JP7271543B2 - Conductive particles with insulating particles, conductive materials and connection structures - Google Patents

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Description

本発明は、導電性粒子の表面に絶縁性粒子が配置された絶縁性粒子付き導電性粒子に関する。また、本発明は、上記絶縁性粒子付き導電性粒子を用いた導電材料及び接続構造体に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to conductive particles with insulating particles, in which insulating particles are arranged on the surfaces of the conductive particles. The present invention also relates to a conductive material and a connection structure using the conductive particles with insulating particles.

異方性導電ペースト及び異方性導電フィルム等の異方性導電材料が広く知られている。該異方性導電材料では、バインダー樹脂中に導電性粒子が分散されている。また、導電性粒子として、導電層の表面に絶縁処理が施された導電性粒子が用いられることがある。 Anisotropic conductive materials such as anisotropic conductive pastes and anisotropic conductive films are widely known. In the anisotropic conductive material, conductive particles are dispersed in a binder resin. Also, as the conductive particles, conductive particles obtained by subjecting the surface of the conductive layer to insulation treatment may be used.

上記異方性導電材料は、各種の接続構造体を得るために用いられている。上記異方性導電材料を用いる接続としては、例えば、フレキシブルプリント基板とガラス基板との接続(FOG(Film on Glass))、半導体チップとフレキシブルプリント基板との接続(COF(Chip on Film))、半導体チップとガラス基板との接続(COG(Chip on Glass))、並びにフレキシブルプリント基板とガラスエポキシ基板との接続(FOB(Film on Board))等が挙げられる。 The anisotropic conductive material is used to obtain various connection structures. Examples of the connection using the anisotropic conductive material include connection between a flexible printed circuit board and a glass substrate (FOG (Film on Glass)), connection between a semiconductor chip and a flexible printed circuit board (COF (Chip on Film)), Examples include connection between a semiconductor chip and a glass substrate (COG (Chip on Glass)) and connection between a flexible printed circuit board and a glass epoxy substrate (FOB (Film on Board)).

また、上記導電性粒子として、導電性粒子の表面上に絶縁性粒子が配置された絶縁性粒子付き導電性粒子が用いられることがある。さらに、導電層の表面上に絶縁層が配置された被覆導電性粒子が用いられることもある。 In addition, as the conductive particles, conductive particles with insulating particles in which insulating particles are arranged on the surfaces of the conductive particles may be used. Furthermore, coated conductive particles having an insulating layer disposed on the surface of the conductive layer may be used.

上記絶縁性粒子付き導電性粒子の一例として、下記の特許文献1には、導電層を表面に有する導電性粒子と、上記導電性粒子の表面に付着している絶縁性粒子とを備える絶縁性粒子付き導電性粒子が開示されている。上記絶縁性粒子付き導電性粒子では、上記絶縁性粒子が、リン原子に直接結合された水酸基又はケイ素原子に直接結合された水酸基を表面に有する。 As an example of the conductive particles with insulating particles, the following Patent Document 1 discloses conductive particles having a conductive layer on the surface and insulating particles attached to the surface of the conductive particles. Conductive particles with particles are disclosed. In the conductive particles with insulating particles, the insulating particles have hydroxyl groups directly bonded to phosphorus atoms or hydroxyl groups directly bonded to silicon atoms on the surface.

下記の特許文献2には、導電部を少なくとも表面に有する導電性粒子、及び上記導電性粒子の表面上に配置された複数の絶縁性粒子を有する絶縁性粒子付き導電性粒子本体と、上記絶縁性粒子付き導電性粒子本体の表面を被覆している被膜とを備える絶縁性粒子付き導電性粒子が開示されている。上記絶縁性粒子付き導電性粒子では、上記被膜が、上記導電性粒子を覆っている第1の被膜部分と、上記絶縁性粒子の表面を覆っている第2の被膜部分とを有する。上記絶縁性粒子付き導電性粒子では、上記第1の被膜部分における厚みが、上記絶縁性粒子の平均粒子径の1/2以下である。 In the following Patent Document 2, a conductive particle having a conductive portion at least on the surface, and a conductive particle body with insulating particles having a plurality of insulating particles arranged on the surface of the conductive particle, and the insulating and a coating covering the surface of the main body of the conductive particles with insulating particles is disclosed. In the conductive particles with insulating particles, the coating has a first coating portion covering the conductive particles and a second coating portion covering the surfaces of the insulating particles. In the conductive particles with insulating particles, the thickness of the first coating portion is 1/2 or less of the average particle diameter of the insulating particles.

WO2011/030715A1WO2011/030715A1 特開2013-175453号公報JP 2013-175453 A

導電性粒子を含む導電材料を用いて導電接続を行う際には、上方の複数の電極と下方の複数の電極とが電気的に接続されて、導電接続が行われる。導電性粒子は、上下の電極間に配置されることが望ましく、隣接する横方向の電極間には配置されないことが望ましい。隣接する横方向の電極間は、電気的に接続されないことが望ましい。 When conducting a conductive connection using a conductive material containing conductive particles, a plurality of upper electrodes and a plurality of lower electrodes are electrically connected to form a conductive connection. The conductive particles are preferably located between the top and bottom electrodes and not between adjacent lateral electrodes. It is desirable that there is no electrical connection between adjacent lateral electrodes.

従来の絶縁性粒子付き導電性粒子では、導電性の表面が絶縁性粒子により被覆されているものの、接続されるべき上下の電極間の導電接続後に、接続されてはならない横方向に隣接する電極間の電気的な接続を抑制することが困難なことがある。特に、粒子径が比較的大きい導電性粒子を用いた場合に、導電接続された接続構造体における隣接する横方向の電極間の絶縁信頼性を十分に高めることが困難なことがある。 In conventional conductive particles with insulating particles, although the conductive surface is covered with insulating particles, after conductive connection between the upper and lower electrodes to be connected, laterally adjacent electrodes that should not be connected It may be difficult to suppress the electrical connection between them. In particular, when conductive particles having a relatively large particle size are used, it may be difficult to sufficiently improve the insulation reliability between adjacent lateral electrodes in the conductively connected connection structure.

また、従来の絶縁性粒子付き導電性粒子では、有機化合物や無機酸化物等の被膜を用いて、絶縁性粒子を導電性粒子の表面上に配置させることがある。上記被膜を用いて、絶縁性粒子を導電性粒子の表面上に配置させると、導電接続時に、導電性粒子の表面から絶縁性粒子がはずれにくくなることがあり、接続されるべき上下の電極間の導通信頼性を十分に高めることが困難なことがある。従来の絶縁性粒子付き導電性粒子では、接続されるべき上下の電極間の導通信頼性及び接続されてはならない横方向に隣接する電極間の絶縁信頼性を効果的に高めることが困難なことがある。 In addition, in conventional conductive particles with insulating particles, insulating particles may be arranged on the surfaces of the conductive particles by using a film such as an organic compound or an inorganic oxide. When the insulating particles are placed on the surface of the conductive particles using the coating, the insulating particles may be difficult to separate from the surfaces of the conductive particles during conductive connection, and the upper and lower electrodes to be connected It may be difficult to sufficiently improve the conduction reliability of the With conventional conductive particles with insulating particles, it is difficult to effectively improve the reliability of conduction between upper and lower electrodes that should be connected and the reliability of insulation between laterally adjacent electrodes that should not be connected. There is

本発明の目的は、電極間を電気的に接続した場合に、導通信頼性を効果的に高めることができ、さらに、絶縁信頼性を効果的に高めることができる絶縁性粒子付き導電性粒子を提供することである。また、本発明の目的は、上記絶縁性粒子付き導電性粒子を用いた導電材料及び接続構造体を提供することである。 An object of the present invention is to provide conductive particles with insulating particles that can effectively improve conduction reliability when electrodes are electrically connected, and can effectively improve insulation reliability. to provide. Another object of the present invention is to provide a conductive material and a connection structure using the conductive particles with insulating particles.

本発明の広い局面によれば、導電部を少なくとも表面に有する導電性粒子と、前記導電性粒子の表面上に配置された複数の絶縁性粒子とを備え、前記絶縁性粒子の粒子径が、500nm以上1500nm以下であり、前記絶縁性粒子の60℃における貯蔵弾性率が、100MPa以上1000MPa以下である、絶縁性粒子付き導電性粒子が提供される。 According to a broad aspect of the present invention, conductive particles having at least a conductive portion on the surface thereof, and a plurality of insulating particles arranged on the surfaces of the conductive particles, the insulating particles having a particle diameter of Provided is a conductive particle with insulating particles having a particle size of 500 nm or more and 1500 nm or less and a storage elastic modulus of the insulating particles at 60° C. of 100 MPa or more and 1000 MPa or less.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子のある特定の局面では、前記導電性粒子が、前記導電部の外表面に突起を有する。 In a specific aspect of the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the conductive particles have projections on the outer surface of the conductive portion.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子のある特定の局面では、前記導電性粒子の粒子径の、前記絶縁性粒子の粒子径に対する比が、3以上100以下である。 In a specific aspect of the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the ratio of the particle size of the conductive particles to the particle size of the insulating particles is 3 or more and 100 or less.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子のある特定の局面では、前記絶縁性粒子の膨潤倍率が、1以上2.5以下である。 In a specific aspect of the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the insulating particles have a swelling ratio of 1 or more and 2.5 or less.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子のある特定の局面では、前記絶縁性粒子の全個数の内の10%以上が、他の前記絶縁性粒子に接触しないように、前記導電性粒子の表面上に配置されている。 In a specific aspect of the conductive particles with insulating particles according to the present invention, 10% or more of the total number of the insulating particles do not come into contact with other insulating particles. placed on the surface.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子のある特定の局面では、前記導電性粒子の粒子径が、1μm以上50μm以下である。 In a specific aspect of the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the conductive particles have a particle diameter of 1 μm or more and 50 μm or less.

本発明の広い局面によれば、上述した絶縁性粒子付き導電性粒子と、バインダー樹脂とを含む、導電材料が提供される。 According to a broad aspect of the present invention, there is provided a conductive material containing the conductive particles with insulating particles described above and a binder resin.

本発明の広い局面によれば、第1の電極を表面に有する第1の接続対象部材と、第2の電極を表面に有する第2の接続対象部材と、前記第1の接続対象部材と、前記第2の接続対象部材を接続している接続部とを備え、前記接続部の材料が、上述した絶縁性粒子付き導電性粒子であるか、又は前記絶縁性粒子付き導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料であり、前記第1の電極と前記第2の電極とが、前記絶縁性粒子付き導電性粒子における前記導電部により電気的に接続されている、接続構造体が提供される。 According to a broad aspect of the present invention, a first member to be connected having a first electrode on its surface, a second member to be connected having a second electrode on its surface, the first member to be connected, A connecting portion connecting the second connection target member, and the material of the connecting portion is the above-described conductive particles with insulating particles, or the conductive particles with insulating particles and a binder resin. and wherein the first electrode and the second electrode are electrically connected by the conductive portion in the conductive particles with insulating particles. .

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子は、導電部を少なくとも表面に有する導電性粒子と、上記導電性粒子の表面上に配置された複数の絶縁性粒子とを備える。本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子では、上記絶縁性粒子の粒子径が、500nm以上1500nm以下である。本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子では、上記絶縁性粒子の60℃における貯蔵弾性率が、100MPa以上1000MPa以下である。本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子では、上記の構成が備えられているので、電極間を電気的に接続した場合に、導通信頼性を効果的に高めることができ、さらに、絶縁信頼性を効果的に高めることができる。 A conductive particle with insulating particles according to the present invention comprises a conductive particle having at least a conductive portion on its surface, and a plurality of insulating particles arranged on the surface of the conductive particle. In the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the insulating particles have a particle diameter of 500 nm or more and 1500 nm or less. In the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the insulating particles have a storage elastic modulus at 60° C. of 100 MPa or more and 1000 MPa or less. Since the conductive particles with insulating particles according to the present invention are provided with the above configuration, the reliability of conduction can be effectively improved when the electrodes are electrically connected, and the reliability of insulation can be improved. can effectively enhance sexuality.

図1は、本発明の第1の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing conductive particles with insulating particles according to the first embodiment of the present invention. 図2は、本発明の第2の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing conductive particles with insulating particles according to a second embodiment of the present invention. 図3は、本発明の第3の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing conductive particles with insulating particles according to a third embodiment of the present invention. 図4は、本発明の第1の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を用いた接続構造体を模式的に示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a connected structure using conductive particles with insulating particles according to the first embodiment of the present invention.

以下、本発明の詳細を説明する。 The details of the present invention are described below.

(絶縁性粒子付き導電性粒子)
本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子は、導電部を少なくとも表面に有する導電性粒子と、上記導電性粒子の表面上に配置された複数の絶縁性粒子とを備える。本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子では、上記絶縁性粒子の粒子径が、500nm以上1500nm以下である。本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子では、上記絶縁性粒子の60℃における貯蔵弾性率が、100MPa以上1000MPa以下である。
(Conductive particles with insulating particles)
A conductive particle with insulating particles according to the present invention comprises a conductive particle having at least a conductive portion on its surface, and a plurality of insulating particles arranged on the surface of the conductive particle. In the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the insulating particles have a particle diameter of 500 nm or more and 1500 nm or less. In the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the insulating particles have a storage elastic modulus at 60° C. of 100 MPa or more and 1000 MPa or less.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子では、上記の構成が備えられているので、電極間を電気的に接続した場合に、導通信頼性を効果的に高めることができ、さらに、絶縁信頼性を効果的に高めることができる。 Since the conductive particles with insulating particles according to the present invention are provided with the above configuration, the reliability of conduction can be effectively improved when the electrodes are electrically connected, and the reliability of insulation can be improved. can effectively enhance sexuality.

従来の絶縁性粒子付き導電性粒子では、導電性の表面が絶縁性粒子により被覆されているものの、接続されるべき上下の電極間の導電接続後に、接続されてはならない横方向に隣接する電極間の電気的な接続を抑制することが困難なことがある。特に、粒子径が比較的大きい導電性粒子を用いた場合に、導電接続された接続構造体における隣接する横方向の電極間の絶縁信頼性を十分に高めることできないという課題がある。 In conventional conductive particles with insulating particles, although the conductive surface is covered with insulating particles, after conductive connection between the upper and lower electrodes to be connected, laterally adjacent electrodes that should not be connected It may be difficult to suppress the electrical connection between them. In particular, when conductive particles having a relatively large particle size are used, there is a problem that the insulation reliability between adjacent lateral electrodes in the conductively connected connection structure cannot be sufficiently improved.

本発明者らは、上記の課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の絶縁性粒子を用いることで、上記の課題を解決できることを見出した。本発明では、特定の絶縁性粒子を用いているので、導電接続された接続構造体における隣接する横方向の電極間の絶縁信頼性を効果的に高めることができる。 As a result of intensive studies aimed at solving the above problems, the present inventors have found that the above problems can be solved by using specific insulating particles. In the present invention, since specific insulating particles are used, it is possible to effectively improve the insulation reliability between adjacent lateral electrodes in the conductively connected connection structure.

また、本発明では、特定の絶縁性粒子を用いることによって、絶縁性粒子を導電性粒子の表面上に効果的に配置させることができるので、有機化合物や無機酸化物等の被覆を用いる必要がない。結果として、導電接続時に、導電性粒子の表面から絶縁性粒子がはずれやすく、接続されるべき上下の電極間の導通信頼性を効果的に高めることができる。本発明では、接続されるべき上下の電極間の導通信頼性及び接続されてはならない横方向に隣接する電極間の絶縁信頼性を効果的に高めることができる。 In addition, in the present invention, by using specific insulating particles, the insulating particles can be effectively arranged on the surface of the conductive particles, so there is no need to use a coating such as an organic compound or an inorganic oxide. do not have. As a result, the insulating particles are easily separated from the surfaces of the conductive particles during conductive connection, and the reliability of conduction between the upper and lower electrodes to be connected can be effectively improved. According to the present invention, it is possible to effectively improve the reliability of conduction between upper and lower electrodes to be connected and the reliability of insulation between laterally adjacent electrodes that should not be connected.

本発明では、上記のような効果を得るために、特定の絶縁性粒子を用いることは大きく寄与する。 In the present invention, the use of specific insulating particles greatly contributes to obtaining the above effects.

電極間の導通信頼性及び絶縁信頼性をより一層効果的に高める観点からは、上記絶縁性粒子付き導電性粒子の粒子径の変動係数(CV値)は、好ましくは10%以下、より好ましくは5%以下である。 From the viewpoint of more effectively increasing the reliability of conduction and insulation between electrodes, the coefficient of variation (CV value) of the particle size of the conductive particles with insulating particles is preferably 10% or less, more preferably 5% or less.

上記変動係数(CV値)は、以下のようにして測定できる。 The coefficient of variation (CV value) can be measured as follows.

CV値(%)=(ρ/Dn)×100
ρ:絶縁性粒子付き導電性粒子の粒子径の標準偏差
Dn:絶縁性粒子付き導電性粒子の粒子径の平均値
CV value (%) = (ρ/Dn) × 100
ρ: standard deviation of particle size of conductive particles with insulating particles Dn: average value of particle size of conductive particles with insulating particles

上記絶縁性粒子付き導電性粒子の形状は特に限定されない。上記絶縁性粒子付き導電性粒子の形状は、球状であってもよく、球状以外の形状であってもよく、扁平状等の形状であってもよい。 The shape of the conductive particles with insulating particles is not particularly limited. The shape of the conductive particles with insulating particles may be spherical, may be other than spherical, or may be flat.

上記絶縁性粒子付き導電性粒子は、バインダー樹脂中に分散され、導電材料を得るために好適に用いられる。 The above conductive particles with insulating particles are dispersed in a binder resin and suitably used to obtain a conductive material.

以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態を説明する。 Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本発明の第1の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を示す断面図である。 FIG. 1 is a cross-sectional view showing conductive particles with insulating particles according to the first embodiment of the present invention.

図1に示す絶縁性粒子付き導電性粒子1は、導電性粒子2と、導電性粒子2の表面上に配置された複数の絶縁性粒子3とを備える。絶縁性粒子3は、絶縁性を有する材料により形成されている。 A conductive particle 1 with insulating particles shown in FIG. The insulating particles 3 are made of an insulating material.

