KR20180002217A - Workbench for clean room - Google Patents

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KR20180002217A
KR20180002217A KR1020160081421A KR20160081421A KR20180002217A KR 20180002217 A KR20180002217 A KR 20180002217A KR 1020160081421 A KR1020160081421 A KR 1020160081421A KR 20160081421 A KR20160081421 A KR 20160081421A KR 20180002217 A KR20180002217 A KR 20180002217A
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임혁순
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세메스 주식회사
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Abstract

A workbench for a clean room is disclosed. The workbench includes a support panel for supporting an operator, side walls for forming a work space in the form of a rectangular open-top box, posts for supporting the support panel, and a fan filter unit mounted on the support panel for discharging air inside the work space to the outside and removing particles generated in the work space. The generation of vortex in a clean room can be sufficiently reduced.

Description

클린룸용 작업대{Workbench for clean room}Workbench for clean room

본 발명의 실시예들은 클린룸용 작업대에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 클린룸 내부의 천장 부위와 같은 높은 위치에서의 고소 작업을 위한 클린룸용 작업대에 관한 것이다.Embodiments of the present invention relate to a cleanroom workbench. More particularly, the present invention relates to a workbench for a clean room for a high-altitude work at a high position such as a ceiling portion inside a clean room.

일반적으로 반도체 소자, 디스플레이 등의 제조는 외부로부터의 이물질 유입을 차단할 수 있는 클린룸 내에서 이루어질 수 있으며, 상기 클린룸 내부의 청정도는 제조 대상에 따라 다소 다르게 조절될 수 있다. 최근, 반도체 소자의 집적도가 크게 향상됨에 따라 클린룸 내부를 10 내지 100 Class 정도의 고청정 상태로 유지할 필요가 있다. 상기 클린룸의 천장에는 청정 공기를 제공하기 위한 팬 필터 유닛들이 배치될 수 있으며 이에 의해 상기 클린룸 내부에는 수직 하방 기류가 형성될 수 있다.Generally, manufacturing of a semiconductor device, a display, and the like can be performed in a clean room that can block foreign substances from entering from outside, and the cleanliness in the clean room can be adjusted somewhat depending on an object to be manufactured. In recent years, as the degree of integration of semiconductor devices has been greatly improved, it is necessary to maintain the inside of the clean room at a high cleanliness level of about 10 to 100 Class. The ceiling of the clean room may be provided with fan filter units for providing clean air, whereby a downward airflow may be formed in the clean room.

한편, 상기 클린룸 내부에서 고소 작업이 필요한 경우 예를 들면 클린룸 천장 부위에서의 작업이 필요한 경우 고소 작업대를 이용할 수 있으나, 작업시 파티클이 발생될 수 있으며 또한 클린룸 내부에서 상기 고소 작업대에 의해 와류가 발생될 수 있다. 특히, 상기 와류는 클린룸 내부에서 파티클을 확산시키는 추가적인 문제를 발생시킬 수 있으므로 고청정도 유지가 필요한 클린룸의 내부 작업을 가능하게 하는 작업대가 요구되고 있다.In the meantime, when a high-altitude operation is required in the clean room, for example, a high-altitude work station can be used when a work is required in a clean room ceiling area, particles may be generated during operation, A vortex may be generated. In particular, the vortex may cause additional problems of diffusing particles in the clean room, and thus a work table is required to enable the interior work of a clean room requiring maintenance of high cleanliness.

대한민국 공개특허공보 제10-2004-0040790 (2004.05.13)Korean Patent Publication No. 10-2004-0040790 (2004.05.13)

본 발명의 실시예들은 클린룸의 청정도를 저하시키지 않으면서 상기 클린룸 내부에서의 고소 작업을 가능하게 하는 클린룸용 작업대를 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a workbench for a clean room that enables a high-altitude work in the clean room without deteriorating the cleanliness of the clean room.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예들에 따르면, 클린룸 내에서의 고소 작업을 위한 클린룸용 작업대에 있어서, 상기 작업대는, 작업자를 지지하기 위한 서포트 패널과, 상부가 개방된 사각 박스 형태의 작업 공간을 형성하기 위한 측벽들과, 상기 서포트 패널을 지지하기 위한 포스트들과, 상기 작업 공간 내부의 공기를 외부로 배출하며 상기 작업 공간 내에서 발생된 파티클을 제거하기 위해 상기 서포트 패널에 장착된 팬 필터 유닛을 포함할 수 있다.According to embodiments of the present invention for achieving the above object, there is provided a work bench for a clean room for a high-altitude work in a clean room, the work bench comprising: a support panel for supporting an operator; And a support panel for supporting the support panel, wherein the support panel supports the support panel, the support panel supports the support panel, And a fan filter unit.

