because the breakage of the conduction path due to the displacement of the adhesive portion due to heat, impact or the like is unlikely to occur. Further, since the conductive adhesive material according to the present invention has the above-described configuration, the heat dissipation property can be sufficiently enhanced when the conductive adhesive material is disposed on the surface of the heat-generating component. In the conductive adhesive according to the present invention, all of the adhesiveness, the connection resistance, the electromagnetic shielding property and the electromagnetic shielding durability can be improved.

전자파 실드 기능을 효과적으로 높이기 위해서, 본 발명에 따른 도전성 점착재에서는, 상기 도전성 입자의 함유량이 1중량% 이상 30중량% 이하인 것이 바람직하다.In order to effectively enhance the electromagnetic shielding function, in the conductive adhesive according to the present invention, the content of the conductive particles is preferably 1 wt% or more and 30 wt% or less.

이하, 도면을 참조하면서, 본 발명의 구체적인 실시 형태를 들어, 본 발명을 보다 구체적으로 설명함으로써, 본 발명을 명백하게 한다.Best Mode for Carrying Out the Invention Hereinafter, the present invention will be made clear by describing the present invention in more detail with reference to specific embodiments of the present invention with reference to the drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 도전성 기재 부착 도전성 점착재의 단면도이다. 이 도전성 기재 부착 도전성 점착재는, 도전성 점착재를 구비한다.1 is a cross-sectional view of a conductive adhesive material with a conductive base according to an embodiment of the present invention. The conductive adhesive material with conductive base is provided with a conductive adhesive material.

도 1에 도시한 도전성 기재 부착 도전성 점착재(51)는, 도전성 점착재(52)와, 도전성 기재(53)를 갖는다. 도전성 점착재(52)는 도전성 기재(53)의 표면 상에 배치되어 있다. 도전성 점착재(52)는, 복수의 금속 입자(56)와, 복수의 도전성 입자(1)와, 점착 성분(57)을 포함한다.The conductive adhesive material 51 with a conductive base shown in Fig. 1 has a conductive adhesive material 52 and a conductive base material 53. Fig. The conductive adhesive material 52 is disposed on the surface of the conductive base material 53. The conductive adhesive material 52 includes a plurality of metal particles 56, a plurality of conductive particles 1, and an adhesive component 57.

이하, 도전성 기재, 도전성 점착재, 도전성 점착재에 포함되는 금속 입자, 도전성 점착재에 포함되는 도전성 입자, 도전성 점착재에 포함되는 점착 성분을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the adhesive component included in the conductive base material, the conductive adhesive material, the metal particles contained in the conductive adhesive material, the conductive particles contained in the conductive adhesive material, and the conductive adhesive material will be described in more detail.

(도전성 기재)(Conductive substrate)

본 발명의 도전성 점착재는, 전술한 바와 같이 도전성 기재에 배치시킴으로써, 도전성 점착 시트나 도전성 점착 테이프 등으로 할 수 있다. 상기 도전성 기재로서는, 금속박, 금속 메시 및 금속판 등의 금속 기재를 들 수 있다. 상기 도전성 기재의 재료로서는, 구리 및 알루미늄 등을 들 수 있다. 상기 금속박으로서는, 구리박 및 알루미늄박 등을 들 수 있다.The conductive adhesive material of the present invention can be formed into a conductive adhesive sheet or conductive adhesive tape by disposing the conductive adhesive material on the conductive base material as described above. Examples of the electrically conductive substrate include metal foils, metal meshes, and metal substrates. Examples of the material of the conductive base material include copper and aluminum. Examples of the metal foil include copper foil and aluminum foil.

전자파 실드 기능을 효과적으로 높이는 관점에서, 상기 도전성 기재는, 금속 기재인 것이 바람직하고, 금속박, 금속 메시 또는 금속판인 것이 보다 바람직하며, 금속박인 것이 더 바람직한다. 상기 도전성 기재의 재료는, 구리 또는 알루미늄인 것이 바람직하고, 구리인 것이 보다 바람직하다. 상기 도전성 기재는, 구리박 또는 알루미늄박인 것이 보다 바람직하고, 구리박인 것이 더 바람직한다.From the viewpoint of effectively enhancing the electromagnetic shielding function, the conductive base material is preferably a metal base, more preferably a metal foil, a metal mesh or a metal plate, and more preferably a metal foil. The material of the conductive base material is preferably copper or aluminum, more preferably copper. The conductive base material is more preferably a copper foil or an aluminum foil, more preferably a copper foil.

전자파 실드 기능을 효과적으로 높이는 관점에서, 상기 도전성 기재의 두께는, 바람직하게는 5㎛ 이상, 보다 바람직하게는 10㎛ 이상이며, 바람직하게는 40㎛ 이하, 보다 바람직하게는 30㎛ 이하, 더 바람직하게는 20㎛ 이하이다.From the viewpoint of effectively enhancing the electromagnetic shielding function, the thickness of the conductive base material is preferably 5 占 퐉 or more, more preferably 10 占 퐉 or more, preferably 40 占 퐉 or less, more preferably 30 占 퐉 or less, Mu] m or less.

(도전성 점착재)(Conductive adhesive material)

전자파 실드 기능을 효과적으로 높이는 관점에서, 상기 도전성 점착재의 두께는, 바람직하게는 5㎛ 이상, 보다 바람직하게는 10㎛ 이상이며, 바람직하게는 40㎛ 이하, 보다 바람직하게는 30㎛ 이하, 더 바람직하게는 20㎛ 이하이다.From the viewpoint of effectively enhancing the electromagnetic shielding function, the thickness of the conductive adhesive material is preferably 5 占 퐉 or more, more preferably 10 占 퐉 or more, preferably 40 占 퐉 or less, more preferably 30 占 퐉 or less, Mu] m or less.

최근, 점착 테이프에서는, 박형화가 요구되고 있다. 종래의 금속 입자만을 사용한 점착 테이프에서는, 금속 입자끼리의 응집에 의해, 도전성 점착재의 두께를 20㎛ 이하로 하는 것은 곤란하다. 본 발명에 따른 도전성 점착재에서는, 도전성 입자를 사용함으로써 금속 입자의 함유량을 상대적으로 저감시킬 수 있으므로, 금속 입자끼리의 응집을 억제할 수 있다. 이 결과, 상기 도전성 점착재의 두께를 20㎛ 이하로 할 수 있어, 점착 테이프의 박형화를 달성할 수 있다. 또한, 점착 시트 및 점착 필름은, 점착 테이프에 포함된다.In recent years, in the case of an adhesive tape, thinness is required. In conventional adhesive tapes using only metal particles, it is difficult to make the thickness of the conductive adhesive material to be 20 mu m or less by agglomeration of the metal particles. In the conductive adhesive material according to the present invention, since the content of the metal particles can be relatively reduced by using the conductive particles, aggregation of the metal particles can be suppressed. As a result, it is possible to make the thickness of the conductive adhesive material 20 mu m or less, and to achieve thinning of the adhesive tape. Further, the pressure-sensitive adhesive sheet and the pressure-sensitive adhesive film are included in the pressure-sensitive adhesive tape.

피착체에 접합시키기 전에, 상기 도전성 점착재의 두께의 상기 도전성 입자의 입자 직경에 대한 비(도전성 점착재의 두께/도전성 입자의 입자 직경)는 바람직하게는 0.125 이상, 보다 바람직하게는 0.3 이상, 더 바람직하게는 0.5 이상이며, 바람직하게는 20 이하, 보다 바람직하게는 10 이하, 더 바람직하게는 5 이하, 더 바람직하게는 1.8 이하이다. 상기 비가 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 전자파 실드 기능이 효과적으로 높아진다.The ratio of the thickness of the conductive adhesive material to the particle diameter of the conductive adhesive material (the thickness of the conductive adhesive material / the particle diameter of the conductive particles) of the conductive adhesive material before bonding to the adherend is preferably 0.125 or more, more preferably 0.3 or more, Is not less than 0.5, preferably not more than 20, more preferably not more than 10, more preferably not more than 5, more preferably not more than 1.8. When the ratio is above the lower limit and below the upper limit, the electromagnetic shielding function is effectively enhanced.

(금속 입자)(Metal particles)

상기 금속 입자는, 중심부 및 표면부의 양쪽이 금속에 의해 형성되어 있는 금속 입자이다. 이 금속 입자는, 중심부에 있어서, 금속 입자를 제외한 기재 입자를 갖지 않는다. 중심부, 표면부의 금속종이나 그 비율은 동일해도 상이해도 된다.The metal particles are metal particles in which both the central portion and the surface portion are formed of metal. The metal particles do not have base particles except the metal particles in the central portion. The metal species of the center portion and the surface portion may be the same or different.

상기 금속 입자의 재료인 금속은 특별히 한정되지 않는다. 상기 금속 입자의 재료인 금속으로서는, 금, 은, 구리, 팔라듐, 루테늄, 로듐, 이리듐, 리튬, 백금, 아연, 철, 주석, 납, 알루미늄, 코발트, 인듐, 니켈, 크롬, 티타늄, 안티몬, 비스무트, 탈륨, 게르마늄, 카드뮴, 규소, 텅스텐, 몰리브덴 및 이들의 합금 등을 들 수 있다. 또한, 상기 금속으로서는, 주석 도프 산화인듐(ITO) 및 땜납 등을 들 수 있다.The metal as the material of the metal particles is not particularly limited. Examples of metals that are the material of the metal particles include gold, silver, copper, palladium, ruthenium, rhodium, iridium, lithium, platinum, zinc, iron, tin, lead, aluminum, cobalt, indium, nickel, chromium, titanium, antimony, , Thallium, germanium, cadmium, silicon, tungsten, molybdenum and their alloys. Examples of the metal include indium tin oxide (ITO) and solder.

전자파 실드 기능을 효과적으로 높게 할 수 있으므로, 주석을 포함하는 합금, 니켈, 팔라듐, 은, 구리 또는 금이 바람직하고, 니켈, 팔라듐, 구리 또는 은이 보다 바람직하며, 니켈, 팔라듐 또는 구리가 더 바람직하다. 상기 도전부는, 니켈과, 인 또는 붕소를 포함하는 것이 보다 바람직하다. 상기 금속 입자의 재료는, 인 및 붕소 등을 포함하는 합금이어도 된다. 상기 금속 입자에서는, 니켈과 텅스텐 또는 몰리브덴이 합금화되어 있어도 된다.Nickel, palladium, silver, copper or gold is preferable, and nickel, palladium, copper or silver is more preferable, and nickel, palladium or copper is more preferable because the electromagnetic shielding function can be effectively increased. More preferably, the conductive portion includes nickel and phosphorus or boron. The material of the metal particles may be an alloy including phosphorus and boron. In the metal particles, nickel, tungsten or molybdenum may be alloyed.

상기 금속 입자 100중량% 중, 니켈, 팔라듐, 구리 또는 은의 함유량은 바람직하게는 10중량% 이상, 보다 바람직하게는 25중량% 이상, 더 바람직하게는 40중량% 이상이며, 바람직하게는 100중량%(전량) 이하이다. 상기 금속 입자에 있어서의 니켈의 함유량이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하인 것이 바람직하다.The content of nickel, palladium, copper or silver in 100 wt% of the metal particles is preferably 10 wt% or more, more preferably 25 wt% or more, further preferably 40 wt% or more, preferably 100 wt% (Total amount) or less. The content of nickel in the metal particles is preferably not less than the lower limit and not more than the upper limit.