導電性粒子2は、基材粒子11と、基材粒子11の表面上に配置された導電部12とを有する。絶縁性粒子付き導電性粒子1においては、導電部12は導電層である。導電部12は、基材粒子11の表面を覆っている。導電性粒子2は、基材粒子11の表面が導電部12により被覆された被覆粒子である。導電性粒子2は表面に導電部12を有する。上記導電性粒子では、上記導電部が上記基材粒子の表面の全体を覆っていてもよく、上記導電部が上記基材粒子の表面の一部を覆っていてもよい。上記絶縁性粒子付き導電性粒子では、上記絶縁性粒子は、上記導電部の表面上に配置されていることが好ましい。 The conductive particles 2 have substrate particles 11 and conductive portions 12 arranged on the surfaces of the substrate particles 11 . In the conductive particles 1 with insulating particles, the conductive part 12 is a conductive layer. The conductive portion 12 covers the surface of the substrate particles 11 . The conductive particles 2 are coated particles in which the surfaces of the base particles 11 are coated with the conductive portions 12 . The conductive particles 2 have conductive portions 12 on their surfaces. In the conductive particles, the conductive portion may cover the entire surface of the substrate particle, or the conductive portion may cover a portion of the surface of the substrate particle. In the conductive particles with insulating particles, the insulating particles are preferably arranged on the surface of the conductive portion.

図2は、本発明の第2の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を示す断面図である。 FIG. 2 is a cross-sectional view showing conductive particles with insulating particles according to a second embodiment of the present invention.

図2に示す絶縁性粒子付き導電性粒子21は、導電性粒子22と、導電性粒子22の表面上に配置された複数の絶縁性粒子3とを備える。 A conductive particle 21 with insulating particles shown in FIG. 2 includes a conductive particle 22 and a plurality of insulating particles 3 arranged on the surface of the conductive particle 22 .

導電性粒子22は、基材粒子11と、基材粒子11の表面上に配置された導電部31とを有する。絶縁性粒子付き導電性粒子21においては、導電部31は導電層である。導電性粒子22は、基材粒子11の表面上に複数の芯物質32を有する。導電部31は、基材粒子11と芯物質32とを被覆している。芯物質32を導電部31が被覆していることにより、導電性粒子22は、表面に複数の突起33を有する。導電性粒子22では、芯物質32により導電部31の表面が隆起されており、複数の突起33が形成されている。上記導電性粒子では、上記導電部が上記基材粒子の表面の全体を覆っていてもよく、上記導電部が上記基材粒子の表面の一部を覆っていてもよい。上記絶縁性粒子付き導電性粒子では、上記絶縁性粒子は、上記導電部の表面上に配置されていることが好ましい。 The conductive particles 22 have substrate particles 11 and conductive portions 31 arranged on the surfaces of the substrate particles 11 . In the conductive particles 21 with insulating particles, the conductive portion 31 is a conductive layer. Conductive particles 22 have a plurality of core substances 32 on the surface of substrate particles 11 . The conductive portion 31 covers the substrate particles 11 and the core substance 32 . Since the core substance 32 is covered with the conductive portion 31 , the conductive particles 22 have a plurality of projections 33 on the surface. In the conductive particles 22 , the surface of the conductive portion 31 is raised by the core substance 32 to form a plurality of protrusions 33 . In the conductive particles, the conductive portion may cover the entire surface of the substrate particle, or the conductive portion may cover a portion of the surface of the substrate particle. In the conductive particles with insulating particles, the insulating particles are preferably arranged on the surface of the conductive portion.

図3は、本発明の第3の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を示す断面図である。 FIG. 3 is a cross-sectional view showing conductive particles with insulating particles according to a third embodiment of the present invention.

図3に示す絶縁性粒子付き導電性粒子41は、導電性粒子42と、導電性粒子42の表面上に配置された複数の絶縁性粒子3とを備える。 A conductive particle 41 with insulating particles shown in FIG. 3 includes a conductive particle 42 and a plurality of insulating particles 3 arranged on the surface of the conductive particle 42 .

導電性粒子42は、基材粒子11と、基材粒子11の表面上に配置された導電部51とを有する。絶縁性粒子付き導電性粒子41においては、導電部51は導電層である。導電性粒子42は、導電性粒子22のように芯物質を有しない。導電部51は、第1の部分と、該第1の部分よりも厚みが厚い第2の部分とを有する。導電性粒子42は、表面に複数の突起52を有する。複数の突起52を除く部分が、導電部51の上記第1の部分である。複数の突起52は、導電部51の厚みが厚い上記第2の部分である。上記導電性粒子では、上記導電部が上記基材粒子の表面の全体を覆っていてもよく、上記導電部が上記基材粒子の表面の一部を覆っていてもよい。上記絶縁性粒子付き導電性粒子では、上記絶縁性粒子は、上記導電部の表面上に配置されていることが好ましい。 The conductive particles 42 have substrate particles 11 and conductive portions 51 arranged on the surfaces of the substrate particles 11 . In the conductive particles 41 with insulating particles, the conductive portion 51 is a conductive layer. The conductive particles 42 do not have a core material like the conductive particles 22 do. The conductive portion 51 has a first portion and a second portion thicker than the first portion. The conductive particles 42 have a plurality of projections 52 on their surfaces. The portion other than the plurality of protrusions 52 is the first portion of the conductive portion 51 . The plurality of protrusions 52 are the thick second portion of the conductive portion 51 . In the conductive particles, the conductive portion may cover the entire surface of the substrate particle, or the conductive portion may cover a portion of the surface of the substrate particle. In the conductive particles with insulating particles, the insulating particles are preferably arranged on the surface of the conductive portion.

以下、絶縁性粒子付き導電性粒子の他の詳細を説明する。 Other details of the conductive particles with insulating particles will be described below.

導電性粒子:
上記導電性粒子は、基材粒子と、上記基材粒子の表面上に配置された導電部とを有していることが好ましい。上記導電部は、単層構造であってもよく、2層以上の複層構造であってもよい。
Conductive particles:
It is preferable that the conductive particles have substrate particles and conductive portions arranged on the surfaces of the substrate particles. The conductive portion may have a single-layer structure or a multi-layer structure of two or more layers.

上記導電性粒子の粒子径は、好ましくは1μm以上、より好ましくは10μm以上であり、好ましくは50μm以下、より好ましくは40μm以下である。上記導電性粒子の粒子径が、上記下限以上及び上記上限以下であると、上記導電性粒子を用いて電極間を接続した場合に、導電性粒子と電極との接触面積が十分に大きくなり、かつ導電部を形成する際に凝集した導電性粒子が形成され難くなる。また、導電性粒子を介して接続された電極間の間隔が大きくなりすぎず、かつ導電部が基材粒子の表面から剥離し難くなる。 The particle diameter of the conductive particles is preferably 1 μm or more, more preferably 10 μm or more, and preferably 50 μm or less, more preferably 40 μm or less. When the particle diameter of the conductive particles is the lower limit or more and the upper limit or less, when the electrodes are connected using the conductive particles, the contact area between the conductive particles and the electrodes is sufficiently large, In addition, it becomes difficult to form agglomerated conductive particles when forming the conductive portion. Also, the distance between the electrodes connected via the conductive particles does not become too large, and the conductive portions are less likely to peel off from the surface of the substrate particles.

上記導電性粒子の粒子径は、平均粒子径であることが好ましく、数平均粒子径であることがより好ましい。導電性粒子の粒子径は、例えば、任意の導電性粒子50個を電子顕微鏡又は光学顕微鏡にて観察し、各導電性粒子の粒子径の平均値を算出することや、レーザー回折式粒度分布測定を行うことにより求められる。導電性粒子において、任意の導電性粒子50個を電子顕微鏡又は光学顕微鏡にて観察する方法により、上記導電性粒子の粒子径を測定する場合には、例えば、以下のようにして測定できる。 The particle size of the conductive particles is preferably an average particle size, more preferably a number average particle size. The particle size of the conductive particles can be determined, for example, by observing 50 arbitrary conductive particles with an electron microscope or an optical microscope and calculating the average particle size of each conductive particle, or by laser diffraction particle size distribution measurement. is obtained by doing Regarding the conductive particles, when measuring the particle size of the conductive particles by observing 50 arbitrary conductive particles with an electron microscope or an optical microscope, the measurement can be performed, for example, as follows.

導電性粒子の含有量が30重量%となるように、Kulzer社製「テクノビット4000」に添加し、分散させて、導電性粒子検査用埋め込み樹脂を作製する。検査用埋め込み樹脂中に分散した導電性粒子の中心付近を通るようにイオンミリング装置(日立ハイテクノロジーズ社製「IM4000」)を用いて、導電性粒子の断面を切り出す。そして、電界放射型走査型電子顕微鏡(FE-SEM)を用いて、画像倍率を25000倍に設定し、50個の導電性粒子を無作為に選択し、各導電性粒子を観察する。各導電性粒子の円相当径を粒子径として計測し、それらを算術平均して導電性粒子の粒子径とする。導電性粒子検査用埋め込み樹脂の代わりに、絶縁性粒子付き導電性粒子検査用埋め込み樹脂を作製してもよい。 The content of the conductive particles is added to "Technovit 4000" manufactured by Kulzer Co., Ltd. and dispersed to prepare an embedding resin for conductive particle inspection. Using an ion milling device (“IM4000” manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation), a cross section of the conductive particles is cut out so as to pass through the vicinity of the center of the conductive particles dispersed in the embedding resin for inspection. Then, using a field emission scanning electron microscope (FE-SEM), the image magnification is set to 25000, 50 conductive particles are randomly selected, and each conductive particle is observed. The circle-equivalent diameter of each conductive particle is measured as a particle diameter, and the arithmetic mean is taken as the particle diameter of the conductive particles. Instead of the conductive particle inspection embedding resin, a conductive particle inspection embedding resin with insulating particles may be produced.

上記導電性粒子の粒子径の変動係数(CV値)は、好ましくは10%以下、より好ましくは5%以下である。上記導電性粒子の粒子径の変動係数が、上記上限以下であると、電極間の導通信頼性及び絶縁信頼性をより一層効果的に高めることができる。 The coefficient of variation (CV value) of the particle size of the conductive particles is preferably 10% or less, more preferably 5% or less. When the coefficient of variation of the particle size of the conductive particles is equal to or less than the upper limit, the reliability of electrical connection and the reliability of insulation between electrodes can be more effectively improved.

上記変動係数(CV値)は、以下のようにして測定できる。 The coefficient of variation (CV value) can be measured as follows.

CV値(%)=(ρ/Dn)×100
ρ:導電性粒子の粒子径の標準偏差
Dn:導電性粒子の粒子径の平均値
CV value (%) = (ρ/Dn) × 100
ρ: standard deviation of the particle size of the conductive particles Dn: average value of the particle size of the conductive particles

上記導電性粒子の形状は特に限定されない。上記導電性粒子の形状は、球状であってもよく、球状以外の形状であってもよく、扁平状等の形状であってもよい。 The shape of the conductive particles is not particularly limited. The conductive particles may have a spherical shape, a shape other than a spherical shape, or a flat shape.

基材粒子:
上記基材粒子としては、樹脂粒子、金属粒子を除く無機粒子、有機無機ハイブリッド粒子及び金属粒子等が挙げられる。上記基材粒子は、金属粒子を除く基材粒子であることが好ましく、樹脂粒子、金属粒子を除く無機粒子又は有機無機ハイブリッド粒子であることがより好ましい。上記基材粒子は、無機粒子を除く基材粒子であってもよい。上記基材粒子は、コアと、該コアの表面上に配置されたシェルとを備えるコアシェル粒子であってもよい。上記コアが有機コアであってもよく、上記シェルが無機シェルであってもよい。
Substrate particles:
Examples of the substrate particles include resin particles, inorganic particles other than metal particles, organic-inorganic hybrid particles, and metal particles. The substrate particles are preferably substrate particles other than metal particles, and more preferably resin particles, inorganic particles other than metal particles, or organic-inorganic hybrid particles. The substrate particles may be substrate particles other than inorganic particles. The substrate particles may be core-shell particles comprising a core and a shell arranged on the surface of the core. The core may be an organic core and the shell may be an inorganic shell.

上記樹脂粒子の材料として、種々の有機物が好適に用いられる。上記樹脂粒子の材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリイソブチレン、及びポリブタジエン等のポリオレフィン樹脂;ポリメチルメタクリレート及びポリメチルアクリレート等のアクリル樹脂;ポリカーボネート、ポリアミド、フェノールホルムアルデヒド樹脂、メラミンホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミンホルムアルデヒド樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、尿素樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、飽和ポリエステル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリアセタール、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ジビニルベンゼン重合体、並びにジビニルベンゼン系共重合体等が挙げられる。上記ジビニルベンゼン系共重合体等としては、ジビニルベンゼン-スチレン共重合体及びジビニルベンゼン-(メタ)アクリル酸エステル共重合体等が挙げられる。上記樹脂粒子の硬度を好適な範囲に容易に制御できるので、上記樹脂粒子の材料は、エチレン性不飽和基を有する重合性単量体を1種又は2種以上重合させた重合体であることが好ましい。 Various organic substances are preferably used as the material of the resin particles. Materials for the resin particles include, for example, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyisobutylene, and polybutadiene; acrylic resins such as polymethyl methacrylate and polymethyl acrylate; Phenol formaldehyde resin, melamine formaldehyde resin, benzoguanamine formaldehyde resin, urea formaldehyde resin, phenol resin, melamine resin, benzoguanamine resin, urea resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, saturated polyester resin, polyethylene terephthalate, polysulfone, polyphenylene oxide, polyacetal, Examples include polyimide, polyamideimide, polyetheretherketone, polyethersulfone, divinylbenzene polymer, and divinylbenzene copolymer. Examples of the divinylbenzene-based copolymers include divinylbenzene-styrene copolymers and divinylbenzene-(meth)acrylate copolymers. Since the hardness of the resin particles can be easily controlled within a suitable range, the material of the resin particles is a polymer obtained by polymerizing one or more polymerizable monomers having an ethylenically unsaturated group. is preferred.

上記樹脂粒子を、エチレン性不飽和基を有する重合性単量体を重合させて得る場合には、該エチレン性不飽和基を有する重合性単量体としては、非架橋性の単量体と架橋性の単量体とが挙げられる。 When the resin particles are obtained by polymerizing a polymerizable monomer having an ethylenically unsaturated group, the polymerizable monomer having an ethylenically unsaturated group may be a non-crosslinking monomer. and crosslinkable monomers.

上記非架橋性の単量体としては、例えば、スチレン、及びα-メチルスチレン等のスチレン系単量体;(メタ)アクリル酸、マレイン酸、及び無水マレイン酸等のカルボキシル基含有単量体;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、及びイソボルニル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート化合物;2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート、ポリオキシエチレン(メタ)アクリレート、及びグリシジル(メタ)アクリレート等の酸素原子含有(メタ)アクリレート化合物;(メタ)アクリロニトリル等のニトリル含有単量体;メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、及びプロピルビニルエーテル等のビニルエーテル化合物;酢酸ビニル、酪酸ビニル、ラウリン酸ビニル、及びステアリン酸ビニル等の酸ビニルエステル化合物;エチレン、プロピレン、イソプレン、及びブタジエン等の不飽和炭化水素;トリフルオロメチル(メタ)アクリレート、ペンタフルオロエチル(メタ)アクリレート、塩化ビニル、フッ化ビニル、及びクロルスチレン等のハロゲン含有単量体等が挙げられる。 Examples of the non-crosslinkable monomers include styrene-based monomers such as styrene and α-methylstyrene; carboxyl group-containing monomers such as (meth)acrylic acid, maleic acid, and maleic anhydride; methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, Alkyl (meth)acrylate compounds such as cyclohexyl (meth)acrylate and isobornyl (meth)acrylate; 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, glycerol (meth)acrylate, polyoxyethylene (meth)acrylate, and glycidyl (meth)acrylate Nitrile-containing monomers such as (meth)acrylonitrile; Vinyl ether compounds such as methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, and propyl vinyl ether; vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl laurate, and stearic acid Acid vinyl ester compounds such as vinyl; unsaturated hydrocarbons such as ethylene, propylene, isoprene, and butadiene; trifluoromethyl (meth)acrylate, pentafluoroethyl (meth)acrylate, vinyl chloride, vinyl fluoride, and chlorostyrene, etc. and halogen-containing monomers.

上記架橋性の単量体としては、例えば、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、グリセロールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)テトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、及び1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート等の多官能(メタ)アクリレート化合物;トリアリル(イソ)シアヌレート、トリアリルトリメリテート、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、ジアリルアクリルアミド、ジアリルエーテル、並びに、γ-(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、トリメトキシシリルスチレン、及びビニルトリメトキシシラン等のシラン含有単量体等が挙げられる。 Examples of the crosslinkable monomer include tetramethylolmethane tetra(meth)acrylate, tetramethylolmethane tri(meth)acrylate, tetramethylolmethane di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, dipenta Erythritol hexa(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, glycerol tri(meth)acrylate, glycerol di(meth)acrylate, (poly)ethylene glycol di(meth)acrylate, (poly)propylene glycol di(meth)acrylate Polyfunctional (meth)acrylate compounds such as acrylate, (poly)tetramethylene glycol di(meth)acrylate, and 1,4-butanediol di(meth)acrylate; triallyl (iso)cyanurate, triallyl trimellitate, divinylbenzene , diallyl phthalate, diallyl acrylamide, diallyl ether, and silane-containing monomers such as γ-(meth)acryloxypropyltrimethoxysilane, trimethoxysilylstyrene, and vinyltrimethoxysilane.

「(メタ)アクリレート」の用語は、アクリレートとメタクリレートとを示す。「(メタ)アクリル」の用語は、アクリルとメタクリルとを示す。「(メタ)アクリロイル」の用語は、アクリロイルとメタクリロイルとを示す。 The term "(meth)acrylate" denotes acrylate and methacrylate. The term "(meth)acrylic" refers to acrylic and methacrylic. The term "(meth)acryloyl" refers to acryloyl and methacryloyl.

上記エチレン性不飽和基を有する重合性単量体を、公知の方法により重合させることで、上記樹脂粒子を得ることができる。この方法としては、例えば、ラジカル重合開始剤の存在下で懸濁重合する方法、並びに非架橋の種粒子を用いてラジカル重合開始剤とともに単量体を膨潤させて重合する方法等が挙げられる。 The resin particles can be obtained by polymerizing the polymerizable monomer having the ethylenically unsaturated group by a known method. Examples of this method include a method of suspension polymerization in the presence of a radical polymerization initiator, and a method of polymerizing by swelling a monomer together with a radical polymerization initiator using uncrosslinked seed particles.

上記基材粒子が金属粒子を除く無機粒子又は有機無機ハイブリッド粒子である場合には、基材粒子を形成するための無機物としては、シリカ、アルミナ、チタン酸バリウム、ジルコニア及びカーボンブラック等が挙げられる。上記無機物は、金属ではないことが好ましい。上記シリカにより形成された粒子としては特に限定されないが、例えば、加水分解性のアルコキシシリル基を2つ以上有するケイ素化合物を加水分解して架橋重合体粒子を形成した後に、必要に応じて焼成を行うことにより得られる粒子が挙げられる。上記有機無機ハイブリッド粒子としては、例えば、架橋したアルコキシシリルポリマーとアクリル樹脂とにより形成された有機無機ハイブリッド粒子等が挙げられる。 When the substrate particles are inorganic particles excluding metal particles or organic-inorganic hybrid particles, inorganic substances for forming the substrate particles include silica, alumina, barium titanate, zirconia, carbon black, and the like. . Preferably, the inorganic substance is not a metal. The particles formed of silica are not particularly limited, but for example, after hydrolyzing a silicon compound having two or more hydrolyzable alkoxysilyl groups to form crosslinked polymer particles, firing is performed as necessary. Particles obtained by carrying out. Examples of the organic-inorganic hybrid particles include organic-inorganic hybrid particles formed from a crosslinked alkoxysilyl polymer and an acrylic resin.