본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 서포트 패널은 상부 패널과 하부 패널을 포함할 수 있으며, 상기 팬 필터 유닛은 상기 상부 패널과 하부 패널 사이에 배치될 수 있다.According to embodiments of the present invention, the support panel may include an upper panel and a lower panel, and the fan filter unit may be disposed between the upper panel and the lower panel.

본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 상부 패널과 하부 패널에는 상기 팬 필터 유닛과 연통하는 통풍 커버가 각각 장착될 수 있다.According to embodiments of the present invention, a ventilation cover communicating with the fan filter unit may be mounted on the upper panel and the lower panel, respectively.

본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 포스트들 각각은 상기 서포트 패널의 높이를 조절하기 위하여 중공 형태의 제1 포스트와 상기 제1 포스트에 축 방향으로 삽입되는 제2 포스트를 포함할 수 있다.According to embodiments of the present invention, each of the posts may include a first post in a hollow form and a second post axially inserted in the first post to adjust the height of the support panel.

본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 제1 및 제2 포스트들 중 적어도 하나에는 위치 결정공들이 수직 방향으로 형성될 수 있으며, 상기 서포트 패널은 상기 위치 결정공들 중 하나에 삽입되는 서포트 핀에 의해 지지될 수 있다.According to embodiments of the present invention, the positioning holes may be formed in at least one of the first and second posts in the vertical direction, and the support panel may include a support pin inserted into one of the positioning holes . ≪ / RTI >

본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 포스트들의 하단부에는 이동을 위한 바퀴가 각각 장착될 수 있다.According to embodiments of the present invention, wheels for movement may be mounted on the lower ends of the posts, respectively.

본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 포스트들의 하부에는 위치 고정을 위한 아우트리거가 각각 장착될 수 있다.According to embodiments of the present invention, an outrigger for fixing the position may be mounted on the lower part of the posts, respectively.

본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 측벽들의 상부에는 상기 작업 공간으로부터 발생된 파티클이 외부로 비산되는 것을 방지하기 위한 상부 커버들이 각각 장착될 수 있다.According to embodiments of the present invention, upper covers for preventing particles generated from the work space from scattering to the outside may be mounted on the upper portions of the side walls, respectively.

본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 상부 커버들은 외측으로 점차 벌어지는 구조를 가질 수 있다.According to embodiments of the present invention, the upper covers may have a structure that gradually flares outwardly.

본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 측벽들 중 적어도 하나에는 상기 작업자의 출입을 위한 도어가 구비되고 상기 도어 아래에는 사다리가 구비될 수 있다.According to embodiments of the present invention, at least one of the side walls may include a door for accessing the operator, and a ladder may be provided under the door.

상술한 바와 같은 본 발명의 실시예들에 따른 클린룸용 작업대는, 작업자를 지지하기 위한 서포트 패널과, 상부가 개방된 사각 박스 형태의 작업 공간을 형성하기 위한 측벽들과, 상기 서포트 패널을 지지하기 위한 포스트들과, 상기 작업 공간 내부의 공기를 외부로 배출하며 상기 작업 공간 내에서 발생된 파티클을 제거하기 위해 상기 서포트 패널에 장착된 팬 필터 유닛을 포함할 수 있다.The workbench for a clean room according to embodiments of the present invention as described above includes a support panel for supporting an operator, side walls for forming a work space in the form of a rectangular box with an open top, And a fan filter unit mounted on the support panel for discharging the air inside the work space to the outside and removing particles generated in the work space.