상기 금속 입자는, 니켈을 주 금속으로서 포함하는 것이 바람직하다. 금속 입자는 전체 100중량% 중, 니켈의 함유량은 50중량% 이상인 것이 바람직하다. 금속 입자는 100중량% 중, 니켈의 함유량은 바람직하게는 65중량% 이상, 보다 바람직하게는 80중량% 이상, 더 바람직하게는 90중량% 이상이다. 니켈의 함유량이 상기 하한 이상이면 전자파 실드 기능이 효과적으로 높아진다.The metal particles preferably include nickel as a main metal. The metal particles preferably have a content of nickel of 50 wt% or more in 100 wt% of the whole. The content of nickel in the metal particles is preferably at least 65% by weight, more preferably at least 80% by weight, and even more preferably at least 90% by weight, based on 100% by weight of the metal particles. When the content of nickel is less than the lower limit described above, the electromagnetic shielding function is effectively enhanced.

도전성 점착재 100중량% 중, 상기 금속 입자의 함유량은 바람직하게는 1중량% 이상, 보다 바람직하게는 5중량% 이상이며, 바람직하게는 25중량% 이하, 보다 바람직하게는 15중량% 이하이다. 상기 금속 입자의 함유량이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 전자파 실드 기능이 효과적으로 높아진다. 본 발명에서는, 금속 입자와는 별도로 도전성 입자도 사용하고 있으므로, 금속 입자의 함유량이 적어도, 전자파 실드 기능을 충분히 높일 수 있다.The content of the metal particles in 100 wt% of the conductive adhesive material is preferably 1 wt% or more, more preferably 5 wt% or more, preferably 25 wt% or less, more preferably 15 wt% or less. When the content of the metal particles is not less than the lower limit and not higher than the upper limit, the electromagnetic shielding function is effectively enhanced. In the present invention, since the conductive particles are also used in addition to the metal particles, the content of the metal particles can sufficiently enhance the electromagnetic shielding function.

(도전성 입자)(Conductive particles)

도 2는, 본 발명의 일 실시 형태에 따른 도전성 기재 부착 도전성 점착재에 있어서의 도전성 점착재에 사용한 도전성 입자를 나타내는 단면도이다.2 is a cross-sectional view showing conductive particles used in a conductive adhesive material in the conductive adhesive material with conductive base according to an embodiment of the present invention.

도 2에 도시한 도전성 입자(1)는, 기재 입자(2)와, 도전부(3)와, 코어 물질(4)을 구비한다.The conductive particles 1 shown in Fig. 2 include base particles 2, a conductive portion 3, and a core material 4.

도전부(3)는, 기재 입자(2)의 표면 상에 배치되어 있다. 도전성 입자(1)는, 기재 입자(2)의 표면이 도전부(3)에 의해 피복된 피복 입자이다. 도전부(3)는 연속 피막이다.The conductive part 3 is disposed on the surface of the base particle 2. The conductive particles (1) are coated particles in which the surface of the base particles (2) is covered with the conductive parts (3). The conductive portion 3 is a continuous coating.

도전성 입자(1)는 도전성의 표면에, 복수의 돌기를 갖는다. 도전부(3)는 외표면에, 복수의 돌기(3a)를 갖는다.The conductive particles (1) have a plurality of projections on the conductive surface. The conductive portion 3 has a plurality of projections 3a on its outer surface.

복수의 코어 물질(4)이 기재 입자(2)의 표면 상에 배치되어 있다. 복수의 코어 물질(4)은, 도전부(3)의 내측에 배치되어 있으며, 도전부(3) 내에 매립되어 있다. 도전부(3)는 복수의 코어 물질(4)을 피복하고 있다. 복수의 코어 물질(4)에 의해 도전부(3)의 외표면이 융기되어 있으며, 돌기(3a)가 형성되어 있다. 도전성 입자(1)는 돌기(3a)를 형성하도록, 도전부(3)의 외표면을 융기시키고 있는 코어 물질(4)을 구비한다.A plurality of core materials (4) are disposed on the surface of the base particles (2). The plurality of core materials 4 are disposed inside the conductive part 3 and are embedded in the conductive part 3. [ The conductive portion 3 covers a plurality of core materials 4. The outer surface of the conductive portion 3 is protruded by the plurality of core materials 4 and the protrusion 3a is formed. The conductive particle 1 has a core material 4 which rises the outer surface of the conductive portion 3 so as to form the projection 3a.

도 3은 도전성 입자의 제1 변형예를 나타내는 단면도이다.3 is a cross-sectional view showing a first modification of the conductive particle.

도 3에 도시한 도전성 입자(1A)는 기재 입자(2)와, 도전부(3A)를 구비한다.The conductive particles 1A shown in Fig. 3 include base particles 2 and conductive portions 3A.

도전부(3A)는 기재 입자(2)의 표면 상에 배치되어 있다. 도전성 입자(1A)는 도전성의 표면에 복수의 돌기를 갖는다. 도전부(3A)는 외표면에 복수의 돌기(3Aa)를 갖는다.The conductive portion 3A is disposed on the surface of the base particle 2. The conductive particles 1A have a plurality of projections on the conductive surface. The conductive portion 3A has a plurality of projections 3Aa on its outer surface.

도전성 입자(1A)는 코어 물질을 구비하지 않는다. 도전부(3A)는, 제1 부분과, 해당 제1 부분보다도 두께가 두꺼운 제2 부분을 갖는다. 복수의 돌기(3Aa)를 제외한 부분이 도전부(3A)의 상기 제1 부분이다. 복수의 돌기(3Aa)는 도전부(3A)의 두께가 두꺼운 상기 제2 부분이다.The conductive particles 1A do not have a core material. The conductive portion 3A has a first portion and a second portion that is thicker than the first portion. The portion excluding the plurality of projections 3Aa is the first portion of the conductive portion 3A. The plurality of protrusions 3Aa are the second portions in which the conductive portions 3A are thick.

도전성 입자(1A)와 같이 돌기를 형성하기 위해서, 코어 물질은 반드시 사용하지 않아도 된다.In order to form protrusions like the conductive particles 1A, the core material may not necessarily be used.

도 4는 도전성 입자의 제2 변형예를 나타내는 단면도이다.4 is a cross-sectional view showing a second modification of the conductive particles.

도 4에 도시한 도전성 입자(1B)는, 기재 입자(2)와, 도전부(3B)와, 코어 물질(4)을 구비한다.The conductive particles 1B shown in Fig. 4 include base particles 2, a conductive portion 3B, and a core material 4.

도전성 입자(1B)는 도전성의 표면에 복수의 돌기를 갖는다. 도전부(3B)는 외표면에 복수의 돌기(3Ba)를 갖는다.The conductive particles 1B have a plurality of projections on the conductive surface. The conductive portion 3B has a plurality of projections 3Ba on its outer surface.

도전성 입자(1)와 도전성 입자(1B)는 코어 물질의 위치와, 도전부가 상이하다. 도전성 입자(1)에서는 1층 구조의 도전부(3)가 형성되어 있는 데 비해, 도전성 입자(1B)에서는 다층(2층)의 도전부(3B)가 형성되어 있다.The positions of the conductive particles (1) and the conductive particles (1B) are different from those of the core material. In the conductive particle 1, a conductive portion 3 having a single-layer structure is formed, whereas in the conductive particle 1B, a conductive portion 3B having multiple layers (two layers) is formed.

도전부(3B)는 제1 도전부(3BA) 및 제2 도전부(3BB)를 갖는다. 제1, 제2 도전부(3BA, 3BB)는 기재 입자(2)의 표면 상에 배치되어 있다. 기재 입자(2)와 제2 도전부(3BB)의 사이에 제1 도전부(3BA)가 배치되어 있다. 따라서, 기재 입자(2)의 표면 상에 제1 도전부(3BA)가 배치되어 있고, 제1 도전부(3BA)의 표면 상에 제2 도전부(3BB)가 배치되어 있다. 제1 도전부(3BA)의 외형은 구 형상이다. 제1 도전부(3BA)는 외표면에 돌기를 갖지 않는다. 제2 도전부(3BB)는 외표면에 복수의 돌기(3BBa)를 갖는다.The conductive portion 3B has a first conductive portion 3BA and a second conductive portion 3BB. The first and second conductive portions 3BA and 3BB are disposed on the surface of the base particle 2. A first conductive portion 3BA is disposed between the base particle 2 and the second conductive portion 3BB. Therefore, the first conductive portion 3BA is disposed on the surface of the substrate particle 2, and the second conductive portion 3BB is disposed on the surface of the first conductive portion 3BA. The outer shape of the first conductive portion 3BA is spherical. The first conductive portion 3BA does not have a projection on the outer surface. The second conductive portion 3BB has a plurality of projections 3BBa on its outer surface.

복수의 코어 물질(4)이, 제1 도전부(3BA)의 표면 상에 배치되어 있다. 복수의 코어 물질(4)은, 제2 도전부(3BB)의 내측에 배치되어 있고, 제2 도전부(3BB) 내에 매립되어 있다. 제2 도전부(3BB)는, 복수의 코어 물질(4)을 피복하고 있다. 복수의 코어 물질(4)에 의해 도전부(3B)의 외표면이 융기되어 있으며, 돌기(3Ba)가 형성되어 있다. 복수의 코어 물질(4)에 의해 제2 도전부(3BB)의 외표면이 융기되고 있으며, 돌기(3BBa)가 형성되어 있다.A plurality of core materials 4 are arranged on the surface of the first conductive portion 3BA. The plurality of core materials 4 are disposed inside the second conductive portion 3BB and embedded in the second conductive portion 3BB. The second conductive portion 3BB covers a plurality of core materials 4. The outer surface of the conductive portion 3B is protruded by the plurality of core materials 4, and the protrusion 3Ba is formed. The outer surface of the second conductive portion 3BB is raised by the plurality of core materials 4 and the protrusion 3BBa is formed.

도전성 입자(1B)와 같이, 도전부는 한 층이 아니어도 되며, 다층이어도 된다.Like the conductive particles 1B, the conductive portion may not be a single layer, or may be a multiple layer.

도 5는 도전성 입자의 제3 변형예를 나타내는 단면도이다.5 is a cross-sectional view showing a third modification of the conductive particles.

도 5에 도시한 도전성 입자(1C)는 기재 입자(2)와, 도전부(3C)와, 코어 물질(4)을 구비한다.The conductive particles 1C shown in Fig. 5 include base particles 2, a conductive portion 3C, and a core material 4.

도전성 입자(1C)는 도전성의 표면에 복수의 돌기를 갖는다. 도전부(3C)는 외표면에 복수의 돌기(3Ca)를 갖는다.The conductive particles 1C have a plurality of projections on the conductive surface. The conductive portion 3C has a plurality of projections 3Ca on its outer surface.

도전성 입자(1B)와 도전성 입자(1C)는, 코어 물질의 위치가 상이함으로써, 도전부만이 상이하다.The conductive particles (1B) and the conductive particles (1C) differ only in the conductive portions because the positions of the core materials are different.

도전부(3C)는 제1 도전부(3CA) 및 제2 도전부(3CB)를 갖는다. 제1, 제2 도전부(3CA, 3CB)는 기재 입자(2)의 표면 상에 배치되어 있다. 기재 입자(2)와 제2 도전부(3CB)의 사이에, 제1 도전부(3CA)가 배치되어 있다. 따라서, 기재 입자(2)의 표면 상에 제1 도전부(3CA)가 배치되어 있고, 제1 도전부(3CA)의 표면 상에 제2 도전부(3CB)가 배치되어 있다. 제1 도전부(3CA)는 외표면에 복수의 돌기(3CAa)를 갖는다. 제2 도전부(3CB)는 외표면에 복수의 돌기(3CBa)를 갖는다.The conductive portion 3C has a first conductive portion 3CA and a second conductive portion 3CB. The first and second conductive portions 3CA and 3CB are disposed on the surface of the base particle 2. A first conductive portion 3CA is disposed between the base particle 2 and the second conductive portion 3CB. Therefore, the first conductive portion 3CA is disposed on the surface of the base particle 2, and the second conductive portion 3CB is disposed on the surface of the first conductive portion 3CA. The first conductive portion 3CA has a plurality of projections 3CAa on its outer surface. The second conductive portion 3CB has a plurality of projections 3CBa on its outer surface.