上記有機無機ハイブリッド粒子は、コアと、該コアの表面上に配置されたシェルとを有するコアシェル型の有機無機ハイブリッド粒子であることが好ましい。上記コアが有機コアであることが好ましい。上記シェルが無機シェルであることが好ましい。電極間の接続抵抗を効果的に低くする観点からは、上記基材粒子は、有機コアと上記有機コアの表面上に配置された無機シェルとを有する有機無機ハイブリッド粒子であることが好ましい。 The organic-inorganic hybrid particles are preferably core-shell type organic-inorganic hybrid particles having a core and a shell disposed on the surface of the core. It is preferred that the core is an organic core. Preferably, the shell is an inorganic shell. From the viewpoint of effectively reducing the connection resistance between electrodes, the substrate particles are preferably organic-inorganic hybrid particles having an organic core and an inorganic shell disposed on the surface of the organic core.

上記有機コアの材料としては、上述した樹脂粒子の材料等が挙げられる。 Examples of the material for the organic core include the materials for the resin particles described above.

上記無機シェルの材料としては、上述した基材粒子の材料として挙げた無機物が挙げられる。上記無機シェルの材料は、シリカであることが好ましい。上記無機シェルは、上記コアの表面上で、金属アルコキシドをゾルゲル法によりシェル状物とした後、該シェル状物を焼成させることにより形成されていることが好ましい。上記金属アルコキシドはシランアルコキシドであることが好ましい。上記無機シェルはシランアルコキシドにより形成されていることが好ましい。 Examples of the material for the inorganic shell include the inorganic substances mentioned above as the material for the substrate particles. The inorganic shell material is preferably silica. The inorganic shell is preferably formed by forming a metal alkoxide into a shell-like material on the surface of the core by a sol-gel method, and then firing the shell-like material. The metal alkoxide is preferably silane alkoxide. The inorganic shell is preferably made of silane alkoxide.

上記基材粒子が金属粒子である場合に、該金属粒子の材料である金属としては、銀、銅、ニッケル、ケイ素、金及びチタン等が挙げられる。 When the substrate particles are metal particles, examples of metals that are materials of the metal particles include silver, copper, nickel, silicon, gold, and titanium.

上記基材粒子の粒子径は、好ましくは0.6μm以上、より好ましくは0.8μm以上であり、好ましくは49.8μm以下、より好ましくは49.6μm以下である。上記基材粒子の粒子径が、上記下限以上及び上記上限以下であると、電極間の間隔が小さくなり、かつ導電部(導電層等)の厚みを厚くしても、小さい導電性粒子が得られる。さらに基材粒子の表面に導電部を形成する際に凝集し難くなり、凝集した導電性粒子が形成され難くなる。 The particle size of the substrate particles is preferably 0.6 μm or more, more preferably 0.8 μm or more, and preferably 49.8 μm or less, more preferably 49.6 μm or less. When the particle diameter of the substrate particles is at least the lower limit and at most the upper limit, the distance between the electrodes becomes small, and small conductive particles can be obtained even if the thickness of the conductive portion (conductive layer, etc.) is increased. be done. Furthermore, it becomes difficult to aggregate when forming the conductive portion on the surface of the substrate particles, and it becomes difficult to form aggregated conductive particles.

上記基材粒子の粒子径は、0.9μm以上49.9μm以下であることが特に好ましい。上記基材粒子の粒子径が、0.9μm以上49.9μm以下の範囲内であると、基材粒子の表面に導電部を形成する際に凝集し難くなり、凝集した導電性粒子が形成され難くなる。 It is particularly preferable that the particle diameter of the substrate particles is 0.9 μm or more and 49.9 μm or less. When the particle diameter of the substrate particles is in the range of 0.9 μm or more and 49.9 μm or less, aggregation becomes difficult when forming the conductive portion on the surface of the substrate particles, and aggregated conductive particles are formed. it gets harder.

上記基材粒子の粒子径は、数平均粒子径を示す。上記基材粒子の粒子径は粒度分布測定装置等を用いて求められる。基材粒子の粒子径は、任意の基材粒子50個を電子顕微鏡又は光学顕微鏡にて観察し、各基材粒子の粒子径の平均値を算出することや、レーザー回折式粒度分布測定を行うことにより求めることが好ましい。導電性粒子において、任意の基材粒子50個を電子顕微鏡又は光学顕微鏡にて観察する方法により、上記基材粒子の粒子径を測定する場合には、例えば、以下のようにして測定できる。 The particle size of the substrate particles indicates the number average particle size. The particle size of the substrate particles is determined using a particle size distribution analyzer or the like. The particle size of the substrate particles can be determined by observing 50 arbitrary substrate particles with an electron microscope or an optical microscope, calculating the average particle size of each substrate particle, or performing laser diffraction particle size distribution measurement. It is preferable to obtain by When measuring the particle size of the conductive particles by observing 50 arbitrary base particles with an electron microscope or an optical microscope, the particle size can be measured, for example, as follows.

導電性粒子の含有量が30重量%となるように、Kulzer社製「テクノビット4000」に添加し、分散させて、導電性粒子検査用埋め込み樹脂を作製する。検査用埋め込み樹脂中に分散した導電性粒子の中心付近を通るようにイオンミリング装置(日立ハイテクノロジーズ社製「IM4000」)を用いて、導電性粒子の断面を切り出す。そして、電界放射型走査型電子顕微鏡(FE-SEM)を用いて、画像倍率を25000倍に設定し、50個の導電性粒子を無作為に選択し、各導電性粒子の基材粒子を観察する。各導電性粒子における基材粒子の円相当径を粒子径として計測し、それらを算術平均して基材粒子の粒子径とする。導電性粒子検査用埋め込み樹脂の代わりに、絶縁性粒子付き導電性粒子検査用埋め込み樹脂を作製してもよい。 The content of the conductive particles is added to "Technovit 4000" manufactured by Kulzer Co., Ltd. and dispersed to prepare an embedding resin for conductive particle inspection. Using an ion milling device (“IM4000” manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation), a cross section of the conductive particles is cut out so as to pass through the vicinity of the center of the conductive particles dispersed in the embedding resin for inspection. Then, using a field emission scanning electron microscope (FE-SEM), set the image magnification to 25000 times, randomly select 50 conductive particles, and observe the base particles of each conductive particle. do. The circle-equivalent diameter of the substrate particles in each conductive particle is measured as the particle diameter, and the arithmetic mean thereof is taken as the particle diameter of the substrate particles. Instead of the conductive particle inspection embedding resin, a conductive particle inspection embedding resin with insulating particles may be produced.

導電部:
本発明では、上記導電性粒子は、導電部を少なくとも表面に有する。上記導電部は、金属を含むことが好ましい。上記導電部を構成する金属は、特に限定されない。上記金属としては、例えば、金、銀、銅、白金、パラジウム、亜鉛、鉛、アルミニウム、コバルト、インジウム、ニッケル、クロム、チタン、アンチモン、ビスマス、ゲルマニウム及びカドミウム、並びにこれらの合金等が挙げられる。また、上記金属として、錫ドープ酸化インジウム(ITO)を用いてもよい。上記金属は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。電極間の接続抵抗をより一層低くする観点からは、錫を含む合金、ニッケル、パラジウム、銅又は金が好ましく、ニッケル又はパラジウムがより好ましい。
Conductive part:
In the present invention, the conductive particles have a conductive portion at least on the surface. The conductive portion preferably contains a metal. The metal forming the conductive portion is not particularly limited. Examples of the metals include gold, silver, copper, platinum, palladium, zinc, lead, aluminum, cobalt, indium, nickel, chromium, titanium, antimony, bismuth, germanium, cadmium, and alloys thereof. Alternatively, tin-doped indium oxide (ITO) may be used as the metal. Only one kind of the above metals may be used, or two or more kinds thereof may be used in combination. From the viewpoint of further lowering the connection resistance between electrodes, an alloy containing tin, nickel, palladium, copper or gold is preferable, and nickel or palladium is more preferable.

また、導通信頼性を効果的に高める観点からは、上記導電部及び上記導電部の外表面部分はニッケルを含むことが好ましい。ニッケルを含む導電部100重量%中のニッケルの含有量は、好ましくは10重量%以上、より好ましくは50重量%以上、より一層好ましくは60重量%以上、さらに好ましくは70重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。上記ニッケルを含む導電部100重量%中のニッケルの含有量は、97重量%以上であってもよく、97.5重量%以上であってもよく、98重量%以上であってもよい。 Moreover, from the viewpoint of effectively improving conduction reliability, it is preferable that the conductive portion and the outer surface portion of the conductive portion contain nickel. The content of nickel in 100% by weight of the conductive portion containing nickel is preferably 10% by weight or more, more preferably 50% by weight or more, even more preferably 60% by weight or more, still more preferably 70% by weight or more, and particularly preferably is 90% by weight or more. The content of nickel in 100% by weight of the conductive portion containing nickel may be 97% by weight or more, 97.5% by weight or more, or 98% by weight or more.

なお、導電部の表面には、酸化により水酸基が存在することが多い。一般的に、ニッケルにより形成された導電部の表面には、酸化により水酸基が存在する。このような水酸基を有する導電部の表面(導電性粒子の表面)に、化学結合を介して、絶縁性粒子を配置できる。 Note that hydroxyl groups are often present on the surface of the conductive portion due to oxidation. In general, hydroxyl groups are present on the surface of the conductive portion made of nickel due to oxidation. Insulating particles can be arranged on the surface of the conductive portion having such hydroxyl groups (the surface of the conductive particles) through chemical bonding.

上記導電部は、1つの層により形成されていてもよい。上記導電部は、複数の層により形成されていてもよい。すなわち、上記導電部は、2層以上の積層構造を有していてもよい。上記導電部が複数の層により形成されている場合には、最外層を構成する金属は、金、ニッケル、パラジウム、銅又は錫と銀とを含む合金であることが好ましく、金であることがより好ましい。最外層を構成する金属がこれらの好ましい金属である場合には、電極間の接続抵抗がより一層低くなる。また、最外層を構成する金属が金である場合には、耐腐食性がより一層高くなる。 The conductive portion may be formed of one layer. The conductive portion may be formed of a plurality of layers. That is, the conductive portion may have a laminated structure of two or more layers. When the conductive portion is formed of a plurality of layers, the metal constituting the outermost layer is preferably gold, nickel, palladium, copper, or an alloy containing tin and silver, and is preferably gold. more preferred. When the metal forming the outermost layer is one of these preferred metals, the connection resistance between the electrodes is even lower. Further, when the metal forming the outermost layer is gold, the corrosion resistance is further enhanced.

上記基材粒子の表面上に導電部を形成する方法は特に限定されない。上記導電部を形成する方法としては、例えば、無電解めっきによる方法、電気めっきによる方法、物理的な衝突による方法、メカノケミカル反応による方法、物理的蒸着又は物理的吸着による方法、並びに金属粉末もしくは金属粉末とバインダーとを含むペーストを基材粒子の表面にコーティングする方法等が挙げられる。上記導電部を形成する方法は、無電解めっき、電気めっき又は物理的な衝突による方法であることが好ましい。上記物理的蒸着による方法としては、真空蒸着、イオンプレーティング及びイオンスパッタリング等の方法が挙げられる。また、上記物理的な衝突による方法では、例えば、シーターコンポーザ(徳寿工作所社製)等が用いられる。 The method of forming the conductive portion on the surface of the substrate particles is not particularly limited. Methods for forming the conductive portion include, for example, a method by electroless plating, a method by electroplating, a method by physical collision, a method by mechanochemical reaction, a method by physical vapor deposition or physical adsorption, and metal powder or Examples thereof include a method of coating the surface of the substrate particles with a paste containing a metal powder and a binder. The method of forming the conductive portion is preferably electroless plating, electroplating, or a method using physical collision. Methods such as vacuum deposition, ion plating, and ion sputtering can be used as the method by physical vapor deposition. Also, in the method using physical collision, for example, a sheeter composer (manufactured by Tokuju Kosakusho Co., Ltd.) or the like is used.

上記導電部の厚みは、好ましくは0.005μm以上、より好ましくは0.01μm以上であり、好ましくは10μm以下、より好ましくは1μm以下、さらに好ましくは0.3μm以下である。上記導電部の厚みが、上記下限以上及び上記上限以下であると、十分な導電性が得られ、かつ導電性粒子が硬くなりすぎずに、電極間の接続の際に導電性粒子を十分に変形させることができる。 The thickness of the conductive portion is preferably 0.005 μm or more, more preferably 0.01 μm or more, and preferably 10 μm or less, more preferably 1 μm or less, and still more preferably 0.3 μm or less. When the thickness of the conductive portion is equal to or more than the lower limit and equal to or less than the upper limit, sufficient conductivity is obtained, and the conductive particles are not too hard, and the conductive particles are sufficiently attached when connecting the electrodes. It can be transformed.

上記導電部が複数の層により形成されている場合に、最外層の導電部の厚みは、好ましくは0.001μm以上、より好ましくは0.01μm以上であり、好ましくは0.5μm以下、より好ましくは0.1μm以下である。上記最外層の導電部の厚みが、上記下限以上及び上記上限以下であると、最外層の導電部が均一になり、耐腐食性が十分に高くなり、かつ電極間の接続抵抗を十分に低くすることができる。 When the conductive portion is formed of a plurality of layers, the thickness of the conductive portion in the outermost layer is preferably 0.001 μm or more, more preferably 0.01 μm or more, and preferably 0.5 μm or less, and more preferably. is 0.1 μm or less. When the thickness of the conductive portion of the outermost layer is equal to or more than the lower limit and equal to or less than the upper limit, the conductive portion of the outermost layer is uniform, the corrosion resistance is sufficiently high, and the connection resistance between electrodes is sufficiently low. can do.

上記導電部の厚みは、例えば、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて、導電性粒子の断面を観察することにより測定できる。 The thickness of the conductive portion can be measured, for example, by observing the cross section of the conductive particles using a transmission electron microscope (TEM).

芯物質:
上記導電性粒子は、上記導電部の外表面に複数の突起を有することが好ましい。絶縁性粒子付き導電性粒子により接続される電極の表面には、酸化被膜が形成されていることが多い。導電部の表面に突起を有する絶縁性粒子付き導電性粒子を用いた場合には、電極間に絶縁性粒子付き導電性粒子を配置して圧着させることにより、突起により上記酸化被膜を効果的に排除できる。このため、電極と導電部とがより一層確実に接触し、電極間の接続抵抗がより一層低くなる。さらに、電極間の接続時に、導電性粒子の突起によって、導電性粒子と電極との間の絶縁性粒子を効果的に排除できる。このため、電極間の導通信頼性がより一層高くなる。
Core substance:
It is preferable that the conductive particles have a plurality of protrusions on the outer surface of the conductive portion. An oxide film is often formed on the surface of the electrodes connected by the conductive particles with insulating particles. In the case of using conductive particles with insulating particles having protrusions on the surface of the conductive part, by placing and crimping the conductive particles with insulating particles between the electrodes, the oxide film is effectively removed by the protrusions. can be eliminated. Therefore, the electrodes and the conductive portions are more reliably brought into contact with each other, and the connection resistance between the electrodes is further reduced. Furthermore, when the electrodes are connected, the projections of the conductive particles can effectively eliminate the insulating particles between the conductive particles and the electrodes. Therefore, the reliability of electrical connection between the electrodes is further enhanced.

上記突起を形成する方法としては、基材粒子の表面に芯物質を付着させた後、無電解めっきにより導電部を形成する方法、並びに基材粒子の表面に無電解めっきにより導電部を形成した後、芯物質を付着させ、さらに無電解めっきにより導電部を形成する方法等が挙げられる。上記突起を形成する他の方法としては、基材粒子の表面上に、第1の導電部を形成した後、該第1の導電部上に芯物質を配置し、次に第2の導電部を形成する方法、並びに基材粒子の表面上に導電部(第1の導電部又は第2の導電部等)を形成する途中段階で、芯物質を添加する方法等が挙げられる。また、突起を形成するために、上記芯物質を用いずに、基材粒子に無電解めっきにより導電部を形成した後、導電部の表面上に突起状にめっきを析出させ、さらに無電解めっきにより導電部を形成する方法等を用いてもよい。 As a method of forming the protrusions, a method of forming a conductive portion by electroless plating after attaching a core substance to the surface of the substrate particle, and a method of forming a conductive portion by electroless plating on the surface of the substrate particle. After that, a core substance is adhered, and then a conductive portion is formed by electroless plating. Another method of forming the projections is to form the first conductive portion on the surface of the substrate particle, then arrange the core substance on the first conductive portion, and then form the second conductive portion. and a method of adding a core substance in the middle of forming a conductive portion (first conductive portion, second conductive portion, etc.) on the surface of the substrate particle. Further, in order to form the projections, after forming the conductive portion on the base particles by electroless plating without using the core substance, plating is deposited on the surface of the conductive portion in the shape of a projection, and further electroless plating is performed. You may use the method of forming an electroconductive part by.

基材粒子の表面に芯物質を付着させる方法としては、例えば、基材粒子の分散液中に、芯物質を添加し、基材粒子の表面に芯物質を、ファンデルワールス力により集積させ、付着させる方法、並びに基材粒子を入れた容器に、芯物質を添加し、容器の回転等による機械的な作用により基材粒子の表面に芯物質を付着させる方法等が挙げられる。付着させる芯物質の量を制御する観点からは、基材粒子の表面に芯物質を付着させる方法は、分散液中の基材粒子の表面に芯物質を集積させ、付着させる方法であることが好ましい。 As a method for attaching the core substance to the surface of the substrate particles, for example, the core substance is added to the dispersion liquid of the substrate particles, and the core substance is accumulated on the surface of the substrate particles by van der Waals force. and a method of adding the core substance to a container containing the substrate particles and causing the core substance to adhere to the surfaces of the substrate particles by mechanical action such as rotation of the container. From the viewpoint of controlling the amount of the core substance to be deposited, the method of depositing the core substance on the surface of the substrate particles is preferably a method of accumulating and depositing the core substance on the surface of the substrate particles in the dispersion. preferable.