상기 팬 필터 유닛은 상기 작업 공간으로부터 상기 서포트 패널 아래를 향한 하방 기류를 형성할 수 있으며, 이에 따라 상기 작업대에 의해 상기 클린룸 내부에서의 와류 발생이 충분히 감소될 수 있다. 또한, 상기 클린룸 내부에서의 작업시 상기 작업 공간 내에서 발생된 파티클은 상기 팬 필터 유닛에 의해 제거될 수 있으므로 상기 클린룸 내부의 청정도가 저하되는 것을 충분히 방지할 수 있다.The fan filter unit can form a downward flow from the work space toward the underside of the support panel so that the occurrence of vortex inside the clean room can be sufficiently reduced by the work table. In addition, since the particles generated in the work space can be removed by the fan filter unit when working in the clean room, it is possible to sufficiently prevent the cleanliness in the clean room from being lowered.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 클린룸용 작업대를 설명하기 위한 개략적인 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 클린룸용 작업대를 설명하기 위한 개략적인 정면도이다.
도 3은 도 1에 도시된 클린룸용 작업대를 설명하기 위한 개략적인 측면도이다.1 is a schematic perspective view for explaining a cleanroom work bench according to an embodiment of the present invention.
Fig. 2 is a schematic front view for explaining the clean room work bench shown in Fig. 1. Fig.
Fig. 3 is a schematic side view for explaining a clean room work bench shown in Fig. 1. Fig.

이하, 본 발명의 실시예들은 첨부 도면들을 참조하여 상세하게 설명된다. 그러나, 본 발명은 하기에서 설명되는 실시예들에 한정된 바와 같이 구성되어야만 하는 것은 아니며 이와 다른 여러 가지 형태로 구체화될 수 있을 것이다. 하기의 실시예들은 본 발명이 온전히 완성될 수 있도록 하기 위하여 제공된다기보다는 본 발명의 기술 분야에서 숙련된 당업자들에게 본 발명의 범위를 충분히 전달하기 위하여 제공된다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention should not be construed as limited to the embodiments described below, but may be embodied in various other forms. The following examples are provided so that those skilled in the art can fully understand the scope of the present invention, rather than being provided so as to enable the present invention to be fully completed.

본 발명의 실시예들에서 하나의 요소가 다른 하나의 요소 상에 배치되는 또는 연결되는 것으로 설명되는 경우 상기 요소는 상기 다른 하나의 요소 상에 직접 배치되거나 연결될 수도 있으며, 다른 요소들이 이들 사이에 개재될 수도 있다. 이와 다르게, 하나의 요소가 다른 하나의 요소 상에 직접 배치되거나 연결되는 것으로 설명되는 경우 그들 사이에는 또 다른 요소가 있을 수 없다. 다양한 요소들, 조성들, 영역들, 층들 및/또는 부분들과 같은 다양한 항목들을 설명하기 위하여 제1, 제2, 제3 등의 용어들이 사용될 수 있으나, 상기 항목들은 이들 용어들에 의하여 한정되지는 않을 것이다.In the embodiments of the present invention, when one element is described as being placed on or connected to another element, the element may be disposed or connected directly to the other element, . Alternatively, if one element is described as being placed directly on another element or connected, there can be no other element between them. The terms first, second, third, etc. may be used to describe various items such as various elements, compositions, regions, layers and / or portions, but the items are not limited by these terms .

본 발명의 실시예들에서 사용된 전문 용어는 단지 특정 실시예들을 설명하기 위한 목적으로 사용되는 것이며, 본 발명을 한정하기 위한 것은 아니다. 또한, 달리 한정되지 않는 이상, 기술 및 과학 용어들을 포함하는 모든 용어들은 본 발명의 기술 분야에서 통상적인 지식을 갖는 당업자에게 이해될 수 있는 동일한 의미를 갖는다. 통상적인 사전들에서 한정되는 것들과 같은 상기 용어들은 관련 기술과 본 발명의 설명의 문맥에서 그들의 의미와 일치하는 의미를 갖는 것으로 해석될 것이며, 명확히 한정되지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 외형적인 직감으로 해석되지는 않을 것이다.The terminology used in the embodiments of the present invention is used for the purpose of describing specific embodiments only, and is not intended to be limiting of the present invention. Furthermore, all terms including technical and scientific terms have the same meaning as will be understood by those skilled in the art having ordinary skill in the art, unless otherwise specified. These terms, such as those defined in conventional dictionaries, shall be construed to have meanings consistent with their meanings in the context of the related art and the description of the present invention, and are to be interpreted as being ideally or externally grossly intuitive It will not be interpreted.