복수의 코어 물질(4)이 기재 입자(2)의 표면 상에 배치되어 있다. 복수의 코어 물질(4)은, 도전부(3C)의 내측에 배치되어 있으며, 도전부(3C) 내에 매립되어 있다. 복수의 코어 물질(4)은, 제1 도전부(3CA)의 내측에 배치되어 있으며, 제1 도전부(3CA) 내에 매립되어 있다. 도전부(3C)는 복수의 코어 물질(4)을 피복하고 있다. 복수의 코어 물질(4)에 의해 도전부(3C)의 외표면이 융기되어 있으며, 돌기(3Ca)가 형성되어 있다. 제1 도전부(3CA)는 복수의 코어 물질(4)을 피복하고 있다. 복수의 코어 물질(4)에 의해 제1 도전부(3CA)의 외표면이 융기되어 있으며, 돌기(3CAa)가 형성되어 있고, 또한 돌기(3CBa)가 형성되어 있다.A plurality of core materials (4) are disposed on the surface of the base particles (2). The plurality of core materials 4 are disposed inside the conductive portion 3C and embedded in the conductive portion 3C. The plurality of core materials 4 are disposed inside the first conductive portion 3CA and embedded in the first conductive portion 3CA. The conductive portion 3C covers a plurality of core materials 4. [ The outer surface of the conductive portion 3C is protruded by the plurality of core materials 4 and the protrusion 3Ca is formed. The first conductive portion 3CA covers a plurality of core materials 4. The outer surface of the first conductive portion 3CA is raised by the plurality of core materials 4 and the projections 3CAa are formed and the projections 3CBa are formed.

전자파 실드 기능을 효과적으로 높이는 관점에서는, 도전성 입자의 체적 저항률은 바람직하게는 0.1Ω·㎝ 이하, 보다 바람직하게는 0.02Ω·㎝ 이하, 더 바람직하게는 0.001Ω·㎝ 이하이다. 상기 체적 저항률은, 분체 저항 측정기(미츠비시가가쿠 아날리테크사 제조 「MCP-PD51형」) 등을 사용하여, 2.5g의 분체를 사용하고, 분체 전용 프로브에 의해 20kN 압력의 조건에서, 로레스타 GXMCP-T700로 측정된다.From the viewpoint of effectively enhancing the electromagnetic shielding function, the volume resistivity of the conductive particles is preferably 0.1? 占 ㎝ m or less, more preferably 0.02? 占 이하 m or less, and still more preferably 0.001? 占 ㎝ m or less. The volume resistivity was measured by using a powder resistance meter (MCP-PD51 type, manufactured by Mitsubishi Kaku Arunatech Co., Ltd.) or the like and using 2.5 g of powder, Measured with GXMCP-T700.

상기 도전성 입자의 입자 직경은, 바람직하게는 3㎛ 이상, 보다 바람직하게는 5㎛ 이상, 더 바람직하게는 10㎛ 이상, 특히 바람직하게는 15㎛ 이상이며, 바람직하게는 40㎛ 이하, 보다 바람직하게는 35㎛ 이하, 더 바람직하게는 30㎛ 이하, 특히 바람직하게는 25㎛ 이하이다. 상기 도전성 입자의 입자 직경이 상기 하한 이상이면 도전성 점착재의 두께를 충분히 확보할 수 있고, 또한 도전성 입자와 피착체와의 접촉 면적이 커지기 때문에, 전자파 실드 기능이 보다 한층 높아진다.The particle diameter of the conductive particles is preferably at least 3 mu m, more preferably at least 5 mu m, even more preferably at least 10 mu m, particularly preferably at least 15 mu m, preferably at most 40 mu m, Is not more than 35 mu m, more preferably not more than 30 mu m, particularly preferably not more than 25 mu m. When the particle diameter of the conductive particles is not lower than the lower limit described above, the thickness of the conductive adhesive material can be sufficiently secured and the contact area between the conductive particles and the adherend is increased, thereby further enhancing the electromagnetic shielding function.

상기 도전성 입자의 입자 직경의 상기 금속 입자의 입자 직경에 대한 비(도전성 입자의 입자 직경/금속 입자의 입자 직경)는 바람직하게는 0.7 이상, 보다 바람직하게는 1 이상, 더 바람직하게는 15 이상, 특히 바람직하게는 20 이상이며, 바람직하게는 5000 이하, 보다 바람직하게는 4000 이하, 더 바람직하게는 500 이하이다. 상기 비가 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 전자파 실드 기능이 효과적으로 높아진다.The ratio of the particle diameter of the conductive particles to the particle diameter of the metal particles (the particle diameter of the conductive particles / the particle diameter of the metal particles) is preferably 0.7 or more, more preferably 1 or more, more preferably 15 or more, Particularly preferably 20 or more, preferably 5000 or less, more preferably 4000 or less, further preferably 500 or less. When the ratio is above the lower limit and below the upper limit, the electromagnetic shielding function is effectively enhanced.

상기 도전성 입자 및 상기 금속 입자의 1개당 입자 직경은, 도전성 입자 및 금속 입자가 진구형 형상인 경우에는 직경을 나타내고, 도전성 입자 및 금속 입자가 진구형 형상이 아닌 경우에는 최대 직경을 나타낸다.The particle diameter per one of the conductive particles and the metal particles indicates the diameter when the conductive particles and the metal particles are in the sphincter shape and the maximum diameter when the conductive particles and the metal particles are not in the spheric shape.

상기 돌기의 평균 높이는, 바람직하게는 30㎚ 이상, 보다 바람직하게는 100㎚ 이상, 더 바람직하게는 500㎚ 이상이며, 바람직하게는 1000㎚ 이하이다. 상기 돌기의 평균 높이가 상기 하한 이상이면 돌기에 의한 접촉성, 및 전자파 실드 기능이 보다 한층 높아진다. 상기 돌기의 평균 높이가 상기 상한 이하이면, 돌기가 극히 꺾이기 어려워진다.The average height of the protrusions is preferably 30 nm or more, more preferably 100 nm or more, still more preferably 500 nm or more, and preferably 1000 nm or less. When the average height of the protrusions is not less than the lower limit, the contact by the protrusions and the electromagnetic shielding function are further enhanced. When the average height of the projections is less than the upper limit, the projections are hardly broken.

상기 돌기의 평균 높이는, 도전성 입자 1개에 포함되는 돌기의 높이의 평균이다. 상기 돌기의 높이는, 도전성 입자의 중심과 돌기의 첨단을 연결하는 선(도 2에 도시한 파선 L1) 상에 있어서의, 돌기가 없다고 상정한 경우의 도전부의 가상 선(도 2에 도시한 파선 L2) 상(돌기가 없다고 상정한 경우의 구 형상 도전성 입자의 외표면 상)으로부터 돌기의 첨단까지의 거리를 나타낸다. 즉, 도 2에 있어서는, 파선 L1과 파선 L2의 교점으로부터 돌기의 첨단까지의 거리를 나타낸다.The average height of the projections is an average height of the projections included in one conductive particle. The heights of the protrusions are set so that the imaginary line (the broken line L2 shown in Fig. 2) on the assumption that there is no protrusion on the line connecting the center of the conductive particle and the tip of the protrusion (broken line L1 shown in Fig. 2) ) Phase (on the outer surface of the spherical conductive particle when no projection is assumed) to the tip of the projection. 2, the distance from the intersection of the broken line L1 to the broken line L2 to the tip of the projection is shown.

돌기에 의한 접촉성, 및 전자파 실드 기능을 효과적으로 높이는 관점에서는, 상기 도전부의 외표면의 전체 표면적 100% 중, 상기 돌기가 있는 부분의 표면적은 바람직하게는 0.1% 이상, 보다 바람직하게는 10% 이상, 더 바람직하게는 30% 이상이다. 상기 도전부의 외표면의 전체 표면적 100% 중, 상기 돌기가 있는 부분의 표면적의 비율 상한은 특별히 한정되지 않는다. 상기 도전부의 외표면의 전체 표면적 100% 중, 상기 돌기가 있는 부분의 표면적은 99% 이하여도 되고, 95% 이하여도 된다.The surface area of the projected portion is preferably 0.1% or more, more preferably 10% or more of the entire surface area of the outer surface of the conductive portion, from the viewpoint of effectively enhancing the contact with the projections and the electromagnetic shielding function , And more preferably 30% or more. The upper limit of the ratio of the surface area of the protruding portion to the protruding portion out of the total surface area of 100% of the outer surface of the conductive portion is not particularly limited. The surface area of the projected portion may be 99% or less, or 95% or less of the entire surface area of the outer surface of the conductive portion.

상기 돌기가 있는 부분의 표면적의 비율은, 도전성 입자를 주사형 전자 현미경(SEM)에 의해 관찰하고, 도전성 입자의 입자 직경 투영 면적에 대한 돌기가 있는 부분의 투영 면적비를 산출함으로써 측정할 수 있다.The ratio of the surface area of the projected portion can be measured by observing the conductive particles with a scanning electron microscope (SEM) and calculating the projected area ratio of the projected portion to the projected area of the particle diameter of the conductive particles.

도전성 점착재 100중량% 중, 상기 도전성 입자의 함유량은 바람직하게는 1중량% 이상, 보다 바람직하게는 5중량% 이상이며, 바람직하게는 30중량% 이하, 보다 바람직하게는 25중량% 이하, 더 바람직하게는 20중량% 이하이다. 상기 도전성 입자의 함유량이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 전자파 실드 기능이 효과적으로 높아진다.The content of the conductive particles in 100 wt% of the conductive adhesive agent is preferably 1 wt% or more, more preferably 5 wt% or more, preferably 30 wt% or less, more preferably 25 wt% Preferably not more than 20% by weight. When the content of the conductive particles is not less than the lower limit and not higher than the upper limit, the electromagnetic shielding function is effectively enhanced.

[기재 입자][Substrate Particle]

상기 기재 입자는, 금속 입자를 제외한 기재 입자이다. 상기 기재 입자로서는, 수지 입자, 금속 입자를 제외한 무기 입자 및 유기 무기 하이브리드 입자 등을 들 수 있다. 상기 기재 입자는, 수지 입자, 금속 입자를 제외한 무기 입자 또는 유기 무기 하이브리드 입자인 것이 바람직하다. 상기 기재 입자는, 코어와, 해당코어의 표면 상에 배치된 셸을 갖고 있어도 되고, 코어 셸 입자여도 된다. 상기 코어가 유기 코어여도 되고, 상기 셸이 무기 셸이어도 된다.The base particles are base particles excluding metal particles. Examples of the base particles include resin particles, inorganic particles other than metal particles, and organic-inorganic hybrid particles. The base particles are preferably resin particles, inorganic particles other than metal particles, or organic-inorganic hybrid particles. The base particles may have a core and a shell disposed on the surface of the core, or may be core shell particles. The core may be an organic core, and the shell may be an inorganic shell.

상기 기재 입자는, 수지 입자 또는 유기 무기 하이브리드 입자인 것이 더 바람직하며, 수지 입자여도 되고, 유기 무기 하이브리드 입자여도 된다. 이들의 바람직한 기재 입자의 사용에 의해, 전자파 실드재에, 보다 한층 적합한 도전성 입자가 얻어진다.The base particles are more preferably resin particles or organic-inorganic hybrid particles, and may be resin particles or organic-inorganic hybrid particles. By using these preferable base particles, more suitable conductive particles can be obtained in the electromagnetic wave shielding material.

전자파 실드재를 피착체에 접합할 때에는, 전자파 실드재가 피착체에 가압된다. 기재 입자가 수지 입자 또는 유기 무기 하이브리드 입자이면, 가압 시에 상기 도전성 입자가 변형되기 쉬워, 도전성 입자와 피착체의 접촉 면적이 커진다. 이로 인해, 전자파 실드 기능이 보다 한층 높아진다.When the electromagnetic shield member is bonded to the adherend, the electromagnetic shield member is pressed against the adherend. When the base particles are resin particles or organic-inorganic hybrid particles, the conductive particles are easily deformed at the time of pressing, and the contact area between the conductive particles and the adherend becomes large. As a result, the electromagnetic shielding function is further enhanced.