上記芯物質を構成する物質としては、導電性物質及び非導電性物質が挙げられる。上記導電性物質としては、例えば、金属、金属の酸化物、黒鉛等の導電性非金属及び導電性ポリマー等が挙げられる。上記導電性ポリマーとしては、ポリアセチレン等が挙げられる。上記非導電性物質としては、シリカ、アルミナ及びジルコニア等が挙げられる。電極間の導通信頼性をより一層高める観点からは、上記芯物質が金属であることが好ましい。 Materials constituting the core material include conductive materials and non-conductive materials. Examples of the conductive substance include metals, metal oxides, conductive nonmetals such as graphite, and conductive polymers. Polyacetylene etc. are mentioned as said conductive polymer. Silica, alumina, zirconia, and the like are mentioned as the non-conductive substance. From the viewpoint of further increasing the reliability of electrical connection between electrodes, the core substance is preferably a metal.

上記金属は特に限定されない。上記金属としては、例えば、金、銀、銅、白金、亜鉛、鉄、鉛、錫、アルミニウム、コバルト、インジウム、ニッケル、クロム、チタン、アンチモン、ビスマス、ゲルマニウム及びカドミウム等の金属、並びに錫-鉛合金、錫-銅合金、錫-銀合金、錫-鉛-銀合金及び炭化タングステン等の2種類以上の金属で構成される合金等が挙げられる。電極間の導通信頼性をより一層高める観点からは、上記金属は、ニッケル、銅、銀又は金が好ましい。上記金属は、上記導電部(導電層)を構成する金属と同じであってもよく、異なっていてもよい。 The metal is not particularly limited. Examples of the above metals include metals such as gold, silver, copper, platinum, zinc, iron, lead, tin, aluminum, cobalt, indium, nickel, chromium, titanium, antimony, bismuth, germanium and cadmium, and tin-lead. alloys, tin-copper alloys, tin-silver alloys, tin-lead-silver alloys, and alloys composed of two or more metals such as tungsten carbide. From the viewpoint of further increasing the reliability of conduction between electrodes, the metal is preferably nickel, copper, silver or gold. The metal may be the same as or different from the metal forming the conductive portion (conductive layer).

上記芯物質の形状は特に限定されない。芯物質の形状は塊状であることが好ましい。芯物質としては、例えば、粒子状の塊、複数の微小粒子が凝集した凝集塊、及び不定形の塊等が挙げられる。 The shape of the core substance is not particularly limited. The shape of the core substance is preferably massive. The core substance includes, for example, particulate lumps, agglomerates in which a plurality of microparticles are aggregated, irregular lumps, and the like.

上記芯物質の粒子径(平均粒子径)は、好ましくは0.001μm以上、より好ましくは0.05μm以上、好ましくは0.9μm以下、より好ましくは0.2μm以下である。上記芯物質の粒子径が、上記下限以上及び上限以下であると、電極間の接続抵抗を効果的に低くすることができる。 The particle size (average particle size) of the core substance is preferably 0.001 μm or more, more preferably 0.05 μm or more, preferably 0.9 μm or less, and more preferably 0.2 μm or less. When the particle size of the core substance is equal to or more than the lower limit and equal to or less than the upper limit, the connection resistance between the electrodes can be effectively lowered.

上記芯物質の粒子径は、平均粒子径であることが好ましく、数平均粒子径であることがより好ましい。芯物質の粒子径は、例えば、任意の芯物質50個を電子顕微鏡又は光学顕微鏡にて観察し、各芯物質の粒子径の平均値を算出することや、レーザー回折式粒度分布測定を行うことにより求められる。導電性粒子において、任意の芯物質50個を電子顕微鏡又は光学顕微鏡にて観察する方法により、上記芯物質の粒子径を測定する場合には、例えば、以下のようにして測定できる。 The particle size of the core substance is preferably an average particle size, more preferably a number average particle size. The particle size of the core substance can be determined, for example, by observing 50 arbitrary core substances with an electron microscope or an optical microscope and calculating the average particle size of each core substance, or by performing laser diffraction particle size distribution measurement. required by In the conductive particles, when measuring the particle size of the core substance by a method of observing 50 arbitrary core substances with an electron microscope or an optical microscope, it can be measured as follows, for example.

導電性粒子を含有量が30重量%となるように、Kulzer社製「テクノビット4000」に添加し、分散させて、導電性粒子検査用埋め込み樹脂を作製する。その検査用埋め込み樹脂中に分散した導電性粒子の中心付近を通るようにイオンミリング装置(日立ハイテクノロジーズ社製「IM4000」)を用いて、導電性粒子の断面を切り出す。そして、電界放射型走査型電子顕微鏡(FE-SEM)を用いて、画像倍率20万倍に設定し、50個の導電性粒子を無作為に選択し、導電性粒子の芯物質を観察する。各導電性粒子における芯物質の円相当径を粒子径として計測し、それらを算術平均して芯物質の粒子径とする。導電性粒子検査用埋め込み樹脂の代わりに、絶縁性粒子付き導電性粒子検査用埋め込み樹脂を作製してもよい。 Conductive particles are added to "Technovit 4000" manufactured by Kulzer Co., Ltd. so that the content is 30% by weight, and dispersed to prepare an embedding resin for conducting particle inspection. Using an ion milling device (“IM4000” manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation), a cross section of the conductive particles is cut out so as to pass through the vicinity of the center of the conductive particles dispersed in the embedding resin for inspection. Then, using a field emission scanning electron microscope (FE-SEM), the image magnification is set to 200,000 times, 50 conductive particles are randomly selected, and the core substance of the conductive particles is observed. The circle-equivalent diameter of the core substance in each conductive particle is measured as the particle diameter, and the arithmetic mean thereof is taken as the particle diameter of the core substance. Instead of the conductive particle inspection embedding resin, a conductive particle inspection embedding resin with insulating particles may be produced.

絶縁性粒子:
本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子は、上記導電性粒子の表面上に配置された複数の絶縁性粒子を備える。この場合には、上記絶縁性粒子付き導電性粒子を電極間の接続に用いると、隣接する電極間の短絡を防止できる。具体的には、複数の絶縁性粒子付き導電性粒子が接触したときに、複数の電極間に絶縁性粒子が存在するので、上下の電極間ではなく横方向に隣り合う電極間の短絡を防止できる。なお、電極間の接続の際に、2つの電極で絶縁性粒子付き導電性粒子を加圧することにより、導電性粒子の導電部と電極との間の絶縁性粒子を容易に排除できる。さらに、導電部の外表面に複数の突起を有する導電性粒子である場合には、導電性粒子の導電部と電極との間の絶縁性粒子をより一層容易に排除できる。
Insulating particles:
The conductive particles with insulating particles according to the present invention comprise a plurality of insulating particles arranged on the surface of the conductive particles. In this case, if the conductive particles with insulating particles are used for connecting the electrodes, short-circuiting between adjacent electrodes can be prevented. Specifically, when a plurality of conductive particles with insulating particles are in contact, the presence of insulating particles between the electrodes prevents short-circuiting between horizontally adjacent electrodes rather than between the upper and lower electrodes. can. When the electrodes are connected, the insulating particles between the conductive part of the conductive particles and the electrodes can be easily eliminated by pressing the conductive particles with insulating particles with two electrodes. Furthermore, in the case of the conductive particles having a plurality of protrusions on the outer surface of the conductive portion, the insulating particles between the conductive portion of the conductive particles and the electrode can be removed more easily.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子では、上記絶縁性粒子の粒子径は、500nm以上1500nm以下である。本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子では、上記絶縁性粒子は比較的大きい。このため、比較的粒子径の大きな導電性粒子を用いた場合であっても、導電接続された接続構造体における隣接する横方向の電極間の絶縁信頼性をより一層効果的に高めることができる。 In the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the insulating particles have a particle diameter of 500 nm or more and 1500 nm or less. In the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the insulating particles are relatively large. Therefore, even when conductive particles having a relatively large particle diameter are used, the insulation reliability between adjacent lateral electrodes in the conductively connected connection structure can be more effectively improved. .

上記絶縁性粒子の粒子径は、上記絶縁性粒子付き導電性粒子の粒子径及び上記絶縁性粒子付き導電性粒子の用途等によって適宜選択できる。上記絶縁性粒子の粒子径は、好ましくは540nmを超え、より好ましくは550nm以上、更に好ましくは700nm以上、特に好ましくは800nm以上であり、好ましくは1500nm以下、より好ましくは1200nm以下、より一層好ましくは1000nm未満、更に好ましくは900nm以下、更に一層好ましくは850nm以下である。上記絶縁性粒子の粒子径が、上記下限を満足すると、上記絶縁性粒子付き導電性粒子がバインダー樹脂中に分散されたときに、複数の上記絶縁性粒子付き導電性粒子における導電部同士が接触し難くなる。上記絶縁性粒子の粒子径が、上記上限を満足すると、電極間の接続の際に、電極と導電性粒子との間の絶縁性粒子を排除するために、圧力を高くしすぎる必要がなくなり、高温に加熱する必要もなくなる。上記絶縁性粒子の粒子径が、上記下限及び上記上限を満足すると、電極間を電気的に接続した場合に、絶縁信頼性をより一層効果的に高めることができる。 The particle size of the insulating particles can be appropriately selected depending on the particle size of the conductive particles with insulating particles, the application of the conductive particles with insulating particles, and the like. The particle diameter of the insulating particles is preferably greater than 540 nm, more preferably 550 nm or more, still more preferably 700 nm or more, particularly preferably 800 nm or more, preferably 1500 nm or less, more preferably 1200 nm or less, and even more preferably It is less than 1000 nm, more preferably 900 nm or less, even more preferably 850 nm or less. When the particle diameter of the insulating particles satisfies the above lower limit, when the conductive particles with insulating particles are dispersed in the binder resin, the conductive portions of the conductive particles with insulating particles are in contact with each other. becomes difficult. When the particle diameter of the insulating particles satisfies the above upper limit, there is no need to increase the pressure too much to eliminate the insulating particles between the electrodes and the conductive particles when connecting the electrodes. No need to heat to high temperatures. When the particle diameter of the insulating particles satisfies the above lower limit and the above upper limit, the insulation reliability can be further effectively improved when the electrodes are electrically connected.

上記絶縁性粒子の粒子径は、平均粒子径であることが好ましく、数平均粒子径であることが好ましい。上記絶縁性粒子の粒子径は粒度分布測定装置等を用いて求められる。上記絶縁性粒子の粒子径は、任意の絶縁性粒子50個を電子顕微鏡又は光学顕微鏡にて観察し、平均値を算出することや、レーザー回折式粒度分布測定を行うことにより求めることが好ましい。上記絶縁性粒子付き導電性粒子において、任意の絶縁性粒子50個を電子顕微鏡又は光学顕微鏡にて観察する方法により、上記絶縁性粒子の粒子径を測定する場合には、例えば、以下のようにして測定できる。 The particle size of the insulating particles is preferably an average particle size, more preferably a number average particle size. The particle size of the insulating particles is determined using a particle size distribution analyzer or the like. The particle diameter of the insulating particles is preferably obtained by observing 50 arbitrary insulating particles with an electron microscope or an optical microscope and calculating the average value, or by performing laser diffraction particle size distribution measurement. In the conductive particles with insulating particles, when measuring the particle size of the insulating particles by a method of observing 50 arbitrary insulating particles with an electron microscope or an optical microscope, for example, as follows. can be measured

絶縁性粒子付き導電性粒子を含有量が30重量%となるように、Kulzer社製「テクノビット4000」に添加し、分散させて、導電性粒子検査用埋め込み樹脂を作製する。その検査用埋め込み樹脂中の分散した絶縁性粒子付き導電性粒子の中心付近を通るようにイオンミリング装置(日立ハイテクノロジーズ社製「IM4000」)を用いて、絶縁性粒子付き導電性粒子の断面を切り出す。そして、電界放射型走査型電子顕微鏡(FE-SEM)を用いて、画像倍率5万倍に設定し、50個の絶縁性粒子付き導電性粒子を無作為に選択し、各絶縁性粒子付き導電性粒子の絶縁性粒子を観察する。各絶縁性粒子付き導電性粒子における絶縁性粒子の円相当径を粒子径として計測し、それらを算術平均して絶縁性粒子の粒子径とする。 Conductive particles with insulating particles are added to "Technovit 4000" manufactured by Kulzer Co., Ltd. so that the content is 30% by weight, and dispersed to prepare an embedding resin for conductive particle inspection. Using an ion milling device (“IM4000” manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation), the cross section of the conductive particles with insulating particles was cut so as to pass through the vicinity of the center of the conductive particles with insulating particles dispersed in the embedding resin for inspection. break the ice. Then, using a field emission scanning electron microscope (FE-SEM), set the image magnification to 50,000 times, randomly select 50 conductive particles with insulating particles, and conduct with each insulating particle Observe the insulating particles of the insulating particles. The circle-equivalent diameter of the insulating particles in each conductive particle with insulating particles is measured as the particle size, and the arithmetic mean of these values is taken as the particle size of the insulating particles.

上記導電性粒子の粒子径の、上記絶縁性粒子の粒子径に対する比(導電性粒子の粒子径/絶縁性粒子の粒子径)は、好ましくは3以上、より好ましくは6以上、さらに好ましくは16以上であり、好ましくは100以下、より好ましくは55以下、さらに好ましくは30以下である。上記比(導電性粒子の粒子径/絶縁性粒子の粒子径)が、上記下限以上及び上記上限以下であると、電極間を電気的に接続した場合に、絶縁信頼性及び導通信頼性をより一層効果的に高めることができる。 The ratio of the particle size of the conductive particles to the particle size of the insulating particles (particle size of conductive particles/particle size of insulating particles) is preferably 3 or more, more preferably 6 or more, and still more preferably 16. or more, preferably 100 or less, more preferably 55 or less, and even more preferably 30 or less. When the ratio (particle diameter of conductive particles/particle diameter of insulating particles) is equal to or greater than the lower limit and equal to or lower than the upper limit, insulation reliability and conduction reliability are improved when the electrodes are electrically connected. can be enhanced more effectively.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子では、上記絶縁性粒子の60℃における貯蔵弾性率が、100MPa以上1000MPa以下である。上記絶縁性粒子の60℃における貯蔵弾性率は、好ましくは300MPa以上、より好ましくは500MPa以上であり、好ましくは950MPa以下、より好ましくは900MPa以下である。上記絶縁性粒子の60℃における貯蔵弾性率が、上記下限以上及び上記上限以下であると、電極間を電気的に接続した場合に、絶縁信頼性及び導通信頼性をより一層効果的に高めることができる。 In the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the insulating particles have a storage elastic modulus at 60° C. of 100 MPa or more and 1000 MPa or less. The storage elastic modulus of the insulating particles at 60° C. is preferably 300 MPa or more, more preferably 500 MPa or more, and preferably 950 MPa or less, more preferably 900 MPa or less. When the storage elastic modulus of the insulating particles at 60° C. is equal to or higher than the lower limit and equal to or lower than the upper limit, the insulation reliability and conduction reliability can be more effectively improved when the electrodes are electrically connected. can be done.

上記絶縁性粒子の60℃における貯蔵弾性率は、動的粘弾性測定装置(TA Instruments社製「RSA3」)により測定できる。上記動的粘弾性測定装置による測定は、長さ10mm、幅1mm~10mm、厚み15mm~50mmの測定サンプルを用いて、周波数10Hz、ひずみ1%、温度-10℃~210℃、及び昇温速度5℃/minの条件で行う。測定結果から、60℃における貯蔵弾性率を算出する。なお、上記測定サンプルは、上記絶縁性粒子と同じ原料(絶縁性粒子を構成する材料)を用いて作製する。 The storage elastic modulus of the insulating particles at 60° C. can be measured with a dynamic viscoelasticity measuring device (“RSA3” manufactured by TA Instruments). The measurement by the dynamic viscoelasticity measuring device uses a measurement sample with a length of 10 mm, a width of 1 mm to 10 mm, and a thickness of 15 mm to 50 mm, a frequency of 10 Hz, a strain of 1%, a temperature of -10 ° C. to 210 ° C., and a heating rate. It is carried out under the condition of 5°C/min. From the measurement results, the storage elastic modulus at 60°C is calculated. The measurement sample is prepared using the same raw material (material constituting the insulating particles) as the insulating particles.

上記絶縁性粒子の60℃における貯蔵弾性率が上100MPa以上1000MPa以下であると、上記絶縁性粒子は、60℃で柔軟な性質を発現する。上記絶縁性粒子の60℃における貯蔵弾性率が上記の好ましい範囲であると、上記絶縁性粒子は、60℃で非常に柔軟な性質を発現する。また、上記導電性粒子の表面上に上記絶縁性粒子を配置する際の温度は約60℃であるため、上記導電性粒子の表面上に上記絶縁性粒子を配置する際には、上記絶縁性粒子は非常に柔軟となり、上記導電性粒子の表面上に容易に配置することができる。また、上記導電性粒子の表面上に上記絶縁性粒子を容易に配置することができるため、有機化合物や無機酸化物等の被覆を用いる必要がない。このため、導電接続時に、導電性粒子の表面から絶縁性粒子がはずれやすく、接続されるべき上下の電極間の導通信頼性を効果的に高めることができる。 When the storage elastic modulus of the insulating particles at 60°C is 100 MPa or more and 1000 MPa or less, the insulating particles exhibit flexible properties at 60°C. When the storage elastic modulus of the insulating particles at 60°C is within the preferred range, the insulating particles exhibit very flexible properties at 60°C. Further, since the temperature at which the insulating particles are arranged on the surface of the conductive particles is about 60 ° C., when the insulating particles are arranged on the surface of the conductive particles, the insulating The particles become very flexible and can be easily placed on the surface of the conductive particles. Moreover, since the insulating particles can be easily arranged on the surfaces of the conductive particles, it is not necessary to use a coating such as an organic compound or an inorganic oxide. Therefore, the insulating particles are easily separated from the surfaces of the conductive particles during conductive connection, and the reliability of conduction between the upper and lower electrodes to be connected can be effectively improved.

上記絶縁性粒子の60℃における貯蔵弾性率を100MPa以上1000MPa以下に調整する方法としては、以下の方法が挙げられる。モノマーのガラス転移温度を調整して絶縁性粒子を作製する方法。主モノマーと、該主モノマーのガラス転移温度と異なるガラス転移温度を有するモノマーとを混合して、絶縁性粒子を作製する方法。主モノマーに対する架橋剤の添加率を低くする方法。絶縁性粒子の作製の際に、官能数が小さい架橋剤を用いる方法。ポーラス構造を有する絶縁性粒子を用いる方法。中空構造を有する絶縁性粒子を用いる方法。セラミックス及びシリカの双方と異なる有機化合物により形成された絶縁性粒子を用いる方法。これら以外の方法を用いてもよい。 Methods for adjusting the storage elastic modulus of the insulating particles at 60° C. to 100 MPa or more and 1000 MPa or less include the following methods. A method of producing insulating particles by adjusting the glass transition temperature of a monomer. A method of producing insulating particles by mixing a main monomer and a monomer having a glass transition temperature different from that of the main monomer. A method of reducing the addition ratio of the cross-linking agent to the main monomer. A method of using a cross-linking agent with a small functional number when producing insulating particles. A method using insulating particles having a porous structure. A method using insulating particles having a hollow structure. A method using insulating particles formed of an organic compound different from both ceramics and silica. Methods other than these may be used.