본 발명의 실시예들은 본 발명의 이상적인 실시예들의 개략적인 도해들을 참조하여 설명된다. 이에 따라, 상기 도해들의 형상들로부터의 변화들, 예를 들면, 제조 방법들 및/또는 허용 오차들의 변화는 충분히 예상될 수 있는 것들이다. 따라서, 본 발명의 실시예들은 도해로서 설명된 영역들의 특정 형상들에 한정된 바대로 설명되어지는 것은 아니라 형상들에서의 편차를 포함하는 것이며, 도면들에 설명된 요소들은 전적으로 개략적인 것이며 이들의 형상은 요소들의 정확한 형상을 설명하기 위한 것이 아니며 또한 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것도 아니다.Embodiments of the present invention are described with reference to schematic illustrations of ideal embodiments of the present invention. Thus, changes from the shapes of the illustrations, e.g., changes in manufacturing methods and / or tolerances, are those that can be reasonably expected. Accordingly, the embodiments of the present invention should not be construed as being limited to the specific shapes of the regions described in the drawings, but include deviations in the shapes, and the elements described in the drawings are entirely schematic and their shapes Is not intended to describe the exact shape of the elements and is not intended to limit the scope of the invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 클린룸용 작업대를 설명하기 위한 개략적인 사시도이고, 도 2는 도 1에 도시된 클린룸용 작업대를 설명하기 위한 개략적인 정면도이며, 도 3은 도 1에 도시된 클린룸용 작업대를 설명하기 위한 개략적인 측면도이다.FIG. 1 is a schematic perspective view for explaining a cleanroom work bench according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic front view for explaining a clean room work bench shown in FIG. 1, Which is a schematic side view for explaining a cleanroom work bench.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 클린룸용 작업대(100)(이하, ‘작업대’라 한다)는 고청정도 유지가 필요한 클린룸 내부에서 천장 부위 등과 같은 상대적으로 높은 위치에서의 고소 작업을 위해 사용될 수 있다. 상기 작업대(100)는 작업자의 고소 작업을 위해 작업자를 지지하는 서포트 패널(110)과, 상부가 개방된 사각 박스 형태의 작업 공간을 형성하기 위한 측벽들(120)과, 상기 서포트 패널(110)을 지지하기 위한 포스트들(130)과, 상기 작업 공간 내부의 공기를 외부로 배출하며 상기 작업 공간 내에서 발생된 파티클을 제거하기 위해 상기 서포트 패널(110)에 장착된 팬 필터 유닛들(140)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1, a cleanroom bench 100 (hereinafter referred to as a 'work bench') according to an embodiment of the present invention includes a clean room 100, which is located at a relatively high position, such as a ceiling, Can be used for high-altitude work. The work table 100 includes a support panel 110 for supporting a worker for a worker's work, side walls 120 for forming a work space in the form of a rectangular box with an open top, (140) mounted on the support panel (110) for discharging air inside the work space to the outside and for removing particles generated in the work space, . ≪ / RTI >

일 예로서, 상기 서포트 패널(110)은 대략 직사각 형태를 가질 수 있으며 상부 패널(112)과 하부 패널(114)을 포함할 수 있다. 상기 팬 필터 유닛들(140)은 상기 상부 패널(112)과 하부 패널(114) 사이에 배치될 수 있으며, 상기 상부 패널(112)과 하부 패널(114)에는 상기 팬 필터 유닛들(140)과 연통하는 통풍 커버들(116)이 각각 장착될 수 있다. 상기 통풍 커버들(116)은 그물망 형태 또는 배플 플레이트 형태를 가질 수 있다. 다른 예로서, 상기 상부 패널(112) 및 하부 패널(114) 전체가 그물망 형태 또는 배플 플레이트 형태로 제작될 수도 있다.As an example, the support panel 110 may have a substantially rectangular shape and may include an upper panel 112 and a lower panel 114. The fan filter units 140 may be disposed between the upper panel 112 and the lower panel 114. The upper panel 112 and the lower panel 114 may include the fan filter units 140, And ventilation covers 116 communicating with each other can be mounted. The ventilation covers 116 may have a net or baffle plate shape. As another example, the entire upper panel 112 and the lower panel 114 may be fabricated in the form of a mesh or a baffle plate.