상기 수지 입자를 형성하기 위한 수지로서, 다양한 유기물이 적합하게 사용된다. 상기 수지 입자를 형성하기 위한 수지로서는, 예를 들어 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리이소부틸렌, 폴리부타디엔 등의 폴리올레핀 수지; 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리메틸아크릴레이트 등의 아크릴 수지; 폴리알킬레텔레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리아미드, 페놀 포름알데히드 수지, 멜라민포름알데히드 수지, 벤조구아나민 포름알데히드 수지, 요소 포름알데히드 수지, 페놀 수지, 멜라민 수지, 벤조구아나민 수지, 요소 수지, 에폭시 수지, 불포화폴리에스테르 수지, 포화폴리에스테르 수지, 폴리술폰, 폴리페닐렌옥시드, 폴리아세탈, 폴리이미드, 폴리아미드이미드, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르술폰 및 에틸렌성 불포화기를 갖는 다양한 중합성 단량체를 1종 혹은 2종 이상 중합시켜 얻어지는 중합체 등을 들 수 있다. 전자파 실드재에 적합한 임의의 압축 시의 물성을 갖는 수지 입자를 설계 및 합성할 수 있으며, 또한 기재 입자의 경도를 적합한 범위로 용이하게 제어할 수 있으므로, 상기 수지 입자를 형성하기 위한 수지는, 에틸렌성 불포화기를 갖는 중합성 단량체를 1종 또는 2종 이상 중합시킨 중합체인 것이 바람직하다.As the resin for forming the resin particles, various organic materials are suitably used. Examples of the resin for forming the resin particles include polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyisobutylene, and polybutadiene; Acrylic resins such as polymethyl methacrylate and polymethyl acrylate; Phenol resin, melamine resin, urea resin, benzoguanamine formaldehyde resin, urea formaldehyde resin, phenol resin, melamine resin, benzoguanamine resin, urea resin, urea resin, Various polymerizable monomers having an epoxy resin, an unsaturated polyester resin, a saturated polyester resin, a polysulfone, a polyphenylene oxide, a polyacetal, a polyimide, a polyamideimide, a polyetheretherketone, a polyether sulfone and an ethylenic unsaturated group And polymers obtained by polymerization of one kind or two or more kinds. It is possible to design and synthesize resin particles having physical properties at the time of compression suitable for the electromagnetic wave shielding material and to control the hardness of the base particles to a suitable range easily. Therefore, the resin for forming the resin particles is preferably ethylene It is preferable that the polymer is a polymer obtained by polymerizing one or more polymerizable monomers having unsaturated groups.

상기 수지 입자를, 에틸렌성 불포화기를 갖는 중합성 단량체를 중합시켜서 얻는 경우에는, 상기 에틸렌성 불포화기를 갖는 중합성 단량체로서는, 비가교성의 단량체와 가교성의 단량체를 들 수 있다.When the resin particle is obtained by polymerizing a polymerizable monomer having an ethylenic unsaturated group, examples of the polymerizable monomer having an ethylenic unsaturated group include a monomer that is incompatible with the monomer and a monomer that is crosslinkable.

상기 비가교성의 단량체로서는, 예를 들어 스티렌, α-메틸스티렌 등의 스티렌계 단량체; (메트)아크릴산, 말레산, 무수 말레산 등의 카르복실기 함유 단량체;메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트, 세틸(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트 등의 알킬(메트)아크릴레이트 화합물; 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 글리세롤(메트)아크릴레이트, 폴리옥시에틸렌(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트 등의 산소 원자 함유 (메트)아크릴레이트 화합물; (메트)아크릴로니트릴 등의 니트릴 함유 단량체; 메틸비닐에테르, 에틸비닐에테르, 프로필비닐에테르 등의 비닐에테르 화합물; 아세트산 비닐, 부티르산 비닐, 라우르산 비닐, 스테아르산 비닐 등의 산 비닐에스테르 화합물; 에틸렌, 프로필렌, 이소프렌, 부타디엔 등의 불포화탄화수소; 트리플루오로메틸(메트)아크릴레이트, 펜타플루오로에틸(메트)아크릴레이트, 염화비닐, 불화비닐, 클로로스티렌 등의 할로겐 함유 단량체 등을 들 수 있다.Examples of the non-crosslinkable monomer include styrene-based monomers such as styrene and? -Methylstyrene; (Meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl Alkyl (meth) acrylates such as methacrylate, lauryl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate and isobornyl Acrylate compounds; (Meth) acrylate compounds such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, polyoxyethylene (meth) acrylate and glycidyl (meth) acrylate; Nitrile-containing monomers such as (meth) acrylonitrile; Vinyl ether compounds such as methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether and propyl vinyl ether; Acid vinyl ester compounds such as vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl laurate and vinyl stearate; Unsaturated hydrocarbons such as ethylene, propylene, isoprene and butadiene; Halogen-containing monomers such as trifluoromethyl (meth) acrylate, pentafluoroethyl (meth) acrylate, vinyl chloride, vinyl fluoride and chlorostyrene.

상기 가교성의 단량체로서는, 예를 들어 테트라메틸올메탄테트라(메트)아크릴레이트, 테트라메틸올메탄트리(메트)아크릴레이트, 테트라메틸올메탄디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 글리세롤트리(메트)아크릴레이트, 글리세롤디(메트)아크릴레이트, (폴리)에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, (폴리)프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, (폴리)테트라메틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트 등의 다관능(메트)아크릴레이트 화합물; 트리알릴(이소)시아누레이트, 트리알릴트리멜리테이트, 디비닐벤젠, 디알릴프탈레이트, 디알릴아크릴아미드, 디알릴에테르, γ-(메트)아크릴옥시프로필 트리메톡시실란, 트리메톡시실릴스티렌, 비닐트리메톡시실란 등의 실란 함유 단량체 등을 들 수 있다.Examples of the crosslinkable monomer include tetramethylolmethane tetra (meth) acrylate, tetramethylol methane tri (meth) acrylate, tetramethylol methane di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) (Meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, glycerol di (meth) acrylate, (poly) ethylene glycol di Polyfunctional (meth) acrylate compounds such as (meth) acrylate, (poly) propylene glycol di (meth) acrylate, (poly) tetramethylene glycol di (meth) acrylate and 1,4-butanediol di (meth) acrylate; (Meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, trimethoxysilylstyrene, trimethylolpropane trimethoxysilane, triallyl trimellitate, divinyl benzene, diallyl phthalate, diallyl acrylamide, diallyl ether, , Silane-containing monomers such as vinyltrimethoxysilane, and the like.

상기 에틸렌성 불포화기를 갖는 중합성 단량체를, 공지의 방법에 의해 중합 시킴으로써, 상기 수지 입자를 얻을 수 있다. 이 방법으로서는, 예를 들어, 라디칼 중합 개시제의 존재하에서 현탁 중합하는 방법과, 비가교의 종입자를 사용해서 라디칼 중합 개시제와 함께 단량체를 팽윤시켜서 중합하는 방법 등을 들 수 있다.The above-mentioned resin particles can be obtained by polymerizing the above-mentioned polymerizable monomer having an ethylenic unsaturated group by a known method. This method includes, for example, suspension polymerization in the presence of a radical polymerization initiator and polymerization by swelling the monomer together with radical polymerization initiator using uncrosslinked seed particles.

상기 기재 입자가 금속 입자를 제외한 무기 입자 또는 유기 무기 하이브리드 입자인 경우에, 상기 기재 입자를 형성하기 위한 무기물로서는, 실리카, 알루미나, 티타늄산바륨, 지르코니아 및 카본 블랙 등을 들 수 있다. 상기 무기물은 금속이 아닌 것이 바람직하다. 상기 실리카에 의해 형성된 입자로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 가수분해성의 알콕시실릴기를 2개 이상 갖는 규소 화합물을 가수분해하여 가교중합체 입자를 형성한 후에, 필요에 따라 소성을 행함으로써 얻어지는 입자를 들 수 있다. 상기 유기 무기 하이브리드 입자로서는, 예를 들어 가교한 알콕시실릴 중합체와 아크릴 수지에 의해 형성된 유기 무기 하이브리드 입자 등을 들 수 있다.When the base particles are inorganic particles other than metal particles or organic-inorganic hybrid particles, examples of inorganic materials for forming the base particles include silica, alumina, barium titanate, zirconia, and carbon black. The inorganic material is preferably not a metal. The particles formed by the silica are not particularly limited. For example, particles obtained by hydrolyzing a silicon compound having two or more hydrolyzable alkoxysilyl groups to form crosslinked polymer particles, and then firing if necessary, . Examples of the organic-inorganic hybrid particles include organic-inorganic hybrid particles formed of a crosslinked alkoxysilyl polymer and an acrylic resin.

상기 유기 무기 하이브리드 입자는, 코어와, 해당 코어의 표면 상에 배치된 셸을 갖는 코어 셸형의 유기 무기 하이브리드 입자인 것이 바람직하다. 상기 코어가 유기 코어인 것이 바람직하다. 상기 셸이 무기 셸인 것이 바람직하다. 전자파 실드 기능을 효과적으로 높이는 관점에서는, 상기 기재 입자는, 유기 코어와 상기 유기 코어의 표면 상에 배치된 무기 셸을 갖는 유기 무기 하이브리드 입자인 것이 바람직하다.The organic-inorganic hybrid particles are preferably core-shell type organic-inorganic hybrid particles having a core and a shell disposed on the surface of the core. The core is preferably an organic core. Preferably, the shell is an inorganic shell. From the viewpoint of effectively enhancing the electromagnetic shielding function, the base particles are preferably organic-inorganic hybrid particles having an organic core and an inorganic shell disposed on the surface of the organic core.

상기 유기 코어를 형성하기 위한 재료로서는, 전술한 수지 입자를 형성하기 위한 수지 등을 들 수 있다.Examples of the material for forming the organic core include a resin for forming the above-mentioned resin particles.

상기 무기 셸을 형성하기 위한 재료로서는, 전술한 기재 입자를 형성하기 위한 무기물을 들 수 있다. 상기 무기 셸을 형성하기 위한 재료는, 실리카인 것이 바람직하다. 상기 무기 셸은, 상기 코어의 표면 상에서, 금속 알콕시드를 졸겔법에 의해 셸 형상물로 한 후, 해당 셸 형상물을 소결시킴으로써 형성되어 있는 것이 바람직하다. 상기 금속 알콕시드는 실란 알콕시드인 것이 바람직하다. 상기 무기 셸은 실란 알콕시드에 의해 형성되어 있는 것이 바람직하다.Examples of the material for forming the inorganic shell include inorganic materials for forming the base particles described above. The material for forming the inorganic shell is preferably silica. It is preferable that the inorganic shell is formed on the surface of the core by making the metal alkoxide into a shell shape by a sol-gel method and sintering the shell shape. The metal alkoxide is preferably a silane alkoxide. The inorganic shell is preferably formed by silane alkoxide.

상기 셸의 두께는, 바람직하게는 100㎚ 이상, 보다 바람직하게는 200㎚ 이상이며, 바람직하게는 5㎛ 이하, 보다 바람직하게는 3㎛ 이하이다. 상기 셸의 두께가 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 전자파 실드재에 보다 한층 적합한 도전성 입자가 얻어진다. 상기 셸의 두께는, 기재 입자 1개당 평균 두께이다. 졸겔법의 제어에 의해, 상기 셸의 두께를 제어 가능하다.The thickness of the shell is preferably 100 nm or more, more preferably 200 nm or more, preferably 5 占 퐉 or less, and more preferably 3 占 퐉 or less. When the thickness of the shell is not less than the lower limit and not more than the upper limit, electroconductive particles more suitable for the electromagnetic shielding material are obtained. The thickness of the shell is an average thickness per base particle. By controlling the sol-gel method, the thickness of the shell can be controlled.