また、上記絶縁性粒子の60℃における貯蔵弾性率を上記の好ましい範囲にする観点からは、上記絶縁性粒子は重合性化合物を重合することにより得ることが好ましい。上記重合性化合物としては、上述した樹脂粒子の材料等が挙げられる。上記重合性化合物の側鎖は長いことが好ましい。上記重合性化合物の側鎖が長いことで、より一層柔軟な性質を発現する絶縁性粒子を得ることができる。また、上述したように、上記絶縁性粒子は比較的大きい。粒子径の大きい絶縁性粒子を得るためには、上記重合性化合物の側鎖が短いことが好ましい。側鎖の短い重合性化合物を重合させることで、粒子径の大きい絶縁性粒子を容易に得ることはできるものの、側鎖の短い重合性化合物により得られた絶縁性粒子では、柔軟な性質を発現させることは困難である。そこで、側鎖の短い重合性化合物により得られた絶縁性粒子に柔軟な性質を付与する方法として、側鎖の短い重合性化合物に、該重合性化合物の重合には関与せず、エポキシ基等との反応性を有する反応性官能基を導入する方法等が挙げられる。上記反応性官能基を側鎖の短い重合性化合物に導入することで、側鎖の短い重合性化合物を重合させて絶縁性粒子を得た後に、上記反応性官能基と鎖長の長い化合物とを反応させることで、絶縁性粒子に柔軟な性質を付与することができる。結果として、上記導電性粒子の表面上に絶縁性粒子を容易に配置することができる。 Moreover, from the viewpoint of making the storage elastic modulus of the insulating particles at 60° C. within the preferable range, the insulating particles are preferably obtained by polymerizing a polymerizable compound. Examples of the polymerizable compound include the materials for the resin particles described above. The side chain of the polymerizable compound is preferably long. Since the side chain of the polymerizable compound is long, it is possible to obtain insulating particles exhibiting even more flexible properties. Also, as mentioned above, the insulating particles are relatively large. In order to obtain insulating particles having a large particle size, it is preferable that the polymerizable compound has a short side chain. Although insulating particles with a large particle size can be easily obtained by polymerizing a polymerizable compound with a short side chain, insulating particles obtained from a polymerizable compound with a short side chain exhibit flexible properties. It is difficult to let Therefore, as a method for imparting flexibility to insulating particles obtained by a polymerizable compound having a short side chain, a polymerizable compound having a short side chain is added to a polymerizable compound having a short side chain without participating in the polymerization of the polymerizable compound. and a method of introducing a reactive functional group having reactivity with. By introducing the reactive functional group into a polymerizable compound with a short side chain, the polymerizable compound with a short side chain is polymerized to obtain insulating particles, and then the reactive functional group and the compound with a long chain length are combined. can impart flexibility to the insulating particles. As a result, the insulating particles can be easily arranged on the surface of the conductive particles.

上記絶縁性粒子の膨潤倍率は、好ましくは1以上、より好ましくは1.2以上であり、好ましくは2.5以下、より好ましくは2以下である。上記膨潤倍率が、上記下限以上であると、上記導電性粒子の表面上に上記絶縁性粒子をより一層容易に配置することができる。上記膨潤倍率が、上記上限以下であると、電極間を電気的に接続した場合に、絶縁信頼性及び導通信頼性をより一層効果的に高めることができる。 The swelling ratio of the insulating particles is preferably 1 or more, more preferably 1.2 or more, and preferably 2.5 or less, more preferably 2 or less. When the swelling ratio is equal to or higher than the lower limit, the insulating particles can be arranged more easily on the surfaces of the conductive particles. When the swelling ratio is equal to or less than the upper limit, the insulation reliability and conduction reliability can be further effectively improved when the electrodes are electrically connected.

上記膨潤倍率は、絶縁性粒子の柔軟性の指標である。上記膨潤倍率が高いほど、絶縁性粒子が柔軟であることを示している。 The swelling ratio is an index of the flexibility of the insulating particles. A higher swelling ratio indicates that the insulating particles are more flexible.

上記膨潤倍率は、以下のようにして測定することができる。 The swelling ratio can be measured as follows.

上記絶縁性粒子と同じ原料(絶縁性粒子を構成する材料)を用いて、縦10mm×横5mm、厚み0.5mmの測定サンプルを作製する。得られた測定サンプルの重量を測定し、トルエン100g中に25℃で20時間浸漬する。その後、測定サンプルを取り出し、160℃で30分間乾燥し、乾燥後の測定サンプルの重量を測定する。トルエン浸漬前後の測定サンプルの重量変化から下記式(1)により、膨潤倍率を算出することができる。 Using the same raw material as the insulating particles (material constituting the insulating particles), a measurement sample of 10 mm long×5 mm wide and 0.5 mm thick is prepared. The obtained measurement sample is weighed and immersed in 100 g of toluene at 25° C. for 20 hours. After that, the measurement sample is taken out, dried at 160° C. for 30 minutes, and the weight of the measurement sample after drying is measured. The swelling ratio can be calculated from the weight change of the measurement sample before and after immersion in toluene according to the following formula (1).

膨潤倍率=[トルエン浸漬後の測定サンプルの重量(g)/トルエン浸漬前の測定サンプルの重量(g)] ・・・式(1) Swelling ratio=[Weight (g) of measurement sample after immersion in toluene/Weight (g) of measurement sample before immersion in toluene] Equation (1)

電極間を電気的に接続した場合に、絶縁信頼性及び導通信頼性をより一層効果的に高める観点からは、上記絶縁性粒子の全個数の内の10%以上が、他の上記絶縁性粒子に接触しないように、上記導電性粒子の表面上に配置されていることが好ましい。電極間を電気的に接続した場合に、絶縁信頼性及び導通信頼性をより一層効果的に高める観点からは、上記絶縁性粒子の全個数の内の30%以上が、他の上記絶縁性粒子に接触しないように、上記導電性粒子の表面上に配置されていることがより好ましい。 From the viewpoint of more effectively improving the insulation reliability and conduction reliability when the electrodes are electrically connected, 10% or more of the total number of the insulating particles is the other insulating particles. It is preferably arranged on the surface of the conductive particles so as not to contact the. From the viewpoint of more effectively improving the insulation reliability and conduction reliability when the electrodes are electrically connected, 30% or more of the total number of the insulating particles is the other insulating particles. It is more preferably arranged on the surface of the conductive particles so as not to come into contact with.

他の絶縁性粒子に接触していない絶縁性粒子の個数の割合は、走査型電子顕微鏡(SEM)により20個の絶縁性粒子付き導電性粒子を観察することで算出することが好ましい。具体的には、絶縁性粒子付き導電性粒子を一方向から走査型電子顕微鏡(SEM)で観察し、各絶縁性粒子付き導電性粒子における絶縁性粒子の個数、及び他の絶縁性粒子に接触していない絶縁性粒子の個数を算出し、平均値を算出することにより求めることが好ましい。 The ratio of the number of insulating particles that are not in contact with other insulating particles is preferably calculated by observing 20 conductive particles with insulating particles with a scanning electron microscope (SEM). Specifically, the conductive particles with insulating particles are observed from one direction with a scanning electron microscope (SEM), the number of insulating particles in each conductive particle with insulating particles, and contact with other insulating particles It is preferable to obtain by calculating the number of insulating particles that are not exposed and calculating the average value.

上記絶縁性粒子を構成する材料としては、絶縁性の樹脂等が挙げられる。上記絶縁性の樹脂としては、基材粒子として用いることが可能な樹脂粒子の材料等が挙げられる。 Examples of the material forming the insulating particles include insulating resins. Examples of the insulating resin include materials for resin particles that can be used as base particles.

上記絶縁性粒子の材料である絶縁性樹脂の具体例としては、ポリオレフィン化合物、(メタ)アクリレート重合体、(メタ)アクリレート共重合体、ブロックポリマー、熱可塑性樹脂、熱可塑性樹脂の架橋物、熱硬化性樹脂及び水溶性樹脂等が挙げられる。 Specific examples of the insulating resin that is the material of the insulating particles include polyolefin compounds, (meth)acrylate polymers, (meth)acrylate copolymers, block polymers, thermoplastic resins, crosslinked products of thermoplastic resins, thermal Examples include curable resins and water-soluble resins.

上記ポリオレフィン化合物としては、ポリエチレン、エチレン-酢酸ビニル共重合体及びエチレン-アクリル酸エステル共重合体等が挙げられる。上記(メタ)アクリレート重合体としては、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリエチル(メタ)アクリレート及びポリブチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。上記ブロックポリマーとしては、ポリスチレン、スチレン-アクリル酸エステル共重合体、SB型スチレン-ブタジエンブロック共重合体、及びSBS型スチレン-ブタジエンブロック共重合体、並びにこれらの水素添加物等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂としては、ビニル重合体及びビニル共重合体等が挙げられる。上記熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂及びメラミン樹脂等が挙げられる。上記水溶性樹脂としては、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキシド及びメチルセルロース等が挙げられる。 Examples of the polyolefin compound include polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer and ethylene-acrylate copolymer. Examples of the (meth)acrylate polymer include polymethyl (meth)acrylate, polyethyl (meth)acrylate and polybutyl (meth)acrylate. Examples of the block polymer include polystyrene, styrene-acrylate copolymer, SB type styrene-butadiene block copolymer, SBS type styrene-butadiene block copolymer, and hydrogenated products thereof. Examples of the thermoplastic resin include vinyl polymers and vinyl copolymers. Examples of the thermosetting resin include epoxy resin, phenol resin and melamine resin. Examples of the water-soluble resin include polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyacrylamide, polyvinylpyrrolidone, polyethylene oxide and methyl cellulose.

絶縁性粒子の60℃における貯蔵弾性率を架橋剤によって調整する場合、上記絶縁性粒子を構成する材料が、架橋剤を含むことが好ましい。60℃における貯蔵弾性率を100MPa以上1000MPa以下に調整する観点からは、上記架橋剤は、2官能~6官能の架橋剤であることが好ましい。上記2官能~6官能の架橋剤としては、2官能~6官能の(メタ)アクリレートのモノマーであることが好ましく、2官能~4官能の(メタ)アクリレートのモノマーであることがより好ましく、2官能の(メタ)アクリレートのモノマーであることが更に好ましい。上記2官能~6官能の(メタ)アクリレートのモノマーとしては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート又はジメタクリル酸エチレングリコールが好ましく、ジメタクリル酸エチレングリコールがより好ましい。 When adjusting the storage modulus of the insulating particles at 60° C. with a cross-linking agent, the material constituting the insulating particles preferably contains a cross-linking agent. From the viewpoint of adjusting the storage modulus at 60° C. to 100 MPa or more and 1000 MPa or less, the cross-linking agent is preferably a bifunctional to hexafunctional cross-linking agent. The bifunctional to hexafunctional crosslinking agent is preferably a bifunctional to hexafunctional (meth)acrylate monomer, more preferably a bifunctional to tetrafunctional (meth)acrylate monomer. More preferred are functional (meth)acrylate monomers. As the bifunctional to hexafunctional (meth)acrylate monomer, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate or ethylene glycol dimethacrylate is preferable, and ethylene glycol dimethacrylate is more preferable.

絶縁性粒子の60℃における貯蔵弾性率を100MPa以上1000MPa以下に容易に調整する観点からは、絶縁性粒子を構成する材料のうち最も含有量が多い材料100重量部に対して、架橋剤の含有量は好ましくは0.001重量部以上、より好ましくは0.01重量部以上、更に好ましくは0.1重量部以上である。絶縁性粒子の60℃における貯蔵弾性率を100MPa以上1000MPa以下に容易に調整する観点からは、絶縁性粒子を構成する材料のうち最も含有量が多い材料100重量部に対して、架橋剤の含有量は、好ましくは20重量部以下、より好ましくは10重量部以下、更に好ましくは6重量部以下である。 From the viewpoint of easily adjusting the storage elastic modulus of the insulating particles at 60° C. to 100 MPa or more and 1000 MPa or less, a cross-linking agent is added to 100 parts by weight of the material having the highest content among the materials constituting the insulating particles. The amount is preferably 0.001 parts by weight or more, more preferably 0.01 parts by weight or more, and even more preferably 0.1 parts by weight or more. From the viewpoint of easily adjusting the storage elastic modulus of the insulating particles at 60° C. to 100 MPa or more and 1000 MPa or less, a cross-linking agent is added to 100 parts by weight of the material having the highest content among the materials constituting the insulating particles. The amount is preferably 20 parts by weight or less, more preferably 10 parts by weight or less, and even more preferably 6 parts by weight or less.

上記導電部の表面上に上記絶縁性粒子を配置する方法としては、化学的方法、及び物理的もしくは機械的方法等が挙げられる。上記化学的方法としては、例えば、界面重合法、粒子存在下での懸濁重合法及び乳化重合法等が挙げられる。上記物理的もしくは機械的方法としては、スプレードライ、ハイブリダイゼーション、静電付着法、噴霧法、ディッピング及び真空蒸着による方法等が挙げられる。電極間を電気的に接続した場合に、絶縁信頼性及び導通信頼性をより一層効果的に高める観点からは、上記導電部の表面上に上記絶縁性粒子を配置する方法は、物理的方法であることが好ましい。 Examples of the method for disposing the insulating particles on the surface of the conductive portion include chemical methods and physical or mechanical methods. Examples of the chemical method include an interfacial polymerization method, a suspension polymerization method in the presence of particles, an emulsion polymerization method, and the like. Examples of the physical or mechanical methods include spray drying, hybridization, electrostatic adhesion, atomization, dipping and vacuum deposition. From the viewpoint of more effectively improving the insulation reliability and conduction reliability when the electrodes are electrically connected, the method of disposing the insulating particles on the surface of the conductive portion is a physical method. Preferably.

上記導電部の外表面、及び上記絶縁性粒子の外表面はそれぞれ、反応性官能基を有する化合物によって被覆されていてもよい。上記導電部の外表面と上記絶縁性粒子の外表面とは、直接化学結合していなくてもよく、反応性官能基を有する化合物によって間接的に化学結合していてもよい。上記導電部の外表面にカルボキシル基を導入した後、該カルボキシル基がポリエチレンイミン等の高分子電解質を介して絶縁性粒子の外表面の官能基と化学結合していても構わない。 The outer surface of the conductive portion and the outer surface of the insulating particles may each be coated with a compound having a reactive functional group. The outer surface of the conductive part and the outer surface of the insulating particles may not be directly chemically bonded, but may be indirectly chemically bonded by a compound having a reactive functional group. After introducing carboxyl groups to the outer surface of the conductive portion, the carboxyl groups may be chemically bonded to functional groups on the outer surface of the insulating particles via a polymer electrolyte such as polyethyleneimine.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子では、粒子径の異なる2種以上の絶縁性粒子を併用してもよい。粒子径の異なる2種以上の絶縁性粒子を併用することにより、粒子径の大きい絶縁性粒子により被覆された隙間に、粒子径の小さい絶縁性粒子が入り込み、上記被覆率をより一層効果的に高めることができる。 In the conductive particles with insulating particles according to the present invention, two or more kinds of insulating particles having different particle sizes may be used in combination. By using two or more types of insulating particles with different particle sizes together, the insulating particles with a small particle size enter the gaps covered by the insulating particles with a large particle size, and the above coverage is more effectively achieved. can be enhanced.

上記絶縁性粒子の粒子径の変動係数(CV値)は、20%以下であることが好ましい。上記絶縁性粒子の粒子径の変動係数が、上記上限以下であると、得られる絶縁性粒子付き導電性粒子の絶縁性粒子により覆われた部分の厚みがより一層均一となり、導電接続の際に均一に圧力をより一層容易に付与することができ、電極間の接続抵抗をより一層低くすることができる。 The coefficient of variation (CV value) of the particle diameter of the insulating particles is preferably 20% or less. When the coefficient of variation of the particle size of the insulating particles is equal to or less than the upper limit, the thickness of the portion covered with the insulating particles of the obtained conductive particles with insulating particles becomes more uniform, and the conductive connection is achieved. A uniform pressure can be more easily applied, and the connection resistance between the electrodes can be further reduced.

上記変動係数(CV値)は、以下のようにして測定できる。 The coefficient of variation (CV value) can be measured as follows.

CV値(%)=(ρ/Dn)×100
ρ:絶縁性粒子の粒子径の標準偏差
Dn:絶縁性粒子の粒子径の平均値
CV value (%) = (ρ/Dn) × 100
ρ: standard deviation of particle size of insulating particles Dn: average value of particle size of insulating particles

上記絶縁性粒子の形状は特に限定されない。上記絶縁性粒子の形状は、球状であってもよく、球状以外の形状であってもよく、扁平状等の形状であってもよい。 The shape of the insulating particles is not particularly limited. The insulating particles may have a spherical shape, a shape other than a spherical shape, or a flat shape.

(導電材料)
本発明に係る導電材料は、上述した絶縁性粒子付き導電性粒子と、バインダー樹脂とを含む。上記絶縁性粒子付き導電性粒子は、バインダー樹脂中に分散されて用いられることが好ましく、バインダー樹脂中に分散されて導電材料として用いられることが好ましい。上記導電材料は、異方性導電材料であることが好ましい。上記導電材料は、電極間の電気的な接続に用いられることが好ましい。上記導電材料は回路接続用導電材料であることが好ましい。上記導電材料では、上述した絶縁性粒子付き導電性粒子が用いられているので、電極間の絶縁信頼性及び導通信頼性をより一層高めることができる。
(Conductive material)
The conductive material according to the present invention contains the above-described conductive particles with insulating particles and a binder resin. The conductive particles with insulating particles are preferably dispersed in a binder resin for use, and preferably dispersed in a binder resin for use as a conductive material. The conductive material is preferably an anisotropic conductive material. The conductive material is preferably used for electrical connection between electrodes. The conductive material is preferably a conductive material for circuit connection. Since the above-described conductive particles with insulating particles are used in the conductive material, the reliability of insulation and the reliability of conduction between electrodes can be further improved.