상세히 도시되지는 않았으나, 상기 팬 필터 유닛들(140)은 하방 기류를 형성하기 위한 팬과 상기 작업 공간 내에서 발생된 파티클을 제거하기 위한 필터를 각각 포함할 수 있다. 특히, 상기 팬 필터 유닛들(140)은 상기 작업 공간으로부터 상기 서포트 패널(110) 아래를 향한 하방 기류를 형성할 수 있으므로, 상기 클린룸 내부의 전체적인 하방 기류를 변화시키지 않으며 이를 통해 상기 작업대에 의한 와류 발생을 충분히 감소시킬 수 있다.Although not shown in detail, the fan filter units 140 may include a fan for forming a downward flow and a filter for removing particles generated in the work space. Particularly, since the fan filter units 140 can form a downward flow from the work space toward the lower side of the support panel 110, the overall downward flow inside the clean room is not changed, It is possible to sufficiently reduce occurrence of vortex.

상기 포스트들(130)은 상기 작업 공간의 높이를 조절할 수 있도록 구성될 수 있다. 예를 들면, 상기 포스트들(130) 각각은 상기 서포트 패널(110)의 높이를 조절하기 위하여 중공 형태를 갖는 제1 포스트(132)와 상기 제1 포스트(132)에 축 방향으로 삽입되는 제2 포스트(134)를 포함할 수 있다. 도시된 바에 의하면 상기 제1 포스트(132)가 상부에 배치되고 상기 제2 포스트(134)가 하부에서 상방으로 상기 제1 포스트(132)에 삽입되고 있으나, 상기 제1 및 제2 포스트들(132, 134)의 위치는 반대로 구성될 수도 있다.The posts 130 may be configured to adjust the height of the work space. For example, each of the posts 130 may include a first post 132 having a hollow shape to adjust the height of the support panel 110 and a second post 132 having a hollow shape, Post 134, as shown in FIG. The first post 132 is disposed on the upper portion and the second post 134 is inserted into the first post 132 from the lower portion to the upper portion of the first and second posts 132 and 132. However, , 134 may be reversed.

상기 제1 및 제2 포스트들(132, 134) 중 적어도 하나에는 위치 결정공들(136)이 수직 방향으로 형성될 수 있으며 상기 위치 결정공들(136)에는 서포트 핀들(138)이 삽입될 수 있다. 즉, 도시된 바와 같이 상기 제1 포스트들(132)과 제2 포스트들(134)을 관통하여 서포트 핀들(138)이 삽입되고 있으며, 상기 서포트 패널(110)은 상기 서포트 핀들(138)에 의해 지지될 수 있다. 그러나, 상기와 다르게, 상기 서포트 핀들(138)은 상기 제2 포스트들(134)만 관통할 수도 있으며, 이 경우 상기 제1 포스트들(132)의 하단부가 상기 서포트 핀들(138)에 의해 지지될 수 있다.Positioning holes 136 may be formed in at least one of the first and second posts 132 and 134 in the vertical direction and support pins 138 may be inserted into the positioning holes 136 have. As shown in the drawing, the support pins 138 are inserted through the first posts 132 and the second posts 134, and the support panel 110 is supported by the support pins 138 Can be supported. Alternatively, the support pins 138 may pass through only the second posts 134, in which case the lower ends of the first posts 132 are supported by the support pins 138 .

상기 포스트들(130)의 하단부들에는 이동을 위한 바퀴(150)가 각각 장착될 수 있다. 특히, 상기 바퀴들(150)은 이동시 방향 전환을 용이하게 하기 위해 360° 회전 가능하게 구성되는 것이 바람직하다. 또한, 이동시 안전 사고를 방지하기 위하여 상기 바퀴들(150)을 감싸는 휠 커버들(152)이 상기 포스트들(130)의 하단부에 구비될 수 있다. 또한, 상기 포스트들(130)의 하부에는 작업시 상기 작업대(100)의 위치를 고정시키기 위한 아우트리거(154)가 각각 장착될 수 있다.And wheels 150 for movement may be mounted on the lower ends of the posts 130, respectively. Particularly, it is preferable that the wheels 150 are configured to be rotatable by 360 in order to facilitate the change of direction when moving. Wheel covers 152 may be provided at the lower ends of the posts 130 to cover the wheels 150 in order to prevent a safety accident during movement. In addition, an outrigger 154 for fixing the position of the work table 100 may be installed under the posts 130, respectively.