상기 도전부는 도전층인 것이 바람직하다. 상기 도전부의 재료인 금속은 특별히 한정되지 않는다. 상기 도전부의 재료인 금속으로서는, 금, 은, 구리, 팔라듐, 루테늄, 로듐, 이리듐, 리튬, 백금, 아연, 철, 주석, 납, 알루미늄, 코발트, 인듐, 니켈, 크롬, 티타늄, 안티몬, 비스무트, 탈륨, 게르마늄, 카드뮴, 규소, 텅스텐, 몰리브덴 및 이들의 합금 등을 들 수 있다. 또한, 상기 금속으로서는, 주석 도프 산화인듐(ITO) 및 땜납 등을 들 수 있다.The conductive portion is preferably a conductive layer. The metal as the material of the conductive portion is not particularly limited. Examples of the metal as the material of the conductive portion include gold, silver, copper, palladium, ruthenium, rhodium, iridium, lithium, platinum, zinc, iron, tin, lead, aluminum, cobalt, indium, nickel, chromium, titanium, antimony, bismuth, Thallium, germanium, cadmium, silicon, tungsten, molybdenum and their alloys. Examples of the metal include indium tin oxide (ITO) and solder.

전자파 실드 기능을 효과적으로 높게 할 수 있으므로, 주석을 포함하는 합금, 니켈, 팔라듐, 은, 구리 또는 금이 바람직하고, 니켈, 팔라듐, 구리 또는 은이 보다 바람직하며, 니켈, 팔라듐 또는 구리가 더 바람직하다. 상기 도전부는, 니켈과, 인 또는 붕소를 포함하는 것이 보다 바람직하다. 상기 도전부의 재료는, 인 및 붕소 등을 포함하는 합금이어도 된다. 상기 도전부에서는, 니켈과 텅스텐 또는 몰리브덴이 합금화되어 있어도 된다.Nickel, palladium, silver, copper or gold is preferable, and nickel, palladium, copper or silver is more preferable, and nickel, palladium or copper is more preferable because the electromagnetic shielding function can be effectively increased. More preferably, the conductive portion includes nickel and phosphorus or boron. The material of the conductive portion may be an alloy including phosphorus and boron. In the conductive portion, nickel, tungsten or molybdenum may be alloyed.

상기 도전부 100중량% 중, 니켈, 팔라듐, 구리 또는 은의 함유량은 바람직하게는 10중량% 이상, 보다 바람직하게는 25중량% 이상, 더 바람직하게는 40중량% 이상이며, 바람직하게는 100중량%(전량) 이하이다. 상기 도전부에 있어서의 니켈의 함유량이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하인 것이 바람직하다.The content of nickel, palladium, copper or silver in the conductive part is preferably 10 wt% or more, more preferably 25 wt% or more, still more preferably 40 wt% or more, and preferably 100 wt% (Total amount) or less. It is preferable that the content of nickel in the conductive portion is not less than the lower limit and not more than the upper limit.

상기 도전부는 니켈을 주 금속으로서 포함하는 것이 바람직하다. 니켈을 포함하는 도전부 전체 100중량% 중, 니켈의 함유량은 50중량% 이상인 것이 바람직하다. 니켈을 포함하는 도전부 100중량% 중, 니켈의 함유량은 바람직하게는 65중량% 이상, 보다 바람직하게는 80중량% 이상, 더 바람직하게는 90중량% 이상이다. 니켈의 함유량이 상기 하한 이상이면 전자파 실드 기능이 효과적으로 높아진다.It is preferable that the conductive portion includes nickel as a main metal. It is preferable that the content of nickel is 50% by weight or more in 100% by weight of the entire conductive portion including nickel. In 100 wt% of the conductive part including nickel, the content of nickel is preferably 65 wt% or more, more preferably 80 wt% or more, and even more preferably 90 wt% or more. When the content of nickel is less than the lower limit described above, the electromagnetic shielding function is effectively enhanced.

상기 도전부에 포함되는 금속의 함유량 측정 방법은, 기지의 다양한 분석법을 이용할 수 있으며, 특별히 한정되지 않는다. 이 측정 방법으로서, 흡광 분석법 또는 스펙트럼 분석법 등을 들 수 있다. 상기 흡광 분석법에서는, 프레임 흡광 광도계 및 전기 가열로 흡광 광도계 등을 사용할 수 있다. 상기 스펙트럼 분석법으로서는, 플라스마 발광 분석법 및 플라스마 이온원 질량 분석법 등을 들 수 있다.The method for measuring the content of the metal contained in the conductive portion can be various known analytical methods and is not particularly limited. As the measuring method, an absorption analysis method or a spectrum analysis method can be mentioned. In the above absorption spectrophotometry, a frame absorption spectrophotometer, an electric heating spectrophotometer, or the like can be used. Examples of the spectrum analysis method include a plasma luminescence analysis method and a plasma ion mass spectrometry method.

상기 도전부에 포함되는 금속의 함유량을 측정할 때에는, ICP 발광 분석 장치를 사용하는 것이 바람직하다. ICP 발광 분석 장치의 시판품으로서는, HORIBA사 제조의 ICP 발광 분석 장치 등을 들 수 있다.When measuring the content of the metal contained in the conductive portion, it is preferable to use an ICP emission spectrometer. Commercially available products of the ICP emission spectrometer include ICP emission spectrometers manufactured by HORIBA.

상기 도전부는 인 또는 붕소를 포함하는 것이 바람직하고, 상기 니켈을 포함하는 도전부는 인 또는 붕소를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 도전부가 인 또는 붕소를 포함하는 경우에, 인 또는 붕소를 포함하는 도전부 100중량% 중, 인과 붕소와의 합계의 함유량은, 바람직하게는 0.1중량% 이상, 보다 바람직하게는 1중량% 이상, 더 바람직하게는 3중량% 이상이며, 바람직하게는 10중량% 이하이다. 인과 붕소와의 합계의 함유량이 상기 상한 이하이면, 도전부의 저항이 보다 한층 낮아져서, 전자파 실드 기능이 효과적으로 높아진다.The conductive portion preferably includes phosphorus or boron, and the conductive portion including nickel preferably includes phosphorus or boron. In the case where the conductive portion contains phosphorus or boron, the content of the phosphorus and boron in the total of 100 wt% of the conductive portion containing phosphorus or boron is preferably 0.1 wt% or more, more preferably 1 wt% or more , More preferably not less than 3 wt%, and preferably not more than 10 wt%. If the content of phosphorus and boron is less than the upper limit, the resistance of the conductive portion is further lowered, and the electromagnetic shielding function is effectively increased.

상기 도전부에 있어서의 니켈, 붕소 및 인의 함유량을 제어하는 방법으로서는, 예를 들어, 무전해 니켈 도금에 의해 도전부를 형성할 때, 니켈 도금액의 pH를 제어하는 방법, 무전해 니켈 도금에 의해 도전부를 형성할 때, 붕소 함유 환원제의 농도를 조정하는 방법, 무전해 니켈 도금에 의해 도전부를 형성할 때, 인 함유 환원제의 농도를 조정하는 방법, 및 니켈 도금액 중의 니켈 농도를 조정하는 방법 등을 들 수 있다.Examples of the method for controlling the content of nickel, boron, and phosphorus in the conductive portion include a method of controlling the pH of the nickel plating solution when forming the conductive portion by electroless nickel plating, a method of controlling the pH of the nickel plating solution by electroless nickel plating A method of adjusting the concentration of the boron-containing reducing agent when forming the conductive portion, a method of adjusting the concentration of the phosphorus-containing reducing agent when forming the conductive portion by electroless nickel plating, a method of adjusting the nickel concentration in the nickel plating solution, .

상기 도전부는, 하나의 층에 의해 형성되어 있어도 되며, 복수의 층(다층)에 의해 형성되어 있어도 된다. 즉, 도전부는, 단층이어도 되고, 2층 이상의 적층 구조를 갖고 있어도 된다. 도전부가 다층의 도전부인 경우에, 도전부의 가장 외측에 위치하는 도전부가, 외표면에 복수의 돌기를 갖는다. 도전부가 복수의 층에 의해 형성되어 있는 경우에는, 최외층은, 금층, 니켈층, 팔라듐층, 구리층 또는 주석과 은을 포함하는 합금층인 것이 바람직하고, 금층 또는 팔라듐층인 것이 보다 바람직하며, 금층인 것이 특히 바람직하다. 최외층이 이들의 바람직한 도전부인 경우에는, 전자파 실드 기능이 효과적으로 높아진다. 또한, 최외층이 금층인 경우에는, 내부식성이 보다 한층 높아진다.The conductive portion may be formed by one layer or may be formed by a plurality of layers (multilayer). That is, the conductive portion may be a single layer or may have a laminated structure of two or more layers. When the conductive portion is a multilayer conductive portion, the conductive portion located on the outermost side of the conductive portion has a plurality of projections on the outer surface. When the conductive part is formed by a plurality of layers, the outermost layer is preferably an alloy layer including a gold layer, a nickel layer, a palladium layer, a copper layer, or tin and silver, more preferably a gold layer or a palladium layer , And gold layer are particularly preferable. When the outermost layer is a preferable conductive part of these, the electromagnetic shielding function is effectively enhanced. Further, when the outermost layer is a gold layer, the corrosion resistance is further increased.

입자의 표면 상에 도전부를 형성하는 방법은 특별히 한정되지 않는다. 도전부를 형성하는 방법으로서는, 예를 들어, 무전해 도금에 의한 방법, 전기 도금에 의한 방법, 물리적 증착에 의한 방법과, 금속 분말 혹은 금속 분말과 결합제를 포함하는 페이스트를 입자의 표면에 코팅하는 방법 등을 들 수 있다. 도전부의 형성이 간편하므로, 무전해 도금에 의한 방법이 바람직하다. 상기 물리적 증착에 의한 방법으로서는, 진공 증착, 이온 플레이팅 및 이온 스퍼터링 등의 방법을 들 수 있다.The method of forming the conductive portion on the surface of the particles is not particularly limited. Examples of the method for forming the conductive part include a method by electroless plating, a method by electroplating, a method by physical vapor deposition, a method of coating a paste containing metal powder or metal powder and a binder on the surface of particles And the like. Since the formation of the conductive part is simple, a method by electroless plating is preferable. Examples of the physical deposition method include vacuum deposition, ion plating and ion sputtering.

상기 도전부의 두께(도전부 전체의 두께)는, 바람직하게는 0.005㎛ 이상, 보다 바람직하게는 0.01㎛ 이상이며, 바람직하게는 10㎛ 이하, 보다 바람직하게는 1㎛ 이하, 더 바람직하게는 0.5㎛ 이하, 특히 바람직하게는 0.3㎛ 이하이다. 상기 도전부의 두께는, 도전부가 다층인 경우에는 도전층 전체의 두께이다. 도전부의 두께가 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 전자파 실드 기능이 효과적으로 높아진다.The thickness of the conductive portion (the thickness of the entire conductive portion) is preferably 0.005 탆 or more, more preferably 0.01 탆 or more, preferably 10 탆 or less, more preferably 1 탆 or less, still more preferably 0.5 탆 Or less, particularly preferably 0.3 m or less. The thickness of the conductive portion is the total thickness of the conductive layer when the conductive portion has multiple layers. When the thickness of the conductive portion is not less than the lower limit and not more than the upper limit, the electromagnetic shielding function is effectively increased.