上記バインダー樹脂は特に限定されない。上記バインダー樹脂として、公知の絶縁性の樹脂が用いられる。上記バインダー樹脂は、熱可塑性成分(熱可塑性化合物)又は硬化性成分を含むことが好ましく、硬化性成分を含むことがより好ましい。上記硬化性成分としては、光硬化性成分及び熱硬化性成分が挙げられる。上記光硬化性成分は、光硬化性化合物及び光重合開始剤を含むことが好ましい。上記熱硬化性成分は、熱硬化性化合物及び熱硬化剤を含むことが好ましい。 The binder resin is not particularly limited. A known insulating resin is used as the binder resin. The binder resin preferably contains a thermoplastic component (thermoplastic compound) or a curable component, and more preferably contains a curable component. Examples of the curable component include photocurable components and thermosetting components. The photocurable component preferably contains a photocurable compound and a photopolymerization initiator. The thermosetting component preferably contains a thermosetting compound and a thermosetting agent.

上記バインダー樹脂としては、例えば、ビニル樹脂、熱可塑性樹脂、硬化性樹脂、熱可塑性ブロック共重合体及びエラストマー等が挙げられる。上記バインダー樹脂は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。 Examples of the binder resin include vinyl resins, thermoplastic resins, curable resins, thermoplastic block copolymers and elastomers. Only one kind of the binder resin may be used, or two or more kinds thereof may be used in combination.

上記ビニル樹脂としては、例えば、酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂及びスチレン樹脂等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリオレフィン樹脂、エチレン-酢酸ビニル共重合体及びポリアミド樹脂等が挙げられる。上記硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂及び不飽和ポリエステル樹脂等が挙げられる。なお、上記硬化性樹脂は、常温硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、光硬化型樹脂又は湿気硬化型樹脂であってもよい。上記硬化性樹脂は、硬化剤と併用されてもよい。上記熱可塑性ブロック共重合体としては、例えば、スチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体、スチレン-イソプレン-スチレンブロック共重合体、スチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体の水素添加物、及びスチレン-イソプレン-スチレンブロック共重合体の水素添加物等が挙げられる。上記エラストマーとしては、例えば、スチレン-ブタジエン共重合ゴム、及びアクリロニトリル-スチレンブロック共重合ゴム等が挙げられる。 Examples of the vinyl resin include vinyl acetate resin, acrylic resin and styrene resin. Examples of the thermoplastic resins include polyolefin resins, ethylene-vinyl acetate copolymers and polyamide resins. Examples of the curable resin include epoxy resin, urethane resin, polyimide resin and unsaturated polyester resin. The curable resin may be a room temperature curable resin, a thermosetting resin, a photocurable resin, or a moisture curable resin. The curable resin may be used in combination with a curing agent. Examples of the thermoplastic block copolymers include styrene-butadiene-styrene block copolymers, styrene-isoprene-styrene block copolymers, hydrogenated products of styrene-butadiene-styrene block copolymers, and styrene-isoprene. - hydrogenated products of styrene block copolymers; Examples of the elastomer include styrene-butadiene copolymer rubber and acrylonitrile-styrene block copolymer rubber.

上記導電材料は、上記絶縁性粒子付き導電性粒子及び上記バインダー樹脂の他に、例えば、充填剤、増量剤、軟化剤、可塑剤、重合触媒、硬化触媒、着色剤、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤及び難燃剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。 In addition to the conductive particles with insulating particles and the binder resin, the conductive material includes, for example, a filler, an extender, a softener, a plasticizer, a polymerization catalyst, a curing catalyst, a coloring agent, an antioxidant, and a heat stabilizer. Various additives such as agents, light stabilizers, UV absorbers, lubricants, antistatic agents and flame retardants may also be included.

上記バインダー樹脂中に上記絶縁性粒子付き導電性粒子を分散させる方法は、従来公知の分散方法を用いることができ、特に限定されない。上記バインダー樹脂中に上記絶縁性粒子付き導電性粒子を分散させる方法としては、例えば、以下の方法等が挙げられる。上記バインダー樹脂中に上記絶縁性粒子付き導電性粒子を添加した後、プラネタリーミキサー等で混練して分散させる方法。上記絶縁性粒子付き導電性粒子を水又は有機溶剤中にホモジナイザー等を用いて均一に分散させた後、上記バインダー樹脂中に添加し、プラネタリーミキサー等で混練して分散させる方法。上記バインダー樹脂を水又は有機溶剤等で希釈した後、上記絶縁性粒子付き導電性粒子を添加し、プラネタリーミキサー等で混練して分散させる方法。 As a method for dispersing the conductive particles with insulating particles in the binder resin, a conventionally known dispersing method can be used, and there is no particular limitation. Examples of the method for dispersing the conductive particles with insulating particles in the binder resin include the following methods. A method of adding the conductive particles with insulating particles to the binder resin and then kneading and dispersing the mixture with a planetary mixer or the like. A method of uniformly dispersing the conductive particles with insulating particles in water or an organic solvent using a homogenizer or the like, then adding the dispersed particles to the binder resin, kneading the particles with a planetary mixer or the like to disperse them. A method of diluting the binder resin with water, an organic solvent, or the like, adding the conductive particles with insulating particles, and kneading and dispersing the mixture with a planetary mixer or the like.

上記導電材料の25℃での粘度(η25)は、好ましくは30Pa・s以上、より好ましくは50Pa・s以上であり、好ましくは400Pa・s以下、より好ましくは300Pa・s以下である。上記導電材料の25℃での粘度が、上記下限以上及び上記上限以下であると、電極間の絶縁信頼性をより一層効果的に高めることができ、電極間の導通信頼性をより一層効果的に高めることができる。上記粘度(η25)は、配合成分の種類及び配合量により適宜調整することができる。 The viscosity (η25) of the conductive material at 25° C. is preferably 30 Pa·s or more, more preferably 50 Pa·s or more, and preferably 400 Pa·s or less, more preferably 300 Pa·s or less. When the viscosity of the conductive material at 25 ° C. is at least the lower limit and at most the upper limit, the insulation reliability between the electrodes can be more effectively improved, and the conduction reliability between the electrodes can be more effectively improved. can be increased to The viscosity (η25) can be appropriately adjusted depending on the types and amounts of ingredients to be blended.

上記粘度(η25)は、例えば、E型粘度計(東機産業社製「TVE22L」)等を用いて、25℃及び5rpmの条件で測定することができる。 The viscosity (η25) can be measured at 25° C. and 5 rpm using, for example, an E-type viscometer ("TVE22L" manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.).

本発明に係る導電材料は、導電ペースト及び導電フィルム等として使用され得る。本発明に係る導電材料が、導電フィルムである場合には、導電性粒子を含む導電フィルムに、導電性粒子を含まないフィルムが積層されていてもよい。上記導電ペーストは、異方性導電ペーストであることが好ましい。上記導電フィルムは、異方性導電フィルムであることが好ましい。 The conductive material according to the present invention can be used as conductive paste, conductive film, and the like. When the conductive material according to the present invention is a conductive film, a film containing no conductive particles may be laminated on a conductive film containing conductive particles. The conductive paste is preferably an anisotropic conductive paste. The conductive film is preferably an anisotropic conductive film.

上記導電材料100重量%中、上記バインダー樹脂の含有量は、好ましくは10重量%以上、より好ましくは30重量%以上、さらに好ましくは50重量%以上、特に好ましくは70重量%以上であり、好ましくは99.99重量%以下、より好ましくは99.9重量%以下である。上記バインダー樹脂の含有量が、上記下限以上及び上記上限以下であると、電極間に導電性粒子が効率的に配置され、導電材料により接続された接続対象部材の接続信頼性をより一層高めることができる。 The content of the binder resin in 100% by weight of the conductive material is preferably 10% by weight or more, more preferably 30% by weight or more, still more preferably 50% by weight or more, and particularly preferably 70% by weight or more. is 99.99% by weight or less, more preferably 99.9% by weight or less. When the content of the binder resin is the lower limit or more and the upper limit or less, the conductive particles are efficiently arranged between the electrodes, and the connection reliability of the connection target members connected by the conductive material is further improved. can be done.

上記導電材料100重量%中、上記絶縁性粒子付き導電性粒子の含有量は、好ましくは0.01重量%以上、より好ましくは0.1重量%以上であり、好ましくは80重量%以下、より好ましくは60重量%以下、さらに好ましくは40重量%以下、特に好ましくは20重量%以下、最も好ましくは10重量%以下である。上記絶縁性粒子付き導電性粒子の含有量が、上記下限以上及び上記上限以下であると、電極間の導通信頼性及び絶縁信頼性をより一層高めることができる。 In 100% by weight of the conductive material, the content of the conductive particles with insulating particles is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more, and preferably 80% by weight or less. It is preferably 60% by weight or less, more preferably 40% by weight or less, particularly preferably 20% by weight or less, and most preferably 10% by weight or less. When the content of the conductive particles with insulating particles is equal to or more than the lower limit and equal to or less than the upper limit, reliability of electrical connection and reliability of insulation between electrodes can be further enhanced.

(接続構造体)
本発明に係る接続構造体は、第1の電極を表面に有する第1の接続対象部材と、第2の電極を表面に有する第2の接続対象部材と、上記第1の接続対象部材と、上記第2の接続対象部材を接続している接続部とを備える。本発明に係る接続構造体では、上記接続部の材料が、上述した絶縁性粒子付き導電性粒子であるか、又は上記絶縁性粒子付き導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料である。本発明に係る接続構造体では、上記第1の電極と上記第2の電極とが、上記絶縁性粒子付き導電性粒子における上記導電部により電気的に接続されている。
(connection structure)
A connection structure according to the present invention includes a first connection object member having a first electrode on the surface, a second connection object member having a second electrode on the surface, the first connection object member, and a connecting portion connecting the second connection target member. In the connection structure according to the present invention, the material of the connection portion is the conductive particles with insulating particles described above, or a conductive material containing the conductive particles with insulating particles and a binder resin. In the connection structure according to the present invention, the first electrode and the second electrode are electrically connected by the conductive portion in the conductive particles with insulating particles.

上記接続構造体は、上記第1の接続対象部材と上記第2の接続対象部材との間に、上記絶縁性粒子付き導電性粒子又は上記導電材料を配置する工程と、熱圧着することにより、導電接続する工程とを経て、得ることができる。上記熱圧着時に、上記絶縁性粒子が上記絶縁性粒子付き導電性粒子から脱離することが好ましい。 The connection structure comprises a step of placing the conductive particles with insulating particles or the conductive material between the first connection target member and the second connection target member, and thermocompression bonding, It can be obtained through the step of electrically connecting. It is preferable that the insulating particles are detached from the conductive particles with insulating particles during the thermocompression bonding.

図4は、本発明の第1の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を用いた接続構造体を模式的に示す断面図である。 FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a connected structure using conductive particles with insulating particles according to the first embodiment of the present invention.

図4に示す接続構造体81は、第1の接続対象部材82と、第2の接続対象部材83と、第1の接続対象部材82及び第2の接続対象部材83を接続している接続部84とを備える。接続部84は、絶縁性粒子付き導電性粒子1を含む導電材料により形成されている。接続部84は、絶縁性粒子付き導電性粒子1を複数含む導電材料を硬化させることにより形成されていることが好ましい。なお、図4では、絶縁性粒子付き導電性粒子1は、図示の便宜上、略図的に示されている。絶縁性粒子付き導電性粒子1にかえて、絶縁性粒子付き導電性粒子21又は41を用いてもよい。 A connection structure 81 shown in FIG. 4 includes a first connection target member 82, a second connection target member 83, and a connection portion that connects the first connection target member 82 and the second connection target member 83. 84. The connecting portion 84 is made of a conductive material containing the conductive particles 1 with insulating particles. The connecting portion 84 is preferably formed by curing a conductive material containing a plurality of conductive particles 1 with insulating particles. In addition, in FIG. 4, the conductive particles 1 with insulating particles are shown schematically for convenience of illustration. In place of the conductive particles 1 with insulating particles, conductive particles 21 or 41 with insulating particles may be used.

第1の接続対象部材82は表面(上面)に、複数の第1の電極82aを有する。第2の接続対象部材83は表面(下面)に、複数の第2の電極83aを有する。第1の電極82aと第2の電極83aとが、1つ又は複数の絶縁性粒子付き導電性粒子1における導電性粒子2により電気的に接続されている。従って、第1接続対象部材82及び第2の接続対象部材83が絶縁性粒子付き導電性粒子1における導電部により電気的に接続されている。 The first connection target member 82 has a plurality of first electrodes 82a on its surface (upper surface). The second connection target member 83 has a plurality of second electrodes 83a on its surface (lower surface). The first electrode 82a and the second electrode 83a are electrically connected by the conductive particles 2 in the conductive particles 1 with one or more insulating particles. Therefore, the first connection target member 82 and the second connection target member 83 are electrically connected by the conductive portion in the conductive particles 1 with insulating particles.

上記接続構造体の製造方法は特に限定されない。接続構造体の製造方法の一例としては、第1の接続対象部材と第2の接続対象部材との間に上記導電材料を配置し、積層体を得た後、該積層体を加熱及び加圧する方法等が挙げられる。上記熱圧着の圧力は好ましくは40MPa以上、より好ましくは60MPa以上であり、好ましくは90MPa以下、より好ましくは70MPa以下である。上記熱圧着の加熱の温度は、好ましくは80℃以上、より好ましくは100℃以上であり、好ましくは140℃以下、より好ましくは120℃以下である。上記熱圧着の圧力及び温度が、上記下限以上及び上記上限以下であると、導電接続時に絶縁性粒子付き導電性粒子の表面から絶縁性粒子が容易に脱離でき、電極間の導通信頼性をより一層高めることができる。 The manufacturing method of the connection structure is not particularly limited. As an example of a method for manufacturing a connected structure, the conductive material is arranged between a first member to be connected and a second member to be connected to obtain a laminate, and then the laminate is heated and pressurized. methods and the like. The pressure of the thermocompression bonding is preferably 40 MPa or higher, more preferably 60 MPa or higher, and preferably 90 MPa or lower, more preferably 70 MPa or lower. The heating temperature for the thermocompression bonding is preferably 80° C. or higher, more preferably 100° C. or higher, and preferably 140° C. or lower, more preferably 120° C. or lower. When the pressure and temperature of the thermocompression bonding are the above lower limit or more and the above upper limit or less, the insulating particles can be easily detached from the surface of the conductive particles with insulating particles at the time of conductive connection, and the reliability of conduction between electrodes is improved. can be further enhanced.

上記積層体を加熱及び加圧する際に、上記導電性粒子と、上記第1の電極及び上記第2の電極との間に存在している上記絶縁性粒子を排除することができる。例えば、上記加熱及び加圧の際には、上記導電性粒子と、上記第1の電極及び上記第2の電極との間に存在している上記絶縁性粒子が、上記絶縁性粒子付き導電性粒子の表面から容易に脱離する。なお、上記加熱及び加圧の際には、上記絶縁性粒子付き導電性粒子の表面から一部の上記絶縁性粒子が脱離して、上記導電部の表面が部分的に露出することがある。上記導電部の表面が露出した部分が、上記第1の電極及び上記第2の電極に接触することにより、上記導電性粒子を介して第1の電極と第2の電極とを電気的に接続することができる。 When the laminate is heated and pressurized, the insulating particles present between the conductive particles and the first and second electrodes can be eliminated. For example, during the heating and pressurization, the conductive particles, the insulating particles present between the first electrode and the second electrode, the conductive particles with the insulating particles Easily detached from the surface of the particles. During the heating and pressurization, some of the insulating particles may be detached from the surface of the conductive particles with insulating particles, and the surface of the conductive portion may be partially exposed. The exposed portion of the conductive portion is in contact with the first electrode and the second electrode, thereby electrically connecting the first electrode and the second electrode via the conductive particles. can do.

上記第1の接続対象部材及び第2の接続対象部材は、特に限定されない。上記第1の接続対象部材及び第2の接続対象部材としては、具体的には、半導体チップ、半導体パッケージ、LEDチップ、LEDパッケージ、コンデンサ及びダイオード等の電子部品、並びに樹脂フィルム、プリント基板、フレキシブルプリント基板、フレキシブルフラットケーブル、リジッドフレキシブル基板、ガラスエポキシ基板及びガラス基板等の回路基板等の電子部品等が挙げられる。上記第1の接続対象部材及び第2の接続対象部材は、電子部品であることが好ましい。 The first member to be connected and the second member to be connected are not particularly limited. Specifically, the first connection target member and the second connection target member include electronic components such as semiconductor chips, semiconductor packages, LED chips, LED packages, capacitors and diodes, as well as resin films, printed circuit boards, flexible Examples include electronic components such as circuit boards such as printed boards, flexible flat cables, rigid flexible boards, glass epoxy boards and glass boards. The first member to be connected and the second member to be connected are preferably electronic components.

上記接続対象部材に設けられている電極としては、金電極、ニッケル電極、錫電極、アルミニウム電極、銅電極、モリブデン電極、銀電極、SUS電極、及びタングステン電極等の金属電極が挙げられる。上記接続対象部材がフレキシブルプリント基板である場合には、上記電極は金電極、ニッケル電極、錫電極、銀電極又は銅電極であることが好ましい。上記接続対象部材がガラス基板である場合には、上記電極はアルミニウム電極、銅電極、モリブデン電極、銀電極又はタングステン電極であることが好ましい。なお、上記電極がアルミニウム電極である場合には、アルミニウムのみで形成された電極であってもよく、金属酸化物層の表面にアルミニウム層が積層された電極であってもよい。上記金属酸化物層の材料としては、3価の金属元素がドープされた酸化インジウム及び3価の金属元素がドープされた酸化亜鉛等が挙げられる。上記3価の金属元素としては、Sn、Al及びGa等が挙げられる。 The electrodes provided on the connection object members include metal electrodes such as gold electrodes, nickel electrodes, tin electrodes, aluminum electrodes, copper electrodes, molybdenum electrodes, silver electrodes, SUS electrodes, and tungsten electrodes. When the member to be connected is a flexible printed circuit board, the electrode is preferably a gold electrode, a nickel electrode, a tin electrode, a silver electrode or a copper electrode. When the member to be connected is a glass substrate, the electrode is preferably an aluminum electrode, a copper electrode, a molybdenum electrode, a silver electrode, or a tungsten electrode. When the electrode is an aluminum electrode, it may be an electrode made of only aluminum, or an electrode in which an aluminum layer is laminated on the surface of a metal oxide layer. Examples of materials for the metal oxide layer include indium oxide doped with a trivalent metal element and zinc oxide doped with a trivalent metal element. Examples of the trivalent metal elements include Sn, Al and Ga.

以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を具体的に説明する。本発明は、以下の実施例のみに限定されない。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples and comparative examples. The invention is not limited only to the following examples.