상기 측벽들(120)의 상부에는 상기 작업 공간으로부터 발생된 파티클이 외부로 비산되는 것을 방지하기 위한 상부 커버들(160)이 각각 배치될 수 있다. 특히, 상기 작업대(100) 상부의 공기가 상기 작업 공간 내부로 유입되도록 상기 상부 커버들(160)은 외측으로 점차 벌어지는 형태로 구성될 수 있으며, 이를 통해 상기 작업 공간 외부로 파티클들이 비산되는 것을 보다 효과적으로 방지할 수 있다. 또한, 상세히 도시되지는 않았으나, 상기 상부 커버들(160)은 이동시 간섭을 방지하기 위하여 상기 작업 공간 내에 수납 가능하도록 구성될 수 있다. 예를 들면, 상기 상부 커버들(160)은 슬라이드 방식으로 상기 측벽들(120) 내측에 수납될 수 있다.Upper covers 160 may be disposed on the sidewalls 120 to prevent particles generated from the work space from being scattered to the outside. Particularly, the upper covers 160 may be formed to gradually expand outward so that the air on the upper side of the work table 100 flows into the work space, thereby preventing particles from being scattered to the outside of the work space Can be effectively prevented. Also, although not shown in detail, the upper covers 160 may be configured to be housed in the work space to prevent interference during movement. For example, the top covers 160 may be housed inside the sidewalls 120 in a sliding manner.

상기 측벽들(120) 중 적어도 하나에는 작업자의 출입을 위한 도어(170)가 구비될 수 있으며, 상기 도어(170) 아래에는 작업자의 출입을 위한 사다리(172)가 구비될 수 있다. 도시된 바에 의하면, 상기 작업대(100)의 길이 방향으로 양측에 각각 도어(170)와 사다리(172)가 구비되고 있으나, 상기 도어(170)와 사다리(172)의 다양하게 변경 가능하므로 이에 의해 본 발명의 범위가 제한되지는 않을 것이다.At least one of the side walls 120 may be provided with a door 170 for entering and exiting an operator and a ladder 172 for entering and exiting the worker may be provided under the door 170. The door 170 and the ladder 172 are provided on both sides of the work table 100 in the longitudinal direction of the work table 100. The door 170 and the ladder 172 can be variously modified, The scope of the invention is not limited thereto.

상술한 바와 같은 본 발명의 실시예들에 따른 클린룸용 작업대(100)는, 작업자를 지지하기 위한 서포트 패널(110)과, 상부가 개방된 사각 박스 형태의 작업 공간을 형성하기 위한 측벽들(120)과, 상기 서포트 패널(110)을 지지하기 위한 포스트들(130)과, 상기 작업 공간 내부의 공기를 외부로 배출하며 상기 작업 공간 내에서 발생된 파티클을 제거하기 위해 상기 서포트 패널(110)에 장착된 팬 필터 유닛(140)을 포함할 수 있다.The workbench 100 for a clean room according to embodiments of the present invention as described above includes a support panel 110 for supporting a worker and side walls 120 for forming a rectangular workspace The support panel 110 is provided with posts 130 for supporting the support panel 110 and a support plate 110 for discharging air inside the workspace to the outside and removing particles generated in the workspace. And a fan filter unit 140 mounted thereon.

상기 팬 필터 유닛(140)은 상기 작업 공간으로부터 상기 서포트 패널(110) 아래를 향한 하방 기류를 형성할 수 있으며, 이에 따라 상기 작업대에 의해 상기 클린룸 내부에서의 와류 발생이 충분히 감소될 수 있다. 또한, 상기 클린룸 내부에서의 작업시 상기 작업 공간 내에서 발생된 파티클은 상기 팬 필터 유닛(140)에 의해 제거될 수 있으므로 상기 클린룸 내부의 청정도가 저하되는 것을 충분히 방지할 수 있다.The fan filter unit 140 can form a downward flow from the work space toward the lower side of the support panel 110 so that the occurrence of vortex inside the clean room can be sufficiently reduced by the work table. In addition, since the particles generated in the work space can be removed by the fan filter unit 140 when working inside the clean room, it is possible to sufficiently prevent the cleanliness in the clean room from being lowered.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit and scope of the invention as defined in the following claims. It will be understood.