상기 도전부가 복수의 층에 의해 형성되어 있는 경우에, 최외층의 도전층 두께는, 바람직하게는 0.001㎛ 이상, 보다 바람직하게는 0.01㎛ 이상이며, 바람직하게는 0.5㎛ 이하, 보다 바람직하게는 0.1㎛ 이하이다. 상기 최외층의 도전층 두께가 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 최외층의 도전층에 의한 피복이 균일해져서, 전자파 실드 기능이 효과적으로 높아진다. 또한, 상기 최외층이 금층인 경우에, 금층의 두께가 얇을수록 비용이 낮아진다.When the conductive portion is formed by a plurality of layers, the thickness of the conductive layer in the outermost layer is preferably 0.001 탆 or more, more preferably 0.01 탆 or more, preferably 0.5 탆 or less, more preferably 0.1 Mu m or less. When the thickness of the conductive layer in the outermost layer is not less than the lower limit and not more than the upper limit, the coating of the outermost conductive layer becomes uniform, and the electromagnetic shielding function is effectively enhanced. Further, when the outermost layer is a gold layer, the thinner the thickness of the gold layer, the lower the cost.

상기 도전부의 두께는, 예를 들어 전계 방사형 주사형 전자 현미경(FE-SEM)을 사용하여, 도전성 입자의 단면을 관찰함으로써 측정할 수 있다.The thickness of the conductive portion can be measured by observing the cross section of the conductive particles using, for example, an electric field type scanning electron microscope (FE-SEM).

얻어진 도전성 입자를 함유량이 30중량%로 되도록, Kulzer사 제조 「테크노 비트 4000」에 첨가하고, 분산시켜서 도전성 입자 검사용 매립 수지를 제작한다. 그 검사용 매립 수지 중에 분산된 도전성 입자의 중심 부근을 통과하도록 이온 밀링 장치(히타치 하이테크놀러지즈사 제조 「IM4000」)를 사용하여, 도전성 입자의 단면을 잘라낸다.The obtained conductive particles are added to " Technobit 4000 " manufactured by Kulzer Co., Ltd. so that the content thereof becomes 30% by weight and dispersed to prepare a buried resin for conductive particle inspection. The cross section of the conductive particles is cut out by using an ion milling apparatus ("IM4000" manufactured by Hitachi High Technologies) so as to pass near the center of the conductive particles dispersed in the inscribed buried resin for inspection.

그리고, 전계 방사형 주사형 전자 현미경(FE-SEM)을 사용하여, 화상 배율 5만배로 설정하고, 50개의 도전성 입자를 무작위로 선택하여, 각각의 도전성 입자의 도전부를 관찰하는 것이 바람직하다. 얻어진 도전성 입자에 있어서의 도전부의 두께를 계측하고, 그것을 산술 평균하여 도전부의 두께로 하는 것이 바람직하다.Then, it is preferable to set an image magnification of 50,000 times using a field emission scanning electron microscope (FE-SEM), randomly select 50 conductive particles, and observe the conductive portions of the respective conductive particles. It is preferable to measure the thickness of the conductive portion in the obtained conductive particles and to calculate the thickness of the conductive portion by arithmetic averaging thereof.

[코어 물질][Core material]

상기 코어 물질이 상기 도전부 중에 매립되어 있음으로써, 상기 도전부가 외표면에, 복수의 돌기를 갖도록 하는 것이 용이하다.Since the core material is embedded in the conductive portion, it is easy for the conductive portion to have a plurality of protrusions on the outer surface.

상기 돌기를 형성하는 방법으로서는, 기재 입자의 표면에 코어 물질을 부착시킨 후, 무전해 도금에 의해 도전부를 형성하는 방법과, 기재 입자의 표면에 무전해 도금에 의해 도전부를 형성한 후, 코어 물질을 부착시키고, 또한 무전해 도금에 의해 도전부를 형성하는 방법 등을 들 수 있다. 상기 돌기를 형성하는 다른 방법으로서는, 기재 입자의 표면 상에, 제1 도전부를 형성한 후, 해당 제1 도전부 상에 코어 물질을 배치하고, 다음에 제2 도전부를 형성하는 방법과, 기재 입자의 표면 상에 도전부(제1 도전부 또는 제2 도전부 등)를 형성하는 도중 단계에서, 코어 물질을 첨가하는 방법 등을 들 수 있다. 또한, 돌기를 형성하기 위해서, 상기 코어 물질을 사용하지 않고, 기재 입자에 무전해 도금에 의해 도전부를 형성한 후, 도전부의 표면 상에 돌기 형상으로 도금을 석출시키고, 나아가 무전해 도금에 의해 도전부를 형성하는 방법 등을 이용해도 된다.Examples of the method for forming the protrusions include a method in which a core material is attached to the surface of base particles and then a conductive portion is formed by electroless plating; a method in which a conductive portion is formed on the surface of base particles by electroless plating, A method of forming a conductive part by electroless plating, and the like. As another method of forming the projections, there are a method of forming a first conductive portion on the surface of base particles, then disposing a core material on the first conductive portion, and then forming a second conductive portion, A method of adding a core material in the middle step of forming a conductive portion (such as a first conductive portion or a second conductive portion) on the surface of the substrate. Further, in order to form the projections, after the conductive parts are formed on the base particles by electroless plating without using the core material, the plating is deposited on the surfaces of the conductive parts in the form of protrusions, A method of forming a portion may be used.

상기 기재 입자 또는 도전부의 외표면 상에 코어 물질을 배치하는 방법으로서는, 예를 들어, 입자의 분산액 중에, 코어 물질을 첨가하고, 입자의 표면에 코어 물질을, 예를 들어 반데르발스 힘에 의해 집적시켜 부착시키는 방법과, 입자를 넣은 용기에, 코어 물질을 첨가하고, 용기의 회전 등에 의한 기계적인 작용에 의해 입자의 표면에 코어 물질을 부착시키는 방법 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 부착시키는 코어 물질의 양을 제어하기 쉽기 때문에, 분산액 중의 기재 입자의 표면에 코어 물질을 집적시켜 부착시키는 방법이 바람직하다.As a method for disposing the core material on the outer surface of the base particle or the conductive part, for example, a core material is added to a dispersion of the particles, and a core material is coated on the surface of the particle, for example, by a van der Waals force A method in which a core material is added to a container containing particles and a core material is adhered to the surface of the particles by a mechanical action by rotating the container or the like. Among them, a method of integrating and adhering the core material on the surface of the base particles in the dispersion is preferable because it is easy to control the amount of the core material to be adhered.

상기 코어 물질의 재료는 특별히 한정되지 않는다. 상기 코어 물질의 재료 모스 경도는 높은 것이 바람직하다.The material of the core material is not particularly limited. It is preferable that the core material has a high Moh hardness.

상기 코어 물질의 재료 구체예로서는, 티타늄산바륨(모스 경도 4.5), 니켈(모스 경도 5), 실리카(이산화규소, 모스 경도 6 내지 7), 산화티타늄(모스 경도 7), 지르코니아(모스 경도 8 내지 9), 알루미나(모스 경도 9), 탄화텅스텐(모스 경도 9) 및 다이아몬드(모스 경도 10) 등을 들 수 있다. 상기 코어 물질의 재료는, 니켈, 실리카, 산화티타늄, 지르코니아, 알루미나, 탄화텅스텐 또는 다이아몬드인 것이 바람직하고, 실리카, 산화티타늄, 지르코니아, 알루미나, 탄화텅스텐 또는 다이아몬드인 것이 보다 바람직하고, 산화티타늄, 지르코니아, 알루미나, 탄화텅스텐 또는 다이아몬드인 것이 더 바람직하며, 지르코니아, 알루미나, 탄화텅스텐 또는 다이아몬드인 것이 특히 바람직하다. 전자파 실드 기능을 효과적으로 높이는 관점에서는, 상기 코어 물질의 재료 모스 경도는 바람직하게는 4 이상, 보다 바람직하게는 5 이상, 보다 한층 바람직하게는 6 이상, 더 바람직하게는 7 이상, 특히 바람직하게는 7.5 이상이다.Specific examples of the material of the core material include barium titanate (Mohs hardness of 4.5), nickel (Mohs hardness of 5), silica (silicon dioxide, Mohs hardness of 6 to 7), titanium oxide (Mohs hardness of 7), zirconia 9), alumina (Mohs hardness 9), tungsten carbide (Mohs hardness 9), and diamond (Mohs hardness 10). The material of the core material is preferably nickel, silica, titanium oxide, zirconia, alumina, tungsten carbide or diamond, more preferably silica, titanium oxide, zirconia, alumina, tungsten carbide or diamond, , Alumina, tungsten carbide, or diamond, and particularly preferably zirconia, alumina, tungsten carbide, or diamond. From the viewpoint of effectively enhancing the electromagnetic shielding function, the material Mohs hardness of the core material is preferably 4 or more, more preferably 5 or more, still more preferably 6 or more, further preferably 7 or more, particularly preferably 7.5 Or more.

상기 코어 물질의 형상은 특별히 한정되지 않는다. 코어 물질의 형상은 괴상인 것이 바람직하다. 코어 물질로서는, 예를 들어 입자상의 덩어리, 복수의 미소 입자가 응집한 응집 덩어리, 및 부정형의 덩어리 등을 들 수 있다.The shape of the core material is not particularly limited. The shape of the core material is preferably massive. As the core material, for example, there may be mentioned a lump in the form of a particle, a coagulated mass in which a plurality of small particles are aggregated, and a lump of an indeterminate form.

상기 코어 물질의 평균 직경(평균 입자 직경)은, 바람직하게는 0.001㎛ 이상, 보다 바람직하게는 0.05㎛ 이상이며, 바람직하게는 0.9㎛ 이하, 보다 바람직하게는 0.2㎛ 이하이다. 상기 코어 물질의 평균 직경이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 전자파 실드 기능이 효과적으로 높아진다.The average diameter (average particle diameter) of the core material is preferably 0.001 탆 or more, more preferably 0.05 탆 or more, preferably 0.9 탆 or less, and more preferably 0.2 탆 or less. When the average diameter of the core material is above the lower limit and below the upper limit, the electromagnetic shielding function is effectively enhanced.

상기 코어 물질의 「평균 직경(평균 입자 직경)」은, 수 평균 직경(수 평균 입자 직경)을 나타낸다. 코어 물질의 평균 직경은, 임의의 코어 물질 50개를 전자 현미경 또는 광학 현미경으로 관찰하고, 평균값을 산출함으로써 구해진다.The " average diameter (average particle diameter) " of the core material indicates a number average diameter (number average particle diameter). The average diameter of the core material is obtained by observing 50 pieces of any core material with an electron microscope or an optical microscope and calculating an average value.

상기 도전성 입자 1개당 상기의 돌기의 수는, 바람직하게는 3개 이상, 보다 바람직하게는 5개 이상이다. 상기 돌기의 수의 상한은 특별히 한정되지 않는다. 상기 돌기의 수의 상한은 도전성 입자의 입자 직경 등을 고려하여 적절히 선택할 수 있다.The number of the projections per one conductive particle is preferably 3 or more, and more preferably 5 or more. The upper limit of the number of the projections is not particularly limited. The upper limit of the number of the projections can be appropriately selected in consideration of the particle diameter of the conductive particles and the like.

(점착 성분)(Adhesive component)

본 발명 도전성 점착재는, 점착 성분을 갖고, 전술한 바와 같이 도전성 기재에 배치시킴으로써, 도전성 점착 시트나 도전성 점착 테이프 등으로 할 수 있다. 상기 점착 성분으로서는, 고무계 점착제, 아크릴계 점착제, 실리콘계 점착제 및 폴리우레탄계 점착제를 들 수 있다. 상기 점착 성분은 1종만이 사용되어도 되며, 2종 이상이 병용되어도 된다.The conductive adhesive material of the present invention has an adhesive component and is disposed on the conductive base material as described above, whereby the conductive adhesive sheet and the conductive adhesive tape can be formed. Examples of the adhesive component include a rubber-based pressure-sensitive adhesive, an acrylic pressure-sensitive adhesive, a silicone pressure-sensitive adhesive and a polyurethane pressure-sensitive adhesive. The adhesive component may be used alone or in combination of two or more.