(実施例1)
(1)導電性粒子の作製
テトラメチロールメタンテトラアクリレートとジビニルベンゼンとの共重合樹脂により形成された樹脂粒子(粒子径20μm)を用意した。パラジウム触媒液を5重量%含むアルカリ溶液100重量部に、基材粒子10重量部を、超音波分散器を用いて分散させた後、溶液をろ過することにより、基材粒子を取り出した。次いで、基材粒子をジメチルアミンボラン1重量%溶液100重量部に添加し、基材粒子の表面を活性化させた。表面が活性化された基材粒子を十分に水洗した後、蒸留水500重量部に加え、分散させることにより、分散液を得た。次に、ニッケル粒子スラリー(平均粒子径100nm)1gを3分間かけて上記分散液に添加し、芯物質が付着された基材粒子を含む懸濁液を得た。
(Example 1)
(1) Production of Conductive Particles Resin particles (particle size: 20 μm) formed from a copolymer resin of tetramethylolmethane tetraacrylate and divinylbenzene were prepared. After dispersing 10 parts by weight of the base particles in 100 parts by weight of an alkaline solution containing 5% by weight of the palladium catalyst solution using an ultrasonic disperser, the solution was filtered to obtain the base particles. Next, the substrate particles were added to 100 parts by weight of a 1% by weight solution of dimethylamine borane to activate the surfaces of the substrate particles. After thoroughly washing the surface-activated substrate particles with water, they were added to 500 parts by weight of distilled water and dispersed to obtain a dispersion. Next, 1 g of nickel particle slurry (average particle size: 100 nm) was added to the above dispersion liquid over 3 minutes to obtain a suspension containing base particles to which the core substance was attached.

また、硫酸ニッケル0.35mol/L、ジメチルアミンボラン1.38mol/L及びクエン酸ナトリウム0.5mol/Lを含むニッケルめっき液(pH8.5)を用意した。 A nickel plating solution (pH 8.5) containing 0.35 mol/L nickel sulfate, 1.38 mol/L dimethylamine borane, and 0.5 mol/L sodium citrate was also prepared.

得られた懸濁液を70℃にて攪拌しながら、上記ニッケルめっき液を懸濁液に徐々に滴下し、無電解ニッケルめっきを行った。その後、懸濁液をろ過することにより、粒子を取り出し、水洗し、乾燥することにより、基材粒子の表面に第1の導電部(ニッケル-ボロン層、厚み200nm)が形成された粒子を得た。 While stirring the obtained suspension at 70° C., the above nickel plating solution was gradually dropped into the suspension to perform electroless nickel plating. After that, by filtering the suspension, the particles are taken out, washed with water, and dried to obtain particles in which the first conductive part (nickel-boron layer, thickness 200 nm) is formed on the surface of the substrate particles. rice field.

第1の導電部が形成された粒子10重量部を、蒸留水100重量部に添加し、分散させることにより、懸濁液を得た。また、シアン化金0.03mol/Lと、還元剤としてヒドロキノン0.1mol/Lとを含む還元金めっき液を用意した。得られた懸濁液を70℃にて攪拌しながら、上記還元金めっき液を懸濁液に徐々に滴下し、還元金めっきを行った。その後、懸濁液をろ過することにより、粒子を取り出し、水洗し、乾燥することにより、導電性粒子を得た。得られた導電性粒子では、上記第1の導電部の外表面上に第2の導電部(金層、厚み35nm)が形成されていた。 A suspension was obtained by adding 10 parts by weight of the particles on which the first conductive portion was formed and dispersing them in 100 parts by weight of distilled water. A reduction gold plating solution containing 0.03 mol/L of gold cyanide and 0.1 mol/L of hydroquinone as a reducing agent was also prepared. While stirring the resulting suspension at 70° C., the reduction gold plating solution was gradually dropped into the suspension to carry out reduction gold plating. After that, the particles were taken out by filtering the suspension, washed with water, and dried to obtain conductive particles. In the obtained conductive particles, the second conductive portion (gold layer, thickness 35 nm) was formed on the outer surface of the first conductive portion.

(2)絶縁性粒子の作製
4つ口セパラブルカバー、攪拌翼、三方コック、冷却管及び温度プローブを取り付けた2000mLセパラブルフラスコに、下記の組成物を入れた後、上記組成物を固形分が10重量%となるように蒸留水を添加して、120rpmで攪拌し、窒素雰囲気下50℃で5時間重合を行った。上記組成物は、メタクリル酸メチル1080mmol、ジメタクリル酸エチレングリコール(架橋剤)10mmol、4-(メタクリロイルオキシ)フェニルジメチルスルホニウムメチルスルフェート0.5mmol、及び2,2’-アゾビス{2-[N-(2-カルボキシエチル)アミジノ]プロパン}0.5mmolを含む。反応終了後、凍結乾燥して、4-(メタクリロイルオキシ)フェニルジメチルスルホニウムメチルスルフェートに由来するスルホン基を表面に有する絶縁性粒子(粒子径540nm)を得た。
(2) Preparation of insulating particles After putting the following composition in a 2000 mL separable flask equipped with a four-necked separable cover, a stirring blade, a three-way cock, a cooling tube and a temperature probe, the composition is added to the solid content. Distilled water was added so that the content of the mixture was 10% by weight, and the mixture was stirred at 120 rpm and polymerized at 50° C. for 5 hours in a nitrogen atmosphere. The above composition contains 1080 mmol of methyl methacrylate, 10 mmol of ethylene glycol dimethacrylate (crosslinker), 0.5 mmol of 4-(methacryloyloxy)phenyldimethylsulfonium methylsulfate, and 2,2′-azobis{2-[N- (2-Carboxyethyl)amidino]propane}0.5mmol. After completion of the reaction, the mixture was lyophilized to obtain insulating particles (particle size: 540 nm) having sulfone groups derived from 4-(methacryloyloxy)phenyldimethylsulfonium methylsulfate on their surfaces.

(3)絶縁性粒子付き導電性粒子の作製
上記で得られた絶縁性粒子を超音波照射下で蒸留水に分散させ、絶縁性粒子の10重量%水分散液を得た。得られた導電性粒子10gを蒸留水500mLに分散させ、絶縁性粒子の10重量%水分散液1gを添加し、室温で8時間攪拌した。3μmのメッシュフィルターで濾過した後、さらにメタノールで洗浄、乾燥し、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(3) Production of conductive particles with insulating particles The insulating particles obtained above were dispersed in distilled water under ultrasonic irradiation to obtain a 10% by weight aqueous dispersion of insulating particles. 10 g of the obtained conductive particles were dispersed in 500 mL of distilled water, 1 g of a 10% by weight aqueous dispersion of insulating particles was added, and the mixture was stirred at room temperature for 8 hours. After filtration through a 3 μm mesh filter, the particles were washed with methanol and dried to obtain conductive particles with insulating particles.

(4)導電材料(異方性導電ペースト)の作製
得られた導電性粒子7重量部と、ビスフェノールA型フェノキシ樹脂25重量部と、フルオレン型エポキシ樹脂4重量部と、フェノールノボラック型エポキシ樹脂30重量部と、SI-60L(三新化学工業社製)とを配合して、3分間脱泡及び攪拌することで、導電材料(異方性導電ペースト)を得た。
(4) Preparation of conductive material (anisotropic conductive paste) 7 parts by weight of the obtained conductive particles, 25 parts by weight of bisphenol A type phenoxy resin, 4 parts by weight of fluorene type epoxy resin, and 30 parts by weight of phenol novolac type epoxy resin Parts by weight and SI-60L (manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) were blended, defoamed and stirred for 3 minutes to obtain a conductive material (anisotropic conductive paste).

(5)接続構造体の作製
L/Sが10μm/10μmであるIZO電極パターン(第1の電極、電極表面の金属のビッカース硬度100Hv)が上面に形成された透明ガラス基板を用意した。また、L/Sが10μm/10μmであるAu電極パターン(第2の電極、電極表面の金属のビッカース硬度50Hv)が下面に形成された半導体チップを用意した。
(5) Fabrication of Connection Structure A transparent glass substrate was prepared on the upper surface of which an IZO electrode pattern (first electrode, electrode surface metal Vickers hardness 100 Hv) with L/S of 10 μm/10 μm was formed. In addition, a semiconductor chip having an Au electrode pattern with L/S of 10 μm/10 μm (second electrode, Vickers hardness of electrode surface metal 50 Hv) formed on the lower surface was prepared.

上記透明ガラス基板上に、得られた異方性導電ペーストを厚さ30μmとなるように塗工し、異方性導電ペースト層を形成した。次に、異方性導電ペースト層上に上記半導体チップを、電極同士が対向するように積層した。その後、異方性導電ペースト層の温度が100℃となるようにヘッドの温度を調整しながら、半導体チップの上面に加圧加熱ヘッドを載せ、60MPaの圧力をかけて異方性導電ペースト層を100℃で硬化させ、接続構造体を得た。 The obtained anisotropic conductive paste was coated on the transparent glass substrate so as to have a thickness of 30 μm to form an anisotropic conductive paste layer. Next, the semiconductor chip was laminated on the anisotropic conductive paste layer so that the electrodes faced each other. After that, while adjusting the temperature of the head so that the temperature of the anisotropic conductive paste layer becomes 100° C., a pressure heating head is placed on the upper surface of the semiconductor chip, and a pressure of 60 MPa is applied to the anisotropic conductive paste layer. It was cured at 100° C. to obtain a connected structure.

(実施例2)
絶縁性粒子の作製の際に、上記組成物中のメタクリル酸メチルの配合量を1080mmolから540mmolに変更し、上記組成物中にメタクリル酸グリシジル540mmolを添加した。また、絶縁性粒子の作製の際に、絶縁性粒子の粒子径を750nmに変更した。上記の変更以外は、実施例1と同様に、導電性粒子、絶縁性粒子付き導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Example 2)
When the insulating particles were produced, the amount of methyl methacrylate in the composition was changed from 1080 mmol to 540 mmol, and 540 mmol of glycidyl methacrylate was added to the composition. Moreover, the particle diameter of the insulating particles was changed to 750 nm when the insulating particles were produced. Conductive particles, conductive particles with insulating particles, a conductive material, and a connection structure were obtained in the same manner as in Example 1 except for the above changes.

(実施例3)
絶縁性粒子の作製の際に、上記組成物中のメタクリル酸メチルの配合量を1080mmolから540mmolに変更し、上記組成物中にメタクリル酸グリシジル540mmolを添加した。また、絶縁性粒子の作製の際に、絶縁性粒子の粒子径を800nmに変更した。上記の変更以外は、実施例1と同様に、導電性粒子、絶縁性粒子付き導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Example 3)
When the insulating particles were produced, the amount of methyl methacrylate in the composition was changed from 1080 mmol to 540 mmol, and 540 mmol of glycidyl methacrylate was added to the composition. Moreover, the particle diameter of the insulating particles was changed to 800 nm when the insulating particles were produced. Conductive particles, conductive particles with insulating particles, a conductive material, and a connection structure were obtained in the same manner as in Example 1 except for the above changes.

(実施例4)
絶縁性粒子の作製の際に、上記組成物中のメタクリル酸メチルの配合量を1080mmolから540mmolに変更し、上記組成物中にメタクリル酸グリシジル540mmolを添加した。また、絶縁性粒子の作製の際に、絶縁性粒子の粒子径を1400nmに変更した。上記の変更以外は、実施例1と同様に、導電性粒子、絶縁性粒子付き導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Example 4)
When the insulating particles were produced, the amount of methyl methacrylate in the composition was changed from 1080 mmol to 540 mmol, and 540 mmol of glycidyl methacrylate was added to the composition. Moreover, the particle diameter of the insulating particles was changed to 1400 nm when the insulating particles were produced. Conductive particles, conductive particles with insulating particles, a conductive material, and a connection structure were obtained in the same manner as in Example 1 except for the above changes.

(実施例5)
導電性粒子の作製の際に、第1の導電部(ニッケル-ボロン層)の厚みを250nmに変更し、第2の導電部(金層、厚み35nm)を形成しなかったこと以外は、実施例3と同様に、導電性粒子、絶縁性粒子付き導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Example 5)
When producing the conductive particles, the thickness of the first conductive portion (nickel-boron layer) was changed to 250 nm, and the second conductive portion (gold layer, thickness 35 nm) was not formed. Conductive particles, conductive particles with insulating particles, a conductive material and a connection structure were obtained in the same manner as in Example 3.

(実施例6)
導電性粒子の作製の際に、ニッケル粒子スラリー(平均粒子径100nm)を用いなかったこと以外は、実施例3と同様に、導電性粒子、絶縁性粒子付き導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Example 6)
Conductive particles, conductive particles with insulating particles, conductive material and connection structure were prepared in the same manner as in Example 3, except that the nickel particle slurry (average particle size: 100 nm) was not used in the production of the conductive particles. got a body

(実施例7)
導電性粒子の作製の際に、ニッケル粒子スラリー(平均粒子径100nm)の代わりにニッケル粒子スラリー(平均粒子径250nm)を用いたこと以外は、実施例3と同様に、導電性粒子、絶縁性粒子付き導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Example 7)
Conductive particles, insulating A conductive particle with particles, a conductive material, and a connection structure were obtained.

(実施例8)
導電性粒子の作製の際に、ニッケル粒子スラリー(平均粒子径100nm)の代わりにニッケル粒子スラリー(平均粒子径450nm)を用いたこと以外は、実施例3と同様に、導電性粒子、絶縁性粒子付き導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Example 8)
Conductive particles, insulating A conductive particle with particles, a conductive material, and a connection structure were obtained.

(実施例9)
導電性粒子の作製の際に、テトラメチロールメタンテトラアクリレートとジビニルベンゼンとの共重合樹脂により形成された樹脂粒子(粒子径20μm)の代わりに、テトラメチロールメタンテトラアクリレートとジビニルベンゼンとの共重合樹脂により形成された樹脂粒子(粒子径3μm)を用いた。上記の変更以外は、実施例3と同様に、導電性粒子、絶縁性粒子付き導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Example 9)
Copolymer resin of tetramethylolmethane tetraacrylate and divinylbenzene instead of resin particles (particle size 20 μm) formed of copolymer resin of tetramethylolmethane tetraacrylate and divinylbenzene when producing conductive particles. Resin particles (particle size: 3 μm) formed by were used. Conductive particles, conductive particles with insulating particles, a conductive material, and a connection structure were obtained in the same manner as in Example 3 except for the above changes.

(実施例10)
導電性粒子の作製の際に、第1の導電部(ニッケル-ボロン層)の厚みを250nmに変更し、第2の導電部(金層、厚み35nm)を形成しなかった。また、導電性粒子の作製の際に、テトラメチロールメタンテトラアクリレートとジビニルベンゼンとの共重合樹脂により形成された樹脂粒子(粒子径20μm)の代わりに、テトラメチロールメタンテトラアクリレートとジビニルベンゼンとの共重合樹脂により形成された樹脂粒子(粒子径3μm)を用いた。上記の変更以外は、実施例3と同様に、導電性粒子、絶縁性粒子付き導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Example 10)
When producing the conductive particles, the thickness of the first conductive portion (nickel-boron layer) was changed to 250 nm, and the second conductive portion (gold layer, thickness 35 nm) was not formed. Further, when producing the conductive particles, instead of resin particles (particle diameter 20 μm) formed from a copolymer resin of tetramethylolmethane tetraacrylate and divinylbenzene, a copolymer of tetramethylolmethane tetraacrylate and divinylbenzene was used. Resin particles (particle size: 3 μm) formed from a polymerized resin were used. Conductive particles, conductive particles with insulating particles, a conductive material, and a connection structure were obtained in the same manner as in Example 3 except for the above changes.

(実施例11)
導電性粒子の作製の際に、テトラメチロールメタンテトラアクリレートとジビニルベンゼンとの共重合樹脂により形成された樹脂粒子(粒子径20μm)の代わりに、テトラメチロールメタンテトラアクリレートとジビニルベンゼンとの共重合樹脂により形成された樹脂粒子(粒子径10μm)を用いた。上記の変更以外は、実施例3と同様に、導電性粒子、絶縁性粒子付き導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Example 11)
Copolymer resin of tetramethylolmethane tetraacrylate and divinylbenzene instead of resin particles (particle size 20 μm) formed of copolymer resin of tetramethylolmethane tetraacrylate and divinylbenzene when producing conductive particles. Resin particles (particle size: 10 μm) formed by Conductive particles, conductive particles with insulating particles, a conductive material, and a connection structure were obtained in the same manner as in Example 3 except for the above changes.

(実施例12)
導電性粒子の作製の際に、テトラメチロールメタンテトラアクリレートとジビニルベンゼンとの共重合樹脂により形成された樹脂粒子(粒子径20μm)の代わりに、テトラメチロールメタンテトラアクリレートとジビニルベンゼンとの共重合樹脂により形成された樹脂粒子(粒子径35μm)を用いた。上記の変更以外は、実施例3と同様に、導電性粒子、絶縁性粒子付き導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Example 12)
Copolymer resin of tetramethylolmethane tetraacrylate and divinylbenzene instead of resin particles (particle size 20 μm) formed of copolymer resin of tetramethylolmethane tetraacrylate and divinylbenzene when producing conductive particles. Resin particles (particle size: 35 μm) formed by Conductive particles, conductive particles with insulating particles, a conductive material, and a connection structure were obtained in the same manner as in Example 3 except for the above changes.

(実施例13)
導電性粒子の作製の際に、テトラメチロールメタンテトラアクリレートとジビニルベンゼンとの共重合樹脂により形成された樹脂粒子(粒子径20μm)の代わりに、テトラメチロールメタンテトラアクリレートとジビニルベンゼンとの共重合樹脂により形成された樹脂粒子(粒子径50μm)を用いた。上記の変更以外は、実施例3と同様に、導電性粒子、絶縁性粒子付き導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Example 13)
Copolymer resin of tetramethylolmethane tetraacrylate and divinylbenzene instead of resin particles (particle size 20 μm) formed of copolymer resin of tetramethylolmethane tetraacrylate and divinylbenzene when producing conductive particles. Resin particles (particle size: 50 μm) formed by Conductive particles, conductive particles with insulating particles, a conductive material, and a connection structure were obtained in the same manner as in Example 3 except for the above changes.

(実施例14)
絶縁性粒子の作製の際に、上記組成物中のメタクリル酸メチルの配合量を1080mmolから80mmolに変更したこと、及び上記組成物中にメタクリル酸グリシジル1000mmolを添加したこと以外は、実施例3と同様に、導電性粒子、絶縁性粒子付き導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Example 14)
Except for changing the amount of methyl methacrylate in the composition from 1,080 mmol to 80 mmol and adding 1,000 mmol of glycidyl methacrylate to the composition in the preparation of the insulating particles, Example 3 was used. Similarly, conductive particles, conductive particles with insulating particles, a conductive material and a connection structure were obtained.

(実施例15)
絶縁性粒子の作製の際に、上記組成物中のメタクリル酸メチルの配合量を1080mmolから680mmolに変更したこと、及び上記組成物中にメタクリル酸グリシジル400mmolを添加したこと以外は、実施例3と同様に、導電性粒子、絶縁性粒子付き導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Example 15)
Except for changing the blending amount of methyl methacrylate in the composition from 1080 mmol to 680 mmol and adding 400 mmol of glycidyl methacrylate to the composition in the preparation of the insulating particles, Example 3 was used. Similarly, conductive particles, conductive particles with insulating particles, a conductive material and a connection structure were obtained.