100 : 클린룸용 작업대 110 : 서포트 패널
120 : 측벽 130 : 포스트
140 : 팬 필터 유닛 150 : 바퀴
152 : 휠 커버 154 : 아우트리거
160 : 상부 커버 170 : 도어
172 : 사다리100: Cleanroom workbench 110: Support panel
120: side wall 130: post
140: Fan filter unit 150:
152: Wheel cover 154: Outrigger
160: upper cover 170: door
172: Ladder

Claims (10)

클린룸 내에서의 고소 작업을 위한 클린룸용 작업대에 있어서,
작업자를 지지하기 위한 서포트 패널;
상부가 개방된 사각 박스 형태의 작업 공간을 형성하기 위한 측벽들;
상기 서포트 패널을 지지하기 위한 포스트들; 및
상기 작업 공간 내부의 공기를 외부로 배출하며 상기 작업 공간 내에서 발생된 파티클을 제거하기 위해 상기 서포트 패널에 장착된 팬 필터 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 클린룸용 작업대.CLAIMS 1. A clean room work bench for a complaint work in a clean room,
A support panel for supporting the operator;
Side walls for forming a work space in the form of a rectangular box with an open top;
Posts for supporting the support panel; And
And a fan filter unit mounted on the support panel for discharging air inside the work space to the outside and removing particles generated in the work space. 제1항에 있어서, 상기 서포트 패널은 상부 패널과 하부 패널을 포함하며 상기 팬 필터 유닛은 상기 상부 패널과 하부 패널 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 클린룸용 작업대.The workbench for a clean room according to claim 1, wherein the support panel includes an upper panel and a lower panel, and the fan filter unit is disposed between the upper panel and the lower panel. 제2항에 있어서, 상기 상부 패널과 하부 패널에는 상기 팬 필터 유닛과 연통하는 통풍 커버가 각각 장착되는 것을 특징으로 하는 클린룸용 작업대.3. The workbench for a clean room as claimed in claim 2, wherein the upper panel and the lower panel are respectively fitted with a ventilation cover communicating with the fan filter unit. 제1항에 있어서, 상기 포스트들 각각은 상기 서포트 패널의 높이를 조절하기 위하여 중공 형태의 제1 포스트와 상기 제1 포스트에 축 방향으로 삽입되는 제2 포스트를 포함하는 것을 특징으로 하는 클린룸용 작업대.2. The clean room according to claim 1, wherein each of the posts includes a first post having a hollow shape for adjusting the height of the support panel and a second post axially inserted into the first post, . 제4항에 있어서, 상기 제1 및 제2 포스트들 중 적어도 하나에는 위치 결정공들이 수직 방향으로 형성되며, 상기 위치 결정공들 중 하나에 삽입되는 서포트 핀에 의해 상기 서포트 패널이 지지되는 것을 특징으로 하는 클린룸용 작업대.[5] The apparatus of claim 4, wherein at least one of the first and second posts is formed with positioning holes in the vertical direction, and the support panel is supported by a support pin inserted into one of the positioning holes Cleanroom workbench. 제1항에 있어서, 상기 포스트들의 하단부에는 이동을 위한 바퀴가 각각 장착되는 것을 특징으로 하는 클린룸용 작업대.2. The workbench for a clean room according to claim 1, wherein wheels for moving are mounted on the lower ends of the posts, respectively. 제6항에 있어서, 상기 포스트들의 하부에는 위치 고정을 위한 아우트리거가 각각 장착되는 것을 특징으로 하는 클린룸용 작업대.7. The workbench for a clean room according to claim 6, wherein an outrigger for fixing a position is mounted on a lower portion of the posts. 제1항에 있어서, 상기 측벽들의 상부에 각각 배치되며 상기 작업 공간으로부터 발생된 파티클이 외부로 비산되는 것을 방지하기 위한 상부 커버들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 클린룸용 작업대.The workbench for a clean room according to claim 1, further comprising upper covers disposed at upper portions of the side walls for preventing particles generated from the work space from being scattered to the outside. 제8항에 있어서, 상기 상부 커버들은 외측으로 점차 벌어지는 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 클린룸용 작업대.9. The workbench for a clean room according to claim 8, wherein the upper covers have a structure that gradually widens to the outside. 제1항에 있어서, 상기 측벽들 중 적어도 하나에는 상기 작업자의 출입을 위한 도어가 구비되고 상기 도어 아래에는 사다리가 구비되는 것을 특징으로 하는 클린룸용 작업대.2. The workbench for a clean room according to claim 1, wherein at least one of the side walls is provided with a door for accessing the operator, and a ladder is provided under the door.
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