도전성 점착재 100중량% 중, 상기 점착 성분의 함유량은 바람직하게는 5중량% 이상, 보다 바람직하게는 15중량% 이상이며, 바람직하게는 60중량% 이하, 보다 바람직하게는 35중량% 이하이다. 상기 점착 성분의 함유량이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 전자파 실드 기능이 효과적으로 높아진다.The content of the adhesive component is preferably 5% by weight or more, more preferably 15% by weight or more, preferably 60% by weight or less, and still more preferably 35% by weight or less in 100% by weight of the conductive adhesive material. When the content of the adhesive component is not less than the lower limit and not more than the upper limit, the electromagnetic shielding function is effectively increased.

이하, 본 발명에 대하여, 구체적인 실시예에 기초하여, 더 상세히 설명한다. 또한, 본 발명은 이하의 실시예로 한정되지 않는다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on concrete examples. The present invention is not limited to the following examples.

이하의 실시예에 있어서는, 분체 저항 측정기(미츠비시가가쿠 아날리테크사 제조 「MCP-PD51형」)를 이용하고, 2.5g의 분체를 사용하여, 분체 전용 프로브에 의해, 20kN 가압, 로레스타 GXMCP-T700로 측정의 조건에서 체적 저항률을 측정했을 때, 체적 저항률이 0.001Ω·㎝ 이하인 도전성 입자를 사용하였다.In the following examples, a powder resistivity meter ("MCP-PD51 type" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was used, and 2.5 g of powder was used, and a pressure of 20 kN, Loresta GXMCP -T700, the conductive particles having a volume resistivity of 0.001? · Cm or less were used.

(실시예 1)(Example 1)

(1) 도전성 점착재를 형성하기 위한 도전성 점착재의 용액의 조제(1) Preparation of a solution of a conductive adhesive material for forming a conductive adhesive material

용매로서 아세트산에틸을 사용하고, 개시제로서 아조비스이소부티로니트릴 0.1중량부를 사용하고, 2-페녹시에틸 메타크릴레이토 40중량부, 메타크릴산 n-부틸 58중량부 및 메타크릴산 2중량부를, 용액 중합 방법에 의해 중합시켜서(60℃ 4시간, 85℃ 1시간), 중량 평균 분자량이 약 40만인 아크릴계 중합체의 용액(고형분 농도: 45중량%)을 얻었다. 이 아크릴계 중합체 용액의 고형분 100중량부에 대해, 점착 부여 수지로서 중합 로진 펜타에리트리톨 에스테르(하리마가세이 그룹사 제조 「하리에스터 S」) 40중량부를 배합하고, 아크릴계 수지 조성물 용액을 제작하였다.40 parts by weight of 2-phenoxyethyl methacrylate, 58 parts by weight of n-butyl methacrylate, and 2 parts by weight of methacrylic acid were added to a solution prepared by dissolving 40 parts by weight of azobisisobutyronitrile as an initiator, (Solid content concentration: 45% by weight) of a polymer having a weight average molecular weight of about 400,000 was obtained by polymerizing by a solution polymerization method (60 DEG C for 4 hours and 85 DEG C for 1 hour). To 100 parts by weight of the solid content of the acrylic polymer solution, 40 parts by weight of polymerized rosin pentaerythritol ester (" Harieste S ", manufactured by Harima Chemicals, Inc.) as a tackifier resin was blended to prepare an acrylic resin composition solution.

이 아크릴계 수지 조성물 용액의 고형분 100중량부에 대해, 금속 입자로서 니켈분(JFE 미네랄사 제조 「NFP201X/XD200㎚」) 7중량부, 도전성 입자(세키스이 가가쿠고교 제조 NIEZB-020-S, 도전부의 도금 금속종: 니켈) 8중량부, 아세트산에틸 100중량부 및 이소시아네이트 가교제(닛폰폴리우레탄사 제조 「코로네이트 L 」) 2중량부를 배합하고, 교반기로 10분간 혼합하여, 도전성 점착재의 용액(아크릴계 점착제 용액)을 얻었다. 도전성 입자에 있어서의 돌기의 평균 높이는 500㎚였다. 또한, 전술한 방법으로 측정한 도전성 입자에 있어서의 돌기가 있는 부분의 표면적의 비율(돌기에 의한 피복률)은 30%였다.7 parts by weight of nickel powder ("NFP201X / XD200 nm" manufactured by JFE Minerals Co., Ltd.) as metal particles, 7 parts by weight of conductive particles (NIEZB-020-S manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., 8 parts by weight of plated metal species: nickel), 100 parts by weight of ethyl acetate and 2 parts by weight of an isocyanate crosslinking agent (Coronate L, manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) were mixed with a stirrer for 10 minutes to prepare a solution of a conductive adhesive Pressure-sensitive adhesive solution). The average height of the projections in the conductive particles was 500 nm. The ratio of the surface area of the protruding portion of the conductive particles measured by the above-described method (coating ratio by protrusions) was 30%.

(2) 도전성 기재 부착 도전성 점착재의 제작(2) Production of conductive adhesive material with conductive base material

두께가 12㎛인 구리박을 준비하였다. 이 구리박 상에, 상기 도전성 점착재의 용액을 사용하고, 바 코터를 사용하여, 두께가 20㎛가 되도록 도전성 점착재(점착층)를 형성하고, 또한 50℃에서 1일간 에이징하여, 도전성 기재 부착 도전성 점착재를 얻었다. 얻어진 도전성 점착재에 있어서, 도전성 입자의 함유량은 8중량%, 금속 입자의 함유량은 7중량%였다.A copper foil having a thickness of 12 탆 was prepared. A conductive adhesive material (pressure-sensitive adhesive layer) was formed on the copper foil so as to have a thickness of 20 占 퐉 using a solution of the conductive adhesive material and aged at 50 占 폚 for one day to form a conductive adhesive layer Thereby obtaining a conductive adhesive material. In the obtained conductive adhesive, the content of the conductive particles was 8 wt% and the content of the metal particles was 7 wt%.

(실시예 2-3)(Example 2-3)

표 1과 같이, 도전성 입자의 입자 직경을 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 도전성 기재 부착 도전성 점착재를 얻었다.A conductive adhesive material with a conductive base material was obtained in the same manner as in Example 1 except that the particle diameter of the conductive particles was changed as shown in Table 1.

(실시예 4)(Example 4)

표 1과 같이, 도전성 입자의 입자 직경 및 금속 입자의 입자 직경을 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 도전성 기재 부착 도전성 점착재를 얻었다.A conductive adhesive material with a conductive base material was obtained in the same manner as in Example 1 except that the particle diameter of the conductive particles and the particle diameter of the metal particles were changed as shown in Table 1.

(실시예 5-8)(Examples 5-8)

표 1과 같이, 금속 입자의 입자 직경을 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 도전성 기재 부착 도전성 점착재를 얻었다.A conductive adhesive material with a conductive base material was obtained in the same manner as in Example 1, except that the particle diameter of the metal particles was changed as shown in Table 1.

(실시예 9)(Example 9)

표 1과 같이, 금속 입자의 입자 직경 및 도전성 점착재의 두께를 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 도전성 기재 부착 도전성 점착재를 얻었다.A conductive adhesive material with a conductive base material was obtained in the same manner as in Example 1, except that the particle diameter of the metal particles and the thickness of the conductive adhesive material were changed as shown in Table 1.

(실시예 10)(Example 10)

표 1과 같이, 도전성 점착재의 두께를 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 도전성 기재 부착 도전성 점착재를 얻었다.A conductive adhesive material with conductive base material was obtained in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the conductive adhesive material was changed as shown in Table 1.

(실시예 11-12)(Examples 11-12)

표 1과 같이, 금속 입자의 입자 직경 및 도전성 점착재의 두께를 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 도전성 기재 부착 도전성 점착재를 얻었다.A conductive adhesive material with a conductive base material was obtained in the same manner as in Example 1, except that the particle diameter of the metal particles and the thickness of the conductive adhesive material were changed as shown in Table 1.

(실시예 13-14)(Examples 13-14)

표 1과 같이, 도전성 입자의 돌기 평균 높이를 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 도전성 기재 부착 도전성 점착재를 얻었다.A conductive adhesive material with a conductive base material was obtained in the same manner as in Example 1, except that the average height of protrusions of the conductive particles was changed as shown in Table 1.

(실시예 15-18)(Examples 15-18)

표 1과 같이, 도전성 입자의 도전부의 도금 금속종을 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 도전성 기재 부착 도전성 점착재를 얻었다.A conductive adhesive material with a conductive base material was obtained in the same manner as in Example 1, except that the plating metal species of the conductive portion of the conductive particles was changed as shown in Table 1.

(실시예 19-23)(Examples 19-23)

표 2와 같이, 얻어지는 도전성 점착재에 있어서의 도전성 입자의 함유량 및 금속 입자의 함유량을 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 도전성 기재 부착 도전성 점착재를 얻었다.A conductive adhesive material with a conductive base material was obtained in the same manner as in Example 1 except that the content of the conductive particles and the content of the metal particles in the conductive adhesive material obtained were changed as shown in Table 2.

(실시예 24-25)(Examples 24-25)

표 2와 같이, 도전성 입자의 입자 직경을 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 도전성 기재 부착 도전성 점착재를 얻었다.A conductive adhesive material with a conductive base material was obtained in the same manner as in Example 1 except that the particle diameter of the conductive particles was changed as shown in Table 2.

(실시예 26-27)(Examples 26-27)

표 2와 같이, 도전성 입자의 돌기 평균 높이를 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 도전성 기재 부착 도전성 점착재를 얻었다.A conductive adhesive material with a conductive base material was obtained in the same manner as in Example 1, except that the average height of protrusions of the conductive particles was changed as shown in Table 2.

(실시예 28)(Example 28)

표 2와 같이, 도전성 점착재의 두께를 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 도전성 기재 부착 도전성 점착재를 얻었다.A conductive adhesive material with a conductive base material was obtained in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the conductive adhesive material was changed as shown in Table 2.

(실시예 29)(Example 29)

표 2와 같이, 도전성 입자의 입자 직경 및 도전성 점착재의 두께를 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 도전성 기재 부착 도전성 점착재를 얻었다.A conductive adhesive material with conductive base material was obtained in the same manner as in Example 1, except that the particle diameter of the conductive particles and the thickness of the conductive adhesive material were changed as shown in Table 2.

(실시예 30)(Example 30)

표 2와 같이, 금속 입자의 입자 직경을 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 도전성 기재 부착 도전성 점착재를 얻었다.A conductive adhesive material with a conductive base material was obtained in the same manner as in Example 1, except that the particle diameter of the metal particles was changed as shown in Table 2.

(실시예 31-32)(Examples 31-32)

표 2와 같이, 도전성 입자의 돌기에 의한 피복률을 변경한 것 이외에는, 실시예 4와 마찬가지로 도전성 기재 부착 도전성 점착재를 얻었다.A conductive adhesive material with a conductive base material was obtained in the same manner as in Example 4, except that the covering ratio of the conductive particles with the projections was changed as shown in Table 2.