(実施例16)
絶縁性粒子の作製の際に、上記組成物中のジメタクリル酸エチレングリコールの配合量を10mmolから15mmolに変更したこと以外は、実施例3と同様に、導電性粒子、絶縁性粒子付き導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Example 16)
Conductive particles and conductive particles with insulating particles were prepared in the same manner as in Example 3, except that the amount of ethylene glycol dimethacrylate in the composition was changed from 10 mmol to 15 mmol when the insulating particles were produced. Particles, conductive materials and connecting structures were obtained.

(実施例17)
絶縁性粒子の作製の際に、上記組成物中のジメタクリル酸エチレングリコールの配合量を10mmolから20mmolに変更したこと以外は、実施例3と同様に、導電性粒子、絶縁性粒子付き導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Example 17)
Conductive particles and conductive particles with insulating particles were prepared in the same manner as in Example 3, except that the amount of ethylene glycol dimethacrylate in the composition was changed from 10 mmol to 20 mmol when the insulating particles were produced. Particles, conductive materials and connecting structures were obtained.

(比較例1)
絶縁性粒子の作製の際に、絶縁性粒子の粒子径を450nmに変更したこと以外は、実施例1と同様に、導電性粒子、絶縁性粒子付き導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Comparative example 1)
Conductive particles, conductive particles with insulating particles, conductive material and connection structure were prepared in the same manner as in Example 1, except that the particle diameter of the insulating particles was changed to 450 nm when the insulating particles were produced. Obtained.

(比較例2)
絶縁性粒子の作製の際に、絶縁性粒子の粒子径を450nmに変更したこと以外は、実施例3と同様に、導電性粒子、絶縁性粒子付き導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Comparative example 2)
Conductive particles, conductive particles with insulating particles, conductive material and connection structure were prepared in the same manner as in Example 3, except that the particle diameter of the insulating particles was changed to 450 nm when the insulating particles were produced. Obtained.

(比較例3)
絶縁性粒子の作製の際に、絶縁性粒子の粒子径を360nmに変更したこと以外は、実施例3と同様に、導電性粒子、絶縁性粒子付き導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Comparative Example 3)
Conductive particles, conductive particles with insulating particles, conductive material and connection structure were prepared in the same manner as in Example 3, except that the particle diameter of the insulating particles was changed to 360 nm when the insulating particles were produced. Obtained.

(比較例4)
絶縁性粒子の作製の際に、上記組成物中のメタクリル酸メチルの配合量を1080mmolから540mmolに変更し、上記組成物中にメタクリル酸グリシジル540mmolを添加した。また、絶縁性粒子の作製の際に、絶縁性粒子の粒子径を2500nmに変更した。上記の変更以外は、実施例1と同様に、導電性粒子、絶縁性粒子付き導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Comparative Example 4)
When the insulating particles were produced, the amount of methyl methacrylate in the composition was changed from 1080 mmol to 540 mmol, and 540 mmol of glycidyl methacrylate was added to the composition. Moreover, the particle diameter of the insulating particles was changed to 2500 nm when the insulating particles were produced. Conductive particles, conductive particles with insulating particles, a conductive material, and a connection structure were obtained in the same manner as in Example 1 except for the above changes.

(比較例5)
絶縁性粒子の作製の際に、上記組成物中にジペンタエリスリトールヘキサアクリレート100mmоlを添加した。また、絶縁性粒子の作製の際に、絶縁性粒子の粒子径を800nmに変更した。上記の変更以外は、実施例1と同様に、導電性粒子、絶縁性粒子付き導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Comparative Example 5)
In preparing the insulating particles, 100 mmol of dipentaerythritol hexaacrylate was added to the above composition. Moreover, the particle diameter of the insulating particles was changed to 800 nm when the insulating particles were produced. Conductive particles, conductive particles with insulating particles, a conductive material, and a connection structure were obtained in the same manner as in Example 1 except for the above changes.

(比較例6)
絶縁性粒子の作製の際に、上記組成物中にメタクリル酸メチル1080mmolの代わりに、メタクリル酸2-エチルヘキシル1080mmоlを添加した。また、絶縁性粒子の作製の際に、絶縁性粒子の粒子径を800nmに変更した。上記の変更以外は、実施例1と同様に、導電性粒子、絶縁性粒子付き導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Comparative Example 6)
During the production of the insulating particles, 1080 mmol of 2-ethylhexyl methacrylate was added to the above composition instead of 1080 mmol of methyl methacrylate. Moreover, the particle diameter of the insulating particles was changed to 800 nm when the insulating particles were produced. Conductive particles, conductive particles with insulating particles, a conductive material, and a connection structure were obtained in the same manner as in Example 1 except for the above changes.

(評価)
(1)絶縁性粒子の粒子径
得られた絶縁性粒子の粒子径を、任意の絶縁性粒子50個を電子顕微鏡にて観察し、平均値を算出することにより求めた。
(evaluation)
(1) Particle Size of Insulating Particles The particle size of the obtained insulating particles was obtained by observing 50 arbitrary insulating particles with an electron microscope and calculating the average value.

(2)絶縁性粒子の60℃における貯蔵弾性率
得られた絶縁性粒子と同じ原料(絶縁性粒子を構成する材料)を用いて、長さ10mm、幅1mm~10mm、厚み15mm~50mmの測定サンプルを作製した。上記測定サンプルの60℃における貯蔵弾性率を、動的粘弾性測定装置(TA Instruments社製「RSA3」)を用いて、周波数10Hz、ひずみ1%、温度-10℃~210℃、及び昇温速度5℃/minの条件で測定した。測定結果から、60℃における貯蔵弾性率を算出した。
(2) Storage modulus of insulating particles at 60 ° C. Using the same raw material as the obtained insulating particles (material constituting the insulating particles), measurement of length 10 mm, width 1 mm to 10 mm, thickness 15 mm to 50 mm A sample was made. The storage modulus of the measurement sample at 60 ° C. was measured using a dynamic viscoelasticity measuring device ("RSA3" manufactured by TA Instruments) at a frequency of 10 Hz, a strain of 1%, a temperature of -10 ° C. to 210 ° C., and a heating rate. Measurement was performed at 5°C/min. From the measurement results, the storage modulus at 60°C was calculated.

なお、測定サンプルは以下のように作製した。測定サンプルのサイズの形状(長さ10mm、幅1mm~10mm、厚み15mm~50mm)に中央をくりぬいた30mm×40mmのシリコーンゴムを用意した。該シリコーンゴムを、30mm×40mmのガラス切片上に乗せた。ガラス切片上のシリコーンゴムのくりぬいた部分に、絶縁性粒子と同じ原料(絶縁性粒子を構成する材料)を流し込んだ。絶縁性粒子と同じ原料が流し込まれたシリコーンゴム上を、30mm×40mmのガラス切片でふたをし、クリップを用いて固定し、積層体を得た。得られた積層体をオーブンに入れ、窒素雰囲気下で50℃で5時間反応させた。反応後クリップを外し、測定サンプルを取り出した。 In addition, the measurement sample was produced as follows. A silicone rubber of 30 mm×40 mm was prepared by hollowing out the center in the shape of the size of the measurement sample (length 10 mm, width 1 mm to 10 mm, thickness 15 mm to 50 mm). The silicone rubber was placed on a 30 mm x 40 mm piece of glass. The same raw material as the insulating particles (material constituting the insulating particles) was poured into the hollowed out portion of the silicone rubber on the glass piece. The silicone rubber into which the same raw material as the insulating particles was poured was covered with a glass piece of 30 mm×40 mm and fixed with a clip to obtain a laminate. The obtained laminate was placed in an oven and reacted at 50° C. for 5 hours under a nitrogen atmosphere. After the reaction, the clip was removed and the measurement sample was taken out.

(3)絶縁性粒子の膨潤倍率
得られた絶縁性粒子と同じ原料を用いて、縦10mm×横5mm、厚み0.5mmの測定サンプルを作製した。得られた測定サンプルの重量を測定し、トルエン100g中に25℃で20時間浸漬した。その後、測定サンプルを取り出し、160℃で30分間乾燥し、乾燥後の測定サンプルの重量を測定した。トルエン浸漬前後の測定サンプルの重量変化から下記式(1)により、膨潤倍率を算出した。
(3) Swelling Ratio of Insulating Particles Using the same raw material as the insulating particles obtained, a measurement sample of 10 mm long×5 mm wide and 0.5 mm thick was prepared. The obtained measurement sample was weighed and immersed in 100 g of toluene at 25° C. for 20 hours. After that, the measurement sample was taken out, dried at 160° C. for 30 minutes, and the weight of the measurement sample after drying was measured. The swelling ratio was calculated by the following formula (1) from the weight change of the measurement sample before and after immersion in toluene.

膨潤倍率=[トルエン浸漬後の測定サンプルの重量(g)/トルエン浸漬前の測定サンプルの重量(g)] ・・・式(1) Swelling ratio=[Weight (g) of measurement sample after immersion in toluene/Weight (g) of measurement sample before immersion in toluene] Equation (1)

(4)絶縁性粒子の全個数の内、他の絶縁性粒子に接触しないように、導電性粒子の表面上に配置されている絶縁性粒子の個数の割合X
得られた絶縁性粒子付き導電性粒子について、走査型電子顕微鏡(SEM)により観察し、20個の絶縁性粒子付き導電性粒子における絶縁性粒子の個数、及び他の絶縁性粒子に接触していない絶縁性粒子の個数をそれぞれ算出した。得られた結果から、絶縁性粒子の全個数の内、他の絶縁性粒子に接触しないように、導電性粒子の表面上に配置されている絶縁性粒子の個数の割合Xを、20個の絶縁性粒子付き導電性粒子の平均値として算出した。上記個数の割合Xを下記の基準で判定した。
(4) Among the total number of insulating particles, the ratio X of the number of insulating particles arranged on the surface of the conductive particles so as not to contact other insulating particles
The obtained conductive particles with insulating particles were observed with a scanning electron microscope (SEM), and the number of insulating particles in 20 conductive particles with insulating particles, and the number of insulating particles in contact with other insulating particles. The number of insulating particles that do not exist was calculated. From the obtained results, the ratio X of the number of insulating particles arranged on the surface of the conductive particles, out of the total number of insulating particles, so as not to contact other insulating particles, was set to 20. It was calculated as an average value of conductive particles with insulating particles. The ratio X of the above numbers was determined according to the following criteria.

[絶縁性粒子の全個数の内、他の絶縁性粒子に接触しないように、導電性粒子の表面上に配置されている絶縁性粒子の個数の割合Xの判定基準]
AA:個数の割合Xが50%以上
A:個数の割合Xが30%以上50%未満
B:個数の割合Xが10%以上30%未満
C:個数の割合Xが10%未満
[Determination criteria for the ratio X of the number of insulating particles arranged on the surface of the conductive particles so as not to contact other insulating particles, out of the total number of insulating particles]
AA: Number ratio X is 50% or more A: Number ratio X is 30% or more and less than 50% B: Number ratio X is 10% or more and less than 30% C: Number ratio X is less than 10%

(5)導電性粒子の粒子径
得られた導電性粒子の粒子径を、堀場製作所社製「レーザー回折式粒度分布測定装置」を用いて測定した。また、導電性粒子の粒子径は、20回の測定結果を平均することにより算出した。
(5) Particle Size of Conductive Particles The particle sizes of the obtained conductive particles were measured using a “laser diffraction particle size distribution analyzer” manufactured by Horiba, Ltd. In addition, the particle diameter of the conductive particles was calculated by averaging 20 measurement results.

また、絶縁性粒子の粒子径及び導電性粒子の粒子径の測定結果から、導電性粒子の粒子径の、絶縁性粒子の粒子径に対する比を算出した。 Also, the ratio of the particle size of the conductive particles to the particle size of the insulating particles was calculated from the measurement results of the particle size of the insulating particles and the particle size of the conductive particles.

(6)導通信頼性(上下の電極間)
得られた20個の接続構造体の上下の電極間の接続抵抗をそれぞれ、4端子法により測定した。なお、電圧=電流×抵抗の関係から、一定の電流を流した時の電圧を測定することにより接続抵抗を求めることができる。導通信頼性を下記の基準で判定した。
(6) Continuity reliability (between upper and lower electrodes)
The connection resistance between the upper and lower electrodes of the obtained 20 connection structures was measured by the four-probe method. From the relationship of voltage=current×resistance, the connection resistance can be obtained by measuring the voltage when a constant current flows. Conductivity reliability was determined according to the following criteria.

[導通信頼性の判定基準]
○○○:接続抵抗が、2.0Ω以下
○○:接続抵抗が、2.0Ωを超え5.0Ω以下
○:接続抵抗が、5.0Ωを超え10Ω以下
×:接続抵抗が、10Ωを超える
[Continuity Reliability Judgment Criteria]
○○○: Connection resistance is 2.0 Ω or less ○○: Connection resistance is over 2.0 Ω and 5.0 Ω or less ○: Connection resistance is over 5.0 Ω and 10 Ω or less ×: Connection resistance is over 10 Ω

(7)絶縁信頼性(横方向に隣り合う電極間)
上記(6)導通信頼性の評価で得られた20個の接続構造体において、隣接する電極間のリークの有無を、テスターで抵抗値を測定することにより評価した。絶縁信頼性を下記の基準で評価した。
(7) Insulation reliability (between laterally adjacent electrodes)
In the 20 connection structures obtained in the above (6) Evaluation of conduction reliability, the presence or absence of leakage between adjacent electrodes was evaluated by measuring the resistance value with a tester. Insulation reliability was evaluated according to the following criteria.

[絶縁信頼性の判定基準]
○○○:抵抗値が10Ω以上の接続構造体の個数が、18個以上
○○:抵抗値が10Ω以上の接続構造体の個数が、15個以上18個未満
○:抵抗値が10Ω以上の接続構造体の個数が、10個以上15個未満
×:抵抗値が10Ω以上の接続構造体の個数が、10個未満
[Insulation Reliability Criteria]
○○○: The number of connection structures with a resistance value of 10 8 Ω or more is 18 or more ○○: The number of connection structures with a resistance value of 10 8 Ω or more is 15 or more and less than 18 ○: Resistance value 10 or more and less than 15 connection structures with a resistance value of 10 8 Ω or more ×: less than 10 connection structures with a resistance value of 10 8 Ω or more

結果を下記の表1~3に示す。 The results are shown in Tables 1-3 below.

Figure 0007271543000001
Figure 0007271543000001

Figure 0007271543000002
Figure 0007271543000002

Figure 0007271543000003
Figure 0007271543000003

1…絶縁性粒子付き導電性粒子
2…導電性粒子
3…絶縁性粒子
11…基材粒子
12…導電部
21…絶縁性粒子付き導電性粒子
22…導電性粒子
31…導電部
32…芯物質
33…突起
41…絶縁性粒子付き導電性粒子
42…導電性粒子
51…導電部
52…突起
81…接続構造体
82…第1の接続対象部材
82a…第1の電極
83…第2の接続対象部材
83a…第2の電極
84…接続部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Conductive particle with an insulating particle 2... Conductive particle 3... Insulating particle 11... Base particle 12... Conductive part 21... Conductive particle with an insulating particle 22... Conductive particle 31... Conductive part 32... Core substance 33... Protrusion 41... Conductive particle with insulating particles 42... Conductive particle 51... Conductive part 52... Protrusion 81... Connection structure 82... First connection object member 82a... First electrode 83... Second connection object Member 83a... 2nd electrode 84... Connection part

Claims (8)

導電部を少なくとも表面に有する導電性粒子と、
前記導電性粒子の表面上に配置された複数の絶縁性粒子とを備え、
前記絶縁性粒子の粒子径が、500nm以上1500nm以下であり、
前記絶縁性粒子の60℃における貯蔵弾性率が、100MPa以上1000MPa以下である、絶縁性粒子付き導電性粒子。
Conductive particles having at least a conductive portion on the surface;
A plurality of insulating particles arranged on the surface of the conductive particles,
The insulating particles have a particle diameter of 500 nm or more and 1500 nm or less,
Conductive particles with insulating particles, wherein the storage elastic modulus of the insulating particles at 60° C. is 100 MPa or more and 1000 MPa or less.
前記導電性粒子が、前記導電部の外表面に突起を有する、請求項1に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子。 2. The conductive particles with insulating particles according to claim 1, wherein said conductive particles have protrusions on the outer surface of said conductive portion. 前記導電性粒子の粒子径の、前記絶縁性粒子の粒子径に対する比が、3以上100以下である、請求項1又は2に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子。 The conductive particles with insulating particles according to claim 1 or 2, wherein the ratio of the particle size of the conductive particles to the particle size of the insulating particles is 3 or more and 100 or less. 前記絶縁性粒子の膨潤倍率が、1以上2.5以下である、請求項1~3のいずれか1項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子。 The conductive particles with insulating particles according to any one of claims 1 to 3, wherein the insulating particles have a swelling ratio of 1 or more and 2.5 or less. 前記絶縁性粒子の全個数の内の10%以上が、他の前記絶縁性粒子に接触しないように、前記導電性粒子の表面上に配置されている、請求項1~4のいずれか1項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子。 5. Any one of claims 1 to 4, wherein 10% or more of the total number of said insulating particles are arranged on the surface of said conductive particles so as not to contact other said insulating particles. Conductive particles with insulating particles according to. 前記導電性粒子の粒子径が、1μm以上50μm以下である、請求項1~5のいずれか1項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子。 The conductive particles with insulating particles according to any one of claims 1 to 5, wherein the conductive particles have a particle diameter of 1 µm or more and 50 µm or less. 請求項1~6のいずれか1項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子と、バインダー樹脂とを含む、導電材料。 A conductive material comprising the conductive particles with insulating particles according to any one of claims 1 to 6 and a binder resin. 第1の電極を表面に有する第1の接続対象部材と、
第2の電極を表面に有する第2の接続対象部材と、
前記第1の接続対象部材と、前記第2の接続対象部材を接続している接続部とを備え、
前記接続部の材料が、請求項1~6のいずれか1項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子であるか、又は前記絶縁性粒子付き導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料であり、
前記第1の電極と前記第2の電極とが、前記絶縁性粒子付き導電性粒子における前記導電部により電気的に接続されている、接続構造体。
a first connection target member having a first electrode on its surface;
a second connection target member having a second electrode on its surface;
comprising the first connection target member and a connection portion connecting the second connection target member,
The material of the connection portion is the conductive particles with insulating particles according to any one of claims 1 to 6, or a conductive material containing the conductive particles with insulating particles and a binder resin. ,
A connection structure in which the first electrode and the second electrode are electrically connected by the conductive portion in the conductive particles with insulating particles.
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