(실시예 33)(Example 33)

표 2와 같이, 도전성 입자의 도전부의 도금 금속종(층 구성, 최외층 Ag/내층 Cu)을 변경한 것 이외에는, 실시예 4와 마찬가지로 도전성 기재 부착 도전성 점착재를 얻었다.A conductive adhesive material with conductive base material was obtained in the same manner as in Example 4, except that the plating metal species (layer configuration, outermost layer Ag / inner layer Cu) of the conductive part of the conductive particles was changed as shown in Table 2.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

표 2와 같이, 도전성 점착재에 있어서의 도전성 입자의 함유량을 변경하고, 또한 도전성 점착재에 금속 입자를 사용하지 않은 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 도전성 기재 부착 도전성 점착재를 얻었다.As shown in Table 2, the conductive adhesive material with conductive base material was obtained in the same manner as in Example 1, except that the content of the conductive particles in the conductive adhesive material was changed and no metal particles were used in the conductive adhesive material.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

표 2와 같이, 도전성 점착재에 있어서의 금속 입자의 함유량을 변경하고, 또한 도전성 점착재에 도전성 입자를 사용하지 않은 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 도전성 기재 부착 도전성 점착재를 얻었다.As shown in Table 2, the conductive adhesive material with conductive base material was obtained in the same manner as in Example 1, except that the content of the metal particles in the conductive adhesive material was changed and the conductive particles were not used as the conductive adhesive material.

(비교예 3)(Comparative Example 3)

표 2와 같이, 돌기를 갖지 않은 도전성 입자(돌기의 평균 높이 0㎚)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 도전성 기재 부착 도전성 점착재를 얻었다.A conductive adhesive material with conductive base material was obtained in the same manner as in Example 1, except that the conductive particles having no projections (average height of projections: 0 nm) were used as shown in Table 2.

(실시예 34)(Example 34)

표 2와 같이, 도전성 입자의 돌기에 의한 피복률을 변경한 것 이외에는, 실시예 4와 마찬가지로 도전성 기재 부착 도전성 점착재를 얻었다.A conductive adhesive material with a conductive base material was obtained in the same manner as in Example 4, except that the covering ratio of the conductive particles with the projections was changed as shown in Table 2.

(평가)(evaluation)

(1) 점착성(1) Tackiness

시험편(도전성 기재 부착 도전성 점착재)을 스테인리스판에 도전성 점착재측으로부터 접착하고, 시험판으로부터 180° 방향으로 떼어내는 데 요하는 힘을 평가하였다. 인장 속도는 30㎜/min, 테이프 폭은 25㎜로 하였다. 떼어내는 데 요하는 힘으로부터, 점착성을 이하의 기준으로 판정하였다.A test piece (conductive adhesive material with conductive base material) was bonded to the stainless steel plate from the side of the conductive adhesive material, and the force required to peel the test piece from the test plate in the 180 ° direction was evaluated. The tensile speed was 30 mm / min and the tape width was 25 mm. From the force required to detach, the stickiness was judged by the following criteria.

[점착성의 판정 기준][Judgment criteria of stickiness]

○○○: 15N/㎟ 이상OOX: 15N / ㎟ or more

○○: 10N/㎟ 이상 15N/㎟ 미만○○: 10N / ㎟ or more and less than 15N / ㎟

○: 4N/㎟ 이상 10N/㎟ 미만?: Less than 4N / mm2 and less than 10N / mm2

△: 1N/㎟ 이상 4N/㎟ 미만?: 1 N / mm 2 or more and less than 4 N / mm 2

×: 1N/㎟ 미만×: less than 1 N / mm 2

(2) 접속 저항(2) Connection resistance

도 6과 같이, 도전성 기재 부착 도전성 점착재(61)를 점착재측으로부터, 하부 순구리 전극(62)(25×25㎜)에 접착하고, 상부 순구리 전극(63)의 사이에 두어, 2MPa 가압한 상태에서, 4단자법을 이용하여 접속 저항을 측정하였다. 도전성 기재 부착 도전성 점착재의 평면적을 10×10㎜로 하였다. 접속 저항을 이하의 기준으로 판정하였다.The conductive adhesive material 61 with a conductive base material was adhered to the lower pure copper electrode 62 (25 mm x 25 mm) from the adhesive side and placed between the upper pure copper electrode 63 as shown in Fig. 6, The connection resistance was measured using the four-terminal method. The planar area of the conductive adhesive material with conductive base was 10 x 10 mm. The connection resistance was judged according to the following criteria.

[접속 저항의 판정 기준][Criteria for judging connection resistance]

○○○: 2Ω 미만X: Less than 2 Ω

○○: 2Ω 이상 5Ω 미만○○: 2Ω or more and less than 5Ω

○: 5Ω 이상 10Ω 미만○: 5Ω or more and less than 10Ω

△: 10Ω 이상 30Ω 미만?: 10? Or more and less than 30?

×: 30Ω 이상×: 30Ω or more

(3) 전자파 실드성(3) Electromagnetic wave shielding property

KEC 간사이덴시 공업진흥센터개발의 KEC법(자계)을 이용하여, 도전성 기재 부착 도전성 점착재의 전자파 실드성을 평가하였다. 1㎓ 고주파에 대한 실드 효과를 비교 기준으로 하고, 얻어진 실드 효과의 값으로부터, 전자파 실드성을 평가하였다.The electromagnetic shielding property of the conductive adhesive material with conductive base material was evaluated using the KEC method (magnetic field) of KEC Kansai Industrial Promotion Center development. The shielding effect for 1 GHz high frequency was used as a comparison standard, and the electromagnetic shielding property was evaluated from the value of the obtained shielding effect.

[전자파 실드성의 판정 기준][Judgment criteria of electromagnetic wave shielding property]

○○○: 90㏈ 이상○○○: 90dB or more

○○: 75㏈ 이상 90㏈ 미만○○: Less than 75dB and less than 90dB

○: 60㏈ 이상 75㏈ 미만○: 60 dB or more and less than 75 dB

△: 40㏈ 이상 60㏈ 미만△: Less than 40 dB and less than 60 dB

×: 40㏈ 미만×: Less than 40 dB

(4) 전자파 실드 내구성(4) Durability of electromagnetic wave shield

도전성 기재 부착 도전성 점착재에 대하여, 이하의 히트 사이클 조건에서 히트 사이클 시험을 행한 후, KEC법으로 실드성을 평가하였다. 1㎓ 고주파에 대한 실드 효과를 비교 기준으로 하고, 얻어진 실드 효과의 값으로부터, 전자파 실드 내구성을 평가하였다.The conductive adhesive material with conductive base material was subjected to a heat cycle test under the following heat cycle conditions, and the shielding property was evaluated by the KEC method. The shielding effect for 1 GHz high frequency was taken as a comparison standard, and the electromagnetic wave shield durability was evaluated from the value of the obtained shielding effect.

히트 사이클 조건: 저온측: -10℃/30min, 고온측: 120℃/30min, 합계 250 사이클.Heat cycle conditions: low temperature side: -10 占 폚 / 30 min, high temperature side: 120 占 폚 / 30 min, total 250 cycles.

[전자파 실드 내구성의 판정 기준][Judgment criteria of electromagnetic wave shielding durability]

○○○: 80㏈ 이상○○○: Over 80dB

○○: 65㏈ 이상 80㏈ 미만○○: Less than 65dB and less than 80dB

○: 50㏈ 이상 65㏈ 미만○: Less than 50 dB and less than 65 dB

△: 40㏈ 이상 50㏈ 미만?: 40 dB or more and less than 50 dB

×: 40㏈ 미만×: Less than 40 dB

도전성 기재 부착 도전성 점착재의 상세 및 평가 결과를 하기의 표 1 내지 3에 나타낸다.The details of the conductive adhesive material with conductive base and the evaluation results are shown in Tables 1 to 3 below.

Figure pct00001
Figure pct00001

Figure pct00002
Figure pct00002

Figure pct00003
Figure pct00003

1, 1A, 1B, 1C: 도전성 입자
2: 기재 입자
3, 3A, 3B, 3C: 도전부
3a, 3Aa, 3Ba, 3Ca: 돌기
3BA, 3CA: 제1 도전부
3CAa: 돌기
3BB, 3CB: 제2 도전부
3BBa, 3CBa: 돌기
4: 코어 물질
51: 도전성 기재 부착 도전성 점착재
52: 도전성 점착재
53: 도전성 기재
56: 금속 입자
57: 점착 성분
1, 1A, 1B, 1C: conductive particles
2: Base particles
3, 3A, 3B, 3C:
3a, 3Aa, 3Ba, 3Ca:
3BA, 3CA: first conductive part
3CAa: projection
3BB, 3CB: second conductive portion
3BBa, 3CBa: projection
4: core material
51: Conductive adhesive material with conductive base material
52: conductive adhesive material
53: conductive substrate
56: metal particles
57: Adhesive component

Claims (12)

복수의 금속 입자와, 복수의 도전성 입자와, 점착 성분을 포함하고,
상기 도전성 입자가, 금속 입자를 제외한 기재 입자와, 상기 기재 입자의 표면 상에 배치된 도전부를 구비하는 도전성 입자이며,
상기 도전성 입자가 상기 도전부의 외표면에 복수의 돌기를 갖는, 도전성 점착재.
A plurality of metal particles, a plurality of conductive particles, and an adhesive component,
Wherein the conductive particles are conductive particles having a base particle excluding metal particles and a conductive portion disposed on a surface of the base particle,
Wherein the conductive particles have a plurality of protrusions on the outer surface of the conductive portion.
제1항에 있어서, 도전성 점착재 100중량% 중, 상기 도전성 입자의 함유량이 1중량% 이상 30중량% 이하인, 도전성 점착재.The conductive adhesive material according to claim 1, wherein the content of the conductive particles in the conductive adhesive material is 1 wt% or more and 30 wt% or less. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 도전성 입자의 입자 직경이 3㎛ 이상 40㎛ 이하인, 도전성 점착재.The conductive adhesive material according to claim 1 or 2, wherein the conductive particles have a particle diameter of 3 탆 or more and 40 탆 or less. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 도전성 입자의 체적 저항률이 0.001Ω·㎝ 이하인, 도전성 점착재.The conductive adhesive material according to any one of claims 1 to 3, wherein the conductive particles have a volume resistivity of 0.001? · Cm or less. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 도전성 입자의 입자 직경의, 상기 금속 입자의 입자 직경에 대한 비가 0.7 이상 5000 이하인, 도전성 점착재.The conductive adhesive material according to any one of claims 1 to 4, wherein the ratio of the particle diameter of the conductive particles to the particle diameter of the metal particles is 0.7 to 5,000. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 돌기의 평균 높이가 30㎚ 이상 1000㎚ 이하인, 도전성 점착재.The conductive adhesive material according to any one of claims 1 to 5, wherein the average height of the projections is 30 nm or more and 1000 nm or less. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 도전부의 외표면의 전체 표면적 100% 중, 상기 돌기가 있는 부분의 표면적이 0.1% 이상인, 도전성 점착재.The conductive adhesive material according to any one of claims 1 to 6, wherein a surface area of the projected portion is 0.1% or more out of 100% of the total surface area of the outer surface of the conductive portion. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 도전성 입자는 상기 도전부의 외표면을 융기시키고 있는 복수의 코어 물질을 구비하는, 도전성 점착재.The conductive adhesive material according to any one of claims 1 to 7, wherein the conductive particles comprise a plurality of core materials which rid the outer surface of the conductive portion. 제8항에 있어서, 상기 코어 물질의 재료의 모스 경도가 5 이상인, 도전성 점착재.The conductive adhesive material according to claim 8, wherein the material of the core material has a Mohs hardness of 5 or more. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 두께가 5㎛ 이상 40㎛ 이하인, 도전성 점착재.The conductive adhesive material according to any one of claims 1 to 9, wherein the thickness is not less than 5 占 퐉 and not more than 40 占 퐉. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 기재된 도전성 점착재와,
도전성 기재를 갖고,
상기 도전성 점착재가 상기 도전성 기재의 표면 상에 배치되어 있는, 도전성 기재 부착 도전성 점착재.
A conductive adhesive material according to any one of claims 1 to 10,
And a conductive substrate,
Wherein the conductive adhesive material is disposed on a surface of the conductive base material.
제11항에 있어서, 상기 도전성 기재가 구리박인, 도전성 기재 부착 도전성 점착재.The conductive adhesive material according to claim 11, wherein the conductive base material is a copper foil.
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